JP2003212601A - ガラス原料 - Google Patents
ガラス原料Info
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Abstract
ラッジを、酸化セリウムを含有する多くのガラス製品の
原料として使用可能にし、環境に悪影響を及ぼさずに再
利用して、原料費および廃棄物処理費およびエネルギー
費を削減可能なガラス原料を提供する。 【解決手段】 本発明のガラス原料は、酸化セリ
ウムの含有率が95質量%以上である研磨材と、該研磨
材を用いた研磨により生じたガラス微粉末とを含むガラ
ス原料であって、研磨材中の塩素の含有率が0.2質量
%以下であることを特徴とする。
Description
じる研磨スラッジを用いたガラス原料に関する。
粗さにラッピング仕上げする際には、鋳鉄製の研磨定盤
と、酸化アルミニウムを主成分とする微粉末状の研磨材
(以降、酸化アルミニウム研磨材と称す)を水等の研磨
液に縣濁した研磨スラリが用いられる。
する際に生じるガラスの微粉末と酸化アルミニウム研磨
材とからなる研磨スラッジは、研磨定盤が摩耗して混入
した鉄分を、磁力を利用した除鉄装置で処理することに
より、酸化アルミニウムを多く含むガラス原料として再
利用されている。
硫黄等が付加、混入されることがある。
場合、研磨スラリとして酸化セリウムを主成分とする微
粉末状の研磨材(以降、酸化セリウム研磨材と称す)が
使用されている。従来、酸化セリウム研磨材は、バスト
ネサイトという希土類元素を多く含んだ鉱石を焼成し粉
砕して製造されており、セリウム(Ce)が主成分であ
るが、ランタン(La)、プラセオジウム(Pr)、ネ
オジウム(Nd)、フッ素(F)の化合物を多く含んで
おり、アルカリ土類も5%程度含んでいる。そのため、
従来の酸化セリウム研磨材は、酸化セリウム(Ce
O2)が約45質量%程度の含有率であり、酸化ランタ
ン(La2O3)が約30質量%、酸化プラセオジウム
(Pr6O11)が約4質量%、酸化ネオジウム(Nd2O
3)が約10質量%、フッ素(F)化合物が約8質量
%、その他微量のアルカリ土類成分となっている。
化合物は製造工程中の熱処理により大幅に減少するの
で、酸化セリウム研磨材には、研磨効率を高めるため
に、フッ素の含有率が4〜7質量%となるようにフッ素
が加えられて調製されている。そのため、このような酸
化セリウム研磨材でガラス物品を研磨する際に生じるガ
ラスの微粉末と酸化セリウム研磨材とからなる研磨スラ
ッジには、使用された酸化セリウム研磨材中とほぼ同量
のフッ素が含まれている。
フッ素等のハロゲンが多く含まれる研磨スラッジをその
ままガラス原料として使用すると、金型に溶融ガラスを
供給してプレス成形やブロー成型する際に、溶融ガラス
中のハロゲンが鉄−クロム系合金からなる金型の母材を
浸食し、金型の寿命が極端に短くなり、生産性を著しく
損なうという問題点がある。
んだ研磨スラッジをガラス原料として使用すると、塩素
やフッ素成分が溶融ガラス中に溶解しきれずに、その一
部がガラス溶融窯の煙突から排出され、排気中の塩素及
びフッ素濃度が上昇して大気を汚染する懸念がある。そ
のため、塩素やフッ素を多量に含む酸化セリウム研磨材
を主成分とする研磨スラッジは、産業廃棄物として埋め
立て等により廃棄処分するしかなく、高額な処理費用を
費やしている。
されおり、今後さらに厳しくなることが確実である。こ
のような環境保護規制に適合できないと、近い将来には
酸化セリウム研磨材を使用したガラス物品の研磨自体が
できなくなる懸念もある。
ス特性やガラスの溶解性に悪影響を与えるという理由
で、リチウム(Li)、鉄(Fe)、硫黄(S)、鉛
(Pb)、リン(P)を含有成分として多く含まれる研
磨スラッジをガラス原料として使用することができない
場合がある。
磨スラッジを用いたガラス原料を提供することを目的と
する。
は、酸化セリウムの含有率が95質量%以上である研磨
材と、該研磨材を用いた研磨により生じたガラス微粉末
とを含むことを特徴とするガラス原料であって、研磨材
中の塩素の含有率が0.2質量%以下であることを特徴
とする。
る研磨材(以降、再び酸化セリウム研磨材と称す)の酸
化セリウムの含有率が95質量%未満の場合、酸化ラン
タン(La2O3)、酸化プラセオジウム(Pr
6O11)、酸化ネオジウム(Nd2O3)、フッ素含有成
分(F)、リチウム(Li)、鉄(Fe)、硫黄
(S)、鉛(Pb)、リン(P)等の含有率が高くな
り、光学用等の用途によっては原料として使用すること
ができないガラス製品が多くなる。酸化セリウム研磨材
の酸化セリウムの含有率が95質量%以上であると、そ
の他の成分が5質量%未満になるので、研磨スラッジ中
の酸化セリウム研磨材をそのままガラスの酸化セリウム
