JP2004069317A - Size measuring instrument and size measuring method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、寸法測定装置に関するものであり、詳しくは被測定物に照射した光の反射光から被測定物の寸法を測定する光学式寸法測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
例えば、磁気記録ヘッドの記録トラック幅を測定する場合、光学式寸法測定装置が用いられる。こういった光学式寸法測定装置は、走査型電子顕微鏡(SEM)や原子間力顕微鏡(AFM)などと比べて測定サンプルの作成が容易であり、被測定物を簡単に測定することができる。例えば、特開2001−264024には、光学式寸法測定装置が記載されている。こういった光学式寸法測定装置では、光源から被測定物に対して光を照射する。そして被測定物の反射光の光強度分布信号に基づいて、被測定物のエッジ間寸法は算出される。こうして被測定物の寸法は測定される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
光学式寸法測定装置では、測定可能な被測定物の最小寸法は照射する光源の波長に依存する。すなわち、波長の短い光を光源に利用するほど微細な被測定物の測定が可能になる。例えば、光源に紫外線(λ=365nm)を用いた光学式寸法測定装置では、開口数N.A=0.95とすると235nm程度までが寸法測定の限界であった。
【0004】
図12にUV顕微鏡を用いて従来の手法で測定した場合のグラフを示す。測定条件は開口数N.A=0.95、光源の波長365μmに設定された。また、比較としてSEMによる測定値とUV顕微鏡による測定値とを同じ値にした理想線を示した。図12によれば、測定サンプル幅が0.3μmよりも小さくなると、UV顕微鏡による測定値は徐々に実際の測定サンプル幅と乖離し始めることが確認された。そして0.1μmより小さくなると実際の測定サンプル幅が小さくなってもUV顕微鏡による測定値は変化しなくなることが判明した。そのため、このままUV−SEM間の相関曲線を求めても、SEMとの乖離が大きくなる部分では正確な測定ができない。UV顕微鏡によって微小なサンプルを正確に測定するには、図中矢印のようにUV顕微鏡による測定値を理想線に近づけることが必要である。
【0005】
近年ますます微細化する記録トラックの幅を簡易に、かつ正確に測定するために、紫外線など利用が容易な光源を用いて微細な被測定物の正確な測定が可能な測定装置が望まれていた。
【0006】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、微細な測定物を簡単、かつ正確に測定が可能な寸法測定装置および寸法測定方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、第1の発明においては、光源から被測定物に照射された光の反射光を受光して、被測定物の光強度分布信号を生成する手段と、得られた光強度分布信号のうち、予め規定された閾値以下の領域をカットして補正信号を生成する手段と、この補正信号に基づいて被測定物の寸法を算出する手段とを備えることを特徴とする寸法測定装置が提供される。
【0008】
こういった寸法測定装置によれば、可視光線や近紫外線を光源として利用した寸法測定装置であっても、従来測定が困難であった微細な被測定物を正確に測定することが可能になる。
【0009】
こういった光源は365nm以下の波長の光を照射するものであればよい。光源として近紫外線が用いられれば、寸法測定装置をローコストに構成することができる。
【0010】
第2の発明においては、光源から被測定物に照射された光の反射光を受光して、被測定物の光強度分布信号を生成する工程と、得られた光強度分布信号のうち、予め規定された閾値以下の領域をカットして補正信号を生成する工程と、この補正信号に基づいて被測定物の寸法を算出する工程とを備えることを特徴とする寸法測定方法が提供される。
【0011】
こういった寸法測定方法によれば、可視光線や近紫外線など、波長の長い光源を利用した寸法測定装置であっても、従来測定が困難であった微細な被測定物を正確に測定することが可能になる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。図1は、本発明の一実施の形態である寸法測定装置を示すブロック図である。寸法測定装置10は、表面に被測定物11例えばヘッドスライダを載置するステージ12を備える。ステージ12は、ステージドライバ23によってXY方向に可能にされる。
【0013】
ステージ12の上部にはハーフミラー14が備えられる。ハーフミラー14は光源15から照射された光をステージ12に向けて反射させる。光源15は、例えば365nmの近紫外線を照射する。光源15から照射される光は、光学フィルター20を通過してハーフミラー14に向かう。
【0014】
