JP2004134599A - Semiconductor device and lay-out method therefor - Google Patents

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JP2004134599A
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Takeshi Shimanuki
嶋貫 健
Takenori Ito
伊藤 武典
Hiroharu Tamano
玉野 弘治
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Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
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Renesas Technology Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the chip size and to improve the operation speed by efficiently laying out respective modules. <P>SOLUTION: A semiconductor device 1 is a one chip microcomputer. Hard modules HM composed of non-volatile memories 2, power supply circuits 3, clock pulse generators 4, SCI 5, RAM 6 and CPU 7 are arranged near the right and left sides of a semiconductor chip. Automatic modules AM1 and AM2 formed of timers, interfaces and the like are arranged near the center of the semiconductor chip. The automatic modules and bus branch lines connecting inner buses and the hard modules are simultaneously laid out. The bus branch lines BS are composed as elevated wiring passing above the transistors of the automatic modules AM1 and AM2. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シングルチップの半導体装置、およびそのレイアウト技術に関し、特に、不揮発性メモリを有した半導体装置における機能モジュールのレイアウトに適用して有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置の高集積化、高機能化が進み、CPU、タイマ、SCI(シリアルコミュニケーションインタフェース)、およびフラッシュメモリなどの不揮発性メモリなどの様々な機能モジュールを1チップに内蔵するようになった。
【0003】
これらの機能モジュールを半導体チップにレイアウトする際には、設計者が限られたチップ面積内に個々の機能モジュールを効率よく配置できるように組み合わせてレイアウトしている(たとえば、非特許文献1参照)。また、ワンチップマイコンについては、たとえば、特開2000−57120号公報に記載されている。
【0004】
【非特許文献】
「日経エレクトロニクス」、日経BP社発行、1995年3月27日(no632)、P251〜P260
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記のような半導体装置における機能モジュールのレイアウト技術では、次のような問題点があることが本発明者により見い出された。
【0006】
たとえば、フラッシュメモリなどの不揮発性メモリを内蔵するシングルチップの半導体装置の場合、メモリの大容量化に伴って該不揮発性メモリの面積比率が大きくなる傾向にあり、他の機能モジュールにおけるレイアウト上の制約が大きくなってしまうという問題がある。
【0007】
それにより、レイアウト設計期間が長くなったり、半導体チップサイズの大型化、あるいは配線長の増加などによるノイズや消費電力の増加などを招いてしまう恐れがある。
【0008】
本発明の目的は、各モジュールを効率よくレイアウトすることにより、チップサイズの低減、および動作速度の向上を実現することのできる半導体装置およびそのレイアウト方法を提供することにある。
【0009】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
(1)本発明の半導体装置は、すべてのメタル配線層を使用し、トランジスタを自動配線することができないハードモジュールが、半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および該第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、半導体チップの略中央部に該半導体チップの第3の辺から、その第3の辺に対向する第4の辺にかけて内部バスが配置されたものである。
【0011】
また、ハードモジュール間に自動モジュールが配置され、内部バスとハードモジュールとを接続するバス支線が自動モジュール上を通過する上空配線で構成されている。
【0012】
また、本願のその他の発明の概要を簡単に示す。
【0013】
自動モジュールは、半導体チップの略中央部に、トランジスタが設計者によるレイアウト設計ではなく自動レイアウトにより配置されたものである。
【0014】
ハードモジュールは、少なくとも不揮発性メモリ、半導体メモリ、およびプロセッサからなり、該不揮発性メモリは、半導体チップの第1の辺近傍に該不揮発性メモリの第1の長辺が半導体チップの第1の辺と平行して配置され、半導体メモリ、およびプロセッサは、半導体チップの第1の辺に対向する第2の辺近傍に、半導体メモリ、プロセッサの第1の長辺が、半導体チップの第2の辺とそれぞれ平行して配置されたものである。
【0015】
内部バスは、半導体チップの第3の辺からその辺に対向する第4の辺にかけて、不揮発性メモリの第1の長辺に対向する第2の長辺に平行して、半導体チップの略中央部に配置されたものである。
【0016】
ハードモジュールは、半導体チップに形成された周回電源線に近接して配置されたものである。
【0017】
内部バスのバス支線は、すべてのメタル配線層の配線を用いて構成されたものである。
(2)半導体装置のレイアウト方法または製造方法であって、ハードモジュールを半導体チップにレイアウトするステップと、
前記ハードモジュールがレイアウトされた半導体チップに、内部バスをレイアウトするステップと、
前記ハードモジュールがレイアウトされた半導体チップに、自動モジュールと、前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線とをレイアウトするステップとを有する。
【0018】
また、ハードモジュールを半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および該第1の辺に対向する第2の辺近傍にレイアウトするステップと、半導体チップの第3の辺から第4の辺にかけて内部バスをレイアウトするステップとを有するものである。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【0020】
図1は、本発明の一実施の形態による半導体装置のチップレイアウト図、図2は、図1の半導体装置に設けられた不揮発性メモリにおけるメモリセル構造の説明図、図3は、図1の半導体装置に形成されたメタル配線層の構造説明図、図4は、図1の半導体装置におけるレイアウト設計のフローチャート、図5〜図9は、図1の半導体装置の製造方法であるチップレイアウトの工程の説明図、図10は、本発明の一実施の形態による半導体装置の他の例を示すチップレイアウト図である。なお、以下実施の形態においては、3層のメタル配線層M1,M2,M3を有する半導体装置を例示して説明するが、これに限定されるものではない。なお、本実施の形態において第3層目のメタル配線層M3は最上層配線層である。
【0021】
本実施の形態において、半導体装置1は、シングルチップマイクロコンピュータからなる。この半導体装置1は、図1に示すように、いわゆるハードモジュールHM、自動モジュールAM1,AM2、およびI/OバッファBFから構成されている。
【0022】
ハードモジュールHM(網掛けで示したモジュール)は、図1において、不揮発性メモリ2、電源回路3、クロックパルス発生器(CPG)4、SCI(Serial Communication Interface unit)5、RAM(半導体メモリであるRandom Access MEMORY)6、ならびにCPU(プロセッサであるCentral Processing Unit)7などである。
【0023】
ここで、ハードモジュールHMは、MOSトランジスタ(Metal−Oxide−Semiconductor Field Effect Transistor)を形成する拡散層、インプラ層、ポリシリコン層、および電源配線やMOSトランジスタ間の信号配線を行うメタル配線層(ここではメタル配線層M1〜M3)を有し、大規模数のトランジスタが設計者によるレイアウト設計により配置されているモジュールとする。
【0024】
本実施の形態では、上記のようにハードモジュールHMを定義したが、すべてのメタル配線層を使用し、トランジスタを自動配線することができないものであればハードモジュールとする。
【0025】
ハードモジュールHMは、主にアナログ回路を有しており、該ハードモジュールHMにおいては、前述しように全配線層を使用しているので、メタル配線層M1〜M3においては、該ハードモジュールHMにおけるトランジスタ上の配線、いわゆる上空配線が配置できない。すなわち、本実施の形態のハードモジュールHMの定義は、モジュールを構成するトランジスタ上を通過する配線である上空配線が配置できないモジュールともいえる。
【0026】
ここでは、クロックパルス発生器4、SCI5、およびCPU7をハードモジュールHMとしたが、これらクロックパルス発生器4、SCI5、ならびにCPU7は自動モジュールになりつつある。
【0027】
さらに、不揮発性メモリ2は、たとえば、メモリアレイにEEPROMやフラッシュメモリを用いて構成され、情報の書込み及び消去を電気的に行え、かつ電源OFF後も情報を保持することができる。
【0028】
フラッシュメモリは、電荷を蓄積するための窒化膜やフローティングゲート(電荷蓄積層)を有し、電荷蓄積層に蓄積する電荷の量を制御することによって情報の記憶が行われる。図2にフラッシュメモリにおけるメモリセル構造と等価回路の一例をそれぞれ示す。
【0029】
本実施の形態の不揮発性メモリ2は、大容量の不揮発性メモリ2であり、半導体チップCHの面積の20%以上を占める大面積のハードモジュールHMである。なお、特に限定はされないが、不揮発性メモリ2は64Kバイト以上の容量を有する。ここで1バイトは8ビットである。
【0030】
また、図1において、自動モジュールAM1は、タイマ、およびインタフェースなどからなり、自動モジュールAM2はバスコントローラ8からなる。
【0031】
自動モジュールAM1は、MOSトランジスタを形成する拡散層、インプラ層、ポリシリコン層、および電源配線のメタル配線層M1を使用し、少数のトランジスタが自動レイアウトにより配置されたモジュールである。
【0032】
