JP2003149760A - Processing method for silver halide photographic sensitive material and processing composition for silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Processing method for silver halide photographic sensitive material and processing composition for silver halide photographic sensitive material

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JP2003149760A
JP2003149760A JP2001342997A JP2001342997A JP2003149760A JP 2003149760 A JP2003149760 A JP 2003149760A JP 2001342997 A JP2001342997 A JP 2001342997A JP 2001342997 A JP2001342997 A JP 2001342997A JP 2003149760 A JP2003149760 A JP 2003149760A
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silver halide
carbon atoms
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Takanori Hioki
孝徳 日置
Yasushi Nakai
泰史 中井
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Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing method which diminishes stains due to the residual sensitizing dye of a silver halide photographic sensitive material. SOLUTION: In the processing method, a silver halide photographic sensitive material is irradiated with light or brought into contact with an oxidizing agent in the presence of at least one compound of the formula (X)k -(L)m -(A-B)n wherein X is a silver halide attracting group or a light absorbing group; L is a divalent linking group; A is an electron donative group; B is a releasable group or H and is released or deprotonated after oxidation to generate a radical A.; k and m are each an integer of 0-3; and n is 1 or 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料、好ましくはハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法に関し、特に処理後において感光材料の残留増感色素
に起因するステインを低減する方法である。さらには、
この目的で用いるハロゲン化銀写真感光材料用処理組成
物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, preferably a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to a method for reducing stains resulting from residual sensitizing dye in the light-sensitive material after processing. is there. Moreover,
The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material processing composition used for this purpose.

【0002】[0002]

【従来の技術】デジタルカメラやカラープリンターの目
覚しい進歩の中で ハロゲン化銀カラー写真感光材料の
処理においては、高品質の画像を速やかに顧客に提供す
ることが望まれている。しかし従来の処理方法の単なる
時間短縮では感光材料中の増感色素が十分洗い出される
前に処理が終了することになるため、カラープリントの
白地部分において残留した多量の増感色素により画像が
着色され鑑賞に耐え難くなった。またカラーネガティブ
フィルムにおいても最小濃度部の濃度が増加することに
よりカラーバランスが崩れ適正なプリントが提供できな
い事態を生じた。
2. Description of the Related Art With the remarkable progress of digital cameras and color printers, in the processing of silver halide color photographic light-sensitive materials, it is desired to promptly provide customers with high quality images. However, if the conventional processing method is simply shortened, the processing is completed before the sensitizing dye in the light-sensitive material is sufficiently washed out, so the image is colored by the large amount of the sensitizing dye remaining on the white background of the color print. It became hard to appreciate it. Also in the color negative film, the density in the minimum density portion is increased, so that the color balance is disturbed and proper printing cannot be provided.

【0003】さらに近年、高感度な撮影用感光材料にお
いて重要な基本技術である平板状ハロゲン化銀粒子の使
用は、単位体積あたり用いる増感色素量を多くできるこ
とから感度及び感度−粒状比の向上という効果をもたら
す一方、処理後の感光材料に残留する増感色素量の増加
させている。処理条件によっては、残留増感色素量の増
加は無視できなくなり、カラーネガティブフィルムの最
小濃度部の濃度増加やカラーリバーサルフイルムのハイ
ライト部が着色する現象を生じている。
Further, in recent years, the use of tabular silver halide grains, which is an important basic technique in high-sensitivity photographic light-sensitive materials, improves the sensitivity and the sensitivity-granular ratio because the amount of sensitizing dye used per unit volume can be increased. On the other hand, the amount of sensitizing dye remaining in the processed light-sensitive material is increased. Depending on the processing conditions, an increase in the amount of residual sensitizing dye cannot be ignored, and a phenomenon such as an increase in the density of the minimum density portion of the color negative film or a coloring of the highlight portion of the color reversal film occurs.

【0004】リサーチディスクロージャー誌20733
号には増感色素に起因するステインを除去する方法の一
例としてビストリアジニルアミノスチルベンジスルホン
酸化合物を用いる方法が開示されており、この方法はカ
ラー写真感光材料の処理において広く用いられてきた。
特開平6−329936号には溶解性に優れかつ時間短
縮を短縮した処理でもステインを低減できるビストリア
ジニルアミノスチルベンジスルホン酸化合物が開示され
ている。また米国特許第6,153,364号には2,
6−ジアリールアミノトリアジン化合物を用いたステイ
ン低減方法が提案されている。
Research Disclosure Magazine 20733
The publication discloses a method using a bistriazinylaminostilbenedisulfonic acid compound as an example of a method for removing stains caused by a sensitizing dye, and this method has been widely used in the processing of color photographic light-sensitive materials.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-329936 discloses a bistriazinylaminostilbenedisulfonic acid compound which has excellent solubility and can reduce stain even by a treatment that shortens the time. Also, in US Pat. No. 6,153,364, 2,
A stain reduction method using a 6-diarylaminotriazine compound has been proposed.

【0005】増感色素に起因するステインを低減するた
めに写真処理液に含有させる化合物は、ステイン低減剤
といわれ、ハロゲン化銀感光材料からの増感色素の流出
を促進する。ステイン低減剤の効果はリンス液が新しい
場合に比べ、ハロゲン化銀写真感光材料の連続処理を行
いリンス液が疲労するに従い低下する。これはハロゲン
化銀写真感光材料から流出した増感色素が処理液に蓄積
された、通常の処理浴中で安定な増感色素の一部がハロ
ゲン化銀感光材料へ取り込まれ、結果的に増感色素の洗
い出しを阻害するためである。この阻害作用は廃液量が
低減された近年の写真処理液において著しい。
The compound contained in the photographic processing solution in order to reduce the stain caused by the sensitizing dye is called a stain reducing agent and promotes the outflow of the sensitizing dye from the silver halide light-sensitive material. The effect of the stain-reducing agent decreases as the rinse liquid becomes fatigued after continuous processing of the silver halide photographic light-sensitive material, as compared with the case where the rinse liquid is new. This is because the sensitizing dye flowing out from the silver halide photographic light-sensitive material is accumulated in the processing solution, and a part of the sensitizing dye that is stable in a normal processing bath is incorporated into the silver halide light-sensitive material, resulting in sensitization. This is to prevent the washout of the dye. This inhibitory effect is remarkable in recent photographic processing liquids in which the amount of waste liquid has been reduced.

【0006】さらにハロゲン化銀写真感光材料の塗設増
感色素量が増加するにつれ、写真処理液のステイン低減
剤も高濃度化が必要になりキットへの溶解性という問題
を生じたり、ステイン低減剤の高濃度域では必ずしも添
加濃度に応じたステイン低減効果を示さない場合があ
る。それゆえ増感色素に起因するステインを低減するた
めにはハロゲン化銀写真感光材料に残存した増感色素そ
のものを分解して無色化することが根本的な解決方法と
なる。
Further, as the amount of the coating sensitizing dye of the silver halide photographic light-sensitive material increases, the stain reducing agent in the photographic processing solution also needs to have a high concentration, which causes a problem of solubility in the kit and reduces the stain. In the high concentration range of the agent, the stain reducing effect depending on the concentration added may not always be exhibited. Therefore, in order to reduce the stain caused by the sensitizing dye, the fundamental solution is to decompose the sensitizing dye itself remaining in the silver halide photographic light-sensitive material to make it colorless.

【0007】米国特許第6、207,359B1号にはN−
オキシアジ二ウム化合物の存在下で感光材料に光照射し
てステインを減少させる方法が提案されている。ただし
この化合物は反応によりピリジン類を生成するため、ハ
ロゲン化銀感光材料が塩基性雰囲気になり画像の保存性
には好ましくない。
US Pat. No. 6,207,359 B1 contains N-
It has been proposed to irradiate a light-sensitive material with light in the presence of an oxyazinium compound to reduce stain. However, since this compound produces pyridines by the reaction, the silver halide light-sensitive material is in a basic atmosphere, which is not preferable for image storability.

【0008】本発明の化合物は光照射又は酸化処理によ
り活性なラジカル種を生じ、これが増感色素を攻撃して
無色化するため、塗設増感色素量を増加したハロゲン化
銀感光材料の処理や連続処理を行ったとしても増感色素
に起因するステインを低いレベルに抑えることができ
る。また本発明の化合物の反応生成物が感光材料中に残
存しても画像安定性への影響は小さい。これは処理時間
を短縮した現像処理を行う上で好ましい特長である。
The compound of the present invention produces an active radical species by photoirradiation or oxidation treatment, which attacks the sensitizing dye to make it colorless, so that the processing of the silver halide light-sensitive material in which the amount of the coating sensitizing dye is increased. The stain caused by the sensitizing dye can be suppressed to a low level even if the continuous treatment is performed. Further, even if the reaction product of the compound of the present invention remains in the light-sensitive material, the influence on the image stability is small. This is a preferable feature in performing development processing with a shortened processing time.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、処理後において残留増感色素に起因するステイン
の低減されたハロゲン化銀写真感光材料を与える処理方
法および処理組成物を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a processing method and a processing composition which provide a silver halide photographic light-sensitive material having a reduced stain resulting from residual sensitizing dye after processing. is there.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前記の課題は、以下の手
段により解決された。すなわち、
The above-mentioned problems have been solved by the following means. That is,

【0011】(1) イメージワイズに露光されたハロ
ゲン化銀写真感光材料に、少なくとも1つの下記一般式
(I)で表される化合物の存在下で光照射することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 一般式(I) (X)k−(L)m−(A−B)n 式中、Xはハロゲン化銀吸着基または光吸収基を表す。
Lは2価の連結基を表す。Aは電子供与基を表し、Bは
脱離基または水素原子を表し、酸化後、脱離または脱プ
ロトンされてラジカルA・を生成する。kおよびmは各
々0〜3の整数を表し、nは1または2を表す。 (2) ハロゲン化銀写真感光材料に、少なくとも1つ
の(1)記載の一般式(I)で表される化合物の存在下
で酸化剤を接触させることを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法。 (3) 一般式(I)で表される化合物が水性溶液とし
て用いられることを特徴とする(1)又は(2)のいず
れかに記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 (4) 一般式(I)で表される化合物を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用処理組成物。
(1) A silver halide photograph characterized in that an imagewise exposed silver halide photographic light-sensitive material is irradiated with light in the presence of at least one compound represented by the following general formula (I). Method of processing photosensitive material. In formula (I) (X) k- (L) m- (AB) n , X represents a silver halide adsorbing group or a light absorbing group.
L represents a divalent linking group. A represents an electron-donating group, B represents a leaving group or a hydrogen atom, and after oxidation, it is eliminated or deprotonated to generate a radical A. k and m each represent an integer of 0 to 3, and n represents 1 or 2. (2) A silver halide photographic light-sensitive material, characterized in that an oxidant is brought into contact with the silver halide photographic light-sensitive material in the presence of at least one compound represented by the general formula (I) described in (1). Processing method. (3) The method for processing a silver halide photographic light-sensitive material as described in (1) or (2), wherein the compound represented by the general formula (I) is used as an aqueous solution. (4) A silver halide photographic light-sensitive material processing composition containing a compound represented by the general formula (I).

【0012】本発明は、上記に示したハロゲン化銀写真
感光材料の処理方法、好ましくは増感色素のステインを
低減する処理方法を提供する。本発明における一般式
(I)で表される化合物は、好ましくは光照射又は酸化
剤との接触によりラジカル(遊離基とも言う)を発生す
るラジカル発生剤であり、さらに好ましくは光照射によ
りラジカルを発生する光ラジカル発生剤の場合である。
The present invention provides a processing method for the above-described silver halide photographic light-sensitive material, preferably a processing method for reducing the stain of the sensitizing dye. The compound represented by the general formula (I) in the present invention is preferably a radical generator that generates a radical (also referred to as a free radical) upon irradiation with light or contact with an oxidizing agent, and more preferably a radical generator upon irradiation with light. This is the case of a photo-radical generator that is generated.

【0013】次に本発明の一般式(I)で表される化合
物について詳細に説明する。一般式(I)で表される本
発明の化合物は、乳剤調製時、感材製造工程中、感材の
現像などの処理中などのいかなる場合にも使用してもよ
い。例えば粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布
前、現像と定着の間などである。またこれらの工程中の
複数回に分けて添加することも出来る。
Next, the compound represented by formula (I) of the present invention will be described in detail. The compound of the present invention represented by the general formula (I) may be used at any time during preparation of an emulsion, during the process of producing a light-sensitive material, during processing such as development of a light-sensitive material. For example, during grain formation, desalting step, during chemical sensitization, before coating, between development and fixing, and the like. It is also possible to add them in multiple times during these steps.

【0014】次に、処理工程以外に一般式(I)の化合
物を添加する場合について説明する。本発明の化合物
は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒ま
たはこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好まし
い。水に溶解する場合、pHを高くあるいは低くした方
が溶解度の上がる化合物については、pHを調整して溶
解し、これを添加してもよい。一般式(I)で表される本
発明の化合物は、乳剤層中に使用するのが好ましいが、
乳剤層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に
拡散させてもよい。本発明の化合物の添加時期は増感色
素の前後を問わず、その量は、好ましくはハロゲン化銀
1モル当り、1×10-9〜5×10-2モル、更に好まし
くは1×10-8〜2×10-3モルの割合でハロゲン化銀
乳剤層に含有させる。本発明の化合物について詳細に説
明する。一般式(I)中、Xはハロゲン化銀吸着基又は光
吸収基を表し、kは0〜3の整数を表す。kが2以上の
場合、複数個のXは、同じでも異なっていてもよい。X
で表されるハロゲン化銀吸着基としては、好ましくは
N、S、P、SeおよびTeからなる群から選択される
少なくとも1つを有するものであり、より好ましくはそ
の中で銀イオンリガンド構造のものである。銀イオンリ
ガンド構造としては以下のものが挙げられる。 一般式(X−1) −G1−Z1−R1 (式中、G1は2価の連結基であり、置換もしくは無置
換の、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン
基、アリーレン基、SO2基、2価の複素環基、または
それらの組合せからなる2価の基を表す。Z1は、S、
SeまたはTe原子を表す。R1は水素原子またはZ1
解離体となった場合に必要な対イオンとして、ナトリウ
ムイオン、カリウムイオン、リチウムイオンおよびアン
モニウムイオンを表す。)
Next, the case of adding the compound of the general formula (I) other than the treatment step will be described. The compound of the present invention is preferably added by dissolving it in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound whose solubility is increased by increasing or decreasing the pH may be adjusted by adjusting the pH and then added. The compound of the present invention represented by the general formula (I) is preferably used in the emulsion layer,
It may be added to the protective layer or the intermediate layer together with the emulsion layer and diffused during coating. Timing of addition of the compounds of the present invention may be before or after the sensitizing dyes, the amount is preferably per mole of silver halide, 1 × 10 -9 ~5 × 10 -2 mol, more preferably 1 × 10 - It is contained in the silver halide emulsion layer in a proportion of 8 to 2 × 10 -3 mol. The compound of the present invention will be described in detail. In formula (I), X represents a silver halide adsorbing group or a light absorbing group, and k represents an integer of 0 to 3. When k is 2 or more, a plurality of X may be the same or different. X
The silver halide adsorbing group represented by is preferably one having at least one selected from the group consisting of N, S, P, Se and Te, and more preferably a silver ion ligand structure of It is a thing. Examples of the silver ion ligand structure include the following. In the general formula (X-1) -G 1 -Z 1 -R 1 ( wherein, G 1 represents a divalent linking group, a substituted or unsubstituted alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group, SO A divalent group consisting of a divalent group, a divalent heterocyclic group, or a combination thereof, Z 1 is S,
Represents a Se or Te atom. R 1 represents a hydrogen atom or a counter ion necessary when it becomes a dissociation product of Z 1 , and represents a sodium ion, a potassium ion, a lithium ion and an ammonium ion. )

【0015】[0015]

【化1】 [Chemical 1]

【0016】(一般式(X−2a)、(X−2b)及び
(X−2c)は環形成されており、その形態は複素飽和
環、複素不飽和環、不飽和炭素環である。Zaは、O、
N、S、SeまたはTe原子を少なくとも一つ有する好
ましくは5〜7員環を完成する残基であり、必要に応じ
てベンゾ縮環またはナフト縮環してもよい。Zbは、
O、N、S、SeまたはTe原子を有してもよく、好ま
しくは5〜7員環を完成する残基であり、必要に応じて
ベンゾ縮環またはナフト縮環してもよい。R2は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはア
リール基を表す。) 一般式(X−3) −R3−(Z2)n2−R4 (式中、Z2はS、SeまたはTe原子を表し、n2は1
〜3の整数を表す。R3は2価の連結基であり、アルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、2価の複素環基、または2価の複素環基とアルキレ
ン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、SO2基のいずれかとが結合した2価の基を表す。
4はアルキル基、アリール基または複素環基を表す。
2が2以上のとき、複数のZ2は、同じでも異なってい
てもよい。) 一般式(X−4)
(General formulas (X-2a), (X-2b) and (X-2c) form a ring, and the form thereof is a hetero saturated ring, a hetero unsaturated ring or an unsaturated carbocycle. a is O,
It is a residue having at least one N, S, Se or Te atom and preferably completing a 5- to 7-membered ring, and may be benzo-condensed or naphtho-condensed if necessary. Z b is
It may have an O, N, S, Se or Te atom, and is preferably a residue that completes a 5- to 7-membered ring, and may be benzo-condensed or naphtho-condensed if necessary. R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group. ) General formula (X-3) -R 3 - (Z 2) n 2 -R 4 ( wherein, Z 2 is S, Se or Te atom, n 2 is 1
Represents an integer of 3; R 3 is a divalent linking group, and is an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, or a divalent heterocyclic group and an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, It represents a divalent group bonded to any of the SO 2 groups.
R 4 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
When n 2 is 2 or more, a plurality of Z 2 may be the same or different. ) General formula (X-4)

【0017】[0017]

【化2】 [Chemical 2]

【0018】(式中、R5およびR6は各々独立してアル
キル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表
す。)
(In the formula, R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.)

【0019】[0019]

【化3】 [Chemical 3]

【0020】(式中、Z3は、S、SeまたはTe原子
を表し、E1は水素原子、NH2、NHR10、N(R10
2、NHN(R102、OR10またはSR10を表す。E2
は2価の連結基であり、NH、NR10、NHNR10、O
またはSを表す。R7、R8およびR9は各々独立して水
素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または
複素環基を表し、R8とR9は互いに結合して環を形成し
ていてもよい。R10は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基または複素環基を表す。)
(In the formula, Z 3 represents an S, Se or Te atom, E 1 represents a hydrogen atom, NH 2 , NHR 10 , N (R 10 ).
2 , NHN (R 10 ) 2 , OR 10 or SR 10 . E 2
Is a divalent linking group, NH, NR 10 , NHNR 10 , O
Or represents S. R 7 , R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 8 and R 9 may be bonded to each other to form a ring. R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. )

【0021】[0021]

【化4】 [Chemical 4]

【0022】(式中、R11は2価の連結基であり、アル
キレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレ
ン基、2価の複素環基またはそれらの組合せからなる基
を表す。G2およびJは各々独立して、COOR12、S
212、COR12、SOR12、CN、CHOまたはN
2を表す。R12はアルキル基、アルケニル基またはア
リール基を表す。) 一般式(X−1)について詳細に説明する。式中、G1
で表される連結基としては、炭素数1〜20の、置換も
しくは無置換の、直鎖または分岐のアルキレン基(例え
ばメチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テ
トラメチレン、ヘキサメチレン、3−オキサペンチレ
ン、2−ヒドロキシトリメチレン)、炭素数3〜18
の、置換もしくは無置換の環状アルキレン基(例えばシ
クロプロピレン、シクロペンチレン、シクロへキシレ
ン)、炭素数2〜20の、置換もしくは無置換のアルケ
ニレン基(例えばエテン、2−ブテニレン)、炭素数2
〜10のアルキニレン基(例えばエチン)、炭素数6〜
20の、置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば無
置換p−フェニレン、無置換2,5−ナフチレン)が挙
げられる。式中、G1で表されるSO2基としては、−S
2−基の他に、炭素数1〜10の、置換もしくは無置
換の、直鎖または分岐のアルキレン基、炭素数3〜6
の、置換もしくは無置換の環状アルキレン基または炭素
数2〜10のアルケニレン基と結合した−SO2−基が
挙げられる。さらに、G1で表される2価の連結基とし
ては、2価の複素環基、または2価の複素環基とアルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、SO2基のいずれかとが結合した2価の基、または
これらの基の複素環部分がベンゾ縮合またはナフト縮合
されたもの(例えば2,3−テトラゾールジイル、1,
3−トリアゾールジイル、1,2−イミダゾ−ルジイ
ル、3,5−オキサジアゾ−ルジイル、2,4−チアゾ
ールジル、1,5−ベンゾイミダゾールジイル、2,5
−ベンゾチアゾ−ルジイル、2,5−ベンゾオキサゾ−
ルジイル、2,5−ピリミジンジイル、3−フェニル−
2,5−テトラゾールジイル、2,5−ピリジンジイ
ル、2,4−フランジイル、1,3−ピペリジンジイ
ル、2,4−モルホリンジイル)が挙げられる。上記式
中、G1には可能な限り置換基を有していてもよい。置
換基を以下に示すが、これら置換基をここでは置換基Y
と称する。置換基としては例えばハロゲン原子(例えば
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例
えばメチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、t
−ブチル)、アルケニル基(例えばアリル、2−ブテニ
ル)、アルキニル基(例えばプロパルギル)、アラルキ
ル基(例えばベンジル)、アリール基(例えばフェニ
ル、ナフチル、4−メチルフェニル)、複素環基(例え
ばピリジル、フリル、イミダゾリル、ピペリジニル、モ
ルホリル)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキ
シ、ブトキシ、2−エチルヘキシルオキシ、エトキシエ
トキシ、メトキシエトキシ)、アリールオキシ基(例え
ばフェノキシ、2−ナフチルオキシ)、アミノ基(例え
ば無置換アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
プロピルアミノ、ジブチルアミノ、エチルアミノ、アニ
リノ)、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ、ベン
ゾイルアミノ)、ウレイド基(例えば無置換ウレイド、
N−メチルウレイド)、ウレタン基(例えばメトキシカ
ルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ)、スル
フォニルアミノ基(例えばメチルスルフォニルアミノ、
フェニルスルフォニルアミノ)、スルファモイル基(例
えば無置換スルファモイル、N,N−ジメチルスルファ
モイル、N−フェニルスルファモイル)、カルバモイル
基(例えば無置換カルバモイル、N,N−ジエチルカル
バモイル,N−フェニルカルバモイル)、スルホニル基
(例えばメシル、トシル)、スルフィニル基(例えばメ
チルスルフィニル、フェニルスルフィニル)、アルキル
オキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エト
キシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(例え
ばフェノキシカルボニル)、アシル基(例えばアセチ
ル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル)、アシルオキ
シ基(例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシ)、リン酸
アミド基(例えばN,N−ジエチルリン酸アミド)、シ
アノ基、スルホ基、チオスルホン酸基、スルフィン酸
基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基、ニトロ
基、アンモニオ基、ホスホニオ基、ヒドラジノ基、チア
ゾリノ基が挙げられる。また、置換基が2つ以上ある時
は同じでも異なっていてもよく、置換基はさらに置換基
を有していてもよい。好ましい一般式(X−1)として
は、G1がアリーレン基、アルキレン基、アリーレン基
と結合された複素環基、またはベンゾ縮環もしくはナフ
ト縮環された複素環基であり、Z1がSまたはSeであ
り、R1が水素原子、ナトリウムイオンまたはカリウム
イオンの場合である。さらに好ましくは、G1がアリー
レン基と結合された複素環基、またはベンゾ縮環された
複素環基であり、Z1がSであり、R1が水素原子または
ナトリウムイオンの場合である。特に好ましい複素環基
は以下の構造である。
(In the formula, R 11 is a divalent linking group and represents a group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group or a combination thereof. G 2 and J Are independently COOR 12 , S
O 2 R 12 , COR 12 , SOR 12 , CN, CHO or N
Represents O 2 . R 12 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group. The general formula (X-1) will be described in detail. In the formula, G 1
The connecting group represented by is a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methylene, ethylene, trimethylene, propylene, tetramethylene, hexamethylene, 3-oxapentylene). , 2-hydroxytrimethylene), carbon number 3-18
, A substituted or unsubstituted cyclic alkylene group (eg, cyclopropylene, cyclopentylene, cyclohexylene), a substituted or unsubstituted alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms (eg, ethene, 2-butenylene), 2 carbon atoms.
An alkynylene group having 10 to 10 carbon atoms (for example, ethyne)
And 20 substituted or unsubstituted arylene groups (eg, unsubstituted p-phenylene, unsubstituted 2,5-naphthylene). In the formula, the SO 2 group represented by G 1 is —S
O 2 - in other groups, having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted, linear or branched alkylene group having 3-6 carbon atoms
A substituted or unsubstituted cyclic alkylene group or an —SO 2 — group bonded to an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms. Further, as the divalent linking group represented by G 1 , a divalent heterocyclic group or a divalent heterocyclic group and any one of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, and an SO 2 group. A divalent group bonded thereto or a heterocyclic moiety of these groups benzo- or naphtho-condensed (for example, 2,3-tetrazolediyl, 1,
3-triazolediyl, 1,2-imidazolediyl, 3,5-oxadiazoludiyl, 2,4-thiazoldiyl, 1,5-benzimidazolediyl, 2,5
-Benzothiazol-diyl, 2,5-benzoxazo-
Ludiyl, 2,5-pyrimidinediyl, 3-phenyl-
2,5-tetrazolediyl, 2,5-pyridinediyl, 2,4-furandiyl, 1,3-piperidinediyl, 2,4-morpholinediyl). In the above formula, G 1 may have a substituent as much as possible. The substituents are shown below, and these substituents are referred to as the substituent Y here.
Called. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, t
-Butyl), alkenyl group (eg allyl, 2-butenyl), alkynyl group (eg propargyl), aralkyl group (eg benzyl), aryl group (eg phenyl, naphthyl, 4-methylphenyl), heterocyclic group (eg pyridyl, Furyl, imidazolyl, piperidinyl, morpholyl), alkoxy group (eg methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy, ethoxyethoxy, methoxyethoxy), aryloxy group (eg phenoxy, 2-naphthyloxy), amino group (eg unsubstituted) Amino, dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, dibutylamino, ethylamino, anilino), acylamino group (eg acetylamino, benzoylamino), ureido group (eg unsubstituted ureido,
N-methylureido), urethane group (eg methoxycarbonylamino, phenoxycarbonylamino), sulfonylamino group (eg methylsulfonylamino,
Phenylsulfonylamino), sulfamoyl group (eg unsubstituted sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, N-phenylsulfamoyl), carbamoyl group (eg unsubstituted carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl) , A sulfonyl group (eg, mesyl, tosyl), a sulfinyl group (eg, methylsulfinyl, phenylsulfinyl), an alkyloxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), an aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl), an acyl group (eg, acetyl, Benzoyl, formyl, pivaloyl), acyloxy group (eg acetoxy, benzoyloxy), phosphoric acid amide group (eg N, N-diethylphosphoric acid amide), cyano group, sulfo group, Osuruhon acid group, a sulfinic acid group, a carboxy group, hydroxy group, a phosphono group, a nitro group, an ammonio group, phosphonio group, a hydrazino group, and a Chiazorino group. When there are two or more substituents, they may be the same or different, and the substituent may further have a substituent. As preferred general formula (X-1), G 1 is an arylene group, an alkylene group, a heterocyclic group bonded to an arylene group, or a benzo-condensed or naphtho-condensed heterocyclic group, and Z 1 is S. Or Se, and R 1 is a hydrogen atom, sodium ion or potassium ion. More preferably, G 1 is a heterocyclic group bonded to an arylene group or a benzo-fused heterocyclic group, Z 1 is S, and R 1 is a hydrogen atom or a sodium ion. Particularly preferred heterocyclic groups have the following structures.

