JP2003249100A - Semiconductor integrated circuit and method for testing semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and method for testing semiconductor integrated circuit

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JP2003249100A
JP2003249100A JP2002050109A JP2002050109A JP2003249100A JP 2003249100 A JP2003249100 A JP 2003249100A JP 2002050109 A JP2002050109 A JP 2002050109A JP 2002050109 A JP2002050109 A JP 2002050109A JP 2003249100 A JP2003249100 A JP 2003249100A
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semiconductor integrated
integrated circuit
memory cell
circuit
power supply
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JP2002050109A
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Toshimi Kobayashi
利巳 小林
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Kawasaki Microelectronics Inc
Original Assignee
Kawasaki Microelectronics Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve accuracy of measurement of a normal/defective state of the semiconductor integrated circuit and to improve a fault detection rate by measuring a standby current of a semiconductor integrated circuit including a memory cell array. <P>SOLUTION: A P channel MOS transistor G1 is a switch for supplying and cutting off a power source, and inserted in a path supplying a power source to a memory cell array. When defect detection is performed by measuring a standby current without limiting to an IDDQ test, and influence of the off-leak can be reduced even if a memory cell array having much off-leak coexists by turning off the switch for supplying and cutting off a power source by a test signal ITEST. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ASIC(Applic
ation Specific Integrated Circuit)その他、メモ
リセル・アレイを有する半導体集積回路に係り、特に、
メモリセル・アレイを含む半導体集積回路のスタンバイ
電流を測定して、その半導体集積回路の良・不良を判定
する判定精度を向上させ、よって故障検出率を向上させ
ることができる半導体集積回路及び半導体集積回路テス
ト方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an ASIC (Applic
(Specific Specific Integrated Circuit) and other semiconductor integrated circuits having a memory cell array, in particular,
A semiconductor integrated circuit and a semiconductor integrated circuit capable of improving a determination accuracy by measuring a standby current of a semiconductor integrated circuit including a memory cell array and determining whether the semiconductor integrated circuit is good or defective, and thus improving a failure detection rate. It relates to a circuit test method.

【0002】[0002]

【従来の技術】CMOS(Complementary Metal Oxid
e Semiconductor)による半導体集積回路では、外部か
ら入力する信号を定常状態にするなどして、内部信号や
外部に出力する信号の論理状態が定常状態になると、外
部から供給する電源電流(スタンバイ電流)が極めて小
さくなる。又、内部に製造上の欠陥その他がある半導体
集積回路では、該スタンバイ電流がその標準値より大き
くなる。
2. Description of the Related Art CMOS (Complementary Metal Oxid)
In a semiconductor integrated circuit based on e Semiconductor), when the logic state of the internal signal or the signal output to the outside becomes a steady state by making the signal input from the outside into a steady state, the power supply current (standby current) supplied from the outside Becomes extremely small. Further, in a semiconductor integrated circuit having manufacturing defects or the like inside, the standby current becomes larger than its standard value.

【0003】このような半導体集積回路の特徴に基づい
て、IDDQテストと称し、スタンバイ電流を測定し
て、該測定結果に基づき半導体集積回路の故障検出が行
われている。
Based on such characteristics of the semiconductor integrated circuit, called the IDDQ test, the standby current is measured, and the failure of the semiconductor integrated circuit is detected based on the measurement result.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特に故
障その他のない半導体集積回路の標準的なスタンバイ電
流が大きいと、スタンバイ電流の測定結果に基づいた故
障検出率が低下する。
However, if the standard standby current of a semiconductor integrated circuit having no failure or the like is large, the failure detection rate based on the measurement result of the standby current is lowered.

【0005】ASICでは、様々な機能が作り込まれた
ロジック部に加えて、メモリセル・アレイを多数有する
メモリ部が設けられているものがある。メモリセルで
は、論理状態が定常状態でもトランジスタのオフ時のリ
ーク電流(オフ・リーク)が大きくなる傾向があるの
で、内部素子の欠陥などによるリーク電流がこのような
オフ・リークに埋もれて、分離認識がし難くなり、結果
としてIDDQテストができなくなる。
In some ASICs, in addition to a logic part having various functions built therein, a memory part having a large number of memory cell arrays is provided. In memory cells, the leakage current (off-leakage) when the transistor is off tends to increase even when the logic state is in a steady state. Therefore, the leakage current due to defects in internal elements is buried in such off-leakage and isolated It becomes difficult to recognize, and as a result, the IDDQ test cannot be performed.

