JP2004118973A - Magnetic recording medium and manufacturing method for magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium and manufacturing method for magnetic recording medium Download PDF

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JP2004118973A JP2002283469A JP2002283469A JP2004118973A JP 2004118973 A JP2004118973 A JP 2004118973A JP 2002283469 A JP2002283469 A JP 2002283469A JP 2002283469 A JP2002283469 A JP 2002283469A JP 2004118973 A JP2004118973 A JP 2004118973A
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関野 智之
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve corrosion resistance, travelling property, and durability of a magnetic recording medium having high recording density. <P>SOLUTION: In a magnetic recording medium having at least a magnetic layer 2 consisting of ferromagnetic metal films on a non-magnetic support 1; a protecting layer 3 on the magnetic layer; an underlayer layer between the magnetic layer 2 and the non-magnetic support 1; and a rear side underlayer 5 on a main plane opposite to the magnetic layer forming plane side, the protection layer 3, the underlayer layer 4, and the rear side under layer 5 are formed as at least any of silicon nitride film, silicon oxide film, silicon oxide nitride film, silicon carbide film, and carbon film containing hydrogen by a catalyst chemical vapor phase growth method by applying contact-thermal decomposition to gaseous starting material using a heat catalyst medium, or it is formed as at least any of silicon nitride film, silicon oxide film, silicon oxide nitride film, silicon carbide film, and carbon film containing hydrogen by a plasma CVD method by heating a permanent magnet or an electromagnet part of a cool cathode ion source. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空薄膜形成技術により形成された磁性層を有する磁気記録媒体およびその製造方法に係る。
【0002】
【従来の技術】
従来からオーディオテープ、ビデオテープ等の磁気テープとしては、長尺状の非磁性支持体上に、酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機結合剤中に分散させた磁性塗料を塗布することにより作製される、いわゆる塗布型の磁気記録媒体が広く使用されていた。
【0003】
これに対して、高密度磁気記録への要求の高まりと共に、Co−Ni系合金、Co−Cr系合金、Co−O等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段(真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法等)によってポリエステルフィルムやポリアミド、ポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に直接被着した、いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体が提案され、実用化されている。
【0004】
この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、抗磁力や角形比等に優れ、短波長での電磁変換特性に優れるばかりでなく、磁性層をきわめて薄層に形成できるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さいこと、磁性層中に非磁性材であるバインダー(結合剤)が混入することが無いため、磁性材料の充填密度を高めることが出来ること等、数々の利点を有している。
【0005】
また、この種の磁気記録媒体の電磁変換特性を向上させ、より大きな出力を得ることが出来るようにするために、磁性層を斜めに蒸着するいわゆる斜方蒸着が提案され、民生用ビデオ(8ミリHi−8方式、DV方式)あるいは業務用ビデオ(DVCAM)の磁気記録媒体として実用化されている。
【0006】
上述したような金属薄膜型の磁気記録媒体においては、通常、耐久性や走行性等の改善を目的として、磁性層上に保護層を形成し、最外層に潤滑剤層を形成し、非磁性支持体の磁性層が形成されている側とは反対側の面にバック層を形成する構成が採られている。
【0007】
金属薄膜型の磁気記録媒体においては、高密度化に対応してスペーシングロスの低減化を図るために表面を平滑化する方向にあるが、磁性層表面が平滑になると磁気ヘッドに対する接触面積が大きくなるために、摩擦力が増大し、磁性層に生ずるせん断応力が大きくなる。このような厳しい摺動条件から磁性層を保護するために、保護層を形成することが重要である。
【0008】
また、磁気記録媒体の最外層には、潤滑剤を塗布して潤滑剤層を形成し、磁気ヘッドやガイドロールとの摺動が滑らかにし、耐久性、走行性の向上を図ることが望ましい。
【0009】
また、バック層を形成することにより、非磁性支持体表面の電気抵抗を下げて帯電による走行不良を防止し、非磁性支持体の耐久性を向上させ、使用中の傷つき等の発生を防ぎ、また磁気テープ間の摩擦を小さくする等の効果が得られ、磁気テープの走行性、耐久性を向上が図られる。
【0010】
上記保護層としては、炭素膜や水素含有炭素膜が用いられることが多く、その形成方法としては、スパッタ法、プラズマCVD法が適用されている。
プラズマCVD法においては、磁性層に接しているガイドロールより電流を流し、磁性層(強磁性金属薄膜)を電極として用いて、CVD反応管内のメッシュ状電極との間で電圧を印加し、グロー放電を発生させて、反応管内に導入された炭化水素系の成膜ガスをグロー放電によって分解し、磁性層上に被着させる方法によって保護層を形成している。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところで通常磁気記録媒体用の非磁性支持体(ベースフィルム)としては、ポリエステル系が主に用いられている。
【0012】
しかしながら、上記非磁性支持体として膜厚4〜15μm程度のポリエステル系フィルムを用い、表面に特定のマット面とフィラー面を形成し、極めて薄層の強磁性金属薄膜よりなる磁性層を形成した構成の磁気記録媒体において、上述した従来の方式によるプラズマCVD法によって保護層を形成する場合には、磁性層(強磁性金属薄膜)を電極として用いるため、強磁性金属薄膜の膜厚が薄くなると抵抗値の上昇を伴い、電極としての強磁性金属薄膜とCVD反応管内のメッシュ状電極との間での電圧印加が困難となるという問題があった。特に強磁性金属薄膜の膜厚が100nm以下の薄層とするとこのような問題が顕著になる。
【0013】
さらに、絶縁体である非磁性支持体のポリエステル系フィルム上には、このCVD方式によって炭素膜および水素含有炭素膜を直接形成することは不可能であるため、高密度記録の磁気テープを作製する場合において、走行性や耐食性、耐久性に関して充分な特性の向上が図られないという問題が生じていた。
【0014】
そこで本発明者は、上記の問題点に鑑み、特にMRヘッドを用いたシステムに好適な、膜厚20〜100nmの強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有する高記録密度の磁気記録媒体において、耐食性、走行性、および耐久性の向上を図ることとした。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、磁性層上に保護層、磁性層と非磁性支持体との間に下地層、磁性層形成面側とは反対側の主面に裏面下地層のうちの少なくともいずれかを有してなるものであり、保護層、下地層、裏面下地層は、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法により形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかであるものとする。
【0016】
また、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、磁性層上に保護層、磁性層と非磁性支持体との間に下地層、磁性層形成面側とは反対側の主面に裏面下地層のうちの少なくともいずれかを有してなるものであり、保護層、下地層、裏面下地層は、冷陰極イオンソースの放電側表面を加熱し、プラズマCVD法により形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかであるものとする。
【0017】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、磁性層上に保護層、磁性層と上記非磁性支持体との間に下地層、磁性層形成面側とは反対側の主面に裏面下地層のうちの、少なくともいずれかを有してなる磁気記録媒体の製造方法であって、保護層、下地層、裏面下地層の形成工程においては、非磁性支持体を冷却しながら、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解し、触媒化学気相成長法により、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜の少なくともいずれかを形成するものとする。
【0018】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、磁性層上に保護層、磁性層と非磁性支持体との間に下地層、磁性層形成面側とは反対側の主面に裏面下地層のうちの少なくともいずれかを有する磁気記録媒体の製造方法であって、保護層、下地層、裏面下地層の形成工程においては、冷陰極イオンソースの放電側表面を加熱し、プラズマCVD法により、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜の少なくともいずれかを形成するものとする。
【0019】
本発明によれば、特にMRヘッドを用いたシステムに好適な膜厚20〜100nmの強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有する高記録密度の磁気記録媒体に関し、耐食性、走行性、および耐久性の向上が図られる。
【0020】
【発明の実施の形態】
〔第1の実施の形態〕
本発明の磁気記録媒体の具体的な実施形態について説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
本発明の磁気記録媒体10の一例の概略断面図を図1に示す。
磁気記録媒体10は、長尺状の非磁性支持体1上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層2、および保護層3が順次形成され、磁性層2の形成面側とは反対側の主面にバックコート層6が形成された構成を有している。
【0021】
非磁性支持体(ベースフィルム)1形成用材料としては、ポリエステル系が主に用いられている。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタリンジカルボキシレート、ポリエチレン−p−オキシベンゾエートなどが挙げられる。特にポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)が好適なものとされ、これらのポリエステルはホモポリエステルやコポリエステルも適用することができる。
非磁性支持体1は膜厚4〜15μm程度のものを適用するものとし、磁気記録媒体10の耐久性や走行性、および磁気テープ成膜時のハンドリングを向上させるために、バインダー樹脂、フィラー及び界面活性剤等を含有する塗料により表面に微細な凹凸を付加したり、機械的な強度を高めたりしてもよい。
バインダー樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂等が挙げられ、フィラーとしては、耐熱性ポリマーからなる粒子、二酸化珪素、炭酸カルシウム等の粒子が挙げられる。
【0022】
上述した方法の他、リソグラフィー技術によって非磁性支持体1上に人工的に凹凸を形成したり、メッキや真空薄膜形成技術によって金属、無機化合物または有機高分子によって島状構造を形成したりする方法を用いて表面に微小突起を形成してもよい。
【0023】
磁性層2は、Co、CoNi、これらの酸化物からなる蒸着層、またはCr層上にCoCrTa、CoCrPt、CoCrPtTa、CoPtSiO、CoPtB−Oのスパッタ層を形成したもの、もしくはこれらのスパッタ層をCr層を形成せずに単独で形成したものとする。磁性層の保磁力は、100〜250kA/mであるものとする。
【0024】
次に、磁性層2の形成工程の一例として、図2に示すような連続巻き取り式の真空蒸着装置40を挙げ、真空蒸着によって磁性層を形成する場合について説明する。
この真空蒸着装置40においては、頭部と低部にそれぞれ設けられた排気口41、42から排気されて内部が真空状態となされた真空室43内に、送りロール44と、巻き取りロール45とが設けられ、これら送りロール44から巻き取りロール45に長尺状の非磁性支持体1が順次走行するようになされている。
【0025】
送りロール44から巻き取りロール45側に非磁性支持体1が走行する中途部には、冷却キャン46が設けられている。冷却キャン46は非磁性支持体1を図中下方に引き出すように設けられ定速回転する構成とされる。なお冷却キャン46には、内部に冷却装置(図示せず)が設けられ、非磁性支持体1の温度上昇よる変形等を抑制するようになされている。
また、送りロール44と冷却キャン46との間、および冷却キャン46と巻き取りロール45との間には、それぞれガイドロール47、48が設けられ、送り走行する非磁性支持体1に所定のテンションをかけ、円滑に走行するようになされている。
【0026】
真空室43内には、冷却キャン46の下方にルツボ49が設けられ、このルツボ49内に金属磁性材料50が充填されている。一方、真空室43の側壁部には、ルツボ49内に充填された金属磁性材料50を加熱蒸発させるための電子銃51が取り付けられている。この電子銃51は、放出される電子線Xが上記ルツボ49内の金属磁性材料50に照射されるような位置に配設される。そして、電子銃51によって蒸発した金属磁性材料50が冷却キャン46の周面を走行する非磁性支持体1上に磁性層2として被着形成されるようになっている。
【0027】
また、冷却キャン46とルツボ49との間であって、冷却キャン46の近傍に、シャッタ52が配設されている。このシャッタ52は、冷却キャン46の周面を定速走行する非磁性支持体1の所定領域を覆う形で設けられており、シャッタ52により金属磁性材料50が非磁性支持体1に対して所定の角度範囲で斜めに蒸着されるようになっている。さらに真空室43の側壁部を貫通して設けられている酸素ガス導入口54を介して非磁性支持体1の表面に酸素ガスが供給され、磁気特性、耐久性及び耐候性の向上が図られている。
【0028】
なお本発明の磁気記録媒体は、MRヘッドを有する記録再生装置に適用するものであって、ノイズの低減化を図り、C/Nの向上を図るために、磁性層2は極めて薄層に形成することが望ましく、膜厚20〜100nmに形成するものとした。
【0029】
磁性層2上の保護層3は、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によって形成された窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜の少なくともいずれかよりなるものとする。以下保護層3の形成方法について図を示して具体的に説明する。
【0030】
図3に保護層3を形成する触媒化学気相成長装置60の概略構成図を示す。
この触媒化学気相成長装置60は、側面部に設けられた真空排気系61によって内部が高真空状態となされた真空室62内に、定速度で回転する送りロール63と巻き取りロール64とが設けられ、これら送りロール63から巻き取りロール64に、上述したように非磁性支持体1に磁性層2が形成された被処理体65が順次走行するようになされている。
【0031】
これら送りロール63から巻き取りロール64に被処理体65が走行する途中部には、冷却キャン66が設けられている。この冷却キャン66は、被処理体65を図中下方に引き出すように設けられ、図中の矢印A方向に定速度で回転する構成となされている。また、冷却キャン66には、内部に冷却機構(図示せず)が設けられ、被処理体65の温度上昇による変形等を抑制している。
従って被処理体65は、送りロール63から順次送り出され、冷却キャン66の周面を通過し、巻き取りロール64に巻き取られるようになされている。なお、送りロール63と冷却キャン66との間、および冷却キャン66と巻き取りロールとの間には、それぞれガイドロール67、68が設けられ、被処理体65に所定のテンションをかけ円滑に走行するようになされている。
【0032】
真空室62内には、ステンレスよりなるフード69が設けられ、フード69の内部には、触媒体となるモリブデン、タンタル、タングステン等の高融点金属よりなるワイヤーが張られたカタライザ70が設けられている。カタライザ70のワイヤーの両端は、絶縁された構造を有している導入端子を介して、真空室62の外部に設けられた交流電源71に接続されている。
【0033】
カタライザ70は、交流電源71により電流供給を受け、1500℃以上に発熱する。カタライザ70の下方には原料ガスを導入するためのシャワーヘッド72が設けられている。シャワーヘッド72は中空のステンレスよりなる箱状の構造を有しており、上面部には径1mmの穴を多数開けられており、シャワーヘッド72の下面側にはガス導入パイプ73が連結されている。
ガス導入パイプ73はフード69の底部および真空室62の底壁部を貫通して設けられ、原料ガスが供給できるようになされている。
【0034】
また、フードの側部69と真空室62の側壁部を貫通して、斜め下方に石英ガラスが設置されたビューポート74が設けられ、フード69の内部のカタライザ70の温度を赤外線温度計75によりモニタできる構造となっている。
【0035】
図3に示す触媒化学気相成長装置60においては、先ず真空室62内部を高真空状態としておき、続いてガス導入パイプ73から所定の原料ガスをシャワーヘッド72を介して、交流電源71により電流供給を受けて1500℃以上に発熱したカタライザ70に向かって供出させる。これにより原料ガスを接触熱分解し、原料ガスに応じて、窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜、水素含有炭素膜等を被処 理体65に形成する。
なお、本発明の磁気記録媒体においては、保護層3の膜厚を4nm〜25nmとして形成した。
【0036】
上述のようにして形成した保護層3上には、走行性を良好ならしめるために、例えば任意のパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を塗布して潤滑剤層(図示せず)を形成してもよい。
【0037】
また、磁性層2形成面側とは反対側には、走行性の向上や帯電防止等を目的として、膜厚0.2〜0.7μm程度のバックコート層6を形成する。
バックコート層6は、例えば無機顔料等の固体粒子を結合剤中に分散させ、結合剤の種類に応じた有機溶剤とともに混練してバックコート層用塗料を調整し、これを非磁性支持体1の裏面側に塗布して形成される。
【0038】
