JP2003272228A - Photo-curing transfer sheet and its manufacturing method, laminated body, optical information recording substrate and optical information recording medium - Google Patents

Photo-curing transfer sheet and its manufacturing method, laminated body, optical information recording substrate and optical information recording medium

Info

Publication number
JP2003272228A
JP2003272228A JP2002070540A JP2002070540A JP2003272228A JP 2003272228 A JP2003272228 A JP 2003272228A JP 2002070540 A JP2002070540 A JP 2002070540A JP 2002070540 A JP2002070540 A JP 2002070540A JP 2003272228 A JP2003272228 A JP 2003272228A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
information recording
optical information
transfer sheet
photocurable
photocurable transfer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002070540A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Kitano
秀樹 北野
Hideshi Kotsubo
秀史 小坪
Takahito Inamiya
隆人 稲宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bridgestone Corp
Original Assignee
Bridgestone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bridgestone Corp filed Critical Bridgestone Corp
Priority to JP2002070540A priority Critical patent/JP2003272228A/en
Priority to EP03710292.8A priority patent/EP1484377B9/en
Priority to US10/507,320 priority patent/US20050158500A1/en
Priority to PCT/JP2003/002786 priority patent/WO2003076541A1/en
Publication of JP2003272228A publication Critical patent/JP2003272228A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical information recording medium in which precise pit signals and/or grooves are formed and which has an opposite side surface (laser irradiation side) having excellent smoothness. <P>SOLUTION: The optical information recording medium has a curable coating film of a photo-curing transfer sheet which contains a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and which consists of photo-curing composition deformable by pressure. Surface roughness Ra of the opposite side surface to the rugged surface of the curable coating film is ≤30 nm. Otherwise a surface smoothening layer being a curable coating film of an applied layer of a UV setting resin is disposed on the surface of the opposite side to the rugged surface of the curable coating film and further surface roughness Ra of this layer is ≤30 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、DVD(Digital
Versatile Disc)、CD(Compact Disc)等の大容量の
文字、音声、動画像等の情報をデジタル信号として記録
された及び/又は記録可能な光情報記録媒体、光情報記
録媒体用基板及びその製造方法、この基板の作製に有用
な光硬化性転写シート及び積層体に関する。
The present invention relates to a DVD (Digital
Versatile Disc), CD (Compact Disc), and other large-capacity characters, audio, moving image information and / or recordable as an optical information recording medium, optical information recording medium substrate, and manufacturing thereof The present invention relates to a method, a photocurable transfer sheet and a laminate which are useful for producing this substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】ディジタル信号として表面にピットが形
成された記録済み光情報記録媒体として、オーディオ用
CD、CD−ROMが広く使用されているが、最近、動
画像との記録も可能な両面にピット記録がなされたDV
Dが、CDの次世代記録媒体として注目され、徐々に使
用されるようになってきている。またユーザにより記録
が可能なピット及び/又はグルーブが形成されたCD−
R、DVD−R、DVD−RW等も注目されている。
2. Description of the Related Art Audio CDs and CD-ROMs have been widely used as recorded optical information recording media having pits formed on their surfaces as digital signals, but recently, they have been able to record moving images on both sides. DV with pit recording
D has attracted attention as a next-generation recording medium for CDs and is gradually being used. In addition, a CD with pits and / or grooves that can be recorded by the user
R, DVD-R, DVD-RW, etc. are also receiving attention.

【0003】両面に記録層を持つDVDには、例えば図
6に示すようにそれぞれ片面に信号ビットを形成した2
枚の透明樹脂基板1,2の該信号ビット形成面にそれぞ
れ反射層1a,2aを形成し、これら反射層1a,2a
を互いに対面させた状態で基板1,2を接着剤層3を介
して貼り合わせ、接合した両面読み出し方式のもの、及
び、図7に示すように、それぞれ片面に信号ビットを形
成した基板1,2において、一方の基板1の信号ビット
面に半透明層1bを形成すると共に、他方の基板2の信
号ビット面に反射層2aを形成し、これら半透明層1b
と反射層2aとを対向させた状態で基板1,2を接着剤
層3を介して貼り合わせ、接合した片面読み出し方式の
ものとが知られている。
For a DVD having recording layers on both sides, for example, as shown in FIG.
Reflective layers 1a and 2a are respectively formed on the signal bit forming surfaces of the transparent resin substrates 1 and 2 and these reflective layers 1a and 2a are formed.
The substrates 1 and 2 are bonded to each other via the adhesive layer 3 in a state of facing each other, and the double-sided read method is used, and as shown in FIG. 7, the substrates 1 and 1 each have a signal bit formed on one side thereof. 2, a translucent layer 1b is formed on the signal bit surface of one of the substrates 1 and a reflective layer 2a is formed on the signal bit surface of the other substrate 2, and these translucent layers 1b are formed.
It is known that the substrates 1 and 2 are adhered to each other with the adhesive layer 3 in the state where the reflective layer 2a and the reflective layer 2a face each other, and are joined together.

【0004】両面読み出しDVDの製造は、従来、例え
ば前記信号ピットの凹凸が雄雌反対の凹凸を有するスタ
ンパを用いて、ポリカーボネート樹脂を溶融し、射出成
形することにより表面に凹凸を有する透明樹脂基板を作
製し、この凹凸表面にアルミニウム等の金属をスパッタ
リング等により蒸着することによって反射層を形成し、
この反射層が形成された透明樹脂基板2枚を反射層を対
向させて接着剤で貼り合わせることにより行われてい
た。
Conventionally, a double-sided read DVD is manufactured by, for example, using a stamper in which the irregularities of the signal pits are opposite male and female, melting a polycarbonate resin, and injection molding the transparent resin substrate having irregularities on the surface. Then, a reflective layer is formed by depositing a metal such as aluminum on the uneven surface by sputtering or the like,
This is done by bonding two transparent resin substrates having the reflective layer formed thereon with the reflective layers facing each other with an adhesive.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、DVD
の透明樹脂基板(光情報記録基板)は、スタンパを用い
たポリカーボネートの射出成形により得られるが、この
ような射出成形によるピット形成は、特に厚さが300
μm以下の薄い基板の場合には、スタンパからポリカー
ボネート樹脂へのピット形状の転写の精度が低下すると
の問題がある(特開平11−273147号公報参
照)。そして、本発明者等は、さらにピット、グルーブ
のランド部が粗面となるとの問題も見出した。
As described above, the DVD
The transparent resin substrate (optical information recording substrate) is obtained by injection molding of polycarbonate using a stamper. The pit formation by such injection molding has a thickness of 300
In the case of a thin substrate having a thickness of μm or less, there is a problem that the accuracy of transferring the pit shape from the stamper to the polycarbonate resin is lowered (see Japanese Patent Laid-Open No. 11-273147). Then, the present inventors have also found a problem that the land portions of the pits and the grooves become rough surfaces.

【0006】また、記録すべき情報量の増大に伴い、現
在使用されているDVDよりも記憶容量の大きい新たな
光情報記録媒体の出現も期待されている。その実現のた
めには信号ピット、グルーブを小さくするだけでなく、
信号読み取りのための再生用レーザ(或いは書き込み用
レーザ)の波長も短くする必要があり、波長が短くなる
ことによってピット面までの距離が短くなることから、
光情報記録媒体の厚さを小さくする必要もある。
With the increase in the amount of information to be recorded, it is expected that a new optical information recording medium having a larger storage capacity than the currently used DVD will appear. To achieve that, not only make the signal pits and grooves smaller,
It is also necessary to shorten the wavelength of the reproducing laser (or writing laser) for signal reading, and the shorter wavelength shortens the distance to the pit surface.
It is also necessary to reduce the thickness of the optical information recording medium.

【0007】尚、特開平11−273147号公報に
は、表面に凹凸を有する射出成形基板と透明フィルムを
接着するために、紫外線硬化樹脂に加えて、感圧性粘着
シート、或いはドライフォトポリマーを使用している
が、ドライフォトポリマーは透明性が低く好ましくない
旨記載されている。このため、表面の凹凸形成のために
ドライフォトポリマーを使用することについての示唆は
一切無い。
In Japanese Patent Laid-Open No. 11-273147, a pressure-sensitive adhesive sheet or a dry photopolymer is used in addition to an ultraviolet curable resin in order to bond an injection-molded substrate having irregularities on its surface and a transparent film. However, it is described that the dry photopolymer has low transparency and is not preferable. For this reason, there is no suggestion of using a dry photopolymer for forming irregularities on the surface.

【0008】本出願には、このような点に鑑みて、光情
報記録媒体の基板作成用スタンパの凹凸面に押圧により
簡易に且つ精確に転写することができ、特に300μm
以下の薄い基板を有利に得ることができ、硬化収縮の小
さい光硬化性転写シートを既に出願している(特願20
01−305946号)。しかしながら、このような転
写シートは、硬化収縮が小さい反面、表面平滑性が十分
とは言えない場合があった。凹凸が形成されていない基
板の反対側表面は、記録又は再生のためのレーザを照射
する側であり、この表面の凹凸が大きいと、記録、再生
に誤りが生じやすくなる。
In view of the above, the present application allows for easy and accurate transfer by pressing on the uneven surface of the stamper for making a substrate of the optical information recording medium, and particularly 300 μm.
The following thin substrates can be advantageously obtained, and a photo-curable transfer sheet with a small curing shrinkage has already been applied for (Japanese Patent Application No. 20).
01-305946). However, although such a transfer sheet has a small curing shrinkage, it may not be said that the surface smoothness is sufficient. The surface on the opposite side of the substrate on which the unevenness is not formed is the side on which the laser for recording or reproduction is irradiated, and if the unevenness of this surface is large, errors easily occur in recording and reproduction.

【0009】かかる点に鑑みなされた本発明は、光情報
記録媒体の基板作成用スタンパの凹凸面に押圧により簡
易に且つ精確に転写することができ、特に300μm以
下の薄い基板を有利に得ることができ、且つ表面平滑性
が良好な光硬化性転写シートを提供することをその目的
とする。
The present invention made in view of the above points enables simple and accurate transfer by pressing on the uneven surface of the stamper for producing a substrate of the optical information recording medium, and particularly, advantageously obtains a thin substrate of 300 μm or less. It is an object of the present invention to provide a photocurable transfer sheet which can be formed and has good surface smoothness.

【0010】また上記光硬化性転写シートの製造方法を
提供することもその目的とする。
It is also an object of the present invention to provide a method for producing the above photocurable transfer sheet.

【0011】さらに、スタンパの凹凸面が精確に転写さ
れ、その反対側表面(レーザ照射側)の平滑性に優れた
光情報記録媒体の作成に好適な光情報記録基板を提供す
ることをその目的とする。
Furthermore, it is an object of the present invention to provide an optical information recording substrate suitable for producing an optical information recording medium in which the uneven surface of the stamper is accurately transferred and the surface (the laser irradiation side) on the opposite side is excellent in smoothness. And

【0012】さらにまた、精確なピット信号及び/又は
グルーブが形成され、その反対側表面(レーザ照射側)
の平滑性に優れた光情報記録媒体を提供することをその
目的とする。
Furthermore, an accurate pit signal and / or groove is formed, and the opposite surface (laser irradiation side).
It is an object of the present invention to provide an optical information recording medium having excellent smoothness.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】従って、本発明は、光重
合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧によ
り変形可能な光硬化性組成物からなり、そして少なくと
も一方の表面の表面粗さRaが30nm以下(好ましく
は10nm以下)である光硬化性転写シートにある。
Accordingly, the present invention comprises a photocurable composition which comprises a reactive polymer having photopolymerizable functional groups and which is deformable by pressure and which has a surface roughness of at least one surface. The Ra is 30 nm or less (preferably 10 nm or less) in the photocurable transfer sheet.

【0014】上記光硬化性転写シートにおいて、光硬化
性組成物のガラス転移温度が20℃以下であることが好
ましい。これにより常温での押圧により凹凸の形成が容
易となる。光硬化性転写シートは380〜420nmの
波長領域(好ましくは380〜600nm、特に380
〜800nmの波長領域)の光透過率が70%以上であ
ることが好ましい。これにより得られる媒体にレーザに
よる信号の読み取りを行った場合に、エラーの無い操作
が保証される。上記光硬化性転写層の硬化収縮率が8%
以下であることが好ましい。
In the above photocurable transfer sheet, the glass transition temperature of the photocurable composition is preferably 20 ° C. or lower. This makes it easy to form irregularities by pressing at room temperature. The photocurable transfer sheet has a wavelength range of 380 to 420 nm (preferably 380 to 600 nm, particularly 380).
It is preferable that the light transmittance in a wavelength region of up to 800 nm) is 70% or more. When a signal is read by a laser on the resulting medium, error-free operation is guaranteed. Curing shrinkage of the photocurable transfer layer is 8%
The following is preferable.

