JP2003233991A - Optical memory element - Google Patents

Optical memory element

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JP2003233991A
JP2003233991A JP2002031471A JP2002031471A JP2003233991A JP 2003233991 A JP2003233991 A JP 2003233991A JP 2002031471 A JP2002031471 A JP 2002031471A JP 2002031471 A JP2002031471 A JP 2002031471A JP 2003233991 A JP2003233991 A JP 2003233991A
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Japan
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optical memory
resin
layer
memory device
core layer
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JP2002031471A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Ishihara
啓 石原
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the number of lamination layer, to improve recording capacity, and to improve yield, suppressing occurrence of warping as much as possible. <P>SOLUTION: An optical memory element comprises resin core layers and resin clad layers laminated on both surfaces of the resin core layers. The element is constituted by adhering two or more units holding lamination bodies in which light guide members of one or a plurality of layers having uneven surface part for information at one side of boundary of the resin core layers and the resin clad layers are laminated between base bodies. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路デバイス
を用いて構成される光メモリ素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical memory device constructed by using an optical waveguide device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、予め所定の散乱光を生じるように
パターンが刻まれた平面型(カード型)の光導波路中に
光を導入し、光導波面の外部に画像を結像させる技術が
提案されている(IEEE Photon.Technol.Lett.,vol.9,p
p.958-960,JULY1997 等参照)。即ち、例えば図15に
模式的に示すように、光導波路として機能するように屈
折率や膜厚を調整されたコア(層)101と、このコア
層101を挟む形でその両側(両面部)に設けられた
(第1,第2の)クラッド(層)102とをそなえて成
るカード型のスラブ型光導波路デバイス100におい
て、コア層101とクラッド層102との界面に微細な
凹凸が存在していた場合、コア層(光導波路)101に
レンズ103を介して光(レーザ光)を導入すると、導
入光の一部がその凹凸部分で散乱し、散乱光がクラッド
層102を通じて外部に出てくる。
2. Description of the Related Art In recent years, a technique has been proposed in which light is introduced into a plane type (card type) optical waveguide in which a pattern is engraved so as to generate predetermined scattered light, and an image is formed outside the optical waveguide surface. (IEEE Photon.Technol.Lett., Vol.9, p
p.958-960, JULY1997, etc.). That is, for example, as schematically shown in FIG. 15, a core (layer) 101 whose refractive index and film thickness are adjusted so as to function as an optical waveguide, and both sides (both sides) of the core layer 101 sandwiched therebetween. In the card type slab type optical waveguide device 100 including the (first and second) clads (layers) 102 provided in the above, fine irregularities are present at the interface between the core layer 101 and the clad layer 102. In this case, when the light (laser light) is introduced into the core layer (optical waveguide) 101 through the lens 103, a part of the introduced light is scattered at the uneven portions, and the scattered light goes out through the cladding layer 102. come.

【0003】従って、光導波面(光導波路101)から
所定距離に特定の画像が結像するような光の散乱強度と
位相とを計算し、その計算に応じた微細な凹凸パターン
を予めコア層101に刻み込んでおけば、光導波面の外
部に所望の画像を結像させることができる。つまり、コ
ア層101は情報の記録層として機能することになる。
Therefore, the scattering intensity and phase of light such that a specific image is formed at a predetermined distance from the optical waveguide surface (optical waveguide 101) are calculated, and a fine concavo-convex pattern corresponding to the calculation is calculated in advance in the core layer 101. By engraving it in, it is possible to form a desired image on the outside of the optical waveguide surface. That is, the core layer 101 functions as an information recording layer.

【0004】そして、例えば、光導波面の外部に出てき
た散乱光を上記所定距離に設置したCCD受像機104
により受光して、結像画像を2次元のディジタルパター
ン〔例えば、明暗の2値のパターン、もしくは、明度
(グレイスケール)による多値のパターン等〕化してデ
ィジタル信号化すれば、既存のディジタル画像処理装置
(図示省略)で結像画像に対し所望の画像処理を実施す
ることができる。
Then, for example, the CCD receiver 104 in which the scattered light coming out of the optical waveguide surface is installed at the above-mentioned predetermined distance
The light is received by the light source, and the formed image is converted into a two-dimensional digital pattern [for example, a binary pattern of light and dark, or a multi-valued pattern based on lightness (gray scale)] and converted into a digital signal. A processing device (not shown) can perform desired image processing on the formed image.

【0005】また、例えば図16に模式的に示すよう
に、上記のクラッド層102とコア層101とを繰り返
し積層して、光導波路(記録層)101を複数個積層し
た場合、或る光導波路101で散乱した光は、別の光導
波路101を横切ることになるが、通常、コア層101
とクラッド層102の屈折率差が極めて小さいので、そ
の散乱光が別の光導波路101に形成された凹凸で再散
乱することは殆ど無く、結像画像が乱れることは無い。
従って、積層数に比例して数多くの画像やパターンを結
像できることになる。
Further, as schematically shown in FIG. 16, when a plurality of optical waveguides (recording layers) 101 are laminated by repeatedly laminating the clad layer 102 and the core layer 101, a certain optical waveguide The light scattered by 101 will cross another optical waveguide 101, but normally, the core layer 101
Since the difference in refractive index between the clad layer 102 and the clad layer 102 is extremely small, the scattered light is hardly re-scattered by the unevenness formed in another optical waveguide 101, and the formed image is not disturbed.
Therefore, many images and patterns can be formed in proportion to the number of stacked layers.

【0006】つまり、光導波路デバイス100はその積
層数に比例した容量を有する光メモリ素子(ROM等の
記録媒体)として使用できるのである。なお、この光メ
モリ素子は、理論上では、1層で約1ギガバイト程度の
容量をもたせることができ、100層程度まで積層する
ことが可能であるといわれており、将来的には、動画像
の記録等に十分対応できる大容量ROMとして使用され
ることが有望視されている。
That is, the optical waveguide device 100 can be used as an optical memory element (recording medium such as ROM) having a capacity proportional to the number of laminated layers. It is said that this optical memory device can theoretically have a capacity of about 1 gigabyte per layer, and can be stacked up to about 100 layers. It is considered promising to be used as a large-capacity ROM capable of sufficiently recording.

【0007】また、コア層及びクラッド層を樹脂製にす
ることで、上記の凹凸パターンを簡易に形成できるよう
にして、限られた体積でより大容量の情報を保持できる
光メモリ素子を容易、且つ、安価に実現できるようにす
ることも提案されている(特願平11−131512
号、特願平11−131513号)。ここで、光メモリ
素子に記録されている情報を再生する際には、上述のよ
うに、入射光(入射レーザ光)をコア層に導入するが、
入射レーザ光の横幅(入射横幅,再生光照射領域の横方
向の幅)が狭すぎると、凹凸パターンの形成されている
情報領域の一部のみに入射レーザ光が導入され、他の部
分には入射レーザ光が導入されないことになり、結局、
情報領域に記録されている情報の一部だけしか再生され
ないことになる。このため、入射レーザ光の横幅は、情
報領域の幅よりも広くする必要がある。
Further, by making the core layer and the clad layer made of resin, the above-mentioned concavo-convex pattern can be easily formed, and an optical memory element capable of holding a large amount of information in a limited volume can be easily and It has also been proposed to realize it at low cost (Japanese Patent Application No. 11-131512).
No. 11-131513). Here, when reproducing the information recorded in the optical memory element, the incident light (incident laser light) is introduced into the core layer as described above.
If the lateral width of the incident laser light (incident lateral width, lateral width of the reproduction light irradiation area) is too narrow, the incident laser light is introduced into only a part of the information area where the concavo-convex pattern is formed, and the other area The incident laser light is not introduced, and in the end,
Only part of the information recorded in the information area will be reproduced. Therefore, the lateral width of the incident laser light needs to be wider than the width of the information area.

【0008】一方、入射レーザ光の縦幅(入射縦幅,再
生光照射領域の縦方向の幅)が広いと(縦方向に厚みが
あると)、隣接する複数のコア層間に同時に入射レーザ
光が入射してしまうことになる。このため、入射レーザ
光の縦幅は、隣接するコア層にかからないように、でき
るだけ狭くする必要がある。そこで、一般に、入射レー
ザ光のスポット形状は、縦幅をできるだけ狭くした非常
に横長の長楕円形状とされる。
On the other hand, if the incident laser light has a large vertical width (incident vertical width, vertical width of reproduction light irradiation region) (thickness in the vertical direction), the incident laser light is simultaneously applied between a plurality of adjacent core layers. Will be incident. Therefore, the vertical width of the incident laser light needs to be as narrow as possible so as not to reach the adjacent core layers. Therefore, in general, the spot shape of the incident laser light is a very long oblong shape with a narrow vertical width.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な光メモリ素子においては、記録容量(情報量)を上げ
るために、できるだけ積層数を増やすことが望まれてい
る。しかしながら、積層数を増やしていくと、それだけ
光メモリ素子の作製中に生じる反りが大きくなってい
く。上述のように、入射レーザ光は縦幅をできるだけ狭
くした長楕円形状とされているため、反りが大きくなる
と、光メモリ素子の入射端面において、一のコア層の凹
凸部分が形成されている領域(情報領域,情報記録領
域)の全体に同時に入射光(再生光)を入射させること
が難しくなり、光メモリ素子の一のコア層に記録されて
いる情報を同時に再生できないことになる。
By the way, in the above-mentioned optical memory device, it is desired to increase the number of stacked layers as much as possible in order to increase the recording capacity (information amount). However, as the number of stacked layers is increased, the warpage that occurs during the fabrication of the optical memory element is correspondingly increased. As described above, since the incident laser light is in the shape of an ellipse whose vertical width is as narrow as possible, when the warp becomes large, a region where the concave and convex portions of one core layer are formed in the incident end face of the optical memory element ( It becomes difficult to make incident light (reproducing light) incident on the entire information area and information recording area at the same time, and the information recorded in one core layer of the optical memory element cannot be reproduced at the same time.

【0010】このため、反りの発生をできるだけ抑えな
がら、積層数を増やすことが必要になる。この場合、反
りの発生を抑えるために、例えば光メモリ素子の作製時
に用いる基板を硬質のものにしたり、基板の厚さを厚く
したりすることが考えられる。例えば100層積層する
場合、コア層の厚さを1.8μmとし、クラッド層の厚
さを30μmとすると、コア層とクラッド層とを形成す
る樹脂の厚さだけでも約3.2mmとなる。この場合、
反りの発生を抑えるためには、硬質基板としてガラス基
板を用いたとしても、かなり厚いもの(例えば5mm以
上のもの)を用いることが必要になる。
Therefore, it is necessary to increase the number of layers while suppressing the occurrence of warpage as much as possible. In this case, in order to suppress the occurrence of warpage, it is conceivable to use a hard substrate or thicken the substrate when manufacturing the optical memory element, for example. For example, in the case of stacking 100 layers, if the thickness of the core layer is 1.8 μm and the thickness of the clad layer is 30 μm, the thickness of the resin forming the core layer and the clad layer alone is about 3.2 mm. in this case,
In order to suppress the occurrence of warpage, it is necessary to use a considerably thick substrate (for example, 5 mm or more) even if a glass substrate is used as the hard substrate.

【0011】このように、反りの発生を抑えるために、
基板として硬質のものを用いたり、基板の厚さを厚くし
たりすると、基板の厚さが厚くなるだけでなく、重さも
重くなり、この結果、光メモリ素子を作製するための光
メモリ素子作製装置(媒体作製装置)のコストが上がっ
てしまうため、好ましくない。また、たとえ反りの発生
をできるだけ抑えながら、積層数を増やすことができた
としても、積層数を増やすと、それだけ歩留まりが低下
することになる。例えば、100層連続して積層する場
合には歩留まりも大幅に低下してしまうことになる。さ
らに積層数を増やすと歩留まりの低下の問題はより深刻
なものとなる。
Thus, in order to suppress the occurrence of warpage,
When a hard substrate is used or the thickness of the substrate is increased, not only the thickness of the substrate is increased but also the weight is increased. As a result, an optical memory device manufacturing apparatus for manufacturing an optical memory device ( This is not preferable because it increases the cost of the medium manufacturing device). Further, even if the number of laminated layers can be increased while suppressing the occurrence of warpage as much as possible, if the number of laminated layers is increased, the yield will be reduced accordingly. For example, if 100 layers are stacked in succession, the yield will be significantly reduced. If the number of stacked layers is further increased, the problem of reduced yield becomes more serious.

【0012】本発明は、このような課題に鑑み創案され
たもので、積層数を増やして記録容量を上げる場合に、
反りの発生をできるだけ抑えることができるようにし
て、記録されている情報を、正確、かつ、確実に再生で
きるようにするとともに、歩留まりを向上させることが
できるようにした、光メモリ素子を提供することを目的
とする。
The present invention was devised in view of such problems, and when the number of layers is increased to increase the recording capacity,
To provide an optical memory device capable of suppressing the occurrence of warpage as much as possible so that recorded information can be reproduced accurately and surely and at the same time, the yield can be improved. With the goal.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】このため、本発明の光メ
モリ素子では、樹脂製コア層と、樹脂製コア層の両面に
積層された樹脂製クラッド層とからなり、樹脂製コア層
と樹脂製クラッド層との界面の少なくとも一方に情報用
凹凸部を有する光導波部材を1個又は複数個積層させて
なる積層体を基体により挟んでなるユニットが、2以上
接着されて構成されることを特徴としている(請求項
1)。
Therefore, in the optical memory device of the present invention, a resin core layer and a resin clad layer laminated on both sides of the resin core layer are provided. It is characterized in that two or more units are bonded to each other by sandwiching a laminated body formed by laminating one or a plurality of optical waveguide members each having an uneven portion for information on at least one of the interfaces with the clad layer and the base body. (Claim 1).

【0014】特に、基体間に挟まれている積層体の厚さ
が2mm以下であるのが好ましい(請求項2)。また、
基体の厚さは、10μm〜500μmの範囲内が好ましい
(請求項3)。さらに、基体と樹脂製クラッド層との屈
折率差、及び、基体と樹脂製コア層との屈折率差が、い
ずれも0.2以下であるのが好ましい(請求項4)。
Particularly, it is preferable that the thickness of the laminated body sandwiched between the substrates is 2 mm or less (claim 2). Also,
The thickness of the substrate is preferably in the range of 10 μm to 500 μm (claim 3). Further, it is preferable that the difference in refractive index between the base and the resin clad layer and the difference in refractive index between the base and the resin core layer are both 0.2 or less (claim 4).

【0015】また、樹脂製コア層及び樹脂製クラッド層
が、硬化性樹脂からなるのが好ましい(請求項5)。さ
らに、硬化性樹脂が、アクリル系硬化性樹脂であるのが
好ましい(請求項6)。また、各ユニットを接着する接
着層を有し、接着層が、各ユニットの間に形成されてい
るのが好ましい(請求項7)。
It is preferable that the resin core layer and the resin clad layer are made of a curable resin. Further, the curable resin is preferably an acrylic curable resin (claim 6). Further, it is preferable that an adhesive layer for adhering each unit is provided, and the adhesive layer is formed between each unit (claim 7).

【0016】さらに、接着層が、情報用凹凸部が形成さ
れている情報領域に対応する領域全面に形成されている
のが好ましい(請求項8)。また、接着層と樹脂製クラ
ッド層との屈折率差、及び、接着層と樹脂製コア層との
屈折率差が、いずれも0.2以下であるのが好ましい
(請求項9)。さらに、接着層が、情報用凹凸部が形成
されている情報領域に対応する領域以外の領域に形成さ
れているのが好ましい(請求項10)。
Further, it is preferable that the adhesive layer is formed on the entire surface of the area corresponding to the information area where the information uneven portion is formed (claim 8). Further, it is preferable that the difference in refractive index between the adhesive layer and the resin clad layer and the difference in refractive index between the adhesive layer and the resin core layer are both 0.2 or less (claim 9). Further, it is preferable that the adhesive layer is formed in a region other than the region corresponding to the information region in which the information uneven portion is formed (claim 10).

【0017】また、光導波部材の情報用凹凸部が拡大再
生するように構成され、接着層が、情報用凹凸部からの
拡大再生像が現れない領域に形成されるのが好ましい
(請求項11)。さらに、各ユニットを接着する接着層
を有し、接着層が、各ユニットの端面を覆うように形成
されているのが好ましい(請求項12)。
Further, it is preferable that the information concavo-convex portion of the optical waveguide member is configured to be enlarged and reproduced, and the adhesive layer is formed in a region where the enlarged reproduction image from the information concavo-convex portion does not appear (claim 11). ). Furthermore, it is preferable to have an adhesive layer for adhering each unit, and the adhesive layer is formed so as to cover the end face of each unit (claim 12).

【0018】また、接着層が、各ユニットの樹脂製コア
層に再生光を入射するための入射端面以外の端面に形成
されているのが好ましい(請求項13)。さらに、各ユ
ニットを連結する連結部材を有し、連結部材が、各ユニ
ットの端面を覆うように設けられているのが好ましい
(請求項14)。また、ユニットの数が10以下である
のが好ましい(請求項15)。
Further, it is preferable that the adhesive layer is formed on an end face other than the incident end face for making reproducing light enter the resin core layer of each unit (claim 13). Further, it is preferable that a connecting member for connecting each unit is provided, and the connecting member is provided so as to cover an end face of each unit (claim 14). Further, it is preferable that the number of units is 10 or less (claim 15).

【0019】さらに、各ユニット相互間の再生光入射方
向の位置ずれが、200μm以内であるのが好ましい
(請求項16)。また、ユニットの基準面の樹脂製コア
層の情報用凹凸部が形成されている情報領域の幅におけ
る光メモリ素子の基準面に対する傾き量が、下記式によ
って表される条件を満たすように構成するのが好ましい
(請求項17)。
Further, it is preferable that the positional deviation between the respective units in the reproduction light incident direction is within 200 μm (claim 16). Further, the inclination amount of the optical memory element with respect to the reference plane in the width of the information area where the information unevenness of the resin core layer on the reference plane of the unit is formed satisfies the condition represented by the following formula. Is preferred (claim 17).

【0020】|x|≦d−t x:ユニットの基準面の情報領域幅における素子の基準
面に対する傾き量 d:再生光照射領域の縦方向の幅 t:コア層の情報領域における厚さ さらに、情報領域の幅が、2mm以上100mm以下で
あるのが好ましい(請求項18)。
| X | ≦ d-t x: amount of inclination of the information area width of the reference surface of the unit with respect to the reference surface d: vertical width of the reproduction light irradiation area t: thickness of the core layer in the information area The width of the information area is preferably 2 mm or more and 100 mm or less (claim 18).

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面により、本発明の実施
の形態について説明する。本発明の一実施形態にかかる
光メモリ素子(光メモリ,多層光メモリ)について、図
1〜図14を参照しながら説明する。本実施形態にかか
る光メモリ素子[積層型(平面型)の光メモリ素子;積
層導波路型ホログラム素子,MWH素子]は、基本的に
は、図2に示すように、樹脂製コア層3と、樹脂製コア
層3の両面に積層された樹脂製クラッド層2とからな
り、樹脂製コア層3と樹脂製クラッド層2との界面の少
なくとも一方に再生像を得るための情報を含む情報用凹
凸部6を有する光導波部材232を1個又は複数個(こ
こでは2個)有してなる積層体を、薄膜基体(基体)
5,5′により挟み込んだサンドイッチ構造としてい
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. An optical memory element (optical memory, multilayer optical memory) according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The optical memory device according to the present embodiment [laminated (planar) optical memory device; laminated waveguide hologram device, MWH device] basically includes a resin core layer 3 and a resin, as shown in FIG. The resin-made clad layer 2 laminated on both sides of the resin-made core layer 3, and the information unevenness portion including information for obtaining a reproduced image on at least one of the interfaces between the resin-made core layer 3 and the resin-made clad layer 2. 6 is a thin film substrate (substrate).
It has a sandwich structure sandwiched by 5, 5 '.

【0022】このように、光メモリ素子4を、樹脂製コ
ア層3と樹脂製クラッド層2とを積層させてなる積層体
(光導波部材232)の両面(上下面)に薄膜基体5,
5′を設け、薄膜基体5,5′で挟み込んだ構造(サン
ドイッチ構造)とすれば、コア層3の反りや撓み(撓み
量)を所定値以下に抑えることができるため好ましい。
As described above, the thin film substrates 5, 5 are provided on both surfaces (upper and lower surfaces) of the laminated body (optical waveguide member 232) formed by laminating the resin core layer 3 and the resin clad layer 2 in the optical memory element 4.
A structure (sandwich structure) in which 5 ′ is provided and sandwiched between the thin film substrates 5 and 5 ′ is preferable because warpage and flexure (deflection amount) of the core layer 3 can be suppressed to a predetermined value or less.

【0023】なお、情報用凹凸部6は、強度,位相,角
度などに関する情報を含むものとして構成される。情報
用凹凸部6は、例えば強度情報と位相情報とを含むもの
である場合もあるし、強度情報と角度情報とを含むもの
である場合もあるし、強度情報のみを含むものである場
合もある。また、再生像とは、このような情報用凹凸部
6からの散乱光によって形成される光の濃淡であれば良
く、どのような像であっても良い。
The information concave / convex portion 6 is configured to include information regarding strength, phase, angle and the like. The information concavo-convex portion 6 may include intensity information and phase information, may include intensity information and angle information, or may include only intensity information. The reproduced image may be any image as long as it is a light and shade of light formed by the scattered light from the uneven portion 6 for information.

【0024】ここで、薄膜基体5,5′としては、樹脂
フィルムを用いるのが好ましい。樹脂フィルムとして
は、ポリカーボネート,アートン(JSR社製)などの
非晶質ポリオレフィン,PET(ポリエチレンテレフタ
レート),PEN(ポリエチレンナフタレート)等の光
学特性に優れる(PENはさらに耐熱性にも優れる)熱
可塑性の樹脂フィルムを用いるのが好適(特に、上記の
PETやPENはいずれも均一な厚みのフィルムを得ら
れやすいので好適)である。また、薄膜基体5,5′と
しては、再生光波長に対して透明のものを用いる。
Here, it is preferable to use resin films as the thin film substrates 5 and 5 '. As the resin film, polycarbonate, amorphous polyolefin such as ARTON (manufactured by JSR), PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), etc. having excellent optical properties (PEN is also excellent in heat resistance) thermoplastic It is preferable to use the above resin film (particularly, the above-mentioned PET and PEN are both preferable because it is easy to obtain a film having a uniform thickness). As the thin film substrates 5 and 5 ', those transparent to the reproduction light wavelength are used.

