JP2003115189A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2003115189A
JP2003115189A JP2001304974A JP2001304974A JP2003115189A JP 2003115189 A JP2003115189 A JP 2003115189A JP 2001304974 A JP2001304974 A JP 2001304974A JP 2001304974 A JP2001304974 A JP 2001304974A JP 2003115189 A JP2003115189 A JP 2003115189A
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Hirohito Kikukawa
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve yield of system LSI in a semiconductor device constituting a system LSI having a semiconductor memory circuit section and a logic circuit section. SOLUTION: An internal clock 109 for self-refresh and a refresh-enable signal 110 are transferred to a memory control circuit 107 of a logic circuit section 1 from a refresh-circuit section 108 of a DRAM core section 2. In the memory control circuit 107, a refresh-period is decided based on these internal clock 109 and the enable-signal 110. The logic circuit section 1 adjusts automatically a occurrence period of a refresh-command in accordance with the decided refresh-period.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、大規模なメモリコ
ア(メモリIP)をロジック回路やアナログ回路と混載
する半導体装置、いわゆるシステムLSIにおけるLS
Iの多品種同時製造、歩留まり向上や、メモリコア自体
のIP化容易性に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a large-scale memory core (memory IP) mounted together with a logic circuit and an analog circuit, that is, an LS in a so-called system LSI
The present invention relates to simultaneous production of various types of I, improvement in yield, and ease of IP implementation of the memory core itself.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ロジック回路やアナログ回路(以
下、ロジック回路等という)と半導体メモリ回路とを同
時に混載した大規模集積回路が、いわゆるシステムLS
Iとして開発、実用化されている。今日、プロセスの微
細化が進み、サブクォーターミクロン世代になって、よ
り大規模なゲート数のロジック回路等と、より大容量の
半導体メモリ回路とが混載され始めている。特に、画像
処理やデータバッファ等の用途向けに、この半導体メモ
リ回路として数Mbit〜数100Mbitの大容量の
ダイナミックランダムアクセスメモリコア(IP)が用
いられている。
2. Description of the Related Art In recent years, a large-scale integrated circuit in which a logic circuit or an analog circuit (hereinafter referred to as a logic circuit or the like) and a semiconductor memory circuit are mounted together is called a system LS.
It has been developed and put into practical use as I. Nowadays, with the progress of miniaturization of processes and the sub-quarter micron generation, a logic circuit having a larger number of gates and a semiconductor memory circuit having a larger capacity are being mixedly mounted. In particular, a large-capacity dynamic random access memory core (IP) of several Mbit to several 100 Mbit is used as the semiconductor memory circuit for applications such as image processing and data buffer.

【0003】従来、システムLSIに混載される半導体
メモリ回路、特に、ダイナミックランダムアクセスメモ
リコア(DRAMコア)の構成例として、例えば、IS
SCC Digest of Technical Pap
ers, pp.72−73,Feb.,1998に示
されたものがある。この構成例を含めて、図18にこの
従来のシステムLSIのブロック構成図を示す。
As a configuration example of a semiconductor memory circuit which is conventionally mounted on a system LSI, particularly a dynamic random access memory core (DRAM core), for example, IS
SCC Digest of Technical Pap
ers, pp. 72-73, Feb. , 1998. Including this configuration example, FIG. 18 shows a block configuration diagram of this conventional system LSI.

【0004】図18において、AはシステムLSIであ
って、ロジック回路部1と、DRAMコア部2とを有す
る。3、4、5は各々ロジック回路部1からDRAMコ
ア部2に対し読み出し及び書き込みを制御する制御信号
線、メモリセルを指定するアドレス信号線、及びデータ
書込み時にロジック回路部1〜DRAMコア部2に出力
される書き込みデータ用の入力データ線である。6はデ
ータ読み出し時にDRAMコア部2から読み出されたデ
ータがロジック回路部1に出力される出力データ線、7
はロジック回路部1内に備えたメモリコントロール回路
である。
In FIG. 18, A is a system LSI having a logic circuit section 1 and a DRAM core section 2. Reference numerals 3, 4 and 5 are control signal lines for controlling reading and writing from the logic circuit unit 1 to the DRAM core unit 2, address signal lines for designating memory cells, and the logic circuit unit 1 to the DRAM core unit 2 at the time of writing data. It is an input data line for write data output to. Reference numeral 6 is an output data line through which the data read from the DRAM core unit 2 at the time of reading data is output to the logic circuit unit 1, 7
Is a memory control circuit provided in the logic circuit unit 1.

【0005】以上のように構成された従来のシステムL
SIにおいては、ロジック回路部1のメモリコントロー
ル回路7からDRAMコア部2に対して読み出し又は書
き込みの制御信号及びアドレス信号が制御信号線3及び
アドレス信号線4に出力され、データ書込み時には更に
データが入力データ線5に出力され、DRAMコア部2
へ入力される。データ読み出し時には、DRAMコア部
2から読み出されたデータが出力データ線6を経てロジ
ック回路部1へ転送される。
The conventional system L configured as described above
In SI, a read or write control signal and an address signal are output from the memory control circuit 7 of the logic circuit unit 1 to the DRAM core unit 2 on the control signal line 3 and the address signal line 4, and further data is written at the time of data writing. The data is output to the input data line 5, and the DRAM core unit 2
Is input to. At the time of data reading, the data read from the DRAM core unit 2 is transferred to the logic circuit unit 1 via the output data line 6.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、システムL
SIが汎用DRAMの製造プロセスによって製造された
場合には、そのプロセス仕様にはDRAM製造上の必要
な工程が付加されているために、汎用DRAMプロセス
に特有の熱処理量の多さに起因して、ロジック回路等の
性能が低下してしまい、システムLSI自体の性能を達
成できなくなる課題がある。また、DRAMのメモリセ
ルがスタック型のメモリセルである場合には、微細化と
共に、トランジスタ等のデバイスと配線層との間隔が大
きくなり、ビア(コンタクト)のアスペクト比が大きく
なり、歩留まり等に深刻な影響が発生する課題がある。
By the way, the system L
When the SI is manufactured by the manufacturing process of the general-purpose DRAM, the necessary process for manufacturing the DRAM is added to the process specification, which is caused by the large amount of heat treatment peculiar to the general-purpose DRAM process. However, there is a problem in that the performance of the system LSI itself cannot be achieved because the performance of the logic circuit and the like deteriorates. Further, when the memory cell of the DRAM is a stack type memory cell, the distance between the device such as a transistor and the wiring layer becomes large, the aspect ratio of the via (contact) becomes large, and the yield and the like increase as the size decreases. There is a problem that serious impact will occur.

【0007】そこで、従来では、DRAMとロジック回
路等とを混載する場合の製造プロセスは、配線部を含め
たロジック回路部等の製造容易化や、ロジック回路等の
性能を最大限に引き出すような仕様になる場合が多くな
るが、この仕様では、今度は逆にDRAMの性能、特に
リフレッシュに関する性能が犠牲になる場合がある。一
方、システム側からのDRAMに対する性能としては、
汎用DRAM並みの性能、又はシステムの差別化のため
に更に高い性能を求められる場合がある。
Therefore, conventionally, the manufacturing process when the DRAM and the logic circuit and the like are mounted together is such that the logic circuit part including the wiring part is easily manufactured and the performance of the logic circuit is maximized. In many cases, the specifications will be adversely affected, but this specification may adversely affect the performance of the DRAM, especially the performance related to refreshing. On the other hand, the performance of the DRAM from the system side is as follows.
There is a case where performance equivalent to that of a general-purpose DRAM or higher performance is required for system differentiation.

【0008】しかしながら、前記図18で説明したよう
な制御信号、アドレス及び入出力データのやり取りのみ
をDRAMコア2とロジック回路部1とで行う従来の構
成では、前記製造プロセス的な理由により、この要求さ
れるDRAM性能がプロセス限界近傍の性能に近い場合
には、製造プロセスのばらつきによって、ロジック回路
部1より発行される制御信号のタイミングをDRAM側
が満たせなくなり、システムLSIとして機能しなくな
ることが起り易く、システムLSIとしての歩留まりが
低下することになる。
However, in the conventional structure in which only the control signal, the address and the input / output data are exchanged between the DRAM core 2 and the logic circuit section 1 as described with reference to FIG. When the required DRAM performance is close to the performance near the process limit, the DRAM side may not be able to meet the timing of the control signal issued from the logic circuit unit 1 due to variations in the manufacturing process, and it may not function as a system LSI. Therefore, the yield of the system LSI is reduced.

【0009】また、この多種多様なシステム要求を同一
DRAMコアで満たすことは非常に難しく、DRAM回
路の改善による特性改善、動作マージン拡大等による対
処のみでは、適用できるシステムLSIの範囲が限られ
てしまう。このため、複数のDRAMコア(IP)のラ
インアップを持つ必要が出てくる。
Further, it is very difficult to satisfy the various system requirements with the same DRAM core, and the range of applicable system LSIs is limited only by the characteristic improvement by the improvement of the DRAM circuit and the operation margin expansion. I will end up. Therefore, it is necessary to have a lineup of a plurality of DRAM cores (IP).

【0010】更に、このDRAMコアをIPとして、様
々なプロセス、例えば複数の半導体製造会社で開発され
た異なる仕様のプロセスや、同一の半導体製造会社であ
ってもプロセスのバリエーションやバージョン等の仕様
が異なるプロセスで製造する場合、コア設計は単一であ
るため、基本的に1つの設計は1つのプロセスにのみに
しか対応できないという技術的課題を有していた。
Further, with this DRAM core as an IP, various processes, for example, processes with different specifications developed by a plurality of semiconductor manufacturing companies, and even with the same semiconductor manufacturing company, specifications such as process variations and versions are provided. When manufacturing in different processes, there is a technical problem that basically one design can correspond to only one process because the core design is single.

【0011】実際にコアとして製造するには、従来で
は、適用されるプロセスでのトランジスタ、抵抗、容量
等のデバイスパラメータを用いて、回路チューニングに
おいて部分的に回路の設計変更や全面再設計等を行う必
要があったが、プロセスの改良、展開時に大きな設計工
数を追加する必要がある欠点がある。
In order to actually manufacture the core, conventionally, by using device parameters such as a transistor, a resistance and a capacitance in an applied process, a partial circuit design change or a complete redesign is performed in circuit tuning. Although it had to be done, there is a drawback that a large number of design man-hours must be added at the time of process improvement and deployment.

