JP2003177084A - Method for improving position accuracy in piezo stage - Google Patents

Method for improving position accuracy in piezo stage

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JP2003177084A
JP2003177084A JP2001379711A JP2001379711A JP2003177084A JP 2003177084 A JP2003177084 A JP 2003177084A JP 2001379711 A JP2001379711 A JP 2001379711A JP 2001379711 A JP2001379711 A JP 2001379711A JP 2003177084 A JP2003177084 A JP 2003177084A
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stage
sample
designated
drive range
range
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Fuminori Sato
文則 佐藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the position accuracy of a piezo stage. <P>SOLUTION: In method for improving the position accuracy of the piezo stage, the drive range of the piezo stage is specified, and the repetitive drive within the drive range is made in advance before the actual use. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はピエゾステージの位
置精度向上方法、特にヒステリシス及びクリープの改良
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for improving the positional accuracy of a piezo stage, and more particularly to improving hysteresis and creep.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、回折限界を超えた空間分解能を持
った光学顕微鏡である近接場光学顕微鏡が開発され、従
来とは異なる原理で光波長以下の領域を観察可能な顕微
鏡としてその応用が期待されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a near-field optical microscope, which is an optical microscope having a spatial resolution exceeding the diffraction limit, has been developed, and its application is expected as a microscope capable of observing a region below a light wavelength by a principle different from conventional ones. Has been done.

【0003】この近接場光学顕微鏡による測定は、物体
表面に生じるエバネッセント波を利用して行われる。例
えば平坦な基板の上に置かれた微小試料に基板裏面から
全反射が生じるような角度で光を入射させると、伝搬光
はすべて反射するが、基板及び試料表面付近にはエバネ
ッセント波と呼ばれる表面波が発生する。この表面波は
基板及び試料表面から光波長以内の距離の領域に局在し
ている。
The measurement by the near-field optical microscope is carried out by utilizing the evanescent wave generated on the surface of the object. For example, when light is incident on a minute sample placed on a flat substrate at an angle that causes total internal reflection from the back surface of the substrate, all of the propagating light is reflected, but a surface called an evanescent wave near the surface of the substrate and the sample. Waves are generated. This surface wave is localized in a region within a light wavelength from the surface of the substrate and the sample.

【0004】試料表面に生じたエバネッセント波の領域
に、先鋭状に加工したプローブを徐々に近づけ、接触さ
せるとエバネッセント波は散乱する。この散乱光の強度
はプローブ先端−試料表面間の距離に依存するので、散
乱光強度が一定となるようにしながら試料表面の走査を
行うことにより、試料表面の凹凸を的確に反映した情報
が得られる。このとき、試料表面方向の走査、及びそれ
と垂直なプローブ先端−試料表面間の距離制御は、プロ
ーブを一定位置に固定し、試料を載せたピエゾステージ
を駆動することにより行われる。
When the probe processed into a sharp shape is gradually brought close to and brought into contact with the region of the evanescent wave generated on the sample surface, the evanescent wave is scattered. Since the intensity of this scattered light depends on the distance between the probe tip and the sample surface, scanning the sample surface while keeping the scattered light intensity constant gives information that accurately reflects the unevenness of the sample surface. To be At this time, scanning in the direction of the sample surface and control of the distance between the probe tip and the sample surface perpendicular thereto are performed by fixing the probe at a fixed position and driving the piezo stage on which the sample is placed.

【0005】このような近接場顕微鏡をはじめ、原子間
力顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡等に代表されるプロー
ブ顕微鏡は、試料表面の微小な凹凸を測定するため、ナ
ノスケールの微小位置決めが可能であるピエゾステージ
を用いることが多い。
In addition to such a near-field microscope, a probe microscope typified by an atomic force microscope, a scanning tunneling microscope, and the like measures minute irregularities on the sample surface, and therefore nanoscale minute positioning is possible. A piezo stage is often used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ピエゾ
ステージは、ヒステリシスやクリープのため、複数回同
じ範囲を往復していると場所がずれていったり、また1
箇所に固定しようとしてもずれていったりして、絶対精
度や再現性に問題があった。特にプローブ顕微鏡では、
ナノスケールの極微小な範囲でステージを駆動するた
め、この問題の影響は大きい。
However, due to hysteresis and creep, the piezo stage is misaligned if it reciprocates in the same range a plurality of times.
There was a problem in absolute accuracy and reproducibility because it slipped even when trying to fix it in place. Especially in the probe microscope,
Since the stage is driven in an extremely small range on the nano scale, the problem is greatly affected.

