JP2004055225A - Method for manufacturing organic el element - Google Patents

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JP2004055225A
JP2004055225A JP2002208444A JP2002208444A JP2004055225A JP 2004055225 A JP2004055225 A JP 2004055225A JP 2002208444 A JP2002208444 A JP 2002208444A JP 2002208444 A JP2002208444 A JP 2002208444A JP 2004055225 A JP2004055225 A JP 2004055225A
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organic
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Akinari Kume
久米 昭也
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element wherein oxygen and moisture contents are reduced. <P>SOLUTION: There is provided a method for manufacturing the organic EL element which includes a process of forming an organic layer by adhering coating liquid prepared in an inert gas of a 5% or less moisture content and a 4,000 ppm or less oxygen concentration to a body to be treated, and by making a thin film of the liquid on the object. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機EL素子の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、各種産業機器の表示装置のユニットや画素に用いられている電界発光素子として有機エレクトロルミネセンス(electroluminescence)素子(以下有機EL素子という)が知られている。
【0003】
図1は有機EL素子の主要部の代表的概略断面図である。有機EL素子は透明なガラス基板11の表面に透明な陽極12が形成され、さらに陽極12上には有機蛍光体薄膜や有機正孔輸送層等から成る有機層13が形成されてさらにその上には金属からなる陰極14が真空蒸着等によって形成されている。
【0004】
有機材料の薄膜形成方法については多様な成膜方法が知られているが、真空蒸着やスパッタによる成膜法は高真空でのバッチ処理であり長時間を必要とするため量産効率が悪い。
【0005】
有機層13は可能ならば有機発光体材料、正孔注入材料、電子注入材料等を溶液化してスプレー法、スピンナ法、浸漬塗布法、スクリーン印刷法、ロ−ルコーター法、LB法等で電極上に塗布すると量産効率がよい。
【0006】
また、有機EL素子は、陰極14と陽極12間に接続された駆動電源15から供給される電圧によって両極間に位置する有機層13に電流が流れ、陰極14および陽極12のパターン形状に応じて発光し、透明なガラス基板11を介して表示される。
【0007】
有機EL素子は一定期間駆動すると、発光輝度、発光の素子内均一性等の発光特性が初期に比べて著しく劣化するという欠点を有しており、このような発光特性の劣化を招く原因としては水分と酸素が考えられている。有機EL素子の構成部品の表面に吸着している水分や有機EL素子内に侵入した水分が、一対の電極とこれらにより挟持された有機発光材料層との積層体中に陰極表面の欠陥等から侵入して有機発光材料層と陰極との間の剥離を招き、その結果、通電しなくなることに起因して発光しない部位、いわゆる黒点(ダ−クスポット)が発生することが知られている。また、水分により有機EL層の凝集や結晶化が進行して素子が劣化するとも考えられている。酸素による有機EL層の酸化もダ−クスポット発生、成長、経時輝度劣化の要因と考えられている。
【0008】
