JP2003255008A - Apparatus and method for verifying circuit wiring - Google Patents

Apparatus and method for verifying circuit wiring

Info

Publication number
JP2003255008A
JP2003255008A JP2002056268A JP2002056268A JP2003255008A JP 2003255008 A JP2003255008 A JP 2003255008A JP 2002056268 A JP2002056268 A JP 2002056268A JP 2002056268 A JP2002056268 A JP 2002056268A JP 2003255008 A JP2003255008 A JP 2003255008A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit wiring
inspection
circuit
signal
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002056268A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideji Yamaoka
秀嗣 山岡
Seigo Ishioka
聖悟 石岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OHT Inc
Original Assignee
OHT Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by OHT Inc filed Critical OHT Inc
Priority to JP2002056268A priority Critical patent/JP2003255008A/en
Publication of JP2003255008A publication Critical patent/JP2003255008A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for verifying circuit wirings, capable of surely and easily verifying the state of the circuit wiring using a simple configuration. <P>SOLUTION: A verifying system 20 comprises a sensor panel 200 having a thin film transistor (TFT) to constitute a sensor element, a computer 21, a probe 22 for supplying verification signal to the circuit wiring 101, and a selector 23 for switching the supply of the signal to the probe 22. The computer 21 receives the verification signal from the panel 200, generates image data, and displays the image of the wiring to be verified on a display 21a. Thus, faults such as disconnections, short circuiting, faults or the like of the wiring 101 can be detected, based on the generated image data and the image data showing the wirings of design. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回路配線の良否を
検査可能な回路配線検査装置並びに回路配線検査方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit wiring inspection device and a circuit wiring inspection method capable of inspecting the quality of circuit wiring.

【0002】[0002]

【従来の技術】回路基板の製造においては、回路基板上
に回路配線の配置を行った後に断線や短絡がないか否か
を検査する必要がある。近年、回路配線の高密度化によ
り、各回路配線の検査を行う際に、各回路配線の両端部
に同時に検査用ピンを配置して先端部を接触させるに十
分な間隔がとれない状況となってきたため、ピンを用い
ることなく回路配線の状態を検査するために、回路配線
の両端部に接触することなく回路配線よりの電気信号を
受信可能な非接触式の検査手法が提案されてきている
(特開平9-264919号公報)。
2. Description of the Related Art In the manufacture of a circuit board, it is necessary to inspect whether or not there is a disconnection or a short circuit after arranging the circuit wiring on the circuit board. In recent years, due to the high density of circuit wiring, when inspecting each circuit wiring, it is not possible to arrange an inspection pin at both ends of each circuit wiring at the same time and to provide a sufficient distance for contacting the tips. Therefore, in order to inspect the state of the circuit wiring without using pins, a non-contact type inspection method capable of receiving an electric signal from the circuit wiring without touching both ends of the circuit wiring has been proposed. (JP-A-9-264919).

【0003】この非接触式の検査手法は、図19に示す
ように、検査の対象となる回路配線の一方端部側に検査
用のピンを接触させ、回路配線の他端部側は非接触にセ
ンサ導体を配置し、検査用のピンから検査信号を供給す
ることにより回路配線の電位を変化させ、電位変化をセ
ンサ導体で検出してパターンの断線などを検査する方式
である。
In this non-contact type inspection method, as shown in FIG. 19, an inspection pin is brought into contact with one end side of a circuit wiring to be inspected, and the other end side of the circuit wiring is non-contacted. This is a method in which a sensor conductor is arranged on the substrate, the potential of the circuit wiring is changed by supplying an inspection signal from an inspection pin, and the potential change is detected by the sensor conductor to inspect a pattern disconnection or the like.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の非接触検査方式は、回路基板のある位置に回路
配線が存在するか否かを検出できるのみ(ある位置のパ
ターンで電位変化があるか否かを検出できるのみ)であ
り、オペレータが直感的にパターン状態を判断すること
が、あるいは回路配線の両端部間の状態を容易に判断す
ることが、できなかった。
However, the above-mentioned conventional non-contact inspection method can only detect whether or not the circuit wiring exists at a certain position on the circuit board (whether the potential at the pattern at the certain position changes). However, it is impossible for the operator to intuitively judge the pattern state or to easily judge the state between both ends of the circuit wiring.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は上述した課題を
解決することを目的としてなされたもので、上述した課
題を解決し、例えば、回路配線の状態をオペレータが容
易かつ直感的に判断できる回路配線検査装置を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made for the purpose of solving the above-mentioned problems, and solves the above-mentioned problems. For example, an operator can easily and intuitively determine the state of circuit wiring. An object is to provide a circuit wiring inspection device.

【0006】係る目的を達成する一手段として例えば以
下の構成を備える。
As one means for achieving the above object, for example, the following configuration is provided.

【0007】即ち、検査対象回路配線に検査信号を供給
する検査信号供給手段と、前記検査信号供給手段による
前記検査信号の供給に応じた検査対象回路配線の電位変
化を検出する検出手段と、前記検出手段で検出する前記
電位変化位置情報より回路配線の形状を表す画像データ
を生成する画像データ生成手段とを備え、前記検出手段
は、薄膜トランジスタを用いて前記検査対象回路配線の
電位変化を検出することを特徴とする。
That is, an inspection signal supply means for supplying an inspection signal to the inspection target circuit wiring, a detection means for detecting a potential change of the inspection target circuit wiring according to the supply of the inspection signal by the inspection signal supply means, and Image data generation means for generating image data representing the shape of the circuit wiring from the potential change position information detected by the detection means, and the detection means detects a potential change of the inspection target circuit wiring using a thin film transistor. It is characterized by

【0008】そして例えば、前記検査信号供給手段は、
異なる前記回路配線に対しては、異なるタイミングで検
査信号を供給することを特徴とする。
Further, for example, the inspection signal supply means is
An inspection signal is supplied to different circuit wirings at different timings.

【0009】また例えば、前記薄膜トランジスタはマト
リクス状に配置されたTFTであることを特徴とする。
Further, for example, the thin film transistor is a TFT arranged in a matrix.

【0010】更に例えば、前記薄膜トランジスタを選択
的に駆動させるための選択信号を供給する選択手段を更
に備え、前記検査信号供給手段は、異なる前記回路配線
に対しては、異なるタイミングで検査信号を供給し、前
記選択手段は、前記薄膜トランジスタの内水平方向に1
ラインをなす薄膜トランジスタラインに同時に選択信号
を入力し、前記検査信号検出手段は、前記薄膜トランジ
スタラインに対向する回路配線の電位変化を、同時に検
出することを特徴とする。
Further, for example, a selection means for supplying a selection signal for selectively driving the thin film transistor is further provided, and the inspection signal supply means supplies the inspection signal to different circuit wirings at different timings. Then, the selecting means is arranged to extend in the horizontal direction within the thin film transistor.
A selection signal is input to the thin film transistor lines forming the line at the same time, and the inspection signal detection means simultaneously detects a potential change of the circuit wiring facing the thin film transistor line.

【0011】また例えば、前記回路配線は複数の集積回
路配線の集合基板であり、前記薄膜トランジスタは少な
くとも前記集合基板の前記集積回路配線形成領域分の面
積を有し、前記集合基板に対向する位置に位置決めされ
ていることを特徴とする。
Further, for example, the circuit wiring is a collective substrate of a plurality of integrated circuit wirings, and the thin film transistor has an area of at least the integrated circuit wiring forming region of the collective substrate, and is located at a position facing the collective substrate. It is characterized by being positioned.

【0012】更に例えば、前記回路配線基板は複数の集
積回路が実装される基板であり、前記薄膜トランジスタ
は少なくとも前記回路基板分の面積を有し、前記回路基
板に対向する位置に位置決めされていることを特徴とす
る。あるいは、更に、前記電位変化のある回路配線の形
状と回路配線情報とを比較して検査対象回路配線の良否
を判定する判定手段を備えることを特徴とする。
Further, for example, the circuit wiring board is a board on which a plurality of integrated circuits are mounted, and the thin film transistor has an area of at least the circuit board and is positioned at a position facing the circuit board. Is characterized by. Alternatively, it is characterized by further comprising a determining means for comparing the shape of the circuit wiring having the potential change with the circuit wiring information to judge the quality of the inspection target circuit wiring.

【0013】また、回路配線を検査する検査装置におけ
る回路検査方法であって、検査対象回路配線に検査信号
を供給する検査信号供給手段による前記検査信号の供給
に応じた検査対象回路配線の電位変化を薄膜トランジス
タを用いて検出し、検出された前記電位変化位置情報よ
り回路配線の形状を表す画像データを生成して回路配線
状態を確認可能とすることを特徴とする。
A circuit inspection method in an inspection apparatus for inspecting circuit wiring, wherein the potential change of the inspection target circuit wiring in response to the supply of the inspection signal by the inspection signal supply means for supplying the inspection signal to the inspection target circuit wiring. Is detected using a thin film transistor, image data representing the shape of the circuit wiring is generated from the detected potential change position information, and the circuit wiring state can be confirmed.

【0014】そして例えば、前記検査信号供給手段によ
るよる前記検査信号の供給は、異なる前記回路配線に対
しては、異なるタイミングで検査信号を供給することを
特徴とする。
Further, for example, the supply of the inspection signal by the inspection signal supply means is such that the inspection signal is supplied to different circuit wirings at different timings.

【0015】また例えば、異なる前記回路配線に対して
は、異なるタイミングで前記検査信号を供給するととも
に、前記薄膜トランジスタの内水平方向に1ラインをな
す薄膜トランジスタラインに同時に選択信号を入力し、
前記薄膜トランジスタラインに対向する回路配線の電位
変化を、ラインごとに同時に検出することを特徴とす
る。
Further, for example, to the different circuit wirings, the inspection signals are supplied at different timings, and at the same time, selection signals are simultaneously input to thin film transistor lines forming one line in the horizontal direction of the thin film transistors,
It is characterized in that the potential change of the circuit wiring facing the thin film transistor line is simultaneously detected for each line.

【0016】更に例えば、更に、前記電位変化のある回
路配線の形状と回路配線情報とを比較して検査対象回路
配線の良否を判定することを特徴とする。
Further, for example, it is further characterized in that the shape of the circuit wiring having the potential change and the circuit wiring information are compared to determine the quality of the circuit wiring to be inspected.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明に係
る一発明の実施の形態例を詳細に説明する。以下の説明
における構成、構成要素の相対配置、数値などは、本発
明の範囲を以下の説明の範囲に限定する趣旨ではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. The configurations, relative arrangements of components, numerical values, and the like in the following description are not intended to limit the scope of the present invention to the scope of the following description.

【0018】以下の説明は、回路配線の例として集積回
路チップにおける配線パターンの検査を行う検査装置の
場合を例として説明し、原理の説明として一つの集積回
路チップの検査のみを行う場合を説明する。
The following description will be made by taking a case of an inspection apparatus for inspecting a wiring pattern in an integrated circuit chip as an example of circuit wiring, and a case in which only one integrated circuit chip is inspected as an explanation of the principle. To do.

【0019】しかし、本発明は以下に説明する例に限定
されるものではなく、複数の集積回路チップの実装され
た実装基板のであっても同様に検査でき、また、回路を
実際に駆動させて各配線パターンの検査を行うことも含
まれる。
However, the present invention is not limited to the examples described below, and even a mounting board on which a plurality of integrated circuit chips are mounted can be inspected in the same manner, and the circuit is actually driven. Inspecting each wiring pattern is also included.