【0025】なお、薄膜基体5,5′は、樹脂フィルム
に限られるものではなく、積層体(光メモリ素子10)
の反り(撓み)を抑えることができる(曲げを保持でき
る)基体として機能しうる材料によって構成されれば良
く、例えばガラス,誘電体など各種の材料を用いること
ができる。但し、製造工程上、貼着(ラミネート)を行
うなど柔軟性(可撓性)が要求される場合は、樹脂製と
するのが好ましい。各種の硬化性樹脂を塗布後硬化させ
たり、樹脂を溶剤に溶かして塗布し乾燥させたりして樹
脂製薄膜基体としてもよいが、樹脂フィルムを用いる
と、スタンパに対する貼着、剥離を繰り返して行ないや
すく、生産性、作業性の点で好ましい。
The thin film substrates 5 and 5'are not limited to the resin film, but a laminated body (optical memory element 10).
As long as it is made of a material that can function as a substrate capable of suppressing the warp (flexure) (can hold bending), various materials such as glass and a dielectric can be used. However, when flexibility (flexibility) is required in the manufacturing process such as sticking (laminating), it is preferably made of resin. A resin thin film substrate may be prepared by applying various curable resins and then curing them, or by dissolving the resins in a solvent and applying and drying them.However, if a resin film is used, the sticking and peeling on the stamper can be repeated. It is easy and preferable in terms of productivity and workability.

【0026】ところで、上述のような薄膜基体5,5′
によって挟み込んだサンドイッチ構造の光メモリ素子4
を作製するには、第1の薄膜基体5上に、樹脂製クラッ
ド層2と樹脂製コア層3とを順に積層した後で、その上
に第2の薄膜基体5′を設けることになる。この場合、
第2の薄膜基体5′を設ける前は、第1の薄膜基体5上
に樹脂からなるコア層3やクラッド層2が積層させてい
る非対称構造であるため、一方向に反り易い状態になっ
ている。第2の薄膜基体5′を設ける前に反った状態に
なっていた場合に、反った状態のままで第2の薄膜基体
5′を設けてしまうと、反った状態が保たれてしまい、
たとえサンドイッチ構造にしたとしても、反った状態の
光メモリ素子4になってしまう。
By the way, the thin film substrates 5 and 5'as described above.
Sandwiched optical memory device 4
In order to fabricate the above, the resin-made clad layer 2 and the resin-made core layer 3 are laminated in this order on the first thin film substrate 5, and then the second thin film substrate 5 ′ is provided thereon. in this case,
Before the second thin film substrate 5'is provided, since the core layer 3 and the clad layer 2 made of a resin are laminated on the first thin film substrate 5, the structure is easily warped in one direction. There is. If the second thin film substrate 5 ′ is in a warped state before being provided and the second thin film substrate 5 ′ is provided in a warped state, the warped state is maintained,
Even if it has a sandwich structure, the optical memory element 4 is warped.

【0027】そこで、サンドイッチ構造の光メモリ素子
4を作製する光メモリ素子作製プロセスを、例えば光透
過性スタンパを用いた光メモリ素子作製プロセスとする
のが好ましい。なお、光メモリ素子作製プロセスはこれ
に限られるものではない。ここで、光透過性スタンパの
構成及び作製方法について、図3及び図4を参照しなが
ら説明する。
Therefore, it is preferable that the optical memory element manufacturing process for manufacturing the optical memory element 4 having the sandwich structure is, for example, an optical memory element manufacturing process using a light transmissive stamper. The optical memory device manufacturing process is not limited to this. Here, a structure and a manufacturing method of the light transmissive stamper will be described with reference to FIGS.

【0028】光透過性スタンパ13は、後述するように
光メモリ素子4を製造する際にコア材又はクラッド材を
硬化させるために照射する光(例えば紫外線)を透過し
うるものとして構成される。この光透過性スタンパ(光
メモリ素子作製用スタンパ)13は、例えば図3に示す
ように、表面に結像させたい画像(情報)に応じた所望
の凹凸パターン(凹凸形状;ピット)を刻まれたスタン
パ面を有するスタンパ層としてのクラッド層10と、接
着層としてのコア層11と、ベース(基体,ベース層,
基体層)としての樹脂フィルム(樹脂フィルム層,樹脂
製基体層,ベースフィルム層)12とを備える3層構造
となっており、クラッド層10にコア層11を介して樹
脂フィルム12が接着されて構成される。
The light-transmitting stamper 13 is configured so as to be able to transmit light (for example, ultraviolet rays) applied to cure the core material or the clad material when manufacturing the optical memory element 4, as described later. For example, as shown in FIG. 3, the light transmissive stamper (optical memory element manufacturing stamper) 13 is engraved with a desired concavo-convex pattern (concavo-convex shape; pit) corresponding to an image (information) to be imaged on the surface. A clad layer 10 as a stamper layer having a stamper surface, a core layer 11 as an adhesive layer, and a base (base, base layer,
It has a three-layer structure including a resin film (resin film layer, resin base layer, base film layer) 12 as a base layer), and the resin film 12 is bonded to the clad layer 10 via the core layer 11. Composed.

【0029】このように、本実施形態では、光透過性ス
タンパ13を、クラッド層10、コア層11及び樹脂フ
ィルム12により構成し、可撓性を有するフィルム状ス
タンパ(フィルムスタンパ)として構成している。ここ
では、クラッド層10,コア層11及び樹脂フィルム1
2は、いずれも、使用光波長域[光メモリ素子を製造す
る際にコア材やクラッド材を硬化させるために照射する
光(例えば紫外線)の波長域]において透明のもの(即
ち、光を透過できるもの)を用いている。このため、ク
ラッド層10を光透過性クラッド層(例えば紫外線透過
性クラッド層)、コア層11を光透過性コア層(例えば
紫外線透過性コア層)、樹脂フィルム12を光透過性樹
脂フィルム(例えば紫外線透過性樹脂フィルム)とい
う。
As described above, in this embodiment, the light-transmitting stamper 13 is constituted by the clad layer 10, the core layer 11 and the resin film 12, and is formed as a flexible film stamper (film stamper). There is. Here, the clad layer 10, the core layer 11 and the resin film 1
All of 2 are transparent in the used light wavelength range [wavelength range of light (for example, ultraviolet rays) irradiated to cure the core material and the clad material when manufacturing the optical memory element] (that is, light can be transmitted). Stuff) is used. Therefore, the clad layer 10 is a light-transmissive clad layer (for example, a UV-transmissive clad layer), the core layer 11 is a light-transmissive core layer (for example, a UV transmissive core layer), and the resin film 12 is a light-transmissive resin film (for example, UV transparent resin film).

【0030】このうち、クラッド層10を形成するクラ
ッド材としては、紫外線(UV光)を照射することによ
り硬化する紫外線硬化性樹脂材(UV樹脂材,光硬化性
樹脂材)を使用し、表面に結像させたい画像(情報)に
応じた所望の凹凸パターン(凹凸形状;ピット)を形成
された金属製スタンパ(例えばニッケル製スタンパ)1
のスタンパ面(凹凸パターン,凹凸形状)上に、この紫
外線硬化性樹脂材を塗布した後、紫外線を照射して完全
に硬化させることで樹脂製のクラッド層10を形成す
る。
Of these, as the clad material for forming the clad layer 10, an ultraviolet curable resin material (UV resin material, photocurable resin material) which is cured by irradiation with ultraviolet rays (UV light) is used, and the surface thereof is used. A metal stamper (for example, a nickel stamper) having a desired uneven pattern (uneven shape; pit) according to an image (information) to be formed on
The ultraviolet-curable resin material is applied on the stamper surface (uneven pattern, uneven shape) and then irradiated with ultraviolet rays to be completely cured to form the resin clad layer 10.

【0031】樹脂フィルム(ベースフィルム)12とし
ては、例えば、ポリカーボネート,アートン(JSR株
式会社製,登録商標)などの非晶質ポリオレフィンや、
PET(ポリエチレンテレフタレート),PEN(ポリ
エチレンナフタレート)等の光学特性に優れる(PEN
はさらに耐熱性にも優れる)熱可塑性の樹脂フィルム1
2が好適(特に、上記のPETやPENはいずれも均一
な厚みのフィルムを得られやすいので好適)である。特
に、アートンよりも剛性のあるPETやポリカーボネー
トが好ましい。
Examples of the resin film (base film) 12 include amorphous polyolefins such as polycarbonate and ARTON (registered trademark of JSR Corporation),
Excellent optical properties such as PET (polyethylene terephthalate) and PEN (polyethylene naphthalate) (PEN
Is also excellent in heat resistance) Thermoplastic resin film 1
2 is preferable (in particular, PET and PEN are both preferable because it is easy to obtain a film having a uniform thickness). In particular, PET and polycarbonate, which are more rigid than Arton, are preferable.

【0032】また、ここでは、樹脂フィルム12とし
て、枚葉のフィルムを用いているが、連続フィルムを用
いても良い。つまり、フィルム上へのクラッド材、コア
材のダイコータ,マイクログラビア,バーコータ等によ
る塗布、スタンパを加圧した状態でのコア材,クラッド
材の硬化等のプロセスを組み合わせることにより、基体
としての樹脂フィルム上にコア層及びクラッド層を積層
させて、光透過性スタンパ13を作製しても良い。
Further, here, a single film is used as the resin film 12, but a continuous film may be used. In other words, by combining processes such as coating of clad material on the film, core material with a die coater, micro gravure, bar coater, etc., curing of the core material and clad material while the stamper is pressed, the resin film as the substrate is combined. The light transmissive stamper 13 may be manufactured by stacking a core layer and a clad layer on top.

【0033】コア層11は、クラッド層10と樹脂フィ
ルム12とを接着する接着剤として機能するものであ
り、紫外線硬化性樹脂材(光硬化性樹脂材)から成るコ
ア材により形成される。このようにしているのは、コア
材11は後述の光メモリ素子の材料として用いられるも
のであるため、材料を共用化でき、また、光硬化性樹脂
や熱硬化性樹脂等からなるコア材11は樹脂フィルム1
2との接着性に優れており、好適であるからである。
The core layer 11 functions as an adhesive for adhering the clad layer 10 and the resin film 12, and is formed of a core material made of an ultraviolet curable resin material (photocurable resin material). This is because the core material 11 is used as a material for an optical memory element described later, so that the material can be shared and the core material 11 made of a photocurable resin or a thermosetting resin is Resin film 1
This is because it has excellent adhesiveness with 2 and is suitable.

【0034】なお、ここでは、コア層(コア材)11や
クラッド層(クラッド材)10という用語を用いている
が、これらは単に後述するような光メモリ素子を構成す
るコア層(コア材)やクラッド層(クラッド材)と同様
の樹脂を用い、光メモリ素子を製造する場合と同様の方
法で塗布したり、硬化させたりするようにして、材料や
製造設備を共用しているため、便宜上、このような用語
を用いているにすぎず、光メモリ素子のように所定の屈
折率のコア層(コア材)及びクラッド層(クラッド材)
を用いることを意味するものではない。
Although the terms core layer (core material) 11 and clad layer (clad material) 10 are used herein, these are simply the core layer (core material) that constitutes an optical memory device, which will be described later. Since the same resin as the clad layer (clad material) is used and applied and cured in the same manner as in the case of manufacturing an optical memory element, the materials and manufacturing equipment are shared, These terms are only used, and core layers (core materials) and clad layers (clad materials) having a predetermined refractive index like optical memory devices are used.
Does not mean to use.

【0035】また、ここでは、クラッド層10に金属性
スタンパ1の凹凸パターンを転写し、接着剤としてのコ
ア材11を介して樹脂フィルム12に接着しているが、
これに限られるものではなく、クラッド層10に金属性
スタンパ1の凹凸パターンを転写し、接着剤としてのク
ラッド材を介して樹脂フィルム12に接着しても良いし
(この場合、クラッド層と樹脂フィルムとの2層構造と
なる)、また、コア層に金属性スタンパ1の凹凸パター
ンを転写し、接着剤としてのクラッド材を介して樹脂フ
ィルムに接着しても良いし、さらに、コア層に金属性ス
タンパ1の凹凸パターンを転写し、接着剤としてのコア
材を介して樹脂フィルムに接着しても良い(この場合、
コア層と樹脂フィルムとの2層構造となる)。
Although the concave-convex pattern of the metallic stamper 1 is transferred to the clad layer 10 and adhered to the resin film 12 via the core material 11 as an adhesive,
The present invention is not limited to this, and the concavo-convex pattern of the metallic stamper 1 may be transferred to the clad layer 10 and adhered to the resin film 12 via a clad material as an adhesive (in this case, the clad layer and the resin). It may be a two-layer structure with a film), or the uneven pattern of the metallic stamper 1 may be transferred to the core layer and bonded to the resin film via a clad material as an adhesive. The concavo-convex pattern of the metallic stamper 1 may be transferred and adhered to the resin film via a core material as an adhesive (in this case,
It has a two-layer structure of a core layer and a resin film).

【0036】また、コア材11やクラッド材10は、塗
布時には液体で(流動性があり)、その後、硬化させる
ことのできる樹脂であれば何でも良く、上述の紫外線硬
化性樹脂以外の光硬化性樹脂や熱を加えることで硬化す
る熱硬化性樹脂等の所望の硬化性樹脂を適用してもよ
い。また、熱溶融性樹脂を用いても良い。特に、金属製
スタンパ1による転写を行なうクラッド材(クラッド
層)10は、屈折率が特定値のものを用いる必要はな
く、上記の紫外線硬化性樹脂を適用するのが好ましく、
例えば、アクリル系,エポキシ系,チオール系の各樹脂
などがよい。
Further, the core material 11 and the clad material 10 may be any resin that is liquid (having fluidity) at the time of application and can be cured thereafter, and may be any photocurable resin other than the above ultraviolet curable resin. A desired curable resin such as a resin or a thermosetting resin that cures when heat is applied may be applied. Alternatively, a heat-meltable resin may be used. In particular, the clad material (clad layer) 10 for transferring by the metal stamper 1 does not need to have a specific refractive index, and it is preferable to apply the above ultraviolet curable resin,
For example, acrylic resin, epoxy resin, thiol resin, and the like are preferable.

【0037】一方、接着剤(接着層)としてのコア材
(コア層)11は、屈折率が特定値のものを用いる必要
はなく、使用光波長域で透明で、且つ、接着後に簡単に
剥がれないものであれば、どのようなものを適用しても
良い。例えば、光硬化型,熱硬化型,室温硬化型,ホッ
トメルト型,2液混合型等の各種の型の接着剤が適用可
能であり、材質としては、アクリル系,エポキシ系,シ
アノアクリレート系,ウレタン系,オレフィン系等があ
る。但し、樹脂フィルムやクラッド層との材質を考慮し
て接着相性の良い組み合わせを選定するのが好ましい。
On the other hand, the core material (core layer) 11 as an adhesive (adhesive layer) does not need to have a specific refractive index, is transparent in the used light wavelength range, and is easily peeled off after bonding. Anything may be applied as long as it does not exist. For example, various types of adhesives such as a photo-curing type, a thermosetting type, a room temperature curing type, a hot melt type, and a two-liquid mixing type can be applied, and as a material, acrylic type, epoxy type, cyanoacrylate type, There are urethane type and olefin type. However, it is preferable to select a combination having a good adhesive compatibility in consideration of the materials of the resin film and the clad layer.

【0038】さらに、光透過性スタンパ13を保持する
基体を樹脂フィルム12により構成しているのは、金属
製スタンパ1上への貼着、剥離を行ないやすく、生産
性、作業性の点で好ましいからであるが、樹脂フィルム
12に限られるものではなく、例えば各種の硬化性樹脂
を塗布後硬化させたり、樹脂を溶剤に溶かして塗布し、
乾燥させたりして、樹脂製基体を構成しても良い。
Further, it is preferable that the substrate holding the light-transmitting stamper 13 is made of the resin film 12 because it is easy to stick and peel on the metal stamper 1 and the productivity and workability are improved. However, it is not limited to the resin film 12, and for example, various curable resins are applied and then cured, or the resin is dissolved in a solvent and applied.
The resin base body may be formed by drying.

【0039】また、ここでは、クラッド層10、コア層
11及び樹脂フィルム12により構成される光透過性ス
タンパ13をフィルム状のものとして構成しているが、
必ずしもフィルム状のものである必要はなく、例えばフ
ィルム状のものよりも厚さが厚いプレート状のもの(プ
レート状スタンパ,プレートスタンパ)であっても良
く、その厚さは特に問題とならない。
Further, here, the light-transmitting stamper 13 composed of the clad layer 10, the core layer 11 and the resin film 12 is formed as a film,
It does not necessarily have to be a film-shaped one, and may be a plate-shaped one (plate-shaped stamper, plate stamper) thicker than the film-shaped one, for example, and its thickness is not a problem.

【0040】このように、光透過性スタンパ13は、光
メモリ素子を製造する際にコア材又はクラッド材を硬化
させるために照射する光(例えば紫外線)を透過できる
ものであれば、その材料や厚さ等は上述のものに限られ
ない。例えば、光メモリ素子を製造する際にコア材又は
クラッド材を硬化させるために照射する紫外線(UV
光)を透過するものとしては、樹脂のほか、ガラスや石
英などもあり、これらを材料として光透過性スタンパ1
3を構成しても良い。但し、光メモリ素子の製造工程
上、光透過性スタンパ13の貼着(ラミネート)を行な
う必要がある等、光透過性スタンパ13に柔軟性が要求
される場合や光メモリ素子の製造工程と同様の工程によ
り光透過性スタンパ13を製造する場合には、光透過性
スタンパ13は樹脂製とするのが好ましい。
As described above, the light transmissive stamper 13 can be made of any material or thickness as long as it can transmit the light (for example, ultraviolet rays) irradiated for curing the core material or the clad material when manufacturing the optical memory element. The above is not limited to the above. For example, ultraviolet rays (UV) irradiated to cure a core material or a clad material when manufacturing an optical memory device.
In addition to resin, glass and quartz can be used as materials that transmit light), and these materials can be used as the light-transmitting stamper 1.
3 may be configured. However, when the light transmissive stamper 13 is required to have flexibility, for example, it is necessary to attach (laminate) the light transmissive stamper 13 in the manufacturing process of the optical memory device, or the same process as the manufacturing process of the optical memory device. When the light transmissive stamper 13 is manufactured by the above method, the light transmissive stamper 13 is preferably made of resin.

【0041】また、本実施形態では、後述するように、
コア材11及びクラッド材10として紫外線硬化性樹脂
を用いるため、光透過性スタンパ13は少なくとも紫外
線を透過しうる紫外線透過性スタンパであれば良い。ま
た、本実施形態では、光透過性スタンパ(フィルムスタ
ンパ,プレートスタンパ)13を平面状とした平面状ス
タンパとして用いているが、これに限られるものではな
く、例えば可撓性のあるフィルム状の光透過性スタンパ
をロールに巻き付けることによりロール状としたロール
状スタンパ(ロールスタンパ)として用いても良い。こ
のようにロールスタンパとすれば、スタンパからの転写
プロセスの生産性を向上させることができるようにな
る。
In this embodiment, as will be described later,
Since an ultraviolet curable resin is used as the core material 11 and the clad material 10, the light transmissive stamper 13 may be an ultraviolet transmissive stamper that can transmit at least ultraviolet light. Further, in the present embodiment, the light-transmitting stamper (film stamper, plate stamper) 13 is used as a planar stamper, but the invention is not limited to this, and for example, a flexible film-shaped stamper is used. It may be used as a roll-shaped stamper (roll stamper) formed by rolling a light-transmitting stamper around a roll. By using the roll stamper in this way, the productivity of the transfer process from the stamper can be improved.

【0042】次に、このように構成される光透過性スタ
ンパ13の製造方法について説明する。まず、図4
(A)に示すように、結像させたい画像(情報)に応じ
た所望の凹凸パターン(凹凸形状;ピット)を転写しう
るように、凹凸パターンを表面に刻まれた金属製スタン
パ(例えばニッケル製スタンパ等,原盤,硬質スタン
パ)1の凹凸パターンを有するスタンパ面上に、所定の
膜厚(例えば約6μm)となるようにクラッド材(液状
クラッド樹脂)10を塗布して、完全に硬化させる。こ
のようにしてクラッド材10を完全硬化させると、表面
に凹凸パターンを有する金属製スタンパ1から凹凸パタ
ーンが転写されて、凹凸パターンを有する樹脂製のクラ
ッド層(スタンパ層)10が形成される(転写工程)。
なお、クラッド層10として機能する所望の樹脂材を溶
媒に溶解したものを塗布・乾燥させる手法を採っても良
い。また、この凹凸パターンは、実際には、例えばCD
(コンパクトディスク)におけるピットのように平面上
に散在している。
Next, a method of manufacturing the light transmissive stamper 13 having the above structure will be described. First, FIG.
As shown in (A), a metal stamper (for example, nickel) having a concave-convex pattern engraved on its surface so that a desired concave-convex pattern (concave-convex shape; pit) corresponding to an image (information) to be formed can be transferred. A clad material (liquid clad resin) 10 is applied to a stamper surface having a concavo-convex pattern of a stamper or the like (master, hard stamper) 1 so as to have a predetermined film thickness (for example, about 6 μm) and completely cured. . When the clad material 10 is completely cured in this way, the uneven pattern is transferred from the metal stamper 1 having the uneven pattern on the surface, and the resin clad layer (stamper layer) 10 having the uneven pattern is formed ( Transfer process).
A method in which a desired resin material functioning as the clad layer 10 is dissolved in a solvent and applied and dried may be used. In addition, this uneven pattern is actually a CD, for example.
Scattered on a flat surface like pits on a (compact disc).

【0043】その後、図4(B)に示すように、その表
面上に、所定の膜厚(例えば完全硬化時に約1.8μ
m)となるように、接着剤として機能しうる紫外線硬化
性樹脂材(光硬化性樹脂材)から成るコア材(液状コア
樹脂,液状光硬化性樹脂)11を塗布する。なお、コア
層11として機能する所望の樹脂材を溶媒に溶解したも
のを塗布・乾燥させる手法を採っても良い。
After that, as shown in FIG. 4B, a predetermined film thickness (for example, about 1.8 μ when completely cured) is formed on the surface.
m), a core material (liquid core resin, liquid photocurable resin) 11 made of an ultraviolet curable resin material (photocurable resin material) that can function as an adhesive is applied. A method of applying and drying a desired resin material that functions as the core layer 11 dissolved in a solvent may be applied.

