JP2003244557A - Imaging device, imaging system and driving method of the imaging device - Google Patents

Imaging device, imaging system and driving method of the imaging device

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JP2003244557A
JP2003244557A JP2002374585A JP2002374585A JP2003244557A JP 2003244557 A JP2003244557 A JP 2003244557A JP 2002374585 A JP2002374585 A JP 2002374585A JP 2002374585 A JP2002374585 A JP 2002374585A JP 2003244557 A JP2003244557 A JP 2003244557A
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JP
Japan
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output
photoelectric conversion
exposure
photographing
shooting
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Application number
JP2002374585A
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Japanese (ja)
Inventor
Noriyuki Umibe
紀之 海部
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photograph output which is corrected using photographic conditions. <P>SOLUTION: An image pickup device having an area sensor 20, containing a plurality of photoelectric conversion elements which are arranged two- dimensionally has a frame memory 50 for storing the photograph output at exposure from a gain adjusting circuit 21 connected to the sensors 20, a condition memory circuit 40 for storing photographic conditions at photographic exposure, an AE controller 30 for acquiring correction conditions by using the stored photographic conditions, and an operation processing circuit 60 for correcting the photograph output by using the correction output from the circuit 21 controlled by the controller 30. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は撮像装置、撮像シス
テム及び撮像装置の駆動方法に係わり、特に可視光もし
くはX線に代表される放射線を利用した撮像装置、例え
ばスチールカメラあるいは放射線撮像装置等の一次元も
しくは二次元の撮像装置に好適に用いられる撮像装置、
撮像システム及び撮像装置の駆動方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image pickup device, an image pickup system, and a driving method of the image pickup device, and more particularly to an image pickup device using radiation represented by visible light or X-rays, such as a still camera or a radiation image pickup device. An image pickup device preferably used for a one-dimensional or two-dimensional image pickup device,
The present invention relates to an imaging system and a driving method of an imaging device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、写真といえば光学カメラと銀塩フ
ィルムを使用した銀塩写真が大半を占めていた。半導体
技術が発達しCCD型センサ、MOS型センサで代表さ
れるSi単結晶センサを用いた固体撮像素子を用いてビ
デオカムコーダのような動画の画像を撮影できる撮像装
置が発達してきているものの、これら画像は画素数にお
いてもSN比においても銀塩写真にはかなわず、静止し
た画像を写し込むには銀塩写真を使うのが普通であっ
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, most of the photographs are silver halide photographs using an optical camera and a silver halide film. Although semiconductor technology has advanced, imaging devices such as video camcorders capable of capturing moving images using a solid-state imaging device using a Si single crystal sensor represented by a CCD type sensor and a MOS type sensor have been developed. The image does not match the silver halide photograph in terms of the number of pixels and the SN ratio, and it was usual to use the silver halide photograph for imprinting a still image.

【0003】これに対し近年、コンピュータによる画像
処理、電子ファイルによる保存、電子メールによる画像
の伝送の要求が高まり、銀塩写真画像に劣らないディジ
タル信号として出力する電子撮像装置が望まれている。
このことは一般の写真のみならず検査や医療の分野でも
同じことがいえる。
On the other hand, in recent years, there has been an increasing demand for image processing by a computer, storage by an electronic file, and transmission of an image by electronic mail, and an electronic image pickup apparatus which outputs a digital signal comparable to a silver halide photographic image is desired.
This can be said not only in general photography but also in the fields of inspection and medical care.

【0004】例えば医療の分野において銀塩写真技術を
使うものとしてはX線写真が一般的である。これはX線
源から出たX線を人体の患部に照射し、その透過の情報
をもって、例えば骨折や腫瘍の有無を判断するもので長
い間医療の診断に広く使われている。通常、患部を透過
したX線は一度蛍光体に入射させ可視光に変換しこれを
銀塩フィルムに露光する。しかし、銀塩フィルムは感度
がよく、また解像度が高いという長所があるものの、現
像に時間がかかる、保存・管理に手間がかかる、遠隔地
にすぐ送れない、等の短所があり、先に述べたように銀
塩写真画像に劣らないディジタル信号として出力する電
子X線撮像装置が望まれている。もちろん、これは医療
分野に係わらず、構造物などの検体の非破壊検査などで
も同様である。
[0004] For example, X-ray photography is generally used in the medical field as a silver halide photography technique. This is to irradiate an affected part of a human body with X-rays emitted from an X-ray source and judge the presence or absence of, for example, a bone fracture or a tumor based on the information of its transmission, and has been widely used for a long time in medical diagnosis. Usually, the X-rays that have passed through the affected area are once made incident on the phosphor, converted into visible light, and exposed to a silver salt film. However, although the silver salt film has the advantages of high sensitivity and high resolution, it has the disadvantages that it takes time to develop, it takes time to store and manage, and it cannot be sent to a remote place immediately. As described above, there is a demand for an electronic X-ray imaging device that outputs a digital signal that is not inferior to a silver salt photographic image. Of course, this applies to nondestructive inspection of specimens such as structures regardless of the medical field.

【0005】この要望に対し水素化アモルファスシリコ
ン(以下、a−Siと記す)の光電変換素子を用いた撮
像素子を二次元に並べた大型センサを用いた撮像装置の
開発がされている。この種の撮像装置は例えばおよそ一
辺が30〜50cmの絶縁基板上にスパッタ装置や化学
的気相堆積装置(CVD装置)等を使ってメタル層やa
−Si層などを堆積し、例えばおよそ2000×200
0個の半導体ダイオードを形成しこれに逆バイアスの電
界を印加し、また同時に作り込んだ薄膜トランジスタ
(以下、TFTと記す)によりこれら個々のダイオード
の逆方向に流れた電荷を個々に検知できるようにしたも
のである。半導体のダイオードに逆方向の電界を印加す
ると半導体層に入射した光量に応じた光電流が流れるこ
とは広く知られておりこれを利用したものである。しか
しながら、光を全く当てない状態でもいわゆる暗電流と
いわれる電流が流れてしまい、これがショットノイズを
発生してしまい装置全体の検知能力、つまりSN比とい
われる感度を低下させる要因になっている。これは医療
の診断や検査の判断に悪影響を及ぼすことがある。例え
ばこのノイズが原因で病巣や不良箇所を見落としたら問
題であることは言うまでもない。よってこの暗電流をい
かに減少させるかは重要である。
In response to this demand, an image pickup apparatus using a large sensor in which image pickup elements using photoelectric conversion elements of hydrogenated amorphous silicon (hereinafter referred to as a-Si) are arranged two-dimensionally has been developed. This type of image pickup device uses, for example, a sputtering device, a chemical vapor deposition device (CVD device) or the like on an insulating substrate having a side of approximately 30 to 50 cm to form a metal layer or a
Depositing a Si layer etc., for example about 2000 × 200
It is possible to form zero semiconductor diodes, apply a reverse bias electric field to them, and simultaneously detect the electric charges that flow in the reverse direction of these individual diodes by the thin film transistors (hereinafter, referred to as TFTs) that are simultaneously formed. It was done. It is widely known that when a reverse electric field is applied to a semiconductor diode, a photocurrent flows according to the amount of light incident on the semiconductor layer, and this is utilized. However, even when no light is applied, a so-called dark current flows, and this causes shot noise, which is a factor that reduces the detection capability of the entire device, that is, the sensitivity called SN ratio. This may adversely affect medical diagnosis and examination decisions. Needless to say, it is a problem if a lesion or defective portion is missed due to this noise. Therefore, how to reduce this dark current is important.

【0006】また、半導体ダイオードや他の光電変換素
子にバイアスを常に印加し続けると流れる電流により半
導体内の欠陥を増加させ徐々に性能が劣化することがあ
ることも知られている。これは暗電流が増加したり、光
による電流つまり光電流が低下する等の現象として現れ
る。また、電界を印加し続けると欠陥の増加のみなら
ず、イオンの移動や電気分解によりTFTの閾値の移動
や配線に使われている金属の腐食の原因になり装置全体
の信頼性の低下につながることがある。医療機器や検査
機器の製品化において信頼性が低いことは問題を生ずる
ことがある。例えば、緊急を要する診断・治療あるいは
検査の最中に故障することはあってはならないことであ
る。これまで半導体のダイオードを例に感度と信頼性に
ついて述べたがこれに限らず各種タイプの光電変換素子
にも言えることでダイオードに限った問題点ではない。
It is also known that if a bias is constantly applied to a semiconductor diode or other photoelectric conversion element, the current flowing may increase defects in the semiconductor and gradually deteriorate the performance. This appears as a phenomenon in which the dark current increases or the current due to light, that is, the photocurrent decreases. Further, if the electric field is continuously applied, not only the number of defects increases, but also the migration of ions and the electrolysis cause the threshold value of the TFT to move and the metal used for wiring to corrode, leading to a decrease in the reliability of the entire device. Sometimes. Poor reliability in commercializing medical devices and testing devices can cause problems. For example, a failure should not occur during urgent diagnosis / treatment or inspection. Up to now, the sensitivity and reliability have been described by taking a semiconductor diode as an example, but the present invention is not limited to this, and is applicable to various types of photoelectric conversion elements, and is not a problem limited to a diode.

【0007】図1にX線撮像装置の概略的ブロック図の
一例を示す。図1において、1は絶縁基板上に多数の光
電変換素子とTFTが形成され、またこれらを制御する
IC等が実装されたセンサ部である。センサ部には大ま
かに、光電変換素子に電界を印加するためのバイアス印
加用端子(Bias)と読み出しや初期化の開始信号を
与えるスタート端子(START)と二次元に並んだ各
光電変換素子からの出力をシリアル信号にして出力する
出力端子(OUT)の3つの端子部がある。2はX線源
であり、制御回路5の制御によりパルス状のX線を出射
する。このX線は患者の患部などの検体の検査部を透過
し情報を含んだ透過X線がセンサ部1へ向かう。センサ
部1と検体の間には図示はしていないが蛍光体があり透
過X線は可視光に変換される。変換された可視光はセン
サ部内の光電変換素子に入射する。3は光電変換素子に
電界を印加するための電源であり、制御スイッチ(S
W)、もしくは制御回路5により制御される。
FIG. 1 shows an example of a schematic block diagram of an X-ray imaging apparatus. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a sensor unit in which a large number of photoelectric conversion elements and TFTs are formed on an insulating substrate, and an IC or the like for controlling them is mounted. The sensor part is roughly composed of a bias applying terminal (Bias) for applying an electric field to the photoelectric conversion element and a start terminal (START) for giving a read or initialization start signal, and each photoelectric conversion element arranged two-dimensionally. There are three terminal portions of an output terminal (OUT) that outputs the output of the above as a serial signal. An X-ray source 2 emits pulsed X-rays under the control of the control circuit 5. The X-rays pass through the examination part of the specimen such as the affected part of the patient, and the transmitted X-rays containing the information are directed to the sensor part 1. Although not shown, there is a phosphor between the sensor unit 1 and the sample, and the transmitted X-rays are converted into visible light. The converted visible light enters the photoelectric conversion element in the sensor unit. Reference numeral 3 denotes a power source for applying an electric field to the photoelectric conversion element, and a control switch (S
W) or controlled by the control circuit 5.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述す
るような装置では以下に説明するような改善可能な点が
あった。
However, the above-mentioned device has the following points that can be improved.

【0009】図2に図1で示したX線撮像装置の動作の
一例を示す。図2(A)〜図2(D)は夫々撮像装置に
おいての動作を示す概略的タイミングチャートである。
図2(A)は撮像装置の動作を示している。図2(B)
はX線源2のX線出射タイミングである。図2(C)は
光電変換素子の印加バイアスのタイミングである。図2
(D)は光電変換素子に流れる電流を示している。図3
は動作の流れを示すフローチャートである。
FIG. 2 shows an example of the operation of the X-ray imaging apparatus shown in FIG. 2A to 2D are schematic timing charts showing the operation in the image pickup apparatus.
FIG. 2A shows the operation of the image pickup apparatus. Figure 2 (B)
Is the X-ray emission timing of the X-ray source 2. FIG. 2C shows the timing of the bias applied to the photoelectric conversion element. Figure 2
(D) shows the current flowing through the photoelectric conversion element. Figure 3
Is a flow chart showing the flow of operation.

【0010】図2(A)において(SW ON)で示し
た矢印までは図2(C)で示すように光電変換素子には
バイアスが印加されていない(Bias OFF)。こ
こで図3で示すように<SW ON?>301の検知が
され、もし制御スイッチ(SW)がオンになると[Bi
as ON]302される。これは図2(C)でも示さ
れている。これと同時に図2(A)のInt.、図3の
[Initialize Sensors]303で示
されたようにセンサ部1内の個々の光電変換素子の電荷
が初期化される。初期化が一通り終わると制御回路5は
X線源2を制御しX線を出射する。これにより撮像装置
は露光される(図2(B)のExp.および図3の[E
xposure]304)。この後図2(A)のRea
d、図3の[Read Sensors]305で示す
ように内部のTFTとICの動作により個々の光電変換
素子内に流れた光情報を含んだ電荷が読み出される。そ
の後図2(C)に示されるようにあるいは図3の[Bi
as OFF]で示したように光電変換素子の電界を0
(OFF)にする。そしてつぎの制御スイッチのオンま
で待機する。
As shown in FIG. 2C, no bias is applied to the photoelectric conversion element up to the arrow (SW ON) in FIG. 2A (Bias OFF). Here, as shown in FIG. 3, <SW ON? > 301 is detected, and if the control switch (SW) is turned on, [Bi
as ON] 302. This is also shown in FIG. 2 (C). At the same time, Int. , The charge of each photoelectric conversion element in the sensor unit 1 is initialized as indicated by [Initialize Sensors] 303 in FIG. When the initialization is completed, the control circuit 5 controls the X-ray source 2 to emit X-rays. As a result, the image pickup device is exposed (Exp. In FIG. 2B and [E in FIG.
xpose] 304). After this, the Rea of FIG.
d, as indicated by [Read Sensors] 305 in FIG. 3, the charge including the optical information flowing in each photoelectric conversion element is read by the operation of the internal TFT and IC. After that, as shown in FIG. 2C or [Bi of FIG.
as OFF], the electric field of the photoelectric conversion element is set to 0.
Turn it off. Then, it waits until the next control switch is turned on.

【0011】ところが上記動作においては図2(D)で
示したように露光前後においての光電変換素子の電流が
大きい。半導体、特にa−Siのようなアモルファス半
導体はバイアスが印加された直後は暗電流が大きくしば
らくの間光が入射していないのにもかかわらず電流が流
れてしまう。これは先に述べたようにショットノイズの
影響で良好なX線画像が再現できない場合があることを
示す。この場合、適切な診断や検査ができないことがあ
る。この暗電流の原因は半導体内の電界の変化により禁
止帯内のフェルミレベルが相対的に移動する場所がで
き、これにより禁止帯中央付近のトラップの電子、ホー
ルの移動によると説明されている。このトラップは半導
体の欠陥や半導体−絶縁体の界面における結晶構造の不
連続から起きており、この暗電流の増加はどのような材
料、どのような構造の光電変換素子でもおきる。また、
電界を印加した直後はイオンなどの電荷が移動しそれら
が安定するまで不安定な電流が流れるのも原因の1つで
ある。
However, in the above operation, the current of the photoelectric conversion element before and after the exposure is large as shown in FIG. A semiconductor, especially an amorphous semiconductor such as a-Si, has a large dark current immediately after a bias is applied, and a current flows though light is not incident for a while. This indicates that a good X-ray image may not be reproduced in some cases due to the influence of shot noise as described above. In this case, proper diagnosis and inspection may not be possible. It is explained that the cause of this dark current is that there is a place where the Fermi level in the forbidden band moves relatively due to the change of the electric field in the semiconductor, which causes the movement of electrons and holes in the trap near the center of the forbidden band. This trap is caused by a defect in the semiconductor or a discontinuity in the crystal structure at the semiconductor-insulator interface, and this increase in dark current occurs in any material and photoelectric conversion element of any structure. Also,
Immediately after the electric field is applied, one of the causes is that an electric current such as ions moves and an unstable current flows until they are stabilized.

