JP2003212551A - Method and apparatus for manufacturing glass preform - Google Patents

Method and apparatus for manufacturing glass preform

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JP2003212551A
JP2003212551A JP2002009589A JP2002009589A JP2003212551A JP 2003212551 A JP2003212551 A JP 2003212551A JP 2002009589 A JP2002009589 A JP 2002009589A JP 2002009589 A JP2002009589 A JP 2002009589A JP 2003212551 A JP2003212551 A JP 2003212551A
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JP
Japan
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glass
producing
burner
heating means
deposited layer
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Application number
JP2002009589A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomohiro Ishihara
朋浩 石原
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • C03B37/0146Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and an apparatus for manufacturing a glass preform in which a fine glass particle deposit is formed based on an outside vapor deposition method and it is made into clear glass. <P>SOLUTION: An accumulative layer 3 of the fine glass particle is formed on a starting glass rod 1 rotating while reciprocating in an axial direction by a burner 9 for producing the fine glass particle. Then, the accumulative layer 3 is heated to obtain the clear glass. The accumulative layer 3 is made into the clear glass whenever the starting glass rod 1 reciprocates by a heating means 12 arranged at one side or both sides of the burner 9. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、出発ガラスロッド
に火炎加水分解によりガラス微粒子を堆積させた後、透
明ガラス化するガラス母材の製造方法と製造装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a glass base material in which glass particles are deposited on a starting glass rod by flame hydrolysis and then vitrified into a transparent glass.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ファイバ等の円柱状ガラス母材の製造
方法として、OVD法(外付け気相蒸着法)が知られて
いる。この方法は、例えば、反応容器内で出発ガラスロ
ッドを軸方向に往復移動させるとともに回転させながら
その外周に、SiCl4 やGeCl4 などのガラス原料
ガスを、H2 などの燃料ガスとO2 などの助然ガスとと
もにバーナーから吹き付け、火炎加水分解反応によりガ
ラス微粒子を生成して堆積させ、ガラス微粒子堆積体を
作製する。この後、ガラス微粒子堆積体は、焼結炉等に
より脱水焼成されて、透明ガラス化される。
2. Description of the Related Art OVD method (external vapor deposition method) is known as a method for producing a cylindrical glass preform such as an optical fiber. In this method, for example, a starting glass rod is reciprocally moved in the axial direction in a reaction vessel and is rotated while a glass raw material gas such as SiCl 4 or GeCl 4 is supplied to the outer periphery thereof, a fuel gas such as H 2 and O 2 or the like. It is sprayed from a burner together with the auxiliary gas of No. 3, and glass fine particles are generated and deposited by a flame hydrolysis reaction to prepare a glass fine particle deposit body. Then, the glass fine particle deposit is dehydrated and fired in a sintering furnace or the like to be a transparent glass.

【0003】従来は、反応容器でガラス微粒子の堆積層
からなるガラス微粒子堆積体を作製した後に、ガラス微
粒子堆積体を焼結炉に移して透明ガラス化するという工
程を経ている。反応容器から焼結炉に移すに当たって
は、作製された直後のガラス微粒子堆積体は高温になっ
ているので、、ある程度温度が下がってから反応容器か
ら取り出すこととなり、このための時間が必要となる。
次いで、ガラス微粒子堆積体を反応容器から取り出し、
次の焼結炉への搬送、焼結炉への取付けが行なわれる
が、このための作業時間が必要となる。また、ガラス微
粒子堆積体は、機械的に脆い状態にあるので、これらの
作業時に傷がついたり、損傷するという危険性もある。
Conventionally, a step of producing a glass particulate deposit body composed of a deposited layer of glass particulates in a reaction vessel, and then transferring the glass particulate deposit body to a transparent furnace to obtain transparent vitrification is performed. When transferring from the reaction vessel to the sintering furnace, the glass particle deposit immediately after being produced is at a high temperature, so it will be taken out from the reaction vessel after the temperature has dropped to some extent, and time is required for this. .
Then, the glass particulate deposit is taken out of the reaction vessel,
The transfer to the next sintering furnace and the attachment to the sintering furnace are performed, but the working time for this is required. Further, since the glass fine particle deposit body is in a mechanically brittle state, there is a risk of being scratched or damaged during these operations.

【0004】焼結炉では、ガラス微粒子堆積体を取付け
た後、透明ガラス化するのに必要な温度(例えば、16
00℃位)に昇温するための時間が必要である。一気に
昇温するとガラス微粒子の堆積層の内側部分と外周部分
の密度差により、透明化したガラス内に気泡の発生が生
じることがある。これを改善するために、1100℃〜
1300℃で仮焼成した後に1400℃〜1600℃で
本焼成する(特開昭61−97141号公報参照)、あ
るいは、1100℃〜1400℃で脱水処理した後に1
500℃〜1900℃で透明ガラス化する(特開昭61
−72644号公報参照)というような段階的な加熱処
理を必要とする場合がある。
In the sintering furnace, after the glass particulate deposit is attached, the temperature required for vitrification (eg 16).
It takes time to raise the temperature to about 00 ° C. When the temperature is raised at once, bubbles may be generated in the transparentized glass due to the difference in density between the inner part and the outer part of the deposited layer of glass particles. In order to improve this, 1100 ℃ ~
After preliminary calcination at 1300 ° C., main calcination at 1400 ° C. to 1600 ° C. (see JP-A-61-97141), or dehydration treatment at 1100 ° C. to 1400 ° C. and then 1
A transparent glass is formed at 500 ° C to 1900 ° C (JP-A-61).
In some cases, a stepwise heat treatment such as the one described in Japanese Patent Publication No. 72644) is required.

