JP2003139904A - Antireflection film, and low reflective polarizing plate and display device using the film - Google Patents

Antireflection film, and low reflective polarizing plate and display device using the film

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JP2003139904A
JP2003139904A JP2001332505A JP2001332505A JP2003139904A JP 2003139904 A JP2003139904 A JP 2003139904A JP 2001332505 A JP2001332505 A JP 2001332505A JP 2001332505 A JP2001332505 A JP 2001332505A JP 2003139904 A JP2003139904 A JP 2003139904A
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Japan
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layer
antireflection film
film
polarizing plate
hard coat
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Japanese (ja)
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Minoru Miyatake
宮武  稔
Tomoaki Masuda
友昭 増田
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film having favorable display quality and excellent wiping property for dust on the display face and to provide a low reflective polarizing plate using the film and a display device using them. SOLUTION: The antireflection film is obtained by forming a hard coat layer directly or through another layer on one surface of a light transmitting film and further forming a low refractive index layer by coating on the surface of the hard coat layer. The initial electrification voltage of the film measured by using a wool friction cloth described in JIS L 0803 and according to the triboelectric attenuation measurement method described in JIS L 1094 is specified to >=-5 kV and <=+20 kV.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置など
に好適な、実用性、特に挨拭き取り性に優れた反射防止
フィルム及びそれを用いた低反射偏光板、並びにそれら
を配置した表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film suitable for liquid crystal display devices and the like, which is excellent in practicability, in particular dust wiping property, a low reflection polarizing plate using the same, and a display device in which the antireflection film is arranged. .

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶パネルは、近年の研究開発により、
ディスプレイとしての確固たる地位を確保しつつある。
しかし、明るい照明下での使用頻度の高いカーナビゲー
ション用モニターやビデオカメラ用モニターは、表面反
射による視認性の低下は顕著である。このため、偏光板
に反射防止処理を施す事は必要不可欠になりつつあり、
屋外使用頻度の高い液晶ディスプレイには、ほとんどが
反射防止処理を施した偏光板が使用されている。反射防
止処理は、一般的に真空蒸着法やスパッタリング法、C
VD法等の手法を使って、屈折率の異なる材料からなる
複数の薄膜の多層積層体を作製し、可視光領域の反射を
できるだけ低減させるような設計が行われている。しか
し、上記のドライ処理での薄膜の形成には真空設備が必
要であり、処理費用が非常に高価となるため、最近では
ウエットコーティングでの反射防止膜形成を行ってい
る。
2. Description of the Related Art Liquid crystal panels have been researched and developed in recent years.
It is securing a solid position as a display.
However, in car navigation monitors and video camera monitors that are frequently used under bright lighting, the visibility is significantly reduced due to surface reflection. Therefore, it is becoming indispensable to apply antireflection treatment to the polarizing plate.
Most LCDs that are frequently used outdoors use anti-reflection polarizing plates. Antireflection treatment is generally performed by vacuum deposition method, sputtering method, C
A VD method or the like is used to produce a multilayer stack of a plurality of thin films made of materials having different refractive indices, and a design is performed to reduce reflection in the visible light region as much as possible. However, vacuum equipment is required to form a thin film by the above-mentioned dry processing, and the processing cost becomes very expensive. Therefore, recently, an antireflection film is formed by wet coating.

【0003】ところで、反射防止膜の構成は、基材とな
る透明フィルム/ハードコート性付与のための樹脂層/
低屈折率材料からなっている。反射率の観点から、ハー
ドコート樹脂層は高屈折率が求められ、低屈折率層はよ
り低い屈折率を求められる。低屈折率層は、屈折率低下
の目的と防汚染性の観点よりフッ素化合物が好ましく用
いられてきたが、通常の材料、例えばティッシュペーパ
ー(パルプ)や雑巾(綿)などで表面に付着した挨を拭
き取ろうとすると、摩擦物と低屈折材料表面のフッ素系
材料との帯電列が大きく異なるため、逆に低屈折材料表
面が大きく負に帯電し、挨が更に取り除きにくくなると
いう問題がある。また、前述の帯電列とは、静電気の分
野で半経験的に扱われてきた理論であり、一概に材料の
違いのみによって議論できるものではないことが分かっ
ている。
By the way, the structure of the antireflection film is as follows: transparent film as a base material / resin layer for imparting hard coat property /
It is made of a low refractive index material. From the viewpoint of reflectance, the hard coat resin layer is required to have a high refractive index, and the low refractive index layer is required to have a lower refractive index. For the low refractive index layer, a fluorine compound has been preferably used from the viewpoint of lowering the refractive index and from the viewpoint of antifouling property, but dust adhered to the surface by a normal material such as tissue paper (pulp) or rag (cotton). When the surface of the low refraction material and the fluorine-based material on the surface of the low-refraction material are significantly different from each other, the surface of the low-refraction material is greatly negatively charged, which makes it more difficult to remove dust. Further, the above-mentioned electrification train is a theory that has been treated semi-empirically in the field of static electricity, and it is known that it cannot be generally discussed only by the difference in materials.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、樹脂系のハ
ードコートを施した透明フィルム上に低屈折率層を設け
た反射防止フィルムにおいて、繊維業界で用いられる帯
電性試験方法によって測定された表面の摩擦帯電量を所
定の範囲内にコントロールすることによって、挨拭き取
り性のよい反射防止フィルム及びそれを用いた低反射偏
光板、並びにそれらを用いた表示装置を提供することを
課題とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is an antireflection film having a low refractive index layer formed on a transparent film having a resin hard coat, and measured by a charging property test method used in the textile industry. An object of the present invention is to provide an antireflection film having good dust wiping property, a low reflection polarizing plate using the same, and a display device using the same by controlling the triboelectric charge amount on the surface within a predetermined range.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明は、透光性フィルムの片面に直接あるいは他
の層を介してハードコート層を設け、さらにこのハード
コート層の表面にコーティングにより低屈折率層が積層
された反射防止フィルムにおいて、その表面をJIS
L 0803に記載の毛の摩擦布を用い、JIS L
1094に記載の摩擦帯電減衰測定法に準じて測定した
初期帯電圧の値が、−5kV以上+20kV以下である
ことを特徴とする反射防止フィルムを提供するものであ
る。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a hard coat layer on one surface of a translucent film directly or through another layer, and further coats the surface of this hard coat layer. In the antireflection film in which the low refractive index layer is laminated by
Using the bristling cloth of hair described in L 0803, JIS L
The present invention provides an antireflection film having an initial charged voltage value measured according to the triboelectrification attenuation measurement method described in 1094 of -5 kV or more and +20 kV or less.

