JP2003334685A - Laser processing apparatus - Google Patents

Laser processing apparatus

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JP2003334685A
JP2003334685A JP2002146481A JP2002146481A JP2003334685A JP 2003334685 A JP2003334685 A JP 2003334685A JP 2002146481 A JP2002146481 A JP 2002146481A JP 2002146481 A JP2002146481 A JP 2002146481A JP 2003334685 A JP2003334685 A JP 2003334685A
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JP
Japan
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optical path
laser
dimensional
processing
laser light
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002146481A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sadao Mori
貞雄 森
Hiroyuki Sugawara
弘之 菅原
Hiroshi Aoyama
博志 青山
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Via Mechanics Ltd
Original Assignee
Hitachi Via Mechanics Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser processing apparatus capable of making holes of superior quality on a processed target in case that two scanning optical systems are coped with one processed lens. <P>SOLUTION: One light passage is divided into first and second light passage by a light passage separating means. A laser beam passing through the first light passage is biased by a two-dimensional biassing means 15, and a laser beam passing through the second light passage is also biased by a two-dimensional biassing means 22. Upon integrating the first aid second light passages into one light passage by a polarized beam splitter 25, the laser beam is projected into the processed lens 30. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はレーザ光を用いて穴
加工、切断などを行うレーザ加工装置に係り、特にレー
ザ光を複数に分離させ、分離させたレーザ光のそれぞれ
を用いて加工対象上の異なる位置に穴を加工するレーザ
加工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus for performing hole processing, cutting and the like by using a laser beam, and in particular, separating a laser beam into a plurality of laser beams and processing each of the separated laser beams on a processing target. Laser processing apparatus for processing holes at different positions.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザ加工装置はレーザ光を用いて、例
えばプリント基板に穴を加工する装置である。
2. Description of the Related Art A laser processing apparatus is an apparatus for processing a hole in, for example, a printed circuit board by using a laser beam.

【0003】加工能率を向上させるため、特開平11−
58055号公報(以下、「第一の従来技術」とい
う。)では、レーザ光を位置決めする2次元スキャニン
グ光学系と加工レンズとをN組(Nは複数)設け、レー
ザ発振器から出力されたレーザ光をN本に分割し、分割
したレーザ光を、それぞれプリント基板の異なる位置に
集光させている。このようにすると、N箇所を同時に加
工することができるので、作業能率を向上させことがで
きる。この場合、加工領域の大きさは加工レンズの大き
さで決まるので、加工レンズを等間隔に配置すると共に
プリント基板を共通のXYステージに載置しておく。そ
して、ある加工領域内の加工が終了すると、XYステー
ジを移動させ、次の加工領域を加工レンズに対して位置
決めする動作を加工が終了するまで繰り返す。
In order to improve processing efficiency, Japanese Patent Laid-Open No. 11-
In Japanese Patent No. 58055 (hereinafter referred to as “first conventional technology”), N sets (N is a plurality) of two-dimensional scanning optical systems for positioning laser light and processing lenses are provided, and laser light output from a laser oscillator is provided. Is divided into N lines, and the divided laser beams are condensed at different positions on the printed circuit board. In this way, N locations can be processed at the same time, so that work efficiency can be improved. In this case, since the size of the processing area is determined by the size of the processing lens, the processing lenses are arranged at equal intervals and the printed board is placed on the common XY stage. Then, when the processing within a certain processing area is completed, the operation of moving the XY stage and positioning the next processing area with respect to the processing lens is repeated until the processing is completed.

【0004】また、特開平11−314188号公報
(以下、「第二の従来技術」という。)や特開2000
−190087号公報(以下、「第三の従来技術」とい
う。)では、2つのスキャニング光学系を1つの加工レ
ンズに対応させ、レーザ光を2分割して2か所を同時に
加工することにより加工能率を向上させている。
Further, JP-A-11-314188 (hereinafter referred to as "second prior art") and JP-A-2000.
-190087 (hereinafter, referred to as "third prior art"), two scanning optical systems are made to correspond to one processing lens, laser light is divided into two, and two positions are processed at the same time. Improves efficiency.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記第一の従
来技術の場合、高価な加工レンズがN組必要になる。ま
た、N組の加工レンズを活用するためには加工範囲を予
め割り振る必要があり、さらに、加工パターン毎に加工
レンズ間の距離を変える必要もある。
However, in the case of the first prior art described above, N sets of expensive processed lenses are required. Further, in order to utilize N sets of processed lenses, it is necessary to pre-allocate a processing range, and it is also necessary to change the distance between the processed lenses for each processing pattern.

【0006】また、上記第二、三の従来技術では、2つ
の光学的スキャニング光学系を加工レンズに対して最適
位置に配置することがスペース的に困難であるため、加
工ビームをプリント基板に対して垂直に入射させること
ができない。このため、加工した穴の軸線がプリント基
板の表面に対して斜めになってしまい、加工品質が低下
する。
In the second and third prior arts, it is difficult to dispose the two optical scanning optical systems at optimum positions with respect to the processing lens, so that the processing beam is applied to the printed circuit board. It is not possible to make it enter vertically. For this reason, the axis of the processed hole is inclined with respect to the surface of the printed circuit board, which deteriorates the processing quality.

