JP2003221286A - Production method of honeycomb structural body - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ハニカム構造体の
製造方法に関する。更に詳しくはセル隔壁に皮膜によっ
て区画された細孔を有するハニカム構造体の製造方法に
関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a honeycomb structure. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a honeycomb structure having pores defined by cell coatings in cell partition walls.
【０００２】[0002]
【従来の技術】トラップ型のディーゼルエンジン用排ガ
ス浄化装置として、セラミック製の目封じタイプのハニ
カム体（ディーゼルパティキュレートフィルタ（以下適
宜「ＤＰＦ」という））が知られている。このＤＰＦ
は、セラミックからなるハニカム構造体のセルの開口部
の両端を交互に市松状に目封じして構成されている。セ
ラミック構造体の一端側から流入した排ガスをセル隔壁
の細孔で濾過して、セル隔壁にパティキュレートを捕集
することで、パティキュレートの排出を抑制しようとす
るものである。2. Description of the Related Art As a trap type exhaust gas purifying apparatus for a diesel engine, a ceramic plugging type honeycomb body (diesel particulate filter (hereinafter appropriately referred to as "DPF")) is known. This DPF
Are formed by alternately plugging both ends of the openings of the cells of the honeycomb structure made of ceramic in a checkered pattern. The exhaust gas flowing in from one end side of the ceramic structure is filtered by the pores of the cell partition walls to collect the particulates in the cell partition walls, thereby suppressing the discharge of the particulates.
【０００３】しかしＤＰＦではパティキュレートの堆積
によって圧損が上昇するために、堆積したパティキュレ
ートを除去して再生する必要がある。そこで堆積したパ
ティキュレートを定期的に燃焼させてＤＰＦを再生する
ことが行われている。しかしこの場合パティキュレート
の堆積量が多いほど燃焼時の温度が上昇して、ＤＰＦが
破損する場合が生じた。However, in the DPF, since the pressure loss increases due to the accumulation of particulates, it is necessary to remove the particulates that have been deposited for regeneration. Therefore, the DPF is regenerated by periodically burning the accumulated particulates. However, in this case, the larger the accumulated amount of particulates, the higher the temperature during combustion, and the DPF may be damaged.
【０００４】そこで近年ではＤＰＦを構成するハニカム
構造体のセル隔壁にアルミナなどからなるコート層を形
成し、そのコート層に白金（Ｐｔ）などの触媒金属を担
持した連続再生式ＤＰＦが開発されている。この連続再
生式ＤＰＦは、コート層に担持された触媒金属の触媒反
応によって捕集されたパティキュレートを酸化燃焼する
ことでＤＰＦを再生するものである。Therefore, in recent years, a continuous regeneration type DPF has been developed in which a coating layer made of alumina or the like is formed on the cell partition walls of the honeycomb structure constituting the DPF, and a catalytic metal such as platinum (Pt) is carried on the coating layer. There is. This continuous regeneration type DPF regenerates the DPF by oxidizing and burning the particulates collected by the catalytic reaction of the catalytic metal carried on the coat layer.
【０００５】このようにハニカム構造体のセル隔壁にア
ルミナなどのコート層を形成する手法として、コート層
の成分となるアルミナ等の粉末をバインダ成分および水
と共にスラリーとして、このスラリーをセル隔壁に付着
させて焼成することによりコート層を形成することが行
われてきた。この場合スラリーをセル隔壁に付着させる
には、通常の浸漬法を用いられてきた。As a method for forming a coat layer of alumina or the like on the cell partition walls of the honeycomb structure as described above, a powder of alumina or the like as a component of the coat layer is made into a slurry together with a binder component and water, and this slurry is attached to the cell partition walls. It has been practiced to form a coat layer by firing and firing. In this case, a normal dipping method has been used to attach the slurry to the cell partition walls.
【０００６】なお一般に白金等の触媒金属を担持したコ
ート層は、予め触媒金属を担持したアルミナ等の多孔質
酸化物の粉末を用いてスラリーを調整してこのスラリー
をセル隔壁に付着させ焼成することによって形成するこ
とができ、或いは先にアルミナ等の多孔質酸化物の粉末
を用いたスラリーをセル隔壁に付着させ焼成してコート
層を形成してからこのコート層に白金等の触媒金属を担
持することによっても形成することができる。[0006] Generally, for the coating layer carrying a catalytic metal such as platinum, a slurry is prepared in advance by using a powder of a porous oxide such as alumina carrying a catalytic metal, and the slurry is adhered to the cell partition walls and fired. Alternatively, a slurry using a powder of a porous oxide such as alumina is first attached to the cell partition walls and fired to form a coat layer, and then a catalyst metal such as platinum is added to the coat layer. It can also be formed by carrying.
【０００７】このように触媒金属とパティキュレートと
を接触させてＤＰＦの内部に捕集されたパティキュレー
トを酸化燃焼させる場合、パティキュレートと触媒金属
との接触確率を高めるために、単にハニカム構造体のセ
ル隔壁の表面だけではなくセル隔壁の細孔の内部表面に
まで触媒金属を担持したコート層を形成することが望ま
しい。このようにセル隔壁の細孔内部にも触媒金属を担
持したコート層を形成することで、細孔内に捕集された
パティキュレートを触媒金属と接触させて酸化燃焼する
ことができるようになる。When the catalyst metal and the particulates are brought into contact with each other to oxidize and burn the particulates trapped inside the DPF, the honeycomb structure is simply added to increase the probability of contact between the particulates and the catalyst metal. It is desirable to form the coating layer carrying the catalytic metal not only on the surface of the cell partition walls but also on the inner surfaces of the pores of the cell partition walls. By thus forming the coating layer supporting the catalytic metal also inside the pores of the cell partition wall, it becomes possible to bring the particulates trapped in the pores into contact with the catalytic metal to oxidize and burn. .
【０００８】なお細孔の内部表面に触媒金属を担持した
コート層も、予め触媒金属を担持した多孔質酸化物の粉
末を含有したスラリーを細孔の内部表面に付着させ焼成
することによって形成することができるし、或いは先に
多孔質酸化物の粉末を含有したスラリーを内部表面に付
着させ焼成してコート層を形成してから、コート層に触
媒金属を担持することによって形成することができる。The coat layer supporting the catalytic metal on the inner surfaces of the pores is also formed by adhering the slurry containing the powder of the porous oxide supporting the catalytic metal to the inner surfaces of the pores and firing the slurry. Alternatively, it can be formed by depositing a slurry containing a porous oxide powder on the inner surface and firing the slurry to form a coat layer, and then supporting a catalytic metal on the coat layer. .
