JP2003237237A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

Info

Publication number
JP2003237237A
JP2003237237A JP2002041810A JP2002041810A JP2003237237A JP 2003237237 A JP2003237237 A JP 2003237237A JP 2002041810 A JP2002041810 A JP 2002041810A JP 2002041810 A JP2002041810 A JP 2002041810A JP 2003237237 A JP2003237237 A JP 2003237237A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
recording medium
optical recording
phase change
heat dissipation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002041810A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiko Suzuki
栄子 鈴木
Yoshiyuki Kageyama
喜之 影山
Masato Harigai
眞人 針谷
Hajime Yuzurihara
肇 譲原
Hiroko Tashiro
浩子 田代
Yuji Miura
裕司 三浦
Miki Mizutani
未来 水谷
Mikiko Abe
美樹子 安部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2002041810A priority Critical patent/JP2003237237A/en
Publication of JP2003237237A publication Critical patent/JP2003237237A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium which realizes recording of image data with a sufficient degree of modulation, even when a phase change recording layer at a high crystallization rate is formed. <P>SOLUTION: This optical recording medium has a first protecting layer 3, a phase change recording layer 4, a second protecting layer 5 and a reflective heat-radiating layer 6 formed on a substrate 2 by lamination. In addition, the medium records and regenerates image data using a reversible phase change between an amorphous phase and a crystalline phase of the phase change recording layer 4 under an exposure of a laser beam with a wavelength of λ from the area side where the, first protecting layer 3 is formed. The composition of the phase change recording layer 4 is such that In or Ga, or a mixture of In and Ga and at least one kind of element for setting the crystallization temperature of an SbTe alloy higher are added to the SbTe alloy. Further, the reflective heat-radiating layer 6 is composed of a metal whose index of refraction (n+ik) at the wavelength of λ shows that n is 1 or less and k is 5 or less. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、相変化型の光学記
録媒体に関わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a phase change type optical recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の相変化型の光学記録媒体として
は、特開2000−79761号公報、特開2000−
313170号公報、特開平11−238253号公
報、特開平7−161071号公報、特開2000−1
82277号公報に開示がなされている。
2. Description of the Related Art Conventional phase change type optical recording media are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-79761 and 2000-2000.
No. 313170, No. 11-238253, No. 7-161071, and No. 2000-1.
It is disclosed in Japanese Patent No. 82277.

【0003】特開2000−79761号公報には、記
録層の組成が、XαGaβMχSbδTeε、(X:A
g,Au,Pd,Zn)、(M:Sn,Ge,Si,P
d)、(0.0≦α≦0.1、0.01≦χ≦0.1
5、0.03≦β+χ≦0.25)であるものとした光
学記録媒体が開示されている。
In Japanese Patent Laid-Open No. 2000-97761, the composition of the recording layer is XαGaβMχSbδTeε, (X: A
g, Au, Pd, Zn), (M: Sn, Ge, Si, P
d), (0.0 ≦ α ≦ 0.1, 0.01 ≦ χ ≦ 0.1
5, 0.03 ≤ β + χ ≤ 0.25) is disclosed.

【0004】特開2000−313170号公報には、
記録層の組成が、((SbTe −x
1−y1−z、(M:In,Ga)、(0.7
≦x≦0.9、0.8≦y≦1、0.88≦z≦1)で
あるものとした光学記録媒体が開示されている。
Japanese Patent Laid-Open No. 2000-313170 discloses that
The composition of the recording layer is ((Sb x Te 1 -x ) y G
e 1-y ) z M 1-z , (M: In, Ga), (0.7
There is disclosed an optical recording medium in which ≦ x ≦ 0.9, 0.8 ≦ y ≦ 1, 0.88 ≦ z ≦ 1).

【0005】また、特開平11−238253号公報に
は、反射層がAgで、Sを含む上部保護層との間に中間
層が設けられてなり、中間層組成が、反射層側は、T
a,Ni,Co,Cr,Si,W,Vの少なくともいず
れかを含有するものであり、保護層側が、Al,Si,
Ge,Ta,Ni,Co,Cr,W,Vの少なくともい
ずれかを含有する材料からなり、記録層の組成は、M
(SbTe1−x −y(0.5≦x≦0.9、0
≦y≦0.3)、(M:In,Zn,Ge,Sn,S
i,Cu,Au,Ag,Pd,Pt,Pb,Cr,C
o,O,N,S,Se,Ta,Nb,V,Bi,Zr,
Ti,Mn,Mo,Rh,希土類)であるものとした光
学記録媒体が開示されている。
Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 11-238253, an intermediate layer is provided between a reflective layer made of Ag and an upper protective layer containing S, and the composition of the intermediate layer is T on the reflective layer side.
a, Ni, Co, Cr, Si, W, V is contained, and the protective layer side is Al, Si,
Ge, Ta, becomes Ni, Co, Cr, W, a material containing at least one and V, the composition of the recording layer, M y
(Sb x Te 1-x ) 1 −y (0.5 ≦ x ≦ 0.9, 0
≦ y ≦ 0.3), (M: In, Zn, Ge, Sn, S
i, Cu, Au, Ag, Pd, Pt, Pb, Cr, C
o, O, N, S, Se, Ta, Nb, V, Bi, Zr,
The optical recording medium is disclosed as being Ti, Mn, Mo, Rh, rare earth).

【0006】特開平7−161071号公報には、基板
/誘電体層/記録層/誘電体層/高屈折率層/光吸収層
からなる構成を有する光学記録媒体であって、高屈折率
層がGe,Si,GeSiの少なくともいずれかよりな
り、光吸収層がTi,Zr,Hf,Cr,Ta,Mo,
Mn,W,Nb,Rh,NiCr合金,FeCr合金、
モネル合金の少なくともいずれかよりなる構成を有する
ものが開示されている。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-161071 discloses an optical recording medium having a structure of substrate / dielectric layer / recording layer / dielectric layer / high refractive index layer / light absorbing layer, which is a high refractive index layer. Is made of at least one of Ge, Si and GeSi, and the light absorption layer is made of Ti, Zr, Hf, Cr, Ta, Mo,
Mn, W, Nb, Rh, NiCr alloy, FeCr alloy,
A Monel alloy having at least one of the constitutions is disclosed.

【0007】特開平2000−182277号公報に
は、基板/誘電体層/記録層/吸収量補正層/反射層か
らなる光学記録媒体であって、吸収量補正層は、Si、
Geの一種以上と、Ti、Zr、W、Cr、Moから一
種以上との化合物からなり、吸収量補正層のn、kは、
2≦n≦5.5、1≦k≦4であり、記録層はSbとT
eとを含み、相変化記録層の片側、もしくは両側に硫化
物を含有しない境界層が形成されてなる構成を有するも
のが開示されている。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-182277 discloses an optical recording medium comprising a substrate / dielectric layer / recording layer / absorption amount correction layer / reflection layer, wherein the absorption amount correction layer is Si,
It consists of a compound of one or more of Ge and one or more of Ti, Zr, W, Cr and Mo, and n and k of the absorption correction layer are:
2 ≦ n ≦ 5.5, 1 ≦ k ≦ 4, and the recording layer is Sb and T
It is disclosed that the phase change recording layer including e and a boundary layer containing no sulfide is formed on one side or both sides of the phase change recording layer.

【0008】上記特開2000−79761号公報、お
よび特開2000−313170号公報に記載されてい
る光学記録媒体は、Sb70Te30共晶近傍組成のS
b−Teに、経時安定性を高める目的で、Ga、Ge等
を添加している。記録線速は、CDの6倍程度(7.2
〜8.4m/s)で、記録密度もCD程度を想定したも
のである。
The optical recording media described in JP 2000-79761 A and JP 2000-313170 A have an Sb 70 Te 30 eutectic composition.
Ga, Ge and the like are added to b-Te for the purpose of improving stability over time. The recording linear velocity is about 6 times that of a CD (7.2
˜8.4 m / s), and the recording density is assumed to be about CD.

【0009】これに対し近年においては、DVDと同等
以上の記録密度を有し、DVDの5倍(17.5m/
s)相当までの高線速で、良好な記録特性を実現した光
学記録媒体が望まれている。
On the other hand, in recent years, it has a recording density equal to or higher than that of DVD, and is five times as high as DVD (17.5 m /
s) There is a demand for an optical recording medium that achieves good recording characteristics at a high linear velocity up to a considerable extent.

【0010】特開平11−238253号公報に記載さ
れている光学記録媒体は、広範囲な線速、具体的にはC
Dの2〜4倍速(2.4〜5.6m/s)、DVDの1
〜2倍速(3.5〜7m/s)で記録が可能とするため
に、反射層にAgを使用しており、このときの保存安定
性改良のため中間層を設けている。また、層構成は急冷
構造にするのではなく、上部保護層を30〜60nmと
厚くし、高熱伝導率の反射膜(Ag)を組み合わせると
線速依存性を改善できるとしている。
The optical recording medium described in Japanese Patent Laid-Open No. 11-238253 has a wide range of linear velocities, specifically C
2-4 times faster than D (2.4-5.6 m / s), 1 for DVD
In order to enable recording at a double speed (3.5 to 7 m / s), Ag is used for the reflective layer, and an intermediate layer is provided to improve the storage stability at this time. In addition, it is said that the linear velocity dependence can be improved by making the upper protective layer as thick as 30 to 60 nm and combining a reflective film (Ag) having high thermal conductivity, instead of using a quenching structure as the layer structure.

【0011】これに対し、今後は記録層の充分な昇温を
保ちつつも、より急冷構造とすることにより、良好な記
録を行う光学記録媒体が望まれている。
On the other hand, in the future, there is a demand for an optical recording medium capable of good recording by maintaining a sufficient temperature rise of the recording layer and having a more rapid cooling structure.