上述したように、保護層3を、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して、触媒化学気相成長法により、窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成したことにより、磁性層2を極めて薄層に形成した場合においても、充分に耐食性、走行性、および耐久性の向上が図られ、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いた磁気記録システム用の磁気記録媒体として好適なものとすることができる。
ここでMRヘッドとは、磁気記録媒体からの信号を磁気抵抗効果を利用して検出する再生専用の磁気ヘッドである。一般にMRヘッドは電磁誘導を利用して記録再生を行うインダクティブ型磁気ヘッドよりも感度が高く再生出力が大きいので、高密度記録の磁気記録媒体に好適である。
【0039】
〔第2の実施の形態〕
次に本発明の磁気記録媒体の他の一例について、図を参照して説明する。
図4に示す磁気記録媒体20においては、非磁性支持体1の一主面に、下地層4、および強磁性金属薄膜よりなる磁性層2が順次形成され、磁性層形成面側とは反対側にバックコート層6が形成された構成を有している。
非磁性支持体1は図1に示した磁気記録媒体10の非磁性支持体と同様のものを適用し、磁性層2についても図2に示した真空蒸着装置40を用いた蒸着法やスパッタ法により、上記第1の実施の形態と同様の構成とする。バックコート層6についても上記図1の磁気記録媒体の場合と同様の方法によって形成することができる。
【0040】
また下地層4は、上記図1に示した磁気記録媒体10を構成する保護層3と同様の方法で形成する。すなわち下地層4は図3に示した触媒化学気相成長装置60を適用して、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によって形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜の少なくともいずれかよりなるものとする。なお、下地層4は膜厚4〜100nmに形成する。
【0041】
上述したように、磁性層2と非磁性支持体1との間の下地層4を、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して、触媒化学気相成長法により、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成したことにより、磁性層2を極めて薄層に形成した場合においても、充分に耐食性、走行性、および耐久性の向上が図られ、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いた磁気記録システム用の磁気記録媒体として好適なものとすることができる。
【0042】
〔第3の実施の形態〕
次に、本発明の磁気記録媒体の他の一例について、図を参照して説明する。
図5の磁気記録媒体30においては、非磁性支持体1上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層2を有し、非磁性支持体1の磁性層2形成面側とは反対側の主面に裏面下地層5が形成された構成を有している。
非磁性支持体1は図1に示した磁気記録媒体10の非磁性支持体と同様のものを適用でき、磁性層2についても図2に示した真空蒸着装置40を用いた蒸着法やスパッタ法により、上記第1の実施の形態と同様の構成に形成することができる。バックコート層6についても上記図1の磁気記録媒体の場合と同様の方法によって形成することができる。
【0043】
また裏面下地層5は、上記図1に示した磁気記録媒体10を構成する保護層3と同様の方法によって形成する。すなわち裏面下地層5は図3に示した触媒化学気相成長装置60を適用して加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によって形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜の少なくともいずれかよりなるものとする。なお、裏面下地層5は膜厚4〜100nmに形成する。
【0044】
上述したように、非磁性支持体1とバックコート層6との間の裏面下地層5を、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して、触媒化学気相成長法により、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成したことにより、磁性層2を極めて薄層に形成した場合においても、充分に耐食性、走行性、および耐久性の向上が図られ、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いた磁気記録システム用の磁気記録媒体として好適なものとすることができる。
【0045】
なお、図4および図5に示した磁気記録媒体20および30の磁性層2上には、良好な走行耐久性および耐食性を確保するためにダイヤモンドライクカーボン層を形成することが望ましい。
ダイヤモンドライクカーボン層は、例えばプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)連続膜形成装置を用いて、CVD法によって形成することができる。CVD方式としては、メッシュ電極DCプラズマ方式、電子ビーム励起プラズマソース方式、冷陰極イオンソース方式、イオン化蒸着方式、触媒CVD方式等の従来公知の方式をいずれも使用することができる。
CVD方式に使用する炭素化合物としては、炭化水素系、ケトン系、アルコール系等の従来公知の材料をいずれも使用することができる。また、プラズマ生成時には、炭素化合物の分化を促進するためのガスとして、Ar、H等が導入されていてもよい。
【0046】
また上記第1〜第3の実施の形態に示した磁気記録媒体10、20、30においては、走行性を良好ならしめるために、例えば任意のパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を最表面に塗布して潤滑剤層を形成した構成としてもよい。
【0047】
〔第4の実施の形態〕
次に、本発明の磁気記録媒体の他の一例について説明する。
この例における磁気記録媒体は、上述した第1の実施の形態における磁気記録媒体と同様の構成を有するものとする。すなわち、長尺状の非磁性支持体1上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層2および保護層3が順次形成され、磁性層2の形成面側とは反対側の主面にバックコート層6が形成された構成を有している。
【0048】
非磁性支持体1は上述した例と同様のものを適用でき、磁性層2についても図2に示した真空蒸着装置40を用いた蒸着法や、スパッタ法により、上記第1の実施の形態と同様の構成とすることができ、バックコート層6についても上記図1の磁気記録媒体の場合と同様の方法によって形成することができる。
【0049】
この例において保護層3は、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって、窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜の少なくともいずれかに形成されたものとする。以下保護層3の形成方法について図を示して具体的に説明する。
【0050】
図6に、冷陰極イオンソースを用いたCVD装置80の概略構成図を示す。
このCVD装置80は、側面部に設けられた真空排気系81によって内部が高真空状態となされた真空室82内に、定速度で回転する送りロール83と巻き取りロール84とが設けられ、これら送りロール83から巻き取りロール84に、上述したように非磁性支持体1に磁性層2が形成された被処理体85が順次走行するようになされている。
【0051】
これら送りロール83から巻き取りロール84に被処理体85が走行する途中部には冷却キャン86が設けられている。この冷却キャン86は、被処理体85を図中下方に引き出すように設けられ、図中の矢印B方向に定速度で回転する構成となされている。また、冷却キャン86には内部に冷却機構(図示せず)が設けられており、被処理体85の温度上昇による変形等を抑制している。
従って被処理体85は、送りロール83から順次送り出され、冷却キャン86の周面を通過し、巻き取りロール84に巻き取られるようになされている。なお、送りロール83と冷却キャン86との間、および冷却キャン86と巻き取りロール84との間には、それぞれガイドロール87、88が設けられ、被処理体85に所定のテンションをかけ円滑に走行するようになされている。
【0052】
真空室82内には、ステンレスよりなるフード89が設けられ、フード89の内部には冷陰極イオンソース90が設けられている。冷陰極イオンソース90の内部にはアノード91と磁石92とが設けられている。この磁石92には永久磁石、電磁石のいずれであってもよい。真空室82の外部には直流電源93が設けられており、アノード91は絶縁された構造を有した導入端子を介して直流電源93に接続されている。
【0053】
冷陰極イオンソース90には、底部を貫通する原料ガス導入孔94から原料ガス導入パイプ95が連結されている。
原料ガス導入パイプ95はフード89の底部および真空室82の底壁部を貫通して設けられ、原料ガスが供給できるようになされている。
【0054】
図6に示す冷陰極イオンソースによるCVD装置80においては、先ず真空室82内部を高真空状態としておき、続いてガス導入パイプ95から所定の原料ガスを冷陰極イオンソース90内に供給する。
続いてカソードとなる冷却キャン86とアノード91とを用いて所定の電圧を印加し、これらの間に放電を生じさせる。そして冷陰極イオンソース90内に導入された原料ガスは、この放電によって分解し、冷却キャン86の周面を走行する被処理体85に所定の層が形成される。この保護層3は膜厚4nm〜25nmに形成する。
【0055】
上述のように冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって形成した保護層3上には、走行性を良好ならしめるために、例えば任意のパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を塗布して潤滑剤層(図示せず)を形成してもよい。
【0056】
また、磁性層2形成面側とは反対側には、走行性の向上や帯電防止等を目的としてバックコート層6を形成する。
バックコート層6は膜厚0.2〜0.7μm程度であることが好適である。バックコート層6は、例えば無機顔料等の固体粒子を結合剤中に分散させ、結合剤の種類に応じた有機溶剤とともに混練してバックコート層用塗料を調整し、これを非磁性支持体1の裏面側に塗布して形成される。
【0057】
上述のようにして作製される磁気記録媒体は、保護層3を、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって、窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜の少なくともいずれかに形成したことにより、磁性層2を極めて薄層に形成した場合においても、充分に耐食性、走行性、および耐久性の向上が図られ、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いた磁気記録システム用の磁気記録媒体として好適なものとすることができる。
【0058】
〔第5の実施の形態〕
次に本発明の磁気記録媒体の他の一例について、図を参照して説明する。
この例における磁気記録媒体は、上記第2の実施の形態において、図4に示して説明した磁気記録媒体と同様の構成を有するものとする。すなわち、非磁性支持体1の一主面に、下地層4および強磁性金属薄膜よりなる磁性層2が順次形成され、磁性層形成面側とは反対側にバックコート層6が形成された構成を有しているものとする。
非磁性支持体1は図1に示した磁気記録媒体10の非磁性支持体と同様のものを適用でき、磁性層2についても図2に示した真空蒸着装置40を用いた蒸着法やスパッタ法により、上述した第1の実施の形態と同様の構成とすることができ、バックコート層6についても上述した磁気記録媒体の場合と同様の方法によって形成することができる。
【0059】
また下地層4は、上記第4の実施の形態において説明した磁気記録媒体を構成する保護層3と同様の方法で形成することができる。すなわち図6に示した保護層形成用のCVD装置80を適用し、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成する。なお下地層4の膜厚は4〜100nmとする。
【0060】
上述のように下地層4を、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成したことにより、磁性層2を極めて薄層に形成した場合においても、充分に耐食性、走行性、および耐久性の向上が図られ、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いた磁気記録システム用の磁気記録媒体として好適なものとすることができる。
【0061】
〔第6の実施の形態〕
次に、本発明の磁気記録媒体の他の一例について、図を参照して説明する。
この例における磁気記録媒体は、上記第3の実施の形態において図5に示して説明した磁気記録媒体30と同様の構成を有するものとする。
すなわち非磁性支持体1上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層2を有し、非磁性支持体1の磁性層2形成面側とは反対側の主面に裏面下地層5が形成された構成を有している。
非磁性支持体1は図1に示した磁気記録媒体10の非磁性支持体と同様のものを適用でき、磁性層2についても図2に示した真空蒸着装置40を用いた蒸着法やスパッタ法により、上述した第1の実施の形態と同様の構成とすることができ、バックコート層6についても上述した磁気記録媒体の場合と同様の方法によって形成することができる。
【0062】
また裏面下地層5は、上記第4の実施の形態において説明した磁気記録媒体を構成する保護層3と同様の方法により形成することができる。すなわち図6に示した保護層形成用のCVD装置80を適用して、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成する。なお、裏面下地層4は膜厚4〜100nmに形成する。
【0063】
上述したように、非磁性支持体1とバックコート層6との間の裏面下地層5を、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成したことにより、磁性層2を極めて薄層に形成した場合においても、充分に耐食性、走行性、および耐久性の向上が図られ、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いた磁気記録システム用の磁気記録媒体として好適なものとすることができる。
【0064】
なお、図4および図5に示した磁気記録媒体20および30の磁性層2上には、良好な走行耐久性および耐食性を確保するためにダイヤモンドライクカーボン層を形成することが望ましい。
【0065】
また上記第4〜第6の実施の形態に示した磁気記録媒体においては、走行性を良好ならしめるために、例えば任意のパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を最表面に塗布して潤滑剤層を形成した構成とすることが望ましい。
【0066】
【実施例】
以下、本発明の磁気記録媒体の具体的な実施例について実験結果に基いて説明する。
磁気記録媒体の概略断面図を図7に示す。なお図7においては、保護層3、下地層4、裏面下地層5のいずれも記したが、以下の実施例においては、これらのうちの任意の層を形成した構成の磁気記録媒体を挙げて説明する。
【0067】
〔実施例A1〕
先ず、非磁性支持体1として、膜厚6μmmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意した。この非磁性支持体1の磁性層形成面側に、膜厚20nmのSiNよりなる下地層4、膜厚20nmのCo−CoOよりなる磁性層2、および膜厚10nmのダイヤモンドライクカーボン膜よりなる保護層3を順次形成し、磁性層形成面側とは反対側の主面に、膜厚20nmのSiNよりなる裏面下地層5を形成した。
【0068】
〔実施例A2〕〜〔実施例A41〕、〔比較例A1〕〜〔比較例A17〕
磁性層2、保護層3、下地層4、および裏面下地層5の構成と膜厚を変え、その他の条件は上記実施例A1と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0069】
なお、実施例A1〜実施例A41、比較例A1〜比較例A17においては、保護層3、下地層4、および裏面下地層5を、それぞれ加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によってダイヤモンドライクカーボン膜、SiO膜、SiN膜、SiC膜、SiON膜のうちのいずれかに形成した。これらの成膜条件を下記〔表1〕に示す。また実施例A1〜実施例A41、比較例A1〜比較例A17の磁気記録媒体の構成を下記〔表2〕〜〔表7〕に示す。
【0070】
【表1】

Figure 2004118973
【0071】
【表2】
Figure 2004118973
【0072】
【表3】
Figure 2004118973
【0073】
【表4】
Figure 2004118973
【0074】
【表5】
Figure 2004118973
【0075】
【表6】
Figure 2004118973
【0076】
【表7】
Figure 2004118973
【0077】
上記実施例A1〜実施例A41、比較例A1〜比較例A17の磁気テープについて、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の測定を行った。
ここで、スチル耐久性、およびシャトル耐久性の測定には、デッキに市販のソニー製デジタルビデオ(VX−1000)を改造し、MRヘッドを搭載したものを用いた。
【0078】
スチル耐久性の測定においては、0℃0%RHの環境下でデジタルビデオカセットに10分長の磁気テープを組み込み1分間記録した後、巻き戻しを行い30秒再生した時点で一時停止を行い出力をモニタリングし、一時停止した初期の出力に対し、出力が半分(−6dB)となるまでの時間を測定した。
スチル耐久性の評価については、◎が60分以上、○が30分以上60分未満、△が15分以上30分未満、×が15分未満とした。
【0079】
シャトル耐久性の測定においては、40℃80%RHの環境下で、デジタルビデオカセットに60分長の磁気テープを組み込み、1分間記録した後巻き戻しを行い1分間再生し、その時の出力を初期出力とした。その後、1回だけ全長記録を行い、繰り返し再生を行い、出力をモニタリングしながら走行させ、上記の初期出力に対し、出力が半分(−6dB)となるまでの走行繰り返し回数(パス回数)を測定した。
シャトル耐久性の評価については、◎が100パス以上、○が80パス以上100パス未満、△が50パス以上80パス未満、×が50パス未満とした。
【0080】
SOガス雰囲気中における錆発生については、磁気テープをSOガス1ppm、50℃80%RHの環境下で10時間保存し、その保存前後での磁化量の劣化率を評価した。
磁化劣化率は、〔(保存前の磁化量−保存後の磁化量)/保存前の磁化量〕×100により求めるものとした。
SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)の評価については、◎が5%以下、○が5%よりも大きく10%以下、△が10%よりも大きく15%以下、×が15%よりも大きい、とした。
【0081】
高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)については、磁気テープを65℃90%RH中に6日間保存し、その保存前後における磁化量の劣化率を評価した。
磁化劣化率は、〔(保存前の磁化量−保存後の磁化量)/保存前の磁化量〕×100により求めるものとした。
高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価については、◎が5%以下、○が5%よりも大きく10%以下、△が10%よりも大きく15%以下、×が15%よりも大きい、とした。
【0082】
下記〔表8〕に、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)のそれぞれの評価のランク分けを示す。
【0083】
【表8】
Figure 2004118973
【0084】
上記実施例A1〜実施例A41、比較例A1〜比較例A17の磁気テープの評価結果を下記〔表9〕〜〔表14〕に示す。
【0085】
【表9】
Figure 2004118973
【0086】
【表10】
Figure 2004118973
【0087】
【表11】
Figure 2004118973
【0088】
【表12】
Figure 2004118973
【0089】
【表13】
Figure 2004118973
【0090】
【表14】
Figure 2004118973
【0091】