【0012】図4にX線撮像装置の別の動作の一例を示
す。装置全体のブロック図は図1とほとんど同じであり
省略する。図4において図2と同等の動作や表現は同じ
記号で示している。動作のほとんどは先に説明した図2
の動作と同じだが異なる点は図4(C)で示したように
光電変換素子には電界を印加し続けているところであ
る。つまり図5でもわかるとおり、露光動作の一連の動
作において[BiasON/OFF]せずにBias
ON状態を維持している。これにより図2で示した動作
に比較して図4の(D)で示すように暗電流が減少して
おり、これにより良好な画像が得られるかのように思わ
れる。しかし、実際には陰に隠れた問題を抱えており製
品としてはこの動作は採用できない。その理由はこの動
作では病院が診察時間内などの使用される可能性のある
時間の間常に光電変換素子に電界を印加し続けているこ
とになることである。図2の動作では例えば1日100
回、1回当たり3秒で撮像動作するとして累計300秒
の光電変換素子への印加であるのに対し、図4の動作で
は診察時間などの使用可能性のある時間が8時間とする
と約30000秒にもなり約100倍もの長い時間動作
させる動作条件となる。これは実際に撮影をしようと操
作しているとき以外(つまり無操作時)にも光電変換素
子に電界が印加されることになる。これは先に述べたよ
うに信頼性の低下につながりメンテナンス費用なども考
慮すると実用にはむかない。
FIG. 4 shows an example of another operation of the X-ray imaging apparatus. The block diagram of the entire apparatus is almost the same as that in FIG. In FIG. 4, operations and expressions equivalent to those in FIG. 2 are indicated by the same symbols. Most of the operation is shown in FIG.
The operation is the same as the above operation, but the difference is that the electric field is continuously applied to the photoelectric conversion element as shown in FIG. That is, as can be seen from FIG. 5, in the series of operations of the exposure operation, the Bias can be set without performing [Bias ON / OFF].
The ON state is maintained. As a result, the dark current is reduced as shown in FIG. 4D as compared with the operation shown in FIG. 2, and it seems that a good image can be obtained. However, in reality, there is a hidden problem, and this operation cannot be adopted as a product. The reason for this is that in this operation, the hospital constantly applies an electric field to the photoelectric conversion element during a time when the hospital may be used, such as during consultation time. In the operation of FIG. 2, for example, 100 a day
While it is applied to the photoelectric conversion element for a total of 300 seconds assuming that the imaging operation is performed once per time in 3 seconds, in the operation of FIG. 4, assuming that the usable time such as the consultation time is 8 hours, it is about 30,000. This is an operating condition for operating for about 100 times as long as a second. This means that the electric field is applied to the photoelectric conversion element even when the user is not actually operating to take an image (that is, when there is no operation). This leads to a decrease in reliability as described above, and is not suitable for practical use in consideration of maintenance costs.

【0013】(発明の目的)本発明の目的はこの問題点
を解決し、感度が高く、信頼性が高く、使い勝手の良い
撮像装置及び撮像装置の駆動方法を提供することにあ
る。
(Object of the Invention) An object of the present invention is to solve this problem and to provide an image pickup apparatus having high sensitivity, high reliability, and good usability, and a method for driving the image pickup apparatus.

【0014】又、本発明は、ノイズが少なく高SN比の
情報を得ることのできる撮像装置及びその駆動方法を提
供することを目的とする。
It is another object of the present invention to provide an image pickup device and a driving method thereof which can obtain information with a small noise and a high SN ratio.

【0015】更に本発明は、所望のタイミングで像情報
を得ることができ、X線などの放射線を必要以上に照射
しないで済む撮像装置及びその駆動方法を提供すること
を目的とする。
A further object of the present invention is to provide an image pickup apparatus which can obtain image information at a desired timing, and which can prevent unnecessary irradiation of radiation such as X-rays, and a driving method thereof.

【0016】加えて本発明は銀塩フィルムを使用せず、
即時性の高い像情報を得ることができ、遠隔地における
検査を施すことも可能な像情報を得ることができる撮像
装置及びその駆動方法を提供することを目的とする。
In addition, the present invention does not use a silver salt film,
An object of the present invention is to provide an imaging device and a driving method thereof that can obtain image information with high immediacy and can obtain image information that can be inspected at a remote place.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明は二次元に配列し
た複数の光電変換素子を含む撮像手段を有する撮像装置
において、撮影露光時の撮影出力を記憶する手段と、該
撮影露光時の撮影条件を記憶する手段と、前記記憶した
撮影条件を用いて補正出力を得る手段と、前記補正出力
を用いて前記撮影出力を補正する手段と、を有すること
を特徴とする撮像装置を提供するものである。
According to the present invention, in an image pickup apparatus having an image pickup means including a plurality of photoelectric conversion elements arranged two-dimensionally, a means for storing a photographing output at the time of photographing exposure, and a photographing at the time of the photographing exposure. An image pickup apparatus comprising: a condition storing unit; a unit that obtains a correction output by using the stored shooting condition; and a unit that corrects the shooting output by using the correction output. Is.

【0018】また、本発明は、光源と、エリアセンサ
と、少なくとも前記光源に関する撮影条件を制御するA
Eコントローラと、前記AEコントローラの設定値を記
憶する条件記憶手段と、撮影時の撮影出力を記憶するフ
レームメモリと、前記条件記憶手段に記憶された設定値
を用いて前記光源を制御して得られた補正出力を用い
て、前記フレームメモリに記憶された撮影出力を補正す
る演算処理回路と、前記各手段を制御するシステム制御
手段と、を有する撮像システムを提供するものである。
Further, according to the present invention, the light source, the area sensor, and at least the photographing condition for the light source are controlled A
An E controller, a condition storage unit that stores the setting value of the AE controller, a frame memory that stores a shooting output at the time of shooting, and a setting value stored in the condition storage unit. The present invention provides an imaging system including an arithmetic processing circuit that corrects a photographing output stored in the frame memory using the corrected output, and a system control unit that controls each unit.

【0019】さらに、本発明は、撮影露光時の撮影出力
を記憶するステップと、該撮影露光時の撮影条件を記憶
するステップと、前記撮影露光後に、前記記憶した撮影
条件を用いて得られた補正出力により前記撮影出力を補
正するステップと、を有することを特徴とする撮像装置
の駆動方法を提供するものである。
Further, the present invention is obtained by using a step of storing a photographing output at the time of photographing exposure, a step of storing a photographing condition at the time of photographing exposure, and a step of storing the photographing condition after the photographing exposure. And a step of correcting the photographing output with a correction output.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の撮像装置、撮像シ
ステム及び撮像装置の駆動方法について説明する。な
お、本発明の撮影装置の構成は図14の構成により最も
よく現わされる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An image pickup apparatus, an image pickup system and a driving method of the image pickup apparatus according to the present invention will be described below. The configuration of the photographing apparatus of the present invention is best shown by the configuration of FIG.

【0021】本発明では光電変換素子を安定化状態で使
用することによってより正確で信頼性を有する情報の読
み取りを行なうことができる。
In the present invention, by using the photoelectric conversion element in a stabilized state, more accurate and reliable information reading can be performed.

【0022】また、本発明によれば、光電変換素子を常
にスタンバイ(待機)状態にしていないので素子の長寿
命化がはかれ、装置本体の信頼性の向上、メンテナンス
フィーの低下をはかることができる。
Further, according to the present invention, since the photoelectric conversion element is not always in the standby state, the life of the element can be extended, the reliability of the apparatus main body can be improved, and the maintenance fee can be reduced. it can.

【0023】図6に本発明のX線撮像装置の動作例を示
す。装置全体のブロック図は図1とほとんど同じであり
省略する。図6において図2と同等の動作や表現は同じ
記号で示している。動作のほとんどは先に説明した図2
の動作と同じだが異なる点は図6(A)及び図7で示し
たように[Bias ON]302とセンサ部の初期化
[Initialize Sensors]303の間
に[Wait]701動作を追加している。この[Wa
it]701は例えば3〜5秒待てば充分であり、これ
により暗電流の影響は図6(D)で示されたように図2
(D)に比較して大幅に改善することができる。
FIG. 6 shows an operation example of the X-ray imaging apparatus of the present invention. The block diagram of the entire apparatus is almost the same as that in FIG. In FIG. 6, operations and expressions equivalent to those in FIG. 2 are indicated by the same symbols. Most of the operation is shown in FIG.
6 is the same as that of FIG. 6 (A) and FIG. 7, but a [Wait] 701 operation is added between the [Bias ON] 302 and the initialization of the sensor section [Initialize Sensors] 303. . This [Wa
it] 701 is sufficient to wait, for example, 3 to 5 seconds, and as a result, the effect of the dark current is as shown in FIG.
It can be greatly improved compared to (D).

【0024】この待機動作(Wait 701)はタイ
マー手段によって撮影スイッチを入れたあと所望の時間
作動するようにしてよく、撮影者によってあらためてス
イッチが入れられるようにしてもよい。
This waiting operation (Wait 701) may be activated for a desired time after the photographing switch is turned on by the timer means, or may be turned on again by the photographer.

【0025】待機時間は上述したように3〜5秒程度で
実際上素子の立上りの問題を解決することができる。ま
た、待機時間は必要に応じて適宜調整することができ
る。
As described above, the waiting time is about 3 to 5 seconds, and in practice, the problem of rising of the device can be solved. In addition, the waiting time can be appropriately adjusted as necessary.

【0026】タイマー手段などによって、1度スイッチ
(シャッター)をONすれば所定時間後に自動的に撮影
を行なう装置の場合は、動かない被写体または検体であ
ることが望ましい。これは、撮影者が意図した状態を撮
影することが必ずできるためである。
In the case of an apparatus that automatically takes a picture after a predetermined time if the switch (shutter) is turned on once by a timer means or the like, it is desirable that the object or sample is immovable. This is because the photographer can always photograph the intended state.

【0027】例えば、タイマー手段などによってスイッ
チON後、自動的に撮影される場合は[SW ON]3
01、つまり制御スイッチ(俗に言うシャッタ・ボタ
ン)をオンしてから3〜5秒の間は患者などの検体が動
いてはいけないことである。通常、医師(技師)は検体
である患者に患部が良く写るようにポーズをとらせ、あ
るいは検体を配置し、場合によっては呼吸や検体の動作
を止めさせて制御スイッチをオンにする。これに対して
露光が始まるまで3〜5秒待たせるのは時間が長すぎ
て、特に呼吸を止めさせている場合はわずかな期間であ
るが患者が我慢できないこともある。実際には[Wai
t]701の間は動いても画像はボケたりしないが患者
はいつ露光が始まるか判らないため結果的にa−b間、
つまり制御スイッチをオンしてから露光が終わるまで動
けない。また、医師が別のセンサ等で撮影したいシャッ
タ・チャンスに制御スイッチをオンしても、3〜5秒の
間に胃や腸あるいは機械などの検体は動いてしまうかも
しれない。
[0027] For example, when the image is automatically taken after the switch is turned on by the timer means or the like, [SW ON] 3
01, that is, a sample such as a patient must not move for 3 to 5 seconds after the control switch (so-called shutter button) is turned on. Usually, a doctor (technologist) poses a patient, which is a sample, so that the affected part can be seen well, or arranges the sample, and in some cases, stops breathing and the operation of the sample and turns on the control switch. On the other hand, it is too long to wait for 3 to 5 seconds until the exposure is started, and the patient may not be able to put up with it for a short period especially when the breathing is stopped. Actually [Wai
t] 701, the image does not blur even if it moves during the time t] 701, but the patient does not know when the exposure starts, and as a result, between a and b,
In other words, it cannot move until the exposure is completed after turning on the control switch. Further, even if the doctor turns on the control switch at a shutter chance when he / she wants to take an image with another sensor or the like, the specimen such as the stomach, intestine or machine may move within 3 to 5 seconds.

【0028】そこで更に(1)感度がよい、(2)信頼
性が高い、に加えて(3)使い勝手のよい、つまり任意
のタイミングで撮影ができる撮像装置について説明す
る。また、撮像装置は一般的に像情報を取り込むものを
含むが、特にX線撮像装置とするのが好ましい。
Therefore, in addition to (1) high sensitivity, (2) high reliability, and (3) usability, that is, an image pickup apparatus capable of photographing at an arbitrary timing will be described. Further, the image pickup device generally includes a device that captures image information, but it is particularly preferable to use an X-ray image pickup device.

【0029】以下、本発明の別の実施形態について図面
を用いて説明する。
Another embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0030】図8は本発明の別の実施形態に係る撮像装
置の概略的なシステムブロック図である。本実施形態で
はX線検査(例えばX線診断)を目的とする放射線撮像
装置が構成されている。図8において、図1と同様の各
部については対応箇所に同一の符号を付してある。
FIG. 8 is a schematic system block diagram of an image pickup apparatus according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, a radiation imaging apparatus for the purpose of X-ray inspection (for example, X-ray diagnosis) is configured. In FIG. 8, the same reference numerals are given to corresponding portions with respect to the respective units similar to those in FIG.

【0031】図8において、1は例えば絶縁基板上に多
数の光電変換素子(光電変換手段)とTFTが形成さ
れ、またこれらを制御するIC等が実装されたセンサ部
である。センサ部1には大まかに光電変換素子に電界を
印加するためのバイアス印加用端子(Bias)と読み
出しや初期化の開始信号を与えるスタート端子(STA
RT)と二次元に並んだ各光電変換素子からの出力をシ
リアル信号にして出力する出力端子(OUT)の3つの
端子を有する場合を示してある。2はX線源であり制御
回路4の制御によりパルス状のX線を出射する。このX
線は患者や物体などの検体の患部や検査部を透過し情報
を含んだ透過X線がセンサ部1へ向かう。センサ部1と
患者の間には図示はしていないが通常は蛍光体のような
波長変換体があり透過X線はセンサ部1で検出可能な波
長、例えば可視光に変換されセンサ部1内の光電変換素
子に入射する。3は光電変換素子に電界を印加するため
の電源であり、第一のスイッチ手段として働くSW1に
より制御される。制御回路4にはSW1と第二のスイッ
チ手段として働くSW2が接続されており、これら2つ
の情報やその他の情報によりセンサ部1に与える各種動
作の開始信号を制御している。また、同時にX線源2に
X線を出射するタイミングを与えている。
In FIG. 8, reference numeral 1 denotes a sensor section in which, for example, a large number of photoelectric conversion elements (photoelectric conversion means) and TFTs are formed on an insulating substrate, and an IC for controlling these is mounted. The sensor unit 1 roughly includes a bias application terminal (Bias) for applying an electric field to the photoelectric conversion element and a start terminal (STA) for giving a read or initialization start signal.
RT) and an output terminal (OUT) for outputting the output from each photoelectric conversion element arranged two-dimensionally as a serial signal. An X-ray source 2 emits pulsed X-rays under the control of the control circuit 4. This X
The X-rays pass through the affected part or the inspection part of the sample such as a patient or an object, and the transmitted X-rays containing information are directed to the sensor part 1. Although not shown in the figure between the sensor unit 1 and the patient, there is usually a wavelength converter such as a phosphor, and the transmitted X-rays are converted into wavelengths that can be detected by the sensor unit 1, for example, visible light. Incident on the photoelectric conversion element. Reference numeral 3 is a power supply for applying an electric field to the photoelectric conversion element, which is controlled by SW1 which functions as a first switch means. The control circuit 4 is connected to SW1 and SW2 which functions as a second switch means, and controls start signals of various operations given to the sensor unit 1 based on these two pieces of information and other information. At the same time, the X-ray source 2 is given timing for emitting X-rays.

