JP2003203400A - Spin coating method and optical disk - Google Patents

Spin coating method and optical disk

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JP2003203400A
JP2003203400A JP2001399424A JP2001399424A JP2003203400A JP 2003203400 A JP2003203400 A JP 2003203400A JP 2001399424 A JP2001399424 A JP 2001399424A JP 2001399424 A JP2001399424 A JP 2001399424A JP 2003203400 A JP2003203400 A JP 2003203400A
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JP
Japan
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coating
coating liquid
nozzle
range
spin
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Application number
JP2001399424A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuo Oishi
卓生 大石
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve in-plane uniformity and to stabilize quality in mass production. <P>SOLUTION: A coating liquid is discharged from a nozzle 14 to a medium to be coated 2 rotated centering on a shaft center perpendicular to a coating surface, and a thin film is formed by solidifying the coating liquid discharged to the coating surface by centrifugal force acting the coating liquid on the coating surface. In such a case, the surface tension γ and viscosity η of the coating liquid are set within the range of 20 mN/s≤γ<30 mN/s, 0.50 MPa.s≤η<30 MPa.s, and 0.50≤γ/η. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スピンコーティン
グ方法および光ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spin coating method and an optical disc.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、例えば、CD−ROM、CD−
R、CD−RW等の名称を有する光ディスクが広く普及
している。特に、近年では、市場における大容量化の要
望に伴い、最近では、DVD−ROM、DVD−R、D
VD+R、DVD−RWといった大容量タイプの光ディ
スクも普及している。このような光ディスクは、情報処
理、画像処理、オーディオ等の分野で、広く用いられて
おり、概略的には、記録された情報を、照射されるレー
ザー光の反射光の強弱によって示すようにしたものであ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, for example, CD-ROM, CD-
Optical discs having names such as R and CD-RW are widely used. Particularly, in recent years, with the demand for larger capacity in the market, recently, DVD-ROM, DVD-R, D
Large capacity optical disks such as VD + R and DVD-RW are also popular. Such optical discs are widely used in the fields of information processing, image processing, audio, etc., and generally, recorded information is indicated by the intensity of reflected light of laser light emitted. It is a thing.

【0003】例えば、ディスク面の凹凸によって情報が
記録された再生専用の光ディスクは、ピットが形成され
た透明な基板上に、レーザー光を反射させる反射層、基
板に設けられたピットや反射層を外的な衝撃から保護す
るための保護層等を有している。
For example, in a read-only optical disc in which information is recorded by the unevenness of the disc surface, a reflective layer for reflecting laser light, a pit and a reflective layer provided on the substrate are provided on a transparent substrate having pits formed thereon. It has a protective layer for protecting it from external impacts.

【0004】また、記録層の性質変化によって情報が記
録された追記/書き換え可能な光ディスクは、案内溝が
形成された基板上に、記録層、反射層、保護層等を積層
することにより形成されている。CD−RW等の情報の
書き換えが可能な光ディスクは、記録層を狭持する誘電
層を有している。
A write-once / rewritable optical disc in which information is recorded by changing the properties of the recording layer is formed by laminating a recording layer, a reflective layer, a protective layer, etc. on a substrate on which guide grooves are formed. ing. An information rewritable optical disc such as a CD-RW has a dielectric layer sandwiching a recording layer.

【0005】基板上に薄膜を形成する方法の一つに、薄
膜を形成する被膜面に直交する軸心を中心として被膜媒
体を回転させ、この被膜媒体に対してノズルから塗布液
を吐出させ、被膜面上の塗布液に作用する遠心力によっ
て被膜面に塗布液を塗布するようにしたスピンコーティ
ング方法がある。
As one of the methods for forming a thin film on a substrate, a coating medium is rotated around an axis perpendicular to the surface of the coating on which the thin film is formed, and a coating liquid is discharged from a nozzle onto the coating medium. There is a spin coating method in which the coating liquid is applied to the coating surface by a centrifugal force acting on the coating liquid on the coating surface.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
に使用される基板は、記録層や保護層を形成するために
用いられる塗布液との親和性が小さいことがあり、スピ
ンコーティングの条件によっては、塗布液が基板の表面
で液玉になってしまうことがある。スピンコーティング
に際しては基板が回転されていることから、液玉となっ
た塗布液は、基板に付着することなく、液玉の状態のま
ま基板の外周側へ転がっていってしまう。
By the way, a substrate used for an optical disk may have a small affinity with a coating liquid used for forming a recording layer or a protective layer, and depending on spin coating conditions, The coating liquid may become a liquid droplet on the surface of the substrate. Since the substrate is rotated during spin coating, the coating liquid that has become a liquid ball does not adhere to the substrate and rolls toward the outer peripheral side of the substrate in the state of a liquid ball.

【0007】基板の端まで転がった液玉は、基板の外縁
部分に溜まったり、裏面に回り込んでしまったり、基板
に付着することなく振り切られてしまったりすることが
あり、被膜面に良好に塗布することができない。
The liquid droplets that have rolled to the edge of the substrate may collect on the outer edge of the substrate, wrap around on the back surface, or may be shaken off without adhering to the substrate. Cannot be applied.

【0008】このため、形成された保護層や記録層は、
単一の被膜面内で膜厚のばらつきや、塗布ムラを生じ
て、被膜面内における薄膜の均一性(以降、面内均一性
という)が低下してしまう。
Therefore, the formed protective layer and recording layer are
Variations in film thickness and coating unevenness occur within a single film surface, and the uniformity of the thin film within the film surface (hereinafter referred to as in-plane uniformity) deteriorates.

【0009】このような問題を解決するために、例え
ば、特開2000−215528公報や特開2000−
155994公報、特開平7−213989号公報等
に、各種スピンコーティング方法が紹介されている。
In order to solve such a problem, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 2000-215528 and 2000-
Various spin coating methods are introduced in JP-A-155994, JP-A-7-213989 and the like.

【0010】特開2000−215528公報や特開2
000−155994公報では塗布時の回転を制御する
ことで、面内均一になるようにしている。また特開平7
−213989公報では、粘度が30mPa・s以上の
比較的高粘度の塗布液に対して、基板との親和性を確保
できるようにノズル高さを調節する旨が示されている。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-215528 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2
In 000-155994, the rotation during coating is controlled to make the surface uniform. In addition, JP-A-7
Japanese Patent No. 213989 discloses that the nozzle height is adjusted so that the affinity with the substrate can be secured for a relatively high-viscosity coating liquid having a viscosity of 30 mPa · s or more.

【0011】ところが、上述した技術では、実用上の量
産に際して、基板と塗布液との間の親和性を安定して確
保することが困難であり、面内均一性の良好な薄膜を安
定して形成することが難しい。
However, with the above-described technique, it is difficult to secure a stable affinity between the substrate and the coating liquid during practical mass production, and a thin film having good in-plane uniformity is stable. Difficult to form.

【0012】本発明は、面内均一性の向上を図るととも
に、量産に際しての品質の安定化を図ることができるス
ピンコーティング方法および光ディスクを得ることを目
的とする。
It is an object of the present invention to obtain a spin coating method and an optical disk capable of improving in-plane uniformity and stabilizing quality during mass production.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
被膜面に直交する軸心を中心として回転される被膜媒体
に対してノズルから塗布液を吐出させ、前記被膜面上の
前記塗布液に作用する遠心力により前記被膜面に前記塗
布液を塗布する塗布工程と、前記被膜面に塗布された前
記塗布液を固化させて薄膜を形成する薄膜工程と、を含
み、前記塗布液の表面張力γおよび粘度ηを、20mN
/s≦γ<30mN/s、0.50mPa・s≦η<3
0mPa・s、0.50≦γ/ηの範囲内に設定する。
The invention according to claim 1 is
A coating liquid is discharged from a nozzle onto a coating medium that rotates about an axis perpendicular to the coating surface, and the coating liquid is applied to the coating surface by a centrifugal force that acts on the coating liquid on the coating surface. A coating step, and a thin film step of solidifying the coating liquid applied to the coating surface to form a thin film. The surface tension γ and the viscosity η of the coating liquid are 20 mN.
/ S ≦ γ <30 mN / s, 0.50 mPa · s ≦ η <3
It is set within the range of 0 mPa · s and 0.50 ≦ γ / η.

【0014】したがって、塗布液の表面張力γ、粘度
η、およびγ/ηを調整することにより、被膜面上の塗
布液と被膜面に対する接触角が、被膜面上で液玉となら
ない範囲内に維持される。これによって、被膜媒体が回
転されている場合の被膜面と塗布液との良好な親和性を
確保することが可能になる。
Therefore, by adjusting the surface tension γ, the viscosity η, and γ / η of the coating liquid, the contact angle between the coating liquid on the coating surface and the coating surface falls within the range that does not form a liquid ball on the coating surface. Maintained. This makes it possible to ensure a good affinity between the coating surface and the coating liquid when the coating medium is rotated.

【0015】請求項2記載の発明は、請求項1記載のス
ピンコーティング方法において、前記塗布液は、シアニ
ン系色素、アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタ
ロシアニン系色素のうち少なくとも一の色素と、前記色
素を溶解させる有機溶剤とを含む。
According to a second aspect of the present invention, in the spin coating method according to the first aspect, the coating liquid is at least one of a cyanine dye, an azo dye, a phthalocyanine dye, and a naphthalocyanine dye. And an organic solvent that dissolves the dye.

【0016】したがって、シアニン系色素、アゾ系色
素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素の
うち少なくとも一の色素を有機溶媒に溶解させた塗布液
を用いた場合に、請求項1記載の発明の作用を得ること
が可能になる。
Therefore, when the coating liquid in which at least one of the cyanine dye, the azo dye, the phthalocyanine dye, and the naphthalocyanine dye is dissolved in an organic solvent is used, the action of the invention of claim 1 It will be possible to obtain.

【0017】請求項3記載の発明は、請求項1記載のス
ピンコーティング方法において、前記塗布液は、紫外線
硬化型樹脂を含む。
According to a third aspect of the present invention, in the spin coating method according to the first aspect, the coating liquid contains an ultraviolet curable resin.

【0018】したがって、紫外線硬化型樹脂を含む塗布
液を用いた場合に、請求項1記載の発明の作用を得るこ
とが可能になる。
Therefore, when the coating liquid containing the ultraviolet curable resin is used, it is possible to obtain the action of the invention described in claim 1.

【0019】請求項4記載の発明は、請求項1、2また
は3記載のスピンコーティング方法において、前記ノズ
ルの先端と前記被膜面との距離D、前記ノズルから吐出
される前記塗布液に加える吐出圧力Pを、1.0mm≦
D<5.0mm、0.1kgf/cm≦P<1.5kg
f/cmの範囲内に設定する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the spin coating method according to the first, second or third aspect, the distance D between the tip of the nozzle and the coating surface and the discharge added to the coating liquid discharged from the nozzle. Pressure P is 1.0 mm ≤
D <5.0 mm, 0.1 kgf / cm 2 ≦ P <1.5 kg
Set within the range of f / cm 2 .

【0020】したがって、ノズルの先端と被膜面との距
離D、ノズルから吐出される塗布液に加える吐出圧力P
を調整することにより、ノズルから吐出した塗布液が被
膜面から跳ね返ってノズルに付着することを防止し、ノ
ズルから吐出した塗布液を被膜面に良好に付着させるこ
とが可能になる。
Therefore, the distance D between the tip of the nozzle and the coating surface, and the discharge pressure P applied to the coating liquid discharged from the nozzle.
By adjusting, it is possible to prevent the coating liquid discharged from the nozzle from splashing from the coating surface and adhering to the nozzle, and the coating liquid discharged from the nozzle can be favorably adhered to the coating surface.

【0021】請求項5記載の発明は、請求項4記載のス
ピンコーティング方法において、前記ノズルの内径r
を、0.20mm≦r<2.00mmの範囲内に設定す
る。
According to a fifth aspect of the invention, in the spin coating method according to the fourth aspect, the inner diameter r of the nozzle is
Is set within the range of 0.20 mm ≦ r <2.00 mm.

【0022】したがって、ノズルの内径rを調整するこ
とにより、吐出量が不十分であるために塗布ムラを生じ
たり、吐出量が過剰となって製造コストが増加したりす
ることを防止することが可能になる。
Therefore, by adjusting the inner diameter r of the nozzle, it is possible to prevent the occurrence of coating unevenness due to the insufficient discharge amount, and the increase in manufacturing cost due to the excessive discharge amount. It will be possible.

【0023】請求項6記載の発明は、請求項1、2、
3、4または5記載のスピンコーティング方法におい
て、前記塗布工程では、前記ノズルの先端を前記被膜面
に正対させ、前記塗布液を前記被膜面の軸心方向に吐出
させる。
The invention according to claim 6 is the same as claim 1, 2 or
In the spin coating method according to 3, 4, or 5, in the coating step, the tip of the nozzle is made to face the coating surface, and the coating liquid is discharged in the axial direction of the coating surface.

【0024】したがって、ノズルの先端が被膜面に正対
し、塗布液が被膜面の軸心方向に吐出されるため、塗布
液を確実に被膜面に吐出することができる。
Therefore, since the tip of the nozzle faces the coating surface and the coating liquid is discharged in the axial direction of the coating surface, the coating liquid can be reliably discharged onto the coating surface.

【0025】請求項7記載の発明は、請求項1、2、
3、4、5または6記載のスピンコーティング方法にお
いて、前記塗布液の吐出時間tを、1.0sec≦t<
10secの範囲内に設定する。
The invention according to claim 7 is the invention as defined in claims 1, 2 and
In the spin coating method according to 3, 4, 5 or 6, the discharge time t of the coating liquid is 1.0 sec ≦ t <
Set within the range of 10 sec.

【0026】したがって、吐出時間を調整することで吐
出量を調整して、必要十分な塗布液を塗布することがで
きる。
Therefore, the discharge amount can be adjusted by adjusting the discharge time, and the necessary and sufficient coating liquid can be applied.

