JP2003183525A - Flame retardant resin composition, sealing material and laminated plate using the same - Google Patents

Flame retardant resin composition, sealing material and laminated plate using the same

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JP2003183525A
JP2003183525A JP2001386825A JP2001386825A JP2003183525A JP 2003183525 A JP2003183525 A JP 2003183525A JP 2001386825 A JP2001386825 A JP 2001386825A JP 2001386825 A JP2001386825 A JP 2001386825A JP 2003183525 A JP2003183525 A JP 2003183525A
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JP
Japan
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group
flame
resin composition
retardant resin
resin
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Pending
Application number
JP2001386825A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Tamura
健 田村
Yoshifusa Hara
原  義房
Yutaka Konose
豊 木ノ瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Chemical Industrial Co Ltd
Original Assignee
Nippon Chemical Industrial Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition having flame retardation, a sealing material and a laminated plate using the same. <P>SOLUTION: The flame retardant resin composition contains a phosphorus- containing hydroquinone derivative represented by general formula (1): (wherein R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each a straight chained or branched alkyl group or a cycloalkyl group which may be substituted, one or more methylene groups in the alkyl group may be substituted with -CH=CH-, R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>may be a same group to or different groups, and R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>may form a cyclic one containing or not containing P; X is an oxygen atom or a sulfur atom; Y and Z are each a hydrogen atom, a hydroxyl group, a straight chained or branched alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an allyl group, an aryl group or a cyano group, Y and Z may be a same group or different groups, and Y and Z together may form a cyclic one). <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐湿性にすぐれ、
かつ優れた難燃性を付与することができる添加型のノン
ハロゲン系難燃剤を含有する難燃性樹脂組成物及びこれ
を用いた封止材および積層板に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention has excellent moisture resistance,
The present invention also relates to a flame-retardant resin composition containing an addition-type non-halogen flame retardant capable of imparting excellent flame retardancy, a sealant using the same, and a laminate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、樹脂用難燃剤として、塩素、臭素
などのハロゲン化物、リン系化合物、チッソ系化合物あ
るいはアンチモン、ホウ素系の無機化合物が使用されて
きた。しかしながら、近年は、燃焼の際に人体に有毒な
ダイオキシン類が発生する臭素、塩素系は敬遠される傾
向があり、ノンハロゲン系の難燃剤への要望が高まって
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, halogen compounds such as chlorine and bromine, phosphorus compounds, nitrogen compounds, antimony and boron inorganic compounds have been used as flame retardants for resins. However, in recent years, bromine and chlorine compounds, which generate toxic dioxin for humans upon combustion, have been shunned, and there is an increasing demand for non-halogen flame retardants.

【0003】ノンハロゲンの難燃剤としては、硬化性樹
脂に対して、例えば、赤燐を配合した樹脂組成物(特公
昭59−49942号公報)、エポキシ樹脂の難燃剤と
して水和アルミナ(特開平5−25369号公報)、改
質赤燐(特開昭63−156860号公報)、フェノー
ル樹脂に対してホウ酸カルシウムと水酸化アルミニウム
または水酸化マグネシウム(特開平5−43774号公
報)、フェノール樹脂に対してホウ酸と三酸化アンチモ
ン(特開昭60−81244号公報)、ポリウレタン樹
脂に対して分子内に3つのトリアジン構造を有する化合
物(特開昭53−21241号公報)等が提案されてい
る。
As a non-halogen flame retardant, for example, a resin composition in which red phosphorus is mixed with a curable resin (Japanese Patent Publication No. 59-49942), and hydrated alumina as a flame retardant for epoxy resin (Japanese Patent Laid-Open No. HEI 5 (1999) -58242). No. 25369), modified red phosphorus (JP-A-63-156860), phenol resin with calcium borate and aluminum hydroxide or magnesium hydroxide (JP-A-5-43774), phenol resin. On the other hand, boric acid and antimony trioxide (JP-A-60-81244), compounds having three triazine structures in the molecule with respect to polyurethane resin (JP-A-53-21241) and the like have been proposed. .

【0004】一方、熱可塑性樹脂に対しては、ポリアミ
ド樹脂用として水酸化マグネシウム(特開昭54−83
952号公報及び特開昭54−131645号公報)、
及びメラミンシアヌレート(特開昭53−31759号
公報、特開昭54−91558号公報)、ポリカーボネ
ート用として有機スルホン酸塩(特開昭50−9853
9号公報、特開昭50−98540号公報)、スルフィ
ド酸塩(特公平1−22304号公報)、ポリフェニレ
ンオキシド用としてホスホネート化合物とポリリン酸ア
ンモニウム(特開昭52−86449号公報)、ホスフ
ェート化合物と三酸化アンチモン(特開昭49−329
747号公報)、ポリエステル用としてポリホスホネー
ト(米国特許第3719727号)等の難燃剤が提案さ
れている。
On the other hand, with respect to thermoplastic resins, magnesium hydroxide for polyamide resins (Japanese Patent Laid-Open No. 54-83)
952 and JP-A-54-131645),
And melamine cyanurate (JP-A-53-31759 and JP-A-54-91558), organic sulfonates for polycarbonate (JP-A-50-9853).
No. 9, JP-A No. 50-98540), sulfide salts (Japanese Patent Publication No. 1-23043), phosphonate compounds for polyphenylene oxide and ammonium polyphosphate (JP-A No. 52-86449), and phosphate compounds. And antimony trioxide (JP-A-49-329)
No. 747) and polyphosphonates (US Pat. No. 3,719,727) for polyesters have been proposed.

【0005】しかしながら、上記の難燃剤の中で、赤燐
は赤褐色であるため、赤燐によって樹脂が着色してしま
い、カラーリングが不可能となる。また、樹脂の熱加工
あるいは焼却の際に、ホスフィンガスが発生するため作
業環境が悪化し、これを抑制するために赤燐を被覆剤に
より被覆するものもあるが、ホスフィンガスの発生を完
全には抑制することができない。有機リン系難燃剤は、
ノンハロゲン系の難燃剤として特に注目されている。現
在、有機リン系難燃剤は、リン酸エステル、ホスファイ
ト系が各種提案されている。
However, among the above flame retardants, since red phosphorus is reddish brown, the resin is colored by red phosphorus, making coloring impossible. In addition, when the resin is thermally processed or incinerated, phosphine gas is generated, which deteriorates the working environment, and there are some cases in which red phosphorus is coated with a coating agent to suppress this, but the generation of phosphine gas is completely eliminated. Cannot be suppressed. Organic phosphorus flame retardants are
It has received particular attention as a non-halogen flame retardant. At present, various types of phosphoric acid ester and phosphite-based flame retardants have been proposed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】また、特公平1−50
712号公報には下記一般式(4)
[Patent Document 1] Japanese Patent Publication No. 1-50
In Japanese Patent No. 712, the following general formula (4)

【化4】 で表される10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−
10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−
10−オキサイドが高分子化合物の難燃剤として有用で
あることが記載されている。
[Chemical 4] Represented by 10- (2,5-dihydroxyphenyl)-
10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-
It is described that 10-oxide is useful as a flame retardant for polymer compounds.

【0007】しかし、一般式(4)の化合物やリン酸エ
ステル系化合物は、分子内に加水分解性であるP−O結
合を有するため耐湿性に問題があり、特に電気部品用の
樹脂に使用したものは、有機リン化合物の分解によるリ
ン酸が溶出し、電気特性が低下するという問題がある。
したがって本発明の目的は、耐湿性に優れた難燃性樹脂
組成物、それを用いてなる封止材及び積層板を提供する
ことにある。
However, the compound of the general formula (4) and the phosphoric acid ester-based compound have a problem of moisture resistance because they have a hydrolyzable P—O bond in the molecule, and are particularly used for resins for electric parts. However, there is a problem in that the phosphoric acid is eluted due to the decomposition of the organic phosphorus compound and the electrical characteristics are deteriorated.
Therefore, it is an object of the present invention to provide a flame-retardant resin composition having excellent moisture resistance, a sealing material using the same, and a laminate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】かかる課題は、下記一般
式(1)
[Means for Solving the Problems] This problem is solved by the following general formula (1):

【化5】 (式中、R1およびR2は置換されていてもよい直鎖状又
は分岐状のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、
該アルキル基中の1つあるいは2つ以上のメチレン基は
−CH=CH−によって置き換えられていてもよく、R
1とR2は同一な基であっても異なる基であってもよく、
またR1とR2はPを含んであるいはPを含まないで環状
物を形成していてもよい。Xは酸素原子又は硫黄原子を
示す。Y、Zは水素原子、水酸基、直鎖状又は分岐状の
アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリル基、
アリール基又はシアノ基を示し、YとZはそれぞれが同
一の基であっても異なる基であってもよく、YとZで環
状物を形成してもよい。)で表される含リンハイドロキ
ノン誘導体を含有することを特徴とする難燃性樹脂組成
物により、達成される。
[Chemical 5] (In the formula, R 1 and R 2 represent an optionally substituted linear or branched alkyl group or cycloalkyl group,
One or more methylene groups in the alkyl group may be replaced by -CH = CH-, R
1 and R 2 may be the same group or different groups,
In addition, R 1 and R 2 may form a cyclic compound containing P or not containing P. X represents an oxygen atom or a sulfur atom. Y and Z are a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an allyl group,
It represents an aryl group or a cyano group, and Y and Z may be the same group or different groups, and Y and Z may form a ring. And a phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the formula (1).

【0009】前記R1とR2が形成する環状物は、下記一
般式(2)または一般式(3)で表されるものが望まし
い。
The ring formed by R 1 and R 2 is preferably represented by the following general formula (2) or general formula (3).

【化6】 (式中、R3は置換されていてもよいアルキレン基を示
す。)
[Chemical 6] (In the formula, R 3 represents an optionally substituted alkylene group.)

【0010】[0010]

【化7】 (式中、R4は置換されていてもよいシクロアルキレン
基またはアリーレン基をす。)
[Chemical 7] (In the formula, R 4 represents an optionally substituted cycloalkylene group or arylene group.)

【0011】また、前記含リンハイドロキノン誘導体
は、平均粒径が100μm以下であることが好ましい。
また、前記難燃性樹脂はエポキシ樹脂であることが好ま
しい。
The phosphorus-containing hydroquinone derivative preferably has an average particle size of 100 μm or less.
The flame-retardant resin is preferably an epoxy resin.

【0012】さらに、本発明の第二の発明は、上記の難
燃性エポキシ樹脂組成物を用いてなることを特徴とする
封止材である。本発明の第三の発明は、上記の難燃性エ
ポキシ樹脂組成物を用いてなることを特徴とする積層板
である。
Further, a second invention of the present invention is a sealing material comprising the above flame-retardant epoxy resin composition. A third invention of the present invention is a laminated board characterized by using the above flame-retardant epoxy resin composition.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の難燃性樹脂組成物は、下記一般式(1)
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.
The flame-retardant resin composition of the present invention has the following general formula (1).

【化8】 で表される含リンハイドロキノン誘導体を含有すること
を特徴とするものである。
[Chemical 8] It is characterized by containing the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by

【0014】<含リンハイドロキノン誘導体>一般式
(1)式中、R1およびR2は、置換されていてもよい直
鎖状又は分岐状のアルキル基を示し、アルキル基として
は、炭素数1〜18、好ましくは炭素数1〜8のアルキ
ル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、3級ブチル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のアルキル
基を例示することが出来る。また、式中のR1とR2は、
それぞれが同一の基であっても異なる基であってもよ
い。また、該アルキル基中の1つあるいは2つ以上のメ
チレン基は−CH=CH−によって置き換えられていて
もよく、具体的には、ビニル基、アリル基、イソプロペ
ニル基等が挙げられる。
<Phosphorus-containing hydroquinone derivative> In the general formula (1), R 1 and R 2 represent an optionally substituted linear or branched alkyl group, and the alkyl group has 1 carbon atom. To 18, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tertiary butyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Can be illustrated. R 1 and R 2 in the formula are
Each may be the same group or different groups. Further, one or two or more methylene groups in the alkyl group may be replaced by -CH = CH-, and specific examples thereof include a vinyl group, an allyl group and an isopropenyl group.

