JP2003272832A - Organic el element, and manufacturing method of the same - Google Patents

Organic el element, and manufacturing method of the same

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JP2003272832A
JP2003272832A JP2002068542A JP2002068542A JP2003272832A JP 2003272832 A JP2003272832 A JP 2003272832A JP 2002068542 A JP2002068542 A JP 2002068542A JP 2002068542 A JP2002068542 A JP 2002068542A JP 2003272832 A JP2003272832 A JP 2003272832A
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organic
substrate
terminal
terminal portion
anode
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Kaoru Mori
森  薫
Koji Sato
功二 佐藤
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Original Assignee
Denso Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element of which, generation of a residual of the electrode forming material formed to a display area, is properly prevented at low cost. <P>SOLUTION: For the organic EL element S1, a laminate 5, formed by successively laminating a positive electrode 2, an organic layer including a light emitting layer made of organic EL material, and a negative electrode 4, is formed on a substrate 1. A positive electrode terminal 2a for connecting the positive terminal 2 to an external circuit, and a negative electrode terminal 2b for connecting the negative terminal 4 to the external circuit, are formed to part of the substrate 1 where the laminate 5 is not formed. The positive electrode terminal 2a and the negative electrode terminal 2b are made of a sintered compact formed by sintering an organic metal compound. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に、下部電
極、有機層、上部電極を順次積層するとともに、各電極
を外部回路と接続するための端子部を形成してなる有機
EL(エレクトロルミネッセンス)素子およびその製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic EL (electro-luminescent) device in which a lower electrode, an organic layer and an upper electrode are sequentially laminated on a substrate and a terminal portion for connecting each electrode to an external circuit is formed. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a luminescence device and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の有機EL素子は、基板上に、下
部電極、有機EL材料からなる発光層を含む有機層、上
部電極を順次積層してなる積層体が形成されており、該
基板上のうち該積層体の非形成部には、下部電極を外部
回路と接続するための下部電極用端子部および上部電極
を外部回路と接続するための上部電極用端子部が形成さ
れてなるものである。
2. Description of the Related Art In this type of organic EL element, a laminated body is formed by sequentially laminating a lower electrode, an organic layer including a light emitting layer made of an organic EL material, and an upper electrode on a substrate. In the non-formed portion of the laminated body, a lower electrode terminal portion for connecting the lower electrode to the external circuit and an upper electrode terminal portion for connecting the upper electrode to the external circuit are formed. Is.

【0003】このような有機EL素子においては、一般
に下部電極として透明な導電膜であるインジウムとスズ
の酸化物すなわちITOの膜を用いている。そして、こ
のITOを基板上に成膜し、これをパターニングするこ
とにより、下部電極および上記の各電極用端子部を形成
するようにしている。その後、有機層および上部電極を
真空蒸着等にて成膜することで、有機EL素子が製造さ
れる。
In such an organic EL device, a transparent conductive film of indium and tin oxide, that is, a film of ITO is generally used as a lower electrode. Then, this ITO film is formed on the substrate and patterned to form the lower electrode and the above-mentioned electrode terminal portions. Then, an organic EL element is manufactured by forming a film of the organic layer and the upper electrode by vacuum vapor deposition or the like.

【0004】このような有機EL素子においては、外部
回路から各端子部を介して、下部電極と上部電極との間
に電界を印加することにより、画素としての積層体にお
ける発光層を発光させるようになっている。
In such an organic EL element, an electric field is applied between the lower electrode and the upper electrode from an external circuit via each terminal portion so that the light emitting layer in the laminate as a pixel emits light. It has become.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記ITO
の比抵抗は例えば1.4×10−8Ω・cm程度と高い
ものである。そのため、必要な電流が各画素に印加され
ず、配線長の長いところすなわち端子部から遠い位置に
ある画素では、特に輝度が不足することとなり、表示品
位を落としてしまう。
By the way, the ITO described above is used.
Resistivity is as high as about e.g. 1.4 × 10- 8 Ω · cm of. Therefore, the necessary current is not applied to each pixel, and the luminance is particularly insufficient in a pixel having a long wiring length, that is, a pixel far from the terminal portion, and the display quality is degraded.

【0006】そのため、従来では、各電極の端子部にお
いて、基板上にCr等からなる膜をITO上に成膜し、
これをホトリソグラフ技術を用いてパターニングするこ
とで、当該Cr等からなる補助配線を形成し、当該端子
部の配線抵抗を低抵抗化することが行われている。
Therefore, conventionally, in the terminal portion of each electrode, a film made of Cr or the like is formed on the substrate on ITO,
By patterning this using a photolithographic technique, an auxiliary wiring made of Cr or the like is formed to reduce the wiring resistance of the terminal portion.

