JP2003226763A - Method for producing negative birefringent polymer film - Google Patents

Method for producing negative birefringent polymer film

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JP2003226763A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a negative birefringent film which is easy to control double refractive indices and, simultaneously, simple. <P>SOLUTION: In the polymer film having negative birefringence, the negative double refractive indices are controlled by varying the amount of the residual solvent present in the film. As the polymer, a polyimide or a polyetherketone is suitably used. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、簡便な方法により
負複屈折率を制御できる負複屈折性ポリマーフィルムの
製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a negative birefringent polymer film whose negative birefringence can be controlled by a simple method.

【0002】[0002]

【従来の技術】負複屈折性(負の一軸性とも言う。)を
有するフィルムは、液晶ディスプレイの視覚補償などに
用いられている。このようなフィルムは、ディスコティ
ック液晶から形成されていたり(特開平9−10465
6号公報、特開平9−194429号公報、特開平9−
194430号公報)、あるいは延伸処理されたポリマ
ーフィルムから製造されたり(米国特許5,138,4
74号)、あるいは未延伸のポリイミドフィルムから製
造される(米国特許5,344,916号、米国特許
5,480,964号、米国特許5,580,950
号、米国特許6,238,753号)。
2. Description of the Related Art A film having negative birefringence (also called negative uniaxiality) is used for visual compensation of liquid crystal displays. Such a film may be formed of discotic liquid crystal (Japanese Patent Laid-Open No. 9-10465).
6, JP-A-9-194429, JP-A-9-
194430) or produced from a stretched polymer film (US Pat. No. 5,138,4).
74) or an unstretched polyimide film (US Pat. No. 5,344,916, US Pat. No. 5,480,964, US Pat. No. 5,580,950).
No. 6,238,753).

【0003】これらの負複屈折性フィルムを得るにあた
り、負複屈折率の制御は容易ではない。例えばディスコ
ティック液晶は化学構造が複雑であり、合成が煩雑であ
ることから、結果的にはコスト高になってしまう。
In obtaining these negative birefringent films, it is not easy to control the negative birefringence. For example, a discotic liquid crystal has a complicated chemical structure and is complicated to synthesize, resulting in an increase in cost.

【0004】延伸フィルムの場合は、延伸倍率や延伸方
向を変えることにより制御される。しかし、この方法で
は延伸率を大きくした場合にフィルムが極薄となり、強
度が劣ったり扱いにくくなるという欠点がある。また、
厚膜のフィルムを作製してこれを延伸することで出来上
がりの厚みを稼ぐという方法もあるが、厚膜フィルムの
作製は厚みムラを生じやすく技術上極めて困難である。
また仮に厚膜のフィルムを得ることができたとしても、
これを精密に延伸するには高度な技術を要する。また、
そもそも延伸による作製方法では歩留まりが悪いといっ
た欠点もある。
In the case of a stretched film, it is controlled by changing the stretching ratio and the stretching direction. However, this method has the drawback that the film becomes extremely thin when the stretch ratio is increased, resulting in poor strength and difficulty in handling. Also,
There is also a method of producing a thick film and stretching the film to obtain a finished thickness, but it is technically extremely difficult to produce a thick film because uneven thickness is likely to occur.
Even if a thick film could be obtained,
A high degree of technology is required to precisely draw this. Also,
In the first place, the drawing method has a drawback that the yield is low.

【0005】また、ポリイミド負複屈折フィルムの場合
には、ポリイミドの構造を適宜変えることにより制御で
きることが、上記文献中に示されている。具体的には、
ポリイミド主鎖の線状性及び剛直性を高めることにより
負複屈折値を高めることができるが、ポリイミドの構造
を変えるために必要な原料モノマー(ジアミン、酸二無
水物)の入手が限られている場合がある。
Further, in the case of a polyimide negative birefringence film, it is shown in the above literature that it can be controlled by appropriately changing the structure of the polyimide. In particular,
Although the negative birefringence value can be increased by increasing the linearity and rigidity of the polyimide main chain, the availability of raw material monomers (diamine, dianhydride) necessary to change the structure of the polyimide is limited. There is a case.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、複屈折率の
制御が容易であるとともに、かつ簡便な負複屈折性フィ
ルムの製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for producing a negative birefringent film, which is easy to control the birefringence and is simple.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するため鋭意検討した結果、負複屈折性フィル
ム、特に固有負複屈折値を有するポリマーをキャストし
て得られる負複屈折性フィルムに関し、簡便な方法で負
複屈折値を制御できることを見出し、本発明を完成する
に至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that a negative birefringence film, particularly a negative birefringence obtained by casting a polymer having an intrinsic negative birefringence value. With regard to the flexible film, it was found that the negative birefringence value can be controlled by a simple method, and the present invention has been completed.