【0007】これを解決する方法として、必要な精度の
位置センサをつける方法があるが、装置が大掛りにな
り、また位置を測定するのに時間がかかるため応答が遅
くなる等の問題がある。本発明は前記従来技術の課題に
鑑みなされたものであり、その目的はピエゾステージの
位置精度を向上することにある。
As a method of solving this, there is a method of mounting a position sensor having a required accuracy, but there is a problem that the device becomes large and the response is delayed because it takes time to measure the position. . The present invention has been made in view of the above problems of the conventional art, and an object thereof is to improve the positional accuracy of the piezo stage.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明にかかるピエゾステージの位置精度向上方法
は、ピエゾステージの駆動範囲を指定し、該駆動範囲内
での繰り返し駆動を実際の使用前にあらかじめ行ってお
くことを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, a method for improving the positional accuracy of a piezo stage according to the present invention specifies a drive range of the piezo stage and actually uses repetitive drive within the drive range. It is characterized in that it is done in advance.

【0009】また、前記方法において、前記駆動範囲に
対応する印加電圧の最大値と最小値を繰り返し印加する
ことにより前記繰り返し駆動を行うことが好適である。
また、前記方法において、XY軸により駆動範囲を指定
し、指定したXY駆動範囲の起点からX軸方向にX軸の
駆動範囲を繰り返し駆動し、且つ該起点からY軸方向に
Y軸の駆動範囲を繰り返し駆動することが好適である。
また、前記方法において、XY軸により駆動範囲を指定
し、指定したXY駆動範囲の起点からXY駆動範囲が構
成する面の対角線上を終点に向かって繰り返し駆動を行
うことが好適である。また、前記方法において、XY軸
により駆動範囲を指定し、指定したXY駆動範囲の起点
からXY駆動範囲全体をカバーするように櫛形に繰り返
し駆動を行うことが好適である。
In the method, it is preferable that the repetitive driving is performed by repeatedly applying the maximum value and the minimum value of the applied voltage corresponding to the driving range.
Further, in the above method, a drive range is designated by the XY axes, the X-axis drive range is repeatedly driven in the X-axis direction from the start point of the designated XY drive range, and the Y-axis drive range is driven in the Y-axis direction from the start point. It is preferable to repeatedly drive.
Further, in the above method, it is preferable that the drive range is designated by the XY axes, and the drive is repeatedly performed from the start point of the designated XY drive range toward the end point on the diagonal line of the surface formed by the XY drive range. Further, in the above method, it is preferable that the drive range is designated by the XY axes and the comb-shaped drive is repeatedly performed from the starting point of the designated XY drive range so as to cover the entire XY drive range.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の実施
形態について説明する。図1には、前述の近接場光学顕
微鏡の試料測定部の概略が示されている。同図におい
て、プローブ10は一定位置に固定されており、一方試
料台12を設置したピエゾステージ14は、図示しない
ステージコントローラからの指示による印加電圧により
XYZ方向に駆動可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an outline of a sample measuring unit of the above-mentioned near-field optical microscope. In the figure, the probe 10 is fixed at a fixed position, while the piezo stage 14 on which the sample table 12 is installed can be driven in the XYZ directions by an applied voltage according to an instruction from a stage controller (not shown).