【0015】また、R1およびR2は置換されていてもよ
く、置換基としてはフェニル基、アルコキシ基、シアノ
基、水酸基等が挙げられる。置換されているR1および
2は、具体的には、ベンジル基等のアラルキル基、シ
アノアルキル基、シアノアルケニル基、ヒドロキシアル
キル基、ヒドロキシアルケニル基等が挙げられる。
R 1 and R 2 may be substituted, and examples of the substituent include a phenyl group, an alkoxy group, a cyano group and a hydroxyl group. Specific examples of the substituted R 1 and R 2 include an aralkyl group such as a benzyl group, a cyanoalkyl group, a cyanoalkenyl group, a hydroxyalkyl group and a hydroxyalkenyl group.

【0016】また、R1とR2はPを含んであるいはPを
含まないで環状物を形成していてもよい。R1およびR2
がPを含んで環状物を形成する場合は、下記一般式
(2)で表される結合で形成された環状物が挙げられ
る。
R 1 and R 2 may form a ring containing P or not containing P. R 1 and R 2
When P includes P to form a cyclic compound, a cyclic compound formed by a bond represented by the following general formula (2) can be mentioned.

【0017】[0017]

【化9】 [Chemical 9]

【0018】一般式(2)中、R3は置換されていても
よいアルキレン基を示す。アルキレン基としては、炭素
数3〜9、好ましくは炭素数4〜6のアルキレン基であ
り、具体的には、プロピレン基、ブチレン基、ペンタメ
チレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オク
タメチレン基、ノナメチレン基等を挙げることができ
る。R3は置換されていてもよく、置換基としてはフェ
ニル基、アルコキシ基、シアノ基、水酸基等が挙げられ
る。
In the general formula (2), R 3 represents an optionally substituted alkylene group. The alkylene group is an alkylene group having 3 to 9 carbon atoms, preferably 4 to 6 carbon atoms, and specifically, a propylene group, a butylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, an octamethylene group. , Nonamethylene group and the like. R 3 may be substituted, and examples of the substituent include a phenyl group, an alkoxy group, a cyano group and a hydroxyl group.

【0019】R1およびR2がPを含まないで環状物を形
成する場合は、下記一般式(3)で表される結合で形成
された環状物が挙げられる。
When R 1 and R 2 do not contain P to form a cyclic compound, a cyclic compound formed by a bond represented by the following general formula (3) can be mentioned.

【0020】[0020]

【化10】 一般式(3)中、R4は置換されていてもよいシクロア
ルキレン基またはアリーレン基を示す。
[Chemical 10] In formula (3), R 4 represents an optionally substituted cycloalkylene group or arylene group.

【0021】シクロアルキレン基としては、炭素数4〜
9、好ましくは炭素数5〜7のシクロアルキレン基であ
り、具体的には、シクロブチレン基、シクロペンタメチ
レン基、シクロヘキサメチレン基、シクロヘプタメチレ
ン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基等を挙げ
ることができる。アリーレン基としては、フェニレン
基、ビフェニレン基、ナフチレン基等を挙げることがで
きる。
The cycloalkylene group has 4 to 4 carbon atoms.
9, preferably a cycloalkylene group having 5 to 7 carbon atoms, and specific examples thereof include a cyclobutylene group, a cyclopentamethylene group, a cyclohexamethylene group, a cycloheptamethylene group, a cyclooctylene group, and a cyclononylene group. be able to. Examples of the arylene group include a phenylene group, a biphenylene group and a naphthylene group.

【0022】R4は置換されていてもよく、置換基とし
てはフェニル基、アルコキシ基、シアノ基、水酸基等が
挙げられる。また、これらのR3およびR4の置換基の中
に、酸素原子,硫黄原子,窒素原子等のヘテロ原子が含
まれていても良い。
R 4 may be substituted, and examples of the substituent include a phenyl group, an alkoxy group, a cyano group and a hydroxyl group. Further, a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom may be contained in the substituents of R 3 and R 4 .

【0023】式中のXは酸素原子、硫黄原子を示し、好
ましくは酸素原子である。式中のY、Zは、水素原子、
水酸基、直鎖状又は分岐状のアルキル基、ベンジル基等
のアラルキル基、アリル基、フェニル基等のアリール
基、メトキシ基,エトキシ基,プロポキシ基,フェニル
オキシ基等のアルコキシ基またはシアノ基を示す。アル
キル基としては、炭素数1〜18、好ましくは炭素数1
〜6であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、3級ブチル基、シクロヘキシル
基等のアルキル基を例示することが出来る。該アルキル
基中の1つあるいは2つ以上のメチレン基は−CH=C
H−によって置き換えられていてもよい。また、Y及び
Zは、それぞれが同一の基であっても異なる基であって
もよい。
X in the formula represents an oxygen atom or a sulfur atom, preferably an oxygen atom. In the formula, Y and Z are hydrogen atoms,
Hydroxyl group, linear or branched alkyl group, aralkyl group such as benzyl group, aryl group such as allyl group and phenyl group, alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group and phenyloxy group, or cyano group . The alkyl group has 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 carbon atom
To 6 and specific examples thereof include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tertiary butyl group, and a cyclohexyl group. One or more methylene groups in the alkyl group are -CH = C.
It may be replaced by H-. Further, Y and Z may be the same group or different groups.

【0024】またYとZは環状物を形成している基でも
よく、Y及びZが環状物を形成している基の例示として
は、下記の式および名称で示される環状基が挙げられ
る。
Further, Y and Z may be a group forming a ring, and examples of the group in which Y and Z form a ring include the ring groups represented by the following formulas and names.

【0025】[0025]

【化11】 但し、()内の名称はハイドロキノンを含む環の名称を
表わす。また,これらの置換基の中に、酸素原子,硫黄
原子,窒素原子等のヘテロ原子が含まれていても良い。
[Chemical 11] However, the name in parentheses represents the name of the ring containing hydroquinone. In addition, a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom may be contained in these substituents.

【0026】前記一般式(1)で表される含リンハイド
ロキノン誘導体の具体的な化合物を例示すると、ジメチ
ルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、ジエチルホス
ホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−n−プロピルホ
スホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−iso−プロ
ピルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−n−ブ
チルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−sec
−ブチルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−t
ert−ブチルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、
ジベンジルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、
Specific examples of the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) include dimethylphosphonyl-1,4-hydroquinone, diethylphosphonyl-1,4-hydroquinone and di-n-. Propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, di-iso-propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, di-n-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, di-sec
-Butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, di-t
ert-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone,
Dibenzylphosphonyl-1,4-hydroquinone,

【0027】メチルエチルホスホニル−1,4−ハイド
ロキノン、メチル−n−プロピルホスホニル−1,4−
ハイドロキノン、メチル−n−ブチルホスホニル−1,
4−ハイドロキノン、メチル−iso−ブチルホスホニ
ル−1,4−ハイドロキノン、メチル−sec−ブチル
ホスホニル−1,4−ハイドロキノン、メチル−ter
t−ブチルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、エチ
ル−n−プロピルホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、エチル−iso−プロピルホスホニル−1,4−ハ
イドロキノン、エチル−tert−ブチルホスホニル−
1,4−ハイドロキノン、n−プロピル−iso−プロ
ピルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、n−プロピ
ル−n−ブチルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、
n−プロピル−sec−ブチルホスホニル−1,4−ハ
イドロキノン、n−ブチル−sec−ブチルホスホニル
−1,4−ハイドロキノン、n−ブチル−tert−ブ
チルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、
Methylethylphosphonyl-1,4-hydroquinone, methyl-n-propylphosphonyl-1,4-
Hydroquinone, methyl-n-butylphosphonyl-1,
4-hydroquinone, methyl-iso-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, methyl-sec-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, methyl-ter
t-Butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, ethyl-n-propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, ethyl-iso-propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, ethyl-tert-butylphosphonyl-
1,4-hydroquinone, n-propyl-iso-propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, n-propyl-n-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone,
n-propyl-sec-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, n-butyl-sec-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, n-butyl-tert-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone,

【0028】プロピレンホスホニル−1,4−ハイドロ
キノン、ブチレンホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、ペンタメチレンホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、ヘキサメチレンホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、1,4−シクロペンチレンホスホニル−1,4−ハ
イドロキノン、1,4−シクロオクチレンホスホニル−
1,4−ハイドロキノン、1,5−シクロオクチレンホ
スホニル−1,4−ハイドロキノン、
Propylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, butylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, pentamethylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, hexamethylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, 1,4-cyclo. Pentylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, 1,4-cyclooctylenephosphonyl-
1,4-hydroquinone, 1,5-cyclooctylenephosphonyl-1,4-hydroquinone,

【0029】2−(ジエチルホスホニル)−1,4−ナ
フタレンジオール、2−(ジメチルホスホニル)−1,
4−ナフタレンジオール、2−(ジエチルホスホニル)
−1,4−ナフタレンジオール、2−(ジ−n−プロピ
ルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−
(ジ−iso−プロピルホスホニル)−1,4−ナフタ
レンジオール、2−(ジ−n−ブチルホスホニル)−
1,4−ナフタレンジオール、2−(ジ−sec−ブチ
ルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−
(ジ−tert−ブチルホスホニル)−1,4−ナフタ
レンジオール、2−(ジベンジルホスホニル)−1,4
−ナフタレンジオール、
2- (diethylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (dimethylphosphonyl) -1,
4-naphthalenediol, 2- (diethylphosphonyl)
-1,4-naphthalenediol, 2- (di-n-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2-
(Di-iso-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (di-n-butylphosphonyl)-
1,4-naphthalenediol, 2- (di-sec-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2-
(Di-tert-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (dibenzylphosphonyl) -1,4
-Naphthalene diol,

【0030】2−(メチルエチルホスホニル)−1,4
−ナフタレンジオール、2−(メチル−n−プロピルホ
スホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(メチ
ル−n−ブチルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオ
ール、2−(メチル−iso−ブチルホスホニル)−
1,4−ナフタレンジオール、2−(メチル−sec−
ブチルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2
−(メチル−tert−ブチルホスホニル)−1,4−
ナフタレンジオール、2−(エチル−n−プロピルホス
ホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(エチル
−iso−プロピルホスホニル)−1,4−ナフタレン
ジオール、2−(エチル−tert−ブチルホスホニ
ル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(n−プロピ
ル−iso−プロピルホスホニル)−1,4−ナフタレ
ンジオール、2−(n−プロピル−n−ブチルホスホニ
ル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(n−プロピ
ル−sec−ブチルホスホニル)−1,4−ナフタレン
ジオール、2−(n−ブチル−sec−ブチルホスホニ
ル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(n−ブチル
−tert−ブチルホスホニル)−1,4−ナフタレン
ジオール、
2- (methylethylphosphonyl) -1,4
-Naphthalenediol, 2- (methyl-n-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (methyl-n-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (methyl-iso-butylphosphonyl)-
1,4-naphthalenediol, 2- (methyl-sec-
Butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2
-(Methyl-tert-butylphosphonyl) -1,4-
Naphthalenediol, 2- (ethyl-n-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (ethyl-iso-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (ethyl-tert-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (n-propyl-iso-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (n-propyl-n-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (N-Propyl-sec-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (n-butyl-sec-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (n-butyl-tert-butylphosphonyl) -1, 4-naphthalenediol,

【0031】2−(プロピレンホスホニル)−1,4−
ナフタレンジオール、2−(ブチレンホスホニル)−
1,4−ナフタレンジオール、2−(ペンタメチレンホ
スホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(ヘキ
サメチレンホスホニル)−1,4−ナフタレンジオー
ル、2−(1,4−シクロペンチレンホスホニル)−
1,4−ナフタレンジオール、2−(1,4−シクロオ
クチレンホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール、
2−(1,5−シクロオクチレンホスホニル)−1,4
−ナフタレンジオール、等を例示することが出来る。
2- (propylenephosphonyl) -1,4-
Naphthalenediol, 2- (butylenephosphonyl)-
1,4-naphthalene diol, 2- (pentamethylene phosphonyl) -1,4-naphthalene diol, 2- (hexamethylene phosphonyl) -1,4-naphthalene diol, 2- (1,4-cyclopentylene phospho) Nil)-
1,4-naphthalenediol, 2- (1,4-cyclooctylenephosphonyl) -1,4-naphthalenediol,
2- (1,5-cyclooctylenephosphonyl) -1,4
Examples thereof include naphthalene diol.

