JP2003139891A - Formation method for photocatalyst film of reactor structure material - Google Patents

Formation method for photocatalyst film of reactor structure material

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JP2003139891A
JP2003139891A JP2001340143A JP2001340143A JP2003139891A JP 2003139891 A JP2003139891 A JP 2003139891A JP 2001340143 A JP2001340143 A JP 2001340143A JP 2001340143 A JP2001340143 A JP 2001340143A JP 2003139891 A JP2003139891 A JP 2003139891A
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reactor
film
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titanium oxide
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Kazuo Murakami
一男 村上
Tetsuo Osato
哲夫 大里
Nagayoshi Ichikawa
長佳 市川
Yukio Henmi
幸雄 逸見
Junichi Takagi
純一 高木
Tadashi Yotsuyanagi
端 四柳
Masahito Okamura
雅人 岡村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce corrosion during reactor operation by uniformly forming photocatalyst film corresponding to water quality standard and a control target value of reactor cooling water on reactor structure material surfaces. SOLUTION: Particle diameter and concentration of photocatalyst contained in solution, the concentration of photocatalyst assistant, fractions of dispersing agent and binder, the concentration of impurity are controlled. The photocatalyst is TiO2 and only the thickness of the film is controlled in 0.3 μm to 2 μm. If it is over 2 μm the electron and positive hole excited by photocatalytic reaction in titanium oxide are recombined and the electric potential of the material gradually rises. If it is below 0.3 μm, grain boundary stress corrosion cracking prevention is suppressed, which is not desirable.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、原子力発電プラン
トの原子炉一次系材料の腐食抑制のために、原子炉構造
材料面に光触媒皮膜を形成する原子炉構造材料の光触媒
皮膜形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a photocatalyst coating on a nuclear reactor structural material for forming a photocatalytic coating on the surface of the nuclear reactor structural material in order to suppress corrosion of the primary reactor material of a nuclear power plant.

【0002】[0002]

【従来の技術】沸騰水型原子力(BWR)発電所におい
ては、放射線場で水の放射線分解により生成した酸素,
過酸化水素等が原子炉水中に存在する。原子炉構造材料
であるステンレス鋼やニッケル基金属は原子炉のような
高温環境下では、酸素,過酸化水素の存在下で応力腐食
割れを起こすことが知られている。
In a boiling water nuclear power (BWR) power plant, oxygen produced by radiolysis of water in a radiation field,
Hydrogen peroxide etc. exists in the reactor water. It is known that stainless steel and nickel-based metals, which are reactor structural materials, cause stress corrosion cracking in the presence of oxygen and hydrogen peroxide in a high temperature environment such as a nuclear reactor.

【0003】この対策のために、給水から水素を注入し
て原子炉水中の酸素,過酸化水素を低減させる水素注入
技術が国内外のいくつかの原子力プラントで行われてい
る。酸素,過酸化水素の低減の効果は材料の腐食電位に
現れ、腐食電位が低下する。応力腐食割れの発生や割れ
亀裂の進展はこの腐食電位に依存しており、電位が低い
ほど割れの発生や亀裂の進展が抑制される。
As a countermeasure for this, a hydrogen injection technique for injecting hydrogen from feed water to reduce oxygen and hydrogen peroxide in the reactor water has been carried out in several nuclear plants in Japan and overseas. The effect of reducing oxygen and hydrogen peroxide appears in the corrosion potential of the material, and the corrosion potential decreases. The occurrence of stress corrosion cracking and the progress of crack cracking depend on this corrosion potential, and the lower the potential, the more the occurrence of cracking and the progress of cracking are suppressed.

【0004】水素注入はこのような背景により実施され
ているが、弊害としてタービン系の線量率の上昇があ
る。これは核反応で生成したN-16が水素と反応して揮
発性のアンモニアとなり蒸気系へ移行しやすくなるため
である。また、水素注入においても、注入した水素によ
り生ずるオフガス系の過剰水素を、酸素を注入して再結
合させる等の様々な設備が必要となってくる。
Hydrogen injection is carried out against such a background, but the harmful effect is an increase in the dose rate of the turbine system. This is because N-16 produced in the nuclear reaction reacts with hydrogen to become volatile ammonia and easily transfer to the vapor system. Further, also in hydrogen injection, various equipments such as oxygen injection and recombination of off-gas excess hydrogen generated by the injected hydrogen are required.

【0005】この弊害を極力少なくし、なおかつ構造材
料の腐食電位を低下させるために近年、貴金属を原子炉
水へ添加し、構造材料へ貴金属を付着させ少量の水素注
入で腐食電位を低下させる方法が提案されている。これ
は白金等の貴金属は電位の低い水素の可逆反応を選択的
に捕らえる性質を利用したもので、貴金属を構造材料に
付着させることにより、少量の水素注入で腐食電位の低
下を図るものである。
In order to reduce this adverse effect as much as possible and to lower the corrosion potential of the structural material, in recent years, a method of adding a noble metal to reactor water, adhering the noble metal to the structural material and injecting a small amount of hydrogen to lower the corrosion potential. Is proposed. This is because noble metals such as platinum utilize the property of selectively capturing the reversible reaction of hydrogen, which has a low potential. By attaching a noble metal to a structural material, a small amount of hydrogen is injected to lower the corrosion potential. .

【0006】しかしながら、この方法を実プラントで実
施する場合,燃料のジルコニウム酸化皮膜上にも付着す
るため、燃料材料の酸化および水素化が増大することが
わかった。また、N-16のタービン系への移行増加によ
る線量率の上昇などの問題を抱えている。不純物を含む
貴金属薬剤を高濃度に使用するための水質悪化による燃
料材料の健全性に与える影響も問題となる。
However, when this method is carried out in an actual plant, it has been found that the oxidation and hydrogenation of the fuel material are increased because they are also deposited on the zirconium oxide film of the fuel. In addition, there are problems such as an increase in the dose rate due to the increased migration of N-16 to the turbine system. There is also a problem of affecting the soundness of the fuel material due to deterioration of water quality due to the high concentration of the precious metal chemical containing impurities.

【0007】これらの影響、すなわち、従来の貴金属注
入技術は水質保全および放射能の移行低減および燃料の
高燃焼度化に対し負の作用を及ぼすため、貴金属の注入
量を少なくするとともに、高価な貴金属の使用量を少な
くするか、または貴金属にかわる物質の開発が重要とな
っている。
These effects, that is, the conventional noble metal injection technique has a negative effect on water quality conservation, reduction of radioactivity transfer and high burnup of fuel, so that the injection amount of noble metal is reduced and the cost is high. It is important to reduce the amount of precious metals used or to develop substances that replace precious metals.

【0008】腐食電位を低減させる方法として、光触媒
の反応を利用することが最近注目されている。材料表面
に光触媒を配置し、そこに紫外線近傍の波長を持つ光を
照射すると、光励起反応によって活性化した電子の作用
によって腐食電位が低減することがわかっている。この
反応は光触媒近傍に貴金属があることによって効率よく
進み、腐食電位が下がる。
As a method for reducing the corrosion potential, the use of photocatalytic reaction has recently attracted attention. It is known that when a photocatalyst is placed on the surface of a material and light having a wavelength near the ultraviolet ray is irradiated on the surface, the corrosion potential is reduced by the action of electrons activated by the photoexcitation reaction. This reaction efficiently proceeds due to the presence of the noble metal near the photocatalyst, and the corrosion potential decreases.

【0009】この反応を利用することによって、構造材
料表面にあらかじめ光触媒ないし貴金属を付着させた光
触媒高機能を付着させ、炉心で発生するチェレンコフ光
の光を利用して運転中の腐食電位を低減することができ
る。
By utilizing this reaction, a photocatalyst or a highly functional photocatalyst having a noble metal previously attached is attached to the surface of the structural material, and the light of Cherenkov light generated in the core is used to reduce the corrosion potential during operation. be able to.

【0010】本発明者らは水冷却原子炉一次系材料の腐
食抑制方法として、従来技術である水素注入,貴金属コ
ロイド粒子を材料表面に付着させかつ水素注入を実施す
る方法およびZrO2などの絶縁皮膜を材料表面に形成
させる方法にかわる光触媒法を特開2001−4789号として
特許出願し、公開された。
The inventors of the present invention, as a method for inhibiting corrosion of a water-cooled reactor primary system material, are conventional techniques such as hydrogen injection, a method of attaching noble metal colloidal particles to the material surface and performing hydrogen injection, and insulation such as ZrO 2. A photocatalytic method, which replaces the method of forming a film on the surface of a material, has been filed and published as Japanese Patent Laid-Open No. 2001-4789.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】光触媒を原子炉構造材
料に塗布,噴霧する,または原子炉水中に注入して原子
炉構造材料に光触媒の皮膜を形成させる場合、形成した
皮膜の厚みにより腐食電位がどのように影響するかが課
題となる。
When a photocatalyst is applied to or sprayed on a reactor structural material or is injected into reactor water to form a photocatalyst film on the reactor structural material, the corrosion potential depends on the thickness of the formed film. The issue will be how it affects.

【0012】本発明は上記課題を解決するためになされ
たもので、光触媒を原子炉に十分な効果を期待できるよ
うに光触媒の皮膜形成を行う方法として、光触媒を担保
しながら原子炉健全性の観点から設定されている水質基
準を満足させる不純物濃度を制御して、光触媒皮膜を原
子炉構造材料面に均一に形成させることができる原子炉
構造材料への光触媒皮膜形成方法を提供することにあ
る。
The present invention has been made to solve the above problems, and is a method of forming a photocatalyst film so that a sufficient effect of the photocatalyst can be expected in the reactor. It is to provide a method for forming a photocatalyst film on a reactor structural material that can uniformly form a photocatalyst film on the surface of the reactor structural material by controlling the impurity concentration that satisfies the water quality standard set from the viewpoint. .

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
原子炉構造材料に光触媒を構成する成分を注入して前記
原子炉構造材料に前記光触媒の皮膜を形成する方法にお
いて、前記注入する光触媒の粒径、前記光触媒の薬剤に
含まれる分散剤、バインダーおよび不純物の割合を規定
し、原子炉水への注入の場合には前記原子炉水中での光
触媒の濃度を制御するか、または塗布、噴霧法により注
入の場合には塗布、噴霧溶液中での光触媒の濃度を制御
することを特徴とする。
The invention according to claim 1 is
In a method of forming a photocatalyst film on the nuclear reactor structural material by injecting components constituting a photocatalyst into the nuclear reactor structural material, the particle size of the injected photocatalyst, a dispersant contained in the photocatalytic agent, a binder, and It defines the proportion of impurities and controls the concentration of the photocatalyst in the reactor water in the case of injection into the reactor water, or it is applied in the case of injection by the spraying method or the photocatalyst in the spray solution. It is characterized by controlling the concentration of.

【0014】請求項1の発明によれば、原子炉健全性の
観点から設定されている原子炉水、つまり原子炉冷却水
の水質基準および管理目標値に影響することなく、原子
炉構造材料面に原子炉内に存在する光や放射線の照射に
より電流が流れる光励起特性を有する高性能光触媒の皮
膜を均一に形成することができる。
According to the first aspect of the present invention, there is no influence on the water quality standard of the reactor water set from the viewpoint of the soundness of the reactor, that is, the water quality standard of the reactor cooling water and the control target value, and the surface material of the reactor structural material is not affected. It is possible to uniformly form a film of a high-performance photocatalyst having photoexcitation characteristics in which a current flows by irradiation of light or radiation existing in a nuclear reactor.

【0015】この光触媒皮膜によって原子炉構造材料の
応力腐食割れ等の腐食を防止することができ、もって、
原子炉プラントの長寿命化、安定運転などをはかること
ができる。
This photocatalyst film can prevent corrosion such as stress corrosion cracking of the nuclear reactor structural material.
The life of the nuclear reactor plant can be extended and stable operation can be achieved.

【0016】請求項2に係る発明は、請求項1におい
て、前記光触媒はTiO2(酸化チタン)であり、この
TiO2の皮膜厚みは、0.1μmから10μmに制御される
ことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the photocatalyst is TiO 2 (titanium oxide), and the film thickness of the TiO 2 is controlled from 0.1 μm to 10 μm.

【0017】請求項2の発明において、光触媒としての
TiO2の皮膜厚さを0.1μmから10μmに選択すること
により、粒界応力腐食割れ防止を抑制するための材料の
電位−230mV以下を十分満足できる。皮膜厚さが0.1μ
m未満では粒界応力腐食割れ防止を抑制するための材料
の電位−230mVを満足できなくなり、一方、皮膜厚さ
が10μmを超えると同様に材料の電位を満足できなくな
り、好ましくない。なお、好ましくは0.3μmから2μ
mに制御する。
In the invention of claim 2, by selecting the film thickness of TiO 2 as a photocatalyst from 0.1 μm to 10 μm, the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking is sufficiently satisfied with −230 mV or less. it can. Film thickness is 0.1μ
If it is less than m, the potential of the material of -230 mV for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking cannot be satisfied. On the other hand, if the film thickness exceeds 10 µm, the potential of the material cannot be satisfied, which is not preferable. In addition, preferably 0.3μm to 2μ
control to m.

