JP2003241333A - Heat-developable photosensitive material, imaging method and image recording method - Google Patents

Heat-developable photosensitive material, imaging method and image recording method

Info

Publication number
JP2003241333A
JP2003241333A JP2002036701A JP2002036701A JP2003241333A JP 2003241333 A JP2003241333 A JP 2003241333A JP 2002036701 A JP2002036701 A JP 2002036701A JP 2002036701 A JP2002036701 A JP 2002036701A JP 2003241333 A JP2003241333 A JP 2003241333A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
image forming
layer
photothermographic material
silver
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002036701A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4032766B2 (en
Inventor
Shigeto Goto
成人 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2002036701A priority Critical patent/JP4032766B2/en
Publication of JP2003241333A publication Critical patent/JP2003241333A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4032766B2 publication Critical patent/JP4032766B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-developable photosensitive material having high density, ensuring a small density change with age of the heat-developable photosensitive material and improved in powder falling and occurrence of unevenness in density and roller marks when processed with a heat developing apparatus and to provide an image recording method using the heat-developable photosensitive material. <P>SOLUTION: In the heat-developable photosensitive material, a binder contained in an image forming layer and a binder contained in a layer adjacent to the image forming layer contain a common monomer component (hereinafter referred to as a monomer component A), and when the ratio of the mass of the monomer component A contained in the image forming layer to the mass of the binder contained in the image forming layer is represented by M1 and the ratio of the mass of the monomer component A contained in the layer adjacent to the image forming layer to the mass of the binder contained in the layer adjacent to the image forming layer is represented by M2, the formula 0.1≤M1×M2≤0.95 is satisfied. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料、お
よび該熱現像感光材料を用いた画像記録方法に関し、詳
しくは、高濃度であり、熱現像感光材料の熱現像処理前
および熱現像処理後のいずれにおいても経時での濃度低
下が小さくかぶりが良好であり、熱現像処理装置で処理
した際の粉落ち、濃度むら、ローラーマークの発生を改
良した熱現像感光材料、該熱現像感光材料を用いた画像
形成方法、および画像記録方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material and an image recording method using the photothermographic material. In any of the latter cases, the density decrease with time is small and the fog is good, and the photothermographic material improved in the generation of dust, density unevenness and roller marks when processed by a heat development processor, and the photothermographic material The present invention relates to an image forming method and an image recording method using.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、医療や印刷製版の分野では、画像
形成材料の湿式処理に伴う廃液が作業性の上で問題とな
っており、近年では、環境保全、省スペースの観点から
も処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、熱を加
えるだけで画像形成ができる熱現像感光材料が実用化さ
れ、上記分野で急速に普及してきている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the fields of medical treatment and printing plate making, a waste liquid caused by a wet process of an image forming material has been a problem in terms of workability. Weight loss is strongly desired. Therefore, a photothermographic material capable of forming an image only by applying heat has been put into practical use and is rapidly spreading in the above fields.

【0003】熱現像感光材料(以後単に、熱現像材料又
は感光材料ともいう)自体は既に古くから提案されてお
り、例えば、米国特許第3,152,904号、同第
3,457,075号、D.モーガン(Morgan)
による「ドライシルバー写真材料(Dry Silve
r Photographic Materia
l)」、又はD.H.クロスタベール(Kloster
boer)による「熱によって処理される銀システム
(Thermally Processed Silv
er Systems)」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Pro
cesses and Materials)Nebl
ette 第8版、スタージ(Sturge)、V.ウ
ォールワース(Walworth)、A.シェップ(S
hepp)編集、第279頁、1989年)に記載され
ている。
A photothermographic material (hereinafter also simply referred to as a photothermographic material or a photothermographic material) itself has been proposed for a long time, for example, US Pat. Nos. 3,152,904 and 3,457,075. , D. Morgan
By "Dry Silver Photographic Materials (Dry Silver
r Photographic Material
l) ", or D.I. H. Kloster
Boer) “Thermal Processed Silver
er Systems ”(Imaging Processes and Materials (Imaging Pro
cesses and Materials) Nebl
8th edition, Sturge, V.E. Wallworth, A.S. Shep (S
(pp. 279, 1989).

【0004】この熱現像材料は、通常熱現像処理機とよ
ばれる熱現像材料に安定した熱を加えて画像を形成する
熱現像処理装置により処理される。上述したように近年
の急速な普及に伴い、この熱現像処理装置も、多量に市
場に供給されてきた。ところで熱現像処理時の温湿度条
件によっては、感光材料と熱現像処理装置の搬送ローラ
ーや処理部材との間の滑り性が変化し、搬送不良や濃度
むらが発生してしまうという問題点があった。また熱現
像感光材料の濃度が経時により変動してしまうという問
題点もあった。これらの現象は、レーザ光により画像露
光したのち熱現像により画像形成する熱現像感光材料で
顕著に発生することがわかった。また近年レーザイメー
ジャーのコンパクト化や処理の迅速化が要望されてい
る。そのためには熱現像感光材料の特性向上が必須とな
る。熱現像処理装置のコンパクト化のためには水平搬送
方式よりもヒートドラム方式を使用する方が有利である
が、熱現像処理時に粉落ち、濃度むら、ローラーマーク
が発生しやすい問題点があった。また迅速処理を行って
も十分な熱現像感光材料の濃度を得るためには特開平1
1−295844号、特開平11−352627号に示
されるようにハロゲン化銀として平均粒子サイズの小さ
いものを用いてカバリングパワーをあげたり、ヒドラジ
ン化合物やビニル化合物などの硬調化剤を用いることが
有効である。しかしながらこれらの技術を用いると熱現
像処理後の経時での濃度変化(プリントアウト特性)が
大きくなったり、熱現像時の濃度むらが悪化したりする
という問題点が発生した。また還元剤の量を減らした
り、塗布銀量を下げることでプリントアウト特性の向上
が可能だが、経時で画像濃度が低下する問題が発生し
た。またハロゲン化銀の微粒子化により、一度吸着した
増感色素が脱着されやすくなるためか、処理前でも経時
により画像濃度が低下する問題が発生した。
This heat-developable material is usually processed by a heat-development processing apparatus, which is called a heat-development processing machine, for applying stable heat to the heat-development material to form an image. As described above, with the rapid spread in recent years, a large amount of this heat development processing apparatus has been supplied to the market. By the way, depending on the temperature and humidity conditions during the heat development process, there is a problem that the slipperiness between the photosensitive material and the transfer roller of the heat development processing device or the processing member changes, resulting in defective transfer and uneven density. It was There is also a problem that the density of the photothermographic material changes with time. It was found that these phenomena remarkably occur in a photothermographic material in which an image is formed by heat development after imagewise exposure with a laser beam. Further, in recent years, there has been a demand for a compact laser imager and speedy processing. For that purpose, it is essential to improve the characteristics of the photothermographic material. It is more advantageous to use the heat drum method than the horizontal transfer method for downsizing of the heat development processing apparatus, but there was a problem that powder falling, uneven density, and roller marks were likely to occur during the heat development processing. . Further, in order to obtain a sufficient density of the photothermographic material even if the rapid processing is performed, it is disclosed in JP-A-1
As described in JP-A-1-295844 and JP-A-11-352627, it is effective to use a silver halide having a small average grain size to increase the covering power and to use a contrast adjusting agent such as a hydrazine compound or a vinyl compound. Is. However, when these techniques are used, there arises a problem that the density change (printout characteristics) with time after the heat development processing becomes large, or the density unevenness at the time of heat development is deteriorated. Further, the printout characteristics can be improved by reducing the amount of the reducing agent or the coating amount of silver, but there is a problem that the image density decreases with time. Further, it is likely that the sensitizing dye once adsorbed is likely to be desorbed due to the fine graining of silver halide, possibly causing a problem that the image density decreases with time even before the processing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の課題に
鑑みてなされたものであり、その目的は、高濃度であ
り、熱現像感光材料の熱現像処理前および熱現像処理後
のいずれにおいても経時での濃度低下が小さくかぶりが
良好であり、熱現像処理装置で処理した際の粉落ち、濃
度むら、ローラーマークの発生を改良した熱現像感光材
料、該熱現像感光材料を用いた画像形成方法、および画
像記録方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a high density, either before or after heat development of a photothermographic material. Also has a small decrease in density over time and has good fogging, and a heat-developable light-sensitive material having improved generation of dust, density unevenness and roller marks when processed by a heat-development processing apparatus, and an image using the heat-developable light-sensitive material It is to provide a forming method and an image recording method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成された。
The above objects of the present invention have been achieved by the following constitutions.

【0007】1.支持体上に、有機銀、ハロゲン化銀、
バインダー、還元剤を含有する画像形成層を有する熱現
像感光材料において、該画像形成層に含まれるバインダ
ーと該画像形成層に隣接する層に含まれるバインダーが
共通のモノマー成分(以下モノマー成分Aと記載)を含
み、かつ上記式1を満足することを特徴とする熱現像感
光材料。
1. On the support, organic silver, silver halide,
In a photothermographic material having an image forming layer containing a binder and a reducing agent, the binder contained in the image forming layer and the binder contained in a layer adjacent to the image forming layer have a common monomer component (hereinafter referred to as monomer component A and Described) and satisfying the above formula 1, a photothermographic material.

【0008】2.画像形成層に隣接する層が画像形成層
保護層であることを特徴とする前記1に記載の熱現像感
光材料。
2. 2. The photothermographic material as described in 1 above, wherein the layer adjacent to the image forming layer is an image forming layer protective layer.

【0009】3.画像形成層保護層が少なくとも2層よ
りなることを特徴とする前記2に記載の熱現像感光材
料。
3. 3. The photothermographic material as described in 2 above, wherein the image forming layer protective layer comprises at least two layers.

【0010】4.画像形成層保護層の最外層の形成膜の
ガラス転移温度が、それより下層の画像形成層保護層の
形成膜のガラス転移温度よりも5℃〜50℃高いことを
特徴とする前記3に記載の熱現像感光材料。
4. (3) The glass transition temperature of the film forming the outermost layer of the image forming layer protective layer is 5 to 50 ° C. higher than the glass transition temperature of the film forming film of the lower image forming layer protective layer. Photothermographic material.

【0011】5.還元剤が、上記一般式(A)で表され
るビスフェノール誘導体であることを特徴とする前記1
〜4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
5. 1 wherein the reducing agent is a bisphenol derivative represented by the general formula (A)
5. The photothermographic material according to any one of 4 to 4.

【0012】6.画像形成層を有する側の層がビニル化
合物、ヒドラジン誘導体および4級オニウム塩から選ば
れる少なくとも1種の省銀化剤を含有することを特徴と
する前記1〜5のいずれか1項に記載の熱現像感光材
料。
6. 6. The layer on the side having an image forming layer contains at least one silver saving agent selected from vinyl compounds, hydrazine derivatives and quaternary onium salts, according to any one of 1 to 5 above. Photothermographic material.

【0013】7.平均粒子サイズが10nm〜35nm
であるハロゲン化銀を含有することを特徴とする前記1
〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
7. Average particle size is 10nm-35nm
Wherein the silver halide is
7. The photothermographic material according to any one of 1 to 6.

【0014】8.平均粒子サイズが10nm〜35nm
であるハロゲン化銀と平均粒子サイズが45nm〜10
0nmであるハロゲン化銀を含有することを特徴とする
前記1〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
8. Average particle size is 10nm-35nm
And the average grain size is 45 nm to 10 nm.
7. The photothermographic material according to any one of 1 to 6 above, which contains 0 nm silver halide.

【0015】9.カルコゲン化合物により化学増感され
ているハロゲン化銀を含有することを特徴とする前記1
〜8のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
9. 1 above, which contains a silver halide chemically sensitized by a chalcogen compound
9. The photothermographic material according to any one of to 8.

【0016】10.画像形成層に含有される銀の量が
0.3g/m2〜1.5g/m2であることを特徴とする
前記1〜9のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
10. The photothermographic material according to any one of the 1 to 9, wherein the amount of silver contained in the image forming layer is 0.3g / m 2 ~1.5g / m 2 .

【0017】11.前記1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料をヒートドラムを用いた熱現像処理装
置を使用して熱現像部の搬送速度を20mm/sec〜
200mm/secで熱現像することを特徴とする画像
形成方法。
11. 11. When the heat-developable photosensitive material according to any one of 1 to 10 above is used in a heat-development processing apparatus using a heat drum, the conveyance speed of the heat-development section is 20 mm / sec.
An image forming method characterized by performing heat development at 200 mm / sec.

【0018】12.前記1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料を熱現像処理装置における感光材料供
給部から画像露光部の間の搬送速度を20mm/sec
〜200mm/secとすることを特徴とする画像形成
方法。
12. 11. The transfer speed of the photothermographic material according to any one of 1 to 10 from the photosensitive material supply section to the image exposure section in the heat development processing apparatus is 20 mm / sec.
An image forming method, wherein the image forming method is about 200 mm / sec.

【0019】13.前記1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料を熱現像処理装置における画像露光部
での搬送速度を20mm/sec〜200mm/sec
とすることを特徴とする画像形成方法。
13. 11. The conveyance speed of the photothermographic material according to any one of 1 to 10 at an image exposure unit in a heat development processing apparatus is 20 mm / sec to 200 mm / sec.
An image forming method comprising:

【0020】14.前記1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料を露光面とレーザ光のなす角が実質的
に垂直になることがないレーザ光を用いて走査露光する
ことを特徴とする画像記録方法。
14. 11. An image recording, characterized in that the photothermographic material according to any one of items 1 to 10 is scanned and exposed by using a laser beam in which an angle between the exposed surface and the laser beam is not substantially perpendicular. Method.

【0021】15.前記1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料を露光波長が単一でない縦マルチレー
ザ光を用いて走査露光することを特徴とする画像記録方
法。
15. 11. An image recording method, wherein the photothermographic material according to any one of 1 to 10 above is subjected to scanning exposure using longitudinal multi-laser light having an exposure wavelength which is not single.

【0022】本発明を更に詳しく説明する。請求項1に
おいて、好ましくは、0.2≦M1×M2≦0.9、よ
り好ましくは0.25≦M1×M2≦0.8である。
尚、硬化剤量は、バインダー量に含める。
The present invention will be described in more detail. In claim 1, 0.2 ≦ M1 × M2 ≦ 0.9 is preferable, and 0.25 ≦ M1 × M2 ≦ 0.8 is more preferable.
The amount of curing agent is included in the amount of binder.

【0023】請求項4において、保護層の最外層の形成
膜のガラス転移温度が、それより下層の保護層の形成膜
のガラス転移温度よりも好ましくは10℃〜40℃高
く、より好ましくは15℃〜35℃高い。
In claim 4, the glass transition temperature of the film forming the outermost layer of the protective layer is preferably 10 to 40 ° C. higher than the glass transition temperature of the film forming the protective layer below the protective layer, and more preferably 15 ° C. ℃ -35 ℃ higher.

【0024】請求項7において、ハロゲン化銀の平均粒
子サイズが10nmより小さいと画像濃度が低下した
り、光照射画像保存性が劣化したりすることがある。ま
た35nmを超えると画像濃度が低下してしまうことが
ある。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が
立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合には、
ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、ハロゲン化
銀粒子が平板状粒子である場合には主表面の投影面積と
同面積の円像に換算したときの直径をいう。
In claim 7, when the average grain size of silver halide is smaller than 10 nm, the image density may be lowered, or the storability of the light-irradiated image may be deteriorated. If it exceeds 35 nm, the image density may decrease. The grain size referred to here means that when the silver halide grains are cubic or octahedral so-called normal crystals,
It refers to the length of the edges of silver halide grains. Further, when the silver halide grains are tabular grains, it means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface.

【0025】その他正常晶でない場合、たとえば球状粒
子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と
同等な球を考えたときの直径を粒子サイズとして算出す
る。測定は電子顕微鏡を用いて行い、300個の粒子サ
イズの測定値を平均することで平均粒子サイズを求め
た。
In the case of other non-normal crystals, for example, spherical grains, rod-shaped grains, etc., the diameter when considering a sphere equivalent to the volume of silver halide grains is calculated as the grain size. The measurement was performed using an electron microscope, and the average particle size was obtained by averaging the measured values of 300 particle sizes.

【0026】請求項7において、ハロゲン化銀の平均粒
子サイズは10nm〜30nmが特に好ましい。
In the seventh aspect, the average grain size of silver halide is particularly preferably 10 nm to 30 nm.

【0027】請求項8において、平均粒子サイズが45
nm〜100nmであるハロゲン化銀を平均粒子サイズ
が10nm〜35nmであるハロゲン化銀と併用するこ
とで画像濃度を向上させたり、経時での画像濃度低下を
改善(小さく)することができる。
In claim 8, the average particle size is 45
By using a silver halide having a particle size of 100 nm to 100 nm in combination with a silver halide having an average particle size of 10 nm to 35 nm, it is possible to improve the image density or improve (small) the decrease in the image density over time.

【0028】平均粒子サイズが10nm〜35nmであ
るハロゲン化銀と平均粒子サイズが45nm〜100n
mであるハロゲン化銀との質量比は、好ましくは95:
5〜50:50であり、より好ましくは90:10〜6
0:40である。
Silver halide having an average grain size of 10 nm to 35 nm and an average grain size of 45 nm to 100 n
The mass ratio with the silver halide which is m is preferably 95:
5 to 50:50, and more preferably 90:10 to 6
It is 0:40.

【0029】請求項11において、ヒートドラムを用い
た熱現像処理装置を使用しての熱現像部の搬送速度は好
ましくは25mm/sec〜150mm/sec、より
好ましくは30mm/sec〜100mm/secであ
る。
In the eleventh aspect, the transport speed of the heat developing section using the heat developing apparatus using the heat drum is preferably 25 mm / sec to 150 mm / sec, more preferably 30 mm / sec to 100 mm / sec. is there.

【0030】請求項12において感光材料供給部から画
像露光部の間の搬送速度は、好ましくは25mm/se
c〜150mm/sec、より好ましくは30mm/s
ec〜100mm/secである。
In the twelfth aspect, the conveying speed from the photosensitive material supplying section to the image exposing section is preferably 25 mm / se.
c to 150 mm / sec, more preferably 30 mm / s
ec to 100 mm / sec.

【0031】請求項13において画像露光部での搬送速
度は好ましくは25mm/sec〜150mm/se
c、より好ましくは30mm/sec〜100mm/s
ecである。
In the thirteenth aspect, the conveying speed in the image exposing section is preferably 25 mm / sec to 150 mm / se.
c, more preferably 30 mm / sec to 100 mm / s
ec.

【0032】以下に本発明の構成要素について説明す
る。本発明において、銀画像形成のための銀イオン供給
源としての有機銀塩としては、有機酸及びヘテロ有機酸
の銀塩、特にこの中でも長鎖の(炭素数10〜30、好
ましくは15〜25)脂肪族カルボン酸の銀塩、及び含
窒素複素環化合物の銀塩が好ましい。配位子が銀イオン
に対する総安定度常数として4.0〜10.0の値をも
つようなリサーチ・ディスクロージャー(以下単にRD
ともいう)17029及び29963に記載された有機
又は無機の錯体も好ましい。これら好適な銀塩の例とし
ては以下のものが挙げられる。
The components of the present invention will be described below. In the present invention, the organic silver salt as a silver ion supply source for silver image formation is a silver salt of an organic acid or a heteroorganic acid, particularly a long chain (having 10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 25 carbon atoms). ) A silver salt of an aliphatic carboxylic acid and a silver salt of a nitrogen-containing heterocyclic compound are preferable. Research Disclosure (hereinafter simply referred to as RD) in which the ligand has a total stability constant of 4.0 to 10.0 for silver ions.
Also referred to as 17029 and 29963, organic or inorganic complexes are also preferable. Examples of these suitable silver salts include the following.

【0033】有機酸の銀塩、例えば、没食子酸、蓚酸、
ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の銀塩;銀のカルボキシアルキルチオ
尿素塩、例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ
尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメ
チルチオ尿素等の銀塩;アルデヒドとヒドロキシ置換芳
香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀塩乃至錯
体、例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、ブチルアルデヒド等)とヒドロキシ置換酸
類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−ジヒドロ
キシ安息香酸)の反応生成物の銀塩乃至錯体;チオン類
の銀塩又は錯体、例えば、3−(2−カルボキシエチ
ル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン−2−チ
オン、及び3−カルボキシメチル−4−チアゾリン−2
−チオン等の銀塩乃至錯体;イミダゾール、ピラゾー
ル、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テ
トラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,
4−トリアゾール及びベンズトリアゾールから選択され
る窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリン、5−クロ
ロサリチルアルドキシム等の銀塩;銀メルカプチド類等
を挙げることができる。
Silver salts of organic acids such as gallic acid, oxalic acid,
Silver salts such as behenic acid, stearic acid, arachidic acid, palmitic acid, and lauric acid; silver carboxyalkyl thiourea salts, for example, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3, Silver salts such as 3-dimethylthiourea; silver salts or complexes of polymer reaction products of aldehydes and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids, such as aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, etc.) and hydroxy-substituted acids (eg, salicylic acid) , Benzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid), a silver salt or complex of a reaction product thereof; a silver salt or complex of thiones, for example, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline- 2-thione, and 3-carboxymethyl-4-thiazoline-2
-Silver salts or complexes such as thione; imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,
Examples thereof include complexes or salts of silver with a nitrogen acid selected from 4-triazole and benztriazole; silver salts such as saccharin and 5-chlorosalicylaldoxime; silver mercaptides and the like.

【0034】これらの中、特に好ましい銀塩としては、
ベヘン酸銀、アラキジン酸銀及びステアリン酸銀などの
長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)脂
肪族カルボン酸の銀塩が挙げられる。
Of these, particularly preferred silver salts are
Examples thereof include silver salts of long-chain (10 to 30 carbon atoms, preferably 15 to 25 carbon atoms) aliphatic carboxylic acids such as silver behenate, silver arachidate and silver stearate.

【0035】又、本発明においては有機銀塩が2種以上
混合されていることが現像性を上げ高濃度、高コントラ
ストの銀画像を形成する上で好ましく、例えば2種以上
の有機酸混合物に銀イオン溶液を混合して調製すること
が好ましい。
In the present invention, it is preferable that two or more kinds of organic silver salts are mixed in order to improve developability and form a silver image of high density and high contrast. For example, a mixture of two or more kinds of organic acids can be used. It is preferably prepared by mixing a silver ion solution.

【0036】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェット法によ
り、前記ソープと硝酸銀などを混合して有機銀塩の結晶
を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させても
よい。
The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound which forms a complex with silver. The forward mixing method, the reverse mixing method, the simultaneous mixing method, and JP-A-9-12764.
The controlled double jet method described in No. 3 is preferably used. For example, by adding an alkali metal salt (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) to an organic acid, an organic acid alkali metal salt soap (for example,
Sodium behenate, sodium arachidate, etc.) are prepared, and then the soap and silver nitrate are mixed by the controlled double jet method to prepare organic silver salt crystals. At that time, silver halide grains may be mixed.

【0037】本発明に係る上記の有機銀塩は種々の形状
のものを使用できるが、平板状の粒子が好ましい。特
に、アスペクト比3以上の平板状有機銀塩粒子であり、
且つ、最大面積を有する2枚のほぼ平行に相対する面
(主平面)の形状異方性を小さくして感光層中での充填
率をあげるため、主平面方向から計測される該平板状有
機銀塩粒子の針状比率の平均値が1.1以上10.0未
満である粒子が好ましい。なお、更に好ましい針状比率
は1.1以上5.0未満である。
The organic silver salt according to the present invention may be used in various shapes, but tabular grains are preferred. In particular, tabular organic silver salt particles having an aspect ratio of 3 or more,
In addition, in order to reduce the shape anisotropy of two substantially parallel surfaces (main planes) having the maximum area to increase the filling rate in the photosensitive layer, the flat organic film is measured from the main plane direction. Particles having an average acicular ratio of silver salt particles of 1.1 or more and less than 10.0 are preferable. A more preferable acicular ratio is 1.1 or more and less than 5.0.

【0038】また、本発明において、アスペクト比3以
上の平板状有機銀塩粒子であるとは、前記平板状有機銀
塩粒子が全有機銀塩粒子の個数の50%以上を占めるこ
とを表す。更に、本発明に係る有機銀塩は、アスペクト
比3以上の平板状有機銀塩粒子が全有機銀塩粒子の個数
の60%以上を占めることが好ましく、更に好ましくは
70%以上(個数)であり、特に好ましくは80%以上
(個数)である。
In the present invention, the tabular organic silver salt particles having an aspect ratio of 3 or more means that the tabular organic silver salt particles account for 50% or more of the total number of organic silver salt particles. Further, in the organic silver salt according to the present invention, it is preferable that tabular organic silver salt particles having an aspect ratio of 3 or more account for 60% or more of the total number of organic silver salt particles, and more preferably 70% or more (number). And particularly preferably 80% or more (number).

【0039】本発明において、アスペクト比3以上の平
板状粒子とは粒径と厚さの比、下記式で表されるいわゆ
るアスペクト比(ARと略す)が3以上の粒子である。
In the present invention, the tabular grains having an aspect ratio of 3 or more are grains having a ratio of grain size to thickness and a so-called aspect ratio (abbreviated as AR) represented by the following formula of 3 or more.

【0040】AR=粒径(μm)/厚さ(μm) 本発明に係る平板状有機銀塩粒子のアスペクト比は、好
ましくは、3〜20であり、さらに好ましくは3〜10
である。その理由としては、アスペクト比が低すぎる
と、有機銀塩粒子が最密されやすくなり、また、アスペ
クト比があまりに高い場合には、有機銀塩粒子同士が重
なりやすく、また、くっついた状態で分散されやすくな
るので光散乱等が起きやすくなり、その結果として感光
材料の透明感の低下をもたらすので、上記記載の範囲が
好ましい。
AR = particle size (μm) / thickness (μm) The aspect ratio of the tabular organic silver salt particles according to the present invention is preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 10.
Is. The reason is that if the aspect ratio is too low, the organic silver salt particles are likely to be most densely packed, and if the aspect ratio is too high, the organic silver salt particles are likely to overlap with each other, and the particles are dispersed in a sticky state. The above range is preferable because light is likely to be generated and light scattering is likely to occur, resulting in deterioration of transparency of the light-sensitive material.

【0041】上記記載の有機銀塩粒子の粒径を測定する
には、分散後の有機銀塩を希釈してカーボン支持膜付き
グリッド上に分散し、透過型電子顕微鏡(例えば、日本
電子製、2000FX型、直接倍率5000倍)によ
り、写真撮影を行い、粒径を測定する。なお、平均粒径
を求める場合は、スキャナにてネガ画像をデジタル画像
として取り込み、適当な画像処理ソフトを用いて粒径
(円相当径)を300個以上測定し、平均粒径を算出す
る。
In order to measure the particle size of the above-mentioned organic silver salt particles, the organic silver salt after dispersion is diluted and dispersed on a grid with a carbon support film, and a transmission electron microscope (for example, manufactured by JEOL, A photograph is taken with a 2000FX type, direct magnification of 5000 times), and the particle size is measured. When obtaining the average particle diameter, a negative image is captured as a digital image with a scanner, 300 or more particle diameters (equivalent circle diameters) are measured using an appropriate image processing software, and the average particle diameter is calculated.

【0042】上記記載の有機銀塩粒子の厚さを求めるに
は、下記に示すようなTEM(透過型電子顕微鏡)を用
いた方法により算出する。
The thickness of the above-mentioned organic silver salt particles is determined by a method using a TEM (transmission electron microscope) as shown below.

【0043】まず、支持体上に塗布された画像形成層を
接着剤により適当なホルダーに貼り付け、支持体面と垂
直な方向にダイヤモンドナイフを用いて厚さ0.1〜
0.2μmの超薄切片を作製する。作製された超薄切片
を、銅メッシュに支持させ、グロー放電により親水化さ
れたカーボン膜上に移し液体窒素により−130℃以下
に冷却しながら透過型電子顕微鏡(以下TEMと称す)
を用いて、倍率5,000倍乃至40,000倍にて明
視野像を観察し、画像はフィルム、イメージングプレー
ト、CCDカメラなどに素早く記録する。この際、観察
される視野としては切片に破れや弛みがない部分を適宜
選択することが好ましい。
First, the image-forming layer coated on the support is attached to an appropriate holder with an adhesive, and the thickness of the support is adjusted to 0.1 to 0.1 with a diamond knife in a direction perpendicular to the surface of the support.
Make 0.2 μm ultrathin sections. The produced ultra-thin section was supported on a copper mesh, transferred onto a carbon film hydrophilized by glow discharge, and cooled with liquid nitrogen to -130 ° C. or below while being a transmission electron microscope (hereinafter referred to as TEM).
A bright field image is observed with a magnification of 5,000 to 40,000 times, and the image is quickly recorded on a film, an imaging plate, a CCD camera or the like. At this time, it is preferable to appropriately select a portion where the slice is not broken or loosened as the field of view to be observed.

【0044】カーボン膜としては極薄いコロジオン、ホ
ルムバールなど有機膜に支持されたものを使用すること
が好ましく、更に好ましくは、岩塩基板上に形成し基板
を溶解除去して得るか、または、上記有機膜を有機溶
媒、イオンエッチングにより除去して得られたカーボン
単独の膜である。TEMの加速電圧としては80乃至4
00kVが好ましく、特に好ましくは80乃至200k
Vである。
As the carbon film, it is preferable to use an ultrathin collodion, formbar, or the like supported on an organic film. More preferably, the carbon film is formed on a rock salt substrate and the substrate is dissolved and removed. It is a film of carbon alone obtained by removing the film by an organic solvent and ion etching. The acceleration voltage of TEM is 80 to 4
00kV is preferable, particularly preferably 80 to 200k
V.

【0045】適当な媒体に記録されたTEM画像は、画
像1枚を少なくとも1024画素×1024画素、好ま
しくは2048画素×2048画素以上に分解しコンピ
ュータによる画像処理をおこなうことが好ましい。画像
処理をおこなうためには、フィルムに記録されたアナロ
グ画像はスキャナなどでデジタル画像に変換し、シェー
ディング補正、コントラスト・エッジ強調などを必要に
応じて施すことが好ましい。その後、ヒストグラムを作
製し2値化処理によって有機銀塩粒子に相当する箇所を
抽出する。
For a TEM image recorded on a suitable medium, it is preferable that one image is decomposed into at least 1024 pixels × 1024 pixels, preferably 2048 pixels × 2048 pixels or more, and image processing is performed by a computer. In order to perform image processing, it is preferable that an analog image recorded on a film is converted into a digital image by a scanner or the like, and shading correction, contrast / edge emphasis, etc. are performed as necessary. After that, a histogram is prepared and a portion corresponding to the organic silver salt particles is extracted by the binarization process.

【0046】平均厚さを求めるには、上記抽出した有機
銀塩粒子の厚さを300個以上適当なソフトでマニュア
ル測定し、平均値を求める。
To determine the average thickness, the thickness of the above-extracted organic silver salt particles is manually measured by 300 or more pieces with an appropriate software, and the average value is determined.

【0047】又、平板状有機銀塩粒子の針状比率の平均
値は下記の方法により求められる。まず、平板状有機銀
塩粒子を含む感光層を光感光層バインダーを溶解可能な
有機溶媒にて膨潤させて支持体上から剥離し、上記溶媒
を用いた超音波洗浄、遠心分離、上澄み除去を5回繰り
返す。尚、上記工程はセーフライト下に実施する。
Further, the average value of the acicular ratio of the tabular organic silver salt particles can be obtained by the following method. First, the photosensitive layer containing the tabular organic silver salt particles is swollen with an organic solvent capable of dissolving the photosensitive layer binder and peeled from the support, and ultrasonic cleaning using the above solvent, centrifugation, and removal of the supernatant are performed. Repeat 5 times. The above steps are carried out under safelight.

【0048】続いて、有機銀固形分濃度が0.01%に
なるようにMEK(メチルエチルケトン)にて希釈し、
超音波分散した後、グロー放電により親水化されたポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に滴下し乾燥させ
る。
Subsequently, it was diluted with MEK (methyl ethyl ketone) so that the organic silver solid content concentration was 0.01%,
After ultrasonic dispersion, it is dropped onto a polyethylene terephthalate film hydrophilized by glow discharge and dried.

【0049】粒子が搭載されたフィルムは真空蒸着装置
にてフィルム面に対して30°の角度から厚さとして3
nmのPt−Cを電子ビームにより斜め蒸着した後、観
察に使用することが好ましい。
The film on which the particles are mounted has a thickness of 3 from an angle of 30 ° with respect to the film surface by a vacuum vapor deposition device.
After obliquely depositing Pt-C of nm with an electron beam, it is preferably used for observation.

【0050】その他、電子顕微鏡観察技法、および試料
作製技法の詳細については「日本電子顕微鏡学会関東支
部編/医学・生物学電子顕微鏡観察法」(丸善)、「日
本電子顕微鏡学会関東支部編/電子顕微鏡生物試料作製
法」(丸善)をそれぞれ参考にすることができる。
For details of the electron microscope observation technique and the sample preparation technique, "Electron Microscope Society of Japan Kanto Branch Edition / Medical / Biological Electron Microscope Observation Method" (Maruzen), "Electron Microscope Society of Japan Kanto Chapter Edition / Electronics" Microscopic biological sample preparation method "(Maruzen) can be referred to respectively.

【0051】作製された試料は電界放射型走査電子顕微
鏡(以下FE−SEMと称す)を用いて加速電圧2kV
ないし4kVにて倍率として5000〜20000倍に
て二次電子像を観察し、適当な記録媒体への画像保存を
おこなう。
The produced sample was subjected to an accelerating voltage of 2 kV using a field emission scanning electron microscope (hereinafter referred to as FE-SEM).
The secondary electron image is observed at a magnification of 5,000 to 20,000 at 4 to 4 kV and the image is stored in an appropriate recording medium.

【0052】上記処理のためには電子顕微鏡本体からの
画像信号をAD変換し直接メモリ上にデジタル情報とし
て記録可能な装置を用いるのが便利であるが、ポラロイ
ド(登録商標)フィルムなどに記録されたアナログ画像
もスキャナなどでデジタル画像に変換し、シェーディン
グ補正、コントラスト・エッジ強調などを必要に応じ施
すことにより使用することができる。
For the above processing, it is convenient to use a device capable of AD-converting the image signal from the electron microscope main body and directly recording it as digital information on the memory, but it is recorded on Polaroid (registered trademark) film or the like. Also, an analog image can be used by converting it into a digital image with a scanner or the like, and performing shading correction, contrast / edge enhancement, etc. as necessary.

【0053】適当な媒体に記録された画像は、画像1枚
を少なくとも1024画素×1024画素、好ましくは
2048画素×2048画素以上に分解し、コンピュー
タによる画像処理を行うことが好ましい。
For images recorded on a suitable medium, it is preferable to decompose one image into at least 1024 pixels × 1024 pixels, preferably 2048 pixels × 2048 pixels or more, and perform image processing by a computer.

【0054】上記記載の画像処理の手順としては、ま
ず、ヒストグラムを作製し2値化処理によって、アスペ
クト比3以上の有機銀塩粒子に相当する箇所を抽出す
る。やむを得ず凝集した粒子は適当なアルゴリズムまた
はマニュアル操作にて切断し輪郭抽出をおこなう。その
後、各粒子の最大長(MX LNG)および粒子の最小
幅(WIDTH)を少なくとも1000個の粒子に関し
て各々測定し、各粒子ごとに下記式にて針状比率を求め
る。ここで、粒子の最大長とは粒子内の2点を直線で結
んだ時の最大値をいう。粒子の最小幅とは粒子に外接す
る2本の平行線を引いた時、平行線の距離が最小値にな
る時の値をいう。
As a procedure of the image processing described above, first, a histogram is prepared and binarization processing is performed to extract a portion corresponding to an organic silver salt particle having an aspect ratio of 3 or more. The unavoidably agglomerated particles are cut by an appropriate algorithm or manual operation to extract the contour. Then, the maximum length (MX LNG) and the minimum width (WIDTH) of each particle are measured for at least 1000 particles, and the acicular ratio is calculated for each particle by the following formula. Here, the maximum length of a particle means the maximum value when two points in the particle are connected by a straight line. The minimum width of a particle means a value when the distance between the parallel lines becomes minimum when two parallel lines circumscribing the particle are drawn.

【0055】 針状比率=(MX LNG)÷(WIDTH) その後、計測された全粒子に関する針状比率の平均値を
算出する。上記手順で計測をおこなう際にはあらかじ
め、標準試料を用いて、1画素あたりの長さ補正(スケ
ール補正)および計測系の2次元ひずみの補正を十分に
おこなうことが好ましい。標準試料としては米国ダウケ
ミカル社より市販されるユニフォーム・ラテックス・パ
ーティクルス(DULP)が適当であり、0.1ないし
0.3μmの粒径に対して10%未満の変動係数を有す
るポリスチレン粒子が好ましく、具体的には粒径0.2
12μm、標準偏差0.0029μmというロットが入
手可能である。
Needle ratio = (MX LNG) ÷ (WIDTH) After that, the average value of the needle ratio for all the measured particles is calculated. When performing the measurement according to the above procedure, it is preferable to sufficiently perform length correction per pixel (scale correction) and two-dimensional distortion correction of the measurement system using a standard sample in advance. As a standard sample, uniform latex particles (DULP) commercially available from Dow Chemical Company in the United States are suitable, and polystyrene particles having a coefficient of variation of less than 10% for a particle size of 0.1 to 0.3 μm are suitable. Preferably, specifically a particle size of 0.2
Lots with 12 μm and standard deviation 0.0029 μm are available.

【0056】画像処理技術の詳細は「田中弘編 画像処
理応用技術(工業調査会)」を参考にすることができ、
画像処理プログラムまたは装置としては上記操作が可能
なものであれば特に限定はされないが、一例としてニレ
コ社製Luzex−IIIが挙げられる。
Details of the image processing technology can be referred to “Hiroshi Tanaka, Image Processing Application Technology (Industrial Research Committee)”,
The image processing program or device is not particularly limited as long as the above operations can be performed, and an example thereof is Luzex-III manufactured by Nireco.

【0057】前記の形状を有する有機銀塩粒子を得る方
法としては、特に限定されないが、有機酸アルカリ金属
塩ソープ形成時の混合状態および/または前記ソープに
硝酸銀を添加する際の混合状態などを良好に保つこと
や、ソープと反応する硝酸銀の割合を最適にすることな
どが有効である。
The method for obtaining the organic silver salt particles having the above-mentioned shape is not particularly limited, but the mixed state when the organic acid alkali metal salt soap is formed and / or the mixed state when silver nitrate is added to the soap is used. It is effective to keep it good and to optimize the proportion of silver nitrate that reacts with soap.

【0058】本発明に係る平板状有機銀塩粒子は必要に
応じバインダーや界面活性剤などと共に予備分散した
後、メディア分散機または高圧ホモジナイザなどで分散
粉砕することが好ましい。上記予備分散にはアンカー
型、プロペラ型等の一般的攪拌機や高速回転遠心放射型
攪拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型撹拌機(ホモミ
キサ)を使用することができる。
The tabular organic silver salt particles according to the present invention are preferably predispersed with a binder, a surfactant and the like, if necessary, and then dispersed and pulverized by a media disperser or a high pressure homogenizer. For the above preliminary dispersion, a general stirrer such as an anchor type or a propeller type, a high-speed rotating centrifugal radiating stirrer (dissolver), or a high-speed rotating shearing stirrer (homomixer) can be used.