【0027】請求項8記載の発明は、請求項1、2、
3、4、5、6または7記載のスピンコーティング方法
において、前記塗布工程では、前記被膜媒体の回転速度
Sを、10rpm≦S<1000rpmの範囲内に設定
する。
The invention according to claim 8 is the invention according to claim 1,
In the spin coating method described in 3, 4, 5, 6 or 7, in the coating step, the rotation speed S of the coating medium is set within a range of 10 rpm ≦ S <1000 rpm.

【0028】したがって、塗布液を、軸心を中心とする
真円形状に塗布することができる。
Therefore, the coating liquid can be applied in a perfect circular shape centered on the axis.

【0029】請求項9記載の発明は、請求項1、2、
3、4、5、6または7記載のスピンコーティング方法
において、前記塗布工程では、前記被膜媒体の回転速度
Sを、10rpm≦S<1000rpmの範囲内で複数
に変動させる。
The invention according to claim 9 is the invention according to claims 1, 2 and
In the spin coating method described in 3, 4, 5, 6 or 7, in the coating step, the rotation speed S of the coating medium is changed to a plurality within a range of 10 rpm ≦ S <1000 rpm.

【0030】したがって、塗布液を、軸心を中心とする
真円形状に塗布することができる。
Therefore, the application liquid can be applied in a perfect circular shape centered on the axis.

【0031】請求項10記載の発明は、請求項8または
9記載のスピンコーティング方法において、前記塗布工
程後に、前記被膜媒体の回転速度を加速させて前記被膜
媒体から前記塗布液を振り切る余り処理工程を含み、こ
の余り処理工程における前記被膜媒体の回転速度S’
を、1000rpm≦S’≦8000rpmの範囲内に
設定する。
According to a tenth aspect of the present invention, in the spin coating method according to the eighth or ninth aspect, after the coating step, a rotational speed of the coating medium is accelerated to shake off the coating liquid from the coating medium. And the rotational speed S ′ of the coating medium in this remainder treatment step.
Is set within the range of 1000 rpm ≦ S ′ ≦ 8000 rpm.

【0032】したがって、被膜面上に塗布された塗布液
の面内均一性を低下させることなく、余分な塗布液を必
要最短時間で振り切ることができる。
Therefore, the excess coating liquid can be shaken off in the necessary minimum time without deteriorating the in-plane uniformity of the coating liquid applied on the coating surface.

【0033】請求項11記載の発明は、請求項1ないし
10のいずれか一に記載のスピンコーティング方法にお
いて、前記塗布工程、前記余り処理工程を、一定温度T
に保たれた環境下で行い、この一定温度Tを、15℃≦
T<30℃の範囲内に設定する。
The invention according to claim 11 is the spin coating method according to any one of claims 1 to 10, wherein the coating step and the residual treatment step are performed at a constant temperature T.
The temperature is kept at 15 ° C ≤
Set within the range of T <30 ° C.

【0034】したがって、量産に際して、塗布液に含ま
れる成分が蒸発/揮発等によって経時変化してしまうこ
とを抑制することができる。
Therefore, during mass production, it is possible to prevent the components contained in the coating liquid from changing over time due to evaporation / volatilization or the like.

【0035】請求項12記載の発明の光ディスクは、被
膜面を有する透明な被膜媒体と、前記被膜媒体の前記被
膜面に積層された反射層と、前記反射層に積層された保
護層と、を具備し、少なくとも前記保護層が請求項1な
いし11のいずれか一に記載のスピンコーティング方法
によって形成されている光ディスク。
An optical disk according to a twelfth aspect of the present invention comprises a transparent coated medium having a coated surface, a reflective layer laminated on the coated surface of the coated medium, and a protective layer laminated on the reflective layer. An optical disc comprising at least the protective layer formed by the spin coating method according to claim 1.

【0036】したがって、請求項1ないし11のいずれ
か一に記載のスピンコーティング方法を用いることによ
って、面内均一薄膜を有する光ディスクを安定して量産
することができる。
Therefore, by using the spin coating method according to any one of claims 1 to 11, it is possible to stably mass-produce optical disks having an in-plane uniform thin film.

【0037】請求項13記載の発明の光ディスクは、被
膜面を有する透明な被膜媒体と、前記被膜媒体の前記被
膜面に積層された記録層と、前記記録層に積層された反
射層と、前記反射層に積層された保護層と、を具備し、
前記記録層または前記保護層の少なくとも一方が請求項
1ないし11のいずれか一に記載のスピンコーティング
方法によって形成されている。
An optical disk according to a thirteenth aspect of the present invention is a transparent coated medium having a coated surface, a recording layer laminated on the coated surface of the coated medium, a reflective layer laminated on the recording layer, and A protective layer laminated on the reflective layer,
At least one of the recording layer and the protective layer is formed by the spin coating method according to any one of claims 1 to 11.

【0038】したがって、請求項1ないし11のいずれ
か一に記載のスピンコーティング方法を用いることによ
って、面内均一薄膜を有する光ディスクを安定して量産
することができる。
Therefore, by using the spin coating method according to any one of claims 1 to 11, it is possible to stably mass-produce the optical disc having the in-plane uniform thin film.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について図
1ないし図3を参照して説明する。本実施の形態は、光
ディスクへの適用例を示す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The present embodiment shows an application example to an optical disc.

【0040】図1は、本発明の一実施の形態の光ディス
クの構造を示す断面図である。光ディスク1には、再生
専用の光ディスク1A(図1(a)参照)、情報の追記が可
能な光ディスク1B(図1(b)参照)、情報の書き換えが
可能な光ディスク1C(図1(c)参照)等がある。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of an optical disc according to an embodiment of the present invention. The optical disc 1 includes a reproduction-only optical disc 1A (see FIG. 1A), an information-recordable optical disc 1B (see FIG. 1B), and a rewritable optical disc 1C (FIG. 1C). (See) etc.

【0041】再生専用の光ディスク1Aは、図1(a)に
示すように、円盤形状の透明な被膜媒体としての基板2
と、この基板2の一面側に設けられてレ−ザ−光を反射
させる反射層3とを有している。再生専用の光ディスク
1Aに用いられる基板2には、反射層3が形成される側
に、予めピット4が形成されている。反射層3には、反
射層3を外的な衝撃から保護するための保護層5が設け
られている。保護層5には、必要に応じて、ブランド名
などを表示する印刷層6を設けてもよい。なお、保護層
5は、必要に応じて、基板2のレ−ザ−光が入射される
側(図1中下側)にも設けることが可能である。
As shown in FIG. 1A, the reproduction-only optical disc 1A has a substrate 2 as a disk-shaped transparent coated medium.
And a reflective layer 3 provided on one surface of the substrate 2 for reflecting laser light. On the substrate 2 used for the reproduction-only optical disc 1A, pits 4 are formed in advance on the side where the reflection layer 3 is formed. The reflective layer 3 is provided with a protective layer 5 for protecting the reflective layer 3 from external impact. The protective layer 5 may be provided with a printing layer 6 displaying a brand name or the like, if necessary. The protective layer 5 can be provided on the side of the substrate 2 on which laser light is incident (lower side in FIG. 1), if necessary.

【0042】情報の追記が可能な光ディスク1Bは、図
1(b)に示すように、円盤状の透明な基板2、反射層
3、保護層5等に加えて、基板2と反射層3との間に設
けられた記録層7を有している。図1(b)に示す光ディ
スク1Bの基板2には、図1(a)に示すピット4に代え
て、案内溝4’が設けられている。
As shown in FIG. 1B, the optical disc 1B on which information can be additionally written includes a substrate 2 and a reflective layer 3 in addition to a disk-shaped transparent substrate 2, a reflective layer 3, a protective layer 5 and the like. The recording layer 7 is provided between them. The substrate 2 of the optical disc 1B shown in FIG. 1 (b) is provided with a guide groove 4'instead of the pit 4 shown in FIG. 1 (a).

【0043】情報の書き換えが可能な光ディスク1C
は、図1(c)に示すように、レーザー光の照射により結
晶/非結晶状態に相変化する材料によって形成される記
録層7を有している。光ディスク1Cの記録層7の両面
には、誘電層8が設けられている。光ディスク1Cの基
板2には、図1(b)に示す光ディスク1Bと同様に、案
内溝4’が設けられている。
Information rewritable optical disc 1C
As shown in FIG. 1 (c), has a recording layer 7 formed of a material that undergoes a phase change to a crystalline / amorphous state upon irradiation with laser light. Dielectric layers 8 are provided on both sides of the recording layer 7 of the optical disc 1C. The substrate 2 of the optical disc 1C is provided with a guide groove 4'as in the optical disc 1B shown in FIG. 1 (b).

【0044】光ディスク1(1A,1B,1C)の基板2
は、例えば、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチ
ル、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂
などのプラスチックまたはガラス等の材料によって形成
される。特に、光学特性、温湿度特性等の特性から、ポ
リカーボネートが、光ディスク1の基板2を形成する材
料として望ましい。なお、基板2を形成する材料は、上
記の材料に限定されるものではない。
Substrate 2 of optical disc 1 (1A, 1B, 1C)
Is formed of a material such as plastic such as polycarbonate, polymethylmethacrylate, polystyrene resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, or glass. In particular, polycarbonate is desirable as a material for forming the substrate 2 of the optical disc 1 in view of characteristics such as optical characteristics and temperature / humidity characteristics. The material forming the substrate 2 is not limited to the above materials.

【0045】記録層7は、例えば、アゾ系色素、シアニ
ン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系
色素、ピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワ
リリウム系色素、Ni,Crなどの金属錯塩系色素、ナ
フトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェノー
ル系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン
系色素、トリアリルメタン系色素、アルミニウム系・ジ
ンモニウム系色素及びニトロゾ化合物等の有機色素材料
を有機溶媒に分散させた塗布液を、後述するスピンコー
ティング方法によって基板2に塗布することにより形成
されている。特に、耐光性に優れるフタロシアニン化合
物が、記録層7を形成する有機色素材料として望まし
い。記録層7の膜厚は、通常300Å〜5000Å、好
ましくは、700Å〜2000Åの範囲内に設定されて
いる。
The recording layer 7 is, for example, an azo dye, a cyanine dye, a phthalocyanine dye, a naphthalocyanine dye, a pyrylium dye, an azurenium dye, a squarylium dye, a metal complex salt dye such as Ni or Cr, and a naphthoquinone. Coating by dispersing organic dye materials such as anthraquinone-based dyes, indophenol-based dyes, indoaniline-based dyes, triphenylmethane-based dyes, triallylmethane-based dyes, aluminum-based / zinmonium-based dyes and nitrozo compounds in organic solvents It is formed by applying the liquid to the substrate 2 by a spin coating method described later. Particularly, a phthalocyanine compound having excellent light resistance is desirable as the organic dye material forming the recording layer 7. The film thickness of the recording layer 7 is usually set in the range of 300Å to 5000Å, preferably 700Å to 2000Å.

【0046】記録層7を形成する塗布液に用いられる有
機溶媒としては、例えば、アルコール、セロソルブ、ハ
ロゲン化炭素、ケトン、エーテル等がある。塗布液に使
用する有機溶媒は、1種類でもよいし、2種類以上の混
合系にしてもよい。
Examples of the organic solvent used in the coating liquid for forming the recording layer 7 include alcohol, cellosolve, carbon halide, ketone, ether and the like. The organic solvent used in the coating liquid may be one type or a mixed system of two or more types.

【0047】なお、記録層7は、無機材料によっても形
成することが可能である。例えば、原子配列を変化し情
報の記録ができる相変化材料を使用することが可能であ
る。この場合、記録層7には相変化材料の層及び相変化
材料の熱を保持するための断熱層を含めるものとする。
The recording layer 7 can also be formed of an inorganic material. For example, it is possible to use a phase change material that can change the atomic arrangement and record information. In this case, the recording layer 7 includes a phase change material layer and a heat insulating layer for holding heat of the phase change material.

【0048】相変化材料として、具体的には、(A)−
(B)−(C)−Ge−Teで代表される合金である。ここ
で(A)=Cu,Ag,Au,Sc,Y,Ti,Zr,
V,Nb,Cr,Mo,Mn,Fe,Ru,Co,R
h,Ni,Pd,Hf,Ta,W,Ir,Pt,Hg,
B,C,N,P,O,S,Se,ランタニド元素、アク
チニド元素、アルカリ土類金属元素、不活性ガス元素等
のうち少なくとも一つの元素を表す。(B)は、Ti,I
等ハロゲン元素、および、Na等のアルカリ金属元素の
うち少なくとも一元素を示す。(C)は、Sb,Sn,A
s,Pb,Bi,Zn,Cd,Si,Al,Gaおよび
Inのうち少なくとも一元素を示す。
As the phase change material, specifically, (A)-
It is an alloy represented by (B)-(C) -Ge-Te. Where (A) = Cu, Ag, Au, Sc, Y, Ti, Zr,
V, Nb, Cr, Mo, Mn, Fe, Ru, Co, R
h, Ni, Pd, Hf, Ta, W, Ir, Pt, Hg,
At least one element of B, C, N, P, O, S, Se, a lanthanide element, an actinide element, an alkaline earth metal element, an inert gas element and the like is represented. (B) is Ti, I
At least one of halogen elements such as halogen and alkali metal elements such as Na is shown. (C) is Sb, Sn, A
At least one element of s, Pb, Bi, Zn, Cd, Si, Al, Ga and In is shown.

【0049】加えて、例えば、上記金属元素のTb,F
e,Co等の光磁気材料に使用される金属材料を記録層
7として使用することも可能である。
In addition, for example, Tb and F of the above metal elements
It is also possible to use a metal material such as e and Co used for a magneto-optical material as the recording layer 7.

【0050】反射層3は、Au、Ag、Cu、Ni、A
l、Pt等の金属やこれらの金属の合金によって、膜厚
が300Å以上2500Å以下の範囲内となるように形
成されている。特に、コスト、ディスク特性等から、A
g,Al、Ti,Alが反射層3を形成する材料として
望ましい。
The reflective layer 3 is made of Au, Ag, Cu, Ni, A.
It is formed of a metal such as 1 or Pt or an alloy of these metals so that the film thickness is in the range of 300 Å or more and 2500 Å or less. Especially, in terms of cost and disk characteristics, A
g, Al, Ti, and Al are desirable as the material forming the reflective layer 3.

