JP2003140445A - Charging member and image forming apparatus - Google Patents

Charging member and image forming apparatus

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JP2003140445A
JP2003140445A JP2001339336A JP2001339336A JP2003140445A JP 2003140445 A JP2003140445 A JP 2003140445A JP 2001339336 A JP2001339336 A JP 2001339336A JP 2001339336 A JP2001339336 A JP 2001339336A JP 2003140445 A JP2003140445 A JP 2003140445A
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image forming
layer
charging
image
photoconductor
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文弘 荒平
Shuichi Aida
修一 會田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image forming apparatus for which contact electrostatic charge is used and which prevents the end chipping, image deletion, toner splashing, end leak, etc., of a photoreceptor. SOLUTION: This image forming apparatus has a process step of charging the photoreceptor by bringing a charging member into contact with the photoreceptor and applying a voltage thereto, a latent image forming process step of forming an electrostatic latent image on the photoreceptor by performing image exposure, a developing process of forming the electrostatic latent image to visualize by a toner and a process step of transferring a toner image onto a transfer material, in which the photoreceptor 1 is about amorphous silicon photoreceptor, the charging member 3 is formed by having an elastic layer 32 of the middle electric resistance into contact with the photoreceptor 1 on a conductive substrate 31 to be applied with at least the charging voltage, the middle resistance elastic layer 32 is in contact with a non-image forming region section (b) at the end in the longitudinal direction of the photoreceptor and the middle resistance elastic layer of the portion corresponding to the non-image forming region is formed on the conductive substrate 31 across an electrical insulating layer 33.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、像担持体(被帯電
体)に接触させて電圧を印加することによって像担持体
を帯電する帯電部材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a charging member that charges an image carrier by bringing it into contact with an image carrier (a member to be charged) and applying a voltage thereto.

【0002】また本発明は、感光体に帯電部材を接触さ
せて電圧を印加することによって該感光体を帯電させる
工程、像露光を行うことにより該感光体上に静電潜像を
形成する潜像形成工程、この静電潜像をトナーによって
可視化する現像工程、トナー像を転写材に転写する工程
を有する画像形成装置に関する。
The present invention also relates to a process of contacting a photoconductor with a charging member to apply a voltage to charge the photoconductor, and a latent image forming an electrostatic latent image on the photoconductor by performing image exposure. The present invention relates to an image forming apparatus having an image forming step, a developing step of visualizing the electrostatic latent image with toner, and a step of transferring the toner image onto a transfer material.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、画像形成に先立ち、まず被帯電体
である感光体に対する帯電処理を行う画像形成装置とし
て、電子写真複写機、レーザービームプリンター、静電
記録装置等が知られており、像担持体としての感光体や
誘電体を所定の電位に均一帯電処理する工程を含んでい
る。その帯電手段として従来は、5〜10kVの高電圧
を60μm〜100μmの帯電ワイヤに印加することに
よってコロナ放電させるコロナ帯電が広く利用されてき
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, an electrophotographic copying machine, a laser beam printer, an electrostatic recording device, etc. are known as an image forming apparatus for charging a photosensitive member, which is a member to be charged, prior to image formation. It includes a step of uniformly charging the photoconductor or the dielectric as an image carrier to a predetermined potential. Conventionally, as the charging means, corona charging has been widely used in which a high voltage of 5 to 10 kV is applied to a charging wire of 60 μm to 100 μm to cause a corona discharge.

【0004】しかしながら上述のコロナ帯電には、多量
のオゾンが発生する、高電圧を印加するために電源のコ
ストが高く、小型化が難しいなど欠点があることから、
それに代わるものとして、接触式帯電装置が提案されて
いる。接触式帯電装置は、帯電部材を被帯電体面に押圧
接触させ、該帯電部材に電圧(直流電圧、あるいは直流
電圧と交流電圧との重畳電圧など)を印加することで、
被帯電体面を所定の極性、電位に帯電させるものであ
る。このような接触式帯電装置はコロナ帯電装置に比較
して、印加電圧が低く、またオゾン発生が少ない、など
の利点を有している。
However, the above-mentioned corona charging has drawbacks that a large amount of ozone is generated, the cost of the power source is high because a high voltage is applied, and miniaturization is difficult.
As an alternative, a contact type charging device has been proposed. The contact type charging device presses the charging member against the surface of the member to be charged and applies a voltage (DC voltage or a superimposed voltage of DC voltage and AC voltage) to the charging member,
The surface of the body to be charged is charged to a predetermined polarity and potential. Such a contact type charging device has advantages such as a lower applied voltage and less ozone generation than the corona charging device.

【0005】例えばローラー形状の接触式帯電部材とし
ては、導電性芯金の回りに、弾性を有する中抵抗層がさ
れた構造になっている場合が多く、中抵抗層の中に抵抗
を調整する抵抗制御層や、表面層を積層した構成などが
ある。弾性を有する中抵抗層の材料としては、例えばウ
レタン、SBR、EVA、SBS、SEBS、SIS、
TPO、EPDM、EPM、NBR、IR、BR、シリ
コンゴム、エピクロルヒドリンゴム等の樹脂やゴム類な
どがあり、必要な抵抗値に応じて、例えばカーボンブラ
ック、カーボン繊維、金属酸化物、金属粉、過塩素酸塩
等の固体電解質や界面活性剤等の導電性付与剤を添加し
たものなどがある。
For example, a roller-shaped contact type charging member often has a structure in which an elastic medium resistance layer is formed around a conductive core metal, and the resistance is adjusted in the medium resistance layer. There are a resistance control layer and a structure in which a surface layer is laminated. Examples of the material of the elastic medium resistance layer include urethane, SBR, EVA, SBS, SEBS, SIS,
There are resins and rubbers such as TPO, EPDM, EPM, NBR, IR, BR, silicone rubber, and epichlorohydrin rubber. Depending on the required resistance value, for example, carbon black, carbon fiber, metal oxides, metal powders, For example, a solid electrolyte such as chlorate or a conductivity-imparting agent such as a surfactant may be added.

【0006】電気的に中抵抗体でなければならないの
は、低抵抗であると、感光体にピンホール等の欠陥が生
じた際にその部分に電流が集中してしまい、該位置を含
む被帯電体の長手方向全域で帯電電圧が印加されずに帯
電不良が発生してしまい、また高抵抗であると、帯電部
材中で印加帯電電圧の電圧が降下してしまい帯電不良が
生じてしまう。
What has to be an electrically medium resistance element is that when the resistance is low, when a defect such as a pinhole occurs in the photoconductor, the current concentrates on that part, and the object including the position is defective. If the charging voltage is not applied across the entire length of the charging member, a charging failure occurs, and if the resistance is high, the voltage of the applied charging voltage drops in the charging member, causing a charging failure.

【0007】しかしながら、接触及び近接式帯電部材を
利用して被帯電体を帯電する場合、とくに長期の耐久に
よって次のような問題があった。
However, in the case of charging the body to be charged by using the contact and proximity charging members, there are the following problems due to long-term durability.

【0008】微少空隙での放電を利用している接触式帯
電装置では、帯電部材が被帯電体面に接触するため、帯
電部材の接触面付近での放電の影響が被帯電体に強く作
用し、被帯電体の表面を劣化させ削れやすく、特に被帯
電体に有機感光体を用いた場合に劣化が顕著に現れ、表
層の樹脂が放電の影響によって低分子量下し、表層が削
れやすくなってしまう。これらの影響は帯電部材の両端
部に発生しやすい。これは接触帯電の場合、放電は有機
感光体との接触部分からの僅かに離れた部分で発生する
ものであるから、帯電部材の両端部以外は、放電部分が
帯電部材と感光体とのニップを挟んだ微小空間だけであ
るが、端部に関しては、それに加えて帯電部材の端部か
らの放電も加わりドラム周方向から見た場合、放電面積
はドラム周方向に対し端部以外の場所に比較して広くな
るので、放電時間が他の部分より長くなり有機感光体の
劣化、削れ多くなってしまう。
In the contact type charging device utilizing the discharge in the minute gap, the charging member comes into contact with the surface of the charged member, so that the influence of the discharge near the contact surface of the charging member strongly acts on the charged member, The surface of the charged body deteriorates and is easily scraped, especially when an organic photoconductor is used as the charged body, the deterioration is remarkable, and the resin of the surface layer has a low molecular weight due to the influence of discharge, and the surface layer is easily scraped. . These effects are likely to occur at both ends of the charging member. This is because in the case of contact charging, the discharge occurs at a portion slightly apart from the contact portion with the organic photoconductor, so the discharge portion is the nip between the charging member and the photoconductor except for both ends of the charging member. Although it is only a small space that sandwiches, the discharge area in the peripheral direction of the drum when viewed from the circumferential direction of the drum due to the addition of discharge from the end of the charging member in addition to that Since it is wider than that of the other parts, the discharge time becomes longer than other parts, and the organic photoreceptor is deteriorated and scraped more frequently.

【0009】そのために感光体の寿命が短くなったり、
削れムラにともなった帯電ムラによる画像不良が生じて
しまう。
Therefore, the life of the photoconductor is shortened,
Image defects will occur due to uneven charging due to uneven scraping.

【0010】これを解決する方法として、例えば特開平
7−199599に両端部の帯電部材の抵抗値を絶縁性
塗料を塗布等をして被帯電体に直接絶縁層が接触した状
態で高くするなどの方法が挙げられているが、この場
合、絶縁性塗料を塗布した場所と、していない場所での
境目で絶縁性塗料を塗布したことによる膜厚の差から被
帯電体への接触性に対して段差を生じてしまい、その段
差の微小な空間で放電が集中してしまい、その部分の感
光体の削れが多くなり感光体の寿命が短くなる問題や、
また端部の抵抗が画像形成領域に比べて急激に高くなる
ので、被帯電体の非画像形成領域部分はほとんど電位が
載らず、特に反転現像を用いた画像形成方法の場合、そ
の部分に電位差により非画像形成領域にトナーが現像さ
れてしまい、飛散による機内汚染やトナーが現像し続け
るために感光体への融着、クリーナー部の劣化、トナー
の消費量増大などの問題点が生じていた。
As a method for solving this, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 7-199599, the resistance value of the charging member at both ends is increased by applying an insulating coating or the like to a state in which the insulating layer is in direct contact with the member to be charged. However, in this case, due to the difference in film thickness due to the application of the insulating paint at the boundary between the place where the insulating paint is applied and the place where the insulating paint is not applied, On the other hand, a step is generated, and the electric discharge is concentrated in a minute space of the step, so that the photoconductor on the part is abraded more and the life of the photoconductor is shortened.
In addition, since the resistance of the edge portion becomes sharply higher than that of the image forming area, almost no potential is applied to the non-image forming area portion of the member to be charged, and especially in the case of the image forming method using reversal development, the potential difference is generated in that portion. Due to this, toner is developed in the non-image forming area, and there are problems such as contamination inside the machine due to scattering and toner continuing to develop, and fusion to the photoconductor, deterioration of the cleaner section, and increase in toner consumption. .

【0011】また、特開平7−261507では中央部
から端部にかけて徐々に抵抗がたかくなるような帯電部
材が挙げられているが、その場合、帯電ローラー表面の
汚染の状態により帯電ムラが発生しやすく、それによっ
て、濃度ムラなどの画像が発生しやすい等の問題があっ
た。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 7-261507 describes a charging member whose resistance gradually increases from the central portion to the end portion. In that case, uneven charging occurs due to the contamination state of the charging roller surface. However, there is a problem that an image such as density unevenness is likely to be generated.

【0012】また、アモルファスシリコンに代表される
珪素原子を主成分として含む非単結晶質堆積膜、例えば
水素及び/またはハロゲン(例えばフッ素、塩素等)を
含む(例えば水素またはダングリングボンドを補償す
る)アモルファスシリコン等のアモルファス堆積膜は、
高性能、高耐久、無公害な感光体として提案され、その
いくつかは実用化されている。
In addition, a non-single crystalline deposition film containing silicon atoms represented by amorphous silicon as a main component, eg, containing hydrogen and / or halogen (eg, fluorine, chlorine, etc.) (eg, hydrogen or dangling bond is compensated. ) Amorphous deposited films such as amorphous silicon are
It has been proposed as a high-performance, highly durable, pollution-free photoconductor, and some of them have been put to practical use.

【0013】特開昭54−86341号公報、USP
4,265,991号には、光導電層を主としてアモル
ファスシリコンで形成した電子写真感光体の技術が開示
されている。また特開昭60−12554号公報には珪
素原子を含有する非晶質シリコンからなる光導電層の表
面に炭素及びハロゲン原子を含む表面層が開示されてお
り、さらに特開平2−111962号公報には、感光層
上に表面保護潤滑層を設けた感光体が開示されている。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 54-86341, USP
No. 4,265,991 discloses a technique for an electrophotographic photosensitive member in which a photoconductive layer is mainly formed of amorphous silicon. Further, JP-A-60-12554 discloses a surface layer containing carbon and halogen atoms on the surface of a photoconductive layer made of amorphous silicon containing silicon atoms, and further, JP-A-2-111962. Discloses a photoreceptor having a surface protective lubricating layer provided on the photosensitive layer.

【0014】アモルファスシリコンに代表されるアモル
ファスシリコン系感光体は、半導体レーザー等の長波長
光に高い感度を示し、しかも繰り返し使用による劣化も
ほとんど認められない等の優れた点を有するので、例え
ば高速複写機やLBP(レーザービームプリンター)等
の電子写真用感光体として広く使用されている。
Amorphous silicon type photoreceptors typified by amorphous silicon have a high sensitivity to long-wavelength light such as a semiconductor laser, and have the advantage that deterioration due to repeated use is hardly recognized. It is widely used as a photoconductor for electrophotography such as a copying machine and an LBP (laser beam printer).

【0015】シリコン系非単結晶堆積膜の形成法として
は、スパッタリング法、熱により原料ガスを分解する方
法(熱CVD法)、光により原料ガスを分解する方法
(光CVD法)、プラズマにより原料ガスを分解する方
法(プラズマCVD法)等、多数の方法が知られてい
る。中でもプラズマCVD法、すなわち原料ガスを直流
または高周波、(RF,VHF)または、マイクロ波を
利用して発生させたグロー放電等によって分解し、ガラ
ス、石英、耐熱性合成樹脂フィルム、ステンレス、アル
ミニウム等の所望の基体上に堆積膜を形成する方法は、
電子写真用アモルファスシリコン堆積膜の形成方法等に
とどまらず、他の用途の堆積膜の形成方法を含め、現在
実用化が進んでおり、そのための装置も各種提案されて
いる。
As a method for forming a silicon-based non-single-crystal deposited film, a sputtering method, a method of decomposing a source gas by heat (thermal CVD method), a method of decomposing a source gas by light (optical CVD method), or a source by plasma Many methods such as a method of decomposing gas (plasma CVD method) are known. Among them, plasma CVD method, that is, the raw material gas is decomposed by direct current or high frequency, (RF, VHF), or glow discharge generated by using microwave, and the like, and glass, quartz, heat resistant synthetic resin film, stainless steel, aluminum, etc. The method of forming a deposited film on the desired substrate of
Not only the method for forming an amorphous silicon deposited film for electrophotography, but also the method for forming a deposited film for other purposes are currently in practical use, and various devices for that purpose have been proposed.

【0016】また、上述のアモルファスシリコン系感光
体を用いた画像形成装置においても帯電方式の主流はコ
ロナ帯電でありコロナ放電にともない、オゾンが大量に
発生してしまう。この帯電器から発生するオゾンから派
生するコロナ生成物の影響で感光体の表面が湿度に敏感
となり水分を吸着し易くなり、これが感光体表面の電荷
の横流れの原因となり、画像流れといわれる画像品質低
下を引き起こす欠点を有している。
Also in the image forming apparatus using the above-mentioned amorphous silicon type photoconductor, the mainstream of the charging method is corona charging, and a large amount of ozone is generated with corona discharge. Due to the effect of corona products derived from ozone generated from this charger, the surface of the photoconductor becomes sensitive to humidity and it becomes easy to adsorb moisture, which causes the lateral flow of charges on the photoconductor surface, which is called image deletion. It has the drawback of causing degradation.

【0017】この様な画像流れを防止する為に、実公平
1−34205号公報に記載されている様なヒーターに
よる加熱や、特公平2−38956号公報に記載されて
いる様なマグネットローラーと磁性トナーから形成され
たブラシにより被帯電体である所の像担持体例えば感光
体表面を摺擦しコロナ生成物を取り除く方法、特開昭6
1−100780号公報に記載されている様な弾性ロー
ラーによる感光体表面の摺擦でコロナ生成物を取り除く
方法等が用いられてきた。
In order to prevent such image deletion, heating with a heater as described in Japanese Utility Model Publication No. 1-34205 and a magnet roller as described in Japanese Patent Publication No. 2-38956 are used. A method of removing corona products by rubbing the surface of an image bearing member, for example, a photosensitive member, which is a member to be charged, with a brush formed of magnetic toner.
A method of removing the corona product by rubbing the surface of the photoreceptor with an elastic roller as described in JP-A-1-100780 has been used.

【0018】感光体表面を摺擦する方法は、極めて硬度
の高いアモルファスシリコン系感光体で使用されるが、
クリーニング装置が大きくなる等、装置の小型化が困難
な一因となる。また、感光体表面に水分が吸着するのを
防止するために、ヒーターによる常時加熱は消費電力量
の増大を招く。こうしたヒーターの容量は通常15Wか
ら80W程度と必ずしも大電力量といった印象を得ない
が、夜間も含め常時通電されているケースがほとんどで
あり、一日あたりの消費電力量としては、画像形成装置
全体の消費電力量の5〜15%にも達する。
The method of rubbing the surface of the photosensitive member is used for an amorphous silicon type photosensitive member having extremely high hardness.
This is one of the reasons why it is difficult to reduce the size of the cleaning device, such as the size of the cleaning device. Moreover, in order to prevent the adsorption of water on the surface of the photoconductor, the constant heating by the heater causes an increase in power consumption. The capacity of these heaters is usually around 15 to 80 W, which does not necessarily give the impression of a large amount of electricity, but in most cases they are always energized even at night, and the amount of electricity consumed per day is the same for the entire image forming apparatus. 5 to 15% of the power consumption of

【0019】また、こうした画像流れの原因であるオゾ
ンは、従来からオゾン除去フィルターで分解無害化して
排出していた。このように帯電時の発生オゾン量を大幅
に低減する方式が求められている。
Further, ozone, which is a cause of such image deletion, has conventionally been decomposed and rendered harmless by an ozone removal filter before being discharged. Thus, there is a demand for a method of significantly reducing the amount of ozone generated during charging.

【0020】そのために上述したような帯電部材を感光
体に押圧接触させ、帯電部材に帯電電圧を印加すること
で感光体を所定の極性、電位に帯電させる接触帯電方式
が知られており、特に帯電部材の形状がローラー型の帯
電ローラーが広く用いられている。
For this purpose, a contact charging method is known in which the above-mentioned charging member is pressed against the photoconductor and the photoconductor is charged to a predetermined polarity and potential by applying a charging voltage to the charging member. A charging roller having a roller-shaped charging member is widely used.

【0021】これらの接触式の帯電方式は、コロナ帯電
方式に比べて、感光体に所望の電位を与えるのに必要と
される印加電圧の低電圧化が図れる、帯電部材がコロナ
帯電器に比べて小型化が可能、帯電過程で発生するオゾ
ン量が極微量であり、コロナ帯電である様なシールドが
不要であるため装置の排気系の構成の簡素化が可能、帯
電過程において発生したオゾン並びにオゾン生成物が被
帯電体面である像担持体、例えば感光体表面に付着し、
コロナ生成物の影響で感光体表面が湿度に敏感となり水
分を吸着し易くなることによる表面の低抵抗化による画
像流れをコロナ帯電方式に比べて低減できる、等の長所
を有している。
Compared to the corona charging method, these contact charging methods can lower the applied voltage required to give a desired potential to the photosensitive member. The size of ozone generated during the charging process is extremely small, and the shield like corona charging is not required, so the structure of the exhaust system of the device can be simplified. The ozone product adheres to the surface of the image bearing member that is the surface to be charged, for example, the surface of the photosensitive member,
The surface of the photoconductor is sensitive to humidity due to the influence of corona products, and water is easily adsorbed, so that the flow of images due to the low resistance of the surface can be reduced as compared with the corona charging method.