【0044】なお、コア材11やクラッド材10の塗布
方法には、例えば、スピンコート法,ブレードコート
法,グラビアコート法,ダイコート法等があるが、塗布
膜厚と均一性を満足すればどのような塗布方法を用いて
もよい。次に、このコア層11の表面上に、例えば図4
(B)に示すように、気泡が入らないようにベース(基
体)としての樹脂フィルム(樹脂製フィルム部材,ベー
スフィルム)12をロール等で加圧しながら載置する。
つまり、クラッド材10にコア材11を介して樹脂フィ
ルム12を貼着(ラミネート)する。
The coating method of the core material 11 and the clad material 10 includes, for example, a spin coating method, a blade coating method, a gravure coating method, a die coating method, and the like, as long as the coating film thickness and the uniformity are satisfied. Such a coating method may be used. Next, on the surface of the core layer 11, for example, as shown in FIG.
As shown in (B), a resin film (resin film member, base film) 12 as a base (base) is placed while being pressed by a roll or the like so that air bubbles do not enter.
That is, the resin film 12 is attached (laminated) to the clad material 10 via the core material 11.

【0045】なお、このように、コア層(樹脂層)11
上に樹脂フィルム(フィルム状部材)12をラミネート
する際には、例えばロール(貼合ロール)によって樹脂
フィルム12をコア層11に対して押し付けて加圧しな
がら(押圧力を作用させながら)載置するようにしてい
るが、この際にコア層11の膜厚が変動しないようにす
るためには、コア層(樹脂層)11が塗布されている面
(クラッド層11の上面)とロールとの間の距離を一定
に保ちながら樹脂フィルム(フィルム状部材)12を貼
着するのが好ましい。この詳細については、後述する。
As described above, the core layer (resin layer) 11
When laminating the resin film (film-like member) 12 thereon, the resin film 12 is pressed against the core layer 11 by a roll (laminating roll) and placed under pressure (while applying a pressing force). However, in order to prevent the thickness of the core layer 11 from changing at this time, the surface on which the core layer (resin layer) 11 is coated (the upper surface of the clad layer 11) and the roll are It is preferable to adhere the resin film (film member) 12 while keeping the distance between them constant. The details will be described later.

【0046】次いで、図4(B)に示すように、上述の
ように樹脂フィルム12を貼着した状態で、樹脂フィル
ム12側(金属製スタンパ1の反対側)から紫外線を照
射してコア材11を完全に硬化させれば、樹脂製のコア
層11が形成されるとともに、樹脂フィルム12とクラ
ッド層10とがコア層11を介して接着される。このよ
うに、凹凸パターンを転写されたクラッド層10に樹脂
フィルム12を接着する工程を、接着工程という。
Next, as shown in FIG. 4B, with the resin film 12 adhered as described above, ultraviolet rays are irradiated from the resin film 12 side (the side opposite to the metal stamper 1) to expose the core material. When the resin layer 11 is completely cured, the resin core layer 11 is formed, and the resin film 12 and the clad layer 10 are bonded together via the core layer 11. The step of adhering the resin film 12 to the clad layer 10 to which the concavo-convex pattern has been transferred in this way is called an adhering step.

【0047】そして、図4(C)に示すように、金属製
スタンパ1からコア層11とクラッド層10と樹脂フィ
ルム12とを一体として剥離(分離)し(分離工程)、
図4(D)に示すように、樹脂フィルム12を樹脂製基
体層とし、その上に樹脂製のコア層11、さらにその上
に金属製スタンパ1の凹凸パターン(以下、単に「凹
凸」ともいう)を転写(形成)した樹脂製のクラッド層
10が積層された、光メモリ素子製造用の光透過性スタ
ンパ(ここでは、フィルムスタンパ)13が作製され
る。
Then, as shown in FIG. 4C, the core layer 11, the cladding layer 10 and the resin film 12 are integrally separated (separated) from the metal stamper 1 (separation step),
As shown in FIG. 4D, a resin film 12 is used as a resin base layer, a resin core layer 11 is formed on the resin film 12, and an uneven pattern of the metal stamper 1 is formed on the resin core layer 11 (hereinafter also simply referred to as “unevenness”). (3) is transferred (formed) to form a resin-made clad layer 10 to produce a light-transmitting stamper (here, a film stamper) 13 for manufacturing an optical memory element.

【0048】本実施形態では、さらに、図4(D)に示
すように、金属製スタンパ1の凹凸パターンを転写した
樹脂製のクラッド層10の凹凸パターンを有する面に対
して、紫外線を照射して、さらに硬化させることで、ク
ラッド層2に形成される凹凸パターン(凹凸形状;ピッ
ト)の接着性をより低下させるようにしている(これを
オーバキュア処理という)。好ましくは、例えば約12
0℃程度の高温処理を行なう。この高温処理時間は、約
1時間程度とするのが好ましい。これにより、さらに接
着性を低下させることができる(これもオーバキュア処
理という)。このようなオーバキュア処理を行なうこと
で、光メモリ素子を構成するコア材又はクラッド材から
の光透過性スタンパ13の剥離性を向上させるようにし
ている。
In the present embodiment, further, as shown in FIG. 4D, ultraviolet rays are radiated to the surface of the resin clad layer 10 having the concavo-convex pattern transferred from the concavo-convex pattern of the metal stamper 1. Then, by further curing, the adhesiveness of the concave / convex pattern (concave / convex shape; pit) formed in the cladding layer 2 is further lowered (this is called overcure treatment). Preferably, for example, about 12
A high temperature treatment of about 0 ° C. is performed. This high temperature treatment time is preferably about 1 hour. This can further reduce the adhesiveness (also referred to as overcure treatment). By performing such an overcure treatment, the releasability of the light transmissive stamper 13 from the core material or the clad material forming the optical memory element is improved.

【0049】次に、このようにして作製される光透過性
スタンパ13を用いて、薄膜基体として樹脂フィルム
5,5′を用いた場合の光メモリ素子の作製プロセス
(光メモリ素子の製造方法)について説明する。本光メ
モリ素子作製プロセスの概略を説明すると、本プロセス
では、まずガラス等の基板(≠基体)上に薄膜基体5を
設け、その上に樹脂製コア層3と樹脂製クラッド層2を
積層させていく。最後に、その上に薄膜基体5′を設け
て、サンドイッチ構造を完成した状態で、基板から薄膜
基体5,5′にサンドイッチされた構造の光メモリ素子
4を剥離する。
Next, a description will be given of an optical memory element manufacturing process (a method for manufacturing an optical memory element) in the case where the resin films 5 and 5'are used as the thin film substrate using the light transmissive stamper 13 thus manufactured. To do. In the present process, the thin film substrate 5 is first provided on a substrate such as glass (≠ substrate), and the resin core layer 3 and the resin clad layer 2 are laminated on the thin film substrate 5. Go. Finally, a thin film substrate 5'is provided thereon, and in a state where the sandwich structure is completed, the optical memory element 4 having the structure sandwiched by the thin film substrates 5 and 5'is peeled from the substrate.

【0050】以下、光メモリ素子作製プロセスについ
て、図5(A)〜(E)を参照しながら、さらに詳述す
る。始めに、図5(A)に示すように、光メモリ素子作
製用ベース基板21上に、所定の膜厚(例えば完全硬化
時に約5μm)となるようにクラッド材(液状クラッド
樹脂)2Xを塗布する。
The optical memory device manufacturing process will be described in more detail below with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 5A, a clad material (liquid clad resin) 2X is applied onto a base substrate 21 for optical memory device production so as to have a predetermined film thickness (for example, about 5 μm when completely cured). .

【0051】このクラッド材2Xとしては、本実施形態
では、紫外線(UV光)を照射することにより硬化する
紫外線硬化性樹脂材(UV樹脂材,光硬化性樹脂材)か
ら成るものを使用し、このように光メモリ素子作製用ベ
ース基板21の表面上へ塗布した後、紫外線を照射して
完全に硬化させることで樹脂製のクラッド層2Xを形成
する。なお、クラッド層2Xとして機能する所望の樹脂
材を溶媒に溶解したものを塗布・乾燥させる手法を採っ
ても良い。
In this embodiment, the clad material 2X is made of an ultraviolet curable resin material (UV resin material, photocurable resin material) which is cured by irradiation with ultraviolet rays (UV light). After being coated on the surface of the optical memory element manufacturing base substrate 21 in this manner, the resin clad layer 2X is formed by irradiating ultraviolet rays to completely cure the resin. A method in which a desired resin material functioning as the cladding layer 2X is dissolved in a solvent and applied and dried may be used.

【0052】ここでは、光メモリ素子作製用ベース基板
21として、例えば数mm厚のガラス基板,ポリカーボ
ネートからなる基板,アートン(JSR株式会社製)な
どの非晶質ポリオレフィンからなる基板等の硬質基板
(例えば厚さ約0.1mm〜約3mm程度、好ましくは
約1mm程度)を用いる。このような硬質基板を用いて
いるのは、以下の理由による。
Here, as the optical memory element manufacturing base substrate 21, for example, a hard substrate such as a glass substrate having a thickness of several mm, a substrate made of polycarbonate, or a substrate made of amorphous polyolefin such as Arton (manufactured by JSR Corporation) (for example, The thickness is about 0.1 mm to about 3 mm, preferably about 1 mm). The reason why such a hard substrate is used is as follows.

【0053】つまり、後述するように、基板21上に樹
脂製コア層3や樹脂製クラッド層2を積層させていく間
は、サンドイッチ構造が構成されないので、コア層3や
クラッド層2を構成する樹脂中の内部応力が基板を一方
向に反らせる方向に働くことになる。この場合、基板2
1の強度が十分でない場合には、基板21に反りが生じ
てしまい、この反りが大きくなると、樹脂の塗布や樹脂
フィルムの貼着等のプロセスが行なえなくなる。
That is, as described later, since the sandwich structure is not formed while the resin core layer 3 and the resin clad layer 2 are laminated on the substrate 21, the core layer 3 and the clad layer 2 are formed. Internal stress in the resin acts in such a direction as to warp the substrate in one direction. In this case, the substrate 2
If the strength of No. 1 is not sufficient, the substrate 21 is warped, and if the warping is large, processes such as resin application and resin film attachment cannot be performed.

【0054】また、基板21が反った状態のまま薄膜基
体5を設けてサンドイッチ構造を完成させ、これを基板
21から剥離させると、サンドイッチ構造の光メモリ素
子4を作製できるものの、反りが保たれたままの状態と
なってしまう。このため、樹脂製コア層3と樹脂製クラ
ッド層2の積層を行っている間も基板21の反りを抑え
るべく、基板21として硬質基板を用いているのであ
る。
Further, when the thin film substrate 5 is provided with the substrate 21 warped to complete the sandwich structure and the sandwich structure is peeled from the substrate 21, the optical memory device 4 having the sandwich structure can be manufactured, but the warp is maintained. It will be left as it is. Therefore, a hard substrate is used as the substrate 21 in order to suppress the warp of the substrate 21 while the resin core layer 3 and the resin clad layer 2 are being laminated.

【0055】これにより、硬質基板21の強度によっ
て、樹脂製コア層3や樹脂製クラッド層2の積層を行っ
ている間も、クラッド材やコア材としての紫外線硬化性
樹脂材が硬化時に収縮し、基板21の反り(反曲,カー
ル)が生じるのを抑えることができる。一方、上述のよ
うに硬質基板21を用いることができるのは、以下の理
由による。
Thus, due to the strength of the hard substrate 21, the ultraviolet curable resin material as the clad material or the core material shrinks during curing even while the resin core layer 3 and the resin clad layer 2 are being laminated. It is possible to prevent the substrate 21 from being warped (curved or curled). On the other hand, the hard substrate 21 can be used as described above for the following reason.

【0056】つまり、基板は、最終的には光メモリ素子
4から外されてしまうものであるため、基板の厚さや重
さは、光メモリ素子4の厚みや重さに影響を与えること
はない。従って、厚さや重さのある基板21を用いたと
しても、光メモリ素子4の実用性を失うことないため、
基板として、反りが発生しないだけの十分な強度を持つ
ものとすることが可能である。
That is, since the substrate is finally removed from the optical memory element 4, the thickness and weight of the substrate do not affect the thickness and weight of the optical memory element 4. Therefore, even if the thick and heavy substrate 21 is used, the practicality of the optical memory element 4 is not lost.
It is possible to use a substrate having sufficient strength so that warpage does not occur.

【0057】また、金属性スタンパを用いる場合に、ベ
ース基板を硬質基板とすると、金属性スタンパを曲げる
(撓ませる)のが難しいため、金属製スタンパからクラ
ッド層及びコア層からなる積層体を剥離(分離)させる
のが困難である。このため、ベース基板として硬質基板
を用いることはできなかったが、本実施形態では、柔軟
性(可撓性)のある光透過性の樹脂スタンパ(フィルム
スタンパ)13を用いるため、積層体からのスタンパ1
3の剥離(分離)は容易であるから、ベース基板として
硬質基板を用いるのが可能になったのである。
In the case of using a metal stamper, if the base substrate is a hard substrate, it is difficult to bend (bend) the metal stamper. Therefore, the laminate consisting of the clad layer and the core layer is peeled from the metal stamper. Difficult to (separate). For this reason, a hard substrate could not be used as the base substrate, but in the present embodiment, since a light-transmitting resin stamper (film stamper) 13 having flexibility is used, it is possible to use Stamper 1
Since the peeling (separation) of 3 was easy, it became possible to use a hard substrate as the base substrate.

【0058】なお、光メモリ素子作製用ベース基板21
は、クラッド材2やコア材3として用いられる紫外線硬
化性樹脂材に紫外線を照射した際の紫外線硬化性樹脂の
収縮に耐え、クラッド層2やコア層3が反らないだけの
強度を備えるものであれば良い。次に、このようにクラ
ッド材2Xを完全硬化させた後、図5(A)に示すよう
に、その表面上に、紫外線硬化性樹脂材(光硬化性樹脂
材)から成るコア材(液状コア樹脂)3Xaを所定の膜
厚(完全硬化時に約1.8μm程度)になるように塗布
する。なお、コア層3Xaとして機能する所望の樹脂材
を溶媒に溶解したものを塗布・乾燥させる手法を採って
も良い。
The base substrate 21 for manufacturing the optical memory device
Is a material that withstands the contraction of the ultraviolet curable resin when the ultraviolet curable resin material used as the clad material 2 or the core material 3 is irradiated with ultraviolet rays and has a strength that does not warp the clad layer 2 or the core layer 3. If it is good. Next, after the clad material 2X is completely cured in this way, as shown in FIG. 5A, a core material (liquid core) made of an ultraviolet curable resin material (photocurable resin material) is formed on the surface thereof. Resin) 3Xa is applied so as to have a predetermined film thickness (about 1.8 μm when completely cured). A method in which a desired resin material functioning as the core layer 3Xa is dissolved in a solvent and applied and dried may be used.

【0059】次いで、このようにしてコア材3Xaを塗
布した後、図5(A)に示すように、コア材3Xaの表
面上に、薄膜基体(ベース)となる樹脂フィルム(樹脂
製フィルム部材,ベースフィルム)5を、気泡が入らな
いように例えばロール等を用いて加圧しながら載置す
る。つまり、クラッド層2Xにコア材3Xaを介して樹
脂フィルム5を貼着(ラミネート)する。
Next, after applying the core material 3Xa in this way, as shown in FIG. 5A, a resin film (resin film member, resin film member) to be a thin film substrate (base) is formed on the surface of the core material 3Xa. The base film) 5 is placed under pressure using, for example, a roll so that air bubbles do not enter. That is, the resin film 5 is attached (laminated) to the clad layer 2X via the core material 3Xa.

【0060】なお、このように、コア材(樹脂材)3X
a上に樹脂フィルム(フィルム状部材)5をラミネート
する際には、例えばロール(貼合ロール)によって樹脂
フィルム5をコア材3Xaに対して押し付けて加圧しな
がら(押圧力を作用させながら)載置するようにしてい
るが、この際にコア材3Xaの膜厚が変動しないように
するためには、コア材(樹脂材)3Xaが塗布されてい
る面(クラッド材2Xの上面)とロールとの間の距離を
一定に保ちながら樹脂フィルム(フィルム状部材)5を
貼着するのが好ましい。この詳細については、後述す
る。
As described above, the core material (resin material) 3X
When laminating the resin film (film member) 5 on a, the resin film 5 is pressed against the core material 3Xa by a roll (laminating roll) and pressed (while pressing force is applied). However, in order to prevent the thickness of the core material 3Xa from changing at this time, the surface coated with the core material (resin material) 3Xa (the upper surface of the clad material 2X) and the roll are It is preferable to stick the resin film (film-like member) 5 while keeping the distance between them constant. The details will be described later.

【0061】かかる状態で、紫外線を照射してコア材3
Xaを完全硬化させれば、樹脂製のコア層3Xaが形成
されるとともに、樹脂フィルム5とコア層3Xaとが接
着される。ここで、樹脂フィルム5は、使用光波長域
(コア層3を導波させるレーザ光の波長域)で透明で
(散乱光を透過でき)、光学的な特性や膜厚の均一性,
力学的な強度などが許す限り、できるだけ薄い方が良
い。これは、上記の凹凸で散乱した散乱光を最終的に外
部へ放出できるようにするためと、最終的に製造される
光メモリ素子4′の厚さを薄くするためであるが、本実
施形態では、それだけでなく、樹脂フィルム5とクラッ
ド層2Xとの間にあるコア材3Xa内に気泡が入りにく
くするためでもある。
In this state, the core material 3 is irradiated with ultraviolet rays.
When Xa is completely cured, the resin core layer 3Xa is formed and the resin film 5 and the core layer 3Xa are bonded together. Here, the resin film 5 is transparent (capable of transmitting scattered light) in the used light wavelength range (wavelength range of laser light guided in the core layer 3), and has optical characteristics and film thickness uniformity,
As far as mechanical strength allows, it is better to be as thin as possible. This is to allow the scattered light scattered by the unevenness to be finally emitted to the outside and to reduce the thickness of the finally manufactured optical memory element 4 ', but in the present embodiment, Not only that, but also for making it difficult for bubbles to enter into the core material 3Xa between the resin film 5 and the cladding layer 2X.

【0062】即ち、コア材3Xaの塗布されたクラッド
層2X上に樹脂フィルム5を貼着する工程で、樹脂フィ
ルム5の厚みが薄いと柔軟性(可撓性)に優れるため、
樹脂フィルム5を曲げながら少しずつ接触させてゆくこ
とによって、載置面積をゆっくりと増加させることが可
能になり、クラッド材2X内に気泡が混入してその部分
の屈折率や膜厚が変化してしまう等の影響を抑止するこ
とができるのである。
That is, in the step of sticking the resin film 5 on the clad layer 2X coated with the core material 3Xa, if the resin film 5 is thin, the flexibility (flexibility) is excellent.
By gradually contacting the resin film 5 while bending it, the mounting area can be slowly increased, and bubbles are mixed in the clad material 2X to change the refractive index and the film thickness of that portion. It is possible to suppress the effects such as being lost.

【0063】このため、樹脂フィルム5には、例えば、
ポリカーボネート,アートン(JSR株式会社製)など
の非晶質ポリオレフィンや、PET(ポリエチレンテレ
フタレート),PEN(ポリエチレンナフタレート)等
の光学特性に優れる(PENはさらに耐熱性にも優れ
る)熱可塑性の樹脂フィルム5が好適(特に、上記のP
ETやPENはいずれも均一な厚みのフィルムを得られ
やすいので好適)で、これらのいずれかを熱延伸或いは
溶媒キャスト等の方法で、例えば100μm以下の厚さ
にしたものがよい。
For this reason, the resin film 5 has, for example,
Amorphous polyolefin films such as polycarbonate and ARTON (made by JSR Corporation), and thermoplastic resin films such as PET (polyethylene terephthalate) and PEN (polyethylene naphthalate) that have excellent optical properties (PEN is also excellent in heat resistance) 5 is preferable (especially, the above P
ET and PEN are both suitable because it is easy to obtain a film having a uniform thickness), and it is preferable that one of these is made to have a thickness of 100 μm or less by a method such as hot stretching or solvent casting.

【0064】これ以上厚さが厚いと、樹脂フィルム5の
柔軟性(可撓性)が乏しくなり樹脂フィルム5をコア材
3Xa上に載置する際に気泡が混入しやすくなってしま
う。逆に、樹脂フィルム5の厚みが極端に薄い場合、例
えば1μmよりも薄いような場合は、クラッド層2及び
コア層3からなる積層体を光メモリ素子作製用ベース基
板21から剥離(分離)する際に、樹脂フィルム5が積
層体を保持する機能を果たし得なくなることがあるので
好ましくない。
If the thickness is larger than this, the flexibility of the resin film 5 becomes poor, and bubbles tend to be mixed when the resin film 5 is placed on the core material 3Xa. On the contrary, when the resin film 5 is extremely thin, for example, thinner than 1 μm, when peeling (separating) the laminated body including the clad layer 2 and the core layer 3 from the optical memory element manufacturing base substrate 21. In addition, the resin film 5 may not be able to fulfill the function of holding the laminate, which is not preferable.

【0065】なお、上述の工程では、光メモリ素子作製
用ベース基板21上に、クラッド層2Xを形成し、これ
にコア材3Xaを介して樹脂フィルム5を貼着している
が、これに限られるものではなく、光メモリ素子作製用
ベース基板21上に、クラッド層2Xを形成し、これに
接着剤として機能するクラッド材を介して樹脂フィルム
5を貼着しても良い。この場合、光メモリ素子作製用ベ
ース基板21上に、クラッド層を介して樹脂フィルム5
が積層されることになる。
In the above steps, the clad layer 2X is formed on the optical memory device manufacturing base substrate 21, and the resin film 5 is attached to the clad layer 2X via the core material 3Xa, but the present invention is not limited to this. Alternatively, the clad layer 2X may be formed on the base substrate 21 for manufacturing an optical memory element, and the resin film 5 may be attached to the clad layer 2X via a clad material that functions as an adhesive. In this case, the resin film 5 is formed on the optical memory element manufacturing base substrate 21 with the clad layer interposed therebetween.
Will be stacked.

【0066】また、光メモリ素子作製用ベース基板21
上に、コア層を形成し、これに接着剤として機能するク
ラッド材を介して樹脂フィルム5を貼着しても良い。こ
の場合、光メモリ素子作製用ベース基板21上に、コア
層、クラッド層を介して樹脂フィルム5が積層されるこ
とになる。さらに、光メモリ素子作製用ベース基板21
上に、コア層を形成し、これに接着剤として機能するコ
ア材を介して樹脂フィルム5を貼着しても良い。この場
合、光メモリ素子作製用ベース基板上に、コア層を介し
て樹脂フィルム5が積層されることになる。
The base substrate 21 for manufacturing the optical memory device
A core layer may be formed on top of which a resin film 5 may be attached via a clad material that functions as an adhesive. In this case, the resin film 5 is laminated on the optical memory element manufacturing base substrate 21 via the core layer and the clad layer. Further, the base substrate 21 for manufacturing the optical memory element
You may form a core layer on it and stick the resin film 5 to this via the core material which functions as an adhesive agent. In this case, the resin film 5 is laminated on the base substrate for producing the optical memory element with the core layer interposed therebetween.