上記表9〜表11に示すように、保護層3、下地層4、裏面下地層5の少なくともいずれかが、ダイヤモンドライクカーボン膜、SiO膜、SiN膜、SiC膜、SiON膜として形成されてなり、磁性層2の膜厚を20〜100nm、保護層3の膜厚を4〜25nm、下地層4の膜厚を4〜100nm、裏面下地層5の膜厚を4〜100nmとした実施例A1〜実施例A41の磁気テープについては、いずれもスチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)のそれぞれの評価が○以上で、実用上極めて良好な結果が得られた。
【0092】
一方、表12に示すように、比較例A1の磁気テープは磁性層2の膜厚が20nm未満と薄くしたことにより、特にシャトル耐久性と高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0093】
表12に示すように、比較例A2〜比較例A4の磁気テープは、保護層3の膜厚が4nm未満と薄すぎ、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)のすべての評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0094】
表12に示すように、比較例A5〜比較例A7の磁気テープは、保護層3が25nmよりも厚く形成したものであるが、これらはスチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)の評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0095】
表13に示すように、比較例A8〜比較例A12の磁気テープは、下地層4を4nmよりも薄く形成したものであるが、これらはSOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、および高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0096】
表14に示すように、比較例A13〜比較例A17の磁気テープは、裏面下地層5を4nmよりも薄く形成したものであるが、これらは、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、および高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0097】
上述したように、保護層3、下地層4および裏面下地層5の少なくともいずれかを、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によってダイヤモンドライクカーボン膜、SiO膜、SiN膜、SiC膜、SiON膜のうちのいずれかに形成し、磁性層2の膜厚を20〜100nm、保護層3の膜厚を4〜25nm、下地層4の膜厚を4〜100nm、裏面下地層5の膜厚を4〜100nmとすることによって、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)のいずれの評価についても良好な結果が得られた。
【0098】
次に、保護層3、下地層4および裏面下地層5を、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって形成した磁気記録媒体の具体例について説明する。
【0099】
〔実施例B1〕
先ず、非磁性支持体1として、膜厚6μmmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意した。この非磁性支持体1の磁性層形成面側に、膜厚20nmのSiNよりなる下地層4、膜厚20nmのCo−CoOよりなる磁性層2、および膜厚10nmのダイヤモンドライクカーボン膜よりなる保護層3を順次形成し、磁性層形成面側とは反対側の主面に、膜厚20nmのSiNよりなる裏面下地層5を形成した。
【0100】
〔実施例B2〕〜〔実施例B41〕、〔比較例B1〕〜〔比較例B17〕
磁性層2、保護層3、下地層4、および裏面下地層5の構成と膜厚を変え、その他の条件は上記実施例B1と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0101】
保護層3、下地層3、および裏面下地層5の、冷陰極イオンソースを用いたCVD法における成膜条件を下記〔表15〕に示す。
また実施例B1〜実施例B41、比較例B1〜比較例B17の磁気記録媒体の構成を下記〔表16〕〜〔表21〕に示す。
【0102】
【表15】
Figure 2004118973
【0103】
【表16】
Figure 2004118973
【0104】
【表17】
Figure 2004118973
【0105】
【表18】
Figure 2004118973
【0106】
【表19】
Figure 2004118973
【0107】
【表20】
Figure 2004118973
【0108】
【表21】
Figure 2004118973
【0109】
上記実施例B1〜実施例B41、比較例B1〜比較例B17の磁気テープについて、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の測定を行った。
ここで、スチル耐久性、およびシャトル耐久性の測定には、デッキに市販のソニー製デジタルビデオ(VX−1000)を改造し、MRヘッドを搭載したものを用いた。
【0110】
スチル耐久性の測定においては、0℃0%RHの環境下でデジタルビデオカセットに10分長の磁気テープを組み込み1分間記録した後、巻き戻しを行い30秒再生した時点で一時停止を行い出力をモニタリングし、一時停止した初期の出力に対し、出力が半分(−6dB)となるまでの時間を測定した。
スチル耐久性の評価については、◎が60分以上、○が30分以上60分未満、△が15分以上30分未満、×が15分未満とした。
【0111】
シャトル耐久性の測定においては、40℃80%RHの環境下で、デジタルビデオカセットに60分長の磁気テープを組み込み、1分間記録した後巻き戻しを行い1分間再生し、その時の出力を初期出力とした。その後、1回だけ全長記録を行い、繰り返し再生を行い、出力をモニタリングしながら走行させ、上記の初期出力に対し、出力が半分(−6dB)となるまでの走行繰り返し回数(パス回数)を測定した。
シャトル耐久性の評価については、◎が100パス以上、○が80パス以上100パス未満、△が50パス以上80パス未満、×が50パス未満とした。
【0112】
SOガス雰囲気中における錆発生については、磁気テープをSOガス1ppm、50℃80%RHの環境下で10時間保存し、その保存前後での磁化量の劣化率を評価した。
磁化劣化率は、〔(保存前の磁化量−保存後の磁化量)/保存前の磁化量〕×100により求めるものとした。
SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)の評価については、◎が5%以下、○が5%よりも大きく10%以下、△が10%よりも大きく15%以下、×が15%よりも大きい、とした。
【0113】
高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)については、磁気テープを65℃90%RH中に6日間保存し、その保存前後における磁化量の劣化率を評価した。
磁化劣化率は、〔(保存前の磁化量−保存後の磁化量)/保存前の磁化量〕×100により求めるものとした。
高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価については、◎が5%以下、○が5%よりも大きく10%以下、△が10%よりも大きく15%以下、×が15%よりも大きい、とした。
【0114】
下記〔表22〕に、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)のそれぞれの評価のランク分けを示す。
【0115】
【表22】
Figure 2004118973
【0116】
上記実施例B1〜実施例B41、比較例B1〜比較例B17の磁気テープの評価結果を下記〔表23〕〜〔表28〕に示す。
【0117】
【表23】
Figure 2004118973
【0118】
【表24】
Figure 2004118973
【0119】
【表25】
Figure 2004118973
【0120】
【表26】
Figure 2004118973
【0121】
【表27】
Figure 2004118973
【0122】
【表28】
Figure 2004118973
【0123】
上記表23〜表25に示すように、保護層3、下地層4、裏面下地層5の少なくともいずれかが、ダイヤモンドライクカーボン膜(炭素膜および水素含有炭素膜)、SiO膜、SiN膜、SiC膜、SiON膜として形成されてなり、磁性層2の膜厚を20〜100nm、保護層3の膜厚を4〜25nm、下地層4の膜厚を4〜100nm、裏面下地層5の膜厚を4〜100nmとした実施例B1〜実施例B41の磁気テープについては、いずれもスチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)のそれぞれの評価が○以上で、実用上極めて良好な結果が得られた。
【0124】
一方、表26に示すように、比較例B1の磁気テープは、磁性層2の膜厚が20nm未満と薄くしたことにより、特にシャトル耐久性と高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0125】
表26に示すように、比較例B2〜比較例B4の磁気テープは、保護層3の膜厚が4nm未満と薄すぎ、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)のすべての評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0126】
表26に示すように、比較例B5〜比較例B7の磁気テープは、保護層3を25nmよりも厚く形成したものであるが、これらはスチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)の評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0127】
表27に示すように、比較例B8〜比較例B12の磁気テープは、下地層4を4nmよりも薄く形成したものであるが、これらはSOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、および高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0128】
表28に示すように、比較例B13〜比較例B17の磁気テープは、裏面下地層5を4nmよりも薄く形成したものであるが、これらは、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、および高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価が劣り、実用上望ましい特性が得られなかった。
【0129】
上述したように、保護層3、下地層4および裏面下地層5の少なくともいずれかを、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法により、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、ダイヤモンドライクカーボン膜(炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜)のいずれかに形成し、磁性層2の膜厚を20〜100nm、保護層3の膜厚を4〜25nm、下地層4の膜厚を4〜100nm、裏面下地層5の膜厚を4〜100nmとしたことによって、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)について、実用上良好な評価が得られた。
【0130】
次に、比較例として、下地層4および裏面下地層5を形成せず、保護層3をCVD法によってダイヤモンドライクカーボン膜として形成した磁気記録媒体の具体例について説明する。
【0131】
〔比較例C1〕
先ず、非磁性支持体1として、膜厚6μmmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意した。この非磁性支持体1の一主面に、膜厚20nmのCo−CoOよりなる磁性層2、および膜厚10nmのダイヤモンドライクカーボン膜よりなる保護層3を順次形成した。
【0132】
〔比較例C2〕、〔比較例C3〕
磁性層2の膜厚を変え、その他の条件は上記比較例C1と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0133】
保護層3のCVD法における成膜条件を下記〔表29〕に示す。
また、比較例C1〜比較例C3の磁気記録媒体の構成を下記〔表30〕に示す。
【0134】
【表29】
Figure 2004118973
【0135】
【表30】
Figure 2004118973
【0136】
上記比較例C1〜比較例C3の磁気テープについて、スチル耐久性、繰り返し走行耐久性(シャトル耐久性)、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の測定を行った。
スチル耐久性、およびシャトル耐久性の測定には、デッキに市販のソニー製デジタルビデオ(VX−1000)を改造し、MRヘッドを搭載したものを用いた。
測定方法および評価基準については、上述した各実施例と同様とした。
【0137】
上記比較例C1〜比較例C3の磁気テープの評価結果を下記〔表31〕に示す。
【0138】
【表31】
Figure 2004118973
【0139】
表31に示すように、比較例C1〜比較例C3の磁気テープは、下地層4および裏面下地層5を形成しない構成としたことにより、特にスチル耐久性、SOガス雰囲気中における錆発生(磁化劣化率)、高温高湿環境下における錆発生(磁化劣化率)の評価について、実用上良好な評価が得られなかった。
【0140】
【発明の効果】
本発明によれば、保護層、下地層、あるいは裏面下地層の少なくともいずれかを、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して、触媒化学気相成長法により、窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成したことにより、磁性層を極めて薄層に形成した場合においても、充分に耐食性、走行性および耐久性の向上が図られ、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いた磁気記録システム用として好適な磁気記録媒体が得られた。
【0141】
また、本発明によれば、保護層、下地層、あるいは裏面下地層の少なくともいずれかを、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかに形成したことにより、磁性層を極めて薄層に形成した場合においても、充分に耐食性、走行性、および耐久性の向上が図られ、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いた磁気記録システム用として好適な磁気記録媒体が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気記録媒体の一例の概略構成図を示す。
【図2】磁性層を形成する真空蒸着装置の概略構成図を示す。
【図3】本発明の磁気記録媒体を構成する保護層、下地層、裏面下地層を形成する触媒化学気相成長装置の概略構成図を示す。
【図4】本発明の磁気記録媒体の他の一例の概略構成図を示す。
【図5】本発明の磁気記録媒体の他の一例の概略構成図を示す。
【図6】本発明の磁気記録媒体を構成する保護層、下地層、裏面下地層を形成する冷陰極イオンソースによるCVD装置の概略構成図を示す。
【図7】本発明の磁気記録媒体の一例の概略構成図を示す。
【符号の説明】
1……非磁性支持体、2……磁性層、3……保護層、4……下地層、5……裏面下地層、6……バックコート層、7……潤滑剤層、10,20,30……磁気記録媒体、40……真空蒸着装置、41,42……排気口、43……真空室、44……送りロール、45……巻き取りロール、46……冷却キャン、47,48……ガイドロール、49……ルツボ、50……金属磁性材料、51……電子銃、52……シャッタ、54……酸素ガス導入管、60……触媒化学気相成長装置、61……真空排気系、62……真空室、63……送りロール、64……巻き取りロール、65……被処理体、66……冷却キャン、67,68……ガイドロール、69……フード、70……カタライザ、71……交流電源、72……原料供給シャワーヘッド、73……ガス導入パイプ、74……ビューポート、75……赤外線温度計、80……冷陰極イオンソースによるCVD装置、81……真空排気系、82……真空室、83……送りロール、84……巻き取りロール、85……被処理体、86……冷却キャン、87,88……ガイドロール、89……フード、90……冷陰極イオンソース、91……アノード、92……磁石、93……直流電源、94……原料ガス導入口、95……原料ガス導入パイプ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a magnetic recording medium having a magnetic layer formed by a vacuum thin film forming technique and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a magnetic tape such as an audio tape or a video tape, a powdery magnetic material such as an oxide magnetic powder or an alloy magnetic powder is coated on a long non-magnetic support by using a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyester. So-called coating-type magnetic recording media, which are produced by applying a magnetic paint dispersed in an organic binder such as a resin, a urethane resin, or a polyurethane resin, have been widely used.
[0003]
On the other hand, with the increasing demand for high-density magnetic recording, metal magnetic materials such as Co-Ni-based alloys, Co-Cr-based alloys, and Co-O have been used for plating and vacuum thin film forming means (vacuum evaporation and sputtering). A so-called metal thin-film type magnetic recording medium which is directly adhered to a non-magnetic support such as a polyester film, a polyamide, a polyimide film or the like by a conventional method or an ion plating method has been proposed and put into practical use.
[0004]
This metal magnetic thin film type magnetic recording medium not only has excellent coercive force and squareness ratio, and has excellent electromagnetic conversion characteristics at short wavelengths. Has a number of advantages, such as that the thickness loss of the magnetic material is extremely small, and that the binder (binder), which is a nonmagnetic material, is not mixed into the magnetic layer, so that the packing density of the magnetic material can be increased. I have.
[0005]
