JP2003140159A - Liquid crystal display element and its manufacturing method - Google Patents

Liquid crystal display element and its manufacturing method

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JP2003140159A
JP2003140159A JP2001338178A JP2001338178A JP2003140159A JP 2003140159 A JP2003140159 A JP 2003140159A JP 2001338178 A JP2001338178 A JP 2001338178A JP 2001338178 A JP2001338178 A JP 2001338178A JP 2003140159 A JP2003140159 A JP 2003140159A
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liquid crystal
crystal display
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spacer
display element
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正章 加邉
Nobuyuki Shigeno
信行 重野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the contrast by preventing light reflection from gate lines or signal lines and to improve the visibility by suppressing the variance of cell gaps of a liquid crystal display element. SOLUTION: A liquid crystal display element 100 is constituted of a substrate 2a as a first substrate having gate lines 3 and reflection electrodes 4 arranged, a substrate 2b as a second substrate having a transparent electrode 7 arranged, a liquid crystal layer 5 arranged between the substrate 2a and the substrate 2b, an oriented film 6, a first phase difference plate 8, a second phase difference plate 9, a polarizing plate 10, and spacers 20. The spacers 20 are formed on the gate lines 3 of the substrate 2a, and the substrate 2a and the substrate 2b are stuck to each other with the spacers 20 between them to form the liquid crystal display element 100, and liquid crystal is injected to the liquid crystal display element 100, and then a pressure is applied to the liquid crystal display element 100 from the outsides of both substrates 2a and 2b, and the injection port is sealed up with the substrate 2b brought into close contact with the spacers 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、反射型または半
透過型の液晶表示素子およびその製造方法に関する。詳
しくは、第1の基板の少なくともゲート線または信号線
の上にスペーサーを設けることによって、ゲート線また
は信号線からの外光の反射光を防止し、コントラストを
向上すると共に、液晶表示素子のセルギャップのバラツ
キを抑制し、視認性を向上するようにした液晶表示素子
およびその製造方法に係るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflective or semi-transmissive liquid crystal display element and a manufacturing method thereof. Specifically, by providing a spacer on at least the gate line or the signal line of the first substrate, reflection of external light from the gate line or the signal line is prevented, contrast is improved, and a cell of a liquid crystal display element is provided. The present invention relates to a liquid crystal display element that suppresses variation in gap and improves visibility, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、カラーディスプレイのうち、薄
型、軽量等の特徴を有するものとして、液晶表示装置
(LCD:Liquid Crystal Display)が多用されてい
る。この液晶表示装置は、透過型液晶表示装置と、反射
型液晶表示装置とに大別することが可能である。
2. Description of the Related Art Currently, among color displays, a liquid crystal display (LCD) is widely used as a display having characteristics such as thinness and lightness. This liquid crystal display device can be roughly classified into a transmissive liquid crystal display device and a reflective liquid crystal display device.

【0003】そのうち、カラー液晶表示装置として現在
特に広く用いられているものは、背景、即ち、液晶セル
の背面に、いわゆる背景照明(バックライト)と呼ばれ
る光源を用いた透過型液晶表示装置である。該透過型液
晶表示装置は、薄型、軽量等の利点を有し、各種分野に
おいてその用途が拡大しているが、その一方で、背景照
明(バックライト)を発光させるために多量の電力を消
費し、液晶の透過率変調に用いる電力が少ないにも拘ら
ず、比較的大きな電力を要する。
Among them, a color liquid crystal display device which is widely used at present is a transmissive liquid crystal display device which uses a light source called background illumination (backlight) on the background, that is, the back surface of the liquid crystal cell. . The transmissive liquid crystal display device has advantages such as thinness and light weight, and its applications are expanding in various fields. On the other hand, it consumes a large amount of power to emit background illumination (backlight). However, although a small amount of power is used for the liquid crystal transmittance modulation, a relatively large amount of power is required.

【0004】この透過型液晶表示装置に対して、他の表
示方式である反射型液晶表示装置(特開平11−142
836号参照)は、バックライトを必要としないため光
源用電力が削減可能であり、さらに、バックライトのス
ペースや重量が節約できる等の特徴を有している。即
ち、表示装置全体として、消費電力の低減が実現でき、
小型のバッテリーを用いることが可能になり、軽量薄型
を目的とする機器に適している。
In contrast to this transmissive liquid crystal display device, a reflective liquid crystal display device which is another display system (Japanese Patent Laid-Open No. 11-142)
No. 836) does not require a backlight, so that power for a light source can be reduced, and further, space and weight of the backlight can be saved. That is, it is possible to reduce the power consumption of the entire display device.
Since a small battery can be used, it is suitable for a device that is lightweight and thin.

【0005】上述の外に、反射型液晶表示装置の利点を
生かし、かつ、周囲照明光が弱い環境下での使用を可能
にする液晶表示装置として、外光とバックライト光の両
方を利用できるようにした半透過型液晶表示装置も考案
されている(特開平11−242226号参照)。
In addition to the above, both external light and backlight light can be used as a liquid crystal display device that takes advantage of the reflective liquid crystal display device and can be used in an environment where the ambient illumination light is weak. A transflective liquid crystal display device of this kind has also been devised (see JP-A-11-242226).

【0006】以下、反射型液晶表示装置に用いられてい
る反射型液晶表示素子の構成例および製造方法について
説明する。図11は、ノーマリホワイトモードの従来の
反射型液晶表示素子1の断面図である。また、図11は
電圧無印加時の液晶の配向状態も同時に示している。液
晶配向は簡単のために、ホモジニアス配向を図示してい
るが、ツイスト配向でも以下の説明は同様に適用でき
る。
Hereinafter, an example of the structure and manufacturing method of the reflective liquid crystal display element used in the reflective liquid crystal display device will be described. FIG. 11 is a cross-sectional view of a conventional reflective liquid crystal display element 1 in a normally white mode. Further, FIG. 11 also shows the alignment state of the liquid crystal when no voltage is applied. The liquid crystal alignment is illustrated as a homogeneous alignment for simplicity, but the following description can be similarly applied to the twist alignment.

