JP2003286245A - Method for producing ortho-aminobenzenesulfonamide compound - Google Patents

Method for producing ortho-aminobenzenesulfonamide compound

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JP2003286245A
JP2003286245A JP2002095678A JP2002095678A JP2003286245A JP 2003286245 A JP2003286245 A JP 2003286245A JP 2002095678 A JP2002095678 A JP 2002095678A JP 2002095678 A JP2002095678 A JP 2002095678A JP 2003286245 A JP2003286245 A JP 2003286245A
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unsubstituted
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JP2002095678A
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Japanese (ja)
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Hideki Maeda
英樹 前田
Kazuyoshi Yamakawa
一義 山川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing various kinds of o- aminobenzenesulfonamide compounds in good yield from an easily available raw material. <P>SOLUTION: The method for producing the o-aminobenzenesulfonamide compound represented by general formula (I) comprises the following steps (1) to (4): (1) a step for introducing a protective group to the amino group of a compound represented by general formula (II); (2) a step for halogenating the sulfo group of the compound obtained in the step (1); (3) a step for forming a sulfonamide by using the sulfonyl chloride obtained at the step (2) and a primary amine; and (4) a step for deprotecting the compound obtained at the step (3) to synthesize the compound represented by general formula (I). (In the formulas, R<SB>1</SB>is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group; R<SB>2</SB>is a substituent; n is an integer of 0-4; when n is ≥2, two or more R<SB>2</SB>s are the same or different, and may form a ring by bonding to each other). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料に用いるイエローカプラ−中間体、色素、医
薬、農薬、電子材料等の合成中間体として有用な種々の
スルホンアミド化合物の製造方法に関するものである。 【0002】 【従来の技術】オルトアミノベンゼンスルホンアミド化
合物の合成法としては、オルタニル酸をクロロスルホン
酸溶媒により酸クロリド化し、取り出した後にアミン化
合物と反応させて合成する方法が米国特許第1,91
1,719号(1930年)に開示されている。しかし
ながら、この方法ではクロロスルホン酸を溶媒として用
いるものであり、大量に副生する硫酸の処理に多大なア
ルカリを必要とし、大量製造する方法としては非現実的
である。一方、入手容易なオルトニトロベンゼンスルホ
ニルクロリドを出発原料とし、アミド化と続くニトロ基
の還元によりオルトアミノベンゼンスルホンアミド化合
物を合成する方法は一般的であり、例えば特開平6−1
92272号にその例をみることができる。しかしなが
ら、ニトロ基の還元には金属鉄を用いており、その処理
の問題もあり大量製造には制約が多い。以上のように合
成方法は限られており、製造適性のあるオルトアミノベ
ンゼンスルホンアミド化合物の簡便な合成法の開発が強
く望まれている。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、前述のような問題点がなく、しかも入手の容易な原
料から、収率良く、種々のオルトアミノベンゼンスルホ
ンアミド化合物を大量に製造する方法を提供することに
ある。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記の方
法によって達成された。すなわち本発明は、 (1)下記1)〜4)の工程を有することを特徴とする
下記一般式(I)で表されるスルホンアミド化合物の製
造方法。 1)下記一般式(II)で表される化合物のアミノ基を保
護基で保護する反応により下記一般式(III)で表され
る化合物を合成する工程 2)該一般式(III)で表される化合物のスルホ基をハ
ロゲン化して下記一般式(IV)で表される化合物を合成
する工程 3)該一般式(IV)で表される化合物と下記一般式
(V)で表される化合物により下記一般式(VI)で表さ
れる化合物を合成する工程 4)該一般式(VI)で表される化合物を脱保護して下記
一般式(I)で表される化合物を合成する工程 【0005】 【化2】 【0006】一般式(I)、(V)および(VI)におい
て、Rは置換もしくは無置換のアルキル基またはアリ
ール基を表す。一般式(I)〜(IV)および(VI)にお
いて、Rは置換基を表す。nは0以上4以下の整数を
表す。nが2以上のとき複数のRはそれぞれ同じでも
異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよ
い。一般式(III)、(IV)および(VI)において、A
は保護されたアミノ基を表す。一般式(IV)において、
Xはハロゲン原子を表す。 (2)前記工程1)において、塩基存在下で反応を行う
ことを特徴とする(1)に記載の一般式(I)で表され
るスルホンアミド化合物の製造方法。 (3)前記一般式(III)、(IV)および(VI)におい
て、Aが下記一般式(VII)、(VIII)または(IX)で
表される基であることを特徴とする(1)または(2)
に記載の一般式(I)で表されるスルホンアミド化合物
の製造方法。 【0007】 【化3】 【0008】式中、ZおよびZは各々独立に酸素原
子、−N(R11)−で表わされる基、または−C(R
13)(R12)−で表わされる基を表わす。ここで、
、R12およびR13は、各々独立に水素原子、
または置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基を
表わす。Zは、5〜7員環を形成するのに必要な非金
属原子群を表わす。R14およびR15は各々独立に水
素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、アリ
ール基を表わす。 【0009】 【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
まず最初に、本発明の化合物について説明する。本発明
の一般式(I)で表される化合物を詳細に説明する。 【0010】 【化4】 【0011】式中、Rは置換基を表す。nは0以上4
以下の整数を表す。nが2以上のとき複数のRはそれ
ぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を
形成してもよい。Rの基の例としては、例えば、水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、
ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロア
ルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニ
ル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
シルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカル
ボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、ア
ミノ基(アルキルアミノ基、アニリノ基を含む)、アシ
ルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカ
ルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリール
スルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、
スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、ア
ルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド
基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキ
シ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。 【0012】なお、上述の基はさらに置換基で置換され
ていてもよく、該置換基としては上述の基が挙げられ
る。 【0013】以下にRの基の例を更に説明する。これ
らの基としては、水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル基(直鎖ま
たは分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好まし
くは炭素数1〜30のアルキル基であり、例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチ
ル、n−オクチル、エイコシル、2−クロロエチル、2
−シアノエチル、2−エチルヘキシル、3−(2,4−
ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル)、シクロアルキ
ル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換または無置換
のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロ
ペンチル、4−n−ドデシルシクロヘキシルが挙げら
れ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基
(好ましくは、炭素数5〜30の置換もしくは無置換の
ビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ[1,2,
2]ヘプタン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オク
タン−3−イル)やトリシクロアルキル基等の多環構造
の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル
基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル
基が得に好ましい。)、 【0014】アルケニル基[直鎖または分岐の置換もし
くは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数2〜3
0のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プ
レニル、ゲラニル、オレイル)、シクロアルケニル基
(好ましくは、炭素数3〜30の置換もしくは無置換の
シクロアルケニル基で、例えば、2−シクロペンテン−
1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル)が挙げら
れ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニ
ル基(好ましくは、炭素数5〜30の置換もしくは無置
換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ[2,
2,1]ヘプト−2−エン−1−イル、ビシクロ[2,
2,2]オクト−2−エン−4−イル)]、やトリシク
ロアルケニル基、ビシクロアルケニル基であり、単環の
シクロアルケニル基が得に好ましい。)アルキニル基
(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のア
ルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメ
チルシリルエチニル基)、 【0015】アリール基(好ましくは炭素数6〜30の
