JP2003155768A - Urolith adhesion preventing method for flush toilet urinal facility - Google Patents

Urolith adhesion preventing method for flush toilet urinal facility

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JP2003155768A
JP2003155768A JP2001237528A JP2001237528A JP2003155768A JP 2003155768 A JP2003155768 A JP 2003155768A JP 2001237528 A JP2001237528 A JP 2001237528A JP 2001237528 A JP2001237528 A JP 2001237528A JP 2003155768 A JP2003155768 A JP 2003155768A
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Japan
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urinal
flush
water
drug solution
chemical solution
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Withdrawn
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JP2001237528A
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Japanese (ja)
Inventor
Hironobu Kimura
木村廣宣
Shiro Mizobata
史郎 溝端
Yoshihiro Inoue
井上佳大
Takashi Izuta
伊豆田隆士
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SANIKLEEN CORP
TAKESHIBA SEIKO KK
Original Assignee
SANIKLEEN CORP
TAKESHIBA SEIKO KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of accurately keeping the pH suitable for preventing adhesion of urolith. SOLUTION: This method for preventing adhesion of urolith of a flush toilet urinal facility is a method for preventing adhesion of urolith in the flush toilet urinal facility using a chemical solution injecting device for the flush toilet urinal fitted to a water supply pipe to the urinal. In the chemical solution injecting device for the flush toilet urinal, a chemical solution with a designated concentration is quantitatively injected at a designated ratio to the quantity of water for one washing, thereby keeping the pH of the mixed waste water of urine, washing water and a chemical solution under 5.0.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、水洗式小便器用の
尿石付着防止方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for preventing urine stones from adhering to a flush urinal.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の水洗式小便器には、尿石の付着防
止、消毒、脱臭などを目的として、水洗式小便器用の薬
剤を供給するように構成された注入装置が備えられてい
る場合が多くなってきた。前記注入装置は、使用される
薬剤は一般的には固形薬剤であって、図9に示したよう
に、その固形薬剤110を孔あき容器111に収納し、小便器
120への洗浄水配管130から分岐させた水流をフロート弁
140を介して溶解タンク150へ導入して溶解させ、その溶
解液を小便器120への洗浄水の最後に注入もしくは供給
して、前記小便器120への尿石等の付着を防止するよう
に構成されている。このような注入装置は、人体センサ
ー160を備え、小便器を使用後に人体が離れたことを検
知して、制御回路170によって電磁弁180を所定時間開い
て洗浄水を小便器に供給するように構成されている。こ
のような固形薬剤を用いた注入装置の場合には、注入量
の制御を正確に行うために、特開平3−59326号公
報、特開平3−66842号公報、特開平2−2257
33号公報に特開2001−090144号公報等にお
いて、種々の装置が提案されている。しかし、これらの
装置においても、固形薬剤を用いるため種々の問題があ
った。固形薬剤が水に溶出するための条件としては、水
温、周囲温度、経時変化等の種条件によって、溶出した
洗浄水の薬剤濃度にばらつきが発生しやすいという問題
があった。そのため、尿と洗浄水と薬液との混合液のp
Hを所望の値に保持することが困難であった。
2. Description of the Related Art In recent years, flush urinals have been equipped with an injection device configured to supply a chemical for flush urinals for the purpose of preventing adherence of urinary stones, disinfection, deodorization, etc. Is increasing. In the injection device, the medicine to be used is generally a solid medicine, and as shown in FIG. 9, the solid medicine 110 is stored in a perforated container 111 and a urinal.
The water flow branched from the wash water pipe 130 to the float valve 120
It is introduced into the dissolution tank 150 via 140 and dissolved, and the dissolution liquid is injected or supplied at the end of the washing water to the urinal 120 to prevent adhesion of urine stones etc. to the urinal 120. It is configured. Such an injection device includes a human body sensor 160, detects that the human body is separated after using the urinal, and opens a solenoid valve 180 for a predetermined time by the control circuit 170 to supply flush water to the urinal. It is configured. In the case of an injection device using such a solid medicine, in order to accurately control the injection amount, JP-A-3-59326, JP-A-3-66842, and JP-A-2-2257 are used.
Various devices have been proposed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 33-33, JP-A-2001-090144, and the like. However, these devices also have various problems because they use a solid drug. As a condition for elution of the solid chemical in water, there is a problem that the chemical concentration of the eluted cleaning water tends to vary depending on seed conditions such as water temperature, ambient temperature and aging. Therefore, p of the mixed solution of urine, wash water, and chemical solution
It was difficult to keep H at the desired value.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】混合液のpHが5.0
未満であれば尿石は付着しにくいが、固形薬剤を用いる
注入方法では、pHの制御が困難であった。pHが極端
に下がると便器設備の腐食が進むので下がりすぎること
は防ぐ必要が有り、一方、pHが高くなると尿石が付着
しやすくなるので便器設備の清掃管理が煩雑になるので
pHが上がりすぎることも防ぐ必要がある。このような
事情から、薬液の正確な定量注入が必要となってきたの
である。そこで、本発明は、尿石の付着防止に適したp
Hを正確に維持することのできる方法を提供することを
目的としてなされたものである。
The pH of the mixed solution is 5.0.
If it is less than the above range, urinary stones are hard to adhere, but it is difficult to control the pH by the injection method using a solid drug. If the pH is extremely lowered, the toilet equipment will be corroded, so it is necessary to prevent it from falling too low.On the other hand, if the pH is too high, urine stones tend to adhere and cleaning management of the toilet equipment becomes complicated, so the pH is too high. You also need to prevent it. Under such circumstances, it has become necessary to accurately and accurately inject the drug solution. Therefore, the present invention is suitable for preventing the attachment of urinary stones.
The purpose is to provide a method capable of maintaining H accurately.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】請求項1の水洗式小便器
設備の尿咳付着防止方法は、小便器への給水管に取り付
けた水洗式小便器用薬剤溶液注入装置による水洗式小便
器設備の尿石付着防止方法において、前記水洗式小便器
用薬剤溶液注入装置では所定の濃度の薬液を、1回の洗
浄水量に対して所定の割合で、定量注入することによっ
て、尿と洗浄水と薬液との混合排水のpHを3.5〜
5.0未満に保持することを特徴としている。請求項2
の水洗式小便器設備の尿咳付着防止方法は、所定の濃度
の薬液を注入するにあたっては、定流量ポンプを用いて
所定の濃度の薬液を定量注入することを特徴としてい
る。請求項3の水洗式小便器設備の尿咳付着防止方法
は、所定の濃度の薬液を注入するにあたっては、プラン
ジャー式定流量ポンプを用いて所定の濃度の薬液を定量
注入することを特徴としている。
A method for preventing urinary cough adhesion of flush urinal equipment according to claim 1 is a method of flush flush urinal equipment using a chemical solution injection device for flush urinal attached to a water supply pipe to the urinal. In the method for preventing adherence of urinary stones, in the above-mentioned flush type urinal drug solution injecting device, urine, washing water, and a medicinal solution are obtained by quantitatively injecting a medicinal solution having a predetermined concentration at a predetermined ratio with respect to the amount of washing water at one time. PH of mixed wastewater of 3.5 ~
It is characterized in that it is maintained below 5.0. Claim 2
The method for preventing adherence to urinary cough of the flush urinal facility is characterized in that when injecting a drug solution of a predetermined concentration, a constant flow pump is used to inject a fixed amount of the drug solution of a predetermined concentration. The method for preventing urinary cough adhesion of flush urinal equipment according to claim 3 is characterized in that, when injecting a drug solution of a predetermined concentration, a fixed amount of the drug solution of a predetermined concentration is injected using a plunger type constant flow pump. There is.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の水洗式小便器設備の尿咳
付着防止方法に用いる水洗式小便器用の薬剤溶液注入装
置を、図面を用いて説明する。図1は、本発明に用いる
水洗式小便器用薬剤溶液注入装置の一例の基本構造図で
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A drug solution injector for a flush urinal used in the method for preventing urinary cough adhesion of flush urinal equipment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a basic structural diagram of an example of a flush type urinal drug solution injector for use in the present invention.

