JP2003115128A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JP2003115128A
JP2003115128A JP2001305294A JP2001305294A JP2003115128A JP 2003115128 A JP2003115128 A JP 2003115128A JP 2001305294 A JP2001305294 A JP 2001305294A JP 2001305294 A JP2001305294 A JP 2001305294A JP 2003115128 A JP2003115128 A JP 2003115128A
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JP
Japan
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layer
film
substrate
optical recording
groove
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Abiko
透 安孫子
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the corrosion of an outer peripheral part by improving adhesion between a film including an optical recording layer 2 and a substrate 1 in an optical recording medium where the optical recording layer 2 and an optical transmission protective layer 4 are sequentially formed on the disk substrate 1. SOLUTION: On the disk substrate 1 of a radius 60 mm, a data area having a groove 11 is formed in a radius range of 24 to 58 mm and, around its outer periphery, a groove 11a is additionally formed intermittently in a radius range of 58 to 59.5 mm (groove adding area) is formed. In a film forming area (area including optical recording layer 2), a film is formed in a radius range of 18 mm to 58.8 mm, and a light transmissive protective layer 4 is formed on the film forming area in a radius range of 12 to 60 mm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は円盤状の基板に光記
録層および光透過保護層を順次形成してなる光記録媒体
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium in which an optical recording layer and a light transmission protective layer are sequentially formed on a disk-shaped substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の光記録媒体において、相変化記録
材料を用いた書き換え可能な光ディスクの実用例とし
て、いわゆるDVD−RAMが市販されており、線速6
m/秒、ビット長0.41μm/秒、トラックピッチ
0.74μm、レーザー波長およそ650nm、データ
転送レート11Mbps、記録容量2.6GBが実現さ
れている。
2. Description of the Related Art As a practical example of a rewritable optical disc using a phase change recording material in a conventional optical recording medium, a so-called DVD-RAM is commercially available, and the linear velocity is 6
m / sec, bit length 0.41 μm / sec, track pitch 0.74 μm, laser wavelength of about 650 nm, data transfer rate 11 Mbps, and recording capacity 2.6 GB are realized.

【0003】これをさらに上回る大容量、高転送レート
を実現するためには、記録レーザーのスポットサイズを
小さくし、記録線速を上げることが有効である。ここ
で、記録レーザーのスポットサイズを小さくする具体的
手法としては、レーザー波長を短くする方法や、対物レ
ンズの開口数を大きくする方法が挙げられる。
In order to realize a large capacity and a high transfer rate that exceed this, it is effective to reduce the spot size of the recording laser and increase the recording linear velocity. Here, specific methods for reducing the spot size of the recording laser include a method of shortening the laser wavelength and a method of increasing the numerical aperture of the objective lens.

【0004】特にレーザー波長を短くする方法と対物レ
ンズの開口数を大きくする方法の二つを併用すると、ス
ポットサイズはそれぞれを単独に用いた場合よりも小さ
くすることができる。例えば、光源に波長400nm付
近の青紫色レーザーを用い、かつ対物レンズの開口数N
Aが0.85の対物レンズを用いると、さらなる高密度
記録が理論上可能となる。
In particular, if both the method of shortening the laser wavelength and the method of increasing the numerical aperture of the objective lens are used together, the spot size can be made smaller than the case where each is used alone. For example, a blue-violet laser having a wavelength near 400 nm is used as a light source, and the numerical aperture N of the objective lens is
The use of an objective lens having A of 0.85 enables theoretically higher density recording.

【0005】このように記録密度を上げるためにはN.
A./λを上げることが不可欠である。この場合、例え
ば記憶容量として8GBを達成させるために、少なくと
もN.A.を0.7以上、レーザーの波長λを0.68
μm以下にすることが必要となる。現状の赤色レーザー
から将来普及が見込まれる青色レーザーまで対応するこ
とを考慮すると、光透過層は10〜177μmに設定す
るのが適切であるとされている。
As described above, in order to increase the recording density, N.
A. It is essential to increase / λ. In this case, for example, in order to achieve a storage capacity of 8 GB, at least N.M. A. Is 0.7 or more and the laser wavelength λ is 0.68.
It is necessary to make it less than μm. Considering that the present red laser is applicable to the blue laser which is expected to be widely used in the future, it is considered appropriate to set the light transmission layer to 10 to 177 μm.

【0006】一般的にディスクスキューマージンDSM
Θと記録再生用光学ピックアップの光源波長λと、その
開口数N.A.、並びにディスクの光透過保護層厚みt
とは相関関係にあり、実用上十分そのプレイヤビリティ
が実証されている。コンパクトディスク(CD)の例を
基準にこれらのパラメータとDSMΘとの関係が、特開
平3−225650号公報に示されている。これによる
と、−84.115(λ/N.A.3/t)≦DSMΘ
≦84.115(λ/N.A.3/t)であればよい。
Generally, a disc skew margin DSM
Θ, the light source wavelength λ of the recording / reproducing optical pickup, and the numerical aperture N. A. , And the light transmission protective layer thickness t of the disk
Has a correlation with, and its playability has been sufficiently demonstrated in practice. The relationship between these parameters and DSM [Theta] based on the example of a compact disc (CD) is shown in Japanese Patent Laid-Open No. 3-225650. According to this, -84.115 (λ / N.A. 3 / t) ≦ DSMΘ
It may be ≦ 84.115 (λ / NA. 3 / t).