【0018】請求項3に係る発明は、請求項1または2
において、前記光触媒の粒径は20nm以下(ただし、0
を含まず)に制御されていることを特徴とする。請求項
3の発明において、光触媒としてのTiO2粒径を50n
m以下に限定した理由は粒径が50nmを超えると、粒界
応力腐食割れ防止を抑制するための材料の電位−230m
V以下を満足しなくなるので、好ましくない。なお、好
ましくは5nmから30nmに選択すると、光触媒性能を
満足する結果が得られる。
The invention according to claim 3 is the invention according to claim 1 or 2.
In, the particle size of the photocatalyst is 20 nm or less (however,
Is not included). In the invention of claim 3, the particle size of TiO 2 as a photocatalyst is 50n.
The reason for limiting to m or less is that when the grain size exceeds 50 nm, the potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking prevention is −230 m.
This is not preferable because it does not satisfy V or less. In addition, when the thickness is preferably selected from 5 nm to 30 nm, the result satisfying the photocatalytic performance is obtained.

【0019】請求項4に係る発明は、請求項1におい
て、前記光触媒の表面にPt、Rh、RuまたはPdの
少なくとも一種の光触媒助剤が0.05%〜3%付着されて
いることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect, at least one photocatalytic auxiliary agent of Pt, Rh, Ru, or Pd is attached to the surface of the photocatalyst by 0.05% to 3%. .

【0020】請求項4の発明によれば、光触媒としての
TiO2の表面にPtやRh等の光触媒助剤を0.05%か
ら3%は付着させるが、0.05%未満では光触媒助剤とし
ての効果が薄れ、3%を超えると酸化チタンへ照射され
る紫外線量の減少により光触媒反応が減少し粒界応力腐
食割れを抑制する効果が薄れ、期待できない。
According to the invention of claim 4, a photocatalyst auxiliary agent such as Pt or Rh is attached to the surface of TiO 2 as a photocatalyst in an amount of 0.05% to 3%. If the content is less than 3%, the photocatalytic reaction is reduced due to the decrease in the amount of ultraviolet rays irradiated to titanium oxide, and the effect of suppressing the intergranular stress corrosion cracking becomes less, which cannot be expected.

【0021】請求項5に係る発明は、請求項1におい
て、前記光触媒の濃度は10%以下(ただし、0を含ま
ず)に制御されることを特徴とする。請求項5の発明に
おいて、光触媒としてのTiO2濃度を10%以下に限定
した理由は、濃度が10%を超えると、粒界応力腐食割れ
防止を抑制するための材料の電位−230mV以下を満足
しなくなる。なお、好ましくは5%以下に制御すると安
定した電位が得られる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect, the concentration of the photocatalyst is controlled to 10% or less (not including 0). In the invention of claim 5, the reason why the TiO 2 concentration as the photocatalyst is limited to 10% or less is that when the concentration exceeds 10%, the potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking prevention is −230 mV or less. Will not do. A stable potential can be obtained by controlling the concentration to preferably 5% or less.

【0022】請求項6に係る発明は、請求項1におい
て、前記原子炉水中に光触媒含有溶液を注入するにあた
り、原子炉の定常運転時に連続注入する場合には500ppb
以下に、起動時および停止時のトランジェント時に注入
する場合には10ppb以下に前記光触媒を濃度制御するこ
とを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the method according to claim 1, wherein when the photocatalyst-containing solution is injected into the reactor water, it is 500 ppb when continuously injecting during the steady operation of the reactor.
The following is characterized in that the concentration of the photocatalyst is controlled to 10 ppb or less when injecting at the time of transient at the time of starting and stopping.

【0023】請求項6の発明において、原子炉水中に光
触媒としてのTiO2を構成する成分を注入するにあた
り、定常運転時に連続注入する場合には500ppb以下に、
起動時、停止時のトランジェント時には10ppm以下に制
御する。定常運転注入時のTiO2濃度を500ppb以下に
限定した理由はつぎのとおりである。
In the sixth aspect of the present invention, when injecting the component constituting TiO 2 as a photocatalyst into the reactor water, the amount is 500 ppb or less when continuously injecting in a steady operation.
Control to 10ppm or less during transients when starting and stopping. The reason for limiting the TiO 2 concentration at the time of steady operation injection to 500 ppb or less is as follows.

【0024】水質基準によって制限を受け、市販されて
いるTiO2溶液中の塩素や硫酸イオン不純物はTiO2
に対して1/100程度である。このため、原子炉水中への
TiO2の濃度は最大で500ppbである。
[0024] limited by water quality standards, chloride and sulfate ion impurities of the TiO 2 solution that are commercially available TiO 2
Is about 1/100. Therefore, the maximum concentration of TiO 2 in the reactor water is 500 ppb.

【0025】500ppbを超えると、TiO2皮膜形成の効
果は期待できない。一方、10ppm以下に制御する理由
は、トランジェント注入時には不純物イオンの基準が20
倍になり、導電率は10倍になるため、それぞれTiO2
の基準への影響は10ppmとなることに基いている。Ti
2の濃度が10ppmを超えると最適な皮膜を形成すること
が困難となる。
If it exceeds 500 ppb, the effect of forming a TiO 2 film cannot be expected. On the other hand, the reason for controlling to 10ppm or less is that the impurity ion standard is 20
Doubles, because the conductivity is 10 times, respectively TiO 2
The effect on the standard is based on 10ppm. Ti
If the O 2 concentration exceeds 10 ppm, it becomes difficult to form an optimum film.

【0026】請求項7に係る発明は、請求項1におい
て、前記光触媒の凝集を抑制する分散剤はアンモニアお
よびカルボン酸からなり、前記分散剤の濃度を前記光触
媒に対して3.4%以下(ただし、0を含まず)に制御す
ることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the first aspect, the dispersant that suppresses aggregation of the photocatalyst is ammonia and carboxylic acid, and the concentration of the dispersant is 3.4% or less with respect to the photocatalyst (however, It is characterized by controlling to 0).

【0027】請求項7の発明において、光触媒のTiO
2の凝集を抑制する分散剤としてアンモニアまたはカル
ボン酸を使用した場合の分散剤の濃度をTiO2に対し
て3.4%以下に限定した理由は原子炉一次系における不
純物を除去するためのイオン交換樹脂によるクリンナッ
プ浄化効果を考慮すると、応力腐食割れを起こすことは
なく良好な状態を保つことができるが、3.4%を超えた
場合には良好な状態を保つ効果が期待できないのでより
好ましくない。好ましくは1%以下に制御する。
In the invention of claim 7, the photocatalyst TiO 2
The reason for limiting the concentration of the dispersant to 3.4% or less relative to TiO 2 when ammonia or carboxylic acid is used as a dispersant for suppressing the aggregation of 2 is the ion exchange resin for removing impurities in the primary reactor system. In consideration of the cleanup effect of the cleanup, it is possible to maintain a good condition without causing stress corrosion cracking, but if it exceeds 3.4%, the effect of maintaining a good condition cannot be expected, which is not preferable. It is preferably controlled to 1% or less.

【0028】請求項8に係る発明は、請求項1におい
て、前記光触媒の皮膜を機械的に形成させ、その皮膜形
成を促進するためのバインダーを前記光触媒に対して2.
5%から0.02%に制御することを特徴とする。
The invention according to claim 8 is the same as in claim 1, wherein a binder for mechanically forming a film of the photocatalyst and for promoting the film formation is added to the photocatalyst.
It is characterized by controlling from 5% to 0.02%.

【0029】請求項8の発明において、光触媒のTiO
2皮膜形成を促進するためのバインダーをTiO2に対し
て2.5%から0.01%に制御する理由は、0.01%未満では
皮膜を形成するための密着性が乏しくなり、均一な皮膜
形成を困難にし、粒界応力腐食割れ防止を抑制するため
の材料の電位−230mV以下を満足しなくなる。一方、
2.5%を超えると導電率が上昇して粒界応力腐食割れ防
止を抑制するための材料の電位を満足しなくなる。な
お、好ましくは0.02%以上に制御する。
In the invention of claim 8, the photocatalyst TiO 2
2 The reason for controlling the binder for promoting film formation from 2.5% to 0.01% with respect to TiO 2 is that if it is less than 0.01%, the adhesiveness for forming a film becomes poor, making it difficult to form a uniform film. The potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking does not satisfy −230 mV or less. on the other hand,
If it exceeds 2.5%, the electric conductivity will increase and the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking will not be satisfied. In addition, it is preferably controlled to 0.02% or more.

【0030】請求項9に係る発明は、請求項6記載の皮
膜形成方法において、請求項8記載のバインダーを1pp
m以下に制御することを特徴とする。請求項9の発明に
おいて、請求項8のバインダーが原子炉水中で1ppm以
下に制御する理由は、バインダーの濃度が増加するにつ
れてTiO2の付着量は増加するが、腐食電位が低下す
ることに基いている。原子炉水中のTiO2濃度とバイ
ンダー濃度を制御することによって最適な皮膜を効率よ
く形成することはできるが、1ppmを超えると材料の電
位が上昇するので好ましくない。
The invention according to claim 9 is the method for forming a film according to claim 6, wherein 1 pp of the binder according to claim 8 is added.
It is characterized by controlling to m or less. In the invention of claim 9, the reason why the binder of claim 8 is controlled to 1 ppm or less in reactor water is that the amount of TiO 2 deposited increases as the binder concentration increases, but the corrosion potential decreases. I am An optimum film can be efficiently formed by controlling the TiO 2 concentration and the binder concentration in the reactor water, but if it exceeds 1 ppm, the potential of the material rises, which is not preferable.

【0031】請求項10に係る発明は、請求項1におい
て、前記光触媒、前記分散剤および前記バインダーを原
子炉運転時の原子炉水中で有害不純物のCl-またはS
4 2-を0.05ppb以下にして前記原子炉通常運転時の基準
値以下に制御することを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the first aspect, the photocatalyst, the dispersant, and the binder are contained in the reactor water during operation of the reactor as harmful impurities such as Cl or S.
It is characterized in that O 4 2− is controlled to 0.05 ppb or less and controlled to the reference value or less during the normal operation of the reactor.

【0032】請求項10の発明において、光触媒のTiO
2,TiOの凝集を抑制する分散剤、TiO2の皮膜形成
を促進するためのバインダ、不純濃度を、原子炉運転時
の原子炉水中で代表的な有害不純物であるCl-または
SO4 2-を0.05ppb以下にし、原子炉通常運転時の基準以
下となるように制御する理由は原子炉水の水質に影響す
る課題を解決することにある。すなわち、TiO2に対
する塩素、硫酸割合が0.022%を超えると原子炉水の水
質管理目標値の5ppbを上回る。そこで、原子炉構造材
料にTiO2皮膜を施す際のTiO2溶液中の塩素、硫酸
濃度をTiO2に対して0.5ppbいかに制御することによ
り上記課題を解決できる。
In the invention of claim 10, the photocatalyst TiO 2
2 , a dispersant for suppressing the agglomeration of TiO, a binder for promoting the film formation of TiO 2 , and an impurity concentration of Cl or SO 4 2− which is a typical harmful impurity in the reactor water during the operation of the reactor. Is 0.05 ppb or less, and the reason for controlling it so that it is below the standard during normal reactor operation is to solve the problem that affects the water quality of the reactor water. That is, when the ratio of chlorine and sulfuric acid to TiO 2 exceeds 0.022%, the water quality control target value of reactor water exceeds 5 ppb. Therefore, the above problems can be solved by controlling the chlorine and sulfuric acid concentrations in the TiO 2 solution when applying the TiO 2 coating to the reactor structural material to 0.5 ppb with respect to TiO 2 .

【0033】請求項11に係る発明は、請求項2から10に
おいて、原子炉運転時の原子炉水の導電率が前記原子炉
通常運転時の基準値である0.1μS/cmとなるように制御
することを特徴とする。
The invention according to claim 11 is the control according to any one of claims 2 to 10 so that the electrical conductivity of the reactor water during the operation of the reactor is 0.1 μS / cm, which is the reference value during the normal operation of the reactor. It is characterized by doing.

【0034】請求項11の発明によれば、原子炉の健全性
を損うことなく、原子炉構造材料にTiO2の皮膜を形
成することができる。また、原子炉運転中の原子炉水中
の導電率を原子炉通常運転時の基準である0.1μS/cmと
なる制御する理由は原子炉構造材料にTiO2皮膜を形
成する際の原子炉水質の基準を上回らないようにするこ
とによる。
According to the eleventh aspect of the present invention, the TiO 2 film can be formed on the reactor structural material without impairing the soundness of the nuclear reactor. Further, the reason for controlling the electric conductivity in the reactor water during the reactor operation to be 0.1 μS / cm, which is the standard during the normal reactor operation, is because of the water quality of the reactor when the TiO 2 film is formed on the reactor structural material. By not exceeding the standard.