【0067】なお、これらは、いずれも光メモリ素子作
製用ベース基板上に、基体としての樹脂フィルム5を接
着するものであるため、これらを基体接着工程という。
ここで、接着剤(接着層)としてのコア材(コア層)又
はクラッド材(クラッド層)は、屈折率が特定値のもの
を用いる必要はなく、樹脂フィルム5や光メモリ素子作
製用ベース基板21の材質を考慮して接着相性の良い組
み合わせを選定すれば良い。このため、例えば、光硬化
型,熱硬化型,室温硬化型,ホットメルト型,2液混合
型等の各種の型の接着剤が適用可能であり、材質として
は、アクリル系,エポキシ系,シアノアクリレート系,
ウレタン系,オレフィン系等を用いることができる。
Since these are all for adhering the resin film 5 as a base on the base substrate for optical memory element production, these are referred to as a base adhering step.
Here, as the core material (core layer) or the clad material (clad layer) as the adhesive (adhesive layer), it is not necessary to use a material having a specific refractive index, and the resin film 5 or the optical memory element manufacturing base substrate 21 is used. It is only necessary to select a combination having a good adhesive compatibility in consideration of the material of. Therefore, for example, various types of adhesives such as photo-curing type, heat-curing type, room-temperature curing type, hot-melt type, and two-liquid mixing type can be applied, and the material can be acrylic type, epoxy type, cyano type, or the like. Acrylate-based,
Urethane type, olefin type, etc. can be used.

【0068】次に、図5(B)に示すように、上述の樹
脂フィルム5上に、所定の膜厚(例えば完全硬化時に約
1.8μm)となるように、紫外線硬化性樹脂材からな
るコア材(液状コア樹脂)3Xbを塗布した後、紫外線
を照射して完全に硬化させることで樹脂製のコア層3X
bを形成する。なお、上述の2つのコア層3Xa,3X
bは、後述するコア層3と異なり凹凸パターンが設けら
れておらず、専らクラッド層2Xと樹脂フィルム5との
間の接着のために用いられ、情報再生層としては機能し
ない。また、上述のクラッド層2Xも、後述するクラッ
ド層2と異なり光導波路デバイスを構成するものではな
く、専ら光メモリ素子作製用ベース基板としてのガラス
基板21等とコア層3Xaとの接着のために用いられて
いる。
Next, as shown in FIG. 5B, an ultraviolet curable resin material is formed on the resin film 5 so as to have a predetermined film thickness (for example, about 1.8 μm when completely cured). After applying the core material (liquid core resin) 3Xb, the resin core layer 3X is obtained by irradiating ultraviolet rays to completely cure the resin.
b is formed. The above-mentioned two core layers 3Xa and 3X
Unlike the core layer 3 which will be described later, the pattern b is not provided with a concavo-convex pattern, is used exclusively for bonding between the clad layer 2X and the resin film 5, and does not function as an information reproducing layer. Also, the above-mentioned clad layer 2X does not constitute an optical waveguide device unlike the clad layer 2 described later, and is used exclusively for bonding the glass substrate 21 or the like as the base substrate for optical memory device fabrication and the core layer 3Xa. Has been.

【0069】次いで、図5(C)に示すように、このコ
ア層3Xbの表面上に、所定の膜厚(例えば、完全硬化
時に約15〜約20μm)となるようにクラッド材(液
状クラッド樹脂)2を塗布する。このクラッド材2とし
ては、本実施形態では、紫外線(UV光)を照射するこ
とにより硬化する紫外線硬化性樹脂材(UV樹脂材)か
ら成るものを使用し、コア層3Xbの表面上に塗布した
後、紫外線を照射して完全に硬化させることで樹脂製の
クラッド層2を形成する。なお、クラッド層2として機
能する所望の樹脂材を溶媒に溶解したものを塗布・乾燥
させる手法を採っても良い。
Then, as shown in FIG. 5C, a clad material (liquid clad resin) is formed on the surface of the core layer 3Xb so as to have a predetermined film thickness (for example, about 15 to about 20 μm when completely cured). ) Apply 2. In the present embodiment, as the clad material 2, a material made of an ultraviolet curable resin material (UV resin material) which is cured by irradiation with ultraviolet rays (UV light) is used, and is applied on the surface of the core layer 3Xb. Then, the resin clad layer 2 is formed by irradiating ultraviolet rays to completely cure the resin. A method in which a desired resin material functioning as the clad layer 2 is dissolved in a solvent and applied and dried may be used.

【0070】このようにクラッド材2を完全硬化させた
後、図5(C)に示すように、その表面上に、クラッド
層2よりも屈折率の大きい紫外線硬化性樹脂材から成る
コア材(液状コア樹脂)3を所定の膜厚(完全硬化時に
約1.8μm程度)になるように塗布する。なお、コア
層3として機能する所望の樹脂材を溶媒に溶解したもの
を塗布・乾燥させる手法を採っても良い。
After the clad material 2 is completely cured in this manner, as shown in FIG. 5C, a core material (made of an ultraviolet curable resin material having a refractive index larger than that of the clad layer 2 is formed on the surface thereof ( Liquid core resin 3 is applied so as to have a predetermined film thickness (about 1.8 μm when completely cured). A method of applying and drying a desired resin material that functions as the core layer 3 dissolved in a solvent may be applied.

【0071】次いで、このようにしてコア材3を塗布し
た後、図5(C)に示すように、その表面上に、結像さ
せたい画像(情報)に応じた所望の凹凸パターン(凸形
状;ピット)を表面に刻まれた光透過性スタンパ(フィ
ルムスタンパ,樹脂製スタンパ)13をラミネート(貼
着)する。なお、このように、コア材(樹脂材)3上に
光透過性スタンパ(フィルム状部材)13をラミネート
する際には、例えばロール(貼合ロール)によって光透
過性スタンパ13をコア材3に対して押し付けて加圧し
ながら(押圧力を作用させながら)載置することになる
が、この際にコア材3の膜厚が変動しないようにするた
めには、コア材(樹脂材)3が塗布されている面(クラ
ッド材2の上面)とロールとの間の距離を一定に保ちな
がら光透過性スタンパ(フィルム状部材)13を貼着す
るのが好ましい。この詳細については、後述する。
Then, after applying the core material 3 in this manner, as shown in FIG. 5C, a desired concavo-convex pattern (convex shape) corresponding to an image (information) to be formed is formed on the surface thereof. A light-transmitting stamper (film stamper, resin stamper) 13 having pits carved on the surface is laminated (attached). In addition, when laminating the light-transmitting stamper (film member) 13 on the core material (resin material) 3 as described above, the light-transmitting stamper 13 is attached to the core material 3 by, for example, a roll (bonding roll). The core material (resin material) 3 is placed against the core material 3 while pressing and pressing it (while applying a pressing force), in order to prevent the thickness of the core material 3 from changing. It is preferable to attach the light transmissive stamper (film member) 13 while keeping the distance between the coated surface (upper surface of the clad material 2) and the roll constant. The details will be described later.

【0072】かかる状態で、図5(D)に示すように、
ラミネートされた光透過性の樹脂製スタンパ13の裏面
側(樹脂フィルム12側,凹凸パターンを有する面の反
対側)から紫外線を照射して、この光透過性スタンパ1
3を透過した紫外線によってコア材3を一部不完全硬化
させる。ここで、一部不完全硬化とは、コア材の一部の
みが完全には硬化せずに不完全に硬化することをいい、
例えば空気に触れているために硬化の遅いコア層のエッ
ジ部のみが完全には硬化せずに不完全に硬化する状態を
いう。
In this state, as shown in FIG.
Ultraviolet rays are radiated from the back surface side (the resin film 12 side, the side opposite to the surface having the concavo-convex pattern) of the laminated light-transmitting resin stamper 13 to obtain the light-transmitting stamper 1.
Part of the core material 3 is incompletely cured by the ultraviolet rays that have passed through the core material 3. Here, the partial incomplete curing means that only a part of the core material is not completely cured but is incompletely cured,
For example, it means a state in which only the edge portion of the core layer, which is slow to cure due to exposure to air, is not completely cured but is incompletely cured.

【0073】このように、コア層3を完全硬化させずに
一部不完全硬化としているのは、光透過性スタンパ13
をラミネートした状態でコア層3を完全に硬化させてし
まうと、コア層3から光透過性スタンパ13を剥離させ
ることができなくなるからである。次に、図5(E)に
示すように、光透過性の樹脂製スタンパ13を光メモリ
媒体用ベース基板21上に積層された積層体のコア層3
から剥離(分離)した後、光透過性の樹脂製スタンパ1
3の凹凸パターン(以下、単に「凹凸」ともいう)が転
写(形成)された樹脂製のコア層3に対して紫外線を照
射して、コア層3を完全硬化させる。これにより、光メ
モリ媒体用ベース基板21上に樹脂製のクラッド層2、
さらにその上に光透過性の樹脂製スタンパ13の凹凸パ
ターンを転写された樹脂製のコア層(記録層,光導波
路)3が積層される。なお、この凹凸パターンは、実際
には、例えばCD(コンパクトディスク)におけるピッ
トのように平面上に散在している。
As described above, the reason why the core layer 3 is partially cured instead of completely cured is that the light-transmitting stamper 13 is used.
This is because if the core layer 3 is completely cured in the laminated state, the light-transmitting stamper 13 cannot be separated from the core layer 3. Next, as shown in FIG. 5E, a core layer 3 of a laminated body in which a light-transmissive resin stamper 13 is laminated on a base substrate 21 for an optical memory medium.
After being peeled (separated) from the stamper, a light-transmitting resin stamper 1
The resin-made core layer 3 to which the uneven pattern 3 (hereinafter, also simply referred to as “unevenness”) is transferred (formed) is irradiated with ultraviolet rays to completely cure the core layer 3. As a result, the resin-made clad layer 2 is formed on the optical memory medium base substrate 21,
Further, a resin core layer (recording layer, optical waveguide) 3 to which the concavo-convex pattern of the light-transmitting resin stamper 13 is transferred is laminated thereon. It should be noted that the uneven pattern is actually scattered on a plane like pits on a CD (compact disc).

【0074】次に、コア層3の表面上に、所定の膜厚
(例えば、完全硬化時に約15〜約20μm)となるよ
うに、コア層3よりも屈折率の小さい紫外線硬化性樹脂
材からなるクラッド材(液状クラッド樹脂)2を塗布し
た後、紫外線を照射して完全に硬化させることで樹脂製
のクラッド層2を形成する。以後、上述と同様の処理
(図5(C)〜(E)に示す処理)を繰り返すことで、
光メモリ素子作製用ベース基板21上に、例えば基体と
しての樹脂フィルム等を介在させることなく、コア層3
及びクラッド層2を連続して所望の積層数(例えば10
0層程度)になるまで積層する。
Next, an ultraviolet curable resin material having a smaller refractive index than the core layer 3 is formed on the surface of the core layer 3 so that a predetermined film thickness (for example, about 15 to about 20 μm when completely cured) is obtained. After coating the clad material (liquid clad resin) 2 made of the above, the resin clad layer 2 is formed by irradiating ultraviolet rays to completely cure the clad layer 2. After that, by repeating the same processing (processing shown in FIGS. 5C to 5E) as described above,
The core layer 3 is formed on the optical memory element manufacturing base substrate 21 without interposing a resin film or the like as a base body, for example.
And the clad layer 2 in succession with a desired number of layers (for example, 10
Laminate until it reaches 0 layer).

【0075】なお、上述のように、基体としての樹脂フ
ィルム5上にクラッド層2及びコア層3を順次積層して
所望の積層数を有する積層体を形成する工程を、積層体
形成工程という。ところで、本実施形態では、図6
(A)に示すように、上述のようにして所望の積層数だ
け積層させた後、最後に積層したクラッド層2(最上層
のクラッド層2d)の表面上に、所定の膜厚(例えば完
全硬化時に約1.8μm)となるように、紫外線硬化性
樹脂材からなるコア材(液状コア樹脂)3Xcを塗布す
る。
As described above, the step of sequentially laminating the clad layer 2 and the core layer 3 on the resin film 5 as the base to form a laminated body having a desired number of laminated layers is called a laminated body forming step. By the way, in this embodiment, as shown in FIG.
As shown in (A), after laminating a desired number of layers as described above, a predetermined film thickness (for example, complete layer) is formed on the surface of the clad layer 2 (the uppermost clad layer 2d) finally laminated. A core material (liquid core resin) 3Xc made of an ultraviolet curable resin material is applied so as to have a thickness of about 1.8 μm when cured.

【0076】次いで、このようにしてコア材3Xcを塗
布した後、図6(A)に示すように、コア材3Xcの表
面上に、基体(ベース)となる樹脂フィルム(樹脂製フ
ィルム部材,ベースフィルム)5′を、気泡が入らない
ように例えばロール等を用いて加圧しながら貼着(ラミ
ネート)する。なお、このように、コア材(樹脂材)3
Xc上に樹脂フィルム(フィルム状部材)5′をラミネ
ートする際には、例えばロール(貼合ロール)によって
樹脂フィルム5′をコア材3Xcに対して押し付けて加
圧しながら(押圧力を作用させながら)載置することに
なるが、この際にコア材3Xcの膜厚が変動しないよう
にするためには、コア材(樹脂材)3Xcが塗布されて
いる面(クラッド材2の上面)とロールとの間の距離を
一定に保ちながら樹脂フィルム(フィルム状部材)5′
を貼着するのが好ましい。この詳細については、後述す
る。
Next, after applying the core material 3Xc in this way, as shown in FIG. 6A, a resin film (resin film member, base) serving as a base (base) is formed on the surface of the core material 3Xc. The film 5'is attached (laminated) while being pressed using, for example, a roll so that air bubbles do not enter. In addition, as described above, the core material (resin material) 3
When laminating the resin film (film-like member) 5'on Xc, for example, the resin film 5'is pressed against the core material 3Xc by a roll (laminating roll) while being pressed (while applying a pressing force. ) In order to prevent the film thickness of the core material 3Xc from varying at this time, the surface coated with the core material (resin material) 3Xc (the upper surface of the clad material 2) and the roll are placed. Resin film (film member) 5'while keeping the distance between
Is preferably attached. The details will be described later.

【0077】かかる状態で、紫外線をさらに照射してコ
ア材3Xcを完全硬化させれば、樹脂製のコア層3Xc
が形成されるとともに、樹脂フィルム5′とコア層3X
cとが接着される。その後、このようにして作製される
光メモリ素子(即ち、紫外線硬化性樹脂層としてのクラ
ッド層2及びコア層3を積層した積層体を樹脂フィルム
5,5′で挟んだ構造体)は、図6(B)に示すよう
に、これらの樹脂フィルム5,5′によって支持しなが
ら、積層体と樹脂フィルム5,5′を一体として光メモ
リ素子作製用ベース基板21から剥離(分離)する。な
お、このように、光メモリ素子作製用ベース基板21か
ら基体としての樹脂フィルム5,5′と積層体とを一体
として分離する工程を、積層体分離工程という。
In this state, if the core material 3Xc is further cured by further irradiating with ultraviolet rays, the resin core layer 3Xc
And the resin film 5'and the core layer 3X are formed.
c and are bonded. After that, the optical memory device manufactured in this way (that is, the structure in which the laminated body in which the clad layer 2 and the core layer 3 as the ultraviolet curable resin layer are laminated is sandwiched between the resin films 5 and 5 ′) is shown in FIG. As shown in (B), the laminated body and the resin films 5, 5'are integrally peeled (separated) from the optical memory element manufacturing base substrate 21 while being supported by these resin films 5, 5 '. The process of separating the resin films 5 and 5 ′ as the base and the laminated body from the optical memory element manufacturing base substrate 21 as a unit is called a laminated body separating step.

【0078】そして、このようにして光メモリ素子作製
用ベース基板21から剥離した光メモリ素子4に入射端
面を形成し、さらに保護フィルムを貼ったり、樹脂コー
トしたりする等の工程を経て、例えば光メモリカード等
の光メモリ媒体が作製される。以上の説明において、コ
ア材3には、塗布時には液体で、その後、硬化させるこ
とのできる樹脂であればどのような樹脂を適用してもよ
いが、好適な物質としては、例えば紫外線硬化性樹脂な
どの光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等の硬化性樹脂が挙げ
られる。ただし、上述のごとくスタンパによる転写を行
なう場合には、光硬化性樹脂を適用するのが好ましく、
例えば、アクリル系光硬化性樹脂(アクリル系硬化性樹
脂),エポキシ系光硬化性樹脂(エポキシ系硬化性樹
脂),チオール系光硬化性樹脂(チオール系硬化性樹
脂)などが好ましい。
Then, the incident end face is formed on the optical memory element 4 peeled from the optical memory element manufacturing base substrate 21 in this manner, and a protective film is attached, a resin coating is applied, and the like, for example, an optical memory card. Etc. optical memory medium is manufactured. In the above description, any resin may be applied to the core material 3 as long as it is a liquid at the time of application and can be subsequently cured, but a suitable substance is, for example, an ultraviolet curable resin. Examples thereof include photo-curable resins such as and curable resins such as thermosetting resins. However, when the transfer is performed by the stamper as described above, it is preferable to apply the photocurable resin,
For example, acrylic photocurable resin (acrylic curable resin), epoxy photocurable resin (epoxy curable resin), thiol photocurable resin (thiol curable resin) and the like are preferable.

【0079】また、上記のクラッド材2は、透明で屈折
率がコア材3よりも僅かに小さい物質(樹脂)であれば
何でも良いが、各種樹脂製のクラッド材2を塗布すると
簡便である。例えば紫外線硬化性樹脂などの光硬化性樹
脂や熱硬化性樹脂等の硬化性樹脂から成るクラッド材2
は樹脂フィルム5との接着性に優れ、好適である。特
に、光硬化性樹脂を適用するのが好ましく、例えば、ア
クリル系光硬化性樹脂(アクリル系硬化性樹脂),エポ
キシ系光硬化性樹脂(エポキシ系硬化性樹脂),チオー
ル系光硬化性樹脂(チオール系硬化性樹脂)などが好ま
しい。
The clad material 2 may be any material (resin) which is transparent and has a refractive index slightly smaller than that of the core material 3, but it is easy to apply the clad material 2 made of various resins. For example, a clad material 2 made of a curable resin such as a photocurable resin such as an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin.
Is excellent in adhesiveness with the resin film 5, and is preferable. In particular, it is preferable to use a photo-curable resin, for example, an acrylic photo-curable resin (acrylic curable resin), an epoxy photo-curable resin (epoxy curable resin), a thiol-based photo curable resin ( Thiol-based curable resin) and the like are preferable.

【0080】また、コア材3、クラッド材2の塗布方法
には、例えば、スピンコート法,ブレードコート法,グ
ラビアコート法,ダイコート法等があるが、塗布膜厚と
均一性を満足すればどのような塗布方法を用いてもよ
い。なお、クラッド層2は上記説明のように1層として
形成しても良いが、膜厚を安定させるために2層に分け
て形成してもよい。
Further, the coating method of the core material 3 and the clad material 2 includes, for example, a spin coating method, a blade coating method, a gravure coating method, a die coating method, and the like, as long as the coating film thickness and the uniformity are satisfied. Such a coating method may be used. The clad layer 2 may be formed as one layer as described above, but may be formed in two layers in order to stabilize the film thickness.

【0081】このように、本実施形態では、積層された
コア層3とクラッド層2とがいずれも樹脂製で、しか
も、凹凸の形成されるコア層(コア材)3に光や熱等で
硬化しうる硬化性樹脂を用いているので、従来のように
フォトレジストの露光,現像処理等を用いなくても、ス
タンパからの転写によって、コア層3とクラッド層2と
の界面に容易に所望形状の凹凸部6を形成することが可
能になる。
As described above, in the present embodiment, both the laminated core layer 3 and clad layer 2 are made of resin, and the core layer (core material) 3 on which irregularities are formed is exposed to light or heat. Since a curable resin that can be cured is used, it is possible to easily obtain a desired pattern at the interface between the core layer 3 and the clad layer 2 by transfer from the stamper without using the exposure and development processing of the photoresist as in the conventional case. It becomes possible to form the uneven portion 6 having a shape.

【0082】ここで、このようにして作製される光メモ
リ素子4には、情報記録領域(即ち、樹脂製コア層3と
樹脂製クラッド層2との両層の界面に設けられる情報用
凹凸部6が形成されている領域)に記録されている情報
を読み出すための入射光(再生光)を樹脂製コア層3へ
導くための入射端面(入射光導入端面)が形成される。
Here, in the optical memory element 4 thus manufactured, the information recording area (that is, the information uneven portion 6 provided at the interface between both layers of the resin core layer 3 and the resin clad layer 2). An incident end face (incident light introduction end face) for guiding the incident light (reproduction light) for reading the information recorded in the area (where the light is formed) to the resin core layer 3 is formed.

【0083】ここでは、円形スタンパを用いて作製され
る光メモリ素子4から所望の大きさになるように切り出
した個々の光メモリ素子4の90度(光導波部材323
の表面とのなす角度が90度)の端面を入射端面(90
度入射端面)としている。なお、入射光を樹脂製コア層
3へ導くための入射端面は、これに限られるものではな
く、種々のものが考えられる。例えば、光メモリ素子4
の一方の端面を45度(光導波部材の表面とのなす角度
が45度)に切断し、必要に応じて反射膜を形成してミ
ラー端面(傾斜端面,マイクロミラー)とし、このミラ
ー端面を入射端面(45度入射端面)としても良い。こ
の場合、光メモリ素子4の表面に対して垂直な方向か
ら、この45度入射端面に向かって光を入射させ、45
度入射端面で反射させて入射光を樹脂製コア層3へと導
くことになる。
Here, each optical memory element 4 cut out to a desired size from the optical memory element 4 manufactured by using the circular stamper is 90 degrees (optical waveguide member 323).
The end face that forms an angle of 90 degrees with the surface of the
Degree incident end face). The incident end face for guiding the incident light to the resin core layer 3 is not limited to this, and various types can be considered. For example, the optical memory device 4
One of the end faces is cut at 45 degrees (the angle with the surface of the optical waveguide member is 45 degrees), and if necessary, a reflection film is formed to form a mirror end surface (tilted end surface, micromirror). The incident end face (45 ° incident end face) may be used. In this case, light is made incident on the 45-degree incident end face from a direction perpendicular to the surface of the optical memory element 4,
The incident light is reflected by the incident end face to guide the incident light to the resin core layer 3.