【0007】ここで、ディスクを実際に量産する場合の
DSMΘの具体的な限界値を考えると、0.4゜とする
のが妥当である。これは、量産を考えた場合、これより
小さくすると歩留まりが低下し、コストが上がるからで
ある。既存の光記録媒体についても、CDでは0.6
゜、DVDでは0.4゜である。従って、DSMΘ=
0.4゜としてレーザーの短波長化、高N.A.化によ
り光透過保護層厚みをどの程度に設定すべきかを計算す
ると、まずλ=0.65μmとするとN.A.は0.7
8以上が要求される。また、将来短波長化が進みλ=
0.4μmとするとt=177μmになる。また、光透
過保護層の厚さの下限は光記録層を保護する光透過保護
層の保護機能によって決まり、信頼性や2群レンズの衝
突の影響を考慮すると10μm以上が望ましい。
Here, considering the concrete limit value of DSMΘ in the case of actually mass-producing disks, 0.4 ° is appropriate. This is because, in consideration of mass production, if the size is made smaller than this, the yield will decrease and the cost will increase. For existing optical recording media, the CD is 0.6
And 0.4 for DVDs. Therefore, DSMΘ =
The laser wavelength is shortened to 0.4 °, and the high N.V. A. Calculating how much the thickness of the light transmission protective layer should be set according to the optimization, first, assuming that λ = 0.65 μm, N. A. Is 0.7
8 or more is required. In the future, the wavelength will be shortened and λ =
When it is 0.4 μm, t = 177 μm. The lower limit of the thickness of the light transmission protective layer is determined by the protection function of the light transmission protection layer that protects the optical recording layer, and is preferably 10 μm or more in consideration of the reliability and the influence of the second group lens collision.

【0008】従来の光記録媒体は、基板上に誘電体膜が
成膜され、次いで記録膜、誘電体膜、そして反射膜であ
るAlなどの金属膜が形成されるものであり、いわゆる
順成膜により構成されている。これらは、連続した成膜
チャンバーを持つ成膜装置で、順に成膜される。
In the conventional optical recording medium, a dielectric film is formed on a substrate, and then a recording film, a dielectric film, and a metal film such as Al which is a reflective film are formed. It is composed of a membrane. These are sequentially formed by a film forming apparatus having a continuous film forming chamber.

【0009】しかし前述したような、より高密度の光記
録媒体は、上記通常の成膜順番とは異なり、始めに反射
膜であるAl合金やAg合金などの金属膜が成膜され、
次いで誘電体膜、記録膜、誘電体膜が形成される(逆成
膜)。
However, in the higher density optical recording medium as described above, a metal film such as an Al alloy or an Ag alloy, which is a reflective film, is first formed, which is different from the above-described normal film formation sequence.
Then, a dielectric film, a recording film, and a dielectric film are formed (reverse film formation).

【0010】例えば図2に示すように、光ディスク(光
記録媒体)10は、ディスク基板(支持基板)1上に記
録用薄膜から成る光記録層2を形成し、その上に接着層
3を介して光透過保護層4を形成して構成される。光記
録層2は、反射層5、第1の誘電体層6a、記録層7、
第2の誘電体6bで構成されている。図中矢印L1はレ
ーザー光の照射方向を示している。
For example, as shown in FIG. 2, an optical disc (optical recording medium) 10 has an optical recording layer 2 made of a recording thin film formed on a disc substrate (supporting substrate) 1, and an adhesive layer 3 interposed therebetween. And a light transmission protection layer 4 is formed. The optical recording layer 2 includes a reflective layer 5, a first dielectric layer 6a, a recording layer 7,
It is composed of the second dielectric 6b. The arrow L 1 in the figure indicates the irradiation direction of the laser light.

【0011】基板は、単板でディスクを構成する場合、
ある程度の剛性が要求される為0.6mm以上であるこ
とが望ましい。同様に、2枚貼り合わせた構造の場合は
その半分である0.3mm以上であることが好適であ
る。また、CD等の製造設備を流用することを考慮する
と、基板厚が1.2mm程度が一般的となる。
When the disk is made of a single plate, the substrate is
Since a certain degree of rigidity is required, it is desirable that the thickness be 0.6 mm or more. Similarly, in the case of a structure in which two sheets are stuck together, it is preferable that the length is half that of 0.3 mm or more. Further, in consideration of diversion of manufacturing equipment such as CD, the substrate thickness is generally about 1.2 mm.

【0012】このディスク基板1に用いられるポリカー
ボネート樹脂およびポリオレフィン系樹脂は、溶融成形
時に耐熱性を有し成形し易いこと、変質が少ないこと、
機械的特性が優れていることなどを有していることから
光記録媒体の基板として有用なものである。
The polycarbonate resin and the polyolefin resin used for the disk substrate 1 have heat resistance during melt molding, are easy to mold, and have little deterioration.
Since it has excellent mechanical properties, it is useful as a substrate for optical recording media.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
では、記録再生の為に、通常グルーブと呼ばれる溝や、
エンボスピットと呼ばれる短い溝が形成されており、こ
れらがアドレス情報や、トラッキングの信号を与えてい
る。このため、これらの溝形状は、一般に図8に示すよ
うに、信号を記録再生するデータエリア部内にのみ形成
されている。
By the way, in an optical disc, a groove usually called a groove for recording / reproducing,
Short grooves called embossed pits are formed and these give address information and tracking signals. Therefore, these groove shapes are generally formed only in the data area portion for recording / reproducing a signal, as shown in FIG.

【0014】図8において図2と同一部分は同一符号を
もって示しており、11はディスク基板1の表面に形成
されたグルーブ(又はピット)である。
In FIG. 8, the same parts as in FIG. 2 are shown with the same reference numerals, and 11 is a groove (or pit) formed on the surface of the disk substrate 1.

【0015】記録膜を含めた光記録層2は、スパッタな
どで成膜される。この時基板端面に膜が付くのを防ぐた
め、外周、あるいは内周にマスキングを施して成膜を行
う。このようにマスキングを行うとマスクエッジからあ
る範囲で(範囲はマスク形状や成膜条件に依存する)膜
厚が不安定になる。
The optical recording layer 2 including the recording film is formed by sputtering or the like. At this time, the film is formed by masking the outer circumference or the inner circumference in order to prevent the film from being attached to the end surface of the substrate. When masking is performed in this way, the film thickness becomes unstable in a certain range from the mask edge (the range depends on the mask shape and film forming conditions).

