JP2004114092A - Electromagnetic welding set using semiconductor switch and welding transformer - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属薄板を電磁力によって溶接する電磁溶接機であって、半導体スイッチおよび溶接トランスを使用した電磁溶接装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
【特許文献1】特開平11−192562号公報
【0003】
アルミニウムなどの金属薄板を容易にシーム溶接する方法として、本願発明者の1名が考えた特開平11−192562のような電磁溶接法がある。この電磁溶接法は図9及び図10に示すように、スイッチ9を介してコンデンサ10に接続された一回巻の磁束発生コイル6の間に被溶接物7として2枚の金属薄板を重ねて置き、図示しないコンデンサ充電電源装置によりコンデンサ10を充電した後スイッチ9を閉じて磁束発生コイル6にコンデンサ10の放電電流を流して溶接するものである。すなわち、磁束発生コイル6にコンデンサ10の放電電流が流れると発生する磁束は図11に示すように金属薄板に鎖交し、金属薄板に渦電流が流れ同時に金属薄板の重ねた部分を押圧する電磁力が働いてシーム溶接されるものである。
【0004】
この電磁溶接法では、例えば磁束発生コイル6を厚さ10mm、幅5mmのクロム銅製導体板により構成し、板厚0.5〜1mmのアルミニウム薄板5を、長さ100mmに亘ってシーム溶接する場合には、必要な溶接電流の最大値が150〜200kA、コンデンサ10に蓄積すべきエネルギーは2〜4kJとなる。このパルス大電流はスイッチ9を通して直接磁束発生コイル6に流すものであるが、このような大電流のスイッチングには半導体スイッチを使用することができず、放電ギャップスイッチが使用されていた。ところが放電ギャップスイッチには接点の損傷、消耗、電極周囲の絶縁物の劣化などがあって連続使用に制限があり、動作時に衝撃音等の騒音を発生するという問題があった。
【0005】
こうした問題を解決するためには溶接トランスを使用することが考えられる。例えば、巻数比10:1の溶接トランス21を使用すれば、溶接トランス21の一次巻線側では電流値が1/10の15〜20kAになる。電流値がこの程度に下がれば、図12に示すようにコンデンサ23及び半導体スイッチ24を並列にして使用することが可能となる。また、卷数比をさらに大きくして一次巻線側の電流値を下げ、電圧を高くして図13に示すようにコンデンサ23及び半導体スイッチ24を直列にして使用することも可能となる。溶接トランス21の損失を無視すれば、磁束発生コイル6に流れる電流は150〜200kAのままであり、溶接トランス21を使用しない図9の場合と同様シーム溶接が可能となる筈である。
【0006】
溶接トランスを使用する場合、一次巻線と二次巻線との間の電磁結合が悪いと漏れ磁束が生じ、磁束発生コイル側への電磁エネルギー伝達時に損失が生じる。従来、一般のトランスでは鉄芯を使用して一次巻線と二次巻線との間の電磁結合を高めている。しかし、電磁溶接法では電流値が大きく、その時間的変化が速いため鉄芯が飽和し、鉄芯を使用することは不可能である。鉄芯に代わる高周波用の磁心も考えられるが、大電力用としては適当なものが存在しない。したがって、鉄芯、磁心なしで溶接トランスの一次巻線と二次巻線との間の電磁結合を高める必要があり、実際に溶接トランスを使用することは困難であった。
【0007】
このようなことから、本願発明者の1名は溶接トランス一次巻線の内側に磁束発生用コイルとトランス2次巻線とを一体化させて配置する装置および溶接法を考え、特願2001−118864として出願中である。この発明は、磁束発生用コイルとトランス2次巻線とを一体化させることで溶接トランスを別途設ける必要をなくし、漏れ磁束の問題を解決したものである。
【0008】
ところが、溶接トランスの問題は解決されてもコンデンサ及び半導体スイッチは並列もしくは直列とする必要があり、コンデンサ及び半導体スイッチを並列にした場合には各並列枝路に電流を均等に分散させることが困難であるという問題があった。