Also, in order to improve the electromagnetic conversion characteristics of this type of magnetic recording medium and to obtain a larger output, so-called oblique deposition in which a magnetic layer is deposited obliquely has been proposed. It has been put to practical use as a magnetic recording medium for milli-Hi-8 format, DV format) or professional video (DVCAM).
[0006]
In the metal thin film type magnetic recording medium as described above, a protective layer is usually formed on a magnetic layer, a lubricant layer is formed on an outermost layer, and a non-magnetic The back layer is formed on the surface of the support opposite to the side on which the magnetic layer is formed.
[0007]
In the case of a metal thin film type magnetic recording medium, the surface tends to be smoothed in order to reduce the spacing loss in response to the increase in density, but when the magnetic layer surface becomes smooth, the contact area with the magnetic head is reduced. As the size increases, the frictional force increases, and the shear stress generated in the magnetic layer increases. To protect the magnetic layer from such severe sliding conditions, it is important to form a protective layer.
[0008]
Further, it is desirable that a lubricant is applied to the outermost layer of the magnetic recording medium to form a lubricant layer so that sliding with a magnetic head and a guide roll is smooth, and durability and running performance are improved.
[0009]
In addition, by forming a back layer, the electric resistance of the surface of the non-magnetic support is lowered to prevent running failure due to charging, the durability of the non-magnetic support is improved, and the occurrence of scratches during use is prevented, Further, effects such as reduction of friction between the magnetic tapes can be obtained, and the running property and durability of the magnetic tape can be improved.
[0010]
In many cases, a carbon film or a hydrogen-containing carbon film is used as the protective layer, and a sputtering method or a plasma CVD method is applied as a forming method thereof.
In the plasma CVD method, a current is caused to flow from a guide roll in contact with a magnetic layer, and a voltage is applied between the magnetic layer (ferromagnetic metal thin film) as an electrode and a mesh-shaped electrode in a CVD reaction tube. A protective layer is formed by a method in which a discharge is generated to decompose the hydrocarbon-based film-forming gas introduced into the reaction tube by glow discharge and deposit the gas on the magnetic layer.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, polyester is mainly used as a non-magnetic support (base film) for a magnetic recording medium.
[0012]
However, a configuration in which a polyester film having a thickness of about 4 to 15 μm is used as the nonmagnetic support, a specific matte surface and a filler surface are formed on the surface, and a magnetic layer made of an extremely thin ferromagnetic metal thin film is formed. When the protective layer is formed by the above-described conventional plasma CVD method in the magnetic recording medium described above, the magnetic layer (ferromagnetic metal thin film) is used as an electrode. As the value increases, it is difficult to apply a voltage between the ferromagnetic metal thin film as an electrode and the mesh electrode in the CVD reaction tube. In particular, when the thickness of the ferromagnetic metal thin film is 100 nm or less, such a problem becomes remarkable.
[0013]
Further, since it is impossible to form a carbon film and a hydrogen-containing carbon film directly on the non-magnetic support polyester film as an insulator by this CVD method, a magnetic tape for high-density recording is produced. In such a case, there has been a problem that sufficient characteristics cannot be improved with respect to running properties, corrosion resistance, and durability.
[0014]
In view of the above problems, the present inventor has proposed a high-density magnetic recording medium having a magnetic layer made of a ferromagnetic metal thin film having a thickness of 20 to 100 nm, which is particularly suitable for a system using an MR head. , Running performance, and durability.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
The magnetic recording medium of the present invention has a magnetic layer comprising a ferromagnetic metal thin film on a non-magnetic support, a protective layer on the magnetic layer, an underlayer and a magnetic layer between the magnetic layer and the non-magnetic support. The main surface opposite to the surface side has at least one of the backing underlayers. It is assumed to be one of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film formed by decomposition and catalytic chemical vapor deposition.
[0016]
Further, the magnetic recording medium of the present invention has a magnetic layer made of a ferromagnetic metal thin film on a non-magnetic support, a protective layer on the magnetic layer, an underlayer between the magnetic layer and the non-magnetic support, The main surface opposite to the magnetic layer forming surface has at least one of a back surface underlayer, and the protective layer, the underlayer, and the back surface underlayer are formed on the discharge side surface of the cold cathode ion source. Is heated, and any one of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film formed by a plasma CVD method is used.
[0017]
The method for producing a magnetic recording medium according to the present invention comprises a magnetic layer comprising a ferromagnetic metal thin film on a non-magnetic support, a protective layer on the magnetic layer, and a lower layer between the magnetic layer and the non-magnetic support. A method of manufacturing a magnetic recording medium comprising at least one of a backing layer on a main surface opposite to a ground layer and a magnetic layer forming surface side, the method comprising: a protective layer, a base layer, and a backing layer. In the forming step, while the nonmagnetic support is cooled, the raw material gas is subjected to catalytic pyrolysis using a heating catalyst, and the silicon nitride film, the silicon oxide film, the silicon oxynitride film, At least one of a silicon film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film is formed.
[0018]
Further, the method for producing a magnetic recording medium of the present invention has a magnetic layer comprising a ferromagnetic metal thin film on a non-magnetic support, a protective layer on the magnetic layer, and a magnetic layer between the magnetic layer and the non-magnetic support. An underlayer, a method for manufacturing a magnetic recording medium having at least one of a back surface underlayer on a main surface opposite to a magnetic layer formation surface side, wherein the protective layer, the underlayer, and the back surface underlayer are formed. Heats the discharge-side surface of a cold cathode ion source and forms at least one of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film by a plasma CVD method. Shall be.
[0019]
According to the present invention, a high-density magnetic recording medium having a magnetic layer made of a ferromagnetic metal thin film having a thickness of 20 to 100 nm, which is particularly suitable for a system using an MR head, relates to corrosion resistance, running properties, and durability. Improvement is achieved.
[0020]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[First Embodiment]
A specific embodiment of the magnetic recording medium of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following example.
FIG. 1 shows a schematic sectional view of an example of the magnetic recording medium 10 of the present invention.
In the magnetic recording medium 10, a magnetic layer 2 made of a ferromagnetic metal thin film and a protective layer 3 are sequentially formed on a long non-magnetic support 1, and a main surface opposite to a surface on which the magnetic layer 2 is formed. Has a configuration in which a back coat layer 6 is formed.
[0021]
As a material for forming the nonmagnetic support (base film) 1, a polyester-based material is mainly used. As the polyester, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polytetramethylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexylene dimethylene terephthalate, polyethylene 2,6-naphthalene dicarboxylate, polyethylene-p-oxy Benzoate and the like. In particular, polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) are preferred, and homopolyesters and copolyesters can be applied to these polyesters.
The non-magnetic support 1 has a thickness of about 4 to 15 μm. In order to improve the durability and running property of the magnetic recording medium 10 and the handling at the time of forming a magnetic tape, a binder resin, a filler and Fine irregularities may be added to the surface by a paint containing a surfactant or the like, or mechanical strength may be increased.
Examples of the binder resin include an aqueous polyester resin, an aqueous acrylic resin, an aqueous polyurethane resin and the like, and examples of the filler include particles made of a heat-resistant polymer, particles of silicon dioxide, calcium carbonate and the like.
[0022]
In addition to the above-described methods, a method of artificially forming irregularities on the nonmagnetic support 1 by a lithography technique, or an island-like structure of a metal, an inorganic compound, or an organic polymer by a plating or vacuum thin film forming technique May be used to form minute projections on the surface.