【0022】上述のようにアモルファスシリコン系感光
体を接触帯電方式で帯電させる方法として、例えば、特
開平11−143176号公報には帯電部材と、感光体
の表面粗さを規定し、帯電均一性を向上させる技術が記
載され、特開平6−83089号公報には金属ブレード
を接触させてアモルファスシリコン感光体を帯電させる
技術、また特開平9−22168号公報や特開平8−1
71262号公報は感光体に近接させて帯電を行い、オ
ゾンの発生を低減させる技術が記載されている。
As a method of charging the amorphous silicon type photoconductor by the contact charging method as described above, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 11-143176, the charging member and the surface roughness of the photoconductor are defined, and the charging uniformity is set. JP-A-6-83089 discloses a technique for charging an amorphous silicon photoconductor by contacting a metal blade, and JP-A-9-22168 and JP-A-8-1.
Japanese Patent No. 71262 describes a technique for reducing the generation of ozone by charging the photoconductor in the vicinity thereof.

【0023】しかしながら、接触帯電方式においても、
感光体と帯電部材との微少な空隙で放電により帯電は行
われ、またアモルファスシリコン系の感光体を帯電部材
を接触させて帯電を行う場合、有機系感光体(OPC)
に比べて、静電容量が大きいために感光体上を同じ帯電
電位にするためには多くの帯電電流が必要であり、プロ
セススピードや感光体の処方にもよるが、およそ2〜3
倍の電流量が必要である。
However, even in the contact charging system,
Charging is performed by discharge in a minute gap between the photoconductor and the charging member, and when charging is performed by bringing the charging member into contact with an amorphous silicon-based photoconductor, an organic photoconductor (OPC)
In comparison with the above, since a large electrostatic capacity is required, a large amount of charging current is required to keep the same charging potential on the photoconductor, but depending on the process speed and the prescription of the photoconductor, it is about 2-3
Double the amount of current is required.

【0024】そのために帯電部材の感光体と接触する表
面は有機系の樹脂やゴムなので放電や電気的に劣化し、
破壊されやすく、特に感光体と接触している帯電部材の
長手方向の両端部は、帯電部材と感光体との接触部(ニ
ップ部)を挟んだ両側の微少空間だけであるが、端部に
関してはそれに加えて帯電部材の端部からの放電も加わ
り、感光体周方向から見た場合、放電面積は感光体周方
向に対して端部以外の場所に比較して広くなるので放電
時間が他の部分より長いために、さらに多量の帯電電流
が流れることになり、帯電部材の劣化、破壊が促進され
てしまい、そのために端部側から徐々に中央部へ劣化が
進み、帯電部材の寿命が短くなる問題が生じる。
For this reason, the surface of the charging member that comes into contact with the photosensitive member is an organic resin or rubber, so that it is electrically or electrically deteriorated,
The longitudinal ends of the charging member, which are easily broken and are in contact with the photoconductor, are only minute spaces on both sides of the contact part (nip part) between the charging member and the photoconductor. In addition to that, discharge from the end of the charging member is also added, and when viewed from the peripheral direction of the photoconductor, the discharge area is wider in the peripheral direction of the photoconductor compared to places other than the end. Since it is longer than the portion of the charging member, a larger amount of charging current flows, which accelerates deterioration and destruction of the charging member, which gradually deteriorates from the end side to the center part, and the life of the charging member is shortened. The problem of shortening occurs.

【0025】また、端部は放電量が多いために、端部の
削れ量が多く、そのために感光体の寿命が短かくなった
り、削れムラによる帯電ムラの画像不良が生じ、また耐
久による感光体の削れが少ないので放電生成物の堆積に
よって感光体の中央部と端部の表面の摺擦力に差が生
じ、クリーナー部に不均一な負荷がかかるので小型化が
可能なブレード状のクリーニング機構を設けた場合ビビ
リが生じ、クリーニング不良などの画像不良が生じる。
Further, since the end portion has a large amount of discharge, the end portion has a large amount of abrasion, which shortens the life of the photosensitive member, causes uneven charging due to uneven abrasion, and causes image defects due to durability. Since there is little scraping of the body, there is a difference in the rubbing force between the center and end surfaces of the photoconductor due to the accumulation of discharge products, and an uneven load is applied to the cleaner part. When a mechanism is provided, chattering occurs and image defects such as cleaning defects occur.

【0026】さらに、コロナ帯電よりは放電生成物の堆
積は少ないものの、上記のように端部は放電量が多いた
めに放電生成物が堆積しやすく、画像流れを生じ、寿命
が短くなるなどの問題点があった。
Further, although the discharge products are less deposited than the corona charging, the discharge products are likely to be deposited due to the large discharge amount at the end portions as described above, causing image deletion and shortening the life. There was a problem.

【0027】また、端部は放電量が多いために、シリコ
ンドラム表面に欠陥を生じさせやすく、帯電部材からそ
の部分に電流が集中してしまうリークが生じ、画像形成
領域部分に正常な電位が乗らないために画像不良が生じ
てしまう。
Further, since the end portion has a large amount of discharge, a defect is likely to occur on the surface of the silicon drum, a leak occurs in which a current concentrates on the portion from the charging member, and a normal potential is applied to the image forming area portion. An image defect occurs because the user does not ride.

【0028】これを解決する方法として例えば特開平7
−199599号公報、特開平7−261507号公報
などで示される帯電部材が挙げられるが、これらの帯電
部材は上述に示したような問題点をシリコン系ドラムを
用いた場合にも生じていた。
[0028] As a method for solving this, for example, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 7
The charging members described in JP-A-199599 and JP-A-7-261507 can be cited, but these charging members also have the above-mentioned problems when a silicon-based drum is used.

【0029】[0029]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、上
述の問題点を解決した帯電部材を提供することを目的と
するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a charging member which solves the above problems.

【0030】すなわち、画像形成領域での帯電部材の帯
電特性に影響を与えることなく帯電部材の端部放電によ
る被帯電体の劣化で発生する削れが少なく、また非画像
形成領域に現像してしまうトナーによる飛散による機内
汚染、ドラム融着、トナー消費量増大を防止する帯電部
材を提供することにある。
That is, there is little scraping caused by the deterioration of the member to be charged due to the end discharge of the charging member without affecting the charging characteristics of the charging member in the image forming region, and the image is developed in the non-image forming region. An object of the present invention is to provide a charging member which prevents contamination in the machine due to toner scattering, drum fusion, and increase in toner consumption.

【0031】またアモルファスシリコン系感光体を用い
た場合、耐久により画像形成領域での帯電部材の帯電特
性に影響を与えることなく帯電部材の端部放電による帯
電部材の劣化や感光体の削れムラ、感光体表面の摺擦力
の違いによるクリーニング不良を防止し、非画像形成領
域に現像してしまうトナーによる飛散による機内汚染、
ドラム融着を防止する画像形成装置を提供することにあ
る。
When an amorphous silicon type photosensitive member is used, deterioration of the charging member due to edge discharge of the charging member and uneven wear of the photosensitive member due to end discharge of the charging member without affecting the charging characteristics of the charging member in the image forming area due to durability, Prevents cleaning failures due to differences in the rubbing force on the surface of the photoconductor, and fouls inside the machine due to scattering by toner that develops in the non-image forming area.
An object of the present invention is to provide an image forming apparatus which prevents drum fusion.

【0032】[0032]

【課題を解決するための手段】本発明は下記の構成を特
徴とする、帯電部材、および画像形成装置である。
The present invention is a charging member and an image forming apparatus characterized by the following constitutions.

【0033】(1)像担持体に接触させて電圧を印加す
ることによって像担持体を帯電する帯電部材であり、少
なくとも帯電電圧を印加する導電性基体上に、像担持体
に接触する電気抵抗が中抵抗である弾性層を有した構成
であり、中抵抗弾性層は像担持体の長手方向の端部の非
画像形成領域部にも接触し、非画像形成領域相当部の中
抵抗弾性層が電気的絶縁層を介して導電性基体上に構成
されていることを特徴と帯電部材。
(1) A charging member that charges an image carrier by bringing it into contact with the image carrier and applying a voltage, and at least an electric resistance that contacts the image carrier on a conductive substrate to which a charging voltage is applied. Is a structure having an elastic layer with medium resistance, and the medium resistance elastic layer also contacts the non-image forming area portion at the end portion in the longitudinal direction of the image carrier, and the medium resistance elastic layer corresponding to the non-image forming area. Is formed on a conductive substrate via an electrically insulating layer, and a charging member.

【0034】(2)前記非画像形成領域部に対応する中
抵抗弾性層の長手方向長さが3mm以上であることを特
徴とする(1)に記載の帯電部材。
(2) The charging member according to (1), characterized in that the length in the longitudinal direction of the medium resistance elastic layer corresponding to the non-image forming area is 3 mm or more.

【0035】(3)前記非画像形成領域相当部の電気的
絶縁層の膜厚が中抵抗弾性層の膜厚の1/10以下であ
ることを特徴とする(1)または(2)に記載の帯電部
材。
(3) The film thickness of the electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is 1/10 or less of the film thickness of the medium resistance elastic layer, as described in (1) or (2). Charging member.

【0036】(4)前記非画像形成領域相当部の電気的
絶縁層の膜厚が5μm〜500μmであることを特徴と
する(1)から(3)の何れかに記載の帯電部材。
(4) The charging member according to any one of (1) to (3), wherein the film thickness of the electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is 5 μm to 500 μm.

【0037】(5)前記中抵抗弾性層の硬度がJIS
K6301のA型硬度計により規定された硬度にて35
〜75度を有する弾性体であることを特徴とする(1)
から(4)の何れかに記載の帯電部材。
(5) The hardness of the medium resistance elastic layer is JIS
35 at the hardness specified by the K6301 type A hardness tester
Characterized by being an elastic body having ˜75 degrees (1)
The charging member according to any one of (4) to (4).

【0038】(6)前記非画像形成領域相当部の電気的
絶縁層が導電性基体上に絶縁性塗料を塗布して形成され
た層であることを特徴とする(1)から(5)の何れか
に記載の帯電部材。
(6) The electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is a layer formed by applying an insulative coating on a conductive substrate. (1) to (5) The charging member according to any one of claims.

【0039】(7)前記非画像形成領域相当部の電気的
絶縁層が導電性基体上を絶縁性シート、又はテープで被
覆して形成された層であることを特徴とする(1)から
(5)の何れかに記載の帯電部材。
(7) The electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming region is a layer formed by covering the conductive substrate with an insulating sheet or tape, and (1) to () The charging member according to any one of 5).

【0040】(8)感光体に帯電部材を接触させて電圧
を印加することによって該感光体を帯電させる工程、像
露光を行うことにより該感光体上に静電潜像を形成する
潜像形成工程、この静電潜像をトナーによって可視化す
る現像工程、トナー像を転写材に転写する工程を有する
画像形成装置において、前記感光体がアモルファスシリ
コン系感光体であり、前記帯電部材が、少なくとも帯電
電圧を印加する導電性基体上に、感光体に接触する電気
抵抗が中抵抗である弾性層を有した構成であり、前記感
光体の長手方向の端部の非画像形成領域部にも該中抵抗
弾性層が接触しており、該非画像形成領域相当部の中抵
抗弾性層が、電気的絶縁層を介して前記導電性基体上に
構成されていることを特徴とする画像形成装置。
(8) A step of charging a photosensitive member by bringing a charging member into contact with the photosensitive member to apply a voltage, and a latent image formation in which an electrostatic latent image is formed on the photosensitive member by performing image exposure. In an image forming apparatus having a process, a developing process for visualizing the electrostatic latent image with toner, and a process for transferring the toner image to a transfer material, the photoconductor is an amorphous silicon photoconductor, and the charging member is at least charged. A conductive substrate to which a voltage is applied is provided with an elastic layer having a medium resistance in electrical resistance in contact with the photoconductor, and the non-image forming region at the end portion in the longitudinal direction of the photoconductor is also provided with the elastic layer. The image forming apparatus, wherein the resistance elastic layer is in contact with the medium resistance elastic layer corresponding to the non-image forming area, and is formed on the conductive substrate via an electrically insulating layer.

【0041】(9)前記アモルファスシリコン系感光体
が、導電性基体上にシリコン原子を母体とする非単結晶
材料で構成された光導電層を有するものであることを特
徴とする(8)に記載の画像形成装置。
(9) The amorphous silicon type photoconductor has a photoconductive layer composed of a non-single-crystal material having silicon atoms as a matrix on a conductive substrate. The image forming apparatus described.

【0042】(10)前記非画像形成領域部に対応する
中抵抗弾性層の長手方向長さが3mm以上であることを
特徴とする(8)または(9)に記載の画像形成装置。
(10) The image forming apparatus according to (8) or (9), characterized in that the length in the longitudinal direction of the medium resistance elastic layer corresponding to the non-image forming area is 3 mm or more.

【0043】(11)前記非画像形成領域相当部の電気
的絶縁層の膜厚が中抵抗弾性層の膜厚の1/10以下で
あることを特徴とする(8)から(10)の何れかに記
載の画像形成装置。
(11) Any one of (8) to (10), characterized in that the thickness of the electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming region is 1/10 or less of the thickness of the medium resistance elastic layer. An image forming apparatus according to claim 2.

【0044】(12)前記非画像形成領域相当部の電気
的絶縁層の膜厚が5μm〜500μmであることを特徴
とする(8)から(11)の何れかに記載の画像形成装
置。
(12) The image forming apparatus according to any one of (8) to (11), wherein the film thickness of the electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is 5 μm to 500 μm.

【0045】(13)前記中抵抗弾性層の硬度がJIS
K6301のA型硬度計により規定された硬度にて3
5〜75度を有する弾性体であることを特徴とする
(8)から(12)の何れかに記載の画像形成装置。
(13) The hardness of the medium resistance elastic layer is JIS
3 at the hardness specified by the K6301 type A hardness tester
The image forming apparatus according to any one of (8) to (12), which is an elastic body having an angle of 5 to 75 degrees.

【0046】(14)前記非画像形成領域相当部の電気
的絶縁層が導電性基体上に絶縁性塗料を塗布して形成さ
れた層であることを特徴とする(8)から(13)の何
れかに記載の画像形成装置。
(14) The electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is a layer formed by applying an insulating coating material on a conductive substrate. (8) to (13) The image forming apparatus according to any one of claims.

【0047】(15)前記非画像形成領域相当部の電気
的絶縁層が導電性基体上を絶縁性シート、又はテープで
被覆して形成された層であることを特徴とする(8)か
ら(13)の何れかに記載の画像形成装置。
(15) The electrical insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is a layer formed by covering the conductive substrate with an insulating sheet or a tape (8). The image forming apparatus according to any one of 13).

【0048】(16)前記感光体が、非単結晶質水素化
炭素膜で表面層を構成したアモルファスシリコン系感光
体であることを特徴とする(8)から(15)の何れか
に記載の画像形成装置。
(16) The photosensitive body is an amorphous silicon type photosensitive body having a surface layer composed of a non-single crystalline hydrogenated carbon film. (8) to (15) Image forming apparatus.

【0049】(17)前記非単結晶質水素化炭素膜の水
素量が41%〜60%であることを特徴とする(16)
に記載の画像形成装置。
(17) The amount of hydrogen in the non-single crystalline hydrogenated carbon film is 41% to 60% (16)
The image forming apparatus according to item 1.

【0050】(18)前記感光体が、電荷注入阻止層、
光導電層、表面層の3層で構成されていることを特徴と
する(8)から(17)の何れかに記載の画像形成装
置。
(18) The photoconductor is a charge injection blocking layer,
The image forming apparatus according to any one of (8) to (17), which comprises three layers of a photoconductive layer and a surface layer.

【0051】(19)前記感光体が、電荷注入阻止層、
電荷輸送層、電荷発生層、表面層の4層で構成されてい
ることを特徴とする(8)から(17)の何れかに記載
の画像形成装置。
(19) The photoconductor is a charge injection blocking layer,
The image forming apparatus according to any one of (8) to (17), which comprises four layers of a charge transport layer, a charge generation layer, and a surface layer.

【0052】[0052]

【発明の実施の形態】(1)画像形成装置 図1は画像形成装置の一例の概略構成模型図である。本
例の画像形成装置はレーザービームを用いたデジタル複
写機(キヤノン社製:GP405)である。該装置の概
略は、感光体の帯電手段としてローラー帯電器を備え、
現像手段として1成分ジャンピング現像方法を採用した
1成分現像器を備え、転写手段としてローラー帯電器、
ブレードクリーニング手段、帯電前露光手段を備えたネ
ガ帯電、ネガトナーによる反転現像方式の画像形成装置
(電子写真装置)である。また、感光体帯電器及び、ク
リーニング手段、感光体は1体型のユニットとなってい
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (1) Image Forming Apparatus FIG. 1 is a schematic structural model diagram of an example of an image forming apparatus. The image forming apparatus of this example is a digital copying machine using a laser beam (GP405, manufactured by Canon Inc.). The outline of the apparatus is equipped with a roller charger as a charging means for the photoreceptor,
A one-component developing device adopting a one-component jumping developing method is provided as a developing device, and a roller charger is provided as a transferring device.
An image forming apparatus (electrophotographic apparatus) of a reversal development type using a negative charging and negative toner, which is provided with a blade cleaning unit and a pre-charging exposure unit. Further, the photoconductor charger, the cleaning means, and the photoconductor are one-body type units.

【0053】具体的に、1は像担持体としての電子写真
感光体であり、本例のものは、導電性基体上にシリコン
原子を母体とする非単結晶材料で構成された光導電層を
有するドラム型のアモルファスシリコン系感光体(以
下、感光体と記す)である。この感光体1は矢印の時計
方向に所定の周速度で回転駆動される。
Specifically, 1 is an electrophotographic photosensitive member as an image bearing member, and in this example, a photoconductive layer composed of a non-single crystal material having silicon atoms as a matrix is formed on a conductive substrate. It is a drum type amorphous silicon type photoconductor (hereinafter referred to as a photoconductor). The photoconductor 1 is rotationally driven in the clockwise direction indicated by the arrow at a predetermined peripheral speed.

【0054】2は帯電前露光手段としてのイレーサーラ
ンプであり、感光体1の電気的メモリの消去をする。
Reference numeral 2 denotes an eraser lamp as pre-charging exposure means, which erases the electric memory of the photosensitive member 1.

【0055】3は感光体1に当接させた、ローラー状帯
電部材(帯電ローラー、ローラー帯電器)である。S1
は帯電部材3に対する帯電電圧印加電源であり、帯電部
材3の導電性基体に対して所定の帯電電圧を印加する。
これにより、回転する感光体1の外周面が、本例の場合
はマイナスの所定の電位に一様に接触帯電処理される。
Reference numeral 3 denotes a roller-shaped charging member (charging roller, roller charger) which is brought into contact with the photosensitive member 1. S1
Is a power source for applying a charging voltage to the charging member 3, and applies a predetermined charging voltage to the conductive substrate of the charging member 3.
As a result, the outer peripheral surface of the rotating photoconductor 1 is uniformly contact-charged to a predetermined negative potential in this example.

【0056】4は情報書き込み手段としてのレーザービ
ームスキャナーである。レーザービームスキャナー4
は、画像情報の時系列電気デジタル画素信号に対応して
変調したレーザー光Lを出力して、上記の感光体1の一
様帯電面を走査露光する。この走査露光により感光体1
の一様帯電面の露光明部の電位が減衰して露光暗部の電
位との電位コントラストにより走査露光パターンに対応
した静電潜像が感光体面に形成される。
Reference numeral 4 is a laser beam scanner as an information writing means. Laser beam scanner 4
Outputs the laser light L modulated in accordance with the time-series electric digital pixel signal of the image information to scan and expose the uniformly charged surface of the photoconductor 1 described above. By this scanning exposure, the photoconductor 1
The potential of the light-exposed area on the uniformly charged surface is attenuated, and an electrostatic latent image corresponding to the scanning-exposure pattern is formed on the surface of the photoconductor due to the potential contrast with the potential of the dark area.