【０００９】しかし浸漬法等を用いてスラリーを付着す
るという手法を採用した場合、セル隔壁の細孔の孔径、
形状等によってコート層が均一に形成されない場合が生
じる。つまり細孔の孔径、形状等によってコート層が形
成される部位とされない部位とが生じ、形成される部位
についても厚く形成される部位と薄く形成される部位が
生じる。またコート層を構成するアルミナ等の粉末の粒
径が細孔の孔径よりも大きい場合には、セル隔壁の表面
に形成されたコート層が細孔の入口を塞いでしまうとい
うことが生じる。またアルミナ等の多孔質酸化物の粉末
が細孔の内部に入ったとしても細孔内部の表面に形成さ
れたコート層が細孔の内部を途中で塞いだり、途中で狭
くするということも生じる。このように細孔の大きさ、
形状によってコート層が均一に形成されず、またコート
層が細孔を塞いだり狭くするという事態が発生する。However, when the method of depositing the slurry by using the dipping method or the like is adopted, the pore diameter of the pores of the cell partition,
In some cases, the coat layer may not be formed uniformly due to the shape or the like. That is, depending on the pore size and shape of the pores, there are some areas where the coating layer is formed and some areas where the coating layer is not formed, and also some areas are formed thick and some areas are thin. Further, when the particle diameter of the powder of alumina or the like forming the coat layer is larger than the pore diameter of the pores, the coat layer formed on the surface of the cell partition wall may block the pore inlets. Further, even if a porous oxide powder such as alumina enters the inside of the pores, the coating layer formed on the surface inside the pores may block the inside of the pores or narrow the pores in the middle. . Thus the size of the pores,
Depending on the shape, the coat layer may not be formed uniformly, and the coat layer may block or narrow the pores.
【００１０】このようにコート層が細孔の内部表面に均
一に形成されないと、コート層に担持されている触媒金
属もまた細孔の内部表面に均一に分散せず、コート層が
形成された部位に偏って存在することになる。偏って触
媒金属が存在する結果、触媒活性が有効に活用されない
触媒金属の割合が多くなってしまう。またコート層が細
孔を塞いだり狭くしたりするとそれだけ圧力損失が多く
なってしまう。If the coat layer is not uniformly formed on the inner surfaces of the pores as described above, the catalyst metal supported on the coat layer is not uniformly dispersed on the inner surfaces of the pores, and the coat layer is formed. It will be biased toward the part. As a result of uneven distribution of the catalyst metal, the proportion of the catalyst metal whose catalytic activity is not effectively utilized increases. Further, if the coat layer blocks or narrows the pores, the pressure loss increases accordingly.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情を鑑みてなされたものであり、セル隔壁の細孔の内
部表面に均一性良く触媒担持層を形成することができる
ハニカム構造体の製造方法を提供することにある。The present invention has been made in view of such circumstances, and a honeycomb structure capable of forming a catalyst supporting layer with good uniformity on the inner surfaces of the pores of the cell partition walls. It is to provide a manufacturing method of.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明者は、セル隔壁の
細孔の内部表面にも触媒金属を有するハニカム構造体に
おいて、圧力損失の上昇を低減でき、触媒金属が偏在す
ることを少なくしようとするには、細孔の内部表面に形
成される触媒担持層を薄く均一性良くに形成すればよい
と考えた。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors intend to reduce an increase in pressure loss and reduce uneven distribution of the catalytic metal in a honeycomb structure having the catalytic metal also on the inner surfaces of the pores of the cell partition walls. In order to achieve this, it was considered that the catalyst supporting layer formed on the inner surface of the pores should be formed thinly and with good uniformity.
【００１３】そして本発明者は、先にセル隔壁に細孔を
有するハニカム構造体を焼成して、後から細孔の内部表
面に触媒担持層の原料となるスラリーを付着させるとい
う従来の手法について検討を加えた。その結果本発明者
は先にハニカム構造体を焼成してから触媒担持層を細孔
の内部表面に形成するのではなく、むしろハニカム状に
成形した成形体をハニカム構造体に焼成する過程で、細
孔を区画する触媒担持層を形成すればよいと考えた。Then, the present inventor has proposed a conventional method in which the honeycomb structure having pores in the cell partition walls is first fired and then the slurry serving as the raw material of the catalyst supporting layer is adhered to the inner surfaces of the pores. Considered. As a result, the present inventor does not form the catalyst-supporting layer on the inner surfaces of the pores by first firing the honeycomb structure, but rather in the process of firing the formed honeycomb body into the honeycomb structure, It was thought that the catalyst supporting layer that defines the pores should be formed.
【００１４】そして本発明者は、鋭意研究の結果、加熱
によって消失する消失性粒子の表面に少なくとも多孔質
酸化物を含有する空隙区画皮膜を形成する皮膜形成工程
と、ハニカム構造体の原料粉末と前記空隙区画皮膜が形
成された前記消失性粒子とを混合して混合原料とし、該
混合原料を用いてハニカム状成形体を成形する成形工程
と、前記ハニカム状成形体を焼結して、前記消失性粒子
を消去し、消失した空間を細孔として区画する前記空隙
区画皮膜をセル隔壁に有するハニカム構造体を焼成する
焼成工程と、とを有することを特徴とするハニカム構造
体の製造方法を発明した。As a result of earnest research, the present inventor has conducted a film forming step of forming a void partitioning film containing at least a porous oxide on the surface of fugitive particles that disappear by heating, and a raw material powder for a honeycomb structure. A mixing step of mixing the fugitive particles on which the void partitioning film is formed as a mixed raw material, and forming a honeycomb-shaped molded body using the mixed raw material, and sintering the honeycomb-shaped molded body, A method for manufacturing a honeycomb structure, comprising: erasing the disappearing particles, and firing a honeycomb structure having the void partitioning coating for partitioning the disappeared spaces as pores in a cell partition wall. Invented
【００１５】[0015]
【作用】本発明のハニカム構造体の製造方法において
は、加熱によって消失する消失性粒子の表面に予め少な
くとも多孔質酸化物を含有する空隙区画皮膜を形成して
おき、その後の工程を経ることで、この少なくとも多孔
質酸化物を含有する空隙区画皮膜をハニカム構造体のセ
ル隔壁の細孔を区画する触媒担持層として形成する。In the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention, a void partition film containing at least a porous oxide is previously formed on the surface of the fugitive particles that disappear by heating, and the subsequent steps are performed. The void partition film containing at least the porous oxide is formed as a catalyst supporting layer that partitions the pores of the cell partition walls of the honeycomb structure.
【００１６】即ちこの少なくとも多孔質酸化物を含有す
る空隙区画皮膜を表面に形成した消失性粒子をハニカム
構造体の原料粉末と混合してハニカム構造体を焼成する
と、ハニカム構造体を焼成する際の熱によって消失性粒
子が消失して、この消失性粒子が存在していた空間は空
虚になる。That is, when the fugitive particles having a void partitioning film containing at least a porous oxide formed on the surface thereof are mixed with the raw material powder of the honeycomb structure and the honeycomb structure is fired, the honeycomb structure is fired. The disappearing particles disappear due to heat, and the space where the disappearing particles existed becomes empty.
【００１７】その結果この空虚な空間は近接する空虚な
空間と繋がって細孔として形成されることになる。また
消失性粒子の表面に形成されていた空隙区画皮膜は近接
する空隙区画皮膜と繋がって触媒担持層を形成すること
になる。つまり空隙区画被膜を構成する多孔質酸化物と
近接する空隙区画被膜を構成する多孔質酸化物と連結し
て多孔質酸化物からなる触媒担持層を形成することにな
る。従って空虚となった空間が繋がって形成される細孔
は空隙区画被膜が繋がって形成される触媒担持層によっ
て区画された細孔として形成されることになる。As a result, this empty space is connected to an adjacent empty space and is formed as a pore. In addition, the void partition film formed on the surface of the fusible particles is connected to the adjacent void partition film to form a catalyst supporting layer. That is, the catalyst-supporting layer made of a porous oxide is formed by connecting with the porous oxide forming the void partitioning coating and the porous oxide forming the void partitioning coating adjacent thereto. Therefore, the pores formed by connecting empty spaces are formed as pores defined by the catalyst supporting layer formed by connecting the void partition coatings.