【0007】この反射型液晶表示素子1は、ゲート線3
と反射電極4とが配置されている基板2aと、透明電極
7が配置されている基板2bと、基板2aと基板2bの
間に配された液晶層5と、基板2aおよび基板2bの表
面に塗布された配向膜6と(基板2aの配向膜6は図示
を省略)、第1の位相差板8と、第2の位相差板9と、
偏光板10とから構成されている。基板2aは、図12
に示すように、表面にフォトエッチングによりパターン
電極(反射電極4とゲート線3と信号線11とを含む)
が形成される。
This reflection type liquid crystal display element 1 has a gate line 3
A substrate 2a on which the reflective electrode 4 and the transparent electrode 7 are disposed, a substrate 2b on which the transparent electrode 7 is disposed, a liquid crystal layer 5 disposed between the substrates 2a and 2b, and the surfaces of the substrates 2a and 2b. The applied alignment film 6 (the alignment film 6 of the substrate 2a is not shown), the first retardation plate 8 and the second retardation plate 9.
It is composed of a polarizing plate 10. The substrate 2a is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a pattern electrode (including the reflective electrode 4, the gate line 3, and the signal line 11) is formed on the surface by photoetching.
Is formed.

【0008】反射電極4は、反射によって出射する光線
を散乱させるために、表面に凹凸状の散乱型とされる。
また、反射型液晶表示素子1の場合、反射電極4は表示
電極となる。反射電極4は薄膜トランジスタ(TFT:
Thin Film Transistor)駆動方式が用いられる。
The reflecting electrode 4 is of a scattering type having an uneven surface so as to scatter light rays emitted by reflection.
In the case of the reflective liquid crystal display element 1, the reflective electrode 4 serves as a display electrode. The reflective electrode 4 is a thin film transistor (TFT:
Thin Film Transistor) driving method is used.

【0009】基板2bは、表面に透明電極7が配置さ
れ、その上に配向膜6が塗布されている。液晶層5は、
基板2aと基板2bの間に配されている。この液晶層5
の電圧無印加時の液晶の配向状態は、図11に示すよう
に、反射電極4上とゲート線3上の共に水平配向になっ
ている。このような状態において、図13に示すような
偏光状態の変化をたどり、外部からの入射光は、ゲート
線3(図13(a)参照)と反射電極4(図13(b)
参照)で反射され、出射する。また、信号線11の場合
はゲート線3と同様である。
A transparent electrode 7 is arranged on the surface of the substrate 2b, and an alignment film 6 is applied thereon. The liquid crystal layer 5 is
It is arranged between the substrate 2a and the substrate 2b. This liquid crystal layer 5
As shown in FIG. 11, the liquid crystal alignment state when no voltage is applied is horizontal on both the reflective electrode 4 and the gate line 3. In such a state, the polarization state changes as shown in FIG. 13, and the incident light from the outside is reflected by the gate line 3 (see FIG. 13A) and the reflective electrode 4 (see FIG. 13B).
(Refer to) and is emitted. The signal line 11 is similar to the gate line 3.

【0010】図14は、液晶表示素子1の電圧印加時の
液晶配向状態を示している。図14に示すように、液晶
表示素子1に電圧を印加する時、反射電極4上の液晶は
ほぼ垂直配向になっている。しかし、ゲート線3上の液
晶は応答せず、電圧を印加しないときの配向のままであ
る。このような状態において、図15に示すように、外
部からの入射光は、反射電極4上では、偏光板10に吸
収されるため、外部には出射されず、黒状態となる(図
15(b)参照)。しかし、ゲート線3上では、液晶の
配向が、電圧無印加時と同じため、外部からの入射光
は、ゲート線3で反射され、出射する(図15(a)参
照)。
FIG. 14 shows a liquid crystal alignment state of the liquid crystal display element 1 when a voltage is applied. As shown in FIG. 14, when a voltage is applied to the liquid crystal display element 1, the liquid crystal on the reflective electrode 4 is almost vertically aligned. However, the liquid crystal on the gate line 3 does not respond and remains in the alignment when no voltage is applied. In such a state, as shown in FIG. 15, the incident light from the outside is absorbed by the polarizing plate 10 on the reflective electrode 4, and thus is not emitted to the outside and becomes a black state (see FIG. See b)). However, on the gate line 3, since the orientation of the liquid crystal is the same as when no voltage is applied, incident light from the outside is reflected by the gate line 3 and exits (see FIG. 15A).

【0011】図16は、従来の液晶表示素子の製造プロ
セスを示している。上述した反射型液晶表示素子の製造
過程は、まず、ステップS01で、フォトエッチングに
より基板2aの上にパターン電極(反射電極4とゲート
線3と信号線11とを含む)を形成する。
FIG. 16 shows a manufacturing process of a conventional liquid crystal display element. In the manufacturing process of the reflective liquid crystal display element described above, first, in step S01, pattern electrodes (including the reflective electrode 4, the gate line 3, and the signal line 11) are formed on the substrate 2a by photoetching.

【0012】次に、ステップS02で、基板2aおよび
基板2bに液晶分子配列のための配向膜6形成する。配
向膜6が形成後、ラビングを処理を行う。このラビング
処理によって液晶分子の平行配列の方位を一定化する。
次に、ステップS03で、液晶層の厚さを決定するため
に、いずれかの基板上(両方の基板の場合も有る)に透
明で、円筒状もしくは粒状の微少なスペーサーを散布
し、このスペーサーを挟み込んで両基板を貼り合わせ、
液晶表示素子1の組み立てを行い、それから液晶表示素
子1の周辺を封着材で付着する。
Next, in step S02, an alignment film 6 for aligning liquid crystal molecules is formed on the substrates 2a and 2b. After the alignment film 6 is formed, rubbing is performed. By this rubbing process, the orientation of the parallel alignment of the liquid crystal molecules is made constant.
Next, in step S03, in order to determine the thickness of the liquid crystal layer, transparent, cylindrical or granular minute spacers are sprinkled on one of the substrates (or both substrates may be used), and this spacer is used. Sandwich the two substrates and stick them together,
The liquid crystal display element 1 is assembled, and then the periphery of the liquid crystal display element 1 is attached with a sealing material.

