JP2003125586A - Power unit for plasma generation - Google Patents

Power unit for plasma generation

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JP2003125586A JP2001317184A JP2001317184A JP2003125586A JP 2003125586 A JP2003125586 A JP 2003125586A JP 2001317184 A JP2001317184 A JP 2001317184A JP 2001317184 A JP2001317184 A JP 2001317184A JP 2003125586 A JP2003125586 A JP 2003125586A
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power supply
output
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Kenkichi Nakaoka
健吉 中岡
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Amada Co Ltd
Amada Engineering Center Co Ltd
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Amada Co Ltd
Amada Engineering Center Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To configure a matching circuit extremely simply by avoiding the problem resulting from the capacitance even in a region of high frequency, high voltage, and large power. SOLUTION: N pieces of insulating transformers 14 are provided, and each input-side winding of them is connected, in parallel with the output side of an inverter 13. Each output-side winding of the n pieces of isolation transformers 14 is connected in series, and a resonance circuit 15, which boosts the shortage of the required boosting ratio to be achieved by the n pieces of isolation transformers 14, is connected to this output-side winding connected in series. A matching element 16, which offsets the amount of reactance of a plasma generator 17, is connected to the output side of the resonance circuit 15.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば板材加工
用レーザ加工機などのガスレーザ発振器に適用されるプ
ラズマ発生用電源装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma generating power supply device applied to a gas laser oscillator such as a laser beam machine for processing a plate material.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、炭酸ガスレーザ発振器などに使
用されるプラズマ発生用電源装置としては、図3に示す
ような構成のものが用いられている。すなわち、従来の
プラズマ発生用電源装置50は、交流電源51の交流電
力を、整流平滑回路52で直流電力に変換したのち、イ
ンバータ53で高周波電力に変換し、得られた高周波電
力を昇圧トランス54で昇圧し、さらに整合回路56で
整合してプラズマ発生部57の放電電極58に適用する
ように構成されている。
2. Description of the Related Art Generally, a plasma generating power supply device used in a carbon dioxide laser oscillator or the like has a structure as shown in FIG. That is, in the conventional plasma generating power supply device 50, the AC power of the AC power supply 51 is converted into the DC power by the rectifying / smoothing circuit 52, and then converted into the high frequency power by the inverter 53, and the obtained high frequency power is boosted by the step-up transformer 54. The voltage is boosted by, and is matched by the matching circuit 56 and applied to the discharge electrode 58 of the plasma generating portion 57.

【0003】この種のプラズマ発生用電源装置50は、
通常、数10kHz〜数10MHzの高周波領域で、数
kV〜数10kVの高電圧、数kW〜数10kWの大電
力を扱っている。
This type of plasma generating power supply device 50 is
Usually, a high voltage of several kV to several tens of kV and a large electric power of several kW to several tens of kW are handled in a high frequency region of several tens of kHz to several tens of MHz.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のものは、上記のような高周波、高電圧、大電
力の条件下では、昇圧トランス54や整合回路56内の
リアクタンス素子等に理想的な動作を期待することがで
きない。例えば、昇圧トランス54が巻線比に対応して
電圧を昇圧する機能は、コイルの導体間に寄生する微か
な静電容量などによって理想の状態からかけ離れてしま
うという問題があり、その結果、整合回路56には複雑
な構成のものを必要とするという問題があった。
However, such a conventional device is ideal as a reactance element or the like in the step-up transformer 54 or the matching circuit 56 under the conditions of high frequency, high voltage, and high power as described above. You can't expect the correct behavior. For example, the function of the step-up transformer 54 to boost the voltage in accordance with the winding ratio has a problem that it deviates from an ideal state due to a slight electrostatic capacitance parasitic between the conductors of the coil, resulting in matching. There is a problem that the circuit 56 needs a complicated structure.