【0032】図9(A)にSW1とSW2の外観を示
す。SW1とSW2は作業者が扱いやすいように1つの
グリップ状のケースの中に実装されスイッチボックス7
1を構成している。ケースの中には2つのスイッチとそ
れぞれのスイッチにバネが実装されており、手を離した
状態ではSW1とSW2が共にオフの状態になるように
構成されている。また、SW2にはロックがついており
通常はオフ状態でSW1がオン状態になると初めてロッ
クがはずれて可動できるようになり、SW1がオフでS
W2がオンの状態にはならないように機械的に禁止して
いる。本実施形態ではこの禁止を機械的に行っているが
これを電気的に行い、例えばSW1がオフの場合に誤っ
てSW2が押されても電気的にこれを無効にしてSW2
がオン状態にならなくしてもよい。図9(A)は手を離
した状態でありSW1に連動しているスイッチレバー7
3およびSW2に連動しているスイッチレバー74は解
放であり、SW1およびSW2は共にオフの状態であ
る。作業者はこのスイッチボックス71を扱う場合、グ
リップ部72を掴んで親指をSW1スイッチレバー73
に触れる程度にしている。この状態から親指で軽く押す
と図9(B)の状態になり一度安定する。これはスイッ
チレバー73のバネの力がスイッチレバー74のバネな
どの弾性部材を押圧するに必要な押圧力より弱く構成さ
れているからである。この状態でSW1がオン、SW2
がオフの状態になっている。さらに強く押すと図9
(C)の状態になりSW1およびSW2は共にオンの状
態になる。このようにスイッチボックス71は3つの状
態をとれるように構成され、このスイッチボックス71
を触れていない状態つまり無操作時には決してSW1お
よびSW2はオンしないように構成されている。また、
スイッチレバー73のバネなどの弾性部材の力は適度に
調整されており、通常の人であれば長い間、例えば1分
以上押し続けていられないように構成されている。これ
により不用意に長い間SW1、SW2が押し続けた状態
を禁止している。つまり、1分も状態を変化させていな
い状態では無操作とみなすことができるからである。
FIG. 9A shows the appearance of SW1 and SW2. SW1 and SW2 are mounted in a single grip-like case so that the operator can easily handle them.
Make up one. Two switches and springs are mounted on the respective switches in the case, and both the switches SW1 and SW2 are turned off when the hands are released. In addition, SW2 is locked, and normally it is unlocked and movable only when SW1 is turned on when SW1 is turned on.
W2 is mechanically prohibited so that it is not turned on. In the present embodiment, this prohibition is performed mechanically, but this prohibition is performed electrically. For example, even if SW2 is pressed by mistake when SW1 is off, it is electrically invalidated and SW2 is turned off.
Does not have to be turned on. FIG. 9 (A) shows a state in which the hand is released and the switch lever 7 interlocked with SW1.
The switch lever 74 interlocked with 3 and SW2 is released, and both SW1 and SW2 are off. When handling the switch box 71, the operator grasps the grip portion 72 and puts his thumb on the SW1 switch lever 73.
I only touch it. From this state, if you press it with your thumb lightly, it will be in the state shown in FIG. This is because the spring force of the switch lever 73 is weaker than the pressing force required to press the elastic member such as the spring of the switch lever 74. In this state, SW1 is on, SW2
Is off. When pushed harder,
The state (C) is entered, and both SW1 and SW2 are turned on. In this way, the switch box 71 is configured so as to have three states.
It is configured such that SW1 and SW2 are never turned on in a state where is not touched, that is, when there is no operation. Also,
The force of the elastic member such as the spring of the switch lever 73 is appropriately adjusted, and it is configured so that an ordinary person cannot press the switch lever 73 for a long time, for example, for one minute or longer. This prohibits the state in which SW1 and SW2 are inadvertently kept pressed for a long time. That is, it can be regarded as no operation when the state is not changed for one minute.

【0033】なお、SW1とSW2は上記の機械的なス
イッチの構造に限定されない。SW1とSW2を独立し
て設け、電気回路的に上記の作用を奏するようにしても
よい。またSW1とSW2は機械的なスイッチでなく、
電気的なスイッチ(例えばトランジスタ)で構成しても
よい。例えば機械的なスイッチ(SW0)を1つとし電
気的なスイッチでSW1とSW2を構成することができ
る。この場合は例えばSW0を一度押した場合はSW1
がオンし、SW0を離した後、もう一度SW0を押した
ときにはSW2がオンし、その後SW0を離したときに
はSW1、SW2がオフされるような回路を構成すれば
よい(SW0を1度押したか2度押したかの識別は異な
る発光色のLEDが発光するなどして表示するようにし
ておけばよい。)。
SW1 and SW2 are not limited to the above mechanical switch structure. SW1 and SW2 may be provided independently so as to achieve the above-mentioned action as an electric circuit. Also, SW1 and SW2 are not mechanical switches,
It may be composed of an electric switch (for example, a transistor). For example, one mechanical switch (SW0) and one electrical switch can be used to configure SW1 and SW2. In this case, for example, if SW0 is pressed once, SW1
After turning on and releasing SW0, SW2 is turned on when SW0 is pressed again, and SW1 and SW2 are turned off when SW0 is released after that. It is sufficient to identify whether or not the button is pressed once by displaying, for example, LEDs of different emission colors.

【0034】ここで図10を用いて図8で示した本実施
形態の撮像装置の動作の一例を説明する。図10(A)
〜図10(D)は撮像装置においての動作を示すタイミ
ングチャート、図11は動作の流れを示すフローチャー
トである。図10(A)は撮像装置の動作を示してい
る。図10(B)はX線源2のX線出射タイミングであ
る。図10(C)は光電変換素子の印加バイアスのタイ
ミングである。図10(D)は代表されるある光電変換
素子に流れる電流を示している。図10(A)において
(SW1 ON)で示した矢印までは図10(C)で示
すように光電変換素子には電界つまりバイアスが印加さ
れていない(Bias OFF)。これは制御回路4が
無操作を認識し休止モード(Stop MODE)とし
て電源3を制御しているからである。本実施形態におい
て無操作とはSW1がオフしていることであり、制御回
路4はSW1がオフであることでこれを判断している。
破線はバイアスが印加されていない状態を示している。
ここで図11で示すように<SW1 ON?>901の
判定がされ、もし制御スイッチ(SW1)がオンになる
と[Bias ON]902される。これは図10
(C)でも示されている。この状態でセンサ部1は図1
0(A)又は図11のWait又は[Wait]903
で示されたように待機状態となる。この状態をスタンバ
イモード(Stand−by MODE)としている。
この待機状態の間に図10(D)で示すように光電変換
素子の暗電流は減少していく。この時、制御回路4は作
業者に対して暗電流が減少するまで一定時間SW2をオ
ンにすることを禁止する。暗電流が減少したか否かは直
接電流を検出してもよいし、予め減少するまで必要とす
る時間を把握しておき、その時間の間禁止してもよい。
禁止する方法は機械的に禁止してもよいし、電気的でも
よい。もしくは作業者に禁止を示すランプなどの表示を
示してもよい。また、例えSW2を押してしまっても制
御回路が撮影動作を開始しなければよい。作業者はこの
禁止中に患者や物体などの検体の撮影の準備をすればよ
い。禁止が解除になった後、必要に応じて、「息を止め
る」などの指示を与え、あるいは物体の動作を開始し、
像を得たいタイミングでSW2をオンする(SW2 O
N)904。SW2がONされると露光モード(Exp
osureMODE)が開始し図10(A)又は図11
のInt.又は[Initialize Sensor
s]905で示されたようにセンサ部1内の個々の光電
変換素子の電荷が初期化される。初期化が一通り終わる
と制御回路4はX線源2を制御しX線を出射する。これ
を図10(B)および図11のExp.又は[Expo
sure]906で示している露光を行なう。露光が完
了すれば検体の撮影は終了で検体はこの時点で自由に動
いてもよくなる。つまり図10(A)又は図11で示し
たa−b間に動かなければよい。通常センサ部1の初期
化は30〜300msで終了し、また、X線のパルス幅
は50〜200msなため、およそ0.5秒の間静止し
ていればよいことになる。撮像装置は露光後図10
(A)又は図11のRead又は[Read Sens
ors]907で示すように内部のTFTとICの動作
により個々の光電変換素子内に流れた光情報を含んだ電
荷が読み出される。その後図11の<SW1 ON?>
908でSW1の状態を検知し、もしSW1がオフして
いれば図10(C)に示されるように又は図11の[B
ias OFF]909で示したように光電変換素子の
電界を0にする。そしてつぎの制御スイッチがオンする
まで待機する。また、連続撮影などでSW1がオンの場
合は検体の撮影方向を変えてあるいは次の患者などの検
体をすぐ撮影できるように図11で示すようにSW2
オンの検知を待つ。こうすれば連続した撮影の場合は2
回目は図10(A)又は図11のWait、[Wai
t]903で示されたように待機する必要がなく効率が
よい。また、これら作業中SW1をオンしたところで都
合により作業を中断したい場合はSW1のスイッチレバ
ーを離せばSW1はオフし図11で示すように[Bia
s OFF]909になる。
An example of the operation of the image pickup apparatus of this embodiment shown in FIG. 8 will be described with reference to FIG. FIG. 10 (A)
10D is a timing chart showing the operation in the image pickup apparatus, and FIG. 11 is a flowchart showing the flow of the operation. FIG. 10A shows the operation of the imaging device. FIG. 10B shows the X-ray emission timing of the X-ray source 2. FIG. 10C shows the timing of the bias applied to the photoelectric conversion element. FIG. 10D shows a current flowing through a certain photoelectric conversion element. As shown in FIG. 10C, no electric field, that is, a bias is applied to the photoelectric conversion element up to the arrow shown by (SW1 ON) in FIG. 10A (Bias OFF). This is because the control circuit 4 recognizes no operation and controls the power supply 3 in the sleep mode (Stop MODE). In the present embodiment, no operation means that SW1 is off, and the control circuit 4 judges this by the fact that SW1 is off.
The broken line shows the state where no bias is applied.
Here, as shown in FIG. 11, <SW1 ON? > 901 is determined, and if the control switch (SW1) is turned on, [Bias ON] 902 is performed. This is
Also shown in (C). In this state, the sensor unit 1 is shown in FIG.
0 (A) or Wait or [Wait] 903 in FIG.
It becomes a standby state as indicated by. This state is called a standby mode (Stand-by MODE).
During this standby state, the dark current of the photoelectric conversion element decreases as shown in FIG. At this time, the control circuit 4 prohibits the operator from turning on SW2 for a certain period of time until the dark current decreases. Whether or not the dark current has decreased may be detected directly, or the time required until the dark current decreases may be grasped in advance and prohibited during that time.
The method of prohibiting may be mechanically or electrically. Alternatively, a display such as a lamp indicating prohibition may be shown to the operator. Further, even if SW2 is pressed, the control circuit does not have to start the photographing operation. The operator may prepare for photographing a sample such as a patient or an object during the prohibition. After the prohibition is lifted, if necessary, give instructions such as "hold your breath" or start moving the object,
Turn on SW2 at the timing you want to obtain an image (SW2 O
N) 904. When SW2 is turned on, the exposure mode (Exp
(OSUREMODE) starts, and FIG. 10 (A) or FIG.
Int. Or [Initialize Sensor
s] 905, the charges of the individual photoelectric conversion elements in the sensor unit 1 are initialized. When the initialization is completed, the control circuit 4 controls the X-ray source 2 to emit X-rays. This is shown in FIG. 10 (B) and FIG. Or [Expo
exposure] 906 is performed. When the exposure is completed, the imaging of the sample is completed, and the sample may move freely at this point. That is, it does not have to move between a and b shown in FIG. Usually, the initialization of the sensor unit 1 is completed in 30 to 300 ms, and the pulse width of the X-ray is 50 to 200 ms. Therefore, it is sufficient that the sensor unit 1 is stationary for about 0.5 seconds. Imager after exposure
(A) or Read or [Read Sens of FIG.
ors] 907, the charge including the optical information flowing in each photoelectric conversion element is read by the operation of the internal TFT and IC. After that, <SW1 ON in FIG. 11? >
At 908, the state of SW1 is detected, and if SW1 is off, as shown in FIG. 10C or [B of FIG.
ias OFF] 909, the electric field of the photoelectric conversion element is set to zero. Then, it waits until the next control switch is turned on. When SW1 is turned on for continuous shooting or the like, as shown in FIG. 11, SW2 is changed so that the shooting direction of the sample is changed or the sample of the next patient or the like can be immediately taken.
Wait for ON detection. If you do this, 2 for continuous shooting
For the second time, Wait, [Wai] of FIG.
t] 903, which is efficient because there is no need to wait as indicated by 903. Further, when it is desired to interrupt the work while SW1 is turned on during the work, SW1 is turned off when the switch lever of SW1 is released, as shown in FIG.
s OFF] 909.

【0035】以上説明したように本実施形態においては
無操作時に光電変換素子に電界が印加されることもな
く、また、露光時においては暗電流は減少していて、さ
らにまた、患者は一瞬の間のみ静止するだけでよく、し
たがって信頼性が高く、感度が良く、かつ、使い勝手が
よい撮像装置を提供している。
As described above, in the present embodiment, no electric field is applied to the photoelectric conversion element during no operation, and the dark current is reduced during exposure, and furthermore, the patient does not receive an instant. Therefore, the imaging device is provided with high reliability, high sensitivity, and good usability only by remaining stationary for a while.

【0036】また、無操作時において光電変換素子の電
界は0にする必要はなく、各種動作時に比較して電界を
抑えるだけでも効果があるのは言うまでもない。
It is needless to say that the electric field of the photoelectric conversion element does not have to be zero when no operation is performed, and it is effective to suppress the electric field as compared with various operations.

【0037】図12(A)乃至図12(D)及び図13
は本発明の更に別の実施形態の動作を示すタイミングチ
ャートおよびフローチャートである。システムの構成に
ついては前述の実施形態とほぼ同じため省略している。
前述の実施形態と異なる点は制御回路の構成が異なると
ころである。ここで図12(A)乃至図12(D)及び
図13を用いて図10(A)乃至図10(D)及び図1
1と異なる部分を中心に説明する。
12A to 12D and FIG.
FIG. 6 is a timing chart and a flowchart showing the operation of still another embodiment of the present invention. The system configuration is omitted since it is almost the same as that of the above-described embodiment.
The difference from the above-described embodiment is the configuration of the control circuit. Here, FIGS. 10A to 10D and FIG. 1 are described with reference to FIGS.
The description will focus on the parts different from 1.