【0007】しかしながら、この補助配線の形成におい
て、Cr等の成膜やホトリソグラフ技術は高価な設備や
高価な加工費が必要となる。さらに、このCr等の膜は
基板全域に成膜した後、パターニングを行うため、異物
等によるホト欠陥が原因で表示領域にCrの残渣が残る
ことがある。このような表示領域における残渣の存在に
よって電極間がショートし、不灯画素を生じると言った
不具合を引き起こすこととなる。
However, in the formation of this auxiliary wiring, the film formation of Cr or the like and the photolithographic technique require expensive equipment and expensive processing costs. Further, since the film of Cr or the like is formed over the entire area of the substrate and then patterned, a residue of Cr may remain in the display region due to a photo defect due to a foreign substance or the like. The presence of such a residue in the display region causes a short circuit between the electrodes, which causes a defect such as a non-lighted pixel.

【0008】このような表示領域における残渣の問題に
対して、特開2001−185363号公報では、成膜
不要な表示領域を予めレジスト材にて覆っておき、上記
補助配線となるCr等の成膜時には、表示領域を当該レ
ジスト材にて保護することで、上記残渣を表示領域に残
さないようにしている。
To solve the problem of residues in the display area, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-185363 discloses that the display area where film formation is not required is covered with a resist material in advance, and the auxiliary wiring such as Cr is formed. At the time of film formation, the display area is protected by the resist material so that the residue is not left in the display area.

【0009】しかしながら、このような方法では、レジ
スト材の形成およびその後に行うレジスト材の剥離とい
った工程が必要となるため、手間のかかるものとなり、
結果、コストの上昇を招く。
However, such a method requires steps such as formation of a resist material and subsequent peeling of the resist material, which is troublesome.
As a result, the cost is increased.

【0010】そこで、本発明は上記問題に鑑み、基板上
に、下部電極、有機層、上部電極を順次積層するととも
に、各電極を外部回路と接続するための端子部を形成し
てなる有機EL素子において、低いコストにて表示領域
における端子部の形成材料の残渣残りを適切に防止でき
るようにすることを目的とする。
Therefore, in view of the above problems, the present invention is an organic EL device in which a lower electrode, an organic layer, and an upper electrode are sequentially laminated on a substrate and a terminal portion for connecting each electrode to an external circuit is formed. It is an object of the present invention to appropriately prevent the residue of the forming material of the terminal portion in the display region from remaining in the element at low cost.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明者等は、まず、表示領域に上記残渣が残ら
ず、しかも安価に端子部を作る方法として、バインダに
銀粒子を混合した銀ペーストをスクリーン印刷法により
端子部を形成する方法を検討した。しかし、この方法で
は、次のような問題が生じることがわかった。
In order to achieve the above object, the present inventors first mixed silver particles with a binder as a method for producing the terminal portion at a low cost without leaving the above residue in the display area. A method of forming a terminal portion by screen printing a silver paste was examined. However, it was found that this method causes the following problems.

【0012】通常、有機EL素子では、素子が形成され
ている素子基板の上を金属やガラス等の封止基板で被覆
し、素子を保護することにより、大気中の水分等にて有
機膜が劣化するのを防止するようにしている。
Usually, in an organic EL element, by covering the element substrate on which the element is formed with a sealing substrate such as metal or glass to protect the element, an organic film is formed by moisture in the air. It is designed to prevent deterioration.

【0013】この場合、端子部は封止基板から外部に出
ている必要があり、封止基板は、端子部上および端子部
間の素子基板上にシール材を形成し、このシール材を介
して素子基板と貼り合わせられることとなる。ここで、
シール材の厚みは、外気からの水分の浸透量を考慮し
て、20μm以下に設計するのが通常である。
In this case, the terminal portion needs to be exposed to the outside from the sealing substrate, and the sealing substrate forms a sealing material on the terminal portion and on the element substrate between the terminal portions, and the sealing material is interposed therebetween. To be bonded to the element substrate. here,
The thickness of the sealing material is usually designed to be 20 μm or less in consideration of the permeation amount of moisture from the outside air.

