JP2003280214A - Method for replenishing replenisher solution in automatic processing machine and automatic processing machine - Google Patents

Method for replenishing replenisher solution in automatic processing machine and automatic processing machine

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JP2003280214A
JP2003280214A JP2002148594A JP2002148594A JP2003280214A JP 2003280214 A JP2003280214 A JP 2003280214A JP 2002148594 A JP2002148594 A JP 2002148594A JP 2002148594 A JP2002148594 A JP 2002148594A JP 2003280214 A JP2003280214 A JP 2003280214A
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JP
Japan
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plate
replenishing
developing
solution
alkali
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Pending
Application number
JP2002148594A
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Japanese (ja)
Inventor
Susumu Yoshida
進 吉田
Ikuo Kawachi
幾生 河内
Shuichi Takamiya
周一 高宮
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To continuously process printing plates having a positive photosensitive layer for an infrared laser using an alkali developing solution. <P>SOLUTION: In an automatic processing machine, when the power is turned on to start operation, operating time replenishment of an alkali replenisher solution is carried out after stop time replenishment, the targeted value (threshold value) of electric conductivity is corrected and water is replenished on the basis of the measured result of electric conductivity (steps 304-308). Every time insertion of a PS plate is detected with a plate detecting sensor, the processing area of the PS plate is calculated and integrated from the detected time (steps 310 and 312), and when an integrated value S<SB>1</SB>attains to a prescribed value Sa, an alkali replenisher solution is replenished (steps 314-318), and when an integrated value S<SB>2</SB>attains to a prescribed value Sc, an aqueous surfactant solution is replenished (steps 320-324). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、画像露光された印
刷版を現像処理する自動現像装置に係り、現像処理に用
いる自動現像装置の補充液補充方法及び自動現像装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an automatic developing device for developing an image-exposed printing plate, and more particularly to a replenisher replenishing method and an automatic developing device used in the developing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】輪転機等を用いた印刷処理には、平版印
刷版(以下「印刷版」とする)が用いられており、画像
露光を行った印刷版に対して、自動現像装置等を用いて
現像処理を施すことにより、印刷用の刷版が得られる。
2. Description of the Related Art A lithographic printing plate (hereinafter referred to as a "printing plate") is used in a printing process using a rotary press or the like. A plate for printing can be obtained by subjecting it to development processing.

【0003】一方、レーザ光を用いた露光(画像書き込
み)に適する画像記録材料としては、特開平7−285
275号公報に、クレゾール樹脂のような結着剤と、光
を吸収して熱を発生する物質に、キノンジアジドのよう
な熱分解性がありかつ分解しない状態で結着剤の溶解性
を実質的に低下させる物質を含むポジ型感光材料が提案
されている。
On the other hand, as an image recording material suitable for exposure using a laser beam (image writing), Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-285 is known.
No. 275, a binder such as a cresol resin and a substance that absorbs light to generate heat have a thermal decomposability such as quinonediazide, and substantially dissolve the binder in a state where the binder does not decompose. A positive type photosensitive material containing a substance that reduces the amount of light is proposed.

【0004】このようなポジ型感光材料は、赤外線レー
ザの露光により、露光部分において、光を吸収して熱を
発生する物質が発熱し、露光部分の溶解性を発現させる
ものであるが、発生された熱が支持体であるアルミニウ
ムに吸熱されてしまうために熱効率が低く、現像工程に
おけるアルカリ現像処理液に対する溶解性は、満足しう
るものではない。
In such a positive-type photosensitive material, a substance that absorbs light and generates heat in the exposed portion generates heat when exposed to an infrared laser, and develops solubility in the exposed portion. Since the generated heat is absorbed by the aluminum support, the thermal efficiency is low, and the solubility in the alkali developing solution in the developing step is not satisfactory.

【0005】このために、現像液のアルカリ濃度を上げ
た現像能力の高い液を用いたオーバー条件で現像処理
し、露光部分の溶解性を高める方法が考えられる。
For this reason, a method is conceivable in which the developing treatment is carried out under an over condition using a solution having a high alkalinity and a high developing ability to enhance the solubility of the exposed portion.

【0006】しかし、ポジ型感光材料のようなヒートモ
ード刷版は、オーバー条件下では、画像部分のアルカリ
現像液に対する耐溶解性が低く、感光層表面の僅かな傷
も溶解されてしまうという問題がある。
However, a heat mode printing plate such as a positive type photosensitive material has a problem that under an over condition, the resistance to dissolution of an image portion in an alkali developing solution is low, and even a slight scratch on the surface of the photosensitive layer is dissolved. is there.

【0007】このような問題を解決する手段として、特
開平11−327160号公報、特開平11−3381
26号公報、特開平11−327163号公報等では、
アルカリ現像液に界面活性剤を感光層の溶解抑制剤とし
て添加したものを用いる技術が提案されている。この提
案では、高pHのアルカリ現像液を用いても画像部分の
損傷が少なく、コントラストに優れた画像形成が可能と
なる。
As means for solving such a problem, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 11-327160 and 11-3381.
No. 26, JP-A No. 11-327163, etc.,
There has been proposed a technique using an alkaline developer to which a surfactant is added as a dissolution inhibitor for the photosensitive layer. According to this proposal, even if a high pH alkaline developer is used, the image portion is less damaged, and it is possible to form an image with excellent contrast.

【0008】一方、通常の印刷版の現像処理は、自動現
像装置によって連続的に行われ、初期には、設計値通り
の画像形成が可能となる。しかし、経時により現像液の
活性が低下したり、現像液中の界面活性剤の活性が低下
してしまうことにより、所望のコントラストが得られな
くなってしまう。
On the other hand, the ordinary development processing of the printing plate is continuously carried out by the automatic developing device, and in the initial stage, it is possible to form an image as designed. However, the desired contrast cannot be obtained because the activity of the developer decreases with time or the activity of the surfactant in the developer decreases.

【0009】一般的に、現像性の変動の調整は、現像槽
中に補充液を添加することにより行われるが、補充液と
して現像液と同じ組成のものを添加しても、現像性の変
動を防止することは困難である。すなわち、現像液中の
界面活性剤は、現像される版面上の感光層と相互作用を
形成するのみならず、現像液中に溶解した非画像部分の
高分子材料とも反応して消耗される。一方、現像液は現
像処理の他、空気中の炭酸ガスに接触することによりp
Hが低下するため、一定濃度の補充液を添加するのみで
は、現像性と画像部分の保護性のバランスを取ることが
できなくなっている。
Generally, the fluctuation of the developing property is adjusted by adding a replenishing solution into the developing tank. However, even if the replenishing solution having the same composition as the developing solution is added, the fluctuation of the developing property is changed. Is difficult to prevent. That is, the surfactant in the developer not only forms an interaction with the photosensitive layer on the plate surface to be developed, but also reacts with the polymer material in the non-image portion dissolved in the developer and is consumed. On the other hand, the developing solution is exposed to carbon dioxide gas in the air in addition to the developing treatment, so that the p
Since H decreases, it is not possible to balance the developability and the protection of the image portion only by adding a replenishing solution of a constant concentration.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事実に鑑
みてなされたものであり、デジタルデータに基づいて走
査露光した印刷版を現像処理するときに、非画像部分の
アルカリ現像液に対する溶解性を確保しつつ、画像部分
のアルカリ現像液に対する耐溶解性を維持すると共に外
傷に対する現像安定性に優れ、印刷版を連続的に一定品
質となるように現像処理することができる自動現像装置
の補充液補充方法及び自動現像装置を提案することを目
的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above facts, and when developing a printing plate that has been subjected to scanning exposure based on digital data, the solubility of the non-image portion in an alkaline developing solution. Replenishment of an automatic developing device that maintains the dissolution resistance of the image part to an alkaline developer while maintaining excellent development stability and is excellent in development stability against external scratches, and that is capable of continuously developing the printing plate to a constant quality. An object is to propose a liquid replenishing method and an automatic developing device.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の自動現像装置の補充液補充方法は、支持体上
に、水不溶性のアルカリ可溶性高分子化合物及び光を吸
収して発熱する化合物を含有する赤外線レーザ用感光層
が形成された印刷版を、現像槽に現像液として貯留して
いるアルカリ現像液によって現像処理しながら、所定の
タイミングで補充液を補充する自動現像装置の補充液補
充方法であって、装置の稼働時間ないし停止時間に応じ
た量及び前記印刷版の処理量に応じた量のアルカリ現像
液を補充し、前記現像槽内に貯留している現像液の電導
度が予め算出された電導度目標値を上回っていたとき
に、現像液の電導度が前記電導度目標値を下回るまで前
記現像槽内に希釈水を補充すると共に、前記現像槽へ引
き入れられる前記印刷版が通過する挿入口に設けた版検
出手段によって検出する前記印刷版の通過時間から演算
した前記印刷版の処理面積に応じた量の溶解抑制剤を含
む水溶液を前記現像槽に補充することを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method of replenishing a replenisher for an automatic developing apparatus according to the present invention absorbs a water-insoluble alkali-soluble polymer compound and light on a support to generate heat. Replenishment of an automatic developing device that replenishes a replenisher at a predetermined timing while developing a printing plate on which a photosensitive layer for infrared laser containing a compound is formed with an alkaline developer stored as a developer in a developing tank. A method of replenishing a liquid, comprising replenishing an amount of alkali developing solution according to an operating time or a stopping time of an apparatus and an amount corresponding to a processing amount of the printing plate, and conducting the conductivity of the developing solution stored in the developing tank. When the degree of conductivity exceeds a pre-calculated conductivity target value, the developer is replenished with diluting water until the conductivity of the developer falls below the conductivity target value, and the developer is drawn into the developer tank. mark Replenishing the developing tank with an aqueous solution containing an amount of a dissolution inhibitor in accordance with the processing area of the printing plate calculated from the passage time of the printing plate detected by the plate detection means provided at the insertion port through which the plate passes. Characterize.

【0012】この発明によれば、時間経過及び印刷版の
処理量のそれぞれに応じてアルカリ現像液とこのアルカ
リ現像液を所定比率で希釈する希釈水を補充する時間補
充及び処理補充を行う。すなわち、自動現像装置の稼動
時間ないし停止時間に応じた量及び、印刷版の処理量に
応じた量のアルカリ現像液とこのアルカリ現像液を所定
比率で希釈する希釈水(以下「アルカリ補充液」とす
る)を現像槽へ補充する。
According to the present invention, the time replenishment and the process replenishment for replenishing the alkali developing solution and the dilution water for diluting the alkali developing solution at a predetermined ratio are performed according to the lapse of time and the processing amount of the printing plate. That is, an amount corresponding to the operating time or stop time of the automatic developing device, and an amount corresponding to the processing amount of the printing plate and an alkaline developing solution for diluting the alkaline developing solution at a predetermined ratio (hereinafter referred to as "alkaline replenisher"). And) to the developing tank.

【0013】また、現像槽内に貯留している現像液の電
導度が、予め算出された電導度目標値を越えているとき
には、現像槽に希釈水を補充して現像槽内の現像液の電
導度が、予め算出している電導度目標値を下回るように
して、現像槽内の現像液の電導度を所定範囲に抑える。
When the electric conductivity of the developer stored in the developing tank exceeds the electric conductivity target value calculated in advance, the developing tank is replenished with diluting water and the electric conductivity of the developing solution in the developing tank is increased. The electric conductivity of the developer in the developing tank is kept within a predetermined range by setting the electric conductivity below a previously calculated target value of electric conductivity.

【0014】なお、アルカリ補充液の処理補充を行うと
きの印刷版の処理量は、印刷版の処理面積を用いても良
く、また、これに限らず印刷版の処理枚数を用いても良
い。
The processing amount of the printing plate at the time of replenishing the alkaline replenishing liquid may be the processing area of the printing plate, or the number of processed printing plates is not limited to this.

【0015】このようにしてアルカリ現像液と該アルカ
リ現像液を所定比率で希釈する水をアルカリ補充液とし
て補充することにより、空気中の炭酸ガスと接触及び印
刷版の処理による現像液中のアルカリ濃度の低下を抑え
ることができ、また、現像槽内の現像液の電導度を検出
して、この電導度が予め算出した電導度目標値を越えた
ときに希釈水を補充することにより、現像液中のアルカ
リ濃度を一定に保つことができる。
In this way, by replenishing the alkaline developing solution and water for diluting the alkaline developing solution at a predetermined ratio as an alkaline replenishing solution, contact with carbon dioxide in the air and alkali in the developing solution by treatment of the printing plate are carried out. It is possible to suppress the decrease of the density, and by detecting the electric conductivity of the developer in the developing tank and supplementing the dilution water when the electric conductivity exceeds the pre-calculated electric conductivity target value, The alkali concentration in the liquid can be kept constant.

【0016】また、本発明では、版検出手段によって検
出する印刷版の通過時間に基づいて現像液による印刷版
の処理面積を算出し、この処理面積または処理面積の積
算値に基づいて界面活性剤等の溶解抑制剤を含む水溶液
を補充する。これにより、印刷版の処理に応じて現像液
中に含まれる溶解抑制剤の濃度低下を抑えるようにして
いる。
Further, in the present invention, the processing area of the printing plate by the developing solution is calculated based on the passage time of the printing plate detected by the plate detecting means, and the surfactant is calculated based on the processing area or the integrated value of the processing areas. And an aqueous solution containing a dissolution inhibitor. As a result, the decrease in the concentration of the dissolution inhibitor contained in the developing solution is suppressed depending on the processing of the printing plate.

【0017】このようにしてアルカリ補充液及び溶解抑
制剤を補充することにより、アルカリ現像液を高pHに
保つと共に、溶解抑制剤の濃度低下を防止することがで
きるので、赤外線レーザ用感光層が形成された印刷版を
アルカリ現像液によって連続的に現像処理したときは勿
論、長期にわたって現像処理したときにも、コントラス
トが優れ、画像部分の損傷を生じさせることがない。
By thus replenishing the alkali replenisher and the dissolution inhibitor, it is possible to keep the alkali developer at a high pH and prevent the concentration of the dissolution inhibitor from lowering. The contrast is excellent and the image portion is not damaged when the printing plate thus formed is subjected to continuous development treatment with an alkali developing solution as well as when subjected to development treatment for a long period of time.

【0018】このときに、本発明では、版検出手段を用
いて、印刷版の搬送方向に沿った長さを計測し、この計
測結果に基づいて算出する簡単な構成で、現像液による
印刷版の処理量である処理面積を算出する。これによ
り、簡単にかつ適正な量の溶解抑制剤を補充できるよう
にしている。
At this time, according to the present invention, the plate detecting means is used to measure the length of the printing plate in the conveying direction, and the printing plate with the developing solution is simply structured to calculate based on the measurement result. The processing area which is the processing amount of is calculated. This makes it possible to easily and appropriately replenish the dissolution inhibitor.

【0019】すなわち、本発明では、前記版検出手段に
よって前記印刷版の先端から後端までが前記挿入口を通
過する時間を計測し、該計測結果と前記印刷版の搬送速
度に基づいて得られる前記印刷版の搬送方向に沿った長
さから版面積を判定して処理面積を算出し、前記溶解抑
制剤を含む水溶液の補充量を設定する。
That is, according to the present invention, the plate detecting means measures the time taken for the leading edge to the trailing edge of the printing plate to pass through the insertion port, and is obtained based on the measurement result and the transport speed of the printing plate. The processing area is calculated by determining the plate area from the length of the printing plate along the transport direction, and the replenishment amount of the aqueous solution containing the dissolution inhibitor is set.

【0020】このような本発明の自動現像装置の補充液
補充方法においては、前記電導度目標値を、現像液の仕
込み液が前記現像補充液ないし現像液の電導度を下がる
ために補充された希釈水に入れ替わった割合である補充
液置換率と、現像補充液の希釈水と現像槽内の現像液の
電導度を下げるために補充した希釈水の現像補充液の割
合である希釈率と、自動現像装置の稼働時間内ないし停
止時間内での現像活性度の低下を補うように補充された
現像補充液の積算量の、前記補充液置換率と現像槽内の
現像液量の積に対する割合と、を用いて設定することが
好ましい。
In the replenisher replenishing method for the automatic developing apparatus of the present invention, the charge target value of the developer is replenished in order that the developer replenisher or the developer lowers the conductivity. A replenisher replacement rate that is the rate of replacement with the diluting water, and a dilution rate that is the rate of the replenishing solution of the developing replenisher and the dilution water replenished to reduce the conductivity of the developer in the developing tank. Ratio of the integrated amount of the developer replenisher replenished so as to compensate for the decrease in the development activity within the operating time or the stop time of the automatic developing device to the product of the replenisher replacement rate and the developer amount in the developing tank. It is preferable to set using.

【0021】また、本発明の自動現像装置の補充液補充
方法では、前記版検出手段によって前記印刷版の先端か
ら後端までが前記挿入口を通過する時間を計測し、該計
測結果と前記印刷版の搬送速度に基づいて得られる前記
印刷版の搬送方向に沿った長さから版面積を判定して処
理面積を算出し、前記溶解抑制剤を含む水溶液の補充量
を設定することが好ましく、これにより、簡単にかつ適
正な量の溶解抑制剤の補充が可能となる。
Further, in the replenisher replenishing method for the automatic developing apparatus of the present invention, the plate detecting means measures the time taken for the leading edge to the trailing edge of the printing plate to pass through the insertion port, and the measurement result and the printing result. It is preferable to calculate the processing area by determining the plate area from the length along the transport direction of the printing plate obtained based on the transport speed of the plate, and to set the replenishment amount of the aqueous solution containing the dissolution inhibitor, This makes it possible to easily and appropriately replenish the dissolution inhibitor.

【0022】このような本発明に適用される自動現像装
置は、支持体上に、水不溶性のアルカリ可溶性高分子化
合物及び光を吸収して発熱する化合物を含有する赤外線
レーザ用感光層が形成された印刷版を、現像槽に貯留し
ているアルカリ現像液に浸漬して現像処理する自動現像
装置であって、前記現像槽へアルカリ現像液を補充する
第1の補充手段と、前記現像槽へ希釈水を補充する第2
の補充手段と、前記現像槽へ溶解抑制剤を含む水溶液を
補充する第3の補充手段と、装置の稼動停止時間を計測
する計時手段と、前記現像槽内に貯留する現像液の電導
度を計測する電導度検出手段と、前記計時手段によって
計測した装置の稼働時間ないし停止時間に基づいて前記
第1及び前記第2の補充手段を作動させて前記アルカリ
現像液と該アルカリ現像液を所定比率で希釈する希釈水
を補充する経時補充制御手段と、前記印刷版の処理量に
基づいて前記第1の補充手段及び前記第2の補充手段を
作動させて前記アルカリ現像液と該アルカリ現像液を所
定比率で希釈する希釈水を補充する処理補充制御手段
と、前記電導度検出手段によって検出した電導度が予め
演算によって設定した前記現像槽内の現像液の電導度目
標値を越えたときに前記第2の補充手段を作動させて前
記現像槽へ希釈水を補充する電導度補充制御手段と、所
定位置で前記現像槽に引き入れられる前記印刷版を検出
する版検出手段と、前記版検出手段によって検出する前
記印刷版の先端から後端までの通過時間から印刷版の処
理面積を演算して積算する処理面積積算手段と、前記処
理面積積算手段の積算値に基づいて前記第3の補充手段
を作動させて前記現像槽へ溶解抑制剤を含む水溶液を補
充する抑制剤補充制御手段と、を含むものであれば良
い。
In such an automatic developing apparatus applied to the present invention, an infrared laser photosensitive layer containing a water-insoluble alkali-soluble polymer compound and a compound which absorbs light and generates heat is formed on a support. An automatic developing device for immersing a developed printing plate in an alkaline developing solution stored in a developing tank to perform a developing process, comprising: first replenishing means for replenishing the developing tank with the alkaline developing solution; Second to replenish dilution water
Replenishing means, a third replenishing means for replenishing the developing tank with an aqueous solution containing a dissolution inhibitor, a time measuring means for measuring the operation stop time of the apparatus, and an electric conductivity of the developing solution stored in the developing tank. The alkali developing solution and the alkali developing solution are operated at a predetermined ratio by operating the conductivity detecting means for measuring and the first and second replenishing means based on the operating time or stop time of the apparatus measured by the time measuring means. The replenishment control means for replenishing the dilution water to be diluted with, and the first replenishing means and the second replenishing means are operated based on the processing amount of the printing plate to operate the alkali developing solution and the alkali developing solution. When processing replenishment control means for replenishing dilution water diluted at a predetermined ratio, and the electric conductivity detected by the electric conductivity detection means exceeds the electric conductivity target value of the developer in the developing tank set by calculation in advance. The conductivity replenishment control means for activating the second replenishing means to replenish the developing tank with the dilution water, the plate detecting means for detecting the printing plate drawn into the developing tank at a predetermined position, and the plate detecting means. Processing area integrating means for calculating and integrating the processing area of the printing plate from the passage time from the leading edge to the trailing edge of the printing plate detected by the third replenishing means based on the integrated value of the processing area integrating means. And an inhibitor replenishment control means for replenishing the developing tank with an aqueous solution containing a dissolution inhibitor.

【0023】このとき、電導度のしきい値は、予め演算
した電導度目標値を用いることができる。また、この電
導度目標値は、現像液の仕込み液が、アルカリ補充液な
いし現像液の電導度を下げるために補充された希釈水に
よって入れ替わった割合である補充液置換率と、現像補
充液の希釈水と現像槽内の現像液の電導度を下げるため
に補充された希釈水の現像補充液に対する割合である希
釈比率又は、自動現像装置の稼働時間ないし停止時間に
応じた現像活性度の低下を補うために補充された現像補
充液の補充量の積算量の、液置換率と現像槽内の現像液
量との積に対する割合を用いて設定することができる。
At this time, the electric conductivity target value calculated in advance can be used as the electric conductivity threshold value. The target value of the conductivity is the ratio of the replenisher replacement rate, which is the ratio of the developer replenisher replaced by the alkali replenisher or the dilution water replenished to reduce the conductivity of the developer, and the developer replenisher ratio. Dilution ratio, which is the ratio of diluted water and the replenishment of diluted water replenished to reduce the conductivity of the developer in the developer tank, or the decrease in development activity according to the operating time or stop time of the automatic developing device. It is possible to set by using the ratio of the integrated amount of the replenishment amount of the development replenisher replenished in order to compensate for the product to the product of the liquid replacement rate and the amount of the developer in the developing tank.

【0024】このような本発明の自動現像装置において
は、前記版検出手段の検出結果に基づいて演算する前記
印刷版の搬送方向に沿った長さである縦寸法から搬送方
向と直交する幅方向の長さである横寸法を判定して、該
判定結果に基づいて処理面積を算出するものであっても
良い。また、本発明の自動現像装置は、前記印刷版の縦
寸法に対する横寸法を記憶する記憶手段を含み、前記処
理面積積算手段が、前記版検出手段の検出結果に基づい
て縦寸法及び横寸法を判定して処理面積を算出するもの
であっても良い。
In the automatic developing apparatus of the present invention as described above, the longitudinal direction, which is the length along the carrying direction of the printing plate calculated based on the detection result of the plate detecting means, extends in the width direction orthogonal to the carrying direction. It is also possible to determine the lateral dimension, which is the length of, and calculate the processing area based on the determination result. Further, the automatic developing device of the present invention includes a storage unit that stores a horizontal dimension with respect to a vertical dimension of the printing plate, and the processing area integrating unit determines the vertical dimension and the horizontal dimension based on the detection result of the plate detecting unit. The determination area may be calculated to calculate the processing area.

【0025】さらに、本発明の自動現像装置は、予め設
定されている前記印刷版の版面積に対する画像面積の比
率に基づいて、前記版面積から処理面積を算出するもの
であっても良く、これにより、より簡単に適正な処理面
積の算出が可能となり、適正な量の溶解抑制剤の補充を
行うことができる。なお、画像面積の比率は、画像の傾
向等に基づいて予め定めても良く、また、現像後の版面
を光反射センサで走査して検出したデータに基づいて定
めるなどの従来公知の任意の方法を適用して設定するこ
とができる。
Further, the automatic developing apparatus of the present invention may calculate the processing area from the plate area based on the ratio of the image area to the plate area of the printing plate which is set in advance. This makes it possible to more easily calculate an appropriate treated area and replenish an appropriate amount of the dissolution inhibitor. The ratio of the image area may be determined in advance based on the tendency of the image or the like, or may be determined in accordance with any conventionally known method such as determining based on the data detected by scanning the plate surface after development with a light reflection sensor. Can be applied and set.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照しながら本発明
の実施の形態を説明する。図1には、本実施の形態に適
用した自動現像装置10の概略構成を示している。この
自動現像装置10は、図示しない露光装置によって画像
露光された印刷版(以下「PS版12」と言う)の現像
処理に適用される。この自動現像装置10では、一例と
して、アルミニウム等によって形成した薄板の支持体を
用い、この支持体の一方の面に感光層を形成した片面タ
イプのPS版12の処理を行う。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic configuration of an automatic developing device 10 applied to this embodiment. The automatic developing device 10 is applied to a developing process of a printing plate (hereinafter referred to as "PS plate 12") imagewise exposed by an exposing device (not shown). In this automatic developing device 10, for example, a thin plate support made of aluminum or the like is used, and a single-sided PS plate 12 having a photosensitive layer formed on one surface of the support is processed.

【0027】自動現像装置10は、PS版12を現像液
に浸漬して現像処理する現像部14と、現像処理の終了
したPS版12の表面に洗浄水を供給して、PS版12
の表面を洗浄する水洗部16と、PS版の表裏面にガム
液等の不感脂化処理液を供給して不感脂化処理を行う不
感脂化処理部18と、PS版12の表裏面に乾燥風を吹
き付けて乾燥処理することにより不感脂化処理液による
保護膜を形成する乾燥部20と、を備えている。
The automatic developing apparatus 10 supplies the PS plate 12 with cleaning water by immersing the PS plate 12 in a developing solution and developing it, and by supplying washing water to the surface of the PS plate 12 which has been developed.
On the front and back surfaces of the PS plate 12, a water washing section 16 for cleaning the surface of the PS plate, a desensitization processing section 18 for supplying a desensitizing solution such as a gum solution to the front and back surfaces of the PS plate for desensitizing treatment And a drying unit 20 that forms a protective film of the desensitizing treatment liquid by blowing dry air to perform a drying treatment.

【0028】自動現像装置10には、処理タンク22が
設けられている。この処理タンク22には、現像部1
4、水洗部16及び不感脂化処理部18となる位置に、
現像液を貯留する現像槽24、水洗水を貯留する水洗槽
26及び不感脂化処理液としてガム液を貯留する不感脂
化処理槽28が形成され、不感脂化処理槽28の下流側
に乾燥部20の設置スペースが設けられると共に、現像
槽24の上流側に挿入部34となるスペースが形成され
ている。
The automatic developing apparatus 10 is provided with a processing tank 22. The processing tank 22 includes a developing unit 1
4, at the position to be the washing section 16 and the desensitizing section 18,
A developing tank 24 for storing a developing solution, a washing tank 26 for storing washing water, and a desensitizing processing tank 28 for storing a gum solution as a desensitizing processing solution are formed, and dried on the downstream side of the desensitizing processing tank 28. A space for installing the portion 20 is provided, and a space serving as the insertion portion 34 is formed on the upstream side of the developing tank 24.

【0029】この処理タンク22の周囲を覆う外板パネ
ル30には、自動現像装置10へのPS版12の挿入側
(図1の紙面左側)にスリット状の挿入口32が形成さ
れている。また、自動現像装置10には、処理タンク2
2の上部及び乾燥部20の上部を覆うカバー36、38
が設けられている。挿入口32側のカバー36は、処理
タンク22の挿入部34から水洗部16の上部を覆い、
カバー38は、水洗部16からから乾燥部20の上部を
覆うように配置される。
A slit-shaped insertion port 32 is formed on the outer plate panel 30 that covers the periphery of the processing tank 22 on the side where the PS plate 12 is inserted into the automatic developing device 10 (on the left side of the paper of FIG. 1). Further, the processing tank 2 is provided in the automatic developing device 10.
The covers 36 and 38 covering the upper part of 2 and the upper part of the drying part 20
Is provided. The cover 36 on the side of the insertion port 32 covers the upper part of the water washing part 16 from the insertion part 34 of the processing tank 22,
The cover 38 is arranged so as to cover the upper part of the drying unit 20 from the water washing unit 16.

【0030】また、カバー36には、現像部14と水洗
部16との間にPS版12を挿入するためのリエントリ
ー用の挿入口(副挿入口)40が設けられている。その
副挿入口40は、現像部14での処理を除く自動現像装
置10での処理を行うときに、PS版12が挿入可能と
なるようにしている。
Further, the cover 36 is provided with a reentry insertion port (sub-insertion port) 40 for inserting the PS plate 12 between the developing section 14 and the water washing section 16. The sub-insertion opening 40 allows the PS plate 12 to be inserted when the processing in the automatic developing device 10 except the processing in the developing section 14 is performed.

【0031】自動現像装置10は、挿入口32と現像部
14の間が挿入部34となっており、この挿入部34に
は、ゴム製の搬送ローラ対42が配設されている。画像
露光されたPS版12は、挿入口32から矢印A方向に
沿って挿入されることにより、搬送ローラ対42の間に
送り込まれる。
In the automatic developing device 10, an insertion portion 34 is provided between the insertion opening 32 and the developing portion 14, and a rubber conveyance roller pair 42 is disposed in the insertion portion 34. The image-exposed PS plate 12 is inserted between the conveying roller pair 42 by being inserted from the insertion port 32 in the direction of the arrow A.

【0032】搬送ローラ対42は、回転駆動されること
により、このPS版12を挿入口32から引き入れなが
ら、水平方向に対して約15°から31°の範囲の角度
で現像部14の現像槽24へ送り込む。なお、PS版1
2は、自動現像装置10で処理されるときに、感光層が
上方へ向けられた状態で挿入口32から挿入される。
The transport roller pair 42 is driven to rotate so that the PS plate 12 is pulled in from the insertion port 32, and the developing tank of the developing section 14 is inclined at an angle of about 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction. Send to 24. In addition, PS version 1
2 is inserted through the insertion opening 32 with the photosensitive layer facing upward when processed by the automatic developing device 10.

【0033】処理タンク22に形成されている現像槽2
4は、底部中央が下方へ向けて突出された略山形状とな
っており、現像槽24内には、PS版12の搬送路の上
流部となる挿入部34側に搬送ローラ対48が配置さ
れ、PS版12の搬送路の中央部及び下流部に、搬送ロ
ーラ対50、52がそれぞれ配置されている。
The developing tank 2 formed in the processing tank 22
4 has a substantially mountain shape in which the center of the bottom is projected downward, and in the developing tank 24, a pair of conveying rollers 48 is arranged on the side of the insertion portion 34 which is the upstream portion of the conveying path of the PS plate 12. The pair of transport rollers 50 and 52 are arranged at the central portion and the downstream portion of the transport path of the PS plate 12, respectively.

