JP2004144533A - Minute light source locating system - Google Patents

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Ryoichi Nozaki
野崎 亮一
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Noozeru Engineering Kk
ノーゼルエンジニアリング株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a minute light source locating system capable of quickly acquiring accurate positional data on the light emitting spot of a semiconductor laser attached to an inspection table. <P>SOLUTION: A triangular slit etc. are moved so that a luminous flux obtained by condensing with an objective lens 52 light from a minute light source 2 moves crossing the triangular slit 61 whose width becomes gradually wider in its width direction. On the basis of the variation property of the output amplitude of a first light-receiving means 54 which receives light having passed through the slit then, the location of the minute light source in XY plane vertical to its optical axis is specified. A grid slit member having a large number of slits in its transverse direction side by side is arranged being inclined obliquely, so that the distance from each slit up to the objective lens gradually changes interposing a picture dot in between. The slit etc. are moved so that the optical flux condensed with the objective lens crosses these slits, and by analyzing the variation property of the output amplitude of the light-receiving means obtained that time, the position in Z direction of the minute light source is specified. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、微小光源の位置を測定する微小光源位置測定装置に関し、特に検査台に取り付けられた半導体レーザの正確な取付位置を測定するための微小光源位置測定装置に関する。 The present invention relates to a small light source position measuring device for measuring the position of the minute light source relates to the micro light source position measuring device, particularly for measuring the exact mounting position of a semiconductor laser mounted on a test stand.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
波長多重による光通信の送信装置に使用される半導体レーザの検査項目の1つとして、サイドモード抑圧比率(SMSR…Side−Mode Suppression Ratio)がある。 One test item of the semiconductor laser used in an optical communication transmission system due to the wavelength multiplexing has a side mode suppression ratio (SMSR ... Side-Mode Suppression Ratio). SMSRの測定ではスペクトルアナライザを用いるが、この際、スペクトルアナライザに接続された光ファイバの一端に半導体レーザの出力光を高レベルで入射させる必要がある。 Using a spectrum analyzer in the measurement of the SMSR, but this time, it is necessary to incident output light of the semiconductor laser at a high level to one end of the optical fiber connected to the spectrum analyzer. すなわち、SMSRの測定においては、ピークの波長とサイドモードの波長との出力差が35dB程度あるので、サイドモードの成分がノイズに埋もれないようにするためには、半導体レーザと光ファイバとの位置合わせを正確に行って、半導体レーザの出力光を的確に光ファイバに入射させる必要がある。 That is, in the measurement of the SMSR, the output difference between the wavelengths of peak and side mode is about 35 dB, for components of the side modes is prevented buried in noise, the position of the semiconductor laser and the optical fiber fit precisely performed, accurately output light of the semiconductor laser is required to enter the optical fiber.
【0003】 [0003]
従来は、たとえば、スペクトルアナライザを観察しながら半導体レーザと光ファイバ端面の相対位置をXYZの各方向について少しずつ動かして、入力が最大になる位置を見つけ出すことで位置合わせを行っていた。 Conventionally, for example, by moving the relative positions of the semiconductor laser and the optical fiber end face while observing the spectrum analyzer slightly for each direction of XYZ, the input is performing alignment by finding the position where the maximum.
【0004】 [0004]
【特許文献1】 [Patent Document 1]
特開2002−139311号公報【特許文献2】 JP 2002-139311 Publication [Patent Document 2]
特開平7−190773号公報【0005】 JP-A-7-190773 [0005]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
上述のような位置合わせ方法では、SMSRの測定準備に長い時間を要し、検査効率を充分高めることができないという問題があった。 The alignment method described above, it takes a long time to measure preparation of SMSR, there is a problem that can not be improved sufficiently inspection efficiency. 一方、半導体レーザは既に検査台に固定されているので、その位置を正確に測定できれば、固定されている半導体レーザの位置に合わせて光ファイバを移動させることで、互いの位置合わせを自動化することが可能になる。 On the other hand, since the semiconductor laser is fixed already examination table, if accurate measurements of its position, by moving the optical fiber in accordance with the position of the semiconductor laser is fixed, to automate the alignment of one another It becomes possible.
【0006】 [0006]
本発明は、このような点に着目してなされたもので、検査台に取り付けられた半導体レーザなどの微小光源の正確な位置データを取得すること、および、XYZの各方向における位置データを迅速に取得することのできる微小光源位置測定装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of such points, obtaining accurate positional data of the minute light source such as a semiconductor laser mounted on the examination table, and quickly position data in each direction of the XYZ and its object is to provide a small light source position measuring device which can be obtained.
【0007】 [0007]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
かかる目的を達成するための本発明の要旨とするところは、次の各項の発明に存する。 It is a gist of the present invention for achieving the above object resides in the invention in the following sections.
[1]微小光源(2)の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 [1] In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source (2),
前記微小光源(2)からの光を集光するレンズ部(52)と、 Said lens unit for condensing the light from the micro light source (2) and (52),
前記レンズ部(52)によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段(54)と、 It said lens portion (52) by receiving the light beam is condensed, and the light-receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity (54),
幅が次第に広がるスリット(61)を有するスリット部材(60)であって、前記レンズ部(52)の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリット(61)の幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記レンズ部(52)と前記受光手段(54)の間に配置されたものと、 A slit member (60) having a slit (61) which width increases gradually, when the two directions perpendicular to the optical axis perpendicular to a plane of the lens portion (52) and the X and Y directions, the slits to those disposed between (61) the lens unit in the direction of the width direction coincides with the X direction (52) and said light receiving means (54),
前記レンズ部(52)を介して集光された光束が前記スリット(61)をその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材(60)と前記レンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)を前記X方向に移動させる移動手段(23)と、 As the light beam is condensed through the lens portion (52) is moved across said slit (61) in the width direction, one of said slit member (60) and said lens portion (52) or moving means for moving the movable optical consisting both system (50) in the X direction (23),
前記移動光学系(50)の位置と前記受光手段(54)の出力値との関係に基づいて前記微小光源(2)の位置を解析する位置解析手段(81)を有し、 The has a movable optical system (50) position and the position analyzing means for analyzing the position of the micro light source (2) based on the relationship between the output value of said light receiving means (54) (81),
前記位置解析手段(81)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)を移動させた際における前記受光手段(54)の出力値の変化特性から前記光束の中心がスリット(61)に入ったときの前記移動光学系(50)のX方向位置と前記光束の中心がスリット(61)から出たときの前記移動光学系(50)のX方向位置とを求め、これらの間の距離と前記スリット(61)の幅の広がり具合との関係から前記微小光源(2)のY方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing unit (81), said moving means (23) is the center of the light beam from the change characteristic of the output value of the moving optical system the light receiving means at the time of moving the (50) (54) is a slit (61 ) to enter the moving optical system when the (50) the center of the light beam and the X-direction position determined and the X-direction position of the movable optical system when exiting from the slit (61) (50) of, between them the distance between the micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the Y direction position of the slit the micro light source from the relationship between the spatial spread of the width (61) (2) of the.
【0008】 [0008]
[2]微小光源(2)の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 [2] In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source (2),
前記微小光源(2)からの光を集光するレンズ部(52)と、 Said lens unit for condensing the light from the micro light source (2) and (52),
前記レンズ部(52)によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段(54)と、 It said lens portion (52) by receiving the light beam is condensed, and the light-receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity (54),
幅が左右対称に次第に広がるスリット(61)を有するスリット部材(60)であって、前記レンズ部(52)の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリット(61)の幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記レンズ部(52)と前記受光手段(54)の間に配置されたものと、 A slit member (60) having a slit (61) which width increases gradually symmetrically, when the two directions perpendicular to the optical axis perpendicular to a plane of the lens portion (52) and the X and Y directions , as disposed between the lens portion in the width direction and in a direction that coincides with the X direction of the slit (61) (52) and said light receiving means (54),
前記レンズ部(52)を介して集光された光束が前記スリット(61)をその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材(60)と前記レンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)を前記X方向に移動させる移動手段(23)と、 As the light beam is condensed through the lens portion (52) is moved across said slit (61) in the width direction, one of said slit member (60) and said lens portion (52) or moving means for moving the movable optical consisting both system (50) in the X direction (23),
前記移動光学系(50)の位置と前記受光手段(54)の出力値との関係に基づいて前記微小光源(2)の位置を解析する位置解析手段(81)を有し、 The has a movable optical system (50) position and the position analyzing means for analyzing the position of the micro light source (2) based on the relationship between the output value of said light receiving means (54) (81),
前記位置解析手段(81)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)を移動させた際における前記受光手段(54)の出力値の変化特性から前記光束の中心がスリット(61)に入ったときの前記移動光学系(50)のX方向位置と前記光束の中心がスリット(61)から出たときの前記移動光学系(50)のX方向位置とを求め、これらの間の距離と前記スリット(61)の幅の広がり具合との関係から前記微小光源(2)のY方向位置を特定するとともに、前記光束の中心がスリット(61)に入ったときの前記移動光学系(50)のX方向位置と前記光束の中心がスリット(61)から出たときの前記移動光学系(50)のX方向位置との中心位置に基づいて前記微小光源(2)のX方向位置を特定することを特徴とする微 The position analyzing unit (81), said moving means (23) is the center of the light beam from the change characteristic of the output value of the moving optical system the light receiving means at the time of moving the (50) (54) is a slit (61 ) to enter the moving optical system when the (50) the center of the light beam and the X-direction position determined and the X-direction position of the movable optical system when exiting from the slit (61) (50) of, between them with specifying the Y direction position of the distance between the slit (61) width the micro light source from the relationship between the spatial spread of the (2), said movable optical system when the center of the light beam enters the slit (61) the X-direction position of the minute light source (2) based on the center position of the center of the light beam and the X-direction position and the X-direction position of the movable optical system when exiting from the slit (61) (50) (50) fine and identifies the 光源位置測定装置。 Source position measuring device.
【0009】 [0009]
[3]微小光源(2)の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 [3] In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source (2),
前記微小光源(2)からの光を集光するレンズ部(52)と、 Said lens unit for condensing the light from the micro light source (2) and (52),
前記レンズ部(52)によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段(54)と、 It said lens portion (52) by receiving the light beam is condensed, and the light-receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity (54),
幅が次第に広がるスリット(61)を有するスリット部材(60)であって、前記レンズ部(52)の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリット(61)の幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記レンズ部(52)と前記受光手段(54)の間に配置されたものと、 A slit member (60) having a slit (61) which width increases gradually, when the two directions perpendicular to the optical axis perpendicular to a plane of the lens portion (52) and the X and Y directions, the slits to those disposed between (61) the lens unit in the direction of the width direction coincides with the X direction (52) and said light receiving means (54),
前記レンズ部(52)を介して集光された光束が前記スリット(61)をその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材(60)と前記レンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)を前記X方向に移動させる移動手段(23)と、 As the light beam is condensed through the lens portion (52) is moved across said slit (61) in the width direction, one of said slit member (60) and said lens portion (52) or moving means for moving the movable optical consisting both system (50) in the X direction (23),
前記移動光学系(50)の位置と前記受光手段(54)の出力値との関係に基づいて前記微小光源(2)の位置を解析する位置解析手段(81)を有し、 The has a movable optical system (50) position and the position analyzing means for analyzing the position of the micro light source (2) based on the relationship between the output value of said light receiving means (54) (81),
前記位置解析手段(81)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)を移動させた際における前記受光手段(54)の出力値の変化特性から前記光束の中心がスリット(61)に入ったときの前記移動光学系(50)のX方向位置と前記光束の中心がスリット(61)から出たときの前記移動光学系(50)のX方向位置とを求め、これらの間の距離と前記スリット(61)の幅の広がり具合との関係から前記微小光源(2)のY方向位置を特定するとともに、前記光束の中心がスリット(61)に入ったときの前記移動光学系(50)のX方向位置と前記光束の中心がスリット(61)から出たときの前記移動光学系(50)のX方向位置との間をスリット(61)の左への広がり具合と右への広がり具合の比に応じて内分した The position analyzing unit (81), said moving means (23) is the center of the light beam from the change characteristic of the output value of the moving optical system the light receiving means at the time of moving the (50) (54) is a slit (61 ) to enter the moving optical system when the (50) the center of the light beam and the X-direction position determined and the X-direction position of the movable optical system when exiting from the slit (61) (50) of, between them with specifying the Y direction position of the distance between the slit (61) width the micro light source from the relationship between the spatial spread of the (2), said movable optical system when the center of the light beam enters the slit (61) (50) the center of the light beam and the X-direction position is a slit (61) upon exiting from the moving optical system (50) between the X-direction position to the spatial spread and right left to the slit (61) of the It was internally divided in accordance with the ratio of the degree of spread of the 置に基づいて前記微小光源(2)のX方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 Micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the X-direction position of the micro light source based on location (2).
【0010】 [0010]
[4]微小光源(2)の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 [4] In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source (2),
前記微小光源(2)からの光を集光するレンズ部(52)と、 Said lens unit for condensing the light from the micro light source (2) and (52),
前記レンズ部(52)によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段(54)と、 It said lens portion (52) by receiving the light beam is condensed, and the light-receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity (54),
幅が次第に広がるスリット(61)を有するスリット部材(60)であって、前記レンズ部(52)の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリット(61)の幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記レンズ部(52)と前記受光手段(54)の間に配置されたものと、 A slit member (60) having a slit (61) which width increases gradually, when the two directions perpendicular to the optical axis perpendicular to a plane of the lens portion (52) and the X and Y directions, the slits to those disposed between (61) the lens unit in the direction of the width direction coincides with the X direction (52) and said light receiving means (54),
前記レンズ部(52)を介して集光された光束が前記スリット(61)をその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材(60)と前記レンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)を前記X方向に移動させる移動手段(23)と、 As the light beam is condensed through the lens portion (52) is moved across said slit (61) in the width direction, one of said slit member (60) and said lens portion (52) or moving means for moving the movable optical consisting both system (50) in the X direction (23),
前記移動光学系(50)の位置と前記受光手段(54)の出力値との関係に基づいて前記微小光源(2)の位置を解析する位置解析手段(81)を有し、 The has a movable optical system (50) position and the position analyzing means for analyzing the position of the micro light source (2) based on the relationship between the output value of said light receiving means (54) (81),
前記位置解析手段(81)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)を移動させた際における前記受光手段(54)の出力値の変化特性から前記光束の中心がスリット(61)に入ったときの前記移動光学系(50)のX方向位置と前記光束の中心がスリット(61)から出たときの前記移動光学系(50)のX方向位置とを求め、これらの間の距離と前記スリット(61)の幅の広がり具合との関係から前記微小光源(2)のY方向位置を特定するとともに、前記光束の中心がスリット(61)に入ったときもしくはスリット(61)から出たときにおける前記移動光学系(50)のX方向位置を、そのときの光束中心のY方向位置と前記スリット(61)の広がり具合とから求めた当該Y方向位置におけるスリットエッジのX The position analyzing unit (81), said moving means (23) is the center of the light beam from the change characteristic of the output value of the moving optical system the light receiving means at the time of moving the (50) (54) is a slit (61 ) to enter the moving optical system when the (50) the center of the light beam and the X-direction position determined and the X-direction position of the movable optical system when exiting from the slit (61) (50) of, between them the distance between the width together with the relationship between the spatial spread specifying the Y direction position of the micro light source (2) of the slit (61) in or slits when the center of the light beam enters the slit (61) (61) X slit edges in the Y-direction position determined from the spatial spread of the movable optical system in when exiting (50) the X-direction position, the and the Y direction position of the center of the light beam at that time the slit (61) from 向オフセット量で補正することにより、前記微小光源(2)のX方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 By correcting countercurrently offset, micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the X-direction position of the micro light source (2).
【0011】 [0011]
[5]前記レンズ部(52)によって前記微小光源(2)の映像が生成される点である映像点もしくはその近傍に前記スリット(61)が位置するように前記スリット部材(60)を配置することを特徴とする[1]、[2]、[3]または[4]に記載の微小光源位置測定装置。 [5] locating the slit member (60) such that the location slit (61) is a video point or in the vicinity thereof is that the image is generated in the micro light source (2) by said lens unit (52) characterized in that [1], [2], the micro light source position measuring device according to [3] or [4].
【0012】 [0012]
[6]前記スリット(61)の幅方向と前記X方向との一致を検証する取付角検証手段(82)をさらに有し、 [6] further comprising a mounting angle verifying means (82) for verifying the width direction coincides with the X direction of the slit (61),
前記取付角検証手段(82)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)をX方向に移動させた際における前記受光手段(54)の出力値の変化特性を、前記スリット部材(60)をY方向にずらした2つの位置で測定し、前記変化特性の相違と前記スリット部材(60)のY方向への移動距離と前記スリット(61)の幅が広がる割合との関係から、前記スリット(61)の幅方向の向きと前記X方向との差を求めることを特徴とする[1]、[2]、[3]または[4]に記載の微小光源位置測定装置。 Said mounting angle verifying means (82), the change characteristic of the output value of the light receiving means (54) at the time of said moving means (23) has moved said movable optical system (50) in the X direction, the slit member (60) measured at two positions shifted in the Y direction, the relationship between the width increases the rate of the movement distance between the slits (61) in the Y direction different from the slit member of the variation characteristics (60) , and obtains the difference between the width direction of orientation to the X direction of the slit (61) [1], [2], the micro light source position measuring device according to [3] or [4].