【0005】この発明の課題は、上記従来のもののもつ
問題点を排除して、昇圧トランスを用いないことで、高
周波、高電圧、大電力の領域においても静電容量に起因
する問題を未然に回避することができるとともに、整合
回路をきわめてシンプルに構成することのできるプラズ
マ発生用電源装置を提供することにある。
An object of the present invention is to eliminate the problems of the above-mentioned conventional ones and to eliminate the problems caused by the electrostatic capacitance even in the high frequency, high voltage and high power regions by not using a step-up transformer. Another object of the present invention is to provide a plasma generating power supply device which can be avoided and whose matching circuit can be constructed extremely simply.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明は上記課題を解
決するものであって、請求項1に係る発明は、高周波電
力を得るインバータの出力をトランスで昇圧し、さらに
整合回路で整合してプラズマ発生部の放電電極に適用す
るプラズマ発生用電源装置において、n個の絶縁トラン
スを設けて、これらの各入力側巻線を前記インバータの
出力側に並列に接続するとともに、各出力側巻線を直列
に接続し、前記n個の絶縁トランスの直列に接続された
出力側巻線に、当該n個の絶縁トランスによる昇圧比が
所要の昇圧比に対して足りない不足分を昇圧する共振回
路を接続し、前記共振回路の出力側に、前記プラズマ発
生部のリアクタンス分を相殺する整合素子を接続したプ
ラズマ発生用電源装置である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is to solve the above problems. According to the invention of claim 1, the output of an inverter for obtaining high frequency power is boosted by a transformer and further matched by a matching circuit. In a plasma generating power supply device applied to a discharge electrode of a plasma generating unit, n insulating transformers are provided, and each input side winding is connected in parallel to the output side of the inverter, and each output side winding is connected. Circuit for connecting the output side windings of the n insulating transformers connected in series to the output windings of the n insulating transformers, the boosting ratio being insufficient for the required boosting ratio. And a matching element for canceling the reactance component of the plasma generation unit is connected to the output side of the resonance circuit.

【0007】請求項2に係る発明は、高周波電力を得る
インバータの出力をトランスで昇圧し、さらに整合回路
で整合してプラズマ発生部の放電電極に適用するプラズ
マ発生用電源装置において、前記インバータを互いに並
列の関係にあるn個のインバータで構成し、n個の絶縁
トランスを設けて、これらの各入力側巻線を前記n個の
インバータの出力側にそれぞれ接続するとともに、各出
力側巻線を直列に接続し、前記n個の絶縁トランスの直
列に接続された出力側巻線に、当該n個の絶縁トランス
による昇圧比が所要の昇圧比に対して足りない不足分を
昇圧する共振回路を接続し、前記共振回路の出力側に、
前記プラズマ発生部のリアクタンス分を相殺する整合素
子を接続したプラズマ発生用電源装置である。
According to a second aspect of the present invention, in the plasma generating power supply device in which the output of the inverter for obtaining high frequency power is boosted by the transformer and further matched by the matching circuit and applied to the discharge electrode of the plasma generating section, the inverter is used. It is composed of n inverters in parallel relationship with each other, n insulating transformers are provided, and each input side winding is connected to the output side of each of the n inverters, and each output side winding is provided. Circuit for connecting the output side windings of the n insulating transformers connected in series to the output windings of the n insulating transformers, the boosting ratio being insufficient for the required boosting ratio. Connected to the output side of the resonant circuit,
It is a power source device for plasma generation to which a matching element for canceling the reactance component of the plasma generation unit is connected.

【0008】請求項3に係る発明は、請求項1または請
求項2記載の発明において、前記プラズマ発生部はガス
レーザ発振器のガスレーザ発生部であるプラズマ発生用
電源装置である。
According to a third aspect of the present invention, in the invention according to the first or second aspect, the plasma generating unit is a power generating device for plasma generation which is a gas laser generating unit of a gas laser oscillator.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、図面を
参照して説明する。図1は、この発明によるプラズマ発
生用電源装置の一実施の形態を示すブロック図であり、
このプラズマ発生用電源装置10は、交流電力を供給す
る交流電源11と、交流電力を直流電力に変換する整流
平滑回路12と、直流電力を高周波電力に変換するイン
バータ13と、n個の絶縁トランス14(14a,14
b,…,14n)と、共振回路15と、整合素子16と
を備え、整合素子16の出力をプラズマ発生容器(プラ
ズマ発生部)17の放電電極(プラズマ発生電極)18
に適用するように構成されている。このうち整流平滑回
路12は、チョッパレギュレータなどを併用することが
でき、チョッパレギュレータは単に安定化を図るだけで
もよいし、パルス状の電力を発生してもよい。また、イ
ンバータ13は、通常、FETをブリッジ接続して構成
されるものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a plasma generating power supply device according to the present invention.
This plasma generating power supply device 10 includes an AC power supply 11 for supplying AC power, a rectifying / smoothing circuit 12 for converting AC power into DC power, an inverter 13 for converting DC power into high frequency power, and n insulating transformers. 14 (14a, 14
b, ..., 14n), a resonance circuit 15, and a matching element 16, and the output of the matching element 16 is a discharge electrode (plasma generating electrode) 18 of a plasma generating container (plasma generating portion) 17.
Is configured to apply to. Of these, the rectifying / smoothing circuit 12 can also use a chopper regulator or the like, and the chopper regulator may merely stabilize or generate pulsed power. Further, the inverter 13 is usually configured by connecting FETs in a bridge.