原料として使用することが容易になる。
の塩素含有率が0.2質量%を越えると、溶融ガラスを
プレス成形やブロー成型する際の金型の母材を浸食して
金型の寿命が極端に短くなり、生産性を著しく損なう
が、0.2質量%以下であれば、金型の寿命は採算の採
れる実用的な長さになる。また、ガラス原料中の酸化セ
リウム研磨材の塩素含有率が0.2質量%以下であれ
ば、溶融ガラス中に拡散して希釈され溶融窯から排気ガ
スとして排出されることもない。
ッ素の含有率が0.2質量%以下であることが好まし
い。
素含有率が0.2質量%を越えると、溶融ガラスをプレ
ス成形やブロー成型する際の金型の母材を浸食して金型
の寿命が極端に短くなり、生産性を著しく損なうが、
0.2質量%以下であれば、金型の寿命は採算の採れる
実用的な長さになる。また、ガラス原料中の酸化セリウ
ム研磨材のフッ素含有率が0.2質量%以下であれば、
溶融ガラス中に拡散して希釈され溶融窯から排気ガスと
して排出されることもない。
ハロゲンの総含有率が0.2質量%以下であることを特
徴とする。
及びフッ素等のハロゲンの総含有率が0.2質量%を越
えると、溶融ガラスをプレス成形やブロー成型する際の
金型の母材を浸食して金型の寿命が極端に短くなり、生
産性を著しく損なうが、0.2質量%以下であれば、金
型の寿命は採算の採れる実用的な長さになる。また、ガ
ラス原料中にある酸化セリウム研磨材のハロゲンの総含
有率が0.2質量%以下であれば、溶融ガラス中に拡散
して希釈され溶融窯から排気ガスとして排出されること
もない。
ムの含有率がLi2O換算で2.0質量%以下であるこ
とを特徴とする。
色に影響を与える為、リチウムを多量に含むスラッジを
そのままガラスの原料として使用すると、ガラス製品の
色調維持・管理が困難となるので、ガラス成分の調整が
必要となりコスト高になる。リチウムの含有率がLi2
O換算で2.0質量%以下の研磨材を用いてガラスを研
磨することによって生じたスラッジであれば色調の調整
は実用上可能となる。
鉄の含有率がFe2O3換算で5.0質量%以下であり、
かつ含有率の変動が0.2%以下であることを特徴とす
る。
与える為、鉄を多量に含むスラッジをそのままガラスの
原料として使用すると、ガラス製品の色調維持・管理が
困難となるので、ガラス成分の調整が必要となりコスト
高になる。鉄の含有率がFe 2O3換算で5.0質量%以
下であり、かつその変動が0.2%以下の研磨材を用い
てガラスを研磨することによって生じたスラッジであれ
ば色調の調整は実用上可能となる。
含有率がSO3換算で0.5質量%以下であることを特
徴とする。
含有率がSO3換算で0.5質量%を越えると、溶解時
にSO2ガスが泡層を形成し、輻射熱が伝達しにくくな
る為シードの悪化やブツ発生を招くという問題点もあ
る。ガラス原料中の酸化セリウム研磨材の硫黄含有率と
しては、SO3換算で0.5質量%以下の研磨材から生
じたスラッジであれば、実用上溶解性に影響は出ない。
有率がPbO換算で0.5質量%以下であることを特徴
とする。
電子線にさらされる用途に使われるガラスに対して、鉛
が多量に混入すると、製品としての使用中に着色するこ
とになり、実用上好ましくない。鉛の含有率がPbO換
算で0.5質量%以下の研磨材から生じたスラッジであ
れば実用上使用可能となる。
含有率がP2O5換算で1.5質量%以下であることを特
徴とする。
電子線にさらされる用途に使われるガラスに対して、リ
ンが多量に混入すると、製品としての使用中に着色する
ことになり、実用上好ましくない。リンの含有率がP2
O5換算で1.5質量%以下の研磨材から生じたスラッ
ジであれば実用上使用可能となる。
粉末としては、酸化セリウム研磨材が作用してガラスの
表面から剥離した粒径がサブミクロン以下の非常に微細
な粉末であり、ガラス原料中に1〜20質量%の含有さ
れる。このガラス微粉末の含有率は、研磨スラッジの回
収形態により1〜20質量%のような20倍程度の差が
生じることがある。
量%以下になるように脱水した状態でも使用可能である
が、ガラス製品の含有水分を制御する上で、水蒸気がで
ない程度以上に乾燥させることが好ましい。
れて塊状になった研磨スラッジを所定径の顆粒状または
粉末状に形成して、その他のガラス原料と同等の径であ
れば使用可能であり、溶解性をよくする上で100μm
以下であることが好ましい。
ジが、酸化セリウムの含有率が95質量%以上である研
磨材を含んでおり、塩素、フッ素等成型の金型の寿命や
大気汚染に悪影響を与える成分が最小限になっているの
で、生産性や環境に悪影響を与えることなく、酸化セリ
ウムを成分とする多くのガラス製品にガラスの酸化セリ
ウム原料として使用することが可能となる。
を研磨する際に、塩素、フッ素の含有率がそれぞれ0.
