JP2003344875A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2003344875A
JP2003344875A JP2002156849A JP2002156849A JP2003344875A JP 2003344875 A JP2003344875 A JP 2003344875A JP 2002156849 A JP2002156849 A JP 2002156849A JP 2002156849 A JP2002156849 A JP 2002156849A JP 2003344875 A JP2003344875 A JP 2003344875A
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JP
Japan
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liquid crystal
layer
display device
crystal display
light
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Application number
JP2002156849A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasunari Nagata
康成 永田
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device wherein a polarization state of reflected light going and returning through a liquid crystal in a reflection region and a polarization state of transmitted light passed through a hole for passing light can coincide with each other without conventionally enlarging the height of a structure. <P>SOLUTION: A gate wiring 1 and a source wiring 2 are disposed so as to cross each other and a thin film transistor 5 is provided on a transparent substrate 15. As the other member, a color filter 16, a transparent electrode 13 consisting of ITO or the like and an alignment layer are formed on a counter substrate 14 and a transparent synthetic resin layer 17 is formed at the part corresponding to a transmission mode on the color filter 16 having a flat shape. Optical retardation of a liquid crystal layer in the reflection region is specified to be 90°×(2m-1), wherein m=1, 2, 3,..., and optical retardation of the liquid crystal layer in a transmission region is specified to be 180°×(2n-1), wherein n=1, 2, 3,.... <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はアクティブマトリク
スタイプの液晶表示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置は小型もしくは中型
の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精
細のモニターにまで使用されている。さらにバックライ
トを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されて
おり、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been used not only for small or medium-sized portable information terminals and notebook computers, but also for large and high-definition monitors. Furthermore, the technology of a reflective liquid crystal display device that does not use a backlight has been developed, and is excellent in thinness, light weight, and low power consumption.

【0003】反射型液晶表示装置には、後方に配設した
基板の内面に凹凸形状の光反射層を形成した散乱反射型
があるが、バックライトを用いないことで、周囲の光を
有効に利用している。
The reflection type liquid crystal display device is of a scattering reflection type in which an uneven light reflection layer is formed on the inner surface of a substrate arranged in the rear, but it is possible to effectively use ambient light by not using a backlight. We are using.

【0004】また、光反射層に代えて、半透過膜を形成
し、バックライトを設け、反射モードや透過モードに使
い分ける半透過型液晶表示装置も開発されている。
Also, a transflective liquid crystal display device has been developed in which a transflective film is formed in place of the light reflection layer, a backlight is provided, and a reflective mode or a transmissive mode is selectively used.

【0005】この半透過型液晶表示装置によれば、太陽
光、蛍光灯などの外部照明によって反射型の装置として
用いたり、あるいはバックライトを内部照明として装着
して透過型の装置として使用するが、双方の機能を併せ
持たせるために、半透過膜を使用している(特開平8−
292413号および特開平7−318929号参
照)。
According to this semi-transmissive liquid crystal display device, it is used as a reflective device by external illumination such as sunlight or a fluorescent lamp, or as a transmissive device by mounting a backlight as internal illumination. , A semi-permeable membrane is used to have both functions (Japanese Patent Laid-Open No. 8-
292413 and JP-A-7-318929).

【0006】また、光透過用ホールを設けた反射膜によ
り、光透過用ホールから光の一部を透過させ、反射膜に
て光の一部を反射させることにより半透過型液晶表示装
置を実現する構成も提案されている(特許第28782
31号および特開2000-19563号参照)。
Also, a semi-transmissive liquid crystal display device is realized by allowing a part of light to pass through the light-transmitting hole and reflecting a part of the light by means of the reflecting film provided with the light-transmitting hole. A configuration is also proposed (Patent No. 28782).
31 and JP-A-2000-19563).

【0007】さらに、上記光透過用ホールを設けた反射
膜構造において、反射領域において液晶を往復する反射
光の光路長と、光通過用ホールを通過した透過光の光路
長を一致させるために、反射領域の液晶のセルギャップ
を透過領域の液晶のセルギャップの1/2にする技術も
提案されている。(特開平11−101992号参
照)。
Further, in the reflection film structure provided with the light transmitting hole, in order to match the optical path length of the reflected light traveling back and forth in the liquid crystal in the reflection area with the optical path length of the transmitted light passing through the light passing hole, A technique has also been proposed in which the cell gap of the liquid crystal in the reflective region is made half the cell gap of the liquid crystal in the transmissive region. (See JP-A-11-101992).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、反射領
域の液晶のセルギャップを透過領域の液晶のセルギャッ
プの1/2にするために、液晶層にセルギャップの1/
2の膜厚に相当する構造物を形成する必要があり、その
ために大きな構造物を作るとラビングプロセスが安定し
なくなり、その結果、大きな構造物を形成することがで
きず、構造物の高さの2倍が透過領域のセルギャップと
なるが、この反射領域のセルギャップは透過領域のセル
ギャップに対して著しく小さくなり、製造が難しいとい
う問題があった。
However, in order to reduce the cell gap of the liquid crystal in the reflective region to 1/2 of the cell gap of the liquid crystal in the transmissive region, the liquid crystal layer has a cell gap of 1 / g of the cell gap.
It is necessary to form a structure corresponding to the film thickness of 2. Therefore, when a large structure is made, the rubbing process becomes unstable, and as a result, the large structure cannot be formed and the height of the structure increases. The cell gap in the transmissive region is twice as large as the cell gap in the transmissive region.

【0009】本発明は上記事情に鑑みて完成されたもの
であり、その目的は、反射領域と透過領域のセルギャッ
プの比率を適正化することにより、構造物の高さを大き
くし、反射領域の液晶層の膜厚を著しく小さくしなくて
も、反射領域において液晶を往復する反射光の偏光状態
と、光通過用ホールを通過した透過光の偏光状態を一致
させることができ、さらに液晶のセルギャップを大きく
することができ、著しく製造が容易になった液晶表示装
置を提供することにある。
The present invention has been completed in view of the above circumstances, and an object thereof is to increase the height of a structure by optimizing the ratio of the cell gap between the reflective region and the transmissive region, thereby increasing the reflective region. Even if the thickness of the liquid crystal layer of is not remarkably reduced, the polarization state of the reflected light traveling back and forth in the liquid crystal in the reflection area and the polarization state of the transmitted light passing through the light passage hole can be made to coincide with each other. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which the cell gap can be increased and which is extremely easy to manufacture.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、基板上に複数のソース配線と複数のゲート配線とを
交差するように形成して、これらソース配線とゲート配
線との各交点をマトリックス状となし、各交点に対応し
て、それぞれに画素電極と各画素電極に画像信号を供給
するスイッチング素子とを形成し、さらにこれら画素電
極上に配向膜を被覆してなる一方部材と、他の基板上に
前記画素電極に対向して設けた対向電極と配向膜とを形
成した他方部材とを液晶層を介して対向配置し、かつ前
記画素電極は透明電極と金属層との積層であり、この金
属層の被着領域に対応して反射モードとなし、金属層の
ない領域に対応して透過モードとなし、そして、反射モ
ードにて用いる液晶層の可視光に対する液晶層の位相差
を90°×(2m−1)(ただし、m=1、2、3・・
・)に、透過モードにて用いる液晶層の可視光に対する
液晶層の位相差を180°×(2n−1)(ただし、n
=1、2、3・・・)に規定したことを特徴とする。
In the liquid crystal display device of the present invention, a plurality of source wirings and a plurality of gate wirings are formed on a substrate so as to intersect with each other, and the respective intersections of the source wirings and the gate wirings are formed. In the form of a matrix, corresponding to each intersection, a pixel electrode and a switching element for supplying an image signal to each pixel electrode are formed respectively, and one member formed by further coating an alignment film on these pixel electrodes, The counter electrode provided on the other substrate so as to face the pixel electrode and the other member having the alignment film formed thereon are disposed so as to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween, and the pixel electrode is a laminate of a transparent electrode and a metal layer. Yes, there is no reflection mode corresponding to the deposition area of the metal layer, no transmission mode corresponding to the area without the metal layer, and the phase difference of the liquid crystal layer with respect to visible light of the liquid crystal layer used in the reflection mode. 90 ° x (2m-1 ) (However, m = 1, 2, 3, ...
.) Is 180 ° × (2n−1) (where n is the phase difference of the liquid crystal layer for visible light of the liquid crystal layer used in the transmission mode).
= 1, 2, 3 ...).

【0011】本発明の他の液晶表示装置は、前記他方部
材の基板上の透過モードに対応する部位に透明な合成樹
脂層を形成したことを特徴とする。
Another liquid crystal display device of the present invention is characterized in that a transparent synthetic resin layer is formed on a portion of the other member on the substrate corresponding to the transmission mode.