【0007】本発明の目的は、上記従来技術における課
題を解決し、2つのスキャニング光学系を1つの加工レ
ンズに対応させる場合であっても、加工対象に品質の優
れる穴を加工することができるレーザ加工装置を提供す
るにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the prior art and, even when two scanning optical systems are made to correspond to one processing lens, it is possible to machine a hole of excellent quality in a processing object. It is to provide a laser processing apparatus.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、レーザ光の光路上に配置され前記光路を
第1の光路と第2の光路に分離する光路分離手段と、前
記第1の光路上に配置され前記レーザ光を偏向する第1
の2次元偏向手段と、前記第2の光路上に配置され前記
レーザ光を偏向する第2の2次元偏向手段と、前記第1
およ第2の2次元偏向手段で偏向された前記レーザ光を
加工対象に集光する加工レンズと、を備えるレーザ加工
装置において、分離された前記第1の光路と前記第2の
光路を1つの光路に統合する光路統合手段を設け、前記
光路分離手段から前記光路統合手段に至る前記第1の光
路の長さと前記第2の光路の長さが等しくなるように、
前記第1の2次元偏向手段と前記第2の2次元偏向手段
を配置し、前記第1の2次元偏向手段および前記第2の
2次元偏向手段により偏向された前記レーザ光を1個の
前記加工レンズに入射させることを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides an optical path separating means arranged on the optical path of laser light for separating the optical path into a first optical path and a second optical path, and A first optical path arranged on a first optical path for deflecting the laser light;
Two-dimensional deflecting means, a second two-dimensional deflecting means arranged on the second optical path for deflecting the laser light, and the first
And a processing lens for condensing the laser light deflected by the second two-dimensional deflection means onto a processing target, in the laser processing apparatus, the separated first optical path and second optical path are An optical path unifying means for unifying into one optical path is provided, and the length of the first optical path from the optical path separating means to the optical path unifying means is equal to the length of the second optical path,
The first two-dimensional deflecting means and the second two-dimensional deflecting means are arranged, and the laser light deflected by the first two-dimensional deflecting means and the second two-dimensional deflecting means is converted into one of the laser beams. It is characterized in that it is incident on the processing lens.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】(第1の実施形態)以下、本発明
を図示の実施の形態に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (First Embodiment) The present invention will be described below based on the illustrated embodiment.

【0010】図1は本発明の第1の実施形態に係るレー
ザ加工装置の平面図、図2は側面図であり、図3は本発
明に係る偏光ビームスプリッタの側面図である。
FIG. 1 is a plan view of a laser processing apparatus according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view, and FIG. 3 is a side view of a polarization beam splitter according to the present invention.

【0011】レーザ発振器1の光路上には、1/2波長
板2、ミラー3、開口4、ビームスプリッタ(図1にお
けるBS)5が配置されている。ビームスプリッタ5の
透過側には、ミラー6、ミラー7、ミラー11、ミラー
14、偏光ビームスプリッタ(図2におけるPBS)2
5、リレー光学系26、加工レンズ30が配置されてい
る。また、ビームスプリッタ5の反射側には、ミラー
8、ミラー18、ミラー21が配置されている。そし
て、ビームスプリッタ5からミラー6、ミラー7、ミラ
ー11、ミラー14を通り偏光ビームスプリッタ25に
至る光路の長さ(ビームスプリッタ5、ミラー6、7、
11、14および偏光ビームスプリッタ25の中心を通
る線の長さ)と、ビームスプリッタ5からミラー8、ミ
ラー18、ミラー21を通り偏光ビームスプリッタ25
に至る光路の長さ(ビームスプリッタ5、ミラー8、1
8、21および偏光ビームスプリッタ25の中心を通る
線の長さ)は互いに等しくなるように構成されている。
A half-wave plate 2, a mirror 3, an aperture 4, and a beam splitter (BS in FIG. 1) 5 are arranged on the optical path of the laser oscillator 1. On the transmission side of the beam splitter 5, a mirror 6, a mirror 7, a mirror 11, a mirror 14, and a polarization beam splitter (PBS in FIG. 2) 2
5, a relay optical system 26, and a processing lens 30 are arranged. The mirror 8, the mirror 18, and the mirror 21 are arranged on the reflection side of the beam splitter 5. The length of the optical path from the beam splitter 5 to the polarization beam splitter 25 through the mirror 6, the mirror 7, the mirror 11, and the mirror 14 (the beam splitter 5, the mirrors 6, 7,
11 and 14 and the length of the line passing through the centers of the polarization beam splitter 25) and the polarization beam splitter 25 passing from the beam splitter 5 through the mirror 8, the mirror 18, and the mirror 21.
Optical path length (beam splitter 5, mirrors 8, 1
The lengths of the lines passing through the centers of 8 and 21 and the polarization beam splitter 25 are equal to each other.

【0012】レーザ発振器1は、電場が紙面と平行に振
動する直線偏光のレーザ光をパルス状に発振する。1/
2波長板2は複屈折を利用したものであり、入射したレ
ーザ光の偏光方向を90度回転させる。薄い板の表面に
コーティングが施されたビームスプリッタ5は、入射光
の偏光方向を保った状態で、透過光と反射光を予め定め
る割合(ここでは2等分)に分離する。
The laser oscillator 1 oscillates linearly polarized laser light whose electric field oscillates in parallel with the paper surface in a pulse shape. 1 /
The two-wave plate 2 uses birefringence and rotates the polarization direction of the incident laser light by 90 degrees. The beam splitter 5 whose surface is a thin plate separates the transmitted light and the reflected light into a predetermined ratio (here, divided into two) while maintaining the polarization direction of the incident light.

【0013】スキャナ9は、モータ10を制御して、ミ
ラー11を指定された位置に位置決めする。スキャナ1
2は、モータ13を制御して、ミラー14を指定された
位置に位置決めする。そして、スキャナ9とスキャナ1
2とで、第一の2次元偏向手段15を構成している。
The scanner 9 controls the motor 10 to position the mirror 11 at a designated position. Scanner 1
2 controls the motor 13 to position the mirror 14 at the designated position. Then, the scanner 9 and the scanner 1
2 and 1 constitute the first two-dimensional deflecting means 15.