この自動モジュールAM1は、前述のように一部の電源配線にメタル配線層M1を用いているが、メタル配線層M1〜M3の上空配線が可能となってトランジスタ間の信号配線はメタル配線層M1〜M3を用いて自動配線される。
【0033】
自動モジュールAM2は、MOSトランジスタを形成する拡散層、インプラ層、ポリシリコン層、および電源配線のメタル配線層M1を使用しており、少数のトランジスタが自動レイアウトにより配置されたモジュールである。
【0034】
また、自動モジュールAM1と同様に、一部の電源配線にメタル配線層M1を用いているが、メタル配線層M1〜M3の上空配線が可能となっており、トランジスタ間の信号配線はメタル配線層M1〜M3を用いて自動配線される。
【0035】
ここでも、本実施の形態では、上記のように自動モジュールAM1,AM2をそれぞれ定義したが、トランジスタが設計者によるレイアウト設計ではなく自動レイアウトにより配置されたモジュールであれば自動モジュールとする。また、本実施の形態の自動モジュールAM1,AM2の定義は、モジュールを構成するトランジスタ上を通過する配線である上空配線が配置できるモジュールともいえる。
【0036】
半導体装置1における半導体チップCHのレイアウトについて説明する。
【0037】
半導体チップCHの各々の辺近傍には、I/OバッファBFが配置されている。すなわち、半導体チップCHは平面的に略四角形の形状で構成され、半導体チップCHの外周にI/OバッファBFが内部回路領域を取り囲むように配置されている。内部回路領域において、半導体チップCHの左辺(第1の辺)側には、不揮発性メモリ2が設けられている。この不揮発性メモリ2は、該不揮発性メモリ2の左長辺(第1の長辺)側が半導体チップCHの左辺に平行して配置されている。不揮発性メモリ2の下方には、クロックパルス発生器4、電源回路3がそれぞれ設けられている。
【0038】
また、内部回路領域において、半導体チップCHの右辺(第2の辺)側の上方にはRAM6が設けられており、該RAM6の左側にはSCI5が設けられている。RAM6の下方にはCPU7が設けられている。
【0039】
不揮発性メモリ2の右側には、該不揮発性メモリ2の右長辺(第2の長辺)に平行してアドレスバスやデータバスなどのバス(内部バス)Bが半導体チップの上辺(第3の辺)から下辺(第4の辺)にかけて直線状に配置されている。このように、右辺と左辺との間、すなわちハードモジュールHM間に、バスB(内部バス)が半導体チップの上辺(第3の辺)から下辺(第4の辺)にかけて直線状に、ハードモジュールHMの近傍に配置されている。すなわち、バスB(内部バス)は、該不揮発性メモリ2の長辺に沿って平行して延在するように構成されている。このように、バスB(内部バス)を半導体チップCHの中央部に直線的に配置することにより、配線の引き回しを少なくすることができるので寄生容量などを低減することができる。また、ハードモジュールHM間にバスB(内部バス)を配置することにより、配線の引き回しを少なくすることができるので寄生容量などを低減することができる。また、バスB(内部バス)は、該不揮発性メモリ2の長辺に沿って平行して延在する構成とすることにより、配線の引き回しを少なくすることができるので寄生容量などを低減することができる。すなわち、不揮発性メモリ2と、RAM6と、CPU7などの論理回路との間の動作速度を向上することができる。
【0040】
本実施の形態のバスB(内部バス)は、たとえば、第3層目のメタル配線層M3の配線で構成され、このバスB(内部バス)は、自動モジュールAM1,AM2のレイアウト、および配線を行う前にメタル配線層M3を用いて設計者による配線レイアウト設計が行われる。
【0041】
バスB(内部バス)の右側には、自動モジュールAM1が配置されている。自動モジュールAM1のレイアウト領域において、半導体チップCHの中心部近傍には、自動モジュールAM2のバスコントーラ8が配置されている。
【0042】
バスコントローラ8は、バスB(内部バス)の中央部に接続されるように配置されており、これによって、各モジュールまでの配線の寄生抵抗を均一にすることができる。
【0043】
また、バスB(内部バス)と各モジュールとは、配線であるバス支線BSを介して接続されている。このバス支線BSは、バスB(内部バス)とハードモジュールHM、および自動モジュールAM1,AM2における各モジュールとがそれぞれ最短距離で接続されるように配線されている。バス支線BSは、自動モジュールAM1,AM2のレイアウト、ならびに配線と同時にメタル配線層M1〜M3を用いて自動配線される。すなわち、バス支線BSは、自動モジュールAM1,AM2のトランジスタ上を通過する上空配線として構成され、バスB(内部バス)と各モジュールとを電気的に接続する配線である。これにより、配線レイアウトを向上でき、半導体チップCHの面積を低減できる。また、各モジュールまでの配線の寄生抵抗を均一にすることができる。
【0044】
なお、後述するように、バスB(内部バス)とハードモジュール3〜7との間に自動モジュールAM1,AM2を配置し、自動モジュールAM1,AM2とバス支線BSとを同時に(同じ工程で)自動配線レイアウトすることにより、配線レイアウト効率を向上できる。また、不揮発性メモリ2と、RAM6と、CPU7などの論理回路との間の動作速度を向上することができる。
【0045】
メタル配線層M1〜M3における配線構造について、図3の模式図を用いて説明する。
【0046】
図3において、上方の左側から右側にかけては、バスB(内部バス)、バス支線BS、およびトランジスタT上に形成されたバス支線BSにおける配線構造をそれぞれ示している。また、図3の下方における左側は、ハードモジュールHM上における配線構造、右側は、自動モジュールAM1,AM2上における配線構造をそれぞれ示している。
【0047】
また、図3において、ハッチング部分は、自動配線によるレイアウトを示し、網掛け部分は、設計者による配線レイアウト設計であることを示す。
【0048】
バスB(内部バス)の配線構造においては、メタル配線層M1が層間絶縁膜ZM1上に形成されており、該メタル配線層M1の上方には、層間絶縁膜ZM2を介してメタル配線層M2が形成されている。
【0049】
そして、メタル配線層M2の上方には、層間絶縁膜ZM3を介してメタル配線層M3が形成されており、このメタル配線層M3は最上配線層となる。メタル配線層M3とメタル配線層M2とは接続孔に形成された導電膜により電気的に接続され、メタル配線層M2とメタル配線層M1とは接続孔に形成された導電膜により電気的に接続される。メタル配線層M1〜M3は金属膜で構成される。
【0050】
このバスB(内部バス)の配線構造においては、最上配線層であるメタル配線層M3のみがバスB(内部バス)に用いられる配線層である。
【0051】
バス支線BSは、メタル配線層M1〜M3のすべてを用いて配線されており、これらメタル配線層M1〜M3はすべて自動配線によるレイアウトで配置が決定されてる。
【0052】
また、バス支線BSは、前述したように自動モジュールAM1,AM2上にも配線が施されている。よって、トランジスタT(MOSトランジスタ)上などにも配線され、上空配線を構成することになる。
【0053】
この場合、たとえば、メタル配線層M1の一部はトランジスタTの電源配線として用いられ、該メタル配線層M1の他の部分、およびメタル配線層M2,M3がバス支線BSとして使用される。バス支線BSとして使用されるメタル配線層M1〜M3は自動配線によるレイアウトであり、電源配線として用いられメタル配線層M1の部分は、設計者による配線レイアウトとなる。
【0054】
また、ハードモジュールHM上の配線においては、メタル配線層M1〜M3がすべて設計者による配線レイアウト設計である。このハードモジュールHMにおけるメタル配線層M1〜M3の使い方の一例を説明する。
【0055】
不揮発性メモリ2では、メタル配線層M1〜M3が電源配線に使用されるとともに、メタル配線層M1が副ビット線、メタル配線層M2が主ビット線、メタル配線層M3がワード線シャントなどにそれぞれ使用されている。
【0056】
また、RAM6においては、同じくメタル配線層M1〜M3が電源配線に使用され、かつメタル配線層M1がフリップフロップなどで構成されたメモリセルの配線、メタル配線層M2がビット線、およびメタル配線層M3がワード線シャントなどにそれぞれ使用されている。CPU7では、メタル配線層M1〜M3が電源配線、およびトランジスタ間配線に使用されている。このように、設計者によるレイアウト設計により配置されるので、不揮発性メモリ2の集積度を向上でき、かつモジュールの面積(チップ面積)を低減できる。
【0057】
自動モジュールAM1,AM2上の配線構造においては、メタル配線層M1の一部がトランジスタTの電源配線として用いられており、その他のメタル配線層M1〜M3は、該トランジスタTなどのトランジスタ間配線として使用される。このメタル配線層M1は、設計者による配線レイアウトとなる。そして、メタル配線層M2,M3は、自動配線によるレイアウトとなる。
【0058】
次に、本実施の形態における半導体装置1の製造方法であるレイアウト設計について、図4のフローチャート、および図5〜図9のチップレイアウト図を用いて説明する。
【0059】
まず、半導体チップCHにハードモジュールHM、およびI/OバッファBFを図5に示すように配置する(ステップS101)。このステップS101の処理においては、I/OバッファBFを半導体チップCHの4つの辺に近接してそれぞれ配置する。
【0060】
不揮発性メモリ2は、半導体チップCHの左辺近傍に配置されたI/OバッファBFの近傍に配置し、該不揮発性メモリ2の下方に、クロック発生器4、および電源回路3を配置する。
【0061】
RAM6は、半導体チップCHの右辺近傍の上方に配置されたI/OバッファBFの近傍に配置し、該RAM6の下方にはCPU7を配置し、該RAM6の左側にはSCI5を配置する。
【0062】
このように、ハードモジュールHMは、半導体チップCHの4つの辺近傍、すなわち後述する周回電源線SDP(図6)に近接して位置し、周回電源線SDPからハードモジュールHMへの電源電圧線の給電配線を短くをするように配置する。
【0063】
それにより、電源インピーダンスを低く抑えることができ、配線抵抗や自動モジュールAM1,AM2などの他のモジュールからの回り込み電流などの影響を低減させることができるので、ハードモジュールHMを安定して動作させることができる。すなわち、アナログ回路が多数設けられたハードモジュールHM及びRAMやROっSM等の半導体メモリからなるハードモジュールHMにおいて、半導体メモリの動作の安定を向上できる。
【0064】
ハードモジュールHM、およびI/OバッファBFの配置が終了すると、図6に示すように該I/OバッファBFの周辺部近傍に電源配線を行う(ステップS102)。
【0065】
この電源配線は、たとえば、電源回路3が生成した動作電源電圧をI/OバッファBF、ハードモジュールHM、および自動モジュールAM1,AM2などに供給する配線である。
【0066】
この電源配線は、電源電圧を供給する電源配線HDDと基準電位を供給する電源配線HSS(電位:HDD>HSS)とからなり、I/OバッファBFの周辺部近傍をループ状に周回するように形成された、いわゆる周回電源線SDPと、該周回電源線SDPから引き出され、ハードモジュールHM、および自動モジュールAM1,AM2にそれぞれ給電する給電配線KPとからなる。すなわち、周回電源線SDPは半導体チップCHの外周に配置されたI/OバッファBF上に、内部回路領域を取り囲むようにループ状に周回するように形成されている。
【0067】
そして、図7に示すように、自動モジュールAM1,AM2におけるトランジスタを半導体チップCHの中央部に自動レイアウトにより配置する(ステップS103)。
【0068】
その後、図8に示すように、自動モジュールAM1と不揮発性メモリ2、クロック発生器4、および電源回路3との間に、バスB(内部バス)を設計者による配線レイアウト設計によりレイアウトする(ステップS104)。