【0008】すなわち、本発明は、負複屈折性を有する
ポリマーフィルムにおいて、フィルム中に含まれる残存
溶剤量を変化させることにより、負複屈折率を制御する
ことを特徴とする負複屈折性ポリマーフィルムの製造方
法を提供する。前記のポリマーとしては、ポリイミドま
たはポリエーテルケトンが好適である。
That is, according to the present invention, in a polymer film having negative birefringence, the negative birefringence polymer is controlled by changing the amount of residual solvent contained in the film. A method for manufacturing a film is provided. Polyimide or polyetherketone is suitable as the polymer.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の製造方法は、負複屈折値
を有するポリマーをキャストしてフィルムを得る場合に
有用である。負複屈折値を有するポリマーは公知のもの
を制限なく使用することができ、例えば、ポリイミド、
ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリスル
ホン、ポリカーボネートなどが挙げられる。中でも、比
較的高い負複屈折値が得られる点より、ポリイミドまた
はポリエーテルケトンが好適である。用いるポリマーの
質量平均分子量(Mw)は、2,000〜1,000,
000、好ましくは3,000〜900,000、さら
に好ましくは4,000〜800,000の範囲である
のがよい。質量平均分子量(Mw)が2,000未満の
場合は、皮膜を形成した時に強度に劣る場合があり、一
方、1,000,000を越える場合は、溶媒への溶解
性が劣ったり、溶液の保存安定性が悪くなる場合があ
る。
The manufacturing method of the present invention is useful when a polymer having a negative birefringence value is cast to obtain a film. The polymer having a negative birefringence value can be used without limitation known ones, for example, polyimide,
Examples thereof include polyether ketone, polyether nitrile, polysulfone, and polycarbonate. Among them, polyimide or polyether ketone is preferable because a relatively high negative birefringence value can be obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used is 2,000 to 1,000,
000, preferably 3,000 to 900,000, and more preferably 4,000 to 800,000. If the mass average molecular weight (Mw) is less than 2,000, the strength may be poor when a film is formed, while if it exceeds 1,000,000, the solubility in a solvent may be poor or the solution Storage stability may deteriorate.

【0010】具体的には、ポリイミドの場合、ジアミン
成分および芳香族酸二無水物として下記のものを用いた
ものが挙げられる。ジアミン成分としては、例えば、o
−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−
フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、1,
4−ジアミノ−2−メトキシベンゼン、1,4−ジアミ
ノ−2−フェニルベンゼン、1,3−ジアミノ−4−ク
ロロベンゼン、4,4−ジアミノビフェニル、4,4´
−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス(4−アミ
ノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェ
ニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロ
パン、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、3,4
´−ジアミノジフェニルエーテル、1,3−ビス(3−
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミ
ノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、4,4´−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4´−ビス(3−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、2,2−ビス〔4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、4,4−ジアミ
ノジフェニルチオエーテル、4,4´−ジアミノジフェ
ニルスルホン、2,2´−ジアミノベンゾフェノン、
3,3´−ジアミノベンゾフェノン、1,8−ジアミノ
ナフタレン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジ
アミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、2,4
−ジアミノ−s−トリアジン、2,2´−ビス(トリフ
ルオロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル、2,
2´−ジブロモ−4,4´−ジアミノビフェニル、2,
2´−ジシアノ−4,4´−ジアミノビフェニル、2,
2´−ジクロロ−6,6´−ジメチル−4,4´−ジア
ミノビフェニル、2,2´−ジメチル−4,4´−ジア
ミノビフェニル、3,3´−ジメチル−4,4´−ジア
ミノビフェニル、2,2´−ジカルボアルコキシ−4,
4´−ジアミノビフェニルおよび2,2´−ジカルボア
ルコキシ−6,6´−ジメチル−4,4´−ジアミノビ
フェニルなどが挙げられる。
Specifically, in the case of polyimide, those using the following as the diamine component and aromatic acid dianhydride can be mentioned. Examples of the diamine component include o
-Phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-
Phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 1,
4-diamino-2-methoxybenzene, 1,4-diamino-2-phenylbenzene, 1,3-diamino-4-chlorobenzene, 4,4-diaminobiphenyl, 4,4 '
-Diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 4,4'- Diaminodiphenyl ether, 3,4
′ -Diaminodiphenyl ether, 1,3-bis (3-
Aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'- Bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4-
(4-Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,
3,3,3-hexafluoropropane, 4,4-diaminodiphenylthioether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 2,2'-diaminobenzophenone,
3,3'-diaminobenzophenone, 1,8-diaminonaphthalene, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 2,4
-Diamino-s-triazine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 2,
2'-dibromo-4,4'-diaminobiphenyl, 2,
2'-dicyano-4,4'-diaminobiphenyl, 2,
2'-dichloro-6,6'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dicarboalkoxy-4,
4'-diaminobiphenyl and 2,2'-dicarboalkoxy-6,6'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl are mentioned.