【0057】5は現像手段であるトナー現像装置であ
る。本例では、ネガトナーによる反転現像方式の、1成
分ジャンピング現像方法を採用した1成分現像器であ
り、上記の感光体面の露光明部にトナーが付着して静電
潜像がトナー画像として反転現像される。51は現像剤
担持部材としての現像ローラー、S2は現像電圧印加電
源であり、現像ローラーに対して所定の現像電圧を印加
する。
A toner developing device 5 is a developing means. In this example, the one-component developing device adopts the one-component jumping developing method of the reversal developing method with negative toner, and the toner adheres to the exposed bright portion of the photoconductor surface to reversal develop the electrostatic latent image as a toner image. To be done. 51 is a developing roller as a developer carrying member, and S2 is a developing voltage applying power source, which applies a predetermined developing voltage to the developing roller.

【0058】6は給紙カセットであり、この給紙カセッ
ト内に積載収納されている記録材(転写紙)Pがピック
アップローラー61により一枚分離給紙され、シートパ
ス62、レジストセンサー63を経由して、感光体1と
転写手段としての転写ローラー7との当接部である転写
ニップ部に所定の制御タイミングで給送される。転写ロ
ーラー7には転写電圧印加電源S3から所定の転写電圧
が印加され、転写ニップ部を挟持搬送される記録材Pの
面に感光体1の面に形成されているトナー画像が静電転
写される。
Reference numeral 6 denotes a paper feeding cassette. A recording material (transfer paper) P stacked and stored in the paper feeding cassette is separated and fed by a pickup roller 61, and passes through a sheet path 62 and a registration sensor 63. Then, the toner is fed to the transfer nip portion, which is the contact portion between the photoconductor 1 and the transfer roller 7 as the transfer means, at a predetermined control timing. A predetermined transfer voltage is applied to the transfer roller 7 from the transfer voltage applying power source S3, and the toner image formed on the surface of the photoconductor 1 is electrostatically transferred to the surface of the recording material P that is nipped and conveyed in the transfer nip portion. It

【0059】8はドラムクリーニング装置であり、記録
材分離後の感光体1の面に残存する転写残トナーや紙粉
等の汚染物を除去して感光体面を清掃する。
A drum cleaning device 8 removes contaminants such as transfer residual toner and paper dust remaining on the surface of the photoconductor 1 after the recording material is separated, and cleans the photoconductor surface.

【0060】9は定着装置であり、転写ニップ部を通っ
て感光体1の面から分離された記録材Pが導入され、記
録材P面の未定着トナー画像を永久固着画像として加熱
定着する。定着装置9を通過した記録材はシートパス6
4を通って排紙トレイ10に排紙される。
A fixing device 9 introduces the recording material P separated from the surface of the photoconductor 1 through the transfer nip portion, and heats and fixes the unfixed toner image on the surface of the recording material P as a permanently fixed image. The recording material that has passed through the fixing device 9 is the sheet path 6
The sheet is discharged to the sheet discharge tray 10 through the sheet 4.

【0061】(2)帯電部材3 図2はブレードあるいはプレート状の帯電部材3の模型
図であり、31は導電性基体、32はこの導電性基体に
電気的に接触導通させて設けた、ブレード状の弾性を有
する中抵抗部材である。ブレード状の弾性中抵抗部材3
2は感光体1の面に所定の押圧力で接触させて帯電ニッ
プ部をNを形成させている。導電性基体31に電源S1
から所定の帯電電圧が印加されて、感光体1の面が所定
の極性・電位に接触帯電される。
(2) Charging Member 3 FIG. 2 is a model view of the blade- or plate-shaped charging member 3. Reference numeral 31 is a conductive base, and 32 is a blade provided in electrical contact with the conductive base. It is a medium resistance member having a shape of elasticity. Blade-shaped elastic medium resistance member 3
Reference numeral 2 forms a charging nip portion N by contacting the surface of the photoconductor 1 with a predetermined pressing force. The conductive substrate 31 has a power source S1
From the above, a predetermined charging voltage is applied, and the surface of the photoconductor 1 is contact-charged with a predetermined polarity and potential.

【0062】図3はローラー状の帯電部材(帯電ローラ
ー)3の模型図であり、31は導電性基体としての芯
金、32はこの芯金31の外回りに芯金31に電気的に
接触導通させてローラー状に設けた弾性を有する中抵抗
層である。弾性中抵抗層32は感光体1の面に所定の押
圧力で接触させて帯電ニップ部をNを形成させている。
導電性基体である芯金31に電源S1から所定の帯電電
圧が印加されて、感光体1の面が所定の極性・電位に接
触帯電される。
FIG. 3 is a model view of a roller-shaped charging member (charging roller) 3, 31 is a core metal as a conductive base, 32 is an outer periphery of the core metal 31 and is electrically connected to the core metal 31 for conduction. This is a medium resistance layer having elasticity and provided in a roller shape. The elastic medium resistance layer 32 is brought into contact with the surface of the photoconductor 1 with a predetermined pressing force to form the charging nip portion N.
A predetermined charging voltage is applied from the power source S1 to the cored bar 31 which is a conductive substrate, and the surface of the photoconductor 1 is contact-charged with a predetermined polarity and potential.

【0063】図2・図3において、aは感光体1の最大
画像形成領域幅、bはこの最大画像形成領域幅aより外
側の非画像形成領域を示している。帯電部材3の長さは
最大画像形成領域幅よりも長く設定してある。
2 and 3, a is the maximum image forming area width of the photoconductor 1 and b is a non-image forming area outside the maximum image forming area width a. The length of the charging member 3 is set longer than the maximum image forming area width.

【0064】前述したように被帯電体に接触して被帯電
体を帯電させる帯電部材においては、帯電部材の両端部
が被帯電体の周方向からみてニップの上流側、下流側に
加えて端部からの放電も加わり、そのために被帯電体の
表層が劣化が促進され被帯電体の削れが増大するため
に、帯電部材の端部の抵抗を高くし、被帯電体への放電
量を減少させ被帯電体の劣化を抑制しなければならず、
また非画像形成領域へのトナーの現像を防止するために
は画像形成領域から帯電部材の端部にかけて、被帯電体
の帯電電位を急激に低下させるのではなく、徐々に低下
させることにより電位差によるトナーの現像を防止する
ことが可能になり、飛散による機内汚染などが防止でき
る。
As described above, in the charging member that contacts the member to be charged and charges the member to be charged, both ends of the charging member are added in addition to the upstream side and the downstream side of the nip when viewed from the circumferential direction of the member to be charged. The discharge from the part is also added, which accelerates the deterioration of the surface layer of the charged body and increases the abrasion of the charged body.Therefore, the resistance at the end of the charging member is increased and the amount of discharge to the charged body is reduced. It is necessary to suppress the deterioration of the charged body,
Further, in order to prevent the development of toner to the non-image forming area, the charging potential of the member to be charged is not sharply lowered from the image forming area to the end of the charging member, but is gradually reduced by the potential difference. It is possible to prevent the development of the toner, and it is possible to prevent contamination inside the machine due to scattering.

【0065】そのための帯電部材の構成として本実施例
では、図2のブレード状帯電部材3、図3のローラー状
の帯電部材3において、被帯電体としての感光体1に対
して、導電性基体31上に直接弾性を有する中抵抗層3
2が接触し、中抵抗層32の端部は導電性基体31上に
形成された絶縁層33を介して感光体1に接触する帯電
部材としてある。
As the structure of the charging member therefor, in this embodiment, in the blade-shaped charging member 3 of FIG. 2 and the roller-shaped charging member 3 of FIG. Middle resistance layer 3 having elasticity directly on 31
2 is in contact, and the end portion of the medium resistance layer 32 is a charging member in contact with the photoconductor 1 via the insulating layer 33 formed on the conductive substrate 31.

【0066】上述のように端部が絶縁層33を介して中
抵抗層32が形成されていると、両端部の抵抗は高くな
り端部の放電量を減少させることが可能になり、また中
抵抗層32の感光体1の長手方向の導電性により導電性
基体31と中抵抗層32の間抵抗が端部に向かって徐々
に高くなり、そのために図4に示すように被帯電体であ
る感光体1の帯電電位も端部に向かって徐々に低下する
状態になり、上述の問題点を解消することが可能にな
る。
When the middle resistance layer 32 is formed with the insulating layer 33 at the ends as described above, the resistance at both ends is increased, and the discharge amount at the ends can be reduced. Due to the conductivity of the resistance layer 32 in the longitudinal direction of the photoreceptor 1, the resistance between the conductive substrate 31 and the intermediate resistance layer 32 gradually increases toward the end portion, and as a result, it is a charged body as shown in FIG. The charging potential of the photoconductor 1 also gradually decreases toward the end, and the above-mentioned problems can be solved.

【0067】さらに非画像形成領域bには少なくとも感
光体1に接触する中抵抗層32が存在しなくてはならな
い。中抵抗層32が存在しないと、当然のことながら端
部削れは多くなり、また感光体1の画像形成領域と非画
像形成領域での電位差が急激に大きくなり、上述の飛散
や融着などの問題が生じてしまう。
Further, in the non-image forming area b, at least the medium resistance layer 32 in contact with the photoconductor 1 must be present. If the intermediate resistance layer 32 does not exist, the edge scraping naturally increases, and the potential difference between the image forming area and the non-image forming area of the photoconductor 1 suddenly increases, causing the above-mentioned scattering and fusion. There will be problems.

【0068】また非画像形成領域bの長さは3mm以上
が好ましく、3mmよりも小さいと、端部に向かって感
光体上の電位が徐々に低下することなく、端部で急激に
電位が低下してしまい、上述の飛散や融着などの問題が
生じ、また端部の放電量も減少させる効果が少なく、端
部の削れも多くなる問題が生じる。より好ましくは非画
像形成領域bが10mm以上である。
Further, the length of the non-image forming area b is preferably 3 mm or more, and when it is smaller than 3 mm, the potential on the photosensitive member does not gradually decrease toward the end portion, but the potential decreases sharply at the end portion. As a result, the problems such as the above-mentioned scattering and fusion occur, the effect of reducing the discharge amount at the end is small, and the problem that the scraping of the end is large occurs. More preferably, the non-image forming area b is 10 mm or more.

【0069】また中抵抗層32は弾性を有していなけれ
ばならず、弾性を有していないと、非画像形成領域bと
画像形成領域aの中抵抗層32の感光体と境目の接触状
態が、絶縁層33の厚さの影響により段差が生じやす
く、その部分に放電が集中してしまい感光体1の劣化が
生じてしまうが、弾性を有していると、絶縁層33の膜
厚を吸収し感光体1との接触状態が均一になり、放電の
集中が防止でき、感光体1の劣化が抑制できる。
Further, the medium resistance layer 32 must have elasticity. If it does not have elasticity, the middle resistance layer 32 of the non-image forming area b and the image forming area a is in contact with the photoreceptor at the boundary. However, due to the influence of the thickness of the insulating layer 33, a step is likely to occur, and the discharge is concentrated on that portion, which causes deterioration of the photoconductor 1. However, if it has elasticity, the film thickness of the insulating layer 33 is increased. Is absorbed, the contact state with the photosensitive member 1 becomes uniform, the concentration of discharge can be prevented, and the deterioration of the photosensitive member 1 can be suppressed.

【0070】また、前記非画像領域相当部の絶縁層33
の膜厚が中抵抗層32の膜厚の1/10未満であること
が好ましい。絶縁層33の膜厚が1/10以上であると
中抵抗層32が弾性を有していても絶縁層の膜厚を吸収
できずに、感光体1との接触状態に段差が生じるので好
ましくない。より好ましくは1/20未満である。
Further, the insulating layer 33 in the portion corresponding to the non-image area
Is preferably less than 1/10 of the thickness of the medium resistance layer 32. When the film thickness of the insulating layer 33 is 1/10 or more, even if the intermediate resistance layer 32 has elasticity, the film thickness of the insulating layer cannot be absorbed and a step is generated in the contact state with the photoconductor 1, which is preferable. Absent. More preferably, it is less than 1/20.

【0071】さらに、絶縁層33の膜厚は5μm〜50
0μmであることが好ましい。5μmよりも小さいと、
膜厚が薄いので帯電電圧によっては絶縁層33が絶縁破
壊を生じやすく、電気的絶縁状態を保持できなくなりや
すいので好ましくなく、500μmよりも大きいと、中
抵抗層の弾性によっても絶縁層との段差を吸収しにく
く、感光体1との接触状態に段差が生じやすいので好ま
しくない。より好ましくは10〜200μmである。
Further, the thickness of the insulating layer 33 is 5 μm to 50 μm.
It is preferably 0 μm. If it is smaller than 5 μm,
Since the film thickness is thin, the insulating layer 33 is liable to cause dielectric breakdown depending on the charging voltage and the electrical insulating state cannot be maintained easily, which is not preferable. Is difficult to absorb and a step is likely to occur in the contact state with the photoconductor 1, which is not preferable. More preferably, it is 10 to 200 μm.

【0072】1)中抵抗層32 中抵抗層32を構成させる弾性体の材料として、例えば
ウレタン、SBR、EVA、SBS、SEBS、SI
S、TPO、EPDM、EPM、NBR、IR、BR、
シリコンゴム、エピクロルヒドリンゴム等の樹脂やゴム
類などがあり、必要な抵抗値に応じて、例えばカーボン
ブラック、カーボン繊維、金属酸化物、金属粉、過塩素
酸塩等の固体電解質や界面活性剤等の導電性付与剤を添
加したものなどがある。
1) Medium Resistance Layer 32 As the material of the elastic body forming the medium resistance layer 32, for example, urethane, SBR, EVA, SBS, SEBS, SI
S, TPO, EPDM, EPM, NBR, IR, BR,
There are resins and rubbers such as silicone rubber and epichlorohydrin rubber. Depending on the required resistance value, for example, carbon black, carbon fiber, metal oxides, metal powder, solid electrolytes such as perchlorate, surfactants, etc. And the like, to which the conductivity-imparting agent is added.

【0073】また、上記中抵抗層32は抵抗制御する層
や、帯電部材3の最表面に汚れ防止などの機能を有した
表面層を含んでいても構わず、その材料としては、例え
ばポリアミド、ポリウレタン、フッ素、ポリビニアルコ
ール、シリコン、NBR、EPDM、CR、IR、B
R、ヒドリンゴム等の樹脂やゴム類などがあり、そこに
例えば、導電性あるいは、絶縁性のフィラーや添加剤等
を混合し、所望の抵抗値を得たものがある。
Further, the medium resistance layer 32 may include a layer for controlling resistance and a surface layer having a function of preventing dirt on the outermost surface of the charging member 3. The material thereof is, for example, polyamide, Polyurethane, fluorine, polyvinyl alcohol, silicone, NBR, EPDM, CR, IR, B
There are resins such as R and hydrin rubber, rubbers, and the like, and for example, there are those obtained by mixing a conductive or insulating filler, an additive, or the like to obtain a desired resistance value.

【0074】この場合、抵抗制御層を含んでいても中抵
抗層として弾性を有していれば問題ない。
In this case, even if the resistance control layer is included, there is no problem as long as the middle resistance layer has elasticity.

【0075】弾性を有する中抵抗層32の硬度はJIS
K6301のA型硬度計により規定された硬度で35
〜70度が好ましい。70度よりも大きくては硬度が高
すぎて、絶縁層の膜厚との段差を吸収しにくく、感光体
1との接触状態を均一にすることが困難であり、また3
5度よりも小さいと圧縮永久歪みが悪化し、長期間放置
することで帯電部材が変形し、感光体1への帯電が不均
一になりやすいので好ましくなく、またタック性が増す
ので帯電部材の表面が汚染しやすく、さらに帯電部材の
表層に転写残トナーなどが付着し、ローラー表面が付着
物で覆われてしまうと、感光体1への帯電不良や、付着
物が多くなると、帯電部材の表面からトナーが飛散し、
機内を汚染したりするので好ましくない。
The hardness of the elastic medium resistance layer 32 is JIS
The hardness specified by the K6301 type A hardness tester is 35.
It is preferably about 70 degrees. If it is greater than 70 degrees, the hardness is too high, and it is difficult to absorb a step with the film thickness of the insulating layer, and it is difficult to make the contact state with the photoconductor 1 uniform.
If it is less than 5 degrees, the compression set is deteriorated, the charging member is deformed by leaving it for a long time, and the charge on the photoconductor 1 tends to become non-uniform, which is not preferable and the tackiness is increased. If the surface is easily contaminated and the transfer residual toner or the like adheres to the surface layer of the charging member and the roller surface is covered with the adhered matter, if the charging failure on the photoreceptor 1 or the adhered matter becomes large, Toner is scattered from the surface,
It is not preferable because it may contaminate the inside of the machine.

【0076】中抵抗層32の抵抗値は1×104〜1×
1010Ωであることが好ましい。1×1010Ωよりも大
きいと感光体1への帯電性が悪化し帯電不良を招くので
好ましくなく、1×104Ωよりも小さいと感光体1に
ピンホールが存在した場合に、そこに電流が集中し、他
の部分への帯電性が低下してしまい、またピンホール部
に過大な電流が流れるために絶縁破壊によって中抵抗層
32が劣化してしまうので好ましくない。
The resistance value of the intermediate resistance layer 32 is 1 × 10 4 to 1 ×.
It is preferably 10 10 Ω. If it is larger than 1 × 10 10 Ω, the charging property to the photoconductor 1 is deteriorated and charging failure is caused, which is not preferable, and if it is smaller than 1 × 10 4 Ω, when a pinhole exists in the photoconductor 1, it is present. The current is concentrated, the chargeability to other parts is deteriorated, and an excessive current flows in the pinhole portion, so that the intermediate resistance layer 32 is deteriorated due to dielectric breakdown, which is not preferable.

【0077】上述の抵抗値の測定方法は温度22.5
℃、湿度55%RHの条件下で、帯電部材3の表面にア
ルミ箔のような良導電性の薄膜を幅1cm長さ10cm
に切り、それを帯電部材2の表面に押し当て(ローラー
の場合は巻き付けて)、導電性基体31と薄膜の両端に
ディジタルメグオームハイテスタ(HIOKI製)を接
続し、直流電圧250V印加し、10秒後の値を読み取
る。
The above-mentioned resistance value measuring method is performed at a temperature of 22.5.
Under conditions of ℃ and 55% RH, a thin film having good conductivity such as aluminum foil is formed on the surface of the charging member 3 with a width of 1 cm and a length of 10 cm.
Cut it into pieces, press it against the surface of the charging member 2 (wrap it around in the case of a roller), connect the conductive base 31 and the thin film to both ends of the thin film megohm high tester (manufactured by HIOKI), and apply a DC voltage of 250 V to apply 10 V. Read the value in seconds.

【0078】上述の抵抗測定はJIS K6911に準
じて体積固有抵抗値を測定した。
For the above-mentioned resistance measurement, the volume resistivity value was measured according to JIS K6911.

【0079】絶縁層33の体積抵抗値は1×1010Ω.
cm以上が好ましい。1×1010Ω.cmよりも小さい
と、端部の放電状態がほとんど変化ないために本発明の
効果が得られにくいので好ましくない。
The volume resistance value of the insulating layer 33 is 1 × 10 10 Ω.
cm or more is preferable. 1 × 10 10 Ω. If it is smaller than cm, the effect of the present invention is hard to be obtained because the discharge state at the end hardly changes, which is not preferable.

【0080】2)導電性基体31 導電性基体31としては例えばアルミニウム、アルミニ
ウム合金、ステンレス、銅などの金属や、ガラス、樹
脂、紙などの非導電性の表面にアルミニウム、パラジウ
ム、ロジウム、金、白金などの金属を蒸着もしくはラミ
ネートすることにより導電性の薄膜を形成し、そこに帯
電電圧を印加するようにした導電性基体等が挙げられ
る。
2) Conductive Substrate 31 As the conductive substrate 31, for example, metal such as aluminum, aluminum alloy, stainless steel and copper, or non-conductive surface such as glass, resin and paper, aluminum, palladium, rhodium, gold, Examples thereof include a conductive substrate in which a conductive thin film is formed by vapor-depositing or laminating a metal such as platinum, and a charging voltage is applied thereto.