置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、
p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニル、o−ヘキ
サデカノイルアミノフェニル)、ヘテロ環基(好ましく
は5〜7員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽
和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテ
ロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原
子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原
子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を
少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましく
は、炭素数3〜30の5もしくは6員の芳香族のヘテロ
環基である。例えば、2−フリル、2−チエニル、2−
ピリジル、4−ピリジル、2−ピリミジニル、2−ベン
ゾチアゾリル)、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ
基、カルボキシル基、 【0016】アルコキシ基(好ましくは、炭素数1〜3
0の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メ
トキシ、エトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、n
−オクチルオキシ、2−メトキシエトキシ)、アリール
オキシ基(好ましくは、炭素数6〜30の置換もしくは
無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、2
−メチルフェノキシ、2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ、4−t−ブチルフェノキシ、3−ニトロフェノキ
シ、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ)、シリル
オキシ基(好ましくは、炭素数3〜20のシリルオキシ
基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)、ヘテロ環オキシ基(好ましく
は、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のヘテロ環オ
キシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明された
ヘテロ環部が好ましく、例えば、1−フェニルテトラゾ
ール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキ
シ)、 【0017】アシルオキシ基(好ましくはホルミルオキ
シ基、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のアルキル
カルボニルオキシ基、炭素数6〜30の置換もしくは無
置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホ
ルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ス
テアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、p−メトキシフ
ェニルカルボニルオキシ)、カルバモイルオキシ基(好
ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のカル
バモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジメチルカルバ
モイルオキシ、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ、
モルホリノカルボニルオキシ、N,N−ジ−n−オクチ
ルアミノカルボニルオキシ、N−n−オクチルカルバモ
イルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好まし
くは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシ
カルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキ
シ、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニ
ルオキシ、n−オクチルカルボニルオキシ)、アリール
オキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数7〜3
0の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオ
キシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、p−
メトキシフェノキシカルボニルオキシ、p−n−ヘキサ
デシルオキシフェノキシカルボニルオキシ)、 【0018】アミノ基(好ましくは、アミノ基、炭素数
1〜30の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭
素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールアミノ
基、炭素数0〜30のヘテロ環アミノ基であり、例え
ば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリ
ノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、N−
1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)、アシルア
ミノ基(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1〜3
0の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ
基、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールカ
ルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、ア
セチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、
ベンゾイルアミノ、3,4,5−トリ−n−オクチルオ
キシフェニルカルボニルアミノ)、アミノカルボニルア
ミノ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無
置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイ
ルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、
N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノ
カルボニルアミノ)、アルコキシカルボニルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜30の置換もしくは無置換アル
コキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボ
ニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシ
カルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニル
アミノ、N−メチルーメトキシカルボニルアミノ)、 【0019】アリールオキシカルボニルアミノ基(好ま
しくは、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリー
ルオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカ
ルボニルアミノ、p−クロロフェノキシカルボニルアミ
ノ、m−n−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミ
ノ)、スルファモイルアミノ基(好ましくは、炭素数0
〜30の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基
で、例えば、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチル
アミノスルホニルアミノ、N−n−オクチルアミノスル
ホニルアミノ)、アルキル及びアリールスルホニルアミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜30の置換もしくは無置換
のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数6〜30の置換
もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、
例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルア
ミノ、フェニルスルホニルアミノ、2,3,5−トリク
ロロフェニルスルホニルアミノ、p−メチルフェニルス
ルホニルアミノ)、メルカプト基、 【0020】アルキルチオ基(好ましくは、炭素数1〜
30の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えば
メチルチオ、エチルチオ、n−ヘキサデシルチオ)、ア
リールチオ基(好ましくは炭素数6〜30の置換もしく
は無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、
p−クロロフェニルチオ、m−メトキシフェニルチ
オ)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数2〜30の置
換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述
のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例え
ば、2−ベンゾチアゾリルチオ、1−フェニルテトラゾ
ール−5−イルチオ)、スルファモイル基(好ましくは
炭素数0〜30の置換もしくは無置換のスルファモイル
基で、例えば、N−エチルスルファモイル、N−(3−
ドデシルオキシプロピル)スルファモイル、N,N−ジ
メチルスルファモイル、N−アセチルスルファモイル、
N−ベンゾイルスルファモイル、N−(N’−フェニル
カルバモイル)スルファモイル)、スルホ基、 【0021】アルキルまたはアリールスルフィニル基
(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のア
ルキルスルフィニル基、6〜30の置換または無置換の
アリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフ
ィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、
p−メチルフェニルスルフィニル)、アルキルまたはア
リールスルホニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置
換または無置換のアルキルスルホニル基、6〜30の置
換または無置換のアリールスルホニル基であり、例え
ば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルス
ルホニル、p−メチルフェニルスルホニル)、アシル基
(好ましくはホルミル基、炭素数2〜30の置換または
無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換
もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例え
ば、アセチル、ピバロイル、2−クロロアセチル、ステ
アロイル、ベンゾイル、p−n−オクチルオキシフェニ
ルカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(好まし
くは、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリール
オキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニ
ル、o−クロロフェノキシカルボニル、m−ニトロフェ
ノキシカルボニル、p−t−ブチルフェノキシカルボニ
ル)、 【0022】アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭
素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニ
ル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキ
シカルボニル)、カルバモイル基(好ましくは、炭素数
1〜30の置換もしくは無置換のカルバモイル、例え
ば、カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−
ジメチルカルバモイル、N,N−ジ−n−オクチルカル
バモイル、N−(メチルスルホニル)カルバモイル)、
アリールまたはヘテロ環アゾ基(好ましくは炭素数6〜
30の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数3
〜30の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基(ヘテロ