【0032】なお、本発明においては、前記した含リン
ハイドロキノン誘導体は、反応原料から由来する該含リ
ンハイドロキノン誘導体同士の混合物であってもよい。
In the present invention, the phosphorus-containing hydroquinone derivative may be a mixture of the phosphorus-containing hydroquinone derivatives derived from the reaction raw material.

【0033】次いで、前記含リンハイドロキノン誘導体
の製造方法について説明する。本発明の前記一般式
(1)で表される含リンハイドロキノン誘導体は、下記
一般式(5)で表される第2級ホスフィン誘導体から選
ばれる少なくとも1種と、下記一般式(6)で表される
ベンゾキノン誘導体とを反応させることにより製造する
ことができる。
Next, a method for producing the phosphorus-containing hydroquinone derivative will be described. The phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) of the present invention is represented by at least one selected from the secondary phosphine derivative represented by the following general formula (5) and the following general formula (6). It can be produced by reacting with a benzoquinone derivative.

【0034】下記一般式(5)The following general formula (5)

【化12】 で表される第2級ホスフィン誘導体の式中、R1とR
2は、前記一般式(1)で表される含リンハイドロキノ
ン誘導体の式中のそれぞれR1及びR2に相当する基であ
る。即ちR1およびR2は、置換されていてもよい直鎖状
又は分岐状のアルキル基を示し、アルキル基としては、
炭素数1〜18、好ましくは炭素数1〜8のアルキル基
であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、3級ブチル基、シクロブチル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のアルキル基を
例示することが出来る。また、式中のR1とR2は、それ
ぞれが同一の基であっても異なる基であってもよい。ま
た、該アルキル基中の1つあるいは2つ以上のメチレン
基は−CH=CH−によって置き換えられていてもよ
い。
[Chemical 12] In the formula of the secondary phosphine derivative represented by R 1 and R
2 is a group corresponding to R 1 and R 2 in the formula of the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1). That is, R 1 and R 2 represent a linear or branched alkyl group which may be substituted, and as the alkyl group,
An alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tertiary butyl group, a cyclobutyl group,
Examples thereof include alkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group. Further, R 1 and R 2 in the formula may be the same group or different groups. Further, one or two or more methylene groups in the alkyl group may be replaced by -CH = CH-.

【0035】また、R1およびR2は置換されていてもよ
い。また、R1とR2はPを含んであるいはPを含まない
で環状物を形成していてもよい。R1およびR2がPを含
んで環状物を形成する場合は、前記一般式(2)で表さ
れる結合で形成された環状物が挙げられる。R1および
2がPを含まないで環状物を形成する場合は、前記一
般式(3)で表される結合で形成された環状物が挙げら
れる。また、式中のXは、前記一般式(1)で表される
含リンハイドロキノン誘導体の式中のXに相当し、酸素
原子、硫黄原子を示し、好ましくは酸素原子である。
Further, R 1 and R 2 may be substituted. R 1 and R 2 may form a ring containing P or not containing P. When R 1 and R 2 include P to form a cyclic compound, the cyclic compound formed by the bond represented by the general formula (2) can be mentioned. When R 1 and R 2 do not contain P to form a cyclic compound, the cyclic compound formed by the bond represented by the general formula (3) may be mentioned. Further, X in the formula corresponds to X in the formula of the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1), represents an oxygen atom or a sulfur atom, and is preferably an oxygen atom.

【0036】なお、前記一般式(5)で表される第2級
ホスフィン誘導体は、公知の方法によって製造すること
ができる。例えば、R1とR2とでPを含まない環を形成
しているシクロアルキレンホスフィンオキシドの一例を
示せば、下記反応式(1)
The secondary phosphine derivative represented by the general formula (5) can be produced by a known method. For example, if one example of cycloalkylenephosphine oxide in which R 1 and R 2 form a P-free ring is shown, the following reaction formula (1)

【化13】 で表される反応により、ホスフィン(化合物(7))と
1,5−シクロオクタジエン(化合物(8))をラジカ
ル発生触媒の存在下に反応させて、1,4−シクロオク
チレンホスフィン(化合物(9))と1,5−シクロオ
クチレンホスフィン(化合物(10))の混合物を得た
後(特開昭55−122790号公報参照)、これを酸
化することにより、目的とする1,4−シクロオクチレ
ンホスフィンオキシドと1,5−シクロオクチレンホス
フィンオキシドの混合物を得ることができる。
[Chemical 13] By the reaction represented by, phosphine (compound (7)) and 1,5-cyclooctadiene (compound (8)) are reacted in the presence of a radical generating catalyst to give 1,4-cyclooctylenephosphine (compound After obtaining a mixture of (9)) and 1,5-cyclooctylenephosphine (compound (10)) (see JP-A-55-122790), this is oxidized to obtain the desired 1,4 It is possible to obtain a mixture of cyclooctylenephosphine oxide and 1,5-cyclooctylenephosphine oxide.

【0037】また、本発明の前記一般式(1)で表され
る含リンハイドロキノン誘導体の製造方法において、前
記一般式(5)で表される第2級ホスフィン誘導体は、
互変異性体を形成していることから、反応原料の前記一
般式(5)で表される第2級ホスフィン誘導体に代え
て、下記一般式(5a)
In the method for producing the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) of the present invention, the secondary phosphine derivative represented by the general formula (5) is
Since it forms a tautomer, the following general formula (5a) is used instead of the secondary phosphine derivative represented by the general formula (5) as a reaction raw material.

【化14】 (式中、R1およびR2、Xは前記と同義である。)で表
される第2級ホスフィン誘導体を用いてもよい。
[Chemical 14] (In the formula, R 1 and R 2 and X have the same meanings as described above.) A secondary phosphine derivative represented by the formula may be used.

【0038】また、前記一般式(5)および一般式(5
a)で表される第2級ホスフィン誘導体の互変異性体は
温度によって一方の誘導体となるが、反応原料としては
一般式(5)および一般式(5a)で表される第2級ホ
スフィン誘導体のいずれか一方でもよく、または両者の
混合物でもよい。前記一般式(5a)で表される第2級
ホスフィン誘導体は、公知の方法によって製造すること
ができる。その一例を示すと、“KOZOLAPOF
F”、Vol4、475頁に記載されている方法により
製造することができる。
Further, the general formula (5) and the general formula (5
The tautomer of the secondary phosphine derivative represented by a) becomes one derivative depending on the temperature, but as the reaction raw material, the secondary phosphine derivative represented by the general formula (5) or the general formula (5a) is used. Either one of them may be used, or a mixture of both may be used. The secondary phosphine derivative represented by the general formula (5a) can be produced by a known method. One example is "KOZOLAPOF.
F ", Vol 4, page 475.

【0039】もう一方の反応原料の下記一般式(6)Another reaction raw material represented by the following general formula (6)

【化15】 で表されるベンゾキノン誘導体の式中、Y及びZは、前
記一般式(1)で表される含リンハイドロキノン誘導体
の式中のそれぞれのY及びZに相当する基である。
[Chemical 15] In the formula of the benzoquinone derivative represented by, Y and Z are groups corresponding to Y and Z in the formula of the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1).

【0040】即ちY及びZは、水素原子、水酸基、直鎖
状又は分岐状のアルキル基、ベンジル基等のアラルキル
基、アリル基、フェニル基等のアリール基、メトキシ
基,エトキシ基,プロポキシ基,フェニルオキシ基等の
アルコキシ基またはシアノ基を示す。アルキル基として
は、炭素数1〜18、好ましくは炭素数1〜6であり、
具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、3級ブチル基、シクロヘキシル基等のアルキ
ル基を例示することが出来る。また、Y及びZは、それ
ぞれが同一の基であっても異なる基であってもよい。
That is, Y and Z are hydrogen atom, hydroxyl group, linear or branched alkyl group, aralkyl group such as benzyl group, aryl group such as allyl group and phenyl group, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, An alkoxy group such as a phenyloxy group or a cyano group is shown. The alkyl group has 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms,
Specific examples thereof include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tertiary butyl group, and a cyclohexyl group. Further, Y and Z may be the same group or different groups.

【0041】またYとZは環状物を形成している基でも
よく、Y及びZが環状物を形成している基の例示として
は、前記した環状基と同様の基が挙げられる。また,こ
れらの置換基の中に、酸素原子,硫黄原子,窒素原子等
のヘテロ原子が含まれていても良い。
Further, Y and Z may be a group forming a cyclic substance, and examples of the group in which Y and Z form a cyclic substance include the same groups as the above-mentioned cyclic group. In addition, a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom may be contained in these substituents.

【0042】前記一般式(5)および(5a)で表され
る第2級ホスフィン誘導体から選ばれる少なくとも1種
と、前記一般式(6)で表されるベンゾキノン誘導体と
を不活性溶媒の存在下に反応させることにより目的とす
る前記一般式(1)で表される含リンハイドロキノン誘
導体を得ることが出来る。
At least one selected from the secondary phosphine derivatives represented by the general formulas (5) and (5a) and the benzoquinone derivative represented by the general formula (6) in the presence of an inert solvent. The desired phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) can be obtained by reacting with.

【0043】前記一般式(5)または(5a)で表され
る第2級ホスフィン誘導体に対する前記一般式(6)で
表されるベンゾキノン誘導体とのモル比は、第2級ホス
フィン誘導体1モルに対して通常1.0〜1.5、好ま
しくは1.0〜1.2である。反応温度は、反応原料の
種類にもよるが、300℃以上では、目的生成物である
前記一般式(1)で表される含リンハイドロキノン誘導
体が分解することから、通常、0〜150℃、好ましく
は25〜100℃とすることが好ましい。反応時間は、
通常1〜8時間、好ましくは2〜5時間である。
The molar ratio of the secondary phosphine derivative represented by the general formula (5) or (5a) to the benzoquinone derivative represented by the general formula (6) is 1 mole of the secondary phosphine derivative. Is usually 1.0 to 1.5, preferably 1.0 to 1.2. The reaction temperature depends on the kind of the reaction raw material, but at 300 ° C. or higher, the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1), which is the target product, is decomposed. The temperature is preferably 25 to 100 ° C. The reaction time is
It is usually 1 to 8 hours, preferably 2 to 5 hours.

【0044】不活性溶媒としては、前記した反応原料と
目的生成物とが不活性な溶媒であれば特に限定はない
が、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ジアル
キルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリル類、クロロベンゼン等のハロゲ
ン化芳香族炭化水素及び塩化メチレン、クロロホルム等
のハロアルカン類等が挙げられ、これらは1種又は2種
以上を組合わせて用いることができる。
The inert solvent is not particularly limited as long as it is a solvent in which the above-mentioned reaction raw materials and the target product are inert, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and petroleum ether. Examples include aliphatic hydrocarbons, ethers such as dialkyl ethers, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, and haloalkanes such as methylene chloride and chloroform. These are one kind. Alternatively, two or more kinds can be used in combination.