【0012】本発明のさらに他の液晶表示装置は、前記
他方部材の基板上にカラーフィルタを形成し、このカラ
ーフィルタ上の透過モードに対応する部位に透明な合成
樹脂層を形成したことを特徴とする。
In still another liquid crystal display device of the present invention, a color filter is formed on the substrate of the other member, and a transparent synthetic resin layer is formed on a portion of the color filter corresponding to the transmission mode. And

【0013】本発明のさらに他の液晶表示装置は、前記
他方部材の基板上にカラーフィルタを形成し、このカラ
ーフィルタの透過モードに対応する部位の層厚を、反射
モードに対応する部位の層厚に比べて大きくしたことを
特徴とする。
In still another liquid crystal display device of the present invention, a color filter is formed on the substrate of the other member, and the layer thickness of the portion corresponding to the transmission mode of the color filter is changed to the layer thickness of the portion corresponding to the reflection mode. It is characterized in that it is made larger than the thickness.

【0014】また、本発明の液晶表示装置は、前記他方
部材の反射モードに対応する部位に光散乱層を形成した
ことを特徴とする。
Further, the liquid crystal display device of the present invention is characterized in that a light scattering layer is formed on a portion of the other member corresponding to the reflection mode.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】(実施形態例1)本例について図
面に基づき、以下に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Embodiment 1) This embodiment will be described below with reference to the drawings.

【0016】図1は本例の液晶表示装置におけるアクテ
ィブマトリクス基板の要部平面図であり、図2は図1に
示す液晶表示装置における切断面図A−A'による断面
図である。
FIG. 1 is a plan view of a main part of an active matrix substrate in the liquid crystal display device of this embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA 'of the liquid crystal display device shown in FIG.

【0017】本例において、1はゲート配線、2はソー
ス配線、3は上層画素電極、4は下層画素電極、5は薄
膜トランジスタ、11は保護膜、12は液晶材料、13
は対向電極、14、15はガラスまたはプラスチック等
からなる透明基板である。
In this example, 1 is a gate wiring, 2 is a source wiring, 3 is an upper layer pixel electrode, 4 is a lower layer pixel electrode, 5 is a thin film transistor, 11 is a protective film, 12 is a liquid crystal material, 13 is
Is a counter electrode, and 14 and 15 are transparent substrates made of glass or plastic.

【0018】前記一方部材については、透明基板15上
に複数のゲート配線1と複数のソース配線2が交差(直
交)するように配置され、これらの配線に囲まれた部分
が画素であり、これらの配線の交差部には前記スイッチ
ング素子である薄膜トランジスタ5が設けられている。
Regarding the one member, a plurality of gate wirings 1 and a plurality of source wirings 2 are arranged on the transparent substrate 15 so as to intersect (orthogonal), and a portion surrounded by these wirings is a pixel. The thin film transistor 5, which is the switching element, is provided at the intersection of the wirings.

【0019】薄膜トランジスタ5は、従来周知のごと
く、ゲート配線1の上部に、ゲート絶縁膜8、半導体層
9、n+−Si層10、ソース電極6、ドレイン電極7で
構成される。
As is well known in the art, the thin film transistor 5 is composed of a gate insulating film 8, a semiconductor layer 9, an n + -Si layer 10, a source electrode 6 and a drain electrode 7 on the gate wiring 1.

【0020】ゲート配線1はTa、Al、Al合金(Al
Ta、AlNd)等の金属薄膜で形成される。ゲート絶
縁膜8はTa23やSiNX等で形成される。半導体膜
9はSiで形成される。ソース電極6とドレイン電極7
は、Al、Al合金(AlTa、AlNd)等の金属膜で形
成され、ITOからなる透明電極と接続される。
The gate wiring 1 is made of Ta, Al, Al alloy (Al
It is formed of a metal thin film such as Ta or AlNd). The gate insulating film 8 is made of Ta 2 O 3 , SiN x, or the like. The semiconductor film 9 is made of Si. Source electrode 6 and drain electrode 7
Is formed of a metal film of Al, Al alloy (AlTa, AlNd) or the like, and is connected to a transparent electrode made of ITO.

【0021】図示していないが、以上のような構成のア
クティブマトリクス基板上に配向膜を塗布している。
Although not shown, an alignment film is applied on the active matrix substrate having the above structure.

【0022】他方部材によれば、対向基板14の上にカ
ラーフィルタ16とITO等からなる透明電極13と配
向膜(図示せず)を形成したものであって、一方部材と
貼り合わせ、双方の基板間に液晶12を注入し、本例の
液晶表示装置が得られる。
According to the other member, a color filter 16, a transparent electrode 13 made of ITO or the like, and an alignment film (not shown) are formed on the counter substrate 14. The liquid crystal 12 is injected between the substrates to obtain the liquid crystal display device of this example.

【0023】前記画素電極は、前記透明電極(たとえ
ば、ITOなどからなる)である上層画素電極3と前記
金属層(たとえば、Al、Al合金(AlTa、AlNd)
等からなる)である下層画素電極4との組合せからな
り、下層画素電極4の被着領域に対応して反射モードと
なし、下層画素電極4のない領域に対応して透過モード
となす。
The pixel electrode includes the upper pixel electrode 3 which is the transparent electrode (for example, made of ITO) and the metal layer (for example, Al, Al alloy (AlTa, AlNd)).
Etc.) and the lower layer pixel electrode 4 is combined with the lower layer pixel electrode 4 to form a reflection mode, and a region without the lower layer pixel electrode 4 corresponds to a transmission mode.

【0024】本発明によれば、図2に示すごとく、平坦
な形状のカラーフィルタ16上の透過モードに対応する
部位に透明な合成樹脂層17を形成している。この合成
樹脂層17は、たとえば新日鉄化学製、アクリル系透明
樹脂(PHA−094X)等からなる。
According to the present invention, as shown in FIG. 2, the transparent synthetic resin layer 17 is formed on the flat color filter 16 at a portion corresponding to the transmission mode. The synthetic resin layer 17 is made of, for example, Nippon Steel Chemical's acrylic transparent resin (PHA-094X).

【0025】ここで、上記透明樹脂層17にて構成され
る1.5μmの高さの構造物により、反射領域の△nd
(液晶の△nとセルギャップdとの積)を0.413μm
(△n=0.092、セルギャップ=4.5μm)、透過
領域の△nd(液晶の△nとセルギャップdとの積)を
0.275μm(△n=0.092、セルギャップ=3.0
μm)、としている。なお、液晶表示装置の液晶分子の
ねじれ角は0°(つまり、ツイスト角度を0°とし、液
晶分子が上下ガラス基板間でパラレル配向している)で
ある。
Here, the structure of the transparent resin layer 17 having a height of 1.5 μm causes Δnd of the reflection area.
(Product of Δn of liquid crystal and cell gap d) is 0.413 μm
(Δn = 0.092, cell gap = 4.5 μm), Δnd (product of Δn of liquid crystal and cell gap d) of the transmission region is 0.275 μm (Δn = 0.092, cell gap = 3) .0
μm), The twist angle of the liquid crystal molecules of the liquid crystal display device is 0 ° (that is, the twist angle is 0 °, and the liquid crystal molecules are aligned in parallel between the upper and lower glass substrates).

【0026】この時、可視光が反射領域を通過する時、
位相が270°ずれ、可視光が透過領域を通過する時、
位相が180°ずれる。このときの、反射光と透過光の
偏光状態について、図8と図9を用いて説明する。図8
は黒表示時の偏光状態を示す概略図であり、図9は白表
示時の偏光状態を示す概略図である。
At this time, when visible light passes through the reflection area,
When the phase shifts by 270 ° and visible light passes through the transmission area,
180 ° out of phase. The polarization states of the reflected light and the transmitted light at this time will be described with reference to FIGS. 8 and 9. Figure 8
FIG. 9 is a schematic diagram showing the polarization state during black display, and FIG. 9 is a schematic diagram showing the polarization state during white display.

【0027】19は円偏光板(λ/4)であり、2枚の
円偏光板(λ/4)の内部に反射膜20を設けて、この
被着領域に対応して反射モードとなし、合成樹脂層17
と画素電極21との積層構造に対応して透過モードとな
す。そして、各円偏光板(λ/4)19の外側に偏光板
18を配置する。
Reference numeral 19 denotes a circularly polarizing plate (λ / 4). A reflective film 20 is provided inside the two circularly polarizing plates (λ / 4), and a reflection mode is set corresponding to the adhered area. Synthetic resin layer 17
The transmission mode is set according to the laminated structure of the pixel electrode 21 and the pixel electrode 21. Then, the polarizing plate 18 is arranged outside each circular polarizing plate (λ / 4) 19.

【0028】図8によれば、液晶に電界が印加され、液
晶分子が垂直に立っている時の偏光状態を示す。
FIG. 8 shows the polarization state when an electric field is applied to the liquid crystal and the liquid crystal molecules stand vertically.

【0029】反射領域に入射する周囲光はランダムな
偏光であるが、上側偏光板18を通過することにより、
上側偏光板18の透過軸と同じ方向の直線偏光になる。
さらに、上側の円偏光板19を通過することにより、左
円偏光となる。そして、液晶分子は立った状態であるの
で、液晶層では位相差がほとんどなく、左円偏光のま
ま、反射膜20に到達する。反射膜20で左円偏光から
右円偏光になり、右円偏光の状態で液晶層を出射する。
さらに、上側の円偏光板19を通過することにより、上
側偏光板18の透過軸と垂直方向の直線偏光'とな
り、上側偏光板18にてすべて吸収される。
Ambient light incident on the reflection area is randomly polarized, but by passing through the upper polarizing plate 18,
It becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the upper polarizing plate 18.
Further, it passes through the upper circularly polarizing plate 19 to become left circularly polarized light. Since the liquid crystal molecules are in an upright state, the liquid crystal layer has almost no phase difference and reaches the reflection film 20 as left circularly polarized light. The left circularly polarized light is changed to the right circularly polarized light by the reflection film 20, and the liquid crystal layer is emitted in the state of the right circularly polarized light.
Further, when it passes through the upper circular polarization plate 19, it becomes linearly polarized light'in a direction perpendicular to the transmission axis of the upper polarization plate 18, and all is absorbed by the upper polarization plate 18.