【0014】しかし、銀ペーストからなる端子部の配線
厚みは例えば10μm程度と厚いため、端子部の無い部
分すなわち端子部間の素子基板上に配置されるシール材
の厚みはかなり厚いものとなる。そのため、この部分の
シール材が流れたりする等により、素子基板と封止基板
との十分な接着が得られず、この部分から水分が侵入し
て有機層が劣化し、発光しなくなってしまう、という問
題が生じる。
However, since the wiring thickness of the terminal portion made of silver paste is as thick as, for example, about 10 μm, the thickness of the sealing material arranged on the element substrate where there is no terminal portion, that is, between the terminal portions, is considerably thick. Therefore, due to the flow of the sealing material in this portion, sufficient adhesion between the element substrate and the sealing substrate cannot be obtained, moisture enters from this portion, the organic layer deteriorates, and light emission stops. The problem arises.

【0015】そこで、本発明者等は、銀ペーストを用い
た方法では端子部の配線厚みが厚くなりやすいため、よ
り薄い配線厚みを可能とすることも考慮した上で、鋭意
検討を行った。その結果、本発明を創出するに至った。
Therefore, the inventors of the present invention have made earnest studies in consideration of the fact that the wiring thickness of the terminal portion is likely to be large in the method using the silver paste, so that a thinner wiring thickness is possible. As a result, the present invention has been created.

【0016】すなわち、請求項1〜請求項3に記載の発
明では、基板(1)上に、下部電極(2)、有機EL材
料からなる発光層(3b)を含む有機層(3)、上部電
極(4)を順次積層してなる積層体が形成されており、
基板上のうち積層体の非形成部には、下部電極を外部回
路と接続するための下部電極用端子部(2a)および上
部電極を外部回路と接続するための上部電極用端子部
(2b)が形成されている有機EL素子において、下部
電極用端子部および上部電極用端子部のうち少なくとも
一方の端子部は、有機金属化合物を焼結してなる焼結体
からなるものであることを特徴とする。
That is, in the invention described in claims 1 to 3, the lower electrode (2), the organic layer (3) including the light emitting layer (3b) made of an organic EL material, and the upper part are provided on the substrate (1). A laminated body formed by sequentially laminating electrodes (4) is formed,
On the non-formed portion of the laminated body on the substrate, a lower electrode terminal portion (2a) for connecting the lower electrode to an external circuit and an upper electrode terminal portion (2b) for connecting the upper electrode to the external circuit. In the organic EL element in which is formed, at least one of the lower electrode terminal portion and the upper electrode terminal portion is made of a sintered body obtained by sintering an organic metal compound. And

【0017】それによれば、有機金属化合物をスクリー
ン印刷法やディスペンス塗布法にて基板(1)上に配置
した後、硬化させることにより焼結体としての端子部
(2a、2b)を容易に形成することができる。そのた
め、低いコストにて表示領域における端子部の形成材料
の残渣残りを適切に防止することができる。
According to this, after the organometallic compound is placed on the substrate (1) by a screen printing method or a dispense coating method, the terminal portion (2a, 2b) as a sintered body is easily formed by curing the organometallic compound. can do. Therefore, it is possible to appropriately prevent the residue of the material forming the terminal portion in the display area from remaining at a low cost.

【0018】また、有機金属化合物を焼結させること
で、焼結時に当該化合物中の有機成分が分解ガスとなっ
て排出されて焼結体としての端子部が形成されるため、
上記の銀ペーストを用いた方法に比べて、薄い配線厚み
で且つ十分な配線抵抗を有する端子部(2a、2b)が
得られる。
Further, when the organometallic compound is sintered, the organic component in the compound is discharged as a decomposition gas during the sintering to form a terminal portion as a sintered body.
The terminal portions (2a, 2b) having a thinner wiring thickness and a sufficient wiring resistance can be obtained as compared with the method using the above silver paste.

【0019】なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述
する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一
例である。
The reference numerals in parentheses for each means described above are examples showing the correspondence with specific means described in the embodiments described later.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示す実施形態
について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る有
機EL素子S1の概略平面図であり、図2は図1中のA
−A線に沿った概略断面図であり、図3は図1中のB−
B線に沿った概略断面図である。なお、図1では、識別
の容易化のために便宜上、各種のハッチングを施してあ
るが、これらは断面を示すものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention shown in the drawings will be described. FIG. 1 is a schematic plan view of an organic EL element S1 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is A in FIG.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along line A, and FIG. 3 shows B- in FIG.
It is a schematic sectional drawing along the B line. Note that, in FIG. 1, various hatchings are provided for the sake of convenience for easy identification, but these are not cross sections.