【0051】保護層5は、紫外線硬化樹脂、架橋性モノ
マーの架橋反応によって、膜厚が1μm以上30μm以
下となるように調整されて形成されている。保護層5の
膜厚は、特に1.0μm程度が望ましい。
The protective layer 5 is formed by a cross-linking reaction of an ultraviolet curable resin and a cross-linkable monomer so that the film thickness is adjusted to 1 μm or more and 30 μm or less. The thickness of the protective layer 5 is preferably about 1.0 μm.

【0052】紫外線硬化樹脂としては、例えば、ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ
ート、ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、フェノ
キシヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、クロロヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジエチレングリ
コ−ルモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコ−
ルモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ−ルモ
ノ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコ−ルモノ
(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ−ルモノ
(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレー
ト、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
ト−ル(メタ)アクリレート、フェニルグリシジルエーテ
ル(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリト−ルペンタ
(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエポキシ樹脂の
ジ(メタ)アクリレート等のアクリレート樹脂がある。
Examples of the UV curable resin include hydroxyethyl (meth) acrylate and hydroxypropyl.
(Meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxypentyl (meth) acrylate, phenoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, chlorohydroxypropyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glyco-
Mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, dipropylene glycol mono
(Meth) acrylate, polypropylene glycol mono
(Meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, phenyl glycidyl ether (meth) acrylate, dipentaerythritol penta
There are acrylate resins such as (meth) acrylate and di (meth) acrylate of bisphenol A epoxy resin.

【0053】架橋性モノマーとしては、例えば、トリメ
チロ−ルプロパントリ(メタ)アクリレート、アクリル化
イソシアヌレート、1.4ブタンジオ−ルジ(メタ)アク
リレート、1.6ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、ネオペンチルグリコ−ルジ(メタ)アクリレート、ジ
シクロペンタンジエニルジ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等がある。
Examples of the crosslinkable monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, acrylated isocyanurate, 1.4 butanediol di (meth) acrylate, 1.6 hexanediol di (meth) acrylate and neopentylglycol. Examples include rudi (meth) acrylate, dicyclopentanedienyl di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate and the like.

【0054】ところで、保護層5を形成するためには、
紫外線硬化樹脂と架橋性モノマーとの架橋反応を開始さ
せるラジカル開始剤が必要である。ラジカル開始剤とし
ては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2−ヒドロキシ2−メチル1−フェニルプロパ
ン1−オン、2.2−ジエトキシアセトフェノン、4−
フェノキシ2.2−ジクロロアセトフェノン等のアセト
フェノン系のラジカル開始剤、2−ヒドロキシ2−メチ
ルプロピオフェノン等のプロピオフェノン系のラジカル
開始剤、2−クロロアントラキノン等のアントラキノン
系のラジカル開始剤、2.4−ジエチルチオキサントン
等のチオキサントン系のラジカル開始剤等がある。ラジ
カル開始剤は、通常、組成比(重量比)にして、1%〜1
0%添加されている。なお、ラジカル開始剤は、1種類
でも2種類以上を混合して使用してもよい。
By the way, in order to form the protective layer 5,
A radical initiator that initiates a crosslinking reaction between an ultraviolet curable resin and a crosslinking monomer is required. Examples of the radical initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy 2-methyl 1-phenylpropan 1-one, 2.2-diethoxyacetophenone, 4-
Phenoxy 2.2-acetophenone-based radical initiators such as 2-dichloroacetophenone, propiophenone-based radical initiators such as 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, anthraquinone-based radical initiators such as 2-chloroanthraquinone, 2 There are thioxanthone-based radical initiators such as .4-diethylthioxanthone. The radical initiator usually has a composition ratio (weight ratio) of 1% to 1%.
0% is added. The radical initiator may be used alone or in combination of two or more.

【0055】加えて、保護層5には、消泡剤や、シリカ
等の増粘剤が含まれる。なお、消泡剤や増粘剤は、必ず
添加されるものではなく、必要に応じて添加される。
In addition, the protective layer 5 contains a defoaming agent and a thickening agent such as silica. It should be noted that the defoaming agent and the thickener are not always added, but are added as necessary.

【0056】次に、光ディスク1Bの製造工程について
工程順に説明する。光ディスク1Bは、図示しないスタ
ンパを用いて、案内溝4’を有する基板2を射出成形す
る。
Next, the manufacturing process of the optical disc 1B will be described in the order of processes. The optical disc 1B is formed by injection molding the substrate 2 having the guide groove 4'using a stamper (not shown).

【0057】形成された基板2に対して、スピンコーテ
ィング方法を用いて記録層を積層する。本実施の形態で
は、スピンコートに際して、図2に示すようなスピンコ
ーターを使用する。スピンコーター10は、図2に示す
ように、薄膜をスピンコートする対象となる被膜媒体
(ここでは、基板2)の被膜面2aを水平状態で支持する
基台部11を有している。
A recording layer is laminated on the formed substrate 2 by using a spin coating method. In this embodiment, a spin coater as shown in FIG. 2 is used for spin coating. The spin coater 10 is, as shown in FIG. 2, a spin coating medium on which a thin film is spin-coated.
It has a base portion 11 for supporting the coating surface 2a of the substrate 2 here in a horizontal state.

【0058】基台部11は、垂直方向に配設された支軸
12を中心として、軸心回りに回転自在に設けられてい
る。基台部11には、基台部11を面方向に回転させる
スピンドルモータ13が連結されている。
The base portion 11 is provided rotatably around the axis centering on the support shaft 12 arranged in the vertical direction. A spindle motor 13 that rotates the base unit 11 in the surface direction is connected to the base unit 11.

【0059】基台部11の上方には、塗布液を吐出する
ノズル14が位置付けられている。ノズル14の内径
(r)は、以下に示す(1)式の範囲内に設定されている。 0.2mm≦r<20mm ・・・(1)
A nozzle 14 for discharging the coating liquid is positioned above the base 11. Inner diameter of nozzle 14
(r) is set within the range of the formula (1) shown below. 0.2 mm ≦ r <20 mm (1)

【0060】ノズル14は、アーム15によって、先端
が基台部11に対向するように支持されている。アーム
15は、ノズル14と反対側に設けられた支軸回りに回
動自在に設けられている。また、アーム15には、図示
しないモータが連結されており、モータの駆動によって
ノズル14を基板14の半径方向に往復動させる。アー
ム15の回動範囲は、ノズル14が被膜面2aに対向す
る範囲内で往復動するように設定されている。
The nozzle 14 is supported by an arm 15 so that its tip faces the base 11. The arm 15 is rotatably provided around a support shaft provided on the opposite side of the nozzle 14. A motor (not shown) is connected to the arm 15, and the nozzle 14 is reciprocated in the radial direction of the substrate 14 by driving the motor. The rotation range of the arm 15 is set so that the nozzle 14 reciprocates within a range facing the coating surface 2a.

【0061】アーム15の回動範囲がノズル14が被膜
面2aに対向する範囲内で往復動するように設定されて
いるため、ノズル14から吐出された塗布液を必ず被膜
面2aに付着させることができる。これによって、不必
要に塗布液が消費されたり、基板2の端面の凹凸によっ
て塗布液が飛散したりすることを防止することができ
る。これによって、被膜面2a内で均一な膜厚を得るこ
とができ、非塗布領域に塗布液が塗布がされてしまうこ
とを防止することができる。
Since the rotation range of the arm 15 is set so as to reciprocate within the range in which the nozzle 14 faces the coating surface 2a, the coating liquid discharged from the nozzle 14 must be adhered to the coating surface 2a. You can This can prevent unnecessary consumption of the coating liquid and scattering of the coating liquid due to the unevenness of the end surface of the substrate 2. This makes it possible to obtain a uniform film thickness within the coating surface 2a and prevent the coating liquid from being applied to the non-application region.

【0062】また、アーム15は、ノズル14の先端と
基台部11にセットされる基板2の被膜面2aとの距離
Dが、以下に示す(2)式の範囲内となるように、ノズル
14を支持する。 1.0mm≦D<5.0mm ・・・(2)
Further, the arm 15 is provided with a nozzle so that the distance D between the tip of the nozzle 14 and the coating surface 2a of the substrate 2 set on the base 11 is within the range of the following formula (2). Support 14. 1.0mm ≦ D <5.0mm (2)

【0063】特に図示しないが、ノズル14には、一端
が塗布液を保持する塗布液タンクに連通されて、他端が
ノズルに連通された塗布液供給管が連通されている。
Although not shown in particular, the nozzle 14 is connected to a coating liquid supply pipe having one end connected to a coating liquid tank holding the coating liquid and the other end connected to the nozzle.

【0064】塗布タンクには、表面張力γ、粘度ηおよ
びγ/ηが、以下に示す(3)式、(4)式、(5)式の範囲
内となるように調整された塗布液が充填されている。 20mN/s≦γ<30mN/s ・・・(3) 0.50mPa・s≦η<30mPa・s ・・・(4) 0.50≦γ/η ・・・(5)
In the coating tank, the coating liquid whose surface tension γ, viscosity η and γ / η were adjusted to fall within the ranges of the following formulas (3), (4) and (5): It is filled. 20 mN / s ≦ γ <30 mN / s (3) 0.50 mPa · s ≦ η <30 mPa · s (4) 0.50 ≦ γ / η (5)

【0065】加えて、特に図示しないが、スピンコータ
ー10は、ノズル14内の塗布液に対して圧力を加える
加圧装置を有している。加圧装置によってノズル14内
の塗布液に対して圧力を加えることにより、ノズル14
から塗布液が吐出される。本実施の形態では、加圧装置
によってノズル14内の塗布液に対しては、以下に示す
(6)式の範囲内に調整された圧力Pが加えられる。 0.1kgf/cm≦P<1.5kgf/cm ・・・(6)
In addition, although not particularly shown, the spin coater 10 has a pressurizing device for applying pressure to the coating liquid in the nozzle 14. By applying pressure to the coating liquid in the nozzle 14 with a pressure device, the nozzle 14
The coating liquid is discharged from the. In the present embodiment, the application liquid in the nozzle 14 by the pressurizing device will be described below.
The pressure P adjusted within the range of the formula (6) is applied. 0.1 kgf / cm 2 ≦ P <1.5 kgf / cm 2 (6)

【0066】ノズル14から吐出される塗布液の吐出量
は、ノズル14の上側に設けられた吐出量調整バルブ1
6によって調整することが可能である。これによって、
ノズル14から所定量の塗布液を基板2の被膜面2aに
吐出させることができる。
The discharge amount of the coating liquid discharged from the nozzle 14 is controlled by the discharge amount adjusting valve 1 provided above the nozzle 14.
6 can be adjusted. by this,
A predetermined amount of coating liquid can be discharged from the nozzle 14 onto the coating surface 2a of the substrate 2.

【0067】基台部11およびスピンドルモータ13の
周囲には、基台部11およびスピンドルモータ13の側
方および上方を覆う液飛散防止フード17が設けられて
いる。これにより、後述する余り処理工程に際して、基
板2の外周縁部から振り切られた塗布液が、周辺に飛散
するのを防止することができる、なお、液飛散防止フー
ド17の上側は、ノズル14によって塗布液を吐出でき
るように開放されている。
Around the base 11 and the spindle motor 13, a liquid splash prevention hood 17 is provided which covers the sides and above the base 11 and the spindle motor 13. As a result, it is possible to prevent the coating liquid shaken off from the outer peripheral edge portion of the substrate 2 from scattering to the periphery in the remainder processing step to be described later. It is open so that the coating liquid can be discharged.

【0068】本実施の形態のスピンコーター10は、図
示しない温湿度制御ブース内に設置されて使用される。
温湿度制御ブース内の温度Tは、以下に示す(7)式の範
囲内となるように、一定に保たれている。 15℃≦T<30℃ ・・・(7)
The spin coater 10 of the present embodiment is installed and used in a temperature / humidity control booth (not shown).
The temperature T in the temperature / humidity control booth is kept constant so as to fall within the range of the following expression (7). 15 ℃ ≦ T <30 ℃ ・ ・ ・ (7)

【0069】記録膜7の成膜に際しては、最初に塗布工
程において塗布液を塗布し、次に余り処理工程において
余分な塗布液を被膜面2aから除去し、次に薄膜工程に
おいて塗布した塗布液を固化させて薄膜を形成する。
In forming the recording film 7, first, the coating liquid is applied in the coating process, then the excess coating liquid is removed from the coating surface 2a in the residual treatment process, and then the coating liquid applied in the thin film process. Is solidified to form a thin film.

【0070】塗布工程に際しては、スピンコーター10
の、基台部11に基板2をセットする。このとき、案内
溝4’が形成されている被膜面2aを、ノズル14の先
端に対向させるようにセットする。この状態でスピンド
ルモータ13を駆動させ、基台部11を回転させる。本
実施の形態では、基板2の回転数Sが以下に示す(8)式
の範囲を満たすようにスピンドルモータ13を回転させ
る。 10rpm≦S<1000rpm ・・・(8)
In the coating process, the spin coater 10
The substrate 2 is set on the base 11. At this time, the coating surface 2 a having the guide groove 4 ′ is set so as to face the tip of the nozzle 14. In this state, the spindle motor 13 is driven to rotate the base 11. In the present embodiment, the spindle motor 13 is rotated so that the rotation speed S of the substrate 2 satisfies the range of the formula (8) shown below. 10 rpm ≦ S <1000 rpm (8)

【0071】基台部11を回転させている状態で、加圧
装置によりノズル14内に外圧をかける。外圧が加えら
れた塗布液は、基板2に向けて吐出される。
External pressure is applied to the inside of the nozzle 14 by a pressurizing device while the base 11 is rotating. The coating liquid to which the external pressure is applied is discharged toward the substrate 2.