さらに、このコンデンサ及び半導体スイッチを並列にした場合、直列にした場合のいずれの場合にも、インダクタンスの大きい溶接トランスの一次巻線に全ての電流すなわち大きなエネルギーが集中することになり、電磁溶接ではこの集中した電流で生じる高密度磁束の時間的変化が速いため大きな電圧が誘起され、半導体スイッチの保護対策が容易でないという問題があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の問題点を解決し、放電ギャップスイッチに替えて半導体スイッチを使用し、接点の損傷、消耗、騒音の発生等のない半導体スイッチおよび溶接トランスを使用した電磁溶接装置を提供するためになされたものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の問題を解決するためになされた請求項1の発明は、高密度の磁束を発生する幅の狭い磁束発生コイルを備え、重ねて置いた金属薄板に磁束発生コイルの発生する磁束を加えることにより渦電流と電磁力を発生させ、その渦電流と電磁力を利用して金属薄板をシーム溶接する、半導体スイッチおよび溶接トランスを使用した電磁溶接装置であって、複数の溶接トランスを設けてその二次巻線を並列に接続したうえ磁束発生コイルに接続し、各溶接トランスの一次巻線はそれぞれ半導体スイッチを介してコンデンサに接続し、各半導体スイッチを同時に閉路して各コンデンサに蓄積された電荷を各溶接トランスの一次巻線を通して放電させる半導体スイッチの制御装置を設けたことを特徴とするものである。
【0011】
同一の問題を解決するためになされた請求項2の発明は、高密度の磁束を発生する幅の狭い磁束発生コイルを備え、重ねて置いた金属薄板に磁束発生コイルの発生する磁束を加えることにより渦電流と電磁力を発生させ、その渦電流と電磁力を利用して金属薄板をシーム溶接する、半導体スイッチおよび溶接トランスを使用した電磁溶接装置であって、複数の一次巻線を備えた溶接トランスを設け、該溶接トランスの1個又は複数の二次巻線は前記複数の一次巻線に共通のものとして二次巻線の一部を磁束発生コイルとし、各一次巻線はそれぞれ半導体スイッチを介してコンデンサに接続し、各半導体スイッチを同時に閉路して各コンデンサに蓄積された電荷を各溶接トランスの一次巻線を通して放電させる半導体スイッチの制御装置を設けたことを特徴とするものである。
【0012】
請求項2の発明においては、二次巻線を1個とし、該二次巻線の1つの面に幅の狭い磁束発生コイルを一体に設けたものとすることができ、あるいは、二次巻線を2個とし、該2個の二次巻線を巻線軸が平行になるように配置し、二次巻線の互いに相対する面に幅の狭い磁束発生コイルをそれぞれ一体に設けたものとすることができる。二次巻線を2個とし、該2個の二次巻線を巻線軸が平行になるように配置し、二次巻線の互いに相対する面に幅の狭い磁束発生コイルをそれぞれ一体に設けたものとした場合には、二次巻線の空間を導体で充填したものとすることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の電磁溶接機の実施形態について、図を参照しながら具体的に説明する。
図1は第1の実施の形態の回路構成を示すもので、複数の溶接トランス1、1、1の一次巻線2、2、2にコンデンサ3、3、3と半導体スイッチ4、4、4との直列回路がそれぞれ接続してある。複数の溶接トランス1、1、1の二次巻線5、5、5は並列に接続したうえ磁束を発生して溶接する1回巻の磁束発生コイル6に接続してある。溶接トランス1、1、1の数及び巻数比は、溶接条件から必要な電流を磁束発生コイル6に流すために必要な溶接トランスの一次巻線の電流が使用する半導体スイッチの定格以内になるように選んでおく。コンデンサ3、3、3にはそれぞれ図示しないコンデンサ充電装置が接続してあり、半導体スイッチ4、4、4を同時に閉路させる制御装置8が設けてある。
【0014】
個々の溶接トランス1は具体的には一次巻線2と二次巻線5との間の漏れ磁束を減らすため、各巻線を厚さ0.5〜1mmの平板状導体で構成し、絶縁シートを挟んで、0.2〜0.3m2というような比較的に大きな断面の周囲を重ね巻きすることが好ましい。また、巻数の多い一次巻線2の胴体幅を狭く、巻数の少ない二次巻線の導体幅を広くして一次巻線2の巻幅と二次巻線5巻幅を一致させることが好ましい。
【0015】
このような構成の電磁溶接機の磁束発生コイル6の間に被溶接物7である重ね合わせた2枚の金属薄板を置き、コンデンサ3、3、3を充電したうえ制御装置8を動作させて半導体スイッチ4、4、4を閉路すれば、溶接トランス1、1、1の一次巻線2、2、2にコンデンサ3、3、3の放電電流が流れる。溶接トランス1、1、1の二次巻線5、5、5にはそれぞれ巻数比にしたがって電流が流れ、その加え合わされた電流が磁束発生コイル6に流れて被溶接物7が溶接されることになる。磁束発生コイル6の間に被溶接物7を置く際に磁束発生コイル6と被溶接物7との間に絶縁物を介挿して固定しておくことは従来の電磁溶接を行う場合と同様である。
【0016】
板厚0.5〜1mmのアルミニウム薄板を長さ100mmに亘ってシーム溶接するのに必要な溶接電流の最大値は、150〜200kAである。例えば溶接トランス1、1、1の巻数比を全て10:1、数を3個とし、溶接トランス1、1、1の漏れ磁束を無視すれば、各一次巻線2、2、2に流れる電流は溶接電流の30分の1の5〜7kAとなり、半導体スイッチ4、4、4として市販されているサイリスタが並列接続することなく使用可能となる。また、溶接トランス1、1、1は1個あたりの容量を小さくすることができるので、製作することが可能になる。