【0069】
次に、バスB(内部バス)のレイアウトが終了すると、図9に示すように、自動モジュールAM1,AM2に形成されたトランジスタ間、ならびにバス支線BSを自動レイアウトにより、それぞれ配線する(ステップS105)。すなわち、バス支線BSは、自動モジュールAM1,AM2のレイアウト及び配線(自動レイアウト)と同時に、メタル配線層M1〜M3を用いて自動配線される。これにより、バス支線BSは、自動モジュールAM1,AM2のトランジスタ上を通過する上空配線として構成される。
【0070】
そして、半導体チップCHのレイアウト検証を行い(ステップS106)、マスクデータを作成し(ステップS107)、そのマスクデータを用いて半導体製造技術により半導体チップCHに半導体デバイスが形成される(ステップS108)。これにより、半導体装置が完成する。
【0071】
ここで、不揮発性メモリ2のメモリ容量がより大きくなった場合のチップレイアウトについて、図10を用いて説明する。
【0072】
不揮発性メモリ2は、メモリ容量に比例してX(ロウ)デコーダサイズが大きくなり、長辺方向のモジュールサイズがより大きくなる。これは、メモリのアドレス領域が拡張させることによって、Xデコーダ側のアドレスバスやワード線の本数が増加するためである。一方、Y(カラム)デコーダ側は、データバスの入出力であり、ビット数に変更がなければ大きさは変わらない。
【0073】
よって、不揮発性メモリ2のメモリ容量が拡張していくと、半導体チップCHの左半分程度が該不揮発性メモリ2によって占められることになる。その場合も、電源回路3、およびクロックパルス発生器4は、たとえば、半導体チップの下辺近傍などの周回電源線SDPに近接するようにレイアウトする。
【0074】
それにより、本実施の形態によれば、ハードモジュールHMを半導体チップCHの4つの辺近傍に周回電源線SDPに近接してレイアウトすることにより、自動モジュールAM1,AM2を1箇所に集中してレイアウトすることが可能となり、レイアウト効率を大幅に向上することができる。
【0075】
また、自動モジュールAM1,AM2に形成されたトランジスタ間の配線のレイアウトと、バス支線BSのレイアウトとを、同時に自動レイアウトすることにより、同時に(同一工程で)配線する(ステップS105)。これにより、バス支線BSのレイアウトの自由度(レイアウト効率)を向上することができるとともに、半導体チップCHの面積を低減できる。このように、バス支線BSは、自動モジュールAM1,AM2のレイアウト及び配線と同時に、メタル配線層M1〜M3を用いて自動配線されるので、自動モジュールAM1,AM2のトランジスタ上を通過する上空配線として構成される。
【0076】
また、バスB(内部バス)を該半導体チップCHの中央部近傍に配線することによって、バス支線BSの引き回し効率が向上し、配線長を短くできるので、寄生容量などを少なくでき、半導体装置1の性能向上を実現することができる。
【0077】
たとえば、前記実施の形態に示した半導体装置の構成に加えて、他のハードモジュールを追加した場合においても、該ハードモジュールは、周回電源に近接するように配置する。
【0078】
図11は、前記実施の形態の半導体装置1(図1)の構成に、ハードモジュールHMとしてA/D(アナログ/デジタル)変換器9、およびD/A変換器10が新たに設けられた半導体装置1aのチップレイアウト図である。
【0079】
この場合、A/D変換器9、ならびにD/A変換器10は、半導体チップCHの右下側に配置して周回電源線SDPに近接させるとともに、アナログ入出力端子、動作電源電圧用端子、および基準電圧用端子などからなるアナログ用端子ANP(網掛けで示した端子)にも近接するように配置する。
【0080】
それによって、回り込み電流などのノイズを低減することができ、半導体装置1aの動作を安定化することができる。
【0081】
以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0082】
たとえば、ハードモジュールと自動モジュールとを有する半導体装置に適用できることはいうまでもない。
【0083】
本実施の形態による発明の構成のうち、代表的なものを簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【0084】
1.ハードモジュールが半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、
前記第1の辺近傍には、前記半導体チップの第3の辺から、前記第3の辺に対向する第4の辺にかけて内部バスが配置され、
前記半導体チップの略中央部に自動モジュールが配置された半導体装置。
【0085】
2.ハードモジュールが半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、
前記ハードモジュール間であって、前記第1の辺近傍には、前記半導体チップの第3の辺から、前記第3の辺に対向する第4の辺にかけて内部バスが、少なくとも一つのハードモジュールの近傍に配置され、
内部バスと前記ハードモジュールとの間に自動モジュールが配置され、
前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線が、前記自動モジュール上を通過する上空配線で構成された半導体装置。
【0086】
3.第1ハードモジュールが半導体チップの少なくとも第1の辺近傍に配置され、
第2ハードモジュールが前記第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、
前記第1ハードモジュールと第2ハードモジュールとの間であって、前記半導体チップの第3の辺から、前記第3の辺に対向する第4の辺にかけて直線状の内部バスが、前記第1ハードモジュールの近傍に配置され、
内部バスと前記第2ハードモジュールとの間に自動モジュールが配置され、
前記内部バスと前記第2ハードモジュールとを接続するバス支線が、前記自動モジュール上を通過する上空配線で構成された半導体装置。
【0087】
4.トランジスタ上を自動配線することができない複数の第1モジュールが、半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および該第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、
前記第1モジュール間に、該半導体チップの第3の辺から、その第3の辺に対向する第4の辺にかけて延在した直線状の内部バスが、少なくとも一つの第1モジュールの近傍に配置され、
前記第1ジュール間に、トランジスタ上を自動配線することができる第2モジュールが配置され、内部バスと第1モジュールとを接続するバス支線が、第2モジュール上を通過する上空配線で構成される半導体装置。
【0088】
5.1〜3のいずれかにおいて、前記ハードモジュールは、少なくとも不揮発性メモリ、半導体メモリ、およびプロセッサからなり、
前記不揮発性メモリは、前記半導体チップの第1の辺近傍に前記不揮発性メモリの第1の長辺が、前記半導体チップの第1の辺と平行して配置され、
前記半導体メモリ、および前記プロセッサは、前記半導体チップの第1の辺に対向する第2の辺近傍に、前記半導体メモリ、ならびに前記プロセッサの第1の長辺が、前記半導体チップの第2の辺とそれぞれ平行して配置される。
【0089】
6.1〜5おいて、前記内部バスは、前記半導体チップの第3の辺から前記第3の辺に対向する第4の辺にかけて、前記不揮発性メモリの第1の長辺に対向する第2の長辺に平行して、前記半導体チップの略中央部に配置される。
【0090】
7.1〜3において、前記ハードモジュールは、前記半導体チップの外周に形成された周回電源線に近接して配置される。
【0091】
8.4において、前記第1モジュールは、前記半導体チップに形成された周回電源線に近接して配置される。
【0092】
9.1〜8において、前記内部バスのバス支線が、すべてのメタル配線層の配線を用いて構成される。
【0093】
10.ハードモジュールを半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍にレイアウトするステップと、
前記ハードモジュール間に、前記半導体チップの第3の辺から第4の辺にかけて直線状に内部バスをレイアウトするステップと、
前記ハードモジュール間に、自動モジュールと、前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線とをレイアウトするステップとを有する半導体装置の製造方法。
【0094】
11.ハードモジュールを半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍にレイアウトするステップと、
前記ハードモジュールがレイアウトされた半導体チップの略中央部に、前記半導体チップの第3の辺から第4の辺にかけて直線状に内部バスをレイアウトするステップと、
前記半導体チップの略中央部に、前記内部バスに近接して自動モジュールと、前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線とをレイアウトするステップとを有する半導体装置の製造方法。
【0095】
12.ハードモジュールを半導体チップにレイアウトするステップと、
前記ハードモジュールがレイアウトされた半導体チップに、内部バスをレイアウトするステップと、
前記ハードモジュールがレイアウトされた半導体チップに、自動モジュールと、 前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線とをレイアウトするステップとを有する半導体装置の製造方法。
【0096】
13.10〜12において、前記ハードモジュールは、少なくとも不揮発性メモリ、半導体メモリ、およびプロセッサからなり、
前記ハードモジュールをレイアウトするステップが、
前記不揮発性メモリを、前記半導体チップの第1の辺近傍に、前記不揮発性メモリの第1の長辺が前記半導体チップの第1の辺に平行してレイアウトするレイアウトするステップと、
前記半導体メモリ、および前記プロセッサを、前記半導体チップの第2の辺近傍に、前記半導体メモリ、ならびに前記プロセッサの第1の長辺が、前記半導体チップの第2の辺と平行してそれぞれレイアウトするステップとを有し、
前記内部バスをレイアウトするステップが、
前記半導体チップの略中央部に、前記半導体チップの第3の辺から第4の辺にかけて前記不揮発性メモリの第1の長辺に対向する第2の長辺に平行して、前記第2の長辺の近傍にレイアウトするステップとを有する。
【0097】
14.10〜13において、前記ハードモジュールレイアウトステップの前に、周回電源線からハードモジュールへの電源電圧線のレイアウトを行うステップを有する。
【0098】
実施の形態によって得られる効果のうち、代表的なものを簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【0099】
(1)ハードモジュールを半導体チップの少なくとも2つの辺近傍にレイアウトすることにより、自動モジュールのレイアウト効率を大幅に向上することができる。
【0100】
(2)また、バスを半導体チップの略中央部に配線することによって、バス支線の引き回し効率が向上し、配線長を短くできるので、寄生容量などを低減することができる。
【0101】
(3)上記(1)、(2)により、半導体装置の小型化、および性能の向上などを実現することができる。
【0102】
【発明の効果】
本願によって開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【0103】
モジュールのレイアウト効率を大幅に向上することができる。
【0104】
半導体装置の小型化、および性能の向上などを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態による半導体装置のチップレイアウト図である。