【0034】また、現像槽24内には、搬送ローラ対4
8、50の間にガイド板44が配置され、搬送ローラ対
50、52の間に、ガイド板46とこのガイド板46に
対向するブラシローラ58及び搬送ローラ60が配置さ
れ、搬送ローラ対48と搬送ローラ対52の間で、PS
版12を現像液に浸漬しながら略U字状に案内搬送する
搬送路が形成されている。
In the developing tank 24, a pair of conveying rollers 4
The guide plate 44 is disposed between the pair of conveying rollers 50 and 52, the guide plate 46, the brush roller 58 and the conveying roller 60 facing the guide plate 46 are disposed between the pair of conveying rollers 50 and 52, and the pair of conveying rollers 48. PS between the pair of transport rollers 52
A transport path for guiding and transporting the plate 12 in a substantially U shape while immersing the plate 12 in the developer is formed.

【0035】搬送ローラ対42によって現像槽24へ送
り込まれたPS版12は、搬送ローラ対48によって現
像液中に引き入れられて、ガイド板44、46の上面に
沿って搬送されて現像液に浸漬されて現像処理される。
このとき、ブラシローラ58は、PS版12の表面に接
触しながら所定方向へ回転駆動することにより、画像露
光によって不要となった感光層を除去し、PS版12の
現像処理を促進する。
The PS plate 12 sent to the developing tank 24 by the pair of transport rollers 42 is drawn into the developing solution by the pair of transport rollers 48, is transported along the upper surfaces of the guide plates 44 and 46, and is immersed in the developer. Then, development processing is performed.
At this time, the brush roller 58 is rotationally driven in a predetermined direction while being in contact with the surface of the PS plate 12, thereby removing the photosensitive layer which is no longer needed by the image exposure, and promoting the development process of the PS plate 12.

【0036】また、現像槽24内には、ガイド板44、
46のそれぞれの下方にスプレーパイプ54、56が設
けられており、このスプレーパイプ54、56に、現像
槽24内の現像液が供給されるようになっている。これ
により、現像液の処理性能が均一となるように、現像槽
24内の現像液の循環及び攪拌が行われる。なお、スプ
レーパイプ54は、PS版12の搬送幅方向に沿って現
像液を噴出し、スプレーパイプ56は、PS版12の搬
送方向下流側へ向けて現像液を噴出するようにして、P
S版12の表面近傍の液置換を効率的に行うようにして
いるが、スプレーパイプ54、56からの現像液の噴出
方向はこれに限るものではない。
In the developing tank 24, guide plates 44,
Spray pipes 54 and 56 are provided below the respective 46, and the developer in the developing tank 24 is supplied to the spray pipes 54 and 56. As a result, the developing solution is circulated and agitated in the developing tank 24 so that the processing performance of the developing solution becomes uniform. It should be noted that the spray pipe 54 jets the developing solution along the conveyance width direction of the PS plate 12, and the spray pipe 56 jets the developing solution toward the downstream side of the PS plate 12 in the conveying direction.
Although the liquid replacement in the vicinity of the surface of the S plate 12 is efficiently performed, the spraying direction of the developer from the spray pipes 54 and 56 is not limited to this.

【0037】搬送ローラ対52は、例えば外周部がゴム
製のローラによって形成されており、PS版12を挟持
して現像槽24から引き出しながら、水洗槽26へ送り
込む。このとき、搬送ローラ対52は、PS版12の表
裏面に付着している現像液を絞り落とすようになってい
る。
The conveying roller pair 52 is formed of, for example, a roller whose outer peripheral portion is made of rubber, and feeds it to the washing tank 26 while sandwiching the PS plate 12 and pulling it out from the developing tank 24. At this time, the pair of transport rollers 52 is designed to squeeze the developer adhering to the front and back surfaces of the PS plate 12.

【0038】水洗部16には、水洗槽26の上方に配設
された搬送ローラ対62、64によってPS版12の搬
送路が形成されており、PS版12は、搬送ローラ対6
2、64に挟持されて、水洗槽26に貯留されている水
洗水の液面上方を略水平状態で搬送される。
In the water washing section 16, a conveyance path for the PS plate 12 is formed by the conveyance roller pairs 62 and 64 arranged above the water washing tank 26.
It is sandwiched between 2 and 64 and is transported in a substantially horizontal state above the liquid surface of the washing water stored in the washing tank 26.

【0039】水洗部16には、搬送ローラ対62、64
の間に、PS版12の搬送路を挟んで上下に対で、スプ
レーパイプ66、68が設けられている。スプレーパイ
プ66、68は軸線方向がPS版12の幅方向(搬送方
向と直交する方向)に沿って配置され、PS版12の搬
送路に対向する複数の吐出孔(図示省略)が、軸線方向
に沿って形成されている。
The water washing section 16 has a pair of conveying rollers 62, 64.
In between, spray pipes 66 and 68 are provided in a pair in the vertical direction with the transport path of the PS plate 12 interposed therebetween. The spray pipes 66 and 68 are arranged such that the axial direction is along the width direction of the PS plate 12 (direction orthogonal to the transport direction), and a plurality of discharge holes (not shown) facing the transport path of the PS plate 12 are provided in the axial direction. It is formed along.

【0040】このスプレーパイプ66、68には、水洗
槽26内に貯留している水洗水が供給されるようになっ
ており、これにより、水洗部16内を搬送されるPS版
12の表裏面に水洗水が噴出され、PS版12の表裏面
から現像液が洗い落とされる。また、PS版12に供給
された水洗水は、PS版12が搬送ローラ対64に挟持
されて送り出されるときに、搬送ローラ対64によって
絞り落とされ、水洗槽26内に回収される。なお、スプ
レーパイプ66、68からの水洗水の噴出方向は、スプ
レーパイプ66がPS版12の搬送方向上流側で、スプ
レーパイプ68がPS版12の搬送方向下流側としてい
るが、これに限定されず他の方向であっても良い。
The spray pipes 66, 68 are supplied with the washing water stored in the washing tank 26, whereby the front and back surfaces of the PS plate 12 conveyed in the washing section 16 are supplied. The washing water is jetted onto the surface of the PS plate 12, and the developer is washed off from the front and back surfaces of the PS plate 12. Further, the washing water supplied to the PS plate 12 is squeezed by the conveying roller pair 64 and collected in the washing tank 26 when the PS plate 12 is sandwiched between the conveying roller pair 64 and sent out. Note that the direction of jetting the washing water from the spray pipes 66 and 68 is such that the spray pipe 66 is upstream in the transport direction of the PS plate 12 and the spray pipe 68 is downstream in the transport direction of the PS plate 12, but is not limited to this. Instead, it may be in another direction.

【0041】不感脂化処理部18には、不感脂化処理槽
28の上方に搬送ローラ対70が設けられ、PS版12
は、搬送ローラ対64によって搬送ローラ対70へ向け
て搬送されることにより、不感脂化処理槽28内に不感
脂化処理液として貯留されているガム液の液面上方を搬
送される。また、搬送ローラ対70は、このPS版12
を挟持して、不感脂化処理部18から送り出す。
The desensitizing section 18 is provided with a pair of conveying rollers 70 above the desensitizing tank 28, and the PS plate 12 is provided therewith.
Is conveyed by the conveying roller pair 64 toward the conveying roller pair 70, and is thus conveyed above the liquid surface of the gum liquid stored as the desensitizing treatment liquid in the desensitizing treatment tank 28. In addition, the pair of transport rollers 70 is the PS plate 12
And is sent out from the desensitization processing unit 18.

【0042】不感脂化処理部18には、PS版12の搬
送路の上方側にスプレーパイプ72が設けられ、搬送路
の下方側にスプレーパイプ74が設けられている。スプ
レーパイプ72、74は、長手方向(軸線方向)がPS
版12の幅方向に沿い、PS版12の幅方向に沿って複
数の吐出孔が形成されている。
In the desensitizing section 18, a spray pipe 72 is provided above the transport path of the PS plate 12, and a spray pipe 74 is provided below the transport path. The spray pipes 72, 74 have PS in the longitudinal direction (axial direction).
A plurality of discharge holes are formed along the width direction of the plate 12 and along the width direction of the PS plate 12.

【0043】このスプレーパイプ72、74には、不感
脂化処理槽28内に貯留されているガム液が供給される
ようになっており、スプレーパイプ72、74は、この
ガム液をPS版12の表裏面へ向けて吐出する。これに
より、PS版12には、表裏面にガム液が塗布される。
搬送ローラ対70は、PS版12の表裏面から余剰とな
ったガム液を絞り落としながら送り出す。これにより、
PS版12の表裏面にガム液の薄膜が形成される。
The gum liquid stored in the desensitizing tank 28 is supplied to the spray pipes 72 and 74, and the spray pipes 72 and 74 supply the gum liquid to the PS plate 12. Discharge toward the front and back of. As a result, the gum solution is applied to the front and back surfaces of the PS plate 12.
The pair of transport rollers 70 sends out the excess gum liquid while squeezing it from the front and back surfaces of the PS plate 12. This allows
A thin film of gum solution is formed on the front and back surfaces of the PS plate 12.

【0044】なお、PS版12の表裏面から絞り落とさ
れたガム液は、不感脂化処理槽28内に回収される。ま
た、スプレーパイプ72からの処理液の吐出方向は、P
S版12の搬送方向下流側に限らず、他の方向であって
も良く、また、整流板を設け、この整流板へ向けて吐出
した処理液を、整流板でPS版12の幅方向に沿って均
一に拡散させながら、PS版12の表面に流し落として
塗布するようにしてもよい。さらに、スプレーパイプ7
4に換えて、吐出した処理液にPS版12が接触しなが
ら移動することによりPS版12の裏面に処理液を塗布
する吐出ユニット等を用いても良い。
The gum solution squeezed from the front and back surfaces of the PS plate 12 is collected in the desensitizing tank 28. Further, the discharge direction of the processing liquid from the spray pipe 72 is P
It is not limited to the downstream side of the S plate 12 in the conveying direction, but may be in another direction. Further, a rectifying plate is provided, and the treatment liquid discharged toward the rectifying plate is directed in the width direction of the PS plate 12 by the rectifying plate. It may be applied by being dropped onto the surface of the PS plate 12 while being uniformly diffused along the surface. Furthermore, spray pipe 7
Instead of 4, a discharge unit or the like may be used in which the PS plate 12 moves while being in contact with the discharged processing liquid to apply the processing liquid to the back surface of the PS plate 12.

【0045】不感脂化処理部18には、搬送ローラ対7
0の上方に洗浄スプレー76が設けられ、搬送ローラ対
70の上方のローラに接触しながら回転する洗浄ローラ
78が設けられており、予め設定している所定のタイミ
ングで、この洗浄スプレー76から搬送ローラ対70の
上方のローラと洗浄ローラ78の接触位置に、整流板8
0を介して洗浄水を滴下することにより、洗浄水を搬送
ローラ対70の上方のローラの周面に均一に拡散させ
て、搬送ローラ対70の上下のローラの周面から処理液
を洗い流し、ローラの周面に付着した処理液(ガム液)
中の成分が固着して、PS版12を損傷させてしまうの
を防止するようにしている。
The desensitizing section 18 has a pair of conveying rollers 7.
0 is provided with a cleaning spray 76, and a cleaning roller 78 is provided which rotates while contacting the roller above the conveying roller pair 70, and is conveyed from the cleaning spray 76 at a preset predetermined timing. At the contact position between the roller above the roller pair 70 and the cleaning roller 78, the current plate 8
By dropping the cleaning water through 0, the cleaning water is uniformly diffused on the peripheral surfaces of the rollers above the conveying roller pair 70, and the treatment liquid is washed away from the peripheral surfaces of the upper and lower rollers of the conveying roller pair 70, Treatment liquid (gum liquid) attached to the peripheral surface of the roller
The components inside are prevented from sticking and damaging the PS plate 12.

【0046】自動現像装置10には、不感脂化処理部1
8と乾燥部20の間に、仕切り板82が設けられてい
る。この仕切り板82は、PS版12の搬送路の上方
に、処理タンク22の上端と対向するように配置されて
おり、これにより、不感脂化処理部18と乾燥部20の
間にスリット状の挿通口84が形成されている。なお、
仕切り板82は、挿通口84の乾燥部20側に溝状の通
気路が形成された二重構造となっており、乾燥部20内
の空気がこの通気路内に入り込むことにより、挿通口8
4から不感脂化処理部18内に入り込んでしまうのを防
止している。
In the automatic developing device 10, the desensitizing section 1
A partition plate 82 is provided between the unit 8 and the drying unit 20. The partition plate 82 is arranged above the transporting path of the PS plate 12 so as to face the upper end of the processing tank 22, and as a result, a slit-shaped partition plate is provided between the desensitization processing section 18 and the drying section 20. An insertion opening 84 is formed. In addition,
The partition plate 82 has a double structure in which a groove-shaped ventilation passage is formed on the drying portion 20 side of the insertion opening 84, and the air in the drying portion 20 enters into this ventilation passage, so that the insertion opening 8 is formed.
It is prevented from entering the inside of the desensitization processing section 18 from No. 4.

【0047】乾燥部20内には、挿通口84の近傍に、
PS版12を支持する支持ローラ86が配設され、ま
た、PS版12の搬送方向の中央部及び、排出口88の
近傍には、搬送ローラ対90及び搬送ローラ対92が配
設されている。PS版12は、支持ローラ86及び搬送
ローラ対90、92によって乾燥部20内を搬送された
後に、排出口88から排出される。
In the drying section 20, in the vicinity of the insertion opening 84,
A support roller 86 that supports the PS plate 12 is disposed, and a transport roller pair 90 and a transport roller pair 92 are disposed in the central portion of the PS plate 12 in the transport direction and in the vicinity of the discharge port 88. . The PS plate 12 is conveyed through the drying section 20 by the supporting roller 86 and the pair of conveying rollers 90 and 92, and then discharged from the discharge port 88.

【0048】支持ローラ86と搬送ローラ対90との間
及び、搬送ローラ対90と搬送ローラ対92との間に
は、PS版12の搬送路を挟んで対で噴出しダクト9
4、96が配設されている。噴出しダクト94、96
は、長手方向がPS版12の幅方向に沿って配設されて
おり、PS版12の搬送路に対向する面にスリット孔9
8が設けられている。
Between the support roller 86 and the conveying roller pair 90 and between the conveying roller pair 90 and the conveying roller pair 92, the conveying duct of the PS plate 12 is sandwiched to form a pair of ejection ducts 9.
4, 96 are provided. Jet ducts 94, 96
Are arranged in the longitudinal direction along the width direction of the PS plate 12, and the slit holes 9 are formed on the surface of the PS plate 12 facing the conveyance path.
8 are provided.

【0049】噴出しダクト94、96は、図示しない乾
燥風発生手段によって発生された乾燥風が、長手方向の
一端側から供給されると、この乾燥風をスリット孔98
からPS版12の搬送路へ向けて吐出してPS版12に
吹き付け、PS版12の表裏面の乾燥処理を行う。
When the dry air generated by the dry air generating means (not shown) is supplied to the ejection ducts 94 and 96 from one end side in the longitudinal direction, the dry air is slit holes 98.
Is discharged toward the transport path of the PS plate 12 and sprayed onto the PS plate 12, and the front and back surfaces of the PS plate 12 are dried.

【0050】一方、自動現像装置10には、下面が現像
槽24に貯留される現像液の液面より下方となるように
遮蔽蓋100が配置され、現像槽24内の現像液の液面
が空気と接触する面積を狭めている。また、カバー36
の副挿入口(リエントリー用の挿入口)40には、図示
しない遮蔽部材によって閉塞されており、この遮蔽部材
によって外気が現像部14内に入り込むのを防止してい
る。
On the other hand, the automatic developing device 10 is provided with a shielding lid 100 such that the lower surface thereof is lower than the liquid level of the developing solution stored in the developing tank 24, and the liquid level of the developing solution in the developing tank 24 is The area in contact with air is narrowed. In addition, the cover 36
The sub-insertion opening (re-entry insertion opening) 40 is closed by a shielding member (not shown), and this shielding member prevents outside air from entering the developing unit 14.

【0051】自動現像装置10では、現像槽24内の現
像液の液面を、遮蔽蓋100で覆うことにより、現像槽
24内の現像液が、空気中の炭酸ガス等と接触してしま
うことによる劣化や水分の蒸発を抑えるようにしてい
る。なお、遮蔽蓋100及び処理タンク22と搬送ロー
ラ対48や搬送ローラ対52等の間にシリコンゴム等に
よって形成したブレード状の遮蔽部材(図示省略)を設
けて、現像槽24内の現像液が新鮮な外気と接触した
り、現像液中の水分が蒸発してしまうのを防止してもよ
く、より好ましい。
In the automatic developing device 10, by covering the liquid surface of the developing solution in the developing tank 24 with the shielding lid 100, the developing solution in the developing tank 24 comes into contact with carbon dioxide gas in the air. We are trying to prevent deterioration and evaporation of water due to. A blade-shaped shielding member (not shown) made of silicon rubber or the like is provided between the shielding lid 100 and the processing tank 22 and the conveying roller pair 48, the conveying roller pair 52, etc. It is more preferable because it may prevent contact with fresh outside air or evaporation of water in the developer.

【0052】一方、図2には、自動現像装置10の配管
系統の概略を示している。自動現像装置10には、循環
ポンプ102、104、106が設けられている。循環
ポンプ102の入側には、配管108の一端が接続して
おり、この配管108の他端が、現像槽24の底部に開
口している。また、循環ポンプ102の出側には、配管
110の一端が接続し、この配管110の他端がスプレ
ーパイプ54、56のそれぞれに接続している。
On the other hand, FIG. 2 schematically shows a piping system of the automatic developing device 10. The automatic developing device 10 is provided with circulation pumps 102, 104 and 106. One end of a pipe 108 is connected to the inlet side of the circulation pump 102, and the other end of the pipe 108 opens at the bottom of the developing tank 24. Further, one end of a pipe 110 is connected to the outlet side of the circulation pump 102, and the other end of the pipe 110 is connected to each of the spray pipes 54 and 56.

【0053】循環ポンプ104は、入側に接続している
配管112が水洗槽26の底部に開口し、出側に接続し
ている配管114がスプレーパイプ66、68に接続し
ている。また、循環ポンプ106は、入側に接続してい
る配管116が不感脂化処理槽28の底部に開口し、出
側に接続している配管118がスプレーパイプ72、7
4に接続している。
In the circulation pump 104, a pipe 112 connected to the inlet side is opened at the bottom of the washing tank 26, and a pipe 114 connected to the outlet side is connected to the spray pipes 66, 68. Further, in the circulation pump 106, the pipe 116 connected to the inlet side is opened at the bottom of the desensitizing treatment tank 28, and the pipe 118 connected to the outlet side is the spray pipes 72, 7.
Connected to 4.

【0054】これにより、自動現像装置10では、循環
ポンプ102、104、106が作動することにより、
現像槽24内の現像液、水洗槽26内の水洗水及び、不
感脂化処理槽28内のガム液の循環がなされると共に、
PS版12の表裏面へ水洗水及びガム液の供給がなされ
る。
As a result, in the automatic developing device 10, the circulation pumps 102, 104 and 106 are operated,
The developer in the developing tank 24, the washing water in the washing tank 26, and the gum solution in the desensitizing treatment tank 28 are circulated.
Rinsing water and gum solution are supplied to the front and back surfaces of the PS plate 12.

【0055】この現像槽24内には、ヒータ120が設
けられ、このヒータ120によって現像液を加熱しなが
ら循環ポンプ102によって循環することにより、現像
液が、PS版12を最適に処理するように設定されてい
る所定の温度範囲に温調される。
A heater 120 is provided in the developing tank 24. The developing solution is circulated by the circulation pump 102 while being heated by the heater 120, so that the developing solution can optimally process the PS plate 12. The temperature is controlled within a set predetermined temperature range.

【0056】また、配管110には、電導度検出手段と
して現像液の電導度を測定する電導度センサ122が取
り付けられており、自動現像装置10では、電導度セン
サ122によって現像液の電導度の計測が可能となって
いる。
Further, a conductivity sensor 122 for measuring the conductivity of the developing solution is attached to the pipe 110 as a conductivity detecting means, and in the automatic developing device 10, the conductivity sensor 122 detects the conductivity of the developing solution. It is possible to measure.

【0057】一方、自動現像装置10は、補充液タンク
124A、124B、126及び給水タンク128を備
えている。補充液タンク124A、124Bには、現像
槽24に貯留する現像液に対する補充液(現像補充液)
が収容され、補充液タンク126には、不感脂化処理槽
28に貯留するガム液の補充液(ガム補充液)が収容さ
れる。また、給水タンク128には、水洗槽26に貯留
される水洗水の補充、現像槽24へ供給する現像補充液
及び不感脂化処理槽28へ補充するガム補充液の希釈用
等に用いる水が収容される。
On the other hand, the automatic developing device 10 is provided with replenisher tanks 124A, 124B, 126 and a water supply tank 128. In the replenisher tanks 124A and 124B, a replenisher for the developer stored in the developing tank 24 (developer replenisher)
The replenisher tank 126 contains a replenisher for the gum solution stored in the desensitizing tank 28 (gum replenisher). The water supply tank 128 contains water used for replenishing the wash water stored in the washing tank 26, diluting the developing replenisher supplied to the developing tank 24 and the gum replenishing solution supplied to the desensitizing tank 28, and the like. Be accommodated.

【0058】また、自動現像装置10は、補充ポンプ1
30、132、192及び給水ポンプ134、136、
138を備えており、補充ポンプ130は、入側に接続
している配管140が補充液タンク124A内に開口
し、出側に接続している配管142の他端が現像槽24
の上部に現像層24内へ向けて開口しており、補充ポン
プ192は、入側に接続している配管194が補充液タ
ンク124B内に開口し、出側に接続している配管19
6が現像槽24の上部で現像槽24内に向けて開口して
いる。
Further, the automatic developing device 10 includes the replenishing pump 1
30, 132, 192 and water supply pumps 134, 136,
In the replenishment pump 130, the replenishment pump 130 has a pipe 140 connected to the inlet side opening into the replenisher tank 124A, and the other end of the pipe 142 connected to the outlet side is the developing tank 24.
Of the replenishing pump 192, the pipe 194 connected to the inlet side is opened in the replenisher tank 124B, and the replenishing pump 192 is connected to the outlet side.
6 is open at the upper part of the developing tank 24 toward the inside of the developing tank 24.

【0059】また、補充ポンプ132は、入側に接続し
ている配管146が補充液タンク126内に開口し、出
側に接続している配管148が不感脂化処理槽28の上
部で不感脂化処理槽28内へ向けて開口している。
Further, in the replenishment pump 132, the pipe 146 connected to the inlet side opens into the replenisher tank 126, and the pipe 148 connected to the outlet side is desensitized above the desensitizing tank 28. It opens toward the inside of the chemical treatment tank 28.

【0060】これにより、補充ポンプ130が作動する
ことにより、補充液タンク124A内の現像補充液が現
像槽24に供給され、補充ポンプ192が作動すること
により、補充液タンク124B内の補充液が現像槽24
内に供給される。また、補充ポンプ132が作動するこ
とにより、補充液タンク126内のガム補充液が不感脂
化処理槽28内に供給される。
As a result, the replenishment pump 130 operates to supply the development replenisher in the replenisher tank 124A to the developing tank 24, and the replenishment pump 192 operates to remove the replenisher in the replenisher tank 124B. Developing tank 24
Supplied within. Further, by operating the replenishment pump 132, the gum replenisher in the replenisher tank 126 is supplied into the desensitizing tank 28.

【0061】給水タンク128内には、配管152の一
端が開口し、この配管152の他端側が分岐されて、給
水ポンプ134、136、138のそれぞれの入側に接
続している。また、給水ポンプ134は、出側に接続し
ている配管154が現像槽24の上部で現像槽24内に
向けて開口し、給水ポンプ136は、出側に接続してい
る配管158が水洗槽26の上部で水洗槽26内へ向け
て開口しており、給水ポンプ138は、出側に接続して
いる配管162が不感脂化処理槽28の上部で不感脂化
処理槽28内へ向けて開口している。
Inside the water supply tank 128, one end of a pipe 152 is opened, and the other end of the pipe 152 is branched and connected to the respective inlet sides of the water supply pumps 134, 136, 138. Further, in the water supply pump 134, the pipe 154 connected to the outlet side opens toward the inside of the developing tank 24 at the upper part of the developing tank 24, and in the water supply pump 136, the pipe 158 connected to the outlet side is the washing tank. The water supply pump 138 has a pipe 162 connected to the outlet side in the upper part of the dewatering tank 26 toward the inside of the dewatering tank 26. It is open.

【0062】これにより、現像槽24及び不感脂化処理
槽28には、給水ポンプ134、138の作動によっ
て、現像補充液、ガム補充液のそれぞれを所定比率で希
釈する水が供給される。また、水洗槽26には、給水ポ
ンプ136の作動によって水洗水が補充される。
As a result, the developing tank 24 and the desensitizing tank 28 are supplied with water for diluting the developer replenisher and the gum replenisher at a predetermined ratio by the operation of the water supply pumps 134 and 138. The washing tank 26 is supplemented with washing water by the operation of the water supply pump 136.

【0063】なお、現像槽24、水洗槽26及び不感脂
化処理槽28のそれぞれには、オーバーフロー管等の図
示しないオーバーフロー手段が設けられており、補充液
が補充されることにより余剰となった処理液(現像液、
水洗水及びガム液)がオーバーフローして排出されるよ
うにしている。
Each of the developing tank 24, the water washing tank 26, and the desensitizing processing tank 28 is provided with overflow means (not shown) such as an overflow pipe, and the replenisher is replenished to cause an excess. Processing liquid (developer,
The washing water and gum solution) are overflowed and discharged.

【0064】自動現像装置10には、洗浄ポンプ166
が設けられ、配管152から分岐された配管が入側に接
続している。また、洗浄ポンプ166は、出側に接続し
ている配管168が洗浄スプレー76に接続しており、
自動現像装置10では、洗浄ポンプ166を作動させ
て、洗浄スプレー76から搬送ローラ対70へ、洗浄液
として水を供給する。このとき、搬送ローラ対70を回
転駆動することにより、洗浄スプレー76から供給され
る水によって搬送ローラ対70の周面を洗浄する。な
お、搬送ローラ対70を洗浄した水は、不感脂化処理槽
28内に回収されるようになっており、この水を、ガム
補充液の希釈水として用いるようにしても良い。
The automatic developing device 10 includes a cleaning pump 166.
Is provided, and the pipe branched from the pipe 152 is connected to the inlet side. Further, in the cleaning pump 166, the pipe 168 connected to the outlet side is connected to the cleaning spray 76,
In the automatic developing device 10, the cleaning pump 166 is operated to supply water as the cleaning liquid from the cleaning spray 76 to the conveying roller pair 70. At this time, by rotating the conveying roller pair 70, the peripheral surface of the conveying roller pair 70 is cleaned with water supplied from the cleaning spray 76. The water used to wash the conveying roller pair 70 is collected in the desensitizing tank 28, and this water may be used as the diluting water for the gum replenishing solution.

【0065】給水タンク128には、フロートバルブ1
70が設けられ、給水タンク128内の水の液面変化に
応じて水道水等が供給されるようにしている。なお、自
動現像装置10としては、給水ポンプを設けて、フロー
トバルブ170の検出する液面変化に応じて、装置外に
設けている水タンクから給水タンク128に水を供給す
るものであっても良い。
In the water supply tank 128, the float valve 1
70 is provided so that tap water or the like is supplied according to the change in the liquid level of the water in the water supply tank 128. It should be noted that the automatic developing device 10 may be one in which a water supply pump is provided and water is supplied from the water tank provided outside the device to the water supply tank 128 in accordance with the change in the liquid level detected by the float valve 170. good.

【0066】また、自動現像装置10では、薬剤ポンプ
172及び薬剤タンク174の装着が可能となってお
り、薬剤ポンプ172と薬剤タンク174を装着し、薬
剤ポンプ172の入側に接続した配管176を薬剤タン
ク174内に開口すると共に、出側に接続する配管17
8を給水タンク128内に開口させることにより、給水
タンク128へ薬剤タンク174内の水垢防止剤等の薬
剤の供給が可能となる。
Further, in the automatic developing device 10, the chemical pump 172 and the chemical tank 174 can be mounted. The chemical pump 172 and the chemical tank 174 are mounted, and the pipe 176 connected to the inlet side of the chemical pump 172 is installed. Piping 17 that opens into the drug tank 174 and connects to the outlet side
By opening 8 in the water supply tank 128, it becomes possible to supply the water supply tank 128 with a medicine such as a scale preventive agent in the medicine tank 174.

【0067】なお、自動現像装置10には、給水ポンプ
134に比較して吐出能力の高い仕込み用ポンプ190
が設けられており、この仕込み用ポンプ190を用いる
ことにより、現像槽24内が空の状態から現像液を調製
する所謂仕込みを、短時間で行うことができるようにな
っている。
The automatic developing device 10 has a charging pump 190 having a higher discharge capacity than the water supply pump 134.
By using this charging pump 190, so-called charging for preparing a developer from the empty state of the developing tank 24 can be performed in a short time.

【0068】また、自動現像装置10の処理タンク22
には、乾燥部20内に乾燥ファン180が取り付けられ
るようになっており、この乾燥ファン180によって吸
引した空気を、図示しないヒータ等によって加熱するな
どして生成した乾燥風を、噴出しダクト94、96へ供
給するようにしている。
Further, the processing tank 22 of the automatic developing apparatus 10
A drying fan 180 is attached to the inside of the drying unit 20, and the drying air generated by heating the air sucked by the drying fan 180 by a heater (not shown) or the like is blown out from the blowing duct 94. , 96.

【0069】一方、図3に示すように、自動現像装置1
0に設けられている制御部200は、図示しないマイク
ロコンピュータを備え、自動現像装置10の作動を制御
するコントローラ202が設けられている。
On the other hand, as shown in FIG.
The control unit 200 provided in No. 0 includes a microcomputer (not shown), and a controller 202 that controls the operation of the automatic developing device 10.

【0070】このコントローラ202には、自動現像装
置10のオン/オフ操作や各種設定等を行う操作パネル
204と共に循環ポンプ102〜106、補充ポンプ1
30、132、192、給水ポンプ134〜138、洗
浄ポンプ166、薬剤ポンプ172、仕込みポンプ19
0、ヒータ120、電導度センサ122が接続されてい
る。
In the controller 202, the circulation pumps 102 to 106 and the replenishment pump 1 are provided together with an operation panel 204 for performing on / off operations and various settings of the automatic developing device 10.
30, 132, 192, water supply pumps 134 to 138, washing pump 166, chemical pump 172, preparation pump 19
0, the heater 120, and the conductivity sensor 122 are connected.

【0071】また、コントローラ202には、PS版1
2の搬送用及びブラシローラ58の駆動用となる駆動モ
ータ206が接続され、乾燥ファン180と共にヒー
タ、温度センサ等を含む乾燥風発生手段208が接続さ
れている。
The controller 202 has a PS plate 1
A drive motor 206 for transporting the second roller and driving the brush roller 58 is connected, and a drying air generating means 208 including a heater, a temperature sensor and the like is connected together with the drying fan 180.

【0072】一方、図1に示すように、自動現像装置1
0には、挿入口32の近傍に版検出手段として、版検出
センサ210が設けられている。この版検出センサ21
0は、挿入口32に送り込まれるPS版12が対向して
いるか否かによってオン/オフが切り替わる。
On the other hand, as shown in FIG.
0, a plate detection sensor 210 is provided near the insertion opening 32 as plate detection means. This plate detection sensor 21
0 is switched on / off depending on whether or not the PS plates 12 fed into the insertion slot 32 face each other.