【0059】また、上記メディア分散機としては、ボー
ルミル、遊星ボールミル、振動ボールミルなどの転動ミ
ルや、媒体攪拌ミルであるビーズミル、アトライター、
その他バスケットミルなどを用いることが可能であり、
高圧ホモジナイザとしては壁、プラグなどに衝突するタ
イプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させる
タイプ、細いオリフィスを通過させるタイプなど様々な
タイプを用いることができる。
Further, as the above-mentioned media disperser, a rolling mill such as a ball mill, a planetary ball mill, a vibrating ball mill, a bead mill which is a medium stirring mill, an attritor,
It is possible to use other basket mills,
As the high-pressure homogenizer, various types such as a type that collides with a wall or a plug, a type that divides a plurality of liquids and then collides liquids at high speed, a type that allows a liquid to pass through a thin orifice, and the like can be used.

【0060】メディア分散時に使用されるセラミックス
ビーズに用いられるセラミックスとしては、例えば、A
23、BaTiO3、SrTiO3、MgO、ZrO、
BeO、Cr23、SiO2、SiO2−Al23、Cr
23−MgO、MgO−CaO、MgO−C、MgO−
Al23(スピネル)、SiC、TiO2、K2O、Na
2O、BaO、PbO、B23、SrTiO3(チタン酸
ストロンチウム)、BeAl24、Y3Al512、Zr
2−Y23(立方晶ジルコニア)、3BeO−Al2
3−6SiO2(合成エメラルド)、C(合成ダイヤモン
ド)、Si2O−nH2O、チッカ珪素、イットリウム安
定化ジルコニア、ジルコニア強化アルミナ等が好まし
い。分散時におけるビーズや分散機との摩擦による不純
物生成が少ない等の理由から、イットリウム安定化ジル
コニア、ジルコニア強化アルミナ(これらジルコニアを
含有するセラミックスを以下においてジルコニアと略
す)が特に好ましく用いられる。
Examples of the ceramics used for the ceramic beads used at the time of dispersing the media include A
l 2 O 3 , BaTiO 3 , SrTiO 3 , MgO, ZrO,
BeO, Cr 2 O 3, SiO 2, SiO 2 -Al 2 O 3, Cr
2 O 3 -MgO, MgO-CaO, MgO-C, MgO-
Al 2 O 3 (spinel), SiC, TiO 2 , K 2 O, Na
2 O, BaO, PbO, B 2 O 3 , SrTiO 3 (strontium titanate), BeAl 2 O 4 , Y 3 Al 5 O 12 , Zr
O 2 -Y 2 O 3 (cubic zirconia), 3BeO-Al 2 O
3 -6SiO 2 (Synthesis emerald), C (diamond), Si 2 O-nH 2 O, ticker silicon, yttrium stabilized zirconia, zirconia toughened alumina, and the like are preferable. Yttrium-stabilized zirconia and zirconia-reinforced alumina (ceramics containing these zirconia are abbreviated as zirconia in the following) are particularly preferably used because, for example, impurities are less likely to be generated by friction with beads or a disperser during dispersion.

【0061】本発明に係る平板状有機銀塩粒子を分散す
る際に用いられる装置類において、該有機銀塩粒子が接
触する部材の材質としてジルコニア、アルミナ、窒化珪
素、窒化ホウ素などのセラミックス類またはダイヤモン
ドを用いることが好ましく、中でも、ジルコニアを用い
ることが好ましい。
In the apparatus used for dispersing the tabular organic silver salt particles according to the present invention, as a material of the member with which the organic silver salt particles come into contact, ceramics such as zirconia, alumina, silicon nitride, boron nitride or the like, or It is preferable to use diamond, and above all, it is preferable to use zirconia.

【0062】上記分散をおこなう際、バインダー濃度は
有機銀塩質量の0.1〜10%添加することが好まし
く、予備分散から本分散を通して液温が45℃を上回ら
ないことが好ましい。また、本分散の好ましい運転条件
としては、例えば高圧ホモジナイザを分散手段として用
いる場合には、29.42mPa〜98.06mPa、
運転回数は2回以上が好ましい運転条件として挙げられ
る。又、メディア分散機を分散手段として用いる場合に
は、周速が6m/秒から13m/秒が好ましい条件とし
て挙げられる。
When carrying out the above-mentioned dispersion, the binder concentration is preferably 0.1 to 10% of the mass of the organic silver salt, and it is preferable that the liquid temperature does not exceed 45 ° C. from the preliminary dispersion to the main dispersion. The preferred operating conditions for the main dispersion are, for example, 29.42 mPa to 98.06 mPa when a high-pressure homogenizer is used as the dispersion means.
The number of times of operation is preferably 2 or more as a preferable operation condition. When the media disperser is used as the dispersing means, the peripheral speed is preferably 6 m / sec to 13 m / sec.

【0063】又、本発明に係る熱現像感光材料において
好ましい態様は、当該材料の支持体面と垂直な断面を電
子顕微鏡観察した時、0.025μm2未満の投影面積
を示す有機銀塩粒子の割合が有機銀塩粒子の全投影面積
の70%以上を示し、且つ、0.2μm2以上の投影面
積を示す粒子の割合が有機銀塩粒子の全投影面積の10
%以下である特徴を有する有機銀塩、さらには感光性ハ
ロゲン化銀を含有する感光性乳剤を塗布してなるもので
ある。このような場合、感光性乳剤中において有機銀塩
粒子の凝集が少なく、且つ、均一に分布した状態を得る
ことができる。
In a preferred embodiment of the photothermographic material according to the present invention, the proportion of organic silver salt particles exhibiting a projected area of less than 0.025 μm 2 when the section of the material perpendicular to the support surface is observed with an electron microscope. Represents 70% or more of the total projected area of the organic silver salt particles, and the proportion of particles having a projected area of 0.2 μm 2 or more is 10% of the total projected area of the organic silver salt particles.
% Or less, and an organic silver salt having a characteristic of not more than%, and a photosensitive emulsion containing a photosensitive silver halide are coated. In such a case, it is possible to obtain a state in which the organic silver salt particles are less aggregated and uniformly distributed in the photosensitive emulsion.

【0064】このような特徴を有する感光性乳剤を作製
する条件としては、特に限定されないが、有機酸アルカ
リ金属塩ソープ形成時の混合状態および/または前記ソ
ープに硝酸銀を添加する際の混合状態などを良好に保つ
ことや、ソープと反応する硝酸銀の割合を最適にするこ
と、分散粉砕にはメディア分散機または高圧ホモジナイ
ザなどで分散すること、その際バインダーの使用量(濃
度)としては有機銀塩質量の0.1〜10%とするこ
と、乾燥から本分散終了までの温度が45℃を上回らな
いことなどに加えて、調液時にはディゾルバを使用し周
速2.0m/秒以上で攪拌することなどが好ましい条件
として挙げられる。
The conditions for producing the photosensitive emulsion having such characteristics are not particularly limited, but the mixed state at the time of forming the organic acid alkali metal salt soap and / or the mixed state at the time of adding silver nitrate to the soap, etc. To maintain good quality, to optimize the proportion of silver nitrate that reacts with soap, to disperse and grind with a media disperser or a high-pressure homogenizer, and the amount (concentration) of binder used should be the organic silver salt. In addition to being 0.1 to 10% of the mass, the temperature from the drying to the end of the main dispersion not exceeding 45 ° C., etc., and stirring at a peripheral speed of 2.0 m / sec or more using a dissolver during liquid preparation. That is mentioned as a preferable condition.

【0065】上記記載のような特定の投影面積値を有す
る有機銀塩粒子の投影面積や全投影面積にしめる割合な
どは、上記記載の平板状粒子の平均厚さを求める個所で
記載したと同様に、TEM(透過型電子顕微鏡)を用い
た方法により、有機銀塩粒子に相当する個所を抽出す
る。
The projected area of the organic silver salt grains having a specific projected area value as described above, the ratio of the projected area to the total projected area, and the like are the same as those described in the section for obtaining the average thickness of the tabular grains described above. , TEM (transmission electron microscope) is used to extract the portions corresponding to the organic silver salt particles.

【0066】この際に凝集した有機銀塩粒子はひとつの
粒子と見なして処理し各粒子の面積(AREA)を求め
る。同様にして少なくとも1,000個、好ましくは
2,000個の粒子について面積を求め、それぞれにつ
いて、A:0.025μm2未満、B:0.025μm2
以上0.2μm2未満、C:0.2μm2以上の3つの群
に分類する。本発明の感光材料は、A群に属する粒子の
面積の合計が測定された全粒子の面積の70%以上であ
り、かつC群に属する粒子の面積の合計が測定された全
粒子の面積の10%以下を満たすものであることが好ま
しい。
At this time, the organic silver salt particles aggregated are regarded as one particle and treated to determine the area (AREA) of each particle. Similarly, the area of at least 1,000 particles, preferably 2,000 particles, was determined, and for each of them, A: less than 0.025 μm 2 and B: 0.025 μm 2
It is classified into three groups of not less than 0.2 μm 2 and C: 0.2 μm 2 or more. The light-sensitive material of the present invention has a total area of the particles belonging to the group A of 70% or more of the measured total particles, and a total area of the particles belonging to the group C of the total area of the measured particles. It preferably satisfies 10% or less.

【0067】上記手順で計測をおこなう際にはあらかじ
め、標準試料を用いて、1画素あたりの長さ補正(スケ
ール補正)および計測系の2次元ひずみの補正を上述し
た針状比率の平均値を算出する際に行った方法を用いる
ことが好ましい。
Before performing the measurement in the above procedure, the standard sample is used in advance to perform the length correction (scale correction) per pixel and the two-dimensional strain correction of the measurement system by the average value of the above-mentioned needle-like ratio. It is preferable to use the method used for the calculation.

【0068】画像処理技術の詳細は前記と同様「田中弘
編 画像処理応用技術(工業調査会)」を参考にするこ
とができ、画像処理プログラムまたは装置としては上記
操作が可能なのであれば特に限定はされないが、やはり
一例として前記と同様ニレコ社製Luzex−IIIが挙
げられる。
The details of the image processing technology can be referred to “Hiroshi Tanaka, Image Processing Application Technology (Industrial Research Committee)” as described above, and the image processing program or apparatus is not particularly limited as long as the above operation can be performed. However, as an example, Luzex-III manufactured by Nireco Co., Ltd. may be mentioned as an example.

【0069】本発明に係る有機銀塩粒子は、単分散粒子
であることが好ましく、好ましい単分散度としては1〜
30%であり、この範囲の単分散粒子にすることによ
り、濃度の高い画像が得られる。ここでいう単分散度と
は、下記式で定義される。
The organic silver salt particles according to the present invention are preferably monodisperse particles, and the preferable monodispersity is 1 to
It is 30%, and by using monodisperse particles in this range, a high density image can be obtained. The monodispersity here is defined by the following formula.

【0070】単分散度={(粒径の標準偏差)/(粒径
の平均値)}×100 上記記載の有機銀塩の平均粒径(円相当径)は0.01
〜0.2μmが好ましく、更に好ましくは、0.02〜
0.15μmである。なお、平均粒径(円相当径)と
は、電子顕微鏡で観察される個々の粒子像と等しい面積
を有する円の直径を表す。
Monodispersity = {(standard deviation of grain size) / (average value of grain size)} × 100 The average grain size (equivalent circle diameter) of the organic silver salt described above is 0.01.
To 0.2 μm is preferable, and more preferably 0.02 to
It is 0.15 μm. The average particle size (equivalent circle diameter) means the diameter of a circle having the same area as each particle image observed by an electron microscope.

【0071】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.3g以上1.5g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで医用画像として用
いる場合は、好ましい画像が得られる。1m2当たり
0.3g未満では画像濃度が低下してしまうことがあ
る。また、1m2当たり1.5gを越えるとかぶりが増
加したり、PS版への焼き付け時に感度低下をおこして
しまうことがある。
In the present invention, in order to prevent devitrification of the light-sensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably 0.3 g or more and 1.5 g or less per 1 m 2 in terms of silver amount. . Within this range, a preferable image can be obtained when it is used as a medical image. If it is less than 0.3 g per 1 m 2 , the image density may decrease. If it exceeds 1.5 g per 1 m 2 , fog may increase or the sensitivity may decrease when printing on a PS plate.

【0072】本発明に係るハロゲン化銀(以下、感光性
ハロゲン化銀粒子またはハロゲン化銀粒子ともいう)に
ついて説明する。なお、本発明に係るハロゲン化銀と
は、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸
収し得て、又は、人為的に物理化学的な方法により可視
光ないし赤外光を吸収し得て、かつ紫外光領域から赤外
光領域の光波長範囲内のいずれかの領域の光を吸収した
ときに当該ハロゲン化銀結晶内及び/又は結晶表面にお
いて物理化学的変化が起こり得るように処理製造された
ハロゲン化銀結晶粒子をいう。
The silver halide (hereinafter, also referred to as photosensitive silver halide grains or silver halide grains) according to the present invention will be described. Incidentally, the silver halide according to the present invention is capable of intrinsically absorbing light as a unique property of a silver halide crystal, or absorbing visible light or infrared light by an artificial physicochemical method. In order to obtain a physicochemical change in the silver halide crystal and / or the crystal surface when the light is absorbed in any region within the light wavelength range from the ultraviolet light region to the infrared light region. It means a processed and produced silver halide crystal grain.

【0073】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子自体
は、P.Glafkides著 Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The FocalPr
ess刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著 Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤(ハロゲン化
銀乳剤ともいう)として調製することができる。即ち、
酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、又
可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法として
は、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいず
れを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコン
トロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する所謂コント
ロールドダブルジェット法が好ましい。ハロゲン組成と
しては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化
銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよ
い。
The silver halide grains themselves used in the present invention are described in P. Glafkides Chimie et
Physique Photographique (P
aul Montel, 1967), G.A. F. D
by Uffin Photographic Emuls
Ion Chemistry (The FocalPr
ess, 1966), V.I. L. Zelikman
Et al. Making and Coating
Photographic Emulsion (Th
e Focal Press, 1964) and the like to prepare a silver halide grain emulsion (also referred to as a silver halide emulsion). That is,
Any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method and the like may be used, and as a method of reacting the soluble silver salt and the soluble halogen salt, any of a one-sided mixing method, a simultaneous mixing method and a combination thereof may be used. Among the above methods, the so-called controlled double jet method, in which silver halide grains are prepared while controlling the forming conditions, is preferable. The halogen composition is not particularly limited and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide.

【0074】粒子形成は通常、ハロゲン化銀種粒子
(核)生成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれ
らを連続的に行う方法でもよく、又核(種粒子)形成と
粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件で
あるpAg、pH等をコントロールして粒子形成を行う
コントロールドダブルジェット法が粒子形状やサイズの
コントロールができるので好ましい。例えば、核生成と
粒子成長を分離して行う方法を行う場合には、先ず銀塩
水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急
速に混合させ核(種粒子)生成(核生成工程)した後、
コントロールされたpAg、pH等のもとで銀塩水溶液
とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長
工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、
脱塩工程により不要な塩類等をヌードル法、フロキュレ
ーション法、限外濾過法、電気透析法等公知の脱塩法に
より除くことで所望のハロゲン化銀乳剤を得ることがで
きる。
Grain formation is usually divided into two stages of silver halide seed grain (nucleus) formation and grain growth, and a method of continuously performing them at one time may be used. Alternatively, nucleation (seed grain) formation and grain growth may be carried out. A method of performing the separation may be used. The controlled double jet method in which particles are formed by controlling particle forming conditions such as pAg and pH is preferable because the shape and size of particles can be controlled. For example, when performing the method of performing nucleation and grain growth separately, first, the silver salt aqueous solution and the halide aqueous solution are uniformly and rapidly mixed in the gelatin aqueous solution to form nuclei (seed particles) (nucleation step). ,
Silver halide grains are prepared by a grain growth step of growing grains while supplying an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution under controlled pAg, pH and the like. After particle formation,
In the desalting step, unnecessary salts and the like are removed by a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method or an electrodialysis method to obtain a desired silver halide emulsion.

【0075】本発明において、ハロゲン化銀粒子の粒子
サイズは単分散であることが好ましい。ここでいう単分
散とは、下記式で求められる粒子サイズの変動係数が3
0%以下をいう。好ましくは20%以下であり、更に好
ましくは15%以下である。
In the present invention, the grain size of the silver halide grains is preferably monodisperse. Here, the monodisperse means that the coefficient of variation of particle size obtained by the following formula is 3
It means 0% or less. It is preferably 20% or less, more preferably 15% or less.

【0076】粒子サイズの変動係数%=(粒径の標準偏
差/粒径の平均値)×100ハロゲン化銀粒子の形状と
しては立方体、八面体、14面体粒子、平板状粒子、球
状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子などを挙げること
ができるが、これらの中、特に、立方体、八面体、14
面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
Coefficient of variation of grain size% = (standard deviation of grain size / average value of grain size) × 100 The shape of silver halide grains is cubic, octahedron, tetradecahedral grain, tabular grain, spherical grain, rod-like grain. Particles, potato-like particles and the like can be mentioned, and among these, in particular, cubic, octahedral, 14
Hedron and tabular silver halide grains are preferred.

【0077】平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平
均アスペクト比は好ましくは1.5以上100以下、よ
り好ましくは2以上50以下である。これらについては
米国特許第5,264,337号、同第5,314,7
98号、同第5,320,958号等に記載されてお
り、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。
When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 1.5 or more and 100 or less, more preferably 2 or more and 50 or less. These are described in U.S. Pat. Nos. 5,264,337 and 5,314,7.
No. 98, No. 5,320,958, etc., and the target tabular grain can be easily obtained. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used.

【0078】ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については
特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素
の吸着反応において、晶癖(面)選択性を有する増感色
素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相
対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用するこ
とが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面
に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロ
ゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合
が高いことが好ましく、この割合が50%以上であるこ
とが好ましく、70%以上であることがより好まし、8
0%以上であることが特に好ましい。なお、ミラー指数
〔100〕面の比率は増感色素の吸着における〔11
1〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.T
ani,J.Imaging Sci.,29,165
(1985年)により求めることができる。
The crystal habit on the outer surface of the silver halide grain is not particularly limited, but a sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity is used in the adsorption reaction of the sensitizing dye on the surface of the silver halide grain. In some cases, it is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habit adapted to the selectivity. For example, when a sensitizing dye that selectively adsorbs on a crystal plane having a Miller index of [100] is used, the proportion of the [100] plane on the outer surface of the silver halide grain is preferably high, and this proportion is 50. % Or more, more preferably 70% or more, 8
It is particularly preferably 0% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is [11] in the adsorption of the sensitizing dye.
T. 1 utilizing the adsorption dependence between the [1] plane and the [100] plane. T
ani, J .; Imaging Sci. , 29,165
(1985).

【0079】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、
該粒子形成時に平均分子量5万以下の低分子量ゼラチン
を用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀
粒子の核形成時に用いることが好ましい。
The silver halide grains used in the present invention are
It is preferable to use low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of grain formation, and it is particularly preferable to use at the time of nucleation of silver halide grains.

【0080】本発明において低分子量ゼラチンは、平均
分子量5万以下のものが好ましく、より好ましくは20
00〜40000であり、特に好ましくは5000〜2
5000である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロ
マトグラフィーで測定することができる。
In the present invention, the low molecular weight gelatin preferably has an average molecular weight of 50,000 or less, more preferably 20.
0 to 40,000, particularly preferably 5000 to 2
It is 5000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography.

【0081】低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均
分子量10万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素
を加えて酵素分解したり、酸又はアルカリを加えて加熱
し加水分解したり、大気圧下又は加圧下での加熱により
熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方
法を併用したりして得ることができる。
The low-molecular weight gelatin is obtained by adding a gelatin-decomposing enzyme to a commonly used aqueous gelatin solution having an average molecular weight of about 100,000 for enzymatic decomposition, or adding an acid or an alkali to heat and hydrolyze, or at atmospheric pressure or under pressure. It can be obtained by thermal decomposition by heating at 1, or decomposition by irradiation with ultrasonic waves, or by combining those methods.

【0082】核形成時の分散媒の濃度は5質量%以下が
好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのが
より好ましい。
The concentration of the dispersion medium at the time of nucleation is preferably 5% by mass or less, more preferably 0.05 to 3.0% by mass.

【0083】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、
該粒子形成時に下記の一般式で表される化合物を用いる
ことが好ましい。
The silver halide grains used in the present invention are
At the time of forming the particles, it is preferable to use a compound represented by the following general formula.

【0084】一般式 YO(CH2CH2O)m(CH(CH3)CH2O)p(C
2CH2O)nY 式中、Yは水素原子、−SO3M、又は−CO−B−C
OOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アン
モニウム基又は炭素原子数5以下のアルキル基にて置換
されたアンモニウム基を表し、Bは有機2塩基性酸を形
成する鎖状又は環状の基を表す。m及びnは各々0〜5
0を表し、pは1〜100を表す。
The general formula YO (CH 2 CH 2 O) m (CH (CH 3 ) CH 2 O) p (C
During H 2 CH 2 O) n Y formula, Y is a hydrogen atom, -SO 3 M, or -CO-B-C
Represents OOM, M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group or an ammonium group substituted with an alkyl group having 5 or less carbon atoms, and B represents a chain or cyclic group forming an organic dibasic acid Represents m and n are 0 to 5 respectively
Represents 0 and p represents 1 to 100.

【0085】上記の一般式で表されるポリエチレンオキ
シド化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料を製造するに
際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に
水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳
剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌した
り、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤と
して好ましく用いられてきたものであり、消泡剤として
用いる技術は例えば特開昭44−9497号に記載され
ている。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化
合物は核形成時の消泡剤としても機能する。
The polyethylene oxide compound represented by the above general formula is a step of producing an aqueous gelatin solution and a step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to the gelatin solution in producing a silver halide photographic light-sensitive material. , It has been preferably used as an antifoaming agent against remarkable foaming when the emulsion raw material is stirred or moved, such as the step of coating the emulsion on a support. It is described in JP-A-44-9497. The polyethylene oxide compound represented by the above general formula also functions as a defoaming agent during nucleation.

【0086】上記一般式で表される化合物は銀に対して
1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは
0.01〜0.1質量%で用いる。
The compound represented by the above general formula is preferably used in an amount of 1% by mass or less, more preferably 0.01 to 0.1% by mass, based on silver.

【0087】上記一般式で表されるポリエチレンオキシ
ド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の
分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に
添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハ
ライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくはハラ
イド水溶液若しくは両方の水溶液に0.01〜2.0質
量%で添加して用いることである。又、上記一般式で表
される化合物は核形成工程の少なくとも50%に亘る時
間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは70%
以上に亘る時間で存在せしめる。上記一般式で表される
化合物は粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶か
して添加してもよい。
The polyethylene oxide compound represented by the above general formula has only to be present at the time of nucleation and is preferably added in advance to the dispersion medium before nucleation, but it may be added during nucleation. However, it may be added to an aqueous silver salt solution or an aqueous halide solution used for nucleation. It is preferable to add 0.01 to 2.0% by mass to an aqueous halide solution or both aqueous solutions. The compound represented by the above general formula is preferably allowed to exist for at least 50% of the time of the nucleation step, more preferably 70%.
It is allowed to exist in the time spanning the above. The compound represented by the above general formula may be added as a powder or may be dissolved in a solvent such as methanol and added.

【0088】なお、核形成時の温度は通常5〜60℃、
好ましくは15〜50℃であり、一定の温度であって
も、昇温パターン(例えば、核形成開始時の温度が25
℃で、核形成中徐々に温度を挙げ、核形成終了時の温度
が40℃の様な場合)やその逆のパターンであっても前
記温度範囲内で制御するのが好ましい。
The temperature during nucleation is usually 5 to 60 ° C.,
The temperature is preferably 15 to 50 ° C., and even at a constant temperature, a heating pattern (for example, the temperature at the start of nucleation is 25
It is preferable that the temperature is gradually raised during the nucleation at 0 ° C. and the pattern is controlled within the above temperature range even in the case where the temperature at the end of the nucleation is 40 ° C.) or the reverse pattern.

【0089】核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水
溶液の濃度は3.5モル/リットル以下が好ましく、更
には0.01〜2.5モル/リットルの低濃度域で使用
されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度
は、反応液1l当たり1.5×10-3モル/分〜3.0
×10-1モル/分が好ましく、更に好ましくは3.0×
10-3モル/分〜8.0×10-2モル/分である。
The concentration of the aqueous silver salt solution and the aqueous halide solution used for nucleation is preferably 3.5 mol / liter or less, and more preferably used in a low concentration range of 0.01 to 2.5 mol / liter. The rate of addition of silver ions during nucleation is 1.5 × 10 −3 mol / min to 3.0 per 1 l of the reaction solution.
× 10 -1 mol / min is preferable, and 3.0 × is more preferable.
It is 10 −3 mol / min to 8.0 × 10 −2 mol / min.

【0090】核形成時のpHは通常1.7〜10の範囲
に設定できるが、アルカリ側のpHでは形成する核の粒
径分布を広げてしまうので好ましくはpH2〜6であ
る。又、核形成時のpBrは通常0.05〜3.0であ
り、好ましくは1.0〜2.5、より好ましくは1.5
〜2.0である。
The pH at the time of nucleation can be usually set in the range of 1.7 to 10, but it is preferably pH 2 to 6 because the particle size distribution of the nuclei formed is widened at the pH on the alkaline side. The pBr at the time of nucleation is usually 0.05 to 3.0, preferably 1.0 to 2.5, more preferably 1.5.
Is about 2.0.

【0091】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子はい
かなる方法で画像形成層に添加されてもよく、このとき
ハロゲン化銀粒子は還元可能な銀源(有機銀塩)に近接
するように配置するのが好ましい。
The silver halide grains used in the present invention may be added to the image forming layer by any method, and the silver halide grains are arranged so as to be close to the reducible silver source (organic silver salt). Is preferred.

【0092】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は予
め調製しておき、これを有機銀塩粒子を調製するための
溶液に添加するのが、ハロゲン化銀調製工程と有機銀塩
粒子調製工程を分離して扱えるので製造コントロール上
も好ましいが、英国特許第1,447,454号に記載
されている様に、有機銀塩粒子を調製する際にハライド
イオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共存させ
これに銀イオンを注入することで有機銀塩粒子の生成と
ほぼ同時に生成させることもできる。
The silver halide grains used in the present invention are prepared in advance and added to a solution for preparing the organic silver salt grains in the silver halide preparing step and the organic silver salt grain preparing step. Since it can be handled separately, it is preferable in terms of production control. However, as described in British Patent No. 1,447,454, a halogen component such as a halide ion is used as an organic silver salt-forming component when preparing organic silver salt particles. By co-existing with and injecting silver ions into the co-existing material, the organic silver salt particles can be generated almost at the same time.

【0093】又、有機銀塩にハロゲン含有化合物を作用
させ、有機銀塩のコンバージョンによりハロゲン化銀粒
子を調製することも可能である。即ち、予め調製された
有機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシ
ート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀
塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもでき
る。
It is also possible to react the organic silver salt with a halogen-containing compound to prepare silver halide grains by conversion of the organic silver salt. That is, a part or part of the organic silver salt is converted into a photosensitive silver halide by allowing a silver halide-forming component to act on a solution or dispersion of an organic silver salt prepared in advance or a sheet material containing the organic silver salt. You can also

【0094】ハロゲン化銀形成成分としては、無機ハロ
ゲン化合物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素
類、N−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物が
あり、その具体例については米国特許第4,009,0
39号、同第3,457,075号、同第4,003,
749号、英国特許第1,498,956号各明細書及
び特開昭53−27027号、同53−25420号各
公報に詳説される金属ハロゲン化物、ハロゲン化アンモ
ニウム等の無機ハロゲン化物、例えばトリメチルフェニ
ルアンモニウムブロマイド、セチルエチルジメチルアン
モニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウム
ブロマイドの様なオニウムハライド類、例えばヨードフ
ォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、2−ブロム−2
−メチルプロパン等のハロゲン化炭化水素類、N−ブロ
ム琥珀酸イミド、N−ブロムフタルイミド、N−ブロム
アセトアミド等のN−ハロゲン化合物、その他例えば、
塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチル、2
−ブロム酢酸、2−ブロムエタノール、ジクロロベンゾ
フェノン等がある。この様にハロゲン化銀を有機酸銀塩
とハロゲンイオンとの反応により有機酸銀塩中の銀の一
部又は全部をハロゲン化銀に変換することによって調製
することもできる。また、別途調製したハロゲン化銀に
これらの有機銀塩の一部をコンバージョンすることで製
造したハロゲン化銀粒子を併用してもよい。
As the silver halide-forming component, there are inorganic halogen compounds, onium halides, halogenated hydrocarbons, N-halogen compounds and other halogen-containing compounds. Specific examples thereof are described in US Pat. No. 4,009, 0
No. 39, No. 3,457,075, No. 4,003.
No. 749, British Patent No. 1,498,956 and JP-A Nos. 53-27027 and 53-25420, inorganic halides such as metal halides and ammonium halides, for example, trimethyl. Onium halides such as phenylammonium bromide, cetylethyldimethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium bromide, such as iodoform, bromoform, carbon tetrachloride, 2-bromo-2.
-Halogenated hydrocarbons such as methylpropane, N-halogen compounds such as N-bromosuccinimide, N-bromophthalimide, N-bromoacetamide, etc.
Triphenylmethyl chloride, triphenylmethyl bromide, 2
-Bromacetic acid, 2-bromoethanol, dichlorobenzophenone and the like. Thus, silver halide can also be prepared by converting a part or all of silver in the organic acid silver salt into silver halide by reacting the organic acid silver salt with a halogen ion. Further, silver halide grains produced by converting a part of these organic silver salts to separately prepared silver halide may be used together.

【0095】これらのハロゲン化銀粒子は、別途調製し
たハロゲン化銀粒子、有機銀塩のコンバージョンによる
ハロゲン化銀粒子とも、有機銀塩1モルに対し0.00
1モル乃至0.7モル使用するのが好ましく、0.03
モル乃至0.5モル使用するのがより好ましい。
These silver halide grains, both separately prepared silver halide grains and silver halide grains obtained by conversion of an organic silver salt, are contained in an amount of 0.001 per mol of the organic silver salt.
It is preferable to use 1 mol to 0.7 mol, 0.03
More preferably, it is used in a mole to 0.5 mole.

【0096】本発明に用いられるハロゲン化銀には、元
素周期律表の6族から11族に属する遷移金属のイオン
を含有することが好ましい。上記の金属としては、W、
Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、O
s、Ir、Pt、Auが好ましい。これらは1種類でも
同種或いは異種の金属錯体を2種以上併用してもよい。
これらの金属イオンは金属塩をそのままハロゲン化銀に
導入してもよいが、金属錯体又は錯体イオンの形でハロ
ゲン化銀に導入できる。含有率は銀1モルに対し1×1
-9モルから1×10-2モルの範囲が好ましく、1×1
-8〜1×10 -4の範囲がより好ましい。本発明におい
ては、遷移金属錯体又は錯体イオンは下記一般式で表さ
れるものが好ましい。
The silver halide used in the present invention is originally composed of
Ions of transition metals belonging to groups 6 to 11 of the periodic table
It is preferable to contain As the above metal, W,
Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, O
s, Ir, Pt, and Au are preferable. Even one of these
You may use together 2 or more types of the same or different metal complex.
These metal ions directly convert the metal salt into silver halide.
It may be introduced, but it may also be introduced in the form of a metal complex or complex ion.
Can be introduced into silver genide. Content is 1 x 1 for 1 mol of silver
0-91 x 10 from mole-2A molar range is preferred, 1 × 1
0-8~ 1 x 10 -FourIs more preferable. The present invention
The transition metal complex or complex ion is represented by the following general formula.
Those that can be used are preferred.

【0097】一般式〔ML6m 式中、Mは元素周期表の6〜11族の元素から選ばれる
遷移金属、Lは配位子を表し、mは0、−、2−、3−
又は4−を表す。Lで表される配位子の具体例として
は、ハロゲンイオン(弗素イオン、塩素イオン、臭素イ
オン、沃素イオン)、シアナイド、シアナート、チオシ
アナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジ
ド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等
が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニト
ロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位
子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Lは同一で
もよく、また異なっていてもよい。
In the general formula [ML 6 ] m , M is a transition metal selected from the elements of groups 6 to 11 of the periodic table, L is a ligand, and m is 0,-, 2-, 3-.
Or represents 4-. Specific examples of the ligand represented by L include halogen ion (fluoride ion, chlorine ion, bromine ion, iodine ion), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide and aco. Examples include ligands, nitrosyl, thionitrosyl, and the like, with preference given to ako, nitrosyl, thionitrosyl, and the like. When an aco ligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

【0098】これらの金属のイオン又は錯体イオンを提
供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロ
ゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、
化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、核形
成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、核
形成、成長の段階で添加するのがより好ましく、特に好
ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては、数
回にわたって分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒
子中に均一に含有させることもできるし、特開昭63−
29603号、特開平2−306236号、同3−16
7545号、同4−76534号、同6−110146
号、同5−273683号等に記載されている様に粒子
内に分布をもたせて含有させることもできる。
It is preferable that a compound providing an ion or a complex ion of these metals is added at the time of silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grain. Preparation of the silver halide grain, that is, nucleation and growth. , Physical aging,
It may be added at any stage before and after the chemical sensitization, but it is preferably added at the stage of nucleation, growth and physical ripening, more preferably at the stage of nucleation and growth, particularly preferably the nucleus. Add at the stage of formation. Upon addition, it may be added dividedly over several times, or it may be added uniformly in the silver halide grains.
29603, JP-A-2-306236, 3-16.
No. 7545, No. 4-76534, No. 6-110146
No. 5,273,683 and the like, the particles may be contained by being distributed in the particles.

【0099】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶
性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩水溶
液とハライド水溶液が同時に混合されるとき第3の水溶
液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒
子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の
水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀
調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープして
ある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等
がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属
化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を
ハライド水溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に
添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もし
くは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入することもできる。
These metal compounds can be added after being dissolved in water or a suitable organic solvent (eg alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). The method of adding an aqueous solution of the powder of 1) or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during grain formation, or a silver salt aqueous solution and a halide aqueous solution. When mixed at the same time, it is added as a third aqueous solution to prepare silver halide grains by a three-liquid simultaneous mixing method, a method in which a necessary amount of an aqueous solution of a metal compound is charged into a reaction vessel during grain formation, or a halogen There is a method of adding and dissolving another silver halide grain which is previously doped with a metal ion or a complex ion at the time of preparing silver halide. Particularly preferred is a method of adding an aqueous solution of a powder of a metal compound or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl or KCl are dissolved together to the halide aqueous solution. When added to the surface of the particles, a necessary amount of an aqueous solution of the metal compound may be added to the reaction vessel immediately after the particles are formed, during or during physical ripening, or at the end of chemical ripening.

【0100】別途調製した感光性ハロゲン化銀粒子はヌ
ードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透
析法等の公知の脱塩法により脱塩することができるが、
熱現像感光材料においては脱塩しないで用いることもで
きる。
The photosensitive silver halide grains prepared separately can be desalted by a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method or an electrodialysis method.
The photothermographic material can be used without being desalted.

【0101】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子には
化学増感を施すことができる。例えば、特開2001−
249428及び特開2001−249426に開示さ
れている方法等により、硫黄などのカルコゲン原子を有
する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴
金属化合物を用いて化学増感中心(化学増感核)を形成
付与できる。本発明においては上記のカルコゲン原子を
有する化合物による化学増感と貴金属化合物を用いる化
学増感を併用することが特に好ましい。
The silver halide grains used in the present invention can be chemically sensitized. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-2001
According to the methods disclosed in 249428 and JP 2001-249426 A, a chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) is formed by using a compound having a chalcogen atom such as sulfur or a noble metal compound releasing a noble metal ion such as gold ion. Can be formed and imparted. In the present invention, it is particularly preferable to use the chemical sensitization with the compound having a chalcogen atom and the chemical sensitization with the noble metal compound in combination.

【0102】本発明においては、以下に示すカルコゲン
原子を含有する化合物により化学増感されているのが好
ましい。
In the present invention, it is preferably chemically sensitized by the following compounds containing a chalcogen atom.

【0103】これら有機増感剤として有用なカルコゲン
原子を含有する化合物はハロゲン化銀へ吸着可能な基と
不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが
好ましい。
The compound containing a chalcogen atom useful as an organic sensitizer is preferably a compound having a group capable of adsorbing to silver halide and an unstable chalcogen atom site.

【0104】これらの有機増感剤としては、特開昭60
−150046号、特開平4−109240号、特開平
11−218874号等に開示されている種々の構造を
有する有機増感剤を用いることができるが、それらのう
ちカルコゲン原子が炭素原子又はリン原子と二重結合で
結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であ
ることが好ましい。
Examples of these organic sensitizers include JP-A-60
Organic sensitizers having various structures disclosed in JP-A-150046, JP-A-4-109240, JP-A-11-218874 and the like can be used. Among them, the chalcogen atom is a carbon atom or a phosphorus atom. It is preferably at least one kind of compound having a structure in which is bound by a double bond.

【0105】有機増感剤としてのカルコゲン原子を含有
する化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハ
ロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などによ
り変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり、10-8〜10
-2モルが好ましく、より好ましくは10-7〜10-3モル
である。本発明における化学増感環境としては特に制限
はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀
又は銀核を消滅或いはそれらの大きさを減少させ得る化
合物の存在下において、又特に銀核を酸化しうる酸化剤
の共存下においてカルコゲン原子を含有する有機増感剤
を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましく、該増感
条件として、pAgとしては6〜11が好ましく、より
好ましくは7〜10であり、pHは4〜10が好まし
く、より好ましくは5〜8、又、温度としては30℃以
下で増感を施すことが好ましい。
The amount of the compound containing a chalcogen atom used as an organic sensitizer varies depending on the chalcogen compound used, the silver halide grains, the reaction environment at the time of chemical sensitization, and the like. 10 -8 to 10
It is preferably -2 mol, more preferably 10 -7 to 10 -3 mol. The chemical sensitizing environment in the present invention is not particularly limited, but in the presence of a compound capable of eliminating silver chalcogenide or silver nuclei on the photosensitive silver halide grains or reducing their size, and particularly silver nuclei. It is preferable to perform chalcogen sensitization using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the coexistence of an oxidant capable of oxidizing the compound. As the sensitization condition, pAg is preferably 6 to 11, and more preferably 7 The pH is preferably 10 to 10, the pH is preferably 4 to 10, more preferably 5 to 8, and the temperature is preferably 30 ° C. or lower for sensitization.

【0106】従って、本発明の熱現像感光材料において
は、前記感光性ハロゲン化銀が、該粒子上の銀核を酸化
しうる酸化剤の共存下においてカルコゲン原子を含有す
る有機増感剤を用いて温度30℃以下において化学増感
を施され、かつ、有機銀塩と混合して分散され脱水及び
乾燥された感光性ハロゲン化銀乳剤を用いることが好ま
しい。
Therefore, in the photothermographic material of the present invention, an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the coexistence of the photosensitive silver halide with an oxidizing agent capable of oxidizing the silver nucleus on the grain is used. It is preferable to use a photosensitive silver halide emulsion which has been subjected to chemical sensitization at a temperature of 30 ° C. or lower, mixed with an organic silver salt, dispersed, dehydrated and dried.