【0023】[0023]

【化5】 [Chemical 5]

【0024】(式中、ZcはO、N、S、SeまたはT
e原子を有してもよく、好ましくは5〜7員環を完成す
る残基であり、必要に応じてベンゾ縮環またはナフト縮
環してもよい。) 一般式(X−2a)、(X−2b)および(X−2c)
について詳細に説明する。式中、R2で表されるアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基としては、炭素数1
〜10の、置換もしくは無置換の、直鎖または分岐のア
ルキル基(例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−
プロピル、n−ブチル、t−ブチル、2−ペンチル、n
−ヘキシル、n−オクチル、t−オクチル、2−エチル
ヘキシル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチ
ル、ジエチルアミノエチル、n−ブトキシプロピル、メ
トキシメチル)、炭素数3〜6の、置換もしくは無置換
の環状アルキル基(例えばシクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル)、炭素数2〜10のアルケニル
基(例えばアリル、2−ブテニル、3−ペンテニル)、
炭素数2〜10のアルキニル基(例えばプロパルギル、
3−ペンチニル)、炭素数6〜12のアラルキル基(例
えばベンジル)等が挙げられる。アリール基としては、
炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基(例
えば無置換フェニル、4−メチルフェニル)等が挙げら
れる。上記R2はさらに置換基Y等を有してもよい。一
般式(X−2a)、(X−2b)および(X−2c)と
して好ましくは、R 2が水素原子、炭素数1〜6の置換
もしくは無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換も
しくは無置換のアリール基であり、ZaあるいはZb
O、NまたはS原子を少なくとも一つ有する場合であ
る。さらに好ましくは、R2が水素原子もしくは炭素数
1〜4のアルキル基であり、ZaあるいはZbがNまたは
S原子を少なくとも一つ有する場合である。
(In the formula, ZcIs O, N, S, Se or T
may have an e atom, preferably completing a 5 to 7 membered ring
Is a residue that is optionally a benzo-condensed or naphtho-condensed
You may ring. ) General formula (X-2a), (X-2b) and (X-2c)
Will be described in detail. Where R2Represented by
1 carbon atom as a alkenyl group, alkenyl group, or alkynyl group
10 substituted or unsubstituted, straight chain or branched chain
Alkyl group (eg methyl, ethyl, isopropyl, n-
Propyl, n-butyl, t-butyl, 2-pentyl, n
-Hexyl, n-octyl, t-octyl, 2-ethyl
Hexyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl
, Diethylaminoethyl, n-butoxypropyl,
Toxylmethyl), substituted or unsubstituted, having 3 to 6 carbon atoms
Cyclic alkyl groups (eg cyclopropyl, cyclopen
(Cyl, cyclohexyl), alkenyl having 2 to 10 carbon atoms
A group (eg, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl),
Alkynyl groups having 2 to 10 carbon atoms (for example, propargyl,
3-pentynyl), an aralkyl group having 6 to 12 carbon atoms (eg,
For example, benzyl) and the like. As an aryl group,
A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg,
Examples include unsubstituted phenyl and 4-methylphenyl)
Be done. R above2May further have a substituent Y or the like. one
With general formulas (X-2a), (X-2b) and (X-2c)
And preferably R 2Is a hydrogen atom, and has 1 to 6 carbon atoms
Alternatively, an unsubstituted alkyl group or a substituent having 6 to 10 carbon atoms
Or an unsubstituted aryl group, ZaOr ZbBut
When having at least one O, N or S atom
It More preferably, R2Is hydrogen atom or carbon number
1 to 4 alkyl groups, ZaOr ZbIs N or
This is the case of having at least one S atom.

【0025】次に一般式(X−3)について詳細に説明
する。式中、R3で表される連結基としては、炭素数1
〜20の、置換もしくは無置換の、直鎖または分岐のア
ルキレン基(例えばメチレン、エチレン、トリメチレ
ン、イソプロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチレ
ン、3−オキサペンチレン、2−ヒドロキシトリメチレ
ン)、炭素数3〜18の、置換もしくは無置換の環状ア
ルキレン基(例えばシクロプロピレン、シクロペンチニ
レン、シクロへキシレン)、炭素数2〜20の、置換も
しくは無置換のアルケニレン基(例えばエテン、2−ブ
テニレン)、炭素数2〜10のアルキニレン基(例えば
エチン)、炭素数6〜20の置換もしくは無置換のアリ
ーレン基(例えば無置換p−フェニレン、無置換2,5
−ナフチレン)が挙げられ、複素環基としては、置換も
しくは無置換の複素環基、およびアルキレン基、アルケ
ニレン基、アリーレン基、又はさらに複素環基が結合さ
れたもの(例えば2,5−ピリジンジイル、3−フェニ
ル−2,5−ピリジンジイル、1,3−ピペリジンジイ
ル、2,4−モルホリンジイル)が挙げられる。式中、
4で表されるアルキル基としては、炭素数1〜10
の、置換もしくは無置換の、直鎖または分岐のアルキル
基(例えばメチル、エチル、イソプロピル、n-プロピ
ル、n-ブチル、t−ブチル、2−ペンチル、n−ヘキ
シル、n−オクチル、t−オクチル、2−エチルヘキシ
ル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、ジ
エチルアミノエチル、ジブチルアミノエチル、n−ブト
キシメチル、メトキシメチル)、炭素数3〜6の、置換
もしくは無置換の環状アルキル基(例えばシクロプロピ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル)が挙げられ、ア
リール基としては、炭素数6〜12の、置換もしくは無
置換のアリール基(例えば無置換フェニル、2-メチル
フェニル)が挙げられる。複素環基としては、無置換も
しくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、又は、
さらに複素環基が置換されたもの(例えばピリジル、3
−フェニルピリジル、ピペリジル、モルホリル)が挙げ
られる。上記R4はさらに置換基Y等を有してもよい。
Next, the general formula (X-3) will be described in detail. In the formula, the linking group represented by R 3 has 1 carbon atom.
To 20 substituted or unsubstituted, linear or branched alkylene groups (for example, methylene, ethylene, trimethylene, isopropylene, tetramethylene, hexamethylene, 3-oxapentylene, 2-hydroxytrimethylene), and 3 carbon atoms. ~ 18, a substituted or unsubstituted cyclic alkylene group (for example, cyclopropylene, cyclopentynylene, cyclohexylene), a substituted or unsubstituted alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms (for example, ethene, 2-butenylene), carbon An alkynylene group having 2 to 10 carbon atoms (eg ethyne), a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 20 carbon atoms (eg unsubstituted p-phenylene, unsubstituted 2,5
-Naphthylene), and examples of the heterocyclic group include a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, or a heterocyclic group bonded to the heterocyclic group (for example, 2,5-pyridinediyl). , 3-phenyl-2,5-pyridinediyl, 1,3-piperidinediyl, 2,4-morpholinediyl). In the formula,
The alkyl group represented by R 4 has 1 to 10 carbon atoms.
A substituted or unsubstituted, linear or branched alkyl group (eg, methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, t-butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl, t-octyl). , 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, diethylaminoethyl, dibutylaminoethyl, n-butoxymethyl, methoxymethyl), a substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl). , Cyclopentyl, cyclohexyl), and the aryl group includes a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, unsubstituted phenyl, 2-methylphenyl). The heterocyclic group is an unsubstituted or alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or
Further substituted with a heterocyclic group (eg pyridyl, 3
-Phenylpyridyl, piperidyl, morpholyl). The above R 4 may further have a substituent Y or the like.

【0026】一般式(X−3)として好ましくはR3
炭素数1〜6の、置換もしくは無置換のアルキレン基、
または炭素数6〜10の、置換もしくは無置換のアリー
レン基であり、R4は炭素数1〜6の、置換もしくは無
置換のアルキル基、または炭素数6〜10の、置換もし
くは無置換のアリール基であり、Z2はSまたはSeで
あり、n2が1〜2の場合である。さらに好ましくは、
3が炭素数1〜4のアルキレン基であり、R4は炭素数
1〜4のアルキル基であり、Z2はSであり、n 2が1の
場合である。次に一般式(X−4)について詳細に説明
する。式中、R5およびR6で表されるアルキル基、アル
ケニル基としては、炭素数1〜10の、置換もしくは無
置換の、直鎖または分岐のアルキル基(例えばメチル、
エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、t
−ブチル、2−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチ
ル、t−オクチル、2−エチルヘキシル、ヒドロキシメ
チル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、
ジエチルアミノエチル、ジブチルアミノエチル、n-ブ
トキシメチル、n-ブトキシプロピル、メトキシメチ
ル)、炭素数3〜6の、置換もしくは無置換の環状アル
キル基(例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル)、炭素数2〜10のアルケニル基(例えば
アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル)が挙げられ
る。アリール基としては、炭素数6〜12の、置換もし
くは無置換のアリール基(例えば無置換フェニル、4−
メチルフェニル)が挙げられ、複素環基としては無置換
もしくはアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン
基、又はさらに複素環基が置換されたもの(例えばピリ
ジル、3−フェニルピリジル、フリル、ピペリジル、モ
ルホリル)が挙げられる。
As the general formula (X-3), R is preferable.3But
A substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms,
Or a substituted or unsubstituted aryl having 6 to 10 carbon atoms.
Rene group, RFourIs a substituted or non-substituted one having 1 to 6 carbon atoms.
Substituted alkyl group or C6-10 substituted
Is an unsubstituted aryl group, Z2Is S or Se
Yes, n2Is 1 to 2. More preferably,
R3Is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and RFourIs the carbon number
1 to 4 alkyl groups, Z2Is S and n 2Is 1
This is the case. Next, the general formula (X-4) will be described in detail.
To do. Where RFiveAnd R6An alkyl group represented by
The alkenyl group has 1 to 10 carbon atoms and is substituted or non-substituted.
A substituted, linear or branched alkyl group (eg methyl,
Ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, t
-Butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl
L, t-octyl, 2-ethylhexyl, hydroxyme
Chill, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl,
Diethylaminoethyl, dibutylaminoethyl, n-bu
Toxymethyl, n-butoxypropyl, methoxymethy
), A substituted or unsubstituted cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms
Kill groups (eg cyclopropyl, cyclopentyl, cyclyl)
Lohexyl), an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (for example,
Allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl).
It If the aryl group has 6 to 12 carbon atoms and is substituted,
Or an unsubstituted aryl group (eg, unsubstituted phenyl, 4-
Methylphenyl), and the heterocyclic group is unsubstituted
Or alkylene group, alkenylene group, arylene
A group, or one in which a heterocyclic group is further substituted (eg pyridin)
Dil, 3-phenylpyridyl, furyl, piperidyl, molybdenum
Lefolil).

【0027】上記式中、R5およびR6にはさらに置換基
Y等を有していてもよい。一般式(X−4)として好ま
しくはR5およびR6が炭素数1〜6の、置換もしくは無
置換のアルキル基、または炭素数6〜10の、置換もし
くは無置換のアリール基の場合である。さらに好ましく
はR5およびR6が、炭素数6〜8のアリール基の場合で
ある。次に一般式(X−5a)および(X−5b)につ
いて詳細に説明する。式中、E1で表される基としては
例えばNH2、NHCH3、NHC25、NHPh、N
(CH32、N(Ph)2、NHNHC37、NHNH
Ph、OC49、OPh、SCH3が挙げられ、E2とし
ては、例えばNH、NCH3、NC25、NPh、NH
NC37、NHNPhが挙げられる(ここで、Ph=フ
ェニル基。以下、同じ。)。
In the above formula, R 5 and R 6 may further have a substituent Y or the like. As the general formula (X-4), R 5 and R 6 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms. . More preferably, R 5 and R 6 are aryl groups having 6 to 8 carbon atoms. Next, general formulas (X-5a) and (X-5b) will be described in detail. In the formula, examples of the group represented by E 1 include NH 2 , NHCH 3 , NHC 2 H 5 , NHPh, and N.
(CH 3 ) 2 , N (Ph) 2 , NHNHC 3 H 7 , NHNH
Ph, OC 4 H 9 , OPh and SCH 3 can be mentioned, and E 2 is, for example, NH, NCH 3 , NC 2 H 5 , NPh or NH.
NC 3 H 7 and NHNPh can be mentioned (wherein Ph = phenyl group; the same applies hereinafter).

【0028】一般式(X−5a)および(X−5b)
中、R7、R8およびR9で表されるアルキル基、アルケ
ニル基としては、炭素数1〜10の、置換もしくは無置
換の、直鎖または分岐のアルキル基(例えば、メチル、
エチル、イソプロピル、n-プロピル、n-ブチル、t−
ブチル、2−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、
t−オクチル、2−エチルヘキシル、ヒドロキシメチ
ル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、ジ
エチルアミノエチル、ジブチルアミノエチル、n−ブト
キシメチル、n−ブトキシプロピル、メトキシメチ
ル)、炭素数3〜6の、置換もしくは無置換の環状アル
キル基(例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル)、炭素数2〜10のアルケニル基(例え
ば、アリル、2-ブテニル、3−ペンテニル)が挙げら
れる。アリール基としては、炭素数6〜12の、置換も
しくは無置換のアリール基(例えば、無置換フェニル、
4−メチルフェニル)が挙げら、複素環基としては無置
換もしくはアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン
基、又はさらに複素環基が置換されたもの(例えばピリ
ジル、3−フェニルピリジル、フリル、ピペリジル、モ
ルホリル)が挙げられる。R7、R8およびR9はさらに
置換基Y等を有していてもよい。一般式(X−5a)お
よび(X−5b)として好ましくはE1がアルキル置換
もしくは無置換のアミノ基またはアルコキシ基であり、
2はアルキル置換もしくは無置換のアミノ連結基であ
り、R7、R8およびR9は炭素数1〜6の、置換もしく
は無置換のアルキル基、または炭素数6〜10の、置換
もしくは無置換のアリール基であり、Z3はSまたはS
eの場合である。さらに好ましくは、E1はアルキル置
換もしくは無置換のアミノ基であり、E2はアルキル置
換もしくは無置換のアミノ連結基であり、R7、R8およ
びR9は炭素数1〜4の置換もしくは無置換のアルキル
基であり、Z3がSの場合である。
General formulas (X-5a) and (X-5b)
In the above, as the alkyl group and alkenyl group represented by R 7 , R 8 and R 9 , a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl,
Ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, t-
Butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl,
t-octyl, 2-ethylhexyl, hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxyethyl, diethylaminoethyl, dibutylaminoethyl, n-butoxymethyl, n-butoxypropyl, methoxymethyl), substituted with 3 to 6 carbon atoms Alternatively, an unsubstituted cyclic alkyl group (eg, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl) and an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl) can be mentioned. As the aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, unsubstituted phenyl,
4-methylphenyl), the heterocyclic group is unsubstituted or has an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, or a heterocyclic group further substituted (for example, pyridyl, 3-phenylpyridyl, furyl, piperidyl, morpholyl). ) Is mentioned. R 7 , R 8 and R 9 may further have a substituent Y or the like. In formulas (X-5a) and (X-5b), preferably E 1 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino group or alkoxy group,
E 2 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino linking group, R 7 , R 8 and R 9 are substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, or substituted or unsubstituted groups having 6 to 10 carbon atoms. Is a substituted aryl group, Z 3 is S or S
This is the case of e. More preferably, E 1 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino group, E 2 is an alkyl-substituted or unsubstituted amino linking group, and R 7 , R 8 and R 9 are substituted or unsubstituted C 1-4 or It is an unsubstituted alkyl group and Z 3 is S.

【0029】次に一般式(X−6a)および(X−6
b)について詳細に説明する。式中、G2及びJで表さ
れる基としては、COOR15(COOH、COOC
3。R15は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル
基またはアリール基を表わす。以下同じ。)、COR15
(例えばCOC25、COPh)、CHO、CN、SO
215(例えばSO2CH3)、SOR15(例えばSOC
3、SOPh)、NO 2等が挙げられる。式中、R11
表される連結基としては、それぞれ炭素数1〜20の、
置換もしくは無置換の、直鎖または分岐のアルキレン基
(例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレ
ン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、3-オキサペン
チレン、2-ヒドロキシトリメチレン)、炭素数3〜1
8の、置換もしくは無置換の環状アルキレン基(例えば
シクロプロピレン、シクロペンチレン、シクロへキシレ
ン)、炭素数2〜20の、置換もしくは無置換のアルケ
ニレン基(例えばエテン、2-ブテニレン)、炭素数2
〜10のアルキニレン基(例えばエチン)、炭素数6〜
20の、置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば無
置換p−フェニレン、無置換2,5−ナフチレン)が挙
げられる。
Next, formulas (X-6a) and (X-6)
The b) will be described in detail. In the formula, G2And represented by J
The group that can be used is COOR15(COOH, COOC
H3. R15Is a hydrogen atom, substituted or unsubstituted alkyl
Represents a group or an aryl group. same as below. ), COR15
(Eg COC2HFive, COPh), CHO, CN, SO
2R15(Eg SO2CH3), SOR15(Eg SOC
H3, SOPh), NO 2Etc. Where R11so
The linking group represented by each has 1 to 20 carbon atoms,
Substituted or unsubstituted, linear or branched alkylene group
(For example, methylene, ethylene, trimethylene, propylene
Amine, tetramethylene, hexamethylene, 3-oxapene
Ethylene, 2-hydroxytrimethylene), carbon number 3 to 1
8 is a substituted or unsubstituted cyclic alkylene group (for example,
Cyclopropylene, cyclopentylene, cyclohexyl
), A substituted or unsubstituted alkene having 2 to 20 carbon atoms
Nylene group (eg ethene, 2-butenylene), carbon number 2
An alkynylene group having 10 to 10 carbon atoms (for example, ethyne)
20 substituted or unsubstituted arylene groups (eg,
Substituted p-phenylene and unsubstituted 2,5-naphthylene) are listed.
You can

【0030】さらに、R11で表される2価の連結基とし
ては、2価の複素環基、又は2価の複素環基とアルキレ
ン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、SO2基のいずれかとが結合した2価の基(例えば
2,5−ピリジンジイル、3−フェニル−2,5−ピリ
ジンジイル、2,4−フランジイル、1,3−ピペリジ
ンジイル、2,4−モルホリンジイル)が挙げられる。
式中、R11はさらに置換基Y等を有していてもよい。一
般式(X−6a)および(X−6b)として好ましくは
2およびJが炭素数2〜6のカルボン酸エステル類又
はカルボニル類であり、R11が炭素数1〜6の、置換も
しくは無置換のアルキレン基または炭素数6〜10の、
置換もしくは無置換のアリーレン基の場合である。さら
に好ましくは、G2およびJが炭素数2〜4のカルボン
酸エステル類であり、R11が炭素数1〜4の、置換もし
くは無置換のアルキレン基または炭素数6〜8の、置換
もしくは無置換のアリーレン基の場合である。Xで表さ
れるハロゲン化銀吸着基の好ましい一般式の序列は(X
−1)>(X−2a)>(X−2b)>(X−3)>
(X−5a)>(X−5b)>(X−4)>(X−6
a)>(X−6b)である。次に、一般式(I)中、X
で表される光吸収基について詳細に説明する。一般式
(I)中、Xで表される光吸収基としては以下が挙げら
れる。一般式(X−7)
Further, the divalent linking group represented by R 11 includes a divalent heterocyclic group or a divalent heterocyclic group and an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group or an SO 2 group. A divalent group bonded to any of them (eg 2,5-pyridinediyl, 3-phenyl-2,5-pyridinediyl, 2,4-furandiyl, 1,3-piperidinediyl, 2,4-morpholinediyl) Is mentioned.
In the formula, R 11 may further have a substituent Y or the like. As the general formulas (X-6a) and (X-6b), G 2 and J are preferably carboxylic acid esters or carbonyls having 2 to 6 carbon atoms, and R 11 is substituted or unsubstituted. A substituted alkylene group or C6-10,
This is the case of a substituted or unsubstituted arylene group. More preferably, G 2 and J are carboxylic acid esters having 2 to 4 carbon atoms, and R 11 is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a substituted or unsubstituted alkylene group having 6 to 8 carbon atoms. This is the case of a substituted arylene group. A preferred general formula of the silver halide adsorbing group represented by X is (X
-1)>(X-2a)>(X-2b)>(X-3)>
(X-5a)>(X-5b)>(X-4)> (X-6
a)> (X-6b). Next, in the general formula (I), X
The light absorbing group represented by will be described in detail. In the general formula (I), the light absorbing group represented by X includes the following. General formula (X-7)

【0031】[0031]

【化6】 [Chemical 6]

【0032】(式中、Z4は5または6員の含窒素複素
環を形成するために必要な原子群を表し、L2、L3、L
4およびL5はメチン基を表す。p1は0または1を表
し、n3は0〜3の整数を表す。M1は電荷均衡対イオン
を表し、m2は分子の電荷を中和するために必要な0〜
10の整数を表す。Z4が形成する含窒素複素環には、
ベンゼン環のような不飽和炭素環が縮合していてもよ
い。) 式中、Z4で表される5または6員の含窒素複素環とし
ては、チアゾリジン核、チアゾール核、ベンゾチアゾー
ル核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサ
ゾール核、セレナゾリン核、セレナゾール核、ベンゾセ
レナゾール核、3,3-ジアルキルインドレニン核(例
えば、3,3−ジメチルインドレニン)、イミダゾリン
核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、2−ピリ
ジン核、4−ピリジン核、2−キノリン核、4−キノリ
ン核、1−イソキノリン核、3−イソキノリン核、イミ
ダゾ〔4,5−b〕キノキザリン核、オキサジアゾール
核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核
等が挙げられる。Z4で表される5または6員の含窒素
複素環は前述の置換基Yを有していてもよい。
(In the formula, Z 4 represents an atomic group necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, and L 2 , L 3 , and L
4 and L 5 represent a methine group. p 1 represents 0 or 1, and n 3 represents an integer of 0-3. M 1 represents a charge-balancing counterion, and m 2 is 0 to necessary for neutralizing the charge of the molecule.
Represents an integer of 10. The nitrogen-containing heterocycle formed by Z 4 includes
An unsaturated carbocycle such as a benzene ring may be condensed. In the formula, the 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle represented by Z 4 includes a thiazolidine nucleus, a thiazole nucleus, a benzothiazole nucleus, an oxazoline nucleus, an oxazole nucleus, a benzoxazole nucleus, a selenazoline nucleus, a selenazole nucleus, and benzoselena. Zole nucleus, 3,3-dialkylindolenine nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenine), imidazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus, 2-quinoline nucleus, 4- Examples thereof include a quinoline nucleus, a 1-isoquinoline nucleus, a 3-isoquinoline nucleus, an imidazo [4,5-b] quinoxaline nucleus, an oxadiazole nucleus, a thiadiazole nucleus, a tetrazole nucleus and a pyrimidine nucleus. The 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle represented by Z 4 may have the aforementioned substituent Y.

【0033】式中、L2、L3、L4およびL5はそれぞれ
独立したメチン基を表す。L2 、L 3、L4およびL5
表されるメチン基は置換基を有していてもよく、置換基
としては例えば、置換もしくは無置換の炭素数1〜15
のアルキル基(例えばメチル、エチル、2−カルボキシ
エチル)、置換もしくは無置換の炭素数6〜20のアリ
ール基(例えばフェニル、o-カルボキシフェニル)、
置換もしくは無置換の炭素数3〜20の複素環基(例え
ばN,N-ジエチルバルビツール酸から水素原子1個を
除いて1価の基にしたもの)、ハロゲン原子(例えば塩
素、臭素、フッ素、沃素)、炭素数1〜15のアルコキ
シ基(例えばメトキシ、エトキシ)、炭素数1〜15の
アルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチオ)、炭
素数6〜20のアリールチオ基(例えばフェニルチ
オ)、炭素数0〜15のアミノ基(例えばN,N−ジフ
ェニルアミノ、N−メチル−N−フェニルアミノ、N−
メチルピペラジノ)等が挙げられる。また、他のメチン
基と環を形成してもよい。あるいは、その他の部分と環
を形成することもできる。
Where L2, L3, LFourAnd LFiveAre each
Represents an independent methine group. L2 , L 3, LFourAnd LFiveso
The methine group represented may have a substituent,
As, for example, substituted or unsubstituted carbon number 1 to 15
Alkyl groups (eg methyl, ethyl, 2-carboxy)
Ethyl), a substituted or unsubstituted ant having 6 to 20 carbon atoms
Group (eg phenyl, o-carboxyphenyl),
A substituted or unsubstituted heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms (eg,
For example, one hydrogen atom from N, N-diethylbarbituric acid
Except for monovalent groups), halogen atoms (eg salts)
(Elemental, bromine, fluorine, iodine), carbon dioxide having 1 to 15 carbon atoms
Si group (eg methoxy, ethoxy), having 1 to 15 carbon atoms
Alkylthio group (eg methylthio, ethylthio), charcoal
An arylthio group having a prime number of 6 to 20 (eg, phenylthio group)
E), an amino group having 0 to 15 carbon atoms (for example, N, N-diff
Phenylamino, N-methyl-N-phenylamino, N-
Methyl piperazino) and the like. Also other methines
You may form a ring with a group. Or other parts and rings
Can also be formed.

【0034】式中、M1は光吸収基のイオン電荷を中性
にするために必要であるとき、陽イオン又は陰イオンの
存在を示すために式の中に含まれている。典型的な陽イ
オンとしては水素イオン(H+)、アルカリ金属イオン
(例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウム
イオン)等の無機陽イオン、アンモニウムイオン(例え
ばアンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイ
オン、ピリジニウムイオン、エチルピリジニウムイオ
ン)等の有機陽イオンが挙げられる。陰イオンも無機陰
イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、
ハロゲン陰イオン(例えばフッ素イオン、塩素イオン、
沃素イオン)、置換アリールスルホン酸イオン(例えば
p−トルエンスルホン酸イオン、p−クロロベンゼンス
ルホン酸イオン)、アリールジスルホン酸イオン(例え
ば1,3−ベンゼンジスルホン酸イオン、1,5−ナフ
タレンジスルホン酸イオン、2,6−ナフタレンジスル
ホン酸イオン)、アルキル硫酸イオン(例えばメチル硫
酸イオン)、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素
酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イ
オン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオ
ンが挙げられる。さらに、イオン性ポリマーまたは逆電
荷を有する光吸収基を用いてもよい。本発明では例え
ば、スルホ基をSO3 -、カルボキシ基をCO2 -と表記し
ているが、対イオンが水素イオンである時は各々SO3
H、CO2Hと表記することができる。式中、m2は電荷
を均衡させるために必要な数を表し、分子内で塩を形成
する場合は0である。
Wherein M 1 is included in the formula to indicate the presence of a cation or anion when required to neutralize the ionic charge of the light absorbing group. Typical cations are inorganic cations such as hydrogen ion (H + ) and alkali metal ions (eg sodium ion, potassium ion, lithium ion), ammonium ion (eg ammonium ion, tetraalkylammonium ion, pyridinium ion, ethyl). Organic cations such as pyridinium ion). The anion may be either an inorganic anion or an organic anion,
Halogen anion (eg, fluorine ion, chlorine ion,
Iodide ion), substituted aryl sulfonate ion (for example, p-toluene sulfonate ion, p-chlorobenzene sulfonate ion), aryl disulfonate ion (for example, 1,3-benzene disulfonate ion, 1,5-naphthalenedisulfonate ion, 2,6-naphthalenedisulfonate ion), alkylsulfate ion (eg methylsulfate ion), sulfate ion, thiocyanate ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, picrate ion, acetate ion, trifluoromethanesulfonate ion. Is mentioned. Further, an ionic polymer or a light absorbing group having an opposite charge may be used. In the present invention, for example, a sulfo group is described as SO 3 and a carboxy group is described as CO 2 , but when the counter ion is a hydrogen ion, each is SO 3 −.
It can be expressed as H or CO 2 H. In the formula, m 2 represents the number necessary for balancing the charges, and is 0 when forming a salt in the molecule.

【0035】一般式(X−7)として好ましくは、Z4
がベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ベンゾ
イミダゾール核またはキノリン核であり、L2、L3、L
4 およびL5が無置換のメチン基であり、p1が0であ
り、n3が1もしくは2の場合である。さらに好ましく
は、Z4がベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核
であり、n3が1の場合であり、特に好ましくはZ4がベ
ンゾチアゾール核の場合である。一般式(I)中、kは
好ましくは0または1であり、さらに好ましくは1であ
る。但しkが2以上の場合、Xは直列に結合するだけで
なく、Lに複数ヶ所(kヶ所)で結合してもよい。以下
に本発明に用いられるX基の具体例を挙げるが、本発明
に用いられる化合物はこれに限定されるものではない。
As the general formula (X-7), preferably Z 4
Is a benzoxazole nucleus, a benzothiazole nucleus, a benzimidazole nucleus or a quinoline nucleus, and L 2 , L 3 , L
4 and L 5 are unsubstituted methine groups, p 1 is 0, and n 3 is 1 or 2. More preferably, Z 4 is a benzoxazole nucleus or a benzothiazole nucleus, n 3 is 1, and particularly preferably Z 4 is a benzothiazole nucleus. In general formula (I), k is preferably 0 or 1, and more preferably 1. However, when k is 2 or more, X may be coupled not only in series but also to L at a plurality of locations (k locations). Specific examples of the X group used in the present invention are shown below, but the compound used in the present invention is not limited thereto.