【0011】芳香族酸二無水物としては、3,3´,
4,4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,3´,4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、2,2´,3,3´−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、3,3´,4,4´−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)メタン二無水物、ビス(2,5,6−トリ
フルオロ−3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無
水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)スルホン二無水物、4,4´−〔4,4´−
イソプロピリデン−ジ(p−フェニレンオキシ)〕ビス
(フタル酸無水物)、N,N−(3,4−ジカルボキシ
フェニル)N−メチルアミン二無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物、2,
3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、2,6−ジクロロナフタレン−1,4,5,8−テ
トラカルボン酸二無水物、チオフェン−2,3,4,5
−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−2,3,5,
6−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−2,3,
5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,2´−ジブロ
モ−4,4´,5,5´−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物、2,2´−ジヨード−4,4´,5,5´−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2´−ジフ
ルオロ−4,4´,5,5´−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、2,2´−ビス(トリフルオロメチル)
−4,4´,5,5´−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物、2,2´−ビス(トリクロロメチル)−4,4
´,5,5´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2,2´−ビス(トリブロモメチル)−4,4´,5,
5´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2´
−ビス(トリヨードメチル)−4,4´,5,5´−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、3,6−ジフェニ
ルピロメリット酸二無水物、3,6−ビス(トリフルオ
ロメチル)ピロメリット酸二無水物、3,6−ビス(メ
チル)ピロメリット酸二無水物、3,6−ジヨードピロ
メリット酸二無水物、3,6−ジブロモピロメリット酸
二無水物および3,6−ジクロロピロメリット酸二無水
物などが挙げられる。
As the aromatic dianhydride, 3,3 ',
4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride,
2,3,3 ′, 4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid Dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,5,6-trifluoro-3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis (3 , 4-dicarboxyphenyl)
Propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether Dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 4,4 '-[4,4'-
Isopropylidene-di (p-phenyleneoxy)] bis (phthalic anhydride), N, N- (3,4-dicarboxyphenyl) N-methylamine dianhydride, bis (3,4-)
Dicarboxyphenyl) diethylsilane dianhydride, 2,
3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5
-Tetracarboxylic dianhydride, pyrazine-2,3,5
6-tetracarboxylic dianhydride, pyridine-2,3
5,6-Tetracarboxylic dianhydride, 2,2'-dibromo-4,4 ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2'-diiodo-4,4', 5 5'-
Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2'-difluoro-4,4 ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2'-bis (trifluoromethyl)
-4,4 ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2'-bis (trichloromethyl) -4,4
′, 5,5′-biphenyltetracarboxylic dianhydride,
2,2'-bis (tribromomethyl) -4,4 ', 5
5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 '
-Bis (triiodomethyl) -4,4 ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,6-diphenylpyromellitic dianhydride, 3,6-bis (trifluoromethyl) pyromellitic Acid dianhydride, 3,6-bis (methyl) pyromellitic dianhydride, 3,6-diiodopyromellitic dianhydride, 3,6-dibromopyromellitic dianhydride and 3,6-dichloro Examples include pyromellitic dianhydride.

【0012】ポリエーテルケトンの場合は、特にポリア
リールエーテルケトンが好ましく、その中でも主鎖の繰
り返し単位中に、少なくとも一つのフッ素原子を有する
ものがよい。本発明でいうポリアリールエーテルケトン
とは、繰り返し単位中にエーテル基(−O−)とケトン
基(−C(=O)−)を有し、それらがアリール基で連
結されているものを言い、一般式(1)で表される。
In the case of polyetherketone, polyaryletherketone is particularly preferable, and among them, one having at least one fluorine atom in the repeating unit of the main chain is preferable. The polyaryl ether ketone referred to in the present invention is one having an ether group (-O-) and a ketone group (-C (= O)-) in a repeating unit, and these are linked by an aryl group. , Represented by the general formula (1).

【0013】[0013]

【化1】 (式中、Fはフッ素原子であり、Aはハロゲン原子、低
級アルキル基又は低級アルコキシ基であり、xおよびy
は0〜4の整数であり、mは0又は1である。また、n
は重合度を表し、R1は一般式(2)で表される基であ
る。)
[Chemical 1] (In the formula, F is a fluorine atom, A is a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and x and y
Is an integer of 0 to 4, and m is 0 or 1. Also, n
Represents the degree of polymerization, and R 1 is a group represented by the general formula (2). )

【化2】 (式中、Fはフッ素原子であり、A’はハロゲン原子、
低級アルキル基又は低級アルコキシ基であり、zおよび
x’は0〜4の整数であり、pは0又は1であり、R2
は2価の芳香族基である。)
[Chemical 2] (In the formula, F is a fluorine atom, A ′ is a halogen atom,
A lower alkyl group or a lower alkoxy group, z and x ′ are integers of 0 to 4, p is 0 or 1, and R 2
Is a divalent aromatic group. )

【0014】中でも、一般式(1)において、好ましく
はy=0のものであり、より好ましくはy=0かつx’
=0のものである。これらのポリアリールエーテルケト
ンは下記一般式(3)の繰り返し構造単位を有し、R1
は下記一般式(4)で表される基であるのが好ましい。
Among them, in the general formula (1), y = 0 is preferable, and y = 0 and x'is more preferable.
= 0. These polyaryl ether ketones have a repeating structural unit represented by the following general formula (3), and R 1
Is preferably a group represented by the following general formula (4).