【0045】また、本発明の製造方法において、所望に
より酸触媒や塩基性触媒を用いて、反応を促進させるこ
とが出来る。酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、蓚
酸、燐酸、過塩素酸、過ヨウ素酸、フッ化水素、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルフルオロ酢酸、氷酢酸等の1種又は2種以上
を組み合わせて用いることが出来る。
In the production method of the present invention, if desired, an acid catalyst or a basic catalyst may be used to accelerate the reaction. Examples of the acid catalyst include hydrochloric acid, sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid, perchloric acid, periodic acid, hydrogen fluoride, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, glacial acetic acid, and the like. Alternatively, two or more kinds can be used in combination.

【0046】塩基性触媒としては、例えばナトリウム、
カリウム又はリチウム等のアルカリ金属、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキ
シド等のアルコキシド、t−ブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミド等のアルキル金属化合物等の1種
又は2種以上を組み合わせて用いることが出来る。この
場合、触媒の添加量は、前記一般式(6)で表わされる
化合物に対して通常1〜10mol%、好ましくは1〜
5mol%である。
As the basic catalyst, for example, sodium,
Use of one or more of alkali metals such as potassium or lithium, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide, alkyl metal compounds such as t-butyllithium and lithium diisopropylamide, etc. or a combination of two or more thereof. Can be done. In this case, the addition amount of the catalyst is usually 1 to 10 mol%, preferably 1 to 10 mol% with respect to the compound represented by the general formula (6).
It is 5 mol%.

【0047】反応終了後、濾過、乾燥、粉砕し、所望に
より分級して製品とすることが出来るが、更に必要によ
り常法の精製手段により精製を行ってもよい。かくする
ことにより、前記一般式(1)で表される含リンハイド
ロキノン誘導体を製造することが出来る。
After the completion of the reaction, the product can be filtered, dried, pulverized, and classified if desired to obtain a product. If necessary, the product may be further purified by a conventional purification means. By doing so, the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) can be produced.

【0048】<難燃性樹脂組成物>次に、本発明に係る
難燃性樹脂組成物について説明する。本発明の難燃性樹
脂組成物は、上記の含リンハイドロキノン誘導体を含有
することを特徴とするものである。該含リンハイドロキ
ノン誘導体は、本出願人らによる特願2001−191
818号、特願2001−191819号において提案
されたように、例えばエピクロロヒドリンと反応させ、
含リンエポキシ樹脂とすることによる反応性難燃剤とし
て用いることができるが、本発明においては、添加型難
燃剤として各種樹脂にそのまま配合し樹脂組成物の形態
で用いるものである。
<Flame-retardant resin composition> Next, the flame-retardant resin composition according to the present invention will be described. The flame-retardant resin composition of the present invention is characterized by containing the above-mentioned phosphorus-containing hydroquinone derivative. The phosphorus-containing hydroquinone derivative is disclosed in Japanese Patent Application No. 2001-191 by the present applicants.
818 and Japanese Patent Application No. 2001-191819, for example, by reacting with epichlorohydrin,
The phosphorus-containing epoxy resin can be used as a reactive flame retardant, but in the present invention, it is used in the form of a resin composition by being blended as it is with various resins as an addition type flame retardant.

【0049】前記含リンハイドロキノン誘導体は、ジェ
ットミル等で粉砕処理して、レーザー法により求められ
る平均粒径が100μm以下、好ましくは50〜0.1
μm、特に20〜1μmとして用いることが各種樹脂に
対する分散性及び優れた難燃効果を得る上で特に好まし
い。
The phosphorus-containing hydroquinone derivative is pulverized by a jet mill or the like and has an average particle size of 100 μm or less, preferably 50 to 0.1, as determined by a laser method.
It is particularly preferable to use the resin having a thickness of μm, particularly 20 to 1 μm, in order to obtain dispersibility in various resins and an excellent flame retardant effect.

【0050】前記含リンハイドロキノン誘導体の配合割
合は、樹脂100重量部に対してリンとして0.1〜1
0重量部、好ましくは2〜8重量部である。この理由
は、配合割合が0.1重量部より小さくなると、十分な
難燃効果が得られにくく、一方、10重量部より大きく
なると難燃効果は大きくなるが成型品の機械物性が低下
する傾向があり好ましくないためである。
The proportion of the phosphorus-containing hydroquinone derivative is 0.1 to 1 as phosphorus based on 100 parts by weight of the resin.
It is 0 part by weight, preferably 2 to 8 parts by weight. The reason for this is that if the compounding ratio is less than 0.1 parts by weight, it is difficult to obtain a sufficient flame retardant effect, while if it is more than 10 parts by weight, the flame retardant effect increases but the mechanical properties of the molded product tend to deteriorate. This is because it is not preferable.

【0051】また、本発明の難燃剤は、他の難燃剤と併
用することにより更に難燃効果を高めることができる。
併用することのできる他の難燃剤としては、水和金属化
合物、リン系難燃剤、含チッソ系難燃剤等が挙げられ
る。
The flame retardant of the present invention can further enhance the flame retardant effect by being used in combination with other flame retardants.
Other flame retardants that can be used in combination include hydrated metal compounds, phosphorus flame retardants, nitrogen-containing flame retardants, and the like.

【0052】水和金属化合物としては、吸熱反応による
燃焼抑制作用のあるMmn ・xH 2 O(Mは金属、
m、nは金属の原子価によって定まる1以上の整数、x
は含有結晶水を示す)で表される化合物または該化合物
を含む複塩であり、具体的には、水酸化アルミニウム、
水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マ
グネシウム、水酸化バリウム、水酸化ジルコニウム、ド
ーソナイト、スズ酸亜鉛、ホウ酸亜鉛、ホウ酸アルミニ
ウム、塩基性炭酸亜鉛、ホウ砂、モリブデン酸亜鉛、リ
ン酸亜鉛、リン酸マグネシウム、ハイドロタルサイト、
ハイドロカルマイト、カオリン、タルク、セリサイト、
パイロフィライト、ベントナイト、カオリナイト、硫酸
カルシウム、硫酸亜鉛等が挙げられる。
The hydrated metal compound depends on the endothermic reaction.
M with combustion suppressing effectm On ・ XH 2 O (M is metal,
m and n are integers of 1 or more determined by the valence of the metal, x
Represents the water of crystallization contained) or the compound
Is a double salt containing, specifically, aluminum hydroxide,
Calcium hydroxide, magnesium hydroxide, basic carbonate
Gnesium, barium hydroxide, zirconium hydroxide,
-Sonite, zinc stannate, zinc borate, aluminum borate
Um, basic zinc carbonate, borax, zinc molybdate, lithium
Zinc phosphate, magnesium phosphate, hydrotalcite,
Hydrocalumite, kaolin, talc, sericite,
Pyrophyllite, bentonite, kaolinite, sulfuric acid
Examples include calcium and zinc sulfate.

【0053】含窒素系難燃剤としては、メラミン、メラ
ミンシアヌレート、メチロール化メラミン、(イソ)シ
アヌール酸、メラム、メレム、メロン、サクシノグアミ
ン、硫酸アセトグアナミン、硫酸メラム、硫酸グアニル
メラミン、メラミン樹脂、BTレジン、シアヌール酸、
イソシアネール酸、イソシアヌール酸、イソシアヌール
酸誘導体、メラミンイソシアヌレート、ベンゾグアナミ
ン、アセトグアナミン等のメラミン誘導体、グアニジン
系化合物等が挙げられる。
As the nitrogen-containing flame retardant, melamine, melamine cyanurate, methylolated melamine, (iso) cyanuric acid, melam, melem, melon, succinoguanine, acetoguanamine sulfate, melam sulfate, guanylmelamine sulfate, melamine resin, BT. Resin, cyanuric acid,
Examples thereof include isocyanic acid, isocyanuric acid, isocyanuric acid derivatives, melamine isocyanurate, melamine derivatives such as benzoguanamine and acetoguanamine, and guanidine compounds.

【0054】リン系難燃剤としては、例えば、赤燐、リ
ン酸トリエチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリフェ
ニル、リン酸クレジルフェニル、リン酸オクチルジフェ
ニル、ジエチレンリン酸エチルエステル、ジヒドロキシ
プロピレンリン酸ブチルエステル、エチレンリン酸ジナ
トリウムエステル、メチルホスホン酸、メチルホスホン
酸ジメチル、メチルホスホン酸ジエチル、エチルホスホ
ン酸、プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、2−メ
チル−プロピルホスホン酸、t−ブチルホスホン酸、
2,3−ジメチルブチルホスホン酸、オクチルホスホン
酸、フェニルホスホン酸、ジオクチルフェニルホスホネ
ート、ジメチルホスフィン酸、メチルエチルホスフィン
酸、メチルプロピルホスフィン酸、ジエチルホスフィン
酸、ジオクチルホスフィン酸、フェニルホスフィン酸、
ジエチルフェニルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン
酸、ビス(4−メトキシフェニル)ホスフィン酸、リン
酸アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム、リン酸メラ
ミン、リン酸グアニル尿素、ポリリン酸メラミン、リン
酸グアニジン、エチレンジアミンリン酸塩、ホスファゼ
ン、メチルホスホン酸メラミン塩等が挙げられる。
Examples of phosphorus flame retardants include red phosphorus, triethyl phosphate, tricresyl phosphate, triphenyl phosphate, cresyl phenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diethylene phosphate ethyl ester, butyl dihydroxypropylene phosphate. Ester, disodium ethylene phosphate, methylphosphonic acid, dimethyl methylphosphonate, diethyl methylphosphonate, ethylphosphonic acid, propylphosphonic acid, butylphosphonic acid, 2-methyl-propylphosphonic acid, t-butylphosphonic acid,
2,3-dimethylbutylphosphonic acid, octylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, dioctylphenylphosphonate, dimethylphosphinic acid, methylethylphosphinic acid, methylpropylphosphinic acid, diethylphosphinic acid, dioctylphosphinic acid, phenylphosphinic acid,
Diethylphenylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, bis (4-methoxyphenyl) phosphinic acid, ammonium phosphate, ammonium polyphosphate, melamine phosphate, guanylurea phosphate, melamine polyphosphate, guanidine phosphate, ethylenediamine phosphate, phosphazene , Methylphosphonic acid melamine salt and the like.

【0055】これらの他の難燃剤は、1種または2種以
上で用いられ、これらの他の難燃剤の配合量は、樹脂1
00重量部に対して0.1〜150重量部、好ましくは
0.5〜100重量部とすることが好ましい。
These other flame retardants are used alone or in combination of two or more.
The amount is preferably 0.1 to 150 parts by weight, more preferably 0.5 to 100 parts by weight, based on 00 parts by weight.

【0056】用いることができる樹脂としては、特に限
定はなく、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポ
リウレタン樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、アニリン
樹脂、フラン樹脂、アルキド樹脂、キシレン樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、ジアリールフタレート樹脂等の硬
化性樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート、ポリフェ
ニレンオキシド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン
6、ナイロン66、ナイロン12、ポリアセタール、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリア
クリロニトリル、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリエチレンオキシド、ポリテトラメチレンオキ
シド、熱可塑性ポリウレタン、フェノキシ樹脂、ポリア
ミド、エチレン/プロピレン共重合体、エチレン/1−
ブテン共重合体、エチレン/プロピレン/非共役ジエン
共重合体、エチレン/アクリル酸エチル共重合体、エチ
レン/メタクリル酸グリシジル共重合体、エチレン/プ
ロピレン−g−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル
ポリエーテルエラストマー、ポリテトラフルオロエチレ
ン及びこれらの変性物等が挙げられる。これら樹脂は、
ホモポリマーであってもコポリマーであってもよく、2
種以上の混合物であってもよい。
The resin that can be used is not particularly limited, and examples thereof include epoxy resin, phenol resin, polyurethane resin, melamine resin, urea resin, aniline resin, furan resin, alkyd resin, xylene resin, unsaturated polyester resin, Curable resin such as diaryl phthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, polycarbonate, polyphenylene oxide, polyphenylene ether, nylon 6, nylon 66, nylon 12, polyacetal, polyethylene, polypropylene, polybutadiene, polyacrylonitrile, polystyrene, polymethyl Methacrylate, polyethylene oxide, polytetramethylene oxide, thermoplastic polyurethane, phenoxy resin, polyamide, ethylene / prepolymer Pyrene copolymer, ethylene / 1
Butene copolymer, ethylene / propylene / non-conjugated diene copolymer, ethylene / ethyl acrylate copolymer, ethylene / glycidyl methacrylate copolymer, ethylene / propylene-g-maleic anhydride copolymer, polyester polyether Examples thereof include elastomers, polytetrafluoroethylene and modified products thereof. These resins are
It may be a homopolymer or a copolymer, 2
It may be a mixture of two or more species.