【0006】前記反射防止フィルムにおいては、ハード
コート層が、その表面形状が凸凹になっており、光防眩
性を有するものが好ましい。
[0006] In the antireflection film, it is preferable that the hard coat layer has an uneven surface shape and has an antiglare property.

【0007】また、前記反射防止フィルムにおいては、
ハードコート層中に無機又は樹脂の球形又は不定形のフ
ィラーを含有することが好ましい。
In the antireflection film,
It is preferable to contain an inorganic or resin spherical or amorphous filler in the hard coat layer.

【0008】次に、本発明は、吸収二色性偏光子の両側
に保護層を有する偏光板であって、前記保護層のうちの
少なくとも一方が、前記の反射防止フィルムであること
を特徴とする偏光板を提供するものである。
Next, the present invention is a polarizing plate having protective layers on both sides of an absorbing dichroic polarizer, wherein at least one of the protective layers is the antireflection film. The present invention provides a polarizing plate.

【0009】更に、本発明は、前記反射防止フィルムを
配置したことを特徴とする表示装置を提供するものであ
る。
Further, the present invention provides a display device characterized in that the antireflection film is arranged.

【0010】また、本発明は、前記偏光板を配置したこ
とを特徴とする液晶表示装置又は有機EL表示装置を提
供するものである。
Further, the present invention provides a liquid crystal display device or an organic EL display device, characterized in that the polarizing plate is arranged.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の反射防止フィルムは、透
光性フィルムの片面に直接あるいは他の層を介してハー
ドコート層を設け、さらにこのハードコート層の表面
に、コーティングにより低屈折率層が積層されたもので
ある。コーティングされた低屈折率層の表面を、JIS
L 0803に記載の毛の摩擦布を用い、JIS L
1094に記載の摩擦帯電減衰測定法に準じて測定し
た初期帯電圧の値は、−5kV以上+20kV以下の範
囲内にある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the antireflection film of the present invention, a hard coat layer is provided on one surface of a light-transmitting film directly or through another layer, and the surface of this hard coat layer is coated to have a low refractive index. It is a stack of layers. The surface of the coated low refractive index layer is JIS
Using the bristling cloth of hair described in L 0803, JIS L
The value of the initial charged voltage measured according to the triboelectric charge decay measurement method described in 1094 is in the range of -5 kV to +20 kV.

【0012】本発明における摩擦帯電量の測定は、「J
IS L 1094(1997):織物及び編物の帯電
性試験方法」の5.4に記載された摩擦帯電減衰測定法
に基づき、試験片を反射防止フィルム又はこの反射防止
フィルムを用いた低反射偏光板として測定を行う。測定
は、最初に、図1に示されるような摩擦子1に、JIS
L 0803に規定の摩擦布(毛添付白布)2を横方
向に(横糸に沿って)2つ折りとし、摩擦子1の摩擦面
にかぶせて輪ゴムで固定する。次に、試験片3を、図2
に示す試験片テーブル4に設けられた試験片ホルダー5
に取り付け、摩擦台6の上に固定し、除電装置にて試験
片3および摩擦布2の初期帯電を除電する。試験片を、
摩擦方向が一方向となるように1秒間に2回の割合で1
0回摩擦し、10回の摩擦終了と同時に、試験片を受電
部の下部まで素早く移動し、帯電圧とその減衰曲線を記
録し、その曲線から初期帯電圧を測定する。ちなみに、
受電部は、試験片を移動した状態では受電部と試験片と
の距離が50mmとなるようにセットする。また、試験
は20℃、60%RHの環境下にて実施する。
The triboelectric charge amount in the present invention is measured by "J
IS L 1094 (1997): Method for testing triboelectrification of woven and knitted fabrics ”, the test piece is an antireflection film or a low reflection polarizing plate using the antireflection film. As a measurement. First, the measurement was performed on the friction element 1 as shown in FIG.
A friction cloth (white cloth attached to wool) 2 specified in L 0803 is folded in two in the lateral direction (along the weft thread), and is covered with the friction surface of the friction element 1 and fixed with a rubber band. Next, the test piece 3 is shown in FIG.
Test piece holder 5 provided on the test piece table 4 shown in FIG.
The test piece 3 and the friction cloth 2 are initially charged by a static eliminator. The test piece
1 at a rate of twice per second so that the friction direction is unidirectional
At the same time as rubbing 0 times and rubbing 10 times, the test piece is quickly moved to the lower part of the power receiving section, the charged voltage and its decay curve are recorded, and the initial charged voltage is measured from the curve. By the way,
The power receiving unit is set such that the distance between the power receiving unit and the test piece is 50 mm when the test piece is moved. Further, the test is carried out in an environment of 20 ° C. and 60% RH.

【0013】上記手法にて測定した摩擦帯電圧と実際の
挨拭き取り性を比較してみると、反射防止フィルムの初
期帯電圧が−5kV以下または+20kV以上の場合に
は、反射防止フィルムに付着した挨をふき取りにくい。
従って、初期帯電圧の値は、−5kV以上+20kV以
下の範囲内にあることが必要であり、−3kV以上20
kV以下の範囲内にあることが好ましい。
A comparison between the friction electrification voltage measured by the above method and the actual dust wiping property shows that when the initial electrification voltage of the antireflection film is -5 kV or less or +20 kV or more, it adheres to the antireflection film. Dust is hard to wipe off.
Therefore, the value of the initial charging voltage needs to be in the range of -5 kV or more and +20 kV or less, and -3 kV or more 20
It is preferably in the range of kV or less.

【0014】次に、本発明の反射防止フィルムの構成を
説明する。
Next, the structure of the antireflection film of the present invention will be described.