【0038】本実施形態は図12(A)又は図13でわ
かるように、スタンバイモードで一定の待機後、すぐに
センサ部の初期化Int.又は[Initialize
Sensors]1002を開始しているところであ
る。また1回の初期化が終了してもすぐ初期化を開始
し、周期的に初期化、つまり連続した内部の電荷リセッ
トを続けている。これにより待機状態が必要以上長くな
ることによりセンサ部内の電荷が暗電流により蓄積して
しまうのを抑えている。この周期的な電荷リセットとは
実際には露光後の電荷の読み取り動作と、蓄積時間が多
少異なる場合があるものの、動作順序はほとんど同じ
で、ただ得られた信号を情報として使っていないだけで
ある。このセンサ部(光電変換素子)内の周期的な電荷
リセット動作は図示はしてないが、図8の制御回路4内
の回路により図13で示すようにSW1とSW2の状態
が検知、判断されながら周期的に繰り返される。この状
態でSW2がオンするとこれが検知された時点での初期
化(電荷リセット動作)が終了後、露光モードを開始す
る。また、本実施形態では露光モード中に光情報を含ん
だ電荷読み取り[Read Sensors]907に
続いて図12(A)又は図13のGet FPN、[G
et FPN Data]1003で示すように固定パ
ターンノイズ(FPN)の補正用のデータ読み取り、さ
らに続いて図12(A)又は図13のGet GN、
[Get GAIN Data]1004で示すように
ゲインばらつき補正用のデータ読み取りを行っている。
ただし、これら動作も光情報を含んだ電荷読み取り[R
ead Sensors]907とセンサ部の動作は同
じで、ダーク状態(つまりX線が照射されていない状
態)での電荷を読み、また何らかの方法で照射した基準
光情報の電荷を読むだけである。基準光情報は例えば検
体がない状態でX線などの光源を照射して読み取ること
によって得ることができる。
In this embodiment, as can be seen from FIG. 12 (A) or FIG. 13, the initialization of the sensor unit is started immediately after a certain waiting time in the standby mode. Or [Initialize
Sensors] 1002 is about to start. Further, even after one initialization is completed, the initialization is started immediately, and the initialization is performed periodically, that is, the continuous internal charge reset is continued. As a result, it is possible to prevent the electric charge in the sensor unit from accumulating due to dark current due to the standby state becoming longer than necessary. This periodic charge reset is actually the same as the charge reading operation after exposure and the storage time may be slightly different, but the operation sequence is almost the same, and the obtained signal is not used as information. is there. Although the periodic charge resetting operation in the sensor section (photoelectric conversion element) is not shown, the circuit in the control circuit 4 in FIG. 8 detects and determines the states of SW1 and SW2 as shown in FIG. While being repeated periodically. When the SW2 is turned on in this state, the exposure mode is started after the initialization (charge reset operation) at the time when this is detected is completed. Further, in the present embodiment, the charge read [Read Sensors] 907 including the optical information in the exposure mode is followed by the Get FPN, [G] of FIG.
et FPN Data] 1003, data reading for correction of fixed pattern noise (FPN), and then Get GN of FIG. 12 (A) or FIG.
As indicated by [Get GAIN Data] 1004, the data for gain variation correction is read.
However, these operations also read charges including optical information [R
The operation of the sensor is the same as that of the ead Sensors 907, and only reads the charge in the dark state (that is, the state in which the X-ray is not irradiated) and reads the charge of the reference light information irradiated by some method. The reference light information can be obtained by irradiating and reading a light source such as an X-ray in the absence of the sample.

【0039】つまり、本実施形態での撮像装置の特徴は
スタンバイモードの待機[Wait]903が終了後露
光モードが終了するまでセンサ部は常に同等の動作を繰
り返すという点である。センサ部の動きが同じ動きを周
期的に行っているということはセンサ部内部の各部の動
作が平衡状態で動いていることになり変な過渡応答など
がなく、非常に安定したSN比のよい像情報が得られ
る。また、制御の方法が単純化され回路が簡素化できる
のも大きな効果である。さらに待機[Wait]903
の最中も実際には露光後の電荷の読み取り動作[Rea
d Sensors]907と同じにすることもでき
る。
That is, the feature of the image pickup apparatus in the present embodiment is that the sensor section always repeats the same operation until the exposure mode ends after the standby [Wait] 903 in the standby mode ends. The fact that the movements of the sensor unit periodically make the same movements of the respective units inside the sensor unit are in equilibrium state, and there is no strange transient response, etc., and a very stable SN ratio is good. Image information is obtained. Further, it is also a great effect that the control method is simplified and the circuit can be simplified. Further wait [Wait] 903
Even during the process, the reading operation of charge after exposure is actually performed [Rea
d Sensors] 907.

【0040】また、SW2がオンされてから初期化[I
nitialize Sensors]1002を開始
していないため露光[Exposure]906までの
時間が短縮されており、平均して初期化にかかる時間の
1/2が短縮される。これにより患者などの検体が静止
していなければならない時間(a−b間もしくはa′−
b間)は、通常センサ部の初期化は30〜300msで
終了し、また、X線のパルス幅は50〜200msとす
ると、平均でおよそ0.3秒程度の間静止していればよ
いことになる。これはスタンバイモード中に周期的な電
荷リセット動作、つまり初期化動作をしており露光モー
ドに移行しやすくなっているからで本実施形態の大きな
特徴である。
Further, initialization is performed after SW2 is turned on [I
Since the initialize Sensors 1002 is not started, the time until the exposure [Exposure] 906 is shortened, and 1/2 of the time required for initialization is shortened on average. As a result, the time during which the specimen such as the patient must be stationary (between a and b or a'-
(b), the initialization of the sensor unit usually ends in 30 to 300 ms, and assuming that the pulse width of the X-ray is 50 to 200 ms, it should be stationary for about 0.3 seconds on average. become. This is a major feature of the present embodiment because the charge reset operation, that is, the initialization operation, is periodically performed during the standby mode and the transition to the exposure mode is facilitated.

【0041】さらに本実施形態は図13で示すように制
御回路内にタイマーを持ち、露光モードが終了しても予
め決められた時間(本実施形態では5分間)の間なら例
えSW1がオフになっても[Bias OFF]、つま
り休止モードにならないところにある。これにより撮影
が例え連続でなくともある程度の時間内であれば休止モ
ードにならず、次の撮影の時に待機[Wait]903
する必要がない。また図9(A)乃至図9(C)に説明
されるようなスイッチボックス71のような構造にして
も、短い間なら指を離しても休止モードになってしまう
ことがない。つまり本実施形態においては、制御回路は
短い間(例えば5分以内)のSW1のオフはまだ作業中
と解釈し、無操作状態でないと判断している。これによ
って例え撮影が完全な連続でなくてもある程度続けば休
止モードにならず、次の撮影の時は待機状態[Wai
t]903にすることがない。また、制御回路はある程
度の時間(例えば5分以上)のSW1がオフの場合は自
動的に[Bias OFF]909、つまり休止モード
になる。これにより高い信頼性を保ちつつさらに効率が
上がり、使い勝手が向上する。また本実施形態では準備
OKを示す[READY lamp ON/OFF]1
001,1007の制御を行い使い勝手を向上してい
る。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 13, a timer is provided in the control circuit, and even if the exposure mode is finished, SW1 is turned off for a predetermined time (5 minutes in the present embodiment). Even so, [Bias OFF], that is, the sleep mode is not set. As a result, even if the shooting is not continuous, it does not enter the sleep mode if it is within a certain period of time, and waits for the next shooting [Wait] 903.
You don't have to. Further, even if the switch box 71 has a structure as illustrated in FIGS. 9A to 9C, the sleep mode does not occur even if the finger is released for a short time. That is, in the present embodiment, the control circuit interprets that the SW1 is off for a short period of time (for example, within 5 minutes) as still working, and determines that it is not in the non-operation state. As a result, even if the shooting is not completely continuous, if it continues for a while, the sleep mode will not be entered, and the next shooting will be in a standby state [Wai
t] 903. Further, the control circuit automatically enters the [Bias OFF] 909, that is, the sleep mode when the SW1 is off for a certain time (for example, 5 minutes or more). This improves efficiency while maintaining high reliability and improves usability. In addition, in this embodiment, [READY lamp ON / OFF] indicating that the preparation is OK 1
001 and 1007 are controlled to improve usability.

【0042】さらに、図14〜図20により更に別の実
施形態について説明する。
Still another embodiment will be described with reference to FIGS. 14 to 20.

【0043】図14は本発明の更に別の実施形態に係る
撮像装置の全体システムブロック図である。本実施形態
では医療用X線診断や非破壊検査に使用され得る放射線
撮像装置が構成されている。図14において、10はX
線13をパルス状に発することができるX線源であり、
撮影条件制御手段として働くAEコントローラ30によ
りX線パルスのオン、オフやX線源内の管球の管電圧、
管電流が制御される。X線源10で発したX線13は診
断又は検査対象となる患者又は物体である被写体(検
体)11を透過しX線を可視光に変換するCsI、Gd
2 2 S等で構成される蛍光体12に入射する。このと
き被写体11を透過するX線は被写体11の内部の骨や
内臓の大きさや形、病巣の有無によりあるいは構成部材
の材質の違いなどにより透過量が異なりそれらの像情報
が含まれている。このX線13は蛍光体12により可視
光に変換され像情報光14として撮像手段として働く二
次元エリアセンサ20に入射する。二次元エリアセンサ
20は二次元に配列した複数の光電変換素子とそれらを
駆動する駆動回路を有し、像情報光14を二次元情報を
含む電気信号に変換して出力する。二次元エリアセンサ
20はAEコントローラ30により信号の蓄積時間や駆
動スピードが制御される。二次元エリアセンサ20の出
力はゲイン調整回路21に入力されるとともにAEコン
トローラ30にも撮影条件を制御するための情報として
入力される。
FIG. 14 is an overall system block diagram of an image pickup apparatus according to still another embodiment of the present invention. In this embodiment, a radiation imaging apparatus that can be used for medical X-ray diagnosis and nondestructive inspection is configured. In FIG. 14, 10 is X
An X-ray source capable of emitting a line 13 in a pulse shape,
The X-ray pulse is turned on and off and the tube voltage of the tube in the X-ray source is controlled by the AE controller 30 that functions as an imaging condition control unit
The tube current is controlled. The X-rays 13 emitted from the X-ray source 10 pass through a subject (specimen) 11 which is a patient or an object to be diagnosed or examined, and CsI and Gd which convert the X-rays into visible light.
The light enters the phosphor 12 made of 2 O 2 S or the like. At this time, the X-ray transmitted through the subject 11 has a different transmission amount depending on the size and shape of the bones and internal organs inside the subject 11, the presence or absence of lesions, the difference in the material of the constituent members, and the like, and includes such image information. The X-rays 13 are converted into visible light by the phosphor 12 and enter the two-dimensional area sensor 20 serving as image information light as image information light 14. The two-dimensional area sensor 20 has a plurality of photoelectric conversion elements arranged two-dimensionally and a drive circuit for driving them, and converts the image information light 14 into an electric signal containing two-dimensional information and outputs it. The two-dimensional area sensor 20 is controlled by the AE controller 30 in terms of signal storage time and drive speed. The output of the two-dimensional area sensor 20 is input to the gain adjustment circuit 21 and also to the AE controller 30 as information for controlling the shooting conditions.

【0044】AEコントローラ30には撮影条件を制御
するために、制御パネル32や温度センサ33およびフ
ォトタイマ31の出力も入力されている。制御パネル3
2は医師もしくは技師が患者の症状、体格、年齢、物体
の大きさや厚さや得たい情報を考慮し撮影露光の度に最
適な撮影出力が得られるように条件をパネル操作で入力
し、該条件を電気信号に変換しAEコントローラ30に
入力するものである。温度センサ33は撮影露光時にお
ける部屋の温度や管球の温度および二次元エリアセンサ
20等の、温度により特性が変化し最適な動作条件が変
化する構成部品の温度を検出しAEコントローラ30に
入力するものである。これら検出される温度はまさに撮
影露光されている時点の温度であることが好ましい。フ
ォトタイマ31は例えば被写体11と二次元エリアセン
サ20との間の任意の位置におかれ撮影露光中に被写体
11の基準部分(例えば肺胞部)を透過するX線の量を
検知しAEコントローラ30に入力するものである。フ
ォトタイマ31でのX線の吸収は微少なため撮影露光に
ほとんど悪影響しない。AEコントローラ30はこれら
入力の撮影露光の直前の値もしくは撮影露光中の値をも
とにX線源10のX線パルス幅や二次元エリアセンサ2
0の蓄積時間・駆動スピードおよびゲイン調整回路21
の増幅率を自動制御および設定制御する。これら制御に
よりゲイン調整回路21の出力を適切な撮影出力にする
ことが可能である。
The outputs of the control panel 32, the temperature sensor 33 and the photo timer 31 are also input to the AE controller 30 in order to control the photographing conditions. Control panel 3
2 is a condition in which the doctor or the technician inputs the conditions by the panel operation so that the optimum photographing output can be obtained at each photographing exposure in consideration of the patient's symptom, physique, age, size and thickness of the object, and desired information. Is converted into an electric signal and input to the AE controller 30. The temperature sensor 33 detects the temperature of a room or tube during photographing exposure, the temperature of components such as the two-dimensional area sensor 20 whose characteristics change depending on the temperature and the optimum operating conditions change, and inputs them to the AE controller 30. To do. It is preferable that these detected temperatures are the temperatures at the time when the exposure is performed. The photo timer 31 is located at an arbitrary position between the subject 11 and the two-dimensional area sensor 20, for example, and detects the amount of X-rays that pass through a reference portion (eg, alveolar part) of the subject 11 during photographing exposure to detect the amount of X-rays. It is input to 30. Since the X-ray absorption by the photo timer 31 is very small, it has almost no adverse effect on the photographic exposure. The AE controller 30 determines the X-ray pulse width of the X-ray source 10 and the two-dimensional area sensor 2 based on the values of these inputs immediately before or during the photographing exposure.
Zero accumulation time, drive speed and gain adjustment circuit 21
The amplification factor of is automatically controlled and set. With these controls, the output of the gain adjusting circuit 21 can be set to an appropriate shooting output.

【0045】また、このときAEコントローラ30が撮
影露光時に制御・設定した条件は条件記憶手段として働
く条件メモリ回路40に条件値として記憶しておくこと
が可能である。この条件メモリ回路40は条件を記憶で
きると同時に逆に記憶した条件値をAEコントローラ3
0に入力することも可能である。このときAEコントロ
ーラ30は条件メモリ回路40から入力された条件値を
もとにX線源10、二次元エリアセンサ20およびゲイ
ン調整回路21を制御・設定し動作させることができ
る。つまり、過去の撮影露光条件と同じ制御・設定で再
び撮影露光することが可能となっている。このとき一部
の条件や制御・設定を異ならすことにより補正露光とし
ゲイン調整回路21の出力を補正出力とすることができ
る。つまり、X線パルスを発せずに他は前回の撮影露光
時と同じにしシステムを動作させれば、二次元エリアセ
ンサ20の暗時出力の補正出力が得られる。
Further, at this time, the conditions controlled and set by the AE controller 30 at the time of photographing exposure can be stored as condition values in the condition memory circuit 40 serving as condition storing means. The condition memory circuit 40 can store the condition and at the same time, store the condition value stored in the opposite direction in the AE controller 3
It is also possible to enter 0. At this time, the AE controller 30 can control / set and operate the X-ray source 10, the two-dimensional area sensor 20, and the gain adjusting circuit 21 based on the condition value input from the condition memory circuit 40. In other words, it is possible to perform the photographing exposure again under the same control / setting as the past photographing exposure conditions. At this time, by making some conditions or control / settings different, correction exposure can be performed and the output of the gain adjustment circuit 21 can be used as a correction output. In other words, if the system is operated in the same manner as in the previous photographing exposure without emitting the X-ray pulse, the correction output of the dark output of the two-dimensional area sensor 20 can be obtained.

【0046】図14中、80の破線内は補正回路であ
り、撮影露光時に得られる撮影出力はスイッチ51を介
し撮影出力記憶手段であるフレームメモリ50に一度記
憶でき、補正露光時に得られる補正出力Bとフレームメ
モリ50に記憶された撮影出力Aにより演算処理回路6
0で処理し撮影時の誤差を取り除いた像情報出力Pとす
ることができる。この像情報出力Pは画像処理システム
等に電送される。
In FIG. 14, a portion within a broken line 80 is a correction circuit, and the photographing output obtained at the time of photographing exposure can be stored once in the frame memory 50 which is the photographing output storing means through the switch 51, and the correction output obtained at the time of compensation exposure. B and the shooting output A stored in the frame memory 50, the arithmetic processing circuit 6
It is possible to obtain the image information output P which has been processed with 0 to eliminate the error at the time of photographing. This image information output P is transmitted to an image processing system or the like.

