JP2003272235A - Phase change type optical information recording medium - Google Patents

Phase change type optical information recording medium

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JP2003272235A
JP2003272235A JP2002071560A JP2002071560A JP2003272235A JP 2003272235 A JP2003272235 A JP 2003272235A JP 2002071560 A JP2002071560 A JP 2002071560A JP 2002071560 A JP2002071560 A JP 2002071560A JP 2003272235 A JP2003272235 A JP 2003272235A
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JP
Japan
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layer
recording
light
phase change
protective layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002071560A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Oishi
健司 大石
Osamu Akutsu
収 圷
Katsunori Oshima
克則 大嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Publication date
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phase change type optical disk with less reproduction deterioration and having a high C/N. <P>SOLUTION: The phase change type optical information recording medium 10 provided with at least a reflection layer 2, a first protective layer 3, a phase change recording layer 4, a second protective layer 5, and a transparent layer on a substrate on which guide grooves or pits are formed, is characterized in that an optical attenuation layer 6 the transmissivity with respect to an emitted light of which is selected to be 95% to 50% is provided between the second protective layer 5 and the transparent layer 9. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、光学的に情報の記
録、再生が可能な相変化型光情報記録媒体(相変化型光
ディスク)に関する。 【0002】 【従来の技術】近年、相変化型光ディスクの記録密度を
高めて、更に大容量の記録媒体とする要求が高まってい
る。光ディスクの線記録密度は、再生光学系のレーザー
波長および対物レンズの開口数に大きく依存する。すな
わち、再生光学系のレーザー波長λと対物レンズの開口
数NAが決まるとビームスポットの径が決まるため、信
号再生時の空間周波数は、2NA/λ程度が検出可能な
限界となってしまう。 【0003】従って、従来の光ディスクで高密度化を実
現するためには、再生光学系のレーザー波長を短くし、
対物レンズのNAを大きくする必要がある。このため、
記録媒体の構成や読み取り方法を工夫し、記録密度を改
善する技術につき開発が進められている。 【0004】その一つの従来技術として、記録層の入射
光側に光学的に非線形性を示す層を設ける、いわゆるデ
ィスク超解像の技術が知られている。例えば特開平6-
111330号公報には、記録層の他に照射される光に
対して、非線形光学効果を現わす非線形光学効果層を備
えているものを用い、前記再生光と前記記録光とを前記
非線形光学効果層を透過して前記記録層に照射し、さら
に、前記再生光のピーク強度を前記記録光のピーク強度
と略同一に設定する光記録再生方法ならびに光記録媒体
が記載されている。 【0005】本発明は、ここに記載されている超解像効
果を利用するものではなく、単に入射光を減衰させるこ
とにより、再生劣化がなく、高いC/Nを持った相変化
型光ディスクを提供することを目的とする。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】波長400〜410n
mのレーザー光を発振する窒化ガリウム系(GaN)の
半導体レーザーが現在開発中であるが、レーザーのノイ
ズが高い。特に再生時に記録されたピット等を破壊しな
いようにレーザーパワーを低減すると、ノイズが高くな
りC/Nが低下する。レーザーノイズを低減するため再
生パワーを増大すると、記録層に熱損傷を与える。相変
化型ではアモルファス記録マークを消去してしまうこと
になる。 【0007】また、後述する如く、光ディスクの高密度
化の要請より、波長400nm〜420nmの青紫色レ
ーザーを記録再生に用いる研究開発が進められている。
このように、高密度化を図っていった場合、光ディスク
の盤面に形成される光スポットの直径が縮小され、照射
される光のエネルギー密度が大きくなるため、再生時の
再生パワーの許容幅が狭くなることは避けられない。 【0008】そこで本発明は、このような従来技術の問
題点を解決するためになされたものであり、短波長の青
紫色レーザーによる再生時のノイズを低減して、記録層
に相変化材料を用いても高いC/Nを持った相変化型光
ディスクを提供することを目的とする。 【0009】さらに、再生時の再生パワーマージンを広
くして安定な記録再生を可能とする相変化型光ディスク
を提供することを目的する。 【0010】 【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
案内溝あるいはピットが形成された基板1上に、少なく
とも反射層2、第一保護層3、相変化記録層4、第二保
護層5、透明層9を設けた相変化型光情報記録媒体10
であって、前記第二保護層5と前記透明層9との間に、
照射光に対する透過率を95〜50%に設定した光減衰
層6を設けたことを特徴とする。 【0011】 【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて説明する。なお、以下に述べる実
施の形態は本発明の好適な具体例であるから、技術的に