【0036】[0036]

【化7】 [Chemical 7]

【0037】[0037]

【化8】 [Chemical 8]

【0038】[0038]

【化9】 [Chemical 9]

【0039】[0039]

【化10】 [Chemical 10]

【0040】[0040]

【化11】 [Chemical 11]

【0041】[0041]

【化12】 [Chemical 12]

【0042】次に一般式(I)中、Lで表される二価の連
結基について詳細に説明する。Lは、アルキレン基、ア
ルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、二価の
ヘテロ環基、−O−、−S−、−NR10−(R10は水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複
素環基を表す)、−CO−、−SO2 −等の単独または
組み合わせからなる基で連結したものであり、これらは
置換基Yでさらに置換されていてもよい。Lのアルキレ
ン基としては、好ましくは炭素数1〜20のアルキレン
基であり、例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、
ペンタメチレン、オクタメチレン、プロピレン、2−ヒ
ドロキシトリメチレン、2−ブテン−1,4−イル、2
−ブチン−1,4−イル、p−キシリレン、シクロプロ
ピレンである。アルケニレン基としては、好ましくは炭
素数1〜20のアルケニレン基であり、例えばエテン−
1,2−イルである。アルキニレン基としては、好まし
くは炭素数1〜20のアルキニレン基であり、例えばエ
チン−1,2−イルである。アリーレン基としては、好
ましくは炭素数6〜20のアリーレン基であり、例えば
フェニレン、2,5−ナフチレンである。二価の複素環
連結基としては、好ましくは炭素数1〜20のヘテロ環
基であり、例えばフラン−1,4−ジイル、2,6−ピ
リジンジイルである。Lとしては、アルキレン基、アル
ケニレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−NR10
−、−CO−、−SO2 −等の単独または組み合わせか
らなる基が好ましく、アルキレン基、アリーレン基、−
O−、−NR10−、−CO−、−SO2 −等の単独また
は組み合わせからなる基がより好ましい。mが2以上の
場合、複数個のLは同じでも異なっていてもよい。一般
式(I)中、mは好ましくは0もしくは1であり、さらに
好ましくは1である。但しmが2以上の場合、Lは直列
(−L−L−)に結合するだけでなく、XあるいはAに
複数ヶ所(mヶ所)並列に結合してもよい。次に電子供
与基Aについて詳細に説明する。A−B部が光又は酸化
剤との接触により酸化された後、フラグメント化を受け
て同時に電子を発生し、ラジカルA・が生成し、さらに
ラジカルA・が酸化を受けて電子を発生させる反応過程
を以下に示す。
Next, the divalent linking group represented by L in the general formula (I) will be described in detail. L represents an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, -O -, - S -, - NR 10 - (R 10 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or (Representing a heterocyclic group), —CO—, —SO 2 — and the like, which are linked together with a group consisting of one or a combination thereof, and these may be further substituted with a substituent Y. The alkylene group for L is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, such as methylene, ethylene, trimethylene,
Pentamethylene, octamethylene, propylene, 2-hydroxytrimethylene, 2-buten-1,4-yl, 2
-Butyn-1,4-yl, p-xylylene, cyclopropylene. The alkenylene group is preferably an alkenylene group having 1 to 20 carbon atoms, for example, ethene-
It is 1,2-yl. The alkynylene group is preferably an alkynylene group having 1 to 20 carbon atoms, for example, ethyn-1,2-yl. The arylene group is preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include phenylene and 2,5-naphthylene. The divalent heterocyclic linking group is preferably a heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include furan-1,4-diyl and 2,6-pyridinediyl. L is an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, -O-, -S-, -NR 10
-, - CO -, - SO 2 - groups is preferably made from one or a combination of such an alkylene group, an arylene group, -
O -, - NR 10 -, - CO -, - SO 2 - a group formed from one or a combination of such more preferred. When m is 2 or more, a plurality of Ls may be the same or different. In general formula (I), m is preferably 0 or 1, and more preferably 1. However, when m is 2 or more, L may be coupled not only in series (-L-L-) but also in multiple locations (m locations) in parallel to X or A. Next, the electron donating group A will be described in detail. After the portion A-B is oxidized by contact with light or an oxidant, it undergoes fragmentation to simultaneously generate electrons, radical A. is generated, and radical A. is further oxidized to generate electrons. The process is shown below.

【0043】[0043]

【化13】 [Chemical 13]

【0044】Aは電子供与基であるので、いずれの構造
のものでも芳香基上の置換基はAが電子過多である状態
にするように選定することが好ましい。例えば、芳香環
が電子過多でない場合は電子供与性基を導入し、逆にア
ントラセンのように非常に電子過多となっているような
場合は、電子吸引性基を導入して酸化電位を調節するこ
とが好ましい。好ましいA基は次の一般式で表されるも
のである。
Since A is an electron-donating group, it is preferable that the substituents on the aromatic groups of any structure be selected so that A is in the state of electron excess. For example, when the aromatic ring is not electron-rich, an electron-donating group is introduced. Conversely, when the aromatic ring is extremely electron-rich, an electron-withdrawing group is introduced to control the oxidation potential. It is preferable. A preferred group A is represented by the following general formula.

【0045】[0045]

【化14】 [Chemical 14]

【0046】(一般式(A−1)および(A−2)中、
12およびR13はそれぞれ独立して水素原子、置換もし
くは無置換のアルキル基、アリール基、又は複素環基を
表し、R14はハメットσ値が−1〜+1の置換基を表
す。Ar1はアリーレン基または複素環連結基を表す。
2はO、S、Se又はTeを表し、m3およびm4は各
々独立に0もしくは1を表し、L2はN−R(ここでR
は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。)、N−A
r(ここでArは置換もしくは無置換のアリール基また
は複素環基を表わす。)、O、S、Se、TeまたはN
Hを表す。R12とR13、R12とAr1またはR13とAr1
はそれぞれ結合して5〜8員の環を形成してもよい。一
般式(A−3)の環状形態は、置換もしくは無置換の5
〜7員環の不飽和環を表す。) 一般式(A−1)、(A−2)および(A−3)につい
て詳細に説明する。式中、R12およびR13で表されるア
ルキル基としては、それぞれ炭素数1〜10の、置換も
しくは無置換の、直鎖または分岐のアルキル基(例えば
メチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブ
チル、t−ブチル、2−ペンチル、n−ヘキシル、n−
オクチル、t−オクチル、2−エチルヘキシル、2−ヒ
ドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、ジエチルアミ
ノエチル、ジブチルアミノエチル、n−ブトキシメチ
ル、メトキシメチル)、炭素数3〜6の、置換もしくは
無置換の環状アルキル基(例えばシクロプロピル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル)が挙げられ、アリール基
としては、炭素数6〜12の、置換もしくは無置換のア
リール基(例えば無置換フェニル、2-メチルフェニ
ル)が挙げられる。複素環基としては炭素数1〜10
の、置換もしくは無置換の複素環基(例えばピリジン、
ベンゾチアゾール)が挙げられる。一般式(A−1)お
よび(A−2)中、R14で表される基としてはハメット
σ値が−1〜+1の置換基であればどんなものでもよい
が、好ましくは−0.7〜+0.7の置換基である。具
体的にはアルキル基(例えばメチル、エチル、イソプロ
ピル、n−プロピル、n−ブチル、2−ペンチル、n−
ヘキシル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、2−ヒ
ドロキシエチル、n−ブトキシメチル)、COOR15
(例えばCOOH、COOC25。R15は水素原子、ア
ルキル基又はアリール基を表す。)、ハロゲン原子(例
えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子)、N(R15)
2(例えばN(CH3)2、NPh2)、OR15(例えばO
H、OCH3、OPh)、SR15(例えばSCH3、SP
h)、CHO、COR15(例えばCOCH3、COP
h)、CON(R15)2(例えばCONHC25 、CON
(CH3) 2)、SO315(例えばSO3CH3、SO33
7)、SO2N(R15)2(例えばSO2NHCH3、SO2
N(CH3)2)、SO215(例えばSO225)、SO
15(例えばSOCH3)、CSR15(例えばCSP
h、CSCH3)が挙げられる。一般式(A−1)およ
び(A−2)におけるAr1としては、炭素数6〜12
の、置換もしくは無置換のアリーレン基(例えばフェニ
レン、2−メチルフェニレン、ナフチレン)、置換もし
くは無置換の複素環基(例えばピリジル、3−フェニル
ピリジル、ピペリジル、モルホリル)から水素原子1つ
又は2つを除いた2価又は3価の基が挙げられる。一般
式(A−1)におけるL2としては、例えばNH、NC
3、NC49 、NC37(i)、NPh、NPh−C
3、O、S、Se、Teが挙げられる。一般式(A−
3)の不飽和環としては、好ましくは5〜7員の不飽和
炭素環、5〜7員の飽和又は不飽和複素環(例えばフリ
ル、ピペリジル、モルホリル)が挙げられる。一般式
(A−1)および(A−2)中のR12、R13、R14、A
1、L2、および一般式(A−3)中の環上には前述の
置換基Y等をさらに有してもよい。一般式(A−1)、
(A−2)および(A−3)の好ましい例を示す。一般
式(A−1)および(A−2)中、好ましくはR12、R
13が炭素数1〜6の、置換もしくは無置換のアルキル
基、または炭素数6〜10の、置換もしくは無置換のア
リール基であり、R14が炭素数1〜6の、置換もしくは
無置換のアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基でモノ
置換またはジ置換されたアミノ基、カルボン酸、ハロゲ
ンまたは炭素数1〜4のカルボン酸エステルであり、A
1が炭素数6〜10の、置換もしくは無置換のアリー
レン基であり、Q2がO、SまたはSeであり、m3及び
4が0もしくは1であり、n4が1〜3であり、L
2が、炭素数0〜3のアルキル置換されたアミノ基であ
る。一般式(A−3)中、好ましい環状形態は5〜7員
環の飽和又は不飽和複素環である。一般式(A−1)お
よび(A−2)中、さらに好ましくはR12、R13が炭素
数1〜4の、置換もしくは無置換のアルキル基であり、
14が炭素数1〜4の無置換のアルキル基、炭素数1〜
4のモノアミノ置換もしくはジアミノ置換されたアルキ
ル基であり、Ar1が炭素数6〜10の、置換もしくは
無置換のアリーレン基であり、Q2がOまたはSであ
り、m3及びm4が0であり、n4が1であり、L 2が炭素
数0〜3のアルキル置換されたアミノ基である。一般式
(A−3)中、さらに好ましい環状形態は5〜6員環の
複素環である。A基がL基(m=0の場合は、X基)と
結合する部分は、Ar1、R12、R13、R14またはL2
いずれでもよい。以下に本発明に用いられるA基の具体
例を挙げるが、本発明に用いられる化合物はこれに限定
されるものではない。
(In the general formulas (A-1) and (A-2),
R12And R13Are each independently a hydrogen atom,
Or an unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group
Represent, R14Represents a substituent having a Hammett σ value of −1 to +1.
You Ar1Represents an arylene group or a heterocyclic linking group.
Q2Represents O, S, Se or Te, and m3And mFourIs each
Each independently represent 0 or 1, L2Is NR (where R
Represents a substituted or unsubstituted alkyl group. ), N-A
r (where Ar is a substituted or unsubstituted aryl group or
Represents a heterocyclic group. ), O, S, Se, Te or N
Represents H. R12And R13, R12And Ar1Or R13And Ar1
May combine with each other to form a 5- to 8-membered ring. one
The cyclic form of general formula (A-3) is a substituted or unsubstituted 5
~ Represents a 7-membered unsaturated ring. ) For formulas (A-1), (A-2) and (A-3)
Will be described in detail. Where R12And R13Represented by
The alkyl group may have 1 to 10 carbon atoms and may be substituted.
Or an unsubstituted linear or branched alkyl group (for example,
Methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-bu
Tyl, t-butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-
Octyl, t-octyl, 2-ethylhexyl, 2-hi
Droxyethyl, 1-hydroxyethyl, diethylami
Noethyl, dibutylaminoethyl, n-butoxymethyi
, Methoxymethyl), substituted with 3 to 6 carbon atoms or
Unsubstituted cyclic alkyl groups (eg cyclopropyl, cyclo)
Ropentyl, cyclohexyl), aryl groups
Is a substituted or non-substituted C 6-12 substituted or unsubstituted
Reel groups (eg unsubstituted phenyl, 2-methylphenyi)
Le). Heterocyclic group has 1 to 10 carbon atoms
A substituted or unsubstituted heterocyclic group (for example, pyridine,
Benzothiazole). General formula (A-1)
And in (A-2), R14Hammet as the group represented by
Any substituent may be used as long as it has a σ value of -1 to +1.
Is preferably a substituent of -0.7 to +0.7. Ingredient
Physically, alkyl groups (eg, methyl, ethyl, isopropyl)
Pill, n-propyl, n-butyl, 2-pentyl, n-
Hexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 2-hi
Droxyethyl, n-butoxymethyl), COOR15Basis
(For example COOH, COOC2HFive. R15Is a hydrogen atom,
It represents a alkyl group or an aryl group. ), Halogen atom (eg
For example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), N (R15)
2(For example, N (CH3)2, NPh2), OR15(Eg O
H, OCH3, OPh), SR15(Eg SCH3, SP
h), CHO, COR15(Eg COCH3, COP
h), CON (R15)2(For example, CONHC2HFive , CON
(CH3) 2), SO3R15(Eg SO3CH3, SO3C3
H7), SO2N (R15)2(Eg SO2NHCH3, SO2
N (CH3)2), SO2R15(Eg SO2C2HFive), SO
R15(Eg SOCH3), CSR15(Eg CSP
h, CSCH3) Is mentioned. General formula (A-1) and
And Ar in (A-2)1Has 6 to 12 carbon atoms
A substituted or unsubstituted arylene group (eg, phenyl
Len, 2-methylphenylene, naphthylene), if substituted
Or an unsubstituted heterocyclic group (eg pyridyl, 3-phenyl
1 hydrogen atom from pyridyl, piperidyl, morpholyl)
Alternatively, a divalent or trivalent group excluding two is mentioned. General
L in formula (A-1)2For example, NH, NC
H3, NCFourH9 , NC3H7(I), NPh, NPh-C
H3, O, S, Se, Te. General formula (A-
The unsaturated ring of 3) is preferably a 5- to 7-membered unsaturated ring.
Carbocycle, 5-7 membered saturated or unsaturated heterocycle (eg free
, Piperidyl, morpholyl). General formula
R in (A-1) and (A-2)12, R13, R14, A
r1, L2, And on the ring in the general formula (A-3),
It may further have a substituent Y or the like. General formula (A-1),
Preferred examples of (A-2) and (A-3) are shown. General
In formulas (A-1) and (A-2), preferably R12, R
13Is a substituted or unsubstituted alkyl having 1 to 6 carbon atoms
A group, or a substituted or unsubstituted C6 to C10 group
Reel base, R14Is a C1-6 substituted or
Unsubstituted alkyl group, alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
Substituted or disubstituted amino group, carboxylic acid, halogen
Or a carboxylic acid ester having 1 to 4 carbon atoms, A
r1Is a substituted or unsubstituted aryl having 6 to 10 carbon atoms.
Len group, Q2Is O, S or Se, and m3as well as
mFourIs 0 or 1, and nFourIs 1 to 3, and L
2Is an alkyl-substituted amino group having 0 to 3 carbon atoms
It In formula (A-3), a preferred cyclic form is 5 to 7 members
It is a saturated or unsaturated heterocyclic ring. General formula (A-1)
And (A-2), more preferably R12, R13Is carbon
A substituted or unsubstituted alkyl group of the formulas 1 to 4,
R14Is an unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, 1 to 4 carbon atoms
4 monoamino- or diamino-substituted alkyl
Is a radical, Ar1Is a C6-10 substituted or
Q is an unsubstituted arylene group2Is O or S
M3And mFourIs 0 and nFourIs 1 and L 2Is carbon
It is an alkyl-substituted amino group of the numbers 0 to 3. General formula
In (A-3), a more preferable cyclic form is a 5- or 6-membered ring.
It is a heterocycle. A group is an L group (when m = 0, an X group)
The part that binds is Ar1, R12, R13, R14Or L2of
Either is fine. Specific examples of the A group used in the present invention are shown below.
For example, the compound used in the present invention is not limited to this.
It is not something that will be done.

【0047】[0047]

【化15】 [Chemical 15]

【0048】[0048]

【化16】 [Chemical 16]

【0049】[0049]

【化17】 [Chemical 17]

【0050】[0050]

【化18】 [Chemical 18]

【0051】[0051]

【化19】 [Chemical 19]

【0052】[0052]

【化20】 [Chemical 20]

【0053】次にB基について詳細に説明する。B基は
脱離基または水素原子を表す。好ましいB基としては、
例えば一般式(A−1)、(A−2)、(A−3)で規定したA基
(これは結合するA基と同じであっても異なっていても
よい)、水素原子および次の式を有するものである。
Next, the group B will be described in detail. Group B represents a leaving group or a hydrogen atom. Preferred B groups include:
For example, the A group defined by the general formulas (A-1), (A-2) and (A-3) (which may be the same as or different from the A group to be bonded), a hydrogen atom and the following It has a formula.

【0054】[0054]

【化21】 [Chemical 21]

【0055】B基が水素原子の場合(この化合物は0〜
1.5Vの酸化電位を有することが好ましい)、その酸
化体は脱プロトン化反応を受けて、ラジカル(A・)を
生じることが可能な化合物である(このラジカル体は−
0.6V以下の酸化電位を有することが好ましい)。こ
の時の脱プロトン化反応は分子内の塩基によってもよい
し、分子外の塩基であってもよい。好ましくは分子内に
塩基を有するものである。また塩基としては、プロトン
化反応を受ける基であれば何でもよいが、好ましくは約
1〜8のpKaの酸の共役塩基である。例えばカルボキシ
レート、サルフェート、アミンオキシド等が挙げられ、
より好ましくはカルボキシレートである。一般式(B−
2)および(B−3)中、WはSi、SnまたはGeを
表し、R 16はアルキル基を表し、Ar2はアリール基を
表す。 一般式(B−2)および(B−3)はX基と結
合させることができる。一般式(B−2)および(B−
3)について詳細に説明する。式中、R16で表されるア
ルキル基としては、炭素数1〜6の、置換もしくは無置
換の、直鎖または分岐のアルキル基(例えばメチル、エ
チル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、t−
ブチル、2−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、
t−オクチル、2−エチルヘキシル、2−ヒドロキシエ
チル、1−ヒドロキシエチル、n−ブトキシエチル、メ
トキシメチル)、Ar2で表されるアリール基としては
炭素数6〜12の、置換もしくは無置換のアリール基
(例えば、フェニル、2−メチルフェニル)が挙げられ
る。一般式(B−2)および(B−3)中のR16および
Ar2は前述の置換基Y等をさらに有していてもよい。
一般式(B−2)および(B−3)の好ましい例を以下
に示す。一般式(B−2)および(B−3)中、好まし
くはR16が炭素数1〜4の、置換もしくは無置換のアル
キル基であり、Ar2が炭素数6〜10の、置換もしく
は無置換のアリール基であり、WはSiまたはSnであ
る。一般式(B−2)および(B−3)中、さらに好ま
しくは、R16が炭素数1〜3の、置換もしくは無置換の
アルキル基であり、Ar2が炭素数6〜8の、置換もし
くは無置換のアリール基であり、WはSiである。B基
として最も好ましいのは、一般式(B−1)のCOO-
および一般式(B−2)におけるSi−(R163であ
る。一般式(I)中、nは1もしくは2であり、好ましく
は1である。但しnが2の場合、(A−B)は直列に結
合するだけでなく、並列にLに複数ヶ所(nヶ所)で結
合してもよく、2つの(A−B)は、同じでも異なって
いてもよい。以下に本発明で用いられるA−B基、又は
k=0の場合のA−Bで表される化合物の例を挙げる
が、本発明はこれに限定されるものではない。
When the group B is a hydrogen atom (this compound is 0 to
Preferably having an oxidation potential of 1.5 V), the acid
The compound undergoes a deprotonation reaction to generate a radical (A.)
Is a compound that can occur (this radical is
It is preferable to have an oxidation potential of 0.6 V or less). This
Deprotonation reaction at the time of may depend on the base in the molecule
However, it may be an extramolecular base. Preferably in the molecule
It has a base. Also, as the base, a proton
Any group can be used as long as it undergoes a oxidization reaction, but preferably about
It is a conjugate base of an acid having a pKa of 1-8. For example carboxy
Rate, sulfate, amine oxide and the like,
More preferably, it is a carboxylate. General formula (B-
2) and (B-3), W is Si, Sn or Ge
Represent, R 16Represents an alkyl group, Ar2Is an aryl group
Represent The general formulas (B-2) and (B-3) are bonded to the X group.
Can be combined. Formulas (B-2) and (B-
3) will be described in detail. Where R16Represented by
The rukyl group may be substituted or non-substituted having 1 to 6 carbon atoms.
Alternative linear or branched alkyl groups (eg methyl, ether
Chill, isopropyl, n-propyl, n-butyl, t-
Butyl, 2-pentyl, n-hexyl, n-octyl,
t-octyl, 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl
Chill, 1-hydroxyethyl, n-butoxyethyl, me
Toximethyl), Ar2The aryl group represented by
A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms
(Eg, phenyl, 2-methylphenyl)
It R in the general formulas (B-2) and (B-3)16and
Ar2May further have the above-mentioned substituent Y and the like.
Preferred examples of the general formulas (B-2) and (B-3) are shown below.
Shown in. Of the general formulas (B-2) and (B-3), preferred
Kuha R16Is a substituted or unsubstituted alkane having 1 to 4 carbon atoms.
A kill group, Ar2Has 6 to 10 carbon atoms and may be substituted
Is an unsubstituted aryl group, W is Si or Sn
It Of the general formulas (B-2) and (B-3), more preferred
Actually, R16Is a substituted or unsubstituted C1-C3
An alkyl group, Ar2Is substituted with 6 to 8 carbon atoms
Is an unsubstituted aryl group, and W is Si. Group B
Most preferred as COO of the general formula (B-1)-
And Si- (R in the general formula (B-2)16)3And
It In the general formula (I), n is 1 or 2, and preferably
Is 1. However, when n is 2, (AB) is connected in series.
Not only do they match but also connect them in parallel at multiple points (n points) to L
The two (A-B) may be the same or different.
You may stay. Below, the AB group used in the present invention, or
Examples of the compound represented by AB in the case of k = 0 will be given.
However, the present invention is not limited to this.

【0056】[0056]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0057】[0057]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0058】[0058]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0059】[0059]

【化25】 [Chemical 25]

【0060】[0060]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0061】[0061]

【化27】 [Chemical 27]

【0062】上記化合物A−Bの電荷バランスに必要な
対イオンとしては、ナトリウムイオン、カリウムイオ
ン、トリエチルアンモニウムイオン、ジイソプロピルア
ンモニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、
およびテトラメチルグアニジニウムイオンが挙げられ
る。A−Bの好ましい酸化電位は0〜1.5Vであり、
より好ましくは0〜1.0Vであり、さらに好ましくは
0.3〜1.0Vの範囲である。結合開裂反応から生じ
るラジカルA・の好ましい酸化電位(E1)は−0.6
〜−2.5Vであり、より好ましくは−0.9〜−2V
であり、さらに好ましくは−0.9〜−1.6Vの範囲
である。酸化電位の測定法は以下の通りである。E1
サイクリックボルタンメトリー法で行うことができる。
電子供与体Aをアセトニトリル/0.1Mか塩素酸リチ
ウムを含有する水80%/20%(容量%)の溶液に溶
解させる。ガラス状のカーボンディスクを動作電極に用
い、プラチナ線を対電極に用い、飽和カロメル電極(S
CE)を参照電極に用いる。25℃で、0.1V/秒の
電位走査速度で測定する。サイクリックボルタンメトリ
ー波のピーク電位の時に酸化電位対SCEをとる。これ
らA-B化合物のE1値は欧州特許第93,731A1に
記載されている。ラジカルの酸化電位測定は過度的な電
気化学およびパルス放射線分解法によって行われる。こ
れらはJ.Am.Chem.Soc.,1988,11
0,132、同1974,96,1287、同197
4,96,1295で報告されている。以下に一般式
(I)で表される化合物の具体例を記すが、本発明に用
いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
Counterions necessary for the charge balance of the above compounds AB include sodium ion, potassium ion, triethylammonium ion, diisopropylammonium ion, tetrabutylammonium ion,
And tetramethylguanidinium ion. A preferable oxidation potential of AB is 0 to 1.5 V,
It is more preferably 0 to 1.0 V, and further preferably 0.3 to 1.0 V. The preferable oxidation potential (E 1 ) of the radical A · resulting from the bond cleavage reaction is −0.6.
To -2.5V, and more preferably -0.9 to -2V.
And more preferably in the range of -0.9 to -1.6V. The method for measuring the oxidation potential is as follows. E 1 can be performed by the cyclic voltammetry method.
The electron donor A is dissolved in a solution of acetonitrile / 0.1M or water containing lithium chlorate in 80% / 20% (volume%). A glassy carbon disk was used as the working electrode, a platinum wire was used as the counter electrode, and a saturated calomel electrode (S
CE) is used for the reference electrode. Measurement is performed at 25 ° C. at a potential scanning rate of 0.1 V / sec. The oxidation potential vs. SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave. The E 1 values of these AB compounds are described in EP 93,731 A1. Radical oxidation potential measurements are made by transient electrochemistry and pulse radiolysis. These are described in J. Am. Chem. Soc. , 1988, 11
0,132, 1974,96,1287, 197
4, 96, 1295. Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the compound used in the present invention is not limited thereto.

【0063】[0063]

【化28】 [Chemical 28]

【0064】[0064]

【化29】 [Chemical 29]

【0065】[0065]

【化30】 [Chemical 30]

【0066】[0066]

【化31】 [Chemical 31]

【0067】[0067]

【化32】 [Chemical 32]

【0068】[0068]

【化33】 [Chemical 33]

【0069】[0069]

【化34】 [Chemical 34]

【0070】[0070]

【化35】 [Chemical 35]

【0071】[0071]

【化36】 [Chemical 36]

【0072】本発明の化合物は、本発明の感光材料に光
照射、又は酸化処理を施した場合、より活性なラジカル
種を生じ、これが増感色素を攻撃して増感色素を消色さ
せたり、増感色素を親水化し感材からの増感色素の溶出
を促進することにより、塗設増感色素量を増加したハロ
ゲン化銀感光材料の処理や連続処理を行ったとしても増
感色素に起因するステインを低いレベルに抑えることが
できる。また本発明の化合物の反応生成物が感光材料中
に残存しても画像安定性への影響は小さい。これは処理
時間を短縮した現像処理を行う上で好ましい特長であ
る。
The compound of the present invention produces a more active radical species when the light-sensitive material of the present invention is irradiated with light or subjected to oxidation treatment, which attacks the sensitizing dye to decolorize the sensitizing dye. By making the sensitizing dye hydrophilic and accelerating the elution of the sensitizing dye from the sensitizing material, the sensitizing dye can be treated even if the silver halide light-sensitive material having the increased amount of the applied sensitizing dye is processed or continuously processed. The resulting stain can be suppressed to a low level. Further, even if the reaction product of the compound of the present invention remains in the light-sensitive material, the influence on the image stability is small. This is a preferable feature in performing development processing with a shortened processing time.

【0073】本発明の化合物の使用量は感光材料1m2
あたり、1×10-6molから2×10 -3molであり、好ま
しくは2×10-6molから1×10-3molであり、特に好
ましくは5×10-6molから5×10-4molである。
The amount of the compound of the present invention used is 1 m of the light-sensitive material.2
Per 1 x 10-62 x 10 from mol -3mol and is preferred
2 × 10-61 x 10 from mol-3mol, especially good
5x10 is better-65 x 10 from mol-Fourmol.