【0047】70はシステム制御回路であり図9(A)
乃至図9(C)で示したようなスイッチボックス71内
のSW1、SW2が押されたことを検知し、図示はして
いないがAEコントローラ30を介してX線源10、二
次元エリアセンサ20、ゲイン調整回路21を制御し撮
影露光や補正露光を行い、また、スイッチ51、フレー
ムメモリ50および演算処理回路60を制御し補正回路
80として動作させる。
Reference numeral 70 denotes a system control circuit, which is shown in FIG.
Through detection of pressing of SW1 and SW2 in the switch box 71 as shown in FIG. 9C, the X-ray source 10 and the two-dimensional area sensor 20 via the AE controller 30 are detected though not shown. , The gain adjustment circuit 21 is controlled to perform photographing exposure and correction exposure, and the switch 51, the frame memory 50 and the arithmetic processing circuit 60 are controlled to operate as the correction circuit 80.

【0048】図15は二次元エリアセンサ20の構成の
一例を示す概略的全体回路図、図16(A)及び図16
(B)は二次元エリアセンサ20中の1画素に相当する
各構成素子の模式的平面図および模式的断面図である。
なお、図14と同一機能の部分には同一符号を付してい
る。図15において、S11〜S33は光電変換素子で
下部電極側をG、上部電極側をDで示している。C11
〜C33は蓄積用コンデンサ、T11〜T33は転送用
TFTである。Vsは読み出し用電源、Vgはリフレッ
シュ用電源であり、それぞれスイッチSWs、SWgを
介して全光電変換素子S11〜S33のG電極に接続さ
れている。スイッチSWsはインバータを介して、スイ
ッチSWgはリフレッシュ制御回路RFに接続されてお
り、リフレッシュ期間はSWgがon、その他の期間は
SWsがonするよう制御されている。1画素は1個の
光電変換素子とコンデンサ、およびTFTで構成され、
その信号出力は信号配線SIGにより検出用集積回路I
Cに接続されている。本実施形態の二次元エリアセンサ
は計9個の画素を3つのブロックに分け1ブロックあた
り3画素の出力を同時に転送しこの信号配線を通して検
出用集積回路によって順次出力に変換され出力される。
また1ブロック内の3画素を横方向に配置し、3ブロッ
クを順に縦に配置することにより各画素を二次元的に配
置している。
FIG. 15 is a schematic overall circuit diagram showing an example of the structure of the two-dimensional area sensor 20, FIG. 16 (A) and FIG.
(B) is a schematic plan view and a schematic cross-sectional view of each constituent element corresponding to one pixel in the two-dimensional area sensor 20.
The parts having the same functions as those in FIG. 14 are designated by the same reference numerals. In FIG. 15, S11 to S33 are photoelectric conversion elements, and the lower electrode side is indicated by G and the upper electrode side is indicated by D. C11
To C33 are storage capacitors, and T11 to T33 are transfer TFTs. Vs is a reading power supply, and Vg is a refreshing power supply, which are connected to the G electrodes of all the photoelectric conversion elements S11 to S33 via switches SWs and SWg, respectively. The switch SWs is connected via an inverter to the refresh control circuit RF, and the switch SWg is controlled so that SWg is on during the refresh period and SWs is on during the other periods. One pixel is composed of one photoelectric conversion element, a capacitor, and a TFT,
The signal output is detected by the signal wiring SIG by the detection integrated circuit I.
It is connected to C. The two-dimensional area sensor of the present embodiment divides a total of nine pixels into three blocks, transfers the outputs of three pixels per block at the same time, and the output signals are sequentially converted into outputs by the detection integrated circuit through the signal wiring.
Further, the three pixels in one block are arranged in the horizontal direction, and the three blocks are arranged vertically in order to arrange the respective pixels two-dimensionally.

【0049】図中破線で囲んだ部分は大面積の同一絶縁
基板上に形成することができるが、このうち第1画素に
相当する部分の模式的平面図を図16(A)に示す。S
11は光電変換素子、T11はスイッチ素子であるTF
T(薄膜トランジスタ)、C11は電荷蓄積素子である
コンデンサ、およびSIGは信号配線である。本実施形
態においては、コンデンサC11と光電変換素子S11
とは特別に素子を分離しておらず光電変換素子S11の
電極の面積を大きくすることによりコンデンサC11を
形成している。これは本実施形態の光電変換素子とコン
デンサが同じ層構成であるから可能で本実施形態の特徴
でもある。また図中破線A−Bで示した部分の模式的断
面図を図16(B)に示す。画素上部にはパッシベーシ
ョン用窒化シリコン膜SiN108とCsI、Gd2
2 S等の蛍光体12が形成されている。上方より像情報
の含まれるX線13が入射すると蛍光体12により像情
報光14に変換され、この光が光電変換素子に入射され
る。
The portion surrounded by the broken line in the figure can be formed on the same large-sized insulating substrate, and a schematic plan view of the portion corresponding to the first pixel is shown in FIG. 16 (A). S
11 is a photoelectric conversion element, T11 is a switching element TF
T (thin film transistor), C11 are capacitors that are charge storage elements, and SIG is signal wiring. In the present embodiment, the capacitor C11 and the photoelectric conversion element S11
In particular, the elements are not separated and the capacitor C11 is formed by increasing the area of the electrode of the photoelectric conversion element S11. This is possible because the photoelectric conversion element and the capacitor of the present embodiment have the same layer structure, which is also a feature of the present embodiment. Further, FIG. 16B shows a schematic cross-sectional view of a portion indicated by a broken line AB in the drawing. A silicon nitride film SiN108 for passivation and CsI, Gd 2 O is formed on the pixel.
A phosphor 12 such as 2 S is formed. When an X-ray 13 containing image information is incident from above, the phosphor 12 converts the X-ray into image information light 14, and this light is incident on a photoelectric conversion element.

【0050】ここで図16(A)及び図16(B)に示
される構成の各素子の形成方法の一例について順に説明
する。
Here, an example of a method for forming each element having the structure shown in FIGS. 16A and 16B will be described in order.

【0051】まず、絶縁材料であるガラス基板101上
にスパッタ等により下部メタル層102としてCrを約
500オングストローム堆積させ、その後フォトリソに
よりパターニングし不必要なエリアをエッチングする。
これにより光電変換素子S11の下部電極、TFT・T
11のゲート電極、およびコンデンサC11の下部電極
が形成される。
First, about 500 angstroms of Cr is deposited as the lower metal layer 102 on the glass substrate 101, which is an insulating material, by sputtering or the like, and then patterning is performed by photolithography to etch unnecessary areas.
As a result, the lower electrode of the photoelectric conversion element S11, the TFT T
The gate electrode of 11 and the lower electrode of the capacitor C11 are formed.

【0052】次に、CVDにより同一真空内でSiN層
(107)/i型半導体層(104)/n型半導体層
(105)をそれぞれ約2000オングストローム/5
000オングストローム/500オングストローム堆積
する。これら各層は光電変換素子S11の絶縁層/光電
変換半導体層/ホール注入阻止層、TFT・T11のゲ
ート絶縁膜/半導体層/オーミックコンタクト層、およ
びコンデンサC11の中間層となる。また、信号配線の
クロス部絶縁層としても使用できる。各層の厚さはこれ
に限らず二次元エリアセンサとして使用する電圧、電
流、電荷、入射光量等により最適に設計すればよいが、
少なくともSiNは電子とホールが通過できず、また、
TFTのゲート絶縁膜として機能ができる厚さとされ、
一般的には500オングストローム以上が求められる。
Next, the SiN layer (107) / i-type semiconductor layer (104) / n-type semiconductor layer (105) is respectively grown to about 2000 angstroms / 5 in the same vacuum by CVD.
000 Å / 500 Å is deposited. These layers serve as an insulating layer / photoelectric conversion semiconductor layer / hole injection blocking layer of the photoelectric conversion element S11, a gate insulating film / semiconductor layer / ohmic contact layer of the TFT T11, and an intermediate layer of the capacitor C11. It can also be used as a cross portion insulating layer of signal wiring. The thickness of each layer is not limited to this, and may be optimally designed according to the voltage, current, charge, incident light amount, etc. used as a two-dimensional area sensor.
At least SiN cannot pass electrons and holes, and
It has a thickness that can function as the gate insulating film of the TFT.
Generally, 500 angstrom or more is required.

【0053】各層堆積後、上部メタル層106としてA
lをスパッタ等で約10000オングストローム堆積さ
せる。さらにフォトリソによりパターニングし不必要な
エリアをエッチングし光電変換素子S11の上部電極、
TFT・T11の主電極であるソース電極並びにドレイ
ン電極、コンデンサC11の上部電極、および信号配線
SIGが形成される。
After each layer is deposited, A is formed as the upper metal layer 106.
1 is deposited by sputtering or the like at a thickness of about 10,000 angstroms. Further, by patterning by photolithography and etching unnecessary areas, the upper electrode of the photoelectric conversion element S11,
A source electrode and a drain electrode which are main electrodes of the TFT T11, an upper electrode of the capacitor C11, and a signal wiring SIG are formed.

【0054】またさらにTFT・T11のチャネル部の
みn層をRIE法(リアクティブイオンエッチング法)
でエッチングし、その後不必要な部分のSiN層(10
7)/i型半導体層(104)/n型半導体層(10
5)をエッチングし各素子が分離される。これで光電変
換素子S11、TFT・T11およびコンデンサC11
が完成する。以上、第一画素目について説明したが他の
画素についても同時に形成されることは言うまでもな
い。
Further, the n layer only in the channel portion of the TFT T11 is RIE method (reactive ion etching method).
Then, the SiN layer (10
7) / i-type semiconductor layer (104) / n-type semiconductor layer (10
5) is etched to separate each element. With this, the photoelectric conversion element S11, the TFT T11 and the capacitor C11
Is completed. Although the first pixel has been described above, it goes without saying that other pixels are formed at the same time.

【0055】また、耐久性を向上させるため通常各素子
の上部をSiN等のパッシベーション膜108で覆い、
さらにCsI、Gd2 2 S等の蛍光体12が形成され
る。
Further, in order to improve durability, the upper part of each element is usually covered with a passivation film 108 such as SiN,
Further, a phosphor 12 such as CsI or Gd 2 O 2 S is formed.

【0056】以上の説明の通り本実施形態では光電変換
素子、TFT、コンデンサ、および信号配線SIGとが
同時に堆積された共通の下部メタル層102、SiN層
(107)/i型半導体層(104)/n型半導体層
(105)、および上部メタル層106と各層のエッチ
ングのみで形成することができる。また光電変換素子S
11内に注入素子層が1カ所しかなく、かつ、同一真空
内で形成できる。さらにTFTの特性上重要なゲート絶
縁膜とi層との界面も同一真空内で形成できるので所望
の性能を得やすい。またさらにコンデンサC11の中間
層が熱によるリークの少ない絶縁層を含んでいるため良
好な特性のコンデンサが形成される。
As described above, in this embodiment, the common lower metal layer 102, the SiN layer (107) / i-type semiconductor layer (104) in which the photoelectric conversion element, the TFT, the capacitor, and the signal wiring SIG are simultaneously deposited. It can be formed only by etching the / n-type semiconductor layer (105) and the upper metal layer 106 and each layer. In addition, the photoelectric conversion element S
There is only one injection element layer in 11 and they can be formed in the same vacuum. Further, since the interface between the gate insulating film and the i layer, which is important for the characteristics of the TFT, can be formed in the same vacuum, desired performance can be easily obtained. Furthermore, since the intermediate layer of the capacitor C11 includes an insulating layer which is less likely to leak due to heat, a capacitor having good characteristics is formed.

【0057】ここで本実施形態で使用している光電変換
素子S11〜S33の動作について説明する。図17
(A)及び図17(B)はそれぞれ本実施形態のリフレ
ッシュモード(初期化モード)および光電変換モードの
動作を示す光電変換素子の模式的エネルギバンド図で、
図16(B)の各層の厚さ方向の状態を表している。1
02はCrで形成された下部電極(以下G電極と記す)
である。107は電子、ホール共に通過を阻止するSi
Nで形成された絶縁層であり、その厚さはトンネル効果
により電子、ホールが移動できないほどの厚さである5
00オングストローム以上に設定される。104は水素
化アモルファスシリコン(a−Si)の真性半導体i層
で形成された光電変換半導体層、105は光電変換半導
体層104にホールの注入を阻止するn型のa−Siの
注入阻止層、106はAlで形成される上部電極(以下
D電極と記す)である。本実施形態ではD電極はn層を
完全には覆っていないが、D電極とn層との間は電子の
移動が自由に行なわれるためD電極とn層の電位は常に
同電位であり以下説明ではそれを前提としている。本光
電変換素子にはD電極、G電極の電圧の印加の仕方によ
りリフレッシュモードと光電変換モードという2種類の
動作がある。
The operation of the photoelectric conversion elements S11 to S33 used in this embodiment will be described here. FIG. 17
17A and 17B are schematic energy band diagrams of the photoelectric conversion element showing the operations of the refresh mode (initialization mode) and the photoelectric conversion mode of this embodiment, respectively.
FIG. 16B shows a state in the thickness direction of each layer in FIG. 1
02 is a lower electrode made of Cr (hereinafter referred to as G electrode)
Is. 107 is Si that blocks passage of both electrons and holes
It is an insulating layer formed of N, and its thickness is such that electrons and holes cannot move due to the tunnel effect.
It is set to 00 angstrom or more. 104 is a photoelectric conversion semiconductor layer formed of an intrinsic semiconductor i layer of hydrogenated amorphous silicon (a-Si), 105 is an n-type a-Si injection blocking layer that blocks hole injection into the photoelectric conversion semiconductor layer 104, Reference numeral 106 denotes an upper electrode (hereinafter referred to as a D electrode) formed of Al. In the present embodiment, the D electrode does not completely cover the n layer, but since electrons can freely move between the D electrode and the n layer, the potentials of the D electrode and the n layer are always the same, and The explanation assumes that. This photoelectric conversion element has two kinds of operations, a refresh mode and a photoelectric conversion mode, depending on how the voltages of the D electrode and the G electrode are applied.

【0058】図17(A)に示すリフレッシュモードに
おいて、D電極はG電極に対して負の電位が与えられて
おり、i層104中の黒丸で示されたホールは電界によ
りD電極に導かれる。同時に白丸で示された電子はi層
104に注入される。このとき一部のホールと電子はn
層105、i層104において再結合して消滅する。十
分に長い時間この状態が続けばi層104内のホールは
i層104から掃き出される。
In the refresh mode shown in FIG. 17A, the D electrode is given a negative potential with respect to the G electrode, and the holes indicated by black circles in the i layer 104 are guided to the D electrode by the electric field. . At the same time, the electrons indicated by white circles are injected into the i layer 104. At this time, some holes and electrons are n
It recombines and disappears in the layers 105 and i-layer 104. If this state continues for a sufficiently long time, the holes in the i layer 104 are swept out from the i layer 104.