【００１８】ここで形成される触媒担持層は、焼結後に
おいて空虚な空間となる消失性粒子の表面に形成された
空隙区画被膜によって形成された触媒担持層であるの
で、形成された細孔の内部表面に均一に形成されること
になる。従って触媒担持層によって細孔が塞がれたり、
細孔の内部表面に触媒担持層が不均一に形成されるとい
う事態を回避することができる。The catalyst-supporting layer formed here is a catalyst-supporting layer formed by the void partitioning coating formed on the surface of the fugitive particles which become empty spaces after sintering. Will be uniformly formed on the inner surface of the. Therefore, the pores are blocked by the catalyst support layer,
It is possible to avoid a situation in which the catalyst supporting layer is nonuniformly formed on the inner surfaces of the pores.
【００１９】[0019]
【本発明の実施の形態】本発明のハニカム構造体の製造
方法の実施の形態について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of a method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention will be described.
【００２０】（本発明のハニカム構造体の製造方法の構
成）本発明のハニカム構造体の製造方法は、皮膜形成工
程と成形工程と焼成工程とを有することを特徴とする。
以下分節して説明する。(Structure of Manufacturing Method of Honeycomb Structure of the Present Invention) The manufacturing method of the honeycomb structure of the present invention is characterized by having a film forming step, a forming step and a firing step.
The following is a description in sections.
【００２１】皮膜形成工程
皮膜形成工程は加熱によって消失する消失性粒子の表面
に少なくとも多孔質酸化物を含有する空隙区画皮膜を形
成する工程である。Film-Forming Step The film-forming step is a step of forming a void-partitioning film containing at least a porous oxide on the surface of the fugitive particles that disappear by heating.
【００２２】加熱によって消失する消失性粒子は、後の
焼成工程において消失することによってその占めていた
空間を空虚な空間即ち空隙として残す。そしてこの空隙
がセル隔壁の細孔を構成することになる。空隙が繋がり
セル隔壁を貫通することもあるし、貫通せずにセル隔壁
の途中までで終わることもあり得る。いずれにせよセル
隔壁に多数の細孔を形成することができる。The extinguishable particles that disappear by heating disappear in the subsequent firing step and leave the occupied space as an empty space, that is, a void. Then, the voids form the pores of the cell partition wall. The voids may be connected to each other and may penetrate the cell partition wall, or the void may end halfway through the cell partition wall without penetrating. In any case, many pores can be formed in the cell partition.
【００２３】加熱によって消失する消失性粒子として
は、カーボン粒子等の可燃性粒子を用いることができ
る。カーボン粒子等の消失性粒子は、おおよそφ１０〜
６０μｍの粒径の粒子を用いることが好ましく、φ２０
〜３０μｍの粒径の粒子を用いることが更に好ましい。
この程度の粒径の消失性粒子を用いることによって、こ
の消失性粒子が消失した後の空隙から構成される細孔の
大きさを適切な大きさとすることができる。As the fugitive particles that disappear by heating, combustible particles such as carbon particles can be used. The fugitive particles such as carbon particles are approximately φ10 to φ10.
It is preferable to use particles having a particle size of 60 μm, and φ20
It is more preferable to use particles having a particle size of ˜30 μm.
By using the fusible particles having such a particle diameter, the size of the pores formed by the voids after the fusible particles have disappeared can be set to an appropriate size.
【００２４】なお消失性粒子としてカーボン粒子を用い
ることが好ましい。加熱によって消失し、空隙区画皮膜
を表面に形成することが容易である。更に触媒成分への
影響例えば被毒等の影響も小さいと考えられる。It is preferable to use carbon particles as the fugitive particles. It disappears by heating, and it is easy to form a void partitioning film on the surface. Further, it is considered that the influence on the catalyst components, such as poisoning, is small.
【００２５】少なくとも多孔質酸化物を含有する空隙区
画皮膜は、消失性粒子が焼結によって消失した後に残さ
れた空隙から構成される細孔を区画し、また触媒金属等
の触媒成分、ＮＯX吸蔵材等を担持する担体として役割
を果たすことになる。この場合空隙区画皮膜に含有され
る多孔質酸化物と近接する多孔質酸化物とが連結し繋が
ることにより、近接する空隙区画皮膜は互いに繋がっ
て、消失性粒子が消失した後に残された空隙が繋がって
形成された細孔を区画する触媒担持層を形成し、この空
隙区画皮膜が触媒金属等の触媒成分、ＮＯX吸蔵材等の
吸蔵材を担持する触媒担持層となる。The void-partitioning film containing at least a porous oxide partitions pores composed of voids left after disappearance of the fugitive particles by sintering, and a catalyst component such as a catalytic metal, NO x. It will play a role as a carrier for supporting the occlusion material and the like. In this case, the porous oxide contained in the void-partitioning film and the adjacent porous oxide are connected and connected to each other, the adjacent void-partitioning films are connected to each other, and the voids left after the disappearing particles disappear linked to form a catalyst supporting layer for partitioning the formed pores, the voids partition film is a catalyst carrying layer which carries catalytic component of the catalyst metal, the storage material, such as the NO X storage material.
【００２６】この場合空隙区画皮膜は概ね５〜３０μｍ
の厚さの膜厚とすることが好ましく、５〜１０μｍの厚
さの膜厚にすることが更に好ましい。膜厚が約５μｍ未
満であると、触媒成分の層として成立しなくなる。逆に
膜厚が厚いと、圧損に対して悪影響が生じ、また貴金属
の有効活用の面からも不利である。In this case, the void partition film is approximately 5 to 30 μm.
The thickness is preferably 5 to 10 μm, and more preferably 5 to 10 μm. If the film thickness is less than about 5 μm, the catalyst component layer cannot be formed. On the contrary, if the film thickness is large, the pressure loss is adversely affected, and it is also disadvantageous in terms of effective utilization of the precious metal.
【００２７】この空隙区画皮膜は少なくとも多孔質酸化
物を用いて形成することができる。この場合多孔質酸化
物を用いて形成することもできる、また予め触媒金属を
担持した多孔質酸化物を用いて形成することもできる。
更にＮＯX吸蔵材或いは吸着材等を担持した多孔質酸化
物を用いて形成することもできる。また触媒金属とＮＯ
X吸蔵材等とを担持した多孔質酸化物を用いて形成する
こともできる。The void partition film can be formed using at least a porous oxide. In this case, it can be formed by using a porous oxide, or can be formed by using a porous oxide on which a catalytic metal is supported in advance.
Further, it can be formed by using a porous oxide carrying an NO X storage material or an adsorption material. Also, catalyst metal and NO
It can also be formed by using a porous oxide supporting X storage material and the like.
【００２８】このように空隙区画皮膜を、多孔質酸化
物、多孔質酸化物とそれに担持された触媒金属、多孔質
酸化物とそれに担持されたＮＯX吸蔵材等、多孔質酸化
物とそれに担持された触媒金属とＮＯX吸蔵材等という
ように構成することができる。As described above, the void partitioning film is formed on the porous oxide and the porous oxide, the porous oxide and the catalyst metal supported on the porous oxide, the porous oxide and the NO x storage material supported on the porous oxide, and the porous oxide and the supported oxide. The catalyst metal and the NO x storage material can be configured.