【0012】また、特開平7−161071号公報、特
開2000−182277号公報は、記録層が結晶とア
モルファスの場合の吸収率差を小さくして、オーバーラ
イト時のマーク歪みを軽減するため、記録層上部に吸収
率補正として、Si層等を設けたものであり、吸収率補
正効果を出すために、膜厚は20〜50nm(特開平7
−161071号公報)、20〜100nm(特開20
00−182277号公報)と比較的厚く形成している
光学記録媒体が開示されているが、やはり同様に、記録
層の充分な昇温を保ちつつも、より急冷構造とすること
により、さらに良好な記録を行うようにすることが望ま
れている。
Further, in Japanese Patent Laid-Open Nos. 7-161071 and 2000-182277, the difference in absorptance when the recording layer is crystalline and amorphous is reduced to reduce mark distortion at the time of overwriting. A Si layer or the like is provided on the upper part of the recording layer as an absorptance correction, and in order to obtain an absorptance correction effect, the film thickness is 20 to 50 nm (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 7 (1999) -58242)
-161071), 20 to 100 nm (JP-A-20
No. 00-182277), an optical recording medium formed relatively thickly is disclosed. Similarly, while maintaining a sufficient temperature rise of the recording layer, a more rapid cooling structure is more preferable. It is desired to make a good record.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】上述した点に鑑みて、
DVDと同等以上の記録密度を有し、DVDの5倍速
(17.5m/s)程度までの高線速記録に適した光学
記録媒体を提供することが望まれている。
In view of the above points,
It is desired to provide an optical recording medium having a recording density equal to or higher than that of a DVD and suitable for high linear velocity recording up to about 5 times the DVD speed (17.5 m / s).

【0014】また、半導体レーザ光照射により、情報の
記録、再生および消去が可能な光学記録媒体には、磁化
の反転を行い記録消去する光磁気記録方式と、結晶と非
晶質の可逆的相変化を利用し記録消去する相変化記録方
式がある。後者は単一ビームオーバーライトが可能であ
り、ドライブ側の光学系もより単純であることを特徴と
し、コンピューター関連や映像音響に関する光学記録媒
体として応用されている。
Further, for an optical recording medium capable of recording, reproducing and erasing information by irradiation with a semiconductor laser beam, a magneto-optical recording system in which magnetization is reversed to record and erase, and a reversible phase of crystalline and amorphous. There is a phase change recording method that uses changes to record and erase. The latter is capable of overwriting with a single beam and is characterized by a simpler optical system on the drive side, and is applied as an optical recording medium for computers and audiovisual.

【0015】また、相変化型光学記録媒体は、基板上の
記録層薄膜にレーザ光を照射することにより記録層を加
熱し、記録層構造を結晶とアモルファス間で相変化させ
ることにより反射率を変化させて、情報を記録、消去す
るものである。通常は記録状態がアモルファス相、消去
状態が結晶相になるようにしている。
In the phase-change type optical recording medium, the recording layer is heated by irradiating the recording layer thin film on the substrate with a laser beam, and the reflectance is changed by changing the phase of the recording layer structure between crystalline and amorphous. The information is changed and recorded and erased. Normally, the recorded state is an amorphous phase and the erased state is a crystalline phase.

【0016】記録(結晶からアモルファスに変化)した
い領域では、高パワーのレーザ光を照射し記録層を融点
以上に加熱する。加熱された記録層は溶融後、レーザ光
の通過に伴い、ある温度プロファイルで冷却される。こ
の冷却速度を、相変化記録層材料の持つ結晶化速度以上
にすることにより、相変化記録層はアモルファス化す
る。
In a region where recording (change from crystal to amorphous) is desired, high power laser light is irradiated to heat the recording layer to the melting point or higher. The heated recording layer is melted and then cooled with a certain temperature profile as the laser beam passes. By making this cooling rate equal to or higher than the crystallization rate of the phase change recording layer material, the phase change recording layer becomes amorphous.

【0017】一方、消去(アモルファスから結晶に変
化)したい領域では、中間的なパワーのレーザ光を照射
し、記録層が結晶化できる温度以上に一定時間保持す
る。この温度で加熱された記録層はアモルファス状態か
らより安定な結晶状態へ相変化する。
On the other hand, in a region to be erased (changed from amorphous to crystalline), a laser beam with an intermediate power is irradiated and the temperature is kept above the temperature at which the recording layer can be crystallized. The recording layer heated at this temperature undergoes a phase change from an amorphous state to a more stable crystalline state.

【0018】記録層材料としては、アモルファスを形成
しやすく、また、繰り返し記録によっても組成偏析が起
きにくいことからカルコゲナイドを中心とした材料が使
用されている。実用化されているものとしては、GeT
eとSbTeとの混合物、およびSbとTeとのモ
ル比が、7:3であるSbTe近傍の組成にAgや
Inを添加した系がある。特に後者は結晶成長速度が速
い材料として知られ、アモルファス部分の輪郭が明確で
あり、高密度、及び高線速記録に適した材料である。
As the recording layer material, a material centering on chalcogenide is used because it tends to form an amorphous material and composition segregation hardly occurs even after repeated recording. GeT has been put to practical use.
There is a system in which Ag or In is added to a composition near Sb 7 Te 3 in which the molar ratio of Sb to Te is 7: 3, and a mixture of e and Sb 2 Te 3 . In particular, the latter is known as a material having a high crystal growth rate, the amorphous portion has a clear outline, and is suitable for high density and high linear velocity recording.

【0019】相変化型の光学記録媒体は、今後、高密度
画像記録への用途が拡大すると予想され、そのためには
高速オーバーライトを実現する必要がある。本発明者ら
は、特願平12−289128号公報において、高線速
記録に適し、また、オーバーライト特性、保存特性に優
れた記録層組成を示した。この相変化材料は各元素の組
成比を調整することにより、結晶化速度の調整が可能で
ある。高速オーバーライトによっても消去比を向上させ
るためには、結晶化速度が速い方が有利である。
It is expected that the phase change type optical recording medium will be used for high density image recording in the future, and for that purpose, it is necessary to realize high speed overwriting. The present inventors have shown in Japanese Patent Application No. 12-289128, a recording layer composition suitable for high linear velocity recording and having excellent overwrite characteristics and storage characteristics. The crystallization rate of this phase change material can be adjusted by adjusting the composition ratio of each element. In order to improve the erasing ratio even by high speed overwriting, it is advantageous that the crystallization speed is high.

【0020】しかし、結晶化速度の速い記録層を用いる
と記録マークが細くなりやすく、充分な変調度を有する
記録を行うことは困難であった。変調度が小さいと一般
的にジッターも悪く、良好な記録を行うことができな
い。この理由としては、結晶化速度が速いため、記録時
に溶融領域の再結晶化領域が大きくなってしまい、形成
されるアモルファス領域が小さくなってしまうことが挙
げられる。再結晶化領域を小さくするためには、上部保
護層を薄くして急冷構造とすればよいが、単純に上部保
護層を薄くしただけでは、急冷によって熱が奪われやす
い上に、記録層の吸収率も下がるため、記録層が充分に
昇温されず、溶融領域が小さくなってしまい、再結晶化
領域を小さくできたとしても、結局、形成されるアモル
ファス領域は小さくなり、充分な変調度を有する記録が
行えない。
However, if a recording layer having a high crystallization rate is used, the recording mark tends to be thin, and it is difficult to perform recording with a sufficient degree of modulation. If the degree of modulation is small, jitter is generally bad and good recording cannot be performed. The reason for this is that the recrystallization region of the melted region becomes large at the time of recording due to the high crystallization speed, and the formed amorphous region becomes small. In order to reduce the recrystallized region, the upper protective layer may be thinned to have a rapid cooling structure. However, if the upper protective layer is simply thinned, heat may be easily lost by the rapid cooling, and the recording layer of the recording layer may be removed. Since the absorptivity also decreases, the recording layer is not sufficiently heated and the melted region becomes smaller, and even if the recrystallized region can be made smaller, the amorphous region that is formed will eventually become smaller and a sufficient degree of modulation will be obtained. Recording cannot be performed.

【0021】そこで、本発明においては、上述した問題
点に鑑みて、結晶化速度の速い相変化記録層を用いた場
合でも、充分な変調度を有する記録が可能な光学記録媒
体を提供することとした。
In view of the above problems, the present invention provides an optical recording medium capable of recording with a sufficient degree of modulation even when a phase change recording layer having a high crystallization rate is used. And

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明にお
いては、基板上に少なくとも、第1の保護層、相変化記
録層、第2の保護層、反射放熱層が積層形成されてな
り、第1の保護層形成面側から、波長λのレーザ光を照
射して、相変化記録層の非晶質相と結晶相との可逆的な
相変化を利用して記録再生を行う光学記録媒体であっ
て、相変化記録層の組成は、下記〔化2〕で表されるも
のとし、かつ、反射放熱層は波長λにおける屈折率(n
+ik)のnが1以下、kが5以下の金属からなる光学
記録媒体を提供する。
According to a first aspect of the invention, at least a first protective layer, a phase change recording layer, a second protective layer, and a reflective heat dissipation layer are laminated on a substrate, An optical recording medium for performing recording and reproduction by irradiating a laser beam having a wavelength λ from the first protective layer forming surface side and utilizing reversible phase change between an amorphous phase and a crystalline phase of the phase change recording layer. The composition of the phase-change recording layer is represented by the following [Chemical formula 2], and the reflection heat dissipation layer has a refractive index (n
There is provided an optical recording medium made of a metal in which n of + ik) is 1 or less and k is 5 or less.

【0023】[0023]

【化2】Xαβ(SbγTe1−γ1−α−β Embedded image X α Y β (Sb γ Te 1-γ ) 1-α-β

【0024】但し、Xは、InまたはGa、あるいはI
nとGaとの混合物であり、Yは(SbγTe1−γ
の結晶化温度を高くする一種類以上の元素であり、α、
β、γは原子比率を表し、以下の数値範囲にあるものと
する。 0.01≦α≦0.1 0≦β≦0.1 0.65≦γ≦0.85
However, X is In or Ga, or I
n is a mixture of Ga and Y is (Sb γ Te 1-γ ).
Is one or more elements that increase the crystallization temperature of
β and γ represent atomic ratios and are in the following numerical range. 0.01 ≦ α ≦ 0.1 0 ≦ β ≦ 0.1 0.65 ≦ γ ≦ 0.85

【0025】請求項2に係る発明においては、反射放熱
層をAg,Au,Cuのいずれか一種類以上を主成分と
した構成の光学記録媒体を提供する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium having a reflection and heat dissipation layer mainly composed of at least one of Ag, Au and Cu.

【0026】請求項3に係る発明においては、反射放熱
層をAgを主成分とした構成の光学記録媒体を提供す
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium having a reflection and heat dissipation layer mainly composed of Ag.

【0027】請求項4に係る発明においては、反射放熱
層の膜厚を、90nm以上であるものとした構成の光学
記録媒体を提供する。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium having a structure in which the thickness of the reflection / heat dissipation layer is 90 nm or more.

【0028】請求項5に係る発明においては、第2の保
護層を、ZnSとSiOの混合物からなるものとした
構成の光学記録媒体を提供する。
According to a fifth aspect of the invention, there is provided an optical recording medium having a structure in which the second protective layer is made of a mixture of ZnS and SiO 2 .