【0015】反応性ポリマーが、光重合性官能基を1〜
50モル%含むことが適当な硬化性、硬化被膜強度を得
る上で好ましい。光重合性官能基が、(メタ)アクリロ
イル基であることが、硬化性の点で好ましい。光硬化性
組成物が、光重合開始剤を0.1〜10質量%含むこと
が適当な硬化性を得る上で好ましい。光硬化性転写層の
厚さが5〜300μmであることが、転写性、作業性の
点から好ましい。
The reactive polymer has 1 to 1 photopolymerizable functional groups.
It is preferable to contain 50 mol% in order to obtain appropriate curability and cured film strength. The photopolymerizable functional group is preferably a (meth) acryloyl group from the viewpoint of curability. The photocurable composition preferably contains the photopolymerization initiator in an amount of 0.1 to 10% by mass in order to obtain appropriate curability. The thickness of the photocurable transfer layer is preferably 5 to 300 μm from the viewpoint of transferability and workability.

【0016】また上記光硬化性転写シートは、光重合性
官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変
形可能な光硬化性組成物を溶融状態で、表面粗さRaが
30nm以下である支持体の該表面上に流延することに
より;或いは光重合性官能基を有する反応性ポリマーを
含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物を含む塗
布液を、表面粗さRaが30nm以下である支持体の該
表面上に塗布、乾燥することにより有利に得ることがで
きる。
The photocurable transfer sheet contains a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and has a surface roughness Ra of 30 nm or less in a molten state of a photocurable composition which is deformable by pressure. By casting on the surface of the support; or a coating solution containing a photocurable composition that contains a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and can be deformed by pressure, a surface roughness Ra of 30 nm. The following can be advantageously obtained by coating on the surface of the support and drying.

【0017】本発明は、記録ピット及び/又はグルーブ
として表面に凹凸を有するスタンパの該凹凸表面に、上
記光硬化性転写シートが該凹凸表面に沿って密着されて
なる積層体にもある。
The present invention also provides a laminate in which the photocurable transfer sheet is closely adhered to the uneven surface of a stamper having unevenness on the surface as recording pits and / or grooves, along the uneven surface.

【0018】さらに本発明は、上記光硬化性転写シート
の硬化被膜からなり、該硬化被膜の一方の表面に記録ピ
ット及び/又はグルーブとしての凹凸が形成された光情
報記録基板であって、該硬化被膜の凹凸表面と反対側の
表面の表面粗さRaが30nm以下であることを特徴と
する光情報記録基板;表面に記録ピット及び/又はグル
ーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反
射層を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び
/又はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形
成された半透明反射層を有する光情報記録基板とを、反
射層同士を対向させて、接着剤層を介して貼り合わせて
なる光情報記録媒体であって、少なくとも一方の基板
が、上記光硬化性転写シートの硬化被膜からなり、該硬
化被膜の凹凸表面と反対側の表面の表面粗さRaが30
nm以下であることを特徴とする光情報記録媒体;表面
に記録ピット及び/又はグルーブとしての凹凸を有し、
その凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基
板と、表面に記録ピット及び/又はグルーブとしての凹
凸を有し、その凹凸表面に形成された半透明反射層を有
する光情報記録基板とを、前者の反射層の無い表面に後
者の半透明反射層を接着剤層を介して貼り合わせてなる
光情報記録媒体であって、少なくとも一方の基板が、上
記光硬化性転写シートの硬化被膜からなり、該硬化被膜
の凹凸表面と反対側の表面の表面粗さRaが30nm以
下であることを特徴とする光情報記録媒体;にもある。
Furthermore, the present invention is an optical information recording substrate comprising a cured coating of the above-mentioned photocurable transfer sheet, wherein one surface of the cured coating has irregularities as recording pits and / or grooves. An optical information recording substrate, characterized in that the surface roughness Ra of the surface opposite to the uneven surface of the cured coating is 30 nm or less; unevenness as recording pits and / or grooves is formed on the surface and is formed on the uneven surface. The optical information recording substrate having the reflective layer formed thereon and the optical information recording substrate having the semi-transparent reflective layer formed on the surface of the unevenness having the unevenness as recording pits and / or grooves Are opposed to each other and are bonded together via an adhesive layer, wherein at least one substrate is composed of a cured coating of the photocurable transfer sheet, and has an uneven surface of the cured coating. Surface roughness Ra of the contralateral surface 30
an optical information recording medium characterized by having a size of not more than nm; and having irregularities as recording pits and / or grooves on the surface,
An optical information recording substrate having a reflective layer formed on the uneven surface, and an optical information recording substrate having unevenness as recording pits and / or grooves on the surface and having a semitransparent reflecting layer formed on the uneven surface. An optical information recording medium comprising the former semi-transparent reflective layer bonded to the surface without a reflective layer via an adhesive layer, wherein at least one substrate is a cured film of the photocurable transfer sheet. And an optical information recording medium characterized in that the surface roughness Ra of the surface of the cured coating opposite to the concavo-convex surface is 30 nm or less.

【0019】また、本発明は、光重合性官能基を有する
反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化
性組成物からなる光硬化性転写シートの硬化被膜からな
り、該硬化被膜の一方の表面に記録ピット及び/又はグ
ルーブとしての凹凸が形成された光情報記録基板であ
り、該凹凸表面と反対側の表面に紫外線硬化性樹脂の塗
布層の硬化被膜である表面平滑化層が形成され且つこの
層の表面粗さRaが30nm以下であることを特徴とす
る光情報記録基板;表面に記録ピット及び/又はグルー
ブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反射
層を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び/
又はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成
された半透明反射層を有する光情報記録基板とを、反射
層同士を対向させて、接着剤層を介して貼り合わせてな
る光情報記録媒体であって、少なくとも一方の基板が、
光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧
により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写
シートの硬化被膜からなり、該硬化被膜の凹凸表面と反
対側の表面に紫外線硬化性樹脂の塗布層の硬化被膜であ
る表面平滑化層が設けられ且つこの層の表面粗さRaが
30nm以下であることを特徴とする光情報記録媒体;
表面に記録ピット及び/又はグルーブとしての凹凸を有
し、その凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記
録基板と、表面に記録ピット及び/又はグルーブとして
の凹凸を有し、その凹凸表面に形成された半透明反射層
を有する光情報記録基板とを、前者の反射層の無い表面
に後者の半透明反射層を接着剤層を介して貼り合わせて
なる光情報記録媒体であって、少なくとも一方の基板
の、少なくとも凹凸表面を含む層が、光重合性官能基を
有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な
光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートの硬化被膜
からなり、該硬化被膜の凹凸表面と反対側の表面に紫外
線硬化性樹脂の塗布層の硬化被膜である表面平滑化層が
設けられ且つこの層の表面粗さRaが30nm以下であ
ることを特徴とする光情報記録媒体;にある。
Further, the present invention comprises a cured coating of a photocurable transfer sheet comprising a photocurable composition containing a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and deformable by pressurization. An optical information recording substrate having irregularities as recording pits and / or grooves formed on one surface, and a surface smoothing layer which is a cured coating of a coating layer of an ultraviolet curable resin on a surface opposite to the irregular surface. An optical information recording substrate which is formed and has a surface roughness Ra of 30 nm or less; a reflective layer formed on the uneven surface having unevenness as recording pits and / or grooves. Optical information recording substrate having and recording pits and / or
Alternatively, an optical information recording having an unevenness as a groove and an optical information recording substrate having a semitransparent reflective layer formed on the uneven surface, and bonding the reflective layers to each other with an adhesive layer therebetween. A medium, wherein at least one substrate is
A cured coating of a photocurable transfer sheet comprising a photocurable composition containing a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and capable of being deformed under pressure, wherein the surface of the cured coating opposite to the uneven surface is exposed to ultraviolet rays. An optical information recording medium provided with a surface smoothing layer which is a cured film of a coating layer of a curable resin and having a surface roughness Ra of 30 nm or less.
An optical information recording substrate having irregularities as recording pits and / or grooves on the surface and a reflective layer formed on the irregularities surface, and irregularities as recording pits and / or grooves on the surface, and the irregular surface An optical information recording substrate having a semitransparent reflective layer formed in, the optical information recording medium formed by bonding the latter semitransparent reflective layer to the surface without a reflective layer of the former via an adhesive layer, At least one of the substrates, a layer including at least the uneven surface is a cured film of a photocurable transfer sheet comprising a photocurable composition containing a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and deformable by pressure. A surface smoothing layer, which is a cured coating of a coating layer of an ultraviolet curable resin, is provided on the surface of the cured coating opposite to the uneven surface, and the surface roughness Ra of this layer is 30 nm or less. Information recording medium; in.

【0020】上記光情報記録媒体において、表面粗さR
aが10nm以下であることが好ましい。光硬化性組成
物のガラス転移温度が20℃以下であることが好まし
い。光硬化性転写シートの硬化被膜の380〜420n
mの波長領域の光透過率が70%以上であることが好ま
しく、380〜800nmの波長領域の光透過率が70
%以上であることが好ましい。反応性ポリマーが、光重
合性官能基を1〜50モル%含むことが好ましい。光重
合性官能基が、(メタ)アクリロイル基であること、光
硬化性組成物が、光重合開始剤を0.1〜10質量%含
むこと、光硬化性転写シートの厚さが5〜300μm
あることが好ましい。
In the above optical information recording medium, the surface roughness R
It is preferable that a is 10 nm or less. The glass transition temperature of the photocurable composition is preferably 20 ° C. or lower. 380-420n of cured film of photocurable transfer sheet
The light transmittance in the wavelength region of m is preferably 70% or more, and the light transmittance in the wavelength region of 380 to 800 nm is 70% or more.
% Or more is preferable. The reactive polymer preferably contains 1 to 50 mol% of a photopolymerizable functional group. The photopolymerizable functional group is a (meth) acryloyl group, the photocurable composition contains 0.1 to 10% by mass of a photopolymerization initiator, and the thickness of the photocurable transfer sheet is 5 to 300 μm. Is preferred.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0022】図1(a)及び(b)は本発明の光硬化性
転写シート11の実施形態の例を示す断面図である。図
1(a)の光硬化性転写シート11は、両面に剥離シー
ト12a,12bを有する。剥離シートは一方のみで
も、無くても良い。これらは使い方により適宜設定され
る。図1(b)の光硬化性転写シート11は、一方の面
に剥離シート12a、他の面に支持体12cを有する。
FIGS. 1A and 1B are sectional views showing an example of an embodiment of the photocurable transfer sheet 11 of the present invention. The photocurable transfer sheet 11 of FIG. 1A has release sheets 12a and 12b on both sides. Only one release sheet may be provided, or no release sheet may be provided. These are appropriately set depending on the usage. The photocurable transfer sheet 11 of FIG. 1B has a release sheet 12a on one surface and a support 12c on the other surface.

【0023】本発明の光硬化性転写シート11は、表面
平滑性が極めて良好であり、表面粗さRaが30nm以
下、好ましくは10nm以下である。このような平滑な
表面を有する転写シートは、例えば、光重合性官能基を
有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な
光硬化性組成物を溶融状態で、表面粗さRaが30nm
以下である支持体の表面上に流延することにより得られ
る。このような支持体は、例えばポリカーボネート製フ
ィルムを挙げることができ、一般に市販されている。或
いは上記光硬化性組成物の塗布溶液を、表面粗さRaが
30nm以下(好ましくは10nm以下)の支持体表面
に塗布、乾燥することにより得ることもできる。しかし
ながら、前者の方法の方が低表面粗さが得られ易く、好
ましい。
The photocurable transfer sheet 11 of the present invention has extremely good surface smoothness and a surface roughness Ra of 30 nm or less, preferably 10 nm or less. The transfer sheet having such a smooth surface has, for example, a photocurable composition which contains a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and is deformable by pressurization in a molten state and has a surface roughness Ra of 30 nm.
It is obtained by casting on the surface of a support as described below. Examples of such a support include a film made of polycarbonate, which is generally commercially available. Alternatively, it can also be obtained by applying a coating solution of the photocurable composition onto a support surface having a surface roughness Ra of 30 nm or less (preferably 10 nm or less) and drying. However, the former method is preferable because it is easy to obtain a low surface roughness.

【0024】上記転写シートは、特にガラス転移温度が
20℃以下である光重合性官能基を有する反応性ポリマ
ーを含む光硬化性組成物から主として構成されているこ
とが好ましい。また再生レーザにより読み取りが容易な
ように380〜420nmの波長領域の光透過率が70
%以上である層であることが好ましい。特に、380〜
420nmの波長領域の光透過率が80%以上である層
が好ましい。また硬化後のシートも同様の透過率を有す
ることが好ましい。従って、この転写シート用いて作製
される本発明の光情報記録媒体は380〜420nmの
波長のレーザを用いてピット信号を再生する方法に有利
に使用することができる。
It is preferable that the transfer sheet is mainly composed mainly of a photocurable composition containing a reactive polymer having a photopolymerizable functional group having a glass transition temperature of 20 ° C. or lower. In addition, the light transmittance in the wavelength range of 380 to 420 nm is 70 for easy reading by the reproducing laser.
% Or more. Especially 380
A layer having a light transmittance of 80% or more in the wavelength region of 420 nm is preferable. Further, it is preferable that the cured sheet also has the same transmittance. Therefore, the optical information recording medium of the present invention produced by using this transfer sheet can be advantageously used in a method of reproducing a pit signal using a laser having a wavelength of 380 to 420 nm.

【0025】上記光硬化性転写シートを用いて、光情報
記録基板及び積層体を、順次、例えば下記の図2に示す
ように製造することができる。
Using the above-mentioned photocurable transfer sheet, an optical information recording substrate and a laminated body can be sequentially manufactured, for example, as shown in FIG. 2 below.