【0005】VAD法(気相軸付法)では、ガラス微粒
子堆積体の作製に引き続いて連続的に加熱処理して透明
ガラス化する方法が知られている(例えば、特開昭58
−9835号公報参照)。この方法によれば、反応容器
から焼結炉の移し替えを行なわないので、製造時間の短
縮化やガラス微粒子堆積体を損傷するというようなこと
からは回避できる。しかし、VAD法は、ガラス微粒子
を軸方向に堆積させてガラス微粒子堆積体を作製するの
で、堆積が終えた部分を軸方向に順次加熱処理して透明
ガラス化することが可能である。一方、OVD法では出
発ガラスロッドとバーナーとを相対的に軸方向に移動さ
せながら、出発ガラスロッドの径方向にガラス微粒子を
堆積させるので、最終層の堆積が終えるまでは透明ガラ
ス化の加熱処理ができず、VAD法のような連続的な加
熱による処理を行なうことはできない。
In the VAD method (method with a vapor phase axis), there is known a method in which a glass fine particle deposit is produced and subsequently subjected to a heat treatment to form a transparent vitrification (for example, JP-A-58).
-9835). According to this method, since the sintering furnace is not transferred from the reaction vessel, it is possible to avoid shortening the manufacturing time and damaging the glass particulate deposit. However, since the VAD method deposits glass fine particles in the axial direction to produce a glass fine particle deposit, it is possible to sequentially heat the deposited portions in the axial direction to form transparent vitrification. On the other hand, in the OVD method, glass particles are deposited in the radial direction of the starting glass rod while moving the starting glass rod and the burner relatively in the axial direction. Therefore, heat treatment for transparent vitrification is performed until the final layer is deposited. Therefore, it is impossible to carry out a treatment by continuous heating like the VAD method.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に鑑みてなされたもので、OVD法でガラス微粒子堆
積体を作製すると同時に透明ガラス化することができる
ガラス母材の製造方法と製造装置の提供を課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and a method and a method for producing a glass base material capable of producing a glass particle deposit by the OVD method and at the same time making it vitrified. The object is to provide a device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明のガラス母材の製
造方法は、軸方向に往復移動するとともに回転する出発
ガラスロッドに、ガラス微粒子生成用バーナーでガラス
微粒子の堆積層を形成し、ガラス微粒子の堆積層を加熱
して透明ガラス化するガラス母材の製造方法であって、
ガラス微粒子生成用バーナーの片側もしくは両側に配し
た加熱手段により、出発ガラスロッドが往復移動する毎
にガラス微粒子の堆積層を透明ガラス化することを特徴
とする。
According to the method for producing a glass preform of the present invention, a glass fine particle deposition burner is used to form a deposited layer of glass fine particles on a starting glass rod that reciprocates in the axial direction and rotates. A method for producing a glass base material, which comprises heating a deposited layer of fine particles to form transparent glass,
It is characterized in that the deposited layer of glass particles is made into transparent glass every time the starting glass rod reciprocates by the heating means arranged on one side or both sides of the burner for producing glass particles.

【0008】また、本発明のガラス母材の製造装置は、
軸方向に往復移動するとともに回転する出発ガラスロッ
ドに、ガラス微粒子生成用バーナーでガラス微粒子の堆
積層を形成し、ガラス微粒子の堆積層を加熱して透明ガ
ラス化するガラス母材の製造装置であって、ガラス微粒
子生成用バーナーの片側もしくは両側に加熱手段を配置
し、出発ガラスロッドが往復移動する毎に加熱手段によ
りガラス微粒子の堆積層を透明ガラス化することを特徴
とする。
The glass base material manufacturing apparatus of the present invention is
It is a glass base material manufacturing device that forms a deposited layer of glass particulates on a starting glass rod that reciprocates in the axial direction and rotates with a burner for producing glass particulates, and heats the deposited layer of glass particulates to form transparent glass. The heating means is arranged on one side or both sides of the burner for producing fine glass particles, and the deposited layer of fine glass particles is transparentized by the heating means every time the starting glass rod reciprocates.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】図1により本発明の実施の形態を
説明する。図1(A)はガラス母材製造装置の加熱手段
に電気加熱ヒーターを用いた例を示す概略図で、図1
(B)は使用するガラス微粒子生成用バーナーの断面を
示す図である。図中、1は出発ガラスロッド、2はダミ
ー棒、3はガラス微粒子の堆積層、4は支持棒、5は昇
降回転装置、6は反応容器、7は上炉心管、8は下炉心
管、9はガラス微粒子生成用バーナー、10は排気管、
11はガス導入管、12は加熱手段を示す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1A is a schematic view showing an example in which an electric heater is used as the heating means of the glass base material manufacturing apparatus.
(B) is a view showing a cross section of a burner for producing glass particles to be used. In the figure, 1 is a starting glass rod, 2 is a dummy rod, 3 is a deposited layer of glass fine particles, 4 is a supporting rod, 5 is a lifting / lowering rotating device, 6 is a reaction vessel, 7 is an upper core tube, 8 is a lower core tube, 9 is a burner for producing fine glass particles, 10 is an exhaust pipe,
Reference numeral 11 is a gas introduction pipe, and 12 is a heating means.

【0010】出発ガラスロッド1は、外周面にガラス微
粒子を堆積させる基材となるもので、外周に形成するガ
ラスと同等のガラス材料で形成したものが用いられる。
光ファイバ用のコア部とクラッド部からなるガラス母材
を製造する場合は、ゲルマニウム等をドープして屈折率
を高めたコアガラスのみ、または、コアガラスとクラッ
ドガラスからなるコアロッドを用いることができる。
The starting glass rod 1 serves as a base material for depositing glass fine particles on the outer peripheral surface, and is made of a glass material similar to the glass formed on the outer peripheral surface.
When manufacturing a glass preform composed of a core part and a clad part for an optical fiber, it is possible to use only a core glass doped with germanium or the like to increase the refractive index, or a core rod made of a core glass and a clad glass. .