【0084】このようにして作製された光メモリ素子4
では、例えば、光導波路としてのコア層3に入射端面を
介して光を導入すると、その導入光が界面の凹凸部分で
散乱しながら伝播する。このときの散乱光は導入光に対
して上下方向(交差する方向)のそれぞれに伝搬(透
過)していき、最終的に光メモリ素子の両面部から外部
へ放出され、凹凸パターンに応じた画像が結像すること
になる。
Optical memory device 4 manufactured in this way
Then, for example, when light is introduced into the core layer 3 as an optical waveguide through the incident end face, the introduced light propagates while being scattered by the uneven portion of the interface. The scattered light at this time propagates (transmits) in each of the up and down directions (directions intersecting) with the introduced light, and finally is emitted from both sides of the optical memory element to the outside, and an image corresponding to the uneven pattern is formed. It will form an image.

【0085】また、上述のものでは、薄膜基体としての
樹脂フィルム5として、枚葉のフィルムを用いた方式を
説明したが、連続フィルムによる実施も可能である。フ
ィルム上へのコア、クラッド材のダイコータ、マイクロ
グラビア、バーコータ等による塗布、スタンパを加圧し
た状態でのコア、クラッド材の硬化等のプロセスを組み
合わせることにより、支持体上にクラッド/コア部材を
積層した構造体を作製することができる。また、スタン
パとしてロールに巻き取り可能な形に加工したロールス
タンパを用いることにより、スタンパからの転写プロセ
スの生産性を向上させることも可能である。
Further, in the above description, the method using the sheet-shaped film as the resin film 5 as the thin film substrate has been described, but it is also possible to use a continuous film. By combining processes such as core coating on film, die coater of micro clad material, micro gravure, bar coater, etc., core curing under pressure of stamper, hardening of clad material, etc., clad / core member is formed on the support. Laminated structures can be made. Further, it is possible to improve the productivity of the transfer process from the stamper by using a roll stamper processed into a shape that can be wound into a roll as the stamper.

【0086】なお、上述の実施形態では、コア層3に光
透過性スタンパ13をラミネートして凹凸パターンを転
写(これをコア転写,コア層転写法という)している
が、これに限られるものではなく、クラッド層2に光透
過性スタンパ(樹脂スタンパ,フィルムスタンパ)をラ
ミネートして凹凸パターンを転写(これをクラッド転
写,クラッド層転写法という)するようにしても良い。
In the above embodiment, the light-transmitting stamper 13 is laminated on the core layer 3 to transfer the concavo-convex pattern (this is referred to as core transfer or core layer transfer method), but the present invention is not limited to this. Instead, a light-transmitting stamper (resin stamper, film stamper) may be laminated on the clad layer 2 to transfer the concavo-convex pattern (this is called a clad transfer or a clad layer transfer method).

【0087】このクラッド転写により製造された光メモ
リ素子によって出力される画像を、コア転写により製造
された光メモリ素子によって出力される画像と比べる
と、クラッド転写により製造された光メモリ素子の出力
画像ではホログラムの虚像が観察されず(例えば像が2
重に見える現象がなくなる)、画質が優れたものとな
る。
Comparing the image output by the optical memory element manufactured by the clad transfer with the image output by the optical memory element manufactured by the core transfer, the output image of the optical memory element manufactured by the clad transfer shows a hologram. No virtual image is observed (for example, the image is 2
There is no phenomenon that the image looks double), and the image quality becomes excellent.

【0088】ここで、コア層の方がクラッド層よりも薄
いため、ラミネート時に膜厚変動しにくく、ラミネート
条件を広く選べるという点では、上述の実施形態におけ
るコア転写の方が好ましい。しかし、ラミネート条件を
最適なものとすれば、クラッド層転写方法によっても、
良好な転写を行なえるようになる。
Here, since the core layer is thinner than the clad layer, the film thickness is less likely to change during lamination, and the laminating conditions can be widely selected, so that the core transfer in the above-described embodiment is preferable. However, if the laminating conditions are optimized, the clad layer transfer method
Good transfer can be achieved.

【0089】このため、このようにしてラミネート条件
を設定すれば、クラッド層の厚さが厚くても薄くても
(厚さにかかわらず)、良好な転写を行なえるため、ク
ラッド層は厚いまま転写することもできるし、又は、ま
ず所定の厚さのクラッド層を硬化させた上に、転写用に
薄くクラッド材を塗布し、この薄く塗布されたクラッド
材に転写することもできることになる。
Therefore, if the laminating conditions are set in this way, good transfer can be performed regardless of whether the thickness of the cladding layer is thick or thin (regardless of the thickness), so that the cladding layer remains thick. It is also possible to transfer it, or it is possible to first cure a clad layer having a predetermined thickness, then apply a thin clad material for transfer, and transfer to this thinly applied clad material.

【0090】また、光メモリ素子の製造方法は、上述の
実施形態のものに限られない。つまり、上述の実施形態
にかかる光メモリ素子の製造方法は、基板上に基体(樹
脂フィルム)を接着した後に、基体(樹脂フィルム)上
にクラッド層及びコア層を順次積層して所望の積層数を
有する積層体を形成しているが、これに限られるもので
はなく、例えば、基板上に基体(樹脂フィルム)を接着
することなく、基板上に、直接、クラッド層及びコア層
を順次積層して所望の積層数を有する積層体を形成して
も良い。
The method of manufacturing the optical memory device is not limited to that of the above embodiment. That is, in the method of manufacturing the optical memory device according to the above-described embodiment, after the base (resin film) is bonded onto the substrate, the clad layer and the core layer are sequentially stacked on the base (resin film) to obtain a desired number of stacked layers. However, the present invention is not limited to this, and for example, by directly laminating the clad layer and the core layer directly on the substrate without adhering the base (resin film) on the substrate. You may form the laminated body which has a desired laminated number.

【0091】ところで、読取装置の構成を複雑にするこ
となく、読み取りの際に簡単な制御を行なうだけで、記
録されている情報を、正確、かつ、確実に再生できるよ
うにし、読み取りの自動化を図るのに適したものとする
ことも望まれる。つまり、上述のような多層構造の光メ
モリ素子4に記録されている情報を再生するには、光メ
モリ素子4をドライブ(光メモリ素子用記録再生装置)
に装着し、光メモリ素子4の入射端面から平面状の入射
光(再生光;例えばレーザ光等)を入射させることにな
るが、入射光の照射状態(例えば照射位置,照射角度,
焦点距離,再生光の傾き等)が良くない場合には、光メ
モリ素子4のコア層3に入射光の一部しか入射されず、
再生像が暗く(輝度が低く)なってしまったり、一部分
しか再生されなかったりしてしまう。
By the way, without complicating the structure of the reading device, the recorded information can be reproduced accurately and surely by performing a simple control at the time of reading, and the reading can be automated. It is also desired to make it suitable for the purpose. That is, in order to reproduce the information recorded in the optical memory device 4 having the above-mentioned multilayer structure, the optical memory device 4 is driven (optical memory device recording / reproducing apparatus).
Mounted on the optical memory device 4, and the plane-shaped incident light (reproducing light; for example, laser light) is made incident from the incident end face of the optical memory element 4, but the irradiation state of the incident light (for example, irradiation position, irradiation angle,
When the focal length, the inclination of the reproduction light, etc.) are not good, only a part of the incident light is incident on the core layer 3 of the optical memory element 4,
The reproduced image becomes dark (low brightness), or only part of it is reproduced.

【0092】このため、光メモリ素子4の入射端面に対
する入射光のアライメントの精度を良くすることが非常
に重要になる。つまり、多層構造の光メモリ素子4に記
録されている情報を再生するには、ドライブ内の所定の
位置に装着された光メモリ素子4に対して入射光の照射
状態(例えば焦点距離,照射位置,照射角度,再生光の
傾き等)が最適なものとなるように、ドライブの入射光
出力部(例えばレーザ光ヘッド等)の位置,角度,傾き
等を調整することが非常に重要になる。
Therefore, it is very important to improve the accuracy of alignment of the incident light with respect to the incident end face of the optical memory element 4. That is, in order to reproduce the information recorded in the optical memory device 4 having a multi-layer structure, the optical memory device 4 mounted at a predetermined position in the drive is irradiated with the incident light (for example, the focal length, the irradiation position, the irradiation position). It is very important to adjust the position, angle, inclination, etc. of the incident light output part (for example, laser light head) of the drive so that the angle, the inclination of the reproduction light, etc. are optimized.

【0093】一般に、光メモリ素子4に対する入射光
(再生光)の照射状態(例えば焦点距離,照射位置,照
射角度,入射光の傾き等)を調整するためには、光メモ
リ素子4に対する入射光(レーザ光源及びレンズ系)の
位置,角度,傾きの制御として、例えば図7に示すよう
に、垂直方向位置制御(Z方向位置制御)、離隔方
向位置制御(Y方向位置制御;光メモリ素子4と光源と
の間の距離制御,入射光の入射方向に沿う方向の位置制
御)、水平方向位置制御(X方向位置制御;入射光の
入射方向に対して直交する方向の位置制御)、仰角制
御(角度制御,回転方向位置制御)、垂直方向傾き制
御、水平方向傾き制御等を行なうことが考えられる。
なお、入射光の位置,角度,傾きの制御を行なうために
は、レーザ光源及びレンズ系をセットで動かさなくては
ならないが、説明を分かり易くするために、図7ではレ
ンズ23のみを示している。なお、図7中、符号24は
CCD受像機である。
Generally, in order to adjust the irradiation state (for example, focal length, irradiation position, irradiation angle, inclination of incident light, etc.) of the incident light (reproducing light) on the optical memory element 4, the incident light (laser) on the optical memory element 4 (laser) is adjusted. For controlling the position, angle, and inclination of the light source and the lens system), as shown in FIG. 7, for example, vertical position control (Z direction position control), separation direction position control (Y direction position control; optical memory element 4 and light source). Distance control, position control in the direction along the incident light incident direction, horizontal position control (X direction position control; position control in a direction orthogonal to the incident light incident direction), elevation angle control (angle control) , Rotational position control), vertical tilt control, horizontal tilt control, and the like.
In order to control the position, angle, and inclination of the incident light, the laser light source and the lens system must be moved as a set, but only the lens 23 is shown in FIG. 7 for the sake of clarity. There is. In FIG. 7, reference numeral 24 is a CCD image receiver.

【0094】しかしながら、読み取りの際に、各コア層
3毎に入射光の垂直方向の傾きθの調整を行なうことと
すると、制御が複雑になるため、読み取りの自動化を図
るのが難しくなる。例えば、入射光を垂直方向(Z方
向)へ移動させて、入射光の一部がコア層3に入射する
ように調整した後に、入射光を回転させて、垂直方向の
傾きθを調整し、入射光の全体が再生対象とするコア層
3に入射されるようにする場合、入射光を回転させる際
の回転中心が再生対象としてのコア層3の中心(厚さ方
向の中心,幅方向の中心)に位置していないと、入射光
を回転させたときに、入射光の照射領域がコア層3から
外れてしまうことになる。
However, if the vertical inclination θ of the incident light is adjusted for each core layer 3 at the time of reading, the control becomes complicated and it is difficult to automate the reading. For example, the incident light is moved in the vertical direction (Z direction) so that a part of the incident light is incident on the core layer 3, and then the incident light is rotated to adjust the inclination θ in the vertical direction. When the entire incident light is incident on the core layer 3 to be reproduced, the center of rotation when rotating the incident light is the center of the core layer 3 to be reproduced (the center in the thickness direction and the width direction). If it is not located in the center), when the incident light is rotated, the irradiation region of the incident light will deviate from the core layer 3.

【0095】この場合、再度、入射光を垂直方向へ移動
させて垂直方向位置制御を行なった後、入射光を回転さ
せて、垂直方向の傾きθを調整することになる。つま
り、入射光の垂直方向の傾きθを調整することとする
と、入射光の垂直方向位置の調整と、入射光の垂直方向
の傾きθの調整とを繰り返して行なうことで、入射光の
垂直方向位置を調整して入射光がコア層から外れないよ
うにしながら、入射光の垂直方向の傾きθを調整するこ
とが必要となる。
In this case, the incident light is again moved in the vertical direction to control the position in the vertical direction, and then the incident light is rotated to adjust the inclination θ in the vertical direction. That is, if the vertical inclination θ of the incident light is to be adjusted, the vertical position of the incident light is adjusted by repeatedly adjusting the vertical position of the incident light and the vertical inclination θ of the incident light. It is necessary to adjust the inclination θ of the incident light in the vertical direction while adjusting the position so that the incident light does not deviate from the core layer.

【0096】ここで、入射光の垂直方向の傾きθを、層
毎に調整することなしに読み取りを行なうためには、各
コア層3の傾きのばらつきがある一定の範囲に収まって
いる必要がある。このためには、光メモリ素子4の入射
端面7での各コア層3(特に各コア層3の情報領域)の
基準面に対する「傾き量」が、所定の条件を満たすよう
にすれば良い。
Here, in order to read the inclination θ of the incident light in the vertical direction without adjusting each layer, it is necessary that the variation of the inclination of each core layer 3 be within a certain range. is there. For this purpose, the “inclination amount” of each core layer 3 (particularly the information area of each core layer 3) at the incident end face 7 of the optical memory element 4 with respect to the reference plane may satisfy a predetermined condition.

【0097】具体的には、入射端面7での各コア層3の
情報用凹凸部6が形成されている情報領域の基準面に対
する傾き量が、下記式(1)によって表される条件を満
たすものとすれば良い(図8参照)。これは、入射端面
7におけるコア層3の情報用凹凸部6が形成されている
情報領域の全てが、再生光の照射領域内に入るようにな
っていれば良いことを意味する。
Specifically, the amount of inclination of the information area of the incident end surface 7 where the information concave-convex portion 6 of each core layer 3 is formed with respect to the reference plane satisfies the condition represented by the following equation (1). It may be used (see FIG. 8). This means that it is sufficient that the entire information area of the incident end face 7 where the information concave-convex portion 6 of the core layer 3 is formed falls within the reproduction light irradiation area.

【0098】 |a|≦d−t ・・・(1) a:入射端面7でのコア層3の情報領域の基準面に対す
る傾き量 d:再生光の縦方向の幅 t:コア層3の情報領域における厚み ここで、「傾き量」とは、情報領域(データ記録領域,
情報記録領域,描画領域)の幅において、コア層3が傾
くことで、どれだけ基準面から外れるかを示す量であ
る。
| A | ≦ d−t (1) a: amount of inclination of the information region of the core layer 3 with respect to the reference plane at the incident end face d: vertical width t of reproduced light t: core layer 3 Thickness in Information Area Here, the “inclination amount” means the information area (data recording area,
This is an amount indicating how much the core layer 3 deviates from the reference plane in the width of the information recording area and the drawing area).

【0099】具体的には、図8に示すように、基準面
(又は基準面に平行な面;ここでは水平面とする)に対
するコア層3の傾き角をαとし、情報領域の幅をwとす
ると、傾き量aは、次式により求められる。 a=w×tanα ここでは、基準面(又は基準面に平行な面;ここでは水
平面とする)に対してコア層が時計回りに回転している
場合(図8中、上側のコア層3のように右側端部よりも
左側端部の方が上側になるように傾いている場合)の傾
き量をプラスとし、基準面(又は基準面に平行な面;こ
こでは水平面とする)に対してコア層が反時計回りに回
転している場合(図8中、下側のコア層3のように右側
端部よりも左側端部の方が下側になるように傾いている
場合)の傾き量をマイナスとする。
Specifically, as shown in FIG. 8, the inclination angle of the core layer 3 with respect to the reference plane (or a plane parallel to the reference plane; here, a horizontal plane) is α, and the width of the information area is w. Then, the inclination amount a is calculated by the following equation. a = w × tan α Here, when the core layer is rotating clockwise with respect to the reference plane (or a plane parallel to the reference plane; here, a horizontal plane) (in FIG. 8, the core layer 3 on the upper side is When the left end is inclined so that the left end is higher than the right end), the amount of inclination is positive and the reference plane (or a plane parallel to the reference plane; here, a horizontal plane) Inclination when the core layer is rotated counterclockwise (in FIG. 8, when the left side end is lower than the right side end like the lower core layer 3 in FIG. 8) Negative amount.

【0100】なお、全てのコア層3の傾き量が上記式
(1)によって表される条件を満たすということは、全
てのコア層3の傾き量が上記式(1)の条件を満たすよ
うな基準面が存在することを意味する。但し、コア層3
の傾き量を測定するための基準面はどこでもよい。つま
り、3次元座標系中に定義できる面であれば良く、具体
的に光メモリ素子4が持つ面である必要はない(例えば
仮想面であっても良い)。しかし、コア層3の傾き量を
定義する基準面が、光メモリ素子4の持つ面であっても
良く、例えば、いずれかのコア層3の上側の面又は下側
の面であっても良いし、光メモリ素子4の外側の面であ
っても良いし、光メモリ素子4の側面と垂直な面であっ
ても良い。
It is to be noted that the fact that the inclination amounts of all the core layers 3 satisfy the condition represented by the above equation (1) means that the inclination amounts of all the core layers 3 satisfy the above equation (1). It means that there is a reference plane. However, the core layer 3
Any reference plane may be used for measuring the inclination amount of the. That is, any surface can be defined as long as it can be defined in the three-dimensional coordinate system, and does not have to be a surface that the optical memory device 4 has (specifically, a virtual surface). However, the reference plane that defines the inclination amount of the core layer 3 may be the plane of the optical memory element 4, for example, the upper side or the lower side of any one of the core layers 3. It may be the outer surface of the optical memory element 4 or the surface perpendicular to the side surface of the optical memory element 4.

【0101】特に、複数個のコア層3を備える光メモリ
素子4では、最も外側に位置するコア層3(最外層のコ
ア層)の上側の面(上面)又は下側の面(下面)、もし
くは光メモリ素子4の最上面又は最下面を基準面とする
のが好ましい。これにより、簡便な構成(機構)の読取
装置(ドライブ)で、読み取りを行うことが可能とな
る。
Particularly, in the optical memory device 4 having a plurality of core layers 3, the upper surface (upper surface) or the lower surface (lower surface) of the outermost core layer 3 (outermost core layer), or The uppermost surface or the lowermost surface of the optical memory element 4 is preferably used as the reference surface. As a result, reading can be performed by a reading device (drive) having a simple configuration (mechanism).

【0102】例えば、素子の外側にある面を基準面とす
る場合としては、光メモリ素子4の最上面、もしくは、
最下面を基準面とする場合がある。このように、基準面
を光メモリ素子4の最上面又は最下面とすれば、ドライ
ブ(読取装置)は例えばステージ上に載せられている光
メモリ素子4の最下面(ステージの表面)又は最上面
(ステージの表面から所定距離だけ離れた面)を基準面
とすれば良くなるため、再生時に、各光メモリ素子4毎
に再生光の垂直方向の傾きθの調整を行なって基準面を
見つける必要がなくなり、さらに簡便な構成(機構)の
読取装置(ドライブ)を実現できることになる。この場
合、読取装置は、再生光の垂直方向の傾きθの調整を行
なうことなしに、素子の外側にある基準面に基づいて読
み取り動作を実施できることになる。
For example, when the surface outside the element is used as the reference surface, the uppermost surface of the optical memory element 4 or
The bottom surface may be the reference surface. Thus, if the reference surface is the uppermost surface or the lowermost surface of the optical memory element 4, the drive (reading device) is, for example, the lowermost surface (stage surface) or the uppermost surface (stage) of the optical memory element 4 mounted on the stage. Since it suffices if the reference surface is a surface distant from the surface by a predetermined distance), it is not necessary to adjust the vertical inclination θ of the reproduction light for each optical memory element 4 at the time of reproduction to find the reference surface. A reading device (drive) having a simpler configuration (mechanism) can be realized. In this case, the reading device can perform the reading operation based on the reference surface outside the element without adjusting the inclination θ of the reproduction light in the vertical direction.

【0103】なお、ここでは、傾き量|a|が、上記式
(1)によって表される条件を満たすようにしている
が、これは、所定の面を基準面としたときに、情報領域
の幅内において、コア層3の上側(もしくは下側)の境
界面の基準面に対して垂直な方向への傾き量が、再生光
の縦方向(垂直方向)の幅d以下であるという条件を満
たすことを意味する。なお、再生光は、基準面に対して
平行に入射されるものとする。
Here, the inclination amount | a | is set so as to satisfy the condition represented by the above equation (1). However, when the predetermined surface is used as the reference surface, Within the width, the condition that the amount of inclination of the upper (or lower) boundary surface of the core layer 3 in the direction perpendicular to the reference plane is equal to or smaller than the width d of the reproduction light in the vertical direction (vertical direction) Means to meet. The reproduction light is assumed to be incident in parallel with the reference plane.

【0104】この場合、再生光は、基準面に対して垂直
な方向に厚みを有するものとなるため、この再生光の垂
直方向への厚みを、再生光の縦方向の幅と定義する。こ
の再生光の縦方向の幅dとしては、例えば、再生光の強
度分布の半値幅の値を用いれば良い。ところで、本実施
形態では、上述のようにして製造(作製)される光メモ
リ素子4は、円形スタンパを用いて作製されるため、作
製された光メモリ素子4は所望の大きさになるように切
り出される。
In this case, since the reproduction light has a thickness in the direction perpendicular to the reference plane, the thickness of the reproduction light in the vertical direction is defined as the vertical width of the reproduction light. As the vertical width d of the reproduction light, for example, the half value width of the reproduction light intensity distribution may be used. By the way, in the present embodiment, since the optical memory element 4 manufactured (manufactured) as described above is manufactured using the circular stamper, the manufactured optical memory element 4 is cut out to have a desired size. .

【0105】ここで、上述のようにして製造(作製)さ
れる光メモリ素子4は、1個又は複数個の光導波部材2
32を有する積層体が基体としての樹脂フィルム5,
5′によって挟み込まれているため、当然のことなが
ら、切り出された個々の光メモリ素子4も、1個又は複
数個の光導波部材232を有する積層体の両面(上面及
び下面)が基体としての樹脂フィルム5,5′で挟み込
まれた構造になっている。
Here, the optical memory device 4 manufactured (produced) as described above includes one or a plurality of optical waveguide members 2.
The laminate having 32 is the resin film 5 serving as a substrate.
As a result of being sandwiched by 5 ′, it goes without saying that the cut-out individual optical memory elements 4 also have resin on both sides (upper surface and lower surface) of the laminated body having one or a plurality of optical waveguide members 232. It has a structure sandwiched between films 5 and 5 '.

【0106】そして、本実施形態では、このようにして
切り出された個々の光メモリ素子4のそれぞれを1ユニ
ット(1ブロック)とし、図1に示すように、これらの
ユニット(ブロック)としての光メモリ素子4を2以上
(複数)積み上げて(積層して)、例えば光メモリカー
ドなどの媒体(光メモリ)として用いられる光メモリ素
子4′としている。
In the present embodiment, each of the individual optical memory elements 4 thus cut out constitutes one unit (one block), and as shown in FIG. 1, the optical memory elements as these units (blocks). Two or more (plural) 4 are stacked (laminated) to form an optical memory element 4'used as a medium (optical memory) such as an optical memory card.