そこで、このダ−クスポットの発生を防止するためには有機EL素子雰囲気の湿度を下げ、酸素を遮断する必要がある。従来、素子の雰囲気が高湿状態になるのを防止する手段を設けた有機EL素子としては、例えば、陽極、有機発光材料層、陰極を積層してなる構造体の外側に、さらに乾燥剤を含有する保護層および封止層を積層した構造を有するもの(特開平7−169567号公報参照)、対向する一対の電極間に有機発光材料層が挟持された積層体を気密ケース内に収納し、この積層体から隔離して気密ケース内に五酸化二リン(P)からなる乾燥手段を配設することにより気密ケース内に積層体と乾燥手段とを中空封止してなるもの(特開平3−261091号公報参照)、フロン溶液などの不活性液体で素子を封止してしまうもの(特開平8−078159)などが提案されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来例では有機EL素子の雰囲気中の水分と酸素を除去することはできても、ウエット成膜で積層された有機EL素子内部の初期の水分と酸素を除去することができず、乾燥剤等が素子内部の水分を吸着するまでに素子の劣化が進行してしまう。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明は互いに対向する電極間に、少なくとも有機発光層を含む1層以上の有機薄膜層が介在して構成される有機EL素子の製造方法において、水分含有率5%以下、かつ、酸素濃度4000ppm以下の不活性ガス中で調製した塗布液を被処理体に付着し前記被処理体上で薄膜化させることによって前記有機薄膜層を得る工程を有することを特徴とする有機EL素子の製造方法を提供する。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施形態について説明する。
【0012】
陽極12は、ガラスやプラスチックフィルム等の透明絶縁性の基板11上にITOや酸化亜鉛アルミニウムのような透明導電性物質を真空蒸着やスパッタリング法等で被覆した表面抵抗10〜50Ω/□、可視光線透過率80%以上の透明電極、又は金やプラチナを薄く蒸着した半透明電極やポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等の高分子を被覆した半透明電極が望ましい。
【0013】
次に、本発明における有機EL層を塗布液を付着させ薄膜化させるいわゆるウエット成膜方法により薄膜形成する場合の例を挙げる。
【0014】
正孔輸送層としては、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリフェニレン及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、トリアリールアミン骨格を有するポリオレフィン、ポリアクリル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリイミド等が使用できるが、これらに限定されるものではない。これら化合物を溶解可能な有機溶剤に溶解しスプレー法、スピンナ法、浸漬塗布法、スクリーン印刷法、ロ−ルコーター法、LB法等で電極上に成膜する。
【0015】
これら化合物を溶解する有機溶剤を付着させる被処理体とはこの電極であったり、あるいは他の有機層であってもよい。
【0016】
実用的な有機溶剤類として代表的なものは、トルエン、キシレン、もしくはベンゼンの如き芳香族炭化水素類、n−ヘプタン、n−ヘキサンもしくはn−オクタンの如き脂肪族炭化水素類、石油ベンジン、石油エーテル、リグロイン、ミネラルスプリット、石油ナフサもしくはケロシンの如き、沸点が30〜300℃なる範囲の炭化水素混合物類、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンもしくはエチルシクロヘキサンの如き脂環式炭化水素類、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、イソペンタノール、n−ヘキサノール、n−オクタノール、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルもしくはプロピレングリコールモノエチルエーテルの如きアルコール類、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテルもしくはジ−n−ブチルエーテルの如きエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソブチルケトンもしくはイソホロンの如きケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートもしくはエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートの如きエステル類、またはクロロホルム、メチレンクロライド、四塩化炭素、トリクロルエタンもしくはテトラクロロエタンの如き塩素化炭化水素類などをはじめ、さらには、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジエチルアセトアミドまたはエチレンカーボネートなどがある。かかる有機溶剤類は単独使用でも、2種以上の併用でもよい。