【0006】もっとも、メモリ部自体の故障検出はロジ
ック部に比較して、動作テストもし易く、動作テストに
よる故障検出率も高いので、IDDQテストの必要性が
低い。従って、ロジック部がない通常のメモリの半導体
集積回路や、ロジック部の比重が小さい半導体集積回路
では、IDDQテストの必要性が低い。
However, the failure detection of the memory unit itself is easier to perform the operation test than the logic unit, and the failure detection rate by the operation test is high. Therefore, the necessity of the IDDQ test is low. Therefore, the need for the IDDQ test is low in a semiconductor integrated circuit of a normal memory having no logic part or a semiconductor integrated circuit having a small specific gravity of the logic part.

【0007】図2は、従来のメモリセル・アレイを有す
るメモリ部の基本的な構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a basic structure of a memory section having a conventional memory cell array.

【0008】この図において、符号MCはメモリセルで
あり、符号PCはプリチャージ回路であり、それぞれ内
部回路は図3に示すとおりである。図3では、図2の一
点鎖線B1の部分の回路が示されている。図3は、図2
の他のメモリセルMCについても同様であり、個々のメ
モリセルMCの動作に対してプリチャージ回路PCが同
様に作用する。
In this figure, reference character MC is a memory cell, reference character PC is a precharge circuit, and the internal circuits thereof are as shown in FIG. In FIG. 3, the circuit of the portion of dashed-dotted line B1 of FIG. 2 is shown. FIG. 3 shows FIG.
The same applies to the other memory cells MC, and the precharge circuit PC similarly acts on the operation of each memory cell MC.

【0009】又図2では、nビットのワードのメモリセ
ル・アレイがm個設けられている。これにより、メモリ
セルMCをnビット幅及びmワードで編成したメモリ部
が構成されている。所望のメモリセルMCへのアクセス
は、該メモリセルMCに対応する1つのワード線WOR
D1〜WORDmをH状態にして、該メモリセルMCに
対応するビット線対BIT1−*BIT1〜BITn−
*BITnによって行う。
Further, in FIG. 2, m memory cell arrays of n-bit words are provided. As a result, a memory section in which the memory cells MC are organized with an n-bit width and m words is configured. The access to the desired memory cell MC is performed by one word line WOR corresponding to the memory cell MC.
D1 to WORDm are set to the H state, and the bit line pair BIT1- * BIT1 to BITn- corresponding to the memory cell MC.
* Use BITn.

【0010】ここで、図3において、メモリセルMC
は、CMOS論理ゲートの2つのインバータを有してい
て、一方のインバータの入力及び出力が、他方のインバ
ータの出力及び入力に接続されていて、これによってビ
ットデータが保持されるフリップフロップが構成されて
いる。該メモリセルMCは、ワード線WORD(WOR
D1〜WORDmの内の1つ)によってオン・オフする
トランスファー・ゲートのNチャネルMOSトランジス
タを介して、ビット線対BIT−*BIT(BIT1−
*BIT1〜BITn−*BITnの内の1対)に接続
されている。
Here, in FIG. 3, the memory cell MC
Has two inverters of CMOS logic gates, the input and output of one inverter being connected to the output and input of the other inverter, thereby forming a flip-flop for holding bit data. ing. The memory cell MC has a word line WORD (WOR
Bit line pair BIT- * BIT (BIT1-) via an N-channel MOS transistor of a transfer gate which is turned on / off by one of D1 to WORDm).
* BIT1 to BITn-a pair of * BITn).