【0035】請求項12に係る発明は、請求項6におい
て、原子炉の水質が通常運転時として定められた基準か
ら除外される起動時、中間停止時、最終停止時の期間に
前記光触媒を付着させることを特徴とする。
According to the twelfth aspect of the present invention, the photocatalyst is adhered during the period of start-up, intermediate stop, and final stop when the water quality of the reactor in claim 6 is excluded from the standard defined as normal operation. It is characterized by

【0036】請求項12の発明によれば、短い期間中に導
電率10μS/cm,塩素、硫酸濃度をそれぞれ100ppb以下以
下の基準に合わせて注入することができる。すなわち、
原子炉の水質が通常運転時として定められた基準から除
外される起動時、中間停止時、停止時等の期間に注入す
れば、基準が適用されることとなる。また、合計の期間
が規定の時間以下ならば注入することもできる。注入す
る場合には注入濃度や運転モードを制御する。また注入
中の水質をモニターしてその値を制御する。
According to the twelfth aspect of the invention, it is possible to inject in a short period of time in accordance with the criteria of conductivity of 10 μS / cm, chlorine and sulfuric acid concentrations of 100 ppb or less. That is,
If the water quality of the reactor is excluded from the standard set for normal operation, the standard will be applied if it is injected during the period of start-up, intermediate stop, and stop. Infusion can also be done if the total period is less than the specified time. When injecting, the injection concentration and operation mode are controlled. In addition, the water quality during injection is monitored and its value is controlled.

【0037】請求項13に係る発明は、請求項12におい
て、前記原子炉運転時の原子炉水中不純物であるC
-、SO4 2-の濃度を5ppb以下、導電率を1μS/cm以
下に制御することを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the twelfth aspect, C which is an impurity in the reactor water during the operation of the reactor is used.
It is characterized in that the concentrations of l and SO 4 2− are controlled to 5 ppb or less and the conductivity is controlled to 1 μS / cm or less.

【0038】原子炉の材料健全性の観点で定められてい
る原子炉水の水質基準は概ね導電率1μS/cm,塩素、硫
酸濃度は100ppb以下であるが、運転期間中は導電率1μ
S/cm,塩素、硫酸濃度をそれぞれ5ppb以下とする。請
求項13の発明によれば、これに合わせて注入することが
できる。
The water quality standard of the reactor water, which is determined from the viewpoint of the soundness of the material of the nuclear reactor, is a conductivity of 1 μS / cm, chlorine and sulfuric acid concentration is 100 ppb or less, but the conductivity is 1 μm during the operation period.
S / cm, chlorine and sulfuric acid concentrations should be 5 ppb or less each. According to the thirteenth aspect of the present invention, the injection can be performed in accordance with this.

【0039】請求項14に係る発明は、請求項6におい
て、原子炉水中の光触媒および不純物の濃度、導電率、
pHを測定する計測系を備え、その計測系のデータを注入
システム、温度、流量、流路、浄化系流量の制御系にフ
ィードバックすることを特徴とする。
According to a fourteenth aspect of the invention, in the sixth aspect, the concentration of the photocatalyst and impurities in the reactor water, the conductivity,
It is characterized by having a measuring system for measuring pH and feeding back the data of the measuring system to the control system of the injection system, temperature, flow rate, flow path, and purification system flow rate.

【0040】請求項14の発明によれば、原子炉の健全性
を損うことなくTiO2の皮膜を原子炉構造材に形成す
ることができる。また、TiO2濃度、電導度を監視し
ながら注入ポンプ、原子炉冷却材浄化系ポンプを制御す
ることによって、水質規制を逸脱することなくTiO2
を原子炉へ注入することができる。
According to the invention of claim 14, a TiO 2 film can be formed on a reactor structural material without impairing the soundness of the reactor. Further, TiO 2 concentration, infusion pump while monitoring the electrical conductivity by controlling the reactor coolant cleanup system pump, TiO 2 without departing from water quality regulations
Can be injected into the reactor.

【0041】請求項15に係る発明は、請求項6におい
て、原子炉水中に浸漬された構造材料への光触媒の付着
量を注入システム、温度、流量、流路を有する制御系に
フィードバックすることを特徴とする。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in the sixth aspect, the adhesion amount of the photocatalyst to the structural material immersed in the reactor water is fed back to the control system having the injection system, temperature, flow rate and flow path. Characterize.

【0042】請求項15の発明によれば、試験片のTiO
2付着量と付着時間を考慮しながら、注入ポンプの流量
を制御して原子炉構造材料面に最適なTiO2皮膜を形
成することができる。また、試験片に付着したTiO2
の付着厚さを監視しながら原子炉構造材料にTiO2
付着させることによって、付着厚さを目標値に制御する
ことができる。
According to the invention of claim 15, the TiO of the test piece
(2) The optimum TiO 2 film can be formed on the surface of the structural material of the reactor by controlling the flow rate of the injection pump while considering the deposition amount and deposition time. In addition, TiO 2 attached to the test piece
The deposition thickness can be controlled to a target value by depositing TiO 2 on the reactor structural material while monitoring the deposition thickness of No.

【0043】[0043]

【発明の実施の形態】原子炉健全性の観点から設定され
ている水質基準値は、様々な運転条件で定められている
が、概ね導電率1μS/cmであり、塩素、硫酸、酸化シリ
カ濃度に対しては基準値および管理目標値が表1のよう
に設定されている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The water quality standard value set from the viewpoint of reactor soundness is set under various operating conditions, but the conductivity is approximately 1 μS / cm, and the concentration of chlorine, sulfuric acid, and silica oxide is approximately. The standard value and management target value are set as shown in Table 1.

【0044】これに対して、酸化チタンを製造する方法
としては、鉱物からチタンを抽出する際、大きくは塩酸
による塩化チタン法と、硫酸による硫酸チタン法があ
り、これらから水酸化チタンなどの水和物に変化させ、
その後酸化チタンを得ている。一般産業用に製作されて
いる酸化チタンゾルは、塩素、硫酸などに対しての規制
がなく溶液中に数%のオーダーで混入しており、塩素な
り、硫酸は不純物として混入するのが一般的な現状であ
る。
On the other hand, as a method for producing titanium oxide, when extracting titanium from a mineral, there are roughly a titanium chloride method using hydrochloric acid and a titanium sulfate method using sulfuric acid. Change to Japanese
After that, titanium oxide is obtained. Titanium oxide sol manufactured for general industry does not have restrictions on chlorine, sulfuric acid, etc. and is mixed in the solution in the order of several%, and it becomes chlorine, and sulfuric acid is generally mixed as an impurity. The current situation.

【0045】従って、酸化チタン皮膜量の増加は塩素、
硫酸の量の増加を招く原因になるとともに、原子炉水質
基準値を上回ることは原子炉を停止させる要因となる。
同様に、酸化チタンを材料表面に化学的および機械的に
安定化させるため、水に溶解しにくい酸化チタンを小さ
な粒子にして懸濁して使用する必要がある。このため、
使用する以前には液体に安定的に分散させる必要があ
る。
Therefore, the increase in the amount of titanium oxide film is caused by chlorine,
In addition to causing an increase in the amount of sulfuric acid, exceeding the reactor water quality standard value causes a shutdown of the reactor.
Similarly, in order to chemically and mechanically stabilize titanium oxide on the material surface, it is necessary to use titanium oxide, which is difficult to dissolve in water, as small particles in suspension. For this reason,
It must be stably dispersed in a liquid before use.

【0046】一般産業用に製作されている酸化チタンゾ
ル中の分散剤はおおよそ2%〜10%程度は混入してお
り、この分散に携わる薬剤も種類および濃度により原子
炉水質基準である導電率を上昇させる。これらの薬剤と
してはアンモニア、カルボン酸などがあり、これらによ
り導電率1μS/cmを担保するためには炉水中濃度として
80ppb以下に制御しないと基準導電率を上昇させ原子炉
を停止させる可能性がある。
About 2% to 10% of the dispersant is mixed in the titanium oxide sol produced for general industry, and the chemicals involved in this dispersion have conductivity which is the standard of reactor water quality depending on the type and concentration. To raise. Ammonia, carboxylic acid, etc. are used as these agents, and in order to ensure conductivity of 1 μS / cm, the concentration in reactor water is
If it is not controlled below 80 ppb, the reference conductivity may increase and the reactor may be shut down.

【0047】さらに、酸化チタン皮膜の密着性を向上さ
せる目的でバインダーを使用する必要がある。一般産業
用に製作されている酸化チタンゾル中のバインダーは酸
化チタンに対して20%程度は混入しており、上記分散剤
同様にバインダー種類および濃度、溶液中のバインダー
の安定を図る薬剤などにより、原子炉水質基準である導
電率を上昇させる。
Further, it is necessary to use a binder for the purpose of improving the adhesion of the titanium oxide film. About 20% of the binder in titanium oxide sol manufactured for general industry is mixed with titanium oxide, and like the dispersant, the type and concentration of the binder, and the agent that stabilizes the binder in the solution, Increase the electrical conductivity, which is the standard for reactor water quality.

【0048】これらの薬剤としてはバインダーとしては
無機の酸化シリカ、ポリオルガノシロキサンなどがあ
る。酸化シリカについてはイオンとして炉水中に溶け出
さないため導電率を上昇させることはないが、バインダ
ーを安定させるためにエタノールなどを用いており、そ
の濃度は40%にも及ぶものもある。
The binders of these agents include inorganic silica oxide and polyorganosiloxane. Regarding silica oxide, it does not elute into the reactor water as ions so it does not increase the conductivity, but ethanol or the like is used to stabilize the binder, and its concentration may reach 40%.

【0049】これらのアルコール類が分解して炭酸イオ
ンとして炉水中に溶解した場合には、導電率1μS/cmを
担保するためには炉水中濃度として1000ppb以下に制御
しないと基準導電率の上昇により原子炉を停止させる要
因となるうる可能性がある。
When these alcohols are decomposed and dissolved as carbonate ions in the reactor water, the concentration in the reactor water must be controlled to 1000 ppb or less in order to ensure a conductivity of 1 μS / cm, or the reference conductivity increases. It can be a factor in shutting down the reactor.

【0050】以上までに示した原子炉の材料健全性の観
点から設定されている基準値(原子炉構造材面積と原子
炉水量はプラント設計パラメータ)および管理目標値を
表1に示し、市販されている光触媒の一つである酸化チ
タンの性状を表2に示す。
Table 1 shows the standard values (reactor structural material area and reactor water amount are plant design parameters) and management target values set from the viewpoint of the material integrity of the reactor shown above, and they are commercially available. Table 2 shows the properties of titanium oxide, which is one of the photocatalysts used.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】[0052]

【表2】 [Table 2]

【0053】原子炉の構造材料表面に光触媒被膜を形成
する方法としては、塗布や噴霧などによって機械的に行
う方法と、原子炉の炉水中に光触媒を注入して化学的に
皮膜形成させる方法とがある。機械的に行う方法では、
必要な部位に塗布あるいは噴霧することから、プラント
に影響を与えずに行うことが可能である。
As a method of forming a photocatalytic coating on the surface of the structural material of a nuclear reactor, there are a mechanical method such as coating and spraying, and a method of chemically injecting a photocatalyst into reactor water to form a film. There is. In the mechanical way,
Since it is applied or sprayed on a necessary part, it can be performed without affecting the plant.

【0054】しかし、広範囲に行う場合や手や機械が届
きにくい所に適応する場合には、炉水中に光触媒を注入
する方法をとれば一度に接液部全てに皮膜形成させるこ
とが可能である。このため、既設プラントに対して原子
炉全体に光触媒の皮膜形成する方法としては注入方法
を、溶接部など限られた部位に適応するのは機械的な皮
膜形成方法をとるのが最も適当である。
However, in the case where it is applied over a wide area or where it is difficult to reach by hand or machine, the method of injecting the photocatalyst into the reactor water can form a film on all the wetted parts at once. . Therefore, it is most appropriate to adopt an injection method as a method for forming a photocatalyst film over the entire reactor in an existing plant, and a mechanical film formation method for adapting to a limited site such as a welded part. .

【0055】本発明では、酸化チタン、分散剤、バイン
ダーなどから混入する不純物の除去、分散剤あるいはバ
インダーを最適化させることにある。まず、酸化チタ
ン、分散剤、バインダーなどから混入する不純物の除去
については、一般産業で市販されている光触媒用酸化チ
タン溶液中の塩素(Cl-)、硫酸(SO4 2-)濃度が1
〜10%あるものの、酸化チタンの製法上鉱物からチタン
を抽出する塩化チタン法または硫酸チタン法において使
用する薬剤の不純物制御を行う。
The present invention is to remove impurities mixed in from titanium oxide, a dispersant, a binder, etc., and to optimize the dispersant or binder. First, regarding the removal of impurities mixed in from titanium oxide, a dispersant, a binder, etc., the concentration of chlorine (Cl ) and sulfuric acid (SO 4 2− ) in a titanium oxide solution for photocatalyst commercially available in general industry is 1
Although the content is ~ 10%, the impurities in the chemicals used in the titanium chloride method or titanium sulfate method for extracting titanium from minerals in the titanium oxide manufacturing method are controlled.

【0056】その後、水酸化チタンなどの水和物に変化
させる際、使用する水を極力不純物のない純水を使用す
る。その後、酸化チタンに酸化させる場合にも環境雰囲
気の制御を行った結果、酸化チタン溶液中の塩素、硫酸
濃度を1ppm程度まで低減できる。
After that, when changing to a hydrate such as titanium hydroxide, the water used is pure water containing as few impurities as possible. After that, when oxidizing the titanium oxide, the environmental atmosphere is controlled, and as a result, the chlorine and sulfuric acid concentrations in the titanium oxide solution can be reduced to about 1 ppm.