【0012】本発明はかかる点に鑑み、その目的は、大
規模なメモリIPを混載するシステムLSIにおいて、
システムLSIの歩留まりを高くすると共に、メモリI
Pの応用範囲を拡大できる半導体装置を提供することに
ある。
In view of the above points, the present invention has an object to provide a system LSI in which a large-scale memory IP is mounted together.
In addition to increasing the system LSI yield, memory I
An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of expanding the application range of P.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明では、メモリIPとロジック回路部とを有す
るシステムLSIとしての半導体装置において、メモリ
IPのプロセスばらつき等による特性ばらつきをロジッ
ク回路部にフィードバックして、ロジック回路部を最適
化することとする。
In order to achieve the above object, according to the present invention, in a semiconductor device as a system LSI having a memory IP and a logic circuit portion, characteristic variations due to process variations of the memory IP are caused in the logic circuit. The logic circuit section is optimized by feeding back to the section.

【0014】すなわち、請求項1記載の発明の半導体装
置は、メモリセルアレイを備えた半導体メモリ回路部
と、システム機能を実現するロジック回路部とを有する
半導体装置であって、前記ロジック回路部には、前記半
導体メモリ回路部の内部制御信号を受け、前記内部制御
信号に応じて自己のロジック回路部の機能又は動作タイ
ミングを変更する変更手段が備えられることを特徴とす
る。
That is, a semiconductor device according to a first aspect of the present invention is a semiconductor device having a semiconductor memory circuit section having a memory cell array and a logic circuit section for realizing a system function, wherein the logic circuit section has Change means is provided for receiving an internal control signal of the semiconductor memory circuit section and changing the function or operation timing of its own logic circuit section according to the internal control signal.

【0015】請求項2記載の発明は、前記請求項1記載
の半導体装置において、前記半導体メモリ回路部はダイ
ナミックランダムアクセスメモリであり、前記内部制御
信号は内部リフレッシュ制御信号であることを特徴とす
る。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, the semiconductor memory circuit section is a dynamic random access memory, and the internal control signal is an internal refresh control signal. .

【0016】請求項3記載の発明は、前記請求項2記載
の半導体装置において、前記内部リフレッシュ制御信号
は、セルフリフレッシュモードのリフレッシュ周期を決
定するクロックであり、前記ロジック回路部の変更手段
は、前記クロックの周期を測定し、その測定結果に応じ
て自己のロジック回路部の機能又は動作タイミングを変
更することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the second aspect, the internal refresh control signal is a clock that determines a refresh cycle in a self refresh mode, and the changing means of the logic circuit section includes: It is characterized in that the cycle of the clock is measured and the function or operation timing of its own logic circuit section is changed according to the measurement result.

【0017】請求項4記載の発明は、前記請求項3記載
の半導体装置において、前記ロジック回路部の変更手段
は、前記セルフリフレッシュモードのリフレッシュ周期
を決定するクロック、及び前記ロジック回路部を動作さ
せるマスタークロックを入力し、この両クロックに基づ
いて前記半導体メモリ回路部のリフレッシュ周期を測定
することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the third aspect, the changing means of the logic circuit section operates a clock for determining a refresh cycle of the self-refresh mode and the logic circuit section. A master clock is input, and the refresh cycle of the semiconductor memory circuit unit is measured based on the both clocks.

【0018】請求項5記載の発明は、前記請求項3記載
の半導体装置において、前記変更手段により変更される
前記ロジック回路部の機能は、前記半導体メモリ回路部
へのリフレッシュ制御の順序又はタイミングであること
を特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the third aspect, the function of the logic circuit section changed by the changing means is in the order or timing of refresh control to the semiconductor memory circuit section. It is characterized by being.

【0019】請求項6記載の発明の半導体装置は、メモ
リセルアレイを備えた半導体メモリ回路部と、システム
機能を実現するロジック回路部とを有する半導体装置で
あって、半導体メモリ回路部は、前記メモリセルアレイ
の機能及び特性に基づく情報を出力する情報出力手段を
備え、前記ロジック回路部には、前記情報出力手段から
の前記情報を受け、この情報に応じて自己のロジック回
路部の機能又は動作タイミングを変更する変更手段が備
えられることを特徴とする。
A semiconductor device according to a sixth aspect of the present invention is a semiconductor device having a semiconductor memory circuit section having a memory cell array and a logic circuit section for realizing a system function, wherein the semiconductor memory circuit section is the memory. Information output means for outputting information based on the function and characteristics of the cell array is provided, and the logic circuit section receives the information from the information output means, and the function or operation timing of its own logic circuit section according to the information. It is characterized in that a changing means for changing is provided.

【0020】請求項7記載の発明は、前記請求項6記載
の半導体装置において、前記半導体メモリ回路部の情報
出力手段は、メタル及びポリサイド又はポリシリコンの
配線材料により構成される複数のヒューズ素子を有し、
前記複数のヒューズ素子の何れかをレーザー又は電気的
に切断することにより、前記メモリセルアレイの機能又
は特性に基づく情報を設定することを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the sixth aspect, the information output means of the semiconductor memory circuit section includes a plurality of fuse elements made of metal and polycide or polysilicon wiring material. Have,
Information based on a function or a characteristic of the memory cell array is set by laserly or electrically cutting one of the fuse elements.

【0021】請求項8記載の発明は、前記請求項6記載
の半導体装置において、前記半導体メモリ回路部の情報
出力手段は、2つの電極間に薄い絶縁膜が配置されて構
成される複数のアンチヒューズ素子を有し、前記複数の
アンチヒューズ素子の何れかを電界の印加により電気的
に接続することにより、前記メモリセルアレイの機能又
は特性に基づく情報を設定することを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the sixth aspect, the information output means of the semiconductor memory circuit section has a plurality of anti-electrodes formed by arranging a thin insulating film between two electrodes. It is characterized by having a fuse element, and electrically connecting any of the plurality of anti-fuse elements by applying an electric field to set information based on the function or characteristic of the memory cell array.

【0022】請求項9記載の発明の半導体装置は、メモ
リセルアレイを備えた半導体メモリ回路部と、システム
機能を実現するロジック回路部とを有する半導体装置で
あって、半導体メモリ回路部は、前記メモリセルアレイ
を自己検査する自己検査回路を備え、前記ロジック回路
部には、前記自己検査回路の自己検査結果を受け、この
自己検査結果に応じて自己のロジック回路部の機能又は
動作タイミングを変更する変更手段が備えられることを
特徴とする。
A semiconductor device according to a ninth aspect of the present invention is a semiconductor device having a semiconductor memory circuit section having a memory cell array and a logic circuit section for realizing a system function, wherein the semiconductor memory circuit section is the memory. A self-test circuit for self-testing the cell array, wherein the logic circuit section receives a self-test result of the self-test circuit, and changes the function or operation timing of the self-logic circuit section according to the self-test result. Means are provided.

【0023】請求項10記載の発明は、前記請求項1、
6又は9記載の半導体装置において、前記変更手段によ
り変更される前記ロジック回路部の機能は、前記半導体
メモリ回路部へのアクセス制御の順序又はタイミングで
あることを特徴とする。
The invention according to claim 10 is the same as claim 1,
The semiconductor device according to 6 or 9 is characterized in that the function of the logic circuit unit changed by the changing unit is an order or timing of access control to the semiconductor memory circuit unit.

【0024】請求項11記載の発明は、前記請求項10
記載の半導体装置において、前記変更手段により変更さ
れる前記ロジック回路部の動作タイミングは、前記半導
体メモリ回路部へ出力される制御信号、アドレス及び書
込みデータのセットアップタイミングであることを特徴
とする。
[0024] The invention according to claim 11 is the above-mentioned claim 10.
In the semiconductor device described above, the operation timing of the logic circuit unit changed by the changing unit is a setup timing of a control signal, an address and write data output to the semiconductor memory circuit unit.

【0025】請求項12記載の発明は、前記請求項1、
6又は9記載の半導体装置において、前記変更手段によ
り変更される前記ロジック回路部の動作タイミングは、
前記半導体メモリ回路部から出力されるデータの取り込
みタイミングであることを特徴とする。
The invention according to claim 12 is the same as claim 1,
In the semiconductor device according to 6 or 9, the operation timing of the logic circuit unit changed by the changing unit is
It is characterized in that the timing is a timing at which data output from the semiconductor memory circuit unit is fetched.

【0026】請求項13記載の発明は、前記請求項1、
6又は9記載の半導体装置において、前記半導体メモリ
回路部及び前記ロジック回路部と共に、アナログ回路部
も備えることを特徴とする。
The invention according to claim 13 is the same as claim 1,
The semiconductor device according to 6 or 9 is characterized in that an analog circuit unit is also provided together with the semiconductor memory circuit unit and the logic circuit unit.

【0027】請求項14記載の発明は、前記請求項1、
6又は9記載の半導体装置において、前記半導体メモリ
回路部は、ダイナミックランダムアクセスメモリである
ことを特徴としている。
The invention of claim 14 is the same as claim 1,
The semiconductor device according to 6 or 9 is characterized in that the semiconductor memory circuit unit is a dynamic random access memory.

【0028】請求項15記載の発明は、前記請求項1、
6又は9記載の半導体装置において、前記半導体メモリ
回路部は、スタティックランダムアクセスメモリである
ことを特徴としている。
The invention according to claim 15 is the same as claim 1,
The semiconductor device according to 6 or 9 is characterized in that the semiconductor memory circuit unit is a static random access memory.

【0029】以上により、本発明では、半導体メモリ回
路部とシステム機能を実現するロジック回路部とから構
成されるシステムLSIとしての半導体装置において、
半導体メモリ回路部の内部制御信号、半導体メモリ回路
部の機能や特性等の情報、又は半導体メモリ回路部の自
己検査結果をロジック回路部に転送し、その転送内容に
応じてロジック回路部の機能又は動作タイミングを変更
したので、製造プロセスの改良による場合に比較して所
望のシステムLSIを短時間で得ることができると共
に、システムLSIの歩留まりの低下を抑えることがで
きる。また、多種多様なシステム要求を同一の半導体メ
モリ回路部で実現可能となる。更に、同一の半導体メモ
リ回路部を異なる仕様のプロセスに対する共通のIPと
して利用可能になる。加えて、同一ウェハー内で異なる
仕様を持つ品種を製造することも可能になり、製造の効
率化が期待できる。
As described above, according to the present invention, in the semiconductor device as the system LSI including the semiconductor memory circuit section and the logic circuit section for realizing the system function,
The internal control signal of the semiconductor memory circuit unit, information such as the function and characteristics of the semiconductor memory circuit unit, or the self-test result of the semiconductor memory circuit unit is transferred to the logic circuit unit, and the function of the logic circuit unit or Since the operation timing is changed, a desired system LSI can be obtained in a short time as compared with the case where the manufacturing process is improved, and a decrease in the yield of the system LSI can be suppressed. In addition, various system requirements can be realized with the same semiconductor memory circuit unit. Further, the same semiconductor memory circuit unit can be used as a common IP for processes having different specifications. In addition, it becomes possible to manufacture products with different specifications on the same wafer, which can be expected to improve manufacturing efficiency.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の半導
体装置について図面を参照しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Semiconductor devices according to embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0031】(第1の実施の形態)図1は本発明の第1
の実施の形態の半導体装置としてのシステムLSI全体
のブロック構成を示す。
(First Embodiment) FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
2 shows a block configuration of an entire system LSI as a semiconductor device of the embodiment.