【0073】自動現像装置10には、PS版12が所謂
センター通しで挿入されるようになっており、版検出セ
ンサ210は、PS版12の幅方向の寸法が異なって
も、挿入口32から挿入されるPS版12を検出できる
ように、PS版12の幅方向の中間部に対向するように
設けられている。
The PS plate 12 is inserted into the automatic developing device 10 through a so-called center through, and the plate detection sensor 210 allows the PS plate 12 to be inserted from the insertion opening 32 even if the size of the PS plate 12 in the width direction is different. The PS plate 12 is provided so as to face the intermediate portion in the width direction of the PS plate 12 so that the inserted PS plate 12 can be detected.

【0074】図3に示すように、コントローラ202に
は、この版検出センサ210が接続しており、コントロ
ーラ202は、この版検出センサ210によってPS版
12ン挿入を検出するようになっている。
As shown in FIG. 3, this plate detection sensor 210 is connected to the controller 202, and the controller 202 detects the PS plate 12 insertion by this plate detection sensor 210.

【0075】これにより、コントローラ202は、操作
パネル204のスイッチ操作によって自動現像装置10
がオンされると、PS版12の処理を可能とする立ち上
げ処理を行い、立ち上げ処理が終了してPS版12の処
理可能となっている状態で、版検出センサ210が挿入
口32から挿入されるPS版12を検出すると、駆動モ
ータ206を作動させて、搬送ローラ対42等の搬送ロ
ーラ及びブラシローラ58を駆動してPS版12の搬送
を開始する。
As a result, the controller 202 causes the automatic developing device 10 to operate by operating the switches on the operation panel 204.
When is turned on, the start-up processing that enables the processing of the PS plate 12 is performed, and in the state where the start-up processing is completed and the PS plate 12 can be processed, the plate detection sensor 210 is inserted from the insertion opening 32. When the PS plate 12 to be inserted is detected, the drive motor 206 is operated to drive the conveyance roller such as the conveyance roller pair 42 and the brush roller 58 to start the conveyance of the PS plate 12.

【0076】これと共に、コントローラ202は、版検
出センサ210よるPS版12の先端検出のタイミング
に基づいて、循環ポンプ104、106を作動させるこ
とにより、PS版12が水洗部16を通過するタイミン
グに合わせてスプレーパイプ66、68から洗浄水を噴
出し、不感脂化処理部18を通過するタイミングに合わ
せてスプレーパイプ72、74からガム液を吐出する。
At the same time, the controller 202 operates the circulation pumps 104 and 106 based on the timing of the front edge detection of the PS plate 12 by the plate detection sensor 210, so that the PS plate 12 passes through the water washing section 16. At the same time, cleaning water is ejected from the spray pipes 66 and 68, and the gum solution is ejected from the spray pipes 72 and 74 at the timing of passing through the desensitizing section 18.

【0077】また、コントローラ202は、乾燥風発生
手段208に設けている図示しない温度センサによって
乾燥風の温度を検出しながら乾燥ファン180及びヒー
タ(図示省略)等を作動させることにより、PS版12
の表面に所定温度の乾燥風を吹き付けるようにしてい
る。
Further, the controller 202 operates the drying fan 180, a heater (not shown), etc. while detecting the temperature of the dry air by a temperature sensor (not shown) provided in the dry air generating means 208, whereby the PS plate 12
A dry air having a predetermined temperature is blown onto the surface of the.

【0078】ところで、PS版12には、赤外線レーザ
用ポジ型感光層が形成されており、自動現像装置10で
は、このPS版12をアルカリ現像液によって現像処理
すると共に、アルカリ現像補充液及び溶解抑制剤水溶液
を補充液として添加(補充)するようにしている。
By the way, the PS plate 12 is provided with a positive type photosensitive layer for infrared laser. In the automatic developing apparatus 10, the PS plate 12 is developed with an alkali developing solution, and at the same time, an alkaline developing replenishing solution and a dissolving solution are used. The inhibitor aqueous solution is added (supplemented) as a replenisher.

【0079】このとき、自動現像装置10では、補充液
タンク124Aにアルカリ現像液の原液(以下、単に
「アルカリ現像補充液」とする)を貯留し、補充液タン
ク124Bに溶解抑制剤を含む水溶液(溶解抑制剤水溶
液)を貯留するようにしている。
At this time, in the automatic developing device 10, the stock solution of the alkaline developing solution (hereinafter, simply referred to as "alkali development replenishing solution") is stored in the replenishing solution tank 124A, and the replenishing solution tank 124B contains an aqueous solution containing a dissolution inhibitor. (Dissolution inhibitor aqueous solution) is stored.

【0080】ここで、まず、自動現像装置10で処理す
るPS版12の感光層を説明する。なお、支持体上に感
光層を形成するための組成物を感光性組成物とする。ま
た、PS版12には、感光層の他、更に必要に応じて、
保護層、中間層、バックコート層などのその他の層を設
けたものであっても良い。
First, the photosensitive layer of the PS plate 12 processed by the automatic developing device 10 will be described. The composition for forming the photosensitive layer on the support is referred to as a photosensitive composition. In addition to the photosensitive layer, the PS plate 12 further includes, if necessary,
Other layers such as a protective layer, an intermediate layer and a back coat layer may be provided.

【0081】〔感光層〕赤外線レーザ用ポジ型感光層に
含まれる感光性組成物は、水不溶性でかつアルカリ可溶
性高分子化合物、及び、光を吸収して発熱する化合物を
含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有させて
なる。
[Photosensitive layer] The photosensitive composition contained in the positive type photosensitive layer for infrared laser contains a water-insoluble and alkali-soluble polymer compound and a compound which absorbs light and generates heat, and further, if necessary. Accordingly, other components are contained.

【0082】〔水不溶性、且つ、アルカリ可溶性高分子
化合物〕本実施の形態のPS版12に用いられるアルカ
リ可溶性高分子化合物は、従来公知のものであれば特に
制限はないが、フェノール性水酸基、スルホンアミド
基、活性イミド基のいずれかの官能基を分子内に有する
高分子化合物であることが好ましく、以下のものが例示
されるが、これらに限定されるものではない。
[Water-Insoluble and Alkali-Soluble Polymer Compound] The alkali-soluble polymer compound used in the PS plate 12 of the present embodiment is not particularly limited as long as it is a conventionally known compound. A polymer compound having a functional group of either a sulfonamide group or an active imide group in the molecule is preferable, and the following compounds are exemplified, but the invention is not limited thereto.

【0083】フェノール性水酸基を有する高分子化合物
としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、
m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p
−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルム
アルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール/キシレノー
ル混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロ
ガロールアセトン樹脂が挙げられる。
As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group, for example, phenol formaldehyde resin,
m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p
-, Or m- / p-mixture) mixed formaldehyde resin, novolac resin such as phenol / cresol / xylenol mixed formaldehyde resin, and pyrogallolacetone resin.

【0084】フェノール性水酸基を有する高分子化合物
としてはこの他に、側鎖にフェノール性水酸基を有する
高分子化合物を用いることが好ましい。側鎖にフェノー
ル性水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール
性水酸基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有
する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、
或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて
得られる高分子化合物が挙げられる。
In addition to the above, it is preferable to use a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain as the polymer compound having a phenolic hydroxyl group. As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer composed of a low molecular compound having one or more unsaturated bonds capable of polymerizing with the phenolic hydroxyl group is homopolymerized,
Alternatively, a polymer compound obtained by copolymerizing the above monomer with another polymerizable monomer may be used.

【0085】フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられ
る。
Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group.

【0086】具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニル
アクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリ
レート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタク
リレート等を好適に使用することができる。
Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl)
Acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate , M-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2 -Hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydro) Shifeniru) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate can be suitably used 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate.

【0087】かかるフェノール性水酸基を有する樹脂
は、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
The resin having such a phenolic hydroxyl group may be used in combination of two or more kinds.

【0088】更に、米国特許第4,123,279号明
細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体を併用してもよい。
Further, as described in US Pat. No. 4,123,279, it has an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. You may use together the condensation polymer of phenol and formaldehyde.

【0089】スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物としては、スルホンアミド基を有する重合
性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性
モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げら
れる。
Examples of the alkali-soluble polymer compound having a sulfonamide group include polymer compounds obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer having a sulfonamide group or copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. .

【0090】スルホンアミド基を有する重合性モノマー
としては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの
水素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2
と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低
分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その
中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基
と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換ス
ルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group include a sulfonamide group —NH—SO 2 — in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom in one molecule.
And a polymerizable monomer composed of a low molecular weight compound each having one or more polymerizable unsaturated bonds. Among them, a low molecular weight compound having an acryloyl group, an allyl group or a vinyloxy group and a substituted or mono-substituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable.

【0091】このような化合物としては、例えば、下記
一般式(I)〜一般式(V)で示される化合物が挙げら
れる。
Examples of such a compound include compounds represented by the following general formulas (I) to (V).

【0092】[0092]

【化1】 [Chemical 1]

【0093】式中、X1及びX2は、それぞれ−O−又は
−NR7−を示す。R1及びR4は、それぞれ水素原子又
は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12及びR16は、そ
れぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラ
ルキレン基を表す。R3、R7及びR13は、水素原子、そ
れぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル
基を表す。また、R6及びR17は、それぞれ置換基を有
していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。R8
10及びR14は、水素原子又は−CH3を表す。R11
びR15は、それぞれ単結合又は置換基を有していてもよ
い炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1及び
2は、それぞれ単結合又は−CO−を表す。
In the formula, X 1 and X 2 each represent —O— or —NR 7 —. R 1 and R 4 each represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 2, R 5, R 9 , R 12 and R 16 are each optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkylene group, arylene group, or aralkylene group. R 3, R 7 and R 13 are hydrogen atoms, each alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 8 ,
R 10 and R 14 represents a hydrogen atom or -CH 3. R 11 and R 15 each represent a single bond or an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. Y 1 and Y 2 each represent a single bond or —CO—.

【0094】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。
Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0095】活性イミド基を有するアルカリ可溶性高分
子化合物は、下記式で表される活性イミド基を分子内に
有するものが好ましく、この高分子化合物としては、1
分子中に、下記式で表わされる活性イミド基と、重合可
能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物
からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。
The alkali-soluble polymer compound having an active imide group preferably has an active imide group represented by the following formula in its molecule.
Homopolymerization of a polymerizable monomer consisting of an active imide group represented by the following formula and a low molecular weight compound having at least one polymerizable unsaturated bond in the molecule, or copolymerization of the monomer with another polymerizable monomer The polymer compound obtained by doing so is mentioned.

【0096】[0096]

【化2】 [Chemical 2]

【0097】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
Specific examples of such a compound include:
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-toluenesulfonyl) acrylamide etc. can be used conveniently.

【0098】更に、本発明のアルカリ可溶性高分子化合
物としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及
び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの2種以
上を重合させた高分子化合物、或いはこれら2種以上の
重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得
られる高分子化合物を使用することが好ましい。
Further, as the alkali-soluble polymer compound of the present invention, two or more kinds of the above-mentioned polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, and a polymerizable monomer having an active imide group are used. It is preferable to use a polymer compound obtained by polymerizing the above, or a polymer compound obtained by copolymerizing another polymerizable monomer with these two or more polymerizable monomers.

【0099】フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーに、スルホンアミド基を有する重合性モノマー及び/
又は活性イミド基を有する重合性モノマーを共重合させ
る場合には、これら成分の配合重量比は50:50から
5:95の範囲にあることが好ましく、40:60から
10:90の範囲にあることが特に好ましい。
The polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group is added to the polymerizable monomer having a sulfonamide group and /
Alternatively, when copolymerizing a polymerizable monomer having an active imide group, the blending weight ratio of these components is preferably in the range of 50:50 to 5:95, and in the range of 40:60 to 10:90. Is particularly preferred.

【0100】アルカリ可溶性高分子化合物が前記フェノ
ール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド
基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する
重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの共重合体で
ある場合には、アルカリ可溶性を付与するモノマーは1
0モル%以上含むことが好ましく、20モル%以上含む
ものがより好ましい。共重合成分が10モル%より少な
いと、アルカリ可溶性が不十分となりやすく、現像ラチ
チュードの向上効果が十分達成されないことがある。
The alkali-soluble polymer compound is a copolymer of the above-mentioned polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group, and another polymerizable monomer. In some cases, the monomer that imparts alkali solubility is 1
It is preferably 0 mol% or more, and more preferably 20 mol% or more. When the content of the copolymerization component is less than 10 mol%, the alkali solubility tends to be insufficient, and the effect of improving the development latitude may not be sufficiently achieved.

【0101】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、例えば、下記(1)〜(12)
に挙げるモノマーを用いることができるが、これらに限
定されるものではない。 (1)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又は
2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基
を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エス
テル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミド若しくはメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
Examples of the monomer component to be copolymerized with the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group include the following (1) to (12)
The monomers listed in 1 above can be used, but the present invention is not limited thereto. (1) For example, acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylate such as acrylate. (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl. Alkyl methacrylate such as methacrylate. (4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-
Hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-
Acrylamide such as phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, or methacrylamide. (5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene and chloromethylstyrene. (8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (12) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid.

【0102】アルカリ可溶性高分子化合物が、前記フェ
ノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有す
る重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体の場合、
重量平均分子量が2,000以上、数平均分子量が50
0以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分
子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が
800〜250,000であり、分散度(重量平均分子
量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
When the alkali-soluble polymer compound is a homopolymer or copolymer of the above-mentioned polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group,
Weight average molecular weight of 2,000 or more, number average molecular weight of 50
Those of 0 or more are preferable. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. .

【0103】また、アルカリ可溶性高分子化合物がフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹
脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜
20,000であり、数平均分子量が200〜10,0
00のものが好ましい。
When the alkali-soluble polymer compound is a resin such as phenol formaldehyde resin or cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to
20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,0.
00 is preferable.

【0104】これらアルカリ可溶性高分子化合物は、そ
れぞれ1種類或いは2種類以上を組み合わせて使用して
もよく、前記感光層全固形分中、30〜99重量%、好
ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50〜90
重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性高分子化
合物の添加量が30重量%未満であると感光層の耐久性
が悪化し、また、99重量%を超えると感度、耐久性の
両面で好ましくない。
These alkali-soluble polymer compounds may be used either individually or in combination of two or more, and are used in an amount of from 30 to 99% by weight, preferably from 40 to 95% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer. Preferably 50-90
It is used in the addition amount of weight%. If the amount of the alkali-soluble polymer compound added is less than 30% by weight, the durability of the photosensitive layer is deteriorated, and if it exceeds 99% by weight, both the sensitivity and the durability are unfavorable.

【0105】〔光を吸収して発熱する化合物〕光を吸収
して発熱する化合物とは、700nm以上、好ましくは
750nm〜1200nmの赤外域に光吸収域があり、
この範囲の波長の光において、光/熱変換能を発現する
ものを指し、具体的には、この波長域の光を吸収し熱を
発生する種々の顔料もしくは染料を用いることができ
る。
[Compound that absorbs light and generates heat] The compound that absorbs light and generates heat has a light absorption region in the infrared region of 700 nm or more, preferably 750 nm to 1200 nm,
It refers to those exhibiting light / heat conversion ability in light having a wavelength in this range, and specifically, various pigments or dyes that absorb light in this wavelength range and generate heat can be used.

【0106】前記顔料としては、市販の顔料及びカラー
インデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日
本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技
術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料
が利用できる。
As the pigment, commercially available pigments and color index (CI) handbook, "Latest pigment handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association, 1977), "Latest pigment application technology" (CMC Publishing, 1986) ), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing Co., Ltd., published in 1984).

【0107】前記顔料の種類としては、黒色顔料、黄色
顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔
料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その
他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶
性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレート
アゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔
料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔
料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソイ
ンドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ
顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。
Examples of the pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bonded dyes. . Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments. , Quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.

【0108】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Surface treatment methods include resin or wax surface coating, surfactant attachment, and reactive substances (eg, silane coupling agents, epoxy compounds, polyisocyanates, etc.)
It is possible to consider a method of binding the pigment to the surface of the pigment. The above surface treatment method is "property and application of metal soap" (Koushobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0109】前記顔料の粒径は、0.01〜10μmの
範囲にあることが好ましく、0.05〜1μmの範囲に
あることが更に好ましく、0.1〜1μmの範囲にある
ことが特に好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満の
ときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点で好まし
くなく、また、10μmを越えると感光層の均一性の点
で好ましくない。
The particle diameter of the pigment is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 1 μm, and particularly preferably 0.1 to 1 μm. . When the particle diameter of the pigment is less than 0.01 μm, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the photosensitive layer coating liquid, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the photosensitive layer.

【0110】前記顔料を分散する方法としては、インク
製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用
できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、
アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミ
ル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミ
ル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が
挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出
版、1986年刊)に記載がある。
As a method of dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner may be used. As the disperser, an ultrasonic disperser, a sand mill,
Attritors, pearl mills, super mills, ball mills, impellers, despersers, KD mills, colloid mills, dynatrons, three roll mills, pressure kneaders and the like can be mentioned. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0111】前記染料としては、市販の染料及び文献
(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45
年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体
的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ
染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カル
ボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニ
ン染料等の染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and literatures (for example, "Handbook of Dyes" edited by the Society of Organic Synthesis Chemistry, Showa 45)
The well-known thing described in the annual publication can be used. Specific examples thereof include dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes.

【0112】これらの顔料、若しくは染料のうち赤外
光、若しくは近赤外光を吸収するものが、赤外光若しく
は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。
Of these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in a laser emitting infrared light or near infrared light.

【0113】そのような赤外光、若しくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、若しくは近赤外光を吸収する染料と
しては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭
59−84356号、特開昭59−202829号、特
開昭60−78787号等の公報に記載されているシア
ニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−
181690号、特開昭58−194595号等の公報
に記載されているメチン染料、特開昭58−11279
3号、特開昭58−224793号、特開昭59−48
187号、特開昭59−73996号、特開昭60−5
2940号、特開昭60−63744号等の公報に記載
されているナフトキノン染料、特開昭58−11279
2号等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英
国特許434,875号公報に記載のシアニン染料、米
国特許5,380,635号公報に記載のジヒドロペリ
ミジンスクアリリウム染料等を挙げることができる。
Carbon black is preferably used as such a pigment that absorbs infrared light or near infrared light. Examples of dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Cyanine dyes described in JP-A Nos. 58-173696 and 58-
181690 and methine dyes described in JP-A-58-194595 and JP-A-58-11279.
3, JP-A-58-224793, and JP-A-59-48.
187, JP-A-59-73996, JP-A-60-5.
2940, naphthoquinone dyes described in JP-A-60-63744, and JP-A-58-11279.
Examples thereof include squarylium dyes described in Japanese Patent No. 2 and the like, cyanine dyes described in British Patent 434,875, and dihydroperimidine squarylium dyes described in US Pat. No. 5,380,635.

【0114】また、前記染料として米国特許第5,15
6,938号公報に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用
いられ、また、米国特許第3,881,924号公報に
記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム
塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,32
7,169号)公報に記載のトリメチンチアピリリウム
塩、特開昭58−181051号、同58−22014
3号、同59−41363号、同59−84248号、
同59−84249号、同59−146063号、同5
9−146061号公報に記載されているピリリウム系
化合物、特開昭59−216146号公報に記載のシア
ニン色素、米国特許第4,283,475号公報に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に開示されているピリ
リウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のEp
olight III−178、Epolight III−130、Epolight
III−125、Epolight IV −62A等が、特に好まし
く用いられる。
Further, as the dye, US Pat.
The near-infrared absorption sensitizer described in JP-A-6,938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. 57-142645 (U.S. Pat. No. 4,32
7,169), the trimethine thiapyrylium salt described in JP-A Nos. 58-181051 and 58-22014.
No. 3, No. 59-41363, No. 59-84248,
59-84249, 59-146063, 5
No. 9-146061, a pyrilium compound, a cyanine dye described in JP-A-59-216146, a pentamethinethiopyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fair 5-135
Pyrylium compounds disclosed in JP-A No. 14 and JP-A No. 5-19702 are commercially available as Ep manufactured by Eporin Co.
olight III-178, Epolight III-130, Epolight
III-125, Epolight IV-62A and the like are particularly preferably used.

【0115】また、前記染料として特に好ましい別の例
として米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。
Further, as another particularly preferable example of the dye, there can be mentioned near infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. .

【0116】好ましいシアニン染料としては、例えば、
下記一般式(Z)で表されるものが挙げられる。
Preferred cyanine dyes include, for example:
The thing represented by the following general formula (Z) is mentioned.

【0117】[0117]

【化3】 [Chemical 3]

【0118】前記一般式(Z)中、R1〜R4は、それぞ
れ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素
数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、R1とR2
3とR4はそれぞれ結合して環構造を形成していてもよ
い。
In the general formula (Z), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, or an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkoxy group, a cyclo group. Represents an alkyl group or an aryl group, R 1 and R 2 ,
R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring structure.

【0119】R1〜R4としては、例えば、水素原子、メ
チル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル
基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。
ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、カル
ボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カル
ボキシル基、カルンボン酸エステル、スルホン酸エステ
ル等が挙げられる。
Examples of R 1 to R 4 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, a cyclohexyl group, and the like. It may have a substituent.
Here, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, a sulfonic acid ester, and the like.

【0120】式中、R5〜R10は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基を表
し、前記R5〜R10としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。
In the formula, R 5 to R 10 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, and examples of R 5 to R 10 include a methyl group, Examples thereof include an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group and a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. Here, as the substituent, for example, a halogen atom, a carbonyl group,
Examples thereof include nitro group, nitrile group, sulfonyl group, carboxyl group, carboxylic acid ester and sulfonic acid ester.

【0121】式中、R11〜R13は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R12は、前記R11又は
13と結合して環構造を形成していてもよく、m>2の
場合は、複数のR12同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。
In the formula, R 11 to R 13 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and R 12 represents R 11 described above. Alternatively, it may combine with R 13 to form a ring structure, and when m> 2, a plurality of R 12 may combine with each other to form a ring structure.

【0122】前記R11〜R13としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、R32同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。
Examples of R 11 to R 13 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring formed by combining R 32's , a cyclohexyl ring, and the like, and these groups further have a substituent. May be. Here, as the substituent, for example, a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group,
Examples thereof include carboxylic acid ester and sulfonic acid ester.

【0123】また、mは、1〜8の整数を表し、中で
も、1〜3が好ましい。
In addition, m represents an integer of 1 to 8, and among them, 1 to 3 is preferable.

【0124】式中、R14〜R15は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R14は、R15と結合し
て環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複数
のR34同士が結合して環構造を形成していてもよい。
In the formula, R 14 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and R 14 is the same as R 15 and R 15 . They may be bonded to each other to form a ring structure, and when m> 2, a plurality of R 34 's may be bonded to each other to form a ring structure.

【0125】前記R14〜R15としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、R14同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。
Examples of R 14 to R 15 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring and a cyclohexyl ring in which R 14 are bonded to each other, and these groups further have a substituent. May be. Here, as the substituent, for example, a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group,
Examples thereof include carboxylic acid ester and sulfonic acid ester.

【0126】また、mは、1〜8の整数を表し、中で
も、1〜3が好ましい。
Further, m represents an integer of 1 to 8, and among them, 1 to 3 is preferable.

【0127】式中、X-は、アニオンを表し、例えば、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−O−トル
エンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−
クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スル
ホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等
が挙げられる。
In the formula, X represents an anion, for example,
Perchloric acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-O-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4. 6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-
Chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid and para. Examples include toluene sulfonic acid.

【0128】中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロピ
ルナフタレンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼンス
ルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
Of these, alkylaromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are preferable.

【0129】前記一般式(Z)で表されるシアニン染料
としては、具体的には、以下に示す化合物が好適に用い
られるが、これらに限られるものではない。
As the cyanine dye represented by the general formula (Z), specifically, the following compounds are preferably used, but the cyanine dye is not limited thereto.

【0130】[0130]

【化4】 [Chemical 4]

【0131】これらの顔料若しくは染料は、前記感光層
全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.
1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜1
0重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1〜10重量
%の割合で前記感光性組成物中に添加することができ
る。顔料若しくは染料の添加量が0.01重量%未満で
あると感度が低くなり、また50重量%を越えると感光
層の均一性が失われ、感光層の耐久性が悪くなる。
These pigments or dyes are contained in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer.
1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 1 in the case of dye
It can be added to the photosensitive composition in an amount of 0% by weight, particularly preferably 3.1 to 10% by weight in the case of a pigment. If the amount of the pigment or dye added is less than 0.01% by weight, the sensitivity will be low, and if it exceeds 50% by weight, the uniformity of the photosensitive layer will be lost and the durability of the photosensitive layer will be deteriorated.

【0132】これらの染料若しくは顔料は他の成分と同
一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加し
てもよい。別の層とする場合、熱分解性でありかつ分解
しない状態ではアルカリ可溶性高分子化合物の溶解性を
実質的に低下させる物質を含む層に隣接する層へ添加す
るのが望ましい。また、染料若しくは顔料とアルカリ可
溶性高分子化合物は同一の層が好ましいが、別の層でも
構わない。
These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided separately. In the case of forming another layer, it is desirable to add it to a layer adjacent to a layer containing a substance which is substantially thermally decomposable and which does not substantially decompose the solubility of the alkali-soluble polymer compound. Further, the dye or pigment and the alkali-soluble polymer compound are preferably in the same layer, but may be in different layers.

【0133】〔その他の成分〕前記感光性組成物には、
更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができ
る。例えば、感度を向上させる目的で、環状酸無水物
類、フェノール類、有機酸類、スルホニル化合物類、キ
ノンジアジド化合物、ジアゾニウム塩、アンモニウム
塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩等のオニウム塩、
スルホン化合物類、アミド化合物類を併用することもで
きる。
[Other Components] The photosensitive composition contains
Further, various additives can be added if necessary. For example, for the purpose of improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, organic acids, sulfonyl compounds, quinonediazide compounds, diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, onium salts such as iodonium salts,
Sulfone compounds and amide compounds can also be used together.

【0134】上記の環状酸無水物、フェノール類、有機
酸類、及びスルホニル化合物類の前記感光性組成物固形
分中に占める割合は、0.05〜20重量%が好まし
く、0.1〜15重量%がより好ましく、0.1〜10
重量%が特に好ましい。
The proportion of the above cyclic acid anhydride, phenols, organic acids, and sulfonyl compounds in the solid content of the photosensitive composition is preferably 0.05 to 20% by weight, and 0.1 to 15% by weight. % Is more preferable, and 0.1 to 10
Weight percent is particularly preferred.

【0135】また、前記感光性組成物中には、現像条件
に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−25
1740号公報や特開平3−208514号公報に記載
されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−1
21044号公報、特開平4−13149号公報に記載
されているような両性界面活性剤を添加することができ
る。
Further, in order to increase the stability of processing in the above-mentioned photosensitive composition with respect to developing conditions, JP-A-62-25 has been used.
Nonionic surfactants such as those described in JP 1740 and JP 3-208514 A, JP 59-1
Amphoteric surfactants such as those described in JP-A No. 21044 and JP-A No. 4-13149 can be added.

【0136】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の前記感光性組成物固形分中に占める割合は、0.0
5〜15重量%が好ましく、0.1〜5重量%がより好
ましい。
The ratio of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the solid content of the photosensitive composition is 0.0.
5 to 15% by weight is preferable, and 0.1 to 5% by weight is more preferable.

【0137】前記感光性組成物中には、露光による加熱
後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤
としての染料や顔料を加えることができる。
A printout agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure and a dye or pigment as an image colorant may be added to the photosensitive composition.

【0138】焼き出し剤としては、露光による加熱によ
って酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得
る有機染料の組合せが代表として挙げられる。
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound (photo-acid releasing agent) that releases an acid when heated by exposure with light and an organic dye capable of forming a salt.

【0139】画像着色剤としては、前述の塩形成性有機
染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有
機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性
染料が挙げられる。
As the image colorant, a dye other than the above-mentioned salt-forming organic dye can be used. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes.

【0140】これらの染料は、前記感光性組成物固形分
に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3
重量%の割合で前記感光性組成物中に添加することがで
きる。
These dyes are contained in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight based on the solid content of the photosensitive composition.
It may be added to the photosensitive composition in a weight percentage.

【0141】また、前記感光性組成物中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用い
られる。
If necessary, a plasticizer is added to the photosensitive composition in order to impart flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate,
Tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid oligomers and polymers, and the like are used.

【0142】更に、前記感光性組成物中には必要に応
じ、キノンジアジド類、ジアゾ化合物等の光により分解
する化合物を添加してもよい。これらの化合物の添加量
は、前記感光性組成物固形分に対し、1〜5重量%が好
ましい。
If necessary, a compound such as a quinonediazide compound or a diazo compound which is decomposed by light may be added to the photosensitive composition. The addition amount of these compounds is preferably 1 to 5% by weight based on the solid content of the photosensitive composition.

【0143】〔感光層の製法〕PS版12の感光層は、
通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗
布することにより形成することができる。
[Production Method of Photosensitive Layer] The photosensitive layer of the PS plate 12 is
Usually, it can be formed by dissolving each of the above components in a solvent and coating the solution on a suitable support.

【0144】ここで使用する溶媒としては、エチレンジ
クロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、
メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパ
ノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ
−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メ
チル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることが
できるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒
は単独或いは混合して使用される。
As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone,
Methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide,
N, N-dimethylformamide, tetramethylurea,
Examples thereof include N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene, but are not limited thereto. These solvents may be used alone or as a mixture.

【0145】溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形
分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また
塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)
は、用途によって異なるが、感光性印刷版についていえ
ば一般的に0.5〜5.0g/m 2が好ましい。
The above components in the solvent (total solids including additives)
The concentration of (min) is preferably 1 to 50% by weight. Also
Coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying
Depends on the application,
Generally 0.5-5.0 g / m 2Is preferred.

【0146】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。
Various methods can be used for coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. You can As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate.

【0147】前記感光層中に、塗布性を良化するための
界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号公報
に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加する
ことができる。好ましい添加量は、前記感光層全固形分
に対して0.01〜1重量%、更に好ましくは0.05
〜0.5重量%である。
A surfactant for improving the coatability, for example, a fluorinated surfactant as described in JP-A-62-170950 can be added to the photosensitive layer. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to the total solid content of the photosensitive layer.
~ 0.5% by weight.

【0148】〔支持体〕PS版12に用いる支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラ
スチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例え
ば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィル
ム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プ
ロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セル
ロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のご
とき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しく
はプラスチックフィルム等が含まれる。
[Support] The support used for the PS plate 12 is a dimensionally stable plate-like material, for example, paper laminated with plastic (eg polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), Metal plate (for example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate) , Polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with the above metal, or vapor-deposited, or a plastic film.

【0149】前記支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%
以下である。特に好適なアルミニウムは、純アルミニウ
ムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製
造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでも
よい。このようにPS版12に適用するアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく、従来から公知
公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することがで
きる。
As the support, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. The preferred aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and a slight amount of a foreign element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight
It is the following. Particularly suitable aluminum is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and thus may contain slightly different elements. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the PS plate 12 is not specified, and an aluminum plate which is a publicly known and conventionally used material can be appropriately used.