【0017】
これら正孔輸送層材料を有機溶剤に溶解する際、一般室で調製したのでは部屋の水分、酸素、さらには塵(パ−ティクル)なども溶液中に混入してしまい有機El素子の劣化を回避することは出来ない。そこで本発明では、グロ−ブボックスのような密閉作業空間を水分含有率5%以下、かつ、酸素濃度4000ppm以下の不活性ガスで満たし、この中で有機材料の秤量、溶解等の調製を行い、水分や酸素の混入を回避する。当然のことながら、用いる有機材料と有機溶剤類は精製、脱水を事前に行い、水分含有率5%以下、かつ、酸素濃度4000ppm以下の不活性ガス下で保管する必要がある。
【0018】
さらに、これら調製した正孔輸送層材料をスプレー法、スピンナ法、浸漬塗布法、スクリーン印刷法、ロ−ルコーター法、LB法などのウエット成膜方法により薄膜形成する際にも水分含有率5%以下、かつ、酸素濃度4000ppm以下の不活性ガスで満たしたグロ−ブボックスのような密閉作業空間の中で行う。
【0019】
正孔注入輸送層の厚さは単層または積層で形成する場合において、50〜1000オングストロームの厚さが望ましい。また、化合物によっては正孔注入輸送層が発光層の機能も有し、単層の有機薄膜層でEL素子を形成することができる場合もある。
【0020】
次に積層する有機発光層の材料としては、キノリノール系金属錯体、ベンゾキノリノール系金属錯体、ベンゾオキサゾール系金属錯体、フタロシアニン類、ポリフェリン類、アゾメチン系金属錯体、フェナントロリンユウロピウム錯体、スチリル及びジスチリル化合物、ピレン、ルブレン、コロネン、クリセン、ジフェニルアントラセン等の縮合芳香族化合物、オキサジアゾール類、チアジアゾール類、トリアゾール類等のヘテロ芳香族化合物、キナクリドン類、クマリン類等のヘテロ縮合環化合物、ポリフェニレン、ポリピリジン、ポリチオフェン、ポリフルオニレン、ポリフェニレンビニレン等のπ共役系化合物などが使用できるが、これらに限られるものではない。これらこれら化合物を溶解可能な有機溶剤に溶解しスプレー法、スピンナ法、浸漬塗布法、スクリーン印刷法、ロールコーター法、LB法等で正孔輸送層上に成膜しても良いし、真空薄膜形成技術により成膜してもよい。
【0021】
有機発光層材料をウエット成膜方法により成膜する際には、正孔輸送層材料成膜時と同様に、不活性ガスで満たしたグロ−ブボックスのような密閉作業空間の中で材料調製、成膜を行う。
【0022】
有機発光層の膜厚は、単層または積層により形成する場合においても1μm以下であり、好ましくは50〜1000オングストロームである。また、これらの蛍光性ポリマーや分子にグリシジル基、イソシアナート基、ビニル基、アクリル基、メタクリロイルオキシメチル基、メタクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシエチル基、アクリロイル基、アクリロイルオキシメチル基、アクリロイルオキシエチル基、シンナモイル基、スチレンメチルオキシ基、プロピオロイル基、プロパルギル基等の重合性、架橋性の基を導入した材料を用いて成膜後に熱、光、放射線で重合、架橋することもできる。
【0023】
また、有機発光層中の蛍光体は、発光波長変換、発光効率向上のために、米国ラムダフィズィック社またはイーストマンコダック社のレーザーダイカタログに記載されているクマリン系やキナクリドン系、ペリレン系、ピラン系等の、2種類以上の蛍光体をドーピングするか、多種類の蛍光体の発光層を2層以上積層してもよく、そのうちの一方は赤外域または紫外域に蛍光を示すものであってもよい。
【0024】
次に有機発光層上に有機電子注入輸送層を積層する場合、有機電子注入輸送材料の好ましい条件は、電子移動度が大きく、LUMO(最低空被占軌導)のエネルギーレベルが有機発光層材料のLUMOのエネルギーレベルと同程度から陰極材料のフェルミレベル(仕事関数)の間にあり、仕事関数が有機発光層材料より大きく、成膜性が良いことがある。さらに陽極12が不透明で、透明もしくは半透明の陰極14から光を取り出す構成の素子においては少なくとも有機発光層材料の蛍光波長領域において実質的に透明である必要がある。
【0025】
電子注入輸送層は、特願平4−300885号公報の中で言及されている材料を用いることができるが、場合によっては有機発光層材料の例にあげた化合物を用いることが可能である。
【0026】
有機電子注入輸送層の成膜方法は、スピンコート法等の方法で塗布、または真空蒸着法、累積膜法等の方法により行なわれ、50〜1000オングストロームの厚さに成膜される。
【0027】
有機電子注入輸送層材料をウエット成膜方法により薄膜形成する際には、正孔輸送層材料成膜時と同様に、不活性ガスで満たしたグロ−ブボックスのような密閉作業空間の中で材料調製、成膜を行う。