【0021】有機EL素子S1は、透明なガラス基板ま
たは樹脂基板等からなる基板1を備え、この基板1の上
には、下部電極としての陽極2、有機EL材料からなる
発光層3bを含む有機層3、上部電極としての陰極4を
順次積層してなる積層体(有機EL層)5が形成されて
いる。
The organic EL element S1 comprises a substrate 1 made of a transparent glass substrate, a resin substrate or the like, and an organic material including an anode 2 as a lower electrode and a light emitting layer 3b made of an organic EL material on the substrate 1. A layered product (organic EL layer) 5 is formed by sequentially layering the layer 3 and the cathode 4 as the upper electrode.

【0022】本実施形態における積層体5の配置形態
は、次のようである。陽極2および陰極4はそれぞれ複
数本設けられ、複数本の陽極2と複数本の陰極4とは互
いに直交する方向へ延びるストライプ状に配置されてい
る(図1参照)。また、両電極2、4の間に挟まれた有
機層3は、陰極4と同一のストライプ形状にパターニン
グされている。
The arrangement of the laminate 5 in this embodiment is as follows. A plurality of anodes 2 and a plurality of cathodes 4 are provided, and the plurality of anodes 2 and the plurality of cathodes 4 are arranged in stripes extending in directions orthogonal to each other (see FIG. 1). The organic layer 3 sandwiched between the electrodes 2 and 4 is patterned in the same stripe shape as the cathode 4.

【0023】そして、陽極2と陰極4とが交差して重な
り合う積層体5の部分が、発光部としての画素を形成し
ており、本例では、図1に示すように、基板1の中央部
から周辺部にわたって複数個の画素(積層体5)が格子
状に配列された形となっている。
The portion of the laminated body 5 where the anode 2 and the cathode 4 intersect and overlap each other forms a pixel as a light emitting portion. In this example, as shown in FIG. 1, the central portion of the substrate 1 is formed. To the periphery, a plurality of pixels (laminated body 5) are arranged in a grid pattern.

【0024】そして、基板1上において複数個の画素
(積層体5)が形成されている部位が表示領域である。
ここで、図2、図3に示すように、陽極2のストライプ
の間と有機層3および陰極4のストライプの間には、電
気絶縁性の絶縁膜からなる画素分離層6が形成されてい
る。
The display area is a region on the substrate 1 where a plurality of pixels (laminated body 5) are formed.
Here, as shown in FIGS. 2 and 3, a pixel separation layer 6 made of an electrically insulating insulating film is formed between the stripes of the anode 2 and between the stripes of the organic layer 3 and the cathode 4. .

【0025】また、画素分離層6のうち有機層3および
陰極4のストライプの間に位置する部分の上には、複数
本の隔壁層7がストライプ状に形成されている。その結
果、格子状をなす画素分離層6および陰極4のストライ
プ方向に沿って形成された隔壁層7により、各画素すな
わち積層体5が区画され分離されている。
A plurality of partition layers 7 are formed in stripes on the portion of the pixel separation layer 6 located between the stripes of the organic layer 3 and the cathode 4. As a result, each pixel, that is, the stacked body 5 is partitioned and separated by the grid-shaped pixel separation layer 6 and the partition wall layer 7 formed along the stripe direction of the cathode 4.

【0026】ここで、基板1の上に形成された上記各層
2〜7の材質等について述べる。まず、陽極2は、スパ
ッタ法等にて成膜されホトリソグラフ技術を用いてパタ
ーニングされたITO(インジウムとスズの酸化物)等
からなる透明電極膜である。
Here, the materials of the layers 2 to 7 formed on the substrate 1 will be described. First, the anode 2 is a transparent electrode film made of ITO (oxide of indium and tin) or the like, which is formed by a sputtering method or the like and patterned by using a photolithographic technique.

【0027】また、有機層3は、真空蒸着法にて成膜さ
れたもので、陽極2側から順に、正孔輸送性有機材料か
らなる正孔輸送層3a、正孔輸送性有機材料や電子輸送
性有機材料に蛍光色素をドープした有機EL材料からな
る発光層3b、電子輸送性有機材料からなる電子輸送層
3cが積層されてなる。
The organic layer 3 is formed by a vacuum vapor deposition method. The hole transporting layer 3a made of a hole transporting organic material, the hole transporting organic material, and the electron are sequentially formed from the anode 2 side. A light emitting layer 3b made of an organic EL material obtained by doping a transporting organic material with a fluorescent dye, and an electron transporting layer 3c made of an electron transporting organic material are laminated.