【0011】図3において、プリチャージ回路PCは、
アクセス対象のワード線WORDがH状態になる以前に
プリチャージ信号PCHGがL状態になると、その2つ
のPチャネルMOSトランジスタがオン状態になって、
ビット線対BIT−*BITを、H状態の電位にプリチ
ャージする。又、プリチャージ回路PCは、ビット線対
をL状態の電位とH状態の電位との中間電位にプリチャ
ージするものであってもよい。
In FIG. 3, the precharge circuit PC is
When the precharge signal PCHG is in the L state before the word line WORD to be accessed is in the H state, the two P-channel MOS transistors are turned on,
The bit line pair BIT- * BIT is precharged to the H-state potential. Further, the precharge circuit PC may precharge the bit line pair to an intermediate potential between the L-state potential and the H-state potential.

【0012】ここで図3において、ワード線WORDが
L状態で、かつプリチャージ信号PCHGがH状態のと
きに、メモリセルMCでは、図中左側のインバータがL
状態を出力し、右側のインバータがH状態を出力するよ
うに、ビットデータが保持されているものとする。する
と、矢印A1〜A3に示されるようなオフ・リークが生
じる。このようなオフ・リークの電流が大きいと、作り
込む素子不良によるリークが埋もれて、分離認識しずら
くなり、IDDQテストの故障検出率が低下してしま
う。
In FIG. 3, when the word line WORD is in the L state and the precharge signal PCHG is in the H state, in the memory cell MC, the inverter on the left side in the figure is in the L state.
It is assumed that bit data is held so that the state is output and the right inverter outputs the H state. Then, off leak occurs as shown by arrows A1 to A3. If such an off-leakage current is large, a leak due to a defective element to be built up is buried, and it becomes difficult to separate and recognize, and the failure detection rate of the IDDQ test decreases.

【0013】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、メモリセル・アレイを含む半導体集
積回路のスタンバイ電流を測定して、その半導体集積回
路の良・不良を判定する判定精度を向上させ、よって故
障検出率を向上させることができる半導体集積回路及び
半導体集積回路テスト方法を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems. The standby current of a semiconductor integrated circuit including a memory cell array is measured to determine whether the semiconductor integrated circuit is good or bad. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit and a semiconductor integrated circuit test method capable of improving accuracy and thus improving a failure detection rate.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】まず、本願の第1発明の
半導体集積回路は、メモリセル・アレイを有する半導体
集積回路において、前記メモリセル・アレイに電源を供
給する経路に、当該半導体集積回路の外部からオンオフ
操作可能な、該電源供給を遮断する電源供給遮断用スイ
ッチを設けたことにより、前記課題を解決したものであ
る。
First, a semiconductor integrated circuit according to the first invention of the present application is a semiconductor integrated circuit having a memory cell array, the semiconductor integrated circuit being provided in a path for supplying power to the memory cell array. The above problem is solved by providing a power supply cutoff switch for cutting off the power supply that can be turned on and off from the outside.

【0015】又、前記半導体集積回路において、当該半
導体集積回路の外部からスタンバイ電流測定のモードを
設定する回路を備え、前記メモリセル・アレイを構成し
ている個々のメモリセルが、CMOS論理ゲートを用い
てビットデータを保持する構成のフリップフロップ回路
であって、かつ、ビット線をプリチャージするためのプ
リチャージ回路が設けられていて、該フリップフロップ
回路のPチャネルMOSトランジスタのソースに電源を
供給する経路に設けた、前記スタンバイ電流測定モード
ではオフになるメモリセル側電源供給遮断用スイッチ
と、前記スタンバイ電流測定モードでは前記プリチャー
ジ回路を非動作状態にさせるプリチャージ停止回路とに
よって、前記電源供給遮断用スイッチを構成するように
したことにより、メモリセル・アレイその他の動作速度
低下を抑えながら、本発明を適用することができる。
Further, the semiconductor integrated circuit includes a circuit for setting a standby current measurement mode from outside the semiconductor integrated circuit, and each memory cell constituting the memory cell array has a CMOS logic gate. A flip-flop circuit configured to hold bit data using a pre-charge circuit for pre-charging a bit line, and supply power to the source of a P-channel MOS transistor of the flip-flop circuit. A power supply cutoff switch on the memory cell side that is turned off in the standby current measurement mode and a precharge stop circuit that deactivates the precharge circuit in the standby current measurement mode. By configuring the switch to cut off the supply, While suppressing the Riseru array other operation speed decreases, it is possible to apply the present invention.

