JP2003313352A - Polyamide foam, method for producing the same, and polishing pad comprising the foam - Google Patents

Polyamide foam, method for producing the same, and polishing pad comprising the foam

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JP2003313352A
JP2003313352A JP2002122304A JP2002122304A JP2003313352A JP 2003313352 A JP2003313352 A JP 2003313352A JP 2002122304 A JP2002122304 A JP 2002122304A JP 2002122304 A JP2002122304 A JP 2002122304A JP 2003313352 A JP2003313352 A JP 2003313352A
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俊二 金田
Tomohiro Okamoto
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyamide foam having a uniform foam structure and being usefully usable as a polishing pad being capable of improving the flatness and flattening efficiency of the surface to be polished, and having a longer life than the conventional. <P>SOLUTION: The polyamide foam is one comprising (a) dicarboxylic acid units containing 50-100 mol% terephthalic acid units and (b) diamine units containing 50-100 mol% 6-18C aliphatic diamine units and having a density of 0.4-0.95 g/cm<SP>3</SP>, a cell size of 20-200 μm, and a hardness (JIS-C hardness) of 93 or above. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、均一な発泡構造を
有するポリアミド発泡体およびその製造方法並びに該発
泡体よりなる研磨パッドに関する。本発明の研磨パッド
は、半導体ウェハー等を高精度に、かつ高効率に研磨す
るための研磨用途に有用である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyamide foam having a uniform foam structure, a method for producing the same, and a polishing pad made of the foam. The polishing pad of the present invention is useful for polishing applications for polishing a semiconductor wafer or the like with high accuracy and high efficiency.

【0002】[0002]

【従来の技術】集積回路を形成するための基材として使
用される半導体ウェハーの鏡面加工に用いられる研磨パ
ッドとしては、一般的に、ベロア調やスエード調などの
繊維と樹脂の複合材料、あるいは熱可塑性ポリウレタン
樹脂を不織布に含浸させ湿式凝固させた、圧縮変形特性
が大きく、比較的柔らかいシートが多用されていた。
2. Description of the Related Art A polishing pad used for mirror-finishing a semiconductor wafer used as a base material for forming an integrated circuit is generally a velor-like or suede-like composite material of fiber and resin, or A relatively soft sheet, which is obtained by impregnating a non-woven fabric with a thermoplastic polyurethane resin and wet-solidifying it, has a large compression deformation characteristic and is relatively used.

【0003】近年、半導体ウェハーは、高集積化、多層
配線化に伴い、一層の高平坦化等の品質向上に加えて低
価格化の要求が増々高まっている。それに伴い、研磨パ
ッドに対しても、従来以上の平坦化を可能にする等の高
機能化や長時間使用可能であることが要求されている。
In recent years, as semiconductor wafers have been highly integrated and multilayered, there has been an increasing demand for lower prices in addition to higher quality such as higher flatness. Along with this, polishing pads are required to have higher functionality such as flattening than ever before and to be usable for a long time.

【0004】従来の比較的柔軟な不織布タイプの研磨パ
ッドは、ウェハーとの接触性が良く、研磨スラリーの保
持性も良好であるが、その柔軟性のために被研磨面の平
坦化が十分でない。しかも、研磨スラリーや研磨屑が不
織布の空隙に目詰まりし、これが原因でウェハー表面に
傷を生じやすくなる傾向にある。また、研磨スラリーや
研磨屑が目詰まりし易く、しかも空隙深くまで侵入して
いるため洗浄が困難であり、研磨パッドの使用時間が短
いという問題点も有している。
The conventional relatively soft non-woven fabric type polishing pad has good contact with the wafer and good retention of the polishing slurry, but its flexibility does not sufficiently flatten the surface to be polished. . Moreover, the polishing slurry and polishing debris tend to clog the voids of the nonwoven fabric, which tends to cause scratches on the wafer surface. Further, the polishing slurry and polishing dust are easily clogged, and since they penetrate deep into the voids, it is difficult to clean them, and the polishing pad has a short use time.

【0005】一方、高分子発泡体を使用した研磨パッド
も知られており、不織布タイプの研磨パッドに比べて剛
性が高いため、ウェハーの研磨等の平坦化を要求される
用途によく使用されている。また、高分子発泡体を使用
した研磨パッドは独立気泡構造であるため、研磨スラリ
ーや研磨屑が不織布タイプの研磨パッドのように空隙の
奥まで侵入しないので、研磨パッドの洗浄が比較的容易
で長時間の使用にも耐えられるものである。特に耐摩耗
性に優れることから、高分子発泡体としては発泡ポリウ
レタンがよく用いられている。
On the other hand, a polishing pad using a polymer foam is also known, and has a higher rigidity than a non-woven type polishing pad, and therefore is often used in applications such as polishing of a wafer which requires flattening. There is. In addition, since the polishing pad using polymer foam has a closed cell structure, polishing slurry and polishing debris do not penetrate deep into the gap like non-woven type polishing pads, so cleaning of the polishing pad is relatively easy. It can withstand long-term use. In particular, polyurethane foam is often used as the polymer foam because of its excellent wear resistance.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】発泡ポリウレタン製の
研磨パッドは、通常、発泡ポリウレタンを適宜研削また
はスライスすることにより製造されている。従来、研磨
パッド用の発泡ポリウレタンは、2液硬化型ポリウレタ
ンを用いて注型発泡硬化することによって製造されてい
る(特開2000−178374号公報、特開2000
−248034号公報、特開2001−89548号公
報、特開平11−322878号公報などを参照)が、
この方法では、反応・発泡の均一化が困難である上、得
られる発泡ポリウレタンの高硬度化にも限界があった。
また、従来の発泡ポリウレタン製の研磨パッドは、被研
磨面の平坦性や平坦化効率等の研磨特性が変動すること
があるが、もとになる発泡ポリウレタンにおける発泡構
造のばらつきがその一因と考えられる。また、平坦化効
率を高めるために、より硬度の高い研磨パッドが望まれ
ている(〔「CMPのサイエンス」株式会社サイエンス
フォーラム、1997年8月20日発行〕を参照)。
The foamed polyurethane polishing pad is usually manufactured by appropriately grinding or slicing the foamed polyurethane. Conventionally, foamed polyurethane for a polishing pad has been manufactured by cast-foaming and curing using a two-component curing type polyurethane (JP-A-2000-178374, JP-A-2000).
No. 248034, JP 2001-89548 A, JP 11-322878 A, etc.),
With this method, it is difficult to make the reaction and foaming uniform, and there is a limit to the increase in hardness of the obtained polyurethane foam.
Further, in the conventional polishing pad made of polyurethane foam, polishing characteristics such as flatness of the surface to be polished and flattening efficiency may change, and one of the causes is variation in the foam structure of the original polyurethane foam. Conceivable. Further, in order to improve the flattening efficiency, a polishing pad having a higher hardness is desired (see “[Science of CMP”, Science Forum Co., Ltd., issued August 20, 1997]).

【0007】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
のであって、均一な発泡構造を有し、被研磨面の平坦性
および平坦化効率の向上が達成でき、かつ使用時間を従
来のものより延長することができる、研磨パッドとして
有用な発泡体を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a uniform foam structure, can improve the flatness and flattening efficiency of the surface to be polished, and can reduce the operating time by the conventional method. It is an object of the present invention to provide a foam useful as a polishing pad, which foam can be extended more than the conventional one.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく検
討を重ねた結果、本発明者らは、非反応性ガスを溶解さ
せた特定のポリアミドを発泡させることにより、硬度が
高く、微細かつ均一な発泡構造を有する発泡体が得られ
ることを見出し、さらに検討した結果、本発明を完成し
た。
As a result of repeated studies to achieve the above object, the inventors of the present invention foamed a specific polyamide in which a non-reactive gas was dissolved to obtain high hardness, fineness and fineness. The present invention was completed as a result of further studying that it was possible to obtain a foam having a uniform foam structure.

【0009】すなわち、本発明は、 テレフタル酸単位
を50〜100モル%含有するジカルボン酸単位(a)
と、炭素数6〜18の脂肪族ジアミン単位を50〜10
0モル%含有するジアミン単位(b)とからなるポリア
ミドから構成され、密度が0.4〜0.95g/c
3、気泡サイズが20〜200μm、硬度(JIS−
C硬度)が93以上であるポリアミド発泡体およびその
製造方法を提供する。
That is, the present invention provides a dicarboxylic acid unit (a) containing 50 to 100 mol% of terephthalic acid unit.
And an aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms in an amount of 50 to 10
It is composed of a polyamide consisting of 0 mol% of the diamine unit (b) and has a density of 0.4 to 0.95 g / c.
m 3 , bubble size 20 to 200 μm, hardness (JIS-
Provided is a polyamide foam having a C hardness) of 93 or more, and a method for producing the same.

【0010】また、本発明は、上記のポリアミドに非反
応性ガスを加圧条件下で溶解させた後、圧力を開放し、
該ポリアミドを軟化温度以上の温度で発泡させて得られ
る、密度が0.4〜0.95g/cm3、気泡サイズが
20〜200μmであるポリアミド発泡体およびその製
造方法を提供する。さらに、本発明は、上記のポリアミ
ド発泡体からなる研磨パッドを提供する。
Further, according to the present invention, after the non-reactive gas is dissolved in the above polyamide under a pressurized condition, the pressure is released,
A polyamide foam having a density of 0.4 to 0.95 g / cm 3 and a cell size of 20 to 200 μm, which is obtained by foaming the polyamide at a temperature of a softening temperature or higher, and a method for producing the same. Further, the present invention provides a polishing pad made of the above polyamide foam.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明において使用されるポリア
ミドを構成するジカルボン酸単位(a)は、テレフタル
酸単位を50〜100モル%含有する。ジカルボン酸単
位(a)におけるテレフタル酸単位の含有量は、75〜
100モル%の範囲内であることが好ましく、90〜1
00モル%の範囲内であることがより好ましい。テレフ
タル酸単位の含有量が50モル%未満の場合には、得ら
れる発泡体の耐熱性、耐水性、耐薬品性などが低下す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The dicarboxylic acid unit (a) constituting the polyamide used in the present invention contains 50 to 100 mol% of a terephthalic acid unit. The content of the terephthalic acid unit in the dicarboxylic acid unit (a) is 75 to
It is preferably in the range of 100 mol%, and 90 to 1
It is more preferably within the range of 00 mol%. When the content of the terephthalic acid unit is less than 50 mol%, the heat resistance, water resistance, chemical resistance and the like of the obtained foam are deteriorated.