【0015】[0015]

【化3】 (式中、Fはフッ素原子であり、xは0〜4の整数であ
り、mは0又は1である。また、nは重合度を表し、R
1は前記式(1)と同様である。)
[Chemical 3] (In the formula, F is a fluorine atom, x is an integer of 0 to 4, m is 0 or 1, and n represents the degree of polymerization, and R
1 is the same as the above formula (1). )

【0016】[0016]

【化4】 (式中、Fはフッ素原子であり、zは0〜4の整数であ
り、pは0又は1である。R2は2価の芳香族基であ
る。)
[Chemical 4] (In the formula, F is a fluorine atom, z is an integer of 0 to 4, p is 0 or 1. R 2 is a divalent aromatic group.)

【0017】また、上記の一般式(2)および一般式
(4)において、2価の芳香族基(R 2)は、下記の式
(5)からなる群から選ばれる少なくとも一種の基であ
ることが好ましい。
Further, the above general formula (2) and the general formula
In (4), a divalent aromatic group (R 2) Is the following formula
At least one group selected from the group consisting of (5)
Preferably.

【0018】[0018]

【化5】 [Chemical 5]

【0019】このような好ましいポリアリールエーテル
ケトンの具体例としては、以下の一般式(6)、一般式
(7)、一般式(8)または一般式(9)で表されるよ
うなものが挙げられる。これらの式中、nは重合度を表
している。
Specific examples of such preferable polyaryl ether ketones include those represented by the following general formula (6), general formula (7), general formula (8) or general formula (9). Can be mentioned. In these formulas, n represents the degree of polymerization.

【0020】[0020]

【化6】 [Chemical 6]

【化7】 [Chemical 7]

【化8】 [Chemical 8]

【化9】 [Chemical 9]

【0021】ポリエーテルニトリルでは特にポリアリー
ルエーテルニトリルが良く、その中でも主鎖の繰り返し
単位中に少なくとも一つのフッ素原子を有するものがよ
い。本発明でいうポリアリールエーテルニトリルとは、
繰り返し単位中にエーテル基(−O−)とニトリル基
(−CN)を有し、それらがアリール基で連結されてい
るものを言い、一般式(10)で表される。
Among the polyether nitriles, polyaryl ether nitriles are particularly preferable, and among them, those having at least one fluorine atom in the repeating unit of the main chain are preferable. The polyaryl ether nitrile referred to in the present invention is
The repeating unit has an ether group (-O-) and a nitrile group (-CN), and these are linked by an aryl group, and is represented by the general formula (10).

【0022】[0022]

【化10】 (ただし、R3は二価の有機基、nは重合度を表す。)[Chemical 10] (However, R 3 represents a divalent organic group, and n represents the degree of polymerization.)

【0023】このうち、好ましいものとしては、一般式
(10)においてR3が二価の芳香族基のものである。
好ましい具体例としては、下記の式(11)からなる群
から選ばれる少なくとも一種の基が挙げられる。
Of these, preferred are those in which R 3 in the general formula (10) is a divalent aromatic group.
Preferred specific examples include at least one group selected from the group consisting of the following formula (11).

【0024】[0024]

【化11】 [Chemical 11]

【0025】中でも、溶解性、透明性に優れている点か
ら、一般式(12)で示されるポリアリールエーテルニ
トリルが好ましい。
Among them, the polyaryl ether nitrile represented by the general formula (12) is preferable because of its excellent solubility and transparency.

【0026】[0026]

【化12】 [Chemical 12]

【0027】本発明の製造方法は、フィルムの膜厚、ワ
ニス調製に用いる溶剤、乾燥温度などの塗工条件を変化
させることによってフィルム中の残存溶剤量を調節し、
それによって異なる負複屈折値のフィルムを得るという
ものである。なお、本発明において、ワニスの調製はポ
リマーを溶媒に溶解することにより行うことができる。
一般に好ましいポリマー溶液濃度は1〜80wt%、さ
らに好ましくは2〜60wt%、特に好ましくは3〜5
0wt%であるが、使用する溶媒とポリマーの分子量、
構造、塗工方式、目標とする膜厚により異なってくる。
In the production method of the present invention, the amount of residual solvent in the film is adjusted by changing the coating conditions such as the film thickness, the solvent used for preparing the varnish, and the drying temperature.
Thereby, films having different negative birefringence values are obtained. In the present invention, the varnish can be prepared by dissolving the polymer in a solvent.
Generally preferred polymer solution concentrations are 1-80 wt%, more preferably 2-60 wt%, particularly preferably 3-5.
0 wt%, but the solvent used and the molecular weight of the polymer,
It depends on the structure, coating method and target film thickness.