【0032】同図において、1はロジック回路部、2は
内部にメモリセルアレイを有するダイナミックランダム
アクセスメモリのコア部であるDRAMコア部(半導体
メモリ回路部)であって、両者は、ロジック回路部1か
らDRAMコア部2へ出力される制御信号線3、アドレ
ス信号線4、及び入力デ一夕線5により接続されると共
に、DRAMコア部2からロジック回路部1への出力デ
一夕線6により接続される。
In the figure, 1 is a logic circuit section, 2 is a DRAM core section (semiconductor memory circuit section) which is a core section of a dynamic random access memory having a memory cell array inside, and both are logic circuit section 1 From the DRAM core unit 2 to the logic circuit unit 1 while being connected by the control signal line 3, the address signal line 4, and the input data line 5 output from the DRAM core unit 2 to the logic circuit unit 1. Connected.

【0033】107はロジック回路部1内に配置された
メモリコントロール回路、108はDRAMコア2内に
配置されたリフレッシュ回路部である。109及び11
0は各々前記リフレッシュ回路部108で発生されるセ
ルフリフレッシュ用内部クロック及びリフレッシュ活性
化信号であって、共に、前記ロジック回路部1のメモリ
コントロール回路107に出力される。前記セルフリフ
レッシュ用内部クロック109は、後述する図6に示す
ようにセルフリフレッシュモードでのリフレッシュ周期
を決定するクロックCLKREFであって、DRAMコ
ア部2の内部で発生される内部制御信号(内部リフレッ
シュ制御信号)である。
Reference numeral 107 is a memory control circuit arranged in the logic circuit section 1, and 108 is a refresh circuit section arranged in the DRAM core 2. 109 and 11
0 is an internal clock for self-refresh and a refresh activation signal generated in the refresh circuit section 108, and both are output to the memory control circuit 107 of the logic circuit section 1. The internal clock 109 for self-refresh is a clock CLKREF that determines the refresh cycle in the self-refresh mode as shown in FIG. 6 described later, and is an internal control signal (internal refresh control) generated inside the DRAM core unit 2. Signal).

【0034】前記ロジック回路部1のメモリコントロー
ル回路107の内部構成を図2に示す。同図において、
170はメモリアクセスに関連する信号11を受けてD
RAMコア部2に対するコマンドを発生するコマンド発
生回路、171はDRAMコア部2に対してリフレッシ
ュコマンドを発生するリフレッシュコマンド発生回路で
あって、そのコマンド発生周期は自動で変更可能であ
る。また、172は前記コマンド発生回路170が発生
したコマンドを受けてリード/ライトコマンドの発生タ
イミングを制御するリード/ライトコマンドタイミング
回路、173は同様に前記コマンド発生回路170が発
生したコマンドを受けてDRAMコア部2のアクティブ
/プリチャージコマンドの発生タイミングを制御するア
クティブ/プリチャージコマンドタイミング回路、17
4は前記DRAMコア部2と出力デー夕線6で接続され
てDRAMコア部2からのデータを取り込むデータ入力
・ラッチ回路である。更に、175はコマンド発生順序
調停回路であって、前記リフレッシュコマンド発生回路
171からのリフレッシュコマンド及び前記2つのコマ
ンドタイミング回路172、173からのリード/ライ
トコマンド及びアクティブ/プリチャージコマンドの出
力順序を調停する。176はマルチプレクサであって、
前記調停回路175から出力されるコマンドを適切に制
御信号線3、アドレス信号線4、入力デ一夕線5に出力
する。
The internal configuration of the memory control circuit 107 of the logic circuit section 1 is shown in FIG. In the figure,
170 receives the signal 11 related to memory access and receives D
A command generation circuit that generates a command for the RAM core unit 2 and a refresh command generation circuit 171 that generates a refresh command for the DRAM core unit 2 can automatically change the command generation period. Further, 172 is a read / write command timing circuit for receiving the command generated by the command generating circuit 170 and controlling the generation timing of the read / write command, and 173 is a DRAM similarly receiving the command generated by the command generating circuit 170. An active / precharge command timing circuit for controlling the generation timing of the active / precharge command of the core unit 17,
Reference numeral 4 is a data input / latch circuit which is connected to the DRAM core section 2 by an output data line 6 and takes in data from the DRAM core section 2. Further, a command generation order arbitration circuit 175 arbitrates the output order of the refresh command from the refresh command generation circuit 171 and the read / write command and the active / precharge command from the two command timing circuits 172 and 173. To do. 176 is a multiplexer,
The command output from the arbitration circuit 175 is appropriately output to the control signal line 3, the address signal line 4, and the input data line 5.

【0035】そして、図2において、本発明の特徴とし
て、メモリコントロール回路107には、リフレッシュ
周期測定回路177が配置される。この測定回路177
は、前記DRAMコア部2のリフレッシュ回路部108
からのセルフリフレッシュ周期決定用の内部クロック
(CLKREF)109及びリフレッシュ活性化信号
(REFen)110が入力されると共に、システムク
ロックなどのマスタークロック(CLK)111が入力
されて、DRAMコア部2のリフレッシュ周期を測定す
る。この測定回路177の回路例の詳細は後述する。
In FIG. 2, a refresh cycle measuring circuit 177 is arranged in the memory control circuit 107 as a feature of the present invention. This measuring circuit 177
Is a refresh circuit unit 108 of the DRAM core unit 2.
The internal clock (CLKREF) 109 for determining the self-refresh cycle and the refresh activation signal (REFen) 110 are input, and the master clock (CLK) 111 such as a system clock is input to refresh the DRAM core unit 2. Measure the period. Details of a circuit example of the measuring circuit 177 will be described later.

【0036】前記リフレッシュ周期測定回路177で測
定されたDRAMコア部2のリフレッシュ周期の情報
は、DRAMコア部2の性能ランク判定信号12とし
て、前記リフレッシュコマンド発生回路171に入力さ
れる。このコマンド発生回路171は、前記リフレッシ
ュ周期測定回路177から出力された性能ランク判定信
号12に基づいて、リフレッシュコマンドの発生周期を
自動調整する。
Information on the refresh cycle of the DRAM core section 2 measured by the refresh cycle measuring circuit 177 is input to the refresh command generating circuit 171 as a performance rank determination signal 12 of the DRAM core section 2. The command generation circuit 171 automatically adjusts the generation cycle of the refresh command based on the performance rank determination signal 12 output from the refresh cycle measurement circuit 177.

【0037】従って、前記リフレッシュ周期測定回路1
77及びリフレッシュコマンド発生回路171により、
DRAMコア部2のセルフリフレッシュ周期に応じて自
己のロジック回路部1の機能としてリフレッシュ制御の
順序及びタイミングを変更する変更手段180を構成す
る。
Therefore, the refresh cycle measuring circuit 1
77 and the refresh command generation circuit 171
As a function of the logic circuit unit 1 of the DRAM core unit 2 in accordance with the self-refresh cycle of the DRAM core unit 2, a changing unit 180 for changing the order and timing of refresh control is configured.

【0038】尚、前記リフレッシュコマンド発生回路1
71は、性能ランク判定信号12に基づいてリフレッシ
ュコマンドの発生周期を自動で変更可能としたが、図3
に示すように、通常周期用のコマンド発生回路171a
と、この通常周期よりも短い周期の短縮周期用のコマン
ド発生回路171bと、この両回路からの出力を選択す
るセレクタ178とにより構成しても良い。
The refresh command generating circuit 1
71, the refresh command generation cycle can be automatically changed based on the performance rank determination signal 12.
As shown in, the command generation circuit 171a for the normal cycle
And a command generating circuit 171b for a shortened cycle which is shorter than the normal cycle, and a selector 178 which selects outputs from both circuits.

【0039】図4は、前記メモリコントロール回路10
7内のリフレッシュ周期測定回路177の内部構成を示
す。同図において、121は測定回路活性化信号発生回
路であって、前記リフレッシュ活性化信号(REFe
n)110とセルフリフレッシュ用内部クロック(CL
KREF)109とにより、所定の一定時間だけH又は
Lレベルのステートの測定回路活性化信号124を出力
する。122はクロック数をカウントするカウンターで
あって、前記リフレッシュ回路部108から出力された
セルフリフレッシュ用内部クロック109を受け、この
内部クロック109の立上りから次の立上りまでの期間
(周期)の間、マスタークロック(CLK)111の数
をカウントする。123は前記カウンター122でのカ
ウント数を判定するカウント数判定回路であって、複数
の判定信号のうちカウンター122のカウント数に近い
特定の一つの判定信号が活性化する。
FIG. 4 shows the memory control circuit 10.
7 shows the internal structure of the refresh cycle measuring circuit 177 in FIG. In the figure, reference numeral 121 denotes a measurement circuit activation signal generation circuit, which is the refresh activation signal (REFe).
n) 110 and internal clock for self refresh (CL
KREF) 109 outputs the measurement circuit activation signal 124 in the H or L level state for a predetermined fixed time. Reference numeral 122 denotes a counter for counting the number of clocks, which receives the self-refreshing internal clock 109 output from the refresh circuit unit 108, and is a master during the period (cycle) from the rising of the internal clock 109 to the next rising. The number of clocks (CLK) 111 is counted. Reference numeral 123 denotes a count number determination circuit that determines the count number of the counter 122, and a specific one determination signal close to the count number of the counter 122 is activated among a plurality of determination signals.