[0023]
The magnetic layer 2 is made of Co, CoNi, a vapor deposition layer made of these oxides, or a CoCrTa, CoCrPt, CoCrPtTa, CoPtSiO layer on a Cr layer. 2 , CoPtB—O sputtered layers are formed, or these sputtered layers are formed alone without forming a Cr layer. The coercive force of the magnetic layer is 100 to 250 kA / m.
[0024]
Next, as an example of a process of forming the magnetic layer 2, a case where a magnetic layer is formed by vacuum deposition will be described using a continuous winding type vacuum deposition apparatus 40 as shown in FIG.
In the vacuum deposition apparatus 40, a feed roll 44, a take-up roll 45, and a feed roll 45 are placed in a vacuum chamber 43 that is evacuated from exhaust ports 41 and 42 provided in a head and a lower portion, respectively, and has a vacuum state. The elongate non-magnetic support 1 runs sequentially from the feed roll 44 to the take-up roll 45.
[0025]
A cooling can 46 is provided in the middle of the travel of the non-magnetic support 1 from the feed roll 44 to the take-up roll 45. The cooling can 46 is provided so as to pull out the nonmagnetic support 1 downward in the drawing, and is configured to rotate at a constant speed. Note that a cooling device (not shown) is provided inside the cooling can 46 so as to suppress deformation and the like of the nonmagnetic support 1 due to a rise in temperature.
Guide rolls 47 and 48 are provided between the feed roll 44 and the cooling can 46 and between the cooling can 46 and the take-up roll 45, respectively. To make it run smoothly.
[0026]
In the vacuum chamber 43, a crucible 49 is provided below the cooling can 46, and the crucible 49 is filled with a metallic magnetic material 50. On the other hand, an electron gun 51 for heating and evaporating the metallic magnetic material 50 filled in the crucible 49 is attached to the side wall of the vacuum chamber 43. The electron gun 51 is disposed at a position where the emitted electron beam X irradiates the metal magnetic material 50 in the crucible 49. Then, the metal magnetic material 50 evaporated by the electron gun 51 is formed as a magnetic layer 2 on the non-magnetic support 1 running on the peripheral surface of the cooling can 46.
[0027]
Further, a shutter 52 is provided between the cooling can 46 and the crucible 49 and near the cooling can 46. The shutter 52 is provided so as to cover a predetermined area of the non-magnetic support 1 running at a constant speed on the peripheral surface of the cooling can 46. The film is deposited obliquely within the range of the angle. Further, the oxygen gas is supplied to the surface of the non-magnetic support 1 through the oxygen gas inlet 54 provided through the side wall of the vacuum chamber 43 to improve the magnetic properties, durability and weather resistance. ing.
[0028]
The magnetic recording medium of the present invention is applied to a recording / reproducing apparatus having an MR head. In order to reduce noise and improve C / N, the magnetic layer 2 is formed as an extremely thin layer. It is preferable that the film is formed to a thickness of 20 to 100 nm.
[0029]
The protective layer 3 on the magnetic layer 2 is formed of a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film formed by catalytic chemical vapor deposition by catalytically decomposing a raw material gas using a heated catalyst. It shall consist of at least one. Hereinafter, a method for forming the protective layer 3 will be specifically described with reference to the drawings.
[0030]
FIG. 3 shows a schematic configuration diagram of a catalytic chemical vapor deposition apparatus 60 for forming the protective layer 3.
In the catalytic chemical vapor deposition apparatus 60, a feed roll 63 and a take-up roll 64, which rotate at a constant speed, are placed in a vacuum chamber 62 in which a high vacuum state is formed by a vacuum exhaust system 61 provided on a side surface. The workpiece 65 in which the magnetic layer 2 is formed on the non-magnetic support 1 as described above runs sequentially from the feed roll 63 to the take-up roll 64.
[0031]
A cooling can 66 is provided in the middle of the movement of the object 65 from the feed roll 63 to the take-up roll 64. The cooling can 66 is provided so as to pull out the object to be processed 65 downward in the figure, and is configured to rotate at a constant speed in the direction of arrow A in the figure. Further, a cooling mechanism (not shown) is provided inside the cooling can 66 to suppress deformation and the like of the processing target 65 due to a rise in temperature.
Accordingly, the processing target 65 is sequentially sent out from the feed roll 63, passes through the peripheral surface of the cooling can 66, and is taken up by the take-up roll 64. In addition, guide rolls 67 and 68 are provided between the feed roll 63 and the cooling can 66 and between the cooling can 66 and the take-up roll, respectively. It has been made to be.
[0032]
A hood 69 made of stainless steel is provided in the vacuum chamber 62, and a catalyzer 70 provided with a wire made of a high melting point metal such as molybdenum, tantalum, or tungsten serving as a catalyst is provided inside the hood 69. I have. Both ends of the wire of the catalyzer 70 are connected to an AC power supply 71 provided outside the vacuum chamber 62 via an introduction terminal having an insulated structure.
[0033]
The catalyzer 70 receives current supply from the AC power supply 71 and generates heat at 1500 ° C. or higher. A shower head 72 for introducing a source gas is provided below the catalyzer 70. The shower head 72 has a box-like structure made of hollow stainless steel, and has a large number of holes having a diameter of 1 mm formed on the upper surface. A gas introduction pipe 73 is connected to the lower surface of the shower head 72. I have.
The gas introduction pipe 73 is provided so as to penetrate the bottom of the hood 69 and the bottom wall of the vacuum chamber 62 so that a source gas can be supplied.
[0034]
In addition, a viewport 74 in which quartz glass is installed diagonally downward is provided through the side portion 69 of the hood and the side wall portion of the vacuum chamber 62, and the temperature of the catalyzer 70 inside the hood 69 is measured by an infrared thermometer 75. It has a structure that can be monitored.
[0035]
In the catalytic chemical vapor deposition apparatus 60 shown in FIG. 3, the inside of the vacuum chamber 62 is first set to a high vacuum state, and then a predetermined raw material gas is supplied from a gas introduction pipe 73 through a shower head 72 by an AC power supply 71. It is supplied to the catalizer 70 which has been heated and has been heated to 1500 ° C. or more. As a result, the source gas is subjected to catalytic pyrolysis, and a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, a hydrogen-containing carbon film, and the like are formed on the processing target 65 in accordance with the source gas.
In the magnetic recording medium of the present invention, the protective layer 3 was formed with a thickness of 4 nm to 25 nm.
[0036]
On the protective layer 3 formed as described above, for example, an arbitrary perfluoropolyether-based lubricant is applied to form a lubricant layer (not shown) in order to improve running properties. Is also good.
[0037]
On the side opposite to the surface on which the magnetic layer 2 is formed, a back coat layer 6 having a thickness of about 0.2 to 0.7 μm is formed for the purpose of improving running properties and preventing electrification.
The back coat layer 6 is prepared by dispersing solid particles such as an inorganic pigment in a binder, kneading the dispersion with an organic solvent corresponding to the type of the binder to prepare a coating for the back coat layer, Formed on the back side of the substrate.
[0038]
As described above, the protective layer 3 is subjected to catalytic pyrolysis of a raw material gas using a heated catalyst, and any of a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film is formed by catalytic chemical vapor deposition. By forming the magnetic layer 2, even when the magnetic layer 2 is formed as an extremely thin layer, the corrosion resistance, running properties, and durability are sufficiently improved, and a magnetoresistive head (MR head) is used. It can be made suitable as a magnetic recording medium for a magnetic recording system.
Here, the MR head is a read-only magnetic head that detects a signal from a magnetic recording medium using a magnetoresistance effect. In general, an MR head has higher sensitivity and a higher reproduction output than an inductive magnetic head that performs recording and reproduction using electromagnetic induction, and thus is suitable for a magnetic recording medium for high-density recording.
[0039]
[Second embodiment]
Next, another example of the magnetic recording medium of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the magnetic recording medium 20 shown in FIG. 4, an underlayer 4 and a magnetic layer 2 made of a ferromagnetic metal thin film are sequentially formed on one main surface of the nonmagnetic support 1, and the magnetic layer 2 is formed on the opposite side to the magnetic layer forming surface side. Has a configuration in which a back coat layer 6 is formed.
The same non-magnetic support as the non-magnetic support of the magnetic recording medium 10 shown in FIG. 1 is applied to the non-magnetic support 1, and the magnetic layer 2 is also formed by a vapor deposition method or a sputtering method using the vacuum vapor deposition apparatus 40 shown in FIG. Thus, the configuration is the same as that of the first embodiment. The back coat layer 6 can also be formed by the same method as in the case of the magnetic recording medium of FIG.
[0040]
The underlayer 4 is formed in the same manner as the protective layer 3 constituting the magnetic recording medium 10 shown in FIG. That is, the underlying layer 4 is formed by applying the catalytic chemical vapor deposition apparatus 60 shown in FIG. It is made of at least one of a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film. The underlayer 4 is formed to a thickness of 4 to 100 nm.
[0041]
As described above, the base layer 4 between the magnetic layer 2 and the non-magnetic support 1 is subjected to catalytic pyrolysis of a raw material gas using a heated catalyst, and a silicon nitride film, Even when the magnetic layer 2 is formed as an extremely thin layer, it has sufficient corrosion resistance and running properties even when formed on any one of a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film. In addition, the durability is improved, and the magnetic recording medium can be suitably used as a magnetic recording medium for a magnetic recording system using a magnetoresistive head (MR head).
[0042]
[Third Embodiment]
Next, another example of the magnetic recording medium of the present invention will be described with reference to the drawings.
The magnetic recording medium 30 shown in FIG. 5 has a magnetic layer 2 made of a ferromagnetic metal thin film on a non-magnetic support 1, and has a main surface opposite to the magnetic layer 2 forming side of the non-magnetic support 1. It has a configuration in which a back underlayer 5 is formed.
The non-magnetic support 1 may be the same as the non-magnetic support of the magnetic recording medium 10 shown in FIG. 1, and the magnetic layer 2 may be formed by a vapor deposition method or a sputtering method using the vacuum vapor deposition device 40 shown in FIG. Thereby, it can be formed in the same configuration as in the first embodiment. The back coat layer 6 can also be formed by the same method as in the case of the magnetic recording medium of FIG.
[0043]
The back underlayer 5 is formed by the same method as the protective layer 3 constituting the magnetic recording medium 10 shown in FIG. That is, the rear underlayer 5 is a silicon nitride film formed by catalytic chemical vapor deposition by catalytically pyrolyzing a raw material gas using a heated catalyst by applying the catalytic chemical vapor deposition apparatus 60 shown in FIG. It is made of at least one of a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film. The back underlayer 5 is formed to a thickness of 4 to 100 nm.
[0044]
As described above, the backside underlayer 5 between the nonmagnetic support 1 and the backcoat layer 6 is subjected to catalytic pyrolysis of a raw material gas using a heating catalyst, and is subjected to catalytic chemical vapor deposition to produce silicon nitride. Since the magnetic layer 2 is formed on any one of a film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film, even when the magnetic layer 2 is formed as an extremely thin layer, it has sufficient corrosion resistance and running properties. As a result, the performance and durability are improved, and the magnetic recording medium can be made suitable as a magnetic recording medium for a magnetic recording system using a magnetoresistive magnetic head (MR head).
[0045]
Note that it is desirable to form a diamond-like carbon layer on the magnetic layers 2 of the magnetic recording media 20 and 30 shown in FIGS. 4 and 5 in order to ensure good running durability and corrosion resistance.
The diamond-like carbon layer can be formed by, for example, a CVD method using a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) continuous film forming apparatus. As the CVD method, any of conventionally known methods such as a mesh electrode DC plasma method, an electron beam excited plasma source method, a cold cathode ion source method, an ionization vapor deposition method, and a catalytic CVD method can be used.
As the carbon compound used in the CVD method, any of conventionally known materials such as a hydrocarbon compound, a ketone compound, and an alcohol compound can be used. At the time of plasma generation, Ar and H are used as gases for promoting the differentiation of the carbon compound. 2 Etc. may be introduced.
[0046]
In the magnetic recording media 10, 20, and 30 shown in the first to third embodiments, for example, an arbitrary perfluoropolyether-based lubricant is applied to the outermost surface in order to improve running properties. A configuration in which a lubricant layer is formed as a result may be adopted.
[0047]
[Fourth Embodiment]
Next, another example of the magnetic recording medium of the present invention will be described.
The magnetic recording medium in this example has the same configuration as the magnetic recording medium in the above-described first embodiment. That is, a magnetic layer 2 made of a ferromagnetic metal thin film and a protective layer 3 are sequentially formed on a long non-magnetic support 1, and a back coat layer 6 is formed on a main surface opposite to a surface on which the magnetic layer 2 is formed. Is formed.
[0048]
The same non-magnetic support 1 as in the above-described example can be applied, and the magnetic layer 2 can be formed by the vapor deposition method using the vacuum vapor deposition apparatus 40 shown in FIG. The back coat layer 6 can be formed in the same manner, and the back coat layer 6 can be formed by the same method as that of the magnetic recording medium shown in FIG.