【0014】スキャナ16は、モータ17を制御して、
ミラー18を指定された位置に位置決めする。スキャナ
19は、モータ20を制御して、ミラー21を指定され
た位置に位置決めする。そして、スキャナ16とスキャ
ナ19とで、第二の2次元偏向手段22を構成してい
る。
The scanner 16 controls the motor 17 to
The mirror 18 is positioned at the designated position. The scanner 19 controls the motor 20 to position the mirror 21 at the designated position. Then, the scanner 16 and the scanner 19 constitute a second two-dimensional deflection means 22.

【0015】偏光ビームスプリッタ25は、図3に示す
ように、平板状のゲルマニウム基板51とゲルマニウム
基板53を張り合わせた構成になっており、ゲルマニウ
ム基板51の表面にはレーザ発振器1から出力されるレ
ーザ光の波長よりも小さいピッチのグレーティング
(溝)52が多数形成されている。なお、ゲルマニウム
基板51、53の対向する側とその反対側は無反射コー
ティングにより反射が抑制されている。そして、偏光ビ
ームスプリッタ25は、入射光のP偏光成分(図2の紙
面と平行な振動成分)を透過させ、S偏光成分(図2の
紙面と垂直な振動成分)は反射する。
As shown in FIG. 3, the polarization beam splitter 25 has a structure in which a plate-like germanium substrate 51 and a germanium substrate 53 are attached to each other, and a laser output from the laser oscillator 1 is provided on the surface of the germanium substrate 51. A large number of gratings (grooves) 52 having a pitch smaller than the wavelength of light are formed. Reflection is suppressed by the antireflection coating on the opposing sides of the germanium substrates 51 and 53 and the opposite side. Then, the polarization beam splitter 25 transmits the P-polarized component of the incident light (vibration component parallel to the paper surface of FIG. 2) and reflects the S-polarized component (vibration component perpendicular to the paper surface of FIG. 2).

【0016】リレー光学系26は焦点距離の等しい集光
レンズ27、28を焦点距離の2倍の距離を隔てて配置
されている。このリレー光学系は、入射光が平行光であ
る場合、出射光も平行光になる無焦点系であり、アフォ
ーカル光学系とよばれる。
In the relay optical system 26, condenser lenses 27 and 28 having the same focal length are arranged at a distance of twice the focal length. This relay optical system is an afocal system in which, when incident light is parallel light, emitted light is also parallel light, and is called an afocal optical system.

【0017】加工レンズ30は、いわゆるfθレンズで
あり、設計時に設定されたレンズの光軸上の前焦点を通
りレンズの光軸に対して角度θで入射する光線を、レン
ズの後焦点においてレンズの光軸に垂直な面(以下、
「後焦点面」という。)におけるレンズの光軸からfθ
(ただし、fは加工レンズ30の焦点距離である。)の
位置に、垂直に集光する。なお、レンズの光軸に対して
角度θで入射する光線であって前焦点から外れた光線
も、後焦点面のレンズの光軸からfθの位置に集光され
るが、集光されたレーザ光の光軸は後焦点面に対して斜
めになる。
The processed lens 30 is a so-called fθ lens, and a light beam that passes through the front focal point on the optical axis of the lens set at the time of design and is incident at an angle θ with respect to the optical axis of the lens is at the rear focal point of the lens. Plane perpendicular to the optical axis of
It is called the "back focal plane". F) from the optical axis of the lens in
(However, f is the focal length of the processing lens 30.) It is vertically focused. A light ray incident at an angle θ with respect to the optical axis of the lens and deviating from the front focal point is also condensed at a position of fθ from the optical axis of the lens on the rear focal plane. The optical axis of the light is oblique to the back focal plane.

【0018】加工対象31は上面31aが後焦点面と略
同一面になるようにしてXYステージ32に載置されて
いる。XYステージ32は、XY方向に移動自在であ
る。
The processing object 31 is mounted on the XY stage 32 so that the upper surface 31a is substantially flush with the back focal plane. The XY stage 32 is movable in the XY directions.

【0019】次にこの実施形態の動作を説明する。Next, the operation of this embodiment will be described.

【0020】レーザ発振器1から出力された直線偏光の
レーザ光は、1/2波長板2により偏光面(電場面)が
紙面に対して垂直の方向に調節され、ミラー3を介して
開口4を照明する。開口4を通過したレーザ光はビーム
スプリッタ5に入射し、紙面と平行な成分はビームスプ
リッタ5を透過し、紙面に垂直な成分は反射される。ビ
ームスプリッタ5を透過したレーザ光はミラー6、7を
介してミラー11、14からなる2次元偏向手段15で
偏向され、偏光ビームスプリッタ25を透過した後、リ
レー光学系26を介して加工レンズ30に入射し、加工
対象31の第1の位置に集光される。すなわち、開口4
の像が加工対象31の第1の位置に結像される。この
時、2次元偏向手段15はリレー光学系26によって加
工レンズ30の前焦点位置付近に結像されるので、加工
対象31に加工された穴の軸心は上面31aに対して垂
直である。
The linearly polarized laser light output from the laser oscillator 1 has its polarization plane (electrical scene) adjusted by the half-wave plate 2 in the direction perpendicular to the paper surface, and passes through the mirror 3 and the aperture 4. Illuminate. The laser light that has passed through the opening 4 enters the beam splitter 5, the component parallel to the paper surface passes through the beam splitter 5, and the component perpendicular to the paper surface is reflected. The laser beam that has passed through the beam splitter 5 is deflected by the two-dimensional deflection means 15 including the mirrors 11 and 14 via the mirrors 6 and 7, passes through the polarization beam splitter 25, and then the processed lens 30 via the relay optical system 26. And is focused on the first position of the processing target 31. That is, the opening 4
Image is formed at the first position of the processing object 31. At this time, the two-dimensional deflection means 15 is imaged by the relay optical system 26 in the vicinity of the front focus position of the processing lens 30, so that the axis of the hole processed in the processing object 31 is perpendicular to the upper surface 31a.

