JP2003298182A - Semiconductor laser array device - Google Patents

Semiconductor laser array device

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JP2003298182A
JP2003298182A JP2002100886A JP2002100886A JP2003298182A JP 2003298182 A JP2003298182 A JP 2003298182A JP 2002100886 A JP2002100886 A JP 2002100886A JP 2002100886 A JP2002100886 A JP 2002100886A JP 2003298182 A JP2003298182 A JP 2003298182A
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semiconductor laser
output
array
laser element
array device
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JP2002100886A
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Inventor
Satoru Ito
哲 伊藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser array device capable of predicting the time to replace semiconductor laser elements both easily and objectively. <P>SOLUTION: A semiconductor laser array device 80 comprises a semiconductor laser element array 82 in which a plurality of semiconductor laser elements are arranged in an array form, a photodiode array 84 consisting of photodiodes arranged in an array form in accordance with each laser diode (LD) on the rear side of each LD and detecting the light power of the laser light emitted from each LD, respectively, a control circuit 86 for controlling the light output of each LD based on the light output of each LD detected by the PD, a prediction section 88 for predicting the operable time of each LD based on the change with time in light output of each LD detected by the PD, and a display section 90 for displaying the operable time of each LD predicted by the prediction section 88. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高出力半導体レー
ザアレイ装置に関し、更に詳細には、半導体レーザアレ
イ装置を構成する各半導体レーザ素子の将来的動作可能
期間を予測できるようにした、光増幅器のポンプ光源、
加工機器の光源、ディスプレイ用光源等として最適な高
出力半導体レーザアレイ装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-power semiconductor laser array device, and more particularly to an optical amplifier capable of predicting a future operable period of each semiconductor laser element constituting the semiconductor laser array device. Pump light source,
The present invention relates to a high-power semiconductor laser array device that is optimal as a light source for processing equipment, a light source for displays, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスク等の記録/再生装置、レーザ
プリンタ、レーザ加工機器等の光源として半導体レーザ
装置を用いるときには、半導体レーザ装置から出射され
るレーザ光の発光量を一定に保つことが必要である。そ
こで、従来、半導体レーザ素子の駆動装置に自動出力制
御(Automatic Power Control、APC)回路、又は自
動電流制御(Automatic Current Control、ACC)回
路を設けて、半導体レーザ装置の発光量を一定に制御し
ている。
2. Description of the Related Art When a semiconductor laser device is used as a light source for a recording / reproducing device such as an optical disk, a laser printer, a laser processing machine, etc., it is necessary to keep the amount of laser light emitted from the semiconductor laser device constant. is there. Therefore, conventionally, an automatic power control (APC) circuit or an automatic current control (Automatic Current Control, ACC) circuit is provided in a driving device for a semiconductor laser device to control the light emission amount of the semiconductor laser device at a constant level. ing.

【0003】ここで、先ず、図5を参照し、上述の機器
の光源として多用されている端面出射型の半導体レーザ
素子の構成の一例を説明する。図5は端面出射型の半導
体レーザ素子の構成を示す断面図である。端面出射型の
半導体レーザ素子(以下、単に半導体レーザ素子と言
う)10は、AlGaAs系半導体レーザ素子であっ
て、図5に示すように、n型GaAs基板12上に、膜
厚0.5μmのn型GaAs第1バッファ層14、膜厚
0.5μmのn型Al0.3Ga0.7As第2バッファ層1
6、膜厚1.8μmのn型Al 0.47Ga0.53Asクラッ
ド層18、活性層/ガイド層20、膜厚1.8μmのp
型Al0.47Ga0.53Asクラッド層22、及び膜厚0.
5μmのp型GaAsキャップ層24のダブルへテロ
(DH)接合積層構造を備えている。
First, referring to FIG. 5, the above-mentioned equipment
Edge emitting type semiconductor laser, which is widely used as a light source for
An example of the configuration of the element will be described. Figure 5: Edge-emitting type semi-conductor
It is sectional drawing which shows the structure of a body laser element. Edge emission type
Semiconductor laser device (hereinafter simply referred to as a semiconductor laser device
10) is an AlGaAs semiconductor laser device
Then, as shown in FIG. 5, a film is formed on the n-type GaAs substrate 12.
0.5 μm thick n-type GaAs first buffer layer 14, film thickness
0.5 μm n-type Al0.3Ga0.7As second buffer layer 1
6, n-type Al with a film thickness of 1.8 μm 0.47Ga0.53As Crutch
Layer 18, active layer / guide layer 20, p with a thickness of 1.8 μm
Type Al0.47Ga0.53The As clad layer 22 and the film thickness of 0.
Double hetero of 5 μm p-type GaAs cap layer 24
(DH) It has a junction laminated structure.

【0004】活性層/ガイド層20は、膜厚60nm以
上65nm以下のAl0.3Ga0.7Asガイド層と、屈折
率がガイド層より大きい膜厚10nmのAl0.1Ga0.9
As活性層と、及び膜厚60nm以上65nm以下のA
0.3Ga0.7Asガイド層との3層積層膜として構成さ
れている。
The active layer / guide layer 20 comprises an Al 0.3 Ga 0.7 As guide layer having a film thickness of 60 nm or more and 65 nm or less and an Al 0.1 Ga 0.9 film having a film thickness of 10 nm which is larger than that of the guide layer.
As active layer and A having a film thickness of 60 nm or more and 65 nm or less
It is configured as a three-layer laminated film with a 0.3 Ga 0.7 As guide layer.

【0005】p型GaAsキャップ層24及びp型Al
0.47Ga0.53Asクラッド層22の上部層のワイドスト
ライプ状の中央部25を除いて、中央部25の両側には
+(ボロン)イオンがイオン注入され、電気抵抗が増
大した電流非注入領域26となっていて、これにより電
流狭窄構造が構成されている。中央部25のストライプ
幅Wは100μmである。また、金属膜、例えばTi/
Pt/Auの多層金属膜からなるp側電極28がp型G
aAsキャップ層24上及び電流非注入領域26上に形
成され、金属膜、例えばAuGe/Ni/Auの多層金
属膜からなるn側電極30がn型GaAs基板12の裏
面に形成されている。
P-type GaAs cap layer 24 and p-type Al
Except for the wide stripe-shaped central portion 25 of the upper layer of the 0.47 Ga 0.53 As clad layer 22, B + (boron) ions are ion-implanted on both sides of the central portion 25 to increase the electric resistance. And the current constriction structure is constituted by this. The stripe width W of the central portion 25 is 100 μm. Also, a metal film such as Ti /
The p-side electrode 28 made of a Pt / Au multilayer metal film is a p-type G
An n-side electrode 30 formed on the aAs cap layer 24 and the current non-injection region 26 and formed of a metal film, for example, a multi-layer metal film of AuGe / Ni / Au is formed on the back surface of the n-type GaAs substrate 12.

【0006】半導体レーザ素子10を作製するには、先
ず、エピタキシャル成長工程を実施する。即ち、減圧
下、例えば100Torr程度の減圧下で、MOCVD法等
のエピタキシャル成長法により、n型GaAs基板12
上に、上述したダブルへテロ(DH)接合積層構造を構
成する各化合物半導体層を成膜する。
To manufacture the semiconductor laser device 10, first, an epitaxial growth step is carried out. That is, the n-type GaAs substrate 12 is grown under reduced pressure, for example, under reduced pressure of about 100 Torr by an epitaxial growth method such as MOCVD.
On top of this, each compound semiconductor layer forming the above-mentioned double hetero (DH) junction laminated structure is formed.

【0007】次いで、電流非注入領域の形成工程に移行
する。電流非注入領域26を露出させ、ストライプ状の
中央部25を覆う開口パターンを有するイオン注入用マ
スク(図示せず)をp型GaAsキャップ層24上にA
l膜等で形成し、続いて、イオン注入用マスク上からB
+ 等のイオンをイオン注入して、電気抵抗が増大した電
流非注入領域26を形成する。次に、Ti/Pt/Au
の多層金属膜からなるp側電極28をp型GaAsキャ
ップ層24上及び電流非注入領域26上に形成し、また
所定の基板厚になるようにn型GaAs基板12の裏面
を研磨した後、AuGe/Ni/Auの多層金属膜から
なるn側電極30を基板裏面に形成する。次いで、出射
面で劈開してレーザバー化し、更にレーザバーを切断し
てチップ化すると、半導体レーザ素子10を作製するこ
とができる。
Next, the step of forming a current non-injection region is performed. An ion implantation mask (not shown) having an opening pattern that exposes the current non-implanted region 26 and covers the stripe-shaped central portion 25 is formed on the p-type GaAs cap layer 24.
l film or the like, and then B from above the ion implantation mask.
Ions such as + are ion-implanted to form the current non-injection region 26 with increased electric resistance. Next, Ti / Pt / Au
After forming the p-side electrode 28 made of the multilayer metal film on the p-type GaAs cap layer 24 and the current non-injection region 26, and polishing the back surface of the n-type GaAs substrate 12 to have a predetermined substrate thickness, An n-side electrode 30 made of a AuGe / Ni / Au multilayer metal film is formed on the back surface of the substrate. Next, the semiconductor laser element 10 can be manufactured by cleaving the laser beam at the emitting surface to form a laser bar, and further cutting the laser bar into chips.