【0081】また、上記金属などの上に導電性顔料を分
散などを行い抵抗値が104Ω以下の樹脂や弾性を有す
る導電性ゴムなどを形成させたものも導電性基体として
用いる事ができる。
A conductive pigment may be dispersed on the above metal or the like to form a resin having a resistance value of 10 4 Ω or less or a conductive rubber having elasticity, which can be used as a conductive substrate. .

【0082】導電性基体31の抵抗値は1×103Ω以
下が好ましく、1×103Ωよりも大きいと導電性基体
31から中抵抗層32に良好に帯電電圧が印加されず、
感光体1への帯電不良を招くので好ましくない。
The resistance value of the conductive substrate 31 is preferably 1 × 10 3 Ω or less, and if it is larger than 1 × 10 3 Ω, the charging voltage is not favorably applied from the conductive substrate 31 to the intermediate resistance layer 32.
This is not preferable because it leads to poor charging of the photoreceptor 1.

【0083】3)絶縁層33 絶縁層33を構成させるための絶縁性塗料としては、例
えば、ポリアミド、ポリウレタン、フッ素、ポリビニル
アルコール、シリコン、NBR、EPDM、CR、I
R、BR、ヒドリンゴム等の樹脂やゴム類を挙げること
ができ、そこに例えば、絶縁性のフィラーや添加剤等を
混合しても良い。
3) Insulating Layer 33 As the insulating coating material for forming the insulating layer 33, for example, polyamide, polyurethane, fluorine, polyvinyl alcohol, silicone, NBR, EPDM, CR, I
Examples thereof include resins such as R, BR, and hydrin rubber, and rubbers, and an insulating filler, an additive, or the like may be mixed therein.

【0084】それらの塗料を導電性基体31の非画像形
成領域bに塗布する方法としては、塗布しない部分にテ
ープなどのマスキングを施し、ディッピングやスプレー
等で塗布する方法等が挙げられる。
As a method of applying the coating material to the non-image forming area b of the conductive substrate 31, there is a method of applying masking such as a tape to the non-image forming area and applying the coating by dipping or spraying.

【0085】また絶縁層33を構成させるための絶縁性
のシート、テープとしてはウレタン、PETやポリアミ
ド、フッ素樹脂テープ、シート等を挙げることができ、
それらを導電性基体31上に張り付ける、あるいは導電
性基体31上に接着剤などを使用して被覆する方法が挙
げられる。
Examples of the insulating sheet and tape for forming the insulating layer 33 include urethane, PET, polyamide, fluororesin tape, sheet, and the like.
Examples thereof include a method of sticking them on the conductive substrate 31 or a method of coating the conductive substrate 31 with an adhesive or the like.

【0086】絶縁層33は感光体1と接触している中抵
抗層32の領域から端部にかけては必要であるが、導電
性基体22に印加させる帯電電圧を阻害しなければ端部
よりはみ出しても特にかまわない。
The insulating layer 33 is necessary from the region of the medium resistance layer 32 which is in contact with the photosensitive member 1 to the end, but if it does not interfere with the charging voltage applied to the conductive substrate 22, the insulating layer 33 extends beyond the end. It doesn't really matter.

【0087】絶縁層33上に形成された中抵抗層32と
絶縁層33とは、接着剤等で接着させても構わないし、
特になにも処理をしないで、そのまま絶縁層33上に中
抵抗層32を形成させた構成でも構わない。
The medium resistance layer 32 formed on the insulating layer 33 and the insulating layer 33 may be adhered to each other with an adhesive or the like.
The structure may be such that the intermediate resistance layer 32 is directly formed on the insulating layer 33 without any treatment.

【0088】(3)有機電子写真感光体 被帯電体としての電子写真感光体は例えば導電性支持体
と該支持体上に形成された感光層を有する有機電子写真
感光体を使用する事ができる。
(3) Organic Electrophotographic Photoreceptor As the electrophotographic photoreceptor to be charged, for example, an organic electrophotographic photoreceptor having a conductive support and a photosensitive layer formed on the support can be used. .

【0089】上記導電性支持体としては通常の画像形成
装置が備える電子写真感光体に用いられる導電性支持体
と同様のものを用いることができる。具体的には鉄、
銅、ニッケル、アルミニウム、チタン、スズ、アンチモ
ン、インジウム、鉛、亜鉛、金、銀などの金属や合金、
あるいはそれらの酸化物やカーボン、導電性樹脂などの
導電性材料を成形加工した導電性支持体や、所望の形状
および物性の基材表面に前記導電性材料を適当な方法で
塗布したり蒸着して得られる導電性支持体が使用可能で
ある。形状としてはドラム状、ベルト状、シート状等が
挙げられるが、本発明においてはドラム状の導電性支持
体が好ましく用いられる。
As the above-mentioned conductive support, the same conductive support as that used for an electrophotographic photosensitive member included in an ordinary image forming apparatus can be used. Specifically, iron,
Metals and alloys such as copper, nickel, aluminum, titanium, tin, antimony, indium, lead, zinc, gold and silver,
Alternatively, those oxides, carbons, conductive supports formed by molding conductive materials such as conductive resins, or coating or vapor-depositing the conductive materials on the surface of a base material having a desired shape and physical properties by an appropriate method. The conductive support obtained as described above can be used. Examples of the shape include a drum shape, a belt shape, and a sheet shape. In the present invention, a drum-shaped conductive support is preferably used.

【0090】上記、感光層は少なくとも上記導電性支持
体に接する側に光キャリアを生成する電荷発生材料とキ
ャリアを輸送する電荷輸送材料とを共に含有する層(以
下電荷発生層、輸送層という)を有している。前記電荷
発生、輸送の代わりに光キャリアを生成する電荷発生材
料を含有する電荷発生層とキャリアを輸送する電荷輸送
輸送材料を含有する電荷輸送層とが積層された構成を用
いても良い。その場合、電荷発生層と電荷輸送層のどち
らを導電性支持体に接する側に形成してもよい。
The above-mentioned photosensitive layer is a layer containing both a charge generating material for generating photocarriers and a charge transporting material for transporting carriers at least on the side in contact with the conductive support (hereinafter referred to as charge generating layer and transporting layer). have. Instead of the charge generation and transport, a structure in which a charge generation layer containing a charge generation material that generates photocarriers and a charge transport layer containing a charge transport material that transports carriers are stacked may be used. In that case, either the charge generation layer or the charge transport layer may be formed on the side in contact with the conductive support.

【0091】さらに上記電荷発生層、輸送層と導電性支
持体との間に導電性支持体側から順に導電層および下引
き層を設けることができる。また、導電層と下引き層は
1つの層にまとめることもできる。ここで本明細書にお
いて感光層とは上記導電性支持体上に形成される全ての
層をまとめた概念として用いられる。
Further, a conductive layer and an undercoat layer may be provided between the charge generation layer, the transport layer and the conductive support in this order from the conductive support side. Further, the conductive layer and the undercoat layer can be combined into one layer. In this specification, the photosensitive layer is used as a general concept of all layers formed on the conductive support.

【0092】上記電荷発生材料として具体的には、フタ
ロシアニン顔料、アゾ顔料、アモルファスシリコン、ト
リフェニルメタン色素などが挙げられる。
Specific examples of the charge generating material include phthalocyanine pigments, azo pigments, amorphous silicon, triphenylmethane dyes and the like.

【0093】上記電荷輸送材料として、具体的にはピレ
ン化合物、カルバゾール化合物、ヒドラゾン化合物、ト
リフェニルアミン化合物、スチリル化合物、スチルベン
化合物等が挙げられる。
Specific examples of the charge transport material include pyrene compounds, carbazole compounds, hydrazone compounds, triphenylamine compounds, styryl compounds, stilbene compounds and the like.

【0094】また、バインダー樹脂として、具体的には
ポリエステル、ポリウレタン、ポリアリレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリカーボネ
ート、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂
等が挙げられる。さらに、反応性のエポキシ、(メタ)
アクリルモノマーやオリゴマーも混合後考課して用いる
ことが可能である。
Specific examples of the binder resin include polyester, polyurethane, polyarylate, polyethylene, polystyrene, polybutadiene, polycarbonate, phenol resin, epoxy resin and butyral resin. In addition, reactive epoxy, (meth)
Acrylic monomers and oligomers can also be used after mixing them.

【0095】上記電荷発生、輸送層を電荷発生層と電荷
輸送層の2層構造に代えることが可能である。前記電荷
発生層は上記電荷発生材料のみで構成される場合もある
が、それ以外の場合には上記バインダー樹脂等を含有す
ることができる。
The charge generation / transport layer may be replaced with a two-layer structure of a charge generation layer and a charge transport layer. The charge generation layer may be composed of only the charge generation material, but in other cases, it may contain the binder resin or the like.

【0096】電荷発生層における電荷発生材料の含有量
は、層構成材料全量に対して30〜100質量%である
ことが好ましい。また、電荷発生層の厚さは、好ましく
は0.1〜0.5μm程度である。
The content of the charge generating material in the charge generating layer is preferably 30 to 100% by mass based on the total amount of the layer constituting material. Further, the thickness of the charge generation layer is preferably about 0.1 to 0.5 μm.

【0097】上記、電荷輸送層は、バインダー樹脂と、
前記バインダー樹脂に対して、好ましくは30〜120
質量%の電荷輸送材料とを含有し、さらに、必要に応じ
て通常の電荷輸送層が含有するのと同様な各種任意成分
を含有することができる。電荷輸送層の厚さは10〜3
0μm程度である事が好ましい。
The charge transport layer comprises a binder resin and
With respect to the binder resin, preferably 30 to 120
The charge transport material may be contained in an amount of% by mass, and if necessary, various optional components similar to those contained in a usual charge transport layer may be contained. The thickness of the charge transport layer is 10-3
It is preferably about 0 μm.

【0098】また、上記任意に設けられる下引き層は例
えば導電性支持体から注入される電荷が感光層表面に帯
電される電荷に影響を及ぼすのを防ぐために設けられる
層であり、主に上記同様のバインダー樹脂から構成可能
であり前記導電性材料やアクセプターを含有してもよ
い。下引き層の厚さは好ましくは0.1〜1.0μm程
度であることが好ましい。
The optional undercoat layer is a layer provided for preventing, for example, charges injected from the conductive support from affecting charges charged on the surface of the photosensitive layer. It can be composed of the same binder resin and may contain the above-mentioned conductive material or acceptor. The thickness of the undercoat layer is preferably about 0.1 to 1.0 μm.

【0099】さらに、上記導電層は例えば上記導電性支
持体の表面状態を改善するために設けられる層であり、
上記同様のバインダー樹脂に前記導電性材料が分散され
た構成を採る事が可能である。導電層の厚さは10〜2
0μm程度である事が好ましい。
Further, the conductive layer is, for example, a layer provided to improve the surface condition of the conductive support,
It is possible to adopt a structure in which the conductive material is dispersed in the same binder resin as described above. The thickness of the conductive layer is 10-2
It is preferably about 0 μm.

【0100】本発明に用いられる電子写真感光体を製造
する方法としては、通常、導電性支持体上に、導電層、
下引き層、電荷発生、輸送層、電荷注入層を蒸着、塗布
等で積層する方法が用いられる。積層の方法について
は、具体的には塗布にはバーコーター、ナイフコータ
ー、ロールコーター、アトライター、スプレー、浸漬塗
布、静電塗布、粉体塗布等が用いられる。上記塗布方法
は各層毎にその構成成分を、有機溶媒等に溶解、分散さ
せた溶液、分散液等を上記の方法より塗布した後、溶媒
を乾燥などによって除去することによって行うことがで
きる。あるいは、反応硬化型のバインダー樹脂を用いる
場合には、各層構成成分を樹脂原料成分および必要に応
じて添加される適当な有機溶媒等に溶解、分散させた溶
液、分散液等を、上記の方法により塗布した後、例えば
熱、光等により樹脂原料を反応硬化させ、さらに必要に
応じて溶媒を乾燥等によって除去すればよい。
The method for producing the electrophotographic photosensitive member used in the present invention is usually a conductive support, a conductive layer, and
A method of laminating an undercoat layer, a charge generation layer, a transport layer and a charge injection layer by vapor deposition, coating, etc. is used. Regarding the lamination method, specifically, a bar coater, a knife coater, a roll coater, an attritor, a spray, a dip coating, an electrostatic coating, a powder coating or the like is used for coating. The above-mentioned coating method can be carried out by applying a solution or dispersion in which the constituents of each layer are dissolved or dispersed in an organic solvent or the like and then removing the solvent by drying or the like. Alternatively, when a reaction-curable binder resin is used, each layer constituent component is dissolved or dispersed in a resin raw material component and an appropriate organic solvent or the like added as necessary, and a solution or dispersion is prepared by the method described above. After the application, the resin raw material is reacted and cured by, for example, heat or light, and the solvent may be removed by drying or the like, if necessary.

【0101】(4)アモルファスシリコン(a−Si)
系感光体 図5の(A)と(B)はそれぞれアモルファスシリコン
系感光体の光受容部材の模式的な断面図の一例であり、
(A)は光導電層が機能分離されていない単一層からな
る単層型光受容部材である。また(B)は光導電層が電
荷発生層と電荷輸送層とに分離された機能分離型光受容
部材である。
(4) Amorphous silicon (a-Si)
System Photoreceptor FIG. 5A and FIG. 5B are examples of schematic cross-sectional views of a light receiving member of an amorphous silicon photoconductor,
(A) is a single-layer type light receiving member in which the photoconductive layer is a single layer in which the functions are not separated. Further, (B) is a function-separated type light-receiving member in which the photoconductive layer is separated into a charge generation layer and a charge transport layer.

【0102】(A)に示すアモルファスシリコン系感光
体は、アルミニウム等の導電性基体101と、導電性基
体101の表面に順次積層された電荷注入阻止層102
と光導電層103及び表面層104からなる。ここで、
電荷注入阻止層102は導電性基体101から光導電層
103への電荷の注入を阻止するものであり、必要に応
じて設けられる。また、光導電層103は少なくともシ
リコン原子を含む非晶質材料で構成され、光導電性を示
すものである。さらに表面層104は炭素原子と水素原
子を含むa−C:H膜からなり、電子写真装置における
顕像を保持する能力をもつものである。
The amorphous silicon type photoreceptor shown in (A) is a conductive substrate 101 made of aluminum or the like, and a charge injection blocking layer 102 sequentially laminated on the surface of the conductive substrate 101.
And a photoconductive layer 103 and a surface layer 104. here,
The charge injection blocking layer 102 blocks injection of charges from the conductive substrate 101 into the photoconductive layer 103, and is provided as necessary. The photoconductive layer 103 is made of an amorphous material containing at least silicon atoms and exhibits photoconductivity. Further, the surface layer 104 is made of an aC: H film containing carbon atoms and hydrogen atoms, and has the ability to retain a visible image in an electrophotographic apparatus.

【0103】(B)に示すアモルファスシリコン系感光
体は、光導電層103が少なくともシリコン原子と炭素
原子を含む非晶質材料で構成された電荷輸送層106
と、少なくともシリコン原子を含む非晶質材料で構成さ
れた電荷発生層105が順次積層された構成の機能分離
型とした光受容部材である。この光受容部材に光照射す
る主として電荷発生層105で生成されたキャリアが電
荷輸送層106を通過して導電性基体101に至る。
In the amorphous silicon type photosensitive member shown in (B), the photoconductive layer 103 has a charge transport layer 106 made of an amorphous material containing at least silicon atoms and carbon atoms.
And a charge generation layer 105 composed of an amorphous material containing at least silicon atoms, which are sequentially stacked, and are a function-separated type light receiving member. Carriers mainly generated in the charge generation layer 105 that irradiate the light receiving member with light pass through the charge transport layer 106 and reach the conductive substrate 101.

【0104】なお、表面層104の成膜ガスとしては、
CH4、C26、C38、C410等のガス、及びガス化
し得る炭化水素が有効に使用されるものとして挙げられ
る。また、これらの炭素供給用の原料ガスを必要に応じ
てH2,He,Ar,Ne等のガスにより希釈して使用
してもよい。
As the film forming gas for the surface layer 104,
Gases such as CH 4 , C 2 H 6 , C 3 H 8 and C 4 H 10 and hydrocarbons that can be gasified are mentioned as being effectively used. In addition, these raw material gases for supplying carbon may be diluted with a gas such as H 2 , He, Ar, or Ne, if necessary.

【0105】また、上記の感光体は表面層を有さなくて
も構わないが、好ましくは非単結晶質水素化炭素膜の表
面層を有した方が好ましく、さらに好ましくは非単結晶
質水素化炭素膜の水素量が41〜60%である表面層を
有した感光体である。
The above-mentioned photoreceptor may not have a surface layer, but preferably has a surface layer of non-single crystalline hydrogenated carbon film, more preferably non-single crystalline hydrogen. The photoconductor has a surface layer in which the hydrogen content of the carbon dioxide film is 41 to 60%.

【0106】上記の表面層を有することでさらの感光体
の表層は硬くなり、削れの抑制効果が図られ、また表層
に親水基が存在しないために放電生成物が表層に付着し
にくく画像流れが抑制され、特に非単結晶質水素化炭素
膜の水素量が41〜60%である範囲であると、その効
果がさらに発揮されるので好ましい。水素量が41%よ
りも少ないと削れが多くなる傾向があるため、感光体の
寿命が短くなったり、60%よりも多いと放電生成物の
堆積による画像流れが生じやすいので好ましくない。
By having the above-mentioned surface layer, the surface layer of the photoconductor becomes harder, and the effect of suppressing scraping is achieved, and since there is no hydrophilic group in the surface layer, the discharge products are less likely to adhere to the surface layer and the image flow is reduced. Is suppressed, and it is particularly preferable that the amount of hydrogen in the non-single crystalline hydrogenated carbon film is in the range of 41 to 60% because the effect is further exhibited. If the hydrogen content is less than 41%, the abrasion tends to increase, so that the life of the photoconductor is shortened, and if it exceeds 60%, image deletion due to the accumulation of discharge products tends to occur, which is not preferable.

【0107】図6は、プラズマCVD法による光受容部
材の一般的堆積装置の一例を模式的に示した図である。
FIG. 6 is a diagram schematically showing an example of a general apparatus for depositing a light receiving member by the plasma CVD method.

【0108】この装置は大別すると、堆積装置210
0、原料ガスの供給装置2200、反応容器2110内
を減圧するための排気装置(図示せず)から構成されて
いる。堆積装置2100中の反応容器2110内にアー
スに接続された円筒状被成膜基体2112、円筒状被成
膜基体の加熱用ヒーター2113、原料ガス導入管21
14が設置され、さらに高周波マッチングボックス21
15を介して高周波電源2120が接続されている。
This apparatus is roughly classified into a deposition apparatus 210.
0, a source gas supply device 2200, and an exhaust device (not shown) for reducing the pressure inside the reaction vessel 2110. A cylindrical film-forming substrate 2112, a heater 2113 for heating the cylindrical film-forming substrate, and a source gas introducing pipe 21 which are connected to earth in a reaction vessel 2110 in the deposition apparatus 2100.
14 is installed, and a high frequency matching box 21 is further installed.
A high frequency power supply 2120 is connected via 15.

【0109】原料ガス供給装置2200は、SiH4
2、CH4、NO、B26、CH4等の原料ガスボンベ
2221〜2226とバルブ2231〜2236、22
41〜2246、2251〜2256及びマスフローコ
ントローラー2211〜2216から構成され、各構成
ガスのボンベはバルブ2260を介して反応容器211
0内のガス導入管2114に接続されている。
The source gas supply device 2200 is made of SiH 4 ,
Source gas cylinders 2221 to 2226 such as H 2 , CH 4 , NO, B 2 H 6 , and CH 4 and valves 2231 to 2236, 22
41 to 2246, 2251 to 2256 and mass flow controllers 2211 to 2216, and a cylinder of each constituent gas is a reaction vessel 211 via a valve 2260.
0 is connected to the gas introduction pipe 2114.

【0110】円筒状被成膜基体2112は導電性受け台
2123の上に設置されることによってアースに接続さ
れる。
The cylindrical film-forming substrate 2112 is installed on the conductive pedestal 2123 to be grounded.

【0111】以下、図6の装置を用いた、光受容部材の
形成方法の手順の一例について説明する。
An example of the procedure of the method for forming the light receiving member using the apparatus shown in FIG. 6 will be described below.