【0028】また、陰極4は、Al等の金属材料等を蒸
着したものからなる。また、画素分離層6は、感光性ポ
リイミド等の電気絶縁性の樹脂材料からなり、隔壁層7
はネガ型の感光性樹脂レジスト材料等からなる。
The cathode 4 is made of a metal material such as Al vapor-deposited. Further, the pixel separation layer 6 is made of an electrically insulating resin material such as photosensitive polyimide, and the partition layer 7
Is made of a negative photosensitive resin resist material or the like.

【0029】さらに、基板1上における表示領域の周辺
部すなわち複数個の画素(積層体5)の非形成部には、
陽極2と電気的に接続された陽極端子2a、および、陰
極4と電気的に接続された陰極端子2bが、陽極2や陰
極4に応じたストライプ状に形成されている。
Further, in the peripheral portion of the display area on the substrate 1, that is, in the non-formation portion of the plurality of pixels (the laminated body 5),
An anode terminal 2a electrically connected to the anode 2 and a cathode terminal 2b electrically connected to the cathode 4 are formed in a stripe shape corresponding to the anode 2 and the cathode 4.

【0030】これら端子部2a、2bは、陽極2、陰極
4をそれぞれ図示しない外部回路と接続するためのもの
であり、陽極端子2aが下部電極用端子部、陰極端子2
bが上部電極用端子部として構成されている。例えば、
これら端子部2a、2bと外部回路とは、異方導電性接
着テープやワイヤボンディング等の手法を用いて電気的
に接続される。
These terminal portions 2a and 2b are for connecting the anode 2 and the cathode 4 to an external circuit (not shown), and the anode terminal 2a is a lower electrode terminal portion and a cathode terminal 2.
b is configured as an upper electrode terminal portion. For example,
The terminal portions 2a and 2b and the external circuit are electrically connected to each other using a technique such as anisotropic conductive adhesive tape or wire bonding.

【0031】本例では、陽極端子2aは、基板1上の周
辺部にまで延長された陽極2の上に積層されており、陰
極端子2bは、基板1上において陽極2と略同一平面上
に形成されている。これら端子部2a、2bは、銀、
金、銅などを含む有機金属錯体等の有機金属化合物を焼
結してなる焼結体からなるものである。
In this example, the anode terminal 2a is laminated on the anode 2 extended to the peripheral portion on the substrate 1, and the cathode terminal 2b is on the substrate 1 on substantially the same plane as the anode 2. Has been formed. These terminal portions 2a and 2b are made of silver,
The sintered body is formed by sintering an organometallic compound such as an organometallic complex containing gold or copper.

【0032】例えば、有機金属化合物としては、脂肪酸
銀とアミンとの配位構造物に有機酸を混合したものから
調整されたものである。具体的には、脂肪酸銀35%〜
45%、ジヒドロターピネオール10%〜20%、1,
2−ジアミノシクロヘキサン10%〜20%、シクロヘ
キサンカルボン酸10%〜20%、酢酸1%〜10%、
無水フタル酸1%〜5%の組成から構成されたものであ
る。脂肪酸銀はR−COOAgで示され、そのRはアル
キル基から構成され、メチル基、エチル基、プロピル基
等が挙げられる。
For example, the organometallic compound is prepared from a mixture of a fatty acid silver-amine coordination structure with an organic acid. Specifically, 35% of fatty acid silver
45%, dihydroterpineol 10% to 20%, 1,
2-diaminocyclohexane 10% to 20%, cyclohexanecarboxylic acid 10% to 20%, acetic acid 1% to 10%,
It is composed of 1% to 5% phthalic anhydride. Fatty acid silver is represented by R-COOAg, and R is composed of an alkyl group, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group and a propyl group.

【0033】そして、この有機金属化合物を、スクリー
ン印刷法やディスペンス塗布法により基板1の所定部位
に選択的に塗布し、硬化(焼成)することで、有機金属
化合物中の有機成分が分解ガスとなって排出され、金属
が析出した焼結体となる。
Then, the organometallic compound is selectively applied to a predetermined portion of the substrate 1 by a screen printing method or a dispense coating method and cured (baked), so that the organic component in the organometallic compound becomes a decomposition gas. Is discharged and becomes a sintered body in which metal is deposited.