【0074】本発明の化合物は未露光のハロゲン化銀写
真感光材料に予め含有させてもよいし、また処理液に含
有させハロゲン化銀写真感光材料を浸漬することにより
取り込ませてもよく、また両者を組み合わせても良い。
このうち本発明の化合物を水性溶液とした処理液で用い
ることが好ましい。本発明の化合物は単独で用いても複
数の化合物を併用してもよい。
The compound of the present invention may be contained in the unexposed silver halide photographic light-sensitive material in advance, or it may be contained in the processing liquid and incorporated by immersing the silver halide photographic light-sensitive material. You may combine both.
Of these, it is preferable to use the compound of the present invention in a treatment liquid prepared as an aqueous solution. The compound of the present invention may be used alone or in combination of two or more compounds.

【0075】本発明の化合物をハロゲン化銀写真感光材
料に含有させるためには、いかなる方法を用いても良
い。例えば、後述する増感色素の添加法を用いることが
できる。また、その他にも既知の分散方法を用いること
ができる。すなわち英国特許第1,570,362号等
に記載のサブミクロンのサイズをもつ写真有用化合物の
固体粒子コロイドを生成する方法や米国特許第2,32
2,027号等に記載の水中油滴分散法が挙げられる。
またラテックス分散法の工程、効果及び含浸用のラテッ
クスの具体例は米国特許第4、199,633号、西独
特許出願(OLS )第2,541,274号、同第2,5
41,230号及び欧州特許第294,104A号等に
記載されている。
Any method may be used for incorporating the compound of the present invention into the silver halide photographic light-sensitive material. For example, the method of adding a sensitizing dye described below can be used. In addition, other known dispersion methods can be used. That is, a method for producing a solid particle colloid of a photographically useful compound having a submicron size as described in British Patent No. 1,570,362 and US Pat. No. 2,32
The oil-in-water dispersion method described in No. 2,027 and the like can be mentioned.
The steps and effects of the latex dispersion method and specific examples of latex for impregnation are described in US Pat. No. 4,199,633 and West German Patent Application (OLS) Nos. 2,541,274 and 2,5.
No. 41,230 and European Patent No. 294,104A.

【0076】本発明の化合物を処理液に含有させる場
合、発色現像、漂白、定着、水洗、安定、調整、黒白現
像、反転、前漂白等のいずれの処理浴にも含有させるこ
とができる。また本発明の化合物は上記処理浴のタンク
液、補充液、濃縮補充液及びキットのいずれに含有され
てもよい。また本発明の化合物は添加物組成物に含有さ
れてもよい。添加物組成物とは、ハロゲン化銀カラー写
真感光材料の画像形成を行うための処理に必要とされる
タンク液または補充液に処理前または処理中に添加して
写真性能を調節する機能を有する組成物である。
When the compound of the present invention is contained in the processing solution, it can be contained in any processing bath for color development, bleaching, fixing, washing with water, stability, adjustment, black and white development, reversal, pre-bleaching and the like. Further, the compound of the present invention may be contained in any of the tank solution, the replenishing solution, the concentrated replenishing solution and the kit of the above treatment bath. Moreover, the compound of the present invention may be contained in an additive composition. The additive composition has a function of adding photographic performance to a tank solution or a replenisher solution required for processing for forming an image of a silver halide color photographic light-sensitive material before or during processing. It is a composition.

【0077】本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光
材料は通常のハロゲン化銀、例えば塩化銀、臭化銀、臭
ヨウ化銀、塩臭化銀、塩ヨウ化銀及びそれらの混合物等
のいずれも含有することができる。一つの態様では、こ
の感光材料は少なくとも50mol%以上の塩化物、よ
り好ましくは少なくとも90mol%以上の塩化銀を含
有する高塩化銀感光材料であり例えばカラープリント感
材として用いられる。
The silver halide photographic light-sensitive material used in the present invention is any of ordinary silver halides such as silver chloride, silver bromide, silver bromoiodide, silver chlorobromide, silver chloroiodide and mixtures thereof. Can also be included. In one embodiment, the light-sensitive material is a high silver chloride light-sensitive material containing at least 50 mol% or more chloride, more preferably at least 90 mol% or more silver chloride, and is used as a color print light-sensitive material.

【0078】別の態様では、少なくとも一種の乳剤は主
として臭化銀(少なくとも50mol%の臭化銀)であ
る。最も好ましくはハロゲン化写真銀感光材料が一種以
上の色記録を有し、各色記録はカラーネガティブフイル
ム及びカラーリバーサルフイルムに用いられるような一
種以上の主として臭化銀乳剤を有する。本発明を実施し
て処理されるハロゲン化銀写真感光材料は単色要素もし
くは多色要素となることができる。またこの感光材料に
は当該技術分野では公知の磁気記録層も有することがで
きる。
In another embodiment, the at least one emulsion is predominantly silver bromide (at least 50 mol% silver bromide). Most preferably the photographic silver halide photographic material has one or more color records, each color record having one or more predominantly silver bromide emulsions such as those used in color negative and color reversal films. The silver halide photographic light-sensitive material processed according to the present invention can be a single color element or a multicolor element. The photosensitive material can also have a magnetic recording layer known in the art.

【0079】個々のハロゲン化銀写真感光材料の詳細は
例えばリサーチディスクロージャー(以下RDと略す
る。)に記載されており、RD17643 23〜27
ページ、RD18716 647〜650ページ、RD
307105 866〜868ページ、873〜879
ページ、RD36544 501〜541ページを挙げ
ることができる。これらは有用なハロゲン化銀乳剤(ネ
ガまたはポジ型)及びその調製方法、各種増感剤、色素
形成カプラー、分光増感色素、強色増感剤、画像色素安
定化剤、染料、紫外線吸収剤、フィルター、バインダ
ー、硬膜剤、可塑剤、潤滑剤、塗布助剤、表面活性剤、
スタチック防止剤、マット剤、紙及びフイルム支持体、
あるいはネガ像及びポジ像形成カラー要素の種々の画像
形成法等に関するものである。
Details of the individual silver halide photographic light-sensitive materials are described in, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD), and RD17643 23-27.
Pages, RD18716 647-650 pages, RD
307105 Pages 866-868, 873-879
RD 36544 501-541 pages. These are useful silver halide emulsions (negative or positive type) and their preparation methods, various sensitizers, dye-forming couplers, spectral sensitizing dyes, supersensitizers, image dye stabilizers, dyes, ultraviolet absorbers. , Filters, binders, hardeners, plasticizers, lubricants, coating aids, surface-active agents,
Antistatic agent, matting agent, paper and film support,
Alternatively, it relates to various image forming methods for negative image and positive image forming color elements.

【0080】分光増感色素、強色増感剤については、い
かなるものを用いても良いが、例えば、上記のRDに記
載されているものが挙げられる。
Any spectral sensitizing dye and supersensitizer may be used, and examples thereof include those described in RD above.

【0081】用いられる分光増感色素として、好ましく
はシアニン色素、メロシアニン色素、ロダシアニン色
素、3核メロシアニン色素、4核メロシアニン色素、ア
ロポーラー色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素など
が挙げられる。さらに好ましくはシアニン色素、メロシ
アニン色素、ロダシアニン色素であり、特に好ましくは
シアニン色素である。これらの色素の詳細については、
エフ・エム・ハーマー(F.M.Harmer)著「ヘテロサイクリ
ック・コンパウンズーシアニンダイズ・アンド・リレィ
ティド・コンパウンズ(Heterocyclic Compounds-Cyanin
e Dyes and Related Compounds)」、ジョン・ウィリー
・アンド・サンズ(John Wiley & Sons)社ーニューヨー
ク、ロンドン、1964年刊、デー・エム・スターマー
(D.M.Sturmer)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズ
ースペシャル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック
・ケミストリー(Heterocyclic Compounds-Special topi
cs inheterocyclic chemistry) 」、第18章、第14
節、第482から515頁、ジョン・ウィリー・アンド
・サンズ(John Wiley & Sons) 社−ニューヨーク、ロン
ドン、1977年刊、「ロッズ・ケミストリー・オブ・
カーボン・コンパウンズ(Rodd's Chemistry of Carbon
Compounds)」2nd.Ed.vol.IV,partB,1977刊、第15
章、第369から422頁、エルセビア・サイエンス・
パブリック・カンパニー・インク(Elsevier Science Pu
blishing Company Inc.)社刊、ニューヨーク、などに記
載されている。
The spectral sensitizing dyes used are preferably cyanine dyes, merocyanine dyes, rhodacyanine dyes, trinuclear merocyanine dyes, tetranuclear merocyanine dyes, allopolar dyes, hemicyanine dyes and styryl dyes. Cyanine dyes, merocyanine dyes and rhodacyanine dyes are more preferred, and cyanine dyes are particularly preferred. For more information on these dyes,
FM Harmer, “Heterocyclic Compounds-Cyanin
e Dyes and Related Compounds ", John Wiley & Sons-New York, London, 1964, Day M Starmer
(DMSturmer) `` Heterocyclic Compounds-Special topi
cs inheterocyclic chemistry) ", Chapter 18, 14
S., pp. 482-515, John Wiley & Sons, Inc.-New York, London, 1977, "Rods Chemistry of the."
Carbon Compounds (Rodd's Chemistry of Carbon
Compounds) ”2nd.Ed.vol.IV, partB, 1977, 15th
Chapter, pages 369-422, Elsevier Science
Public Company, Inc. (Elsevier Science Pu
blishing Company Inc.), published in New York, etc.

【0082】さらに説明を加えると、RD17643の
23〜24頁、RD18716の648頁右欄〜649
頁右欄、RD308119の996頁右欄〜998頁右
欄、欧州特許第0565096A1号の第65頁7〜1
0行、に記載されているものを好ましく用いることがで
きる。また、米国特許第5,747,236号(特に第
30〜39頁)、米国特許第5、340、694号(特
に第21〜60頁、但し、(XI)、(XII)、(XII
I)に示されている増感色素において、n12、n 1 5、n17
n18の数は限定せず、0以上の整数(好ましくは4以
下)とする。)に記載されている、一般式及び具体例で
示された増感色素も好ましく用いることができる。
To further explain, pages 23 to 24 of RD17643 and pages 648 of RD18716, right column to 649.
Page right column, RD308119 page 996 right column to page 998 right column, European Patent No. 0565096A1, page 65, pages 7-1.
Those described in line 0 can be preferably used. Also, US Pat. No. 5,747,236 (particularly pages 30 to 39), US Pat. No. 5,340,694 (particularly pages 21 to 60, provided that (XI), (XII), (XII
In the sensitizing dye shown in I), n 12, n 1 5, n 17,
The number of n 18 is not limited and is an integer of 0 or more (preferably 4 or less). The sensitizing dyes represented by the general formulas and specific examples described in 1) can also be preferably used.

【0083】次に、本発明において好ましく用いられる
シアニン色素、メロシアニン色素(3核、又は4核メロ
シアニン色素なども含む)、及びロダシアニン色素を一
般式で以下に示す。一般式(X)
Next, cyanine dyes, merocyanine dyes (including trinuclear or tetranuclear merocyanine dyes), and rhodacyanine dyes preferably used in the present invention are shown below by general formulas. General formula (X)

【0084】[0084]

【化37】 [Chemical 37]

【0085】式(X)中、L11、L12、L13、L14、L
15、L16、及びL17はメチン基を表す。p11、及びp12
は0または1を表す。n11は0、1、2、3または4を
表す。Z11及びZ12は含窒素複素環を形成するために必
要な原子群を表す。ただし、これらに環が縮環していて
も良い。M11は電荷均衡対イオンを表し、m11は分子の
電荷を中和するのに必要な0以上の数を表す。R21及び
22はアルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。 一般式(XI)
In the formula (X), L 11 , L 12 , L 13 , L 14 and L
15 , L 16 and L 17 represent a methine group. p 11 and p 12
Represents 0 or 1. n 11 represents 0, 1, 2, 3 or 4. Z 11 and Z 12 represent an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing heterocycle. However, the ring may be condensed to these. M 11 represents a charge-balancing counterion, and m 11 represents a number of 0 or more necessary for neutralizing the charge of the molecule. R 21 and R 22 represent an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. General formula (XI)

【0086】[0086]

【化38】 [Chemical 38]

【0087】式(XI)中、L18、L19、L20、及びL
21はメチン基を表す。p13は0又は1を表す。q11は0
又は1を表わす。n12は0、1、2、3又は4を表す。
13は含窒素複素環を形成するために必要な原子群を表
す。Z14とZ14 'は(N−R2 4)q11と一緒になって複
素環、又は非環式の酸性末端基を形成するために必要な
原子群を表す。ただし、Z13、及びZ14とZ14’に環が
縮環していても良い。M12は電荷均衡対イオンを表し、
12は分子の電荷を中和するのに必要な0以上の数を表
す。R23はアルキル基、アリール基、又は複素環基を表
す。R24は水素原子、アルキル基、アリール基、又は複
素環基を表す。 一般式(XII)
In the formula (XI), L 18 , L 19 , L 20 , and L
21 represents a methine group. p 13 represents 0 or 1. q 11 is 0
Or represents 1. n 12 represents 0, 1, 2, 3 or 4.
Z 13 represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing heterocycle. Z 14 and Z 14 'represents a (N-R 2 4) heterocyclic ring together with q 11, or acyclic atomic group necessary for forming an acidic end groups. However, the ring may be condensed to Z 13 , and Z 14 and Z 14 ′. M 12 represents a charge balancing counterion,
m 12 represents a number of 0 or more necessary for neutralizing the charge of the molecule. R 23 represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 24 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. General formula (XII)

【0088】[0088]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0089】式(XII) 中、L22、L23、L24
25、L26、L27、L28、L29及びL30はメチン基を表
す。p14及びp15は0又は1を表す。q12は0又は1を
表わす。n13及びn14は0、1、2、3又は4を表す。
15、及びZ17は含窒素複素環を形成するために必要な
原子群を表す。Z16とZ16’は(N−R26)q12と一緒
になって複素環を形成するために必要な原子群を表す。
ただし、Z15、Z16とZ16 '、及びZ17に環が縮環して
いても良い。M13は電荷均衡対イオンを表し、m13は分
子の電荷を中和するのに必要な0以上の数を表す。
25、及びR27はアルキル基、アリール基、又は複素環
基を表す。R26は水素原子、アルキル基、アリール基、
又は複素環基を表す。
In formula (XII), Ltwenty two, Ltwenty three, Ltwenty four,
Ltwenty five, L26, L27, L28, L29And L30Represents the methine group
You p14And p15Represents 0 or 1. q12Is 0 or 1
Represent. n13And n14Represents 0, 1, 2, 3 or 4.
Z15, And Z17Is necessary to form a nitrogen-containing heterocycle
Represents a group of atoms. Z16And Z16'Is (N-R26) Q12With
Represents an atomic group necessary for forming a heterocycle.
However, Z15, Z16And Z16 ', And Z17The ring is condensed
You may stay. M13Represents a charge-balancing counterion, m13Is a minute
Represents a number of 0 or greater required to neutralize the charge of the offspring.
Rtwenty five, And R27Is an alkyl group, aryl group, or heterocycle
Represents a group. R26Is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group,
Or represents a heterocyclic group.

【0090】以下、一般式(X)、(XI)、及び(X
II)で表されるメチン色素について詳細に述べる。
Hereinafter, general formulas (X), (XI), and (X
The methine dye represented by II) will be described in detail.

【0091】以下の説明における基などについて、特定
の部分を「基」と称した場合には、当該部分はそれ自体
が置換されていなくても、一種以上の(可能な最多数ま
での)置換基で置換されていても良いことを意味する。
例えば、「アルキル基」とは置換または無置換のアルキ
ル基を意味する。また、本発明における化合物に使用で
きる置換基は、置換の有無にかかわらず、どのような置
換基でも良い。
Regarding a group and the like in the following description, when a specific part is referred to as a “group”, the part may be one or more (up to the maximum possible number) of substituents, even if the part is not itself substituted. It means that it may be substituted with a group.
For example, "alkyl group" means a substituted or unsubstituted alkyl group. Further, the substituent that can be used in the compound of the present invention may be any substituent regardless of the presence or absence of substitution.

【0092】このような置換基をWとすると、Wで示さ
れる置換基としては、いかなるものでも良く、特に制限
は無いが、例えば、ハロゲン原子、アルキル基[シクロ
アルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル
基を含む、また、アルケニル基(シクロアルケニル基、
ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、も含む
こととする。]、アリール基、複素環基(ヘテロ環基と
言っても良い)、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ
基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基
(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ
基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルフ
ァモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルア
ミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、ア
ルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリ
ールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリ
ール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホ
スフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルア
ミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイ
ド基、ボロン酸基(-B(OH)2)、ホスファト基(-OPO(O
H)2)、スルファト基(-OSO3H)、その他の公知の置換
基、が例として挙げられる。
When such a substituent is represented by W, the substituent represented by W may be any one, and is not particularly limited. For example, a halogen atom, an alkyl group [cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, a trialkyl group, Including a cycloalkyl group, alkenyl group (cycloalkenyl group,
(Including a bicycloalkenyl group) and an alkynyl group. ], Aryl group, heterocyclic group (may be referred to as heterocyclic group), cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyl Oxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (including anilino group), ammonio group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group , Alkyl and aryl sulfonylamino groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, heterocyclic thio groups, sulfamoyl groups, sulfo groups, alkyl and aryl sulfinyl groups, alkyl and aryl sulfonyl groups, acyl groups, aryl groups Xycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, aryl and heterocyclic azo group, imido group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, phosphono group, silyl group, hydrazino group, ureido group , A boronic acid group (-B (OH) 2 ), a phosphato group (-OPO (O
H) 2 ), a sulfato group (—OSO 3 H), and other known substituents can be given as examples.

【0093】更に詳しくは、Wは、ハロゲン原子(例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、
アルキル基[直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換の
アルキル基を表す。それらは、アルキル基(好ましくは
炭素数1から30のアルキル基、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オ
クチル、エイコシル、2−クロロエチル、2−シアノエ
チル、2―エチルヘキシル)、シクロアルキル基(好ま
しくは、炭素数3から30の置換または無置換のシクロ
アルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチ
ル、4−n−ドデシルシクロヘキシル)、ビシクロアル
キル基(好ましくは、炭素数5から30の置換もしくは
無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5から3
0のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一
価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタ
ン−2−イル、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−
イル)、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含す
るものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基
(例えばアルキルチオ基のアルキル基)はこのような概
念のアルキル基を表すが、さらにアルケニル基、アルキ
ニル基も含むこととする。]、アルケニル基[直鎖、分
岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。
それらは、アルケニル基(好ましくは炭素数2から30
の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、
アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル)、シクロアル
ケニル基(好ましくは、炭素数3から30の置換もしく
は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数3から
30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価
の基である。例えば、2−シクロペンテン−1−イル、
2−シクロヘキセン−1−イル)、ビシクロアルケニル
基(置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ま
しくは、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシ
クロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロ
アルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。
例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1
−イル、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4
−イル)を包含するものである。]、アルキニル基(好
ましくは、炭素数2から30の置換または無置換のアル
キニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチ
ルシリルエチニル基)]、アリール基(好ましくは炭素
数6から30の置換もしくは無置換のアリール基、例え
ばフェニル、p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニ
ル、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル)、複素環基
(好ましくは5または6員の置換もしくは無置換の、芳
香族もしくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原
子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素
数3から30の5もしくは6員の芳香族の複素環基であ
る。例えば、2−フリル、2−チエニル、2−ピリミジ
ニル、2−ベンゾチアゾリル、なお、1−メチル−2−
ピリジニオ、1−メチル−2−キノリニオのようなカチ
オン性の複素環基でも良い。)、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(好ま
しくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアル
コキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキ
シ、t−ブトキシ、n−オクチルオキシ、2−メトキシ
エトキシ)、アリールオキシ基(好ましくは、炭素数6
から30の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例
えば、フェノキシ、2−メチルフェノキシ、4−t−ブ
チルフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、2−テトラデ
カノイルアミノフェノキシ)、シリルオキシ基(好まし
くは、炭素数3から20のシリルオキシ基、例えば、ト
リメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは、炭素数2から3
0の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、1−フェ
ニルテトラゾールー5−オキシ、2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)、アシルオキシ基(好ましくはホルミルオ
キシ基、炭素数2から30の置換もしくは無置換のアル
キルカルボニルオキシ基、炭素数6から30の置換もし
くは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホ
ルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ス
テアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、p−メトキシフ
ェニルカルボニルオキシ)、カルバモイルオキシ基(好
ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のカ
ルバモイルオキシ基、例えば、N,N−ジメチルカルバ
モイルオキシ、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ、
モルホリノカルボニルオキシ、N,N−ジ−n−オクチ
ルアミノカルボニルオキシ、N−n−オクチルカルバモ
イルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好まし
くは、炭素数2から30の置換もしくは無置換アルコキ
シカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキ
シ、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニ
ルオキシ、n−オクチルカルボニルオキシ)、アリール
オキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数7から
30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル
オキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、p−
メトキシフェノキシカルボニルオキシ、p−n−ヘキサ
デシルオキシフェノキシカルボニルオキシ)、アミノ基
(好ましくは、アミノ基、炭素数1から30の置換もし
くは無置換のアルキルアミノ基、炭素数6から30の置
換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチ
ルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニ
リノ、ジフェニルアミノ)、アンモニオ基(好ましくは
アンモニオ基、炭素数1から30の置換もしくは無置換
のアルキル、アリール、ヘテロ環が置換したアンモニオ
基、例えば、トリメチルアンモニオ、トリエチルアンモ
ニオ、ジフェニルメチルアンモニオ)、アシルアミノ基
(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1から30の
置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭
素数6から30の置換もしくは無置換のアリールカルボ
ニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミ
ノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイル
アミノ、3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニ
ルカルボニルアミノ)、アミノカルボニルアミノ基(好
ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のア
ミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、
N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジ
エチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニル
アミノ)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは
炭素数2から30の置換もしくは無置換アルコキシカル
ボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、
エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルア
ミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−
メチルーメトキシカルボニルアミノ)、アリールオキシ
カルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数7から30の
置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ
基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフ
ェノキシカルボニルアミノ、m-n−オクチルオキシフェ
ノキシカルボニルアミノ)、スルファモイルアミノ基
(好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換
のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルア
ミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、N−
n−オクチルアミノスルホニルアミノ)、アルキル及び
アリールスルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1から
30の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミ
ノ、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリール
スルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、
ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、
2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、p
−メチルフェニルスルホニルアミノ)、メルカプト基、
アルキルチオ基(好ましくは、炭素数1から30の置換
もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、
エチルチオ、n−ヘキサデシルチオ)、アリールチオ基
(好ましくは炭素数6から30の置換もしくは無置換の
アリールチオ、例えば、フェニルチオ、p−クロロフェ
ニルチオ、m−メトキシフェニルチオ)、ヘテロ環チオ
基(好ましくは炭素数2から30の置換または無置換の
ヘテロ環チオ基、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、
1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ)、スルファ
モイル基(好ましくは炭素数0から30の置換もしくは
無置換のスルファモイル基、例えば、N−エチルスルフ
ァモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルフ
ァモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N−アセ
チルスルファモイル、N−ベンゾイルスルファモイル、
N−(N‘−フェニルカルバモイル)スルファモイ
ル)、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基
(好ましくは、炭素数1から30の置換または無置換の
アルキルスルフィニル基、6から30の置換または無置
換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィ
ニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、p
−メチルフェニルスルフィニル)、アルキル及びアリー
ルスルホニル基(好ましくは、炭素数1から30の置換
または無置換のアルキルスルホニル基、6から30の置
換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチ
ルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニ
ル、p−メチルフェニルスルホニル)、アシル基(好ま
しくはホルミル基、炭素数2から30の置換または無置
換のアルキルカルボニル基、炭素数7から30の置換も
しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数4から3
0の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結
合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、
ピバロイル、2−クロロアセチル、ステアロイル、ベン
ゾイル、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル、
2―ピリジルカルボニル、2―フリルカルボニル)、ア
リールオキシカルボニル基(好ましくは、炭素数7から
30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル
基、例えば、フェノキシカルボニル、o−クロロフェノ
キシカルボニル、m−ニトロフェノキシカルボニル、p
−t−ブチルフェノキシカルボニル)、アルコキシカル
ボニル基(好ましくは、炭素数2から30の置換もしく
は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル、n−オクタデシルオキシカルボニル)、カルバモイ
ル基(好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無
置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、N−メチ
ルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,
N−ジ−n−オクチルカルバモイル、N−(メチルスル
ホニル)カルバモイル)、アリール及びヘテロ環アゾ基
(好ましくは炭素数6から30の置換もしくは無置換の
アリールアゾ基、炭素数3から30の置換もしくは無置
換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、p−クロ
ロフェニルアゾ、5−エチルチオ−1,3,4−チアジ
アゾール−2−イルアゾ)、イミド基(好ましくは、N
−スクシンイミド、N−フタルイミド)、ホスフィノ基
(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換
のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェ
ニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ)、ホス
フィニル基(好ましくは、炭素数2から30の置換もし
くは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、
ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニ
ル)、ホスフィニルオキシ基(好ましくは、炭素数2か
ら30の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、
例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチル
オキシホスフィニルオキシ)、ホスフィニルアミノ基
(好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換
のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィ
ニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ)、ホ
スフォ基、シリル基(好ましくは、炭素数3から30の
置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシ
リル、t−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシ
リル)、ヒドラジノ基(好ましくは炭素数0から30の
置換もしくは無置換のヒドラジノ基、例えば、トリメチ
ルヒドラジノ)、ウレイド基(好ましくは炭素数0から
30の置換もしくは無置換のウレイド基、例えばN,N
−ジメチルウレイド)、を表す。
More specifically, W is a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom),
Alkyl group [represents a linear, branched, or cyclic substituted or unsubstituted alkyl group. They are alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, t-butyl, n-octyl, eicosyl, 2-chloroethyl, 2-cyanoethyl, 2-ethylhexyl). A cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, for example, cyclohexyl, cyclopentyl, 4-n-dodecylcyclohexyl), a bicycloalkyl group (preferably having 5 to 30 carbon atoms). A substituted or unsubstituted bicycloalkyl group, ie, having 5 to 3 carbon atoms
It is a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a bicycloalkane of 0. For example, bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl, bicyclo [2,2,2] octane-3-
And a tricyclo structure having many ring structures. The alkyl group in the substituents described below (for example, an alkyl group of an alkylthio group) represents an alkyl group having such a concept, and further includes an alkenyl group and an alkynyl group. ], An alkenyl group [represents a linear, branched, or cyclic substituted or unsubstituted alkenyl group.
They are alkenyl groups (preferably having 2 to 30 carbon atoms).
A substituted or unsubstituted alkenyl group, such as vinyl,
Allyl, prenyl, geranyl, oleyl), a cycloalkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group having 3 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group in which one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms is removed. A group of, for example, 2-cyclopenten-1-yl,
2-cyclohexen-1-yl), a bicycloalkenyl group (a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a bicycloalkene having one double bond. It is a monovalent group with one hydrogen atom removed.
For example, bicyclo [2,2,1] hept-2-ene-1
-Yl, bicyclo [2,2,2] oct-2-ene-4
-Yl). ], An alkynyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, for example, ethynyl, propargyl, trimethylsilylethynyl group)], an aryl group (preferably a substituted or unsubstituted C 6 to 30 carbon atom) Aryl groups such as phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hexadecanoylaminophenyl), heterocyclic groups (preferably 5- or 6-membered substituted or unsubstituted, aromatic or non-aromatic heterocycles). A monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a ring compound, and more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms, such as 2-furyl and 2-thienyl. , 2-pyrimidinyl, 2-benzothiazolyl, 1-methyl-2-
It may be a cationic heterocyclic group such as pyridinio or 1-methyl-2-quinolinio. ), A cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an alkoxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, methoxy, ethoxy, isopropoxy, t-butoxy, n-octyl. Oxy, 2-methoxyethoxy), aryloxy group (preferably having 6 carbon atoms)
To 30 substituted or unsubstituted aryloxy groups, such as phenoxy, 2-methylphenoxy, 4-t-butylphenoxy, 3-nitrophenoxy, 2-tetradecanoylaminophenoxy), silyloxy groups (preferably having a carbon number 3 to 20 silyloxy groups, for example, trimethylsilyloxy, t-butyldimethylsilyloxy), heterocyclic oxy groups (preferably having 2 to 3 carbon atoms).
0-substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group, 1-phenyltetrazole-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy), acyloxy group (preferably formyloxy group, substituted or unsubstituted alkyl group having 2 to 30 carbon atoms) Carbonyloxy group, substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, for example, formyloxy, acetyloxy, pivaloyloxy, stearoyloxy, benzoyloxy, p-methoxyphenylcarbonyloxy), carbamoyloxy group (preferably A substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, N, N-dimethylcarbamoyloxy, N, N-diethylcarbamoyloxy,
Morpholinocarbonyloxy, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy, Nn-octylcarbamoyloxy), an alkoxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, for example, Methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, n-octylcarbonyloxy), an aryloxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms, for example, phenoxy. Carbonyloxy, p-
Methoxyphenoxycarbonyloxy, pn-hexadecyloxyphenoxycarbonyloxy), an amino group (preferably an amino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon atom having 6 to 30 carbon atoms) A substituted anilino group, for example, amino, methylamino, dimethylamino, anilino, N-methyl-anilino, diphenylamino), an ammonio group (preferably an ammonio group, substituted or unsubstituted alkyl having 1 to 30 carbon atoms, aryl, Heterocyclic-substituted ammonio groups, such as trimethylammonio, triethylammonio, diphenylmethylammonio), acylamino groups (preferably formylamino groups, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino groups having 1 to 30 carbon atoms, Having 6 to 30 carbon atoms A substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group, for example, formylamino, acetylamino, pivaloylamino, lauroylamino, benzoylamino, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino), aminocarbonylamino group (preferably A substituted or unsubstituted aminocarbonylamino having 1 to 30 carbon atoms, for example, carbamoylamino,
N, N-dimethylaminocarbonylamino, N, N-diethylaminocarbonylamino, morpholinocarbonylamino), an alkoxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, methoxycarbonylamino,
Ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, n-octadecyloxycarbonylamino, N-
Methyl-methoxycarbonylamino), an aryloxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, for example, phenoxycarbonylamino, p-chlorophenoxycarbonylamino, m-n- Octyloxyphenoxycarbonylamino), a sulfamoylamino group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms, for example, sulfamoylamino, N, N-dimethylaminosulfonylamino, N −
n-octylaminosulfonylamino), alkyl and arylsulfonylamino groups (preferably substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylsulfonylamino having 6 to 30 carbon atoms, for example, methyl Sulfonylamino,
Butylsulfonylamino, phenylsulfonylamino,
2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino, p
-Methylphenylsulfonylamino), a mercapto group,
An alkylthio group (preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, such as methylthio,
Ethylthio, n-hexadecylthio), arylthio group (preferably substituted or unsubstituted arylthio having 6 to 30 carbon atoms, for example, phenylthio, p-chlorophenylthio, m-methoxyphenylthio), heterocyclic thio group (preferably having carbon number) 2 to 30 substituted or unsubstituted heterocyclic thio groups, for example 2-benzothiazolylthio,
1-phenyltetrazol-5-ylthio), a sulfamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, for example, N-ethylsulfamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl, N , N-dimethylsulfamoyl, N-acetylsulfamoyl, N-benzoylsulfamoyl,
N- (N′-phenylcarbamoyl) sulfamoyl), sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms) Groups such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, phenylsulfinyl, p
-Methylphenylsulfinyl), an alkyl and arylsulfonyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, for example, methylsulfonyl, ethylsulfonyl) , Phenylsulfonyl, p-methylphenylsulfonyl), acyl group (preferably formyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, carbon Number 4 to 3
A heterocyclic carbonyl group linked to a carbonyl group at 0 substituted or unsubstituted carbon atoms, for example acetyl,
Pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, pn-octyloxyphenylcarbonyl,
2-pyridylcarbonyl, 2-furylcarbonyl), an aryloxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, for example, phenoxycarbonyl, o-chlorophenoxycarbonyl, m-nitrophenoxy). Carbonyl, p
-T-butylphenoxycarbonyl), an alkoxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, n-octadecyloxycarbonyl), carbamoyl. A group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyl having 1 to 30 carbon atoms, for example, carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N,
N-di-n-octylcarbamoyl, N- (methylsulfonyl) carbamoyl), aryl and heterocyclic azo groups (preferably a substituted or unsubstituted arylazo group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon atom having 3 to 30 carbon atoms) Substituted heterocyclic azo group such as phenylazo, p-chlorophenylazo, 5-ethylthio-1,3,4-thiadiazol-2-ylazo), imide group (preferably N)
-Succinimide, N-phthalimide), a phosphino group (preferably a substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, dimethylphosphino, diphenylphosphino, methylphenoxyphosphino), a phosphinyl group (preferably, A substituted or unsubstituted phosphinyl group having 2 to 30 carbon atoms, for example, phosphinyl,
Dioctyloxyphosphinyl, diethoxyphosphinyl), phosphinyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms,
For example, diphenoxyphosphinyloxy, dioctyloxyphosphinyloxy, a phosphinylamino group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinylamino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, dimethoxyphosphinylamino). , Dimethylaminophosphinylamino), a phospho group, a silyl group (preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 3 to 30 carbon atoms, for example, trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, phenyldimethylsilyl), a hydrazino group ( Preferably, a substituted or unsubstituted hydrazino group having 0 to 30 carbon atoms, for example, trimethylhydrazino, a ureido group (preferably a substituted or unsubstituted ureido group having 0 to 30 carbon atoms, for example, N, N).
-Dimethylureido).