【0013】次に、ステップS04で、液晶の注入口
(図示せず)より液晶を両基板2a、2bの間に注入す
る。次に、ステップS05で、液晶を注入した後に注入
口(図示せず)をUV硬化樹脂で封止する。次に、ステ
ップS06で、第1の位相差板8、第2の位相差板9、
偏光板10、図示しないコネクタ等の付属品を取り付け
る。このようにして図10に示す液晶表示素子1が形成
される。
Next, in step S04, liquid crystal is injected between the substrates 2a and 2b from a liquid crystal injection port (not shown). Next, in step S05, after the liquid crystal is injected, the injection port (not shown) is sealed with a UV curable resin. Next, in step S06, the first retardation plate 8, the second retardation plate 9,
The polarizing plate 10 and accessories such as a connector (not shown) are attached. In this way, the liquid crystal display element 1 shown in FIG. 10 is formed.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の反射型液晶表示素子1では、反射電極4上ではもちろ
んのこと、ゲート線3上にも液晶層5が存在するため、
電圧無印加時には、外部からの入射光は、反射電極4
上、およびゲート線3上のそれぞれで、偏光板10、位
相差板8,9、液晶層5を通過するたびに図13のよう
な偏光状態の変化をたどり、反射電極4上はもちろんの
こと、ゲート線3上でも入射光は出射する。また信号線
11(図示せず)では、ゲート線3と同様である。
As described above, in the conventional reflective liquid crystal display element 1, since the liquid crystal layer 5 exists not only on the reflective electrode 4 but also on the gate line 3,
When no voltage is applied, incident light from the outside is reflected by the reflective electrode 4
Each time the light passes through the polarizing plate 10, the retardation plates 8 and 9, and the liquid crystal layer 5, the polarization state changes as shown in FIG. The incident light is also emitted on the gate line 3. The signal line 11 (not shown) is similar to the gate line 3.

【0015】また、電圧印加時には、反射電極4上の液
晶は、図14に示すようにほぼ垂直配向になるが、ゲー
ト線3上の液晶は、応答せず、電圧無印加時の配向のま
まである。このような状態において、図15に示すよう
に、外部からの入射光は、反射電極4上では、偏光板1
0に吸収されるため、外部には出射されない。このため
黒状態となる。しかし、ゲート線3上では、前述のとお
り、液晶の配向が、電圧無印加時と同じため、外部から
の入射光は、ゲート線3で反射され、出射する。このた
め、液晶表示素子1は十分な黒状態が達成されず、コン
トラストの低下を招いていた。また、半透過型液晶表示
素子においても反射型液晶表示素子1と同様な問題があ
る。
Further, when a voltage is applied, the liquid crystal on the reflective electrode 4 has a substantially vertical alignment as shown in FIG. 14, but the liquid crystal on the gate line 3 does not respond and remains in the alignment when no voltage is applied. Is. In such a state, as shown in FIG. 15, incident light from the outside is reflected by the polarizing plate 1 on the reflective electrode 4.
Since it is absorbed by 0, it is not emitted to the outside. For this reason, it becomes black. However, on the gate line 3, as described above, the orientation of the liquid crystal is the same as that when no voltage is applied, so that the incident light from the outside is reflected by the gate line 3 and emitted. For this reason, the liquid crystal display element 1 does not achieve a sufficient black state, resulting in a decrease in contrast. Further, the transflective liquid crystal display element has the same problem as the reflective liquid crystal display element 1.

【0016】そこで、この発明は、ゲート線または信号
線からの光反射を防止し、コントラストを向上する液晶
表示素子を提供することを目的とする。また、その液晶
表示素子のセルギャップのバラツキを抑制でき、視認性
を向上し得る製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which prevents light reflection from a gate line or a signal line and improves contrast. Another object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of suppressing variations in cell gap of the liquid crystal display element and improving visibility.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】この発明に係る液晶表示
素子は、反射機能を持つ表示電極とゲート線および信号
線を有する第1の基板と、透明電極を有する第2の基板
と、第1及び第2の基板間に配された液晶層とを備える
液晶表示素子において、第1の基板の少なくともゲート
線上または信号線上にスペーサーを設けるものである。
A liquid crystal display element according to the present invention comprises a first substrate having a display electrode having a reflection function, a gate line and a signal line, a second substrate having a transparent electrode, and a first substrate. And a liquid crystal layer disposed between the second substrate, and a spacer is provided on at least the gate line or the signal line of the first substrate.

【0018】また、この発明に係る液晶表示素子の製造
方法は、反射機能を持つ表示電極とゲート線および信号
線を有する第1の基板と、透明電極を有する第2の基板
と、第1及び第2の基板間に配された液晶層とを備える
液晶表示素子の製造方法において、第1の基板の少なく
ともゲート線または信号線上にスペーサーを形成する形
成工程と、スペーサーを挟み込んで第1と第2の基板を
張り合わせて形成した空間に、液晶を注入口より注入す
る注入工程と、第1と第2の基板の外側から液晶表示素
子に圧力を加え、第2の基板とスペーサーを緊密に接触
させた状態で、注入口を封止する封止工程とを有するも
のである。
Further, in the method of manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention, a first substrate having a display electrode having a reflection function, a gate line and a signal line, a second substrate having a transparent electrode, a first substrate In a method of manufacturing a liquid crystal display device including a liquid crystal layer arranged between second substrates, a forming step of forming a spacer on at least a gate line or a signal line of the first substrate, and a first and a second step with the spacer sandwiched therebetween. Injecting step of injecting liquid crystal into the space formed by pasting the two substrates together, and applying pressure to the liquid crystal display element from the outside of the first and second substrates to bring the second substrate and the spacer into close contact with each other. In this state, a sealing step of sealing the injection port is included.

【0019】この発明に係る液晶表示素子においては、
第1の基板の少なくともゲート線または信号線の上にス
ペーサー、例えば、ストライプ状または格子状のスペー
サー、あるいはスペーサー柱が形成される。これによ
り、ゲート線または信号線からの光反射を防止し、コン
トラストを向上することが可能となる。
In the liquid crystal display element according to the present invention,
Spacers, for example, stripe-shaped or grid-shaped spacers or spacer columns are formed on at least the gate lines or the signal lines of the first substrate. This makes it possible to prevent light reflection from the gate line or the signal line and improve the contrast.