【0028】
次に陰極14を有機発光層または有機電子注入輸送層上に形成する。陰極は、電子注入を効果的に行なうために有機発光層または電子注入輸送層と接する面に低仕事関数の物質が使われ、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Al、Ag、In、Sn、Zn、Zr等の金属元素単体、または安定性を向上させるためにそれらを含む2成分、3成分の合金系が用いられる。特に、LiやCaを添加したAlは仕事関数は3.1eV程度に低下し、発光層に電子を注入しやすくなるとともに、Mg系の合金よりも安定であるために陰極として優れている。LiやCaを含む低仕事関数陰極を用いた場合には、さらにその上にLiやCaを含まない、Al、In、Ag等の金属層を積層し、酸化に対する保護層としてもよい。
【0029】
陰極14の形成方法は、抵抗加熱方法により10−5Torrオーダー以下の真空度の下で成分ごとに別々の蒸着源から水晶振動子式膜厚計でモニターしながら共蒸着する。この時、0.01〜0.3μm程度の膜厚で形成されるが、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法や、スパッタリング法により共蒸着ではなく、合金ターゲットを用いて成膜することもできる。
【0030】
このようにすることで、有機EL素子を作製する際、量産効率を向上させるために有機材料をスプレー法、スピンコ−ト法、浸漬塗布法、スクリーン印刷法、ロ−ルコーター法、LB法などのウエット成膜方法により薄膜形成する場合の素子内への水分と酸素の混入を回避することができ、これら水分と酸素によるEL素子の経時輝度劣化やダ−クスポットの発生、成長等、素子の劣化を防ぐことができる。
【0031】
(実施例1)
透明絶縁性の基板11として厚さ1mmの青板ガラス板を用い、この上に2000オングストロームのITOを被覆して陽極12とした。この透明導電性基板を使用前に水洗、プラズマ洗浄により十分に洗浄後、正孔輸送層材料としてポリビニルカルバゾールをスピナ−でウエットコーティングし、厚さ0.1μmの正孔注入層を形成した。
【0032】
この際、ポリビニルカルバゾールの0.5wt%クロロホルム塗布液は、窒素ガスで満たしたグロ−ブボックスの中で調製を行い、スピンコ−トも同じボックスの中で行った。この時のグロ−ブボックス内の水分含有率は5.2%、酸素濃度は4350ppmであった。
【0033】
次に、Alq3をその上面に真空蒸着して500オングストロームの厚さの有機発光層を形成した。さらに、その上面に陰極14としてAlとLiを蒸着速度比3:1で200オングストローム形成した後、Alのみさらに2000オングストローム積層した。
【0034】
素子を発光させ、得られた結果を表1に示す。
【0035】
(比較例1)
実施例1と同様に正孔注入層を形成した。この時の窒素ガスで満たしたグローブボックス内の水分含有率は8.5%、酸素濃度は6500ppmであった。
【0036】
以下、有機発光層以降は実施例1と同様に作製した。
【0037】
素子を発光させ、得られた結果を表1に示す。
【0038】
【表1】

Figure 2004055225
【0039】
各有機EL素子を、60℃、RH95%の条件下で10mA/cmの電流密度で連続駆動させ、500時間駆動した後に発光面を観察して各2mmφ画素内のダークスポットを観察した。
【0040】
【発明の効果】
本発明により、水分含有率5%以下、かつ、酸素濃度4000ppm以下の不活性ガス中で調製した塗布液を被処理体に付着し前記被処理体上で薄膜化させることによって有機層を形成することで素子内への水分と酸素の混入を回避することができ、これら水分と酸素によるEL素子の経時輝度劣化やダ−クスポットの発生、成長等、素子の劣化を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】有機EL素子の主要部 概略断面図
【符号の説明】
11 基板
12 陽極
13 有機層
14 陰極
15 駆動電源[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL device.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, an organic electroluminescence (hereinafter, referred to as an organic EL element) is known as an electroluminescent element used for a unit or a pixel of a display device of various industrial devices.