【0112】反応容器2110内に円筒状被成膜基体2
112を設置し、不図示の排気装置(例えば真空ポン
プ)により反応容器2110内を排気する。続いて円筒
状被成膜基体加熱用ヒーター2113により円筒状被成
膜基体2112の温度を20℃〜500℃の所望の温度
に制御する。次いで、光受容部材形成用の原料ガスを反
応容器2110内に流入させるにはガスボンベのバルブ
2231〜2236、反応容器のリークバルブ2117
が閉じられていることを確認しまた、流入バルブ224
1〜2246、流出バルブ2251〜2256、補助バ
ルブ2260が開かれていることを確認し、メインバル
ブ2118を開いて反応容器2110及びガス供給配管
2116を排気する。
The cylindrical film-forming substrate 2 is placed in the reaction vessel 2110.
112 is installed and the inside of the reaction vessel 2110 is exhausted by an exhaust device (not shown) (for example, a vacuum pump). Subsequently, the temperature of the cylindrical film-forming substrate 2112 is controlled to a desired temperature of 20 ° C. to 500 ° C. by the cylindrical film-forming substrate heating heater 2113. Next, in order to allow the raw material gas for forming the light receiving member to flow into the reaction vessel 2110, gas cylinder valves 2231 to 2236 and a reaction vessel leak valve 2117.
Check that the inlet valve 224 is closed.
1 to 2246, the outflow valves 2251 to 2256, and the auxiliary valve 2260 are confirmed to be opened, the main valve 2118 is opened, and the reaction container 2110 and the gas supply pipe 2116 are exhausted.

【0113】その後、真空系2119の読みが5×10
-6Torrになった時点で補助バルブ2260、流出バ
ルブ2251〜2256を閉じる。その後ガスボンベ2
221〜2226より各ガスをバルブ2231〜223
6を開いて導入し圧力調整器2261〜2266により
各ガス圧を2kg/cm2に調整する。次に流入バルブ
2241〜2246を徐々に開けて各ガスをマスフロー
コントローラー2211〜2216内に導入する。
Thereafter, the reading of the vacuum system 2119 is 5 × 10.
At the time of -6 Torr, the auxiliary valve 2260 and the outflow valves 2251 to 2256 are closed. Then gas cylinder 2
Valves 2231 to 223 from 221 to 2226
6 is opened and introduced, and each gas pressure is adjusted to 2 kg / cm 2 by the pressure adjusters 2261 to 2266. Next, the inflow valves 2241 to 2246 are gradually opened to introduce the respective gases into the mass flow controllers 2211 to 2216.

【0114】以上の手順によって成膜準備を完了した
後、円筒状被成膜基体2112上に、まず光導電層の形
成を行う。
After the film formation preparation is completed by the above procedure, the photoconductive layer is first formed on the cylindrical film formation base 2112.

【0115】すなわち、円筒状被成膜基体2112が所
望の温度になったところで、各流出バルブ2251〜2
256のうちの必要なものと補助バルブ2260とを徐
々に開き、各ガスボンベ2221〜2226から所望の
原料ガスをガス導入管2114を介して反応容器211
0内に導入する。次に、各マスフローコントローラー2
211〜2216によって、各原料ガスが所望の流量に
なるように調整する。その際、反応容器2110内が1
Torr以下の所望の圧力になるように、真空計211
9を見ながらメインバルブ2118の開口を調整する。
内圧が安定したところで、高周波電源2120を所望の
電力に設定して例えば、周波数1MHz〜450MHz
の高周波電力を高周波マッチングボックス2115を通
じてカソード電極2111に供給し高周波グロー放電を
生起させる。この放電エネルギーによって反応容器21
10内に導入させた各原料ガスを分解され、円筒状被成
膜基体2112上に所望のシリコン原子を主成分とする
光導電層が堆積される。所望の膜厚の形成が行われた
後、高周波電力の供給を止め、各流出バルブ2251〜
2256を閉じて反応容器2110への各原料ガスの流
入を止め、光導電層の形成を終える。
That is, when the cylindrical film-forming substrate 2112 reaches a desired temperature, each outflow valve 2251-2
Necessary ones of 256 and the auxiliary valve 2260 are gradually opened, and a desired raw material gas is supplied from each of the gas cylinders 2221 to 2226 via the gas introduction pipe 2114 to the reaction vessel 211.
Install within 0. Next, each mass flow controller 2
211 to 2216 are adjusted so that each source gas has a desired flow rate. At that time, the inside of the reaction vessel 2110 is 1
The vacuum gauge 211 should be adjusted to the desired pressure below Torr.
While watching 9, the opening of the main valve 2118 is adjusted.
When the internal pressure is stable, the high frequency power supply 2120 is set to a desired power and, for example, the frequency is 1 MHz to 450 MHz.
The high frequency electric power of is supplied to the cathode electrode 2111 through the high frequency matching box 2115 to cause high frequency glow discharge. This discharge energy causes the reaction container 21
The source gases introduced into the chamber 10 are decomposed, and a photoconductive layer containing desired silicon atoms as a main component is deposited on the cylindrical film-forming substrate 2112. After the desired film thickness is formed, the supply of high frequency power is stopped and each outflow valve 2251-
2256 is closed to stop the flow of each source gas into the reaction vessel 2110, and the formation of the photoconductive layer is completed.

【0116】光導電層の組成や膜厚は公知のものを使用
することができる。
Known compositions and film thicknesses of the photoconductive layer can be used.

【0117】上記光導電層に表面層を形成する場合も基
本的には上記の操作を繰り返せばよい。
When the surface layer is formed on the photoconductive layer, the above operation may be basically repeated.

【0118】図7は、高周波電源を用いたプラズマCV
D法による光受容部材の堆積装置の別の一例を模式的に
示した図である。
FIG. 7 shows a plasma CV using a high frequency power source.
It is the figure which showed typically another example of the deposition apparatus of the light receiving member by D method.

【0119】この装置は大別すると、堆積層3100、
原料ガスの供給装置3200、反応応容器3110内を
減圧するための排気装置(図示せず)から構成されてい
る。堆積装置3100中の反応容器3110内にはアー
スに接続された円筒状被成膜基体3112、円筒状被成
膜基体の加熱用ヒーター3113、原料ガス導入管31
14が設置され、さらに高周波マッチングボックス31
15を介して高周波電源3120が接続されている。
This apparatus is roughly classified into a deposited layer 3100,
It comprises a source gas supply device 3200 and an exhaust device (not shown) for reducing the pressure inside the reaction container 3110. In the reaction vessel 3110 in the deposition apparatus 3100, a cylindrical film-forming target substrate 3112 connected to the ground, a heater 3113 for heating the cylindrical film-forming target substrate, and a source gas introducing pipe 31.
14 is installed and a high frequency matching box 31 is further installed.
A high frequency power supply 3120 is connected via 15.

【0120】原料ガス供給装置3200は、SiH4
2、CH4、NO、B26、CH4等の原料ガスボンベ
3221〜3226とバルブ3231〜3236、32
41〜3246,3251〜3256及びマスフローコ
ントローラー3211〜3216から構成され、各構成
ガスのボンベはバルブ3260を介して反応容器311
0内のガス導入管3114に接続されている。
The source gas supply device 3200 is composed of SiH 4 ,
Source gas cylinders 3221 to 326, such as H 2 , CH 4 , NO, B 2 H 6 , and CH 4 and valves 3231 to 236, 32
41-3246, 3251-3256, and mass flow controllers 3211-3216, and the cylinder of each constituent gas is a reaction container 311 via a valve 3260.
0 is connected to the gas introduction pipe 3114.

【0121】円筒状被成膜基体3112は導電性受け台
3123の上に設置されることによってアースに接続さ
れる。また、カソード電極3111は導電性材料からな
り、絶縁材料3121によって絶縁されている。
The cylindrical film-forming substrate 3112 is installed on the conductive pedestal 3123 to be grounded. The cathode electrode 3111 is made of a conductive material and is insulated by the insulating material 3121.

【0122】導電性受け台3123に用いる導電性材料
としては、銅、アルミニウム、金、白金、鉛、ニッケ
ル、コバルト、鉄、クロム、モリブデン、チタン、ステ
ンレス及び、これらの材料の2種類以上の複合材料等が
使用できる。
The conductive material used for the conductive pedestal 3123 is copper, aluminum, gold, platinum, lead, nickel, cobalt, iron, chromium, molybdenum, titanium, stainless steel, or a composite of two or more of these materials. Materials can be used.

【0123】カソード電極3111を絶縁するための絶
縁材料としては、セラミックス、テフロン(登録商
標)、マイカ、ガラス、石英、シリコーンゴム、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等の絶縁材が使用できる。
As an insulating material for insulating the cathode electrode 3111, an insulating material such as ceramics, Teflon (registered trademark), mica, glass, quartz, silicone rubber, polyethylene or polypropylene can be used.

【0124】使用されるマッチングボックス3115は
高周波電源3120と負荷の整合をとることができるも
のであれば如何なる構成のものでも好適に使用できる。
また、整合をとる方法としては、自動的に調整されるも
のが好適であるが手動で調整されるものであっても本発
明の効果には全く影響はない。
As the matching box 3115 used, any structure can be preferably used as long as it can match the load with the high frequency power supply 3120.
Further, as a method for obtaining matching, a method of automatically adjusting is preferable, but a method of manually adjusting does not affect the effect of the present invention at all.

【0125】高周波電力が印加されるカソード電極31
11の材質としては銅、アルミニウム、金、銀、白金、
鉛、ニッケル、コバルト、鉄、クロム、モリブデン、チ
タン、ステンレス及び、これらの材料の2種類以上の複
合材料等が使用できる。また、形状は円筒形状が好まし
いが必要に応じて楕円形状、多角形状を用いてもよい。
Cathode electrode 31 to which high frequency power is applied
The material of 11 is copper, aluminum, gold, silver, platinum,
Lead, nickel, cobalt, iron, chromium, molybdenum, titanium, stainless steel, and a composite material of two or more kinds of these materials can be used. The shape is preferably a cylindrical shape, but an elliptical shape or a polygonal shape may be used if necessary.

【0126】カソード電極3111は必要に応じて冷却
手段を設けてもよい。具体的な冷却手段としては水、空
気、液体窒素、ペルチェ素子等による冷却が必要に応じ
て用いられる。
The cathode electrode 3111 may be provided with a cooling means if necessary. As a specific cooling means, cooling with water, air, liquid nitrogen, a Peltier element or the like is used as needed.

【0127】本発明に用いる円筒状被成膜基体3112
は、使用目的に応じた材質や形状を有するものであれば
よい。例えば、形状に関しては、電子写真用感光体を製
造する場合には、円筒状が望ましいが、必要に応じて平
板状や、その他の形状であってもよい。また、材質にお
いては、銅、アルミニウム、金、銀、白金、鉛、ニッケ
ル、コバルト、鉄、クロム、モリブデン、チタン、ステ
ンレス及びこれらの材料の2種類以上の複合材料、さら
にはポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、
セルロースアセテーロ、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ガラス、石
英、セラミックス、紙等の絶縁材料に導電性材料を被覆
したもの等が使用できる。
Cylindrical film forming substrate 3112 used in the present invention
May have any material or shape according to the purpose of use. For example, regarding the shape, when an electrophotographic photosensitive member is manufactured, a cylindrical shape is desirable, but a flat plate shape or another shape may be used as necessary. As for the material, copper, aluminum, gold, silver, platinum, lead, nickel, cobalt, iron, chromium, molybdenum, titanium, stainless steel, and a composite material of two or more kinds of these materials, and further polyester, polyethylene, polycarbonate. ,
An insulating material such as cellulose acetero, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, glass, quartz, ceramics or paper coated with a conductive material can be used.

【0128】以下、図7の装置を用いた、光受容部材の
形成方法の手順の一例について説明する。
An example of the procedure of the method for forming the light receiving member using the apparatus shown in FIG. 7 will be described below.

【0129】反応容器3110内に円筒状被成膜基体3
112を設置し、不図示の排気装置(例えば真空ポン
プ)により反応容器3110内を排気する。続いて円筒
状被成膜基体加熱用ヒーター3113により円筒状被成
膜基体3112の温度を20℃〜500℃の所望の温度
に制御する。
The cylindrical film-forming substrate 3 is placed in the reaction vessel 3110.
112 is installed and the inside of the reaction container 3110 is exhausted by an exhaust device (not shown) (for example, a vacuum pump). Then, the temperature of the cylindrical film-forming substrate 3112 is controlled to a desired temperature of 20 ° C. to 500 ° C. by the cylindrical film-forming substrate heating heater 3113.

【0130】光受容部材形成用の原料ガスを反応容器3
110内に流入させるにはガスボンベのバルブ3231
〜3236、反応容器のリークバルブ2117が閉じら
れていることを確認しまた、流入バルブ3241〜32
46、流出バルブ3251〜3256、補助バルブ32
60が開かれていることを確認し、メインバルブ311
8を開いて反応容器3110及びガス供給配管3116
を排気する。
A raw material gas for forming the light receiving member is supplied to the reaction vessel 3
In order to make it flow into 110, valve 3231 of gas cylinder
~ 3236, make sure that the leak valve 2117 of the reaction vessel is closed, and inflow valves 3241 to 32
46, outflow valves 3251 to 256, auxiliary valve 32
Check that 60 is open, and then open the main valve 311.
8 is opened and the reaction container 3110 and the gas supply pipe 3116 are opened.
Exhaust.

【0131】次に真空系3119の読みが5×10-6
orrになった時点で補助バルブ3260、流出バルブ
3251〜3256を閉じる。その後ガスボンベ322
1〜3226より各ガスをバルブ3231〜3236を
開いて導入し圧力調整器3261〜3266により各ガ
ス圧を2kg/cm2に調整する。次に流入バルブ32
41〜3246を徐々に開けて各ガスをマスフローコン
トローラー3211〜3216内に導入する。
Next, the reading of the vacuum system 3119 is 5 × 10 -6 T
When it becomes orrr, the auxiliary valve 3260 and the outflow valves 3251 to 256 are closed. Then gas cylinder 322
Each gas is introduced from 1 to 3226 by opening the valves 3231 to 236, and each gas pressure is adjusted to 2 kg / cm 2 by the pressure adjusters 3261 to 3266. Next, the inflow valve 32
41 to 246 are gradually opened to introduce each gas into the mass flow controllers 3211 to 3216.

【0132】以上の手順によって成膜準備を完了した
後、円筒状被成膜基体3112上に光導電層の形成を行
う。
After the film-forming preparation is completed by the above procedure, the photoconductive layer is formed on the cylindrical film-forming substrate 3112.

【0133】円筒状被成膜基体3112が所望の温度に
なったところで、各流出バルブ3251〜3256のう
ちの必要なものと補助バルブ3260とを徐々に開く、
各ガスボンベ3221〜3226から所望の原料ガス導
入管3114を介して反応容器3110内に導入する。
次に、各マスフローコントローラー3211〜3216
によって、各原料ガスが所定の流量になるように調整す
る。その際、反応容器3110内が1Torr以下の所
定の圧力になるように、真空計3119を見ながらメイ
ンバルブ3118の開口を調整する。内圧が安定したと
ころで、高周波電源3120を所望の電力に設定して例
えば、周波数1MHz〜450MHzの高周波電力を高
周波マッチングボックス3115を通じてカソード電極
3111に供給し高周波グロー放電を生起させる。この
放電エネルギーによって反応容器3110内に導入させ
た各原料ガスを分解され、円筒状被成膜基体3112上
に所定のシリコン原子を主成分とする堆積膜が形成され
る。所望の膜厚の形成が行われた後、高周波電力の供給
を止め、各流出バルブ3251〜3256を閉じて反応
容器3110への各原料ガスの流入を止め、堆積膜の形
成を終える。
When the cylindrical film-forming substrate 3112 reaches a desired temperature, the necessary one of the outflow valves 3251 to 256 and the auxiliary valve 3260 are gradually opened.
The gas is introduced into the reaction vessel 3110 from each of the gas cylinders 3221 to 3226 through a desired raw material gas introduction pipe 3114.
Next, each mass flow controller 3211 to 3216
Is adjusted so that each source gas has a predetermined flow rate. At that time, the opening of the main valve 3118 is adjusted while observing the vacuum gauge 3119 so that the inside of the reaction container 3110 has a predetermined pressure of 1 Torr or less. When the internal pressure is stable, the high frequency power supply 3120 is set to a desired power and, for example, high frequency power having a frequency of 1 MHz to 450 MHz is supplied to the cathode electrode 3111 through the high frequency matching box 3115 to cause high frequency glow discharge. The source energy introduced into the reaction vessel 3110 is decomposed by this discharge energy, and a deposited film containing silicon atoms as a main component is formed on the cylindrical film-forming substrate 3112. After the desired film thickness is formed, the supply of the high frequency power is stopped, the outflow valves 3251 to 2566 are closed to stop the inflow of each source gas into the reaction vessel 3110, and the formation of the deposited film is completed.

【0134】また、本発明の表面層を形成する場合も基
本的には上記の操作を繰り返せばよい。
Also, when the surface layer of the present invention is formed, the above operation may be basically repeated.

【0135】具体的には、各流出バルブ3251〜32
56のうちの必要なものと補助バルブ3260とを徐々
に開き、各ガスボンベ3221〜3226から表面層に
必要な原料ガスをガス導入管2114を介して反応容器
2110内に導入する。次に、各マスフローコントロー
ラー3211〜3216によって、各原料ガスが所定の
流量になるように調整する。その際、反応容器3110
内が1Torr以下の所定の圧力になるように、真空計
3119を見ながらメインバルブ3118の開口を調整
する。内圧が安定したところで、高周波電源3120を
所望の電力に設定して周波数1MHz〜450MHzの
高周波電力を高周波マッチングボックス3115を通じ
てカソード電極3111に供給し高周波グロー放電を生
起させる。この放電エネルギーによって反応容器311
0内に導入させた各原料ガスを分解され、表面層が形成
される。所望の膜厚の形成が行われた後、高周波電力の
供給を止め、各流出バルブ3251〜3256を閉じて
反応容器3110への各原料ガスの流入を止め、表面層
の形成を終える。
Specifically, each outflow valve 3251 to 32
Necessary ones of 56 and the auxiliary valve 3260 are gradually opened, and the raw material gas required for the surface layer is introduced into the reaction vessel 2110 from each of the gas cylinders 3221 to 226 via the gas introduction pipe 2114. Next, the mass flow controllers 3211 to 3216 adjust the raw material gases so that they have a predetermined flow rate. At that time, the reaction vessel 3110
The opening of the main valve 3118 is adjusted while observing the vacuum gauge 3119 so that the inside has a predetermined pressure of 1 Torr or less. When the internal pressure is stable, the high frequency power supply 3120 is set to a desired power and high frequency power having a frequency of 1 MHz to 450 MHz is supplied to the cathode electrode 3111 through the high frequency matching box 3115 to cause high frequency glow discharge. By this discharge energy, the reaction container 311
Each raw material gas introduced into 0 is decomposed to form a surface layer. After the desired film thickness is formed, the supply of the high frequency power is stopped, the outflow valves 3251 to 2566 are closed to stop the inflow of each source gas into the reaction vessel 3110, and the formation of the surface layer is completed.

【0136】なお、膜形成を行っている間は円筒状被成
膜基体3112を駆動装置(不図示)によって所定の速
度で回転させてもよい。
While the film is being formed, the cylindrical film-forming substrate 3112 may be rotated at a predetermined speed by a driving device (not shown).

【0137】(5)実施例 以下、実施例により本発明を具体的に示すが、本発明が
これら実施例に限定されるものではない。まず、アモル
ファスシリコン系感光体を用いた場合の実施例を示す。
(5) Examples Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. First, an example in which an amorphous silicon type photosensitive member is used will be described.

【0138】1)感光体製造例1 図6に記載のプラズマCVD装置を用いて以下の条件に
より円筒形のAl基体上に下部阻止層、光導電層、表面
層を順次積層し、負帯電で用いられる光受容部材を完成
させた。
1) Photoreceptor Production Example 1 Using the plasma CVD apparatus shown in FIG. 6, a lower blocking layer, a photoconductive layer, and a surface layer were sequentially laminated on a cylindrical Al substrate under the following conditions, and negative charging was performed. The light receiving member used was completed.