【0016】次に、本願の第2発明の半導体集積回路テ
スト方法は、第1発明の半導体集積回路の前記電源供給
遮断用スイッチをオフにして、当該半導体集積回路のス
タンバイ電流を測定し、該測定結果の電流の大きさによ
って、当該半導体集積回路の良・不良を判定するように
したことにより、前記課題を解決したものである。
Next, the semiconductor integrated circuit test method of the second invention of the present application turns off the power supply cutoff switch of the semiconductor integrated circuit of the first invention, measures the standby current of the semiconductor integrated circuit, The problem is solved by determining whether the semiconductor integrated circuit is good or bad according to the magnitude of the current as the measurement result.

【0017】以下、本発明の作用について、簡単に説明
する。
The operation of the present invention will be briefly described below.

【0018】本発明は、ASICに限らず、メモリセル
・アレイを有するメモリ部とロジック部とが混在する半
導体集積回路に関するものである。本発明では、このよ
うな半導体集積回路において、メモリセル・アレイに電
源を供給する経路に、当該半導体集積回路の外部からオ
ンオフ操作可能な、該電源供給を遮断する電源供給遮断
用スイッチを設けている。
The present invention is not limited to an ASIC, but relates to a semiconductor integrated circuit in which a memory section having a memory cell array and a logic section coexist. According to the present invention, in such a semiconductor integrated circuit, a power supply cutoff switch for cutting off the power supply, which can be turned on and off from the outside of the semiconductor integrated circuit, is provided in a path for supplying power to the memory cell array. There is.

【0019】従って、IDDQテストに限らず、スタン
バイ電流を測定して不良検出する際に、上述の電源供給
遮断用スイッチをオフにすれば、オフ・リークが多いメ
モリセル・アレイが混在していても、該オフ・リークの
影響を低減することができ、ロジック部の故障検出率向
上などを図ることができる。
Therefore, not only in the IDDQ test, but when the standby current is measured to detect a defect, if the above-mentioned power supply cutoff switch is turned off, a memory cell array with a large amount of off-leakage is mixed. Also, the influence of the off-leakage can be reduced, and the failure detection rate of the logic section can be improved.

【0020】このように本発明によれば、メモリセル・
アレイを含む半導体集積回路のスタンバイ電流を測定し
て、その半導体集積回路の良・不良を判定する判定精度
を向上させ、よって故障検出率を向上させることができ
る。
As described above, according to the present invention, the memory cell
By measuring the standby current of the semiconductor integrated circuit including the array and determining the pass / fail of the semiconductor integrated circuit, the accuracy of the determination can be improved, and thus the failure detection rate can be improved.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明の実施の
形態を詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0022】図1は、本発明が適用された実施形態の半
導体集積回路において、ロジック部と共に作り込まれて
いるメモリ部の構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a memory section built in with a logic section in a semiconductor integrated circuit of an embodiment to which the present invention is applied.

【0023】本実施形態の半導体集積回路においては、
ロジック部と、図1のようなメモリ部とを有していて、
主としてロジック部を対象とした、内部素子の故障検出
のためにIDDQテストを行う。該IDDQテストその
他、スタンバイ電流を測定するモード(以下スタンバイ
電流測定モードと呼ぶ)に際しては、図1のテスト信号
ITESTを、半導体集積回路の外部からH状態に設定
する。
In the semiconductor integrated circuit of this embodiment,
It has a logic section and a memory section as shown in FIG.
The IDDQ test is performed mainly for the logic part to detect the failure of the internal element. In the IDDQ test and other modes for measuring the standby current (hereinafter referred to as the standby current measurement mode), the test signal ITEST of FIG. 1 is set to the H state from outside the semiconductor integrated circuit.

【0024】該設定は、外部から直接行うものでも、間
接的に行うものでもよい。即ち、該テスト信号ITES
Tは、所定の端子によって半導体集積回路の外部から入
力し、直接設定するようにしてもよい。あるいは、該テ
スト信号ITESTは内部において生成するようにして
もよく、例えば、半導体集積回路の外部から入力する信
号によって、該テスト信号ITESTの論理状態を間接
的に操作するようにしてもよい。
The setting may be performed directly from outside or indirectly. That is, the test signal ITES
T may be input from the outside of the semiconductor integrated circuit through a predetermined terminal and set directly. Alternatively, the test signal ITEST may be generated internally, and for example, the logic state of the test signal ITEST may be indirectly manipulated by a signal input from the outside of the semiconductor integrated circuit.