【0011】試料台12に置かれた試料16の表面とプ
ローブ10先端間の距離を試料表面をXY方向へ走査す
る際に常に一定とするために、試料の凹凸に応じて、前
述したようにエバネッセント波の散乱光強度が一定とな
るようにピエゾステージ14に対してZ方向のフィード
バック制御を行っている。そして、試料表面走査時のZ
軸方向のステージ移動の履歴情報から、試料表面の凹凸
情報が得られる。
In order to keep the distance between the surface of the sample 16 placed on the sample table 12 and the tip of the probe 10 constant when scanning the sample surface in the XY directions, as described above, depending on the unevenness of the sample. Feedback control in the Z direction is performed on the piezo stage 14 so that the scattered light intensity of the evanescent wave is constant. Then, when scanning the sample surface, Z
Asperity information on the sample surface can be obtained from the history information of the stage movement in the axial direction.

【0012】ところが、ピエゾステージはヒステリシス
特性を有し、例えばX軸に沿ってあらかじめ定めた駆動
範囲の起点から終点までステージを駆動し、続いてそこ
から元の起点に戻すように駆動した場合の印加電圧−変
位曲線は、図2に示すように同じ印加電圧に対して変位
が一致しない結果となる。
However, the piezo stage has a hysteresis characteristic, and for example, when the stage is driven along the X axis from a starting point to an ending point of a predetermined driving range, and then the stage is driven back to the original starting point. The applied voltage-displacement curve results in the displacement not matching for the same applied voltage as shown in FIG.

【0013】さらに、ピエゾステージはクリープ特性を
有し、例えばステージコントローラからピエゾステージ
の駆動を止める指示を出している場合でも、図3に示す
ように時間経過により元の位置から変位を生じてしま
う。したがって、これらの現象によりピエゾステージの
位置精度、ひいては試料表面の凹凸情報の正確さが制限
されることになる。例えばナノスケールでの測定を行う
プローブ顕微鏡などではこれらの要因による位置精度の
制限が実際に大きな問題となる。
Further, the piezo stage has a creep characteristic, and even if the stage controller gives an instruction to stop the driving of the piezo stage, for example, displacement occurs from the original position with the passage of time as shown in FIG. . Therefore, these phenomena limit the positional accuracy of the piezo stage, and thus the accuracy of the unevenness information on the sample surface. For example, in a probe microscope or the like that performs measurement on the nanoscale, the limitation of the position accuracy due to these factors is actually a big problem.

【0014】この課題を解決するために本発明者らは鋭
意検討を行った結果、指定した駆動範囲内で、実際に測
定を行う前に該範囲内での駆動を繰り返し行っておくこ
とで、測定時におけるステージのヒステリシス及びクリ
ープが大幅に抑えられることを見出した。
As a result of intensive studies made by the present inventors to solve this problem, as a result of repeating driving within a specified driving range before actual measurement, It was found that the hysteresis and creep of the stage during measurement can be significantly suppressed.

【0015】すなわち、例えば図4に示すように、指定
した駆動範囲内での最大印加電圧及び最小印加電圧を交
互に繰り返し印加することで、ピエゾステージの位置が
安定し、位置精度が大幅に向上される。繰り返し数は、
場合によるが5回程度行うことで明らかな効果が認めら
れ、回数を増やす程位置精度の向上が認められる。
That is, for example, as shown in FIG. 4, by repeatedly and repeatedly applying the maximum applied voltage and the minimum applied voltage within a designated drive range, the position of the piezo stage is stabilized and the position accuracy is greatly improved. To be done. The number of repetitions is
Depending on the case, a clear effect can be recognized by performing the process about 5 times, and an increase in the number of times improves the positional accuracy.

【0016】したがって、例えばステージの駆動範囲を
設定した後に測定者の指示或いは自動で該駆動範囲内で
繰り返し駆動を行い、その後に測定を開始するようにす
れば、例えば10回程度の繰り返し駆動ならば長時間を
要しないので、簡易な操作で、且つ大掛りな装置も必要
とせずに位置精度の大幅な向上が可能である。なお、駆
動範囲の設定を変える際には、あらためて前述の操作を
やり直す必要があるが、1回測定前に行えば、駆動範囲
の設定を変えない限り、位置精度が向上した状態で測定
を続けることができる。
Therefore, if, for example, the driving range of the stage is set and then repeatedly driven within the driving range by an instruction of a measurer or automatically, and then the measurement is started, if the driving range is about 10 times, for example. Since it does not require a long time, it is possible to greatly improve the position accuracy with a simple operation and without requiring a large-scale device. In addition, when changing the setting of the driving range, it is necessary to redo the above-mentioned operation again. However, if the setting of the driving range is not changed once before the measurement, the measurement is continued with the position accuracy improved. be able to.