【0040】次に、本実施の形態のシステムLSIの動
作を説明する。先ず、ロジック回路部1において特定の
時間内に全メモリセルを自動的にリフレッシュさせるセ
ルフリフレッシュコマンドを発行し、このコマンドを制
御線3を介しDRAMコア部2に入力する。DRAMコ
ア部2では、前記セルフリフレッシュコマンドを受け取
り、セルフリフレッシュ用内部クロック109を発生し
て、備える多数のメモリセルを所定の時間間隔でリフレ
ッシュする。このセルフリフレッシュ用内部クロック1
09の周期は、予めDRAMコア部2の検査により得ら
れたメモリセルのデータ保持特性に基づいて、不良メモ
リセルの救済のために行う冗長ヒューズトリミング時に
同時に設定(プログラミング)されている。
Next, the operation of the system LSI of this embodiment will be described. First, the logic circuit unit 1 issues a self-refresh command for automatically refreshing all memory cells within a specific time, and inputs this command to the DRAM core unit 2 via the control line 3. The DRAM core section 2 receives the self-refresh command and generates the self-refresh internal clock 109 to refresh a large number of memory cells provided at predetermined time intervals. This internal clock for self-refresh 1
The period of 09 is set (programmed) at the same time as the redundant fuse trimming for relieving the defective memory cell, based on the data retention characteristic of the memory cell obtained by the inspection of the DRAM core unit 2 in advance.

【0041】一方、ロジック回路1のメモリコントロー
ル回路107内のリフレッシュ周期測定回路177で
は、測定回路活性化信号発生回路121が前記セルフリ
フレッシュコマンドをトリガとして起動し、その出力で
あるリフレッシュ活性化信号(REFen)110によ
りカウンター122を所定の一定期間だけ活性化する。
活性化したカウンター122では、DRAMコア部2か
らセルフリフレッシュ用内部クロック109が入力さ
れ、前記所定の一定期間に入力されたマスタークロック
(CLK)111の数をカウントし、このカウント数に
よりカウント数判定回路123がリフレッシュ周期のラ
ンクを判定し、リフレッシュ周期判定信号12としてロ
ジック回路部1へ転送する。
On the other hand, in the refresh cycle measuring circuit 177 in the memory control circuit 107 of the logic circuit 1, the measuring circuit activation signal generating circuit 121 is activated by the self-refresh command as a trigger, and the refresh activation signal ( The counter 122 is activated by the REFen) 110 for a predetermined fixed period.
In the activated counter 122, the self-refreshing internal clock 109 is input from the DRAM core unit 2 and counts the number of master clocks (CLK) 111 input in the predetermined constant period, and the count number is judged by this count number. The circuit 123 determines the rank of the refresh cycle and transfers it to the logic circuit unit 1 as the refresh cycle determination signal 12.

【0042】図5は、前記リフレッシュ周期測定回路1
77のカウンター122の一例を示す。図6は同測定回
路177の動作のタイミングチャートを示す。
FIG. 5 shows the refresh cycle measuring circuit 1
An example of the counter 122 of 77 is shown. FIG. 6 shows a timing chart of the operation of the measurement circuit 177.

【0043】図5において、124は測定回路活性化信
号、111はシステムクロックなどのマスタークロック
信号CLK、109はセルフリフレッシュ用内部クロッ
クCLKREF、112はリセット信号RSTである。
141はAND回路であって、前記リフレッシュ活性化
信号(REFen)110、マスタークロック(CL
K)111及びセルフリフレッシュ用内部クロック(C
LKREF)109を受ける。142は複数個のクロッ
ク周期測定用カウンタである。
In FIG. 5, reference numeral 124 is a measurement circuit activation signal, 111 is a master clock signal CLK such as a system clock, 109 is an internal self-refresh clock CLKREF, and 112 is a reset signal RST.
Reference numeral 141 denotes an AND circuit, which includes the refresh activation signal (REFen) 110 and the master clock (CL
K) 111 and internal clock for self refresh (C
LKREF) 109. Reference numeral 142 denotes a plurality of clock cycle measuring counters.

【0044】以下、このリフレッシュ周期測定回路17
7の動作を図6のタイミングチャートに基づいて説明す
る。先ず、電源投入後、リセット信号(RST)112
が発生し、これにより全てのカウンター142をリセッ
トする。その後、テストモードでセルフリフレッシュコ
マンド信号3を発行し、DRAMコア部2のリフレッシ
ュ回路部108でリフレッシュ活性化信号(REFe
n)110を発生させ、この信号110をロジック回路
部1の本リフレッシュ周期測定回路177に入力する。
また、DRAMコア部2のリフレッシュ回路部108で
は、前記リフレッシュ活性化信号(REFen)110
の発生後、直ちにリフレッシュ用内部クロック(CLK
REF)109を発生し、ロジック回路部1へ出力す
る。
Hereinafter, this refresh cycle measuring circuit 17 will be described.
The operation of No. 7 will be described based on the timing chart of FIG. First, after the power is turned on, the reset signal (RST) 112
Occurs, which resets all counters 142. After that, the self refresh command signal 3 is issued in the test mode, and the refresh circuit 108 of the DRAM core 2 causes the refresh activation signal (REFe
n) 110 is generated, and this signal 110 is input to the main refresh cycle measuring circuit 177 of the logic circuit section 1.
Further, in the refresh circuit section 108 of the DRAM core section 2, the refresh activation signal (REFen) 110
Immediately after the occurrence of the
REF) 109 is generated and output to the logic circuit unit 1.

【0045】リフレッシュ周期測定回路177では、測
定回路活性化信号発生回路121において前記リフレッ
シュ活性化信号(REFen)110により測定回路活
性化信号124をセットし、AND回路141に前記測
定回路活性化信号124、セルフリフレッシュ用内部ク
ロック(CLKREF)109、及びマスタークロック
(CLK)111が入力され、このAND回路141
は、図6から判るように前記セルフリフレッシュ用内部
クロック(CLKREF)109の1ショット目と2シ
ョット目とのパルス間に通過クロック信号CLKCMP
131を発生し、クロック周期測定用カウンタ142を
カウントアップする。そして、測定回路活性化信号発生
回路121において、セルフリフレッシュ用内部クロッ
ク(CLKREF)109の2ショット目パルスで測定
回路活性化信号124をリセットすることにより、カウ
ントアップを完了し、その出力であるカウント数BO−
Bnを保持する。このカウント数BO−Bnの上位の桁
から数ビットの論理をとって、セルフリフレッシュ周期
を判定し、性能ランク判定信号12とする。
In the refresh cycle measuring circuit 177, the measuring circuit activating signal generating circuit 121 sets the measuring circuit activating signal 124 by the refresh activating signal (REFen) 110, and the AND circuit 141 sets the measuring circuit activating signal 124. , The self-refresh internal clock (CLKREF) 109 and the master clock (CLK) 111 are input, and the AND circuit 141
As can be seen from FIG. 6, the passing clock signal CLKCMP is provided between the first shot pulse and the second shot pulse of the self-refreshing internal clock (CLKREF) 109.
131 is generated, and the clock period measuring counter 142 is counted up. Then, in the measurement circuit activation signal generation circuit 121, the measurement circuit activation signal 124 is reset by the second shot pulse of the internal clock (CLKREF) 109 for self-refreshing, whereby the count-up is completed and the output count Number BO-
Hold Bn. The self-refresh cycle is determined by taking the logic of several bits from the upper digit of the count number BO-Bn and used as the performance rank determination signal 12.

【0046】尚、本実施の形態では、リフレッシュ周期
測定回路177はロジック回路部1に設けたが、この測
定回路177をDRAMコア部2側に設けて、カウント
数BO−Bnの上位の桁のみをロジック回路部1に返送
する構成でも良いのは勿論である。更に、リフレッシュ
周期測定回路177のカウンター142の個数を減らす
ために、マスタークロック(CLK)を分周し、その周
波数を遅くしたクロックをAND回路141に入力して
も良い。
In this embodiment, the refresh cycle measuring circuit 177 is provided in the logic circuit section 1, but the measuring circuit 177 is provided in the DRAM core section 2 side so that only the upper digits of the count number BO-Bn are provided. Of course may be returned to the logic circuit unit 1. Further, in order to reduce the number of counters 142 of the refresh cycle measuring circuit 177, the master clock (CLK) may be divided and a clock whose frequency is delayed may be input to the AND circuit 141.

【0047】図7は、リフレッシュ周期測定回路177
の周期測定部の他の構成例を示す。図8はこの測定回路
177の動作のタイミングチャートを示す。この構成例
において、入力される信号は図5と同一である。
FIG. 7 shows a refresh cycle measuring circuit 177.
7 shows another exemplary configuration of the period measuring unit of FIG. FIG. 8 shows a timing chart of the operation of the measuring circuit 177. In this configuration example, the input signal is the same as that in FIG.

【0048】図7において、161は前記図5のAND
回路141に代わるNAND回路である。162はチャ
ージ回路であって、前記NAND回路161の出力であ
る通過クロック信号(CLKCMP)に基づいて充電さ
れる容量162aを持つ。181〜18nは内部にRS
フリップフロップ回路を持つ複数のレベル判定回路であ
って、前記チャージ回路162の容量162aの充電レ
ベルを判定する。各レベル判定回路181〜18nの判
定レベル(RSフリップフロップ回路のスレッシュホー
ルド電圧)は異なり、レベル判定回路181が最も高
く、レベル判定回路18nが最も低く設定されている。
以下、図7のリフレッシュ周期測定回路177の動作を
説明する。
In FIG. 7, 161 is the AND of FIG.
It is a NAND circuit that replaces the circuit 141. A charge circuit 162 has a capacitor 162a that is charged based on the passing clock signal (CLKCMP) output from the NAND circuit 161. 181 to 18n are RS inside
A plurality of level determination circuits having flip-flop circuits for determining the charge level of the capacitor 162a of the charge circuit 162. The determination levels (threshold voltage of the RS flip-flop circuit) of the level determination circuits 181 to 18n are different, and the level determination circuit 181 is set to the highest and the level determination circuit 18n is set to the lowest.
The operation of the refresh cycle measuring circuit 177 of FIG. 7 will be described below.

【0049】先ず、電源投入後、リセット信号(RS
T)112が発生し、これによりチャージ回路162、
及びレベル判定回路181〜18n内のRSフリップフ
ロップ回路がリセットされ、各RSフリップフロップ回
路の出力Am(0<=m<=n)を全てLレベルに設定
する。
First, after the power is turned on, a reset signal (RS
T) 112 is generated, which causes the charge circuit 162,
The RS flip-flop circuits in the level determination circuits 181 to 18n are reset, and all the outputs Am (0 <= m <= n) of the RS flip-flop circuits are set to the L level.