【0015】本発明の反射防止フィルムに用いられる透
光性フィルムとしては、可視光の光線透過率に優れ(光
線透過率90%より大)、透明性に優れるもの(ヘイズ
1%未満)であれば、特に制限はない。通常、本発明の
反射防止フィルムは、偏光板の表面に設けられて使用さ
れる場合が多いので、透光性フィルムは偏光板の透明保
護層を兼ねることもできる。実際には、偏光板の表面に
反射防止フィルムを設ける場合には、偏光板の透明保護
層を本発明の反射防止フィルムの透光性フィルムとして
兼用することが、ディスプレイの厚みも厚くならず、層
が増えたことによる異なる屈折率界面が生じることによ
る表面反射ロスなどの光学的特性の低下の原因も少なく
好ましい。従って、透光性フィルムとしては、後述する
偏光板の透明保護層と同様のポリマーからなるフィルム
が使用できる。
The light-transmitting film used in the antireflection film of the present invention should be one having excellent visible light transmittance (light transmittance of greater than 90%) and excellent transparency (haze of less than 1%). Therefore, there is no particular limitation. Usually, since the antireflection film of the present invention is often used by being provided on the surface of a polarizing plate, the translucent film can also serve as the transparent protective layer of the polarizing plate. In fact, when the antireflection film is provided on the surface of the polarizing plate, the transparent protective layer of the polarizing plate can also be used as the translucent film of the antireflection film of the present invention, and the thickness of the display does not become thick, It is preferable because there are few causes of deterioration of optical characteristics such as surface reflection loss due to generation of interfaces having different refractive indexes due to the increase in the number of layers. Therefore, as the translucent film, a film made of the same polymer as the transparent protective layer of the polarizing plate described later can be used.

【0016】偏光板の保護層として用いる観点からは、
二酢酸セルロースや三酢酸セルロースの如きセルロース
系ポリマー、ポリメチルメタクリレート(PMMA)の
如きアクリル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマ
ー、シクロ環ないしノルボルネン構造を有するポリオレ
フィン系ポリマーなどが好ましい。
From the viewpoint of use as a protective layer of a polarizing plate,
Cellulose type polymers such as cellulose diacetate and cellulose triacetate, acrylic type polymers such as polymethylmethacrylate (PMMA), polycarbonate type polymers, polyolefin type polymers having a cyclo ring or norbornene structure are preferable.

【0017】本発明の反射防止フィルムを形成するハー
ドコート層としては、ハードコート性に優れ、光線透過
率の優れたものであれば、特に制限はない。また、ハー
ドコート層は、前記透光性フィルムの片面に直接設けて
も、或いは他の層を介して設けても良い。ハードコート
層には、防眩性を付与する目的で、表面に凹凸構造(好
ましくは微細凹凸構造)などを形成しても良い。
The hard coat layer forming the antireflection film of the present invention is not particularly limited as long as it has excellent hard coat properties and light transmittance. The hard coat layer may be provided directly on one surface of the translucent film, or may be provided via another layer. The hard coat layer may have an uneven structure (preferably a fine uneven structure) formed on the surface for the purpose of imparting antiglare properties.

【0018】前記ハードコート層の表面に設けられる微
細凹凸構造は、適宜な方式で形成されたものであってよ
い。例えば、サンドブラスト、エンボスロール、化学エ
ッチング等の適宜な方式で粗面化処理して表面に微細凹
凸構造を付与したもの、金型による転写方式等にて表面
に微細凹凸構造を付与したもの、微粒子を分散含有する
樹脂層などがあげられる。微細凹凸構造は、前記透光
性フィルムに対する微細凹凸を有するハードコート塗工
層等からなる付加層や、透光性フィルム上に塗工付加
したハードコート層の表面を粗面化処理して微細凹凸構
造を付与した加工層、あるいは粗面化処理して微細凹
凸構造が表面に形成されている透光性フィルムの上に更
にその微細凹凸構造が消失しない程度にハードコート層
を設けたもの等として形成することもできる。
The fine concavo-convex structure provided on the surface of the hard coat layer may be formed by an appropriate method. For example, sandblasting, embossing rolls, chemical etching or other suitable methods for roughening the surface to give a fine uneven structure to the surface, a transfer method using a mold to give a fine uneven structure to the surface, and fine particles. And a resin layer containing dispersed therein. The fine concavo-convex structure is an additional layer consisting of a hard coat coating layer having fine concavities and convexities on the translucent film, or a surface of the hard coat layer applied on the translucent film is roughened to be fine A processed layer provided with an uneven structure, or a hard coat layer provided on a light-transmitting film having a fine uneven structure formed on the surface by roughening treatment, to the extent that the fine uneven structure does not disappear It can also be formed as.

【0019】また、微細凹凸構造は、例えば、の様に
ハードコート層自体の表面が粗面化処理されて微細凹凸
構造としたものに更に樹脂層を前記微細凹凸構造が埋め
られて平坦になる程度の厚さで塗工し、塗工層表面を
で示したごとく粗面化処理して微細凹凸構造を付与した
複合層とするなど、前記した2種以上の状態のものを組
み合わせた様な複合させた層として形成してもよい。
Further, the fine uneven structure has a structure in which the surface of the hard coat layer itself is roughened as described above to form a fine uneven structure, and a resin layer is further buried in the fine uneven structure to be flat. It is a combination of two or more of the above-mentioned states, such as coating with a thickness of about 100 μm and roughening the surface of the coating layer to give a fine concavo-convex structure. It may be formed as a composite layer.

【0020】凹凸特性の形成性等の観点より、前記防眩
層の微細凹凸構造は固形微粒子含有の樹脂層からなるも
のが好ましい。かかる樹脂層は、例えば樹脂溶液に固形
微粒子(以下、単に微粒子と略称する。)を分散含有さ
せ、それを透光性フィルムの上に塗工することにより形
成することができる。塗工方式は特に限定されないが、
例えばドクターブレード法やグラビアロールコーター法
等の適宜な方式で透光性フィルム上に塗工して塗工膜を
形成する方式や、微粒子含有の樹脂フィルムを別途予め
形成しておいて、それを透光性フィルム上に接着する方
式等の適宜な方式にて形成することができる。
From the viewpoint of the formation of unevenness characteristics, the fine unevenness structure of the antiglare layer is preferably made of a resin layer containing solid fine particles. Such a resin layer can be formed, for example, by dispersing and containing solid fine particles (hereinafter, simply referred to as fine particles) in a resin solution and coating the solid fine particles on a translucent film. The coating method is not particularly limited,
For example, a method of forming a coating film by coating on a translucent film by an appropriate method such as a doctor blade method or a gravure roll coater method, or a resin film containing fine particles is separately preliminarily formed and It can be formed by an appropriate method such as a method of adhering on the transparent film.