【0107】また、これらの有機増感剤を用いた化学増
感は分光増感色素またはハロゲン化銀粒子に対して吸着
性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われるこ
とが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の
存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化
を防ぐことができ高感度、低かぶりを達成できる。本発
明において用いられる分光増感色素については後述する
が、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合
物とは、特開平3−24537号に記載されている含窒
素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。本発明
に用いられる含窒素複素環化合物において、複素環とし
てはピラゾール環、ピリミジン環、1,2,4−トリア
ゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,4−
チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール環、
1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジア
ゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリダジ
ン環、1,2,3−トリアジン環、これらの環が2〜3
個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール環、ジア
ザインデン環、トリアザインデン環、ペンタアザインデ
ン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族
環の縮合した複素環、例えばフタラジン環、ベンズイミ
ダゾール環、インダゾール環、ベンズチアゾール環など
も適用できる。
The chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably carried out in the presence of a spectral sensitizing dye or a hetero atom-containing compound having adsorptivity for silver halide grains. By carrying out chemical sensitization in the presence of a compound having adsorptivity to silver halide, it is possible to prevent dispersion of the chemically sensitized central nucleus and to achieve high sensitivity and low fog. The spectral sensitizing dye used in the present invention will be described later, but as the hetero atom-containing compound having adsorptivity to silver halide, a nitrogen-containing heterocyclic compound described in JP-A-3-24537 is preferable. Can be mentioned. In the nitrogen-containing heterocyclic compound used in the present invention, the heterocycle is a pyrazole ring, a pyrimidine ring, a 1,2,4-triazole ring, a 1,2,3-triazole ring, a 1,3,4-
Thiadiazole ring, 1,2,3-thiadiazole ring,
1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,2,3,4-tetrazole ring, pyridazine ring, 1,2,3-triazine ring, and these rings are 2 to 3
An individually bonded ring, for example, a triazolotriazole ring, a diazaindene ring, a triazaindene ring, a pentaazaindene ring and the like can be mentioned. A heterocycle in which a monocyclic heterocycle and an aromatic ring are condensed, for example, a phthalazine ring, a benzimidazole ring, an indazole ring, a benzthiazole ring and the like can also be applied.

【0108】これらの中で好ましいのはアザインデン環
であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザ
インデン化合物、例えばヒドロキシトリアザインデン、
ヒドロキシテトラアザインデン、ヒドロキシペンタアザ
インデン化合物等が更に好ましい。
Of these, preferred is an azaindene ring, and an azaindene compound having a hydroxyl group as a substituent, for example, hydroxytriazaindene,
Further preferred are hydroxytetraazaindene, hydroxypentaazaindene compounds and the like.

【0109】複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を
有してもよい。置換基としては例えばアルキル基、置換
アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシア
ミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリ
ールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。
The heterocycle may have a substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkylthio group, an amino group, a hydroxyamino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, a cyano group, and the like. May be.

【0110】これら含複素環化合物の添加量はハロゲン
化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範
囲に亘って変化するが、おおよその量はハロゲン化銀1
モルあたりの量で10-6モル〜1モルの範囲であり、好
ましくは10-4モル〜10-1モルの範囲である。
The addition amount of these heterocyclic compounds varies over a wide range depending on the size and composition of the silver halide grains and other conditions, but the approximate amount is approximately 1.
The amount per mol is in the range of 10 -6 mol to 1 mol, preferably 10 -4 mol to 10 -1 mol.

【0111】本発明に係るハロゲン化銀粒子には、前述
のように、金イオンなどの貴金属イオンを放出する化合
物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば、
金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用でき
る。
As described above, the silver halide grains according to the present invention can be subjected to noble metal sensitization using a compound that releases noble metal ions such as gold ions. For example,
As the gold sensitizer, chloroaurate and organic gold compounds can be used.

【0112】又、上記の増感法の他、還元増感法等も用
いることができ、還元増感の貝体的な化合物としてはア
スコルビン酸、2酸化チオ尿素、塩化第1スズ、ヒドラ
ジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン
化合物等を用いることができる。また、乳剤のpHを7
以上またはpAgを8.3以下に保持して熟成すること
により還元増感することができる。
In addition to the above-mentioned sensitization method, reduction sensitization method and the like can be used. As the shell-like compound for reduction sensitization, ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivative , Borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. Also, adjust the pH of the emulsion to 7
Reduction sensitization can be carried out by aging the above or keeping pAg at 8.3 or less.

【0113】本発明に係る化学増感を施されるハロゲン
化銀は、有機銀塩の存在下で形成されたものでも、有機
銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、また、
両者が混合されたものでもよい。
The silver halide to be chemically sensitized according to the present invention may be one formed in the presence of an organic silver salt or one formed in the absence of an organic silver salt.
A mixture of both may be used.

【0114】本発明に用いる感光性ハロゲン化銀粒子に
は分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好まし
い。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色
素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロ
シアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色
素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソ
ノール色素等を用いることができる。例えば特開昭63
−159841号、同60−140335号、同63−
231437号、同63−259651号、同63−3
04242号、同63−15245号、米国特許第4,
639,414号、同第4,740,455号、同第
4,741,966号、同第4,751,175号、同
第4,835,096号に記載された増感色素が使用で
きる。本発明に使用される有用な増感色素は例えばRD
17643IV−A項(1978年12月p.23)、同
18431X項(1978年8月p.437)に記載も
しくは引用された文献に記載されている。特に各種レー
ザイメージャーやスキャナー光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば
特開平9−34078号、同9−54409号、同9−
80679号記載の化合物が好ましく用いられる。
Spectral sensitization is preferably carried out by adsorbing a spectral sensitizing dye on the photosensitive silver halide grains used in the present invention. As the spectral sensitizing dye, cyanine dye, merocyanine dye, complex cyanine dye, complex merocyanine dye, holopolar cyanine dye, styryl dye, hemicyanine dye, oxonol dye, hemioxonol dye and the like can be used. For example, JP-A-63
-159841, 60-140335, 63-
231437, 63-259651, 63-3
04242, 63-15245, U.S. Pat.
The sensitizing dyes described in 639,414, 4,740,455, 4,741,966, 4,751,175, and 4,835,096 can be used. . Useful sensitizing dyes used in the present invention are, for example, RD
17643 IV-A (December 1978, p.23) and 18431X (August, 1978, p.437). Particularly, it is preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various laser imagers and scanner light sources. For example, JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-
The compound described in 80679 is preferably used.

【0115】有用なシアニン色素は、例えば、チアゾリ
ン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキ
サゾール核、チアゾール核、セレナゾール核およびイミ
ダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素であ
る。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の
塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン
核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バ
ルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核お
よびピラゾロン核などの酸性核を含む。
Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus such as thiazoline nucleus, oxazoline nucleus, pyrroline nucleus, pyridine nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus and imidazole nucleus. Useful merocyanine dyes are preferably acidic nuclei such as thiohydantoin nuclei, rhodanin nuclei, oxazolidinedione nuclei, thiazolinedione nuclei, barbituric acid nuclei, thiazolinone nuclei, malononitrile nuclei and pyrazolone nuclei in addition to the above basic nuclei. including.

【0116】本発明においては特に赤外に分光感度を有
する増感色素を用いることが好ましい。本発明におい
て、好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例
えば、米国特許第4,536,473号、同第4,51
5,888号、同第4,959,294号等に開示され
ている赤外分光増感色素が挙げられる。
In the present invention, it is particularly preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity in the infrared. Infrared spectral sensitizing dyes preferably used in the present invention include, for example, US Pat. Nos. 4,536,473 and 4,51.
Infrared spectral sensitizing dyes disclosed in 5,888, 4,959,294 and the like can be mentioned.

【0117】本発明において用いられる赤外分光増感色
素については、ベンズアゾール環のベンゼン環上にスル
フィニル基が置換されていることを特徴とした長鎖のポ
リメチン色素が特に好ましい。
As the infrared spectral sensitizing dye used in the present invention, a long-chain polymethine dye characterized in that a sulfinyl group is substituted on the benzene ring of the benzazole ring is particularly preferable.

【0118】上記の赤外増感色素は、例えばエフ・エム
・ハーマー著、The Chemistry of H
eterocyclic Compounds第18
巻、The Cyanine Dyes and Re
lated Compounds(A.Weissbe
rger ed.Interscience社刊、Ne
w York 1964年)に記載の方法によって容易
に合成することができる。
The above infrared sensitizing dyes are described, for example, by F.M.Harmer, The Chemistry of H.
ETHEROCYCLIC COMPOUNDS 18th
Volume, The Cyanine Dyes and Re
Late Compounds (A. Weissbe
rger ed. Published by Interscience, Ne
w York 1964).

【0119】これらの赤外増感色素の添加時期はハロゲ
ン化銀調製後のどの時点でもよく、例えば、溶剤に添加
して、或いは、微粒子状に分散した所謂固体分散状態で
ハロゲン化銀粒子或いはハロゲン化銀粒子/有機銀塩粒
子を含有する感光性乳剤に添加できる。又、前記のハロ
ゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合
物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添
加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これに
より化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、
低かぶりを達成することができる。
The infrared sensitizing dye may be added at any time after the silver halide is prepared, for example, by adding it to a solvent or in the form of fine particles dispersed in a so-called solid dispersion state. It can be added to a light-sensitive emulsion containing silver halide grains / organic silver salt grains. Further, similarly to the above-mentioned compound containing a hetero atom having adsorptivity to silver halide grains, chemical sensitization can be carried out after addition and adsorption to silver halide grains prior to chemical sensitization. It is possible to prevent the chemical sensitization central nucleus from being dispersed, and high sensitivity,
A low fog can be achieved.

【0120】本発明において、上記の分光増感色素は単
独に用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、
増感色素の組合せは、特に強色増感の目的でしばしば用
いられる。
In the present invention, the above-mentioned spectral sensitizing dyes may be used alone, or may be used in combination.
A combination of sensitizing dyes is often used especially for the purpose of supersensitization.

【0121】本発明の熱現像感光材料に用いられるハロ
ゲン化銀粒子又は有機銀塩粒子を含有する乳剤は、増感
色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あ
るいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色
増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これにより
ハロゲン化銀粒子が強色増感されていてもよい。
The emulsion containing silver halide grains or organic silver salt grains used in the photothermographic material of the present invention contains a sensitizing dye, a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a visible light. It is also possible that the substance which is not absorbed by the dye and exhibits a supersensitizing effect is contained in the emulsion, whereby the silver halide grains may be supersensitized.

【0122】有用な増感色素、強色増感を示す色素の組
合せおよび強色増感を示す物質はRD17643(19
78年12月発行)第23頁IVのJ項、あるいは特公平
9−25500号、同43−4933号、特開昭59−
19032号、同59−192242号、特開平5−3
41432号等に記載されているが、本発明において
は、強色増感剤として下記の一般式で表される複素芳香
族メルカプト化合物又はメルカプト誘導体化合物が好ま
しい。
Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are RD17643 (19).
(December 1978) Page J, Item IV, page 23, Japanese Patent Publication Nos. 9-25500, 43-4933, JP-A-59-
19032, 59-192242, JP-A-5-3.
In the present invention, a heteroaromatic mercapto compound or a mercapto derivative compound represented by the following general formula is preferable as the supersensitizer in the present invention.

【0123】一般式 Ar−SM 式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子であり、A
rは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、または
テルリウム原子を有する複素芳香環または縮合芳香環で
ある。好ましい複素芳香環または縮合芳香環としてはベ
ンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンズチアゾ
ール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフト
オキサゾール、ベンズセレナゾール、ベンズテルラゾー
ル、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリア
ゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジ
ン、ピリジン、プリン、キノリン、またはキナゾリン等
が挙げられる。しかしながら、他の複素芳香環も含まれ
る。
General Formula Ar-SM wherein M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and A
r is a heteroaromatic ring or a condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium, or tellurium atoms. Preferred heteroaromatic ring or condensed aromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzthiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzselenazole, benztelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, Examples include pyrazine, pyridine, purine, quinoline, quinazoline, and the like. However, other heteroaromatic rings are also included.

【0124】なお、有機酸銀塩又はハロゲン化銀粒子乳
剤の分散物中に含有させたときに実質的に上記のメルカ
プト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も本発明
に含まれる。特に、下記の一般式で表されるメルカプト
誘導体化合物が好ましい例として挙げられる。
The present invention also includes a mercapto derivative compound which substantially forms the above mercapto compound when contained in a dispersion of an organic acid silver salt or a silver halide grain emulsion. In particular, a mercapto derivative compound represented by the following general formula is given as a preferable example.

【0125】一般式 Ar−S−S−Ar 式中のArは上記の一般式で表されたメルカプト化合物
の場合と同義である。
General Formula Ar—S—S—Ar Ar in the formula has the same meaning as in the case of the mercapto compound represented by the above general formula.

【0126】上記の複素芳香環または縮合芳香環は、例
えば、ハロゲン原子(例えば、Cl、Br、I)、ヒド
ロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基
(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個
の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(例えば、
1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子
を有するもの)からなる群から選ばれる置換基を有しう
る。
The above-mentioned heteroaromatic ring or condensed aromatic ring is, for example, a halogen atom (for example, Cl, Br, I), a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an alkyl group (for example, one or more carbon atoms, preferably Are those having 1 to 4 carbon atoms) and alkoxy groups (eg,
It may have a substituent selected from the group consisting of one or more carbon atoms, preferably those having 1 to 4 carbon atoms.

【0127】本発明においては、上記の強色増感剤の他
に、特開2001−330918に開示されている次の
一般式(1)で表される化合物と大環状化合物を強色増
感剤として使用できる。
In the present invention, in addition to the above supersensitizer, the compounds represented by the following general formula (1) and macrocyclic compounds disclosed in JP 2001-330918 A are supersensitized. It can be used as an agent.

【0128】[0128]

【化2】 [Chemical 2]

【0129】式中、H31Arは芳香族炭化水素基または
芳香族複素環基を表し、T31は脂肪族炭化水素基からな
る2価の連結基または単なる結合手を表し、J31は酸素
原子、硫黄原子または窒素原子を一つ以上含む2価の連
結基または単なる結合手を表す。Ra、Rb、Rc及び
Rdは各々、水素原子、アシル基、脂肪族炭化水素基、
アリール基または複素環基を表し、RaとRb、Rcと
Rd、RaとRc或いはRbとRdの間で結合して含窒
素複素環基を形成してもよい。M31は分子内の電荷を相
殺するに必要なイオンを表し、k31は分子内の電荷を相
殺するに必要なイオンの数を表す。
In the formula, H 31 Ar represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, T 31 represents a divalent linking group consisting of an aliphatic hydrocarbon group or a simple bond, and J 31 represents oxygen. A divalent linking group containing one or more atoms, sulfur atoms or nitrogen atoms, or a simple bond. Ra, Rb, Rc and Rd are each a hydrogen atom, an acyl group, an aliphatic hydrocarbon group,
It represents an aryl group or a heterocyclic group and may be bonded between Ra and Rb, Rc and Rd, Ra and Rc or Rb and Rd to form a nitrogen-containing heterocyclic group. M 31 represents an ion necessary to cancel the charge in the molecule, and k 31 represents the number of ions necessary to cancel the charge in the molecule.

【0130】一般式(1)において、T31で表される脂
肪族炭化水素基からなる2価の連結基としては、直鎖、
分岐または環状のアルキレン基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは1〜16、更に好ましくは1〜1
2のアルキレン基)、アルケニレン基(好ましくは炭素
数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好ましくは
2〜12のアルケニレン基)、アルキニレン基(好まし
くは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、更に好
ましくは2〜12のアルキニレン基)等が挙げられる。
In the general formula (1), the divalent linking group consisting of an aliphatic hydrocarbon group represented by T 31 is a straight chain,
A branched or cyclic alkylene group (preferably having a carbon number of 1 to
20, more preferably 1 to 16, still more preferably 1 to 1
2 alkylene group), alkenylene group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms), alkynylene group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms). To 16 and more preferably 2 to 12 alkynylene groups).

【0131】上記の各基は置換基を有していてもよく、
該置換基としては例えば、脂肪族炭化水素基{直鎖、分
岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜2
0、より好ましくは1〜16、更に好ましくは1〜12
のもの)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、
より好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12のも
の)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より
好ましくは2〜16、更に好ましくは2〜12のも
の)}、アリール基{炭素数6〜20の単環または縮環
のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙
げられ、好ましくはフェニル基)}、複素環基{3〜1
0員の飽和、不飽和のヘテロ環基(例えば、2−チアゾ
リル基、1−ピペラジニル基、2−ピリジル基、3−ピ
リジル基、2−フリル基、2−チエニル基、2−ベンズ
イミダゾリル基、カルバゾリル基等)}等が挙げられ
る。
Each of the above groups may have a substituent,
Examples of the substituent include an aliphatic hydrocarbon group (a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 2 carbon atoms).
0, more preferably 1 to 16, still more preferably 1 to 12
), An alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms,
More preferably 2-16, still more preferably 2-12), an alkynyl group (preferably having 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16, still more preferably 2-12)}, an aryl group {carbon A monocyclic or condensed ring aryl group of the formulas 6 to 20 (eg, a phenyl group, a naphthyl group and the like, preferably a phenyl group)}, a heterocyclic group {3-1
0-membered saturated, unsaturated heterocyclic group (for example, 2-thiazolyl group, 1-piperazinyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-benzimidazolyl group, Carbazolyl group etc.) and the like.

【0132】また、上記基中のヘテロ環は単環であって
も、他の環と縮合環を形成してもよい。
The hetero ring in the above groups may be a single ring or may form a condensed ring with another ring.

【0133】上記の各基は更に任意の個所に置換基を有
していてもよく、該置換基としては例えば、アルキル基
(シクロアルキル基、アラルキル基を含み、好ましくは
炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に
好ましくは炭素数1〜8のものであり、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、iso−プロピル基、ブチ
ル基、tert−ブチル基、ヘプチル基、オクチル基、
デシル基、ウンデシル基、ヘキサデシル基、シクロプロ
ピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジ
ル基、フェネチル基等)、アルケニル基(好ましくは炭
素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好
ましくは炭素数2〜8のものであり、例えば、ビニル
基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基
等)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より
好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜
8のものであり、例えばプロパルギル基、3−ペンチニ
ル基等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、よ
り好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6
〜12のものであり、例えば、フェニル基、p−トリル
基、o−アミノフェニル基、ナフチル基等)、アミノ基
(好ましくは炭素数、0〜20、より好ましくは炭素数
0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6のものであり、
例えばアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ
基、ジベンジルアミノ基等)、イミノ基(好ましくは炭
素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜18、特に好
ましくは炭素数1〜12のものであり、例えば、メチル
イミノ基、エチルイミノ基、プロピルイミノ基、フェニ
ルイミノ基等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは
炭素数1〜8のものであり、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(好ましく
は炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特
に好ましくは炭素数6〜12のものであり、例えば、フ
ェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基等)、アシル基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のものであり、
例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバ
ロイル基等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭
素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好
ましくは炭素数2〜12のものであり、例えば、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリール
オキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より
好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜
10のものであり、例えば、フェニルオキシカルボニル
基等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、
より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数
1〜10のものであり、例えば、アセトキシ基、ベンゾ
イルオキシ基等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは炭素1〜16、特に好ましく
は炭素数1〜10のものであり、例えば、アセチルアミ
ノ基、ベンゾイルアミノ基等)、アルコキシカルボニル
アミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは
炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12のもの
であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基等)、ア
リールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7
〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましく
は炭素数7〜12のものであり、例えば、フェニルオキ
シカルボニルアミノ基等)、スルホニルアミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜1
6、特に好ましくは炭素数1〜12のものであり、例え
ばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミ
ノ基等)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜2
0、より好ましくは炭素0〜16、特に好ましくは炭素
数0〜12のものであり、例えば、スルファモイル基、
メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、
フェニルスルファモイル基等)、カルバモイル基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素1〜16、
特に好ましくは炭素数1〜12のものであり、例えば、
カルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカル
バモイル基、フェニルカルバモイル基等)、アルキルチ
オ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素
数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のものであ
り、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基)、アリール
チオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭
素6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12のものであ
り、例えば、フェニルチオ基等)、スルホニル基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜1
6、特に好ましくは炭素数1〜12のものであり、例え
ば、メタンスルホニル基、トシル基等)、スルフィニル
基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数
1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のものであ
り、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィ
ニル基等)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、
より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数
1〜12のものであり、例えば、ウレイド基、メチルウ
レイド基、フェニルウレイド基等)、リン酸アミド基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のものであり、
例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミ
ド基等)、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原
子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子)、シアノ基、スルホ基、スルフィノ基、カルボキ
シル基、ホスホノ基、ホスフィノ基、ニトロ基、ヒドロ
キサム酸基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基(例えば、イミ
ダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、チアゾリル基、ベ
ンゾチアゾリル基、カルバゾリル基、ピリジル基、フリ
ル基、ピペリジル基、モルホリノ基等)等が挙げられ
る。
Each of the above groups may further have a substituent at an arbitrary position, and examples of the substituent include an alkyl group (including a cycloalkyl group and an aralkyl group, preferably having 1 to 20 carbon atoms, More preferably, it has 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, propyl group, iso-propyl group, butyl group, tert-butyl group, heptyl group, octyl group. ,
Decyl group, undecyl group, hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, etc., alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably Those having 2 to 8 carbon atoms, for example, vinyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group, etc., alkynyl group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, Particularly preferably 2 to 2 carbon atoms
8 groups, for example, propargyl group, 3-pentynyl group, etc.), aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 carbon atoms).
To 12 and, for example, phenyl group, p-tolyl group, o-aminophenyl group, naphthyl group, etc., amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly Preferably, those having 0 to 6 carbon atoms,
For example, amino group, methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, diphenylamino group, dibenzylamino group, etc., imino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 18 carbon atoms, Particularly preferred are those having 1 to 12 carbon atoms, such as methylimino group, ethylimino group, propylimino group, phenylimino group, etc.) and alkoxy groups (preferably having 1 to 12 carbon atoms).
20, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, etc., aryloxy group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more It preferably has 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenyloxy group, a 2-naphthyloxy group, etc., an acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably carbon). Number 1
To 16, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms,
For example, an acetyl group, a benzoyl group, a formyl group, a pivaloyl group, etc., an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, For example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, etc., an aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 7 to 7 carbon atoms).
10 groups, for example, a phenyloxycarbonyl group, etc., an acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms,
More preferably, those having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as acetoxy group, benzoyloxy group, etc., acylamino group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms). 16, particularly preferably those having 1 to 10 carbon atoms, for example, acetylamino group, benzoylamino group, etc., alkoxycarbonylamino group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, especially It preferably has 2 to 12 carbon atoms, for example, a methoxycarbonylamino group and the like, an aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 carbon atoms).
To 20, more preferably 7 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, for example, a phenyloxycarbonylamino group, etc., a sulfonylamino group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atoms
6, particularly preferably those having 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, etc., sulfamoyl group (preferably having 0 to 2 carbon atoms).
0, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, for example, a sulfamoyl group,
Methylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group,
Phenylsulfamoyl group, etc.), carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms,
Particularly preferably, those having 1 to 12 carbon atoms, for example,
A carbamoyl group, a methylcarbamoyl group, a diethylcarbamoyl group, a phenylcarbamoyl group, etc.), an alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, For example, a methylthio group, an ethylthio group), an arylthio group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, for example, a phenylthio group, etc.), a sulfonyl group. (Preferably having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably having 1 to 1 carbon atoms.
6, particularly preferably those having 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfonyl group, tosyl group, etc., sulfinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably carbon). A methanesulfinyl group, a benzenesulfinyl group and the like), a ureido group (preferably having a carbon number of 1 to 20,
More preferably, those having 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably those having 1 to 12 carbon atoms, for example, ureido group, methylureido group, phenylureido group, etc., phosphoric acid amide group (preferably 1 to 20 carbon atoms, More preferably 1 carbon
To 16, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms,
For example, diethylphosphoric acid amide group, phenylphosphoric acid amide group, etc.), hydroxyl group, mercapto group, halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, sulfino group, carboxyl Group, phosphono group, phosphino group, nitro group, hydroxamic acid group, hydrazino group, heterocyclic group (for example, imidazolyl group, benzimidazolyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, carbazolyl group, pyridyl group, furyl group, piperidyl group, morpholino Groups, etc.) and the like.

【0134】上記の基のうちヒドロキシル基、メルカプ
ト基、スルホ基、スルフィノ基、カルボキシル基、ホス
ホノ基、ホスフィノ基等のような塩形成可能な基は塩で
あってもよい。これらの置換基は更に置換されてもよ
い。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異な
ってもよい。置換基として好ましくは、アルキル基、ア
ラルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルキルチオ
基、アシル基、アシルアミノ基、イミノ基、スルファモ
イル基、スルホニル基、スルホニルアミノ基、ウレイド
基、アミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヘテロ環基、
アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホ基、
カルバモイル基、カルボキシル基が挙げられ、より好ま
しくはアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルキ
ルチオ基、アシル基、アシルアミノ基、イミノ基、スル
ホニルアミノ基、ウレイド基、アミノ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、
ヒドロキシル基、スルホ基、カルバモイル基、カルボキ
シル基であり、更に好ましくはアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、イ
ミノ基、ウレイド基、アミノ基、ヘテロ環基、アルコキ
シカルボニル基、ヒドロキシ基、スルホ基、カルバモイ
ル基、カルボキシル基である。アミジノ基(カルボキシ
ル基のオキソ基がイミノ基で置換され、かつヒドロキシ
基がアミノ基で置換された基)としては、置換基を有す
るものを含み、置換基としては例えば、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、ピリジルメチル基、ベンジ
ル基、フェネチル基、カルボキシベンジル基、アミノフ
ェニルメチル基等)、アリール基(例えば、フェニル
基、p−トリル基、ナフチル基、o−アミノフェニル
基、o−メトキシフェニル等)、複素環基(例えば、2
−チアゾリル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、2
−フリル基、3−フリル基、2−チエノ基、2−イミダ
ゾリル基、ベンゾチアゾリル基、カルバゾリル基等)等
が挙げられる。
Of the above groups, a salt-forming group such as a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfo group, a sulfino group, a carboxyl group, a phosphono group and a phosphino group may be a salt. These substituents may be further substituted. When there are two or more substituents, they may be the same or different. The substituent is preferably an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an alkylthio group, an acyl group, an acylamino group, an imino group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, a sulfonylamino group, a ureido group, an amino group, a halogen atom, and nitro. Group, heterocyclic group,
Alkoxycarbonyl group, hydroxyl group, sulfo group,
A carbamoyl group and a carboxyl group are mentioned, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an alkylthio group, an acyl group, an acylamino group, an imino group, a sulfonylamino group, a ureido group, an amino group, a halogen atom, a nitro group, and a hetero group. Ring group, alkoxycarbonyl group,
Hydroxyl group, sulfo group, carbamoyl group, carboxyl group, more preferably alkyl group, alkoxy group, aryl group, alkylthio group, acylamino group, imino group, ureido group, amino group, heterocyclic group, alkoxycarbonyl group, hydroxy A group, a sulfo group, a carbamoyl group, and a carboxyl group. The amidino group (a group in which an oxo group of a carboxyl group is substituted with an imino group and a hydroxy group is substituted with an amino group) includes those having a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group (for example, methyl group). Group, ethyl group, pyridylmethyl group, benzyl group, phenethyl group, carboxybenzyl group, aminophenylmethyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, p-tolyl group, naphthyl group, o-aminophenyl group, o- Methoxyphenyl, etc.), heterocyclic groups (eg 2
-Thiazolyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 2
-Furyl group, 3-furyl group, 2-thieno group, 2-imidazolyl group, benzothiazolyl group, carbazolyl group, etc.) and the like.

【0135】J31で表される酸素原子、硫黄原子または
窒素原子を一つ以上含む2価の連結基としては、例え
ば、以下のものが挙げられる。また、これらの組み合わ
せであってもよい。
Examples of the divalent linking group containing at least one oxygen atom, sulfur atom or nitrogen atom represented by J 31 include the following. Also, a combination of these may be used.

【0136】[0136]

【化3】 [Chemical 3]

【0137】ここで、Re及びRfは各々、前述したR
a〜Rdに定義した内容に同義である。
Here, Re and Rf are each the above-mentioned R.
It is synonymous with the contents defined in a to Rd.

【0138】H31Arは芳香族炭化水素基または芳香族
複素環基を表すが、H31Arで表される芳香族炭化水素
基としては好ましくは炭素数6〜30のものであり、よ
り好ましくは炭素数6〜20の単環または縮環のアリー
ル基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げ
られ、特に好ましくはフェニル基である。H31Arで表
される芳香族複素環基としてはN、O及びSのうちの少
なくとも一つの原子を含む5〜10員の不飽和のヘテロ
環基であり、これらの基中のヘテロ環は単環であっても
よいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。このよ
うなヘテロ環基中のヘテロ環として好ましくは、5〜6
員の芳香族ヘテロ環、及びそのベンゾ縮合環であり、よ
り好ましくは窒素原子を含む5〜6員の芳香族ヘテロ
環、及びそのベンゾ縮合環であり、更に好ましくは窒素
原子を1〜2原子含む5〜6員の芳香族ヘテロ環、及び
そのベンゾ縮合環である。
H 31 Ar represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, and the aromatic hydrocarbon group represented by H 31 Ar is preferably one having 6 to 30 carbon atoms, and more preferably Is a monocyclic or condensed ring aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group, and a phenyl group is particularly preferable. The aromatic heterocyclic group represented by H 31 Ar is a 5- to 10-membered unsaturated heterocyclic group containing at least one atom of N, O and S, and the heterocycle in these groups is It may be a single ring or may form a condensed ring with another ring. The heterocycle in such a heterocyclic group is preferably 5 to 6
Membered aromatic heterocycle, and a benzo-condensed ring thereof, more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocycle containing a nitrogen atom, and a benzo-condensed ring thereof, further preferably a nitrogen atom of 1 to 2 atoms. 5- to 6-membered aromatic heterocycles, and benzo-condensed rings thereof.

【0139】ヘテロ環基の具体例としては、例えば、チ
オフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾー
ル、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、
トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チア
ジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジ
ン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノ
リン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フ
ェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、
ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチア
ゾール、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾール、テト
ラザインデン、カルバゾール、等から導かれる基が挙げ
られる。ヘテロ環基として好ましくは、イミダゾール、
ピラゾール、ピリジン、ピラジン、インドール、インダ
ゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリ
ン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベン
ゾチアゾール、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾー
ル、テトラザインデン、カルバゾールから導かれる基で
あり、更に好ましくは、イミダゾール、ピリジン、ピラ
ジン、キノリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾー
ル、ベンゾオキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾ
チアゾール、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾール、
カルバゾールから導かれる基が挙げられる。
Specific examples of the heterocyclic group include, for example, thiophene, furan, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, pyridazine, triazole,
Triazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole,
Examples thereof include groups derived from benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, benzothiazoline, benzotriazole, tetrazaindene, carbazole and the like. The heterocyclic group is preferably imidazole,
Groups derived from pyrazole, pyridine, pyrazine, indole, indazole, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, benzothiazoline, benzotriazole, tetrazaindene, carbazole. And more preferably imidazole, pyridine, pyrazine, quinoline, phenazine, tetrazole, thiazole, benzoxazole, benzimidazole, benzothiazole, benzothiazoline, benzotriazole,
Examples include groups derived from carbazole.

【0140】H31Arで表される芳香族炭化水素基並び
に芳香族複素環基は置換基を有していてもよく、置換基
としては、例えば、T31の置換基として挙げた基と同様
のものを挙げることができ、好ましい範囲も同様であ
る。これらの置換基は更に置換されてもよく、また、置
換基が二つ以上ある場合には各々、同じでも異なっても
よい。H31Arで表される基は好ましくは芳香族複素環
基である。
The aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group represented by H 31 Ar may have a substituent, and the substituent is, for example, the same as the group mentioned as the substituent of T 31. And the preferable range is also the same. These substituents may be further substituted, and when there are two or more substituents, they may be the same or different. The group represented by H 31 Ar is preferably an aromatic heterocyclic group.

【0141】Ra、Rb、Rc、Rdで表される脂肪族
炭化水素基、アリール基及び複素環基は、前記T31に於
て脂肪族炭化水素基、アリール基及び複素環基の例とし
て挙げたと同様のものを挙げることができ、好ましい範
囲も同様である。Ra、Rb、Rc、Rdで表されるア
シル基としては炭素数1〜12の脂肪族或いは芳香族の
基であり、具体的にはアセチル、ベンゾイル、ホルミ
ル、ピバロイル等の基が挙げられる。RaとRb、Rc
とRd、RaとRc或いはRbとRdの間で結合して形
成する含窒素複素環基としては3〜10員の飽和、不飽
和のヘテロ環基(例えば、ピペリジン環、ピペラジン
環、アクリジン環、ピロリジン環、ピロール環、モルフ
ォリン環等の環基)が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group represented by Ra, Rb, Rc and Rd are the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group at T 31. The same can be mentioned, and the preferred range is also the same. The acyl group represented by Ra, Rb, Rc and Rd is an aliphatic or aromatic group having 1 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include acetyl, benzoyl, formyl and pivaloyl groups. Ra, Rb, Rc
And Rd, Ra and Rc or Rb and Rd to form a nitrogen-containing heterocyclic group, which is a saturated to unsaturated 3- to 10-membered heterocyclic group (for example, piperidine ring, piperazine ring, acridine ring, Ring groups such as a pyrrolidine ring, a pyrrole ring and a morpholine ring).

【0142】M31で表される分子内の電荷を相殺するに
必要なイオンとして酸アニオンの具体例としては例え
ば、ハロゲンイオン(例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩
素酸イオン、4フッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、メチ
ル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イ
オン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げら
れる。
Specific examples of the acid anion as an ion necessary for offsetting the charge in the molecule represented by M 31 include, for example, halogen ion (eg, chlorine ion, bromine ion,
Iodine ion), p-toluenesulfonate ion, perchlorate ion, boron tetrafluoride ion, sulfate ion, methylsulfate ion, ethylsulfate ion, methanesulfonate ion, trifluoromethanesulfonate ion and the like.

【0143】ヘテロ原子を含む大環状化合物は、ヘテロ
原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子、セレン原子
の少なくとも1つを含む9員環以上の大環状化合物であ
る。代表的化合物としては、クラウンエーテルであり下
記のPedersenが1967年に合成し、その特異
な性質を報告以来、数多く合成されているものである。
これらの化合物は、C.J.Pedersen,Jou
rnal of American chemical
Society vol.86(2495),701
7〜7036(1967);G.W.Gokel,S.
H,Korzeniowski,“Macrocycl
ic polyethr synthesis”,Sp
ringer−Verlag.(1982);小田、庄
野、田伏編“クラウンエーテルの化学”化学同人(19
78);田伏等“ホストーゲスト”共立出版(197
9);佐々木、古賀“有機合成化学”Vol45
(6)、571〜582(1987)等に詳細に書かれ
ている。これらヘテロ原子を含む大環状化合物の具体例
としては特開2000−347343号段落0030〜
0037に記載されたものが挙げられる。
The macrocyclic compound containing a hetero atom is a 9-membered or larger macrocyclic compound containing at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and a selenium atom as a hetero atom. A typical compound is crown ether, which has been synthesized by Pedersen as described below in 1967 and reported a number of unique properties thereof.
These compounds are C.I. J. Pedersen, Jou
rnal of American chemical
Society vol. 86 (2495), 701
7-7036 (1967); W. Gokel, S .;
H, Korzeniowski, “Macrocycl”
ic polyethr synthesis ”, Sp
ringer-Verlag. (1982); Oda, Shono, Tabushi ed. "Crown ether chemistry" Kagaku Dojin (19
78); Tabushi et al. “Host-Guest” Kyoritsu Publishing (197)
9); Sasaki, Koga "Organic Synthetic Chemistry" Vol 45
(6), 571-582 (1987) and the like. Specific examples of the macrocyclic compound containing these heteroatoms include JP-A-2000-347343, paragraphs 0030 to
And those described in 0037.

【0144】本発明に係る強色増感剤は有機銀塩及びハ
ロゲン化銀粒子を含む乳剤層中に銀1モル当たり0.0
01〜1.0モルの範囲で用いるのが好ましい。銀1モ
ル当たり0.01〜0.5モルの範囲で用いるのが特に
好ましい。
The supersensitizer according to the present invention contains 0.00 per mol of silver in an emulsion layer containing an organic silver salt and silver halide grains.
It is preferably used in the range of 01 to 1.0 mol. It is particularly preferably used in the range of 0.01 to 0.5 mol per mol of silver.

【0145】本発明においては、還元剤(銀イオン還元
剤)として、特に、還元剤の少なくとも一種がビスフェ
ノール誘導体である化合物を単独又は他の異なる化学構
造を有する還元剤と併せて用いる。本発明に係る銀塩光
熱写真イメージング材料において、光熱写真イメージン
グ材料のCP保存中のかぶり発生等による性能劣化及び
熱現像後の銀画像の保存における色調劣化等が予想外に
抑制することができる。
In the present invention, as the reducing agent (silver ion reducing agent), a compound in which at least one of the reducing agents is a bisphenol derivative is used alone or in combination with other reducing agents having different chemical structures. In the silver salt photothermographic imaging material according to the present invention, performance deterioration due to fogging during CP storage of the photothermographic imaging material and color tone deterioration during storage of a silver image after thermal development can be unexpectedly suppressed.

【0146】本発明に用いられる還元剤としては、前記
一般式(A)で表されるビスフェノール誘導体が用いら
れる。
As the reducing agent used in the present invention, the bisphenol derivative represented by the general formula (A) is used.

【0147】一般式(A)において、Xが表すカルコゲ
ン原子としては、硫黄、セレン、テルルであり、好まし
くは硫黄原子である。Rは水素原子、ハロゲン原子、炭
素数が7以下の脂肪族基または6員環以下の環状基を表
し、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等であり、炭素数が7以下の脂肪族基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、ビニル基、アリル
基、ブテニル基、ヘキサジエニル基、エテニル−2−プ
ロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペ
ニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル
基等であり、6員環以下の環状基としては、脂環式基、
ヘテロ環基を含み、炭素環式基としては、シクロブテン
基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロヘ
キシル基、シクロへキセニル基、シクロヘキサジエニル
基、フェニル基等の4〜6員環が好ましく、ヘテロ環基
としては、ピラゾール環、ピロール環、ピロリジン環、
ピリミジン環、ピラジン環、ピリジン環、トリアジン
環、チアゾール環、フラン環、ピラン環等の5、6員環
が好ましく、特に好ましくは、水素原子又はシクロアル
キル基、シクロアルケニル基、フェニル基などの環状構
造を有する基である。
In formula (A), the chalcogen atom represented by X is sulfur, selenium or tellurium, preferably sulfur atom. R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group having a carbon number of 7 or less, or a cyclic group having a 6-membered ring or less, and the halogen atom is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or the like, and has a carbon number of Examples of the aliphatic group having 7 or less include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, heptyl group, vinyl group, allyl group, butenyl group, hexadienyl group, ethenyl-2-propenyl group, 3- A butenyl group, a 1-methyl-3-propenyl group, a 3-pentenyl group, a 1-methyl-3-butenyl group, and the like, and a 6-membered or less cyclic group is an alicyclic group,
The heterocyclic group is included, and the carbocyclic group is preferably a 4- to 6-membered ring such as a cyclobutene group, a cyclopentyl group, a cyclopentenyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexenyl group, a cyclohexadienyl group, and a phenyl group. As the group, a pyrazole ring, a pyrrole ring, a pyrrolidine ring,
A 5- or 6-membered ring such as a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a pyridine ring, a triazine ring, a thiazole ring, a furan ring or a pyran ring is preferable, and a hydrogen atom or a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group or a phenyl group is particularly preferable. It is a group having a structure.