【0011】出発ガラスロッド1の両端には、同じくガ
ラス材からなるダミー棒2が融着により接続され、一方
のダミー棒(上方側)は、支持棒4に固定され吊り下げ
支持される。支持棒4は、昇降回転装置5により、回転
されるとともに上下方向に往復移動され、出発ガラスロ
ッド1を駆動制御する。ガラス母材の製造装置は、反応
容器6の上方に上炉心管7(加熱手段を設けない場合は
上煙突ともいう)を有し、下方に下炉心管8(加熱手段
を設けない場合は下煙突ともいう)を有している。これ
ら、反応容器6、上炉心管7および下炉心管8は、いず
れも石英で形成される。
Dummy rods 2 also made of a glass material are connected to both ends of the starting glass rod 1 by fusion bonding, and one dummy rod (upper side) is fixed to a support rod 4 and is suspended and supported. The support rod 4 is rotated and reciprocally moved in the vertical direction by an elevating / rotating device 5 to drive and control the starting glass rod 1. The glass base material manufacturing apparatus has an upper furnace core tube 7 (also referred to as an upper chimney when heating means is not provided) above the reaction vessel 6 and a lower furnace core tube 8 (downside when heating means is not provided) below. It also has a chimney). The reaction vessel 6, the upper core tube 7 and the lower core tube 8 are all made of quartz.

【0012】反応容器6には、ガラス微粒子を生成する
ための複数本のガラス微粒子生成用バーナー9が設けら
れている。ガラス微粒子生成用バーナー9は、例えば、
3本のバーナーを150mm間隔で設けられる。このガ
ラス微粒子生成用バーナー9は、図1(B)の断面で示
すように、中心にガラス原料ガス(SiCl4 やGeC
4 )を噴出するポート9a、その外側にシールガス
(Ar)を噴出するポート9bを設けて構成されてい
る。ポート9bの外側には、燃料用の水素ガス(H 2
を噴出させるポート9cと、助燃用の酸素ガス(O2
を噴出させる多数の小ポート9d(ポート9c内に点在
させる)とポート9eを同軸状に設けてある。また、反
応容器6には、容器内で浮遊するガラス微粒子等を排出
する排気管10が設けられている。
Glass particles are produced in the reaction vessel 6.
A plurality of burners 9 for producing fine glass particles for
Has been. The burner 9 for producing fine glass particles is, for example,
Three burners are provided at 150 mm intervals. This moth
The burner 9 for producing lath particles is shown in the cross section of FIG.
As shown in FIG.FourAnd GeC
lFour) Jetting port 9a, the sealing gas on the outside
A port 9b for ejecting (Ar) is provided.
It On the outside of the port 9b, hydrogen gas (H 2)
Port 9c for ejecting oxygen and oxygen gas (O2)
A large number of small ports 9d that spout
And a port 9e are provided coaxially. Also, anti
Discharge the glass particles etc. floating in the container 6
An exhaust pipe 10 is provided.

【0013】上炉心管7には、ガラス微粒子の堆積層の
脱水と焼結を促進する塩素ガスとヘリウムガスを導入す
るガス導入管11が設けられる。なお、ガス導入管11
は、下炉心管8側に設けてもよく、上炉心管7と下炉心
管8の両方に設けてもよい。これらのガスの排気は、反
応容器6に設けた排気管10により行なうが、別に専用
の排気管を設けてもよい。上炉心管7と下炉心管8は、
ガラス微粒子の堆積層3の両端3aと3bが同時に収納
できる長さを有し、反応容器6の上下に密封状にして結
合一体化されている。本発明では、この上炉心管7また
は下炉心管8のいずれか一方または双方の外側に、加熱
手段12が配置する。図1には、加熱手段12を下炉心
管8側のみに取付け、加熱手段12として電気加熱ヒー
ター13を用いた例で示してある。
The upper furnace core tube 7 is provided with a gas introduction tube 11 for introducing chlorine gas and helium gas for promoting dehydration and sintering of the deposited layer of glass fine particles. In addition, the gas introduction pipe 11
May be provided on the lower reactor core 8 side, or may be provided on both the upper reactor core 7 and the lower reactor core 8. Exhaust of these gases is performed by the exhaust pipe 10 provided in the reaction vessel 6, but a dedicated exhaust pipe may be provided separately. The upper core tube 7 and the lower core tube 8 are
Both ends 3a and 3b of the deposited layer 3 of glass particles have a length that can be accommodated at the same time, and they are integrally sealed in the upper and lower sides of the reaction vessel 6 in a sealed manner. In the present invention, the heating means 12 is arranged outside either one or both of the upper core tube 7 and the lower core tube 8. FIG. 1 shows an example in which the heating means 12 is attached only to the lower furnace core tube 8 side and an electric heater 13 is used as the heating means 12.

【0014】電気加熱ヒーター13は、例えば、カーボ
ン抵抗等のヒーター素子13aを断熱材13bで覆い、
ステンレス等の金属炉体13cに収納した形状のものが
用いられる。この加熱手段12は、実際の加熱に寄与す
るヒーター素子13aの端部と最も近接するガラス微粒
子生成用バーナー9の端部間の距離Dが、100mm〜
300mmになるように配置するのが好ましい。この距
離Dが100mm未満の場合は、加熱手段12がガラス
微粒子生成用バーナー9の火炎の熱で劣化する可能性が
ある。また、300mmを超えると、ガラス微粒子の堆
積層3を透明ガラス化するのに、軸方向移動の時間がか
かりすぎ、装置自体も大きくなって生産性がよくない。
なお、加熱手段がバーナーの場合は、下限側が20mm
以上、加熱手段がレーザーの場合は、下限側が10mm
以上とするするのが好ましい。
The electric heater 13 includes, for example, a heater element 13a such as a carbon resistor covered with a heat insulating material 13b.
A metal furnace body 13c made of stainless steel or the like is used. In the heating means 12, the distance D between the end of the heater element 13a that contributes to actual heating and the end of the burner 9 for producing glass particles closest to the end is 100 mm to.
It is preferable to arrange so as to be 300 mm. If the distance D is less than 100 mm, the heating means 12 may be deteriorated by the heat of the flame of the burner 9 for producing glass particles. Further, when it exceeds 300 mm, it takes too much axial movement time to make the deposited layer 3 of glass particles into a transparent glass, and the apparatus itself becomes large, resulting in poor productivity.
If the heating means is a burner, the lower limit side is 20 mm.
As mentioned above, when the heating means is a laser, the lower limit side is 10 mm.
The above is preferable.

