【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光材料の処理装置に関する。詳しくは、スロットダイを用いて処理液を塗布する処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フィルム、印画紙、印刷版等の感光材料は画像が記録された後に、現像液、定着液、安定化液、水洗水等の処理液によって処理される。このような処理を行なう感光材料の処理装置としては、複数の搬送ローラー対等により構成される搬送手段により、処理液を貯留した処理槽中に感光材料を搬送し、感光材料を処理液中に浸漬することにより処理を行なう浸漬型の処理装置が知られている。
【０００３】
このような浸漬型の処理装置においては、感光材料の処理および大気中の炭酸ガスや酸素により処理液の劣化が起こる。処理液の劣化を回復させるためには、処理液に補充液を補充する方法が一般に用いられているが、処理開始時の処理液の成分と、その後も処理を継続した場合の処理液の成分とは異なり、厳密に均一な処理を行なうことは不可能である。また、処理液の使用量および廃液量が多くランニングコストが高い、装置のメンテナンス性も悪いという問題がある。
【０００４】
これらの問題点を解消するための感光材料処理方法として、感光材料に必要なだけの処理液を塗布して処理を行なう塗布方式の処理方法が知られている。例えば、特開昭６２−２３７４５５号公報、実開平６−８９５６号公報、特開平６−２７６７７号公報、特開２００１−１７４９７０号公報に記載されている。特に特開２００１−１７４９７０号公報に記載されている、スロットダイを用いた処理装置は少ない処理液量でも安定した均一塗布が可能で、さらに実質的に廃液が生じないという利点がある。しかしながら、感光材料の中には、端部から均一な処理が要求されるものがあり、特に極先端部（例えば先端１０ｍｍ以内）の処理ムラが問題になる場合があった。この現象は、特に塗布量を少なくすると発生しやすかった。
【０００５】
この問題を解決すべく、スロットダイとスロットダイの塗布幅以上の平面部材を用いて感光材料到達に先立ち、前記スロットダイ先端部に処理液の液膜を形成させて塗布する処理装置が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。この処理装置によって感光材料端部の塗布開始部分における塗布不均一と処理ムラは解消された。しかしながら、処理液の中には、処理を行わない期間または処理装置を停機させる期間において、スロットダイ先端部及び対向する平面部材等で処理液の成分が固着結晶化する問題があった。特にスロットダイを用いた処理装置の場合、感光材料に必要最少量の処理液供給が基本であり、残留した処理液は空気に触れやすく固着結晶化が促進される。このような状態で感光材料を処理すると、処理液塗布部で固着結晶物が感光材料表面に付着し処理不良や傷を発生させてしまう。また、固着状態によっては２版目、３版目にわたって悪影響を与え、最もひどい時には固着結晶物が、処理中の感光材料の搬送を妨げることにより、感光材料を処理装置内で詰まらせてしまうという問題が発生する場合もあった。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００１−３１２０３６号公報（３〜４頁、図１）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、スロットダイを用いた処理装置の更なる改良を行うもので、処理液塗布部の固着結晶化を防止した感光材料の処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイを用いて、前記スリットより落下する処理液を感光材料に塗布する処理装置であって、前記スリットの先端部と対向し離間する位置に、処理方向に対して上流側もしくは下流側に傾斜することができる可動な平面部材を有することを特徴とする感光材料処理装置によって達成された。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の感光材料処理装置について図面を用いて詳細な説明をする。図１は本発明の一実施態様である感光材料の処理装置の概略断面図である。
【００１０】