【0028】本発明では、溶剤はポリマーが溶解するも
のであれば特に制限なく用いることができる。例えば、
クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テ
トラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロ
ベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類;フェノール、パ
ラクロロフェノール、o−クロロフェノール、m−クロ
ロフェノール、o−クレゾール、m−クレゾールなどの
フェノール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキ
シベンゼン、1,2−ジメトキシベンゼンなどの芳香族
炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノ
ン、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドンなど
のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル系溶媒;t−ブチルアルコール、グリセリン、エチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコール、2−メチル−2,4−ペンタンジオールなど
のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドなどのアミド系溶媒;アセトニトリル、ブ
チロニトリルなどのニトリル系溶媒;ジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル系溶媒;あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、
ブチルセルソルブなどを、単独あるいは混合して使用す
ることが可能である。
In the present invention, any solvent can be used without particular limitation as long as it can dissolve the polymer. For example,
Halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, orthodichlorobenzene; phenol, parachlorophenol, o-chlorophenol, m-chlorophenol, o-cresol, m -Phenols such as cresol; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, methoxybenzene, and 1,2-dimethoxybenzene; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-pyrrolidone, N- Ketone-based solvents such as methyl-2-pyrrolidone; ester-based solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; t-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, tris Alcoholic solvents such as ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol, dipropylene glycol, 2-methyl-2,4-pentanediol; amide solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide; acetonitrile, butyronitrile, etc. Nitrile solvents; ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran; carbon disulfide, ethyl cellosolve,
Butyl cellosolve and the like can be used alone or in combination.

【0029】本発明のポリマーフィルムを得るための乾
燥温度は、ポリマーや溶媒の種類、及び要求される複屈
折値等に応じて適宜選択され、一概に規定することはで
きないが、通常40℃以上400℃以下、好ましくは5
0℃以上300℃以下、さらに好ましくは60℃以上2
00℃以下である。40℃以上で乾燥することにより短
時間で乾燥することができ、また400℃以下で乾燥す
ることによりフィルムの酸化や熱分解が起こりにくくな
る。塗膜の乾燥は、一定温度下において行っても良い
し、段階的に温度を上昇させながら行っても良い。乾燥
時間も適宜選択されるところではあるが、通常10秒以
上30分以下、好ましくは30秒以上25分以下、さら
に好ましくは1分以上20分以下である。10秒以上3
0分以下で乾燥することにより、ポリマーを劣化させる
ことなく良好なフィルムを得ることができる。
The drying temperature for obtaining the polymer film of the present invention is appropriately selected according to the type of polymer or solvent, the required birefringence value and the like, and cannot be specified unconditionally, but is usually 40 ° C. or higher. 400 ° C or lower, preferably 5
0 ° C to 300 ° C, more preferably 60 ° C to 2
It is not higher than 00 ° C. By drying at 40 ° C. or higher, the film can be dried in a short time, and by drying at 400 ° C. or lower, oxidation and thermal decomposition of the film are less likely to occur. The coating film may be dried at a constant temperature or may be heated stepwise. The drying time is also appropriately selected, but is usually 10 seconds or more and 30 minutes or less, preferably 30 seconds or more and 25 minutes or less, and more preferably 1 minute or more and 20 minutes or less. 10 seconds or more 3
By drying for 0 minutes or less, a good film can be obtained without degrading the polymer.

【0030】ポリマー溶液が塗布される基板は、最終的
に得られる光学フィルムが光学的に負の一軸性を示すフ
ィルムとなる基板であれば特に限定されない。ガラス基
板、プラスチックフィルム等のプラスチック基板、ステ
ンレスベルトやステンレスドラム、銅箔等の金属基板等
を用いることができる。中でも、後述する偏光板との貼
り合わせを考えると、プラスチック基板またはステンレ
スベルトやステンレスドラムを用いることが望ましい。
可能であれば、偏光板に直接塗布しても良い。
The substrate to which the polymer solution is applied is not particularly limited as long as the finally obtained optical film is a film that exhibits optically negative uniaxiality. A glass substrate, a plastic substrate such as a plastic film, a stainless belt or a stainless drum, a metal substrate such as a copper foil, or the like can be used. Above all, it is preferable to use a plastic substrate, a stainless belt or a stainless drum in consideration of bonding with a polarizing plate described later.
If possible, it may be applied directly to the polarizing plate.

【0031】プラスチックフィルムとしては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ(4−メチルペンテン−
1)などのポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテル
エーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテ
ルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ
アリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポ
リプロピレン、セルロース系プラスチックス、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂等から形成されるフィルムを挙げ
ることができる。これらプラスチックフィルムは、光学
的に等方性であっても、異方性であっても差し支えな
い。
As the plastic film, polyethylene, polypropylene, poly (4-methylpentene-) is used.
1) Polyolefin, polyimide, polyamideimide, polyamide, polyetherimide, polyetheretherketone, polyketone sulfide, polyethersulfone, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyacetal, Examples thereof include films formed from polycarbonate, polyarylate, acrylic resin, polyvinyl alcohol, polypropylene, cellulosic plastics, epoxy resin, phenol resin and the like. These plastic films may be optically isotropic or anisotropic.