【0059】この状態から図17(B)に示す光電変換
モードにするにはD電極はG電極に対して正の電位を与
える。すると、i層104中の電子は瞬時にD電極に導
かれる。しかし、ホールはn層105が注入阻止層とし
て働くためi層104に導かれることはない。この状態
でi層104内に光が入射すると、光は吸収され電子・
ホール対が発生する。この電子は電界によりD電極に導
かれ、ホールはi層104内を移動しi層104と絶縁
層107の界面に達する。しかし、絶縁層107内には
移動できないため、i層104内に留まることになる。
このとき電子はD電極に移動し、ホールはi層104内
の絶縁層107界面に移動するため、素子内の電気的中
性を保つためG電極から電流が流れる。この電流は光に
より発生した電子・ホール対に対応するため、入射した
光に比例する。ある期間、図17(B)の光電変換モー
ドを保った後、再び図17(A)のリフレッシュモード
の状態になると、i層104に留まっていたホールは前
述のようにD電極に導かれ、同時にこのホールに対応し
た電流が流れる。このホールの量は光電変換モード期間
に入射した光の総量に対応する。この時i層104内に
注入される電子の量に対応した電流も流れるが、この量
はおよそ一定なため差し引いて検出すればよい。つま
り、本実施形態においての光電変換素子S11〜S33
はリアルタイムに入射する光の量を出力すると同時に、
ある期間に入射した光の総量も出力することもできる。
このことは本実施形態の光電変換素子の大きな特徴とい
える。
To switch from this state to the photoelectric conversion mode shown in FIG. 17B, the D electrode gives a positive potential to the G electrode. Then, the electrons in the i layer 104 are instantly guided to the D electrode. However, holes are not guided to the i layer 104 because the n layer 105 functions as an injection blocking layer. When light enters the i-layer 104 in this state, the light is absorbed and electrons and
A pair of holes is generated. The electrons are guided to the D electrode by the electric field, and the holes move in the i layer 104 and reach the interface between the i layer 104 and the insulating layer 107. However, since it cannot move into the insulating layer 107, it remains inside the i layer 104.
At this time, the electrons move to the D electrode and the holes move to the interface of the insulating layer 107 in the i layer 104, so that a current flows from the G electrode to maintain the electrical neutrality in the element. This current corresponds to the electron-hole pair generated by light and is therefore proportional to the incident light. After maintaining the photoelectric conversion mode of FIG. 17B for a certain period and then returning to the refresh mode of FIG. 17A, the holes remaining in the i layer 104 are guided to the D electrode as described above, At the same time, a current corresponding to this hole flows. The amount of the holes corresponds to the total amount of light incident during the photoelectric conversion mode period. At this time, a current corresponding to the amount of electrons injected into the i layer 104 also flows, but since this amount is approximately constant, it may be detected by subtracting it. That is, the photoelectric conversion elements S11 to S33 in the present embodiment.
Outputs the amount of incident light in real time,
It is also possible to output the total amount of light incident during a certain period.
This can be said to be a major feature of the photoelectric conversion element of this embodiment.

【0060】しかしながら、何らかの理由により光電変
換モードの期間が長くなったり、入射する光の照度が強
い場合、Dのように光の入射があるにもかかわらず電流
が流れないことがある。これは図17(C)のように、
i層104内にホールが多数留まり、このホールのため
i層104内の電界が小さくなり、発生した電子がD電
極に導かれなくなりi層104内のホールと再結合して
しまうからである。この状態で光の入射の状態が変化す
ると、電流が不安定に流れることもあるが、再びリフレ
ッシュモードにすればi層104内のホールは掃き出さ
れ次の光電変換モードでは再び光に比例した電流が得ら
れる。
However, if the period of the photoelectric conversion mode is long for some reason or the illuminance of the incident light is strong, the current may not flow although the light is incident as in D. This is as shown in FIG.
This is because a large number of holes remain in the i layer 104, the electric field in the i layer 104 becomes small due to the holes, and the generated electrons are not guided to the D electrode and are recombined with the holes in the i layer 104. When the light incident state changes in this state, the current may flow unstablely, but when the refresh mode is set again, the holes in the i layer 104 are swept out, and in the next photoelectric conversion mode, it is proportional to the light again. Electric current is obtained.

【0061】また、前述の説明において、リフレッシュ
モードでi層104内のホールを掃き出す場合、全ての
ホールを掃き出すのが理想であるが、一部のホールを掃
き出すだけでも効果はあり、前述と等しい電流が得ら
れ、問題はない。つまり、次の光電変換モードでの検出
機会において図17(C)の状態になっていなければよ
く、リフレッシュモードでのD電極のG電極に対する電
位、リフレッシュモードの期間およびn層105の注入
阻止層の特性を決めればよい。また、さらにリフレッシ
ュモードにおいてi層104への電子の注入は必要条件
でなく、D電極のG電極に対する電位は負に限定される
ものでもない。ホールが多数i層104に留まっている
場合には例えD電極のG電極に対する電位が正の電位で
あってもi層内の電界はホールをD電極に導く方向に加
わるからである。n層105の注入阻止層の特性も同様
に電子をi層104に注入できることが必要条件ではな
い。
Further, in the above description, when sweeping out the holes in the i layer 104 in the refresh mode, it is ideal to sweep out all the holes, but sweeping out only some of the holes is effective, and is equal to the above. The current is obtained and there is no problem. That is, it is sufficient if the state of FIG. 17C is not obtained at the next detection opportunity in the photoelectric conversion mode, the potential of the D electrode with respect to the G electrode in the refresh mode, the period of the refresh mode, and the injection blocking layer of the n layer 105. The characteristics of should be decided. Further, in the refresh mode, injection of electrons into the i layer 104 is not a necessary condition, and the potential of the D electrode with respect to the G electrode is not limited to be negative. This is because when a large number of holes remain in the i layer 104, the electric field in the i layer is applied in the direction of guiding the holes to the D electrode even if the potential of the D electrode with respect to the G electrode is positive. Similarly, the characteristics of the injection blocking layer of the n-layer 105 are not required to be able to inject electrons into the i-layer 104.

【0062】次に図14、図15および図18〜図20
を用いて本実施形態の放射線撮像装置の動作の一例につ
いて説明する。前述の説明のように本実施形態において
の光電変換素子は定期的にリフレッシュすれば光電変換
モードにおいては入射した光に比例した光電流を出力す
る光センサとして動作する。図18は本実施形態の露光
モード中での光情報を読み取る動作とFPN補正用デー
タを読み取る動作を示すタイミングチャートである。ま
ず光情報を読み取る動作[Exposure]を説明す
る。
Next, FIGS. 14, 15 and 18 to 20.
An example of the operation of the radiation imaging apparatus of this embodiment will be described using. As described above, the photoelectric conversion element in this embodiment operates as an optical sensor that outputs a photocurrent proportional to the incident light in the photoelectric conversion mode if refreshed periodically. FIG. 18 is a timing chart showing an operation of reading optical information and an operation of reading FPN correction data in the exposure mode of this embodiment. First, the operation [Exposure] for reading optical information will be described.

【0063】まずシステム制御回路70は二次元エリア
センサ20を図15において上部にRと表現しているリ
フレッシュ動作させる。ここでリフレッシュ動作を説明
する。まず図15に示したシフトレジスタSR1および
SR2により制御配線g1〜g3、s1〜s3にHiが
印加される。すると転送用TFT・T11〜T33とス
イッチM1〜M3がonし導通し、全光電変換素子S1
1〜S33のD電極はGND電位になる(積分検出器A
mpの入力端子はここではGND電位に設計されている
ため)。同時にリフレッシュ制御回路RFがHiを出力
しスイッチSWgがonし全光電変換素子S11〜S3
3のG電極はリフレッシュ用電源Vgにより正電位にな
る。すると全光電変換素子S11〜S33はリフレッシ
ュモードになりリフレッシュされる。つぎにリフレッシ
ュ制御回路RFがLoを出力しスイッチSWsがonし
全光電変換素子S11〜S33のG電極は読み取り用電
源Vsにより負電位になる。すると全光電変換素子S1
1〜S33は光電変換モードになり同時にコンデンサC
11〜C33は初期化される。この状態でシフトレジス
タSR1およびSR2により制御配線g1〜g3、s1
〜s3にLoが印加される。すると転送用TFT・T1
1〜T33とスイッチM1〜M3がoffし、全光電変
換素子S11〜S33のD電極はDC的にはオープンに
なるがコンデンサC11〜C13によって電位は保持さ
れる。しかしこの時点ではX線は入射されていないため
全光電変換素子S11〜S33には光は入射されず光電
流は流れない。これでリフレッシュ動作(R)は終了す
る。
First, the system control circuit 70 causes the two-dimensional area sensor 20 to perform a refresh operation represented by R at the top in FIG. Here, the refresh operation will be described. First, Hi is applied to the control wirings g1 to g3 and s1 to s3 by the shift registers SR1 and SR2 shown in FIG. Then, the transfer TFTs T11 to T33 and the switches M1 to M3 turn on and become conductive, and all the photoelectric conversion elements S1
The D electrodes of 1 to S33 have the GND potential (integral detector A
(The input terminal of mp is designed to be the GND potential here). At the same time, the refresh control circuit RF outputs Hi, the switch SWg is turned on, and all the photoelectric conversion elements S11 to S3.
The G electrode 3 has a positive potential by the refreshing power source Vg. Then, all the photoelectric conversion elements S11 to S33 enter the refresh mode and are refreshed. Next, the refresh control circuit RF outputs Lo, the switch SWs is turned on, and the G electrodes of all the photoelectric conversion elements S11 to S33 are set to a negative potential by the reading power supply Vs. Then, all photoelectric conversion elements S1
1 to S33 are in the photoelectric conversion mode and at the same time the capacitor C
11 to C33 are initialized. In this state, the control wirings g1 to g3, s1 are controlled by the shift registers SR1 and SR2.
Lo is applied to s3. Then transfer TFT T1
1 to T33 and the switches M1 to M3 are turned off, and the D electrodes of all the photoelectric conversion elements S11 to S33 are open in terms of DC, but the potentials are held by the capacitors C11 to C13. However, since X-rays are not incident at this time, no light is incident on all the photoelectric conversion elements S11 to S33 and no photocurrent flows. This completes the refresh operation (R).

【0064】つぎに二次元エリアセンサ20は図18に
おいて上部にDと表現しているダミーの読み出し動作を
する。この理由は先の例で述べた光電変換素子のバイア
ス印加オン時の暗電流と同じ理由で光電変換素子S11
〜S33のG電極の変化でやはり暗電流が流れるためで
ある。ただしこの電流は電界0からバイアス印加の時に
流れる電流に比べるとリフレッシュ用電源Vgの電位や
向き、RFのHiのパルス幅によりある程度は小さくで
きる。ただし完全に0にはならないためダミー読み出し
をすれば小さなWait効果により暗電流は減少する。
また、この動作は後に述べる光情報の電荷読み出しと同
等にしている。シフトレジスタSR1により制御配線g
1にHiの制御パルスが印加され、シフトレジスタSR
2の制御配線s1〜s3への制御パルス印加によって転
送用TFT・T11〜T13、スイッチM1〜M3を通
してv1〜v3が順次出力される。同様にシフトレジス
タSR1、SR2の制御により他の光電変換素子の電荷
も順次v9まで出力される(OUT)。ただし、これら
v1〜v9の出力は使用しない。このダミーの読み出し
動作ではこの出力は使わない。このダミー読み出しは先
に説明した光電変換素子S11〜S33のG電極の変化
による暗電流による電荷をリセットする役割と、この暗
電流が図10(D)のように減衰していくため図10
(A)で示したWaitと同じ効果がある。したがって
ダミー読み出しの回数を増やせば暗電流の悪影響が小さ
くなる。使い勝手も考慮したうえで本実施形態ではこの
ダミー読み出しを2回行っている。
Next, the two-dimensional area sensor 20 performs a dummy read operation represented by D in the upper part of FIG. This is because the photoelectric conversion element S11 has the same reason as the dark current when the bias application is turned on in the photoelectric conversion element described in the previous example.
This is because a dark current still flows due to the change of the G electrode in S33. However, this current can be made smaller than the current flowing when the bias is applied from the electric field 0 to some extent depending on the potential and direction of the refresh power supply Vg and the pulse width of the RF Hi. However, since it does not completely become 0, the dark current is reduced by the small Wait effect if dummy reading is performed.
This operation is the same as the charge reading of optical information described later. Control wiring g by shift register SR1
A Hi control pulse is applied to the shift register SR
By applying control pulses to the two control wirings s1 to s3, v1 to v3 are sequentially output through the transfer TFTs T11 to T13 and the switches M1 to M3. Similarly, charges of other photoelectric conversion elements are sequentially output up to v9 by the control of the shift registers SR1 and SR2 (OUT). However, these outputs v1 to v9 are not used. This output is not used in this dummy read operation. This dummy reading has a role of resetting charges due to a dark current due to a change in the G electrode of the photoelectric conversion elements S11 to S33 described above, and this dark current is attenuated as shown in FIG.
It has the same effect as Wait shown in (A). Therefore, increasing the number of dummy readings reduces the adverse effect of dark current. In this embodiment, the dummy reading is performed twice in consideration of usability.

【0065】その後図18においてEと表現しているX
線のパルス照射を行なう(X13)。このとき二次元エ
リアセンサ20は転送用TFT・T11〜T33はof
fしている。この状態でX線源10はX線パルス13を
発する。するとある一定量の光により流れた光電流は電
荷としてそれぞれのコンデンサC11〜C33に蓄積さ
れX線の入射終了後も保持される。
After that, X which is expressed as E in FIG.
Line pulse irradiation is performed (X13). At this time, the two-dimensional area sensor 20 has transfer TFTs T11 to T33 of of
f. In this state, the X-ray source 10 emits an X-ray pulse 13. Then, a photocurrent flowing by a certain amount of light is accumulated in each of the capacitors C11 to C33 as an electric charge and is retained even after the end of the X-ray incidence.

【0066】さらにその後O1〜9で表現している光情
報を含んだ電荷読み出しを行なう(OUT)。二次元エ
リアセンサ20の動作はダミー読み出しと同じであるが
その出力には光情報、つまり人体等の検体の内部構造の
二次元情報を含んでおりこれをO1〜9としている。こ
のように本実施形態の二次元エリアセンサ20の露光動
作[Exposure]は細かく見て初期化−ダミー読
み出し−ダミー読み出し−露光−読み出し(R−D−D
−E−O)の動作の組み合わせ動作を行なう。
Further, after that, charge reading including optical information represented by O1 to 9 is performed (OUT). The operation of the two-dimensional area sensor 20 is the same as that of the dummy reading, but the output thereof includes optical information, that is, two-dimensional information of the internal structure of the sample such as a human body, which is designated as O1-9. As described above, the exposure operation [Exposure] of the two-dimensional area sensor 20 according to the present embodiment is seen in detail, initialization-dummy reading-dummy reading-exposure-reading (RD-D).
-EO)) combined operation.

【0067】これに対して露光モード時 Exposu
re MODE 中の[Get FPN Data]で
示すFPN補正データ読み取り動作は光情報を読み取る
動作[Exposure]と二次元エリアセンサ20の
動作は同等である。ただしX線はX13のFで示すよう
に発していない。このときの動作をF、そしてつぎのF
PNの情報を含んだ出力FO1〜9を出力する動作をF
Oと表現している。つまり[Get FPN Dat
a]で示すFPN補正データ読み取り動作は初期化−ダ
ミー読み出し−ダミー読み出し−非露光状態−読み出し
(R−D−D−F−FO)の動作の組み合わせ動作を行
なう。
On the other hand, in the exposure mode Exposu
The FPN correction data reading operation indicated by [Get FPN Data] in re MODE is the same as the operation of reading optical information [Exposure] and the operation of the two-dimensional area sensor 20. However, X-rays are not emitted as indicated by F of X13. The operation at this time is F, and the next F
The operation of outputting the outputs FO1 to 9 including the PN information is F
It is expressed as O. In other words, [Get FPN Dat
The FPN correction data reading operation indicated by a] is a combination operation of initialization-dummy reading-dummy reading-non-exposure state-reading (R-D-D-F-FO).