１はスロットダイである。材質は特に限定されるものではないが、処理液に対する耐食性と機械的精度を満足できればよく、例えばステンレス鋼が好ましい。その他にも一般構造鋼にクロムメッキしたものやプラスチック類等が使用可能である。なお、金属で製作する場合は機械加工時の応力歪みを排除するため、予め焼鈍処理を施しても良い。
【００１１】
スロットダイ１の構造を説明する。８は処理液供給口でマニホールド９と連結されている。該マニホールド９は流入した処理液を幅方向に広げるためのものであり、スロットダイ１の幅方向にわたって設けられている。該マニホールド９で処理液を一旦幅方向に充満させた後、スリット部１０に供給する作用を行う結果、スリット部１０からの流出流量を幅方向に均一化させることが可能となる。処理液供給口８は通常スロットダイ１の幅方向の中心に１カ所設けることでよいが、スロットダイ１の幅方向の複数箇所に設けてもよい。マニホールド９の断面形状は、本態様では円形となっているがこれに限らず任意の形状でよい。またマニホールド９の断面積はスロットダイ１の幅方向に亘り一定でなくともよく、例えば流出する処理液の幅方向の流量均一性をさらに向上せしめるために端部に至るに従って断面積を漸減させてもよい。
【００１２】
図１には便宜上図示しないが、スロットダイ１のマニホールド９の塗布幅方向両端部とスリット部１０の同両端部は、処理液が流出しないように栓をして用いる。この場合、処理しようとする感光材料の塗布幅に対しスリット部１０の幅方向有効長さが同じか多少大きくなるように前述の栓を施す。
【００１３】
２は感光材料で、図示しない駆動装置により図の左から右方向に搬送される。搬送中の感光材料２の先頭端部を感材検出器７で検出し、その信号によりポンプ５を駆動しバルブ６を開にしてスロットダイ１に処理液４を供給し、感光材料の終端部を検出してポンプ５を停止しバルブ６を閉止するというのが基本的な制御フローとなるが、感光材料２の搬送速度と、感材検出器７からスロットダイ１のスリット部１０に至るまでの距離を演算（演算装置は図示せず）して、ポンプ５を駆動／停止するタイミングを適宜制御することにより処理液４のロスを実質的に無くすことが可能である。
【００１４】
本発明に用いるポンプとしては特に限定するものではないが、ポンプの構造上の回転数（ギヤポンプ等の場合）やストローク数（ダイヤフラム式等の振動式ポンプの場合）などが可変式なものすなわち定量ポンプが好ましい。また、処理液の塗布を均一なものとするため脈動と称する流量の不均一の少ないポンプが好ましい。場合によってはポンプ以降の配管道中に例えばエアーダンパー式の脈動防止器を設置してもよい。また、シリンジ式の液供給装置も好ましく使用できる。
【００１５】
本態様では、処理液の供給にポンプを使用する例を示したが、その他にも例えば処理液をスロットダイ１より高位置に配して水頭によって自然落下させる方式でもよい。この場合はポンプが不要となり、バルブの開閉のみで処理液の供給が可能である。なおこの場合、前記バルブを定量式とすることや、流路に例えばニードルバルブ付きのフローメータを配して予め所望する流量となるように開度調節しておくことで流量制御が可能である。自然落下方式であっても、感材検出器７の信号によるバルブの開閉タイミングを前述のポンプ式の場合と同様な制御を行うことによって、処理液のロスを実質的に無くすことが可能である。
【００１６】
感光材料への塗布量に極めて精度を要する場合は、処理液配管の道中に流量計を配置して該流量計の信号を基準にして前述のポンプや定量バルブをフィードバック制御する構成をとることができる。
【００１７】
処理液のスロットダイ１への供給流量は、所望する処理液の湿潤塗布量と感光材料の塗布幅と感光材料の搬送速度をそれぞれ乗ずることにより決定することができる。
【００１８】
本態様には図示しないが、処理液塗布時に微量の余剰分が発生する可能性を考慮して、スロットダイの下方に液受け皿等を配してこれを回収してもよい。
【００１９】
１１は本発明の特徴である傾斜させることが可能な平面部材である。平面部材１１は、スロットダイ１のスリット部１０の先端に対向する部分に水平面１１ａを有するものである。本発明の主旨は、この平面部材１１の水平面１１ａに残留する処理液を、処理終了後に傾けて落下させることによって固着結晶化を防止しようということである。本実施例においては平面部材１１の処理方向の上流側に傾斜部１１ｂを設け、傾けたときに処理液が流れ落ちやすいように設計されているが、形状はこの限りでなく、例えば棒状ではなくステンレス板等を曲げた板状の平面部材でもよい。また本実施例は、平面部材を処理方向の上流側に傾斜させる態様をとっているが、その他にも処理方向の下流側に傾斜させる機構も考えられる。また処理方向の上流側、下流側双方向に可動にしてもよく、いずれの方法を採用してもよい。