【0029】請求項6に係る発明においては、第2の保
護層の膜厚を、3〜20nmであることとした構成の光
学記録媒体を提供する。
According to a sixth aspect of the invention, there is provided an optical recording medium having a structure in which the film thickness of the second protective layer is 3 to 20 nm.

【0030】請求項7に係る発明においては、反射放熱
層はAgを主成分としたものとし、第2の保護層はZn
SとSiOの混合物からなるものとし、反射放熱層
と、第2の保護層との間に、反射放熱層の硫化を防止す
る機能を有する硫化防止界面層を、3nm以上の膜厚に
形成されている構成の光学記録媒体を提供する。
In the invention according to claim 7, the reflection and heat dissipation layer is mainly composed of Ag, and the second protection layer is Zn.
A mixture of S and SiO 2 is formed, and a sulfuration prevention interface layer having a function of preventing sulfurization of the reflection heat dissipation layer is formed between the reflection heat dissipation layer and the second protective layer in a thickness of 3 nm or more. An optical recording medium having the above structure is provided.

【0031】請求項8に係る発明においては、硫化防止
界面層を、SiCを主成分とした構成の光学記録媒体を
提供する。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium in which the sulfidation-preventing interface layer is mainly composed of SiC.

【0032】請求項9に係る発明においては、硫化防止
界面層を、Siを主成分とした構成の光学記録媒体を提
供する。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an optical recording medium in which the sulfidation prevention interface layer contains Si as a main component.

【0033】請求項10に係る発明においては、相変化
記録層は、少なくともGeを含有するものとした構成の
光学記録媒体を提供する。
According to a tenth aspect of the invention, there is provided an optical recording medium having a structure in which the phase change recording layer contains at least Ge.

【0034】請求項11に係る発明においては、相変化
記録層は、少なくともAgを含有するものとした構成の
光学記録媒体を提供する。
According to an eleventh aspect of the invention, there is provided an optical recording medium having a structure in which the phase change recording layer contains at least Ag.

【0035】請求項1に係る発明によれば、結晶化速度
の速い相変化記録層を用いた場合でも、充分な変調度を
有する記録が可能な光学記録媒体が得られる。請求項2
に係る発明によれば、記録層の光吸収率が高い媒体であ
って、放熱特性の高い光学記録媒体が得られる。請求項
3に係る発明によれば、コストが安く酸化に対する経時
安定性に優れた光学記録媒体が得られる。請求項4に係
る発明によれば、光の利用効率の高い光学記録媒体が得
られる。請求項5に係る発明によれば、記録特性、保存
信頼性に優れた光学記録媒体が得られる。請求項6に係
る発明によれば、再生光安定性に優れた光学記録媒体が
得られる。
According to the invention of claim 1, it is possible to obtain an optical recording medium capable of recording with a sufficient degree of modulation even when a phase change recording layer having a high crystallization rate is used. Claim 2
According to the invention of (1), it is possible to obtain an optical recording medium having a high light absorptance of the recording layer and having high heat dissipation characteristics. According to the invention of claim 3, it is possible to obtain an optical recording medium which is low in cost and excellent in stability with time against oxidation. According to the invention of claim 4, an optical recording medium with high light utilization efficiency can be obtained. According to the invention of claim 5, an optical recording medium excellent in recording characteristics and storage reliability can be obtained. According to the invention of claim 6, an optical recording medium having excellent reproduction light stability can be obtained.

【0036】請求項7に係る発明によれば、結晶化速度
の速い相変化記録層を用いた場合でも、充分な変調度を
有する記録が可能で、コストが安く酸化に対する経時安
定性に優れた光学記録媒体であって、反射放熱層の硫化
に対する安定性に優れた光学記録媒体が得られる。請求
項8に係る発明によれば、結晶化速度の速い相変化記録
層を用いた場合でも、充分な変調度を有する記録が可能
で、反射放熱層の硫化に対する安定性が特に優れ、記録
層の光吸収率を高く保ったまま冷却速度を速くできる光
学記録媒体が得られる。請求項9に係る発明によれば、
相変化記録層の光吸収率を高く保ったまま冷却速度を速
くするにはより一層有利なため、より結晶化速度の速い
相変化記録層を使用しても充分な変調度を有する記録が
可能な光学記録媒体が得られる。請求項10に係る発明
によれば、相変化記録層組成のアモルファスマークの保
存信頼性を向上させた光学記録媒体が得られる。請求項
11に係る発明によれば、初期結晶化後の反射率の均一
性に優れた光学記録媒体が得られる。
According to the invention of claim 7, recording can be performed with a sufficient degree of modulation even when a phase change recording layer having a high crystallization rate is used, the cost is low and the stability with time against oxidation is excellent. An optical recording medium that is excellent in stability of the reflection / heat dissipation layer against sulfidation can be obtained. According to the invention of claim 8, it is possible to perform recording with a sufficient degree of modulation even when a phase change recording layer having a high crystallization rate is used, and the stability of the reflection heat dissipation layer against sulfuration is particularly excellent. It is possible to obtain an optical recording medium in which the cooling rate can be increased while maintaining the high light absorption rate. According to the invention of claim 9,
Since it is even more advantageous to increase the cooling rate while keeping the light absorption of the phase change recording layer high, it is possible to record with sufficient modulation even if a phase change recording layer with a faster crystallization rate is used. An optical recording medium can be obtained. According to the invention of claim 10, it is possible to obtain an optical recording medium in which the storage reliability of the amorphous mark of the phase change recording layer composition is improved. According to the invention of claim 11, an optical recording medium having excellent uniformity of reflectance after initial crystallization can be obtained.

【0037】[0037]

【発明の実施の形態】本発明の光学記録媒体について、
図を参照して以下に説明する。なお、本発明の光学記録
媒体は、以下の例に限定されるものではない。図1に本
発明の相変化型光学記録媒体10の概略構成図を示す。
この光学記録媒体10は、所定の案内溝を有する基板2
上に、第1の保護層3、相変化記録層4、第2の保護層
5、反射放熱層6、および表面を保護する樹脂層7が積
層形成されている構成を有している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Regarding the optical recording medium of the present invention,
This will be described below with reference to the drawings. The optical recording medium of the present invention is not limited to the following examples. FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of a phase change type optical recording medium 10 of the present invention.
This optical recording medium 10 includes a substrate 2 having a predetermined guide groove.
The first protective layer 3, the phase change recording layer 4, the second protective layer 5, the reflection / heat radiation layer 6, and the resin layer 7 for protecting the surface are laminated on the upper surface.

【0038】基板2形成用の材料としては、例えばガラ
ス、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共
重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、
シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ウレタン樹脂、ABS樹
脂等、光学記録媒体の基板用材料として従来公知のもの
をいずれも適用することができる。
As the material for forming the substrate 2, for example, glass, polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, polyethylene resin, polypropylene resin,
Any conventionally known material such as a silicone resin, a fluororesin, a urethane resin, an ABS resin, or the like can be applied as a material for a substrate of an optical recording medium.

【0039】第1の保護層3は、SiO、SiO、Z
nO、SnO、Al、TiO、In
MgO、ZrO等の酸化物、Si、AlN、T
iN、BN、ZrN等の窒化物、ZnS、In
TaS等の硫化物、SiC、TaC、WC、TiC、
ZrC等の炭化物や、ダイヤモンド状炭素、あるいはこ
れらの混合物を用いて形成することができる。第1の保
護層3は、スパッタリング、イオンプレーティング、真
空蒸着、プラズマCVD等によって製膜することができ
る。
The first protective layer 3 is made of SiO, SiO 2 , Z.
nO, SnO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , In 2 O 3 ,
Oxides such as MgO and ZrO 2 , Si 3 N 4 , AlN, T
nitrides such as iN, BN, and ZrN, ZnS, In 2 S 3 ,
Sulfides such as TaS 4 , SiC, TaC, WC, TiC,
It can be formed by using a carbide such as ZrC, diamond-like carbon, or a mixture thereof. The first protective layer 3 can be formed by sputtering, ion plating, vacuum deposition, plasma CVD or the like.

【0040】本発明の光学記録媒体において、相変化記
録層4の組成は、下記[化3]で表されるものとする。
In the optical recording medium of the present invention, the composition of the phase change recording layer 4 is represented by the following [Chemical formula 3].

【0041】[0041]

【化3】Xαβ(SbγTe1−γ1−α−β Embedded image X α Y β (Sb γ Te 1-γ ) 1-α-β

【0042】但し、Xは、InまたはGa、あるいはI
nとGaとの混合物であり、Yは(SbγTe1−γ
の結晶化温度を高くする一種類以上の元素であり、α、
β、γは原子比率を表し、以下の範囲にあるものとす
る。 0.01≦α≦0.1 0≦β≦0.1 0.65≦γ≦0.85
However, X is In or Ga, or I
n is a mixture of Ga and Y is (Sb γ Te 1-γ ).
Is one or more elements that increase the crystallization temperature of
β and γ represent atomic ratios and are in the following ranges. 0.01 ≦ α ≦ 0.1 0 ≦ β ≦ 0.1 0.65 ≦ γ ≦ 0.85

【0043】この相変化記録層4の形成材料について以
下に考察する。SbとTeのモル比が、7:3であるS
Te近傍組成の合金は、繰り返し記録特性に優れ
た相変化記録材料である。このSbとTeの配合比を調
整することにより、結晶化速度を調整することが可能で
あり、Sbの比率を高くすると、結晶化速度を速くする
ことができる。
The material for forming the phase change recording layer 4 will be considered below. S in which the molar ratio of Sb and Te is 7: 3
The alloy having a composition in the vicinity of b 7 Te 3 is a phase change recording material having excellent repetitive recording characteristics. The crystallization speed can be adjusted by adjusting the compounding ratio of Sb and Te, and the crystallization speed can be increased by increasing the Sb ratio.

【0044】本発明者らの実験によれば、Sbが65a
tom%以上であれば、少なくともCD(Compact Dis
c)の1Xの線速(1.2m/s)で信号記録を行うこ
とが可能である。Sbが65atom%未満であると、
1.2m/sでもオーバーライトによるジッターの上昇
が大きく、良好な記録を行うことができなかった。Sb
の比率を高くするに従い、結晶化速度も上昇し、より高
線速で良好な記録が可能になった。
According to the experiments by the present inventors, Sb is 65a.
If it is at least tom%, at least CD (Compact Dis
It is possible to perform signal recording at a linear velocity (1.2 m / s) of c). When Sb is less than 65 atom%,
Even at 1.2 m / s, the increase in jitter due to overwriting was large, and good recording could not be performed. Sb
The higher the ratio of, the higher the crystallization rate and the better recording was possible at a higher linear velocity.