【0030】透過領域に入射するはランダムな偏光で
あるが、下側偏光板18を通過することにより、下側偏
光板18の透過軸と同じ方向の直線偏光になる。さら
に、下側の円偏光板19を通過することにより、右円偏
光となり、液晶層に入射する。そして、液晶分子は立っ
た状態であるので、液晶層では位相差がほとんどなく、
右円偏光のまま液晶層を出る。さらに上側の円偏光板1
8を通過することにより、上側偏光板18の透過軸と垂
直方向の直線偏光'となり、上側偏光板18にてすべ
て吸収される。
Random polarized light is incident on the transmission region, but when it passes through the lower polarizing plate 18, it becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the lower polarizing plate 18. Further, by passing through the lower circularly polarizing plate 19, it becomes right circularly polarized light and enters the liquid crystal layer. And since the liquid crystal molecules are in a standing state, there is almost no phase difference in the liquid crystal layer,
Leaves the liquid crystal layer as right circularly polarized light. Circular polarizing plate 1 on the upper side
After passing through 8, the light becomes linearly polarized light'in a direction perpendicular to the transmission axis of the upper polarizing plate 18, and all is absorbed by the upper polarizing plate 18.

【0031】以上のとおり、黒表示については、反射光
'も透過光'も同じ偏光状態である。
As described above, for black display, the reflected light
Both'and transmitted light 'have the same polarization state.

【0032】図9は、液晶に対し電界が引加しておら
ず、そのために液晶分子がねじれ角0°にて配向時の偏
光状態を示している。
FIG. 9 shows the polarization state when the liquid crystal molecules are aligned at a twist angle of 0 ° because no electric field is applied to the liquid crystals.

【0033】反射領域に入射する周囲光はランダムな
偏光であるが、上側偏光板18を通過することにより、
上側偏光板18の透過軸と同じ方向の直線偏光になる。
さらに、上側の円偏光板19を通過することにより、左
円偏光となる。そして、液晶分子はねじれ角0°で配向
した状態であるので、液晶層では位相が270°ずれる
が、ここで、液晶層を位相のずれ90°ごとに3段階に
分けて説明する。
Ambient light incident on the reflection area is randomly polarized, but by passing through the upper polarizing plate 18,
It becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the upper polarizing plate 18.
Further, it passes through the upper circularly polarizing plate 19 to become left circularly polarized light. Since the liquid crystal molecules are aligned at a twist angle of 0 °, the liquid crystal layer is out of phase by 270 °. Here, the liquid crystal layer will be described in three stages for each 90 ° phase shift.

【0034】まず、最初の位相のずれ90°分の液晶層
では、左円偏光の入射光は上側偏光板18の透過軸と垂
直方向の直線偏光となり、つぎの位相のずれ90°分の
液晶層では、上側偏光板18の透過軸と垂直方向の直線
偏光から右円偏光となり、最後の位相のずれ90°分の
液晶層では、右円偏光から上側偏光板18の透過軸と同
じ方向の直線偏光の状態で、反射膜20に到達する。反
射膜20では同じ直線偏光のまま反射し、同様の原理
で、左円偏光の状態で液晶層を出る。さらに、上側の円
偏光板19を通過することにより、上側偏光板18の透
過軸と同じ方向の直線偏光'となり、上側偏光板18
をすべて通過し"となる。
First, in the liquid crystal layer having a 90 ° phase shift, the left circularly polarized incident light becomes linearly polarized light in the direction perpendicular to the transmission axis of the upper polarizing plate 18, and the next 90 ° phase shift liquid crystal. In the layer, linearly polarized light perpendicular to the transmission axis of the upper polarizing plate 18 becomes right circularly polarized light, and in the liquid crystal layer having a final phase shift of 90 °, the right circularly polarized light has the same direction as the transmission axis of the upper polarizing plate 18. The light reaches the reflection film 20 in a linearly polarized state. The reflection film 20 reflects the same linearly polarized light and leaves the liquid crystal layer in the left circularly polarized state by the same principle. Further, by passing through the upper circular polarization plate 19, it becomes linearly polarized light'in the same direction as the transmission axis of the upper polarization plate 18, and the upper polarization plate 18
All pass through.

【0035】透過領域に入射するはランダムな偏光で
あるが、下側偏光板18を通過することにより、下側偏
光板18の透過軸と同じ方向の直線偏光になる。さら
に、下側の円偏光板18を通過することにより、右円偏
光となる。そして、液晶分子はねじれ角0°で配向した
状態であるので、液晶層では位相が180°ずれるが、
ここで、液晶層を位相のずれ90°ごとに2段階に分け
て説明する。
Random polarized light is incident on the transmission region, but when it passes through the lower polarizing plate 18, it becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the lower polarizing plate 18. Further, by passing through the lower circularly polarizing plate 18, it becomes right circularly polarized light. Since the liquid crystal molecules are aligned at a twist angle of 0 °, the liquid crystal layer is out of phase by 180 °.
Here, the liquid crystal layer will be described in two stages for each 90 ° phase shift.

【0036】まず、最初の位相のずれ90°分の液晶層
では、右円偏光の入射光は上側偏光板18の透過軸と垂
直方向の直線偏光となり、つぎの位相のずれ90°分の
液晶層では、上側偏光板18の透過軸と垂直方向の直線
偏光から左円偏光の状態で、液晶層を出る。さらに、上
側の円偏光板19を通過することにより、上側偏光板1
8の透過軸と同じ方向の直線偏光'となる。さらに、
上側偏光板18を通過することによって、上側偏光板1
8の透過軸と同じ方向の直線偏光"が得られる。
First, in the liquid crystal layer having the first phase shift of 90 °, the right circularly polarized incident light becomes linearly polarized light in the direction perpendicular to the transmission axis of the upper polarization plate 18, and the liquid crystal having the next phase shift of 90 °. In the layer, the liquid crystal layer exits from the linearly polarized light in the direction perpendicular to the transmission axis of the upper polarizing plate 18 to the left circularly polarized light. Further, by passing through the upper circular polarization plate 19, the upper polarization plate 1
It becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of 8. further,
By passing through the upper polarizing plate 18, the upper polarizing plate 1
8 linearly polarized light in the same direction as the transmission axis is obtained.

【0037】以上のとおり、白表示についても、反射光
'と透過光'で偏光状態がそろっているため、'と
"の間で光の吸収がおこらず、透過光の白表示の明る
さについて、その低下が顕著にならない。
As described above, the reflected light is also displayed in the white display.
Since the polarization states of "and transmitted light" are the same, "
The light is not absorbed between ", and the decrease in the brightness of the white display of the transmitted light is not remarkable.

【0038】すなわち、反射領域の液晶層の位相差を9
0°×(2m−1)、ただし、m=1、2,3・・・、
透過領域の液晶層の位相差を180°×(2n−1)、
ただし、n=1、2,3・・・とすることにより、透過
時の白表示の吸収が起こらなくなる。
That is, the phase difference of the liquid crystal layer in the reflection area is set to 9
0 ° × (2m−1), where m = 1, 2, 3 ...
The phase difference of the liquid crystal layer in the transmission region is 180 ° × (2n−1),
However, by setting n = 1, 2, 3, ..., Absorption of white display during transmission does not occur.

【0039】以上の現象については、液晶層の前後に偏
光板と円偏光板を設置し、液晶層が無電界時に白表示を
するノーマリーホワイトモードについて説明している。
Regarding the above phenomenon, a normally white mode in which a polarizing plate and a circularly polarizing plate are installed before and after the liquid crystal layer and white display is performed when the liquid crystal layer has no electric field is described.

【0040】これに対し、図20と図21に示すよう
に、液晶層の前後に偏光板のみ設置し(これらの図にお
いて上下に偏光板のみ設置)、液晶層が無電界時に黒表
示をするノーマリーブラックモードについての偏光にお
いても同様に、反射領域の液晶層の位相差を90°×
(2m−1) m=1、2,3・・・、透過領域の液晶
層の位相差を180°×(2n−1) n=1、2,3
・・・とすることにより、透過時と反射時の偏光状態の
等しくなる。
On the other hand, as shown in FIGS. 20 and 21, only polarizing plates are provided before and after the liquid crystal layer (only polarizing plates are provided above and below in these figures), and the liquid crystal layer displays black when no electric field is applied. Similarly, in the case of polarized light in the normally black mode, the retardation of the liquid crystal layer in the reflective region is 90 ° ×
(2m-1) m = 1, 2, 3 ..., 180 ° × (2n−1) n = 1, 2, 3
.., the polarization states at the time of transmission and at the time of reflection become equal.