環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ま
しい)、例えば、フェニルアゾ、p−クロロフェニルア
ゾ、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2
−イルアゾ)、イミド基(好ましくは、炭素数2〜30
の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばN−スクシ
ンイミド、N−フタルイミド)、ホスフィノ基(好まし
くは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィ
ノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフ
ィノ、メチルフェノキシホスフィノ)、ホスフィニル基
(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換の
ホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチル
オキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル)、 【0023】ホスフィニルオキシ基(好ましくは、炭素
数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ
基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオ
クチルオキシホスフィニルオキシ)、ホスフィニルアミ
ノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置
換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホス
フィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミ
ノ)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換も
しくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリ
ル、t−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリ
ル)が挙げられる。 【0024】上記の基の中で、水素原子を有するもの
は、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよ
い。そのような基の例としては、アルキルカルボニルア
ミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニ
ル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリー
ルスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的に
は、メチルスルホニルアミノカルボニル、p−メチルフ
ェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノス
ルホニル、ベンゾイルアミノスルホニルが挙げられる。 【0025】一般式(I)においてRは、置換もしく
は無置換のアルキル基またはアリール基を表す。R
有しても良い置換基の例としては前記Rの置換基の例
として挙げたものが挙げられる。 【0026】好ましくはRは、置換もしくは無置換の
アルキル基である。Rの総炭素数はアルキル基の場合
12以上60以下が好ましく、16以上50以下がより
好ましく、18以上40以下がさらに好ましい。またア
リール基の場合6以上60以下が好ましく、16以上5
0以下がより好ましく、18以上40以下がさらに好ま
しい。一般式(I)において、nは0以上4以下の整数
を表す。nは好ましくは0〜2、さらに好ましくは0ま
たは1、特に好ましくは0である。次に本発明の一般式
(II)で表される化合物を詳細に説明する。 【0027】 【化5】 【0028】一般式(II)において、Rおよびnは一
般式(I)において述べたものと同じものを表し、好ま
しい範囲も同様である。次に本発明の一般式(III)で
表される化合物を詳細に説明する。 【0029】 【化6】 【0030】一般式(III)において、Rおよびnは
一般式(I)において述べたものと同じものを表し、好
ましい範囲も同様である。Aは保護基により保護された
アミノ基を表す。一般的な保護基としては、例えば、ア
ルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカル
ボニル、ホルミル基、アシル基(例えばアセチル、クロ
ロアセチル、ベンゼン−1,2−ジカルボニル)、ベン
ジル基、アルキリデン基(例えばベンジリデン)、スル
ホニル基(例えばメタンスルホニル、p−トルエンスル
ホニル)などが挙げられる。従って、Aとしては、アル
キルオキシカルボニルアミノ基、アルケニルオキシカル
ボニルアミノ基、シクロアルキルオキシカルボニルアミ
ノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オ
キシカルボニルアミノ基、ホルミルアミノ基、アシルア
ミド基、イミド基、ベンジルアミノ基、スルホンアミド
基等が挙げられる。更に、 T. W. Greene
and P. G. M. Wuts共著 “Pro
tective Groups in Organic
Synthesis Third Editio
n”, John Wiley & Sons(199
9)の第7章(494〜653頁)に記載の保護基が好
ましく、該保護基で保護されたアミノ基も、本発明の好
ましいAとして挙げることができる。本発明においては
Aは好ましくは、環状イミド基であり、さらに好ましく
は、下記一般式(VII)または一般式(VIII)、一般式
(IX)で表わされる環状イミド基である。 【0031】 【化7】 【0032】式中、Z、Zは各々独立に酸素原子、
−N(R11)−で表わされる基、または−C
(R12)(R13)−で表わされる基を表わす。ここ
で、R11、R12およびR13は各々独立に水素原
子、または置換もしくは無置換のアルキル基、アリール
基を表わす。Zは、5〜7員環を形成するのに必要な
非金属原子群を表わす。R14、R15は各々独立に水
素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、アリ
ール基を表わす。一般式(VII)において、Zが酸素
原子の場合、Zは−C(R12)(R 13)−で表わ
される基であることが好ましい。一般式(VIII)におい
て、Zによって形成される5〜7員環としては、ベン
ゼン、あるいは5〜7員環の窒素、酸素、イオウ原子を
少なくとも1つ含有する不飽和の複素環(例えばピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、1,2,3−トリアゾ
ール、オキサゾール、チアゾール、イソオキサゾール、
イソチアゾール、フラン、チオフェン、ピリジン、ピラ
ジン、ピリミジン、ピリダジン、アゼピン、オキセピ
ン)などを挙げることができる。好ましくはベンゼン環
である。これらの環はさらに置換基を有してもよく、該
置換基としてはRで挙げた置換基が挙げられる。次に
本発明の一般式(IV)で表される化合物を詳細に説明す
る。 【0033】 【化8】 【0034】一般式(IV)において、Rおよびnは一
般式(I)において述べたものと同じものを表し、好ま
しい範囲も同様である。Aは一般式(III)において述
べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様であ
る。Xはハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)
を表す。次に本発明の一般式(V)で表される化合物を
詳細に説明する。 【0035】 【化9】 【0036】一般式(V)において、Rは一般式
(I)において述べたものと同じものを表し、好ましい
範囲も同様である。次に本発明の一般式(VI)で表され
る化合物を詳細に説明する。 【0037】 【化10】【0038】一般式(VI)において、R、Rおよび
nは一般式(I)において述べたものと同じものを表
し、好ましい範囲も同様である。Aは一般式(III)に
おいて述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同
様である。 【0039】次に本発明の製造方法について詳しく説明
する。本発明の前記一般式(I)で表される化合物の製
造方法は下記1)〜4)の工程からなる。 1)下記一般式(II)で表される化合物のアミノ基を保
護基で保護する反応により下記一般式(III)で表され
る化合物を合成する工程 2)該一般式(III)で表される化合物のスルホ基をハ
ロゲン化して下記一般式(IV)で表される化合物を合成
する工程 3)該一般式(IV)で表される化合物と下記一般式
(V)で表される化合物により下記一般式(VI)で表さ
れる化合物を合成する工程 4)該一般式(VI)で表される化合物を脱保護して下記
一般式(I)で表される化合物を合成する工程 上記の製造方法は、以下の反応スキームによって表わさ
れる。各工程において、生成物を一度取り出して精製操
作をいれてもよいし、取り出さないで次工程へ繋げても
良い。 【0040】 【化11】 【0041】次に各工程における製造方法について詳し
く説明する。本発明の製造方法は、特に製造ルートに特
徴を有すものである。 【0042】1)の工程 一般式(II)で表される化合物のアミノ基を、一般式
(III)における保護されたアミノ基に変換する、すな
わち、一般式(III)で表される化合物を合成するに
は、各種のアシル化剤(アシルハライド類、酸無水物、
エステル類など)、スルホン化剤(アルキルもしくはア
リールスルホン酸ハライド類など)、ベンジルハライド
(ベンジルクロライド、ベンジルクロライドなど)など
の各種の保護基導入試薬を用いる。一般式(III)で表
される化合物において、Aとして好ましい基である環状
イミド基、なかでも前記(VII)〜(IX)で表される基
である場合は、この基に対応するHOOC−Z−Z
−COOH、2位と3位(カルボキシル基が結合したそ
れぞれの炭素原子)がZで結合したHOOC−C=C
−COOH、HOOC−C(R14)=C(R15)−
COOHの酸無水物、ジハライドもしくはジエステルが
好ましく使用される。 【0043】これらのアミノ基のための保護基導入試薬
は、一般式(II)で表される化合物に対し、一般的に1
00:1〜1:100のモル比で使用され、好ましくは
10:1〜1:10のモル比、より好ましくは5:1〜
1:5のモル比、さらに好ましくは1:1〜1:3のモ
ル比である。一般式(II)で表される化合物と保護基導
入試薬との反応は、塩基存在下で行うのが好ましい。塩
基としては、種々の無機塩基、有機塩基を用いることが
でき、例えば、LDA(リチウムジイソプロピルアミ
ド)、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、カリウムte
rt−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DB
U(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウン
デセン)、ピリジン、2,6−ルチジンなどが用いられ
る。好ましくは、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、ト
リエチルアミン、ピリジンが用いられ、特に好ましくは
トリエチルアミン、ピリジンが用いられる。塩基の使用
量は一般式(II)で表される化合物1モルに対して、
0.1〜20モル、好ましくは0.5〜10モル、より
好ましくは1〜3モル用いられる。一般式(III)で表
される化合物はこれら塩基との塩を形成することもあ
る。従って、本発明においては、一般式(III)で表さ
れる化合物は、該化合物のスルホン酸塩をも含むもので
ある。 【0044】反応は無溶媒で行ってもよいが、好ましく
は適当な溶媒に溶解または分散して行ってもよい。本発
明の反応に用いることのできる溶媒としては、例えば
水、アルコール系溶媒(例えば、メタノール、イソプロ
パノール、t−ブチルアルコール)、塩素系溶媒(例え
ばジクロロメタン、クロロホルム)、芳香族系溶媒(例
えば、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン)、アミド
系溶媒(例えば、N、N−ジメチルホルムアミド、
N、N−ジメチルアセトアミド)、ウレイド系溶媒(例
えば1、3―ジメチル−2―イミダゾリジノン)、ニト
リル系溶媒(例えば、アセトニトリル)、エーテル系溶
媒(例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン)、スルホン系溶媒(例えば、スルホラン)、スルホ
キシド系溶媒(例えば、ジメチルスルホキシド)、リン
酸アミド系溶媒(例えば、ヘキサメチルホスホリックト
リアミド)、炭化水素系溶媒(例えば、ヘキサン、シク
ロヘキサン)が挙げられる。好ましくは、塩素系溶媒、
芳香族系溶媒、アミド系溶媒、ウレイド系溶媒、ニトリ
ル系溶媒、アルコール系溶媒、スルホン系溶媒、リン酸
アミド系溶媒、炭化水素系溶媒が用いられ、特に好まし
くは、芳香族系溶媒、アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、
アルコール系溶媒、スルホン系溶媒が用いられる。本反
応の反応温度としては特に制限はないが、−50℃から
200℃の範囲で実施可能であり、好ましくは−10℃
から100℃の範囲で実施でき、特に好ましくは0℃か
ら80℃の範囲で実施できる。本反応の反応時間として
は特に制限はないが、1分から50時間の範囲で実施す