【0107】なお、図1では、3つのユニット(光メモ
リ素子4)を積み上げた光メモリ素子4′を示してい
る。また、図1では、各光メモリ素子4は1個の光導波
部材232のみを備えるものとして示しているが、これ
は説明を分かり易くするためであり、実際には、各ユニ
ット(光メモリ素子4)は1個又は複数個の光導波部材
232を積層させた積層体を備えて構成される。
Incidentally, FIG. 1 shows an optical memory element 4'in which three units (optical memory elements 4) are stacked. Further, in FIG. 1, each optical memory element 4 is shown as including only one optical waveguide member 232, but this is for the sake of clarity of explanation, and in reality, each unit (optical memory element 4) is shown. Is provided with a laminated body in which one or a plurality of optical waveguide members 232 are laminated.

【0108】例えば、25個(25層)の光導波部材2
32を有する積層体を備える光メモリ素子4を作製し、
所望の大きさに切り出してユニット(25層積層ユニッ
ト)とする。そして、4つのユニットを積み上げて、1
00個(100層)の光導波部材232を有する媒体と
しての光メモリ素子4′(100層媒体)を作製する。
For example, 25 (25 layers) optical waveguide members 2
Producing an optical memory device 4 comprising a stack having 32,
It is cut into a desired size to form a unit (25-layer laminated unit). And stack 4 units,
An optical memory device 4 '(100-layer medium) as a medium having 00 (100-layer) optical waveguide members 232 is manufactured.

【0109】この場合、基板上に積層するのは25層ま
でで良く、作製中に発生する反りも小さくて済むので、
作製時の基板として1〜2mm程度の薄い基板(例えば
ガラス基板)を用いることができるという利点がある。
また、このように光導波部材232を25層積層させた
積層体を備えるユニット(光メモリ素子4)を4つ用意
し、これらのユニットを積み上げて100層の光導波部
材232を有する媒体(光メモリ素子4′)を作製すれ
ば、光導波部材232を100層積層させて媒体(光メ
モリ素子4′)を作製する場合と比べて歩留まりの低下
を抑えることができるという利点もある。
In this case, up to 25 layers may be laminated on the substrate, and the warpage that occurs during fabrication may be small.
There is an advantage that a thin substrate (for example, a glass substrate) having a thickness of about 1 to 2 mm can be used as a substrate for manufacturing.
Further, four units (optical memory elements 4) each including a laminated body in which 25 optical waveguide members 232 are laminated are prepared, and these units are stacked to form a medium (optical memory element) having 100 optical waveguide members 232. If 4 ') is manufactured, there is also an advantage that a reduction in yield can be suppressed as compared with the case where 100 layers of optical waveguide members 232 are laminated to manufacture a medium (optical memory element 4').

【0110】ここで、各ユニット4において、光導波部
材232を積層してなる積層体の厚さ(即ち、基体とし
ての樹脂フィルム5,5′間に挟まれている積層体の厚
さ)は、2mm以下(より好ましくは1.5mm以下)
であるのが好ましい。これは、作製プロセス上の問題で
ある。つまり、積層数を増やしていくと、徐々に反りが
大きくなっていくが、積層体の厚さが2mm以下(より
好ましくは1.5mm以下)であれば、作製中に発生す
る反りの大きさを許容範囲内に抑えることができるから
である。このように反りの大きさを許容範囲内に抑える
ことで、ドライブに光メモリ素子4′を装着して情報を
再生する際に、正確、かつ、確実に、各ユニット4に記
録されている情報を読み取ることができることになる。
Here, in each unit 4, the thickness of the laminated body formed by laminating the optical waveguide members 232 (that is, the thickness of the laminated body sandwiched between the resin films 5 and 5'as the base body) is 2 mm or less (more preferably 1.5 mm or less)
Is preferred. This is a problem in the manufacturing process. That is, as the number of stacked layers increases, the warp gradually increases, but if the thickness of the stacked body is 2 mm or less (more preferably 1.5 mm or less), the magnitude of warpage that occurs during manufacturing This is because the value can be suppressed within the allowable range. In this way, by suppressing the magnitude of the warp within the allowable range, when the optical memory element 4'is mounted on the drive and information is reproduced, the information recorded in each unit 4 can be accurately and surely recorded. You will be able to read it.

【0111】一方、2以上のユニット4を積み上げて光
メモリ素子4′を作製する場合、積み上げるユニット数
が多いと、各ユニット4には基体としての樹脂フィルム
5,5′が含まれているため、その分だけ光メモリ素子
4′全体の厚さは厚くなってしまう。この場合、各ユニ
ット4に含まれる積層体の厚さがあまりに薄いと(即
ち、積層体に含まれる光導波部材232の数が少ない
と)、各ユニット4の記録容量が小さい(ひいては、各
ユニット4を積み上げて作製される光メモリ素子4′全
体の記録容量も小さい)にもかかわらず、光メモリ素子
4′の厚さが無駄に厚くなってしまうことになる。
On the other hand, when two or more units 4 are stacked to manufacture the optical memory element 4 ', if the number of stacked units is large, each unit 4 contains the resin films 5 and 5'as the base. The thickness of the entire optical memory element 4'thus increases accordingly. In this case, if the laminated body included in each unit 4 is too thin (that is, the number of the optical waveguide members 232 included in the laminated body is small), the recording capacity of each unit 4 is small (and thus each unit is small). Although the total recording capacity of the optical memory element 4'made by stacking 4 is small), the thickness of the optical memory element 4'will be unnecessarily increased.

【0112】このため、各ユニット4において、光導波
部材232を積層してなる積層体の厚さ(即ち、基体と
しての樹脂フィルム5,5′間に挟まれている積層体の
厚さ)は、少なくとも0.1mm以上であるのが好まし
い。なお、コア層3,クラッド層2の膜厚については、
コア層3,クラッド層2が光導波路として機能するだけ
の膜厚であればよく、例えば、使用光波長域が可視光の
波長域であれば、コア層3はおおよそ0.5〜3.0μ
m程度になると考えられる。この場合、クラッド層2の
膜厚に関しては特に制限は無いが、全体の厚さを薄くす
ることを考慮すれば、100μm以下にするのが好まし
い。あえて下限を規定するなら、0.1μm以上になる
と思われる。
Therefore, in each unit 4, the thickness of the laminated body formed by laminating the optical waveguide members 232 (that is, the thickness of the laminated body sandwiched between the resin films 5 and 5'as the base body) is It is preferably at least 0.1 mm or more. Regarding the thickness of the core layer 3 and the clad layer 2,
It suffices that the core layer 3 and the clad layer 2 have a film thickness that functions as an optical waveguide.
It is considered to be about m. In this case, the film thickness of the cladding layer 2 is not particularly limited, but it is preferably 100 μm or less in consideration of reducing the total thickness. If the lower limit is specified, it will be 0.1 μm or more.

【0113】ところで、基体は、厚さの薄いものとする
のが好ましい。具体的には、基体の厚さ(膜厚)は、5
00μm以下(好ましくは250μm以下、より好まし
くは100μm以下)とするのが好ましい。なお、厚さ
の薄い基体は、薄膜状であるため、薄膜基体ともいう。
このように、基体の厚さを薄くするのは、以下の理由に
よる。
By the way, it is preferable that the substrate has a small thickness. Specifically, the thickness (film thickness) of the substrate is 5
The thickness is preferably 00 μm or less (preferably 250 μm or less, more preferably 100 μm or less). Note that a thin base body is also referred to as a thin film base body because it has a thin film shape.
The reason why the thickness of the substrate is reduced is as follows.

【0114】光メモリ素子4に記録されている信号(情
報)の読み出しを行なう際には、CCD等の検出器を読
出対象としてのコア層3に、できるだけ近づけたい。具
体的には、例えば5mm以内とする必要がある。この距
離が遠いと、信号が弱くなり、S/N比が小さくなって
しまう。本実施形態では、基体が各ユニット(光メモリ
素子4)の上下にある構造なので、光メモリ素子4′の
上側から記録情報(信号)を読み出す場合には、光メモ
リ素子4′の最も下側のユニット(最下ユニット)から
の信号は、基体の厚さだけを考えても、次式により求め
られる厚さ以上(距離以上)は、CCD等の検出器から
離れることになる。
When the signal (information) recorded in the optical memory element 4 is read out, it is desirable to place a detector such as a CCD as close as possible to the core layer 3 to be read out. Specifically, it needs to be within 5 mm, for example. If this distance is long, the signal becomes weak and the S / N ratio becomes small. In the present embodiment, since the substrate is located above and below each unit (optical memory element 4), when the recording information (signal) is read from the upper side of the optical memory element 4 ', the lowest unit of the optical memory element 4' ( Even if only the thickness of the substrate is taken into consideration, the signal from the bottom unit) will be separated from the detector such as CCD if the thickness or more (distance or more) obtained by the following equation is satisfied.

【0115】(ユニット数−1)×基体厚さ×2+基体
厚さ 例えば、基体の厚さが1mmであると、6ユニット積層
する場合、最下ユニットの読出対象としてのコア層から
CCD等の検出器までは最低でも1cm以上離れてしま
うことになり、これでは、実用的なS/N比が得られな
い。このため、S/N比が小さくならないようにして実
用的なS/N比が得られるようにすべく、上述のよう
に、基体の厚さ(膜厚)は、500μm以下(好ましく
は250μm以下、より好ましくは100μm以下)と
するのが好ましい。
(Number of units-1) × base thickness × 2 + base thickness For example, when the base has a thickness of 1 mm, when 6 units are laminated, the core layer to be read from the lowest unit to the CCD, etc. The detector will be separated by at least 1 cm or more, which makes it impossible to obtain a practical S / N ratio. Therefore, as described above, the thickness (film thickness) of the substrate is 500 μm or less (preferably 250 μm or less) in order to obtain a practical S / N ratio without reducing the S / N ratio. , And more preferably 100 μm or less).

【0116】一方、基体は、10μm以上の厚さとする
のが好ましい。要するに、基体の厚さは、10μm〜5
00μm(10μm〜250μm,10μm〜100μ
m)の範囲内とするのが好ましい。特に、基体を樹脂フ
ィルム5,5′とする場合には、上述のようなポリカー
ボネート等の樹脂フィルムを熱延伸、或いは溶媒キャス
ト等の方法で、例えば10μm以上500μm以下(好
ましくは100μm以下)の厚さにすれば良い。
On the other hand, the substrate preferably has a thickness of 10 μm or more. In short, the thickness of the substrate is 10 μm-5
00 μm (10 μm to 250 μm, 10 μm to 100 μm
It is preferably within the range of m). In particular, when the substrate is the resin film 5, 5 ', the resin film such as the polycarbonate as described above is formed by a method such as heat stretching or solvent casting, and has a thickness of, for example, 10 μm or more and 500 μm or less (preferably 100 μm or less). You can do it.

【0117】また、基体は、撓み方向に対する強度(曲
げ強度)は特に重要ではないが、圧縮・引張方向に対す
る強度(引張強度,圧縮強度)は重要である。このた
め、基体としては、弾性係数(ヤング率)が9.8×1
7Pa以上(好ましくは4.9×108Pa以上)の材
料を用いるのが望ましい。具体的な材料としては、例え
ばポリカーボネートフィルム,アートンフィルムなどが
挙げられる。
The strength (bending strength) in the bending direction of the substrate is not particularly important, but the strength (tensile strength, compressive strength) in the compression / tension direction is important. Therefore, the substrate has an elastic modulus (Young's modulus) of 9.8 × 1.
It is desirable to use a material of 0 7 Pa or higher (preferably 4.9 × 10 8 Pa or higher). Specific examples of the material include a polycarbonate film and an Arton film.

【0118】さらに、基体の屈折率は、コアやクラッド
の屈折率にできるだけ近い方が望ましい。これは、基体
の屈折率と、積層体を構成するコア3やクラッド2の屈
折率との間に大きな差があると、基体と積層体との界面
で出力光(信号光)が反射等して、信号光(出力光)の
光量が低下してしまうし、S/Nも低下してしまうから
である。
Further, it is desirable that the refractive index of the substrate is as close as possible to the refractive index of the core or the clad. This is because if there is a large difference between the refractive index of the substrate and the refractive index of the core 3 or the clad 2 that constitutes the laminated body, the output light (signal light) will be reflected at the interface between the substrate and the laminated body. Then, the amount of signal light (output light) is reduced, and the S / N is also reduced.

【0119】このため、積層体を構成するコア又はクラ
ッドの屈折率と、基体を構成する材料の屈折率との差
は、いずれも0.2以下であることが望ましい。つま
り、コアと基体との屈折率差が0.2以下であり、か
つ、クラッドと基体との屈折率差が0.2以下であるこ
とが好ましい。ところで、本実施形態では、2以上のユ
ニット4を積層して媒体(光メモリ素子4′)を作製す
るのに、一のユニット4の表面の全面に均一に接着剤を
塗布し、その上に他のユニット4を積み上げて接着させ
ることで、2以上のユニット4を積層させて媒体を作製
する。
Therefore, it is desirable that the difference between the refractive index of the core or clad constituting the laminated body and the refractive index of the material constituting the substrate is 0.2 or less. That is, it is preferable that the difference in refractive index between the core and the substrate is 0.2 or less, and the difference in refractive index between the clad and the substrate is 0.2 or less. By the way, in the present embodiment, in order to fabricate a medium (optical memory element 4 ′) by laminating two or more units 4, an adhesive is uniformly applied to the entire surface of one unit 4 and another unit is formed on top of it. The units 4 are stacked and adhered to each other to stack two or more units 4 to produce a medium.

【0120】この場合、図1に示すように、各ユニット
4の間には接着層20が形成されることになる。つま
り、各ユニット4は接着層20を介して接着されること
になる。この場合、各ユニット4の間に形成される接着
層20の屈折率、即ち、各ユニット4に塗布される接着
剤の屈折率(硬化後の屈折率)と、コアやクラッドの屈
折率との差が大きいと、接着層20とコア層3又はクラ
ッド層2との界面で信号光(出力光,出射光)が反射等
して、信号光(出力光)の光量が低下してしまうことに
なり、S/Nも低下してしまうことになる。
In this case, as shown in FIG. 1, the adhesive layer 20 is formed between the units 4. That is, each unit 4 is adhered via the adhesive layer 20. In this case, the refractive index of the adhesive layer 20 formed between the units 4, that is, the refractive index of the adhesive applied to the units 4 (refractive index after curing) and the refractive index of the core or the clad are If the difference is large, the signal light (output light, emitted light) is reflected at the interface between the adhesive layer 20 and the core layer 3 or the cladding layer 2, and the light amount of the signal light (output light) decreases. As a result, the S / N will also decrease.

【0121】このため、各ユニット4を接着するために
塗布される接着剤の屈折率(硬化後の屈折率)と、コア
及びクラッドの屈折率との差が、いずれも0.2以下と
なるようにするのが好ましい。好ましくは、コア材やク
ラッド材に用いている紫外線硬化樹脂(UV樹脂)をそ
のまま接着剤として用いる。この場合、接着剤の屈折率
がコアやクラッドの屈折率と非常に近く(もしくは等し
く)、接着層20とコア層3又はクラッド層2との界面
において信号光が反射等するのを抑制することができる
ため、信号光の光量の低下はほとんどない。
Therefore, the difference between the refractive index of the adhesive applied to bond the units 4 (refractive index after curing) and the refractive index of the core and the clad is 0.2 or less. Preferably. Preferably, the ultraviolet curable resin (UV resin) used for the core material and the clad material is used as it is as an adhesive. In this case, the refractive index of the adhesive is very close to (or equal to) the refractive index of the core or the clad, and the signal light is prevented from being reflected at the interface between the adhesive layer 20 and the core layer 3 or the clad layer 2. Therefore, the light amount of the signal light is hardly reduced.

【0122】特に、各ユニット4間に形成される接着層
20は、その厚さ(膜厚)がほぼ均一になるように形成
することで(特に、各ユニット4を構成する光導波部材
232の情報用凹凸部6が形成されている情報領域に対
応する全面に、その部分の厚さがほぼ均一になるように
接着層を形成することで)、後述するように、情報領域
(情報記録領域,データ領域,ホログラム領域)に対応
する領域以外の領域(非情報記録領域,非情報領域)の
みに接着層を形成する場合と比べて、品質の高い光メモ
リ素子4′が得られることになる。
In particular, the adhesive layer 20 formed between the units 4 is formed so that the thickness (film thickness) thereof is substantially uniform (particularly, the optical waveguide member 232 constituting each unit 4 is formed). As will be described later, the information area (information recording area) is formed by forming an adhesive layer on the entire surface corresponding to the information area in which the information uneven portion 6 is formed so that the thickness of the area is substantially uniform. , A high quality optical memory device 4'is obtained as compared with the case where the adhesive layer is formed only in the regions (non-information recording region, non-information region) other than the regions corresponding to the data region and the hologram region.

【0123】ところで、上述のように、一のユニット4
の表面上に均一に接着剤を塗布し、その上に他のユニッ
ト4を気泡が入らないようにラミネートするのは現実的
には困難な場合が多い。これは、各ユニット4はある程
度の厚さを有しており、ラミネートするのに必要な柔軟
性を失っている場合が多いからである。このため、各ユ
ニット4を接着する際に、各ユニット4間に気泡が混入
しやすく、混入した気泡は散乱要因となり、接着層20
による迷光が再生像のノイズとなって、データの読み出
し(再生像の再生)に影響を与えるおそれがある。
By the way, as described above, one unit 4
In many cases, it is practically difficult to apply the adhesive evenly on the surface of and to laminate the other unit 4 thereon so that air bubbles do not enter. This is because each unit 4 has a certain thickness and often loses the flexibility required for lamination. Therefore, when the units 4 are bonded, bubbles are likely to be mixed between the units 4, and the mixed bubbles become a scattering factor, and the adhesive layer 20
Stray light due to the noise may become noise in the reproduced image and affect the reading of data (reproduction of the reproduced image).

【0124】この点を考慮すると、図9に示すように、
各ユニット4を構成する光導波部材232の情報領域に
対応する領域以外の領域(箇所)に接着剤を塗布して各
ユニット4の接着を行なうのが好ましい。つまり、各ユ
ニット4間の情報領域に対応する領域以外の領域に接着
層20が形成されるようにするのが好ましい。ここで、
接着層20の形成箇所(接着剤の塗布位置)としては、
種々のパターンが考えられる。
Considering this point, as shown in FIG.
It is preferable that each unit 4 is adhered by applying an adhesive to a region (location) other than the region corresponding to the information region of the optical waveguide member 232 constituting each unit 4. That is, it is preferable that the adhesive layer 20 is formed in a region other than the region corresponding to the information region between the units 4. here,
As the formation location of the adhesive layer 20 (adhesive application location),
Various patterns are possible.

【0125】例えば、図10に示すように、各ユニット
4を構成する光導波部材232の情報領域に対応する領
域の周囲の領域に、その領域の全面にわたって接着層2
0を形成しても良いし、図11に示すように、各ユニッ
ト4を構成する光導波部材232の情報領域に対応する
領域の周囲の領域であって、各ユニット4の表面の四隅
に、スポット状に接着剤を塗布して接着層20を形成し
ても良い。なお、接着層20の形成箇所はこれらのパタ
ーンに限られるものではない。
For example, as shown in FIG. 10, in the area around the area corresponding to the information area of the optical waveguide member 232 forming each unit 4, the adhesive layer 2 is formed over the entire area.
0 may be formed, or, as shown in FIG. 11, in regions around the regions corresponding to the information regions of the optical waveguide member 232 forming each unit 4, at four corners of the surface of each unit 4, The adhesive layer 20 may be formed by applying an adhesive in spots. The place where the adhesive layer 20 is formed is not limited to these patterns.

【0126】この場合、信号光(読出光)は各ユニット
4間に形成される接着層20を通過しないため、接着剤
には上述のような光学的な特性は要求されない。特に接
着剤の屈折率を選ばなくても良いし、接着剤中に散乱体
が混入していても問題ない。このため、例えばエポキシ
接着剤なども用いることができる。また、このように各
ユニット4を構成する光導波部材232の情報領域に対
応する領域以外の領域のみに接着層20を形成する方
が、上述のように、情報領域に均一な厚さの接着層20
を形成することよりも簡単で、光メモリ素子4′の作製
が容易になる。
In this case, since the signal light (reading light) does not pass through the adhesive layer 20 formed between the units 4, the adhesive is not required to have the above optical characteristics. In particular, the refractive index of the adhesive does not have to be selected, and there is no problem even if a scatterer is mixed in the adhesive. Therefore, for example, an epoxy adhesive or the like can be used. Further, as described above, when the adhesive layer 20 is formed only in the area other than the area corresponding to the information area of the optical waveguide member 232 forming each unit 4, the adhesive having a uniform thickness is adhered to the information area. Layer 20
Is simpler than the formation of the optical memory device 4'and the optical memory device 4'is easily manufactured.

【0127】この場合、各ユニット4を構成する光導波
部材232の情報領域に対応する領域には、接着剤が塗
布されておらず、接着層20が形成されていないため、
この部分には空気が存在することになる。このため、各
ユニット4からの信号光(読み出し光)の光量は、各ユ
ニット4間に存在する空気層による反射等によって小さ
くなってしまうおそれがある。これは、積層するユニッ
ト数が少ない場合には特に問題とならないが、積層する
ユニット数が多くなると影響が大きくなり、問題とな
る。
In this case, since no adhesive is applied to the area corresponding to the information area of the optical waveguide member 232 constituting each unit 4 and the adhesive layer 20 is not formed,
There will be air in this part. Therefore, the amount of signal light (readout light) from each unit 4 may be reduced due to reflection or the like by the air layer existing between the units 4. This is not a problem when the number of units to be laminated is small, but it becomes a problem because the influence becomes large when the number of units to be laminated is large.

【0128】例えば、コア,クラッド,基体の屈折率が
全て1.52であるとした場合、一つの空気層による反
射によって、信号光の出カは0.957倍になる。仮に
11のユニット4を積層すると、最も下側のユニット
(最下ユニット)4からの信号光の出力は、最も上側の
ユニット(最上ユニット)4からの信号光の出力の約
0.64倍になる。このように、各ユニット4間に空気
層が存在すると、積層されたユニット4毎に信号光の出
力に差がでてしまうことになり、このような出力差が生
じてしまうのは好ましくない。
For example, when the refractive indices of the core, the clad, and the base are all 1.52, the output of the signal light is 0.957 times due to the reflection by one air layer. If 11 units 4 are stacked, the signal light output from the lowermost unit (lowermost unit) 4 is about 0.64 times the signal light output from the uppermost unit (uppermost unit) 4. Become. Thus, if an air layer exists between the units 4, a difference in the output of the signal light will occur between the stacked units 4, and it is not preferable that such an output difference occurs.