【0050】その後、既述したようにリフレッシュエン
トリーを行い、DRAMコア部2のリフレッシュ回路部
108でリフレッシュ活性化信号(REFen)110
及びリフレッシュ用内部クロック(CLKREF)10
9を発生させる。そして、前記リフレッシュ活性化信号
(REFen)110により測定回路活性化信号124
をセットし、リフレッシュ用内部クロック(CLKRE
F)109及びマスタークロック(CLK)111と共
にNAND回路161に入力し、これにより、NAND
回路161がリフレッシュ用内部クロック(CLKRE
F)109の1ショット目と2ショット目とのパルス間
に通過クロック(CLKCMP)151を発生して、チ
ャージ回路162の容量162aを充電する。この容量
162aの充電レベルが上昇するに従って判定レベルの
低い側から順次、レベル判定回路181〜18nの出力
AO〜AnがHレベルになる。リフレッシュ用内部クロ
ック(CLKREF)109の2ショット目のパルスに
より測定回路活性化信号124がリセットされて、チャ
ージ回路162での充電を停止し、レベル判定回路18
1〜18nの出力AO〜AnのH又はLレベルの状態を
保持する。従って、通過クロック(CLKCMP)15
1によってチャージ回路162のPMOSFET162
bがONされる時間(ロジック回路部1で機能変更させ
るターゲット時間)と充電容量値とを考慮すれば、この
レベル判定回路81〜18nの出力AO〜Anの組合せ
により周期判定が可能である。
After that, the refresh entry is performed as described above, and the refresh activation signal (REFen) 110 is generated in the refresh circuit section 108 of the DRAM core section 2.
And refresh internal clock (CLKREF) 10
9 is generated. Then, the refresh circuit activation signal (REFen) 110 is used to activate the measurement circuit activation signal 124.
Set the internal clock for refresh (CLKRE
F) 109 and master clock (CLK) 111 are input to the NAND circuit 161.
The circuit 161 uses the internal clock for refresh (CLKRE
F) A passing clock (CLKCMP) 151 is generated between the pulses of the first shot and the second shot of 109 to charge the capacitor 162a of the charge circuit 162. As the charge level of the capacitor 162a rises, the outputs AO to An of the level decision circuits 181 to 18n sequentially become the H level from the lower decision level side. The measurement circuit activation signal 124 is reset by the pulse of the second shot of the internal clock for refresh (CLKREF) 109, the charge in the charge circuit 162 is stopped, and the level determination circuit 18
The state of the outputs AO to An of 1 to 18n at the H or L level is held. Therefore, the passing clock (CLKCMP) 15
1 by the PMOSFET 162 of the charge circuit 162
Considering the time when b is turned on (target time for changing the function in the logic circuit unit 1) and the charge capacity value, the cycle determination can be performed by the combination of the outputs AO to An of the level determination circuits 81 to 18n.

【0051】尚、図7に示したリフレッシュ周期測定回
路177をDRAMコア部2側に設けて、レベル判定回
路181〜18nの出力A0〜Anをロジック回路部1
に返送する構成でも良いのは勿論である。
The refresh cycle measuring circuit 177 shown in FIG. 7 is provided on the DRAM core section 2 side, and the outputs A0-An of the level judging circuits 181-18n are connected to the logic circuit section 1.
Of course, it may be configured to be returned to the.

【0052】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、リフレッシュ周期などのDRAMコア部2の特性に
応じてロジック回路部1内の回路アーキテクチャー、機
能、動作タイミングなどを変更することにより、ロジッ
ク回路部1からDRAMコア部2へのリード/ライトア
クセスとDRAMコア部2でのリフレッシュ動作との両
立を図ることができるので、システムLSIとして歩留
まりを高くできる。また、同一DRAMコア部2であっ
ても種々のプロセスに対応することが可能になるので、
IPとして非常に有用である。
As described above, according to the present embodiment, the circuit architecture, function, operation timing, etc. in the logic circuit section 1 are changed according to the characteristics of the DRAM core section 2 such as the refresh cycle. Since the read / write access from the logic circuit unit 1 to the DRAM core unit 2 and the refresh operation in the DRAM core unit 2 can be achieved at the same time, the yield of the system LSI can be increased. In addition, even the same DRAM core unit 2 can support various processes.
Very useful as an IP.

【0053】(第2の実施の形態)次に、本発明の第2
の実施の形態を図9に基づいて説明する。前記第1の実
施の形態ではDRAMコア部2の内部制御信号としてリ
フレッシュ用内部クロック(CLKREF)109をロ
ジック回路部1に出力したが、本実施の形態では、DR
AMコア部2の機能や特性に基づく情報をDRAMコア
部2側に記憶し、これ等の情報をロジック回路部1に出
力するようにしたものである。
(Second Embodiment) Next, the second embodiment of the present invention will be described.
The embodiment will be described with reference to FIG. In the first embodiment, the refresh internal clock (CLKREF) 109 is output to the logic circuit unit 1 as the internal control signal of the DRAM core unit 2. However, in the present embodiment, DR
Information based on the function and characteristics of the AM core unit 2 is stored in the DRAM core unit 2 side, and such information is output to the logic circuit unit 1.

【0054】図9に示した本実施の形態の半導体装置に
おいて、208はDRAMコア部2内に設けられた情報
設定回路(情報出力手段)であって、メモリセルのデー
タ保持特性又はデータアクセスタイム等のメモリセルア
レイの機能及び特性に関するランクが予め設定されてい
て、そのランク信号は性能ランク判定信号12としてロ
ジック回路部1に出力される。尚、図1と同一の構成に
ついては同一の番号を付して説明を省略する。
In the semiconductor device of the present embodiment shown in FIG. 9, reference numeral 208 denotes an information setting circuit (information output means) provided in the DRAM core section 2, which is a data holding characteristic of a memory cell or a data access time. Ranks relating to functions and characteristics of the memory cell array such as are set in advance, and the rank signal is output to the logic circuit unit 1 as the performance rank determination signal 12. The same components as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0055】本実施の形態では、ロジック回路部1は、
図2に示した内部構成のうち、リフレッシュ周期測定回
路177が省略され、前記情報設定回路208から出力
された性能ランク判定信号12がそのまま図2のリード
/ライトコマンドタイミング回路172、アクティブ/
プリチャージコマンドタイミング回路173及びデータ
入力・ラッチ回路174に入力される。これらの回路1
72〜174は、前記性能ランク判定信号12に応じ
て、ロジック回路部1の機能としてDRAMコア部2へ
のアクセス制御の順序又はタイミングを変更すると共
に、ロジック回路部1の動作タイミングとしてDRAM
コア部2へ出力するコマンド、リード/ライトアドレス
及び書き込みデータのセットアップタイミングや前記D
RAMコア部2から読み出されたデータの取り込みタイ
ミングを変更するものであり、変更手段190を構成す
る。
In the present embodiment, the logic circuit section 1 is
Of the internal configuration shown in FIG. 2, the refresh cycle measuring circuit 177 is omitted, and the performance rank determination signal 12 output from the information setting circuit 208 is the same as the read / write command timing circuit 172 of FIG.
It is input to the precharge command timing circuit 173 and the data input / latch circuit 174. These circuits 1
72 to 174 change the order or timing of access control to the DRAM core unit 2 as a function of the logic circuit unit 1 according to the performance rank determination signal 12, and the DRAM as operation timing of the logic circuit unit 1.
The command to be output to the core unit 2, the read / write address, the setup timing of write data, and the D
The timing of fetching the data read from the RAM core unit 2 is changed, and constitutes a changing unit 190.

【0056】次に、前記情報設定回路208の内部構成
を図10(a)に基づいて説明する。同図(a)におい
て、220はリセット信号(RST)112を受けるイ
ンバータ、221〜22nはnビットの設定回路であっ
て、同一構成を持つ。第1ビット目の設定回路221を
例に挙げて内部構成を説明する。この設定回路221
は、前記インバータ220からの反転リセット信号を受
けるPMOSFET221aと、メタル及びポリサイド
又はポリシリコンの配線材料より構成されるヒューズ素
子221bとを持つ。前記PMOSFET221aは一
端が電源VCCに接続されると共に他端が前記ヒューズ
素子221bの一端に接続される。また、ヒューズ素子
221bの他端は接地される。前記PMOSFET22
1aとヒューズ素子221bとの接続点は、出力C1と
なると共に、他のインバータ221cを介して他のPM
OSFET221dのゲートに接続される。このPMO
SFET221dの一端は電源VCCに接続され、他端
は前記出力C1に接続されている。
Next, the internal structure of the information setting circuit 208 will be described with reference to FIG. In FIG. 7A, 220 is an inverter that receives the reset signal (RST) 112, and 221 to 22n are n-bit setting circuits, which have the same configuration. The internal configuration will be described by taking the setting circuit 221 of the first bit as an example. This setting circuit 221
Has a PMOSFET 221a that receives an inverted reset signal from the inverter 220, and a fuse element 221b made of a wiring material of metal and polycide or polysilicon. The PMOSFET 221a has one end connected to the power supply VCC and the other end connected to one end of the fuse element 221b. The other end of the fuse element 221b is grounded. The PMOSFET 22
The connection point between 1a and the fuse element 221b serves as an output C1 and also passes through another inverter 221c to another PM.
It is connected to the gate of the OSFET 221d. This PMO
One end of the SFET 221d is connected to the power supply VCC, and the other end is connected to the output C1.

【0057】次に、本実施の形態の半導体装置の動作を
説明する。予め、ウエハー拡散後のPCM測定やプロ−
ブ検査によりプロセス情報及び回路情報、例えばメモリ
セルのデータ保持特性、動作周波数、データアクセスタ
イム等のランクなどを前記nビットの設定回路221〜
22nの出力C1〜Cnの組合せとするために、不良メ
モリセル救済のための冗長トリミング時と同時期におい
て、切断すべき所定ビット目の設定回路(例えば22
1)のヒューズ素子221bを図11に実線で囲んで示
すように所定エリアをレーザーブローしてヒューズ素子
221bを切断し、これにより前記プロセス情報などを
プログラミングする。尚、レーザー切断に限定されず、
電気溶断を用いても良い。
Next, the operation of the semiconductor device of this embodiment will be described. In advance, PCM measurement after wafer diffusion and professional
Process information and circuit information, for example, data holding characteristics of memory cells, operating frequencies, ranks of data access times, etc., by the inspection, the n-bit setting circuits 221 to
In order to obtain a combination of outputs C1 to Cn of 22n, a setting circuit for a predetermined bit to be disconnected (for example, 22n) at the same time as the redundant trimming for repairing a defective memory cell.
As shown in FIG. 11 in which the fuse element 221b of 1) is surrounded by a solid line, a predetermined area is laser blown to cut the fuse element 221b, thereby programming the process information and the like. In addition, it is not limited to laser cutting,
Electric fusing may be used.