【0150】アルミニウム板の厚みは、およそ0.1〜
0.6mm程度、好ましくは0.15〜0.4mm、特
に好ましくは0.2〜0.3mmである。
The thickness of the aluminum plate is about 0.1.
It is about 0.6 mm, preferably 0.15 to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.

【0151】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が
行われる。
Prior to roughening the aluminum plate, if desired, a degreasing treatment for removing the rolling oil on the surface is carried out, for example, with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution.

【0152】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることがで
きる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝
酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。ま
た、特開昭54−63902号公報に開示されているよ
うに両者を組み合わせた方法も利用することができる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is carried out by various methods. For example, mechanical surface roughening, electrochemical surface melting and surface roughening, and chemical surface roughening Is selectively dissolved. As the mechanical method, known methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical graining method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can be used.

【0153】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜
を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用い
られる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって
適宜決められる。
The thus roughened aluminum plate is optionally subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment, and then, if desired, subjected to anodizing treatment in order to enhance water retention and abrasion resistance of the surface. It As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

【0154】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70°
C、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、
電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because they vary depending on the electrolyte used, but generally, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight solution, and the liquid temperature is 5 to 70 °.
C, current density 5 to 60 A / dm 2 , voltage 1 to 100 V,
An electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes is suitable.

【0155】陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少
ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像
部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが
付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched. So-called "scratch stains", which adhere to the surface, are likely to occur.

【0156】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。該親水化処理
としては、米国特許第2,714,066号、同第3,
181,461号、第3,280,734号及び第3,
902,734号公報に開示されているようなアルカリ
金属シリケート(例えば、ケイ酸ナトリウム水溶液)法
がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウ
ム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他
に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ
化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,86
8号、同第4,153,461号、同第4,689,2
72号公報に開示されているようなポリビニルホスホン
酸で処理する方法等が用いられる。
After the anodizing treatment, the aluminum surface is optionally subjected to a hydrophilic treatment. Examples of the hydrophilic treatment include US Pat.
181,461, 3,280,734 and 3,
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in Japanese Patent No. 902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolyzed. Besides, potassium fluorozirconate disclosed in JP-B-36-22063 and US Pat. No. 3,276,86.
No. 8, No. 4,153,461, No. 4,689,2
For example, the method of treating with polyvinylphosphonic acid as disclosed in JP-A-72 is used.

【0157】〔その他の層〕本実施の形態に適用するP
S版12は、支持体上に赤外線レーザ用ポジ型感光性組
成物を塗布してなる感光層を設けたものであるが、必要
に応じてその間に下塗層を、前記その他の層として設け
ることができる。
[Other Layers] P applied to this embodiment
The S plate 12 has a photosensitive layer formed by coating a positive type photosensitive composition for infrared laser on a support. An undercoat layer may be provided between them as the above-mentioned other layer, if necessary. be able to.

【0158】下塗層の成分としては、種々の有機化合物
が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デ
キストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン
酸等のアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有して
もよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アル
キルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホス
ホン酸及びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸、
置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン
酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン
酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロ
ホスフィン酸等の有機ホスフィン酸、グリシンやβ−ア
ラニン等のアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩
酸塩等のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選
ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
As the component of the undercoat layer, various organic compounds are used, and examples thereof include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, etc., and substituents. Organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid,
Organic phosphoric acid such as phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent, phenylphosphinic acid which may have a substituent, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid Are selected from the group consisting of organic phosphinic acids, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group, such as triethanolamine hydrochloride.

【0159】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合
溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウ
ム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノー
ル、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若し
くはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた
溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着さ
せ、その後水等によって洗浄、乾燥して有機下塗層を設
ける方法である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol,
A method in which the above-mentioned organic compound is dissolved in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied on an aluminum plate and dried, and water or methanol, ethanol, an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied. Is a method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved to adsorb the above compound, followed by washing with water or the like and drying to form an organic undercoat layer.

【0160】前者の方法では、上記の有機化合物の0.
005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布で
きる。また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜2
0重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬
温度は20〜90°C、好ましくは25〜50°Cであ
り、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1
分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチ
ルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、塩酸、リ
ン酸等の酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整する
こともできる。また、画像記録材料の調子再現性改良の
ために黄色染料を添加することもできる。
In the former method, the organic compounds of 0.
A solution having a concentration of 005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01-2.
0% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25 to 50 ° C, and the immersion time is 0.1 seconds to 20 minutes, preferably 2 seconds. ~ 1
Minutes. The solution used for this can also be adjusted to a pH range of 1 to 12 with a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Further, a yellow dye may be added to improve the tone reproducibility of the image recording material.

【0161】有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/
2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2であ
る。上記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な
耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大
きくても同様である。
The coating amount of the organic undercoat layer is 2 to 200 mg /
m 2 is suitable, and preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same applies when the amount is larger than 200 mg / m 2 .

【0162】PS版12には、必要に応じて前記感光層
の上にオーバーコート層を設けてもよい。該オーバーコ
ート層成分としては、ポリビニルアルコール、メタクリ
レート、アクリレートや通常の感光性印刷版に用いられ
るマット材料等が挙げられる。
The PS plate 12 may be provided with an overcoat layer on the photosensitive layer, if necessary. Examples of the overcoat layer component include polyvinyl alcohol, methacrylate, acrylate, and mat materials used for ordinary photosensitive printing plates.

【0163】ここで、PS版12は、一例として、厚み
0.3mmのアルミニウム板(材質1050)をトリク
ロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと
400メッシュのパミスー水懸濁液を用い、この表面を
砂目立てし、水でよく洗浄した。この板を45℃の25
%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチング
を行い、水洗後、更に20%硝酸に20秒間浸漬し、水
洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g
/m2であった。次ぎにこの板を、7%硫酸を電解液と
して、電流密度15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸
化皮膜を設けた後、水洗し、乾燥した。
As an example of the PS plate 12, an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm was washed with trichlorethylene to degrease it, and then a nylon brush and a 400 mesh pumice water suspension were used. The surface was grained and washed well with water. This plate at 25 ℃ 25
% Sodium hydroxide aqueous solution for 9 seconds for etching, and after rinsing with water, further dipping in 20% nitric acid for 20 seconds and rinsing with water. At this time, the etching amount of the grained surface is about 3 g
/ M 2 . Next, this plate was provided with a DC anodic oxide coating of 3 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 7% sulfuric acid as an electrolytic solution, then washed with water and dried.

【0164】これを珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液
で30℃で10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜
を80℃で15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の
被覆量は15mg/m2であった。
This was treated with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C. for 10 seconds, the following undercoat liquid was applied, and the coating film was dried at 80 ° C. for 15 seconds to obtain a substrate. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

【0165】 〔下塗り液の組成〕 ・分子量2.8万の下記共重合体 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g[0165]   [Composition of undercoat liquid] -0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000 ・ Methanol 100g ・ Water 1g

【0166】[0166]

【化5】 [Chemical 5]

【0167】得られた基板に以下の感光層塗布液を塗布
量が1.8g/m2になるよう塗布し、乾燥して得た。
The following photosensitive layer coating liquid was applied to the obtained substrate so that the coating amount was 1.8 g / m 2 , and dried.

【0168】 〔感光層塗布液〕 ・m,p−クレゾールノボラック 1.0g (m/p比=6/4、重量平均分子量8000、 未反応クレゾール0.5重量%含有) ・シアニン染料A(下記構造) 0.1g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ・p−トルエンスルホル酸 0.002g エチルバイオレットの対イオンを 6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.02g フッ素系界面活性剤 (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g ・メチルエチルケトン 12g[0168]   [Photosensitive layer coating liquid] ・ M, p-cresol novolak 1.0 g (M / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 8000,     Unreacted cresol 0.5% by weight included) ・ Cyanine dye A (structure below) 0.1 g ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.05g -P-toluenesulfonic acid 0.002 g The counter ion of ethyl violet     6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid 0.02 g Fluorosurfactant   (Megafuck F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g ・ Methyl ethyl ketone 12g

【0169】[0169]

【化6】 [Chemical 6]

【0170】上記のようにして作製されたPS版12
は、赤外線レーザによる露光、アルカリ現像処理液によ
る現像処理が施される。
PS plate 12 produced as described above
Is subjected to exposure with an infrared laser and development processing with an alkali development processing solution.

【0171】前記感光層は、赤外線レーザによりポジ型
の画像形成が可能であるという利点を有する。従って、
露光工程(像様露光工程)において、像露光に用いられ
る活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域におい
て、700nm以上の発光波長を持つ光源が好ましい。
また、光源は、好ましくは700〜1200nmの発光
波長の赤外線の照射が可能な固体レーザ、半導体レーザ
が特に好ましい。
The photosensitive layer has an advantage that a positive type image can be formed by an infrared laser. Therefore,
In the exposure step (imagewise exposure step), the light source of actinic rays used for image exposure is preferably a light source having an emission wavelength of 700 nm or more in the near infrared to infrared region.
Further, the light source is preferably a solid-state laser or a semiconductor laser, which is preferably capable of irradiating infrared rays having an emission wavelength of 700 to 1200 nm.

【0172】一方、自動現像装置10では、アルカリ現
像液を用いてPS版12の連続処理を行うときに、PS
版12の処理量に見合った溶解抑制剤を補充する。用い
る溶解抑制剤水溶液の濃度や添加する際の処理量は、使
用される感光層の材料や現像液の物性により適宜決定さ
れるが、補充タンクの容量や操作性から、溶解抑制剤水
溶液は現像液、補充液に比較して溶解抑制剤が高濃度で
あるものが好ましく、一般的には、0.1〜100重量
%のものが用いられ、好ましくは0.5〜80重量%程
度、特に好ましくは1〜50重量%程度である。また、
一回に補充する量としては、1〜100ml程度が好ま
しい。
On the other hand, in the automatic developing device 10, when the PS plate 12 is continuously processed using the alkaline developing solution, the PS
A dissolution inhibitor suitable for the throughput of the plate 12 is replenished. The concentration of the dissolution inhibitor aqueous solution to be used and the amount to be treated at the time of addition are appropriately determined depending on the material of the photosensitive layer used and the physical properties of the developing solution. It is preferable that the concentration of the dissolution inhibitor is higher than that of the solution or the replenisher, and generally, 0.1 to 100% by weight is used, preferably about 0.5 to 80% by weight, particularly It is preferably about 1 to 50% by weight. Also,
The amount to be replenished at one time is preferably about 1 to 100 ml.

【0173】溶解抑制剤水溶液の補充は、挿入口に設け
た版検出手段によって検出する印刷版の通過時間から演
算した印刷版の処理面積に応じた量を現像槽に補充すれ
ば良く、1〜50m2処理する毎に添加する。より高い
安定性を求める場合には、少量の版を処理する毎に精度
良く補充することが好ましく、一方、比較的広い許容範
囲幅で管理しようとする場合には、ある程度まとまった
量の版を処理した後に補充すれば良い。
The dissolution inhibitor aqueous solution may be replenished by replenishing the developing tank with an amount corresponding to the processing area of the printing plate calculated from the passage time of the printing plate detected by the plate detecting means provided at the insertion port. 50 m 2 Add after every treatment. When higher stability is required, it is preferable to replenish with precision each time a small amount of plate is processed.On the other hand, when managing with a relatively wide tolerance range, a certain amount of plate should be used. It may be replenished after processing.

【0174】補充液として用いる溶解抑制剤には特に制
限はなく、好ましくは界面活性剤を使用することができ
る。このときの界面活性剤としては、アニオン界面活性
剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界
面活性剤、フッ素系界面活性剤等のいずれであってもよ
い。
The dissolution inhibitor used as a replenisher is not particularly limited, and a surfactant can be preferably used. The surfactant at this time may be an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, a nonionic surfactant, a fluorine-based surfactant, or the like.

【0175】以下、アルカリ現像液に対して補充液とし
て使用しうる溶解抑制剤(界面活性剤)について順次説
明する。
The dissolution inhibitors (surfactants) that can be used as a replenisher for the alkaline developer will be sequentially described below.

【0176】〔アニオン界面活性剤〕アニオン界面活性
剤としては、例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、αオレ
フィンスルホン酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン
酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アル
キルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポ
リオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシ
エチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メ
チル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキ
ルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホ
ン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫
酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸
モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキ
シエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩
類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレン
アルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、ス
チレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレ
フィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフ
タレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が好適に挙げ
られる。
[Anionic Surfactant] Examples of the anionic surfactant include fatty acid salts, abietic acid salts,
Hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, α-olefin sulfonates, linear alkylbenzene sulfonates, branched alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropyl Sulfonates, polyoxyethylene alkylsulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil, sulfuric acid of fatty acid alkyl ester Ester salts, alkyl sulfate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester salts, fatty acid monoglyceride sulfate ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl Ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphoric acid ester salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphoric acid ester salts, styrene / maleic anhydride copolymers Preferable examples thereof include partial saponification products, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalenesulfonate formalin condensates.

【0177】〔カチオン界面活性剤〕カチオン界面活性
剤としては、例えば、アルキルアミン塩類、テトラブチ
ルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩類、
ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレン
ポリアミン誘導体等が挙げられる。
[Cationic Surfactant] Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide,
Examples thereof include polyoxyethylene alkylamine salts and polyethylene polyamine derivatives.

【0178】〔両性界面活性剤〕両性界面活性剤として
は、例えば、カルボキシベタイン類、アルキルアミノカ
ルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル
類、イミダゾリン類等が挙げられる。
[Amphoteric Surfactant] Examples of the amphoteric surfactant include carboxybetaines, alkylaminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines.

【0179】〔ノニオン性界面活性剤〕ノニオン性界面
活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエー
テル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアル
キルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソ
ルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール
脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪
酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキ
シエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエ
チレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂
肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油
類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル
類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−
ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、ト
リアルキルアミンオキシド等が挙げられる。
[Nonionic Surfactant] Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, and polyoxyethylene polyoxypropylene. Alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid Partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethyi Glycerine fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2
Examples thereof include hydroxyalkylamines, polyoxyethylenealkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides and the like.

【0180】これらの具体例を示すと、例えば、ポリエ
チレングリコール、ポリオキシエチレンラウリルエーテ
ル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオキシエ
チレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリル
エーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリ
オキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオキシエチレン
ポリオキシプロピレンセチルエーテル、ポリオキシエチ
レンポリオキシプロピレンベヘニルエーテル、ポリオキ
シエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオク
チルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンステアリル
アミン、ポリオキシエチレンオレイルアミン、ポリオキ
シエチレンステアリン酸アミド、ポリオキシエチレンオ
レイン酸アミド、ポリオキシエチレンひまし油、ポリオ
キシエチレンエチレンアビエチルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニンエーテル、ポリオキシエチレンモノラウ
レート、ポリオキシエチレンモノステアレート、ポリオ
キシエチレングリセリルモノオレート、ポリオキシエチ
レングリセリルモノステアレート、ポリオキシエチレン
プロピレングリコールモノステアレート、オキシエチレ
ンオキシプロピレンブロックポリマー、ジスチレン化フ
ェノールポリエチレンオキシド付加物、トリベンジルフ
ェノールポリエチレンオキシド付加物、オクチルフェノ
ールポリオキシエチレンポリオキシプロピレン付加物、
グリセロールモノステアレート、ソルビタンモノラウレ
ート、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート等
が挙げられる。
Specific examples thereof include polyethylene glycol, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene nonyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene behenyl. Ether, polyoxyethylene polyoxypropylene cetyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene behenyl ether, polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene stearylamine, polyoxyethylene oleylamine, polyoxyethylene stearic acid amide , Polyoxyethylene oleic acid amide, polyoxyethylene castor oil, polyoxyethylene ethyl Nabiethyl ether, polyoxyethylene nonine ether, polyoxyethylene monolaurate, polyoxyethylene monostearate, polyoxyethylene glyceryl monooleate, polyoxyethylene glyceryl monostearate, polyoxyethylene propylene glycol monostearate, Oxyethylene oxypropylene block polymer, distyrenated phenol polyethylene oxide adduct, tribenzylphenol polyethylene oxide adduct, octylphenol polyoxyethylene polyoxypropylene adduct,
Examples thereof include glycerol monostearate, sorbitan monolaurate and polyoxyethylene sorbitan monolaurate.

【0181】これらのノニオン性界面活性剤の重量平均
分子量は、300〜50,000が好ましく、500〜
5,000が特に好ましい。
The weight average molecular weight of these nonionic surfactants is preferably 300 to 50,000, more preferably 500 to 50,000.
5,000 is particularly preferred.

【0182】また、前記ノニオン性界面活性剤は、下記
一般式(VI)で表される化合物が好ましい。
Further, the nonionic surfactant is preferably a compound represented by the following general formula (VI).

【0183】一般式(VI) R1−O(CH2CHR2O)l−(CH2CH
R3O)m−(CH2CHR4O)n−R5 一般式(VI)中、R1〜R5は、それぞれ、水素原子、炭
素数1〜18のアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、カルボニル基、カルボキシレート基、
スルホニル基、スルホネート基を表す。
General formula (VI) R 1 -O (CH 2 CHR 2 O) l- (CH 2 CH
R 3 O) m — (CH 2 CHR 4 O) n —R 5 In formula (VI), R 1 to R 5 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, or an alkynyl group. , An aryl group, a carbonyl group, a carboxylate group,
Represents a sulfonyl group and a sulfonate group.

【0184】前記アルキル基の具体例としては、メチル
基、エチル基、ヘキシル基等が挙げられ、前記アルケニ
ル基の具体例としては、ビニル基、プロペニル基等が挙
げられ、前記アルキニル基の具体例としては、アセチル
基、プロピニル基等が挙げられ、前記アリール基の具体
例としては、フェニル基、4−ヒドロキシフェニル基等
が挙げられる。
Specific examples of the alkyl group include a methyl group, ethyl group and hexyl group, specific examples of the alkenyl group include a vinyl group and a propenyl group, and specific examples of the alkynyl group. Examples of the aryl group include an acetyl group and a propynyl group, and specific examples of the aryl group include a phenyl group and a 4-hydroxyphenyl group.

【0185】l,m,nは0以上の整数を表す。但し、
l,m,nの総てが0であることはない。
L, m and n represent integers of 0 or more. However,
All of l, m, and n are never 0.

【0186】一般式(VI)で表される化合物の具体例と
しては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等のホモポリマー、エチレングリコール、プロピ
レングリコールの共重合体等が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (VI) include homopolymers such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, copolymers of ethylene glycol and propylene glycol, and the like.

【0187】前記共重合体の比率は、10/90〜90
/10が現像液への溶解性と塗布溶媒への溶解性の両立
の点から好ましい。また、共重合体の中でもグラフトポ
リマー、ブロックポリマーが、非画像部のアルカリ現像
液に対する溶解性と画像部のアルカリ現像液に対する耐
溶解性との両立の点から好ましい。
The ratio of the copolymer is 10/90 to 90.
/ 10 is preferable from the viewpoint of achieving both solubility in the developing solution and solubility in the coating solvent. Further, among the copolymers, the graft polymer and the block polymer are preferable from the viewpoint of both the solubility of the non-image area in the alkaline developer and the solubility resistance of the image area in the alkaline developer.

【0188】一般式(VI) で表される化合物のうち、
画像部のアルカリ現像液に対する耐溶解性の点から、特
に下記一般式(VII)で表されるポリオキシエチレン・
ポリオキシプロピレンブロック共重合体が好ましい。
Of the compounds represented by the general formula (VI),
From the viewpoint of resistance to dissolution in an alkaline developer in the image area, polyoxyethylene represented by the following general formula (VII)
Polyoxypropylene block copolymers are preferred.

【0189】一般式(VII) HO−(C2H4O)a−(C3H6O)b
−(C2H4O)c−H 一般式(VII)中、a,b,cは、それぞれ、1〜1
0,000の整数を表す。好適な重合体は、総分子に対
するオキシエチレンの割合が40〜80重量%、好まし
くは40〜60重量%であり、ポリオキシプロピレンの
分子量としては1,000〜4,000、好ましくは
2,000〜3,500の範囲が特に優れている。
[0189] formula (VII) HO- (C 2 H 4 O) a - (C 3 H 6 O) b
- (C 2 H 4 O) c -H general formula (VII), a, b, c are, respectively, 1 to 1
Represents an integer of 10,000. Suitable polymers have a ratio of oxyethylene to the total molecule of 40 to 80% by weight, preferably 40 to 60% by weight, and a molecular weight of polyoxypropylene of 1,000 to 4,000, preferably 2,000. The range of up to 3,500 is particularly excellent.

【0190】〔フッ素系界面活性剤〕フッ素系界面活性
剤は、分子内にパーフルオロアルキル基を含有する界面
活性剤を指す。
[Fluorine-based Surfactant] The fluorine-based surfactant refers to a surfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule.

【0191】このようなフッ素系界面活性剤としては、
例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフル
オロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン
酸エステル等のアニオン型、パーフルオロアルキルベタ
イン等の両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアン
モニウム塩等のカチオン型、パーフルオロアルキルアミ
ンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド
付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリ
ゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリ
ゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性
基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性
基含有ウレタン等の非イオン型が挙げられる。
As such a fluorine-containing surfactant,
For example, perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfonate, anion type such as perfluoroalkyl phosphate, amphoteric type such as perfluoroalkyl betaine, cation type such as perfluoroalkyltrimethylammonium salt, perfluoroalkyl Amine oxide, perfluoroalkyl ethylene oxide adduct, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl group, hydrophilic group and lipophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl Nonionic types such as urethane having a group and a lipophilic group are included.

【0192】以上の界面活性剤のうち、「ポリオキシエ
チレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキ
シプロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオキシアル
キレンに読み替えることもでき、それらもまた前記界面
活性剤に包含される。
Of the above surfactants, the term "polyoxyethylene" can be replaced with polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene and polyoxybutylene, which are also the surfactants mentioned above. Included in.

【0193】前記界面活性剤は、一種単独で使用しても
よいし、併用により効果を損なわない限りにおいては、
2種以上を併用してもよい。
The above-mentioned surfactants may be used alone or as long as the combined use does not impair the effect.
You may use 2 or more types together.

【0194】次に、自動現像装置10でのPS版12の
連続処理に好適に用いられるアルカリ現像処理液につい
て説明する。
Next, the alkaline developing solution which is preferably used for the continuous processing of the PS plate 12 in the automatic developing apparatus 10 will be described.

【0195】アルカリ現像処理液自体にも塩基に加え
て、界面活性剤を含有することが好ましい。これは、界
面活性剤が現像工程において画像部との相互作用を形成
し、画像部の損傷を防止しうるためである。
It is preferable that the alkali developing solution itself contains a surfactant in addition to the base. This is because the surfactant can form an interaction with the image area in the developing process and prevent the image area from being damaged.

【0196】即ち、アルカリ現像処理液に界面活性剤を
含有させることにより、アルカリ濃度を上げた現像能力
の高い液すなわちオーバー条件で現像処理しても、画像
部のアルカリ現像処理液に対する耐溶解性が維持され、
外傷に対する現像安定性が向上するという利点が得られ
る。これは、アルカリ可溶性高分子化合物と界面活性剤
との相互作用に起因するものと推測される。この相互作
用は、例えば、用いられるノニオン界面活性剤がエチレ
ンオキシド鎖又はプロピレンオキシド鎖を含んでいる場
合に強く働き、エチレンオキシド鎖を含んでいる場合に
特に強く働く。これは、アルカリ可溶性基、特にフェノ
ール性水酸基とエチレンオキシド鎖が強い相互作用を形
成するためであると推測される。
That is, by adding a surfactant to the alkali developing solution, the solution having a high alkali concentration and a high developing ability, that is, the solubility of the image area in the alkali developing solution even when the developing process is carried out under the over condition. Is maintained,
The advantage is that the development stability against external damage is improved. It is speculated that this is due to the interaction between the alkali-soluble polymer compound and the surfactant. This interaction is strong, for example, when the nonionic surfactant used contains ethylene oxide chains or propylene oxide chains, and particularly strong when it contains ethylene oxide chains. It is speculated that this is because the alkali-soluble group, particularly the phenolic hydroxyl group and the ethylene oxide chain form a strong interaction.

【0197】アルカリ現像液に添加しうる溶解抑制剤と
しては、特に制限はなく、前記溶解抑制剤水溶液におい
て例示した界面活性剤であれば、いずれも用いることが
できる。
The dissolution inhibitor that can be added to the alkaline developer is not particularly limited, and any of the surfactants exemplified in the aqueous solution of the dissolution inhibitor can be used.

【0198】これらの界面活性剤のアルカリ現像処理液
に対する添加量は、好ましくは、0.001〜10重量
%であり、より好ましくは、0.01〜5重量%であ
り、特に好ましくは、0.03〜3重量%である。
The amount of these surfactants added to the alkaline development processing solution is preferably 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight, and particularly preferably 0. 0.03 to 3% by weight.

【0199】添加量が、0.001重量%より少ない場
合には、界面活性剤の添加効果が得難く、10重量%よ
りも多い場合には、現像性が低下する傾向がある。
If the amount added is less than 0.001% by weight, the effect of adding the surfactant is difficult to obtain, and if it is more than 10% by weight, the developability tends to decrease.

【0200】〔塩基〕アルカリ現像処理液には、その主
成分として塩基が含有される。
[Base] The alkali developing solution contains a base as a main component.

【0201】塩基としては、従来から公知のアルカリ
剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げ
られる。
Examples of the base include conventionally known alkali agents such as inorganic alkali agents and organic alkali agents.

【0202】無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウ
ム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二
アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ア
ンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、
炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウ
ム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。
Examples of the inorganic alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate and phosphoric acid. Diammonium, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate,
Examples thereof include ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonium borate and the like.

【0203】有機アルカリ剤としては、例えば、モノメ
チルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノ
エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モ
ノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイ
ソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノール
アミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、
モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミ
ン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が
挙げられる。
Examples of the organic alkaline agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine. ,
Examples thereof include monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine.

【0204】塩基は、一種単独で使用してもよいし、二
種以上を併用してもよい。これらの塩基の中でも、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由
は、これらの量を調整することにより広いpH領域での
pH調整が可能となるためである。また、リン酸三ナト
リウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム等もそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
The bases may be used alone or in combination of two or more. Among these bases, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. The reason is that adjusting these amounts enables pH adjustment in a wide pH range. In addition, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they have a buffering effect.

【0205】現像性向上のため、前記アルカリ現像処理
液のアルカリ濃度を上げ、所謂オーバー条件で処理する
ことが好ましいが、このためには、塩基の添加量を調整
すればよい。即ち、塩基を、アルカリ現像処理液が強ア
ルカリ性、例えば、pHが12.5〜14.0になるよ
うに、好ましくはpHが12.8〜13.8になるよう
に、アルカリ現像処理液に添加すればよい。
In order to improve the developing property, it is preferable to increase the alkali concentration of the alkali developing treatment solution and to perform the treatment under the so-called over condition. For this purpose, the addition amount of the base may be adjusted. That is, the base is added to the alkali developing solution so that the alkali developing solution is strongly alkaline, for example, the pH is 12.5-14.0, preferably the pH is 12.8-13.8. It may be added.

【0206】アルカリ現像処理液は、塩基としてケイ酸
アルカリを含有した、又は、塩基にケイ素化合物を混ぜ
系中でケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シ
リケート現像液」としてもよい。また、ケイ酸アルカリ
を含有せず、非還元糖と塩基とを含有した所謂「ノンシ
リケート現像液」としてもよい。
The alkali developing solution may be a so-called "silicate developing solution" containing an alkali silicate as a base or an alkali silicate mixed with a silicon compound in the system. Further, a so-called "non-silicate developer" containing no non-reducing sugar and a base without containing alkali silicate may be used.

【0207】〔ケイ酸アルカリ〕前記ケイ酸アルカリと
しては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リ
チウム、ケイ酸アンモニウム等が挙げられ、単独又は組
合せて用いることができる。ケイ酸アルカリのSiO2
/M2Oモル比(Mはアルカリ金属を表す)は、0.3
〜3.0が好ましく、0.5〜2.0が特に好ましい。
上記のモル比が3.0を越えるにつれて現像性が低下す
る傾向がある。また上記モル比が0.3より小さくなる
につれてアルカリ強度が高くなっていくので、感光性印
刷版の支持体として汎用されているアルミニウム板等の
金属をエッチングする弊害が出てくるようになる。
[Alkali Silicate] Examples of the alkali silicate include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, and ammonium silicate, which may be used alone or in combination. SiO 2 of alkali silicate
/ M 2 O molar ratio (M represents an alkali metal) is 0.3
Is preferably 3.0 to 3.0, particularly preferably 0.5 to 2.0.
When the above molar ratio exceeds 3.0, the developability tends to decrease. Further, as the above-mentioned molar ratio becomes smaller than 0.3, the alkali strength increases, so that the harmful effect of etching a metal such as an aluminum plate generally used as a support of a photosensitive printing plate comes to appear.

【0208】シリケート現像液中のケイ酸アルカリの濃
度は、1〜10重量%が好ましく、1.5〜7重量%が
特に好ましい。10重量%より高くなると沈殿や結晶が
生成しやすくなり、また廃液時の中和に際してゲル化し
やすくなるので廃液処理が煩雑になる。また、1重量%
より低くなると現像力、処理能力が低くなる。
The concentration of alkali silicate in the silicate developer is preferably 1 to 10% by weight, particularly preferably 1.5 to 7% by weight. If it is higher than 10% by weight, precipitates and crystals are likely to be formed, and gelation is likely to occur during neutralization at the time of waste liquid, so that waste liquid treatment becomes complicated. Also, 1% by weight
The lower the level, the lower the developing power and the processing capacity.

【0209】〔非還元糖〕ケイ酸アルカリを含有せず、
非還元糖と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像
液」を用いて、現像処理を行うと、赤外線感光性印刷版
における感光層の表面を劣化させることがなく、感光層
の着肉性を良好な状態に維持することができる。また、
赤外線感光性印刷版は、現像ラチチュードが狭く、現像
液pHによる画線幅等の変化が大きいが、ノンシリケー
ト現像液にはpHの変動を抑える緩衝性を有する非還元
糖が含まれているため、シリケートを含む現像処理液を
用いた場合に比べて有利である。更に、非還元糖は、シ
リケートに比べて液活性度を制御するための電導度セン
サ−やpHセンサー等を汚染し難いため、この点でも、
ノンシリケート現像液は有利である。
[Non-reducing sugar] Does not contain alkali silicate,
When a developing treatment is performed using a so-called "non-silicate developer" containing a non-reducing sugar and a base, the surface of the photosensitive layer in the infrared-sensitive printing plate is not deteriorated and the inking property of the photosensitive layer is improved. It can be kept in good condition. Also,
The infrared-sensitive printing plate has a narrow development latitude and a large change in the image width and the like depending on the pH of the developing solution, but the non-silicate developing solution contains a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses fluctuations in pH. , Which is advantageous as compared with the case where a developing solution containing silicate is used. Further, non-reducing sugar is less likely to contaminate the conductivity sensor for controlling the liquid activity and the pH sensor, etc., as compared with silicate, and therefore in this respect also,
Non-silicate developers are advantageous.