[0003]
FIG. 1 is a typical schematic sectional view of a main part of the organic EL element. In the organic EL device, a transparent anode 12 is formed on the surface of a transparent glass substrate 11, and an organic layer 13 including an organic phosphor thin film and an organic hole transport layer is formed on the anode 12, and further thereon. The cathode 14 made of metal is formed by vacuum evaporation or the like.
[0004]
Various film forming methods are known as a method of forming a thin film of an organic material. However, a film forming method by vacuum evaporation or sputtering is a batch process in a high vacuum and requires a long time, so that mass production efficiency is poor.
[0005]
The organic layer 13 is formed on the electrode by spraying, spinner method, dip coating method, screen printing method, roll coater method, LB method or the like by converting an organic light emitting material, a hole injection material, an electron injection material, etc. into a solution if possible. When applied to, mass production efficiency is good.
[0006]
Further, in the organic EL element, a current flows through the organic layer 13 located between the two electrodes by a voltage supplied from a driving power supply 15 connected between the cathode 14 and the anode 12, and according to the pattern shape of the cathode 14 and the anode 12. It emits light and is displayed via the transparent glass substrate 11.
[0007]
The organic EL element has a drawback that when driven for a certain period, the light emission characteristics such as light emission luminance and light emission uniformity within the element are significantly deteriorated as compared with the initial stage, and the cause of such deterioration in light emission characteristics is as follows. Moisture and oxygen are considered. Moisture adsorbed on the surface of the component of the organic EL element or invaded into the organic EL element may cause defects such as defects on the surface of the cathode in the laminate of the pair of electrodes and the organic light emitting material layer sandwiched between them. It is known that the organic light-emitting material layer penetrates and separates from the cathode, and as a result, a portion that does not emit light, that is, a so-called black spot (dark spot) is generated due to a loss of current. In addition, it is considered that aggregation and crystallization of the organic EL layer progress due to moisture and the element is deteriorated. Oxidation of the organic EL layer by oxygen is also considered to be a factor of dark spot generation, growth, and deterioration of luminance over time.
[0008]
Therefore, in order to prevent the occurrence of the dark spot, it is necessary to lower the humidity of the atmosphere of the organic EL element and cut off the oxygen. Conventionally, as an organic EL element provided with a means for preventing the atmosphere of the element from becoming in a high humidity state, for example, a desiccant is further added to the outside of a structure formed by stacking an anode, an organic luminescent material layer, and a cathode. It has a structure in which a protective layer and a sealing layer are laminated (see JP-A-7-169567), and a laminate in which an organic light emitting material layer is sandwiched between a pair of opposed electrodes is housed in an airtight case. By disposing a drying means made of diphosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) in an airtight case separated from the laminate, the laminate and the drying means are hollow-sealed in the airtight case. (Refer to Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-261091), and a device in which an element is sealed with an inert liquid such as a Freon solution (Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-07159).
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above conventional example, although moisture and oxygen in the atmosphere of the organic EL element can be removed, initial moisture and oxygen inside the organic EL element laminated by wet film formation cannot be removed, The deterioration of the element progresses until the desiccant or the like adsorbs the water inside the element.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method for manufacturing an organic EL device in which at least one organic thin film layer including at least an organic light emitting layer is interposed between electrodes facing each other. A step of adhering a coating solution prepared in an inert gas having an oxygen concentration of 5 ppm or less and an oxygen concentration of 4000 ppm or less to the object to be processed and forming a thin film on the object to obtain the organic thin film layer. And a method for manufacturing an organic EL device.
[0011]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described.