【0016】このためこの膜厚の不安定領域を見越し
て、外周マスクの場合はデータエリア外周部より外側に
なるように配され、内周マスクの場合は逆にデータエリ
ア内周部より小さく配される。
Therefore, in anticipation of this region of unstable film thickness, the outer peripheral mask is arranged outside the outer peripheral area of the data area, and the inner peripheral mask is arranged smaller than the inner peripheral area of the data area. To be done.

【0017】このため、成膜エリアをみるとデータエリ
アの外側(内周の場合内側)にグループのないミラー部
12ができるのが現状である。このような構造の光ディ
スクでは、逆成膜を用いた場合に、順成膜では見られな
かった腐食が、外周部で発生する問題がある。
Therefore, in the present situation, when the film forming area is viewed, the mirror portion 12 having no group can be formed outside the data area (inside in the case of the inner circumference). In the optical disc having such a structure, when the reverse film formation is used, there is a problem that corrosion which is not seen in the normal film formation occurs in the outer peripheral portion.

【0018】これは、逆成膜によりディスク基板1上に
成膜される反射層と基板1との密着性が悪いことに起因
して生じるものと考えられる。
This is considered to be caused by the poor adhesion between the substrate 1 and the reflective layer formed on the disk substrate 1 by the reverse film formation.

【0019】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
その目的は、光記録層を含む膜と基板の密着性を向上さ
せて腐食を防止した光記録媒体を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide an optical recording medium in which the adhesion between a film including an optical recording layer and a substrate is improved to prevent corrosion.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の光記録媒体は、円盤状の基板に光記録層およ
び光透過保護層を順次形成してなる光記録媒体におい
て、前記基板上に、少なくともレーザーにより読み込み
可能な記録層を含む膜が形成され、前記記録層を含む膜
上に接着層を介して光透過保護層が形成され、前記基板
の、前記記録層を含む膜の成膜エリアの外周部に対向す
る部位にはミラー部が存在しないことを特徴としてい
る。
An optical recording medium of the present invention for solving the above-mentioned problems is an optical recording medium in which an optical recording layer and a light transmission protective layer are sequentially formed on a disk-shaped substrate, wherein the substrate A film including at least a laser-readable recording layer is formed thereon, and a light transmission protective layer is formed on the film including the recording layer via an adhesive layer. It is characterized in that a mirror portion does not exist in a portion facing the outer peripheral portion of the film forming area.

【0021】また前記基板の、前記記録層を含む膜の成
膜エリアの外周部に対向する部位には、グルーブ又はピ
ットが形成されていることを特徴としている。
Further, a groove or a pit is formed in a portion of the substrate facing the outer peripheral portion of the film forming area of the film including the recording layer.

【0022】また前記基板は、ポリカーボネート又はポ
リオレフィン系樹脂で形成されていることを特徴として
いる。
Further, the substrate is characterized by being formed of a polycarbonate or a polyolefin resin.

【0023】また前記基板上の記録層は、少なくとも反
射層を有し、該反射層はAg合金からなることを特徴と
している。
The recording layer on the substrate has at least a reflective layer, and the reflective layer is made of an Ag alloy.

【0024】また前記接着層は紫外線硬化樹脂又は粘着
性シートからなることを特徴としている。
The adhesive layer is characterized by being made of an ultraviolet curable resin or an adhesive sheet.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した光記録媒
体について、図面を参照しながら詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An optical recording medium to which the present invention is applied will be described below in detail with reference to the drawings.

【0026】図1は本発明の光記録媒体におけるデータ
エリアと成膜エリアとの関係を表し、前記図8と同一部
分は同一符号をもって示している。
FIG. 1 shows the relationship between the data area and the film formation area in the optical recording medium of the present invention. The same parts as those in FIG. 8 are designated by the same reference numerals.

【0027】図1において、半径60mmのディスク基
板1には、グルーブ11のあるデータエリアが半径24
〜58mmの範囲で形成されており、これに加えてその
外周にグルーブ11aが継続して半径58〜59.5m
mの範囲(グルーブ付加エリア)で形成されている。
In FIG. 1, a disk substrate 1 having a radius of 60 mm has a data area having a groove 11 with a radius of 24.
It is formed in the range of up to 58 mm, and in addition to this, the groove 11a continues on the outer periphery thereof and has a radius of 58 to 59.5 m.
It is formed in the range of m (groove addition area).

【0028】成膜エリア(光記録層2を含むエリア)
は、半径18mm〜58.8mmの範囲で成膜されてい
る。光透過保護層4は、成膜エリア上に半径12〜60
mmの範囲で形成される。
Film-forming area (area including optical recording layer 2)
Is formed in a radius range of 18 mm to 58.8 mm. The light transmission protective layer 4 has a radius of 12 to 60 on the film formation area.
It is formed in the range of mm.

【0029】内周データエリアより内側にグルーブエリ
アが存在していたほうが望ましいが、内周成膜エリアに
対して、光透過保護層4が十分に内側までカバーしてい
ることから、内周データエリアより内側にグルーブエリ
アがなくてもかまわない(内周部にミラー部があっても
かまわない)。
It is desirable that the groove area exists inside the inner circumference data area. However, since the light transmission protection layer 4 covers the inner circumference film formation area sufficiently to the inner side, It does not matter if there is no groove area inside the area (it does not matter if there is a mirror part on the inner circumference).

【0030】一方、データエリア外周部は、基板ギリギ
リ(光透過保護層も)まで使用したいこともあり、デー
タエリア外周部には、グルーブ11aが形成されている
必要がある。
On the other hand, the outer peripheral portion of the data area may be used up to the limit of the substrate (also the light transmission protective layer), and therefore the groove 11a needs to be formed in the outer peripheral portion of the data area.

【0031】しかし、このデータエリア外のグルーブ1
1aは、密着性を向上させればよくピットなどの形状で
も可能である。また、グルーブのエリアは成膜エリアを
全て確保していればよく、また基板外周エッジまで続い
てもかまわない。
However, the groove 1 outside this data area
1a may be formed in a shape such as a pit as long as the adhesion is improved. Further, it is sufficient that the film forming area is secured for the groove area, and the groove area may extend to the outer peripheral edge of the substrate.