【0210】非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケト
ン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同
士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非
糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元し
た糖アルコールに分類され、何れも好適に用いることが
できる。なお、PS版12の現像処理には、特開平8−
305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用
することができる。
The non-reducing sugar is a saccharide that does not have a free aldehyde group or ketone group and does not exhibit reducing properties, and is a trehalose-type oligosaccharide in which reducing groups are bound to each other, or a reducing group of a saccharide is bound to a non-saccharide. They are classified into glycosides and sugar alcohols obtained by hydrogenating sugars and reducing them, and any of them can be preferably used. Incidentally, the development processing of the PS plate 12 is described in JP-A-8-
The non-reducing sugar described in JP-A-305039 can be preferably used.

【0211】トレハロース型少糖類としては、例えば、
サッカロース、トレハロース等が挙げられる。
Examples of trehalose-type oligosaccharides include:
Examples include sucrose and trehalose.

【0212】配糖体としては、例えば、アルキル配糖
体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられ
る。
Examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides and the like.

【0213】糖アルコールとしては、例えば、D,L−
アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビッ
ト、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−
タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられ
る。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチト
ール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あ
め)等が好適に挙げられる。
As the sugar alcohol, for example, D, L-
Arabite, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannite, D, L-idit, D, L-
Talit, zuricit, alodulcit and the like can be mentioned. Further, maltitol obtained by hydrogenating disaccharide maltose, a reduced product (reduced starch syrup) obtained by hydrogenating oligosaccharide, and the like are preferable.

【0214】これらの非還元糖の中でも、トレハロース
型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、D−
ソルビット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なp
H領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。
Among these non-reducing sugars, trehalose type oligosaccharides and sugar alcohols are preferable, and among them, D-
Sorbit, sucrose, reduced starch syrup, etc.
It is preferable because it has a buffering effect in the H region and is inexpensive.

【0215】これらの非還元糖は、一種単独で使用して
もよいし、二種以上を併用してもよい。
These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more.

【0216】非還元糖のノンシリケート現像液中におけ
る含有量としては、0.1〜30重量%が好ましく、1
〜20重量%がより好ましい。前記含有量が、0.1重
量%未満であると十分な緩衝作用が得られず、30重量
%を越えると高濃縮化し難く、また原価アップの問題が
出てくる。
The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developing solution is preferably 0.1 to 30% by weight, and 1
-20% by weight is more preferable. If the content is less than 0.1% by weight, a sufficient buffering effect cannot be obtained, and if it exceeds 30% by weight, it is difficult to achieve high concentration and there is a problem of cost increase.

【0217】また、非還元糖と組み合わせて用いられる
塩基としては、上記に列挙した塩基が好適に使用され
る。ここで使用される塩基のノンシリケート現像液中に
おける含有量としては、所望のpH、非還元糖の種類、
添加量等に応じて適宜決定される。
Further, as the base used in combination with the non-reducing sugar, the bases listed above are preferably used. As the content of the base used here in the non-silicate developer, desired pH, kind of non-reducing sugar,
It is appropriately determined according to the addition amount and the like.

【0218】なお、還元糖は、塩基と併用すると、褐変
し、pHも徐々に低下し、現像性が低下するため、好ま
しくない。
When a reducing sugar is used in combination with a base, the reducing sugar is browned, the pH is gradually lowered, and the developability is lowered, which is not preferable.

【0219】また、ノンシリケート現像液として、非還
元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属
塩を主成分として用いることもできる。
In the non-silicate developing solution, an alkali metal salt of a non-reducing sugar can be used as a main component instead of using the non-reducing sugar and a base together.

【0220】非還元糖のアルカリ金属塩は、非還元糖
と、アルカリ金属水酸化物とを混合し、非還元糖の融点
以上に加熱し脱水すること、あるいは、非還元糖とアル
カリ金属水酸化物との混合水溶液を乾燥することによっ
て得られる。
The alkali metal salt of a non-reducing sugar is prepared by mixing a non-reducing sugar and an alkali metal hydroxide and heating the mixture to a temperature not lower than the melting point of the non-reducing sugar for dehydration, or a non-reducing sugar and an alkali metal hydroxide. It is obtained by drying a mixed aqueous solution of the product.

【0221】ノンシリケート現像液に、非還元糖以外の
弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用するこ
とができる。
An alkaline buffer solution containing a weak acid other than the non-reducing sugar and a strong base can be used in combination with the non-silicate developing solution.

【0222】前記弱酸としては、解離定数(pKa)が
10.0〜13.2のものが好ましく、例えば、Pergam
on Press社発行のIONISATION CONSTANTS OF ORGANIC
ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION等に記載されているもの
から選択できる。
The weak acid preferably has a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2, and is, for example, Pergam.
ION ISATION CONSTANTS OF ORGANIC issued by on Press
It can be selected from those described in ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION and the like.

【0223】具体的には、2,2,3,3−テトラフル
オロプロパノ−ル−1(pKa:12.74)、トリフ
ルオロエタノール(同12.37)、トリクロロエタノ
ール(同12.24)等のアルコール類、ピリジン−2
−アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4−アルデ
ヒド(同12.05)等のアルデヒド類、サリチル酸
(同13.0)、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同
12.84)、カテコール(同12.6)、没食子酸
(同12.4)、スルホサリチル酸(同11.7)、
3,4−ジヒドロキシスルホン酸(同12.2)、3,
4−ジヒドロキシ安息香酸(同11.94)、1,2,
4−トリヒドロキシベンゼン(同11.82)、ハイド
ロキノン(同11.56)、ピロガロール(同11.3
4)、o−クレゾール(同10.33)、レゾルソノー
ル(同11.27)、p−クレゾール(同10.2
7)、m−クレゾール(同10.09)等のフェノール
性水酸基を有する化合物、2−ブタノンオキシム(同1
2.45)、アセトキシム(同12.42)、1,2−
シクロヘプタンジオンジオキシム(同12.3)、2−
ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム(同12.1
0)、ジメチルグリオキシム(同11.9)、エタンジ
アミドジオキシム(同11.37)、アセトフェノンオ
キシム(同11.35)等のオキシム類、アデノシン
(同12.56)、イノシン(同12.5)、グアニン
(同12.3)、シトシン(同12.2)、ヒポキサン
チン(同12.1)、キサンチン(同11.9)等の核
酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸
(同12.32)、1−アミノ−3,3,3−トリフル
オロ安息香酸(同12.29)、イソプロピリデンジホ
スホン酸(同12.10)、1,1−エチリデンジホス
ホン酸(同11.54)、1,1−エチリデンジホスホ
ン酸1−ヒドロキシ(同11.52)、ベンズイミダゾ
ール(同12.86)、チオベンズアミド(同12.
8)、ピコリンチオアミド(同12.55)、バルビツ
ル酸(同12.5)等が好適に挙げられる。
Specifically, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (pKa: 12.74), trifluoroethanol (12.37), trichloroethanol (12.24). Alcohols such as pyridine-2
Aldehydes such as aldehyde (12.68), pyridine-4-aldehyde (12.05), salicylic acid (13.0), 3-hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol ( 12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7),
3,4-dihydroxysulfonic acid (same as 12.2), 3,
4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,
4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.3)
4), o-cresol (the same 10.33), resorsonol (the same 11.27), p-cresol (the same 10.2)
7), a compound having a phenolic hydroxyl group such as m-cresol (the same 10.09), 2-butanone oxime (the same 1)
2.45), acetoxime (12.42), 1,2-
Cycloheptanedione dioxime (12.3), 2-
Hydroxybenzaldehyde oxime (same as 12.1)
0), dimethylglyoxime (the same 11.9), ethanediamidedioxime (the same 11.37), acetophenone oxime (the same 11.35), adenosine (the same 12.56), inosine (the same 12.2). 5), guanine (same 12.3), cytosine (same 12.2), hypoxanthine (same 12.1), xanthine (same 11.9), and other nucleic acid-related substances, and diethylaminomethylphosphonic acid (same 12). .32), 1-amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (same 12.29), isopropylidene diphosphonic acid (same 12.10), 1,1-ethylidene diphosphonic acid (same 11.54). ), 1,1-ethylidene diphosphonic acid 1-hydroxy (the same 11.52), benzimidazole (the same 12.86), thiobenzamide (the same 12.2).
8), picoline thioamide (the same 12.55), barbituric acid (the same 12.5) and the like are preferable.

【0224】これらの弱酸の中でも、スルホサリチル
酸、サリチル酸が好ましい。
Among these weak acids, sulfosalicylic acid and salicylic acid are preferable.

【0225】これらの弱酸に組み合わせる強塩基として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム等が好適に挙げられ
る。
Strong bases to be combined with these weak acids include, for example, sodium hydroxide, ammonium hydroxide,
Preferable examples include potassium hydroxide and lithium hydroxide.

【0226】これらの強塩基は、一種単独で使用しても
よいし、二種以上を併用してもよい。前記強塩基は、適
宜選択した濃度及び組み合わせによりpHを好ましい範
囲内に調整して使用される。
These strong bases may be used alone or in combination of two or more. The strong base is used by adjusting the pH within a preferable range by appropriately selecting the concentration and the combination.

【0227】アルカリ現像液においては、現像性の促進
や現像カスの分散、感光性平版印刷版用原版の画像部の
親インキ性を高める等の目的で、必要に応じて、現像安
定剤、有機溶剤、還元剤、有機カルボン酸、硬水軟化
剤、界面活性剤等、更に、公知の防腐剤、着色剤、増粘
剤、消泡剤等をその他の成分として添加してもよい。
In the alkaline developer, for the purpose of accelerating the developability, dispersing the development residue, enhancing the ink affinity of the image area of the photosensitive lithographic printing plate precursor, etc. You may add a solvent, a reducing agent, an organic carboxylic acid, a water softener, a surfactant, etc., and also a well-known preservative, a coloring agent, a thickener, a defoaming agent etc. as other components.

【0228】〔現像安定化剤〕現像安定化剤としては、
例えば、特開平6−282079号公報に記載の糖アル
コールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチル
アンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモニ
ウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイド等のホス
ホニウム塩、ジフェニルヨードニウムクロライド等のヨ
ードニウム塩が好ましい例として挙げられる。
[Development Stabilizer] As the development stabilizer,
For example, polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium salts such as diphenyliodonium chloride are preferable. Take as an example.

【0229】また、特開昭50−51324号公報に記
載のアニオン界面活性剤、両性界面活性剤、特開昭55
−95946号公報に記載の水溶性カチオニックポリマ
ー、特開昭56−142528号公報に記載の水溶性の
両性高分子電解質等が挙げられる。
Further, anionic surfactants and amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, JP-A-55
Examples of the water-soluble cationic polymer described in JP-A-95946 and water-soluble amphoteric polymer electrolytes described in JP-A-56-142528.

【0230】更に、特開昭59−84241号公報に記
載のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合
物、特開昭60−111246号公報に記載のポリオキ
シエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水
溶性界面活性剤、特開昭60−129750号公報に記
載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換
したアルキレンジアミン化合物、特開昭61−2155
54号公報に記載の重量平均分子量300以上のポリエ
チレングリコール、特開昭63−175858号公報に
記載のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開
平2−39157号公報に記載の酸又はアルコールに4
モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性
エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン
化合物等が挙げられる。
Further, the alkylene glycol-added organoboron compounds described in JP-A-59-84241 and the polyoxyethylene / polyoxypropylene block-polymerizable water-soluble compounds described in JP-A-60-111246. Surfactants, alkylenediamine compounds substituted with polyoxyethylene / polyoxypropylene described in JP-A-60-129750, JP-A-61-2155.
No. 54, polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more, a fluorinated surfactant having a cationic group as described in JP-A-63-175858, an acid or alcohol described in JP-A-2-39157. To 4
Examples thereof include a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding a mole or more of ethylene oxide, and a water-soluble polyalkylene compound.

【0231】〔有機溶剤〕有機溶剤としては、例えば、
水に対する溶解度が約10重量%以下のものが好まし
く、5重量%以下のものがより好ましい。前記有機溶剤
の具体例としては、1−フェニルエタノール、2−フェ
ニルエタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4
−フェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタ
ノール、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキ
シエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メ
トキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアル
コール、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルア
ルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキ
サノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチル
シクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミン、
N−フェニルジエタノールアミン等が挙げられる。
[Organic Solvent] Examples of the organic solvent include:
The solubility in water is preferably about 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less. Specific examples of the organic solvent include 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, and 4
-Phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol , Benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanolamine,
Examples include N-phenyldiethanolamine.

【0232】有機溶剤のアルカリ現像処理液中における
含有量としては、アルカリ現像処理液の総重量に対して
0.1〜5重量%程度である。
The content of the organic solvent in the alkali developing treatment liquid is about 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the alkali developing treatment liquid.

【0233】含有量は、界面活性剤のアルカリ現像処理
液中における含有量と密接な関係があり、有機溶剤の量
が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ま
しい。これは、界面活性剤の量を少なくし、有機溶剤の
量を多くすると、有機溶剤が完全に溶解せず、良好な現
像性の確保が期待できなくなるからである。
The content is closely related to the content of the surfactant in the alkaline developing solution, and it is preferable to increase the amount of the surfactant as the amount of the organic solvent increases. This is because when the amount of the surfactant is reduced and the amount of the organic solvent is increased, the organic solvent is not completely dissolved and it is impossible to expect to secure good developability.

【0234】〔還元剤〕還元剤としては、有機還元剤、
無機還元剤等が挙げられる。これらの還元剤は、感光性
印刷版の汚れを防止するのに役立つ。
[Reducing Agent] As the reducing agent, an organic reducing agent,
Inorganic reducing agents and the like can be mentioned. These reducing agents help prevent fouling of the photosensitive printing plate.

【0235】有機還元剤の好ましい具体例としては、チ
オサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキ
ノン、レゾルシン、2−メチルレゾルシン等のフェノー
ル化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジン等
のアミン化合物等が挙げられる。
Preferred specific examples of the organic reducing agent include phenol compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, methol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin, and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine.

【0236】無機還元剤の好ましい具体例としては、亜
硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リ
ン酸二水素酸、チオ硫酸、亜ジチオン酸等の無機酸のナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等が挙げられ
る。これらの中でも、汚れ防止効果が特に優れている点
で、亜硫酸塩が好ましい。
Preferred specific examples of the inorganic reducing agent include sodium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite acid, phosphorous acid, phosphite acid, dihydrogen phosphite, thiosulfuric acid and dithionous acid. Examples thereof include potassium salt and ammonium salt. Among these, sulfite is preferable because it has a particularly excellent antifouling effect.

【0237】還元剤のアルカリ現像処理液中における含
有量としては、アルカリ現像処理液の総重量に対して
0.05〜5重量%程度である。
The content of the reducing agent in the alkali developing treatment liquid is about 0.05 to 5% by weight based on the total weight of the alkali developing treatment liquid.

【0238】〔有機カルボン酸〕有機カルボン酸として
は、炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸及び芳香族
カルボン酸等が挙げられる。
[Organic Carboxylic Acid] Examples of the organic carboxylic acid include aliphatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms and aromatic carboxylic acids.

【0239】炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸の
具体例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸等が挙げられる。これらの中でも、炭素数8〜1
2のアルカン酸が特に好ましい。また、これらは、炭素
鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でもよいし、枝分
かれした炭素鎖のものでもよい。
Specific examples of the aliphatic carboxylic acid having 6 to 20 carbon atoms include caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid. Among these, carbon number 8 to 1
The alkanoic acid of 2 is particularly preferred. Further, these may be unsaturated fatty acids having a double bond in the carbon chain, or branched carbon chains.

【0240】炭素原子数6〜20の芳香族カルボン酸の
具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラ
セン環等にカルボキシル基が置換された化合物等が挙げ
られ、より具体的には、o−クロロ安息香酸、p−クロ
ロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ
安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、
2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ
安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジ
ヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、
没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒド
ロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフト
エ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸等が挙げられ
る。これらの中でも、ヒドロキシナフトエ酸が特に好ま
しい。
Specific examples of the aromatic carboxylic acid having 6 to 20 carbon atoms include compounds in which a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring or the like is substituted with a carboxyl group, and more specifically, o- Chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid,
2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid,
Examples thereof include gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid and 2-naphthoic acid. Among these, hydroxynaphthoic acid is particularly preferable.

【0241】脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸
は、水溶性を高める点で、ナトリウム塩、カリウム塩、
アンモニウム塩等として用いるのが好ましい。
Aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids are sodium salts, potassium salts, and
It is preferably used as an ammonium salt or the like.

【0242】有機カルボン酸のアルカリ現像処理液中に
おける含有量としては、特に制限はないが、通常0.1
〜10重量%程度であり、0.5〜4重量%が好まし
い。含有量が、0.1重量%未満であると、その添加効
果が十分でなく、10重量%を越えても、それに見合う
効果が得られない上、併用する別の添加剤のアルカリ現
像処理液中への溶解を妨げることがある。
The content of the organic carboxylic acid in the alkali developing treatment solution is not particularly limited, but is usually 0.1.
It is about 10 to 10% by weight, preferably 0.5 to 4% by weight. If the content is less than 0.1% by weight, the effect of addition is not sufficient, and even if it exceeds 10% by weight, an effect commensurate with it cannot be obtained, and an alkaline development processing solution of another additive used in combination is not obtained. May impede dissolution.

【0243】〔硬水軟化剤〕硬水軟化剤としては、例え
ば、ポリリン酸並びにそのナトリウム塩、カリウム塩及
びアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエ
チレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミン
ヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢
酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサ
ンテトラ酢酸、1,3−ジアミノ−2−プロパノールテ
トラ酢酸等のアミノポリカルボン酸並びにそれらのナト
リウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、アミノトリ
(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メ
チレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メ
チレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ
(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリ(メチレンホスホン酸)、1−ヒドロキシエ
タン−1,1−ジホスホン酸並びにそれらのナトリウム
塩、カリウム塩及びアンモニウム塩等が挙げられる。
[Hard water softener] As the soft water softener, for example, polyphosphoric acid and its sodium salt, potassium salt and ammonium salt, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotritrix. Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra ( Methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylene) Phosphonic acid), 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.

【0244】硬水軟化剤は、そのキレート化力と使用さ
れる硬水の硬度及び量によってアルカリ現像処理液中に
おける最適含有量が変化するが、一般的には、0.01
〜5重量%程度であり、0.01〜0.5重量%が好ま
しい。含有量が、0.01重量%未満であるとその添加
効果が十分でないことがあり、5重量%を越えると、色
抜け等画像部への悪影響が生じることがある。
The optimum content of the water softening agent in the alkali developing treatment solution varies depending on the chelating power and the hardness and amount of the hard water used, but generally 0.01
It is about 5 to 5% by weight, preferably 0.01 to 0.5% by weight. If the content is less than 0.01% by weight, the effect of addition may be insufficient, and if it exceeds 5% by weight, adverse effects such as color loss may occur on the image area.

【0245】アルカリ現像処理液は、以上説明した各成
分の外、水を含有する。また、アルカリ現像処理液は、
未使用時(保管時)には水の含有量を少なくした濃縮液
としておき、使用時には水で希釈するようにしておく
と、運搬上有利である。この場合、アルカリ現像処理液
の濃縮度は、前記各配合成分が分離や析出を起こさない
程度が適当である。
The alkaline developing solution contains water in addition to the components described above. Also, the alkaline developing solution is
It is advantageous in terms of transportation if the concentrate is made to have a reduced water content when not in use (during storage) and diluted with water before use. In this case, it is appropriate that the concentration of the alkali developing solution is such that the above components do not separate or precipitate.

【0246】一方、図3に示すように、コントローラ2
02には、ROM等を用いたメモリ212が設けられ、
また、処理面積算出手段214及び計時手段216が形
成されている。
On the other hand, as shown in FIG.
02 is provided with a memory 212 such as a ROM,
Further, a processing area calculating means 214 and a clocking means 216 are formed.

【0247】コントローラ202は、計時手段216に
よって、自動現像装置10の電源がオンされているとき
には稼動時間を計測し、電源がオフされているときには
停止時間を計測する。また、コントローラ202は、停
止時間および稼動時間に基づいてアルカリ現像液(アル
カリ現像液の原液)の補充量及びこのアルカリ現像液を
所定の比率で希釈する希釈水の補充量を設定し、この設
定に基づいて補充ポンプ130及び給水ポンプ134を
作動させて、現像槽24へのアルカリ現像液と希釈水を
現像液のアルカリ補充液として補充する。すなわち、コ
ントローラ202は、アルカリ補充液の経時補充を、自
動現像装置10が停止している停止時間補充と、自動現
像装置10が稼動している稼動時間補充に分けて行うよ
うにしている。
The controller 202 measures the operating time when the power source of the automatic developing device 10 is turned on by the timing means 216, and measures the stop time when the power source is turned off. Further, the controller 202 sets a replenishment amount of the alkaline developer (stock solution of the alkali developer) and a replenishing amount of diluting water for diluting the alkali developer at a predetermined ratio based on the stop time and the operating time, and the setting is made. Based on the above, the replenishing pump 130 and the water supply pump 134 are operated to replenish the alkaline developing solution and the diluting water to the developing tank 24 as the alkaline replenishing solution of the developing solution. That is, the controller 202 performs the time-dependent replenishment of the alkali replenisher separately for the stop time replenishment in which the automatic developing device 10 is stopped and the operating time replenishment in which the automatic developing device 10 is operating.

【0248】これにより、コントローラ202は、自動
現像装置10の稼動中及び停止中に現像槽24内の現像
液が空気と接触することにより低下する現像液中のアル
カリ成分を補うようにしている。
As a result, the controller 202 compensates for the alkaline component in the developing solution which is reduced when the developing solution in the developing tank 24 comes into contact with air during the operation and stop of the automatic developing apparatus 10.

【0249】また、コントローラ202では、稼動時間
補充時のアルカリ補充液の補充量を、停止時間補充時の
アルカリ補充液の補充量よりも多くなるようにしてい
る。すなわち、自動現像装置10の電源がオンされてい
る稼動中は、ヒータ120によって現像液がPS版12
を最適に処理できる温度(例えば約30°C)に温調さ
れており、搬送用のローラやブラシローラ58等によっ
て攪拌されているために、電源がオフされている停止中
よりも炭酸ガスによる劣化や水分の蒸発が生じ易くなっ
ている。
Further, in the controller 202, the replenishing amount of the alkali replenishing liquid at the time of replenishing the operating time is made larger than the replenishing amount of the alkali replenishing liquid at the time of replenishing the stop time. That is, during the operation in which the power source of the automatic developing device 10 is turned on, the developing solution is supplied to the PS plate 12 by the heater 120.
Is controlled to a temperature (for example, about 30 ° C.) that can be processed optimally, and is agitated by a roller for conveyance, a brush roller 58, etc., so that the carbon dioxide gas is generated more than when the power is off and stopped. Degradation and evaporation of water are likely to occur.

【0250】コントローラ202に設けられているメモ
リ212には、試験結果等によって求めた単位時間当た
りのアルカリ補充液の補充量(アルカリ現像液の補充量
と希釈水の補充量又は、補充ポンプ130と給水ポンプ
134の作動時間など)が記憶されている。この単位時
間当たりのアルカリ補充液の補充量が、停止時間時(停
止時間補充時)よりも稼働時間時(稼動時間補充時)が
多くなっている。
In the memory 212 provided in the controller 202, the replenishing amount of the alkali replenishing solution (the replenishing amount of the alkali developing solution and the diluting water or the replenishing pump 130) per unit time obtained from the test result or the like is stored. The operation time of the water supply pump 134 and the like) are stored. The replenishment amount of the alkali replenishing liquid per unit time is larger during the operation time (when the operation time is replenished) than when it is the stop time (when the stop time is replenished).

【0251】また、コントローラ202は、PS版12
の処理量に基づいてアルカリ補充液を補充する処理補充
を行う。自動現像装置10では、PS版12の処理によ
り消費される現像液中のアルカリ成分を適切に補充され
るようになっている。
Also, the controller 202 is the PS plate 12
The treatment replenishment is performed to replenish the alkali replenisher based on the treatment amount. In the automatic developing device 10, the alkaline component in the developer consumed by the processing of the PS plate 12 is appropriately replenished.

【0252】なお、コントローラ202は、PS版12
の処理量の一例として、PS版12の非画像部分の面積
である処理面積を積算し、この処理面積の積算値が所定
値に達する毎に、予めこの積算値(所定値)に基づいて
設定している量のアルカリ補充液を現像槽24へ補充す
るようにしているが、これに限らず、PS版12の処理
面積や処理枚数などの従来公知の任意のパラメータを用
いてアルカリ補充液の処理補充を行うものであって良
い。
The controller 202 uses the PS version 12
As an example of the processing amount, the processing area, which is the area of the non-image portion of the PS plate 12, is integrated, and every time the integrated value of this processing area reaches a predetermined value, it is set in advance based on this integrated value (predetermined value). Although the amount of the alkaline replenisher used is replenished to the developing tank 24, the present invention is not limited to this, and the conventionally known arbitrary parameters such as the treated area of the PS plate 12 and the number of treated sheets are used to replenish the alkaline replenisher. It may be a process supplement.

【0253】コントローラ202には、電導度演算手段
218及び電導度比較手段220が形成されている。コ
ントローラ202では、アルカリ補充液の補充を行った
後などの予め設定されているタイミングで、電導度セン
サ122を用いて、現像槽24内の現像液の電導度を計
測する。
The controller 202 is provided with an electric conductivity calculating means 218 and an electric conductivity comparing means 220. The controller 202 uses the conductivity sensor 122 to measure the conductivity of the developer in the developing tank 24 at a preset timing such as after replenishing the alkali replenisher.

【0254】電導度演算手段218は、現像槽24内の
現像液の電導度目標値を演算するようになっており、電
導度比較手段220は、電導度演算手段218によって
演算した電導度目標値をしきい値として、電導度センサ
122によって計測した現像槽24内の現像液の電導度
を比較し、現像槽24内の現像液の電導度がしきい値を
上回っていると、給水ポンプ134を作動させて、現像
槽24内に希釈水を補充し、現像槽24内の現像液の電
導度がしきい値(電導度目標値)を下回るようにしてい
る。
The conductivity calculating means 218 calculates the target conductivity value of the developer in the developing tank 24, and the conductivity comparing means 220 calculates the target conductivity value calculated by the conductivity calculating means 218. Is used as a threshold value, the electric conductivity of the developer in the developing tank 24 measured by the electric conductivity sensor 122 is compared, and when the electric conductivity of the developing solution in the developing tank 24 exceeds the threshold value, the water supply pump 134 Is operated to replenish the developing tank 24 with diluting water so that the electric conductivity of the developer in the developing tank 24 falls below a threshold value (electric conductivity target value).

【0255】自動現像装置10では、現像槽24に最初
に貯留する現像液(仕込み液)と、アルカリ補充液とは
電導度が異なる一般的構成となっており、アルカリ補充
液の補充、希釈水の補充等を行うことにより、現像槽2
4内の現像液の電導度は、アルカリ補充液の電導度に近
づくなど、徐々に変化する。このために、電導度演算手
段218は、補充液の補充等を行ったときに、本来ある
べき適正な電導度値である電導度目標値を演算する。
In the automatic developing apparatus 10, the developer (preparing solution) initially stored in the developing tank 24 and the alkali replenisher have a general electric conductivity different from each other. Development tank 2 by replenishing
The conductivity of the developer in 4 gradually changes such as approaching the conductivity of the alkali replenisher. For this reason, the electric conductivity calculating means 218 calculates an electric conductivity target value that is an appropriate electric conductivity value that should be originally obtained when the replenishment liquid is replenished.

【0256】このとき電導度演算手段218は、現像槽
24内の現像液の仕込み液が現像補充液ないし現像液の
電導度を下げるために補充した希釈水に入れ替わった割
合である補充液置換率と、補充液の原液を希釈する希釈
水と電導度を下げるために補充された希釈水と補充液中
の希釈水とのアルカリ現像液(原液)に対する比率であ
る希釈比率と、自動現像装置10の稼動中及び停止中の
現像活性度の低下を補うために補充(経時補充、停止時
間補充と稼動時間補充)されたアルカリ現像液の積算値
の前記液置換率と現像槽24内の現像液量の積に対する
割合と、を用いて演算する。
At this time, the electric conductivity calculating means 218 uses the replenisher replacement ratio, which is the ratio of the developer replenisher in the developing tank 24 to the developing replenisher or the dilution water replenished to reduce the electric conductivity of the developer. And a dilution ratio which is a ratio of the dilution water for diluting the stock solution of the replenisher, the dilution water replenished for reducing the conductivity, and the dilution water in the replenisher to the alkaline developer (stock solution), and the automatic developing device 10 Solution replacement rate of the integrated value of the alkaline developer replenished (time-dependent replenishment, stop time replenishment and operation time replenishment) in order to compensate for the decrease in the development activity during the operation and the stop of the developing solution in the developing tank 24. The ratio of the quantity to the product is calculated.

【0257】これにより、コントローラ202では、ア
ルカリ補充液の補充量に応じた適正な電導度目標値が得
られるようになっている。
As a result, the controller 202 can obtain an appropriate target electric conductivity value according to the replenishing amount of the alkali replenishing liquid.

【0258】なお、電導度は、交流電導度計、交流ブリ
ッジ計、あるいはその他の電導度計などの公知の電導度
計を用いて測定することができるが、電導度計の測定電
流値や発振周波数等は、現像液の組成等により最適条件
が異なる。したがって、電流値は装置的にもまた水溶性
の現像液の電気分解を防ぐためにも或る程度低いことが
好ましく、数μA〜数百mAが好ましい。また、発振周
波数は、現像液中の静電容量成分の関係から数百Hz〜
数百kHzであることが好ましい。
The conductivity can be measured by using a known conductivity meter such as an AC conductivity meter, an AC bridge meter, or other conductivity meter. However, the measured current value or oscillation of the conductivity meter can be used. Optimum conditions such as frequency differ depending on the composition of the developer. Therefore, the current value is preferably low to some extent both in terms of the apparatus and to prevent electrolysis of the water-soluble developer, and is preferably several μA to several hundred mA. In addition, the oscillation frequency is several hundreds Hz from the relationship of the capacitance component in the developing solution.
It is preferably several hundred kHz.

【0259】電解質を含む現像液のインピーダンス値
は、水溶液の温度に依存し、液温が上がるとその値は低
下する。したがって、より好ましくは、温度センサ及び
温度補償回路を付した測定器で、電導度値を測定するこ
とが好ましい。また、補充を制御するコントローラ20
2において、実際に測定した液抵抗値と、液温度から予
め定めた温度における電導度値に換算して温度補償を行
うようにしても良い。
The impedance value of the developing solution containing the electrolyte depends on the temperature of the aqueous solution, and the value decreases as the solution temperature rises. Therefore, it is more preferable to measure the electric conductivity value with a measuring device provided with a temperature sensor and a temperature compensation circuit. In addition, the controller 20 that controls replenishment
In 2, the temperature compensation may be performed by converting the actually measured liquid resistance value and the liquid temperature into an electric conductivity value at a predetermined temperature.

【0260】交流電導度計、交流ブリッジ計、あるいは
その他の電導度計のセンサー設置位置は、測定時に現像
液に浸漬され、現像液の電導度値が測定できる場所であ
れば良く、自動現像装置10では、現像液の循環用の配
管108に設けているが、これに限らず現像槽24内に
設けても良い。また、センサーの検出電極には、白金、
ステンレス等を用いた公知の測定セルを使用することが
できる。
The sensor installation position of the AC conductivity meter, AC bridge meter, or other conductivity meter may be any place where the conductivity value of the developer can be measured by being immersed in the developer at the time of measurement. In FIG. 10, the pipe 108 for circulating the developing solution is provided, but the invention is not limited to this, and may be provided in the developing tank 24. In addition, platinum,
A known measuring cell using stainless steel or the like can be used.