【0017】
図2は第2の実施の形態の回路構成を示すもので、複数の溶接トランス1、1と複数の溶接トランス11、11の2グループの溶接トランスを備えたものとしてある。各溶接トランス1、1及び11、11の一次巻線2、2及び12、12には第1の実施の形態のものと同様にコンデンサ3、3及び13、13と半導体スイッチ4、4及び14、14の直列回路がそれぞれ接続してある。溶接トランス1、1及び11、11の二次巻線5、5及び15、15はグループごとに並列に接続したうえ磁束発生コイル6と直列に接続してある。
【0018】
このような構成の電磁溶接機の磁束発生コイル6の間に被溶接物7を置き、コンデンサ3、3及び13、13を充電したうえ半導体スイッチ4、4及び14、14を閉路すれば、溶接トランス1、1及び11、11の一次巻線2、2及び12、12にコンデンサ3、3及び13、13の放電電流が流れる。溶接トランス1、1及び11、11の二次巻線5、5及び15、15にはそれぞれ巻数比にしたがって電流が流れ、その加え合わされた電流が磁束発生コイル6に流れて被溶接物7が溶接されることになる。
【0019】
この第2の実施の形態のものでは溶接トランス1、1及び11、11の二次巻線5、5及び15、15が直並列に接続されることになり、例えば溶接トランス1、1及び11、11の巻数比を全て10:1、数をそれぞれ2個とすれば各一次巻線2、2及び12、12に流れる電流は溶接電流の10分の1となる。溶接トランス1、1及び11、11の数を適正に定めることにより、第2の実施の形態のものでも半導体スイッチ4、4及び14、14として市販されているサイリスタが並列接続することなく使用可能となる。また、溶接トランス1、1及び11、11は1個あたりの容量を小さくすることができるので、製作することが可能になる。さらに、溶接トランス1、1及び11、11の巻数比を同じとすれば、第1の実施の形態のものに比べて半導体スイッチ4、4及び14、14が低耐圧のものでよいという利点がある。
【0020】
図3及び図4は第3の実施の形態のものの溶接トランス1の構造を示すもので、溶接トランス1の矩形形状に複数回巻回した複数の一次巻線2、2の内側に矩形形状に一回巻回した二次巻線5を配置し、該二次巻線5の一部を磁束発生コイル6としてある。磁束発生コイル6とした二次巻線5の一部は幅を狭く、電流が集中するようにしたものである。図3では一次巻線2、2が二次巻線5の外側に置かれることになるが、これを二次巻線5の内側あるいは分割して両側に置くこともできる。図3及び図4では省略してあるが、各一次巻線2、2には第1の実施の形態のものと同様にコンデンサと半導体スイッチの直列回路がそれぞれ接続してある。この第3の実施の形態のものの回路構成は図1に示す第1の実施の形態のものと同じになるわけであるが、二次巻線5は共通であり、磁束発生コイル6は二次巻線5と一体になっている。
【0021】
このような構成の電磁溶接装置の磁束発生コイル6に接して被溶接物7を置き、コンデンサを充電したうえ半導体スイッチを閉路すれば、溶接トランス1、1の一次巻線2、2にコンデンサ放電電流が流れる。二次巻線5及び磁束発生コイル6には巻数比にしたがった電流の総和の電流が流れ、被溶接物7が溶接されることになる。この第3の実施の形態のものは第1の実施の形態のものに比べて2次巻線5、5を別途並列に配線する必要がないので配線に無駄がなく、漏れ磁束が少なく、効率がよくなる利点がある。さらに一次巻線2、2の作る磁束の一部も被溶接物に直接に鎖交し、この磁束の向きは磁束発生コイル6に流れる電流の作る磁束と同じであり、効率を向上させることになる。
【0022】
磁束発生コイルをこの第3の実施の形態のもののように構成した場合には、被溶接物7を一回巻の磁束発生コイル6の外側に置くことになる。この場合磁束発生コイル6が発生する磁束は図5に示すように金属薄板に鎖交し、金属薄板5の重ねた部分を押圧する電磁力が働く。同じ電流が流れた場合、鎖交する磁束密度、電磁力は、図9の場合に比べ小さくなるが、流す電流を増加させれば同様にシーム溶接される。重ねた金属薄板の両面に磁束発生コイル6を配置せずにシーム溶接したい場合のほか、1枚の金属薄板を管材などの側面にシーム溶接する場合に利用できる。
【0023】
被溶接物7である金属薄板近くの磁束発生コイル6の導体幅は、電流を集中させてシーム溶接できるように狭くする必要があるが、磁束発生コイル6と一体とした二次巻線5の部分は磁束発生コイル6のように細くする必要はない。一体とした二次巻線5及び磁束発生コイル6には電磁力が働くので、この電磁力による変形を防ぐため、二次巻線5及び磁束発生コイル6を構成する導体の板厚を厚くし、さらに要すれば強固な絶縁材により補強することが好ましい。二次巻線5及び磁束発生コイル6を一次巻線2、2の内側に配置した場合には、二次巻線5及び磁束発生コイル6の板厚を厚くしても二次巻線5及び磁束発生コイル6に流れる電流が外側表皮部分に集中して流れる利点がある。