【0021】一方、ビームスプリッタ5により反射され
たレーザ光は、ミラー8を介してミラー18、21から
なる2次元偏向手段22で偏向され、偏光ビームスプリ
ッタ25で反射された後、リレー光学系26を介して加
工レンズ30に入射し、加工対象31の第1の位置とは
異なる第2の位置に集光される。すなわち、開口4の像
が加工対象31の第2の位置に結像される。この時、2
次元偏向手段22はリレー光学系26によって加工レン
ズ30の前焦点位置付近に結像されるので、加工対象3
1に加工された穴の軸心は上面31aに対して垂直であ
る。
On the other hand, the laser beam reflected by the beam splitter 5 is deflected by the two-dimensional deflecting means 22 composed of the mirrors 18 and 21 via the mirror 8 and after being reflected by the polarizing beam splitter 25, the relay optical system 26. The light enters the processing lens 30 via the and is condensed at a second position of the processing target 31 different from the first position. That is, the image of the opening 4 is formed at the second position of the processing target 31. At this time, 2
The three-dimensional deflection means 22 is imaged near the front focus position of the processing lens 30 by the relay optical system 26.
The axis of the hole machined in 1 is perpendicular to the upper surface 31a.

【0022】この結果、加工対象31を2箇所同時に加
工することができると共に、ビームスプリッタ5を透過
して偏光ビームスプリッタ25に入射するレーザ光と、
ビームスプリッタ5で反射されて偏光ビームスプリッタ
25に入射するレーザ光の光路の長さが等しいので、加
工対象31の第1の位置と第2の位置に同一形状の穴を
加工することができる。
As a result, the processing object 31 can be processed at two positions at the same time, and the laser light which is transmitted through the beam splitter 5 and is incident on the polarization beam splitter 25,
Since the optical paths of the laser beams reflected by the beam splitter 5 and incident on the polarization beam splitter 25 have the same length, holes having the same shape can be formed at the first position and the second position of the processing target 31.

【0023】なお、この実施形態では、開口3をビーム
スプリッタ5の手前側(レーザ光入射側)に配置した
が、偏光ビームビームスプリッタ25までの距離が等し
くなるようにして、第1の光路と第2の光路のそれぞれ
に開口を配置しても、上記の場合と同様の効果を得るこ
とができる。
In this embodiment, the aperture 3 is arranged on the front side of the beam splitter 5 (on the laser beam incident side), but the distances to the polarized beam beam splitter 25 are made equal to each other so that the first optical path is formed. Even if an opening is arranged in each of the second optical paths, the same effect as the above case can be obtained.

【0024】また、開口3を設けず、加工レンズ30の
焦点位置で加工する場合も、ビームスプリッタ5から偏
光ビームスプリッタまでの距離が等しいので、上記の場
合と同様の効果を得ることができる。
Further, even when processing is performed at the focal position of the processing lens 30 without providing the opening 3, since the distance from the beam splitter 5 to the polarization beam splitter is the same, the same effect as the above case can be obtained.

【0025】また、加工レンズ30の大きさで決まる加
工領域に含まれる加工箇所が奇数の場合は、例えば、2
次元偏向手段15のミラー11の回転角度を大きくして
ミラー11で反射されたレーザ光がミラー14から外れ
るようにしておき、2次元偏向手段22でレーザ光を加
工箇所に位置決めする操作を当該加工領域において1回
行えばよい。
When the number of processing points included in the processing area determined by the size of the processing lens 30 is odd, for example, 2
The rotation angle of the mirror 11 of the three-dimensional deflecting means 15 is increased so that the laser light reflected by the mirror 11 deviates from the mirror 14, and the two-dimensional deflecting means 22 positions the laser light at the processing location. It may be performed once in the area.

【0026】次に、偏光ビームスプリッタ25について
さらに説明する。
Next, the polarization beam splitter 25 will be further described.

【0027】図4は本発明に係る偏光ビームスプリッタ
25の配置方向を説明する図であり、(a)はレーザ光
の入射方向説明図、(b)は(a)のA矢視図である。
4A and 4B are views for explaining the arrangement direction of the polarization beam splitter 25 according to the present invention, FIG. 4A is an explanatory view of the incident direction of laser light, and FIG. 4B is a view as seen from the arrow A of FIG. .

【0028】屈折率がnGeであるゲルマニウムの表面に
デューティー比α(溝が形成されていない部分の幅がα
であり、溝の幅すなわち空気の部分の幅が1−α)のグ
レーティング52を形成した場合、グレーティングベク
トルK(グレーティング52に直交する方向)に対して
電場が垂直に振動する光に対する屈折率n1は式1によ
り、また、グレーティングベクトルKに対して電場が平
行に振動する偏光に対する等価屈折率n2は式2により
それぞれ近似することができる。
The duty ratio α (the width of the portion where the groove is not formed is α) on the surface of germanium having a refractive index of n Ge.
When the grating 52 having the groove width, that is, the width of the air portion of 1-α) is formed, the refractive index n for light whose electric field vibrates perpendicularly to the grating vector K (direction orthogonal to the grating 52) is 1 can be approximated by Equation 1, and the equivalent refractive index n 2 for polarized light whose electric field oscillates in parallel with the grating vector K can be approximated by Equation 2.