【図2】図1の半導体装置に設けられた不揮発性メモリにおけるメモリセル構造の説明図である。
【図3】図1の半導体装置に形成されたメタル配線層の構造説明図である。
【図4】図1の半導体装置におけるレイアウト設計のフローチャートである。
【図5】図1の半導体装置におけるチップレイアウトの工程の説明図である。
【図6】図5に続くチップレイアウトの工程の説明図である。
【図7】図6に続くチップレイアウトの工程の説明図である。
【図8】図7に続くチップレイアウトの工程の説明図である。
【図9】図8に続くチップレイアウトの工程の説明図である。
【図10】本発明の一実施の形態による半導体装置の他の例を示すチップレイアウト図である。
【図11】本発明の他の実施の形態による半導体装置のチップレイアウト図である。
【符号の説明】
1,1a 半導体装置
2 不揮発性メモリ
3 電源回路
4 クロックパルス発生器
5 SCI
6 RAM(半導体メモリ)
7 CPU(プロセッサ)
8 バスコントーラ
9 A/D変換器
10 D/A変換器
HM ハードモジュール
AM1,AM2 自動モジュール
BF I/Oバッファ
B バス(内部バス)
BS バス支線
M1〜M3 メタル配線層
SDP 周回電源線
KP 給電配線
HDD 電源配線
HSS 電源配線
ANP アナログ用端子
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a single-chip semiconductor device and a layout technology thereof, and more particularly to a technology effective when applied to a layout of a functional module in a semiconductor device having a nonvolatile memory.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art As semiconductor devices have become highly integrated and sophisticated, various functional modules such as a CPU, a timer, an SCI (serial communication interface), and a nonvolatile memory such as a flash memory have been incorporated in one chip.
[0003]
When laying out these functional modules on a semiconductor chip, the designer lays out the functional modules in combination so that they can be efficiently arranged within a limited chip area (for example, see Non-Patent Document 1). . A one-chip microcomputer is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-57120.
[0004]
[Non-patent literature]
"Nikkei Electronics", published by Nikkei BP, March 27, 1995 (no632), P251 to P260
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, the present inventor has found that there are the following problems in the layout technology of the functional module in the semiconductor device as described above.
[0006]
For example, in the case of a single-chip semiconductor device incorporating a non-volatile memory such as a flash memory, the area ratio of the non-volatile memory tends to increase with an increase in the memory capacity. There is a problem that restrictions are increased.
[0007]
As a result, there is a possibility that the layout design period becomes longer, the size of the semiconductor chip becomes larger, or the wiring length increases, thereby increasing noise and power consumption.
[0008]
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device and a layout method thereof that can realize a reduction in chip size and an improvement in operation speed by efficiently laying out each module.
[0009]
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.
(1) In the semiconductor device of the present invention, a hard module using all metal wiring layers and incapable of automatic wiring of a transistor is at least near the first side of the semiconductor chip and faces the first side. The internal bus is arranged near the second side, and the internal bus is arranged at a substantially central portion of the semiconductor chip from the third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side.
[0011]
Also, an automatic module is arranged between the hardware modules, and a bus branch line connecting the internal bus and the hardware module is formed by an overhead wiring passing over the automatic module.
[0012]
An outline of another invention of the present application will be briefly described.
[0013]
In an automatic module, transistors are arranged at an approximate center of a semiconductor chip by automatic layout, not by layout design by a designer.
[0014]
The hard module includes at least a non-volatile memory, a semiconductor memory, and a processor, and the non-volatile memory has a first long side of the non-volatile memory near a first side of the semiconductor chip and a first side of the semiconductor chip. The semiconductor memory and the processor are arranged in parallel with each other, and the first long side of the semiconductor memory and the processor is located near the second side facing the first side of the semiconductor chip. Are arranged in parallel with each other.
[0015]
The internal bus extends from the third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side of the semiconductor chip, in parallel with a second long side opposite to the first long side of the non-volatile memory, at substantially the center of the semiconductor chip. It is arranged in the section.
[0016]
The hard module is disposed close to a peripheral power supply line formed on a semiconductor chip.
[0017]
The bus branch lines of the internal bus are configured using wirings of all metal wiring layers.
(2) A layout method or a manufacturing method of a semiconductor device, wherein a hard module is laid out on a semiconductor chip;
Laying out an internal bus on the semiconductor chip on which the hard module is laid out;
Laying out an automatic module and a bus branch line connecting the internal bus and the hard module on the semiconductor chip on which the hard module is laid out.
[0018]
Laying out the hard module at least in the vicinity of the first side of the semiconductor chip and in the vicinity of the second side opposite to the first side; and providing an internal bus from the third side to the fourth side of the semiconductor chip. And laying out.