【0094】また、2つのWが共同して環(芳香族、又
は非芳香族の炭化水素環、又は複素環。これらは、さら
に組み合わされて多環縮合環を形成することができる。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フ
ェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ナ
フタセン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チ
オフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾ
ール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリ
ダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラ
ン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノ
リジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン
環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン
環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン
環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン
環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジ
ン環、フェナジン環、が挙げられる。)を形成すること
もできる。
Further, two Ws may be combined to form a ring (aromatic or non-aromatic hydrocarbon ring or heterocycle. These can be further combined to form a polycyclic condensed ring.
For example, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, fluorene ring, triphenylene ring, naphthacene ring, biphenyl ring, pyrrole ring, furan ring, thiophene ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring. Ring, pyridazine ring, indolizine ring, indole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, isobenzofuran ring, quinolidine ring, quinoline ring, phthalazine ring, naphthyridine ring, quinoxaline ring, quinoxazoline ring, isoquinoline ring, carbazole ring, phenanthridine ring Ring, acridine ring, phenanthroline ring, thianthrene ring, chromene ring, xanthene ring, phenoxathiine ring, phenothiazine ring, phenazine ring. ) Can also be formed.

【0095】上記の置換基Wの中で、水素原子を有する
ものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていて
も良い。そのような置換基の例としては、−CONHS
2−基(スルホニルカルバモイル基、カルボニルスル
ファモイル基)、−CONHCO−基(カルボニルカル
バモイル基)、−SO2NHSO2−基(スルフォニルス
ルファモイル基)、が挙げられる。より具体的には、ア
ルキルカルボニルアミノスルホニル基(例えば、アセチ
ルアミノスルホニル)、アリールカルボニルアミノスル
ホニル基(例えば、ベンゾイルアミノスルホニル基)、
アルキルスルホニルアミノカルボニル基(例えば、メチ
ルスルホニルアミノカルボニル)、アリールスルホニル
アミノカルボニル基(例えば、p−メチルフェニルスル
ホニルアミノカルボニル)が挙げられる。
Among the above-mentioned substituents W, those having a hydrogen atom may be substituted with the above-mentioned group after removing the hydrogen atom. Examples of such substituents include -CONHS
O 2 - group (sulfonylcarbamoyl group, a carbonyl sulfamoyl group), - CONHCO- group (carbonylation carbamoyl group), - SO 2 NHSO 2 - group (sulfonylsulfamoyl group), and the like. More specifically, an alkylcarbonylaminosulfonyl group (for example, acetylaminosulfonyl), an arylcarbonylaminosulfonyl group (for example, benzoylaminosulfonyl group),
Examples thereof include an alkylsulfonylaminocarbonyl group (for example, methylsulfonylaminocarbonyl) and an arylsulfonylaminocarbonyl group (for example, p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl).

【0096】一般式(X)、(XI)、及び(XII)
中、Z11、Z12、Z13、Z15、及びZ17は含窒素複素
環、好ましくは5又は6員の含窒素複素環を形成するの
に必要な原子群を表す。ただし、これらに環が縮環して
いても良い。環としては、芳香族環、又は非芳香族環い
ずれでも良い。好ましくは芳香族環であり、例えばベン
ゼン環、ナフタレン環などの炭化水素芳香族環や、ピラ
ジン環、チオフェン環などの複素芳香族環が挙げられ
る。
General formulas (X), (XI), and (XII)
In the formula, Z 11 , Z 12 , Z 13 , Z 15 and Z 17 each represent a group of atoms necessary for forming a nitrogen-containing heterocycle, preferably a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle. However, the ring may be condensed to these. The ring may be either an aromatic ring or a non-aromatic ring. An aromatic ring is preferable, and examples thereof include a hydrocarbon aromatic ring such as a benzene ring and a naphthalene ring, and a heteroaromatic ring such as a pyrazine ring and a thiophene ring.

【0097】含窒素複素環としてはチアゾリン核、チア
ゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキ
サゾール核、ベンゾオキサゾール核、セレナゾリン核、
セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、テルラゾリン
核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、3,3−
ジアルキルインドレニン核(例えば3,3−ジメチルイ
ンドレニン)、イミダゾリン核、イミダゾール核、ベン
ゾイミダゾール核、2−ピリジン核、4−ピリジン核、
2−キノリン核、4−キノリン核、1−イソキノリン
核、3−イソキノリン核、イミダゾ〔4,5−b〕キノ
キザリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、
テトラゾール核、ピリミジン核などを挙げることができ
るが、好ましくはベンゾチアゾール核、ベンゾオキサゾ
ール核、3,3−ジアルキルインドレニン核(例えば
3,3−ジメチルインドレニン)、ベンゾイミダゾール
核、2−ピリジン核、4−ピリジン核、2−キノリン
核、4−キノリン核、1−イソキノリン核、3−イソキ
ノリン核であり、さらに好ましくはベンゾチアゾール
核、ベンゾオキサゾール核、3,3−ジアルキルインド
レニン核(例えば3,3−ジメチルインドレニン)、ベ
ンゾイミダゾール核であり、特に好ましくはベンゾオキ
サゾール核、ベンゾチアゾール核、ベンゾイミダゾール
核であり、最も好ましくはベンゾオキサゾール核、ベン
ゾチアゾール核である。
Examples of the nitrogen-containing heterocycle include thiazoline nucleus, thiazole nucleus, benzothiazole nucleus, oxazoline nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, selenazoline nucleus,
Selenazole nucleus, benzoselenazole nucleus, tellrazoline nucleus, tellurazole nucleus, benzoterrazole nucleus, 3,3-
Dialkyl indolenine nucleus (eg 3,3-dimethylindolenine), imidazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus,
2-quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus, 1-isoquinoline nucleus, 3-isoquinoline nucleus, imidazo [4,5-b] quinoxaline nucleus, oxadiazole nucleus, thiadiazole nucleus,
Examples thereof include a tetrazole nucleus and a pyrimidine nucleus, but preferably a benzothiazole nucleus, a benzoxazole nucleus, a 3,3-dialkylindolenine nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenin), a benzimidazole nucleus, a 2-pyridine nucleus. , 4-pyridine nucleus, 2-quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus, 1-isoquinoline nucleus, 3-isoquinoline nucleus, more preferably benzothiazole nucleus, benzoxazole nucleus, 3,3-dialkylindolenine nucleus (for example, 3 , 3-Dimethylindolenine) and benzimidazole nuclei, particularly preferably benzoxazole nuclei, benzothiazole nuclei, and benzimidazole nuclei, and most preferably benzoxazole nuclei and benzothiazole nuclei.

【0098】これらには、前述のWで表される置換基、
及び環が置換していても縮合していても良い。好ましい
ものは、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロ
ゲン原子、芳香環縮合である。
These include a substituent represented by the above W,
And the ring may be substituted or condensed. Preferred are alkyl groups, aryl groups, alkoxy groups, halogen atoms, and aromatic ring condensation.

【0099】Z11、Z12、Z13、Z15、及びZ17によっ
て形成される複素環の具体例としては、米国特許第5,
340,694号第23〜24欄のZ11、Z12、Z13
14、及びZ16の例として挙げられているものと同様な
ものが挙げられる。
Specific examples of the heterocycle formed by Z 11 , Z 12 , Z 13 , Z 15 and Z 17 include US Pat.
340, 694 Nos. 23 to 24, Z 11 , Z 12 , Z 13 ,
Z 14, and include those similar to those listed as examples of Z 16.

【0100】Z14とZ14 'と(N−R24)q11はそれぞ
れ一緒になって、複素環、又は非環式の酸性末端基を形
成するために必要な原子群を表わす。複素環(好ましく
は5又は6員の複素環)としてはいかなるものでも良い
が、酸性核が好ましい。次に、酸性核及び非環式の酸性
末端基について説明する。酸性核及び非環式の酸性末端
基は、いかなる一般のメロシアニン色素の酸性核及び非
環式の酸性末端基の形をとることもできる。好ましい形
においてZ14はチオカルボニル基、カルボニル基、エス
テル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、スルホ
ニル基であり、さらに好ましくはチオカルボニル基、カ
ルボニル基である。Z14 ' は酸性核及び非環式の酸性末
端基を形成するために必要な残りの原子群を表す。非環
式の酸性末端基を形成する場合は、好ましくはチオカル
ボニル基、カルボニル基、エステル基、アシル基、カル
バモイル基、シアノ基、スルホニル基などである。
Z 14 and Z 14 and (N—R 24 ) q 11 together represent an atomic group necessary for forming a heterocyclic ring or an acyclic acidic terminal group. The heterocycle (preferably a 5- or 6-membered heterocycle) may be any, but an acidic nucleus is preferred. Next, the acidic nucleus and the acyclic acidic terminal group will be described. The acidic nuclei and acyclic acidic end groups can take the form of the acidic nuclei and acyclic acidic end groups of any common merocyanine dye. In a preferred form, Z 14 is a thiocarbonyl group, a carbonyl group, an ester group, an acyl group, a carbamoyl group, a cyano group or a sulfonyl group, more preferably a thiocarbonyl group or a carbonyl group. Z 14 ' represents the remaining atomic group necessary for forming an acidic nucleus and an acyclic acidic end group. When forming an acyclic acidic terminal group, a thiocarbonyl group, a carbonyl group, an ester group, an acyl group, a carbamoyl group, a cyano group, a sulfonyl group and the like are preferable.

【0101】q11は0又は1であるが、好ましくは1で
ある。
Q 11 is 0 or 1, but is preferably 1.

【0102】ここでいう酸性核及び非環式の酸性末端基
は、例えばジェイムス(James)編「ザ・セオリー
・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス」(The
Theory of the Photograph
ic Process)第4版、マクミラン出版社、1
977年、197〜200頁に記載されている。ここで
は、非環式の酸性末端基とは、酸性すなわち電子受容性
の末端基のうち、環を形成しないものを意味することと
する。酸性核及び非環式の酸性末端基は、具体的には、
米国特許第3、567、719号、第3、575、86
9号、第3、804、634号、第3、837、862
号、第4、002、480号、第4、925、777
号、特開平3ー167546号、米国特許第5,99
4,051号、米国特許5,747,236号などに記
載されているものが挙げられる。
The acidic nucleus and the acyclic acidic terminal group as referred to herein are, for example, "The Theory of the Photographic Process" (edited by James), edited by James.
Theory of the Photograph
ic Process) 4th edition, Macmillan Publishing Company, 1
977, pp. 197-200. Here, the acyclic acidic terminal group means an acidic or electron-accepting terminal group that does not form a ring. The acidic nucleus and the acyclic acidic terminal group are specifically,
U.S. Pat. Nos. 3,567,719, 3,575,86
No. 9, No. 3, 804, 634, No. 3, 837, 862
No. 4, 002, 480, 4, 925, 777
No. 3,167,546, US Pat. No. 5,99.
4,051 and US Pat. No. 5,747,236.

【0103】酸性核は、炭素、窒素、及び/又はカルコ
ゲン(典型的には酸素、硫黄、セレン、及びテルル)原
子からなる複素環(好ましくは5員又は6員の含窒素複
素環)を形成するとき好ましく、さらに好ましくは炭
素、窒素、及び/又はカルコゲン(典型的には酸素、硫
黄、セレン、及びテルル)原子からなる5員又は6員の
含窒素複素環を形成するときである。具体的には、例え
ば次の核が挙げられる。
The acidic nucleus forms a heterocycle (preferably a 5-membered or 6-membered nitrogen-containing heterocycle) composed of carbon, nitrogen and / or chalcogen (typically oxygen, sulfur, selenium and tellurium) atoms. Is more preferable, and more preferably, a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle consisting of carbon, nitrogen, and / or chalcogen (typically oxygen, sulfur, selenium, and tellurium) atoms is formed. Specifically, for example, the following cores can be mentioned.

【0104】2ーピラゾリンー5ーオン、ピラゾリジン
ー3、5ージオン、イミダゾリンー5ーオン、ヒダント
イン、2または4ーチオヒダントイン、2ーイミノオキ
サゾリジンー4ーオン、2ーオキサゾリンー5ーオン、
2―チオオキサゾリジンー2、5―ジオン、2ーチオオ
キサゾリンー2、4ージオン、イソオキサゾリンー5ー
オン、2ーチアゾリンー4ーオン、チアゾリジンー4ー
オン、チアゾリジンー2、4ージオン、ローダニン、チ
アゾリジンー2、4ージチオン、イソローダニン、イン
ダンー1、3ージオン、チオフェンー3ーオン、チオフ
ェンー3ーオンー1、1ージオキシド、インドリンー2
ーオン、インドリンー3ーオン、2ーオキソインダゾリ
ニウム、3ーオキソインダゾリニウム、5、7ージオキ
ソー6、7ージヒドロチアゾロ[3,2-a]ピリミジン、シ
クロヘキサンー1、3ージオン、3、4ージヒドロイソ
キノリンー4ーオン、1、3ージオキサンー4、6ージ
オン、バルビツール酸、2ーチオバルビツール酸、クロ
マンー2、4ージオン、インダゾリンー2ーオン、ピリ
ド[1,2−a]ピリミジンー1、3ージオン、ピラゾ
ロ[1,5−b]キナゾロン、ピラゾロ[1,5−a]
ベンゾイミダゾール、ピラゾロピリドン、1、2、3、
4ーテトラヒドロキノリンー2、4ージオン、3ーオキ
ソー2、3ージヒドロベンゾ[d]チオフェンー1、1
ージオキサイド、3ージシアノメチンー2、3ージヒド
ロベンゾ[d]チオフェンー1、1ージオキサイドの
核。
2-pyrazolin-5-one, pyrazolidine-3,5-dione, imidazoline-5-one, hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-iminooxazolidin-4-one, 2-oxazoline-5-one,
2-thiooxazolidine-2,5-dione, 2-thiooxazoline-2,4-dione, isoxazoline-5-one, 2-thiazolin-4-one, thiazolidine-4-one, thiazolidine-2,4-dione, rhodanine, thiazolidine-2,4-dithione, Isorhodanine, indane-1,3-dione, thiophen-3-one, thiophen-3-one-1,1-dioxide, indoline-2
-One, indoline-3-one, 2-oxoindazolinium, 3-oxoindazolinium, 5,7-dioxo-6,7-dihydrothiazolo [3,2-a] pyrimidine, cyclohexane-1,3-dione, 3,4 -Dihydroisoquinolin-4-one, 1,3-dioxane-4,6-dione, barbituric acid, 2-thiobarbituric acid, chroman-2,4-dione, indazoline-2-one, pyrido [1,2-a] pyrimidine-1,3-dione , Pyrazolo [1,5-b] quinazolone, pyrazolo [1,5-a]
Benzimidazole, pyrazolopyridone, 1, 2, 3,
4-tetrahydroquinoline-2,4-dione, 3-oxo-2,3-dihydrobenzo [d] thiophene-1,1
-Dioxide, 3-dicyanomethine-2,3-dihydrobenzo [d] thiophene-1,1-dioxide nucleus.

【0105】さらに、これらの核を形成しているカルボ
ニル基もしくはチオカルボニル基を、酸性核の活性メチ
レン位で置換したエキソメチレン構造を有する核、及
び、非環式の酸性末端基の原料となるケトメチレンやシ
アノメチレンなどの構造を有する活性メチレン化合物の
活性メチレン位で置換したエキソメチレン構造を有する
核、及びこれを繰り返した核。
Further, the carbonyl group or thiocarbonyl group forming these nuclei is used as a raw material for a nucleus having an exomethylene structure in which the active methylene position of the acidic nucleus is substituted, and an acyclic acidic terminal group. A nucleus having an exomethylene structure substituted at the active methylene position of an active methylene compound having a structure such as ketomethylene or cyanomethylene, and a nucleus in which this nucleus is repeated.

【0106】これらの酸性核、及び非環式の酸性末端基
には、前述の置換基Wで示した置換基又は環が、置換し
ていても、縮環していても良い。
The acidic nucleus and the acyclic acidic terminal group may be substituted or condensed with the substituent or ring represented by the above-mentioned substituent W.

【0107】Z14とZ14 'と(N−R24)q11として好
ましくは、ヒダントイン、2または4ーチオヒダントイ
ン、2ーオキサゾリンー5ーオン、2ーチオオキサゾリ
ンー2、4ージオン、チアゾリジンー2、4ージオン、
ローダニン、チアゾリジンー2、4ージチオン、バルビ
ツール酸、2ーチオバルビツール酸であり、さらに好ま
しくは、ヒダントイン、2または4ーチオヒダントイ
ン、2ーオキサゾリンー5ーオン、ローダニン、バルビ
ツール酸、2ーチオバルビツール酸である。 特に好ま
しくは2または4ーチオヒダントイン、2ーオキサゾリ
ンー5ーオン、ローダニンである。
Z 14 and Z 14 and (N—R 24 ) q 11 are preferably hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazoline-5-one, 2-thiooxazoline-2,4-dione and thiazolidine-2,4. Zeon,
Rhodanine, thiazolidine-2,4-dithione, barbituric acid, and 2-thiobarbituric acid, and more preferably hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazoline-5-one, rhodanine, barbituric acid, and 2-thiobarbituric acid. It is an acid. Particularly preferred are 2- or 4-thiohydantoin, 2-oxazoline-5-one, and rhodanine.

【0108】Z16とZ16 'と(N−R26)q12によって
形成される複素環としては、前述のZ14とZ14 'と(N
−R24)q11の複素環の説明で述べたものと同じものが
挙げられる。好ましくは前述のZ14とZ14 'と(N−R
24)q11の複素環の説明で述べた酸性核からオキソ基、
又はチオキソ基を除いたものである。
The heterocyclic ring formed by Z 16 and Z 16 ' and (N-R 26 ) q 12 includes Z 14 and Z 14 ' and (N
The same as those mentioned in the description of the heterocycle of —R 24 ) q 11 can be mentioned. Preferably, Z 14 and Z 14 ' and (NR
24 ) an oxo group from the acidic nucleus described in the explanation of the heterocycle of q 11 ,
Alternatively, it does not include a thioxo group.

【0109】さらに好ましくは、前述のZ14とZ14 '
(N−R24)q11の具体的として挙げた酸性核からオキ
ソ基、又はチオキソ基を除いたものであり、さらに好ま
しくはヒダントイン、2または4ーチオヒダントイン、
2ーオキサゾリンー5ーオン、2ーチオオキサゾリンー
2、4ージオン、チアゾリジンー2、4ージオン、ロー
ダニン、チアゾリジンー2、4ージチオン、バルビツー
ル酸、2ーチオバルビツール酸からオキソ基、又はチオ
キソ基を除いたものであり、特に好ましくは、ヒダント
イン、2または4ーチオヒダントイン、2ーオキサゾリ
ンー5ーオン、ローダニン、バルビツール酸、2ーチオ
バルビツール酸からオキソ基、又はチオキソ基を除いた
ものであり、最も好ましくは2または4ーチオヒダント
イン、2ーオキサゾリンー5ーオン、ローダニンからオ
キソ基、又はチオキソ基を除いたものである。
More preferably, Z 14 and Z 14 and (N—R 24 ) q 11 mentioned above are concretely mentioned acidic nuclei from which an oxo group or a thioxo group has been removed, and more preferably hydantoin. 2, or 4-thiohydantoin,
2-oxazoline-5-one, 2-thiooxazoline-2,4-dione, thiazolidine-2,4-dione, rhodanine, thiazolidine-2,4-dithione, barbituric acid, 2-thiobarbituric acid from which oxo group or thioxo group is removed And particularly preferably hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazoline-5-one, rhodanine, barbituric acid, 2-thiobarbituric acid from which an oxo group or a thioxo group has been removed, and most preferably It is 2- or 4-thiohydantoin, 2-oxazoline-5-one, or rhodanine from which an oxo group or a thioxo group has been removed.

【0110】q12は0又は1であるが、好ましくは1で
ある。
Q 12 is 0 or 1, but is preferably 1.