【0025】本実施形態の構成は、前述の図2のメモリ
部に対して、本発明を適用して、電源供給遮断用スイッ
チを設けたものである。該電源供給遮断用スイッチは、
本実施形態においては符号G1及び符号G2によって実
現されている。
In the configuration of this embodiment, the present invention is applied to the above-mentioned memory section of FIG. 2 to provide a power supply cutoff switch. The power supply cutoff switch is
In the present embodiment, it is realized by the reference symbols G1 and G2.

【0026】まず、PチャネルMOSトランジスタG1
は、該フリップフロップ回路のPチャネルMOSトラン
ジスタのソースに電源を供給する経路に設けた、テスト
信号ITESTがH状態とされるスタンバイ電流測定モ
ードではオフになるメモリセル側電源供給遮断用スイッ
チである。又、NANDゲートG2は、スタンバイ電流
測定モードではプリチャージ回路PCを非動作状態にさ
せるプリチャージ停止回路となっている。
First, the P-channel MOS transistor G1
Is a memory cell side power supply cutoff switch provided in a path for supplying power to the source of the P-channel MOS transistor of the flip-flop circuit and turned off in the standby current measurement mode in which the test signal ITEST is in the H state. . Further, the NAND gate G2 serves as a precharge stop circuit that makes the precharge circuit PC inoperative in the standby current measurement mode.

【0027】本実施形態の電源供給遮断用スイッチの作
用に説明すると、まず第1の作用として、PチャネルM
OSトランジスタG1は、テスト信号ITESTがH状
態になるとオフする。これによって、メモリ部のすべて
のメモリセルMCにおいて、フリップフロップを構成す
るCMOS論理ゲートのインバータは、電源VDDから
遮断されることになる。従って、該インバータのPチャ
ネルMOSトランジスタ及びNチャネルMOSトランジ
スタにおいて、電源VDD側からグランドGND側に流
れるオフ・リークが抑制される。
The operation of the switch for cutting off the power supply of this embodiment will be described. First, as the first operation, the P channel M
The OS transistor G1 turns off when the test signal ITEST goes into the H state. As a result, in all the memory cells MC of the memory section, the CMOS logic gate inverters that form the flip-flops are cut off from the power supply VDD. Therefore, in the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor of the inverter, off-leakage flowing from the power supply VDD side to the ground GND side is suppressed.

【0028】次に、本実施形態の電源供給遮断用スイッ
チに係る第2の作用として、NANDゲートG2につい
ては、該テスト信号ITESTがH状態になると、プリ
チャージ信号PCHGの論理状態に拘わらず、該NAN
DゲートG2が出力するプリチャージ信号PCHG2は
H状態になる。従って、プリチャージ回路PCは非動作
状態になり、プリチャージ動作が停止する。そして、該
プリチャージ回路PCのPチャネルMOSトランジスタ
において、電源VDD側からビット線対BIT1−*B
IT1〜BITn−*BITn側に流れる電流が抑制さ
れる。
Next, as a second operation of the power supply cutoff switch of the present embodiment, when the test signal ITEST goes to the H state in the NAND gate G2, regardless of the logic state of the precharge signal PCHG, The NAN
The precharge signal PCHG2 output from the D gate G2 is in the H state. Therefore, the precharge circuit PC becomes inoperative and the precharge operation is stopped. Then, in the P-channel MOS transistor of the precharge circuit PC, the bit line pair BIT1- * B from the power supply VDD side.
The current flowing to the IT1 to BITn- * BITn sides is suppressed.