ハーフミラー14の上部には結像レンズ16および固体撮像素子(CCD)17が備えられる。固体撮像素子(CCD)とは、その表面に結ばれた像すなわち光信号を縦横の格子状画素に分解し、各画素毎に光信号を電気信号に変換するものである。この実験では縦480×横512ドットの画素を持つNTSC仕様の固体撮像素子を用いている。結像レンズ16は、光源15から照射された光がステージ12および被測定物11で反射された反射光を集光し、CCD17に結像させる。CCD17は、入射した光を光電変換する。そして被測定物11の画像信号を出力する。CCD17にはA/Dコンバータ18が接続される。A/Dコンバータ18はCCD17から出力された画像信号をA/D変換し、被測定物11の光強度分布信号として計算機19に入力する。
【0015】
寸法測定装置10は計算機19を備える。こういった計算機19は、例えばパーソナルコンピュータであればよい。計算機19には、RAM21、ROM22、モニタ装置24、およびステージドライバ23が接続される。RAM21は入力された光強度分布信号を処理する際にデータを記憶する。ROM22は後述する閾値の設定情報などが記憶される。モニタ装置24は寸法測定結果などを表示する。ステージドライバ24はステージ23の移動を制御する。
【0016】
以上のような構成の寸法測定装置10の作用を詳述する。いま、図2に示す微細な被測定物11の幅W1を測定する場面を想定する。図1に示すように、被測定物11をステージ12上の所定位置に載置する。光源15から被測定物11に向けて近紫外線を照射する。光源の光はステージ12上で反射光として反射される。被測定物11の画像を含む反射光はハーフミラー14を介して集光レンズ16で収束される。CCD17の受光面には被測定物11の画像が結像する。
【0017】
CCD17は、受光した被測定物11の画像を含む反射光を光電変換し、被測定物11の画像信号としてA/Dコンバータ18に向けて出力する。A/Dコンバータ18は入力された画像信号をA/D変換し、被測定物11の光強度分布信号として計算機19に入力する。計算機19は入力された被測定物11の光強度分布信号を一旦RAM21に格納する。
【0018】
図3に入力された光強度分布信号の測定例を示す。10種類の大きさの異なるサンプルが測定された。図3によれば、被測定物の大きさが1.0μm、0.7μm、0.5μmではピークの光強度は低下しないが、0.5μmよりも小さくなると、ピークでの平坦部分は消えて、被測定物の光強度プロファイルは低下していくことがわかる。こうした光強度プロファイルに着目すると、被測定物の大きさが減少するにつれて、光強度プロファイル曲線の下部よりも上部のほうが変化が大きい。
【0019】
本発明では、こうした微細な被測定物の光強度プロファイル曲線の特性に着目した。即ち、光強度プロファイル曲線の変化が大きい上部領域だけを取り出して測定値を算出する。そのために、まず図3に示すように、被測定物の光強度プロファイルに閾値25を設定する。例えば、UV顕微鏡を用いて従来の測定手法では正確に測定が不可能だった0.3μmの測定サンプルを測定する場面を想定する。0.3μmの被測定物11の光強度分布信号は、両側部分が緩やかに傾斜している。こういった形態の光強度分布信号は、そのままでは被測定物11のエッジを正確に検出することはできない。
【0020】
計算機19はROM22から閾値の設定情報を読み出す。図4に示されるように、閾値は光強度分布信号の両側の緩やかに傾斜している部分よりも上に設定されればよい。閾値25は例えば30〜40%に設定されればよい。こうした閾値は、濃淡のない均一なベタ膜を測定した時の光強度を100%として、これを基準とした光強度の割合である。
【0021】
いま、閾値25は35%に設定されたと想定する。図5に示されるように、計算機19は設定された閾値25に基づいて、光強度分布信号の閾値25よりも下の領域をカットする。光強度分布信号は傾斜の急な部分、即ち被測定物11のエッジが検出しやすい領域だけが残される。こうして閾値25に基づいて補正された補正信号は、計算機19で隣接する画素間の差分をとり1次微分される。
【0022】
図6に示されるように、1次微分された補正信号は、予め閾値25よりも下の領域がカットされているため、被測定物11の両エッジを正確に表現している。計算機19は1次微分された補正信号の2つの頂点X1およびX2間の距離を算出する。こうしてX1およびX2間の距離に基づいて、被測定物11の微細な幅W1は正確に測定される。
【0023】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば可視光線や紫外線を光源として用いた光学式寸法測定器であっても、0.1〜0.3μm程度の微細な寸法の被測定物を測定することが可能になる。しかも、被測定物の画像から得られた光強度分布信号の一部を、閾値を基準にカットすることで、光源の波長に近い微細な寸法の被測定物であっても、正確にエッジを検出して寸法を測定することが可能である。
【0024】