【0020】〔第1の実施の形態例〕第1の実施の形態
として、薄膜トランジスタ例えばTFTトランジスタを
センサ要素として用いた検査システム20について説明
する。図1は本発明に係る一発明の実施の形態例のパタ
ーン検査システムの概略図である。
[First Embodiment] As a first embodiment, an inspection system 20 using a thin film transistor such as a TFT transistor as a sensor element will be described. FIG. 1 is a schematic diagram of a pattern inspection system according to an embodiment of the present invention.

【0021】図1に示すように本実施の形態例ではセン
サ要素を1ラインづつ順次駆動して電位変化を検出す
る。
As shown in FIG. 1, in this embodiment, the sensor elements are sequentially driven line by line to detect a potential change.

【0022】<検査システムの構成>図2は本実施の形
態例の検査システム20の概略構成図である。
<Structure of Inspection System> FIG. 2 is a schematic block diagram of the inspection system 20 of the present embodiment.

【0023】検査システム20は、複数のセンサ要素を
備えたセンサパネル200と、コンピュータ21と、回
路配線101に検査信号を供給するためのプローブ22
と、プローブ22への検査信号の供給を切り替えるセレ
クタ23と、を備える。セレクタ23は、例えば、マル
チプレクサ、デプレクサ等から構成することができる。
The inspection system 20 includes a sensor panel 200 having a plurality of sensor elements, a computer 21, and a probe 22 for supplying an inspection signal to the circuit wiring 101.
And a selector 23 for switching the supply of the inspection signal to the probe 22. The selector 23 can be composed of, for example, a multiplexer, a deplexer, or the like.

【0024】コンピュータ21は、セレクタ23に対し
てプローブ22選択のための制御信号及び回路配線10
1に与える検査信号を供給し、センサパネル200に対
してセレクタ23に供給した制御信号に同期してセンサ
要素を動作させるための同期信号(垂直同期信号(Vs
ync)、水平同期信号(Hsync)及び基準信号
(Dclk)を含む)を供給する。
The computer 21 informs the selector 23 of control signals and circuit wiring 10 for selecting the probe 22.
1 is supplied to the sensor panel 200 in synchronization with the control signal supplied to the selector 23 to the sensor panel 200 to operate the sensor element (vertical synchronization signal (Vs
sync), a horizontal synchronization signal (Hsync) and a reference signal (Dclk) are supplied.

【0025】印加する検査信号は電圧パルス或いは交流
信号のどちらでもよい。電圧パルスを用いれば信号の極
性を限定できるため、センサ要素での電流方向を一方向
に限定して回路設計ができ、回路設計が単純になる。
The inspection signal to be applied may be either a voltage pulse or an AC signal. Since the polarity of the signal can be limited by using the voltage pulse, the circuit can be designed by limiting the current direction in the sensor element to one direction, which simplifies the circuit design.

【0026】また、コンピュータ21は、回路配線への
検出信号が流れたことによるに対応したセンサパネル2
00からの検出信号を受け取って検出信号の流れた回路
配線パターンに対応した画像データを生成し、生成した
画像をディスプレイ21aに表示する。
Further, the computer 21 responds to the fact that the detection signal flows to the circuit wiring by the sensor panel 2
Image signal corresponding to the circuit wiring pattern in which the detection signal flows, and the generated image is displayed on the display 21a.

【0027】これにより、特定の回路配線の形状を探し
たり、生成された画像データ及び設計上の回路配線を示
す画像データに基づいて、回路配線101の断線、短
絡、欠け等の不良を検出したりできる。
Thus, the shape of the specific circuit wiring is searched for, and defects such as disconnection, short circuit, and chipping of the circuit wiring 101 are detected based on the generated image data and the image data showing the designed circuit wiring. You can

【0028】プローブ22は、その先端が、それぞれ回
路基板100上の回路配線101の一端に接触してお
り、回路配線101に対して検査信号を供給する。
The tips of the probes 22 are in contact with one ends of the circuit wirings 101 on the circuit board 100, respectively, and supply inspection signals to the circuit wirings 101.

【0029】セレクタ23は、検査信号を出力するプロ
ーブ22を切り替える。回路基板100上の複数の独立
した回路配線101の一つずつに検査信号が供給される
ように、コンピュータ21から供給された制御信号に基
づきスイッチングを行う。
The selector 23 switches the probe 22 which outputs the inspection signal. Switching is performed based on the control signal supplied from the computer 21 so that the inspection signal is supplied to each of the plurality of independent circuit wirings 101 on the circuit board 100.

【0030】また、セレクタ23は、検査信号を印加し
ない回路配線については、接地レベル(GND)または
電源等の低インピーダンスラインに接続する。テスト信
号がクロストークによって非テスト回路配線に乗り、誤
信号をセンサが受信しないようにするためである。
Further, the selector 23 connects the circuit wiring to which the inspection signal is not applied to a low impedance line such as a ground level (GND) or a power supply. This is to prevent the test signal from riding on the non-test circuit wiring due to crosstalk and the sensor from receiving an erroneous signal.

【0031】センサパネル200は、回路基板100の
回路配線101に対向する位置に、非接触に配置され、
プローブ22から供給された検査信号によって回路配線
101上に生じた電位変化を検出し、検出信号としてコ
ンピュータ21へ出力する。センサパネル200と回路
配線との間隔は、0.05mm以下が望ましいが、0.
5mm以下であれば可能である。また、回路基板とセン
サパネル200とを、誘電体絶縁材料を挟んで密着させ
てもよい。
The sensor panel 200 is arranged in a contactless manner at a position facing the circuit wiring 101 of the circuit board 100,
The inspection signal supplied from the probe 22 detects a potential change generated on the circuit wiring 101, and outputs it as a detection signal to the computer 21. The distance between the sensor panel 200 and the circuit wiring is preferably 0.05 mm or less, but
It is possible if it is 5 mm or less. Further, the circuit board and the sensor panel 200 may be brought into close contact with each other with a dielectric insulating material interposed therebetween.

【0032】なお、図2の回路基板100では、片面側
にのみ回路配線101が設けられている場合を想定した
例を示しているが、本実施の形態例は以上の例に限定さ
れるものではなく、両面に回路配線101が設けられて
いる回路基板についても検査可能であり、その場合は、
センサパネル200を上下に二つ用いて回路基板をサン
ドイッチするように配置して検査する。
The circuit board 100 of FIG. 2 shows an example in which the circuit wiring 101 is provided only on one side, but the present embodiment is limited to the above example. Instead, it is possible to inspect a circuit board having circuit wirings 101 on both sides. In that case,
The two sensor panels 200 are arranged one above the other so as to sandwich the circuit boards for inspection.

【0033】次に、図3を参照してコンピュータ21の
詳細構成を説明する。図3は本実施の形態例のコンピュ
ータ21のハードウェア構成を示すブロック図である。
Next, the detailed configuration of the computer 21 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a block diagram showing the hardware configuration of the computer 21 of this embodiment.

【0034】図3において、211は、コンピュータ2
1全体を制御するとともに演算・制御用にも用いられる
CPU、212はCPU211で実行するプログラムや
固定値等を格納するROM、213は入力されるデジタ
ルデータを処理して画像データを生成し、ディスプレイ
21aに出力する画像データを処理する画像処理部、2
14は一時記憶用のRAMであり、RAM214にはH
D215などからロードされるプログラムを格納するプ
ログラムロード領域や、センサパネル200で検出され
たデジタル信号の記憶領域等が含まれる。コンピュータ
21で受信したセンサパネル200よりのデジタル信号
は各回路配線の形状に対応するセンサ要素のグループ毎
に保管する。
In FIG. 3, reference numeral 211 denotes the computer 2.
A CPU that controls the entire unit 1 and is also used for calculation and control, 212 is a ROM that stores programs executed by the CPU 211, fixed values, and the like, and 213 is a display that generates image data by processing input digital data. 21a, an image processing unit for processing the image data to be output to 2a.
Reference numeral 14 is a RAM for temporary storage, and H is stored in the RAM 214.
A program load area for storing programs loaded from the D215 and the like, a storage area for digital signals detected by the sensor panel 200, and the like are included. Digital signals from the sensor panel 200 received by the computer 21 are stored for each group of sensor elements corresponding to the shape of each circuit wiring.

【0035】215は外部記憶装置としてのハードディ
スク、216は着脱可能な記憶媒体の読取装置としての
CD−ROMドライブである。217は入出力インタフ
ェースであって、入出力インタフェース217を介して
入力装置としてのキーボード218、マウス219、セ
ンサパネル200、セレクタ23との入出力インタフェ
ース制御を司どる。
Reference numeral 215 is a hard disk as an external storage device, and 216 is a CD-ROM drive as a removable storage medium reading device. An input / output interface 217 controls the input / output interface with the keyboard 218, the mouse 219, the sensor panel 200, and the selector 23 as input devices via the input / output interface 217.

【0036】HD215には、センサチップ制御プログ
ラム、セレクタ制御プログラム、画像処理プログラムが
格納され、それぞれのプログラムの実行時にRAM21
4のプログラムロード領域にロードされて実行される。
A sensor chip control program, a selector control program, and an image processing program are stored in the HD 215, and the RAM 21 is executed when the respective programs are executed.
4 is loaded into the program load area and executed.

【0037】また、センサパネル200によって検査さ
れた回路配線の形状を示す画像データ、及び、設計上の
回路配線の形状を示す画像データも、HD215に格納
される。センサパネル200から入力した画像データ
は、各回路配線の形状に対向するセンサ要素グループを
判定単位として記憶する場合と、全部のセンサ要素の一
フレーム分を判定単位として記憶する場合とがある。
The image data showing the shape of the circuit wiring inspected by the sensor panel 200 and the image data showing the shape of the designed circuit wiring are also stored in the HD 215. The image data input from the sensor panel 200 may store a sensor element group facing the shape of each circuit wiring as a determination unit, or may store one frame of all the sensor elements as a determination unit.

【0038】センサチップ制御プログラム、セレクタ制
御プログラム、画像処理プログラム及び、設計上の回路
配線の形状を示す画像データは、CD−ROMに記録
し、CD−ROMドライブでこのCD−ROM記録情報
を読み取ることによってインストールしても、FDやD
VD等の他の媒体に記録してから読み込んでも、ネット
ワークを介してダウンロードしてもよい。
The sensor chip control program, the selector control program, the image processing program, and the image data showing the shape of the designed circuit wiring are recorded in a CD-ROM, and this CD-ROM recording information is read by a CD-ROM drive. FD and D even if installed by
It may be read after being recorded in another medium such as VD or downloaded via a network.

【0039】図4は本実施の形態例のセンサパネル20
0の電気的構成を示すブロック図である。
FIG. 4 shows the sensor panel 20 of this embodiment.
It is a block diagram which shows the electric constitution of 0.

【0040】センサパネル200は、図のような電気的
構成を持ち、不図示のパッケージに取り付られた構成と
なっている。
The sensor panel 200 has an electrical configuration as shown in the drawing and is attached to a package (not shown).