【0013】 [0013]
[7]前記位置解析手段(81)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)をX方向に移動させた際に前記受光手段(54)の出力値の立ち上がりと立ち下がりのいずれか一方もしくは双方の急峻度を求めることを、前記移動光学系(50)を前記光軸方向であるZ方向にずらして、スリット(61)が前記微小光源(2)の映像が生成される点である映像点の手前にある状態と奥側にある状態とでそれぞれ少なくとも2箇所ずつ行い、これらの測定結果から前記急峻度が最大になる前記移動光学系(50)のZ方向位置を算出し、これに基づいて前記微小光源(2)のZ方向位置を特定することを特徴とする[1]、[2]、[3]または[4]に記載の微小光源位置測定装置。 [7] The position analyzing unit (81), said moving means (23) said movable optical system (50) the output value of said light receiving means when moving in the X direction (54) rise and fall to seek either or both of the steepness, by shifting the moving optical system (50) in the Z direction is the optical axis direction, the image of the slit (61) is the small light source (2) is generated performed by at least two positions, respectively a state in the state and the rear side in the front of the image point is a point, calculated Z-direction position of the movable optical system in which the steepness from these measurements is maximized (50) and, wherein the identifying the Z direction position of the micro light source (2) based on which [1], [2], the micro light source position measuring device according to [3] or [4].
【0014】 [0014]
[8]微小光源(2)の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 [8] In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source (2),
前記微小光源(2)からの光を集光するレンズ部(52)と、 Said lens unit for condensing the light from the micro light source (2) and (52),
前記レンズ部(52)によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段(54)と、 It said lens portion (52) by receiving the light beam is condensed, and the light-receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity (54),
スリット(61)を有するスリット部材(60)であって、前記レンズ部(52)の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリット(61)の幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記微小光源(2)の映像が生成される点である映像点の近傍に配置されたものと、 A slit (61) a slit member having (60), when the two directions perpendicular to the optical axis perpendicular to a plane of the lens portion (52) and the X and Y directions, said slit (61) and those disposed in the vicinity of the image point is that the image is generated in the micro light source (2) and the width direction in a direction that coincides with the X direction,
前記レンズ部(52)を介して集光された光束が前記スリット(61)をその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材(60)と前記レンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)を前記X方向に移動させる移動手段(23)と、 As the light beam is condensed through the lens portion (52) is moved across said slit (61) in the width direction, one of said slit member (60) and said lens portion (52) or moving means for moving the movable optical consisting both system (50) in the X direction (23),
前記移動光学系(50)の位置と前記受光手段(54)の出力値との関係に基づいて、前記光軸方向であるZ方向における前記微小光源(2)の位置を解析する位置解析手段(81)を有し、 Wherein the position of the movable optical system (50) based on the relationship between the output value of the light receiving means (54), position analyzing means for analyzing the position of the minute light source (2) in the Z direction is the optical axis direction ( has a 81),
前記位置解析手段(81)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)をX方向に移動させた際に前記受光手段(54)の出力値の立ち上がりと立ち下がりのいずれか一方もしくは双方の急峻度を求めることを、前記移動光学系(50)を前記光軸方向であるZ方向にずらして、スリット(61)が前記微小光源(2)の映像が生成される点である映像点の手前にある状態と奥側にある状態とでそれぞれ少なくとも2箇所ずつ行い、これらの測定結果から前記急峻度が最大になる前記移動光学系(50)のZ方向位置を算出し、これに基づいて前記微小光源(2)のZ方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing unit (81), either one of the rising and falling of the output value of said moving means (23) said movable optical system the light receiving unit when moving (50) in the X-direction (54) or to seek both steepness, by shifting the moving optical system (50) in the Z direction is the optical axis direction, in that the slit (61) is the image of the minute light source (2) is generated performed by at least two positions, respectively a state in the state and the rear side in the front of the image point, and calculates the Z direction position of the movable optical system in which the steepness from these measurements is maximized (50), which micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the Z-direction position of the micro light source (2) based on.
【0015】 [0015]
[9]微小光源(2)の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 [9] In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source (2),
前記微小光源(2)からの光を集光するレンズ部(52)と、 Said lens unit for condensing the light from the micro light source (2) and (52),
前記レンズ部(52)によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段(54)と、 It said lens portion (52) by receiving the light beam is condensed, and the light-receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity (54),
スリット(71)がその幅方向に多数併設された格子スリット部材(70)であって、前記レンズ部(52)の光軸をZ方向としかつ光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記レンズ部(52)の光軸に垂直かつ前記スリット(61)の併設方向とX方向とを一致させた状態に対して前記スリット(71)の併設方向と光軸の成す角が90度から外れるように斜めに倒した状態で前記微小光源(2)の映像が生成される点である映像点の近傍に配置されたものと、 A slit (71) multiple-site lattice slit member in the width direction (70), the two directions of the optical axis perpendicular to the Z direction Toshikatsu plane perpendicular to the optical axis of the lens portion (52) when the X and Y directions, and features direction of the slit (71) with respect to a state of being matched with the features and X directions perpendicular and the slits to the optical axis (61) of said lens portion (52) to that angle between the optical axis is disposed in the vicinity of the image point is that the image is generated in the minute light source in a state tilted at an angle so as to deviate from 90 degrees (2),
前記レンズ部(52)を介して集光された光束が前記映像点の前後で前記多数のスリット(71)をそれらの併設方向に横切って移動するように前記格子スリット部材(70)と前記レンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)を前記X方向に移動させる移動手段(24)と、 The grating slit member (70) and the lens so that the light flux is condensed through the lens portion (52) moves said plurality of slits (71) across their hotel direction before and after the image point part (52) of the moving means for moving one or movable optical system consisting of both the (50) in the X direction (24),
前記移動光学系(50)の位置と前記受光手段(54)の出力値との関係に基づいて前記微小光源(2)の位置を解析する位置解析手段(81)とを有し、 Wherein the position of the movable optical system (50) based on the relationship between the output value of the light receiving means (54) and a position analyzing unit (81) analyzing the position of the micro light source (2),
前記位置解析手段(81)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)を移動させた際における前記受光手段(54)の出力値の変化特性を微分して絶対値をとり、これにおいて最大値が現れるであろう前記移動光学系(50)のX方向位置を求め、これに基づいて前記微小光源(2)のZ方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing unit (81) takes the absolute value by differentiating the change characteristic of the output value of the light receiving means (54) at the time of said moving means (23) has moved said movable optical system (50), We obtain an X-direction position of the would maximum values ​​appear the movable optical system (50) in which micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the Z-direction position of the micro light source (2) based on this .
【0016】 [0016]
[10]微小光源(2)の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 [10] In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source (2),
前記微小光源(2)からの光を集光するレンズ部(52)と、 Said lens unit for condensing the light from the micro light source (2) and (52),
前記レンズ部(52)によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段(54)と、 It said lens portion (52) by receiving the light beam is condensed, and the light-receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity (54),
スリット(71)がその幅方向に多数併設された格子スリット部材(70)であって、前記レンズ部(52)の光軸をZ方向としかつ光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記レンズ部(52)の光軸に垂直かつ前記スリット(61)の併設方向とX方向とを一致させた状態に対して前記スリット(71)の併設方向と光軸の成す角が90度から外れるように斜めに倒した状態で前記微小光源(2)の映像が生成される点である映像点の近傍に配置されたものと、 A slit (71) multiple-site lattice slit member in the width direction (70), the two directions of the optical axis perpendicular to the Z direction Toshikatsu plane perpendicular to the optical axis of the lens portion (52) when the X and Y directions, and features direction of the slit (71) with respect to a state of being matched with the features and X directions perpendicular and the slits to the optical axis (61) of said lens portion (52) to that angle between the optical axis is disposed in the vicinity of the image point is that the image is generated in the minute light source in a state tilted at an angle so as to deviate from 90 degrees (2),
前記レンズ部(52)を介して集光された光束が前記映像点の前後で前記多数のスリット(71)をそれらの併設方向に横切って移動するように前記格子スリット部材(70)と前記レンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)を前記X方向に移動させる移動手段(24)と、 The grating slit member (70) and the lens so that the light flux is condensed through the lens portion (52) moves said plurality of slits (71) across their hotel direction before and after the image point part (52) of the moving means for moving one or movable optical system consisting of both the (50) in the X direction (24),
前記移動光学系(50)の位置と前記受光手段(54)の出力値との関係に基づいて前記微小光源(2)の位置を解析する位置解析手段(81)とを有し、 Wherein the position of the movable optical system (50) based on the relationship between the output value of the light receiving means (54) and a position analyzing unit (81) analyzing the position of the micro light source (2),
前記位置解析手段(81)は、前記移動手段(23)が前記移動光学系(50)を移動させた際における前記受光手段(54)の出力値の変化特性に現れた多数のピークから、最大ピーク値が現れるであろう前記移動光学系(50)のX方向位置を求め、これに基づいて前記微小光源(2)のZ方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing unit (81), from said plurality of peaks appearing in the variation characteristic of the output value of the light receiving means (54) at the time of said moving means (23) has moved said movable optical system (50), up to obtains an X-direction position of the movable optical system that would peak value appears (50), the minute light source position measuring apparatus characterized by specifying the Z-direction position of the micro light source (2) based on this.
【0017】 [0017]
[11][1]、[2]、[3]または[4]に記載の微小光源位置測定装置と、[9]または[10]に記載の微小光源位置測定装置とを少なくともレンズ部(52)を共用して備えるとともに、前記レンズ部(52)によって集光された光束を第1光束と第2光束に分岐するビームスプリッタ(53)を有し、 [11] [1], [2], [3] or with a small light source position measuring device according to [4], [9], or at least a lens portion and a small light source position measuring device according to [10] (52 ) together comprise share a, has a beam splitter (53) for splitting the light beam condensed by the lens portion (52) to the first light flux and the second light flux,
前記ビームスプリッタ(53)の出力する前記第1光束を[1]、[2]、[3]または[4]に記載の微小光源位置測定装置で使用し、 Wherein said first light beam outputted by the beam splitter (53) [1], [2], using a very small light source position measuring device according to [3] or [4],
前記ビームスプリッタ(53)の出力する前記第2光束を[9]または[10]に記載の微小光源位置測定装置で使用するように構成したことを特徴とする微小光源位置測定装置。 Micro light source position measuring device, characterized in that configured for use with micro light source position measuring device according to the output for the second light flux [9] or [10] of said beam splitter (53).
【0018】 [0018]
[12]前記移動光学系(50)をX方向に移動させることに代えて前記光束が前記スリット(61)をその幅方向に横切って移動するように前記レンズ部(52)を回転させるとともに、前記移動光学系(50)のX方向の位置および移動距離に代えて前記レンズ部(52)の角度および回転角を用いることを特徴とする[1]、[2]、[3]、[4]、[5]、[6]、[7]、[8]、[9]、[10]または[11]に記載の微小光源位置測定装置。 [12] along with rotating the lens portion (52) such that said movable optical system the light beam instead of moving the (50) in the X-direction moving across the slit (61) in the width direction thereof, wherein the place of the position and movement distance in the X direction movable optical system (50) using the angle and rotation angle of the lens portion (52) [1], [2], [3], [4 ], [5], [6], [7], [8], [9], the micro light source position measuring device according to [10] or [11].
【0019】 [0019]
前記本発明は次のように作用する。 The present invention functions as follows.
検査台に固定された半導体レーザなどの微小光源(2)からの光はレンズ部(52)を介して集光される。 Light from small light source (2), such as a fixed semiconductor laser inspection table is condensed through the lens unit (52). 受光手段(54)は、レンズ部(52)で集光された光束を受光する。 Light receiving means (54) receives the light beam condensed by the lens portion (52). 幅が次第に広がるスリット(61)を有するスリット部材(60)は、レンズ部(52)と受光手段(54)の間に配置されている。 The slit member (60) having a slit (61) which width increases gradually is disposed between the lens portion (52) light receiving means (54). またスリット部材(60)は、レンズ部(52)の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、スリット(61)の幅方向がX方向と一致する向きにして、レンズ部(52)と受光手段(54)の間に配置されている。 The slit member (60), when the lens unit two directions perpendicular to the optical axis in a plane perpendicular (52) to the X and Y directions, the direction in which the width direction of the slit (61) coincides with the X direction a manner is disposed between the lens portion (52) light receiving means (54). 好ましくは、スリット(61)は、レンズ部(52)によって形成される映像点もしくはその近傍に配置される。 Preferably, the slit (61) is disposed in the image point or near formed by the lens unit (52). 映像点とは、レンズ部(52)によって微小光源(2)の映像(実像)が生成される箇所である。 The image point, the lens portion by (52) is a portion where the image (real image) is generated in the minute light source (2). 言い換えると、レンズ部(52)によって集光された光束の径が最も細くなる部分(ビームウェスト)の存する点である。 In other words, the diameter of the light beam condensed by the lens unit (52) is exists a point of thinnest portion (beam waist).
【0020】 [0020]
スリット(61)の形状は、たとえばその底辺をスリットの幅方向とした二等辺三角形であったり、一辺をX方向、他辺をY方向とした直角三角形であったりしてもよい。 Shape of the slit (61), or a for example an isosceles triangle that has given the bottom with the width direction of the slit, one side of the X-direction, the other side may be or be a right triangle and the Y direction. スリットの左右のエッジはY方向に対して必ずしも左右均等に広がる必要はない。 Left and right edges of the slit are not necessarily spread evenly on both ends with respect to the Y direction. さらにスリットのエッジは、必ずしも直線である必要はなく、幅が次第に広がるものであれば、曲線であってもよい。 Further the slit edge is not necessarily a straight line, as long as the width increases gradually, or may be curved.
【0021】 [0021]
移動手段(23)は、スリット部材(60)とレンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)をX方向に移動させる。 Moving means (23) moves the slit member (60) and lens portion (52) one or movable optical system consisting of both the (50) in the X direction. スリット(61)はその幅方向がX方向と一致するように設定されているので、この移動により、レンズ部(52)を介して集光された光束が、スリット(61)を幅方向に横切って移動する。 Since the slit (61) is set so that its width direction coincides with the X direction, this movement, the light beam condensed through the lens portion (52), across the slit (61) in the width direction moving Te. 移動光学系(50)は、スリット部材(60)のみでも良いし、レンズ部(52)だけでもよい。 Movable optical system (50) may be only a slit member (60) may only lens portion (52). さらにスリット部材(60)とレンズ部(52)の双方を一体として移動させてもよい。 Moreover both of the slit member (60) and the lens unit (52) may be moved integrally with.
【0022】 [0022]
位置解析手段(81)は、移動手段(23)が移動光学系(50)を移動させた際における受光手段(54)の出力値の変化特性から、光束の中心がスリット(61)に入ったときの移動光学系(50)の位置と光束の中心がスリット(61)から出たときの移動光学系(50)の位置とを求め、これらの間の距離とスリット(61)の幅の広がり具合との関係からY方向における微小光源(2)の位置を特定する。 Position analyzing means (81) from the change characteristic of the output value of the light receiving means (54) at the time of moving means (23) has moved the movable optical system (50), the center of the light beam enters the slit (61) position and the center of the luminous flux of the moving optical system (50) is determined and the position of the movable optical system (50) when exiting from the slit (61) when spreading of the width of the distance and the slit between them (61) identifying the position of the minute light source (2) the relationship between the degree in the Y direction. すなわち、光束の中心がスリット(61)に入ってから出るまでの移動距離を把握することで光束の中心がスリット(61)のどの幅の部分を横切ったかを認識する。 That recognizes whether the center of the light beam crosses the portion of the width of the slit (61) throat by the center of the light beam to grasp the moving distance to the exit from entering the slit (61). スリット(61)は、幅が次第に広がるように形成されているので、該当する幅になっている箇所が、スリット(61)の幅方向と直交するY方向のどの位置であるかを求めることができ、さらにこれに基づいて微小光源(2)のY方向位置を特定することができる。 Slit (61), the width is formed so as to be gradually widened, portion which is the appropriate width, be determined whether any position in the Y direction orthogonal to the width direction of the slit (61) it can, can be further specified in the Y-direction position of the minute light source (2) based on this.
【0023】 [0023]
ここで、光束が横切って移動する部分におけるスリット(61)の幅が光束の直径より大きくなるようにしておく。 Here, the width of the slit (61) at a portion where the light beam is moved across the previously set to be larger than the diameter of the light beam. すなわち、横切る際に必ず光束の全体がスリット内に入り得るようにしておく。 That is, the whole always light beam when crossing the left as may fall within the slit. このようにすれば、光束がまったくスリット(61)に入っていない状態と受光手段(54)の出力特性がピークに達した位置(光束の全体がスリット(61)に入った位置)との中間位置を、光束の中心がスリット(61)に入った位置として特定することができる。 In this way, intermediate between the position where the output characteristic peaked state and the light-receiving means for the light beam is not in all the slits (61) (54) (total light flux enters the slit (61) position) position, the center of the light beam can be identified as a position that has entered the slit (61). たとえば、光束がスリット(61)を通過する際のピーク値に対して、受光手段(54)の出力の立ち上がり時に、その値がピークのN%(たとえば10%など50%より十分低い割合)になる位置と、M%(たとえば90%など50%より十分高い割合)になる位置とを求め、これらの位置の中心位置を光束の中心がスリット(61)に入ったときの位置と判断する。 For example, the peak value when a light beam passes through the slit (61), at the rising edge of the output of the light receiving means (54), to the value N% of the peak (e.g. sufficiently low proportion than 50% such as 10%) a position where, obtain the position and to become M% (e.g. sufficiently high proportion than 50% such as 90%), the center of the light beam center positions of these positions is determined that the position when entering the slit (61).