【0029】[0029]

【数1】 そして、偏光の定義より、図4(a)において左方およ
び上方から入射角45度でグレーティング52に入射す
るP偏光のレーザ光に対するグレーティング部の屈折率
pは上記式1におけるn1で、また、S偏光に対するグ
レーティング部の屈折率nsは上記式2におけるn2で与
えられる。
[Equation 1] Then, from the definition of the polarization, with n 1 in the refractive index n p is the formula 1 of the grating portion with respect to the laser beam of the P polarized light incident from the left side and upward to the grating 52 at an incident angle of 45 degrees in FIG. 4 (a), The refractive index n s of the grating portion for S-polarized light is given by n 2 in the above equation 2.

【0030】次に、数値を用いてさらに具体的に説明す
る。
Next, a more specific description will be given using numerical values.

【0031】例えば、nGeを4.0、デューティー比α
を0.8にすると、np=3.61、ns=1.11程度
になる。そして、このとき、グレーティング層の厚さ
(すなわち溝の深さ)をレーザ光の波長λの1/3にす
ると、P偏光の反射光が互いに干渉する結果、P偏光の
反射率はほぼ0に、また、S偏光の反射率は0.8以上
になるので、レーザ光のエネルギは殆ど失われない。
For example, n Ge is 4.0, duty ratio α
When 0.8 is set, n p = 3.61 and n s = 1.11. At this time, if the thickness of the grating layer (that is, the depth of the groove) is set to 1/3 of the wavelength λ of the laser light, the reflected lights of P-polarized light interfere with each other, and the reflectance of P-polarized light becomes almost 0. Moreover, since the reflectance of S-polarized light is 0.8 or more, the energy of the laser light is hardly lost.

【0032】そして、このように、入射角45度でレー
ザ光を入射させることができる偏光ビームスプリッタを
採用すると、光学系の外形を小形にできると共に、光学
系のアラインメント作業が容易になる。また、偏光ビー
ムスプリッタ25内部の光路長も短くできるので、加工
レンズ30に近付けて配置することができる。この結
果、リレー光学系26を省略することができる場合もあ
る。
When a polarization beam splitter capable of making a laser beam incident at an incident angle of 45 degrees is adopted in this way, the outer shape of the optical system can be made small and the alignment work of the optical system can be facilitated. Further, since the optical path length inside the polarization beam splitter 25 can be shortened, it can be arranged close to the processing lens 30. As a result, the relay optical system 26 may be omitted in some cases.

【0033】ちなみに、一般に使用されている炭酸ガス
レーザ用の偏光ビームスプリッタは入射角を75度程度
にしなければならない。このため、同一の開口に対し、
この実施形態における偏光ビームスプリッタよりも大形
のものを用いる必要があると共に透過方向の光路が長く
なるので、アラインメント作業が面倒になる。
Incidentally, a polarization beam splitter for a carbon dioxide laser which is generally used must have an incident angle of about 75 degrees. Therefore, for the same opening,
Since it is necessary to use a larger one than the polarization beam splitter in this embodiment and the optical path in the transmission direction becomes long, the alignment work becomes complicated.

【0034】図5は本発明に係る他の偏光ビームスプリ
ッタの配置方向を説明する図であり、(a)はレーザ光
の入射方向説明図、(b)は(a)のB矢視図である。
5A and 5B are views for explaining the arrangement direction of another polarization beam splitter according to the present invention. FIG. 5A is an explanatory view of the incident direction of laser light, and FIG. 5B is a view as seen from the arrow B of FIG. is there.

【0035】この実施形態における偏光ビームスプリッ
タ25は、材質がゲルマニウムの直角プリズム61、6
2を斜辺で張り合わせた構成になっており、直角プリズ
ム61の斜面にはレーザ発振器1から出力されるレーザ
光の波長よりも小さいピッチでグレーティング52が形
成されている。なお、直角プリズム61、62の対向す
る斜面以外の入射面と出射面は無反射コーティングによ
り反射が抑制されている。そして、P偏光に対する屈折
率npをS偏光に対する屈折率nsよりも大きくすると共
にグレーティング52を同図に示す方向に配置すると、
S偏光をグレーティング部で全反射させ、P偏光を透過
させることができる。また、グレーティング52の方向
を図の位置から90度回転させることにより、P偏光を
グレーティング部で全反射させ、S偏光を透過させるこ
とができる。
The polarization beam splitter 25 in this embodiment has right-angle prisms 61 and 6 made of germanium.
2 is attached to the oblique side, and a grating 52 is formed on the inclined surface of the right-angle prism 61 at a pitch smaller than the wavelength of the laser light output from the laser oscillator 1. Reflection is suppressed on the incident surface and the emission surface of the right-angled prisms 61 and 62 other than the facing inclined surfaces by antireflection coating. Then, when the refractive index n p for P-polarized light is made larger than the refractive index n s for S-polarized light and the grating 52 is arranged in the direction shown in FIG.
S-polarized light can be totally reflected by the grating portion and P-polarized light can be transmitted. Further, by rotating the direction of the grating 52 by 90 degrees from the position shown in the figure, the P polarized light can be totally reflected by the grating portion and the S polarized light can be transmitted.