【0058】そして、このような状態において、電源投
入後、DRAMコア部2の情報設定回路208からメモ
リセルのデータ保持特性などをロジック回路部1に出力
する。以下では、図10(b)に示すように、第2ビッ
ト目の設定回路222のみにおいてヒューズ素子222
bを切断した場合を説明する。即ち、図12に示すよう
に、電源投入後、Hレベルのリセット信号(RST)1
12を発生させる。これにより、各設定回路221〜2
2nにおいてPMOSFET221a〜22naをON
させて、初期設定が行われる。この初期設定において、
第2ビット目の設定回路222では、ヒューズ素子22
bが切断されているので、PMOSFET222aのO
Nにより出力C2が充電されて電位上昇し、インバータ
222c及びPMOSFET222dより成るラッチ回
路によりこの電位レベルがラッチされ、出力C2はHレ
ベルになる。一方、他の設定回路221、223〜22
nでは、ヒューズ素子221a…が切断されていないの
で、出力C1、C3〜Cnは電位上昇せず、リセット信
号(RST)112のLレベルへの移行と共に完全にL
レベルになる。そして、このようなnビットの情報が情
報設定回路208からロジック回路部1に出力される。
Then, in such a state, after the power is turned on, the information setting circuit 208 of the DRAM core section 2 outputs the data holding characteristics of the memory cells to the logic circuit section 1. In the following, as shown in FIG. 10B, the fuse element 222 is provided only in the second bit setting circuit 222.
A case where b is cut will be described. That is, as shown in FIG. 12, after the power is turned on, an H level reset signal (RST) 1
12 is generated. Thereby, each setting circuit 221-2
Turn on PMOSFETs 221a to 22na in 2n
Then, the initial setting is performed. In this initial setting,
In the setting circuit 222 for the second bit, the fuse element 22
Since b is disconnected, O of PMOSFET 222a
The output C2 is charged by N to raise the potential, and this potential level is latched by the latch circuit composed of the inverter 222c and the PMOSFET 222d, and the output C2 becomes the H level. On the other hand, the other setting circuits 221, 223 to 22
In n, since the fuse elements 221a ... Are not blown, the potentials of the outputs C1 and C3 to Cn do not rise, and when the reset signal (RST) 112 shifts to the L level, it is completely set to the L level.
Become a level. Then, such n-bit information is output from the information setting circuit 208 to the logic circuit unit 1.

【0059】従って、本実施の形態では、DRAMコア
部2の機能や特性に基づく情報を情報設定回路208に
設定、格納しておき、これをロジック回路部1に出力す
るようにしたので、このDRAMコア部2の機能や特性
に応じてロジック回路部1内の回路アーキテクチャー、
機能等を変更でき、システムLSIとして歩留まりを高
くできる共に、IPとして非常に有用となる。
Therefore, in the present embodiment, the information based on the function and characteristics of the DRAM core section 2 is set and stored in the information setting circuit 208 and is output to the logic circuit section 1. The circuit architecture in the logic circuit unit 1 according to the functions and characteristics of the DRAM core unit 2,
The function and the like can be changed, the yield can be increased as a system LSI, and it is very useful as an IP.

【0060】(情報設定回路の変形例)図13(a)
は、図10(a)に示した情報設定回路208の具体的
構成の変形例を示す。図10(a)ではヒューズ素子を
用いたのに代え、本実施の形態ではアンチヒューズ素子
を使用するものである。
(Modification of Information Setting Circuit) FIG. 13A
Shows a modification of the specific configuration of the information setting circuit 208 shown in FIG. Instead of using the fuse element in FIG. 10A, an anti-fuse element is used in the present embodiment.

【0061】即ち、図13(a)において、n個の設定
回路241〜24nは同一構成を有する。第1の設定回
路241の内部構成を説明すると、この設定回路241
は、電源VCCに一端が接続されたPMOSFET24
1aと、このPMOSFET241aの他端と接地との
間に配置されたアンチヒューズ素子241bとを有す
る。前記PMOSFET241aのゲートにはリセット
信号(RST)112がインバータ234を介して入力
される。また、アンチヒューズ素子241bにはAND
回路261が接続される。このAND回路261は、テ
ストアドレス251を受け、このアドレスが自己のアド
レスの場合には出力信号を高電圧HVにレベルシフト
し、この高電圧の出力信号をアンチヒューズ素子241
bに出力する。アンチヒューズ素子241bは、図14
に示すように、ゲート酸化膜やDRAMの容量絶縁膜等
の極薄絶縁膜xが2つの電極yの間に配置されるように
作製された電極対であって、前記AND回路261から
の高電圧の出力信号を受けた時には、この出力信号が2
つの電極y、y間に印加されて、極薄絶縁膜xが破断し
導通するものである。また、前記設定回路241には、
前記PMOSFET241aとアンチヒューズ素子24
1bとの接続点と出力端C1との間に配置されたインバ
ータ241cと、電源VCCに一端が接続されると共に
他端が前記インバータ241cの入力側に接続された他
のPMOSFET241dとを有する。このPMOSF
ET241dのゲートには前記インバータ241cの出
力が入力される。
That is, in FIG. 13A, the n setting circuits 241 to 24n have the same configuration. The internal configuration of the first setting circuit 241 will be described below.
Is a PMOSFET 24 whose one end is connected to the power supply VCC
1a and an anti-fuse element 241b arranged between the other end of the PMOSFET 241a and the ground. A reset signal (RST) 112 is input to the gate of the PMOSFET 241a via an inverter 234. Further, the antifuse element 241b has an AND
The circuit 261 is connected. The AND circuit 261 receives the test address 251, and when the address is its own address, level-shifts the output signal to the high voltage HV, and outputs the high voltage output signal to the anti-fuse element 241.
output to b. The antifuse element 241b is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, a pair of electrodes is formed such that a very thin insulating film x such as a gate oxide film or a capacitive insulating film of a DRAM is arranged between two electrodes y, and a high voltage from the AND circuit 261. When receiving a voltage output signal, this output signal
When applied between two electrodes y, y, the ultrathin insulating film x breaks and becomes conductive. Further, the setting circuit 241 has
The PMOSFET 241a and the antifuse element 24
It has an inverter 241c arranged between the connection point with 1b and the output terminal C1, and another PMOSFET 241d having one end connected to the power supply VCC and the other end connected to the input side of the inverter 241c. This PMOSF
The output of the inverter 241c is input to the gate of the ET 241d.

【0062】他の設定回路242〜24nには、第1の
設定回路241と同様に、AND回路262〜26nの
出力信号が入力されている。リセット信号(RST)1
12を受けるインバータ234は、各設定回路241〜
24nで共通である。
Like the first setting circuit 241, the output signals of the AND circuits 262 to 26n are input to the other setting circuits 242 to 24n. Reset signal (RST) 1
The inverter 234 that receives 12 has the setting circuits 241 to
24n is common.

【0063】次に、この変形例の情報設定回路の動作を
説明する。本変形例では、メモリセルのデータ保持特性
等のランク信号を前記nビットの設定回路241〜24
nの出力C1〜Cnの組合せとするために、導通させる
べき所定ビット目の設定回路(例えば242)のアンチ
ヒューズ素子242bを、対応するテストアドレス25
2及びレベルシフト機能付きアンド回路262により破
断し、導通させる。以下、第2の設定回路242のアン
チヒューズ素子242bのみが導通された場合を例示す
る。
Next, the operation of the information setting circuit of this modification will be described. In this modification, the rank signals such as the data retention characteristics of the memory cells are set to the n-bit setting circuits 241 to 24.
In order to obtain a combination of n outputs C1 to Cn, the antifuse element 242b of the setting circuit (for example, 242) of the predetermined bit to be turned on is set to the corresponding test address 25.
2 and the AND circuit 262 with the level shift function breaks the circuit and makes it conductive. Hereinafter, a case where only the anti-fuse element 242b of the second setting circuit 242 is turned on will be exemplified.

【0064】前記の状態において、電源投入後、図15
に示すように、Hレベルのリセット信号(RST)11
2が発生すると、各設定回路241〜24nのPMOS
FET241a〜24naがONして、情報の初期設定
が行われる。この初期設定において、第2ビット目以外
の設定回路241、…24nでは、アンチヒューズ素子
241b等が非導通であるので、インバータ241c等
の入力側の電位が上昇し、Hレベルになり、このHレベ
ルがインバータ241c等及びPMOSFET241d
等から成るラッチ回路によりラッチされる。出力端C
1、…Cn等の電位はインバータ241c等で反転され
てLレベルになる。
In the above state, after the power is turned on, FIG.
As shown in, the H-level reset signal (RST) 11
2 occurs, the PMOS of each setting circuit 241 to 24n
The FETs 241a to 24na are turned on, and information is initialized. In this initial setting, in the setting circuits 241, ..., 24n other than the second bit, since the anti-fuse elements 241b and the like are non-conductive, the potential on the input side of the inverter 241c and the like rises to the H level, and this H The level is inverter 241c and PMOSFET 241d.
It is latched by a latch circuit including Output end C
The potentials of 1, ..., Cn and the like are inverted by the inverter 241c and the like and become L level.

【0065】一方、第2ビット目の設定回路242で
は、アンチヒューズ素子242b等が導通しているの
で、インバータ242cの入力側の電位は上昇せず、リ
セット信号(RST)112のLレベルへの移行に伴い
完全にLレベルになる。このLレベルがインバータ24
2cで反転されて、出力端C2の電位はHレベルにな
る。
On the other hand, in the setting circuit 242 for the second bit, since the anti-fuse element 242b and the like are conducting, the potential on the input side of the inverter 242c does not rise, and the reset signal (RST) 112 goes low. It will be completely at the L level with the transition. This L level is the inverter 24
Inverted at 2c, the potential of the output terminal C2 becomes H level.

【0066】このようにして、nビットの設定回路24
1〜24nの出力C1〜Cnの組合せがロジック回路部
1に出力される。
In this way, the n-bit setting circuit 24
The combination of the outputs C1 to Cn of 1 to 24n is output to the logic circuit unit 1.

【0067】(第3の実施の形態)続いて、本発明の第
3の実施の形態を説明する。本実施の形態の半導体装置
は、DRAMコア部2内に自己検査回路を備えて、その
自己検査の結果をロジック回路部1に出力するようにし
たものである。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described. The semiconductor device of the present embodiment is provided with a self-inspection circuit in the DRAM core section 2 and outputs the result of the self-inspection to the logic circuit section 1.

【0068】即ち、図16において、DRAMコア部2
内の自己検査回路308は、DRAMコア部2のメモリ
セルアレイを自己検査し、その検査結果を性能ランク判
定信号12としてロジック回路部1に出力する。前記自
己検査回路308の内部構成を図17に示す。
That is, in FIG. 16, the DRAM core unit 2
The self-inspection circuit 308 therein self-inspects the memory cell array of the DRAM core unit 2 and outputs the inspection result to the logic circuit unit 1 as the performance rank determination signal 12. The internal structure of the self-inspection circuit 308 is shown in FIG.