【0057】次に、分散剤の最適化については、前述し
たように一般的には酸化チタンに対して1%程度が最適
とされているが、使用目的に応じて分散剤を制御する必
要がある。これは、長い期間酸化チタンの凝集を防ぐ場
合には上述した量が必要かと考えるが、保存期間および
使用期間を限定した場合にはこのような多量の分散剤は
必要ない。
Next, regarding the optimization of the dispersant, it is generally said that about 1% is optimal with respect to titanium oxide as described above, but it is necessary to control the dispersant according to the purpose of use. is there. It is considered that the above amount is necessary to prevent the aggregation of titanium oxide for a long period of time, but when the storage period and the use period are limited, such a large amount of dispersant is not necessary.

【0058】そこで、酸化チタンに対する分散剤の割合
と酸化チタンの分散状態を実験したところ、一ヶ月以上
酸化チタンの凝集を防ぐ場合には、酸化チタンに対して
分散剤の割合は1%程度必要であるが、2週間程度酸化
チタンの凝集を防ぐ目的であれば、分散剤は酸化チタン
に対して0.4%存在すればよいことが認められた。
Therefore, when the ratio of the dispersant to titanium oxide and the dispersion state of titanium oxide were tested, the ratio of the dispersant to titanium oxide was required to be about 1% in order to prevent the aggregation of titanium oxide for one month or longer. However, for the purpose of preventing the aggregation of titanium oxide for about 2 weeks, it was recognized that the dispersant should be present at 0.4% with respect to titanium oxide.

【0059】また、酸化チタンの密着性を増加させるバ
インダーの最適化については、一般産業用で製作されて
いる酸化チタンゾル中のバインダーは酸化チタンに対し
て20%程度は混入しているが、この濃度も使用目的に応
じて制御されるべきである。
Regarding the optimization of the binder for increasing the adhesion of titanium oxide, the binder in the titanium oxide sol produced for general industry contains about 20% of the titanium oxide. The concentration should also be controlled according to the purpose of use.

【0060】このため、酸化チタンに対するバインダー
割合を変化させ皮膜を形成し、原子炉温度および圧力条
件で皮膜強度の実験を行ったところ、バインダーの種類
により多少の違いがあるものの、一般産業で使用される
バインダー量に対して1/200から1/20000まで原子炉温度
および圧力条件で皮膜が剥離するような傾向がないこと
が認められた。
Therefore, when a film was formed by changing the binder ratio with respect to titanium oxide, and the film strength was tested under reactor temperature and pressure conditions, it was used in general industry although there were some differences depending on the type of binder. It was confirmed that there was no tendency for the coating to peel under reactor temperature and pressure conditions from 1/200 to 1/20000 relative to the amount of binder used.

【0061】原子炉構造材料に塗布,噴霧するまたは原
子炉水中に注入して光触媒皮膜を形成させる際、以下に
示す手段をトータルで制御することにより均一な光触媒
皮膜を原子炉水質に悪影響なく形成することができる。
When the photocatalytic film is formed by coating, spraying or injecting into the reactor structural material, a uniform photocatalytic film is formed without adversely affecting the water quality of the reactor by totally controlling the following means. can do.

【0062】原子炉構造材料へ形成する酸化チタン皮膜
の厚みに対する粒界応力腐食割れ防止を抑制するための
材料の電位を求め、光触媒性能が十分に発揮される酸化
チタン皮膜の厚みを制御する。
The potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking prevention with respect to the thickness of the titanium oxide film formed on the nuclear reactor structural material is determined, and the thickness of the titanium oxide film that sufficiently exhibits the photocatalytic performance is controlled.

【0063】酸化チタン皮膜を形成させる際の酸化チタ
ン自身の粒径に対する腐食電位を求め、光触媒性能が十
分に発揮される酸化チタンの粒径を制御する。酸化チタ
ン皮膜を形成する際の酸化チタン濃度に対する腐食電位
を求め、光触媒性能が十分に発揮される酸化チタン濃度
を制御する。
The corrosion potential with respect to the particle size of titanium oxide itself when forming the titanium oxide film is determined to control the particle size of titanium oxide at which the photocatalytic performance is sufficiently exhibited. The corrosion potential with respect to the titanium oxide concentration at the time of forming the titanium oxide film is determined to control the titanium oxide concentration at which the photocatalytic performance is sufficiently exhibited.

【0064】酸化チタン皮膜を形成する際の酸化チタン
の凝集を抑制する分散剤の割合に対する腐食電位を求
め、また、酸化チタンと分散剤の割合に対する原子炉水
導電率の影響から、光触媒性能が十分に発揮され、かつ
材料健全性の観点から設定されている水質基準以下に保
つことを目的として酸化チタンの凝集を防ぐ分散剤を制
御する。
The corrosion potential was calculated with respect to the ratio of the dispersant that suppresses the aggregation of titanium oxide when forming the titanium oxide film, and the photocatalytic performance was determined from the influence of the reactor water conductivity on the ratio of titanium oxide and the dispersant. The dispersant that prevents the aggregation of titanium oxide is controlled for the purpose of keeping the water quality below the water quality standard set sufficiently from the viewpoint of material integrity.

【0065】酸化チタン皮膜を形成する際の皮膜形成を
促進するためのバインダーの割合に対する腐食電位を求
め、また、酸化チタンとバインダーの割合およびバイン
ダーに使用される安定化剤などを加味した原子炉水導電
率の影響から、光触媒性能が十分に発揮され、かつ材料
健全性の観点から設定されている水質基準以下に保つこ
とを目的としてバインダーを制御する。
A reactor in which the corrosion potential with respect to the ratio of the binder for promoting the film formation when forming the titanium oxide film was determined, and the ratio of the titanium oxide and the binder and the stabilizer used for the binder were added. Due to the influence of water conductivity, the binder is controlled so that the photocatalytic performance is sufficiently exerted and the water quality is maintained below the water quality standard set from the viewpoint of material integrity.

【0066】酸化チタン皮膜を形成する際、酸化チタン
自身、酸化チタンの凝集を抑制する分散剤、皮膜形成を
促進するためのバインダーおよびバインダーの安定化剤
などにおいては、これら全てが材料健全性の観点から設
定されている水質基準に影響を及ぼすため、これら不純
物混入濃度を制御する。
When forming a titanium oxide film, titanium oxide itself, a dispersant that suppresses the aggregation of titanium oxide, a binder for promoting film formation, a stabilizer for the binder, and the like are all of the material integrity. Since the water quality standard set from the viewpoint is affected, the concentration of these impurities is controlled.

【0067】原子炉の材料健全性の観点で定められてい
る水質基準は,上記の通り概ね導電率10μS/cm、塩素、
硫酸濃度をそれぞれ100ppb以下にする必要がある。ただ
し、運転期間中である場合はさらに厳しい水質基準が推
奨されており、その値は導電率1μS/cm、塩素、硫酸濃
度をそれぞれ5ppb以下である。
The water quality standard defined from the viewpoint of the soundness of the material of the nuclear reactor is approximately 10 μS / cm of conductivity, chlorine,
It is necessary to keep the sulfuric acid concentration below 100 ppb each. However, even during the operation period, stricter water quality standards are recommended, and their values are conductivity 1 μS / cm, chlorine and sulfuric acid concentrations of 5 ppb or less each.

【0068】原子炉内に常時酸化チタンを注入しようと
すると、この基準をクリアする必要があり、酸化チタン
の濃度や分散剤やバインダーの濃度,不純物濃度を低減
する必要がある。それに対して、短い期間であれば、導
電率10μS/cm、塩素,硫酸濃度をそれぞれ100ppb以下の
基準にあわせて注入することが可能である。
In order to constantly inject titanium oxide into the reactor, it is necessary to satisfy this standard, and it is necessary to reduce the concentration of titanium oxide, the concentration of dispersant and binder, and the concentration of impurities. On the other hand, for a short period of time, it is possible to inject with conductivity of 10 μS / cm and chlorine and sulfuric acid concentrations of 100 ppb or less.

【0069】これらの基準が現在適用されているのは起
動時,中間停止時,停止時であり、これらの期間に注入
すればこの基準が適用されることになる。また、これら
の期間でなくとも、合計の期間が規定の時間以下であれ
ば注入することも可能である。
These standards are currently applied at the time of start-up, intermediate stop, and stop, and if injected during these periods, these standards will be applied. Moreover, even if it is not these periods, if the total period is less than the specified time, it is possible to inject.

【0070】注入する場合には、上記の条件を満たすよ
うに注入濃度や運転モードを制御する必要がある。ほと
んどの原子炉には導電率計やpH計が装備されており、ま
たイオンクロマトグラフィー等の水質測定器によって各
種イオンの炉水中濃度が測定できる。これらの他に酸化
チタン濃度を測定できる装置などを追設して、注入中の
水質をモニターし、その値を注入システムや原子炉運転
システムにフィードバックして制御する。
When injecting, it is necessary to control the injection concentration and the operation mode so as to satisfy the above conditions. Most nuclear reactors are equipped with a conductivity meter and a pH meter, and the concentration of various ions in the reactor water can be measured by a water quality measuring instrument such as ion chromatography. In addition to these, a device that can measure the concentration of titanium oxide will be added to monitor the water quality during injection, and the value will be fed back to the injection system and reactor operation system for control.

【0071】本実施の形態によれば、光が照射されると
防食効果を有する光触媒の皮膜厚み、粒径、濃度、分散
剤、バインダー、不純物を制御することで、原子炉の水
質基準に対応した高性能光触媒層を原子炉構造材料表面
において均一な皮膜を形成させ、運転中の腐食を低減す
ることが可能となる。
According to the present embodiment, by controlling the film thickness, particle size, concentration, dispersant, binder, and impurities of the photocatalyst, which has an anticorrosive effect when irradiated with light, it is possible to meet the water quality standard of the reactor. The high-performance photocatalyst layer thus formed can form a uniform film on the surface of the reactor structural material, and can reduce corrosion during operation.

【0072】つぎに図1から図13により本発明に係る原
子炉構造材料の光触媒形成方法の具体的な実施例を説明
する。 (実施例1)実施例1は光触媒を原子炉構造材料に塗
布,噴霧、または原子炉水中に注入して構造材料に皮膜
を形成させ、形成した皮膜の厚みにより腐食電位がどの
ように影響するかを調べた実験例である。図1から明ら
かなように、酸化チタン皮膜の厚みが0.1μm〜10μm
の範囲では、粒界応力腐食割れ防止を抑制するための材
料の電位−230mV以下を十分満足していることがわか
る。
Next, specific examples of the method for forming a photocatalyst for a nuclear reactor structural material according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 13. (Example 1) In Example 1, a photocatalyst is applied to a reactor structural material, sprayed, or injected into reactor water to form a film on the structural material, and how the corrosion potential affects the thickness of the formed film. It is an example of an experiment investigating whether or not. As is clear from FIG. 1, the thickness of the titanium oxide film is 0.1 μm to 10 μm.
It can be seen that, in the range of, the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking is sufficiently below −230 mV.

【0073】また、0.3μm〜2μmの範囲では、材料
の電位−300mVに維持されている。ただし、酸化チタン
皮膜の厚みが2μm以上になると、酸化チタンにおいて
光触媒反応で励起した電子と正孔が再結合を起こす反応
により、粒界応力腐食割れ防止を抑制するための材料の
電位は徐々に上昇している。
In the range of 0.3 μm to 2 μm, the potential of the material is maintained at −300 mV. However, when the thickness of the titanium oxide film becomes 2 μm or more, the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking gradually increases due to the reaction of recombination of electrons and holes excited by the photocatalytic reaction in titanium oxide. It is rising.

【0074】また、酸化チタン皮膜の厚みが0.1μmを
下回ると粒界応力腐食割れ防止を抑制するための材料の
電位−230mVを満足できなくなる。従って、原子炉構造
材料に酸化チタン皮膜の厚みを0.1μm〜10μmにおい
て光触媒性能を満足するが、好ましくは0.3μm〜2μ
mに制御することが肝要となる。
If the thickness of the titanium oxide film is less than 0.1 μm, the material potential of −230 mV for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking cannot be satisfied. Therefore, the photocatalytic performance is satisfied when the thickness of the titanium oxide film on the reactor structural material is 0.1 μm to 10 μm, but preferably 0.3 μm to 2 μm.
It is important to control to m.

【0075】(実施例2)図2により本発明の実施例2
を説明する。実施例2は原子炉構造材料への酸化チタン
皮膜を形成する際、酸化チタン自身の粒径により腐食電
位がどのように影響するのかを調べた実験例である。図
2は酸化チタンの皮膜の厚みを0.3μmにした場合であ
るが、酸化チタン粒径が50nm以下では、粒界応力腐食
割れ防止を抑制するための材料の電位−230mV以下を十
分満足していることがわかる。
(Second Embodiment) A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Will be explained. Example 2 is an experimental example in which how the corrosion potential is affected by the particle size of titanium oxide itself when the titanium oxide film is formed on the reactor structural material. FIG. 2 shows the case where the thickness of the titanium oxide film is 0.3 μm. When the titanium oxide particle size is 50 nm or less, the potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking prevention is sufficiently below −230 mV. You can see that

【0076】ただし、酸化チタン粒径が30nm以上にな
ると、酸化チタンにおいて光触媒反応で励起した電子と
正孔が再結合を起こす反応により、粒界応力腐食割れ防
止を抑制するための材料の電位は徐々に上昇している。
However, when the particle size of titanium oxide is 30 nm or more, the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking is increased by the reaction of recombination of electrons and holes excited by the photocatalytic reaction in titanium oxide. It is gradually rising.