【0032】図1の成膜エリアは、例えば図7に示すよ
うな成膜装置で形成される。図7において、第1チャン
バーCh1には、反射膜を成膜するためのターゲットが
配してあり、電源としてはDCが用いられている。第2
チャンバーCh2には誘電体膜を成膜するためのターゲ
ットが配してあり電源としてはRFが用いられている。
The film forming area in FIG. 1 is formed by a film forming apparatus as shown in FIG. 7, for example. In FIG. 7, a target for forming a reflective film is arranged in the first chamber Ch1 and DC is used as a power source. Second
A target for forming a dielectric film is arranged in the chamber Ch2, and RF is used as a power source.

【0033】第3チャンバーCh3には記録膜用のター
ゲットが配してありチョッパー機能付きのDCが用いら
れている。第4チャンバーCh4には誘電体膜を成膜す
るためのターゲットが配してあり電源としてはRFが用
いられている。第5チャンバーCh5には誘電体膜を成
膜するためのターゲットが配してあり電源としてはRF
が用いられている。
A target for a recording film is arranged in the third chamber Ch3, and DC with a chopper function is used. A target for forming a dielectric film is arranged in the fourth chamber Ch4, and RF is used as a power source. A target for forming a dielectric film is arranged in the fifth chamber Ch5, and RF is used as a power source.
Is used.

【0034】ただし、これらチャンバーの構成は、次の
図3〜図6で述べるような、膜の構成に依存する。尚図
3〜図6において図2と同一部分は同一符号をもって示
している。
However, the configuration of these chambers depends on the configuration of the film as described in FIGS. 3 to 6 below. 3 to 6, the same parts as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals.

【0035】図3は、記録層7の表面のうち一方(ある
いは両方)に接触して金属又は半金属よりなる層21を
設けた例を示すもので、これにより反射層やヒートシン
ク層等の機能を持たせることができる。
FIG. 3 shows an example in which a layer 21 made of a metal or a semi-metal is provided in contact with one (or both) of the surfaces of the recording layer 7, whereby the functions of the reflection layer, the heat sink layer, etc. Can have

【0036】あるいは、図4に示すように、記録膜7の
一方もしくは両方の表面に第1の誘電体層16aや第2
の誘電体層16bのように金属又は半金属よりなる層2
1a,21bを多層で配してもよい。この場合、その膜
厚を制御することにより、反射率、吸収率等の光学特性
を制御することが可能となり、膜構成の設計が容易とな
る。
Alternatively, as shown in FIG. 4, the first dielectric layer 16a and the second dielectric layer 16a are formed on one or both surfaces of the recording film 7.
Layer 2 made of metal or semi-metal like the dielectric layer 16b of
1a and 21b may be arranged in multiple layers. In this case, by controlling the film thickness, it becomes possible to control the optical characteristics such as reflectance and absorptance, and the film structure can be easily designed.

【0037】また図5のように、図2の光ディスク10
を貼り合わせるか、あるいは基板両面に光記録層2を形
成した構造とすることで、大容量化が可能となる。
Further, as shown in FIG. 5, the optical disk 10 of FIG.
It is possible to increase the capacity by sticking together or by adopting a structure in which the optical recording layer 2 is formed on both surfaces of the substrate.

【0038】上記光ディスクにおける膜形成順序として
は、前記図2のように従来とは逆にディスク基板1上に
反射層5、第1の誘電体層6a、記録層7、第2の誘電
体層6bの順に成膜し、厚さの薄い光透過保護層4を設
けディスク基板とは反対側から記録再生を行うような構
成とする。
The order of film formation in the above-mentioned optical disc is the reverse of the conventional one, as shown in FIG. 2, on the disc substrate 1 on the reflective layer 5, the first dielectric layer 6a, the recording layer 7, and the second dielectric layer. 6b is formed in this order, a thin light transmission protection layer 4 is provided, and recording and reproduction are performed from the side opposite to the disk substrate.

【0039】これにより、厚さの薄い光透過保護層側か
ら記録再生を行うことでスキューマージンを確保しなが
ら対物レンズの開口数を大きくして高記録密度を実現で
きる。
As a result, by performing recording / reproduction from the thin light transmission protection layer side, the numerical aperture of the objective lens can be increased and a high recording density can be realized while ensuring the skew margin.

【0040】前記光記録層2は図1に示すように、その
成膜エリア外径は、基板外径よりも小さく、且つ、成膜
エリア内径は、基板内径よりも大きい。しかも、前記光
透過保護層4ならびに接着層の外径が、成膜エリア外径
よりも大きくしかも基板外径より小さく、且つ、前記光
透過保護層4ならびに接着層の内径が、成膜エリア内径
よりも小さくしかも基板内径よりも大きい。
As shown in FIG. 1, the optical recording layer 2 has a film formation area outer diameter smaller than the substrate outer diameter and a film formation area inner diameter larger than the substrate inner diameter. Moreover, the outer diameters of the light transmission protective layer 4 and the adhesive layer are larger than the outer diameter of the film formation area and smaller than the outer diameter of the substrate, and the inner diameters of the light transmission protection layer 4 and the adhesive layer are the inner diameter of the film formation area. Smaller than and larger than the inner diameter of the substrate.

【0041】上述の構成の光ディスクにおいて、ディス
ク基板(支持基板)1に用いる材料としては、ポリカー
ボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹
脂等のプラスチック材料がコスト等の点で優れている
が、ガラスを用いることもできる。
In the optical disc having the above-mentioned structure, as the material used for the disc substrate (supporting substrate) 1, a plastic material such as a polycarbonate resin, a polyolefin resin, an acrylic resin is excellent in terms of cost, but glass. Can also be used.