【0006】図1において、1は水洗式小便器用薬剤溶
液注入装置であり、給水管2と小便器6への配管5との
間に配設された電磁弁3と、人体Mを検出してポンプ駆
動信号と電磁弁制御信号とを出力する制御装置7と、薬
剤溶液供給部9とから構成されている。制御装置7は、
人体Mが小便器に近づいたことと、小便器から離れたこ
とを検知する赤外線式のセンサー73と、電磁弁3の開
閉を制御する電磁弁制御信号を出力するとともに、薬剤
溶液供給部9のポンプ8の駆動を制御するポンプ駆動信
号とを出力する制御回路72と、電源装置71とを備え
ている。
In FIG. 1, reference numeral 1 is a flushing type urinal drug solution injector, which detects a human body M and an electromagnetic valve 3 arranged between a water supply pipe 2 and a pipe 5 to a urinal 6. The control device 7 outputs a pump drive signal and a solenoid valve control signal, and a drug solution supply unit 9. The control device 7
The infrared sensor 73 for detecting that the human body M approaches the urinal and the fact that the human body M has left the urinal, and an electromagnetic valve control signal for controlling the opening and closing of the electromagnetic valve 3 are output, and the medicine solution supply unit 9 A control circuit 72 that outputs a pump drive signal that controls the drive of the pump 8 and a power supply device 71 are provided.