【0024】
図6は第4の実施の形態のものの溶接トランス1の構造を示すもので、溶接トランス1の矩形形状に複数回巻回した複数の一次巻線2、2の内側に2個の矩形形状に一回巻回した二次巻線5、5が配置してある。この二次巻線5、5の互いに対向する面は幅を狭くして電流が集中するようにし、磁束発生コイル6、6としてある。各々の磁束発生コイル6を一体にした二次コイル5は第3の実施の形態のものと同じ構成になるものである。一次巻線2、2には第1の実施の形態のものと同様にコンデンサと半導体スイッチの直列回路がそれぞれ接続してある。
【0025】
このような構成の電磁溶接装置の磁束発生コイル6、6の間に被溶接物7を置き、コンデンサを充電したうえ半導体スイッチを閉路すれば、溶接トランス1の一次巻線2、2にコンデンサの放電電流が流れる。二次巻線5、5及び磁束発生コイル6、6には巻数比にしたがって電流が流れ、被溶接物7がシーム溶接されることになる。この場合被溶接物7は磁束発生コイル6、6の間に置かれており、第1の実施の形態のものと同様にシーム溶接されるわけである。
【0026】
図7及び図8は第5の実施の形態のものの溶接トランス1の構造を示すもので、溶接トランス1の矩形形状に複数回巻回した複数の一次巻線2、2の内側に2個の一回巻の二次巻線5、5を配置し、該二次巻線5、5の互いに対向する面を磁束発生コイル6、6としてある。この二次巻線5は台形形状の導体であって、一次巻線2、2からの誘導電流であるパルス状の溶接電流は、図7に点線で示すように周辺の表面に近い部分に流れ、幅の狭い磁束発生コイル6、6になる部分では電流が集中して流れることになる。一次巻線2、2には第1の実施の形態のものと同様にコンデンサと半導体スイッチの直列回路がそれぞれ接続してある。
【0027】
このような構成の電磁溶接機の磁束発生コイル6、6の間に被溶接物7を置き、コンデンサを充電したうえ半導体スイッチを閉路すれば、溶接トランス1の一次巻線2、2にコンデンサの放電電流が流れる。二次巻線5、5及び磁束発生コイル6、6になる部分には巻数比にしたがって電流が流れ、被溶接物7がシーム溶接されることになる。このような二次巻線5、5を使用した場合には、溶接電流が内部にも少しは分布して流れるためエネルギー効率が多少悪くなるが、磁束発生コイルの耐久性を著しく向上させることができる利点がある。
【0028】
【発明の効果】
以上説明した本発明によれば、複数の溶接トランスあるいは複数の一次巻線を備えた溶接トランスを使用するようにしたので個別の一次巻線に流れる電流は一次巻線の数に応じて小さくすることができ、スイッチとして半導体素子を使用することができる。これにより放電ギャップスイッチを使用する必要がなくなり、放電ギャップスイッチの使用にともなう接点の損傷、消耗、騒音の発生等の問題が解消される利点がある。したがって、従来の問題点を解決し実用性を増した半導体スイッチおよび溶接トランスを使用した電磁溶接装置を提供するものとして業界に寄与するところ極めて大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を示す結線図である。
【図2】本発明の第2の実施の形態を示す結線図である。
【図3】本発明の第3の実施の形態の溶接トランスの構成を示す平面図である。
【図4】本発明の第3の実施の形態の溶接トランスの構成を示す正面図である。
【図5】第3の実施の形態のものの磁束の状態を示す図である。
【図6】本発明の第4の実施の形態の溶接トランスの構成を示す正面図である。
【図7】本発明の第5の実施の形態の溶接トランスの構成を示す正面図である。
【図8】本発明の第5の実施の形態の溶接トランスの構成を示す縦断側面図である。
【図9】電磁溶接法の原理を示す構成図である。
【図10】磁束発生コイルと被溶接物の配置を示す図である。
【図11】溶接部の電流と磁束を示す図である。
【図12】従来の電磁溶接装置に溶接トランスを組み合わせた例を示す結線図である。
【図13】従来の電磁溶接装置に溶接トランスを組み合わせた別の例を示す結線図である。
【符号の説明】
1 溶接トランス
2 一次巻線
3 コンデンサ
4 半導体スイッチ
5 二次巻線
6 磁束発生コイル
7 被溶接物
8 制御装置
11 溶接トランス
12 一次巻線
13 コンデンサ
14 半導体スイッチ
15 二次巻線[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
BACKGROUND OF THE
[0002]
[Prior art]
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-192562