【0012】上記のジカルボン酸単位(a)は、50モ
ル%以下であれば、テレフタル酸単位以外の他のジカル
ボン酸単位を含んでいてもよい。該他のジカルボン酸単
位としては、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、
グルタル酸、アジピン酸、2−メチルアジピン酸、トリ
メチルアジピン酸、ピメリン酸、2,2−ジメチルグル
タル酸、3,3−ジエチルコハク酸、アゼライン酸、セ
バシン酸、スベリン酸等の脂肪族ジカルボン酸;1,3
−シクロペンタンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサ
ンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸;イソフタル
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタ
レンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、
1,4−フェニレンジオキシジ酢酸、1,3−フェニレ
ンジオキシジ酢酸、ジフェン酸、4,4’−オキシジ安
息香酸、ジフェニルメタン−4,4’−ジカルボン酸、
ジフェニルスルホン−4,4’−ジカルボン酸、4,
4’−ビフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸
から誘導される単位を挙げることができ、これらのうち
1種または2種以上を用いることができる。これらのな
かでも芳香族ジカルボン酸から誘導される単位を用いる
ことが好ましい。これらの他のジカルボン酸単位の含有
量としては、25モル%以下であることが好ましく、1
0モル%以下であることがより好ましい。さらに、トリ
メリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などの多価
カルボン酸から誘導される単位を、溶融成形が可能な範
囲内で含んでいてもよい。
The above dicarboxylic acid unit (a) may contain a dicarboxylic acid unit other than the terephthalic acid unit as long as it is 50 mol% or less. Examples of the other dicarboxylic acid unit include malonic acid, dimethylmalonic acid, succinic acid,
Aliphatic dicarboxylic acids such as glutaric acid, adipic acid, 2-methyladipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, 2,2-dimethylglutaric acid, 3,3-diethylsuccinic acid, azelaic acid, sebacic acid and suberic acid; 1,3
Alicyclic dicarboxylic acids such as cyclopentanedicarboxylic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid; isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid,
1,4-phenylenedioxydiacetic acid, 1,3-phenylenedioxydiacetic acid, diphenic acid, 4,4′-oxydibenzoic acid, diphenylmethane-4,4′-dicarboxylic acid,
Diphenyl sulfone-4,4'-dicarboxylic acid, 4,
A unit derived from an aromatic dicarboxylic acid such as 4′-biphenyldicarboxylic acid can be mentioned, and one or more of these can be used. Among these, it is preferable to use a unit derived from an aromatic dicarboxylic acid. The content of these other dicarboxylic acid units is preferably 25 mol% or less, and 1
It is more preferably 0 mol% or less. Furthermore, a unit derived from a polyvalent carboxylic acid such as trimellitic acid, trimesic acid, or pyromellitic acid may be contained within the range where melt molding is possible.

【0013】また、本発明において使用されるポリアミ
ドを構成するジアミン単位(b)は、炭素数6〜18の
脂肪族ジアミン単位を50〜100モル%含有する。ジ
アミン単位(b)における、炭素数6〜18の脂肪族ジ
アミン単位の含有量は、75〜100モル%の範囲内で
あることが好ましく、90〜100モル%の範囲内であ
ることがさらに好ましい。炭素数6〜18の脂肪族アル
キレンジアミン単位の含有量が50モル%未満の場合に
は、得られる発泡体の耐熱性、耐水性、耐薬品性などが
低下する。炭素数6〜18の脂肪族ジアミン単位として
は、例えば、1,6−ヘキサンジアミン、1,7−ヘプ
タンジアミン、1,8−オクタンジアミン、1,9−ノ
ナンジアミン、1,10−デカンジアミン、1,11−
ウンデカンジアミン、1,12−ドデカンジアミン等の
直鎖状脂肪族アルキレンジアミン;1−ブチル−1,2
−エタンジアミン、1,1−ジメチル−1,4−ブタン
ジアミン、1−エチル−1,4−ブタンジアミン、1,
2−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、1,3−ジメ
チル−1,4−ブタンジアミン、1,4−ジメチル−
1,4−ブタンジアミン、2,3−ジメチル−1,4−
ブタンジアミン、2−メチル−1,5−ペンタンジアミ
ン、3−メチル−1,5−ペンタンジアミン、2,5−
ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,4−ジメチ
ル−1,6−ヘキサンジアミン、3,3−ジメチル−
1,6−ヘキサンジアミン、2,2−ジメチル−1,6
−ヘキサンジアミン、2,2,4−トリメチル−1,6
−ヘキサンジアミン、2,4,4−トリメチル−1,6
−ヘキサンジアミン、2,4−ジエチル−1,6−ヘキ
サンジアミン、2,2−ジメチル−1,7−ヘプタンジ
アミン、2,3−ジメチル−1,7−ヘプタンジアミ
ン、2,4−ジメチル−1,7−ヘプタンジアミン、
2,5−ジメチル−1,7−ヘプタンジアミン、2−メ
チル−1,8−オクタンジアミン、3−メチル−1,8
−オクタンジアミン、4−メチル−1,8−オクタンジ
アミン、1,3−ジメチル−1,8−オクタンジアミ
ン、1,4−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、
2,4−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、3,4
−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、4,5−ジメ
チル−1,8−オクタンジアミン、2,2−ジメチル−
1,8−オクタンジアミン、3,3−ジメチル−1,8
−オクタンジアミン、4,4−ジメチル−1,8−オク
タンジアミン、5−メチル−1,9−ノナンジアミン等
の分岐鎖状脂肪族アルキレンジアミンなどから誘導され
る単位を挙げることができ、これらのうち1種または2
種以上を用いることができる。
The diamine unit (b) constituting the polyamide used in the present invention contains 50 to 100 mol% of an aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms. The content of the aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms in the diamine unit (b) is preferably in the range of 75 to 100 mol%, more preferably 90 to 100 mol%. . When the content of the aliphatic alkylenediamine unit having 6 to 18 carbon atoms is less than 50 mol%, the heat resistance, water resistance, chemical resistance and the like of the obtained foam are deteriorated. Examples of the aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms include 1,6-hexanediamine, 1,7-heptanediamine, 1,8-octanediamine, 1,9-nonanediamine, 1,10-decanediamine, and , 11-
Undecanediamine, 1,12-dodecanediamine and other linear aliphatic alkylenediamines; 1-butyl-1,2
-Ethanediamine, 1,1-dimethyl-1,4-butanediamine, 1-ethyl-1,4-butanediamine, 1,
2-dimethyl-1,4-butanediamine, 1,3-dimethyl-1,4-butanediamine, 1,4-dimethyl-
1,4-butanediamine, 2,3-dimethyl-1,4-
Butanediamine, 2-methyl-1,5-pentanediamine, 3-methyl-1,5-pentanediamine, 2,5-
Dimethyl-1,6-hexanediamine, 2,4-dimethyl-1,6-hexanediamine, 3,3-dimethyl-
1,6-hexanediamine, 2,2-dimethyl-1,6
-Hexanediamine, 2,2,4-trimethyl-1,6
-Hexanediamine, 2,4,4-trimethyl-1,6
-Hexanediamine, 2,4-diethyl-1,6-hexanediamine, 2,2-dimethyl-1,7-heptanediamine, 2,3-dimethyl-1,7-heptanediamine, 2,4-dimethyl-1 , 7-heptanediamine,
2,5-dimethyl-1,7-heptanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, 3-methyl-1,8
-Octanediamine, 4-methyl-1,8-octanediamine, 1,3-dimethyl-1,8-octanediamine, 1,4-dimethyl-1,8-octanediamine,
2,4-dimethyl-1,8-octanediamine, 3,4
-Dimethyl-1,8-octanediamine, 4,5-dimethyl-1,8-octanediamine, 2,2-dimethyl-
1,8-octanediamine, 3,3-dimethyl-1,8
-Octanediamine, 4,4-dimethyl-1,8-octanediamine, 5-methyl-1,9-nonanediamine, and other branched chain aliphatic alkylenediamine units derived from these can be mentioned. 1 or 2
More than one species can be used.

【0014】上記の脂肪族アルキレンジアミン単位の中
でも、硬度、耐水性などに優れた発泡体を得る観点か
ら、1,6−ヘキサンジアミン、1,8−オクタンジア
ミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、1,9
−ノナンジアミン、1,10−デカンジアミン、1,1
1−ウンデカンジアミン、1,12−ドデカンジアミン
から誘導される単位が好ましく、炭素数9の脂肪族ジア
ミン単位がより好ましく、1,9−ノナンジアミン単位
および/または2−メチル−1,8−オクタンジアミン
単位がさらに好ましい。
Among the above-mentioned aliphatic alkylenediamine units, 1,6-hexanediamine, 1,8-octanediamine, 2-methyl-1,8-, from the viewpoint of obtaining a foam having excellent hardness and water resistance. Octanediamine, 1,9
-Nonanediamine, 1,10-decanediamine, 1,1
A unit derived from 1-undecanediamine or 1,12-dodecanediamine is preferable, an aliphatic diamine unit having 9 carbon atoms is more preferable, a 1,9-nonanediamine unit and / or 2-methyl-1,8-octanediamine. Units are more preferred.

【0015】上記のジアミン単位(b)は、50モル%
以下であれば、炭素数6〜18の脂肪族ジアミン単位以
外の他のジアミン単位を含んでいてもよい。該他のジア
ミン単位としては、例えば、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、1,4−ブタンジアミン等の脂肪族ジア
ミン;シクロヘキサンジアミン、メチルシクロヘキサン
ジアミン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジメチル
アミン、トリシクロデカンジメチルアミン等の脂環式ジ
アミン;p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジア
ミン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレンジアミ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−
ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフ
ェニルエーテル等の芳香族ジアミンなどから誘導される
単位を挙げることができ、これらのうち1種または2種
以上を用いることができる。これらの他のジアミン単位
の含有量としては、25モル%以下であることが好まし
く、10モル%以下であることがより好ましい。
The above diamine unit (b) is 50 mol%
If it is below, you may contain diamine units other than a C6-C18 aliphatic diamine unit. Examples of the other diamine units include aliphatic diamines such as ethylenediamine, propylenediamine, and 1,4-butanediamine; alicyclic rings such as cyclohexanediamine, methylcyclohexanediamine, isophoronediamine, norbornanedimethylamine, and tricyclodecanedimethylamine. Formula diamine; p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-
Examples thereof include units derived from aromatic diamines such as diaminodiphenyl sulfone and 4,4′-diaminodiphenyl ether, and one or more of these can be used. The content of these other diamine units is preferably 25 mol% or less, more preferably 10 mol% or less.

【0016】本発明において使用されるポリアミドは、
その分子鎖の末端基の10%以上が末端封止剤により封
止されていることが好ましい。分子鎖の末端基が末端封
止剤により封止されている割合(末端封止率)として
は、40%以上であることがより好ましく、60%以上
であることがさらに好ましい。末端封止率が10%以上
のポリアミドを用いると、耐熱性などがより優れた発泡
体が得られる。
The polyamide used in the present invention is
It is preferable that 10% or more of the terminal groups of the molecular chain be capped with a terminal capping agent. The rate at which the terminal groups of the molecular chain are blocked by the terminal blocking agent (terminal blocking rate) is more preferably 40% or more, and further preferably 60% or more. When a polyamide having a terminal sealing rate of 10% or more is used, a foam having more excellent heat resistance can be obtained.