【0007】薬剤溶液供給部9は、薬液タンク91と、
ポンプ8と、供給タンク92と、供給タンク92に備え
られたフロート弁93と、配管5と連結された供給管4
とを備えている。
The chemical solution supply section 9 includes a chemical solution tank 91,
The pump 8, the supply tank 92, the float valve 93 provided in the supply tank 92, and the supply pipe 4 connected to the pipe 5.
It has and.

【0008】図2は前記水洗式小便器用薬剤溶液注入装
置1の分解斜視図である。図2において、フレーム11
は、給水管2と配管5との間に接続された押しボタン式
のフラッシュバルブ12に固定されている。このフレー
ム11に、供給タンク92と電磁弁3とプランジャー式
の定流量ポンプ(以下、単にポンプと言う。)8と薬液タ
ンク91と電源装置としてのバッテリー71が取り付け
られている。
FIG. 2 is an exploded perspective view of the flush type urinal drug solution injector 1. In FIG. 2, the frame 11
Is fixed to a push button type flash valve 12 connected between the water supply pipe 2 and the pipe 5. A supply tank 92, a solenoid valve 3, a plunger type constant flow pump (hereinafter simply referred to as a pump) 8, a chemical liquid tank 91, and a battery 71 as a power supply device are attached to the frame 11.

【0009】次に、上記構成の水洗式小便器用薬剤溶液
注入装置1の動作を説明する。人体Mが小便器6の前に
立つと、前記センサー73が感知して、人体感知信号が
制御回路72へ入力される。この人体検知信号が入力さ
れると制御回路72は、所定時間だけ電磁弁3を開い
て、給水管2からの水を流して小便器を前洗浄する。こ
のときには、薬剤溶液は流出しないので、薬剤の浪費は
防止できる。その後、排尿後に人体Mが小便器6から離
れると、前記センサー73から人体検知信号が出力され
なくなる。人体検知信号が出力されなくなると、制御回
路72は、所定時間だけ電磁弁3を開いて、給水管2か
らの水を流して小便器を後洗浄する。
Next, the operation of the flush-type urinal drug solution injector 1 having the above construction will be described. When the human body M stands in front of the urinal 6, the sensor 73 senses and a human body detection signal is input to the control circuit 72. When this human body detection signal is input, the control circuit 72 opens the solenoid valve 3 for a predetermined time to flow water from the water supply pipe 2 to pre-wash the urinal. At this time, since the drug solution does not flow out, waste of the drug can be prevented. After that, when the human body M leaves the urinal 6 after urination, the sensor 73 does not output the human body detection signal. When the human body detection signal is no longer output, the control circuit 72 opens the solenoid valve 3 for a predetermined time to allow water from the water supply pipe 2 to flow and post-clean the urinal.