【0020】また、この発明に係る液晶表示素子の製造
方法においては、液晶の注入口を封止する前に、例え
は、液晶注入前または注入後に、第1と第2の基板の外
側から液晶表示素子に圧力を加え、第2の基板がスペー
サーと緊密に接触した状態で注入口を封止することによ
って、液晶表示素子のセルギャップのバラツキを抑制で
き、視認性を向上することが可能となる。
In the method of manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention, before the liquid crystal injection port is sealed, for example, before or after the liquid crystal injection, the liquid crystal is applied from the outside of the first and second substrates. By applying pressure to the display element and sealing the injection port in a state where the second substrate is in close contact with the spacer, it is possible to suppress variations in the cell gap of the liquid crystal display element and improve visibility. Become.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、この
発明の実施の形態について説明する。図1は、実施の形
態としての液晶表示素子100の構成を示している。こ
の液晶表示素子100は、反射型液晶表示素子である。
また、この図1において、図10と対応する部分には同
一符号を付して示している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration of a liquid crystal display element 100 as an embodiment. The liquid crystal display element 100 is a reflective liquid crystal display element.
Further, in FIG. 1, parts corresponding to those in FIG. 10 are denoted by the same reference numerals.

【0022】図1に示す液晶表示素子100は、ゲート
線3と反射電極4とが配置されている第1の基板として
の基板2aと、透明電極7が配置されている第2の基板
としての基板2bと、基板2aと基板2bの間に配され
た液晶層5と、基板2aおよび2bの表面に塗布された
配向膜6と(基板2aの配向膜6は図示を省略)、第1
の位相差板8と、第2の位相差板9と、偏光板10と、
スペーサー20とから構成されている。
The liquid crystal display device 100 shown in FIG. 1 has a substrate 2a as a first substrate on which the gate line 3 and the reflective electrode 4 are arranged, and a second substrate on which a transparent electrode 7 is arranged. A substrate 2b, a liquid crystal layer 5 disposed between the substrates 2a and 2b, an alignment film 6 applied to the surfaces of the substrates 2a and 2b (the alignment film 6 of the substrate 2a is not shown),
Retardation plate 8, a second retardation plate 9, a polarizing plate 10,
It is composed of a spacer 20.

【0023】図2は、基板2aを基板2bから見た図で
ある。基板2aは、表面にフォトエッチングによりパタ
ーン電極(反射電極4とゲート線3と信号線11とを含
む)が形成される。ゲート線3の上にスペーサー20が
設けられている。このスペーサー20は、感光性材料、
例えば、NN710(JSR株式会社製)で形成され
る。このスペーサー20は、例えば、幅3μmのストラ
イプ状、高さ約2μmとされる。
FIG. 2 is a view of the substrate 2a viewed from the substrate 2b. A pattern electrode (including the reflective electrode 4, the gate line 3, and the signal line 11) is formed on the surface of the substrate 2a by photoetching. A spacer 20 is provided on the gate line 3. This spacer 20 is made of a photosensitive material,
For example, it is formed of NN710 (manufactured by JSR Corporation). The spacer 20 has, for example, a stripe shape with a width of 3 μm and a height of about 2 μm.

【0024】反射電極4は、反射によって出射する光線
を散乱させるために、表面に凹凸状の散乱型とされる。
また、反射型液晶表示素子1の場合、反射電極4は表示
電極となる。反射電極4は薄膜トランジスタ(TFT:
Thin Film Transistor)駆動方式が用いられる。基板2
bは、表面に透明電極7が配置され、その上に配向膜6
が塗布されている。液晶層5は、基板2aと基板2bの
間に配されている。
The reflecting electrode 4 is of a scattering type having an uneven surface so as to scatter light rays emitted by reflection.
In the case of the reflective liquid crystal display element 1, the reflective electrode 4 serves as a display electrode. The reflective electrode 4 is a thin film transistor (TFT:
Thin Film Transistor) driving method is used. Board 2
In b, the transparent electrode 7 is arranged on the surface, and the alignment film 6 is formed thereon.
Has been applied. The liquid crystal layer 5 is arranged between the substrate 2a and the substrate 2b.

【0025】このような液晶表示素子100の外光反射
の様子を、図3および図4に示している。図3は、液晶
表示素子100に電圧無印加時における外光反射の様子
を示している。図3(a)は、ゲート線3上の外光反射
の様子、図3(b)は、反射電極4上の外光反射の様子
である。
The appearance of external light reflection of such a liquid crystal display device 100 is shown in FIGS. 3 and 4. FIG. 3 shows how external light is reflected when no voltage is applied to the liquid crystal display element 100. 3A shows a state of external light reflection on the gate line 3, and FIG. 3B shows a state of external light reflection on the reflective electrode 4.

【0026】図3(a)に示すように、ゲート線3の上
には、スペーサー20が設けられ、液晶層5が存在しな
い。この場合、ゲート線3で反射した光は、偏光板10
の吸収軸と平行方向の電気ベクトルを持つ直線偏光にな
るため、偏光板10で吸収され、外部に出射しない。ま
た、図3(b)に示すように、反射電極4の上には液晶
層5が存在するため、入射した外光は反射して、外部に
出射する。
As shown in FIG. 3A, a spacer 20 is provided on the gate line 3 and the liquid crystal layer 5 does not exist. In this case, the light reflected by the gate line 3 is reflected by the polarizing plate 10
Since it becomes a linearly polarized light having an electric vector in the direction parallel to the absorption axis of, it is absorbed by the polarizing plate 10 and is not emitted to the outside. Further, as shown in FIG. 3B, since the liquid crystal layer 5 is present on the reflective electrode 4, the incident external light is reflected and emitted to the outside.