【0008】次に、図6を参照して、半導体レーザ素子
の光出力を制御する制御回路として設けられたAPC回
路の概略構成及び動作を説明する。図6はAPC回路の
一例を示す回路図である。図6中、Vcc(+5V)は
電源電圧を示す。APC回路40は、図6に示すよう
に、半導体レーザ素子(レーザダイオード、以下、LD
と表記)42のリヤ側等に配置され、LD42のリヤ面
から出射されるレーザ光を検出して光出力を求めるフォ
トダイオード(以下、PDと表記)44と、LD42の
光出力に応じてPD44から出力された電流をI−V
(電流−電圧)変換し、TP1に出力する第1比較器4
6とを備えている。更に、APC回路40は、第1比較
器46の出力電位を基準に光出力設定用VR48で設定
された電位(TP2の電位)を反転増幅し、TP3に出
力する第2比較器50と、第2比較器50の出力電位に
基づいて、LD42に電流を注入するドライブトランジ
スタ52とを備えている。
Next, referring to FIG. 6, a schematic structure and operation of an APC circuit provided as a control circuit for controlling the optical output of the semiconductor laser device will be described. FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of the APC circuit. In FIG. 6, Vcc (+ 5V) indicates the power supply voltage. As shown in FIG. 6, the APC circuit 40 includes a semiconductor laser device (laser diode, hereinafter LD).
A photodiode (hereinafter referred to as PD) 44, which is disposed on the rear side of the LD 42 or the like and detects the laser light emitted from the rear surface of the LD 42 to obtain the optical output, and the PD 44 according to the optical output of the LD 42. The current output from I-V
The first comparator 4 for converting (current-voltage) and outputting to TP1
6 and. Further, the APC circuit 40 inverts and amplifies the potential (potential of TP2) set by the optical output setting VR 48 with the output potential of the first comparator 46 as a reference, and outputs it to TP3. The drive transistor 52 for injecting current into the LD 42 based on the output potential of the 2 comparator 50.

【0009】APC回路40では、LD42の光出力に
応じた電流がPD44から出力される。出力された電流
は、第1比較器46でI−V(電流−電圧)変換され、
TP1に出力される。第1比較器46の出力電位を基準
にして光出力設定用VR48で設定された電位(TP2
の電位)を第2比較器50で反転増幅し、TP3に出力
する。反転増幅された電位はドライブトランジスタ52
に入力され、ドライブトランジスタ52はLD42に注
入する電流を出力する。これにより、LD42は、光出
力設定用VR48で設定した所定の光出力で定常発光す
る。
In the APC circuit 40, a current corresponding to the light output of the LD 42 is output from the PD 44. The output current is I-V (current-voltage) converted by the first comparator 46,
It is output to TP1. The potential (TP2 set by the optical output setting VR 48 with reference to the output potential of the first comparator 46)
The potential) is inverted and amplified by the second comparator 50 and output to TP3. The inverted and amplified potential is applied to the drive transistor 52.
Drive transistor 52 outputs a current to be injected into LD 42. As a result, the LD 42 steadily emits light with the predetermined light output set by the light output setting VR 48.

【0010】APC回路40では、何らかの要因でLD
42の光出力が増加すると、PD44の電流も増加し、
TP1の電圧が下がる。TP1の電圧は第2比較器の非
反転入力端子に接続されているので、TP3の電位も下
がる。これにより、ドライブトランジスタ52のベース
電流が減少し、この結果、LD42に注入される電流も
減少し、LD42の光出力が低下する。このようにし
て、光出力設定用VR48で設定した光出力を出力する
ように、LD42を制御する。
In the APC circuit 40, the LD
When the optical output of 42 increases, the current of PD44 also increases,
The voltage of TP1 drops. Since the voltage of TP1 is connected to the non-inverting input terminal of the second comparator, the potential of TP3 also drops. As a result, the base current of the drive transistor 52 decreases, and as a result, the current injected into the LD 42 also decreases, and the optical output of the LD 42 decreases. In this way, the LD 42 is controlled so as to output the optical output set by the optical output setting VR 48.

【0011】ところで、光増幅器のポンプ光源等では、
1個の半導体レーザ素子だけでポンプ光源を構成したの
では、ポンプ光源として必要な発光量を得ることができ
ない。そこで、光増幅器のポンプ光源等の大きな発光量
を必要とする光源には、複数個の半導体レーザ素子を設
け、半導体レーザ素子群の出力和により所定の発光量を
得るようにしている。このような場合にも、複数個の半
導体レーザ素子の出力和を一定に制御することが必要に
なる。そのため、n個の半導体レーザ素子のそれぞれに
APC回路(i=1〜n)を設けて、n個の半導体レー
ザ素子群を駆動する方法、又は各半導体レーザ素子I 1
〜In に設けたフォトダイオードから出力される電流の
出力和を求めて、一括してAPC回路(以下、一括AP
C回路と言う)で総電流を制御する方法がある。尚、多
数個の半導体レーザ素子を並設した半導体レーザアレイ
装置の出力を制御する際には、一括APC回路で総電流
を制御することが多い。
By the way, in the pump light source of the optical amplifier,
The pump light source consisted of only one semiconductor laser element
With, you can get the required amount of light emission as a pump light source.
Absent. Therefore, a large amount of light emitted from the pump light source of the optical amplifier, etc.
For a light source that requires
The sum of the output of the semiconductor laser device group gives
I am trying to get it. Even in such a case, multiple half
It is necessary to control the output sum of the conductor laser element at a constant level.
Become. Therefore, for each of the n semiconductor laser elements,
An APC circuit (i = 1 to n) is provided to enable n semiconductor lasers.
The method of driving the device group, or each semiconductor laser device I 1
~ InOf the current output from the photodiode provided in
APC circuit (collectively AP
There is a method of controlling the total current with a C circuit). In addition, many
Semiconductor laser array in which several semiconductor laser elements are arranged in parallel
When controlling the output of the device, the total current is controlled by the batch APC circuit.
Often control.

【0012】n個の半導体レーザ素子I1 〜In からな
る半導体レーザアレイ装置の出力をAPC回路により制
御する際、n個の半導体レーザ素子中の1個の半導体レ
ーザ素子が故障したときには、そのままであれば、1個
の半導体レーザ素子の光出力だけ、総光出力は低下す
る。そこで、総光出力、すなわち複数個の半導体レーザ
素子I1 〜In の出力和の減少を防ぐために、故障して
いる半導体レーザ素子以外の半導体レーザ素子への注入
電流を増加して、それらの光出力を増大させ、総光出力
を一定に保つようにしている。上述の総光出力の制御
は、各半導体レーザ素子にそれぞれAPC回路を設けて
個別に制御する方法を適用したときでも、或いは一括A
PC回路を設けて一括して制御する方法を適用したとき
でも同じである。
When the output of the semiconductor laser array device consisting of n semiconductor laser elements I 1 to In is controlled by the APC circuit, if one semiconductor laser element out of the n semiconductor laser elements fails, it remains as it is. If so, the total optical output is reduced by the optical output of one semiconductor laser device. Therefore, the total light output, i.e. to prevent a reduction in output the sum of the plurality of semiconductor laser elements I 1 ~I n, by increasing the current injected into the semiconductor laser element other than the semiconductor laser device is faulty, their The light output is increased to keep the total light output constant. The control of the total optical output described above is performed even when the method of individually controlling each semiconductor laser device by providing an APC circuit is applied, or when the collective A
The same is true when a method of providing a PC circuit and collectively controlling is applied.

【0013】半導体レーザアレイ装置の出力制御では、
APC回路に代えて、ACC(Automatic Current Cont
rol)回路を用いる場合がある。図7を参照して、AC
C回路の概略構成と動作を説明する。図7はACC回路
の回路図である。ACC回路は、図7に示すように、半
導体レーザ素子に注入される電流を一定にする定電流回
路60を備えている。図7に示す定電流回路60は、基
本的には、吸い込み型定電流源と呼ばれるものであっ
て、ドライブトランジスタ63と、比較器64とを備
え、LD62に流れる電流Iopは、可変抵抗器66で設
定される基準電圧Vrと抵抗器68の抵抗R1により次
式で規定される。従って、Vrの電位を上げていくと、
電流Iopが増大する。 Iop=(Vr+6V)/R1 端子間には、6Vの電圧が印加されているとしている。
In the output control of the semiconductor laser array device,
Instead of the APC circuit, ACC (Automatic Current Cont
rol) circuit may be used. Referring to FIG. 7, AC
The schematic configuration and operation of the C circuit will be described. FIG. 7 is a circuit diagram of the ACC circuit. As shown in FIG. 7, the ACC circuit includes a constant current circuit 60 that makes the current injected into the semiconductor laser element constant. The constant current circuit 60 shown in FIG. 7 is basically called a sink type constant current source, and includes a drive transistor 63 and a comparator 64, and a current Iop flowing through the LD 62 is a variable resistor 66. It is defined by the following equation by the reference voltage Vr set by and the resistance R1 of the resistor 68. Therefore, if the potential of Vr is raised,
The current Iop increases. It is assumed that a voltage of 6V is applied between the terminals Iop = (Vr + 6V) / R1.