【0068】図16にスタンバイモードにおける初期化
動作[Initialize Sensors]の一例
を示す。動作は図15の露光動作時[Exposur
e]と同等であるが、X線のパルス照射期間Eがない。
また出力も使わない。[Initialize Sen
sors]で示す初期化動作はR−D−D−D′の動作
の組み合わせ動作である。この初期化動作は1回のみで
はなく、複数回周期的に繰り返していれば、光電変換素
子内に流れる暗電流による不要な電荷をリセットするこ
とができ、次の露光動作時に良好な状態をつくれる。よ
ってスタンバイモード中はこの初期化動作を周期的に行
い、光電変換素子の周期的な電荷リセット動作とすると
よい。
FIG. 16 shows an example of the initialization operation [Initialize Sensors] in the standby mode. The operation is performed during the exposure operation of FIG. 15 [Exposure
e], but there is no X-ray pulse irradiation period E.
Also, no output is used. [Initialize Sen
The initialization operation indicated by "sors" is a combined operation of the operations of R-D-D-D '. If this initialization operation is repeated not only once but a plurality of times, unnecessary charges due to dark current flowing in the photoelectric conversion element can be reset, and a good state can be created in the next exposure operation. . Therefore, during the standby mode, this initialization operation may be periodically performed to perform a periodic charge reset operation of the photoelectric conversion element.

【0069】ここで本実施形態のシステム全体の動作の
一例を図14、図15と図20(A)乃至図20(C)
で説明する。二次元エリアセンサ20の動作は例えば図
20(A)、図20(B)及び図20(C)で示すよう
に3とおりが代表的に考えられるが先ず図20(A)で
説明する。無操作時において二次元エリアセンサ20は
休止モードにあり光電変換素子には電界が印加されてい
ない。まず、医師または技師は検査対象である検体つま
り被写体11をX線源10と二次元エリアセンサ20の
間に置き検査したい部位が観察できるように被写体にポ
ーズさせあるいは配置する。およそポーズあるいは配置
が整ったところでスイッチボックス71内のSW1をO
Nにする。すると二次元エリアセンサ20はスタンバイ
モードに移行する。同時に前もって問診等で得た患者の
症状、体格、年齢、物体の組成、大きさや検体の得たい
情報を考慮し最適な撮影出力が得られるように条件を制
御パネル32に入力する。この信号は電気信号でAEコ
ントローラ30に電送される。同時に条件メモリ回路4
0にこれら条件が記憶される。
Here, an example of the operation of the entire system of this embodiment is shown in FIGS. 14 and 15 and FIGS. 20 (A) to 20 (C).
Described in. The operation of the two-dimensional area sensor 20 is typically considered to be three as shown in FIGS. 20 (A), 20 (B) and 20 (C). First, the operation will be described with reference to FIG. 20 (A). When there is no operation, the two-dimensional area sensor 20 is in the rest mode and no electric field is applied to the photoelectric conversion element. First, a doctor or a technician places a specimen to be inspected, that is, the subject 11 between the X-ray source 10 and the two-dimensional area sensor 20, and poses or positions the subject so that the region to be inspected can be observed. When the pose or the arrangement is completed, turn on SW1 in the switch box 71.
Set to N. Then, the two-dimensional area sensor 20 shifts to the standby mode. At the same time, the conditions are input to the control panel 32 in consideration of the patient's symptom, physique, age, composition of the object, size, and desired information of the sample obtained in advance by an interview. This signal is an electric signal and is transmitted to the AE controller 30. At the same time, the condition memory circuit 4
These conditions are stored in 0.

【0070】この状態で制御パネル32内の「READ
Y lamp」が点灯しているのを確認してから医師ま
たは技師がスイッチボックス71内のSW2を押すとそ
の時点で行なわれていた初期化動作[Initiali
ze Sensors]の終了を待って露光モードに移
行し先ず露光動作[Exposure]が開始される。
この時点で温度センサ33は撮影露光時における部屋の
温度や管球の温度および二次元エリアセンサ20等の、
温度により特性が変化し最適な動作条件が変化する構成
部品の温度を検出しAEコントローラ30に入力する。
これら検出される温度はまさに撮影露光される直前の温
度である。同時に条件メモリ回路40にこれら温度が条
件として記憶される。
In this state, "READ" in the control panel 32 is displayed.
When the doctor or the technician presses SW2 in the switch box 71 after confirming that "Y lamp" is lit, the initialization operation [Initiali] performed at that time
After waiting for the end of [ze Sensors], the mode is shifted to the exposure mode and the exposure operation [Exposure] is started.
At this point, the temperature sensor 33 detects the temperature of the room, the temperature of the tube, the two-dimensional area sensor 20, etc. at the time of photographing exposure.
The temperature of a component whose characteristics change with temperature and the optimum operating condition changes is detected and input to the AE controller 30.
These detected temperatures are just the temperatures just before the photographing exposure. At the same time, these temperatures are stored in the condition memory circuit 40 as conditions.

【0071】ここでAEコントローラ30は制御パネル
32からの情報と温度センサ33からの情報で露光動作
時における初期条件を決定する。同時に条件メモリ回路
40にこれら初期条件が記憶される。初期条件の内容は
X線源10の管球の電圧、電流および最大パルス幅や二
次元エリアセンサ20の駆動スピードである。例えば、
制御パネル32で胸部あるいは物体の厚い部分が設定さ
れていればX線源10の管球の電圧は高く、腹部あるい
は物体の薄い部分の場合は低く条件を設定する。また、
制御パネル32で患者が子どもや妊婦又はX線による影
響が与えられる可能性のある構成材が指示されていれ
ば、フォトタイマ31による終了条件を短く設定し、最
大パルス幅も短く設定される。二次元エリアセンサ20
の温度が高い場合は光電変換素子の暗電流が高いがTF
Tの能力が高いため駆動スピードを速くし暗電流の蓄積
を抑えS/Nの低下を防ぐ最適条件にしたり、逆に温度
が低いときはTFTの能力が低いが光電変換素子の暗電
流も低いため駆動スピードを低くしTFTの電荷の転送
の低下による画像の歪みを抑える。
Here, the AE controller 30 determines the initial condition during the exposure operation based on the information from the control panel 32 and the information from the temperature sensor 33. At the same time, these initial conditions are stored in the condition memory circuit 40. The contents of the initial conditions are the voltage, current and maximum pulse width of the bulb of the X-ray source 10 and the driving speed of the two-dimensional area sensor 20. For example,
If the chest or the thick part of the object is set on the control panel 32, the tube voltage of the X-ray source 10 is set high, and if the abdomen or the thin part of the object is set low. Also,
If the control panel 32 indicates a child, a pregnant woman, or a component that may be affected by X-rays, the termination condition by the photo timer 31 is set to be short, and the maximum pulse width is also set to be short. Two-dimensional area sensor 20
When the temperature is high, the dark current of the photoelectric conversion element is high, but TF
Since the capacity of T is high, the driving speed is increased to set the optimum conditions to suppress the accumulation of dark current and prevent the decrease of S / N. Conversely, when the temperature is low, the capacity of the TFT is low but the dark current of the photoelectric conversion element is also low. Therefore, the driving speed is lowered and the distortion of the image due to the reduction of the charge transfer of the TFT is suppressed.

【0072】この初期条件で図20(A)乃至図20
(C)のタイミングEでX線が出射され被写体11を通
過し蛍光体12に入射すると光に変換され、その光がそ
れぞれの光電変換素子S11〜S33に入射する。同時
に被写体11と二次元エリアセンサ20との間におかれ
たフォトタイマ31にも入射する。これら光は人体等の
内部構造の情報が含まれている。フォトタイマ31の出
力は随時AEコントローラ30に入力され、この値の積
分が初期条件で決められた一定値を越えるとAEコント
ローラ30はX線をストップさせる。これにより露光動
作において最適な露光量が得られる。また、もし初期条
件で決められた最大パルス幅になった場合はフォトセン
サ31にかかわらずAEコントローラ30はX線をスト
ップさせる。このとき、条件メモリ回路40にはこれら
実際に出射されたパルス幅を露光時間として記憶され
る。
Under these initial conditions, FIGS.
When the X-ray is emitted at the timing E of (C) and passes through the subject 11 and enters the phosphor 12, it is converted into light, and the light enters the photoelectric conversion elements S11 to S33. At the same time, the light also enters a photo timer 31 placed between the subject 11 and the two-dimensional area sensor 20. These lights include information on the internal structure of the human body and the like. The output of the photo timer 31 is input to the AE controller 30 at any time, and when the integration of this value exceeds a certain value determined by the initial condition, the AE controller 30 stops the X-ray. As a result, an optimum exposure amount can be obtained in the exposure operation. Further, if the maximum pulse width determined by the initial condition is reached, the AE controller 30 stops the X-ray regardless of the photo sensor 31. At this time, the condition memory circuit 40 stores these actually emitted pulse widths as the exposure time.

【0073】このときの光情報を含んだ出力O1〜9は
ゲイン調整回路21に入力されると共にAEコントロー
ラ30にも入力される。AEコントローラ30ではこれ
ら出力を適切な値にするためのゲインを随時判断し、そ
の値を条件メモリ回路40に記憶させると同時にゲイン
調整回路21に指示する。これによりゲイン調整回路2
1の出力は後にそれらを処理するのに最適な撮影出力と
なる。この撮影出力はシステム制御回路70によって制
御されたスイッチ51を介し撮影出力記憶手段であるフ
レームメモリ50に一度記憶される。
The outputs O1 to 9 containing the optical information at this time are input to the gain adjusting circuit 21 and also to the AE controller 30. The AE controller 30 determines the gains for making these outputs appropriate values at any time, stores the values in the condition memory circuit 40, and at the same time, instructs the gain adjustment circuit 21. As a result, the gain adjustment circuit 2
The output of 1 is the optimum shooting output for processing them later. This shooting output is once stored in the frame memory 50, which is a shooting output storage means, via the switch 51 controlled by the system control circuit 70.

【0074】以上の説明のとおり、AEコントローラ3
0は制御パネル32、温度センサ33、フォトタイマ3
1および二次元エリアセンサ20の設定や出力によりX
線源10や二次元エリアセンサ20やゲイン調整回路2
1をほぼリアルタイムに自動制御し、その結果、最適に
近い各種条件で撮影出力を得ることができる。これで露
光動作は終了する。
As described above, the AE controller 3
0 is a control panel 32, a temperature sensor 33, a photo timer 3
X depending on the setting and output of the 1 and 2D area sensor 20
The radiation source 10, the two-dimensional area sensor 20, and the gain adjustment circuit 2
1 can be automatically controlled almost in real time, and as a result, the photographing output can be obtained under various conditions close to the optimum. This completes the exposure operation.

【0075】次に、システム制御回路70はFPN補正
データ読み取り動作に入り再び二次元エリアセンサ20
をリフレッシュ動作、ダミー読み取りさせる。同時にシ
ステム制御回路70は露光動作時に条件メモリ回路40
に記憶された各種条件をAEコントローラ30に呼び出
す。そして、X線源10以外は露光動作時と全く同じ条
件で動作させる。つまり、温度センサ33やフォトタイ
マ31の出力は使わずに条件メモリ回路40に記憶され
た値に基づき動作させる。X線源10は補正モードでは
動作させず、X線は出射しない。ただし、X線源10を
動かさなくとも撮影モード時の露光時間に相当する時間
を待ってから二次元エリアセンサ20は読み出し動作を
行なう。駆動スピードやゲイン調整回路21のゲインは
撮影モードと同じ条件で動作させFPNの情報を含んだ
出力FO1〜9を得る。この時のゲイン調整回路21の
出力を補正出力とする。つまり、X線源10や二次元エ
リアセンサ20やゲイン調整回路21を条件メモリ回路
40の記憶された値に設定制御し補正出力を得ることが
できる。
Next, the system control circuit 70 starts the FPN correction data reading operation, and the two-dimensional area sensor 20 again.
Refresh operation, dummy read. At the same time, the system control circuit 70 controls the condition memory circuit 40 during the exposure operation.
The various conditions stored in are called to the AE controller 30. Then, except for the X-ray source 10, it is operated under exactly the same conditions as during the exposure operation. That is, the outputs of the temperature sensor 33 and the photo timer 31 are not used, and the operation is performed based on the value stored in the condition memory circuit 40. The X-ray source 10 does not operate in the correction mode and does not emit X-rays. However, even if the X-ray source 10 is not moved, the two-dimensional area sensor 20 performs the reading operation after waiting a time corresponding to the exposure time in the photographing mode. The drive speed and the gain of the gain adjusting circuit 21 are operated under the same conditions as in the photographing mode to obtain outputs FO1-9 including FPN information. The output of the gain adjusting circuit 21 at this time is used as a correction output. That is, the X-ray source 10, the two-dimensional area sensor 20, and the gain adjusting circuit 21 can be set and controlled to the values stored in the condition memory circuit 40 to obtain the correction output.

【0076】この補正出力は各画素のダーク時(非照射
時)の電流や、転送時の固定パターンノイズや、二次元
エリアセンサ20の内部のアンプやゲイン調整回路21
のオフセット電圧などを反映した出力である。この補正
出力は露光動作時と同じ蓄積時間であるからダーク時の
電流の蓄積による影響量も同じである。また、この補正
出力は駆動スピードも同じであるからクロックリーク等
の影響による固定パターンの影響量も同じである。さら
にゲインも同じためオフセット電圧の影響量も同じであ
る。つまり、条件メモリ回路40により撮影モードと補
正モードでX線源以外全く同じ動作であるから先に述べ
た影響量のみならずX線の出射、非出射以外の撮影にと
って好ましくない影響量が全て同じになる。したがっ
て、補正出力は撮影出力中の好ましくない誤差だけが同
じ量含まれていることになる。
This correction output is the current of each pixel when dark (non-irradiation), fixed pattern noise at the time of transfer, the amplifier inside the two-dimensional area sensor 20 and the gain adjusting circuit 21.
This output reflects the offset voltage of the. Since this correction output has the same accumulation time as during the exposure operation, the amount of influence due to the accumulation of current during dark is also the same. Further, since the correction output has the same driving speed, the amount of influence of the fixed pattern due to the influence of clock leak is also the same. Further, since the gain is the same, the influence amount of the offset voltage is also the same. That is, since the condition memory circuit 40 operates in exactly the same manner in the photographing mode and the correction mode except for the X-ray source, not only the influence amount described above but also the influence amounts not preferable for photographing other than X-ray emission and non-emission are the same. become. Therefore, the correction output includes the same amount of only the undesired error in the photographing output.

【0077】よって、フレームメモリ50に記憶されて
いる撮影出力をAとし、補正モードで得られた補正出力
をBとし、演算処理回路60で減算処理し、P=A−B
とすると撮影モード時に得られた撮影出力の固定パター
ン等の誤差を取り除いた良好な像情報出力Pとすること
ができる。ここでは、説明の簡単化のため単純な式(P
=A−B)で説明した。尚、補正の方法はこれに限られ
るわけではなく、適宜変更可能である。
Therefore, the photographing output stored in the frame memory 50 is set to A, the correction output obtained in the correction mode is set to B, and the subtraction process is performed by the arithmetic processing circuit 60 to obtain P = AB.
Then, it is possible to obtain a good image information output P by removing an error such as a fixed pattern of the shooting output obtained in the shooting mode. Here, a simple expression (P
= AB). Note that the correction method is not limited to this, and can be changed as appropriate.