本出願人は、本発明による寸法測定とSEMによる寸法測定との相関性を検証した。検証にあたって1〜3の3種類の材料が準備された。それぞれの材料から0.15〜0.6μmの範囲で0.05μm刻みに寸法の異なる多数の測定サンプルが作成された。測定光源として紫外線が採用された。閾値は40%に設定された。こうして、本発明によって測定されたサンプルの測定値を縦軸に、SEMによる測定値を横軸に示した相関性グラフを図7に示す。
【0025】
一方、検証にあたっては比較例が準備された。測定サンプルは図7に示す本発明による測定と同様の測定サンプルが準備された。測定光源として紫外線が採用された。測定サンプルの光強度分布信号は一部をカットすることなく、そのまま測定に使用された。こうして、従来の方法によって測定されたサンプルの測定値を縦軸に、SEMによる測定値を横軸に示した相関性グラフを図8に示す。
【0026】
図7に示す測定結果によれば、本発明によって寸法測定された0.15〜0.6μmの微細なサンプルは、SEMによる寸法測定結果と強い相関性が見られた。光源の波長に近い微細な被測定物も本発明によれば正確に測定されることが確認された。一方、図8に示す比較例では、測定サンプルが0.4μm以下になると相関性は低下した。従来の方法では光源の波長に近い微細な被測定物は正確に測定できなかった。
【0027】
本出願人は、前述した図7、図8の結果に基づいて、これらの測定のばらつきを検証した。検証にあたって図7、図8に示した検証と同様の測定サンプルが準備された。これらのサンプルを本発明による測定、および従来の方法による測定によって、25回繰り返し測定を実施した。本発明による測定結果を図9に示す。また、従来の方法による測定結果を図10に示す。
【0028】
図9に示す測定結果によれば、0.15〜0.3μmの範囲においても測定のばらつきは低く抑えられている。微細な被測定物の測定においても、信頼性が十分確保されていることが確認された。一方、図10に示す比較例では、0.3μm以下では測定結果に大きなばらつきが出る結果となった。微細な被測定物の測定時には十分な信頼性は確保されないことが判明した。
【0029】
更に本出願人は、本発明の測定方法における最適な閾値の設定を検証した。検証にあたって0.1〜0.45μmの範囲で0.05μm刻みに寸法の異なる多数の測定サンプルが作成された。これら多数の測定サンプルを用い、閾値を0%,30%,40%,45%,50%にそれぞれ設定し、測定サンプルの光強度分布信号を上述した閾値でそれぞれカットした後、寸法を計測した。こうして、本発明によって測定されたサンプルの測定値を縦軸に、SEMによる測定値を横軸に示し、それぞれの閾値での平均的な値を線で表したグラフを図11に示す。
【0030】
図11に示す測定結果によれば、被測定物の光強度分布信号をカットする閾値は、太線で示される理想値に近い30〜40%に設定されれば良いことが確認された。閾値が30〜40%に設定されれば、0.1〜0.2μmの微細な被測定物であっても本発明によって正確に寸法測定が可能であることは判明した。
【0031】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、微細な被測定物を簡単、かつ正確に測定が可能な寸法測定装置および寸法測定方法を提供することは可能になる。こうした微細な被測定物の測定に、測定が容易なUV顕微鏡などを用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の寸法測定装置を示す説明図である。
【図2】図2は、寸法測定のサンプルを示す説明図である。
【図3】図3は、寸法測定における被測定物の光強度分布信号を示す説明図である。
【図4】図4は、寸法測定における閾値設定を示す説明図である。
【図5】図5は、閾値でのカットされた光強度分布信号を示す説明図である。
【図6】図6は、光強度分布信号を微分して得た補正信号を示す説明図である。
【図7】図7は、本発明によって測定された相関性グラフである。
【図8】図8は、従来の方法によって測定された相関性グラフである。
【図9】図9は、本発明による測定のばらつきを検証したグラフである。
【図10】図10は、従来の方法による測定のばらつきを検証したグラフである。
【図11】図11は、本発明による最適な閾値の設定を測定したグラフである。
【図12】図12は、UV顕微鏡を用いて従来の手法で測定した実測値と理想値との対比を示すグラフである。
【符号の説明】
10 寸法測定装置
11 被測定物
15 光源
19 計算機
25 閾値[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a dimension measuring apparatus, and more particularly, to an optical dimension measuring apparatus for measuring a dimension of an object from reflected light of light applied to the object.