【0024】 [0024]
スリット(61)の幅がスリット(61)を通過する光束の直径より大きくするためには、光束の径が最も細くなる箇所(ビームウェスト)、言い換えるとレンズ部(52)によって微小光源(2)の映像が生成される映像点、もしくはその近傍にスリット部材(60)を配置することが望ましい。 Slit (61) to the width of larger than the diameter of the light beam passing through the slit (61) is, portion where the diameter of the light beam is narrowest (beam waist), micro light source by a lens unit (52) in other words (2) image points of the image is generated, or it is desirable to place the slit member (60) in the vicinity thereof. スリット(61)を横切る光束の径が小さければ小さいほど、スリット(61)の幅を狭くすることができる。 The smaller the diameter of the light beam across the slit (61), it is possible to narrow the width of the slit (61). その結果、移動光学系(50)の移動範囲が少なくなり、検査をより迅速に行うことが可能になる。 As a result, the moving range of the movable optical system (50) is reduced, it is possible to inspect more quickly. また光束がスリット(61)に出入りする際の受光手段(54)の出力値は、光束の径が小さいほど、急峻に変化するので、光束の中心がスリット(61)に出入りする位置を的確に把握することができ、測定精度を高めることができる。 The output value of the light receiving means when the light beam enters and exits the slit (61) (54), as the diameter of the light beam is small, since the steeply changes, the center of the light beam is accurately positioned into and out of the slit (61) can be grasped, it is possible to improve the measurement accuracy.
【0025】 [0025]
さらに、スリット(61)をその幅が左右対称に広がるようにしておき、位置解析手段(81)は、光束の中心がスリット(61)に入ったときの移動光学系(50)の位置と光束の中心がスリット(61)から出たときの移動光学系(50)の位置との中心位置を求め、これをX方向における微小光源(2)の位置として特定する。 Furthermore, it leaves a slit (61) is its width so as to spread symmetrically, position analyzing means (81), the position and the light beam of the movable optical system (50) when the center of the light beam enters the slit (61) center obtains the center position between the position of the movable optical system (50) when exiting from the slit (61), which is identified as the position of the minute light source (2) in the X direction. このように、スリット(61)が左右対称に広がっているので、出入りの中心位置を求めることで、光束がY方向のどの位置でスリット(61)を横切ったかにかかわりなく、微小光源(2)のX方向の位置を特定することができる。 Thus, the slits so (61) is spread symmetrically, by obtaining the center position of and out, regardless of whether the light beam crosses the slit (61) at any position in the Y direction, small light source (2) it is possible to specify the position of the X direction.
【0026】 [0026]
またスリット(61)の幅が左右対称に広がっていない場合であっても、スリット(61)の一方のエッジと他方のエッジがどのように広がっているかが既知であれば、光束の中心がスリット(61)に入ったときの移動光学系(50)の位置と光束の中心がスリット(61)から出たときの移動光学系(50)の位置との間を、スリットの左への広がり具合と右への広がり具合の比に応じて内分した点に基づいて、微小光源(2)のX方向位置を求めることができる。 Further, even if the width of the slit (61) does not extend symmetrically, if either is known one edge and the other edge of the slit (61) is how to spread, the center of the light beam is slit spatial spread of the movable optical system when entering the (61) (50) position and movable optical system when the center comes out from the slit (61) of the light beam between a position (50), to the left of the slit and on the basis of a point obtained by internally dividing according to the ratio of the spatial spread to the right, it is possible to obtain the X-direction position of the minute light source (2). たとえば、右のエッジがY方向に対してθ1の角度で、左のエッジがY方向に対してθ2の角度で広がっている場合には、光束の中心がスリット(61)の右エッジを横切ったときの移動光学系(50)の位置と光束の中心が左エッジを横切ったときの移動光学系(50)の位置との間をtanθ1:tanθ2の比率で内分した位置を求めることで、微小光源(2)のX方向位置を特定することができる。 For example, at an angle of θ1 right edge relative to the Y direction, when the left edge extends at an angle of θ2 with respect to the Y direction, the center of the light beam crosses the right edge of the slit (61) position and the center of the luminous flux of the moving optical system (50) tanθ1 between the position of the movable optical system when across the left edge (50) when: by obtaining the internally dividing positions by the ratio of tan [theta] 2, small the X-direction position of the light source (2) can be identified.
【0027】 [0027]
さらに、光束がスリット(61)を横切った箇所における光束中心のY方向位置を特定できるので、当該Y方向位置とスリット(61)の広がり具合とから、当該Y方向位置におけるスリットエッジの基準点に対するX方向オフセット量を求め、光束中心がスリット(61)に入ったときもしくはスリット(61)から出たときの移動光学系(50)の位置をX方向オフセット量で補正することにより、X方向における微小光源(2)の位置を特定するようにしてもよい。 Further, since the light beam can identify a Y-direction position of the light beam center at a point across the slit (61), and a spatial spread of the Y-direction position and the slit (61), relative to the reference point of the slit edges in the Y-direction position obtains an X direction offset amount, the light beam center by correcting in X direction offset amount the position of the movable optical system (50) when exiting from the slit (61) when entering into or slit (61), in the X-direction it may be to locate the small light source (2). たとえば、三角形のスリット(61)を用い、スリット(61)を横切った際の光束中心のY方向位置を左右のスリットエッジの交点に対する相対位置で表したものをY1、右のエッジから光束中心がスリット(61)に入ったときの移動光学系(50)のX方向位置をX1、右のエッジのY方向に対する傾斜をθ1とすると、X方向オフセット量はY1×tanθ1となり、移動光学系(50)のX方向位置であるX1からY1×tanθ1を差し引いてX1を補正すれば、これを基準として微小光源(2)のX方向位置を特定することができる。 For example, using a triangular slit (61), those representing the Y-direction position of the light beam center when across the slit (61) in position relative to the intersection of the left and right slit edges Y1, the center of the light beam from the right edge the slit (61) to enter the moving optical system when the X-direction position of (50) X1, and inclined θ1 with respect to the Y direction of the right edge, the X direction offset amount becomes Y1 × tan .THETA.1, movable optical system (50 it is corrected X1 by subtracting the X1 from Y1 × tan .THETA.1 a X-direction position of the), which the X-direction position of the minute light source (2) can be specified as a reference.
【0028】 [0028]
スリット(61)の幅方向がX方向と一致するようにスリット部材(60)が配置されているか否かは以下のようにして検証する。 Width direction of the slit (61) whether the slit member (60) is arranged to coincide with the X direction is verified as follows. たとえば、スリット(61)として、その幅が一定の割合で広がるものを用いる。 For example, as a slit (61), using which the width increases at a constant rate. この例では、二等辺三角形のスリット(61)を用いる。 In this example, a isosceles triangular slits (61). 取付角検証手段(82)は、移動光学系(50)をX方向に移動させた際における受光手段(54)の出力値の変化特性を、スリット部材(60)をY方向にずらした2つの位置で測定する。 Mounting angle verifying means (82), the change characteristic of the output value of the light receiving means (54) at the time of moving the movable optical system (50) in the X direction, the slit member (60) two shifted in the Y direction It is measured at the position. そしてこれらの変化特性の相違とスリット部材(60)のY方向への移動距離とスリット(61)の幅が広がる割合との関係から、スリット(61)の幅方向の向きと前記X方向との一致、不一致あるいは誤差を求める。 And the relationship between the ratio of the width spread of the movement distance and the slit (61) in the Y-direction differences and the slit member of the change characteristic (60), the slit and the width direction of orientation and the X direction (61) match, find a discrepancy or error.
【0029】 [0029]
上記の変化特性の相違としては、たとえば、出力値の変化特性から光束が横切った箇所におけるスリット幅を求め、スリット部材(60)をY方向にずらした2つの位置におけるスリット幅の差を求める。 The difference of the change characteristics, for example, obtains the slit width at a location which the light beam crosses the variation characteristic of the output value, obtaining the difference between the slit width in two positions shifted a slit member (60) in the Y direction. すなわち、移動手段(23)が移動光学系(50)をX方向に移動させた際における受光手段(54)の出力値の変化特性から光束の中心がスリット(61)に入ったときの移動光学系(50)の位置と光束の中心がスリット(61)から出たときの移動光学系(50)の位置とから光束の中心がスリット(61)に入ってからスリット(61)を出るまでの距離を求めていることを、スリット部材(60)をY方向にずらした2つの位置で行い、これらの距離の差とスリット部材(60)のY方向への移動距離とスリット(61)の幅が広がる割合との関係から、スリット(61)の幅方向の向きとX方向との誤差を求める。 That is, the mobile optics when the center of the light beam from the variation characteristic of the output value of the light receiving means (54) at the time of moving means (23) has moved the movable optical system (50) in the X direction enters the slit (61) system from the center and a position of the light beam moving optical system when the center position and the light beam is emitted from the slit (61) (50) (50) enters the slit (61) until it exits the slit (61) that seeking distance performs slit member (60) in two positions shifted in the Y direction, the width of the moving distance and the slit in the Y direction of the difference and the slit member of these distances (60) (61) the relationship between the percentage of spread, obtaining an error between the width direction of the direction and X direction of the slit (61). また光束の中心がスリット(61)に入った時点での移動光学系(50)の位置の差を相違として求めたり、スリット(61)を出た時点での移動光学系(50)の位置の差を相違として求めたりしてもよい。 The or determines the difference between the position of the movable optical system (50) at the time when the center of the light beam enters the slit (61) as a difference, a slit (61) optical movement at the time of leaving the system of the position of (50) the difference may be or determined as the difference between the.
【0030】 [0030]
これら変化特性の相違として求めた距離とスリット部材(60)のY方向への移動距離とスリット(61)の幅が広がる割合との関係から、スリット(61)の幅方向の向きとX方向との誤差を求める方法として、たとえば、スリット(61)が角度θで広がっている場合には、変化特性の相違として求めた距離とスリット(61)のY方向への移動距離とから三角関数を用いてスリットエッジのY方向に対する角度を求め、これと本来の角度θとの一致不一致あるいは大小により、スリット(61)の取付角度を検証するものがある。 The relationship between the width increases the rate of the movement distance and the slit in the Y-direction distance and the slit member determined as the difference of these change characteristics (60) (61), the direction and the X direction in the width direction of the slit (61) as a method for determining the error, for example, when the slit (61) is spread at an angle θ uses trigonometric functions from the moving distance in the Y-direction distance and slit determined as the difference variation characteristics (61) It obtains an angle with respect to the Y direction of the slit edges Te, by which a match or mismatch or size of the original angle theta, is intended to verify the mounting angle of the slit (61).
【0031】 [0031]
またレンズ部(52)の光軸方向(Z方向)における微小光源(2)の位置は、次のようにして求める。 The position of the minute light source (2) in the optical axis direction (Z-direction) of the lens unit (52) is obtained as follows. 位置解析手段(81)は、移動手段(23)が移動光学系(50)をX方向に移動させた際に受光手段(54)の出力値の変化特性における立ち上がりと立ち下がりのいずれか一方もしくは双方の急峻度を求めることを、移動光学系(50)をZ方向にずらして数箇所について行う。 Position analyzing means (81), moving means (23) is either one of the rising and falling in the change characteristic of the output value of the light receiving means (54) when moving the movable optical system (50) in the X direction or to seek both steepness is performed for several positions by shifting the moving optical system (50) in the Z direction. より詳細には、スリット(61)が微小光源(2)の映像が生成される点である映像点の手前にある状態と奥にある状態のそれぞれで少なくとも2箇所ずつ上記測定を行い、これらの測定によって得た急峻度が最大になる移動光学系(50)のZ方向位置を算出し、これに基づいてZ方向における前記微小光源(2)の位置を特定する。 More specifically, the slits (61) performs each of the at least two positions by the measurement in the state in the state and back in front of the image point is that the image of the minute light source (2) is produced, these steepness obtained by the measurement is to calculate the Z-direction position of the movable optical system that maximizes (50), identifying the position of the minute light source (2) in the Z direction based on this.
【0032】 [0032]
急峻度としては、立ち上がり期間中における移動光学系(50)の移動量、立下がり期間中における移動光学系(50)の移動量、これら移動量の合計、もしくは光束の中心がスリット(61)に入ったときの移動光学系(50)の位置と光束の中心がスリット(61)から出たときの移動光学系(50)の位置との差などを用いる。 The steepness, the amount of movement of the movable optical system (50) during the rising period, the amount of movement of the movable optical system (50) during the falling period, the sum of these movement amounts, or the center of the light beam is a slit (61) position and the center of the luminous flux of the moving optical system (50) when that contains the like difference between the position of the movable optical system (50) when exiting from the slit (61). これらの距離が少ないほど急峻度が大きいことを表している。 It indicates that as these distances are less steepness is large.
【0033】 [0033]
たとえば、受光手段(54)の出力のピーク値に対して出力が10%になる位置を立ち上がり開始位置、出力が90%に至った位置を立ち上がり終了位置とすることで、立ち上がり期間における移動光学系(50)の移動量を求めることができる。 For example, the rise start position output is 10% position with respect to the peak value of the output of the light receiving means (54), the output reaches the 90% position by the rising end position, the movable optical system in the rising period You can obtain the moving amount of the (50). 立下がり側についても同様である。 The same is true for the falling side. 立ち上がり期間、立下がり期間をどのように定義するかは、上記した10%と90%を用いるものに限定されず、たとえば20〜80パーセントとしてもよい。 Rising period, how to define a falling period, not limited to using 10% and 90% mentioned above, for example, may be 20 to 80 percent.
【0034】 [0034]
映像点では、ピントがシャープになるので光束の径が小さくなり、映像点から外れるほどピントがぼけて光束の径が大きくなる。 The image point, the diameter of the light beam is reduced because the focus becomes sharp, the diameter of the light beam becomes large blurred focus more out of the picture point. したがって、光束がスリット(61)に出入りする際に受光手段(54)の出力が急峻に変化するか否かにより、ピントの良し悪しを認識することができる。 Therefore, it is possible to light beam by whether the output of the light receiving means (54) when entering and exiting the slit (61) is steeply changed, recognizing the focus of the good or bad. そしてピントの合う映像点の前後でそれぞれ少なくとも2箇所ずつ測定を行えば、立ち上がり特性を最小二乗法等で回帰近似したグラフと立下がり特性を同じく回帰近似したグラフとの交点として映像点のZ方向位置を見出すことができる。 And by performing the measurement by at least two points each before and after the image point in focus, Z-direction of the image point as an intersection between the graph also regression approximate and falling characteristic graph regression approximation rising characteristics at the minimum square method position can be found. そしてこの位置とレンズ部(52)の焦点距離や倍率とから微小光源(2)のZ方向における実際の位置を特定することができる。 And it is possible to determine the actual position and a focal length and the magnification in the Z direction of the small light source (2) in this position and the lens unit (52).
【0035】 [0035]
また以下のようにして微小光源(2)のZ方向位置を求めてもよい。 Or may be obtained in the Z direction position of the minute light source (2) as follows. ここでは、スリット(61)の幅方向に多数のスリット(71)が併設された格子スリット部材(70)を用いる。 Here, a slit (61) grating slit member (70) a number of slits in the width direction (71) is established in parallel. 格子スリット部材(70)は、レンズ部(52)の光軸をZ方向とし、かつ光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、レンズ部(52)の光軸に垂直であってスリット(61)の併設方向をX方向に一致させた状態に対して、スリット(61)の併設方向と光軸の成す角が90度から外れるように、例えば45度斜めに倒した状態にして、微小光源(2)の映像が生成される点である映像点の近傍に配置される。 Grating slit member (70) is a lens portion of the optical axis (52) and Z-direction, and when the two directions perpendicular to the optical axis in a plane perpendicular to the X and Y directions, the lens portion (52) relative state the hotel direction be perpendicular to the optical axis slit (61) fitted to the X-direction, so angle between the hotel direction and the optical axis of the slit (61) is out of 90 °, for example 45 degrees in the state tilted obliquely, is disposed in the vicinity of the image point is that the image of the minute light source (2) is generated. すなわち、併設された各スリット(61)からレンズ部(52)までの距離が、映像点を挟んで次第に長短に変わるように多数のスリット(71)が配置されることになる。 That is, the distance from the slits (61) provided together to the lens unit (52), so that the number of slits to vary gradually length across the image point (71) is arranged.
【0036】 [0036]
移動手段(23)は、レンズ部(52)を介して集光された光束が映像点の前後で多数のスリット(71)をそれらの併設方向に横切って移動するように、格子スリット部材(70)とレンズ部(52)の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系(50)をX方向に移動させる。 Moving means (23), so that the light flux is condensed through the lens unit (52) is moved across a number of slits (71) in their hotel direction before and after the image points, the lattice slit member (70 ) and lens portion (52) one or movable optical system consisting of both (50) is moved in the X direction. これによりたとえば、レンズ部(52)に近いスリット(61)を通過する状態からレンズ部(52)から遠い位置のスリット(61)を通過する状態へと光束が移動する。 Thus for example, the light beam moves to a state that passes a lens portion from a state that passes through the slit (61) close to the lens unit (52) distant position of the slit from (52) (61).