【0017】ポリアミドの末端封止率は、ポリアミドに
存在している末端のカルボキシル基、末端のアミノ基お
よび末端封止剤によって封止された末端基の数をそれぞ
れ測定し、下記の式(1)に従って求めることができ
る。各末端基の数は、1H−NMRにより、各末端基に
対応する特性シグナルの積分値より求めるのが精度、簡
便さの点から好ましい。
The end-capping ratio of polyamide is determined by measuring the number of terminal carboxyl groups, terminal amino groups and end groups capped by a terminal capping agent, which are present in the polyamide. ) Can be obtained according to. The number of each terminal group is preferably determined by 1 H-NMR from the integrated value of the characteristic signal corresponding to each terminal group in terms of accuracy and simplicity.

【0018】末端封止率(%)=[(A−B)/A]×
100 (1) 〔式中、Aは分子鎖の末端基の総数(これは通常、ポリ
アミド分子の数の2倍に等しい)を表し、Bは封止され
ずに残った末端カルボキシル基および末端アミノ基の合
計数を表す。〕
Terminal sealing rate (%) = [(A−B) / A] ×
100 (1) [wherein A represents the total number of terminal groups in the molecular chain (which is usually equal to twice the number of polyamide molecules), and B represents the terminal carboxyl groups and terminal amino groups remaining unsealed. Represents the total number of groups. ]

【0019】末端封止剤としては、ポリアミド末端のア
ミノ基またはカルボキシル基との反応性を有する単官能
性の化合物であれば特に制限はないが、反応性および封
止末端の安定性などの点から、モノカルボン酸またはモ
ノアミンが好ましく、取扱いの容易さなどの点から、モ
ノカルボン酸がより好ましい。その他、酸無水物、モノ
イソシアネート、モノ酸ハロゲン化物、モノエステル
類、モノアルコール類などを使用することもできる。
The terminal blocking agent is not particularly limited as long as it is a monofunctional compound having reactivity with an amino group or a carboxyl group at the polyamide terminal, but is not limited in terms of reactivity and stability of the terminal. Therefore, a monocarboxylic acid or a monoamine is preferable, and a monocarboxylic acid is more preferable from the viewpoint of easy handling. In addition, acid anhydrides, monoisocyanates, monoacid halides, monoesters, monoalcohols and the like can also be used.

【0020】末端封止剤として使用されるモノカルボン
酸としては、アミノ基との反応性を有するものであれば
特に制限はなく、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、
吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、ラウリン酸、トリデ
カン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、
ピバリン酸、イソ酪酸等の脂肪族モノカルボン酸;シク
ロヘキサンカルボン酸等の脂環式モノカルボン酸;安息
香酸、トルイル酸、α−ナフタレンカルボン酸、β−ナ
フタレンカルボン酸、メチルナフタレンカルボン酸、フ
ェニル酢酸等の芳香族モノカルボン酸;これらの任意の
混合物などを挙げることができる。これらのなかでも、
反応性、封止末端の安定性、価格などの点から、酢酸、
プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル
酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、安息香酸が好ましい。
The monocarboxylic acid used as the terminal blocking agent is not particularly limited as long as it has reactivity with an amino group, and examples thereof include acetic acid, propionic acid, butyric acid,
Valeric acid, caproic acid, caprylic acid, lauric acid, tridecanoic acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid,
Aliphatic monocarboxylic acids such as pivalic acid and isobutyric acid; alicyclic monocarboxylic acids such as cyclohexanecarboxylic acid; benzoic acid, toluic acid, α-naphthalenecarboxylic acid, β-naphthalenecarboxylic acid, methylnaphthalenecarboxylic acid, phenylacetic acid And other aromatic monocarboxylic acids; any mixture thereof, and the like. Among these,
In terms of reactivity, stability of sealed ends, price, etc., acetic acid,
Propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, caprylic acid, lauric acid, tridecanoic acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid and benzoic acid are preferred.

【0021】また、末端封止剤として使用されるモノア
ミンとしては、カルボキシル基との反応性を有するもの
であれば特に制限はなく、例えば、メチルアミン、エチ
ルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルア
ミン、オクチルアミン、デシルアミン、ステアリルアミ
ン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミ
ン、ジブチルアミン等の脂肪族モノアミン;シクロヘキ
シルアミン、ジシクロヘキシルアミン等の脂環式モノア
ミン;アニリン、トルイジン、ジフェニルアミン、ナフ
チルアミン等の芳香族モノアミン;これらの任意の混合
物などを挙げることができる。これらのなかでも、反応
性、高沸点、封止末端の安定性および価格などの点か
ら、ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、
デシルアミン、ステアリルアミン、シクロヘキシルアミ
ン、アニリンが好ましい。
The monoamine used as the terminal blocking agent is not particularly limited as long as it has reactivity with a carboxyl group, and examples thereof include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, hexylamine and octyl. Aliphatic monoamines such as amine, decylamine, stearylamine, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine and dibutylamine; cycloaliphatic monoamines such as cyclohexylamine and dicyclohexylamine; aromatic monoamines such as aniline, toluidine, diphenylamine and naphthylamine; And any mixture thereof. Among these, butylamine, hexylamine, octylamine, from the viewpoints of reactivity, high boiling point, stability of sealing end and price.
Decylamine, stearylamine, cyclohexylamine, aniline are preferred.

【0022】本発明において使用されるポリアミドは、
結晶性ポリアミドを製造する方法として知られている任
意の方法を用いて製造することができる。例えば、酸ク
ロライドとジアミンを原料とする溶液重合法または界面
重合法、ジカルボン酸とジアミンを原料とする溶融重合
法、固相重合法などの方法により製造することができ
る。
The polyamide used in the present invention is
It can be produced by any method known as a method for producing a crystalline polyamide. For example, it can be produced by a method such as a solution polymerization method using an acid chloride and a diamine as a raw material, an interfacial polymerization method, a melt polymerization method using a dicarboxylic acid and a diamine as a raw material, or a solid phase polymerization method.

【0023】ポリアミドは、例えば、最初にジアミン、
ジカルボン酸、触媒および必要に応じて末端封止剤を一
括して添加してナイロン塩を製造した後、200〜25
0℃の温度において加熱重合して濃硫酸中30℃におけ
る極限粘度〔η〕が0.1〜0.6dl/gのプレポリ
マーとし、さらに固相重合するか、または溶融押出機を
用いて重合することにより製造することができる。重合
の最終段階を固相重合により行う場合、減圧下または不
活性ガス流通下に行うことが好ましい。このときの重合
温度としては、200〜280℃の範囲内が好ましい。
また、重合の最終段階を溶融押出機により行う場合の重
合温度としては、370℃以下であることが好ましい。
Polyamides are, for example, firstly diamines,
A dicarboxylic acid, a catalyst and, if necessary, an end-capping agent are added all at once to produce a nylon salt.
Polymerization is carried out by heating at a temperature of 0 ° C. to give a prepolymer having an intrinsic viscosity [η] in concentrated sulfuric acid at 30 ° C. of 0.1 to 0.6 dl / g, and further solid phase polymerization or polymerization using a melt extruder. It can be manufactured by When the final stage of the polymerization is carried out by solid phase polymerization, it is preferably carried out under reduced pressure or under the flow of an inert gas. The polymerization temperature at this time is preferably in the range of 200 to 280 ° C.
Further, the polymerization temperature when the final stage of the polymerization is carried out by a melt extruder is preferably 370 ° C. or lower.

【0024】ポリアミドを製造するに際して、前記の末
端封止剤の他に、例えば、触媒として、リン酸、亜リン
酸、次亜リン酸、それらの塩またはエステルなどを添加
することができる。上記の塩またはエステルとしては、
リン酸、亜リン酸または次亜リン酸とカリウム、ナトリ
ウム、マグネシウム、バナジウム、カルシウム、亜鉛、
コバルト、マンガン、錫、タングステン、ゲルマニウ
ム、チタン、アンチモン等の金属との塩;リン酸、亜リ
ン酸または次亜リン酸のアンモニウム塩;リン酸、亜リ
ン酸または次亜リン酸のエチルエステル、イソプロピル
エステル、ブチルエステル、ヘキシルエステル、イソデ
シルエステル、オクタデシルエステル、デシルエステ
ル、ステアリルエステル、フェニルエステルなどが挙げ
られる。
In producing the polyamide, phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, salts or esters thereof, and the like can be added as a catalyst in addition to the above-mentioned end capping agent. As the above salt or ester,
Phosphoric acid, phosphorous acid or hypophosphorous acid and potassium, sodium, magnesium, vanadium, calcium, zinc,
Salts with metals such as cobalt, manganese, tin, tungsten, germanium, titanium and antimony; ammonium salts of phosphoric acid, phosphorous acid or hypophosphorous acid; ethyl esters of phosphoric acid, phosphorous acid or hypophosphorous acid, Examples thereof include isopropyl ester, butyl ester, hexyl ester, isodecyl ester, octadecyl ester, decyl ester, stearyl ester and phenyl ester.

【0025】本発明に用いられるポリアミド(A)は、
濃硫酸中30℃の条件下で測定した極限粘度〔η〕が、
0.4〜3.0dl/gであることが好ましく、0.6
〜2.0dl/gであることがより好ましく、0.8〜
1.8dl/gであることがさらに好ましい。
The polyamide (A) used in the present invention is
The intrinsic viscosity [η] measured in concentrated sulfuric acid at 30 ° C.
It is preferably 0.4 to 3.0 dl / g, and 0.6
Is more preferably 2.0 to 2.0 dl / g, and 0.8 to
More preferably, it is 1.8 dl / g.

【0026】本発明のポリアミド発泡体は、上記で説明
したポリアミドを発泡させることにより得られ、密度が
0.4〜0.95g/cm3、気泡サイズが20〜20
0μmおよび硬度(JIS−C硬度)が93以上である
ことを満足する。
The polyamide foam of the present invention is obtained by foaming the polyamide described above and has a density of 0.4 to 0.95 g / cm 3 and a cell size of 20 to 20.
It satisfies 0 μm and hardness (JIS-C hardness) of 93 or more.

【0027】密度が0.4g/cm3より小さいと、発
泡体が柔らかくなり過ぎるため、研磨パッドとして使用
した場合、研磨後の物品の被研磨面の平坦性が低下し、
また研磨効率が低下する。一方、密度が0.95g/c
3より大きいと、研磨効率が低下する。ポリアミド発
泡体の密度は、被研磨面の平坦性の点から0.6〜0.
9g/cm3の範囲内であることがより好ましい。
When the density is less than 0.4 g / cm 3 , the foam becomes too soft, and when used as a polishing pad, the flatness of the surface to be polished of the article after polishing deteriorates,
Further, the polishing efficiency is reduced. On the other hand, the density is 0.95 g / c
If it is larger than m 3 , the polishing efficiency is lowered. The density of the polyamide foam is 0.6 to 0.
More preferably, it is within the range of 9 g / cm 3 .

【0028】また、気泡サイズが20μmより小さい
と、研磨剤(砥粒)が気泡に詰まりやすいため研磨効率
が低下し、スクラッチ傷等の研磨不良が起こりやすくな
り、200μmより大きいと発泡体の表面平滑性が悪く
なるため、研磨剤(砥粒)の局在化、スクラッチ傷、オ
レンジピール傷等の研磨不良が起こりやすくなる。ポリ
アミド発泡体の気泡サイズは、研磨剤(砥粒)の保持性
の点から50〜150μmの範囲内であることがより好
ましい。
If the bubble size is smaller than 20 μm, the polishing agent (abrasive grains) is likely to be clogged in the bubbles, so that the polishing efficiency is lowered and polishing defects such as scratches are apt to occur. Since the smoothness deteriorates, the polishing agent (abrasive grains) is localized, and polishing defects such as scratches and orange peel scratches are likely to occur. The cell size of the polyamide foam is more preferably in the range of 50 to 150 μm from the viewpoint of retaining the abrasive (abrasive grains).