【００２０】
平面部材１１は、固定台１７に固定されており、スロットダイ１のスリット部１０下方に対向し離間する位置に設け、処理時は上面が水平になるように設計されている。この平面部材１１の上部水平面１１ａとスリット部１０との間に、スリット部１０から供給された処理液が膜を形成し、処理する感光材料の先端から均一に処理液を塗布することが可能である。また平面部材１１は、回転軸１６によって支持されていると同時に、軸を中心にして処理方向の上流側に回転して傾けることが可能である。その傾きを制御するために、棒状部材１２、カム１３、引張ばね１４、およびカム押さえ部材１５が設けられている。
【００２１】
感光材料の処理中は、カム１３は実線で示すように右に凸の状態で停止しており、またカム押さえ部材１５は引っ張りばね１４によって右方向、すなわち処理方向の下流側に引っ張られて停止している。これら部材の配置により棒状部材１２は固定台１７を右方向に引っ張ることとなり、結果平面部材１１は実線で示すように上面が水平の状態で位置が決定される。
【００２２】
処理が終了するとカム１３は、図示しないモーター等とセンサー等によって、想像線で示す位置に１８０＃回転して停止し、左側に凸の状態になる。このときカム１３はカム押さえ部材１５を左側に押して移動させる。あわせて棒状部材１２が固定台１７も左側に押す。固定台１７は軸１６によって支えられているため、軸１６を中心として左側に回転し傾いて停止する。これによって平面部材１１上部の処理液膜は、平面部材１１から流れ落ちて図示しない平面部材１１下部の槽に落下し廃液として回収される。処理液が流れ落ちた後、カム１３を再びモーター等とセンサー等によって１８０＃回転させ、実線の位置まで戻す。するとカム押さえ部材１５は引っ張りばね１４によって右方向に引っ張られて移動し、実線の位置で再び停止する。その結果固定台１７も棒状部材１２によって軸１６を中心に回転して実線の位置まで戻り、平面部材１１も上面が水平な処理時の状態に復帰する。
【００２３】
平面部材１１の傾斜角度は、棒状部材１２の長さおよびカム１３の形状などによって変更することが可能であるが、上面の残留処理液を効率よく落下させるためには、上部水平面１１ａを０＃として少なくとも最大４５＃以上、望ましくは少なくとも最大９０＃に設定することが望ましい。
【００２４】
これら一連の動作は、感材検出器７およびポンプ５およびバルブ６の動作と連動して行われる。すなわち感材検出器７が感光材料の終端を検知して、ポンプ５を停止しバルブ６を閉止した後に、カム１３を回転させることによって平面部材１１を傾け上面の処理液を落下させて、処理終了後の処理を行わない期間および処理装置を停機させる期間の処理液の固着結晶化を防止することができる。なお平面部材１１を傾けた後に処理時すなわち上面が水平な状態に復帰させるまでには、残留処理液を充分に落下せしめるために、遅延回路（例えばタイマー等）を使用して図示しないモーターを制御し、カム１３の復帰位置への回転を遅らせることが望ましい。
【００２５】
なお感光材料の処理終了直後に落下させた処理液を、廃液とせず再びタンクに回収して供給するようにすれば、処理液のロスをさらに減ずることも可能である。
【００２６】
【発明の効果】
本発明により、処理待機中または処理を行わない間の処理液塗布部での処理液固着結晶化を防止し、処理開始時においても安定した処理液の塗布を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一例を示す断面図
【符号の説明】
１ スロットダイ
２ 感光材料
１０ スリット部
１１ 平面部材
１２ 棒状部材
１３ カム
１４ 引っ張りばね
１５ カム押さえ部材
１７ 固定台[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus. More specifically, the present invention relates to a processing apparatus for applying a processing liquid using a slot die.