【0026】両面に剥離シート12a,12bを有する
光硬化性転写シート11を使用した場合、一方の剥離シ
ート12bを除去し、記録ピットとして表面に凹凸を有
するスタンパ21上に、光硬化性転写シート11の剥離
シートの無い側の表面と凹凸とが対向するようにして配
置し、重ね合わせ、光硬化性転写シート11と凹凸面が
完全に密着するように押圧して光硬化性転写シート11
とスタンパ21とからなる本発明の積層体を形成する。
その後、剥離シート12a上からUV(紫外線)を照射
して、光硬化性転写シート11を硬化させる。次いでス
タンパ21及び剥離シート12aを除去して本発明の硬
化した凹凸を有する光硬化性転写シート20(即ち光情
報記録基板)を得る。この基板の凹凸の無い側の表面
は、表面粗さRaが30nm以下(好ましくは10nm
以下)である。
When the photo-curable transfer sheet 11 having the release sheets 12a and 12b on both sides is used, one release sheet 12b is removed and the photo-curable transfer sheet is formed on the stamper 21 having surface irregularities as recording pits. 11 is placed so that the surface on the side not having the release sheet and the unevenness face each other, and they are overlapped, and pressed so that the light-curable transfer sheet 11 and the uneven surface are completely adhered to each other.
And a stamper 21 to form a laminate of the present invention.
Then, UV (ultraviolet rays) is irradiated from above the release sheet 12a to cure the photocurable transfer sheet 11. Then, the stamper 21 and the release sheet 12a are removed to obtain the photocurable transfer sheet 20 (that is, the optical information recording substrate) having the cured unevenness of the present invention. The surface of the substrate having no unevenness has a surface roughness Ra of 30 nm or less (preferably 10 nm).
Below).

【0027】一方の面に剥離シート、他の面に支持体を
有する。図1(b)の光硬化性転写シートを使用した場
合、得られる基板の支持体表面、及び支持体と転写シー
トとが接する両方の表面の表面粗さRaが30nm以下
(好ましくは10nm以下)である。
The release sheet is provided on one surface and the support is provided on the other surface. When the photocurable transfer sheet of FIG. 1 (b) is used, the surface roughness Ra of the support surface of the obtained substrate and both surfaces where the support and the transfer sheet are in contact are 30 nm or less (preferably 10 nm or less). Is.

【0028】本発明では、記録ピットである凹凸形状
を、光硬化性転写シート11とスタンパ21とを100
℃以下の低温で押圧することにより精確に転写されるよ
うに光硬化性転写層が設計されている。スタンパ21
と、光硬化性転写シート11との重ね合わせは、一般に
圧着ロールや簡易プレスで行われる(好ましくは減圧下
にて)。また、光硬化性転写シート11の硬化後の層
は、スタンパに用いられるニッケルなどの金属との接着
力が極めて弱く、光硬化性転写シートをスタンパから容
易に剥離することができる。
In the present invention, the photo-curable transfer sheet 11 and the stamper 21 are formed into a concavo-convex shape which is a recording pit.
The photocurable transfer layer is designed so that it can be accurately transferred by pressing at a low temperature of ℃ or less. Stamper 21
And the photocurable transfer sheet 11 are generally superposed on each other by a pressure roll or a simple press (preferably under reduced pressure). Further, the cured layer of the photocurable transfer sheet 11 has an extremely weak adhesive force to a metal such as nickel used for the stamper, and the photocurable transfer sheet can be easily peeled from the stamper.

【0029】このようにして得られた光情報記録基板2
0を用いて、光情報記録媒体を図3に示すように製造す
ることができる。
The optical information recording substrate 2 thus obtained
0 can be used to manufacture an optical information recording medium as shown in FIG.

【0030】上記で得られた光情報記録基板20の凹凸
面に銀合金をスパッタリングにより蒸着して銀合金反射
層(半透明反射層)13を形成したものと、表面に凹凸
を有する光情報記録基板30の凹凸面にアルミニウム
(或いは前記半透明反射層より反射率の高い銀合金反射
層)をスパッタリングにより蒸着してAl反射層33を
形成したものとを、反射層同士を対向させて配置し、接
着剤を介して重ね合わせ、接着剤を硬化させて接着剤層
34を形成して光情報記録媒体40を得る。この光情報
記録媒体40のシート11の凹凸の無い側の表面は、表
面粗さRaが30nm以下(好ましくは10nm以下)
である。この表面側から再生光(再生レーザ)を照射し
て読み取りを行うので、読み誤りがほとんどない。この
表面にさらに支持体又は保護フィルムを設けても良い。
A silver alloy reflective layer (semi-transparent reflective layer) 13 is formed by sputtering a silver alloy on the uneven surface of the optical information recording substrate 20 obtained above to form an optical information recording having uneven surface. Aluminum (or a silver alloy reflective layer having a reflectance higher than that of the semitransparent reflective layer) is deposited on the uneven surface of the substrate 30 by sputtering to form an Al reflective layer 33. Then, the optical information recording medium 40 is obtained by stacking them via an adhesive and curing the adhesive to form the adhesive layer 34. The surface of the sheet 11 of the optical information recording medium 40 on the side having no unevenness has a surface roughness Ra of 30 nm or less (preferably 10 nm or less).
Is. Since reading is performed by irradiating the reproducing light (reproducing laser) from the surface side, there is almost no reading error. You may further provide a support body or a protective film on this surface.

【0031】上記方法においては、再生専用の光情報記
録媒体について説明したが、記録可能な光情報記録媒体
の場合は、グルーブ或いはピット及びグルーブを有して
おり、この場合反射層及び半透明反射層の代わりに金属
記録層(色素記録層の場合は記録層及び反射層)が設け
られる。それ以外は上記と同様に光情報記録媒体を製造
することができる。
In the above method, the read-only optical information recording medium has been described, but in the case of a recordable optical information recording medium, it has grooves or pits and grooves. In this case, the reflective layer and the semitransparent reflection are used. A metal recording layer (a recording layer and a reflective layer in the case of a dye recording layer) is provided instead of the layer. Otherwise, the optical information recording medium can be manufactured in the same manner as above.

【0032】光情報記録基板30は、一般に厚板である
ので、従来の射出成形法で作製しても良いし、本発明の
前記光情報記録基板の製造方法により作成しても良い。
本発明の光情報記録基板は300μm以下の薄い基板と
することができるので、もう一方の基板を従来法で作製
する際、基板の厚さを大きくすることができるのでピッ
ト及び/又はグルーブ形状の転写精度を上げることがで
きる。接着剤層を形成するための接着剤は、従来のホッ
トメルト系接着剤、紫外線硬化性樹脂接着剤及び感圧粘
着剤のいずれも使用することができる。
Since the optical information recording substrate 30 is generally a thick plate, it may be manufactured by a conventional injection molding method or by the manufacturing method of the optical information recording substrate of the present invention.
Since the optical information recording substrate of the present invention can be a thin substrate having a thickness of 300 μm or less, the thickness of the substrate can be increased when the other substrate is manufactured by the conventional method. The transfer accuracy can be improved. As the adhesive for forming the adhesive layer, any of conventional hot-melt adhesives, UV-curable resin adhesives and pressure-sensitive adhesives can be used.

【0033】また、2枚の光情報記録基板20(一方の
基板の反射層がAl等の高反射率の反射層、他方が半透
明反射層)を、一方の基板の凹凸面のない面にもう一方
の基板の半透明反射層を重ねて接着剤で貼り付け、2層
記録面を有する積層体を形成し、同様にもう1枚の積層
体を形成して合計2枚の積層体を形成し、この積層体2
枚を反射層同士を対向させて接着剤で貼り付けた媒体、
或いはこの積層体と透明樹脂基板とを貼り付けた媒体も
好ましい(図4に示す)。或いはこの積層体と従来凹凸
と反射層を有する光情報記録基板とを貼り付けた媒体も
好ましい。これらの場合再生光側が半透明反射層であ
る。
Further, two optical information recording substrates 20 (the reflective layer of one substrate is a highly reflective reflective layer such as Al, and the other is a semitransparent reflective layer) are provided on one surface of the substrate having no uneven surface. The semi-transparent reflective layer of the other substrate is overlaid and attached with an adhesive to form a laminated body having a two-layer recording surface, and another laminated body is similarly formed to form a total of two laminated bodies. Then, this laminated body 2
A medium in which the reflective layers are made to face each other and pasted with an adhesive,
Alternatively, a medium in which this laminated body and a transparent resin substrate are attached is also preferable (shown in FIG. 4). Alternatively, a medium in which this laminated body and a conventional optical information recording substrate having irregularities and a reflection layer are attached is also preferable. In these cases, the reproduction light side is the semitransparent reflection layer.

【0034】このような形態は、従来の両面再生の4層
型、3層型、片面再生の2層型に相当する。
Such a form corresponds to the conventional double-sided reproduction four-layer type, three-layer type, and single-sided reproduction two-layer type.

【0035】また、凹凸表面を基板の一部のみに形成
し、反射層上に記録層を設け、これに書き込み可能とす
ることもできる。
It is also possible to form an uneven surface only on a part of the substrate, provide a recording layer on the reflective layer, and make it writable.

【0036】上記図2及び図3で説明した製造方法にお
いて、光硬化性転写シートとして、上記のような表面平
滑性への配慮をしていない転写シートを用いて、基板又
は媒体の表面平滑性を製造後に得る方法について説明す
る。これは、上記表面平滑性が良好な剥離シートを用い
ても、製造中の処理の影響により、或いは表面平滑性が
あまり良好でない剥離シートを用いたことにより、転写
シート表面に十分な平滑性が得られない場合にも適用す
ることができる。
In the manufacturing method described with reference to FIG. 2 and FIG. 3 above, as the photocurable transfer sheet, a transfer sheet which does not take into consideration the surface smoothness as described above is used, and the surface smoothness of the substrate or the medium is used. A method for obtaining after manufacturing will be described. This is because even if the release sheet having good surface smoothness is used, the transfer sheet surface has sufficient smoothness due to the influence of the treatment during the production or the use of the release sheet having poor surface smoothness. It can be applied even when it cannot be obtained.

【0037】図2において、光情報記録基板20(即ち
硬化した凹凸を有する光硬化性転写シート11)を得た
後、基板の凹凸面と反対の表面の平滑性を向上させるた
めに、この表面に紫外線硬化樹脂塗布液をスピンコー
タ、スクリーン印刷等で塗布し、その塗布膜に紫外線を
照射して硬化させる。紫外線硬化樹脂塗布液は、後述す
る光重合性官能基を有する化合物及び光重合開始剤を中
心とするもので、レベリング剤等の界面活性剤、必要に
より有機溶剤等が添加されたものである。また平滑性を
向上させるために、上記レベリング剤等の界面活性剤に
加えて、後述するポリマー類を添加しても良い。以上の
添加剤の他、紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助
剤等を少量含んでいてもよい。また、場合によってはシ
リカゲル、炭酸カルシウム、シリコーン共重合体の微粒
子等の添加剤を少量含んでもよい。一般にレベリング性
の優れたハードコート用紫外線硬化性樹脂を用いること
が、表面の硬度を高くすることもできるので好ましい。
In FIG. 2, after obtaining the optical information recording substrate 20 (that is, the photo-curable transfer sheet 11 having cured unevenness), this surface is used to improve the smoothness of the surface opposite to the uneven surface of the substrate. An ultraviolet curable resin coating solution is applied to the above by a spin coater, screen printing or the like, and the coating film is irradiated with ultraviolet rays to be cured. The UV-curable resin coating liquid is mainly composed of a compound having a photopolymerizable functional group and a photopolymerization initiator which will be described later, and contains a surfactant such as a leveling agent and, if necessary, an organic solvent. Further, in order to improve smoothness, in addition to the surfactant such as the above leveling agent, polymers described below may be added. In addition to the above additives, it may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an antioxidant, a dye, a processing aid, and the like. Further, depending on the case, a small amount of additives such as silica gel, calcium carbonate, and fine particles of silicone copolymer may be contained. Generally, it is preferable to use an ultraviolet-curable resin for hard coat, which has an excellent leveling property, because the surface hardness can be increased.

【0038】塗布の条件としては、塗布液の粘度は10
〜1000[mPas/25℃]、セッティング1〜1
00秒、照射時間1〜20秒、膜厚1〜10μmの条件
で行うことが好ましい。
As the coating conditions, the viscosity of the coating liquid is 10
~ 1000 [mPas / 25 ° C], setting 1-1
It is preferable to carry out under the conditions of 00 seconds, irradiation time of 1 to 20 seconds, and film thickness of 1 to 10 μm.

【0039】上記塗布は、図3における適当な段階で行
うこともできる。例えば金属のスパッタリングの後、或
いは光情報記録媒体とした後に行うこともできる。
The above-mentioned coating can be carried out at an appropriate stage in FIG. For example, it can be performed after sputtering metal or after forming an optical information recording medium.

【0040】上記工程において、光硬化性転写シートを
スタンパに押圧する際、或いは光情報記録基板二枚を、
反射層同士を対向させて配置し、接着剤を介して重ね合
わせる際に、減圧下に押圧或いは重ね合わせを行うこと
が好ましい。これにより、気泡の除去等が円滑に行われ
る。
In the above process, when the photocurable transfer sheet is pressed against the stamper, or two optical information recording substrates are
When the reflective layers are arranged so as to face each other and are superposed with an adhesive, it is preferable to perform pressing or superposition under reduced pressure. As a result, removal of bubbles and the like are smoothly performed.