【0041】センサパネル200は、制御部11と、複
数の薄膜トランジスタアレイから構成されているセンサ
要素12aからなるセンサ要素群12と、水平方向に並
んだ複数のセンサ要素から構成されるセンサ要素ライン
12bを選択するための縦選択部14と、センサ要素1
2aからの信号の取りだしを行う横選択部13と、各セ
ンサ要素ライン12bを選択するための選択信号を発生
するタイミング生成部15と、横選択部13からの信号
を処理する信号処理部16と、信号処理部16からの信
号をA/D変換するためのA/Dコンバータ17と、セ
ンサパネル200を駆動するための電力を供給するため
の電源回路部18と、を備える。
The sensor panel 200 includes a control unit 11, a sensor element group 12 composed of sensor elements 12a composed of a plurality of thin film transistor arrays, and a sensor element line 12b composed of a plurality of horizontally arranged sensor elements. And a vertical selection unit 14 for selecting the sensor element 1
A horizontal selection unit 13 that extracts a signal from the horizontal selection unit 2a, a timing generation unit 15 that generates a selection signal for selecting each sensor element line 12b, and a signal processing unit 16 that processes the signal from the horizontal selection unit 13. An A / D converter 17 for A / D converting the signal from the signal processing unit 16 and a power supply circuit unit 18 for supplying electric power for driving the sensor panel 200.

【0042】制御部11は、コンピュータ21からの制
御信号に従って、センサパネル200の動作を制御する
ためのものである。制御部11は、制御レジスタを有
し、センサの動作タイミング、増幅、基準電圧を設定す
る。
The control unit 11 is for controlling the operation of the sensor panel 200 in accordance with a control signal from the computer 21. The control unit 11 has a control register and sets the operation timing, amplification, and reference voltage of the sensor.

【0043】センサ要素12aは、マトリックス状に配
置され、プローブ22から回路配線101に供給された
検査信号に応じた回路配線101上の電位変化を非接触
で検出する。
The sensor elements 12a are arranged in a matrix and detect a potential change on the circuit wiring 101 in accordance with an inspection signal supplied from the probe 22 to the circuit wiring 101 in a non-contact manner.

【0044】タイミング生成部15は、コンピュータ2
1から垂直同期信号(Vsync)、水平同期信号(H
sync)及び基準信号(Dclk)を供給され、縦選
択部14、横選択部13、信号処理部16、A/Dコン
バータ17に、センサ要素12aを選択するためのタイ
ミング信号を供給する。
The timing generation unit 15 is the computer 2
1 to vertical sync signal (Vsync), horizontal sync signal (H
sync) and a reference signal (Dclk) are supplied, and a timing signal for selecting the sensor element 12a is supplied to the vertical selection unit 14, the horizontal selection unit 13, the signal processing unit 16, and the A / D converter 17.

【0045】縦選択部14は、タイミング生成部15か
らのタイミング信号に従って、センサ要素群12の少な
くともいずれか一つの行を順次選択する。縦選択部14
により選択されたセンサ要素ライン12bの各センサ要
素12aからは、検出信号が一度に出力され、横選択部
13に入力される。横選択部13は、640個の端子か
ら出力されたアナログの検出信号を増幅した後、一旦ホ
ールドし、マルチプレクサ等の選択回路によりタイミン
グ生成部15からのタイミング信号に従って、順番に検
出信号を信号処理部16に出力する。
The vertical selection unit 14 sequentially selects at least one row of the sensor element group 12 according to the timing signal from the timing generation unit 15. Vertical selection unit 14
From each sensor element 12a of the sensor element line 12b selected by, the detection signal is output at one time and input to the horizontal selection unit 13. The horizontal selection unit 13 amplifies the analog detection signals output from the 640 terminals, temporarily holds the analog detection signals, and sequentially processes the detection signals according to the timing signal from the timing generation unit 15 by a selection circuit such as a multiplexer. Output to the unit 16.

【0046】信号処理部16は、横選択部13からの信
号を、判定処理に必要なレベルまで更に増幅し、雑音を
除去するフィルタを通す等のアナログ信号処理を行い、
A/Dコンバータ17へ送出する。また、信号処理部1
6はまた、オートゲインコントロールを有し、センサの
読出し信号の電圧増幅率を自動的に最適値に設定する。
The signal processing section 16 further amplifies the signal from the horizontal selection section 13 to a level necessary for the determination processing and performs analog signal processing such as passing through a filter for removing noise,
It is sent to the A / D converter 17. In addition, the signal processing unit 1
6 also has an auto gain control, which automatically sets the voltage amplification factor of the read signal of the sensor to an optimum value.

【0047】A/Dコンバータ17は、信号処理部16
からアナログ形式で送出された各センサ要素12aの検
査信号を、例えば8ビットのデジタル信号に変換し、出
力する。電源回路18は、信号処理部の基準クランプ電
圧等を生成する。
The A / D converter 17 includes a signal processing section 16
The inspection signal of each sensor element 12a sent in analog form from is converted into, for example, an 8-bit digital signal and output. The power supply circuit 18 generates a reference clamp voltage or the like for the signal processing unit.

【0048】なお、ここでは、センサパネル200にA
/Dコンバータ17が内蔵されているが、信号処理部で
アナログ処理されたアナログ信号をそのままコンピュー
タ21に出力してもよい。
Here, in the sensor panel 200, A
Although the / D converter 17 is built in, the analog signal analog-processed by the signal processing unit may be directly output to the computer 21.

【0049】次に、本実施の形態例で用いるセンサパネ
ル200の動作について説明する。図5は本実施の形態
例の薄膜トランジスタ(TFT)で構成したセンサ要素
を説明するための図である。
Next, the operation of the sensor panel 200 used in this embodiment will be described. FIG. 5 is a diagram for explaining a sensor element composed of a thin film transistor (TFT) according to this embodiment.

【0050】センサパネル200は例えばガラス基板上
にX電極とY電極をマトリクス状に配置し、マトリクス
の交差部に薄膜トランジスタ(TFT)を形成してい
る。薄膜トランジスタ(TFT)は、硫化カドミウム
(CdS)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル
(Te)、多結晶シリコン、アモルファスシリコンなど
任意の材料で構成できる。できれば多結晶シリコンある
いは、アモルファスシリコンを用いれば高レベルの検出
信号が得られる。
In the sensor panel 200, for example, X electrodes and Y electrodes are arranged in a matrix on a glass substrate, and thin film transistors (TFTs) are formed at intersections of the matrix. The thin film transistor (TFT) can be made of any material such as cadmium sulfide (CdS), cadmium selenide (CdSe), tellurium (Te), polycrystalline silicon, and amorphous silicon. If possible, a high-level detection signal can be obtained by using polycrystalline silicon or amorphous silicon.

【0051】センサ要素12aの構成は、例えば下部の
断面図に示したように、ガラス基板上にゲート(X電
極)が形成されており、その上に絶縁膜を形成し、絶縁
膜を介したゲート上部に前記構成の半導体薄膜を形成
し、その上にソース(Y電極)とドレインを形成してい
る。
As shown in the sectional view of the lower part, the sensor element 12a has a structure in which a gate (X electrode) is formed on a glass substrate, an insulating film is formed on the gate (X electrode), and an insulating film is interposed. The semiconductor thin film having the above structure is formed on the gate, and the source (Y electrode) and the drain are formed thereon.

【0052】ゲートは縦選択部14に接続されており、
ドレインは横選択部13に接続されている。また、受動
素子の拡散層には不要電荷を吐き出すポテンシャル障壁
が設けてある。
The gate is connected to the vertical selection section 14,
The drain is connected to the lateral selection unit 13. Further, a potential barrier for discharging unnecessary charges is provided in the diffusion layer of the passive element.

【0053】タイミング生成部15により縦選択部14
を介して、センサ要素12aが選択されると、縦選択部
14からゲートへ信号が送出され、センサ要素12aは
ON(検出信号出力可能状態)となる。
The timing generation unit 15 causes the vertical selection unit 14
When the sensor element 12a is selected via, a signal is sent from the vertical selection section 14 to the gate, and the sensor element 12a is turned on (detection signal output possible state).

【0054】この時、プローブ22から検査信号として
の電圧が印加されると、回路配線101の電位が変化
し、これに伴い、ソースからドレインへ電流が流れる。
これが検出信号となって横選択部13を介して、信号処
理部16へ送出される。なお、センサ要素12aに対向
する位置に回路配線101が存在しない場合には、電流
は流れない。
At this time, when the voltage as the inspection signal is applied from the probe 22, the potential of the circuit wiring 101 changes, and accordingly, the current flows from the source to the drain.
This becomes a detection signal and is sent to the signal processing unit 16 via the lateral selection unit 13. If the circuit wiring 101 does not exist at the position facing the sensor element 12a, no current flows.

【0055】このため、検出信号としての電流出力があ
ったセンサ要素12aの位置を解析すれば、回路基板1
00のどの位置に、プローブ22と接触した電極から連
続する回路配線101が存在するかがわかる。
Therefore, if the position of the sensor element 12a that has output the current as the detection signal is analyzed, the circuit board 1
At which position of 00, the circuit wiring 101 continuous from the electrode in contact with the probe 22 exists.

【0056】ここで、ソースからドレインへ電流が流れ
る原理について、更に詳しく説明する。図6及び図7は
この原理を分かりやすく説明するためのモデル図であ
り、図6は回路配線に電圧が印加されていない状態を説
明するための図、図7は回路配線に電圧が印加された状
態を説明するための図である。図6及び図7においては
選択信号がゲートに入力され、ゲートがONになってい
る状態を示している。
Here, the principle of current flow from the source to the drain will be described in more detail. 6 and 7 are model diagrams for explaining this principle in an easy-to-understand manner. FIG. 6 is a diagram for explaining a state in which no voltage is applied to the circuit wiring, and FIG. 7 is a diagram in which voltage is applied to the circuit wiring. It is a figure for demonstrating the closed state. 6 and 7, the selection signal is input to the gate and the gate is turned on.

【0057】図6のように、回路配線に電圧が印加され
ていなければ、拡散層の余分な電荷が、OFFしている
ゲートの下の電位障壁のポテンシャルよりも低い吐き出
しポテンシャル障壁から溢れ出る。その場合、ソースの
電位は吐き出しのポテンシャルで確定する。
As shown in FIG. 6, if no voltage is applied to the circuit wiring, the excess charges of the diffusion layer overflow from the discharge potential barrier lower than the potential of the potential barrier under the gate which is turned off. In that case, the source potential is determined by the discharge potential.

【0058】次に、図7のように、回路配線に電圧Vが
印加されると、回路配線が+に帯電する(電位Vとな
る)。ここで、回路配線と、ソース側拡散層とは、微小
距離だけ離間しているため、対向するソース側拡散層は
回路配線の電位変化の影響を受け、電位がVとなって電
荷が流れ込む。即ち、回路配線とソース側拡散層とが静
電容量結合しているように動作し、ソース側拡散層のポ
テンシャルが低くなって、電子が流れ込み、ソースから
ドレインに向かって電流が流れる。
Next, as shown in FIG. 7, when the voltage V is applied to the circuit wiring, the circuit wiring is positively charged (becomes the potential V). Here, since the circuit wiring and the source side diffusion layer are separated from each other by a minute distance, the opposing source side diffusion layer is affected by the change in the potential of the circuit wiring, and the potential becomes V so that the electric charge flows. That is, the circuit wiring and the source side diffusion layer operate as if they are capacitively coupled, the potential of the source side diffusion layer becomes low, electrons flow in, and a current flows from the source to the drain.

【0059】回路配線が再びグランドに接続されると、
ソース側拡散層のポテンシャルは元に戻り、余剰の電子
は徐々に吐き出しポテンシャル障壁から逃がされる。
When the circuit wiring is connected to the ground again,
The potential of the source side diffusion layer returns to its original value, and the surplus electrons are gradually discharged and released from the potential barrier.