【0139】 下部阻止層‥‥SiH4 100ml/min(normal) H2 300ml/min(normal) PH3 800ppm(SiH4に対して) NO 5ml/min(normal) パワー 150W 内圧 80Pa 基体温度 280℃ 膜厚 3μm 光導電層‥‥‥SiH4 350ml/min(normal) H2 600ml/min(normal) B26 0.5ppm(SiH4に対して) パワー 400W 内圧 73Pa 基体温度 280℃ 膜厚 20μm SiC表面層‥SiH4 20ml/min(normal) CH4 500ml/min(normal) パワー 150W 内圧 67Pa 基体温度 250℃ 膜厚 0.5μm 2)感光体製造例2、3、4 上記製造した感光体をNo.1とし、その表面層の上に
さらに以下の表1の条件で新たな表面層を0.2μm堆
積した感光体No.2〜4を得た。
Lower blocking layer: SiH 4 100 ml / min (normal) H 2 300 ml / min (normal) PH 3 800 ppm (relative to SiH 4 ) NO 5 ml / min (normal) Power 150 W Internal pressure 80 Pa Substrate temperature 280 ° C. Membrane Thickness 3 μm Photoconductive layer SiH 4 350 ml / min (normal) H 2 600 ml / min (normal) B 2 H 6 0.5 ppm (relative to SiH 4 ) Power 400 W Internal pressure 73 Pa Base temperature 280 ° C. Thickness 20 μm SiC Surface layer: SiH 4 20 ml / min (normal) CH 4 500 ml / min (normal) Power 150 W Internal pressure 67 Pa Substrate temperature 250 ° C. Film thickness 0.5 μm 2) Photoreceptor Production Examples 2, 3 and 4 . No. 1 and a new surface layer of 0.2 μm was further deposited on the surface layer under the conditions shown in Table 1 below. 2-4 were obtained.

【0140】[0140]

【表1】 [Table 1]

【0141】上記感光体No.2〜4は水素含有量を測
定するためにシリコンウエハー上にも上記の表1の条件
で表面層のサンプルを作製し、IRにより水素量H/
(C+H)の測定を行った結果を以下の表2に示す。
The above photoconductor No. In Nos. 2 to 4, in order to measure the hydrogen content, a surface layer sample was prepared on a silicon wafer under the conditions shown in Table 1 above, and the hydrogen content H /
The results of the measurement of (C + H) are shown in Table 2 below.

【0142】[0142]

【表2】 [Table 2]

【0143】3)帯電部材製造例1 .導電性基体の準備 抵抗が2Ωのステンレス製の芯金を用意した。3) Manufacturing Example 1 of charging member . Preparation of conductive substrate A stainless steel core having a resistance of 2Ω was prepared.

【0144】.両端部絶縁性塗料の調整 両端部塗装用絶縁塗料として、シリコン樹脂100重量
部、トルエン300重量部を混合しシリコン塗料を調整
し、JIS K6911に準じて、体積固有抵抗を測定
したところ、1×1012Ωcmであった。
.. Adjustment of Insulating Paint on Both Ends As an insulating paint for painting both ends, 100 parts by weight of silicone resin and 300 parts by weight of toluene were mixed to adjust the silicone paint, and the volume resistivity was measured according to JIS K6911. It was 10 12 Ωcm.

【0145】 .中抵抗層のゴムコンパウンド調整 エピクロルヒドリンゴム三元共重合体 100重量部 (エピクロルヒドリン:エチレンオキサイド:アリルグリシジルエーテル =40mol%:56mol%:4mol%) 軽質炭酸カルシウム 30重量部 可塑剤(分子量8000) 10重量部 ステアリン酸 1重量部 老化防止剤MB 1.5重量部 酸化亜鉛 10重量部 四級アンモニウム塩 1重量部 以上の材料を45℃に調節した密閉型ミキサーにて10
分間混練し、原料コンパウンドを調整し、このコンパウ
ンドに原料のゴムのエピクロルヒドリンゴム100重量
部に対し、加硫剤としての硫黄2重量部、加硫促進剤と
してのDM1重量部及びTS0.5重量部を加え、20
℃に冷却した2本ロール機にて10分間混練し、ゴムコ
ンパウンドを作製した。
.. Adjustment of rubber compound of medium resistance layer 100 parts by weight of epichlorohydrin rubber terpolymer (epichlorohydrin: ethylene oxide: allyl glycidyl ether = 40 mol%: 56 mol%: 4 mol%) light calcium carbonate 30 parts by weight plasticizer (molecular weight 8000) 10 parts by weight Parts Stearic acid 1 part by weight Anti-aging agent MB 1.5 parts by weight Zinc oxide 10 parts by weight Quaternary ammonium salt 1 part by weight
Kneading for minutes to adjust the raw material compound, and to this compound, 2 parts by weight of sulfur as a vulcanizing agent, 1 part by weight of DM as a vulcanization accelerator, and 0.5 parts by weight of TS are added to 100 parts by weight of epichlorohydrin rubber as a raw material rubber. And add 20
The mixture was kneaded for 10 minutes with a two-roll machine cooled to 0 ° C. to prepare a rubber compound.

【0146】.帯電部材の作製 φ8ステンレス製の芯金の非画像形成領域bに対応する
両端部に上記で作製した絶縁性塗料を画像形成領域a
はマスキングしてディッピングにより厚さ20μmにな
るように塗工し、マスキングを除去した後、130℃で
80分間乾燥させ絶縁層を形成させた。
.. Preparation of Charging Member The insulating paint prepared above was applied to the image forming area a at both ends of the φ8 stainless steel cored bar corresponding to the non-image forming area b.
Was masked and applied by dipping so as to have a thickness of 20 μm, and after removing the masking, it was dried at 130 ° C. for 80 minutes to form an insulating layer.

【0147】上記芯金と上記のゴムコンパウンドを用
いて、外径φ16のローラー状になるように押出し成型
機にてローラーを作成し、150℃、2時間加熱加硫
し、帯電ローラーNo.1を得た。
Using the above core metal and the above rubber compound, a roller was formed by an extrusion molding machine so as to have a roller shape with an outer diameter of φ16, and was heated and vulcanized at 150 ° C. for 2 hours, and the charging roller No. Got 1.

【0148】4)帯電部材製造例2 .表層用塗料の調整 フッ素アクリル樹脂 100重量部、トルエン250重
量部を混合し樹脂を溶解させ、そこに導電性酸化チタン
60部をペイントシェーカーで2時間分散させた導電性
フッ素アクリル樹脂の塗料を作製した。
4) Manufacturing Example 2 of Charging Member Preparation of paint for surface layer 100 parts by weight of fluoroacryl resin and 250 parts by weight of toluene are mixed to dissolve the resin, and 60 parts of electroconductive titanium oxide is dispersed therein for 2 hours by a paint shaker to prepare a paint of electroconductive fluoroacryl resin. did.

【0149】.帯電部材の作製 帯電ロールNo.1に上記の表層をディッピングにより
厚さ20μmになるように塗布した後、120℃で0.
5時間乾燥させた以外は帯電ローラー1と同様の帯電ロ
ーラーNo.2を得た。
.. Preparation of charging member Charging roll No. 1 was coated with the above surface layer by dipping so as to have a thickness of 20 μm, and then at 120 ° C.
Charging roller No. 1 similar to charging roller 1 except that it was dried for 5 hours. Got 2.

【0150】5)帯電部材製造例3 芯金の非画像形成領域部に厚さ100μm、体積抵抗値
が1×1013Ωcmのポリイミドテープを1周ほど巻き
付けた事以外は帯電ローラーNo.2と同様の帯電ロー
ラーNo.3を得た。
5) Charging Member Production Example 3 The charging roller No. 3 was manufactured except that a polyimide tape having a thickness of 100 μm and a volume resistance value of 1 × 10 13 Ωcm was wound around the non-image forming area of the core metal about once. Similar to No. 2 charging roller No. Got 3.

【0151】6)帯電部材製造例4 帯電部材製造例1で用意したゴムコンパウンドをφ7.
5の穴で外径がφ17(厚さ4.25)状の竹輪状の金
型に入れ、150℃、2時間加熱加硫し、竹輪状のゴム
ロールを作製した。またφ8ステンレス製の芯金の非画
像形成領域には厚さ50μmのPETテープを1周ほど
巻き付け、これを上記で作製した竹輪状のゴムローラー
にエアーを送りながら挿入し、挿入した後、外径がφ1
6になるように幅広研磨加工を行った帯電ローラーN
o.4を得た。
6) Charging Member Manufacturing Example 4 The rubber compound prepared in Charging Member Manufacturing Example 1 was used as φ7.
It was placed in a bamboo ring-shaped mold having an outer diameter of φ17 (thickness 4.25) in the hole of No. 5, and was heated and vulcanized at 150 ° C. for 2 hours to prepare a bamboo ring-shaped rubber roll. Further, a PET tape with a thickness of 50 μm was wrapped around the non-image forming area of the φ8 stainless steel core metal for about one lap, and this was inserted into the bamboo ring-shaped rubber roller produced as described above while sending air, and after insertion, Diameter is φ1
Charging roller N that has been subjected to a wide polishing process so as to be No. 6
o. Got 4.

【0152】7)帯電部材製造例5 芯金に上記の帯電部材製造例4で用いた厚さ50μmの
PETテープを9周ほど巻き付けた芯金を用いた以外は
帯電ローラー4と同様の帯電ローラーNo.5を得た。
7) Charging Member Production Example 5 A charging roller similar to the charging roller 4 except that a core metal wound around the core with the PET tape of 50 μm thickness used in the above-mentioned charging member Production Example 4 for about 9 turns was used. No. Got 5.

【0153】8)帯電部材製造例6 非画像形成領域の長さが異なる以外は帯電ローラーN
o.2と同様の帯電ローラーNo.6を得た。
8) Charging Member Manufacturing Example 6 Charging roller N except that the length of the non-image forming area is different.
o. Similar to No. 2 charging roller No. Got 6.

【0154】9)帯電部材製造例7 非画像形成領域の長さが異なる以外は帯電ローラーN
o.2と同様の帯電ローラーNo.7を得た。
9) Charging Member Manufacturing Example 7 Charging roller N except that the length of the non-image forming area is different.
o. Similar to No. 2 charging roller No. Got 7.

【0155】10)帯電部材製造例8 ゴムコンパウンドの可塑剤を0.1部、加硫剤である硫
黄を10部とした以外は帯電ローラーNo.1と同様の
帯電ローラーNo.8を得た。
10) Charging Member Production Example 8 Charging roller No. 10 except that the rubber compound contained 0.1 part of the plasticizer and 10 parts of the vulcanizing agent sulfur. Similar to the charging roller No. 1 Got 8.

【0156】11)帯電部材製造例9 ゴムコンパウンドの可塑剤を25部、加硫剤である硫黄
を1部とした以外は帯電ローラーNo.1と同様の帯電
ローラーNo.9を得た。
11) Charging Member Production Example 9 Charging roller No. 1 except that the rubber compound contained 25 parts of plasticizer and 1 part of vulcanizing agent of sulfur. Similar to the charging roller No. 1 Got 9.

【0157】12)帯電部材製造例10 非画像形成領域の芯金部分に帯電部材製造例1で用意し
た絶縁性塗料を厚さ3.8μmで塗布した以外は、帯電
ローラーNo.2と同様に帯電ローラーNo.10を得
た。
12) Charging Member Production Example 10 Charging roller No. 10 was used except that the insulating paint prepared in Charging Member Production Example 1 was applied to the cored bar portion of the non-image forming area in a thickness of 3.8 μm. As with No. 2, the charging roller No. Got 10.

【0158】13)帯電部材製造例11 非画像形成領域の芯金部分に帯電部材製造例4で用いた
厚さ50μmのPETテープを13周ほど巻き付けた以
外は帯電ローラーNo.3と同様の帯電ローラーNo.
11を得た。
13) Charging Member Manufacturing Example 11 Charging roller No. 11 was used except that the PET tape having a thickness of 50 μm used in Charging Member Manufacturing Example 4 was wound around the cored bar portion of the non-image forming area for about 13 times. Charging roller No. 3 similar to
I got 11.

【0159】14)帯電部材製造例12 非画像形成領域の長さが異なる以外は帯電ローラーN
o.2と同様の帯電ローラーNo.12を得た。
14) Charging Member Manufacturing Example 12 Charging roller N except that the length of the non-image forming area is different.
o. Similar to No. 2 charging roller No. I got 12.

【0160】15)帯電部材製造例13 芯金に絶縁性塗料を塗布しなかった以外は帯電ローラー
No.2と同様の帯電ローラーX(比較例)を得た。
15) Charging Member Production Example 13 Charging roller No. 15 was manufactured except that the core bar was not coated with the insulating paint. A charging roller X (Comparative Example) similar to that of No. 2 was obtained.

【0161】16)帯電部材製造例14 帯電ローラー2の非画像形成領域部の中抵抗層をカッタ
ーで除去し、画像域のみ帯電する帯電ローラーY(比較
例)を得た。
16) Manufacturing Example of Charging Member 14 The medium resistance layer of the non-image forming area of the charging roller 2 was removed by a cutter to obtain a charging roller Y (comparative example) which charges only the image area.

【0162】17)帯電部材製造例15 帯電ローラーXの非画像形成領域に対応する部分の中抵
抗層上に帯電部材製造例1で調整した絶縁性塗料を厚さ
30μmで塗布し、130℃で40分間乾燥させた帯電
ローラーW(比較例)を得た。
17) Charging Member Manufacturing Example 15 The insulating coating material prepared in Charging Member Manufacturing Example 1 was applied on the medium resistance layer of the charging roller X corresponding to the non-image forming area in a thickness of 30 μm, and at 130 ° C. A charging roller W (comparative example) dried for 40 minutes was obtained.

【0163】18)帯電部材製造例16 Φ6ステンレス製の芯金の上に膜厚2mmの以下の組成
の導電性ゴム層を形成させた導電性基体を用い、その上
の非画像形成領域部に帯電部材製造例1で示したシリコ
ーン樹脂塗料を厚さ20μmになるように塗布し、ロー
ラーの外径をΦ14に成形した以外は帯電部材製造例2
と同様のΦ14の帯電部材No.13を得た。
18) Charging Member Production Example 16 A conductive base having a conductive rubber layer having the following composition and having a film thickness of 2 mm formed on a core metal made of Φ6 stainless steel was used, and a non-image forming area was formed on the conductive base. Charging member manufacturing example 2 except that the silicone resin paint shown in charging member manufacturing example 1 was applied so as to have a thickness of 20 μm, and the outer diameter of the roller was molded to Φ14.
Similar to Φ14 charging member No. I got 13.

【0164】 シリコンゴム 100重量部 酸化亜鉛 5重量部 高級脂肪酸 1重量部 導電性カーボンブラック 13重量部 パラフィンオイル 10重量部 硫黄 2重量部 加硫促進剤MBT 1重量部 加硫促進剤TMTD 1.5重量部 加硫促進剤ZnMDC 1.5重量部 上記を2本ロールで冷却しながら15分間混合し、ゴム
コンパウンドを作製し、上記芯金上に150℃で20分
間、加熱加硫させ、厚さ1mmの導電性ゴムを含んだ導
電性基体を作製した。
Silicone rubber 100 parts by weight Zinc oxide 5 parts by weight Higher fatty acid 1 part by weight Conductive carbon black 13 parts by weight Paraffin oil 10 parts by weight Sulfur 2 parts by weight Vulcanization accelerator MBT 1 part by weight Vulcanization accelerator TMTD 1.5 1.5 parts by weight of vulcanization accelerator ZnMDC 1.5 parts by weight The above materials are mixed for 15 minutes while being cooled with a two-roll mill to prepare a rubber compound, which is heat-vulcanized on the core metal at 150 ° C. for 20 minutes to obtain a thickness. A conductive substrate containing 1 mm of conductive rubber was prepared.

【0165】19)上記の各帯電部材No.1〜13、
X、Y、Wの特性を表3に示す。
19) Each charging member No. 1 to 13,
The characteristics of X, Y and W are shown in Table 3.

【0166】[0166]

【表3】 [Table 3]

【0167】20)実施例No.1〜16、比較例N
o.1〜3 前述図1の画像形成装置において、感光体1とローラー
状帯電部材(帯電ローラー)3として、上記製造した感
光体No.2〜4と帯電部材No.1〜13、X、Y、
Wを表4のように組み合わせ使用した実施例No.1〜
16、比較例No.1〜3の性能評価を行った。
20) Example No. 1 to 16, Comparative Example N
o. 1 to 3 in the image forming apparatus shown in FIG. 1, the photosensitive member 1 and the roller-shaped charging member (charging roller) 3 are the photosensitive member No. 2 to 4 and charging member No. 1-13, X, Y,
Example No. in which W was used in combination as shown in Table 4. 1 to
16, Comparative Example No. Performance evaluation of 1-3 was performed.

【0168】この場合、画像露光、前露光の光の波長を
660nmにした。帯電部分は感光体に両側の芯金部分
をバネ(両側で総圧15.69N、片側7.8N)で帯
電ローラー3を感光体1に押しつける様にし、感光体1
と従動で回転するようにし、帯電電圧を芯金31に印加
する事で感光体1を帯電させる事とした。帯電電圧は−
650Vの直流電圧に1600Vpp/1840Hzの
サイン波を重畳する。現像電圧の直流成分は−350V
とした。
In this case, the wavelength of light for image exposure and pre-exposure was set to 660 nm. The charging part is configured such that the core metal parts on both sides are pressed against the photoconductor by the springs (total pressure 15.69N on both sides, 7.8N on one side) against the photoconductor 1.
Then, the photosensitive member 1 is charged by applying a charging voltage to the cored bar 31 while being driven to rotate. The charging voltage is −
A sine wave of 1600Vpp / 1840Hz is superimposed on a DC voltage of 650V. DC component of developing voltage is -350V
And

【0169】.評価方法1 上記画像形成装置を用いて、30℃/85%RH環境下
で印字比率5%でA4横で連続10万枚耐久を行い、耐
久初期と耐久後の感光体の膜厚を画像形成部と非画像形
成部(特に帯電部材の端部)で測定し、それぞれの削れ
量Zc(画像部)Zr(非画像部)を算出し、Zr/Z
cの値をZとして以下の項目従い評価を行った。評価結
果を表4にまとめる。
.. Evaluation method 1 Using the above-mentioned image forming apparatus, 100,000 continuous A4 sheets were continuously printed at a printing ratio of 5% in an environment of 30 ° C./85% RH, and image formation was performed on the film thickness of the photoconductor at the beginning of durability and after durability. Area and the non-image forming area (especially the end portion of the charging member), the respective scraped amounts Zc (image area) Zr (non-image area) are calculated, and Zr / Z
The value of c was set to Z, and evaluation was performed according to the following items. The evaluation results are summarized in Table 4.

【0170】 ◎:1≦Z<1.1 ○:1.1≦Z<1.2 △:1.2≦Z<1.3 ×:1.3≦Z<1.5 ××:1.5≦Z .評価方法2 上記Zcの値を表4にまとめる。Zcの単位は1万枚あ
たりの削れ量で単位は×10-9mである。
⊚: 1 ≦ Z <1.1 ○: 1.1 ≦ Z <1.2 Δ: 1.2 ≦ Z <1.3 x: 1.3 ≦ Z <1.5 xx: 1. 5 ≦ Z. Evaluation method 2 The values of Zc are summarized in Table 4. The unit of Zc is the amount of abrasion per 10,000 sheets and the unit is × 10 -9 m.

【0171】.評価方法3 10万枚耐久後に画像形成装置の電源をOFFにして2
4時間放置後に文字画像の画出しを行い、画像流れの評
価を以下の項目に従い評価を行った。
.. Evaluation method 3 Turn off the power of the image forming apparatus after running 100,000 sheets.
After standing for 4 hours, a character image was printed and the image deletion was evaluated according to the following items.