【0021】なお前記のハードコート層を形成する樹脂
としては、後述する偏光板の透明保護層にて例示したポ
リマー等を、その硬度等を考慮して適宜選定して用いる
ことができる。特に好ましく用いることのできる樹脂
は、紫外線硬化型樹脂である。紫外線硬化型樹脂を使用
すれば、紫外線照射による塗工層の硬化処理にて、必要
に応じ微粒子を含有させた紫外線硬化樹脂からなる層
を、スタンパーによるエンボス加工などの簡単な加工操
作にて、効率よく形成することができる。また粗面化し
た透光性フィルムの表面に紫外線硬化樹脂層を形成する
ことで、最表面に透光性フィルムの表面凹凸を反映させ
ることなども容易に行うことができる。
As the resin for forming the hard coat layer, the polymers and the like exemplified in the transparent protective layer of the polarizing plate described later can be appropriately selected and used in consideration of the hardness and the like. A resin that can be particularly preferably used is an ultraviolet curable resin. If you use a UV curable resin, in the curing treatment of the coating layer by UV irradiation, a layer made of UV curable resin containing fine particles if necessary, with a simple processing operation such as embossing with a stamper, It can be formed efficiently. Further, by forming the ultraviolet curable resin layer on the surface of the roughened translucent film, it is possible to easily reflect the surface unevenness of the translucent film on the outermost surface.

【0022】前記の紫外線硬化型樹脂としては、例えば
ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、
シリコーン系、エポキシ系等の樹脂を形成しうるモノマ
ーやオリゴマーやポリマーに紫外線重合開始剤を配合し
て、紫外線照射による硬化処理で樹脂層を形成しうるよ
うにしたものなど適宜なものを用いることができる。
Examples of the ultraviolet curable resin include polyester, acrylic, urethane, amide,
Use an appropriate one such as a monomer or oligomer or polymer capable of forming a resin such as a silicone type or an epoxy type, which is mixed with an ultraviolet polymerization initiator so that a resin layer can be formed by curing treatment by ultraviolet irradiation. You can

【0023】なお前記の微粒子としては、無機又は樹脂
からなる球形又は不定形のフィラーを用いることができ
る。例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、
ポリウレタン、ポリスチレン、メラミン樹脂等の各種ポ
リマーからなる架橋又は未架橋の有機ポリマー系粒子、
シリカ、アルミナ、酸化カルシウム、およびチタニア、
ジルコニアや、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウ
ム、酸化アンチモン等の導電性無機系粒子などの適宜な
ものを用いることができる。特に、屈折率制御や導電性
付与の目的で、前記金属酸化物をベースとする導電性無
機系粒子を用いることが好ましい。
As the fine particles, spherical or amorphous filler made of inorganic or resin can be used. For example, polymethylmethacrylate (PMMA),
Polyurethane, polystyrene, crosslinked or uncrosslinked organic polymer particles made of various polymers such as melamine resin,
Silica, alumina, calcium oxide, and titania,
Appropriate ones such as zirconia and conductive inorganic particles such as tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, antimony oxide and the like can be used. In particular, for the purpose of controlling the refractive index and imparting conductivity, it is preferable to use conductive inorganic particles based on the metal oxide.

【0024】また、反射防止層を形成する材料は、紫外
線硬化型アクリル樹脂等の樹脂系、樹脂中にコロイダル
シリカ等の無機微粒子分散させたハイブリッド系、RS
i(OR)3、Si(OR)4、RTi(OR)3、Ti
(OR)4(但し、Rは炭素数10以下の低級アルキル
基を示す。)などのアルキルトリアルコキシシランやテ
トラアルコキシシランあるいはアルキルチタンテトラア
ルコキシドやチタンテトラアルコキシド等の金属アルコ
キシドを用いたゾル−ゲル系等が挙げられる。但し、反
射防止層を形成する材料の屈折率は、ハードコート層に
比べて屈折率の小さいものを用いる。
The material for forming the antireflection layer is a resin system such as an ultraviolet curable acrylic resin, a hybrid system in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in the resin, RS
i (OR) 3 , Si (OR) 4 , RTi (OR) 3 , Ti
Sol-gel using alkyltrialkoxysilane or tetraalkoxysilane such as (OR) 4 (wherein R represents a lower alkyl group having 10 or less carbon atoms) or metal alkoxide such as alkyltitanium tetraalkoxide or titanium tetraalkoxide. A system etc. are mentioned. However, the refractive index of the material forming the antireflection layer is smaller than that of the hard coat layer.

【0025】また、それぞれ上述したような反射防止層
を形成する材料は、表面の防汚染性付与としてフッ素基
含有成分を含んだものを選択することができる。耐擦傷
性の面からは、無機成分含有量が多いものの方が優れる
傾向にあり、このうちでもゾル−ゲル系材料が好まし
い。なお、金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル系と
は、例えば上述したようなシリコンの低級アルコキシド
類やチタンの低級アルコキシド類(いずれも好ましくは
フッ素基含有アルコキシド類)など金属アルコキシドを
用いて、加水分解、熱処理により、ゲル化して透明なガ
ラス層を形成するものであり、このようなアルコキシド
の分散媒としては水および/またはメタノ−ル、エタノ
−ル等の低級アルコ−ル等が用いられ、必要に応じて用
いられる加水分解用触媒としては、塩酸やアンモニア等
の酸又はアルカリが用いられる。金属アルコキシドゾル
をゲル化させる場合、加水分解用触媒を添加し、加水分
解して、熱処理するのが一般的である。
The material for forming the antireflection layer as described above can be selected from those containing a fluorine group-containing component for imparting antifouling property to the surface. From the viewpoint of scratch resistance, those having a high content of inorganic components tend to be superior, and among these, sol-gel materials are preferable. The sol-gel system using a metal alkoxide means hydrolysis using a metal alkoxide such as the above-mentioned silicon lower alkoxides and titanium lower alkoxides (all preferably fluorine group-containing alkoxides) as described above. , A gel is formed by heat treatment to form a transparent glass layer, and water and / or lower alcohols such as methanol and ethanol are used as a dispersion medium of such alkoxide, and are required. As the hydrolysis catalyst used according to the above, an acid or alkali such as hydrochloric acid or ammonia is used. When gelling a metal alkoxide sol, it is common to add a hydrolysis catalyst, hydrolyze and heat-treat.