【0036】このように、偏光ビームスプリッタ25を
2個の直角プリズムで構成すると、反射あるいは透過す
る偏光を自由に選べることができると共に、反射角をあ
る程度任意に設定できるので光学系のアラインメント作
業が容易になる。
As described above, when the polarization beam splitter 25 is composed of two right-angle prisms, the polarized light to be reflected or transmitted can be freely selected, and the reflection angle can be set to some extent, so that the alignment work of the optical system can be performed. It will be easier.

【0037】次に、数値を用いてさらに具体的に説明す
る。
Next, a more specific description will be given using numerical values.

【0038】例えば、直角プリズムの頂角以外の2つの
角を45度、nGeを4.0、デューティー比αを0.6
にすると、np=3.16、ns=1.27になる。ここ
で、グレーティング層の厚さを1.15λにすると、P
偏光の透過率をほぼ1とすることができると共に、S偏
光は全反射(反射率1)される。このように、偏光ビー
ムスプリッタ25を2個の直角プリズムで構成すると、
板型よりも偏光分離特性に優れるものにすることができ
る。
For example, two angles other than the apex angle of the rectangular prism are 45 degrees, n Ge is 4.0, and the duty ratio α is 0.6.
Then, n p = 3.16 and n s = 1.27. Here, if the thickness of the grating layer is 1.15λ, P
The transmittance of polarized light can be approximately 1, and S-polarized light is totally reflected (reflectance of 1). Thus, if the polarization beam splitter 25 is composed of two right angle prisms,
It is possible to make the polarized light separating property more excellent than the plate type.

【0039】なお、この実施形態では、リレー光学系2
6を偏光ビームスプリッタ25と加工レンズ30との間
に配置したが、加工レンズ30と加工対象31との間に
配置しても良い。
In this embodiment, the relay optical system 2
Although 6 is arranged between the polarization beam splitter 25 and the processing lens 30, it may be arranged between the processing lens 30 and the processing object 31.

【0040】(第2の実施形態)図6は本発明の第2の
実施形態に係るレーザ加工装置の側面図であり、図2と
同じものまたは同一機能のものは同一の符号を付して説
明を省略する。なお、平面図は上記第1の実施形態の場
合と同一である。
(Second Embodiment) FIG. 6 is a side view of a laser processing apparatus according to a second embodiment of the present invention. Components having the same functions or functions as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals. The description is omitted. The plan view is the same as that of the first embodiment.

【0041】リレー光学系40は、レンズ41、レンズ
42およびレンズ28とから構成されている。レンズ4
1、レンズ42およびレンズ28の光軸の交点には偏光
ビームスプリッタ25が配置されている。
The relay optical system 40 is composed of a lens 41, a lens 42 and a lens 28. Lens 4
1, the polarization beam splitter 25 is arranged at the intersection of the optical axes of the lens 42 and the lens 28.

【0042】この実施形態の場合、2次元偏向手段22
の像は偏光ビームスプリッタ25を介してレンズ42と
レンズ28により、加工レンズ30の前焦点付近に結像
される。また、2次元偏向手段15の像は偏光ビームス
プリッタ25を介してレンズ41とレンズ28により、
加工レンズ30の前焦点付近に結像される。なお、この
実施形態では、レンズ41とレンズ42の焦点位置を避
けて偏光ビームスプリッタ25を設置することにより、
偏光ビームスプリッタ25が加熱により損傷することを
回避している。
In the case of this embodiment, the two-dimensional deflection means 22
The image of (2) is formed near the front focus of the processing lens 30 by the lens 42 and the lens 28 via the polarization beam splitter 25. In addition, the image of the two-dimensional deflecting means 15 is formed by the lens 41 and the lens 28 via the polarization beam splitter 25.
An image is formed near the front focus of the processing lens 30. In addition, in this embodiment, by disposing the polarization beam splitter 25 while avoiding the focal positions of the lenses 41 and 42,
The polarization beam splitter 25 is prevented from being damaged by heating.

【0043】そして、このように構成すると、2次元偏
向手段15、22とレンズ41、レンズ42を物理的に
近づけることができるので、レーザ加工装置内における
リレー光学系の配置が容易になり、光学系を小型化でき
ると共に安価に構成することができる。
With this structure, the two-dimensional deflecting means 15 and 22 and the lenses 41 and 42 can be physically brought close to each other, so that the relay optical system in the laser processing apparatus can be easily arranged and the optical system can be improved. The system can be miniaturized and inexpensively constructed.

【0044】なお、偏光ビームスプリッタ25として、
通常入手可能な誘電体多層膜を用いた板形やキューブ型
の偏光ビームスプリッタを使用することができる。ま
た、パワーの利用効率は劣るが、偏光特性を備えていな
いビームスプリッタを用いることもできる。
As the polarization beam splitter 25,
A plate-type or cube-type polarization beam splitter using a commonly available dielectric multilayer film can be used. Further, it is possible to use a beam splitter which does not have polarization characteristics, although the power utilization efficiency is poor.

【0045】ところで、上記第1、第2の実施形態では
レーザ光を同時に分割するように構成したが、時間的に
分割するように構成しても良い。
By the way, in the first and second embodiments, the laser light is divided at the same time, but it may be divided in time.

【0046】(第3の実施形態)図7は本発明の第3の
実施形態に係るレーザ加工装置の平面図であり、図1と
同じものまたは同一機能のものは同一の符号を付して説
明を省略する。なお、第3の実施形態に係るレーザ加工
装置の側面図は、第1の実施形態における図2と同一で
ある。
(Third Embodiment) FIG. 7 is a plan view of a laser processing apparatus according to a third embodiment of the present invention. Components having the same functions or functions as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. The description is omitted. The side view of the laser processing apparatus according to the third embodiment is the same as FIG. 2 of the first embodiment.