【0072】吐出に際して、塗布液の粘度ηが過剰に高
い場合、液抵抗が増大するため、圧力が良好に伝達され
ず圧力損失を生じる。このような場合、吐出時にノズル
14における塗布液に対して、圧力が良好に伝達されず
に吐出不良を発生させる。
When the viscosity η of the coating liquid is excessively high at the time of discharging, the liquid resistance increases, so that the pressure is not properly transmitted and a pressure loss occurs. In such a case, the pressure is not satisfactorily transmitted to the coating liquid in the nozzle 14 at the time of ejection, and ejection failure occurs.

【0073】本実施の形態では、塗布液の粘度ηが(4)
式の範囲内に設定されているため、ノズルにおける塗布
液に対して圧力が良好に伝達され、良好な吐出を行うこ
とができる。
In this embodiment, the viscosity η of the coating liquid is (4)
Since the pressure is set within the range of the formula, the pressure is satisfactorily transmitted to the coating liquid in the nozzle, and the good ejection can be performed.

【0074】また、吐出に際して、ノズル14の内径r
が細すぎると、単位時間内での吐出量が減ってしまうた
め、基板表面に対して十分な量の塗布液を供給すること
ができずに、面内で塗布ムラを生じてしまうことがあ
る。逆に、ノズル14の内径rが太すぎると、塗布液が
過剰に供給されてしまい、製造コストが増加してしまう
ことがある。
When discharging, the inner diameter r of the nozzle 14
If the thickness is too small, the discharge amount in a unit time decreases, so that it is not possible to supply a sufficient amount of the coating liquid to the substrate surface, which may cause uneven coating within the surface. . On the contrary, if the inner diameter r of the nozzle 14 is too large, the coating liquid may be excessively supplied, which may increase the manufacturing cost.

【0075】本実施の形態では、ノズル14の内径r
が、(2)式の範囲内に設定されているため、所望の吐出
量を無理なく吐出することができ、上述の不具合の発生
を防止することができる。
In this embodiment, the inner diameter r of the nozzle 14 is
However, since it is set within the range of the formula (2), it is possible to discharge the desired discharge amount without difficulty, and it is possible to prevent the above-mentioned problems from occurring.

【0076】加えて、ノズル14と基板2表面との距離
Dが近すぎると、案内溝4’によって被膜面2aに形成
される凹凸等から塗布液が跳ね返り、跳ね返った塗布液
によってノズル14が汚れてしまうことがある。このよ
うな場合、連続して塗布を行うと、跳ね返った塗布液に
よってノズル14が詰まったりして、塗布欠陥を生じて
しまうことが懸念される。逆に、距離Dが離れすぎる
と、ノズル14からの吐出圧が被膜面2aに十分に伝わ
らない。吐出圧力が不十分であると、塗布液が被膜面2
aで液玉になりやすい。距離Dを同じにした状態でこの
ような不具合を防止するためには、吐出量を多くしなけ
ればならず、塗布液が過剰に消費されてしまう。このた
め、製造コストアップにつながる。
In addition, if the distance D between the nozzle 14 and the surface of the substrate 2 is too short, the coating liquid bounces off the irregularities or the like formed on the coating surface 2a by the guide groove 4 ', and the nozzle 14 is soiled by the bounced coating liquid. It may happen. In such a case, if the coating is continuously performed, the nozzle 14 may be clogged with the coating liquid that has rebounded, which may cause a coating defect. On the contrary, if the distance D is too large, the discharge pressure from the nozzle 14 is not sufficiently transmitted to the coating surface 2a. If the discharge pressure is insufficient, the coating liquid will be
Liquid droplets tend to be formed with a. In order to prevent such a problem with the same distance D, the discharge amount must be increased, and the coating liquid will be consumed excessively. Therefore, the manufacturing cost is increased.

【0077】本実施の形態では、ノズル14と基板2表
面との距離Dが(1)式に示す範囲内に設定されているた
め、塗布液が基板2から跳ね返ってノズル14が汚れた
り、吐出圧力が不足して液玉が発生したりするといった
不具合を防止することができる。
In the present embodiment, since the distance D between the nozzle 14 and the surface of the substrate 2 is set within the range shown in the equation (1), the coating liquid bounces off the substrate 2 and the nozzle 14 is soiled or discharged. It is possible to prevent problems such as insufficient liquid pressure and liquid droplets.

【0078】ところで、被膜面2aに到達した吐出液が
液玉となるか否かは、基板2と塗布液との親和性と塗布
液の表面張力γとの関係に依存する。
Whether or not the discharged liquid that reaches the coating surface 2a becomes a liquid ball depends on the relationship between the affinity between the substrate 2 and the coating liquid and the surface tension γ of the coating liquid.

【0079】ここで、基板2を静止状態とした場合の被
膜面2aに塗布液を垂らし、滴下時(落下時)の液径に対
して、被膜面2aに付着したときの液径を測定すること
で、基板2と塗布液との親和性と塗布液の表面張力γと
の関係について検証した。
Here, the coating liquid is dripped onto the coating surface 2a when the substrate 2 is in a stationary state, and the liquid diameter when the coating liquid adheres to the coating surface 2a is measured with respect to the liquid diameter when dropped (when dropped). Thus, the relationship between the affinity between the substrate 2 and the coating liquid and the surface tension γ of the coating liquid was verified.

【0080】その結果、塗布液の広がりは、塗布液の表
面張力に大きく依存することが判った。
As a result, it was found that the spread of the coating liquid largely depends on the surface tension of the coating liquid.

【0081】また、塗布工程に際しては、塗布液が滴下
される基板2が回転されているため、基板2に接触した
塗布液に対しては、基板2の内周側から外周側へ向かう
遠心力が作用する。遠心力が作用している状況下では、
表面張力γが高い塗布液程、より液玉になりやすい傾向
にあることが判った。
Further, in the coating process, since the substrate 2 onto which the coating liquid is dropped is rotated, the coating liquid contacting the substrate 2 is subjected to a centrifugal force from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the substrate 2. Works. Under the condition of centrifugal force,
It was found that the higher the surface tension γ is, the more easily the coating liquid tends to be a liquid droplet.

【0082】このため、塗布工程に際しては、基板2の
回転による遠心力を考慮した親和性を確保する必要があ
る。
Therefore, in the coating step, it is necessary to secure the affinity in consideration of the centrifugal force due to the rotation of the substrate 2.

【0083】ここで、基板2に対して回転による遠心力
が作用している場合の表面張力γと粘度ηとの関係につ
いて説明する。実験により、ある一定の回転数の設定下
では、表面張力γと粘度ηとの関係は、γ/ηが大きい
ほど親和性が大きくなり、γ/ηが小さい程親和性も小
さくなる傾向にあることが判った。つまり、表面張力γ
が大きいほど、また、粘度ηが小さい程親和性が確保さ
れる。
Now, the relationship between the surface tension γ and the viscosity η when the centrifugal force due to the rotation acts on the substrate 2 will be described. According to experiments, under a certain rotation speed setting, the relationship between the surface tension γ and the viscosity η tends to increase as γ / η increases, and decrease as γ / η decreases. I knew that. That is, the surface tension γ
The larger the value is, and the smaller the viscosity η is, the more the affinity is secured.

【0084】一方で、親和性は、表面張力γのみを過剰
に大きくさせたり、粘度ηのみを過剰に小さくしたりす
ると、低下する傾向にあることが判った。
On the other hand, it was found that the affinity tends to decrease when the surface tension γ alone is excessively increased or the viscosity η alone is excessively decreased.

【0085】その結果、表面張力γと粘度ηとの関係を
示すγ/ηが、(5)式に示す範囲内に設定されている場
合に、基板2と塗布液との間に良好な親和性が得られる
ことが判った。
As a result, when γ / η, which represents the relationship between the surface tension γ and the viscosity η, is set within the range shown in the equation (5), a good affinity is obtained between the substrate 2 and the coating liquid. It turned out that sex is obtained.

【0086】ところで、塗布液の塗り付け時の基板2の
回転数Sが過剰に低速であると、塗布液が支軸12を中
心として均等に流延せず、部分的に偏って広がってしま
うことがある。また、塗布液の塗り付け時の基板の回転
数Sが過剰に低速であると、歩留まりを低下させてしま
う。一方、塗布液塗り付け時の基板2の回転数Sが過剰
に高速であると、滴下した塗布液と基板2との間の親和
性よりも、塗布液に作用する遠心力の方が強く影響し、
液玉が発生しやすくなる。
By the way, if the rotation speed S of the substrate 2 at the time of applying the coating liquid is excessively low, the coating liquid will not spread evenly around the support shaft 12 and will spread partially unevenly. Sometimes. Further, if the rotation speed S of the substrate at the time of applying the coating liquid is excessively low, the yield will be reduced. On the other hand, when the rotation speed S of the substrate 2 at the time of applying the coating liquid is excessively high, the centrifugal force acting on the coating liquid has a stronger influence than the affinity between the dropped coating liquid and the substrate 2. Then
Liquid drops are likely to occur.

【0087】本実施の形態では、回転数が、(8)式の範
囲内に設定されているため、液玉の発生を抑制して、塗
布液を支軸12を中心として真円形状で広がらせること
ができる。
In the present embodiment, the number of revolutions is set within the range of the formula (8), so that the generation of liquid beads is suppressed and the coating liquid is spread in a perfect circle shape around the support shaft 12. Can be made.

【0088】本実施の形態では、塗布液の表面張力γお
よび粘度ηを、(3)式、(4)式、(5)式の範囲内に設定
することで、ノズル14から吐出されて積層面に付着し
た塗布液と被塗布溶媒との接触角は、滴下した塗布液が
被膜面2a上で液玉とならない程度に保たれる。これに
より、塗布液は、被膜面2aに接触した位置から互いの
親和性によって引き付け合いながら、遠心力によって基
板2の内周側から外周側へ流動するので、塗布液が通過
した位置に塗布液の膜が形成される。
In this embodiment, the surface tension γ and the viscosity η of the coating liquid are set within the ranges of the formulas (3), (4) and (5) so that the liquid is discharged from the nozzle 14 and laminated. The contact angle between the coating liquid adhering to the surface and the solvent to be coated is kept to such an extent that the dropped coating liquid does not form a liquid ball on the coating surface 2a. As a result, the coating liquid flows from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the substrate 2 by the centrifugal force while attracting each other from the position in contact with the coating surface 2a due to the affinity for each other, so that the coating liquid flows to the position where the coating liquid has passed. Film is formed.

【0089】また、本実施の形態では、吐出位置におけ
るノズル14の移動範囲が、基板2の被膜面2aに対向
するように位置付けられるため、吐出された塗布液は、
塗布範囲内で被膜面2aに接触する。
Further, in the present embodiment, since the moving range of the nozzle 14 at the discharge position is positioned so as to face the coating surface 2a of the substrate 2, the discharged coating liquid is
It contacts the coating surface 2a within the coating range.

【0090】なお、本実施の形態では、塗布工程に際し
ての基板2の回転数Sを一定としたが、これに限るもの
ではなく、本発明においては塗布工程における基板2の
回転数を一定にしてもよいし、また上記範囲内で連続的
もしくは段階的に変化させてもよい。
In this embodiment, the rotation speed S of the substrate 2 during the coating process is constant, but the present invention is not limited to this, and the rotation speed of the substrate 2 during the coating process is constant in the present invention. Alternatively, it may be changed continuously or stepwise within the above range.

【0091】ところで、吐出開始から吐出終了までの吐
出時間tが短いと周内で均一に塗布液が回りにくく、塗
布斑が生じやすい。一方、吐出時間tが過剰に長いと塗
布液が過剰に滴下されるため、コストパフォ−マンスが
低下する。
By the way, if the discharge time t from the start of discharge to the end of discharge is short, it is difficult for the coating liquid to uniformly flow in the circumference, and coating spots are likely to occur. On the other hand, when the ejection time t is excessively long, the coating liquid is excessively dropped, so that the cost performance is lowered.

【0092】これに対し、本実施の形態では、吐出開始
から吐出終了までの吐出時間tが、(8)式に示す範囲内
となるように、ノズル14内に外圧が加えられるため、
塗布液が不足したり、塗布液を過剰に消費したりするこ
となく、被膜面2aに均一に塗布することができる。
On the other hand, in this embodiment, the external pressure is applied to the nozzle 14 so that the ejection time t from the start of ejection to the end of ejection is within the range shown in the equation (8).
The coating liquid can be uniformly applied to the coating surface 2a without running out of the coating liquid or consuming the coating liquid excessively.

【0093】次に、余り処理工程として、滴下開始から
吐出時間tが経過した時点で、スピンドルモータ13の
回転数を加速し、基板2の回転数S’を以下に示す(9)
式の範囲内まで加速させる。 1000rpm≦S’<8000rpm …(9)
Next, as a remainder processing step, when the ejection time t has elapsed from the start of dropping, the rotation speed of the spindle motor 13 is accelerated and the rotation speed S ′ of the substrate 2 is shown below (9).
Accelerate to within the formula. 1000 rpm ≦ S ′ <8000 rpm (9)

【0094】これにより、基板2の外周側の端部まで流
延した塗布液は、基板2の外周縁部から振り切られるよ
うにして外側に放出される。
As a result, the coating liquid that has flowed to the outer peripheral edge of the substrate 2 is discharged to the outside while being shaken off from the outer peripheral edge of the substrate 2.

【0095】ここで、余り処理工程に際して、同じ回転
時間で回転数が過剰に遅いと、膜厚が厚くなってしま
う。同じ回転数で振り切ろうとすると、余分な塗布液を
振り切るまで長い時間を要してしまう。また、余り処理
工程に際して、回転数を過剰に加速させると、塗布液に
過剰な遠心力が作用して、面内で均一な膜厚が得られに
くくなってしまう。
Here, in the remainder processing step, if the rotation speed is excessively slow in the same rotation time, the film thickness becomes thick. If you try to shake off at the same rotation speed, it will take a long time to shake off the excess coating liquid. Further, if the number of revolutions is excessively accelerated in the excess treatment step, an excessive centrifugal force acts on the coating liquid, and it becomes difficult to obtain a uniform film thickness within the surface.