【0261】一方、コントローラ202は、PS版12
の処理面積を算出して、この処理面積に応じて、補充ポ
ンプ192を作動させることにより、現像槽24へ溶解
抑制剤水溶液を補充するようにしている。
On the other hand, the controller 202 uses the PS plate 12
Is calculated, and the replenishment pump 192 is operated in accordance with the treated area to replenish the developing tank 24 with the dissolution inhibitor aqueous solution.

【0262】このとき、コントローラ202では、版検
出センサ210によってPS版12の先端を検出する
と、版検出センサ210がPS版12の先端から後端ま
でを検出する時間を図示しないタイマーによって計測
し、この計測結果からPS版12の搬送方向に沿った長
さを算出する。すなわち、コントローラ202は、版検
出センサ210を用い、一定速度で搬送されるPS版1
2が挿入口32を通過する時間を計測し、この通過時間
とPS版12の搬送速度からPS版12の搬送方向に沿
った長さ(縦寸法)を算出する。
At this time, in the controller 202, when the plate detection sensor 210 detects the front end of the PS plate 12, the timer for detecting the plate detection sensor 210 from the front end to the rear end of the PS plate 12 is measured by a timer (not shown). From this measurement result, the length of the PS plate 12 along the transport direction is calculated. That is, the controller 202 uses the plate detection sensor 210 and the PS plate 1 conveyed at a constant speed.
The time when 2 passes through the insertion opening 32 is measured, and the length (longitudinal dimension) along the transport direction of the PS plate 12 is calculated from this transit time and the transport speed of the PS plate 12.

【0263】また、コントローラ202のメモリ212
には、予め算出して設定されているPS版12の搬送方
向に沿った長さである縦寸法毎の幅寸法の平均値が、例
えば表1に示すテーブルとして記憶されている。
Also, the memory 212 of the controller 202
In Table 1, the average value of the width dimension for each vertical dimension, which is the length along the transport direction of the PS plate 12 which is calculated and set in advance, is stored as a table shown in Table 1, for example.

【0264】[0264]

【表1】 [Table 1]

【0265】コントローラ202は、版検出センサ21
0を用いてPS版12の縦寸法を算出すると、メモリ2
12に記憶しているテーブルから縦寸法に該当する横寸
法を読出して、版面積を算出する。
The controller 202 uses the plate detection sensor 21.
When the vertical dimension of the PS plate 12 is calculated using 0, the memory 2
The horizontal dimension corresponding to the vertical dimension is read from the table stored in 12, and the plate area is calculated.

【0266】また、コントローラ202のメモリ212
には、自動現像装置10で処理するPS版12の版面積
に対する非画像部分の面積の比率である非画像面積率又
は画像部分の面積の比率である画像面積率が予め設定さ
れて記憶されており、コントローラ202は、版面積と
非画像面積率又は画像面積率から現像液による処理面積
を算出するようになっている。なお、以下では、処理面
積の算出に非画像面積率を用いる。また、非画像面積率
又は画像面積率は、PS版12に形成する画像の傾向か
ら設定した値を用いても良く、現像処理の終了したPS
版12の版面(画像面)の画像部分又は非画像部分を、
反射型の光センサを用いて走査的に検出して、このデー
タを用いて設定するしたものであっても良い。
Also, the memory 212 of the controller 202
In the table, the non-image area ratio, which is the ratio of the area of the non-image portion to the plate area of the PS plate 12 processed by the automatic developing device 10, or the image area ratio, which is the ratio of the area of the image portion, is preset and stored. Therefore, the controller 202 calculates the processing area by the developing solution from the plate area and the non-image area ratio or the image area ratio. In the following, the non-image area ratio is used to calculate the processing area. Further, as the non-image area ratio or the image area ratio, a value set from the tendency of the image formed on the PS plate 12 may be used, and the PS after the development processing is completed.
The image portion or the non-image portion of the plate surface (image surface) of the plate 12,
It is also possible to use a reflection type optical sensor to detect it in a scanning manner and set it using this data.

【0267】コントローラ202では、この処理面積を
順次積算して、積算値が所定値に達する毎に、処理面積
の積算値に基づいて設定されている量の溶解抑制剤水溶
液を現像槽24へ補充するようにしている。
In the controller 202, the processing areas are sequentially integrated, and each time the integrated value reaches a predetermined value, the developing tank 24 is replenished with the amount of the dissolution inhibitor aqueous solution set based on the integrated value of the processing area. I am trying to do it.

【0268】これにより、自動現像装置10では、PS
版12の処理に応じて消費されたり、PS版12の表面
に付着して現像槽24から持ち出されて減少する溶解抑
制剤を補充するようにしている。
Accordingly, in the automatic developing device 10, PS
The dissolution inhibitor is replenished, which is consumed in accordance with the processing of the plate 12 or is adhering to the surface of the PS plate 12 and taken out from the developing tank 24 to decrease.

【0269】なお、自動現像装置10では、アルカリ補
充液の処理補充を行うときにも、この処理面積を用いる
ようにしている。また、コントローラ202は、例え
ば、操作パネル204のキー操作によって入力されるP
S版12のサイズや処理するPS版12の平均的な非画
像面積率を、メモリ212に記憶するようにしている。
In the automatic developing device 10, this processing area is used also when the processing replenishment of the alkali replenishing solution is performed. Further, the controller 202 is, for example, a P input by a key operation of the operation panel 204.
The size of the S plate 12 and the average non-image area ratio of the PS plate 12 to be processed are stored in the memory 212.

【0270】ここで、本実施の形態の作用を説明する。Here, the operation of the present embodiment will be described.

【0271】赤外線レザー用ポジ型感光層が形成された
PS版12は、図示しないセッター等によって赤外線レ
ーザを用いた走査露光が行われる。自動現像装置10
は、このPS版12に対する現像処理を行う。
The PS plate 12 on which the positive type photosensitive layer for infrared laser is formed is subjected to scanning exposure using an infrared laser by a setter or the like not shown. Automatic developing device 10
Develops the PS plate 12.

【0272】自動現像装置10は、挿入口32から挿入
されたPS版12の先端を、版検出センサ210によっ
て検出すると、駆動モータ206を作動させる。これに
より、PS版12は、駆動モータ206によって回転駆
動される搬送ローラ対42によって挟持されて、自動現
像装置10内に引き入れられる。
The automatic developing device 10 operates the drive motor 206 when the plate detection sensor 210 detects the leading end of the PS plate 12 inserted from the insertion port 32. As a result, the PS plate 12 is nipped by the conveyance roller pair 42 which is rotationally driven by the drive motor 206, and is drawn into the automatic developing device 10.

【0273】搬送ローラ対42は、挿入口32から引き
入れたPS版12を、水平方向に対して15°〜31°
の範囲の挿入角度で、現像槽24へ送り込む。これによ
り、PS版12は、ガイド板44、46によって案内さ
れながら搬送ローラ対48、50、52によって現像槽
24内を搬送されて、現像槽24内に貯留されている現
像液(アルカリ現像液)に浸漬され、17°〜31°の
範囲の排出角度で、現像液中から送り出される。
The conveying roller pair 42 moves the PS plate 12 drawn in from the insertion opening 32 by 15 ° to 31 ° with respect to the horizontal direction.
It is fed into the developing tank 24 at an insertion angle within the range. As a result, the PS plate 12 is conveyed in the developing tank 24 by the pair of conveying rollers 48, 50, and 52 while being guided by the guide plates 44 and 46, and is stored in the developing tank 24 (the alkaline developing solution). ), And is discharged from the developing solution at a discharge angle in the range of 17 ° to 31 °.

【0274】PS版12は、現像槽24内で現像液に浸
漬されることにより、露光画像に応じて不要な感光層が
膨潤し、膨潤した感光層が支持体から除去される。この
とき、自動現像装置10では、現像槽24内に配置して
いるブラシローラ58によってPS版12の表面(感光
層側の面)をブラッシングすることにより、PS版12
の表面からの不要な感光層の除去を促進するようにして
いる。
When the PS plate 12 is immersed in the developing solution in the developing tank 24, an unnecessary photosensitive layer swells in accordance with the exposed image, and the swollen photosensitive layer is removed from the support. At this time, in the automatic developing device 10, by brushing the surface (the surface on the photosensitive layer side) of the PS plate 12 with the brush roller 58 arranged in the developing tank 24,
The removal of unwanted photosensitive layers from the surface of the is promoted.

【0275】現像処理が行われて、現像槽24から送り
出されるPS版12は、搬送ローラ対52によって水洗
部16へ送られる。このとき、搬送ローラ対52は、P
S版12の表裏面に付着している現像液を絞り落とす。
The PS plate 12 which has been developed and sent from the developing tank 24 is sent to the washing section 16 by the pair of carrying rollers 52. At this time, the conveying roller pair 52 is set to P
The developer adhering to the front and back surfaces of the S plate 12 is squeezed out.

【0276】水洗部16では、このPS版12を搬送ロ
ーラ対62、64によって挟持して略水平状態で搬送し
ながら、スプレーパイプ66、68から水洗水を噴出す
る。また、PS版12の搬送方向の下流側に配置してい
る搬送ローラ対64は、PS版12の表裏面に供給した
水洗水を、搬送ローラ対52によって絞り切れずに残っ
た現像液とともに絞り落としながら、このPS版12を
不感脂化処理部18へ送り出す。
In the water washing section 16, the PS plate 12 is sandwiched by the conveying roller pairs 62 and 64 and conveyed in a substantially horizontal state, while the washing water is jetted from the spray pipes 66 and 68. The transport roller pair 64 arranged on the downstream side in the transport direction of the PS plate 12 squeezes the wash water supplied to the front and back surfaces of the PS plate 12 together with the developer remaining without being squeezed by the transport roller pair 52. While dropping, the PS plate 12 is sent to the desensitization processing unit 18.

【0277】これにより、PS版12は、水洗部16を
通過するときに、表裏面に残っている現像液が洗い落と
される。
As a result, when the PS plate 12 passes through the water washing section 16, the developer remaining on the front and back surfaces is washed off.

【0278】不感脂化処理部18へ送られたPS版12
は、スプレーパイプ72、74の間を通過し、搬送ロー
ラ対70に挟持される。
PS plate 12 sent to desensitizing section 18
Passes between the spray pipes 72 and 74 and is sandwiched by the pair of transport rollers 70.

【0279】このとき、不感脂化処理部18では、スプ
レーパイプ72、74からガム液を吐出して、PS版1
2の表裏面にガム液を拡散させながら均一に塗布する。
搬送ローラ対70は、PS版12を挟持搬送して、余剰
となったガム液をPS版12の表裏面から絞り落とすこ
とにより、PS版12の表裏面にガム液の均一な薄膜を
形成する。
At this time, in the desensitizing section 18, the gum solution is discharged from the spray pipes 72 and 74 to make the PS plate 1
The gum solution is uniformly applied to the front and back surfaces of No. 2 while diffusing the gum solution.
The conveying roller pair 70 sandwiches and conveys the PS plate 12, and squeezes the excess gum liquid from the front and back surfaces of the PS plate 12, thereby forming a uniform thin film of gum liquid on the front and back surfaces of the PS plate 12. .

【0280】ガム液が塗布されたPS版12は、搬送ロ
ーラ対70によって挿通口84からから乾燥部20へ送
り込まれる。
The PS plate 12 coated with the gum solution is sent to the drying section 20 from the insertion opening 84 by the pair of conveying rollers 70.

【0281】乾燥部20では、支持ローラ86及び搬送
ローラ対90、92によってPS版12を搬送しなが
ら、噴出しダクト94、96からこのPS版12の表裏
面に乾燥風を吹き付ける。これにより、PS版12は、
表面に塗布されているガム液による保護膜が形成されて
排出口88から排出される。
In the drying unit 20, while the PS plate 12 is being conveyed by the support roller 86 and the pair of conveying rollers 90 and 92, dry air is blown from the ejection ducts 94 and 96 onto the front and back surfaces of the PS plate 12. As a result, the PS plate 12
A protective film is formed by the gum solution applied on the surface and is discharged from the discharge port 88.

【0282】ところで、自動現像装置10では、予め設
定されている所定のタイミングで、補充ポンプ130な
いし給水ポンプ134を作動させることにより、アルカ
リ補充液を補充して現像液中のアルカリ濃度を適正範囲
に保つと共に、補充ポンプ192を作動させることによ
り、現像液中の溶解抑制剤の量を適正に保つようにして
いる。
In the automatic developing apparatus 10, by operating the replenishment pump 130 or the water supply pump 134 at a predetermined timing set in advance, the alkali replenisher is replenished so that the alkali concentration in the developer is within the proper range. And the amount of the dissolution inhibitor in the developing solution is kept appropriate by operating the replenishment pump 192.

【0283】ここで、図4乃至図8を参照しながら、現
像槽24への補充液の補充を説明する。なお、自動現像
装置10に設けているコントローラ202では、操作パ
ネル204のスイッチ操作によって自動現像装置10の
電源がオフされると、計時手段216によって停止時間
OFFの計測を開始し、自動現像装置10の電源がオン
されると稼動時間TONの計測を開始する。また、自動現
像装置10の電源がオフされたときには、そのときの稼
動時間TONが記憶される。さらに、本実施の形態では、
一例として、アルカリ補充液を補充するための処理面積
の積算値S1と溶解抑制剤水溶液を補充するための処理
面積の積算値S2を別々に積算するようにしているが、
これに限るものではなく、同一の積算値を用いてもよ
く、アルカリ補充液の補充を他の処理面積または処理量
の積算値を用いて行うようにしてもよい。
Here, the replenishment of the replenisher to the developing tank 24 will be described with reference to FIGS. In the controller 202 provided in the automatic developing device 10, when the power of the automatic developing device 10 is turned off by operating the switch on the operation panel 204, the time measuring means 216 starts measuring the stop time T OFF , and the automatic developing device 10 is started. When the power source 10 is turned on, the measurement of the operating time T ON is started. When the power supply of the automatic developing device 10 is turned off, the operating time T ON at that time is stored. Furthermore, in the present embodiment,
As an example, the integrated value S 1 of the processing area for replenishing the alkali replenisher and the integrated value S 2 of the processing area for replenishing the dissolution inhibitor aqueous solution are separately integrated.
The present invention is not limited to this, and the same integrated value may be used, and the replenishment of the alkali replenisher may be performed using the integrated value of another processing area or processing amount.

【0284】図4には補充処理の概略を示している。こ
のフローチャートは、操作パネル204のスイッチ操作
によって自動現像装置10がオン(稼動)されると実行
され、自動現像装置10のオフ(停止)によって終了
し、最初のステップ300で初期設定を行う。
FIG. 4 shows the outline of the replenishing process. This flowchart is executed when the automatic developing device 10 is turned on (operated) by the switch operation of the operation panel 204, ends when the automatic developing device 10 is turned off (stopped), and the initial setting is performed in the first step 300.

【0285】この初期設定では、前回の装置停止時まで
に積算されているアルカリ現像液とこのアルカリ現像液
を所定比率で希釈する希釈水(アルカリ補充液)に対す
る処理面積の積算値S1と、溶解抑制水溶液に対する処
理面積の積算値S2を読み込む。これと共に、最初に現
像槽24に貯留している現像液に対する液置換率及び現
像槽24内に貯留している現像液の電導度のしきい値で
ある目標値(電導度目標値)dmを読み出す。
In this initial setting, the integrated value S 1 of the processing area with respect to the alkali developing solution accumulated until the last time the apparatus is stopped and the dilution water (alkali replenishing solution) for diluting the alkali developing solution at a predetermined ratio, The integrated value S 2 of the treated area for the dissolution inhibiting aqueous solution is read. At the same time, the liquid replacement ratio of the developer stored in the developing tank 24 and the target value (conductivity target value) dm, which is the threshold value of the conductivity of the developing solution stored in the developing tank 24, are set. read out.

【0286】なお、自動現像装置10では、PS版12
の縦寸法に対する横寸法のテーブル、電導度の目標値d
m、画像面積率R等が予めメモリ212に記憶されて、
電導度の目標値dm、処理面積の積算値S1、S2、液置
換率等は、更新される毎にメモリ212に記憶されるよ
うになっている。
In the automatic developing device 10, the PS plate 12
Table of the horizontal dimension for the vertical dimension of, the target value d of the electrical conductivity
m, the image area ratio R, etc. are stored in the memory 212 in advance,
The target value dm of the electric conductivity, the integrated values S 1 and S 2 of the processing area, the liquid replacement rate, and the like are stored in the memory 212 each time they are updated.

【0287】この後に、ステップ302では、アルカリ
補充液の経時補充が行われたか否かを確認する。
After that, in step 302, it is confirmed whether or not the alkali replenisher has been replenished with time.

【0288】図5(A)には、経時補充処理の概略を示
しており、このフローチャートは、自動現像装置10の
電源がオンされると実行され、最初のステップ330
で、計時手段216によって計測した装置の停止時間T
OFFを読み込む。
FIG. 5A shows the outline of the replenishing process with time, and this flowchart is executed when the power source of the automatic developing device 10 is turned on, and the first step 330 is executed.
Then, the stop time T of the device measured by the time measuring means 216
Read OFF .

【0289】次のステップ332では、この停止時間T
OFFに基づいてアルカリ現像液の補充量及びこのアルカ
リ現像液を所定の比率で希釈するための希釈水の補充量
であるアルカリ補充液の補充量を設定する。
At the next step 332, this stop time T
Based on OFF , the replenishing amount of the alkali developing solution and the replenishing amount of the alkali replenishing solution which is the replenishing amount of the dilution water for diluting the alkali developing solution at a predetermined ratio are set.

【0290】この後に、ステップ334では、補充ポン
プ130及び給水ポンプ134を作動させて、設定した
量のアルカリ現像液及び希釈水をアルカリ補充液として
現像槽24に補充する(停止時間補充)。
Thereafter, in step 334, the replenishing pump 130 and the water supply pump 134 are operated to replenish the developing tank 24 with the set amount of the alkaline developing solution and the diluting water as the alkaline replenishing solution (stop time replenishment).

【0291】これにより、自動現像装置10が停止して
いるときに、現像槽24内の現像液が空気中の炭酸ガス
に接触してアルカリ濃度が減少してしまうことによる処
理性能の低下を補う。
As a result, when the automatic developing device 10 is stopped, the deterioration of the processing performance due to the decrease of the alkali concentration due to the contact of the developer in the developing tank 24 with the carbon dioxide gas in the air is compensated. .

【0292】このようにして、停止時間補充を終了する
と、ステップ336では、前回の稼動停止時に記憶され
ている稼動時間TONを読込み、この稼動時間TONをタイ
マーにセットした後、タイマーをスタートさせて、稼動
時間TONの計測を開始する(ステップ338)。すなわ
ち、前回の稼動停止時から引き続いて稼動時間TONの計
測を開始する。
When the stop time replenishment is completed in this way, in step 336, the operation time T ON stored at the time of the previous operation stop is read, this operation time T ON is set in the timer, and then the timer is started. Then, the measurement of the operating time T ON is started (step 338). That is, the measurement of the operating time T ON is continuously started after the last operation stop.

【0293】この後、ステップ340では、計測してい
る稼動時間TONが、予め設定している設定時間(例えば
1時間〜3時間程度の所定時間)に達したか否かを確認
し、ステップ340で肯定判定されるとステップ342
へ移行する。このステップ342では、自動現像装置1
0の稼動中の設定時間に対して設定されているアルカリ
現像液とこのアルカリ現像液を所定比率で希釈する希釈
水の量を読み出し、補充量として設定する。
After that, in step 340, it is confirmed whether or not the measured operating time T ON has reached a preset set time (for example, a predetermined time of about 1 to 3 hours). If a positive determination is made at 340, step 342
Move to. In this step 342, the automatic developing device 1
The amount of the alkaline developer set for a set time of 0 during operation and the amount of dilution water for diluting the alkaline developer at a predetermined ratio are read out and set as a replenishment amount.

【0294】次のステップ344では、設定した量のア
ルカリ現像液と希釈水を現像槽24へ補充するように補
充ポンプ130と給水ポンプ134をさせて稼動時間補
充を行う。なお、稼動時間補充を行うときに、PS版1
2の処理中であれば、このPS版12の処理が終了した
後に、補充ポンプ130及び給水ポンプ134を作動さ
せて、稼動時間補充を実行する。
In the next step 344, the replenishment pump 130 and the water supply pump 134 are operated to replenish the developing tank 24 with the set amounts of the alkaline developing solution and the diluting water, and the operating time is replenished. In addition, the PS plate 1
If the processing of No. 2 is in progress, after the processing of the PS plate 12 is completed, the replenishment pump 130 and the water supply pump 134 are operated to replenish the operating time.

【0295】この後に、ステップ346でタイマーをリ
セットさせると、ステップ338へ移行し、新たに稼働
時間TONの計測を開始する。
After that, when the timer is reset in step 346, the process proceeds to step 338, and the measurement of the operating time T ON is newly started.

【0296】すなわち、コントローラ202は、自動現
像装置10の稼動中は、予め設定している設定時間間隔
で、稼動時間補充用として設定されている量のアルカリ
補充液を補充することにより、自動現像装置10の稼動
中に、現像液が空気中の炭酸ガスに接触することによる
液活性の低下を防止するようにしている。
That is, the controller 202 replenishes the amount of the alkaline replenisher set for replenishing the operating time at a preset time interval while the automatic developing apparatus 10 is in operation, thereby performing automatic development. While the apparatus 10 is in operation, it is prevented that the developing solution comes into contact with carbon dioxide gas in the air and thus the liquid activity is not lowered.

【0297】なお、本実施の形態では、前回の稼動終了
時の稼動時間TONから引き続いて時間計測を開始した
が、これに限るものではなく、例えば、自動現像装置1
0の電源をオンして停止時間補充を行うときに、前回の
稼動終了時の稼動時間TONに応じた量のアルカリ現像液
と希釈水を加算して補充するようにしても良く、また、
停止時間補充に引き続いて、前回の稼動終了時の稼動時
間TONに応じた量のアルカリ現像液と希釈水を補充する
ようにするなど、任意の処理を適用することができる。
In this embodiment, the time measurement is continuously started from the operation time T ON at the end of the previous operation, but the time measurement is not limited to this. For example, the automatic developing device 1
When the power supply of 0 is turned on and the stop time is replenished, the amount of the alkaline developer and the dilution water corresponding to the operation time T ON at the end of the previous operation may be added and replenished.
Following the stop time replenishment, an arbitrary process can be applied, such as replenishing the amount of the alkali developing solution and the diluting water according to the operation time T ON at the end of the previous operation.

【0298】一方、図4に示すフローチャートでは、ア
ルカリ補充液の経時補充が実行されると、ステップ30
2で肯定判定して、ステップ304へ移行する。このス
テップ304は、アルカリ現像液ないし希釈水の補充量
に基づいた現像液の電導度のしきい値(電導度目標値)
である目標値dmの補正を行う。この電導度の目標値d
mの補正は、まず、現像槽24に補充したアルカリ補充
液ないし希釈水の補充量から、現像槽24内の現像液が
アルカリ補充液ないし希釈水に置き換わった比率である
液置換率を算出し、この後に、液置換率に基づいて、予
め設定又は補正されてメモリ212に記憶している目標
値dmを補正する。
On the other hand, in the flow chart shown in FIG. 4, when the replenishment of the alkali replenisher with time is executed, step 30
A positive determination is made in 2, and the process proceeds to step 304. This step 304 is a threshold value (conductivity target value) of the electric conductivity of the developing solution based on the replenishing amount of the alkaline developing solution or the diluting water.
The target value dm is corrected. Target value d of this conductivity
To correct m, first, from the replenishing amount of the alkaline replenishing solution or the diluting water replenished in the developing tank 24, the liquid replacement rate, which is the ratio of the developing solution in the developing tank 24 being replaced with the alkaline replenishing solution or the diluting water, is calculated. After that, the target value dm that is set or corrected and stored in the memory 212 is corrected based on the liquid replacement rate.

【0299】また、ステップ306では、現像液の電導
度に基づいた水補充(電導度補充)を行う。なお、本実
施の形態では、経時補充、処理補充及び後述する電導度
補充によって、アルカリ現像液ないし希釈水が補充され
る毎に、電導度の演算を行うようにしているが、これに
限らず、アルカリ現像液ないし希釈水の補充量を積算し
て、所定時間ごとなどのあらかじめ設定している所定の
タイミングで、電導度の演算を行うなどの任意の方法を
適用することができる。
In step 306, water replenishment (conductivity replenishment) is performed based on the electric conductivity of the developer. In the present embodiment, the conductivity is calculated every time the alkaline developer or the dilution water is replenished by the replenishment with time, the process replenishment, and the conductivity replenishment described later, but the present invention is not limited to this. It is possible to apply any method such as integrating the replenishment amount of the alkaline developer or the diluting water and calculating the electric conductivity at a predetermined timing such as a predetermined time.

【0300】図5(B)には、電導度補充の概略を示し
ており、このフローチャートでは、最初のステップ37
0で、電導度センサ122の計測結果から現像液の電導
度の計測値dを読み込む。
FIG. 5 (B) shows an outline of the conductivity supplementation. In this flowchart, the first step 37 is performed.
At 0, the measurement value d of the conductivity of the developer is read from the measurement result of the conductivity sensor 122.

【0301】次のステップ372では、読み込んだ電導
度の計測値dと目標値dmを比較し、現像液の電導度
(計測値d)が目標値dmを越えているか否かを判断す
る。これにより、電導度の計測値dが目標値dmを越え
ていないとき(d≦dm)には、ステップ372で否定
判定して、水補充を行わずに電導度補充処理を終了す
る。
In the next step 372, the read measured value d of the electric conductivity is compared with the target value dm to determine whether the electric conductivity (measured value d) of the developer exceeds the target value dm. As a result, when the measured value d of the electric conductivity does not exceed the target value dm (d ≦ dm), a negative determination is made in step 372, and the electric conductivity replenishment process is terminated without water replenishment.

【0302】これに対して、電導度の計測値dが目標値
dmを越えていたとき(d>dm)には、ステップ37
2で肯定判定してステップ374へ移行する。このステ
ップ374では、給水ポンプ134を作動させて、所定
量の水を現像槽24へ供給する。
On the other hand, when the measured conductivity value d exceeds the target value dm (d> dm), step 37
An affirmative decision is made in step 2, and the routine proceeds to step 374. In step 374, the water supply pump 134 is operated to supply a predetermined amount of water to the developing tank 24.

【0303】すなわち、電導度の計測値dが目標値dm
を越えているときには、現像液中のアルカリ濃度が高く
なっているため、現像液の電導度が適正な範囲を越えて
いると判断して、現像槽24へ希釈水を補充することに
より、現像液を希釈して電導度の低減を図る。なお、希
釈水の補充量は、一定量だけ補充するものであっても良
く、計測値dと目標値dmの差に基づいて設定した補充
量を補充するようにしても良く、また、所定量ずつ希釈
水を補充しながら電導度を計測して、電導度の計測値d
が目標値dmより下がるようにしても良い。
That is, the measured value d of the electrical conductivity is the target value dm.
When it exceeds the range, since the alkali concentration in the developing solution is high, it is judged that the conductivity of the developing solution exceeds the proper range, and the developing tank 24 is replenished with diluting water. Dilute the liquid to reduce the conductivity. The replenishment amount of the diluting water may be a replenishment amount of a fixed amount, or may be a replenishment amount set based on the difference between the measured value d and the target value dm. Conductivity is measured while replenishing dilution water one by one, and the measured value of conductivity d
May be lower than the target value dm.

【0304】なお、電導度の目標値dmは、 Vt:現像槽内の現像液の容量 Vwi:経時及び/又は処理によって補充した補充液を希
釈するための補充液希釈液及び/又は現像液電導度を下
げるために補充した希釈液の容量 Vhi:経時及び/又は処理によって補充した補充液原液
の容量 Vhc:経時によって補充した補充液の容量 Vhd:処理によって補充した補充液の容量 Xn:補充液置換率 Zn:補充液希釈液及び/又は現像液電導度を下げるため
に補充した希釈液が、現像液中の補充液に含まれる割合
である、補充液希釈率 Fn:現像液中の補充液の内、経時によって補充された補
充液の割合である、経時補充液比率 dm:電導度目標値 C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7、C8:実験から導
き出される処理液・装置に固有の定数 とすると、液置換率Xnは、 Xn=(Vt・Xn-1+Vhi+Vwi)/(Vt+Vhi+Vwi) となり、ここから、 Zn=[Vt・Xn・Zn-1+Vwi・(Zn-1+1)]/[Vt・Xn+Vhi・(Zn-1+1)] dm=(1−Xn)・C3+Xn・[[1−(C5+C4/(Zn+1))]・C6+[C5+C4
(Zn+1)]・C9] または、 Fn=[Vt・Xn・[C2+C1/(Zn+1)]・Fn-1+Vhc]/[Vt・Xn・[C2
+C1/(Zn+1)]+Vhc+Vhd] dm=(1−Xn)・C3+Xn・[[1−(C5+C4/(Zn+1))]C6+(C5+C
4/(Zn+1))・[(1−Fn)・C7+Fn・C8]] として算出することができる。
The target value dm of the electric conductivity is Vt: the volume of the developing solution in the developing tank Vwi: the replenishing solution diluting solution and / or the developing solution conductivity for diluting the replenishing solution replenished with the passage of time and / or processing. Vhi: volume of replenisher solution replenished over time and / or treatment Vhc: volume of replenisher solution replenished over time Vhd: volume of replenisher solution replenished by treatment Xn: replenisher solution Substitution ratio Zn: Replenisher diluting liquid and / or developer diluting liquid replenished in order to lower the conductivity, which is the ratio contained in the replenishing liquid in the developer, replenishing liquid dilution ratio Fn: Replenisher in the developing liquid Of the replenisher solution replenished over time, the replenisher solution ratio dm: conductivity target values C 1 , C 2 , C 3 , C 4 , C 5 , C 6 , C 7 , C 8 : experiment Assuming that the processing liquid / equipment derived constants are constants, the liquid replacement rate Xn , Xn = (Vt · X n -1 + Vhi + Vwi) / (Vt + Vhi + Vwi) next, from here, Zn = [Vt · Xn · Z n-1 + Vwi · (Z n-1 +1) ] / [Vt ・ Xn + Vhi ・ (Z n-1 +1)] dm = (1−Xn) ・ C 3 + Xn ・ [[1− (C 5 + C 4 / (Zn + 1))] ・C 6 + [C 5 + C 4 /
(Zn + 1)] ・ C 9 ] or Fn = [Vt ・ Xn ・ [C 2 + C 1 / (Zn + 1)] ・ F n-1 + Vhc] / [Vt ・ Xn ・ [C 2
+ C 1 / (Zn + 1)] + Vhc + Vhd] dm = (1−Xn) ・ C 3 + Xn ・ [[1− (C 5 + C 4 / (Zn + 1))] C 6 + (C 5 + C
4 / (Zn + 1)) · [(1-Fn) · C 7 + Fn · C 8]] can be calculated as.