[0012]
The anode 12 has a surface resistance of 10 to 50 Ω / □, which is formed by coating a transparent conductive material such as ITO or zinc aluminum oxide on a transparent insulating substrate 11 such as glass or plastic film by vacuum evaporation or sputtering, and has a visible light. A transparent electrode having a transmittance of 80% or more, a translucent electrode in which gold or platinum is thinly deposited, or a translucent electrode coated with a polymer such as polyaniline, polypyrrole, or polythiophene is desirable.
[0013]
Next, an example in which a thin film is formed by a so-called wet film forming method in which an organic EL layer according to the present invention is applied with a coating liquid to form a thin film is described.
[0014]
As the hole transport layer, polyvinyl carbazole and its derivatives, polythiophene and its derivatives, polyphenylene and its derivatives, polyphenylene vinylene and its derivatives, polyolefin having a triarylamine skeleton, polyacryl, polyarylate, polycarbonate, polyester, polyamide, polyurethane , Polyimide and the like can be used, but are not limited thereto. These compounds are dissolved in a soluble organic solvent, and a film is formed on the electrode by a spray method, a spinner method, a dip coating method, a screen printing method, a roll coater method, an LB method or the like.
[0015]
The object to which the organic solvent dissolving these compounds is adhered may be this electrode or another organic layer.
[0016]
Typical examples of practical organic solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene or benzene, aliphatic hydrocarbons such as n-heptane, n-hexane or n-octane, petroleum benzene, petroleum Hydrocarbon mixtures having a boiling point in the range of 30 to 300 ° C, alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane or ethylcyclohexane, such as ether, ligroin, mineral split, petroleum naphtha or kerosene, methanol, ethanol , N-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, n-pentanol, isopentanol, n-hexanol, n-octanol, 2-ethylhexanol, cyclohexanol, ethylene glycol Alcohols such as ethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether or propylene glycol monoethyl ether, ethers such as dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, diisopropyl ether or di-n-butyl ether; acetone Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isobutyl ketone or isophorone, methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate or ethylene glycol monobutyl ether Esters such as acetate, chloroform, methylene chloride Ride, carbon tetrachloride, including such trichloroethane or such chlorinated hydrocarbons tetrachloroethane, further, N- methylpyrrolidone, dimethylformamide, and the like diethylacetamide or ethylene carbonate. Such organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
[0017]
When these hole transport layer materials are dissolved in an organic solvent, if they are prepared in a general room, water, oxygen, and dust (particles) in the room will also be mixed into the solution, which may cause deterioration of the organic El device. It cannot be avoided. Therefore, in the present invention, an enclosed working space such as a glove box is filled with an inert gas having a water content of 5% or less and an oxygen concentration of 4000 ppm or less, and the weighing and dissolution of the organic material are performed therein. Avoid mixing of moisture and oxygen. As a matter of course, it is necessary to purify and dehydrate the organic materials and organic solvents used beforehand, and store them under an inert gas having a water content of 5% or less and an oxygen concentration of 4000 ppm or less.
[0018]
Further, when the prepared hole transport layer material is formed into a thin film by a wet film forming method such as a spray method, a spinner method, a dip coating method, a screen printing method, a roll coater method, and an LB method, the water content is 5%. The operation is performed in a closed working space such as a glove box filled with an inert gas having an oxygen concentration of 4000 ppm or less.
[0019]
When the hole injecting and transporting layer is formed as a single layer or a stacked layer, the thickness is preferably 50 to 1000 Å. Further, depending on the compound, the hole injecting and transporting layer also has the function of a light emitting layer, and an EL element can be formed with a single organic thin film layer.