【0026】しかして、一般的には反射防止層の屈折率
は低いほど好ましく、しかもその下層との屈折率差が大
きいほど反射防止効果は大きくなる。本発明において好
適な反射防止効果を得るためには、反射防止層の屈折率
がハードコート層の屈折率の平方根になるような材料が
よい。しかし、実際には、このような屈折率の材料を見
いだすのは、既に知られているように一般的には困難
で、限りなく近い材料を選択することになる。一方、反
射防止層の厚みは、利用する材料の屈折率および入射光
の設計波長により決定され、例えはハードコート層の屈
折率n1が1.51、反射防止層の屈折率n2が1.3
8、反射防止層への入射光の設計波長を550nmとす
ると、反射防止層の目標厚みは約0.1μmと計算され
る。
However, in general, the lower the refractive index of the antireflection layer is, the more preferable it is, and the larger the difference in the refractive index with the layer below the antireflection layer is, the greater the antireflection effect is. In order to obtain a preferable antireflection effect in the present invention, a material in which the refractive index of the antireflection layer is the square root of the refractive index of the hard coat layer is preferable. However, in reality, it is generally difficult to find a material having such a refractive index, as already known, and it is necessary to select a material that is as close as possible. On the other hand, the thickness of the antireflection layer is determined by the refractive index of the material used and the design wavelength of the incident light. For example, the refractive index n 1 of the hard coat layer is 1.51 and the refractive index n 2 of the antireflection layer is 1 .3
8. If the design wavelength of the incident light on the antireflection layer is 550 nm, the target thickness of the antireflection layer is calculated to be about 0.1 μm.

【0027】すなわち、具体的には、次式で反射防止層
の目標厚みが計算できる。 [数1] d=(1/n2)×(λ/4) 但し、dは反射防止層の目標厚み(μm)、λは入射光
の設計波長(μm)、n2は反射防止層の屈折率を示
し、ハードコート層の屈折率n1>n2の場合である。
That is, specifically, the target thickness of the antireflection layer can be calculated by the following equation. [Equation 1] d = (1 / n 2 ) × (λ / 4) where d is the target thickness (μm) of the antireflection layer, λ is the design wavelength (μm) of the incident light, and n 2 is the antireflection layer. The refractive index is shown and the refractive index of the hard coat layer is n 1 > n 2 .

【0028】また、反射防止層は、適宜な方式にてハー
ドコート層上にコーティングすることにより形成するこ
とができる。例えば、反射防止層形成用塗布液をハード
コート層上に塗工して塗工膜を形成する方式や、反射防
止フィルムを別途予め形成しておいて、それを透光性フ
ィルム上に接着する方式等の適宜な方式にて形成するこ
とができる。ハードコート層が光防眩性を有する場合な
どは、反射防止層形成用塗布液を塗布処理する方法で形
成することが好ましい。例えば、ドクターブレード法や
グラビアロールコーター法、ディッピング法等の適宜な
方式にて形成することができる。
The antireflection layer can be formed by coating the hard coat layer by an appropriate method. For example, a method of applying an antireflection layer-forming coating liquid on the hard coat layer to form a coating film, or forming an antireflection film separately in advance and adhering it to the translucent film. It can be formed by an appropriate method such as a method. When the hard coat layer has an antiglare property, it is preferably formed by a method of applying a coating solution for forming an antireflection layer. For example, it can be formed by an appropriate method such as a doctor blade method, a gravure roll coater method, or a dipping method.

【0029】前述した摩擦帯電圧の範囲を満たす反射防
止フィルムとするための手段は、特に限定されるもので
はなく、例えば、ハードコート樹脂層を導電性のものと
し摩擦によって発生する静電気を速やかに中和し得る構
造とする、低屈折率層中に界面活性剤を添加し表面の吸
着水の伝導性を利用する構造とする方法などを挙げるこ
とができる。
Means for forming an antireflection film satisfying the above-mentioned range of frictional electrification voltage is not particularly limited, and for example, the hard coat resin layer may be made conductive to quickly generate static electricity generated by friction. Examples thereof include a method of forming a structure that can be neutralized and a structure of using a conductivity of adsorbed water on the surface by adding a surfactant to the low refractive index layer.

【0030】かくして得られた本発明の反射防止フィル
ムは、通常、偏光板に積層ないし合体させて反射防止フ
ィルムを有する偏光板とすることが出来る。偏光板は適
宜なものを用いることができるが、その種類について特
に限定はない。偏光板を構成する偏光子としては、例え
ば、ポリビニルアルコール系フィルムや部分ホルマール
化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体系部分ケン化フィルムの如き親水性高分子
フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着
させて延伸した吸収二色性偏光子、ポリビニルアルコー
ルの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如き
ポリエン系配向フイルム等の偏光子があげられる。なか
でも、偏光特性に優れる点より、吸収二色性偏光子が好
ましく用いられる。なお、偏光子の厚さは、5〜80μ
mが一般的であるが、これに限定されない。
The thus obtained antireflection film of the present invention can be usually laminated or combined with a polarizing plate to form a polarizing plate having an antireflection film. A suitable polarizing plate can be used, but the type thereof is not particularly limited. As the polarizer constituting the polarizing plate, for example, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol film, a partially formalized polyvinyl alcohol film, an ethylene / vinyl acetate copolymer partially saponified film, iodine or dichroic Examples thereof include absorption dichroic polarizers obtained by adsorbing and stretching dichroic substances such as dyes, and polarizers such as polyene oriented films such as dehydration products of polyvinyl alcohol and dehydrochlorination products of polyvinyl chloride. Above all, an absorbing dichroic polarizer is preferably used because of its excellent polarization characteristics. The thickness of the polarizer is 5 to 80 μm.
m is common, but not limited to this.

【0031】また偏光板としては、偏光子単独からなる
偏光板を用いることもできるが、偏光板としては、通常
は前記した偏光子(偏光フィルム)の片面又は両面に耐
水性等の保護目的で、ポリマーの塗布層やフィルムのラ
ミネート層等からなる透明保護層を設けたものなどが好
適に用いられる。透明保護層の形成には、透明ポリマー
などの適宜なものを用いることができるが、透明性や機
械的強度、熱安定性や水分遮断性などに優れるものが好
ましく用いられる。また透明保護層は、位相差等の光学
的異方性が少ないほど好ましい場合が多い。透明保護層
の厚さは、10〜300μmが一般的であるが、これに
限定されない。なお、上記偏光板の透明保護層が、本発
明の反射防止フィルムの透光性フィルムを兼ねることが
できることは上記した通りである。
The polarizing plate may be a polarizing plate consisting of a polarizer alone, but the polarizing plate is usually used for the purpose of protecting one side or both sides of the above-mentioned polarizer (polarizing film) such as water resistance. Those provided with a transparent protective layer composed of a polymer coating layer, a film laminate layer, and the like are preferably used. Although an appropriate material such as a transparent polymer can be used for forming the transparent protective layer, an excellent material such as transparency, mechanical strength, thermal stability and moisture barrier property is preferably used. Further, it is often preferable that the transparent protective layer has less optical anisotropy such as retardation. The thickness of the transparent protective layer is generally 10 to 300 μm, but is not limited thereto. As described above, the transparent protective layer of the polarizing plate can also serve as the translucent film of the antireflection film of the present invention.