【0037】 [0037]
このように移動光学系(50)を移動させると、受光手段(54)の出力値は、スリット(61)の数に応じて波を有する変化特性になる。 Moving thus moving optical system (50), the output value of the light receiving means (54) will change characteristic having a wave in accordance with the number of slits (61). ここで、映像点に近い位置にあるスリット(61)を光束が通過するときは、光束の径が小さいので、スリット(61)へ光束が出入りする際の変化特性(波)が急峻に変化する。 Here, when it passes through the light beam a slit (61) located closer to the image point, the diameter of the light beam is small, the change characteristics when the light beam into the slit (61) and out (wave) changes abruptly . 一方、スリット(61)の位置が映像点から離れるにしたがって、ピントが外れて光束の径が大きくなるので、スリット(61)へ出入りする際の変化特性がなだらかになる。 On the other hand, the position of the slit (61) is farther away from the image point, the diameter of the light beam out of focus increases, the change characteristics when in and out of the slit (61) is smooth.
【0038】 [0038]
そこで、位置解析手段(81)は、受光手段(54)の出力値の変化特性を微分してその絶対値をとり、当該絶対値の最大値が現れるであろう移動光学系(50)の位置を回帰近似等によって求め、これに基づいてZ方向における微小光源(2)の位置を特定する。 Therefore, position analyzing means (81) takes the absolute value by differentiating the change characteristic of the output value of the light receiving means (54), the position of the absolute value maximum value will appear movable optical system (50) the determined by regression approximation, etc., to identify the position of the minute light source (2) in the Z direction based on this.
【0039】 [0039]
なお、ピントが外れた状態ではスリット幅よりも光束の径が大きくなり、ピントが合うとスリット幅よりも光束の径が小さくなるようにしておけば、変化特性として現われる波のピーク値にも差が生じるので、波のピークが増加する部分を最小二乗法等で近似したグラフと波のピークが減少する部分を最小二乗法等で近似したグラフの交点として、映像点の位置を把握し、これに基づいて微小光源(2)のZ方向位置を特定するようにしてもよい。 The diameter of the light beam becomes larger than the slit width in the state of focus is out, if as the diameter of the light beam than the slit width when the focus is smaller, a difference in the peak value of the wave appearing as a change characteristics since occurs, a portion of the graph and waves peak of which a portion where the peak of the wave increases is approximated by the least squares method or the like is reduced as the intersection of a graph is approximated by the least squares method or the like, to recognize the position of the image point, which it may be specified in the Z direction position of the minute light source (2) based on.
【0040】 [0040]
レンズ部(52)によって集光された光束を第1光束と第2光束にビームスプリッタ(53)で分岐し、幅が次第に広がるスリット(61)に第1光束を通過させることで微小光源(2)のXY方向における位置の特定を行い、第2光束を格子スリット部材(70)に通すことで、微小光源(2)のZ方向位置を特定するものでは、同一の測定装置でXYZのすべての方向の位置を特定することができ、微小光源(2)を固定したままで、すべての方向について位置を特定することができる。 Lens unit (52) by branching the light beam is condensed on the first light flux and the second light flux with a beam splitter (53), the minute light source by passing the first light flux in a slit (61) which width increases gradually (2 performs a specific location in the XY direction), by passing the second light flux in a lattice slit member (70), intended to identify the Z direction position of the minute light source (2), all of the XYZ in the same measuring device it is possible to identify the direction of the position, while fixing the small light source (2), it is possible to specify the position for all directions. また同一の測定装置でXYZのすべての方向についての位置を測定できるので、測定作業を迅速化することができる。 Also it is possible measure the position of all directions of the XYZ in the same measuring apparatus, it is possible to speed up the measurement process. さらにレンズ部(52)や鏡筒、移動手段(23)としてのXYZステージ等を共通化でき、装置構成が簡略化される。 Further the lens unit (52) and the barrel, can be shared the XYZ stage such as a moving means (23), device configuration is simplified.
【0041】 [0041]
さらに移動光学系(50)をX方向に移動させることに代えて光束がスリット(61)をその幅方向に横切って移動するようにレンズ部(52)を回転させるとともに、移動光学系(50)のX方向の位置および移動距離に代えてレンズ部(52)の角度および回転角を用いる。 Furthermore movable optical system together with the light beam instead of moving the (50) in the X direction rotates the lens unit (52) to move across the slit (61) in the width direction, the moving optical system (50) instead of the position and movement distance in the X direction using the angle and rotation angle of the lens portion (52) of. レンズ部として望遠鏡光学系を用いて、数メートルまたはこれよりも遠方にある微小光源の位置を特定する場合には、X方向への移動に代えてレンズ部(鏡筒)の角度や回転角を用いるとよい。 Using telescope optical system as a lens unit, when a few meters or than this to locate a small source located in the distant, the lens unit in place of the movement in the X-direction the angle and rotation angle (barrel) it may be used. すなわち、移動光学系をスリットの幅方向であるX方向に移動させる場合、遠方のある程度広い測定範囲の中で微小光源の位置を特定するためには、その測定範囲のX方向幅に相当するだけ移動光学系を移動させなければならない。 That is, when moving the movable optical system in the X direction is the width direction of the slit, in order to determine the position of the minute light source in a certain wide measurement range far, only corresponds to the X-direction width of the measurement range it is necessary to move the movable optical system. これに対してレンズ部を回転させれば、遠方であっても広い測定範囲をカバーすることができる。 Is rotated the lens portion with respect to this, it is possible to cover a wide measuring range even far.
【0042】 [0042]
微小光源の存在する方角(角度θ)と微小光源までの距離(r)が分かれば、微小光源のX方向位置を特定することができる。 If the distance direction in the presence of very small light source (the angle theta) to the micro light source (r) is known, it is possible to identify the X-direction position of the minute light source. またスリットを横切るに要した回転角に基づいて光束がスリットを横切ったY方向位置がわかるので、これに基づいて微小光源のY方向位置を特定することができる。 Since the Y direction position is understood that the light beam crosses the slit based on the rotation angle required for crossing the slit, it is possible to specify the Y-direction position of the minute light source based on this. すなわち、望遠鏡光学系の光軸の延長線がスリットと交差するY方向位置と微小光源からの光束がスリットを横切ったY方向位置との差から光束の光軸に対する傾き角(θy)が分かるので、これと微小光源までの距離(r)とから実際の微小光源のY方向位置を求めることができる。 That is, since the extension of the optical axis of the telescope optical system tilt angle ([theta] y) is found with respect to the optical axis of the light beam from the difference between the Y-direction position where the light beam crosses the slit from the Y-direction position and the minute light source intersecting the slit , it is possible to obtain the Y-direction position of the actual micro light source from which a distance to the small light sources (r). なお、微小光源は、光が反射している箇所であってもよい。 Incidentally, the minute light source, the light may be a portion that is reflected. たとえば、ある物体に細いレーザ光を照射した際の当該物体における反射点を微小光源として扱い、その反射点の位置を特定するように構成してもよい。 For example, it treats reflection points in the object when irradiated with thin laser beam to an object as a micro light source may be configured to identify the position of the reflection point.
【0043】 [0043]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
以下、図面に基づき本発明の一実施の形態を説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention based on the drawings.
各図は、本発明の一実施の形態を示している。 Each figure shows an embodiment of the present invention.
図2は、本実施の形態にかかる微小光源位置測定装置10の側面図であり、図3は微小光源位置測定装置10の正面図であり、図4は、微小光源位置測定装置10の上面図である。 Figure 2 is a side view of a micro light source position measuring apparatus 10 according to this embodiment, FIG. 3 is a front view of a micro light source position measuring device 10, FIG. 4 is a top view of a micro light source position measuring device 10 it is. 各図に示すように微小光源位置測定装置10は、XYZの各方向に移動可能なステージを有する測定台20と、この測定台20に取り付けられた光学部50と、測定のための機械的制御や信号処理等を行う制御部80とから構成される。 Micro light source position measuring device 10 as shown in the figure includes a measurement table 20 having a movable stage in each direction of the XYZ, an optical unit 50 which is attached to the measurement table 20, the mechanical control for the measurement and a control unit 80. which performs and signal processing and the like.
【0044】 [0044]
測定台20は、床面に固定されるベース板21と、ベース板21から断面T字で鉛直に伸びる支柱部22と、支柱部22に載せて取り付けられたXステージ23と、Xステージ23に載せて取り付けられたYステージ24と、Yステージ24に載せて取り付けられたZステージ25と、Zステージ25から水平に伸びるホルダーアーム26とを有している。 Measurement table 20 includes a base plate 21 fixed to the floor, a support portion 22 extending vertically from the base plate 21 in a T-shape, the X stage 23 mounted put the support portion 22, the X stage 23 Place the Y stage 24 mounted with a Z stage 25 which is attached by placing the Y stage 24, and a holder arm 26 extending horizontally from the Z stage 25.
【0045】 [0045]
Xステージ23、Yステージ24、Zステージ25はそれぞれステッピングモータ27a〜27cで駆動されて移動する。 X stage 23, Y stage 24, Z stage 25 is moved each being driven by a stepping motor 27a to 27c. 図2の側面図における左右方向がY方向であり、鉛直方向がZ方向になっている。 The horizontal direction in the side view of FIG. 2 is Y-direction, the vertical direction is the Z direction. またZ方向と垂直な面内でY方向と直交する方向がX方向(図3参照)になっている。 The direction perpendicular to the Y direction in the Z-direction perpendicular to the plane is in the X direction (see FIG. 3).
【0046】 [0046]
光学部50は、ホルダーアーム26に鉛直に取り付けられた鏡筒51と、鏡筒51の下端に取り付けられた対物レンズ52と、鏡筒51の上端近傍に取り付けられたビームスプリッタ53と、ビームスプリッタ53の一方の出力側(第1光束の出力側)近傍に取り付けられた三角スリット部材60と、ビームスプリッタ53の他方の出力側(第2光束の出力側)近傍に取り付けられた格子スリット部材70と、三角スリット部材60の後方に配置された第1受光手段54と、格子スリット部材70の後方に配置された第2受光手段55とから構成されている。 The optical unit 50 includes a barrel 51 attached vertically to the holder arm 26, an objective lens 52 attached to the lower end of the barrel 51, a beam splitter 53 mounted near the upper end of the lens barrel 51, the beam splitter a triangular slit member 60 which is mounted one of the output side of the 53 in the vicinity (the output side of the first light flux), the other output side grating slit member 70 which is mounted in the vicinity (the output side of the second light flux) of the beam splitter 53 When a first light receiving means 54 located behind the triangular slit member 60, and a second light receiving means 55 for being arranged behind the grating slit member 70. 第1受光手段54および第2受光手段55は、たとえば、フォトダイオードからなる。 First light receiving means 54 and the second light receiving means 55, for example, a photodiode. 光学部50は、対物レンズ52以外の箇所から光が内部に進入しないように遮光されている。 The optical unit 50 is shielded so that the light from the portion other than the objective lens 52 does not enter the interior. 本実施の形態では、光学部50全体が移動光学系を成している。 In this embodiment, the entire optical unit 50 forms a movable optical system. また移動光学系の移動可能範囲内の所定点を原点に設定してあり、移動光学系の位置は、この原点からの相対位置で表すようになっている。 Also have set the predetermined point within the movable range of the movable optical system to the origin, the position of the movable optical system is adapted to represent a relative position from the origin.
【0047】 [0047]
検査対象となる微小光源としての半導体レーザ2は、図示省略した遠方の軸を中心に回転する半径2〜3mほどの検査台3に固定されている。 The semiconductor laser 2 serving as a fine light source to be tested is fixed to the examination table 3 as radius 2~3m that rotates about a distant axis (not shown). 検査台3に固定された状態で半導体レーザ2は真上に向かってレーザ光を射出するようになっている。 The semiconductor laser 2 in a state of being fixed to the examination table 3 is configured to emit laser light toward the right above. 検査台3へ固定した状態の半導体レーザ2の発光点位置を微小光源位置測定装置10で測定する際には、検査台3が回転することによって対物レンズ52の真下に半導体レーザ2が到来して、静止するようになっている。 The emission point position of the examination table 3 the semiconductor laser 2 of the fixed state to when measured by a micro light source position measuring device 10, the inspection table 3 is the semiconductor laser 2 arrives directly under the objective lens 52 by rotating , which is to rest.
【0048】 [0048]
微小光源位置測定装置10によって発光点の正確な位置を測定した後は、検査台3が再び回転して、SMSRの測定箇所へと移動するようになっている。 After measuring the exact position of the light emitting points by small light source position measuring device 10 is rotated again inspection station 3 is adapted to move to the measuring point of the SMSR. SMSRの測定箇所の上方には、これまたステッピングモータによってXYZ方向へ移動可能に光ファイバがその端面を下方に向けて取り付けてあり、微小光源位置測定装置10で取得した位置データに基づいて光ファイバの位置を調整することで、半導体レーザ2からのレーザ光が光ファイバへ的確に入射するように位置合わせするようになっている。 Above the measurement points SMSR, which also movable in the optical fiber into the XYZ direction by the stepping motor is attached towards the end face downward, the optical fiber on the basis of the position data acquired by the micro light source position measuring device 10 by adjusting the position, the laser beam from the semiconductor laser 2 is adapted to align to precisely incident on the optical fiber.
【0049】 [0049]
制御部80は、所定のプログラムを実行可能なコンピュータ装置を主要部として構成されている。 Control unit 80 is configured to executable computer device as a main part of a predetermined program. 制御部80は、位置解析手段81と取付角検証手段82としての機能のほか、各ステージ23〜25の移動制御など、微小光源位置測定装置10としての各種の機能を果たす。 Control unit 80, in addition to the function of the position analyzing means 81 and the mounting angle verifying means 82, such as movement control of each stage 23-25, performs various functions as a very small light source position measuring device 10. 制御部80には図示省略の信号線を通じて、各ステッピングモータ27a〜27cの制御回路、第1受光手段54および第2受光手段55と接続されている。 Through a signal line (not shown) to the control unit 80 is connected to the control circuit, the first light receiving unit 54 and the second light receiving means 55 of each of the stepping motors 27a to 27c.
【0050】 [0050]
図5は、三角スリット部材60の一例を示している。 Figure 5 shows an example of the triangular slit member 60. 三角スリット部材60には、幅が次第に広がるスリット61が開設されている。 The triangular slit member 60, a slit 61 whose width is gradually widened is opened. 三角スリット部材60は厚みが0.1ミリほどの板上部材である。 Triangular slit member 60 is a plate the upper member having a thickness of about 0.1 mm. ここでは、二等辺三角形の形状を成したスリット61を設けてある。 Here, it is provided with a slit 61 in which a shape of an isosceles triangle. 二等辺三角形の底辺の方向(図中の矢印62で示す方向)を、スリットの幅方向としている。 Direction of the base of the isosceles triangle (the direction indicated by the arrow 62 in the figure), and the width direction of the slit.
【0051】 [0051]
図6は、格子スリット部材70の一例を示している。 Figure 6 shows an example of a lattice slit member 70. 格子スリット部材70には、スリット71がその幅方向に多数併設されている。 The lattice slit member 70, a slit 71 is provided in conjunction with a number in the width direction. スリット71は、細長い長方形を成している。 Slit 71 is formed in a slender rectangular. 図中の矢印72は、スリット71の幅方向であり、多数のスリット71がその幅方向に併設されている。 Arrow 72 in the figure, the width direction of the slit 71, a large number of slits 71 are parallel in the width direction. 格子スリット部材70は厚みが0.1ミリほどの板状部材である。 Grating slit member 70 has a plate-like member as 0.1 mm thick. ここではスリット71の幅を0.2ミリに、スリット同士の間(光を通さない部分)を0.2ミリにしてある。 Here, a width of 0.2 mm slit 71 between the slit between the (partial impervious to light) are to 0.2 millimeters. したがって、スリットの併設ピッチは0.4ミリになっている。 Therefore, hotel pitch of the slits is in the 0.4 millimeter.
【0052】 [0052]
図7は、光学部50の上端部分を拡大示したものである。 Figure 7 is a diagram showing enlarged upper end portion of the optical unit 50. 三角スリット部材60は、ビームスプリッタ53の第1光束出力側における対物レンズ52の光軸に垂直に配置されている。 Triangular slit member 60 is disposed perpendicularly to the optical axis of the objective lens 52 in the first light flux output side of the beam splitter 53. またスリット61の幅方向が図3に示したX方向と一致するように取り付けられる。 Also mounted so that the width direction of the slit 61 coincides with the X direction shown in FIG. 格子スリット部材70は、ビームスプリッタ53の第2光束出力側における対物レンズ52の光軸に対して垂直な状態からスリット71の併設方向が所定の角度傾斜するようにして取り付けられている。 Grating slit member 70, features direction of the slit 71 from the perpendicular state with respect to the optical axis of the objective lens 52 in the second light flux output side of the beam splitter 53 is mounted so as to be inclined at a prescribed angle. この例では45度傾けてある。 In this example it is inclined by 45 degrees.
【0053】 [0053]
三角スリット部材60の位置は、ビームスプリッタ53の第1光束側において、半導体レーザ2の発光点の映像点もしくはその近傍に設定されている。 Position of the triangular slit member 60, the first light flux side of the beam splitter 53, is set in the image point or near the light emitting point of the semiconductor laser 2. 映像点とは、対物レンズ52によって半導体レーザ2の発光点の映像(実像)が生成される点であり、言い換えると、対物レンズによって集光された光束の径が最も細くなる部分(ビームウェスト)の存する箇所である。 The image point is a point where the image of the light emitting point of the semiconductor laser 2 (real image) is generated by the objective lens 52, in other words, thinnest portion diameter of the light beam condensed by the objective lens (beam waist) it is a place that exists of. 格子スリット部材70も同様に、ビームスプリッタ53の第2光束側における半導体レーザ2の映像点もしくはその近傍に配置される。 Grating slit member 70 are likewise arranged on the image point or near the semiconductor laser 2 in the second light flux side of the beam splitter 53.