【0129】このため、積層するユニット数としては1
0程度を上限とするのが実用的である。つまり、積層す
るユニット数は10以下とするのが好ましい。なお、光
メモリ素子4(光導波部材232)の情報用凹凸部6
が、所定倍で結像するように(拡大再生するように)形
成される場合(光メモリ素子4が拡大再生用素子である
場合)には、接着層20は、光メモリ素子4(光導波部
材232)の情報用凹凸部6からの拡大再生像が現れな
い領域(例えば拡大情報再生領域の周縁領域)に形成す
るのが好ましい。
Therefore, the number of units to be stacked is 1
It is practical that the upper limit is about 0. That is, the number of units to be stacked is preferably 10 or less. The information uneven portion 6 of the optical memory element 4 (optical waveguide member 232).
However, when it is formed so as to form an image at a predetermined magnification (for magnifying and reproducing) (when the optical memory element 4 is a magnifying and reproducing element), the adhesive layer 20 forms the optical memory element 4 (optical waveguide member 232). It is preferable to form it in a region (for example, a peripheral region of the enlarged information reproducing region) in which the enlarged reproduced image from the information concave-convex portion 6 does not appear.

【0130】これは、拡大再生用素子である場合には、
情報用凹凸部6からの本来の散乱光によって形成される
再生像が形成される領域が広いため、この拡大再生像が
現れない領域に接着剤を塗布することで、接着層20に
よる迷光が拡大再生像のノイズとなって再生像に影響を
与えないようにするためである。なお、情報用凹凸部6
の情報を再生する再生像の大きさは、装置によらず、情
報用凹凸部6の形状等の条件によって決まることにな
る。
In the case of an enlargement reproducing element, this is
Since the reproduced image formed by the original scattered light from the information concave-convex portion 6 is wide, a stray light due to the adhesive layer 20 is enlarged by applying an adhesive to the area where this enlarged reproduced image does not appear. This is to prevent the reproduced image from becoming a noise and affecting the reproduced image. In addition, the uneven portion 6 for information
The size of the reproduced image for reproducing the information is determined by conditions such as the shape of the information uneven portion 6 regardless of the device.

【0131】例えば、情報用凹凸部6が4倍の大きさで
結像するように形成された4倍再生用素子である場合に
は、情報用凹凸部6の設けられている領域の面積を4倍
した領域が拡大再生像の現れる領域となるため、この領
域の周縁部に接着剤を塗布して接着層20を形成する。
ところで、一のユニット4の表面(最上面又は最下面)
と、対向する他のユニット4の表面(最下面又は最上
面)とが平行になるように積層すれば、ユニット4を構
成するコア層3が傾いてしまうことはないが、上述のよ
うに、各ユニット4間に接着層20を形成して、各ユニ
ット4を接着する場合、接着層20に膜厚むら等が生じ
ていると、各ユニット4が傾いた状態で積層されてしま
い、結果的に、各ユニット4を構成する光導波部材23
2のコア層3間に傾きが生じてしまうことになる。
For example, when the information concavo-convex portion 6 is a 4 × reproducing element formed so as to form an image with a size of 4 times, the area of the region where the information concavo-convex portion 6 is provided is Since the quadrupled area is the area where the enlarged reproduced image appears, an adhesive is applied to the peripheral portion of this area to form the adhesive layer 20.
By the way, the surface of the unit 4 (top or bottom)
If the layers are laminated so that the surfaces of the other units 4 facing each other (the lowermost surface or the uppermost surface) are parallel to each other, the core layer 3 forming the unit 4 does not tilt, but as described above, When the adhesive layer 20 is formed between the units 4 and the units 4 are adhered to each other, if the adhesive layer 20 has unevenness in film thickness, the units 4 are stacked in an inclined state, and as a result, In addition, the optical waveguide member 23 constituting each unit 4
An inclination will occur between the two core layers 3.

【0132】このように各コア層3間に傾きが生じてし
まうと、再生光をコア層3の情報領域の全域に同時に入
射させることができず、記録されている情報の一部しか
再生できないことになる。この場合、入射光の垂直方向
の傾きθを、各ユニット4毎に調整することなしに読み
取りを行なうためには、各ユニット4の傾きのばらつき
がある所定の範囲内(許容範囲内)に収まっている必要
がある。
If the core layers 3 are tilted in this manner, the reproduction light cannot be made incident on the entire information area of the core layer 3 at the same time, and only a part of the recorded information can be reproduced. It will be. In this case, in order to perform reading without adjusting the inclination θ of the incident light in the vertical direction for each unit 4, the inclination of each unit 4 falls within a predetermined range (within an allowable range) where the inclination varies. Need to be.

【0133】具体的には、各ユニット4の基準面の樹脂
製コア層3(光導波部材232)の情報用凹凸部6が形
成されている情報領域の幅における光メモリ素子4′の
基準面に対する傾き量が、下記式によって表される条件
を満たすようにすれば良い(図12参照)。 |x|≦d−t x:ユニット4の基準面の情報領域幅における光メモリ
素子4′の基準面に対する傾き量 d:再生光の縦方向の幅 t:コア層3の情報領域における厚さ ここで、光メモリ素子4′の基準面とは、光メモリ素子
4′を構成する各ユニット4の基準面の傾き量を規定す
る面のことである。また、各ユニット4の基準面とは、
上記式(1)の説明において(図8参照)、コア層3の
傾き量を規定するのに用いた基準面のことである。
Specifically, with respect to the reference surface of the optical memory element 4'with respect to the width of the information area in which the information uneven portion 6 of the resin core layer 3 (optical waveguide member 232) of the reference surface of each unit 4 is formed. It is sufficient that the amount of tilt satisfies the condition represented by the following formula (see FIG. 12). | X | ≦ d−t x: amount of inclination of the information area width of the reference surface of the unit 4 with respect to the reference surface of the optical memory element 4 ′: vertical width of reproduction light t: thickness of the core layer 3 in the information area The reference surface of the optical memory element 4'is a surface that defines the amount of inclination of the reference surface of each unit 4 that constitutes the optical memory element 4 '. The reference plane of each unit 4 is
In the description of the above formula (1) (see FIG. 8), it is the reference plane used to define the tilt amount of the core layer 3.

【0134】また、ユニットの基準面の「傾き量」と
は、各ユニット4が傾くことで、その基準面が、情報領
域(データ記録領域,情報記録領域,描画領域)の幅に
おいて、ユニット4が傾くことで、どれだけ光メモリ素
子4′の基準面から外れるかを示す量である。光メモリ
素子4′の基準面は3次元座標系中に定義できる面であ
れば良く、具体的に光メモリ素子4′が有する面である
必要はない。しかし、光メモリ素子4′の有する面であ
っても良く、光メモリ素子4′の最上面(表面)や最下
面(表面)が基準面でも良い。
The “inclination amount” of the reference plane of the unit means that when each unit 4 is inclined, the reference plane has a width of the information area (data recording area, information recording area, drawing area). Is a quantity that indicates how much it deviates from the reference plane of the optical memory element 4'by tilting. The reference surface of the optical memory element 4'may be any surface that can be defined in the three-dimensional coordinate system, and does not have to be the surface of the optical memory element 4'specifically. However, it may be the surface of the optical memory element 4 ', or the uppermost surface (front surface) or the lowermost surface (front surface) of the optical memory element 4'may be the reference surface.

【0135】具体的には、図12に示すように、基準面
(又は基準面に平行な面;ここでは水平面とする)に対
するユニット4の傾き角をβとし、情報領域の幅をwと
すると、傾き量xは、次式により求められる。 x=w×tanβ ここでは、基準面としての下側のユニット4の表面(最
上面)に平行な面に対して上側のユニット4が時計回り
に回転している場合(即ち、右側端部よりも左側端部の
方が上側になるように傾いている場合)の傾き量をプラ
スとする。
Specifically, as shown in FIG. 12, when the inclination angle of the unit 4 with respect to the reference plane (or a plane parallel to the reference plane; here, a horizontal plane) is β, and the width of the information area is w. , The inclination amount x is calculated by the following equation. x = w × tan β Here, when the upper unit 4 is rotating clockwise with respect to the plane parallel to the surface (uppermost surface) of the lower unit 4 as the reference plane (that is, from the right end portion). Also, if the left end is tilted so that it is on the upper side, the amount of tilt is positive.

【0136】また、再生光は、基準面に対して垂直な方
向に厚みを有するものとなるため、この再生光の垂直方
向への厚みを、再生光の縦方向の幅と定義する。この再
生光の縦方向の幅dとしては、例えば、再生光の強度分
布の半値幅の値を用いれば良い。さらに、接着層20の
膜厚むら等が生じないようにし、上記式によって表され
る条件を満たすようにするためには、各ユニット4をラ
ミネート(貼着)する際に、貼合ロール(ラミネートロ
ール)と接着層が形成される面との間の距離を一定(一
定値)に保ちながら、一のユニット4に他のユニット4
を貼着(ラミネート)すれば良い。
Since the reproduction light has a thickness in the direction perpendicular to the reference plane, the thickness of the reproduction light in the vertical direction is defined as the vertical width of the reproduction light. As the vertical width d of the reproduction light, for example, the half value width of the reproduction light intensity distribution may be used. Further, in order to prevent unevenness in the thickness of the adhesive layer 20 and to satisfy the condition represented by the above formula, when laminating (bonding) each unit 4, a bonding roll (laminate) is used. While keeping the distance between the roll) and the surface on which the adhesive layer is formed constant (constant value), one unit 4
Should be attached (laminated).

【0137】ここで、貼合ロールと接着層との間の距離
を一定に保つためには、種々の方法が考えられる。例え
ば、一のユニット4を、他のユニット4の表面上に接着
層を介して貼着(ラミネート)するための貼着装置(光
メモリ素子製造装置)を、ステージと貼合ロールとの間
の距離が所定距離以下にならないように貼合ロールの高
さ位置を調整する位置調整機構を備えるものとして構成
する。
Various methods are conceivable in order to keep the distance between the laminating roll and the adhesive layer constant. For example, a sticking device (an optical memory device manufacturing device) for sticking (laminating) one unit 4 onto the surface of another unit 4 via an adhesive layer is used. Is provided with a position adjusting mechanism that adjusts the height position of the bonding roll so that the height does not fall below a predetermined distance.

【0138】ここで、位置調整機構は、(1)貼合ロー
ルを支持する支持部に設けられ、貼合ロールの高さ方向
へ移動させる機構(ロール高さ方向移動機構)により構
成しても良いし、(2)ステージ上に、ステージと貼合
ロールとの間の距離が所定距離以下にならないように貼
合ロールを支持する(即ち、貼合ロールがある一定の高
さ以下に行かないように貼合ロールの移動を規制する)
スペーサ(スペーサ部品)を設け、このスペーサによっ
て貼合ロールの高さ位置を調整するものとして構成して
も良い。
Here, the position adjusting mechanism may be constituted by (1) a mechanism which is provided in a supporting portion for supporting the bonding roll and moves in the height direction of the bonding roll (roll height direction moving mechanism). Good, (2) The bonding roll is supported on the stage so that the distance between the stage and the bonding roll does not become a predetermined distance or less (that is, the bonding roll does not go below a certain height). Regulate the movement of the laminating roll)
A spacer (spacer component) may be provided, and the height position of the bonding roll may be adjusted by this spacer.

【0139】また、より実用的な光メモリ素子4′を実
現するためには、一度に読み込めるデータ量が多くなる
ように、情報領域の幅は広い方が好ましいが、情報領域
の幅が広くなると、各ユニット4間の傾き量が大きくな
りやすくなる。このため、情報領域の幅が、樹脂製コア
層3の入射端面において、2mm以上100mm以下で
ある場合に、上記の式によって表される条件を満たすよ
うにするが好ましい。
In order to realize a more practical optical memory device 4 ', it is preferable that the width of the information area is wide so that the amount of data that can be read at one time is large. However, if the width of the information area is wide, The amount of inclination between the units 4 tends to increase. Therefore, when the width of the information area is 2 mm or more and 100 mm or less on the incident end surface of the resin core layer 3, it is preferable to satisfy the condition represented by the above formula.

【0140】上記式によって表される条件を満たしてい
れば、各ユニット4に生じる傾きは許容範囲内になるた
め、各ユニット4に記録されている情報を再生する際
に、ユニット4毎に入射光の傾き調整を行なう必要がな
く、情報の読み取りを簡易な操作で、かつ、短時間で行
なえ、読取装置(ドライブ)の構成を簡略化できること
になる。
If the condition represented by the above equation is satisfied, the inclination generated in each unit 4 is within the allowable range, and therefore, when reproducing the information recorded in each unit 4, it is incident on each unit 4. Since it is not necessary to adjust the inclination of light, information can be read by a simple operation in a short time, and the configuration of the reading device (drive) can be simplified.

【0141】なお、上述したものでは、各ユニット4間
に接着層20を形成して、各ユニット4を接着して積層
することとしているが、これに限られるものではない。
例えば、図13に示すように、ユニット4間に接着剤を
塗布せずに、単純に各ユニット4を積み上げ(積層
し)、積み上げられた(積層された)各ユニット4の端
面(側面)に例えば硬化性樹脂などの接着剤を塗布し、
各ユニット4の端面を接着剤(接着層)で覆うことで、
各ユニット4を、接着層20を介して接着することも可
能である。特に、接着層20は、各ユニット4の入射端
面以外の端面に形成するのが好ましい。これにより、光
メモリ素子4に記録されている情報を再生する際に、入
射される再生光(入射光)の光量が減ってしまい、結合
効率が下がってしまうのを防止できることになる。
In the above description, the adhesive layer 20 is formed between the units 4 and the units 4 are adhered and laminated, but the present invention is not limited to this.
For example, as shown in FIG. 13, each unit 4 is simply stacked (stacked) without applying an adhesive between the units 4, and the end faces (side surfaces) of the stacked (stacked) units 4 are stacked. For example, apply an adhesive such as curable resin,
By covering the end surface of each unit 4 with an adhesive (adhesive layer),
It is also possible to adhere each unit 4 via the adhesive layer 20. In particular, it is preferable that the adhesive layer 20 is formed on an end surface other than the incident end surface of each unit 4. As a result, when reproducing the information recorded in the optical memory element 4, it is possible to prevent the amount of the reproducing light (incident light) incident on the optical memory device 4 from decreasing and the coupling efficiency from decreasing.

【0142】これによれば、各ユニット4間には接着剤
を塗布せず、接着層20は形成されないため、信号光の
散乱や信号光の光量の低下等が生じないという利点があ
る。また、各ユニット4は単に積み上げるだけで、各ユ
ニット4間には接着層20は形成されないため、接着層
20の膜厚むらによって各ユニット4に傾きが生じるこ
ともないから、各ユニット4に記録されている情報を再
生する際に、ユニット4毎に入射光の傾き調整を行なう
必要がなく、情報の読み取りを簡易な操作で、かつ、短
時間で行なえ、読取装置(ドライブ)の構成を簡略化で
きるという利点もある。
According to this, since no adhesive is applied between the units 4 and the adhesive layer 20 is not formed, there is an advantage that the scattering of the signal light and the decrease in the light amount of the signal light do not occur. In addition, since each unit 4 is simply piled up and the adhesive layer 20 is not formed between the units 4, there is no inclination of each unit 4 due to the uneven thickness of the adhesive layer 20. When reproducing the recorded information, it is not necessary to adjust the inclination of the incident light for each unit 4, the information can be read by a simple operation in a short time, and the structure of the reading device (drive) is simplified. There is also an advantage that it can be realized.

【0143】また、例えば図14に示すように、ユニッ
ト4間に接着剤を塗布せずに、単純に各ユニット4を積
み上げ(積層し)、積み上げられた(積層された)各ユ
ニット4の端面(側面)に、端面を覆うように、例えば
硬化性樹脂などの接着剤を塗布し(これによって接着層
が形成される)、例えば樹脂フィルム等の平面状部材
(フィルム状部材,板状部材,連結部材)22を貼り付
けることで、各ユニット4を、平面状部材22を介して
接着(連結)することも可能である。この場合、平面状
部材22は、各ユニット4の端面に接着層20を介して
接着され、これにより、各ユニット4が連結されること
になる。
Also, as shown in FIG. 14, for example, without applying an adhesive between the units 4, the units 4 are simply stacked (laminated), and the end faces of the stacked units 4 are stacked. An adhesive such as a curable resin is applied to the (side surface) so as to cover the end face (which forms an adhesive layer), and a planar member (film-shaped member, plate-shaped member, It is also possible to adhere (connect) each unit 4 by attaching the connecting member) 22 via the planar member 22. In this case, the planar member 22 is adhered to the end surface of each unit 4 via the adhesive layer 20, whereby the units 4 are connected.

【0144】特に、平面状部材22は、各ユニット4の
入射端面以外の端面に形成するのが好ましい。これによ
り、光メモリ素子4に記録されている情報を再生する際
に、入射される再生光(入射光)の光量が減ってしま
い、結合効率が下がってしまうのを防止できることにな
る。さて、上述のように、記録容量の高密度化を図るべ
く、所望の大きさに切断された個々の光メモリ素子4
(ユニット)を積み上げて接着し、これを一つの光メモ
リ素子4′(媒体)とする場合(各光メモリ素子4が9
0度入射端面を有する場合)には、各ユニット4の再生
光入射方向への位置ずれ量(各ユニット4のアライメン
ト誤差)が所定の位置ずれ量の範囲内になるように積層
するのが好ましい。
In particular, it is preferable that the planar member 22 is formed on an end surface other than the incident end surface of each unit 4. As a result, when reproducing the information recorded in the optical memory element 4, it is possible to prevent the amount of the reproducing light (incident light) incident on the optical memory device 4 from decreasing and the coupling efficiency from decreasing. Now, as described above, in order to increase the recording density, the individual optical memory elements 4 cut into a desired size.
When the (units) are stacked and adhered to each other to form one optical memory element 4 '(medium) (each optical memory element 4 has 9
In the case of having a 0-degree incident end face), it is preferable to stack the units 4 so that the positional deviation amount (alignment error of each unit 4) of each unit 4 in the reproduction light incident direction falls within a predetermined positional deviation amount range. .

【0145】例えば、基準となる一のユニット4に対し
て他のユニット4の位置ずれ量が±100μmの範囲内
になるように積層するのが好ましい。つまり、最も位置
がずれているユニット4間の位置ずれ量が200μm以
下になるように積層するのが好ましい。なお、所定範囲
は、ユニット4毎に入射光の位置調整(アライメント;
焦点深度の調整)を行なわなくても、各ユニット4を構
成する光導波部材232のそれぞれのコア層3に、情報
を再生するのに必要な光量の入射光を導入できる位置ず
れ量として設定される。
For example, it is preferable that one unit 4 serving as a reference is laminated so that the positional deviation amount of the other unit 4 is within a range of ± 100 μm. That is, it is preferable to stack the units 4 so that the positional shift amount between the units 4 that are most shifted from each other is 200 μm or less. The predetermined range is such that the position adjustment (alignment;
Even if the depth of focus is not adjusted), it is set as a positional deviation amount capable of introducing an amount of incident light necessary for reproducing information into each core layer 3 of the optical waveguide member 232 constituting each unit 4. It

【0146】これにより、入射光(再生光)の再生光入
射方向への位置調整を、ユニット4毎に行なわなくても
良くなり、この結果、各ユニット4に記録されている情
報を短時間で読み出すことが可能になる。このように、
光メモリ素子4に記録されている情報を再生するのに、
各ユニット4毎に再生光入射方向への位置調整を行なわ
なくて済むようにすることで、読取装置(ドライブ)の
構成を簡略化することもできるようになる。
As a result, it is not necessary to adjust the position of the incident light (reproducing light) in the reproducing light incident direction for each unit 4, and as a result, the information recorded in each unit 4 can be recorded in a short time. It becomes possible to read. in this way,
To reproduce the information recorded in the optical memory device 4,
Since it is not necessary to adjust the position of each unit 4 in the reproduction light incident direction, the configuration of the reading device (drive) can be simplified.

【0147】したがって、本実施形態にかかる光メモリ
素子によれば、多層構造の実用的な光メモリ素子4を製
造することが可能となる。つまり、本光メモリ素子によ
れば、積層数を増やして記録容量を上げる場合に、反り
の発生をできるだけ抑えることができ、記録されている
情報を、正確、かつ、確実に再生できるとともに、歩留
まりを向上させることができるという利点がある。
Therefore, according to the optical memory element of the present embodiment, it becomes possible to manufacture a practical optical memory element 4 having a multilayer structure. That is, according to the present optical memory element, when increasing the number of stacked layers to increase the recording capacity, it is possible to suppress the occurrence of warpage as much as possible, it is possible to accurately and surely reproduce the recorded information, and to improve the yield. There is an advantage that it can be improved.

【0148】また、積層数を増やすのに、反りの発生を
できるだけ抑えるために、基板の厚さを厚くする必要が
ないため、光メモリ素子4を作製するための光メモリ素
子作製装置(媒体作製装置)のコストを低く抑えること
ができるという利点もある。
Further, since it is not necessary to increase the thickness of the substrate in order to suppress warpage as much as possible in order to increase the number of stacked layers, an optical memory element manufacturing apparatus (medium manufacturing apparatus) for manufacturing the optical memory element 4 is formed. There is also an advantage that the cost can be kept low.

【0149】[0149]

【実施例】表面に画像情報に応じた凹凸形状を有する、
金属ニッケルからなるスタンパ上に、クラッド材である
アクリル系紫外線硬化樹脂(屈折率n=1.49)を塗
布した後、紫外線を800mJ/cm2照射して硬化さ
せ、5μm厚のクラッド層を形成した。このクラッド層
上に、アクリル系紫外線硬化樹脂からなるコア材(屈折
率n=1.49)を塗布した後、厚さ100μmのアー
トンフィルム部材(JSR社製、屈折率n=1.51)
を、ゴムローラで圧着しながら、ゆっくりと貼着した。
この上から紫外線を800mJ/cm2照射して硬化さ
せ、1.8μm厚のコア層を形成し、フィルム部材をコ
ア/クラッド層と接着した。そして、スタンパからクラ
ッド層とコア層とアートンフィルムとを一体に分離し、
光透過性スタンパを作製した。
[Embodiment] The surface has an uneven shape according to image information,
An acrylic UV-curable resin (refractive index n = 1.49), which is a clad material, is applied on a stamper made of metallic nickel, and then irradiated with 800 mJ / cm 2 of ultraviolet rays to be cured to form a clad layer having a thickness of 5 μm. did. After coating a core material (refractive index n = 1.49) made of acrylic UV curable resin on this clad layer, an Arton film member having a thickness of 100 μm (made by JSR, refractive index n = 1.51)
Was slowly attached while being pressure-bonded with a rubber roller.
Ultraviolet rays of 800 mJ / cm 2 were radiated from above to cure to form a core layer having a thickness of 1.8 μm, and the film member was bonded to the core / clad layer. Then, the clad layer, the core layer and the Arton film are separated from the stamper,
A light transmissive stamper was produced.