【0032】基板に使用されるプラスチックフィルムの
中でも、耐溶剤性や耐熱性の観点からポリプロピレン、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
トの各フィルムが望ましい。基板となるプラスチックフ
ィルムの厚みは、通常10μm以上、好ましくは20μ
m以上、より好ましくは30μm以上である。10μm
より薄い場合は、基板の強度が弱いために製造時に切れ
てしまう等の問題が発生する恐れがある。
Among the plastic films used for the substrate, polypropylene and polypropylene are preferred from the viewpoint of solvent resistance and heat resistance.
Polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate films are preferable. The thickness of the plastic film used as the substrate is usually 10 μm or more, preferably 20 μm.
m or more, and more preferably 30 μm or more. 10 μm
If the thickness is thinner, the strength of the substrate is weak, which may cause problems such as breakage during manufacturing.

【0033】本発明のフィルムを得るための塗布方法
は、公知の方法をいずれも用いることができ、例えばス
ピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き
上げ法、カーテンコート法、マイヤーバーコート法、ド
クターブレード法、ナイフコート法、タイコート法、グ
ラビアコート法、マイクログラビアコート法、オフセッ
トグラビアコート法、リップコート法、スプレーコート
法等を採用することができる。
As a coating method for obtaining the film of the present invention, any known method can be used. For example, a spin coating method, a roll coating method, a printing method, a dipping and pulling method, a curtain coating method, a Meyer bar coating method. The doctor blade method, knife coating method, tie coating method, gravure coating method, microgravure coating method, offset gravure coating method, lip coating method, spray coating method and the like can be used.

【0034】本発明の方法によれば、ポリマーの種類に
応じて異なる負複屈折値を有する光学フィルムが得られ
る。この方法を用いることで、厚み0.1〜500μ
m、好ましくは0.3〜200μm、さらに好ましくは
0.5〜100μmで、負複屈折値が0.001〜0.
6、好ましくは0.002〜0.6、さらに好ましくは
0.004〜0.6の範囲の負複屈折性フィルムを、簡
単に得ることができる。
According to the method of the present invention, an optical film having a negative birefringence value which differs depending on the type of polymer can be obtained. By using this method, the thickness is 0.1 ~ 500μ
m, preferably 0.3 to 200 μm, more preferably 0.5 to 100 μm, and a negative birefringence value of 0.001 to 0.
A negative birefringent film in the range of 6, preferably 0.002 to 0.6, and more preferably 0.004 to 0.6 can be easily obtained.

【0035】本発明の方法で製造したポリマーフィルム
は、各種の光学フィルムとして用いることができる。光
学フィルムは、フィルム単独または必要に応じて他の光
学部材、例えば、他の屈折率構造を有する位相差フィル
ム、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、偏
光フィルム(偏光板)、偏光子等と組み合せた積層体と
して、各種の光学用途、具体的には各種液晶表示素子の
光学補償部材として利用することができる。例えば、工
業的に製造されているヨウ素系や染料系の偏光子と、本
発明の光学フィルムとを組み合わせ、偏光子の片面また
は両面に光学フィルムを積層することにより、液晶表示
素子の複屈折性を補償、調整する機能を有する偏光板と
することができる。偏光子の片面に本発明の光学フィル
ムを積層する場合、偏光子の他方の面には通常の保護フ
ィルムを積層することができる。
The polymer film produced by the method of the present invention can be used as various optical films. The optical film may be a film alone or, if necessary, other optical members such as a retardation film having another refractive index structure, a liquid crystal film, a light scattering film, a diffractive film, a polarizing film (polarizing plate), a polarizer and the like. The combined laminate can be used for various optical applications, specifically, as an optical compensation member for various liquid crystal display elements. For example, by combining an industrially produced iodine-based or dye-based polarizer with the optical film of the present invention, and laminating the optical film on one side or both sides of the polarizer, the birefringence of the liquid crystal display device is improved. Can be a polarizing plate having a function of compensating and adjusting. When laminating the optical film of the present invention on one surface of the polarizer, a usual protective film can be laminated on the other surface of the polarizer.