【0045】一方、Sbが85atom%を越えると、
結晶化速度の上昇率が急激になり、アモルファスマーク
の形成がほとんどできなくなった。従って、SbとTe
の2元系におけるSbの比率は、65atom%以上8
5atom%以下とすることが好ましい(すなわち上記
式において、0.65≦γ≦0.85)。
On the other hand, when Sb exceeds 85 atom%,
The rate of increase of the crystallization speed became sharp, and it became almost impossible to form amorphous marks. Therefore, Sb and Te
The ratio of Sb in the binary system is 65 atom% or more 8
It is preferably 5 atom% or less (that is, 0.65 ≦ γ ≦ 0.85 in the above formula).

【0046】しかし、Sb−Teの2元系だけでは、ア
モルファス相の安定性が悪く、例えば、70〜80℃程
度の高温環境化においては、約50時間以内にはアモル
ファスマークが結晶化してしまうという問題がある。そ
のため、相変化記録層形成用の材料には、結晶化温度を
高くしてアモルファス相の安定性を高められるような第
3元素を1種類以上添加して用いることが好ましい。た
だし、Sbの比率が高い程、第3元素を添加しても保存
信頼性は劣化してしまう傾向があるため、かかる場合に
はSbの含有比率をあまり高くすることはできない。
However, the stability of the amorphous phase is poor with only the Sb-Te binary system. For example, in a high temperature environment of about 70 to 80 ° C., the amorphous mark is crystallized within about 50 hours. There is a problem. Therefore, it is preferable to add one or more kinds of the third element that can increase the crystallization temperature and enhance the stability of the amorphous phase to the material for forming the phase change recording layer. However, the higher the Sb ratio, the more the storage reliability tends to deteriorate even if the third element is added. Therefore, in such a case, the Sb content ratio cannot be made too high.

【0047】従って、高速オーバーライトに有利な結晶
化速度の速い記録を形成するためには、Sbの比率の比
率をあまり高くせずに結晶化速度を速くする必要があっ
た。このようなことに鑑みて、保存信頼性を向上させる
効果が高く、さらには結晶化速度を速くできる元素とし
て、Inを添加することとした。しかしながら、このI
nについても、添加量が多すぎるとオーバーライトによ
るジッター上昇が大きくなってしまう等の弊害を招く。
本発明者らの実験によれば、Inの添加量を材料の10
atom%以下とすると、オーバーライトによるジッタ
ー上昇が低いレベルに抑えられることが確かめられた。
Therefore, in order to form a record having a high crystallization rate which is advantageous for high-speed overwriting, it was necessary to increase the crystallization rate without increasing the Sb ratio so much. In view of the above, it was decided to add In as an element that has a high effect of improving the storage reliability and further can increase the crystallization rate. However, this I
With respect to n, too much addition causes adverse effects such as a large increase in jitter due to overwriting.
According to the experiments by the present inventors, the amount of In added was set to 10
It was confirmed that the increase in jitter due to overwriting can be suppressed to a low level when the content is not more than atom%.

【0048】さらに本発明者らは、先に出願した特開平
12−289128号公報で示したように、GaがIn
よりも少量でも結晶化速度を速くする効果が大きい元素
であることを見出した。また、保存信頼性を向上させる
効果においても、GaはInと同等以上に優れている。
ただし、この場合も添加量は材料の10atom%以下
とした方がオーバーライトによるジッター上昇を低く抑
えることができる。また、これらの添加量が1atom
%よりも少ないと、相変化記録層の結晶化速度を速くし
たり、保存特性を向上させたりする効果が得られなかっ
た(以上のことから、上記式中0.01≦α≦0.
1)。
Furthermore, the present inventors have found that Ga is In as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 12-289128.
It has been found that the element has a great effect of increasing the crystallization rate even in a smaller amount. Further, Ga is also superior to In in terms of the effect of improving storage reliability.
However, in this case as well, it is possible to suppress the increase in jitter due to overwriting to be low when the addition amount is 10 atom% or less of the material. Moreover, the addition amount of these is 1 atom.
%, The effects of increasing the crystallization rate of the phase change recording layer and improving the storage characteristics cannot be obtained (from the above, 0.01 ≦ α ≦ 0.
1).

【0049】上述したことから、SbTe近傍組成
の合金SbTe系にGaやIn、あるいはそれらの混合
物を1〜10%程度添加した系は、結晶化速度が速いと
同時に保存信頼性も高い優れた特性を持つ相変化記録材
料である。
From the above, from the alloy Sb 7 Te 3 alloy composition SbTe containing about 1 to 10% of Ga or In, or a mixture thereof, the crystallization rate is high and the storage reliability is high. It is a phase change recording material with excellent properties.

【0050】また、更には上記相変化記録材料にGeや
Agを添加することにより、一層特性の向上を図ること
ができる。GeおよびAgのいずれの元素も相変化記録
材料の結晶化温度を高くする効果があり、光学記録媒体
の保存信頼性の向上に寄与する。特にGeが保存信頼性
の向上に有効である。一方、Agは相変化記録材料の初
期結晶化を容易にする効果がある。上記相変化記録材料
には、GeやAgの他、Mg,Al,Si,Ca,C
r,Mn,Cu,Zn,Se,Sn,Dy,Bi等を必
要に応じて添加してもよい。これらの元素は、いずれも
相変化記録材料の結晶化温度を高くして、保存信頼性の
向上に寄与する効果があるが、この効果の他、それぞ
れ、結晶化速度を速したり、初期結晶化を容易にする等
の効果がある。
Further, by adding Ge or Ag to the above phase change recording material, the characteristics can be further improved. Both Ge and Ag have the effect of increasing the crystallization temperature of the phase change recording material, and contribute to the improvement of storage reliability of the optical recording medium. Ge is particularly effective for improving storage reliability. On the other hand, Ag has the effect of facilitating the initial crystallization of the phase change recording material. In addition to Ge and Ag, the above phase change recording materials include Mg, Al, Si, Ca and C.
You may add r, Mn, Cu, Zn, Se, Sn, Dy, Bi etc. as needed. Each of these elements has the effect of increasing the crystallization temperature of the phase change recording material and contributing to the improvement of storage reliability. In addition to this effect, the crystallization speed is increased and the initial crystallinity is increased. It has the effect of facilitating conversion.

【0051】しかしながら、X−Sb−Te(X:Ga
またはIn、あるいはそれらの混合物)に添加されるG
eやAgの添加量が多すぎると、記録感度およびオーバ
ーライト特性の低下を招来するので、これを10ato
m%以下とすることが必要である(上記式中、0≦β≦
0.1)。
However, X-Sb-Te (X: Ga
Or In, or a mixture thereof) G added
If the addition amount of e or Ag is too large, the recording sensitivity and the overwrite characteristic are deteriorated.
It is necessary that m% or less (where 0 ≦ β ≦
0.1).

【0052】上述したような材料を用い、さらには各々
の組成比を調整して相変化記録層4を形成することによ
り、オーバーライト特性や保存特性、さらには初期結晶
化の容易性を満足しつつ、高線速記録に好適な結晶化速
度を具備する光学記録媒体10を得ることができる。
By forming the phase change recording layer 4 by using the above-mentioned materials and adjusting the composition ratio of each, the overwrite characteristics, the storage characteristics, and the ease of initial crystallization are satisfied. At the same time, the optical recording medium 10 having a crystallization rate suitable for high linear velocity recording can be obtained.

【0053】次に、反射放熱層6について説明する。従
来の相変化型の光学記録媒体においては、反射放熱層形
成用材料として、Alを主成分とした合金が使用されて
いる。Alは反射率が高く、熱伝導率も高いことに加
え、ディスク化した場合の経時安定性にも優れている材
料である。Alを反射放熱層6形成用材料として用いた
場合には、基板2上に第1の保護層3、相変化記録層
4、第2の保護層5、反射放熱層6を成膜し、樹脂層7
としてトップコート層として従来公知の樹脂をオーバー
コートした簡単な構成で、記録特性、経時安定性に優れ
た光学記録媒体を形成することができる。
Next, the reflection / heat dissipation layer 6 will be described. In a conventional phase change type optical recording medium, an alloy containing Al as a main component is used as a material for forming a reflection / heat dissipation layer. Al is a material having a high reflectance and a high thermal conductivity, and is also excellent in stability over time when formed into a disk. When Al is used as the material for forming the reflection / heat dissipation layer 6, the first protective layer 3, the phase change recording layer 4, the second protection layer 5, and the reflection / heat dissipation layer 6 are formed on the substrate 2 by using a resin. Layer 7
As a top coat layer, an optical recording medium excellent in recording characteristics and stability over time can be formed with a simple structure in which a conventionally known resin is overcoated.

【0054】しかしながら、結晶化速度の速い材料によ
り相変化記録層4を形成し、反射放熱層6としてAlを
適用した光学記録媒体では、記録マークが細くなりやす
く、充分なモジュレーションを有する記録を行うことは
困難な場合があった。この理由としては、相変化記録層
4の結晶化速度が速い場合には、信号の記録時に溶融領
域の再結晶化領域が大きくなってしまい、形成されるア
モルファス領域が小さくなってしまうことが挙げられ
る。
However, in the optical recording medium in which the phase change recording layer 4 is formed of a material having a high crystallization rate and Al is used as the reflection / heat dissipation layer 6, the recording mark is likely to be thin, and recording with sufficient modulation is performed. Things could be difficult. The reason for this is that when the crystallization speed of the phase change recording layer 4 is high, the recrystallized region of the melted region becomes large at the time of signal recording, and the formed amorphous region becomes small. To be

【0055】溶融領域における再結晶化領域を小さくす
るためには、第2の保護層5の膜厚を充分に薄くし、い
わゆる急冷構造とすればよいが、単純に第2の保護層5
の膜厚のみを薄くしただけでは、急冷によって熱が奪わ
れやすい上に、相変化記録層の吸収率も低下するため、
相変化記録層4を充分に昇温することができなくなって
しまい、その結果、溶融領域が小さくなってしまい、た
とえ再結晶化領域を小さくできたとしても、結局、形成
されるアモルファス領域は小さくなってしまうという欠
点が生じる。
In order to reduce the recrystallized region in the melted region, the film thickness of the second protective layer 5 may be made sufficiently thin to form a so-called quenching structure, but the second protective layer 5 is simply used.
If only the thickness of the film is thinned, the heat is easily removed by the rapid cooling and the absorptivity of the phase change recording layer is also reduced.
The phase change recording layer 4 cannot be heated sufficiently and, as a result, the melted region becomes small, and even if the recrystallized region can be made small, the formed amorphous region is small in the end. There is a drawback that

【0056】上述した点に鑑みて、本発明においては、
反射放熱層6や後述するように第2の保護層の材料や膜
厚を特定することにより、相変化記録層4の充分な昇温
を確保しつつ、より急冷構造を考慮した構成を実現し
た。これにより、結晶化速度の速い相変化記録層材料を
適用しても、充分なモジュレーションを有する記録を行
うことができる光学記録媒体を作製することが可能にな
った。
In view of the above points, in the present invention,
By specifying the material and the film thickness of the reflective heat dissipation layer 6 and the second protective layer as described later, a configuration in which a more rapid cooling structure is considered is realized while ensuring a sufficient temperature rise of the phase change recording layer 4. . This makes it possible to produce an optical recording medium that can perform recording with sufficient modulation even if a phase change recording layer material having a high crystallization rate is applied.