【００２９】この多孔質酸化物としては、酸化物粉末ま
た酸化物粉末を複数種類複合した複合酸化物粉末を用い
ることができる。酸化物粉末としては、Ａｌ2Ｏ3（アル
ミナ）、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2等を挙げ
ることができる。これらの酸化物粉末の１種又は２種以
上を用いて、消失性粒子の表面に空隙区画皮膜を形成す
ることができる。この場合アルミナを用いることが好ま
しい。耐熱性に優れるからである。As the porous oxide, an oxide powder or a composite oxide powder obtained by compounding a plurality of kinds of oxide powders can be used. Examples of the oxide powder include Al 2 O 3 (alumina), ZrO 2 , CeO 2 , TiO 2 , and SiO 2 . One or more of these oxide powders can be used to form a void partitioning film on the surface of the fugitive particles. In this case, it is preferable to use alumina. This is because it has excellent heat resistance.
【００３０】触媒金属としては、貴金属、例えば白金
（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、イ
リジウム（Ｉｒ）及びルテニウム（Ｒｕ）等の貴金属を
挙げることができる。これらの触媒金属の１種又は２種
以上を担持した多孔質酸化物で空隙区画皮膜を形成する
ことができる。これらの貴金属がディーゼル排ガスに含
まれるパティキュレートに接触することによってパティ
キュレートを効率よく酸化燃焼させることができる。Examples of the catalyst metal include noble metals such as platinum (Pt), rhodium (Rh), palladium (Pd), iridium (Ir) and ruthenium (Ru). The void partition film can be formed from a porous oxide carrying one or more of these catalyst metals. When these precious metals come into contact with the particulates contained in the diesel exhaust gas, the particulates can be efficiently oxidized and burned.
【００３１】ＮＯX吸蔵材としては、リチウム（Ｌ
ｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、セシウム
（Ｃｓ）等のアルカリ金属、更にバリウム（Ｂａ）、ベ
リリウム（Ｂｅ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム
（Ｃａ）、ストロンシウム（Ｓｒ）等のアルカリ土類金
属、更にスカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）、
ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム
（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、ジスプロシウム（Ｄ
ｙ）、イッテルビウム（Ｙｂ）等の希土類元素から１種
又は２種以上を選択して用いることができる。As the NO X storage material, lithium (L
i), alkali metals such as sodium (Na), potassium (K), and cesium (Cs); and barium (Ba), beryllium (Be), magnesium (Mg), calcium (Ca), strontium (Sr), etc. Alkaline earth metal, scandium (Sc), yttrium (Y),
Lanthanum (La), cerium (Ce), praseodymium (Pr), neodymium (Nd), dysprosium (D
One or two or more selected from rare earth elements such as y) and ytterbium (Yb) can be used.
【００３２】これらのＮＯX吸蔵材を多孔質酸化物に白
金等の触媒金属と共に担持させることにより、排ガス中
のＮＯが触媒金属と接触することによりＮＯの酸化が生
じてＮＯ2又はＮＯ3が生成しＮＯX吸蔵材に吸蔵させる
ことができる。By supporting these NO x storage materials on a porous oxide together with a catalyst metal such as platinum, NO in the exhaust gas comes into contact with the catalyst metal to oxidize NO and generate NO 2 or NO 3. It can be generated and stored in the NO X storage material.
【００３３】なお消失性粒子に触媒金属、アルカリ金属
等のＮＯX吸蔵材等の吸着材を担持させることは、公知
の方法で行うことができる。It is possible to carry the adsorbent such as the NO x storage material such as the catalyst metal or the alkali metal on the fugitive particles by a known method.
【００３４】例えば多孔質酸化物に白金等の触媒金属、
アルカリ金属等のＮＯX吸蔵材を担持させることは、従
来の吸着担持法、蒸発乾固法を用いて行うことができ
る。For example, a porous metal and a catalytic metal such as platinum,
The NO x storage material such as an alkali metal can be supported by the conventional adsorption-supporting method or evaporation dryness method.
【００３５】なおここで挙げた触媒金属、ＮＯX吸蔵材
は本発明のハニカム構造体の製造方法で製造されたハニ
カム構造体をディーゼル排ガスに用いることを主として
念頭に置いたものであるが、他のガスに対して用いるた
めに他の触媒成分、吸着材等を多孔質酸化物に担持させ
ておくことができる。即ち用途に応じて適切な触媒成
分、吸着材等を多孔質酸化物に担持させておくことがで
きる。It should be noted catalytic metal mentioned here, although the NO X storage material are those of the honeycomb structure The honeycomb structure produced by the production method of the present invention was placed primarily mind that used in diesel exhaust, the other Other catalyst components, adsorbents, etc. can be supported on the porous oxide in order to be used for the gas. That is, it is possible to make the porous oxide carry an appropriate catalyst component, adsorbent, etc. depending on the application.
【００３６】例えば吸着材としては、ゼオライト、多孔
質シリカ等を挙げることができる。Examples of the adsorbent include zeolite and porous silica.
【００３７】このように本発明のハニカム構造体の製造
方法においては、空隙区画皮膜を構成する多孔質酸化物
に予め触媒金属、ＮＯX吸蔵材、吸着材等を担持させて
おいて、空隙区画皮膜を形成することができる。但し予
め多孔質酸化物に担持させておく触媒成分、吸蔵材、吸
着材等は上述したものに限定されない。As described above, in the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention, the porous metal constituting the void partition film is preliminarily loaded with the catalyst metal, the NO x storage material, the adsorbent, etc., and the void partition is formed. A film can be formed. However, the catalyst component, the occluding material, the adsorbing material, and the like, which are supported on the porous oxide in advance, are not limited to those described above.
【００３８】成形工程
成形工程は、ハニカム構造体の原料粉末と空隙区画皮膜
が形成された消失性粒子とを混合して混合原料とし、こ
の混合原料を用いてハニカム状成形体を成形する工程で
ある。Forming Step The forming step is a step of mixing the raw material powder of the honeycomb structure and the fugitive particles having the void-defining coating to form a mixed raw material, and forming a honeycomb-shaped formed body using the mixed raw material. is there.
【００３９】ここでハニカム構造体の原料粉末は、コー
ジェライト（２ＭｇＯ・２Ａｌ2Ｏ3・５ＳｉＯ2）粉末
などの耐熱性セラミックスの原料粉末を用いることがで
きる。またアルミナ、マグネシア及びシリカの各粉末を
コージェライト組成となるように混合した粉末を用いる
ことができる。As the raw material powder of the honeycomb structure, a raw material powder of heat resistant ceramics such as cordierite (2MgO.2Al 2 O 3 .5SiO 2 ) powder can be used. Further, a powder prepared by mixing powders of alumina, magnesia and silica so as to have a cordierite composition can be used.
【００４０】このハニカム構造体の原料粉末に空隙区画
皮膜が形成された消失性粒子を混合して混合原料とす
る。この場合ハニカム構造体の原料粉末と空隙区画皮膜
が形成された消失性粒子を配合割合は強度等を考慮して
適切な配合割合とすることができる。The raw material powder of this honeycomb structure is mixed with the fugitive particles having a void partition film formed thereon to obtain a mixed raw material. In this case, the mixing ratio of the raw material powder of the honeycomb structure and the fugitive particles on which the void partitioning film is formed can be set to an appropriate mixing ratio in consideration of strength and the like.