【0034】なお、図示しないが、有機EL素子S1に
おいては、基板1の上を金属やガラス等の封止基板で被
覆することにより、大気中の水分等にて素子S1中の有
機層3が劣化するのを防止するようにしている。この場
合、端子部2a、2b上および端子部2a、2b間の基
板1上にシール材を形成し、このシール材を介して基板
1と上記封止基板とが貼り合わせられる。
Although not shown, in the organic EL element S1, by covering the substrate 1 with a sealing substrate made of metal, glass, or the like, the organic layer 3 in the element S1 can be removed by moisture in the atmosphere. It is designed to prevent deterioration. In this case, a sealing material is formed on the terminal portions 2a and 2b and the substrate 1 between the terminal portions 2a and 2b, and the substrate 1 and the sealing substrate are bonded to each other via the sealing material.

【0035】次に、上記した有機EL素子S1の製造方
法について具体例を挙げながら説明する。図4は本製造
方法の製造工程フローを示す図である。まず、ガラス基
板からなる基板1上の所定位置に陽極2を形成する(陽
極形成工程)。本例では、ITOをスパッタ法等で成膜
し、通常のフォトリソグラフィー法でパターニングする
ことで、陽極2を形成する。
Next, a method of manufacturing the above-mentioned organic EL element S1 will be described with reference to specific examples. FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing process flow of the present manufacturing method. First, the anode 2 is formed at a predetermined position on the substrate 1 made of a glass substrate (anode forming step). In this example, the anode 2 is formed by forming a film of ITO by a sputtering method or the like and patterning it by a normal photolithography method.

【0036】次に、画素の間となる部分において基板1
の上および陽極2の上に、上記画素分離層6を形成する
(画素分離層形成工程)。本例では、感光性ポリイミド
等の樹脂(レジスト)をスピンコートにより基板1の全
面上に成膜し、これを焼成した後、露光、現像すること
により、画素分離層6を形成する。
Next, the substrate 1 is formed in the portion between the pixels.
The pixel separation layer 6 is formed on the anode and the anode 2 (pixel separation layer forming step). In this example, a resin (resist) such as photosensitive polyimide is spin-coated to form a film on the entire surface of the substrate 1. After baking the film, the pixel separation layer 6 is formed by exposing and developing.

【0037】さらに、画素分離層6の上に、有機層3お
よび陰極4を分断するための隔壁層7をフォトリソグラ
フィー法で形成する(隔壁層形成工程)。本例では、基
板1の全面上に隔壁層7となるネガ型の感光性樹脂レジ
ストをスピンコートし、これを焼成した後、露光、現像
することにより、隔壁層7を形成する。
Further, a partition layer 7 for dividing the organic layer 3 and the cathode 4 is formed on the pixel separating layer 6 by a photolithography method (partition layer forming step). In this example, a negative photosensitive resin resist that will be the partition layer 7 is spin-coated on the entire surface of the substrate 1, baked, and then exposed and developed to form the partition layer 7.

【0038】次に、端子部2a、2bを形成する。ま
ず、有機金属化合物からなる配線材をスクリーン印刷法
により基板1上の所定部位に印刷する(端子部配線材形
成工程)。印刷後の配線材の厚さは10μm程度とし
た。本例では、有機金属化合物は、上記した脂肪酸銀と
アミンとの配位構造物に有機酸を混合し調整したものと
して、ナミックス株式会社製の品名XE102−25を
用いた。
Next, the terminal portions 2a and 2b are formed. First, a wiring material made of an organometallic compound is printed on a predetermined portion of the substrate 1 by a screen printing method (terminal portion wiring material forming step). The thickness of the printed wiring material was about 10 μm. In this example, as the organometallic compound, a product name XE102-25 manufactured by NAMICS CO., LTD. Was used as an organometallic compound prepared by mixing an organic acid with the coordination structure of the above-described fatty acid silver and amine.

【0039】続いて、配線材が印刷された基板1を、1
50℃で10分で乾燥後、280℃で60分で焼成する
(端子部配線材焼成工程)。これらの乾燥・焼成工程に
より配線材の配位化合物が分解し銀が析出する。また、
アミンや有機酸が分解ガスとして排出されることで、焼
成後の配線材すなわち端子部2a、2bの膜厚は、印刷
直後の膜厚(10μm)の1/10以下の1μm以下と
なり、その比抵抗値は8×10−6Ω・cmとなった。
Subsequently, the substrate 1 on which the wiring material is printed is set to 1
After drying at 50 ° C. for 10 minutes, baking is performed at 280 ° C. for 60 minutes (terminal portion wiring material baking step). By these drying and firing steps, the coordination compound of the wiring material is decomposed and silver is deposited. Also,
By discharging amine and organic acid as decomposition gas, the film thickness of the wiring material after firing, that is, the terminal portions 2a and 2b becomes 1 μm or less, which is 1/10 or less of the film thickness (10 μm) immediately after printing, and the ratio thereof resistance value became 8 × 10- 6 Ω · cm.