【0010】絶縁トランス14は、インバータ13の地
絡を防止する機能を有するものであり、また、絶縁トラ
ンス各1個は、昇圧比がほぼ1:1であるから2次側の
巻線も少なくて済み、したがって、寄生リアクタンスが
きわめて小さいので、高周波領域でも理想トランスとし
て機能するものである。このような絶縁トランスをn個
(14a,14b,…,14n)用意し、これらの各入
力側巻線をインバータ13の出力側に並列に接続すると
ともに、各出力側巻線を直列に接続したうえ、この直列
に接続されたn個の絶縁トランス14a,14b,…,
14nの出力側巻線に、共振回路15を接続してある。
そのため、n個の絶縁トランス14a,14b,…,1
4nは、全体として昇圧比が1:nの昇圧回路を構成す
ることとなり、しかも、各1個の絶縁トランスが高周波
領域でも理想トランスとして機能するから、n個まとめ
た全体の絶縁トランス14も、高周波領域でも理想トラ
ンスとして機能する。すなわち、n個の絶縁トランス1
4a,14b,…,14nは、絶縁トランス各1個が有
する理想トランスの特性を維持したままで昇圧すること
ができるものである。
The insulation transformer 14 has a function of preventing a ground fault of the inverter 13. Further, since each insulation transformer has a step-up ratio of about 1: 1, the number of windings on the secondary side is small. Therefore, since the parasitic reactance is extremely small, it functions as an ideal transformer even in a high frequency region. N such insulating transformers (14a, 14b, ..., 14n) were prepared, and the respective input side windings were connected in parallel to the output side of the inverter 13 and the respective output side windings were connected in series. In addition, the n insulating transformers 14a, 14b, ...
The resonance circuit 15 is connected to the output side winding of 14n.
Therefore, n insulating transformers 14a, 14b, ..., 1
4n constitutes a step-up circuit having a step-up ratio of 1: n as a whole, and since each one insulating transformer functions as an ideal transformer even in a high frequency region, the n-th whole insulating transformer 14 is also It functions as an ideal transformer even in the high frequency range. That is, n insulation transformers 1
, 14n are capable of boosting voltage while maintaining the characteristics of the ideal transformer of each insulating transformer.

【0011】このように、n個の絶縁トランス14a,
14b,…,14nが昇圧比1:nの昇圧回路を構成す
るため、共振によって電圧を昇圧する共振回路15は、
絶縁トランス14による昇圧比が所要の昇圧比に対して
足りない不足分を昇圧するだけでよく、それにより、共
振回路15の電流を低減することができ、共振回路15
の電流容量が小さくて済むので、共振回路15を小型化
することができる。
In this way, the n insulating transformers 14a,
Since 14b, ..., 14n constitute a step-up circuit having a step-up ratio of 1: n, the resonance circuit 15 that steps up the voltage by resonance is
It is only necessary to boost the shortage of the boosting ratio by the insulating transformer 14 which is insufficient for the required boosting ratio, whereby the current of the resonant circuit 15 can be reduced and the resonant circuit 15 can be reduced.
Since the current capacity of is small, the resonance circuit 15 can be downsized.

【0012】整合素子16は、プラズマ発生容器17の
リアクタンス分を相殺するものである。すなわち、整合
素子16は、等価的にCとRの直列回路となって、電流
と電圧の位相をずらすプラズマ発生容器17のC成分と
打ち消し合う。これによって、電流と電圧の位相差を少
なくし、高効率を保つことができるものである。
The matching element 16 cancels the reactance component of the plasma generating container 17. That is, the matching element 16 equivalently forms a series circuit of C and R, and cancels out the C component of the plasma generation container 17 that shifts the phase of current and voltage. As a result, the phase difference between current and voltage can be reduced and high efficiency can be maintained.

【0013】プラズマ発生容器17は、通常、容器自体
または電極表面がガラスやセラミックなどの誘電体で構
成されているため、電気回路的にはコンデンサとなる。
また、プラズマはほぼ純抵抗または定電圧特性をもつ。
The plasma generating container 17 is usually a capacitor in terms of electric circuit since the container itself or the surface of the electrode is made of a dielectric material such as glass or ceramic.
Further, plasma has almost pure resistance or constant voltage characteristics.