【0096】本実施の形態では、吐出後の回転数S’を
(9)式の範囲内に設定することで、所望の膜厚の膜を効
率よく形成することができる。
In the present embodiment, the number of revolutions S'after ejection is
By setting within the range of the expression (9), a film having a desired film thickness can be efficiently formed.

【0097】ここで、スピンコーター10を、一定温度
Tに設定された環境下に設置して薄膜を形成したので、
有機溶媒が蒸発して、塗布液における色素濃度が変化し
てしまうような塗布液の経時変化を防止することができ
る。これによって、特に、色素を展開する有機溶媒のよ
うな蒸発しやすい塗布液を使用する場合にも、長時間に
亘って、面内均一性の良好な薄膜を安定して形成するこ
とができる。
Here, since the spin coater 10 was installed in an environment set to a constant temperature T to form a thin film,
It is possible to prevent a change over time in the coating liquid that would cause the organic solvent to evaporate and the dye concentration in the coating liquid to change. This makes it possible to stably form a thin film having good in-plane uniformity over a long period of time even when a coating liquid that easily evaporates, such as an organic solvent that develops a dye, is used.

【0098】上述のようにして形成した塗布膜を乾燥に
より固化させて薄膜とすることで、記録層7が形成され
る。
The recording layer 7 is formed by drying and solidifying the coating film formed as described above to form a thin film.

【0099】例えば、残留溶媒を除去するために、有機
色素をスピンコーティングした基板2に対して高温下で
アニール処理を施してもよい。アニール温度は通常80
〜110℃で行なわれ、特に100℃近辺が望ましい。
アニール時間は通常15〜30min位である。
For example, in order to remove the residual solvent, the substrate 2 spin-coated with the organic dye may be annealed at a high temperature. Annealing temperature is usually 80
It is carried out at up to 110 ° C, preferably around 100 ° C.
The annealing time is usually about 15 to 30 minutes.

【0100】なお、上述した無機金属材料によって記録
層7を形成する場合、真空蒸着法やスパッタリング法、
イオンプレーティング法によって形成することが可能で
ある。無機金属材料によって記録層を形成する場合に
は、特に、スパッタリング法を用いることが望ましい。
真空蒸着法、スパッタリング法イオンプレーディング法
等については説明を省略する。
When the recording layer 7 is formed of the above-mentioned inorganic metal material, a vacuum deposition method, a sputtering method,
It can be formed by an ion plating method. When the recording layer is formed of an inorganic metal material, it is particularly preferable to use the sputtering method.
Descriptions of the vacuum vapor deposition method, the sputtering method, the ion plating method, and the like are omitted.

【0101】次に、記録層7の形成された基板2に対し
て反射層3を形成する。反射層3は、Au、Ag、C
u、Ni、Al、Pt等の金属やこれらの金属の合金に
よって、膜厚が300Å以上2500Å以下の範囲内と
なるように形成されている。特に、コスト、ディスク特
性等から、Ag,Al、Ti,Alが反射層3を形成す
る材料として望ましい。反射層は、真空蒸着法やスパッ
タリング法、イオンプレーティング法によって形成する
ことが可能である。本実施の形態では、スパッタリング
法によって反射層を形成した。
Next, the reflective layer 3 is formed on the substrate 2 on which the recording layer 7 is formed. The reflective layer 3 is made of Au, Ag, C
It is formed of a metal such as u, Ni, Al, or Pt or an alloy of these metals so that the film thickness is in the range of 300 Å or more and 2500 Å or less. In particular, Ag, Al, Ti, and Al are preferable as the material for forming the reflective layer 3 in terms of cost, disk characteristics, and the like. The reflective layer can be formed by a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method. In this embodiment mode, the reflective layer is formed by a sputtering method.

【0102】続いて、記録層7と同様にして、反射層3
に保護層5を積層する。保護層5は、記録層7と同様
に、塗布工程、余り処理工程および薄膜形成工程を経る
ことによって形成される。これによって、面内均一な保
護層5を成膜することができる。
Then, similarly to the recording layer 7, the reflective layer 3
The protective layer 5 is laminated on. Like the recording layer 7, the protective layer 5 is formed by undergoing a coating step, a residual treatment step, and a thin film forming step. Thereby, the in-plane uniform protective layer 5 can be formed.

【0103】次に、反射層3の形成された基板に対して
保護層5を形成する。保護層5は、記録層7と同様に、
塗布工程、余り処理工程および薄膜形成工程を経ること
によって、反射層3に積層されて形成される。保護層5
を形成する塗布液も、表面張力γ、粘度ηおよびγ/η
が(3)式、(4)式、(5)式の範囲内に設定されている。
また、スピンコーターにおける各種条件も、記録層7の
形成に際しての設定と同条件とされている。これによっ
て、保護層5を所望する膜厚で均一に成膜することがで
きる。
Next, the protective layer 5 is formed on the substrate on which the reflective layer 3 is formed. The protective layer 5, like the recording layer 7,
The reflective layer 3 is laminated and formed through a coating process, a remainder processing process, and a thin film forming process. Protective layer 5
The coating liquid that forms the film also has surface tension γ, viscosity η and γ / η.
Is set within the range of the expressions (3), (4), and (5).
Also, various conditions in the spin coater are set to the same conditions as the settings when forming the recording layer 7. As a result, the protective layer 5 can be uniformly formed to have a desired film thickness.

【0104】ここで、保護層5に、紫外線硬化樹脂を用
いているため、保護層5の硬化に際しての収縮によって
光ディスク1に反りが発生してしまうことが懸念される
が、本実施の形態では、保護層5の膜厚を反りの発生を
抑制することができる1μm以上30μm以下(本実施
の形態では、1.0μm程度)の範囲内で管理することが
できるため、反りの発生を防止することができる。
Here, since the ultraviolet curable resin is used for the protective layer 5, there is a concern that the optical disc 1 may be warped due to contraction during curing of the protective layer 5, but in the present embodiment. Since the thickness of the protective layer 5 can be controlled within the range of 1 μm or more and 30 μm or less (about 1.0 μm in the present embodiment) capable of suppressing the occurrence of warpage, the occurrence of warpage is prevented. be able to.

【0105】なお、本実施の形態では、スピンコート法
を用いて保護層5を形成するようにしたが、これに限る
ものではなく、例えばスクリーン印刷等によって保護層
5を形成するようにしてもよい。また、保護層5を設け
ずに、印刷層6に保護層5としての機能を持たせるよう
にしてもよい。
In the present embodiment, the protective layer 5 is formed by using the spin coating method, but the present invention is not limited to this. For example, the protective layer 5 may be formed by screen printing or the like. Good. Alternatively, the print layer 6 may be provided with the function as the protective layer 5 without providing the protective layer 5.

【0106】本実施の形態の印刷層6は、スクリーン印
刷法を用いて、膜厚が5〜20μmの範囲内となるよう
に形成されている。印刷層6の膜厚は、8〜12μmが
特に望ましい。印刷層6は、ウレタンアクリレート、重
合性モノマー、顔料、光重合開始剤(イニシエーター)を
混合した紫外線硬化性を有するインクを用いて形成し
た。なお、インクに含まれる材料は、これに限るもので
はなく、例えば、フィラー(粘度調整剤)、酸化防止剤等
を必要に応じて加えても良い。
The printing layer 6 of the present embodiment is formed by screen printing so that the film thickness is within the range of 5 to 20 μm. The thickness of the printed layer 6 is particularly preferably 8 to 12 μm. The printed layer 6 was formed using an ultraviolet curable ink containing a mixture of urethane acrylate, a polymerizable monomer, a pigment and a photopolymerization initiator (initiator). The material contained in the ink is not limited to this, and for example, a filler (viscosity adjusting agent), an antioxidant, etc. may be added if necessary.

【0107】なお、印刷層6は、スクリーン印刷法に限
るものではなく、例えば、グラビア印刷法、オフセット
印刷法等の種々の印刷方法を用いることができる。な
お、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印
刷法については、公知の技術であるため説明を省略す
る。
The printing layer 6 is not limited to the screen printing method, and various printing methods such as a gravure printing method and an offset printing method can be used. The screen printing method, the gravure printing method, and the offset printing method are known techniques, and therefore description thereof will be omitted.

【0108】なお、保護層5を形成した後には、必要に
応じて、記録層7に対して、初期化を配しても良い。初
期化とは、スパッタリング直後にアモルファル状態で反
射率の低い無機金属材料の記録層7を、結晶化させるこ
とにより反射率を上げる工程である。初期化工程は保護
層を後であれば任意に配置しても構わないが、望ましく
は保護層5を形成した直後がよい。
After forming the protective layer 5, the recording layer 7 may be initialized if necessary. The initialization is a step of increasing the reflectance by crystallizing the recording layer 7 made of an inorganic metal material having a low reflectance in an amorphal state immediately after sputtering. In the initializing step, the protective layer may be optionally arranged afterwards, but preferably immediately after the protective layer 5 is formed.

【0109】加えて、上述の各工程を経た光ディスク1
に対して、基板面を保護する保護層(図示せず)を形成す
る工程を配してもよい。ここで、基板面とは、光ディス
ク完成体になったときに、記録及び再生光が入射する面
を意味する。基板面に図示しない保護層を形成すること
で、外的な衝撃から基板面を保護することができ、安定
した記録、再生状態を長期間に亘り保持できるようにな
る。
In addition, the optical disc 1 which has undergone the above-mentioned steps
On the other hand, a step of forming a protective layer (not shown) for protecting the substrate surface may be provided. Here, the substrate surface means a surface on which recording and reproducing light enters when the optical disc is completed. By forming a protective layer (not shown) on the surface of the substrate, the surface of the substrate can be protected from an external impact, and stable recording and reproducing states can be maintained for a long period of time.

【0110】基板面を保護する保護層については、上述
した保護層5の形成と同様にして形成することができ
る。基板面を保護する保護層は、基板2を成形した後で
あれば任意の位置に配することが可能である。
The protective layer for protecting the surface of the substrate can be formed in the same manner as the above-mentioned protective layer 5. The protective layer for protecting the substrate surface can be arranged at any position after the substrate 2 is molded.

【0111】なお、本実施の形態では、片面一層構造の
光ディスク1について説明したが、これに限るものでは
なく、例えば、DVDのように、片面二層構造、両面一
層構造、両面二層構造を有する光ディスクに適用しても
よい。
Although the optical disc 1 having the single-sided single layer structure has been described in the present embodiment, the present invention is not limited to this, and a single-sided double-layered structure, a double-sided single-layered structure, or a double-sided double-layered structure such as a DVD is used. It may be applied to the optical discs that it has.

【0112】例えば、DVDのような貼り合わせタイプ
の光ディスクでは、上述のように保護層まで成膜された
基板を貼り合わせる工程を経る。
For example, in the case of a bonded type optical disk such as a DVD, the process of bonding the substrates on which the protective layers are formed as described above is performed.

【0113】保護層形成工程から供給された基板は、別
の透明基板と貼り合わされる。接着剤は公知の紫外線硬
化接着剤、カチオン系紫外線硬化接着剤を使って行う。
保護層上に接着剤が塗布された基板を別の1枚の透明基
板と重ねた後、反射層の形成されていない透明基板側か
ら紫外線を照射することで硬化、接着される。
The substrate supplied from the protective layer forming step is bonded to another transparent substrate. As the adhesive, a known ultraviolet curing adhesive or a cationic ultraviolet curing adhesive is used.
After the substrate having the protective layer coated with the adhesive is placed on another transparent substrate, the transparent substrate on which the reflective layer is not formed is irradiated with ultraviolet rays to be cured and bonded.

【0114】[0114]

【実施例】次に、上述した実施の形態の実施例について
説明する。ここでは、実施例1〜3および比較例1〜2
によって表わされる5種類の光ディスクを用いて、各種
光ディスクの外観について評価した。実施例1〜3によ
って示される3種類の光ディスクは本実施の形態の数値
範囲を満足し、比較例1〜2によって示される2種類の
光ディスクは本実施の形態の数値範囲から逸脱するよう
に形成されている(表1)。
EXAMPLES Next, examples of the above-described embodiment will be described. Here, Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2
The appearance of each type of optical disc was evaluated using five types of optical discs represented by. The three types of optical discs shown in Examples 1 to 3 satisfy the numerical range of the present embodiment, and the two types of optical discs shown in Comparative Examples 1 to 2 are formed so as to deviate from the numerical range of the present embodiment. (Table 1).

【0115】CD−Rを2種、DVD+Rを本発明の方
法で作製した。面内均一性を確認するため、目視による
塗布ムラの有無を確認した。
Two kinds of CD-R and DVD + R were prepared by the method of the present invention. In order to confirm the in-plane uniformity, the presence or absence of coating unevenness was visually confirmed.

【0116】まず、実施例1について説明する。実施例
1の光ディスクは、CD−R(図1(b)参照)への適用例
を示す。なお、実施例1では、記録層および保護層を、
上述したスピンコーター10を用いたスピンコート方法
によって形成した。
First, the first embodiment will be described. The optical disc of Example 1 shows an example of application to a CD-R (see FIG. 1B). In addition, in Example 1, the recording layer and the protective layer,
It was formed by the spin coating method using the spin coater 10 described above.

【0117】記録層の成膜に際しては、スピンコーター
10におけるノズル14と被膜面2aとの距離D、ノズ
ルの内径r、塗布時の回転速度S、ノズル14からの吐
出圧P、吐出時間tは、以下のように設定されている。 距離D=2.0mm ノズルの内径r=0.61mm 塗布時の回転速度S=250rpm 吐出圧P=0.8kgf/cm 吐出時間t=10sec
When forming the recording layer, the distance D between the nozzle 14 and the coating surface 2a of the spin coater 10, the inner diameter r of the nozzle, the rotation speed S at the time of coating, the discharge pressure P from the nozzle 14 and the discharge time t are: , Is set as follows. Distance D = 2.0 mm Inner diameter of nozzle r = 0.61 mm Rotation speed during coating S = 250 rpm Discharge pressure P = 0.8 kgf / cm 2 Discharge time t = 10 sec

【0118】なお、スピンコーター10は、一定温度2
5℃に設定された温湿度制御ブース内に設置されてい
る。
The spin coater 10 has a constant temperature of 2
It is installed in a temperature / humidity control booth set at 5 ° C.