【0040】その後、基板1を洗浄し(基板洗浄工
程)、陽極2の上に有機層3を真空蒸着法等にて成膜し
て積層し(有機層成膜工程)、有機層3の上に陰極4を
真空蒸着法等にて成膜して積層する(陰極成膜工程)。
After that, the substrate 1 is washed (substrate washing step), the organic layer 3 is formed on the anode 2 by a vacuum deposition method or the like and laminated (organic layer forming step), and the organic layer 3 is placed on the organic layer 3. Then, the cathode 4 is formed into a film by a vacuum deposition method or the like and laminated (cathode film forming step).

【0041】これにより、基板1上において、隔壁層7
の間に位置する陽極2および基板1の上に、有機層3お
よび陰極4がストライプ状に積層される。こうして、上
記した格子状の画素を構成する積層体5が形成される。
なお、上記図1〜図3では図示しないが、実際には、こ
のような成膜方法により、隔壁層7の上端面にも、有機
層3および陰極4と同様の膜が積層される。
As a result, the partition layer 7 is formed on the substrate 1.
The organic layer 3 and the cathode 4 are laminated in stripes on the anode 2 and the substrate 1 which are located between. In this way, the laminated body 5 that constitutes the above-mentioned lattice-shaped pixel is formed.
Although not shown in FIGS. 1 to 3, in practice, a film similar to the organic layer 3 and the cathode 4 is laminated on the upper end surface of the partition layer 7 by such a film forming method.

【0042】さらに、彫り込みを形成しその彫り込みの
内部に吸湿剤を保持した封止基板を用意し、端子部2
a、2b上および端子部2a、2b間の基板1上にて接
着剤(シール材)を介して、基板1と上記封止基板とを
貼り合わせる。なお、接着剤には接着剤の厚みを一定に
制御するため、径が6μmの樹脂ビーズが混入されたも
のを用いた。こうして、上記有機EL素子S1が製造さ
れる。
Further, a sealing substrate is prepared in which engraving is formed and a moisture absorbent is held inside the engraving, and the terminal portion 2
The substrate 1 and the sealing substrate are bonded to each other via an adhesive (sealing material) on the substrates a and 2b and between the terminals 2a and 2b. In addition, in order to control the thickness of the adhesive to be constant, an adhesive mixed with resin beads having a diameter of 6 μm was used. In this way, the organic EL element S1 is manufactured.

【0043】ところで、本実施形態によれば、陽極端子
2aおよび陰極端子2bを有機金属化合物を焼結してな
る焼結体からなるものとしている。それによれば、上記
製造方法に示したように、有機金属化合物をスクリーン
印刷法にて基板1上に配置した後、硬化させることによ
り焼結体としての端子部2a、2bを容易に形成するこ
とができる。
By the way, according to this embodiment, the anode terminal 2a and the cathode terminal 2b are made of a sintered body obtained by sintering an organometallic compound. According to this, as shown in the above-mentioned manufacturing method, after the organometallic compound is arranged on the substrate 1 by the screen printing method, it is cured to easily form the terminal portions 2a, 2b as the sintered body. You can

【0044】そのため、従来の端子部の成膜に必要であ
ったホトリソグラフ技術等を用いたパターニングや、残
渣残り防止のためのレジスト材が不要となる。よって、
本実施形態によれば、低いコストにて表示領域における
端子部2a、2bの形成材料の残渣残りを適切に防止す
ることができる。
Therefore, the patterning using the photolithographic technique or the like, which is necessary for the film formation of the conventional terminal portion, and the resist material for preventing the residual residue are unnecessary. Therefore,
According to the present embodiment, it is possible to appropriately prevent the residual residue of the forming material of the terminal portions 2a and 2b in the display area at low cost.

【0045】また、有機金属化合物を焼結させること
で、焼結時に当該化合物中の有機成分が分解ガスとなっ
て排出されて焼結体としての端子部2a、2bが形成さ
れるため、上述の銀ペーストを用いた方法に比べて、薄
い配線厚みで且つ十分な配線抵抗を有する端子部が得ら
れる。
Further, by sintering the organometallic compound, the organic components in the compound are discharged as a decomposition gas at the time of sintering and the terminal portions 2a, 2b as the sintered body are formed. As compared with the method using the silver paste, the terminal portion having a thinner wiring thickness and a sufficient wiring resistance can be obtained.