【0041】上記減圧下の押圧は、例えば、減圧下に2
個のロール間に、光硬化性転写シートとスタンパを通過
させる方法、あるいは真空成形機を用い、スタンパを型
内に載置し、減圧しながら光硬化性転写シートをスタン
パに圧着させる方法を挙げることができる。
The pressing under the reduced pressure is, for example, 2 times under the reduced pressure.
A method of passing a photocurable transfer sheet and a stamper between individual rolls, or a method of placing the stamper in a mold using a vacuum forming machine and pressing the photocurable transfer sheet to the stamper while depressurizing be able to.

【0042】また、二重真空室方式の装置を用いて減圧
下の押圧を行うことができる。図4を参照しながら説明
する。図5には二重真空室方式のラミネータの一例が示
されている。ラミネータは下室51、上室52、シリコ
ーンゴムシート53、ヒータ55を備えている。ラミネ
ータ内の下室51に、基板と光硬化性転写シートとスタ
ンパとの積層体59或いは凹凸を有する基板同士の接着
剤により貼り合わせした積層体59を置く。上室52及
び下室51共に排気する(減圧する)。積層体59をヒ
ータ55で加熱し、その後、下室51を排気したまま上
室52を大気圧に戻し、積層体を圧着する。冷却して積
層体を取り出し、次工程に移す。これにより排気時に脱
泡が十分に行われ、気泡の無い状態で、スタンパ又は基
板と光硬化性転写シートとを圧着することができる。
Further, it is possible to perform pressing under reduced pressure by using a double vacuum chamber type device. This will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows an example of a double vacuum chamber type laminator. The laminator includes a lower chamber 51, an upper chamber 52, a silicone rubber sheet 53, and a heater 55. In the lower chamber 51 inside the laminator, a laminated body 59 of the substrate, the photo-curable transfer sheet and the stamper or a laminated body 59 bonded with an adhesive between the substrates having irregularities is placed. Both the upper chamber 52 and the lower chamber 51 are evacuated (decompressed). The laminated body 59 is heated by the heater 55, and then the upper chamber 52 is returned to the atmospheric pressure while the lower chamber 51 is exhausted, and the laminated body is pressure-bonded. After cooling, the laminate is taken out and transferred to the next step. Thereby, degassing is sufficiently performed at the time of evacuation, and the stamper or the substrate and the photocurable transfer sheet can be pressure-bonded to each other without bubbles.

【0043】本発明の光硬化性転写シートはガラス転移
温度が20℃以下である光重合性官能基を有する反応性
ポリマーを含む光硬化性組成物からなることが好まし
い。
The photocurable transfer sheet of the present invention preferably comprises a photocurable composition containing a reactive polymer having a photopolymerizable functional group having a glass transition temperature of 20 ° C. or lower.

【0044】光硬化性組成物は、一般に、上記光重合性
官能基を有する反応性ポリマー、光重合性官能基(好ま
しくは(メタ)アクリロイル基)を有する化合物(モノ
マー及びオリゴマー)、光重合性開始剤及び、所望によ
り他の添加剤から構成される。
The photocurable composition is generally a reactive polymer having the above-mentioned photopolymerizable functional group, a compound (monomer or oligomer) having a photopolymerizable functional group (preferably (meth) acryloyl group), a photopolymerizable composition. It is composed of an initiator and optionally other additives.

【0045】光重合性官能基を有する反応性ポリマーと
しては、例えばアルキルアクリレート(例、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート)及び/又はアルキル
メタクリレート(例、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレート)から得られる単独重合体又は共重
合体(即ちアクリル樹脂)で、且つ、主鎖又は側鎖に光
重合性官能基を有するものを挙げることができる。この
ような重合体は、例えば1種以上の(メタ)アクリレー
トと、ヒドロキシル基等の官能基を有する(メタ)アク
リレート(例、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート)とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナト
アルキル(メタ)アクリレートなどの、重合体の官能基
と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させるこ
とにより得ることができる。
Examples of the reactive polymer having a photopolymerizable functional group include alkyl acrylates (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate,
2-ethylhexyl acrylate) and / or alkyl methacrylate (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate), a homopolymer or copolymer (ie, acrylic resin), and a main chain or side chains. Examples thereof include those having a photopolymerizable functional group in the chain. Such a polymer is obtained, for example, by copolymerizing one or more kinds of (meth) acrylate with (meth) acrylate having a functional group such as a hydroxyl group (eg, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate). It can be obtained by reacting a polymer with a functional group of the polymer and a compound having a photopolymerizable group, such as an isocyanatoalkyl (meth) acrylate.

【0046】本発明の上記反応性ポリマーは、光重合性
官能基を一般に1〜50モル%、特に5〜30モル%含
むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アク
リロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、
特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。
The reactive polymer of the present invention preferably contains a photopolymerizable functional group in an amount of generally 1 to 50 mol%, particularly 5 to 30 mol%. The photopolymerizable functional group is preferably an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group,
Particularly, an acryloyl group and a methacryloyl group are preferable.

【0047】またこの反応性ポリマーのガラス転移温度
は、一般に20℃以下(好ましくは10℃以下)であ
り、ガラス転移温度を20℃以下とすることにより、得
られる光硬化性転写層がスタンパの凹凸面に圧着された
とき、その凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有するこ
とができる。特に、ガラス転移温度が15℃〜−50℃
の範囲にすることにより追随性が優れている。ガラス転
移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力が必要となり
作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十
分な高度が得られなくなる。
The glass transition temperature of this reactive polymer is generally 20 ° C. or lower (preferably 10 ° C. or lower), and by setting the glass transition temperature to 20 ° C. or lower, the resulting photocurable transfer layer is a stamper. When pressure-bonded to the uneven surface, it is possible to have flexibility that can closely follow the uneven surface. In particular, the glass transition temperature is 15 ° C to -50 ° C.
By setting the range to, excellent followability is obtained. If the glass transition temperature is too high, a high pressure is required at the time of sticking, which leads to a reduction in workability, and if it is too low, a sufficient altitude cannot be obtained after curing.

【0048】さらに、本発明の反応性ポリマーは、一般
に数平均分子量が5000〜1000000、好ましく
は10000〜300000であり、また重量平均分子
量が一般に5000〜1000000、好ましくは10
000〜300000であることが好ましい。
Further, the reactive polymer of the present invention generally has a number average molecular weight of 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 300,000, and a weight average molecular weight of generally 5,000 to 1,000,000, preferably 10.
It is preferably 000 to 300,000.

【0049】光重合性官能基を有する化合物の具体例と
しては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−
エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベ
ンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)ア
クリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレー
ト、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシ
クロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テ
トラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロ
イルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、2−ヒド
ロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アク
リレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)
アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イ
ソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メ
タ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー
類、ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、
プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,
6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタン
ジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−
ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプ
ロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロール
シクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオー
ル、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、
前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン
酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物
類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポ
リオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリ
カプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前
記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラク
トンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマ
ーポリオール等)と有機ポリイソシアネート(例えば、
トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−
4,4'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,
4,4'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、2,2'−4−トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例え
ば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3
−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シク
ロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物で
あるポリウレタン(メタ)アクリレート、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂
等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)ア
クリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を
挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有す
る化合物は1種又は2種以上、混合して使用することが
できる。
Specific examples of the compound having a photopolymerizable functional group include, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.
Ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (Meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol Dipropoxydi (meta)
Acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri ( (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth)
(Meth) acrylate monomers such as acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, polyol compounds (eg, ethylene glycol,
Propylene glycol, neopentyl glycol, 1,
6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-
Butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, and other polyols,
Polyester polyols which are the reaction products of the above polyols with polybasic acids such as succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid or their acid anhydrides. A polycaprolactone polyol which is a reaction product of the polyols and ε-caprolactone, a reaction product of the polyols and the ε-caprolactone of the polybasic acid or these acid anhydrides, a polycarbonate polyol, a polymer polyol, etc. ) And an organic polyisocyanate (for example,
Tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-
4,4'-diisocyanate, dicyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,
4,4'-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2'-4-trimethylhexamethylene diisocyanate and the like) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-
Hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3
-Phenyloxypropyl (meth) acrylate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.), a polyurethane (meth) acrylate, Examples thereof include (meth) acrylate oligomers such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid. These compounds having a photopolymerizable functional group can be used alone or in combination of two or more.

【0050】光重合開始剤としては、公知のどのような
光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯
蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始
剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メ
チルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1な
どのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなど
のベンゾイン系、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾ
フェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチ
ルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊
なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなど
が使用できる。特に好ましくは、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−
(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロ
パン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重
合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香
酸のごとき安息香酸系又は、第3級アミン系などの公知
慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合
で混合して使用することができる。また、光重合開始剤
のみの1種または2種以上の混合で使用することができ
る。光硬化性組成物中に、光重合開始剤を一般に0.1
〜20質量%、特に1〜10質量%含むことが好まし
い。
As the photopolymerization initiator, any known photopolymerization initiator can be used, but one having good storage stability after blending is desirable. As such a photopolymerization initiator, for example, 2-hydroxy-2-methyl-1
-Phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetophenone such as 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, benzoin such as benzyldimethylketal, benzophenone , Benzophenone-based compounds such as 4-phenylbenzophenone and hydroxybenzophenone, thioxanthone-based compounds such as isopropylthioxanthone and 2-4-diethylthioxanthone, and other special ones such as methylphenylglyoxylate. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-
Methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1-
(4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, benzophenone and the like can be mentioned. These photopolymerization initiators may be used in any proportion of one or more known benzoic acid-based accelerators such as 4-dimethylaminobenzoic acid or known conventional photopolymerization accelerators such as tertiary amines. Can be mixed and used. Further, the photopolymerization initiator alone can be used alone or in combination of two or more kinds. A photopolymerization initiator is generally added to the photocurable composition in an amount of 0.1
It is preferable to contain -20 mass%, especially 1-10 mass%.

【0051】光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重
合開始剤としては、例えば、4−フェノキシジクロロア
セトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノ
ン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエ
トキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロ
ピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン
−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒ
ドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキシ−2−
プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フ
ェニル)−2−モルホリノプロパン−1など、ベンゾフ
ェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾ
イル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニ
ルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベ
ンッゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、
3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノンなど
が使用できる。
Of the photopolymerization initiators, examples of the acetophenone-based polymerization initiator include 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone, diethoxyacetophenone and 2-phenoxydichloroacetophenone. Hydroxy-2-methyl-
1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1 -One, 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl (2-hydroxy-2-
Propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, and the like, benzophenone-based polymerization initiators such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, and benzoylbenzoic acid. Acid methyl, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide,
3,3'-Dimethyl-4-methoxybenzophenone and the like can be used.

【0052】アセトフェノン系重合開始剤としては、特
に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニ
ル)−2−モルホリノプロパン−1が好ましい。ベンゾ
フェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベン
ゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好まし
い。また、第3級アミン系の光重合促進剤としては、ト
リエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリ
イソプロパノールアミン、4,4’−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノ
ン、2−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチル
アミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸
(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘ
キシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進
剤としては、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−
ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミ
ノ安息香酸2−エチルヘキシルなどが挙げられる。以上
のように、光重合開始剤の成分としては、上記の3成分
を組み合わせることにより使用する。
As the acetophenone-based polymerization initiator, especially 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl ) -2-Morpholinopropane-1 is preferred. The benzophenone-based polymerization initiator is preferably benzophenone, benzoylbenzoic acid or methyl benzoylbenzoate. Further, as a tertiary amine photopolymerization accelerator, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, 4,4′-dimethylaminobenzophenone, 4,4′-diethylaminobenzophenone, ethyl 2-dimethylaminobenzoate. , Ethyl 4-dimethylaminobenzoate, (n-butoxy) ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate and the like can be used. Particularly preferably, the photopolymerization accelerator is ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-
Dimethylaminobenzoate (n-butoxy) ethyl, 4-
Examples include isoamyl dimethylaminobenzoate and 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate. As described above, the components of the photopolymerization initiator are used by combining the above three components.

【0053】本発明の光硬化性転写シートはガラス転移
温度が20℃以下で、透過率及び硬化後の透過率70%
以上を満たすように光硬化性組成物を設計することが好
ましい。このため、上記光重合可能な官能基を有する化
合物及び光重合開始剤に加えて、所望により下記の熱可
塑性樹脂及び他の添加剤を添加することが好ましい。
The photocurable transfer sheet of the present invention has a glass transition temperature of 20 ° C. or lower and a transmittance and a transmittance of 70% after curing.
It is preferable to design the photocurable composition so as to satisfy the above. Therefore, in addition to the compound having a photopolymerizable functional group and the photopolymerization initiator, it is preferable to add the following thermoplastic resin and other additives, if desired.