【0027】図4は、液晶表示素子100に電圧印加時
における外光反射の様子を示している。図4(a)はゲ
ート線3上の外光反射の様子、図4(b)は、反射電極
4上の外光反射の様子である。図4(a)に示すよう
に、ゲート線3の上には液晶層5が存在しないため、図
3(a)と同様に、入射した外光は反射して偏光板10
で吸収され、外部に出射しない。また、図4(b)に示
すように、反射電極4の上には液晶層5が存在するた
め、電圧を印加すると、液晶の配向が水平から垂直に
(図14参照)変化し、反射電極4で反射した光は、入
射時と同方向に偏光され、偏光板10で吸収され、外部
に出射しない。また、この場合、信号線11上にはスペ
ーサー20を設けていないため、信号線11から反射し
て外部に出射する外光が存在する。
FIG. 4 shows how external light is reflected when a voltage is applied to the liquid crystal display element 100. 4A shows how external light is reflected on the gate line 3, and FIG. 4B shows how external light is reflected on the reflective electrode 4. As shown in FIG. 4A, since the liquid crystal layer 5 does not exist on the gate line 3, the incident external light is reflected and the polarization plate 10 is reflected, as in FIG. 3A.
It is absorbed by and does not go out. Further, as shown in FIG. 4B, since the liquid crystal layer 5 exists on the reflective electrode 4, the application of a voltage changes the orientation of the liquid crystal from horizontal to vertical (see FIG. 14), and the reflective electrode The light reflected by 4 is polarized in the same direction as when it is incident, is absorbed by the polarizing plate 10, and is not emitted to the outside. Further, in this case, since the spacer 20 is not provided on the signal line 11, there is external light reflected from the signal line 11 and emitted to the outside.

【0028】次に、液晶表示素子100の製造方法につ
いて説明する。液晶表示素子100の製造方法は、パタ
ーン電極(反射電極4とゲート線3と信号線11とを含
む)が形成された基板2aのゲート線3の上にスペーサ
ー20を形成し、スペーサー20を挟み込んで基板2a
と基板2bを張り合わせて形成した液晶表示素子100
に液晶を注入し、そして基板2aと基板2bの外側から
液晶表示素子100に圧力を加え、基板2bとスペーサ
ー20とが緊密に接触した状態で注入口を封止する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display element 100 will be described. The manufacturing method of the liquid crystal display device 100 is such that the spacer 20 is formed on the gate line 3 of the substrate 2a on which the pattern electrode (including the reflective electrode 4, the gate line 3 and the signal line 11) is formed, and the spacer 20 is sandwiched. Board 2a
Liquid crystal display device 100 formed by bonding substrate 2b and substrate 2b
Liquid crystal is injected into the liquid crystal display device, and pressure is applied to the liquid crystal display element 100 from the outside of the substrates 2a and 2b to seal the injection port while the substrate 2b and the spacer 20 are in close contact with each other.

【0029】図5は、液晶表示素子100の製造プロセ
スを示している。図5に示すように、液晶表示素子10
0の製造は、まず、ステップS1で、フォトエッチング
により基板2aの上にパターン電極を形成する。
FIG. 5 shows a manufacturing process of the liquid crystal display element 100. As shown in FIG. 5, the liquid crystal display device 10
In the manufacture of 0, first, in step S1, a pattern electrode is formed on the substrate 2a by photoetching.

【0030】次に、ステップS2で、基板2aのゲート
線3部分にスペーサー20を形成する。図6は、スペー
サー20の形成工程を示している。この工程では、ま
ず、図6(a)に示すように、ゲート線3および反射電
極4が配置された基板2aの表面に感光性材料、例え
ば、NN710(JSR株式会社製)を塗布する。次
に、図6(b)に示すように、感光性材料塗層の上にス
トライプ状パターンを有するフォトマスク12を設置し
て、紫外線(UV)を照射する。次に、UV照射後の基
板2aを処理し、感光性材料塗層の不要部分(未露光
部)を除去すると、スペーサー20が形成される(図6
(c)参照)。
Next, in step S2, a spacer 20 is formed on the gate line 3 portion of the substrate 2a. FIG. 6 shows a process of forming the spacer 20. In this step, first, as shown in FIG. 6A, a photosensitive material such as NN710 (manufactured by JSR Corporation) is applied to the surface of the substrate 2a on which the gate line 3 and the reflective electrode 4 are arranged. Next, as shown in FIG. 6B, a photomask 12 having a stripe pattern is placed on the photosensitive material coating layer, and ultraviolet rays (UV) are irradiated. Next, the substrate 2a after UV irradiation is processed to remove unnecessary portions (unexposed portions) of the photosensitive material coating layer, whereby spacers 20 are formed (FIG. 6).
(See (c)).

【0031】また、ステップS3で、基板2a、および
対向基板2bに配向膜6を形成する。配向膜形成後、ラ
ビング処理を行う。ラビングはアンチパラレルラビング
になるように行う。このラビング処理によって液晶分子
の平行配列の方位を一定化にする。
In step S3, the alignment film 6 is formed on the substrate 2a and the counter substrate 2b. After forming the alignment film, rubbing treatment is performed. Rubbing should be done in anti-parallel rubbing. This rubbing process makes the orientation of the parallel alignment of the liquid crystal molecules constant.

【0032】ステップS4で、スペーサー20を挟み込
んで基板2aと基板2bを貼り合わせ、液晶表示素子1
00の組み立てを行い、そして液晶表示素子100の周
辺を付着する。この場合、セルギャップをスペーサー2
0で保っているため、スペーサービーズを散布する必要
がない。
In step S4, the substrate 2a and the substrate 2b are attached to each other with the spacer 20 sandwiched therebetween, and the liquid crystal display element 1
00 is assembled, and the periphery of the liquid crystal display device 100 is attached. In this case, set the cell gap to spacer 2
Since it is maintained at 0, it is not necessary to spray spacer beads.

【0033】ステップS5で、液晶の注入口(図示せ
ず)より液晶を基板2aと基板2bの間に注入する。ス
テップS6で、液晶注入後、両基板2a,2bの外側か
ら加圧し、例えば、液晶表示素子100の全体に対して
0.2MPaの圧力を加える。これによって、スペーサ
ー20上に存在する液晶が排除され、基板2bとスペー
サー20を緊密に接触させることが可能となる。
In step S5, liquid crystal is injected between the substrate 2a and the substrate 2b through a liquid crystal inlet (not shown). In step S6, after the liquid crystal is injected, pressure is applied from the outside of both substrates 2a and 2b, for example, 0.2 MPa is applied to the entire liquid crystal display element 100. As a result, the liquid crystal existing on the spacer 20 is eliminated, and the substrate 2b and the spacer 20 can be brought into close contact with each other.