【0148】これらの基は更に置換基を有していてもよ
く、置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、シクロアルキル基(例え
ば、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、シクロ
アルケニル基(例えば、1−シクロアルケニル基、2−
シクロアルケニル基等)、アルコキシ基(例えば、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アルキルカル
ボニルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基等)、アル
キルチオ基(例えば、メチルチオ基、トリフルオロメチ
ルチオ基等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルア
ミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、ウレイド基
(例えば、メチルアミノカルボニルアミノ基等)、アル
キルスルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンス
ルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等)、カ
ルバモイル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメ
チルカルバモイル基、N−モルホリノカルボニル基
等)、スルファモイル基(スルファモイル基、N,N−
ジメチルスルファモイル基、モルフォリノスルファモイ
ル基等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニ
トロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(例え
ば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基
等)、アルキルアミノ基(例えばアミノ基、N,N−ジ
メチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等)、スル
ホ基、ホスフォノ基、サルファイト基、スルフィノ基、
アルキルスルホニルアミノカルボニル基(例えば、メタ
ンスルホニルアミノカルボニル基、エタンスルホニルア
ミノカルボニル基等)、アルキルカルボニルアミノスル
ホニル基(例えば、アセトアミドスルホニル基、メトキ
シアセトアミドスルホニル基等)、アルキニルアミノカ
ルボニル基(例えば、アセトアミドカルボニル基、メト
キシアセトアミドカルボニル基等)、アルキルスルフィ
ニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルフィニル
アミノカルボニル基、エタンスルフィニルアミノカルボ
ニル基等)等が挙げられる。また、置換基が二つ以上あ
る場合は、同じでも異なっていてもよい。
These groups may further have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), a cycloalkyl group (eg, cyclohexyl group, cycloheptyl). Group), a cycloalkenyl group (eg, 1-cycloalkenyl group, 2-
Cycloalkenyl group etc.), alkoxy group (eg methoxy group, ethoxy group, propoxy group etc.), alkylcarbonyloxy group (eg acetyloxy group etc.), alkylthio group (eg methylthio group, trifluoromethylthio group etc.), Carboxyl group, alkylcarbonylamino group (eg acetylamino group etc.), ureido group (eg methylaminocarbonylamino group etc.), alkylsulfonylamino group (eg methanesulfonylamino group etc.), alkylsulfonyl group (eg methane) Sulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, etc.), carbamoyl group (eg, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-morpholinocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-
Dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkylsulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group, etc.), alkylamino group (For example, amino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, etc.), sulfo group, phosphono group, sulfite group, sulfino group,
Alkylsulfonylaminocarbonyl group (eg, methanesulfonylaminocarbonyl group, ethanesulfonylaminocarbonyl group, etc.), Alkylcarbonylaminosulfonyl group (eg, acetamidosulfonyl group, methoxyacetamidosulfonyl group, etc.), Alkynylaminocarbonyl group (eg, acetamidecarbonyl group) Group, methoxyacetamidocarbonyl group, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl group (eg, methanesulfinylaminocarbonyl group, ethanesulfinylaminocarbonyl group, etc.) and the like. When there are two or more substituents, they may be the same or different.

【0149】R′、R″は水素原子、ハロゲン原子又は
置換基を表し、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、置換基として
は、例えば、アルキル基、アリール基、シクロアルキル
基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル
基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバ
モイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、アルキルス
ルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、ヘテロ環基等
が挙げられる。複数のR′、R″は同じでも異なってい
てもよい。
R'and R "represent a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, chlorine atom and bromine atom, and examples of the substituent include an alkyl group, Aryl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group, alkynyl group, amino group, acyl group, acyloxy group, acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, sulfonyl group, alkylsulfonyl group, sulfinyl Group, cyano group, heterocyclic group, etc. A plurality of R ′ and R ″ may be the same or different.

【0150】R′は、2級または3級のアルキル基であ
ることが好ましく、炭素数2以上が好ましい。R″は炭
素数1〜5が好ましく、さらに好ましくは炭素数1であ
る。これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換
基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、iso
−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、
デシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基等)、アルケニル基(例え
ば、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1
−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−
メチル−3−ブテニル基等)、シクロアルケニル基(例
えば、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル
基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1−プロ
ピニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基等)、アルキルカルボニルオキ
シ基(例えば、アセチルオキシ基等)、アルキルチオ基
(例えば、メチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基
等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基
(例えば、アセチルアミノ基等)、ウレイド基(例え
ば、メチルアミノカルボニルアミノ基等)、アルキルス
ルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基
等)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニ
ル基、トリフルオロメタンスルホニル基等)、カルバモ
イル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカ
ルバモイル基、N−モルホリノカルボニル基等)、スル
ファモイル基(スルファモイル基、N,N−ジメチルス
ルファモイル基、モルフォリノスルファモイル基等)、
トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シ
アノ基、アルキルスルホンアミド基(例えば、メタンス
ルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基等)、アルキ
ルアミノ基(例えばアミノ基、N,N−ジメチルアミノ
基、N,N−ジエチルアミノ基等)、スルホ基、ホスフ
ォノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスル
ホニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルホニル
アミノカルボニル基、エタンスルホニルアミノカルボニ
ル基等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(例
えば、アセトアミドスルホニル基、メトキシアセトアミ
ドスルホニル基等)、アルキニルアミノカルボニル基
(例えば、アセトアミドカルボニル基、メトキシアセト
アミドカルボニル基等)、アルキルスルフィニルアミノ
カルボニル基(例えば、メタンスルフィニルアミノカル
ボニル基、エタンスルフィニルアミノカルボニル基等)
等が挙げられる。
R'is preferably a secondary or tertiary alkyl group, and preferably has 2 or more carbon atoms. R ″ preferably has 1 to 5 carbon atoms, and more preferably 1 carbon atom. These groups may further have a substituent, and the substituent may be a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom). , Bromine atom, etc.), alkyl group (eg, methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, iso
-Pentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group,
Decyl group etc.), cycloalkyl group (eg cyclohexyl group, cycloheptyl group etc.), alkenyl group (eg ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1
-Methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-
Methyl-3-butenyl group etc.), cycloalkenyl group (eg 1-cycloalkenyl group, 2-cycloalkenyl group etc.), alkynyl group (eg ethynyl group, 1-propynyl group etc.), alkoxy group (eg methoxy). Group, ethoxy group, propoxy group etc.), alkylcarbonyloxy group (eg acetyloxy group etc.), alkylthio group (eg methylthio group, trifluoromethylthio group etc.), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (eg acetylamino) Group), ureido group (eg, methylaminocarbonylamino group), alkylsulfonylamino group (eg, methanesulfonylamino group etc.), alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group etc.), carbamoyl group (For example, carba Yl group, N, N- dimethylcarbamoyl group, N- morpholinocarbonyl group, etc.), a sulfamoyl group (a sulfamoyl group, N, N- dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfonyl sulfamoyl group),
Trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkylsulfonamide group (for example, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group, etc.), alkylamino group (for example, amino group, N, N-dimethylamino group, N , N-diethylamino group, etc.), sulfo group, phosphono group, sulfite group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (eg, methanesulfonylaminocarbonyl group, ethanesulfonylaminocarbonyl group, etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (eg, , Acetamidosulfonyl group, methoxyacetamidosulfonyl group, etc.), alkynylaminocarbonyl group (eg, acetamidocarbonyl group, methoxyacetamidocarbonyl group, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl group (eg, , Methanesulfinyl aminocarbonyl group, ethanesulfinyl aminocarbonyl group)
Etc.

【0151】本発明に係る前記一般式(A)で表される
化合物の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (A) according to the present invention include the following compounds.

【0152】[0152]

【化4】 [Chemical 4]

【0153】[0153]

【化5】 [Chemical 5]

【0154】[0154]

【化6】 [Chemical 6]

【0155】[0155]

【化7】 [Chemical 7]

【0156】その他、米国特許第3,589,903
号、同第4,021,249号若しくは英国特許第1,
486,148号各明細書及び特開昭51−51933
号、同50−36110号、同50−116023号、
同52−84727号若しくは特公昭51−35727
号公報に記載されたポリフェノール化合物、例えば、
2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,
6′−ジブロモ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル等の米国特許第3,672,904号明細書
に記載されたビスナフトール類、更に、例えば、4−ベ
ンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベンゼンスルホ
ンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4−ベンゼン
スルホンアミドフェノール、4−ベンゼンスルホンアミ
ドナフトール等の米国特許第3,801,321号明細
書に記載されているようなスルホンアミドフェノール又
はスルホンアミドナフトール類も挙げることができる。
Others, US Pat. No. 3,589,903
No. 4,021,249 or British Patent No. 1,
Nos. 486,148 and JP-A-51-51933
No. 50-36110, No. 50-116023,
No. 52-84727 or JP-B-51-35727
Polyphenol compounds described in the publication, for example,
2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl, 6,
6'-dibromo-2,2'-dihydroxy-1,1'-
Binaphthyl and other bisnaphthols described in U.S. Pat. No. 3,672,904, and further, for example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol, 2,6-dichloro-4-benzenesulfone. Mention may also be made of sulfonamide phenols or sulfonamide naphthols such as those described in US Pat. No. 3,801,321 such as amidophenol, 4-benzenesulfonamide naphthol.

【0157】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
The use amount of the reducing agent including the compound represented by the general formula (A) is preferably 1 × 1 per mol of silver.
It is 0 -2 to 10 mol, particularly 1 x 10 -2 to 1.5 mol.

【0158】本発明の光熱写真ドライイメージング材料
に使用される還元剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、
その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀
塩1モル当たり0.05モル乃至10モル好ましくは
0.1モル乃至3モルが適当である。又この量の範囲内
において、上述した還元剤は2種以上併用されてもよ
い。本発明においては、前記還元剤を塗布直前に感光性
ハロゲン化銀及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳
剤溶液に添加混合して塗布した方が、停滞時間による写
真性能変動が小さく好ましい場合がある。
The amount of the reducing agent used in the photothermographic dry imaging material of the present invention depends on the type of organic silver salt or reducing agent,
Although it varies depending on other additives, it is generally 0.05 mol to 10 mol, preferably 0.1 mol to 3 mol per mol of the organic silver salt. Further, within the range of this amount, two or more kinds of the above-mentioned reducing agents may be used in combination. In the present invention, it may be preferable that the reducing agent is added and mixed in a photosensitive emulsion solution consisting of photosensitive silver halide and organic silver salt particles and a solvent immediately before coating, because photographic performance fluctuation due to stagnation time is small. is there.

【0159】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えばゼラチン、アラビアゴム、ポリ
ビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セル
ロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、
ポリビニルピロリドン、カゼイン、デンプン、又、塩化
ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、
アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、ア
クリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステ
ル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラー
ル、ビニルアセタール、ビニルエーテル等のエチレン性
不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重
合体よりなる化合物、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹
脂がある。また、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキ
ド樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられ
る。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチ
ックハンドブック」に詳細に記載されている。これらの
代表例としてはポリ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無
水マレイン酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリ
ル)、コポリ(スチレン−ブタジエン)、ポリビニルア
セタール類(例えば、ポリビニルホルマール及びポリビ
ニルブチラール)、ポリエステル類、ポリウレタン類、
フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド
類、ポリカーボネート類、ポリビニルアセテート、セル
ロースエステル類、ポリアミド類等が挙げられる。親水
性でも非親水性でもよい。
Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent and generally colorless, and include natural polymers such as synthetic resins, polymers and copolymers, and other film forming media such as gelatin, gum arabic, and polyvinyl alcohol. , Hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate,
Polyvinylpyrrolidone, casein, starch, vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl alcohol, maleic acid,
A polymer or copolymer containing an ethylenically unsaturated monomer such as acrylic acid, acrylic ester, vinylidene chloride, acrylonitrile, methacrylic acid, methacrylic acid ester, styrene, butadiene, ethylene, vinyl butyral, vinyl acetal or vinyl ether as a constituent unit. Compound, polyurethane resin, and various rubber resins. Further, a phenol resin, an epoxy resin, a polyurethane curable resin, a urea resin, a melamine resin, an alkyd resin, a formaldehyde resin, a silicone resin, an epoxy-polyamide resin, a polyester resin and the like can be mentioned. These resins are described in detail in "Plastic Handbook" published by Asakura Shoten. Typical examples of these are polyvinyl chloride, copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), polyvinyl acetals (for example, polyvinyl formal and polyvinyl butyral), polyesters, polyurethane. Kind,
Examples thereof include phenoxy resin, polyvinylidene chloride, polyepoxides, polycarbonates, polyvinyl acetate, cellulose esters, polyamides and the like. It may be hydrophilic or non-hydrophilic.

【0160】これらのうち本発明に係る熱現像感光材料
の感光性層に好ましいバインダーはポリビニルアセター
ル類であり、特に好ましいバインダーはポリビニルブチ
ラールである。詳しくは後述する。又、上塗り層や下塗
り層、特に保護層やバックコート層等の非感光層に対し
ては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエ
ステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースア
セテートブチレート等のポリマーが好ましい。なお、必
要に応じて、上記のバインダーは2種以上を組み合わせ
て用いうる。バインダーには−COOM、−SO3M、
−OSO3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(O
M)2、(Mは水素原子、またはアルカリ金属塩基を表
す)、−N(R)2、−N+(R)3(Rは炭化水素基を
表す)、エポキシ基、−SH、−CNなどから選ばれる
少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で
導入したものを用いることが好ましく、特に−SO
3M、−OSO3M、が好ましい。このような極性基の量
は、10-1〜10-8モル/gであり、好ましくは10-2
〜10-6モル/gである。
Of these, polyvinyl acetals are preferable binders for the photosensitive layer of the photothermographic material according to the present invention, and polyvinyl butyral is particularly preferable. Details will be described later. Further, for the non-photosensitive layer such as the overcoat layer or the undercoat layer, particularly the protective layer or the backcoat layer, a polymer having a higher softening temperature, such as a cellulose ester, particularly triacetyl cellulose, a polymer such as cellulose acetate butyrate is used. preferable. The above binders may be used in combination of two or more, if necessary. The binder -COOM, -SO 3 M,
-OSO 3 M, -P = O ( OM) 2, -O-P = O (O
M) 2 , (M represents a hydrogen atom or an alkali metal base), -N (R) 2 , -N + (R) 3 (R represents a hydrocarbon group), epoxy group, -SH, -CN. It is preferable to use a copolymer having at least one polar group selected from the group introduced by copolymerization or an addition reaction.
3 M and -OSO 3 M are preferred. The amount of such a polar group is 10 −1 to 10 −8 mol / g, preferably 10 −2.
It is from 10 -6 mol / g.

【0161】このようなバインダーは、バインダーとし
て機能するのに効果的な範囲で用いられる。効果的な範
囲は当業者が容易に決定しうる。例えば、画像形成層に
おいて少なくとも有機銀塩を保持する場合の指標として
は、バインダーと有機銀塩との割合は15:1〜1:2
が好ましく、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即
ち、画像形成層のバインダー量が1.5〜6g/m2
あることが好ましい。更に好ましくは1.7〜5g/m
2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅
に上昇し、使用に耐えない場合がある。
Such a binder is used within a range effective to function as a binder. The effective range can be easily determined by those skilled in the art. For example, as an index for holding at least the organic silver salt in the image forming layer, the ratio of the binder to the organic silver salt is 15: 1 to 1: 2.
Is preferable, and a range of 8: 1 to 1: 1 is particularly preferable. That is, the amount of binder in the image forming layer is preferably 1.5 to 6 g / m 2 . More preferably 1.7 to 5 g / m
Is 2 . If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed area may increase significantly and it may not be usable.

【0162】本発明で用いるバインダーのガラス転移温
度Tgは、70℃以上105℃以下であることが好まし
い。Tgは、示差走査熱量計で測定して求めることがで
き、ベースラインと吸熱ピークの傾きとの交点をガラス
転移点とする。
The glass transition temperature Tg of the binder used in the present invention is preferably 70 ° C. or higher and 105 ° C. or lower. Tg can be obtained by measurement with a differential scanning calorimeter, and the intersection of the baseline and the slope of the endothermic peak is taken as the glass transition point.

【0163】本発明において、ガラス転移温度(Tg)
は、ブランドラップらによる“重合体ハンドブック”II
I−139頁からIII−179頁(1966年,ワイリー
アンドサン社版)に記載の方法で求めたものである。
In the present invention, the glass transition temperature (Tg)
Is the "Polymer Handbook" II by Brand Wrap et al.
It was obtained by the method described on pages I-139 to III-179 (1966, Wiley and Sun Co.).

【0164】バインダーが共重合体樹脂である場合のT
gは下記の式で求められる。 Tg(共重合体)(℃)=v1Tg1+v2Tg2+・・・
+vnTgn 式中、v1、v2・・・vnは共重合体中の単量体の質量
分率を表し、Tg1、Tg2・・・Tgnは共重合体中の
各単量体から得られる単一重合体のTg(℃)を表す。
T when the binder is a copolymer resin
g is calculated by the following formula. Tg (copolymer) (° C.) = V 1 Tg 1 + v 2 Tg 2 + ...
+ V n Tg n In the formula, v 1 , v 2 ... V n represent the mass fraction of the monomer in the copolymer, and Tg 1 , Tg 2 ... Tg n are each The Tg (° C.) of a homopolymer obtained from a monomer is shown.

【0165】上式に従って計算されたTgの精度は、±
5℃である。Tgが70℃〜105℃のバインダーを用
いると、画像形成において十分な最高濃度が得ることが
でき、また熱現像時のローラーマークの発生を改良でき
て好ましい。
The accuracy of Tg calculated according to the above equation is ±
It is 5 ° C. The use of a binder having a Tg of 70 ° C. to 105 ° C. is preferable because a sufficient maximum density can be obtained in image formation, and generation of roller marks during heat development can be improved.

【0166】本発明のバインダーとしてはTgが70℃
〜105℃、数平均分子量が1,000〜1,000,
000、好ましくは10,000〜500,000、重
合度が約50〜1,000程度のものである。
The binder of the present invention has a Tg of 70 ° C.
~ 105 ° C, number average molecular weight of 1,000 to 1,000,
000, preferably 10,000 to 500,000, and the degree of polymerization is about 50 to 1,000.

【0167】前述のエチレン性不飽和モノマーを構成単
位として含む重合体または共重合体について更に詳しく
述べると、重合体の構成単位となるエチレン性不飽和モ
ノマーとしてはアクリル酸アルキルエステル類、アクリ
ル酸アリールエステル類、メタクリル酸アルキルエステ
ル類、メタクリル酸アリールエステル類、シアノアクリ
ル酸アルキルエステル類、シアノアクリル酸アリールエ
ステル類などを挙げることができ、それらのアルキル
基、アリール基は置換されていてもされていなくてもよ
く、具体的には、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、
tert−ブチル、アミル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、ベンジル、クロロベンジル、オクチル、ステアリ
ル、スルホプロピル、N−エチル−フェニルアミノエチ
ル、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチル、ジメ
チルアミノフェノキシエチル、フルフリル、テトラヒド
ロフルフリル、フェニル、クレジル、ナフチル、2−ヒ
ドロキシエチル、4−ヒドロキシブチル、トリエチレン
グリコール、ジプロピレングリコール、2−メトキシエ
チル、3−メトキシブチル、2−アセトキシエチル、2
−アセトアセトキシエチル、2−エトキシエチル、2−
iso−プロポキシエチル、2−ブトキシエチル、2−
(2−メトキシエトキシ)エチル、2−(2−エトキシ
エトキシ)エチル、2−(2−ブトキシエトキシ)エチ
ル、2−ジフェニルホスホリルエチル、ω−メトキシポ
リエチレングリコール(付加モル数n=6)、アリル、
ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩などを挙げる
ことができる。
The polymer or copolymer containing the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer as a constituent unit will be described in more detail. Examples of the ethylenically unsaturated monomer as a constituent unit of the polymer include alkyl acrylates and aryl acrylates. Examples thereof include esters, methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, cyanoacrylic acid alkyl esters, cyanoacrylic acid aryl esters, and the like, and those alkyl groups and aryl groups may be substituted. It may be omitted, specifically, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl,
tert-butyl, amyl, hexyl, cyclohexyl, benzyl, chlorobenzyl, octyl, stearyl, sulfopropyl, N-ethyl-phenylaminoethyl, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl, dimethylaminophenoxyethyl, furfuryl, tetrahydrofur Furyl, phenyl, cresyl, naphthyl, 2-hydroxyethyl, 4-hydroxybutyl, triethylene glycol, dipropylene glycol, 2-methoxyethyl, 3-methoxybutyl, 2-acetoxyethyl, 2
-Acetoacetoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-
iso-propoxyethyl, 2-butoxyethyl, 2-
(2-methoxyethoxy) ethyl, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl, 2-diphenylphosphorylethyl, ω-methoxypolyethyleneglycol (addition mole number n = 6), allyl,
Examples thereof include dimethylaminoethyl methyl chloride salt.

【0168】その他、下記のモノマー等が使用できる。
ビニルエステル類(例えば、ビニルアセテート、ビニル
プロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレ
ート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、
ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテー
ト、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなど);N−置
換アクリルアミド類、N−置換メタクリルアミド類およ
びアクリルアミド、メタクリルアミド(N−置換基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−
ブチル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチ
ル、メトキシエチル、ジメチルアミノエチル、フェニ
ル、ジメチル、ジエチル、β−シアノエチル、N−(2
−アセトアセトキシエチル)、ジアセトニルなどの各基
を有するものなど);オレフィン類(例えば、ジシクロ
ペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレ
ン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタ
ジエン等;スチレン類:例えば、メチルスチレン、ジメ
チルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、
イソプロピルスチレン、tert−ブチルスチレン、ク
ロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシス
チレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムス
チレン、ビニル安息香酸メチルエステルなど);ビニル
エーテル類(例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチ
ルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテ
ルなど);N−置換マレイミド類(N−置換基として、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチ
ル、シクロヘキシル、ベンジル、n−ドデシル、フェニ
ル、2−メチルフェニル、2,6−ジエチルフェニル、
2−クロルフェニルなどの各基を有するものなど);そ
の他として、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジブチル、マレイン酸
ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、
フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチ
ル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メト
キシエチルビニルケトン、グリシジルアクリレート、グ
リシジルメタクリレート、N−ビニルオキサゾリドン、
N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタアクリ
ロニトリル、メチレンマロンニトリル、塩化ビニリデン
などを挙げることができる。
In addition, the following monomers can be used.
Vinyl esters (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate,
Vinyl methoxyacetate, vinyl phenylacetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, etc.); N-substituted acrylamides, N-substituted methacrylamides and acrylamides, (N-substituents are methyl, ethyl, propyl, butyl, tert-
Butyl, cyclohexyl, benzyl, hydroxymethyl, methoxyethyl, dimethylaminoethyl, phenyl, dimethyl, diethyl, β-cyanoethyl, N- (2
-Acetoacetoxyethyl), those having each group such as diacetonyl); olefins (eg, dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1-butene, 1
-Pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene, 2,3-dimethylbutadiene, etc .; Styrenes: for example, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene,
Isopropyl styrene, tert-butyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, brom styrene, vinyl benzoic acid methyl ester, etc.); vinyl ethers (eg, methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, Methoxyethyl vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, etc.); N-substituted maleimides (as N-substituents,
Methyl, ethyl, propyl, butyl, tert-butyl, cyclohexyl, benzyl, n-dodecyl, phenyl, 2-methylphenyl, 2,6-diethylphenyl,
Those having respective groups such as 2-chlorophenyl, etc.); Others, butyl crotonic acid, hexyl crotonic acid,
Dimethyl itaconate, dibutyl itaconate, diethyl maleate, dimethyl maleate, dibutyl maleate,
Diethyl fumarate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, methoxyethyl vinyl ketone, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, N-vinyl oxazolidone,
Examples thereof include N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile, methylenemalonnitrile and vinylidene chloride.

【0169】これらのうち、特に好ましい例としては、
メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリー
ルエステル類、スチレン類等が挙げられる。このような
高分子化合物のなかでも、アセタール基を持つ高分子化
合物を用いることが好ましい。アセタール基をもつ高分
子化合物でも、アセトアセタール構造をもつポリビニル
アセタールであることがより好ましく、例えば、米国特
許第2,358,836号、同第3,003,879
号、同第2,828,204号、英国特許第771,1
55号に示されるポリビニルアセタールを挙げることが
できる。
Of these, particularly preferable examples are:
Examples thereof include methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, and styrenes. Among such polymer compounds, it is preferable to use a polymer compound having an acetal group. Even a polymer compound having an acetal group is more preferably a polyvinyl acetal having an acetoacetal structure, for example, US Pat. Nos. 2,358,836 and 3,003,879.
No. 2,828,204, British Patent 771,1.
The polyvinyl acetal shown in No. 55 can be mentioned.

【0170】本発明に係るアセタール基を持つ高分子化
合物としては、下記一般式(V)で表される化合物が、
特に好ましい。
As the polymer compound having an acetal group according to the present invention, a compound represented by the following general formula (V) is
Particularly preferred.

【0171】[0171]

【化8】 [Chemical 8]

【0172】式中、R1は無置換アルキル基、置換アル
キル基、アリール基または置換アリール基を表すが好ま
しくはアリール基以外の基である。R2は無置換アルキ
ル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリー
ル基、−COR3または−CONHR3を表す。R3はR1
と同義である。
In the formula, R 1 represents an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, but is preferably a group other than the aryl group. R 2 represents an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, a -COR 3 or -CONHR 3. R 3 is R 1
Is synonymous with.

【0173】R1、R2、R3で表される無置換アルキル
基としては、炭素数1〜20のものが好ましく、特に好
ましくは炭素数1〜6である。これらは直鎖であっても
分岐していてもよく、好ましくは直鎖のアルキル基が好
ましい。このような無置換アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n
−アミル基、t−アミル基、n−ヘキシル基、シクロヘ
キシル基、n−ヘプシル基、n−オクチル基、t−オク
チル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デ
シル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基等が挙げ
られるが、特に好ましくはメチル基もしくはプロピル基
である。
The unsubstituted alkyl group represented by R 1 , R 2 and R 3 preferably has 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. These may be linear or branched, and linear alkyl groups are preferable. Examples of such an unsubstituted alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n
-Amyl group, t-amyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, t-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group Examples thereof include a group and n-octadecyl group, but a methyl group or a propyl group is particularly preferable.

【0174】無置換アリール基としては、炭素数6〜2
0のものが好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基
等が挙げられる。上記のアルキル基、アリール基に置換
可能な基としては、アルキル基(例えば、メチル基、n
−プロピル基、t−アミル基、t−オクチル基、n−ノ
ニル基、ドデシル基等)、アリール基(例えば、フェニ
ル基等)、ニトロ基、水酸基、シアノ基、スルホ基、ア
ルコキシ基(例えば、メトキシ基等)、アリールオキシ
基(例えば、フェノキシ基等)、アシルオキシ基(例え
ば、アセトキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセ
チルアミノ基等)、スルホンアミド基(例えば、メタン
スルホンアミド基等)、スルファモイル基(例えば、メ
チルスルファモイル基等)、ハロゲン原子(例えば、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子)、カルボキシ基、カル
バモイル基(例えば、メチルカルバモイル基等)、アル
コキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基
等)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル基等)
などが挙げられる。この置換基が2つ以上あるときは、
同じでも異なっていてもよい。置換アルキル基の総炭素
数は、1〜20が好ましく、置換アリール基の総炭素数
は6〜20が好ましい。
The unsubstituted aryl group has 6 to 2 carbon atoms.
It is preferably 0, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the groups substitutable for the above alkyl group and aryl group include alkyl groups (eg, methyl group, n
-Propyl group, t-amyl group, t-octyl group, n-nonyl group, dodecyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, etc.), nitro group, hydroxyl group, cyano group, sulfo group, alkoxy group (eg, Methoxy group etc.), aryloxy group (eg phenoxy group etc.), acyloxy group (eg acetoxy group etc.), acylamino group (eg acetylamino group etc.), sulfonamide group (eg methanesulfonamide group etc.), Sulfamoyl group (eg, methylsulfamoyl group), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), carboxy group, carbamoyl group (eg, methylcarbamoyl group), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl) Group), sulfonyl group (eg, methylsulfonyl group, etc.)
And so on. When there are two or more of these substituents,
It may be the same or different. The total number of carbon atoms of the substituted alkyl group is preferably 1 to 20, and the total number of carbon atoms of the substituted aryl group is preferably 6 to 20.

【0175】R2としては、−COR3(R3はアルキル
基またはアリール基)、−CONHR3(R3はアリール
基)が好ましい。a、b、cは、各繰り返し単位の質量
をモル(mol)%で示した値であり、aは、40〜8
6モル%、bは0〜30モル%、cは0〜60モル%の
範囲で、a+b+c=100モル%となる数を表し、特
に好ましくは、aが50〜86モル%、bが5〜25モ
ル%、cが0〜40モル%の範囲である。a、b、cの
各組成比をもつ各繰り返し単位は、それぞれ同一のもの
のみで構成されていても、異なるもので構成されていて
もよい。
As R 2 , —COR 3 (R 3 is an alkyl group or an aryl group) and —CONHR 3 (R 3 is an aryl group) are preferable. a, b, and c are values in which the mass of each repeating unit is shown by mol (mol)%, and a is 40 to 8
6 mol%, b is 0 to 30 mol%, c is 0 to 60 mol% and represents a number such that a + b + c = 100 mol%, and particularly preferably a is 50 to 86 mol% and b is 5 to 5. 25 mol% and c are in the range of 0 to 40 mol%. Each repeating unit having each composition ratio of a, b, and c may be composed of only the same or different units.

【0176】本発明の上記一般式(V)で表される高分
子化合物は、「酢酸ビニル樹脂」桜田一郎編(高分子化
学刊行会、1962年)等に記載の一般的な合成方法で
合成することができる。
The polymer compound represented by the above general formula (V) of the present invention is synthesized by a general synthesis method described in “Vinyl acetate resin” edited by Ichiro Sakurada (Kobunshi Kagaku Kozaikai, 1962). can do.

【0177】本発明で用いることのできるポリウレタン
樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリ
エーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリ
ウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステ
ルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトン
ポリウレタンなど公知のものが使用できる。またポリウ
レタン分子末端に少なくとも1個ずつ、合計2個以上の
OH基を有することが好ましい。OH基は、硬化剤であ
るポリイソシアネートと架橋して3次元の網状構造を形
成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特に、O
H基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いの
で好ましい。ポリウレタンは、分子末端にOH基を3個
以上有することが好ましく、4個以上有することが特に
好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合
は、ガラス転移温度が70〜105℃、破断伸びが10
0〜2000%、破断応力は0.5〜100N/mm2
が好ましい。
As the polyurethane resin which can be used in the present invention, those having a known structure such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane and polycaprolactone polyurethane can be used. Further, it is preferable to have at least one OH group at the end of the polyurethane molecule, for a total of two or more OH groups. Since the OH group cross-links with the polyisocyanate as the curing agent to form a three-dimensional network structure, it is preferable that a large number of OH groups be contained in the molecule. Especially O
It is preferable that the H group is at the molecular end because the reactivity with the curing agent is high. The polyurethane preferably has 3 or more OH groups at the molecular ends, and particularly preferably 4 or more OH groups. In the present invention, when polyurethane is used, the glass transition temperature is 70 to 105 ° C and the elongation at break is 10
0 to 2000%, breaking stress 0.5 to 100 N / mm 2
Is preferred.

【0178】これらの高分子化合物(ポリマー)は単独
で用いてもよいし、2種類以上をブレンドして用いても
よい。本発明の画像形成層には上記ポリマーを主バイン
ダーとして用いる。ここで言う主バインダーとは「画像
形成層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマー
が占めている状態」をいう。従って、全バインダーの5
0質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用い
てもよい。これらのポリマーとしては、本発明のポリマ
ーが可溶となる溶媒であれば、特に制限はない。より好
ましくはポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン
樹脂などが挙げられる。
These high molecular compounds (polymers) may be used alone or in a blend of two or more. The above polymer is used as a main binder in the image forming layer of the present invention. The term "main binder" as used herein means "a state in which the above polymer occupies 50% by mass or more of the total binder in the image forming layer". Therefore, 5 of all binders
You may blend and use another polymer in the range of less than 0 mass%. These polymers are not particularly limited as long as they are solvents in which the polymer of the present invention is soluble. More preferably, polyvinyl acetate, polyacrylic resin, urethane resin, etc. are mentioned.

【0179】本発明においては、画像形成層に有機性ゲ
ル化剤を含有せしめてもよい。なお、ここででいう有機
性ゲル化剤とは、例えば、多価アルコール類のように有
機液体に添加することにより、その系に降伏値を付与
し、系の流動性を消失あるいは低下させる機能を有する
化合物を言う。
In the present invention, the image forming layer may contain an organic gelling agent. The term "organic gelling agent" as used herein means, for example, a function of giving a yield value to the system by adding it to an organic liquid such as polyhydric alcohols and eliminating or lowering the fluidity of the system. Refers to compounds having.

【0180】本発明においては、画像形成層用塗布液が
水性分散されたポリマーラテックスを含有するのも好ま
しい態様である。この場合、画像形成層用塗布液中の全
バインダーの50質量%以上が水性分散されたポリマー
ラテックスであることが好ましい。
In the present invention, it is also a preferred embodiment that the coating liquid for the image forming layer contains an aqueous dispersed polymer latex. In this case, it is preferable that 50% by mass or more of the total binder in the coating liquid for the image forming layer is a polymer latex in which the binder is aqueously dispersed.

【0181】また、本発明に係る画像形成層がポリマー
ラテックスを含有する場合、前記画像形成層中の全バイ
ンダーの50質量%以上がポリマーラテックスであるこ
とが好ましく、更に好ましくは70質量%以上である。
When the image-forming layer according to the present invention contains a polymer latex, 50% by weight or more of the total binder in the image-forming layer is preferably a polymer latex, more preferably 70% by weight or more. is there.

【0182】本発明に係る「ポリマーラテックス」とは
水不溶性の疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の
分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリ
マーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合された
もの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中
に部分的に親水的な構造をもち分子鎖自身が分子状分散
したものなどいずれでもよい。
The “polymer latex” according to the present invention is a dispersion of a water-insoluble hydrophobic polymer as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As a dispersed state, the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or the polymer chain has a partially hydrophilic structure and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of these may be used.

【0183】分散粒子の平均粒径は1〜50000nm
が好ましく、より好ましくは5〜1000nm程度の範
囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無
く、広い粒径分布をもつものでも単分散の粒径分布を持
つものでもよい。
The average particle diameter of the dispersed particles is 1 to 50,000 nm.
Is preferable, and more preferably in the range of about 5 to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may be a wide particle size distribution or a monodisperse particle size distribution.

【0184】本発明に係るポリマーラテックスとして
は、通常の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆ
るコア/シェル型のラテックスでもよい。この場合コア
とシェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合があ
る。本発明に係るポリマーラテックスの最低造膜温度
(MFT)は、−30〜90℃であることが好ましく、
更に好ましくは0〜70℃程度である。また、最低造膜
温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよ
い。本発明に用いられる造膜助剤は可塑剤ともよばれポ
リマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合
物(通常有機溶媒)であり、例えば「合成ラテックスの
化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」
に記載されている。
The polymer latex according to the present invention may be a so-called core / shell type latex in addition to the usual polymer latex having a uniform structure. In this case, it may be preferable that the core and the shell have different glass transition temperatures. The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex according to the present invention is preferably −30 to 90 ° C.,
More preferably, it is about 0 to 70 ° C. Further, a film forming auxiliary may be added to control the minimum film forming temperature. The film-forming auxiliary used in the present invention is also called a plasticizer and is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex. For example, “Chemistry of Synthetic Latex (Munekazu Muroi, Polymer Publishing Society) Issued (1970)) "
It is described in.

【0185】本発明に係るポリマーラテックスに用いら
れるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリマ
ーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーで
も、また架橋されたポリマーでもよい。またポリマーと
しては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマー
でもよいし、2種以上のモノマーが重合したコポリマー
でもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも
ブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は数平
均分子量で通常5000〜1000000、好ましくは
10000〜100000程度である。分子量が小さす
ぎるものは感光層の力学強度が不十分であり、大きすぎ
るものは製膜性が悪く好ましくない。
The polymer species used in the polymer latex according to the present invention include acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polyolefin resin, or copolymers thereof. and so on. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more kinds of monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The number average molecular weight of the polymer is usually 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the photosensitive layer is insufficient.

【0186】本発明に係るポリマーラテックスは25
℃、60%RHでの平衡含水率が0.01〜2質量%以
下のものが好ましく、更に好ましくは、0.01〜1質
量%のものである。平衡含水率の定義と測定法について
は、例えば「高分子工学講座14、高分子材料試験法
(高分子学会編、地人書館)」などを参考にすることが
できる。
The polymer latex according to the present invention is 25
The equilibrium water content at 60 ° C and 60% RH is preferably 0.01 to 2% by mass or less, and more preferably 0.01 to 1% by mass. The definition and measurement method of the equilibrium water content can be referred to, for example, “Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Polymer Society, edited by Jijijinkan)”.

【0187】本発明に係るポリマーラテックスの具体例
としては、メチルメタクリレート/エチルアクリレート
/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタク
リレート/2−エチルヘキシルアクリレート/スチレン
/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタ
ジエン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン
/ブタジエン/ジビニルベンゼン/メタクリル酸コポリ
マーのラテックス、メチルメタクリレート/塩化ビニル
/アクリル酸コポリマーのラテックス、塩化ビニリデン
/エチルアクリレート/アクリロニトリル/メタクリル
酸コポリマーのラテックスなどが挙げられる。
Specific examples of the polymer latex according to the present invention include latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, styrene / butadiene / acrylic acid copolymer. Latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer, and the like.

【0188】これらのポリマーは単独で用いてもよい
し、必要に応じて2種以上ブレンドして用いてもよい。
ポリマーラテックスのポリマー種としては、アクリレー
トまたはメタクリレート成分のごときカルボン酸成分を
0.1〜10質量%程度含有するものが好ましい。
These polymers may be used alone or, if necessary, as a blend of two or more kinds.
The polymer type of the polymer latex preferably contains a carboxylic acid component such as an acrylate or methacrylate component in an amount of about 0.1 to 10% by mass.

【0189】更に、必要に応じて全バインダーの50質
量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。これ
らの親水性ポリマーの添加量は前記感光層の全バインダ
ーの30質量%以下が好ましい。
If necessary, hydrophilic polymers such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose and hydroxypropyl methyl cellulose may be added in the range of 50% by mass or less of the total binder. The addition amount of these hydrophilic polymers is preferably 30% by mass or less of the total binder of the photosensitive layer.

【0190】本発明に係る画像形成層用塗布液の調製に
おいて、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックス
の添加の順序については、いずれが先に添加してもよい
し、同時に添加してもよいが、好ましくは、ポリマーラ
テックスが後である。
In the preparation of the coating liquid for the image-forming layer according to the present invention, the organic silver salt and the aqueous dispersed polymer latex may be added first, or both may be added at the same time. Good, but preferably polymer latex later.

【0191】更に、ポリマーラテックス添加前に有機銀
塩、更には還元剤が混合されていることが好ましい。ま
た、本発明においては、有機銀塩とポリマーラテックス
を混合した後、経時させる温度が低すぎると塗布面状が
損なわれ、高すぎるとかぶりが上昇する問題があるの
で、混合後の塗布液は30℃〜65℃で上記時間経時さ
れることが好ましい。更には35℃〜60℃で経時させ
ることが好ましく、特には35℃〜55℃で経時される
ことが好ましい。このように温度を維持するには塗布液
の調液槽等を保温すればよい。
Furthermore, it is preferable that an organic silver salt and further a reducing agent are mixed before the addition of the polymer latex. Further, in the present invention, after mixing the organic silver salt and the polymer latex, if the temperature for aging is too low, the coating surface state is impaired, and if it is too high, there is a problem that fog rises. It is preferable that the above-mentioned time is elapsed at 30 ° C to 65 ° C. Further, it is preferable to age at 35 ° C. to 60 ° C., and it is particularly preferable to age at 35 ° C. to 55 ° C. In order to maintain the temperature in this way, it is sufficient to keep the temperature of the coating solution preparation tank or the like.