【００４１】例えばハニカム構造体をディーゼルパティ
キュレートフィルタ（ＤＰＦ）として用いる場合には、
コージェライト粉末を１００質量部として、白金を担持
したアルミナからなる空隙区画皮膜が表面に形成された
カーボン粒子を１０〜５０質量部とすることが好まし
く、２０〜２５質量部とすることが更に好ましい。For example, when the honeycomb structure is used as a diesel particulate filter (DPF),
The cordierite powder is 100 parts by mass, and the carbon particles on the surface of which the void partitioning coating made of alumina carrying platinum is formed are preferably 10 to 50 parts by mass, more preferably 20 to 25 parts by mass. .
【００４２】このようにハニカム構造体の原料粉末と空
隙区画皮膜が形成された消失性粒子とを混合した混合粉
末を主成分とする粘土状のスラリーを調整する。そして
この粘土状のスラリーを押出成形などで成形してハニカ
ム状成形体を形成することができる。In this way, a clay-like slurry whose main component is a mixed powder obtained by mixing the raw material powder of the honeycomb structure and the fugitive particles on which the void partitioning film is formed is prepared. Then, this clay-like slurry can be molded by extrusion molding or the like to form a honeycomb-shaped molded body.
【００４３】焼成工程
焼成工程は、成形工程で成形されたハニカム状成形体を
焼結して、消失性粒子を消去し、消失した空間を細孔と
して区画する空隙区画皮膜をセル隔壁に有するハニカム
構造体を焼成する工程である。Firing Step In the firing step, the honeycomb shaped body formed in the forming step is sintered to erase the disappearing particles and to form a honeycomb in which the cell partition walls have a void partitioning film for partitioning the disappeared spaces as pores. This is a step of firing the structure.
【００４４】この焼成工程においてハニカム状成形体を
焼結することで、混合粉末中の消失性粒子が加熱によっ
て消失する。この場合の温度は、少なくとも消失性粒子
が加熱により消失する温度以上である必要があるが、概
ねハニカム構造体の原料粉末を焼結してハニカム構造体
を焼成するときの温度とすることができる。通常概ね１
３５０〜１４５０℃程度の温度で焼結することができ
る。By sintering the honeycomb-shaped compact in this firing step, the fugitive particles in the mixed powder disappear by heating. The temperature in this case needs to be at least a temperature at which the fugitive particles disappear by heating, but can be approximately the temperature at which the raw material powder of the honeycomb structure is sintered to fire the honeycomb structure. . Usually about 1
It can be sintered at a temperature of about 350 to 1450 ° C.
【００４５】この焼成工程において消失性粒子が消失す
ると、消失性粒子が占めていた空間は細孔として形成さ
れることになる。この場合消失性粒子の表面に形成され
ていた空隙区画皮膜は隣接する消失性粒子の空隙区画皮
膜と繋がって細孔を区画する薄く均一な触媒担持層とし
て形成される。このように本発明のハニカム構造体の製
造方法によって、ハニカム構造体のセル隔壁の細孔の表
面に薄く均一の触媒担持層を形成することができる。When the fugitive particles disappear in this firing step, the spaces occupied by the fugitive particles are formed as pores. In this case, the void partition film formed on the surface of the fugitive particles is formed as a thin and uniform catalyst-supporting layer that connects the void partition films of the adjacent fusible particles to partition the pores. As described above, according to the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention, a thin and uniform catalyst supporting layer can be formed on the surface of the pores of the cell partition walls of the honeycomb structure.
【００４６】従って本発明のハニカム構造体の製造方法
は、細孔の内部表面に形成される触媒担持層を空隙区画
皮膜を用いて薄く均一に形成することができるので、従
来の製法によって細孔の内部表面に触媒担持層が均一に
形成されず、細孔が塞がれたり、細孔が狭くなったりす
ることによる圧力損失の増大を防止することができる。Therefore, in the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention, since the catalyst supporting layer formed on the inner surface of the pores can be formed thinly and uniformly by using the void partitioning film, the pores can be formed by the conventional manufacturing method. It is possible to prevent an increase in pressure loss due to the fact that the catalyst supporting layer is not uniformly formed on the inner surface of the, the pores are blocked or the pores are narrowed.
【００４７】（本発明のハニカム構造体の製造方法で製
造されたハニカム構造体の使用形態）本発明のハニカム
構造体の製造方法で製造されたハニカム構造体は、セル
隔壁の細孔の内部表面に空隙区画皮膜が薄く均一な触媒
担持層として形成されたハニカム構造体である。このハ
ニカム構造体は、セルの両端が開口しているハニカム構
造体である。(Usage of Honeycomb Structure Produced by Method for Producing Honeycomb Structure of Present Invention) The honeycomb structure produced by the method for producing honeycomb structure of the present invention has an inner surface of pores of cell partition walls. This is a honeycomb structure in which the void partitioning film is formed as a thin and uniform catalyst supporting layer. This honeycomb structure is a honeycomb structure in which both ends of cells are open.
【００４８】このセルの両端が開口しているハニカム構
造体を目封じタイプのハニカム構造体とすることができ
る。この場合コージェライト等の原料粉末等を用いて調
整した粘土状のスラリーで、ハニカム構造体の一端面の
セル開口を市松状に目封じして、他端面では一端面で目
封じされていないセル開口部を目封じする。そしてその
後このハニカム構造体を焼成して目封じタイプのハニカ
ム構造体を製造することができる。The honeycomb structure in which both ends of the cell are open can be a plugged type honeycomb structure. In this case, with a clay-like slurry prepared using raw material powder such as cordierite, the cell openings on one end face of the honeycomb structure are plugged in a checkered pattern, and the other end face is a cell that is not plugged on one end face. Seal the opening. Then, thereafter, this honeycomb structure can be fired to manufacture a plugged type honeycomb structure.
【００４９】また予めコージェライト製の栓を形成して
おいて、このコージェライト製の栓によってハニカム構
造体の一端面のセル開口を市松状に目封じして、他端面
では一端面で目封じされていないセル開口部を目封じす
ることができる。Further, cordierite plugs are formed in advance, and the cell openings on one end face of the honeycomb structure are plugged in a checkered pattern with the cordierite plugs, and the other end face is plugged on one end face. Unopened cell openings can be plugged.
【００５０】なお本発明のハニカム構造体の製造方法に
よって製造されたハニカム構造体の細孔の内部表面に形
成された空隙区画皮膜からなる触媒担持層に、触媒金
属、ＮＯX吸蔵材、その他の吸着材等を担持することが
できる。It should be noted that the catalyst supporting layer composed of the void partitioning film formed on the inner surfaces of the pores of the honeycomb structure manufactured by the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention has a catalyst metal, a NO x storage material, and other materials. An adsorbent or the like can be supported.
【００５１】即ち消失性粒子の表面に形成される空隙区
画皮膜に含有される多孔質酸化物が予め触媒金属等を担
持していない場合もある。また予め触媒金属等を担持し
ていても後から更に必要な触媒金属、吸蔵材、吸着材等
を担持させたい場合がある。このような場合例えば触媒
金属については、触媒金属の硝酸塩などを溶解した溶液
を用いて、吸着担持法、吸水担持法等によって空隙区画
皮膜及びセル隔壁に担持することができる。また例えば
ＮＯX吸蔵材については、酢酸塩、硝酸塩などを溶解し
た溶液を用い、吸水担持法などによって空隙区画皮膜及
びセル隔壁に担持することができる。That is, there are cases where the porous oxide contained in the void-partitioning film formed on the surface of the fugitive particles does not carry a catalyst metal or the like in advance. Further, even if the catalyst metal or the like is loaded in advance, it may be desired to further load the necessary catalyst metal, storage material, adsorbent, or the like later. In such a case, for example, the catalyst metal can be supported on the void partitioning film and the cell partition wall by an adsorption supporting method, a water absorption supporting method or the like using a solution in which a catalyst metal nitrate or the like is dissolved. Further, for example, as the NO X storage material, a solution in which an acetate salt, a nitrate salt or the like is dissolved can be used to be supported on the void partition film and the cell partition wall by a water absorption supporting method or the like.