【0029】また、硬度が93(JIS C硬度)より
小さいと研磨効率が十分ではなく、本発明の目的が達成
されない。ポリアミド発泡体の硬度は、研磨効率の点か
ら95(JIS C硬度)以上であることが好ましく、
97(JIS C硬度)以上であることがより好まし
い。
If the hardness is less than 93 (JIS C hardness), the polishing efficiency is insufficient and the object of the present invention cannot be achieved. From the viewpoint of polishing efficiency, the hardness of the polyamide foam is preferably 95 (JIS C hardness) or more,
More preferably, it is 97 (JIS C hardness) or more.

【0030】本発明においてポリアミドを発泡させるた
めに種々の発泡剤が使用可能であるが、前記したポリア
ミドの軟化温度以上の温度における安定性の点から非反
応性ガスを用いるのが適している。本発明における非反
応性ガスとは、ポリアミドと反応しない気体であって、
窒素、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウム等のガスが挙げ
られる。これらのうちでも、ポリアミドへの溶解性およ
び発泡体の製造コストの点から、二酸化炭素または窒素
が好ましい。
In the present invention, various foaming agents can be used for foaming the polyamide, but it is suitable to use the non-reactive gas from the viewpoint of stability at the temperature above the softening temperature of the polyamide. The non-reactive gas in the present invention is a gas that does not react with polyamide,
Examples of the gas include nitrogen, carbon dioxide, argon, helium and the like. Of these, carbon dioxide or nitrogen is preferable from the viewpoint of solubility in polyamide and production cost of the foam.

【0031】本発明のポリアミド発泡体は、上記したポ
リアミドに上記の非反応性ガスを加圧条件下で溶解した
後、圧力を開放し、前記ポリアミドの軟化温度以上の温
度で発泡させることにより製造することができる。非反
応性ガスの溶解量は、均一な発泡構造を有する発泡体を
得る観点から、溶解条件下における飽和量であることが
望ましい。
The polyamide foam of the present invention is produced by dissolving the above-mentioned non-reactive gas in the above-mentioned polyamide under pressure conditions, releasing the pressure, and foaming at a temperature above the softening temperature of the above-mentioned polyamide. can do. From the viewpoint of obtaining a foam having a uniform foam structure, the amount of the non-reactive gas to be dissolved is preferably a saturated amount under the dissolving conditions.

【0032】非反応性ガスを溶解するポリアミドとして
シート状成形体を用いると、均一な発泡構造を有する発
泡体の製造が容易である点、研磨パッドとする際の工程
が簡素化できる点などにおいて有利である。該シート状
成形体としては、ポリアミドを一軸押出成形機、二軸押
出成形機等の押出成形機または射出成形機を用いて成形
したものが好ましい。シート状成形体の厚さは、発泡体
の製造しやすさおよび非反応性ガスの溶解に要する時間
の観点から0.8〜5mmの範囲内であることが好まし
い。
When a sheet-shaped molded product is used as the polyamide capable of dissolving a non-reactive gas, it is easy to produce a foamed product having a uniform foamed structure, and the process of forming a polishing pad can be simplified. It is advantageous. The sheet-shaped molded product is preferably one obtained by molding polyamide using an extrusion molding machine such as a uniaxial extrusion molding machine or a biaxial extrusion molding machine or an injection molding machine. The thickness of the sheet-shaped molded product is preferably in the range of 0.8 to 5 mm from the viewpoint of the ease of manufacturing the foam and the time required to dissolve the non-reactive gas.

【0033】本発明におけるポリアミド発泡体は、圧力
が5〜20MPaの範囲内、温度が80〜200℃の範
囲内に調整された耐圧容器内において、ポリアミド成形
体に非反応性ガスを溶解させ、ポリアミドの軟化温度よ
り低い温度で圧力を開放し、次いで得られた成形体をポ
リアミドの軟化温度以上の温度に加熱して発泡させるこ
とにより製造することができる〔製造方法1〕。
The polyamide foam in the present invention is prepared by dissolving a non-reactive gas in a polyamide molded body in a pressure resistant container adjusted to a pressure of 5 to 20 MPa and a temperature of 80 to 200 ° C. It can be produced by releasing the pressure at a temperature lower than the softening temperature of the polyamide, and then heating the obtained molded body to a temperature not lower than the softening temperature of the polyamide to foam it [Production Method 1].

【0034】ポリアミドの組成にもよるが、生成する気
泡のサイズは、非反応性ガスの溶解量に依存する。非反
応性ガスの溶解量は溶解時の圧力および温度により調整
できる。非反応性ガスの圧力が5MPa未満の場合は、
非反応性ガスをポリアミド成形体に飽和量溶解するのに
長時間を要する。一方、非反応性ガスの圧力が20MP
aを越える場合、非反応性ガスの溶解に要する時間は短
くなるが、溶解するガスの量が必要以上に多くなり、生
成する気泡のサイズが著しく小さくなる。非反応性ガス
の溶解時の圧力は、8〜18MPaの範囲内であること
が好ましい。また、非反応性ガスの溶解時の温度が80
℃未満の場合は、非反応性ガスをポリアミド成形体に飽
和量溶解するのに長時間を要する。一方、非反応性ガス
の溶解時の温度が200℃を越える場合は、圧力開放時
に部分的に発泡を生じたり、非反応性ガスの溶解量が著
しく少なくなって、生成する気泡サイズが大きくなり過
ぎる。非反応性ガスの溶解時の温度は、100〜180
℃の範囲内であることが好ましい。
Although it depends on the composition of the polyamide, the size of the bubbles formed depends on the amount of dissolved non-reactive gas. The amount of non-reactive gas dissolved can be adjusted by the pressure and temperature at the time of dissolution. If the pressure of the non-reactive gas is less than 5 MPa,
It takes a long time to dissolve the non-reactive gas in the polyamide molded body in a saturated amount. On the other hand, the pressure of non-reactive gas is 20MP
When it exceeds a, the time required to dissolve the non-reactive gas is shortened, but the amount of the dissolved gas is unnecessarily large, and the size of the bubbles to be generated is significantly reduced. The pressure when the non-reactive gas is dissolved is preferably in the range of 8 to 18 MPa. Further, the temperature when the non-reactive gas is melted is 80
When the temperature is lower than 0 ° C, it takes a long time to dissolve the non-reactive gas in a saturated amount in the polyamide molded body. On the other hand, if the temperature at which the non-reactive gas is dissolved exceeds 200 ° C, partial foaming occurs when the pressure is released, or the amount of the non-reactive gas dissolved is significantly reduced, and the size of the bubbles generated increases. Pass. The temperature when the non-reactive gas is dissolved is 100 to 180.
It is preferably in the range of ° C.

【0035】非反応性ガスを溶解した成形体において、
圧力を開放した後の加熱温度がポリアミドの軟化温度未
満の場合には、気泡の生成や成長が不十分となる。非反
応性ガスを溶解した成形体を加熱する温度は、生成する
気泡のサイズおよび発泡体の強度の点から、200〜2
80℃の範囲内であることが好ましい。加熱発泡方法に
は制限はないが、非反応性ガスを溶解した成形体に熱が
均一にかかる方法が、発泡構造の均一性確保の点で好ま
しい。加熱発泡方法としては、例えば、熱オイルバス、
熱風、水蒸気等の熱媒中を通過させる方法などが挙げら
れる。
In a molded body in which a non-reactive gas is dissolved,
When the heating temperature after releasing the pressure is lower than the softening temperature of polyamide, the generation and growth of bubbles are insufficient. The temperature at which the molded body in which the non-reactive gas is dissolved is heated is 200 to 2 in terms of the size of the generated bubbles and the strength of the foam.
It is preferably in the range of 80 ° C. There is no limitation on the heating and foaming method, but a method in which heat is uniformly applied to the molded body in which the non-reactive gas is dissolved is preferable in terms of ensuring the uniformity of the foamed structure. As the heating and foaming method, for example, a thermal oil bath,
Examples include a method of passing through a heating medium such as hot air or steam.

【0036】また、本発明におけるポリアミド発泡体
は、圧力が10〜30MPaの範囲内、温度が200〜
280℃の範囲内に調整された耐圧容器内において、ポ
リアミド成形体に、非反応性ガスを溶解させ、加圧状態
から大気圧へ圧力を開放して発泡させることによっても
製造することができる〔製造方法2〕。
The polyamide foam according to the present invention has a pressure within the range of 10 to 30 MPa and a temperature within the range of 200 to.
It can also be produced by dissolving a non-reactive gas in a polyamide molded body in a pressure resistant container adjusted to a temperature of 280 ° C., and releasing the pressure from a pressurized state to atmospheric pressure for foaming. Manufacturing method 2].

【0037】ポリアミドの組成にもよるが、生成する気
泡のサイズは、非反応性ガスの溶解量に依存する。非反
応性ガスの溶解量は溶解時の圧力および温度により調整
できる。非反応性ガスの溶解時の圧力が10MPa未満
の場合は、非反応性ガスをポリアミド成形体に飽和量溶
解するのに長時間を要する。一方、非反応性ガスの溶解
時の圧力が30MPaを越える場合、非反応性ガスの溶
解に要する時間は短くなるが、溶解するガス量が必要以
上に多くなり、生成する気泡のサイズが著しく小さくな
る。非反応性ガスの溶解時の圧力は、12〜28MPa
の範囲内であることが好ましい。また、非反応性ガスを
溶解させ、圧力を開放して発泡させる際の温度が200
℃未満の場合は、非反応性ガスをポリアミド成形体に飽
和量溶解させるのに長時間を費やし、しかも気泡の生成
や成長が十分でない。一方、該温度が280℃を越える
場合は、生成する気泡のサイズがばらつき、しかも得ら
れる発泡シート体が変形する。発泡時の温度は、210
〜260℃の範囲内であることが好ましい。
Although it depends on the composition of the polyamide, the size of bubbles formed depends on the amount of dissolved non-reactive gas. The amount of non-reactive gas dissolved can be adjusted by the pressure and temperature at the time of dissolution. When the pressure when the non-reactive gas is dissolved is less than 10 MPa, it takes a long time to dissolve the non-reactive gas into the polyamide molded body in a saturated amount. On the other hand, if the pressure during dissolution of the non-reactive gas exceeds 30 MPa, the time required for the dissolution of the non-reactive gas will be shorter, but the amount of dissolved gas will be unnecessarily large and the size of the bubbles produced will be extremely small. Become. The pressure when the non-reactive gas is dissolved is 12 to 28 MPa.
It is preferably within the range. In addition, the temperature at which the non-reactive gas is dissolved and the pressure is released to cause foaming is 200
If the temperature is lower than 0 ° C, it takes a long time to dissolve the non-reactive gas in the polyamide molded body in a saturated amount, and the bubbles are not sufficiently generated or grown. On the other hand, when the temperature exceeds 280 ° C., the size of the bubbles generated varies and the obtained foam sheet body is deformed. The foaming temperature is 210
It is preferably in the range of to 260 ° C.