【0029】以上のように、上述の第1作用としての電
源VDDの遮断、及び第2作用としてのプリチャージ回
路PCの動作停止により、図3の符号A1〜A3のよう
なオフ・リークが抑制され、スタンバイ電流が減少す
る。従って、内部素子不良によるリーク電流が、オフ・
リークに埋もれてしまうことがなくなり、IDDQテス
トその他スタンバイ電流測定結果に基づく故障検出率が
向上することになる。
As described above, by shutting off the power supply VDD as the first action and stopping the operation of the precharge circuit PC as the second action, off-leakage as indicated by reference characters A1 to A3 in FIG. 3 is suppressed. This reduces the standby current. Therefore, the leakage current due to internal element failure is
It is not buried in the leak, and the failure detection rate based on the IDDQ test and other standby current measurement results is improved.

【0030】なお、本実施形態において、電源供給遮断
用スイッチのPチャネルMOSトランジスタG1を、該
PチャネルMOSトランジスタ側の電源VDDへの経路
に設けると、フリップフロップのインバータにおいて、
電源VDDからインバータ出力までの電気抵抗が増加
し、該インバータ出力において論理状態がL状態からH
状態に遷移する速度が低下する。しかしながら、該速度
低下はフリップフロップの速度低下になり難くい。フリ
ップフロップを構成するCMOS論理ゲートのインバー
タの、PチャネルMOSトランジスタ側の電源VDDへ
の経路の電気抵抗増加は、該インバータのNチャネルM
OSトランジスタ側のグランドGNDへの経路の電気抵
抗増加に比較して、フリップフロップ動作速度を低下さ
せ難い。本実施形態においては、このような観点に基づ
いて、電源供給遮断用スイッチのPチャネルMOSトラ
ンジスタG1を、該PチャネルMOSトランジスタ側の
電源VDDへの経路に設けるようにしている。
In this embodiment, if the P-channel MOS transistor G1 of the power supply cutoff switch is provided in the path to the power supply VDD on the P-channel MOS transistor side, the flip-flop inverter
The electrical resistance from the power supply VDD to the inverter output increases, and the logic state at the inverter output changes from the L state to the H state.
The speed of transition to the state decreases. However, the speed reduction is unlikely to cause the speed reduction of the flip-flop. The increase in the electrical resistance of the path of the CMOS logic gate inverter forming the flip-flop to the power supply VDD on the P channel MOS transistor side is caused by the N channel M
Compared to the increase in the electrical resistance of the path to the ground GND on the OS transistor side, it is difficult to reduce the flip-flop operation speed. In the present embodiment, based on this point of view, the P-channel MOS transistor G1 of the power supply cutoff switch is provided in the path to the power supply VDD on the P-channel MOS transistor side.

【0031】又、本実施形態において、プリチャージ信
号PCHGがプリチャージ回路PCに入力されるまでの
経路にNANDゲートG2を設けているので、該NAN
DゲートG2の動作時間分、プリチャージ信号PCHG
がプリチャージ回路PCに入力されるまでの時間が遅延
され、結果としてプリチャージ回路PCの動作速度が低
下する。しかしながら、プリチャージ回路PCの動作速
度低下は、メモリ部のアクセス・タイムに影響を比較的
与え難い。このような観点で本実施形態では、電源供給
遮断用スイッチのNANDゲートG2を、プリチャージ
回路PCの入力に設けるようにしている。
Further, in this embodiment, since the NAND gate G2 is provided in the path until the precharge signal PCHG is input to the precharge circuit PC, the NAN is
Precharge signal PCHG for the operation time of D gate G2
Is delayed until it is input to the precharge circuit PC, and as a result, the operating speed of the precharge circuit PC decreases. However, the decrease in the operation speed of the precharge circuit PC is relatively unlikely to affect the access time of the memory section. From this point of view, in the present embodiment, the NAND gate G2 of the power supply cutoff switch is provided at the input of the precharge circuit PC.

【0032】以上のように、本実施形態によれば、本発
明を効果的に適用することができる。従って、メモリセ
ル・アレイを含む半導体集積回路のスタンバイ電流を測
定して、その半導体集積回路の良・不良を判定する判定
精度を向上させ、よって故障検出率を向上させることが
できる。
As described above, according to this embodiment, the present invention can be effectively applied. Therefore, it is possible to improve the accuracy of the determination of the standby current of the semiconductor integrated circuit including the memory cell array and determine the pass / fail of the semiconductor integrated circuit, and thus improve the failure detection rate.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明によれば、メモリセル・アレイを
含む半導体集積回路のスタンバイ電流を測定して、その
半導体集積回路の良・不良を判定する判定精度を向上さ
せ、よって故障検出率を向上させることができる。
According to the present invention, the standby current of a semiconductor integrated circuit including a memory cell array is measured to improve the accuracy of determination of whether the semiconductor integrated circuit is good or defective, thereby improving the failure detection rate. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明が適用された実施形態の半導体集積回路
にロジック部と共に作り込まれているメモリ部の構成を
示す回路図
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a memory unit built in a semiconductor integrated circuit of an embodiment to which the present invention is applied together with a logic unit.