【0032】ちなみに、前記の透明保護層を形成するポ
リマーとしては、例えばポリエチレンテレフタレートや
ポリエチレンナフタレートの如きポリエステル系ポリマ
ー、二酢酸セルロースや三酢酸セルロースの如きセルロ
ース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート(PMM
A)の如きアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリ
ロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)の如きスチ
レン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどがあ
げられる。
Incidentally, as the polymer for forming the transparent protective layer, for example, polyester type polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose type polymers such as cellulose diacetate and cellulose triacetate, polymethylmethacrylate (PMM).
Examples thereof include acrylic polymers such as A), styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymer (AS resin), and polycarbonate polymers.

【0033】また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シ
クロ環ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィ
ン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィ
ン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香
族ポリアミドの如きアミド系ポリマー、ポリイミドの如
きイミド系ポリマー、ポリスルホンの如きスルホン系ポ
リマー、その他、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポ
リエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレン
スルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、
塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマ
ー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリ
マー、エポキシ系ポリマー、あるいは前記ポリマーのブ
レンド物なども前記透明保護層を形成するポリマーの例
としてあげられる。
Further, polyethylene, polypropylene, polyolefin having a cyclo ring or norbornene structure, polyolefin polymer such as ethylene / propylene copolymer, vinyl chloride polymer, amide polymer such as nylon or aromatic polyamide, imide such as polyimide. -Based polymers, sulfone-based polymers such as polysulfone, other, polyether sulfone-based polymers, polyether ether ketone-based polymers, polyphenylene sulfide-based polymers, vinyl alcohol-based polymers,
Vinylidene chloride-based polymers, vinyl butyral-based polymers, arylate-based polymers, polyoxymethylene-based polymers, epoxy-based polymers, and blends of the aforementioned polymers are also examples of polymers forming the transparent protective layer.

【0034】本発明の反射防止フィルムは偏光板に積層
してもよいし、前述したように偏光板が透明保護層を有
する場合には、その透明保護層を本発明の反射防止フィ
ルムの透光性フィルムとして兼用して低反射偏光板とし
てもよい。積層方法は特に限定されないが、例えば接着
剤等を介して積層してもよい。また、偏光板の片面に設
けてもよいし、両面に設けてもよい。
The antireflection film of the present invention may be laminated on a polarizing plate. When the polarizing plate has a transparent protective layer as described above, the transparent protective layer may be used as a light transmitting material for the antireflection film of the present invention. It may also be used as a low-reflecting polarizing plate by also being used as a film. The stacking method is not particularly limited, but may be stacked via an adhesive or the like. Further, it may be provided on one side or both sides of the polarizing plate.

【0035】偏光板には、必要に応じて接着層を設ける
こともできる。かかる接着層は、偏光板を液晶セル等の
他部材と接着することを目的とするものである。接着層
は、例えばアクリル系、ゴム系、シリコーン系等の粘着
剤やホットメルト系接着剤などの適宜な接着剤にて形成
することができ、透明性や耐候性等に優れるものが好ま
しい。
An adhesive layer may be provided on the polarizing plate if necessary. Such an adhesive layer is intended to adhere the polarizing plate to another member such as a liquid crystal cell. The adhesive layer can be formed with an appropriate adhesive such as an acrylic-based, rubber-based or silicone-based pressure-sensitive adhesive or a hot-melt adhesive, and is preferably one having excellent transparency and weather resistance.

【0036】本発明による偏光板は、必要に応じ、更
に、反射層、半透過反射層、位相差板から選ばれる光学
機能層を、多層構造からなる該偏光板の層間及び/又は
表面に、少なくとも一層、介在及び/又は付与積層し
て、表示装置等の各種用途に用いることができる。さら
に必要に応じて、耐擦傷性、耐久性、耐候性、耐湿熱
性、耐熱性、耐湿性、透湿性、帯電防止性、導電性、層
間の密着性向上、機械的強度向上等の各種特性、機能等
を付与するための処理、又は機能層の挿入、積層等をお
こなうことも可能である。多層構造からなる偏光板の層
間へ、例えばハードコート層、プライマー層、接着剤
層、粘着剤層、帯電防止層、導電層、ガスバリヤー層、
水蒸気遮断層、水分遮断層等を挿入するか、又は、偏光
板表面へこれらの層を積層しても良い。また。偏光板の
各層を作成する段階で例えば、導電性粒子あるいは帯電
防止剤、各種微粒子、可塑剤等を、各層に添加、混合等
の改良を必要に応じて行っても良い。
In the polarizing plate according to the present invention, an optical functional layer selected from a reflective layer, a semi-transmissive reflective layer, and a retardation plate is further provided on the interlayer and / or surface of the polarizing plate having a multi-layer structure, if necessary. At least one layer may be interposed and / or provided and laminated to be used for various applications such as a display device. Further, if necessary, various properties such as scratch resistance, durability, weather resistance, moist heat resistance, heat resistance, moisture resistance, moisture permeability, antistatic property, conductivity, improved adhesion between layers, and improved mechanical strength, It is also possible to perform a process for imparting a function or the like, or to insert or laminate a functional layer. Between the layers of the polarizing plate having a multilayer structure, for example, a hard coat layer, a primer layer, an adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive layer, an antistatic layer, a conductive layer, a gas barrier layer,
A water vapor barrier layer, a moisture barrier layer or the like may be inserted or these layers may be laminated on the surface of the polarizing plate. Also. At the stage of forming each layer of the polarizing plate, for example, conductive particles, antistatic agents, various fine particles, a plasticizer, etc. may be added to each layer, and mixing and the like may be improved as necessary.