【0036】ここでいう液晶表示素子には、例えばST
N(Super Twisted Nematic)セル、TN(Twisted Nem
atic)セル、IPS(In-Plane Switching)セル、VA
(Vertical Alighned)セル、 OCB(Optically Alig
hned Birefringence)セル、HAN(Hybrid Alighned
Nematic)セル、ASM(Axially Symmetric Alighned
Microcell)セル、強誘電、反強誘電セルおよびこれら
に規則正しい配向分割を行ったもの、ランダムな配向分
割を行った物等の各種のセルが含まれる。光学フィルム
が組み込まれる液晶表示素子は、単純マトリックス方
式、TFT(Thin Film Transistor)電極やTFD(Th
in Film Diode)電極等を用いたアクティブマトリック
ス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式で
あってもよい。
The liquid crystal display element referred to here is, for example, ST
N (Super Twisted Nematic) cell, TN (Twisted Nem)
atic) cell, IPS (In-Plane Switching) cell, VA
(Vertical Alighned) cell, OCB (Optically Alig)
hned birefringence) cell, HAN (Hybrid Alighned)
Nematic) cell, ASM (Axially Symmetric Alighned)
Microcell), ferroelectric and antiferroelectric cells, and various types of cells such as those having regular orientation division and those having random orientation division. The liquid crystal display element in which the optical film is incorporated is a simple matrix type, TFT (Thin Film Transistor) electrode, TFD (Thin Film Transistor).
In-film diode) Any driving method such as an active matrix method using an electrode or the like, a plasma address method or the like may be used.

【0037】また、光学フィルムは、バックライトシス
テムを備えた透過型・半透過型の液晶表示素子や、反射
板を備えた反射型の液晶表示素子、さらには投写型の液
晶表示素子等にも組み込むことができる。液晶表示素子
における光学フィルムの設置箇所は、特には限定されな
いが、通常は偏光板と駆動セルとの間であって、駆動セ
ルの上側および/または下側の位置に、一枚若しくは複
数枚の光学フィルムを配置するのが一般的である。この
場合、光学フィルムは、屈折率構造が異なる位相差フィ
ルム、液晶フィルム、回折フィルム、光散乱フィルム、
レンズシート等と組み合わせて設置することも可能であ
る。
Further, the optical film can be used in a transmissive / semi-transmissive liquid crystal display element having a backlight system, a reflective liquid crystal display element having a reflector, and a projection type liquid crystal display element. Can be incorporated. The location of the optical film in the liquid crystal display element is not particularly limited, but is usually between the polarizing plate and the drive cell, and one or more sheets are provided above and / or below the drive cell. It is common to place an optical film. In this case, the optical film is a retardation film having a different refractive index structure, a liquid crystal film, a diffraction film, a light scattering film,
It can be installed in combination with a lens sheet or the like.

【0038】[0038]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例になんら限定されるものではな
い。また、特に言及しない限り、「%」は「質量%」を
意味する。
The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples. Further, "%" means "% by mass" unless otherwise specified.

【0039】(屈折率測定)王子計測器製の自動複屈折
率計(KOBRA 21ADH)を用いて、590nm
における屈折率を測定した。 (膜厚測定)アンリツ製デジタルマイクロメーターK−
351C型を使用して測定した。 (残存溶剤量)セイコーインスツルメンツ株式会社製T
GA100を用いて、30℃から500℃まで10℃/
minで昇温しながら測定し、100℃から300℃ま
での質量減少量を残存溶剤量とした。
(Refractive Index Measurement) Using an automatic birefringence meter (KOBRA 21ADH) manufactured by Oji Scientific Instruments, 590 nm
The refractive index at was measured. (Film thickness measurement) Anritsu digital micrometer K-
It was measured using Model 351C. (Amount of residual solvent) T manufactured by Seiko Instruments Inc.
Using GA100, 10 ℃ / from 30 ℃ to 500 ℃
The measurement was performed while raising the temperature at min, and the amount of mass reduction from 100 ° C. to 300 ° C. was taken as the residual solvent amount.

【0040】(実施例1)下記の構造式(化13)で示
されるポリイミド(Mw=211,000)をシクロヘ
キサノンに溶解し、15wt%のワニスを調製した。こ
のワニスを異なる回転数でガラス板上にスピンコート
し、150℃で15分間乾燥して3種類の膜厚の異なる
フィルムを得た。フィルムの残存溶剤量と負複屈折率
(Δn)は表1の通りであり、残存溶剤量によりΔnの
値が異なるフィルムが得られることがわかった。
Example 1 A polyimide (Mw = 211,000) represented by the following structural formula (Formula 13) was dissolved in cyclohexanone to prepare a 15 wt% varnish. This varnish was spin-coated on a glass plate at different rotation speeds and dried at 150 ° C. for 15 minutes to obtain three types of films having different film thicknesses. The residual solvent amount and the negative birefringence (Δn) of the film are as shown in Table 1, and it was found that a film having a different Δn value depending on the residual solvent amount was obtained.

【0041】[0041]

【化13】 [Chemical 13]

【0042】[0042]

【表1】 膜 厚(μm) フィルムのΔn 残存溶剤量(wt%) 1.9 0.044 3.4 5.6 0.036 5.4 10.7 0.031 6.5 [Table 1] Film thickness (μm) Δn of the film Amount of residual solvent (wt%) 1.9 0.044 3.4 5.6 0.036 5.4 10.7 0.031 6.5

【0043】下記の構造式(化14)で示されるポリエ
ーテルケトン(Mw=539,000)をトルエンに溶
解し、10wt%のワニスを調製した。このワニスをガ
ラス板上にスピンコートし、100℃で10分間乾燥し
て3種類の膜厚のフィルムを得た。フィルムの残存溶剤
量と負複屈折率(Δn)は表2の通りであり、残存溶剤
量によりΔnの値が異なるフィルムが得られることがわ
かった。
A polyetherketone (Mw = 539,000) represented by the following structural formula (Formula 14) was dissolved in toluene to prepare a 10 wt% varnish. This varnish was spin-coated on a glass plate and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain films with three different film thicknesses. The residual solvent amount and the negative birefringence (Δn) of the film are shown in Table 2, and it was found that a film having a different Δn value depending on the residual solvent amount was obtained.