【0054】 [0054]
まず、半導体レーザ2のXY方向位置の測定について説明する。 First, it will be described the measurement of the XY direction position of the semiconductor laser 2.
半導体レーザ2を光学部50のほぼ真下に来るようにセットした状態で半導体レーザ2を発光させておく。 Allowed to emit semiconductor laser 2 at setting to come just below substantially the semiconductor laser 2 optical unit 50. この状態で制御部80は、光学部50が予め定めたX方向スキャン範囲を横断するようにXステージ23を移動させるとともに、そのときの光学部50の位置座標と第1受光手段54の出力値との関係を示す変化特性を記録する。 Control unit 80 in this state, moves the X stage 23 so as to cross the X-direction scan range in which the optical unit 50 is predetermined, the output values ​​of the position coordinates and the first light receiving means 54 of the optical unit 50 at that time the change characteristics showing the relationship between the recording. X方向スキャン範囲は、ビームスプリッタ53からの第1光束が三角スリット部材60のスリット61をX方向に横切るのに充分な範囲に設定してある。 X-direction scanning range, the first light flux from the beam splitter 53 is set to a range sufficient to traverse the slit 61 of the triangular slit member 60 in the X direction.
【0055】 [0055]
図1は、対物レンズ52によって集光された光束を三角スリット部材60がX方向に横切る様子を模式的に示したものである。 Figure 1 is one in which the state across the light beam is condensed by the objective lens 52 triangular slit member 60 is in the X direction shown schematically. 図8は、対物レンズ52の側から三角スリット部材60および第1受光手段54を見た様子を示している。 Figure 8 shows a state viewed triangular slit member 60 and the first light receiving unit 54 from the side of the objective lens 52. なお、スリットのみを移動させても、スリットと対物レンズの双方を移動させても、さらには、スリットと対物レンズと受光手段を一体として移動させるようにしても、光束はスリットを横切るように移動するので、これらは同様の結果を得ることができる。 Even by moving the slit only be moved both slits and the objective lens, and further movement, even the light-receiving means and the slit and the objective lens so as to move integrally, the light beam across the slit because, you can obtain the same results. ただし、スリットと対物レンズもしくはこれらと受光手段とを一体に移動させる場合には、スリット幅÷光学倍率が、当該スリット幅の箇所を光束が横切る場合における半導体レーザ2の位置の検査可能範囲になる。 However, when moving the slit and the objective lens or these and the light receiving means integrally, slit width ÷ optical magnification becomes a portion of the slit width to the inspection range of the position of the semiconductor laser 2 when crossing the light beam .
【0056】 [0056]
図9から図12は、光束がスリット61を横切るように光学部50を移動させた場合における第1受光手段54の出力値の変化特性を示している。 FIGS. 9-12, the light beam indicates a change characteristic of the output value of the first light receiving unit 54 in the case of moving the optical unit 50 so as to cross the slit 61. 図9は、スリット61がほぼ映像点にあってほぼピントのあった状態で光束がスリット61の比較的幅広の部分を横切った場合における出力値の変化特性111を示している。 Figure 9 shows the change characteristic 111 of the output value when the light beam in a state where there substantially in focus with a slit 61 is substantially the image point crosses the relatively wide portion of the slit 61. 図10は、スリット61がほぼ映像点にあってピントのほぼあっている状態で光束がスリット61の比較的幅の狭い部分を横切った場合の出力値の変化特性112を示している。 Figure 10 shows the change characteristics 112 of the output value when the light beam is approximately matching that state of focus by a slit 61 is substantially the image point crosses the relatively narrow portion of the slit 61. 図11は、スリット61が映像点からZ方向にある程度ずれた位置にあってピントの甘い状態で光束がスリット61の比較的幅の広い部分を横切った場合の出力値の変化特性113を示している。 Figure 11 shows the change characteristics 113 of the output value when the slit 61 is a light beam in a sweet state in focus In the somewhat shifted position in the Z direction from the image point crosses the relatively wide portion of the width of the slit 61 there. 図12は、スリット61が映像点からZ方向にある程度ずれた位置にあってピントの甘い状態で光束がスリット61の比較的幅の狭い部分を横切った場合の出力値の変化特性114を示している。 Figure 12 shows the change characteristic 114 of the output value when the slit 61 is a light beam in a sweet state in focus In the somewhat shifted position in the Z direction from the image point crosses the relatively narrow portion of the slit 61 there. このように、三角スリット部材60のスリット61が映像点に近い位置にあるほど、変化特性の立ち上がりや立下がりは急峻になり、映像点から外れるほど、緩やかな立ち上がり、立下がり特性になる。 Thus, as the slit 61 of the triangular slit member 60 is positioned closer to the image point, the rising and falling of the change characteristics become steeper, more out of the picture points, gradual rise, it will fall characteristics. また光束がスリット幅の広い部分を通過すれば、それに応じて変化特性として現れる波の幅が広くなる。 Further, the light beam by passing through the wide part of the slit width, the width of the wave is widened appear as a change characteristics accordingly.
【0057】 [0057]
位置解析手段81は、取得した変化特性に基づき、以下のように解析する。 Position analyzing means 81, based on the obtained changing characteristic is analyzed as follows. 図13は、光束がスリットの左エッジから右エッジへと横切る場合の変化特性131を示している。 13, the light beam indicates a change characteristic 131 when traversing to the right edge from the left edge of the slit. 図示するように、出力値を最大値をHmaxとして求める。 As illustrated, obtaining the output value the maximum value as Hmax. さらに、出力レベルがHmaxの10%まで上昇した時点における光学部50の位置座標をXr1として、出力レベルがHmaxの90%まで上昇した時点における光学部50の位置座標をXr9として、出力レベルがHmaxの90%まで下降した時点における光学部50の位置座標をXf9として、出力レベルがHmaxの10%まで下降した時点における光学部50の位置座標をXf1として求める。 Furthermore, Xr1 the position coordinates of the optical unit 50 at the time when the output level is increased to 10% of Hmax, as Xr9 the position coordinates of the optical unit 50 at the time when the output level is increased up to 90% of Hmax, the output level Hmax as Xf9 the position coordinates of the optical unit 50 at the time of the lowered to 90%, the output level is determined as Xf1 the position coordinates of the optical unit 50 at the time of the lowered to 10% of Hmax. ここでは位置座標を小数点1桁まで求めてある。 Here, calculated in the position coordinates to one decimal place.
【0058】 [0058]
次に、出力レベルがHmaxの10%まで上昇した時点における光学部50の位置座標Xr1と、出力レベルがHmaxの90%まで上昇した時点における光学部50の位置座標Xr9の中間の位置座標を、 Then, the position coordinates Xr1 of the optical unit 50 at the time when the output level is increased to 10% of Hmax, the intermediate position coordinates of the position coordinates Xr9 optical unit 50 at the time the output level is increased up to 90% of Hmax,
Xr5=(Xr1+Xr9)÷2 …(1)式の演算により、Xr5として求める。 Xr5 = a (Xr1 + Xr9) ÷ 2 ... (1) calculation of the equation is obtained as Xr5.
【0059】 [0059]
同様に、出力レベルがHmaxの90%まで下降した時点における光学部50の位置座標Xf9と、出力レベルがHmaxの10%まで下降した時点における光学部50の位置座標Xf1の中間の位置座標を、 Similarly, the position coordinates Xf9 optical unit 50 at the time the output level is lowered up to 90% of Hmax, the intermediate position coordinates of the position coordinates Xf1 optical unit 50 at the time the output level is lowered to 10% of Hmax,
Xf5=(Xf1+Xf9)÷2 …(2)式の演算により、Xf5として求める。 Xf5 = (Xf1 + Xf9) by calculation of the ÷ 2 ... (2) expression determined as XF5.
【0060】 [0060]
Xr5は、光束の中心がスリットに入ったときの位置座標(光束中心がスリットの左エッジ上に来たときの位置座標)を、Xf5は、光束の中心がスリットを出たときの位置座標(光束中心がスリットの右エッジ上に来たときの位置座標)を示すことになる。 Xr5 is, the position coordinates (position coordinates when the center of the light beam came on the left edge of the slit) when the center of the light beam enters the slit, Xf5 is, the position coordinates of when the center of the light beam exits the slit ( center of the light beam will indicate the position coordinates) when it came to the right edge of the slit.
【0061】 [0061]
さらに、光束中心がスリットに入った位置座標であるXr5と光束中心がスリットから出た位置座標であるXf5の中間位置を、 Furthermore, Xr5 and the light beam center light beam center is the position coordinates entered the slit intermediate position of Xf5 a position coordinates out of the slit,
Px=(Xr5+Xf5)÷2 …(3)式の演算により、Pxとして求める。 The calculation of Px = (Xr5 + Xf5) ÷ 2 ... (3) equation is obtained as Px.
【0062】 [0062]
このPxは、原点に対する半導体レーザ2の有する発光点のX方向の位置座標を示している。 The Px indicates the position coordinates of the X direction of the light emitting point in a semiconductor laser 2 with respect to the origin. (3)式では(Xr5+Xf5)を2で割ることにより、光束がスリット61を横切ったY方向の位置にかかわらず発光点のX方向の位置座標を求めることができる。 (3) by dividing by 2 (Xr5 + Xf5) in formula, the light beam can determine the position coordinates of the X direction of the light emitting point regardless of the position of the Y direction across the slit 61. これは、スリット61の左右のエッジがY方向に対して同一の角度を成しているからである。 This is because the left and right edges of the slit 61 forms the same angle to the Y direction.
【0063】 [0063]
なお、スリットの幅がY方向に対して左右対称に広がっていない場合には、光束中心がスリットに入ったときの位置座標と光束中心がスリットから出たときの位置座標との間をスリットの左への広がり具合と右への広がり具合の比に応じて内分することで、発光点のX方向の位置座標を得ることができる。 In the case where the width of the slit is not spread symmetrically with respect to the Y direction, the light beam center of the slit between the position coordinates when exiting from the position coordinates and the light beam center slit when entering the slit by internally divided in accordance with the ratio of the spatial spread of the spatial spread and right to left, it is possible to obtain the X-direction coordinates of the emission point. たとえば、右エッジがY方向に対してθ1の角度で、左エッジがY方向に対してθ2の角度で広がっている場合には、光束中心がスリットの左エッジを横切ったときの位置座標Xr5と、光束中心がスリットの右エッジを横切ったときの位置座標Xf5との間を、tanθ1:tanθ2の比率で内分した位置に基づいて微小光源のX方向位置を求めることができる。 For example, at an angle of θ1 right edge relative to the Y direction, when the left edge extends at an angle of θ2 with respect to the Y direction, the position coordinates Xr5 when the light beam centered across the left edge of the slit , between the position coordinates Xf5 when the light beam centered across the right edge of the slit, tan .THETA.1: it is possible to obtain the X-direction position of the minute light source based on internally dividing positions by the ratio of tan [theta] 2. すなわち、 That is,
Px=Xr5+(Xf5−Xr5)×tanθ2/(tanθ1+tanθ2) …(4)式によって求めることができる。 Px = Xr5 + (Xf5-Xr5) × tanθ2 / (tanθ1 + tanθ2) ... (4) can be obtained by expression.
【0064】 [0064]
光束中心のY方向位置Pyは、 The light beam Y direction position Py of the center,
Py=(Xf5−Xr5)÷2+Yc …(5)式の演算によって求める。 Py = (Xf5-Xr5) ÷ 2 + Yc ... (5) determined by the calculation of expression. ここでYcは、スリットの左右のエッジの交点の位置座標である。 Here Yc is the position coordinates of the intersection of the left and right edges of the slit. (5)式は、スリットの左右のエッジがそれぞれY方向に対して45度の角度を成している場合に成立する。 (5) is established when the left and right edges of the slit is at an angle of 45 degrees with respect to Y direction.
【0065】 [0065]
左右のエッジがそれぞれY方向に対して角θで左右対称に広がっている場合の一般式は、 General formula in the case of left and right edges are spread symmetrically at angle θ with respect to the Y-direction, respectively,
Py=(Xf5−Xr5)÷2÷tanθ+Yc …(6)式になる。 Become Py = (Xf5-Xr5) ÷ 2 ÷ tanθ + Yc ... (6) equation. さらに、右エッジがY方向に対してθ1の角度で、左エッジがY方向に対してθ2の角度で広がっている場合には、 Further, if the right edge is at an angle of θ1 with respect to the Y direction, the left edge is spread at an angle of θ2 with respect to the Y direction,
Py=(Xf5−Xr5)÷(tanθ1+tanθ2)+Yc …(7)式によって求めることができる。 Py = (Xf5-Xr5) ÷ (tanθ1 + tanθ2) + Yc ... (7) can be obtained by expression.
【0066】 [0066]
このほか、左右のエッジが直線的に広がっていない場合であっても、Y方向の位置とそのY方向位置座標における左右のエッジ間の距離とが1対1に対応するような形状をスリットが成している場合には、それらの左右のエッジ間の距離からY方向の位置座標を特定することができるので、発光点のY方向の位置座標を特定することができる。 In addition, also the left and right edges in a case where not spread linearly, shaped like position in the Y direction and the distance between the left and right edges in the Y-direction position coordinate corresponding to the one-to-one slit when the forms, since it is possible to specify the position coordinates of the distance from the Y-direction between these left and right edges, it is possible to specify the position coordinates of the Y direction of the light emitting point. たとえば、スリットのエッジがある関数に従う曲線形状を成している場合には、その関数に基づく演算によって、光束中心がスリットを横切った際の距離に基づいて発光点のY方向位置座標を特定することができる。 For example, if you are curvilinear shape in accordance with the functions that the edge of the slit, by calculation based on the function, the light beam center to identify the Y-direction position coordinate of the emission point based on the distance at which it crosses the slit be able to. さらに特定の関数で表せない場合でも、スリットのエッジ間距離とY方向の位置座標との関係を予め測定してこれを参照テーブル等に記憶しておけば、光束中心がスリットを横切った際の距離に対応するY方向の位置座標をこの参照テーブルから読み出すことで、発光点のY方向位置座標を特定することが可能になる。 Furthermore, even if that can not be represented by a specific function, by storing it in advance measures the relationship between the distance between the edges and the Y-direction coordinates of the slits in the reference table or the like, the light beam centered upon across the slit the position coordinates of the corresponding Y direction a distance that read from the reference table, it is possible to identify the Y-direction position coordinate of the emission point.
【0067】 [0067]
なお、Y方向の位置座標が特定されれば、X方向の位置座標を以下のように求めてもよい。 Incidentally, if it is identified position coordinates of the Y-direction, the position coordinates of the X-direction may be determined as follows. 特定されたY方向の位置座標とスリットエッジの広がり具合や広がり角度とから、当該Y方向の位置座標におけるスリットエッジのX方向オフセット量を求める。 And a spatial spread and spread angle coordinates and the slit edges of the identified Y-direction, determining the X direction offset amount of the slit edges in the position coordinates of the Y-direction. そして、光束中心がスリットに入ったとき、もしくはスリットから出たときにおける光学部50のX方向の位置座標を先のX方向オフセット量で補正することにより、X方向における発光点の位置座標が特定される。 When the center of the light beam enters the slit, or by correcting the X direction offset amount of the previous positional coordinates in the X direction of the optical unit 50, the position coordinates of the light emitting points in the X direction specified at the time when emerging from the slit It is.
【0068】 [0068]
たとえば、右エッジがY方向に対してθ1の角度で、左エッジがY方向に対してθ2の角度で広がっている場合には、光束中心が通過したY方向の位置座標を左右のエッジの交点に対する相対位置Y1で表すと、 For example, at an angle of θ1 right edge relative to the Y direction, when the left edge extends at an angle of θ2 with respect to the Y direction, the intersection of the left and right edges of the position coordinates in the Y direction center of the light beam has passed expressed in relative position Y1 for,
Y1=(Xf5−Xr5)÷(tanθ1+tanθ2) …(8)式として求まり、左右のエッジの交点に対する左エッジの相対的なオフセット量X1は、 Y1 = (Xf5-Xr5) ÷ (tanθ1 + tanθ2) ... (8) Motomari as expression relative offset amount X1 of the left edge against the intersection of the left and right edges,
X1=Y1×tanθ2 …(9)式となる。 The X1 = Y1 × tanθ2 ... (9) formula. そこで発光点は、左エッジよりX1だけ右にシフトした位置にあるはずなので、発光点のX方向の位置座標Pxを、 Therefore the light emitting point, so should be in a position shifted to the right by X1 from the left edge, the position coordinates Px in the X direction of the light emitting point,
Px=Xr5+X1 …(10)式として求めることができる。 Px = Xr5 + X1 ... (10) can be obtained as a formula. なお光束中心が右エッジを通過したXf5を基準とする場合には、X方向オフセット量は、 Note that if the center of the light beam is referenced to Xf5 passing through the right edge, X-direction offset amount,
X2=Y1×tanθ1 …(11)式となりPxは、 X2 = Y1 × tanθ1 ... (11) equation becomes Px is,
Px=Xf5−X2 …(12)式として求めることができる。 Px = Xf5-X2 ... (12) can be obtained as a formula.