As a method of easily seam-welding a thin metal plate such as aluminum, there is an electromagnetic welding method as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-192562 considered by one of the present inventors. In this electromagnetic welding method, as shown in FIG. 9 and FIG. 10, two thin metal plates are stacked as a
[0004]
In this electromagnetic welding method, for example, when the magnetic
[0005]
In order to solve these problems, it is conceivable to use a welding transformer. For example, if a
[0006]
When a welding transformer is used, if the electromagnetic coupling between the primary winding and the secondary winding is poor, a leakage magnetic flux is generated, and a loss occurs when electromagnetic energy is transmitted to the magnetic flux generating coil side. Conventionally, a general transformer uses an iron core to enhance electromagnetic coupling between a primary winding and a secondary winding. However, in the electromagnetic welding method, the current value is large, and its time change is fast, so that the iron core is saturated, and it is impossible to use the iron core. A magnetic core for high frequency instead of an iron core is also conceivable, but there is no suitable one for high power. Therefore, it is necessary to enhance the electromagnetic coupling between the primary winding and the secondary winding of the welding transformer without the iron core and the magnetic core, and it has been difficult to actually use the welding transformer.
[0007]
In view of the above, one of the inventors of the present invention has considered a device and a welding method in which a magnetic flux generating coil and a transformer secondary winding are integrated and arranged inside a welding transformer primary winding, and a method disclosed in Japanese Patent Application No. 2001-214,197. Pending as 118864. The present invention solves the problem of leakage magnetic flux by integrating a magnetic flux generating coil and a secondary winding of a transformer, thereby eliminating the need for separately providing a welding transformer.