【0172】 ◎:画像流れによる不良画像の発生無く良好 ○:画像流れが僅かにあるが問題無いレベル △:画像流れによる不良画像の発生がやや認められる程
度 ×:特に画像端部に画像流れの不良画像が発生 .評価方法4 評価方法1で耐久した耐久後にベタ黒、ハーフトーン画
像、ベタ白画出しを行い、特に画像端部において、飛散
による露光部への汚染による画像不良、ドラム融着によ
るクリーニング不良画像や融着画像を以下の評価項目従
い評価を行った。評価結果を表4にまとめる。
⊚: Good without occurrence of defective image due to image deletion ○: Level where image deletion is slight but no problem Δ: Occurrence of defective image due to image deletion is recognized to a degree ×: Image deletion is observed especially at the edge of the image Bad image occurred. Evaluation method 4 A solid black image, a halftone image, and a solid white image are formed after the durability test according to the evaluation method 1. Particularly, an image defect at the end of the image due to contamination of the exposed portion due to scattering, and a cleaning failure image due to drum fusion. The fused image was evaluated according to the following evaluation items. The evaluation results are summarized in Table 4.

【0173】 ◎:不良画像の発生無く良好 ○:僅かにあるが問題無いレベル △:不良画像の発生がやや認められる程度 ×:多数の不良画像が発生 .評価方法5 評価方法1で耐久した耐久後にベタ白画出しを行い、特
に画像端部において、クリーニング不良による縦スジ画
像の発生を以下の評価項目従い評価を行った。評価結果
を表4にまとめる。
⊚: Good without occurrence of defective image ◯: Slightly but no problem level Δ: Occurrence of defective image is slightly recognized ×: Many defective images occurred. Evaluation method 5 A solid white image was formed after the durability test according to the evaluation method 1, and the occurrence of vertical streak images due to defective cleaning was evaluated according to the following evaluation items, particularly at the image edges. The evaluation results are summarized in Table 4.

【0174】 ◎:縦スジ画像の発生無く良好 ○:縦スジ僅かにあるが問題無いレベル △:縦スジ画像の発生がやや認められる程度 ×:多数の縦スジ画像が発生 .評価方法6 評価方法1で耐久した耐久後にベタ白画出しを行い、特
に画像端部においてのリークによる横スジ画像の発生を
以下の評価項目従い評価を行った。評価結果を表4にま
とめる。
⊚: Good with no vertical streak image ○: Slight vertical streak but no problem level Δ: Vertical streak image is slightly observed ×: Many vertical streak images are generated. Evaluation Method 6 A solid white image was printed after the durability test according to Evaluation Method 1, and in particular, the occurrence of a horizontal streak image due to a leak at the image end was evaluated according to the following evaluation items. The evaluation results are summarized in Table 4.

【0175】 ○:横スジ画像の発生無く良好 △:横スジ僅かにあるが問題無いレベル ×:縦スジ画像の発生が認められる 上記の画像形成装置と評価方法を用いて、以下の実施
例、比較例の評価を行った。
◯: Good without occurrence of horizontal streak image Δ: Level with little horizontal streak, but no problem ×: Generation of vertical streak image is confirmed. The comparative example was evaluated.

【0176】[0176]

【表4】 [Table 4]

【0177】次に有機感光体を用いた実施例を示す。Next, examples using an organic photoconductor will be shown.

【0178】感光体製造例5) 感光体は負帯電用の有機光導電性物質を用いた感光体
(以下OPC感光体)であり、φ30mmのアルミニウム
製のシリンダー上に機能層を4層設ける。
Photoconductor Production Example 5) A photoconductor is a photoconductor using an organic photoconductive substance for negative charging (hereinafter referred to as an OPC photoconductor), and four functional layers are provided on a cylinder made of aluminum having a diameter of 30 mm.

【0179】第1層は導電層であり、アルミニウムシリ
ンダーの欠陥等をならすため、またレーザ−露光の反射
によるモアレの発生を防止するために設けられている厚
さ約20μmの導電性粒子分散樹脂層である。
The first layer is a conductive layer, and is a conductive particle-dispersed resin having a thickness of about 20 μm, which is provided to smooth defects such as aluminum cylinders and to prevent the generation of moire due to reflection of laser exposure. It is a layer.

【0180】第2層は正電荷注入防止層(下引き層)で
あり、アルミニウム支持体から注入された正電荷が感光
体表面に帯電された負電荷を打ち消すのを防止する役割
を果たし、6-66-610-12-ナイロン樹脂とメトキシメチル
化ナイロンによって106Ωcm程度に抵抗調整された
厚さ約1μmの中抵抗層である。
The second layer is a positive charge injection preventing layer (undercoat layer), which plays a role of preventing the positive charges injected from the aluminum support from canceling out the negative charges charged on the surface of the photoreceptor. -66-610-12-Medium resistance layer having a thickness of about 1 μm, whose resistance was adjusted to about 10 6 Ωcm by nylon resin and methoxymethylated nylon.

【0181】第3層は電荷発生層であり、ジスアゾ系の
顔料を樹脂に分散した厚さ約0.3μmの層であり、レ
ーザー露光を受けることによって正負の電荷対を発生す
る。
The third layer is a charge generation layer, which is a layer having a thickness of about 0.3 μm in which a disazo pigment is dispersed in a resin, and positive and negative charge pairs are generated by receiving laser exposure.

【0182】第4層は電荷輸送層であり、ポリカーボネ
ート樹脂にヒドラゾンを分散した厚さ25μmの層であ
り、P型半導体である。従って、感光体表面に帯電され
た負電荷はこの層を移動することはできず、電荷発生層
で発生した正電荷のみを感光体表面に輸送することがで
きる。
The fourth layer is a charge transport layer, which is a layer having a thickness of 25 μm in which hydrazone is dispersed in polycarbonate resin, and is a P-type semiconductor. Therefore, the negative charges charged on the surface of the photoconductor cannot move in this layer, and only the positive charges generated in the charge generation layer can be transported to the surface of the photoconductor.

【0183】上記各層をディッピング方法によって塗工
し、実施例で使用する感光体を得た。
Each of the above layers was coated by a dipping method to obtain a photoconductor used in the examples.

【0184】帯電部材製造例21) .導電性基体の準備 抵抗が2Ωのステンレス製の芯金を用意した。Charging Member Manufacturing Example 21) . Preparation of conductive substrate A stainless steel core having a resistance of 2Ω was prepared.

【0185】.両端部絶縁性塗料の調整 シリコン樹脂100重量部、トルエン300重量部を混
合しシリコン塗料を調整し、JISK6911に準じ
て、体積固有抵抗を測定したところ、1×1012Ωcm
であった。
.. Adjustment of Insulating Paint on Both Ends Mixing 100 parts by weight of silicone resin and 300 parts by weight of toluene and adjusting the silicone paint, the volume resistivity was measured according to JISK6911. 1 × 10 12 Ωcm
Met.

【0186】 .中抵抗層のゴムコンパウンド調整 エピクロルヒドリンゴム三元共重合体 100重量部 (エピクロルヒドリン:エチレンオキサイド:アリルグリシジル エーテル=40 mol%:56 mol%:4mol%) 軽質炭酸カルシウム 30重量部 可塑剤(分子量8000) 10重量部 ステアリン酸 1重量部 老化防止剤MB 0.9重量部 酸化亜鉛 5重量部 四級アンモニウム塩 10重量部 以上の材料を45℃に調節した密閉型ミキサーにて10
分間混練し、原料コンパウンドを調整し、このコンパウ
ンドに原料のゴムのエピクロルヒドリンゴム100重量
部に対し、加硫剤としての硫黄2重量部、加硫促進剤と
してのDM1重量部及びTS0.5重量部を加え、20
℃に冷却した2本ロール機にて10分間混練し、ゴムコ
ンパウンドを作製した。
.. Adjustment of rubber compound of medium resistance layer 100 parts by weight of epichlorohydrin rubber terpolymer (epichlorohydrin: ethylene oxide: allyl glycidyl ether = 40 mol%: 56 mol%: 4 mol%) light calcium carbonate 30 parts by weight plasticizer (molecular weight 8000) 10 parts by weight Stearic acid 1 part by weight Antioxidant MB 0.9 parts by weight Zinc oxide 5 parts by weight Quaternary ammonium salt 10 parts by weight 10 parts by weight of a closed type mixer adjusted to 45 ° C.
Kneading for minutes to adjust the raw material compound, and to this compound, 2 parts by weight of sulfur as a vulcanizing agent, 1 part by weight of DM as a vulcanization accelerator, and 0.5 parts by weight of TS are added to 100 parts by weight of epichlorohydrin rubber as a raw material rubber. And add 20
The mixture was kneaded for 10 minutes with a two-roll machine cooled to 0 ° C. to prepare a rubber compound.

【0187】.帯電部材の作製 φ6ステンレス製の芯金の非画像軽視画領域に対応する
両端部に上記で作製した絶縁性塗料を画像形成領域はマ
スキングしてディッピングにより厚さ20μmになるよ
うに塗工し、マスキングを除去した後、130℃で80
分間乾燥させ絶縁層を形成させた。
.. Preparation of Charging Member The insulating paint prepared above was applied to both ends of the φ6 stainless steel cored bar corresponding to the non-image light image area by masking the image forming area so as to have a thickness of 20 μm. 80 after removing masking at 130 ℃
It was dried for a minute to form an insulating layer.

【0188】上記芯金を用いて、外径φ12のローラー
状になるように押出し成型機にてローラーを作成し、1
50℃、2時間加熱加硫し、帯電ローラー21を得た。
Using the core metal, a roller was formed by an extrusion molding machine so as to have a roller shape with an outer diameter of φ12.
It was heated and vulcanized at 50 ° C. for 2 hours to obtain a charging roller 21.

【0189】帯電部材製造例22) .表層用塗料の調整 メチロール化ナイロン樹脂100重量部、トルエン15
0重量部、メタノール400重量部を混合し樹脂を溶解
させ、そこに導電性酸化錫40部をペイントシェーカー
で3時間分散させた導電性ナイロン樹脂の塗料を作製し
た。
Charging Member Production Example 22). Preparation of paint for surface layer 100 parts by weight of methylolated nylon resin, toluene 15
0 parts by weight and 400 parts by weight of methanol were mixed to dissolve the resin, and 40 parts of conductive tin oxide was dispersed therein with a paint shaker for 3 hours to prepare a conductive nylon resin coating material.

【0190】.帯電部材の作製 帯電ローラー21に上記の表層をディッピングにより厚
さ15μmになるように塗布した後、120℃で1時間
乾燥させた以外は帯電ローラー21と同様の帯電ローラ
ー22を得た。
.. Preparation of Charging Member A charging roller 22 similar to the charging roller 21 was obtained, except that the surface layer described above was applied to the charging roller 21 by dipping so as to have a thickness of 15 μm, and then dried at 120 ° C. for 1 hour.

【0191】帯電部材製造例23) 芯金の非画像形成領域部に厚さ100μm、体積抵抗値
が1×1014Ωcmのフッ素テープを1周ほど巻き付け
た事以外は帯電ローラー22と同様の帯電ローラー23
を得た。
Charging Member Production Example 23) The same charging as the charging roller 22 except that a fluorine tape having a thickness of 100 μm and a volume resistance value of 1 × 10 14 Ωcm was wound around the non-image forming area of the core metal about once. Roller 23
Got

【0192】帯電部材製造例24) 帯電部材製造例21)で用意したゴムコンパウンドをφ
5の穴で外径がφ14(厚さ4.5)状の竹輪状の金型
に入れ、150℃、2時間加熱加硫し、竹輪状のゴムロ
ーラーを作製した。またφ6ステンレス製の芯金の非画
像形成領域には厚さ100μmのフッ素テープを1周ほ
ど巻き付け、これを上記で作製した竹輪状のゴムローラ
ーにエアーを送りながら挿入し、挿入した後、外径がφ
12になるように幅広研磨加工を行った帯電ローラー2
4を得た。
Charging Member Manufacturing Example 24) The rubber compound prepared in Charging Member Manufacturing Example 21) was
It was put in a bamboo ring-shaped mold having an outer diameter of φ14 (thickness 4.5) in the hole of No. 5, and was heated and vulcanized at 150 ° C. for 2 hours to prepare a bamboo ring-shaped rubber roller. A 100 μm thick fluorine tape was wrapped around the non-image forming area of the φ6 stainless steel core metal, and this was inserted into the bamboo ring-shaped rubber roller produced above while sending air, and then the outside Diameter is φ
Widely polished charging roller 2 to 12
Got 4.

【0193】帯電部材製造例25) 芯金に厚さ100μmのフッ素テープを4周ほど巻き付
けた芯金を用いた以外は帯電ローラー24と同様の帯電
ローラー25を得た。
Charging Member Production Example 25) A charging roller 25 similar to the charging roller 24 was obtained, except that a cored bar in which a 100 μm thick fluorine tape was wound around the cored bar for 4 turns was used.

【0194】帯電部材製造例26) 非画像形成領域の長さが異なる以外は帯電ローラー22
と同様の帯電ローラー26を得た。
Charging Member Production Example 26) Charging roller 22 except that the length of the non-image forming area is different.
A charging roller 26 similar to the above was obtained.

【0195】帯電部材製造例27) 非画像形成領域の長さが異なる以外は帯電ローラー22
と同様の帯電ローラー27を得た。
Charging Member Production Example 27) Charging roller 22 except that the length of the non-image forming area is different.
A charging roller 27 similar to the above was obtained.

【0196】帯電部材製造例28) ゴムコンパウンドの可塑剤を1部、加硫剤である硫黄を
5部とした以外は帯電ローラー21と同様の帯電ローラ
ー28を得た。
Charging Member Production Example 28) A charging roller 28 similar to the charging roller 21 was obtained except that 1 part of the rubber compound plasticizer and 5 parts of the vulcanizing agent sulfur were used.

【0197】帯電部材製造例29) ゴムコンパウンドの可塑剤を30部、加硫剤である硫黄
を0.5部とした以外は帯電ローラー21と同様の帯電
ローラー29を得た。
Charging Member Production Example 29) A charging roller 29 similar to the charging roller 21 was obtained, except that the rubber compound plasticizer was 30 parts and the vulcanizing agent sulfur was 0.5 part.

【0198】帯電部材製造例30) 非画像形成領域の芯金部分に帯電部材製造例1で用意し
た絶縁性塗料を厚さ3μmで塗布した以外は、帯電ロー
ラー22と同様に帯電ローラー30を得た。
Charging Member Production Example 30) A charging roller 30 was obtained in the same manner as the charging roller 22 except that the insulating paint prepared in Charging Member Production Example 1 was applied to the cored bar portion of the non-image forming area in a thickness of 3 μm. It was

【0199】帯電部材製造例31) 非画像形成領域の芯金部分に帯電部材製造例23で用意
したフッ素テープを6周ほど巻き付けた以外は帯電ロー
ラー23と同様の帯電ローラー31を得た。
Charging Member Production Example 31) A charging roller 31 similar to the charging roller 23 was obtained except that the fluorine tape prepared in Charging Member Production Example 23 was wound around the cored bar portion of the non-image forming area for about 6 rounds.

【0200】帯電部材製造例32) 非画像形成領域の長さが異なる以外は帯電ローラー22
と同様の帯電ローラー32を得た。
Charging Member Production Example 32) Charging roller 22 except that the length of the non-image forming area is different.
A charging roller 32 similar to the above was obtained.

【0201】帯電部材製造例33) 芯金に絶縁性塗料を塗布しなかった以外は帯電ローラー
22と同様の帯電ローラーAを得た。
Charging Member Production Example 33) A charging roller A similar to the charging roller 22 was obtained except that the insulating coating was not applied to the cored bar.

【0202】帯電部材製造例34) 帯電ローラー22の非画像形成領域部の中抵抗層をカッ
ターでカットした帯電ローラーBを得た。
Charging Member Production Example 34) A charging roller B was obtained by cutting the medium resistance layer of the non-image forming area of the charging roller 22 with a cutter.

【0203】帯電部材製造例35) 帯電ローラーXの非画像形成領域に対応する部分の中抵
抗層上に帯電部材製造例21で調整した絶縁性塗料を厚
さ20μmで塗布し、130℃で40分間乾燥させた帯
電ローラーCを得た。
Charging Member Manufacturing Example 35) The insulating coating material prepared in Charging Member Manufacturing Example 21 was applied to the medium resistance layer of the charging roller X in the non-image forming area at a thickness of 20 μm, and the coating was carried out at 130 ° C. at 40 ° C. The charging roller C dried for a minute was obtained.

【0204】帯電部材製造例36) φ6ステンレス製の芯金の上に膜厚1mmの以下の導電
性ゴム層を形成させた導電性基体を用い、その上の非画
像形成領域部に製造例21で示したシリコーン樹脂塗料
を厚さ20μmになるように塗布した以外は帯電部材製
造例22と同様のφ12の帯電部材33を得た。
Charging Member Manufacturing Example 36) Using a conductive substrate in which a conductive rubber layer having a film thickness of 1 mm was formed on a core metal made of φ6 stainless steel, and manufacturing example 21 was formed on the non-image forming area portion. A charging member 33 of φ12 was obtained in the same manner as in the charging member production example 22 except that the silicone resin paint shown in was applied so as to have a thickness of 20 μm.

【0205】 EPDM 100重量部 酸化亜鉛 5重量部 高級脂肪酸 1重量部 導電性カーボンブラック 10重量部 パラフィンオイル 10重量部 硫黄 2重量部 加硫促進剤MBT 1重量部 加硫促進剤TMTD 1.5重量部 加硫促進剤ZnMDC 1.5重量部 上記を2本ロールで冷却しながら15分間混合し、ゴム
コンパウンドを作製し、上記芯金上に150℃で20分
間、加熱加硫させ、厚さ1mmの導電性ゴムを含んだ導
電性基体を作製した。
EPDM 100 parts by weight Zinc oxide 5 parts by weight Higher fatty acid 1 part by weight Conductive carbon black 10 parts by weight Paraffin oil 10 parts by weight Sulfur 2 parts by weight Vulcanization accelerator MBT 1 part by weight Vulcanization accelerator TMTD 1.5 parts by weight Part vulcanization accelerator ZnMDC 1.5 parts by weight The above is mixed for 15 minutes while being cooled by a two-roll to prepare a rubber compound, which is heat-vulcanized on the above core metal at 150 ° C. for 20 minutes to give a thickness of 1 mm. An electroconductive substrate containing the electroconductive rubber of was prepared.

【0206】以下に上記の帯電部材の特性を表5に示
す。
The characteristics of the above charging member are shown in Table 5 below.

【0207】[0207]

【表5】 [Table 5]

【0208】本発明の電子写真装置として図1の画像形
成装置を備えた、レーザービームを用いたデジタル複写
機(キヤノン社製:GP55)を用意した。該装置の概略
は、感光体の帯電手段としてコロナ帯電器を備え、現像
手段として1成分ジャンピング現像方法を採用した1成
分現像器を備え、転写手段としてコロナ帯電器、ブレー
ドクリーニング手段、帯電前露光手段を備える。また、
感光体帯電器及び、クリーニング手段、感光体は1体型
のユニットとなっている。プロセススピードは150m
m/sである。該装置を以下のように改造を施した。
As the electrophotographic apparatus of the present invention, a digital copying machine using a laser beam (GP55 manufactured by Canon Inc.) equipped with the image forming apparatus shown in FIG. 1 was prepared. The outline of the apparatus is provided with a corona charger as a charging means for the photoconductor, a one-component developing device adopting a one-component jumping developing method as a developing means, and a corona charger, a blade cleaning means, a pre-charge exposure as a transferring means. Means are provided. Also,
The photoconductor charger, the cleaning means, and the photoconductor are a one-body unit. Process speed is 150m
m / s. The device was modified as follows.

【0209】感光体は上記感光体製造例5で作製した感
光体を用い、帯電部分に感光体に接触して帯電させるロ
ーラー帯電器を調整して装着し、さらにコロナ帯電器を
用いた転写手段をローラー転写方式に変更しマイナス帯
電性の感光体及びマイナス帯電性のトナーを用いた反転
現像の電子写真装置を用意した。
As the photoconductor, the photoconductor produced in the above-mentioned photoconductor production example 5 was used, and a roller charging device for contacting and charging the photoconductor at the charged portion was adjusted and mounted, and further, transfer means using a corona charger. Was changed to a roller transfer system, and a reversal development electrophotographic apparatus using a negatively chargeable photoconductor and a negatively chargeable toner was prepared.