【0054】上記反応性ポリマー:光重合可能な官能基
を有する化合物:光重合開始剤の質量比は、一般に、4
0〜100:0〜60:0.1〜10、特に60〜10
0:0〜40:1〜10から好ましい。
The mass ratio of the above-mentioned reactive polymer: compound having a photopolymerizable functional group: photopolymerization initiator is generally 4
0 to 100: 0 to 60: 0.1 to 10, especially 60 to 10
It is preferably from 0: 0 to 40: 1 to 10.

【0055】他の添加剤として、シランカップリング剤
(接着促進剤)を添加することができる。このシランカ
ップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシランなどがあり、これらの1種を単独で
又は2種以上を混合して用いることができる。これらシ
ランカップリング剤の添加量は、上記反応性ポリマー1
00重量部に対し通常0.01〜5重量部で十分であ
る。
As another additive, a silane coupling agent (adhesion promoter) can be added. Examples of the silane coupling agent include vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxy. Propyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (Aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like, and one of these may be used alone or two or more of them may be used in combination. The addition amount of these silane coupling agents is the above-mentioned reactive polymer 1
Usually, 0.01 to 5 parts by weight is sufficient with respect to 00 parts by weight.

【0056】また同様に接着性を向上させる目的でエポ
キシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基
含有化合物としては、トリグリシジルトリス(2−ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート;ネオペンチルグリコ
ールジグリシジルエーテル;1,6−ヘキサンジオール
ジグリシジルエーテル;アクリルグリシジルエーテル;
2−エチルヘキシルグリシジルエーテル;フェニルグリ
シジルエーテル;フェノールグリシジルエーテル;p−
t−ブチルフェニルグリシジルエーテル;アジピン酸ジ
グリシジルエステル;o−フタル酸ジグリシジルエステ
ル;グリシジルメタクリレート;ブチルグリシジルエー
テル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子
量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千
から数十万のポリマーを添加することによっても同様の
効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量
は上記反応性ポリマー100重量部に対し0.1〜20
重量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくと
も1種を単独で又は混合して添加することができる。
Similarly, an epoxy group-containing compound can be added for the purpose of improving the adhesiveness. Examples of the epoxy group-containing compound include triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate; neopentyl glycol diglycidyl ether; 1,6-hexanediol diglycidyl ether; acryl glycidyl ether;
2-ethylhexyl glycidyl ether; phenyl glycidyl ether; phenol glycidyl ether; p-
t-butylphenyl glycidyl ether; adipic acid diglycidyl ester; o-phthalic acid diglycidyl ester; glycidyl methacrylate; butyl glycidyl ether and the like. The same effect can be obtained by adding an oligomer containing an epoxy group having a molecular weight of several hundred to several thousand or a polymer having a weight average molecular weight of several thousand to several hundred thousand. The addition amount of these epoxy group-containing compounds is 0.1 to 20 with respect to 100 parts by weight of the above reactive polymer.
The weight part is sufficient, and at least one of the epoxy group-containing compounds may be added alone or in combination.

【0057】さらに他の添加剤として、加工性や貼り合
わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加するこ
とができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然
樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂
系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に
用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、
ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体とし
てはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステ
ル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペ
ン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系
樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることがで
きる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバ
ル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂
系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂
が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹
脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石
油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマ
ロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系
樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂
を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹
脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。
As another additive, a hydrocarbon resin may be added for the purpose of improving workability and workability such as bonding. In this case, the added hydrocarbon resin may be a natural resin type or a synthetic resin type. As the natural resin type, rosin, rosin derivative and terpene type resin are preferably used. For rosin, gum resin, tall oil resin,
Wood-based resin can be used. As the rosin derivative, those obtained by hydrogenating, heterogenizing, polymerizing, esterifying, or metallizing rosin can be used. As the terpene-based resin, a terpene-based resin such as α-pinene and β-pinene, and a terpene-phenolic resin can be used. Further, other natural resins such as dammar, cobal and shellac may be used. On the other hand, petroleum-based resins, phenol-based resins, and xylene-based resins are preferably used in the synthetic resin system. As the petroleum resin, aliphatic petroleum resin, aromatic petroleum resin, alicyclic petroleum resin, copolymer petroleum resin, hydrogenated petroleum resin, pure monomer petroleum resin, and coumarone indene resin can be used. As the phenol resin, an alkylphenol resin or a modified phenol resin can be used. As the xylene-based resin, a xylene resin or a modified xylene resin can be used.

【0058】アクリル樹脂も添加することができる。例
えば、アルキルアクリレート(例、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、ブチルアクリレート)及び/
又はアルキルメタクリレート(例、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート)か
ら得られる単独重合体又は共重合体を挙げることができ
る。またこれらのモノマーと、他の共重合可能なモノマ
ーとの共重合体も挙げることができる。特に、光硬化時
の反応性や硬化後の耐久性、透明性の点からポリメチル
メタクリレート(PMMA)が好ましい。
Acrylic resins can also be added. For example, alkyl acrylate (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate) and /
Alternatively, a homopolymer or a copolymer obtained from an alkyl methacrylate (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate) can be mentioned. Moreover, the copolymer of these monomers and another copolymerizable monomer can also be mentioned. In particular, polymethyl methacrylate (PMMA) is preferable in terms of reactivity during photocuring, durability after curing, and transparency.

【0059】上記炭化水素樹脂等のポリマーの添加量は
適宜選択されるが、上記反応性ポリマー100重量部に
対して1〜20重量部が好ましく、より好ましくは5〜
15重量部である。
The amount of the polymer such as the above-mentioned hydrocarbon resin added is appropriately selected, but is preferably 1 to 20 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight of the reactive polymer.
15 parts by weight.

【0060】以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成
物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少
量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲ
ル、炭酸カルシウム、シリコーン共重合体の微粒子等の
添加剤を少量含んでもよい。
In addition to the above additives, the photocurable composition of the present invention may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an antioxidant, a dye, a processing aid and the like. Further, depending on the case, a small amount of additives such as silica gel, calcium carbonate, and fine particles of silicone copolymer may be contained.

【0061】本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性
転写シート(表面平滑性を配慮しないタイプも含む)
は、上記反応性ポリマー、光重合可能な官能基を有する
化合物(モノマー及びオリゴマー)及び、所望により他
の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練し
た後、カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーシ
ョン等の製膜法により所定の形状に製膜して用いること
ができる。本発明の表面が平滑な転写シート得る場合
は、前記したように混練物を押出機等から押出して、表
面粗さRaが30nm以下のシートに流延し、冷却する
ことにより得ることができる。必要によりもう一方の表
面にもシート(剥離シート)で覆うことができる。
A photocurable transfer sheet comprising the photocurable composition of the present invention (including types in which surface smoothness is not taken into consideration)
The above-mentioned reactive polymer, a compound having a photopolymerizable functional group (monomer and oligomer), and optionally other additives are uniformly mixed, and after kneading with an extruder, roll, etc., calender, roll, It can be used by forming a film into a predetermined shape by a film forming method such as T-die extrusion or inflation. The transfer sheet having a smooth surface of the present invention can be obtained by extruding the kneaded product from an extruder or the like as described above, casting the kneaded product into a sheet having a surface roughness Ra of 30 nm or less, and cooling. If necessary, the other surface can be covered with a sheet (release sheet).

【0062】或いは、各構成成分を良溶媒に均一に混合
溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコ
ートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート
法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコー
ト法等により上記支持体上に塗工し、溶媒を乾燥するこ
とにより製膜する方法で得ることができる。本発明の表
面が平滑な転写シート得る場合は、前記したように上記
溶液を、表面粗さRaが30nm以下のシート(好まし
くはポリカーボネートシート)に流延し、乾燥すること
により得ることができる。
Alternatively, each constituent component is uniformly mixed and dissolved in a good solvent, and the solution is flow-coated, roll-coated, gravure roll method, Mayer bar method, lip-die coating method on a separator precisely coated with silicone or fluororesin. It can be obtained by a method of forming a film by coating on the above support by the above method and drying the solvent. When a transfer sheet having a smooth surface according to the present invention is obtained, it can be obtained by casting the above solution on a sheet (preferably a polycarbonate sheet) having a surface roughness Ra of 30 nm or less and drying the solution.

【0063】また、光硬化性転写シートの厚さは一般に
1〜1000μm、5〜500μmが好ましく、特に5
〜300μmが好ましい。1μmより薄いと封止性が劣
り、透明樹脂基板の凸凹を埋め切れない場合が生じる。
一方、1000μmより厚いと記録媒体の厚みが増し、
記録媒体の収納、アッセンブリー等に問題が生じるおそ
れがあり、更に光線透過に影響を与えるおそれもある。
The thickness of the photocurable transfer sheet is generally 1 to 1000 μm, preferably 5 to 500 μm, and particularly 5
˜300 μm is preferred. When the thickness is less than 1 μm, the sealing property is poor and the irregularities of the transparent resin substrate may not be completely filled.
On the other hand, if it is thicker than 1000 μm, the thickness of the recording medium increases,
There is a possibility that a problem may occur in the storage of the recording medium, assembly, etc., and there may also be a possibility that the light transmission will be affected.

【0064】上記支持体の材料としては、ガラス転移温
度が50℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このよう
な支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
シクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナ
イロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等の
ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチ
オエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォ
ン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他
に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポ
リスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成
分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中
で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、
ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテ
レフタレートが複屈折の点で優れており、好適に用いる
ことができる。
As the material of the above support, a transparent organic resin having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher is preferable, and as such a support, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate or polyethylene naphthalate is used. Polyamide, nylon 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, polyamide resin such as polyphthalamide, ketone resin such as polyphenylene sulfide and polythioether sulfone, sulfone resin such as polysulfone and polyether sulfone, and polyether Transparent resin whose main component is organic resin such as nitrile, polyarylate, polyetherimide, polyamideimide, polycarbonate, polymethylmethacrylate, triacetylcellulose, polystyrene and polyvinyl chloride. It is possible to use a plate. Among these, polycarbonate, polymethylmethacrylate,
Polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate are excellent in birefringence and can be preferably used.

【0065】また上記表面粗さRaが30nm以下の剥
離シートの材料としては、ガラス転移温度が50℃以上
の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持体として
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリ
エステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナ
イロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹
脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサル
フォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテ
ルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテ
ルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポ
リアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポ
リビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹
脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロ
ライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが
光透過性の点で優れており、好適に用いることができ
る。
Further, as a material for the release sheet having a surface roughness Ra of 30 nm or less, a transparent organic resin having a glass transition temperature of 50 ° C. or more is preferable. As such a support, polyethylene terephthalate or polycyclohexylene terephthalate is used. Polyester resins such as polyethylene naphthalate, nylon 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, polyamide resins such as polyphthalamide, polyphenylene sulfide, ketone resins such as polythioether sulfone, polysulfone, polyether sulfone, etc. In addition to sulfone resins, polyether nitrile, polyarylate, polyether imide, polyamide imide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, polyvinyl chloride The organic resin etc. can be used transparent resin substrate having a main component. Among these, polycarbonate, polymethylmethacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate are excellent in light transmittance and can be preferably used.

【0066】こうして得られる本発明に光硬化性転写シ
ートは、ガラス転移温度が20℃以下である反応性ポリ
マーを含む光硬化性組成物からなるものであるが、さら
に光硬化性転写シートの380〜800nmの波長領域
の光透過率が70%以上であることが好ましい。また硬
化後の光硬化性転写シートの380〜800nmの波長
領域の光透過率が70%以上であることが好ましい。即
ち、ガラス転移温度が20℃以下とすることにより、光
硬化性転写シートがスタンパの凹凸面に圧着されたと
き、その凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有すること
ができる。特に、ガラス転移温度が15℃〜−50℃の
範囲にすることにより追随性が優れている。ガラス転移
温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力が必要となり作
業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分
な高度が得られなくなる。
The photocurable transfer sheet of the present invention thus obtained comprises a photocurable composition containing a reactive polymer having a glass transition temperature of 20 ° C. or lower. It is preferable that the light transmittance in the wavelength region of up to 800 nm is 70% or more. Further, the light transmittance of the cured photocurable transfer sheet in the wavelength range of 380 to 800 nm is preferably 70% or more. That is, by setting the glass transition temperature to 20 ° C. or lower, when the photocurable transfer sheet is pressure-bonded to the uneven surface of the stamper, the photocurable transfer sheet can have the flexibility to closely follow the uneven surface. In particular, when the glass transition temperature is in the range of 15 ° C to -50 ° C, the followability is excellent. If the glass transition temperature is too high, a high pressure is required at the time of sticking, which leads to a reduction in workability, and if it is too low, a sufficient altitude cannot be obtained after curing.

【0067】光硬化性転写シートは380〜420nm
(好ましくは380〜800nm)の波長領域の光透過
率が70%以上であり、これはレーザによる読み取り信
号の強度低下を防止するためである。さらに380〜4
20nmの波長領域の光透過率が80%以上であること
が好ましい。硬化後のシートについても同様である。
The photocurable transfer sheet has a thickness of 380 to 420 nm.
The light transmittance in the wavelength region (preferably 380 to 800 nm) is 70% or more, and this is to prevent the reduction in the intensity of the read signal by the laser. 380-4
The light transmittance in the wavelength region of 20 nm is preferably 80% or more. The same applies to the cured sheet.