【0042】作製には射出成型法(インジェクション
法)や紫外線硬化樹脂を使うフォトポリマー(2P法)
を用いることができる。これ以外にも、所望の形状(例
えば、厚さ1.1mm、直径120mmのディスク形
状)と光学的に十分な基板表面の平滑性が得られる方法
であれば良い。
The injection molding method (injection method) or the photopolymer (2P method) using an ultraviolet curable resin is used for the production.
Can be used. Other than this, any method may be used as long as it has a desired shape (for example, a disk shape with a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm) and an optically sufficient smoothness of the substrate surface.

【0043】ディスク基板1の厚さは特に限定されない
が、特に0.3mm以上1.3mm以下であると好まし
い。基板の厚さが0.3mmより薄いとディスクの強度
が下がったり反りやすくなったりする。逆に1.3mm
より厚いとディスクの厚みがCDやDVDの1.2mm
より厚くなるので、これら全てに対応する駆動装置を商
品化するときに同じディスクトレイを共用できなくなる
可能性がある。
Although the thickness of the disk substrate 1 is not particularly limited, it is preferably 0.3 mm or more and 1.3 mm or less. If the thickness of the substrate is less than 0.3 mm, the strength of the disc may be reduced and the disc may be easily warped. Conversely, 1.3 mm
If it is thicker, the thickness of the disc will be 1.2mm for CD and DVD.
Since it becomes thicker, it may not be possible to share the same disc tray when commercializing a drive device corresponding to all of them.

【0044】また、記録再生のためのレーザーが光透過
保護層4側から入射するため、ディスク基板1の材料を
金属等の非透明材料としてもよい。
Further, since the laser for recording / reproducing enters from the light transmission protection layer 4 side, the material of the disk substrate 1 may be a non-transparent material such as metal.

【0045】また、ディスク基板1の光記録層2が形成
される側の面には凹凸の溝トラックが形成されていても
よい。この溝を案内としてレーザービームがディスク上
の任意の位置へと移動できる。溝形状はスパイラル状、
同心円状、ピット列等、各種の形状が適用可能である。
Further, an uneven groove track may be formed on the surface of the disk substrate 1 on which the optical recording layer 2 is formed. Using this groove as a guide, the laser beam can move to any position on the disk. The groove shape is spiral,
Various shapes such as concentric circles and pit rows can be applied.

【0046】上記光透過保護層4は、記録再生を行うレ
ーザーの波長に対して吸収能を有しない材料からなるこ
とが好ましく、具体的には透過率は90%以上の材料と
する。かつ光透過保護層4の厚さは0.3mm以下とす
ることが好ましい。特に、厚さを3μm〜177μmと
し、高い開口数NA(例えば0.85)と組み合わせる
ことで、これまでにない高密度記録を実現することがで
きる。例えば、透過層材料として使用される材料には、
ポリカーボネート樹脂やポリオレフィン系樹脂などがあ
る。
The light transmission protection layer 4 is preferably made of a material that does not have the ability to absorb the wavelength of the laser for recording / reproducing, and specifically, the material having a transmittance of 90% or more. In addition, the thickness of the light transmission protective layer 4 is preferably 0.3 mm or less. In particular, by setting the thickness to 3 μm to 177 μm and combining it with a high numerical aperture NA (for example, 0.85), it is possible to realize high density recording that has never been achieved. For example, the material used as the transmission layer material includes
Examples include polycarbonate resin and polyolefin resin.

【0047】そして、これらポリカーボネート樹脂は押
し出し装置に投入し、ヒーターにより溶融してシート状
に押し出し、複数個の冷却ロールを使用してシートにさ
れ、基板形状に合わされた形状に裁断される。
Then, these polycarbonate resins are put into an extrusion device, melted by a heater and extruded into a sheet, formed into a sheet by using a plurality of cooling rolls, and cut into a shape matched to the shape of the substrate.

【0048】また、光透過保護層4の表面上にゴミが付
着したり、キズがついたりすることを防止する目的で、
有機系あるいは無機系の材料からなる保護膜をさらに形
成してもよい。この場合も記録再生を行うレーザーの波
長に対して吸収能を殆ど有しない材料が望ましい。
Further, in order to prevent dust from adhering to the surface of the light transmission protective layer 4 or scratches,
You may further form the protective film which consists of organic type or inorganic type material. Also in this case, it is desirable to use a material having almost no absorptivity with respect to the wavelength of the laser for recording and reproducing.

【0049】上述の光透過保護層4側から記録再生を行
う光ディスクの作製法としては、大きく分けて以下の二
つの方法を用いることができる。第一の方法は、案内溝
が形成されたディスク基板1上に多層膜を積層し、最後
に平滑な光透過保護層4を形成する方法である。光透過
保護層4の形成方法としては、例えば、厚さ100μm
以下のポリカーボネート、ポリオレフィン系樹脂等から
なる光学的に十分平滑な光透過性のシート(フィルム)
を紫外線硬化樹脂を接着剤とし紫外線照射により貼り合
わせる方法、もしくは粘着性の機能を有するシートを介
し貼り合わせる方法を用いることができる。
The following two methods can be roughly classified as a method of manufacturing an optical disk for recording and reproducing from the side of the light transmission protection layer 4 described above. The first method is a method in which a multilayer film is laminated on the disk substrate 1 in which the guide groove is formed, and finally the smooth light transmission protective layer 4 is formed. The method for forming the light transmission protective layer 4 is, for example, 100 μm in thickness.
Optically sufficiently smooth light-transmitting sheet (film) made of the following polycarbonate, polyolefin resin, etc.
It is possible to use a method of bonding with a UV-curable resin as an adhesive by irradiation with ultraviolet rays, or a method of bonding with a sheet having an adhesive function.

【0050】第二の方法は、案内溝が形成された光透過
保護層4上に多層膜を積層し、最後に平滑なディスク基
板1を形成する方法である。例えば厚さ100μm以下
の光透過保護層4に凹凸の溝トラックを形成する方法と
しては、射出成型(インジェクション)法、フォトポリ
マー法(2P法)、圧着・加圧により凹凸の転写する方
法等を用いることができる。
The second method is a method in which a multilayer film is laminated on the light transmission protection layer 4 in which the guide groove is formed, and finally the smooth disk substrate 1 is formed. For example, as a method of forming a groove track of unevenness in the light transmission protective layer 4 having a thickness of 100 μm or less, an injection molding (injection) method, a photopolymer method (2P method), a method of transferring unevenness by pressure bonding / pressurization, etc. Can be used.