【0014】次に、上記の実施の形態の作用について説
明する。このプラズマ発生用電源装置10は、従来のプ
ラズマ発生用電源装置50のように、2次側巻線の巻数
が相当大きくなることが避けられない昇圧トランス54
を用いず、それに代えて、2次側巻線の巻数が小さく、
かつ、1次側巻線と2次側巻線の巻数比がほぼ1:1の
絶縁トランス14をn個使うため、トランスに寄生する
リアクタンス分がきわめて小さく、高周波、高電圧、大
電力の領域でも理想トランスとして扱うことができる。
Next, the operation of the above embodiment will be described. In the plasma generating power supply device 10, like the conventional plasma generating power supply device 50, it is inevitable that the number of turns of the secondary winding will be considerably large.
Instead, the number of turns of the secondary winding is small,
In addition, since n insulating transformers 14 having a winding ratio of the primary winding and the secondary winding of about 1: 1 are used, the reactance parasitic to the transformer is extremely small, and high-frequency, high-voltage, and high-power regions are provided. But it can be treated as an ideal transformer.

【0015】しかも、絶縁トランス14をn個使ってそ
の個数に対応する昇圧比をもたせることができ、不足分
を共振回路15で昇圧するため、共振回路15は小型に
構成することができ、また、整合素子16はプラズマ発
生容器17のリアクタンス分を相殺するだけでよいか
ら、従来のような複雑な構成の整合回路56に代えて、
きわめてシンプルな整合素子16だけで構成することが
できる。
Moreover, since n insulating transformers 14 can be used to provide a boosting ratio corresponding to the number, and the shortage is boosted by the resonant circuit 15, the resonant circuit 15 can be made compact, and Since the matching element 16 only needs to cancel the reactance component of the plasma generation container 17, instead of the matching circuit 56 having a complicated structure as in the conventional case,
It can be configured with only a very simple matching element 16.

【0016】図2は、この発明によるプラズマ発生用電
源装置の他の実施の形態を示すブロック図であり、この
プラズマ発生用電源装置20は、交流電源21、整流平
滑回路22、n個のインバータ23(23a,23b,
…,23n)、n個の絶縁トランス24(24a,24
b,…,24n)、共振回路25および整合素子26を
備え、整合素子26の出力をプラズマ発生容器(プラズ
マ発生部)27の放電電極(プラズマ発生電極)28に
適用するように構成されている。
FIG. 2 is a block diagram showing another embodiment of the plasma generating power supply device according to the present invention. This plasma generating power supply device 20 includes an AC power supply 21, a rectifying / smoothing circuit 22, and n inverters. 23 (23a, 23b,
, 23n), n insulation transformers 24 (24a, 24)
b, ..., 24n), a resonance circuit 25, and a matching element 26, and the output of the matching element 26 is applied to a discharge electrode (plasma generating electrode) 28 of a plasma generating container (plasma generating portion) 27. .

【0017】n個のインバータ23(23a,23b,
…,23n)は、整流平滑回路22に対して並列に接続
されていて、n個の絶縁トランス24(24a,24
b,…,24n)の各入力巻線は、n個のインバータ2
3(23a,23b,…,23n)の出力側にそれぞれ
接続されている。その他は図1のプラズマ発生用電源装
置10と同様のものである。
N inverters 23 (23a, 23b,
, 23n) are connected in parallel to the rectifying / smoothing circuit 22 and have n insulating transformers 24 (24a, 24n).
b, ..., 24 n) each input winding has n inverters 2
3 (23a, 23b, ..., 23n) are respectively connected to the output side. Others are the same as those of the plasma generating power supply device 10 of FIG.

【0018】[0018]

【発明の効果】この発明は以上のように、高周波電力を
得るインバータの出力をトランスで昇圧し、さらに整合
回路で整合してプラズマ発生部の放電電極に適用するプ
ラズマ発生用電源装置において、n個の絶縁トランスを
設けて、これらの各入力側巻線を前記インバータの出力
側に並列に接続するとともに、各出力側巻線を直列に接
続し、前記n個の絶縁トランスの直列に接続された出力
側巻線に、当該n個の絶縁トランスによる昇圧比が所要
の昇圧比に対して足りない不足分を昇圧する共振回路を
接続し、前記共振回路の出力側に、前記プラズマ発生部
のリアクタンス分を相殺する整合素子を接続した構成と
したので、昇圧トランスを用いないことで、高周波、高
電圧、大電力の領域においても静電容量に起因する問題
を未然に回避することができるとともに、整合回路をき
わめてシンプルに構成することができる効果がある。
As described above, according to the present invention, in the power supply device for plasma generation, the output of the inverter for obtaining the high frequency power is boosted by the transformer and further matched by the matching circuit and applied to the discharge electrode of the plasma generation part. Insulating transformers are provided, and the respective input side windings are connected in parallel to the output side of the inverter, and the respective output side windings are connected in series to connect the n insulating transformers in series. A resonance circuit for boosting a shortage in which the step-up ratio by the n insulating transformers is insufficient for the required step-up ratio is connected to the output side winding, and the output side of the resonance circuit is connected to the output side of the plasma generation unit. Since a matching element that cancels out the reactance component is connected, the boost transformer is not used, and problems due to capacitance are avoided even in the high frequency, high voltage, and high power regions. It is collected by an effect which can constitute the matching circuit very simple.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】プラズマ発生用電源装置の一実施の形態を示す
ブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a power supply device for plasma generation.