ることが好ましく、より好ましくは1分から20時間の
範囲、さらに好ましくは5分から10時間の範囲であ
る。 【0045】2)の工程 一般式(III)で表されるスルホン酸のハロゲン化は、
五塩化リン、塩化ホスホリル、クロロ硫酸、ベンゾトリ
クロリド、塩化チオニルを作用させる方法が一般的に用
いられ、本発明においても好ましく使用される。また、
一般式(III)で表されるスルホン酸のピリジニウム塩
に五塩化リン、または塩化チオニルを反応させる方法も
好ましく適用される。これらモル比、温度など反応条件
は先に述べた1)の工程の条件に準じる。 【0046】3)の工程 一般式(VI)で表される化合物は、一般式(IV)で表さ
れる化合物と一般式(V)で表される化合物から合成す
ることができる。反応に際して用いられる塩基は一般式
(V)で表される化合物そのものでもよいが、好ましく
は炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基、ある
いは第3級アミン、もしくはピリジン類などの有機塩基
が好ましくは用いられる。これら化合物の互いに対する
モル比、温度など反応条件は先に述べた1)の工程の条
件に準じる。 【0047】4)の工程 一般式(I)で表される化合物は、一般式(IV)で表さ
れる化合物からのアミノ基への脱保護反応により得られ
る。これら脱保護に関してはそれぞれの保護基に関して
好ましい脱保護剤が異なる。例えば、一般式(IV)にお
けるAが、環状イミド基、好ましくは前述の一般式(VI
I)〜(IX)で表される基である場合(例えば、Aがフ
タルイミド)、ヒドラジンにより容易に脱保護が可能で
ある。これら化合物の互いに対するモル比、温度など反
応条件は先に述べた1)の工程の条件に準じる。 【0048】以下に一般式(I)で表わされる化合物の
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 【0049】 【化12】【0050】 【化13】【0051】以下に一般式(II)で表わされる化合物の
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 【0052】 【化14】【0053】以下に一般式(III)で表わされる化合物
の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 【0054】 【化15】【0055】以下に一般式(IV)で表わされる化合物の
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 【0056】 【化16】【0057】以下に一般式(V)で表わされる化合物の
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 【0058】 【化17】【0059】以下に一般式(VI)で表わされる化合物の
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 【0060】 【化18】【0061】 【化19】【0062】なお、以降の説明において、以上に示され
た例示化合物を引用する場合、それぞれの例示化合物に
付された括弧書きの番号(x)を用いて、「例示化合物
(x)」と表示することとする。 【0063】 【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 【0064】<実施例1> 例示化合物(I−1)の合
成 〔1)の工程〕 例示化合物(III−1)の合成 例示化合物(II−1)5.0gをアセトニトリル30m
Lに溶解し、室温下、フタル酸無水物4.28gとピリ
ジン2.57mL、触媒量の4−ジメチルアミノピリジ
ンを加えた。50℃にて1時間撹拌した後、室温に冷
却、濃縮すると白色沈殿が得られた。濾取して乾燥し例
示化合物(III−1)をピリジンの塩として10.3g
(93.2%)得た。H−NMR(300MHz、D
MSO−d 、TMS)δ:10.9(s、1H)、
8.9(d、2H)、8.6(t、1H)、8.4
(d、1H)、8.1(t、2H)、7.8(d、1
H)、7.7−7.5(m、4H)、7.4(t、1
H)、7.1(1H)。 【0065】〔2)の工程〕 例示化合物(IV−1)の
合成 例示化合物(III−1)5.0gをアセトニトリル25
mLに溶解し、五塩化リン3.27gを少しずつ室温に
て加えた。還流下、4時間撹拌した後、室温に冷却し
た。生じた白色沈殿を濾取して、例示化合物(IV−1)
を2.90g(69.0%)得た。 【0066】〔3)の工程〕 例示化合物(VI−1)の
合成 例示化合物(V−1)0.50gをアセトニトリル10
mLに溶解し、トリエチルアミン0.33mL加えた。
さらに例示化合物(IV−1)を0.5g加え、60℃に
て1時間撹拌した。生じた白色沈殿を濾取、アセトニト
リルから再結晶して例示化合物(VI−1)を0.55g
(64.0%)得た。H−NMR(300MHz、C
DCl、TMS)δ:8.1(dd、1H)、7.9
(dd、2H)、7.8(dd、2H)、7.7−7.
6(m、2H)、7.4(dd、1H)、5.1(t、
1H)、3.0(m、2H)、1.5(m、4H)、
1.3(m、28H)、0.9(t、3H)。 【0067】〔4)の工程〕 例示化合物(I−1)の
合成 例示化合物(VI−1)1.0gをメタノール10mLに
溶解し、ヒドラジン1水和物を0.3mLを加え、50
℃にて2時間撹拌した。濃縮後、残渣をカラムクロマト
グラフィーにより精製して例示化合物(I−1)を0.
55g(72%)得た。H−NMR(300MHz、
CDCl、TMS)δ:7.70(d、1H)、7.
30(t、1H)、6.80(m、2H)、4.80
(brs、2H)、4.70(brt、1H)、2.9
0(m、2H)、1.40(m、2H)、1.20
(m、30H)、0.90(t、3H)。 【0068】上記の工程から明らかなように、各工程と
も入手が容易な原料で、収率よくオルトアミノベンゼン
スルホンアミド化合物を製造でき、かつ、各工程とも反
応の操作性、反応後の後処理の操作性も優れ、安価で生
産性の高い製造ルートであることがわかる。 【0069】 【発明の効果】本発明によれば、入手の容易な原料か
ら、収率良く、種々のオルトアミノベンゼンスルホンア
ミド化合物を大量に製造する方法を提供できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a silver halide photograph.
Yellow couplers used in photosensitive materials-intermediates, dyes, medicines
Various useful as synthetic intermediates for drugs, agricultural chemicals, electronic materials, etc.
The present invention relates to a method for producing a sulfonamide compound. [0002] [0002] Orthoaminobenzenesulfonamidation
As a method for synthesizing the compound, alteranilic acid was converted to chlorosulfone.
Acid chloride with acid solvent, amination after removal
A method of synthesis by reacting with a compound is disclosed in US Pat. No. 1,91.
No. 1,719 (1930). However
However, this method uses chlorosulfonic acid as a solvent.
A large amount of acid in the treatment of sulfuric acid produced as a by-product in large quantities.
It is unrealistic as a method of mass production that requires Lucari
It is. On the other hand, ortho-nitrobenzene sulfo
Nitrochloride as starting material, amidation followed by nitro group
Of orthoaminobenzenesulfonamide by reduction of
A method for synthesizing a product is common, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-1.
An example can be found in 92272. However,
In addition, metallic iron is used to reduce the nitro group, and its treatment
Because of this problem, there are many restrictions on mass production. As above
The production method is limited, and ortho-amino acids are suitable for production.
Strong development of simple synthesis methods for benzenesulfonamide compounds
It is desired. [0003] Accordingly, it is an object of the present invention.
Is a source that does not have the above-mentioned problems and is easily available.
From various materials, various orthoaminobenzenesulfones were obtained in good yield.
To provide a method for producing a large amount of a non-amide compound
is there. [0004] The object of the present invention is to:
Achieved by law. That is, the present invention (1) It has the following steps 1) to 4)
Preparation of a sulfonamide compound represented by the following general formula (I)
Manufacturing method. 1) Preserving the amino group of the compound represented by the following general formula (II)
It is represented by the following general formula (III) by the reaction protected with a protective group.
For synthesizing compounds 2) The sulfo group of the compound represented by the general formula (III)
Rogenated to synthesize compounds represented by the following general formula (IV)
Process 3) The compound represented by the general formula (IV) and the following general formula
The compound represented by (V) is represented by the following general formula (VI).
Of synthesizing compounds 4) Deprotecting the compound represented by the general formula (VI)
Step of synthesizing a compound represented by the general formula (I) [0005] [Chemical 2] In general formulas (I), (V) and (VI)
R1Is a substituted or unsubstituted alkyl group or ant
Represents an alkyl group. In general formulas (I) to (IV) and (VI)
And R2Represents a substituent. n is an integer from 0 to 4
Represent. multiple n when n is 2 or more2Are the same
They may be different and may be joined together to form a ring.
Yes. In the general formulas (III), (IV) and (VI), A
Represents a protected amino group. In general formula (IV):
X represents a halogen atom. (2) In the step 1), the reaction is performed in the presence of a base.