【0057】本発明においては、反射放熱層6形成用の
材料として、波長λにおける屈折率(n+ik)のnが
1以下であり、kが5以下の金属を適用する。これによ
り、相変化記録層4の光吸収率の向上が図られる。
In the present invention, as a material for forming the reflection / heat dissipation layer 6, a metal having a refractive index (n + ik) at wavelength λ of n of 1 or less and k of 5 or less is applied. Thereby, the light absorption rate of the phase change recording layer 4 can be improved.

【0058】図2は、基板2上に第1の保護層3(76
nm)、相変化記録層4(16nm)、第2の保護層5
(20nm)、反射放熱層6(140nm)を順次積層
形成し、基板側から波長660nmのレーザ光を照射し
た場合の、相変化記録層4(結晶相)の光吸収率を、反
射放熱層6の屈折率の値を種々の値に変更した場合の光
学シミュレーションにより求めた結果である。
In FIG. 2, the first protective layer 3 (76) is formed on the substrate 2.
nm), the phase change recording layer 4 (16 nm), the second protective layer 5
(20 nm) and a reflective heat dissipation layer 6 (140 nm) are sequentially laminated, and the light absorption rate of the phase change recording layer 4 (crystal phase) when the substrate side is irradiated with laser light having a wavelength of 660 nm is shown in FIG. It is a result obtained by optical simulation when the value of the refractive index of is changed to various values.

【0059】従来において反射放熱層6の形成材料とし
て適用されていたAlに、1wt%のTiを添加した合
金のスパッタ膜の屈折率は、n=1.3であり、k=
6.5であり、この場合の相変化記録層6の光吸収率の
計算値は59%となる。
The refractive index of the sputtered film of an alloy obtained by adding 1 wt% of Ti to Al, which has been conventionally used as the material for forming the reflection / heat dissipation layer 6, is n = 1.3 and k =
It is 6.5, and the calculated value of the light absorption rate of the phase change recording layer 6 in this case is 59%.

【0060】これに対し、nが1以下kが5以下であれ
ば、いずれも吸収率は60%以上であり、Al合金を用
いた場合よりも光吸収率が向上する。なお、相変化記録
層4や第1の保護層3、第2の保護層5として何を用い
るかによりそれらの屈折率も変化するので、ここで示し
た吸収率の値も変わってくるが、いずれの相変化記録層
や保護層を用いた場合でも、反射放熱層6として波長λ
における屈折率(n+ik)のnが1以下、kが5以下
の金属を使用することにより、Al合金を用いた場合よ
りも相変化記録層の光吸収率は向上する。
On the other hand, when n is 1 or less and k is 5 or less, the absorptance is 60% or more, and the light absorptivity is improved as compared with the case of using the Al alloy. The refractive index of each of the phase-change recording layer 4, the first protective layer 3, and the second protective layer 5 changes depending on what is used, so that the absorptance values shown here also change. Whichever phase change recording layer or protective layer is used, the wavelength λ
By using a metal having a refractive index (n + ik) of n of 1 or less and k of 5 or less, the light absorptivity of the phase change recording layer is improved as compared with the case of using an Al alloy.

【0061】上記の条件を満たす金属としては、Au,
Ag,Cuおよびそれらを主要元素とした合金が挙げら
れる。これらの純金属の場合の、λ=660nmにおけ
るスパッタ膜の屈折率の実測値、及び、熱伝導率の文献
値(バルク)の値を表1に示す。
Metals satisfying the above conditions include Au,
Examples thereof include Ag, Cu and alloys containing them as main elements. Table 1 shows the measured values of the refractive index of the sputtered film at λ = 660 nm and the literature values (bulk) of the thermal conductivity in the case of these pure metals.

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】上記表1に示すように、Au,Ag,Cu
は同時にいずれもAlより熱伝導率が高い。従って、こ
れらを反射放熱層6形成用材料として用いると、相変化
記録層4の光吸収率を向上させ、相変化記録層4の温度
を上昇させて溶融領域を大きくする効果があるのと同時
に、冷却速度も向上させるため、冷却時の再結晶化領域
が小さくなり、Al合金を用いた場合よりも大きなアモ
ルファス領域を形成することが可能になる。
As shown in Table 1 above, Au, Ag, Cu
At the same time, both have higher thermal conductivity than Al. Therefore, when these are used as the material for forming the reflection / heat dissipation layer 6, the light absorption rate of the phase change recording layer 4 is improved, the temperature of the phase change recording layer 4 is increased, and the melted region is enlarged. Since the cooling rate is also improved, the recrystallized region at the time of cooling becomes small, and it becomes possible to form a larger amorphous region than when an Al alloy is used.

【0064】さらには、相変化記録層4が結晶相の場合
とアモルファス相の場合との反射率の光学シミュレーシ
ョンから変調度を求め、反射放熱層のnと変調度との関
係を、kを0〜7としたそれぞれの場合について、図3
に示した。図3に示すように、反射放熱層6としてnが
1以下、kが5以下の材料を用いると、単純に光学的な
変調度もAl合金を用いた場合よりも大きくなることが
わかる。記録マークの変調度は、光学的な変調度とマー
クの大きさによって決まり、光学的な変調度が大きく、
マークが大きい程大きくなる。従って、相変化記録層4
として、結晶化速度が速い材料を用いて、高線速記録を
行う場合でも、上記反射放熱層を用いると吸収率が大き
く冷却速度が速いことから大きな記録マークが形成で
き、また、結晶とアモルファスの反射率差も大きいこと
から変調度の大きい記録が可能になる。
Further, the degree of modulation is obtained from an optical simulation of the reflectance when the phase change recording layer 4 is in the crystalline phase and in the case of the amorphous phase, and k is 0 for the relationship between n and the degree of modulation of the reflective heat dissipation layer. 3 for each case
It was shown to. As shown in FIG. 3, it can be seen that when the material having n of 1 or less and k of 5 or less is used as the reflection / heat dissipation layer 6, the optical modulation degree is simply larger than that of the case of using the Al alloy. The modulation degree of the recording mark is determined by the optical modulation degree and the size of the mark, and the optical modulation degree is large.
The larger the mark, the larger the mark. Therefore, the phase change recording layer 4
As a result, even when high linear velocity recording is performed using a material having a high crystallization rate, a large recording mark can be formed due to a large absorptivity and a high cooling rate when the above-mentioned reflective heat dissipation layer is used. Since the difference in reflectance is large, recording with a large degree of modulation becomes possible.

【0065】上述した3種類の金属、及びそれらを主要
元素とした合金の中でも、特にAg及びAg合金は比較
的安価であり、また、同様に安価なCuおよびCu合金
に比べて酸化しにくいため、経時安定性に優れた光学記
録媒体を形成することができ、反射放熱層形成用材料と
して好適である。但し、これらは硫化されやすいため、
特に第2の保護層5の形成用材料としてSを含有する場
合には、反射放熱層の硫化を防止するために、反射放熱
層6と第2の保護層5との間に、硫化を防止する機能を
有するいわゆる硫化防止界面層(図示せず)を形成する
ことが有効である。
Among the above-mentioned three kinds of metals and alloys containing them as the main elements, Ag and Ag alloys are relatively inexpensive, and are less likely to oxidize as compared with similarly inexpensive Cu and Cu alloys. It is possible to form an optical recording medium having excellent stability over time and is suitable as a material for forming a reflection / heat dissipation layer. However, since these are easily sulfided,
In particular, when S is contained as a material for forming the second protective layer 5, in order to prevent sulfuration of the reflective heat dissipation layer, the sulfuration is prevented between the reflective heat dissipation layer 6 and the second protective layer 5. It is effective to form a so-called sulfidation prevention interface layer (not shown) having the function of

【0066】図4に反射放熱層6としてAgを用い、そ
の膜厚を変化させて作製した光学記録媒体における照射
レーザ光の反射率と透過率の計算値を示した。図4か
ら、反射放熱層6の膜厚は90nm以上であれば、透過
率は1%以下となるため、レーザ光を効率的に利用する
ことができることがわかる。
FIG. 4 shows the calculated values of the reflectance and the transmittance of the irradiation laser beam in the optical recording medium manufactured by using Ag as the reflection / heat dissipation layer 6 and changing the film thickness. It can be seen from FIG. 4 that when the film thickness of the reflection / heat dissipation layer 6 is 90 nm or more, the transmittance is 1% or less, so that the laser light can be efficiently used.

【0067】次に、第2の保護層5について詳細に説明
する。第2の保護層5には、溶融凝固を繰り返す相変化
記録層4が流動等により膜厚が変化したり、あるいは何
らかの反応により膜質が変化したりしてしまわないよう
にするという、相変化記録層4を保護する役割の他、相
変化記録層4が吸収した熱を反射放熱層6へ逃がす時間
を遅らせて、相変化記録層4の温度を高める役割を担
う。
Next, the second protective layer 5 will be described in detail. The second protective layer 5 is a phase change recording that prevents the phase change recording layer 4 that repeatedly melts and solidifies from changing its film thickness due to flow or the like, or from changing the film quality due to some reaction. In addition to the role of protecting the layer 4, it plays a role of increasing the temperature of the phase change recording layer 4 by delaying the time for releasing the heat absorbed by the phase change recording layer 4 to the reflection heat dissipation layer 6.