2質量%以下の酸化セリウム研磨材を使用することによ
り、ガラス原料が、フッ素、塩素の含有率がそれぞれ
0.2質量%以下で、好ましくはハロゲンの総含有率が
0.2質量%以下である酸化セリウム研磨材と、該研磨
材を用いた研磨により生じたガラス微粉とを含む研磨ス
ラッジを成分とするものになるので、このようなガラス
原料を溶融した溶融ガラスは使用した酸化セリウム研磨
材に対するフッ素、塩素のそれぞれの含有率を0.2質
量%以下であり、好ましくはハロゲンの総含有率が0.
2質量%以下にすることが可能となる。
のリチウムの含有率がLi2O換算で2.0質量%以
下、及び/または、研磨材中の鉄の含有率がFe2O3換
算で5.0質量%以下であって鉄の含有率の変動が0.
2%以下、及び/または、研磨材中の硫黄の含有率がS
O3換算で0.5質量%以下であり、及び/または、研
磨材中の鉛の含有率がPbO換算で0.5質量%以下で
あり、及び/または、研磨材中のリンの含有率がP2O5
換算で1.5質量%以下であるので、色調等のガラス特
性や溶解性に悪影響を与えることなく、研磨スラッジ中
の酸化セリウム研磨材をそのままガラスの酸化セリウム
原料として使用することが容易になる。
材と従来の研磨材とを表1に示す。
ような、酸化セリウムの含有率が97.5質量%であ
り、塩素、フッ素の含有率がそれぞれ0.2質量%以下
の、例えば、塩素が0.03質量%、フッ素が0.04
質量%の含有率に抑え、且つリチウムの含有率がLi2
O換算で0.005質量%、鉄の含有率がFe2O3換算
で0.04質量%であって鉄の含有率の変動が0.2%
以下、硫黄の含有率がSO3換算で0.41質量%であ
り、鉛の含有率がPbO換算で0.013質量%であ
り、リンの含有率がP2O5換算で0.02質量%であ
り、粒度分布を調整することにより研磨レ−トが従来の
研磨材と同等以上で研磨品位も従来と同レベルを達成す
る粒径0.1〜6.0μmの酸化セリウム研磨材を準備
する。
酸ガラスからなる板ガラスを研磨する際に、酸化セリウ
ム研磨材を水100kgに対して1〜20kgを投入し
て攪拌し、縣濁状態の研磨スラリを調製して使用する。
粒径が0.1〜2.0μmのホウ珪酸ガラスの微粉末と
粒径が0.1〜6.0μmの酸化セリウム研磨材とから
なる研磨スラッジを、その含水率が1質量%以下になる
ように脱水し乾燥させた後、塊状となった研磨スラッジ
を約100μm以下の顆粒状に解砕してホウ珪酸ガラス
5質量%と酸化セリウム92質量%とを含むガラス原料
を調製する。なお、乾燥させた研磨スラッジの解砕は、
ホウ珪酸ガラスの微粉末に研磨材が付着した粉末状まで
解砕してもよい。
ス及び高い純度の酸化セリウム原料として使用し、他の
ガラス原料に対して研磨材が0.1〜0.2質量%の割
合となるように混合することにより容易に所望の組成を
有するガラス原料バッチに調整することができる。この
ようなガラス原料バッチをガラス溶融窯に投入して溶融
ガラスにする。
てプレス成形により、例えば、陰極線管用のファンネル
を成形したところ、金型の寿命は平均で120時間以上
と、従来と同等の寿命が得られた。また、研磨スラッジ
中の酸化セリウム研磨材に対して塩素及びフッ素の含有
率が0.01〜0.15質量%であり、ガラス原料バッ
チ当たりのフッ素の含有率としては、ほとんど無視しう
る程度まで下がっているので、塩素及びフッ素は溶融ガ
ラス中に拡散して希釈され、ガラス溶融窯の煙突から排
出されることもなかった。
は、酸化セリウム研磨材からリチウム(Li)、鉄(F
e)、硫黄(S)、鉛(Pb)、リン(P)が表1に示
す含有量しか供給されず、即ち、酸化セリウム研磨材か
らガラス原料として実質的には供給されないので、研磨
スラッジをホウ珪酸ガラス及び高い純度の酸化セリウム
原料として使用しない従来のファンネルガラスとほぼ同
等の色調等所望のガラス特性を有しており、これらガラ
ス特性の維持・管理に関しても研磨スラッジを使用しな
い場合と殆ど変わらず、容易に維持・管理することがで
きた。さらに、溶解性にもついても特別な維持管理を行
う必要もなかった。
ジが、酸化セリウムの含有率が95質量%以上である研
磨材を含んでおり、塩素、フッ素の含有率がそれぞれ
0.2%以下で、ハロゲンの総含有率が0.2質量%以
下であるので、生産性に悪影響を与えることなく、酸化
セリウムを含有する多くのガラス製品のガラス原料とし
て使用可能になる。
リチウムの含有率がLi2O換算で2.0質量%以下、
及び/または、研磨材中の鉄の含有率がFe2O3換算で
5.0質量%以下で鉄の含有率含有率の変動が0.2%
以下、及び/または、研磨材中の硫黄の含有率がSO3
換算で0.5質量%以下であり、及び/または、研磨材
中の鉛の含有率がPbO換算で0.5質量%以下であ
り、及び/または、研磨材中のリンの含有率がP2O5換
算で1.5質量%以下であるので、ガラス製品の色調規
格外れ、シードの悪化やブツ発生、X線や電子線による
ブラウニング等のガラス特性や溶解性に悪影響を与える
ことなく、研磨スラッジ中の酸化セリウム研磨材をその
ままガラスの酸化セリウム原料として使用することが容
易になる。
て廃棄していた酸化セリウム研磨材を含む研磨スラッジ
をガラスの原料として使用可能になるので、大気汚染や
埋め立て処理等により環境に悪影響を与えることなく、
ガラス製品の原料費の節約および廃棄物処理費用の大幅
な削減が可能となるとともに、ガラス原料を溶解する際
のエネルギー効率も向上させることができる。
ウム研磨材を含む研磨スラッジをガラス原料として再利
用が可能になるので、今後さらに厳しくなる環境保護規
制に対応して酸化セリウム研磨材を使用するガラス物品