【0077】また、酸化チタン皮膜の厚みを減少させた
場合には、単位体積当たりの比表面積が粒径と反比例す
る如く減少し、粒界応力腐食割れ防止を抑制するための
材料の電位−230mV以下を満足しなくなる。従って、原
子炉構造材料に酸化チタン皮膜を施す際の酸化チタン粒
径は50nm以下において光触媒性能を満足するが、好ま
しくは5nm〜30nm に制御することが肝要となる。
When the thickness of the titanium oxide film is reduced, the specific surface area per unit volume decreases in inverse proportion to the grain size, and the potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking is -230 mV. The following is no longer satisfied. Therefore, when the titanium oxide film is applied to the reactor structural material, the particle size of titanium oxide satisfies the photocatalytic performance at 50 nm or less, but it is important to control it to 5 nm to 30 nm.

【0078】(実施例3)図3により本発明の実施例3
を説明する。実施例3は原子炉構造材料への酸化チタン
皮膜を形成する際、電位の移動を速やかに進行させるた
めの光触媒助剤としてある白金ないしはロジウムの濃度
により腐食電位がどのように影響するのかを調べた実験
例である。図3に示すように、酸化チタン皮膜の厚みを
0.3μmとした場合、酸化チタンに対する白金の割合が
0.05〜3%の範囲においては、粒界応力腐食割れ防止を
抑制するための材料の電位が、酸化チタンのみの電位−
300mVより向上していることがわかる。
(Third Embodiment) A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Will be explained. Example 3 investigates how the corrosion potential is affected by the concentration of platinum or rhodium, which is a photocatalyst aid for promptly promoting the movement of potential when forming a titanium oxide film on a reactor structural material. It is an experimental example. As shown in FIG. 3,
When 0.3 μm, the ratio of platinum to titanium oxide is
In the range of 0.05 to 3%, the potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking prevention is the potential of only titanium oxide-
It can be seen that it is higher than 300 mV.

【0079】また、酸化チタンに対する白金の割合が0.
1%程度であると、材料の電位−330mVと非常に向上して
いる。ただし、光触媒助剤の割合が3%以上になると酸
化チタンへ照射される紫外線量の減少により光触媒反応
が減少し、粒界応力腐食割れ防止を抑制するための材料
の電位は徐々に上昇し、酸化チタンのみの電位−300mV
を下回る。
Further, the ratio of platinum to titanium oxide is 0.
When it is about 1%, the potential of the material is greatly improved to −330 mV. However, when the proportion of the photocatalyst auxiliary agent is 3% or more, the photocatalytic reaction is reduced due to the decrease in the amount of ultraviolet rays irradiated to titanium oxide, and the potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking gradually increases, Titanium oxide only potential-300 mV
Below.

【0080】また、光触媒助剤の割合が0.05%以下にな
ると光触媒助剤としての効果が薄れ、粒界応力腐食割れ
防止を抑制するための材料の電位は酸化チタンのみの−
300mVを満足できなくなる。従って、原子炉構造材料に
酸化チタン皮膜を形成する場合の皮膜中に白金ないしは
ロジウムが0.05〜3%の範囲において光触媒の助剤とし
ての性能を満足するが、好ましくは0.1%程度に制御す
ることが肝要となる。
When the proportion of the photocatalyst aid is less than 0.05%, the effect as the photocatalyst aid is weakened, and the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking is -O.
300mV cannot be satisfied. Therefore, when a titanium oxide film is formed on the reactor structural material, platinum or rhodium in the film satisfies the performance as a photocatalyst auxiliary agent in the range of 0.05 to 3%, but it is preferably controlled to about 0.1%. Is essential.

【0081】(実施例4)図4により本発明の実施例4
を説明する。実施例4は原子炉構造材料へ酸化チタン皮
膜を形成する際の酸化チタン濃度により腐食電位がどの
ように影響するのかを調べた実験例である。酸化チタン
を対象材料に塗布・噴霧する方法においては、図4に示
すように酸化チタン濃度が10%以下の範囲では、粒界応
力腐食割れ防止を抑制するための材料の電位−230mV以
下を十分満足していることがわかる。
(Embodiment 4) Embodiment 4 of the present invention will be described with reference to FIG.
Will be explained. Example 4 is an experimental example in which how the corrosion potential affects the titanium oxide concentration when forming the titanium oxide film on the reactor structural material. In the method of applying and spraying titanium oxide on the target material, as shown in Fig. 4, when the titanium oxide concentration is 10% or less, the material potential of -230 mV or less for suppressing the intergranular stress corrosion cracking prevention is sufficient. You can see that you are satisfied.

【0082】ただし、同図に示すごとく酸化チタン濃度
が5%を超えると、塗布,噴霧による皮膜形成が悪くな
り、均一な皮膜の欠如あるいは密着性の欠如による脱離
などが生じ、このような状態の皮膜における粒界応力腐
食割れ防止を抑制するための材料の電位は徐々に上昇
し、酸化チタン濃度が10%を超えると−230mV以下を満
足しなくなる。
However, as shown in the figure, when the titanium oxide concentration exceeds 5%, the film formation by coating and spraying deteriorates, and a uniform film is lacking or desorption due to lack of adhesion occurs. The potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking in the state film gradually rises, and when the titanium oxide concentration exceeds 10%, it does not satisfy −230 mV or less.

【0083】従って、原子炉構造材料に酸化チタン皮膜
を塗布,噴霧により施す際の酸化チタン濃度は、10%以
下において光触媒性能を満足するが、好ましくは5%以
下に制御することが肝要となる。
Accordingly, when the titanium oxide film is applied to the reactor structural material by spraying or spraying, the titanium oxide concentration satisfies the photocatalytic performance at 10% or less, but it is important to control it to 5% or less. .

【0084】(実施例5)図5により本発明の実施例5
を説明する。原子炉中に酸化チタンを注入することによ
って原子炉構造材へ被膜を形成させる方法を用いる場
合、原子炉の定常運転時に長時間注入するか、起動時/
停止時などのトランジェントに短期間注入するか、ある
いは両方の組み合わせを行うことができる。
(Fifth Embodiment) Referring to FIG. 5, a fifth embodiment of the present invention will be described.
Will be explained. When the method of forming a film on the reactor structural material by injecting titanium oxide into the reactor is used, it is injected for a long time during steady operation of the reactor or at start-up /
Transients, such as at rest, can be injected briefly, or a combination of both.

【0085】定常運転時での注入では炉水の温度は280
〜288℃であり、約10000時間の注入時間となる。トラン
ジェント時には温度は100〜288℃まで任意に選べ、注入
時間は最大48時間と考えられる。
The temperature of the reactor water is 280 in the injection during the steady operation.
It is ~ 288 ° C, giving an infusion time of about 10,000 hours. During transient, the temperature can be arbitrarily selected from 100 to 288 ° C, and the injection time is considered to be maximum 48 hours.

【0086】定常運転注入時の酸化チタン濃度は表1に
示された水質基準によって制限を受ける。現在市販され
ている酸化チタン溶液の塩素や硫酸イオン不純物は少な
いもので酸化チタンに対して、1/100程度である。この
ため、炉水中酸化チタンの濃度は最大500ppbである。
The titanium oxide concentration at the time of steady operation injection is limited by the water quality standard shown in Table 1. The titanium oxide solution currently on the market contains less chlorine and sulfate ion impurities, which is about 1/100 that of titanium oxide. Therefore, the maximum concentration of titanium oxide in the reactor water is 500 ppb.

【0087】導電率に影響を与えるものは分散剤であ
り、分散するためには注入液に対して0.4%が必要であ
る。炉水1μS/cmは分散剤濃度では80ppbに相当する。
酸化チタンの注入液中の濃度は注入ポンプの健全性から
5 %程度であることを考えると、炉水中の酸化チタン濃
度は1ppmが限度となる。
It is the dispersant that affects the conductivity, and 0.4% of the injection liquid is necessary for dispersion. 1 μS / cm of reactor water corresponds to 80 ppb in dispersant concentration.
Considering that the concentration of titanium oxide in the injection liquid is about 5% from the soundness of the injection pump, the concentration of titanium oxide in the reactor water is limited to 1 ppm.

【0088】これらは注入時の酸化チタンと不純物の割
合であり、実機では酸化チタンは構造材や燃料集合体に
付着し、酸化チタンと不純物ともに浄化系によって除去
される。このため、連続注入を行った場合には炉水中の
酸化チタンの制限値は上記よりも低くなると考えられ
る。
These are the ratios of titanium oxide and impurities at the time of injection. In an actual machine, titanium oxide adheres to the structural material and the fuel assembly, and both titanium oxide and impurities are removed by the purification system. Therefore, it is considered that the limit value of titanium oxide in the reactor water becomes lower than the above value when continuous injection is performed.

【0089】トランジェント注入時には、不純物イオン
の基準が20倍に導電率は10倍になるため、それぞれ酸化
チタンの基準への影響は10ppmとなる。図5はステンレ
ス鋼を285℃および150℃に保持した酸化チタンの溶液中
に24時間浸漬した場合の、光照射時の腐食電位の酸化チ
タン濃度依存性を示したものである。285℃では10ppmで
0.69μm、150℃では0.21μmの酸化チタンの膜が形成
される。
At the time of transient implantation, the standard of impurity ions is 20 times and the conductivity is 10 times. Therefore, the effect of titanium oxide on the standard is 10 ppm. FIG. 5 shows the dependence of corrosion potential upon light irradiation on the titanium oxide concentration when stainless steel was immersed in a titanium oxide solution kept at 285 ° C. and 150 ° C. for 24 hours. 10ppm at 285 ℃
A film of titanium oxide having a thickness of 0.69 μm and a thickness of 0.21 μm is formed at 150 ° C.

【0090】図5に示すように24時間の浸漬の条件下で
は、太線で示した285℃の線の粒界応力腐食割れが発生
しなくなるのは,炉水中で1.5ppmの濃度であり、150℃
では5ppmの濃度が必要となっている。このように炉水
温度,注入時間によって炉水中の酸化チタンの濃度を制
御することによって、最適な被膜を形成することが可能
である。
As shown in FIG. 5, under the condition of immersion for 24 hours, the grain boundary stress corrosion cracking of the line at 285 ° C. indicated by the thick line does not occur at the concentration of 1.5 ppm in the reactor water. ℃
Therefore, a concentration of 5 ppm is required. In this way, by controlling the concentration of titanium oxide in the reactor water by controlling the reactor water temperature and the injection time, it is possible to form an optimum film.

【0091】(実施例6)図6および図7により本発明
の実施例6を説明する。実施例6は原子炉構造材料へ酸
化チタン皮膜を形成する際の酸化チタンの凝集を抑制す
る分散剤による腐食電位の影響、または混入する分散剤
の量による原子炉健全性の観点から設定されている水質
基準にどのように影響するのかを調べた実験例である。
(Sixth Embodiment) A sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7. Example 6 is set from the viewpoint of the influence of the corrosion potential by the dispersant that suppresses the aggregation of titanium oxide when the titanium oxide film is formed on the reactor structural material, or the reactor soundness depending on the amount of the dispersant mixed in. This is an experimental example that examined how it affects the existing water quality standards.

【0092】図6に示すように、酸化チタンに対する分
散剤の割合が0.4%以上の範囲では、粒界応力腐食割れ
防止を抑制するための材料の電位−230mV以下を十分満
足していることがわかる。
As shown in FIG. 6, when the ratio of the dispersant to titanium oxide is 0.4% or more, the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking should be sufficiently below −230 mV. Recognize.

【0093】酸化チタンに対する分散剤の割合を0.4%
以下にした場合には、皮膜形成前に凝集して均一な皮膜
形成を困難にし、粒界応力腐食割れ防止を抑制するため
の材料の電位が上昇し、酸化チタンに対する分散剤の割
合が0.3%を下回ると材料の電位−230mV以下を満足しな
くなる。
The ratio of the dispersant to titanium oxide is 0.4%
In the case of the following, it becomes difficult to form a uniform film by agglomeration before forming a film, the potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking rises, and the ratio of the dispersant to titanium oxide is 0.3%. Below the value, the material potential of −230 mV or less cannot be satisfied.

【0094】ただし、分散剤としてアンモニアおよびカ
ルボン酸を1%添加した試験片により材料の応力腐食割
れを確認したところ、長期間において試験片材料の応力
腐食割れは観察されない。このため、分散剤としてアン
モニアないしはカルボン酸を酸化チタンに対して1%程
度添加する場合においては応力腐食割れを起こすことが
ないことを確認している。
However, when stress corrosion cracking of the material was confirmed by a test piece added with 1% of ammonia and carboxylic acid as a dispersant, no stress corrosion cracking of the test piece material was observed for a long period of time. Therefore, it has been confirmed that stress corrosion cracking does not occur when about 1% of ammonia or carboxylic acid is added to titanium oxide as a dispersant.

【0095】また、図7に示す如く分散剤にアンモニア
を使用した場合には、酸化チタンに対する分散剤の割合
を増加させると原子炉水の導電率も増加し、酸化チタン
に対する分散剤の割合が0.34%を超えると原子炉水質基
準の導電率1μS/cmを上回ってしまう。
Further, when ammonia is used as the dispersant as shown in FIG. 7, when the ratio of the dispersant to titanium oxide is increased, the conductivity of the reactor water is also increased, and the ratio of the dispersant to titanium oxide is increased. If it exceeds 0.34%, the electrical conductivity of the reactor water quality standard will exceed 1 μS / cm.