[0002]
[Prior art]
For example, when measuring the recording track width of a magnetic recording head, an optical dimension measuring device is used. Such an optical dimension measuring device can easily prepare a measurement sample as compared with a scanning electron microscope (SEM), an atomic force microscope (AFM), or the like, and can easily measure an object to be measured. For example, JP-A-2001-264024 describes an optical dimension measuring device. In such an optical dimension measuring device, light is emitted from a light source to an object to be measured. Then, the edge-to-edge dimension of the measured object is calculated based on the light intensity distribution signal of the reflected light from the measured object. Thus, the dimensions of the object to be measured are measured.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
In an optical dimension measuring device, the minimum dimension of an object to be measured depends on the wavelength of a light source to be irradiated. In other words, the use of light having a shorter wavelength as a light source enables a finer measurement of the DUT. For example, in an optical dimension measuring apparatus using ultraviolet light (λ = 365 nm) as a light source, a numerical aperture N.D. Assuming that A = 0.95, the dimension measurement limit was up to about 235 nm.
[0004]
FIG. 12 shows a graph in the case where measurement is performed by a conventional method using a UV microscope. The measurement conditions were numerical aperture N. A was set to 0.95, and the wavelength of the light source was set to 365 μm. As a comparison, an ideal line in which the measured value by the SEM and the measured value by the UV microscope were set to the same value was shown. According to FIG. 12, it was confirmed that when the measurement sample width became smaller than 0.3 μm, the measured value by the UV microscope gradually began to deviate from the actual measurement sample width. It has been found that when the diameter is smaller than 0.1 μm, the value measured by the UV microscope does not change even if the actual measurement sample width becomes smaller. Therefore, even if the UV-SEM correlation curve is obtained as it is, accurate measurement cannot be performed in a portion where the deviation from the SEM becomes large. In order to accurately measure a minute sample with a UV microscope, it is necessary to bring the measured value with the UV microscope closer to an ideal line as indicated by an arrow in the figure.
[0005]
In order to easily and accurately measure the width of a recording track that is becoming increasingly finer in recent years, a measuring apparatus that can accurately measure a fine object to be measured using an easily available light source such as ultraviolet light is desired. Was.
[0006]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a dimension measuring apparatus and a dimension measuring method capable of easily and accurately measuring a fine measurement object.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, according to a first aspect, there is provided means for receiving reflected light of light emitted from a light source to an object to be measured and generating a light intensity distribution signal of the object to be measured. Out of the light intensity distribution signal, a means for generating a correction signal by cutting a region equal to or less than a predetermined threshold, and a means for calculating the size of the device under test based on the correction signal. A dimension measuring device is provided.
[0008]
According to such a dimension measuring apparatus, even a dimension measuring apparatus using visible light or near-ultraviolet light as a light source can accurately measure a fine object to be measured, which has been difficult to measure conventionally. .
[0009]
Such a light source may be one that emits light having a wavelength of 365 nm or less. If near-ultraviolet light is used as the light source, the dimension measuring device can be configured at low cost.
[0010]
In the second invention, a step of receiving reflected light of light emitted from the light source onto the object to be measured and generating a light intensity distribution signal of the object to be measured; There is provided a dimension measuring method including a step of generating a correction signal by cutting an area equal to or less than a prescribed threshold value, and a step of calculating a dimension of an object to be measured based on the correction signal.
[0011]
According to such a dimension measuring method, even a dimension measuring apparatus using a light source having a long wavelength, such as visible light or near ultraviolet light, can accurately measure a fine object to be measured, which has been difficult to measure conventionally. Becomes possible.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a dimension measuring device according to one embodiment of the present invention. The
[0013]
A
[0014]
An
[0015]
The
[0016]
The operation of the
[0017]
The
[0018]
FIG. 3 shows a measurement example of the input light intensity distribution signal. Ten different sized samples were measured. According to FIG. 3, when the size of the object to be measured is 1.0 μm, 0.7 μm, and 0.5 μm, the light intensity of the peak does not decrease, but when it is smaller than 0.5 μm, the flat portion at the peak disappears. It can be seen that the light intensity profile of the measured object decreases. Focusing on such a light intensity profile, as the size of the device under test decreases, the change in the upper part of the light intensity profile curve is larger than that in the lower part.