【0305】一般に、現像液中には、OH―イオン(水
酸イオン)と、K+イオン(カリウムイオン)が存在
し、現像液の電導度は両イオンの濃度によって変化す
る。ここから、 1/P:電導度、 POH:OH―イオンによる抵抗値 COH:OH―イオンの濃度 PK:K+イオンによる抵抗値 CK:K+イオンの濃度 としたとき、 1/P=1/(POH×COH)+1/(PK×CK) となる。
In general, OH-ions (hydroxy ions) and K + ions (potassium ions) are present in the developing solution, and the conductivity of the developing solution changes depending on the concentrations of both ions. From here, 1 / P: conductivity, P OH : OH-ion resistance value C OH : OH- ion concentration P K : K + resistance value CK : K + ion concentration, P = 1 / (P OH × C OH ) + 1 / (P K × C K ).

【0306】POH及びPKは、それぞれ固有の値であ
り、現像液の電導度はCOHとCK、すなわち、OH―イ
オンとK+イオンの両イオンの濃度によって決まる。ま
た、水酸イオン(OH―イオン)の濃度を一定に保つた
めには、カリウムイオン(K+イオン)の量も抑える必
要がある。
P OH and P K are unique values, and the conductivity of the developing solution is determined by the concentrations of C OH and C K , that is, the concentrations of both OH − and K + ions. Further, in order to keep the concentration of hydroxide ion (OH-ion) constant, it is necessary to suppress the amount of potassium ion (K + ion).

【0307】一方、現像液中では、PS版12の現像が
進行すると、非露光部分の感光層が現像液中のアルカリ
と反応して、現像液中に溶解するが、このときに、溶出
した感光物及びバインダーは、現像液の電導度に影響す
ることがない。
On the other hand, in the developing solution, as the development of the PS plate 12 progressed, the photosensitive layer in the unexposed portion reacted with the alkali in the developing solution and was dissolved in the developing solution, but at this time, it was eluted. The photosensitive material and the binder do not affect the conductivity of the developer.

【0308】これに対して、現像進行中に空気中の炭酸
ガス(CO2)が、現像液に溶け込むことがある。この
ときに生成されるK2CO3塩は、現像液の電導度に影響
を及ぼし、K2CO3塩の濃度が上がると、現像液の電導
度も上がる。
On the other hand, carbon dioxide (CO 2 ) in the air may dissolve in the developing solution during the development. The K 2 CO 3 salt produced at this time affects the electric conductivity of the developing solution, and when the concentration of the K 2 CO 3 salt increases, the electric conductivity of the developing solution also increases.

【0309】ここから、現像液にアルカリ補充液ないし
希釈水を補充しながらPS版12の処理を続けるときに
は、K+イオン濃度、K2CO3塩の濃度を抑えた上で、
OH―の濃度を一定に保つことにより、液感度を適性に
コントロールすることができる。
From this point, when the processing of the PS plate 12 is continued while replenishing the developing solution with the alkali replenishing solution or the diluting water, the K + ion concentration and the K 2 CO 3 salt concentration are suppressed,
By keeping the OH-concentration constant, the liquid sensitivity can be appropriately controlled.

【0310】一般に、現像液は、PS版12の現像処理
を行うことにより消費されるOH―イオンが、アルカリ
補充液によって補充されるが、OH―イオン濃度が一定
(液感度が一定にコントロールされている状態)でも、
+イオン及びK2CO3塩によって電導度が変化する。
Generally, the developer is supplemented with OH-ions consumed by the development treatment of the PS plate 12 by the alkali replenisher, but the OH-ion concentration is constant (the liquid sensitivity is controlled to be constant). State)
The conductivity is changed by the K + ion and the K 2 CO 3 salt.

【0311】この要因としては、現像液の新液(仕込み
液)とアルカリ補充液のアルカリ濃度が異なることや、
現像液中への炭酸ガス(CO2)の溶け込みが挙げられ
る。
The cause of this is that the new developer (preparing solution) and the alkali replenisher have different alkali concentrations,
For example, the dissolution of carbon dioxide gas (CO 2 ) in the developer may be mentioned.

【0312】仕込み液とアルカリ補充液のアルカリ濃度
差は、例えば仕込み液の電導度が47ms、アルカリ補
充液の電導度が92msであったとき、現像液感度を新
液(仕込み液)の液感度状態に維持するようにしたとき
に、OH-イオンの濃度が常に一定であっても、高濃度
のアルカリ補充液が補充されるために、K+イオンの濃
度が高くなる。
The difference in alkali concentration between the charging solution and the alkaline replenishing solution is, for example, when the conductivity of the charging solution is 47 ms and the electrical conductivity of the alkaline replenishing solution is 92 ms, the sensitivity of the developing solution is the sensitivity of the new solution (preparing solution). Even if the OH ion concentration is always constant when the state is maintained, the K + ion concentration is high because the high-concentration alkali replenishing solution is replenished.

【0313】このために、図6(A)に示すように、現
像液の電導度(計測値d)は、補充液(アルカリ補充
液)の補充量に応じて上昇し、新液(仕込み液)の殆ど
が補充液に置換された状態では、電導度が60msとな
る。なお、図6(A)では、現像液中の炭酸ガスの溶け
込みが生じていないものとしている。
For this reason, as shown in FIG. 6A, the conductivity of the developing solution (measured value d) rises in accordance with the replenishing amount of the replenishing solution (alkali replenishing solution), and the new solution (preparing solution) In the state where most of the above) is replaced with the replenisher, the electric conductivity is 60 ms. In FIG. 6 (A), it is assumed that the carbon dioxide gas is not dissolved in the developer.

【0314】一方、現像液中への炭酸ガスの溶け込み
は、炭酸ガスが現像液中のアルカリと反応して生成する
2CO3塩が電導度を上昇させる。
On the other hand, when the carbon dioxide gas is dissolved in the developing solution, the K 2 CO 3 salt produced by the reaction of the carbon dioxide gas with the alkali in the developing solution increases the conductivity.

【0315】したがって、図6(B)に示すように、液
置換率に応じた電導度の変化は、炭酸ガスの溶け込みが
生じていないとき(図6(B)に破線で示す)に比べ
て、炭酸ガスの溶け込みが生じているとき(図6(B)
に実線で示す)に高くなり、電導度が47msの仕込み
液と電導度が92msの補充液を用いたときには、最終
的(液置換率が100%に達した状態で炭酸ガスの溶け
込み量が最大のとき)に、電導度が70msまで上昇す
る。なお、これは、現像槽24からの水分蒸発が生じて
いないとものとしている。
Therefore, as shown in FIG. 6 (B), the change in conductivity depending on the liquid substitution rate is greater than that when carbon dioxide gas is not dissolved (shown by the broken line in FIG. 6 (B)). , When carbon dioxide is melted (Fig. 6 (B))
(Indicated by the solid line in FIG. 2), the charge amount is 47 ms and the replenisher liquid has a conductivity of 92 ms. Then, the electric conductivity increases to 70 ms. It is assumed that the evaporation of water from the developing tank 24 has not occurred.

【0316】実際の現像液の電導度は、図6(B)の破
線と実線の間で変化することになる。また、実際の電導
度の変化は、PS版12の処理量は勿論、空気中の炭酸
ガス濃度や温度等の自動現像装置10の設置環境等によ
って異なるため、処理環境及び処理条件に基づいて電導
度の目標値dmを設定することが好ましい。
The actual conductivity of the developing solution changes between the broken line and the solid line in FIG. 6 (B). Further, the actual change in the electrical conductivity depends on the processing environment of the PS plate 12, as well as the installation environment of the automatic developing device 10 such as the concentration of carbon dioxide gas in the air and the temperature. Therefore, the electrical conductivity is changed based on the processing environment and the processing conditions. It is preferable to set the target value dm of the degree.

【0317】一方、図4のフローチャートでは、ステッ
プ308で電導度水補充を行ったか否かを確認し、電導
度水補充を行った時には、ステップ308で肯定判定し
て、電導度の目標値dmの補正(設定)を行い、目標値
dmの補正が終了すると、ステップ308で肯定判定し
て、ステップ310へ移行する。
On the other hand, in the flow chart of FIG. 4, it is confirmed in step 308 whether or not the electric conductivity water is replenished. When the electric conductivity water is replenished, an affirmative decision is made in step 308 and the electric conductivity target value dm is obtained. Is corrected (set), and when the correction of the target value dm is completed, an affirmative determination is made in step 308, and the process proceeds to step 310.

【0318】このステップ310では、版検出センサ2
10が自動現像装置10で現像処理するために、PS版
12が挿入されたか否かを確認し、PS版12が挿入さ
れたことを検出すると、ステップ310で肯定判定し
て、ステップ312へ移行する。
In this step 310, the plate detection sensor 2
10 confirms whether or not the PS plate 12 is inserted for the development processing by the automatic developing device 10, and when it is detected that the PS plate 12 is inserted, an affirmative determination is made in step 310, and the process proceeds to step 312. To do.

【0319】このステップ312は、PS版12の挿入
が検出される毎、すなわち、PS版12の処理を行う毎
に実行されて、自動現像装置10でのPS版12の処理
面積を演算して積算する。
This step 312 is executed each time the insertion of the PS plate 12 is detected, that is, every time the PS plate 12 is processed, and the processing area of the PS plate 12 in the automatic developing device 10 is calculated. Add up.

【0320】図7には、処理面積の演算の概略を示して
いる。なお、本実施の形態では、一例として、アルカリ
補充液の補充を行うための処理面積の積算(積算値
1)と、溶解抑制剤水溶液の補充を行うための処理面
積の積算(積算値S2)を並行して行っている。すなわ
ち、本実施の形態では、一例として、アルカリ補充液の
補充を行う時のPS版12の処理量を、溶解抑制剤水溶
液の補充を行うときに算出する処理面積を用いるように
している。
FIG. 7 shows the outline of the calculation of the processing area. In the present embodiment, as an example, the integrated processing area for replenishing the alkali replenishing liquid (integrated value S 1 ) and the integrated processing area for replenishing the dissolution inhibitor aqueous solution (integrated value S 1 2 ) is done in parallel. That is, in the present embodiment, as an example, the processing amount of the PS plate 12 when the alkaline replenisher is replenished is used as the processing area which is calculated when the dissolution inhibitor aqueous solution is replenished.

【0321】このフローチャートは、最初のステップ3
50で版検出センサ210が挿入口32から挿入される
PS版12の先端を検出したか否かを確認する。
This flowchart shows the first step 3
At 50, it is confirmed whether the plate detection sensor 210 has detected the front end of the PS plate 12 inserted from the insertion port 32.

【0322】ここで、自動現像装置10の挿入口32か
らPS版12が挿入されて、このPS版12の先端が版
検出センサ210に対向すると、ステップ350で肯定
判定されてステップ352へ移行して、処理面積の積算
を開始する。
Here, when the PS plate 12 is inserted from the insertion port 32 of the automatic developing device 10 and the front end of the PS plate 12 faces the plate detection sensor 210, an affirmative decision is made in step 350 and the process proceeds to step 352. Then, the integrated processing area is started.

【0323】このステップ352では、図示しないタイ
マーをリセット/スタートさせ、次のステップ354で
は、版検出センサ210が、PS版12の後端の通過を
検出したか否かを確認する。
In this step 352, a timer (not shown) is reset / started, and in the next step 354, it is confirmed whether or not the plate detection sensor 210 has detected the passage of the trailing edge of the PS plate 12.

【0324】これにより、一定速度で挿入口32から現
像槽24へ引き入れられるPS版12の後端が、版検出
センサ210に対向する位置を通過し、版検出センサ2
10がPS版12の検出状態から非検出状態に切り替わ
ると、ステップ354で肯定判定されてステップ356
へ移行する。このステップ356では、図示しないタイ
マーの計測時間からPS版12の通過時間tを読み込
む。
As a result, the rear end of the PS plate 12 drawn into the developing tank 24 from the insertion port 32 at a constant speed passes a position facing the plate detection sensor 210, and the plate detection sensor 2
When the state of the PS plate 12 is switched from the detection state to the non-detection state of the PS plate 12, an affirmative determination is made in step 354 and step 356
Move to. In step 356, the passage time t of the PS plate 12 is read from the measurement time of a timer (not shown).

【0325】この後、ステップ358では、PS版12
の通過時間tと、自動現像装置10でのPS版12の搬
送速度vから、PS版12の搬送方向に沿った長さであ
る縦寸法Lを算出する。この縦寸法Lは、L=t×vと
して簡単に算出することができる。
Thereafter, in step 358, the PS plate 12
The vertical dimension L, which is the length along the transport direction of the PS plate 12, is calculated from the passing time t of the PS plate 12 and the transport speed v of the PS plate 12 in the automatic developing device 10. This vertical dimension L can be easily calculated as L = t × v.

【0326】次のステップ360では、算出した縦寸法
に対応する横寸法Wをメモリ212に記憶しているテー
ブルから読出し、さらに、メモリ212に記憶している
非画像面積率Rを読出し、ステップ362では、PS版
12の縦寸法L、横寸法W及び非画像面積率Rから処理
面積sを算出する(s=L×W×R)。
At the next step 360, the horizontal dimension W corresponding to the calculated vertical dimension is read out from the table stored in the memory 212, and further the non-image area ratio R stored in the memory 212 is read out. Then, the processing area s is calculated from the vertical dimension L, the horizontal dimension W, and the non-image area ratio R of the PS plate 12 (s = L × W × R).

【0327】このようにして、挿入口32から引き入れ
られて現像槽24へ送り込まれたPS版12の処理面積
sを算出すると、ステップ364では、処理面積sを積
算して、積算値S1及び積算値S2を算出する(S1=S1
+s、S2=S2+s)。
In this way, the processing area s of the PS plate 12 drawn into the insertion port 32 and sent to the developing tank 24 is calculated. In step 364, the processing area s is integrated to obtain the integrated value S 1 and Calculate the integrated value S 2 (S 1 = S 1
+ S, S 2 = S 2 + s).

【0328】自動現像装置10では、このようにして、
挿入口32からPS版12が挿入される毎に、処理面積
sを算出してしながら、図4に示すように、ステップ3
14では、アルカリ補充液に対する処理面積S1が、予
め設定している所定値Saに達したか否かを確認する。
In the automatic developing device 10, in this way,
Each time the PS plate 12 is inserted from the insertion opening 32, the processing area s is calculated, and as shown in FIG.
At 14, it is confirmed whether or not the processing area S 1 for the alkali replenisher has reached a preset predetermined value Sa.

【0329】ここで、処理面積の積算値S1が所定値S
aに達する(S1≧Sa)と、ステップ314で肯定判
定されてステップ316へ移行する。このステップ31
6では、補充ポンプ130と給水ポンプ134を作動さ
せて、処理面積の積算値S1に応じた量のアルカリ現像
液と、このアルカリ現像液を所定比率で希釈する希釈水
を、PS版12の処理量に対するアルカリ補充液として
現像槽24へ補充する処理補充を行う。
Here, the integrated value S 1 of the processing area is the predetermined value S
When a is reached (S 1 ≧ Sa), an affirmative decision is made in step 314 and the operation moves to step 316. This step 31
In No. 6, the replenishing pump 130 and the water supply pump 134 are operated, and the amount of the alkaline developing solution corresponding to the integrated value S 1 of the processing area and the diluting water for diluting the alkaline developing solution at a predetermined ratio are stored in the PS plate 12. Processing replenishment is carried out by replenishing the developing tank 24 as an alkali replenisher for the processing amount.

【0330】これにより、現像槽24には、PS版12
の処理面積に応じた適正な量のアルカリ補充液が補充さ
れる。
In this way, the PS plate 12 is stored in the developing tank 24.
An appropriate amount of alkali replenisher solution is replenished according to the treated area.

【0331】この後、ステップ318では、処理面積の
積算値S1をリセット(S1=0)して、新たな処理面積
の積算が可能となるようにして、ステップ304へ移行
し、電導度水補充を行うための目標値dmの補正を行
う。
After that, in step 318, the integrated value S 1 of the processing area is reset (S 1 = 0) so that the new processing area can be integrated, and the process proceeds to step 304, where the conductivity is changed. The target value dm for replenishing water is corrected.

【0332】一方、ステップ320では、溶解抑制剤水
溶液の補充に対する処理面積の積算値S2が、予め設定
している所定値Scに達したか否かを確認する。
On the other hand, in step 320, it is confirmed whether or not the integrated value S 2 of the processing area for the replenishment of the dissolution inhibitor aqueous solution has reached the preset predetermined value Sc.

【0333】ここで、積算値S2が所定値Scに達して
(S2≧Sc)、ステップ320で肯定判定されると、
ステップ322へ移行する。このステップ322では、
PS版12の処理面積の積算値Scに応じて設定されて
いる量の溶解抑制剤水溶液を現像槽24へ補充するよう
に補充ポンプ192を作動させる。
Here, when the integrated value S 2 reaches the predetermined value Sc (S 2 ≧ Sc) and the determination in step 320 is affirmative,
Control goes to step 322. In this step 322,
The replenishment pump 192 is operated to replenish the developing tank 24 with the amount of the dissolution inhibitor aqueous solution set according to the integrated value Sc of the processing area of the PS plate 12.

【0334】この後に、ステップ322では、処理面積
の積算値S2をリセット(S2=0)して、ステップ30
2へ移行する。
Thereafter, in step 322, the integrated value S 2 of the processing area is reset (S 2 = 0), and step 30
Move to 2.

【0335】このように、自動現像装置10では、PS
版12の処理や空気中の炭酸ガス等によって低下するア
ルカリ濃度を、アルカリ補充液として補充すると共に、
PS版12の処理によって消費される溶解抑制剤を、P
S版12の処理面積に応じて補充しており、これによ
り、自動現像装置10では、アルカリ現像液を所定pH
の高アルカリに保ちながら、一定の溶解抑制(界面活
性)が得られるようにしている。
As described above, in the automatic developing device 10, PS
While replenishing with an alkali replenishing solution, the alkali concentration lowered by the treatment of the plate 12 and carbon dioxide in the air,
The dissolution inhibitor consumed by the treatment of the PS plate 12 is
Replenishment is carried out according to the processing area of the S plate 12, which allows the alkaline developing solution to have a predetermined pH in the automatic developing device 10.
While maintaining a high alkali content, a certain degree of dissolution inhibition (surface activity) is obtained.

【0336】したがって、自動現像装置10では、赤外
線レーザー用ポジ型感光層が形成されているPS版12
の現像処理するときに、高pH(高アルカリ)の現像液
を用いているので、コントラストに優れた画像が形成さ
れるように現像処理を行うことができる。
Therefore, in the automatic developing device 10, the PS plate 12 having the positive photosensitive layer for infrared laser is formed.
Since the developing solution having a high pH (high alkali) is used in the developing treatment, the developing treatment can be performed so that an image having excellent contrast is formed.

【0337】すなわち、多数枚のPS版12を処理した
ときにも、現像性と画像部分の保護性のバランスを保っ
て、コントラストの低下や画像部分の損傷等を生じさせ
ることなく、高品質の刷版が得られるようにしている。
That is, even when a large number of PS plates 12 are processed, the balance between the developability and the protective property of the image portion is maintained, the deterioration of the contrast and the damage of the image portion are not caused, and the high quality image is obtained. I am trying to get a printing plate.

【0338】このとき、常に一定の溶解抑制が得られる
ように、アルカリ現像液(アルカリ補充液)とは、別
に、PS版12の処理面積に基づいて、ポリエチレング
リコールなどの溶解抑制剤を添加しているので、高pH
のアルカリ現像液を用いても、PS版12の画像部分に
損傷を生じさせてしまうことがることなく現像処理を行
うことができる。
At this time, a dissolution inhibitor such as polyethylene glycol is added based on the treated area of the PS plate 12 separately from the alkali developing solution (alkali replenisher) so that a constant dissolution inhibition can be always obtained. Has a high pH
Even if the alkali developing solution described in (1) is used, the developing process can be performed without damaging the image portion of the PS plate 12.

【0339】赤外線レーザ用ポジ型感光層が形成されて
いるPS版12の現像処理では、露光部分(非画像部
分)の溶解をアルカリが担い、非露光部分(画像部分)
の溶解抑制をポリエチレングリコールなどの溶解抑制剤
が担っている。したがって、PS版12の適性な現像処
理を行うためには、現像液中のアルカリ濃度と、溶解抑
制剤濃度の影響を一定に保つ必要がある。
In the development processing of the PS plate 12 on which the positive type photosensitive layer for infrared laser is formed, the alkali plays a role of dissolving the exposed portion (non-image portion) and the unexposed portion (image portion).
A dissolution inhibitor such as polyethylene glycol plays a role in suppressing the dissolution of the. Therefore, in order to appropriately perform the development processing of the PS plate 12, it is necessary to keep the influence of the alkali concentration in the developer and the concentration of the dissolution inhibitor constant.

【0340】一般に、図8(A)に示すように、バイン
ダーの添加量が多くなると感度が上昇する。これに対し
て、図8(B)に示すように、溶解抑制剤となる界面活
性剤の添加量が多くなると、感度が低下する。なお、図
8(B)では、200gのバインダーを添加した状態
(図8(A)参照)で、溶解抑制剤となる界面活性剤と
してポリエチレングリコール(PEG)を添加した時の
感度変化の測定結果を示している。
Generally, as shown in FIG. 8 (A), the sensitivity increases as the amount of binder added increases. On the other hand, as shown in FIG. 8 (B), when the amount of addition of the surfactant serving as the dissolution inhibitor increases, the sensitivity decreases. In FIG. 8 (B), the measurement result of the sensitivity change when polyethylene glycol (PEG) was added as a dissolution inhibitor in a state where 200 g of binder was added (see FIG. 8 (A)). Is shown.

【0341】ここから、200gのバインダーに対し
て、9〜12gのPEGを添加することにより、新液
(仕込み液)と同等の感度に回復させることができる。
From here, by adding 9 to 12 g of PEG to 200 g of the binder, it is possible to restore the sensitivity to that of the new solution (prepared solution).

【0342】したがって、PS版12の処理面積に応じ
て、適性な量の界面活性剤等の溶解抑制剤を含む水溶液
を補充することにより、PS版12を連続的に現像処理
しても、現像液を新液(仕込み液)と同等の感度に保つ
ことができる。
Therefore, even if the PS plate 12 is continuously developed, it can be developed by supplementing an appropriate amount of an aqueous solution containing a dissolution inhibitor such as a surfactant according to the treated area of the PS plate 12. The liquid can be kept at the same sensitivity as the new liquid (prepared liquid).

【0343】一方、現像液は、空気中の炭酸ガスが接触
することによりアルカリが消費される。これにより、現
像液のpHが低下するが、アルカリ濃度を戻すために、
界面活性剤などの溶解抑制剤を含む補充液を補充する
と、溶解抑制剤が過剰となり感度低下が生じる。
On the other hand, in the developing solution, alkali is consumed by the contact with carbon dioxide gas in the air. This lowers the pH of the developer, but in order to restore the alkali concentration,
When a replenisher containing a dissolution inhibitor such as a surfactant is replenished, the dissolution inhibitor becomes excessive and the sensitivity decreases.

【0344】また、現像液は、PS版12の処理を行う
ことにより、アルカリが消費されると共に、現像液中に
溶出したバインダーが、溶解抑制剤である界面活性剤を
吸着する。このために、アルカリ濃度を合わせるように
補充液を補充すると、感度上昇が生じてしまう。
Further, when the developer is treated with the PS plate 12, the alkali is consumed, and the binder eluted in the developer adsorbs the surfactant as the dissolution inhibitor. Therefore, if the replenisher is replenished so that the alkali concentration is adjusted, the sensitivity will be increased.

【0345】ここで、アルカリ補充液を補充することに
より、空気中の炭酸ガス(CO2)との接触及びPS版
12の処理による現像液中のアルカリ濃度の低下を抑え
ることができ、また、現像槽24内の現像液の電導度を
検出して、この電導度が予め算出した電導度目標値を越
えたときに希釈水を補充することにより、現像液中のア
ルカリ濃度を一定に保つことができる。
By replenishing the alkali replenisher, it is possible to prevent the alkali concentration in the developer from lowering due to contact with carbon dioxide gas (CO 2 ) in the air and the treatment of the PS plate 12, and To keep the alkali concentration in the developer constant by detecting the conductivity of the developer in the developing tank 24 and supplementing the dilution water when the conductivity exceeds a previously calculated target value of the conductivity. You can

【0346】一方、溶解抑制剤は、PS版12の処理面
積を算出し、この処理面積又は処理面積の積算値に基づ
いて補充する。これにより、現像液中の溶解抑制剤に過
不足が生じてしまうのを防止して、現像液の感度を略一
定に保つことができる。
On the other hand, the dissolution inhibitor is supplemented based on the treated area of the PS plate 12 and the treated area or the integrated value of the treated area. As a result, it is possible to prevent an excess or deficiency of the dissolution inhibitor in the developing solution and keep the sensitivity of the developing solution substantially constant.

【0347】したがって、自動現像装置10では、長期
にわたってPS版12の現像処理を行っても、現像液の
感度が略一定に維持され、PS版12にコントラストの
低下や画像部分の損傷を生じさせてしまうことなく、P
S版12の現像処理を行うことができる。
Therefore, in the automatic developing apparatus 10, even if the PS plate 12 is developed for a long period of time, the sensitivity of the developing solution is kept substantially constant, which causes the PS plate 12 to lose contrast and damage the image portion. Without losing, P
The S plate 12 can be developed.

【0348】特に、自動現像装置10では、単にPS版
12の処理枚数に応じて現像補充液を補充するのではな
く、PS版12の面積に基づいて、現像補充液を補充す
るようにしているため、サイズの異なるPS版12を処
理したときにも、適性な量の現像補充液を補充すること
ができる。
In particular, in the automatic developing device 10, the developing replenisher is replenished based on the area of the PS plate 12, rather than simply replenishing the developing replenisher according to the number of processed PS plates 12. Therefore, an appropriate amount of development replenisher can be replenished even when PS plates 12 having different sizes are processed.

【0349】このとき、自動現像装置10では、PS版
12の搬送方向に沿った長さである縦寸法に対する横寸
法のデータをテーブルとして記憶することにより、PS
版12の挿入を検出する一つの版検出センサ210を用
いる簡単な構成で、現像槽24へ適正な量の溶解抑制剤
の補充を行うことができる。
At this time, in the automatic developing device 10, by storing the data of the horizontal dimension with respect to the vertical dimension, which is the length along the transport direction of the PS plate 12, as a table,
With a simple configuration using one plate detection sensor 210 that detects the insertion of the plate 12, it is possible to replenish the developing tank 24 with an appropriate amount of the dissolution inhibitor.

【0350】なお、自動現像装置10では、PS版12
の面積と非画像面積率を用いて処理面積を算出するよう
にしているが、少なくとも、PS版12の縦寸法から版
面積を求めて、この版面積に基づいて現像補充液の補充
量を算出するようにしたものであれば良く、これによ
り、単にPS版12の処理枚数から現像補充液の補充量
を決定するのに比べて、高品質の画像形成が可能とな
る。
In the automatic developing device 10, the PS plate 12
Although the processing area is calculated by using the area of No. and the non-image area ratio, at least the plate area is obtained from the vertical dimension of the PS plate 12, and the replenishment amount of the developing replenisher is calculated based on this plate area. It is possible to form a high quality image as compared with a case where the replenishment amount of the development replenisher is simply determined from the number of processed PS plates 12.

【0351】[0351]

【実施例】以下、実施例として、具体例を説明する。な
お、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものでは
ない。
EXAMPLES Specific examples will be described below as examples. The present invention is not limited to these examples.

【0352】〔基板の製作〕厚み0.3mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
スー水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、水でよく
洗浄した。この板を45°Cの25%水酸化ナトリウム
水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更
に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂
目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次
ぎにこの板を、7%硫酸を電解液として、電流密度15
A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、
水洗し、乾燥した。
[Production of Substrate] An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm was washed with trichlorethylene to degrease it, and then a nylon brush and 400 mesh of pumisu water suspension were used to grain this surface. Washed well with water. This plate was immersed in a 25% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C. for 9 seconds for etching, washed with water, further immersed in 20% nitric acid for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, this plate was treated with 7% sulfuric acid as an electrolytic solution to obtain a current density of 15
After a direct current anodized film of 3 g / m 2 in A / dm 2,
It was washed with water and dried.

【0353】これを珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液
で30°Cで10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗
膜を80°Cで15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗
膜の被覆量は15mg/m2であった。
This was treated with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C. for 10 seconds, the following undercoat liquid was applied, and the coating film was dried at 80 ° C. for 15 seconds to obtain a substrate. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

【0354】 〔下塗り液の組成〕 ・分子量2.8万の下記共重合体 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g[0354]   [Composition of undercoat liquid] -0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000 ・ Methanol 100g ・ Water 1g

【0355】[0355]

【化7】 [Chemical 7]

【0356】得られた基板に以下の感光層塗布液を塗布
量が1.8g/m2になるよう塗布し、乾燥して、実施
例1の平版印刷版原版を得た。
The following photosensitive layer coating liquid was applied to the obtained substrate so that the coating amount was 1.8 g / m 2 , and dried to obtain a lithographic printing plate precursor of Example 1.

【0357】 〔感光層塗布液〕 ・m,p−クレゾールノボラック 1.0g (m/p比=6/4、重量平均分子量8000、 未反応クレゾール0.5重量%含有) ・シアニン染料A(下記構造) 0.1g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ・p−トルエンスルホル酸 0.002g エチルバイオレットの対イオンを 6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.02g フッ素系界面活性剤 (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g ・メチルエチルケトン 12g[0357]     [Photosensitive layer coating liquid] ・ M, p-cresol novolak 1.0 g (M / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 8000,     Unreacted cresol 0.5% by weight included) ・ Cyanine dye A (structure below) 0.1 g ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.05g -P-toluenesulfonic acid 0.002 g The counter ion of ethyl violet     6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid 0.02 g Fluorosurfactant (Megafuck F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g ・ Methyl ethyl ketone 12g

【0358】[0358]

【化8】 [Chemical 8]

【0359】(実施例1)本実施例では、現像液(アル
カリ現像液)及び現像補充液(アルカリ補充液)の具体
例として、自動現像装置10の現像槽24に下記組成の
アルカリ現像液A1(pH約13)を20リットル仕込
み、30℃に保温し、所定のタイミングで下記組成の現
像補充液(アルカリ補充液)B1を補充するようにして
いる。
Example 1 In this example, as a specific example of the developing solution (alkali developing solution) and the developing replenishing solution (alkali replenishing solution), an alkaline developing solution A1 having the following composition was placed in the developing tank 24 of the automatic developing apparatus 10. 20 liters of (pH about 13) are charged and kept at 30 ° C., and a development replenisher (alkali replenisher) B1 having the following composition is replenished at a predetermined timing.