【0037】図3に、透光性フィルム上にハードコート
層と反射防止層が設けられている本発明の反射防止フィ
ルムの一例の断面模式図を示した。図3において、13
が透光性フィルム、14が微粒子で12は前記微粒子を
含有するハードコート層すなわち防眩層であり、11は
初期帯電圧の値が−5kV以上+20kV以下の反射防
止層である。また、図4は本発明の反射防止フィルムが
偏光板の上に積層された反射防止フィルムを有する低反
射偏光板の一例の断面模式図であり、図4において、1
6が偏光子であり偏光子16の上下の面に、透明保護層
15が設けられている。この態様においては、偏光子1
6の上面側に設けられた透明保護層15が、図3で示し
た反射防止フィルムの透光性フィルム13を兼ねている
態様である。14が微粒子で12は前記微粒子を含有す
るハードコート層すなわち防眩層であり、11は初期帯
電圧の値が−5kV以上+20kV以下の反射防止層で
ある。
FIG. 3 shows a schematic sectional view of an example of the antireflection film of the present invention in which a hard coat layer and an antireflection layer are provided on a translucent film. In FIG. 3, 13
Is a translucent film, 14 is fine particles, 12 is a hard coat layer containing the fine particles, that is, an antiglare layer, and 11 is an antireflection layer having an initial charged voltage value of -5 kV or more and +20 kV or less. 4 is a schematic cross-sectional view of an example of a low reflection polarizing plate having an antireflection film in which the antireflection film of the present invention is laminated on a polarizing plate.
Reference numeral 6 denotes a polarizer, and the transparent protective layer 15 is provided on the upper and lower surfaces of the polarizer 16. In this embodiment, the polarizer 1
The transparent protective layer 15 provided on the upper surface side of 6 also serves as the transparent film 13 of the antireflection film shown in FIG. Reference numeral 14 is fine particles, 12 is a hard coat layer containing the fine particles, that is, an antiglare layer, and 11 is an antireflection layer having an initial charged voltage value of -5 kV or more and +20 kV or less.

【0038】本発明の反射防止フィルムや偏光板は、液
晶表示装置、有機EL表示装置等の各種表示装置の形成
などに好ましく用いることができる。例えば、偏光板を
液晶セルの片側又は両側に配置してなる反射型や半透過
型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用い
ることができる。液晶表示装置を形成する液晶セルは任
意であり、例えば薄膜トランジスタ型に代表されるアク
ティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型
やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マト
リクス駆動型のものなどの適宜なタイプの液晶セルを用
いたものであってよい。
The antireflection film and polarizing plate of the present invention can be preferably used for forming various display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices. For example, it can be used for a liquid crystal display device such as a reflective type or a semi-transmissive type, or a transmissive / reflective type in which a polarizing plate is arranged on one side or both sides of a liquid crystal cell. The liquid crystal cell forming the liquid crystal display device is arbitrary, and an appropriate type such as an active matrix drive type represented by a thin film transistor type, a simple matrix drive type represented by a twist nematic type or a super twist nematic type, etc. The liquid crystal cell may be used.

【0039】また、液晶セルの両側に偏光板や光学部材
を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異
なるものであってもよい。更に、液晶表示装置の形成に
際しては、例えばプリズムアレイシートやレンズアレイ
シート、光拡散板やバックライトなどの適宜な部品を適
宜な位置に1層又は2層以上配置することができる。
When polarizing plates and optical members are provided on both sides of the liquid crystal cell, they may be the same or different. Further, when forming the liquid crystal display device, one or two or more layers can be arranged at appropriate positions with appropriate components such as a prism array sheet, a lens array sheet, a light diffusion plate, and a backlight.

【0040】[0040]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0041】(実施例1)厚さ60μmのTAC(トリ
アセチルセルロース)フィルム上に、平均粒径60nm
のATO(アンチモンドープの酸化錫)超微粒子を分散
した紫外線硬化型アクリルハードコート樹脂のメチルエ
チルケトン溶液を、ワイヤーバーを用いて塗布し、溶媒
乾燥後に低圧UVランプにて紫外線照射し、5μm厚み
のハードコート層を形成した。続いて、ポリシロキサン
とフルオロアルキルシランの混合物のゾルゲル反応によ
り生成されたフッ素化合物ポリマーよりなる低屈折率層
を、硬化後の厚みが約100nmとなるように塗工し、
反射防止膜を得た。
Example 1 An average particle size of 60 nm was formed on a TAC (triacetyl cellulose) film having a thickness of 60 μm.
Of ATO (antimony-doped tin oxide) ultrafine particles dispersed with a methyl ethyl ketone solution of a UV-curable acrylic hard coat resin is applied using a wire bar, and after solvent drying, UV irradiation is performed with a low-pressure UV lamp to obtain a hard coating of 5 μm thickness. A coat layer was formed. Subsequently, a low refractive index layer made of a fluorine compound polymer produced by a sol-gel reaction of a mixture of polysiloxane and fluoroalkylsilane is applied so that the thickness after curing becomes about 100 nm,
An antireflection film was obtained.

【0042】(実施例2)ハードコート層を形成する際
に、樹脂の固形分100質量部に対して5質量部の粒径
2μmのシリカビーズを添加した塗工液を用いて、防眩
機能付きハードコート層とした以外は、実施例1に準じ
て反射防止膜を得た。
(Example 2) When forming a hard coat layer, an antiglare function was obtained by using a coating liquid in which 5 parts by mass of silica beads having a particle diameter of 2 μm were added to 100 parts by mass of the solid content of the resin. An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the attached hard coat layer was used.

【0043】(実施例3)ATOの分散濃度を実施例1
の2/3とした以外は、実施例1に準じて反射防止膜を
得た。
(Example 3) The dispersion concentration of ATO in Example 1
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was changed to 2/3.

【0044】(実施例4)樹脂として市販のエポキシ含
有アクリル樹脂を用いた以外は、実施例1に準じて反射
防止膜を得た。
Example 4 An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a commercially available epoxy-containing acrylic resin was used as the resin.

【0045】(比較例1)樹脂として市販の紫外線硬化
型アクリルハードコート樹脂を用いた以外は、実施例1
に準じて反射防止膜を得た。
Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that a commercially available UV-curable acrylic hard coat resin was used as the resin.
An antireflection film was obtained according to the above.

【0046】(比較例2)樹脂として市販のシリコン系
ハードコート樹脂を用いた以外は、実施例1に準じて反
射防止膜を得た。
Comparative Example 2 An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a commercially available silicon hard coat resin was used as the resin.