【0038】また、本発明におけるポリアミド発泡体
は、溶融状態のポリアミドに、非反応性ガスを加圧下で
溶解させた後、押出成形または射出成形することによっ
ても製造することができる〔製造方法3〕。
The polyamide foam according to the present invention can also be produced by dissolving a non-reactive gas in a molten polyamide under pressure and then extrusion-molding or injection-molding [Manufacturing method 3]. ].

【0039】この時、該ポリアミドを溶融させる温度は
170〜330℃の範囲内であることが好ましい。ポリ
アミドを溶融させる温度が170℃に満たない場合は、
実質的な可塑性が得られず、押出機シリンダー内部にお
けるスクリュー混練によるポリアミドの融液化が困難と
なる場合がある。一方、該ポリアミドを溶融させる温度
が330℃を越える場合は、分解ガスが発生し、均一な
発泡構造を有する発泡体が得られ難くなる場合がある。
ポリアミドを溶融させる温度は180〜310℃の範囲
内であることが好ましい。
At this time, the temperature at which the polyamide is melted is preferably in the range of 170 to 330 ° C. If the temperature to melt the polyamide is less than 170 ° C,
Substantial plasticity may not be obtained, and it may be difficult to melt the polyamide by screw kneading inside the extruder cylinder. On the other hand, when the temperature at which the polyamide is melted exceeds 330 ° C., decomposition gas is generated, and it may be difficult to obtain a foam having a uniform foam structure.
The temperature at which the polyamide is melted is preferably in the range of 180 to 310 ° C.

【0040】また、非反応性ガスを溶融状態のポリアミ
ド中に溶解させる時の圧力は3〜20MPaの範囲内で
あることが好ましく、5〜18MPaの範囲内であるこ
とがより好ましい。非反応性ガスを溶解させる時の圧力
が3MPaに満たない場合は、溶融状態のポリアミド中
への非反応性ガスの溶解量が少なくなり、実質的に発泡
体を得ることが難しくなる傾向がある。一方、非反応性
ガスを溶解させる時の圧力が20MPaを越える場合に
は、得られる発泡体の気泡サイズが過度に小さくなる場
合がある。
The pressure at which the non-reactive gas is dissolved in the molten polyamide is preferably in the range of 3 to 20 MPa, more preferably 5 to 18 MPa. If the pressure for dissolving the non-reactive gas is less than 3 MPa, the amount of the non-reactive gas dissolved in the molten polyamide tends to be small, and it tends to be difficult to obtain a foam substantially. . On the other hand, when the pressure when dissolving the non-reactive gas exceeds 20 MPa, the cell size of the obtained foam may be excessively small.

【0041】ポリアミド発泡体を押出成形により製造す
る場合、押出シリンダー内部で溶融状態のポリアミドと
非反応性ガスとが混合され、押出シリンダー内部および
ダイ内部では未発泡状態が保持されており、ダイ出口か
ら大気圧中に押出されることにより発泡が生じるように
することが重要である。押出シリンダー内部またはダイ
内部で発泡すると、気泡サイズが大きくなり、均一で微
細な発泡体を製造することが困難となる。したがって、
非反応性ガスは押出シリンダー中、好ましくは押出シリ
ンダー中央部から注入され、注入された部分からダイ出
口でポリアミドが大気中に押出されるまでの行程におい
ては、発泡の生じない圧力が保たれていることが重要で
ある。非反応性ガスが注入された部分からダイ出口まで
の圧力は、3〜20MPaの範囲内に保たれることが好
ましい。また、ポリアミドがダイから押出される時、非
反応性ガスが溶解した溶融状態のポリアミドの粘度が低
い場合には、気泡が巨大化したり破泡を生じたりする。
均一で微細な発泡構造を有する発泡体を得るためには、
非反応性ガスが溶解した溶融状態のポリアミドを実質的
に押出しすることが可能な条件を採用するのが好まし
い。
When a polyamide foam is manufactured by extrusion molding, the molten polyamide and the non-reactive gas are mixed inside the extrusion cylinder, and the unfoamed state is maintained inside the extrusion cylinder and inside the die. It is important that foaming occurs by being extruded from the to the atmospheric pressure. Foaming inside the extrusion cylinder or die increases the cell size, making it difficult to produce a uniform and fine foam. Therefore,
The non-reactive gas is injected into the extrusion cylinder, preferably from the center of the extrusion cylinder, and a pressure that does not cause foaming is maintained during the process from the injected portion to the extrusion of polyamide into the atmosphere at the die outlet. Is important. The pressure from the portion where the non-reactive gas is injected to the die outlet is preferably kept within the range of 3 to 20 MPa. In addition, when the polyamide is extruded from the die, if the viscosity of the molten polyamide in which the non-reactive gas is dissolved is low, the bubbles become large or break.
In order to obtain a foam having a uniform and fine foam structure,
It is preferable to adopt the conditions that can substantially extrude the molten polyamide in which the non-reactive gas is dissolved.

【0042】ポリアミド発泡体はT−ダイ法、インフレ
ーション法、異形押出法、チューブ押出法などの一般的
な押出成形法により製造することができる。中でも、T
−ダイ法が厚さの均一なシート状の発泡体が得られ易い
ため好ましい。
The polyamide foam can be produced by a general extrusion molding method such as T-die method, inflation method, profile extrusion method, tube extrusion method and the like. Above all, T
-The die method is preferable because it is easy to obtain a foamed sheet having a uniform thickness.

【0043】また、ポリアミド発泡体を射出成形法で製
造する場合、射出シリンダー内部で発泡が生じると、気
泡サイズが大きくなり、均一で微細な発泡体を製造する
ことが困難となる。従って、非反応性ガスは射出シリン
ダー中、好ましくは射出シリンダー中央部から注入さ
れ、注入された部分から射出ノズルまでの行程において
は、発泡を生じない圧力に保たれることが重要である。
非反応性ガスが注入された部分から射出ノズルまでの圧
力は、3〜20MPaの範囲内に保たれることが好まし
い。
When a polyamide foam is manufactured by an injection molding method, if foaming occurs inside the injection cylinder, the cell size becomes large, and it becomes difficult to manufacture a uniform and fine foam. Therefore, it is important that the non-reactive gas is injected into the injection cylinder, preferably from the center of the injection cylinder, and in the process from the injected portion to the injection nozzle, it is important to maintain a pressure at which foaming does not occur.
The pressure from the portion where the non-reactive gas is injected to the injection nozzle is preferably kept within a range of 3 to 20 MPa.

【0044】非反応性ガスを溶解した溶融状態のポリア
ミドを射出成形する際、 低速(射出中に圧力が発泡可能な圧力まで低下する射
出速度)条件で射出することにより射出と同時に金型内
部で発泡体を得る方法; 高速(射出中には発泡が生じない圧力が維持される射
出速度)条件で射出し、圧力を保持したまま冷却するこ
とにより発泡の生じていない成形体を製造した後、該成
形体をポリアミドの軟化温度以上の温度で加熱処理する
ことにより発泡を生じさせ発泡体を得る方法;などを採
用することができる。これらのなかでも特に均一な発泡
構造を有する発泡体が得られ易い点から、高速条件で射
出して得られる無発泡成形体を加熱処理して発泡させる
方法で製造することがより好ましい。
When injection molding a molten polyamide in which a non-reactive gas is dissolved, injection is carried out at a low speed (injection speed at which the pressure decreases to a pressure at which foaming is possible during injection), so that the inside of the mold is simultaneously injected. Method for obtaining foam: After injecting at a high speed (injection speed at which a pressure at which foaming does not occur during injection is maintained) and cooling while maintaining the pressure, a molded body without foaming is produced, It is possible to employ a method in which foaming is caused by heating the molded product at a temperature above the softening temperature of polyamide to obtain a foamed product. Among these, from the viewpoint that a foam having a particularly uniform foam structure can be easily obtained, it is more preferable that the non-foam molded article obtained by injection under a high-speed condition is subjected to heat treatment to foam.

【0045】本発明の研磨パッドは、上記のようにして
製造されたポリアミド発泡体を、その表面に気泡が露出
するように研削あるいはスライスして製造される。ま
た、得られた研磨パッドに対し、さらに所定の形状に整
える、表面加工を施す、クッション層となる素材と積層
する等の加工を施すこともできる。
The polishing pad of the present invention is manufactured by grinding or slicing the polyamide foam manufactured as described above so that bubbles are exposed on the surface thereof. Further, the obtained polishing pad can be further processed into a predetermined shape, surface treatment, lamination with a material to be a cushion layer, and the like.

【0046】本発明の研磨パッドは、それ自体公知の研
磨スラリーと共に、ケミカルメカニカル研磨(Chemical
Mechanical Polishing、以下CMPと略称することが
ある)に使用することができる。研磨スラリーは、例え
ば、水やオイル等の液状媒体;酸化アルミニウム、酸化
セリウム、酸化ジルコニウム、炭化ケイ素等の研磨材;
塩基、酸、界面活性剤などの成分を含有している。ま
た、CMPを行うに際し、必要に応じ、研磨スラリーと
共に、潤滑油、冷却剤などを併用してもよい。
The polishing pad of the present invention is used together with a polishing slurry known per se in combination with chemical mechanical polishing (Chemical Mechanical Polishing).
Mechanical Polishing, which may be abbreviated as CMP hereinafter). The polishing slurry is, for example, a liquid medium such as water or oil; an abrasive such as aluminum oxide, cerium oxide, zirconium oxide, or silicon carbide;
Contains components such as bases, acids and surfactants. Further, when performing CMP, a lubricating oil, a cooling agent, etc. may be used together with the polishing slurry, if necessary.

【0047】CMPは、公知のCMP用装置を使用し、
研磨スラリーを介して被研磨面と研磨パッドを、加圧
下、一定速度で、一定時間接触させることによって実施
することができる。研磨の対象となる物品には特に制限
はないが、例えば、水晶、シリコン、ガラス、光学基
板、電子回路基板、多層配線基板、ハードディスクなど
が挙げられる。
CMP uses a known CMP apparatus,
This can be carried out by bringing the surface to be polished and the polishing pad into contact with each other via the polishing slurry at a constant speed and a predetermined time under pressure. The article to be polished is not particularly limited, but examples thereof include crystal, silicon, glass, optical substrate, electronic circuit substrate, multilayer wiring substrate, hard disk, and the like.

【0048】[0048]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定される
ものではない。なお、実施例に記したポリアミド発泡体
の物性評価は次の方法で実施した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The physical properties of the polyamide foams described in the examples were evaluated by the following methods.

【0049】《発泡体の密度》JIS K 7112に
準拠して、シート状発泡体の密度を測定した。
<< Foam Density >> The density of the sheet-like foam was measured according to JIS K7112.