【0078】スタンバイモードからSW2がオンして露
光モードに移行する動作については他に図20(B)及
び図20(C)で示した動作法も好ましい。図20
(B)においてはSW2がオンした時点(*)で強制的
に初期化動作をストップし、改めて露光動作を開始して
いる例が示されている。図20(C)はSW2がオンし
た時点で初期化動作のダミー読み取りの2回目が終了し
ていなければダミー2回の終了後、X線を出射してこれ
を露光動作としてしまう。患者などの検体の静止が必要
な場合、その時間(a−b間)は図20(A)よりも図
20(B)、図20(B)よりも図20(C)のほうが
短くすることが可能である。しかし、図20(C)より
も図20(B)、図20(B)よりも図20(A)のほ
うが移行に関して、SW2のオンのタイミングによら
ず、予期されているタイミングでもって動作しているた
め他の動作との最適化が図りやすく、性能を上げやす
い。つまり、図20(A)はシステム全体の初期動作も
露光動作も連続的で変な過渡応答もなくX線制御におけ
る時間的余裕があり制御数も増やせる。図20(B)は
X線制御における時間的余裕があり制御数も増やせる
し、患者などの検体の静止が必要な時間が短い。図20
(C)はパネル動作においては初期動作も露光動作も連
続的で変な過渡応答もなく、かつ患者などの検体の静止
が必要な時間が非常に短い。
As for the operation of switching the SW2 from the standby mode to the exposure mode, the operation method shown in FIGS. 20B and 20C is also preferable. Figure 20
In (B), an example is shown in which the initialization operation is forcibly stopped when the SW2 is turned on (*), and the exposure operation is started again. In FIG. 20C, if the second dummy reading of the initialization operation is not completed when the SW2 is turned on, X-rays are emitted after the dummy two times are completed and this is used as an exposure operation. When a sample such as a patient needs to be stationary, the time (between a and b) in FIG. 20 (B) is shorter than that in FIG. 20 (A), and that in FIG. 20 (C) is shorter than that in FIG. 20 (B). Is possible. However, in FIG. 20 (B) than in FIG. 20 (C), and in FIG. 20 (A) than in FIG. 20 (B), the transition is performed at the expected timing regardless of the timing of turning on the SW2. Therefore, it is easy to optimize with other operations and improve performance. That is, in FIG. 20A, the initial operation and the exposure operation of the entire system are continuous, there is no strange transient response, there is a time margin in the X-ray control, and the number of controls can be increased. In FIG. 20B, there is a time margin in the X-ray control, the number of controls can be increased, and the time required to stop the specimen such as the patient is short. Figure 20
In (C), in the panel operation, both the initial operation and the exposure operation are continuous, there is no strange transient response, and the time required to stop the specimen such as the patient is very short.

【0079】本実施形態の二次元エリアセンサでは説明
を簡単にするために、9個の画素を3×3に二次元配置
し3画素ずつ同時に、3回に分割して転送・出力したも
ので説明したがこれに限らず、例えば縦横1mmあたり
5×5個の画素サイズで2000×2000個の画素を
二次元的に配置すれば40cm×40cmの二次元エリ
アセンサが得られ、医療用X線診断や高精密非破壊検査
を目的とする放射線撮像装置が構成できる。するとフィ
ルムと異なり瞬時にその出力をCRTで映し出すことが
可能で、さらに出力をディジタルに変換しコンピュータ
で画像処理して目的に合わせた出力に変換することも可
能である。また光ディスクや光磁気ディスクなどの保存
手段に保管もでき、過去の画像を瞬時に検索することも
できる。また感度もフィルムより良く人体や環境に影響
の少ない微弱なX線量で鮮明な画像を得ることもでき
る。
In the two-dimensional area sensor of this embodiment, for simplification of description, it is assumed that nine pixels are two-dimensionally arranged in a 3 × 3 array, and three pixels are simultaneously transferred and output in three divisions. However, the present invention is not limited to this. For example, if 2000 × 2000 pixels are arranged two-dimensionally with a pixel size of 5 × 5 pixels per 1 mm in the vertical and horizontal directions, a two-dimensional area sensor of 40 cm × 40 cm can be obtained. A radiation imaging apparatus for the purpose of diagnosis and high precision nondestructive inspection can be configured. Then, unlike the film, the output can be instantly displayed on the CRT, and the output can be converted into digital and processed by a computer to be converted into an output suitable for the purpose. It can also be stored in a storage means such as an optical disk or a magneto-optical disk, so that past images can be retrieved instantly. Also, the sensitivity is better than that of the film, and a clear image can be obtained with a weak X-ray dose that has little influence on the human body and environment.

【0080】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明はこれらに限定するものではない。例えば、
像情報入射装置としてストロボと被写体とレンズにし、
シャッターボタンにスイッチを2ケ実装すればAE機能
を持つスチールカメラとなる。また、ストロボがなくて
も自然光と被写体とレンズでもよく、この場合、光電変
換素子の前にメカニカルシャッターを設けてこれを開け
ることにより露光動作としてもよい。また電気的な制御
により蓄積時間を変化させAE動作とする、いわゆる電
子シャッタとしてもよい。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these. For example,
As an image information injection device, strobe, subject and lens,
By mounting two switches on the shutter button, it becomes a still camera with AE function. Further, natural light, an object, and a lens may be used without a strobe. In this case, an exposure operation may be performed by providing a mechanical shutter in front of the photoelectric conversion element and opening the mechanical shutter. Further, a so-called electronic shutter in which the accumulation time is changed by electrical control to perform the AE operation may be used.

【0081】また撮像手段であるセンサは二次元に並ん
でいなくとも一次元に並ぶ、つまり一次元ラインセンサ
でもよく同様の効果が得られるのは明白である。
Further, it is obvious that the sensor as the image pickup means may be arranged in one dimension even if it is not arranged in two dimensions, that is, a one-dimensional line sensor may be used to obtain the same effect.

【0082】また、休止モードでは光電変換素子に電界
が印加していないとして説明したが他のモード時より電
界を抑えれば効果が得られる。この場合、スタンバイモ
ードの開始直後において電界を印加していない場合と比
べて暗電流が小さくSN比の高い高感度で、また待機状
態[Wait]を短く設定でき使い勝手のよい撮像装置
を提供できる。
In the rest mode, the electric field is not applied to the photoelectric conversion element, but the effect can be obtained by suppressing the electric field as compared with the other modes. In this case, the dark current is small and the SN ratio is high, and the standby state [Wait] can be set short as compared with the case where the electric field is not applied immediately after the start of the standby mode.

【0083】[0083]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
スイッチ手段をオンすることにより光電変換手段に電圧
又は電流を与え、暗電流が減少した後、再度スイッチ手
段をオンすることによりすぐ露光を始められる。
As described above, according to the present invention,
By turning on the switch means, a voltage or current is applied to the photoelectric conversion means, and after the dark current is reduced, the switch means is turned on again to start exposure immediately.

【0084】つまり、光電変換手段に常に電界等を印加
しなくて良く信頼性の高い、暗電流が減少した後の光電
流を利用できショットノイズのないSN比の高い像情報
が得られ、得たい像の直後に露光が開始でき使い勝手の
良い撮像装置が提供できる。
That is, it is not necessary to always apply an electric field or the like to the photoelectric conversion means, and it is possible to use highly reliable photocurrent after the dark current is reduced and obtain image information with a high SN ratio without shot noise. The exposure can be started immediately after the desired image, and an easy-to-use imaging device can be provided.

【0085】また、X線源と組み合わせれば銀塩フィル
ムの代わりに信頼性、感度、使い勝手に優れたディジタ
ル信号の得られる医療診断用あるいは非破壊検査用X線
撮像装置が提供でき、遠隔地においても適切な医師や技
師の診断を得られる。
When combined with an X-ray source, it is possible to provide an X-ray imaging apparatus for medical diagnosis or non-destructive inspection which can obtain a digital signal having excellent reliability, sensitivity and usability, instead of a silver salt film, and can be used in a remote area. You can get appropriate diagnosis from doctors and technicians.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】光電変換装置を有する概略的システムブロック
図である。
FIG. 1 is a schematic system block diagram having a photoelectric conversion device.

【図2】(A)乃至(D)は夫々光電変換装置の駆動及
び出力例を説明するための模式的タイミングチャートで
ある。
FIGS. 2A to 2D are schematic timing charts for explaining driving and output examples of the photoelectric conversion device.

【図3】光電変換装置の駆動例を説明するためのフロー
チャートである。
FIG. 3 is a flowchart illustrating an example of driving the photoelectric conversion device.

【図4】(A)乃至(D)は光電変換装置の駆動及び出
力例を説明するための模式的タイミングチャートであ
る。
4A to 4D are schematic timing charts for explaining examples of driving and output of the photoelectric conversion device.

【図5】光電変換装置の駆動例を説明するためのフロー
チャートである。
FIG. 5 is a flowchart illustrating an example of driving the photoelectric conversion device.

【図6】(A)乃至(D)は光電変換装置の駆動及び出
力例を説明するための模式的タイミングチャートであ
る。
6A to 6D are schematic timing charts for explaining driving and output examples of the photoelectric conversion device.

【図7】光電変換装置の駆動例を説明するためのフロー
チャートである。
FIG. 7 is a flowchart illustrating an example of driving the photoelectric conversion device.

【図8】光電変換装置を有する好適な一例を説明するた
めの概略的なシステムブロック図である。
FIG. 8 is a schematic system block diagram for explaining a preferred example including a photoelectric conversion device.

【図9】(A)乃至(C)は夫々スイッチの好適な一例
を説明するための模式的斜視図である。
FIG. 9A to FIG. 9C are schematic perspective views for explaining a preferable example of a switch.

【図10】(A)乃至(D)は光電変換装置の駆動及び
出力の一例を説明するための模式的タイミングチャート
である。
10A to 10D are schematic timing charts for explaining an example of driving and output of a photoelectric conversion device.

【図11】光電変換装置の駆動例を説明するためのフロ
ーチャートである。
FIG. 11 is a flowchart illustrating an example of driving the photoelectric conversion device.

【図12】(A)乃至(D)は光電変換装置の駆動及び
出力例を説明するための模式的タイミングチャートであ
る。
12A to 12D are schematic timing charts for explaining driving and output examples of the photoelectric conversion device.

【図13】光電変換装置の駆動の一例を説明するための
フローチャートである。
FIG. 13 is a flowchart illustrating an example of driving the photoelectric conversion device.

【図14】光電変換装置を有する撮像装置の一例を説明
するための概略的システムブロック図である。
FIG. 14 is a schematic system block diagram for explaining an example of an imaging device having a photoelectric conversion device.

【図15】光電変換部の一例を説明するための概略的全
体回路図である。
FIG. 15 is a schematic overall circuit diagram for explaining an example of a photoelectric conversion unit.

【図16】(A)は光電変換部一画素の一例を説明する
ための模式的平面図、(B)は光電変換部一画素の一例
を説明するための模式的断面図である。
16A is a schematic plan view for explaining an example of one pixel of a photoelectric conversion section, and FIG. 16B is a schematic cross-sectional view for explaining an example of one pixel of a photoelectric conversion section.

【図17】(A)乃至(C)は夫々光電変換素子の模式
的エネルギバンド図である。
17 (A) to (C) are schematic energy band diagrams of photoelectric conversion elements, respectively.

【図18】光電変換装置の駆動及び出力例を説明するた
めの概略的タイミングチャートである。
FIG. 18 is a schematic timing chart for explaining driving and output examples of the photoelectric conversion device.

【図19】光電変換装置の駆動及び出力例を説明するた
めの概略的タイミングチャートである。
FIG. 19 is a schematic timing chart for explaining an example of driving and output of the photoelectric conversion device.

【図20】(A)乃至(C)はシステム全体の動作の一
例を説明するための概略的動作説明図である。
20A to 20C are schematic operation explanatory diagrams for explaining an example of the operation of the entire system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 センサ部 2 X線源 3 電源 4 制御回路 5 制御回路 1 sensor 2 X-ray source 3 power supplies 4 control circuit 5 control circuit

フロントページの続き Fターム(参考) 4M118 AA01 AA05 AB01 CA03 CB11 CB14 DB09 DD12 FB09 FB13 FB16 GA10 5C022 AA08 AB01 AB15 AB37 AC42 AC69 5C024 AX02 AX12 AX17 CX33 GX02 HX18 HX55 Continued front page    F-term (reference) 4M118 AA01 AA05 AB01 CA03 CB11                       CB14 DB09 DD12 FB09 FB13                       FB16 GA10                 5C022 AA08 AB01 AB15 AB37 AC42                       AC69                 5C024 AX02 AX12 AX17 CX33 GX02                       HX18 HX55

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 二次元に配列した複数の光電変換素子を
含む撮像手段を有する撮像装置において、 撮影露光時の撮影出力を記憶する手段と、 該撮影露光時の撮影条件を記憶する手段と、 前記記憶した撮影条件を用いて補正出力を得る手段と、 前記補正出力を用いて前記撮影出力を補正する手段と、 を有することを特徴とする撮像装置。
1. An imaging apparatus having an imaging means including a plurality of photoelectric conversion elements arranged two-dimensionally, means for storing a shooting output at the shooting exposure, and means for storing shooting conditions at the shooting exposure. An image pickup apparatus comprising: a unit that obtains a correction output using the stored shooting conditions; and a unit that corrects the shooting output using the correction output.
【請求項2】 前記補正出力を得る手段が、前記記憶し
ておいた撮影条件を用いて、前記光電変換素子に光が入
射しない状態で動作させて前記補正出力を得ることを特
徴とする請求項1記載の撮像装置。
2. The correction output means obtains the correction output by operating in a state where no light is incident on the photoelectric conversion element, using the stored photographing condition. Item 1. The imaging device according to item 1.
【請求項3】 前記補正出力を得る手段が、前記記憶し
ておいた撮影条件を用いて、被写体が無い状態の基準光
を前記光電変換素子に入射させて動作させて前記補正出
力を得ることを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
3. The means for obtaining the correction output obtains the correction output by making reference light in the absence of a subject incident on the photoelectric conversion element to operate by using the stored photographing condition. The image pickup apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項4】 前記補正出力を得る手段は、前記撮影条
件によって前記撮像手段の駆動条件を制御する手段を有
することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記
載の撮像装置。
4. The image pickup apparatus according to claim 1, wherein the means for obtaining the correction output has a means for controlling a driving condition of the image pickup means according to the photographing condition.
【請求項5】 更に、X線を可視光に変換する蛍光体を
有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に
記載の撮像装置。
5. The image pickup device according to claim 1, further comprising a phosphor that converts X-rays into visible light.
【請求項6】 光源と、エリアセンサと、 少なくとも前記光源に関する撮影条件を制御するAEコ
ントローラと、 前記AEコントローラの設定値を記憶する条件記憶手段
と、 撮影時の撮影出力を記憶するフレームメモリと、 前記条件記憶手段に記憶された設定値を用いて前記光源
を制御して得られた補正出力を用いて、前記フレームメ
モリに記憶された撮影出力を補正する演算処理回路と、 を有する撮像システム。
6. A light source, an area sensor, an AE controller that controls at least a shooting condition regarding the light source, a condition storage unit that stores a setting value of the AE controller, and a frame memory that stores a shooting output at the time of shooting. An arithmetic processing circuit that corrects the shooting output stored in the frame memory using a correction output obtained by controlling the light source using the set value stored in the condition storage means. .
【請求項7】 更に、ゲイン調整回路を有し、該ゲイン
は前記AEコントローラで、自動ならびに設定制御可能
なことを特徴とする請求項6に記載の撮像システム。
7. The image pickup system according to claim 6, further comprising a gain adjusting circuit, wherein the gain can be automatically and set controlled by the AE controller.
【請求項8】 前記AEコントローラは、前記エリアセ
ンサの蓄積時間、駆動スピードを制御することを特徴と
する請求項6または7に記載の撮像システム。
8. The imaging system according to claim 6, wherein the AE controller controls a storage time and a driving speed of the area sensor.
【請求項9】 更に、X線を可視光に変換する蛍光体を
有することを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に
記載の撮像システム。
9. The imaging system according to claim 6, further comprising a phosphor that converts X-rays into visible light.
【請求項10】 撮影露光時の撮影出力を記憶するステ
ップと、 該撮影露光時の撮影条件を記憶するステップと、 前記撮影露光後に、前記記憶した撮影条件を用いて得ら
れた補正出力により前記撮影出力を補正するステップ
と、 を有することを特徴とする撮像装置の駆動方法。
10. A step of storing a photographing output at the time of photographing exposure, a step of storing a photographing condition at the time of photographing exposure, and a step of storing a photographing output at the time of photographing exposure by a correction output obtained by using the stored photographing condition after the photographing exposure. A method of driving an image pickup apparatus, comprising: a step of correcting a shooting output.
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