【0060】<センサパネル200の信号の入出力タイ
ミング>次に、図8及び図9を用いて、具体的に3つの
回路配線に対する電圧印加タイミングおよびその場合の
出力信号について説明する。図8は、回路配線〜
の、6×6のセンサ要素による検査を説明する図、図9
は動作タイミングチャートであり、回路配線の形状を
示すデータ、回路配線の形状を示すデータ、回路配線
の形状を示すデータが、順に出力される。
<Signal Input / Output Timing of Sensor Panel 200> Next, the voltage application timings for the three circuit wirings and the output signals in that case will be specifically described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 shows circuit wiring
9 is a diagram for explaining an inspection by a 6 × 6 sensor element in FIG.
Is an operation timing chart, and data indicating the shape of the circuit wiring, data indicating the shape of the circuit wiring, and data indicating the shape of the circuit wiring are sequentially output.

【0061】回路配線に対応するセンサ素子として
は、(X2,Y1)、(X3,Y1)、(X4,Y
1)、(X2,Y2)、(X3,Y2)、(X4,Y
2)、(X5,Y2)、(X6,Y2)、(X5,Y
3)、(X6,Y3)の座標に位置する、10個のセン
サ素子が存在する。
The sensor elements corresponding to the circuit wiring include (X2, Y1), (X3, Y1), (X4, Y).
1), (X2, Y2), (X3, Y2), (X4, Y
2), (X5, Y2), (X6, Y2), (X5, Y
3), there are 10 sensor elements located at coordinates (X6, Y3).

【0062】また、回路配線に対応するセンサ素子と
しては、(X1,Y1)、(X2,Y1)、(X1,Y
2)、(X2,Y2)、(X3,Y2)、(X2,Y
3)、(X3,Y3)、(X4,Y3)、(X5,Y
3)、(X6,Y3)、(X3,Y4)、(X4,Y
4)、(X5,Y4)、(X6,Y4)の座標に位置す
る、14個のセンサ素子が存在する。
The sensor elements corresponding to the circuit wiring are (X1, Y1), (X2, Y1), (X1, Y).
2), (X2, Y2), (X3, Y2), (X2, Y
3), (X3, Y3), (X4, Y3), (X5, Y
3), (X6, Y3), (X3, Y4), (X4, Y
4), (X5, Y4), there are 14 sensor elements located at coordinates (X6, Y4).

【0063】また、回路配線に対応するセンサ素子と
しては、(X1,Y4)、(X2,Y4)、(X1,Y
5)、(X2,Y5)、(X3,Y5)、(X1,Y
6)、(X2,Y6)、(X3,Y6)、(X4,Y
6)の座標に位置する、9個のセンサ素子が存在する。
The sensor elements corresponding to the circuit wiring are (X1, Y4), (X2, Y4), (X1, Y).
5), (X2, Y5), (X3, Y5), (X1, Y
6), (X2, Y6), (X3, Y6), (X4, Y
There are 9 sensor elements located at the coordinates of 6).

【0064】これらのうち、図中、黒で示した(X2,
Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y2)、(X5,Y
3)、(X6,Y3)の5つのセンサ要素については、
回路配線と回路配線の両方の検査に用いられる。こ
のため、一回のセンサ要素の駆動では、これらの回路配
線の両方を検査することはできない。また、回路配線
及び回路配線は、どちらもY4のセンサ要素ライン上
のセンサ要素を用いて検査されるので、上記に示したよ
うな、横一行のセンサ要素ラインを同時に駆動させる方
法を用いる場合、一回のセンサ要素の駆動では、これら
の回路配線の両方を検査することはできない。一方、回
路配線と回路配線3との間ではそのような問題は生じ
ない。
Of these, black (X2,
Y1), (X2, Y2), (X3, Y2), (X5, Y
3), for the five sensor elements (X6, Y3),
Used for inspection of both circuit wiring and circuit wiring. Therefore, both of these circuit wirings cannot be inspected by driving the sensor element once. Further, since both the circuit wiring and the circuit wiring are inspected by using the sensor element on the Y4 sensor element line, when using the method of simultaneously driving one horizontal sensor element line as described above, It is not possible to test both of these circuit traces in a single drive of the sensor element. On the other hand, such a problem does not occur between the circuit wiring and the circuit wiring 3.

【0065】そこで、一度、すべてのセンサ要素を駆動
させる期間(1フレーム)に、回路配線と回路配線
の両方を検査し、その後のフレームに、回路配線を検
査することになる。
Therefore, both the circuit wiring and the circuit wiring are inspected once during the period (one frame) in which all the sensor elements are driven, and the circuit wiring is inspected in the subsequent frames.

【0066】従って、図9のタイミングチャートに示す
ように、回路配線の形状を示すデータ、回路配線の
形状を示すデータ、回路配線の形状を示すデータが、
順に出力される。
Therefore, as shown in the timing chart of FIG. 9, data showing the shape of the circuit wiring, data showing the shape of the circuit wiring, and data showing the shape of the circuit wiring are
It is output in order.

【0067】<複数の回路配線に対する電圧印加方法>
次に図1及び図10を参照して、本実施の形態例の複数
の回路配線に対して、効率的に電圧印加を行う方法につ
いて説明する。
<Method of applying voltage to a plurality of circuit wirings>
Next, with reference to FIG. 1 and FIG. 10, a method for efficiently applying voltage to a plurality of circuit wirings according to the present embodiment will be described.

【0068】図1は、一つの回路基板の中に複数の回路
配線がある場合の、回路配線に対する電圧印加順序を説
明する図である。図1では、説明を簡単にするために、
検査対象となる回路配線を○で表している。また、回路
配線は、m行、n列のマトリクス状に配列されたものと
モデル化している。なお、センサパネル200は全ての
回路配線を覆う大きさである。
FIG. 1 is a diagram for explaining the order of voltage application to the circuit wirings when there are a plurality of circuit wirings in one circuit board. In FIG. 1, in order to simplify the explanation,
The circuit wiring to be inspected is indicated by a circle. The circuit wiring is modeled as being arranged in a matrix of m rows and n columns. The sensor panel 200 has a size that covers all circuit wiring.

【0069】センサの受信領域に複数の回路配線が存在
する場合、基本的に、1つの回路配線に電圧を加える
間、他の回路配線全ては基準電位(GND)に保つこと
が必要である。もし、同時に2つの回路配線に電圧を印
加した場合、被検査回路配線が途中で切断されていて
も、同時に電圧印加した他の回路配線とショートし、そ
こから被検査回路配線の末端へ電圧が印加され、合格と
誤判定し、オープン不良を見逃すからである。
When a plurality of circuit wirings are present in the reception area of the sensor, it is basically necessary to keep all the other circuit wirings at the reference potential (GND) while applying a voltage to one circuit wiring. If voltage is applied to two circuit wirings at the same time, even if the circuit wiring to be inspected is cut in the middle, it short-circuits with other circuit wirings to which voltage is applied at the same time, and voltage is applied from there to the end of the circuit wiring to be inspected This is because the voltage is applied and is erroneously determined to be pass, and an open defect is missed.

【0070】1センサ要素ラインを駆動する間に、回路
配線に1回の電圧を印加するため、同じセンサ要素ライ
ンに複数の回路配線が対応していても、その中の1つの
回路配線しか電圧を印加することができない。
Since one voltage is applied to the circuit wiring while driving one sensor element line, even if a plurality of circuit wirings correspond to the same sensor element line, only one of the circuit wirings has a voltage. Cannot be applied.

【0071】従って、図のように、第1フレームで、1
番目の列に並んだ回路配線を図中縦方向に上から順次、
1行目、2行目、…m行目まで電圧印加する。第2フレ
ームでも、2番目の列に並んだ回路配線に図中縦方向に
上から順次電圧印加する。このようにして第nフレーム
で全ての回路配線に電圧が印加されることになる。
Therefore, as shown in the figure, in the first frame, 1
The circuit wiring lined up in the second row is arranged vertically from the top in the figure,
The voltage is applied to the first line, the second line, ... Mth line. Also in the second frame, voltage is sequentially applied to the circuit wirings arranged in the second column from the top in the vertical direction in the drawing. In this way, the voltage is applied to all the circuit wirings in the nth frame.

【0072】図10は以上に説明した図1の回路配線に
対する電圧印加タイミングの例を示すタイミングチャー
トである。
FIG. 10 is a timing chart showing an example of the voltage application timing for the circuit wiring of FIG. 1 described above.

【0073】図のように、1フレーム目(1番目のVs
yncから2番目のVsyncまでの間)の、1番目の
Hsyncから7番目のHsyncまでに対応して、1
行、1列目の回路配線(1、1)に電圧を印加する。次
に、8番目のHsyncから14番目のHsyncまで
に対応して、2行、1列目の回路配線(2、1)に電圧
を印加する。更に回路配線(3、1)、(4、1)と続
き、回路配線(m、1)に電圧を印加した後、2フレー
ム目に移り、回路配線(1、2)〜(m、2)に電圧を
印加する。このようにして、全ての回路配線の検査が終
了するまで、つまり、nフレーム目まで、繰り返し、セ
ンサ要素が駆動される。
As shown in the figure, the first frame (first Vs
corresponding to 1st Hsync to 7th Hsync (between ysync and 2nd Vsync),
A voltage is applied to the circuit wiring (1, 1) in the first row and the first column. Next, a voltage is applied to the second-row, first-column circuit wiring (2, 1) corresponding to the eighth Hsync to the fourteenth Hsync. Further, following the circuit wirings (3, 1) and (4, 1), a voltage is applied to the circuit wirings (m, 1), then the second frame is started, and the circuit wirings (1, 2) to (m, 2) Voltage is applied to. In this way, the sensor element is repeatedly driven until the inspection of all the circuit wirings is completed, that is, up to the nth frame.

【0074】<回路配線のモデル化>次に、図11及び
図12を用いて、本実施の形態例の回路配線をマトリク
ス状にモデル化する方法について説明する。
<Modeling of Circuit Wiring> Next, with reference to FIGS. 11 and 12, a method of modeling the circuit wiring of the present embodiment in a matrix will be described.

【0075】まず回路配線の設計上の形状データ(例え
ばCADデータ)から、検査したい回路配線の領域を、
長方形に切り出し、図11に示すテーブルを作成する。
図11は、各回路配線に番号を付し、その回路配線を含
む長方形領域の最も左上の座標、及び最も右下のセンサ
要素の座標を対応させてテーブルに表したものである。
また、フレームは全て1番目としている。
First, from the design shape data (for example, CAD data) of the circuit wiring, the area of the circuit wiring to be inspected is
It is cut out into a rectangle and the table shown in FIG. 11 is created.
FIG. 11 shows a table in which each circuit wiring is numbered, and the upper left coordinates of the rectangular area including the circuit wiring and the coordinates of the lower right sensor element are associated with each other.
Also, all frames are first.

【0076】次に、左上のY座標の値が小さいものか
ら、順に、回路配線を並べ変える。この図11では、1
番目はY座標がY1の回路配線と回路配線である。
そして、2番目はY座標がY4の回路配線である。
Next, the circuit wirings are rearranged in order from the one having the smallest Y coordinate value at the upper left. In FIG. 11, 1
The second is the circuit wiring having the Y coordinate of Y1 and the circuit wiring.
The second is the circuit wiring whose Y coordinate is Y4.