[0002]
[Prior art]
Photosensitive materials such as films, photographic papers and printing plates are processed with a processing solution such as a developing solution, a fixing solution, a stabilizing solution, and washing water after an image is recorded. As a photosensitive material processing apparatus for performing such processing, the photosensitive material is transported into a processing tank storing the processing liquid by a transporting unit including a plurality of transport roller pairs and the photosensitive material is immersed in the processing liquid. There is known an immersion-type processing apparatus that performs a processing by performing the processing.
[0003]
In such an immersion type processing apparatus, the processing of the photosensitive material and the deterioration of the processing solution are caused by carbon dioxide and oxygen in the air. In order to recover the deterioration of the processing solution, a method of replenishing the processing solution with a replenisher is generally used, but the components of the processing solution at the start of the processing and the components of the processing solution when the processing is continued thereafter Unlike this, it is impossible to perform strictly uniform processing. In addition, there are problems in that the amount of used processing liquid and the amount of waste liquid are large, the running cost is high, and the maintainability of the apparatus is poor.
[0004]
As a photosensitive material processing method for solving these problems, there has been known a coating method in which a processing solution is applied to a photosensitive material as required and the processing is performed. For example, it is described in JP-A-62-237455, JP-A-6-8956, JP-A-6-27677, and JP-A-2001-174970. In particular, the processing apparatus using a slot die described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-174970 has the advantage that stable and uniform coating is possible even with a small amount of processing liquid, and that substantially no waste liquid is generated. However, some photosensitive materials require uniform processing from the end, and in particular, processing unevenness at the extreme end (for example, within 10 mm of the end) may become a problem. This phenomenon tends to occur particularly when the amount of coating is reduced.
[0005]
In order to solve this problem, there is disclosed a processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid on the tip of the slot die and applying the liquid prior to reaching the photosensitive material using a slot die and a flat member having a width equal to or larger than the coating width of the slot die. (For example, see Patent Document 1). With this processing apparatus, coating unevenness and processing unevenness in the coating start portion at the end of the photosensitive material were eliminated. However, in the processing liquid, there is a problem that components of the processing liquid are fixed and crystallized at the slot die tip portion and the opposed flat member during a period in which the processing is not performed or the processing device is stopped. In particular, in the case of a processing apparatus using a slot die, the basic requirement is to supply a minimum required amount of processing liquid to the photosensitive material, and the remaining processing liquid easily comes into contact with air and promotes crystallization. If the photosensitive material is processed in such a state, the fixed crystals adhere to the surface of the photosensitive material in the processing liquid application section, causing processing defects and scratches. Also, depending on the state of fixation, adverse effects are exerted on the second and third plates, and in the worst case, the fixed crystals obstruct the conveyance of the photosensitive material during processing, thereby clogging the photosensitive material in the processing apparatus. Problems sometimes occurred.
[0006]
[Patent Document 1]
JP 2001-312036 A (pages 3 and 4, FIG. 1)
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to further improve a processing apparatus using a slot die and to provide a processing apparatus for a photosensitive material in which sticking and crystallization of a processing liquid application section is prevented.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The object of the present invention is to provide a processing apparatus for applying a processing liquid falling from the slit to a photosensitive material by using a slot die comprising at least a slit and a manifold. A photosensitive material processing apparatus having a movable flat member that can be inclined upstream or downstream with respect to the processing direction.
[0009]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the photosensitive material processing apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of a photosensitive material processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
[0010]
1 is a slot die. The material is not particularly limited, as long as it can satisfy the corrosion resistance to the processing solution and the mechanical accuracy, and for example, stainless steel is preferable. In addition, chrome-plated general structural steel, plastics, and the like can be used. In the case of manufacturing with a metal, an annealing treatment may be performed in advance in order to eliminate stress distortion at the time of machining.