【0069】図17において、321は自己検査イネー
ブル信号発生回路、322は制御信号ジェネレータ、3
23はアドレスジェネレータ、324はデータジェネレ
ータ、325はデータコンパレータ、326は検査結果
レジスタである。
In FIG. 17, 321 is a self-check enable signal generation circuit, 322 is a control signal generator, and 3 is a control signal generator.
23 is an address generator, 324 is a data generator, 325 is a data comparator, and 326 is an inspection result register.

【0070】自己検査イネーブル信号発生回路321が
自己検査信号(ST)311を受けて自己検査イネーブ
ル信号が発生すると、制御信号ジェネレータ322は、
DRAMコア部2に対する複数のアクセスパターンを生
成すると共に、この各アクセスパターンに応じた制御コ
マンド信号を生成する。また、前記複数のアクセスパタ
ーンの生成に応じて、アドレスジェネレータ323が各
アクセスパターン毎にDRAMコア部2に入力すべきデ
ータのロウアドレス及びコラムアドレスを生成すると共
に、データジェネレータ324が各アクセスパターン毎
にDRAMコア部2に入力すべき検査用データのパター
ンを生成する。これ等の制御コマンド信号、アドレス及
び検査用データはDRAMコア部2に入力されて、DR
AMコア部2ではこれ等に応じてデータを出力する。
When the self-check enable signal generation circuit 321 receives the self-check signal (ST) 311 and generates the self-check enable signal, the control signal generator 322 is
A plurality of access patterns for the DRAM core unit 2 are generated, and a control command signal corresponding to each access pattern is generated. Further, according to the generation of the plurality of access patterns, the address generator 323 generates the row address and the column address of the data to be input to the DRAM core unit 2 for each access pattern, and the data generator 324 generates the access pattern for each access pattern. Then, a pattern of inspection data to be input to the DRAM core unit 2 is generated. These control command signals, addresses, and inspection data are input to the DRAM core unit 2 and DR
The AM core unit 2 outputs data according to these.

【0071】データコンパレータ325には、前記DR
AMコア部2から出力された各アクセスパターン毎のデ
ータと、これ等の出力データの排他的論理和の結果(全
面比較した結果)TQCMPと、前記データジェネレー
タ324で生成された検査用データとが入力され、これ
等がデータコンパレータ325により論理処理されて、
各アクセスパターン毎にPASS、FAILの判定が行
われる。これ等の判定結果FLGは、アクセスパターン
順に検査結果レジスタ326に格納される。このレジス
タ326に格納された判定結果FLGが性能ランク判定
信号12としてロジック回路部1に転送される。
The data comparator 325 stores the DR
The data for each access pattern output from the AM core unit 2, the result (exclusive comparison result) TQCMP of the exclusive OR of these output data, and the inspection data generated by the data generator 324 are Input, these are logically processed by the data comparator 325,
The determination of PASS and FAIL is performed for each access pattern. These determination results FLG are stored in the inspection result register 326 in the order of access patterns. The determination result FLG stored in the register 326 is transferred to the logic circuit unit 1 as the performance rank determination signal 12.

【0072】従って、本本実施の形態では、DRAMコ
ア部2内部を検査した検査結果を性能ランク判定信号と
してロジック回路部1へ転送して、ロジック回路部1内
の回路アーキテクチャー、機能、動作タイミングを変更
することにより、前記第1及び第2の実施の形態と同様
に、ロジック回路部1からDRAMコア部2へのリード
/ライトアクセスとDRAMコア部2内のリフレッシュ
動作との両立を図ることができるので、システムLSI
として歩留まりを高くできる。
Therefore, in this embodiment, the inspection result of the inside of the DRAM core unit 2 is transferred to the logic circuit unit 1 as a performance rank determination signal, and the circuit architecture, function, and operation timing in the logic circuit unit 1 are transferred. By changing the above, the read / write access from the logic circuit section 1 to the DRAM core section 2 and the refresh operation in the DRAM core section 2 can be achieved at the same time, as in the first and second embodiments. System LSI
As a result, the yield can be increased.

【0073】更に、DRAMコア部2からのデータアク
セスの時間の遅れに対し、ロジック回路部1内のデータ
入力・ラッチ回路174でのデータラッチタイミングや
ロジック回路部1の内部動作タイミングを変更すること
により、メモリアクセス不良による歩留まりの低下を抑
制できる。また、ロジック回路部1からDRAMコア部
2へ転送する制御信号、アドレス、入力データのDRA
Mコア部2でのセットアップ時間等のマージン不足の場
合にも、ロジック回路部1でのこれ等の転送タイミング
を変更することにより、同様にDRAMコア部2へのメ
モリアクセス不良による歩留まり低下を抑制することが
できる。
Further, the data latch timing in the data input / latch circuit 174 in the logic circuit section 1 and the internal operation timing in the logic circuit section 1 should be changed with respect to the delay in the data access time from the DRAM core section 2. As a result, it is possible to suppress a decrease in yield due to defective memory access. In addition, DRA of control signals, addresses, and input data transferred from the logic circuit unit 1 to the DRAM core unit 2
Even when the margin such as the setup time in the M core unit 2 is insufficient, the transfer timing in the logic circuit unit 1 is changed to suppress the yield decrease due to the memory access failure to the DRAM core unit 2 as well. can do.

【0074】尚、以上の説明では、DRAMコア部2と
ロジック回路部1とを備えた半導体装置を説明したが、
ロジック回路部1に加えてアナログ回路部も備えた半導
体装置であっても良いのは勿論である。また、半導体メ
モリ回路としてDRAMコア部2の場合を述べたが、ス
タティックランダムアクセスメモリのコア部(SRAM
コア部)であっても良いのはいうまでもない。
In the above description, the semiconductor device including the DRAM core section 2 and the logic circuit section 1 has been described.
It goes without saying that the semiconductor device may include an analog circuit section in addition to the logic circuit section 1. Also, the case where the semiconductor memory circuit is the DRAM core unit 2 has been described, but the core unit of the static random access memory (SRAM
Needless to say, it may be the core part).

【0075】[0075]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
半導体メモリ回路部とシステム機能を実現するロジック
回路部とから構成されるシステムLSIとしての半導体
装置において、半導体メモリ回路部の機能や特性等に応
じてロジック回路部の機能又は動作タイミングを変更し
たので、所望のシステムLSIを短時間で得ることがで
きると共に、システムLSIの歩留まりの低下を抑える
ことができる。しかも、多種多様なシステム要求を同一
の半導体メモリ回路部で実現可能となる。更に、同一の
半導体メモリ回路部を異なる仕様のプロセスに対する共
通のIPとして利用可能になる。加えて、同一ウェハー
内で異なる仕様を持つ品種を製造することも可能にな
り、製造の効率化が期待できる。
As described above, according to the present invention,
In a semiconductor device as a system LSI composed of a semiconductor memory circuit unit and a logic circuit unit that realizes a system function, the function or operation timing of the logic circuit unit is changed according to the function or characteristics of the semiconductor memory circuit unit. It is possible to obtain a desired system LSI in a short time and suppress a decrease in the yield of the system LSI. Moreover, a wide variety of system requirements can be realized with the same semiconductor memory circuit unit. Further, the same semiconductor memory circuit unit can be used as a common IP for processes having different specifications. In addition, it becomes possible to manufacture products with different specifications on the same wafer, which can be expected to improve manufacturing efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の半導体装置を示す
ブロック構成図である。
FIG. 1 is a block configuration diagram showing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同半導体装置のロジック回路部の具体的内部構
成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a specific internal configuration of a logic circuit unit of the semiconductor device.

【図3】同ロジック回路部の他の構成例を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing another configuration example of the same logic circuit unit.

【図4】図2のロジック回路部内に備えるリフレッシュ
周期測定回路の内部構成を示す図である。
4 is a diagram showing an internal configuration of a refresh cycle measuring circuit provided in the logic circuit unit of FIG.

【図5】同リフレッシュ周期測定回路の具体的構成を示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a specific configuration of the refresh cycle measurement circuit.

【図6】同リフレッシュ周期測定回路の動作説明図であ
る。
FIG. 6 is an operation explanatory diagram of the refresh cycle measurement circuit.

【図7】同リフレッシュ周期測定回路の他の具体的構成
を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing another specific configuration of the refresh cycle measuring circuit.

【図8】同リフレッシュ周期測定回路の動作説明図であ
る。
FIG. 8 is an operation explanatory diagram of the refresh cycle measurement circuit.

【図9】本発明の第2の実施の形態の半導体装置を示す
ブロック構成図である。
FIG. 9 is a block configuration diagram showing a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図10】(a)は同半導体装置のDRAMコア部に備
える情報設定回路の具体的構成を示す図、(b)は同情
報設定回路の一設定例を示す図である。
10A is a diagram showing a specific configuration of an information setting circuit provided in a DRAM core portion of the same semiconductor device, and FIG. 10B is a diagram showing one setting example of the information setting circuit.

【図11】同情報設定回路に備えるヒューズ素子の配置
例を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing an arrangement example of fuse elements included in the information setting circuit.

【図12】同情報設定回路の動作説明図である。FIG. 12 is an operation explanatory diagram of the information setting circuit.

【図13】(a)は同情報設定回路の他の具体的構成を
示す図、(b)は同情報設定回路の一設定例を示す図で
ある。
13A is a diagram showing another specific configuration of the information setting circuit, and FIG. 13B is a diagram showing one setting example of the information setting circuit.

【図14】同情報設定回路に備えるアンチヒューズ素子
の構成を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a configuration of an anti-fuse element included in the information setting circuit.

【図15】同情報設定回路の動作説明図である。FIG. 15 is an operation explanatory diagram of the information setting circuit.

【図16】本発明の第3の実施の形態の半導体装置を示
すブロック構成図である。
FIG. 16 is a block configuration diagram showing a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図17】同半導体装置のDRAMコア部に備える自己
検査回路の具体的内部構成を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing a specific internal configuration of a self-inspection circuit provided in a DRAM core section of the same semiconductor device.