【0077】次に、それぞれの回路配線の、左上のY座
標の値と、その一つ前の回路配線の、右下のY座標とを
比較し、その回路配線の左上のY座標の値が、一つ前の
回路配線の右下のY座標よりも小さい場合に、それらの
回路配線を読み取るセンサ要素ラインが重複するものと
して、異なるフレームに移動する。
Next, the value of the upper left Y coordinate of each circuit wiring is compared with the value of the lower right Y coordinate of the immediately preceding circuit wiring, and the value of the upper left Y coordinate of the circuit wiring is determined. If the Y-coordinate at the lower right of the immediately preceding circuit wiring is smaller, it is determined that the sensor element lines for reading those circuit wirings overlap, and the circuit moves to a different frame.

【0078】図11の場合には、まず、回路配線は、
最初に電圧を印加する回路配線として固定する。そし
て、回路配線の左上のY座標と、回路配線の右下の
Y座標を比較する。この場合、回路配線はY3、回路
配線はY1となり、Y3>Y1なので、回路配線がフ
レーム2に移動される。フレーム2はフレーム1の後に
検査されるため、テーブルの最下欄に移動することとな
る。
In the case of FIG. 11, first, the circuit wiring is
First, it is fixed as circuit wiring for applying voltage. Then, the upper left Y coordinate of the circuit wiring is compared with the lower right Y coordinate of the circuit wiring. In this case, the circuit wiring is Y3 and the circuit wiring is Y1. Since Y3> Y1, the circuit wiring is moved to the frame 2. Since frame 2 is inspected after frame 1, it will be moved to the bottom column of the table.

【0079】この時点で回路配線の1つ前の回路配線
は、回路配線となる。従って、次に、回路配線の左
上のY座標Y4と回路配線の右下のY座標Y3とを比
較し、Y4>Y3であるから、回路配線はフレーム1
に残る。同様に繰り返して、回路配線から全ての回路
配線に対してフレーム1かフレーム2かを決定してい
く。これにより、フレーム1とフレーム2のグループ分
けができる。
At this point, the circuit wiring immediately before the circuit wiring becomes the circuit wiring. Therefore, next, the upper left Y coordinate Y4 of the circuit wiring is compared with the lower right Y coordinate Y3 of the circuit wiring. Since Y4> Y3, the circuit wiring is the frame 1
Remain in. In the same manner, the frame 1 or the frame 2 is determined for all the circuit wirings from the circuit wirings. As a result, frame 1 and frame 2 can be grouped.

【0080】次に同様のことをフレーム2のグループ内
で行う。この場合、左上のY座標の値が、一つ前の電圧
印加する回路配線の右下のY座標の値より大きいかどう
か比べ、小さい回路配線はフレーム3に移動し、大きい
回路配線はフレーム2に残す。
Next, the same operation is performed in the group of frame 2. In this case, whether the value of the upper left Y coordinate is larger than the value of the lower right Y coordinate of the circuit wiring to which the previous voltage is applied, the smaller circuit wiring moves to the frame 3, and the larger circuit wiring moves to the frame 2. Leave on.

【0081】これで、フレーム1,2、3のグループが
できあがる。フレーム増加がなくなるまで実行し、増加
がなくなったら終了する。
With this, a group of frames 1, 2 and 3 is completed. Execute until there is no increase in frames, and end when there is no increase in frames.

【0082】このような処理の結果、図12に示すテー
ブルが生成される。フレーム番号が、図1の列番号に対
応し、同じフレーム内での電圧印加順を示す番号が行番
号に対応する。
As a result of such processing, the table shown in FIG. 12 is generated. The frame number corresponds to the column number in FIG. 1, and the number indicating the voltage application order in the same frame corresponds to the row number.

【0083】図12のテーブルを参照することにより、
まず、1番目のVsync後の1番目〜3番目のHsy
nc(Y座標を参照)に対応して、回路配線に電圧パ
ルスを印加し、次に、4番目〜6番目のHsyncに対
応して、回路配線に電圧パルスを印加し、更に2番目
のVsync後の、1番目〜4番目のHsyncに対応
して、回路配線に電圧パルスを印加する。
By referring to the table of FIG. 12,
First, the first to third Hsy after the first Vsync
nc (see Y coordinate), a voltage pulse is applied to the circuit wiring, a voltage pulse is applied to the circuit wiring corresponding to the fourth to sixth Hsync, and a second Vsync is further applied. A voltage pulse is applied to the circuit wiring in correspondence with the subsequent 1st to 4th Hsync.

【0084】なお、ここでは、回路配線の設計上の形状
データとセンサ要素の座標とが完全に対応すると仮定し
たため、単純に回路配線の外形座標をセンサ要素の座標
とした。しかし、実際には、センサと回路配線は機械的
に合わせるため、位置ズレが起こる。従って、上記の検
査領域を決めるY座標は、そのズレ分を加えて、やや広
めに取ってもよい。
Here, since it is assumed that the design shape data of the circuit wiring and the coordinates of the sensor element completely correspond to each other, the outer shape coordinates of the circuit wiring are simply used as the coordinates of the sensor element. However, in reality, the sensor and the circuit wiring are mechanically aligned with each other, which causes a positional deviation. Therefore, the Y coordinate that determines the inspection area may be slightly wider by adding the deviation.

【0085】<画像処理方法>次に、図13及び図14
を参照して、本実施の形態例の検査システムにおける画
像データの取り扱いについて説明する。図13は本実施
の形態例におけるゴールドサンプルからの目標データの
抽出処理を示すフローチャート、図15は本実施の形態
の検査システムにおける画像処理を説明するフローチャ
ートである。
<Image Processing Method> Next, referring to FIG. 13 and FIG.
With reference to, the handling of image data in the inspection system of the present embodiment will be described. FIG. 13 is a flow chart showing a process of extracting target data from a gold sample in the present embodiment, and FIG. 15 is a flow chart explaining image processing in the inspection system of the present embodiment.

【0086】まず、図13を参照して本実施の形態例の
検査開始前に行う目標データの抽出処理について説明す
る。まずステップS141においてゴールドサンプルの
回路基板の1フレーム分の回路配線を検査する。すなわ
ち、全センサ要素を一通り駆動して、縦一列にモデル化
できる複数の回路配線の形状を示すデジタルデータを取
り出す。
First, with reference to FIG. 13, an explanation will be given on the process of extracting the target data before the start of the inspection according to the present embodiment. First, in step S141, the circuit wiring for one frame of the gold sample circuit board is inspected. That is, all the sensor elements are driven once, and digital data indicating the shapes of a plurality of circuit wirings that can be modeled in one vertical column is taken out.

【0087】ステップS142では、水平雑音除去を行
う。これは、左端の10ドット分を水平方向に平均化し
て、その値を、もとの全画像データの値から差し引くこ
とによって行われる。
In step S142, horizontal noise is removed. This is done by averaging the 10 dots at the left end in the horizontal direction and subtracting that value from the values of all the original image data.

【0088】ステップS143では、10フレームの読
み取りが終了したか判定し、終了していなければ、ステ
ップS141に戻って、再度、同じ回路配線の検査を行
う。10フレーム分の検査が終了すれば、ステップS1
44に進む。
In step S143, it is determined whether or not 10 frames have been read. If not, the process returns to step S141 to inspect the same circuit wiring again. When the inspection for 10 frames is completed, step S1
Proceed to 44.

【0089】ステップS144では、10フレーム分の
画像データを平均化し、ステップS145でメディアン
フィルタに通す。これによって、局部的な雑音が除去さ
れる。
In step S144, the image data for 10 frames is averaged and passed through the median filter in step S145. This removes local noise.

【0090】次に、ステップS146で、コントラスト
修正が行われた後、ステップS147で、その輪郭デー
タが目標データとしてコンピュータ21のRAM214
に格納される。
Next, after the contrast is corrected in step S146, the contour data is used as the target data in the RAM 214 of the computer 21 in step S147.
Stored in.

【0091】ステップS147では、ゴールドサンプル
上のすべての回路配線について、デジタルデータを取り
だしたか否かを判断し、他に未検査の回路配線がある場
合には、ステップS149に進み、他の回路配線につい
て、次のフレームにおいてステップS141からステッ
プS147までの処理を行う。これを繰り返し、すべて
の回路配線について画像データを取り出す。
In step S147, it is determined whether or not digital data has been extracted from all the circuit wirings on the gold sample. If there is another uninspected circuit wiring, the process proceeds to step S149, and the other circuit wirings are checked. For the next frame, the processing from step S141 to step S147 is performed. By repeating this, the image data is extracted for all the circuit wirings.

【0092】すべての回路配線についての画像データが
取り出された場合には、ステップS150に進み、テー
ブルを作成する。このテーブルは、回路配線とその範囲
及び階調とを対応させたものである。テーブルを作成す
ると、目標データ抽出処理は終了する。
If the image data of all the circuit wirings have been taken out, the process proceeds to step S150 to create a table. This table associates circuit wirings with their ranges and gradations. When the table is created, the target data extraction process ends.

【0093】次に、図14を参照して本実施の形態例に
おける実際の被検査体を検査する際のデータの処理の流
れについて説明する。
Next, with reference to FIG. 14, a flow of data processing when actually inspecting an object to be inspected in the present embodiment will be described.

【0094】まず図14のステップS151において、
1センサ要素ラインを駆動する。次に、ステップS15
2において、得られたデジタルデータが1ラインずつコ
ンピュータ21の画像処理部213に転送される。
First, in step S151 of FIG.
1 Drive the sensor element line. Next, step S15
In 2, the obtained digital data is transferred line by line to the image processing unit 213 of the computer 21.

【0095】ステップS153では、そのラインがその
フレームの最終ラインか否か判断する。そして、そのラ
インがそのフレームの最終ラインでなければステップS
154に進み、次のラインの処理に進む。
In step S153, it is determined whether the line is the last line of the frame. If the line is not the final line of the frame, step S
Proceed to 154 to proceed to the next line.

【0096】一方、ステップS153でそのラインがそ
のフレームの最終ラインである場合にはステップS15
5に進み、そのフレームが最終フレームであるか否かを
判断する。そのフレームが最終フレームでなければステ
ップS156に進み、次のフレームの処理に進む。
On the other hand, if the line is the last line of the frame in step S153, step S15
In step 5, it is determined whether the frame is the final frame. If the frame is not the final frame, the process advances to step S156 to proceed to the next frame.

【0097】一方、ステップS155でそのフレームが
最終フレームであれば、センサパネル200の動作は終
了する。
On the other hand, if the frame is the final frame in step S155, the operation of the sensor panel 200 ends.

【0098】ステップS157で、1ライン分のデジタ
ルデータがコンピュータ21に入力され、ステップS1
56において、水平雑音が除去される。この方法は、図
13のステップS142で用いた方法と同様である。し
かし、ステップS143やステップS144のような1
0フレームの平均処理は行わず、雑音除去後、ステップ
S159でメディアンフィルタに通され、ステップS1
60で、コンピュータ21のRAM214に格納され
る。
In step S157, the digital data for one line is input to the computer 21, and step S1
At 56, horizontal noise is removed. This method is the same as the method used in step S142 of FIG. However, if one such as step S143 or step S144
The averaging process of 0 frame is not performed, and after noise removal, the signal is passed through the median filter in step S159, and then in step S1.
At 60, it is stored in the RAM 214 of the computer 21.

【0099】その後、ステップS161で、全フレーム
の全ラインがRAM214に格納されたか判断し、全ラ
インの転送が終了していなければ、ステップS157に
戻り、S157〜S161の処理を繰り返す。
Then, in step S161, it is determined whether all the lines of all the frames are stored in the RAM 214. If the transfer of all the lines is not completed, the process returns to step S157 and the processes of S157 to S161 are repeated.