【0057】ここで、硬化性樹脂とは、熱、触媒、ある
いは紫外線などの作用により化学変化をおこして架橋構
造が発達し、分子量が増大して三次元網目構造を有し
て、硬化して半永久的に不溶性・不融性となる合成樹脂
を示す。また熱可塑性樹脂とは、加熱により流動性を示
し、これにより賦形が可能である樹脂のことを表す。
Here, the curable resin is a resin that undergoes a chemical change under the action of heat, a catalyst, ultraviolet rays, or the like to develop a cross-linking structure, increase in molecular weight, have a three-dimensional network structure, and harden. A synthetic resin that is semi-permanently insoluble and infusible. The thermoplastic resin refers to a resin that exhibits fluidity when heated and can be shaped by this.

【0058】また、樹脂に配合するその他の成分とし
て、りん系、イオン系、ヒンダードフェノール系などの
酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、離剤、染
料、顔料を含む着色剤、架橋剤、軟化剤、分散剤等の通
常の添加剤と併用することができる。
Other components to be added to the resin include phosphorus-based, ionic-based, hindered phenol-based antioxidants, heat stabilizers, ultraviolet absorbers, lubricants, release agents, dyes, and colorants including pigments. , A cross-linking agent, a softening agent, a dispersant, and other usual additives.

【0059】また、必要に応じて、繊維状、及び/又は
粒状の充填剤を添加して、樹脂の剛性を大幅に向上させ
ることができる。このような充填剤としては、例えば、
ガラス繊維、炭素繊維、金属繊維、アラミド樹脂、アス
ベスト、チタン酸カリウムウィスカ、ワラステナイト、
ガラスフレーク、ガラスビーズ、タルク、マイカ、クレ
ー、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、
酸化チタン、溶融シリカ、結晶性シリカ、マグネシア、
酸化アルミニウム等が挙げられる。
If necessary, a fibrous and / or granular filler can be added to significantly improve the rigidity of the resin. As such a filler, for example,
Glass fiber, carbon fiber, metal fiber, aramid resin, asbestos, potassium titanate whisker, wollastonite,
Glass flakes, glass beads, talc, mica, clay, calcium carbonate, calcium silicate, barium sulfate,
Titanium oxide, fused silica, crystalline silica, magnesia,
Aluminum oxide etc. are mentioned.

【0060】前記含リンハイドロキノン誘導体は、通常
の方法によって各種樹脂に混練し、成形することができ
る。例えば、硬化性樹脂であれば、前記含リンハイドロ
キノン誘導体を硬化性樹脂およびその他の配合物を同時
に混入する方法、樹脂成分の一種にあらかじめ前記含リ
ンハイドロキノン誘導体及び必要により添加される添加
剤と混合しておき、これを硬化性樹脂と混合する方法、
熱可塑性樹脂であれば前記含リンハイドロキノン誘導体
をエクストルーダーで溶融混合する方法、あるいは粒子
状物同士を均一に機械的に混合した後、射出成形機で混
合と同時に成形する方法等が挙げられる。
The phosphorus-containing hydroquinone derivative can be kneaded and molded into various resins by a usual method. For example, in the case of a curable resin, a method of simultaneously mixing the phosphorus-containing hydroquinone derivative with a curable resin and other compounds, and mixing one of the resin components with the phosphorus-containing hydroquinone derivative and an additive which is optionally added in advance. And then mix it with a curable resin,
In the case of a thermoplastic resin, a method of melt-mixing the phosphorus-containing hydroquinone derivative in an extruder, a method of uniformly mechanically mixing particles and then simultaneously molding with an injection molding machine, and the like can be mentioned.

【0061】本発明の難燃性樹脂組成物は、安全なプラ
スチック材料として、例えばコネクター、スイッチ、ケ
ース部材、トランス部材、コイルボビン等の電気部品、
建築材料、自動車等の輸送機器、包装材料、家庭日用
品、フラットケーブル、プリント配線板、電気回路基
板、銅張積層板、封止材、成形材、注型材、接着剤、電
気絶縁性塗料材料その他の用途に使用することができ
る。本発明の難燃性樹脂組成物の中,樹脂成分としてエ
ポキシ樹脂を用いて難燃性エポキシ樹脂組成物としたも
のは,特に封止材や積層板として好適に用いることがで
きる。
The flame-retardant resin composition of the present invention is used as a safe plastic material, for example, electrical parts such as connectors, switches, case members, transformer members, coil bobbins, etc.
Building materials, transportation equipment such as automobiles, packaging materials, household products, flat cables, printed wiring boards, electric circuit boards, copper clad laminates, encapsulating materials, molding materials, casting materials, adhesives, electrically insulating paint materials, etc. Can be used for. Among the flame-retardant resin compositions of the present invention, those obtained by using an epoxy resin as a resin component to obtain a flame-retardant epoxy resin composition can be particularly suitably used as a sealing material or a laminated board.

【0062】<封止材>次いで、本発明により難燃性エ
ポキシ樹脂を用いてなる封止材について説明する。封止
材で用いるエポキシ樹脂としては、1分子内に少なくと
も2個のエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポ
リマー全般あり、例えばビスフェノールA型エポキシ、
ビスフェノールF型エポキシ、ビスフェノールS型エポ
キシ、フェノールノボラック型エポキシ、クレゾールノ
ボラック型エポキシ、ナフタレン型エポキシ、ビフェニ
ル型エポキシ、芳香族アミンおよび複素環式窒素塩基か
らのN−グリシジル化合物、例えばN,N−ジグリシジ
ルアニリン、トリグリシジルイソシアヌレート、 N,
N,N’,N’−テトラグリシジル−ビス(p−アミノフ
ェニル)−メタンなどが挙げられるが、特にこれらに限
定されるものではない。これらは何種類かを併用して用
いることもできる。
<Sealing Material> Next, a sealing material using the flame-retardant epoxy resin according to the present invention will be described. Epoxy resins used as encapsulants include all monomers, oligomers and polymers having at least two epoxy groups in one molecule, such as bisphenol A type epoxy,
Bisphenol F type epoxy, bisphenol S type epoxy, phenol novolac type epoxy, cresol novolac type epoxy, naphthalene type epoxy, biphenyl type epoxy, N-glycidyl compound from aromatic amine and heterocyclic nitrogen base, for example, N, N-di Glycidyl aniline, triglycidyl isocyanurate, N,
Examples thereof include N, N ′, N′-tetraglycidyl-bis (p-aminophenyl) -methane, but are not particularly limited thereto. These may be used in combination of several kinds.

【0063】硬化剤としては、当業者において公知のも
のはすべて用いることができるが、特に、エチレンジア
ミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミンなどのC2〜C20の直鎖
脂肪族ジアミン、メタフェニレンジアミン、パラフェニ
レンジアミン、パラキシレンジアミン、4,4’−ジア
ミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニル
プロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,
4’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジア
ミノジシクロヘキサン、ビス(4−アミノフェニル)フ
ェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、メタキシ
リレンジアミン、パラキシリレンジアミン、1,1−ビ
ス(4−アミノフェニル)シクロヘキサン、ジシアノジ
アミドなどのアミン類、フェノールノボラック樹脂、ク
レゾールノボラック樹脂、tert−ブチルフェノール
ノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラック樹脂など
のノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール
樹脂、ポリパラオキシスチレンなどのポリオキシスチレ
ン、フェノールアラルキル樹脂、ナフトール系アラルキ
ル樹脂などの、ベンゼン環やナフタリン環その他の芳香
族性の環に結合する水素原子が水酸基で置換されたフェ
ノール化合物と、カルボニル化合物との共縮合によって
得られるフェノール樹脂や、酸無水物などが例示される
が、特にこれらに限定されるものではない。
As the curing agent, all those known to those skilled in the art can be used, but in particular, C2-C20 linear aliphatic diamines such as ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, and meta. Phenylenediamine, paraphenylenediamine, paraxylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,
4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodicyclohexane, bis (4-aminophenyl) phenylmethane, 1,5-diaminonaphthalene, metaxylylenediamine, paraxylylenediamine, 1,1-bis (4 -Aminophenyl) cyclohexane, amines such as dicyanodiamide, phenol novolac resins, cresol novolac resins, tert-butylphenol novolac resins, nonylphenol novolac resins and other novolac type phenolic resins, resole type phenolic resins, polyparastyrenes such as polyparaoxystyrene , Phenol aralkyl resins, naphthol-based aralkyl resins, etc., phenol compounds in which hydrogen atoms bonded to benzene rings, naphthalene rings and other aromatic rings are substituted with hydroxyl groups, and And phenolic resins obtained by co-condensation with Le compound, an acid anhydride is exemplified, but the invention is not particularly limited thereto.

【0064】充填剤として、溶融シリカ粉末、結晶シリ
カ粉末、アルミナ、窒化珪素などが挙げられ、これらの
充填剤の配合割合は、樹脂組成物中に60〜90重量%
である。また、必要に応じて、天然ワックス類、合成ワ
ックス類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸アミド類、エステル
類、パラフィン類などの離型剤、カーボンブラック、ベ
ンガラなどの着色剤、種々の硬化促進剤など、当業者に
おいて公知の添加剤を併用し用いることができる。
Examples of the filler include fused silica powder, crystalline silica powder, alumina, silicon nitride, etc. The blending ratio of these fillers is 60 to 90% by weight in the resin composition.
Is. In addition, natural waxes, synthetic waxes, metal salts of linear fatty acids, release agents such as acid amides, esters and paraffins, colorants such as carbon black and red iron oxide, and various curing accelerators, if necessary. Additives known to those skilled in the art such as agents can be used in combination.

【0065】本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物を封止
材の封止樹脂として用いる場合には、均一に混合され、
混練されていることが好ましい。混練の方法としては例
えば、ロール、ニーダー、ミキサー等を用いて加熱して
行われ、その後冷却、粉砕しタブレット化するなどの方
法で封止樹脂は製造される。そして、上記で得られた封
止樹脂を用いてトランスファー成形等を行って、半導体
素子やリードフレーム等を封止すると、難燃性及び耐湿
電気信頼性が優れた半導体装置が得られる。なお成形す
る方法としては上記封止樹脂を用いること以外は特に限
定するものではなく、一般の方法で成形が可能である。
When the flame-retardant epoxy resin composition of the present invention is used as a sealing resin for a sealing material, it is mixed uniformly,
It is preferably kneaded. As a kneading method, for example, heating is performed using a roll, a kneader, a mixer, or the like, and then the encapsulating resin is manufactured by a method such as cooling, crushing and tableting. Then, transfer molding or the like is performed using the sealing resin obtained above to seal the semiconductor element, the lead frame, or the like, so that a semiconductor device having excellent flame retardancy and humidity-resistant electrical reliability can be obtained. The molding method is not particularly limited except that the above sealing resin is used, and a general method can be used.