【0034】ステップS7で、液晶表示素子100が加
圧されている状態で、注入口(図示せず)にUV硬化樹
脂の封止剤を塗布し、加圧を解除したのち、封止剤にU
V光を照射し硬化させ、注入口を封止する。次に、ステ
ップS8で、第1の位相差板8、第2の位相差板9、偏
光板10、図示しないコネクタ等の付属品を取り付け
る。このようにして図1に示す液晶表示素子100が形
成される。
In step S7, while the liquid crystal display element 100 is under pressure, a UV-curable resin sealant is applied to the injection port (not shown), and the pressure is released. U
V light is irradiated and hardened, and the injection port is sealed. Next, in step S8, accessories such as the first retardation plate 8, the second retardation plate 9, the polarizing plate 10, and a connector (not shown) are attached. In this way, the liquid crystal display element 100 shown in FIG. 1 is formed.

【0035】上述の方法で製造された反射型液晶表示素
子100の光反射を顕微鏡で観察した結果、スペーサー
20が形成されている部分は反射がなく、黒い状態であ
ることを確認した。また、この液晶表示素子100のコ
ントラストを測定した。図7は、コントラストの測定状
態を示す図である。
As a result of observing the light reflection of the reflection type liquid crystal display device 100 manufactured by the above method with a microscope, it was confirmed that the portion where the spacer 20 was formed had no reflection and was in a black state. In addition, the contrast of the liquid crystal display device 100 was measured. FIG. 7 is a diagram showing a contrast measurement state.

【0036】図7に示すように、基板法線方向より30
度傾いた方向から平行光を入射し、基板法線にて、液晶
表示素子100からの反射光を受光するものである。こ
のように測定したコントラストは50であった。ここ
で、比較例1として、スペーサー20を形成せず、スペ
ーサービーズを散布した反射型液晶表示素子を作製し
た。
As shown in FIG. 7, 30 from the substrate normal direction.
The parallel light is incident from a tilted direction and the reflected light from the liquid crystal display element 100 is received at the substrate normal line. The contrast thus measured was 50. Here, as Comparative Example 1, a reflective liquid crystal display element in which spacers 20 were not formed and spacer beads were scattered was prepared.

【0037】上述した液晶表示素子100と同様に、比
較例1の光反射を顕微鏡で観察した結果、ゲート線3の
部分から反射して出射する外光があることを確認した。
また、上述した液晶表示素子100と同様に、比較例1
のコントラストを測定した結果、コントラストは40で
あった。これにより、ゲート線3上にスペーサー20を
形成すると、暗状態時の反射率が低下するため、コント
ラストを向上させることができる。
As in the case of the liquid crystal display device 100 described above, the light reflection of Comparative Example 1 was observed with a microscope, and it was confirmed that there was external light reflected and emitted from the gate line 3.
Further, as in the liquid crystal display element 100 described above, Comparative Example 1
As a result of measuring the contrast, the contrast was 40. As a result, when the spacer 20 is formed on the gate line 3, the reflectance in the dark state is reduced, so that the contrast can be improved.

【0038】また、比較例2として、上述した方法で、
液晶注入後、液晶表示素子を加圧せずに封止した液晶表
示素子を作製した。この比較例2の場合、封止する際
に、加圧していないため、基板2bとスペーサー20と
が緊密に接触していない。上述した液晶表示素子100
と比べ、セルギャップバラツキ起因による液晶表示素子
の輝度バラツキが目立ち、視認性を悪化させていること
を確認した。
As Comparative Example 2, the above-mentioned method is used.
After injecting the liquid crystal, a liquid crystal display element was produced by sealing the liquid crystal display element without applying pressure. In the case of this comparative example 2, since no pressure is applied at the time of sealing, the substrate 2b and the spacer 20 are not in close contact with each other. Liquid crystal display device 100 described above
It was confirmed that, compared with the above, the brightness variation of the liquid crystal display element due to the cell gap variation was conspicuous and the visibility was deteriorated.

【0039】このように本実施の形態においては、液晶
2aのゲート線3の上にスペーサー20を形成すること
によって、ゲート線3からの光反射を防止でき、コント
ラストを向上させることができる。
As described above, in the present embodiment, by forming the spacer 20 on the gate line 3 of the liquid crystal 2a, light reflection from the gate line 3 can be prevented and the contrast can be improved.

【0040】また、液晶注入後に、両基板2a,2bの
外側から液晶表示素子100を加圧し、基板2bとスペ
ーサー20とを緊密に接触させた状態で注入口を封止す
ることによって、液晶表示素子100のセルギャップの
バラツキを抑制でき、視認性を向上することができる。
After the liquid crystal is injected, the liquid crystal display element 100 is pressed from the outside of both substrates 2a and 2b, and the injection port is sealed in a state where the substrate 2b and the spacer 20 are in close contact with each other. It is possible to suppress variations in the cell gap of the element 100 and improve visibility.

【0041】また、この液晶表示素子100は、セルギ
ャップをスペーサー20で保っているため、スペーサー
ビーズを散布する必要がない。液晶表示素子100の耐
衝撃性も、従来のスペーサービーズを用いた液晶表示素
子1に比べ、大幅に向上し、その強度は通常のペン入力
に十分耐えられるものとなる。
Further, in the liquid crystal display element 100, since the cell gap is maintained by the spacer 20, it is not necessary to sprinkle the spacer beads. The impact resistance of the liquid crystal display element 100 is also significantly improved as compared with the liquid crystal display element 1 using the conventional spacer beads, and the strength thereof can sufficiently withstand a normal pen input.

【0042】なお、上述実施の形態においては、スペー
サー20はゲート線3に沿ってストライプ状に形成され
たものであるが、これに限定されるものではない。例え
ば、信号線11に沿ってストライプ状のスペーサー20
を形成してもよい。
Although the spacer 20 is formed in a stripe shape along the gate line 3 in the above-described embodiment, the present invention is not limited to this. For example, stripe-shaped spacers 20 along the signal lines 11
May be formed.