【0119】実施例1では、直径120mm、厚さ1.
2mmのポリカーボネートによって円盤形状に形成され
た透明な基板2を被膜媒体として用いた。被膜面2aと
なる基板2の一面側には、1.6μmピッチに設定され
た案内溝4’が形成されている。
In Example 1, the diameter was 120 mm and the thickness was 1.
A transparent substrate 2 formed in a disc shape by 2 mm of polycarbonate was used as a coating medium. On one surface side of the substrate 2 to be the coated surface 2a, guide grooves 4'set at a pitch of 1.6 μm are formed.

【0120】基板2の被膜面2aに塗布する塗布液は、
シアニン色素をフッ素アルコ−ルに溶解した塗布液を用
いた。塗布液の表面張力γ、粘度η、および表面張力γ
と粘度ηとの関係は、以下のように設定されている。 表面張力γ=24.5mN/s 粘度η=15.7mPa・s γ/η=1.6
The coating liquid applied to the coating surface 2a of the substrate 2 is
A coating solution prepared by dissolving a cyanine dye in fluorine alcohol was used. Surface tension γ, viscosity η, and surface tension γ of coating liquid
And the viscosity η are set as follows. Surface tension γ = 24.5 mN / s Viscosity η = 15.7 mPa · s γ / η = 1.6

【0121】塗布工程に際しては、基板2の中心から外
周側へ半径方向に40mm離間した位置から塗布液の吐
出を開始し、ノズル14を塗布範囲の最内周側まで移動
させた後、基板2の中心から外周側へ半径方向に40m
m離間した位置まで戻すようにノズル14を往復動させ
た。このとき、塗布工程における回転速度Sは、一定と
されている。
In the coating process, the discharge of the coating liquid is started from the position radially spaced 40 mm from the center of the substrate 2 and the nozzle 14 is moved to the innermost peripheral side of the coating range. 40m in the radial direction from the center of the
The nozzle 14 was reciprocated so as to return to the position separated by m. At this time, the rotation speed S in the coating step is constant.

【0122】余り処理工程に際しては、スピンドルモー
タ13の回転数を6000rpmまで加速させ、余分な
塗布液の振り切った。
In the remainder processing step, the rotation speed of the spindle motor 13 was accelerated to 6000 rpm and the excess coating liquid was shaken off.

【0123】基板2に対して記録層7用の塗布液を塗布
した後、100℃で20min間アニール処理を施し
た。
After applying the coating liquid for the recording layer 7 to the substrate 2, the substrate 2 was annealed at 100 ° C. for 20 minutes.

【0124】その後スパッタ装置で、Agによって反射
層3を約1000Åの膜厚に設けた。なお、スパッタ装
置については、公知の技術であるため、図示および説明
を省略する。
After that, the reflective layer 3 was formed by Ag in a thickness of about 1000 Å using a sputtering apparatus. Since the sputtering device is a known technique, its illustration and description are omitted.

【0125】続いて、反射層3に対して、保護層5を5
μmの膜厚となるように積層した。保護層5の形成に際
しては、スピンコーター10におけるノズル14と被膜
面2aとの距離D、ノズル14の内径r、吐出に際して
の回転速度S、ノズル14からの吐出圧P、吐出時間t
は、以下のように設定されている。 距離D=3.0mm ノズルの内径r=1.94mm 吐出に際しての回転速度S=250rpm 吐出圧P=1.0kgf/cm 吐出時間t=10sec
Then, the protective layer 5 is formed on the reflective layer 3 by 5 times.
The layers were laminated so as to have a thickness of μm. When forming the protective layer 5, the distance D between the nozzle 14 and the coating surface 2a in the spin coater 10, the inner diameter r of the nozzle 14, the rotation speed S at the time of ejection, the ejection pressure P from the nozzle 14, the ejection time t.
Is set as follows. Distance D = 3.0 mm Inner diameter of nozzle r = 1.94 mm Rotation speed S = 250 rpm Discharge pressure P = 1.0 kgf / cm 2 Discharge time t = 10 sec

【0126】反射層5に塗布する塗布液は、表面張力
γ、粘度η、および表面張力γと粘度ηとの関係は、以
下のように設定されたDIC製SD1700を塗布液と
して用いた。 表面張力γ=28.0mN/s 粘度η=28.0mPa・s γ/η=1.0
As the coating liquid applied to the reflection layer 5, the surface tension γ, the viscosity η, and the relationship between the surface tension γ and the viscosity η were set as follows. SD1700 manufactured by DIC was used as the coating liquid. Surface tension γ = 28.0 mN / s Viscosity η = 28.0 mPa · s γ / η = 1.0

【0127】塗布工程に際しては、基板2の中心から外
周側へ半径方向に30mm離間した位置から塗布液の吐
出を開始し、ノズル14を塗布範囲の最内周側まで移動
させた後、基板2の中心から外周側へ半径方向に30m
m離間した位置まで戻すようにノズル14を往復動させ
た。このとき、塗布工程における回転速度Sは、一定と
されている。
In the coating process, the discharge of the coating liquid is started from the position radially separated from the center of the substrate 2 by 30 mm, and the nozzle 14 is moved to the innermost peripheral side of the coating range. 30m in the radial direction from the center of the
The nozzle 14 was reciprocated so as to return to the position separated by m. At this time, the rotation speed S in the coating step is constant.

【0128】余り処理工程に際しては、スピンドルモー
タ13の回転数を6000rpmまで加速させ、余分な
塗布液の振り切った。
In the remainder processing step, the rotation speed of the spindle motor 13 was accelerated to 6000 rpm and the excess coating liquid was shaken off.

【0129】以上のようにして、CD−Rを作製した。CD-R was produced as described above.

【0130】次に、実施例2について説明する。実施例
2の光ディスク1は、CD−R(図1(b)参照)への適用
例を示す。なお、実施例1では、記録層7および保護層
5を、上述したスピンコーター10を用いたスピンコー
ティング方法によって形成した。
Next, a second embodiment will be described. The optical disc 1 of the second embodiment shows an application example to a CD-R (see FIG. 1B). In Example 1, the recording layer 7 and the protective layer 5 were formed by the spin coating method using the spin coater 10 described above.

【0131】記録層の成膜に際しては、スピンコーター
10におけるノズル14と被膜面2aとの距離D、ノズ
ルの内径r、塗布時の回転速度S、ノズル14からの吐
出圧P、吐出時間tは、以下のように設定されている。 距離D=2.0mm ノズルの内径r=0.61mm 塗布時の回転速度S=250rpm 吐出圧P=0.5kgf/cm 吐出時間t=10sec
When forming the recording layer, the distance D between the nozzle 14 of the spin coater 10 and the coating surface 2a, the inner diameter r of the nozzle, the rotation speed S during coating, the discharge pressure P from the nozzle 14 and the discharge time t are: , Is set as follows. Distance D = 2.0 mm Inner diameter of nozzle r = 0.61 mm Rotation speed during coating S = 250 rpm Discharge pressure P = 0.5 kgf / cm 2 Discharge time t = 10 sec

【0132】また、実施例2では、実施例1と同じ基板
2aを用いた。
Also, in the second embodiment, the same substrate 2a as in the first embodiment is used.

【0133】基板2の被膜面2aに塗布する塗布液は、
フタロシアニン色素をTHF/1M2B/MCHに溶解
した塗布液を用いた。塗布液の表面張力γ、粘度η、お
よび表面張力γと粘度ηとの関係は、以下のように設定
されている。 表面張力γ=23.8mN/s 粘度η=0.7mPa・s γ/η=32.6
The coating liquid applied to the coating surface 2a of the substrate 2 is
A coating solution in which a phthalocyanine dye was dissolved in THF / 1M2B / MCH was used. The surface tension γ and the viscosity η of the coating liquid and the relationship between the surface tension γ and the viscosity η are set as follows. Surface tension γ = 23.8 mN / s Viscosity η = 0.7 mPa · s γ / η = 32.6

【0134】実施例2では、実施例1と同様にして、塗
布工程、余り処理工程およびアニール処理を行った後、
スパッタ装置を用いてAgにより反射層3を約1000
Åの膜厚となるように形成した。
In the second embodiment, in the same manner as in the first embodiment, after performing the coating step, the residual treatment step and the annealing treatment,
Approximately 1000 reflection layer 3 was formed by Ag using a sputtering device.
It was formed to have a film thickness of Å.

【0135】続いて、反射層3に対して、保護層5を5
μmの膜厚となるように積層した。保護層5の形成に際
しては、スピンコーター10におけるノズル14と被膜
面2aとの距離D、ノズル14の内径r、吐出に際して
の回転速度S、ノズル14からの吐出圧P、吐出時間t
は、以下のように設定されている。 距離D=3.0mm ノズルの内径r=1.94mm 吐出に際しての回転速度S=250rpm 吐出圧P=1.0kgf/cm 吐出時間t=10sec
Then, the protective layer 5 is formed on the reflection layer 3 by 5 times.
The layers were laminated so as to have a thickness of μm. When forming the protective layer 5, the distance D between the nozzle 14 and the coating surface 2a in the spin coater 10, the inner diameter r of the nozzle 14, the rotation speed S at the time of ejection, the ejection pressure P from the nozzle 14, the ejection time t.
Is set as follows. Distance D = 3.0 mm Inner diameter of nozzle r = 1.94 mm Rotation speed S = 250 rpm Discharge pressure P = 1.0 kgf / cm 2 Discharge time t = 10 sec

【0136】反射層5に塗布する塗布液は、表面張力
γ、粘度η、および表面張力γと粘度ηとの関係は、以
下のように設定されたDIC製SD17を塗布液として
用いた。 表面張力γ=28.0mN/s 粘度η=27.0mPa・s γ/η=1.0
As the coating liquid for coating the reflective layer 5, SD17 manufactured by DIC was used as the coating liquid in which the surface tension γ, the viscosity η, and the relationship between the surface tension γ and the viscosity η were set as follows. Surface tension γ = 28.0 mN / s Viscosity η = 27.0 mPa · s γ / η = 1.0

【0137】塗布工程に際しては、基板2の中心から外
周側へ半径方向に30mm離間した位置から塗布液の吐
出を開始し、ノズル14を塗布範囲の最内周側まで移動
させた後、基板2の中心から外周側へ半径方向に30m
m離間した位置まで戻すようにノズル14を往復動させ
た。このとき、塗布工程における回転速度Sは、一定と
されている。
In the coating step, the discharge of the coating liquid is started from the position radially separated from the center of the substrate 2 by 30 mm, and the nozzle 14 is moved to the innermost peripheral side of the coating range. 30m in the radial direction from the center of the
The nozzle 14 was reciprocated so as to return to the position separated by m. At this time, the rotation speed S in the coating step is constant.

【0138】余り処理工程に際しては、スピンドルモー
タ13の回転数S’を6000rpmまで加速させ、余
分な塗布液の振り切った。
In the remainder processing step, the rotation speed S ′ of the spindle motor 13 was accelerated to 6000 rpm and the excess coating liquid was shaken off.

【0139】反射層3に塗布する塗布液は、表面張力
γ、粘度η、および表面張力γと粘度ηとの関係は、以
下のように設定されたDIC製SD1700を塗布液と
して用いた。 表面張力γ=28.0mN/s 粘度η=27.0mPa・s γ/η=1.0
As the coating liquid applied to the reflective layer 3, SD1700 manufactured by DIC was used as a coating liquid in which the surface tension γ, the viscosity η, and the relationship between the surface tension γ and the viscosity η were set as follows. Surface tension γ = 28.0 mN / s Viscosity η = 27.0 mPa · s γ / η = 1.0

【0140】以上のようにして、CD−Rを作製した。CD-R was prepared as described above.

【0141】次に、実施例3について説明する。実施例
3の光ディスクは、DVD+R(図示せず)への適用例を
示す。DVD+Rは、上述した光ディスクを2枚貼り合
わせた構造を有している。実施例3では、記録層7、保
護層5および接着層(図示せず)を、上述したスピンコー
ター10を用いたスピンコーティング方法によって形成
した。
Next, a third embodiment will be described. The optical disc of the third embodiment shows an application example to a DVD + R (not shown). The DVD + R has a structure in which the above-mentioned two optical disks are bonded together. In Example 3, the recording layer 7, the protective layer 5, and the adhesive layer (not shown) were formed by the spin coating method using the spin coater 10 described above.

【0142】記録層の成膜に際しては、スピンコーター
10におけるノズル14と被膜面2aとの距離D、ノズ
ルの内径r、塗布時の回転速度S、ノズル14からの吐
出圧P、吐出時間tは、以下のように設定されている。 距離D=2.0mm ノズルの内径r=0.72mm 塗布時の回転速度S=250rpm 吐出圧P=0.8kgf/cm 吐出時間t=10sec
When forming the recording layer, the distance D between the nozzle 14 of the spin coater 10 and the coating surface 2a, the inner diameter r of the nozzle, the rotation speed S during coating, the discharge pressure P from the nozzle 14 and the discharge time t are: , Is set as follows. Distance D = 2.0 mm Inner diameter of nozzle r = 0.72 mm Rotation speed during coating S = 250 rpm Discharge pressure P = 0.8 kgf / cm 2 Discharge time t = 10 sec

【0143】なお、スピンコーター10は、一定温度2
5℃に設定された温湿度制御ブース内に設置されてい
る。
The spin coater 10 has a constant temperature of 2
It is installed in a temperature / humidity control booth set at 5 ° C.

【0144】実施例3では、実施例1と同じポリカーボ
ネートによって円盤形状に形成された透明な基板2を被
膜媒体として用いた。被膜面2aとなる基板の一面側に
は、0.74μmピッチに設定された案内溝4’が形成
されている。
In Example 3, the transparent substrate 2 formed of the same polycarbonate as in Example 1 and having a disk shape was used as a coating medium. On one surface side of the substrate to be the coated surface 2a, guide grooves 4'set at a pitch of 0.74 μm are formed.