【0047】レーザ発振器1から出力された電場が紙面
と平行に振動する直線偏光のレーザ光は、ミラー89に
より上方向(Z軸正方向)に偏向された後、ミラー90
により右方向(X軸正方向)に偏向され、振動面が紙面
と垂直な方向になって音響光学素子(AO素子)91に
入射する。音響光学素子91は、駆動周波数を変えるこ
とにより、入射光の回折角度を調節することができる装
置である。そこで、2種類の互いに異なる周波数によっ
て音響光学素子91を駆動することによりレーザ光を予
め定める方向に振り分けることができる。そして、振り
分けたレーザ光の一方をミラー92、93を介して図示
を省略した2次元偏向手段15に、また、他方をミラー
94、95を介して図示を省略した2次元偏向手段22
に入射させる。
The linearly polarized laser light whose electric field output from the laser oscillator 1 oscillates in parallel with the paper surface is deflected by the mirror 89 in the upward direction (Z axis positive direction), and then the mirror 90.
Is deflected in the right direction (X-axis positive direction), and the vibrating surface enters the acousto-optic element (AO element) 91 in a direction perpendicular to the paper surface. The acousto-optic element 91 is a device that can adjust the diffraction angle of incident light by changing the drive frequency. Therefore, by driving the acoustooptic element 91 with two different frequencies, the laser light can be distributed in a predetermined direction. Then, one of the distributed laser beams is passed through the mirrors 92 and 93 to the two-dimensional deflecting means 15 not shown, and the other is passed through the mirrors 94 and 95 to the two-dimensional deflecting means 22 not shown.
Incident on.

【0048】このように、図1におけるビームスプリッ
タ5に代わる音響光学素子91によりレーザ光を時間的
に2分割すると、レーザ発振器1のパルス発光の繰り返
し周波数が実質的に2倍になるので、加工能率を向上さ
せることができる。なお、加工対象物の特性からレーザ
光を最高繰り返し周波数で照射することが許容されない
場合でも、レーザ光を異なる加工位置に振り分けること
により加工能率を向上させることができる。また、レー
ザ光のパルス幅が加工に必要な幅よりも大きい場合は、
1つのパルスから例えば2つのパルスを生成して加工す
ることができるので、レーザ発振器1のパルス発光の繰
り返し周波数が低い場合においても、加工能率を向上さ
せることができる。
As described above, when the laser beam is temporally divided into two by the acousto-optic element 91 which replaces the beam splitter 5 in FIG. 1, the repetition frequency of pulse emission of the laser oscillator 1 is substantially doubled. The efficiency can be improved. Even if it is not allowed to irradiate the laser beam with the highest repetition frequency due to the characteristics of the object to be processed, it is possible to improve the processing efficiency by distributing the laser beam to different processing positions. If the pulse width of the laser light is larger than the width required for processing,
Since it is possible to generate and process, for example, two pulses from one pulse, it is possible to improve the processing efficiency even when the pulse emission repetition frequency of the laser oscillator 1 is low.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レーザ光の光路上に配置され前記光路を第1の光路と第
2の光路に分離する光路分離手段と、前記第1の光路上
に配置され前記レーザ光を偏向する第1の2次元偏向手
段と、前記第2の光路上に配置され前記レーザ光を偏向
する第2の2次元偏向手段と、前記第1およ第2の2次
元偏向手段で偏向された前記レーザ光を加工対象に集光
する加工レンズと、を備えるレーザ加工装置において、
分離された前記第1の光路と前記第2の光路を1つの光
路に統合する光路統合手段を設け、前記光路分離手段か
ら前記光路統合手段に至る前記第1の光路の長さと前記
第2の光路の長さが等しくなるように、前記第1の2次
元偏向手段と前記第2の2次元偏向手段を配置し、前記
第1の2次元偏向手段および前記第2の2次元偏向手段
により偏向された前記レーザ光を1個の前記加工レンズ
に入射させるので、2つのスキャニング光学系を1つの
加工レンズに対応させる場合であっても、加工対象に品
質の優れる穴を加工することができる。
As described above, according to the present invention,
An optical path separating means arranged on the optical path of the laser light for separating the optical path into a first optical path and a second optical path, and a first two-dimensional deflecting means arranged on the first optical path for deflecting the laser light. And a second two-dimensional deflecting means arranged on the second optical path for deflecting the laser light, and the laser light deflected by the first and second two-dimensional deflecting means on a processing target. In a laser processing device including a processing lens that emits light,
An optical path unifying means for unifying the separated first optical path and second optical path into one optical path is provided, and the length of the first optical path from the optical path separating means to the optical path integrating means and the second optical path. The first two-dimensional deflection means and the second two-dimensional deflection means are arranged so that the optical paths have the same length, and the first two-dimensional deflection means and the second two-dimensional deflection means deflect the light. Since the generated laser light is made incident on one of the processing lenses, even when the two scanning optical systems correspond to one processing lens, it is possible to process a hole having excellent quality on the processing target.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係るレーザ加工装置
の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a laser processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態に係るレーザ加工装置
の側面図である。
FIG. 2 is a side view of the laser processing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明に係る偏光ビームスプリッタの側面図で
ある。
FIG. 3 is a side view of a polarization beam splitter according to the present invention.

【図4】本発明に係る偏光ビームスプリッタの配置方向
を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an arrangement direction of a polarization beam splitter according to the present invention.

【図5】本発明に係る他の偏光ビームスプリッタの配置
方向を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating an arrangement direction of another polarization beam splitter according to the present invention.