【0068】従って第2の保護層5は、耐熱性があり、
熱伝導率が低いという性質を有していることが求められ
る。このような性質をもつ材料としては種々の酸化膜や
窒化膜、硫化膜などが提案されており、よく知られてい
る材料としては、モル比が8:2近傍のZnSとSiO
の混合物が挙げられる。
Therefore, the second protective layer 5 has heat resistance,
It is required to have the property of low thermal conductivity. Various oxide films, nitride films, and sulfide films have been proposed as materials having such properties, and well-known materials include ZnS and SiO with a molar ratio of about 8: 2.
A mixture of 2 may be mentioned.

【0069】本発明者らは、何種類かの保護層を用いて
光学記録媒体を形成し、記録特性や保存特性を確認し
た。その結果、記録特性においては、ZnSとSiO
の混合物より優れている膜がいくつかあったが、保存特
性においては、ZnSとSiO の混合物が最もアモル
ファスマークの安定性に優れていた。ZnSとSiO
の混合物(ZnS−SiO)は、結晶性を示さないた
め、アモルファスマークの安定化に有利に作用するため
だと考えられる。従って、第2の保護層5としては、Z
nSとSiOの混合物を適用することが望ましい。
We have used several types of protective layers.
Form an optical recording medium and check the recording and storage characteristics.
It was As a result, in terms of recording characteristics, ZnS and SiOTwo
There were some membranes that were superior to the mixture of
In terms of properties, ZnS and SiO TwoA mixture of
The stability of the fass mark was excellent. ZnS and SiOTwo
Mixture of (ZnS-SiOTwo) Showed no crystallinity
Therefore, it has an advantageous effect on the stabilization of the amorphous mark.
Considered to be Therefore, as the second protective layer 5, Z
nS and SiOTwoIt is desirable to apply a mixture of

【0070】第2の保護層5は、膜厚が薄すぎると、相
変化記録層4の昇温が不充分となり、充分な大きさのマ
ークを形成できなくなる。また、厚すぎても冷却速度が
不充分となって、再結晶化領域が大きくなり、充分な大
きさのマークが形成できない。比較的結晶化速度の遅い
相変化記録層を用いた場合は、第2の保護層5を厚めに
すると、初回記録のジッターは良好であり、変調度も大
きい。しかし、温度が上がりすぎるため、オーバーライ
トによる膜劣化が進みやすい。また、再生光によっても
温度上昇が大きくなってしまうため、再生光安定性も悪
い。
If the thickness of the second protective layer 5 is too thin, the temperature of the phase change recording layer 4 will be insufficiently heated, and it will not be possible to form a sufficiently large mark. Further, if it is too thick, the cooling rate becomes insufficient and the recrystallized region becomes large, so that a mark having a sufficient size cannot be formed. When the phase change recording layer having a relatively low crystallization rate is used, if the second protective layer 5 is thickened, the jitter of the first recording is good and the modulation degree is large. However, since the temperature rises too much, film deterioration due to overwriting tends to proceed. In addition, the temperature of the reproducing light also increases significantly, and the stability of the reproducing light is poor.

【0071】反射放熱層6として、屈折率(n+ik)
のnが1以下でkが5以下の材料を用いた場合には、相
変化記録層4の光吸収率が大きくなるために、従来のA
l合金を用いた場合と記録パワーや線速が同じ条件で記
録する場合には、第2の保護層5の最適膜厚は、Al合
金を用いた場合よりは薄くなる。第2の保護層5の膜厚
が薄くなると、冷却速度は速くなるので再結晶化領域を
小さくすることができ、結晶化速度の速い相変化記録層
材料を用いた場合には、一層有利となる。第2の保護層
5の最適膜厚は、記録条件や界面層に使用する材料、膜
厚等によりその最適値が異なるが、波長660nm、
N.A.0.6のピックアップヘッドで、0.7mW、
3.5m/sで再生する場合の再生光安定性を考慮する
と、反射放熱層6にAgを用いた場合には20nm以下
とする方が好ましい。
As the reflection / heat dissipation layer 6, the refractive index (n + ik)
When n of 1 or less and k of 5 or less are used, the light absorption rate of the phase change recording layer 4 becomes large, so that the conventional A
When recording is performed under the same recording power and linear velocity as when the 1 alloy is used, the optimum film thickness of the second protective layer 5 is thinner than when the Al alloy is used. When the film thickness of the second protective layer 5 becomes thin, the cooling rate becomes fast, so that the recrystallization region can be made small, which is more advantageous when a phase change recording layer material having a fast crystallization rate is used. Become. The optimum film thickness of the second protective layer 5 varies depending on the recording conditions, the material used for the interface layer, the film thickness, etc., but the wavelength is 660 nm.
N. A. With a pickup head of 0.6, 0.7 mW,
Considering the reproduction light stability when reproducing at 3.5 m / s, when Ag is used for the reflection / heat dissipation layer 6, the thickness is preferably 20 nm or less.

【0072】ただし、反射放熱層6として、Agあるい
はAg合金を用いると、ZnSとSiOの混合物のよ
うに、第2の保護層5にSが含まれていると、Agが硫
化して欠陥を生じてしまう。そこで、反射放熱層6と第
2の保護層5との間に硫化防止機能を持ついわゆる硫化
防止界面層(図示せず)を設けることが好ましい。硫化
防止界面層は、3nm以上の厚さがあれば、スパッタに
より形成された膜はほぼ均一になり、硫化防止機能を発
揮する。3nmより薄いと部分的に欠陥を生じる確率が
急に高くなってしまう。
However, when Ag or an Ag alloy is used as the reflection / heat dissipation layer 6, when S is contained in the second protective layer 5 like a mixture of ZnS and SiO 2 , Ag is sulfided to cause defects. Will occur. Therefore, it is preferable to provide a so-called sulfidation prevention interface layer (not shown) having a sulfidation prevention function between the reflection / heat dissipation layer 6 and the second protective layer 5. If the sulfidation-preventing interface layer has a thickness of 3 nm or more, the film formed by sputtering will be substantially uniform and exert a sulfidation-preventing function. If the thickness is less than 3 nm, the probability of partially causing defects suddenly increases.

【0073】硫化防止界面層の材料に要求される性質と
しては、Sを含まないこと、Sを透過しないこと等が挙
げられる。本発明者らは、種々の酸化膜や窒化膜等を界
面層として形成し、記録特性や保存信頼性の評価を行っ
たところ、SiC及び、Siが硫化防止界面層として優
れた機能を持つことがわかった。
The properties required for the material of the sulfidation preventive interface layer include that it does not contain S and that it does not permeate S. The present inventors formed various oxide films, nitride films, and the like as interface layers and evaluated the recording characteristics and storage reliability, and found that SiC and Si have excellent functions as sulfurization prevention interface layers. I understood.

【0074】下記表2に、SiC、SiおよびZnS−
SiOのスパッタ膜の屈折率の実測値と熱伝導率の文
献値(バルク)を示した。SiCおよびSiは、ZnS
−SiOよりも1桁以上熱伝導率が高いことがわか
る。
In Table 2 below, SiC, Si and ZnS-
The measured value of the refractive index of the sputtered film of SiO 2 and the literature value (bulk) of the thermal conductivity are shown. SiC and Si are ZnS
It can be seen that the thermal conductivity is higher than that of —SiO 2 by one digit or more.

【0075】[0075]

【表2】 [Table 2]

【0076】図5に、上述した硫化防止界面層の膜厚を
変えた場合の相変化記録層4(結晶)の吸収率の変化の
光学シミュレーションの結果を示した。比較のために、
ZnS−SiOを硫化防止界面層と同ように第2の保
護層5上へ成膜したと想定した場合の結果を示した。
FIG. 5 shows the result of an optical simulation of the change in the absorptance of the phase change recording layer 4 (crystal) when the film thickness of the above-mentioned sulfurization preventing interface layer was changed. For comparison,
The results are shown on the assumption that ZnS-SiO 2 is formed on the second protective layer 5 in the same manner as the sulfidation prevention interface layer.

【0077】基板2上に、第1の保護層3(76n
m)、相変化記録層4(16nm)、第2の保護層5
(10nm)、硫化防止界面層(2〜20nm)、反射
放熱層6(140nm)を順次積層形成し、基板2側か
ら、波長660nmのレーザ光を入射した場合の結果で
あるものとする。図5に示すように、SiCはZnS−
SiOとほぼ同様の結果であり、20nmまでの範囲
では、同じ膜厚であればSiの方が吸収率が高い。硫化
防止界面層にSiCやSiを用いると、熱伝導率が大き
いため、単に第2の保護層5であるZnS−SiO
同程度の厚さに成膜した場合よりも、相変化記録層4の
吸収率を保ちつつ、急冷構造とすることができ、さらに
は、Siの方が膜厚が薄くても吸収率が高いため、相変
化記録層4を充分昇温し、かつ、急冷構造とするには有
利である。
On the substrate 2, the first protective layer 3 (76n
m), phase change recording layer 4 (16 nm), second protective layer 5
(10 nm), a sulfidation prevention interface layer (2 to 20 nm), and a reflection and heat dissipation layer 6 (140 nm) are sequentially laminated, and the results are obtained when laser light having a wavelength of 660 nm is incident from the substrate 2 side. As shown in FIG. 5, SiC is ZnS-
The result is almost the same as that of SiO 2, and in the range up to 20 nm, Si has a higher absorptance with the same film thickness. When SiC or Si is used for the sulfidation prevention interface layer, the phase change recording layer has a higher thermal conductivity than the case where ZnS—SiO 2 which is the second protective layer 5 is simply formed to have a similar thickness. The quenching structure can be achieved while maintaining the absorptivity of No. 4, and since Si has a higher absorptivity even if the film thickness is thinner, the phase change recording layer 4 can be sufficiently heated and the quenching structure can be obtained. Is advantageous to

【0078】以下に本発明の光学記録媒体について具体
的な実施例を示して説明する。以下の例においては、い
ずれの場合も、直径12cm、厚さ0.6mm、トラッ
クピッチ0.74μmの案内溝付きのポリカーボネート
ディスク状の基板2上に、第1の保護層3、相変化記録
層4、第2の保護層5、硫化防止界面層、および反射放
熱層6を、順次スパッタにより成膜し、さらに反射放熱
層6上にスピンコートにより形成された有機保護膜を介
して直径12cm、厚さ0.6mmのポリカーボネート
ディスクを接着したものを大口径レーザ光により初期結
晶化して試料として用いた。記録再生は、基板側から波
長660nmのレーザ光を照射して行う。
The optical recording medium of the present invention will be described below with reference to specific examples. In any of the following examples, the first protective layer 3 and the phase change recording layer are provided on the polycarbonate disc-shaped substrate 2 with a guide groove having a diameter of 12 cm, a thickness of 0.6 mm and a track pitch of 0.74 μm. 4, the second protective layer 5, the sulfidation prevention interface layer, and the reflection heat dissipation layer 6 are sequentially formed by sputtering, and further, a diameter of 12 cm is provided through an organic protection film formed on the reflection heat dissipation layer 6 by spin coating. A polycarbonate disc having a thickness of 0.6 mm adhered was initially crystallized by a large-diameter laser beam and used as a sample. Recording and reproduction are performed by irradiating a laser beam having a wavelength of 660 nm from the substrate side.