【0041】つぎに、図4を用いて、本実施例の上側基
板(他方基板)の作成方法について説明する。図4に示
すごとく、順次工程1〜工程4を経る。
Next, with reference to FIG. 4, a method of forming the upper substrate (other substrate) of this embodiment will be described. As shown in FIG. 4, steps 1 to 4 are sequentially performed.

【0042】(工程1)本工程によれば、ガラス基板1
4上に画素間に相当する位置に、Cr層を2000Åの
膜厚で形成したり、もしくは、黒色顔料を分散した樹脂
を1μmの膜厚で形成し、これによって遮光膜22を形
成する。
(Step 1) According to this step, the glass substrate 1
A Cr layer is formed with a film thickness of 2000 Å or a resin in which a black pigment is dispersed is formed with a film thickness of 1 μm at a position corresponding to between pixels on the surface 4, and thereby the light shielding film 22 is formed.

【0043】(工程2)フォトリソグラフィの技術を用
いて、赤色顔料を分散した樹脂を1μmの膜厚で、緑色
顔料を分散した樹脂を1μmの膜厚で、青色顔料を分散
した樹脂を1μmの膜厚で形成、カラーフィルタ16と
なす。
(Step 2) Using a photolithography technique, a resin having a red pigment dispersed therein has a thickness of 1 μm, a resin having a green pigment dispersed therein has a thickness of 1 μm, and a resin having a blue pigment dispersed therein has a thickness of 1 μm. The color filter 16 is formed to have a film thickness.

【0044】(工程3)平坦な形状のカラーフィルタ1
6の上に透過モードに対応する部位に合成樹脂層17を
1.5μmの膜厚で形成する。
(Step 3) Color filter 1 having a flat shape
A synthetic resin layer 17 having a film thickness of 1.5 .mu.m is formed on the region 6 corresponding to the transmission mode.

【0045】(工程4)基板全面に透明電極13(IT
O膜)を1400Åの膜厚で形成する。
(Step 4) The transparent electrode 13 (IT
O film) is formed with a film thickness of 1400Å.

【0046】参考までに、従来の液晶表示装置のよう
に、反射領域と透過領域の液晶層の厚さが等しく、つま
り、反射領域と透過領域の液晶層の複屈折が等しい時
の、反射光と透過光の偏光状態について、図6と図7を
用いて説明する。
For reference, as in the conventional liquid crystal display device, when the liquid crystal layers in the reflective region and the transmissive region have the same thickness, that is, when the liquid crystal layers in the reflective region and the transmissive region have the same birefringence, the reflected light is the same. The polarization state of transmitted light will be described with reference to FIGS. 6 and 7.

【0047】図6は、液晶に電界が印加され、液晶分子
が垂直に立っている時の偏光状態を示す。
FIG. 6 shows the polarization state when an electric field is applied to the liquid crystal and the liquid crystal molecules are standing vertically.

【0048】反射領域に入射する周囲光はランダムな
偏光であるが、上側偏光板18を通過することにより、
上側偏光板18の透過軸と同じ方向の直線偏光になる。
さらに、上側の円偏光板19を通過することにより、左
円偏光となる。さらに、液晶分子は立った状態であるの
で、液晶層では位相差がほとんどなく、左円偏光のま
ま、反射膜20に到達する。反射膜20で左円偏光から
右円偏光になり、右円偏光の状態で液晶層を出る。さら
に、上側の円偏光板18を通過することにより、上側偏
光板18の透過軸と垂直方向の直線偏光'となり、上
側偏光板18にてすべて吸収される。
Ambient light incident on the reflection area is randomly polarized, but by passing through the upper polarizing plate 18,
It becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the upper polarizing plate 18.
Further, it passes through the upper circularly polarizing plate 19 to become left circularly polarized light. Further, since the liquid crystal molecules are in an upright state, there is almost no phase difference in the liquid crystal layer, and the liquid crystal molecules reach the reflection film 20 as left circularly polarized light. The left circularly polarized light is changed to the right circularly polarized light by the reflection film 20, and the liquid crystal layer exits in the state of the right circularly polarized light. Further, by passing through the upper circular polarization plate 18, it becomes linearly polarized light'in a direction perpendicular to the transmission axis of the upper polarization plate 18, and all is absorbed by the upper polarization plate 18.

【0049】透過領域に入射するはランダムな偏光で
あるが、下側偏光板18を通過することにより、下側偏
光板18の透過軸と同じ方向の直線偏光になる。さら
に、下側の円偏光板18を通過することにより、右円偏
光となる。そして、液晶分子は立った状態であるので、
液晶層では位相差がほとんどなく、右円偏光のまま液晶
層を出る。さらに、上側の円偏光板18を通過すること
により、上側偏光板18の透過軸と垂直方向の直線偏光
'となり、上側偏光板にてすべて吸収される。
Random polarized light is incident on the transmission region, but when it passes through the lower polarizing plate 18, it becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the lower polarizing plate 18. Further, by passing through the lower circularly polarizing plate 18, it becomes right circularly polarized light. And since the liquid crystal molecules are in a standing state,
The liquid crystal layer has almost no phase difference and exits the liquid crystal layer as right circularly polarized light. Further, by passing through the upper circular polarization plate 18, linearly polarized light in a direction perpendicular to the transmission axis of the upper polarization plate 18 is obtained.
', And all are absorbed by the upper polarizing plate.

【0050】以上のとおり、黒表示については、反射光
'も透過光'も同じ偏光状態である。
As described above, for black display, the reflected light
Both'and transmitted light 'have the same polarization state.

【0051】図7については、液晶に電界が印加してお
らず、液晶分子がねじれ角0°で配向時の偏光状態を示
している。
In FIG. 7, no electric field is applied to the liquid crystal, and the liquid crystal molecules show a polarization state when the liquid crystal molecules are aligned at a twist angle of 0 °.

【0052】反射領域に入射する周囲光はランダムな
偏光であるが、上側偏光板18を通過することにより、
上側偏光板18の透過軸と同じ方向の直線偏光になる。
さらに、上側の円偏光板19を通過することにより、左
円偏光となる。そして、液晶分子はねじれ角0°で配向
した状態であるので、液晶層では位相が90°ずれ、上
側偏光板18の透過軸と垂直方向の直線偏光の状態で、
反射膜20に到達する。反射膜20では同じ直線偏光の
まま反射し、左円偏光の状態で液晶層を出る。さらに、
上側の円偏光板19を通過することにより、上側偏光板
18の透過軸と同じ方向の直線偏光'となり、上側偏
光板18をすべて通過し、"となる。
Ambient light incident on the reflection area is randomly polarized, but by passing through the upper polarizing plate 18,
It becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the upper polarizing plate 18.
Further, it passes through the upper circularly polarizing plate 19 to become left circularly polarized light. Since the liquid crystal molecules are aligned at a twist angle of 0 °, the liquid crystal layer is out of phase by 90 °, and is linearly polarized in a direction perpendicular to the transmission axis of the upper polarizing plate 18,
The reflection film 20 is reached. The reflection film 20 reflects the same linearly polarized light and leaves the liquid crystal layer in the state of left circularly polarized light. further,
By passing through the upper circularly polarizing plate 19, it becomes linearly polarized light'in the same direction as the transmission axis of the upper polarizing plate 18, and it passes through all of the upper polarizing plate 18, and becomes ".

【0053】透過領域に入射するはランダムな偏光で
あるが、下側偏光板18を通過することにより、下側偏
光板18の透過軸と同じ方向の直線偏光になる。さら
に、下側の円偏光板19を通過することにより、右円偏
光となる。そして、液晶分子はねじれ角0°で配向した
状態であるので、液晶層では位相が90°ずれ、下側偏
光板18の透過軸と垂直方向の直線偏光になり、液晶層
を出る。さらに、上側の円偏光板19を通過することに
より、左円偏光'となる。さらに、上側偏光板18を
通過することによって、上側偏光板18の透過軸と同じ
方向の直線偏光"が得られる。
Random polarized light is incident on the transmission region, but when it passes through the lower polarizing plate 18, it becomes linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the lower polarizing plate 18. Further, it passes through the lower circularly polarizing plate 19 to become right circularly polarized light. Since the liquid crystal molecules are aligned at a twist angle of 0 °, the liquid crystal layer is out of phase by 90 ° and becomes linearly polarized light in a direction perpendicular to the transmission axis of the lower polarizing plate 18 and exits the liquid crystal layer. Further, by passing through the upper circularly polarizing plate 19, it becomes left circularly polarized light '. Further, by passing through the upper polarization plate 18, linearly polarized light in the same direction as the transmission axis of the upper polarization plate 18 is obtained.

【0054】以上のとおり、白表示については、反射光
'と透過光'で偏光状態が異なっているため、'と
"の間で光の一部が上側偏光板18に吸収され、透過
光の白表示の明るさの低下の原因となっている。
As described above, for white display, the reflected light
Since the polarization states of'and transmitted light 'are different,
Part of the light is absorbed by the upper polarization plate 18 during the period "," which causes a reduction in the brightness of the white display of the transmitted light.

【0055】このような従来の液晶表示装置について
は、図11の要部断面図に示すごとく、特開平11−1
01992号に提案された液晶表示装置である。
Regarding such a conventional liquid crystal display device, as shown in the sectional view of the essential part of FIG.
This is a liquid crystal display device proposed in No. 01992.

【0056】従来の技術によれば、反射領域の液晶層の
厚みを透過領域の液晶層の厚みの半分にしているが、反
射領域と透過領域で液晶層の膜厚に対して大変大きな構
造物を形成する必要があり、また、反射領域の液晶層の
膜厚が大変小さくなってしまい、製造上、困難になると
いう問題点があった。
According to the conventional technique, the thickness of the liquid crystal layer in the reflective region is half the thickness of the liquid crystal layer in the transmissive region, but the structure is very large in the reflective region and the transmissive region with respect to the thickness of the liquid crystal layer. However, there is a problem that the film thickness of the liquid crystal layer in the reflection region becomes very small, which is difficult in manufacturing.

【0057】これに対し、本発明においては、図4に示
す工程1〜工程4によれば、反射領域と透過領域の段差
を小さくすることができ、また、反射領域の液晶層の膜
厚を大きくすることができ、製造が容易になった。
On the other hand, in the present invention, according to steps 1 to 4 shown in FIG. 4, the step between the reflection area and the transmission area can be reduced, and the thickness of the liquid crystal layer in the reflection area can be reduced. It can be made larger and easier to manufacture.

【0058】(実施形態例2)図1は本実施形態例の液
晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の要部平
面図であり、図3は図1のA−A'断面図である。な
お、図1と図2にて示す実施形態例1の液晶表示装置と
同一箇所には同一符号を付す。
(Embodiment 2) FIG. 1 is a plan view of a main portion of an active matrix substrate in a liquid crystal display device of this embodiment, and FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. The same parts as those of the liquid crystal display device of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals.

【0059】図3に示すごとく、他方部材の基板上にカ
ラーフィルタ16を形成し、このカラーフィルタ16の
透過モードに対応する部位の層厚を、反射モードに対応
する部位の層厚に比べて大きくし、そして、このような
構成のカラーフィルタ16の上に透明電極13(ITO
膜)を形成している。
As shown in FIG. 3, the color filter 16 is formed on the substrate of the other member, and the layer thickness of the portion corresponding to the transmission mode of this color filter 16 is compared with the layer thickness of the portion corresponding to the reflection mode. Then, the transparent electrode 13 (ITO) is formed on the color filter 16 having such a structure.
Forming a film).

【0060】ここで、上記反射領域と透過領域のカラー
フィルタ16の膜厚差(1.5μm)によって構成される
段差構造により、反射領域の△nd(液晶の△nとセル
ギャップdとの積)を0.413μm(△n=0.09
2、セルギャップ=4.5μm)、、透過領域の△nd
(液晶の△nとセルギャップdとの積)を0.275μm
(△n=0.092、セルギャップ=3.0μm)、とし
ている。なお、液晶表示装置の液晶分子のねじれ角は0
°である。
Here, due to the step structure constituted by the film thickness difference (1.5 μm) of the color filter 16 in the reflective area and the transmissive area, the product of Δnd (Δn of liquid crystal and cell gap d) of the reflective area. ) Is 0.413 μm (△ n = 0.09
2, cell gap = 4.5 μm), and Δnd of transmission area
(Product of liquid crystal Δn and cell gap d) is 0.275 μm
(Δn = 0.092, cell gap = 3.0 μm). The twist angle of the liquid crystal molecules of the liquid crystal display device is 0.
°.

【0061】この時、可視光が反射領域を通過する時、
位相が270°ずれ、可視光が透過領域を通過する時、
位相が180°ずれ、液晶に電界印加時も無電界時も反
射光と透過光の偏光状態が等しくなり、光の利用効率が
高くなっている。
At this time, when visible light passes through the reflection area,
When the phase shifts by 270 ° and visible light passes through the transmission area,
The phases are shifted by 180 °, the polarization states of reflected light and transmitted light are the same when an electric field is applied to the liquid crystal and when no electric field is applied, resulting in high light utilization efficiency.

【0062】つぎに図5を用いて、本実施例の上側基板
(他方基板)の作成方法について説明する。図5に示す
ごとく、順次工程1〜工程4を経る。
Next, with reference to FIG. 5, a method of forming the upper substrate (other substrate) of this embodiment will be described. As shown in FIG. 5, steps 1 to 4 are sequentially performed.

【0063】(工程1)ガラス基板14上に画素間に相
当する位置に、遮光膜22を形成する。この膜22はC
r層を2000Åの膜厚で、もしくは黒色顔料を分散し
た樹脂を1μmの膜厚で形成する。
(Step 1) The light-shielding film 22 is formed on the glass substrate 14 at positions corresponding to pixels. This film 22 is C
The r layer is formed to a film thickness of 2000Å, or the resin in which the black pigment is dispersed is formed to a film thickness of 1 μm.

【0064】(工程2)基板14上に、赤色顔料を分散
した樹脂を3μmの膜厚で塗布し、フォトリソグラフィ
の技術でもって所定のパターンを形成する。
(Step 2) A resin in which a red pigment is dispersed is applied to the substrate 14 in a film thickness of 3 μm, and a predetermined pattern is formed by a photolithography technique.

【0065】これにはフォトマスク24を用いるが、こ
れにはCr遮光膜23がパターン形成され、そして、U
V露光25をおこなう。基板14の透過領域に対応する
部分には遮光膜23を形成せず、反射領域に対応する部
分には遮光膜23をスリット状に形成している。
A photo mask 24 is used for this, and a Cr light shielding film 23 is patterned on this, and U
V exposure 25 is performed. The light shielding film 23 is not formed in the portion corresponding to the transmissive region of the substrate 14, and the light shielding film 23 is formed in a slit shape in the portion corresponding to the reflective region.

【0066】(工程3)本工程にて、前工程の基板を現
像し、これにより、反射部に対応する部分の膜厚が1.
5μmで、透過部に対応する部分の膜厚が3.0μmの形
状を有するカラーフィルタ16が得られる。同様に緑色
顔料を分散した樹脂、青色顔料を分散した樹脂の形成も
行う。
(Step 3) In this step, the substrate in the previous step is developed, so that the film thickness of the portion corresponding to the reflective portion is 1.
A color filter 16 having a thickness of 5 μm and a film thickness of a portion corresponding to the transmitting portion of 3.0 μm can be obtained. Similarly, a resin in which a green pigment is dispersed and a resin in which a blue pigment is dispersed are also formed.

【0067】(工程4)カラーフィルタ16上に透明電
極13(ITO膜)を1400Åの膜厚で形成する。
(Step 4) The transparent electrode 13 (ITO film) is formed on the color filter 16 to a film thickness of 1400Å.

【0068】本例においても、反射領域と透過領域の段
差を小さくすることができ、反射領域の液晶層の膜厚を
大きくすることができ、製造が容易になった。
Also in this example, the step between the reflective region and the transmissive region can be reduced and the film thickness of the liquid crystal layer in the reflective region can be increased, which facilitates the manufacture.

【0069】(実施形態例3)図10は本例の液晶表示
装置におけるアクティブマトリクス基板の要部平面図で
あり、図12は、図10のA−A'断面図である。な
お、図1と図2にて示す実施形態例1の液晶表示装置と
同一箇所には同一符号を付す。
(Embodiment 3) FIG. 10 is a plan view of a main portion of an active matrix substrate in a liquid crystal display device of this embodiment, and FIG. 12 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. The same parts as those of the liquid crystal display device of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals.

【0070】図12において、一方部材である下側基板
の構造は、ドレイン電極に接続された透明電極ITO
は、アクリル系樹脂を介して、上層の金属反射電極と接
続されている。ここで、反射領域に対応する部分の電極
はアクリル系樹脂17の上面に配置しており、透過領域
に対応する部分にはアクリル系樹脂17は形成しないこ
とにより、反射領域と透過領域で段差を設けている。
In FIG. 12, the structure of the lower substrate, which is one member, is the transparent electrode ITO connected to the drain electrode.
Is connected to the upper metal reflective electrode via an acrylic resin. Here, the electrode in the portion corresponding to the reflective region is arranged on the upper surface of the acrylic resin 17, and the acrylic resin 17 is not formed in the portion corresponding to the transmissive region, so that a step is formed between the reflective region and the transmissive region. It is provided.

【0071】本例によれば、一方部材において、膜厚
1.0μmのアクリル系樹脂17を被覆したことで、反射
領域の△nd(液晶の△nとセルギャップdとの積)を
0.690μm(△n=0.138、セルギャップ=5.0
μm)、透過領域の△nd(液晶の△nとセルギャップ
dとの積)を0.828μm(△n=0.138、セルギ
ャップ=6.0μm)としている。ここで、液晶表示装置
の液晶分子のねじれ角は0°である。
According to this example, one member was coated with the acrylic resin 17 having a film thickness of 1.0 μm, so that Δnd (the product of Δn of the liquid crystal and the cell gap d) of the reflective region was reduced to 0.0. 690 μm (Δn = 0.138, cell gap = 5.0
μm), and Δnd (product of Δn of liquid crystal and cell gap d) in the transmission region is 0.828 μm (Δn = 0.138, cell gap = 6.0 μm). Here, the twist angle of the liquid crystal molecules of the liquid crystal display device is 0 °.

【0072】かくして本例の液晶表示装置によれば、可
視光が反射領域を通過する時、位相が450°ずれ、可
視光が透過領域を通過する時、位相が540°ずれ、液
晶に電界印加時も無電界時も反射光と透過光の偏光状態
が等しくなり、光の利用効率が高くなっている。
Thus, according to the liquid crystal display device of this example, when visible light passes through the reflection area, the phase shifts by 450 °, and when visible light passes through the transmission area, the phase shifts by 540 °, and an electric field is applied to the liquid crystal. The polarization state of the reflected light is the same as that of the transmitted light both when there is no electric field, and the light utilization efficiency is high.

【0073】(実施形態例4)本例を図13と図14に
より説明する。図13は本例の液晶表示装置におけるア
クティブマトリクス基板の要部平面図であり、図14は
図13におけるA−A'線による断面図である。なお、
図1と図2にて示す実施形態例1の液晶表示装置と同一
箇所には同一符号を付す。
(Embodiment 4) This embodiment will be described with reference to FIGS. 13 and 14. 13 is a plan view of a main part of the active matrix substrate in the liquid crystal display device of this example, and FIG. 14 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. In addition,
The same parts as those of the liquid crystal display device according to the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals.

【0074】本例の液晶表示装置については、他方部材
における反射領域に対し光散乱層17を形成した点が特
徴である。
The liquid crystal display device of this example is characterized in that the light scattering layer 17 is formed in the reflection region of the other member.

【0075】この光散乱層17は、透明樹脂の中にシリ
カ等の屈折率の異なる散乱粒子を入れたものであり、こ
れにより、パネル上方に前方散乱フィルム等の散乱層を
形成したことを同様な機能を備える。
The light-scattering layer 17 is made of transparent resin containing scattering particles such as silica having different refractive indexes, which is the same as forming a scattering layer such as a forward scattering film above the panel. It has various functions.

【0076】また、反射領域に対応する部分のみに上記
のような光散乱層17を形成したことで、反射領域と透
過領域の段差を形成する。
By forming the light scattering layer 17 as described above only in the portion corresponding to the reflection area, a step between the reflection area and the transmission area is formed.

【0077】このような構成の液晶表示装置によれば、
光散乱層17の厚みが1.0μmであることで、反射領域
の△nd(液晶の△nとセルギャップdとの積)を0.
690μm(△n=0.138、セルギャップ=5.0μ
m)、透過領域の△nd(液晶の△nとセルギャップd
との積)を0.828μm(△n=0.138、セルギャ
ップ=6.0μm)としている。なお、液晶表示装置の液
晶分子のねじれ角は0°である。
According to the liquid crystal display device having such a structure,
Since the thickness of the light-scattering layer 17 is 1.0 μm, Δnd (product of Δn of liquid crystal and cell gap d) in the reflective region is set to be 0.0.
690 μm (△ n = 0.138, cell gap = 5.0μ
m), Δnd of the transmissive region (Δn of liquid crystal and cell gap d
The product) is 0.828 μm (Δn = 0.138, cell gap = 6.0 μm). The twist angle of the liquid crystal molecules of the liquid crystal display device is 0 °.

【0078】かくして本発明の液晶表示装置によれば、
可視光が反射領域を通過する時、位相が450°ずれ、
可視光が透過領域を通過する時、位相が540°ずれ、
液晶に電界印加時も無電界時も反射光と透過光の偏光状
態が等しくなり、光の利用効率が高くなる。
Thus, according to the liquid crystal display device of the present invention,
When visible light passes through the reflection area, the phase shifts by 450 °,
When visible light passes through the transmission area, the phase shifts by 540 °,
The reflected light and the transmitted light have the same polarization state both when an electric field is applied to the liquid crystal and when no electric field is applied, and the light utilization efficiency is improved.

【0079】つぎに、図17でもって本例の他方部材の
作成方法を説明する。図17に示すごとく、順次工程1
〜工程4を経る。
Next, a method of forming the other member of this example will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 17, step 1 is sequentially performed.
~ Go through step 4.

【0080】(工程1)ガラス基板14上に画素間に相
当する位置に、遮光膜22を形成する。この膜22はC
r層を2000Åの膜厚で、もしくは黒色顔料を分散し
た樹脂を1μmの膜厚で形成する。
(Step 1) The light-shielding film 22 is formed on the glass substrate 14 at positions corresponding to pixels. This film 22 is C
The r layer is formed to a film thickness of 2000Å, or the resin in which the black pigment is dispersed is formed to a film thickness of 1 μm.

【0081】(工程2)基板上に、フォトリソ技術を用
いて、赤色顔料を分散した樹脂を1μmの膜厚で、緑色
顔料を分散した樹脂を1μmの膜厚で、青色顔料を分散
した樹脂を1μmの膜厚で形成し、これによってカラー
フィルタ16を設ける。
(Step 2) Using a photolithographic technique, a resin in which a red pigment is dispersed is formed in a film thickness of 1 μm, a resin in which a green pigment is dispersed is formed in a film thickness of 1 μm, and a resin in which a blue pigment is dispersed is formed on a substrate. The color filter 16 is provided with a film thickness of 1 μm.

【0082】(工程3)カラーフィルタ16の上に、フ
ォトリソ技術を用いて、反射領域に相当する部位に対
し、光散乱層17を1μmの膜厚で形成する。
(Step 3) Using the photolithography technique, the light scattering layer 17 is formed with a thickness of 1 μm on the color filter 16 at the portion corresponding to the reflection region.

【0083】(工程4)基板全面に、透明電極13(I
TO膜)を1400Åの膜厚で形成する。
(Step 4) The transparent electrode 13 (I
A TO film) is formed with a film thickness of 1400Å.

【0084】(実施形態例5)本例を図13と図15に
より説明する。図13は本例の液晶表示装置におけるア
クティブマトリクス基板の要部平面図であり、図15
は、図13のA−A'断面図である。なお、図1と図2
にて示す実施形態例1の液晶表示装置と同一箇所には同
一符号を付す。
(Fifth Embodiment) This embodiment will be described with reference to FIGS. 13 and 15. FIG. 13 is a plan view of a main part of an active matrix substrate in the liquid crystal display device of this example.
FIG. 14 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 13. 1 and 2
The same parts as those of the liquid crystal display device according to the first embodiment shown in FIG.

【0085】本例の液晶表示装置についても、他方部材
における反射領域に対し光散乱層17を形成した点が特
徴であるが、基板14の上に直に光散乱層17を設けて
いる。この光散乱層17も、透明樹脂の中にシリカ等の
屈折率の異なる散乱粒子を入れたものであり、パネル上
方に前方散乱フィルム等の散乱層を形成したことを同様
な機能を備える。
The liquid crystal display device of this example is also characterized in that the light scattering layer 17 is formed in the reflection region of the other member, but the light scattering layer 17 is provided directly on the substrate 14. The light-scattering layer 17 is also made of transparent resin containing scattering particles such as silica having different refractive indexes, and has the same function as forming a scattering layer such as a forward scattering film above the panel.

【0086】そして、反射領域に対応する部分のみに上
記のような光散乱層17を形成したことで、反射領域と
透過領域の段差を形成する。
By forming the light-scattering layer 17 as described above only in the portion corresponding to the reflection area, a step between the reflection area and the transmission area is formed.

【0087】本例によれば、反射領域に対応する部分に
光散乱層17を形成し、その上にカラーフィルタ16を
被着させるに当り、透過領域に対応する部分での膜厚
は、反射領域に対応する部分の膜厚に比べて2倍厚く形
成し、液晶表示装置の表示において、反射モードと透過
モードの色純度を等しくしている。
According to this example, when the light scattering layer 17 is formed on the portion corresponding to the reflection area and the color filter 16 is deposited thereon, the film thickness at the portion corresponding to the transmission area is It is formed twice as thick as the film thickness of the portion corresponding to the region, and the color purity of the reflection mode and the transmission mode is made equal in the display of the liquid crystal display device.

【0088】ここで、光散乱層17とカラーフィルタ1
6との積層にて厚みが1.0μmにした場合に、反射領域
の△nd(液晶の△nとセルギャップdとの積)を0.
690μm(△n=0.138、セルギャップ=5.0μ
m)、透過領域の△nd(液晶の△nとセルギャップd
との積)を0.828μm(△n=0.138、セルギャ
ップ=6.0μm)としている。なお、液晶表示装置の液
晶分子のねじれ角は0°である。
Here, the light scattering layer 17 and the color filter 1
When the thickness is 1.0 μm by stacking with No. 6, Δnd (product of Δn of liquid crystal and cell gap d) of the reflective region is 0.0.
690 μm (△ n = 0.138, cell gap = 5.0μ
m), Δnd of the transmissive region (Δn of liquid crystal and cell gap d
The product) is 0.828 μm (Δn = 0.138, cell gap = 6.0 μm). The twist angle of the liquid crystal molecules of the liquid crystal display device is 0 °.

【0089】この時、可視光が反射領域を通過する時、
位相が450°ずれ、可視光が透過領域を通過する時、
位相が540°ずれ、液晶に電界印加時も無電界時も反
射光と透過光の偏光状態が等しくなり、光の利用効率が
高くなっている。
At this time, when visible light passes through the reflection area,
When the phase shifts 450 ° and visible light passes through the transmission area,
The phase is shifted by 540 °, and the polarization states of the reflected light and the transmitted light are the same when the electric field is applied to the liquid crystal and when the electric field is not applied, and the light utilization efficiency is high.

【0090】つぎに、図18でもって本例の他方部材の
作成方法を説明する。図18に示すごとく、順次工程1
〜工程4を経る。
Next, a method for producing the other member of this example will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 18, step 1 is sequentially performed
~ Go through step 4.

【0091】(工程1)ガラス基板14上に画素間に相
当する位置に、遮光膜22を形成する。この膜22はC
r層を2000Åの膜厚で、もしくは黒色顔料を分散し
た樹脂を1μmの膜厚で形成する。
(Step 1) The light shielding film 22 is formed on the glass substrate 14 at positions corresponding to the pixels. This film 22 is C
The r layer is formed to a film thickness of 2000Å, or the resin in which the black pigment is dispersed is formed to a film thickness of 1 μm.

【0092】(工程2)フォトリソ技術を用いて、基板
14上の反射領域に対応する部分に対し、光散乱層17
を2.0μmの膜厚にて形成する。
(Step 2) Using the photolithography technique, the light scattering layer 17 is applied to the portion corresponding to the reflection area on the substrate 14.
Is formed with a film thickness of 2.0 μm.

【0093】(工程3)光散乱層17の上に、フォトリ
ソ技術を用いて、赤色顔料を分散した樹脂を反射領域に
対応する部分に1μmの膜厚で形成する。ただし、透過
領域に対応する部分は窪んでいることで、2μmの膜厚
で形成される。
(Step 3) On the light-scattering layer 17, a resin in which a red pigment is dispersed is formed with a film thickness of 1 μm in a portion corresponding to the reflection area by using a photolithography technique. However, since the portion corresponding to the transmissive region is depressed, it is formed with a film thickness of 2 μm.

【0094】同様に、緑色顔料を分散した樹脂、青色顔
料を分散した樹脂でも形成し、カラーフィルタ16を被
着する。
Similarly, a resin in which a green pigment is dispersed and a resin in which a blue pigment is dispersed are also formed and the color filter 16 is attached.

【0095】(工程4)基板全面に、透明電極13(I
TO膜)を1400Åの膜厚で形成する。
(Step 4) The transparent electrode 13 (I
A TO film) is formed with a film thickness of 1400Å.

【0096】(実施形態例6)本例を図13と図16に
より説明する。図13は本例の液晶表示装置におけるア
クティブマトリクス基板の要部平面図であり、図16
は、図13のA−A'断面図である。なお、図1と図2
にて示す実施形態例1の液晶表示装置と同一箇所には同
一符号を付す。
(Sixth Embodiment) This embodiment will be described with reference to FIGS. 13 and 16. FIG. 13 is a plan view of a main part of the active matrix substrate in the liquid crystal display device of this example.
FIG. 14 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 13. 1 and 2
The same parts as those of the liquid crystal display device according to the first embodiment shown in FIG.

【0097】本例の液晶表示装置についても、他方部材
における反射領域に対し光散乱層17を形成した点が特
徴であるが、基板14上にカラーフィルタ16が形成さ
れていない部分を形成し、これにより、液晶表示装置の
表示において、反射モードと透過モードの色純度を等し
くしている。
The liquid crystal display device of this example is also characterized in that the light scattering layer 17 is formed in the reflection region of the other member, but a portion where the color filter 16 is not formed is formed on the substrate 14. Thereby, in the display of the liquid crystal display device, the color purities of the reflection mode and the transmission mode are made equal to each other.

【0098】また、このような光散乱層17も、透明樹
脂の中にシリカ等の屈折率の異なる散乱粒子を入れたも
のであり、パネル上方に前方散乱フィルム等の散乱層を
形成したことと同様な機能を備える。そして、反射領域
に対応する部分のみに上記のような光散乱層17を形成
したことで、反射領域と透過領域の段差を形成する。
The light-scattering layer 17 as described above is also one in which scattering particles such as silica having different refractive indexes are put in a transparent resin, and a scattering layer such as a forward scattering film is formed above the panel. It has the same function. Then, by forming the light scattering layer 17 as described above only in the portion corresponding to the reflective region, a step between the reflective region and the transmissive region is formed.

【0099】本例によれば、光散乱層17とカラーフィ
ルタ16との積層による厚みを1.0μmにしたことで、
反射領域の△nd(液晶の△nとセルギャップdとの
積)を0.690μm(△n=0.138、セルギャップ=
5.0μm)、透過領域の△nd(液晶の△nとセルギ
ャップdとの積)を0.828μm(△n=0.138、
セルギャップ=6.0μm)としている。なお、液晶表示
装置の液晶分子のねじれ角は0°である。
According to this example, the laminated thickness of the light scattering layer 17 and the color filter 16 is set to 1.0 μm,
Δnd (product of liquid crystal Δn and cell gap d) of the reflection area is 0.690 μm (Δn = 0.138, cell gap =
5.0 μm), and Δnd (product of liquid crystal Δn and cell gap d) of the transmission region is 0.828 μm (Δn = 0.138,
The cell gap is 6.0 μm. The twist angle of the liquid crystal molecules of the liquid crystal display device is 0 °.

【0100】かくして本発明によれば、可視光が反射領
域を通過する時、位相が450°ずれ、可視光が透過領
域を通過する時、位相が540°ずれ、液晶に電界印加
時も無電界時も反射光と透過光の偏光状態が等しくな
り、光の利用効率が高くなっている。
Thus, according to the present invention, when visible light passes through the reflection region, the phase shifts by 450 °, when visible light passes through the transmission region, the phase shifts by 540 °, and no electric field is applied even when an electric field is applied to the liquid crystal. Even at this time, the polarization states of the reflected light and the transmitted light are equal, and the light utilization efficiency is high.

【0101】つぎに、図19でもって本例の他方部材の
作成方法を説明する。図19に示すごとく、順次工程1
〜工程4を経る。
Next, a method of forming the other member of this example will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 19, step 1 is sequentially performed
~ Go through step 4.

【0102】(工程1)ガラス基板14上に画素間に相
当する位置に、遮光膜22を形成する。この膜22はC
r層を2000Åの膜厚で、もしくは黒色顔料を分散し
た樹脂を1μmの膜厚で形成する。
(Step 1) A light-shielding film 22 is formed on the glass substrate 14 at positions corresponding to pixels. This film 22 is C
The r layer is formed to a film thickness of 2000Å, or the resin in which the black pigment is dispersed is formed to a film thickness of 1 μm.

【0103】(工程2)基板上に、フォトリソ技術を用
いて、赤色顔料を分散した樹脂を1μmの膜厚で、緑色
顔料を分散した樹脂を1μmの膜厚で、青色顔料を分散
した樹脂を1μmの膜厚で形成し、これによってカラー
フィルタ16を設ける。
(Step 2) Using a photolithographic technique, a resin in which a red pigment is dispersed is formed in a film thickness of 1 μm, a resin in which a green pigment is dispersed is formed in a film thickness of 1 μm, and a resin in which a blue pigment is dispersed is formed on a substrate. The color filter 16 is provided with a film thickness of 1 μm.

【0104】(工程3)カラーフィルタ16の上に、フ
ォトリソ技術を用いて、反射領域に相当する部位に対
し、光散乱層17を1μmの膜厚で形成する。
(Step 3) Using the photolithography technique, the light scattering layer 17 is formed with a thickness of 1 μm on the portion corresponding to the reflection region on the color filter 16.

【0105】(工程4)基板全面に、透明電極13(I
TO膜)を1400Åの膜厚で形成する。
(Step 4) The transparent electrode 13 (I
A TO film) is formed with a film thickness of 1400Å.

【0106】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種
々の変更や改良等はなんら差し支えない。たとえば、各
実施形態例4、5、6において、光散乱層17の代わり
に透明樹脂のみを用いてもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications and improvements may be made without departing from the scope of the present invention. For example, in each of the embodiments 4, 5, and 6, only the transparent resin may be used instead of the light scattering layer 17.