【0100】ステップS161で、全フレームの全ライ
ンについての処理が終了したのであれば、画像処理部2
13の動作は終了する。
If the processing for all lines of all frames is completed in step S161, the image processing unit 2
The operation of 13 ends.

【0101】ステップS162で、画像処理部213で
の処理後のデータを入力し、RAM214に格納する
と、ステップS163で、RAM214に1フレーム分
のデータが格納されたか判断する。1フレーム分の画像
データが格納されれば、ステップS164においてその
画像データ全体をメディアンフィルタに通し、ステップ
S165でコントラスト補正を施され、ステップS16
6では、2値化処理した後、輪郭トレースを行う。
In step S162, the data processed by the image processing unit 213 is input and stored in the RAM 214. In step S163, it is determined whether one frame of data has been stored in the RAM 214. If the image data for one frame is stored, the entire image data is passed through a median filter in step S164, contrast correction is performed in step S165, and step S16 is performed.
In step 6, after the binarization processing, contour tracing is performed.

【0102】更に、ステップS167に進み、図13で
示した処理により求めた目標データとの間で最小二乗法
による比較を行う。その後ステップS168に進み、そ
れらの相関値を求め、合格、不合格を決定する。次に、
ステップS169で、合否結果をディスプレイ21aに
表示する。対象となるフレームの目標データは、並列処
理としてステップS171において読み出しておく。
Further, in step S167, the comparison with the target data obtained by the processing shown in FIG. 13 is performed by the method of least squares. After that, the process proceeds to step S168, the correlation values are obtained, and pass or fail is determined. next,
In step S169, the pass / fail result is displayed on the display 21a. The target data of the target frame is read in step S171 as parallel processing.

【0103】これら、ステップS162〜ステップS1
69は、ステップS170を経ることによって、全フレ
ームについての結果表示がされるまで繰り返され、全フ
レームの目標データとの比較、及び結果表示が終了すれ
ば、1つの回路基板についての検査が終了する。
These steps S162 to S1
Step 69 is repeated until the results are displayed for all the frames through step S170. When the comparison with the target data of all the frames and the display of the results are completed, the inspection for one circuit board is completed. .

【0104】なお、輪郭トレースには時間を要するた
め、輪郭トレースをしないで、単純に目標データとの間
で電界放射画像データ同士を比較しても良い。その場合
は、画像データの濃淡値(階調値)が、ゴールドサンプ
ルから抽出した画像データに対して±何階調以内を合格
とする、のように決めれば良い。
Since the contour tracing requires time, the field emission image data may be simply compared with the target data without performing the contour tracing. In that case, the gray value (gradation value) of the image data may be determined to be within ± several gradations of the image data extracted from the gold sample.

【0105】本実施の形態では、上記のように、画像デ
ータによって、回路配線の合否を決定するため、正確な
合否判断を行うことができる。また、画像を表示するこ
とにより、回路配線の形状を直感的に把握することがで
き、欠陥個所も容易に検知可能である。更に、複数の回
路配線が一つの回路基板に存在する場合でも、その検査
順序を制御して正確で効率な検査を行うことができる。
In the present embodiment, as described above, the pass / fail of the circuit wiring is determined by the image data, so that the accurate pass / fail determination can be made. Further, by displaying the image, the shape of the circuit wiring can be intuitively grasped, and the defective portion can be easily detected. Furthermore, even when a plurality of circuit wirings are present on one circuit board, the inspection order can be controlled to perform accurate and efficient inspection.

【0106】なお、センサパネル200では、回路基板
100の形状に合わせて、各センサ要素12aを平面的
に配置しているが、立体的に配置してもよい。
In the sensor panel 200, the sensor elements 12a are arranged two-dimensionally according to the shape of the circuit board 100, but they may be arranged three-dimensionally.

【0107】各センサ要素12aの形状は、図3に示す
ように全て形状を統一することが望ましい。これは、回
路配線への検査信号の供給及び回路配線に現れる信号の
受信を、各センサ要素12aでムラ無く行うためであ
る。
It is desirable that all the sensor elements 12a have the same shape as shown in FIG. This is because each sensor element 12a uniformly supplies the inspection signal to the circuit wiring and receives the signal appearing on the circuit wiring.

【0108】各センサ要素12aは、図3に示すよう
に、行方向及び列方向にそれぞれ等間隔に配列されたマ
トリックス状に構成することが望ましい。そうすれば、
回路配線に面する単位面積あたりのセンサ要素12aの
数のムラを低減することができるとともに、各センサ要
素12a間の相対的な位置関係を明らかにし、検出信号
による回路配線の形状の特定を容易化することができる
からである。但し、検査する回路配線の形状等に応じ
て、単に1列分だけ配置するようにしてもよい。
As shown in FIG. 3, it is desirable that the sensor elements 12a are arranged in a matrix in which the sensor elements 12a are arranged at equal intervals in the row direction and the column direction. that way,
It is possible to reduce the unevenness of the number of sensor elements 12a per unit area facing the circuit wiring, clarify the relative positional relationship between the sensor elements 12a, and easily identify the shape of the circuit wiring by the detection signal. This is because it can be converted. However, only one column may be arranged depending on the shape of the circuit wiring to be inspected.

【0109】センサパネル200では、TFTを採用し
たため、容易に大容量かつ、製品表面のセンサ要素12
aは、m行n列の配列としているが、これは本実施形態
において便宜的に定めたものであり、現実には、例えば
検査対象基板の大きさに合わせて設計される。
Since the sensor panel 200 uses the TFT, the sensor element 12 on the surface of the product can easily have a large capacity.
Although a is an array of m rows and n columns, this is defined for convenience in this embodiment, and is actually designed, for example, according to the size of the inspection target substrate.

【0110】なお、このようにセンサ要素12aの大き
さ、間隔等を設定するにあたっては、より正確な検査を
実現すべく、回路配線の線幅に応じた大きさ、間隔を設
定することが望ましい。
When setting the size, spacing, etc. of the sensor elements 12a in this manner, it is desirable to set the size and spacing according to the line width of the circuit wiring in order to realize a more accurate inspection. .

【0111】すなわち、受動素子表面近傍に信号電荷を
集中させることができ、信号電荷密度を高くすることが
できるため、静電容量結合をより強くすることができ
る。その場合、導電板は、金属の薄膜であっても多結晶
半導体であってもよい。
That is, since the signal charges can be concentrated near the surface of the passive element and the signal charge density can be increased, the capacitive coupling can be further strengthened. In that case, the conductive plate may be a thin metal film or a polycrystalline semiconductor.

【0112】以上に説明した本実施の形態例では、回路
配線の電位変化を検出するものとしたが、回路配線から
放射される電磁波の量と放射形状を検出してもよい。も
し、所定の電磁波の量及び形状を検出できれば、回路配
線が正常に連続していると判定する。もし所定よりも少
ない量及び異なる形状を検出した場合は、回路配線の途
中が離れているかまたは欠落していると判定する。
In the embodiment described above, the change in the potential of the circuit wiring is detected, but the amount and the radiation shape of the electromagnetic wave radiated from the circuit wiring may be detected. If the amount and shape of a predetermined electromagnetic wave can be detected, it is determined that the circuit wiring is normally continuous. If an amount smaller than a predetermined amount and a different shape are detected, it is determined that the circuit wiring is distant or missing.

【0113】更に、本実施の形態ではプローブを回路配
線の端部に接触させているが、回路配線の始点から、非
接触端子を用いて、検査信号を入力してもよい。
Further, although the probe is brought into contact with the end of the circuit wiring in the present embodiment, the inspection signal may be input from the starting point of the circuit wiring using the non-contact terminal.

【0114】本実施の形態例では、1センサ要素ライン
を同時に駆動させることとしたが、これに限らず、複数
のセンサ要素ラインを同時に駆動させてもよく、更に、
ライン状でないエリア状の領域の複数のセンサ要素を同
時に駆動させてもよい。その場合も、検査する回路配線
の形状に対向する複数のセンサ要素グループが、他の回
路配線の形状に対向するセンサ要素グループの一部と重
複する場合は、他の回路配線に印加するタイミングを、
異なるフレームの選択期間とする。
In the present embodiment, one sensor element line is driven at the same time, but the present invention is not limited to this, and a plurality of sensor element lines may be driven at the same time.
It is also possible to drive a plurality of sensor elements in a non-line area area at the same time. Even in that case, when a plurality of sensor element groups facing the shape of the circuit wiring to be inspected overlap with a part of the sensor element groups facing the shape of another circuit wiring, the timing of applying to the other circuit wiring is set. ,
Different frame selection periods.

【0115】以上説明したように本実施の形態例によれ
ば、薄膜トランジスタ(TFT)を回路配線センサとし
て利用して、回路配線の良否判断に利用するため、薄型
かつ安価で広い面積の回路配線形状を検出可能とでき、
検査パターンの良否を容易に認識することができる。
As described above, according to the present embodiment, the thin film transistor (TFT) is used as a circuit wiring sensor for judging the quality of the circuit wiring. Therefore, the circuit wiring shape is thin, inexpensive, and has a large area. Can be detected,
The quality of the inspection pattern can be easily recognized.

【0116】(第2の実施の形態)次に図15を用い
て、本発明の第2の実施の形態としての検査システムに
ついて説明する。図15は本発明に係る第2の実施の形
態例の検査を開始する前に、予備的検査を行い、回路基
板の位置ずれを測定する処理を示すフローチャートであ
る。
(Second Embodiment) Next, an inspection system according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a flowchart showing a process of performing a preliminary inspection and measuring a positional deviation of the circuit board before starting the inspection of the second embodiment according to the present invention.

【0117】第2の実施の形態例の検査システムは、ゴ
ールドサンプルではなく、設計上の画像データ(CAD
データ等)と被検査対象の回路配線を比較する点につい
て、上記第1の実施の形態例と異なる。その他の点につ
いては、第1の実施の形態例と同様であるため、ここで
は説明を省略し、図では、同じ構成要素を同じ符号を付
して示す。
The inspection system of the second embodiment does not use the gold sample but the designed image data (CAD
The difference from the first embodiment is that the data wiring) and the circuit wiring to be inspected are compared. Since the other points are the same as those of the first embodiment, the description thereof is omitted here, and the same components are denoted by the same reference numerals in the drawings.

【0118】ステップS181で、検査対象となる回路
基板の2〜3個の回路配線を前処理用の回路配線(マー
ク)として、1フレームで検査する。すなわち、回路基
板に縦方向に離間して設けられた2〜3個のマークの形
状を示す画像データを生成する。
In step S181, two or three circuit wirings of the circuit board to be inspected are inspected in one frame as circuit wirings (marks) for pretreatment. That is, image data showing the shapes of two to three marks provided on the circuit board in the vertical direction with a space therebetween is generated.

【0119】ステップS182では、水平雑音除去を行
う。これは、左端の10ドット分を水平方向に平均化し
て、その値を、もとの全画像データの値から差し引くこ
とによって行われる。
In step S182, horizontal noise removal is performed. This is done by averaging the 10 dots at the left end in the horizontal direction and subtracting that value from the values of all the original image data.

【0120】ステップS183では、マークの読み取り
が10回繰り返し行われたか判定し、終了していなけれ
ば、ステップS181に戻って、マークの読み取りを繰
り返す。10フレーム分の検査が終了すれば、ステップ
S184に進む。
In step S183, it is determined whether or not the reading of the mark has been repeated 10 times. If not completed, the process returns to step S181 and the reading of the mark is repeated. When the inspection for 10 frames is completed, the process proceeds to step S184.