【0017】XY軸によりステージの駆動範囲を指定す
る場合には、位置精度向上のための繰り返し駆動とし
て、次のような方法が挙げられる。第1の方法は、図5
(A)に示すように、まず駆動範囲を指定した後、指定
したXY駆動範囲の起点にステージを駆動した後X軸方
向にX軸の駆動範囲を繰り返し駆動し、且つ該起点にス
テージを駆動した後Y軸方向にY軸の駆動範囲を繰り返
し駆動する方法である。これによりX,Y軸両方向共に
使用時の位置精度が安定する。
When the drive range of the stage is designated by the XY axes, the following method can be cited as a repetitive drive for improving the position accuracy. The first method is shown in FIG.
As shown in (A), after the drive range is first designated, the stage is driven to the starting point of the designated XY drive range, and then the X-axis driving range is repeatedly driven in the X-axis direction, and the stage is driven to the starting point. After that, the driving range of the Y axis is repeatedly driven in the Y axis direction. This stabilizes the position accuracy during use in both the X and Y axis directions.

【0018】また、第2の方法は、図5(B)に示すよ
うに、まず駆動範囲を指定した後、指定したXY駆動範
囲の起点にステージを駆動してから、XY駆動範囲が構
成する面の対角線上を終点に向かって繰り返し駆動する
方法である。
In the second method, as shown in FIG. 5B, after the drive range is designated, the stage is driven to the starting point of the designated XY drive range, and then the XY drive range is formed. This is a method of repeatedly driving on the diagonal line of the surface toward the end point.

【0019】また、第3の方法は、図5(C)に示すよ
うに、まず駆動範囲を指定した後、指定したXY駆動範
囲の起点にステージを駆動してから、XY駆動範囲全体
をカバーするような櫛形の駆動を繰り返し行う方法であ
る。
In the third method, as shown in FIG. 5C, the drive range is first designated, the stage is driven to the starting point of the designated XY drive range, and then the entire XY drive range is covered. This is a method of repeatedly performing comb-like driving.

【0020】以上、本発明にかかるピエゾステージの位
置精度向上方法について述べたが、このようなステージ
に試料を固定する際に、以下に説明する固定手段が好適
に用いられる。
The method for improving the positional accuracy of the piezo stage according to the present invention has been described above. When the sample is fixed to such a stage, the fixing means described below is preferably used.

【0021】ステージへの試料固定手段 ナノレベルの位置精度が要求される、例えば上述の近接
場光学顕微鏡などのプローブ顕微鏡では、ピエゾステー
ジなどのステージ上に試料を固定する方法として、機械
的な摩擦を用いて止める方法、両面テープを使用して貼
り付ける方法、グリスなどで吸着させる方法などが知ら
れている。
[0021]Sample fixing means on stage Position accuracy at the nano level is required, such as the proximity described above.
For probe microscopes such as field optical microscopes,
As a method of fixing the sample on the stage such as
Using frictional friction, sticking with double-sided tape
Know how to attach it, and how to absorb it with grease etc.
Has been.

【0022】しかし、機械的な摩擦を用いて止める方法
では、摩擦係数の大きなステージと試料だけに有効で、
それ以外の組み合わせでは試料がすべってしまう。また
ステージの急激な動きによる慣性力がかかると位置がず
れてしまう。
However, the method of stopping by using mechanical friction is effective only for the stage and the sample having a large friction coefficient,
Any other combination will cause the sample to slip. In addition, if inertial force is applied due to abrupt movement of the stage, the position will shift.

【0023】一方、両面テープやグリスを用いる方法で
は、試料に粘着材などが付着し、試料を汚染してしま
う。また両面テープやグリスは消耗するので測定ごとに
供給する必要がある。
On the other hand, in the method using a double-sided tape or grease, an adhesive material or the like adheres to the sample and contaminates the sample. Also, the double-sided tape and grease are consumed, so it is necessary to supply them for each measurement.