[0020]
Materials for the organic light emitting layer to be laminated next include quinolinol-based metal complexes, benzoquinolinol-based metal complexes, benzoxazole-based metal complexes, phthalocyanines, polyferrins, azomethine-based metal complexes, phenanthroline europium complexes, styryl and distyryl compounds, pyrene , Condensed aromatic compounds such as rubrene, coronene, chrysene, diphenylanthracene, heteroaromatic compounds such as oxadiazoles, thiadiazoles, and triazoles; heterocondensed ring compounds such as quinacridones and coumarins; polyphenylene, polypyridine, and polythiophene And π-conjugated compounds such as polyfluorenylene and polyphenylenevinylene can be used, but not limited thereto. These compounds may be dissolved in a soluble organic solvent to form a film on the hole transport layer by a spray method, a spinner method, a dip coating method, a screen printing method, a roll coater method, an LB method, etc. The film may be formed by a forming technique.
[0021]
When the organic light emitting layer material is formed by the wet film forming method, the material is prepared in a closed working space such as a glove box filled with an inert gas in the same manner as when forming the hole transport layer material. Then, a film is formed.
[0022]
The thickness of the organic light emitting layer is 1 μm or less, preferably 50 to 1000 Å, even when it is formed as a single layer or a laminated layer. In addition, glycidyl group, isocyanate group, vinyl group, acrylic group, methacryloyloxymethyl group, methacryloyloxy group, methacryloyloxyethyl group, acryloyl group, acryloyloxymethyl group, acryloyloxyethyl group, After film formation using a material having a polymerizable or crosslinkable group such as a cinnamoyl group, a styrenemethyloxy group, a propioyl group, or a propargyl group, polymerization and cross-linking by heat, light, and radiation can also be performed.
[0023]
In addition, the phosphor in the organic light emitting layer, coumarin-based and quinacridone-based, perylene-based, described in the laser die catalog of the United States Lambda Fizzic Co. or Eastman Kodak Co., Ltd. Two or more phosphors such as pyran-based phosphors may be doped, or two or more phosphor layers of various kinds of phosphors may be laminated, one of which emits fluorescence in the infrared or ultraviolet region. You may.
[0024]
Next, when the organic electron injecting and transporting layer is laminated on the organic light emitting layer, preferable conditions of the organic electron injecting and transporting material are that the electron mobility is large and the energy level of LUMO (minimum occupied orbital) is low. Between the energy level of LUMO and the Fermi level (work function) of the cathode material, the work function is larger than that of the organic light emitting layer material, and the film formability may be good. Further, in a device in which the anode 12 is opaque and light is extracted from the transparent or translucent cathode 14, it is necessary that the anode 12 be substantially transparent at least in the fluorescent wavelength region of the organic light emitting layer material.
[0025]
For the electron injecting and transporting layer, the materials mentioned in Japanese Patent Application No. 4-300885 can be used, but in some cases, the compounds mentioned as examples of the organic light emitting layer material can be used.
[0026]
The organic electron injecting and transporting layer is formed by a method such as a spin coating method or a method such as a vacuum evaporation method or a cumulative film method, and is formed to a thickness of 50 to 1000 Å.
[0027]
When forming a thin film of the organic electron injecting and transporting layer material by a wet film forming method, as in the case of forming the hole transporting layer material, in a closed working space such as a glove box filled with an inert gas. Material preparation and film formation are performed.
[0028]
Next, the cathode 14 is formed on the organic light emitting layer or the organic electron injection / transport layer. For the cathode, a material having a low work function is used on a surface in contact with the organic light emitting layer or the electron injection transport layer in order to effectively perform electron injection. Li, Na, Mg, La, Ce, Ca, Sr, Al, Ag , In, Sn, Zn, Zr or the like, or a two-component or three-component alloy system containing them for improving stability. In particular, Al added with Li or Ca has a work function lowered to about 3.1 eV, makes it easy to inject electrons into the light-emitting layer, and is more stable than an Mg-based alloy, so that it is excellent as a cathode. When a low work function cathode containing Li or Ca is used, a metal layer containing no Li or Ca, such as Al, In, or Ag, may be further laminated thereon to serve as a protective layer against oxidation.