【0015】また、加熱手段12の実際に加熱に寄与す
るヒーター素子13aの軸方向長さEは、電気加熱ヒー
ターの場合は50mm〜200mmが好ましい。なお、
バーナーの場合は30mm〜200mm、レーザーの場
合は1mm〜100mmとするのが好ましい。ガラス微
粒子の堆積層3を均一に透明ガラス化するには、ガラス
微粒子の堆積層3の各部を、加熱に寄与するヒーター素
子13aの長さ分を往復移動させる必要がある。ヒータ
ー素子13aがあまり軸方向に長いと往復移動させる距
離が長くなり、時間がかかるうえに装置も大型化し、生
産性がよくない。しかし、あまり短くても透明ガラス化
するのに必要な加熱が行なえないため、上記の範囲が好
ましい。
The axial length E of the heater element 13a that actually contributes to the heating of the heating means 12 is preferably 50 mm to 200 mm in the case of an electric heater. In addition,
The burner preferably has a diameter of 30 mm to 200 mm, and the laser has a diameter of 1 mm to 100 mm. In order to uniformly make the deposited layer 3 of glass fine particles into transparent glass, it is necessary to move each part of the deposited layer 3 of glass fine particles back and forth by the length of the heater element 13a that contributes to heating. If the heater element 13a is too long in the axial direction, the distance for reciprocating movement becomes long, and it takes time and the apparatus becomes large in size, which is not good in productivity. However, even if it is too short, the heating necessary for making it into a transparent glass cannot be performed, so the above range is preferable.

【0016】次に、上述した構成の製造装置で、ガラス
母材を製造する方法について説明する。先ず、出発ガラ
スロッド1の両端に取付けたダミー棒2の一方を昇降回
転装置5の支持棒4に取付け、昇降回転装置5により出
発ガラスロッド1を回転させながら下方向に移動させ
る。出発ガラスロッド1が反応容器6内に進入した段階
で、ガラス微粒子生成用バーナー9によりガラス微粒子
の生成が開始され、出発ガラスロッド1の外周面に、第
1層目のガラス微粒子の堆積層3(以下、第1層目の堆
積層3という)が軸方向に沿って順次形成される。
Next, a method of manufacturing the glass preform with the manufacturing apparatus having the above-mentioned structure will be described. First, one of the dummy rods 2 attached to both ends of the starting glass rod 1 is attached to the supporting rod 4 of the elevating and rotating device 5, and the elevating and rotating device 5 moves the starting glass rod 1 downward while rotating it. At the stage where the starting glass rod 1 has entered the reaction vessel 6, the production of glass particles is started by the burner 9 for producing glass particles, and the deposition layer 3 of the first layer of glass particles is formed on the outer peripheral surface of the starting glass rod 1. (Hereinafter, referred to as the first deposition layer 3) are sequentially formed along the axial direction.

【0017】堆積が終えた第1層目の堆積層3は、その
下端3a側から順次下炉心管8内に進入し、下炉心管8
の外側に配置された加熱手段12により高温で加熱され
る。この加熱により、第1層目の堆積層3の脱水が行な
われるとともに透明ガラス化が進行する。また、下炉心
管8内は、ガス導入管11から導入された塩素ガスとヘ
リウムガスを含む雰囲気にあり、第1層目の堆積層3の
脱水と透明ガラス化が促進される。第1層目の堆積層3
の上端3bが加熱手段12を通過した時点で、出発ガラ
スロッド1は下方向への移動から上方向への移動に反転
される。
The deposited layer 3 of the first layer, which has been deposited, sequentially enters the lower furnace core tube 8 from the lower end 3a side thereof,
It is heated at a high temperature by the heating means 12 arranged outside the. By this heating, the first deposited layer 3 is dehydrated and transparent vitrification proceeds. Further, the inside of the lower furnace tube 8 is in an atmosphere containing chlorine gas and helium gas introduced from the gas introduction tube 11, and the dehydration and transparent vitrification of the first deposited layer 3 are promoted. First layer of deposition layer 3
When the upper end 3b of the starting glass rod 1 passes through the heating means 12, the starting glass rod 1 is reversed from the downward movement to the upward movement.

【0018】出発ガラスロッド1の移動方向が上方向に
反転することで、第1層目の堆積層3は、加熱手段12
により再度加熱され透明ガラス化が行なわれる。この往
復加熱で、第1層目の堆積層3は透明ガラス化が終了
し、上方向への移動で、ガラス微粒子生成用バーナー9
により透明ガラス化されたガラス層の上から第2層目の
ガラス微粒子の堆積が行なわれる。この第2層目の堆積
層3は、上炉心管7内に順次進入し、堆積層の下端3a
の堆積が終えた時点で、出発ガラスロッド1は、上方向
への移動からスタート時の下方向への移動に反転され
る。
When the moving direction of the starting glass rod 1 is reversed to the upward direction, the first deposited layer 3 is heated by the heating means 12.
Is heated again and transparent vitrification is performed. By this reciprocating heating, the vitrification of the first deposited layer 3 is completed, and the burner 9 for producing fine glass particles is moved by the upward movement.
The second layer of glass fine particles is deposited on the transparent vitrified glass layer. The second deposited layer 3 sequentially enters the upper core tube 7 to form the lower end 3a of the deposited layer.
At the end of the deposition, the starting glass rod 1 is reversed from the upward movement to the downward movement at the start.