【0050】《発泡体の気泡サイズ》発泡体の断面を走
査型電子顕微鏡により写真撮影し、写真上で測定された
サイズと撮影時の倍率から計算して平均気泡サイズを計
算した。
<< Cell Size of Foam >> The cross section of the foam was photographed by a scanning electron microscope, and the average cell size was calculated from the size measured on the photograph and the magnification at the time of photographing.

【0051】《硬度》ポリアミドの硬度は、厚さ2mm
の射出成形シートを作製し、JIS−D硬度をJIS
K 7311に準じて測定した。また、ポリアミド発泡
体の硬度は、JIS−C硬度をJIS K 7311に
準じて測定した。
<< Hardness >> The hardness of polyamide is 2 mm in thickness.
The injection-molded sheet of
It was measured according to K 7311. The hardness of the polyamide foam was measured according to JIS K 7311 for JIS-C hardness.

【0052】《極限粘度》濃硫酸中30℃にて、0.0
5、0.10、0.20、0.40g/dlの濃度にお
いて固有粘度を測定し、これを濃度0に外挿した値を極
限粘度とした。なお、固有粘度は[ln(t
)]/cの式に従って求めた。(式中tは溶媒の
流下時間(秒)を表し、tは試料溶液の流下時間
(秒)を表し、cは溶液中の試料濃度(g/dl)を表
す。)
<< Intrinsic viscosity >> 0.03 at 30 ° C. in concentrated sulfuric acid
The intrinsic viscosity was measured at concentrations of 5, 0.10, 0.20 and 0.40 g / dl, and the value obtained by extrapolating this to the concentration of 0 was taken as the intrinsic viscosity. The intrinsic viscosity is [ln (t 1 /
t 0 )] / c. (In the formula, t 0 represents the solvent flow-down time (seconds), t 1 represents the sample solution flow-down time (seconds), and c represents the sample concentration (g / dl) in the solution.)

【0053】参考例1 テレフタル酸16.37kg(98.5モル)、イソフ
タル酸16.37kg(98.5モル)、1,9−ノナ
ンジアミン26.92kg(170モル)、2−メチル
−1,8−オクタンジアミン4.74(30モル)、安
息香酸0.73kg(6モル)、亜リン酸65gおよび
蒸留水60リットルを内容積200リットルのオートク
レーブに入れた後、圧力容器を窒素置換した。次に10
0℃で30分攪拌し、2時間かけて内部温度を210℃
に昇温した。そのまま1時間反応を続けた後、230℃
に昇温し、その後2時間、230℃に温度を保ち、水蒸
気を徐々に抜いて圧力を2.2Mpaに保ちながら反応
させた。次に、30分かけて圧力を1Mpaまで下げ、
更に1時間反応させることにより極限粘度0.25dl
/gの低次縮合物を得た。得られた低次縮合物を減圧式
反応容器に仕込み、280℃、13.3Paにて10時
間溶融重合して極限粘度1.28dl/g、硬度(JI
S−D硬度)80のポリアミド樹脂(以下PA−1と略
称する)を製造した。
Reference Example 1 16.37 kg (98.5 mol) of terephthalic acid, 16.37 kg (98.5 mol) of isophthalic acid, 26.92 kg (170 mol) of 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,8 -Octanediamine 4.74 (30 mol), benzoic acid 0.73 kg (6 mol), phosphorous acid 65 g and distilled water 60 liters were placed in an autoclave having an internal volume of 200 liters, and then the pressure vessel was replaced with nitrogen. Then 10
Stir for 30 minutes at 0 ° C, and keep the internal temperature at 210 ° C for 2 hours.
The temperature was raised to. After continuing the reaction for 1 hour, 230 ℃
Then, the temperature was maintained at 230 ° C. for 2 hours, and the steam was gradually removed to allow the reaction to proceed while maintaining the pressure at 2.2 MPa. Next, reduce the pressure to 1 MPa over 30 minutes,
By reacting for another 1 hour, the intrinsic viscosity is 0.25 dl
/ G of low-order condensate was obtained. The obtained low-order condensate was charged into a vacuum reactor and melt-polymerized at 280 ° C. and 13.3 Pa for 10 hours to obtain an intrinsic viscosity of 1.28 dl / g and a hardness (JI
A polyamide resin having an SD hardness of 80 (hereinafter abbreviated as PA-1) was manufactured.

【0054】参考例2 テレフタル酸32.73kg(197モル)、1,9−
ノナンジアミン26.92kg(170モル)、2−メ
チル−1,8−オクタンジアミン4.74(30モ
ル)、安息香酸0.73kg(6モル)、亜リン酸65
gおよび蒸留水60リットルを内容積200リットルの
オートクレーブに窒素置換した。100℃で30分攪拌
し、2時間かけて内部温度を210℃に昇温した。その
まま1時間反応を続けた後、230℃に昇温し、その後
2時間、230℃に温度を保ち、水蒸気を徐々に抜いて
圧力を2.2MPaに保ちながら反応させた。次に、3
0分かけて圧力を1MPaまで下げ、更に1時間反応さ
せることにより極限粘度0.25dl/gの低次縮合物
を得た。得られた低次縮合物を2mm以下に粉砕して、
100℃、減圧下で12時間乾燥し、これをタンブラー
式固相重合装置を用いて、230℃、13.3Paにて
10時間固相重合して極限粘度1.28dl/g、硬度
(JIS−D硬度)80のポリアミド樹脂(以下PA−
2と略称する)を製造した。
Reference Example 2 32.73 kg (197 mol) of terephthalic acid, 1,9-
Nonanediamine 26.92 kg (170 mol), 2-methyl-1,8-octanediamine 4.74 (30 mol), benzoic acid 0.73 kg (6 mol), phosphorous acid 65
g and 60 liters of distilled water were replaced with nitrogen in an autoclave having an internal volume of 200 liters. The mixture was stirred at 100 ° C for 30 minutes, and the internal temperature was raised to 210 ° C over 2 hours. After continuing the reaction for 1 hour as it was, the temperature was raised to 230 ° C., and then the temperature was kept at 230 ° C. for 2 hours, and the reaction was carried out while gradually removing steam to keep the pressure at 2.2 MPa. Then 3
The pressure was reduced to 1 MPa over 0 minutes, and the reaction was continued for 1 hour to obtain a low-order condensate having an intrinsic viscosity of 0.25 dl / g. The low-order condensate obtained is crushed to 2 mm or less,
It was dried at 100 ° C. under reduced pressure for 12 hours, and then solid-state polymerized at 230 ° C. and 13.3 Pa for 10 hours using a tumbler type solid-state polymerization apparatus to obtain an intrinsic viscosity of 1.28 dl / g and a hardness (JIS- Polyamide resin having a D hardness of 80 (hereinafter PA-
2).

【0055】参考例3 テレフタル酸22.91kg(138モル)、イソフタ
ル酸9.82kg(59モル)、1,9−ノナンジアミ
ン26.92kg(170モル)、2−メチル−1,8
−オクタンジアミン4.74(30モル)、安息香酸
0.73kg(6モル)、亜リン酸65gおよび蒸留水
60リットルを内容積200リットルのオートクレーブ
に窒素置換した。100℃で30分攪拌し、2時間かけ
て内部温度を210℃に昇温した。そのまま1時間反応
を続けた後、230℃に昇温し、その後2時間、230
℃に温度を保ち、水蒸気を徐々に抜いて圧力を2.2M
Paに保ちながら反応させた。次に、30分かけて圧力
を1MPaまで下げ、更に1時間反応させることにより
極限粘度0.28dl/gの低次縮合物を得た。得られ
た低次縮合物を100℃、減圧下で12時間乾燥し、二
軸押出機〔スクリュー径40mm、L/D=28、バレ
ル温度310/320/330/330/330/33
0/330/330℃、第7ゾーンは減圧(1330P
a)ベント、回転数60rpm〕に10kg/時の速度
で供給して溶融重縮合を行い、極限粘度1.35dl/
g、硬度(JIS−D硬度)78のポリアミド樹脂(以
下PA−3と略称する)を製造した。
Reference Example 3 22.91 kg (138 mol) of terephthalic acid, 9.82 kg (59 mol) of isophthalic acid, 26.92 kg (170 mol) of 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,8
-Octanediamine 4.74 (30 mol), benzoic acid 0.73 kg (6 mol), phosphorous acid 65 g and distilled water 60 liter were replaced with nitrogen in an autoclave having an internal volume of 200 liter. The mixture was stirred at 100 ° C for 30 minutes, and the internal temperature was raised to 210 ° C over 2 hours. After continuing the reaction for 1 hour, the temperature was raised to 230 ° C.
Keep the temperature at ℃ and gradually remove the steam to reduce the pressure to 2.2M.
The reaction was performed while maintaining Pa. Next, the pressure was reduced to 1 MPa over 30 minutes, and the reaction was continued for 1 hour to obtain a low-order condensate having an intrinsic viscosity of 0.28 dl / g. The obtained low-order condensate is dried at 100 ° C. under reduced pressure for 12 hours, and then a twin-screw extruder [screw diameter 40 mm, L / D = 28, barrel temperature 310/320/330/330/330/33.
0/330/330 ° C, decompression in 7th zone (1330P
a) Vent, rotation speed 60 rpm] is supplied at a rate of 10 kg / hour to perform melt polycondensation, and the intrinsic viscosity is 1.35 dl /
A polyamide resin having a hardness of 78 and a hardness (JIS-D hardness) of 78 (hereinafter abbreviated as PA-3) was manufactured.

【0056】参考例4 テレフタル酸13.09kg(79モル)、アゼライン
酸21.00kg(118モル)、1,9−ノナンジア
ミン26.92kg(170モル)、2−メチル−1,
8−オクタンジアミン4.74(30モル)、安息香酸
0.73kg(6モル)、亜リン酸65gおよび蒸留水
60リットルを内容積200リットルのオートクレーブ
に窒素置換した。100℃で30分攪拌し、2時間かけ
て内部温度を210℃に昇温した。そのまま1時間反応
を続けた後、230℃に昇温し、その後2時間、230
℃に温度を保ち、水蒸気を徐々に抜いて圧力を2.2M
Paに保ちながら反応させた。次に、30分かけて圧力
を1MPaまで下げ、更に1時間反応させることにより
極限粘度0.32dl/gの低次縮合物を得た。得られ
た低次縮合物を100℃、減圧下で12時間乾燥し、二
軸押出機〔スクリュー径40mm、L/D=28、バレ
ル温度310/320/330/330/330/33
0/330/330℃、第7ゾーンは減圧(1330P
a)ベント、回転数60rpm〕に10kg/時の速度
で供給して溶融重縮合を行い、極限粘度1.45dl/
g、硬度(JIS−D硬度)73のポリアミド樹脂(以
下PA−4と略称する)を製造した。
Reference Example 4 13.09 kg (79 mol) of terephthalic acid, 21.00 kg (118 mol) of azelaic acid, 26.92 kg (170 mol) of 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,
An autoclave having an internal volume of 200 liters was purged with 8-octanediamine 4.74 (30 moles), benzoic acid 0.73 kg (6 moles), phosphorous acid 65 g and distilled water 60 liters. The mixture was stirred at 100 ° C for 30 minutes, and the internal temperature was raised to 210 ° C over 2 hours. After continuing the reaction for 1 hour, the temperature was raised to 230 ° C.
Keep the temperature at ℃ and gradually remove the steam to reduce the pressure to 2.2M.
The reaction was performed while maintaining Pa. Next, the pressure was reduced to 1 MPa over 30 minutes, and the reaction was continued for 1 hour to obtain a low-order condensate having an intrinsic viscosity of 0.32 dl / g. The obtained low-order condensate is dried at 100 ° C. under reduced pressure for 12 hours, and then a twin-screw extruder [screw diameter 40 mm, L / D = 28, barrel temperature 310/320/330/330/330/33.
0/330/330 ° C, decompression in 7th zone (1330P
a) Vent, rotation speed 60 rpm] is supplied at a rate of 10 kg / hour to perform melt polycondensation, and the intrinsic viscosity is 1.45 dl /
A polyamide resin having a hardness of 73 and a hardness (JIS-D hardness) of 73 (hereinafter abbreviated as PA-4) was manufactured.