It is represented by the general formula (I) described in (1)
A method for producing a sulfonamide compound. (3) In the general formulas (III), (IV) and (VI)
A is represented by the following general formula (VII), (VIII) or (IX)
(1) or (2) characterized by being a group represented
Sulfonamide compounds represented by the general formula (I)
Manufacturing method. [0007] [Chemical 3] Where Z1And Z2Are independently oxygen fields
Child, -N (R11)-Group, or -C (R
13) (R12)-Represents a group represented by-. here,
R1 1, R12And R13Are each independently a hydrogen atom,
Or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group
Represent. Z3Is the non-gold required to form a 5- to 7-membered ring
Represents a group of atomic atoms. R14And R15Are each independently water
An elementary atom, or a substituted or unsubstituted alkyl group,
Represents a diol group. [0009] The present invention will be described in detail below.
First, the compound of the present invention will be described. The present invention
The compound represented by the general formula (I) will be described in detail. [0010] [Formula 4] Where R2Represents a substituent. n is 0 or more and 4
Represents the following integers: multiple n when n is 2 or more2Is it
They can be the same or different and can be joined together to form a ring.
It may be formed. R2Examples of groups of
Atom, halogen atom, alkyl group (cycloalkyl group,
Including bicycloalkyl groups), alkenyl groups (cycloa
Including alkenyl group and bicycloalkenyl group), alkini
Group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, hydroxy
Group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, ant
Oxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, a
Siloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycal
Bonyloxy group, aryloxycarbonyloxy, a
Mino group (including alkylamino group and anilino group), reed
Ruamino group, aminocarbonylamino group, alkoxy group
Rubonylamino group, aryloxycarbonylamino
Group, sulfamoylamino group, alkyl or aryl
Sulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group,
Arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group,
A sulfo group, an alkyl or arylsulfinyl group, an
Alkyl or arylsulfonyl group, acyl group, aryl
Ruoxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, cal
Vamoyl group, aryl or heterocyclic azo group, imide
Group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy
Ci group, phosphinylamino group, silyl group can be mentioned. The above group is further substituted with a substituent.
And the substituent includes the above-mentioned groups.
The In the following, R2Examples of these groups will be further described. this
These groups include a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a salt
Elementary atom, bromine atom, iodine atom), alkyl group (straight chain or
Or a branched or unsubstituted alkyl group, preferably
Or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms such as methyl
, Ethyl, n-propyl, isopropyl, t-butyl
Ru, n-octyl, eicosyl, 2-chloroethyl, 2
-Cyanoethyl, 2-ethylhexyl, 3- (2,4-
Di-t-amylphenoxy) propyl), cycloalk
Group (preferably substituted or unsubstituted having 3 to 30 carbon atoms)
A cycloalkyl group such as cyclohexyl, cyclo
Pentyl, 4-n-dodecylcyclohexyl and the like
A multicycloalkyl group such as a bicycloalkyl group
(Preferably substituted or unsubstituted having 5 to 30 carbon atoms
A bicycloalkyl group, for example bicyclo [1,2,
2] Heptan-2-yl, bicyclo [2,2,2] oct
Polycyclic structures such as tan-3-yl) and tricycloalkyl groups
The group of is mentioned. Preferably monocyclic cycloalkyl
Group, bicycloalkyl group, monocyclic cycloalkyl
Groups are preferred. ), An alkenyl group [straight chain or branched
Or an unsubstituted alkenyl group, preferably having 2 to 3 carbon atoms.
0 alkenyl groups such as vinyl, allyl,
Lenyl, geranyl, oleyl), cycloalkenyl groups
(Preferably substituted or unsubstituted having 3 to 30 carbon atoms
A cycloalkenyl group, for example 2-cyclopentene-
1-yl, 2-cyclohexen-1-yl)
Multicycloalkenyl groups such as bicycloalkene
Group (preferably substituted or non-substituted having 5 to 30 carbon atoms)
A substituted bicycloalkenyl group, for example, bicyclo [2,
2,1] hept-2-en-1-yl, bicyclo [2,
2,2] oct-2-en-4-yl)], and trisic
Loalkenyl group, bicycloalkenyl group, monocyclic
Cycloalkenyl groups are preferred. ) Alkynyl group
(Preferably, a substituted or unsubstituted alkenyl having 2 to 30 carbon atoms.
Alkynyl groups such as ethynyl, propargyl, trimer
Tilsilylethynyl group), An aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms)
Substituted or unsubstituted aryl groups such as phenyl,
p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hex
Sadecanoylaminophenyl), a heterocyclic group (preferably
Is a 5- to 7-membered substituted or unsubstituted, saturated or unsaturated
Japanese, aromatic or non-aromatic, monocyclic or condensed ring
More preferably, the ring-constituting atoms are carbon atoms.
Selected from atoms, nitrogen atoms and sulfur atoms, and
Any hetero atom of a child, oxygen atom or sulfur atom
A heterocyclic group having at least one, more preferably
Is a 5- or 6-membered aromatic hetero of 3 to 30 carbon atoms
It is a cyclic group. For example, 2-furyl, 2-thienyl, 2-
Pyridyl, 4-pyridyl, 2-pyrimidinyl, 2-ben
Zothiazolyl), cyano group, hydroxyl group, nitro
Group, carboxyl group, Alkoxy group (preferably having 1 to 3 carbon atoms)
0 substituted or unsubstituted alkoxy groups such as
Toxi, ethoxy, isopropoxy, t-butoxy, n
-Octyloxy, 2-methoxyethoxy), aryl
An oxy group (preferably a substitution of 6 to 30 carbon atoms or
Unsubstituted aryloxy groups such as phenoxy, 2
-Methylphenoxy, 2,4-di-t-amylphenoxy
4-t-butylphenoxy, 3-nitrophenoxy
Si, 2-tetradecanoylaminophenoxy), silyl
An oxy group (preferably silyloxy having 3 to 20 carbon atoms)
Groups such as trimethylsilyloxy, t-butyldi
Methylsilyloxy), heterocyclic oxy group (preferably
Is a substituted or unsubstituted heterocyclic ring having 2 to 30 carbon atoms.
In the xy group, the heterocyclic moiety was explained in the above heterocyclic group
Heterocyclic moieties are preferred, for example 1-phenyltetrazo
-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy
B) Acyloxy group (preferably formyloxy
Si group, substituted or unsubstituted alkyl having 2 to 30 carbon atoms
Carbonyloxy group, substituted or unsubstituted 6 to 30 carbon atoms
Substituted arylcarbonyloxy group, for example
Lumiloxy, acetyloxy, pivaloyloxy,
Thearoyloxy, benzoyloxy, p-methoxyph
Enylcarbonyloxy), carbamoyloxy group (preferably
Preferably, a substituted or unsubstituted carbon having 1 to 30 carbon atoms.