【0024】そこで、確実に試料をステージに固定で
き、且つ固定の際に試料を汚染しない試料固定手段を提
供することを目的とした試料固定用ステージとして、ゲ
ル状の吸着材を用いたことを特徴とする試料固定用ステ
ージを以下に説明する。
Therefore, a gel-like adsorbent is used as a sample fixing stage for the purpose of providing a sample fixing means capable of surely fixing the sample to the stage and not contaminating the sample at the time of fixing. The characteristic sample fixing stage will be described below.

【0025】図6には、ゲル状の吸着材を用いた試料固
定用ステージの使用態様が示されている。同図に示すよ
うに、ピエゾステージ等のステージ20上にゲル状の吸
着材からなる試料固定用ステージ22を設置する。この
固定用ステージ22上に試料24を配置、固定する。ゲ
ル状の吸着材は、吸着能に優れ、試料とゲルの接触部分
は密着しているので、試料は十分に固定される。また、
ゲルは実質的に試料に付着しないので、試料を汚すこと
がなく、また容易に着脱可能である。
FIG. 6 shows a usage state of a sample fixing stage using a gel-like adsorbent. As shown in the figure, a sample fixing stage 22 made of a gel-like adsorbent is installed on a stage 20 such as a piezo stage. The sample 24 is placed and fixed on the fixing stage 22. The gel-like adsorbent has an excellent adsorbing ability, and the contact portion between the sample and the gel is in close contact, so that the sample is sufficiently fixed. Also,
Since the gel does not substantially adhere to the sample, it does not stain the sample and is easily removable.

【0026】ゲル状吸着材としては、摩擦係数を高める
敷物、固体が例示され、より具体的にはシリコーンゲ
ル、シリコーンゴム、その他有機高分子の架橋体による
ゲル等が挙げられる。
Examples of the gel-like adsorbent include mats and solids that increase the coefficient of friction, and more specifically, silicone gel, silicone rubber, and gels of other organic polymer cross-linking materials.

【0027】また、透明なゲル状吸着材を用いれば、試
料下方からの目視及び顕微鏡観察が可能である。或い
は、図7に示すように、試料の縁側の部分だけにゲル状
吸着材を設置することによっても、試料下側からの目視
及び顕微鏡観察が可能である。
If a transparent gel-like adsorbent is used, it is possible to perform visual observation and microscopic observation from below the sample. Alternatively, as shown in FIG. 7, by arranging the gel-like adsorbent only on the edge side of the sample, the visual observation and the microscopic observation from the lower side of the sample are possible.

【0028】また、導電性のゲル状吸着材を用いて固定
用ステージと試料を電気的に接触することにより、ST
M等に適用可能である。このような導電性のゲル状吸着
材としては、樹脂(ポリオレフィン系、ポリエステル系
或いはフッ素系等)に金属成分を高密度に分散させた、
高導電性プラスチックシート(例えば体積固有抵抗値の
オーダー10−3〜10−4Ω・cmのもの)が例示さ
れる。
Further, by electrically contacting the fixing stage with the sample using a conductive gel-like adsorbent,
It is applicable to M and the like. As such a conductive gel-like adsorbent, a metal component is dispersed at high density in a resin (polyolefin-based, polyester-based, fluorine-based, etc.),
An example is a highly conductive plastic sheet (for example, one having a volume resistivity value of the order of 10 −3 to 10 −4 Ω · cm).

【0029】以上説明した試料固定用ステージを用いれ
ば、試料を汚染せず、確実に試料をステージに固定で
き、且つ容易に着脱可能であるという効果が得られる。
If the sample fixing stage described above is used, the sample can be securely fixed to the stage without being contaminated, and the sample can be easily attached and detached.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の方法によ
れば、指定した駆動範囲内での繰り返し駆動を実際の使
用前にあらかじめ行っておくこととしたので、ヒステリ
シス及びクリープが大幅に抑えられる。これにより、大
掛りな装置を要さず、且つ位置決めのために多くの時間
を要することなくステージの位置精度を向上可能であ
る。
As described above, according to the method of the present invention, the repeated driving within the designated driving range is performed before the actual use, so that the hysteresis and the creep are significantly suppressed. To be As a result, it is possible to improve the positional accuracy of the stage without requiring a large-scale device and without requiring much time for positioning.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】近接場光学顕微鏡の試料測定部の概略図であ
る。
FIG. 1 is a schematic diagram of a sample measuring unit of a near-field optical microscope.