【0010】このとき、電磁弁3と小便器6とを結ぶ配
管5を流れる洗浄水の一部(約100ミリリットル)は、供給管
4から供給タンク92へ逆流する。洗浄水の一部が供給
タンク92へ逆流すると同時に、制御回路72からポン
プ駆動信号が出力されるので、ポンプ8は所定量(約0.
1ミリリットル/1回)の薬液を薬液タンク91から供給タン
ク92へ供給する。供給タンク92内では、洗浄水と薬
液とが容易に混合する。その後、電磁弁3が閉じて洗浄
水の流量が減少して水圧が低下すると、供給タンク92
内の混合薬液が供給管4から配管5を通って小便器6に
供給される。この混合薬液は後述するように、pH5.
0未満に保持されるので、小便器6およびその排水管
(図示せず。)への尿石付着を防止するのである。
At this time, a part (about 100 ml) of the washing water flowing through the pipe 5 connecting the solenoid valve 3 and the urinal 6 flows backward from the supply pipe 4 to the supply tank 92. At the same time as a part of the wash water flows back to the supply tank 92, a pump drive signal is output from the control circuit 72, so that the pump 8 has a predetermined amount (about 0.
The chemical solution of 1 ml / 1 time is supplied from the chemical solution tank 91 to the supply tank 92. In the supply tank 92, the cleaning water and the chemical solution are easily mixed. After that, when the solenoid valve 3 is closed and the flow rate of washing water is reduced and the water pressure is reduced, the supply tank 92
The mixed chemical solution therein is supplied from the supply pipe 4 to the urinal 6 through the pipe 5. This mixed chemical solution has a pH of 5.
Since it is maintained at less than 0, urine stones are prevented from adhering to the urinal 6 and its drain pipe (not shown).

【0011】次に、前記電磁弁3の動作を、その内部構
造を示した図3に基づいて説明する。制御回路72から
出力される電磁弁制御信号によって電磁弁が作動すると
弁部A1が上方へ移動する。このとき、シリンダカバー
17に形成された小孔部17-1が開くので、供給水が充満し
ている空間17-2の供給水はシリンダカバー17に形成され
た排出口17-3から排出され、連通しているタンク給排出
口から排出される。前記小孔部17-1が開くと給水管内の
水圧が低下するので、弁座19の上面の水圧が低下する
と、シリンダの排出口3-1が開いて排出される。このと
き、給水圧と排水圧との差圧の分(約100ミリリットル)がタ
ンク給水口より供給タンク92内へ供給されるのであ
る。所定時間後に、電磁弁が閉じられると排水圧が更に
低下するので、供給タンク92内の薬液がタンク給排水
口から配管5を通って小便器6へ排出されるのである。
この薬液のpHを5.0未満に保持することによって小
便器およびその排水管への尿石付着を防止するのであ
る。
Next, the operation of the solenoid valve 3 will be described with reference to FIG. 3 showing the internal structure thereof. When the solenoid valve is actuated by the solenoid valve control signal output from the control circuit 72, the valve portion A1 moves upward. At this time, the cylinder cover
Since the small hole portion 17-1 formed in 17 opens, the supply water in the space 17-2 filled with the supply water is discharged from the discharge port 17-3 formed in the cylinder cover 17 and communicates with it. It is discharged from the tank supply / discharge port. When the small hole portion 17-1 is opened, the water pressure in the water supply pipe is reduced. Therefore, when the water pressure on the upper surface of the valve seat 19 is reduced, the discharge port 3-1 of the cylinder is opened and discharged. At this time, a portion of the differential pressure between the water supply pressure and the drainage pressure (about 100 ml) is supplied from the tank water supply port into the supply tank 92. When the electromagnetic valve is closed after a predetermined time, the drainage pressure further decreases, so that the chemical solution in the supply tank 92 is discharged from the tank supply / drain port through the pipe 5 to the urinal 6.
By keeping the pH of the drug solution below 5.0, urine stones are prevented from adhering to the urinal and its drain.

【0012】次に、供給タンク92を図4に基づいて説
明する。図4のAにおいて、供給タンク92は電磁弁3
を配置する空間を確保するために、電磁弁3を囲むよう
に平断面がU字形状に成形されている。そして、図4の
Bの側面断面図に示したように、供給タンク92の内部
にフロート弁93が配設されている。このフロート弁9
3の下部の流入側空間は、反対側の給水口と連結されて
いる。
Next, the supply tank 92 will be described with reference to FIG. In FIG. 4A, the supply tank 92 is the solenoid valve 3
In order to secure a space for arranging, the flat section is formed in a U shape so as to surround the solenoid valve 3. Then, as shown in the side sectional view of FIG. 4B, a float valve 93 is arranged inside the supply tank 92. This float valve 9
The inflow space at the bottom of 3 is connected to the water supply port on the opposite side.