[0019]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0020]
FIG. 1 is a chip layout diagram of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram of a memory cell structure in a nonvolatile memory provided in the semiconductor device of FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a structural explanatory view of a metal wiring layer formed in the semiconductor device, FIG. 4 is a flowchart of a layout design in the semiconductor device of FIG. 1, and FIGS. 5 to 9 are chip layout steps as a method of manufacturing the semiconductor device of FIG. FIG. 10 is a chip layout diagram showing another example of the semiconductor device according to the embodiment of the present invention. In the following embodiments, a semiconductor device having three metal wiring layers M1, M2, and M3 will be described as an example, but the present invention is not limited to this. In the present embodiment, the third metal wiring layer M3 is the uppermost wiring layer.
[0021]
In the present embodiment, the semiconductor device 1 is composed of a single-chip microcomputer. As shown in FIG. 1, the semiconductor device 1 includes a so-called hard module HM, automatic modules AM1 and AM2, and an I / O buffer BF.
[0022]
The hard module HM (shaded module) is a nonvolatile memory 2, a power supply circuit 3, a clock pulse generator (CPG) 4, an SCI (Serial Communication Interface unit) 5, and a RAM (semiconductor memory) in FIG. Random Access MEMORY 6 and a CPU (Central Processing Unit) 7.
[0023]
Here, the hard module HM includes a diffusion layer forming a MOS transistor (Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor), an implantation layer, a polysilicon layer, and a power supply wiring and a metal wiring layer (here, a signal wiring between MOS transistors). Have metal wiring layers M1 to M3) and a large number of transistors are arranged by a designer in a layout design.
[0024]
In the present embodiment, the hard module HM is defined as described above. However, if all metal wiring layers are used and transistors cannot be automatically wired, the hardware module HM is defined as a hard module.
[0025]
The hard module HM mainly has an analog circuit, and since the hard module HM uses all the wiring layers as described above, the metal wiring layers M1 to M3 include the transistors in the hard module HM. The upper wiring, the so-called sky wiring, cannot be arranged. That is, the definition of the hard module HM of the present embodiment can be said to be a module in which the sky wiring which is the wiring passing over the transistors constituting the module cannot be arranged.
[0026]
Here, the clock pulse generator 4, SCI5, and CPU 7 are hardware modules HM, but these clock pulse generators 4, SCI5, and CPU 7 are becoming automatic modules.
[0027]
Further, the non-volatile memory 2 is configured by using, for example, an EEPROM or a flash memory for a memory array, can electrically write and erase information, and can hold information even after the power is turned off.
[0028]
A flash memory has a nitride film and a floating gate (charge storage layer) for storing charges, and stores information by controlling the amount of charges stored in the charge storage layer. FIG. 2 shows an example of a memory cell structure and an example of an equivalent circuit in a flash memory.
[0029]
The nonvolatile memory 2 of the present embodiment is a large-capacity nonvolatile memory 2, and is a large-area hard module HM occupying 20% or more of the area of the semiconductor chip CH. Although not particularly limited, the nonvolatile memory 2 has a capacity of 64 Kbytes or more. Here, one byte is 8 bits.
[0030]
In FIG. 1, the automatic module AM1 includes a timer and an interface, and the automatic module AM2 includes a bus controller 8.
[0031]
The automatic module AM1 is a module using a diffusion layer, an implant layer, a polysilicon layer, and a metal wiring layer M1 of a power supply wiring forming a MOS transistor, and a small number of transistors are arranged by an automatic layout.
[0032]
As described above, the automatic module AM1 uses the metal wiring layer M1 for a part of the power supply wiring. However, the wiring over the metal wiring layers M1 to M3 can be performed, and the signal wiring between the transistors is reduced to the metal wiring layer M1. The wiring is automatically performed by using .about.M3.
[0033]
The automatic module AM2 uses a diffusion layer forming an MOS transistor, an implantation layer, a polysilicon layer, and a metal wiring layer M1 of a power supply wiring, and is a module in which a small number of transistors are arranged by an automatic layout.
[0034]
Further, similar to the automatic module AM1, the metal wiring layer M1 is used for a part of the power supply wiring, but the wiring above the metal wiring layers M1 to M3 is possible, and the signal wiring between the transistors is formed by the metal wiring layer. Automatic wiring is performed using M1 to M3.
[0035]
Here, in the present embodiment, the automatic modules AM1 and AM2 are respectively defined as described above. However, if the transistor is a module arranged by an automatic layout instead of a layout design by a designer, the automatic module is an automatic module. In addition, the definition of the automatic modules AM1 and AM2 of the present embodiment can be said to be a module in which an overhead wiring which is a wiring passing over a transistor included in the module can be arranged.
[0036]
The layout of the semiconductor chip CH in the semiconductor device 1 will be described.
[0037]
An I / O buffer BF is arranged near each side of the semiconductor chip CH. That is, the semiconductor chip CH is formed in a substantially quadrangular shape in a plane, and the I / O buffer BF is arranged around the semiconductor chip CH so as to surround the internal circuit area. In the internal circuit area, a nonvolatile memory 2 is provided on the left side (first side) of the semiconductor chip CH. In the nonvolatile memory 2, the left long side (first long side) of the nonvolatile memory 2 is arranged in parallel with the left side of the semiconductor chip CH. Below the non-volatile memory 2, a clock pulse generator 4 and a power supply circuit 3 are provided, respectively.
[0038]
In the internal circuit area, the RAM 6 is provided above the right side (second side) of the semiconductor chip CH, and the SCI 5 is provided on the left side of the RAM 6. A CPU 7 is provided below the RAM 6.
[0039]
On the right side of the non-volatile memory 2, a bus (internal bus) B such as an address bus or a data bus is arranged in parallel with the right long side (second long side) of the non-volatile memory 2 on the upper side (third side) of the semiconductor chip. ) To the lower side (fourth side). As described above, between the right side and the left side, that is, between the hard modules HM, the bus B (internal bus) extends linearly from the upper side (third side) to the lower side (fourth side) of the semiconductor chip. It is arranged near the HM. That is, the bus B (internal bus) is configured to extend in parallel along the long side of the nonvolatile memory 2. By arranging the bus B (internal bus) linearly at the center of the semiconductor chip CH in this manner, wiring can be reduced, and thus parasitic capacitance and the like can be reduced. In addition, by arranging the bus B (internal bus) between the hard modules HM, it is possible to reduce wiring routing, and thus to reduce parasitic capacitance and the like. The bus B (internal bus) extends in parallel along the long side of the nonvolatile memory 2, so that wiring can be reduced, so that parasitic capacitance and the like can be reduced. Can be. That is, the operation speed between the nonvolatile memory 2, the RAM 6, and the logic circuit such as the CPU 7 can be improved.
[0040]
The bus B (internal bus) of the present embodiment is configured by, for example, a wiring of a third-level metal wiring layer M3, and the bus B (internal bus) is used for the layout and wiring of the automatic modules AM1 and AM2. Before this, a wiring layout design is performed by a designer using the metal wiring layer M3.
[0041]
An automatic module AM1 is arranged on the right side of the bus B (internal bus). In the layout area of the automatic module AM1, the bus controller 8 of the automatic module AM2 is arranged near the center of the semiconductor chip CH.
[0042]
The bus controller 8 is arranged so as to be connected to the center of the bus B (internal bus), whereby the parasitic resistance of the wiring to each module can be made uniform.
[0043]
The bus B (internal bus) and each module are connected via a bus branch line BS which is a wiring. The bus branch line BS is wired so that the bus B (internal bus) is connected to the hardware module HM and each of the automatic modules AM1 and AM2 in the shortest distance. The bus branch line BS is automatically wired using the metal wiring layers M1 to M3 simultaneously with the layout and wiring of the automatic modules AM1 and AM2. That is, the bus branch line BS is configured as an overhead wiring that passes over the transistors of the automatic modules AM1 and AM2, and is a wiring that electrically connects the bus B (internal bus) to each module. Thereby, the wiring layout can be improved, and the area of the semiconductor chip CH can be reduced. Further, the parasitic resistance of the wiring to each module can be made uniform.
[0044]
As will be described later, the automatic modules AM1 and AM2 are arranged between the bus B (internal bus) and the hardware modules 3 to 7, and the automatic modules AM1 and AM2 and the bus branch line BS are simultaneously (in the same process) automatically. Wiring layout can improve wiring layout efficiency. Further, the operation speed between the nonvolatile memory 2, the RAM 6, and the logic circuit such as the CPU 7 can be improved.
[0045]
The wiring structure in the metal wiring layers M1 to M3 will be described with reference to the schematic diagram of FIG.
[0046]
3, the wiring structures of the bus B (internal bus), the bus branch line BS, and the bus branch line BS formed on the transistor T are shown from the upper left side to the right side. 3 shows the wiring structure on the hard module HM, and the right side shows the wiring structure on the automatic modules AM1 and AM2.
[0047]
In FIG. 3, a hatched portion indicates a layout based on automatic wiring, and a hatched portion indicates that a wiring layout is designed by a designer.