【図2】ピエゾステージのヒステリシス特性を示したグ
ラフである。
FIG. 2 is a graph showing a hysteresis characteristic of a piezo stage.

【図3】ピエゾステージのクリープ特性を示したグラフ
である。
FIG. 3 is a graph showing creep characteristics of a piezo stage.

【図4】本発明の方法の実施形態を示した説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an embodiment of the method of the present invention.

【図5】本発明の方法の実施形態を示した説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an embodiment of the method of the present invention.

【図6】ゲル状吸着材を用いた試料固定用ステージの使
用態様を示した説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a usage mode of a sample fixing stage using a gel-like adsorbent.

【図7】ゲル状吸着材を用いた試料固定用ステージの使
用態様を示した説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a usage mode of a sample fixing stage using a gel-like adsorbent.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 プローブ 12 試料台 14 ピエゾステージ 16 試料 20 ステージ 22 試料固定用ステージ 24 試料 10 probes 12 sample table 14 Piezo Stage 16 samples 20 stages 22 Sample fixing stage 24 samples

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ピエゾステージの駆動範囲を指定し、該
駆動範囲内での繰り返し駆動を実際の使用前にあらかじ
め行っておくことを特徴とするピエゾステージの位置精
度向上方法。
1. A method for improving the positional accuracy of a piezo stage, characterized in that a drive range of the piezo stage is designated and repetitive driving within the drive range is performed in advance before actual use.
【請求項2】 請求項1記載の方法において、前記駆動
範囲に対応する印加電圧の最大値と最小値を繰り返し印
加することにより前記繰り返し駆動を行うことを特徴と
するピエゾステージの位置精度向上方法。
2. The method for improving the positional accuracy of a piezo stage according to claim 1, wherein the repetitive driving is performed by repeatedly applying a maximum value and a minimum value of an applied voltage corresponding to the driving range. .
【請求項3】 請求項1記載の方法において、XY軸に
より駆動範囲を指定し、指定したXY駆動範囲の起点か
らX軸方向にX軸の駆動範囲を繰り返し駆動し、且つ該
起点からY軸方向にY軸の駆動範囲を繰り返し駆動する
ことを特徴とするピエゾステージの位置精度向上方法。
3. The method according to claim 1, wherein a drive range is designated by the XY axes, the X-axis drive range is repeatedly driven in the X-axis direction from the designated XY drive range starting point, and the Y-axis starts from the starting point. A method for improving the positional accuracy of a piezo stage, which comprises repeatedly driving a Y-axis drive range in a direction.
【請求項4】 請求項1記載の方法において、XY軸に
より駆動範囲を指定し、指定したXY駆動範囲の起点か
らXY駆動範囲が構成する面の対角線上を終点に向かっ
て繰り返し駆動を行うことを特徴とするピエゾステージ
の位置精度向上方法。
4. The method according to claim 1, wherein a driving range is designated by XY axes, and the driving is repeatedly performed from a starting point of the designated XY driving range toward an end point on a diagonal line of a plane formed by the XY driving range. A method for improving the positional accuracy of a piezo stage, characterized by:
【請求項5】 請求項1記載の方法において、XY軸に
より駆動範囲を指定し、指定したXY駆動範囲の起点か
らXY駆動範囲全体をカバーするように櫛形に繰り返し
駆動を行うことを特徴とするピエゾステージの位置精度
向上方法。
5. The method according to claim 1, wherein a drive range is designated by the XY axes, and the comb-shaped drive is repeated so as to cover the entire XY drive range from the starting point of the designated XY drive range. Method for improving the position accuracy of the piezo stage.
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