【0096】従って、原子炉構造材料に酸化チタン皮膜
を施す際の酸化チタンに対する分散剤の割合は、粒界応
力腐食割れ防止を抑制するための材料の電位から酸化チ
タンに対して0.4%以上必要となるが、原子炉水質基準
の導電率1μS/cmを担保することを考慮すると、酸化チ
タンに対する分散剤の割合は0.34%以下に制御する必要
が生じる。
Therefore, the ratio of the dispersant to titanium oxide when the titanium oxide film is applied to the reactor structural material must be 0.4% or more relative to titanium oxide from the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking. However, considering that the electrical conductivity of 1 μS / cm of the reactor water quality standard is ensured, the ratio of the dispersant to titanium oxide needs to be controlled to 0.34% or less.

【0097】ただし、原子炉水質基準値としての導電率
1μS/cmは、この値を超えると直ちに原子炉が停止され
る訳ではなく、基準値を超えられる期間として14日/12
ヶ月を持たせており、分散剤などによる導電率上昇があ
った場合でも、以下に示すクリンナップ系で不純物除去
が短時間で可能であれば問題ない。
However, the conductivity of 1 μS / cm as the standard value of reactor water quality does not mean that the reactor is stopped immediately when it exceeds this value, and it is 14 days / 12
Even if the conductivity is increased due to the presence of a dispersant for a period of time, there is no problem if impurities can be removed in a short time by the cleanup system shown below.

【0098】すなわち、原子炉一次系においては、不純
物除去の観点から、陽イオン、陰イオン成分を除去する
ためのクリンナップ系を設置しており、上記分散剤成分
に対しての除去性能は1/10程度以上の性能を有している
ため、酸化チタンに対する分散剤の割合が0.34%を超え
てもクリンナップ系により短時間で浄化されるため炉水
導電率は1μS/cmを担保することが可能である。
That is, in the reactor primary system, a cleanup system for removing cation and anion components is installed from the viewpoint of removing impurities, and the removal performance for the dispersant component is 1 / Since it has a performance of about 10 or more, even if the ratio of the dispersant to titanium oxide exceeds 0.34%, it can be purified by the cleanup system in a short time, so that the reactor water conductivity can be guaranteed at 1 μS / cm. Is.

【0099】また、上述したように、分散剤としてアン
モニアないしはカルボン酸を酸化チタンに対して1%程
度添加する場合においては、応力腐食割れを起こすこと
がないことを確認している。従って、酸化チタンに対す
る分散剤の割合はクリンナップ浄化効率を換算すれば3.
4%程度が混入可能であるが、材料の応力腐食割れを起
こさない分散剤の濃度として、1%以下に制御すること
が肝要となる。
Further, as described above, it has been confirmed that stress corrosion cracking does not occur when about 1% of ammonia or carboxylic acid is added as a dispersant to titanium oxide. Therefore, the ratio of the dispersant to titanium oxide is 3.
About 4% can be mixed, but it is important to control the concentration of the dispersant that does not cause stress corrosion cracking of the material to 1% or less.

【0100】ただし、上記分散剤濃度については原子炉
構造材5000m2全てについて皮膜を形成させるのに必要
な濃度を求めた結果であり、材料の応力腐食が生じやす
い溶接部などを限定した皮膜形成を行う場合には、皮膜
形成面積が減少するため使用する酸化チタン量なども減
少できることから、原子炉水質基準および管理目標を考
慮した分散剤濃度は増加することが可能となる。上記に
おいて酸化チタンに対する分散剤の割合を原子炉水に換
算する場合には表3を用いる。
However, the above dispersant concentration is the result of obtaining the concentration necessary to form a film on all 5000 m 2 of the reactor structural material, and the film formation is limited to the welded part where stress corrosion of the material is likely to occur. In this case, the amount of titanium oxide to be used can be reduced because the film forming area is reduced, so that it is possible to increase the dispersant concentration in consideration of the reactor water quality standard and the management target. In the above, when converting the ratio of the dispersant to titanium oxide into reactor water, Table 3 is used.

【0101】[0101]

【表3】 [Table 3]

【0102】(実施例7)図8により本発明の実施例7
を説明する。原子炉構造材料へ酸化チタン皮膜を形成す
る際の皮膜形成を促進するためのバインダーによる腐食
電位の影響、混入するバインダーの量による原子炉水水
質基準への影響を調べた実験例である。
(Embodiment 7) Referring to FIG. 8, Embodiment 7 of the present invention will be described.
Will be explained. This is an experimental example in which the influence of the corrosion potential of the binder for promoting the film formation when forming the titanium oxide film on the reactor structural material and the influence of the amount of the mixed binder on the water quality standard of the reactor water are examined.

【0103】図8に示すように、酸化チタンに対するバ
インダーの割合が0.01%以上の範囲では、粒界応力腐食
割れ防止を抑制するための材料の電位−230mV以下を十
分満足していることがわかる。ただし、酸化チタンに対
するバインダーの割合を0.01%以下にした場合には、皮
膜を形成するための密着性が乏しくなり、均一な皮膜形
成を困難にし、粒界応力腐食割れ防止を抑制するための
材料の電位−230mV以下を満足しなくなる。
As shown in FIG. 8, it was found that the potential of the material for suppressing the prevention of intergranular stress corrosion cracking was sufficiently below −230 mV when the ratio of the binder to titanium oxide was 0.01% or more. . However, when the ratio of the binder to titanium oxide is 0.01% or less, the adhesiveness for forming a film becomes poor, making it difficult to form a uniform film and suppressing the intergranular stress corrosion cracking material. The potential of -230 mV or less is no longer satisfied.

【0104】また、酸化チタン皮膜形成を促進するバイ
ンダーは、無機シリカ、ポリオルガノシロキサン等を使
用しているが、どちらも酸化シリカをベースにしてお
り、酸化シリカについてはイオンとして炉水中に溶け出
さないため導電率を上昇させることはないが、表1に示
したように酸化シリカの管理目標値は炉水中において1
ppm以下にする必要がある。このため、酸化チタンに対
する酸化シリカの割合は2.5%以下に制御することが必
要となる。
Inorganic silica, polyorganosiloxane and the like are used as the binder for promoting the formation of the titanium oxide film, both of which are based on silica oxide, and the silica oxide is dissolved as ions in the reactor water. As shown in Table 1, the control target value for silica oxide is 1 in reactor water.
Must be below ppm. Therefore, it is necessary to control the ratio of silica oxide to titanium oxide to be 2.5% or less.

【0105】従って、酸化チタンに対するバインダーの
割合は管理目標値から換算すれば2.5%以下が混入可能
であるが、粒界応力腐食割れ防止を抑制するための材料
の電位からバインダーの濃度として、0.02%程度かそれ
以上に制御することが肝要となる。
Therefore, if the ratio of the binder to titanium oxide is 2.5% or less when converted from the control target value, it is possible to mix it, but from the potential of the material for suppressing the intergranular stress corrosion cracking prevention, the binder concentration is 0.02%. It is important to control to about% or more.

【0106】ただし、上記バインダー濃度については原
子炉構造材5000m2全てについて皮膜を形成させるのに
必要な濃度を求めた結果であり、材料の応力腐食が生じ
やすい溶接部などを限定した皮膜形成を行う場合には、
皮膜形成面積が減少するため使用する酸化チタン量など
も減少できることから、原子炉水質基準および管理目標
を考慮したバインダー濃度は増加することが可能とな
る。上記において酸化チタンに対するバインダーの割合
を原子炉水に換算する場合には表3を用いる。
However, the above-mentioned binder concentration is the result of obtaining the concentration necessary to form a film on all 5000 m 2 of the reactor structural material, and the film formation is limited to the welded portion where stress corrosion of the material is likely to occur. If you do
Since the amount of titanium oxide used can be reduced because the film formation area is reduced, it is possible to increase the binder concentration in consideration of the reactor water quality standards and management targets. In the above, when converting the ratio of the binder to titanium oxide into reactor water, Table 3 is used.

【0107】(実施例8)図9により本発明の実施例8
を説明する。原子炉中に酸化チタンを注入することによ
って原子炉構造材料へ被膜を形成させる方法を用いる場
合、酸化チタンの付着性をよくするバインダーを加える
ことによって、より少ない酸化チタンの濃度で皮膜が形
成する。
(Embodiment 8) Referring to FIG. 9, an embodiment 8 of the present invention will be described.
Will be explained. When using the method of forming a film on the reactor structural material by injecting titanium oxide into the reactor, the film is formed with a lower concentration of titanium oxide by adding a binder that improves the adhesion of titanium oxide. .

【0108】図9で示したように、285℃で24時間,1p
pmの酸化チタンにステンレス鋼をばく露するとバインダ
ーの濃度が増加するに従って酸化チタンの付着量が増加
し、腐食電位が低下する。より酸化チタン濃度を増加し
た場合には、バインダーは少なくすることが可能であ
り、また反対にバインダー濃度を増加させると酸化チタ
ン濃度を減少させることが可能である。
As shown in FIG. 9, at 285 ° C. for 24 hours, 1 p
When stainless steel is exposed to pm titanium oxide, the amount of titanium oxide attached increases as the concentration of the binder increases, and the corrosion potential decreases. When the titanium oxide concentration is further increased, the binder can be decreased, and conversely, when the binder concentration is increased, the titanium oxide concentration can be decreased.

【0109】このように、炉水中の酸化チタン濃度とバ
インダーの濃度を制御することによって最適な皮膜を形
成することが可能である。酸化ケイ素(SiO2)の目
標値は定常運転時では表1にあるように1ppmである。
このため、注入時にはバインダーの濃度は1ppm以下で
なるべく高く制御することによって、効率よく酸化チタ
ンを付着することができる。
As described above, it is possible to form an optimum film by controlling the titanium oxide concentration and the binder concentration in the reactor water. The target value of silicon oxide (SiO 2 ) is 1 ppm as shown in Table 1 during steady operation.
Therefore, the titanium oxide can be efficiently attached by controlling the binder concentration to be as high as 1 ppm or less during injection.

【0110】(実施例9)図10により本発明の実施例9
を説明する。実施例9は原子炉構造材料へ酸化チタン皮
膜を形成する際、酸化チタン自身、酸化チタンの凝集を
抑制する分散剤、皮膜形成を促進するためのバインダー
による不純物混入は原子炉水水質への影響を調べた実験
例である。
(Ninth Embodiment) A ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Will be explained. In Example 9, when forming a titanium oxide film on a reactor structural material, titanium oxide itself, a dispersant that suppresses the aggregation of titanium oxide, and the inclusion of impurities by a binder to accelerate the film formation affect the water quality of the reactor water. It is an example of an experiment which investigated.

【0111】原子炉水の導電率1μS/cm以下を担保する
ことは前述したが、導電率と同様に塩素、硫酸濃度を制
御する。図10から明かなように、酸化チタンに対する塩
素、硫酸濃度割合が0.022%を超えると原子炉水質管理
目標値の5ppbを上回ることが認められる。
As described above, the conductivity of the reactor water is guaranteed to be 1 μS / cm or less, but the chlorine and sulfuric acid concentrations are controlled similarly to the conductivity. As is clear from FIG. 10, when the chlorine and sulfuric acid concentration ratios of titanium oxide exceed 0.022%, the reactor water quality management target value of 5 ppb is recognized to be exceeded.

【0112】そこで、前述の如く、酸化チタンの製法上
鉱物からチタンを抽出する塩化チタン法あるいは硫酸チ
タン法において使用する薬剤の不純物制御、その後の水
酸化チタンなどの水和物に変化させる際、使用する水を
極力不純物のない純水を使用する。
Therefore, as described above, when controlling impurities of the chemicals used in the titanium chloride method or the titanium sulfate method for extracting titanium from minerals in the production method of titanium oxide, and then changing to a hydrate such as titanium hydroxide, Use pure water with no impurities as much as possible.

【0113】さらに酸化チタンに酸化させる場合にも環
境雰囲気の制御を行うことで、酸化チタン溶液中の塩
素、硫酸濃度を酸化チタンに対して0.002%程度まで低
減できる。従って、原子炉構造材料に酸化チタン皮膜を
施す際の酸化チタン溶液中の塩素、硫酸濃度は酸化チタ
ンに対して0.02%以下に制御することが肝要となる。
Further, when oxidizing the titanium oxide, the concentration of chlorine and sulfuric acid in the titanium oxide solution can be reduced to about 0.002% with respect to the titanium oxide by controlling the environmental atmosphere. Therefore, it is important to control the concentration of chlorine and sulfuric acid in the titanium oxide solution when applying the titanium oxide film to the reactor structural material to 0.02% or less of titanium oxide.

【0114】ただし、上記塩素、硫酸濃度については原
子炉構造材5000m2全てについて皮膜を形成させるのに
必要な濃度を求めた結果であり、材料の応力腐食が生じ
やすい溶接部などを限定した皮膜形成を行う場合には、
皮膜形成面積が減少するため使用する酸化チタン量など
も減少できることから、原子炉水質基準および管理目標
を考慮した塩素、硫酸濃度は増加することが可能とな
る。上記において酸化チタンに対する不純物濃度を原子
炉水に換算する場合には表3を用いる。
However, the above-mentioned chlorine and sulfuric acid concentrations are the results of obtaining the concentrations necessary to form a film for all 5000 m 2 of the reactor structural material, and a film that limits the welded portion where stress corrosion of the material is likely to occur. When forming,
Since the amount of titanium oxide used can be reduced because the film formation area is reduced, it is possible to increase the concentration of chlorine and sulfuric acid in consideration of reactor water quality standards and management targets. In the above, when converting the impurity concentration with respect to titanium oxide into reactor water, Table 3 is used.