[0048]
In the wiring structure of the bus B (internal bus), a metal wiring layer M1 is formed on the interlayer insulating film ZM1, and a metal wiring layer M2 is provided above the metal wiring layer M1 via the interlayer insulating film ZM2. Is formed.
[0049]
Then, above the metal wiring layer M2, a metal wiring layer M3 is formed via an interlayer insulating film ZM3, and this metal wiring layer M3 is the uppermost wiring layer. The metal wiring layer M3 and the metal wiring layer M2 are electrically connected by a conductive film formed in the connection hole, and the metal wiring layer M2 and the metal wiring layer M1 are electrically connected by the conductive film formed in the connection hole. Is done. The metal wiring layers M1 to M3 are formed of a metal film.
[0050]
In the wiring structure of the bus B (internal bus), only the metal wiring layer M3 which is the uppermost wiring layer is a wiring layer used for the bus B (internal bus).
[0051]
The bus branch line BS is wired using all of the metal wiring layers M1 to M3, and the layout of all of the metal wiring layers M1 to M3 is determined by a layout by automatic wiring.
[0052]
The bus branch line BS is also wired on the automatic modules AM1 and AM2 as described above. Therefore, the wiring is also formed on the transistor T (MOS transistor) or the like, and constitutes an overhead wiring.
[0053]
In this case, for example, a part of the metal wiring layer M1 is used as a power supply wiring of the transistor T, and another part of the metal wiring layer M1 and the metal wiring layers M2 and M3 are used as bus branch lines BS. The metal wiring layers M1 to M3 used as the bus branch lines BS have a layout based on automatic wiring, and the part of the metal wiring layer M1 used as a power supply wiring has a wiring layout by a designer.
[0054]
Further, in the wiring on the hard module HM, the metal wiring layers M1 to M3 are all wiring layout designs by the designer. An example of how to use the metal wiring layers M1 to M3 in the hard module HM will be described.
[0055]
In the nonvolatile memory 2, the metal wiring layers M1 to M3 are used for power supply wiring, the metal wiring layer M1 is used as a sub-bit line, the metal wiring layer M2 is used as a main bit line, and the metal wiring layer M3 is used as a word line shunt. It is used.
[0056]
In the RAM 6, the metal wiring layers M1 to M3 are similarly used for power supply wiring, and the metal wiring layer M1 is a wiring of a memory cell formed of a flip-flop or the like, and the metal wiring layer M2 is a bit line and a metal wiring layer. M3 is used for a word line shunt or the like. In the CPU 7, the metal wiring layers M1 to M3 are used for power supply wiring and wiring between transistors. In this manner, since the layout is performed by the designer, the degree of integration of the nonvolatile memory 2 can be improved, and the area of the module (chip area) can be reduced.
[0057]
In the wiring structure on the automatic modules AM1 and AM2, a part of the metal wiring layer M1 is used as a power supply wiring of the transistor T, and the other metal wiring layers M1 to M3 are used as wiring between transistors such as the transistor T. used. The metal wiring layer M1 has a wiring layout by a designer. Then, the metal wiring layers M2 and M3 have a layout by automatic wiring.
[0058]
Next, a layout design as a method of manufacturing the semiconductor device 1 in the present embodiment will be described with reference to a flowchart of FIG. 4 and chip layout diagrams of FIGS.
[0059]
First, the hard module HM and the I / O buffer BF are arranged on the semiconductor chip CH as shown in FIG. 5 (step S101). In the process of step S101, the I / O buffers BF are respectively arranged close to the four sides of the semiconductor chip CH.
[0060]
The nonvolatile memory 2 is arranged near an I / O buffer BF arranged near the left side of the semiconductor chip CH, and a clock generator 4 and a power supply circuit 3 are arranged below the nonvolatile memory 2.
[0061]
The RAM 6 is arranged near the I / O buffer BF arranged above the right side of the semiconductor chip CH, the CPU 7 is arranged below the RAM 6, and the SCI 5 is arranged on the left side of the RAM 6.
[0062]
As described above, the hard module HM is located in the vicinity of four sides of the semiconductor chip CH, that is, in the vicinity of a later-described power supply line SDP (FIG. 6), and a power supply voltage line from the peripheral power supply line SDP to the hard module HM. The power supply wiring is arranged to be short.
[0063]
As a result, the power supply impedance can be kept low, and the influence of wiring resistance and sneak current from other modules such as the automatic modules AM1 and AM2 can be reduced, so that the hard module HM can operate stably. Can be. That is, in a hard module HM provided with a large number of analog circuits and a hard module HM including a semiconductor memory such as a RAM or ROSM, the operation stability of the semiconductor memory can be improved.
[0064]
When the arrangement of the hardware module HM and the I / O buffer BF is completed, power supply wiring is performed near the peripheral portion of the I / O buffer BF as shown in FIG. 6 (step S102).
[0065]
This power supply wiring is, for example, a wiring that supplies the operating power supply voltage generated by the power supply circuit 3 to the I / O buffer BF, the hard module HM, the automatic modules AM1, AM2, and the like.
[0066]
The power supply wiring is composed of a power supply wiring HDD for supplying a power supply voltage and a power supply wiring HSS (potential: HDD> HSS) for supplying a reference potential, so as to loop around the periphery of the I / O buffer BF in a loop shape. It is formed of a so-called circulating power supply line SDP and a power supply wiring KP which is drawn from the circulating power supply line SDP and supplies power to the hardware module HM and the automatic modules AM1 and AM2. That is, the circulating power supply line SDP is formed on the I / O buffer BF arranged on the outer periphery of the semiconductor chip CH so as to circulate in a loop so as to surround the internal circuit region.
[0067]
Then, as shown in FIG. 7, the transistors in the automatic modules AM1 and AM2 are arranged at the center of the semiconductor chip CH by automatic layout (step S103).
[0068]
Thereafter, as shown in FIG. 8, a bus B (internal bus) is laid out between the automatic module AM1 and the nonvolatile memory 2, the clock generator 4, and the power supply circuit 3 by a wiring layout design by a designer (step). S104).
[0069]
Next, when the layout of the bus B (internal bus) is completed, as shown in FIG. 9, between the transistors formed in the automatic modules AM1 and AM2 and the bus branch line BS are wired by the automatic layout (step S105). . That is, the bus branch line BS is automatically wired using the metal wiring layers M1 to M3 simultaneously with the layout and wiring (automatic layout) of the automatic modules AM1 and AM2. As a result, the bus branch line BS is configured as an overhead wiring that passes over the transistors of the automatic modules AM1 and AM2.
[0070]
Then, layout verification of the semiconductor chip CH is performed (step S106), mask data is created (step S107), and a semiconductor device is formed on the semiconductor chip CH by a semiconductor manufacturing technique using the mask data (step S108). Thus, the semiconductor device is completed.
[0071]
Here, a chip layout in the case where the memory capacity of the nonvolatile memory 2 becomes larger will be described with reference to FIG.
[0072]
In the nonvolatile memory 2, the X (row) decoder size increases in proportion to the memory capacity, and the module size in the long side direction increases. This is because the number of address buses and word lines on the X decoder side is increased by expanding the address area of the memory. On the other hand, the Y (column) decoder side is a data bus input / output, and the size does not change unless the number of bits is changed.
[0073]
Therefore, as the memory capacity of the nonvolatile memory 2 expands, about the left half of the semiconductor chip CH is occupied by the nonvolatile memory 2. Also in this case, the power supply circuit 3 and the clock pulse generator 4 are laid out so as to be close to the peripheral power supply line SDP, for example, near the lower side of the semiconductor chip.
[0074]
Thus, according to the present embodiment, the automatic modules AM1 and AM2 are concentrated at one location by laying out the hard modules HM in the vicinity of the four sides of the semiconductor chip CH and in the vicinity of the peripheral power supply line SDP. And layout efficiency can be greatly improved.
[0075]
Further, the layout of the wiring between the transistors formed in the automatic modules AM1 and AM2 and the layout of the bus branch line BS are simultaneously and automatically laid out (in the same process) (step S105). As a result, the degree of freedom (layout efficiency) of the layout of the bus branch lines BS can be improved, and the area of the semiconductor chip CH can be reduced. As described above, the bus branch line BS is automatically wired using the metal wiring layers M1 to M3 at the same time as the layout and wiring of the automatic modules AM1 and AM2, so that the bus branch line BS serves as an overhead wiring passing over the transistors of the automatic modules AM1 and AM2. Be composed.
[0076]
Further, by arranging the bus B (internal bus) near the center of the semiconductor chip CH, the routing efficiency of the bus branch line BS is improved, and the wiring length can be shortened. Performance can be improved.
[0077]
For example, even when another hard module is added to the configuration of the semiconductor device described in the above embodiment, the hard module is arranged so as to be close to the circulating power supply.