の研磨を将来に亘って継続することが可能となる実用上
優れた効果を奏するものである。
Claims (8)
- 【請求項1】 酸化セリウムの含有率が95質量%以上
である研磨材と、該研磨材を用いた研磨により生じたガ
ラス微粉末とを含むガラス原料であって、 研磨材中の塩素の含有率が0.2質量%以下であること
を特徴とするガラス原料。 - 【請求項2】 研磨材中のフッ素の含有率が0.2質量
%以下であることを特徴とする請求項1に記載のガラス
原料。 - 【請求項3】 研磨材中のハロゲンの総含有率が0.2
質量%以下であることを特徴とする請求項2に記載のガ
ラス原料。 - 【請求項4】 研磨材中のリチウムの含有率がLi2O
換算で2.0質量%以下であることを特徴とする請求項
1から3の何れかに記載のガラス原料。 - 【請求項5】 研磨材中の鉄の含有率がFe2O3換算で
5.0質量%以下であり、かつ含有率の変動が0.2%
以下であることを特徴とする請求項1から4の何れかに
記載のガラス原料。 - 【請求項6】 研磨材中の硫黄の含有率がSO3換算で
0.5質量%以下であることを特徴とする請求項1から
5の何れかに記載のガラス原料。 - 【請求項7】 研磨材中の鉛の含有率がPbO換算で
0.5質量%以下であることを特徴とする請求項1から
6の何れかに記載のガラス原料。 - 【請求項8】 研磨材中のリンの含有率がP2O5換算で
1.5質量%以下であることを特徴とする請求項1から
7の何れかに記載のガラス原料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002014043A JP2003212601A (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | ガラス原料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002014043A JP2003212601A (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | ガラス原料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003212601A true JP2003212601A (ja) | 2003-07-30 |
Family
ID=27650840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002014043A Pending JP2003212601A (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | ガラス原料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003212601A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006206870A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-08-10 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | セリウム系研摩材用原料及びセリウム系研摩材用原料の製造方法、並びに、セリウム系研摩材及びセリウム系研摩材の製造方法 |
JP2012079369A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Konica Minolta Opto Inc | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
WO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
-
2002
- 2002-01-23 JP JP2002014043A patent/JP2003212601A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006206870A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-08-10 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | セリウム系研摩材用原料及びセリウム系研摩材用原料の製造方法、並びに、セリウム系研摩材及びセリウム系研摩材の製造方法 |
JP2012079369A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Konica Minolta Opto Inc | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
WO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
CN104093524A (zh) * | 2012-02-06 | 2014-10-08 | 旭硝子株式会社 | 玻璃制品的制造方法及磁盘的制造方法 |
JPWO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2015-05-11 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
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