【図2】プラズマ発生用電源装置の他の実施の形態を示
すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing another embodiment of a plasma generating power supply device.

【図3】従来のものの一例を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing an example of a conventional one.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,20 プラズマ発生用電源装置 11,21 交流電源 12,22 整流平滑回路 13,23 インバータ 14,24 絶縁トランス 15,25 共振回路 16,26 整合素子 17,27 プラズマ発生容器(プラズマ発生部) 18,28 放電電極(プラズマ発生電極) Power supply for plasma generation 11,21 AC power supply 12,22 Rectification smoothing circuit 13,23 Inverter 14, 24 Isolation transformer 15,25 Resonant circuit 16,26 Matching element 17,27 Plasma generation container (plasma generation part) 18, 28 Discharge electrode (plasma generating electrode)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高周波電力を得るインバータの出力をト
ランスで昇圧し、さらに整合回路で整合してプラズマ発
生部の放電電極に適用するプラズマ発生用電源装置にお
いて、 n個の絶縁トランスを設けて、これらの各入力側巻線を
前記インバータの出力側に並列に接続するとともに、各
出力側巻線を直列に接続し、 前記n個の絶縁トランスの直列に接続された出力側巻線
に、当該n個の絶縁トランスによる昇圧比が所要の昇圧
比に対して足りない不足分を昇圧する共振回路を接続
し、 前記共振回路の出力側に、前記プラズマ発生部のリアク
タンス分を相殺する整合素子を接続した、ことを特徴と
するプラズマ発生用電源装置。
1. A plasma generating power supply device for boosting an output of an inverter for obtaining high frequency power by a transformer and further matching with a matching circuit to apply to a discharge electrode of a plasma generating section, wherein n insulating transformers are provided, The input side windings are connected in parallel to the output side of the inverter, the output side windings are connected in series, and the output side windings of the n insulation transformers connected in series are A resonance circuit for boosting a shortage in which the boosting ratio by the n insulating transformers is insufficient for the required boosting ratio is connected, and a matching element for canceling the reactance component of the plasma generating unit is provided on the output side of the resonant circuit. A power supply device for plasma generation, which is connected.
【請求項2】 高周波電力を得るインバータの出力をト
ランスで昇圧し、さらに整合回路で整合してプラズマ発
生部の放電電極に適用するプラズマ発生用電源装置にお
いて、 前記インバータを互いに並列の関係にあるn個のインバ
ータで構成し、 n個の絶縁トランスを設けて、これらの各入力側巻線を
前記n個のインバータの出力側にそれぞれ接続するとと
もに、各出力側巻線を直列に接続し、 前記n個の絶縁トランスの直列に接続された出力側巻線
に、当該n個の絶縁トランスによる昇圧比が所要の昇圧
比に対して足りない不足分を昇圧する共振回路を接続
し、 前記共振回路の出力側に、前記プラズマ発生部のリアク
タンス分を相殺する整合素子を接続した、ことを特徴と
するプラズマ発生用電源装置。
2. A plasma generating power supply device in which the output of an inverter for obtaining high frequency power is boosted by a transformer and further matched by a matching circuit to be applied to a discharge electrode of a plasma generating section, wherein the inverters are in parallel relationship with each other. It is composed of n inverters, n insulating transformers are provided, and each of the input side windings is connected to the output side of the n inverters, and each output side winding is connected in series. A resonance circuit is connected to the output side windings of the n insulation transformers connected in series, and a resonance circuit for boosting a deficiency in which the step-up ratio of the n insulation transformers is insufficient for the required step-up ratio is connected. A power generating device for plasma generation, wherein a matching element for canceling the reactance component of the plasma generating part is connected to the output side of the circuit.
【請求項3】 前記プラズマ発生部はガスレーザ発振器
のガスレーザ発生部であることを特徴とする請求項1ま
たは請求項2記載のプラズマ発生用電源装置。
3. The plasma generating power supply device according to claim 1 or 2, wherein the plasma generating unit is a gas laser generating unit of a gas laser oscillator.
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