【0019】上炉心管7側にも、下炉心管8と同様に、
加熱手段12を配置した場合は、第2層目の堆積層3
は、上炉心管7内で、同様にして脱水され透明ガラス化
される。図1のように上炉心管7に加熱手段12が設け
られていない場合は、上炉心管7は、ガラス微粒子の堆
積を所定範囲で行なう際の待避室となる。
On the side of the upper core tube 7 as well as the lower core tube 8,
In the case where the heating means 12 is arranged, the second deposited layer 3
Is dehydrated in the same manner in the upper furnace tube 7 to be transparent vitrified. When the heating means 12 is not provided in the upper furnace core tube 7 as shown in FIG. 1, the upper furnace core tube 7 serves as an evacuation chamber for depositing glass particles in a predetermined range.

【0020】出発ガラスロッド1の下方向への移動で、
第2層目の堆積層の形成に引き続いて、第3層目の堆積
層が形成される。次いで、第2,3層目のガラス微粒子
の堆積層3は、下炉心管8内に進入し、第1層目の堆積
層3と同様に加熱手段12により脱水され透明ガラス化
される。以後、同様の往復移動で出発ガラスロッド1の
1往復毎に、順次、ガラス微粒子の堆積とその透明ガラ
ス化が繰り返され、所定の外径のガラス母材が製造され
る。
With the downward movement of the starting glass rod 1,
Following the formation of the second deposited layer, the third deposited layer is formed. Next, the second and third layers of the glass particulate deposited layer 3 enter the lower furnace tube 8 and are dehydrated by the heating means 12 to be transparent vitrified in the same manner as the first layer of the deposited layer 3. After that, the same reciprocating movement causes the glass glass particles to be repeatedly deposited and vitrified every time the starting glass rod 1 reciprocates, thereby manufacturing a glass base material having a predetermined outer diameter.

【0021】上記のガラス母材の製造方法によれば、ガ
ラス微粒子の薄い堆積層が形成される毎に、透明ガラス
化されていくので、ガラス微粒子の堆積とその透明ガラ
ス化が同時進行で行なわれることになる。このため、従
来のように、反応容器でガラス微粒子堆積体を作製し、
これを焼結炉に移し替えて透明ガラス化するという2回
の処理作業を1つの処理作業で行なうことができ、製造
時間の短縮と作業量の軽減を図ることができる。また、
反応容器から焼結炉に移し替える作業がなくなるため、
これによるガラス微粒子堆積体の損傷等が発生しない。
さらに、ガラス微粒子の薄い堆積層毎に透明ガラス化さ
れるため、ガラス内部に空隙が残るという問題も解消す
ることができる。
According to the above-mentioned method for producing a glass base material, transparent vitrification is performed every time a thin deposited layer of glass particles is formed. Therefore, the deposition of glass particles and the transparent vitrification thereof are carried out simultaneously. Will be done. Therefore, as in the conventional method, a glass particle deposit is prepared in a reaction vessel,
It is possible to perform the two processing operations of transferring this to a sintering furnace and making it transparent glass in one processing operation, and it is possible to reduce the manufacturing time and the amount of work. Also,
Since there is no need to transfer from the reaction vessel to the sintering furnace,
This does not cause damage to the glass particulate deposit.
Further, since each thin deposited layer of glass particles is made into transparent glass, the problem of leaving voids inside the glass can be solved.

【0022】次に、図1の実施の形態による具体例
(1)について説明する。加熱手段の電気加熱ヒーター
13は、カーボンヒーター素子13aの軸方向長さE
が、100mmのものを用い、ヒーター素子上端と最も
近接するガラス微粒子生成用バーナー9の下端間の距離
Dが、100mmになるように配置した。出発ガラスロ
ッド1には、コアガラスとクラッドガラスからなるコア
ロッドで、直径30mm、長さ500mmのものを用い
た。この出発ガラスロッド1の両端に同径のダミー棒2
を熔着して、一方のダミー棒を支持棒4に取付固定し
た。昇降回転装置5により、出発ガラスロッド1を40
rpmの回転速度で回転させながら、50mm/min
の速度で上下方向に1300mm(ガラス微粒子の堆積
層3の長さ1100mm+加熱手段の加熱距離200m
mとする)移動させた。また、反応容器内および炉心管
に、塩素ガス(Cl2 )2SLM、ヘリウムガス(H
e)30SLMをガス導入管11を通じて供給した。
Next, a specific example (1) according to the embodiment of FIG. 1 will be described. The electric heater 13 of the heating means has an axial length E of the carbon heater element 13a.
However, it was arranged so that the distance D between the lower end of the glass fine particle generating burner 9 closest to the upper end of the heater element and the lower end of the heater element was 100 mm. The starting glass rod 1 was a core rod composed of a core glass and a clad glass, and had a diameter of 30 mm and a length of 500 mm. Dummy rods 2 of the same diameter are attached to both ends of this starting glass rod 1.
Was welded, and one dummy rod was attached and fixed to the support rod 4. The elevating and rotating device 5 moves the starting glass rod 1 to 40
50mm / min while rotating at rpm
At a speed of 1300 mm in the vertical direction (the length of the glass particulate deposition layer 3 is 1100 mm + the heating distance of the heating means is 200 m).
It was moved. In addition, chlorine gas (Cl 2 ) 2SLM, helium gas (H
e) 30 SLM was supplied through the gas introduction pipe 11.

【0023】反応容器6のガラス微粒子生成用バーナー
9には、直径30mmのバーナー3本を150mm間隔
で設置した。それぞれのガラス微粒子生成用バーナー9
には、ガラス原料の四塩化珪素(SiCl4 )を4〜6
SLM(standard liter /min)、火炎を形成するため
の水素ガス(H2 )を50〜80SLMおよび酸素ガス
(O2 )を40〜80SLM、さらにシール用のガスと
してアルゴン(Ar)を6SLM供給した。電気加熱ヒ
ーター13には、ヒーター中央でのヒーター表面の温度
が1600℃になるように供給電力を調整した。ガラス
の増加重量が10Kgとなるまで堆積と透明ガラス化を
繰り返し、これに要した時間は11Hであった。
The burner 9 for producing fine glass particles in the reaction vessel 6 was provided with three burners having a diameter of 30 mm at intervals of 150 mm. Burner 9 for producing each glass particle
Is a glass raw material of silicon tetrachloride (SiCl 4 ) 4 to 6
SLM (standard liter / min), hydrogen gas (H 2 ) for forming a flame of 50 to 80 SLM, oxygen gas (O 2 ) of 40 to 80 SLM, and argon (Ar) as a sealing gas of 6 SLM were supplied. . For the electric heater 13, the power supply was adjusted so that the temperature of the heater surface at the center of the heater was 1600 ° C. The deposition and transparent vitrification were repeated until the increased weight of glass reached 10 kg, and the time required for this was 11H.