【0014】n個の半導体レーザ素子I1 〜In を有す
る半導体レーザアレイ装置の総出力をACC回路により
制御する際にも、n個の半導体レーザ素子中の1個の半
導体レーザ素子が故障したときには、総光出力、すなわ
ち半導体レーザ素子I1 〜I n の出力和が減少すること
を防ぐためには、基準電圧Vrの電位を調整して総光出
力を保つようにしている。
N semiconductor laser devices I1~ InHave
The total output of the semiconductor laser array device
Even when controlling, one half of the n semiconductor laser devices
When the conductor laser element fails, the total light output,
Chi semiconductor laser device I1~ I nThe output sum of
To prevent this, adjust the potential of the reference voltage Vr to adjust the total light output.
I try to keep my strength.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかし、n個の半導体
レーザ素子アレイからなる半導体レーザアレイ装置の総
光出力をAPC回路又はACC回路により制御する場合
には、以下のような問題があった。APC回路又はAC
C回路の制御では、n個の半導体レーザ素子中の1個の
半導体レーザ素子が故障したときには、総光出力、すな
わち半導体レーザ素子I1〜In の出力和の減少を防ぐ
ために、故障している半導体レーザ素子以外の半導体レ
ーザ素子への注入電流を増大させて総光出力を一定に維
持するように制御している。つまり、動作している半導
体レーザ素子の1個あたりの動作電流は、半導体レーザ
素子の1個が故障していないときに比べて増加してい
る。このために、動作電流が増大した半導体レーザ素子
の劣化進行が加速され、動作電流を増大させなかった場
合に比べて、以後の将来的動作可能期間が短くなる。半
導体レーザ素子の将来的動作可能期間を予測すること
は、本来的に難しいことであるが、半導体レーザ素子の
劣化進行が加速するために、n個の半導体レーザ素子の
それぞれが、以後何時間動作可能であるかを予測するこ
とが、益々、困難になる。そこで、半導体レーザアレイ
装置の半導体レーザ素子の交換時期は、オペレータの勘
と経験に頼ることが多く、半導体レーザアレイ装置を合
理的に管理することが難しかった。
However, when controlling the total optical output of the semiconductor laser array device consisting of n semiconductor laser element arrays by the APC circuit or the ACC circuit, there are the following problems. APC circuit or AC
In the control of the C circuit, when the one semiconductor laser element in the n semiconductor laser device has failed, the total light output, i.e. to prevent a reduction in the output sum of the semiconductor laser element I 1 ~I n, failed The current injected into the semiconductor laser elements other than the existing semiconductor laser elements is increased to control the total optical output to be constant. That is, the operating current per operating semiconductor laser element is higher than that when one operating semiconductor laser element is not in failure. For this reason, the progress of deterioration of the semiconductor laser device having the increased operating current is accelerated, and the future operable period is shortened compared to the case where the operating current is not increased. It is inherently difficult to predict the future operable period of the semiconductor laser device, but since the deterioration progress of the semiconductor laser device is accelerated, each of the n semiconductor laser devices is operated for several hours thereafter. It is becoming increasingly difficult to predict what is possible. Therefore, when replacing the semiconductor laser element of the semiconductor laser array device, it is often dependent on the intuition and experience of the operator, and it is difficult to rationally manage the semiconductor laser array device.

【0016】また、半導体レーザアレイ装置を構成する
個々の半導体レーザ素子を交換する作業は、準備作業を
含めて、かなりの時間と手間を要する作業である。それ
にもかかわらず、半導体レーザ素子の交換時期を予測
し、交換時期が近くなった半導体レーザ素子を予め交換
することが難しいために、現実には、半導体レーザ素子
が実際に故障したことを確認した後に、半導体レーザ素
子を交換している。この結果、半導体レーザ素子を交換
し、半導体レーザアレイ装置を再起動させるまでに相当
の時間を要するので、半導体レーザアレイ装置の稼働効
率を向上させることが難しかった。
Also, the work of replacing the individual semiconductor laser elements constituting the semiconductor laser array device requires a considerable amount of time and labor including the preparatory work. Nevertheless, it is difficult to predict the replacement time of the semiconductor laser device and to replace the semiconductor laser device whose replacement time is near in advance. Therefore, it was confirmed that the semiconductor laser device actually failed. Later, the semiconductor laser device is replaced. As a result, since it takes a considerable time to replace the semiconductor laser element and restart the semiconductor laser array device, it is difficult to improve the operation efficiency of the semiconductor laser array device.

【0017】また、半導体レーザアレイ装置を光源とし
て使用している機器、或いは装置の停止による損失を避
けるために、まだ動作可能な半導体レーザ素子をも含め
て全ての半導体レーザ素子を交換することもあった。こ
れでは、コストが嵩み、経済性に欠ける。
Further, in order to avoid a loss due to stoppage of a device using the semiconductor laser array device as a light source or the stop of the device, all the semiconductor laser devices including the semiconductor laser device still operable can be replaced. there were. This is costly and lacks in economy.

【0018】以上の問題に鑑み、本発明の目的は、半導
体レーザ素子の交換時期を容易に、かつ客観的に予測で
きるようにした半導体レーザアレイ装置を提供すること
である。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a semiconductor laser array device which can easily and objectively predict the replacement time of a semiconductor laser element.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決する研究の過程で、以下のことに注目した。ここ
で、図8を参照し、多数個の半導体レーザ素子を備えた
半導体レーザアレイ装置を例にして本発明者が注目した
ことを説明する。図8は半導体レーザアレイ装置の構成
を示す模式的配置図である。尚、図8では、LD及びP
D周りの配線及び必要な周辺部品の図示を省略してい
る。半導体レーザアレイ装置70は、図8に示すよう
に、並列に配置された多数個の半導体レーザ素子(L
D)I1 〜In のLDアレイ72と、各半導体レーザ素
子I1 〜In のレーザストライプのリア側にそれぞれ設
けられ、LDI1 〜Inのそれぞれの出力を検出するフ
ォトダイオード(PD)P1 〜Pn のPDアレイ74と
から構成されていて、APC回路によって出力制御され
ているものとする。
Means for Solving the Problems In the course of research for solving the above problems, the present inventor has noticed the following. Here, with reference to FIG. 8, what the present inventor has paid attention to will be described by taking a semiconductor laser array device having a large number of semiconductor laser elements as an example. FIG. 8 is a schematic layout diagram showing the configuration of the semiconductor laser array device. In FIG. 8, LD and P
Wiring around D and necessary peripheral parts are not shown. As shown in FIG. 8, the semiconductor laser array device 70 includes a large number of semiconductor laser elements (L
D) I 1 and the LD array 72 of ~I n, respectively provided on the rear side of the laser stripe of the semiconductor laser element I 1 ~I n, photodiode for detecting the output of each of the LDI 1 ~I n (PD) It is assumed that it is composed of a PD array 74 of P 1 to P n and the output is controlled by the APC circuit.

【0020】図9を参照して、半導体レーザ素子の寿命
予測の基礎となる、各半導体レーザ素子の光強度の経時
変化を説明する。LDアレイのLD中で、図9(a)及
び(b)に示すように、LDmに欠陥があるとする。欠
陥は、いわゆる結晶欠陥であって、結晶成長時の欠陥、
レーザ共振器構造を構成する化合物半導体層をエピタキ
シャル成長させた際に基板から伝搬した貫通転位、半導
体レーザ素子の製造工程で入った傷等の様々な原因に起
因して発生している。図9(a)は欠陥の所在を示す平
面図、図9(b)は欠陥の所在を示す断面図、及び図9
(c)は各半導体レーザ素子のレーザ光の光強度を示す
グラフである。通電開始して1時間の動作後、LDアレ
イの各LDの光出力は、図9(c)に示すように、LD
m の光強度が他のLD、例えばLDIm+1 に比べて低
下している。
With reference to FIG. 9, a change with time in the light intensity of each semiconductor laser element, which is the basis for predicting the life of the semiconductor laser element, will be described. In the LD of the LD array, it is assumed that LDm has a defect as shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b). The defect is a so-called crystal defect, which is a defect during crystal growth,
It occurs due to various causes such as threading dislocations propagated from the substrate when a compound semiconductor layer constituting the laser resonator structure is epitaxially grown and scratches introduced in the manufacturing process of the semiconductor laser device. 9A is a plan view showing the location of the defect, FIG. 9B is a sectional view showing the location of the defect, and FIG.
(C) is a graph showing the light intensity of the laser light of each semiconductor laser device. After 1 hour of operation from the start of energization, the optical output of each LD of the LD array is as shown in FIG.
The light intensity of I m is lower than that of other LD, for example, LDI m + 1 .