【0192】本発明に係る画像形成層用塗布液の塗布は
有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを混合し
た後、30分〜24時間経過した塗布液を用いるのが好
ましく、更に好ましくは、混合した後、60分〜12時
間経過させることであり、特に好ましくは、120分〜
10時間経過した塗布液を用いることである。
For coating the coating solution for the image forming layer according to the present invention, it is preferable to use a coating solution which has been left for 30 minutes to 24 hours after mixing the organic silver salt and the polymer latex dispersed in water, and more preferably, After mixing, 60 minutes to 12 hours are allowed to pass, and particularly preferably 120 minutes to
This is to use the coating liquid after 10 hours.

【0193】ここで、「混合した後」とは、有機銀塩と
水性分散されたポリマーラテックスを添加し、添加素材
が均一に分散された後を言う。
Here, "after mixing" means after the organic silver salt and the aqueously dispersed polymer latex are added and the additive materials are uniformly dispersed.

【0194】本発明においては、架橋剤を上記バインダ
ーに対し用いることにより膜付きがよくなり、現像ムラ
が少なくなることは知られているが、保存時のかぶり抑
制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果
もある。
In the present invention, it is known that the use of a crosslinking agent for the above binder improves the film deposition and reduces the development unevenness, but suppresses fogging during storage and printout silver after development. It also has the effect of suppressing the generation of.

【0195】本発明で用いられる架橋剤としては、従来
写真感材用として使用されている種々の架橋剤、例え
ば、特開昭50−96216号に記載されているアルデ
ヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホ
ン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボ
ジイミド系、シラン化合物系架橋剤を用いうるが、好ま
しいのは以下に示す、イソシアネート系化合物、シラン
化合物、エポキシ化合物又は酸無水物である。
As the cross-linking agent used in the present invention, various cross-linking agents conventionally used for photographic materials, for example, aldehyde-based, epoxy-based and ethyleneimine described in JP-A-50-96216 are used. Although a system, a vinyl sulfone system, a sulfonic acid ester system, an acryloyl system, a carbodiimide system, and a silane compound system crosslinking agent can be used, an isocyanate system compound, a silane compound, an epoxy compound, or an acid anhydride shown below is preferred.

【0196】好適なものの一つである下記一般式(2)
で表されるイソシアネート系及びチオイソシアネート系
架橋剤について説明する。
The following general formula (2), which is one of the preferred ones,
The isocyanate-based and thioisocyanate-based crosslinking agents represented by will be described.

【0197】一般式(2) X=C=N−L−(N=C=X)v 式中、vは1または2であり、Lはアルキレン、アルケ
ニレン、アリール基またはアルキルアリール基で、v+
1価の連結基を表し、Xは酸素または硫黄原子を表す。
Formula (2) X = C = NL- (N = C = X) v In the formula, v is 1 or 2, L is alkylene, alkenylene, an aryl group or an alkylaryl group, and v +
It represents a monovalent linking group, and X represents an oxygen or sulfur atom.

【0198】なお、上記一般式(2)で表される化合物
において、アリール基のアリール環は置換基を有し得
る。好ましい置換基の例は、ハロゲン原子(例えば、臭
素原子または塩素原子)、ヒドロキシ基、アミノ基、カ
ルボキシル基、アルキル基およびアルコキシ基から選択
される。
In the compound represented by the above general formula (2), the aryl ring of the aryl group may have a substituent. Examples of preferred substituents are selected from halogen atoms (eg bromine or chlorine atoms), hydroxy groups, amino groups, carboxyl groups, alkyl groups and alkoxy groups.

【0199】上記イソシアネート系架橋剤は、イソシア
ネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類
及びその付加体(アダクト体)であり、更に、具体的に
は、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族
ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナ
フタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネー
ト類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェ
ニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート
類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート
類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2価又は3
価のポリアルコール類との付加体が挙げられる。
The above-mentioned isocyanate-based cross-linking agent is an isocyanate having at least two isocyanate groups and its adduct (adduct), and more specifically, aliphatic diisocyanates and fats having a cyclic group. Group diisocyanates, benzene diisocyanates, naphthalene diisocyanates, biphenyl isocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates and diisocyanates of these isocyanates or Three
Examples thereof include adducts with valent polyalcohols.

【0200】具体例としては、特開昭56−5535号
明細書の10頁から12頁に記載されているイソシアネ
ート化合物を利用することができる。
As specific examples, the isocyanate compounds described on pages 10 to 12 of JP-A-56-5535 can be used.

【0201】なお、イソシアネートとポリアルコールの
付加体は特に、層間接着を良くし、層の剥離や画像のズ
レ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシ
アネートは光熱写真材料のどの部分に置かれてもよい。
例えば支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組
成中に含ませることができる)感光層、表面保護層、中
間層、アンチハレーション層、下引き層等の支持体の感
光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又
は2層以上に添加することができる。
The adduct of isocyanate and polyalcohol has a particularly high ability to improve interlayer adhesion and prevent layer peeling, image misalignment and bubble generation. Such isocyanates may be placed on any part of the photothermographic material.
For example, in the support (particularly when the support is paper, it may be included in the size composition), the photosensitive layer, the surface protective layer, the intermediate layer, the antihalation layer, the undercoat layer, etc. It can be added to any layer, and can be added to one layer or two or more layers among these layers.

【0202】又、本発明において使用することが可能な
チオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシア
ネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化
合物も有用である。
As the thioisocyanate-based crosslinking agent that can be used in the present invention, compounds having a thioisocyanate structure corresponding to the above isocyanates are also useful.

【0203】本発明において使用される上記架橋剤の量
は、銀1モルに対して通常0.001〜2モル、好まし
くは0.005から0.5モルの範囲である。
The amount of the above-mentioned crosslinking agent used in the present invention is usually 0.001 to 2 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol, based on 1 mol of silver.

【0204】本発明において含有させることができるイ
ソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、
上記の架橋剤として機能する化合物であることが好まし
いが、上記の一般式においてvが零(0)、即ち、当該
官能基を一つのみ有する化合物であっても良い結果がえ
られる。
The isocyanate compound and thioisocyanate compound which can be contained in the present invention are
The compound that functions as the above-mentioned crosslinking agent is preferable, but v may be zero (0) in the above general formula, that is, a compound having only one functional group may give good results.

【0205】本発明において架橋剤として使用できるシ
ラン化合物の例としては、特開2001−264930
に開示されている下記一般式(3)又は一般式(4)で
表される化合物が挙げられる。
Examples of the silane compound which can be used as a crosslinking agent in the present invention include JP-A-2001-264930.
And compounds represented by the following general formula (3) or general formula (4).

【0206】[0206]

【化9】 [Chemical 9]

【0207】これらの一般式において、R1、R2
3、R4、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ置換されて
もよい直鎖、分枝又は環状の炭素数1〜30のアルキル
基(メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、シクロアルキル基等)、アルケニル基(プロペ
ニル基、ブテニル基、ノネニル基等)、アルキニル基
(アセチレン基、ビスアセチレン基、フェニルアセチレ
ン基等)、アリール基又はヘテロ環基(フェニル基、ナ
フチル基、テトラヒドロピラン基、ピリジル基、フリル
基、チオフェニル基、イミダゾール基、チアゾール基、
チアジアゾール基、オキサジアゾール基等)を表し、置
換基としては電子吸引性の置換基又は電子供与性の置換
基いずれをも有することができる。
In these general formulas, R 1 , R 2 ,
R 3, R 4, R 5 , R 6, R 7 and R 8 are straight optionally substituted respectively, branched or cyclic alkyl group (methyl group having 1 to 30 carbon atoms, an ethyl group, butyl group, Octyl group, dodecyl group, cycloalkyl group, etc.), alkenyl group (propenyl group, butenyl group, nonenyl group, etc.), alkynyl group (acetylene group, bisacetylene group, phenylacetylene group, etc.), aryl group or heterocyclic group (phenyl) Group, naphthyl group, tetrahydropyran group, pyridyl group, furyl group, thiophenyl group, imidazole group, thiazole group,
(Thiadiazole group, oxadiazole group, etc.), and the substituent may have either an electron-withdrawing substituent or an electron-donating substituent.

【0208】R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及び
8から選ばれる置換基の少なくとも1つが耐拡散性基
又は吸着性基であることが好ましく、特にR2が耐拡散
性基又は吸着性基であることが好ましい。
It is preferable that at least one of the substituents selected from R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 is a diffusion resistant group or an adsorptive group. R 2 is preferably a diffusion resistant group or an adsorptive group.

【0209】なお、耐拡散性基は、バラスト基とも呼ば
れ炭素数が6以上の脂肪族基や炭素数が3以上のアルキ
ル基が導入されているアリール基等が好ましい。耐拡散
性は、バインダーや架橋剤の使用量によって異なるが、
耐拡散性の基を導入することにより、室温状態の分子内
の移動距離が抑制され経時での反応を抑制できる。
The diffusion resistant group is preferably an aliphatic group having a carbon number of 6 or more, or an aryl group having an alkyl group having a carbon number of 3 or more, which is also called a ballast group. Diffusion resistance depends on the amount of binder and cross-linking agent used,
By introducing a diffusion resistant group, the intramolecular migration distance at room temperature is suppressed, and the reaction over time can be suppressed.

【0210】L1、L2、L3及びL4は2価の連結基を表
し、例えば、−CH2−基、−CF2−基、=CF−基、
−O−基、−S−基、−NH−基、−OCO−基、−C
ONH−基、−SO2NH−基、ポリオキシアルキレン
基、チオ尿素基、ポリメチレン基、またはこれらの基の
組み合わせたもの等を表す。
L 1 , L 2 , L 3 and L 4 represent a divalent linking group, for example, —CH 2 — group, —CF 2 — group, = CF— group,
-O- group, -S- group, -NH- group, -OCO- group, -C
ONH- represents group, -SO 2 NH- group, polyoxyalkylene group, thiourea group, a polymethylene group or those combination of these groups, and the like.

【0211】m及びnは1〜3の整数を表し、m+nは
4であり、p1及びp2は1〜3の整数であり、q1及
びq2は0、1又は2であり、p1+q1及びp2+q
2は3であり、r1及びtは0又は1〜1000の整数
を表す。
M and n represent an integer of 1 to 3, m + n is 4, p1 and p2 are integers of 1 to 3, q1 and q2 are 0, 1 or 2, and p1 + q1 and p2 + q.
2 is 3 and r1 and t represent 0 or an integer of 1 to 1000.

【0212】本発明において架橋剤として使用できるエ
ポキシ化合物としてはエポキシ基を1個以上有するもの
であればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限
はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介し
てグリシジル基として分子内に含有されることが好まし
い。またエポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリ
マー等のいずれであってもよく、分子内に存在するエポ
キシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個
である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモ
ポリマー、コポリマーのいずれであってもよく、その数
平均分子量Mnの特に好ましい範囲は2000〜200
00程度である。
The epoxy compound which can be used as the crosslinking agent in the present invention is not limited as long as it has one or more epoxy groups, and the number of epoxy groups, the molecular weight and the like are not limited. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. The epoxy compound may be any of a monomer, an oligomer and a polymer, and the number of epoxy groups present in the molecule is usually about 1 to 10, preferably 2 to 4. When the epoxy compound is a polymer, it may be either a homopolymer or a copolymer, and the particularly preferable range of the number average molecular weight Mn thereof is 2000 to 200.
It is about 00.

【0213】本発明に用いられるエポキシ化合物として
は下記一般式(5)で表される化合物が好ましい。
The epoxy compound used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (5).

【0214】[0214]

【化10】 [Chemical 10]

【0215】一般式(5)において、R11で表されるア
ルキレン基の置換基は、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロ
キシアルキル基又はアミノ基から選ばれる基であること
が好ましい。またR11で表される連結基中にアミド連結
部分、エーテル連結部分、チオエーテル連結部分を有し
ていることが好ましい。X11で表される2価の連結基と
しては−SO2−、−SO2NH−、−S−、−O−、又
は−NR11′−が好ましい。ここでR11′は1価の基で
あり、電子吸引基であることが好ましい。
In the general formula (5), the substituent of the alkylene group represented by R 11 is preferably a group selected from a halogen atom, a hydroxyl group, a hydroxyalkyl group or an amino group. Further, it is preferable that the linking group represented by R 11 has an amide linking part, an ether linking part, and a thioether linking part. -SO 2 Examples of the divalent linking group represented by X 11 -, - SO 2 NH -, - S -, - O-, or -NR 11 '- are preferred. Here, R 11 ′ is a monovalent group, and is preferably an electron-withdrawing group.

【0216】これらのエポキシ化合物は、1種のみを用
いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制
限はないが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲
が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3
ル/m2の範囲である。
These epoxy compounds may be used alone or in combination of two or more. The amount added is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , and more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . Is.

【0217】本発明においてエポキシ化合物は、感光
層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引
き層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これ
らの層の中の1層又は2層以上に添加することができ
る。又、併せて支持体の感光層と反対側の任意の層に添
加することができる。尚、両面に感光層が存在するタイ
プの感材ではいずれの層であってもよい。
In the present invention, the epoxy compound can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support such as a photosensitive layer, a surface protective layer, an intermediate layer, an antihalation layer and an undercoat layer. It can be added in layers or in two or more layers. In addition, it can be also added to any layer on the opposite side of the support from the photosensitive layer. It should be noted that any layer may be used in the case of a photosensitive material of a type having photosensitive layers on both sides.

【0218】又、本発明に用いられる酸無水物は下記の
構造式で示される酸無水物基を少なくとも1個有する化
合物である。
The acid anhydride used in the present invention is a compound having at least one acid anhydride group represented by the following structural formula.

【0219】−CO−O−CO−本発明に用いられる酸
無水物はこのような酸無水基を1個以上有するものであ
ればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はない
が、下記一般式(B)で表される化合物が好ましい。
-CO-O-CO- The acid anhydride used in the present invention may be one having at least one such acid anhydride group, and the number of acid anhydride groups, the molecular weight and the like are not limited. A compound represented by the following general formula (B) is preferable.

【0220】[0220]

【化11】 [Chemical 11]

【0221】一般式(B)において、Zは単環又は多環
系を形成するのに必要な原子群を表す。これらの環系は
未置換であってもよく、置換されていてもよい。置換基
の例には、アルキル基(例えば、メチル、エチル、ヘキ
シル)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、
オクチルオキシ)、アリール基(例えば、フェニル、ナ
フチル、トリル)、ヒドロキシ基、アリールオキシ基
(例えば、フェノキシ)、アルキルチオ基(例えば、メ
チルチオ、ブチルチオ)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ)、アシル基(例えば、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル)、スルホニル基(例えば、メチルスル
ホニル、フェニルスルホニル)、アシルアミノ基、スル
ホニルアミノ基、アシルオキシ基(例えば、アセトキ
シ、ベンゾキシ)、カルボキシル基、シアノ基、スルホ
基、及びアミノ基が含まれる。置換基としては、ハロゲ
ン原子を含まないものが好ましい。
In formula (B), Z represents an atomic group necessary for forming a monocyclic or polycyclic system. These ring systems may be unsubstituted or substituted. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, hexyl), an alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy,
Octyloxy), aryl groups (eg phenyl, naphthyl, tolyl), hydroxy groups, aryloxy groups (eg phenoxy), alkylthio groups (eg methylthio, butylthio), arylthio groups (eg phenylthio), acyl groups (eg , Acetyl, propionyl, butyryl), sulfonyl groups (eg, methylsulfonyl, phenylsulfonyl), acylamino groups, sulfonylamino groups, acyloxy groups (eg, acetoxy, benzoxy), carboxyl groups, cyano groups, sulfo groups, and amino groups. included. The substituent preferably does not contain a halogen atom.

【0222】これらの酸無水物は、1種のみを用いても
2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はな
いが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲が好ま
しく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3モル/m
2の範囲である。
These acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more. The amount added is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , and more preferably 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m.
It is in the range of 2 .

【0223】本発明において酸無水物は、感光層、表面
保護層、中間層、アンチハレーション層、下引き層等の
支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の
中の1層又は2層以上に添加することができる。又、前
記エポキシ化合物と同じ層に添加してもよい。
In the present invention, the acid anhydride can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support such as a photosensitive layer, a surface protective layer, an intermediate layer, an antihalation layer and an undercoat layer. It can be added to one layer or two or more layers. It may be added to the same layer as the epoxy compound.

【0224】本発明では、省銀化剤を使用することによ
り、本発明の効果をさらに高めることができる。
In the present invention, the effect of the present invention can be further enhanced by using a silver saving agent.

【0225】本発明において使用される省銀化剤とは、
一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得
る化合物をいう。この低減化する機能の作用機構は種々
考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有す
る化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀
の単位量当たりの光学濃度をいう。
The silver saving agent used in the present invention is
A compound capable of reducing the amount of silver required to obtain a constant silver image density. There are various conceivable modes of action for the function of reducing the amount, but compounds having a function of improving the covering power of developed silver are preferable. Here, the covering power of developed silver means the optical density per unit amount of silver.

【0226】省銀化剤としては、下記一般式(H)で表
されるヒドラジン誘導体化合物、下記一般式(G)で表
されるビニル化合物、下記一般式(P)で表される4級
オニウム化合物等が好ましい例として挙げられる。
As the silver-saving agent, a hydrazine derivative compound represented by the following general formula (H), a vinyl compound represented by the following general formula (G), and a quaternary onium represented by the following general formula (P) are given. A compound etc. are mentioned as a preferable example.

【0227】[0227]

【化12】 [Chemical 12]

【0228】[0228]

【化13】 [Chemical 13]

【0229】一般式(H)において、式中、A0はそれ
ぞれ置換基を有してもよい脂肪族基、芳香族基、複素環
基又は−G0−D0基を、B0はブロッキング基を表し、
1、A2はともに水素原子、又は一方が水素原子で他方
はアシル基、スルホニル基又はオキザリル基を表す。こ
こで、G0は−CO−基、−COCO−基、−CS−
基、−C(=NG11)−基、−SO−基、−SO2
基又は−P(O)(G1 1)−基を表し、G1は単なる
結合手、−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表
し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子
を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは
同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪
族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を
表す。好ましいD0としては、水素原子、アルキル基、
アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。
In the general formula (H), in the formula, A0Is it
Aliphatic group, aromatic group, and heterocyclic group, each of which may have a substituent
Group or -G0-D0The base is B0Represents a blocking group,
A1, A2Are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is
Represents an acyl group, a sulfonyl group or an oxalyl group. This
Here, G0Is -CO- group, -COCO- group, -CS-
Group, -C (= NG1D1) -Group, -SO- group, -SO2
Group or -P (O) (G1D 1) -Represents a group, G1Is just
Bond, -O- group, -S- group or -N (D1) -Group
Then D1Is an aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group or hydrogen atom
Represents multiple D's in the molecule1Are present, they are
It may be the same or different. D0Is hydrogen atom, fat
Group, aromatic group, heterocyclic group, amino group, alkoxy group,
Aryloxy group, alkylthio group, arylthio group
Represent Preferred D0Are a hydrogen atom, an alkyl group,
Examples thereof include an alkoxy group and an amino group.

【0230】一般式(H)において、A0で表される脂
肪族基は、好ましくは炭素数1〜30のものであり、特
に炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が
好ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、
オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げら
れ、これらは更に適当な置換基(例えば、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換
されていてもよい。
In the general formula (H), the aliphatic group represented by A 0 is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, and particularly a straight chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable. Preferably, for example, a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group,
Octyl group, cyclohexyl group, benzyl group, and further suitable substituents (eg, aryl group,
Alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, sulfoxy group, sulfonamide group, sulfamoyl group, acylamino group, ureido group, etc.).

【0231】一般式(H)において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げられ
る。A0の芳香族基、複素環基及び−G0−D0基は置換
基を有していてもよい。A0として、特に好ましいもの
はアリール基及び−G0−D0基である。
In the general formula (H), the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed ring aryl group, for example, a benzene ring or a naphthalene ring, and a heterocyclic ring represented by A 0. The group is preferably a monocycle or a condensed ring, nitrogen, sulfur, a heterocycle containing at least one heteroatom selected from oxygen atoms, for example, a pyrrolidine ring, an imidazole ring, a tetrahydrofuran ring, a morpholine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, Examples thereof include a quinoline ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring and a furan ring. Aromatic groups A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent. Particularly preferred as A 0 are an aryl group and a -G 0 -D 0 group.

【0232】又、一般式(H)において、A0は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を、少なくとも一つ含むこと
が好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性写
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル
基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げら
れ、置換基部分の炭素数の合計は8以上であることが好
ましい。
In the general formula (H), A 0 preferably contains at least one diffusion resistant group or silver halide adsorption group. The antidiffusion group is preferably a ballast group commonly used in non-moving photographic additives such as couplers, and the ballast group is a photographically inactive alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group or phenyl group. Group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group, etc., and the total carbon number of the substituents is preferably 8 or more.

【0233】一般式(H)において、ハロゲン化銀吸着
促進基としては、チオ尿素、チオウレタン基、メルカプ
ト基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミ
ド複素環基、メルカプト複素環基或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
In formula (H), the silver halide adsorption promoting group is a thiourea, a thiourethane group, a mercapto group, a thioether group, a thione group, a heterocyclic group, a thioamide heterocyclic group, a mercapto heterocyclic group or a special group. Kaisho 64-9
Examples thereof include the adsorption group described in No. 0439.

【0234】一般式(H)において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表す。好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ま
しいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スル
ホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基
等)、又はオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。
In formula (H), B 0 represents a blocking group, preferably -G 0 -D 0 group, and G 0 represents-.
CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1 ) -group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (O)
It represents a (G 1 D 1 )-group. Preferred G 0 is -CO-
Group, —COCO— group, G 1 is a mere bond,
-O- group, -S- group, or -N (D 1) - represents a group, D 1 is an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, there are a plurality of D 1 in the molecule If so, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group, and preferable D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, An amino group etc. are mentioned. A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or oxalyl group (Etoxalyl group etc.) is represented.

【0235】これら一般式(H)で表される化合物は、
公知の方法により容易に合成することができる。例え
ば、米国特許第5,464,738号、同5,496,
695号を参考にして合成することができる。
The compounds represented by the general formula (H) are
It can be easily synthesized by a known method. For example, US Patent Nos. 5,464,738 and 5,496,6.
It can be synthesized with reference to No. 695.

【0236】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特
許第5,464,738号カラム9〜11に記載の化合
物1〜12である。これらのヒドラジン誘導体は公知の
方法で合成することができる。
Other hydrazine derivatives which can be preferably used are compounds H-1 to H-29 described in US Pat. No. 5,545,505, columns 11 to 20 and US Pat. No. 5,464,738, column 9. To Compounds 1 to 12. These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.

【0237】一般式(G)において、X21とR21はシス
の形で表示してあるが、X21とR21がトランスの形も一
般式(G)に含まれる。この事は具体的化合物の構造表
示においても同様である。
In the general formula (G), X 21 and R 21 are shown in the form of cis, but the trans form of X 21 and R 21 is also included in the general formula (G). This also applies to the structural representation of specific compounds.

【0238】一般式(G)において、X21は電子吸引性
基を表し、W21は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン
原子、アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシ
オキサリル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オ
キシカルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル
基、チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル
基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スル
ファモイル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニ
ル基、スルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、
イミノ基、N−カルボニルイミノ基、N−スルホニルイ
ミノ基、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホ
ニウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウ
ム基を表す。
In formula (G), X 21 represents an electron-withdrawing group, W 21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, an acyl group or a thioacyl group. , Oxalyl group, oxyoxalyl group, thiooxalyl group, oxamoyl group, oxycarbonyl group, thiocarbonyl group, carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfinyl group, thiosulfinyl group, sulfamoyl group, oxysulfinyl group , Thiosulfinyl group, sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group,
It represents an imino group, N-carbonylimino group, N-sulfonylimino group, dicyanoethylene group, ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium group or immonium group.

【0239】R21はハロゲン原子、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アルケニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカル
ボニルチオ基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシル
基又はメルカプト基の有機又は無機の塩(例えば、ナト
リウム塩、カリウム塩、銀塩等)、アミノ基、アルキル
アミノ基、環状アミノ基(例えば、ピロリジノ基)、ア
シルアミノ基、オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環基
(5〜6員の含窒素ヘテロ環、例えばベンツトリアゾリ
ル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル
基等)、ウレイド基、スルホンアミド基を表す。X21
21、X21とR21は、それぞれ互いに結合して環状構造
を形成してもよい。X21とW21が形成する環としては、
例えばピラゾロン、ピラゾリジノン、シクロペンタンジ
オン、β−ケトラクトン、β−ケトラクタム等が挙げら
れる。
R 21 is a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aminocarbonyloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, Heterocyclic thio group, alkenylthio group, acylthio group, alkoxycarbonylthio group, aminocarbonylthio group, organic group or inorganic salt of hydroxyl group or mercapto group (for example, sodium salt, potassium salt, silver salt, etc.), amino group, Alkylamino group, cyclic amino group (for example, pyrrolidino group), acylamino group, oxycarbonylamino group, heterocyclic group (5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, for example, benztriazolyl group, imidazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl Group), ureido group It represents a sulfonamido group. X 21 and W 21 , and X 21 and R 21 may be bonded to each other to form a cyclic structure. As the ring formed by X 21 and W 21 ,
Examples thereof include pyrazolone, pyrazolidinone, cyclopentanedione, β-ketolactone, β-ketolactam and the like.

【0240】一般式(G)について更に説明すると、X
21の表す電子吸引性基とは、置換基定数σpが正の値を
とりうる置換基のことである。具体的には、置換アルキ
ル基(ハロゲン置換アルキル等)、置換アルケニル基
(シアノビニル等)、置換・未置換のアルキニル基(ト
リフルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレニル
等)、置換アリール基(シアノフェニル等)、置換・未
置換のヘテロ環基(ピリジル、トリアジニル、ベンゾオ
キサゾリル等)、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基
(アセチル、トリフルオロアセチル、ホルミル等)、チ
オアセチル基(チオアセチル、チオホルミル等)、オキ
サリル基(メチルオキサリル等)、オキシオキサリル基
(エトキサリル等)、チオオキサリル基(エチルチオオ
キサリル等)、オキサモイル基(メチルオキサモイル
等)、オキシカルボニル基(エトキシカルボニル等)、
カルボキシル基、チオカルボニル基(エチルチオカルボ
ニル等)、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スル
ホニル基、スルフィニル基、オキシスルホニル基(エト
キシスルホニル等)、チオスルホニル基(エチルチオス
ルホニル等)、スルファモイル基、オキシスルフィニル
基(メトキシスルフィニル等)、チオスルフィニル基
(メチルチオスルフィニル等)、スルフィナモイル基、
ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N−カルボニルイ
ミノ基(N−アセチルイミノ等)、N−スルホニルイミ
ノ基(N−メタンスルホニルイミノ等)、ジシアノエチ
レン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウ
ム基、ピリリウム基、インモニウム基が挙げられるが、
アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、イ
ンモニウム基等が環を形成したヘテロ環状のものも含ま
れる。σp値として0.30以上の置換基が特に好まし
い。
The general formula (G) will be described further below. X
The electron-withdrawing group represented by 21 is a substituent whose substituent constant σp can take a positive value. Specifically, a substituted alkyl group (halogen-substituted alkyl, etc.), a substituted alkenyl group (cyanovinyl, etc.), a substituted / unsubstituted alkynyl group (trifluoromethylacetylenyl, cyanoacetylenyl, etc.), a substituted aryl group (cyano) Phenyl etc.), substituted / unsubstituted heterocyclic group (pyridyl, triazinyl, benzoxazolyl etc.), halogen atom, cyano group, acyl group (acetyl, trifluoroacetyl, formyl etc.), thioacetyl group (thioacetyl, thioformyl etc.) ), An oxalyl group (such as methyloxalyl), an oxyoxalyl group (such as etoxalyl), a thiooxalyl group (such as ethylthiooxalyl), an oxamoyl group (such as methyloxamoyl), an oxycarbonyl group (such as ethoxycarbonyl),
Carboxyl group, thiocarbonyl group (ethylthiocarbonyl etc.), carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfonyl group (ethoxysulfonyl etc.), thiosulfonyl group (ethylthiosulfonyl etc.), sulfamoyl group, oxysulfinyl group Group (methoxysulfinyl, etc.), thiosulfinyl group (methylthiosulfinyl, etc.), sulfinamoyl group,
Phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group (N-acetylimino etc.), N-sulfonylimino group (N-methanesulfonylimino etc.), dicyanoethylene group, ammonium group, sulfonium group, phosphonium group, pyrylium Group, immonium group,
A heterocyclic group in which an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an immonium group and the like form a ring is also included. A substituent having a σp value of 0.30 or more is particularly preferable.

【0241】W21として表されるアルキル基としては、
メチル、エチル、トリフルオロメチル等が、アルケニル
基としてはビニル、ハロゲン置換ビニル、シアノビニル
等が、アルキニル基としてはアセチレニル、シアノアセ
チレニル等が、アリール基としてはニトロフェニル、シ
アノフェニル、ペンタフルオロフェニル等が、ヘテロ環
基としてはピリジル、ピリミジル、トリアジニル、スク
シンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾリ
ル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。W21としては
σp値が正の電子吸引性基が好ましく、更にはその値が
0.30以上のものが好ましい。
As the alkyl group represented by W 21 ,
Methyl, ethyl, trifluoromethyl and the like, alkenyl groups such as vinyl, halogen-substituted vinyl and cyanovinyl, alkynyl groups such as acetylenyl and cyanoacetylenyl, and aryl groups such as nitrophenyl, cyanophenyl and pentafluorophenyl. Examples of the heterocyclic group include pyridyl, pyrimidyl, triazinyl, succinimide, tetrazolyl, triazolyl, imidazolyl, and benzoxazolyl. W 21 is preferably an electron-withdrawing group having a positive σp value, and more preferably a value of 0.30 or more.

【0242】上記R21の置換基の内、好ましくはヒドロ
キシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基又はメルカプト基の
有機又は無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、更に好まし
くはヒドロキシル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基又
はメルカプト基の有機又は無機の塩、ヘテロ環基が挙げ
られ、特に好ましくはヒドロキシル基又はメルカプト基
の有機又は無機の塩が挙げられる。以下に本発明にて好
ましく使用される化合物例を示す。
Of the above-mentioned substituents of R 21 , preferred are a hydroxyl group, a mercapto group, an alkoxy group, an alkylthio group, a halogen atom, an organic or inorganic salt of a hydroxyl group or a mercapto group, and a heterocyclic group, and more preferred. Is an organic or inorganic salt of a hydroxyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group or a mercapto group, and a heterocyclic group, and particularly preferably an organic or inorganic salt of a hydroxyl group or a mercapto group. Examples of compounds preferably used in the present invention are shown below.

【0243】[0243]

【化14】 [Chemical 14]

【0244】一般式(P)において、Qは窒素原子又は
燐原子を表し、R31、R32、R33及びR34は、各々水素
原子又は置換基を表し、X31 -はアニオンを表す。尚、
31〜R34は互いに連結して環を形成してもよい。
In the general formula (P), Q represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 each represent a hydrogen atom or a substituent, and X 31 represents an anion. still,
R 31 to R 34 may combine with each other to form a ring.

【0245】R31〜R34で表される置換基としては、ア
ルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基
(アリル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパル
ギル基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナ
フチル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニ
ル基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニ
ル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル
基、スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。
The substituent represented by R 31 to R 34 includes an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (allyl group, butenyl group, etc.). , Alkynyl group (propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (piperidinyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydro) Thienyl group, sulforanyl group, etc.), amino group and the like.

【0246】R31〜R34が互いに連結して形成しうる環
としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダ
ゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げら
れる。
Examples of the ring formed by R 31 to R 34 which are connected to each other include a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring, a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring and a tetrazole ring. .

【0247】R31〜R34で表される基はヒドロキシル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル
基、スルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有
してもよい。R31、R32、R33及びR34としては、水素
原子及びアルキル基が好ましい。
The groups represented by R 31 to R 34 may have a substituent such as a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group or an aryl group. As R 31 , R 32 , R 33 and R 34 , a hydrogen atom and an alkyl group are preferable.

【0248】X31 -が表すアニオンとしては、ハロゲン
イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−ト
ルエンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが
挙げられる。
[0248] X 31 - as an anion represented by the halogen ion, sulfate ion, nitrate ion, acetate ion, and inorganic and organic anions, such as p- toluenesulfonic acid ion.

【0249】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
はChemical Reviews vol.55
p.335〜483に記載の方法を参考にできる。上記
省銀化剤の添加量は有機銀塩1モルに対し10-5〜1モ
ル、好ましくは10-4〜5×10-1モルの範囲である。
The above quaternary onium compound can be easily synthesized by a known method. For example, the above tetrazolium compound can be synthesized by Chemical Reviews vol. 55
p. The method described in 335-483 can be referred to. The amount of the silver-saving agent added is in the range of 10 -5 to 1 mol, preferably 10 -4 to 5 × 10 -1 mol, per 1 mol of the organic silver salt.

【0250】本発明の熱現像感光材料に用いられるカブ
リ防止及び画像安定化剤について説明する。
The antifoggant and image stabilizer used in the photothermographic material of the invention will be described.

【0251】還元剤としては、主に、ビスフェノール類
やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンをもっ
た還元剤が用いられているので、これらの水素を引き抜
くことができる活性種を発生することにより還元剤を不
活性化できる化合物が含有されていることが好ましい。
好適には、無色の光酸化性物質として、露光時にフリー
ラジカルを反応活性種として生成可能な化合物が好まし
い。
Since a reducing agent having a proton such as bisphenols and sulfonamidephenols is mainly used as the reducing agent, it is reduced by generating active species capable of abstracting hydrogen. It is preferable to contain a compound capable of inactivating the agent.
The colorless photo-oxidizable substance is preferably a compound capable of generating a free radical as a reactive species during exposure.

【0252】従ってこれらの機能を有する化合物であれ
ばいかなる化合物でもよいが、複数の原子からなる有機
フリーラジカルが好ましい。かかる機能を有しかつ銀塩
光熱写真材料に格別の弊害を生じることのない化合物で
あればいかなる構造をもった化合物でもよい。
Therefore, any compound having these functions may be used, but an organic free radical composed of a plurality of atoms is preferable. A compound having any structure may be used as long as it has such a function and does not cause any particular adverse effect on the silver salt photothermographic material.

【0253】又、これらのフリーラジカルを発生する化
合物としては発生するフリーラジカルに、これが還元剤
と反応し不活性化するに充分な時間接触できる位の安定
性をもたせるために炭素環式、又は複素環式の芳香族基
を有するものが好ましい。
In addition, as a compound that generates these free radicals, a carbocyclic group, or a carbocyclic group, is provided in order to have stability such that the generated free radical can be contacted with the reducing agent for a sufficient time to react with the reducing agent and inactivate it. Those having a heterocyclic aromatic group are preferable.

【0254】これらの化合物の代表的なものとして以下
にあげるビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物を
あげることができる。
As typical examples of these compounds, the following biimidazolyl compounds and iodonium compounds can be given.

【0255】ビイミダゾリル化合物としては以下の一般
式(6)により表されるものがあげられる。
Examples of the biimidazolyl compound include those represented by the following general formula (6).

【0256】[0256]

【化15】 [Chemical 15]

【0257】式中、R41、R42及びR43(同一又は相異
なる)の各々はアルキル基(例えば、メチル、エチル、
ヘキシル)、アルケニル基(例えば、ビニル、アリ
ル)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、オ
クチルオキシ)、アリール基(例えば、フェニル、ナフ
チル、トリル)、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アリ
ールオキシ基(例えば、フェノキシ)、アルキルチオ基
(例えば、メチルチオ、ブチルチオ)、アリールチオ基
(例えば、フェニルチオ)、アシル基(例えば、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、バレリル)、スルフォニ
ル基(例えば、メチルスルフォニル、フェニルスルフォ
ニル)、アシルアミノ基、スルフォニルアミノ基、アシ
ルオキシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾキシ)、カル
ボキシル基、シアノ基、スルフォ基及びアミノ基を示
す。これらのうちより好適な置換基はアリール基、アル
ケニル基及びシアノ基である。
In the formula, each of R 41 , R 42 and R 43 (identical or different) is an alkyl group (eg methyl, ethyl,
Hexyl), alkenyl group (eg vinyl, allyl), alkoxy group (eg methoxy, ethoxy, octyloxy), aryl group (eg phenyl, naphthyl, tolyl), hydroxyl group, halogen atom, aryloxy group (eg, Phenoxy), alkylthio group (for example, methylthio, butylthio), arylthio group (for example, phenylthio), acyl group (for example, acetyl, propionyl, butyryl, valeryl), sulfonyl group (for example, methylsulfonyl, phenylsulfonyl), acylamino group, A sulfonylamino group, an acyloxy group (for example, acetoxy, benzoxy), a carboxyl group, a cyano group, a sulfo group and an amino group are shown. Of these, more preferred substituents are aryl groups, alkenyl groups and cyano groups.

【0258】上記のビイミダゾリル化合物は米国特許第
3,734,733号及び英国特許第1,271,17
7号に記載されている製造方法及びそれに準じた方法に
より製造することが出来る。好ましい具体例を以下に挙
げる。
The above-mentioned biimidazolyl compounds are described in US Pat. No. 3,734,733 and British Patent No. 1,271,17.
It can be manufactured by the manufacturing method described in No. 7 and a method similar thereto. Preferred specific examples are given below.

【0259】[0259]

【化16】 [Chemical 16]

【0260】[0260]

【化17】 [Chemical 17]

【0261】又、同様に好適な化合物として以下の一般
式(7)で示されるヨードニウム化合物をあげることが
できる。
Similarly, suitable compounds include the iodonium compounds represented by the following general formula (7).

【0262】[0262]

【化18】 [Chemical 18]

【0263】式中、Q11は、5、6または7員環を完成
するに必要な原子を包含し、かつ、該必要な原子は炭素
原子、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる。
11、R12及びR13(同一又は相異なる)の各々は水素
原子、アルキル基(例えば、メチル、エチル、ヘキシ
ル)、アルケニル基(例えば、ビニル、アリル)、アル
コキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、オクチルオキ
シ)、アリール基(例えば、フェニル、ナフチル、トリ
ル)、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アリールオキシ
基(例えば、フェノキシ)、アルキルチオ基(例えば、
メチルチオ、ブチルチオ)、アリールチオ基(例えば、
フェニルチオ)、アシル基(例えば、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、バレリル)、スルフォニル基(例え
ば、メチルスルフォニル、フェニルスルフォニル)、ア
シルアミノ基、スルフォニルアミノ基、アシルオキシ基
(例えば、アセトキシ、ベンゾキシ)、カルボキシル
基、シアノ基、スルフォ基及びアミノ基を示す。これら
のうちより好適な置換基はアリール基、アルケニル基及
びシアノ基である。
In the formula, Q 11 includes an atom necessary for completing a 5-, 6- or 7-membered ring, and the necessary atom is selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
Each of R 11 , R 12 and R 13 (identical or different) is a hydrogen atom, an alkyl group (eg methyl, ethyl, hexyl), an alkenyl group (eg vinyl, allyl), an alkoxy group (eg methoxy, ethoxy). , Octyloxy), aryl groups (eg phenyl, naphthyl, tolyl), hydroxyl groups, halogen atoms, aryloxy groups (eg phenoxy), alkylthio groups (eg,
Methylthio, butylthio), arylthio groups (eg,
Phenylthio), acyl group (eg, acetyl, propionyl, butyryl, valeryl), sulfonyl group (eg, methylsulfonyl, phenylsulfonyl), acylamino group, sulfonylamino group, acyloxy group (eg, acetoxy, benzoxy), carboxyl group, cyano A group, a sulfo group and an amino group are shown. Of these, more preferred substituents are aryl groups, alkenyl groups and cyano groups.