【0046】(他の実施形態)なお、陽極端子2aは、
基板1上の周辺部にまで延長された陽極2の上に積層さ
れた焼結体でなくとも良い。例えば、陽極端子2aを基
板1上の周辺部において陽極2と同一平面上に形成した
焼結体とし、この焼結体に対して、延長されてきた陽極
2を接続するようにしても良い。
(Other Embodiments) The anode terminal 2a is
It does not have to be a sintered body laminated on the anode 2 extended to the peripheral portion on the substrate 1. For example, the anode terminal 2a may be a sintered body formed on the same plane as the anode 2 in the peripheral portion of the substrate 1, and the extended anode 2 may be connected to this sintered body.

【0047】また、陽極端子2aおよび陰極端子2bの
うちいずれか一方の端子部が、有機金属化合物を焼結し
てなる焼結体からなるものであっても良い。例えば、陽
極端子2aは、基板1上の周辺部にまで延長された陽極
2そのものとしても良い。
Further, either one of the anode terminal 2a and the cathode terminal 2b may be made of a sintered body obtained by sintering an organometallic compound. For example, the anode terminal 2a may be the anode 2 itself extended to the peripheral portion on the substrate 1.

【0048】また、有機金属化合物を基板1上に配置す
ることは、スクリーン印刷法以外にもディスペンス塗布
法にて行っても良い。
The placement of the organometallic compound on the substrate 1 may be performed by a dispense coating method other than the screen printing method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態に係る有機EL素子の概略平
面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view of an organic EL element according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1中のA−A線に沿った概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

【図3】図1中のB−B線に沿った概略断面図である。3 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

【図4】上記実施形態に係る有機EL素子の製造方法の
工程フローを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a process flow of a method for manufacturing an organic EL device according to the above embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板、2…陽極、2a…陽極端子、2b…陰極端
子、3…有機層、3b…発光層、4…陰極。
1 ... Substrate, 2 ... Anode, 2a ... Anode terminal, 2b ... Cathode terminal, 3 ... Organic layer, 3b ... Light emitting layer, 4 ... Cathode.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板(1)上に、下部電極(2)、有機
EL材料からなる発光層(3b)を含む有機層(3)、
上部電極(4)を順次積層してなる積層体が形成されて
おり、 前記基板上のうち前記積層体の非形成部には、前記下部
電極を外部回路と接続するための下部電極用端子部(2
a)および前記上部電極を外部回路と接続するための上
部電極用端子部(2b)が形成されている有機EL素子
において、 前記下部電極用端子部および前記上部電極用端子部のう
ち少なくとも一方の端子部は、有機金属化合物を焼結し
てなる焼結体からなるものであることを特徴とする有機
EL素子。
1. A lower electrode (2), an organic layer (3) including a light emitting layer (3b) made of an organic EL material, on a substrate (1),
A laminated body formed by sequentially laminating upper electrodes (4) is formed, and a lower electrode terminal portion for connecting the lower electrode to an external circuit is formed on a portion of the substrate where the laminated body is not formed. (2
a) and an upper electrode terminal portion (2b) for connecting the upper electrode to an external circuit are formed, wherein at least one of the lower electrode terminal portion and the upper electrode terminal portion is formed. The organic EL element is characterized in that the terminal portion is made of a sintered body obtained by sintering an organometallic compound.
【請求項2】 請求項1に記載の有機EL素子の製造方
法において、 前記有機金属化合物をスクリーン印刷法にて前記基板
(1)上に配置した後、硬化させることにより前記焼結
体を形成することを特徴とする有機EL素子の製造方
法。
2. The method for manufacturing an organic EL device according to claim 1, wherein the organometallic compound is placed on the substrate (1) by a screen printing method and then cured to form the sintered body. A method for manufacturing an organic EL device, comprising:
【請求項3】 請求項1に記載の有機EL素子の製造方
法において、 前記有機金属化合物をディスペンス塗布法にて前記基板
(1)上に配置した後、硬化させることにより前記焼結
体を形成することを特徴とする有機EL素子の製造方
法。
3. The method for manufacturing an organic EL device according to claim 1, wherein the organometallic compound is arranged on the substrate (1) by a dispense coating method and then cured to form the sintered body. A method for manufacturing an organic EL device, comprising:
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