[0029]
The cathode 14 is formed by co-evaporation by a resistance heating method under a degree of vacuum of the order of 10-5 Torr or less while monitoring with a quartz oscillator type film thickness meter from a separate evaporation source for each component. At this time, the film is formed to have a thickness of about 0.01 to 0.3 μm, but can be formed by using an alloy target instead of co-evaporation by an electron beam evaporation method, an ion plating method, or a sputtering method. .
[0030]
In this way, when manufacturing an organic EL element, an organic material is sprayed, spin-coated, dip-coated, screen-printed, roll-coated, LB, etc., in order to improve mass production efficiency. It is possible to avoid the incorporation of moisture and oxygen into the element when a thin film is formed by a wet film forming method, and it is possible to prevent the EL element from aging due to the moisture and oxygen and to generate and grow a dark spot over time. Deterioration can be prevented.
[0031]
(Example 1)
A blue glass plate having a thickness of 1 mm was used as a transparent insulating substrate 11, and 2000 Å of ITO was coated thereon to form an anode 12. The transparent conductive substrate was sufficiently washed with water and plasma before use, and then wet-coated with polyvinyl carbazole as a hole transport layer material using a spinner to form a hole injection layer having a thickness of 0.1 μm.
[0032]
At this time, a 0.5 wt% chloroform coating solution of polyvinyl carbazole was prepared in a glove box filled with nitrogen gas, and spin coating was also performed in the same box. At this time, the water content in the glove box was 5.2%, and the oxygen concentration was 4,350 ppm.
[0033]
Next, Alq3 was vacuum-deposited on the upper surface to form an organic light-emitting layer having a thickness of 500 angstroms. Further, after forming Al and Li as the cathode 14 on the upper surface thereof at 200 Å at a deposition rate ratio of 3: 1, 2,000 Å of Al alone was further laminated.
[0034]
The device was caused to emit light, and the obtained results are shown in Table 1.
[0035]
(Comparative Example 1)
A hole injection layer was formed in the same manner as in Example 1. At this time, the water content in the glove box filled with nitrogen gas was 8.5%, and the oxygen concentration was 6,500 ppm.
[0036]
Hereinafter, the organic light emitting layer and the subsequent layers were manufactured in the same manner as in Example 1.
[0037]
The device was caused to emit light, and the obtained results are shown in Table 1.
[0038]
[Table 1]
Figure 2004055225
[0039]
Each organic EL element was continuously driven at a current density of 10 mA / cm 2 under the conditions of 60 ° C. and RH 95%, and after driving for 500 hours, the light emitting surface was observed, and a dark spot in each 2 mmφ pixel was observed.
[0040]
【The invention's effect】
According to the present invention, an organic layer is formed by attaching a coating solution prepared in an inert gas having a water content of 5% or less and an oxygen concentration of 4000 ppm or less to a processing object and forming a thin film on the processing object. Thus, the incorporation of moisture and oxygen into the element can be avoided, and deterioration of the element such as deterioration of the EL element over time and generation and growth of a dark spot due to the moisture and oxygen can be prevented.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part of an organic EL element.
11 substrate 12 anode 13 organic layer 14 cathode 15 drive power supply

Claims (1)

互いに対向する電極間に、少なくとも有機発光層を含む1層以上の有機薄膜層が介在して構成される有機EL素子の製造方法において、水分含有率5%以下、かつ、酸素濃度4000ppm以下の不活性ガス中で調製した塗布液を被処理体に付着し前記被処理体上で薄膜化させることによって前記有機薄膜層を得る工程を有することを特徴とする有機EL素子の製造方法。In a method for manufacturing an organic EL device in which at least one organic thin film layer including at least an organic light emitting layer is interposed between electrodes facing each other, a method for manufacturing a device having a water content of 5% or less and an oxygen concentration of 4000 ppm or less. A method for manufacturing an organic EL device, comprising a step of obtaining the organic thin film layer by attaching a coating solution prepared in an active gas to a target object and forming a thin film on the target object.
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