A vamoyloxy group, for example, N, N-dimethylcarba
Moyloxy, N, N-diethylcarbamoyloxy,
Morpholinocarbonyloxy, N, N-di-n-octy
Ruaminocarbonyloxy, Nn-octylcarbamo
Yloxy), alkoxycarbonyloxy group (preferred
Or substituted or unsubstituted alkoxy having 2 to 30 carbon atoms
A carbonyloxy group such as methoxycarbonyloxy
Si, ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarboni
Ruoxy, n-octylcarbonyloxy), aryl
Oxycarbonyloxy group (preferably having 7 to 3 carbon atoms)
0 substituted or unsubstituted aryloxycarbonylo
A xy group such as phenoxycarbonyloxy, p-
Methoxyphenoxycarbonyloxy, pn-hexa
Decyloxyphenoxycarbonyloxy), Amino group (preferably amino group, carbon number
1-30 substituted or unsubstituted alkylamino groups, charcoal
Substituted or unsubstituted arylamino having 6 to 30 primes
A heterocyclic amino group having 0 to 30 carbon atoms, for example
Amino, methylamino, dimethylamino, anili
N-methyl-anilino, diphenylamino, N-
1,3,5-triazin-2-ylamino), acyla
Mino group (preferably formylamino group, 1 to 3 carbon atoms)
0 substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino
A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms
A sulfonylamino group such as formylamino,
Cetylamino, pivaloylamino, lauroylamino,
Benzoylamino, 3,4,5-tri-n-octylo
Xyphenylcarbonylamino), aminocarbonyla
Mino group (preferably substituted or unsubstituted 1 to 30 carbon atoms)
Substituted aminocarbonylamino groups such as carbamoyl
Ruamino, N, N-dimethylaminocarbonylamino,
N, N-diethylaminocarbonylamino, morpholino
Carbonylamino), alkoxycarbonylamino group
(Preferably a substituted or unsubstituted alkyl having 2 to 30 carbon atoms
A alkoxycarbonylamino group such as methoxycarbo
Nylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxy
Carbonylamino, n-octadecyloxycarbonyl
Amino, N-methyl-methoxycarbonylamino), Aryloxycarbonylamino group (preferably
Or a substituted or unsubstituted aryl having 7 to 30 carbon atoms
A ruoxycarbonylamino group, for example phenoxyca
Rubonylamino, p-chlorophenoxycarbonylamino
, Mn-octyloxyphenoxycarbonylamino
B), a sulfamoylamino group (preferably having 0 carbon atoms)
~ 30 substituted or unsubstituted sulfamoylamino groups
For example, sulfamoylamino, N, N-dimethyl
Aminosulfonylamino, Nn-octylaminosulfur
Phonylamino), alkyl and arylsulfonylamino
Group (preferably substituted or unsubstituted having 1 to 30 carbon atoms)
Alkylsulfonylamino group of 6 to 30 carbon atoms
Or an unsubstituted arylsulfonylamino group,
For example, methylsulfonylamino, butylsulfonyla
Mino, phenylsulfonylamino, 2,3,5-trick
Lolophenylsulfonylamino, p-methylphenyls
Sulfonylamino), mercapto group, An alkylthio group (preferably having a carbon number of 1
30 substituted or unsubstituted alkylthio groups, for example
Methylthio, ethylthio, n-hexadecylthio), a
A reelthio group (preferably a substitution of 6 to 30 carbon atoms or
Is an unsubstituted arylthio group such as phenylthio,
p-chlorophenylthio, m-methoxyphenylthio
E) a heterocyclic thio group (preferably a group having 2 to 30 carbon atoms)
A substituted or unsubstituted heterocyclic thio group, wherein the heterocyclic moiety is
The heterocyclic group described in the heterocyclic group of
2-benzothiazolylthio, 1-phenyltetrazo
-5-ylthio), sulfamoyl group (preferably
C0-30 substituted or unsubstituted sulfamoyl
Groups such as N-ethylsulfamoyl, N- (3-
Dodecyloxypropyl) sulfamoyl, N, N-di
Methylsulfamoyl, N-acetylsulfamoyl,
N-benzoylsulfamoyl, N- (N′-phenyl)
Carbamoyl) sulfamoyl), sulfo group, Alkyl or arylsulfinyl groups
(Preferably, a substituted or unsubstituted atom having 1 to 30 carbon atoms.
Ruylsulfinyl group, 6-30 substituted or unsubstituted
An arylsulfinyl group, for example methylsulfur
Ynyl, ethylsulfinyl, phenylsulfinyl,
p-methylphenylsulfinyl), alkyl or a
A reelsulfonyl group (preferably a group having 1 to 30 carbon atoms)
Substituted or unsubstituted alkylsulfonyl groups, 6-30 positions
A substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, for example
Methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenyls
Sulfonyl, p-methylphenylsulfonyl), acyl group
(Preferably a formyl group, a C2-C30 substitution or
Unsubstituted alkylcarbonyl group, substitution of 7 to 30 carbon atoms
Or an unsubstituted arylcarbonyl group, for example
Acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl,
Aroyl, benzoyl, pn-octyloxypheny
Rucarbonyl), aryloxycarbonyl group (preferably
Or substituted or unsubstituted aryl having 7 to 30 carbon atoms
An oxycarbonyl group such as, for example, phenoxycarboni
, O-chlorophenoxycarbonyl, m-nitrofe
Noxycarbonyl, pt-butylphenoxycarboni
Le), An alkoxycarbonyl group (preferably carbon
Substituted or unsubstituted alkoxycarbons having 2 to 30 prime numbers
Group, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbo
Nyl, t-butoxycarbonyl, n-octadecyloxy
Cicarbonyl), a carbamoyl group (preferably carbon number)
1-30 substituted or unsubstituted carbamoyl, eg
For example, carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-
Dimethylcarbamoyl, N, N-di-n-octylcal
Vamoyl, N- (methylsulfonyl) carbamoyl),
An aryl or heterocyclic azo group (preferably having 6 to
30 substituted or unsubstituted arylazo groups, 3 carbon atoms
To 30 substituted or unsubstituted heterocyclic azo groups (hetero
The ring portion is preferably the heterocyclic portion described in the above heterocyclic group.
For example, phenylazo, p-chlorophenyla
Zo, 5-ethylthio-1,3,4-thiadiazole-2
-Ylazo), an imide group (preferably having 2 to 30 carbon atoms)
Substituted or unsubstituted imide groups such as N-succi
Imide, N-phthalimide), phosphino group (preferred
Or substituted or unsubstituted phosphines having 2 to 30 carbon atoms.
Group such as dimethylphosphino, diphenylphosphine
Ino, methylphenoxyphosphino), phosphinyl group
(Preferably substituted or unsubstituted having 2 to 30 carbon atoms
Phosphinyl group, for example phosphinyl, dioctyl
Oxyphosphinyl, diethoxyphosphinyl), Phosphinyloxy group (preferably carbon
A substituted or unsubstituted phosphinyloxy having a number of 2 to 30
A group such as diphenoxyphosphinyloxy, geo
Octyloxyphosphinyloxy), phosphinylamino
Group (preferably substituted or unsubstituted having 2 to 30 carbon atoms)
A substituted phosphinylamino group such as dimethoxyphos
Finylamino, dimethylaminophosphinylami
B), a silyl group (preferably having 3 to 30 carbon atoms)
Or an unsubstituted silyl group such as trimethylsilyl.
, T-butyldimethylsilyl, phenyldimethylsilyl
Le). Of the above groups having a hydrogen atom
May be removed and further substituted with the above groups.
Yes. Examples of such groups include alkylcarbonyl groups.
Minosulfonyl group, arylcarbonylaminosulfonate
Group, alkylsulfonylaminocarbonyl group, aryl
A rusulfonylaminocarbonyl group, specifically
Is methylsulfonylaminocarbonyl, p-methylphenyl
Enylsulfonylaminocarbonyl, acetylaminos
Examples include sulfonyl and benzoylaminosulfonyl. In the general formula (I), R1Replace or
Represents an unsubstituted alkyl group or an aryl group. R1But
Examples of the substituent that may be present include the R2Examples of substituents for
As mentioned above. Preferably R1Is substituted or unsubstituted
It is an alkyl group. R1When the total number of carbon atoms is an alkyl group
12 or more and 60 or less are preferable, and 16 or more and 50 or less are more preferable.
Preferably, 18 or more and 40 or less are more preferable. Also a
In the case of a reel group, it is preferably 6 or more and 60 or less, and 16 or more and 5
0 or less is more preferable, and 18 or more and 40 or less is more preferable.
That's right. In general formula (I), n is an integer of 0 or more and 4 or less
Represents. n is preferably 0 to 2, more preferably 0.
Or 1, particularly preferably 0. Next, the general formula of the present invention
The compound represented by (II) will be described in detail. [0027] [Chemical formula 5] In the general formula (II), R2And n is one
Represents and prefers the same as described in general formula (I)
The same applies to the new range. Next, in the general formula (III) of the present invention,
The compounds represented will be described in detail. [0029] [Chemical 6] In the general formula (III), R2And n is
Represents the same as described in general formula (I).