【0013】ポンプの説明 図5はポンプ8の側面断面図であり、図6はポンプ8の
平面断面図である。図5、6において、制御回路72を
介して電源装置(バッテリー)71からの電気がポンプ
のモータ85に供給されると、モータが回転し、モータ
軸に装着されたウォームギア81が回転する。ウォーム
ギアの回転によって歯車82が所定の減速比で回転す
る。この歯車に装着された偏心軸によってピストン83
が往復駆動される。ことのときのストロークは約2mmで
ある。ピストンには、ピストン弁、ピストン支持棒が装
着されており、ピストンを包含するシリンダーには吐出
口87、吸込口88及び逆流防止ボール86が装着さ
れ、シリンダーはモータに装着されたギアボックスに固
定されている。
Description of Pump FIG. 5 is a side sectional view of the pump 8, and FIG. 6 is a plan sectional view of the pump 8. 5 and 6, when electricity from the power supply device (battery) 71 is supplied to the motor 85 of the pump through the control circuit 72, the motor rotates and the worm gear 81 mounted on the motor shaft rotates. The rotation of the worm gear causes the gear 82 to rotate at a predetermined reduction ratio. The eccentric shaft mounted on this gear causes the piston 83
Is driven back and forth. The stroke at that time is about 2 mm. The piston is equipped with a piston valve and a piston support rod, the cylinder including the piston is equipped with a discharge port 87, a suction port 88 and a backflow prevention ball 86, and the cylinder is fixed to a gear box mounted on the motor. Has been done.

【0014】ピストンの往復動によって、ピストンが吸
込口側に移動すると、ピストンに揺動自在に取り付けら
れたピストン弁も吸込口側に移動する。シリンダーの吸
込口側に残留する薬液は、ピストン弁の動きにより圧縮
力を受け、ピストン弁を吐出口側に移動させる。このと
き、逆流防止ボールは吸込口をふさぎ、薬液の逆流を防
止する。シリンダー内の薬液はピストンに設けられた吐
出孔より薬液を吐出口側に送り出す。ピストンが吐出口
側に移動すれば、ピストンに設けたピストン弁はピスト
ンに設けた吐出孔をふさいで吐出口側に移動する。この
とき、吸込口側に設けられた逆流防止ボールは吸込口を
開き薬液をシリンダー内に吸入する。以上の往復ピスト
ン運動によって、ピストン弁のストロークによって規定
される体積(約0.05ミリリットル/1ストローク)が吐出され
るのである。このような、正確な定流量ポンプによって
吐出された薬液は供給タンク内で水と混合希釈されて小
便器に供給されるのである。従って、一回あたりの洗浄
水量100ミリリットルに対して、pHが1.8〜2.5の薬液
を約0.1ミリリットル注入することによって、体内から排出
されたpH6.0〜6.5の尿との混合液のpHは3.
5〜5.0未満に保持される。上述したように、プラン
ジャー式定流量ポンプを用いて正確な注入量を維持でき
るので、小便器内でのpHを正確に維持できるようにな
った。従って、小便器内のでのpHを3.5〜5.0未
満に維持するように制御できるので、小便器への尿石の
付着を確実に防止することが可能となったのである。さ
らに、小便器からの排水管内への付着もさらに確実に防
止することが可能となったのである。
When the piston moves to the suction port side due to the reciprocating motion of the piston, the piston valve swingably attached to the piston also moves to the suction port side. The chemical liquid remaining on the suction port side of the cylinder receives a compressive force due to the movement of the piston valve, and moves the piston valve to the discharge port side. At this time, the backflow prevention ball blocks the suction port to prevent backflow of the chemical liquid. The chemical liquid in the cylinder is delivered to the discharge port side from the discharge hole provided in the piston. When the piston moves to the discharge port side, the piston valve provided in the piston closes the discharge hole provided in the piston and moves to the discharge port side. At this time, the backflow prevention ball provided on the suction port side opens the suction port and sucks the liquid medicine into the cylinder. By the above reciprocating piston movement, the volume (about 0.05 milliliters / 1 stroke) defined by the stroke of the piston valve is discharged. The chemical solution discharged by such an accurate constant flow rate pump is mixed and diluted with water in the supply tank and supplied to the urinal. Therefore, by injecting about 0.1 ml of a chemical solution having a pH of 1.8 to 2.5 with respect to 100 ml of washing water per wash, urine having a pH of 6.0 to 6.5 excreted from the body. The pH of the mixed solution with is 3.
It is kept below 5 to 5.0. As described above, since the accurate injection amount can be maintained by using the plunger type constant flow rate pump, the pH in the urinal can be accurately maintained. Therefore, the pH in the urinal can be controlled so as to be maintained at less than 3.5 to 5.0, so that it is possible to reliably prevent urine stones from adhering to the urinal. Furthermore, it has become possible to more reliably prevent adhesion from the urinal to the drain pipe.