【0145】基板2の被膜面2aに塗布する塗布液は、
シアニン色素をフッ素アルコ−ルに溶解した塗布液を用
いた。塗布液の表面張力γ、粘度η、および表面張力γ
と粘度ηとの関係は、以下のように設定されている。 表面張力γ=23.8mN/s 粘度η=27.8mPa・s γ/η=0.9
The coating liquid applied to the coating surface 2a of the substrate 2 is
A coating solution prepared by dissolving a cyanine dye in fluorine alcohol was used. Surface tension γ, viscosity η, and surface tension γ of coating liquid
And the viscosity η are set as follows. Surface tension γ = 23.8 mN / s Viscosity η = 27.8 mPa · s γ / η = 0.9

【0146】塗布工程、余り処理工程およびアニール処
理に際しては、実施例1と同様に行った。
The coating step, the remainder treatment step and the annealing treatment were performed in the same manner as in Example 1.

【0147】その後、スパッタ装置を用いて、Agによ
る反射層3を約1500Åの厚に設けた。
After that, the reflection layer 3 made of Ag was formed in a thickness of about 1500 Å by using a sputtering apparatus.

【0148】続いて、反射層3に対して、保護層5を5
μmの膜厚となるように積層した。保護層5の形成に際
しては、スピンコーター10におけるノズル14と被膜
面2aとの距離D、ノズル14の内径r、吐出に際して
の回転速度S、ノズル14からの吐出圧P、吐出時間t
は、以下のように設定されている。 距離D=3.0mm ノズルの内径r=1.94mm 吐出に際しての回転速度S=250rpm 吐出圧P=1.0kgf/cm 吐出時間t=10sec
Then, the protective layer 5 is formed on the reflective layer 3 by 5 times.
The layers were laminated so as to have a thickness of μm. When forming the protective layer 5, the distance D between the nozzle 14 and the coating surface 2a in the spin coater 10, the inner diameter r of the nozzle 14, the rotation speed S at the time of ejection, the ejection pressure P from the nozzle 14, the ejection time t.
Is set as follows. Distance D = 3.0 mm Inner diameter of nozzle r = 1.94 mm Rotation speed S = 250 rpm Discharge pressure P = 1.0 kgf / cm 2 Discharge time t = 10 sec

【0149】反射層3に塗布する塗布液は、実施例1と
同じ塗布液を用いた。
The same coating liquid as in Example 1 was used as the coating liquid for coating the reflective layer 3.

【0150】塗布工程、余り処理工程に際しては、実施
例1と同様に行った。
The coating process and the residual treatment process were performed in the same manner as in Example 1.

【0151】続いて、図示しない接着層を保護層5に積
層した。接着層は、保護層5の形成と同じ設定にされた
スピンコーター10を用いて、保護層5の形成と同様し
て行った。
Subsequently, an adhesive layer (not shown) was laminated on the protective layer 5. The adhesion layer was formed in the same manner as the formation of the protective layer 5 by using the spin coater 10 having the same setting as the formation of the protective layer 5.

【0152】保護層5に塗布する塗布液は、日本化薬製
接着剤を塗布液として用いた。塗布液の表面張力γ、粘
度η、および表面張力γと粘度ηとの関係は、以下のよ
うに設定されている。 表面張力γ=27.0mN/s 粘度η=28.0mPa・s γ/η=1.0
As a coating liquid for coating the protective layer 5, an adhesive manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used. The surface tension γ and the viscosity η of the coating liquid and the relationship between the surface tension γ and the viscosity η are set as follows. Surface tension γ = 27.0 mN / s Viscosity η = 28.0 mPa · s γ / η = 1.0

【0153】接着層を塗布した後、紫外線を照射し、そ
の上に別の基板2を貼り合わせた。
After applying the adhesive layer, it was irradiated with ultraviolet rays, and another substrate 2 was bonded thereon.

【0154】以上のようにして、DVD+Rを作製し
た。
The DVD + R was manufactured as described above.

【0155】次に、比較例1について説明する。比較例
1における比較層(図示せず)の成膜に際しては、スピン
コーター10におけるノズル14と被膜面2aとの距離
D、ノズルの内径r、塗布時の回転速度S、ノズル14
からの吐出圧P、吐出時間tは、以下のように設定され
ている。 距離D=1.5mm ノズルの内径r=0.61mm 塗布時の回転速度S=250rpm 吐出圧P=0.8kgf/cm 吐出時間t=10sec
Next, Comparative Example 1 will be described. When forming a comparative layer (not shown) in Comparative Example 1, the distance D between the nozzle 14 and the coating surface 2a of the spin coater 10, the inner diameter r of the nozzle, the rotational speed S at the time of coating, the nozzle 14
The discharge pressure P and the discharge time t from are set as follows. Distance D = 1.5 mm Nozzle inner diameter r = 0.61 mm Rotation speed during coating S = 250 rpm Discharge pressure P = 0.8 kgf / cm 2 Discharge time t = 10 sec

【0156】比較例1では、実施例1と同じ基板2を被
膜媒体として用いた。
In Comparative Example 1, the same substrate 2 as in Example 1 was used as the coating medium.

【0157】基板2の被膜面2aに塗布する塗布液は、
表面張力γ、粘度η、および表面張力γと粘度ηとの関
係が以下のように設定された市販インクを用いた。 表面張力γ=47.0mN/s 粘度η=2.2mPa・s γ/η=21.3
The coating liquid applied to the coating surface 2a of the substrate 2 is
A commercially available ink having a surface tension γ, a viscosity η, and a relationship between the surface tension γ and the viscosity η set as follows was used. Surface tension γ = 47.0 mN / s Viscosity η = 2.2 mPa · s γ / η = 21.3

【0158】塗布工程、余り処理工程に際しては、実施
例1と同様に行った。
The coating process and the residual treatment process were performed in the same manner as in Example 1.

【0159】次に、比較例2について説明する。比較例
2では、実施例1と同じ基板2を用いた。基板2には、
0.74μmピッチに設定された情報ピットが形成され
ている。
Next, Comparative Example 2 will be described. In Comparative Example 2, the same substrate 2 as in Example 1 was used. Substrate 2 has
Information pits having a pitch of 0.74 μm are formed.

【0160】この基板2上に、Alによる反射層3を1
000Åの膜厚で、スパッタリング法で設けた。
On this substrate 2, a reflection layer 3 made of Al is formed.
The film thickness was 000Å and the film was formed by the sputtering method.

【0161】続いて、反射層3に対して、比較層として
の保護層5を5μmの膜厚となるように積層した。保護
層5の成膜に際しては、スピンコーター10におけるノ
ズル14と被膜面2aとの距離D、ノズルの内径r、塗
布時の回転速度S、ノズル14からの吐出圧P、吐出時
間tは、以下のように設定されている。 距離D=3.0mm ノズルの内径r=1.94mm 塗布時の回転速度S=200rpm 吐出圧P=1.0kgf/cm 吐出時間t=10sec
Subsequently, a protective layer 5 as a comparative layer was laminated on the reflective layer 3 so as to have a film thickness of 5 μm. When forming the protective layer 5, the distance D between the nozzle 14 and the coating surface 2a in the spin coater 10, the inner diameter r of the nozzle, the rotation speed S at the time of coating, the discharge pressure P from the nozzle 14, and the discharge time t are as follows. Is set like. Distance D = 3.0 mm Inner diameter of nozzle r = 1.94 mm Rotational speed during coating S = 200 rpm Discharge pressure P = 1.0 kgf / cm 2 Discharge time t = 10 sec

【0162】塗布工程に際しては、基板2の中心から3
0mmの位置から外周側へ30mmの範囲で実施例1と
同様に塗布液を塗布し、余り処理工程に際して、回転速
度S’を3000rpmに加速させた。
During the coating process, 3 from the center of the substrate 2
The coating liquid was applied in the range of 0 mm from the position of 0 mm to the outer peripheral side in the range of 30 mm in the same manner as in Example 1, and the rotation speed S ′ was accelerated to 3000 rpm in the remainder treatment step.

【0163】反射層3に塗布する塗布液は、表面張力
γ、粘度η、および表面張力γと粘度ηとの関係は、以
下のように設定された市販紫外線硬化剤を塗布液として
用いた。 表面張力γ=51.0mN/s 粘度η=170mPa・s γ/η=0.30
The coating liquid applied to the reflective layer 3 was a commercially available ultraviolet curing agent having the surface tension γ, the viscosity η, and the relationship between the surface tension γ and the viscosity η set as follows. Surface tension γ = 51.0 mN / s Viscosity η = 170 mPa · s γ / η = 0.30

【0164】上記の実施例1〜3および比較例1〜2に
示す光ディスク1の記録層7および保護層5の塗布ムラ
を目視により評価した。その結果、実施例1〜3に示す
光ディスク1では、記録層7、保護層5、接着層のいず
れの層も、良好な面内均一性が得られた。
The coating unevenness of the recording layer 7 and the protective layer 5 of the optical disc 1 shown in the above Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 was visually evaluated. As a result, in the optical disc 1 shown in Examples 1 to 3, good in-plane uniformity was obtained in all of the recording layer 7, the protective layer 5, and the adhesive layer.

【0165】一方、比較例1の光ディスクでは、吐出し
た塗布液が被膜面2aで液玉となり、形成した被膜に塗
布ムラの発生が認められた。また、比較例2では、ノズ
ル14からの塗布液の吐出が不安定となり、塗布液が真
円形状にならない。また、吐出した塗布液が被膜面で液
玉となり、形成した被膜に塗布ムラの発生が認められ
た。
On the other hand, in the optical disk of Comparative Example 1, the discharged coating liquid became liquid drops on the coating surface 2a, and it was confirmed that coating unevenness was generated in the formed coating. In Comparative Example 2, the ejection of the coating liquid from the nozzle 14 becomes unstable, and the coating liquid does not have a perfect circular shape. In addition, the discharged coating liquid became liquid drops on the surface of the coating film, and it was confirmed that coating unevenness was generated in the formed coating film.

【0166】[0166]

【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、被膜面に
直交する軸心を中心として回転される被膜媒体に対して
ノズルから塗布液を吐出させ、前記被膜面上の前記塗布
液に作用する遠心力により前記被膜面に前記塗布液を塗
布する塗布工程と、前記被膜面に塗布された前記塗布液
を固化させて薄膜を形成する薄膜工程と、を含み、前記
塗布液の表面張力γおよび粘度ηを、20mN/s≦γ
<30mN/s、0.50mPa・s≦η<30mPa
・s、0.50≦γ/ηの範囲内に設定することで、被
膜面上の塗布液の被膜面に対する接触角が、被膜面上で
液玉とならない範囲内に維持するとともに、被膜媒体が
回転されている場合の被膜面と塗布液との良好な親和性
を確保することが可能になるので、面内均一性の向上を
図るとともに、量産に際しての品質の安定化を図ること
ができる。
According to the first aspect of the invention, the coating liquid is discharged from the nozzle onto the coating medium rotated about the axis perpendicular to the coating surface, and the coating liquid on the coating surface is discharged. A surface tension of the coating solution, including a coating step of coating the coating solution on the coating surface by an acting centrifugal force, and a thin film step of solidifying the coating solution coated on the coating surface to form a thin film. γ and viscosity η are 20 mN / s ≦ γ
<30 mN / s, 0.50 mPa · s ≦ η <30 mPa
・ By setting s, within the range of 0.50 ≤ γ / η, the contact angle of the coating liquid on the coating surface with respect to the coating surface is maintained within the range where liquid droplets do not form on the coating surface, and the coating medium Since it is possible to secure a good affinity between the coating surface and the coating liquid when is rotated, it is possible to improve the in-plane uniformity and stabilize the quality during mass production. .

【0167】請求項2記載の発明によれば、請求項1記
載のスピンコーティング方法において、シアニン系色
素、アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシア
ニン系色素のうち少なくとも一の色素と、前記色素を溶
解させる有機溶剤とを含塗布液を用いた場合に、請求項
1記載の発明の効果を得ることができる。
According to the invention described in claim 2, in the spin coating method according to claim 1, at least one dye selected from the group consisting of a cyanine dye, an azo dye, a phthalocyanine dye and a naphthalocyanine dye, and the dye. When the coating solution containing the organic solvent to be dissolved is used, the effect of the invention according to claim 1 can be obtained.

【0168】請求項3記載の発明によれば、請求項1記
載のスピンコーティング方法において、紫外線硬化型樹
脂を含む塗布液を用いた場合に、請求項1記載の発明の
効果を得ることができる。
According to the invention of claim 3, the effect of the invention of claim 1 can be obtained when the spin coating method of claim 1 uses a coating liquid containing an ultraviolet curable resin. .

【0169】請求項4記載の発明は、請求項1、2また
は3記載のスピンコーティング方法において、前記ノズ
ルの先端と前記被膜面との距離D、前記ノズルから吐出
される前記塗布液に加える吐出圧力Pを、1.0mm≦
D<5.0mm、0.1kgf/cm≦P<1.5kg
f/cmの範囲内に設定することにより、ノズルから
吐出した塗布液が被膜面から跳ね返ってノズルに付着す
ることを防止し、ノズルから吐出した塗布液を被膜面に
良好に付着させることが可能になるので、面内均一性の
向上を図るとともに、量産に際しての品質の安定化を図
ることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the spin coating method according to the first, second or third aspect, the distance D between the tip of the nozzle and the coating surface and the discharge added to the coating liquid discharged from the nozzle. Pressure P is 1.0 mm ≤
D <5.0 mm, 0.1 kgf / cm 2 ≦ P <1.5 kg
By setting it within the range of f / cm 2 , it is possible to prevent the coating liquid discharged from the nozzle from bouncing from the coating surface and adhering to the nozzle, and to make the coating liquid discharged from the nozzle adhere well to the coating surface. As a result, the in-plane uniformity can be improved and the quality can be stabilized during mass production.