【0021】通電開始後1時間経過した時点では、LD
m の欠陥は、小さく、LDIm の発光に与える影響は
小さいが、通電に伴って欠陥は成長して徐々に大きくな
る。そして、通電開始後10時間経過したときには、欠
陥は、図10(a)及び(b)に示すように、拡大して
いる。その結果、通電開始して10時間の動作後、LD
アレイの各LDの光出力は、図10(c)に示すよう
に、LDIm の光強度が他のLD、例えばLDIm+1
比べて低下している。
When 1 hour has passed after the start of energization, the LD
The defect of I m is small, and the influence on the light emission of LDI m is small, but the defect grows and becomes larger gradually with energization. Then, when 10 hours have passed after the start of energization, the defect has expanded as shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b). As a result, after 10 hours of operation from the start of energization, the LD
Light output of each LD in the array, as shown in FIG. 10 (c), the light intensity of the LDI m is lower than other LD, for example, the LDI m + 1.

【0022】更に、通電開始して24時間が経過した時
点では、LDIm の欠陥は、図11(a)及び(b)に
示すように、益々大きくなって、隣接するLDIm+1
も転移している。この結果、LDIm 及びIm+1 の光強
度は、図11(c)に示すように、低下している。つま
り、PDで検出したLDIm 、Im+1 の光強度は、図1
2に示すように、経時変化する。通電開始直後にはLD
m+1 に欠陥が無いので、LDIm+1 の光強度は、ほぼ
一定であるが、欠陥が伝播した時点から光強度が低下し
始めることが判る。
Furthermore, at the time when 24 hours have passed after the start of energization, the defect of LDI m becomes even larger as shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b), and even in the adjacent LDI m + 1 . It has metastasized. As a result, the light intensities of LDI m and I m + 1 are lowered as shown in FIG. 11 (c). That is, the light intensities of LDI m and I m + 1 detected by the PD are shown in FIG.
As shown in 2, it changes with time. LD immediately after the start of energization
Since there is no defect in I m + 1 , it can be seen that the light intensity of LDI m + 1 is almost constant, but the light intensity begins to decrease from the time when the defect propagates.

【0023】図13は、LDIm 、Im+1 、Im+2 の光
強度の経時変化を示している。LDIm+2 はLDIm+1
に隣接するLDである。LDIm+1 まで結晶欠陥が伝播
すると、その隣のLDIm+2 の光強度は、LDIm 、I
m+1 の光強度の低下に伴って、それを補うために上昇す
る。これは、半導体レーザアレイ装置全体の光強度を一
定に維持するようにAPC回路で制御しているので、半
導体レーザアレイ装置70全体の光強度、すなわちLD
1 〜I m 〜In の出力和が一定になるようにLDI
m+2 への駆動電流を増加させていることによる。従っ
て、LDIm+2 のストライプに欠陥が伝播すると、その
欠陥の成長進行は電流密度が高いほど大きいので、急激
に光強度は低下する。つまり、LDIm 、Im+1 、I
m+2 の光強度の経時変化を示すグラフの傾きは、図13
のグラフ(a)、(b)、及び(c)に示すように、L
DIm 、Im+1 、Im+2 の順に、大きくなる。そして、
LDの動作が停止して光出力が零になる。
FIG. 13 shows the LDI.m, Im + 1, Im + 2Light of
The change in strength over time is shown. LDIm + 2Is LDIm + 1
LD adjacent to. LDIm + 1Crystal defects propagate up to
Then the LDI next to itm + 2Light intensity is LDIm, I
m + 1As the light intensity decreases, it rises to make up for it
It This is a measure of the light intensity of the entire semiconductor laser array device.
Since it is controlled by the APC circuit so that it can be kept constant,
Light intensity of the entire conductor laser array device 70, that is, LD
I1~ I m~ InLDI so that the output sum of
m + 2By increasing the drive current to. Obey
LDIm + 2When a defect propagates in a stripe of
The higher the current density, the greater the progress of defect growth.
The light intensity decreases. That is, LDIm, Im + 1, I
m + 2The slope of the graph showing the temporal change of the light intensity of
As shown in graphs (a), (b), and (c) of
DIm, Im + 1, Im + 2It becomes large in order. And
The LD operation stops and the optical output becomes zero.

【0024】そこで、予め、実験、シミュレーション等
により図13に示すような関係、つまり欠陥数の増加、
欠陥の拡大、転移による光強度の変化率、又は単位時間
当たりの変化の大きさ、及び以後の動作可能期間を算出
して、LDの劣化による基準光強度変化率及び以後の動
作可能期間を設定する。そして、動作中の半導体レーザ
アレイ装置のLDI1 〜Im 〜In のそれぞれの光強度
を対応するPDP1 〜Pm 〜Pn で個別に検出して光強
度の変化率を測定して、検出した光強度変化率と基準光
強度変化率とを比較して、LDの劣化程度を判断し、L
Dの交換時期を予測する。これにより、LDの交換時期
を客観的にかつ容易に予測することができる。
Therefore, the relationship as shown in FIG. 13, that is, the increase in the number of defects, has been confirmed in advance by experiments, simulations, etc.
Calculate the rate of change in light intensity due to defect expansion and transfer, or the magnitude of change per unit time, and the operable period after that, and set the reference optical intensity change rate due to deterioration of the LD and the operable period thereafter. To do. Then, by measuring the LDI 1 ~I m ~I rate of change of the individually detected and the light intensity of each of the light intensity at the corresponding PDP 1 to P m to P n of the n semiconductor laser array device in operation, The detected light intensity change rate and the reference light intensity change rate are compared to determine the degree of deterioration of the LD, and L
Predict D replacement time. This makes it possible to objectively and easily predict the LD replacement time.

【0025】上記目的を達成するために、上述の知見に
基づいて、本発明に係る半導体レーザアレイ装置は、複
数個の半導体レーザ素子をアレイ状に配置してなる半導
体レーザ素子アレイと、半導体レーザ素子のそれぞれに
対応して設けられ、各半導体レーザ素子から出射される
レーザ光の光出力を検出する光検出器とを備えた半導体
レーザアレイ装置において、光検出器によって検出され
た各半導体レーザ素子の光出力に基づいて各半導体レー
ザ素子の光出力を制御する制御回路と、光検出器によっ
て検出された各半導体レーザ素子の光出力の経時変化を
定期的に又は指令に応じて都度算出し、経時変化に基づ
いて各半導体レーザ素子の以後の動作可能期間を予測す
る予測部と、予測部によって予測された各半導体レーザ
素子の以後の動作可能期間を表示する表示部とを備える
ことを特徴としている。
In order to achieve the above object, based on the above findings, the semiconductor laser array device according to the present invention is a semiconductor laser element array in which a plurality of semiconductor laser elements are arranged in an array, and a semiconductor laser. In a semiconductor laser array device including a photodetector which is provided corresponding to each element and detects an optical output of a laser beam emitted from each semiconductor laser element, each semiconductor laser element detected by the photodetector A control circuit for controlling the optical output of each semiconductor laser element based on the optical output of, and the time-dependent change of the optical output of each semiconductor laser element detected by the photodetector is calculated periodically or in response to a command each time, A prediction unit that predicts a subsequent operable period of each semiconductor laser device based on a change over time, and a subsequent operation of each semiconductor laser device predicted by the prediction unit It is characterized in that a display unit which displays the ability period.

【0026】本発明に係る半導体レーザアレイ装置で
は、制御回路が、光検出器によって検出された各半導体
レーザ素子の光出力に基づいて各半導体レーザ素子の光
出力を制御すると共に、各半導体レーザ素子の光出力を
予測部に出力する。制御回路は、基本的には、前述した
従来のAPC回路、又はACC回路と同じ構成を備えて
いて、各半導体レーザ素子のそれぞれに個別に設けられ
たAPC回路、又はACC回路によって各半導体レーザ
素子を制御しても良く、一括APC回路で一括して制御
しても良い。
In the semiconductor laser array device according to the present invention, the control circuit controls the optical output of each semiconductor laser element based on the optical output of each semiconductor laser element detected by the photodetector, and also controls each semiconductor laser element. The optical output of the above is output to the prediction unit. The control circuit basically has the same configuration as the above-mentioned conventional APC circuit or ACC circuit, and each semiconductor laser device is provided with an APC circuit or an ACC circuit provided individually for each semiconductor laser device. May be controlled, or may be collectively controlled by the collective APC circuit.