【0015】なお、薬液タンク91は、図7に示したよ
うに、底面が凹面状に形成され、その最低部にポンプ8
への吸入配管の先端が配置されている。従って、残存薬
液の量が少なくなっても確実に吸入することができるの
である。
As shown in FIG. 7, the chemical liquid tank 91 has a concave bottom surface, and the pump 8 is provided at the lowest portion thereof.
The tip of the suction pipe to is arranged. Therefore, it is possible to surely inhale even if the amount of the residual liquid medicine becomes small.

【0016】電源装置71としてのバッテリーは高容量
の電池を用いることによって、長期間にわたって交換す
ることなく使用することができるのである。
The battery as the power source device 71 can be used for a long period of time without replacement by using a high capacity battery.

【0017】使用する薬液に特に制限はないが、尿石の
付着防止のために、スルファミン酸を含有したものが好
ましい。また、洗浄作用を得るために、例えば、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウムなどのアニオン界面活性剤や、ソルビタンモノラウ
レート、ラウリン酸モノグリセライドなどのノニオン界
面活性剤などを挙げることができる。
The chemical solution used is not particularly limited, but a solution containing sulfamic acid is preferable for preventing adherence of urinary stones. Further, in order to obtain a cleaning action, for example, anionic surfactants such as sodium lauryl sulfate and sodium dodecylbenzene sulfonate, and nonionic surfactants such as sorbitan monolaurate and monoglyceride laurate can be mentioned.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明によれば、所定の流量の薬液を正
確に注入するので、小便器設備内でのpHを3.5〜
5.0未満の範囲に正確に維持できるようになったの
で、小便器設備への尿石の付着を確実に防止することが
可能となったのである。さらに、小便器設備およびその
排水管の腐食も抑制するとともに、小便器設備からの排
水管内への付着もさらに確実に防止することが可能とな
ったのである。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, since a chemical solution having a predetermined flow rate is accurately injected, the pH in the urinal facility is 3.5 to 10.
Since it has become possible to accurately maintain the range of less than 5.0, it is possible to reliably prevent urine stones from adhering to the urinal equipment. Furthermore, it has become possible to suppress corrosion of the urinal equipment and its drain pipe, and to more reliably prevent adhesion from the urinal equipment to the drain pipe.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明に用いる水洗式小便器用薬剤溶液注入
装置の基本的な構成図である。
FIG. 1 is a basic configuration diagram of a flush-type urinal drug solution injector used in the present invention.

【図2】 図1の要部の分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of a main part of FIG.

【図3】 電磁弁の構造説明図である。FIG. 3 is a structural explanatory view of a solenoid valve.

【図4】 供給タンクの平面断面図である。FIG. 4 is a plan sectional view of a supply tank.

【図5】 ポンプの側面断面図である。FIG. 5 is a side sectional view of the pump.

【図6】 ポンプの平面断面図である。FIG. 6 is a plan sectional view of the pump.

【図7】 薬液タンクの側面断面図である。FIG. 7 is a side sectional view of a chemical liquid tank.

【図8】 動作のタイムチャートである。FIG. 8 is a time chart of the operation.