【0210】帯電部分は感光体に両側の芯金部分をバネ
(両側で総圧15.69N、片側7.8N)でローラー
を感光体に押しつける様にし、感光体と従動で回転する
ようにし、帯電電圧を芯金に印加する事で感光体を帯電
させる事とした。
The charged portion is such that the cored portions on both sides of the photoconductor are pressed against the photoconductor by means of springs (total pressure 15.69N on both sides, 7.8N on one side), so that the photoconductor is driven to rotate. It was decided to charge the photoreceptor by applying a charging voltage to the core metal.

【0211】帯電電圧は−700Vの直流電圧に220
0Vpp/1200Hzのサイン波を重畳する。現像電
圧の直流成分は−500Vとした。
The charging voltage is 220V to the DC voltage of -700V.
A 0 Vpp / 1200 Hz sine wave is superimposed. The DC component of the developing voltage was -500V.

【0212】(評価方法7)上記電子写真装置を用い
て、30℃/80%RH環境下で印字比率5%でA4横
で連続20000万枚耐久を行い、耐久初期と耐久後の
感光体の膜厚を画像形成部と非画像形成部(特に帯電部
材の端部)で測定し、それぞれの削れ量Zc(画像部)
Zr(非画像部)を算出し、Zr/Zcの値をZとして
以下の項目従い評価を行った。評価結果を表6にまとめ
る。
(Evaluation Method 7) Using the above electrophotographic apparatus, 20% continuous printing on A4 landscape was carried out at a printing ratio of 5% under an environment of 30 ° C./80% RH. The film thickness is measured at the image forming portion and the non-image forming portion (especially the end portion of the charging member), and the scraped amount Zc (image portion) of each
Zr (non-image part) was calculated, and the value of Zr / Zc was set as Z, and evaluation was performed according to the following items. The evaluation results are summarized in Table 6.

【0213】 ◎:1≦Z<1.1 ○:1.1≦Z<1.2 △:1.2≦Z<1.3 ×:1.3≦Z<1.5 ××:1.5≦Z (評価方法8)評価方法7で耐久した耐久後にベタ黒、
ハーフトーン画像、ベタ白画出しを行い、特に画像端部
において、飛散による露光部への汚染による画像不良、
ドラム融着によるクリーニング不良画像や融着画像を以
下の評価項目従い評価を行った。評価結果を表6にまと
める。
⊚: 1 ≦ Z <1.1 ○: 1.1 ≦ Z <1.2 Δ: 1.2 ≦ Z <1.3 x: 1.3 ≦ Z <1.5 xx: 1. 5 ≦ Z (Evaluation method 8) Solid black after durability after evaluation method 7
Performs halftone images and solid white images, especially at the image edges, image defects due to contamination of the exposed area due to scattering,
The defective cleaning image and the fused image due to the drum fusion were evaluated according to the following evaluation items. The evaluation results are summarized in Table 6.

【0214】 ◎:不良画像の発生無く良好 ○:僅かにあるが問題無いレベル △:不良画像の発生がやや認められる程度 ×:多数の不良画像が発生 (評価方法9)評価方法7で耐久後の帯電部材を目視で
観察し、画像とあわせて、部材表面の汚れを以下の項目
に従い評価を行った。評価結果を表6にまとめる。
⊚: Good with no defective images generated ○: Slight but no problem level Δ: Occurrence of defective images is slightly recognized ×: Many defective images occurred (Evaluation method 9) After endurance according to evaluation method 7 The charging member was visually observed, and together with the image, the stain on the surface of the member was evaluated according to the following items. The evaluation results are summarized in Table 6.

【0215】 ◎:やや汚れている程度であり、画像には汚れによる不
良画像の発生はなし ○:均一に汚れが付着しているが、画像には汚れによる
不良画像の発生はなし △:表面の汚れが目立ち、画像上に汚れによる軽微な画
像ムラが発生し 上記の評価方法で実施例17〜29は帯電部材21〜3
3を用いて評価を行い、比較例4〜6は帯電部材A、
B、Cを用いて評価を行った。
⊚: Slightly soiled, no defective image due to stains on the image ○: Soil is uniformly attached, but no defective image due to stains is generated on the image Δ: Surface stain Is conspicuous, and slight image unevenness is generated on the image due to stains.
3 was used for evaluation, Comparative Examples 4 to 6 were charging members A,
Evaluation was performed using B and C.

【0216】[0216]

【表6】 [Table 6]

【0217】[0217]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば被
帯電体に接触した状態で配置され、帯電電圧が印加され
て前記被帯電体を帯電処理する帯電部材において、該帯
電部材は少なくとも帯電電圧を印加する導電性基体上
に、被帯電体に接触する電気抵抗が中抵抗である弾性層
を有した構成であり、前記被帯電体の長手方向の両端部
の非画像形成領域部にも中抵抗層が接触しており、非画
像形成領域に対応する該帯電部材の非画像領域相当部の
中抵抗層が、電気的絶縁層を介して導電性基体上に構成
されている帯電部材を用いることにより、端部の放電量
を減少させ、また画像域から端部に向かって被帯電体上
の電位が徐々に低下するために端部の局所的な感光体削
れが減少し、電位差による端部へのトナー移行が防止で
きるので飛散などの機内汚れが低減するので、感光体の
寿命を延ばす事が可能になり、長期にわたって良好な画
像が得られる帯電部材を提供する事ができる。
As described above, according to the present invention, according to the present invention, in the charging member which is disposed in contact with the member to be charged and which is charged with the charging voltage to charge the member to be charged, the charging member is at least On a conductive substrate to which a charging voltage is applied, an elastic layer having a medium electric resistance in contact with an object to be charged is provided, and the non-image forming area portions at both ends in the longitudinal direction of the object are charged. And the medium resistance layer is in contact with the medium resistance layer, and the medium resistance layer corresponding to the non-image forming area of the non-image area corresponding to the non-image forming area is formed on the conductive substrate via the electrically insulating layer. By using, the discharge amount at the edge is reduced, and the potential on the charged body gradually decreases from the image area toward the edge, so that the local abrasion of the photoconductor at the edge is reduced and the potential difference is reduced. Toner can be prevented from migrating to the edges due to Since the inner contamination is reduced, it becomes possible to extend the life of the photosensitive member, it is possible to provide a charging member which good images can be obtained over a long period.

【0218】またアモルファスシリコン系感光体を用い
た場合、前記帯電部材を用いることにより端部の放電量
を減少させ、帯電部材の劣化を防止し、端部の画像流れ
や感光体表面の画像部と、非画像形成部との摩擦力の差
が小さいので、クリーニング不良などの不良画像が防止
され、また画像域から端部に向かって被帯電体上の電位
が徐々に低下するために端部の局所的な感光体削れが減
少し、電位差による端部へのトナー移行が防止できるの
で飛散などの機内汚れが低減するので、感光体の寿命を
延ばす事が可能になり、長期にわたって良好な画像が得
られる。
When an amorphous silicon type photosensitive member is used, the discharge amount at the end is reduced by using the charging member, deterioration of the charging member is prevented, image deletion at the end and image portion on the surface of the photosensitive member are prevented. Since the difference in frictional force between the non-image forming part and the non-image forming part is small, a defective image such as poor cleaning is prevented, and the potential on the charged body gradually decreases from the image area toward the end part. The local abrasion of the photoconductor is reduced, and the transfer of toner to the edge due to the potential difference can be prevented, which reduces the contamination in the machine such as scattering, which can prolong the life of the photoconductor and provide a good image for a long time. Is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 画像形成装置例の概略構成模型図FIG. 1 is a schematic configuration model diagram of an example of an image forming apparatus.

【図2】 ブレード状帯電部材の構成模型図FIG. 2 is a structural model diagram of a blade-shaped charging member.

【図3】 ローラー状帯電部材の構成模型図FIG. 3 is a structural model diagram of a roller-shaped charging member.

【図4】 感光体の長手方向の電位状態を表す図FIG. 4 is a diagram showing a potential state in the longitudinal direction of the photoconductor.

【図5】 (A)と(B)は夫々光受容部材としてのア
モルファスシリコン系感光体の層構成模型図
FIG. 5A and FIG. 5B are schematic layer structure diagrams of an amorphous silicon-based photoconductor as a light receiving member.

【図6】 PCVD法により光受容部材を製造するため
に用いられる堆積装置の一例の模式的構成図
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an example of a deposition apparatus used for manufacturing a light receiving member by the PCVD method.

【図7】 PCVD法により光受容部材を製造するため
に用いられる堆積装置の他の例の模式的構成図
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of another example of a deposition apparatus used for manufacturing a light receiving member by the PCVD method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 導電性基体 102 電荷注入阻止層 103 光導電層 104 表面層 105 電荷発生層 106 電荷輸送層 2100,3100 堆積装置 2110,3110 反応容器 2111,3111 カソード電極 2112,3112 導電性基体 2113,3113 基体加熱用ヒーター 2114,3114 ガス導入管 2115,3115 高周波マッチングボックス 2116,3116 ガス配管 2117,3117 リークバルブ 2118,3118 メインバルブ 2119,3119 真空系 2120,3120 高周波電源 2121,3121 絶縁材料 3122 絶縁シールド板 2123,3123 受け台 2200,3200 ガス供給装置 2211〜2216,3122〜3216 マス
フローコントローラー 2221〜2226,3221〜3226 ボン
ベ 2231〜2236,3231〜3236 バル
ブ 2241〜2246,3241〜3246 流入
バルブ 2251〜2256,3251〜3256 流出
バルブ 2260,3260 補助バルブ 2261〜2266,3261〜3266 圧力
調整器 1:感光体 3:帯電部材 31:導電性基体 32:中抵抗層 33:絶縁層 a:画像形成領域 b:非画像形成領域
101 Conductive Substrate 102 Charge Injection Blocking Layer 103 Photoconductive Layer 104 Surface Layer 105 Charge Generation Layer 106 Charge Transport Layer 2100, 3100 Deposition Device 2110, 3110 Reaction Vessels 2111, 3111 Cathode Electrodes 212, 3112 Conductive Substrate 2113, 3113 Substrate Heating Heaters 2114, 3114 gas introduction pipes 2115, 3115 high frequency matching boxes 2116, 3116 gas pipes 2117, 3117 leak valves 2118, 3118 main valves 2119, 3119 vacuum systems 2120, 3120 high frequency power supplies 2121, 3121 insulating material 3122 insulating shield plate 2123 3123 Cradle 2200, 3200 Gas supply device 2211-2216, 3122-3216 Mass flow controller 2221-2226, 3221-3226 Valves 2231-2236, 3231-3236 valves 2241-2246, 3241-3246 inflow valves 2251-2256, 3251-3256 outflow valves 2260, 3260 auxiliary valves 2261-2266, 3261-3266 pressure regulator 1: photoconductor 3: charging member 31: conductive substrate 32: medium resistance layer 33: insulating layer a: image forming area b: non-image forming area

フロントページの続き Fターム(参考) 2H068 CA03 DA05 DA12 DA28 DA53 2H200 FA08 FA09 FA19 GA16 GA18 GA23 HA02 HA28 HB12 HB14 HB22 HB40 HB43 HB45 HB46 HB47 MA01 MA03 MA04 MB02 MB03 MB06 MC02 Continued front page    F-term (reference) 2H068 CA03 DA05 DA12 DA28 DA53                 2H200 FA08 FA09 FA19 GA16 GA18                       GA23 HA02 HA28 HB12 HB14                       HB22 HB40 HB43 HB45 HB46                       HB47 MA01 MA03 MA04 MB02                       MB03 MB06 MC02

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】像担持体に接触させて電圧を印加すること
によって像担持体を帯電する帯電部材であり、少なくと
も帯電電圧を印加する導電性基体上に、像担持体に接触
する電気抵抗が中抵抗である弾性層を有した構成であ
り、中抵抗弾性層は像担持体の長手方向の端部の非画像
形成領域部にも接触し、非画像形成領域相当部の中抵抗
弾性層が電気的絶縁層を介して導電性基体上に構成され
ていることを特徴と帯電部材。
1. A charging member for charging an image bearing member by bringing it into contact with the image bearing member and applying a voltage thereto, and an electric resistance contacting the image bearing member is provided on at least a conductive substrate to which a charging voltage is applied. It is configured to have an elastic layer having a medium resistance, and the medium resistance elastic layer also contacts the non-image forming area portion at the end portion in the longitudinal direction of the image carrier, and the medium resistance elastic layer corresponding to the non-image forming area is A charging member, characterized in that it is formed on a conductive substrate through an electrically insulating layer.
【請求項2】前記非画像形成領域部に対応する中抵抗弾
性層の長手方向長さが3mm以上であることを特徴とす
る請求項1に記載の帯電部材。
2. The charging member according to claim 1, wherein the medium resistance elastic layer corresponding to the non-image forming area has a longitudinal length of 3 mm or more.
【請求項3】前記非画像形成領域相当部の電気的絶縁層
の膜厚が中抵抗弾性層の膜厚の1/10以下であること
を特徴とする請求項1または2に記載の帯電部材。
3. The charging member according to claim 1, wherein the thickness of the electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is 1/10 or less of the thickness of the medium resistance elastic layer. .
【請求項4】前記非画像形成領域相当部の電気的絶縁層
の膜厚が5μm〜500μmであることを特徴とする請
求項1から3の何れかに記載の帯電部材。
4. The charging member according to claim 1, wherein the electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming region has a film thickness of 5 μm to 500 μm.
【請求項5】前記中抵抗弾性層の硬度がJIS K63
01のA型硬度計により規定された硬度にて35〜75
度を有する弾性体であることを特徴とする請求項1から
4の何れかに記載の帯電部材。
5. The hardness of the medium resistance elastic layer is JIS K63.
35 to 75 at the hardness specified by the 01 type A hardness tester
The charging member according to claim 1, which is an elastic body having a degree.
【請求項6】前記非画像形成領域相当部の電気的絶縁層
が導電性基体上に絶縁性塗料を塗布して形成された層で
あることを特徴とする請求項1から5の何れかに記載の
帯電部材。
6. The electrically insulating layer in a portion corresponding to the non-image forming area is a layer formed by applying an insulating coating material on a conductive substrate. The charging member described.
【請求項7】前記非画像形成領域相当部の電気的絶縁層
が導電性基体上を絶縁性シート、又はテープで被覆して
形成された層であることを特徴とする請求項1から5の
何れかに記載の帯電部材。
7. The electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is a layer formed by covering a conductive substrate with an insulating sheet or tape. The charging member according to any one of claims.
【請求項8】感光体に帯電部材を接触させて電圧を印加
することによって該感光体を帯電させる工程、像露光を
行うことにより該感光体上に静電潜像を形成する潜像形
成工程、この静電潜像をトナーによって可視化する現像
工程、トナー像を転写材に転写する工程を有する画像形
成装置において、 前記感光体がアモルファスシリコン系感光体であり、 前記帯電部材が、少なくとも帯電電圧を印加する導電性
基体上に、感光体に接触する電気抵抗が中抵抗である弾
性層を有した構成であり、前記感光体の長手方向の端部
の非画像形成領域部にも該中抵抗弾性層が接触してお
り、該非画像形成領域相当部の中抵抗弾性層が、電気的
絶縁層を介して前記導電性基体上に構成されていること
を特徴とする画像形成装置。
8. A step of charging a photoreceptor by bringing a charging member into contact with the photoreceptor to apply a voltage, and a latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the photoreceptor by performing image exposure. An image forming apparatus having a developing step of visualizing the electrostatic latent image with toner and a step of transferring the toner image onto a transfer material, wherein the photoconductor is an amorphous silicon photoconductor, and the charging member is at least a charging voltage. A conductive substrate to which is applied is provided with an elastic layer having an electric resistance of medium resistance in contact with the photoconductor, and the non-image forming area portion at the longitudinal end of the photoconductor also has the medium resistance. An image forming apparatus, wherein the elastic layers are in contact with each other, and the medium resistance elastic layer corresponding to the non-image forming area is formed on the conductive substrate via an electrically insulating layer.
【請求項9】前記アモルファスシリコン系感光体が、導
電性基体上にシリコン原子を母体とする非単結晶材料で
構成された光導電層を有するものであることを特徴とす
る請求項8に記載の画像形成装置。
9. The amorphous silicon-based photoconductor has a photoconductive layer formed of a non-single-crystal material having silicon atoms as a base material on a conductive substrate. Image forming device.
【請求項10】前記非画像形成領域部に対応する中抵抗
弾性層の長手方向長さが3mm以上であることを特徴と
する請求項8または9に記載の画像形成装置。
10. The image forming apparatus according to claim 8, wherein the medium resistance elastic layer corresponding to the non-image forming area has a length of 3 mm or more in the longitudinal direction.
【請求項11】前記非画像形成領域相当部の電気的絶縁
層の膜厚が中抵抗弾性層の膜厚の1/10以下であるこ
とを特徴とする請求項8から10の何れかに記載の画像
形成装置。
11. The film thickness of the electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is 1/10 or less of the film thickness of the medium resistance elastic layer, according to any one of claims 8 to 10. Image forming device.
【請求項12】前記非画像形成領域相当部の電気的絶縁
層の膜厚が5μm〜500μmであることを特徴とする
請求項8から11の何れかに記載の画像形成装置。
12. The image forming apparatus according to claim 8, wherein the film thickness of the electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is 5 μm to 500 μm.
【請求項13】前記中抵抗弾性層の硬度がJIS K6
301のA型硬度計により規定された硬度にて35〜7
5度を有する弾性体であることを特徴とする請求項8か
ら12の何れかに記載の画像形成装置。
13. The medium resistance elastic layer has a hardness of JIS K6.
35 to 7 at the hardness specified by 301 type A hardness tester
The image forming apparatus according to claim 8, wherein the image forming apparatus is an elastic body having 5 degrees.
【請求項14】前記非画像形成領域相当部の電気的絶縁
層が導電性基体上に絶縁性塗料を塗布して形成された層
であることを特徴とする請求項8から13の何れかに記
載の画像形成装置。
14. The non-image forming area corresponding to the electrically insulating layer is a layer formed by applying an insulating coating material on a conductive substrate. The image forming apparatus described.
【請求項15】前記非画像形成領域相当部の電気的絶縁
層が導電性基体上を絶縁性シート、又はテープで被覆し
て形成された層であることを特徴とする請求項8から1
3の何れかに記載の画像形成装置。
15. The electrically insulating layer in the portion corresponding to the non-image forming area is a layer formed by covering an electrically conductive substrate with an insulating sheet or tape.
The image forming apparatus according to any one of 3 above.
【請求項16】前記感光体が、非単結晶質水素化炭素膜
で表面層を構成したアモルファスシリコン系感光体であ
ることを特徴とする請求項8から15の何れかに記載の
画像形成装置。
16. The image forming apparatus according to claim 8, wherein the photoconductor is an amorphous silicon photoconductor having a surface layer formed of a non-single crystalline hydrogenated carbon film. .
【請求項17】前記非単結晶質水素化炭素膜の水素量が
41%〜60%であることを特徴とする請求項16に記
載の画像形成装置。
17. The image forming apparatus according to claim 16, wherein the amount of hydrogen in the non-single crystalline hydrogenated carbon film is 41% to 60%.
【請求項18】前記感光体が、電荷注入阻止層、光導電
層、表面層の3層で構成されていることを特徴とする請
求項8から17の何れかに記載の画像形成装置。
18. The image forming apparatus according to claim 8, wherein the photoconductor is composed of three layers of a charge injection blocking layer, a photoconductive layer and a surface layer.
【請求項19】前記感光体が、電荷注入阻止層、電荷輸
送層、電荷発生層、表面層の4層で構成されていること
を特徴とする請求項8から17の何れかに記載の画像形
成装置。
19. The image according to claim 8, wherein the photoconductor is composed of four layers of a charge injection blocking layer, a charge transport layer, a charge generation layer and a surface layer. Forming equipment.
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US7729638B2 (en) 2007-01-29 2010-06-01 Fuji Xerox Co., Ltd. Image forming apparatus, charger, and image carrier unit
JP2015132673A (en) * 2014-01-10 2015-07-23 キヤノン株式会社 Charging member, process cartridge, and image forming apparatus

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