【0043】また、上述実施の形態においては、スペー
サー20はストライプ状に形成されたものであるが、こ
れに限定されるものではない。例えば、格子状または柱
状にしてもよい。
Further, in the above-mentioned embodiment, the spacer 20 is formed in a stripe shape, but it is not limited to this. For example, it may have a lattice shape or a column shape.

【0044】図8は、スペーサーの他の例を示してい
る。図8は液晶表示素子100の基板2aを基板2b側
から見た図である。図に示すように、スペーサー21は
ゲート線3および信号線11上に格子状に形成されてい
る。この場合、全てのゲート線3および信号線11の部
分がスペーサー21によって覆われ、ゲート線3および
信号線11からの反射光の出射を完全に抑制でき、より
一層のコントラストの向上が可能となる。
FIG. 8 shows another example of the spacer. FIG. 8 is a view of the substrate 2a of the liquid crystal display element 100 as viewed from the substrate 2b side. As shown in the figure, the spacers 21 are formed in a grid pattern on the gate lines 3 and the signal lines 11. In this case, all the portions of the gate lines 3 and the signal lines 11 are covered with the spacers 21, the emission of reflected light from the gate lines 3 and the signal lines 11 can be completely suppressed, and the contrast can be further improved. .

【0045】図9は、スペーサーの他の例を示してい
る。図9は液晶表示素子100の基板2aを基板2b側
から見た図である。図に示すように、スペーサー22は
ゲート線3上にストライプ状スペーサー22aと、信号
線11上に長さがストライプ状スペーサー22aの間隔
より短いストライプ状スペーサー22bを有する形状に
形成されている。この場合、ゲート線3および信号線1
1のほとんどの部分がスペーサー22によって覆われ、
入射光の反射を有効に抑制するとともに、スペーサー2
2bの両端とスペーサー22aの間に隙間を設けたため
液晶の注入が容易である。
FIG. 9 shows another example of the spacer. FIG. 9 is a view of the substrate 2a of the liquid crystal display element 100 as seen from the substrate 2b side. As shown in the figure, the spacer 22 is formed in a shape having a stripe spacer 22a on the gate line 3 and a stripe spacer 22b on the signal line 11 whose length is shorter than the interval of the stripe spacer 22a. In this case, the gate line 3 and the signal line 1
Most of 1 is covered by the spacer 22,
In addition to effectively suppressing the reflection of incident light, the spacer 2
Since a gap is provided between both ends of 2b and the spacer 22a, liquid crystal can be easily injected.

【0046】図10は、スペーサーの他の例を示してい
る。図10は液晶表示素子100の基板2aを基板2b
側から見た図である。図に示すように、スペーサー23
は柱状に形成されている。この場合、ゲート線3および
信号線11をスペーサー23によって覆う面積が格子状
のスペーサー21より少ないが、スペーサー23の間に
所定の間隔があるため液晶の注入が容易である。
FIG. 10 shows another example of the spacer. FIG. 10 shows the substrate 2a and the substrate 2b of the liquid crystal display device 100.
It is the figure seen from the side. As shown in the figure, the spacer 23
Has a columnar shape. In this case, the area covering the gate lines 3 and the signal lines 11 with the spacers 23 is smaller than that of the grid-like spacers 21, but the liquid crystal can be easily injected because there is a predetermined space between the spacers 23.

【0047】また、上述実施の形態においては、反射型
の液晶表示素子100の例を説明したが、これに限定さ
れるものではない。半透過型の液晶表示素子にもこの発
明を同様に適用できる。また、上述実施の形態において
は、液晶の配向はホモジニアス配向の例を説明したが、
これに限定されるものではない。例えば、ツイスト配向
の場合にもこの発明を同様に適用できる。
Further, in the above-mentioned embodiment, the example of the reflection type liquid crystal display element 100 has been described, but the present invention is not limited to this. The present invention can be similarly applied to a transflective liquid crystal display element. Further, in the above-described embodiment, the example of the liquid crystal alignment is a homogeneous alignment,
It is not limited to this. For example, the present invention can be similarly applied to the case of twist orientation.

【0048】[0048]

【発明の効果】この発明に係る液晶表示素子によれば、
第1の基板の少なくともゲート線または信号線の上にス
ペーサーを設けることにより、ゲート線または信号線か
らの光反射を防止し、コントラストを向上できる。
According to the liquid crystal display element of the present invention,
By providing a spacer on at least the gate line or the signal line of the first substrate, light reflection from the gate line or the signal line can be prevented and the contrast can be improved.

【0049】また、この発明に係る液晶表示素子の製造
方法によれば、液晶の注入口を封止する前に第1と第2
の基板の外側から液晶表示素子に圧力を加え、第2の基
板がスペーサーと緊密に接触した状態で注入口を封止す
ることによって、液晶表示素子のセルギャップのバラツ
キを抑制でき、視認性を向上できる。
Further, according to the method of manufacturing the liquid crystal display element of the present invention, the first and second liquid crystal display devices are sealed before the liquid crystal injection port is sealed.
By applying pressure to the liquid crystal display element from the outside of the substrate and sealing the injection port in the state where the second substrate is in close contact with the spacer, it is possible to suppress variations in the cell gap of the liquid crystal display element and improve visibility. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施の形態の液晶表示素子の構成を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a liquid crystal display element according to an embodiment.

【図2】基板2aを基板2b側から見た図である。FIG. 2 is a diagram of the substrate 2a viewed from the substrate 2b side.

【図3】電圧印加なしの場合の外光反射の様子を示す図
である。
FIG. 3 is a diagram showing how external light is reflected when no voltage is applied.

【図4】電圧印加ありの場合の外光反射の様子を示す図
である。
FIG. 4 is a diagram showing how external light is reflected when a voltage is applied.

【図5】液晶表示素子の製造プロセスを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a manufacturing process of a liquid crystal display element.

【図6】スペーサー形成工程を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a spacer forming step.

【図7】コントラストの測定状態を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a contrast measurement state.

【図8】スペーサーの他の例を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing another example of a spacer.