【0057】実施例1 上記で得られたポリアミド(PA−1)を単軸押出成形
機(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度270〜2
90℃、ダイス温度290℃にて、T−ダイより押出
し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロール
を通過させて厚さ2mmのシートを成形した。次に、得
られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、
温度150℃、圧力15Mpaの条件下で10時間二酸
化炭素を溶解させ、二酸化炭素を飽和量溶解させてなる
ガス溶解シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常
圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次
に、得られたガス溶解シートを240℃のシリコンオイ
ル中に3分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して
発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.85g/c
、気泡サイズは20〜60μm、硬度(JIS−C
硬度)が99であった。得られた発泡体(シート状物)
の表面を研削し、気泡を表面に露出させて、研磨パッド
とした。
Example 1 The polyamide (PA-1) obtained above was charged into a single-screw extruder (65 mmφ), and the cylinder temperature was 270-2.
A sheet having a thickness of 2 mm was extruded from a T-die at 90 ° C. and a die temperature of 290 ° C. and passed through a roll having a temperature of 60 ° C. and a gap interval of 1.8 mm. Next, the obtained sheet (5 cm × 10 cm) was put in a pressure resistant container,
Carbon dioxide was dissolved for 10 hours under the conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 15 MPa to obtain a gas dissolution sheet obtained by dissolving carbon dioxide in a saturated amount. After cooling to room temperature, the pressure was brought to normal pressure, and the gas dissolving sheet was taken out from the pressure resistant container. Next, the obtained gas-dissolved sheet was immersed in silicone oil at 240 ° C. for 3 minutes and then taken out and cooled to room temperature to obtain a foam. The density of the obtained foam is 0.85 g / c
m 3 , bubble size 20 to 60 μm, hardness (JIS-C
The hardness) was 99. Obtained foam (sheet)
The surface of was ground to expose air bubbles on the surface to obtain a polishing pad.

【0058】実施例2 上記で得られたポリアミド(PA−1)を射出成形機に
仕込み、シリンダー温度260〜290℃、ノズル温度
290℃、金型温度120℃で、厚さ2mmのシートを
成形した。次に得られたシート(5cm×10cm)を
耐圧容器に入れ、温度140℃、圧力15MPaの条件
下で10時間二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素を飽和
量溶解させてなるガス溶解シートを得た。室温まで冷却
した後、圧力を常圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器か
ら取り出した。次に、得られたガス溶解シートを240
℃のシリコンオイル中に4分間浸漬した後に取り出し、
室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度
は0.87g/cm、気泡サイズは50〜90μm、
硬度(JIS−C硬度)は96であった。得られた発泡
体(シート状物)の表面を研削し、気泡を表面に露出さ
せて、研磨パッドとした。
Example 2 The polyamide (PA-1) obtained above was charged into an injection molding machine, and a sheet having a thickness of 2 mm was formed at a cylinder temperature of 260 to 290 ° C., a nozzle temperature of 290 ° C. and a mold temperature of 120 ° C. did. Next, the obtained sheet (5 cm × 10 cm) was placed in a pressure resistant container, carbon dioxide was dissolved for 10 hours under the conditions of a temperature of 140 ° C. and a pressure of 15 MPa to obtain a gas-dissolved sheet in which a saturated amount of carbon dioxide was dissolved. . After cooling to room temperature, the pressure was brought to normal pressure, and the gas dissolving sheet was taken out from the pressure resistant container. Next, 240
After immersing in silicone oil at ℃ for 4 minutes, take it out,
A foam was obtained by cooling to room temperature. The obtained foam has a density of 0.87 g / cm 3 , a cell size of 50 to 90 μm,
The hardness (JIS-C hardness) was 96. The surface of the obtained foam (sheet-like material) was ground to expose air bubbles on the surface to obtain a polishing pad.

【0059】比較例1 上記得られたポリアミド(PA−4)を単軸押出成形機
(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度260〜29
0℃、ダイス温度290℃にて、T−ダイより押出し、
60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通
過させて厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られ
たシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度
150℃、圧力15Mpaの条件下で5時間炭酸ガスを
溶解させ、二酸化炭素を飽和量溶解させてなるガス溶解
シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常圧とし、
ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次に、得ら
れたガス溶解シートを240℃のシリコンオイル中に3
分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して発泡体を
得た。得られた発泡体の密度は0.80g/cm、気
泡サイズは20〜40μm、硬度(JIS−C硬度)が8
9であった。
Comparative Example 1 The polyamide (PA-4) obtained above was charged into a single-screw extruder (65 mmφ), and the cylinder temperature was 260 to 29.
Extruded from a T-die at 0 ° C and a die temperature of 290 ° C,
A sheet having a thickness of 2 mm was formed by passing through a roll having a gap interval of 1.8 mm, the temperature of which was adjusted to 60 ° C. Next, the obtained sheet (5 cm × 10 cm) was placed in a pressure resistant container, carbon dioxide was dissolved for 5 hours under the conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 15 MPa, and a saturated amount of carbon dioxide was dissolved to obtain a gas-dissolved sheet. It was After cooling to room temperature, make the pressure normal pressure,
The gas dissolving sheet was taken out of the pressure container. Next, the obtained gas-dissolved sheet was immersed in silicone oil at 240 ° C.
After soaking for 1 minute, it was taken out and cooled to room temperature to obtain a foam. The obtained foam has a density of 0.80 g / cm 3 , a cell size of 20 to 40 μm, and a hardness (JIS-C hardness) of 8
It was 9.

【0060】実施例3 ポリアミド(PA−2)を二軸同方向押出機(48mm
φ)に供給し、シリンダー温度310〜330℃で溶融
するのと同時にシリンダー中間部より二酸化炭素を圧力
15MPaで注入し、混練後、290℃に調温された4
0cm幅のT−ダイより押出し、60℃に調温したギャ
ップ間隔1.8mmのロールを通過させて、成形と同時
に発泡を行い、厚さ2mmの発泡シートを製造した。こ
の際のシートの引き取り速度は0.5m/分であった。
得られた発泡体の密度は0.88g/cm、気泡サイ
ズは20〜60μm、硬度(JIS−C硬度)は99で
あった。得られた発泡体(シート状物)の表面を研削
し、気泡を表面に露出させて、研磨パッドとした。
Example 3 Polyamide (PA-2) was added to a twin-screw co-directional extruder (48 mm).
φ) and melted at a cylinder temperature of 310 to 330 ° C., and at the same time, carbon dioxide was injected from the middle part of the cylinder at a pressure of 15 MPa, and after kneading, the temperature was adjusted to 290 ° C.
It was extruded from a T-die having a width of 0 cm, passed through a roll having a gap distance of 1.8 mm and adjusted to 60 ° C., and foamed simultaneously with molding to produce a foam sheet having a thickness of 2 mm. The sheet take-up speed at this time was 0.5 m / min.
The obtained foam had a density of 0.88 g / cm 3 , a cell size of 20 to 60 μm, and a hardness (JIS-C hardness) of 99. The surface of the obtained foam (sheet-like material) was ground to expose air bubbles on the surface to obtain a polishing pad.

【0061】実施例4 ポリアミド(PA−3)を二軸同方向押出機(48mm
φ)に供給し、シリンダー温度260〜290℃で溶融
するのと同時にシリンダー中間部より二酸化炭素を圧力
10MPaで注入し、混練後、240℃に調温された4
0cm幅のT−ダイより押出し、60℃に調温したギャ
ップ間隔1.8mmのロールを通過させて、成形と同時
に発泡を行い、厚さ2mmの発泡シートを製造した。こ
の際のシートの引き取り速度は0.5m/分であった。
得られた発泡体の密度は0.85g/cm、気泡サイ
ズは40〜80μm、硬度(JIS−C硬度)は97で
あった。得られた発泡体(シート状物)の表面を研削
し、気泡を表面に露出させて、研磨パッドとした。
Example 4 Polyamide (PA-3) was added to a twin-screw co-direction extruder (48 mm).
φ) and melted at a cylinder temperature of 260 to 290 ° C., at the same time, carbon dioxide was injected from the middle of the cylinder at a pressure of 10 MPa, and after kneading, the temperature was adjusted to 240 ° C. 4.
It was extruded from a T-die having a width of 0 cm, passed through a roll having a gap distance of 1.8 mm and adjusted to 60 ° C., and foamed simultaneously with molding to produce a foam sheet having a thickness of 2 mm. The sheet take-up speed at this time was 0.5 m / min.
The obtained foam had a density of 0.85 g / cm 3 , a cell size of 40 to 80 μm, and a hardness (JIS-C hardness) of 97. The surface of the obtained foam (sheet-like material) was ground to expose air bubbles on the surface to obtain a polishing pad.

【0062】実施例5 ポリアミド(PA−3)を射出成形機に供給し、シリン
ダー温度260〜290℃で溶融するのと同時にシリン
ダー中間部より二酸化炭素を圧力10MPaで注入、混
練した後、50℃に調温された金型中に40cm3/秒
の充填速度(充填時間:1.25秒)で注型し、室温ま
で冷却した後、金型を開放して、厚さ2mmの未発泡シ
ートを製造した。次に得られたシートを240℃のシリ
コンオイル中に3分間浸漬した後、室温まで冷却して発
泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.86g/cm
、気泡サイズは50〜90μm、硬度(JIS−C硬
度)は96であった。
Example 5 Polyamide (PA-3) was supplied to an injection molding machine and melted at a cylinder temperature of 260 to 290 ° C., and at the same time, carbon dioxide was injected and kneaded at a pressure of 10 MPa from the middle part of the cylinder, and then 50 ° C. 2 cm thick unfoamed sheet was poured into the temperature-controlled mold at a filling rate of 40 cm 3 / sec (filling time: 1.25 sec), cooled to room temperature, and then opened. Was manufactured. Next, the obtained sheet was immersed in silicone oil at 240 ° C. for 3 minutes and then cooled to room temperature to obtain a foam. The density of the obtained foam is 0.86 g / cm
3 , the bubble size was 50 to 90 μm, and the hardness (JIS-C hardness) was 96.