[0019]
In the present invention, attention has been paid to the characteristics of the light intensity profile curve of such a minute object to be measured. That is, only the upper region where the change of the light intensity profile curve is large is taken out and the measured value is calculated. For this purpose, first, as shown in FIG. 3, a
[0020]
The
[0021]
Now, it is assumed that the
[0022]
As shown in FIG. 6, the first-order differentiated correction signal accurately represents both edges of the device under
[0023]
As described above in detail, according to the present invention, even in the case of an optical dimension measuring device using visible light or ultraviolet light as a light source, an object to be measured having a minute dimension of about 0.1 to 0.3 μm can be measured. It becomes possible to measure. In addition, by cutting a part of the light intensity distribution signal obtained from the image of the device under test based on the threshold value, even if the device under test has a fine size close to the wavelength of the light source, the edge can be accurately detected. It is possible to detect and measure the dimensions.
[0024]
The present applicant has verified the correlation between the dimension measurement according to the present invention and the dimension measurement by the SEM. For verification, three types of
[0025]
On the other hand, a comparative example was prepared for verification. A measurement sample similar to the measurement according to the present invention shown in FIG. 7 was prepared. Ultraviolet light was employed as the measurement light source. The light intensity distribution signal of the measurement sample was used for measurement as it was without cutting a part. FIG. 8 shows a correlation graph in which the measured value of the sample measured by the conventional method is shown on the vertical axis and the measured value by SEM is shown on the horizontal axis.
[0026]
According to the measurement results shown in FIG. 7, the fine sample of 0.15 to 0.6 μm dimensioned according to the present invention had a strong correlation with the dimension measurement result by SEM. It has been confirmed that a minute object to be measured close to the wavelength of the light source can be accurately measured according to the present invention. On the other hand, in the comparative example shown in FIG. 8, when the measurement sample became 0.4 μm or less, the correlation decreased. In the conventional method, a minute object to be measured close to the wavelength of the light source could not be measured accurately.
[0027]
The present applicant has verified the dispersion of these measurements based on the results of FIGS. 7 and 8 described above. For the verification, a measurement sample similar to the verification shown in FIGS. 7 and 8 was prepared. These samples were repeatedly measured 25 times by the measurement according to the present invention and the measurement according to the conventional method. FIG. 9 shows the measurement results according to the present invention. FIG. 10 shows a measurement result obtained by a conventional method.
[0028]
According to the measurement results shown in FIG. 9, the variation in the measurement is kept low even in the range of 0.15 to 0.3 μm. It was confirmed that the reliability was sufficiently ensured even in the measurement of a minute object to be measured. On the other hand, in the comparative example shown in FIG. 10, when the thickness is 0.3 μm or less, a large variation appears in the measurement results. It has been found that sufficient reliability is not ensured when measuring a minute object to be measured.
[0029]
Furthermore, the present applicant has verified the setting of the optimum threshold value in the measurement method of the present invention. In the verification, a large number of measurement samples having different dimensions were prepared in the range of 0.1 to 0.45 μm in increments of 0.05 μm. Using these many measurement samples, the thresholds were set to 0%, 30%, 40%, 45%, and 50%, and the light intensity distribution signals of the measurement samples were cut at the above-described thresholds, respectively, and then the dimensions were measured. . Thus, FIG. 11 shows a graph in which the measured values of the sample measured by the present invention are shown on the vertical axis, the measured values by SEM are shown on the horizontal axis, and the average value at each threshold value is represented by a line.
[0030]
According to the measurement results shown in FIG. 11, it has been confirmed that the threshold for cutting the light intensity distribution signal of the device under test may be set to 30 to 40%, which is close to the ideal value indicated by the thick line. It has been found that if the threshold value is set to 30 to 40%, accurate measurement of dimensions can be performed by the present invention even for a fine object to be measured having a size of 0.1 to 0.2 μm.
[0031]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a dimension measuring apparatus and a dimension measuring method capable of simply and accurately measuring a minute object to be measured. For the measurement of such a minute object to be measured, a UV microscope or the like, which can be easily measured, can be used.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory view showing a dimension measuring apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is an explanatory view showing a sample for dimension measurement.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a light intensity distribution signal of an object to be measured in dimension measurement.
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating threshold setting in dimension measurement.
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a light intensity distribution signal cut at a threshold.
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating a correction signal obtained by differentiating a light intensity distribution signal.
FIG. 7 is a correlation graph measured according to the present invention.
FIG. 8 is a correlation graph measured by a conventional method.
FIG. 9 is a graph verifying measurement variations according to the present invention.
FIG. 10 is a graph verifying a variation in measurement by a conventional method.
FIG. 11 is a graph showing the measurement of an optimum threshold setting according to the present invention.
FIG. 12 is a graph showing a comparison between an actually measured value and an ideal value measured by a conventional method using a UV microscope.
[Explanation of symbols]
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