【0066】<積層板>次いで、本発明により難燃性エ
ポキシ樹脂組成物を用いてなる積層板について説明す
る。積層板で用いるエポキシ樹脂としては、1分子内に
少なくとも2個のエポキシ基を有するモノマー、オリゴ
マー、ポリマー全般あり、例えばビスフェノールA型エ
ポキシ、ビスフェノールF型エポキシ、ビスフェノール
S型エポキシ、フェノールノボラック型エポキシ、クレ
ゾールノボラック型エポキシ、ナフタレン型エポキシ、
ビフェニル型エポキシ、芳香族アミンおよび複素環式窒
素塩基からのN−グリシジル化合物、例えばN,N−ジ
グリシジルアニリン、トリグリシジルイソシアヌレー
ト、 N,N,N’,N’−テトラグリシジル−ビス(p−
アミノフェニル)−メタンなどが挙げられるが、特にこ
れらに限定されるものではない。これらは何種類かを併
用して用いることもできる。
<Laminate> Next, a laminate made of the flame-retardant epoxy resin composition according to the present invention will be described. The epoxy resin used for the laminated plate includes all monomers, oligomers and polymers having at least two epoxy groups in one molecule, for example, bisphenol A type epoxy, bisphenol F type epoxy, bisphenol S type epoxy, phenol novolac type epoxy, Cresol novolac type epoxy, naphthalene type epoxy,
N-glycidyl compounds from biphenyl type epoxies, aromatic amines and heterocyclic nitrogen bases, such as N, N-diglycidylaniline, triglycidyl isocyanurate, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-bis (p −
Aminophenyl) -methane and the like, but not limited thereto. These may be used in combination of several kinds.

【0067】本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物を溶媒
に溶かすことにより、樹脂ワニスとすることができる。
用いることができる溶媒としては、非プロトン性が好ま
しく、例えば、N−メチルピロリドン、ジメチルホルム
アミド、エーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、1〜6個の炭素原子を有する場合に
よっては分岐したアルキル基を有するモノアルコールの
エチルグリコールエーテル、プロピレングリコールエー
テル、ブチルグリコールエーテル、ケトン、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エステル、エ
チルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコー
ルアセテートおよびメトキシプロピルアセテート、メト
キシプロパノール、その他ハロゲン化炭化水素および脂
環式および/または芳香族炭化水素であり、これらのう
ちヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、トルエンおよ
びジキシレン等の溶媒が好ましい。これらの溶媒は、単
独でまたはそれらの混合物として使用することができ
る。
A resin varnish can be obtained by dissolving the flame-retardant epoxy resin composition of the present invention in a solvent.
The solvent that can be used is preferably an aprotic one, and examples thereof include N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and optionally branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms. Having monoalcohol ethyl glycol ether, propylene glycol ether, butyl glycol ether, ketone, acetone,
Methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ester, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol acetate and methoxypropyl acetate, methoxypropanol, other halogenated hydrocarbons and alicyclic and / or aromatic hydrocarbons, Of these, solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, toluene and dixylene are preferable. These solvents can be used alone or as a mixture thereof.

【0068】なお、本発明において、前記した溶媒を前
記の重合反応の際の溶媒として用いて、そのまま樹脂ワ
ニスとして用いてもよい。調製したワニスは、紙、ガラ
ス織布、ガラス不織布、あるいはガラス以外を成分とす
る布などの基材に塗布、含浸させ、乾燥炉中で80〜2
00℃の範囲内で乾燥させることにより、プリプレグを
調製することができ、これを所定枚数重ね合わせて、加
熱、加圧して積層板、あるいはプリント配線板用の金属
張り積層板を製造することができる。
In the present invention, the above-mentioned solvent may be used as a solvent for the above-mentioned polymerization reaction and used as it is as a resin varnish. The prepared varnish is applied to and impregnated into a base material such as paper, woven glass cloth, non-woven glass cloth, or cloth having a component other than glass, and then dried in a drying oven at 80 to 2
A prepreg can be prepared by drying within a range of 00 ° C., and a predetermined number of the prepregs can be stacked and heated and pressed to produce a laminate or a metal-clad laminate for a printed wiring board. it can.

【0069】[0069]

【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will now be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0070】製造例1 反応容器に1,5−シクロオクタジエン(東京化成社
製)1843g(16.69mol)とトルエン375
0mlを仕込み、十分に窒素置換した。続いてホスフィ
ン(日本化学工業社製)731g(21.50mol)
を仕込み、60℃に昇温した。ラジカル開始剤として、
2,2−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)(日本ヒドラジン社製)58.8g(0.237m
ol)を3時間かけて圧入し、60℃にて一晩熟成し、
1,4−シクロオクチレンホスフィンと1,5−シクロ
オクチレンホスフィンよりなる混合物のトルエン溶液を
得た。(混合物の純度31.9wt%、1,4−シクロ
オクチレンホスフィン:1,5−シクロオクチレンホス
フィン=38.4:61.6(GC相対面積比))
Production Example 1 1,43-cyclooctadiene (manufactured by Tokyo Kasei) 1843 g (16.69 mol) and toluene 375 were placed in a reaction vessel.
0 ml was charged and the atmosphere was sufficiently replaced with nitrogen. Subsequently, 731 g (21.50 mol) of phosphine (manufactured by Nippon Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
Was charged and the temperature was raised to 60 ° C. As a radical initiator,
2,2-Azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Nippon Hydrazine Co.) 58.8 g (0.237 m)
ol) is pressed in for 3 hours and aged at 60 ° C. overnight,
A toluene solution of a mixture of 1,4-cyclooctylenephosphine and 1,5-cyclooctylenephosphine was obtained. (Purity of the mixture is 31.9 wt%, 1,4-cyclooctylenephosphine: 1,5-cyclooctylenephosphine = 38.4: 61.6 (GC relative area ratio))

【0071】攪拌機、コンデンサー、滴下ロートを備え
付けた2000mlの4つ口フラスコを十分に窒素置換
した後、上記反応液の一部434.6g(0.975m
ol)を室温下にて仕込んだ。さらにメタノール440
gを仕込み氷浴にて約5℃に冷却した後、過酸化水素1
06.5g(1.05mol)を滴下ロートより約3時
間かけて滴下した。反応の終点はガスクロマトグラフ法
にて判断した。酸化反応終了後、ロータリーエバポレー
ターで濃縮して、無色の結晶1,4−シクロオクチレン
ホスフィンオキシドと1,5−シクロオクチレンホスフ
ィンオキシドよりなる混合物152.8g(0.966
mol、1,4−シクロオクチレンホスフィンオキシ
ド:1,5−シクロオクチレンホスフィンオキシド=3
9.4:60.6(NMR相対面積比))を得た。
A 2000 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel was sufficiently replaced with nitrogen, and then 434.6 g (0.975 m) of a part of the above reaction solution was used.
ol) was charged at room temperature. Methanol 440
g, and after cooling to about 5 ° C in an ice bath, hydrogen peroxide 1
06.5 g (1.05 mol) was added dropwise from the dropping funnel over about 3 hours. The end point of the reaction was judged by gas chromatography. After the completion of the oxidation reaction, the mixture was concentrated with a rotary evaporator to give 152.8 g (0.966) of a mixture of colorless crystals of 1,4-cyclooctylenephosphine oxide and 1,5-cyclooctylenephosphine oxide.
mol, 1,4-cyclooctylenephosphine oxide: 1,5-cyclooctylenephosphine oxide = 3
9.4: 60.6 (NMR relative area ratio)) was obtained.

【0072】製造例2 かき混ぜ装置,温度計を備えた反応容器に、室温下、ト
ルエン900mlに、1,4−シクロオクチレンホスフ
ィンオキシド及び1,5−シクロオクチレンホスフィン
オキシドの混合物183.5g(純度87.0%,1.
00mol)を仕込み、攪拌して溶解させた。この反応
液を70℃へ昇温した後、微粉末の1,4−ベンソキノ
ン108.7g(1.00mol)を約3時間かけて少
量づつ添加した。添加終了後、70℃で約1時間熟成し
た後、室温まで冷却して生じた析出物をろ過、冷メタノ
ールで3回洗浄した後に80℃で減圧乾燥することによ
り、1,4−シクロオクチレンホスホニル−1,4−ハ
イドロキノン及び1,5−シクロオクチレンホスホニル
−1,4−ハイドロキノンの混合物192.7g(0.
724mol)を淡黄色結晶性粉末として得た。収率7
2.4%。次いでミキサーで粉砕することにより、レー
ザー散乱式粒度測定法(マイクロトラック)により求め
た平均粒径が11.6μmの粉末を得た。
Production Example 2 In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, at room temperature, 900 ml of toluene and 183.5 g of a mixture of 1,4-cyclooctylenephosphine oxide and 1,5-cyclooctylenephosphine oxide were added. Purity 87.0%, 1.
(00 mol) was charged and dissolved by stirring. After the temperature of this reaction solution was raised to 70 ° C., 108.7 g (1.00 mol) of finely powdered 1,4-benzoquinone was added little by little over about 3 hours. After completion of the addition, the mixture was aged at 70 ° C for about 1 hour, cooled to room temperature, and the resulting precipitate was filtered, washed with cold methanol three times, and then dried under reduced pressure at 80 ° C to give 1,4-cyclooctylene. 192.7 g of a mixture of phosphonyl-1,4-hydroquinone and 1,5-cyclooctylenephosphonyl-1,4-hydroquinone (0.
724 mol) was obtained as a pale yellow crystalline powder. Yield 7
2.4%. Then, the powder was pulverized with a mixer to obtain a powder having an average particle size of 11.6 μm as determined by a laser scattering particle size measuring method (Microtrac).

【0073】1 H NMR(300MHz,CD3 OD) δ 1.4
3〜2.83(m,14H),6.77〜6.91
(m,3H)31 P NMR(121.5MHz,CD3 OD) δ 4
2.5(s),66.8(s) FAB−MS(Pos.,m/z)267[M+H]+ IR(KBr,cm-1)3157(υOH),3080
(arom υC−H),1225(υP=O)
1 H NMR (300 MHz, CD 3 OD) δ 1.4
3 to 2.83 (m, 14H), 6.77 to 6.91
(M, 3H) 31 P NMR (121.5 MHz, CD 3 OD) δ 4
2.5 (s), 66.8 (s) FAB-MS (Pos., M / z) 267 [M + H] + IR (KBr, cm −1 ) 3157 (υOH), 3080
(Arom υC-H), 1225 (υP = O)

【0074】製造例3 かき混ぜ装置,温度計を備えた反応容器に、室温下、ト
ルエン500mlにジエチルホスフィンオキシド200
g(1.89mol)を仕込み、70℃へ昇温した後、
微粉末の1,4−ナフトキノン299g(1.89mo
l)を約3時間かけて少量づつ添加した。添加終了後、
70℃で約1時間反応した後、室温まで冷却して生じた
析出物をろ過、冷メタノールで3回洗浄した後に80℃
で減圧乾燥することにより、2−(ジエチルホスホニ
ル)−1,4−ナフタレンジオール361g(1.37
mol)を淡黄色結晶性粉末として得た。収率72.3
%。次いでミキサーで粉砕することにより、レーザー散
乱式粒度測定法(マイクロトラック)により求めた平均
粒径が11.7μmの粉末を得た。
Production Example 3 A reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer was placed at room temperature in 500 ml of toluene and 200 parts of diethylphosphine oxide.
After charging g (1.89 mol) and heating to 70 ° C.,
Fine powder of 1,4-naphthoquinone 299 g (1.89 mo)
1) was added in small portions over about 3 hours. After the addition is complete
After reacting at 70 ° C for about 1 hour, the mixture was cooled to room temperature and the resulting precipitate was filtered and washed with cold methanol three times, and then at 80 ° C.
By drying under reduced pressure at 362 g of 2- (diethylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol (1.37
mol) was obtained as a pale yellow crystalline powder. Yield 72.3
%. Then, it was pulverized with a mixer to obtain a powder having an average particle size of 11.7 μm as determined by a laser scattering particle size measuring method (Microtrac).