[0049]
In this example, the protective layer 3 is formed on at least one of a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film by a plasma CVD method using a cold cathode ion source. Hereinafter, a method for forming the protective layer 3 will be specifically described with reference to the drawings.
[0050]
FIG. 6 shows a schematic configuration diagram of a CVD apparatus 80 using a cold cathode ion source.
In the CVD apparatus 80, a feed roll 83 and a take-up roll 84, which rotate at a constant speed, are provided in a vacuum chamber 82, the inside of which is brought into a high vacuum state by a vacuum exhaust system 81 provided on the side surface. As described above, the object 85 having the magnetic layer 2 formed on the non-magnetic support 1 runs from the feed roll 83 to the take-up roll 84 sequentially.
[0051]
A cooling can 86 is provided in the middle of the movement of the object 85 from the feed roll 83 to the take-up roll 84. The cooling can 86 is provided so as to pull out the object to be processed 85 downward in the figure, and is configured to rotate at a constant speed in the direction of arrow B in the figure. Further, a cooling mechanism (not shown) is provided inside the cooling can 86 to suppress deformation or the like of the processing target 85 due to a rise in temperature.
Therefore, the target object 85 is sequentially sent out from the feed roll 83, passes through the peripheral surface of the cooling can 86, and is taken up by the take-up roll 84. Note that guide rolls 87 and 88 are provided between the feed roll 83 and the cooling can 86 and between the cooling can 86 and the take-up roll 84, respectively. It is made to run.
[0052]
A hood 89 made of stainless steel is provided in the vacuum chamber 82, and a cold cathode ion source 90 is provided inside the hood 89. An anode 91 and a magnet 92 are provided inside the cold cathode ion source 90. The magnet 92 may be a permanent magnet or an electromagnet. A DC power supply 93 is provided outside the vacuum chamber 82, and the anode 91 is connected to the DC power supply 93 via an insulated introduction terminal.
[0053]
A source gas introduction pipe 95 is connected to the cold cathode ion source 90 from a source gas introduction hole 94 penetrating the bottom.
The source gas introduction pipe 95 is provided through the bottom of the hood 89 and the bottom wall of the vacuum chamber 82 so that the source gas can be supplied.
[0054]
In the CVD apparatus 80 using the cold cathode ion source shown in FIG. 6, first, the inside of the vacuum chamber 82 is set to a high vacuum state, and then a predetermined source gas is supplied into the cold cathode ion source 90 from the gas introduction pipe 95.
Subsequently, a predetermined voltage is applied by using the cooling can 86 serving as a cathode and the anode 91, and a discharge is generated between them. Then, the raw material gas introduced into the cold cathode ion source 90 is decomposed by this discharge, and a predetermined layer is formed on the target object 85 running on the peripheral surface of the cooling can 86. This protective layer 3 is formed to a thickness of 4 nm to 25 nm.
[0055]
On the protective layer 3 formed by the plasma CVD method using the cold cathode ion source as described above, for example, an arbitrary perfluoropolyether-based lubricant is applied to improve the running property by applying a lubricant. A layer (not shown) may be formed.
[0056]
On the side opposite to the side on which the magnetic layer 2 is formed, a back coat layer 6 is formed for the purpose of improving runnability and preventing electrification.
The back coat layer 6 preferably has a thickness of about 0.2 to 0.7 μm. The back coat layer 6 is prepared by dispersing solid particles such as an inorganic pigment in a binder, kneading the dispersion with an organic solvent corresponding to the type of the binder to prepare a coating for the back coat layer, Formed on the back side of the substrate.
[0057]
In the magnetic recording medium manufactured as described above, the protective layer 3 is formed on at least one of a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film by a plasma CVD method using a cold cathode ion source. Due to the formation, even when the magnetic layer 2 is formed as an extremely thin layer, the corrosion resistance, running properties, and durability are sufficiently improved, and magnetic recording using a magnetoresistive magnetic head (MR head) is performed. It can be made suitable as a magnetic recording medium for a system.
[0058]
[Fifth Embodiment]
Next, another example of the magnetic recording medium of the present invention will be described with reference to the drawings.
The magnetic recording medium in this example has the same configuration as the magnetic recording medium shown in FIG. 4 and described in the second embodiment. That is, a configuration in which an underlayer 4 and a magnetic layer 2 composed of a ferromagnetic metal thin film are sequentially formed on one main surface of a non-magnetic support 1, and a back coat layer 6 is formed on the side opposite to the side on which the magnetic layer is formed. It is assumed that
The non-magnetic support 1 may be the same as the non-magnetic support of the magnetic recording medium 10 shown in FIG. 1, and the magnetic layer 2 may be formed by a vapor deposition method or a sputtering method using the vacuum vapor deposition device 40 shown in FIG. Accordingly, the configuration can be the same as that of the above-described first embodiment, and the back coat layer 6 can also be formed by the same method as that of the above-described magnetic recording medium.
[0059]
The underlayer 4 can be formed by the same method as the protective layer 3 constituting the magnetic recording medium described in the fourth embodiment. That is, a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a plasma CVD method using a cold cathode ion source are applied by applying the protective layer forming CVD apparatus 80 shown in FIG. It is formed on any of the hydrogen-containing carbon films. The thickness of the underlayer 4 is 4 to 100 nm.
[0060]
As described above, base layer 4 is formed on any of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film by a plasma CVD method using a cold cathode ion source. As a result, even when the magnetic layer 2 is formed to be extremely thin, the corrosion resistance, running properties, and durability are sufficiently improved, and a magnetic recording system using a magnetoresistive head (MR head) is used. Suitable as a magnetic recording medium for use.
[0061]
[Sixth Embodiment]
Next, another example of the magnetic recording medium of the present invention will be described with reference to the drawings.
The magnetic recording medium in this example has the same configuration as the magnetic recording medium 30 shown in FIG. 5 and described in the third embodiment.
That is, a structure in which a magnetic layer 2 made of a ferromagnetic metal thin film is provided on a nonmagnetic support 1 and a backing underlayer 5 is formed on a main surface of the nonmagnetic support 1 opposite to a surface on which the magnetic layer 2 is formed. have.
The non-magnetic support 1 may be the same as the non-magnetic support of the magnetic recording medium 10 shown in FIG. 1, and the magnetic layer 2 may be formed by a vapor deposition method or a sputtering method using the vacuum vapor deposition device 40 shown in FIG. Accordingly, the configuration can be the same as that of the above-described first embodiment, and the back coat layer 6 can also be formed by the same method as that of the above-described magnetic recording medium.
[0062]
Further, the back underlayer 5 can be formed by the same method as the protective layer 3 constituting the magnetic recording medium described in the fourth embodiment. That is, a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film are formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source by applying the protective layer forming CVD apparatus 80 shown in FIG. And a hydrogen-containing carbon film. The back underlayer 4 is formed to a thickness of 4 to 100 nm.
[0063]
As described above, the silicon nitride film, the silicon oxide film, the silicon oxynitride film, and the back underlayer 5 between the nonmagnetic support 1 and the back coat layer 6 are formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source. By forming the magnetic layer 2 in any of a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film, the corrosion resistance, running properties, and durability are sufficiently improved even when the magnetic layer 2 is formed as an extremely thin layer. It can be suitable as a magnetic recording medium for a magnetic recording system using a magnetoresistive magnetic head (MR head).
[0064]
Note that it is desirable to form a diamond-like carbon layer on the magnetic layers 2 of the magnetic recording media 20 and 30 shown in FIGS. 4 and 5 in order to ensure good running durability and corrosion resistance.
[0065]
In the magnetic recording media shown in the fourth to sixth embodiments, in order to improve running properties, for example, an arbitrary perfluoropolyether-based lubricant is applied to the outermost surface to form a lubricant layer. Is desirably formed.
[0066]
【Example】
Hereinafter, specific examples of the magnetic recording medium of the present invention will be described based on experimental results.
FIG. 7 shows a schematic sectional view of the magnetic recording medium. Although FIG. 7 shows all of the protective layer 3, the underlayer 4, and the back surface underlayer 5, in the following examples, a magnetic recording medium having a configuration in which any of these layers is formed will be described. explain.
[0067]
[Example A1]
First, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 6 μm was prepared as the nonmagnetic support 1. On the side of the nonmagnetic support 1 on which the magnetic layer is formed, an underlayer 4 made of 20 nm thick SiN, a magnetic layer 2 made of 20 nm thick Co—CoO, and a protection made of a 10 nm thick diamond-like carbon film. Layers 3 were sequentially formed, and a backing underlayer 5 of 20 nm thick made of SiN was formed on the main surface opposite to the magnetic layer forming surface side.
[0068]
[Example A2] to [Example A41], [Comparative Example A1] to [Comparative Example A17]
A magnetic recording medium was manufactured in the same manner as in Example A1, except that the configurations and thicknesses of the magnetic layer 2, the protective layer 3, the underlayer 4, and the back underlayer 5 were changed.
[0069]
In Examples A1 to A41 and Comparative Examples A1 to A17, the protective layer 3, the underlayer 4, and the back surface underlayer 5 were each subjected to catalytic pyrolysis of a raw material gas using a heating catalyst. A diamond-like carbon film, a SiO film, a SiN film, a SiC film, or a SiON film was formed by a catalytic chemical vapor deposition method. These film forming conditions are shown in the following [Table 1]. The configurations of the magnetic recording media of Examples A1 to A41 and Comparative Examples A1 to A17 are shown in Tables 2 to 7 below.
[0070]
[Table 1]
Figure 2004118973
[0071]
[Table 2]
Figure 2004118973
[0072]
[Table 3]
Figure 2004118973
[0073]
[Table 4]
Figure 2004118973
[0074]
[Table 5]
Figure 2004118973
[0075]
[Table 6]
Figure 2004118973
[0076]
[Table 7]
Figure 2004118973
[0077]
Regarding the magnetic tapes of Examples A1 to A41 and Comparative Examples A1 to A17, still durability, repeated running durability (shuttle durability), SO 2 Rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high temperature and high humidity environment were measured.
Here, for the measurement of the still durability and the shuttle durability, a commercially available digital video (VX-1000) made by Sony and modified with a MR head was used for the deck.
[0078]
In the measurement of still durability, a 10-minute magnetic tape was inserted into a digital video cassette in an environment of 0 ° C. and 0% RH, recorded for 1 minute, then rewound, paused when reproduced for 30 seconds, and output. Was monitored, and the time until the output became half (-6 dB) of the initial output that was temporarily stopped was measured.
Regarding the evaluation of still durability, ◎ was 60 minutes or more, ○ was 30 minutes or more and less than 60 minutes, Δ was 15 minutes or more and less than 30 minutes, and X was less than 15 minutes.
[0079]
In the measurement of shuttle durability, a magnetic tape of 60 minutes length was incorporated into a digital video cassette in an environment of 40 ° C. and 80% RH, recorded for 1 minute, rewound and played back for 1 minute, and the output at that time was initialized. Output. After that, full-length recording is performed only once, repetitive reproduction is performed, the vehicle is run while monitoring the output, and the number of running repetitions (the number of passes) is measured until the output becomes half (-6 dB) of the above initial output. did.
Regarding the evaluation of shuttle durability, ◎ was 100 or more passes, ○ was 80 or more and less than 100 passes, Δ was 50 or more and less than 80 passes, and × was less than 50 passes.
[0080]
SO 2 For rust generation in gas atmosphere, use magnetic tape 2 It was stored for 10 hours in an environment of 1 ppm of gas and 50 ° C. and 80% RH, and the deterioration rate of the magnetization amount before and after the storage was evaluated.
The magnetization deterioration rate was determined by [(magnetization amount before storage−magnetization amount after storage) / magnetization amount before storage] × 100.
SO 2 Regarding the evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere, ◎ is 5% or less, ○ is more than 5% and 10% or less, Δ is more than 10% and 15% or less, and X is more than 15%. It was big.
[0081]
Regarding rust generation (magnetization deterioration rate) under a high temperature and high humidity environment, the magnetic tape was stored at 65 ° C. and 90% RH for 6 days, and the deterioration rate of the magnetization amount before and after the storage was evaluated.
The magnetization deterioration rate was determined by [(magnetization amount before storage−magnetization amount after storage) / magnetization amount before storage] × 100.
Regarding the evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature and high-humidity environment, ◎ is 5% or less, ○ is more than 5% and 10% or less, Δ is more than 10% and 15% or less, and X is 15%. Larger than
[0082]
Table 8 below shows the still durability, repeated running durability (shuttle durability), SO 2 The ranking of each evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high temperature and high humidity environment is shown.
[0083]
[Table 8]
Figure 2004118973
[0084]
The evaluation results of the magnetic tapes of Examples A1 to A41 and Comparative Examples A1 to A17 are shown in Tables 9 to 14 below.