【００５２】このように本発明のハニカム構造体の製造
方法において製造されたハニカム構造体、またこのハニ
カム構造体に触媒金属、吸蔵材、吸着材等を担持したも
のは、その担持された触媒金属、吸蔵材、吸着材等の種
類に応じて用いることができる。As described above, the honeycomb structure manufactured by the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention, and the honeycomb structure carrying catalyst metal, storage material, adsorbent, etc. It can be used depending on the kind of the storage material, the adsorbent, or the like.
【００５３】[0053]
【実施例】（実施例）以下実施例により本発明のハニカ
ム構造体の製造方法をより具体的に説明する。EXAMPLES (Examples) The method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention will be described more specifically with reference to the following examples.
【００５４】γ−アルミナ粉末に白金を担持して白金担
持アルミナ触媒粉末を作製した。この白金担持アルミナ
触媒粉末は、全体の質量を１００％として白金が１質量
％、γ−アルミナ粉末を９９質量％とした。γ−アルミ
ナ粉末に白金を担持する方法は、ジニトロジアンミン白
金水溶液を用いて蒸発乾固法により行った。Platinum was supported on γ-alumina powder to prepare a platinum-supported alumina catalyst powder. In this platinum-supported alumina catalyst powder, the total mass was 100%, platinum was 1% by mass, and γ-alumina powder was 99% by mass. The method for supporting platinum on the γ-alumina powder was carried out by evaporation to dryness using an aqueous dinitrodiammine platinum solution.
【００５５】次にこの白金担持アルミナ触媒粉末をカー
ボン粒子の表面に担持させて、カーボン粒子の表面に白
金担持アルミナ触媒からなる空隙区画皮膜を形成した。
カーボン粒子は平均粒径が２０μｍのものを用いた。ま
たカーボン粒子に白金担持アルミナ触媒粉末を質量比で
１対１の割合で担持させた。Next, the platinum-supported alumina catalyst powder was supported on the surface of the carbon particles to form a void partitioning film composed of the platinum-supported alumina catalyst on the surface of the carbon particles.
The carbon particles used had an average particle size of 20 μm. Further, platinum-supported alumina catalyst powder was supported on the carbon particles at a mass ratio of 1: 1.
【００５６】この白金担持アルミナ触媒粉末からなる空
隙区画皮膜を表面に形成したカーボン粒子をコージェラ
イト原料粉末に混合して混合粉末を作製した。混合粉末
の配合割合は、コージェライト原料粉末を５００ｇに対
して、白金担持アルミナ触媒粉末からなる空隙区画皮膜
を表面に形成したカーボン粒子を２００ｇの割合とし
た。The carbon particles having a void partitioning coating formed of the platinum-supported alumina catalyst powder on the surface were mixed with the cordierite raw material powder to prepare a mixed powder. The mixing ratio of the mixed powder was 500 g of the cordierite raw material powder, and 200 g of carbon particles having a platinum-supported alumina catalyst powder on the surface thereof.
【００５７】この混合粉末に水を加えて混練して粘土状
のスラリーを調整した。そしてこの粘土状のスラリーを
押出金具を用いてハニカム状成形体を成形した。そして
このハニカム状成形体を１４００℃で２時間焼成してハ
ニカム構造体を製造した。Water was added to this mixed powder and kneaded to prepare a clay-like slurry. Then, the clay-like slurry was molded into a honeycomb-shaped molded body by using an extrusion fitting. Then, this honeycomb formed body was fired at 1400 ° C. for 2 hours to manufacture a honeycomb structure.
【００５８】この焼成過程で、カーボン粒子が消失して
セル隔壁に細孔が形成され、またこの細孔を区画する表
面は白金担持アルミナ触媒からなる空隙区画皮膜で形成
された。この空隙区画皮膜はカーボン粒子の表面に予め
形成されたものであるので、細孔の内部表面に均一に薄
く形成された。During this calcination process, the carbon particles disappeared to form pores in the cell partition walls, and the surfaces defining these pores were formed by a void partitioning film made of a platinum-supported alumina catalyst. Since this void partition film was previously formed on the surface of the carbon particles, it was uniformly thinly formed on the inner surface of the pores.
【００５９】更にコージェライト製の栓によって、ハニ
カム構造体の一端面のセル開口を市松状に目封じして、
他端面では一端面で目封じされていないセル開口部を目
封じしてガスがセル隔壁を透過する構造とした。Further, the cell openings on one end surface of the honeycomb structure were plugged in a checkered pattern with a cordierite plug,
On the other end surface, a cell opening which is not plugged on one end surface is plugged so that gas permeates the cell partition wall.
【００６０】そしてこのハニカム構造体を白金薬液（ジ
ニトロジアンミン白金水溶液）に浸漬し、この白金薬液
が含浸したハニカム構造体を１２０℃で２時間乾燥させ
て、更に５００℃で１時間焼成した。このようにしてこ
のハニカム構造体のセル隔壁及び細孔の内部表面にハニ
カム構造体の容積１リットル当たり１ｇの白金を担持し
た。The honeycomb structure was dipped in a platinum chemical solution (dinitrodiammine platinum aqueous solution), the honeycomb structure impregnated with the platinum chemical solution was dried at 120 ° C. for 2 hours, and further fired at 500 ° C. for 1 hour. In this way, 1 g of platinum was loaded on the inner surfaces of the cell partition walls and pores of this honeycomb structure per 1 liter of volume of the honeycomb structure.
【００６１】更に同様に白金を担持したこのハニカム構
造体を更にアルカリ土類金属塩薬液（酢酸バリウム水溶
液、酢酸カリウム水溶液）に浸漬し、このアルカリ土類
金属塩薬液が含浸したハニカム構造体を１２０℃で２時
間乾燥させて、更に５００℃で２時間焼成した。このよ
うにしてこのハニカム構造体のセル隔壁及び細孔の内部
表面にハニカム構造体の容積１リットル当たり合計０．
３モルのバリウム（Ｂａ）、カリウム（Ｋ）を担持し
た。Further, similarly, this honeycomb structure carrying platinum was further immersed in an alkaline earth metal salt chemical solution (barium acetate aqueous solution, potassium acetate aqueous solution) to obtain 120 honeycomb structures impregnated with the alkaline earth metal salt chemical solution. It was dried at ℃ for 2 hours, and further calcined at 500 ℃ for 2 hours. In this way, the cell partition walls and the inner surfaces of the pores of this honeycomb structure have a total volume of 0.
3 mol of barium (Ba) and potassium (K) were supported.
【００６２】このようにしてハニカム構造体からなるデ
ィーゼル排ガス浄化触媒（ＤＰＮＲ（ディーゼルパティ
キュレートノックスリダクションシステム）を製造し
た。In this way, a diesel exhaust gas purification catalyst (DPNR (diesel particulate nox reduction system) having a honeycomb structure was manufactured.