【0051】ただし、光透過保護層4上に凹凸を形成す
る工程あるいは多層膜を成膜する工程は必ずしも容易で
はないので、量産等を考えた場合には前記第一の方法を
用いるほうが有利である。
However, the step of forming irregularities or the step of forming a multilayer film on the light transmission protective layer 4 is not always easy, so that the first method is advantageous when mass production is considered. is there.

【0052】上記各構成の光ディスクにおいて、記録材
料層は、アモルファス状態と結晶状態の可逆的相変化を
生じる相変化材料により形成される。
In the optical disc having each of the above-mentioned configurations, the recording material layer is formed of a phase change material which causes a reversible phase change between an amorphous state and a crystalline state.

【0053】例示するならば、Te,Se,Ge−Sb
−Te,Ge−Te,Sb−Te,In−Sb−Te,
Ag−In−Sb−Te,Au−In−Sb−Te,G
e−Sb−Te−Pd,Ge−Sb−Te−Se,In
−Sb−Se,Bi−Te,Bi−Se,Sb−Se,
Ge−Sb−Te−Bi,Ge−Sb−Te−Co,G
e−Sb−Te−Auを含む系、あるいはこれらの系に
窒素、酸素などのガス添加物を導入した系等を挙げるこ
とができる。
For example, Te, Se, Ge-Sb
-Te, Ge-Te, Sb-Te, In-Sb-Te,
Ag-In-Sb-Te, Au-In-Sb-Te, G
e-Sb-Te-Pd, Ge-Sb-Te-Se, In
-Sb-Se, Bi-Te, Bi-Se, Sb-Se,
Ge-Sb-Te-Bi, Ge-Sb-Te-Co, G
Examples thereof include systems containing e-Sb-Te-Au, and systems in which gas additives such as nitrogen and oxygen are introduced into these systems.

【0054】特に、使用されるレーザー、線速度におい
て、結晶化が不可能となる結晶化速度を持った材料が好
ましく、これらのうち、特に好適なのはSb−Te系を
主成分とする材料であり、Sb/Te比率が2.6以下
であるものが好ましい。これに任意の元素例えばSeや
Pd、あるいはGeやIn、窒素、酸素等を添加したも
のも好適である。
In particular, a material having a crystallization rate at which crystallization is impossible with the laser and the linear velocity used is preferable, and among these, a material having an Sb-Te system as a main component is particularly preferable. , Sb / Te ratio of 2.6 or less is preferable. It is also preferable to add any element such as Se or Pd, or Ge or In, nitrogen or oxygen.

【0055】また、本発明においては、装置による逆成
膜時の異常放電防止に関わることから、相変化材料だけ
でなく、Tb−Fe系、Te−FeCo系、Gd−Fe
系、Gd−FeCo系光磁気記録材料や、Al合金やA
g合金を反射膜として用いたROMなどにおいても同様
の効果が容易に予想されることから、相変化記録材料に
限定されるものではない。
Further, in the present invention, since it relates to the prevention of abnormal discharge at the time of reverse film formation by the apparatus, not only the phase change material but also Tb-Fe system, Te-FeCo system, Gd-Fe system.
-Based, Gd-FeCo-based magneto-optical recording materials, Al alloys and A
The same effect can be easily expected in a ROM or the like using a g-alloy as a reflective film, and thus the present invention is not limited to the phase change recording material.

【0056】本相変化記録メディアでは、使用されるレ
ーザー、線速度において、結晶化が不可能となる結晶化
速度を持った相変化記録膜からなることを特徴としてお
り、レーザービームの強弱により、アモルファス状態を
作り出し、この状態変化による反射率等の光学的変化を
利用して、記録、再生の動作を行うことが可能になる。
尚一般的には、成膜後、低波長、大パワーレーザーを用
いて、十分な結晶化時間を与えて一旦結晶化(一般に初
期化を呼ぶ)されている。
The present phase change recording medium is characterized in that it is composed of a phase change recording film having a crystallization rate at which crystallization becomes impossible at the laser and linear velocity used. It is possible to perform an operation of recording and reproducing by creating an amorphous state and utilizing an optical change such as reflectance due to this state change.
In general, after film formation, a low wavelength, high power laser is used to give sufficient crystallization time to once perform crystallization (generally referred to as initialization).

【0057】なお、記録層7は図3に示すように連続す
る2層以上の異なる層(材料、組成、複素屈折率のいず
れかが異なる)で構成してもよい。
The recording layer 7 may be composed of two or more continuous layers (different in material, composition or complex refractive index) as shown in FIG.

【0058】金属あるいは半金属よりなる反射層5は、
例えば反射としての機能を考えた場合には、記録再生用
レーザーの波長に対して反射能を有し、熱伝導率が0.
0004[J/(cm・K・s)]〜4.5[J/(c
m・K・s)]なる値を有する金属元素、半金属元素お
よびそれらの化合物あるいは混合物からなることが好ま
しい。
The reflective layer 5 made of metal or semimetal is
For example, in the case of considering the function as reflection, it has a reflectivity for the wavelength of the recording / reproducing laser and has a thermal conductivity of 0.
0004 [J / (cm · K · s)] to 4.5 [J / (c
m · K · s)], a metal element, a metalloid element, and a compound or mixture thereof.