【0121】ステップS184では、10フレーム分の
画像データを平均し、ステップS185でメディアンフ
ィルタに通される。これによって、局部的な雑音が除去
される。
In step S184, the image data for 10 frames is averaged and passed through the median filter in step S185. This removes local noise.

【0122】次に、ステップS186で、コントラスト
修正が行われた後、ステップS187で、マーク画像の
重心を求め、ステップS188で、求めたマーク画像の
重心と、設計上の画像データ(CADデータ)における
マークの重心との位置ずれ(座標ずれ及び角度ずれ)を
求める。
Next, after the contrast is corrected in step S186, the center of gravity of the mark image is obtained in step S187, and the center of gravity of the obtained mark image and design image data (CAD data) is obtained in step S188. The positional shift (coordinate shift and angular shift) from the center of gravity of the mark is calculated.

【0123】そして、ステップS189において、実際
の検査及び画像処理を行う。ここでは、ステップS18
8で求めたずれ量に基づき、生成した画像データの位置
を補正する。ここでの実際の検査におけるデータ処理
は、図14に示したものとほぼ同様であり、ステップS
159とステップS160との間に、1ラインのデータ
の座標変換処理が挿入される点のみ異なる。
Then, in step S189, actual inspection and image processing are performed. Here, step S18
The position of the generated image data is corrected based on the shift amount obtained in 8. The data processing in the actual inspection here is almost the same as that shown in FIG.
159 and step S160 are different only in that the coordinate conversion processing of one line of data is inserted.

【0124】本実施の形態によれば、実際の検査時にお
いて、正確に、生成された画像データ及び設計上の回路
配線を示す画像データとを比較することができ、回路配
線101の断線、短絡、欠け等の不良の検出を高精度に
行うことができる。
According to the present embodiment, at the time of actual inspection, the generated image data and the image data showing the designed circuit wiring can be compared accurately, and the circuit wiring 101 can be disconnected or short-circuited. It is possible to detect defects such as cracks and chips with high accuracy.

【0125】(第3の実施の形態)次に図16、図1
7、図18を用いて、本発明に係る第3の実施の形態例
の検査システムについて説明する。第3の実施の形態例
の検査システムは、1フレーム間に隣り合う2列の回路
配線を同時に検査する点について、上記第1の実施の形
態例と異なる。その他の点については、第1の実施の形
態例と同様であるため、ここでは説明を省略し、図で
は、同じ構成要素を同じ符号を付して示す。
(Third Embodiment) Next, FIG. 16 and FIG.
An inspection system according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The inspection system of the third embodiment differs from the first embodiment in that two adjacent columns of circuit wiring are simultaneously inspected during one frame. Since the other points are the same as those of the first embodiment, the description thereof is omitted here, and the same components are denoted by the same reference numerals in the drawings.

【0126】図16は本発明に係る第3の実施の形態例
の一つの回路基板の中に複数の回路配線がある場合の、
回路配線に対する電圧印加順序を説明する図、図17は
図16に示す回路配線に対する電圧印加タイミングの例
を示すタイミングチャート、図18は図17のタイミン
グで電圧印加を行った場合の出力画像例を示す図であ
る。
FIG. 16 shows a case where a plurality of circuit wirings are provided in one circuit board according to the third embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a timing chart showing an example of voltage application timing for circuit wiring shown in FIG. 16, and FIG. 18 is an output image example when voltage is applied at the timing shown in FIG. FIG.

【0127】図16において、図1と同様に説明を簡単
にするために、検査対象となる回路配線を○で表し、回
路配線が、m行、n列のマトリクス状に配列されたもの
としている。
In FIG. 16, for simplification of description, as in FIG. 1, circuit wirings to be inspected are represented by ◯, and the circuit wirings are arranged in a matrix of m rows and n columns. .

【0128】第3の実施の形態例では、図16に示され
るように、第1フレームで、1番目及び2番目の列に並
んだ回路配線を図中縦方向に上から順次、1行目、2行
目、…m行目まで電圧印加する。第2フレームでも、3
番目及び4番目の列に並んだ回路配線に図中縦方向に上
から順次電圧印加する。このようにして第n/2フレー
ムで全ての回路配線に電圧を印加する。
In the third embodiment, as shown in FIG. 16, in the first frame, the circuit wirings arranged in the first and second columns are arranged in the vertical direction in the drawing from the top to the first row. The voltage is applied to the 2nd row, ... The mth row. Even in the second frame, 3
Voltage is sequentially applied to the circuit wirings arranged in the second and fourth columns from the top in the vertical direction in the drawing. In this way, the voltage is applied to all the circuit wirings in the n / 2th frame.

【0129】図17は図16に示す回路配線に対する電
圧印加タイミングの例を示すタイミングチャートであ
る。
FIG. 17 is a timing chart showing an example of voltage application timing for the circuit wiring shown in FIG.

【0130】図17に示すように、1フレーム目(1番
目のVsyncから2番目のVsyncまでの間)の、
1番目、3番目、5番目、7番目、のHsyncに対応
して、1行、1列目の回路配線(1、1)に電圧を印加
し、2番目、4番目、6番目、8番目のHsyncに対
応して、1行、2列目の回路配線(1、2)に電圧を印
加する。続いて、9番目、11番目、…のHsyncに
対応して、1列目の回路配線に電圧を印加し、10番
目、12番目、…のHsyncに対応して、2列目の回
路配線(1、2)に電圧を印加する。
As shown in FIG. 17, in the first frame (between the first Vsync and the second Vsync),
Corresponding to the first, third, fifth, and seventh Hsyncs, a voltage is applied to the circuit wiring (1, 1) in the first row and first column, and the second, fourth, sixth, and eighth A voltage is applied to the circuit wirings (1, 2) in the first row and the second column corresponding to Hsync. Then, a voltage is applied to the circuit wirings in the first column corresponding to the 9th, 11th, ... Hsyncs, and the circuit wirings in the 2nd column (corresponding to the 10th, 12th, ... Voltage is applied to 1, 2).

【0131】2フレーム目以降についても同様であり、
奇数番目のHsyncに対応して奇数列目の回路配線に
電圧を印加し、偶数番目のHsyncに対応して偶数番
目の回路配線に電圧を印加する。
The same applies to the second and subsequent frames,
A voltage is applied to the odd-numbered circuit wirings corresponding to the odd-numbered Hsyncs, and a voltage is applied to the even-numbered circuit wirings corresponding to the even-numbered Hsyncs.

【0132】つまり、奇数番目のセンサ要素ラインを1
列目の回路配線の検出用に駆動し、偶数番目のセンサ要
素ラインを2列目の回路配線の検出用に駆動するよう
に、選択信号の入力タイミング、センサ要素ラインから
の電位変化の検出タイミング、及び、回路配線への検査
信号の供給タイミングを制御する。
That is, the odd-numbered sensor element line is set to 1
Input timing of selection signal and detection timing of potential change from sensor element line so as to drive for detection of circuit wiring of column and drive even number of sensor element lines for detection of circuit wiring of second column , And controlling the timing of supplying the inspection signal to the circuit wiring.

【0133】言い換えれば、1つの回路配線に電圧を印
加するタイミングを、1センサ要素ライン置きに実行す
る。画像データが1ライン毎に現れる。
In other words, the timing of applying the voltage to one circuit wiring is executed every other sensor element line. Image data appears line by line.

【0134】これにより、奇数列目の回路配線は、奇数
ラインのみで画像表示され(図18(a))、偶数番目
の回路配線は、偶数ラインのみで画像表示される(図1
8(b))。
As a result, the odd-numbered circuit wirings are image-displayed only by the odd-numbered lines (FIG. 18A), and the even-numbered circuit wirings are image-displayed only by the even-numbered lines (FIG. 1).
8 (b)).

【0135】このように、奇数列目の回路配線、と奇数
列目の回路配線に対し、同フレーム内で、交互に電圧を
印可すれば、検査時間を1/2にすることができる。な
お、画像データを処理して、抜けたラインを補間するこ
とによって、回路配線全体の外形を得ることもできる。
As described above, if the voltage is alternately applied to the odd-numbered circuit wirings and the odd-numbered circuit wirings in the same frame, the inspection time can be halved. It is also possible to obtain the outer shape of the entire circuit wiring by processing the image data and interpolating the missing line.

【0136】また、センサの解像度によって、複数の列
の回路配線の検査を1フレーム期間に行ってもよい。例
えば、5列の場合は、5Hsync毎に同じ回路配線に
電圧を印加すればよい。
The circuit wirings in a plurality of columns may be inspected in one frame period depending on the resolution of the sensor. For example, in the case of 5 columns, a voltage may be applied to the same circuit wiring every 5Hsync.

【0137】[0137]

【発明の効果】本発明によれば、薄膜トランジスタ(T
FT)を回路配線センサとして利用して、回路配線の良
否判断に利用するため、薄型かつ安価で広い面積の回路
配線形状を検出可能とでき、検査パターンの良否を容易
に認識することができ回路配線の形状を直感的に検査可
能な検査装置及び検査方法を提供することができる。
According to the present invention, the thin film transistor (T
FT) is used as a circuit wiring sensor to judge whether the circuit wiring is good or bad. Therefore, the thin and inexpensive circuit wiring shape of a wide area can be detected, and the quality of the inspection pattern can be easily recognized. It is possible to provide an inspection device and an inspection method capable of intuitively inspecting the shape of wiring.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかる第1の実施の形態の検査システ
ムにおける回路配線に対するセンサ駆動順序を説明する
図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a sensor driving sequence for circuit wirings in an inspection system according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本実施の形態例の検査システムの概略図であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram of an inspection system according to the present embodiment.

【図3】本実施の形態例の検査システムのコンピュータ
のハードウェア構成を説明するためのブロック図であ
る。
FIG. 3 is a block diagram for explaining a hardware configuration of a computer of the inspection system according to the present embodiment.

【図4】本実施の形態例のセンサパネル200の電気的
構成を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing an electrical configuration of a sensor panel 200 of the present embodiment example.

【図5】本実施の形態例の薄膜トランジスタ(TFT)
で構成したセンサ要素を説明するための図である。
FIG. 5 is a thin film transistor (TFT) of the present embodiment.
It is a figure for demonstrating the sensor element comprised by.

【図6】本実施の形態例のセンサ要素における回路配線
の電位変化に応じて電流が発生する原理を説明するため
のモデル図である。
FIG. 6 is a model diagram for explaining a principle that a current is generated according to a potential change of a circuit wiring in the sensor element according to the present embodiment.

【図7】本実施の形態例のセンサ要素における回路配線
の電位変化に応じて電流が発生する原理を説明するため
のモデル図である。
FIG. 7 is a model diagram for explaining a principle that a current is generated according to a potential change of circuit wiring in the sensor element according to the present embodiment.

【図8】本実施の形態例の検査システムによる回路配線
〜の、6×6のセンサ要素による検査を説明する図
である。
FIG. 8 is a diagram for explaining the inspection of circuit wirings by 6 × 6 sensor elements by the inspection system of the present embodiment.

【図9】図8に示す回路配線に対する電圧印加タイミン
グ及びデータの出力タイミングを示すタイミングチャー
トである。
9 is a timing chart showing a voltage application timing and a data output timing with respect to the circuit wiring shown in FIG.

【図10】本実施の形態例における図1の回路配線に対
する電圧印加タイミングの例を示すタイミングチャート
である。
10 is a timing chart showing an example of voltage application timings for the circuit wiring of FIG. 1 in the present embodiment.