【0069】 [0069]
次に、三角スリット部材60の取り付け角度の検証について説明する。 Next, a description will verify the mounting angle of the triangular slit member 60.
ここでは、スリットはその幅が一定の割合で広がるものにする。 Here, the slit is the one whose width increases at a constant rate. 取付角検証手段82は、光束中心がスリット61をX方向に横切るように移動させた際における第1受光手段54の出力値の変化特性を、三角スリット部材60をY方向にずらした2つの位置で測定する。 Mounting angle verification means 82, the variation characteristic of the output value of the first light receiving unit 54 at the time when the center of the light beam has moved across the slit 61 in the X direction, two positions shifted triangular slit member 60 in the Y-direction in the measurement. そして、これらの変化特性の相違とスリット部材60のY方向への移動距離dYとスリット61の幅が広がる割合(エッジのY方向に対する角度)との関係から、スリット61の幅方向の向きとX方向との一致、不一致、あるいは誤差の大きさを求めるようになっている。 Then, the relationship between the difference and the ratio of width increases the moving distance dY and the slit 61 in the Y direction of the slit member 60 of the variation characteristics (the angle with respect to the Y direction of the edge), the width direction of the slit 61 orientation and X agreement with the direction, and obtains the magnitude of the discrepancy or error.
【0070】 [0070]
たとえば、Y方向へ移動させる前に光束中心が左エッジを通過した際のX方向の位置座標をXr5_0、Y方向へdYだけ移動させた後に光束中心が左エッジを通過した際のX方向の位置座標をXr5_1とすると、左エッジのY方向に対する角度θrは、 For example, the position of the X direction when the light beam center Xr5_0 the X-direction coordinates when passing through the left edge, the center of the light beam after moving only dY in the Y direction passing through the left edge before moving to the Y-direction When the coordinates and Xr5_1, the angle θr with respect to the Y direction of the left edge,
θr=arctan((Xr5_0−Xr5_1)/dY) …(13)式として求まる。 θr = arctan ((Xr5_0-Xr5_1) / dY) ... (13) obtained as the equation.
【0071】 [0071]
またY方向へ移動させる前に光束中心が右エッジを通過した際のX方向の位置座標をXf5_0、Y方向へdYだけ移動させた後に光束中心が右エッジを通過した際のX方向の位置座標をXf5_1とすると、これより、右エッジのY方向に対する角度θfは、 The X-direction coordinates when the center of the light beam is an X-direction coordinates when passing through the right edge Xf5_0, the center of the light beam after moving only dY in the Y direction passing through the right edge before moving to the Y-direction When the the Xf5_1, than this, the angle θf with respect to the Y direction of the right edge,
θf=arctan((Xf5_1−Xf5_0)/dY) …(14)式として求まる。 θf = arctan ((Xf5_1-Xf5_0) / dY) ... (14) obtained as the equation.
【0072】 [0072]
そして、θrとθ2、あるいはθfとθ1とを比較し、一致、不一致およびこれらの大小に基づいて、角度の検証およびいずれの方向に三角スリット部材60を回せば、Y方向に対するエッジの角度が本来の角度になるかを検証する。 Then, by comparing the θr and θ2 or θf and .theta.1,, match, based on the disagreement and their magnitude, turning the triangular slit member 60 to validation and any direction of angle, the angle of the edge is originally the Y direction or to verify the will of the angle. なお検証結果に基づいて、光学部50の角度を自動で回転させてもよい。 Incidentally, based on the verification result may be rotated an angle of the optical unit 50 automatically.
【0073】 [0073]
次に、Z方向の位置座標の測定について説明する。 It will now be described the measurement of the position coordinates in the Z direction.
Z方向における半導体レーザ2の位置座標の測定を行う場合には、半導体レーザ2を発光させた状態で、Yステージ24により光学部50をY方向に移動させる。 When measuring position coordinates of the semiconductor laser 2 in the Z direction, in a state in which the semiconductor laser to emit light 2, moving the optical unit 50 in the Y direction by the Y stage 24. すると、ビームスプリッタ53からの第2光束は、格子スリット部材70をスリット71が併設された方向に横切るように移動する。 Then, the second light flux from the beam splitter 53 is moved across the grid slit member 70 in the direction in which the slit 71 is juxtaposed. 実際には、レーザ光はビームスプリッタ53によって90度屈折しているので、図7のZ方向に第2光束が移動することになる。 In practice, the laser beam is refracted 90 degrees by the beam splitter 53, so that the second light flux is moved in the Z direction in FIG.
【0074】 [0074]
図14は、格子スリット部材70のスリット71を横切って光束が移動する様子と、そのときに観測される第2受光手段55の出力値の変化特性151を示している。 Figure 14 is a state in which the light beam moves across the slit 71 of the lattice slit member 70, shows the change characteristic 151 of the output value of the second light receiving means 55 to be observed at that time. 格子スリット部材70は、図7および図14に示すようにスリット71の併設方向が45度傾斜するように配置されているので、併設されたスリットの中の一端のスリット71aは、対物レンズ52に最も近い位置となり、他端のスリット71cに近いスリットほど、対物レンズ52から遠ざかるようになっている。 Grating slit member 70, since the features direction of the slit 71 is arranged so as to be inclined 45 degrees as shown in FIGS. 7 and 14, one end of the slit 71a in the hotel has been slit, the objective lens 52 the most close, as the slits close to the slit 71c of the other end, so that the distance from the objective lens 52. そして、スリット71aとスリット71cの間に映像点が含まれるように格子スリット部材70は配置されている。 Then, the lattice slit member 70 to include the image points between the slit 71a and the slit 71c is arranged.
【0075】 [0075]
先にも説明したように、スリットが映像点に近いほど、光束がスリットへ出入りする際における受光手段の出力値の立ち上がり、立下がり特性が急峻になり、映像点から外れるほど、緩やかになる。 As explained above, the slit is closer to the image point, the rise of the output value of the light receiving means at the time when the light beam enters and exits into the slit, the falling characteristic becomes steeper, more out of the picture point, it becomes moderate. したがって、図14の矢印140が示す方向に光束が移動して、多数併設されたスリット71を横切ると、その際に観測される各スリット毎の波は、映像点に近いスリットに対応するものほど急峻に変化し、映像点から遠いスリットに対応するものほど緩やかに変化することになる。 Therefore, by moving the light beam in the direction indicated by arrow 140 in FIG. 14, crosses the slit 71 juxtaposed many waves for each slit observed at that time, as corresponds to the slit closer to the image point steeply changed, it will change slowly as those corresponding to the farther slit from the image point.
【0076】 [0076]
位置解析手段81は、得られた変化特性を微分してさらにその絶対値を取る。 Position analyzing means 81, by differentiating the obtained changing characteristic further takes the absolute value. これにより、光束が横切ったスリットの数の2倍の数のピークが得られる。 Thus, twice as many peaks in the number of slits which the light beam crosses is obtained. ピークの高さは、もとの波の変化率(急峻度)の大小を示している。 The height of the peak indicates the magnitude of the change rate of the original wave (steepness). 位置解析手段81は、微分して絶対値を取った波形をさらに数学的に処理することで、映像点に相当する位置座標を見出す。 Position analyzing means 81, by further mathematical processing waveforms taken an absolute value by differentiating find position coordinates corresponding to the image point. すなわち、対物レンズ52から映像点までの距離を見出す。 That is, find the distance from the objective lens 52 to the image point. 具体的には(図14参照のこと)、格子スリット部材70の傾斜角をθzとすると、基準点から映像点に至るまでの矢印140方向への光束の移動距離L1をtanθzで除することで、Z方向の基準点からのオフセット量L2が求まる。 Specifically (that in Figure 14 reference), when the inclination angle of the grating slit member 70 and [theta] z, the movement distance L1 of the light beam in the arrow 140 direction up to the image point from the reference point by dividing the tanθz , it is obtained offset amount L2 from the reference point in the Z direction. そして対物レンズから基準点までの距離と先のオフセット量L2とを加算することで、対物レンズ52から映像点までの距離を求める。 Then, by adding the offset amount L2 distance in the previous from the objective lens to a reference point to determine the distance from the objective lens 52 to the image point. これを光学倍率に基づいて換算することで、対物レンズ52から半導体レーザ2の発光点までの距離が求まり、その結果、発光点のZ方向の位置座標が特定される。 By converting this based on the optical magnification, Motomari distance from the objective lens 52 to the light emitting point of the semiconductor laser 2, so that the position coordinates of the Z direction of the light emitting points are identified.
【0077】 [0077]
数学的処理としては、微分して絶対値を取った波形のピークを繋ぐ包絡線を近似し、その包絡線のピークを、映像点が存在するであろう座標として特定する等である。 The mathematical treatment, to approximate the envelope connecting the peak of the waveform took absolute value by differentiating the peaks of the envelope, and so forth to identify the coordinates that will image points exist. このようにスリット71をその幅方向に多数併設した格子スリット部材70を、これらのスリットが映像点の前後に分散されるように斜めに配置したので、光束がこれら併設されたスリットを横切って移動するように光学部50を一定方向に一度移動させるだけで発光点のZ方向の位置座標を求めることが可能になっている。 Thus the lattice slit member 70 which features a large number of slits 71 in the width direction, since the slits are arranged diagonally as distributed before and after the image point, the light beam across these features have been slit moved only it becomes possible to determine the position coordinates of the Z direction of the light emitting point moves once optical unit 50 in a predetermined direction so as to.
【0078】 [0078]
なお、ピントが外れた状態ではスリット幅よりも光束の径が大きくなり、ピントが合うとスリット幅よりも光束の径が小さくなるようにしておけば、変化特性として現われる波のピーク値にも差が生じるので、波のピークが増加する部分を最小二乗法等で近似したグラフと波のピークが減少する部分を最小二乗法等で近似したグラフの交点として、映像点の位置を把握し、これに基づいて微小光源のZ方向位置を特定するようにしてもよい。 The diameter of the light beam becomes larger than the slit width in the state of focus is out, if as the diameter of the light beam than the slit width when the focus is smaller, a difference in the peak value of the wave appearing as a change characteristics since occurs, a portion of the graph and waves peak of which a portion where the peak of the wave increases is approximated by the least squares method or the like is reduced as the intersection of a graph is approximated by the least squares method or the like, to recognize the position of the image point, which it may be specified in the Z direction position of the minute light source based on.
【0079】 [0079]
次に、Z方向の位置座標のさらに他の求め方について説明する。 Next, there is discussed other Determination of the position coordinates of the Z-direction.
先に説明したように、映像点に近いほど、光束がスリットへ出入りする際の受光手段の出力値の変化特性が急峻になる。 As described above, the closer to the image point, the change characteristic of the output value of the light receiving means when the light beam enters and exits the slit becomes steep. そこで、光束が三角スリット部材60をX方向に横切って移動する際における波形の立ち上がりや立下がりの急峻度を、三角スリット部材60をZ方向に何箇所かに移動させて測定する。 Therefore, the light beam is measured a triangular slit member 60 steepness of the rising and falling of the waveform at the time of moving across the X direction, the triangular slit member 60 is moved in several places in the Z-direction. より詳細には、少なくとも映像点の前後それぞれで2箇所ずつの測定を行う。 More specifically, the measurement of every two places at each before and after the at least video points. 急峻度は、たとえば、図15に示すように、第1受光手段54の変化特性151のピークに対して出力値が10%になる位置を立ち上がり開始位置、90%に至る位置を立ち上がり終了位置とすることで、立ち上がり期間における移動光学系の移動量Xrを求め、これを急峻度として用いる。 Steepness, for example, as shown in FIG. 15, and the position where the output value with respect to the peak of the variation characteristic 151 of the first light receiving means 54 is 10% rise start position, the rising end position position leading to 90% by obtains a movement amount Xr of the movable optical system in the rising period, used as the steepness. この場合、移動量が少ないほど急峻度が高いことになる。 In this case, the high steepness as the amount of movement is small. 立下がり側についても同様にXfとして求められる。 Similarly obtained as Xf also for the falling side.
【0080】 [0080]
ピントの合う映像点の前後でそれぞれ少なくとも2箇所ずつ測定した急峻度(移動量)に基づき、急峻度が増加するときの変化を最小二乗法等で回帰近似したグラフ161と、急峻度が低下するときの変化を最小二乗法等で回帰近似したグラフ162とを図16に示すように求め、これらの交点を、急峻度が最も高くなる点、すなわち、映像点のZ方向の位置座標として求める。 Based on the steepness measured by at least two points each before and after the image point in focus (movement amount), and the graph 161 regressed approximated by the least square method or the like change when the steepness increases, the steepness decreases determined as shown in FIG. 16 and a graph 162 regressed approximated by the least square method or the like change when, these intersections, steepness that is the highest, i.e., determined as the position coordinates of the Z direction of the video points.
【0081】 [0081]
より具体的には、映像点を挟む両側のそれぞれで少なくとも2点の測定が確実に行われるように、たとえば9点ほどの測定点を設ける。 More specifically, as measured in at least two points on each of both sides of the image points it is reliably performed, for example, providing a measuring point of about 9 points. 一般的な半導体レーザ(CANタイプ)の場合、Z軸の誤差は±20μm程度である。 For a typical semiconductor laser (CAN type), the error of the Z axis is approximately ± 20 [mu] m. そこで、たとえば、−60μm〜+60μmの範囲でZステージ25を15μm間隔で移動させて、9箇所で測定を行う。 Therefore, for example, -60μm~ + 60μm the Z stage 25 in the range of moves at 15μm intervals, the measurement is carried out in the nine. そして、急峻度が最大のものを1つ選び(立ち上がり期間の移動量を用いる場合には最小のもの)、測定値をその手前と後ろに分け、それぞれ最小二乗法によって直線で近似し、これらの交点を求めて、Z方向の位置座標を特定する。 The steepness one selects the largest one (in the case of using the amount of movement of the rising period the minimum ones), divides the measured values ​​to the front and back, is approximated by a straight line by the least square method, respectively, of seeking intersection, to identify the position coordinates of the Z-direction.
【0082】 [0082]
以上、本発明の実施形態を図面によって説明してきたが、具体的な構成はこれら実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における変更や追加があっても本発明に含まれる。 Above, the present has been described by embodiments of the drawings of the present invention, the specific configuration is not limited to these embodiments, and modifications and additions without departing from the scope of the present invention present invention included.
【0083】 [0083]
たとえば、実施の形態ではXステージ23を移動させることによって半導体レーザ2の発光点のX方向とY方向の位置座標を測定し、Yステージ24を移動させることによって格子スリット部材70を用いたZ方向の位置座標の測定を行ったが、たとえば、三角スリット部材60を取り付ける向きを90度変えて、スリットの幅方向がY方向になるように設定すれば、Yステージ24を移動させるだけで、三角スリット部材60を用いたXY方向の測定と格子スリット部材70を用いたZ方向の測定を一度に行うことが可能になる。 For example, the position coordinates of the X and Y directions of the light emitting point of the semiconductor laser 2 is measured by moving the X stage 23 in the embodiment, Z-direction using a lattice slit member 70 by moving the Y stage 24 were subjected to the measurement of the position coordinates, for example, by changing the direction of attaching the triangular slit member 60 90 degrees, by setting such that the width direction of the slit is in the Y direction, only by moving the Y stage 24, a triangular the measurement in the Z direction using the XY direction of the measurement and the lattice slit member 70 with the slit member 60 it is possible to perform a time.
【0084】 [0084]
また実施の形態では、半導体レーザを測定対象の微小光源としたが、これに相当するような微小な光源であれば、半導体レーザに限定されるものではない。 In the embodiment, although the semiconductor laser and the measurement target of the minute light source, if the small light source such as corresponding thereto, but is not limited to the semiconductor laser. さらに実施の形態では、顕微鏡光学系を用いたが、遠方の微小光源の位置を測定する場合には、望遠鏡光学系を使用すればよい。 In a further embodiment uses a microscope optical system, when measuring the position of the distant small light source, it is sufficient to use a telescope optical system. すなわち、移動光学系をX方向に移動させることに代えて光束がスリットをその幅方向に横切って移動するように望遠鏡光学系のレンズ部を回転させるとともに、移動光学系のX方向の位置および移動距離に代えてレンズ部の角度および回転角を用いる。 That is, the light beam instead of moving the movable optical system in the X direction rotates the lens portion of the telescope optical system so as to move across the slit in the width direction, the position and movement of the X-direction of the movable optical system using angle and rotation angle of the lens unit in place of the distance. これにより、遠方における広い範囲を測定範囲としてカバーすることができる。 This makes it possible to cover a wide range in the distance as a measurement range.
【0085】 [0085]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
本発明にかかる微小光源位置測定装置によれば、検査台に取り付けられた半導体レーザなど固定された微小光源の正確な位置データを容易に取得することができるので、SMSRなど検査準備を迅速に進めることができる。 According to the micro light source position measuring device according to the present invention, it is possible to easily obtain accurate position data of the semiconductor laser fixed small light source, such as attached to an examination table, expediting the examination preparations such SMSR be able to.