【0068】光硬化性組成物中の反応性ポリマーには重
合性官能基を1〜50モル%有することが好ましい。こ
れにより、得られる光硬化性転写シートが、硬化後に形
状保持可能な強度得ることができる。光重合開始剤は前
記のように0.1〜10質量%の範囲が好ましく、これ
より少ないと硬化速度が遅すぎて、作業性が悪く、多す
ぎると転写精度が低下する。
The reactive polymer in the photocurable composition preferably has 1 to 50 mol% of a polymerizable functional group. As a result, the obtained photocurable transfer sheet can have strength capable of retaining its shape after being cured. As described above, the photopolymerization initiator is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, and if it is less than this range, the curing rate is too slow and the workability is poor, and if it is too large, the transfer accuracy is lowered.

【0069】本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度
を精密に制御したフィルム状で提供することができるた
め、スタンパとの貼り合わせを容易にかつ精度良く、貼
り合わせが可能である。また、この貼り合わせは、圧着
ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で20〜100℃
で仮圧着した後、光により常温、1〜数十秒で硬化でき
る上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや
剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングが
できるという特徴を有している。
The photocurable transfer sheet according to the present invention can be provided in the form of a film whose film thickness precision is precisely controlled, so that it can be easily and accurately attached to a stamper. Further, this bonding is carried out by a simple method such as a pressure roll or a simple press at 20 to 100 ° C.
It can be cured at room temperature for 1 to several tens of seconds after being temporarily pressure-bonded with, and because the self-adhesive force peculiar to this adhesive does not cause displacement or peeling of the laminate, it can be handled freely until photo-curing. have.

【0070】本発明の光硬化性転写シートを硬化する場
合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのもの
が採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカ
ルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュ
リーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レー
ザー光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光
源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分
程度である。
In the case of curing the photocurable transfer sheet of the present invention, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be adopted, for example, ultrahigh pressure, high pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, xenon lamps, halogen lamps. , Mercury halogen lamps, carbon arc lamps, incandescent lamps, laser light and the like. The irradiation time is generally several seconds to several minutes, although it cannot be generally determined depending on the type of lamp and the strength of the light source.

【0071】また、硬化促進のために、予め積層体を3
0〜80℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。
Further, in order to accelerate the curing, the laminated body is preliminarily made into three layers.
You may heat to 0-80 degreeC and irradiate this with an ultraviolet ray.

【0072】得られた本発明の光情報記録基板の凹凸表
面に金属の反射層を蒸着(例えばスパッタリング、真空
蒸着、イオンプレーティング等)により形成する。金属
としては、アルミニウム、金、銀、これらの合金等を挙
げることができる。2枚の光情報記録基板を使用する場
合は、相互に異なる反射層にする必要があり、成分、膜
厚等が変更される。
A metal reflective layer is formed on the uneven surface of the obtained optical information recording substrate of the present invention by vapor deposition (eg, sputtering, vacuum vapor deposition, ion plating, etc.). Examples of the metal include aluminum, gold, silver and alloys thereof. When two optical information recording substrates are used, it is necessary to use different reflective layers, and the components, film thickness, etc. are changed.

【0073】2枚の光情報記録基板を使用する場合、通
常、本発明の光情報記録基板と従来の射出成形基板が用
いられる。
When two optical information recording substrates are used, the optical information recording substrate of the present invention and a conventional injection molded substrate are usually used.

【0074】反射層が設けられた2枚の光情報記録基板
の反射層を対向させ、一方に接着剤を塗布し、その上に
他方を重ね、硬化させる。接着剤がUV硬化性樹脂の場
合はUV照射により、ホットメルト接着剤の場合は、加
熱下に塗布し、冷却することにより得られる。本発明の
光情報記録媒体の製造は、通常シート状で連続的に作成
され、最後に円盤状に打ち抜かれるが、減圧下での処理
が必要な場合等で、円盤状で処理してもよい。
The reflection layers of the two optical information recording substrates provided with the reflection layers are made to face each other, one side is coated with an adhesive, and the other is laminated and cured. When the adhesive is a UV curable resin, it is obtained by UV irradiation, and when the adhesive is a hot melt adhesive, it is obtained by applying under heating and cooling. The optical information recording medium of the present invention is usually manufactured continuously in a sheet shape and punched into a disk shape at the end, but may be processed in a disk shape when a treatment under reduced pressure is required. .

【0075】[0075]

【実施例】以下に実施例を示し、本発明ついてさらに詳
述する。 [実施例1] <光硬化性転写シートの作製> (反応性ポリマーの作製) 配合I 2−エチルヘキシルメタクリレート 70質量部 メチルメタクリレート 20質量部 2−ヒドロキシエチルメタクリレート 10質量部 ベンゾフェノン 5質量部 トルエン 30質量部 酢酸エチル 30質量部 上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、60℃
に加熱して重合を開始させ、この温度で10時間撹拌
し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を得
た。その後、カレンズ MOI(2−イソシアナトエチ
ルメタクリレート;昭和電工(株)製)5質量部を添加
し、穏やかに撹拌しながら50℃で反応させ、光重合性
官能基を有する反応性ポリマーの溶液1を得た。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. [Example 1] <Preparation of photocurable transfer sheet> (Preparation of reactive polymer) Formulation I 2-Ethylhexyl methacrylate 70 parts by mass Methyl methacrylate 20 parts by mass 2-Hydroxyethyl methacrylate 10 parts by mass Benzophenone 5 parts by mass Toluene 30 parts by mass Parts Ethyl acetate 30 parts by mass While stirring gently, the mixture having the above composition is treated at 60 ° C.
Polymerization was initiated by heating to 50 ° C. and stirred at this temperature for 10 hours to obtain an acrylic resin having a hydroxyl group on the side chain. Thereafter, 5 parts by mass of Karenz MOI (2-isocyanatoethyl methacrylate; manufactured by Showa Denko KK) was added and reacted at 50 ° C. with gentle stirring to prepare a solution 1 of a reactive polymer having a photopolymerizable functional group. Got

【0076】得られた反応性ポリマーは、Tgが0℃で
あり、側鎖にメタクリロイル基を5モル%有していた。
The obtained reactive polymer had Tg of 0 ° C. and had 5 mol% of methacryloyl groups in its side chain.

【0077】 配合II 反応性ポリマー溶液1 100質量部 トリシクロデカンジアクリレート 30質量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 1質量部 上記配合の混合物を均一に溶解させ、離型フィルム(剥
離シート)(表面粗さRa=20nm;藤森工業(株)
製)上に、塗布、乾燥し、厚さ100±2μmの光硬化
性転写シート(表面粗さRa=20nm)を得た。
Formulation II Reactive polymer solution 1 100 parts by mass Tricyclodecane diacrylate 30 parts by mass 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1 part by mass The mixture of the above compounds is uniformly dissolved and a release film (release sheet) (surface roughening) is prepared. Ra = 20 nm; Fujimori Industry Co., Ltd.
The product was applied and dried to obtain a photocurable transfer sheet (surface roughness Ra = 20 nm) having a thickness of 100 ± 2 μm.

【0078】<一方の反射層付き光情報記録基板の作製
>光硬化性転写シートを、ピットとしての凹凸面を有す
るニッケル製のスタンパのその凹凸面に、シリコーンゴ
ム製のローラを用いて2kgの荷重で光硬化性転写シー
トを押圧し、積層体を形成し、スタンパの凹凸形状を転
写シート表面に転写した。
<Fabrication of Optical Information Recording Substrate with One Reflective Layer> A photocurable transfer sheet was used in which 2 kg of a nickel rubber stamper having a concave-convex surface as a pit was used with a roller made of silicone rubber. The photocurable transfer sheet was pressed with a load to form a laminate, and the uneven shape of the stamper was transferred onto the surface of the transfer sheet.

【0079】次に、光硬化性転写シート側から、メタル
ハライドランプを用いて、積算光量2000mJ/cm
の条件でUV照射し、転写層を硬化させた。
Next, from the side of the photocurable transfer sheet, using a metal halide lamp, an integrated light amount of 2000 mJ / cm.
UV irradiation was performed under the conditions of 2 to cure the transfer layer.

【0080】積層体からスタンパ、剥離シートを除去
し、硬化した光硬化性転写シート(光情報記録基板)の
凹凸面上に銀合金をスパッタリングすることにより、銀
合金の半透過反射層を形成した。これにより反射層付き
光情報記録基板を得た。
The stamper and the release sheet were removed from the laminate, and the silver alloy was sputtered on the uneven surface of the cured photocurable transfer sheet (optical information recording substrate) to form a semitransparent reflective layer of silver alloy. . Thus, an optical information recording substrate with a reflective layer was obtained.

【0081】<他方の反射層付き光情報記録基板の作
製)ピットとしての凹凸面を有する金型に、ポリカーボ
ネートを溶融、固化させることにより、厚さ1100μ
mの光情報記録基板を成形した。成形された凹凸面上に
アルミニウムをスパッタリングすることによりAl反射
層を形成した。他方の反射層付き光情報記録基板を得
た。
<Production of Optical Information Recording Substrate with Other Reflective Layer) Polycarbonate is melted and solidified in a mold having an uneven surface as pits to give a thickness of 1100 μm.
m optical information recording substrate was molded. An Al reflective layer was formed by sputtering aluminum on the formed uneven surface. The other optical information recording substrate with a reflective layer was obtained.

【0082】<光情報記録媒体の作製>上記で得られた
2枚の反射層付き光情報記録基板の一方の反射層に、市
販の光硬化性液状接着剤(SD−661、大日本インキ
化学工業(株)製 )をスピンコート法で塗布し、2枚
の反射層付き光情報記録基板を反射層同士で貼り合わ
せ、接着剤を光硬化した。これにより光情報記録媒体
(表面粗さRa=2nm)を得た。
<Preparation of Optical Information Recording Medium> A commercially available photocurable liquid adhesive (SD-661, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was provided on one reflective layer of the two optical information recording substrates with a reflective layer obtained above. Kogyo Co., Ltd.) was applied by a spin coating method, two optical information recording substrates with a reflective layer were attached to each other with the reflective layers, and the adhesive was photocured. Thereby, an optical information recording medium (surface roughness Ra = 2 nm) was obtained.

【0083】 [実施例2] <光硬化性転写シートの作製> (反応性ポリマーの作製) 配合I’ n−ヘキシルメタクリレート 50質量部 2−ヒドロキシエチルメタクリレート 50質量部 ベンゾフェノン 5質量部 トルエン 30質量部 酢酸エチル 30質量部 上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、60℃
に加熱して重合を開始させ、この温度で10時間撹拌
し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を得
た。その後、カレンズ MOI(2−イソシアナトエチ
ルメタクリレート;昭和電工(株)製)50質量部を添
加し、穏やかに撹拌しながら50℃で反応させ、光重合
性基を有する反応性ポリマーの溶液2を得た。
Example 2 <Preparation of Photocurable Transfer Sheet> (Preparation of Reactive Polymer) Formulation I ′ n-hexyl methacrylate 50 parts by mass 2-hydroxyethyl methacrylate 50 parts by mass benzophenone 5 parts by mass Toluene 30 parts by mass Ethyl acetate 30 parts by mass While stirring gently, the mixture having the above composition is mixed at 60 ° C.
Polymerization was initiated by heating to 50 ° C. and stirred at this temperature for 10 hours to obtain an acrylic resin having a hydroxyl group on the side chain. Thereafter, 50 parts by mass of Karenz MOI (2-isocyanatoethyl methacrylate; Showa Denko KK) was added and reacted at 50 ° C. with gentle stirring to give a solution 2 of a reactive polymer having a photopolymerizable group. Obtained.

【0084】得られた反応し高分子は、Tgが5℃であ
り、側鎖にメタクリロイル基を50モル%有していた。
The obtained reacted polymer had Tg of 5 ° C. and had a methacryloyl group in the side chain of 50 mol%.

【0085】 配合II’ 反応性ポリマー溶液2 100質量部 1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート 10質量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 1質量部 上記配合の混合物を均一に溶解させ、ピュアエースC1
10−70(表面粗さRa=2nm;厚さ70μm;帝
人(株)製)上に、塗布し、乾燥厚さ30±2μmの光
硬化性転写層を形成した。これにより、厚さ100±2
μmの光硬化性転写シート(表面粗さRa=2nm)を
得た。
Formulation II ′ Reactive polymer solution 2 100 parts by weight 1,6-hexanediol dimethacrylate 10 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1 part by weight The mixture of the above formulation is uniformly dissolved to obtain Pure Ace C1.
10-70 (surface roughness Ra = 2 nm; thickness 70 μm; manufactured by Teijin Ltd.) was applied to form a photocurable transfer layer having a dry thickness of 30 ± 2 μm. This gives a thickness of 100 ± 2
A photocurable transfer sheet (surface roughness Ra = 2 nm) of μm was obtained.

【0086】以下の一方の反射層付き光情報記録基板及
び他方の反射層付き光情報記録基板の作製、そして光情
報記録媒体の作製は実施例1と同様にして行い、これに
よりDVD(表面粗さRa=2nm)を得た。
The following one optical information recording substrate with a reflective layer and the other optical information recording substrate with a reflective layer, and an optical information recording medium were produced in the same manner as in Example 1, whereby a DVD (surface roughness) was prepared. Ra = 2 nm) was obtained.