[0011]
The structure of the slot die 1 will be described. Reference numeral 8 denotes a processing liquid supply port, which is connected to the manifold 9. The manifold 9 is for spreading the processing solution that has flowed in the width direction, and is provided over the width direction of the slot die 1. After the processing liquid is once filled in the width direction with the manifold 9, the processing liquid is supplied to the slit section 10, so that the flow rate of the outflow from the slit section 10 can be made uniform in the width direction. Normally, one treatment liquid supply port 8 may be provided at the center of the slot die 1 in the width direction, but may be provided at a plurality of positions in the width direction of the slot die 1. The cross-sectional shape of the manifold 9 is circular in this embodiment, but is not limited to this, and may be any shape. Further, the cross-sectional area of the manifold 9 may not be constant over the width direction of the slot die 1, and for example, the cross-sectional area may be gradually reduced toward the end to further improve the uniformity of the flow rate of the processing liquid flowing out in the width direction. Is also good.
[0012]
Although not shown in FIG. 1 for the sake of convenience, both ends of the manifold 9 of the slot die 1 in the application width direction and both ends of the slit portion 10 are plugged so that the processing liquid does not flow out. In this case, the above-described plug is provided so that the effective length in the width direction of the slit portion 10 is equal to or slightly larger than the application width of the photosensitive material to be processed.
[0013]
Reference numeral 2 denotes a photosensitive material which is conveyed from left to right in the figure by a driving device (not shown). The leading end of the photosensitive material 2 being conveyed is detected by the photosensitive material detector 7, the pump 5 is driven by this signal to open the valve 6, and the processing liquid 4 is supplied to the slot die 1. The basic control flow is to stop the pump 5 and close the valve 6 upon detection of the condition. The transport speed of the photosensitive material 2 and the distance from the photosensitive material detector 7 to the slit 10 of the slot die 1 By calculating the distance (the arithmetic unit is not shown) and controlling the timing of driving / stopping the pump 5 appropriately, it is possible to substantially eliminate the loss of the processing liquid 4.
[0014]
The pump used in the present invention is not particularly limited, but the pump whose rotational speed (in the case of a gear pump or the like) or the number of strokes (in the case of a vibrating pump such as a diaphragm type) is variable, that is, a fixed amount Pumps are preferred. Further, in order to make the application of the treatment liquid uniform, a pump called a pulsation and having a small non-uniform flow rate is preferable. In some cases, for example, an air damper-type pulsation preventer may be installed in the piping path after the pump. Also, a syringe type liquid supply device can be preferably used.
[0015]
In this embodiment, an example in which a pump is used to supply the processing liquid has been described. Alternatively, for example, a method may be used in which the processing liquid is disposed at a position higher than the slot die 1 and naturally falls by a water head. In this case, a pump is not required, and the processing liquid can be supplied only by opening and closing the valve. In this case, it is possible to control the flow rate by setting the valve to a quantitative type, or by arranging a flow meter with a needle valve in the flow path and adjusting the opening degree to a desired flow rate in advance. . Even in the case of the natural fall method, it is possible to substantially eliminate the loss of the processing liquid by controlling the opening and closing timing of the valve based on the signal of the light-sensitive material detector 7 in the same manner as in the case of the above-described pump type. .
[0016]
When extremely high precision is required for the amount of application to the photosensitive material, a configuration may be adopted in which a flow meter is disposed in the path of the processing liquid pipe and the above-described pump and the metering valve are feedback-controlled based on the signal of the flow meter. it can.
[0017]
The flow rate of the processing liquid supplied to the slot die 1 can be determined by multiplying the desired wet coating amount of the processing liquid, the coating width of the photosensitive material, and the transport speed of the photosensitive material.
[0018]
Although not shown in this embodiment, a liquid receiving tray or the like may be disposed below the slot die and collected in consideration of the possibility that a small amount of surplus will be generated when the processing liquid is applied.
[0019]
Reference numeral 11 denotes a flat member that can be inclined, which is a feature of the present invention. The plane member 11 has a horizontal surface 11a at a portion facing the tip of the slit portion 10 of the slot die 1. The gist of the present invention is to prevent the treatment liquid remaining on the horizontal surface 11a of the plane member 11 from falling and tilting after the treatment is completed, thereby preventing crystallization. In the present embodiment, an inclined portion 11b is provided on the upstream side in the processing direction of the flat member 11 so that the processing liquid easily flows down when tilted. However, the shape is not limited to this. A plate-shaped flat member obtained by bending a plate or the like may be used. In this embodiment, the plane member is inclined to the upstream side in the processing direction. However, a mechanism for inclining the plane member to the downstream side in the processing direction may be considered. Further, it may be movable in both directions upstream and downstream in the processing direction, and either method may be adopted.