【0024】なお、比較例として、図1の加熱手段12
を外し、ガラス微粒子の堆積のみを行ない、この後、ヒ
ーター長400mmの焼結炉で脱水焼成を行なった。出
発ガラスロッド1には具体例1と同じ直径30mm、長
さ500mmのコアロッドを用い、その両端にダミー棒
2を熔着し、一方のダミー棒を支持棒4に支持させた。
昇降回転装置5により、出発ガラスロッド1を40rp
mの回転速度で回転させながら、50mm/minの速
度で上下方向に1100mm移動させた。
As a comparative example, the heating means 12 shown in FIG.
Was removed, and only glass fine particles were deposited. After that, dehydration firing was performed in a sintering furnace with a heater length of 400 mm. As the starting glass rod 1, a core rod having a diameter of 30 mm and a length of 500 mm, which was the same as in Example 1, was used, dummy rods 2 were welded to both ends thereof, and one dummy rod was supported by a support rod 4.
40 rpm of the starting glass rod 1 by the elevating / rotating device 5.
While rotating at a rotation speed of m, it was moved vertically by 1100 mm at a speed of 50 mm / min.

【0025】反応容器6のガラス微粒子生成用バーナー
9には、直径30mmのバーナー3本を150mm間隔
で設置した。それぞれのガラス微粒子生成用バーナー9
には、ガラス原料の四塩化珪素(SiCl4 )を4〜6
SLM、火炎を形成するための水素(H2 )を50〜8
0SLMおよび酸素(O2 )を40〜80SLM、さら
にシール用のガスとしてアルゴン(Ar)を6SLM供
給した。ガラスの増加重量が10Kgとなるように堆積
を繰り返し、これに要した時間は8Hであった。さら
に、これを別の焼結炉で脱水焼成を行ない透明ガラス化
したが、これに要した時間は8Hであった。ガラス微粒
子の堆積開始から合わせると、透明化されたガラス母材
を得るまで16Hを要した。
The burner 9 for producing fine glass particles in the reaction vessel 6 was provided with three burners having a diameter of 30 mm at intervals of 150 mm. Burner 9 for producing each glass particle
Is a glass raw material of silicon tetrachloride (SiCl 4 ) 4 to 6
SLM, hydrogen (H 2 ) for forming a flame of 50 to 8
0 to 20 SLM and oxygen (O 2 ) were supplied at 40 to 80 SLM, and further 6 SLM of argon (Ar) was supplied as a gas for sealing. The deposition was repeated so that the increased weight of glass was 10 kg, and the time required for this was 8H. Further, this was dehydrated and fired in another sintering furnace to form a transparent glass, and the time required for this was 8H. It took 16 hours from the start of the deposition of the glass particles to obtain a transparent glass base material.

【0026】図2は、加熱手段に酸水素バーナーを用い
た例を示し、具体例2として説明する。図中の符号は、
図1で用いたのと同じ符号を用いることにより詳細説明
を省略する。この例は、加熱手段12としては、例え
ば、下炉心管8の周囲に4つの取付孔を設けて4本の加
熱用バーナー14を取付けて構成される。各加熱用バー
ナー14は、ガラス微粒子の堆積層の加熱に実際に寄与
する火炎の広がりが(加熱手段の軸方向長さEに相当)
80mm程度となるように調整した。また、加熱用バー
ナー14は、バーナー広がりの上端と最も近接するガラ
ス微粒子生成用バーナー9の下端位置との距離Dが、2
0mm程度になるように設置した。そして、4本の加熱
用バーナー14の合計で、水素(H2 )を100SL
M、酸素(O 2 )を50SLM供給し、ガラス微粒子の
堆積層表面の温度が1550℃になるように設定した。
また、反応容器および炉心管内へは、ガス導入管11を
通じて塩素ガス(Cl2 )2SLM、ヘリウムガス(H
e)30SLMを供給した。
In FIG. 2, an oxyhydrogen burner is used as the heating means.
A specific example 2 will be described below. The symbols in the figure are
Detailed description using the same reference numerals as used in FIG.
Is omitted. In this example, the heating means 12 is, for example,
For example, make four mounting holes around the lower furnace tube 8
The burner 14 for heat is attached and comprised. Each heating bar
The ner 14 actually contributes to the heating of the deposited layer of glass particles.
The spread of the flame (corresponding to the axial length E of the heating means)
It was adjusted to be about 80 mm. Also a heating bar
The gnar 14 is the glass closest to the top of the burner spread.
The distance D from the lower end position of the fine particle generation burner 9 is 2
It was set so as to be about 0 mm. And heating four
Hydrogen (H2) 100 SL
M, oxygen (O 2) Of 50 glass is supplied to
The temperature of the surface of the deposited layer was set to 1550 ° C.
In addition, a gas introduction pipe 11 is installed in the reaction vessel and the core tube.
Chlorine gas (Cl2) 2SLM, helium gas (H
e) Supplied 30 SLM.