【図9】スペーサーの他の例を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing another example of a spacer.

【図10】スペーサーの他の例を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing another example of a spacer.

【図11】従来の液晶表示素子の構成を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a conventional liquid crystal display element.

【図12】基板2aを基板2b側から見た図である。FIG. 12 is a diagram of the substrate 2a viewed from the substrate 2b side.

【図13】電圧印加しない場合の外光反射の様子を示す
図である。
FIG. 13 is a diagram showing how external light is reflected when no voltage is applied.

【図14】液晶表示素子の電圧印加時の液晶配向状態を
示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a liquid crystal alignment state when a voltage is applied to the liquid crystal display element.

【図15】電圧印加する場合の外光反射の様子を示す図
である。
FIG. 15 is a diagram showing how external light is reflected when a voltage is applied.

【図16】従来の液晶表示素子の製造プロセスを示す図
である。
FIG. 16 is a diagram showing a manufacturing process of a conventional liquid crystal display element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,100・・・液晶表示素子、2a・・・第1の基
板、2b・・・第2の基板、3・・・ゲート線、4・・
・反射電極、5・・・液晶層、6・・・配向膜、7・・
・透明電極、8・・・第1の位相差板、9・・・第2の
位相差板、10・・・偏光板、11・・・信号線、12
・・・フォトマスク、13・・・光源、14・・・受光
器、20,21,22,23・・・スペーサー
1, 100 ... Liquid crystal display element, 2a ... First substrate, 2b ... Second substrate, 3 ... Gate line, 4 ...
・ Reflecting electrode, 5 ... Liquid crystal layer, 6 ... Alignment film, 7 ...
-Transparent electrode, 8 ... First retardation plate, 9 ... Second retardation plate, 10 ... Polarizing plate, 11 ... Signal line, 12
... Photomask, 13 ... Light source, 14 ... Photoreceiver, 20, 21, 22, 23 ... Spacer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 LA09 LA12 LA18 MA03X NA05 NA14 QA14 TA09 TA15 TA17 2H092 JA24 JB07 JB22 JB31 NA01 PA02 PA03 PA11 5C094 AA02 AA06 BA03 BA43 CA19 DA07 DB01 EA04 EA07 EB02 EC02 EC03 ED14    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H089 LA09 LA12 LA18 MA03X                       NA05 NA14 QA14 TA09 TA15                       TA17                 2H092 JA24 JB07 JB22 JB31 NA01                       PA02 PA03 PA11                 5C094 AA02 AA06 BA03 BA43 CA19                       DA07 DB01 EA04 EA07 EB02                       EC02 EC03 ED14

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 反射機能を持つ表示電極とゲート線およ
び信号線を有する第1の基板と、透明電極を有する第2
の基板と、上記第1及び第2の基板間に配された液晶層
とを備える液晶表示素子において、 上記第1の基板の少なくとも上記ゲート線上または上記
信号線上にスペーサーを設けることを特徴とする液晶表
示素子。
1. A first substrate having a display electrode having a reflection function, a gate line and a signal line, and a second substrate having a transparent electrode.
In a liquid crystal display device including the substrate and a liquid crystal layer disposed between the first and second substrates, a spacer is provided on at least the gate line or the signal line of the first substrate. Liquid crystal display device.
【請求項2】 上記スペーサーは、壁状に形成されるこ
とを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is formed in a wall shape.
【請求項3】 上記壁状のスペーサーは、ゲート線また
は信号線上にストライプ状に形成されることを特徴とす
る請求項2に記載の液晶表示素子。
3. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the wall-shaped spacers are formed in stripes on the gate lines or the signal lines.
【請求項4】 上記壁状のスペーサーは、ゲート線およ
び信号線上に格子状に形成されることを特徴とする請求
項2に記載の液晶表示素子。
4. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the wall-shaped spacers are formed in a grid pattern on the gate lines and the signal lines.
【請求項5】 上記壁状のスペーサーは、上記ゲート線
または上記信号線上のストライプ状スペーサーと、上記
信号線または上記ゲート線上の上記ストライプ状スペー
サーの間隔より長さが短いストライプ状スペーサーとか
らなることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示素
子。
5. The wall-shaped spacer comprises a stripe-shaped spacer on the gate line or the signal line, and a stripe-shaped spacer having a length shorter than an interval between the stripe-shaped spacers on the signal line or the gate line. The liquid crystal display element according to claim 2, wherein
【請求項6】 上記スペーサーは、柱状に形成されるこ
とを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is formed in a columnar shape.
【請求項7】 反射機能を持つ表示電極とゲート線およ
び信号線を有する第1の基板と、透明電極を有する第2
の基板と、上記第1及び第2の基板間に配された液晶層
とを備える液晶表示素子の製造方法において、 上記第1の基板の少なくとも上記ゲート線または上記信
号線上にスペーサーを形成する形成工程と、 上記スペーサーを挟み込んで上記第1と第2の基板を張
り合わせて形成した空間に、液晶を注入口より注入する
注入工程と、 上記第1と第2の基板の外側から液晶表示素子に圧力を
加え、上記第2の基板と上記スペーサーを緊密に接触さ
せた状態で、上記注入口を封止する封止工程とを有する
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
7. A first substrate having a display electrode having a reflection function, a gate line and a signal line, and a second substrate having a transparent electrode.
A substrate and a liquid crystal layer disposed between the first and second substrates, wherein a spacer is formed on at least the gate line or the signal line of the first substrate. A step of injecting liquid crystal from an injection port into a space formed by pasting the spacer and sandwiching the first and second substrates, and a liquid crystal display device from the outside of the first and second substrates. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of applying pressure to seal the injection port in a state where the second substrate and the spacer are in close contact with each other.
【請求項8】 上記形成工程は、 感光材料層を塗布するステップと、 上記感光材料層にパターン露光して硬化させるステップ
と、 上記感光材料層の未露光部を除去するステップとを有す
ることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示素子の製
造方法。
8. The forming process includes: a step of applying a photosensitive material layer; a step of pattern-exposing and curing the photosensitive material layer; and a step of removing an unexposed portion of the photosensitive material layer. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 7, which is characterized in that.
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