[0085]
[Table 9]
Figure 2004118973
[0086]
[Table 10]
Figure 2004118973
[0087]
[Table 11]
Figure 2004118973
[0088]
[Table 12]
Figure 2004118973
[0089]
[Table 13]
Figure 2004118973
[0090]
[Table 14]
Figure 2004118973
[0091]
As shown in Tables 9 to 11, at least one of the protective layer 3, the underlayer 4, and the back underlayer 5 is formed as a diamond-like carbon film, a SiO film, a SiN film, a SiC film, or a SiON film. Example A1 in which the thickness of the magnetic layer 2 was 20 to 100 nm, the thickness of the protective layer 3 was 4 to 25 nm, the thickness of the underlayer 4 was 4 to 100 nm, and the thickness of the back surface underlayer 5 was 4 to 100 nm. -For the magnetic tapes of Example A41, still durability, repeated running durability (shuttle durability), SO 2 The evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature, high-humidity environment were respectively ○ or more, and extremely good results in practical use were obtained.
[0092]
On the other hand, as shown in Table 12, in the magnetic tape of Comparative Example A1, the thickness of the magnetic layer 2 was reduced to less than 20 nm, and particularly, shuttle durability and rust generation (magnetization deterioration rate) under a high temperature and high humidity environment were reduced. The evaluation was inferior and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0093]
As shown in Table 12, in the magnetic tapes of Comparative Examples A2 to A4, the protective layer 3 was too thin with a thickness of less than 4 nm, still durability, repetitive running durability (shuttle durability), SO 2 All evaluations of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature and high-humidity environment were poor, and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0094]
As shown in Table 12, in the magnetic tapes of Comparative Examples A5 to A7, the protective layer 3 was formed to be thicker than 25 nm, and these layers had still durability and repeated running durability (shuttle durability). The evaluation was inferior and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0095]
As shown in Table 13, the magnetic tapes of Comparative Examples A8 to A12 had the underlayer 4 formed to be thinner than 4 nm. 2 The evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature, high-humidity environment was poor, and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0096]
As shown in Table 14, the magnetic tapes of Comparative Examples A13 to A17 had the back underlayer 5 formed to be thinner than 4 nm. 2 The evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature, high-humidity environment was poor, and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0097]
As described above, at least one of the protective layer 3, the underlayer 4, and the back underlayer 5 is subjected to catalytic pyrolysis of a raw material gas using a heating catalyst, and a diamond-like carbon film or SiO Film, a SiN film, a SiC film, or a SiON film, the magnetic layer 2 has a thickness of 20 to 100 nm, the protective layer 3 has a thickness of 4 to 25 nm, and the underlayer 4 has a thickness of 4 to 25 nm. By setting the thickness of the backing underlayer 5 to 100 nm and the thickness of the backing layer 5 to 4 to 100 nm, still durability, repeated running durability (shuttle durability), SO 2 Good results were obtained for both evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high temperature and high humidity environment.
[0098]
Next, a specific example of a magnetic recording medium in which the protective layer 3, the underlayer 4, and the backside underlayer 5 are formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source will be described.
[0099]
[Example B1]
First, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 6 μm was prepared as the nonmagnetic support 1. On the side of the nonmagnetic support 1 on which the magnetic layer is formed, an underlayer 4 made of 20 nm thick SiN, a magnetic layer 2 made of 20 nm thick Co—CoO, and a protection made of a 10 nm thick diamond-like carbon film. Layers 3 were sequentially formed, and a backing underlayer 5 of 20 nm thick made of SiN was formed on the main surface opposite to the magnetic layer forming surface side.
[0100]
[Example B2] to [Example B41], [Comparative Example B1] to [Comparative Example B17]
A magnetic recording medium was manufactured in the same manner as in Example B1 except that the configuration and thickness of the magnetic layer 2, the protective layer 3, the underlayer 4, and the back underlayer 5 were changed.
[0101]
The following Table 15 shows film forming conditions for the protective layer 3, the underlayer 3, and the backside underlayer 5 in a CVD method using a cold cathode ion source.
The structures of the magnetic recording media of Examples B1 to B41 and Comparative Examples B1 to B17 are shown in Tables 16 to 21 below.
[0102]
[Table 15]
Figure 2004118973
[0103]
[Table 16]
Figure 2004118973
[0104]
[Table 17]
Figure 2004118973
[0105]
[Table 18]
Figure 2004118973
[0106]
[Table 19]
Figure 2004118973
[0107]
[Table 20]
Figure 2004118973
[0108]
[Table 21]
Figure 2004118973
[0109]
For the magnetic tapes of Examples B1 to B41 and Comparative Examples B1 to B17, still durability, repetitive running durability (shuttle durability), SO 2 Rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high temperature and high humidity environment were measured.
Here, for the measurement of the still durability and the shuttle durability, a commercially available digital video (VX-1000) made by Sony and modified with a MR head was used for the deck.
[0110]
In the measurement of still durability, a 10-minute magnetic tape was inserted into a digital video cassette in an environment of 0 ° C. and 0% RH, recorded for 1 minute, then rewound, paused when reproduced for 30 seconds, and output. Was monitored, and the time until the output became half (-6 dB) of the initial output that was temporarily stopped was measured.
Regarding the evaluation of still durability, ◎ was 60 minutes or more, ○ was 30 minutes or more and less than 60 minutes, Δ was 15 minutes or more and less than 30 minutes, and X was less than 15 minutes.
[0111]
In the measurement of shuttle durability, a magnetic tape of 60 minutes length was incorporated into a digital video cassette in an environment of 40 ° C. and 80% RH, recorded for 1 minute, rewound and played back for 1 minute, and the output at that time was initialized. Output. After that, full-length recording is performed only once, repetitive reproduction is performed, the vehicle is run while monitoring the output, and the number of running repetitions (the number of passes) is measured until the output becomes half (-6 dB) of the above initial output. did.
Regarding the evaluation of shuttle durability, ◎ was 100 or more passes, ○ was 80 or more and less than 100 passes, Δ was 50 or more and less than 80 passes, and × was less than 50 passes.
[0112]
SO 2 For rust generation in gas atmosphere, use magnetic tape 2 It was stored for 10 hours in an environment of 1 ppm of gas and 50 ° C. and 80% RH, and the deterioration rate of the magnetization amount before and after the storage was evaluated.
The magnetization deterioration rate was determined by [(magnetization amount before storage−magnetization amount after storage) / magnetization amount before storage] × 100.
SO 2 Regarding the evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere, ◎ is 5% or less, ○ is more than 5% and 10% or less, Δ is more than 10% and 15% or less, and X is more than 15%. It was big.
[0113]
Regarding rust generation (magnetization deterioration rate) under a high temperature and high humidity environment, the magnetic tape was stored at 65 ° C. and 90% RH for 6 days, and the deterioration rate of the magnetization amount before and after the storage was evaluated.
The magnetization deterioration rate was determined by [(magnetization amount before storage−magnetization amount after storage) / magnetization amount before storage] × 100.
Regarding the evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature and high-humidity environment, ◎ is 5% or less, ○ is more than 5% and 10% or less, Δ is more than 10% and 15% or less, and X is 15%. Larger than
[0114]
Table 22 below shows still durability, repeated running durability (shuttle durability), SO 2 The ranking of each evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high temperature and high humidity environment is shown.
[0115]
[Table 22]
Figure 2004118973
[0116]
The evaluation results of the magnetic tapes of Examples B1 to B41 and Comparative Examples B1 to B17 are shown in Tables 23 to 28 below.
[0117]
[Table 23]
Figure 2004118973
[0118]
[Table 24]
Figure 2004118973
[0119]
[Table 25]
Figure 2004118973
[0120]
[Table 26]
Figure 2004118973
[0121]
[Table 27]
Figure 2004118973
[0122]
[Table 28]
Figure 2004118973
[0123]
As shown in Tables 23 to 25, at least one of the protective layer 3, the underlayer 4, and the back underlayer 5 is made of a diamond-like carbon film (a carbon film and a hydrogen-containing carbon film), a SiO film, a SiN film, and a SiC film. The magnetic layer 2 has a thickness of 20 to 100 nm, the protective layer 3 has a thickness of 4 to 25 nm, the underlayer 4 has a thickness of 4 to 100 nm, and the back surface underlayer 5 has a thickness of 20 to 100 nm. In each of the magnetic tapes of Examples B1 to B41 in which the magnetic tape was set to 4 to 100 nm, still durability, repeated running durability (shuttle durability), SO 2 The evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature, high-humidity environment were respectively ○ or more, and extremely good results in practical use were obtained.
[0124]
On the other hand, as shown in Table 26, in the magnetic tape of Comparative Example B1, since the thickness of the magnetic layer 2 was reduced to less than 20 nm, particularly, shuttle durability and rust generation (magnetization deterioration rate) under a high-temperature, high-humidity environment. Was poor, and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0125]
As shown in Table 26, in the magnetic tapes of Comparative Example B2 to Comparative Example B4, the thickness of the protective layer 3 was too thin as less than 4 nm, still durability, repetitive running durability (shuttle durability), SO 2 All evaluations of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature and high-humidity environment were poor, and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0126]
As shown in Table 26, in the magnetic tapes of Comparative Examples B5 to B7, the protective layer 3 was formed to be thicker than 25 nm, and these layers had still durability and repeated running durability (shuttle durability). The evaluation was inferior and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0127]
As shown in Table 27, in the magnetic tapes of Comparative Examples B8 to B12, the underlayer 4 was formed thinner than 4 nm. 2 The evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature, high-humidity environment was poor, and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0128]
As shown in Table 28, in the magnetic tapes of Comparative Examples B13 to B17, the back underlayer 5 was formed thinner than 4 nm. 2 The evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature, high-humidity environment was poor, and practically desirable characteristics could not be obtained.
[0129]
As described above, at least one of the protective layer 3, the underlayer 4, and the back surface underlayer 5 is formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source by a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, and a diamond-like film. It is formed on any one of carbon films (silicon carbide film, carbon film and hydrogen-containing carbon film), the thickness of the magnetic layer 2 is 20 to 100 nm, the thickness of the protective layer 3 is 4 to 25 nm, and the thickness of the underlayer 4 Is 4 to 100 nm and the thickness of the back surface underlayer 5 is 4 to 100 nm, so that still durability, repetitive running durability (shuttle durability), SO 2 Practical good evaluations were obtained for rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high temperature and high humidity environment.
[0130]
Next, as a comparative example, a specific example of a magnetic recording medium in which the protective layer 3 is formed as a diamond-like carbon film by the CVD method without forming the underlayer 4 and the back surface underlayer 5 will be described.
[0131]
[Comparative Example C1]
First, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 6 μm was prepared as the nonmagnetic support 1. On one main surface of the nonmagnetic support 1, a magnetic layer 2 made of Co—CoO and having a thickness of 20 nm, and a protective layer 3 made of a diamond-like carbon film having a thickness of 10 nm were sequentially formed.
[0132]
[Comparative Example C2], [Comparative Example C3]
A magnetic recording medium was manufactured in the same manner as in Comparative Example C1 except that the thickness of the magnetic layer 2 was changed.
[0133]
The film forming conditions of the protective layer 3 in the CVD method are shown in [Table 29] below.
Table 30 below shows the configurations of the magnetic recording media of Comparative Examples C1 to C3.
[0134]
[Table 29]
Figure 2004118973
[0135]
[Table 30]
Figure 2004118973
[0136]
For the magnetic tapes of Comparative Examples C1 to C3, still durability, repeated running durability (shuttle durability), SO 2 Rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high temperature and high humidity environment were measured.
For the measurement of still durability and shuttle durability, a commercially available Sony digital video (VX-1000) was remodeled into a deck and an MR head was used.
The measurement method and the evaluation criteria were the same as those in the above-described embodiments.
[0137]
The evaluation results of the magnetic tapes of Comparative Examples C1 to C3 are shown in [Table 31] below.
[0138]
[Table 31]
Figure 2004118973
[0139]
As shown in Table 31, the magnetic tapes of Comparative Example C1 to Comparative Example C3 had a configuration in which the underlayer 4 and the backside underlayer 5 were not formed, so that, in particular, still durability, SO 2 Regarding the evaluation of rust generation (magnetization deterioration rate) in a gas atmosphere and rust generation (magnetization deterioration rate) in a high-temperature and high-humidity environment, no favorable evaluation was obtained in practice.
[0140]
【The invention's effect】
According to the present invention, at least one of the protective layer, the underlayer, and the backside underlayer is subjected to catalytic pyrolysis of a raw material gas using a heating catalyst, and the silicon nitride film and the carbonized By forming the magnetic layer on any of a silicon film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film, even when the magnetic layer is formed as an extremely thin layer, the corrosion resistance, running properties, and durability are sufficiently improved, and the magnetoresistance effect is improved. A magnetic recording medium suitable for a magnetic recording system using a magnetic head (MR head) was obtained.
[0141]
Further, according to the present invention, at least one of the protective layer, the underlayer, and the backside underlayer is formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source by a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, By forming the magnetic layer on any of a silicon film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film, even when the magnetic layer is formed as an extremely thin layer, the corrosion resistance, the running property, and the durability are sufficiently improved, and the magnetoresistance is improved. A magnetic recording medium suitable for a magnetic recording system using an effect type magnetic head (MR head) was obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of an example of a magnetic recording medium of the present invention.
FIG. 2 shows a schematic configuration diagram of a vacuum evaporation apparatus for forming a magnetic layer.
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a catalytic chemical vapor deposition apparatus for forming a protective layer, an underlayer, and a backside underlayer constituting the magnetic recording medium of the present invention.