【0079】下記表3に、層構成を変えた実施例1〜
6、比較例1〜4の光学記録媒体の構成条件を示した。
なお、これらの光学記録媒体の全ての場合において、第
1の保護層3としてZnS−SiO(モル比ZnS/
SiO=8:2)を76nm、相変化記録層4として
GaGeSb75Te19を16nm、第2の保護
層5として第1の保護層3と同じものを20nmの条件
で形成し、反射放熱層6の膜厚を140nmとして形成
するものとした。
The following Table 3 shows Examples 1 to 1 in which the layer structure was changed.
6, the constitutional conditions of the optical recording media of Comparative Examples 1 to 4 are shown.
In all cases of these optical recording media, ZnS—SiO 2 (molar ratio ZnS /
SiO 2 = 8: 2) is 76 nm, the phase change recording layer 4 is Ga 3 Ge 3 Sb 75 Te 19 16 nm, and the second protective layer 5 is the same as the first protective layer 3 under the conditions of 20 nm. The reflection and heat dissipation layer 6 is formed with a thickness of 140 nm.

【0080】[0080]

【表3】 [Table 3]

【0081】上記表3に示した形成層の項目をパラメー
タとして記録特性、および保存特性について評価した。
記録特性の評価は、レーザ光の波長:660nm、N.
A.:0.65のピックアップヘッドを用い、線密度
0.267μm/bit、EFM+変調方式にて行っ
た。記録は線速14m/s、記録パワー16mW、バイ
アスパワー0.2mW、消去パワー8.5mWで、記録
ストラテジは各光学記録媒体に合わせて最適化して行っ
た。再生は全て線速3.5m/s、パワー0.7mWで
実施した。
The recording characteristics and the storage characteristics were evaluated using the forming layer items shown in Table 3 above as parameters.
The recording characteristics were evaluated by laser light wavelength: 660 nm, N.P.
A. : 0.65 pick-up head, linear density 0.267 μm / bit, EFM + modulation method. Recording was performed at a linear velocity of 14 m / s, a recording power of 16 mW, a bias power of 0.2 mW, and an erasing power of 8.5 mW, and the recording strategy was optimized according to each optical recording medium. All reproduction was performed at a linear velocity of 3.5 m / s and a power of 0.7 mW.

【0082】図6に、実施例1〜6および比較例1、2
のオーバーライトによる記録回数とジッターとの関係を
示し、図7に実施例1〜6および比較例1、2のオーバ
ーライトによる記録回数と変調度との関係を示した。図
6および図7に示すように、実施例1〜6の光学記録媒
体については、いずれの場合もオーバーライト1000
回目までのジッターは10%以下であり、変調度は60
%以上と、良好な記録特性を示していることがわかっ
た。
FIG. 6 shows Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2.
7 shows the relationship between the number of times of recording by overwriting and the jitter, and FIG. 7 shows the relationship between the number of times of recording by overwriting and the modulation degree in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2. As shown in FIGS. 6 and 7, for the optical recording media of Examples 1 to 6, the overwrite 1000 was used in all cases.
The jitter up to the first time is 10% or less, and the modulation degree is 60.
%, It was found that the recording characteristics were good.

【0083】比較例1は、反射放熱層6形成用材料とし
てAlを用い、第2の保護層も20nmと比較的厚く形
成した場合の例であるが、変調度が小さく、ジッターも
10%以下にすることはできなかった。これは、相変化
記録層4に結晶化速度の速い材料を用いているため、再
結晶化領域が大きくなるためである。
Comparative Example 1 is an example in which Al is used as the material for forming the reflection / heat dissipation layer 6 and the second protective layer is formed relatively thick as 20 nm, but the modulation degree is small and the jitter is 10% or less. I couldn't. This is because the phase change recording layer 4 is made of a material having a high crystallization rate, so that the recrystallization region becomes large.

【0084】比較例2は、反射放熱層6にAlを用いた
場合に、再結晶化領域を小さくする目的で第2の保護層
5を薄くして急冷構造とした場合である。比較例1より
もさらに変調度が小さく、ジッターも悪化した。単純に
第2の保護層5を薄くして急冷構造とすると、相変化記
録層4の昇温が不充分で溶融領域が小さいため、大きな
マークを形成することができなかったためである。
In Comparative Example 2, when Al is used for the reflective heat dissipation layer 6, the second protective layer 5 is thinned to have a rapid cooling structure for the purpose of reducing the recrystallized region. The degree of modulation was smaller than that of Comparative Example 1, and the jitter was worse. This is because when the second protective layer 5 is simply thinned to have a rapid cooling structure, a large mark cannot be formed because the temperature change of the phase change recording layer 4 is insufficient and the melting region is small.

【0085】保存特性については、70℃85%RH環
境下に1000時間保存した後のジッターと変調度の変
化を調べた。実施例1〜6および比較例1、2のいずれ
の場合もジッターの上昇は、保存前に比べて初回記録で
1%以内、オーバーライト1000回でも2%以内であ
った。変調度の変化はいずれの場合も2%以内であり、
良好な保存特性を示した。また、いずれの場合もディス
ク欠陥は発生しなかった。
Regarding storage characteristics, changes in jitter and modulation after storage for 1000 hours at 70 ° C. and 85% RH were examined. In each of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, the increase in jitter was 1% or less in the first recording and 2% or less even after 1000 times of overwriting, as compared with before the storage. The change in modulation is within 2% in each case,
It showed good storage characteristics. Further, in any case, no disc defect occurred.

【0086】比較例3、4については、硫化防止界面層
を極めて薄く形成した場合の光学記録媒体の例である
が、初期結晶化したディスクの保存による欠陥の発生状
況のみを調べた。どちらの場合も、70℃85%RH環
境下に1000時間保存後には、目視でもわかるような
点状の欠陥がディスクの一部にまとまって現れた。これ
は、ディスク内の膜厚分布により部分的に硫化防止界面
層の膜厚が薄いところができてしまい、薄くなった部分
のAg反射放熱層が硫化して欠陥となって確認できるも
のと考えられる。
Comparative Examples 3 and 4 are examples of optical recording media in which the sulfidation-preventing interface layer was formed to be extremely thin, and only the occurrence of defects due to storage of the initially crystallized disk was examined. In both cases, after storage in an environment of 70 ° C. and 85% RH for 1000 hours, dot-like defects that could be visually recognized appeared in a part of the disk. It is considered that this can be confirmed by the fact that a portion where the film thickness of the sulfidation preventing interface layer is thin is formed due to the film thickness distribution in the disk, and the Ag reflection heat dissipation layer in the thinned part is sulfided and becomes a defect. .

【0087】[0087]

【発明の効果】請求項1に係る発明によれば、相変化記
録層の光吸収率が高い光学記録媒体が得られた。請求項
2に係る発明によれば、相変化記録層の光吸収率が高
く、かつ、放熱特性に優れた光学記録媒体が得られた。
請求項3に係る発明によれば、相変化記録層の光吸収率
が高く、かつ、放熱特性にも優れ、コストが安く酸化に
対する経時安定性にも優れる光学記録媒体が得られた。
請求項4に係る発明によれば、相変化記録層の光吸収率
が高く、光の利用効率の高い光学記録媒体が得られた。
請求項5に係る発明によれば、相変化記録層の光吸収率
が高く、記録特性、保存信頼性にも優れる光学記録媒体
が得られた。請求項6に係る発明によれば、相変化記録
層の光吸収率が高く、再生光安定性にも優れる光学記録
媒体が得られた。請求項7に係る発明によれば、相変化
記録層の光吸収率が高く、放熱特性にも優れ、コストが
安く、酸化に対する経時安定性にも優れ、かつ、硫化に
対する経時安定性にも優れる光学記録媒体が得られた。
請求項8に係る発明によれば、相変化記録層の光吸収率
が高く、放熱特性にも優れ、コストが安く、酸化に対す
る経時安定性にも優れ、かつ硫化に対する経時安定性に
も特に優れ、相変化記録層の光吸収率を高く保ったま
ま、急冷構造にできるため、相変化記録層に結晶化速度
の速い材料を用いても、充分な変調度を有する記録が可
能な光学記録媒体が形成できた。請求項9に係る発明に
よれば、相変化記録層の光吸収率を高く保ったまま、急
冷構造にするにはより有利な光学記録媒体が形成でき
た。請求項10に係る発明によれば、結晶化速度の速い
相変化記録層を用いた場合でも、充分な変調度を有する
記録が可能な光学記録媒体であって、アモルファスマー
クの保存信頼性に優れた光学記録媒体を形成できた。請
求項11に係る発明によれば、結晶化速度の速い相変化
記録層を用いた場合でも、充分な変調度を有する記録が
可能な光学記録媒体であって、初期結晶化後の反射率の
均一性に優れた光学記録媒体を形成できた。
According to the invention of claim 1, an optical recording medium in which the phase change recording layer has a high light absorptivity can be obtained. According to the invention of claim 2, an optical recording medium having a high light absorptance of the phase change recording layer and an excellent heat dissipation characteristic was obtained.
According to the invention of claim 3, an optical recording medium having a high light absorptance of the phase-change recording layer, an excellent heat dissipation property, a low cost, and an excellent stability over time against oxidation can be obtained.
According to the invention of claim 4, an optical recording medium having a high light absorptance of the phase change recording layer and a high light utilization efficiency is obtained.
According to the invention of claim 5, an optical recording medium having a high light absorptance of the phase change recording layer and excellent recording characteristics and storage reliability can be obtained. According to the invention of claim 6, an optical recording medium having a high light absorptance of the phase-change recording layer and excellent reproduction light stability was obtained. According to the invention of claim 7, the phase change recording layer has a high light absorptivity, an excellent heat dissipation property, a low cost, an excellent stability against oxidation with time, and an excellent stability against sulfurization with time. An optical recording medium was obtained.
According to the invention of claim 8, the phase change recording layer has a high light absorptivity, an excellent heat dissipation property, a low cost, an excellent stability with time against oxidation, and an excellent stability with time against sulfurization. An optical recording medium capable of recording with a sufficient degree of modulation even if a material having a high crystallization rate is used for the phase change recording layer because a rapid cooling structure can be formed while maintaining a high light absorption rate of the phase change recording layer. Could be formed. According to the invention of claim 9, it is possible to form an optical recording medium that is more advantageous for forming a rapid cooling structure while maintaining a high light absorptance of the phase change recording layer. According to the invention of claim 10, the optical recording medium is capable of recording with a sufficient degree of modulation even when a phase change recording layer having a high crystallization rate is used, and has excellent storage reliability of amorphous marks. The optical recording medium could be formed. According to the invention of claim 11, there is provided an optical recording medium capable of recording with a sufficient degree of modulation even when a phase change recording layer having a high crystallization rate is used, and the optical recording medium has a reflectivity after initial crystallization. An optical recording medium excellent in uniformity could be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光学記録媒体の一例の概略構成図を示
す。
FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of an example of an optical recording medium of the present invention.