【0087】[比較例1]実施例1において、光硬化性
転写シート形成用の配合の混合物を均一に溶解させ、ポ
リエステル製離型フィルム(剥離シート)MRF−50
(表面粗さRa=33nm;厚さ70μm;帝人(株)
製)上に、塗布し、乾燥厚さ30±2μmの光硬化性転
写層を形成した。これにより、厚さ100±2μmの光
硬化性転写シート(表面粗さRa=33nm)を得た。
[Comparative Example 1] In Example 1, a mixture of compounds for forming a photocurable transfer sheet was uniformly dissolved, and a polyester release film (release sheet) MRF-50 was prepared.
(Surface roughness Ra = 33 nm; thickness 70 μm; Teijin Ltd.)
Applied) to form a photocurable transfer layer having a dry thickness of 30 ± 2 μm. As a result, a photocurable transfer sheet (surface roughness Ra = 33 nm) having a thickness of 100 ± 2 μm was obtained.

【0088】以下の一方の反射層付き光情報記録基板及
び他方の反射層付き光情報記録基板の作製、そして光情
報記録媒体の作製は実施例1と同様にして行った。
The following one optical information recording substrate with a reflective layer and the other optical information recording substrate with a reflective layer and an optical information recording medium were produced in the same manner as in Example 1.

【0089】[実施例3]比較例1において、得られた
光情報記録媒体の一方の露出表面(再生側の露出表面)
に、ハードコート塗布液(セイカビームVDAL29
2、大日精化工業(株)製)をスピンコータで塗布し、
紫外線を照射して硬化させた。
[Example 3] One exposed surface of the optical information recording medium obtained in Comparative Example 1 (exposed surface on the reproducing side)
Hard coating solution (SEIKA BEAM VDAL29
2. Apply Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd. with a spin coater,
It was irradiated with ultraviolet rays and cured.

【0090】尚、上記実施例1〜3、比較例で使用した
シートの表面粗さRa(中心線平均粗さ)は、以下のよう
に測定した。
The surface roughness Ra (center line average roughness) of the sheets used in Examples 1 to 3 and Comparative Example was measured as follows.

【0091】表面粗さの測定方法:接触式表面粗さ計
(Talystep;テーラーホプソン(株)製)を用い、シー
トの中心線平均粗さ(Ra)を測定した。
Surface roughness measuring method: The center line average roughness (Ra) of the sheet was measured using a contact type surface roughness meter (Talystep; manufactured by Taylor Hopson Co., Ltd.).

【0092】<光情報記録基板及び光情報記録媒体の評
価> (1)光線透過率(380〜420nmの波長領域) 一方の光硬化性転写シートを、JIS−K6717に従
い380〜420nmの波長領域の光線透過率を測定し
た。80%以上を○、80%未満を×とした。
<Evaluation of Optical Information Recording Substrate and Optical Information Recording Medium> (1) Light Transmittance (Wavelength Range of 380 to 420 nm) One photocurable transfer sheet was measured in the wavelength range of 380 to 420 nm according to JIS-K6717. The light transmittance was measured. 80% or more was ◯, and less than 80% was X.

【0093】(2)ランド部粗さ ピットが形成された表面のランド部表面の平滑性を、A
FM(原子間力顕微鏡)を用いて評価した。十分に平滑
なものを○、著しく平滑性に欠けるものを×とした。
(2) Land Roughness Roughness of the land surface of the surface where the pits are formed is
It evaluated using FM (atomic force microscope). Those that were sufficiently smooth were rated as ◯, and those that were significantly lacking in smoothness were rated as x.

【0094】(3)信号読み取り 得られた光情報記録媒体の再生波形を、波長405nm
のレーザを用いて測定し、得られた再生波形と製造に用
いたスタンパの波形と比較した。スタンパの波形と一致
しているものを○、ほとんど一致していないものを×と
した。
(3) Signal reading The reproduced waveform of the obtained optical information recording medium is measured at a wavelength of 405 nm.
Measurement was performed by using the laser of No. 1 and the reproduced waveform obtained was compared with the waveform of the stamper used for manufacturing. The ones that matched the waveform of the stamper were marked with ◯, and those that almost did not match were marked with x.

【0095】得られた試験結果を表1に示す。The test results obtained are shown in Table 1.

【0096】 表1 実施例1 実施例2 実施例3 比較例1 光線透過率(380-420nm) ○ ○ ○ ○ ランド部粗さ ○ ○ ○ ○信号読み取り ○ ○ ○ × Table 1 Example 1 Example 2 Example 3 Comparative Example 1 Light transmittance (380-420 nm) ○ ○ ○ ○ Land surface roughness ○ ○ ○ ○ Signal reading ○ ○ ○ ×

【0097】[0097]

【発明の効果】以上から明らかなように、本発明の光硬
化性転写シートは、光情報記録媒体の基板作成用スタン
パの凹凸面を押圧により簡易に且つ精確に転写すること
ができ、且つ凹凸の反対側表面が極めて平滑である。こ
のため、得られる光情報記録基板及び媒体は、スタンパ
の凹凸面が精確に転写された信号面を有し且つレーザ光
照射側の表面が極めて平滑である。このような光情報記
録媒体は、記録、再生の際のエラーの発生がほとんどな
いとの効果が得られる。
As is apparent from the above, the photocurable transfer sheet of the present invention can easily and accurately transfer the uneven surface of the stamper for making a substrate of an optical information recording medium by pressing, and The surface opposite to is extremely smooth. Therefore, the obtained optical information recording substrate and medium have a signal surface on which the uneven surface of the stamper is accurately transferred, and the surface on the laser light irradiation side is extremely smooth. Such an optical information recording medium has an effect that there is almost no error during recording and reproduction.

【0098】また、本発明の光情報記録基板は、光硬化
性転写シートを使用して軟化による変形で形成し、硬化
させるため、基板の厚さが300μm以下の薄いもので
も良好な転写で得ることができる。
Further, since the optical information recording substrate of the present invention is formed by being deformed by softening using a photocurable transfer sheet and then cured, a good transfer can be obtained even when the substrate has a thin thickness of 300 μm or less. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光硬化性転写シートの実施形態の例を
示す断面図
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a photocurable transfer sheet of the present invention.

【図2】本発明の光情報記録基板及び積層体を製造する
方法の一例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a method for manufacturing the optical information recording substrate and the laminated body of the present invention.

【図3】本発明の光情報記録媒体を製造する方法の一例
を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a method for manufacturing the optical information recording medium of the present invention.

【図4】本発明の光情報記録媒体の別の例を示す断面図
である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing another example of the optical information recording medium of the present invention.

【図5】二重真空室方式の装置を用いた押圧法を説明す
るための該略図である。
FIG. 5 is a schematic view for explaining a pressing method using a double vacuum chamber type device.

【図6】従来の光情報記録媒体を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a conventional optical information recording medium.

【図7】従来の光情報記録媒体を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a conventional optical information recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 光硬化性転写シート 20 凹凸を有する光硬化性転写シート(光情報記録基
板) 12a、12b 剥離シート 12c 支持体 13 銀合金反射層 30 光情報記録基板 40 光情報記録媒体 21 スタンパ 33 Al反射層 34 接着剤層 1,2 透明樹脂基板 1a,2a 反射層 3 接着剤層 1b 半透明層
11 Photo-curable Transfer Sheet 20 Photo-curable Transfer Sheet (Optical Information Recording Substrate) 12a and 12b Release Sheet 12c Support 13 Silver Alloy Reflective Layer 30 Optical Information Recording Substrate 40 Optical Information Recording Medium 21 Stamper 33 Al Reflective Layer 34 Adhesive Layers 1, 2 Transparent Resin Substrates 1a, 2a Reflective Layer 3 Adhesive Layer 1b Semi-Transparent Layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 稲宮 隆人 東京都小平市小川東町3−1−1 株式会 社ブリヂストン内 Fターム(参考) 4J027 AA02 BA08 BA19 BA20 CB10 CC03 CD05 5D029 KA15 KB02 KB14 KC04 KC09 RA07 RA08 RA45 RA46 RA49 5D121 AA02 CA10 DD03    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Takahito Inamiya             3-1-1 Ogawa Higashi-cho, Kodaira-shi, Tokyo Stock market             Company Bridgestone F-term (reference) 4J027 AA02 BA08 BA19 BA20 CB10                       CC03 CD05                 5D029 KA15 KB02 KB14 KC04 KC09                       RA07 RA08 RA45 RA46 RA49                 5D121 AA02 CA10 DD03