The preferred range is the same. A was protected by a protecting group
Represents an amino group. Common protecting groups include, for example, a
Lucoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethyl
Toxoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, benzyl
Oxycarbonyl, 2-trimethylsilylethoxycal
Bonyl, formyl, acyl groups (eg acetyl, chloro
Roacetyl, benzene-1,2-dicarbonyl), ben
Zyl group, alkylidene group (for example, benzylidene), sulfur
Phonyl groups such as methanesulfonyl, p-toluenesulfur
Honyl) and the like. Therefore, as A,
Killoxycarbonylamino group, alkenyloxycal
Bonylamino group, cycloalkyloxycarbonylamino
Group, aryloxycarbonylamino group, heterocyclic o
Xyloxycarbonylamino, formylamino, acyl
Mido group, imide group, benzylamino group, sulfonamide
Groups and the like. Furthermore, T.W. W. Greene
  and P.M. G. M.M. Co-authored by Wuts “Pro
Protective Groups in Organic
  Synthesis Third Editio
n ", John Wiley & Sons (199
The protecting group described in Chapter 7 (pages 494 to 653) of 9) is preferred.
Preferably, an amino group protected with the protecting group is also preferred in the present invention.
Can be cited as a good A. In the present invention
A is preferably a cyclic imide group, more preferably
Is represented by the following general formula (VII) or general formula (VIII),
It is a cyclic imide group represented by (IX). [0031] [Chemical 7] Where Z1, Z2Are each independently an oxygen atom,
-N (R11)-Group, or -C
(R12) (R13)-Represents a group represented by-. here
And R11, R12And R13Are independently hydrogen fields
Or a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl
Represents a group. Z3Is necessary to form a 5- to 7-membered ring
Represents a nonmetallic atom group. R14, R15Are each independently water
An elementary atom, or a substituted or unsubstituted alkyl group,
Represents a diol group. In the general formula (VII), Z1Is oxygen
In the case of atoms, Z2Is -C (R12) (R 13)-
It is preferred that Smell in general formula (VIII)
Z3The 5- to 7-membered ring formed by
Zen, or 5- or 7-membered nitrogen, oxygen, or sulfur atoms
An unsaturated heterocycle containing at least one (eg, pillow
, Pyrazole, imidazole, 1,2,3-triazo
Oxazole, thiazole, isoxazole,
Isothiazole, furan, thiophene, pyridine, pyra
Gin, Pyrimidine, Pyridazine, Azepine, Oxepi
And the like. Preferably benzene ring
It is. These rings may further have a substituent, and
As a substituent, R2And the substituents mentioned in the above. next
The compound represented by formula (IV) of the present invention will be described in detail.
The [0033] [Chemical 8] In the general formula (IV), R2And n is one
Represents and prefers the same as described in general formula (I)
The same applies to the new range. A is described in general formula (III).
It represents the same thing as the solid one, and the preferred range is the same.
The X is a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine)
Represents. Next, the compound represented by the general formula (V) of the present invention is
This will be described in detail. [0035] [Chemical 9] In the general formula (V), R1Is the general formula
Represents the same as described in (I), preferably
The range is the same. Next, it is represented by the general formula (VI) of the present invention.
The compound will be described in detail. [0037] Embedded imageIn the general formula (VI), R1, R2and
n represents the same as described in the general formula (I).
The preferred range is also the same. A in general formula (III)
Represents the same as described above, and the preferred range is also the same.
It is like. Next, the production method of the present invention will be described in detail.
To do. Preparation of the compound represented by the general formula (I) of the present invention
The manufacturing method comprises the following steps 1) to 4). 1) Preserving the amino group of the compound represented by the following general formula (II)
It is represented by the following general formula (III) by the reaction protected with a protective group.
For synthesizing compounds 2) The sulfo group of the compound represented by the general formula (III)
Rogenated to synthesize compounds represented by the following general formula (IV)
Process 3) The compound represented by the general formula (IV) and the following general formula
The compound represented by (V) is represented by the following general formula (VI).
Of synthesizing compounds 4) Deprotecting the compound represented by the general formula (VI)
Step of synthesizing a compound represented by the general formula (I) The above production method is represented by the following reaction scheme.
It is. In each step, the product is removed once and purified.
You can put your work, or you can connect it to the next process without taking it out
good. [0040] Embedded image Next, the manufacturing method in each process will be described in detail.
I will explain. The production method of the present invention is particularly suitable for production routes.
It has a sign. Step 1) The amino group of the compound represented by the general formula (II) is represented by the general formula
Convert to the protected amino group in (III),
That is, to synthesize the compound represented by the general formula (III)
Are various acylating agents (acyl halides, acid anhydrides,
Esters), sulfonating agents (alkyl or amines)
Reel sulfonic acid halides), benzyl halide
(Benzyl chloride, benzyl chloride, etc.) etc.
These various protecting group-introducing reagents are used. Table in general formula (III)
A cyclic group which is a preferred group as A
Imido groups, especially the groups represented by the above (VII) to (IX)
HOOC-Z corresponding to this group1-Z2
-COOH, 2nd and 3rd positions
Each carbon atom) is Z3Bound HOOC-C = C
-COOH, HOOC-C (R14) = C (R15) −
COOH acid anhydride, dihalide or diester
Preferably used. Protecting group-introducing reagents for these amino groups
Is generally 1 for the compound represented by formula (II)
Used in a molar ratio of 00: 1 to 1: 100, preferably
10: 1 to 1:10 molar ratio, more preferably 5: 1 to
1: 5 molar ratio, more preferably 1: 1 to 1: 3
The ratio. Compounds represented by general formula (II) and protecting group
The reaction with the reagent is preferably performed in the presence of a base. salt
As the group, various inorganic bases and organic bases can be used.
For example, LDA (lithium diisopropylamino
Do), sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide
Lithium, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium te
rt-butoxide, sodium tert-butoxide,
Triethylamine, diisopropylethylamine, DB
U (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-un
Decene), pyridine, 2,6-lutidine and the like are used.
The Preferably, potassium carbonate, sodium hydroxide,
Riethylamine and pyridine are used, particularly preferably
Triethylamine and pyridine are used. Use of base
The amount is 1 mol of the compound represented by the general formula (II).
0.1-20 mol, preferably 0.5-10 mol, more
Preferably 1-3 mol is used. Table in general formula (III)
The resulting compounds may form salts with these bases.
The Therefore, in the present invention, it is represented by the general formula (III).
The compound that contains the sulfonate salt of the compound
is there. The reaction may be carried out without a solvent, but preferably
May be carried out by dissolving or dispersing in a suitable solvent. Main departure
Examples of the solvent that can be used for the light reaction include
Water, alcoholic solvents (eg methanol, isopropyl
Panol, t-butyl alcohol), chlorinated solvents (eg
Dichloromethane, chloroform), aromatic solvents (eg
For example, benzene, toluene, chlorobenzene), amide
System solvents (for example, N, N-dimethylformamide,
N, N-dimethylacetamide), ureido solvents (examples)
1,3-dimethyl-2-imidazolidinone), Nito
Ril solvents (eg acetonitrile), ether solvents
Medium (eg, diethyl ether, tetrahydrofuran)
), Sulfone solvents (for example, sulfolane), sulfo
Xoxide solvents (eg dimethyl sulfoxide), phosphorus
Acid amide solvents (eg hexamethylphosphoric acid
Lyamide), hydrocarbon solvents (eg, hexane,
Hexane). Preferably, a chlorinated solvent,
Aromatic solvents, amide solvents, ureido solvents, Nitori
Solvent, alcohol solvent, sulfone solvent, phosphoric acid
Amide solvents and hydrocarbon solvents are used, especially preferred.
Or aromatic solvents, amide solvents, nitrile solvents,
Alcohol solvents and sulfone solvents are used. Genuine
The reaction temperature is not particularly limited, but from −50 ° C.
It can be carried out in the range of 200 ° C, preferably -10 ° C
To 100 ° C., particularly preferably 0 ° C.
In the range of 80 ° C. As reaction time of this reaction
There is no particular restriction, but it is carried out in the range of 1 minute to 50 hours
Preferably 1 minute to 20 hours.
Range, more preferably in the range of 5 minutes to 10 hours.
The Step 2) Halogenation of the sulfonic acid represented by the general formula (III)
Phosphorus pentachloride, phosphoryl chloride, chlorosulfuric acid, benzotri
The method using chloride and thionyl chloride is generally used.