【００６３】（比較例）上述の実施例で製造したハニカ
ム構造体の圧力損失の程度を検討するために比較例とし
て従来の方法でディーゼル排ガス浄化触媒を製造した。Comparative Example A diesel exhaust gas purifying catalyst was manufactured by a conventional method as a comparative example in order to examine the degree of pressure loss of the honeycomb structures manufactured in the above-mentioned examples.
【００６４】即ち平均粒径が２０μｍのカーボン粒子を
コージェライト原料粉末に混合して混合粉末を作製し
た。混合粉末の配合割合は、コージェライト原料粉末を
５００ｇに対してカーボン粒子を１００ｇの割合とし
た。That is, carbon particles having an average particle size of 20 μm were mixed with cordierite raw material powder to prepare a mixed powder. The mixing ratio of the mixed powder was such that the cordierite raw material powder was 500 g and the carbon particles were 100 g.
【００６５】この混合粉末に水を加えて混練して粘土状
のスラリーを調整した。そしてこの粘土状のスラリーを
実施例の場合と同一の押出金具を用いて実施例の場合と
同一形状のハニカム状成形体を成形した。そしてこのハ
ニカム状成形体を１４００℃で２時間焼成してハニカム
構造体を製造した。この焼成過程で、カーボン粒子が消
失してセル隔壁に細孔が形成された。Water was added to this mixed powder and kneaded to prepare a clay-like slurry. Then, this clay-like slurry was used to form a honeycomb-shaped molded body having the same shape as that of the example by using the same extrusion fitting as that of the example. Then, this honeycomb formed body was fired at 1400 ° C. for 2 hours to manufacture a honeycomb structure. During this firing process, the carbon particles disappeared and pores were formed in the cell partition walls.
【００６６】更にコージェライト製の栓によって、この
ハニカム構造体の一端面のセル開口を市松状に目封じし
て、他端面では一端面で目封じされていないセル開口部
を目封じしてガスがセル隔壁を透過する構造とした。Further, a cordierite plug was used to plug the cell openings on one end face of this honeycomb structure in a checkered pattern, and the other end face was plugged on the cell openings which were not plugged on one end face. Has a structure in which it penetrates the cell partition wall.
【００６７】そしてこのように目封じされたハニカム構
造体をアルミナスラリーに浸した。このアルミナスラリ
ーは、アルミナ粉末にバインダとしてアルミナゾル及び
水を加えて調整して作製した。なおこのアルミナスラリ
ーはアルミナ粉末を１００質量部に対してアルミナゾル
を２０質量部の割合とした。The honeycomb structure thus sealed was dipped in an alumina slurry. This alumina slurry was prepared by adding alumina sol and water as a binder to alumina powder. In this alumina slurry, 20 parts by mass of alumina sol was used with respect to 100 parts by mass of alumina powder.
【００６８】その後余分に付着したアルミナスラリーを
圧縮ガスで除去して、セル隔壁の表面及びセル隔壁の細
孔の表面にアルミナスラリーをコートした。After that, the excessively adhered alumina slurry was removed with a compressed gas, and the surface of the cell partition and the surface of the pores of the cell partition were coated with the alumina slurry.
【００６９】そしてこのアルミナスラリーをセル隔壁の
表面及びセル隔壁の細孔の表面にコートしたハニカム構
造体を１２０℃で２時間乾燥させ、更に５００℃で１時
間焼成してコート層をセル隔壁表面に形成した。なおコ
ート層はハニカム構造体の容積１リットル当たり１５０
ｇ形成された。Then, the honeycomb structure in which the surfaces of the cell partition walls and the surfaces of the pores of the cell partition walls were coated with this alumina slurry was dried at 120 ° C. for 2 hours and further baked at 500 ° C. for 1 hour to form a coating layer on the cell partition surface. Formed. The coating layer is 150 per liter of volume of the honeycomb structure.
g formed.
【００７０】更にこのセル隔壁及びセル隔壁の表面にア
ルミナがコートされたハニカム構造体を白金薬液（ジニ
トロジアンミン白金水溶液）に浸漬し、この白金薬液が
含浸したハニカム構造体を１２０℃で２時間乾燥させ
て、更に５００℃で１時間焼成した。このようにしてこ
のハニカム構造体のセル隔壁及び細孔の内部表面にハニ
カム構造体の容積１リットル当たり２ｇの白金を担持し
た。Further, the cell partition walls and the honeycomb structure having the surfaces of the cell partition walls coated with alumina were immersed in a platinum chemical solution (dinitrodiammine platinum aqueous solution), and the honeycomb structure impregnated with the platinum chemical solution was dried at 120 ° C. for 2 hours. And further baked at 500 ° C. for 1 hour. In this manner, 2 g of platinum was loaded on the inner surfaces of the cell partition walls and pores of this honeycomb structure per liter of the honeycomb structure.
【００７１】更に同様に白金を担持したこのハニカム構
造体を更にアルカリ土類金属塩薬液（酢酸バリウム水溶
液、酢酸カリウム水溶液）に浸漬し、このアルカリ土類
金属塩薬液が含浸したハニカム構造体を１２０℃で２時
間乾燥させて、更に５００℃で２時間焼成した。このよ
うにしてこのハニカム構造体のセル隔壁及び細孔の内部
表面にハニカム構造体の容積１リットル当たり合計０．
３モルのバリウム（Ｂａ）、カリウム（Ｋ）を担持し
た。Further, similarly, this honeycomb structure carrying platinum was further dipped in an alkaline earth metal salt chemical solution (barium acetate aqueous solution, potassium acetate aqueous solution), and the honeycomb structure impregnated with the alkaline earth metal salt chemical solution was used for 120 times. It was dried at ℃ for 2 hours, and further calcined at 500 ℃ for 2 hours. In this way, a total of 0.
3 mol of barium (Ba) and potassium (K) were supported.
【００７２】このようにしてハニカム構造体からなるデ
ィーゼル排ガス浄化触媒（ＤＰＮＲ（ディーゼルパティ
キュレートノックスリダクションシステム）を製造し
た。In this way, a diesel exhaust gas purification catalyst (DPNR (diesel particulate nox reduction system) having a honeycomb structure was manufactured.
【００７３】（比較試験）次に実施例で製造したＤＰＮ
Ｒと比較例で製造したＤＰＮＲとの圧力損失を調べた。
圧力損失は実施例のＤＰＮＲと比較例のＤＰＮＲにそれ
ぞれ空気を毎分０．３立方メートルを流通させた時の入
りガス圧力と出ガス圧力との差を圧力損失として求め
た。(Comparative Test) Next, the DPN manufactured in the examples.
The pressure loss between R and the DPNR produced in the comparative example was investigated.
The pressure loss was obtained as the pressure loss by calculating the difference between the inlet gas pressure and the outlet gas pressure when air was passed through the DPNR of the example and the DPNR of the comparative example at 0.3 cubic meters per minute.
【００７４】その結果を図１に示す。従来コート法を用
いて製造した比較例のＤＰＮＲよりも本発明のハニカム
構造体の製造方法を用いて製造した実施例のＤＰＮＲの
方が大きく圧損が減少している。これにより本発明のハ
ニカム構造体の製造方法を用いることにより、従来と同
様の触媒性能を有しつつ、圧損性能を向上させることが
できることが分かった。The results are shown in FIG. The DPNR of the example manufactured by using the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention has a larger pressure loss than the DPNR of the comparative example manufactured by using the conventional coating method. From this, it was found that by using the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention, the pressure loss performance can be improved while having the same catalytic performance as the conventional one.