【0047】(評価)摩擦帯電量は前述した方法に従い
測定した。ちなみに、測定装置としてカネボウエンジニ
アリング社製摩擦帯電圧測定装置E.S.T−7を用い
た。挨拭き取り性は、市販のティシュペーパー(パルプ
100%)を反射防止膜上でもみほぐし、発生したリン
トを付着させ、木綿のウエスでふき取った際のふき取り
やすさを目視にて、以下の基準で評価した。 ○:リントがウエス側に付着し取り除ける ×:リントが静電気で拭いても反射防止膜から離れない
(Evaluation) The triboelectric charge amount was measured according to the method described above. By the way, as a measuring device, a friction electrification voltage measuring device E.K. manufactured by Kanebo Engineering Co., Ltd. was used. S. T-7 was used. To remove dust, commercially available tissue paper (pulp 100%) is disentangled even on the antireflection film, the generated lint is adhered, and the easiness of wiping with a cotton rag is visually observed according to the following criteria. evaluated. ○: Lint adheres to the waste side and can be removed. ×: Lint does not separate from the antireflection film even if it is wiped with static electricity.

【0048】以上の評価結果を表1に示す。 Table 1 shows the above evaluation results.

【0049】実施例1〜4で作製した反射防止フィルム
を、偏光子の上面側(視認側)の保護層として用い、偏
光板を作製した。その結果、表1に示す特性を維持し
た、実用性の高い反射防止機能付きの偏光板が得られ
た。
A polarizing plate was produced by using the antireflection film produced in Examples 1 to 4 as a protective layer on the upper surface side (viewing side) of the polarizer. As a result, a highly practical polarizing plate with an antireflection function, which maintains the characteristics shown in Table 1, was obtained.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明により、表示品位が良好で、なお
かつ表面の埃拭き取り性に優れた反射防止フィルムおよ
びそれを具備した偏光板を得ることができる。加えて、
真空蒸着法等の形成方法に比べると、非常に簡易な方法
である湿式塗工法により反射防止層を形成することがで
きる。
According to the present invention, it is possible to obtain an antireflection film having good display quality and excellent in wiping off dust on the surface, and a polarizing plate provided with the antireflection film. in addition,
The antireflection layer can be formed by a wet coating method, which is a very simple method as compared with a forming method such as a vacuum deposition method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の帯電圧測定に用いる摩擦子の外観図で
ある。
FIG. 1 is an external view of a friction element used for measuring a charged voltage according to the present invention.

【図2】本発明の帯電圧の試験方法の装置概略図であ
る。
FIG. 2 is a schematic view of an apparatus of a method for testing a charged voltage according to the present invention.

【図3】本発明の反射防止フィルムの一例の断面模式図
である。
FIG. 3 is a schematic sectional view of an example of the antireflection film of the present invention.

【図4】本発明の反射防止フィルムが形成された偏光板
の一例の断面模式図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view of an example of a polarizing plate on which the antireflection film of the present invention is formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:摩擦子 2:摩擦布 3:試験片(反射防止フィルム又は低反射偏光板) 4:試験片テーブル 5:試験片ホルダー 6:摩擦台 11:反射防止層 12:ハードコート層(防眩層) 13:透光性フィルム 14:微粒子 15:透明保護層 16:偏光子 1: Friction element 2: Friction cloth 3: Test piece (antireflection film or low reflection polarizing plate) 4: Test piece table 5: Test piece holder 6: Friction table 11: Antireflection layer 12: Hard coat layer (anti-glare layer) 13: Translucent film 14: Fine particles 15: Transparent protective layer 16: Polarizer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H042 BA02 BA03 BA13 BA15 BA20 2H049 BA02 BA26 BB33 BB65 BC22 2K009 AA02 AA12 AA15 CC03 CC09 CC42 DD05 4F100 AA01B AA33 AJ06 AK17 AK25 AR00A AS00B BA03 BA10A BA10C CA23B DE01B EH46C JG03 JK01B JN01A JN06 JN18C    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H042 BA02 BA03 BA13 BA15 BA20                 2H049 BA02 BA26 BB33 BB65 BC22                 2K009 AA02 AA12 AA15 CC03 CC09                       CC42 DD05                 4F100 AA01B AA33 AJ06 AK17                       AK25 AR00A AS00B BA03                       BA10A BA10C CA23B DE01B                       EH46C JG03 JK01B JN01A                       JN06 JN18C

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透光性フィルムの片面に直接あるいは他
の層を介してハードコート層を設け、さらにこのハード
コート層の表面にコーティングにより低屈折率層が積層
された反射防止フィルムにおいて、 その表面をJIS L 0803に記載の毛の摩擦布を
用い、JIS L 1094に記載の摩擦帯電減衰測定
法に準じて測定した初期帯電圧の値が、−5kV以上+
20kV以下であることを特徴とする反射防止フィル
ム。
1. An antireflection film in which a hard coat layer is provided on one surface of a translucent film directly or via another layer, and a low refractive index layer is laminated on the surface of the hard coat layer by coating. The value of the initial charged voltage measured on the surface according to the frictional charge attenuation measurement method described in JIS L 1094 using a friction cloth of hair described in JIS L 0803 is -5 kV or more +
An antireflection film having a voltage of 20 kV or less.
【請求項2】 ハードコート層が、その表面形状が凸凹
になっており、光防眩性を有する請求項1に記載の反射
防止フィルム。
2. The antireflection film according to claim 1, wherein the hard coat layer has an uneven surface shape and has an antiglare property.
【請求項3】 ハードコート層中に無機又は樹脂の球形
又は不定形のフィラーを含有する請求項1又は2に記載
の反射防止フィルム。
3. The antireflection film according to claim 1, wherein the hard coat layer contains an inorganic or resin spherical or amorphous filler.
【請求項4】 吸収二色性偏光子の両側に保護層を有す
る偏光板であって、前記保護層のうちの少なくとも一方
が、請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム
であることを特徴とする偏光板。
4. A polarizing plate having protective layers on both sides of an absorptive dichroic polarizer, wherein at least one of the protective layers is the antireflection film according to claim 1. A polarizing plate characterized by that.
【請求項5】 請求項1〜3のいずれかに記載の反射防
止フィルムを配置したことを特徴とする表示装置。
5. A display device comprising the antireflection film according to claim 1.
【請求項6】 請求項4に記載の偏光板を配置したこと
を特徴とする液晶表示装置。
6. A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 4.
【請求項7】 請求項4に記載の偏光板を配置したこと
を特徴とする有機EL表示装置。
7. An organic EL display device, comprising the polarizing plate according to claim 4.
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