【0059】具体的に例示するならば、Al,Ag,A
u,Ni,Cr,Ti,Pd,Co,Si,Ta,W,
Mo,Ge等の単体、あるいはこれらを主成分とする合
金を挙げることが出来る。これらのうち、特にAl系、
Ag系、Au系、Si系、Ge系の材料が実用性の面か
ら好ましい。合金としては、例えばAl−Ti,Al−
Cr,Al−Co,Al−Mg−Si,Ag−Pd−C
u,Ag−Pd−Ti,Si−B等が挙げられる。
As a specific example, Al, Ag, A
u, Ni, Cr, Ti, Pd, Co, Si, Ta, W,
Examples include simple substances such as Mo and Ge, or alloys containing these as the main components. Among these, especially Al-based,
Ag-based, Au-based, Si-based, and Ge-based materials are preferable in terms of practicality. As the alloy, for example, Al-Ti, Al-
Cr, Al-Co, Al-Mg-Si, Ag-Pd-C
u, Ag-Pd-Ti, Si-B and the like.

【0060】これらの材料を光学特性および熱特性を考
慮し設定する。一般には材料の膜厚を光が透過しない程
度の厚さ(例えば50nm以上)に設定すると、反射率
が高くなりまた熱が逃げやすくなる。特にAl系やAg
系材料は単波長領域においても高反射率を有する(たと
えばλ=400nmのとき80%以上)ので好適であ
る。また、図6に示すように、金属あるいは半金属より
なる層(反射層)を第1の反射層15aと第2の反射層
15bの2層膜とすることも可能である。更に2層以上
の多層構造とすることも可能である。これにより光学設
計がし易くなり、かつ熱特性とのバランスも取りやすく
なる。
These materials are set in consideration of optical characteristics and thermal characteristics. Generally, when the thickness of the material is set to a thickness at which light is not transmitted (for example, 50 nm or more), the reflectance becomes high and heat easily escapes. Especially Al-based and Ag
The system material is suitable because it has a high reflectance even in a single wavelength region (for example, 80% or more when λ = 400 nm). Further, as shown in FIG. 6, the layer (reflection layer) made of metal or metalloid may be a two-layer film of the first reflection layer 15a and the second reflection layer 15b. Further, it is also possible to have a multilayer structure of two or more layers. This facilitates optical design and balances with thermal characteristics.

【0061】誘電体層6a,6bに用いる材料として
は、記録再生用レーザーの波長に対して吸収能のないも
のが望ましく、具体的には消衰係数kの値が0.3以下
である材料が好ましい。かかる材料としては、例えばZ
nS−SiO2混合体(特にモル比約4:1)を挙げる
ことが出来る。ただし、ZnS−SiO2混合体以外に
も従来より光記録媒体に用いられている材料がいずれも
誘電体層に適用可能である。
As a material used for the dielectric layers 6a and 6b, a material having no absorption ability with respect to the wavelength of the recording / reproducing laser is desirable, and specifically, a material having an extinction coefficient k of 0.3 or less. Is preferred. As such a material, for example, Z
nS-SiO 2 mixture (about particular molar ratio of 4: 1) can be mentioned. However, other than the ZnS—SiO 2 mixture, any material conventionally used for optical recording media can be applied to the dielectric layer.

【0062】例えば、Al,Si,Ta,Ti,Zr,
Nb,Mg,B,Zn,Pb,Ca,La,Ge等の金
属および半金属等の元素の窒化物、酸化物、炭化物、フ
ッ化物、硫化物、窒酸化物、窒炭化物、酸炭化物等から
なる層およびこれらを主成分とする層を用いることが出
来る。具体的には、AINx(0.5≦x≦1)、特に
AIN,Al23-x(0≦x≦1)、特にAl23,S
34-x(0≦x≦1)、特にSi34,SiOx(1
≦x≦2)、特にSiO2,SiO,MgO,Y 23
MgAl24,TiOx(1≦x≦2)、特にTiO2
BaTiO3,StTiO3,Ta25-x(0≦x≦
1)、特にTa25,GeOx(1≦x≦2),Si
C,ZnS,PbS,Ge−N,Ge−N−O,Si−
N−O,CaF2,LaF,MgF2,NaF,ThF4
等を挙げることが出来る。これらからなる層およびこれ
らを主成分とする層が適用可能である。あるいはこれら
の混合物、例えばAlN−SiO2からなる層を誘電体
層とすることも可能である。
For example, Al, Si, Ta, Ti, Zr,
Gold such as Nb, Mg, B, Zn, Pb, Ca, La, Ge
Nitrides, oxides, carbides, metals of elements such as metals and metalloids
From fluoride, sulfide, oxynitride, nitrocarbide, oxycarbide, etc.
It is possible to use a layer consisting of
come. Specifically, AINx(0.5 ≦ x ≦ 1), especially
AIN, Al2O3-x(0 ≦ x ≦ 1), especially Al2O3, S
i3N4-x(0 ≦ x ≦ 1), especially Si3NFour, SiOx(1
≦ x ≦ 2), especially SiO2, SiO, MgO, Y 2O3
MgAl2OFour, TiOx(1 ≦ x ≦ 2), especially TiO2
BaTiO3, StTiO3, Ta2O5-x(0 ≦ x ≦
1), especially Ta2OFive, GeOx(1 ≦ x ≦ 2), Si
C, ZnS, PbS, Ge-N, Ge-NO, Si-
NO, CaF2, LaF, MgF2, NaF, ThFFour
Etc. can be mentioned. Layer consisting of these and this
A layer containing them as a main component is applicable. Or these
A mixture of, for example, AlN-SiO2A layer consisting of a dielectric
It can also be a layer.

【0063】次に本発明のより具体的な実施形態例を説
明する。
Next, a more specific embodiment of the present invention will be described.

【0064】(実施形態例1)本実施形態例の光記録媒
体におけるデータエリアと成膜エリアとの関係は図1の
とおりである。すなわち、半径60mmのディスク基板
1に、グルーブ11のあるデータエリアを半径24〜5
8mmの範囲で形成し、これに加えてその外周にグルー
ブ11aを継続して半径58〜59.5mmの範囲(グ
ルーブ付加エリア)で形成し、成膜エリア(光記録層2
を含むエリア)を半径18mm〜58.8mmの範囲で
成膜し、光透過保護層4を、成膜エリア上に半径12〜
60mmの範囲で形成する。
(Embodiment 1) The relationship between the data area and the film formation area in the optical recording medium of this embodiment is as shown in FIG. That is, a disk substrate 1 having a radius of 60 mm has a data area having a groove 11 with a radius of 24 to 5
In addition to this, the groove 11a is continuously formed on the outer periphery thereof in the range of a radius of 58 to 59.5 mm (groove addition area) to form a film forming area (optical recording layer 2).
Area) including a radius of 18 mm to 58.8 mm, and the light transmission protection layer 4 is formed on the deposition area with a radius of 12 mm to 58.8 mm.
It is formed in the range of 60 mm.