【0086】 [0086]
特に、微小光源からの光を対物レンズで集光した光束が、幅の次第に広がるスリットをその幅方向に横切って移動するようにスリット等を移動させ、そのときスリットを通過した光の強度の変化特性に基づいて、光軸に垂直なXY平面内での微小光源の位置を特定するので、位置データの取得を容易かつ迅速に行うことができる。 In particular, the light flux of the light is condensed by the objective lens from the small light source, moves the slit or the like to move across the slit extending gradually in width in the width direction, change in the intensity of the time the light passing through the slit based on the characteristics, because it identifies the position of the minute light source in the vertical XY plane to the optical axis, it is possible to acquire the position data easily and quickly.
【0087】 [0087]
また、光束の径が最も細くなり、微小光源の映像が生成される映像点もしくはその近傍にスリット部材を配置することにより、スリットの幅を狭くして移動光学系の移動量を少なくすることができるので、検査をより迅速に行うことが可能になる。 The diameter of the light beam becomes thinnest, by arranging the image points or slit member near the image of the small light source is generated, it is possible to reduce the amount of movement of the moving optical system by narrowing the width of the slit since it becomes possible to inspect more quickly. また光束がスリットに出入りする際の受光手段の出力値は、光束の径が小さいほど、急峻に変化するので、映像点もしくはその近傍にスリットを配置することにより光束の中心がスリットに出入りする位置を的確に把握でき、測定精度を高めることができる。 The output value of the light receiving means when the light beam enters and exits the slit, as the diameter of the light beam is small, since the steeply changes, the position of the center of the light beam enters and exits the slit by placing a slit in the image point or in the vicinity thereof can be a precisely be grasped, increase measurement accuracy.
【0088】 [0088]
移動光学系をX方向に移動させた際における受光手段の出力値の変化特性を、スリット部材をY方向にずらした2つの位置で測定し、これらの変化特性の相違とスリット部材のY方向への移動距離とスリットの幅が広がる割合との関係から、スリットの幅方向の向きとX方向との差を求めるものでは、スリットの向きを的確かつ容易に検証することができ、測定精度を高めることができる。 The change characteristic of the output value of the light receiving means at the time of moving the movable optical system in the X direction, the slit member was measured at two positions shifted in the Y direction, the Y-direction differences and the slit member of these changes properties the relationship between the moving distance and the ratio of the width of the slit is spread, the intended obtaining the difference between the width direction of the direction and X direction of the slit, the orientation of the slits can be verified accurately and easily, improve the measurement accuracy be able to.
【0089】 [0089]
また移動光学系をX方向に移動させた際における受光手段の出力値の立ち上がりまたは立ち下がりの急峻度の測定を、移動光学系をZ方向にずらして数箇所について行い、この測定に基づいて急峻度が最大になる移動光学系のZ方向位置を導出して、Z方向における微小光源の位置を特定するものでは、XY方向を特定するために用いるスリットや光学系を利用してZ方向についての位置も特定することができ、装置構成の簡略化を図ることができる。 The measurement of the steepness of the rise or fall of the output value of the light receiving means at the time of moving the movable optical system in the X direction is performed for several points by shifting the moving optical system in the Z direction, sharp on the basis of the measurement degrees is to derive the Z-direction position of the movable optical system of maximum, intended to identify the position of the minute light source in the Z direction, of the Z direction using a slit or an optical system used to identify the XY direction position can also be identified, it is possible to simplify the apparatus configuration.
【0090】 [0090]
またスリットの幅方向に多数のスリットが併設された格子スリット部材を、各スリットから対物レンズまでの距離が映像点を挟んで次第に変化するように斜めに倒して配置し、対物レンズで集光された光束をこれらのスリットを横切るように移動させ、このときの受光手段の出力値の変化特性を解析することでZ方向における微小光源の位置を特定するものでは、移動光学系の移動を1回行うだけで微小光源のZ方向の位置を特定することができ、迅速な位置測定が可能になる。 The lattice slit member a number of slits in the width direction of the slit is provided together, the distance from the slits to the objective lens is arranged tilted at an angle so as to change gradually across the image point, is condensed by the objective lens and the light beam is moved across these slits, intended to identify the position of the minute light source in the Z direction by analyzing the change characteristic of the output value of the light receiving means in this case, once the movement of the movable optical system alone it is possible to identify the position in the Z direction of the small light source performing allows quick position measurement.
【0091】 [0091]
対物レンズによって集光された光束を第1光束と第2光束にビームスプリッタで分岐し、第1光束を幅が次第に広がるスリットを通過させることで微小光源のXY方向における位置の特定を行い、第2光束を格子スリット部材に通すことで、微小光源のZ方向位置を特定するものでは、同一の測定装置でXYZのすべての方向について位置を特定することができるので、微小光源を固定したままで、XYZのすべての方向について位置を特定することができる。 Splits the light beam is condensed on the first light flux and the second light flux by the beam splitter through the objective lens performs a particular position in the XY direction of the minute light source by the width of the first light flux passing gradually spreads slit, the the two light beams is passed through the grating slit member, intended to identify the Z direction position of the minute light source, it is possible to locate all directions of the XYZ in the same measuring device, while fixing the minute light source , it is possible to specify the position for all directions of XYZ. また同一の測定装置でXYZのすべての方向についての位置を測定できるので、測定作業を迅速化することができる。 Also it is possible measure the position of all directions of the XYZ in the same measuring apparatus, it is possible to speed up the measurement process. さらに対物レンズや鏡筒、移動手段としてのXYZステージ等を共通化でき、装置構成が簡略化される。 Further objective lens and the barrel, can be shared the XYZ stage such as a moving means, device configuration is simplified.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】本発明にかかわる微小光源位置測定装置の光学系を模式的に示した説明図である。 The optical system of the micro light source position measuring device according to the invention, FIG is an explanatory view schematically showing.
【図2】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置を示す側面図である。 It is a side view showing a small light source position measuring device according to an embodiment of the present invention; FIG.
【図3】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置を示す正面図である。 3 is a front view of a micro light source position measuring device according to an embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置を示す上面図である。 It is a top view showing a micro light source position measuring device according to an embodiment of the present invention; FIG.
【図5】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置で用いる三角スリットを示す正面図である。 5 is a front view of a triangular slit used in micro-light source position measuring device according to an embodiment of the present invention.
【図6】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置で用いる格子スリットを示す正面図である。 6 is a front view showing a lattice slit used in micro-light source position measuring device according to an embodiment of the present invention.
【図7】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置の有する光学部のスリット近傍部分を拡大して示す説明図である。 7 is an explanatory view showing an enlarged slit vicinity of the optical portion having a small light source position measuring device according to an embodiment of the present invention.
【図8】図1に示した三角スリットおよび第1受光手段を対物レンズ側から見た様子を示す説明図である。 Triangular slits and the first light receiving means shown in FIG. 8] FIG. 1 is an explanatory view showing a state as viewed from the objective lens side.
【図9】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置においてスリットがほぼ映像点にありかつ光束がスリットの比較的幅の広い部分を横切った場合の出力値の変化特性を示す説明図である。 Slit is in almost video point in a microscopic light source position measuring device according to an embodiment of the present invention; FIG and luminous flux indicates the variation characteristics of the output value when across the wide portion a relatively wide slit Description it is a diagram.
【図10】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置においてスリットがほぼ映像点にありかつ光束がスリットの比較的幅の狭い部分を横切った場合の出力値の変化特性を示す説明図である。 Slit is in almost video point in a microscopic light source position measuring device according to an embodiment of the invention; FIG and luminous flux indicates the variation characteristics of the output value when across the narrow portion of relatively wide slit Description it is a diagram.
【図11】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置においてスリットが映像点から外れた位置にありかつ光束がスリットの比較的幅の広い部分を横切った場合の出力値の変化特性を示す説明図である。 [11] change characteristic of the output value when the slit is located at a position deviated from the image point and the luminous flux at the minute light source position measuring device according to an embodiment of the present invention has traversed the wide portion of relatively width of the slit it is an explanatory view showing a.
【図12】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置においてスリットが映像点から外れた位置にありかつ光束がスリットの比較的幅の狭い部分を横切った場合の出力値の変化特性を示す説明図である。 [12] change characteristic of the output value when the slit is located at a position deviated from the image point and the luminous flux at the minute light source position measuring device according to an embodiment of the present invention has traversed the narrow portion of relatively width of the slit it is an explanatory view showing a.
【図13】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置において光束がスリットを横切ったときの出力値の変化特性から光束中心がスリットのエッジを通る位置等を求める際に用いる基準位置等を示す説明図である。 [13] the reference position used when the light beam from the center change characteristic of the output value when the light beam crosses the slit determine the position or the like passing through the edges of the slit in small light source position measuring device according to an embodiment of the present invention is an explanatory view showing the like.
【図14】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置において格子スリットを横切って光束が移動する様子と、そのときに観測される第2受光手段の出力値の変化特性の一例を示す説明図である。 And how the light beam across the grating slit is moved in a microscopic light source position measuring device according to an embodiment of FIG. 14 the present invention, an example of a change characteristic of the output value of the second light receiving means to be observed at that time it is an explanatory diagram showing.
【図15】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置において三角スリットを用いてZ方向の位置を測定する際に用いる急峻度を求めるための基準範囲を示す説明図である。 15 is an explanatory diagram showing a reference range for obtaining a steepness to be used for measuring the position in the Z direction using the triangular slit in a microscopic light source position measuring device according to an embodiment of the present invention.
【図16】本発明の一実施の形態に係る微小光源位置測定装置において測定した急峻度に基づいて、最も急峻度が大きくなる位置を割り出すための近似グラフの一例を示す説明図である。 [16] Based on the steepness measured at small light source position measuring device according to an embodiment of the present invention, it is an explanatory diagram showing an example of a proximity graph for determining the most steepness increases position.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
2…半導体レーザ3…検査台10…微小光源位置測定装置20…測定台21…ベース板22…支柱部23…Xステージ24…Yステージ25…Zステージ26…ホルダーアーム27a〜27c…ステッピングモータ50…光学部51…鏡筒52…対物レンズ53…ビームスプリッタ54…第1受光手段55…第2受光手段60…三角スリット部材61…三角形のスリット70…格子スリット部材71…スリット80…制御部81…位置解析手段82…取付角検証手段111〜114、131、151…変化特性140…光束の移動方向を示す矢印162…回帰近似したグラフ 2 ... semiconductor laser 3 ... inspection station 10 ... small light source position measuring device 20 ... measuring stand 21 ... base plate 22 ... column portion 23 ... X-stage 24 ... Y stage 25 ... Z stage 26 ... holder arms 27a to 27c ... stepping motor 50 ... optical unit 51 ... barrel 52 ... objective lens 53 ... beam splitter 54 ... first receiving means 55 ... second light receiving means 60 ... triangular slit member 61 ... slit triangle 70 ... grating slit member 71 ... slit 80 ... control unit 81 ... graph arrow 162 ... regressed approximation indicating the movement direction of the position analyzing means 82 ... mounting angle verifying means 111~114,131,151 ... change characteristic 140 ... light flux

Claims (12)

  1. 微小光源の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source,
    前記微小光源からの光を集光するレンズ部と、 A lens unit for focusing the light from the micro light source,
    前記レンズ部によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段と、 Receiving the light beam condensed by the lens portion, light receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity,
    幅が次第に広がるスリットを有するスリット部材であって、前記レンズ部の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリットの幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記レンズ部と前記受光手段の間に配置されたものと、 A slit member having a slit width increases gradually, when the two directions perpendicular to a plane perpendicular to the optical axis of the lens portion and the X and Y directions, coincides with the width direction of the slit and the X-direction to those disposed between said light receiving means and the lens unit in the direction in which,
    前記レンズ部を介して集光された光束が前記スリットをその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材と前記レンズ部の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系を前記X方向に移動させる移動手段と、 Moving said slit light beam is condensed through the lens unit to move across in the width direction, the movable optical system consisting of one or both of said slit member and the lens unit in the X direction and moving means for,
    前記移動光学系の位置と前記受光手段の出力値との関係に基づいて前記微小光源の位置を解析する位置解析手段を有し、 Has a position analyzing means for analyzing the position of the micro light source based on the relationship between the output value of said light receiving means and the position of the movable optical system,
    前記位置解析手段は、前記移動手段が前記移動光学系を移動させた際における前記受光手段の出力値の変化特性から前記光束の中心がスリットに入ったときの前記移動光学系のX方向位置と前記光束の中心がスリットから出たときの前記移動光学系のX方向位置とを求め、これらの間の距離と前記スリットの幅の広がり具合との関係から前記微小光源のY方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing means, said X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam from the variation characteristic of the output value of said light receiving means at the time of the moving means moves the moving optical system has entered the slit seeking said X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam emitted from the slit, to identify the Y direction position of the micro light source from the relationship between the spatial spread of the distance and width of the slit between them micro light source position measuring device, characterized in that.
  2. 微小光源の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source,
    前記微小光源からの光を集光するレンズ部と、 A lens unit for focusing the light from the micro light source,
    前記レンズ部によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段と、 Receiving the light beam condensed by the lens portion, light receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity,
    幅が左右対称に次第に広がるスリットを有するスリット部材であって、前記レンズ部の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリットの幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記レンズ部と前記受光手段の間に配置されたものと、 Width a slit member having a progressively expanding slits symmetrically, when the two directions perpendicular to a plane perpendicular to the optical axis of the lens portion and the X and Y directions, the width direction of the slit X to those disposed between said light receiving means and the lens unit in the direction coincides with the direction,
    前記レンズ部を介して集光された光束が前記スリットをその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材と前記レンズ部の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系を前記X方向に移動させる移動手段と、 Moving said slit light beam is condensed through the lens unit to move across in the width direction, the movable optical system consisting of one or both of said slit member and the lens unit in the X direction and moving means for,
    前記移動光学系の位置と前記受光手段の出力値との関係に基づいて前記微小光源の位置を解析する位置解析手段を有し、 Has a position analyzing means for analyzing the position of the micro light source based on the relationship between the output value of said light receiving means and the position of the movable optical system,
    前記位置解析手段は、前記移動手段が前記移動光学系を移動させた際における前記受光手段の出力値の変化特性から前記光束の中心がスリットに入ったときの前記移動光学系のX方向位置と前記光束の中心がスリットから出たときの前記移動光学系のX方向位置とを求め、これらの間の距離と前記スリットの幅の広がり具合との関係から前記微小光源のY方向位置を特定するとともに、前記光束の中心がスリットに入ったときの前記移動光学系のX方向位置と前記光束の中心がスリットから出たときの前記移動光学系のX方向位置との中心位置に基づいて前記微小光源のX方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing means, said X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam from the variation characteristic of the output value of said light receiving means at the time of the moving means moves the moving optical system has entered the slit seeking said X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam emitted from the slit, to identify the Y direction position of the micro light source from the relationship between the spatial spread of the distance and width of the slit between them together with the center of the light beam on the basis of the center position of the X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam and the X-direction position of the movable optical system when entering the slits exiting the slit minute micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the X-direction position of the light source.
  3. 微小光源の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source,
    前記微小光源からの光を集光するレンズ部と、 A lens unit for focusing the light from the micro light source,
    前記レンズ部によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段と、 Receiving the light beam condensed by the lens portion, light receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity,
    幅が次第に広がるスリットを有するスリット部材であって、前記レンズ部の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリットの幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記レンズ部と前記受光手段の間に配置されたものと、 A slit member having a slit width increases gradually, when the two directions perpendicular to a plane perpendicular to the optical axis of the lens portion and the X and Y directions, coincides with the width direction of the slit and the X-direction to those disposed between said light receiving means and the lens unit in the direction in which,
    前記レンズ部を介して集光された光束が前記スリットをその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材と前記レンズ部の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系を前記X方向に移動させる移動手段と、 Moving said slit light beam is condensed through the lens unit to move across in the width direction, the movable optical system consisting of one or both of said slit member and the lens unit in the X direction and moving means for,
    前記移動光学系の位置と前記受光手段の出力値との関係に基づいて前記微小光源の位置を解析する位置解析手段を有し、 Has a position analyzing means for analyzing the position of the micro light source based on the relationship between the output value of said light receiving means and the position of the movable optical system,
    前記位置解析手段は、前記移動手段が前記移動光学系を移動させた際における前記受光手段の出力値の変化特性から前記光束の中心がスリットに入ったときの前記移動光学系のX方向位置と前記光束の中心がスリットから出たときの前記移動光学系のX方向位置とを求め、これらの間の距離と前記スリットの幅の広がり具合との関係から前記微小光源のY方向位置を特定するとともに、前記光束の中心がスリットに入ったときの前記移動光学系のX方向位置と前記光束の中心がスリットから出たときの前記移動光学系のX方向位置との間をスリットの左への広がり具合と右への広がり具合の比に応じて内分した位置に基づいて前記微小光源のX方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing means, said X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam from the variation characteristic of the output value of said light receiving means at the time of the moving means moves the moving optical system has entered the slit seeking said X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam emitted from the slit, to identify the Y direction position of the micro light source from the relationship between the spatial spread of the distance and width of the slit between them together, to the left of the slit between the X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam and the X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam enters the slit out from the slit micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the X-direction position of the micro light source based on the position internally divided according to the ratio of the spatial spread of the spatial spread and right.