Claims (26)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光重合性官能基を有する反応性ポリマー
を含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物からな
り、そして少なくとも一方の表面の表面粗さRaが30
nm以下である光硬化性転写シート。
1. A photocurable composition comprising a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and deformable under pressure, and having a surface roughness Ra of at least one surface of 30.
A photo-curable transfer sheet having a thickness of nm or less.
【請求項2】 光硬化性組成物のガラス転移温度が20
℃以下である請求項1に記載の光硬化性転写シート。
2. The glass transition temperature of the photocurable composition is 20.
The photocurable transfer sheet according to claim 1, which has a temperature of not higher than ° C.
【請求項3】 該表面粗さRaが10nm以下である請
求項1又は2に記載の光硬化性転写シート。
3. The photocurable transfer sheet according to claim 1, wherein the surface roughness Ra is 10 nm or less.
【請求項4】 さらに380〜420nmの波長領域の
光透過率が70%以上である請求項1〜3のいずれかに
記載の光硬化性転写シート。
4. The photocurable transfer sheet according to claim 1, which further has a light transmittance of 70% or more in a wavelength range of 380 to 420 nm.
【請求項5】 さらに380〜800nmの波長領域の
光透過率が70%以上である請求項1〜3のいずれかに
記載の光硬化性転写シート。
5. The photocurable transfer sheet according to claim 1, which further has a light transmittance of 70% or more in a wavelength range of 380 to 800 nm.
【請求項6】 反応性ポリマーが、光重合性官能基を1
〜50モル%含む請求項1〜5のいずれかに記載の光硬
化性転写シート。
6. The reactive polymer has a photopolymerizable functional group of 1
The photocurable transfer sheet according to claim 1, wherein the photocurable transfer sheet contains ˜50 mol%.
【請求項7】 光重合性官能基が、(メタ)アクリロイ
ル基である請求項6に記載の光硬化性転写シート。
7. The photocurable transfer sheet according to claim 6, wherein the photopolymerizable functional group is a (meth) acryloyl group.
【請求項8】 光硬化性組成物が、光重合開始剤を0.
1〜10質量%含む請求項1〜7のいずれかに記載の光
硬化性転写シート。
8. The photocurable composition comprises a photopolymerization initiator of 0.1.
The photocurable transfer sheet according to claim 1, wherein the photocurable transfer sheet contains 1 to 10% by mass.
【請求項9】 厚さが5〜300μmである請求項1〜
8のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
9. A thickness of 5 to 300 μm.
8. The photocurable transfer sheet according to any of 8.
【請求項10】 光重合性官能基を有する反応性ポリマ
ーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物を溶
融状態で、表面粗さRaが30nm以下である支持体の
該表面上に流延することを特徴とする請求項1〜9のい
ずれかに記載の光硬化性転写シートの製造方法。
10. A photocurable composition containing a reactive polymer having a photopolymerizable functional group, which is deformable by pressurization, in a molten state, on the surface of a support having a surface roughness Ra of 30 nm or less. It casts, The manufacturing method of the photocurable transfer sheet in any one of Claims 1-9 characterized by the above-mentioned.
【請求項11】 光重合性官能基を有する反応性ポリマ
ーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物を含
む塗布液を、表面粗さRaが30nm以下である支持体
の該表面上に塗布、乾燥することを特徴とする請求項1
〜9のいずれかに記載の光硬化性転写シートの製造方
法。
11. A coating solution containing a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and containing a photocurable composition that can be deformed by pressure is applied onto the surface of a support having a surface roughness Ra of 30 nm or less. It is applied to and dried on.
10. The method for producing a photocurable transfer sheet according to any one of 9 to 10.
【請求項12】 記録ピット及び/又はグルーブとして
表面に凹凸を有するスタンパの該凹凸表面に、請求項1
〜9のいずれかに記載の光硬化性転写シートが該凹凸表
面に沿って密着されてなる積層体。
12. The uneven surface of a stamper having unevenness on the surface as recording pits and / or grooves,
10. A laminate comprising the photocurable transfer sheet according to any one of 9 to 10 closely attached along the uneven surface.
【請求項13】 請求項1〜9に記載の光硬化性転写シ
ートの硬化被膜からなり、該硬化被膜の一方の表面に記
録ピット及び/又はグルーブとしての凹凸が形成された
情報記録基板であって、該硬化被膜の凹凸表面と反対側
の表面の表面粗さRaが30nm以下であることを特徴
とする光情報記録基板。
13. An information recording substrate comprising the cured coating of the photocurable transfer sheet according to claim 1 and having unevenness as recording pits and / or grooves formed on one surface of the cured coating. An optical information recording substrate, wherein the surface roughness Ra of the surface of the cured coating opposite to the uneven surface is 30 nm or less.
【請求項14】 表面に記録ピット及び/又はグルーブ
としての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反射層
を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び/又
はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成さ
れた半透明反射層を有する光情報記録基板とを、反射層
同士を対向させて、接着剤層を介して貼り合わせてなる
光情報記録媒体であって、 少なくとも一方の基板が、請求項1〜9に記載の光硬化
性転写シートの硬化被膜からなり、該硬化被膜の凹凸表
面と反対側の表面の表面粗さRaが30nm以下である
ことを特徴とする光情報記録媒体。
14. An optical information recording substrate having unevenness as recording pits and / or grooves on the surface thereof, and a reflective layer formed on the uneven surface, and unevenness as recording pits and / or grooves at the surface. And an optical information recording substrate having a semi-transparent reflective layer formed on the uneven surface thereof, the reflective layers being opposed to each other and being bonded via an adhesive layer, at least one of The substrate according to claim 1, comprising the cured coating of the photocurable transfer sheet according to claim 1, wherein the surface roughness Ra of the surface of the cured coating opposite to the concavo-convex surface is 30 nm or less. Information recording medium.
【請求項15】 表面に記録ピット及び/又はグルーブ
としての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反射層
を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び/又
はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成さ
れた半透明反射層を有する光情報記録基板とを、前者の
反射層の無い表面に後者の半透明反射層を接着剤層を介
して貼り合わせてなる光情報記録媒体であって、 少なくとも一方の基板が、請求項1〜9に記載の光硬化
性転写シートの硬化被膜からなり、該硬化被膜の凹凸表
面と反対側の表面の表面粗さRaが30nm以下である
ことを特徴とする光情報記録媒体。
15. An optical information recording substrate having unevenness as recording pits and / or grooves on the surface thereof, and a reflective layer formed on the uneven surface, and unevenness as recording pits and / or grooves on the surface. And an optical information recording substrate having a semi-transparent reflective layer formed on the uneven surface, and the latter semi-transparent reflective layer bonded to the surface without the reflective layer of the former via an adhesive layer. A medium, wherein at least one of the substrates comprises the cured coating of the photocurable transfer sheet according to claim 1, and the surface roughness Ra of the surface of the cured coating opposite to the concavo-convex surface is 30 nm or less. An optical information recording medium characterized by being present.
【請求項16】 光重合性官能基を有する反応性ポリマ
ーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物から
なる光硬化性転写シートの硬化被膜からなり、該硬化被
膜の一方の表面に記録ピット及び/又はグルーブとして
の凹凸が形成されからなる光情報記録基板であって、該
凹凸表面と反対側の表面に紫外線硬化性樹脂の塗布層の
硬化被膜である表面平滑化層が形成され且つこの層の表
面粗さRaが30nm以下であることを特徴とする光情
報記録基板。
16. A cured coating of a photocurable transfer sheet comprising a photocurable composition which contains a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and is deformable under pressure, wherein one surface of the cured coating is formed. An optical information recording substrate comprising concaves and convexes as recording pits and / or grooves, wherein a surface smoothing layer which is a cured coating of an ultraviolet curable resin coating layer is formed on the surface opposite to the concave and convex surface. An optical information recording substrate having a surface roughness Ra of 30 nm or less.
【請求項17】 表面に記録ピット及び/又はグルーブ
としての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反射層
を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び/又
はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成さ
れた半透明反射層を有する光情報記録基板とを、反射層
同士を対向させて、接着剤層を介して貼り合わせてなる
光情報記録媒体であって、 少なくとも一方の基板が、光重合性官能基を有する反応
性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組
成物からなる光硬化性転写シートの硬化被膜からなり、
該硬化被膜の凹凸表面と反対側の表面に紫外線硬化性樹
脂の塗布層の硬化被膜である表面平滑化層が設けられ且
つこの層の表面粗さRaが30nm以下であることを特
徴とする光情報記録媒体。
17. An optical information recording substrate having unevenness as recording pits and / or grooves on the surface thereof, and a reflecting layer formed on the uneven surface, and unevenness as recording pits and / or grooves at the surface thereof. And an optical information recording substrate having a semi-transparent reflective layer formed on the uneven surface thereof, the reflective layers being opposed to each other and being bonded via an adhesive layer, at least one of The substrate of comprises a cured coating of a photocurable transfer sheet comprising a photocurable composition that contains a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and is deformable by pressure,
A light having a surface smoothing layer, which is a cured coating of a coating layer of an ultraviolet curable resin, provided on the surface opposite to the uneven surface of the cured coating, and the surface roughness Ra of this layer is 30 nm or less. Information recording medium.
【請求項18】 表面に記録ピット及び/又はグルーブ
としての凹凸を有し、その凹凸表面に形成された反射層
を有する光情報記録基板と、表面に記録ピット及び/又
はグルーブとしての凹凸を有し、その凹凸表面に形成さ
れた半透明反射層を有する光情報記録基板とを、前者の
反射層の無い表面に後者の半透明反射層を接着剤層を介
して貼り合わせてなる光情報記録媒体であって、 少なくとも一方の基板の、少なくとも凹凸表面を含む層
が、光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ
加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性
転写シートの硬化被膜からなり、該硬化被膜の凹凸表面
と反対側の表面に紫外線硬化性樹脂の塗布層の硬化被膜
である表面平滑化層が設けられ且つこの層の表面粗さR
aが30nm以下であることを特徴とする光情報記録媒
体。
18. An optical information recording substrate having unevenness as recording pits and / or grooves on the surface thereof, and a reflective layer formed on the uneven surface, and unevenness as recording pits and / or grooves on the surface. And an optical information recording substrate having a semi-transparent reflective layer formed on the uneven surface, and the latter semi-transparent reflective layer bonded to the surface without the reflective layer of the former via an adhesive layer. A photocurable transfer sheet, which is a medium, in which at least one of the substrates has a layer including at least an uneven surface, which comprises a photocurable composition that contains a reactive polymer having a photopolymerizable functional group and is deformable by pressure. And a surface smoothing layer, which is a cured film of a coating layer of an ultraviolet curable resin, is provided on the surface opposite to the uneven surface of the cured film, and the surface roughness R of this layer.
An optical information recording medium characterized in that a is 30 nm or less.
【請求項19】 表面粗さRaが10nm以下である請
求項16〜18のいずれかに記載の光情報記録媒体。
19. The optical information recording medium according to claim 16, which has a surface roughness Ra of 10 nm or less.
【請求項20】 光硬化性組成物のガラス転移温度が2
0℃以下である請求項16〜19のいずれかに記載の光
情報記録媒体。
20. The glass transition temperature of the photocurable composition is 2
The optical information recording medium according to any one of claims 16 to 19, which has a temperature of 0 ° C or lower.
【請求項21】 光硬化性転写シートの硬化被膜の38
0〜420nmの波長領域の光透過率が70%以上であ
る請求項16〜20のいずれかに記載の光情報記録媒
体。
21. A cured coating of a photocurable transfer sheet, comprising:
21. The optical information recording medium according to claim 16, which has a light transmittance of 70% or more in a wavelength range of 0 to 420 nm.
【請求項22】 光硬化性転写シートの硬化被膜の38
0〜800nmの波長領域の光透過率が70%以上であ
る請求項16〜21のいずれかに記載の光情報記録媒
体。
22. The cured film of the photocurable transfer sheet, 38.
22. The optical information recording medium according to claim 16, which has a light transmittance of 70% or more in a wavelength range of 0 to 800 nm.
【請求項23】 反応性ポリマーが、光重合性官能基を
1〜50モル%含む請求項16〜22のいずれかに記載
の光情報記録媒体。
23. The optical information recording medium according to claim 16, wherein the reactive polymer contains 1 to 50 mol% of a photopolymerizable functional group.
【請求項24】 光重合性官能基が、(メタ)アクリロ
イル基である請求項16〜23のいずれかに記載の光情
報記録媒体。
24. The optical information recording medium according to claim 16, wherein the photopolymerizable functional group is a (meth) acryloyl group.
【請求項25】 光硬化性組成物が、光重合開始剤を
0.1〜10質量%含む請求項16〜24のいずれかに
記載の光情報記録媒体。
25. The optical information recording medium according to claim 16, wherein the photocurable composition contains 0.1 to 10% by mass of a photopolymerization initiator.
【請求項26】 光硬化性転写シートの厚さが5〜30
0μmである請求項16〜25のいずれかに記載の光情
報記録媒体。
26. The thickness of the photocurable transfer sheet is 5 to 30.
The optical information recording medium according to any one of claims 16 to 25, which has a thickness of 0 μm.
JP2002070540A 2002-03-13 2002-03-14 Photo-curing transfer sheet and its manufacturing method, laminated body, optical information recording substrate and optical information recording medium Pending JP2003272228A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002070540A JP2003272228A (en) 2002-03-14 2002-03-14 Photo-curing transfer sheet and its manufacturing method, laminated body, optical information recording substrate and optical information recording medium
EP03710292.8A EP1484377B9 (en) 2002-03-13 2003-03-10 Photo-curable adhesive sheet, photo-curable transfer sheet, optical information recording medium and method for preparing optical information recording medium
US10/507,320 US20050158500A1 (en) 2002-03-13 2003-03-10 Photo-curable adhesive sheet, photo-curable transfer sheet, optical information recording medium, and method for preparing optical information recording medium
PCT/JP2003/002786 WO2003076541A1 (en) 2002-03-13 2003-03-10 Photo-curable adhesive sheet, photo-curable transfer sheet, optical information recording medium and method for preparing optical information recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002070540A JP2003272228A (en) 2002-03-14 2002-03-14 Photo-curing transfer sheet and its manufacturing method, laminated body, optical information recording substrate and optical information recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003272228A true JP2003272228A (en) 2003-09-26

Family

ID=29201078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002070540A Pending JP2003272228A (en) 2002-03-13 2002-03-14 Photo-curing transfer sheet and its manufacturing method, laminated body, optical information recording substrate and optical information recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003272228A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006291115A (en) * 2005-04-14 2006-10-26 Bridgestone Corp Photocurable transfer sheet, manufacturing method of optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP2006291114A (en) * 2005-04-14 2006-10-26 Bridgestone Corp Photocurable transfer sheet, manufacturing method of optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
KR100695565B1 (en) 2005-10-20 2007-03-16 제일모직 주식회사 Method for patterning of optical sheet surface
JP2008150433A (en) * 2006-12-14 2008-07-03 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Resin molded article and laminate using the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006291115A (en) * 2005-04-14 2006-10-26 Bridgestone Corp Photocurable transfer sheet, manufacturing method of optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP2006291114A (en) * 2005-04-14 2006-10-26 Bridgestone Corp Photocurable transfer sheet, manufacturing method of optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP4656991B2 (en) * 2005-04-14 2011-03-23 株式会社ブリヂストン Photocurable transfer sheet, method for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP4764055B2 (en) * 2005-04-14 2011-08-31 株式会社ブリヂストン Photocurable transfer sheet, method for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
KR100695565B1 (en) 2005-10-20 2007-03-16 제일모직 주식회사 Method for patterning of optical sheet surface
JP2008150433A (en) * 2006-12-14 2008-07-03 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Resin molded article and laminate using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1437726B1 (en) Photocurable transfer sheet; laminate optical information recording substrate; method for manufacture thereof and optical information recording medium
JP4704133B2 (en) Photocurable transfer sheet, optical information recording medium, and method for producing the same
US20110262675A1 (en) Photo-curable transfer sheet, process for the preparation of optical information recording medium using the sheet, and optical information recording medium
EP1484377B9 (en) Photo-curable adhesive sheet, photo-curable transfer sheet, optical information recording medium and method for preparing optical information recording medium
WO2005035635A1 (en) Photocuring transfer sheet, method for manufacturing optical information recording medium using the sheet, and optical information recording medium
JP4479907B2 (en) Photocurable transfer sheet, method for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP2007291339A (en) Photocurable transfer sheet, method for forming concavo-convex pattern using the same, method for producing optical information-recording medium, and optical information-recording medium
JP2003272244A (en) Manufacturing method of optical information recording medium and optical information recording medium
JP4165635B2 (en) Manufacturing method of optical information recording medium
JP4764055B2 (en) Photocurable transfer sheet, method for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP4764158B2 (en) Photocurable transfer sheet, method for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP2003272228A (en) Photo-curing transfer sheet and its manufacturing method, laminated body, optical information recording substrate and optical information recording medium
JP2005182971A (en) Photocuring resin composition for optical information recording medium, photocuring transfer sheet, and optical information recording medium
EP2058809B1 (en) Photocurable transfer sheet, process for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP4070440B2 (en) Optical information recording medium and manufacturing method thereof
JP2005158232A (en) Photosetting transfer sheet, manufacturing method of optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP4776140B2 (en) Photocurable transfer sheet, optical information recording substrate, manufacturing method thereof, and optical information recording medium
JP2005182964A (en) Optical information recording medium, its manufacturing method, photocuring composition, and photocuring transfer sheet
JP2005116050A (en) Photocuring transfer sheet, method for manufacturing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP2005182963A (en) Optical information recording medium, its manufacturing method, photocuring composition, and photocuring transfer sheet
JP4656991B2 (en) Photocurable transfer sheet, method for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP2007012224A (en) Optical information recording medium
JP5016292B2 (en) Photocurable transfer sheet, method for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP2005116051A (en) Photocuring transfer sheet, method for manufacturing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium
JP5158923B2 (en) Photocurable transfer sheet, method for producing optical information recording medium using the same, and optical information recording medium

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050302

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080325

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080526

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090526

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090724

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090901