【図18】従来のシステムLSIのブロック構成図であ
る。
FIG. 18 is a block diagram of a conventional system LSI.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ロジック回路部 2 DRAMコア部(半導体メモリ
回路部) 107 メモリコントロール回路 108 リフレッシュ回路部 109 リフレッシュ周期を決定するク
ロック(CLKREF)(内部制御信号、内部リフレッシ
ュ制御信号) 111 マスタークロック(CLK) 162 チャージ回路 171 リフレッシュコマンド発生回路 172 リード/ライトコマンドタイミ
ング回路 173 コマンドタイミング回路 177 リフレッシュ周期測定回路 180、190 変更手段 181 レベル判定回路 208 情報設定回路 221〜22n 設定回路 221b〜22nb ヒューズ素子 241〜24n 設定回路 241b〜24nb アンチヒューズ素子 308 自己検査回路 322 制御信号ジェネレータ 323 アドレスジェネレータ 324 データジェネレータ 325 データコンパレータ 326 検査結果レジスタ
1 Logic Circuit Section 2 DRAM Core Section (Semiconductor Memory Circuit Section) 107 Memory Control Circuit 108 Refresh Circuit Section 109 Clock (CLKREF) (Internal Control Signal, Internal Refresh Control Signal) Determining Refresh Cycle 111 Master Clock (CLK) 162 Charge Circuit 171 Refresh command generation circuit 172 Read / write command timing circuit 173 Command timing circuit 177 Refresh cycle measurement circuits 180, 190 Change means 181 Level determination circuit 208 Information setting circuits 221-22n Setting circuits 221b-22nb Fuse elements 241-24n Setting circuit 241b to 24nb Anti-fuse element 308 Self-test circuit 322 Control signal generator 323 Address generator 324 Data generator 3 25 Data comparator 326 Inspection result register

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11C 11/34 363M Fターム(参考) 5L106 AA01 AA02 CC04 CC13 DD25 GG07 5M024 AA74 AA75 BB17 BB30 DD20 DD60 EE05 EE09 EE22 EE24 EE27 EE30 GG17 GG20 HH10 KK35 MM10 PP01 PP02 PP03 PP07 PP10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G11C 11/34 363M F term (reference) 5L106 AA01 AA02 CC04 CC13 DD25 GG07 5M024 AA74 AA75 BB17 BB30 DD20 DD60 EE05 EE09 EE22 EE24 EE27 EE30 GG17 GG20 HH10 KK35 MM10 PP01 PP02 PP03 PP07 PP10

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルアレイを備えた半導体メモリ
回路部と、 システム機能を実現するロジック回路部とを有する半導
体装置であって、 前記ロジック回路部には、前記半導体メモリ回路部の内
部制御信号を受け、前記内部制御信号に応じて自己のロ
ジック回路部の機能又は動作タイミングを変更する変更
手段が備えられることを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device having a semiconductor memory circuit section having a memory cell array and a logic circuit section for realizing a system function, wherein the logic circuit section is provided with an internal control signal of the semiconductor memory circuit section. A semiconductor device, further comprising: a changing unit that changes a function or an operation timing of its own logic circuit unit according to the internal control signal.
【請求項2】 前記半導体メモリ回路部はダイナミック
ランダムアクセスメモリであり、 前記内部制御信号は内部リフレッシュ制御信号であるこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor memory circuit unit is a dynamic random access memory, and the internal control signal is an internal refresh control signal.
【請求項3】 前記内部リフレッシュ制御信号は、セル
フリフレッシュモードのリフレッシュ周期を決定するク
ロックであり、 前記ロジック回路部の変更手段は、前記クロックの周期
を測定し、その測定結果に応じて自己のロジック回路部
の機能又は動作タイミングを変更することを特徴とする
請求項2記載の半導体装置。
3. The internal refresh control signal is a clock that determines a refresh cycle in a self-refresh mode, and the changing means of the logic circuit section measures the cycle of the clock and outputs the self refresh control signal according to the measurement result. 3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the function or operation timing of the logic circuit unit is changed.
【請求項4】 前記ロジック回路部の変更手段は、 前記セルフリフレッシュモードのリフレッシュ周期を決
定するクロック、及び前記ロジック回路部を動作させる
マスタークロックを入力し、この両クロックに基づいて
前記半導体メモリ回路部のリフレッシュ周期を測定する
ことを特徴とする請求項3記載の半導体装置。
4. The changing means of the logic circuit section inputs a clock for determining a refresh cycle of the self-refresh mode and a master clock for operating the logic circuit section, and the semiconductor memory circuit is based on the both clocks. 4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the refresh cycle of the unit is measured.
【請求項5】 前記変更手段により変更される前記ロジ
ック回路部の機能は、前記半導体メモリ回路部へのリフ
レッシュ制御の順序又はタイミングであることを特徴と
する請求項3記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 3, wherein the function of the logic circuit unit changed by the changing unit is an order or timing of refresh control to the semiconductor memory circuit unit.
【請求項6】 メモリセルアレイを備えた半導体メモリ
回路部と、 システム機能を実現するロジック回路部とを有する半導
体装置であって、 半導体メモリ回路部は、前記メモリセルアレイの機能及
び特性に基づく情報を出力する情報出力手段を備え、 前記ロジック回路部には、前記情報出力手段からの前記
情報を受け、この情報に応じて自己のロジック回路部の
機能又は動作タイミングを変更する変更手段が備えられ
ることを特徴とする半導体装置。
6. A semiconductor device having a semiconductor memory circuit section having a memory cell array and a logic circuit section for realizing a system function, wherein the semiconductor memory circuit section provides information based on the function and characteristics of the memory cell array. Information output means for outputting is provided, and the logic circuit section is provided with changing means for receiving the information from the information output means and changing the function or operation timing of its own logic circuit section in accordance with this information. A semiconductor device characterized by:
【請求項7】 前記半導体メモリ回路部の情報出力手段
は、 メタル及びポリサイド又はポリシリコンの配線材料によ
り構成される複数のヒューズ素子を有し、 前記複数のヒューズ素子の何れかをレーザー又は電気的
に切断することにより、前記メモリセルアレイの機能又
は特性に基づく情報を設定することを特徴とする請求項
6記載の半導体装置。
7. The information output means of the semiconductor memory circuit section has a plurality of fuse elements composed of a wiring material of metal and polycide or polysilicon, and one of the plurality of fuse elements is laser or electrical. 7. The semiconductor device according to claim 6, wherein information based on a function or a characteristic of the memory cell array is set by cutting the memory cell into the semiconductor device.
【請求項8】 前記半導体メモリ回路部の情報出力手段
は、 2つの電極間に薄い絶縁膜が配置されて構成される複数
のアンチヒューズ素子を有し、 前記複数のアンチヒューズ素子の何れかを電界の印加に
より電気的に接続することにより、前記メモリセルアレ
イの機能又は特性に基づく情報を設定することを特徴と
する請求項6記載の半導体装置。
8. The information output means of the semiconductor memory circuit section has a plurality of antifuse elements each having a thin insulating film disposed between two electrodes, and any one of the plurality of antifuse elements is provided. 7. The semiconductor device according to claim 6, wherein information based on a function or a characteristic of the memory cell array is set by electrically connecting by applying an electric field.
【請求項9】 メモリセルアレイを備えた半導体メモリ
回路部と、 システム機能を実現するロジック回路部とを有する半導
体装置であって、 半導体メモリ回路部は、前記メモリセルアレイを自己検
査する自己検査回路を備え、 前記ロジック回路部には、前記自己検査回路の自己検査
結果を受け、この自己検査結果に応じて自己のロジック
回路部の機能又は動作タイミングを変更する変更手段が
備えられることを特徴とする半導体装置。
9. A semiconductor device having a semiconductor memory circuit section having a memory cell array and a logic circuit section for realizing a system function, wherein the semiconductor memory circuit section has a self-test circuit for self-testing the memory cell array. The logic circuit unit is provided with a changing unit that receives a self-inspection result of the self-inspection circuit and changes a function or an operation timing of the self-logic circuit unit according to the self-inspection result. Semiconductor device.
【請求項10】 前記変更手段により変更される前記ロ
ジック回路部の機能は、前記半導体メモリ回路部へのア
クセス制御の順序又はタイミングであることを特徴とす
る請求項1、6又は9記載の半導体装置。
10. The semiconductor according to claim 1, wherein the function of the logic circuit unit changed by the changing unit is an order or timing of access control to the semiconductor memory circuit unit. apparatus.
【請求項11】 前記変更手段により変更される前記ロ
ジック回路部の動作タイミングは、前記半導体メモリ回
路部へ出力される制御信号、アドレス及び書込みデータ
のセットアップタイミングであることを特徴とする請求
項10記載の半導体装置。
11. The operation timing of the logic circuit section changed by the changing means is a setup timing of a control signal, an address and write data output to the semiconductor memory circuit section. The semiconductor device described.
【請求項12】 前記変更手段により変更される前記ロ
ジック回路部の動作タイミングは、前記半導体メモリ回
路部から出力されるデータの取り込みタイミングである
ことを特徴とする請求項1、6又は9記載の半導体装
置。
12. The operation timing of the logic circuit unit changed by the changing unit is a fetch timing of data output from the semiconductor memory circuit unit. Semiconductor device.
【請求項13】 前記半導体メモリ回路部及び前記ロジ
ック回路部と共に、アナログ回路部も備えることを特徴
とする請求項1、6又は9記載の半導体装置。
13. The semiconductor device according to claim 1, further comprising an analog circuit section together with the semiconductor memory circuit section and the logic circuit section.
【請求項14】 前記半導体メモリ回路部は、ダイナミ
ックランダムアクセスメモリであることを特徴とする請
求項1、6又は9記載の半導体装置。
14. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor memory circuit unit is a dynamic random access memory.
【請求項15】 前記半導体メモリ回路部は、スタティ
ックランダムアクセスメモリであることを特徴とする請
求項1、6又は9記載の半導体装置。
15. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor memory circuit unit is a static random access memory.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2007066395A1 (en) * 2005-12-07 2007-06-14 Fujitsu Limited Semiconductor circuit and its controlling method
WO2009139101A1 (en) * 2008-05-13 2009-11-19 パナソニック株式会社 Electronic equipment system and semiconductor integrated circuit controller
US8355290B2 (en) 2009-06-01 2013-01-15 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor memory and system

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007066395A1 (en) * 2005-12-07 2007-06-14 Fujitsu Limited Semiconductor circuit and its controlling method
US7800432B2 (en) 2005-12-07 2010-09-21 Fujitsu Limited Semiconductor circuit and controlling method thereof
JP4745349B2 (en) * 2005-12-07 2011-08-10 富士通株式会社 Semiconductor circuit and control method thereof
WO2009139101A1 (en) * 2008-05-13 2009-11-19 パナソニック株式会社 Electronic equipment system and semiconductor integrated circuit controller
US8072832B2 (en) 2008-05-13 2011-12-06 Panasonic Corporation Electronic equipment system and semiconductor integrated circuit controller
US8355290B2 (en) 2009-06-01 2013-01-15 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor memory and system

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