【0170】請求項5記載の発明は、請求項4記載のス
ピンコーティング方法において、前記ノズルの内径r
を、0.20mm≦r<2.00mmの範囲内に設定する
ことにより、吐出量が不十分であるために塗布ムラを生
じたり、吐出量が過剰となって製造コストが増加したり
することを防止することが可能になるので、面内均一性
の向上を図るとともに、製造コストの増加を抑えること
ができる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the spin coating method according to the fourth aspect, the inner diameter r of the nozzle is
Is set within the range of 0.20 mm ≦ r <2.00 mm, the coating amount may be insufficient due to insufficient discharge amount, or the discharge amount may become excessive and the manufacturing cost may increase. Since it is possible to prevent the above, it is possible to improve the in-plane uniformity and suppress an increase in manufacturing cost.

【0171】請求項6記載の発明によれば、請求項1、
2、3、4または5記載のスピンコーティング方法にお
いて、前記塗布工程では、前記ノズルの先端を前記被膜
面に正対させ、前記塗布液を前記被膜面の軸心方向に吐
出させることにより、塗布液を確実に被膜面に吐出する
ことができるので、塗布液を過剰に消費することを防止
することができる。
According to the invention of claim 6, claim 1,
In the spin coating method according to 2, 3, 4 or 5, coating is performed by causing the tip of the nozzle to face the coating surface and discharging the coating liquid in the axial direction of the coating surface in the coating step. Since the liquid can be reliably discharged onto the coating surface, it is possible to prevent the coating liquid from being excessively consumed.

【0172】請求項7記載の発明によれば、請求項1、
2、3、4、5または6記載のスピンコーティング方法
において、前記塗布液の吐出時間tを、1.0sec≦
t<10secの範囲内に設定することにより、吐出時
間を調整することで吐出量を調整して、必要十分な塗布
液を塗布することができる。
According to the invention of claim 7, claim 1,
In the spin coating method described in 2, 3, 4, 5 or 6, the discharge time t of the coating liquid is 1.0 sec ≦
By setting it within the range of t <10 sec, the discharge amount can be adjusted by adjusting the discharge time, and the necessary and sufficient coating liquid can be applied.

【0173】請求項8記載の発明は、請求項1、2、
3、4、5、6または7記載のスピンコーティング方法
において、前記塗布工程では、前記被膜媒体の回転速度
Sを、10rpm≦S<1000rpmの範囲内に設定
することにより、塗布液を軸心を中心とする真円形状に
塗布することができるので、被膜面上で偏りなく塗布液
を塗布することができる。
The invention according to claim 8 is the same as claim 1, 2 or
In the spin coating method according to 3, 4, 5, 6 or 7, in the coating step, the rotation speed S of the coating medium is set within a range of 10 rpm ≤ S <1000 rpm, so that the coating liquid is centered on the axis. Since it can be applied in a perfect circular shape with the center, the application liquid can be applied evenly on the coating surface.

【0174】請求項9記載の発明によれば、請求項1、
2、3、4、5、6または7記載のスピンコーティング
方法において、前記塗布工程では、前記被膜媒体の回転
速度Sを、10rpm≦S<1000rpmの範囲内で
複数に変動させることにより、塗布液を、軸心を中心と
する真円形状に塗布することができるので、被膜面上で
偏りなく塗布液を塗布することができる。
According to the invention of claim 9, claim 1,
In the spin coating method according to 2, 3, 4, 5, 6 or 7, in the coating step, the coating liquid is changed by changing the rotation speed S of the coating medium to a plurality within a range of 10 rpm ≦ S <1000 rpm. Can be applied in a perfect circular shape centered on the axis, so that the coating liquid can be applied evenly on the coating surface.

【0175】請求項10記載の発明によれば、請求項8
または9記載のスピンコーティング方法において、前記
塗布工程後に、前記被膜媒体の回転速度を加速させて前
記被膜媒体から前記塗布液を振り切る余り処理工程を含
み、この余り処理工程における前記被膜媒体の回転速度
S’を、1000rpm≦S’≦8000rpmの範囲
内に設定することにより、被膜面上に塗布された塗布液
の面内均一性を低下させることなく、余分な塗布液を必
要最短時間で振り切ることができるので、生産効率の向
上を図ることができる。
According to the invention of claim 10, claim 8 is provided.
The spin coating method according to claim 9, further comprising a residual treatment step of accelerating the rotation speed of the coating medium to shake off the coating liquid from the coating medium after the coating step, the rotational speed of the coating medium in the residual treatment step. By setting S ′ within the range of 1000 rpm ≦ S ′ ≦ 8000 rpm, the excess coating liquid is shaken off in the necessary minimum time without deteriorating the in-plane uniformity of the coating liquid applied on the coating surface. Therefore, the production efficiency can be improved.

【0176】請求項11記載の発明によれば、請求項1
ないし10のいずれか一に記載のスピンコーティング方
法において、前記塗布工程、前記余り処理工程を、一定
温度Tに保たれた環境下で行い、この一定温度Tを、1
5℃≦T<30℃の範囲内に設定することにより、量産
に際して、塗布液に含まれる成分が蒸発/揮発等によっ
て経時変化してしまうことを抑制することができるの
で、長時間に亘って品質の安定化を図ることができる。
According to the invention of claim 11, claim 1
11. In the spin coating method according to any one of 1 to 10, the coating step and the residual treatment step are performed in an environment kept at a constant temperature T, and the constant temperature T is set to 1
By setting in the range of 5 ° C. ≦ T <30 ° C., it is possible to prevent the components contained in the coating liquid from changing with time due to evaporation / volatilization or the like during mass production. It is possible to stabilize the quality.

【0177】請求項12記載の発明の光ディスクによれ
ば、被膜面を有する透明な被膜媒体と、前記被膜媒体の
前記被膜面に積層された反射層と、前記反射層に積層さ
れた保護層と、を具備し、少なくとも前記保護層が請求
項1ないし11のいずれか一に記載のスピンコーティン
グ方法によって形成されているため、面内均一性の良好
な薄膜を有する光ディスクを安定して量産することがで
きる。
According to the optical disk of the twelfth aspect, a transparent coated medium having a coated surface, a reflective layer laminated on the coated surface of the coated medium, and a protective layer laminated on the reflective layer. , And at least the protective layer is formed by the spin coating method according to any one of claims 1 to 11, thereby stably mass-producing an optical disk having a thin film having good in-plane uniformity. You can

【0178】請求項13記載の発明の光ディスクは、被
膜面を有する透明な被膜媒体と、前記被膜媒体の前記被
膜面に積層された記録層と、前記記録層に積層された反
射層と、前記反射層に積層された保護層と、を具備し、
前記記録層または前記保護層の少なくとも一方が請求項
1ないし11のいずれか一に記載のスピンコーティング
方法によって形成されているため、面内均一薄膜を有す
る光ディスクを安定して量産することができる。
[0178] An optical disc according to a thirteenth aspect of the present invention is a transparent coated medium having a coated surface, a recording layer laminated on the coated surface of the coated medium, a reflective layer laminated on the recording layer, and A protective layer laminated on the reflective layer,
Since at least one of the recording layer and the protective layer is formed by the spin coating method according to any one of claims 1 to 11, optical disks having an in-plane uniform thin film can be stably mass-produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の光ディスクの構造を示
す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a structure of an optical disc according to an embodiment of the present invention.

【図2】スピンコーターを示す概略図である。FIG. 2 is a schematic view showing a spin coater.

【図3】その一部を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a part thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光ディスク 2 被膜媒体 2a 被膜面 3 反射層 5 保護層 7 記録層 14 ノズル 1 optical disc 2 coating media 2a coating surface 3 reflective layer 5 protective layer 7 Recording layer 14 nozzles

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Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被膜面に直交する軸心を中心として回転
される被膜媒体に対してノズルから塗布液を吐出させ、
前記被膜面上の前記塗布液に作用する遠心力により前記
被膜面に前記塗布液を塗布する塗布工程と、 前記被膜面に塗布された前記塗布液を固化させて薄膜を
形成する薄膜工程と、を含み、 前記塗布液の表面張力γおよび粘度ηを、 20mN/s≦γ<30mN/s、 0.50mPa・s≦η<30mPa・s、 0.50≦γ/η の範囲内に設定するスピンコーティング方法。
1. A coating liquid is discharged from a nozzle onto a coating medium which is rotated around an axis perpendicular to the coating surface,
A coating step of applying the coating solution to the coating surface by a centrifugal force acting on the coating solution on the coating surface, and a thin film step of solidifying the coating solution applied to the coating surface to form a thin film, The surface tension γ and the viscosity η of the coating liquid are set within a range of 20 mN / s ≦ γ <30 mN / s, 0.50 mPa · s ≦ η <30 mPa · s, and 0.50 ≦ γ / η. Spin coating method.
【請求項2】 前記塗布液は、シアニン系色素、アゾ系
色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素
のうち少なくとも一の色素と、前記色素を溶解させる有
機溶剤とを含む請求項1記載のスピンコーティング方
法。
2. The spin coating composition according to claim 1, wherein the coating liquid contains at least one of a cyanine dye, an azo dye, a phthalocyanine dye, and a naphthalocyanine dye, and an organic solvent that dissolves the dye. Coating method.
【請求項3】 前記塗布液は、紫外線硬化型樹脂を含む
請求項1記載のスピンコーティング方法。
3. The spin coating method according to claim 1, wherein the coating liquid contains an ultraviolet curable resin.
【請求項4】 前記ノズルの先端と前記被膜面との距離
D、前記ノズルから吐出される前記塗布液に加える吐出
圧力Pを、 1.0mm≦D<5.0mm、 0.1kgf/cm≦P<1.5kgf/cm の範囲内に設定する請求項1、2または3記載のスピン
コーティング方法。
4. The distance D between the tip of the nozzle and the coating surface and the discharge pressure P applied to the coating liquid discharged from the nozzle are 1.0 mm ≦ D <5.0 mm, 0.1 kgf / cm 2 The spin coating method according to claim 1, wherein the spin coating method is set within a range of ≦ P <1.5 kgf / cm 2 .
【請求項5】 前記ノズルの内径rを、 0.20mm≦r<2.00mm の範囲内に設定する請求項4記載のスピンコーティング
方法。
5. The spin coating method according to claim 4, wherein the inner diameter r of the nozzle is set within a range of 0.20 mm ≦ r <2.00 mm.
【請求項6】 前記塗布工程では、前記ノズルの先端を
前記被膜面に正対させ、前記塗布液を前記被膜面の軸心
方向に吐出させる請求項1、2、3、4または5記載の
スピンコーティング方法。
6. The coating process according to claim 1, wherein the tip of the nozzle is made to face the coating surface, and the coating liquid is discharged in the axial direction of the coating surface. Spin coating method.
【請求項7】 前記塗布液の吐出時間tを、 1.0sec≦t<10sec の範囲内に設定する請求項1、2、3、4、5または6
記載のスピンコーティング方法。
7. The discharge time t of the coating liquid is set within a range of 1.0 sec ≦ t <10 sec.
The spin coating method described.
【請求項8】 前記塗布工程では、前記被膜媒体の回転
速度Sを、 10rpm≦S<1000rpm の範囲内に設定する請求項1、2、3、4、5、6また
は7記載のスピンコーティング方法。
8. The spin coating method according to claim 1, wherein in the coating step, the rotation speed S of the coating medium is set within a range of 10 rpm ≦ S <1000 rpm. .
【請求項9】 前記塗布工程では、前記被膜媒体の回転
速度Sを、 10rpm≦S<1000rpm の範囲内で複数に変動させる請求項1、2、3、4、
5、6または7記載のスピンコーティング方法。
9. In the coating step, the rotational speed S of the coating medium is changed to a plurality within the range of 10 rpm ≦ S <1000 rpm.
The spin coating method according to 5, 6, or 7.
【請求項10】 前記塗布工程後に、前記被膜媒体の回
転速度を加速させて前記被膜媒体から前記塗布液を振り
切る余り処理工程を含み、この余り処理工程における前
記被膜媒体の回転速度S’を、 1000rpm≦S’≦8000rpm の範囲内に設定する請求項8または9記載のスピンコー
ティング方法。
10. After the coating step, a residual treatment step of accelerating the rotation speed of the coating medium to shake off the coating liquid from the coating medium is included, and the rotational speed S ′ of the coating medium in the residual treatment step is The spin coating method according to claim 8, wherein the spin coating method is set within a range of 1000 rpm ≦ S ′ ≦ 8000 rpm.
【請求項11】 前記塗布工程、前記余り処理工程を、
一定温度Tに保たれた環境下で行い、この一定温度T
を、 15℃≦T<30℃ の範囲内に設定する請求項1ないし10のいずれか一に
記載のスピンコーティング方法。
11. The coating step and the residual treatment step
Performed in an environment kept at a constant temperature T, the constant temperature T
Is set within a range of 15 ° C. ≦ T <30 ° C. 11. The spin coating method according to claim 1, wherein
【請求項12】 被膜面を有する透明な被膜媒体と、 前記被膜媒体の前記被膜面に積層された反射層と、 前記反射層に積層された保護層と、を具備し、 少なくとも前記保護層が請求項1ないし11のいずれか
一に記載のスピンコーティング方法によって形成されて
いる光ディスク。
12. A transparent coated medium having a coated surface, a reflective layer laminated on the coated surface of the coated medium, and a protective layer laminated on the reflective layer, at least the protective layer being provided. An optical disc formed by the spin coating method according to claim 1.
【請求項13】 被膜面を有する透明な被膜媒体と、 前記被膜媒体の前記被膜面に積層された記録層と、 前記記録層に積層された反射層と、 前記反射層に積層された保護層と、を具備し、 前記記録層または前記保護層の少なくとも一方が請求項
1ないし11のいずれか一に記載のスピンコーティング
方法によって形成されている光ディスク。
13. A transparent coated medium having a coated surface, a recording layer laminated on the coated surface of the coated medium, a reflective layer laminated on the recording layer, and a protective layer laminated on the reflective layer. An optical disc having at least one of the recording layer and the protective layer formed by the spin coating method according to claim 1.
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