【0075】1H NMR(300MHz,CD3 OD)
δ 0.90〜1.12(m,6H),2.11〜
2.58(m,4H),6.60(s,1H),7.3
8(m,1H),7.80(m,1H),8.07
(m,2H)31 P NMR(121.5MHz,CD3 OD) δ 5
4.0(s),78.5(S) IR(KBr,cm-1)3179(υOH),3090
(arom υC−H),1205(υP=O)
1 H NMR (300 MHz, CD 3 OD)
δ 0.90 to 1.12 (m, 6H), 2.11
2.58 (m, 4H), 6.60 (s, 1H), 7.3
8 (m, 1H), 7.80 (m, 1H), 8.07
(M, 2H) 31 P NMR (121.5 MHz, CD 3 OD) δ 5
4.0 (s), 78.5 (S) IR (KBr, cm -1 ) 3179 (υOH), 3090
(Arom υC-H), 1205 (υP = O)

【0076】製造例4 製造例3において、ジエチルホスフィンオキシドに代え
て、ジエチル亜ホスフィン酸エチル253gをトルエン
500mlに溶解させ、3モル/L塩酸500mlと2
5℃で反応させた。反応終了後、反応液を分液し、有機
相を5mol%の炭酸水素ナトリウム水溶液500ml
と水500mlで2回洗浄した。次いで、実施例2と同
様に70℃へ昇温した後、微粉末の1,4−ナフトキノ
ン299g(1.89モル)を約3時間かけて少量づつ
添加した。添加終了後、70℃で約1時間反応した後、
室温まで冷却して生じる析出物をろ過、冷メタノールで
3回洗浄した後に80℃で減圧乾燥することにより、2
−(ジエチルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオー
ル320g(1.21モル)を淡黄色結晶性粉末として
得た。収率64.0%。次いでミキサーで粉砕すること
により、レーザー散乱式粒度測定法(マイクロトラッ
ク)により求めた平均粒径が11.7μmの粉末を得
た。
Production Example 4 In Production Example 3, 253 g of ethyl diethylphosphinite was dissolved in 500 ml of toluene in place of diethylphosphine oxide, and 3 mol / L hydrochloric acid was added to 500 ml and 2 ml.
The reaction was carried out at 5 ° C. After completion of the reaction, the reaction solution is separated, and the organic phase is added to 500 ml of a 5 mol% sodium hydrogen carbonate aqueous solution.
And washed twice with 500 ml of water. Then, after raising the temperature to 70 ° C. in the same manner as in Example 2, 299 g (1.89 mol) of fine powder 1,4-naphthoquinone was added little by little over about 3 hours. After the addition was completed, after reacting at 70 ° C. for about 1 hour,
The precipitate formed by cooling to room temperature was filtered, washed with cold methanol three times, and then dried under reduced pressure at 80 ° C.
320 g (1.21 mol) of-(diethylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol was obtained as a pale yellow crystalline powder. Yield 64.0%. Then, it was pulverized with a mixer to obtain a powder having an average particle size of 11.7 μm as determined by a laser scattering particle size measuring method (Microtrac).

【0077】製造例5 製造例2と同様な装置に、室温下、トルエン750ml
に、1,4−シクロオクチレンホスフィンオキシド及び
1,5−シクロオクチレンホスフィンオキシドの混合物
263.6g(合計純度90.0%、1.50mol)
を仕込み、攪拌して溶解させた。この溶液を100℃に
昇温した後、1,4−ナフトキノン237.4g(1.
50mol)とトルエン1100mlのスラリー状態の
ものを約6時間かけて少量づつ滴下した。滴下終了後、
100℃で2時間熟成、次いで室温まで冷却して生じた
析出物をろ過、冷メタノールで3回洗浄した後に80℃
で減圧乾燥することにより、2−(1,4−シクロオク
チレンホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール及び
2−(1,5−シクロオクチレンホスホニル)−1,4
−ナフタレンジオールの混合物302.22g(0.9
55mol)を淡黄色結晶性粉末として得た。収率6
3.6%。次いでミキサーで粉砕することにより、レー
ザー散乱式粒度測定法(マイクロトラック)により求め
た平均粒径が9.8μmの粉末を得た。
Production Example 5 750 ml of toluene was added to the same apparatus as in Production Example 2 at room temperature.
In addition, 263.6 g of a mixture of 1,4-cyclooctylenephosphine oxide and 1,5-cyclooctylenephosphine oxide (total purity 90.0%, 1.50 mol).
Was charged and stirred to dissolve. After heating this solution to 100 ° C., 23,4 g of 1,4-naphthoquinone (1.
(50 mol) and 1100 ml of toluene were added dropwise little by little over about 6 hours. After the dropping is completed,
Aged at 100 ° C for 2 hours, then cooled to room temperature, and the resulting precipitate was filtered, washed with cold methanol three times, and then at 80 ° C.
And dried under reduced pressure to give 2- (1,4-cyclooctylenephosphonyl) -1,4-naphthalenediol and 2- (1,5-cyclooctylenephosphonyl) -1,4.
A mixture of naphthalene diols 302.22 g (0.9
55 mol) was obtained as a pale yellow crystalline powder. Yield 6
3.6%. Then, it was pulverized with a mixer to obtain a powder having an average particle size of 9.8 μm determined by a laser scattering particle size measuring method (Microtrac).

【0078】1H NMR(300MHz,CD3 OD)
δ 1.67〜2.70(m,14H),6.63
(s,1H)、7.40(m,1H),7.81(m,
1H)、8.10(m,2H)31 P NMR(121.5MHz,CD3 OD) δ 5
5.3(s),79.8(s) DI−EI(m/z)316 IR(KBr,cm-1)3179(υOH),3090
(arom υC−H),1205(υP=O)
1 H NMR (300 MHz, CD 3 OD)
δ 1.67 to 2.70 (m, 14H), 6.63
(S, 1H), 7.40 (m, 1H), 7.81 (m,
1H), 8.10 (m, 2H) 31 P NMR (121.5 MHz, CD 3 OD) δ 5
5.3 (s), 79.8 (s) DI-EI (m / z) 316 IR (KBr, cm -1 ) 3179 (υOH), 3090
(Arom υC-H), 1205 (υP = O)

【0079】製造例6 ジエチルホスフィンオキシド200gの変わりにジベン
ジルホスフィンオキシド200gを用いた他は、製造例
3と同様の操作を行い、2−(ジベンジルホスホニル)
−1,4−ナフタレンジオール135.9gを得た。収
率70.0%。次いでミキサーで粉砕することにより、
レーザー散乱式粒度測定法(マイクロトラック)により
求めた平均粒径が7.9μmの粉末を得た。
Production Example 6 2- (dibenzylphosphonyl) was prepared in the same manner as in Production Example 3 except that 200 g of dibenzylphosphine oxide was used instead of 200 g of diethylphosphine oxide.
135.9 g of -1,4-naphthalenediol was obtained. Yield 70.0%. Then by crushing with a mixer,
A powder having an average particle size of 7.9 μm obtained by a laser scattering particle size measuring method (Microtrac) was obtained.

【0080】製造例7 ジエチルホスフィンオキシド200gの変わりに、テト
ラメチレンホスフィンオキシド44.0gを用いた他
は、製造例3と同様の操作を行い、2−(テトラメチレ
ンホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール88.6
gを得た。収率72.1%。次いでミキサーで粉砕する
ことにより、レーザー散乱式粒度測定法(マイクロトラ
ック)により求めた平均粒径が11.8μmの粉末を得
た。製造例1〜7によって得られた化合物を表1に示
す。
Production Example 7 2- (Tetramethylenephosphonyl) -1,4- was carried out in the same manner as in Production Example 3 except that 44.0 g of tetramethylenephosphine oxide was used instead of 200 g of diethylphosphine oxide. Naphthalenediol 88.6
g was obtained. Yield 72.1%. Then, by pulverizing with a mixer, a powder having an average particle size of 11.8 μm obtained by a laser scattering particle size measuring method (Microtrac) was obtained. The compounds obtained in Production Examples 1 to 7 are shown in Table 1.

【0081】[0081]

【表1】 [Table 1]

【0082】実施例1〜5、比較例1 表2に示した配合割合でエチレンエチルアクリレート
(以下EEAと略記する)樹脂及び各種の添加剤を配合
し、120〜130℃に設定した熱ロールにて、5〜1
0分間混練した。加熱プレスを用いて成型圧力14.7
MPa(150kg/cm2)、加圧時間5分間、金型温度1
15℃で、厚さ3mmのシートを作成し、更に長さ125
mm、幅13mmの試験片とし、UL94に分類した材料の
垂直燃焼試験(94V−0、94V−1及び94V−
2)に従って樹脂の難燃性を試験した。なお、水酸化マ
グネシウムは、協和化学社製のキスマ5Aを用いた。
Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 Ethylene ethyl acrylate (hereinafter abbreviated as EEA) resin and various additives were blended at the blending ratios shown in Table 2 and heated to a hot roll set at 120 to 130 ° C. 5-1
Kneaded for 0 minutes. Molding pressure 14.7 using a heating press
MPa (150 kg / cm 2 ), pressurizing time 5 minutes, mold temperature 1
Create a sheet with a thickness of 3 mm at 15 ° C and add a length of 125
mm, width 13 mm, vertical burning test (94V-0, 94V-1 and 94V-) for materials classified as UL94.
The resin was tested for flame retardancy according to 2). As the magnesium hydroxide, Kisuma 5A manufactured by Kyowa Chemical Co., Ltd. was used.

【0083】[0083]

【表2】 [Table 2]

【0084】実施例6〜19、比較例2〜8 表3,4に示した配合割合で各種の樹脂及び添加剤を配
合し、実施例1〜5と同様にして試験片を作成し、実施
例1〜5と同じ方法で樹脂の難燃性を試験した。なお、
各樹脂毎の溶融押出、ペレット乾燥、射出成形条件を下
記に示した。
Examples 6 to 19 and Comparative Examples 2 to 8 Various resins and additives were blended in the blending ratios shown in Tables 3 and 4, and test pieces were prepared in the same manner as in Examples 1 to 5 and carried out. The flame retardancy of the resin was tested in the same manner as in Examples 1-5. In addition,
The melt extrusion, pellet drying, and injection molding conditions for each resin are shown below.

【0085】ポリカーボネート(以下PCと略記する) 押出:260〜320℃/75rpm 乾燥:120℃/12時間 成形:260〜320℃/金型110℃ ポリブチレンテレフタレート(以下PBTと略記する) 押出:250〜290℃/150rpm 乾燥:110℃/12時間 成形:250〜290℃/金型80℃ ナイロン6 押出:250〜300℃/150rpm 乾燥:100℃/24時間 成形:250〜300℃/金型80℃ ポリフェニレンオキシドとポリスチレンの混合物(混合
重量比:60:40、以下PPOと略記する) 押出:240〜310℃/70rpm 乾燥:110℃/4時間 成形:240〜320℃/金型90℃ ポリエチレン(以下PEと略記する) 押出:180〜210℃/700rpm 乾燥:100℃/12時間 成形:180〜210℃/金型100℃
Polycarbonate (hereinafter abbreviated as PC) Extrusion: 260 to 320 ° C./75 rpm Drying: 120 ° C./12 hours Molding: 260 to 320 ° C./die 110 ° C. Polybutylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PBT) Extrusion: 250 ~ 290 ° C / 150 rpm Drying: 110 ° C / 12 hours Molding: 250-290 ° C / mold 80 ° C Nylon 6 Extrusion: 250-300 ° C / 150 rpm Drying: 100 ° C / 24 hours Molding: 250-300 ° C / mold 80 C. Mixture of polyphenylene oxide and polystyrene (mixing weight ratio: 60:40, hereinafter abbreviated as PPO) Extrusion: 240 to 310 ° C./70 rpm Drying: 110 ° C./4 hours Molding: 240 to 320 ° C./mold 90 ° C. Polyethylene ( Hereinafter abbreviated as PE) Extrusion: 180 to 210 ° C / 700 rpm Drying: 100 ° C / 1 Time molding: 180~210 ℃ / mold 100 ℃

【0086】ノボラック樹脂 混練:80〜90℃/70rpm 成形:240〜320℃/金型150℃ 不飽和ポリエステル シート作成:40℃3日間熟成 成形:金型140℃Novolac resin Kneading: 80-90 ° C / 70rpm Molding: 240-320 ° C / mold 150 ° C Unsaturated polyester Sheet preparation: Aged at 40 ° C for 3 days Molding: Mold 140 ℃