【図11】第1の実施の形態例に係る検査システムにお
いて、複数の回路配線に対する電圧印加順序を求めるた
めのテーブルを示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a table for obtaining a voltage application order for a plurality of circuit wirings in the inspection system according to the first embodiment.

【図12】本実施の形態例の検査システムにおいて、複
数の回路配線に対する電圧印加順序を求めるためのテー
ブルを示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a table for obtaining a voltage application order for a plurality of circuit wirings in the inspection system of the present embodiment.

【図13】本実施の形態例の検査システムにおいて、ゴ
ールドサンプルからの目標データの抽出処理を示すフロ
ーチャートである。
FIG. 13 is a flowchart showing a process of extracting target data from a gold sample in the inspection system according to the present embodiment.

【図14】本実施の形態例の検査システムにおける画像
処理を説明するフローチャートである。
FIG. 14 is a flowchart illustrating image processing in the inspection system according to the present embodiment.

【図15】本発明に係る第2の実施の形態例の検査シス
テムにおいて、CADデータからの位置ずれを求める処
理を示すフローチャートである。
FIG. 15 is a flowchart showing a process of obtaining a positional deviation from CAD data in the inspection system according to the second embodiment of the present invention.

【図16】本発明に係る第3の実施の形態例の一つの回
路基板の中に複数の回路配線がある場合の、回路配線に
対する電圧印加順序を説明する図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating a voltage application sequence for circuit wirings when a plurality of circuit wirings are provided in one circuit board according to the third embodiment of the present invention.

【図17】図16の回路配線に対する第3の実施の形態
例の電圧印加タイミングの例を示すタイミングチャート
である。
17 is a timing chart showing an example of voltage application timing of the third embodiment with respect to the circuit wiring of FIG.

【図18】図17のタイミングで電圧印加を行った場合
の出力画像例を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing an example of an output image when voltage is applied at the timing of FIG.

【図19】従来の回路基板検査装置を説明する図であ
る。
FIG. 19 is a diagram illustrating a conventional circuit board inspection device.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象回路配線に検査信号を供給する
検査信号供給手段と、 前記検査信号供給手段による前記検査信号の供給に応じ
た検査対象回路配線の電位変化を検出する検出手段と、 前記検出手段で検出する前記電位変化位置情報より回路
配線の形状を表す画像データを生成する画像データ生成
手段とを備え、 前記検出手段は、薄膜トランジスタを用いて前記検査対
象回路配線の電位変化を検出することを特徴とする回路
配線検査装置。
1. A test signal supply means for supplying a test signal to a test target circuit wiring; a detecting means for detecting a potential change of the test target circuit wiring according to the supply of the test signal by the test signal supplying means; Image data generation means for generating image data representing the shape of the circuit wiring from the potential change position information detected by the detection means, and the detection means detects a potential change of the inspection target circuit wiring using a thin film transistor. A circuit wiring inspection device characterized in that
【請求項2】 前記検査信号供給手段は、異なる前記回
路配線に対しては、異なるタイミングで検査信号を供給
することを特徴とする請求項1に記載の回路配線検査装
置。
2. The circuit wiring inspection apparatus according to claim 1, wherein the inspection signal supply means supplies inspection signals to different circuit wirings at different timings.
【請求項3】 前記薄膜トランジスタはマトリクス状に
配置されたTFTであることを特徴とする請求項1記載
の回路配線検査装置。
3. The circuit wiring inspection apparatus according to claim 1, wherein the thin film transistors are TFTs arranged in a matrix.
【請求項4】 前記薄膜トランジスタを選択的に駆動さ
せるための選択信号を供給する選択手段を更に備え、 前記検査信号供給手段は、異なる前記回路配線に対して
は、異なるタイミングで検査信号を供給し、 前記選択手段は、前記薄膜トランジスタの内水平方向に
1ラインをなす薄膜トランジスタラインに同時に選択信
号を入力し、 前記検査信号検出手段は、前記薄膜トランジスタライン
に対向する回路配線の電位変化を、同時に検出すること
を特徴とする請求項3記載の回路配線検査装置。
4. A selection means for supplying a selection signal for selectively driving the thin film transistor, wherein the inspection signal supply means supplies an inspection signal to different circuit wirings at different timings. The selection means inputs a selection signal simultaneously to the thin film transistor lines forming one line in the horizontal direction of the thin film transistor, and the inspection signal detection means simultaneously detects a potential change of a circuit wiring facing the thin film transistor line. The circuit wiring inspection device according to claim 3, wherein
【請求項5】 前記回路配線は複数の集積回路配線の集
合基板であり、 前記薄膜トランジスタは少なくとも前記集合基板の前記
集積回路配線形成領域分の面積を有し、前記集合基板に
対向する位置に位置決めされていることを特徴とする請
求項3又は請求項4記載の回路配線検査装置。
5. The circuit wiring is a collective substrate of a plurality of integrated circuit wirings, and the thin film transistor has an area of at least the integrated circuit wiring formation region of the collective substrate and is positioned at a position facing the collective substrate. 5. The circuit wiring inspection device according to claim 3, wherein the circuit wiring inspection device is provided.
【請求項6】 前記回路配線基板は複数の集積回路が実
装される基板であり、 前記薄膜トランジスタは少なくとも前記回路基板分の面
積を有し、前記回路基板に対向する位置に位置決めされ
ていることを特徴とする請求項3乃至請求項5のいずれ
かに記載の回路配線検査装置。
6. The circuit wiring board is a board on which a plurality of integrated circuits are mounted, the thin film transistor has at least an area for the circuit board, and is positioned at a position facing the circuit board. The circuit wiring inspection device according to any one of claims 3 to 5, which is characterized.
【請求項7】 更に、前記電位変化のある回路配線の形
状と回路配線情報とを比較して検査対象回路配線の良否
を判定する判定手段を備えることを特徴とする請求項1
乃至請求項6のいずれかに記載の回路検査装置。
7. A determination means is further provided for comparing the shape of the circuit wiring having the potential change with the circuit wiring information to determine the quality of the inspection target circuit wiring.
7. The circuit inspection device according to claim 6.
【請求項8】 回路配線を検査する検査装置における回
路検査方法であって、 検査対象回路配線に検査信号を供給する検査信号供給手
段による前記検査信号の供給に応じた検査対象回路配線
の電位変化を薄膜トランジスタを用いて検出し、検出さ
れた前記電位変化位置情報より回路配線の形状を表す画
像データを生成して回路配線状態を確認可能とすること
を特徴とする回路配線検査方法。
8. A circuit inspection method in an inspection device for inspecting circuit wiring, comprising: a potential change of the inspection target circuit wiring in response to the supply of the inspection signal by an inspection signal supply means for supplying an inspection signal to the inspection target circuit wiring. Is detected by using a thin film transistor, and image data representing the shape of the circuit wiring is generated from the detected potential change position information so that the circuit wiring state can be confirmed.
【請求項9】 前記検査信号供給手段によるよる前記検
査信号の供給は、異なる前記回路配線に対しては、異な
るタイミングで検査信号を供給することを特徴とする請
求項8に記載の回路配線検査方法。
9. The circuit wiring inspection according to claim 8, wherein the inspection signal is supplied by the inspection signal supply means to different circuit wirings at different timings. Method.
【請求項10】 異なる前記回路配線に対しては、異な
るタイミングで前記検査信号を供給するとともに、前記
薄膜トランジスタの内水平方向に1ラインをなす薄膜ト
ランジスタラインに同時に選択信号を入力し、前記薄膜
トランジスタラインに対向する回路配線の電位変化を、
ラインごとに同時に検出することを特徴とする請求項9
記載の回路配線検査方法。
10. The different circuit wirings are supplied with the inspection signal at different timings, and at the same time, a selection signal is simultaneously input to a thin film transistor line forming one line in the horizontal direction of the thin film transistor, and the thin film transistor line is supplied with the selection signal. Change the potential of the opposing circuit wiring,
10. The lines are detected simultaneously for each line.
The circuit wiring inspection method described.
【請求項11】 更に、前記電位変化のある回路配線の
形状と回路配線情報とを比較して検査対象回路配線の良
否を判定することを特徴とする請求項8乃至請求項10
のいずれかに記載の回路検査方法。
11. The quality of the circuit wiring to be inspected is determined by comparing the shape of the circuit wiring having the potential change with the circuit wiring information.
The circuit inspection method according to any one of 1.
【請求項12】 請求項8乃至請求項11のいずれかに
記載の回路配線検査方法をコンピュータ制御で実現する
ためのコンピュータプログラムを記憶することを特徴と
するコンピュータ可読記録媒体。
12. A computer-readable recording medium storing a computer program for implementing the circuit wiring inspection method according to claim 8 by computer control.
【請求項13】 請求項8乃至請求項11のいずれかに
記載の回路配線検査方法をコンピュータ制御で実現する
ためのコンピュータプログラム列。
13. A computer program string for implementing the circuit wiring inspection method according to claim 8 by computer control.
JP2002056268A 2002-03-01 2002-03-01 Apparatus and method for verifying circuit wiring Pending JP2003255008A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002056268A JP2003255008A (en) 2002-03-01 2002-03-01 Apparatus and method for verifying circuit wiring

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002056268A JP2003255008A (en) 2002-03-01 2002-03-01 Apparatus and method for verifying circuit wiring

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003255008A true JP2003255008A (en) 2003-09-10

Family

ID=28666887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002056268A Pending JP2003255008A (en) 2002-03-01 2002-03-01 Apparatus and method for verifying circuit wiring

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003255008A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008076349A (en) * 2006-09-25 2008-04-03 Hioki Ee Corp Inspection apparatus and inspection method
WO2010103696A1 (en) 2009-03-11 2010-09-16 シャープ株式会社 Electronic circuit and electronic device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008076349A (en) * 2006-09-25 2008-04-03 Hioki Ee Corp Inspection apparatus and inspection method
WO2010103696A1 (en) 2009-03-11 2010-09-16 シャープ株式会社 Electronic circuit and electronic device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001272430A (en) Apparatus and method for inspection
US7173445B2 (en) Sensor for inspection instrument and inspection instrument
US6703849B2 (en) Inspection apparatus, inspection method and inspection unit therefor
US20030117164A1 (en) Inspection apparatus and inspection method
KR100823357B1 (en) Circuit pattern inspection apparatus
US6734692B2 (en) Inspection apparatus and sensor
CN102667507A (en) TFT substrate inspection apparatus and tft substrate inspection method
KR101386118B1 (en) Method and device for testing touch screen panel
JP3614792B2 (en) Pixel inspection apparatus and pixel inspection method for active matrix display
JP2003098213A (en) Inspection device and inspection method
JP2003255008A (en) Apparatus and method for verifying circuit wiring
TWI827680B (en) Capacitance detection area sensor and conductive pattern inspection device having the capacitance detection area sensor
JP4748392B2 (en) TFT array substrate inspection equipment
KR20100109399A (en) Setting method of contact parameter and computer readable recording medium having recorded setting program of contact parameter thereon
JP2003098212A (en) Inspection device and inspection method
JPWO2003019209A1 (en) Circuit wiring inspection device and circuit wiring inspection method
JP2002139536A (en) Inspection device and inspection method
US20070090856A1 (en) Non-contact detecting device for a panel
JP3001520B1 (en) High-density continuity inspection device
JP2000149027A (en) Line laying checking device and method
JPH03108349A (en) Evaluating equipment for lsi

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050224

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070514

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070522

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071002