【図2】従来からのメモリセル・アレイを有するメモリ
部の基本的な構成を示す回路図
FIG. 2 is a circuit diagram showing a basic configuration of a memory unit having a conventional memory cell array.

【図3】上記メモリ部のメモリセル及びプリチャージ回
路周辺の回路図
FIG. 3 is a circuit diagram around a memory cell and a precharge circuit in the memory section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MC…メモリセル PC…プリチャージ回路 WORD1〜WORDm…ワード線 BIT1−*BIT1〜BITn−*BITn…ビット
線対 G1…PチャネルMOSトランジスタ G2…NANDゲート PCHG、PCHG2…プリチャージ信号 ITEST…テスト信号
MC ... Memory cell PC ... Precharge circuit WORD1 to WORDm ... Word line BIT1- * BIT1 to BITn- * BITn ... Bit line pair G1 ... P channel MOS transistor G2 ... NAND gate PCHG, PCHG2 ... Precharge signal ITEST ... Test signal

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】メモリセル・アレイを有する半導体集積回
路において、 前記メモリセル・アレイに電源を供給する経路に、当該
半導体集積回路の外部からオンオフ操作可能な、該電源
供給を遮断する電源供給遮断用スイッチを設けたことを
特徴とする半導体集積回路。
1. In a semiconductor integrated circuit having a memory cell array, a power supply cutoff for cutting off the power supply, which can be turned on and off from the outside of the semiconductor integrated circuit, in a path for supplying power to the memory cell array. A semiconductor integrated circuit having a switch for use.
【請求項2】請求項1に記載の半導体集積回路におい
て、 当該半導体集積回路の外部からスタンバイ電流測定のモ
ードを設定する回路を備え、 前記メモリセル・アレイを構成している個々のメモリセ
ルが、CMOS論理ゲートを用いてビットデータを保持
する構成のフリップフロップ回路であって、 かつ、ビット線をプリチャージするためのプリチャージ
回路が設けられていて、 該フリップフロップ回路のPチャネルMOSトランジス
タのソースに電源を供給する経路に設けた、前記スタン
バイ電流測定モードではオフになるメモリセル側電源供
給遮断用スイッチと、 前記スタンバイ電流測定モードでは前記プリチャージ回
路を非動作状態にさせるプリチャージ停止回路とによっ
て、前記電源供給遮断用スイッチを構成するようにした
ことを特徴とする半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a circuit for setting a standby current measurement mode from outside the semiconductor integrated circuit, wherein each memory cell constituting the memory cell array is , A flip-flop circuit configured to hold bit data by using a CMOS logic gate, and a precharge circuit for precharging a bit line is provided, and a P-channel MOS transistor of the flip-flop circuit is provided. A memory cell side power supply cutoff switch which is provided in a path for supplying power to a source and which is turned off in the standby current measurement mode; and a precharge stop circuit which deactivates the precharge circuit in the standby current measurement mode. The power supply cutoff switch is configured by The semiconductor integrated circuit according to claim.
【請求項3】請求項1に記載の半導体集積回路の前記電
源供給遮断用スイッチをオフにして、当該半導体集積回
路のスタンバイ電流を測定し、 該測定結果の電流の大きさによって、当該半導体集積回
路の良・不良を判定するようにしたことを特徴とする半
導体集積回路テスト方法。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the switch for cutting off the power supply is turned off, the standby current of the semiconductor integrated circuit is measured, and the semiconductor integrated circuit is measured according to the magnitude of the measured current. A semiconductor integrated circuit test method, characterized in that the circuit is judged as good or bad.
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