[0008]
However, even if the problem of the welding transformer is solved, the capacitor and the semiconductor switch need to be in parallel or in series, and when the capacitor and the semiconductor switch are in parallel, it is difficult to distribute the current evenly to each parallel branch. There was a problem that is. Further, in both cases where the capacitor and the semiconductor switch are arranged in parallel or in series, all current, that is, large energy is concentrated on the primary winding of the welding transformer having a large inductance. Since the temporal change of the high-density magnetic flux generated by the concentrated current is fast, a large voltage is induced, and there is a problem that protection measures for the semiconductor switch are not easy.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made to solve the above problems, and to provide an electromagnetic welding apparatus using a semiconductor switch and a welding transformer that uses a semiconductor switch instead of a discharge gap switch and does not cause damage, wear, and noise of contacts. It was done in.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to
[0011]
In order to solve the same problem, a second aspect of the present invention includes a magnetic flux generating coil having a narrow width for generating a high-density magnetic flux, and applying a magnetic flux generated by the magnetic flux generating coil to a stacked metal thin plate. An electromagnetic welding apparatus using a semiconductor switch and a welding transformer, which generates an eddy current and an electromagnetic force by using the eddy current and the electromagnetic force to seam-weld a thin metal plate, and includes a plurality of primary windings. A welding transformer is provided, one or more secondary windings of the welding transformer are common to the plurality of primary windings, and a part of the secondary windings is a magnetic flux generating coil, and each primary winding is a semiconductor. A control device for a semiconductor switch connected to a capacitor via a switch and simultaneously closing each semiconductor switch and discharging the electric charge accumulated in each capacitor through the primary winding of each welding transformer is provided. It is characterized in.
[0012]
According to the second aspect of the present invention, the secondary winding may be one, and the magnetic flux generating coil having a small width may be integrally provided on one surface of the secondary winding. A wire having two wires, the two secondary windings being arranged so that the winding axes are parallel to each other, and a narrow magnetic flux generating coil provided integrally on the mutually facing surfaces of the secondary windings; can do. Two secondary windings are provided, and the two secondary windings are arranged so that the winding axes are parallel to each other. Narrow magnetic flux generating coils are provided integrally on surfaces of the secondary windings facing each other. In this case, the space of the secondary winding can be filled with a conductor.
[0013]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Next, an embodiment of the electromagnetic welding machine of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a circuit configuration of the first embodiment, in which a plurality of
[0014]
In order to reduce the leakage magnetic flux between the primary winding 2 and the secondary winding 5, each of the
[0015]
The superposed two thin metal plates as the
[0016]
The maximum value of the welding current required for seam welding a thin aluminum plate having a thickness of 0.5 to 1 mm over a length of 100 mm is 150 to 200 kA. For example, if the turns ratio of the
[0017]
FIG. 2 shows a circuit configuration of the second embodiment, which is provided with two groups of welding transformers, a plurality of
[0018]
If the
[0019]
In the second embodiment, the
[0020]
FIGS. 3 and 4 show the structure of a
[0021]
When the
[0022]
When the magnetic flux generating coil is configured as in the third embodiment, the
[0023]
The conductor width of the magnetic
[0024]
FIG. 6 shows the structure of the
[0025]
When the
[0026]
FIGS. 7 and 8 show the structure of a
[0027]
When the
[0028]
【The invention's effect】
According to the present invention described above, since a plurality of welding transformers or a welding transformer having a plurality of primary windings is used, the current flowing through each individual primary winding is reduced according to the number of primary windings. And a semiconductor element can be used as a switch. This eliminates the need to use a discharge gap switch, and has the advantage of eliminating problems such as damage to contacts, wear, and noise caused by the use of the discharge gap switch. Accordingly, it is extremely important to provide an electromagnetic welding apparatus using a semiconductor switch and a welding transformer which solves the conventional problems and has increased practicality, and which contributes to the industry.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a connection diagram showing a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a connection diagram showing a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a welding transformer according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a front view illustrating a configuration of a welding transformer according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a diagram showing a state of a magnetic flux of the third embodiment.
FIG. 6 is a front view illustrating a configuration of a welding transformer according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a front view showing a configuration of a welding transformer according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a vertical sectional side view showing a configuration of a welding transformer according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a configuration diagram showing the principle of the electromagnetic welding method.
FIG. 10 is a diagram showing an arrangement of a magnetic flux generating coil and a workpiece.
FIG. 11 is a diagram showing a current and a magnetic flux of a welding portion.
FIG. 12 is a connection diagram showing an example in which a welding transformer is combined with a conventional electromagnetic welding device.
FIG. 13 is a connection diagram showing another example in which a welding transformer is combined with a conventional electromagnetic welding apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002280807A JP4024119B2 (en) | 2002-09-26 | 2002-09-26 | Electromagnetic welding equipment using semiconductor switch and welding transformer |
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