【0111】R21、R22、R23、R25、及びR27はアル
キル基、アリール基、及び複素環基であり、R24、及び
26は水素原子、アルキル基、アリール基、及び複素環
基であり、好ましくはアルキル基、アリール基、及び複
素環基である。R21、R22、R23、R24、R25、R26
及びR27として表されるアルキル基、アリール基、及び
複素環基として、具体的には、例えば、炭素原子1から
18、好ましくは1から7、特に好ましくは1から4の
無置換アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、オ
クチル、ドデシル、オクタデシル)、炭素原子1から1
8、好ましくは1から7、特に好ましくは1から4の置
換アルキル基{例えば置換基として前述のWが置換した
アルキル基が挙げられる。特に、上述した酸基を持つア
ルキル基が好ましい。好ましくはアラルキル基(例えば
ベンジル、2−フェニルエチル)、不飽和炭化水素基
(例えばアリル基、ビニル基、すなわち、ここでは置換
アルキル基にアルケニル基、アルキニル基も含まれるこ
ととする。)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒ
ドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル)、カルボキ
シアルキル基(例えば、2−カルボキシエチル、3−カ
ルボキシプロピル、4−カルボキシブチル、カルボキシ
メチル)、アルコキシアルキル基(例えば、2−メトキ
シエチル、2−(2−メトキシエトキシ)エチル)、ア
リーロキシアルキル基(例えば2ーフェノキシエチル、
2ー(1ーナフトキシ)エチル)、アルコキシカルボニ
ルアルキル基(例えばエトキシカルボニルメチル、2ー
ベンジルオキシカルボニルエチル)、アリーロキシカル
ボニルアルキル基(例えば3ーフェノキシカルボニルプ
ロピル)、アシルオキシアルキル基(例えば2ーアセチ
ルオキシエチル)、アシルアルキル基(例えば2ーアセ
チルエチル)、カルバモイルアルキル基(例えば2ーモ
ルホリノカルボニルエチル)、スルファモイルアルキル
基(例えばN,Nージメチルスルファモイルメチル)、
スルホアルキル基(例えば、2−スルホエチル、3−ス
ルホプロピル、3−スルホブチル、4−スルホブチル、
2−[3−スルホプロポキシ]エチル、2−ヒドロキシ
−3−スルホプロピル、3−スルホプロポキシエトキシ
エチル)、スルホアルケニル基、スルファトアルキル基
(例えば、2ースルファトエチル基、3−スルファトプ
ロピル、4−スルファトブチル)、複素環置換アルキル
基(例えば2−(ピロリジン−2−オン−1−イル)エ
チル、テトラヒドロフルフリル)、アルキルスルホニル
カルバモイルアルキル基(例えばメタンスルホニルカル
バモイルメチル基)、アシルカルバモイルアルキル基
(例えばアセチルカルバモイルメチル基)、アシルスル
ファモイルアルキル基(例えばアセチルスルファモイル
メチル基)、アルキルスルフォニルスルファモイルアル
キル基(例えばメタンスルフォニルスルファモイルメチ
ル基)}、炭素数6から20、好ましくは炭素数6から
10、さらに好ましくは炭素数6から8の無置換または
置換アリール基(置換基の例としては前述のWがが挙げ
られる。例えばフェニル基、1ーナフチル基、p−メト
キシフェニル基、p−メチルフェニル基、p−クロロフ
ェニル基などが挙げられる。)、炭素数1から20、好
ましくは炭素数3から10、さらに好ましくは炭素数4
から8の無置換または置換複素環基(置換基の例として
は前述のWがが挙げられる。例えば2ーフリル基、2ー
チエニル基、2ーピリジル基、3ーピラゾリル、3ーイ
ソオキサゾリル、3ーイソチアゾリル、2ーイミダゾリ
ル、2ーオキサゾリル、2ーチアゾリル、2ーピリダジ
ル、2ーピリミジル、3ーピラジル、2ー(1,3,5-トリ
アゾリル)、3ー(1,2,4-トリアゾリル)、5ーテトラ
ゾリル、5ーメチルー2ーチエニル基、4ーメトキシー
2ーピリジル基などが挙げられる。)が挙げられる。
R 21 , R 22 , R 23 , R 25 , and R 27 are an alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group, and R 24 and R 26 are a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group. It is a cyclic group, preferably an alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group. R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 ,
Examples of the alkyl group, aryl group and heterocyclic group represented by R 27 include, for example, an unsubstituted alkyl group having 1 to 18, preferably 1 to 7 and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms ( For example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, hexyl, octyl, dodecyl, octadecyl), carbon atoms 1 to 1
8, preferably 1 to 7, and particularly preferably 1 to 4 substituted alkyl groups {for example, the above-mentioned alkyl groups substituted with W can be mentioned. In particular, the above-mentioned alkyl group having an acid group is preferable. Preferably, an aralkyl group (eg, benzyl, 2-phenylethyl), an unsaturated hydrocarbon group (eg, an allyl group, a vinyl group, that is, a substituted alkyl group includes an alkenyl group and an alkynyl group) and hydroxy. Alkyl group (for example, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl), carboxyalkyl group (for example, 2-carboxyethyl, 3-carboxypropyl, 4-carboxybutyl, carboxymethyl), alkoxyalkyl group (for example, 2-methoxy) Ethyl, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl), aryloxyalkyl group (for example, 2-phenoxyethyl,
2- (1naphthoxy) ethyl), alkoxycarbonylalkyl group (eg ethoxycarbonylmethyl, 2-benzyloxycarbonylethyl), aryloxycarbonylalkyl group (eg 3-phenoxycarbonylpropyl), acyloxyalkyl group (eg 2-acetyloxy) Ethyl), an acylalkyl group (eg 2-acetylethyl), a carbamoylalkyl group (eg 2-morpholinocarbonylethyl), a sulfamoylalkyl group (eg N, N-dimethylsulfamoylmethyl),
Sulfoalkyl group (for example, 2-sulfoethyl, 3-sulfopropyl, 3-sulfobutyl, 4-sulfobutyl,
2- [3-sulfopropoxy] ethyl, 2-hydroxy-3-sulfopropyl, 3-sulfopropoxyethoxyethyl), sulfoalkenyl group, sulfatoalkyl group (for example, 2-sulfatoethyl group, 3-sulfatopropyl) , 4-sulfatobutyl), a heterocyclic-substituted alkyl group (for example, 2- (pyrrolidin-2-one-1-yl) ethyl, tetrahydrofurfuryl), an alkylsulfonylcarbamoylalkyl group (for example, methanesulfonylcarbamoylmethyl group), an acyl group. Lucarbamoylalkyl group (eg acetylcarbamoylmethyl group), acylsulfamoylalkyl group (eg acetylsulfamoylmethyl group), alkylsulfonylsulfamoylalkyl group (eg methanesulfonylsulfamoylmethyl group)}, carbon number 6 An unsubstituted or substituted aryl group having 20 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms, and more preferably 6 to 8 carbon atoms (examples of the substituent include the aforementioned W. For example, phenyl group, 1 naphthyl group, p -Methoxyphenyl group, p-methylphenyl group, p-chlorophenyl group, etc.), carbon number 1 to 20, preferably carbon number 3 to 10, and more preferably carbon number 4.
To 8 unsubstituted or substituted heterocyclic groups (the above-mentioned W is mentioned as an example of the substituent. For example, 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-pyridyl group, 3-pyrazolyl group, 3-isoxazolyl group, 3-isothiazolyl group. 2-Imidazolyl, 2-oxazolyl, 2-thiazolyl, 2-pyridazyl, 2-pyrimidyl, 3-pyrazyl, 2- (1,3,5-triazolyl), 3- (1,2,4-triazolyl), 5-tetrazolyl, 5-methyl-2-thienyl Group, 4-methoxy-2-pyridyl group, etc.).

【0112】R21、R22、R23、R24、R25、R26、及
びR27で表される置換基として好ましくは無置換アルキ
ル基、置換アルキル基であり、置換アルキル基として好
ましくは上述の酸基を持つアルキル基である。酸基とし
て、好ましくはスルホ基、カルボキシル基、−CONH
SO2 −基、−CONHCO−基、−SO2 NHSO 2
−基であり、特に好ましくは、スルホ基、カルボキシル
基であり、最も好ましくはスルホ基である。
Rtwenty one, Rtwenty two, Rtwenty three, Rtwenty four, Rtwenty five, R26, And
And R27The substituent represented by is preferably an unsubstituted alkyl
Group and a substituted alkyl group, which are preferable as a substituted alkyl group.
Preferred is an alkyl group having the above-mentioned acid group. As an acid group
And preferably a sulfo group, a carboxyl group, or -CONH
SO2-Group, -CONHCO- group, -SO2NHSO 2
-Group, particularly preferably sulfo group, carboxyl
A group, most preferably a sulfo group.

【0113】ここで、酸基について説明する。酸基と
は、解離性プロトンを有する基である。具体的には、例
えばスルホ基、カルボキシル基、スルファト基、−CO
NHSO2 −基(スルホニルカルバモイル基、カルボニ
ルスルファモイル基)、−CONHCO−基(カルボニ
ルカルバモイル基)、−SO2 NHSO2 −基(スルフ
ォニルスルファモイル基)、スルホンアミド基、スルフ
ァモイル基、ホスファト基、ホスホノ基、ボロン酸基、
フェノール性水酸基、など、これらのpkaと周りのp
Hによっては、プロトンが解離する基が挙げられる。例
えばpH5〜11の間で90%以上解離することが可能なプロト
ン解離性酸性基が好ましい。
Here, the acid group will be described. The acid group is a group having a dissociative proton. Specifically, for example, a sulfo group, a carboxyl group, a sulfato group, -CO
NHSO 2 -group (sulfonylcarbamoyl group, carbonylsulfamoyl group), -CONHCO- group (carbonylcarbamoyl group), -SO 2 NHSO 2 -group (sulfonylsulfamoyl group), sulfonamide group, sulfamoyl group, phosphato group , Phosphono group, boronic acid group,
Phenolic hydroxyl groups, such as these pka and surrounding p
Depending on H, a group capable of dissociating a proton may be mentioned. For example, a proton-dissociable acidic group capable of dissociating 90% or more between pH 5 and 11 is preferable.

【0114】さらに好ましくはスルホ基、カルボキシル
基、−CONHSO2 −基、−CONHCO−基、−S
2 NHSO2 −基であり、特に好ましくは、スルホ
基、カルボキシル基であり、最も好ましくはスルホ基で
ある。
More preferably, it is a sulfo group, a carboxyl group, a -CONHSO 2 -group, a -CONHCO- group, or -S.
It is an O 2 NHSO 2 — group, particularly preferably a sulfo group or a carboxyl group, and most preferably a sulfo group.

【0115】L11、L12、L13、L14、L15、L16、L
17、L18、L19、L20、L21、L22、L23、L24
25、L26、L27、L28、L29、及びL30はそれぞれ独
立にメチン基を表す。L1〜L30で表されるメチン基は
置換基を有していても良く、置換基としては前述のWが
挙げられる。例えば置換又は無置換の炭素数1から1
5、好ましくは炭素数1から10、特に好ましくは炭素
数1から5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、2
−カルボキシエチル)、置換または無置換の炭素数6か
ら20、好ましくは炭素数6から15、更に好ましくは
炭素数6から10のアリール基(例えばフェニル、o−
カルボキシフェニル)、置換または無置換の炭素数3か
ら20、好ましくは炭素数4から15、更に好ましくは
炭素数6から10の複素環基(例えばN,N−ジメチル
バルビツール酸基)、ハロゲン原子(例えば塩素、臭
素、沃素、フッ素)、炭素数1から15、好ましくは炭
素数1から10、更に好ましくは炭素数1から5のアル
コキシ基(例えばメトキシ、エトキシ)、炭素数0から
15、好ましくは炭素数2から10、更に好ましくは炭
素数4から10のアミノ基(例えばメチルアミノ、N,
N−ジメチルアミノ、N−メチル−N−フェニルアミ
ノ、N−メチルピペラジノ)、炭素数1から15、好ま
しくは炭素数1から10、更に好ましくは炭素数1から
5のアルキルチオ基(例えばメチルチオ、エチルチ
オ)、炭素数6から20、好ましくは炭素数6から1
2、更に好ましくは炭素数6から10のアリールチオ基
(例えばフェニルチオ、p−メチルフェニルチオ)など
が挙げられる。また他のメチン基と環を形成してもよ
く、もしくはZ11〜Z17、R11〜R17と共に環を形成す
ることもできる。
L 11 , L 12 , L 13 , L 14 , L 15 , L 16 , L
17 , L 18 , L 19 , L 20 , L 21 , L 22 , L 23 , L 24 ,
L 25 , L 26 , L 27 , L 28 , L 29 , and L 30 each independently represent a methine group. The methine group represented by L 1 to L 30 may have a substituent, and examples of the substituent include W described above. For example, a substituted or unsubstituted C1 to C1
An alkyl group having 5, preferably 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 5 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, 2
-Carboxyethyl), a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms (eg phenyl, o-
Carboxyphenyl), a substituted or unsubstituted C3 to C20, preferably C4 to C15, more preferably C6 to C10 heterocyclic group (for example, N, N-dimethylbarbituric acid group), a halogen atom. (For example, chlorine, bromine, iodine, fluorine), C1 to C15, preferably C1 to C10, more preferably C1 to C5 alkoxy group (eg methoxy, ethoxy), C0 to C15, preferably Is an amino group having 2 to 10 carbon atoms, more preferably 4 to 10 carbon atoms (eg, methylamino, N,
N-dimethylamino, N-methyl-N-phenylamino, N-methylpiperazino), an alkylthio group having 1 to 15 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms (eg, methylthio, ethylthio). , 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 1 carbon atoms
2, more preferably an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenylthio, p-methylphenylthio) and the like. It may form a ring with another methine group, or may form a ring together with Z 11 to Z 17 and R 11 to R 17 .

【0116】L11、L12、L16、L17、L18、L19、L
22、L23、L29、及びL30として好ましくは、無置換メ
チン基である。
L 11 , L 12 , L 16 , L 17 , L 18 , L 19 , L
22 , L 23 , L 29 , and L 30 are preferably unsubstituted methine groups.

【0117】n11、n12、n13、及びn14はそれぞれ独
立に0、1、2、3または4を表す。好ましくは0、
1、2、3であり、更に好ましくは0、1、2であり、
特に好ましくは0、1である。n11、n12、n13、及び
14が2以上の時、メチン基が繰り返されるが同一であ
る必要はない。
N 11 , n 12 , n 13 and n 14 each independently represent 0, 1, 2, 3 or 4. Preferably 0,
1, 2, 3 and more preferably 0, 1, 2;
It is particularly preferably 0 or 1. When n 11 , n 12 , n 13 and n 14 are 2 or more, the methine groups are repeated but need not be the same.

【0118】p11、p12、p13、p14、及びp15はそれ
ぞれ独立に0または1を表す。好ましくは0である。
P 11 , p 12 , p 13 , p 14 and p 15 each independently represent 0 or 1. It is preferably 0.

【0119】M11、M12、及びM13は色素のイオン電荷
を中性にするために必要であるとき、陽イオン又は陰イ
オンの存在を示すために式の中に含められている。典型
的な陽イオンとしては水素イオン(H+ )、アルカリ金
属イオン(例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、
リチウムイオン)、アルカリ土類金属イオン(例えばカ
ルシウムイオン)などの無機陽イオン、アンモニウムイ
オン(例えば、アンモニウムイオン、テトラアルキルア
ンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、ピ
リジニウムイオン、エチルピリジニウムイオン、1,8
−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウムイ
オン)などの有機イオンが挙げられる。陰イオンは無機
陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよ
く、ハロゲン陰イオン(例えばフッ素イオン、塩素イオ
ン、ヨウ素イオン)、置換アリ−ルスルホン酸イオン
(例えばp−トルエンスルホン酸イオン、p−クロルベ
ンゼンスルホン酸イオン)、アリ−ルジスルホン酸イオ
ン(例えば1、3−ベンゼンスルホン酸イオン、1、5
−ナフタレンジスルホン酸イオン、2、6−ナフタレン
ジスルホン酸イオン)、アルキル硫酸イオン(例えばメ
チル硫酸イオン)、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、
過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリ
ン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン
酸イオンが挙げられる。さらに、イオン性ポリマー又は
色素と逆電荷を有する他の色素を用いても良い。また、
CO2 -、SO3 -は、対イオンとして水素イオンを持つと
きはCO2H、SO3 Hと表記することも可能である。
M 11 , M 12 , and M 13 are included in the formula to indicate the presence of cations or anions when required to neutralize the ionic charge of the dye. Typical cations include hydrogen ions (H + ), alkali metal ions (eg sodium ion, potassium ion,
Inorganic cations such as lithium ion) and alkaline earth metal ions (eg calcium ion), ammonium ions (eg ammonium ion, tetraalkylammonium ion, triethylammonium ion, pyridinium ion, ethylpyridinium ion, 1,8
-Diazabicyclo [5.4.0] -7-undecenium ion) and the like. The anion may be an inorganic anion or an organic anion, a halogen anion (eg, fluorine ion, chlorine ion, iodine ion), a substituted aryl sulfonate ion (eg, p-toluene sulfonate ion, p-ion). Chlorbenzenesulfonate ion), aryldisulfonate ion (for example, 1,3-benzenesulfonate ion, 1, 5
-Naphthalenedisulfonate ion, 2,6-naphthalenedisulfonate ion), alkylsulfate ion (for example, methylsulfate ion), sulfate ion, thiocyanate ion,
Examples include perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, picrate ion, acetate ion, and trifluoromethanesulfonate ion. Furthermore, an ionic polymer or another dye having a charge opposite to that of the dye may be used. Also,
CO 2 and SO 3 can also be expressed as CO 2 H and SO 3 H when they have a hydrogen ion as a counter ion.

【0120】m11、m12、及びm13は電荷を均衡させる
のに必要な0以上の数を表し、好ましくは0〜4の数で
あり、さらに好ましくは0〜1の数であり、分子内で塩
を形成する場合には0である。
M 11 , m 12 , and m 13 represent a number of 0 or more necessary for balancing the charges, preferably a number of 0-4, more preferably a number of 0-1 and a molecule It is 0 when a salt is formed therein.

【0121】次に、本発明の増感色素の具体例を以下に
示すが、もちろん、本発明の増感色素はこれらに限定さ
れるものではない。
Next, specific examples of the sensitizing dye of the present invention are shown below, but of course, the sensitizing dye of the present invention is not limited to these.

【0122】[0122]

【化40】 [Chemical 40]

【0123】[0123]

【化41】 [Chemical 41]

【0124】[0124]

【化42】 [Chemical 42]

【0125】[0125]

【化43】 [Chemical 43]

【0126】本発明の色素は、エフ・エム・ハーマー
(F.M.Harmer)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズ−
シアニンダイズ・アンド・リレィティド・コンパウンズ
(Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related C
ompounds) 」、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(Joh
n Wiley & Sons)社−ニューヨーク、ロンドン、196
4年刊、デー・エム・スターマー(D.M.Sturmer) 著「ヘ
テロサイクリック・コンパウンズ−スペシャル・トピッ
クス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー(Heter
ocyclic Compounds-Special topics in heterocyclic c
hemistry) 」、第18章、第14節、第482から51
5頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley
& Sons) 社−ニューヨーク、ロンドン、1977年刊、
「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウン
ズ(Rodd's Chemistry of Carbon Compounds)」2nd.Ed.v
ol.IV,partB,1977刊、第15章、第369から42
2頁、エルセビア・サイエンス・パブリック・カンパニ
ー・インク(Elsevier Science Publishing Company In
c.)社刊、ニューヨーク、などに記載の方法に基づいて
合成することができる。
The dye of the present invention is F.M.Harmer.
(FM Harmer) "Heterocyclic Compounds-
Cyanine soybean and related compounds
(Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related C
ompounds) ", John Willie & Sons (Joh
n Wiley & Sons) -New York, London, 196
4 Years, DMSturmer, "Heterocyclic Compounds-Special Topics in Heterocyclic Chemistry (Heter
ocyclic Compounds-Special topics in heterocyclic c
hemistry) ", Chapter 18, Section 14, 482-51
Page 5, John Wiley and Sons
& Sons) -New York, London, 1977,
"Rodd's Chemistry of Carbon Compounds" 2nd.Ed.v
ol.IV, partB, 1977, Chapter 15, 369-42
Page 2, Elsevier Science Publishing Company In
c.) It can be synthesized based on the method described in the publisher, New York, etc.

【0127】本発明において、増感色素は1種用いても
良いが、2種以上用いても良く、増感色素の組み合わせ
は、特に強色増感の目的でしばしば用いられる。その代
表例は米国特許2,688,545号、同2,977,
229号、同3,397,060号、同3,522,0
52号、同3,527,641号、同3,617,29
3号、同3,628,964号、同3,666,480
号、同3,672,898号、同3,679,428
号、同3,303,377号、同3,769,301
号、同3,814,609号、同3,837,862
号、同4,026,707号、英国特許1,344,2
81号、同1,507,803号、特公昭43−493
36号、同53−12375号、特開昭52−1106
18号、同52−109925号などに記載されてい
る。
In the present invention, one kind of sensitizing dye may be used, but two or more kinds may be used, and a combination of sensitizing dyes is often used particularly for the purpose of supersensitization. Typical examples thereof are US Pat. Nos. 2,688,545 and 2,977,
No. 229, No. 3,397,060, No. 3,522,0
No. 52, No. 3,527, 641, No. 3, 617, 29
No. 3, No. 3,628,964, No. 3,666,480
Issue 3, Issue 3,672,898, Issue 3,679,428
No. 3,303,377, No. 3,769,301
Nos. 3,814,609 and 3,837,862
No. 4,026,707, British Patent 1,344,2
No. 81, No. 1,507, 803, Japanese Patent Publication No. 43-493
No. 36, No. 53-12375, JP-A No. 52-1106.
18 and 52-109925.

【0128】増感色素とともに、それ自身分光増感作用
を持たない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物
質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んで良
い。
Along with the sensitizing dye, a dye having no spectral sensitizing action itself or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization may be contained in the emulsion.

【0129】本発明における分光増感において有用な強
色増感剤(例えば、ピリミジルアミノ化合物、トリアジ
ニルアミノ化合物、アゾリウム化合物、アミノスチリル
化合物、芳香族有機酸ホルムアルデヒド縮合物、アザイ
ンデン化合物、カドミウム塩)、及び強色増感剤と増感
色素の組み合わせは、例えば米国特許3,511,66
4号、同3,615,613号、同3,615,632
号、同3,615,641号、同4,596,767
号、同4,945,038号、同4,965,182
号、同4,965,182号、同2,933,390
号、同3,635,721号、同3,743,510
号、同3,617,295号、同3,635,721号
等に記載されており、その使用法に関しても上記の特許
に記載されている方法が好ましい。
Supersensitizers useful in spectral sensitization in the present invention (for example, pyrimidylamino compounds, triazinylamino compounds, azolium compounds, aminostyryl compounds, aromatic organic acid formaldehyde condensates, azaindene compounds, cadmium salts). , And a combination of a supersensitizer and a sensitizing dye are described in, for example, US Pat. No. 3,511,66.
No. 4, No. 3,615, 613, No. 3, 615, 632
Issue No. 3,615,641 Issue No. 4,596,767
No. 4,945,038, 4,965,182
No. 4,965,182, 2,933,390
Issue No. 3,635,721 Issue 3,743,510
No. 3,617,295, No. 3,635,721, etc., and the method described in the above-mentioned patent is also preferable for the usage thereof.

【0130】本発明において、増感色素(また、強色増
感剤についても同様)を本発明のハロゲン化銀乳剤中に
添加する時期は、これまで有用である事が認められてい
る乳剤調製の如何なる工程中であってもよい。例えば、
米国特許2,735,766号、同3,628,960
号、同4,183,756号、同4,225,666
号、特開昭58−184142号、同60−19674
9号等に開示されているように、ハロゲン化銀の粒子形
成工程または/及び脱塩前の時期、脱塩工程中及び/ま
たは脱塩後から化学熟成の開始前迄の時期、特開昭58
−113920号等に開示されているように、化学熟成
の直前または工程中の時期、化学熟成後塗布迄の時期の
乳剤が塗布される前なら如何なる時期、工程に於いて添
加されても良い。また、米国特許4,225,666
号、特開昭58−7629号等に開示されているよう
に、同一化合物を単独で、または異種構造の化合物と組
み合わせて、例えば、粒子形成工程中と化学熟成工程中
または化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成の前また
は工程中と完了後とに分けるなどして分割して添加して
も良く、分割して添加する化合物及び化合物の組み合わ
せの種類をも変えて添加されても良い。
In the present invention, the time for adding a sensitizing dye (also for a supersensitizer) to the silver halide emulsion of the present invention has been found to be useful until now. Any of the steps may be performed. For example,
US Pat. Nos. 2,735,766 and 3,628,960
Nos. 4,183,756, 4,225,666
No. 58-184142 and 60-19674.
No. 9, etc., the time before the grain formation step of silver halide and / or before desalting, during the desalting step and / or after the desalting and before the start of chemical ripening, JP 58
As disclosed in JP-A-113920, it may be added at any time or step immediately before the chemical ripening or during the step, or after the chemical ripening and before the coating until the emulsion is coated. Also, US Pat. No. 4,225,666
As disclosed in JP-A No. 58-7629 and the like, the same compound alone or in combination with a compound having a different structure can be used, for example, during the grain forming step and during the chemical ripening step or after the completion of the chemical ripening step. Or may be added in divided portions such as before chemical ripening or before and after chemical ripening, or may be added by changing the kind of compound and combination of compounds to be added in divided portions. .

【0131】本発明において、増感色素(また、強色増
感剤についても同様)の添加量としては、ハロゲン化銀
粒子の形状、サイズにより異なり、いずれの添加量でも
良いが、ハロゲン化銀1モル当たり、好ましくは1×1
-8〜8×10-1モル、更に好ましくは1×10-6〜8
×10-3モルで用いることができる。例えば、ハロゲン
化銀粒子サイズが0.2〜1.3μmの場合には、ハロ
ゲン化銀1モル当たり、2×10-6〜3.5×10-3
ルの添加量が好ましく、7.5×10-6〜1.5×10
-3モルの添加量がより好ましい。
In the present invention, the addition amount of the sensitizing dye (the same applies to the supersensitizer) varies depending on the shape and size of the silver halide grains, and any addition amount may be used. Per mol, preferably 1 x 1
0 -8 to 8 × 10 -1 mol, more preferably 1 × 10 -6 to 8
It can be used at × 10 -3 mol. For example, when the size of silver halide grains is 0.2 to 1.3 μm, the addition amount of 2 × 10 −6 to 3.5 × 10 −3 mol is preferable per mol of silver halide, and 7.5 mol is preferable. × 10 -6 to 1.5 × 10
A more preferred amount is -3 mol.

【0132】本発明において、増感色素(また、強色増
感剤についても同様)は、直接乳剤中へ分散することが
できる。また、これらはまず適当な溶媒、例えばメチル
アルコール、エチルアルコール、メチルセロソルブ、ア
セトン、水、ピリジンあるいはこれらの混合溶媒などの
中に溶解され、溶液の形で乳剤中へ添加することもでき
る。この際、塩基や酸、界面活性剤などの添加物を共存
させることもできる。また、溶解に超音波を使用するこ
ともできる。また、この化合物の添加方法としては米国
特許第3,469,987号などに記載のごとき、該化
合物を揮発性の有機溶媒に溶解し、該溶液を親水性コロ
イド中に分散し、この分散物を乳剤中へ添加する方法、
特公昭46−24185号などに記載のごとき、水溶性
溶剤中に分散させ、この分散物を乳剤中へ添加する方
法、米国特許第3,822,135号に記載のごとき、
界面活性剤に化合物を溶解し、該溶液を乳剤中へ添加す
る方法、特開昭51−74624号に記載のごとき、レ
ッドシフトさせる化合物を用いて溶解し、該溶液を乳剤
中へ添加する方法、特開昭50−80826号に記載の
ごとき、化合物を実質的に水を含まない酸に溶解し、該
溶液を乳剤中へ添加する方法などが用いられる。その
他、乳剤中への添加には米国特許第2,912,343
号、同3,342,605号、同2,996,287
号、同3,429,835号などに記載の方法も用いら
れる。
In the present invention, the sensitizing dye (also for the supersensitizer) can be directly dispersed in the emulsion. Further, these may be first dissolved in a suitable solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, methyl cellosolve, acetone, water, pyridine or a mixed solvent thereof, and added to the emulsion in the form of a solution. At this time, additives such as a base, an acid, and a surfactant can be coexistent. Ultrasonic waves can also be used for dissolution. As a method of adding this compound, as described in US Pat. No. 3,469,987, the compound is dissolved in a volatile organic solvent, and the solution is dispersed in a hydrophilic colloid to prepare a dispersion of this compound. The method of adding to the emulsion,
As described in JP-B-46-24185, a method of dispersing in a water-soluble solvent and adding this dispersion into an emulsion, as described in US Pat. No. 3,822,135,
A method in which a compound is dissolved in a surfactant and the solution is added to the emulsion, a method in which a compound for red-shifting is used to dissolve the compound and the solution is added to the emulsion as described in JP-A-51-74624. As described in JP-A-50-80826, a method in which a compound is dissolved in an acid containing substantially no water and the solution is added to the emulsion is used. In addition, U.S. Pat. No. 2,912,343 is used for addition to the emulsion.
Issue 3, Issue 3,342,605, Issue 2,996,287
No. 3,429,835 and the like.

【0133】本発明おいて発色現像、漂白、定着、水
洗、安定、調整、黒白現像、反転、前漂白等の各処理浴
には、公知であるいずれの処理組成物も用いることがで
きる。その詳細は例えば、特開2001−92090
号、第32ページ右欄9行〜第38ページ右欄30行、
特開2001−109117号、第30ページ右欄34
行〜第33ページ右欄37行、に記載されている。
In the present invention, any known processing composition can be used for each processing bath such as color development, bleaching, fixing, washing, stabilizing, adjusting, black and white developing, reversal and pre-bleaching. Details thereof are described in, for example, JP 2001-92090 A.
No., page 32, right column, line 9 to page 38, right column, line 30,
JP-A-2001-109117, page 30, right column 34
Lines to page 37, right column, line 37.

【0134】上記の処理浴の他に本発明の化合物を含有
した処理浴を別途設けてもよい。この浴を吸収浴と称す
ることとする。 吸収浴あるいはその組成物は単に本発
明の化合物の水溶液でもよく、または水洗組成物及び安
定組成物に準ずる組成でもよい。吸収浴あるいはその組
成物に本発明の化合物の溶解度を上げる化合物を添加す
ることは好ましい態様である。例えばエチレングリコー
ル類、アルカノールアミン類、アリールスルホン酸類、
アルキルスルホン酸類あるいは特開平11−17464
3記載の尿素化合物等を添加することができる。またポ
リエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリ
プロピレングリコールのブロックポリマー、アルキルエ
トキシレート、アルキルナフタレンスルホン酸などの界
面活性剤も添加することができる。
In addition to the above treatment bath, a treatment bath containing the compound of the present invention may be separately provided. This bath will be referred to as an absorption bath. The absorbing bath or the composition thereof may simply be an aqueous solution of the compound of the present invention, or a composition according to the washing composition and the stable composition. It is a preferred embodiment to add a compound which increases the solubility of the compound of the present invention to the absorption bath or its composition. For example, ethylene glycols, alkanolamines, aryl sulfonic acids,
Alkyl sulfonic acids or JP-A-11-17464
The urea compound described in 3 or the like can be added. Further, a surface active agent such as polyethylene glycol, a block polymer of polyethylene glycol and polypropylene glycol, an alkyl ethoxylate or an alkylnaphthalene sulfonic acid can be added.