【図6】本発明の第2の実施形態に係るレーザ加工装置
の側面図である。
FIG. 6 is a side view of a laser processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施形態に係るレーザ加工装置
の平面図である。
FIG. 7 is a plan view of a laser processing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

15 2次元偏向手段 22 2次元偏向手段 25 偏光ビームスプリッタ 30 加工レンズ 15 Two-dimensional deflection means 22 Two-dimensional deflection means 25 Polarizing beam splitter 30 Processing lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青山 博志 神奈川県海老名市上今泉2100番地 日立ビ アメカニクス株式会社内 Fターム(参考) 2H099 AA17 BA17 CA17 4E068 AF01 CA05 CD02 CD04 CD08 CD10 DA11    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hiroshi Aoyama             Hitachi Bi, 2100 Kamiimazumi, Ebina City, Kanagawa Prefecture             Inside Amechanics Co., Ltd. F-term (reference) 2H099 AA17 BA17 CA17                 4E068 AF01 CA05 CD02 CD04 CD08                       CD10 DA11

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ光の光路上に配置され前記光路を
第1の光路と第2の光路に分離する光路分離手段と、前
記第1の光路上に配置され前記レーザ光を偏向する第1
の2次元偏向手段と、前記第2の光路上に配置され前記
レーザ光を偏向する第2の2次元偏向手段と、前記第1
および第2の2次元偏向手段で偏向された前記レーザ光
を加工対象に集光する加工レンズと、を備えるレーザ加
工装置において、 分離された前記第1の光路と前記第2の光路を1つの光
路に統合する光路統合手段を設け、 前記光路分離手段から前記光路統合手段に至る前記第1
の光路の長さと前記第2の光路の長さが等しくなるよう
に、前記第1の2次元偏向手段と前記第2の2次元偏向
手段を配置し、 前記第1の2次元偏向手段および前記第2の2次元偏向
手段により偏向された前記レーザ光を1個の前記加工レ
ンズに入射させることを特徴とするレーザ加工装置。
1. An optical path separating means arranged on an optical path of laser light for separating the optical path into a first optical path and a second optical path; and a first optical path arranged on the first optical path for deflecting the laser light.
Two-dimensional deflecting means, a second two-dimensional deflecting means arranged on the second optical path for deflecting the laser light, and the first
And a processing lens that condenses the laser light deflected by the second two-dimensional deflection means onto a processing target, wherein the separated first optical path and second separated optical path are combined into one. An optical path integrating means for integrating the optical path is provided, and the first path from the optical path separating means to the optical path integrating means is provided.
The first two-dimensional deflecting means and the second two-dimensional deflecting means are arranged such that the optical path length of the second optical path and the optical path length of the second optical path are equal to each other. A laser processing apparatus, characterized in that the laser light deflected by a second two-dimensional deflection means is made incident on one processing lens.
【請求項2】 レーザ光の光路上に配置され前記レーザ
光の外形を規制する開口と、前記光路を第1の光路と第
2の光路に分離する光路分離手段と、前記第1の光路上
に配置され前記レーザ光を偏向する第1の2次元偏向手
段と、前記第2の光路上に配置され前記レーザ光を偏向
する第2の2次元偏向手段と、前記第1およ第2の2次
元偏向手段で偏向された前記レーザ光を加工対象に集光
する加工レンズと、を備えるレーザ加工装置において、 分離された前記第1の光路と前記第2の光路を1つの光
路に統合する光路統合手段を設け、 前記開口から前記光路統合手段に至る前記第1の光路の
長さと前記第2の光路の長さが等しくなるように、前記
第1の2次元偏向手段と前記第2の2次元偏向手段を配
置し、 前記第1の2次元偏向手段および前記第2の2次元偏向
手段により偏向された前記レーザ光を1個の前記加工レ
ンズに入射させることを特徴とするレーザ加工装置。
2. An opening arranged on the optical path of the laser light for regulating the outer shape of the laser light, an optical path separating means for separating the optical path into a first optical path and a second optical path, and on the first optical path. And a second two-dimensional deflecting means disposed on the second optical path for deflecting the laser light, and first and second two-dimensional deflecting means disposed on the second optical path. A laser processing apparatus comprising: a processing lens for condensing the laser light deflected by a two-dimensional deflection means onto an object to be processed, wherein the separated first optical path and second optical path are integrated into one optical path. An optical path integrating means is provided, and the first two-dimensional deflecting means and the second optical path are arranged so that the length of the first optical path from the opening to the optical path integrating means is equal to the length of the second optical path. A two-dimensional deflecting means is provided, and the first two-dimensional deflecting means and And the laser beam deflected by the second two-dimensional deflecting means is made incident on one of the processing lenses.
【請求項3】 リレー光学系を設け、このリレー光学系
を前記光路統合手段と前記加工対象との間に配置するこ
とを特徴とする請求項1または2に記載のレーザ加工装
置。
3. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein a relay optical system is provided, and the relay optical system is arranged between the optical path integrating means and the processing target.
【請求項4】 前記リレー光学系はアフォーカル光学系
であることを特徴とする請求項3に記載のレーザ加工装
置。
4. The laser processing apparatus according to claim 3, wherein the relay optical system is an afocal optical system.
【請求項5】 前記光路統合手段は、グレーティングを
備える偏光ビームスプリッタであることを特徴とする請
求項1ないし請求項3のいずれかに記載のレーザ加工装
置。
5. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the optical path unifying unit is a polarization beam splitter including a grating.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104785779A (en) * 2015-03-20 2015-07-22 南京奕宇光电科技有限公司 Laser scanning head, three-dimensional printing device and printing method
WO2022023323A1 (en) * 2020-07-27 2022-02-03 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. Apparatus and method for scanning a target plane with a plurality of laser beams, in particular for laser material processing

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