【0264】R14はアセテート、ベンゾエート、トリフ
ルオロアセテートのようなカルボキシレート基及びO-
を示す。wは0又は1を表す。
R 14 is a carboxylate group such as acetate, benzoate or trifluoroacetate and O −.
Indicates. w represents 0 or 1.

【0265】X0 -はアニオン性対イオンであり、好適な
例としては、CH3CO2 -、CH3SO3 -及びPF6 -であ
る。
[0265] X 0 - is an anionic counterion, as suitable examples, CH 3 CO 2 -, CH 3 SO 3 - and PF 6 - is.

【0266】R13がスルフォ基又はカルボキシル基のと
きは、wは0で、かつR14はO-である。
When R 13 is a sulfo group or a carboxyl group, w is 0 and R 14 is O .

【0267】なお、R11、R12及びR13の何れかは互い
に結合して環を形成してもよい。これらのうち特に好ま
しい化合物は以下の一般式(8)で表される。
Any of R 11 , R 12 and R 13 may combine with each other to form a ring. Of these, particularly preferable compounds are represented by the following general formula (8).

【0268】[0268]

【化19】 [Chemical 19]

【0269】ここにおいて、R11、R12、R13、R14
0 -及びw等は前記一般式(7)とおなじものを表し、
11は炭素原子(−CH=;ベンゼン環)を表すか、又
は窒素原子(−N=;ピリジン環)を表す。
Here, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 ,
X 0 −, w and the like have the same meanings as in the general formula (7),
Y 11 carbon atoms represent a; (pyridine ring -N =) or represents (-CH = benzene ring), or nitrogen atom.

【0270】上記のヨードニウム化合物はOrg.Sy
n.,1961及び“Fieser著Advanced
Organic Chemistry”(Reinh
old,N.Y.,1961)に記載されている製造方
法及びそれに準じた方法によって合成できる。
The above-mentioned iodonium compound is Org. Sy
n. , 1961 and "Advanced by Fieser.
Organic Chemistry ”(Reinh
old, N.N. Y. , 1961) and a method similar thereto.

【0271】上記の一般式(6)及び(7)で表される
化合物の添加量は0.001〜0.1モル/m2、好ま
しくは、0.005〜0.05モル/m2の範囲であ
る。なお、当該化合物は、本発明の感光材料において、
いかなる構成層中にも含有させることが出来るが、還元
剤の近傍に含有させることが好ましい。
The addition amount of the compounds represented by the above general formulas (6) and (7) is 0.001 to 0.1 mol / m 2 , preferably 0.005 to 0.05 mol / m 2 . It is a range. In addition, the compound is a photosensitive material of the present invention,
It can be contained in any constituent layer, but it is preferably contained in the vicinity of the reducing agent.

【0272】又、本発明においては、還元剤を不活性化
し還元剤が有機銀塩を銀に還元できないようにする化合
物として、反応活性種がハロゲン原子でないものが好ま
しいが、ハロゲン原子を活性種として放出する化合物
も、本発明のハロゲン原子でない活性種を放出する化合
物と併用することにより、使用することが出来る。ハロ
ゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのもの
が知られており、併用により良好な効果が得られる。
Further, in the present invention, a compound in which the reactive active species is not a halogen atom is preferable as the compound which inactivates the reducing agent and prevents the reducing agent from reducing the organic silver salt to silver. The compound which releases as a compound can also be used in combination with the compound which releases an active species which is not a halogen atom of the present invention. Many compounds are known that can release a halogen atom as an active species, and good effects can be obtained by using them in combination.

【0273】これらの活性ハロゲン原子を生成する化合
物の具体例としては、以下にあげる一般式(9)の化合
物がある。
Specific examples of the compounds which generate these active halogen atoms include the compounds of the following general formula (9).

【0274】[0274]

【化20】 [Chemical 20]

【0275】一般式(9)中、Q51はアリール基または
ヘテロ環基を表す。X51、X52及びX53は水素原子、ハ
ロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、スルフォニル基、アリール基
を表すが、少なくとも一つはハロゲン原子である。Y51
は−C(=O)−、−SO−または−SO2−を表す。
In formula (9), Q 51 represents an aryl group or a heterocyclic group. X 51 , X 52 and X 53 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group or an aryl group, and at least one is a halogen atom. Y 51
-C (= O) is -, - SO- or -SO 2 - represents a.

【0276】Q51で表されるアリール基は、単環または
縮環していてもよく、好ましくは炭素数6〜30の単環
または二環のアリール基(例えばフェニル、ナフチル
等)であり、より好ましくはフェニル基、ナフチル基で
あり、更に好ましくはフェニル基である。
The aryl group represented by Q 51 may be monocyclic or condensed, and is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group having 6 to 30 carbon atoms (eg phenyl, naphthyl etc.), A phenyl group and a naphthyl group are more preferable, and a phenyl group is still more preferable.

【0277】Q51で表されるヘテロ環基は、N、Oまた
はSの少なくとも一つの原子を含む3ないし10員の飽
和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、これらは単環で
あっても良いし、更に他の環と縮合環を形成してもよ
い。
The heterocyclic group represented by Q 51 is a 3- to 10-membered saturated or unsaturated heterocyclic group containing at least one atom of N, O or S, which may be a monocyclic ring. Good, or may form a condensed ring with another ring.

【0278】ヘテロ環基として好ましくは、縮合環を有
していてもよい5ないし6員の不飽和ヘテロ環基であ
り、より好ましくは縮合環を有していてもよい5ないし
6員の芳香族ヘテロ環基である。更に好ましくは窒素原
子を含む縮合環を有していてもよい5ないし6員の芳香
族ヘテロ環基であり、特に好ましくは窒素原子を1ない
し4原子含む縮合環を有していてもよい5ないし6員の
芳香族ヘテロ環基である。このようなヘテロ環基におけ
るヘテロ環として好ましくは、イミダゾール、ピラゾー
ル、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、ト
リアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、
プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾ
リン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナン
トロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オ
キサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾー
ル、ベンズチアゾール、インドレニン、テトラザインデ
ンであり、より好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピ
リミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリ
アジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾ
リン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサ
ゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベ
ンズチアゾール、テトラザインデンであり、更に好まし
くはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、
ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾー
ル、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリ
ン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾー
ル、ベンズイミダゾール、ベンズチアゾールであり、特
に好ましくはピリジン、チアジアゾール、キノリン、ベ
ンズチアゾールである。
The heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered unsaturated heterocyclic group which may have a condensed ring, and more preferably a 5- or 6-membered aromatic group which may have a condensed ring. It is a group heterocyclic group. More preferably, it is a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic group which may have a condensed ring containing a nitrogen atom, and particularly preferably, it may have a condensed ring containing 1 to 4 atoms containing a nitrogen atom. Or a 6-membered aromatic heterocyclic group. As the hetero ring in such a heterocyclic group, preferably imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole,
Purine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, indolenine, tetrazaindene Yes, more preferably imidazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, oxadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzoxazole, benz. Thiazole and tetrazaindene, more preferably imidazole and pyridene. Down, pyrimidine, pyrazine,
Pyridazine, triazole, triazine, thiadiazole, quinoline, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, tetrazole, thiazole, benzimidazole, benzthiazole, particularly preferably pyridine, thiadiazole, quinoline, benzthiazole.

【0279】Q51で表されるアリール基およびヘテロ環
基は−Y51−C(X51)(X52)(X53)の他に置換基
を有していても良く、置換基として好ましくはアルキル
基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキ
シ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルア
ミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニ
ル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シ
アノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ
環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルア
ミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキ
シカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、ウレイド基、リン酸アミド
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基で
あり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ
基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環
基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子である。
The aryl group and heterocyclic group represented by Q 51 may have a substituent in addition to —Y 51 —C (X 51 ) (X 52 ) (X 53 ), and the substituent is preferable. Is an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonyl group. Amino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, a heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an aryl group,
Alkoxy group, aryloxy group, acyl group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, phosphoric acid amide group, halogen atom, cyano group, nitro group , A heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an acylamino group, a sulfonylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a heterocycle. A group, particularly preferably an alkyl group, an aryl group or a halogen atom.

【0280】X51、X52及びX53は好ましくはハロゲン
原子、ハロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、
スルファモイル基、スルホニル基、ヘテロ環基であり、
より好ましくはハロゲン原子、ハロアルキル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、スルホニル基であり、更に好ましくはハロゲン原
子、トリハロメチル基であり、特に好ましくはハロゲン
原子である。ハロゲン原子の中でも好ましくは塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素
原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子であ
る。
X 51 , X 52 and X 53 are preferably a halogen atom, a haloalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group,
A sulfamoyl group, a sulfonyl group, a heterocyclic group,
A halogen atom, a haloalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group and a sulfonyl group are more preferable, a halogen atom and a trihalomethyl group are still more preferable, and a halogen atom is particularly preferable. Among the halogen atoms, chlorine atom, bromine atom and iodine atom are preferable, chlorine atom and bromine atom are more preferable, and bromine atom is particularly preferable.

【0281】Y51は−C(=O)−、−SO−、−SO
2−を表し、好ましくは−SO2−である。
Y 51 is -C (= O)-, -SO-, -SO
2 −, preferably —SO 2 —.

【0282】これらの化合物の添加量は、実質的にハロ
ゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が問題に
ならない範囲が好ましく、前記活性ハロゲンラジカルを
生成しない化合物に対する比率で、最大150%以下、
更に好ましくは100%以下であることが好ましい。
The addition amount of these compounds is preferably in a range such that the increase of printout silver due to the formation of silver halide does not substantially pose a problem, and the ratio to the compound not producing active halogen radicals is 150% or less at the maximum.
More preferably, it is 100% or less.

【0283】なお、上記の化合物の他に、本発明の銀塩
光熱写真ドライイメジング材料中には、従来かぶり防止
剤として知られている化合物が含まれてもよいが、上記
の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化
合物であっても、かぶり防止機構が異なる化合物であっ
てもよい。例えば、米国特許第3,589,903号、
同4,546,075号、同4,452,885号、特
開昭59−57234号、米国特許第3,874,94
6号、同4,756,999号、特開平9−28832
8号、同9−90550号に記載されている化合物が挙
げられる。更に、その他のかぶり防止剤としては、米国
特許第5,028,523号及び欧州特許第600,5
87号、同605,981号、同631,176号に開
示されている化合物が挙げられる。
In addition to the above compounds, the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention may contain compounds conventionally known as antifoggants, but similar to the above compounds. It may be a compound capable of generating various reactive species or a compound having a different fogging prevention mechanism. For example, US Pat. No. 3,589,903,
4,546,075, 4,452,885, JP-A-59-57234, and U.S. Pat. No. 3,874,94.
No. 6, 4,756,999, JP-A-9-28832.
The compounds described in No. 8 and No. 9-90550 are mentioned. Further, other antifoggants include US Pat. No. 5,028,523 and European Patent 600,5.
87, 605, 981 and 631,176.

【0284】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を
調整する色調剤を通常(有機)バインダーマトリックス
中に分散した状態で含有していることが好ましい。
The heat-developable light-sensitive material of the present invention forms a photographic image by a heat-development treatment, and in the state where a toning agent for adjusting the color tone of silver is dispersed in a normal (organic) binder matrix, if necessary. It is preferably contained.

【0285】本発明に用いられる好適な色調剤の例はR
esearch Disclosure第17029
号、米国特許第4,123,282号、同第3,99
4,732号、同第3,846,136号および同第
4,021,249号明細書に開示されており、例え
ば、次のものがある。
Examples of suitable toning agents used in the present invention are R
essearch Disclosure No. 17029
U.S. Pat. Nos. 4,123,282 and 3,99
No. 4,732, No. 3,846,136 and No. 4,021,249 are disclosed, for example, as follows.

【0286】イミド類(例えば、スクシンイミド、フタ
ルイミド、ナフタールイミド、N−ヒドロキシ−1,8
−ナフタールイミド);メルカプタン類(例えば、3−
メルカプト−1,2,4−トリアゾール);フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、フタラ
ジノン、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロ
ロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノ
ン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオ
ン);フタラジンとフタル酸類(例えば、フタル酸、4
−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロ
ロフタル酸)の組み合わせ;フタラジンとマレイン酸無
水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸
又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、
フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及
びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なく
とも1つの化合物との組み合わせ等が挙げられる。特に
好ましい色調剤としてはフタラジノン又はフタラジンと
フタル酸類、フタル酸無水物類の組み合わせである。
Imides (eg, succinimide, phthalimide, naphthalimide, N-hydroxy-1,8)
-Naphthalimide); mercaptans (for example, 3-
Mercapto-1,2,4-triazole); phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (for example, phthalazinone, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, And 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazine and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4
-Methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid); phthalazine and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and their anhydrides (for example,
Phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride) in combination with at least one compound. A particularly preferred toning agent is phthalazinone or a combination of phthalazine and phthalic acids or phthalic anhydrides.

【0287】なお、従来医療診断用の出力画像の色調に
関しては、冷調の画像調子の方が、レントゲン写真の判
読者にとってより的確な記録画像の診断観察結果が得や
すいと言われている。ここで、冷調な画像調子とは、純
黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であり、温調
な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調である
ことを言う。
Regarding the color tone of the output image for medical diagnosis, it is said that a cold image tone makes it easier for a reader of an X-ray photograph to obtain a more accurate diagnostic observation result of a recorded image. Here, the cold image tone is a pure black tone or a bluish black tone in which the black image is bluish, and the warm image tone is a warm black tone in which the black image is brownish. Say

【0288】色調に関しての用語「より冷調」及び「よ
り温調」は、最低濃度Dmin及び光学濃度D=1.0
における色相角habにより求められる。色相角habは国
際照明委員会(CIE)が1976年に推奨した知覚的
にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるL***色空間
の色座標a*、b*を用いて次の式によって求める。
The terms "more cool" and "more warm" with respect to color tones refer to the minimum density Dmin and the optical density D = 1.0.
Is obtained by the hue angle h ab at . The hue angle h ab is calculated using the color coordinates a * and b * of the L * a * b * color space, which is a color space recommended by the International Commission on Illumination (CIE) in 1976 and has a perceptually nearly uniform rate. Calculate by the following formula.

【0289】hab=tan-1(b*/a*) 本発明において、医用画像として用いる場合は、好まし
いhabの範囲は180°<hab<270°であり、さら
に好ましくは200°<hab<270°、最も好ましく
は220°<hab<260°である。
H ab = tan -1 (b * / a * ) In the present invention, when used as a medical image, a preferable range of h ab is 180 ° <h ab <270 °, and more preferably 200 ° <. h ab <270 °, most preferably 220 ° <h ab <260 °.

【0290】本発明の熱現像感光材料は、画像形成層を
有する側の最表面に含まれるマット剤の平均粒径をLe
(μm)、バックコート層を有する側の最表面に含まれ
るマット剤の平均粒径をLb(μm)とするときLb/
Leが1.5以上10以下であることが好ましい。Lb
/Leをこの範囲にすることで熱現像時の濃度むらを改
良できる。
In the photothermographic material of the invention, the average particle size of the matting agent contained in the outermost surface on the side having the image forming layer is Le.
(Μm), where Lb (μm) is the average particle size of the matting agent contained in the outermost surface on the side having the backcoat layer, Lb /
Le is preferably 1.5 or more and 10 or less. Lb
By setting / Le within this range, uneven density during heat development can be improved.

【0291】本発明においては、熱現像感光材料の表面
層に(画像形成層側、又支持体をはさみ画像形成層の反
対側に非感光層を設けた場合にも)、本発明の目的、ま
た表面粗さをコントロールする等のためにマット剤とし
て有機または無機の粉末を用いることが好ましい。本発
明において用いられる粉末としては、モース硬度が5以
上の粉末を用いることが好ましい。粉末としては公知の
無機質粉末や有機質粉末を適宜選択して使用することが
できる。無機質粉末としては、例えば、酸化チタン、窒
化ホウ素、SnO2、SiO2、Cr23、α−Al
23、α−Fe23、α−FeOOH、SiC、酸化セ
リウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、ガ
ーネット、マイカ、ケイ石、窒化ケイ素、炭化ケイ素等
を挙げることができる。有機質粉末としては、例えば、
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、テフロン
(R)等の粉末を挙げることができる。これらの中でも
好ましいのは、SiO2、酸化チタン、硫酸バリウム、
α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、Cr2
3、マイカ等の無機粉末等であり、その中でも、Si
2、α−Al23が好ましく、特に好ましいのはSi
2である。
In the present invention, the object of the present invention is to provide the surface layer of the photothermographic material (even when the non-photosensitive layer is provided on the image forming layer side or on the opposite side of the image forming layer with the support sandwiched). Further, it is preferable to use an organic or inorganic powder as a matting agent in order to control the surface roughness. As the powder used in the present invention, it is preferable to use a powder having a Mohs hardness of 5 or more. As the powder, a known inorganic powder or organic powder can be appropriately selected and used. Examples of the inorganic powder include titanium oxide, boron nitride, SnO 2 , SiO 2 , Cr 2 O 3 and α-Al.
2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, SiC, cerium oxide, corundum, artificial diamond, garnet, garnet, mica, silica, silicon nitride, silicon carbide and the like can be mentioned. As the organic powder, for example,
Powders of polymethylmethacrylate, polystyrene, Teflon (R) and the like can be mentioned. Of these, preferred are SiO 2 , titanium oxide, barium sulfate,
α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, Cr 2
Inorganic powders such as O 3 and mica, among which Si
O 2 and α-Al 2 O 3 are preferable, and Si is particularly preferable.
It is O 2 .

【0292】本発明において、前記粉末が、Si化合物
及び/又はAl化合物により表面処理されていることが
好ましい。かかる表面処理のなされた粉末を用いると最
上層の表面状態を良好にすることができる。前記Si及
び/又はAlの含有量としては、前記粉末に対して、S
iが0.1〜10質量%、Alが0.1〜10質量%で
あるのが好ましく、より好ましくはSiが0.1〜5質
量%、Alが0.1〜5質量%であり、Siが0.1〜
2質量%、Alが0.1〜2質量%であるのが特に好ま
しい。又、Si、Alの質量比がSi<Alであるのが
よい。表面処理に関しては特開平2−83219号に記
載された方法により行うことができる。なお、本発明に
おける粉末の平均粒径とは、球状粉末においてはその平
均直径を、針状粉末においてはその平均長軸長を、板状
粉末においてはその板状面の最大の対角線の長さの平均
値をそれぞれ意味し、電子顕微鏡による測定から容易に
求めることができる。
In the present invention, the powder is preferably surface-treated with a Si compound and / or an Al compound. The use of such surface-treated powder can improve the surface condition of the uppermost layer. The content of Si and / or Al is S based on the powder.
It is preferable that i is 0.1 to 10% by mass and Al is 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass of Si and 0.1 to 5% by mass of Al. Si is 0.1
2% by mass and 0.1 to 2% by mass of Al are particularly preferable. Further, the mass ratio of Si and Al is preferably Si <Al. The surface treatment can be performed by the method described in JP-A-2-83219. The average particle diameter of the powder in the present invention means the average diameter of the spherical powder, the average major axis length of the acicular powder, the maximum diagonal length of the plate surface of the plate powder. Means the average value of each and can be easily obtained from measurement by an electron microscope.

【0293】本発明に用いられる上記の有機または無機
粉末は、平均粒径が0.5μm〜10μmであることが
好ましく、更に好ましくは1.0μm〜8.0μmであ
る。
The above-mentioned organic or inorganic powder used in the present invention preferably has an average particle size of 0.5 μm to 10 μm, more preferably 1.0 μm to 8.0 μm.

【0294】感光層側の最外層に含まれる有機または無
機粉末の平均粒径は通常0.5μm〜8.0μm、好ま
しくは1.0μm〜6.0μmであり、より好ましくは
2.0μm〜5.0μmである。添加量は最外層に用い
られるバインダー量(硬化剤についてはバインダー量に
含む)に対して通常1.0質量%〜20質量%であり、
好ましくは2.0質量%〜15質量%であり、より好ま
しくは3.0質量%〜10質量%である。支持体をはさ
んで感光層側とは反対側の最外層に含まれる有機または
無機粉末の平均粒径は通常2.0μm〜15.0μm、
好ましくは3.0μm〜12.0μmであり、より好ま
しくは4.0μm〜10.0μmである。添加量は最外
層に用いられるバインダー量(硬化剤についてはバイン
ダー量に含む)に対して通常0.2質量%〜10質量%
であり、好ましくは0.4質量%〜7質量%であり、よ
り好ましくは0.6質量%〜5質量%である。
The average particle diameter of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the side of the photosensitive layer is usually 0.5 μm to 8.0 μm, preferably 1.0 μm to 6.0 μm, more preferably 2.0 μm to 5 μm. It is 0.0 μm. The addition amount is usually 1.0% by mass to 20% by mass with respect to the amount of the binder used in the outermost layer (including the amount of the curing agent in the amount of the binder),
The amount is preferably 2.0% by mass to 15% by mass, more preferably 3.0% by mass to 10% by mass. The average particle diameter of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the side opposite to the photosensitive layer side of the support is usually 2.0 μm to 15.0 μm,
It is preferably 3.0 μm to 12.0 μm, and more preferably 4.0 μm to 10.0 μm. The addition amount is usually 0.2% by mass to 10% by mass with respect to the amount of the binder used in the outermost layer (included in the amount of the binder for the curing agent).
And is preferably 0.4% by mass to 7% by mass, more preferably 0.6% by mass to 5% by mass.

【0295】又、粒子サイズ分布の変動係数としては、
50%以下であることが好ましく、更に、好ましくは4
0%以下であり、特に好ましくは30%以下となる粉末
である。
As the coefficient of variation of the particle size distribution,
It is preferably 50% or less, more preferably 4
The powder is 0% or less, and particularly preferably 30% or less.

【0296】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。 {(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100 本発明に係る有機または無機粉末の添加方法は、予め塗
布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗
布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機または無
機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類
の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよ
い。
Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following formula. {(Standard deviation of particle size) / (average value of particle size)} × 100 The method of adding the organic or inorganic powder according to the present invention may be a method of previously dispersing and coating in a coating liquid, A method of spraying an organic or inorganic powder after applying the coating solution and before completion of drying may be used. When adding a plurality of types of powder, both methods may be used in combination.

【0297】本発明に係る熱現像感光材料に用いる支持
体の素材としては各種高分子材料、ガラス、ウール布、
コットン布、紙、金属(例えばアルミニウム)等が挙げ
られるが、情報記録材料としての取り扱い上は可撓性の
あるシート又はロールに加工できるものが好適である。
従って本発明の熱現像感光材料における支持体として
は、プラスチックフィルム(例えばセルロースアセテー
トフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルロ
ーストリアセテートフィルム又はポリカーボネートフィ
ルム等)が好ましく、本発明においては2軸延伸したポ
リエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。支
持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは
70〜180μmである。
Materials for the support used in the photothermographic material according to the present invention include various polymer materials, glass, wool cloth,
Examples of the material include cotton cloth, paper, metal (for example, aluminum) and the like, and those which can be processed into a flexible sheet or roll are preferable in terms of handling as an information recording material.
Therefore, as the support in the photothermographic material of the present invention, a plastic film (eg, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyamide film, polyimide film, cellulose triacetate film or polycarbonate film) is preferable. In the present invention, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.

【0298】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは、バッキン
グ層または感光性層側の表面保護層、下引層などに含ま
れる。本発明においては米国特許第5,244,773
号カラム14〜20に記載された導電性化合物などが好
ましく用いられる。
In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer may be contained in the constituent layer in order to improve the charging property. These may be contained in any layer, but are preferably contained in the backing layer or the surface protective layer on the photosensitive layer side, the undercoat layer and the like. In the present invention, US Pat. No. 5,244,773
Conductive compounds described in No. columns 14 to 20 are preferably used.

【0299】なかでも本発明では、バッキング層側の表
面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好まし
い。このことで、さらに本発明の効果(特には熱現像処
理時の搬送性)を高められることがわかった。ここで、
導電性金属酸化物とは、結晶性の金属酸化物粒子であ
り、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対
してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は一般
的に言って導電性が高いので特に好ましく、特に後者は
ハロゲン化銀乳剤にかぶりを与えないので特に好まし
い。金属酸化物の例としてZnO、TiO2、SnO2
Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、Mo
3、V25等、あるいはこれらの複合酸化物が良く、
特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子
を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In
等の添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲ
ン元素等の添加、またTiO2に対してはNb、Ta等
の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.
01mol%〜30mol%の範囲が好ましいが、0.
1mol%〜10mol%であれば特に好ましい。更に
又、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時
にケイ素化合物を添加してもよい。本発明に用いられる
金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗
率は107Ωcm以下、特に105Ωcm以下である。こ
れらの酸化物については特開昭56−143431号、
同56−120519号、同58−62647号などに
記載されている。更に又、特公昭59−6235号に記
載のごとく、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状
物(例えば酸化チタン)に上記の金属酸化物を付着させ
た導電性素材を使用してもよい。
Of these, in the present invention, it is preferable that the surface protective layer on the backing layer side contains a conductive metal oxide. It was found that the effect of the present invention (particularly, the transportability during the heat development treatment) can be further enhanced by this. here,
Conductive metal oxides are crystalline metal oxide particles, and those that contain oxygen vacancies and those that contain a small amount of different atoms forming donors with respect to the metal oxide used are generally conductive. In particular, the latter is particularly preferable because it does not give a fog to the silver halide emulsion. Examples of metal oxides include ZnO, TiO 2 , SnO 2 ,
Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, Mo
O 3 , V 2 O 5, etc., or composite oxides of these are preferable,
ZnO, TiO 2 and SnO 2 are particularly preferable. Examples of containing a different atom include Al and In for ZnO.
It is effective to add Sb, Nb, P, a halogen element and the like to SnO 2, and to add Nb and Ta to TiO 2 . The addition amount of these different kinds of atoms is 0.
The range of 01 mol% to 30 mol% is preferable, but 0.
It is particularly preferably 1 mol% to 10 mol%. Furthermore, in order to improve the dispersibility and transparency of the fine particles, a silicon compound may be added during the production of the fine particles. The metal oxide fine particles used in the present invention have conductivity, and their volume resistivity is 10 7 Ωcm or less, particularly 10 5 Ωcm or less. Regarding these oxides, JP-A-56-143431,
56-120519, 58-62647 and the like. Further, as described in JP-B-59-6235, a conductive material in which the above-mentioned metal oxide is attached to other crystalline metal oxide particles or fibrous material (for example, titanium oxide) may be used. .

【0300】利用できる粒子サイズは1μm以下が好ま
しいが、0.5μm以下であると分散後の安定性が良く
使用し易い。また光散乱性をできるだけ小さくする為
に、0.3μm以下の導電性粒子を利用すると透明感光
材料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導
電性金属酸化物が針状あるいは繊維状の場合はその長さ
は30μm以下で直径が1μm以下が好ましく、特に好
ましいのは長さが10μm以下で直径0.3μm以下で
あり長さ/直径比が3以上である。なお、SnO 2とし
ては、石原産業(株)より市販されており、SNS10
M、SN−100P、SN−100D、FSS10Mな
どを用いることができる。
The particle size that can be used is preferably 1 μm or less.
However, if it is 0.5 μm or less, the stability after dispersion is good.
Easy to use. In addition, to minimize the light scattering property
In addition, if conductive particles of 0.3 μm or less are used, it becomes transparent
It is possible to form a material, which is very preferable. In addition,
If the conductive metal oxide is acicular or fibrous, its length
Is preferably 30 μm or less and the diameter is 1 μm or less.
The preferred length is 10 μm or less and the diameter is 0.3 μm or less.
Yes The length / diameter ratio is 3 or more. Note that SnO 2age
Is commercially available from Ishihara Sangyo Co., Ltd., and SNS10
M, SN-100P, SN-100D, FSS10M
Which can be used.

【0301】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも1層の感光層である画像形成層を有している。支
持体の上に画像形成層のみを形成してもよいが、画像形
成層の上に少なくとも一層の非感光層を形成するのが好
ましい。例えば画像形成層の上には保護層が、画像形成
層を保護する目的で設けられることが好ましく、又支持
体の反対の面には熱現像材料間の、或いは熱現像材料ロ
ールにおいてくっつきを防止する為に、バックコート層
が設けられる。これらの保護層やバックコート層に用い
るバインダーとしては画像形成層よりもガラス転位点が
高く、擦り傷や、変形の生じにくいポリマー、例えばセ
ルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート
等のポリマーが、前記のバインダーのなかから選ばれ
る。
The photothermographic material of the present invention has at least one image forming layer which is a photosensitive layer on a support. Although only the image forming layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the image forming layer. For example, a protective layer is preferably provided on the image forming layer for the purpose of protecting the image forming layer, and sticking between the heat developing materials or on the roll of the heat developing material is prevented on the opposite surface of the support. In order to do so, a back coat layer is provided. As the binder used for these protective layers and back coat layers, the glass transition point is higher than that of the image forming layer, and scratches and polymers that are less likely to be deformed, for example, polymers such as cellulose acetate and cellulose acetate butyrate are the binders described above. Selected from among

【0302】なお、階調調整等のために、画像形成層を
支持体の一方の側に2層以上又は支持体の両側に1層以
上設置してもよい。
Two or more image forming layers may be provided on one side of the support or one or more layers on both sides of the support in order to adjust the gradation.

【0303】本発明に係る熱現像感光材料においては、
画像形成層を透過する光の量または波長分布を制御する
ために画像形成層と同じ側または反対の側にフィルター
層を形成するか、画像形成層に染料又は顔料を含有させ
ることが好ましい。
In the photothermographic material according to the present invention,
In order to control the amount or wavelength distribution of light transmitted through the image forming layer, it is preferable to form a filter layer on the same side as or opposite to the image forming layer, or to add a dye or a pigment to the image forming layer.

【0304】本発明において用いられる染料としては、
熱現像材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収
する公知の化合物が使用できる。
The dyes used in the present invention include:
Known compounds that absorb light in various wavelength regions depending on the color sensitivity of the heat-developable material can be used.

【0305】例えば、本発明に係る熱現像材料を赤外光
による画像記録材料とする場合には、特開2001−8
3655に開示されているようなチオピリリウム核を有
するスクアリリウム染料(本明細書ではチオピリリウム
スクアリリウム染料と呼ぶ)及びピリリウム核を有する
スクアリリウム染料(本明細書ではピリリウムスクアリ
リウム染料と呼ぶ)、又スクアリリウム染料に類似した
チオピリリウムクロコニウム染料、又はピリリウムクロ
コニウム染料を使用することが好ましい。
For example, when the heat-developable material according to the present invention is used as an image recording material for infrared light, it is disclosed in JP-A-2001-8.
Squalylium dyes having thiopyrylium nuclei (herein referred to as thiopyrylium squarylium dyes) and squarylium dyes having pyrylium nuclei (herein referred to as pyrylium squarylium dyes), and squarylium dyes as disclosed in 3655. It is preferable to use a thiopyrylium croconium dye or a pyrylium croconium dye similar to.

【0306】尚、スクアリリウム核を有する化合物と
は、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−
4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有す
る化合物とは分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒ
ドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここ
で、ヒドロキシ基は解離していてもよい。以下本明細書
ではこれらの色素を便宜的に一括してスクアリリウム染
料とよぶ。なお、染料としては特開平8−201959
号の化合物も好ましい。
The compound having a squarylium nucleus means 1-cyclobutene-2-hydroxy- in the molecular structure.
A compound having 4-one and a compound having a croconium nucleus is a compound having 1-cyclopentene-2-hydroxy-4,5-dione in the molecular structure. Here, the hydroxy group may be dissociated. Hereinafter, in the present specification, these dyes are collectively referred to as a squarylium dye for convenience. Incidentally, as the dye, JP-A 8-201959 is used.
Compounds of No. are also preferred.

【0307】本発明の熱現像感光材料は、上述した各構
成層の素材を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を作り、
それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を
行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に
重層塗布」とは、各構成層(例えば感光層、保護層)の
塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別
に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時に重層
塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層
を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の
残存量が70質量%以下となる前に、上層を設けること
である。
The photothermographic material of the present invention comprises a coating solution prepared by dissolving or dispersing the materials for the respective constituent layers described above in a solvent,
It is preferable that a plurality of these coating solutions are simultaneously applied in a multi-layer coating and then heat treatment is performed. Here, "a plurality of layers are coated at the same time" means that a coating solution for each constituent layer (for example, a photosensitive layer and a protective layer) is prepared, and when the coating solution is applied to a support, each layer is separately coated and dried. It means that each constituent layer can be formed in a state in which the steps of simultaneously performing multilayer coating and drying can be simultaneously performed. That is, the upper layer is provided before the residual amount of all the solvents in the lower layer becomes 70% by mass or less.

【0308】各構成層を複数同時に重層塗布する方法に
は特に制限はなく、例えばバーコーター法、カーテンコ
ート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、エ
クストリュージョン塗布法などの公知の方法を用いるこ
とができる。これらのうちより好ましくはエクストリュ
ージョン塗布法と呼ばれる前計量タイプの塗布方式であ
る。該エクストリュージョン塗布法はスライド塗布方式
のようにスライド面での揮発がないため、精密塗布、有
機溶剤塗布に適している。この塗布方法は感光層を有す
る側について述べたが、バックコート層を設ける際、下
引きとともに塗布する場合についても同様である。熱現
像材料における同時重層塗布方法に関しては、特開20
00−15173に詳細な記載がある。
There are no particular restrictions on the method for applying multiple layers of each constituent layer at the same time, and known methods such as bar coater method, curtain coating method, dipping method, air knife method, hopper coating method, extrusion coating method and the like can be used. Can be used. Of these, the pre-weighing type coating method called the extrusion coating method is more preferable. The extrusion coating method is suitable for precision coating and organic solvent coating because it does not volatilize on the slide surface unlike the slide coating method. This coating method has been described for the side having the photosensitive layer, but the same applies to the case where the backcoat layer is coated together with undercoating. Regarding the simultaneous multi-layer coating method for a heat developing material, Japanese Patent Application Laid-Open No.
00-15173 has detailed description.

【0309】なお、本発明において、塗布銀量は、熱現
像感光材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましい
が、医療用画像を目的とする場合には、0.3g/m2
以上1.5g/m2以下が好ましく、0.5g/m2以上
1.5g/m2以下がより好ましい。当該塗布銀量の
内、ハロゲン化銀に由来するものは全銀量に対して2%
〜18%を占めることが好ましい、更には、5%〜15
%が好ましい。
In the present invention, the coated silver amount is preferably selected in accordance with the purpose of the photothermographic material, but in the case of a medical image, it is 0.3 g / m 2.
It is preferably 1.5 g / m 2 or less and more preferably 0.5 g / m 2 or more and 1.5 g / m 2 or less. Of the coated silver amount, those derived from silver halide are 2% of the total silver amount.
-18% is preferable, and further 5% -15
% Is preferred.

【0310】また、本発明において、0.01μm以上
(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1
×1014個/m2以上1×1018個/m2以下が好ま
しい。更には、1×1015個/m2以上1×1017
個/m2以下が好ましい。
In the present invention, the coating density of silver halide grains of 0.01 μm or more (sphere-equivalent grain size) is 1
It is preferably from 1014 pieces / m 2 to 1 × 1018 pieces / m 2 . Furthermore, 1 × 1015 pieces / m 2 or more 1 × 1017
The number / m 2 or less is preferable.

【0311】更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン
酸銀の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒
径)のハロゲン化銀粒子1個当たり、1×10-17g以
上1×10-15g以下が好ましく、1×10-16g以上1
×10-14g以下がより好ましい。
Further, the coating density of the non-photosensitive long-chain aliphatic carboxylic acid silver is 1 × 10 -17 g or more per 1 silver halide grain of 0.01 μm or more (sphere-equivalent grain size). X10 -15 g or less is preferable, 1 x 10 -16 g or more 1
It is more preferably × 10 -14 g or less.

【0312】上記のような範囲内の条件において塗布し
た場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高
濃度、即ち、銀被覆量(カバーリング・パワー)及び銀
画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。
When coating is carried out under the conditions within the above range, the optical maximum density of the silver image per constant coating silver amount, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image, etc. From the viewpoint, favorable results are obtained.

【0313】本発明においては、熱現像感光材料が、現
像時に溶剤を5〜1000mg/m 2の範囲で含有して
いることが好ましい。100〜500mg/m2である
ように調整することがより好ましい。それにより、高感
度、低かぶり、最高濃度の高い熱現像感光材料となる。
In the present invention, the photothermographic material is the
5 to 1000 mg / m of solvent at the time of image formation 2In the range of
Is preferred. 100-500 mg / m2Is
Is more preferable. It makes you feel high
It is a photothermographic material with high degree, low fog and high maximum density.

【0314】本発明に用いる溶剤としては、アセトン、
メチルエチルケトン、イソホロン等のケトン類;メチル
アルコール、エチルアルコール、i−プロピルアルコー
ル、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアル
コール類;エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル等のエーテルアルコール類;i−プロピ
ルエーテル等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類;塩化メチレン、ジクロルベンゼン等の塩
化物類;炭化水素類等が挙げられる。その他、水、ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、トルイジン、テトラ
ヒドロフラン、酢酸等が挙げられる。ただし、これらに
限定されるものではない。又、これらの溶剤は、単独、
又は数種類組み合わせて用いることができる。
As the solvent used in the present invention, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone and isophorone; alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, i-propyl alcohol, cyclohexanol and benzyl alcohol; ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol,
Glycols such as hexylene glycol; ether alcohols such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monoethyl ether; ethers such as i-propyl ether; esters such as ethyl acetate, butyl acetate; methylene chloride, dichlorobenzene, etc. Chlorides; hydrocarbons and the like can be mentioned. Other examples include water, formamide, dimethylformamide, toluidine, tetrahydrofuran, acetic acid and the like. However, it is not limited to these. Also, these solvents are
Alternatively, several types can be used in combination.

【0315】尚、熱現像感光材料中の上記溶剤の含有量
は塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変
化によって調整できる。又、当該溶剤の含有量は、含有
させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガス
クロマトグラフィーで測定できる。
The content of the solvent in the photothermographic material can be adjusted by changing the conditions such as the temperature conditions in the drying process after the coating process. Further, the content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.

【0316】本発明の熱現像感光材料を保存する場合
は、経時での濃度変化やカブリ発生を防止するため、包
装体に収納して保存するのが好ましい。包装体内の空隙
率は0.01〜10%、好ましくは0.02〜5%とす
るのがよく、窒素封入を行って包装体内の窒素分圧を8
0%以上、好ましくは90%以上とするのがよい。
When the photothermographic material of the present invention is stored, it is preferable to store the photothermographic material in a package in order to prevent changes in density and fog. The porosity in the package is preferably 0.01 to 10%, preferably 0.02 to 5%, and nitrogen filling is performed to reduce the nitrogen partial pressure in the package to 8%.
It is preferably 0% or more, and more preferably 90% or more.