【0135】このうち平均分子量300から2000の
ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポ
リプロピレングリコールのブロックポリマー及びエチレ
ン尿素が特に好ましい。溶解度を上げる化合物を添加す
る場合、その濃度は0.1〜100g/Lであり、好ま
しくは0.5g〜50g/L、さらに好ましくは1〜20
g/Lである。
Of these, polyethylene glycol having an average molecular weight of 300 to 2000, a block polymer of polyethylene glycol and polypropylene glycol, and ethylene urea are particularly preferable. When a compound which increases the solubility is added, its concentration is 0.1 to 100 g / L, preferably 0.5 to 50 g / L, more preferably 1 to 20.
g / L.

【0136】本発明の化合物の濃度は使用液において
0.05〜20mmol/Lであり、好ましくは0.1
5〜15mmol/L、より好ましくは0.2〜10m
mol/Lである。また本発明の化合物を含有する処理
組成物が水または他の処理組成物で希釈されたのち使用
される場合、処理組成物中の濃度は使用液での濃度に濃
縮倍率を掛けた値である。
The concentration of the compound of the present invention in the working solution is 0.05 to 20 mmol / L, preferably 0.1.
5 to 15 mmol / L, more preferably 0.2 to 10 m
It is mol / L. When the treatment composition containing the compound of the present invention is used after being diluted with water or another treatment composition, the concentration in the treatment composition is a value obtained by multiplying the concentration in the working solution by the concentration factor. .

【0137】光照射又は酸化剤との接触はハロゲン化銀
写真感光材料が本発明の化合物を取り込んだ後に行われ
る。光照射には既知の光源を用いることができる。すな
わち各種蛍光灯、白熱灯、ハロゲン灯、重水素灯、水銀
灯、キセノン灯、フラッシュ及びナトリウム灯等が挙げ
られる。また写真撮影用のタンクステン灯やフラッシュ
ランプも挙げることができる。さらに感光材料へ画像を
記録する光源として用いれられる、発光ダイオード、レ
ーザー光源、CRT光源などの米国特許第4,500,6
26号第56欄記載の光源も用いることができる。光照
射量は、通常1×104〜4×106ルクス・秒、好まし
くは2×104 〜2×106ルクス・秒、より好ましく
は5×104〜1×106ルクス・秒である。
Light irradiation or contact with an oxidizing agent is carried out after the silver halide photographic light-sensitive material incorporates the compound of the present invention. A known light source can be used for light irradiation. That is, various fluorescent lamps, incandescent lamps, halogen lamps, deuterium lamps, mercury lamps, xenon lamps, flash lamps, sodium lamps and the like can be mentioned. In addition, tank-stain lamps and flash lamps for photography can also be mentioned. Further, US Pat. No. 4,500,6 such as a light emitting diode, a laser light source, and a CRT light source used as a light source for recording an image on a photosensitive material.
The light source described in No. 26, column 56 can also be used. The light irradiation amount is usually 1 × 10 4 to 4 × 10 6 lux · second, preferably 2 × 10 4 to 2 × 10 6 lux · second, more preferably 5 × 10 4 to 1 × 10 6 lux · second. is there.

【0138】このうち紫外光(波長が、通常400nm
以下、好ましくは250〜375nm光である。)を含
む光源、すなわち蛍光灯、重水素灯、キセノン灯が好ま
しく、特に蛍光灯とキセノン灯が好ましい。特開平5−
155135号、特開平6−40057に開示されたカ
ラー感熱プリンターの光定着器は、本発明において感光
材料に光照射するための好ましい態様である。光照射時
間は光源の強度に応じて数ミリ秒から数10秒である。
Of these, ultraviolet light (wavelength is usually 400 nm
Hereinafter, it is preferably 250 to 375 nm light. A), that is, a fluorescent lamp, a deuterium lamp, and a xenon lamp are preferable, and a fluorescent lamp and a xenon lamp are particularly preferable. Japanese Patent Laid-Open No. 5-
The optical fixing device of the color thermal printer disclosed in JP-A-155135 and JP-A-6-40057 is a preferred embodiment for irradiating the light-sensitive material with light in the present invention. The light irradiation time is several milliseconds to several tens of seconds depending on the intensity of the light source.

【0139】ハロゲン化銀写真感光材料への光照射は本
発明の化合物をハロゲン化銀写真感光材料に取り込ませ
る吸収工程の後に行う。以下に処理工程の好ましい具体
例を挙げるがこれらに限定されるものではない。 発色現像−漂白−定着−水洗−安定―吸収−光照射−乾
燥 発色現像−漂白−定着−水洗−吸収−光照射−安定−乾
燥 発色現像−漂白−定着−安定―吸収−光照射−乾燥 発色現像−漂白−定着−吸収−光照射−安定−乾燥 発色現像−漂白−定着−水洗―吸収−光照射−乾燥 発色現像−漂白−定着−吸収−光照射−水洗−乾燥 発色現像−漂白−定着−水洗−吸収−光照射−水洗−乾
燥 また漂白と定着からなる脱銀工程は、漂白定着、漂白−
漂白定着、漂白定着−定着のいずれでもよい。また発色
現像の前工程として黒白現像、反転が行われても良い。
Light irradiation to the silver halide photographic light-sensitive material is carried out after the absorption step of incorporating the compound of the present invention into the silver halide photographic light-sensitive material. Preferred specific examples of the treatment process will be given below, but the treatment process is not limited thereto. Color development-bleach-fix-washing-stability-absorption-light irradiation-dry color development-bleach-fix-wash-absorption-light irradiation-stable-dry color development-bleach-fix-stable-absorption-light irradiation-dry color Development-bleaching-fixing-absorption-light irradiation-stable-dry color development-bleaching-fixing-water washing-absorption-light irradiation-dry color development-bleaching-fixing-absorption-light irradiation-water washing-drying color development-bleaching-fixing -Washing-Absorption-Light irradiation-Water washing-Drying and the desilvering process consisting of bleaching and fixing, bleach-fixing and bleaching-
Either bleach-fixing or bleach-fixing-fixing may be used. Further, black and white development and reversal may be performed as a pre-process of color development.

【0140】次に酸化剤との接触について述べる。この
酸化的処理に使用する酸化剤としては、いかなるもので
も良く、例えば下記の文献に記載されているものを
好ましく用いることができる。具体例には、文献に記
載されている、マンガン化合物(例えば、過マンガン酸
カリウム、二酸化マンガン)、クロム酸化合物(例え
ば、CrO3)、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウ
ム、その他の金属酸化剤(例えば、酸化鉛、酢酸鉛、酸
化水銀、酢酸水銀、炭酸銀、酸化銀、硝酸銀、酢酸タリ
ウム、硝酸タリウム、塩化銅、酢酸銅、塩化パラジウ
ム、塩化鉄、フェリシアン化カリウム、VOCl3、V2
5、酢酸セリウム、硝酸セリウムアンモニウム(CA
N)、ビスマス酸ナトリウム、過酸化ニッケル、過酸及
び過酸化物(例えば、メタクロロパーベンゾイックアシ
ッド(MCPBA)、過安息香酸、有機化合物による酸化
(例えば、ジメチルスルホキシド/塩化オキサリル、ジ
メチルスルホキシド/無水トリフルオロ酢酸、ジメチル
スルホキシド/ジシクロヘキシルカルボジイミド、キノ
ン類(2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−
ベンゾキノン等)、ニトロベンゼン、p−ニトロソジメ
チルアニリン、ジメチルアミノピリジンN−オキシド、
トリフェニルメチルカチオン、アゾジカルボン酸ジエチ
ル、ジフェニルニトロキシド、過ヨウ素酸テトラブチル
アンモニウム、2−スルホニルオキサジリジン、ヨード
ソベンゼンジアセタート)、酸素、オゾン、二酸化セレ
ン、塩素、臭素、ヨウ素、臭素-ヘキサメチルホスホル
アミド、次亜塩素酸ナトリウム、亜塩素酸ナトリウム、
塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸ナトリウム、オルト過ヨ
ウ素酸、硝酸、亜硝酸、二酸化窒素、ニトロソジスルホ
ン酸カリウム、過硫酸アンモニウム、微生物と酵素、電
極(陽極)酸化、などが挙げられ、その他にも、例えば
過酸化水素およびその付加物(例えば、NaBO2・H2
2・3H2O、2NaCO3・3H22、Na427
2H22、2Na2SO4・H22・2H2O)、ペルオ
キシ酸塩(例えば、K228、K226、K2
28)、ペルオキシ錯体化合物(例えば、K2[Ti
(O2)C24]・3H2O、4K2SO4・Ti(O2
OH・SO4・2H2O、Na3[VO(O2)(C2
42]・6H2O)、K2Cr27、過沃素酸カリウ
ム、ヘキサシアノ第二鉄酸カリウム、チオスルフォン酸
塩、過酢酸、N−ブロムサクシンイミド、クロラミン
T、クロラミンB、Fe(III)1,3−PDTA、F
e(III)EDTAなどが挙げられる。本発明の電子ド
ナー型ラジカル発生剤はこれらの酸化剤との反応によ
り、活性なラジカル種を生じ、ラジカル種が増感色素を
攻撃することにより消色させて感材中の増感色素による
残色を低減する。 ジェリー・マーチ(Jerry March)著、ア
ドバンスド・オーガニック・ケミストリー(Advan
ced Organic Chemistry),ジョ
ン・ウイリー・アンド・サンズ(John Wiley
& Sons),ニューヨーク(New York)
(1992年)のChapter19,Oxidati
ons And Reductions,p.1158
〜1238、 日本化学会編、第4版実験化学講座、第23巻、有機
合成V,酸化反応、丸善(1991年)。
Next, contact with an oxidizing agent will be described. Any oxidizing agent may be used for this oxidative treatment, and for example, those described in the following documents can be preferably used. Specific examples include manganese compounds (for example, potassium permanganate and manganese dioxide), chromic acid compounds (for example, CrO 3 ), osmium tetroxide, ruthenium tetroxide, and other metal oxidizers described in the literature ( For example, lead oxide, lead acetate, mercury oxide, mercury acetate, silver carbonate, silver oxide, silver nitrate, thallium acetate, thallium nitrate, copper chloride, copper acetate, palladium chloride, iron chloride, potassium ferricyanide, VOCl 3 , V 2
O 5 , cerium acetate, ammonium cerium nitrate (CA
N), sodium bismuthate, nickel peroxide, peracids and peroxides (eg, metachloroperbenzoic acid (MCPBA), perbenzoic acid, oxidation with organic compounds (eg, dimethylsulfoxide / oxalyl chloride, dimethylsulfoxide / Trifluoroacetic anhydride, dimethyl sulfoxide / dicyclohexylcarbodiimide, quinones (2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-
Benzoquinone, etc.), nitrobenzene, p-nitrosodimethylaniline, dimethylaminopyridine N-oxide,
Triphenylmethyl cation, diethyl azodicarboxylate, diphenyl nitroxide, tetrabutylammonium periodate, 2-sulfonyloxaziridine, iodosobenzenediacetate), oxygen, ozone, selenium dioxide, chlorine, bromine, iodine, bromine- Hexamethylphosphoramide, sodium hypochlorite, sodium chlorite,
Sodium chlorate, sodium hypobromite, orthoperiodic acid, nitric acid, nitrous acid, nitrogen dioxide, potassium nitrosodisulfonate, ammonium persulfate, microorganisms and enzymes, electrode (anodic) oxidation, etc. For example hydrogen peroxide and its adducts (eg NaBO 2 .H 2
O 2 · 3H 2 O, 2NaCO 3 · 3H 2 O 2 , Na 4 P 2 O 7 ·
2H 2 O 2, 2Na 2 SO 4 · H 2 O 2 · 2H 2 O), peroxy acid salt (e.g., K 2 S 2 O 8, K 2 C 2 O 6, K 2 P
2 O 8 ), a peroxy complex compound (for example, K 2 [Ti
(O 2 ) C 2 O 4 ] ・ 3H 2 O, 4K 2 SO 4・ Ti (O 2 )
OH ・ SO 4・ 2H 2 O, Na 3 [VO (O 2 ) (C 2
H 4) 2] · 6H 2 O), K 2 Cr 2 O 7, potassium periodate, potassium hexacyanoferrate ferric acid, thiosulfonates, peracetic acid, N- bromosuccinimide, chloramine T, chloramine B, Fe (III) 1,3-PDTA, F
e (III) EDTA and the like. The electron-donor type radical generator of the present invention reacts with these oxidizing agents to generate active radical species, and the radical species attack the sensitizing dye to cause the sensitizing dye to be decolored to leave the sensitizing dye in the sensitizing material. Reduce color. Jerry March, Advanced Organic Chemistry (Advan)
ced Organic Chemistry, John Wiley and Sons (John Wiley)
& Sons), New York
Chapter 19, Oxidati (1992)
ons And Reductions, p. 1158
~ 1238, edited by The Chemical Society of Japan, 4th edition Experimental Chemistry Lecture, Volume 23, Organic Synthesis V, Oxidation Reaction, Maruzen (1991).

【0141】本発明の化合物を含有したまたは取り込ん
だハロゲン化銀写真感光材料を酸化剤と接触させる場
合、酸化剤はいかなる形態で供給されても良く、そのう
ち溶液として供給されることが特に好ましい。酸化剤溶
液はハロゲン化銀写真感光材料に、スプレーやラインジ
ェットによる噴霧、ローラーやシートによる塗布、シー
トとの接着、通常の写真処理工程と同様の浸漬などいか
なる方法で接触させてもよい。ここでシートとは酸化剤
溶液を保持させることのできる高分子繊維布をさす。酸
化剤溶液の濃度は0.005〜3.0mol/Lが好まし
く、さらに好ましくは0.01〜1.5mol/L、よ
り好ましくは0.02〜0.5mol/Lである。酸化
剤を含有する処理組成物が水または他の処理組成物で希
釈されたのち使用される場合、処理組成物中の濃度は使
用液での濃度に濃縮倍率を掛けた値である。
When the silver halide photographic light-sensitive material containing or incorporating the compound of the present invention is brought into contact with an oxidizing agent, the oxidizing agent may be supplied in any form, and it is particularly preferable to supply it as a solution. The oxidizing agent solution may be brought into contact with the silver halide photographic light-sensitive material by any method such as spraying or spraying with a line jet, coating with a roller or a sheet, adhesion with a sheet, and dipping similar to a usual photographic processing step. Here, the sheet means a polymer fiber cloth capable of holding an oxidant solution. The concentration of the oxidant solution is preferably 0.005 to 3.0 mol / L, more preferably 0.01 to 1.5 mol / L, and further preferably 0.02 to 0.5 mol / L. When the treating composition containing an oxidizing agent is used after being diluted with water or another treating composition, the concentration in the treating composition is the concentration in the working solution multiplied by the concentration factor.

【0142】現像工程においてハロゲン化銀写真感光材
料と酸化剤とを接触させるために、ハロゲン化銀写真感
光材料を酸化剤が含有された処理浴に浸漬することは好
ましい態様である。この浴を酸化浴と称することとす
る。酸化浴あるいはその組成物は単に酸化剤の水溶液で
もよく、または水洗組成物及び安定組成物に準ずる組成
でもよい。酸化浴あるいはその組成物に本発明の化合物
の溶解度を上げる化合物を添加することは好ましい態様
である。有機酸化剤であれば、例えばエチレングリコー
ル類、アルカノールアミン類、アリールスルホン酸類、
アルキルスルホン酸類あるいは特開平11−17464
3記載の尿素化合物等を添加することが有用である。ま
たポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールと
ポリプロピレングリコールのブロックポリマー、アルキ
ルエトキシレート、アルキルナフタレンスルホン酸など
の界面活性剤も添加することができる。
It is a preferred embodiment that the silver halide photographic light-sensitive material is immersed in a processing bath containing the oxidant in order to bring the silver halide photographic light-sensitive material into contact with the oxidizing agent in the developing step. This bath will be called an oxidation bath. The oxidizing bath or the composition thereof may be simply an aqueous solution of the oxidizing agent, or may be a composition according to the washing composition and the stable composition. It is a preferred embodiment to add a compound that increases the solubility of the compound of the present invention to the oxidation bath or its composition. Examples of organic oxidizing agents include ethylene glycols, alkanolamines, aryl sulfonic acids,
Alkyl sulfonic acids or JP-A-11-17464
It is useful to add the urea compound described in 3 above. Further, a surface active agent such as polyethylene glycol, a block polymer of polyethylene glycol and polypropylene glycol, an alkyl ethoxylate or an alkylnaphthalene sulfonic acid can be added.

【0143】また酸化浴には酸化剤の酸化力と溶解度を
調整するために任意の緩衝剤を添加することができる。
無機緩衝剤としては、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ホ
ウ酸塩、四ホウ酸塩等の無機塩があり、カリウム塩、ナ
トリウム塩またはアンモニウム塩が好ましい。また有機
緩衝剤としては、コハク酸、マレイン酸、グリコール
酸、マロン酸、フマル酸、コハク酸、スルホコハク酸、
酢酸等の有機酸類またはイミダゾール、ジメチルイミダ
ゾール等の有機塩基類が好ましく用いることができる。
Further, an arbitrary buffer may be added to the oxidizing bath in order to adjust the oxidizing power and solubility of the oxidizing agent.
Examples of the inorganic buffering agents include carbonates, bicarbonates, phosphates, borates, tetraborates and the like, and potassium salts, sodium salts or ammonium salts are preferable. As the organic buffer, succinic acid, maleic acid, glycolic acid, malonic acid, fumaric acid, succinic acid, sulfosuccinic acid,
Organic acids such as acetic acid or organic bases such as imidazole and dimethylimidazole can be preferably used.

【0144】ハロゲン化銀写真感光材料の酸化浴処理は
本発明の化合物をハロゲン化銀写真感光材料に取り込ま
せる吸収工程の後に行う。以下に処理工程の好ましい具
体例を挙げるがこれらに限定されるものではない。 発色現像−漂白−定着−水洗−安定―吸収−酸化−乾燥 発色現像−漂白−定着−水洗−吸収−酸化−安定−乾燥 発色現像−漂白−定着−安定―吸収−酸化−乾燥 発色現像−漂白−定着−吸収−酸化−安定−乾燥 発色現像−漂白−定着−水洗―吸収−酸化−乾燥 発色現像−漂白−定着−吸収−酸化−水洗−乾燥 発色現像−漂白−定着−水洗−吸収−酸化−水洗−乾燥 また漂白と定着からなる脱銀工程は、漂白定着、漂白−
漂白定着、漂白定着−定着のいずれでもよい。また発色
現像の前工程として黒白現像、反転が行われても良い。
さらに次のように酸化と漂白を兼ねることもできる。 発色現像−水洗−吸収−漂白(酸化)−定着−水洗−乾
燥 発色現像−水洗−吸収−漂白(酸化)−定着−安定−乾
The oxidation bath treatment of the silver halide photographic light-sensitive material is carried out after the absorption step of incorporating the compound of the present invention into the silver halide photographic light-sensitive material. Preferred specific examples of the treatment process will be given below, but the treatment process is not limited thereto. Color development-bleaching-fixing-washing-stability-absorption-oxidation-drying Color development-bleaching-fixing-washing-absorption-oxidation-stable-drying color development-bleaching-fixing-stable-absorption-oxidation-drying color development-bleaching -Fixing-Absorption-Oxidation-Stable-Dry color development-Bleach-Fixing-Water washing-Absorption-Oxidation-Dry color development-Bleach-Fixing-Absorption-Oxidation-Water washing-Dry color development-Bleach-Fixing-Water washing-Absorption-Oxidation -Washing-Drying, and desilvering process consisting of bleaching and fixing, bleach-fixing and bleaching-
Either bleach-fixing or bleach-fixing-fixing may be used. Further, black and white development and reversal may be performed as a pre-process of color development.
Furthermore, it is possible to combine both oxidation and bleaching as follows. Color development-washing-absorption-bleaching (oxidation) -fixing-washing-drying Color development-washing-absorption-bleaching (oxidation) -fixing-stable-drying

【0145】[0145]

【実施例】以下に、本発明の化合物存在下でハロゲン化
銀写真感光材料に光照射すること、又は酸化剤と接触さ
せることにより増感色素ステインを低減できることを、
実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
Examples The following shows that the sensitizing dye stain can be reduced by irradiating a silver halide photographic light-sensitive material with light in the presence of the compound of the present invention or by bringing it into contact with an oxidizing agent.
The present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

【0146】実施例1 [感光材料試料の調製]紙の両面をポリエチレン樹脂で
被覆した支持体の表面にコロナ放電処理を行った後、ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下
塗層を設け、さらに第一層から第七層を順次塗設して、
以下に示す層構成のハロゲン化銀カラー写真感光材料P
−1を作成した。各写真構成層用の塗布液は以下のよう
に作成した。
Example 1 [Preparation of Photosensitive Material Sample] After corona discharge treatment was applied to the surface of a support whose both sides were coated with polyethylene resin, a gelatin subbing layer containing sodium dodecylbenzenesulfonate was provided, and Apply the first to seventh layers in order,
Silver halide color photographic light-sensitive material P having the following layer structure
-1 was created. The coating liquid for each photographic constituent layer was prepared as follows.

【0147】第五層塗布液調製 シアンカプラー(ExC)250g、色像安定剤(Cp
d−1)250g、色像安定剤(Cpd−14)30
g、色像安定剤(Cpd−15)100g、色像安定剤
(Cpd−16)80g、色像安定剤(Cpd−17)
50g、色像安定剤(Cpd−18)10gを、溶媒
(Solv−5)230g及酢酸エチル350mlに溶
解し、この液をドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
25g含む10%ゼラチン水溶液6500gに乳化分散
させて乳化分散物Cを調製した。一方、塩臭化銀乳剤C
(立方体、平均粒子サイズ0.40μmの大サイズ乳剤
Cと0.30μmの小サイズ乳剤Cとの5:5混合物
(銀モル比)。粒子サイズ分布の変動係数はそれぞれ
0.09と0.11。各サイズ乳剤とも臭化銀0.5モ
ル%を、塩化銀乳剤を基本とする粒子表面の一部に局在
させた。)を調製した。この乳剤には後揚の赤感性増感
色素GおよびHが、銀1モルあたり大サイズ乳剤Cに対
してはそれぞれ9.0×10-5モルまた小サイズ乳剤C
に対しては12.0×10-5モルそれぞれ添加されてい
る。またこの乳剤の化学熟成は硫黄増感剤と金増感剤を
添加して最適に行われた。前記乳化分散物Cと塩臭化銀
乳剤Cとを混合溶解し、下記の組成となるように第五層
塗布液を調製した。乳剤塗布量は銀量換算塗布量を示
す。
Preparation of fifth layer coating solution 250 g of cyan coupler (ExC), color image stabilizer (Cp
d-1) 250 g, color image stabilizer (Cpd-14) 30
g, color image stabilizer (Cpd-15) 100 g, color image stabilizer (Cpd-16) 80 g, color image stabilizer (Cpd-17)
50 g and 10 g of color image stabilizer (Cpd-18) are dissolved in 230 g of solvent (Solv-5) and 350 ml of ethyl acetate, and this liquid is emulsified and dispersed in 6500 g of 10% gelatin aqueous solution containing 25 g of sodium dodecylbenzenesulfonate. Dispersion C was prepared. On the other hand, silver chlorobromide emulsion C
(Cube, 5: 5 mixture of large size emulsion C having an average grain size of 0.40 μm and small size emulsion C having a grain size of 0.30 μm (silver mole ratio). Coefficients of variation of grain size distribution are 0.09 and 0.11, respectively. For each size emulsion, 0.5 mol% of silver bromide was localized on a part of the grain surface based on the silver chloride emulsion). In this emulsion, after-sensitized red sensitizing dyes G and H were added to the large-sized emulsion C per mol of silver in an amount of 9.0 × 10 -5 mol and the small-sized emulsion C respectively.
12.0 × 10 −5 mol, respectively. The chemical ripening of this emulsion was optimally performed by adding a sulfur sensitizer and a gold sensitizer. The emulsified dispersion C and the silver chlorobromide emulsion C were mixed and dissolved to prepare a coating solution for the fifth layer having the following composition. The emulsion coating amount indicates a coating amount equivalent to silver.

【0148】第一層から第四層および第六層、第七層の
塗布液も第五層塗布液と同様の方法で調製した。各層の
ゼラチン硬化剤としては1−オキシ−3、5−ジクロロ
−s−トリアジンナトリウム塩を用いた。また各層にA
b−1、Ab−2、Ab−3およびAb−4をそれぞれ
全量が15.0mg/m2、60.0mg/m2、5.0
mg/m2および10.0mg/m2となるように添加し
た。
The coating solutions for the first to fourth layers, the sixth layer, and the seventh layer were prepared in the same manner as the coating solution for the fifth layer. As the gelatin hardening agent for each layer, 1-oxy-3,5-dichloro-s-triazine sodium salt was used. A for each layer
b-1, Ab-2, Ab-3, and Ab-4, respectively, in a total amount of 15.0 mg / m 2 , 60.0 mg / m 2 , 5.0.
It was added as a mg / m 2 and 10.0 mg / m 2.