【図2】反射放熱層の屈折率と相変化記録層の光吸収率
との関係を示す。
FIG. 2 shows the relationship between the refractive index of the reflective heat dissipation layer and the light absorption rate of the phase change recording layer.

【図3】反射放熱層の屈折率と変調度との関係を示す。FIG. 3 shows the relationship between the refractive index and the degree of modulation of the reflective heat dissipation layer.

【図4】反射放熱層の膜厚と反射率(透過率)との関係
を示す。
FIG. 4 shows the relationship between the film thickness of the reflection / heat dissipation layer and the reflectance (transmittance).

【図5】硫化防止界面層の膜厚と相変化記録層の光吸収
率との関係を示す。
FIG. 5 shows the relationship between the film thickness of the sulfidation prevention interface layer and the light absorptance of the phase change recording layer.

【図6】オーバーライト時の記録回数とジッターとの関
係を示す。
FIG. 6 shows the relationship between the number of recordings and the jitter during overwriting.

【図7】オーバーライト時の記録回数と変調度との関係
を示す。
FIG. 7 shows the relationship between the number of recordings and the degree of modulation during overwriting.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 基板 3 第1の保護層 4 相変化記録層 5 第2の保護層 6 反射放熱層 7 樹脂層 10 光学記録媒体 2 substrates 3 First protective layer 4 Phase change recording layer 5 Second protective layer 6 Reflective heat dissipation layer 7 resin layer 10 Optical recording medium

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 535 G11B 7/24 535H 538C 538 538E 538F B41M 5/26 X (72)発明者 譲原 肇 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 田代 浩子 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 三浦 裕司 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 水谷 未来 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 安部 美樹子 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 2H111 EA04 EA23 FA11 FA12 FA14 FA23 FA24 FA25 FA27 FB05 FB09 FB12 FB17 FB21 FB30 5D029 JA01 JB18 LA13 LA17 LB07 LB11 MA13 MA14 MA17 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G11B 7/24 535 G11B 7/24 535H 538C 538 538E 538F B41M 5/26 X (72) Inventor Hajime Yuzuru Tokyo Yuko Miura, Yuji Miura, Tokyo, Ota-ku, Tokyo (72) Inventor, Hiroko Tashiro, 1-3-3, Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Hiroko Tashiro 1-3-6 Magome In Ricoh Co., Ltd. (72) Inventor Mirai Mizutani 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo In-house (72) Mikiko Abe 1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo No. 6 F-term in Ricoh Co., Ltd. (reference) 2H111 EA04 EA23 FA11 FA12 FA14 FA23 FA24 FA25 FA27 FB05 FB09 FB12 FB17 FB21 FB30 5D029 JA01 JB18 LA13 LA17 LB07 LB11 MA13 MA14 MA17

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、少なくとも第1の保護層、相
変化記録層、第2の保護層、反射放熱層が積層形成され
てなり、 上記第1の保護層形成面側から、波長λのレーザ光を照
射して、上記相変化記録層の非晶質相と結晶相との可逆
的な相変化を利用して記録再生を行う光学記録媒体であ
って、 上記相変化記録層の組成は、下記〔化1〕で表され、か
つ、上記反射放熱層は、波長λにおける屈折率(n+i
k)のnが、1以下、kが5以下の金属からなることを
特徴とする光学記録媒体。 【化1】Xαβ(SbγTe1−γ1−α−β 但し、Xは、InまたはGa、あるいはInとGaとの
混合物であり、Yは(SbγTe1−γ)の結晶化温度
を高くする一種類以上の元素であり、α、β、γは原子
比率を表し、以下の範囲にあるものとする。 0.01≦α≦0.1 0≦β≦0.1 0.65≦γ≦0.85
1. A substrate having at least a first protective layer, a phase change recording layer, a second protective layer, and a reflection / heat dissipation layer laminated thereon, and a wavelength λ from the first protective layer forming surface side. An optical recording medium for performing recording / reproducing by irradiating the laser beam of (1) and utilizing the reversible phase change between the amorphous phase and the crystalline phase of the phase change recording layer, the composition of the phase change recording layer Is represented by the following [Chemical formula 1], and the reflection heat dissipation layer has a refractive index (n + i) at a wavelength λ.
An optical recording medium, wherein n in k) is made of a metal having a value of 1 or less and a value of k of 5 or less. Embedded image X α Y β (Sb γ Te 1-γ ) 1-α-β where X is In or Ga, or a mixture of In and Ga, and Y is (Sb γ Te 1-γ ). Is one or more kinds of elements that raise the crystallization temperature, and α, β, and γ represent atomic ratios, and are in the following ranges. 0.01 ≦ α ≦ 0.1 0 ≦ β ≦ 0.1 0.65 ≦ γ ≦ 0.85
【請求項2】 上記反射放熱層は、Ag,Au,Cuの
いずれか一種類以上を主成分とすることを特徴とする請
求項1に記載の光学記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the reflection and heat dissipation layer contains at least one of Ag, Au, and Cu as a main component.
【請求項3】 上記反射放熱層は、Agを主成分とする
ことを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the reflection / heat dissipation layer contains Ag as a main component.
【請求項4】 上記反射放熱層の膜厚が、90nm以上
であることを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒
体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the reflection / heat dissipation layer is 90 nm or more.
【請求項5】 上記第2の保護層は、ZnSとSiO
の混合物からなることを特徴とする請求項1に記載の光
学記録媒体。
5. The second protective layer comprises ZnS and SiO 2.
The optical recording medium according to claim 1, which is composed of a mixture of
【請求項6】 上記第2の保護層の膜厚は、3〜20n
mであることを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒
体。
6. The film thickness of the second protective layer is 3 to 20 n.
The optical recording medium according to claim 1, wherein the optical recording medium is m.
【請求項7】 上記反射放熱層はAgを主成分とし、上
記第2の保護層は、ZnSとSiOの混合物からな
り、上記反射放熱層と、上記第2の保護層との間に、上
記反射放熱層の硫化を防止する機能を有する硫化防止界
面層が、3nm以上の膜厚に形成されていることを特徴
とする請求項1に記載の光学記録媒体。
7. The reflective heat dissipation layer contains Ag as a main component, the second protective layer is made of a mixture of ZnS and SiO 2 , and between the reflective heat dissipation layer and the second protective layer, The optical recording medium according to claim 1, wherein the sulfidation prevention interface layer having a function of preventing sulfidation of the reflection / heat dissipation layer is formed to have a film thickness of 3 nm or more.
【請求項8】 上記硫化防止界面層は、SiCを主成分
とすることを特徴とする請求項7に記載の光学記録媒
体。
8. The optical recording medium according to claim 7, wherein the sulfidation prevention interface layer contains SiC as a main component.
【請求項9】 上記硫化防止界面層は、Siを主成分と
することを特徴とする請求項7に記載の光学記録媒体。
9. The optical recording medium according to claim 7, wherein the sulfuration prevention interface layer contains Si as a main component.
【請求項10】 上記相変化記録層は、少なくともGe
を含有するものであることを特徴とする請求項1に記載
の光学記録媒体。
10. The phase change recording layer is at least Ge.
The optical recording medium according to claim 1, which comprises:
【請求項11】 上記相変化記録層は、少なくともAg
を含有するものであることを特徴とする請求項1に記載
の光学記録媒体。
11. The phase change recording layer comprises at least Ag.
The optical recording medium according to claim 1, which comprises:
JP2002041810A 2002-02-19 2002-02-19 Optical recording medium Pending JP2003237237A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002041810A JP2003237237A (en) 2002-02-19 2002-02-19 Optical recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002041810A JP2003237237A (en) 2002-02-19 2002-02-19 Optical recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003237237A true JP2003237237A (en) 2003-08-27

Family

ID=27782105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002041810A Pending JP2003237237A (en) 2002-02-19 2002-02-19 Optical recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003237237A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6790592B2 (en) Phase-change optical information recording medium
JP3011200B2 (en) Optical recording medium
JPH08267926A (en) Optical recording medium
JPH08127176A (en) Information recording thin film, manufacture thereof information recording medium and using method therefor
JP2002074741A (en) Optical information recording medium
JPH11238253A (en) Optical information record medium and information recording device
JP2003162821A (en) Optical recording medium and method therefor
JP3927410B2 (en) Optical recording medium
EP1393309A1 (en) Rewritable optical data storage medium and use of such a medium
JP4093846B2 (en) Phase change optical recording medium
JP4272934B2 (en) Phase change optical recording medium
JP2002509633A (en) Rewritable optical information medium
JP3692776B2 (en) Optical information recording medium and method for manufacturing the same
JP2003237237A (en) Optical recording medium
JP2003211849A (en) Optical recoding medium
JP4357169B2 (en) Information recording medium
JP4306988B2 (en) Information recording medium
JP4063499B2 (en) Optical information recording medium
JP3971198B2 (en) Optical recording medium
JP3048235B2 (en) Optical recording medium
JP3729833B2 (en) Information recording medium
JP2003237238A (en) Optical recording medium
JP2004119003A (en) Optical information recording medium
JP3955007B2 (en) Phase change optical recording medium
JP4227087B2 (en) Phase change optical recording medium