[0078]
FIG. 11 shows a semiconductor device in which an A / D (analog / digital) converter 9 and a D / A converter 10 are newly provided as the hard module HM in the configuration of the semiconductor device 1 (FIG. 1) of the embodiment. FIG. 3 is a chip layout diagram of the device 1a.
[0079]
In this case, the A / D converter 9 and the D / A converter 10 are arranged on the lower right side of the semiconductor chip CH so as to be close to the circulating power supply line SDP, as well as an analog input / output terminal, an operating power supply voltage terminal, And an analog terminal ANP (a terminal indicated by hatching) such as a reference voltage terminal.
[0080]
Thus, noise such as a sneak current can be reduced, and the operation of the semiconductor device 1a can be stabilized.
[0081]
As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment of the invention. However, the invention is not limited to the embodiment, and can be variously modified without departing from the gist of the invention. Needless to say, there is.
[0082]
For example, it goes without saying that the present invention can be applied to a semiconductor device having a hard module and an automatic module.
[0083]
The following is a brief description of a typical configuration of the present invention according to the present embodiment.
[0084]
1. A hard module is arranged at least near a first side of the semiconductor chip and near a second side facing the first side;
An internal bus is arranged near the first side from a third side of the semiconductor chip to a fourth side facing the third side,
A semiconductor device in which an automatic module is arranged at a substantially central portion of the semiconductor chip.
[0085]
2. A hard module is arranged at least near a first side of the semiconductor chip and near a second side facing the first side;
Between the hard modules, near the first side, an internal bus extends from a third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side, and at least one hard module includes at least one hard module. Placed in the vicinity,
An automatic module is arranged between the internal bus and the hard module,
A semiconductor device, wherein a bus branch line connecting the internal bus and the hard module is formed by an overhead wiring passing over the automatic module.
[0086]
3. A first hard module is arranged at least near the first side of the semiconductor chip;
A second hard module is disposed near a second side opposite to the first side;
A linear internal bus between the first hard module and the second hard module and extending from a third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side; It is located near the hard module,
An automatic module is arranged between the internal bus and the second hard module;
A semiconductor device, wherein a bus branch line connecting the internal bus and the second hardware module is formed by an overhead wiring passing over the automatic module.
[0087]
4. A plurality of first modules that cannot be automatically wired on the transistor are arranged at least near a first side of the semiconductor chip and near a second side opposite to the first side;
A linear internal bus extending from a third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side is arranged between the first modules near at least one first module. And
A second module capable of automatic wiring on the transistor is arranged between the first modules, and a bus branch line connecting the internal bus and the first module is formed by an empty wiring passing over the second module. Semiconductor device.
[0088]
In any one of 5.1 to 3, the hard module includes at least a nonvolatile memory, a semiconductor memory, and a processor;
In the nonvolatile memory, a first long side of the nonvolatile memory is arranged near a first side of the semiconductor chip in parallel with the first side of the semiconductor chip;
The semiconductor memory and the processor may be arranged such that a first long side of the semiconductor memory and the processor is near a second side of the semiconductor chip opposite to a first side of the semiconductor chip. Are arranged in parallel with each other.
[0089]
In 6.1 to 5, the internal bus faces a first long side of the nonvolatile memory from a third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side. The semiconductor chip is disposed substantially at the center of the semiconductor chip in parallel with the two long sides.
[0090]
In any one of 7.1 to 3, the hard module is arranged close to a peripheral power supply line formed on an outer periphery of the semiconductor chip.
[0091]
In 8.4, the first module is arranged close to a peripheral power supply line formed on the semiconductor chip.
[0092]
In 9.1 to 8, the bus branch lines of the internal bus are configured using wirings of all metal wiring layers.
[0093]
10. Laying out the hard module at least near a first side of the semiconductor chip and near a second side opposite to the first side;
Laying out the internal bus linearly from the third side to the fourth side of the semiconductor chip between the hard modules;
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: laying out an automatic module and a bus branch line connecting the internal bus and the hard module between the hard modules.
[0094]
11. Laying out the hard module at least near a first side of the semiconductor chip and near a second side opposite to the first side;
Laying out an internal bus in a straight line from a third side to a fourth side of the semiconductor chip at a substantially central portion of the semiconductor chip on which the hard module is laid out;
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: laying out an automatic module near the internal bus and a bus branch line connecting the internal bus and the hard module substantially at a central portion of the semiconductor chip.
[0095]
12. Laying out a hard module on a semiconductor chip;
Laying out an internal bus on the semiconductor chip on which the hard module is laid out;
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: laying out an automatic module and a bus branch line connecting the internal bus and the hard module on a semiconductor chip on which the hard module is laid out.
[0096]
In 13.10 to 12, the hard module comprises at least a nonvolatile memory, a semiconductor memory, and a processor;
Laying out the hard module,
Laying out the nonvolatile memory in the vicinity of a first side of the semiconductor chip, with a first long side of the nonvolatile memory laid out in parallel with the first side of the semiconductor chip;
The semiconductor memory and the processor are laid out near the second side of the semiconductor chip, respectively, so that the first long side of the semiconductor memory and the processor is parallel to the second side of the semiconductor chip. And
Laying out the internal bus,
At a substantially central portion of the semiconductor chip, from the third side to the fourth side of the semiconductor chip, in parallel with a second long side facing the first long side of the nonvolatile memory, Laying out near the long side.
[0097]
14.10-13, before the hard module layout step, a step of laying out a power supply voltage line from the peripheral power supply line to the hard module.
[0098]
The following is a brief description of a representative one of the effects obtained by the embodiment.
[0099]
(1) By laying out the hard module near at least two sides of the semiconductor chip, the layout efficiency of the automatic module can be greatly improved.
[0100]
(2) In addition, by arranging the bus substantially at the center of the semiconductor chip, the routing efficiency of the bus branch lines is improved and the wiring length can be shortened, so that the parasitic capacitance and the like can be reduced.
[0101]
(3) According to the above (1) and (2), miniaturization and improvement of performance of the semiconductor device can be realized.
[0102]
【The invention's effect】
The effects obtained by typical aspects of the invention disclosed by the present application will be briefly described as follows.
[0103]
The layout efficiency of the module can be greatly improved.
[0104]
The semiconductor device can be reduced in size and performance can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a chip layout diagram of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an explanatory diagram of a memory cell structure in a nonvolatile memory provided in the semiconductor device of FIG.
FIG. 3 is a structural explanatory view of a metal wiring layer formed in the semiconductor device of FIG. 1;
FIG. 4 is a flowchart of a layout design in the semiconductor device of FIG. 1;
FIG. 5 is an explanatory diagram of a chip layout process in the semiconductor device of FIG. 1;
FIG. 6 is an explanatory diagram of the chip layout process following FIG. 5;
FIG. 7 is an explanatory diagram of the chip layout process following FIG. 6;
FIG. 8 is an explanatory diagram of a chip layout process following FIG. 7;
FIG. 9 is an explanatory diagram of a chip layout process following FIG. 8;
FIG. 10 is a chip layout diagram showing another example of the semiconductor device according to one embodiment of the present invention;
FIG. 11 is a chip layout diagram of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1,1a Semiconductor device
2 Non-volatile memory
3 Power supply circuit
4 Clock pulse generator
5 SCI
6 RAM (semiconductor memory)
7 CPU (processor)
8 Bus controller
9 A / D converter
10 D / A converter
HM hardware module
AM1, AM2 automatic module
BF I / O buffer
B bus (internal bus)
BS bus branch line
M1 to M3 metal wiring layer
SDP circuit power line
KP power supply wiring
HDD power wiring
HSS power supply wiring
ANP analog terminal

Claims (14)

ハードモジュールが半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、
前記半導体チップの略中央部には、前記半導体チップの第3の辺から、前記第3の辺に対向する第4の辺にかけて内部バスが配置されたことを特徴とする半導体装置。
A hard module is arranged at least near a first side of the semiconductor chip and near a second side facing the first side;
A semiconductor device, wherein an internal bus is arranged at a substantially central portion of the semiconductor chip from a third side of the semiconductor chip to a fourth side opposed to the third side.
ハードモジュールが半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、
前記ハードモジュール間であって、前記第1の辺近傍には、前記半導体チップの第3の辺から、前記第3の辺に対向する第4の辺にかけて内部バスが、少なくとも一つのハードモジュール近傍に配置され、
前記内部バスと前記ハードモジュールとの間に自動モジュールが配置され、
前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線が、前記自動モジュール上を通過する上空配線で構成されたことを特徴とする半導体装置。
A hard module is arranged at least near a first side of the semiconductor chip and near a second side facing the first side;
Between the hard modules, near the first side, an internal bus extends from the third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side, and at least one hard module is located near the first side. Placed in
An automatic module is arranged between the internal bus and the hard module,
A semiconductor device, wherein a bus branch line connecting the internal bus and the hard module is formed by an overhead wiring passing over the automatic module.