【0115】(実施例10)図11と図12により本発明の実
施例10を説明する。原子炉1中に酸化チタンを注入する
ことによって原子炉構造材料に酸化チタン皮膜を形成さ
せる場合,酸化チタンは注入点2a,2b,2cの中の
どれか、あるいは全てから注入され、原子炉1、給水ラ
イン16およびPLR(原子炉再循環系)ライン3,CUW(原
子炉冷却材浄化系)ライン5の接液している材料表面に
付着する。
(Tenth Embodiment) A tenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 11 and 12. When a titanium oxide film is formed on the reactor structural material by injecting titanium oxide into the reactor 1, the titanium oxide is injected from any or all of the injection points 2a, 2b and 2c. , The water supply line 16 and the PLR (reactor recirculation system) line 3 and the CUW (reactor coolant purification system) line 5 adhere to the surface of the material in contact with the liquid.

【0116】また、注入された酸化チタンおよび分散
剤,バインダー,それらに含まれる不純物はほとんどが
CUWライン5に設置されている浄化系7のろ過脱塩器に
よって炉水中から除去される。このため、それらの濃度
は材料表面への付着と注入と浄化のバランスによって決
定すると考えられ、濃度制御には、注入ポンプ12とCUW
ポンプ6の流量を制御することによって可能となる。
Most of the injected titanium oxide, the dispersant, the binder, and the impurities contained therein are
It is removed from the reactor water by the filter demineralizer of the purification system 7 installed in the CUW line 5. Therefore, it is considered that their concentration is determined by the adhesion to the material surface and the balance between injection and purification, and the injection pump 12 and CUW are used for concentration control.
This is possible by controlling the flow rate of the pump 6.

【0117】ほとんどの原子炉は健全性確認のために導
電率やpHおよび不純物イオン濃度を測定できる水質の測
定システム11を持っている。この通常の測定システム11
に酸化チタンの濃度を測定できるシステムを加えて、そ
のデータを注入制御システム14と原子炉の運転システム
にフィードバックをかける。
Most of the nuclear reactors have a water quality measuring system 11 capable of measuring conductivity, pH and impurity ion concentration for confirmation of soundness. This normal measuring system 11
A system that can measure the concentration of titanium oxide is added to the system, and the data is fed back to the injection control system 14 and the operation system of the reactor.

【0118】導電率と不純物濃度の制限値よりも低い
値、例えば90%の値を目標値として設定する。酸化チタ
ン濃度と不純物濃度が目標値を超えた場合には、注入ポ
ンプ12の流量を低下させ、CUWポンプ6の流量を増加さ
せる。酸化チタン濃度のみが目標値を超えた場合には、
注入ポンプ12の流量のみを低下させる。
A value lower than the limit values of conductivity and impurity concentration, for example, 90% is set as a target value. When the titanium oxide concentration and the impurity concentration exceed the target values, the flow rate of the injection pump 12 is decreased and the flow rate of the CUW pump 6 is increased. If only the titanium oxide concentration exceeds the target value,
Only the flow rate of infusion pump 12 is reduced.

【0119】酸化チタン濃度が低いにもかかわらず増加
傾向になく、不純物濃度が目標値よりも小さい場合には
注入ポンプ6の流量を増加させ、目標値よりも高い場合
には注入ポンプ12、CUWポンプ6ともに流量を増加させ
る。このような操作を行うことによって、原子炉の健全
性を損なわずに酸化チタンの皮膜を形成することが可能
である。
Although the titanium oxide concentration is low, there is no increasing tendency, and when the impurity concentration is lower than the target value, the flow rate of the injection pump 6 is increased, and when it is higher than the target value, the injection pump 12, CUW. Both the pump 6 and the pump 6 increase the flow rate. By performing such an operation, it is possible to form a titanium oxide film without impairing the soundness of the nuclear reactor.

【0120】注入開始時のTiO2濃度と電導度の時間
変化の例を図12に示す。注入を開始するとTiO2濃度
と電導度はともに増加する。TiO2濃度は注入した量
と構造材料や燃料棒表面に付着する分と浄化系によって
除去される分とで差し引きしながら増加する。
FIG. 12 shows an example of changes over time in the TiO 2 concentration and the conductivity at the start of injection. When the implantation is started, both the TiO 2 concentration and the electric conductivity increase. The TiO 2 concentration increases while subtracting the injected amount, the amount adhering to the structural material or the fuel rod surface, and the amount removed by the purification system.

【0121】これに対し、不純物量を代表すると考えら
れる電導度は注入した量と浄化系に除去される分とでや
はり濃度が増加する。TiO2が目標濃度に達すると注
入ポンプの流量を減少させて、目標濃度になるように注
入する。電導度が制限濃度の例えば90%に達するとCUW
ポンプの流量を増加させ、浄化力を向上させる。
On the other hand, the conductivity, which is considered to represent the amount of impurities, also increases in concentration depending on the amount injected and the amount removed by the purification system. When TiO 2 reaches the target concentration, the flow rate of the injection pump is reduced so that the TiO 2 reaches the target concentration. CUW when the conductivity reaches 90% of the limit concentration
Increase the flow rate of the pump and improve the purification power.

【0122】すると電導度も低下し、かつTiO2濃度
も低下する。電導度が低下し,例えば85%を下回った時
点で注入ポンプの流量を増加してTiO2濃度を増加さ
せる。このようにしてTiO2濃度,電導度を監視しな
がら注入ポンプ,CUWポンプを制御することによって、
水質規制を逸脱せずに注入が行うことができる。
Then, the electric conductivity is lowered and the TiO 2 concentration is also lowered. When the conductivity decreases and falls below 85%, for example, the flow rate of the injection pump is increased to increase the TiO 2 concentration. In this way, by controlling the injection pump and the CUW pump while monitoring the TiO 2 concentration and conductivity,
Injection can be done without departing from water quality regulations.

【0123】(実施例11)図13および図14により本発明
の実施例11を説明する。図13においては図11と同一部分
には同一符号を付している。原子炉1中に酸化チタンを
注入することによって原子炉構造材料へ皮膜を形成させ
る方法を用いる場合、酸化チタンは注入点2の中のどれ
かあるいはすべてから注入され、原子炉1およびPLRラ
イン3,CUWライン5の接液している材料表面に付着す
る。
(Embodiment 11) Embodiment 11 of the present invention will be described with reference to FIGS. 13 and 14. 13, the same parts as those in FIG. 11 are designated by the same reference numerals. When the method of forming a film on the reactor structural material by injecting titanium oxide into the reactor 1, the titanium oxide is injected from any or all of the injection points 2, and the reactor 1 and the PLR line 3 , Adheres to the surface of the material in contact with the CUW line 5.

【0124】材料表面への付着は原子炉水の温度と酸化
チタンの濃度およびバインダー濃度に依存する。これら
の濃度の制御は注入ポンプ12の流量を増加することによ
って増加し、逆にCUWポンプ6の流量を増加することに
よって減少する。炉水の温度は原子炉定常時にはほぼ変
化がないが、起動時/停止時のトランジェント時には変
化し、制御することが可能である。
The adhesion to the material surface depends on the temperature of the reactor water, the concentration of titanium oxide and the concentration of the binder. The control of these concentrations is increased by increasing the flow rate of the injection pump 12, and conversely is decreased by increasing the flow rate of the CUW pump 6. Although the reactor water temperature does not change during steady-state reactor operation, it changes during start-up / shutdown transients and can be controlled.

【0125】例えば、停止時には、残留熱除去系の流量
を上げること、あるいは主蒸気系の隔離弁を開けること
によって温度を下げることが可能である。酸化チタンの
付着量を最適化するためにサンプリングした原子炉水中
に試験片18を浸漬し,適宜付着量を付着量測定システム
17によって測定する。この付着量のデータを注入制御シ
ステム14および原子炉運転システムにフィードバックを
かける。
For example, at the time of stoppage, the temperature can be lowered by increasing the flow rate of the residual heat removing system or opening the isolation valve of the main steam system. The test piece 18 is immersed in the reactor water sampled to optimize the amount of titanium oxide deposited, and the amount of deposit is measured appropriately.
Measure by 17. The data of the adhesion amount is fed back to the injection control system 14 and the reactor operation system.

【0126】試験片18の付着量がそれまでの付着時間を
考慮した目標値よりも下回っている場合には、注入ポン
プ12の流量を増加し、水質が制限値に近い場合には温度
を上昇させる。目標値よりも上回っている場合には注入
ポンプ12の流量を低下し、CUWポンプ6の流量を上げ
る。注入ポンプ12の流量を制御し、原子炉材料表面に最
適な酸化チタンの皮膜を形成することが可能である。
When the adhesion amount of the test piece 18 is lower than the target value considering the adhesion time until then, the flow rate of the injection pump 12 is increased, and when the water quality is close to the limit value, the temperature is increased. Let If it exceeds the target value, the flow rate of the injection pump 12 is decreased and the flow rate of the CUW pump 6 is increased. It is possible to control the flow rate of the injection pump 12 and form an optimum titanium oxide film on the surface of the reactor material.

【0127】注入開始時のTiO2濃度とTiO2皮膜厚
さの時間変化の例を図14に示す。24時間で目標厚さまで
注入する場合の例である。注入を開始してからは2時間
おきに付着試験片を取り出して分析するものとする。注
入開始時には濃度の暫定目標値の1/3で注入を行う。
FIG. 14 shows an example of changes over time in the TiO 2 concentration and the TiO 2 film thickness at the start of implantation. This is an example of injecting to a target thickness in 24 hours. Adhesion test pieces shall be taken out and analyzed every 2 hours after the start of injection. At the start of injection, the injection is performed at 1/3 of the provisional target value of concentration.

【0128】2時間後の付着厚さが目標の2%だったと
すると,36倍(濃度で1/3,時間で1/12)しても目標に
達しないことから、暫定値でも過剰な付着は起こらない
と判断して,暫定値の濃度で注入を開始する。その後、
さらに2時間後に付着試験片を取り出して付着厚さを分
析する。2時間の間の付着厚さ増加量が目標の8%だっ
たとすると、残り時間では付着厚さに達しないために暫
定値の120%で注入を行う。
If the adhesion thickness after 2 hours was 2% of the target, the target could not be reached even if it was 36 times (1/3 in concentration, 1/12 in time). Therefore, it is judged that this does not occur, and the injection is started at a temporary concentration. afterwards,
After another 2 hours, the adhesion test piece is taken out and the adhesion thickness is analyzed. If the amount of increase in the adhesion thickness during 2 hours was 8% of the target, the adhesion thickness is not reached in the remaining time, so the implantation is performed at 120% of the provisional value.

【0129】その後、2時間おきに付着量を測定し、付
着厚さが目標の90%に達したところで注入を暫定値の1/
3にして微調整を行う。このように、付着試験片におい
て付着厚さを監視しながら付着させることによって、付
着厚さを目標値に制御することが可能となる。
Thereafter, the adhered amount was measured every 2 hours, and when the adhered thickness reached 90% of the target, injection was performed at 1 / of the provisional value.
Set to 3 and make fine adjustments. As described above, by performing the adhesion while monitoring the adhesion thickness in the adhesion test piece, the adhesion thickness can be controlled to the target value.

【0130】[0130]

【発明の効果】本発明によれば、光が照射されると防食
効果を有する光触媒の皮膜厚み,粒径,濃度,分散剤,
バインダー,不純物を制御することにより、原子炉冷却
水水質基準に対応した高性能光触媒層を原子炉構造材料
の表面に均一な皮膜を形成させ、原子炉運転中の腐食を
低減することができる。
According to the present invention, the film thickness, particle size, concentration, dispersant of a photocatalyst having an anticorrosion effect when irradiated with light,
By controlling the binder and impurities, a high-performance photocatalyst layer corresponding to the water quality standard of the reactor cooling water can be formed into a uniform film on the surface of the reactor structural material, and corrosion during the reactor operation can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1を説明するための、酸化チタ
ン皮膜厚みと材料の電位との関係を示す特性図。
FIG. 1 is a characteristic diagram showing a relationship between a titanium oxide film thickness and a material potential for explaining a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例2を説明するための、酸化チタ
ン粒径と材料の電位との関係を示す特性図。
FIG. 2 is a characteristic diagram showing the relationship between the titanium oxide particle size and the potential of the material for explaining the second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例3を説明するための、酸化チタ
ンに白金を加えた割合に対する材料の電位との関係を示
す特性図。
FIG. 3 is a characteristic diagram illustrating a relationship between a potential of a material and a ratio of platinum added to titanium oxide for explaining a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例4を説明するための、酸化チタ
ン濃度と材料の電位との関係を示す特性図。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the titanium oxide concentration and the potential of the material for explaining Example 4 of the present invention.