【0149】[0149]

【化44】 [Chemical 44]

【0150】各感光性乳剤層の塩臭化銀乳剤には以下の
分光増感色素をそれぞれ用いた。 青感性乳剤層
The following spectral sensitizing dyes were used in the silver chlorobromide emulsion of each photosensitive emulsion layer. Blue-sensitive emulsion layer

【0151】[0151]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0152】(増感色素A及びCをそれぞれハロゲン化
銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対しては0.42×1
-4モル、小サイズ乳剤に対しては0.50×10-4
ル添加した。増感色素Bをハロゲン化銀1モルあたり、
大サイズ乳剤に対しては3.4×10-4モル、小サイズ
乳剤に対しては4.1×10-4モル添加した。)
(Sensitizing dyes A and C, respectively, per mol of silver halide, 0.42 × 1 for a large-sized emulsion)
0 -4 mol, and 0.50 × 10 -4 mol for a small size emulsion. Sensitizing dye B is added per mol of silver halide,
3.4 × 10 −4 mol was added to the large size emulsion and 4.1 × 10 −4 mol was added to the small size emulsion. )

【0153】緑感性乳剤層Green-sensitive emulsion layer

【0154】[0154]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0155】(増感色素Dをハロゲン化銀1モル当た
り、大サイズ乳剤に対しては3.0×10-4モル、小サ
イズ乳剤に対しては3.6×10-4モル添加した。増感
色素Eをハロゲン化銀1モルあたり、大サイズ乳剤に対
しては4.0×10-4モル、小サイズ乳剤に対しては
7.0×10-5モル添加した。また増感色素Fをハロゲ
ン化銀1モルあたり、大サイズ乳剤に対しては2.0×
10-4モル、小サイズ乳剤に対しては2.8×10-4
ル添加した。)
(Sensitizing dye D was added per mol of silver halide in an amount of 3.0 × 10 -4 mol for a large size emulsion and 3.6 × 10 -4 mol for a small size emulsion. Sensitizing dye E was added per mol of silver halide in an amount of 4.0 × 10 −4 mol for a large-sized emulsion and 7.0 × 10 −5 mol for a small-sized emulsion. F is 2.0 × per mol of silver halide for large-sized emulsions.
10 −4 mol, and 2.8 × 10 −4 mol was added to the small size emulsion. )

【0156】赤感性乳剤層Red-sensitive emulsion layer

【0157】[0157]

【化47】 [Chemical 47]

【0158】(増感色素G及びHをそれぞれハロゲン化
銀1モル当たり、大サイズ乳剤に対しては9.0×10
-5モル、小サイズ乳剤に対しては12.0×10-5モル
添加した。さらに下記の化合物Iを赤感性乳剤層にハロ
ゲン化銀1モルあたり3.0×10-3モル添加した。)
(Sensitizing dyes G and H were used per mol of silver halide of 9.0 × 10 for a large-sized emulsion.
-5 mol, and 12.0 × 10 -5 mol was added to the small size emulsion. Further, the following compound I was added to the red-sensitive emulsion layer in an amount of 3.0 × 10 -3 mol per mol of silver halide. )

【0159】[0159]

【化48】 [Chemical 48]

【0160】青感性乳剤層、緑感性乳剤層および赤感性
乳剤層に対し1−(3−メチルウレイドフェニル)−5
−メルカプトテトラゾールをそれぞれハロゲン化銀1モ
ル当たり3.3×10-4モル、1.0×10-3モルおよ
び5.9×10-4モル添加した。第二層、第四層、第六
層および第七層にもそれぞれ0.2mg/m2、0.2
mg/m2、0.6mg/m2、0.1mg/m2 となる
ように添加した。青感性乳剤層および緑感性乳剤層に対
し、4−ヒドロキシ−6−メチル−1、3、3a、7−
テトラザインデンをそれぞれハロゲン化銀1モルあたり
1×10 -4モル、2×10-4モル添加した。赤感性乳剤
層にメタクリル酸とアクリル酸ブチルの共重合体ラテッ
クス(質量比1:1、平均分子量200000〜400
000)を0.05g/m2添加した。第二層、第四層
および第六層にカテコール−3、5−ジスルホン酸二ナ
トリウムをそれぞれ6mg/m2、6mg/m2、18m
g/m2となるように添加した。イラジエーション防止
のために以下の染料(カッコ内は塗布量を示す。)を添
加した。
Blue-sensitive emulsion layer, green-sensitive emulsion layer and red-sensitive emulsion layer
1- (3-methylureidophenyl) -5 for the emulsion layer
-Mercaptotetrazole was added to each silver halide.
3.3 x 10 per le-FourMole, 1.0 × 10-3Mole and
And 5.9 x 10-FourMol added. Second layer, fourth layer, sixth layer
0.2mg / m for each layer and 7th layer2, 0.2
mg / m2, 0.6 mg / m2, 0.1 mg / m2 Becomes
So added. For blue-sensitive emulsion layer and green-sensitive emulsion layer
4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-
Tetrazaindene per mol of silver halide
1 x 10 -FourMole, 2 × 10-FourMol added. Red sensitive emulsion
Copolymer latex of methacrylic acid and butyl acrylate
Cousin (mass ratio 1: 1, average molecular weight 200,000-400)
000) is 0.05 g / m2Was added. Second layer, fourth layer
And catechol-3,5-disulfonic acid dina
Thorium 6mg / m2, 6 mg / m2, 18m
g / m2Was added. Irradiation prevention
In order to add the following dyes (the amount in parentheses indicates the coating amount):
Added

【0161】[0161]

【化49】 [Chemical 49]

【0162】(層構成)以下に各層構成を示す。数字は
塗布料(g/m2)を示す。ハロゲン化銀乳剤は銀塗布
換算量を示す。 支持体 ポリエチレン樹脂ラミネート紙 [第一層側のポリエチレン樹脂に白色顔料(TiO2:含
有率16質量%、ZnO:含有率4質量%]と蛍光増白
剤(4、4’−ビス(5−メチルベンゾオキサゾリル)
スチルベン 含有率0.03質量%)、青味染料(群
青)を含む] 第一層(青感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤A(立方体、平均粒子サイズ0.74μmの大サイズ乳剤Aと0 .65μmの小サイズ乳剤Aとの5:5混合物(銀モル比)。粒子サイズ分布の 変動係数はそれぞれ0.08と0.10。サイズとも臭化銀0.3モル%を塩化 銀を基体とする粒子表面の一部に局在含有させた。) 0.24 ゼラチン 1.25 イエローカプラー(ExY) 0.57 色像安定剤(Cpd−1) 0.07 色像安定剤(Cpd−2) 0.04 色像安定剤(Cpd−3) 0.07 溶媒(Solv−1) 0.21
(Layer Structure) Each layer structure is shown below. Numbers indicate coating materials (g / m 2 ). The silver halide emulsion shows the equivalent amount of silver coating. [White pigment polyethylene resin of the first layer side (TiO 2: content of 16 wt%, ZnO: content of 4 wt%] Support Polyethylene resin laminated paper with a fluorescent whitening agent (4,4'-bis (5- Methylbenzoxazolyl)
Stilbene content 0.03% by mass, containing bluish dye (ulterior blue)] First layer (blue sensitive emulsion layer) Silver chlorobromide emulsion A (cubic, large size emulsion A with an average grain size of 0.74 μm and 0) 5: 5 mixture with 0.65 μm small size emulsion A (molar ratio of silver) .Coefficients of variation of grain size distribution are 0.08 and 0.10, respectively. 0.24 Gelatin 1.25 Yellow coupler (ExY) 0.57 Color image stabilizer (Cpd-1) 0.07 Color image stabilizer (Cpd-2) ) 0.04 Color image stabilizer (Cpd-3) 0.07 Solvent (Solv-1) 0.21

【0163】 第二層(混色防止層) ゼラチン 0.99 混色防止剤(Cpd−4) 0.09 混色防止助剤(Cpd−5) 0.018 安定剤(Cpd−6) 0.13 混色防止剤(Cpd−7) 0.01 溶媒(Solv−1) 0.06 溶媒(Solv−2) 0.22[0163] Second layer (color mixing prevention layer)       Gelatin 0.99       Color mixing inhibitor (Cpd-4) 0.09       Color mixing prevention aid (Cpd-5) 0.018       Stabilizer (Cpd-6) 0.13       Color mixing inhibitor (Cpd-7) 0.01       Solvent (Solv-1) 0.06       Solvent (Solv-2) 0.22

【0164】 第三層(緑感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤B(立方体、平均粒子サイズ0.45μmの大サイズ乳剤Bと 0.35μmの小サイズ乳剤Bとの1:3混合物(銀モル比)。粒子サイズ分布 の変動係数はそれぞれ0.10と0.08。サイズとも臭化銀0.4モル%を塩 化銀を基体とする粒子表面の一部に局在含有させた。) 0.14 ゼラチン 1.36 マゼンタカプラー(ExM) 0.15 紫外線吸収剤(UV−1) 0.05 紫外線吸収剤(UV−2) 0.03 紫外線吸収剤(UV−3) 0.02 紫外線吸収剤(UV−4) 0.04 色像安定剤(Cpd−2) 0.02 混色防止剤(Cpd−4) 0.002 安定剤(Cpd−6) 0.09 色像安定剤(Cpd−8) 0.02 色像安定剤(Cpd−9) 0.03 色像安定剤(Cpd−10) 0.01 色像安定剤(Cpd−11) 0.0001 溶媒(Solv−3) 0.10 溶媒(Solv−4) 0.20 溶媒(Solv−5) 0.20 溶媒(Solv−8) 0.05[0164] Third layer (green sensitive emulsion layer)     Silver chlorobromide emulsion B (cubic, large-sized emulsion B having an average grain size of 0.45 μm 1: 3 mixture with 0.35 μm small size emulsion B (silver molar ratio). Particle size distribution The coefficient of variation of is 0.10 and 0.08, respectively. Salt size 0.4 mol% silver bromide The silver halide was locally contained in a part of the surface of the grain having the base material. )                                                 0.14       Gelatin 1.36       Magenta coupler (ExM) 0.15       UV absorber (UV-1) 0.05       Ultraviolet absorber (UV-2) 0.03       Ultraviolet absorber (UV-3) 0.02       Ultraviolet absorber (UV-4) 0.04       Color image stabilizer (Cpd-2) 0.02       Color mixing inhibitor (Cpd-4) 0.002       Stabilizer (Cpd-6) 0.09       Color image stabilizer (Cpd-8) 0.02       Color image stabilizer (Cpd-9) 0.03       Color image stabilizer (Cpd-10) 0.01       Color image stabilizer (Cpd-11) 0.0001       Solvent (Solv-3) 0.10       Solvent (Solv-4) 0.20       Solvent (Solv-5) 0.20       Solvent (Solv-8) 0.05

【0165】 第四層(混色防止層) ゼラチン 0.71 混色防止剤(Cpd−4) 0.06 混色防止助剤(Cpd−5) 0.013 安定剤(Cpd−6) 0.10 安定剤(Cpd−12) 0.01 混色防止剤(Cpd−7) 0.007 溶媒(Solv−1) 0.04 溶媒(Solv−2) 0.16[0165] Fourth layer (color mixing prevention layer)       Gelatin 0.71       Color mixing inhibitor (Cpd-4) 0.06       Color mixing prevention aid (Cpd-5) 0.013       Stabilizer (Cpd-6) 0.10       Stabilizer (Cpd-12) 0.01       Color mixing inhibitor (Cpd-7) 0.007       Solvent (Solv-1) 0.04       Solvent (Solv-2) 0.16

【0166】 第五層(赤感性乳剤層) 塩臭化銀乳剤C(立方体、平均粒子サイズ0.40μmの大サイズ乳剤Cと 0.30μmの小サイズ乳剤Cとの5:5混合物(銀モル比)。粒子サイズ分布 の変動係数はそれぞれ0.09と0.11。サイズとも臭化銀0.5モル%を塩 化銀を基体とする粒子表面の一部に局在含有させた。) 0.20 ゼラチン 1.11 シアンカプラー(ExC) 0.25 色像安定剤(Cpd−1) 0.25 色像安定剤(Cpd−14) 0.03 色像安定剤(Cpd−15) 0.10 色像安定剤(Cpd−16) 0.08 色像安定剤(Cpd−17) 0.05 色像安定剤(Cpd−18) 0.01 溶媒(Solv−5) 0.23[0166] Fifth layer (red sensitive emulsion layer)     Silver chlorobromide emulsion C (cube, large size emulsion C having an average grain size of 0.40 μm 5: 5 mixture with 0.30 μm small size emulsion C (silver molar ratio). Particle size distribution Coefficient of variation is 0.09 and 0.11. Salt size 0.5 mol% silver bromide The silver halide was locally contained in a part of the surface of the grain having the base material. )                                                 0.20       Gelatin 1.11.       Cyan coupler (ExC) 0.25       Color image stabilizer (Cpd-1) 0.25       Color image stabilizer (Cpd-14) 0.03       Color image stabilizer (Cpd-15) 0.10       Color image stabilizer (Cpd-16) 0.08       Color image stabilizer (Cpd-17) 0.05       Color image stabilizer (Cpd-18) 0.01       Solvent (Solv-5) 0.23

【0167】 第六層(紫外線吸収層) ゼラチン 0.46 紫外線吸収剤(UV−1) 0.14 紫外線吸収剤(UV−2) 0.05 紫外線吸収剤(UV−3) 0.04 紫外線吸収剤(UV−4) 0.05 紫外線吸収剤(UV−5) 0.02 溶媒(Solv−7) 0.25[0167] Sixth layer (UV absorption layer)       Gelatin 0.46       Ultraviolet absorber (UV-1) 0.14       UV absorber (UV-2) 0.05       Ultraviolet absorber (UV-3) 0.04       UV absorber (UV-4) 0.05       Ultraviolet absorber (UV-5) 0.02       Solvent (Solv-7) 0.25

【0168】 第七層(保護層) ゼラチン 1.00 ポリビニルアルコールのアクリル変性共重合体 (変性度17%) 0.04 流動パラフィン 0.02 界面活性剤(Cpd−13) 0.01[0168] Seventh layer (protective layer)       Gelatin 1.00       Acrylic modified copolymer of polyvinyl alcohol       (Modification degree 17%) 0.04       Liquid paraffin 0.02       Surfactant (Cpd-13) 0.01

【0169】[0169]

【化50】 [Chemical 50]

【0170】[0170]

【化51】 [Chemical 51]

【0171】[0171]

【化52】 [Chemical 52]

【0172】[0172]

【化53】 [Chemical 53]

【0173】[0173]

【化54】 [Chemical 54]

【0174】[0174]

【化55】 [Chemical 55]

【0175】[0175]

【化56】 [Chemical 56]

【0176】[0176]

【化57】 [Chemical 57]

【0177】[0177]

【化58】 [Chemical 58]

【0178】感光材料試料P−1について、イメージワイ
ズに露光を行い、下記現像処理等の工程を順に実施し
た。
The photosensitive material sample P-1 was subjected to imagewise exposure and the steps such as the following development processing were sequentially carried out.

【0179】 [処理工程] 処理工程 温度 時間 発色現像 38.5℃ 45秒 漂白定着 38.0℃ 45秒 水洗 38.0℃ 10秒 吸収 室温 30秒 光照射 室温 20秒 水洗 室温 10秒 乾燥 80℃[0179] [Processing process]       Treatment process temperature time       Color development 38.5 ℃ 45 seconds       Bleach-fixing 38.0 ° C 45 seconds       Washing with water 38.0 ° C for 10 seconds       Absorption room temperature 30 seconds       Light irradiation room temperature 20 seconds       Rinsing at room temperature 10 seconds       Dry 80 ℃

【0180】各処理液の組成は以下の通りである。 [発色現像液] 水 800mL トリイソプロパノールアミン 8.8g エチレンジアミン4酢酸 4.0g 亜硫酸ナトリウム 0.10g 塩化カリウム 10.0g 4,5−ジヒドロキシベンゼン− 1,3−ジスルホン酸ナトリウム 0.50g ジナトリウム−N,N−ビス(スルホナート エチル)ヒドロキシルアミン 8.5g 4−アミノ−3−メチル−N−エチル−N− (β−メタンスルホンアミドエチル)アニリン ・3/2硫酸塩・モノハイドレード 4.8g 炭酸カリウム 26.3g 水を加えて全量 1000mL pH(25℃、硫酸とKOHで調整) 10.15The composition of each processing liquid is as follows. [Color developer]       800 mL of water       Triisopropanolamine 8.8g       Ethylenediaminetetraacetic acid 4.0 g       Sodium sulfite 0.10g       Potassium chloride 10.0g       4,5-dihydroxybenzene-       Sodium 1,3-disulfonate 0.50 g       Disodium-N, N-bis (sulfonate       Ethyl) hydroxylamine 8.5 g       4-amino-3-methyl-N-ethyl-N-       (Β-methanesulfonamidoethyl) aniline       ・ 3/2 Sulfate ・ Monohydrate 4.8g       26.3 g potassium carbonate       Add water to a total volume of 1000 mL       pH (25 ° C, adjusted with sulfuric acid and KOH) 10.15

【0181】 [漂白定着液] 水 400mL チオ硫酸アンモニウム(750g/mL) 110mL エチレンジアミン4酢酸鉄(III)アンモニウム 42g エチレンジアミン4酢酸 5g 硫酸アンモニウム 12g イミダゾール 10g エチレンジアミン4酢酸 9.0g 亜硫酸アンモニウム 45g m−カルボキシベンゼンスルフィン酸 8g 水を加えて全量 1000mL pH(25℃、硝酸とアンモニア水で調整) 6.50[0181] [Bleaching fixer]       400 mL of water       Ammonium thiosulfate (750 g / mL) 110 mL       Ethylenediaminetetrairon (III) acetate ammonium 42g       Ethylenediamine tetraacetic acid 5g       Ammonium sulfate 12g       Imidazole 10g       Ethylenediaminetetraacetic acid 9.0g       Ammonium sulfite 45g       m-carboxybenzenesulfinic acid 8g       Add water to a total volume of 1000 mL       pH (25 ° C, adjusted with nitric acid and ammonia water) 6.50

【0182】 [吸収液] 本発明の化合物 表1 添加剤 表1 水を加えて全量 1000mL[0182] [Absorbing liquid]       Compounds of the invention Table 1       Additives Table 1       Add water to a total volume of 1000 mL

【0183】[光照射]3波長型昼光色(40型)蛍光
灯を用いて感光材料に4×105ルックス・秒の光照射
を行った。
[Light Irradiation] The photosensitive material was irradiated with light of 4 × 10 5 lux · sec using a three-wavelength type daylight color (40 type) fluorescent lamp.

【0184】[評価]イメージワイズに露光し現像処理
を実施した感光材料試料について150mmΦ積分球を
装着した日立製作所(株)製U−3500型分光光度計
を用いて最小濃度部の反射スペクトルを測定し、450
nmの吸光度をDBとした。次に各試料を40℃の蒸留
水を用いて5分間水洗し、乾燥した後同じ測定を行い、
このときの450nmの吸光度をDBwとした。下式に基
づきΔDBWを求め、残留増感色素に起因するステインの
程度を評価した。ΔDBはその値が小さいほど残留増感
色素が少なく、ステイン低減効果が大きいことを意味す
る。 ΔDB = DB − DBW
[Evaluation] The reflection spectrum of the minimum density portion was measured using a U-3500 type spectrophotometer manufactured by Hitachi Ltd. equipped with a 150 mmΦ integrating sphere for the photosensitive material sample which was imagewise exposed and developed. Then 450
The absorbance at nm was designated as D B. Next, each sample was washed with distilled water at 40 ° C. for 5 minutes, dried and then subjected to the same measurement.
The absorbance at 450 nm at this time was defined as D Bw . ΔD BW was calculated based on the following formula, and the degree of stain due to the residual sensitizing dye was evaluated. A smaller ΔD B means that the residual sensitizing dye is smaller and the stain reducing effect is larger. ΔD B = D B −D BW

【0185】なお、処理過程において吸収液を使用せ
ず、そのかわりに第一層(青感性乳剤層)に本発明の化
合物(I-1)、(I-9)をハロゲン化銀1モル当たり、大
サイズ乳剤及び小サイズ乳剤に対して各々5.0×10
-4モル添加した試料18、19、第一層(青感性乳剤
層)の増感色素A、B、Cの代わりに、各々(I-48)、
(I-45)、(I-46)を用いた試料20を作成した。結果を表
1に示した。
No absorbing liquid was used in the processing step, and instead, the compounds (I-1) and (I-9) of the present invention were added to the first layer (blue-sensitive emulsion layer) per mol of silver halide. 5.0 × 10 for large emulsion and small emulsion
-4 moles of Samples 18 and 19 added (I-48) instead of the sensitizing dyes A, B and C of the first layer (blue sensitive emulsion layer),
A sample 20 using (I-45) and (I-46) was prepared. The results are shown in Table 1.

【0186】[0186]

【表1】 [Table 1]

【0187】 PEG300:ポリエチレングリコール平均分子量300 EU :エチレン尿素[0187] PEG300: Polyethylene glycol average molecular weight 300 EU: Ethylene urea

【0188】試料11〜17において、吸収浴に本発明
の化合物を添加しない試料11、12、16に対し、本
発明の化合物を添加した作成した試料13〜15、17
では、イエロー濃度が低下しており増感色素ステインが
低減されたことが示された。また吸収浴に添加剤を加え
本発明の化合物の濃度を上げることにより、ステイン低
減効果を高めることが可能である。また、予め、感材中
に本発明の化合物を含んだ試料18〜20においても、
イエロー濃度が低下しており増感色素ステインが低減さ
れたことが示された。
In Samples 11 to 17, Samples 13 to 15 and 17 prepared by adding the compound of the present invention to Samples 11, 12 and 16 in which the compound of the present invention was not added to the absorption bath.
Showed that the yellow density was lowered and the sensitizing dye stain was reduced. Further, the stain reducing effect can be enhanced by adding an additive to the absorption bath to increase the concentration of the compound of the present invention. Further, in Samples 18 to 20 containing the compound of the present invention in the light-sensitive material in advance,
It was shown that the yellow density was lowered and the sensitizing dye stain was reduced.

【0189】実施例2 実施例1において、処理工程を下記のように変更した以
外は同様の感材を作成し、同様に評価を行った。結果を
表2に示す。
Example 2 The same photosensitive material was prepared as in Example 1 except that the processing steps were changed as follows, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 2.

【0190】 [処理工程] 処理工程 温度 時間 発色現像 38.5℃ 45秒 漂白定着 38.0℃ 45秒 水洗 38.0℃ 10秒 吸収 室温 20秒 酸化 室温 20秒 水洗 室温 10秒 乾燥 80℃[0190] [Processing process]       Treatment process temperature time       Color development 38.5 ℃ 45 seconds       Bleach-fixing 38.0 ° C 45 seconds       Washing with water 38.0 ° C for 10 seconds       Absorption room temperature 20 seconds       Oxidation room temperature 20 seconds       Rinsing at room temperature 10 seconds       Dry 80 ℃

【0191】酸化液は下記のように調整した。 [酸化液] 酸化剤(次亜塩素酸ナトリウム) 添加量 10mmol 水を加えて全量 1000mL pH(25℃、硫酸と水酸化ナトリウムで調整) 8.5The oxidizing solution was prepared as follows. [Oxidizing liquid]       Oxidizing agent (sodium hypochlorite) addition amount 10mmol       Add water to a total volume of 1000 mL       pH (25 ℃, adjusted with sulfuric acid and sodium hydroxide) 8.5

【0192】[0192]

【表2】 [Table 2]

【0193】 PEG300:ポリエチレングリコール平均分子量300 EU :エチレン尿素[0193] PEG300: Polyethylene glycol average molecular weight 300 EU: Ethylene urea

【0194】表2から酸化浴を用いた場合においても、
実施例1と同様に、本発明の化合物が存在する場合に、
イエロー濃度が低下しており増感色素ステインが低減さ
れることが示された。
From Table 2, even when an oxidizing bath is used,
Similar to Example 1, when the compound of the present invention is present,
It was shown that the yellow density was lowered and the sensitizing dye stain was reduced.

【0195】実施例3 イメージワイズに露光した富士写真フイルム社製 フジ
カラー スーペリアズームマスター800に同社プロセ
スCN-16Lを施した。次にプロセスCN-16Lの安定浴に本発
明の化合物を添加し、上記感光材料にプロセスCN-16Lを
施した。日立製作所(株)製U−3500型分光光度計
を用いて最小濃度部の透過吸収測定を行い、2つの処理
済カラーネガテイブフィルムの500nm、555nmで
の吸光度D500 0 、D555 0を求めた。このマクベス社製
ザ・ジャッジ モデルNo. JR4−20IのUVモードで6
0秒間光照射した後、再び透過吸収を測定した。このと
きの500nm、555nmの吸光度をD500 、D555とす
る。光照射前後のステインの差ΔD500及びΔD555を下
式より求めた。ΔD500 、ΔD555はその値が大きいほど
ステイン低減効果が大きいことを意味する。結果を表3
に示す。 ΔD500=D500 0−D500 ΔD555=D555 0−D555
Example 3 Fuji Color Superior Zoom Master 800 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. exposed imagewise was subjected to Process CN-16L manufactured by the same. Next, the compound of the present invention was added to the stabilizing bath of Process CN-16L, and Process CN-16L was applied to the above light-sensitive material. Using a U-3500 type spectrophotometer manufactured by Hitachi, Ltd., the transmission absorption measurement of the minimum density part was performed, and the absorbances D 500 0 and D 555 0 at 500 nm and 555 nm of the two processed color negative films were obtained. . This Macbeth product
6 in UV mode of The Judge Model No. JR4-20I
After irradiation with light for 0 seconds, the transmission absorption was measured again. The absorbances at 500 nm and 555 nm at this time are designated as D 500 and D 555 . Differences in stain before and after light irradiation, ΔD 500 and ΔD 555, were calculated by the following equation. The larger the values of ΔD 500 and ΔD 555 , the greater the stain reduction effect. The results are shown in Table 3.
Shown in. ΔD 500 = D 500 0 -D 500 ΔD 555 = D 555 0 -D 555

【0196】[0196]

【表3】 [Table 3]

【0197】これより通常の処理を行った試料31に対
して本発明の化合物を含有した安定液を用いて処理され
た試料32では、光照射することによりステインが低減
されることが示された。また、実施例1、2と同様に、
本発明の化合物を予め感光材料に含有させた場合、ある
いは、光照射の代わりに酸化浴で処理した場合も、同様
にステインが低減された。
From this, it was shown that the stain was reduced by the light irradiation in the sample 32 which was treated with the stabilizing solution containing the compound of the present invention as compared with the sample 31 which was subjected to the usual treatment. . Further, as in the first and second embodiments,
When the compound of the present invention was contained in the light-sensitive material in advance, or when the compound was treated with an oxidizing bath instead of light irradiation, the stain was similarly reduced.

【0198】実施例4 イメージワイズに露光した富士写真フイルム社製 フジ
クローム プロビア100に同社プロセスCR-56Pを
施した。次にプロセスCR-56Pの安定浴に本発明の化
合物を添加し、上記感光材料にプロセスCR-56Pを施
した。日立製作所(株)製U−3500型分光光度計を
用いて最小濃度部の透過吸収測定を行い、2つの処理済
カラーリバーサルフィルムの540nmでの吸光度D540
0 を求めた。このマクベス社製 ザ・ジャッジ モデル
No. JR4−20IのUVモードで60秒間光照射した後、
再び透過吸収を測定した。このときの540nmの吸光
度をD540とする。光照射前後のステインの差ΔD540
下式より求めた。ΔD540はその値が大きいほどステイン
低減効果が大きいことを意味する。結果を表4に示す。 ΔD540=D540 0−D540
Example 4 Fujichrome Provia 100 manufactured by Fuji Photo Film Co., which was imagewise exposed, was subjected to the process CR-56P manufactured by the same company. Next, the compound of the present invention was added to the stabilizing bath of Process CR-56P, and the above light-sensitive material was subjected to Process CR-56P. Using a U-3500 spectrophotometer manufactured by Hitachi, Ltd., the transmission absorption measurement of the minimum density portion was performed, and the absorbance D 540 of the two treated color reversal films at 540 nm was measured.
I asked for 0 . This Judge model manufactured by Macbeth
After irradiating light for 60 seconds in the UV mode of No. JR4-20I,
The transmission absorption was measured again. The absorbance at 540 nm at this time is defined as D 540 . The difference ΔD 540 in stain before and after the light irradiation was calculated by the following formula. ΔD 540 means that the larger the value, the greater the stain reduction effect. The results are shown in Table 4. ΔD 540 = D 540 0 −D 540

【0199】[0199]

【表4】 [Table 4]

【0200】これより通常の処理を行った試料41に対
して、本発明の化合物を含有した安定液を用いて処理さ
れた試料42では、光照射によりステインが低減される
ことが示された。また、実施例1、2と同様に、本発明
の化合物を予め感光材料に含有させた場合、あるいは、
光照射の代わりに酸化浴で処理した場合も、同様にステ
インが低減された。
From this, it was shown that the stain was reduced by the light irradiation in the sample 42 which was treated with the stabilizing solution containing the compound of the present invention as compared with the sample 41 which was subjected to the usual treatment. Further, in the same manner as in Examples 1 and 2, when the compound of the present invention is contained in the light-sensitive material in advance, or
When the treatment was performed with an oxidizing bath instead of the light irradiation, the stain was similarly reduced.

【0201】[0201]

【発明の効果】実施例1〜4から、本発明により、ハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理後において感光材料の残留
増感色素に起因するステインを低減することができるこ
とが分かる。
From Examples 1 to 4, it can be seen that according to the present invention, the stain caused by the residual sensitizing dye of the light-sensitive material can be reduced after the processing of the silver halide photographic light-sensitive material.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03C 7/407 G03C 7/407 7/42 7/42 11/00 11/00 501 501 Fターム(参考) 2H016 BD00 BK03 BL00 BL01 BL02 BL03 BL04 BL05 2H023 CD00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 identification code FI theme code (reference) G03C 7/407 G03C 7/407 7/42 7/42 11/00 11/00 501 501 F term (reference) 2H016 BD00 BK03 BL00 BL01 BL02 BL03 BL04 BL05 2H023 CD00

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 イメージワイズに露光されたハロゲン化
銀写真感光材料に、少なくとも1つの下記一般式(I)
で表される化合物の存在下で光照射することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 一般式(I) (X)k−(L)m−(A−B)n 式中、Xはハロゲン化銀吸着基または光吸収基を表す。
Lは2価の連結基を表す。Aは電子供与基を表し、Bは
脱離基または水素原子を表し、酸化後、脱離または脱プ
ロトンされてラジカルA・を生成する。kおよびmは各
々0〜3の整数を表し、nは1または2を表す。
1. A silver halide photographic light-sensitive material imagewise exposed to at least one of the following general formulas (I)
A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material, which comprises irradiating with light in the presence of a compound represented by In formula (I) (X) k- (L) m- (AB) n , X represents a silver halide adsorbing group or a light absorbing group.
L represents a divalent linking group. A represents an electron-donating group, B represents a leaving group or a hydrogen atom, and after oxidation, it is eliminated or deprotonated to generate a radical A. k and m each represent an integer of 0 to 3, and n represents 1 or 2.
【請求項2】 ハロゲン化銀写真感光材料に、少なくと
も1つの請求項1記載の一般式(I)で表される化合物
の存在下で酸化剤を接触させることを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法。
2. A silver halide photographic light-sensitive material, which comprises bringing a silver halide photographic light-sensitive material into contact with an oxidizing agent in the presence of at least one compound represented by the general formula (I) according to claim 1. Material processing method.
【請求項3】 一般式(I)で表される化合物が水性溶
液として用いられることを特徴とする請求項1又は2の
いずれかに記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
3. The method for processing a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (I) is used as an aqueous solution.
【請求項4】 一般式(I)で表される化合物を含有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用処理組
成物。
4. A processing composition for a silver halide photographic light-sensitive material, comprising a compound represented by the general formula (I).
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