  4. 微小光源の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source,
    前記微小光源からの光を集光するレンズ部と、 A lens unit for focusing the light from the micro light source,
    前記レンズ部によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段と、 Receiving the light beam condensed by the lens portion, light receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity,
    幅が次第に広がるスリットを有するスリット部材であって、前記レンズ部の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリットの幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記レンズ部と前記受光手段の間に配置されたものと、 A slit member having a slit width increases gradually, when the two directions perpendicular to a plane perpendicular to the optical axis of the lens portion and the X and Y directions, coincides with the width direction of the slit and the X-direction to those disposed between said light receiving means and the lens unit in the direction in which,
    前記レンズ部を介して集光された光束が前記スリットをその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材と前記レンズ部の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系を前記X方向に移動させる移動手段と、 Moving said slit light beam is condensed through the lens unit to move across in the width direction, the movable optical system consisting of one or both of said slit member and the lens unit in the X direction and moving means for,
    前記移動光学系の位置と前記受光手段の出力値との関係に基づいて前記微小光源の位置を解析する位置解析手段を有し、 Has a position analyzing means for analyzing the position of the micro light source based on the relationship between the output value of said light receiving means and the position of the movable optical system,
    前記位置解析手段は、前記移動手段が前記移動光学系を移動させた際における前記受光手段の出力値の変化特性から前記光束の中心がスリットに入ったときの前記移動光学系のX方向位置と前記光束の中心がスリットから出たときの前記移動光学系のX方向位置とを求め、これらの間の距離と前記スリットの幅の広がり具合との関係から前記微小光源のY方向位置を特定するとともに、前記光束の中心がスリットに入ったときもしくはスリットから出たときにおける前記移動光学系のX方向位置を、そのときの光束中心のY方向位置と前記スリットの広がり具合とから求めた当該Y方向位置におけるスリットエッジのX方向オフセット量で補正することにより、前記微小光源のX方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing means, said X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam from the variation characteristic of the output value of said light receiving means at the time of the moving means moves the moving optical system has entered the slit seeking said X-direction position of the movable optical system when the center of the light beam emitted from the slit, to identify the Y direction position of the micro light source from the relationship between the spatial spread of the distance and width of the slit between them together, the center of the light beam is an X-direction position of the movable optical system at the time when exiting or slits when entering the slits, determined from the spatial spread of the light beam center of the Y direction position as the slit at the time Y by correcting in the X direction offset amount of the slit edges in the direction position, the micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the X-direction position of the micro light source.
  5. 前記レンズ部によって前記微小光源の映像が生成される点である映像点もしくはその近傍に前記スリットが位置するように前記スリット部材を配置することを特徴とする請求項1、2、3または4に記載の微小光源位置測定装置。 To claim 1, 2, 3 or 4, characterized in that arranging the slit member as the slit in the image point or near the point where the image is generated in the micro light source is positioned by the lens unit micro light source position-measuring device according.
  6. 前記スリットの幅方向と前記X方向との一致を検証する取付角検証手段をさらに有し、 Further comprising a mounting angle verification means for verifying a match between the X direction and the width direction of the slit,
    前記取付角検証手段は、前記移動手段が前記移動光学系をX方向に移動させた際における前記受光手段の出力値の変化特性を、前記スリット部材をY方向にずらした2つの位置で測定し、前記変化特性の相違と前記スリット部材のY方向への移動距離と前記スリットの幅が広がる割合との関係から、前記スリットの幅方向の向きと前記X方向との差を求めることを特徴とする請求項1、2、3または4に記載の微小光源位置測定装置。 Said mounting angle verifying means, the change characteristic of the output value of said light receiving means at the time of the moving means moves the movable optical system in the X direction, the slit member measured at two positions shifted in the Y direction and characterized by determining the difference in the relationship between the ratio of the width of the moving distance between the slits in the Y direction different from the slit member of the variation characteristic spreads, the direction and the X direction in the width direction of the slit micro light source position measuring device according to claim 1, 2, 3 or 4.
  7. 前記位置解析手段は、前記移動手段が前記移動光学系をX方向に移動させた際に前記受光手段の出力値の立ち上がりと立ち下がりのいずれか一方もしくは双方の急峻度を求めることを、前記移動光学系を前記光軸方向であるZ方向にずらして、スリットが前記微小光源の映像が生成される点である映像点の手前にある状態と奥側にある状態とでそれぞれ少なくとも2箇所ずつ行い、これらの測定結果から前記急峻度が最大になる前記移動光学系のZ方向位置を算出し、これに基づいて前記微小光源のZ方向位置を特定することを特徴とする請求項1、2、3または4に記載の微小光源位置測定装置。 The position analyzing means, said moving means determine either one or both of the steepness of the rise and fall of the output value of said light receiving means when moving said movable optical system in the X direction, the moving by shifting the optical system in the Z direction is the optical axis direction, a slit is performed by at least two positions, respectively a state in the state and the rear side in the front of the image point is that the image of the micro light source is generated , according to claim 1, wherein the steepness of these measurements is calculated in the Z direction position of the movable optical system that maximizes, and identifies the position in the Z direction of the micro light source based on this, micro light source position measuring device according to 3 or 4.
  8. 微小光源の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source,
    前記微小光源からの光を集光するレンズ部と、 A lens unit for focusing the light from the micro light source,
    前記レンズ部によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段と、 Receiving the light beam condensed by the lens portion, light receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity,
    スリットを有するスリット部材であって、前記レンズ部の光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記スリットの幅方向を前記X方向と一致する向きにして前記微小光源の映像が生成される点である映像点の近傍に配置されたものと、 A slit member having a slit, the two directions perpendicular to a plane perpendicular to the optical axis of the lens unit when the X-direction and Y-direction, and the width direction of the slit in a direction coincident with the X-direction and those disposed in the vicinity of the image point is that the image of the micro light source is generated,
    前記レンズ部を介して集光された光束が前記スリットをその幅方向に横切って移動するように、前記スリット部材と前記レンズ部の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系を前記X方向に移動させる移動手段と、 Moving said slit light beam is condensed through the lens unit to move across in the width direction, the movable optical system consisting of one or both of said slit member and the lens unit in the X direction and moving means for,
    前記移動光学系の位置と前記受光手段の出力値との関係に基づいて、前記光軸方向であるZ方向における前記微小光源の位置を解析する位置解析手段を有し、前記位置解析手段は、前記移動手段が前記移動光学系をX方向に移動させた際に前記受光手段の出力値の立ち上がりと立ち下がりのいずれか一方もしくは双方の急峻度を求めることを、前記移動光学系を前記光軸方向であるZ方向にずらして、スリットが前記微小光源の映像が生成される点である映像点の手前にある状態と奥側にある状態とでそれぞれ少なくとも2箇所ずつ行い、これらの測定結果から前記急峻度が最大になる前記移動光学系のZ方向位置を算出し、これに基づいて前記微小光源のZ方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 Based on the relationship between the output value of said light receiving means and the position of the movable optical system includes a position analyzing means for analyzing the position of the micro light source in the Z direction the is the optical axis direction, the position analyzing means, said moving means determine either one or both of the steepness of the rise and fall of the output value of said light receiving means when moving said movable optical system in the X direction, the optical axis of the movable optical system Slide the Z direction in a slit performs by at least two positions, respectively a state in the state and the rear side in the front of the image point is that the image of the micro light source is produced, from these measurements the steepness calculates the Z direction position of the movable optical system that maximizes the micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the Z-direction position of the micro light source based on this.
  9. 微小光源の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source,
    前記微小光源からの光を集光するレンズ部と、 A lens unit for focusing the light from the micro light source,
    前記レンズ部によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段と、 Receiving the light beam condensed by the lens portion, light receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity,
    スリットがその幅方向に多数併設された格子スリット部材であって、前記レンズ部の光軸をZ方向としかつ光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記レンズ部の光軸に垂直かつ前記スリットの併設方向とX方向とを一致させた状態に対して前記スリットの併設方向と光軸の成す角が90度から外れるように斜めに倒した状態で前記微小光源の映像が生成される点である映像点の近傍に配置されたものと、 A grating slit member in which slits are features number in the width direction, when the two directions perpendicular to the optical axis of the lens portion in the Z-direction Toshikatsu plane perpendicular to the optical axis is X-direction and Y-direction, in a state where the angle between the hotel direction and the optical axis of the slit with respect to a state of being matched with the features and X directions perpendicular and the slits to the optical axis of the lens portion is tilted obliquely to deviate from 90 degrees and those disposed in the vicinity of the image point is that the image of the micro light source is generated,
    前記レンズ部を介して集光された光束が前記映像点の前後で前記多数のスリットをそれらの併設方向に横切って移動するように前記格子スリット部材と前記レンズ部の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系を前記X方向に移動させる移動手段と、 Light beam condensed consists either or both of the grating slit member and said lens portion so as to move across the plurality of slits in their hotel direction before and after the video points over the lens portion moving means for moving the movable optical system in the X direction,
    前記移動光学系の位置と前記受光手段の出力値との関係に基づいて前記微小光源の位置を解析する位置解析手段とを有し、 And a position analyzing means for analyzing the position of the micro light source based on the relationship between the output value of said light receiving means and the position of the movable optical system,
    前記位置解析手段は、前記移動手段が前記移動光学系を移動させた際における前記受光手段の出力値の変化特性を微分して絶対値をとり、これにおいて最大値が現れるであろう前記移動光学系のX方向位置を求め、これに基づいて前記微小光源のZ方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing means, said moving means takes the absolute value by differentiating the change characteristic of the output value of said light receiving means at the time of moving the moving optical system, the moving optical would maximum values ​​appear in this obtains an X-direction position of the system, the micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the Z-direction position of the micro light source based on this.
  10. 微小光源の位置を測定する微小光源位置測定装置において、 In the micro light source position measuring device for measuring the position of the minute light source,
    前記微小光源からの光を集光するレンズ部と、 A lens unit for focusing the light from the micro light source,
    前記レンズ部によって集光された光束を受光し、その強度に応じた信号を出力する受光手段と、 Receiving the light beam condensed by the lens portion, light receiving means for outputting a signal corresponding to the intensity,
    スリットがその幅方向に多数併設された格子スリット部材であって、前記レンズ部の光軸をZ方向としかつ光軸と垂直な面内で直交する二方向をX方向およびY方向としたとき、前記レンズ部の光軸に垂直かつ前記スリットの併設方向とX方向とを一致させた状態に対して前記スリットの併設方向と光軸の成す角が90度から外れるように斜めに倒した状態で前記微小光源の映像が生成される点である映像点の近傍に配置されたものと、 A grating slit member in which slits are features number in the width direction, when the two directions perpendicular to the optical axis of the lens portion in the Z-direction Toshikatsu plane perpendicular to the optical axis is X-direction and Y-direction, in a state where the angle between the hotel direction and the optical axis of the slit with respect to a state of being matched with the features and X directions perpendicular and the slits to the optical axis of the lens portion is tilted obliquely to deviate from 90 degrees and those disposed in the vicinity of the image point is that the image of the micro light source is generated,
    前記レンズ部を介して集光された光束が前記映像点の前後で前記多数のスリットをそれらの併設方向に横切って移動するように前記格子スリット部材と前記レンズ部の何れか一方もしくは双方からなる移動光学系を前記X方向に移動させる移動手段と、 Light beam condensed consists either or both of the grating slit member and said lens portion so as to move across the plurality of slits in their hotel direction before and after the video points over the lens portion moving means for moving the movable optical system in the X direction,
    前記移動光学系の位置と前記受光手段の出力値との関係に基づいて前記微小光源の位置を解析する位置解析手段とを有し、 And a position analyzing means for analyzing the position of the micro light source based on the relationship between the output value of said light receiving means and the position of the movable optical system,
    前記位置解析手段は、前記移動手段が前記移動光学系を移動させた際における前記受光手段の出力値の変化特性に現れた多数のピークから、最大ピーク値が現れるであろう前記移動光学系のX方向位置を求め、これに基づいて前記微小光源のZ方向位置を特定することを特徴とする微小光源位置測定装置。 The position analyzing unit, a number of peaks appearing in the variation characteristic of the output value of said light receiving means at the time of the moving means moves the movable optical system will maximum peak value appears in the moving optical system It obtains an X-direction position, the micro light source position measuring apparatus characterized by specifying the Z-direction position of the micro light source based on this.
  11. 請求項1、2、3または4に記載の微小光源位置測定装置と、請求項9または10に記載の微小光源位置測定装置とを少なくともレンズ部を共用して備えるとともに、前記レンズ部によって集光された光束を第1光束と第2光束に分岐するビームスプリッタを有し、 A small light source position measuring device according to claim 1, 2, 3 or 4, with comprises sharing at least a lens portion and a small light source position measuring device according to claim 9 or 10, the condenser by the lens unit has a beam splitter for splitting the light beam into the first light flux and the second light flux,
    前記ビームスプリッタの出力する前記第1光束を請求項1、2、3または4に記載の微小光源位置測定装置で使用し、 The first light beam output of the beam splitter used in the micro light source position measuring device according to claim 1, 2, 3 or 4,
    前記ビームスプリッタの出力する前記第2光束を請求項9または10に記載の微小光源位置測定装置で使用するように構成したことを特徴とする微小光源位置測定装置。 Micro light source position measuring device, characterized in that configured for use with micro light source position measuring device according to output the second light beam to claim 9 or 10 of the beam splitter.
  12. 前記移動光学系をX方向に移動させることに代えて前記光束が前記スリットをその幅方向に横切って移動するように前記レンズ部を回転させるとともに、前記移動光学系のX方向の位置および移動距離に代えて前記レンズ部の角度および回転角を用いることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7、8、9、10または11に記載の微小光源位置測定装置。 With rotating the lens portion so that the light beam instead of moving said movable optical system in the X direction is moved across the slit in the width direction, position and movement distance in the X direction of the movable optical system micro light source position measuring device according to claim 7, 8, 9, 10 or 11, characterized by using an angle and a rotation angle of the lens unit in place.
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8604742B2 (en) 2003-07-08 2013-12-10 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Robotic devices with arms and related methods
US8679096B2 (en) 2007-06-21 2014-03-25 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Multifunctional operational component for robotic devices
US8828024B2 (en) 2007-07-12 2014-09-09 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices for surgical access and procedures
US8834488B2 (en) 2006-06-22 2014-09-16 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Magnetically coupleable robotic surgical devices and related methods
US8894633B2 (en) 2009-12-17 2014-11-25 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Modular and cooperative medical devices and related systems and methods
US8968267B2 (en) 2010-08-06 2015-03-03 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods and systems for handling or delivering materials for natural orifice surgery
US8974440B2 (en) 2007-08-15 2015-03-10 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Modular and cooperative medical devices and related systems and methods
US9010214B2 (en) 2012-06-22 2015-04-21 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Local control robotic surgical devices and related methods
US9060781B2 (en) 2011-06-10 2015-06-23 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices relating to surgical end effectors
US9089353B2 (en) 2011-07-11 2015-07-28 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Robotic surgical devices, systems, and related methods
US9498292B2 (en) 2012-05-01 2016-11-22 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Single site robotic device and related systems and methods
US9579088B2 (en) 2007-02-20 2017-02-28 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices for surgical visualization and device manipulation
US9743987B2 (en) 2013-03-14 2017-08-29 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices relating to robotic surgical devices, end effectors, and controllers
US9770305B2 (en) 2012-08-08 2017-09-26 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Robotic surgical devices, systems, and related methods
US9888966B2 (en) 2013-03-14 2018-02-13 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices relating to force control surgical systems

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8604742B2 (en) 2003-07-08 2013-12-10 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Robotic devices with arms and related methods
US9403281B2 (en) 2003-07-08 2016-08-02 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Robotic devices with arms and related methods
US9883911B2 (en) 2006-06-22 2018-02-06 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Multifunctional operational component for robotic devices
US8834488B2 (en) 2006-06-22 2014-09-16 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Magnetically coupleable robotic surgical devices and related methods
US8968332B2 (en) 2006-06-22 2015-03-03 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Magnetically coupleable robotic surgical devices and related methods
US9579088B2 (en) 2007-02-20 2017-02-28 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices for surgical visualization and device manipulation
US8679096B2 (en) 2007-06-21 2014-03-25 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Multifunctional operational component for robotic devices
US9179981B2 (en) 2007-06-21 2015-11-10 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Multifunctional operational component for robotic devices
US9956043B2 (en) 2007-07-12 2018-05-01 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices for surgical access and procedures
US8828024B2 (en) 2007-07-12 2014-09-09 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices for surgical access and procedures
US8974440B2 (en) 2007-08-15 2015-03-10 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Modular and cooperative medical devices and related systems and methods
US8894633B2 (en) 2009-12-17 2014-11-25 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Modular and cooperative medical devices and related systems and methods
US8968267B2 (en) 2010-08-06 2015-03-03 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods and systems for handling or delivering materials for natural orifice surgery
US9060781B2 (en) 2011-06-10 2015-06-23 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices relating to surgical end effectors
US9757187B2 (en) 2011-06-10 2017-09-12 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices relating to surgical end effectors
US9089353B2 (en) 2011-07-11 2015-07-28 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Robotic surgical devices, systems, and related methods
US10111711B2 (en) 2011-07-11 2018-10-30 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Robotic surgical devices, systems, and related methods
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US10219870B2 (en) 2012-05-01 2019-03-05 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Single site robotic device and related systems and methods
US9010214B2 (en) 2012-06-22 2015-04-21 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Local control robotic surgical devices and related methods
US9770305B2 (en) 2012-08-08 2017-09-26 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Robotic surgical devices, systems, and related methods
US9888966B2 (en) 2013-03-14 2018-02-13 Board Of Regents Of The University Of Nebraska Methods, systems, and devices relating to force control surgical systems
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