【0150】次に、1.6mm厚のガラス基板上にクラ
ッド材であるアクリル系紫外線硬化樹脂(屈折率n=
1.49)を塗布した後、紫外線を800mJ/cm2
照射して硬化させ、5μmのクラッド層を形成した。こ
のクラッド層上に、アクリル系紫外線硬化樹脂からなる
コア材(屈折率n=1.49)を塗布した後、厚さ10
0μmのアートンフィルム部材(JSR社製)を、ゴム
ローラで圧着しながら、ゆっくりと貼着した。この上か
ら紫外線を800mJ/cm2照射して、フィルム部材
をコア/クラッド層と接着した。
Next, an acrylic ultraviolet curing resin (refractive index n =
1.49) and then 800mJ / cm 2 of ultraviolet rays
It was irradiated and cured to form a 5 μm clad layer. A core material (refractive index n = 1.49) made of an acrylic ultraviolet curable resin was applied on the clad layer, and then a thickness of 10
A 0 μm Arton film member (manufactured by JSR Co.) was slowly attached while being pressed by a rubber roller. The film member was bonded to the core / clad layer by irradiating ultraviolet rays at 800 mJ / cm 2 from above.

【0151】このフィルム部材上に、アクリル系紫外線
硬化樹脂からなるコア材(屈折率n=1.49)を塗布
した後、紫外線を2400mJ/cm2照射して硬化さ
せ、1.8μm厚のコア層を形成した。その上に、アク
リル系紫外線硬化樹脂からなるクラッド材(層折率n=
1.49)を塗布した後、光透過性スタンバを、転写面
がクラッド材に接する向きに、ゴムローラで圧着しなが
ら、ゆっくりと貼着した。この際、ローラとガラス基板
との距離が一定になるように制御し、クラッド厚が均一
になるように調整した。この上から、紫外線を10mJ
/cm2照射して、クラッド層を部分的に不完全に硬化
(一部不完全硬化)させた後、光透過性スタンパのみを
剥離した。その後、さらに紫外線を800mJ/cm2
照射して、クラッド層を完全に硬化させた。この結果、
15μm厚のクラッド層が形成された。このクラッド層
上に、アクリル系紫外線硬化樹脂からなるコア材(屈折
率n=1.49)を塗布した後、紫外線を2400mJ
/cm2照射して硬化させ、1.8μm厚のコア層を形
成した。なお、形成したコア層、クラッド層の屈折率は
それぞれ1.52,1.51であった。この工程を25
回繰り返すことにより、25層の多層構造の積層体とし
た。
A core material (refractive index n = 1.49) made of an acrylic ultraviolet curable resin was applied to this film member, and then irradiated with ultraviolet rays at 2400 mJ / cm 2 to cure the core material, and a core having a thickness of 1.8 μm was applied. Layers were formed. On top of that, a clad material made of acrylic UV curable resin (layer folding ratio n =
After applying 1.49), a light transmissive stamper was slowly attached in such a direction that the transfer surface was in contact with the clad material while being pressed by a rubber roller. At this time, the distance between the roller and the glass substrate was controlled to be constant, and the clad thickness was adjusted to be uniform. From above, ultraviolet rays of 10 mJ
/ Cm 2 irradiation to partially incompletely cure the cladding layer (partially incompletely cured), and then only the light transmissive stamper was peeled off. After that, further ultraviolet rays of 800 mJ / cm 2
Irradiation was performed to completely cure the clad layer. As a result,
A 15 μm thick clad layer was formed. After coating a core material (refractive index n = 1.49) made of an acrylic ultraviolet curing resin on this clad layer, ultraviolet rays of 2400 mJ are applied.
/ Cm 2 It was irradiated and cured to form a core layer having a thickness of 1.8 μm. The refractive indexes of the formed core layer and cladding layer were 1.52 and 1.51, respectively. 25 this step
By repeating this, a laminated body having a multilayer structure of 25 layers was obtained.

【0152】次に、クラッド材であるアクリル系紫外線
硬化樹脂(屈折率n=1.49)を塗布した後、紫外線
を800mJ/cm2照射して硬化させ、15μm厚の
クラッド層を形成した。このクラッド層上に、アクリル
系紫外線硬化樹脂からなるコア材(層折率n=1.4
9)を塗布した後、厚さ100μmのアートンフィルム
部材(JSR社製)を、ゴムローラで圧着しながら、ゆ
っくりと貼着した。この上から紫外線を800mJ/c
2照射して、フィルム部材をコア/クラッド層と接着
した。
Next, an acrylic ultraviolet curing resin (refractive index n = 1.49), which is a clad material, was applied and then irradiated with ultraviolet rays at 800 mJ / cm 2 to be cured to form a 15 μm thick clad layer. On this clad layer, a core material made of an acrylic UV curable resin (layer folding ratio n = 1.4
After applying 9), an Arton film member (manufactured by JSR) having a thickness of 100 μm was slowly attached while being pressure-bonded with a rubber roller. 800 mJ / c ultraviolet light from above
The film member was bonded to the core / clad layer by irradiation with m 2 .

【0153】最後に、アートンフィルムに挟まれた25
層構造の積層体をガラス基板から剥離した。このように
して、25層構造の積層体をアートンフィルムで挟み込
んでなる光メモリ素子を作製した。そして、このように
して作製した光メモリ素子を、ダイシングソーを用い
て、縦約1.5cm、横約2.5cmの大きさに切断
し、これを4つ用意した。情報記録領域を覆わないよう
に、4隅にエポキシ系接着剤を同量ディスペンスした
後、上から均等に圧力をかけながら4つのサンプル(ユ
ニット)を積層接着し、100層構造の光メモリ素子を
作製した。
Finally, the 25 pieces sandwiched between Arton films
The layered laminate was peeled from the glass substrate. In this way, an optical memory device was produced by sandwiching the 25-layer structure laminate with an Arton film. Then, the optical memory device thus manufactured was cut into a size of about 1.5 cm in length and about 2.5 cm in width using a dicing saw, and four pieces were prepared. An equal amount of epoxy adhesive was dispensed at the four corners so as not to cover the information recording area, and then four samples (units) were laminated and adhered while evenly applying pressure from above to fabricate a 100-layer optical memory device. did.

【0154】このサンプルの所定の方向からレーザ光を
導入して評価を行なった。この際、サンプルを平坦にす
るためのクランプ機構等は用意せずに、測定を行った。
レーザ光は、波長が680nm、強度が約5mWの半導
体レーザで、レンズを組み合わせて光束が縦4μm、構
約1cmに絞って、この光束がコア層に入るように調整
を行った。各層でデータが記録されている領域(情報領
域)の幅は6.5mmであった。
Evaluation was performed by introducing laser light from a predetermined direction of this sample. At this time, the measurement was performed without preparing a clamp mechanism or the like for flattening the sample.
The laser light was a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm and an intensity of about 5 mW. The light flux was adjusted to 4 μm in length and about 1 cm by combining a lens so that the light flux enters the core layer. The width of the area (information area) in which data was recorded in each layer was 6.5 mm.

【0155】この結果、レーザ光はコア層内を伝播し、
凹凸によってわずかに散乱された光はコア層と垂直方向
に透過して、結像した。この像を直接CCD上に投影し
て観察し、所期の画像(テストパターン)であることを
確認した。また、レーザ光を導入するコア層を変えるこ
とによって、100層あるコア層に記録されたこれらの
画像が互いに影響を与えることなく、それぞれ独立に読
み出せることを確認した。
As a result, the laser light propagates in the core layer,
The light slightly scattered by the unevenness was transmitted in the direction perpendicular to the core layer and imaged. This image was projected directly onto the CCD and observed, and it was confirmed that the image was a desired image (test pattern). It was also confirmed that by changing the core layer into which laser light is introduced, these images recorded in 100 core layers can be read independently without affecting each other.

【0156】次に、各ブロックの基準面の傾きを測定し
た。各ブロックの最下コア層面を、そのブロックの基準
面とした。最下ブロックの基準面を、ブロック間傾き量
の基準として傾き量を測定した。この結果、最下ブロッ
クから順に、0μm,0μm,+0.9μm,+0.9
μmという傾き量であった。入射レーザ幅(再生光照射
領域の縦方向の幅)が4μm、コア厚が1.8μmであ
るため、式x≦d−t(x:情報領域の傾き量,d:再
生光照射領域の縦方向の幅,t:樹脂製コア層の厚さ)
によって許容される傾き量は2.2μmであるが、各ユ
ニットの傾き量は許容範囲内にあることが分かる。
Next, the inclination of the reference plane of each block was measured. The bottom core layer surface of each block was used as the reference surface of the block. The tilt amount was measured using the reference plane of the bottom block as a reference for the inter-block tilt amount. As a result, in order from the bottom block, 0 μm, 0 μm, +0.9 μm, +0.9
The amount of inclination was μm. Since the incident laser width (vertical width of the reproduction light irradiation area) is 4 μm and the core thickness is 1.8 μm, the expression x ≦ d−t (x: tilt amount of information area, d: vertical direction of reproduction light irradiation area). Direction width, t: thickness of the resin core layer)
The tilt amount allowed by is 2.2 μm, but it can be seen that the tilt amount of each unit is within the allowable range.

【0157】[0157]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の光メモリ
素子によれば、積層数を増やして記録容量を上げる場合
に、反りの発生をできるだけ抑えることができ、記録さ
れている情報を、正確、かつ、確実に再生できるととも
に、歩留まりを向上させることができるという利点があ
る。
As described above in detail, according to the optical memory device of the present invention, when the number of stacked layers is increased to increase the recording capacity, the occurrence of warpage can be suppressed as much as possible, and the recorded information can be recorded. There is an advantage that the reproduction can be performed accurately and surely and the yield can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子の全
体構成を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an overall configuration of an optical memory element according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子の全
体構成を説明するための模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining an overall configuration of an optical memory device according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施形態にかかる光透過性スタンパ
の全体構成を示す模式的断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the overall configuration of a light transmissive stamper according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施形態にかかる光透過性スタンパ
の製造方法を示す模式的断面図であって、(A)はクラ
ッド層及びコア層を形成する工程、(B)は樹脂フィル
ムを接着する工程、(C)は光透過性スタンパを剥離
(分離)する工程、(D)はオーバキュア処理を行なう
工程をそれぞれ示している。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a light-transmitting stamper according to an embodiment of the present invention, in which (A) is a step of forming a clad layer and a core layer, and (B) is a resin film. The step of adhering, (C) shows the step of peeling (separating) the light transmissive stamper, and (D) shows the step of performing overcure treatment.

【図5】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子の製
造方法を示す模式的断面図であって、(A)は光メモリ
素子作製用ベース基板上に樹脂フィルムを接着する工
程、(B)は樹脂フィルム上にコア層を形成する工程、
(C)はコア層上にクラッド層及びコア層を形成する工
程、(D)は光透過性スタンパから凹凸パターンを転写
する工程、(E)は光透過性スタンパを剥離(分離)す
る工程をそれぞれ示している。
5A and 5B are schematic cross-sectional views showing a method for manufacturing an optical memory device according to an embodiment of the present invention, in which FIG. 5A is a step of adhering a resin film on a base substrate for manufacturing an optical memory device, and FIG. A step of forming a core layer on the resin film,
(C) is a step of forming a clad layer and a core layer on the core layer, (D) is a step of transferring an uneven pattern from the light-transmitting stamper, and (E) is a step of peeling (separating) the light-transmitting stamper. Shown respectively.

【図6】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子の製
造方法により製造される光メモリ素子の全体構成を示す
模式的断面図であって、(A)は光メモリ素子作製用ベ
ース基板上に形成した状態、(B)は光メモリ素子作製
用ベース基板から剥離(分離)した状態をそれぞれ示し
ている。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the overall configuration of an optical memory element manufactured by the method for manufacturing an optical memory element according to the embodiment of the present invention, in which (A) is formed on a base substrate for manufacturing an optical memory element. The state (B) shows the state of being peeled (separated) from the optical memory element manufacturing base substrate.

【図7】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子の再
生時における入射光の制御を説明するための模式図であ
る。
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining control of incident light during reproduction of the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子のコ
ア層の傾き量を説明するための模式図である。
FIG. 8 is a schematic diagram for explaining the amount of inclination of the core layer of the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図9】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子を構
成する各ユニットの接着方法を説明するための模式図で
ある。
FIG. 9 is a schematic diagram for explaining a bonding method of each unit that constitutes the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図10】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子を
構成する各ユニットを接着する場合の接着層の形成位置
の一例を説明するための模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining an example of a formation position of an adhesive layer when bonding each unit constituting the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図11】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子を
構成する各ユニットを接着する場合の接着層の形成位置
の他の例を説明するための模式図である。
FIG. 11 is a schematic diagram for explaining another example of the formation position of the adhesive layer when bonding the respective units constituting the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図12】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子を
構成する各ユニットの傾き量の許容範囲を説明するため
の模式図である。
FIG. 12 is a schematic diagram for explaining an allowable range of the tilt amount of each unit that constitutes the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図13】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子を
構成する各ユニットの接着方法の変形例を説明するため
の模式図である。
FIG. 13 is a schematic diagram for explaining a modified example of the bonding method of each unit that constitutes the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図14】本発明の一実施形態にかかる光メモリ素子を
構成する各ユニットの接着方法(連結方法)の他の変形
例を説明するための模式図である。
FIG. 14 is a schematic diagram for explaining another modified example of the bonding method (coupling method) of each unit constituting the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図15】従来の光メモリ素子の動作原理を説明するた
めの模式的斜視図である。
FIG. 15 is a schematic perspective view for explaining the operation principle of a conventional optical memory device.

【図16】従来の光メモリ素子の動作原理を説明するた
めの模式的斜視図である。
FIG. 16 is a schematic perspective view for explaining the operation principle of a conventional optical memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属製スタンパ(硬質スタンパ) 2 クラッド層(クラッド材) 2X クラッド層(接着層) 3 コア層(コア材,記録層,光導波路) 3Xa,3Xb,3Xc コア層(接着層) 232 光導波部材(1層分の光メモリ素子,積層体) 4 光メモリ素子(ユニット,ブロック) 4′ 光メモリ素子(媒体) 5,5′ 樹脂フィルム(基体,薄膜基体) 6 情報用凹凸部(凹凸部) 10 クラッド層(クラッド材,スタンパ層) 11 コア層(コア材,接着層,接着剤) 12 樹脂フィルム(基体,基体層) 13 光透過性スタンパ(光メモリ素子作製用スタン
パ) 20 接着層 21 光メモリ素子作製用ベース基板(ベース材) 22 平面状部材(フィルム状部材,板状部材,連結部
材)
1 Metal Stamper (Hard Stamper) 2 Clad Layer (Clad Material) 2X Clad Layer (Adhesive Layer) 3 Core Layer (Core Material, Recording Layer, Optical Waveguide) 3Xa, 3Xb, 3Xc Core Layer (Adhesive Layer) 232 Optical Waveguide Member (Optical memory device for one layer, laminated body) 4 Optical memory device (unit, block) 4'Optical memory device (medium) 5, 5 'Resin film (base, thin film base) 6 Concavo-convex portion for information (concavo-convex portion) 10 Cladding layer (Clad material, stamper layer) 11 Core layer (core material, adhesive layer, adhesive) 12 Resin film (base material, base material layer) 13 Light-transmitting stamper (stamper for manufacturing optical memory element) 20 Adhesive layer 21 Base for manufacturing optical memory element Substrate (base material) 22 Planar member (film member, plate member, connecting member)

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂製コア層と、前記樹脂製コア層の両
面に積層された樹脂製クラッド層とからなり、前記樹脂
製コア層と前記樹脂製クラッド層との界面の少なくとも
一方に情報用凹凸部を有する光導波部材を1個又は複数
個積層させてなる積層体を基体により挟んでなるユニッ
トが、2以上接着されて構成されることを特徴とする、
光メモリ素子。
1. A resin core layer and a resin clad layer laminated on both sides of the resin core layer, wherein at least one of the interfaces between the resin core layer and the resin clad layer is for information. A unit formed by sandwiching a laminated body formed by laminating one or a plurality of optical waveguide members each having a concave-convex portion by a base, and being configured by bonding two or more units together,
Optical memory device.
【請求項2】 前記基体間に挟まれている前記積層体の
厚さが、2mm以下であることを特徴とする、請求項1
記載の光メモリ素子。
2. The thickness of the laminate sandwiched between the bases is 2 mm or less.
The optical memory device described.
【請求項3】 前記基体が、厚さ10μm〜500μmで
あることを特徴とする、請求項1又は2記載の光メモリ
素子。
3. The optical memory device according to claim 1, wherein the substrate has a thickness of 10 μm to 500 μm.
【請求項4】 前記基体と前記樹脂製クラッド層との屈
折率差、及び、前記基体と前記樹脂製コア層との屈折率
差が、いずれも0.2以下であることを特徴とする、請
求項1〜3のいずれか1項に記載の光メモリ素子。
4. The refractive index difference between the base and the resin clad layer and the refractive index difference between the base and the resin core layer are both 0.2 or less. The optical memory device according to claim 1.
【請求項5】 前記樹脂製コア層及び前記樹脂製クラッ
ド層が、硬化性樹脂からなることを特徴とする、請求項
1〜4のいずれか1項に記載の光メモリ素子。
5. The optical memory element according to claim 1, wherein the resin core layer and the resin clad layer are made of a curable resin.
【請求項6】 前記硬化性樹脂が、アクリル系硬化性樹
脂であることを特徴とする、請求項5記載の光メモリ素
子。
6. The optical memory element according to claim 5, wherein the curable resin is an acrylic curable resin.
【請求項7】 前記各ユニットを接着する接着層を有
し、 前記接着層が、前記各ユニットの間に形成されているこ
とを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の
光メモリ素子。
7. The adhesive layer according to claim 1, further comprising an adhesive layer for adhering the units, wherein the adhesive layer is formed between the units. Optical memory device.
【請求項8】 前記接着層が、前記情報用凹凸部が形成
されている情報領域に対応する領域全面に形成されてい
ることを特徴とする、請求項7記載の光メモリ素子。
8. The optical memory element according to claim 7, wherein the adhesive layer is formed on the entire surface of the area corresponding to the information area where the information concave-convex portion is formed.
【請求項9】 前記接着層と前記樹脂製クラッド層との
屈折率差、及び、前記接着層と前記樹脂製コア層との屈
折率差が、いずれも0.2以下であることを特徴とす
る、請求項7又は8記載の光メモリ素子。
9. The refractive index difference between the adhesive layer and the resin clad layer and the refractive index difference between the adhesive layer and the resin core layer are both 0.2 or less. 9. The optical memory device according to claim 7 or 8.
【請求項10】 前記接着層が、前記情報用凹凸部が形
成されている情報領域に対応する領域以外の領域に形成
されていることを特徴とする、請求項7記載の光メモリ
素子。
10. The optical memory element according to claim 7, wherein the adhesive layer is formed in a region other than a region corresponding to the information region in which the information uneven portion is formed.
【請求項11】 前記光導波部材の情報用凹凸部が拡大
再生するように構成され、 前記接着層が、前記情報用凹凸部からの拡大再生像が現
れない領域に形成されることを特徴とする、請求項7記
載の光メモリ素子。
11. An information concavo-convex portion of the optical waveguide member is configured to be enlarged and reproduced, and the adhesive layer is formed in a region where an enlarged reproduction image from the information concavo-convex portion does not appear. The optical memory device according to claim 7, which comprises:
【請求項12】 前記各ユニットを接着する接着層を有
し、 前記接着層が、前記各ユニットの端面を覆うように形成
されていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか
1項に記載の光メモリ素子。
12. An adhesive layer for adhering each unit, wherein the adhesive layer is formed so as to cover an end face of each unit. An optical memory device according to item.
【請求項13】 前記接着層が、前記各ユニットの樹脂
製コア層に再生光を入射するための入射端面以外の端面
に形成されていることを特徴とする、請求項12記載の
光メモリ素子。
13. The optical memory device according to claim 12, wherein the adhesive layer is formed on an end face other than an incident end face for making reproducing light enter the resin core layer of each unit.
【請求項14】 前記各ユニットを連結する連結部材を
有し、 前記連結部材が、前記各ユニットの端面を覆うように設
けられていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれ
か1項に記載の光メモリ素子。
14. A connecting member for connecting each unit, wherein the connecting member is provided so as to cover an end face of each unit. An optical memory device according to item.
【請求項15】 前記ユニットの数が、10以下である
ことを特徴とする、請求項1〜14のいずれか1項に記
載の光メモリ素子。
15. The optical memory device according to claim 1, wherein the number of units is 10 or less.
【請求項16】 前記各ユニット相互間の再生光入射方
向の位置ずれが、200μm以内であることを特徴とす
る、請求項1〜15のいずれか1項に記載の光メモリ素
子。
16. The optical memory device according to claim 1, wherein a positional deviation between the respective units in a reproduction light incident direction is within 200 μm.
【請求項17】 前記ユニットの基準面の前記樹脂製コ
ア層の前記情報用凹凸部が形成されている情報領域の幅
における前記光メモリ素子の基準面に対する傾き量が、
下記式によって表される条件を満たすことを特徴とす
る、請求項1〜16のいずれか1項に記載の光メモリ素
子。 |x|≦d−t x:ユニットの基準面の情報領域幅における素子の基準
面に対する傾き量 d:再生光照射領域の縦方向の幅 t:コア層の情報領域における厚さ
17. The amount of inclination of the optical memory element with respect to the reference plane in the width of the information area of the resin core layer of the reference plane of the unit, in which the information uneven portion is formed,
The optical memory device according to claim 1, wherein a condition represented by the following formula is satisfied. | X | ≦ d−t x: amount of inclination of the information area width of the reference surface of the unit with respect to the reference surface d: vertical width of the reproduction light irradiation area t: thickness of the core layer in the information area
【請求項18】 前記情報領域の幅が、2mm以上10
0mm以下であることを特徴とする、請求項17記載の
光メモリ素子。
18. The information area has a width of 2 mm or more and 10 or more.
18. The optical memory device according to claim 17, wherein the optical memory device has a length of 0 mm or less.
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