【0027】出発ガラスロッド1には、図1の例と同様
に、コアガラスとクラッドガラスからなるコアロッド
で、直径30mm、長さ500mmのものを用いた。こ
の出発ガラスロッド1の両端に同径のダミー棒2を熔着
して、一方のダミー棒を支持棒4に取付固定した。昇降
回転装置5により、出発ガラスロッド1を100rpm
の回転速度で回転させながら、50mm/minの速度
で上下方向に1200mm(ガラス微粒子の堆積層3の
長さ1100mm+加熱手段の加熱距離100mmとす
る)移動させた。
As the starting glass rod 1, a core rod made of core glass and clad glass having a diameter of 30 mm and a length of 500 mm was used as in the example of FIG. Dummy rods 2 having the same diameter were welded to both ends of this starting glass rod 1, and one dummy rod was attached and fixed to the support rod 4. The elevating and rotating device 5 moves the starting glass rod 1 to 100 rpm.
While rotating at a rotation speed of 1, the glass was moved vertically at a speed of 50 mm / min by 1200 mm (the length of the deposition layer 3 of glass particles is 1100 mm + the heating distance of the heating means is 100 mm).

【0028】反応容器6のガラス微粒子生成用バーナー
9には、図1の例と同様に、直径30mmのバーナー3
本を150mm間隔で設置した。それぞれのガラス微粒
子生成用バーナーには、ガラス原料の四塩化珪素(Si
Cl4 )を4〜6SLM、火炎を形成するための水素
(H2 )を50〜80SLMおよび酸素(O2 )を40
〜80SLM、さらにシール用のガスとしてアルゴン
(Ar)を6SLM供給した。ガラスの増加重量が10
Kgとなるまで堆積と透明ガラス化を繰り返し、これに
要した時間は10Hであった。上述した図2の例では、
加熱用バーナーとして、酸水素バーナーを用いた例を示
したが、その他のバーナー、例えば、プラズマバーナー
等を用いても同様の効果を得ることができる。
The burner 9 for producing fine glass particles in the reaction vessel 6 has a burner 3 having a diameter of 30 mm, as in the example of FIG.
Books were placed at 150 mm intervals. Each of the burners for producing fine glass particles contains silicon tetrachloride (Si
Cl 4 ) for 4 to 6 SLM, hydrogen (H 2 ) for forming a flame of 50 to 80 SLM, and oxygen (O 2 ) to 40.
˜80 SLM and 6 SLM of argon (Ar) as a gas for sealing were supplied. Increased weight of glass is 10
The deposition and the transparent vitrification were repeated until Kg was reached, and the time required for this was 10H. In the example of FIG. 2 described above,
An example using an oxyhydrogen burner as the heating burner has been shown, but the same effect can be obtained by using another burner, for example, a plasma burner.

【0029】図3は、加熱手段に高出力の高出力レーザ
ーを用いた例を示し、具体例3として説明する。図中の
符号は、図1で用いたのと同じ符号を用いることにより
詳細説明を省略する。この例は、加熱手段12として
は、例えば、下炉心管8にレーザー光の通過孔を設け、
高出力レーザー15のレーザー光でガラス微粒子の堆積
層3の表面を加熱するようにしたものである。高出力レ
ーザー15には、YAGレーザーを用い、レーザー光が
反応容器6の最も近接するガラス微粒子生成用バーナー
9の下端位置から30mm程度の距離になるように設置
した。レーザー光のスポット径は、20mmとし、レー
ザー照射点におけるガラス微粒子の堆積層3の表面温度
が1550℃になるように設定した。また、反応容器お
よび炉心管内へは、ガス導入管11を通じて塩素ガス
(Cl2 )2SLM、ヘリウムガス(He)30SLM
を供給した。
FIG. 3 shows an example in which a high-power high-power laser is used as the heating means, which will be described as a third specific example. The reference numerals in the figure are the same as those used in FIG. In this example, as the heating means 12, for example, a laser beam passage hole is provided in the lower core tube 8.
The surface of the deposition layer 3 of glass particles is heated by the laser light of the high-power laser 15. A YAG laser was used as the high-power laser 15, and the YAG laser was installed such that the laser light was at a distance of about 30 mm from the lower end position of the glass particulate generation burner 9 closest to the reaction vessel 6. The spot diameter of the laser beam was set to 20 mm, and the surface temperature of the glass particle deposition layer 3 at the laser irradiation point was set to 1550 ° C. In addition, chlorine gas (Cl 2 ) 2 SLM and helium gas (He) 30 SLM are introduced into the reaction vessel and the core tube through the gas introduction pipe 11.
Was supplied.

【0030】出発ガラスロッド1には、図1の例と同様
に、コアガラスとクラッドガラスからなるコアロッド
で、直径30mm、長さ500mmのものを用いた。こ
の出発ガラスロッド1の両端に同径のダミー棒2を熔着
して、一方のダミー棒を支持棒4に取付固定した。昇降
回転装置5により、出発ガラスロッド1を100rpm
の回転速度で回転させながら、50mm/minの速度
で上下方向に1150mm(ガラス微粒子の堆積層3の
長さ1100mm+加熱手段の加熱距離50mmとす
る)移動させた。
As the starting glass rod 1, a core rod made of a core glass and a clad glass having a diameter of 30 mm and a length of 500 mm was used as in the example of FIG. Dummy rods 2 having the same diameter were welded to both ends of this starting glass rod 1, and one dummy rod was attached and fixed to the support rod 4. The elevating and rotating device 5 moves the starting glass rod 1 to 100 rpm.
While rotating at a rotational speed of 1 mm, it was moved at a speed of 50 mm / min in the vertical direction by 1150 mm (the length of the deposition layer 3 of glass particles was 1100 mm + the heating distance of the heating means was 50 mm).