【００７５】[0075]
【発明の効果】本発明のハニカム構造体の製造方法を用
いることにより、セル隔壁の細孔に触媒金属を担持する
ことができる触媒担持層を薄く均一性良く形成すること
ができる。セル隔壁に細孔を有するハニカム構造体の圧
損性能を向上させることができる。EFFECTS OF THE INVENTION By using the method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention, it is possible to form a catalyst supporting layer capable of supporting a catalyst metal in the pores of the cell partition walls in a thin and uniform manner. It is possible to improve the pressure loss performance of the honeycomb structure having pores in the cell partition walls.
【００７６】更にこの触媒担持層は細孔の表面に均一性
良く形成されているので、触媒金属、ＮＯX吸蔵材、そ
の他の吸着材等を均等に担持させることができる。その
結果単にセル隔壁の表面だけではなく、セル隔壁内の細
孔の表面にも触媒金属等を偏り無く担持させることがで
きるので、触媒金属等の触媒性能、ＮＯX吸蔵材の吸蔵
性能、その他の吸着材の吸着性能を有効に活用すること
ができる。Furthermore, since the catalyst supporting layer is formed on the surface of the pores with good uniformity, the catalyst metal, the NO x storage material, other adsorbents, etc. can be evenly supported. As a result, not only the surface of the cell partition wall but also the surface of the pores in the cell partition wall can be loaded evenly with the catalytic metal, so that the catalytic performance of the catalytic metal, etc., the storage performance of the NO x storage material, etc. It is possible to effectively utilize the adsorption performance of the adsorbent.
【図１】 実施例及び比較例のＤＰＮＲの圧力損失を示
すグラフである。FIG. 1 is a graph showing DPNR pressure loss in Examples and Comparative Examples.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 35/04 ３０１ Ｆ０１Ｎ 3/02 ３０１Ｂ Ｆ０１Ｎ 3/02 ３０１ ３２１Ａ ３２１ 3/28 ３０１Ｃ 3/28 ３０１ Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢＣ Ｆターム(参考） 3G090 AA03 BA01 3G091 AA02 AA18 AB06 AB13 BA39 GA06 GB02W GB03W GB05W GB10X GB17X 4D019 AA01 BA05 BB06 BC07 BC12 BC20 CA01 CB04 CB06 4D048 AA06 AA14 AB01 AB02 AB05 BA01Y BA02Y BA03X BA14X BA15X BA30X BA31Y BA32Y BA33Y BA34Y BA41X BB02 BB14 BB17 4G069 AA03 AA08 BA01A BA01B BA08C BA13A BA13B BC01A BC03B BC08A BC13B BC32A BC33A BC69A BC75B CA03 CA07 CA13 CA18 DA06 EA19 EA27 FA01 FA03 FB14 FB30 FB36 FB67 FC03 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B01J 35/04 301 F01N 3/02 301B F01N 3/02 301 321A 321 3/28 301C 3/28 301 B01D 53 / 36 ZABC F Term (reference) 3G090 AA03 BA01 3G091 AA02 AA18 AB06 AB13 BA39 GA06 GB02W GB03W GB05W GB10X GB17X 4D019 AA01 BA05 BB06 BC07 BC12 BC20 CA01 CB04 BAX BAX BAY BA30 BA34 BAX BA34 BA01 BA03 BA14 BA01 BA02 AB14 AB01 AB02 AB02 AB02 AB02 AB14 BB02 BB14 BB17 4G069 AA03 AA08 BA01A BA01B BA08C BA13A BA13B BC01A BC03B BC08A BC13B BC32A BC33A BC69A BC75B CA03 CA07 CA13 CA18 DA06 EA19 EA27 FA01 FA03 FB14 FB30 FB36 FB67 FC03
Claims (8)
に少なくとも多孔質酸化物を含有する空隙区画皮膜を形
成する皮膜形成工程と、 ハニカム構造体の原料粉末と前記空隙区画皮膜が形成さ
れた前記消失性粒子とを混合して混合原料とし、該混合
原料を用いてハニカム状成形体を成形する成形工程と、 前記ハニカム状成形体を焼結して、前記消失性粒子を消
去し、消失した空間を細孔として区画する前記空隙区画
皮膜をセル隔壁に有するハニカム構造体を焼成する焼成
工程と、 とを有することを特徴とするハニカム構造体の製造方
法。1. A film forming step of forming a void partition film containing at least a porous oxide on the surface of fugitive particles that disappear by heating, and a raw material powder of a honeycomb structure and the void partition film formed as described above. A process of mixing the fugitive particles as a mixed raw material, and molding a honeycomb-shaped molded product using the mixed raw material; and sintering the honeycomb-shaped molded product to erase and erase the fugitive particles. And a firing step of firing a honeycomb structure having the void partitioning coating for partitioning spaces as pores in the cell partition walls, the manufacturing method of the honeycomb structure.
項１記載のハニカム構造体の製造方法。2. The method for manufacturing a honeycomb structure according to claim 1, wherein the fugitive particles are carbon.
請求項１又は２記載のハニカム構造体の製造方法。3. The method for manufacturing a honeycomb structure according to claim 1, wherein the raw material powder is cordierite.
求項１、２又は３記載のハニカム構造体の製造方法。4. The method for manufacturing a honeycomb structure according to claim 1, 2 or 3, wherein the porous oxide is alumina.
ている請求項１、２、３又は４記載のハニカム構造体の
製造方法。5. The method for manufacturing a honeycomb structure according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the porous oxide carries a catalytic metal.
記載のハニカム構造体の製造方法。6. The catalyst metal is a precious metal.
A method for manufacturing the described honeycomb structure.
持している請求項１、２、３、４、５又は６記載のハニ
カム構造体の製造方法。7. The method for manufacturing a honeycomb structure according to claim 1, 2, 3, 4, 5, or 6, wherein the porous oxide carries a NO X storage material.
ルカリ土類金属の中から選ばれる少なくとも１種である
請求項７記載のハニカム構造体の製造方法。8. The method for manufacturing a honeycomb structure according to claim 7, wherein the NO X storage material is at least one selected from alkali metals and alkaline earth metals.
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|---|---|---|---|
| JP2002023745A JP2003221286A (en) | 2002-01-31 | 2002-01-31 | Production method of honeycomb structural body |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014079755A (en) * | 2003-08-29 | 2014-05-08 | Dow Global Technologies Llc | Improved diesel exhaust filter |
| CN107427825A (en) * | 2015-03-27 | 2017-12-01 | 丰田自动车株式会社 | Exhaust gas purification catalyst |
| CN107427824A (en) * | 2015-03-27 | 2017-12-01 | 丰田自动车株式会社 | Exhaust gas purification catalyst |
-
2002
- 2002-01-31 JP JP2002023745A patent/JP2003221286A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014079755A (en) * | 2003-08-29 | 2014-05-08 | Dow Global Technologies Llc | Improved diesel exhaust filter |
| CN107427825A (en) * | 2015-03-27 | 2017-12-01 | 丰田自动车株式会社 | Exhaust gas purification catalyst |
| CN107427824A (en) * | 2015-03-27 | 2017-12-01 | 丰田自动车株式会社 | Exhaust gas purification catalyst |
| CN107427825B (en) * | 2015-03-27 | 2020-11-03 | 丰田自动车株式会社 | Catalyst for exhaust gas purification |
| CN107427824B (en) * | 2015-03-27 | 2021-01-26 | 丰田自动车株式会社 | Catalyst for exhaust gas purification |
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