【0360】 〔アルカリ現像液A1の組成〕 ・SiO2・K2O 4.0重量% (K2O/SiO2=1.1(モル比)) ・クエン酸 0.5重量% ・ポリエチレングリコール(重量平均分子量=1000) 0.5重量% ・水 95.0重量% 〔現像補充液B1の組成〕 ・SiO2・K2O 5.0重量% (K2O/SiO2=1.1(モル比)) ・クエン酸 0.6重量% ・ポリエチレングリコール(重量平均分子量=1000) 0.6重量% ・水 93.8重量% なお、水洗槽26には、水を8リットル、不感脂化処理
槽28には、FP−2W(富士写真フィルム(株)
製):水=1:1稀釈した8リットルのフィニッシング
ガム液を仕込むようにしている。
[Composition of Alkali Developer A1] SiO 2 .K 2 O 4.0 wt% (K 2 O / SiO 2 = 1.1 (molar ratio)) Citric Acid 0.5 wt% Polyethylene glycol (Weight average molecular weight = 1000) 0.5% by weight Water 95.0% by weight [Composition of development replenisher B1] SiO 2 .K 2 O 5.0% by weight (K 2 O / SiO 2 = 1.1) (Molar ratio) ・ Citric acid 0.6% by weight ・ Polyethylene glycol (weight average molecular weight = 1000) 0.6% by weight ・ Water 93.8% by weight It should be noted that 8 liters of water and non-sensitizing oil are contained in the washing tank 26. In the chemical treatment tank 28, FP-2W (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
(Manufactured): water = 1: 1 diluted with 8 liters of finishing gum solution.

【0361】ここで、版寸法が1030m×800mm
のPS版12、1枚当たり現像補充液B1を80ccず
つ補充するように非画像面積率R、単位処理面積当たり
の補充量及び積算値S1を設定すると共に、経時補充と
して一時間当たり現像補充液B1を100ccずつ補充
しながら処理を行う。
Here, the plate size is 1030 m × 800 mm
PS plate 12, the non-image area ratio R, the replenishment amount per unit processing area and the integrated value S 1 are set so that the development replenisher B1 is replenished by 80 cc per sheet, and the development replenishment is performed per hour as replenishment over time. The treatment is performed while replenishing the liquid B1 with 100 cc each.

【0362】すなわち、補充用のアルカリ現像液と、こ
のアルカリ現像液を所定の比率で希釈する希釈水を、ア
ルカリ補充液として、PS版12の処理量に応じて処理
補充及び、自動現像装置10の停止時間補充と稼動時間
補充(経時補充)を行いながら、電導度水補充を合わせ
て行う。
That is, the replenishing alkaline developing solution and the dilution water for diluting the alkaline developing solution at a predetermined ratio are used as the alkaline replenishing solution according to the processing amount of the PS plate 12 and the automatic developing apparatus 10 is replenished. Conduction water replenishment is performed together with stop time replenishment and operation time replenishment (time replenishment).

【0363】なお、PS版12は、クレオ社製プレート
セッターTrendsetter 3244Fを用いて、(出力:
9.0W、回転数:150rpm、解像度2400dp
i、画像面積約20%)て露光処理を行った。
For the PS plate 12, a plate setter Trendsetter 3244F manufactured by Creo Co., Ltd. was used (output:
9.0 W, rotation speed: 150 rpm, resolution 2400 dp
i, the image area is about 20%), and the exposure process is performed.

【0364】その際、10m2現像処理する毎に、溶解
抑制剤水溶液として下記組成の現像補充液(非イオン界
面活性剤水溶液)C1を5ccずつ補充されるように、
現像補充液C1の単位面積当たりの補充量及び積算値S
2を設定した。すなわち、PS版12の処理面積に応じ
て、溶解抑制剤水溶液である現像補充液C1の補充を行
う。
At this time, each time 10 m 2 development processing was performed, 5 cc of a development replenisher (nonionic surfactant aqueous solution) C1 having the following composition was replenished as a dissolution inhibitor aqueous solution.
Replenishment amount of developer replenisher C1 per unit area and integrated value S
Set 2 . That is, the development replenisher C1, which is an aqueous solution of a dissolution inhibitor, is replenished according to the treated area of the PS plate 12.

【0365】 〔現像補充液C1の組成〕 ・ポリエチレングリコール(重量平均分子量=1000) 10.0重量% ・水 90.0重量% (比較例1)非イオン界面活性剤水溶液である現像補充
液C1の添加を行わなかった他は、実施例1と同様の条
件で現像処理を行った。すなわち、比較例1では、アル
カリ補充液の処理補充及び経時補充と、電導度水補充を
行い、溶解抑制剤水溶液(現像補充液C1)の補充を省
略した。
[Composition of Development Replenisher C1] Polyethylene glycol (weight average molecular weight = 1000) 10.0 wt% Water 90.0 wt% (Comparative Example 1) Development replenisher C1 which is a nonionic surfactant aqueous solution The development processing was performed under the same conditions as in Example 1 except that the addition was not performed. That is, in Comparative Example 1, the treatment replenishment with the alkali replenisher, the replenishment with time, and the conductivity water replenishment were performed, and the replenishment of the dissolution inhibitor aqueous solution (development replenisher C1) was omitted.

【0366】前記現像処理を完了し、製版された実施例
1及び比較例1のPS版12の非画像部のアルカリ現像
処理液に対する溶解性、及び画像部のアルカリ現像液に
対する耐溶解性を評価した。評価は以下の基準により目
視にて行った。評価結果を表2に示す。
The solubility of the non-image portion of the PS plate 12 of Example 1 and Comparative Example 1 which had been subjected to the above-mentioned development treatment to the plate and the solubility of the image portion in the alkali developing solution were evaluated. did. The evaluation was performed visually according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 2.

【0367】〔非画像部の溶解性〕 ○:露光部分に残膜が全く残っていない ×:露光部分に部分的に残膜が残っている 〔画像部の耐溶解性〕 ○:未露光部分がアルカリ現像処理液に全く溶解してい
ない △:未露光部分がアルカリ現像処理液にわずかであるが
溶解し、画像濃度がやや低下している ×:未露光部分がアルカリ現像処理液に部分的に溶解
し、画像濃度が低下している
[Solubility in non-image area] ◯: No residual film remained in the exposed area ×: Partial residual film remained in the exposed area [Dissolution resistance in the image area] ◯: Unexposed area Is not dissolved in the alkaline developing solution at all Δ: The unexposed area is slightly dissolved in the alkaline developing solution but the image density is slightly lowered ×: The unexposed area is partially in the alkaline developing solution And the image density is reduced.

【0368】[0368]

【表2】 [Table 2]

【0369】表2で明らかなように、本実施例では、連
続処理1000版に至るまで、画像部と非画像部とのオ
ン/オフが良好な優れた画像形成ができ、また、1日に
100版程度までの処理をしたときにも1ヶ月から2ヶ
月にわたって安定に現像処理されていることがわかっ
た。
As is clear from Table 2, in this embodiment, excellent image formation in which the image portion and the non-image portion were turned on / off was excellent and continuous image formation was possible up to the 1000th printing plate. It was found that even after processing up to about 100 plates, the development processing was stably performed for 1 to 2 months.

【0370】また、比較例1の結果より、溶解抑制剤
(界面活性剤)の補充を行わなかった場合、100版し
か安定に現像できず、150版目には画像部の溶解によ
る画像濃度の低下が生じていることがわかった。 (実施例2)実施例1におけるアルカリ現像液A1、現
像補充液(アルカリ補充液)B1、現像補充液(界面活
性剤水溶液)C1をそれぞれ、下記アルカリ現像液A
2、現像補充液(アルカリ補充液)B2、現像補充液
(溶解抑制剤水溶液)C2にかえ実施例1と同様に現像
処理を行った。
Further, from the results of Comparative Example 1, when the dissolution inhibitor (surfactant) was not replenished, only the 100th plate could be developed stably, and the 150th plate showed a change in image density due to dissolution of the image area. It turned out that there was a decline. (Example 2) The alkaline developer A1, the developing replenisher (alkali replenisher) B1, and the developing replenisher (surfactant aqueous solution) C1 in Example 1 were respectively used in the following alkaline developer A.
2, the development replenisher (alkali replenisher) B2 and the development replenisher (dissolution inhibitor aqueous solution) C2 were replaced, and the development treatment was performed in the same manner as in Example 1.

【0371】 〔アルカリ現像液A2〕 ・Dソルビット 5.0重量% ・水酸化ナトリウム 2.0重量% ・サーフロンS−121(旭硝子社製、第4級アンモニウム塩) 0.5重量% ・水 92.5重量% 〔現像補充液B2〕 ・Dソルビット 6.3重量% ・水酸化ナトリウム 2.5重量% ・サーフロンS−121(旭硝子社製、第4級アンモニウム塩) 0.6重量% ・水 90.6重量% 〔現像補充液C2〕 ・サーフロンS−121(旭硝子社製、第4級アンモニウム塩)10.0重量% ・水 90.0重量% (比較例2)カチオン界面活性剤水溶液である現像補充
液C2の添加を行わなかった他は、実施例2と同様の条
件で現像処理を行った。
[Alkali Developer A2] D Solbit 5.0 wt% Sodium Hydroxide 2.0 wt% Surflon S-121 (Asahi Glass Co., Ltd., quaternary ammonium salt) 0.5 wt% Water 92 .5 wt% [Development replenisher B2] D sorbit 6.3 wt% Sodium hydroxide 2.5 wt% Surflon S-121 (Asahi Glass Co., Ltd., quaternary ammonium salt) 0.6 wt% Water 90.6% by weight [Development replenisher C2] -Surflon S-121 (Asahi Glass Co., quaternary ammonium salt) 10.0% by weight-Water 90.0% by weight (Comparative Example 2) Cationic surfactant aqueous solution Development was carried out under the same conditions as in Example 2 except that the development replenisher C2 was not added.

【0372】前記現像処理を完了し、製版された実施例
2及び比較例2のPS版12の非画像部のアルカリ現像
液に対する溶解性、及び画像部のアルカリ現像液に対す
る耐溶解性を実施例1と同様の基準により評価した。評
価結果を下記表3に示す。
The PS plate 12 of Example 2 and Comparative Example 2 which had been subjected to the above-mentioned development treatment and was subjected to plate-making had a solubility in a non-image area with an alkali developing solution and an image area with an alkali developing solution. It evaluated by the same criteria as 1. The evaluation results are shown in Table 3 below.

【0373】[0373]

【表3】 [Table 3]

【0374】表3で明らかなように、溶解抑制剤として
カチオン界面活性剤を用いた場合でも、本実施例では、
連続処理1000版に至るまで、画像部と非画像部との
オン/オフが良好な優れた画像形成ができ、また、1日
に100版程度までの処理をしたときにも1ヶ月から2
ヶ月にわたって安定に現像処理されていることがわかっ
た。
As is clear from Table 3, even when a cationic surfactant is used as the dissolution inhibitor, in this example,
Up to 1000 plates of continuous processing, excellent image formation with good on / off of the image area and non-image area can be performed, and when processing up to about 100 plates a day, it takes 1 month to 2 days.
It was found that the development processing was stably performed over a period of months.

【0375】また、比較例2の結果より、溶解抑制剤の
補充を行わなかった場合、100版しか安定に現像でき
ず、150版目には画像部の溶解による画像濃度の低下
が生じていることがわかった。 (実施例3)実施例1における現像処理工程において、
アルカリ現像液A1、現像補充液(アルカリ補充液)B
1、現像補充液(溶解抑制剤水溶液)C1をそれぞれ、
下記アルカリ現像液A3、現像補充液(アルカリ補充
液)B3、現像補充液(溶解抑制剤水溶液)C3にかえ
実施例1と同様に現像処理を行った。
Further, from the results of Comparative Example 2, when the dissolution inhibitor was not replenished, only the 100th plate could be developed stably, and the image density was lowered at the 150th plate due to the dissolution of the image area. I understood it. (Embodiment 3) In the development processing step in Embodiment 1,
Alkali developer A1, development replenisher (alkali replenisher) B
1. Development replenisher (solution inhibitor solution) C1
The following alkaline developing solution A3, development replenishing solution (alkali replenishing solution) B3, and development replenishing solution (solution inhibitor aqueous solution) C3 were used, and development processing was performed in the same manner as in Example 1.

【0376】 〔アルカリ現像液A3の組成〕 ・SiO2・K2O 6.0重量% (K2O/SiO2=1(モル比)) ・リン酸三ナトリウム 2.0重量% ・アモーゲンK(第一工業製薬社製、ベタイン型化合物) 0.8重量% ・水 91.2重量% 〔現像補充液B3〕 ・SiO2・K2O 8.0重量% (K2O/SiO2=1(モル比)) ・リン酸三ナトリウム 3.0重量% ・アモーゲンK(第一工業製薬社製、ベタイン型化合物) 1.0重量% ・水 88.0重量% 〔現像補充液C3〕 ・アモーゲンK(第一工業製薬社製、ベタイン型化合物) 15.0重量% ・水 85.0重量% (比較例3)両性界面活性剤水溶液である現像補充液C
3の添加を行わなかった他は、実施例3と同様の条件で
現像処理を行った。
[Composition of Alkali Developer A3] SiO 2 .K 2 O 6.0 wt% (K 2 O / SiO 2 = 1 (molar ratio)) Trisodium Phosphate 2.0 wt% Amogen K (Baitain type compound manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 0.8 wt% ・ Water 91.2 wt% [Development replenisher B3] ・ SiO 2・ K 2 O 8.0 wt% (K 2 O / SiO 2 = 1 (molar ratio))-Trisodium phosphate 3.0 wt% -Amogen K (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., betaine type compound) 1.0 wt% -Water 88.0 wt% [Development replenisher C3]- Amogen K (Baitain type compound manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 15.0% by weight Water 85.0% by weight (Comparative Example 3) Development replenisher C which is an amphoteric surfactant aqueous solution.
Development processing was performed under the same conditions as in Example 3 except that addition of No. 3 was not performed.

【0377】前記現像処理を完了し、製版された実施例
3及び比較例3の印刷版の非画像部のアルカリ現像処理
液に対する溶解性、及び画像部のアルカリ現像処理液に
対する耐溶解性を実施例1と同様の基準により評価し
た。評価結果を下記表4に示す。
After the above development processing was completed, the plate-making printing plates of Example 3 and Comparative Example 3 were subjected to solubility in the non-image area alkali developing solution and in the image area solubility in the alkali developing solution. Evaluation was made according to the same criteria as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 4 below.

【0378】[0378]

【表4】 [Table 4]

【0379】表4で明らかなように、溶解抑制剤として
両性界面活性剤を用いた場合でも、本実施例でば、連続
処理1000版に至るまで、画像部と非画像部とのオン
/オフが良好な優れた画像形成ができ、また、1日に1
00版程度までの処理をしたときにも1ヶ月から2ヶ月
にわたって安定に現像処理されていることがわかった。
As is clear from Table 4, even when the amphoteric surfactant is used as the dissolution inhibitor, in the present example, on / off of the image area and the non-image area was continued until the continuous processing of 1000 plates. Can form an excellent image with good
It was found that even after processing up to about 00 plates, it was stably developed for 1 to 2 months.

【0380】さらに、比較例3の結果より、界面活性剤
の補充を行わなかった場合、100版しか安定に現像で
きず、150版目には画像部の溶解による画像濃度の低
下が生じていることがわかった。 (実施例4)実施例4では、実施例1のアルカリ現像液
A1、現像補充液(アルカリ補充液)B1に下記組成の
現像補充液(溶解抑制剤水溶液)C4を、PS版12の
面積換算で10版分を処理する毎に20ccずつ補充さ
れるように、現像補充液B1に含ませて処理した。
Further, from the results of Comparative Example 3, when the surfactant was not replenished, only the 100th plate could be stably developed, and the image density was lowered at the 150th plate due to dissolution of the image area. I understood it. (Example 4) In Example 4, the alkaline developer A1 and the developer replenisher (alkali replenisher) B1 of Example 1 were added with a developer replenisher (solution inhibitor solution) C4 having the following composition, in terms of the area of the PS plate 12. The developing replenisher B1 was added so that it was replenished by 20 cc each time 10 plates were processed.

【0381】 〔現像補充液C4の組成〕 ・SiO2・K2O 5.0重量% (K2O/SiO2=1.1(モル比)) ・クエン酸 0.6重量% ・ポリエチレングリコール(重量平均分子量=1000) 10.0重量% ・水 84.4重量% (比較例4)非イオン界面活性剤を含有する水溶液であ
る現像補充液C4の添加を行わなかった他は、実施例4
と同様の条件で現像処理を行った。
[Composition of development replenisher C4] SiO 2 · K 2 O 5.0 wt% (K 2 O / SiO 2 = 1.1 (molar ratio)) Citric acid 0.6 wt% Polyethylene glycol (Weight average molecular weight = 1000) 10.0% by weight Water 84.4% by weight (Comparative Example 4) Except that the development replenisher C4, which is an aqueous solution containing a nonionic surfactant, was not added. Four
The development process was performed under the same conditions as in.

【0382】前記現像処理を完了し、製版された実施例
4及び比較例4の平版印刷版の非画像部のアルカリ現像
処理液に対する溶解性、及び画像部のアルカリ現像処理
液に対する耐溶解性を実施例1と同様の基準により評価
した。評価結果を下記表5に示す。
The lithographic printing plates of Example 4 and Comparative Example 4 which had been subjected to the above development treatment and had been subjected to plate-making had a solubility in the non-image portion with respect to the alkali developing treatment solution and a solubility in the image portion with respect to the alkali developing treatment solution. Evaluation was made according to the same criteria as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 5 below.

【0383】[0383]

【表5】 [Table 5]

【0384】表5で明らかなように、補充液に非イオン
界面活性剤に加えてアルカリ剤を添加したものを用いた
場合でも、補充液として所定量の界面活性剤を含む水溶
液を用いた本発明の現像液補充方法によれば、連続処理
1000版に至るまで、画像部と非画像部とのオン/オ
フが良好な優れた画像形成ができ、また、1日に100
版程度までの処理をしたときにも1ヶ月から2ヶ月にわ
たって安定に現像処理されていることがわかった。
As is clear from Table 5, even when the replenisher containing an alkaline agent in addition to the nonionic surfactant is used, a solution containing an aqueous solution containing a predetermined amount of the surfactant is used as the replenisher. According to the developer replenishing method of the invention, excellent image formation in which the image area and the non-image area are turned on / off can be excellently performed up to the continuous processing of 1000 plates, and 100 times a day.
It was found that even when processing up to the plate level, the development processing was stably carried out for 1 to 2 months.

【0385】また、比較例4の結果より、溶解抑制剤の
補充を行わなかった場合、100版しか安定に現像でき
ず、150版目には画像部の溶解による画像濃度の低下
が生じていることがわかった。
Further, from the results of Comparative Example 4, when the dissolution inhibitor was not replenished, only the 100th plate could be developed stably, and at the 150th plate, the image density was lowered due to the dissolution of the image area. I understood it.

【0386】上記各実施例にも明らかなように、自動現
像装置10では、長期間安定した現像性が確保できる
が、連続的な現像処理を行っても、アルカリ補充液の処
理補充及び経時補充を行いながら、PS版12の処理面
積に応じて溶解抑制剤を含む水溶液を補充することによ
り、現像性即ち、非画像部の溶解性を保持することがで
きる。
As is clear from each of the above-mentioned embodiments, the automatic developing device 10 can secure stable developing property for a long period of time. While performing, by supplementing the aqueous solution containing the dissolution inhibitor according to the treated area of the PS plate 12, the developability, that is, the solubility of the non-image area can be maintained.

【0387】これに対して、溶解抑制剤水溶液の補充を
行わない場合、非画像部の溶解性と画像部の保護性のバ
ランスがくずれ、画像部の溶解性が問題となることがわ
かった。
On the other hand, it was found that when the dissolution inhibitor aqueous solution was not replenished, the solubility of the non-image area and the protection of the image area were out of balance, and the solubility of the image area became a problem.

【0388】なお、以上説明した本実施の形態は、本発
明の構成を限定するものではない。本実施の形態では、
アルカリ補充液の補充を、版検出センサ210によって
検出するPS版12の通過時間から処理面積を算出し
て、この処理面積に基づいて行うようにしたが、これに
限らず、PS版12の処理量に応じて適正なアルカリ補
充液を補充することができる方法であれば、任意の方法
を用いることができる。
The embodiment described above does not limit the structure of the present invention. In this embodiment,
The replenishment of the alkali replenishing solution is performed based on the processing area by calculating the processing area from the passage time of the PS plate 12 detected by the plate detecting sensor 210, but the processing area of the PS plate 12 is not limited to this. Any method can be used as long as it can replenish an appropriate alkali replenisher according to the amount.

【0389】また、本実施の形態に適用した自動現像装
置10は、本発明が適用される自動現像装置の構成を限
定するものではなく、本発明は、赤外線レーザ用の感光
層が形成された任意の組成の印刷版を現像処理するもの
であれば、任意の構成の自動現像装置に適用することが
できる。
Further, the automatic developing device 10 applied to this embodiment does not limit the structure of the automatic developing device to which the present invention is applied, and the present invention has a photosensitive layer for infrared laser formed. As long as it develops a printing plate having an arbitrary composition, it can be applied to an automatic developing device having an arbitrary configuration.

【0390】[0390]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、赤
外線レーザ用ポジ型感光層などの赤外線レーザ用感光層
が形成された印刷版の現像処理を行うときに、アルカリ
現像液とこのアルカリ現像液を所定の比率で希釈する希
釈水をアルカリ補充液として補充しながら電導度に応じ
て水を補充する。これと共に、一つの版検出手段を用い
た簡単な構成で、印刷版の適正な処理面積を演算し、こ
の演算結果に基づいて溶解抑制剤を含む水溶液を補充す
ることにより、多数枚の印刷版の現像処理や長期にわた
る印刷版の処理を行っても、安定した現像性が得られる
という優れた効果を有する。
As described above, according to the present invention, when a printing plate having a photosensitive layer for infrared laser such as a positive photosensitive layer for infrared laser formed thereon is subjected to a developing treatment, an alkaline developer and this alkali are used. Water is replenished according to the electric conductivity while replenishing the developing solution with a diluting water that dilutes the developing solution at a predetermined ratio as an alkali replenishing solution. Along with this, with a simple configuration using one plate detection means, a proper processing area of the printing plate is calculated, and an aqueous solution containing a dissolution inhibitor is replenished based on the calculation result, so that a large number of printing plates can be obtained. It has an excellent effect that a stable developing property can be obtained even if the developing treatment (1) and the printing plate treatment are carried out for a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施の形態に適用した自動現像装置の概略構
成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an automatic developing device applied to this embodiment.

【図2】自動現像装置の配管系統を示す概略構成図であ
る。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a piping system of an automatic developing device.

【図3】自動現像装置の制御部の概略構成を示すブロッ
ク図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a schematic configuration of a control unit of the automatic developing device.

【図4】自動現像装置での現像補充液の処理補充及び電
導度補充の概略を示す流れ図である。
FIG. 4 is a flow chart showing an outline of processing replenishment and conductivity replenishment of a developing replenisher in an automatic developing device.

【図5】(A)は経時補充の概略を示す流れ図であり、
(B)は電導度補充の概略を示す流れ図である。
FIG. 5 (A) is a flow chart showing an outline of replenishment over time,
(B) is a flow chart showing an outline of conductivity replenishment.

【図6】(A)は現像補充液の補充量に対する電導度の
変化の概略を示す線図、(B)は炭酸ガスの溶け込み量
に応じた液置換率に対する電導度の変化の概略を示す線
図である。
FIG. 6A is a diagram schematically showing a change in electric conductivity with respect to a replenishment amount of a developing replenisher, and FIG. 6B is a schematic view showing a change in electric conductivity with respect to a liquid replacement rate depending on a dissolved amount of carbon dioxide gas. It is a diagram.

【図7】版検出センサを用いた処理量(処理面積)算出
の概略を示す流れ図である。
FIG. 7 is a flowchart showing an outline of calculation of a processing amount (processing area) using a plate detection sensor.

【図8】(A)は現像液中へのバインダー添加量に対す
る感度変化の概略を示す線図、(B)は溶解抑制剤であ
る界面活性剤(PEG)の現像液中への添加量に対する
感度変化の概略を示す線図である。
FIG. 8A is a diagram schematically showing a change in sensitivity with respect to the amount of binder added to a developer, and FIG. 8B is a diagram showing the amount of a surfactant (PEG) as a dissolution inhibitor added to the developer. It is a diagram which shows the outline of a sensitivity change.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 自動現像装置 12 PS版(印刷版) 14 現像部 24 現像槽 32 挿入口 122 電導度センサ(電導度検出手段) 124A 補充液タンク(第1の補充手段) 124B 補充液タンク(第3の補充手段) 128 給水タンク(第2の補充手段) 130 補充ポンプ(第1の補充手段) 134 給水ポンプ(第2の補充手段) 192 補充ポンプ(第3の補充手段) 200 制御部 202 コントローラ(処理面積積算手段、経時補充
制御手段、処理補充制御手段、抑制剤補充制御手段) 210 版検出センサ(版検出手段) 212 メモリ(記憶手段) 214 処理面積算出手段(処理面積積算手段) 216 計時手段 218 電導度演算手段 220 電導度比較手段
10 Automatic Developing Device 12 PS Plate (Printing Plate) 14 Developing Section 24 Developing Tank 32 Insert Port 122 Conductivity Sensor (Conductivity Detection Means) 124A Replenisher Tank (First Replenishing Means) 124B Replenisher Tank (Third Replenisher) Means) 128 water supply tank (second replenishment means) 130 replenishment pump (first replenishment means) 134 water feed pump (second replenishment means) 192 replenishment pump (third replenishment means) 200 controller 202 controller (processing area) Integrating means, aging replenishment controlling means, processing replenishing controlling means, inhibitor replenishing controlling means) 210 plate detecting sensor (plate detecting means) 212 memory (storing means) 214 processing area calculating means (processing area integrating means) 216 clocking means 218 conductivity Degree calculating means 220 Conductivity comparing means

フロントページの続き (72)発明者 高宮 周一 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AC08 AD03 CB52 CC20 FA03 FA14 FA17 2H096 AA07 BA16 BA20 EA04 GA08 GA22 GA23 Continued front page    (72) Inventor Shuichi Takamiya             Fuji-Sha, 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture             Shin Film Co., Ltd. F term (reference) 2H025 AC08 AD03 CB52 CC20 FA03                       FA14 FA17                 2H096 AA07 BA16 BA20 EA04 GA08                       GA22 GA23

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、水不溶性のアルカリ可溶性
高分子化合物及び光を吸収して発熱する化合物を含有す
る赤外線レーザ用感光層が形成された印刷版を、現像槽
に現像液として貯留しているアルカリ現像液によって現
像処理しながら、所定のタイミングで補充液を補充する
自動現像装置の補充液補充方法であって、装置の稼働時
間ないし停止時間に応じた量及び前記印刷版の処理量に
応じた量のアルカリ現像液を補充し、前記現像槽内に貯
留している現像液の電導度が予め算出された電導度目標
値を上回っていたときに、現像液の電導度が前記電導度
目標値を下回るまで前記現像槽内に希釈水を補充すると
共に、前記現像槽へ引き入れられる前記印刷版が通過す
る挿入口に設けた版検出手段によって検出する前記印刷
版の通過時間から演算した前記印刷版の処理面積に応じ
た量の溶解抑制剤を含む水溶液を前記現像槽に補充する
ことを特徴とする自動現像装置の補充液補充方法。
1. A printing plate in which a photosensitive layer for infrared laser containing a water-insoluble alkali-soluble polymer compound and a compound that absorbs light and generates heat is formed on a support, and stored as a developer in a developing tank. A method of replenishing a replenisher for an automatic developing device, which replenishes a replenisher at a predetermined timing while performing a developing treatment with an alkaline developer that is used, and an amount of the replenisher according to the operating time or stop time of the apparatus and the processing of the printing plate. When replenishing the amount of the alkaline developer according to the amount, the conductivity of the developer stored in the developing tank is higher than the previously calculated conductivity target value, the conductivity of the developer is While replenishing the developing tank with diluting water until the electric conductivity falls below the target value, the passage time of the printing plate detected by the plate detecting means provided at the insertion port through which the printing plate drawn into the developing tank passes is calculated. A replenisher replenishing method for an automatic developing device, comprising replenishing the developing tank with an aqueous solution containing a dissolution inhibitor in an amount corresponding to the calculated processing area of the printing plate.
【請求項2】 支持体上に、水不溶性のアルカリ可溶性
高分子化合物及び光を吸収して発熱する化合物を含有す
る赤外線レーザ用感光層が形成された印刷版を、現像槽
に貯留しているアルカリ現像液に浸漬して現像処理する
自動現像装置であって、 前記現像槽へアルカリ現像液を補充する第1の補充手段
と、 前記現像槽へ希釈水を補充する第2の補充手段と、 前記現像槽へ溶解抑制剤を含む水溶液を補充する第3の
補充手段と、 装置の稼動ないし停止時間を計測する計時手段と、 前記現像槽内に貯留する現像液の電導度を計測する電導
度検出手段と、 前記計時手段によって計測した装置の稼働時間ないし停
止時間に基づいて前記第1の補充手段及び前記第2の補
充手段を作動させて前記アルカリ現像液と該アルカリ現
像液を所定比率で希釈する希釈水を補充する経時補充制
御手段と、 前記印刷版の処理量に基づいて前記第1及び前記第2の
補充手段を作動させて前記アルカリ現像液と該アルカリ
現像液を所定比率で希釈する希釈水を補充する処理補充
制御手段と、 前記電導度検出手段によって検出した電導度が予め演算
によって設定した前記現像槽内の現像液の電導度目標値
を越えたときに前記第2の補充手段を作動させて前記現
像槽へ希釈水を補充する電導度補充制御手段と、 所定位置で前記現像槽に引き入れられる前記印刷版を検
出する版検出手段と、 前記版検出手段によって検出する前記印刷版の先端から
後端までの通過時間から印刷版の処理面積を演算して積
算する処理面積積算手段と、 前記処理面積積算手段の積算値に基づいて前記第3の補
充手段を作動させて前記現像槽へ溶解抑制剤を含む水溶
液を補充する抑制剤補充制御手段と、 を含むことを特徴とする自動現像装置。
2. A printing plate in which a photosensitive layer for an infrared laser containing a water-insoluble alkali-soluble polymer compound and a compound which absorbs light and generates heat is formed on a support is stored in a developing tank. An automatic developing device for performing a developing treatment by immersing in an alkali developing solution, comprising: a first replenishing means for replenishing the developing tank with the alkali developing solution; and a second replenishing means for replenishing the developing tank with dilution water. Third replenishing means for replenishing the developing tank with an aqueous solution containing a dissolution inhibitor, time measuring means for measuring the operation or stop time of the apparatus, and electric conductivity for measuring the electric conductivity of the developing solution stored in the developing tank. Detecting means, and the first replenishing means and the second replenishing means are operated based on the operating time or stop time of the apparatus measured by the time measuring means to operate the alkaline developer and the alkaline developer at a predetermined ratio. Dilution Replenishing control means for replenishing dilution water, and the first and second replenishing means are operated based on the processing amount of the printing plate to dilute the alkaline developer and the alkaline developer at a predetermined ratio. Processing replenishment control means for replenishing dilution water, and the second replenishment means when the electric conductivity detected by the electric conductivity detection means exceeds the electric conductivity target value of the developer in the developing tank set by calculation in advance. Is operated to replenish the developing tank with dilution water, a conductivity replenishing control means, a plate detecting means for detecting the printing plate drawn into the developing tank at a predetermined position, and the printing plate detected by the plate detecting means. Processing area integration means for calculating and integrating the processing area of the printing plate from the passage time from the leading edge to the trailing edge of the printing plate, and activating the third replenishing means based on the integrated value of the processing area integration means. Include the suppression replenishment control means for replenishing the aqueous solution containing a dissolution inhibitor to the developing tank, an automatic developing apparatus according to claim.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI735734B (en) * 2017-04-13 2021-08-11 日商日立環球生活方案股份有限公司 washing machine

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