【0317】本発明の熱現像感光材料は、画像記録する
際にレーザ光を用いるのが普通である。本発明の熱現像
感光材料の露光は、当該材料に付与した感色性に対し適
切な光源を用いることが望ましい。例えば、当該材料を
赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如
何なる光源にも適用可能であるが、レーザパワーがハイ
パワーであることや、熱現像感光材料を透明にできる等
の点から、赤外半導体レーザ(780nm、820n
m)がより好ましく用いられる。
The photothermographic material of the present invention generally uses a laser beam when recording an image. For exposure of the photothermographic material of the present invention, it is desirable to use a light source suitable for the color sensitivity imparted to the material. For example, if the material is made to be sensitive to infrared light, it can be applied to any light source in the infrared light range, but the laser power is high and the photothermographic material is transparent. From the point that it can be done, the infrared semiconductor laser (780 nm, 820 n
m) is more preferably used.

【0318】本発明において、露光はレーザ走査露光に
より行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方
法が採用できる。例えば、第1の好ましい方法として、
感光材料の露光面と走査レーザ光のなす角が実質的に垂
直になることがないレーザ走査露光機を用いる方法が挙
げられる。
In the present invention, exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as the first preferred method,
There is a method of using a laser scanning exposure machine in which the angle formed by the scanning laser light and the exposed surface of the photosensitive material is not substantially vertical.

【0319】ここで、「実質的に垂直になることがな
い」とはレーザ光走査中に最も垂直に近い角度として好
ましくは55度以上88度以下、より好ましくは60度
以上86度以下、更に好ましくは65度以上84度以
下、最も好ましくは70度以上82度以下であることを
いう。
Here, "substantially no vertical" means that the angle is the most vertical during laser beam scanning, preferably 55 degrees or more and 88 degrees or less, more preferably 60 degrees or more and 86 degrees or less, and further It is preferably 65 degrees or more and 84 degrees or less, and most preferably 70 degrees or more and 82 degrees or less.

【0320】レーザ光が、感光材料に走査されるときの
感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましくは
200μm以下、より好ましくは100μm以下であ
る。これは、スポット径が小さい方がレーザ光入射角度
の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。な
お、ビームスポット直径の下限は10μmである。この
ようなレーザ走査露光を行うことにより干渉縞様のムラ
の発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることが
できる。
The beam spot diameter on the exposed surface of the photosensitive material when the laser light is scanned on the photosensitive material is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. It is preferable that the spot diameter is smaller because the angle of deviation of the laser light incident angle from the vertical can be reduced. The lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration due to reflected light, such as occurrence of interference fringe-like unevenness.

【0321】また、第2の方法として、本発明における
露光は縦マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査
露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走
査レーザ光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化
が減少する。
As the second method, it is also preferable that the exposure in the present invention is carried out by using a laser scanning exposure device which emits scanning laser light of a vertical multi type. Image quality deterioration such as occurrence of interference fringe-like unevenness is reduced as compared with the vertical single mode scanning laser light.

【0322】縦マルチ化するには、合波による、戻り光
を利用する、高周波重畳をかける、などの方法がよい。
なお、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味
し、通常露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10
nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に
制限はないが、通常60nm程度である。
In order to achieve vertical multi, a method of utilizing return light by multiplexing, applying high frequency superposition, or the like is preferable.
The vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm.
It is preferable that the thickness is not less than nm. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

【0323】更に、第3の態様としては、2本以上のレ
ーザ光を用いて、走査露光により画像を形成することも
好ましい。
Further, as a third aspect, it is also preferable to form an image by scanning exposure using two or more laser beams.

【0324】このような複数本のレーザ光を利用した画
像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から1
回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザプリン
タやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている
技術であり、例えば特開昭60−166916号等によ
り知られている。これは、光源ユニットから放射された
レーザ光をポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等
を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザ
イメージャなどと原理的に同じレーザ走査光学装置であ
る。
As an image recording method using such a plurality of laser beams, there is a need for high resolution and high speed.
This is a technique used in an image writing means of a laser printer or a digital copying machine for writing an image in plural lines by scanning once, and is known from, for example, JP-A-60-166916. This is a method in which a laser beam emitted from a light source unit is deflected and scanned by a polygon mirror and an image is formed on a photoconductor through an fθ lens or the like. This is the same laser scanning optical device as that of a laser imager in principle. Is.

【0325】レーザプリンタやデジタル複写機の画像書
込み手段における感光体上へのレーザ光の結像は、1回
の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途か
ら、一つのレーザ光の結像位置から1ライン分ずらして
次のレーザ光が結像されている。具体的には、二つの光
ビームは互いに副走査方向に像面上で数10μmオーダ
ーの間隔で近接しており、印字密度が400dpi(本
発明においては、1インチ即ち、2.54cm当たりの
ドットの印字密度のことをdpi(ドットパーインチ)
と定義する)で2ビームの副走査方向ピッチは63.5
μm、600dpiで42.3μmである。このよう
な、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本
発明では同一の場所に2本以上のレーザを入射角を変え
露光面に集光させ画像形成することが好ましい。この
際、通常の1本のレーザ光(波長λ[nm])で書き込
む場合の露光面での露光エネルギーがEであり、露光に
使用するN本のレーザ光が同一波長(波長λ[n
m])、同一露光エネルギー(En)である場合に、
0.9×E≦En×N≦1.1×Eの範囲にするのが好
ましい。このようにすることにより、露光面ではエネル
ギーは確保されるが、それぞれのレーザ光の画像形成層
への反射は、レーザの露光エネルギーが低いため低減さ
れ、ひいては干渉縞の発生が抑えられる。
The image formation of the laser beam on the photosensitive member in the image writing means of the laser printer or the digital copying machine is performed from one laser beam image forming position because the image is written in plural lines by one scanning. The next laser beam is imaged with a shift of one line. Specifically, the two light beams are close to each other in the sub-scanning direction on the image plane at intervals of several tens of μm, and the printing density is 400 dpi (in the present invention, 1 inch, that is, dots per 2.54 cm). Print density is dpi (dot per inch)
2), the pitch of the two beams in the sub-scanning direction is 63.5.
μm and 42.3 μm at 600 dpi. Unlike the method in which the resolution is shifted in the sub-scanning direction, it is preferable in the present invention to form an image by converging two or more lasers at the same location on the exposure surface while changing the incident angle. At this time, the exposure energy on the exposure surface when writing with one normal laser beam (wavelength λ [nm]) is E, and N laser beams used for exposure have the same wavelength (wavelength λ [n]).
m]) and the same exposure energy (E n ),
Preferably in the range of 0.9 × E ≦ E n × N ≦ 1.1 × E. By doing so, although energy is secured on the exposed surface, reflection of each laser beam to the image forming layer is reduced because the exposure energy of the laser is low, and eventually the occurrence of interference fringes is suppressed.

【0326】なお、上述では複数本のレーザ光の波長を
λと同一のものを使用したが、波長の異なるものを用い
てもよい。この場合には、λ[nm]に対して(λ−3
0)<λ1、λ2、・・・・・λn≦(λ+30)の範囲
にするのが好ましい。
In the above description, the wavelengths of a plurality of laser beams are the same as λ, but different wavelengths may be used. In this case, for λ [nm], (λ-3
0) <λ 1 , λ 2 , ... λ n ≦ (λ + 30) is preferable.

【0327】なお、上述した第1、第2及び第3の態様
の画像記録方法において、走査露光に用いるレーザとし
ては、一般によく知られている、ルビーレーザ、YAG
レーザ、ガラスレーザ等の固体レーザ;He−Neレー
ザ、Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、CO2レー
ザ、COレーザ、He−Cdレーザ、N2レーザ、エキ
シマーレーザ等の気体レーザ;InGaPレーザ、Al
GaAsレーザ、GaAsPレーザ、InGaAsレー
ザ、InAsPレーザ、CdSnP2レーザ、GaSb
レーザ等の半導体レーザ;化学レーザ、色素レーザ等を
用途に併せて適時選択して使用できるが、これらの中で
もメンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が60
0〜1200nmの半導体レーザによるレーザ光を用い
るのが好ましい。なお、レーザ・イメージャやレーザ・
イメージセッタで使用されるレーザ光において、熱現像
材料に走査されるときの該材料露光面でのビームスポッ
ト径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径とし
て5〜100μmの範囲であり、レーザ光走査速度は熱
現像材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパ
ワーによって、熱現像感光材料毎に最適な値に設定する
ことができる。
In the image recording methods of the above-mentioned first, second and third modes, the laser used for scanning exposure is generally well known, such as ruby laser and YAG laser.
Solid-state lasers such as lasers and glass lasers; He-Ne lasers, Ar ion lasers, Kr ion lasers, CO 2 lasers, CO lasers, He-Cd lasers, N 2 lasers, gas lasers such as excimer lasers; InGaP lasers, Al
GaAs laser, GaAsP laser, InGaAs laser, InAsP laser, CdSnP 2 laser, GaSb
Semiconductor lasers such as lasers; chemical lasers, dye lasers, etc. can be selected and used in a timely manner according to the application, but among them, the wavelength is 60 due to problems of maintenance and size of light source.
Laser light from a semiconductor laser of 0 to 1200 nm is preferably used. In addition, laser imager and laser
In the laser light used in the imagesetter, the beam spot diameter on the exposed surface of the material when scanning the heat developing material is generally in the range of 5 to 75 μm as the minor axis diameter and 5 to 100 μm as the major axis diameter. The laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photothermographic material by the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength peculiar to the photothermographic material.

【0328】本発明でいう熱現像処理装置は、構成とし
ては、フィルムトレイで代表されるフィルム供給部、レ
ーザ画像記録部、熱現像感光材料の全面に均一で安定し
た熱を供給する熱現像部、フィルム供給部からレーザ記
録を経て、熱現像により画像形成された熱現像感光材料
を装置外に排出するまでの搬送部から構成される。この
態様の熱現像処理装置の具体例は図1に示すものであ
る。
The thermal development processing apparatus referred to in the present invention has, as its constitution, a film supply section typified by a film tray, a laser image recording section, and a thermal development section for supplying uniform and stable heat to the entire surface of the photothermographic material. , A conveyance section from the film supply section through the laser recording to the discharge of the photothermographic material on which an image is formed by heat development to the outside of the apparatus. A specific example of the heat development processing apparatus of this aspect is shown in FIG.

【0329】熱現像装置100は、シート状の熱現像感
光材料(フォトサーモグラフィックエレメント又は単に
フィルムともいう)を1枚ずつ給送する給送部110、
給送されたフィルムFを露光する露光部120、露光さ
れたフィルムFを現像する現像部130、現像を停止さ
せる冷却部150と集積部160とを有し、給送部から
フィルムFを供給するための供給ローラ対140、現像
部にフィルムを送るための供給ローラ対144、各部間
でフィルムFを円滑に移送するための搬送ローラ対14
1,142,143,145等複数のローラ対からなっ
ている。熱現像部はフィルムFを現像する加熱手段とし
て、外周にほぼ密着して保持しつつ加熱可能な複数の対
向ローラ2を有するヒートドラム1と現像したフィルム
Fを剥離し冷却部に送るための剥離爪6等からなる。
The thermal developing apparatus 100 comprises a sheet feeding section 110 for feeding sheet-like photothermographic materials (also referred to as photothermographic elements or simply films) one by one.
An exposure unit 120 that exposes the fed film F, a developing unit 130 that develops the exposed film F, a cooling unit 150 that stops development, and a stacking unit 160 are provided, and the film F is fed from the feeding unit. Supply roller pair 140, a supply roller pair 144 for feeding the film to the developing section, and a transport roller pair 14 for smoothly transferring the film F between the respective sections.
1, 142, 143, 145 and the like. The heat developing section serves as a heating means for developing the film F, and a heat drum 1 having a plurality of opposing rollers 2 that can be heated while being held in close contact with the outer periphery, and a peeling section for separating the developed film F and sending it to the cooling section. It consists of nails 6 and the like.

【0330】なお、熱現像感光材料の搬送速度は20m
m/sec〜200mm/secが好ましい範囲であ
る。
The transfer speed of the photothermographic material is 20 m.
A preferable range is m / sec to 200 mm / sec.

【0331】本発明の熱現像材料の現像条件は、使用す
る機器、装置、あるいは手段に依存して変化するが、典
型的には、適した高温において像様に露光した熱現像材
料を加熱することにより現像を行うものである。露光後
に得られた潜像は、中程度の高温(約80〜200℃、
好ましくは約100〜200℃)で、十分な時間(一般
には約1秒〜約2分間)、熱現像材料を加熱することに
より現像される。
The development conditions of the heat developable material of the present invention vary depending on the equipment, device or means used, but typically, the heat developable material imagewise exposed is heated at a suitable high temperature. By doing so, development is performed. The latent image obtained after exposure has a moderately high temperature (about 80-200 ° C,
Development is carried out by heating the heat-developable material at a temperature of preferably about 100 to 200 ° C. for a sufficient period of time (generally about 1 second to about 2 minutes).

【0332】加熱温度が80℃未満では、短時間に十分
な画像濃度が得られず、又、200℃を越えると、バイ
ンダーが溶融し、ローラへの転写など画像そのものだけ
でなく搬送性や現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱する
ことで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との
間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過
程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで
進行する。
If the heating temperature is lower than 80 ° C., a sufficient image density cannot be obtained in a short time, and if the heating temperature exceeds 200 ° C., the binder is melted, and the transferability to the roller and the developing property as well as the image itself such as transfer. It also adversely affects the machine. By heating, a silver image is generated by a redox reaction between an organic silver salt (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without supplying any processing liquid such as water from the outside.

【0333】加熱する機器、装置あるいは手段として
は、例えば、ホットプレート、アイロン、ホットロー
ラ、炭素又は白色チタン等を用いた熱発生器として典型
的な加熱手段等で行ってよい。より好ましくは、保護層
の設けられた熱現像材料は、保護層を有する側の面を加
熱手段と接触させ加熱処理することが、均一な加熱を行
う上で、また、熱効率、作業性等の観点から好ましく、
保護層を有する側の面をヒートローラに接触させながら
搬送し、加熱処理して現像することが好ましい。
The heating device, device or means may be, for example, a hot plate, an iron, a hot roller, a heating means typical of a heat generator using carbon or white titanium or the like. More preferably, the heat-developable material provided with the protective layer is subjected to heat treatment by bringing the surface having the protective layer into contact with a heating means, in order to perform uniform heating, and also to improve thermal efficiency, workability, etc. Preferable from a viewpoint,
It is preferable that the surface on the side having the protective layer is conveyed while being brought into contact with a heat roller, heated, and developed.

【0334】[0334]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の実施の態様はこれらに限定されない。
The present invention will be described in detail below with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited to these.

【0335】実施例1 〔下引済み写真用支持体の作製〕市販の2軸延伸熱固定
済みの厚さ175μmの、光学濃度で0.170(コニ
カ株式会社製デンシトメータPDA−65にて測定)に
青色染料で青色着色したPETフィルムの両面に8W/
2・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引
塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し
乾燥させて下引層A−1とし、また反対側の面に下記下
引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設
し乾燥させて下引層B−1とした。
Example 1 [Preparation of undercoated photographic support] Commercially available biaxially stretched and heat-fixed 175 μm thick optical density 0.170 (measured by Konica Corporation densitometer PDA-65). 8W / on both sides of PET film which is colored blue with blue dye
Corona discharge treatment for m 2 · min is applied, and one surface is coated with the following undercoating coating solution a-1 to a dry film thickness of 0.8 μm and dried to form the undercoating layer A-1, and vice versa. The undercoating coating solution b-1 described below was applied to the side surface so as to have a dry film thickness of 0.8 μm, and dried to obtain an undercoating layer B-1.

【0336】[0336]

【化21】 [Chemical 21]

【0337】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30質量%) t−ブチルアクリレート(20質量%) スチレン(25質量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる 《下引塗布液b−1》 ブチルアクリレート(40質量%) スチレン(20質量%) グリシジルアクリレート(40質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、
8W/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に下引上層A−2として、下引層B−1の上に
は下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.4μmにな
る様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設し
た。
<< Undercoating Coating Liquid a-1 >> Butyl acrylate (30% by mass) t-Butyl acrylate (20% by mass) Styrene (25% by mass) 2-Hydroxyethyl acrylate (25% by mass) Copolymer latex liquid (Solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g Finish with water to 1 liter << Subbing coating liquid b-1 >> Butyl acrylate (40 mass% ) Styrene (20 mass%) Glycidyl acrylate (40 mass%) Copolymer latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g After finishing with water to 1 liter, on the upper surface of the undercoat layer A-1 and the undercoat layer B-1,
A corona discharge of 8 W / m 2 · min was applied, and the following undercoating upper layer coating liquid a-2 was dried to a thickness of 0.1 μm on the undercoating layer A-1.
As the undercoating upper layer A-2, the following undercoating upper layer coating liquid b-2 is provided on the undercoating layer B-1 to have an antistatic function so that the dry film thickness becomes 0.4 μm. It was applied as B-2.

【0338】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる質量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1lに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 SbドープされたSnO2(SNS10M;石原産業(株)製) 60g (C−4)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−5) 12g ポリエチレングリコール(質量平均分子量600) 6g 水で1lに仕上げる<< Undercoating Upper Layer Coating Liquid a-2 >> Gelatin 0.4 g / m 2 Mass (C-1) 0.2 g (C-2) 0.2 g (C-3) 0.1 g Silica particles ( Average particle diameter 3 μm) 0.1 g Finish with water to 1 L << Undercoating upper layer coating liquid b-2 >> Sb-doped SnO 2 (SNS10M; manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 60 g (C-4) latex Liquid (solid content 20%) 80 g Ammonium sulphate 0.5 g (C-5) 12 g Polyethylene glycol (mass average molecular weight 600) 6 g Finish with water to 1 liter.

【0339】[0339]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0340】[0340]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0341】《バックコート層塗布液の調製》メチルエ
チルケトン(MEK)830gを攪拌しながら、セルロ
ースアセテートブチレート(EastmanChemi
cal社、CAB381−20)84.2gおよびポリ
エステル樹脂(Bostic社、VitelPE220
0B)4.5gを添加し溶解した。次に、溶解した液に
0.30gの赤外染料1を添加し、さらにメタノール4
3.2gに溶解したF系界面活性剤(旭硝子社、サーフ
ロンKH40)4.5gとF系界面活性剤(大日本イン
ク社、メガファッグF120K)2.3gを添加して、
溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレー
ト2、5gで添加した。最後に、メチルエチルケトンに
1質量%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散し
たシリカ(W.R.Grace社、シロイド64X60
00)を75g添加、攪拌しバックコート層塗布液を調
製した。
<< Preparation of Backcoat Layer Coating Liquid >> Cellulose acetate butyrate (Eastman Chemi) was stirred while 830 g of methyl ethyl ketone (MEK) was stirred.
cal., CAB381-20) 84.2 g and polyester resin (Bostic, VitelPE220).
OB) (4.5 g) was added and dissolved. Next, 0.30 g of infrared dye 1 was added to the dissolved liquid, and methanol 4 was added.
4.5 g of F-based surfactant (Asahi Glass Co., Surflon KH40) and 2.3 g of F-based surfactant (Dainippon Ink and Megafag F120K) dissolved in 3.2 g were added,
The solution was sufficiently stirred until it was dissolved. Then 2,5 g of oleyl oleate was added. Finally, silica dispersed in a methyl ethyl ketone at a concentration of 1% by a dissolver type homogenizer (WR Grace, Syroid 64X60).
00) was added and stirred to prepare a coating solution for back coat layer.

【0342】[0342]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0343】 《バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製》 セルロースアセテートブチレート(10%メチルエチルケトン溶液) 15g 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:8μm) 0.030g (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) C817(CH2CH2O)12817 0.05g C917−C64−SO3Na 0.01g ステアリン酸 0.1g オレイルオレート 0.1g このように調製した、バックコート層塗布液、バックコ
ート層保護層塗布液を、乾燥膜厚がそれぞれ3.5μm
になるように押し出しコーターにて塗布速度50m/m
inにて塗布を行った。なお乾燥は、乾燥温度100
℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて行っ
た。
<< Preparation of Backcoat Layer Protective Layer (Surface Protective Layer) Coating Solution >> Cellulose acetate butyrate (10% methyl ethyl ketone solution) 15 g Monodispersity 15% Monodisperse silica (average particle size: 8 μm) 0.030 g (silica Surface treatment with 1% by mass of total mass of aluminum) C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.05 g C 9 F 17 —C 6 H 4 —SO 3 Na 0.01 g stearic acid 0 0.1 g oleyl oleate 0.1 g The backcoat layer coating liquid and the backcoat layer protective layer coating liquid thus prepared were each dried to a thickness of 3.5 μm.
Application speed 50m / m with an extrusion coater
Coating was performed in. The drying temperature is 100
C. and a dew point temperature of 10.degree. C. was used for 5 minutes.

【0344】 《感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製》 (A1) フェニルカルバモイル化ゼラチン 88.3g 化合物(A)(10%メタノール水溶液) 10ml 臭化カリウム 0.32g 水で5429mlに仕上げる (B1) 0.67mol/L硝酸銀水溶液 2635ml (C1) 臭化カリウム 51.55g 沃化カリウム 1.47g 水で660mlに仕上げる (D1) 臭化カリウム 154.9g 沃化カリウム 4.41g 塩化イリジウム(1%溶液) 0.93ml 水で1982mlに仕上げる (E1) 0.4モル/リットル臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量 (F1) 水酸化カリウム 0.71g 水で20mlに仕上げる (G1) 56%酢酸水溶液 18.0ml (H1) 無水炭酸ナトリウム 1.72g 水で151mlに仕上げる 化合物(A): HO(CH2CH2O)n−(CH(CH3)CH2O)17−(CH2CH2O)mH (m+n=5〜7) 特公昭58−58288号、同58−58289号に示
される混合攪拌機を用いて溶液(A1)に溶液(B1)
の1/4量及び溶液(C1)全量を温度20℃、pAg
8.09に制御しながら、同時混合法により4分45秒
を要して添加し核形成を行った。1分後、溶液(F1)
の全量を添加した。この間pAgの調整を(E1)を用
いて適宜行った。6分間経過後、溶液(B1)の3/4
量及び溶液(D1)の全量を、温度20℃、pAg8.
09に制御しながら、同時混合法により14分15秒か
けて添加した。5分間攪拌した後、40℃に降温し、溶
液(G1)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させ
た。沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除
き、水を10リットル加え、攪拌後、再度ハロゲン化銀
乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄
み液を取り除き、更に水を10リットル加え、攪拌後、
ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500ml
を残し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H1)を加
え、60℃に昇温し、更に120分攪拌した。最後にp
Hが5.8になるように調整し、銀量1モル当たり11
61gになるように水を添加し、感光性ハロゲン化銀乳
剤Aを得た。
<< Preparation of Photosensitive Silver Halide Emulsion A >> (A1) Phenylcarbamoylated gelatin 88.3 g Compound (A) (10% aqueous methanol solution) 10 ml Potassium bromide 0.32 g Water to make 5429 ml (B1) 0 67 mol / L aqueous solution of silver nitrate 2635 ml (C1) potassium bromide 51.55 g potassium iodide 1.47 g finished with water to 660 ml (D1) potassium bromide 154.9 g potassium iodide 4.41 g iridium chloride (1% solution) 0 .93 ml Water to make 1982 ml (E1) 0.4 mol / liter potassium bromide aqueous solution Silver potential control amount below (F1) Potassium hydroxide 0.71 g Water to make 20 ml (G1) 56% acetic acid aqueous solution 18.0 ml ( H1) 1.72g anhydrous sodium carbonate Prepare 151ml with water Compound which increases (A): HO (CH 2 CH 2 O) n - (CH (CH 3) CH 2 O) 17 - (CH 2 CH 2 O) m H (m + n = 5~7) Japanese Patent Publication No. 58-58288 , Solution (B1) into solution (A1) using the mixing stirrer shown in No. 58-58289.
1/4 amount and the total amount of the solution (C1) at a temperature of 20 ° C. and pAg
While controlling at 8.09, it took 4 minutes and 45 seconds by the simultaneous mixing method to add and perform nucleation. After 1 minute, solution (F1)
Was added. During this period, the pAg was adjusted appropriately by using (E1). After 6 minutes, 3/4 of solution (B1)
Amount and the total amount of the solution (D1) at a temperature of 20 ° C., pAg8.
While controlling at 09, the mixture was added by the simultaneous mixing method over 14 minutes and 15 seconds. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 40 ° C., the entire amount of the solution (G1) was added, and the silver halide emulsion was precipitated. The supernatant was removed, leaving 2000 ml of the sedimented portion, 10 liters of water was added, and after stirring, the silver halide emulsion was sedimented again. The supernatant was removed, leaving 1500 ml of the sedimented portion, 10 liters of water was further added, and after stirring,
The silver halide emulsion was allowed to settle. Settling portion 1500 ml
After removing the supernatant liquid, the solution (H1) was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was further stirred for 120 minutes. Finally p
Adjust so that H becomes 5.8, and add 11 for 1 mol of silver.
Water was added so that the amount became 61 g to obtain a photosensitive silver halide emulsion A.

【0345】この乳剤は平均粒子サイズ25nm、粒子
サイズの変動係数12%、〔100〕面比率92%の単
分散立方体沃臭化銀粒子であった。
This emulsion was monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12% and a [100] plane ratio of 92%.

【0346】《感光性ハロゲン化銀乳剤Bの調製》同時
混合法による添加時の温度を40℃に変更した以外は感
光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製と同様に行った。この乳
剤は平均粒子サイズ50nm、粒子サイズの変動係数1
2%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀
粒子であった。
<< Preparation of Light-Sensitive Silver Halide Emulsion B >> The preparation of Light-sensitive Silver Halide Emulsion A was performed except that the temperature at the time of addition was changed to 40 ° C. by the simultaneous mixing method. This emulsion has an average grain size of 50 nm and a grain size variation coefficient of 1
It was a monodisperse cubic silver iodobromide grain having a proportion of 2% and a [100] plane ratio of 92%.

【0347】《粉末有機銀塩Aの調製》4720mlの
純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7
g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを
80℃で溶解した。次に1.5モル/リットルの水酸化
ナトリウム水溶液540.2mlを添加し濃硝酸6.9
mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶
液を得た。上記の脂肪酸ナトリウム溶液の温度を55℃
に保ったまま、36.2gの上記の感光性ハロゲン化銀
乳剤Aと9.1gの上記の感光性ハロゲン化銀乳剤Bと
純水450mlを添加し5分間攪拌した。
<< Preparation of Powdered Organic Silver Salt A >> 130.8 g of behenic acid and 67.7 of arachidic acid were added to 4720 ml of pure water.
g, stearic acid 43.6 g, and palmitic acid 2.3 g were dissolved at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 mol / liter sodium hydroxide aqueous solution was added to it to add concentrated nitric acid 6.9.
After adding ml, it cooled at 55 degreeC and obtained the fatty-acid sodium solution. The temperature of the fatty acid sodium solution above 55 ℃
36.2 g of the above photosensitive silver halide emulsion A, 9.1 g of the above photosensitive silver halide emulsion B and 450 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes.

【0348】次に1モル/リットルの硝酸銀溶液70
2.6mlを2分間かけて添加し、10分間攪拌し有機
銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を
水洗容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させ
て有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を
除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになる
まで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水
を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式
乾燥機フラッシュジェットドライヤー(株式会社セイシ
ン企業製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機入り口
熱風温度の運転条件により含水率が0.1%になるまで
乾燥して乾燥済みの粉末有機銀塩A(平均粒径(円相当
径)0.08μm、アスペクト比5、単分散度10%)
を得た。
Next, a 1 mol / liter silver nitrate solution 70
2.6 ml was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an organic silver salt dispersion. After that, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water washing container, deionized water was added thereto, and the mixture was stirred and then allowed to stand to separate the organic silver salt dispersion by flotation to remove the water-soluble salts below. After that, washing with deionized water and drainage were repeated until the conductivity of the drainage reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. Then, the cake-shaped organic silver salt obtained was washed with a flash dryer, flash jet dryer (stock). Drying powder organic silver salt A (average particle size (equivalent to yen) using Seisei Enterprise Co., Ltd.) and dried until the water content becomes 0.1% according to the operating conditions of nitrogen gas atmosphere and hot air temperature at the dryer inlet. Diameter) 0.08 μm, aspect ratio 5, monodispersity 10%)
Got

【0349】なお、有機銀塩組成物の含水率測定には赤
外線水分計を使用した。 《予備分散液Aの調製》画像形成層バインダーとして、
表1記載のバインダー1の表1記載量をメチルエチルケ
トン1457gに溶解し、VMA−GETZMANN社
製ディゾルバDISPERMAT CA−40M型にて
攪拌しながら粉末有機銀塩A500gを徐々に添加して
十分に混合することにより予備分散液Aを調製した。
An infrared moisture meter was used to measure the water content of the organic silver salt composition. << Preparation of Preliminary Dispersion A >> As a binder for the image forming layer,
Dissolve the amount shown in Table 1 of Binder 1 shown in Table 1 in 1457 g of methyl ethyl ketone, and gradually add 500 g of powdered organic silver salt A while stirring with a dissolver DISPERMAT CA-40M type manufactured by VMA-GETZMANN and mix them sufficiently. To prepare the pre-dispersion liquid A.

【0350】《感光性乳剤分散液1の調製》予備分散液
Aをポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となる
ように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ製トレ
セラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機D
ISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GE
TZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分
散を行なうことにより感光性乳剤分散液1を調製した。
<< Preparation of Photosensitive Emulsion Dispersion Liquid 1 >> Pre-dispersion liquid A was loaded with zirconia beads (Torecelum manufactured by Toray) having a diameter of 0.5 mm so that the residence time in the mill was 1.5 minutes using a pump. Media type disperser D filled with 80% of product
ISPERMAT SL-C12EX type (VMA-GE
TZMANN) and dispersed at a mill peripheral speed of 8 m / s to prepare Photosensitive Emulsion Dispersion Liquid 1.

【0351】《安定剤液の調製》1.0gの安定剤1、
0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶
解し安定剤液を調製した。
<< Preparation of Stabilizer Solution >> 1.0 g of stabilizer 1,
0.31 g of potassium acetate was dissolved in 4.97 g of methanol to prepare a stabilizer solution.

【0352】《赤外増感色素液Aの調製》19.2mg
の赤外増感色素、1.488gの2−クロロ−安息香
酸、2.779gの安定剤2および365mgの5−メ
チル−2−メルカプトベンズイミダゾールを31.3m
lのMEKに暗所にて溶解し赤外増感色素液Aを調製し
た。
<< Preparation of Infrared Sensitizing Dye Solution A >> 19.2 mg
Infrared sensitizing dye, 1.488 g 2-chloro-benzoic acid, 2.779 g Stabilizer 2 and 365 mg 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole 31.3 m.
Infrared sensitizing dye solution A was prepared by dissolving 1 l of MEK in the dark.

【0353】《添加液aの調製》現像剤としての表1記
載の化合物を27.98gと1.54gの4−メチルフ
タル酸、0.48gの前記赤外染料1をMEK110g
に溶解し添加液aとした。
<< Preparation of Additive Solution a >> 27.98 g of the compound shown in Table 1 as a developer and 1.54 g of 4-methylphthalic acid, 0.48 g of the above infrared dye 1 and 110 g of MEK.
Was dissolved in to prepare an additive solution a.

【0354】《添加液bの調製》1.56gのかぶり防
止剤2、3.43gのフタラジンをMEK40.9gに
溶解し添加液bとした。
<< Preparation of Additive Solution b >> 1.56 g of antifoggant 2, 3.43 g of phthalazine was dissolved in 40.9 g of MEK to prepare Additive Solution b.

【0355】《添加液cの調製》省銀化剤として一般式
(G)で表されるビニル化合物A1の0.5gをMEK
39.5gに溶解し添加液cとした。
<< Preparation of Additive Liquid c >> 0.5 g of the vinyl compound A1 represented by the general formula (G) was used as a silver saving agent with MEK.
It was dissolved in 39.5 g to obtain an additive liquid c.

【0356】[0356]

【化25】 [Chemical 25]

【0357】《画像形成層塗布液の調製》不活性気体雰
囲気下(窒素97%)において、前記感光性乳剤分散液
1(50g)およびMEK15.11gを攪拌しながら
21℃に保温し、化学増感剤S−5(0.5%メタノー
ル溶液)1000μlを加え、2分後にかぶり防止剤1
(10%メタノール溶液)390μlを加え、1時間攪
拌した。さらに臭化カルシウム(10%メタノール溶
液)494μlを添加して10分撹拌した後に上記の有
機化学増感剤の1/20モル相当の金増感剤Au−5を
添加し、更に20分攪拌した。続いて、安定剤液167
mlを添加して10分間攪拌した後、1.32gの前記
赤外増感色素液Aを添加して1時間攪拌した。その後、
温度を13℃まで降温してさらに30分攪拌した。13
℃に保温したまま、予備分散液Aで使用したバインダー
13.31gを添加して30分攪拌した後、テトラクロ
ロフタル酸(9.4質量%MEK溶液)1.084gを
添加して15分間攪拌した。さらに攪拌を続けながら、
12.43gの添加液a、1.6mlのDesmodu
rN3300/モーベイ社社製の脂肪族イソシアネート
(10%MEK溶液)、4.27gの添加液b、4.0
gの添加液cを順次添加し攪拌することにより画像形成
層塗布液を得た。
<< Preparation of Coating Solution for Image-Forming Layer >> In an inert gas atmosphere (nitrogen 97%), the photosensitive emulsion dispersion 1 (50 g) and MEK (15.11 g) were kept at 21 ° C. with stirring and chemically increased. Sensitizer S-5 (0.5% methanol solution) (1000 μl) was added, and 2 minutes later, antifoggant 1
(10% methanol solution) (390 μl) was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Further, 494 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added and stirred for 10 minutes, and then a gold sensitizer Au-5 corresponding to 1/20 mol of the above organic chemical sensitizer was added and further stirred for 20 minutes. . Then, the stabilizer liquid 167
After adding ml and stirring for 10 minutes, 1.32 g of the infrared sensitizing dye solution A was added and stirred for 1 hour. afterwards,
The temperature was lowered to 13 ° C., and the mixture was further stirred for 30 minutes. Thirteen
While keeping the temperature at ℃, add 13.31 g of the binder used in Pre-dispersion A and stir for 30 minutes, then add 1.084 g of tetrachlorophthalic acid (9.4% by mass MEK solution) and stir for 15 minutes. did. While continuing to stir,
12.43 g of additive liquid a, 1.6 ml of Desmodu
rN3300 / Mobey's aliphatic isocyanate (10% MEK solution), 4.27 g of additive liquid b, 4.0
The addition liquid c of g was sequentially added and stirred to obtain a coating liquid for the image forming layer.

【0358】[0358]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0359】 《画像形成層保護層下層(表面保護層下層)の調製》 アセトン 5g メチルエチルケトン 21g バインダー2(表1に記載) 2.3g メタノール 7g フタラジン 0.25g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル) −3,5,5−トリメチルヘキサン(20%メタノール溶液) 10g 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:3μm) 0.140g (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g C1225(CH2CH2O)101225 0.01g C817−C64−SO3Na 0.01g ステアリン酸 0.1g ステアリン酸ブチル 0.1g 《画像形成層保護層上層(表面保護層上層)の調製》 アセトン 5g メチルエチルケトン 21g バインダー3(表1に記載) 2.3g メタノール 7g フタラジン 0.25g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル) −3,5,5−トリメチルヘキサン(20%メタノール溶液) 10g 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:3μm) 0.140g (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g C1225(CH2CH2O)101225 0.01g C817−C64−SO3Na 0.01g ステアリン酸 0.1g ステアリン酸ブチル 0.1g 《画像形成層面側塗布》前記画像形成層塗布液と画像形
成層表面保護層(表面保護層)塗布液を押し出し(エク
ストルージョン)コーターを用いて塗布速度50m/m
inにて同時に重層塗布することにより表1に示す感光
材料試料No.1〜7、13〜16(尚、感光材料試料
No.15、16は感光材料試料No.1と同じ)を作
製した。塗布は、画像形成層は塗布銀量1.2g/
2、画像形成層保護層(表面保護層)は乾燥膜厚で
2.5μm(上層1.3μm、下層1.2μm)になる
様にして行い、後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の
乾燥風を用いて、10分間乾燥を行った。
<< Preparation of Image Forming Layer Protective Layer Lower Layer (Surface Protective Layer Lower Layer) >> Acetone 5 g Methyl ethyl ketone 21 g Binder 2 (described in Table 1) 2.3 g Methanol 7 g Phthalazine 0.25 g 1,1-bis (2-hydroxy-) 3,5-Dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (20% methanol solution) 10 g Monodispersity 15% Monodisperse silica (average particle diameter: 3 μm) 0.140 g (1% by mass of silica total mass) Surface treatment with aluminum) CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 0.035 g C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 0.01 g C 8 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 0.01g " preparation of image forming layer upper protective layer (surface protective layer upper layer)" stearate 0.1g butyl stearate 0.1g Cetone 5 g Methyl ethyl ketone 21 g Binder 3 (described in Table 1) 2.3 g Methanol 7 g Phthalazine 0.25 g 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (20% Methanol solution) 10 g Monodispersity degree 15% Monodisperse silica (average particle size: 3 μm) 0.140 g (surface treatment with 1% by mass of aluminum based on the total mass of silica) CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 0.035g C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 0.01g C 8 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 0.01g stearate 0.1g stearate Butyl 0.1 g << Image forming layer side coating >> Extrusion of the image forming layer coating liquid and the image forming layer surface protective layer (surface protective layer) coating liquid (Extrude ) Coating speed 50 m / m with a coater
Photosensitive material sample No. 1 to 7 and 13 to 16 (photosensitive material samples No. 15 and 16 are the same as the photosensitive material sample No. 1) were prepared. The coating amount of the image forming layer is 1.2 g of silver.
m 2 , the image forming layer protective layer (surface protective layer) was dried to a thickness of 2.5 μm (upper layer 1.3 μm, lower layer 1.2 μm), and then dried at 75 ° C. and dew point temperature at 10 ° C. Drying was performed for 10 minutes using the drying air of.

【0360】実施例2 《有機銀塩分散物の調製》ステアリン酸7g、アラキジ
ン酸4g、ベヘン酸36g、蒸留水850mlを90℃
で激しく攪拌しながら1モル/リットル濃度のNaOH
水溶液187mlを添加し120分反応させ、1モル/
リットル濃度の硝酸71mlを添加した後、50℃に降
温した。次いで、より激しく攪拌しながら硝酸銀21g
の水溶液125mlを100秒かけて添加し、そのまま
20分間放置した。その後、吸引濾過で固形分を濾別
し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cmになるまで
水洗した。こうして得た固形分にPVA205(クラレ
(株)社製ポリビニールアルコール)10質量%水溶液
100gを添加し、さらに総質量270gとなるように
水を加えたのち、自動乳鉢にて粗分散し、有機銀塩粗分
散物を得た。
Example 2 << Preparation of Organic Silver Salt Dispersion >> 7 g of stearic acid, 4 g of arachidic acid, 36 g of behenic acid and 850 ml of distilled water were added at 90 ° C.
1 mol / l NaOH with vigorous stirring
Add 187 ml of an aqueous solution and react for 120 minutes, 1 mol /
After adding 71 ml of nitric acid having a concentration of 1 liter, the temperature was lowered to 50 ° C. Then, 21 g of silver nitrate with more vigorous stirring
125 ml of the above aqueous solution was added over 100 seconds and left as it was for 20 minutes. Then, the solid content was filtered off by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtered water reached 30 μS / cm. 100 g of a 10 mass% aqueous solution of PVA205 (Kuraray Co., Ltd. polyvinyl alcohol) was added to the solid content thus obtained, and water was further added so that the total mass became 270 g, followed by coarse dispersion in an automatic mortar and organic A silver salt crude dispersion was obtained.