第1ハードモジュールが半導体チップの少なくとも第1の辺近傍に配置され、
第2ハードモジュールが前記第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、
前記第1ハードモジュールと第2ハードモジュールとの間であって、前記半導体チップの第3の辺から、前記第3の辺に対向する第4の辺にかけて直線状の内部バスが、前記第1ハードモジュールの近傍に配置され、
内部バスと前記第2ハードモジュールとの間に自動モジュールが配置され、
前記内部バスと前記第2ハードモジュールとを接続するバス支線が、前記自動モジュール上を通過する上空配線で構成されたことを特徴とする半導体装置。
A first hard module is arranged at least near the first side of the semiconductor chip;
A second hard module is disposed near a second side opposite to the first side;
A linear internal bus between the first hard module and the second hard module and extending from a third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side; It is located near the hard module,
An automatic module is arranged between the internal bus and the second hard module;
A semiconductor device, wherein a bus branch line connecting the internal bus and the second hardware module is formed by an overhead wiring passing over the automatic module.
トランジスタ上を自動配線することができない複数の第1モジュールが、半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍に配置され、
前記第1モジュール間に、前記半導体チップの第3の辺から、その第3の辺に対向する第4の辺にかけて延在した直線状の内部バスが、少なくとも一つの第1モジュールの近傍に配置され、
前記第1モジュール間に、トランジスタ上を自動配線することができる第2モジュールが配置され、内部バスと前記第1モジュールとを接続するバス支線が、前記第2モジュール上を通過する上空配線で構成されたことを特徴とする半導体装置。
A plurality of first modules that cannot be automatically wired on the transistor are arranged at least near a first side of the semiconductor chip and near a second side facing the first side;
A linear internal bus extending from a third side of the semiconductor chip to a fourth side opposite to the third side is arranged between the first modules in the vicinity of at least one first module. And
A second module capable of automatically wiring on a transistor is arranged between the first modules, and a bus branch line connecting an internal bus and the first module is formed by an overhead wiring passing over the second module. A semiconductor device characterized by being performed.
請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置において、前記ハードモジュールは、少なくとも不揮発性メモリ、半導体メモリ、およびプロセッサからなり、
前記不揮発性メモリは、前記半導体チップの第1の辺近傍に前記不揮発性メモリの第1の長辺が、前記半導体チップの第1の辺と平行して配置され、
前記半導体メモリ、および前記プロセッサは、前記半導体チップの第1の辺に対向する第2の辺近傍に、前記半導体メモリ、ならびに前記プロセッサの第1の長辺が、前記半導体チップの第2の辺とそれぞれ平行して配置されたことを特徴とする半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the hard module includes at least a nonvolatile memory, a semiconductor memory, and a processor,
In the nonvolatile memory, a first long side of the nonvolatile memory is arranged near a first side of the semiconductor chip in parallel with the first side of the semiconductor chip;
The semiconductor memory and the processor may be arranged such that a first long side of the semiconductor memory and the processor is near a second side of the semiconductor chip opposite to a first side of the semiconductor chip. And a semiconductor device arranged in parallel with each other.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体装置において、前記内部バスは、前記半導体チップの第3の辺から前記第3の辺に対向する第4の辺にかけて、前記不揮発性メモリの第1の長辺に対向する第2の長辺に平行して、前記半導体チップの略中央部に配置されたことを特徴とする半導体装置。6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the internal bus extends from a third side of the semiconductor chip to a fourth side facing the third side. 7. A semiconductor device, wherein the semiconductor device is disposed at a substantially central portion of the semiconductor chip in parallel with a second long side facing the first long side. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置において、前記ハードモジュールは、前記半導体チップの外周に形成された周回電源線に近接して配置されたことを特徴とする半導体装置。4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the hard module is disposed near a peripheral power supply line formed on an outer periphery of the semiconductor chip. 5. 請求項4に記載の半導体装置において、前記第1モジュールは、前記半導体チップに形成された周回電源線に近接して配置されたことを特徴とする半導体装置。5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the first module is arranged near a peripheral power supply line formed on the semiconductor chip. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体装置において、前記内部バスのバス支線が、すべてのメタル配線層の配線を用いて構成されたことを特徴とする半導体装置。9. The semiconductor device according to claim 1, wherein a bus branch line of the internal bus is formed using wiring of all metal wiring layers. 10. ハードモジュールを半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍にレイアウトするステップと、前記ハードモジュール間に、前記半導体チップの第3の辺から第4の辺にかけて直線状に内部バスをレイアウトするステップと、
前記ハードモジュール間に、自動モジュールと、前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線とをレイアウトするステップとを有することを特徴とする半導体装置のレイアウト方法。
Laying out the hard module at least near the first side of the semiconductor chip and near the second side opposite to the first side, and between the hard module and the fourth to fourth sides of the semiconductor chip. Laying out the internal bus linearly across the sides of
Laying out an automatic module and a bus branch line connecting the internal bus and the hardware module between the hardware modules.
ハードモジュールを半導体チップの少なくとも第1の辺近傍、および前記第1の辺に対向する第2の辺近傍にレイアウトするステップと、前記ハードモジュールがレイアウトされた半導体チップの略中央部に、前記半導体チップの第3の辺から第4の辺にかけて直線状に内部バスをレイアウトするステップと、
前記半導体チップの略中央部に、前記内部バスに近接して自動モジュールと、前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線とをレイアウトするステップとを有することを特徴とする半導体装置のレイアウト方法。
Laying out a hard module at least in the vicinity of a first side of the semiconductor chip and in the vicinity of a second side opposite to the first side; Laying out the internal bus linearly from the third side to the fourth side of the chip;
Laying out an automatic module near the internal bus and a bus branch line connecting the internal bus and the hard module substantially at a center of the semiconductor chip. Method.
ハードモジュールを半導体チップにレイアウトするステップと、
前記ハードモジュールがレイアウトされた半導体チップに、内部バスをレイアウトするステップと、
前記ハードモジュールがレイアウトされた半導体チップに、自動モジュールと、前記内部バスと前記ハードモジュールとを接続するバス支線とをレイアウトするステップとを有することを特徴とする半導体装置のレイアウト方法。
Laying out a hard module on a semiconductor chip;
Laying out an internal bus on the semiconductor chip on which the hard module is laid out;
Laying out an automatic module and a bus branch line connecting the internal bus and the hard module on a semiconductor chip on which the hard module is laid out, wherein the layout method of the semiconductor device is characterized in that:
請求項10〜12のいずれか1項に記載の半導体装置のレイアウト方法において、
前記ハードモジュールは、少なくとも不揮発性メモリ、半導体メモリ、およびプロセッサからなり、
前記ハードモジュールをレイアウトするステップが、
前記不揮発性メモリを、前記半導体チップの第1の辺近傍に、前記不揮発性メモリの第1の長辺が前記半導体チップの第1の辺に平行してレイアウトするレイアウトするステップと、
前記半導体メモリ、および前記プロセッサを、前記半導体チップの第2の辺近傍に、前記半導体メモリ、ならびに前記プロセッサの第1の長辺が、前記半導体チップの第2の辺と平行してそれぞれレイアウトするステップとを有し、
前記内部バスをレイアウトするステップが、
前記半導体チップの略中央部に、前記半導体チップの第3の辺から第4の辺にかけて前記不揮発性メモリの第1の長辺に対向する第2の長辺に平行して、前記第2の長辺の近傍にレイアウトするステップとを有することを特徴とする半導体装置のレイアウト方法。
The layout method of a semiconductor device according to claim 10,
The hard module includes at least a nonvolatile memory, a semiconductor memory, and a processor,
Laying out the hard module,
Laying out the nonvolatile memory in the vicinity of a first side of the semiconductor chip, with a first long side of the nonvolatile memory laid out in parallel with the first side of the semiconductor chip;
The semiconductor memory and the processor are laid out near the second side of the semiconductor chip, respectively, so that the first long side of the semiconductor memory and the processor is parallel to the second side of the semiconductor chip. And
Laying out the internal bus,
At a substantially central portion of the semiconductor chip, from the third side to the fourth side of the semiconductor chip, in parallel with a second long side facing the first long side of the nonvolatile memory, Laying out in the vicinity of a long side.
請求項10〜13のいずれか1項に記載の半導体装置のレイアウト方法において、前記ハードモジュールレイアウトステップの前に、周回電源線からハードモジュールへの電源電圧線のレイアウトを行うステップを有することを特徴とする半導体装置のレイアウト方法。14. The semiconductor device layout method according to claim 10, further comprising, before the hard module layout step, a step of laying out a power supply voltage line from a peripheral power supply line to the hard module. Layout method for a semiconductor device.
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