【0063】比較例2 ポリアミド(PA−4)を二軸同方向押出機(48mm
φ)に供給し、シリンダー温度260〜290℃で溶融
するのと同時にシリンダー中間部より二酸化炭素を圧力
15MPaで注入し、混練後、180℃に調温された4
0cm幅のT−ダイより押出し、60℃に調温したギャ
ップ間隔1.8mmのロールを通過させて、成形と同時
に発泡を行い、厚さ2mmの発泡シートを製造した。こ
の際のシートの引き取り速度は0.5m/分であった。
得られた発泡体の密度は0.86g/cm、気泡サイ
ズは20〜40μm、硬度(JIS−C硬度)は89で
あった。
Comparative Example 2 Polyamide (PA-4) was added to a twin-screw co-directional extruder (48 mm).
φ) and melted at a cylinder temperature of 260 to 290 ° C., and at the same time, carbon dioxide was injected from the middle of the cylinder at a pressure of 15 MPa, and after kneading, the temperature was adjusted to 180 ° C. 4.
It was extruded from a T-die having a width of 0 cm, passed through a roll having a gap distance of 1.8 mm and adjusted to 60 ° C., and foamed simultaneously with molding to produce a foam sheet having a thickness of 2 mm. The sheet take-up speed at this time was 0.5 m / min.
The obtained foam had a density of 0.86 g / cm 3 , a cell size of 20 to 40 μm, and a hardness (JIS-C hardness) of 89.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明によれば、均一な発泡構造を有す
るポリアミド発泡体およびその製造方法並びに該発泡体
よりなる研磨パッドが提供される。本発明の研磨パッド
は、ケミカルメカニカル研磨に有用であり、半導体ウェ
ハー等を高精度に、かつ高効率に研磨することを目的と
して使用することができる。本発明の研磨パッドは、特
に、被研磨面の平坦性、平坦化効率の向上が達成でき、
かつ使用時間を従来のものより延長することができる。
According to the present invention, a polyamide foam having a uniform foam structure, a method for producing the same, and a polishing pad made of the foam are provided. INDUSTRIAL APPLICABILITY The polishing pad of the present invention is useful for chemical mechanical polishing and can be used for the purpose of polishing a semiconductor wafer or the like with high accuracy and high efficiency. The polishing pad of the present invention, in particular, can achieve the flatness of the surface to be polished and the improvement of the flattening efficiency,
Moreover, the usage time can be extended as compared with the conventional one.

フロントページの続き Fターム(参考) 3C058 AA07 AA09 CB01 DA17 4F071 AA55 AB17 AB22 AE01 AH19 DA20 4F074 AA71 BA31 BA32 BA33 BA84 CA22 CA26 DA02 DA03 DA56Continued front page    F-term (reference) 3C058 AA07 AA09 CB01 DA17                 4F071 AA55 AB17 AB22 AE01 AH19                       DA20                 4F074 AA71 BA31 BA32 BA33 BA84                       CA22 CA26 DA02 DA03 DA56

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テレフタル酸単位を50〜100モル%
含有するジカルボン酸単位(a)と、炭素数6〜18の
脂肪族ジアミン単位を50〜100モル%含有するジア
ミン単位(b)とからなるポリアミドから構成され、密
度が0.4〜0.95g/cm3、気泡サイズが20〜
200μm、硬度(JIS−C硬度)が93以上である
ポリアミド発泡体。
1. 50 to 100 mol% of terephthalic acid unit
A dicarboxylic acid unit (a) contained and a diamine unit (b) containing 50 to 100 mol% of an aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms, and a polyamide having a density of 0.4 to 0.95 g. / Cm 3 , bubble size 20 ~
A polyamide foam having a hardness of 200 μm and a hardness (JIS-C hardness) of 93 or more.
【請求項2】 テレフタル酸単位を50〜100モル%
含有するジカルボン酸単位(a)と、炭素数6〜18の
脂肪族ジアミン単位を50〜100モル%含有するジア
ミン単位(b)とからなるポリアミドに非反応性ガスを
加圧条件下で溶解させた後、圧力を開放し、該ポリアミ
ドを軟化温度以上の温度で発泡させて得られる、密度が
0.4〜0.95g/cm3、気泡サイズが20〜20
0μmであるポリアミド発泡体。
2. 50 to 100 mol% of terephthalic acid units
A non-reactive gas is dissolved in a polyamide composed of a dicarboxylic acid unit (a) contained therein and a diamine unit (b) containing 50 to 100 mol% of an aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms under a pressurized condition. After that, the pressure is released, and the polyamide is foamed at a temperature equal to or higher than the softening temperature, the density is 0.4 to 0.95 g / cm 3 , and the cell size is 20 to 20.
A polyamide foam having a size of 0 μm.
【請求項3】 非反応性ガスを溶解するポリアミドがシ
ート状成形体であることを特徴とする請求項2に記載の
発泡体。
3. The foam according to claim 2, wherein the polyamide that dissolves the non-reactive gas is a sheet-shaped molded body.
【請求項4】 非反応性ガスを溶解するポリアミドが溶
融状態のポリアミドであることを特徴とする請求項2ま
たは3に記載の発泡体。
4. The foam according to claim 2 or 3, wherein the polyamide that dissolves the non-reactive gas is a polyamide in a molten state.
【請求項5】 非反応性ガスが二酸化炭素または窒素で
ある請求項2〜4のいずれか1項に記載の発泡体。
5. The foam according to claim 2, wherein the non-reactive gas is carbon dioxide or nitrogen.
【請求項6】 炭素数6〜18の脂肪族ジアミン単位が
主として炭素数9の脂肪族ジアミン単位である請求項1
〜5のいずれか1項に記載の発泡体。
6. The aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms is mainly an aliphatic diamine unit having 9 carbon atoms.
5. The foam according to any one of 5 to 5.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の発
泡体よりなる研磨パッド。
7. A polishing pad made of the foam according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 テレフタル酸単位を50〜100モル%
含有するジカルボン酸単位(a)と、炭素数6〜18の
脂肪族ジアミン単位を50〜100モル%含有するジア
ミン単位(b)とからなるポリアミドから構成されるシ
ート状成形体に、耐圧容器中、圧力が5〜20MPa、
温度が80〜200℃の条件下で非反応性ガスを飽和量
溶解させる工程、該ポリアミドの軟化温度より低い温度
で耐圧容器の圧力を開放する工程並びに該熱可塑性ポリ
アミドの軟化温度以上の温度に加熱して上記非反応性ガ
スを飽和量溶解したシート状成形体を発泡させる工程を
含むポリアミド発泡体の製造方法。
8. A terephthalic acid unit is 50 to 100 mol%.
In a pressure-resistant container, a sheet-shaped molded product made of a polyamide composed of a dicarboxylic acid unit (a) contained therein and a diamine unit (b) containing 50 to 100 mol% of an aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms was prepared. , The pressure is 5 to 20 MPa,
A step of dissolving a non-reactive gas in a saturated amount under the condition of a temperature of 80 to 200 ° C., a step of releasing the pressure of the pressure resistant container at a temperature lower than the softening temperature of the polyamide, and a temperature not lower than the softening temperature of the thermoplastic polyamide. A method for producing a polyamide foam, which comprises a step of foaming a sheet-shaped molded product in which a saturated amount of the non-reactive gas is dissolved by heating.
【請求項9】 テレフタル酸単位を50〜100モル%
含有するジカルボン酸単位(a)と、炭素数6〜18の
脂肪族ジアミン単位を50〜100モル%含有するジア
ミン単位(b)とからなるポリアミドから構成されるシ
ート状成形体に、耐圧容器中、圧力が10〜30MP
a、温度が200〜280℃の条件下で非反応性ガスを
飽和量溶解させる工程並びに耐圧容器の圧力を開放して
上記非反応性ガスを飽和量溶解したシート状成形体を発
泡させる工程を含むポリアミド発泡体の製造方法。
9. 50 to 100 mol% of terephthalic acid units
In a pressure-resistant container, a sheet-shaped molded product made of a polyamide composed of a dicarboxylic acid unit (a) contained therein and a diamine unit (b) containing 50 to 100 mol% of an aliphatic diamine unit having 6 to 18 carbon atoms was prepared. , Pressure is 10 ~ 30MP
a, a step of dissolving a non-reactive gas in a saturated amount under the condition of a temperature of 200 to 280 ° C., and a step of releasing the pressure of the pressure vessel to foam a sheet-shaped molded article in which the non-reactive gas is dissolved in a saturated amount. A method for producing a polyamide foam containing the same.
【請求項10】 テレフタル酸単位を50〜100モル
%含有するジカルボン酸単位(a)と、炭素数6〜18
の脂肪族ジアミン単位を50〜100モル%含有するジ
アミン単位(b)とからなる溶融状態のポリアミドに非
反応性ガスを加圧条件下で溶解させる工程並びに上記非
反応性ガスを溶解したポリアミドを発泡が可能な圧力下
に押出成形または射出成形して発泡成形体を得る工程を
含む、密度が0.4〜0.95g/cm3、気泡サイズ
が20〜200μmであるポリアミド発泡体の製造方
法。
10. A dicarboxylic acid unit (a) containing 50 to 100 mol% of a terephthalic acid unit, and 6 to 18 carbon atoms.
A step of dissolving a non-reactive gas in a molten polyamide comprising a diamine unit (b) containing 50 to 100 mol% of an aliphatic diamine unit under pressure, and a polyamide in which the non-reactive gas is dissolved. Method for producing a polyamide foam having a density of 0.4 to 0.95 g / cm 3 and a cell size of 20 to 200 μm, including a step of obtaining an expanded molded article by extrusion molding or injection molding under a pressure capable of foaming .
【請求項11】 テレフタル酸単位を50〜100モル
%含有するジカルボン酸単位(a)と、炭素数6〜18
の脂肪族ジアミン単位を50〜100モル%含有するジ
アミン単位(b)とからなる溶融状態のポリアミドに非
反応性ガスを加圧条件下で溶解させる工程、非反応性ガ
スを溶解したポリアミドを発泡が生じない圧力が維持さ
れる速度で射出成形して未発泡成形体を得る工程並びに
該未発泡成形体を該ポリアミドの軟化温度以上の温度に
加熱して発泡させる工程を含む、密度が0.4〜0.9
5g/cm3、気泡サイズが20〜200μmであるポ
リアミド発泡体の製造方法。
11. A dicarboxylic acid unit (a) containing 50 to 100 mol% of a terephthalic acid unit, and 6 to 18 carbon atoms.
Of a diamine unit (b) containing 50 to 100 mol% of the aliphatic diamine unit, and a step of dissolving a non-reactive gas in a molten state under pressure conditions, foaming the polyamide in which the non-reactive gas is dissolved. Of a density of 0. 4-0.9
A method for producing a polyamide foam having a cell size of 5 g / cm 3 and a cell size of 20 to 200 μm.
【請求項12】 非反応性ガスが二酸化炭素または窒素
である請求項8〜11のいずれか1項に記載のポリアミ
ド発泡体の製造方法。
12. The method for producing a polyamide foam according to claim 8, wherein the non-reactive gas is carbon dioxide or nitrogen.
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