【0044】[0044]

【化14】 [Chemical 14]

【0045】[0045]

【表2】 膜 厚(μm) フィルムのΔn 残存溶剤量(wt%) 11.10 0.0218 2.9 7.00 0.0273 2.1 2.70 0.0294 1.6 [Table 2] Film thickness (μm) Δn of the film Residual solvent amount (wt%) 11.10 0.0218 2.9 7.00 0.0273 2.1 2.70 0.0294 1.6

【0046】下記の構造式(化15)で示されるポリエ
ーテルケトン(Mw=208,000)をトルエンに溶
解し、10wt%のワニスを調製した。このワニスをガ
ラス板上にスピンコートし、100℃で10分間乾燥し
て3種類の膜厚のフィルムを得た。フィルムの残存溶剤
量と負複屈折率(Δn)は表3の通りであり、残存溶剤
量によりΔnの値が異なるフィルムが得られることがわ
かった。
A polyether ketone (Mw = 208,000) represented by the following structural formula (Formula 15) was dissolved in toluene to prepare a 10 wt% varnish. This varnish was spin-coated on a glass plate and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain films with three different film thicknesses. The residual solvent amount and the negative birefringence (Δn) of the film are as shown in Table 3, and it was found that a film having a different Δn value depending on the residual solvent amount was obtained.

【0047】[0047]

【化15】 [Chemical 15]

【0048】[0048]

【表3】 膜 厚(μm) フィルムのΔn 残存溶剤量(wt%) 16.93 0.0146 4.1 9.50 0.0169 3.7 4.43 0.0186 3.3 [Table 3] Film thickness (μm) Δn of the film Residual solvent amount (wt%) 16.93 0.0146 4.1 9.50 0.0169 3.7 4.43 0.0186 3.3

【0049】[0049]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、負
複屈折値を有するポリマーからキャスト法によりフィル
ムを作製する際、非常に簡便に負複屈折値を制御するこ
とができる。そのため、所望の負複屈折値を得るために
複雑な構造のポリマーを合成する必要がなく、種々のポ
リマーに適用することができる。また、フィルム薄膜化
のために精密延伸を行う等の高度な技術を要さず、きわ
めて簡単に薄膜フィルムを得ることができるので、工業
上極めて有用である。
As described above, according to the present invention, when a film is produced from a polymer having a negative birefringence value by a casting method, the negative birefringence value can be controlled very easily. Therefore, it is not necessary to synthesize a polymer having a complicated structure to obtain a desired negative birefringence value, and it can be applied to various polymers. Further, since a thin film can be obtained very easily without requiring a high-level technique such as precision stretching for thinning the film, it is industrially very useful.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 79:08 C08L 79:08 Z (72)発明者 中野 秀作 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 中西 貞裕 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 Fターム(参考) 2H049 BA06 BA42 BB42 BC01 BC22 4F071 AA51 AA60 AF31 BA02 BC01 4F205 AA32 AA40 AE10 AG01 AH73 GB01 GC01 GN22 GN24 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08L 79:08 C08L 79:08 Z (72) Inventor Shusaku Nakano 1-2-1, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka No. Nitto Denko Corporation (72) Inventor Sadahiro Nakanishi 1-2, Shimohozumi, Ibaraki City, Osaka Prefecture F-term within Nitto Denko Corporation (reference) 2H049 BA06 BA42 BB42 BC01 BC22 4F071 AA51 AA60 AF31 BA02 BC01 4F205 AA32 AA40 AE10 AG01 AH73 GB01 GC01 GN22 GN24

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 負複屈折性を有するポリマーフィルムに
おいて、フィルム中に含まれる残存溶剤量を変化させる
ことにより、負複屈折率を制御することを特徴とする負
複屈折性ポリマーフィルムの製造方法。
1. A method for producing a negative birefringent polymer film, which comprises controlling the negative birefringence index of a polymer film having negative birefringence by changing the amount of residual solvent contained in the film. .
【請求項2】 負複屈折性を有するポリマーが、ポリイ
ミドまたはポリエーテルケトンである、請求項1に記載
の負複屈折性ポリマーフィルムの製造方法。
2. The method for producing a negative birefringent polymer film according to claim 1, wherein the polymer having negative birefringence is polyimide or polyetherketone.
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US6964795B2 (en) 2002-08-02 2005-11-15 Eastman Kodak Company Multilayer optical compensator, liquid crystal display, and process
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