【0031】反応容器6のガラス微粒子生成用バーナー
9には、図1の例と同様に、直径30mmのバーナー3
本を150mm間隔で設置した。それぞれのガラス微粒
子生成用バーナーには、ガラス原料の四塩化珪素(Si
Cl4 )を4〜6SLM、火炎を形成するための水素
(H2 )を50〜80SLMおよび酸素(O2 )を40
〜80SLM、さらにシール用のガスとしてアルゴン
(Ar)を6SLM供給した。ガラスの増加重量が10
Kgとなるまで堆積と透明ガラス化を繰り返し、これに
要した時間は9.5Hであった。
The burner 9 for producing fine glass particles in the reaction vessel 6 has a burner 3 having a diameter of 30 mm, as in the example of FIG.
Books were placed at 150 mm intervals. Each of the burners for producing fine glass particles contains silicon tetrachloride (Si
Cl 4 ) for 4 to 6 SLM, hydrogen (H 2 ) for forming a flame of 50 to 80 SLM, and oxygen (O 2 ) to 40.
˜80 SLM and 6 SLM of argon (Ar) as a gas for sealing were supplied. Increased weight of glass is 10
The deposition and the transparent vitrification were repeated until Kg was reached, and the time required for this was 9.5H.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ガラス微粒子の堆積と透明ガラス化を、反応
容器を含む製造装置内で同時に行なうことができ、製造
時間の短縮と作業量の軽減を図ることができる。また、
ガラス母材の損傷等が発生が減少でき、ガラス内部に空
隙が残るという問題も解消することができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the deposition of glass fine particles and the transparent vitrification can be simultaneously carried out in the manufacturing apparatus including the reaction vessel, which shortens the manufacturing time and the work. The amount can be reduced. Also,
The occurrence of damage to the glass base material can be reduced, and the problem of leaving voids inside the glass can be solved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態の概要と具体例(1)を説
明する概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an outline of an embodiment of the present invention and a specific example (1).

【図2】本発明の具体例(2)を説明する概略図であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a specific example (2) of the present invention.

【図3】本発明の具体例(3)を説明する概略図であ
る。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a specific example (3) of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…出発ガラスロッド、2…ダミー棒、3…ガラス微粒
子の堆積層、4…支持棒、5…昇降回転装置、6…反応
容器、7…上炉心管、8…下炉心管、9…ガラス微粒子
生成用バーナー、10…排気管、11…ガス導入管、1
2…加熱手段、13…電気加熱ヒーター、14…加熱用
バーナー、15…高出力レーザー。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Starting glass rod, 2 ... Dummy rod, 3 ... Deposited layer of glass fine particles, 4 ... Support rod, 5 ... Lifting / rotating device, 6 ... Reaction vessel, 7 ... Upper core tube, 8 ... Lower core tube, 9 ... Glass Burner for producing fine particles, 10 ... Exhaust pipe, 11 ... Gas introduction pipe, 1
2 ... Heating means, 13 ... Electric heating heater, 14 ... Heating burner, 15 ... High power laser.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 軸方向に往復移動するとともに回転する
出発ガラスロッドに、ガラス微粒子生成用バーナーでガ
ラス微粒子の堆積層を形成し、前記ガラス微粒子の堆積
層を加熱して透明ガラス化するガラス母材の製造方法で
あって、前記ガラス微粒子生成用バーナーの片側もしく
は両側に配した加熱手段により、前記出発ガラスロッド
が往復移動する毎に前記ガラス微粒子の堆積層を透明ガ
ラス化することを特徴とするガラス母材の製造方法。
1. A glass mother which forms a deposited layer of glass fine particles on a starting glass rod that reciprocates in the axial direction and rotates by a burner for producing glass fine particles, and heats the deposited layer of the glass fine particles to form transparent glass. A method of manufacturing a material, characterized in that a heating means arranged on one side or both sides of the burner for producing glass fine particles makes the deposited layer of the glass fine particles transparent glass every time the starting glass rod reciprocates. A method for manufacturing a glass base material.
【請求項2】 前記ガラス微粒子の堆積層を、塩素ガス
および不活性ガスを含む雰囲気で加熱して透明ガラス化
することを特徴とする請求項1に記載のガラス母材の製
造方法。
2. The method for producing a glass base material according to claim 1, wherein the deposited layer of the glass fine particles is heated in an atmosphere containing chlorine gas and an inert gas to form a transparent glass.
【請求項3】 前記加熱手段の長手方向長さは200m
m以下とすることを特徴とする請求項1または2に記載
のガラス母材の製造方法。
3. The length of the heating means in the longitudinal direction is 200 m.
m or less, The manufacturing method of the glass base material of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
【請求項4】 前記加熱手段と前記ガラス微粒子生成用
バーナー間の距離が300mm以下とすることを特徴と
する請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス母材の
製造方法。
4. The method for producing a glass preform according to claim 1, wherein the distance between the heating means and the burner for producing glass particles is 300 mm or less.
【請求項5】 前記加熱手段に電気加熱ヒーターを用い
ることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載
のガラス母材の製造方法。
5. The method for producing a glass preform according to claim 1, wherein an electric heater is used as the heating means.
【請求項6】 前記加熱手段に加熱用バーナーを用いる
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の
ガラス母材の製造方法。
6. The method for producing a glass preform according to claim 1, wherein a heating burner is used as the heating means.
【請求項7】 前記加熱手段に高出力レーザーを用いる
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の
ガラス母材の製造方法。
7. The method for producing a glass preform according to claim 1, wherein a high-power laser is used as the heating means.
【請求項8】 軸方向に往復移動するとともに回転する
出発ガラスロッドに、ガラス微粒子生成用バーナーでガ
ラス微粒子の堆積層を形成し、前記ガラス微粒子の堆積
層を加熱して透明ガラス化するガラス母材の製造装置で
あって、前記ガラス微粒子生成用バーナーの片側もしく
は両側に加熱手段を配置し、前記出発ガラスロッドが往
復移動する毎に前記加熱手段により前記ガラス微粒子の
堆積層を透明ガラス化することを特徴とするガラス母材
の製造装置。
8. A glass mother which forms a deposited layer of glass fine particles on a starting glass rod which reciprocates in the axial direction and rotates by a burner for producing glass fine particles, and heats the deposited layer of the glass fine particles to form transparent glass. In the apparatus for manufacturing a material, heating means is arranged on one side or both sides of the burner for producing glass particles, and each time the starting glass rod reciprocates, the deposited layer of glass particles is vitrified by the heating means. A glass base material manufacturing apparatus characterized by the above.
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