【0027】予測部は、予め、実験、シミュレーション
等により図13に示すような関係、つまり欠陥数の増
加、欠陥の拡大、転移による光強度の変化率又は単位時
間当たりの変化の大きさ、及び以後の動作可能期間を算
出して、半導体レーザ素子の劣化による基準光強度変化
率及び以後の基準動作可能期間を設定する。そして、予
測部は、光検出器によって検出された各半導体レーザ素
子の光出力の経時変化を定期的に又は指令に応じて都度
算出し、算出した経時変化率と基準光強度変化率とを比
較し、以後の基準動作可能期間に基づいて、各半導体レ
ーザ素子の以後の動作可能期間を予測する。表示部は、
CRT又は液晶表示装置等であって、予測部によって予
測された各半導体レーザの以後の動作可能期間を表示す
る。
The predicting unit preliminarily conducts experiments, simulations and the like to establish the relationship as shown in FIG. 13, that is, increase in the number of defects, enlargement of defects, change rate of light intensity due to transfer or magnitude of change per unit time, and The subsequent operable period is calculated, and the reference light intensity change rate due to the deterioration of the semiconductor laser device and the subsequent reference operable period are set. Then, the prediction unit calculates the change over time of the optical output of each semiconductor laser element detected by the photodetector periodically or each time in response to a command, and compares the calculated change over time with the reference light intensity change rate. Then, the subsequent operable period of each semiconductor laser device is predicted based on the subsequent reference operable period. The display is
A CRT, a liquid crystal display device, or the like, which displays a subsequent operable period of each semiconductor laser predicted by the prediction unit.

【0028】各半導体レーザ素子の光出力の経時変化
は、経時変化の大きさの大小でも、経時変化の大きさを
経過時間で除した経時変化率の大小でも良い。そして、
予め実験、シミュレーション等で求めた基準経時変化又
は基準経時変化率と、求めた経時変化又は経時変化率と
を比較して、各半導体レーザの動作可能期間を予測す
る。
The change over time in the optical output of each semiconductor laser device may be the magnitude of the change over time or the rate of change over time in which the magnitude of the change over time is divided by the elapsed time. And
The operable time period of each semiconductor laser is predicted by comparing the reference time-dependent change or the reference time-dependent change rate previously obtained by experiments, simulations, etc. with the calculated time-dependent change or the time-dependent change rate.

【0029】本発明の好適な実施態様では、制御回路
は、各半導体レーザ素子の光出力を検出した光検出器か
らの信号を加算して半導体レーザ素子アレイの出力和を
求める加算手段と、加算手段で求めた出力和と、予め設
定されている設定出力和とを比較し、比較結果に対応す
る信号を出力する比較手段と、比較手段から出力された
信号に基づいて、加算手段で求めた出力和が設定出力和
になるように任意の重みを付けて各半導体レーザ素子の
注入電流を調整する電流調整手段とを有し、予測部は、
光検出器が検出した各半導体レーザ素子の光出力の経時
変化、又は電流調整手段から各半導体レーザ素子に対し
て出力される注入電流の経時変化に基づいて各半導体レ
ーザ素子の以後の動作可能期間を予測する。
In a preferred embodiment of the present invention, the control circuit adds the signals from the photodetectors that detect the optical output of each semiconductor laser element to obtain the output sum of the semiconductor laser element array, and the addition means. The output sum obtained by the means is compared with the preset output sum, and the addition means is obtained based on the comparison means for outputting a signal corresponding to the comparison result and the signal output from the comparison means. And a current adjusting unit that adjusts the injection current of each semiconductor laser element by giving an arbitrary weight so that the output sum becomes the set output sum.
Subsequent operable period of each semiconductor laser element based on the temporal change of the optical output of each semiconductor laser element detected by the photodetector or the temporal change of the injection current output from the current adjusting means to each semiconductor laser element. Predict.

【0030】制御回路は、基本的には、従来のAPC回
路又はACC回路の構成と同じ構成を有し、同じ機能を
果たしている。予測部は、制御回路の光検出器が検出し
た各半導体レーザ素子の光出力の経時変化、又は電流調
整手段から各半導体レーザ素子に対して出力される注入
電流の経時変化に基づいて各半導体レーザ素子の以後の
動作可能期間を予測する。
The control circuit basically has the same configuration as the conventional APC circuit or ACC circuit and performs the same function. The predicting unit is configured to change the optical output of each semiconductor laser element detected by the photodetector of the control circuit with time, or the injection current output from the current adjusting unit to each semiconductor laser element with time. Predict the subsequent operational period of the device.

【0031】本発明に係る半導体レーザアレイ装置の好
適な実施態様では、光検出器が、半導体レーザ素子アレ
イを構成する各半導体レーザ素子に対応して各半導体レ
ーザ素子の背後にそれぞれアレイ状に配置されている。
これにより、半導体レーザアレイ装置を小型化し、コン
パクトにすることができる。また、光検出器は、各半導
体レーザ素子から出射されるレーザ光の光出力をそれぞ
れ検出できる限り制約はなく、光検出器として、例えば
フォトダイオード、リニアセンサ、及び電荷結合素子
(Charge Coupled Device 、CCD)の少なくともいず
れかを使用することができる。
In a preferred embodiment of the semiconductor laser array device according to the present invention, photodetectors are arranged in an array behind each semiconductor laser element corresponding to each semiconductor laser element forming the semiconductor laser element array. Has been done.
As a result, the semiconductor laser array device can be made compact and compact. Further, the photodetector is not limited as long as it can detect the optical output of the laser light emitted from each semiconductor laser element, and as the photodetector, for example, a photodiode, a linear sensor, and a charge coupled device (Charge Coupled Device, And / or CCD) can be used.

【0032】本発明は、半導体レーザ素子のレーザスト
ライプの形式、半導体レーザ素子を構成する化合物半導
体層の組成に制約なく適用でき、特に高出力の半導体レ
ーザアレイ装置、例えば結晶励起用のポンプ光源として
使用される半導体レーザアレイ装置に最適に適用でき
る。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be applied without restriction to the type of laser stripe of a semiconductor laser device and the composition of the compound semiconductor layer constituting the semiconductor laser device, and particularly as a high output semiconductor laser array device, for example, as a pump light source for crystal excitation It can be optimally applied to the semiconductor laser array device used.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下に、添付図面を参照して、実
施形態例に基づいて本発明をより詳細に説明する。実施形態例1 本実施形態例は、本発明に係る半導体レーザアレイ装置
の実施形態の一例である。図1は本実施形態例の半導体
レーザアレイ装置の構成を示すブロック図、図2は制御
回路の構成を示すブロック図、及び図3は本実施形態例
の半導体レーザアレイ装置の構成を示す斜視図である。
本実施形態例の半導体レーザアレイ装置80は、図1に
示すように、複数個の半導体レーザ素子(以下、LDと
言う)をアレイ状に配置した半導体レーザ素子アレイ8
2と、各LDのリア側に各LDに対応してアレイ状に配
置され、各LDから出射されるレーザ光の光出力をそれ
ぞれ検出するフォトダイオード(以下、PDと言う)か
らなるフォトダイオード・アレイ84と、PDによって
検出された各LDの光出力に基づいて各LDの光出力を
制御する制御回路86と、PDによって検出された各L
Dの光出力の経時変化に基づいて各LDの動作可能期間
を予測する予測部88と、予測部88によって予測され
た各LDの動作可能期間を表示する表示部90とを備え
ている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on embodiments with reference to the accompanying drawings. Embodiment 1 This embodiment is an example of an embodiment of a semiconductor laser array device according to the present invention. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor laser array device of the present embodiment example, FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a control circuit, and FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of the semiconductor laser array device of the present embodiment example. Is.
As shown in FIG. 1, the semiconductor laser array device 80 of the present embodiment example has a semiconductor laser element array 8 in which a plurality of semiconductor laser elements (hereinafter referred to as LDs) are arranged in an array.
2 and a photodiode (hereinafter referred to as PD) which is arranged on the rear side of each LD in an array corresponding to each LD and detects the optical output of the laser light emitted from each LD. An array 84, a control circuit 86 that controls the optical output of each LD based on the optical output of each LD detected by the PD, and each L detected by the PD.
A prediction unit 88 that predicts the operable period of each LD based on the change over time of the optical output of D, and a display unit 90 that displays the operable period of each LD predicted by the prediction unit 88 are provided.

【0034】各LDは、前述した端面出射型の半導体レ
ーザ素子10と同じ構成を備えていて、図8に示すよう
に、並列してアレイ状に配置され、半導体レーザ素子ア
レイ82を構成している。半導体レーザ素子アレイ82
は、いわゆるレーザ・バーでも良く、またレーザ・バー
をペレタイズしてチップ化したものをアレイ状に配置し
たものでも良い。フォトダイオード・アレイ84は、図
8に示すように、それぞれLDに対応するように半導体
レーザ素子アレイ82のリア側に並列してアレイ状に配
置された複数個のPDを備えている。また、フォトダイ
オード・アレイ84として、市販されている廉価なリニ
アセンサに、光量を調整するNDフィルタを装着したも
のを用いても良い。リニアセンサは一次元のCCDを用
いたものが多い。
Each LD has the same structure as that of the edge emitting semiconductor laser device 10 described above, and as shown in FIG. 8, they are arranged in parallel in an array to form a semiconductor laser device array 82. There is. Semiconductor laser device array 82
May be a so-called laser bar, or may be one in which laser bars are pelletized into chips and arranged in an array. As shown in FIG. 8, the photodiode array 84 includes a plurality of PDs arranged in parallel on the rear side of the semiconductor laser device array 82 so as to correspond to the LDs. Further, as the photodiode array 84, a commercially available low-priced linear sensor provided with an ND filter for adjusting the light amount may be used. Most linear sensors use a one-dimensional CCD.