【0087】[0087]

【表3】 [Table 3]

【0088】[0088]

【表4】 [Table 4]

【0089】実施例20〜21、比較例9〜10 表5に示した割合(重量部)で樹脂及び各種添加材を配
合し、2軸熱ロールで混練条件85℃×7分間混練した
後、剥離、冷却、粉砕して封止材を得た。この封止材を
トランスファー成型機を用いて成型温度170℃、成型
圧力6.8MPa(70kg/cm2)、成型時間120秒、
後硬化処理180℃×2時間で厚さ3mm、長さ12.5
mm、幅65mmの試験片を作成し、難燃試験及び抽出試験
を行った。なお、球状シリカは日本化学工業社製 A3
0、破砕シリカは龍森社製 VLM30、フェノール樹
脂は群栄化学社製 PSM4261、トリフェニルホス
フィンは北興化学社製、合成ワックスはヘキスト社製P
O、カーボンブラックは三菱化学社製、HCA−HQは
三光化学社製、水酸化アルミは住友化学社製 CL30
3を使用した。
Examples 20 to 21 and Comparative Examples 9 to 10 Resins and various additives were blended in the proportions (parts by weight) shown in Table 5, and the mixture was kneaded with a biaxial hot roll at 85 ° C. for 7 minutes. Peeling, cooling and pulverization gave a sealing material. Using a transfer molding machine, molding temperature of this sealing material is 170 ° C., molding pressure is 6.8 MPa (70 kg / cm 2 ), molding time is 120 seconds,
Post-curing treatment 180 ° C x 2 hours, thickness 3mm, length 12.5
A test piece having a width of 65 mm and a width of 65 mm was prepared and subjected to a flame retardant test and an extraction test. The spherical silica is A3 manufactured by Nippon Kagaku Kogyo Co., Ltd.
0, crushed silica VLM30 manufactured by Tatsumori Co., phenol resin PSM4261 manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd. triphenylphosphine manufactured by Hokuko Chemical Co., synthetic wax P manufactured by Hoechst Co.
O, carbon black is Mitsubishi Chemical Co., HCA-HQ is Sanko Chemical Co., aluminum hydroxide is Sumitomo Chemical CL30
3 was used.

【0090】[0090]

【表5】 [Table 5]

【0091】<難燃性試験>難燃性試験は、上記で調製
した封止樹脂について、実施例1〜5と同様に試験片を
作成し、UL94に分類した材料の垂直燃焼試験(94
V−0、94V−1及び94V−2)に従って試験し
た。その結果を表5に示した。
<Flame Retardancy Test> In the flame retardancy test, a test piece was prepared in the same manner as in Examples 1 to 5 for the sealing resin prepared above, and a vertical combustion test (94) for materials classified as UL94 was conducted.
V-0, 94V-1 and 94V-2). The results are shown in Table 5.

【0092】<抽出試験>実施例20〜21及び比較例
9〜10で得られた試験片をPCT抽出試験(121℃×
24時間)を行った。抽出試験は、容量100mlの耐圧
容器にサンプル8g及び水80gを入れ、121℃で2
4時間抽出し、水冷してろかし、ろ液中の溶出PO4
オン、PHO3イオン及びPH22イオンの濃度をイオ
ンクロマトグラフで測定した。さらにこのろ液の25℃
における電気伝導度を測定し、その結果を表6に示し
た。
<Extraction Test> The test pieces obtained in Examples 20 to 21 and Comparative Examples 9 to 10 were subjected to PCT extraction test (121 ° C. × 121 ° C.).
24 hours). For the extraction test, put 8 g of sample and 80 g of water in a pressure-resistant container with a capacity of 100 ml, and perform 2 at 121 ° C.
The mixture was extracted for 4 hours, cooled with water and filtered, and the concentrations of eluted PO 4 ions, PHO 3 ions and PH 2 O 2 ions in the filtrate were measured by ion chromatography. Furthermore, the temperature of this filtrate is 25 ° C.
The electrical conductivity of the sample was measured, and the results are shown in Table 6.

【0093】[0093]

【表6】 [Table 6]

【0094】実施例22 実施例6で合成したエポキシ樹脂100部、フェノール
樹脂(群栄化学社製、PSM4261)61.50部、
トリフェニルホスフィン(北興化学社製)2.26部、
OPワックス(ヘキスト社)1.13部、カーボンブラ
ック(三菱化学社製)1.13部、溶融シリカ(日本化
学工業、シルスターM2430)820.0部、硬化剤
としてノボラック型フェノール樹脂(硬化剤、住友ベー
クライト社製:PR53195)31.5部の混合物を
ミキサーで常温混合し、2軸熱ロールで80〜85℃で
7分混練したのち、剥離、冷却、粉砕してエポキシ樹脂
封止材を調整した。
Example 22 100 parts of the epoxy resin synthesized in Example 6, 61.50 parts of a phenol resin (PSM4261 manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.),
2.26 parts of triphenylphosphine (manufactured by Hokuko Kagaku),
1.13 parts of OP wax (Hoechst), 1.13 parts of carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), 820.0 parts of fused silica (Nippon Kagaku Kogyo, Sylstar M2430), novolac type phenol resin (hardening agent, Sumitomo Bakelite Co., Ltd .: PR53195) 31.5 parts of the mixture is mixed at room temperature with a mixer and kneaded with a biaxial hot roll at 80 to 85 ° C. for 7 minutes, then peeled, cooled and pulverized to prepare an epoxy resin encapsulant. did.

【0095】実施例23 実施例6で合成したエポキシ樹脂100部に硬化剤とし
てメタキシリレンジアミン17部を加え、硬化促進剤と
して2−エチル−4−メチルイミダゾール0.3gを加
え、メチルエチルケトンに添加し均一に攪拌して樹脂ワ
ニスを得た。この樹脂ワニスをガラスクロスに塗布して
含浸乾燥炉中で150℃の温度で乾燥させることによ
り、プリプレグを得た。このプリプレグを4枚重ね合わ
せて、3.0MPa(30kg/cm2)の圧力で、1
60℃で加熱して積層板を得た。
Example 23 To 100 parts of the epoxy resin synthesized in Example 6 was added 17 parts of metaxylylenediamine as a curing agent, 0.3 g of 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator, and addition to methyl ethyl ketone. Then, the mixture was uniformly stirred to obtain a resin varnish. A prepreg was obtained by applying this resin varnish to a glass cloth and drying it at a temperature of 150 ° C. in an impregnation drying furnace. Four of these prepregs are piled up, and the pressure of 3.0 MPa (30 kg / cm 2 ) is applied to 1
A laminate was obtained by heating at 60 ° C.

【0096】[0096]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の難燃性樹
脂組成物は優れた難燃性を有するとともに耐湿性にも優
れることから、コネクター、スイッチ、ケース部材、ト
ランス部材、コイルボビン等の電気部品、建築材料、自
動車等の輸送機器、包装材料、家庭日用品、フラットケ
ーブル、プリント配線板、電気回路基板、銅張積層板、
封止材、成形材、注型材、接着剤、電気絶縁性塗料材料
等の用途に有用である。また、本発明の難燃性樹脂組成
物の中,樹脂成分としてエポキシ樹脂を用いて難燃性エ
ポキシ樹脂組成物としたものは,特に封止材や積層板の
難燃化に有用である。
As described above, since the flame-retardant resin composition of the present invention has excellent flame retardancy and moisture resistance, it can be used in connectors, switches, case members, transformer members, coil bobbins, etc. Electrical parts, building materials, transportation equipment such as automobiles, packaging materials, household products, flat cables, printed wiring boards, electric circuit boards, copper clad laminates,
It is useful for applications such as sealing materials, molding materials, casting materials, adhesives, and electrically insulating paint materials. In addition, among the flame-retardant resin compositions of the present invention, those obtained by using an epoxy resin as a resin component to obtain a flame-retardant epoxy resin composition are particularly useful for making a sealing material and a laminated board flame-retardant.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J002 BB021 BB051 BB071 BB111 BB151 BC021 BD151 BF051 BG061 BG101 BL001 CC031 CC121 CC161 CC181 CC211 CD001 CD041 CD051 CD061 CD071 CF011 CF061 CF071 CF101 CG001 CH021 CH071 CH081 CK021 CL001 CL011 CL031 EW146 EW166 FD010 FD136 FD140 GF00 GQ00 GQ01 GQ05 4M109 AA01 BA01 CA21 EA03 EB07 EC01 GA10    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4J002 BB021 BB051 BB071 BB111                       BB151 BC021 BD151 BF051                       BG061 BG101 BL001 CC031                       CC121 CC161 CC181 CC211                       CD001 CD041 CD051 CD061                       CD071 CF011 CF061 CF071                       CF101 CG001 CH021 CH071                       CH081 CK021 CL001 CL011                       CL031 EW146 EW166 FD010                       FD136 FD140 GF00 GQ00                       GQ01 GQ05                 4M109 AA01 BA01 CA21 EA03 EB07                       EC01 GA10

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1およびR2は置換されていてもよい直鎖状又
は分岐状のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、
該アルキル基中の1つあるいは2つ以上のメチレン基は
−CH=CH−によって置き換えられていてもよく、R
1とR2は同一な基であっても異なる基であってもよく、
またR1とR2はPを含んであるいはPを含まないで環状
物を形成していてもよい。Xは酸素原子又は硫黄原子を
示す。Y、Zは水素原子、水酸基、直鎖状又は分岐状の
アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリル基、
アリール基又はシアノ基を示し、YとZはそれぞれが同
一の基であっても異なる基であってもよく、YとZで環
状物を形成してもよい。)で表される含リンハイドロキ
ノン誘導体を含有することを特徴とする難燃性樹脂組成
物。
1. The following general formula (1): (In the formula, R 1 and R 2 represent an optionally substituted linear or branched alkyl group or cycloalkyl group,
One or more methylene groups in the alkyl group may be replaced by -CH = CH-, R
1 and R 2 may be the same group or different groups,
In addition, R 1 and R 2 may form a cyclic compound containing P or not containing P. X represents an oxygen atom or a sulfur atom. Y and Z are a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an allyl group,
It represents an aryl group or a cyano group, and Y and Z may be the same group or different groups, and Y and Z may form a ring. ) A flame-retardant resin composition containing a phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by
【請求項2】前記R1とR2が形成する環状物は、下記一
般式(2)または一般式(3)で表されることを特徴と
する請求項1記載の難燃性樹脂組成物。 【化2】 (式中、R3は置換されていてもよいアルキレン基を示
す。) 【化3】 (式中、R4は置換されていてもよいシクロアルキレン
基またはアリーレン基を示す。)
2. The flame-retardant resin composition according to claim 1 , wherein the cyclic substance formed by R 1 and R 2 is represented by the following general formula (2) or general formula (3). . [Chemical 2] (In the formula, R 3 represents an optionally substituted alkylene group.) (In the formula, R 4 represents an optionally substituted cycloalkylene group or arylene group.)
【請求項3】 前記含リンハイドロキノン誘導体は、平
均粒径が100μm以下である請求項1又は2記載の難
燃性樹脂組成物。
3. The flame-retardant resin composition according to claim 1, wherein the phosphorus-containing hydroquinone derivative has an average particle size of 100 μm or less.
【請求項4】 難燃性樹脂は、エポキシ樹脂である請求
項1乃至3記載の難燃性樹脂組成物。
4. The flame-retardant resin composition according to claim 1, wherein the flame-retardant resin is an epoxy resin.
【請求項5】 請求項4に記載の難燃性樹脂組成物を用
いてなる封止材。
5. A sealing material comprising the flame-retardant resin composition according to claim 4.
【請求項6】 請求項4に記載の難燃性樹脂組成物を用
いてなる積層板。
6. A laminate comprising the flame-retardant resin composition according to claim 4.
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