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing another example of the magnetic recording medium of the present invention.
FIG. 5 shows a schematic configuration diagram of another example of the magnetic recording medium of the present invention.
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a CVD apparatus using a cold cathode ion source for forming a protective layer, an underlayer, and a backside underlayer constituting the magnetic recording medium of the present invention.
FIG. 7 shows a schematic configuration diagram of an example of the magnetic recording medium of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Nonmagnetic support, 2 ... Magnetic layer, 3 ... Protective layer, 4 ... Underlayer, 5 ... Backside underlayer, 6 ... Backcoat layer, 7 ... Lubricant layer, 10, 20 , 30 ... magnetic recording medium, 40 ... vacuum vapor deposition apparatus, 41, 42 ... exhaust port, 43 ... vacuum chamber, 44 ... feed roll, 45 ... winding roll, 46 ... cooling can, 47, 48: guide roll, 49: crucible, 50: metal magnetic material, 51: electron gun, 52: shutter, 54: oxygen gas inlet tube, 60: catalytic chemical vapor deposition apparatus, 61: Vacuum evacuation system, 62 vacuum chamber, 63 feed roll, 64 take-up roll, 65 workpiece, 66 cooling can, 67, 68 guide roll, 69 hood, 70 … Catalyzer, 71… AC power supply, 72… raw material supply shower head, 73 ... gas introduction pipe, 74 ... viewport, 75 ... infrared thermometer, 80 ... CVD apparatus using cold cathode ion source, 81 ... vacuum evacuation system, 82 ... vacuum chamber, 83 ... feed roll, 84 ... ... Winding roll, 85 ... Workpiece, 86 ... Cooling can, 87, 88 ... Guide roll, 89 ... Hood, 90 ... Cold cathode ion source, 91 ... Anode, 92 ... Magnet, 93 … DC power supply, 94… Source gas inlet, 95… Source gas inlet pipe

Claims (22)

非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層および保護層を有する磁気記録媒体であって、
上記保護層は、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によって形成された窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかよりなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
A magnetic recording medium having a magnetic layer and a protective layer made of a ferromagnetic metal thin film on a nonmagnetic support,
The protective layer is made of any one of a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film formed by catalytic chemical vapor deposition by catalytically pyrolyzing a raw material gas using a heated catalyst. A magnetic recording medium characterized by the following.
上記保護層の膜厚が、4nm〜25nmであることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein said protective layer has a thickness of 4 nm to 25 nm. 非磁性支持体上に、下地層および強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有する磁気記録媒体であって、
上記下地層が、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によって形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかよりなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
A magnetic recording medium having a magnetic layer composed of an underlayer and a ferromagnetic metal thin film on a nonmagnetic support,
The underlayer is a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen film formed by catalytic chemical vapor deposition of a raw material gas by catalytic pyrolysis using a heated catalyst. A magnetic recording medium comprising any one of a carbon film containing carbon.
上記下地層の膜厚が、4〜100nmであることを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体。4. The magnetic recording medium according to claim 3, wherein said underlayer has a thickness of 4 to 100 nm. 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、上記非磁性支持体の上記磁性層形成面側とは反対側の主面に裏面下地層を有する磁気記録媒体であって、
上記裏面下地層が、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によって形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかよりなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
A magnetic recording medium having a magnetic layer made of a ferromagnetic metal thin film on a nonmagnetic support, and having a backing underlayer on a main surface opposite to the magnetic layer forming surface side of the nonmagnetic support,
The backside underlayer is a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film formed by catalytic chemical vapor deposition of a raw material gas by catalytic pyrolysis using a heated catalyst. A magnetic recording medium comprising any one of a hydrogen-containing carbon film.
上記裏面下地層の膜厚が、4〜100nmであることを特徴とする請求項5に記載の磁気記録媒体。6. The magnetic recording medium according to claim 5, wherein the thickness of the underlayer is 4 to 100 nm. 非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有する磁気記録媒体であって、
上記磁性層上に保護層、上記非磁性支持体と上記磁性層との間に下地層、上記磁性層形成面側とは反対側の主面に裏面下地層の、少なくともいずれかを有し、上記保護層、上記下地層、および上記裏面下地層が、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解して触媒化学気相成長法によって形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかよりなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
A magnetic recording medium having a magnetic layer made of a ferromagnetic metal thin film on a non-magnetic support,
A protective layer on the magnetic layer, an underlayer between the non-magnetic support and the magnetic layer, a back surface underlayer on a main surface opposite to the magnetic layer forming surface side, at least one of: A silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, wherein the protective layer, the underlayer, and the back underlayer are formed by catalytic chemical vapor deposition by catalytically decomposing a raw material gas using a heating catalyst. A magnetic recording medium comprising any one of a film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film.
上記磁性層は、Co、CoNi、これらの酸化物からなる蒸着層、またはCr層上にCoCrTa、CoCrPt、CoCrPtTa、CoPtSiO、CoPtB−Oのスパッタ層を形成したもの、もしくはこれらのスパッタ層を上記Cr層を形成せずに単独で形成したもののうちのいずれかよりなり、
上記磁性層の膜厚が20〜100nmであり、かつ磁性層の保磁力が100〜250kA/mであり、磁気抵抗効果型磁気ヘッドを用いて信号の記録再生がなされることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
The magnetic layer, Co, CoNi, deposited layer consisting of oxides or CoCrTa on Cr layer,, CoCrPt, CoCrPtTa, CoPtSiO 2 , obtained by forming a sputtered layer of CoPtB-O, or the these sputtered layer Consisting of any of those formed alone without forming a Cr layer,
The film thickness of the magnetic layer is 20 to 100 nm, the coercive force of the magnetic layer is 100 to 250 kA / m, and recording and reproduction of signals are performed using a magnetoresistive magnetic head. Item 8. The magnetic recording medium according to any one of items 1 to 7.
非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層および保護層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、
上記保護層の形成工程においては、上記非磁性支持体を冷却しながら、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解し、触媒化学気相成長法によって窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
A method for producing a magnetic recording medium having a magnetic layer and a protective layer made of a ferromagnetic metal thin film on a nonmagnetic support,
In the step of forming the protective layer, a raw material gas is subjected to catalytic pyrolysis using a heated catalyst while cooling the nonmagnetic support, and the silicon nitride film, the silicon carbide film, and the carbon film are formed by catalytic chemical vapor deposition. And forming a hydrogen-containing carbon film.
非磁性支持体上に、下地層および強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、
上記下地層の形成工程においては、上記非磁性支持体を冷却しながら、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解し、触媒化学気相成長法によって、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
A method for producing a magnetic recording medium having a magnetic layer composed of an underlayer and a ferromagnetic metal thin film on a nonmagnetic support,
In the step of forming the underlayer, while the nonmagnetic support is being cooled, a raw material gas is subjected to catalytic pyrolysis using a heating catalyst, and a silicon nitride film, a silicon oxide film, and an oxide film are formed by catalytic chemical vapor deposition. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming any one of a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film.
非磁性支持体上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、上記非磁性支持体の上記磁性層形成面側とは反対側の主面に裏面下地層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、
上記裏面下地層の形成工程においては、上記非磁性支持体を冷却しながら、加熱触媒体を用いて原料ガスを接触熱分解し、触媒化学気相成長法によって、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
A method for manufacturing a magnetic recording medium comprising: a magnetic layer formed of a ferromagnetic metal thin film on a nonmagnetic support; and a backing underlayer on a main surface of the nonmagnetic support opposite to the magnetic layer forming surface. So,
In the step of forming the backing underlayer, while cooling the nonmagnetic support, a catalytic gas is thermally decomposed using a heating catalyst, and a silicon nitride film, a silicon oxide film, A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming any one of a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film.
非磁性支持体上に磁性層および保護層を有する磁気記録媒体であって、
上記保護層は、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって形成された窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜であることを特徴とする磁気記録媒体。
A magnetic recording medium having a magnetic layer and a protective layer on a non-magnetic support,
A magnetic recording medium, wherein the protective layer is a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source.
上記保護層の膜厚が、4nm〜25nmであることを特徴とする請求項12に記載の磁気記録媒体。The magnetic recording medium according to claim 12, wherein the thickness of the protective layer is 4 nm to 25 nm. 非磁性支持体上に、下地層および磁性層を有する磁気記録媒体であって、
上記下地層が、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかよりなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
A magnetic recording medium having a base layer and a magnetic layer on a non-magnetic support,
The underlayer is formed of any one of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source. A magnetic recording medium, comprising:
上記下地層の膜厚が、4〜100nmであることを特徴とする請求項14に記載の磁気記録媒体。The magnetic recording medium according to claim 14, wherein the thickness of the underlayer is 4 to 100 nm. 非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、
上記非磁性支持体の上記磁性層形成面側とは反対側の主面に、裏面下地層を有する磁気記録媒体であって、
上記裏面下地層が、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかであることを特徴とする磁気記録媒体。
On a non-magnetic support, having a magnetic layer composed of a ferromagnetic metal thin film,
A magnetic recording medium having a backing underlayer on a main surface of the nonmagnetic support opposite to the magnetic layer forming surface,
The back surface underlayer is any one of a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source. A magnetic recording medium characterized by the above-mentioned.
上記裏面下地層の膜厚が、4〜100nmであることを特徴とする請求項16に記載の磁気記録媒体。17. The magnetic recording medium according to claim 16, wherein the back underlayer has a thickness of 4 to 100 nm. 非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有する磁気記録媒体であって、
上記磁性層上に保護層、上記非磁性支持体と上記磁性層との間に下地層、上記磁性層形成面側とは反対側の主面に裏面下地層の、少なくともいずれかを有し、上記保護層、上記下地層、および上記裏面下地層が、冷陰極イオンソースを用いたプラズマCVD法によって形成された窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかよりなることを特徴とする磁気記録媒体。
A magnetic recording medium having a magnetic layer made of a ferromagnetic metal thin film on a non-magnetic support,
A protective layer on the magnetic layer, an underlayer between the non-magnetic support and the magnetic layer, a back surface underlayer on a main surface opposite to the magnetic layer forming surface side, at least one of: A silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and hydrogen, wherein the protective layer, the underlayer, and the back surface underlayer are formed by a plasma CVD method using a cold cathode ion source. A magnetic recording medium comprising any one of a carbon film containing carbon.
上記磁性層は、Co、CoNi、これらの酸化物からなる蒸着層、またはCr層上にCoCrTa、CoCrPt、CoCrPtTa、CoPtSiO、CoPtB−Oのスパッタ層を形成したもの、もしくはこれらのスパッタ層を上記Cr層を形成せずに単独で形成したものであり、
上記磁性層の膜厚が20〜100nmであり、かつ磁性層の保磁力が、100〜250kA/mであり、磁気抵抗効果型磁気ヘッド(MRヘッド)を用いて信号の記録再生がなされることを特徴とする請求項12乃至18のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
The magnetic layer, Co, CoNi, deposited layer consisting of oxides or CoCrTa on Cr layer,, CoCrPt, CoCrPtTa, CoPtSiO 2 , obtained by forming a sputtered layer of CoPtB-O, or the these sputtered layer It was formed alone without forming a Cr layer,
The magnetic layer has a thickness of 20 to 100 nm, the magnetic layer has a coercive force of 100 to 250 kA / m, and signals are recorded / reproduced using a magnetoresistive head (MR head). The magnetic recording medium according to any one of claims 12 to 18, wherein:
非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、
上記磁性層上に保護層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、
上記保護層の形成工程においては、冷陰極イオンソースの放電側表面を加熱し、プラズマCVD法により、窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
On a non-magnetic support, having a magnetic layer composed of a ferromagnetic metal thin film,
A method for producing a magnetic recording medium having a protective layer on the magnetic layer,
In the step of forming the protective layer, the discharge side surface of the cold cathode ion source is heated, and any one of a silicon nitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film is formed by a plasma CVD method. A method for manufacturing a magnetic recording medium.
非磁性支持体上に、下地層および磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、
上記下地層の形成工程においては、冷陰極イオンソースの放電側表面を加熱し、プラズマCVD法により、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
A method for producing a magnetic recording medium having a base layer and a magnetic layer on a non-magnetic support,
In the step of forming the underlayer, the discharge side surface of the cold cathode ion source is heated, and a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon film are formed by a plasma CVD method. A method for manufacturing a magnetic recording medium, characterized by forming any one of the above.
非磁性支持体上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有し、
上記非磁性支持体の上記磁性層形成面側とは反対側の主面に、裏面下地層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、
上記裏面下地層の形成工程においては、冷陰極イオンソースの放電側表面を加熱し、プラズマCVD法により、窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸化窒化珪素膜、炭化珪素膜、炭素膜および水素含有炭素膜のいずれかを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
On a non-magnetic support, having a magnetic layer composed of a ferromagnetic metal thin film,
A method for producing a magnetic recording medium having a backing underlayer on a main surface of the nonmagnetic support opposite to the magnetic layer forming surface,
In the step of forming the back underlayer, the discharge side surface of the cold cathode ion source is heated, and a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, a silicon carbide film, a carbon film, and a hydrogen-containing carbon are formed by a plasma CVD method. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising forming one of films.
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