【図9】 従来例の水洗式小便器用薬剤注入装置であ
る。
FIG. 9 is a conventional medicine injection device for flush urinal.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 水洗式小便器用薬剤溶液注入装置 2 給水管 3 電磁弁 5 配管 6 小便器 7 制御装置 72 制御回路 73 センサー 8 ポンプ 9 薬剤溶液供給部 1 Chemical solution injection device for flush urinal 2 water supply pipe 3 Solenoid valve 5 piping 6 urinals 7 Control device 72 Control circuit 73 sensor 8 pumps 9 Drug solution supply section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 溝端 史郎 京都府京田辺市大住池島3−1 竹芝精巧 株式会社内 (72)発明者 井上佳大 京都府京田辺市大住池島3−1 竹芝精巧 株式会社内 (72)発明者 伊豆田隆士 京都府京田辺市大住池島3−1 竹芝精巧 株式会社内 Fターム(参考) 2D038 AA02 2D039 AA04 CB01 CD00 DB04 DB08   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Shiro Mizobata             3-1 Takezumi Shiba, 3-1 Ozumiikeshima, Kyotanabe, Kyoto Prefecture             Within the corporation (72) Inventor Yoshihiro Inoue             3-1 Takezumi Shiba, 3-1 Ozumiikeshima, Kyotanabe, Kyoto Prefecture             Within the corporation (72) Inventor Takashi Izuda             3-1 Takezumi Shiba, 3-1 Ozumiikeshima, Kyotanabe, Kyoto Prefecture             Within the corporation F-term (reference) 2D038 AA02                 2D039 AA04 CB01 CD00 DB04 DB08

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】小便器への給水管に取り付けた水洗式小便
器用薬剤溶液注入装置による水洗式小便器設備の尿石付
着防止方法において、前記水洗式小便器用薬剤溶液注入
装置では所定の濃度の薬液を、1回の洗浄水量に対して
所定の割合で、定量注入することによって、尿と洗浄水
と薬液との混合排水のpHを3.5〜5.0未満に保持
することを特徴とする水洗式小便器設備の尿咳付着防止
方法。
1. A method for preventing adherence of urinary stones to a flush urinal facility by using a flush type urinal drug solution injector attached to a water supply pipe to the flush urinal, wherein the flush urinal drug solution injector has a predetermined concentration. It is characterized in that the pH of the mixed waste water of urine, wash water, and chemical solution is maintained at 3.5 to less than 5.0 by injecting the chemical solution at a predetermined ratio with respect to the amount of wash water once. Method for preventing urinary cough adhesion in flush urinal equipment.
【請求項2】所定の濃度の薬液を注入するにあたって
は、定流量ポンプを用いて所定の濃度の薬液を定量注入
することを特徴とする請求項1に記載の水洗式小便器設
備の尿咳付着防止方法。
2. The urinary cough for flush-type urinal equipment according to claim 1, characterized in that when injecting the drug solution having a predetermined concentration, a constant flow pump is used to inject the drug solution having a predetermined concentration in a fixed amount. Anti-adhesion method.
【請求項3】所定の濃度の薬液を注入するにあたって
は、プランジャー式定流量ポンプを用いて所定の濃度の
薬液を定量注入することを特徴とする請求項1に記載の
水洗式小便器設備の尿咳付着防止方法。
3. The flush urinal facility according to claim 1, wherein, when injecting the chemical liquid of a predetermined concentration, a constant amount of the chemical liquid of a predetermined concentration is injected using a plunger type constant flow pump. Urine cough adhesion prevention method.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008180071A (en) * 2006-12-28 2008-08-07 Hidemi Okada Washing water supply apparatus for urinal
JP2013241767A (en) * 2012-05-18 2013-12-05 Hidemi Okada Sterilizing and deodorizing water generator and washing water supply device for urinal
KR102070545B1 (en) 2019-07-24 2020-03-02 김형준 Water-saving urinal with sterilizing and deodorizing water making device
WO2021251444A1 (en) * 2020-06-09 2021-12-16 株式会社エム・イー・エス Infectious drainage treatment system

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008180071A (en) * 2006-12-28 2008-08-07 Hidemi Okada Washing water supply apparatus for urinal
JP2013241767A (en) * 2012-05-18 2013-12-05 Hidemi Okada Sterilizing and deodorizing water generator and washing water supply device for urinal
KR102070545B1 (en) 2019-07-24 2020-03-02 김형준 Water-saving urinal with sterilizing and deodorizing water making device
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