【0361】この有機銀塩粗分散物をナノマイザ(ナノ
マイザ(株)製)を用い衝突時の圧力98.07mPa
で分散し、有機銀塩分散物を得た。得られた有機銀塩分
散物に含まれる有機銀塩粒子は平均短径0.04μm、
平均長径0.8μm、変動係数30%の針状粒子であっ
た。
The crude dispersion of the organic silver salt was subjected to a pressure at the time of collision of 98.07 mPa using a Nanomizer (manufactured by Nanomizer Co., Ltd.).
To obtain an organic silver salt dispersion. The organic silver salt particles contained in the obtained organic silver salt dispersion have an average short diameter of 0.04 μm,
The acicular particles had an average major axis of 0.8 μm and a coefficient of variation of 30%.

【0362】《還元剤(現像剤)分散物の調製》表1記
載の現像剤100gとヒドロキシプロピルセルロース5
0gに水850gを添加しよく混合してスラリーとし
た。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ840gを
用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1
/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス(株)
製)にて5時間分散し還元剤分散物を得た。
<< Preparation of Reducing Agent (Developer) Dispersion >> 100 g of the developer shown in Table 1 and hydroxypropyl cellulose 5
850 g of water was added to 0 g and mixed well to form a slurry. Prepare 840 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and use a disperser (1
/ 4G Sand Grinder Mill: Imex Corporation
Manufactured) to obtain a reducing agent dispersion.

【0363】《省銀化剤分散物の調製》一般式(G)で
表されるビニル化合物A1の50gとヒドロキシプロピ
ルセルロース10gに水940gを添加し良く混合して
スラリーとした。平均直径0.5mmのジルコニアビー
ズ840gを用意してスラリーと一緒にベッセルに入
れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメ
ックス(株)製)にて5時間分散し省銀化剤分散物を得
た。 《有機ポリハロゲン化物分散物の調製》トリブロモメチ
ルフェニルスルホン50g(0.127モル)とヒドロ
キシプロピルセルロース10gに水940gを添加し良
く混合してスラリーとした。平均直径0.5mmのジル
コニアビーズ840gを用意してスラリーと一緒にベッ
セルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミ
ル:アイメックス(株)製)にて5時間分散し有機ポリ
ハロゲン化物分散物を得た。
<< Preparation of Silver Saving Agent Dispersion >> 50 g of the vinyl compound A1 represented by the general formula (G) and 10 g of hydroxypropyl cellulose were mixed with 940 g of water and mixed well to form a slurry. Prepare 840 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse for 5 hours with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by AIMEX Co., Ltd.) to obtain a silver-saving agent dispersion. Obtained. << Preparation of Organic Polyhalide Dispersion >> 940 g of water was added to 50 g (0.127 mol) of tribromomethylphenyl sulfone and 10 g of hydroxypropyl cellulose and mixed well to form a slurry. 840 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm was prepared, placed in a vessel together with the slurry, and dispersed for 5 hours with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) to obtain an organic polyhalide dispersion. Obtained.

【0364】《感光性ハロゲン化銀乳剤1の調製》水1
000mlにフタル化ゼラチン22gおよび臭化カリウ
ム30mgを溶解して温度35℃にてpHを5.0に合
わせた後、硝酸銀18.6gおよび硝酸アンモニウム
0.9gを含む水溶液159mlと臭化カリウムおよび
沃化カリウムを92:8のモル比で含む水溶液159m
lをpAg7.7に保ちながらコントロールダブルジェ
ット法で10分間かけて添加した。ついで、硝酸銀5
5.4gおよび硝酸アンモニウム2gを含む水溶液47
6mlおよび六塩化イリジウム酸二カリウムを10μモ
ル/リットルと臭化カリウムを1モル/リットルで含む
水溶液pAg7.7に保ちながらコントロールダブルジ
ェット法で10分間かけて添加した後、4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン1
gを添加し、さらにpHを下げて凝集沈降させ脱塩処理
をした。その後、フェノキシエタノール0.1gを加
え、pH5.9、pAg8.2に調整し、沃臭化銀粒子
(沃素含量コア8モル%、平均2モル%、平均サイズ2
5nm、投影面積変動係数8%、(100)面比率85
%の立方体粒子)の調製を終えた。
<< Preparation of Photosensitive Silver Halide Emulsion 1 >> Water 1
After dissolving 22 g of phthalated gelatin and 30 mg of potassium bromide in 000 ml and adjusting the pH to 5.0 at a temperature of 35 ° C., 159 ml of an aqueous solution containing 18.6 g of silver nitrate and 0.9 g of ammonium nitrate, potassium bromide and iodide. 159 m of an aqueous solution containing potassium in a molar ratio of 92: 8
1 was added by the control double jet method over 10 minutes while keeping pAg at 7.7. Then, silver nitrate 5
Aqueous solution 47 containing 5.4 g and 2 g of ammonium nitrate
After adding 6 ml and dipotassium hexachloroiridate to 10 μmol / l and an aqueous solution pAg of 7.7 containing potassium bromide at 1 mol / l, the mixture was added over 10 minutes by the control double jet method, and then 4-hydroxy-6- Methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene 1
g was added, and the pH was further lowered to perform coagulation sedimentation for desalting treatment. Thereafter, 0.1 g of phenoxyethanol was added to adjust the pH to 5.9 and pAg to 8.2, and silver iodobromide grains (iodine content core 8 mol%, average 2 mol%, average size 2
5 nm, projected area variation coefficient 8%, (100) plane ratio 85
% Cubic particles).

【0365】こうして得たハロゲン化銀粒子を60℃に
昇温して銀1モル当たりチオ硫酸ナトリウム85μモル
と2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルジフェ
ニルホスフィンセレニドを11μモル、15μモルのテ
ルル化合物、塩化金酸3μモル、チオシアン酸270μ
モルを添加し、120分間熟成した後40℃に急冷した
のち、100μモルの増感色素を添加し、30分間撹拌
後、30℃に急冷して感光性ハロゲン化銀乳剤1を得
た。上記の30℃を感光性ハロゲン化銀乳剤1の調製温
度とする。
The silver halide grains thus obtained were heated to 60 ° C. and 85 μmol of sodium thiosulfate and 11 μmol and 15 μm of 2,3,4,5,6-pentafluorophenyldiphenylphosphine selenide were added per mol of silver. Molar tellurium compound, chloroauric acid 3 μmol, thiocyanic acid 270 μ
Then, the resulting mixture was ripened for 120 minutes and then rapidly cooled to 40 ° C., then 100 μmol of a sensitizing dye was added, stirred for 30 minutes and then rapidly cooled to 30 ° C. to obtain a photosensitive silver halide emulsion 1. The above-mentioned 30 ° C. is the preparation temperature of the photosensitive silver halide emulsion 1.

【0366】[0366]

【化27】 [Chemical 27]

【0367】《画像形成層塗布液の調製》有機銀塩分散
物1350g、PVA205の20質量%水溶液140
ml、フタラジンの10質量%水溶液37ml、還元剤
分散物220g、省銀化剤分散物50g、および上記有
機ポリハロゲン化物分散物61gを添加し、その後、ラ
ックスターLACSTAR3307B(大日本インキ化
学工業(株)製;スチレンとブタジエンを主な共重合成
分として含有するSBRラテックス;分散粒子の平均粒
径0.1〜0.15μm、25℃、60%RH条件下で
のポリマー平衡含水率0.6質量%)1100gを混合
し、その後、上記感光性ハロゲン化銀乳剤1を120g
混合して画像形成層塗布液を調製した。尚、液pHを1
1モル/リットルの硫酸を用いてpH5.0に調整し
た。
<< Preparation of Coating Solution for Image Forming Layer >> 1350 g of organic silver salt dispersion, 140% by weight aqueous solution of PVA205 140
ml, 37% of a 10% by mass aqueous solution of phthalazine, 220 g of a reducing agent dispersion, 50 g of a silver saving agent dispersion, and 61 g of the above organic polyhalide dispersion, and then LACSTAR LACSTAR 3307B (Dainippon Ink and Chemicals, Inc. ); SBR latex containing styrene and butadiene as main copolymerization components; average particle diameter of dispersed particles of 0.1 to 0.15 μm, polymer equilibrium water content of 0.6 mass at 25 ° C. and 60% RH. %) 1100 g, and then 120 g of the above photosensitive silver halide emulsion 1
An image forming layer coating liquid was prepared by mixing. The liquid pH should be 1
The pH was adjusted to 5.0 with 1 mol / l sulfuric acid.

【0368】 《画像形成層保護層下層(表面保護層下層)塗布液の調製》 水 26g バインダー2 固形分として2.3g フタラジン 0.25g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル) −3,5,5−トリメチルヘキサン(20%メタノール溶液) 10g 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:3μm) 0.140g (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) C817−C64−SO3Na 0.02g ステアリン酸 0.1g ステアリン酸ブチル 0.1g α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g 《画像形成層保護層上層(表面保護層上層)塗布液の調製》 水 26g バインダー3(表1に記載)のラテックス 固形分として2.3g フタラジン 0.25g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル) −3,5,5−トリメチルヘキサン(20%メタノール溶液) 10g 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:3μm) 0.140g (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) C817−C64−SO3Na 0.02g ステアリン酸 0.1g ステアリン酸ブチル 0.1g α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g 《バックコート層塗布液の調製》固体塩基であるN,
N′,N″,N″−テトラエチルグアニジンと4−カル
ボキシメチルスルホニル−フェニルスルホンのモル比
1:2の塩10gをポリビニルアルコール10g、水8
8gと、1/16gサンドグラインダーミル(アイメッ
クス(株)製)で分散し塩基液を得た。
<< Preparation of Coating Solution for Image Forming Layer Protective Layer Lower Layer (Surface Protective Layer Lower Layer) >> Water 26 g Binder 2 2.3 g as solid content phthalazine 0.25 g 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethyl) Phenyl) -3,5,5-trimethylhexane (20% methanol solution) 10 g Monodispersity 15% Monodisperse silica (average particle size: 3 μm) 0.140 g (surface treatment with 1% by mass of silica total mass of aluminum) C 8 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 0.02g stearate 0.1g butyl stearate 0.1g alpha-alumina (Mohs hardness 9) 0.1g "imaging layer upper protective layer (surface protective layer upper ) Preparation of coating solution >> Water 26 g Binder 3 (described in Table 1) latex 2.3 g as solid content Phthalazine 0.25 g 1,1-bis (2-hydroxy-3, 5-Dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (20% methanol solution) 10 g Monodispersity 15% Monodisperse silica (average particle size: 3 μm) 0.140 g (with 1% by mass of aluminum based on the total mass of silica) surface treatment) C 8 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 0.02g stearate 0.1g butyl stearate 0.1g alpha-alumina (Mohs hardness 9) 0.1g "preparation of back coat layer coating solution" A solid base N,
10 g of a salt of N ′, N ″, N ″ -tetraethylguanidine and 4-carboxymethylsulfonyl-phenyl sulfone in a molar ratio of 1: 2 was added to 10 g of polyvinyl alcohol and 8 parts of water.
8 g and a 1/16 g sand grinder mill (manufactured by IMEX Co., Ltd.) were dispersed to obtain a base solution.

【0369】塩基性染料前駆体2.1g、酸性物質7.
9g、0.1g(1.990×10 -4モル)のハレーシ
ョン防止染料−1、酢酸エチル10gを混合溶解した有
機溶媒相をポリビニルアルコール10gおよび水80g
からなる水溶液相に混合し、常温で乳化分散し染料液を
得た(平均粒径2.5μm)。
2.1 g of basic dye precursor, acidic substance 7.
9g, 0.1g (1.990 × 10 -FourMole)
Anti-prevention dye-1 and 10 g of ethyl acetate mixed and dissolved
Machine solvent phase is polyvinyl alcohol 10g and water 80g
Is mixed with an aqueous solution phase consisting of
Obtained (average particle size 2.5 μm).

【0370】こうして得た塩基液39g、染料液26
g、ポリビニルアルコール10質量%水溶液36gを混
合しバックコート層塗布液を得た。
39 g of the base solution thus obtained and 26 of the dye solution
g and 36 g of a 10 mass% polyvinyl alcohol aqueous solution were mixed to obtain a coating solution for the back coat layer.

【0371】[0371]

【化28】 [Chemical 28]

【0372】 《バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製》 セルロースアセテートブチレート(10%メチルエチルケトン溶液) 15g 単分散度15%単分散シリカ(平均粒径:8μm) 0.030g (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) C817(CH2CH2O)12817 0.05g C917−C64−SO3Na 0.01g ステアリン酸 0.1g オレイルオレート 0.1g 《下塗り塗布液Aの調製》ポリエステル共重合体分散物
ペスレジンA−515GB(30%、高松油脂(株)
製)200mlにポリスチレン微粒子(平均粒径0.2
μm)50g、界面活性剤A(1質量%)20mlを添
加し、これに蒸留水を加えて1000mlとして下塗り
塗布液Aとした。
<< Preparation of Backcoat Layer Protective Layer (Surface Protective Layer) Coating Solution >> Cellulose acetate butyrate (10% methyl ethyl ketone solution) 15 g Monodispersity 15% Monodisperse silica (average particle size: 8 μm) 0.030 g (silica Surface treatment with 1% by mass of total mass of aluminum) C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.05 g C 9 F 17 —C 6 H 4 —SO 3 Na 0.01 g stearic acid 0 0.1 g oleyl oleate 0.1 g << Preparation of undercoat coating liquid A >> Polyester copolymer dispersion Pethresin A-515 GB (30%, Takamatsu Yushi Co., Ltd.)
Polystyrene fine particles (average particle size 0.2)
μm) 50 g and surfactant A (1% by mass) 20 ml were added, and distilled water was added to the mixture to make 1000 ml to prepare an undercoat coating liquid A.

【0373】[0373]

【化29】 [Chemical 29]

【0374】《下塗り塗布液Bの調製》蒸留水680m
lにスチレン−ブタジエン共重合体水分散物(スチレン
/ブタジエン/イタコン酸=47/50/3(質量
比)、濃度30質量%)200ml、ポリスチレン微粒
子(平均粒径2.5μm)0.1gを添加し、さらに蒸
留水を加えて1000mlとして下塗り塗布液Bとし
た。
<< Preparation of Undercoat Coating Solution B >> Distilled water 680 m
200 ml of styrene-butadiene copolymer aqueous dispersion (styrene / butadiene / itaconic acid = 47/50/3 (mass ratio), concentration 30 mass%), and polystyrene fine particles (average particle size 2.5 μm) 0.1 g were added to 1 l. Then, distilled water was further added to 1000 ml to prepare an undercoat coating liquid B.

【0375】《下塗り塗布液Cの調製》イナートゼラチ
ン10gを蒸留水500mlに溶解し、そこに特開昭6
1−20033号に記載の酸化スズ−酸化アンチモン複
合物微粒子の水分散物(40質量%)40gを添加し、
これに蒸留水を加え1000mlとして下塗り塗布液C
とした。
<< Preparation of Undercoat Coating Liquid C >> 10 g of inert gelatin was dissolved in 500 ml of distilled water, and the solution was added thereto.
40 g of an aqueous dispersion (40% by mass) of tin oxide-antimony oxide composite fine particles described in No. 1-20033 was added,
Distilled water is added to this to make 1000 ml, and undercoating liquid C
And

【0376】《下塗り済み支持体の作製》実施例1で用
いた青色染料で色味付けした厚さ175μmの2軸延伸
ポリエチレンテレフタレート支持体の片面(感光面)に
コロナ放電処理を施した後、上記下塗り塗布液Aをバー
コータを用いてウエット塗布量が5ml/m2になるよ
うに塗布して180℃で5分間乾燥した。乾燥膜厚は約
0.3μmであった。次いでこの裏面(バック面)にコ
ロナ放電処理を施した後、上記下塗り塗布液Bをバーコ
ータを用いてウエット塗布量が5ml/m2、乾燥膜厚
が約0.3μmになるように塗布して180℃で5分間
乾燥し、さらにその上に上記下塗り塗布液Cをバーコー
タを用いてウエット塗布量が3ml/m2、乾燥膜厚が
約0.03μmになるように塗布して180℃で5分間
乾燥して下塗り済み支持体を作製した。
<< Preparation of undercoated support >> One side (photosensitive surface) of a 175 μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate support tinted with the blue dye used in Example 1 was subjected to corona discharge treatment, The undercoat coating liquid A was coated using a bar coater so that the wet coating amount was 5 ml / m 2 and dried at 180 ° C. for 5 minutes. The dry film thickness was about 0.3 μm. Next, this back surface (back surface) is subjected to corona discharge treatment, and then the undercoat coating solution B is applied using a bar coater to a wet coating amount of 5 ml / m 2 and a dry film thickness of about 0.3 μm. After drying at 180 ° C. for 5 minutes, the undercoat coating solution C was further coated thereon with a bar coater so that the wet coating amount was 3 ml / m 2 and the dry film thickness was about 0.03 μm. After drying for a minute, an undercoated support was prepared.

【0377】《熱現像感光材料の作製》上記下塗り済み
支持体の画像形成層を施す面(感光面)とは裏側のバッ
ク面に、バックコート層塗布液を810nmの光学濃度
が0.8となる流量で、バックコート層保護層塗布液を
50g/m2で、Stephen F.Kistle
r、Petert M.Schweizer著“LIQ
UID FILM COATING”(CHAPMAN
&amp;HALL社刊 1997年)427頁のFi
gure 11b.1と同様のコータで同時重層塗布し
た後、バック面と反対の面に支持体側から画像形成層塗
布液82ml/m2、画像形成層表面保護層40ml/
2となるように塗布速度160m/minで同時重層
塗布し10℃(露点0℃以下)のチルドゾーンを通過さ
せた後30℃、40%RH、風速20m/秒の風で乾燥
後、さらに60℃で1分間加熱処理を施し、表1に示す
感光材料試料No.8〜12を得た。こうして得られた
感光材料の平滑度(J.TAPPI紙パルプ試験法N
o.5記載の王研式平滑度測定を用いベック平滑度を調
べた)は画像形成層側の面590秒、バックコート層側
の面80秒であった。
<< Preparation of Photothermographic Material >> A backcoat layer coating solution having an optical density of 0.8 at 810 nm is provided on the back surface of the undercoated support opposite to the surface (photosensitive surface) on which the image forming layer is applied. At a flow rate of 50 g / m 2 for the backcoat layer and the protective layer coating solution. Kistle
r, Peter M. "LIQ" by Schweizer
UID FILM COATING "(CHAPMAN
&Amp; HALL, 1997, 427, Fi
uree 11b. Simultaneous multi-layer coating with the same coater as that of No. 1 and then, from the support side to the surface opposite to the back surface, the image forming layer coating liquid 82 ml / m 2 , the image forming layer surface protective layer 40 ml /
Simultaneous multi-layer coating at a coating speed of 160 m / min to obtain m 2 and passing through a chilled zone at 10 ° C (dew point 0 ° C or less), followed by drying at 30 ° C, 40% RH, wind speed of 20 m / sec, and further The photosensitive material sample No. 1 shown in Table 1 was subjected to heat treatment at 60 ° C. for 1 minute. 8-12 were obtained. Smoothness of the light-sensitive material thus obtained (J. TAPPI paper pulp test method N
o. The Beck's smoothness was examined using the Oken type smoothness measurement described in 5) was 590 seconds on the image forming layer side and 80 seconds on the backcoat layer side.

【0378】《露光および現像処理》上記のように作製
した熱現像感光材料試料No.1〜14を半切サイズ
((14×2.54)cm×(17×2.54)cm)
に加工した後、図1に示す熱現像処理装置を用いて以下
の要領で処理した。尚、搬送速度を変化させた、熱現像
感光材料試料No.15及び16は、熱現像感光材料試
料No.1を用いた。又、保護層の形成膜のガラス転移
温度(Tg)の測定は、成膜後に物理的に剥離した膜を
用い、示差走査熱量計を用いて測定し、結果を表2に示
す。
<< Exposure and Development Treatment >> Sample No. of the photothermographic material prepared as described above. Half cut size 1 to 14 ((14 x 2.54) cm x (17 x 2.54) cm)
After being processed into a sheet, it was processed in the following manner using the heat development processing apparatus shown in FIG. In addition, the photothermographic material sample Nos. Nos. 15 and 16 are heat-developable photosensitive material sample numbers. 1 was used. Further, the glass transition temperature (Tg) of the protective layer forming film was measured using a film physically separated after film formation and using a differential scanning calorimeter, and the results are shown in Table 2.

【0379】熱現像感光材料をフィルムトレイから取り
出し、レーザ露光部に搬送した後、画像形成層面側か
ら、高周波重畳にて波長810nmの縦マルチモード化
された半導体レーザ(1本の最大出力35mWを2本合
波して最大出力70mWにしたもの)を露光源とした露
光機によりレーザ走査による露光を与えた。この際に、
熱現像感光材料の露光面と露光レーザ光の角度を75度
として画像を形成した。その後、熱現像感光材料は熱現
像部へと搬送され、ヒートドラムが熱現像感光材料の画
像形成層側の保護層とドラム表面とが接触するようにし
て、125℃で15秒熱現像処理した後、熱現像感光材
料を装置外に搬出した。このときの感光材料供給部から
画像露光部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、
熱現像部での搬送速度は、表2記載の速度で行った。な
お、露光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋
で行った。
After taking out the photothermographic material from the film tray and transporting it to the laser exposure section, from the image forming layer side, a longitudinal multimode semiconductor laser with a wavelength of 810 nm (maximum output of 35 mW per line was obtained by high frequency superposition. Exposure by laser scanning was performed by an exposure machine using two multiplexed light beams having a maximum output of 70 mW) as an exposure source. At this time,
An image was formed by setting the angle between the exposed surface of the photothermographic material and the exposure laser beam at 75 degrees. Then, the photothermographic material was conveyed to the photothermographic section, and the heat drum was heat-developed at 125 ° C. for 15 seconds so that the protective layer on the image forming layer side of the photothermographic material was in contact with the drum surface. After that, the photothermographic material was carried out of the apparatus. At this time, the transport speed from the photosensitive material supply unit to the image exposure unit, the transport speed at the image exposure unit,
The transport speed in the heat developing section was the speed shown in Table 2. The exposure and development were performed in a room where the humidity was adjusted to 23 ° C. and 50% RH.

【0380】《画像濃度》上記の条件にて得られた画像
の最高濃度部の値を濃度計により測定(画像濃度1)し
画像濃度として示す。
<Image Density> The value of the highest density portion of the image obtained under the above conditions is measured by a densitometer (image density 1) and shown as image density.

【0381】《熱現像処理前の経時での画像濃度変動》
得られた感光材料を45℃、80%RHの湿度条件下で
3日間保存した後、上記と同様の露光、現像を行い得ら
れた試料の画像濃度(画像濃度2)を測定し、上記画像
濃度(画像濃度1)との差((画像濃度1)−(画像濃
度2))を求め、熱現像処理前の経時での画像濃度変動
として示す。
<< Image Density Change with Time Before Thermal Development >>
The obtained light-sensitive material was stored under a humidity condition of 45 ° C. and 80% RH for 3 days, and then exposed and developed in the same manner as above, and the image density (image density 2) of the obtained sample was measured. The difference from the density (image density 1) ((image density 1)-(image density 2)) was determined and shown as the change in image density over time before the heat development treatment.

【0382】《光照射画像保存性》得られた感光材料を
上記と同様の露光、現像を行った後、輝度1000ルッ
クスのシャーカステン上にはりつけ10日間放置した後
の画像の変化を目視で、以下の基準で評価した。
<< Light Irradiated Image Storability >> The obtained light-sensitive material was exposed and developed in the same manner as above, and then, after sticking on a Schaukasten having a brightness of 1000 lux and left for 10 days, the change in the image was visually observed as follows. It evaluated by the standard of.

【0383】 5:ほとんど変化なし 4:わずかに色調変化がみられる 3:一部に色調変化とかぶりの増大がみられる 2:色調変化とかぶりの増大がかなりの部分にみられる 1:色調変化とかぶりの増大が顕著。[0383] 5: Almost no change 4: Slight change in color tone 3: Some changes in color tone and increased fog 2: Significant changes in color tone and increased fog are observed 1: Significant change in color tone and increase in fog.

【0384】《熱現像時の粉落ち》現像時の粉落ちを目
視で、以下の基準で評価した。
<< Powder Removal During Thermal Development >> The powder removal during development was visually evaluated according to the following criteria.

【0385】 5:粉落ちの発生は見られない 4:わずかに粉落ちが発生 3:一部で弱い粉落ちが発生 2:一部で強い粉落ちが発生 1:全面で強い粉落ちが発生。[0385] 5: No occurrence of powder falling 4: A slight powder drop occurred 3: Partially weak powder drop occurred 2: Strong powder drop occurs in some areas 1: Strong powder drop occurred on the entire surface.

【0386】《熱現像時の濃度むら》現像後の濃度むら
を目視で、以下の基準で評価した。
<Density unevenness during heat development> The density unevenness after development was visually evaluated according to the following criteria.

【0387】 5:濃度むらの発生は見られない 4:わずかに濃度むらが発生 3:一部で弱い濃度むらが発生 2:一部で強い濃度むらが発生 1:全面で強い濃度むらが発生。[0387] 5: No uneven density is observed 4: Slight uneven density occurs 3: Weak density unevenness occurs in some areas 2: Strong uneven density occurs in some areas 1: Strong uneven density occurs on the entire surface.

【0388】《熱現像時のローラーマーク》現像後のロ
ーラーマークの発生について目視で5段階評価した。
<< Roller Mark During Thermal Development >> Occurrence of roller marks after development was visually evaluated on a scale of 5 to 5.

【0389】 5:ローラーマークの発生は見られない 4:わずかにローラーマークが発生 3:フィルムの一部で弱いローラーマークが発生 2:フィルムの一部で強いローラーマークが発生 1:フィルム全面にローラーマークが発生。[0389] 5: No occurrence of roller marks 4: Slight roller mark is generated 3: A weak roller mark is generated on a part of the film 2: Strong roller mark is generated on a part of the film 1: Roller marks are generated on the entire surface of the film.

【0390】結果を表3に示す。The results are shown in Table 3.

【0391】[0391]

【表1】 [Table 1]

【0392】[0390]

【表2】 [Table 2]

【0393】(バインダー) A:−SO3Na含有アクリル樹脂(フェニルメタクリ
レート/4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド/3
−シアノフェニルメタクリルアミド=3/4/3(質量
比)であるアクリル樹脂:Tg=105℃) B:−SO3Na含有アクリル樹脂(ベンジルメタクリ
レート/4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド/3
−シアノフェニルメタクリルアミド=3/4/3(質量
比)であるアクリル樹脂:Tg=90℃) C:−SO3Na含有アクリル樹脂(ベンジルメタクリ
レート/4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド/メ
チルメタクリレート=3/4/3(質量比)であるアク
リル樹脂:Tg=87℃) D:−SO3Na含有アクリル樹脂(2−ヒドロキシエ
チルメタクリレ−ト/メチルメタクリレ−ト=25/7
5(質量比):Tg=68℃) E:−SO3Na含有アクリル樹脂(エチルアクリレー
ト/メチルメタクリレ−ト=25/75(質量比):T
g=58℃) Tg:示差走査熱量測定法(DSC)により求めた値。
(Binder) A: -SO 3 Na-containing acrylic resin (phenyl methacrylate / 4-hydroxyphenyl methacrylamide / 3
- acrylic resin is a cyanophenyl methacrylamide = 3/4/3 (weight ratio): Tg = 105 ℃) B : -SO 3 Na -containing acrylic resin (benzyl methacrylate / 4-hydroxyphenyl methacrylamide / 3
- cyanophenyl methacrylamide = 3/4/3 (weight ratio) at which the acrylic resin: Tg = 90 ℃) C: -SO 3 Na -containing acrylic resin (benzyl methacrylate / 4-hydroxyphenyl methacrylamide / methyl methacrylate = 3 / 4/3 (mass ratio) acrylic resin: Tg = 87 ° C.) D: -SO 3 Na-containing acrylic resin (2-hydroxyethyl methacrylate / methyl methacrylate = 25/7)
5 (mass ratio): Tg = 68 ° C.) E: -SO 3 Na-containing acrylic resin (ethyl acrylate / methyl methacrylate = 25/75 (mass ratio): T
g = 58 ° C.) Tg: Value obtained by differential scanning calorimetry (DSC).

【0394】F:−SO3K基含有ポリビニルブチラー
ル樹脂(Tg=75℃、−SO3Kを0.2ミリモル/
g含む)
F: --SO 3 K group-containing polyvinyl butyral resin (Tg = 75 ° C., --SO 3 K 0.2 mmol /
(including g)

【0395】[0395]

【表3】 [Table 3]

【0396】表1〜3から、比較の感光材料と比べて、
本発明の感光材料は高濃度で、熱現像処理前の経時での
濃度低下が小さく、光照射画像保存性に優れ、熱現像処
理後の経時での濃度低下が小さく、熱現像処理装置で処
理した際の粉落ち、濃度むら、ローラーマークの発生を
改良した熱現像感光材料であることが明らかである。
From Tables 1 to 3, as compared with the comparative light-sensitive material,
The light-sensitive material of the present invention has a high density, has a small density decrease with time before heat development processing, is excellent in light-irradiated image storability, has a small density decrease with time after heat development processing, and is processed by a heat development processor It is clear that the photothermographic material has improved powder removal, density unevenness, and roller mark generation.

【0397】[0397]

【発明の効果】本発明により、高濃度であり、熱現像感
光材料の経時での濃度変動が小さく、熱現像処理装置で
処理した際の粉落ち、濃度むら、ローラーマークの発生
を改良した熱現像感光材料、該熱現像感光材料を用いた
画像形成方法、および画像記録方法を提供できる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to improve the density of the heat-developable light-sensitive material with a small density change over time, and to improve the generation of powder drop, density unevenness and roller mark when processed by a heat development processor. A development photosensitive material, an image forming method using the photothermographic material, and an image recording method can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】熱現像処理装置の具体例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a specific example of a heat development processing apparatus.

【符号の説明】 1 ヒートドラム 2 対向ローラ 6 剥離爪 100 熱現像装置 110 給送部 120 露光部 130 現像部 140 供給ローラ対 141,142,143,145 搬送ローラ対 144 供給ローラ対 150 冷却部 160 集積部 F フィルム C フィルムトレイ L レーザビーム[Explanation of symbols] 1 heat drum 2 Opposing roller 6 peeling nail 100 heat development device 110 Feeding department 120 exposure section 130 Development Department 140 Supply roller pair 141, 142, 143, 145 Conveying roller pairs 144 Supply roller pair 150 cooling unit 160 stacking unit F film C film tray L laser beam

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03C 1/76 351 G03C 1/76 351 5/08 351 5/08 351 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G03C 1/76 351 G03C 1/76 351 5/08 351 5/08 351

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、有機銀、ハロゲン化銀、バ
インダー、還元剤を含有する画像形成層を有する熱現像
感光材料において、該画像形成層に含まれるバインダー
と該画像形成層に隣接する層に含まれるバインダーが共
通のモノマー成分(以下モノマー成分Aと記載)を含
み、かつ下記式1を満足することを特徴とする熱現像感
光材料。 式1 0.1≦M1×M2≦0.95 〔式中、M1は、(画像形成層に含まれるモノマー成分
Aの質量)/(画像形成層に含まれるバインダーの質
量)であり、M2は、(画像形成層に隣接する層に含ま
れるモノマー成分Aの質量)/(画像形成層に隣接する
層に含まれるバインダーの質量)である。〕
1. A photothermographic material having an image forming layer containing organic silver, silver halide, a binder and a reducing agent on a support, and the binder contained in the image forming layer and the image forming layer being adjacent to each other. The photothermographic material wherein the binder contained in the layer contains a common monomer component (hereinafter referred to as monomer component A) and satisfies the following formula 1. Formula 1 0.1 ≦ M1 × M2 ≦ 0.95 [wherein, M1 is (mass of monomer component A contained in image forming layer) / (mass of binder contained in image forming layer), and M2 is , (Mass of monomer component A contained in the layer adjacent to the image forming layer) / (mass of binder contained in the layer adjacent to the image forming layer). ]
【請求項2】 画像形成層に隣接する層が画像形成層保
護層であることを特徴とする請求項1に記載の熱現像感
光材料。
2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the layer adjacent to the image forming layer is an image forming layer protective layer.
【請求項3】 画像形成層保護層が少なくとも2層より
なることを特徴とする請求項2に記載の熱現像感光材
料。
3. The photothermographic material according to claim 2, wherein the protective layer for the image forming layer comprises at least two layers.
【請求項4】 画像形成層保護層の最外層の形成膜のガ
ラス転移温度が、それより下層の画像形成層保護層の形
成膜のガラス転移温度よりも5℃〜50℃高いことを特
徴とする請求項3に記載の熱現像感光材料。
4. The glass transition temperature of the film forming the outermost layer of the image forming layer protective layer is 5 ° C. to 50 ° C. higher than the glass transition temperature of the film forming film of the lower image forming layer protective layer. 4. The photothermographic material according to claim 3.
【請求項5】 還元剤が、下記一般式(A)で表される
ビスフェノール誘導体であることを特徴とする請求項1
〜4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 【化1】 〔式中、Xはカルコゲン原子又はCHRを表し、Rは水
素原子、ハロゲン原子、炭素数が7以下の脂肪族基また
は6員環以下の環状基を表す。R′、R″は水素原子ま
たは置換基を表す。〕
5. The bisphenol derivative represented by the following general formula (A) is used as the reducing agent.
5. The photothermographic material according to any one of 4 to 4. [Chemical 1] [In the formula, X represents a chalcogen atom or CHR, and R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic group having 7 or less carbon atoms, or a cyclic group having 6 or less member rings. R'and R "represent a hydrogen atom or a substituent.]
【請求項6】 画像形成層を有する側の層がビニル化合
物、ヒドラジン誘導体および4級オニウム塩から選ばれ
る少なくとも1種の省銀化剤を含有することを特徴とす
る請求項1〜5のいずれか1項に記載の熱現像感光材
料。
6. The layer on the side having an image forming layer contains at least one silver saving agent selected from vinyl compounds, hydrazine derivatives and quaternary onium salts. 2. The photothermographic material according to item 1.
【請求項7】 平均粒子サイズが10nm〜35nmで
あるハロゲン化銀を含有することを特徴とする請求項1
〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
7. A silver halide containing an average grain size of 10 nm to 35 nm.
7. The photothermographic material according to any one of 1 to 6.
【請求項8】 平均粒子サイズが10nm〜35nmで
あるハロゲン化銀と平均粒子サイズが45nm〜100
nmであるハロゲン化銀を含有することを特徴とする請
求項1〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
8. A silver halide having an average grain size of 10 nm to 35 nm and an average grain size of 45 nm to 100.
7. The photothermographic material according to claim 1, which contains a silver halide having a wavelength of nm.
【請求項9】 カルコゲン化合物により化学増感されて
いるハロゲン化銀を含有することを特徴とする請求項1
〜8のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
9. A silver halide containing chemically sensitized with a chalcogen compound.
9. The photothermographic material according to any one of to 8.
【請求項10】 画像形成層に含有される銀の量が0.
3g/m2〜1.5g/m2であることを特徴とする請求
項1〜9のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
10. The amount of silver contained in the image forming layer is 0.
The photothermographic material according to any one of claims 1 to 9, characterized in that a 3g / m 2 ~1.5g / m 2 .
【請求項11】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料をヒートドラムを用いた熱現像処理装
置を使用して熱現像部の搬送速度を20mm/sec〜
200mm/secで熱現像することを特徴とする画像
形成方法。
11. A heat-developable photosensitive material according to any one of claims 1 to 10 is used, wherein a heat-development processing apparatus using a heat drum is used, and a conveyance speed of a heat-development section is 20 mm / sec.
An image forming method characterized by performing heat development at 200 mm / sec.
【請求項12】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料を熱現像処理装置における感光材料供
給部から画像露光部の間の搬送速度を20mm/sec
〜200mm/secとすることを特徴とする画像形成
方法。
12. A conveyance speed of the photothermographic material according to claim 1 from a photosensitive material supply section to an image exposure section in a heat development processing apparatus is 20 mm / sec.
An image forming method, wherein the image forming method is about 200 mm / sec.
【請求項13】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料を熱現像処理装置における画像露光部
での搬送速度を20mm/sec〜200mm/sec
とすることを特徴とする画像形成方法。
13. A conveyance speed of the photothermographic material according to claim 1 at an image exposure unit in a heat development processing apparatus is 20 mm / sec to 200 mm / sec.
An image forming method comprising:
【請求項14】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料を露光面とレーザ光のなす角が実質的
に垂直になることがないレーザ光を用いて走査露光する
ことを特徴とする画像記録方法。
14. Scan exposure of the photothermographic material according to claim 1 with a laser beam in which the angle between the exposure surface and the laser beam is not substantially perpendicular. An image recording method characterized by.
【請求項15】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料を露光波長が単一でない縦マルチレー
ザ光を用いて走査露光することを特徴とする画像記録方
法。
15. An image recording method, wherein the photothermographic material according to claim 1 is scanned and exposed using vertical multi-laser light having an exposure wavelength which is not single.
JP2002036701A 2002-02-14 2002-02-14 Photothermographic material, image forming method and image recording method Expired - Fee Related JP4032766B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002036701A JP4032766B2 (en) 2002-02-14 2002-02-14 Photothermographic material, image forming method and image recording method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002036701A JP4032766B2 (en) 2002-02-14 2002-02-14 Photothermographic material, image forming method and image recording method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003241333A true JP2003241333A (en) 2003-08-27
JP4032766B2 JP4032766B2 (en) 2008-01-16

Family

ID=27778516

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002036701A Expired - Fee Related JP4032766B2 (en) 2002-02-14 2002-02-14 Photothermographic material, image forming method and image recording method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4032766B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP4032766B2 (en) 2008-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6958209B2 (en) Photothermographic material and image forming method
JP4238491B2 (en) Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method using the same
JP4055347B2 (en) Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method thereof
JP4039067B2 (en) Image forming method and image recording method
JP4062963B2 (en) Photothermographic material, image forming method and image recording method
JP4032766B2 (en) Photothermographic material, image forming method and image recording method
JP3918491B2 (en) Photothermographic material and image recording method
JP4000817B2 (en) Photothermographic material and image recording method
JP4254241B2 (en) Photothermographic material, image forming method and image recording method
JP4400139B2 (en) Photothermographic material and image forming method
JP2003015259A (en) Heat developable photosensitive material and image recording method
JP4062966B2 (en) Photothermographic material, image forming method and image recording method
JP4092964B2 (en) Photothermographic material and image forming method
JP4089342B2 (en) Photothermographic material and image forming method
JP4147849B2 (en) Photothermographic material and image forming method
JP4325118B2 (en) Photothermographic material, method for producing the same, and image forming method
JP2002287299A (en) Heat developable photosensitive material, image recording method and image forming method
JP4089249B2 (en) Silver salt photothermographic dry imaging materials
JP2004102021A (en) Silver salt photothermographic dry imaging material and method for recording image and method for forming image by using same
JP2003330138A (en) Method for producing silver salt of organic acid, heat- developable photosensitive material, image forming method and image recording method using the heat- developable photosensitive material
JP4281518B2 (en) Photothermographic material
JP2006030850A (en) Heat developable photosensitive material and method for manufacturing the same
JP2003195446A (en) Silver salt photothermographic dry imaging material and image recording method
JP2004085691A (en) Heat developing apparatus and heat developable photosensitive material
JP2003280136A (en) Silver salt photothermographic dry imaging material, image recording method and imaging method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041104

A977 Report on retrieval

Effective date: 20070516

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20070529

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070717

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071002

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20071015

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees