JP2003238471A - Method for purifying methylal - Google Patents
Method for purifying methylalInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はメチラールの精製方
法に関し、さらに詳しくは、不純物として含有される過
酸化物をメチラール中から除去するメチラールの精製方
法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for purifying methylal, and more particularly to a method for purifying methylal in which peroxide contained as an impurity is removed from methylal.
【0002】[0002]
【従来の技術】メチラール(ホルマール、ジメトキシメ
タンともいう)は、医薬等のファインケミカルの合成原
料として、またポリアセタール樹脂の分子量調節剤等と
して有用な化合物であり、メタノールとホルムアルデヒ
ドとの縮合反応によって製造されている。BACKGROUND OF THE INVENTION Methylal (also called formal or dimethoxymethane) is a compound useful as a raw material for the synthesis of fine chemicals such as medicines and as a molecular weight regulator of polyacetal resin, and is produced by the condensation reaction of methanol and formaldehyde. ing.
【0003】このメチラールは、エーテル結合を有する
ため自動酸化が起こりやすく、輸送運搬、貯蔵等の過程
で過酸化物が生成し、着色や種々の不純物生成の原因と
なる。そして、前述したようにメチラールは医薬等のフ
ァインケミカルの合成原料として使用されるため、過酸
化物等の反応性の高い不純物はごく微量でも問題とな
り、メチラール中から過酸化物を除去することが必要と
なる。Since this methylal has an ether bond, autoxidation is likely to occur, and a peroxide is generated during the process of transportation, transportation, storage and the like, which causes coloring and various impurities. And, as mentioned above, since methylal is used as a raw material for the synthesis of fine chemicals such as pharmaceuticals, even very small amounts of highly reactive impurities such as peroxides pose a problem, and it is necessary to remove peroxides from methylal. Becomes
【0004】ところで、有機化合物中の過酸化物を除去
する方法としては、還元的精製法が公知であり、還元ニ
ッケル、Pt、Pd等を触媒として水素添加する方法が
知られている。例えば、特開昭57−57013号公報
では、還元ニッケル触媒を用いたエチルエーテルの精製
方法が開示されている。また、特開平8−9555号公
報では、Pt触媒を用いたオレフィン中の有機過酸化物
の除去方法が示されている。By the way, as a method of removing the peroxide in the organic compound, a reductive purification method is known, and a method of hydrogenating using reduced nickel, Pt, Pd or the like as a catalyst is known. For example, JP-A-57-57013 discloses a method for purifying ethyl ether using a reduced nickel catalyst. Further, JP-A-8-9555 discloses a method for removing an organic peroxide in an olefin using a Pt catalyst.
【0005】しかし、メチラールを単に上記方法で還元
処理し、過酸化物をなくしても、反応性は完全にはなく
ならず、その利用の上で問題となっていた。However, even if the methylal is simply reduced by the above method to remove the peroxide, the reactivity is not completely lost, which is a problem in its utilization.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、メチラール中に存在する微量な過酸化物や他の不純
物を除去することによって、反応性を実質的に失わせ、
医薬等のファインケミカルの合成原料として安心して利
用できるメチラールを提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to remove traces of peroxides and other impurities present in methylal to substantially eliminate reactivity.
To provide methylal that can be safely used as a synthetic raw material for fine chemicals such as medicines.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を果たすべく鋭意研究した結果、メチラールにおいて水
素化分解により過酸化物を除去しても反応性が完全には
なくならない理由は、この反応により過酸化物と同様に
反応性の高いぎ酸が生成するためであることを知った。
そして、メチラール中の過酸化物を還元処理により除去
した後、吸着処理により更にぎ酸を除去すれば、反応性
を有する物質を実質的に含まない、メチラールが得られ
ることを見出し、本発明を完成した。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies to achieve the above object, and as a result, the reason why the reactivity is not completely lost even if the peroxide is removed by hydrogenolysis in methylal is as follows. We have found that this reaction produces formic acid, which is as highly reactive as peroxide.
Then, after removing the peroxide in the methylal by a reduction treatment, if the formic acid is further removed by an adsorption treatment, it is found that a methylal can be obtained substantially free of a reactive substance, and the present invention completed.
【0008】すなわち本発明は、不純物として過酸化物
を含有するメチラールを還元処理し、次いでこの還元処
理物を吸着処理に付すことを特徴とするメチラールの精
製方法である。That is, the present invention is a method for purifying methylal, which comprises subjecting methylal containing peroxide as an impurity to a reduction treatment, and then subjecting the reduced product to an adsorption treatment.
【0009】[0009]
【発明の実施形態】本発明は、不純物として過酸化物を
含有するメチラールをまず還元処理することにより過酸
化物を除去し、次いでこの工程で生成するギ酸を吸着処
理で除去するものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, a methylal compound containing a peroxide as an impurity is first subjected to a reduction treatment to remove the peroxide, and then a formic acid produced in this step is removed by an adsorption treatment.
【0010】過酸化物を含有するメチラール(以下、
「粗メチラール」という)の還元処理は、水素と水素
化触媒の存在下に、液相または気相で水素化分解する方
法または水素化ほう素ナトリウム等の還元剤と接触さ
せる方法のいずれかにより実施される。Methylal containing peroxide (hereinafter,
The reduction treatment of "crude methylal") is carried out by a method of hydrocracking in a liquid phase or a gas phase in the presence of hydrogen and a hydrogenation catalyst, or a method of contacting with a reducing agent such as sodium borohydride. Be implemented.
【0011】上記の水素化処理は、ラネーニッケル、
Pd/活性炭、Pd/アルミナ、Pt/活性炭、Ru/
活性炭等の一般的な水素化触媒を用いて実施される。こ
の触媒の形状は特に限定されないが、ペレット状、球
状、リング状、顆粒状、粉末状等を用いることができ
る。また、触媒の粒径は、反応管の内径等によって最適
な値を選べばよく、特に制限を受けない。The above-mentioned hydrotreatment is conducted by Raney nickel,
Pd / activated carbon, Pd / alumina, Pt / activated carbon, Ru /
It is carried out using a general hydrogenation catalyst such as activated carbon. The shape of this catalyst is not particularly limited, but pellets, spheres, rings, granules, powders and the like can be used. The catalyst particle size is not particularly limited as long as the optimum value can be selected depending on the inner diameter of the reaction tube and the like.
【0012】水素化処理における固体触媒の使用量には
特に制限はなく、反応速度、除熱、触媒コスト等を考慮
して定められるが、触媒活性に有効な量であってできる
だけ少量であることが望ましい。また、水素化処理に用
いられる水素は純粋なものを使ってもよいが、窒素、メ
タン等、反応に不活性なガスで希釈したものであっても
よい。The amount of the solid catalyst used in the hydrotreatment is not particularly limited and may be determined in consideration of the reaction rate, heat removal, catalyst cost, etc., but it should be an amount effective for catalytic activity and as small as possible. Is desirable. The hydrogen used for the hydrotreatment may be pure hydrogen, or may be diluted with a gas inert to the reaction such as nitrogen and methane.
【0013】上記水素化反応は、液相、気相のいずれで
もよく、スラリー法または固定床法により、連続式、半
連続式又は回分式に行うことができる。反応の条件は用
いる触媒により適宜選択され、一般に、温度20〜15
0℃、反応圧力0.1〜5MPaの条件下で行うことが
できる。The above-mentioned hydrogenation reaction may be carried out in a liquid phase or a gas phase, and can be carried out continuously, semi-continuously or batchwise by a slurry method or a fixed bed method. The reaction conditions are appropriately selected depending on the catalyst used, and generally, the temperature is 20 to 15
It can be carried out under conditions of 0 ° C. and a reaction pressure of 0.1 to 5 MPa.
【0014】なお、上記水素化処理が必要以上に高い反
応温度で行われた場合は、触媒の性能低下やメチラール
自体の水素化分解を招くおそれがあり、逆に20℃未満
の温度では過酸化物の分解速度が遅くなり、反応時間を
長くしなければならなくなる。また、反応圧力を必要以
上に高くすることは、特別な設備を要しコストを増大さ
せることにつながり、逆に反応圧力0.1MPa未満の
低圧では分解速度の大幅な低下を招き、本発明を有効に
実施することはできない。If the above-mentioned hydrotreating is carried out at an unnecessarily high reaction temperature, the performance of the catalyst may be deteriorated and the methylal itself may be hydrolyzed. The decomposition rate of the substance becomes slow, and the reaction time must be lengthened. Further, increasing the reaction pressure more than necessary leads to an increase in cost due to the need for special equipment, and conversely, at a low reaction pressure of less than 0.1 MPa, the decomposition rate is significantly reduced, and the present invention It cannot be implemented effectively.
【0015】一方、上記の方法で使用する還元剤とし
ては、水素化ほう素ナトリウム等の水素化ほう素塩、シ
アノヒドロほう酸ナトリウム等のシアノヒドロほう酸
塩、トリメトキシ水素化ほう素ナトリウム等のトリメト
キシ水素化ほう素塩、水素化リチウムアルミニウム等を
用いることができる。これらの還元剤の使用量は、一般
に、粗メチラールに対して重量比で0.1ppm〜10
00ppm、好ましくは1ppm〜200ppmであ
る。On the other hand, as the reducing agent used in the above-mentioned method, borohydride salts such as sodium borohydride, cyanohydroborate salts such as sodium cyanohydroborate, and trimethoxyborohydride such as sodium trimethoxyborohydride. Elementary salts, lithium aluminum hydride and the like can be used. The amount of these reducing agents used is generally from 0.1 ppm to 10% by weight based on the crude methylal.
It is 00 ppm, preferably 1 ppm to 200 ppm.
【0016】上記の還元剤による反応は、粗メチラー
ルに還元剤を溶解または分散させ、撹拌槽中で反応を行
う回分式によることが好ましい。反応の条件は用いる還
元剤により適宜選択すればよく、一般に、温度0〜10
0℃、好ましくは10〜40℃であり、反応時間1〜3
6時間、好ましくは2〜10時間である。反応後の還元
剤は、蒸留、ろ過等の方法により、メチラールから分離
することができる。The above-mentioned reaction with the reducing agent is preferably carried out by a batch system in which the reducing agent is dissolved or dispersed in crude methylal and the reaction is carried out in a stirring tank. The reaction conditions may be appropriately selected depending on the reducing agent used, and generally, the temperature is 0 to 10
0 ° C., preferably 10 to 40 ° C., reaction time 1 to 3
6 hours, preferably 2 to 10 hours. The reducing agent after the reaction can be separated from methylal by a method such as distillation or filtration.
【0017】なお、輸送時等に生成した不純物の除去は
通常単発的な処理であるので、高温高圧等の設備を要せ
ず、常温付近での処理が可能な還元剤による処理が、よ
り簡便かつ経済的であって好ましい。Since the removal of impurities generated during transportation is usually a one-time process, it is simpler to use a reducing agent that does not require equipment such as high temperature and high pressure and can be processed at around room temperature. It is also economical and preferable.
【0018】以上のようにして還元処理を施したメチラ
ール中には、還元処理により生じた数〜百数十ppm程
度のぎ酸が残存しているが、これは、吸着処理により除
去される。この吸着処理には、吸着材が用いられる。In the methylal which has been subjected to the reduction treatment as described above, about several to several hundred tens ppm of formic acid generated by the reduction treatment remains, but this is removed by the adsorption treatment. An adsorbent is used for this adsorption treatment.
【0019】上記吸着処理に用いる吸着材としては、ゼ
オライト、層状化合物、活性アルミナ等の極性吸着材が
好ましい。このうち、ゼオライトの具体的な例としては
モレキュラーシーブ3A、4A、5A、13X、ZSM
−5等が挙げられる。また、層状化合物としてはモンモ
リロナイト等が挙げられる。これらのなかでも、特にモ
レキュラーシーブ4Aは、ぎ酸に対する吸着能が高く、
安価で取り扱いも容易であり好ましい。As the adsorbent used for the adsorption treatment, polar adsorbents such as zeolite, layered compounds and activated alumina are preferable. Of these, specific examples of zeolites include molecular sieves 3A, 4A, 5A, 13X, ZSM.
-5 etc. are mentioned. Examples of the layered compound include montmorillonite. Among these, especially the molecular sieve 4A has a high adsorption capacity for formic acid,
It is preferable because it is inexpensive and easy to handle.
【0020】上記吸着材の形状及び粒度は特に限定され
ないが、ペレット状、球状、顆粒状、フレーク状、粉末
状等を用いることができる。また、吸着処理における吸
着材の使用量には特に制限はなく、ぎ酸の残存量、除去
速度、除熱、コスト等を考慮して定めればよい。例え
ば、モレキュラーシーブ4Aタイプのゼオライトを用い
る場合、除去するぎ酸の重量0.2mgに対し、ゼオラ
イト1g以上を使用すれば十分な効果が得られる。The shape and particle size of the adsorbent are not particularly limited, but pellets, spheres, granules, flakes, powders and the like can be used. The amount of the adsorbent used in the adsorption treatment is not particularly limited, and may be determined in consideration of the residual amount of formic acid, the removal rate, the heat removal, the cost and the like. For example, when a molecular sieve 4A type zeolite is used, a sufficient effect can be obtained by using 1 g or more of zeolite for 0.2 mg of formic acid to be removed.
【0021】上記の吸着処理は、前記吸着材と還元処理
に付されたメチラールを常温で接触させれば良い。この
吸着処理の時間は、2〜20時間程度であり、吸着処理
後の吸着材は、メチラールから、ろ過、遠沈、デカンテ
ーション等によって除去される。使用後の吸着材は、溶
媒による洗浄、空気中での加熱、減圧加熱等一般的な再
生法により再生し、繰り返し使用することができる。ま
た、吸着処理として、吸着材を充填したカラムに還元処
理後のメチラールを連続的に通液する方法を採用しても
良い。The adsorption treatment may be carried out by bringing the adsorbent and the methylal subjected to the reduction treatment into contact with each other at room temperature. The time of this adsorption treatment is about 2 to 20 hours, and the adsorbent after the adsorption treatment is removed from the methylal by filtration, centrifugation, decantation, or the like. The used adsorbent can be reused by being regenerated by a general regeneration method such as washing with a solvent, heating in air, and heating under reduced pressure. Further, as the adsorption treatment, a method of continuously passing the reduced methylal through a column filled with an adsorbent may be adopted.
【0022】本発明方法は、過酸化物の量が比較的微量
である粗メチラールに対し、有効に適用される。例え
ば、本発明による還元および吸着処理は、通常、活性酸
素換算で1000ppm以下、特に、数百ppm以下で
含まれている過酸化物の除去に対し有効に実施できる。The method of the present invention is effectively applied to crude methylal having a relatively small amount of peroxide. For example, the reduction and adsorption treatments according to the present invention can be effectively carried out for the removal of peroxides which are usually contained in an amount of 1000 ppm or less, especially several hundreds ppm or less in terms of active oxygen.
【0023】[0023]
【実施例】次に実施例を挙げて、本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれにより何ら制約されるものでは
ない。なお、以下に示す実施例において、過酸化物濃度
は小型反射式光度計法により分析し、ぎ酸濃度はキャピ
ラリー電気泳動法により分析した。単位は何れも重量基
準である。The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples shown below, the peroxide concentration was analyzed by the small reflection photometer method, and the formic acid concentration was analyzed by the capillary electrophoresis method. All units are by weight.
【0024】実 施 例 1
過酸化物を180ppm含むメチラール 50gとラネ
ーニッケル 1gをステンレス製オートクレーブに入
れ、水素を供給して0.6MPaとし、50℃で1時間
撹拌した。反応終了後、残存する過酸化物は定量下限未
満(<0.2ppm)であり、ぎ酸は60ppmであっ
た。Example 1 50 g of methylal containing 180 ppm of peroxide and 1 g of Raney nickel were placed in a stainless steel autoclave, and hydrogen was supplied to adjust the pressure to 0.6 MPa, followed by stirring at 50 ° C. for 1 hour. After the reaction was completed, the amount of residual peroxide was less than the lower limit of quantification (<0.2 ppm), and that of formic acid was 60 ppm.
【0025】次いで、水素化処理したメチラール 10
gとモレキュラーシーブ4A 3gをガラス製容器に入
れ、室温にて20時間放置した。処理後のメチラール中
に残存するぎ酸は定量下限未満(<1.0ppm)であ
った。Then, hydrotreated methylal 10
and 3 g of molecular sieve 4A were placed in a glass container and left at room temperature for 20 hours. The amount of formic acid remaining in the treated methylal was less than the lower limit of quantification (<1.0 ppm).
【0026】実 施 例 2
過酸化物を180ppm含むメチラール 50gと5%
Pd/活性炭 1gをステンレス製オートクレーブに入
れ、水素を供給して3.8MPaとし、120℃で1時
間撹拌した。反応終了後、残存する過酸化物は定量下限
未満(<0.2ppm)であり、ぎ酸は61ppmであ
った。Example 2 50 g of methylal containing 180 ppm of peroxide and 5%
1 g of Pd / activated carbon was put into a stainless steel autoclave, hydrogen was supplied to 3.8 MPa, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 1 hour. After the reaction was completed, the amount of residual peroxide was less than the lower limit of quantification (<0.2 ppm), and that of formic acid was 61 ppm.
【0027】次いで、水素化処理したメチラール 10
gとモンモリロナイト 3gをガラス製容器に入れ、室
温にて20時間放置した。処理後のメチラール中に残存
するぎ酸は定量下限未満(<1.0ppm)であった。Then, hydrotreated methylal 10
g and montmorillonite 3 g were put in a glass container and left at room temperature for 20 hours. The amount of formic acid remaining in the treated methylal was less than the lower limit of quantification (<1.0 ppm).
【0028】実 施 例 3
過酸化物を180ppm含むメチラール 50gと5%
Pt/活性炭 1gをステンレス製オートクレーブに入
れ、水素を供給して3.8MPaとし、120℃で1時
間撹拌した。反応終了後、残存する過酸化物は定量下限
未満(<0.2ppm)であり、ぎ酸は39ppmであ
った。Example 3 Methylal containing 180 ppm of peroxide 50 g and 5%
1 g of Pt / activated carbon was placed in a stainless steel autoclave, hydrogen was supplied to 3.8 MPa, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 1 hour. After the reaction was completed, the amount of residual peroxide was less than the lower limit of quantification (<0.2 ppm), and that of formic acid was 39 ppm.
【0029】次いで、水素化処理したメチラール 10
gとモレキュラーシーブ4A 3gをガラス製容器に入
れ、室温にて20時間放置した。処理後のメチラール中
に残存するぎ酸は定量下限未満(<1.0ppm)であ
った。Then, hydrotreated methylal 10
and 3 g of molecular sieve 4A were placed in a glass container and left at room temperature for 20 hours. The amount of formic acid remaining in the treated methylal was less than the lower limit of quantification (<1.0 ppm).
【0030】実 施 例 4
0.3%Pd/アルミナ 35mlを充填したステンレス
製反応管に、過酸化物180ppmを含むメチラールを
35ml/hrの供給速度で、また水素を15ml/m
inの供給速度でそれぞれ流通させ、反応温度、100
℃、反応圧力0.3MPaで水素化処理した。流出した
メチラール中の過酸化物は定量下限未満(<0.2pp
m)であり、ぎ酸は3.0ppmであった。Example 4 A stainless steel reaction tube filled with 35 ml of 0.3% Pd / alumina was charged with methylal containing 180 ppm of peroxide at a feed rate of 35 ml / hr and with hydrogen at 15 ml / m.
at a reaction rate of 100
A hydrogenation treatment was carried out at a reaction temperature of 0.3 MPa and a pressure of 0.3 MPa. Peroxide in methylal spilled out was below the lower limit of quantification (<0.2 pp
m) and formic acid was 3.0 ppm.
【0031】次いで、水素化処理したメチラール 20
gとモレキュラーシーブ4A 1gをガラス製容器に入
れ、室温にて20時間放置した。処理後のメチラール中
に残存するぎ酸は定量下限未満(<1.0ppm)であ
った。Next, hydrotreated methylal 20
and 1 g of molecular sieve 4A were placed in a glass container and left at room temperature for 20 hours. The amount of formic acid remaining in the treated methylal was less than the lower limit of quantification (<1.0 ppm).
【0032】また、モレキュラーシーブ4A約44mL
(30g)をガラス製のカラムに充填し、室温下、水素
化処理したメチラールをポンプにて60ml/hの速度
で下方向に供給した。処理後のメチラール中に残存する
ぎ酸は定量下限未満(<1.0ppm)であった。Also, about 44 mL of molecular sieve 4A
(30 g) was packed in a glass column, and at room temperature, hydrotreated methylal was fed downward by a pump at a rate of 60 ml / h. The amount of formic acid remaining in the treated methylal was less than the lower limit of quantification (<1.0 ppm).
【0033】実 施 例 5
過酸化物を180ppm含むメチラール 47gと水素
化ほう素ナトリウム 5mgを、冷却器を備えたガラス
製のフラスコに入れ、室温で8時間撹拌した。反応終了
後、反応溶液を蒸留し、その90%を留出させた。留出
液中の過酸化物は定量下限未満(<0.2ppm)であ
り、ぎ酸は12ppmであった。Example 5 47 g of methylal containing 180 ppm of peroxide and 5 mg of sodium borohydride were placed in a glass flask equipped with a condenser and stirred at room temperature for 8 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was distilled, and 90% thereof was distilled. Peroxide in the distillate was below the lower limit of quantification (<0.2 ppm), and formic acid was 12 ppm.
【0034】次いで、得られたメチラール 20gとモ
レキュラーシーブ4A 1gをガラス製容器に入れ、室
温にて20時間放置した。処理後のメチラール中に残存
するぎ酸は定量下限未満(<1.0ppm)であった。Then, 20 g of the obtained methylal and 1 g of molecular sieve 4A were placed in a glass container and left at room temperature for 20 hours. The amount of formic acid remaining in the treated methylal was less than the lower limit of quantification (<1.0 ppm).
【0035】[0035]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば過
酸化物およびぎ酸を実質的に含まない精製されたメチラ
ールを得ることができる。特に、還元剤を用いて還元処
理した後吸着処理を行う方法は、高温高圧等の設備を要
せず、常温付近での処理が可能であり、簡便かつ経済的
に過酸化物及びぎ酸を除去することができるものであ
る。As described above, according to the present invention, purified methylal substantially free of peroxide and formic acid can be obtained. In particular, the method of performing the adsorption treatment after the reduction treatment using a reducing agent does not require equipment such as high temperature and high pressure, can be treated at around room temperature, and can easily and economically remove peroxide and formic acid. It can be removed.
【0036】従って、本発明方法によれば、反応性を示
すような不純物を実質的に含まない、医薬等のファイン
ケミカルの合成原料として安心して利用できるメチラー
ルを簡単に得ることができる。
以 上Therefore, according to the method of the present invention, it is possible to easily obtain methylal which does not substantially contain reactive impurities and can be safely used as a raw material for the synthesis of fine chemicals such as pharmaceuticals. that's all
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Claims (10)
ールを還元処理し、次いでこの還元処理物を吸着処理に
付すことを特徴とするメチラールの精製方法。1. A method for purifying methylal, which comprises subjecting methylal containing peroxide as an impurity to a reduction treatment, and then subjecting the reduced product to an adsorption treatment.
下、液相または気相で水素化分解する方法により行う請
求項第1項記載のメチラールの精製方法。2. The method for purifying methylal according to claim 1, wherein the reduction treatment is carried out by a method of hydrocracking in a liquid phase or a gas phase in the presence of hydrogen and a hydrogenation catalyst.
活性炭、Pd/アルミナ、Pt/活性炭またはRu/活
性炭である請求項第2項記載のメチラールの精製方法。3. The hydrogenation catalyst is Raney nickel, Pd /
The method for purifying methylal according to claim 2, which is activated carbon, Pd / alumina, Pt / activated carbon or Ru / activated carbon.
圧力0.1〜5MPaの条件で行う請求項第2項または
第3項記載のメチラールの精製方法。4. The method for purifying methylal according to claim 2 or 3, wherein the reduction treatment is carried out under the conditions of a temperature of 20 to 150 ° C. and a reaction pressure of 0.1 to 5 MPa.
より行う請求項第1項記載のメチラールの精製方法。5. The method for purifying methylal according to claim 1, wherein the reduction treatment is carried out by a method of contacting with a reducing agent.
ロほう酸塩、トリメトキシ水素化ほう素塩または水素化
リチウムアルミニウムである請求項第5項記載のメチラ
ールの精製方法。6. The method for purifying methylal according to claim 5, wherein the reducing agent is a borohydride, a cyanohydroborate, a trimethoxyborohydride or lithium aluminum hydride.
重量比で0.1ppm〜1000ppmである請求項第
5項または第6項記載のメチラールの精製方法。7. The method for purifying methylal according to claim 5 or 6, wherein the amount of the reducing agent used is 0.1 ppm to 1000 ppm by weight relative to methylal.
℃で行う請求項第5項ないし第7項の何れかの項記載の
メチラールの精製方法。8. The reduction treatment is carried out under atmospheric pressure at a temperature of 0 to 100.
The method for purifying methylal according to any one of claims 5 to 7, which is carried out at a temperature of ° C.
請求項第1項記載のメチラールの精製方法。9. The method for purifying methylal according to claim 1, wherein the adsorption treatment is performed using a polar adsorbent.
物または活性アルミナである請求項第9項記載のメチラ
ールの精製方法。10. The method for purifying methylal according to claim 9, wherein the polar adsorbent is zeolite, a layered compound or activated alumina.
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JP2007508383A (en) * | 2003-10-17 | 2007-04-05 | ライオンデル ケミカル テクノロジー、 エル.ピー. | Purification of tertiary butyl alcohol |
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