【0035】制御装置86は、図2に示すように、各L
Dの光出力を検出したPDからの信号を加算して半導体
レーザアレイの出力和を求める加算手段86aと、加算
手段で求めた出力和と、予め設定されている設定出力和
とを比較して、比較結果に応じた信号を出力する比較手
段86bと、比較手段から出力された信号に基づいて、
加算手段で求めた出力和が設定出力和になるように任意
の重みを付けて各LDの注入電流を調整する電流調整手
段86cとを備えている。加算手段86aは既知の構成
の加算器であり、比較手段86bは従来のAPC回路4
0の第1比較器46及び光出力設定用VR48を含む回
路に相当し、電流調整手段86cは第2比較器50及び
ドライブトランジスタ54を含む回路に相当する。つま
り、制御装置86は、基本的には、従来のAPC回路と
同じ構成を備えている。また、加算手段を加えて、従来
のACC回路で制御装置86を構成することもできる。
The control device 86, as shown in FIG.
The addition means 86a for obtaining the output sum of the semiconductor laser array by adding the signals from the PD, which has detected the optical output of D, and the output sum obtained by the addition means are compared with the preset output sum. , Comparing means 86b for outputting a signal according to the comparison result, and a signal outputted from the comparing means,
Current adjusting means 86c is provided for adjusting the injection current of each LD by giving an arbitrary weight so that the output sum obtained by the adding means becomes the set output sum. The adding means 86a is an adder having a known structure, and the comparing means 86b is the conventional APC circuit 4.
0 corresponds to a circuit including the first comparator 46 and the optical output setting VR 48, and the current adjusting unit 86c corresponds to a circuit including the second comparator 50 and the drive transistor 54. That is, the control device 86 basically has the same configuration as the conventional APC circuit. Further, the control device 86 can be configured with a conventional ACC circuit by adding an adding means.

【0036】半導体レーザ素子アレイ82は、構造的に
は、例えば図3に示すように、各LDの発熱を迅速に逃
がすために、熱伝導性の良好なサブマウント91を介し
てヒートシンク92にマウントされている。半導体レー
ザアレイ82はサブマウント91に半田接合され、ま
た、サブマウント91はヒートシンク92に半田接合さ
れている。サブマウント91及びヒートシンク92は、
SiC、CuW、ダイヤモンド等の熱伝導率の大きい材
料で形成され、Cu等の熱伝導率の大きい金属材料に半
田接合によりマウントされる。
Structurally, for example, as shown in FIG. 3, the semiconductor laser device array 82 is mounted on a heat sink 92 via a submount 91 having good thermal conductivity in order to quickly release the heat generated by each LD. Has been done. The semiconductor laser array 82 is soldered to the submount 91, and the submount 91 is soldered to the heat sink 92. The submount 91 and the heat sink 92 are
It is formed of a material having a large thermal conductivity such as SiC, CuW, or diamond, and is mounted by soldering on a metal material having a large thermal conductivity such as Cu.

【0037】また、フォトダイオード・アレイ84が、
半導体レーザ素子アレイ82のリア側に熱伝導率の高い
有機接着剤、又は半田で固定、マウントされている。ま
た、ヒートシンク92には、マイクロコンピュータ93
を搭載した配線基板が配置される。更に、ヒートシンク
92上には絶縁板94を介して(−)側の銅製電極パッ
ド95が設けられ、Auワイヤー又はAuの箔からなる
接続配線96を介して半導体レーザアレイ82の各LD
に接続され、各LDに電流を供給する。(−)Cu電極
95は、ヒートシンク92側の(+)Cu電極と絶縁す
るためにヒートシンク92と電極パッド95との間にガ
ラス板、エポキシ樹脂板等の絶縁板94を挟んでヒート
シンク92上に固定されている。
Further, the photodiode array 84 is
The semiconductor laser element array 82 is fixed and mounted on the rear side with an organic adhesive having high thermal conductivity or solder. The heat sink 92 has a microcomputer 93.
A wiring board on which is mounted is arranged. Further, a copper electrode pad 95 on the (−) side is provided on the heat sink 92 via an insulating plate 94, and each LD of the semiconductor laser array 82 is connected via a connection wiring 96 made of Au wire or Au foil.
And supplies a current to each LD. The (−) Cu electrode 95 is placed on the heat sink 92 by sandwiching an insulating plate 94 such as a glass plate or an epoxy resin plate between the heat sink 92 and the electrode pad 95 in order to insulate the (+) Cu electrode on the heat sink 92 side. It is fixed.

【0038】予測部88は、制御回路88の電流調整手
段86cから出力される注入電流の経時変化に基づいて
各LDの動作可能期間を予測する演算回路を備えてい
る。予測部88は、予め、実験、シミュレーション等に
より図13に示すような関係、つまり欠陥数の増加、欠
陥の拡大、転移による光強度の変化率又は単位時間当た
りの変化の大きさ、及び以後の動作可能期間を算出し
て、LDの劣化による基準光強度変化率及び以後の基準
動作可能期間を設定する。そして、予測部88は、PD
によって検出された各LDの光出力の経時変化を演算回
路で定期的に又は指令に応じて都度算出し、算出した経
時変化率と基準光強度変化率とを比較し、以後の基準動
作可能期間に基づいて、各LDの以後の動作可能期間を
予測する。
The predicting section 88 includes an arithmetic circuit for predicting the operable period of each LD based on the change over time of the injection current output from the current adjusting means 86c of the control circuit 88. The predicting unit 88 preliminarily conducts a relationship as shown in FIG. 13 by experiments, simulations, etc., that is, an increase in the number of defects, an increase in defects, a change rate of light intensity due to transfer or a magnitude of change per unit time, and the following. The operable period is calculated, and the reference light intensity change rate due to the deterioration of the LD and the subsequent reference operable period are set. Then, the prediction unit 88 uses the PD
The change over time of the light output of each LD detected by the calculation circuit is calculated periodically or each time in response to a command, and the calculated change over time and the reference light intensity change rate are compared, and the subsequent reference operable period Based on, the operable period after each LD is predicted.

【0039】予測部88の演算によって算出された各L
Dの寿命は、表示部90に表示される。表示に当たっ
て、表示部90は、液晶表示パネルに以後の動作可能期
間を表示してもよいし、警報ランプとして赤色LEDを
設け、それを発光させて交換時期が近いことを知らせて
も良い。或いは、LDの推定寿命が、ユーザがユニット
を交換する作業によって都合の良い残り寿命時間、例え
ば残り寿命時間が24時間、或いは8時間になった時点
で赤色LEDが発光するようにしても良い。
Each L calculated by the calculation of the prediction unit 88
The life of D is displayed on the display unit 90. In the display, the display unit 90 may display the operable period thereafter on the liquid crystal display panel, or may provide a red LED as an alarm lamp and light it to inform that the replacement time is near. Alternatively, the red LED may emit light when the estimated life of the LD reaches a convenient remaining life time, for example, 24 hours or 8 hours when the user replaces the unit.

【0040】本実施形態例では、LDとしてAlGaA
s系半導体レーザ素子を使用しているが、これに限るこ
とはない。例えば、半導体レーザ素子としてAlGaI
nP系半導体レーザ素子、AlGaInN系半導体レー
ザ素子を用いても良い。
In this embodiment, the LD is AlGaA.
Although an s-based semiconductor laser device is used, the invention is not limited to this. For example, as a semiconductor laser device, AlGaI
You may use an nP type | system | group semiconductor laser element and an AlGaInN type | system | group semiconductor laser element.

【0041】実施形態例2 本実施形態例は、本発明に係る半導体レーザアレイ装置
の実施形態の別の例であって、図4は本実施形態例の半
導体レーザアレイ装置を構成する半導体レーザ素子の構
成を示す断面図である。本実施形態例の半導体レーザア
レイ装置は、埋め込みリッジ型のAlGaInP系半導
体レーザ素子(以下、単にAlGaInP系半導体レー
ザ素子と言う)を発光源としている。AlGaInP系
半導体レーザ素子100は、図4に示すように、n型G
aAsオフ基板102上に、順次、有機金属化学気相成
長(MOCVD)法によりエピタキシャル成長させてな
る、n型Al(Ga)InPクラッド層104、アンド
ープのAlGaInP光導波層106、MQW構造の活
性層108、アンドープのAlGaInP光導波層11
0、p型Al(Ga)InPクラッド層112、p型G
aInPエッチング停止層114、p型AlGaInP
クラッド層116、p型GaInP中間層118、及び
p型GaAsキャップ層120の積層構造を備えてい
る。
Embodiment 2 This embodiment is another example of the embodiment of the semiconductor laser array device according to the present invention, and FIG. 4 is a semiconductor laser device constituting the semiconductor laser array device of this embodiment. 3 is a cross-sectional view showing the configuration of FIG. The semiconductor laser array device of the present embodiment uses a buried ridge type AlGaInP-based semiconductor laser device (hereinafter, simply referred to as AlGaInP-based semiconductor laser device) as a light emitting source. As shown in FIG. 4, the AlGaInP based semiconductor laser device 100 has an n-type G
An n-type Al (Ga) InP cladding layer 104, an undoped AlGaInP optical waveguide layer 106, and an active layer 108 having an MQW structure, which are sequentially epitaxially grown on the aAs off substrate 102 by a metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) method. , Undoped AlGaInP optical waveguide layer 11
0, p-type Al (Ga) InP clad layer 112, p-type G
aInP etching stop layer 114, p-type AlGaInP
The clad layer 116, the p-type GaInP intermediate layer 118, and the p-type GaAs cap layer 120 have a laminated structure.

【0042】n型GaAsオフ基板102は、例えば
{100}面から〈110〉方向に所定の角度、例えば
8°〜16°程度オフした主面を有するn型GaAs基
板である。また、活性層106は、アンドープのGaI
nP層を量子井戸層(GaInP量子井戸層)とし、ア
ンドープのAlGaInP層を障壁層(AlGaInP
障壁層)としている。
The n-type GaAs off-substrate 102 is, for example, an n-type GaAs substrate having a main surface off from the {100} plane in the <110> direction by a predetermined angle, for example, about 8 ° to 16 °. The active layer 106 is made of undoped GaI.
The nP layer is used as a quantum well layer (GaInP quantum well layer), and the undoped AlGaInP layer is used as a barrier layer (AlGaInP).
Barrier layer).

【0043】積層構造のうち、p型GaInPエッチン
グ停止層114上のp型AlGaInPクラッド層11
6、p型GaInP中間層118、及びp型GaAsキ
ャップ層120は、ストライプ形状のリッジとして形成
されている。p型GaInPエッチング停止層114
は、p型AlGaInPクラッド層116、p型GaI
nP中間層118、及びp型GaAsキャップ層120
をエッチングしてリッジを形成する際にエッチング停止
層として機能する。リッジの両側は、n型AlGaAs
埋め込み層122で埋め込まれ、電流狭窄構造が形成さ
れている。
In the laminated structure, the p-type AlGaInP clad layer 11 on the p-type GaInP etching stop layer 114 is formed.
6, the p-type GaInP intermediate layer 118, and the p-type GaAs cap layer 120 are formed as stripe-shaped ridges. p-type GaInP etching stop layer 114
Is a p-type AlGaInP clad layer 116, a p-type GaI
nP intermediate layer 118 and p-type GaAs cap layer 120
To function as an etching stop layer when the ridge is formed by etching. Both sides of the ridge are n-type AlGaAs
The current confinement structure is formed by embedding the buried layer 122.

【0044】上述のレーザ構造を構成する各半導体層の
厚さの一例を挙げると、n型Al(Ga)InPクラッ
ド層104の厚さは1μm、AlGaInP光導波層1
06、110の厚さはそれぞれ50nm、活性層108
を構成するGaInP量子井戸層の厚さは5nm、Al
GaInP障壁層の厚さは5nm、p型Al(Ga)I
nPクラッド層112の厚さは0.15〜0.5μm、
p型GaInPエッチング停止層114の厚さは10〜
500nm、p型AlGaInPクラッド層116の厚
さは0.8μm、及びp型GaAsキャップ層120の
厚さは0.3μmである。
As an example of the thickness of each semiconductor layer constituting the above laser structure, the thickness of the n-type Al (Ga) InP cladding layer 104 is 1 μm, and the AlGaInP optical waveguide layer 1 is
The thicknesses of 06 and 110 are 50 nm, respectively, and the active layer 108 is
Of the GaInP quantum well layer forming the
The GaInP barrier layer has a thickness of 5 nm and p-type Al (Ga) I
The thickness of the nP clad layer 112 is 0.15 to 0.5 μm,
The thickness of the p-type GaInP etching stop layer 114 is 10 to 10.
The thickness of the p-type AlGaInP cladding layer 116 is 500 μm, and the thickness of the p-type GaAs cap layer 120 is 0.3 μm.

【0045】p型GaAsキャップ層120およびn型
AlGaAs電流狭窄層122上には、例えばTi/P
t/Au電極のようなp側電極124が設けられ、一
方、n型GaAs基板102の裏面には、例えばAuG
e/Ni電極のようなn側電極126が設けられてい
る。本実施形態例の半導体レーザアレイ装置は、半導体
レーザ素子の構成が異なることを除いて、実施形態例1
の半導体レーザアレイ装置80と同じ構成を備えてい
る。
For example, Ti / P is formed on the p-type GaAs cap layer 120 and the n-type AlGaAs current confinement layer 122.
A p-side electrode 124 such as a t / Au electrode is provided, while, for example, AuG is provided on the back surface of the n-type GaAs substrate 102.
An n-side electrode 126 such as an e / Ni electrode is provided. The semiconductor laser array device of the present embodiment is different from the first embodiment except that the configuration of the semiconductor laser element is different.
The semiconductor laser array device 80 has the same configuration.

【0046】言うまでもないが、本発明に係る半導体レ
ーザアレイ装置は、光増幅器の光源、或いはレーザ加工
装置の光源に限定されるものではない。以上、本発明を
実施形態例により説明したが、本発明は本発明の主旨に
従い種々の変形が可能であり、本発明からこれらを排除
するものではない。例えば、半導体レーザアレイ装置の
製造工程、検査工程に本発明の技術的思想を適用し、製
造中或いは検査中の半導体レーザアレイ装置に通電して
欠陥を有する半導体レーザ素子を取り除く、いわゆるス
クリーニング手法として用いると、精度良く半導体レー
ザ素子の寿命を推定し、スクリーニングの精度の向上と
製品の品質向上を図る上で有用である。
Needless to say, the semiconductor laser array device according to the present invention is not limited to the light source of the optical amplifier or the light source of the laser processing device. Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention can be modified in various ways according to the gist of the present invention, and these modifications are not excluded from the present invention. For example, as a so-called screening method, by applying the technical idea of the present invention to the manufacturing process and the inspection process of the semiconductor laser array device, the semiconductor laser array device being manufactured or inspected is energized to remove the defective semiconductor laser element. When used, it is useful for accurately estimating the life of the semiconductor laser device, improving the accuracy of screening, and improving the quality of products.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明によれば、光検出器によって検出
された各半導体レーザ素子の光出力の経時変化を定期的
に又は指令に応じて都度算出し、経時変化に基づいて各
半導体レーザ素子の以後の動作可能期間を予測する予測
部を半導体レーザアレイ装置に備えることにより、半導
体レーザアレイ装置を構成する各半導体レーザ素子の以
後の動作可能期間、或いは交換時期を予測することがで
きる。これにより、従来のようにオペレータの経験や勘
に頼ることなく、客観的に半導体レーザアレイ装置の保
守、点検を行い、半導体レーザ素子の交換時期を容易に
予測することができる。
According to the present invention, the change over time in the optical output of each semiconductor laser element detected by the photodetector is calculated periodically or each time in response to a command, and each semiconductor laser element is calculated based on the change over time. By providing the semiconductor laser array device with a predicting unit for predicting the subsequent operable period, it is possible to predict the subsequent operable period or replacement time of each semiconductor laser element constituting the semiconductor laser array device. As a result, it is possible to objectively perform maintenance and inspection of the semiconductor laser array device and easily predict the replacement time of the semiconductor laser element without relying on the experience and intuition of the operator as in the conventional case.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施形態例1の半導体レーザアレイ装置の構成
を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor laser array device according to a first embodiment.

【図2】制御回路の構成を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a control circuit.

【図3】実施形態例1の半導体レーザアレイ装置の構成
を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a semiconductor laser array device according to a first embodiment.

【図4】実施形態例2の半導体レーザアレイ装置を構成
する半導体レーザ素子の構成を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the configuration of a semiconductor laser element that constitutes the semiconductor laser array device of the second embodiment.

【図5】端面出射型の半導体レーザ素子の構成を示す断
面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration of an edge emitting semiconductor laser device.

【図6】APC回路の一例を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of an APC circuit.

【図7】ACC回路の一例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of an ACC circuit.

【図8】半導体レーザアレイ装置の構成を示す模式図で
ある。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a configuration of a semiconductor laser array device.

【図9】図9(a)は欠陥の所在を示す平面図、図9
(b)は欠陥の所在を示す断面図、及び図9(c)は各
半導体レーザ素子のレーザ光の光強度を示すグラフであ
る。
9 (a) is a plan view showing the location of a defect, FIG.
9B is a cross-sectional view showing the location of a defect, and FIG. 9C is a graph showing the light intensity of the laser light of each semiconductor laser device.

【図10】図10(a)は動作開始後1時間経過した時
点での欠陥の所在を示す平面図、図10(b)は欠陥の
所在を示す断面図、及び図10(c)は各半導体レーザ
素子のレーザ光の光強度を示すグラフである。
10A is a plan view showing the location of a defect at the time when one hour has elapsed after the start of operation, FIG. 10B is a sectional view showing the location of the defect, and FIG. It is a graph which shows the light intensity of the laser beam of a semiconductor laser element.

【図11】図11(a)は動作開始後1時間経過した時
点での欠陥の所在を示す平面図、図11(b)は欠陥の
所在を示す断面図、及び図10(c)は各半導体レーザ
素子のレーザ光の光強度を示すグラフである。
FIG. 11 (a) is a plan view showing the location of a defect at a time point 1 hour after the start of operation, FIG. 11 (b) is a cross-sectional view showing the location of the defect, and FIG. It is a graph which shows the light intensity of the laser beam of a semiconductor laser element.

【図12】半導体レーザ素子Im 及びIm+1 の光強度と
動作開始後の経過時間との関係を示すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing the relationship between the light intensities of the semiconductor laser devices I m and I m + 1 and the elapsed time after the start of operation.

【図13】半導体レーザ素子Im 、Im+1 、Im+2 の光
強度と動作開始後の経過時間との関係を示すグラフであ
る。
FIG. 13 is a graph showing the relationship between the light intensity of the semiconductor laser devices I m , I m + 1 , and I m + 2 and the elapsed time after the start of operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10……AlGaAs系半導体レーザ素子、12……n
型GaAs基板、14……n型GaAs第1バッファ
層、16……n型Al0.3Ga0.7As第2バッファ層、
18……n型Al0.47Ga0.53Asクラッド層、20…
…活性層/ガイド層、22……p型Al0.47Ga0.53
sクラッド層、24……p型GaAsキャップ層、25
……中央部、26……電流非注入領域、28……p側電
極、30……n側電極、40……APC回路、42……
LD、44……PD、46……第1比較器、48……光
出力設定用VR、50……第2比較器、52……ドライ
ブトランジスタ、60……ACC回路、62……LD、
63……ドライブトランジスタ、64……比較器、66
……可変抵抗器、68……抵抗器、70……半導体レー
ザアレイ装置、72……LDアレイ、74……PDアレ
イ、80……実施形態例1の半導体レーザアレイ装置、
82……半導体レーザ素子アレイ、84……フォトダイ
オード・アレイ、86……制御回路、86a……加算手
段、86b……比較手段、86c……電流調整手段、8
8……予測部、90……表示部、91……サブマウン
ト、92……ヒートシンク、93……マイクロコンピュ
ータを搭載した基板、94……絶縁板、95……銅製電
極パッド、96……接続配線、100……実施形態例2
の半導体レーザアレイ装置のAlGaInP系半導体レ
ーザ素子、102……n型GaAsオフ基板、104…
…n型Al(Ga)InPクラッド層、106……アン
ドープのAlGaInP光導波層、108……MQW構
造の活性層、110……アンドープのAlGaInP光
導波層、112……p型Al(Ga)InPクラッド
層、114……p型GaInPエッチング停止層、11
6……p型AlGaInPクラッド層、118……p型
GaInP中間層、120……p型GaAsキャップ
層、122……n型AlGaAs埋め込み層、124…
…p側電極、126……n側電極。
10 ... AlGaAs semiconductor laser device, 12 ... n
-Type GaAs substrate, 14 ... N-type GaAs first buffer layer, 16 ... N-type Al 0.3 Ga 0.7 As second buffer layer,
18 ... n-type Al 0.47 Ga 0.53 As clad layer, 20 ...
... Active layer / guide layer, 22 ... P-type Al 0.47 Ga 0.53 A
s clad layer, 24 ... p-type GaAs cap layer, 25
... central part, 26 ... current non-injection region, 28 ... p-side electrode, 30 ... n-side electrode, 40 ... APC circuit, 42 ...
LD, 44 ... PD, 46 ... First comparator, 48 ... Optical output setting VR, 50 ... Second comparator, 52 ... Drive transistor, 60 ... ACC circuit, 62 ... LD,
63 ... Drive transistor, 64 ... Comparator, 66
... variable resistor, 68 ... resistor, 70 ... semiconductor laser array device, 72 ... LD array, 74 ... PD array, 80 ... semiconductor laser array device of the first embodiment,
82 ... Semiconductor laser element array, 84 ... Photodiode array, 86 ... Control circuit, 86a ... Addition means, 86b ... Comparison means, 86c ... Current adjustment means, 8
8 ... Prediction part, 90 ... Display part, 91 ... Submount, 92 ... Heat sink, 93 ... Microcomputer mounted substrate, 94 ... Insulation plate, 95 ... Copper electrode pad, 96 ... Connection Wiring, 100 ... Embodiment 2
AlGaInP-based semiconductor laser device of the semiconductor laser array device, 102 ... N-type GaAs off-substrate, 104 ...
... n-type Al (Ga) InP clad layer, 106 ... undoped AlGaInP optical waveguide layer, 108 ... active layer of MQW structure, 110 ... undoped AlGaInP optical waveguide layer, 112 ... p-type Al (Ga) InP Cladding layer, 114 ... p-type GaInP etching stop layer, 11
6 ... p-type AlGaInP clad layer, 118 ... p-type GaInP intermediate layer, 120 ... p-type GaAs cap layer, 122 ... n-type AlGaAs buried layer, 124 ...
... p-side electrode, 126 ... n-side electrode.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数個の半導体レーザ素子をアレイ状に
配置してなる半導体レーザ素子アレイと、半導体レーザ
素子のそれぞれに対応して設けられ、各半導体レーザ素
子から出射されるレーザ光の光出力を検出する光検出器
とを備えた半導体レーザアレイ装置において、 光検出器によって検出された各半導体レーザ素子の光出
力に基づいて各半導体レーザ素子の光出力を制御する制
御回路と、 光検出器によって検出された各半導体レーザ素子の光出
力の経時変化を定期的に又は指令に応じて都度算出し、
経時変化に基づいて各半導体レーザ素子の以後の動作可
能期間を予測する予測部と、 予測部によって予測された各半導体レーザ素子の以後の
動作可能期間を表示する表示部とを備えることを特徴と
する半導体レーザアレイ装置。
1. A semiconductor laser device array in which a plurality of semiconductor laser devices are arranged in an array, and an optical output of laser light emitted from each semiconductor laser device provided corresponding to each semiconductor laser device. In a semiconductor laser array device including a photodetector for detecting the light, a control circuit for controlling the light output of each semiconductor laser element based on the light output of each semiconductor laser element detected by the photodetector, and the photodetector Calculate the change over time of the optical output of each semiconductor laser element detected by the periodical or each time according to the command,
It is characterized by further comprising: a prediction unit that predicts a subsequent operable period of each semiconductor laser device based on a change over time, and a display unit that displays a subsequent operable period of each semiconductor laser device predicted by the prediction unit. Semiconductor laser array device.
【請求項2】 制御回路は、 各半導体レーザ素子の光出力を検出した光検出器からの
信号を加算して半導体レーザ素子アレイの出力和を求め
る加算手段と、 加算手段で求めた出力和と、予め設定されている設定出
力和とを比較し、比較結果に対応する信号を出力する比
較手段と、 比較手段から出力された信号に基づいて、加算手段で求
めた出力和が設定出力和になるように任意の重みを付け
て各半導体レーザ素子の注入電流を調整する電流調整手
段とを有し、 予測部は、光検出器が検出した各半導体レーザ素子の光
出力の経時変化、又は電流調整手段から各半導体レーザ
素子に対して出力される注入電流の経時変化に基づいて
各半導体レーザ素子の以後の動作可能期間を予測するこ
とを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザアレイ装
置。
2. The control circuit adds the signals from the photodetectors that have detected the optical output of each semiconductor laser element to obtain the output sum of the semiconductor laser element array, and the output sum obtained by the addition means. , Comparing the preset output sum with the comparing means for outputting a signal corresponding to the comparison result, and the output sum obtained by the adding means based on the signal output from the comparing means becomes the set output sum. And a current adjusting unit that adjusts the injection current of each semiconductor laser element by giving an arbitrary weight so that the predicting unit changes the optical output of each semiconductor laser element detected by the photodetector with time, or the current. 2. The semiconductor laser array device according to claim 1, wherein a subsequent operable period of each semiconductor laser element is predicted based on a change with time of an injection current output from the adjusting means to each semiconductor laser element.
【請求項3】 光検出器が、半導体レーザ素子アレイを
構成する各半導体レーザ素子に対応して各半導体レーザ
素子の背後にそれぞれアレイ状に配置されていることを
特徴とする請求項1又は2に記載の半導体レーザアレイ
装置。
3. The photodetector is arranged in an array behind each semiconductor laser element corresponding to each semiconductor laser element that constitutes the semiconductor laser element array. The semiconductor laser array device described in 1.
【請求項4】 光検出器が、フォトダイオード、リニア
センサ、及び電荷結合素子(Charge Coupled Device 、
CCD)の少なくともいずれかであることを特徴とする
請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体レーザア
レイ装置。
4. The photodetector includes a photodiode, a linear sensor, and a charge coupled device (Charge Coupled Device).
4. The semiconductor laser array device according to claim 1, wherein the semiconductor laser array device is at least one of a CCD).
【請求項5】 結晶励起用のポンプ光源として使用され
ることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記
載の半導体レーザアレイ装置。
5. The semiconductor laser array device according to claim 1, which is used as a pump light source for crystal excitation.
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