【0107】[0107]

【発明の効果】以上のとおり、本発明の液晶表示装置に
よれば、上記のごとく、反射モードにて用いる液晶層の
可視光に対する液晶層の位相差を90°×(2m−1)
(ただし、m=1、2、3・・・)に、透過モードにて
用いる液晶層の可視光に対する液晶層の位相差を180
°×(2n−1)(ただし、n=1、2、3・・・)に
規定するとともに、反射モード用の液晶層の位相差を透
過モード用の液晶層の位相差に比べて大きくしたこと
で、反射領域と透過領域のセルギャップの比率を適正化
し、そして、他方部材の基板上の透過モードに対応する
部位に透明な合成樹脂層を形成したことで、従来のごと
き構造物の高さを大きくしなくとも、反射領域において
液晶を往復する反射光の偏光状態と、光通過用ホールを
通過した透過光の偏光状態を一致させることができ、さ
らに液晶のセルギャップを大きくすることができ、著し
く製造が容易になった高品質かつ高信頼性の液晶表示装
置が提供できた。
As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, as described above, the retardation of the liquid crystal layer for the visible light of the liquid crystal layer used in the reflection mode is 90 ° × (2m−1).
(Where m = 1, 2, 3 ...), the phase difference of the liquid crystal layer for visible light of the liquid crystal layer used in the transmission mode is 180.
.Degree..times. (2n-1) (where n = 1, 2, 3, ...), and the retardation of the liquid crystal layer for the reflection mode is made larger than that of the liquid crystal layer for the transmission mode. By optimizing the ratio of the cell gap between the reflective area and the transmissive area, and by forming the transparent synthetic resin layer on the part of the other member that corresponds to the transmissive mode, the structure of the conventional structure is improved. It is possible to match the polarization state of the reflected light that travels back and forth through the liquid crystal in the reflection area with the polarization state of the transmitted light that has passed through the light passage hole without increasing the size, and to further increase the cell gap of the liquid crystal. The liquid crystal display device of high quality and high reliability, which can be manufactured easily, can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の液晶表示装置におけるアクティブマト
リクス基板の要部平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a main part of an active matrix substrate in a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】図1に示す液晶表示装置における切断面図A−
A'による断面図である。
FIG. 2 is a sectional view A- of the liquid crystal display device shown in FIG.
It is sectional drawing by A '.

【図3】実施形態例2における図1のA−A'の断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 1 according to the second exemplary embodiment.

【図4】実施形態例1におけるカラーフィルタ基板の作
製方法を示す工程図である。
4A to 4C are process diagrams showing a method for manufacturing a color filter substrate in the first embodiment.

【図5】実施形態例2におけるカラーフィルタ基板の作
製方法を示す工程図である。
5A to 5C are process diagrams showing a method of manufacturing a color filter substrate in the second embodiment.

【図6】従来の液晶表示装置の黒表示時の偏光状態であ
る。
FIG. 6 is a polarization state when displaying black in a conventional liquid crystal display device.

【図7】従来の液晶表示装置の白表示時の偏光状態であ
る。
FIG. 7 is a polarization state during white display in a conventional liquid crystal display device.

【図8】実施形態例1における液晶表示装置の黒表示時
の偏光状態を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a polarization state during black display of the liquid crystal display device in the first embodiment.

【図9】実施形態例1における液晶表示装置の白表示時
の偏光状態を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a polarization state during white display of the liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図10】本発明の他の液晶表示装置におけるアクティ
ブマトリクス基板の要部平面図である。
FIG. 10 is a plan view of a main portion of an active matrix substrate in another liquid crystal display device of the present invention.

【図11】従来の液晶表示装置の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

【図12】実施形態例3における図10のA−A'の断
面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 10 according to the third exemplary embodiment.

【図13】本発明のさらに他の液晶表示装置におけるア
クティブマトリクス基板の要部平面図である。
FIG. 13 is a plan view of a main part of an active matrix substrate in still another liquid crystal display device of the present invention.

【図14】実施形態例4における図10のA−A'の断
面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 10 according to the fourth exemplary embodiment.

【図15】実施形態例5における図10のA−A'の断
面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 10 according to the fifth exemplary embodiment.

【図16】実施形態例6における図10のA−A'の断
面図である。
16 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 10 according to the sixth exemplary embodiment.

【図17】実施形態例4におけるカラーフィルタ基板の
作製方法を示す工程図である。
FIG. 17 is a process chart showing the method of manufacturing the color filter substrate in the fourth embodiment.

【図18】実施形態例5におけるカラーフィルタ基板の
作製方法を示す工程図である。
FIG. 18 is a process drawing showing the manufacturing method of the color filter substrate in the fifth embodiment.

【図19】実施形態例6におけるカラーフィルタ基板の
作製方法を示す工程図である。
FIG. 19 is a process drawing showing the manufacturing method of the color filter substrate in the sixth embodiment.

【図20】実施形態例1におけるノーマリーブラック時
の液晶表示装置の白表示時の偏光状態を示す説明図であ
る。
FIG. 20 is an explanatory diagram showing a polarization state during white display of the liquid crystal display device during normally black according to the first embodiment.

【図21】実施形態例1におけるノーマリーブラック時
の液晶表示装置の黒表示時の偏光状態を示す説明図であ
る。
FIG. 21 is an explanatory diagram showing a polarization state during black display of the liquid crystal display device during normally black in the first embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ゲート配線 2…ソース配線 3…上層画素電極 4…下層画素電極 5…薄膜トランジスタ 6…ソース電極 7…ドレイン電極 8…ゲート絶縁膜 9…半導体層 10…n+−Si層 11…保護膜 12…液晶材料 13…対向電極 14、15…ガラスまたはプラスチック等からなる透明
基板 16…カラーフィルタ 17…光散乱層 18…偏光板 19…円偏光板(λ/4) 20…反射膜 21…透過膜 22…遮光膜 23…遮光膜 24…フォトマスク 25…UV光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Gate wiring 2 ... Source wiring 3 ... Upper layer pixel electrode 4 ... Lower layer pixel electrode 5 ... Thin film transistor 6 ... Source electrode 7 ... Drain electrode 8 ... Gate insulating film 9 ... Semiconductor layer 10 ... N <+>- Si layer 11 ... Protective film 12 Liquid crystal material 13 Counter electrodes 14, 15 Transparent substrate 16 made of glass or plastic etc. Color filter 17 Light scattering layer 18 Polarizing plate 19 Circular polarizing plate (λ / 4) 20 Reflecting film 21 Transmitting film 22 ... Shading film 23 ... Shading film 24 ... Photomask 25 ... UV light

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に複数のソース配線と複数のゲート
配線とを交差するように形成して、これらソース配線と
ゲート配線との各交点をマトリックス状となし、各交点
に対応して、それぞれに画素電極と各画素電極に画像信
号を供給するスイッチング素子を形成し、さらにこれら
画素電極上に配向膜を被覆してなる一方部材と、他の基
板上に前記画素電極に対向して設けた対向電極と配向膜
とを形成した他方部材とを液晶層を介して対向配置し、
かつ前記画素電極は透明電極と金属層との積層であり、
この金属層の被着領域に対応して反射モードとなし、金
属層のない領域に対応して透過モードとなした液晶表示
装置において、反射モードにて用いる前記液晶層の可視
光に対する液晶層の位相差を90°×(2m−1)(た
だし、m=1、2、3・・・)に、透過モードにて用い
る前記液晶層の可視光に対する液晶層の位相差を180
°×(2n−1)(ただし、n=1、2、3・・・)に
規定したことを特徴とする液晶表示装置。
1. A plurality of source wirings and a plurality of gate wirings are formed on a substrate so as to intersect with each other, and the respective intersections of the source wirings and the gate wirings are formed in a matrix form. A pixel electrode and a switching element that supplies an image signal to each pixel electrode are formed on each of the pixel electrodes, and one member formed by further covering the pixel electrodes with an alignment film is provided on another substrate facing the pixel electrodes. The opposite electrode and the other member on which the alignment film is formed are arranged opposite to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween,
And the pixel electrode is a laminate of a transparent electrode and a metal layer,
In a liquid crystal display device in which a reflection mode is formed corresponding to the area where the metal layer is deposited and a transmission mode is formed when the area without the metal layer is formed, the liquid crystal layer of the liquid crystal layer used in the reflection mode against visible light is used. The phase difference is 90 ° × (2m−1) (where m = 1, 2, 3, ...) And the phase difference of the liquid crystal layer with respect to visible light of the liquid crystal layer used in the transmission mode is 180.
A liquid crystal display device characterized by being defined as ° x (2n-1) (where n = 1, 2, 3 ...).
【請求項2】前記他方部材の基板上の透過モードに対応
する部位に透明な合成樹脂層を形成したことを特徴とす
る請求項1記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a transparent synthetic resin layer is formed on a portion of the other member corresponding to the transmission mode on the substrate.
【請求項3】前記他方部材の基板上にカラーフィルタを
形成し、このカラーフィルタ上の透過モードに対応する
部位に透明な合成樹脂層を形成したことを特徴とする請
求項1記載の液晶表示装置。
3. A liquid crystal display according to claim 1, wherein a color filter is formed on a substrate of the other member, and a transparent synthetic resin layer is formed on a portion of the color filter corresponding to a transmission mode. apparatus.
【請求項4】前記他方部材の基板上にカラーフィルタを
形成し、このカラーフィルタの透過モードに対応する部
位の層厚を、反射モードに対応する部位の層厚に比べて
大きくしたことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装
置。
4. A color filter is formed on a substrate of the other member, and a layer thickness of a portion corresponding to the transmission mode of the color filter is made larger than a layer thickness of a portion corresponding to the reflection mode. The liquid crystal display device according to claim 1.
【請求項5】前記他方部材の反射モードに対応する部位
に光散乱層を形成したことを特徴とする請求項1記載の
液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a light scattering layer is formed on a portion of the other member corresponding to the reflection mode.
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