好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲
は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載
がない限り、これらの態様に限られるものではない。 【0012】以下、それぞれの実施の形態につき説明す
る。まず、現状につき説明すると、400nm付近の波
長域に対応した高密度光記録媒体は、高NAレンズを用
いることが考えられること等の理由から、これまでのC
DやDVD等と異なり、案内溝等が形成されている基板
上に、反射層、第一保護層、記録層、第二保護層がこの
順に積層され、その上にカバー層を設け、このカバー層
側からの光の照射により情報の記録および消去する形態
が優れた記録、再生、書換特性を実現することができる
と言われ、実際の研究開発もそのような方向に進んでい
る。 【0013】本実施例になる相変化型光ディスク10
も、基本的にこのような層構成を有するもので、図1を
参照して、その具体的構成を説明する。 【0014】図1において、1は、例えば、案内溝ある
いはピットが形成された基板であり、この基板1上に反
射層2、この反射層2上に第一保護層3、この第一保護
層3上に相変化型記録層4、この相変化型記録層4上に
第二保護層5、この第二保護層5上に光減衰層6、この
光減衰層6上に接着剤層7、この接着剤層7上にカバー
層(シート)8がこの順で積層されている。なお、接着
剤層7とカバー層8とで透明層9が形成されている。こ
の透明層9は、カバー層(シート)を接着せずに透明な
樹脂単体で構成することもできる。 【0015】前記した基板1には、例えば、レーザー光
を案内するプリグルーブ、プリピットあるいは書き換え
ができない再生信号をエンボスピットで設けてある。 【0016】基板1の材質は、ポリカーボネート、ポリ
オレフィン、アクリル等のプラスチック基板やガラス基
板が用いられる。レーザー光を案内するプリグルーブや
プリピットは、直接、射出成形されたり、スタンパー上
にフォトポリマーを滴下しその上に平滑な第1の基板を
載せてポリマーを硬化する2P法(フォトポリマー法)
で形成される。 【0017】また、CAV(constant ang
ular yelocity 角速度一定)やCLV
(constant linear yelocity
線速度一定)あるいはZCAV(zone cons
tant angular yelocity)やZC
LV(zone constant linear y
elocity)のフォーマットがされ、各セクターの
先頭にはアドレス信号がエンボスピットとしてあらかじ
め記録されてもよい。ユーザーが使用する情報エリア
は、空溝で構成され、必要に応じてウォブルされてい
る。 【0018】記録方式としては、グルーブ記録またはラ
ンド記録またはランドグルーブ記録方式のいずれかが選
択される。ランドとグルーブに記録を行う場合には、ラ
ンド部とグルーブ部の再生信号がそれぞれ同等になるよ
うランドとグルーブの幅が決められる。 【0019】トラックピッチは、0.1μm〜1.6μ
m、溝深さは、10nm〜200nmが好ましい。具体
的には、トラックピッチ0.32μm、溝深さ18n
m、グルーブ幅はトラックピッチの30%〜50%を用
い、波長400nm〜420nmのレーザを記録再生光
とすると、容量20GB〜27GB程度の高密度光ディ
スクを実現することができる。 【0020】次に、成膜手順について説明する。基板1
を真空チャンバー内に設置し、反射層2と第一保護層3
と相変化型記録層4と第ニ保護層5と光減衰層6とを順
次この順で基板1上に形成する。成膜方法は、抵抗加熱
型や電子ビーム型の真空蒸着、直流や交流スパッタリン
グ、反応性スパッタリング、イオンビームスパッタリン
グ、イオンプレーティング等が用いられる。光減衰層6
に有機材料を用いた場合には、スピンコート法で形成す
ることも可能である。 【0021】反射層2は、Al,Au,Ag,Cu,N
i,In,Ti,Cr,Pt、Siなどの金属あるいは
半導体、これらの合金や半導体が用いられる。金属単体
よりも金属あるいは半導体を添加した方が、結晶粒が小
さくなるので好ましい。また、高温高湿下における安定
性を改善する上でも添加物を含ませた方がよい。 【0022】例えば、Al-Ti、Al-Cr、Al-Z
r、Al-Si、Ag-Pd-Cu等の合金が上げられ
る。波長400nm台の青色半導体レーザを使用すると
きは、Al系やAg系の合金を用いた方が高い反射率を
得ることができる。 【0023】第一保護層3ならびに第ニ保護層5は、金
属の酸化物、窒化物、硫化物やこれらの混合物が用いら
れる。例えば、ZnS-SiO2、ZnS、SiO2、T
2 5、Si34、AlN、Al23、AlSiON、
ZrO2、TiO2などの単体あるいはこれらの混合物が
用いられる。 【0024】第一保護層3の膜厚は、第ニ保護層5より
も薄く、いわゆる急冷構造をとり、熱的ダメージを軽減
するために、膜厚は2nm〜50nmとするのがよい。
急冷構造をとることにより、クロスイレーズを低減する
事もできる。好ましくは、第一保護層3の成膜速度は、
第ニ保護層5の成膜速度よりも遅くする。 【0025】このように成膜速度をコントロールする
と、書き換えによるジッタの増加が抑制され、書き換え
回数が延びる。すなわち、第一保護層3の成膜速度を遅
くする事により、この第一保護層3に残留している応力
が低減されるので、相変化記録層4の物質移動が抑制さ
れ書き換え性能が改善されるからである。 【0026】4は相変化型記録層で、アモルファス-結
晶間の反射率変化あるいは屈折率変化を利用する相変化
材料が用いられる。相変化型記録層4としては、Ge-
Sb-Te系、Ag-In-Te-Sb系、Cu-Al-Sb
-Te系などTeあるいはSbを主成分とした合金があ
げられる。この相変化型記録層4の膜厚は、10nm〜
100nm、好ましくは、記録感度を上げ、かつ再生信
号を増大させるために、10nm〜30nmとするのが
よい。 【0027】光減衰層6は、金属や半導体、あるいは金
属や半導体の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物等の無機
材料や色素、顔料等の有機材料が用いられる。例えばA
l,Au,Ag,Cu,Ni,In,Ti,Cr,P
t,Siなどの金属あるいは半導体、これらの合金や半
導体が用いられる。 【0028】光減衰層6として、誘電体(金属や半導体
の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物等)を用いる場合
は、ZnS-SiO2、ZnS、SiO2、Ta25、S
34、AlN、GeN、Al23、AlSiON、Z
rO2、TiO2、SiCなどの単体あるいはこれらと金
属や半導体との混合物が用いられる。 【0029】さらに、光減衰層6としては、シアニン色
素、アゾ色素、ロイコ色素、スピロピラン色素、フタロ
シアニン顔料、ナフタロシアニン顔料等の有機色素や顔
料が用いられる。この光減衰層6は、再生光波長の光の
強度を減衰する機能を有している。 【0030】光減衰層6は、再生光波長に対し吸収を有
していて、例えば透過率が50%となるようにこの光減
衰層6の吸収率や膜厚を調整すると、再生パワーが0.
2mwではノイズが高い場合でも、レーザ出射パワーを
0.4mWに高めることができるので、結果的にはレー
ザノイズの低い領域になる。このようにした場合、レー
ザパワーは、光ディスク盤面ではこの光減衰層6によっ
て50%に弱められ、実質的には0.2mWの再生パワ
ーとなり相変化記録マークを消去することなくレーザノ
イズのみを下げることができるからである。 【0031】その反面、記録時にも記録光の減衰が生じ
るため、光減衰層6の透過率を小さくすると、記録パワ
ーが不足し高いC/Nが得られない。逆に、光減衰層6
の透過率を大きくすると、再生パワーを増大することが
できず、従ってノイズが低減されず高いC/Nが得られ
ない。 【0032】なお、光減衰層6の透過率が95%以下で
あると、相変化記録マークを消去することなく再生レー
ザパワーを増大することができ、レーザパワーを高める
ことによりレーザノイズを低下することができる。しか
しながら、光減衰層6の透過率が50%以下であると、
記録するときに記録レーザパワーが10mW以上も必要
となるので、現在の青紫色レーザでは実現できないパワ
ー領域となってしまう。 【0033】以上のように、光減衰層6の透過率を95
%以下50%以上の範囲に設定すると、再生レーザノイ
ズが低下し、かつ記録時にも記録パワー不足にならずに
低ノイズ、高記録感度を両立することができることがわ
かる。 【0034】本発明者等はこの点を実験により見出した
ものなのであり、この場合、すなわち、その透過率を9
5%以下50%以上の範囲の光減衰層6として、金属材
料を用いる場合には、金属固有の吸収率を選択するとと
もに膜厚を制御することにより前記の透過率を得ること
ができたものである。 【0035】また、光減衰層6に金属や半導体の酸化
物、窒化物、硫化物、炭化物等の誘電体を用いる場合に
は、酸素、窒素、炭素、硫黄の含有量を制御することと
膜厚を制御することにより上記の透過率を得ることがで
きる。 【0036】具体的には、スパッタ投入電力を変更して
成膜速度を制御し、ターゲットと基板間に配置したシャ
ッターの開閉時間によって光減衰層6の膜厚を制御す
る。 【0037】さらに、アルゴンスパッタガス中の、酸
素、窒素、メタン等の導入ガス量を増加させると誘電体
中の酸素、窒素、炭素量が増加し、透過率が増大する。 【0038】逆に導入ガス量を減少させると、誘電体中
の酸素、窒素、炭素量が減少し、透過率が低下する。硫
化物については、あらかじめ硫黄量を調整したターゲッ
トを用意して組成を制御する。 【0039】更に、光減衰層6に有機色素や顔料を用い
る場合には、最大吸収波長(λmax)や吸光係数を制
御したり、膜厚を制御することにより上記の透過率を得
ることができる。最大吸収波長や吸光係数は、色素の分
子構造により決定されるものであり、構造骨格や側鎖基
の種類を所望のものに調整する。 【0040】光減衰層6は、真空成膜によって形成され
るのが好ましいが、有機制御材料の場合には有機溶剤に
可溶な場合もあり、スピンコート法を用いることもでき
る。 【0041】次に、光減衰層6の上に透明層9を設け
る。透明層9の形成方法としては次の2通りがある。1
つの方法としては、記録再生光に対して十分な透過率を
有する紫外線硬化樹脂を光減衰層6の上に厚く塗布し、
この紫外線を前記した紫外線硬化樹脂に照射し、硬化さ
せて透明な層を得る方法である。 【0042】他の方法としては、光減衰層6の上に接着
剤7を薄く塗布し、この接着剤7上に透明なカバーシー
ト8をのせて接着するものである。この場合の透明層9
は、接着剤7とカバーシート8からなる。 【0043】カバーシート8には、ポリカーボネート、
ポリオレフィン、アクリル等のプラスチック基板やガラ
ス基板が用いられる。カバーシート8の表面は鏡面であ
り、ピットやグルーブは形成されていない。 【0044】カバーシート8の板厚は、前記した基板1
の板厚より薄くし、記録密度を上げるため高NAの対物
レンズを用いる場合には、0.05mm〜0.3mmの
透光性の薄い基板とする。 【0045】これらの方法で形成された透明層9の厚み
は、波長400nm〜420nmのレーザを使い光学ヘ
ッドの対物レンズの開口率(NA)を0.85とした場
合に、70μm〜120μmにするのが好ましい。この
範囲から外れると、球面収差が発生し高密度に記録マー
クを形成することができなくなるからである。 【0046】なお、光減衰層6を設けず透明層9のみで
所望の透過率(95%〜50%)を得ることは、現状で
は種々の理由から困難である。すなわち、接着剤層7な
らびにカバーシート8は、元来透明な材料で作製されて
いて、波長400nm〜420nm付近ではこれらを構
成している分子そのものの吸収は極めて小さく、その結
果、透過率を下げることは難しい。 【0047】従って、透明層9のみで前記した如くの所
望の透過率(95%〜50%)を得るためには、透明層
9を構成するシート8や接着剤層7に光を吸収する材
料、すなわち、減衰材料を添加する必要性が出てくる。 【0048】しかしながら、このような場合は、接着剤
硬化用の紫外線が透過しなくなるので、接着剤が固まら
なくなる可能性が出てくる。すなわち、接着剤層7なら
びにカバーシート8に減衰材料を添加すると、硬化用の
紫外線がこれらの層を通過して進入することができなく
なり、その結果、硬化反応を誘起できなくなり接着剤を
固めることができない。換言すると、減衰性を持たせつ
つ硬化させることは難しい。 【0049】本実施例にあっては、前記した如く案内溝
あるいはピットが形成された基板1上に、少なくとも反
射層2、第一保護層3、相変化記録層4、第二保護層
5、透明層9を設けた相変化型光情報記録媒体10であ
って、前記第二保護層5と前記透明層9との間に、光減
衰層6を設けたことにより、後述する如くの特有の効果
を奏したものである。 【0050】前記した紫外線硬化樹脂の塗布方法として
は、スピンコート法、スプレー法、ディップ法、ブレー
ドコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等が用
いられる。 【0051】この紫外線硬化樹脂は、少なくともプレポ
リマー、単官能アクリレートモノマー、多官能アクリレ
ートモノマー等と光重合開始剤からなる。 【0052】必要に応じて透明層9上の光入射面にハー
ドコートや帯電防止剤を設けることも出来る。 【0053】また、記録層を2層有し、片面側から記録
再生を行う多層媒体や両面タイプ(両面ディスク)を作
製することも出来る。 【0054】こうして作製した光ディスクにレーザー光
やフラッシュランプ等を照射して、相変化型記録層4を
結晶化温度以上に加熱し、初期化処理を行う。実用的に
は、光ディスク10に照射されるレーザビームは、トラ
ック幅よりも大きなビーム径を有し、好ましくは半径方
向に長く、ディスクを回転しながら複数のトラックを同
時に初期化する。 【0055】<実施例1>トラックピッチ0.32μ
m、溝深さ18nmのプリグルーブ(グルーブ幅0.1
3μm、ランド幅0.19μm)が設けられた板厚1.
1mmのポリカーボネート基板1上に、反射層2と第一
保護層3と相変化型記録層4と第ニ保護層5と光減衰層
6とを順次成膜し積層膜とした。 【0056】以下、成膜手順につき説明する。まず、図
示しない真空チャンバー内の真空度を1×10-6Tor
r以下に排気した後、Arガスを流し2mTorrの雰
囲気で積層膜を形成した。積層膜を形成するに際し、は
じめに反射層2としてAg98(at%)Pd1(at
%)Cu1(at%)を成膜速度2.0nm/sで21
0nmの厚さで成膜した。 【0057】次に、この反射層2上に、ZnS-SiO2
(80:20mol%)をRF(高周波)スパッタリン
グして第一保護層3を10nmの厚さで成膜した。この
場合の成膜速度は0.08nm/sである。 【0058】ついで、この第一保護層3上に相変化記録
層4としてGe8(at%)Sb71(at%)Te2
1(at%)をDCスパッタリング法で15nm形成し
た。 【0059】そして、この相変化記録層4上に、第ニ保
護層5としてZnS-SiO2(80:20mol%)を
RFスパッタリング法で43nmの厚さで成膜した。こ
の場合の成膜速度は0.2nm/sである。 【0060】最後に、この第ニ保護層5上に光減衰層6
として、DCスパッタリング法でAuを10nmの厚さ
で成膜した。この場合の成膜速度は0.1nm/sであ
る。波長405nmに対する透過率は50%であった。 【0061】真空チャンバーからディスクを取り出した
後、透明層9を構成する接着剤層7として紫外線硬化樹
脂(住友化学製 XR98)を光減衰層6上にスピンコ
ートし、この上に厚さ90μmのポリカーボネイト製の
カバーシート8をのせ、このカバーシート8を通して紫
外線を照射して両者を硬化接着させることにより、相変
化型光ディスク10を得た。この場合の透明層9の膜厚
は、100μmであった。 【0062】次に、この相変化型光ディスク10(以
下、光ディスクと呼ぶ)の記録再生特性を調べた。ま
ず、この光ディスク10を回転しながら透明層9側から
レーザー光を照射して相変化記録層4をアモルファス状
態から反射率の高い結晶状態へ相変化させて初期化し
た。次に、透明層9側から相変化記録層4のグルーブ部
に記録を行った。グルーブは、レーザー光の入射方向か
らみて凸状になっている。 【0063】記録の条件としては、記録レーザ(日亜化
学製)波長は405nm、対物レンズのNAは0.85
で、マーク長0.154μmの1-7pp変調信号を記
録した。この場合の線速度は5m/sであった。 【0064】記録ストラテジはマルチパルスを用い、先
頭パルスが0.3T(1Tは記録周期)、マルチパルス
も0.3T、冷却パルスは0.7Tに設定した。最短マ
ークである2Tは、先頭パルス1つ、マルチパルス1
つ、冷却パルス1つからなる。ピークパワーを7.0m
Wに、またバイアスパワーを3.5mWに設定した。 【0065】ボトムパワーを0.1mWでレーザ光を変
調して記録し、再生光パワーを変えて再生を行い、スペ
クトルアナライザーを用いて2T信号のC/Nを測定し
た。 【0066】その結果、光減衰層6を設けない光ディス
ク10では、再生パワー0.3mWでC/Nは50.2
dBであったが、光減衰層6を設けたディスクでは、再
生パワーが光減衰層6で減衰されるため、再生光によっ
て相変化記録マークを消すことが抑えられ、光減衰層6
がないときよりも再生パワーを高めることができた。 【0067】光減衰層6を設けた光ディスクでは、再生
パワー0.5mWの時、C/Nは52.5dBを示し
た。C/Nが向上するのはレーザパワーとレーザノイズ
との関係によるためで、レーザノイズがレーザパワーに
対して反比例の関係にあることに因る。つまり再生レー
ザパワーを高めるとレーザノイズが低下する。ただし、
レーザノイズは最小値を持ち、これを超えてレーザパワ
ーを増大させるとかえってレーザノイズは増加してしま
う。 【0068】<実施例2>光減衰層6として、Ag98
(at%)Pd1(at%)Cu1(at%)の7nm
の薄膜を用いた以外は実施例1と同じようにして光ディ
スク10を作製し、記録を行った。成膜方法はDCスパ
ッタリングである。波長405nmに対する透過率は7
0%であった。 【0069】その結果、光減衰層6を設けない光ディス
ク10では、再生パワー0.3mWでC/Nは50.2
dBであったが、光減衰層6を設けたディスクでは、そ
れを設けないときよりも再生パワーを高めることができ
た。光減衰層6を設けた光ディスク10では、再生パワ
ー0.5mWの時、C/Nは52.7dBを示し、C/
Nが増大した。 【0070】<実施例3>光減衰層6としてGe35
(at%)N65(at%)の5nmの薄膜を用いた以
外は、実施例1、2と同じようにして光ディスク10を
作製し、記録を行った。成膜方法は反応性DCスパッタ
リングを用い、Geターゲットをアルゴンと窒素ガス中
で反応させながら成膜した。波長405nmに対する透
過率は95%であった。 【0071】前記したように、光減衰層6を設けない光
ディスク10では、再生パワー0.3mWでC/Nは5
0.2dBであったが、光減衰層6を設けたディスクで
は、光減衰層6を設けないときよりも再生パワーを高め
ることができた。光減衰層6を設けた光ディスク10で
は再生パワー0.35mWの時、C/Nは51.5dB
を示しC/Nが増大した。 【0072】以上の実施例で明らかなように、透過率
は、光減衰層6の感度によって決定されるものであるこ
とが分かる。 【0073】前記した本実施例では、光減衰層の必要性
につき種々説明したが、透明層の材質その他を開発する
ことによって、透明層そのものが光を吸収して所望の透
過率を得ることが可能になれば、透明層そのものの構成
のみで、本実施例の目的を達成することができる。 【0074】 【発明の効果】以上詳述した如く、本発明は、案内溝あ
るいはピットが形成された基板上に、少なくとも反射
層、第一保護層、相変化記録層、第二保護層、光減衰
層、透明層を順次形成した相変化型光ディスクであっ
て、前記第二保護層と前記透明層との間に、光減衰層を
設けたことにより、短波長の青紫色レーザーによる再生
時のノイズを低減して、記録層に相変化材料を用いても
再生劣化もなく、高いC/Nを持った光ディスクを提供
することができる。 【0075】また、前記光減衰層は、再生光に対する透
過率を95%〜50%に設定したことにより、再生時の
再生パワーマージンを広くして安定な記録再生を可能と
することができる。その結果、記録/再生動作マージン
が拡張し、広いシステム設計マージンを実現することが
できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] [0001] The present invention relates to optically recording information.
Recording / reproducing phase-change optical information recording medium (phase-change optical
Disc). [0002] 2. Description of the Related Art In recent years, the recording density of a phase change optical disk has been increased.
There is a growing demand for higher-capacity recording media
You. The linear recording density of an optical disc is determined by the laser
It largely depends on the wavelength and the numerical aperture of the objective lens. sand
That is, the laser wavelength λ of the reproducing optical system and the aperture of the objective lens
When the number NA is determined, the beam spot diameter is determined.
Approximately 2NA / λ can be detected for spatial frequency during signal reproduction
It will be the limit. [0003] Therefore, it is possible to increase the density of a conventional optical disc.
To achieve this, shorten the laser wavelength of the reproduction optical system,
It is necessary to increase the NA of the objective lens. For this reason,
Improve the recording density by devising the recording medium configuration and reading method.
Improvements are being made for improved technologies. [0004] As one of the prior arts, the incidence of a recording layer is reduced.
A layer having an optically nonlinear property is provided on the light side,
A disk super-resolution technique is known. For example, JP-A-6-
Japanese Patent No. 111330 discloses that, in addition to the recording layer,
On the other hand, it has a nonlinear optical effect layer that exhibits the nonlinear optical effect.
The reproducing light and the recording light are used as described above.
The recording layer is irradiated through the non-linear optical effect layer and further irradiated.
The peak intensity of the reproduction light is changed to the peak intensity of the recording light.
Recording / reproducing method and optical recording medium set to be substantially the same
Is described. [0005] The present invention provides a super-resolution effect described herein.
Rather than simply attenuating the incident light.
Phase change with high C / N without regeneration deterioration
It is intended to provide a type optical disk. [0006] SUMMARY OF THE INVENTION Wavelength 400 to 410n
gallium nitride (GaN)
Semiconductor lasers are currently under development, but laser
Is high. In particular, do not destroy pits recorded during playback.
If the laser power is reduced as
C / N decreases. Re-set to reduce laser noise
Increasing raw power causes thermal damage to the recording layer. Phase change
Erasing amorphous recording marks
become. As will be described later, the high density of the optical disc
Violet wavelength of 400-420 nm
Research and development using a user for recording and playback is ongoing.
As described above, when the density is increased, the optical disk
The diameter of the light spot formed on the surface of the
The energy density of the emitted light increases,
It is inevitable that the allowable range of the reproduction power becomes narrow. [0008] The present invention addresses the problems of the prior art.
It was made to solve the problem
Reduces noise during playback with violet laser and reduces
Phase-change light with high C / N even when using phase-change material
The purpose is to provide a disk. Further, the reproducing power margin at the time of reproducing is widened.
Phase-change optical disk that enables stable recording and reproduction
The purpose is to provide. [0010] Means for Solving the Problems According to claim 1 of the present invention,
On the substrate 1 on which the guide grooves or pits are formed,
Both the reflective layer 2, the first protective layer 3, the phase change recording layer 4, the second protective layer
Phase-change optical information recording medium 10 provided with protective layer 5 and transparent layer 9
Between the second protective layer 5 and the transparent layer 9,
Light attenuation with transmittance for irradiation light set to 95-50%
It is characterized in that a layer 6 is provided. [0011] DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below.
Will be described with reference to the accompanying drawings. Note that the actual
Since the embodiment is a preferred specific example of the present invention,
Although various preferred limitations are imposed, the scope of the present invention
Is a statement that the invention is particularly limited in the following description.
However, the present invention is not limited to these embodiments unless otherwise described. The respective embodiments will be described below.
You. First, let us explain the current situation.
Use a high NA lens for high density optical recording media that supports long range
For the reason that it is thought that
Unlike D and DVD, substrates with guide grooves etc.
On top of this, a reflective layer, a first protective layer, a recording layer, and a second protective layer
Are laminated in this order, and a cover layer is provided thereon.
Recording and erasing information by irradiating light from the side
Can achieve excellent recording, reproducing and rewriting characteristics
It is said that actual research and development is also going in that direction
You. The phase change type optical disk 10 according to the present embodiment
Also basically has such a layer configuration.
The specific configuration will be described with reference to FIG. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a guide groove, for example.
Or a substrate on which pits have been formed.
Emissive layer 2, a first protective layer 3 on this reflective layer 2, this first protective
On the layer 3, a phase-change recording layer 4, and on the phase-change recording layer 4,
A second protective layer 5, a light attenuation layer 6 on the second protective layer 5,
An adhesive layer 7 on the light attenuation layer 6 and a cover on the adhesive layer 7
The layers (sheets) 8 are stacked in this order. In addition, adhesion
A transparent layer 9 is formed by the agent layer 7 and the cover layer 8. This
Transparent layer 9 is transparent without adhering a cover layer (sheet).
It can also be composed of resin alone. For example, a laser beam is applied to the substrate 1 described above.
Pre-groove, pre-pit or rewrite
A reproduction signal that cannot be reproduced is provided in an embossed pit. The material of the substrate 1 is polycarbonate, poly
Plastic substrates such as olefins and acrylics and glass substrates
A plate is used. A pre-groove that guides the laser light
Pre-pits can be directly injection molded or stamped
And a smooth first substrate on top
2P method of curing polymer by placing on it (photopolymer method)
Is formed. Also, CAV (constant ang)
(ullarity constant angular velocity) and CLV
(Constant linear yelocity
  Linear velocity) or ZCAV (zone cons)
tang angular elocity) or ZC
LV (zone constant lineary)
format), and the format of each sector
At the beginning, the address signal is pre-recorded as an embossed pit
May be recorded. Information area used by the user
Is composed of empty grooves and wobbled as necessary
You. As a recording method, a groove recording or a
Select either land or land / groove recording.
Selected. When recording on lands and grooves,
And the playback signal of the groove and the groove are the same.
The width of the land and groove is determined. The track pitch is 0.1 μm to 1.6 μm.
m and the groove depth are preferably 10 nm to 200 nm. Concrete
Specifically, the track pitch is 0.32 μm and the groove depth is 18 n
m, groove width is 30% -50% of track pitch
Laser with a wavelength of 400 nm to 420 nm
Then, a high-density optical disk with a capacity of about 20 GB to 27 GB
Can be realized. Next, a film forming procedure will be described. Substrate 1
Is placed in a vacuum chamber, and the reflective layer 2 and the first protective layer 3
And the phase-change recording layer 4, the second protective layer 5, and the light attenuation layer 6 in this order.
Next, they are formed on the substrate 1 in this order. The film formation method is resistance heating
And electron beam type vacuum deposition, DC and AC sputtering
, Reactive sputtering, ion beam sputtering
And ion plating are used. Light attenuation layer 6
When an organic material is used for the
It is also possible. The reflection layer 2 is made of Al, Au, Ag, Cu, N
metal such as i, In, Ti, Cr, Pt, Si, or
Semiconductors, their alloys and semiconductors are used. Metal simple substance
Addition of metal or semiconductor makes crystal grains smaller
It is preferable because it reduces the cost. Also stable under high temperature and high humidity
In order to improve the properties, it is better to include an additive. For example, Al-Ti, Al-Cr, Al-Z
alloys such as r, Al-Si, Ag-Pd-Cu
You. Using a blue semiconductor laser with a wavelength of 400nm
When using an Al-based or Ag-based alloy, higher reflectivity
Obtainable. The first protective layer 3 and the second protective layer 5 are made of gold.
Oxides, nitrides, sulfides and mixtures thereof
It is. For example, ZnS-SiOTwo, ZnS, SiOTwo, T
aTwoO Five, SiThreeNFour, AlN, AlTwoOThree, AlSiON,
ZrOTwo, TiOTwoAlone or a mixture of these
Used. The thickness of the first protective layer 3 is smaller than that of the second protective layer 5.
Thin, so-called quenching structure reduces thermal damage
For this purpose, the film thickness is preferably set to 2 nm to 50 nm.
Reduces cross erase by adopting quenching structure
You can do things. Preferably, the deposition rate of the first protective layer 3 is:
The film forming speed of the second protective layer 5 is made slower. Thus, the film forming speed is controlled.
Increase in jitter due to rewriting
The number increases. That is, the deposition rate of the first protective layer 3 is reduced.
The stress remaining in the first protective layer 3
, The mass transfer of the phase change recording layer 4 is suppressed.
This is because the rewriting performance is improved. Reference numeral 4 denotes a phase-change type recording layer,
Phase change using inter-crystal reflectance or refractive index change
Material is used. The phase change type recording layer 4 is made of Ge-
Sb-Te system, Ag-In-Te-Sb system, Cu-Al-Sb
There are alloys mainly composed of Te or Sb such as -Te type.
I can do it. The film thickness of the phase change type recording layer 4 is 10 nm to
100 nm, preferably increasing the recording sensitivity and
In order to increase the number, it is necessary to set the thickness to 10 nm to 30 nm.
Good. The light attenuation layer 6 is made of metal, semiconductor, or gold.
Inorganics such as oxides, nitrides, sulfides and carbides of metals and semiconductors
Organic materials such as materials, dyes, and pigments are used. For example, A
1, Au, Ag, Cu, Ni, In, Ti, Cr, P
Metals or semiconductors such as t, Si, alloys and semi-conductors thereof
Conductors are used. As the light attenuation layer 6, a dielectric (metal or semiconductor)
Oxides, nitrides, sulfides, carbides, etc.)
Is ZnS-SiOTwo, ZnS, SiOTwo, TaTwoOFive, S
iThreeNFour, AlN, GeN, AlTwoOThree, AlSiON, Z
rOTwo, TiOTwo, SiC, etc. or these and gold
A mixture with a metal or a semiconductor is used. Further, the light attenuating layer 6 has a cyanine color.
Element, azo dye, leuco dye, spiropyran dye, phthalo
Organic pigments such as cyanine pigments and naphthalocyanine pigments and face
Fees are used. The light attenuating layer 6 is provided for light having a reproduction light wavelength.
It has the function of attenuating strength. The light attenuating layer 6 has absorption for the reproduction light wavelength.
For example, this light reduction is performed so that the transmittance becomes 50%.
By adjusting the absorptance and the film thickness of the decay layer 6, the reproduction power is reduced to 0.1.
With 2 mw, even if the noise is high, the laser emission power
Can be increased to 0.4 mW.
This is a low noise area. If you do this,
The power is controlled by the light attenuation layer 6 on the optical disk surface.
To 50%, which is essentially 0.2 mW of regenerative power.
Laser erase without erasing the phase change recording mark.
This is because only the size can be reduced. On the other hand, recording light is also attenuated during recording.
Therefore, if the transmittance of the light attenuation layer 6 is reduced, the recording power
-High C / N cannot be obtained due to insufficient carbon. Conversely, the light attenuation layer 6
Increasing the transmittance of the
No, noise is not reduced and a high C / N is obtained.
Absent. When the transmittance of the light attenuation layer 6 is 95% or less,
The playback change without erasing the phase change recording mark.
The power can be increased and the laser power is increased
Thereby, laser noise can be reduced. Only
On the other hand, when the transmittance of the light attenuation layer 6 is 50% or less,
When recording, the recording laser power needs more than 10mW
Power that cannot be realized with the current blue-violet laser.
-Area. As described above, the transmittance of the light attenuation layer 6 is set to 95
% And 50% or more, the reproduction laser noise
And the recording power does not run out during recording.
It is clear that both low noise and high recording sensitivity can be achieved.
Call The present inventors have found this point by experiments.
In this case, that is, the transmittance is 9
As a light attenuation layer 6 in a range of 5% or less and 50% or more, a metal material
When using a material, select the absorption rate specific to the metal.
Obtaining the transmittance by controlling the film thickness
Was made. The light attenuating layer 6 is oxidized with a metal or semiconductor.
When using dielectrics such as materials, nitrides, sulfides, and carbides
Controls the content of oxygen, nitrogen, carbon and sulfur
The above transmittance can be obtained by controlling the film thickness.
Wear. Specifically, by changing the sputter input power,
Controls the film deposition rate and controls the
The thickness of the light attenuation layer 6 is controlled by the opening / closing time of the
You. Further, the acid in the argon sputtering gas
When the amount of gas introduced such as nitrogen, methane, etc.
The amount of oxygen, nitrogen and carbon therein increases, and the transmittance increases. Conversely, when the introduced gas amount is reduced,
Decrease the amount of oxygen, nitrogen and carbon. Sulfuric acid
For compounds, target
Prepare and control the composition. Further, an organic dye or pigment is used for the light attenuation layer 6.
The maximum absorption wavelength (λmax) and extinction coefficient
The above transmittance can be obtained by controlling or controlling the film thickness.
Can be The maximum absorption wavelength and extinction coefficient are
Is determined by the child structure, and the structural skeleton or side chain group
Is adjusted to the desired one. The light attenuation layer 6 is formed by vacuum film formation.
However, in the case of an organic control material,
In some cases, it is soluble and spin coating can be used.
You. Next, a transparent layer 9 is provided on the light attenuation layer 6.
You. There are the following two methods for forming the transparent layer 9. 1
One method is to provide a sufficient transmittance for recording / reproducing light.
UV-curing resin having a thick coating on the light attenuation layer 6,
This ultraviolet ray is irradiated to the above-mentioned ultraviolet curable resin to cure the resin.
To obtain a transparent layer. Another method is to bond on the light attenuation layer 6.
Apply a thin coating of the adhesive 7, and place a transparent cover sheet on the adhesive 7.
And put on it. Transparent layer 9 in this case
Consists of an adhesive 7 and a cover sheet 8. The cover sheet 8 is made of polycarbonate,
Plastic substrates such as polyolefin and acrylic, and glass
Substrate is used. The surface of the cover sheet 8 is a mirror surface.
No pits or grooves are formed. The thickness of the cover sheet 8 is the same as that of the substrate 1 described above.
High NA objective to increase the recording density
When a lens is used, 0.05 mm to 0.3 mm
A light-transmitting thin substrate is used. The thickness of the transparent layer 9 formed by these methods
Uses a laser with a wavelength of 400 nm to 420 nm to
When the numerical aperture (NA) of the objective lens of the head is 0.85
In this case, the thickness is preferably 70 μm to 120 μm. this
If it is out of the range, spherical aberration will occur and the recording density will be high.
This is because it becomes impossible to form a crack. The light attenuation layer 6 is not provided and only the transparent layer 9 is used.
To obtain a desired transmittance (95% to 50%), at present,
Is difficult for various reasons. That is, the adhesive layer 7
The cover sheet 8 is originally made of a transparent material.
In the vicinity of the wavelength of 400 nm to 420 nm, these are composed.
The absorption of the molecule itself is extremely small,
As a result, it is difficult to lower the transmittance. Therefore, only the transparent layer 9 is used as described above.
To obtain the desired transmittance (95% to 50%), a transparent layer
A material that absorbs light into the sheet 8 and the adhesive layer 7 that constitute the component 9
Material, ie, the need to add damping material. However, in such a case, the adhesive
The UV light for curing is not transmitted, so the adhesive hardens
The possibility of disappearing comes out. That is, if the adhesive layer 7
When an attenuation material is added to the cover sheet 8 and
UV light cannot penetrate through these layers
As a result, the curing reaction cannot be induced and the adhesive
I can't harden. In other words, a damping property
It is difficult to cure. In this embodiment, as described above, the guide groove
Alternatively, on the substrate 1 on which the pits are formed,
Emissive layer 2, first protective layer 3, phase change recording layer 4, second protective layer
5. a phase-change optical information recording medium 10 provided with a transparent layer 9;
Accordingly, light is reduced between the second protective layer 5 and the transparent layer 9.
By providing the decay layer 6, a unique effect as described later is provided.
Was played. As a method of applying the above-mentioned ultraviolet curable resin,
Are spin coating, spraying, dipping,
Do coating method, roll coating method, screen printing method, etc. are used
You can. This ultraviolet curable resin is at least
Limmer, monofunctional acrylate monomer, polyfunctional acryle
And a photopolymerization initiator. The light incident surface on the transparent layer 9 may be hard
DOCOAT and an antistatic agent can also be provided. Further, it has two recording layers, and records from one side.
Create multi-layer media for playback and double-sided type (double-sided disc)
It can also be made. Laser light is applied to the optical disk thus manufactured.
And a flash lamp or the like to irradiate the phase-change recording layer 4
Heating is performed at a temperature higher than the crystallization temperature to perform an initialization process. Practically
The laser beam applied to the optical disc 10
Beam diameter larger than the
In the same direction while rotating the disc.
Initialize sometimes. <Example 1> Track pitch 0.32μ
m, pre-groove with a groove depth of 18 nm (groove width 0.1
(Thickness: 3 μm, land width: 0.19 μm)
On a 1 mm polycarbonate substrate 1, a reflective layer 2 and a first
Protective layer 3, phase change type recording layer 4, second protective layer 5, light attenuating layer
6 were sequentially formed into a laminated film. Hereinafter, a film forming procedure will be described. First, figure
The degree of vacuum in the vacuum chamber not shown is 1 × 10-6Tor
After evacuating to a pressure of 2 mTorr or less, the atmosphere is
A laminated film was formed in an atmosphere. When forming the laminated film,
First, Ag98 (at%) Pd1 (at
%) Cu1 (at%) at a film formation rate of 2.0 nm / s.
The film was formed with a thickness of 0 nm. Next, ZnS—SiO 2 is formed on the reflective layer 2.Two
(80: 20mol%) RF (high frequency) sputtering
To form a first protective layer 3 having a thickness of 10 nm. this
In this case, the film forming speed is 0.08 nm / s. Next, phase change recording is performed on the first protective layer 3.
Ge 8 (at%) Sb 71 (at%) Te 2 as layer 4
1 (at%) is formed to a thickness of 15 nm by a DC sputtering method.
Was. Then, on the phase change recording layer 4, the second protective layer
ZnS-SiO as protective layer 5Two(80:20 mol%)
A film was formed to a thickness of 43 nm by an RF sputtering method. This
In this case, the film formation rate is 0.2 nm / s. Finally, the light attenuation layer 6 is formed on the second protective layer 5.
Au is 10 nm thick by DC sputtering
Was formed. The deposition rate in this case is 0.1 nm / s.
You. The transmittance for a wavelength of 405 nm was 50%. The disk was removed from the vacuum chamber
Then, an ultraviolet-cured resin is used as the adhesive layer 7 constituting the transparent layer 9.
Fat (Sumitomo Chemical XR98) spin-coated on the light attenuation layer 6
And a 90 μm thick polycarbonate
Place the cover sheet 8 and violet through this cover sheet 8
The phase change is achieved by irradiating the outside line and curing and bonding the two.
An optical disk 10 was obtained. The thickness of the transparent layer 9 in this case
Was 100 μm. Next, the phase change type optical disk 10 (hereinafter referred to as
The recording / reproducing characteristics of the optical disk were referred to below. Ma
First, while rotating the optical disk 10, from the transparent layer 9 side
Amorphous phase change recording layer 4 by laser light irradiation
From phase to crystalline state with high reflectivity
Was. Next, the groove portion of the phase-change recording layer 4 from the transparent layer 9 side.
Was recorded. The groove is in the direction of incidence of the laser beam
It looks convex. The recording conditions were a recording laser (Nichia
The wavelength is 405 nm and the NA of the objective lens is 0.85
Describes a 1-7 pp modulation signal with a mark length of 0.154 μm.
Recorded. The linear velocity in this case was 5 m / s. The recording strategy uses a multi-pulse,
Head pulse is 0.3T (1T is recording cycle), multi-pulse
Was set to 0.3T, and the cooling pulse was set to 0.7T. Shortest
2T, which is a peak, has one leading pulse, one multipulse,
And one cooling pulse. 7.0m peak power
W and the bias power was set to 3.5 mW. The laser light is changed at a bottom power of 0.1 mW.
Recording, adjust the playback light power and perform playback.
Measure C / N of 2T signal using vector analyzer
Was. As a result, the optical disk without the optical attenuation layer 6 is provided.
In C10, the reproduction power is 0.3 mW and the C / N is 50.2
dB, but the disc provided with the light attenuation layer 6
Since the raw power is attenuated by the light attenuation layer 6, the reproduced light causes
The erasure of the phase change recording mark is suppressed by the light attenuation layer 6.
The playback power could be increased more than when there was no playback. In the optical disk provided with the light attenuation layer 6, the reproduction
When the power is 0.5mW, C / N shows 52.5dB.
Was. Laser power and laser noise improve C / N
Laser noise is reflected in the laser power.
This is due to the inverse relationship. In other words, the playback
Increasing the power reduces laser noise. However,
Laser noise has a minimum value, beyond which the laser power
However, increasing the laser noise will increase the laser noise.
U. <Embodiment 2> As the light attenuating layer 6, Ag98
7 nm of (at%) Pd1 (at%) Cu1 (at%)
In the same manner as in Example 1 except that a thin film of
A disk 10 was prepared and recorded. The film formation method is DC spa
It is tatta. The transmittance for a wavelength of 405 nm is 7
It was 0%. As a result, the optical disk without the optical attenuation layer 6 is provided.
In C10, the reproduction power is 0.3 mW and the C / N is 50.2
dB, but the disc provided with the light attenuation layer 6
Playback power than when no
Was. In the optical disk 10 provided with the light attenuation layer 6, the reproduction power
At the time of -0.5 mW, C / N indicates 52.7 dB, and C / N
N increased. <Embodiment 3> Ge35 is used as the light attenuation layer 6.
(At%) N65 (at%)
Outside, the optical disk 10 is mounted in the same manner as in the first and second embodiments.
Fabricated and recorded. The deposition method is reactive DC sputtering
Ge target in argon and nitrogen gas using ring
The film was formed while reacting with. Transmission for wavelength 405 nm
The excess rate was 95%. As described above, the light without the light attenuation layer 6
In the disk 10, the reproducing power is 0.3 mW and the C / N is 5
0.2 dB, but with a disc provided with a light attenuation layer 6
Means that the reproducing power is higher than when the light attenuation layer 6 is not provided.
I was able to. In the optical disk 10 provided with the light attenuation layer 6,
Is a reproduction power of 0.35 mW, C / N is 51.5 dB
And C / N increased. As is clear from the above examples, the transmittance
Is determined by the sensitivity of the light attenuation layer 6.
I understand. In the above-described embodiment, the necessity of the light attenuation layer
Has been explained in various ways, but we will develop materials and other materials for the transparent layer
As a result, the transparent layer itself absorbs light, and
If it is possible to obtain an excess rate, the composition of the transparent layer itself
Only with this, the object of this embodiment can be achieved. [0074] As described in detail above, the present invention provides a guide groove
Or on a substrate with pits, at least
Layer, first protective layer, phase change recording layer, second protective layer, light attenuation
Layer and a transparent layer in this order.
A light attenuation layer between the second protective layer and the transparent layer.
Due to the provision, reproduction with a short wavelength blue-violet laser
Even when using a phase change material for the recording layer
Providing optical discs with high C / N ratio without reproduction deterioration
can do. The light attenuating layer is transparent to reproduction light.
By setting the excess rate to 95% to 50%,
Enables stable recording and reproduction by increasing the reproduction power margin
can do. As a result, the recording / reproducing operation margin
Can be expanded to provide a wide system design margin
it can.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明に係る光ディスクの一実施例を示す断面
図である。 【符号の説明】 1 基板 2 反射層 3 第ニ保護層 4 相変化記録層 5 第一保護層 6 光減衰層 7 接着剤層 8 カバー層(シート) 9 透明層 10 相変化型光ディスク
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of an optical disk according to the present invention. [Description of Signs] 1 Substrate 2 Reflective layer 3 Second protective layer 4 Phase change recording layer 5 First protective layer 6 Light attenuating layer 7 Adhesive layer 8 Cover layer (sheet) 9 Transparent layer 10 Phase change optical disk

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大嶋 克則 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 Fターム(参考) 5D029 HA04 MA03 MA04    ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page    (72) Inventor Katsunori Oshima             3-12 Moriyacho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Local Victor Company of Japan F-term (reference) 5D029 HA04 MA03 MA04

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】案内溝あるいはピットが形成された基板上
に、少なくとも反射層、第一保護層、相変化記録層、第
二保護層、透明層を設けた相変化型光情報記録媒体であ
って、 前記第二保護層と前記透明層との間に、照射光に対する
透過率を95%〜50%に設定した光減衰層を設けたこ
とを特徴とする相変化型光情報記録媒体。
Claims: 1. A phase change type in which at least a reflection layer, a first protection layer, a phase change recording layer, a second protection layer, and a transparent layer are provided on a substrate on which guide grooves or pits are formed. An optical information recording medium, comprising: a light attenuation layer having a transmittance of 95% to 50% with respect to irradiation light provided between the second protective layer and the transparent layer. Optical information recording medium.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014069201A1 (en) * 2012-11-01 2014-05-08 シャープ株式会社 Optical information recording medium
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