[0020]
The flat member 11 is fixed to a fixed base 17 and is provided at a position facing and separated below the slit portion 10 of the slot die 1, and is designed so that the upper surface is horizontal during processing. The processing liquid supplied from the slit part 10 forms a film between the upper horizontal surface 11a of the flat member 11 and the slit part 10, and the processing liquid can be uniformly applied from the front end of the photosensitive material to be processed. is there. Further, the flat member 11 is supported by the rotating shaft 16 and, at the same time, can be rotated around the shaft and tilted upstream in the processing direction. In order to control the inclination, a bar-shaped member 12, a cam 13, a tension spring 14, and a cam pressing member 15 are provided.
[0021]
During the processing of the photosensitive material, the cam 13 is stopped in a convex state to the right as shown by a solid line, and the cam pressing member 15 is pulled rightward by a tension spring 14, that is, stopped by being pulled downstream in the processing direction. are doing. Due to the arrangement of these members, the rod-shaped member 12 pulls the fixing base 17 rightward, and as a result, the position of the flat member 11 is determined with the upper surface being horizontal as shown by the solid line.
[0022]
When the process is completed, the cam 13 is rotated 180 # at the position shown by the imaginary line and stopped by a motor and a sensor (not shown), so that the cam 13 is in a left convex state. At this time, the cam 13 pushes and moves the cam pressing member 15 to the left. At the same time, the rod-shaped member 12 also pushes the fixed base 17 to the left. Since the fixed base 17 is supported by the shaft 16, the fixed base 17 rotates leftward about the shaft 16 and stops while tilting. Thereby, the processing liquid film on the upper part of the flat member 11 flows down from the flat member 11 and falls into a tank below the flat member 11 (not shown) to be collected as waste liquid. After the treatment liquid has flowed down, the cam 13 is again rotated 180 # by a motor or the like and a sensor or the like, and returned to the position indicated by the solid line. Then, the cam pressing member 15 is pulled rightward by the tension spring 14 and moves, and stops again at the position indicated by the solid line. As a result, the fixing base 17 is also rotated about the shaft 16 by the rod-shaped member 12 and returns to the position indicated by the solid line, and the flat member 11 is also returned to the state at the time of processing where the upper surface is horizontal.
[0023]
The inclination angle of the flat member 11 can be changed depending on the length of the rod-shaped member 12, the shape of the cam 13, and the like. However, in order to drop the residual processing liquid on the upper surface efficiently, the upper horizontal surface 11a is set to 0 #. It is desirable to set at least 45 # or more, and preferably at least 90 # at most.
[0024]
These series of operations are performed in conjunction with the operations of the photosensitive material detector 7, the pump 5, and the valve 6. That is, the photosensitive material detector 7 detects the end of the photosensitive material, stops the pump 5 and closes the valve 6, and then rotates the cam 13 to incline the flat member 11 to drop the processing liquid on the upper surface, thereby reducing the processing. It is possible to prevent the processing liquid from sticking and crystallizing during a period in which the processing is not performed after the completion and a period in which the processing apparatus is stopped. In addition, after the plane member 11 is tilted, a motor (not shown) is controlled by using a delay circuit (for example, a timer) in order to sufficiently drop the remaining processing liquid during processing, that is, before returning the upper surface to a horizontal state. However, it is desirable to delay the rotation of the cam 13 to the return position.
[0025]
If the processing liquid dropped immediately after the processing of the photosensitive material is recovered and supplied to the tank again without being used as a waste liquid, the loss of the processing liquid can be further reduced.
[0026]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to prevent the treatment liquid from sticking and crystallizing in the treatment liquid application section during the waiting time of the treatment or during the time when the treatment is not performed, and to stably apply the treatment liquid even when the treatment is started.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of the present invention.
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Slot die 2 Photosensitive material 10 Slit part 11 Planar member 12 Bar member 13 Cam 14 Tension spring 15 Cam holding member 17 Fixed base