It is preferably used in the present invention. Also,
Pyridinium salt of sulfonic acid represented by general formula (III)
A method of reacting phosphorus pentachloride with thionyl chloride
Preferably applied. Reaction conditions such as molar ratio and temperature
Is in accordance with the conditions of step 1) described above. Step 3) The compound represented by the general formula (VI) is represented by the general formula (IV).
And a compound represented by the general formula (V)
Can be. The base used in the reaction is a general formula
The compound represented by (V) itself may be used, but preferably
Is an inorganic base such as potassium carbonate or sodium carbonate
Or tertiary amines or organic bases such as pyridines
Are preferably used. These compounds against each other
The reaction conditions such as molar ratio and temperature are the same as those described in 1) above.
According to the matter. Step 4) The compound represented by the general formula (I) is represented by the general formula (IV).
Obtained by deprotection reaction from the compound to the amino group
The Regarding these deprotections, each protecting group
Preferred deprotecting agents are different. For example, in general formula (IV)
A is a cyclic imide group, preferably the aforementioned general formula (VI
I) to (IX) (for example, A is a group represented by
Talimide) and hydrazine can be easily deprotected
is there. The molar ratio of these compounds to each other, temperature, etc.
The reaction conditions are the same as those for the process 1) described above. The following compounds of the general formula (I)
Although a specific example is shown, this invention is not limited to these.
Absent. [0049] Embedded image[0050] Embedded imageThe following compounds of the general formula (II)
Although a specific example is shown, this invention is not limited to these.
Absent. [0052] Embedded imageThe following compounds represented by the general formula (III)
Specific examples are shown below, but the present invention is not limited to these.
There is no. [0054] Embedded imageThe following are compounds of the general formula (IV)
Although a specific example is shown, this invention is not limited to these.
Absent. [0056] Embedded imageThe following are compounds of the general formula (V)
Although a specific example is shown, this invention is not limited to these.
Absent. [0058] Embedded imageThe following are compounds of the general formula (VI)
Although a specific example is shown, this invention is not limited to these.
Absent. [0060] Embedded image[0061] Embedded imageIn the following description, it is shown above.
When referring to each exemplified compound,
By using the number (x) in parentheses attached,
(X) "is displayed. [0063] The following examples further illustrate the present invention.
However, the present invention is not limited to this. Example 1 Example Compound (I-1)
Completion [Step 1] Synthesis of Exemplified Compound (III-1) Example Compound (II-1) 5.0 g
Dissolved in L, and 4.28 g of phthalic anhydride at room temperature
2.57 mL of gin, catalytic amount of 4-dimethylaminopyrid
Added. After stirring at 50 ° C for 1 hour, cool to room temperature
On the other hand, when concentrated, a white precipitate was obtained. Example after filtration and drying
10.3 g of the compound (III-1) shown as a pyridine salt
(93.2%) was obtained.1H-NMR (300 MHz, D
MSO-d 6, TMS) δ: 10.9 (s, 1H),
8.9 (d, 2H), 8.6 (t, 1H), 8.4
(D, 1H), 8.1 (t, 2H), 7.8 (d, 1H)
H), 7.7-7.5 (m, 4H), 7.4 (t, 1
H), 7.1 (1H). [Step (2)] Example Compound (IV-1)
Composition 5.0 g of Exemplified Compound (III-1) in 25 mg of acetonitrile
Dissolve in mL and gradually add 3.27 g of phosphorus pentachloride to room temperature.
Added. Stir for 4 hours under reflux, then cool to room temperature
It was. The resulting white precipitate was collected by filtration to give Exemplified Compound (IV-1)
Of 2.90 g (69.0%). [Step (3)] Example Compound (VI-1)
Composition Example Compound (V-1) 0.50 g
Dissolve in mL and add 0.33 mL of triethylamine.
Furthermore, 0.5 g of exemplary compound (IV-1) was added and the temperature was increased to 60 ° C.
And stirred for 1 hour. The resulting white precipitate was collected by filtration and acetonit
0.55 g of Exemplified Compound (VI-1) by recrystallization from ril
(64.0%) was obtained.1H-NMR (300 MHz, C
DCI3, TMS) δ: 8.1 (dd, 1H), 7.9
(Dd, 2H), 7.8 (dd, 2H), 7.7-7.
6 (m, 2H), 7.4 (dd, 1H), 5.1 (t,
1H), 3.0 (m, 2H), 1.5 (m, 4H),
1.3 (m, 28H), 0.9 (t, 3H). [Step 4]] of the exemplified compound (I-1)
Composition 1.0 g of exemplified compound (VI-1) in 10 mL of methanol
Dissolve, add 0.3 mL of hydrazine monohydrate,
Stir for 2 hours at ° C. After concentration, the residue is subjected to column chromatography.
The exemplified compound (I-1) was purified by chromatography.
55 g (72%) were obtained.1H-NMR (300 MHz,
CDCl3, TMS) δ: 7.70 (d, 1H), 7.
30 (t, 1H), 6.80 (m, 2H), 4.80
(Brs, 2H), 4.70 (brt, 1H), 2.9
0 (m, 2H), 1.40 (m, 2H), 1.20
(M, 30H), 0.90 (t, 3H). As is apparent from the above steps, each step and
Is a raw material that is easy to obtain.
Sulfonamide compounds can be produced and
Excellent operability and post-treatment operability after reaction.
It turns out that this is a highly productive manufacturing route. [0069] According to the present invention, it is easy to obtain a raw material.
In various yields, various orthoaminobenzenesulfones
A method for producing a large amount of a mid compound can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C204 AB01 BB04 CB04 DB30 EB03 FB08 FB15 GB01 4H006 AA02 AC61 AC80 BA51 BA69 BB14 BB21 4H039 CA42 CD10    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4C204 AB01 BB04 CB04 DB30 EB03                       FB08 FB15 GB01                 4H006 AA02 AC61 AC80 BA51 BA69                       BB14 BB21                 4H039 CA42 CD10

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 下記1)〜4)の工程を有することを特
徴とする下記一般式(I)で表されるスルホンアミド化
合物の製造方法。 1)下記一般式(II)で表される化合物のアミノ基を保
護基で保護する反応により下記一般式(III)で表され
る化合物を合成する工程 2)該一般式(III)で表される化合物のスルホ基をハ
ロゲン化して下記一般式(IV)で表される化合物を合成
する工程 3)該一般式(IV)で表される化合物と下記一般式
(V)で表される化合物により下記一般式(VI)で表さ
れる化合物を合成する工程 4)該一般式(VI)で表される化合物を脱保護して下記
一般式(I)で表される化合物を合成する工程 【化1】 一般式(I)、(V)および(VI)において、Rは置
換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基を表
す。一般式(I)〜(IV)および(VI)において、R
は置換基を表す。nは0以上4以下の整数を表す。nが
2以上のとき複数のRはそれぞれ同じでも異なってい
てもよく、互いに結合して環を形成してもよい。一般式
(III)、(IV)および(VI)において、Aは保護され
たアミノ基を表す。一般式(IV)において、Xはハロゲ
ン原子を表す。
What is claimed is: 1. A process for producing a sulfonamide compound represented by the following general formula (I), comprising the following steps 1) to 4): 1) Step of synthesizing a compound represented by the following general formula (III) by a reaction of protecting the amino group of the compound represented by the following general formula (II) with a protecting group 2) represented by the general formula (III) A step of synthesizing a compound represented by the following general formula (IV) by halogenating the sulfo group of the compound: 3) a compound represented by the general formula (IV) and a compound represented by the following general formula (V): Step 4 for synthesizing a compound represented by the following general formula (VI) 4) Step for synthesizing a compound represented by the following general formula (I) by deprotecting the compound represented by the general formula (VI) 1] In the general formulas (I), (V) and (VI), R 1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. In the general formulas (I) to (IV) and (VI), R 2
Represents a substituent. n represents an integer of 0 or more and 4 or less. When n is 2 or more, the plurality of R 2 may be the same or different, and may be bonded to each other to form a ring. In the general formulas (III), (IV) and (VI), A represents a protected amino group. In general formula (IV), X represents a halogen atom.
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