【図5】本発明の実施例5を説明するための、炉水中濃
度と材料の電位との関係を示す特性図。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing the relationship between the concentration in reactor water and the potential of the material for explaining the fifth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例6を説明するための、酸化チタ
ンに分散剤を加えた割合に対する材料の電位との関係を
示す特性図。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing the relationship between the potential of the material and the proportion of the dispersant added to titanium oxide, for explaining Example 6 of the present invention.

【図7】図6と同じく、酸化チタンに分散剤を加えた割
合に対する炉水導電率との関係を示す特性図。
FIG. 7 is a characteristic diagram showing the relationship between reactor water conductivity and the ratio of titanium oxide to which a dispersant has been added, as in FIG.

【図8】本発明の実施例7を説明するための、酸化チタ
ンにバインダーを加えた割合に対する材料の電位との関
係を示す特性図。
FIG. 8 is a characteristic diagram illustrating the relationship between the potential of a material and the proportion of a binder added to titanium oxide for explaining Example 7 of the present invention.

【図9】本発明の実施例8を説明するための、炉水中濃
度と材料の電位との関係を示す特性図。
FIG. 9 is a characteristic diagram showing the relationship between the concentration in the reactor water and the potential of the material for explaining the eighth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施例9を説明するための、酸化チ
タンに不純物を加えた割合に対する炉水の塩素,硫酸濃
度との関係を示す特性図。
FIG. 10 is a characteristic diagram showing the relationship between chlorine and sulfuric acid concentrations in reactor water with respect to the proportion of impurities added to titanium oxide, for explaining Example 9 of the present invention.

【図11】本発明の実施例10を説明するための、原子炉
とその周囲の配管系統図。
FIG. 11 is a piping system diagram of a nuclear reactor and its periphery for explaining a tenth embodiment of the present invention.

【図12】図11において、注入開始時のTiO2濃度と
電導度の時間変化を示す特性図。
FIG. 12 is a characteristic diagram showing changes over time in TiO 2 concentration and conductivity at the start of injection in FIG.

【図13】本発明の実施例11を説明するための、原子炉
とその周囲の配管系統図。
FIG. 13 is a piping system diagram of a nuclear reactor and its surroundings for explaining an eleventh embodiment of the present invention.

【図14】図13において、注入開始時のTiO2濃度と
皮膜厚さの時間変化を示す特性図。
FIG. 14 is a characteristic diagram showing changes over time in TiO 2 concentration and film thickness at the start of implantation in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…原子炉、2(2a,2b,2c)…注入点、3,4
…PLRライン、5,6…CUWライン、7…浄化系、8,9
…RHRライン、10…サンプリングライン、10a,10b…
サンプリング点、11…測定システム、12…注入ポンプ、
13…注入ライン、14…注入制御システム、15…信号ライ
ン、16…給水ライン、17…付着量測定システム、18…付
着試験片。
1 ... Reactor, 2 (2a, 2b, 2c) ... Injection point, 3, 4
… PLR lines, 5, 6… CUW lines, 7… Purification system, 8, 9
… RHR line, 10… Sampling line, 10a, 10b…
Sampling point, 11 ... Measuring system, 12 ... Infusion pump,
13 ... injection line, 14 ... injection control system, 15 ... signal line, 16 ... water supply line, 17 ... adhesion amount measuring system, 18 ... adhesion test piece.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01J 37/02 301 B01J 37/02 301Z C23F 11/18 C23F 11/18 15/00 15/00 G21D 1/00 G21D 1/00 X (72)発明者 市川 長佳 神奈川県川崎市川崎区浮島町2番1号 株 式会社東芝浜川崎工場内 (72)発明者 逸見 幸雄 神奈川県川崎市川崎区浮島町2番1号 株 式会社東芝浜川崎工場内 (72)発明者 高木 純一 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 四柳 端 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 岡村 雅人 神奈川県川崎市川崎区浮島町2番1号 株 式会社東芝浜川崎工場内 Fターム(参考) 4G069 AA02 AA03 BA02A BA02B BA04A BA04B BA21C BA48A BB01C BB02A BB02B BC70A BC71A BC71B BC72A BC75A BC75B BD01C BD06C BE08C CD10 EA07 EB15X EB15Y FA03 FA04 FB06 FB23 FB24 FB77 FC04 FC08 4K062 AA01 AA03 BA14 BA20 BB04 BB06 BB12 BC16 CA02 CA05 DA05 FA20 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) B01J 37/02 301 B01J 37/02 301Z C23F 11/18 C23F 11/18 15/00 15/00 G21D 1 / 00 G21D 1/00 X (72) Inventor Nagaka Ichikawa 2-1, Ukishimacho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Stock company Toshiba Hamakawasaki Factory (72) Inventor Yukio Hemi 2 Ukishima-cho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa No. 1 Incorporated company Toshiba Hamakawasaki Plant (72) Inventor Junichi Takagi 8 Shinsita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Incorporated Toshiba Corporation Yokohama Works (72) Inventor Yotsuyanagi Hata, 8 Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Address Incorporated company Toshiba Yokohama Works (72) Inventor Masato Okamura 2-1, Ukishima-cho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-star inside Toshiba Hamakawasaki factory (Reference) 4G069 AA02 AA03 BA02A BA02B BA04A BA04B BA21C BA48A BB01C BB02A BB02B BC70A BC71A BC71B BC72A BC75A BC75B BD01C BD06C BE08C CD10 EA07 EB15X EB15Y FA03 FA04 FB06 FB23 FB24 FB77 FC04 FC08 4K062 AA01 AA03 BA14 BA20 BB04 BB06 BB12 BC16 CA02 CA05 DA05 FA20

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 原子炉構造材料に光触媒を構成する成分
を注入して前記原子炉構造材料に前記光触媒の皮膜を形
成する方法において、前記注入する光触媒の粒径、前記
光触媒の薬剤に含まれる分散剤、バインダーおよび不純
物の割合を規定し、原子炉水への注入の場合には前記原
子炉水中での光触媒の濃度を制御するか、または塗布、
噴霧法により注入の場合には塗布、噴霧溶液中での光触
媒の濃度を制御することを特徴とする原子炉構造材料の
光触媒皮膜形成方法。
1. A method of forming a photocatalyst film on the reactor structural material by injecting a component constituting the photocatalyst into the reactor structural material, the particle size of the injected photocatalyst, and the chemical content of the photocatalyst. Defining the proportions of dispersant, binder and impurities, controlling the concentration of photocatalyst in the reactor water in the case of injection into the reactor water, or coating,
A method for forming a photocatalyst film of a reactor structural material, characterized in that in the case of injection by a spray method, the concentration of the photocatalyst in a spray solution is applied.
【請求項2】 前記光触媒はTiO2であり、このTi
2の皮膜厚みは、0.1μmから10μmに制御されること
を特徴とする請求項1記載の原子炉構造材料の光触媒皮
膜形成方法。
2. The photocatalyst is TiO 2.
The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 1, wherein the O 2 film thickness is controlled to 0.1 μm to 10 μm.
【請求項3】 前記光触媒の粒径は20nm以下(ただ
し、0を含まず)に制御されていることを特徴とする請
求項1または2記載の原子炉構造材料の光触媒皮膜形成
方法。
3. The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 1, wherein the particle diameter of the photocatalyst is controlled to 20 nm or less (however, not including 0).
【請求項4】 前記光触媒の表面にPt、Rh、Ruま
たはPdの少なくとも一種の光触媒助剤が0.05%〜3%
付着されていることを特徴とする請求項1記載の原子炉
構造材料の光触媒皮膜形成方法。
4. A photocatalyst auxiliary agent of at least one of Pt, Rh, Ru, and Pd is 0.05% to 3% on the surface of the photocatalyst.
The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 1, wherein the photocatalyst film is attached.
【請求項5】 前記光触媒の濃度は10%以下(ただし、
0を含まず)に制御されることを特徴とする請求項1記
載の原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法。
5. The concentration of the photocatalyst is 10% or less (however,
The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 1, wherein the photocatalyst film is controlled to a value not including 0).
【請求項6】 前記原子炉水中に光触媒含有溶液を注入
するにあたり、原子炉の定常運転時に連続注入する場合
には500ppb以下に、起動時および停止時のトランジェン
ト時に注入する場合には10ppb以下に前記光触媒を濃度
制御することを特徴とする請求項1記載の原子炉構造材
料の光触媒皮膜形成方法。
6. When injecting the photocatalyst-containing solution into the reactor water, it is 500 ppb or less when continuously injecting during steady operation of the reactor, and 10 ppb or less when injecting at transients at startup and shutdown. The method for forming a photocatalyst film of a reactor structural material according to claim 1, wherein the concentration of the photocatalyst is controlled.
【請求項7】 前記光触媒の凝集を抑制する分散剤はア
ンモニアまたはカルボン酸からなり、前記分散剤の濃度
を前記光触媒に対して3.4%以下(ただし、0を含ま
ず)に制御することを特徴とする請求項1記載の原子炉
構造材料の光触媒皮膜形成方法。
7. The dispersant for suppressing aggregation of the photocatalyst is composed of ammonia or carboxylic acid, and the concentration of the dispersant is controlled to be 3.4% or less (not including 0) with respect to the photocatalyst. The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 1.
【請求項8】 前記光触媒の皮膜形成を促進するための
バインダーを前記光触媒に対して2.5%から0.01%に制
御することを特徴とする請求項1記載の原子炉構造材料
の光触媒皮膜形成方法。
8. The method for forming a photocatalyst film of a reactor structural material according to claim 1, wherein the binder for promoting the film formation of the photocatalyst is controlled to 2.5% to 0.01% with respect to the photocatalyst.
【請求項9】 請求項6において、請求項8記載のバイ
ンダーを1ppm以下に制御することを特徴とする請求項
6記載の原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法。
9. The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 6, wherein the binder according to claim 8 is controlled to 1 ppm or less.
【請求項10】 前記光触媒、前記分散剤および前記バ
インダーを原子炉運転時の原子炉水中で有害不純物のC
-またはSO4 2-を0.05ppb以下にして前記原子炉通常
運転時の基準値以下に制御することを特徴とする請求項
1記載の原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法。
10. The photocatalyst, the dispersant, and the binder, which are harmful impurities C in the reactor water during the operation of the reactor.
2. The method for forming a photocatalyst film of a structural material for a reactor according to claim 1, wherein l or SO 4 2− is controlled to be 0.05 ppb or less and controlled to be equal to or lower than a reference value during the normal operation of the reactor.
【請求項11】 原子炉運転時の原子炉水の導電率が前
記原子炉通常運転時の基準値である0.1μS/cmとなるよ
うに制御することを特徴とする請求項2から10の何れか
に記載の原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法。
11. The method according to claim 2, wherein the electric conductivity of the reactor water during the operation of the reactor is controlled to be 0.1 μS / cm which is the reference value during the normal operation of the reactor. A method for forming a photocatalytic film on a nuclear reactor structural material as described in (1).
【請求項12】 請求項6において、原子炉の水質が通
常運転時として定められた基準から除外される起動時、
中間停止時、最終停止時の期間に前記光触媒を付着させ
ることを特徴とする請求項6記載の原子炉構造材料の光
触媒皮膜形成方法。
12. At startup, the water quality of the reactor according to claim 6 is excluded from the standard established as normal operation,
7. The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 6, wherein the photocatalyst is attached during the intermediate stop and the final stop.
【請求項13】 請求項12に記載した期間に請求項6に
記載した方法により光触媒皮膜を形成するにあたり、前
記原子炉運転時の原子炉水中で有害不純物であるC
-、SO4 2-の濃度を5ppb以下、導電率を1μS/cm以
下に制御することを特徴とする請求項12記載の原子炉構
造材料の光触媒皮膜形成方法。
13. When forming a photocatalyst film by the method according to claim 6 during the period according to claim 12, C which is a harmful impurity in the reactor water during the operation of the reactor.
13. The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 12, wherein the concentrations of l and SO 4 2− are controlled to 5 ppb or less and the conductivity is controlled to 1 μS / cm or less.
【請求項14】 請求項6に記載した方法で請求項11か
ら13までの基準を満たすために、前記原子炉水中の光触
媒および不純物の濃度、導電率、pHを測定する計測系を
設け、その計測系のデータを注入システム、温度、流
量、流路、浄化系流量の制御系にフィードバックするこ
とを特徴とする請求項6記載の原子炉構造材料の光触媒
皮膜形成方法。
14. A measuring system for measuring the concentration, conductivity, and pH of the photocatalyst and impurities in the reactor water is provided in order to meet the criteria of claims 11 to 13 by the method according to claim 6. The method for forming a photocatalyst film of a reactor structural material according to claim 6, wherein the data of the measurement system is fed back to the control system of the injection system, temperature, flow rate, flow path, and purification system flow rate.
【請求項15】 請求項6において、前記原子炉水をサ
ンプリングし、このサンプリングした原子炉水中に試験
片を浸漬し、この試験片への光触媒の付着量を注入シス
テム、温度、流量、流路を有する制御系にフィードバッ
クすることを特徴とする請求項6記載の原子炉構造材料
の光触媒皮膜形成方法。
15. The reactor water according to claim 6, wherein the reactor water is sampled, a test piece is immersed in the sampled reactor water, and the adhering amount of the photocatalyst on the test piece is measured by an injection system, a temperature, a flow rate, and a flow path. The method for forming a photocatalyst film of a nuclear reactor structural material according to claim 6, which is fed back to a control system having the above.
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