【0065】上記メディアを図7の成膜装置を用いて以
下のように成膜した。第1チャンバーCh1には、DC
電源が配置され、ターゲットにはAg合金が配してあ
り、第2チャンバーCh2にはRF電源が配置され、タ
ーゲットはZnS−SiO2膜がついている。第3チャ
ンバーCh3にはDC電源が配置され、ターゲットはS
bTe系記録膜がついている。第4,第5チャンバーC
h4,Ch5にはRF電源が配置されターゲットはZn
S−SiO2がついている。各ターゲットは、φ200
である。
A film was formed on the above medium by using the film forming apparatus shown in FIG. DC in the first chamber Ch1
Power is disposed on the target Yes by arranging the Ag alloy, the second chamber Ch2 is arranged RF power, target marked with ZnS-SiO 2 film. A DC power source is arranged in the third chamber Ch3, and the target is S
A bTe recording film is attached. 4th and 5th chamber C
An RF power source is placed on h4 and Ch5, and the target is Zn.
S-SiO 2 is attached. Each target is φ200
Is.

【0066】尚、枚様式のスパッタマシンでの成膜条件
は次のとおりである。
The film forming conditions for the single-wafer sputtering machine are as follows.

【0067】・プロセス開始真空度 9E−5mbar ・各プロセスの条件 Ag…Arガス20sccm、ガス圧 4e−3mba
r、PW 3kW、ZnS−SiO2…Arガス12s
ccm、ガス圧 3e−3mbar、PW 4.5k
W、SbTe系記録膜…Arガス20sccm、ガス圧
2.5e−3mbar、PW 0.7kW 各ターゲットの直径はφ200mm。
[Process start vacuum degree 9E-5 mbar] Conditions of each process Ag ... Ar gas 20 sccm, gas pressure 4e-3 mbar
r, PW 3kW, ZnS-SiO 2 ... Ar gas 12s
ccm, gas pressure 3e-3 mbar, PW 4.5k
W, SbTe recording film ... Ar gas 20 sccm, gas pressure 2.5e-3 mbar, PW 0.7 kW The diameter of each target is 200 mm.

【0068】そして、φ120、厚さ1.1mmのポリ
カーボネートからなる基板を用意した。この基板は、片
面に凹形状のグルーブと呼ばれる溝が設けられている。
この溝間隔(トラックピッチ)は0.32μmである。
データエリアは半径24〜58mmで形成されており、
これに加えてその外周にグルーブが継続して半径58〜
59.5mmで形成されている。
Then, a substrate made of polycarbonate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.1 mm was prepared. This substrate has a groove called a concave groove on one surface.
The groove spacing (track pitch) is 0.32 μm.
The data area has a radius of 24-58 mm,
In addition to this, the groove continues on the outer circumference and the radius is 58 ~
It is formed with 59.5 mm.

【0069】前記基板の凹側に、内周マスク(半径18
mm)、外周マスク(半径58.8mm)を用い、第1
チャンバーCh1にてAg合金をDCで3kWのパワー
で1000Å成膜する。続いて第2チャンバーCh2に
てZnS−SiO2誘電体膜をRFで1kWのパワーで
100Å成膜する。前記ZnS−SiO2上に、第3チ
ャンバーCh3でSbTe系記録膜をDCで700Wで
100Å成膜する。引き続き第4,第5チャンバーCh
4,Ch5でZnS−SiO2膜をRFで4kWのパワ
ーで合わせて450Å成膜する。その後、スパッタ装置
から取り出し、ポリカーボネートからなる光透過層を前
記ZnS−SiO2上に、粘着剤を介して貼り合わせ
た。この時、粘着剤とポリカーボネートシートのトータ
ル厚さは、0.1mmとなるようにした。
On the concave side of the substrate, an inner peripheral mask (radius 18
mm), using a peripheral mask (radius 58.8 mm)
In the chamber Ch1, Ag alloy is deposited by DC at a power of 3 kW and 1000 Å. Followed by the second chamber Ch2 in ZnS-SiO 2 dielectric film is 100Å deposited with 1kW of power at RF. An SbTe-based recording film is formed on the ZnS-SiO 2 in the third chamber Ch3 by DC at 700 W and 100 Å. Continue to the 4th and 5th chamber Ch
A ZnS-SiO 2 film of 4 and Ch 5 is formed by RF with a power of 4 kW and a total thickness of 450 Å. Then, it was taken out from the sputtering apparatus, and the light transmission layer made of polycarbonate was bonded onto the ZnS-SiO 2 via an adhesive. At this time, the total thickness of the adhesive and the polycarbonate sheet was set to 0.1 mm.

【0070】(比較例)図8に示すように、データエリ
ア外周部にグルーブ形状がなく、いわゆるミラー部12
が形成されたディスク基板1に前記実施形態例と同様に
成膜を行った。
(Comparative Example) As shown in FIG. 8, there is no groove shape in the outer peripheral portion of the data area, and the so-called mirror portion 12 is formed.
A film was formed on the disk substrate 1 on which was formed in the same manner as in the above-described embodiment.

【0071】次に実施形態例1と比較例とで、腐食の経
過観察を行った。
Next, in Embodiment 1 and Comparative Example, the progress of corrosion was observed.

【0072】実験条件は、80℃85%で500hr経
過である。
The experimental conditions are 80 ° C. and 85% for 500 hours.

【0073】その結果、データエリア部の腐食において
は、差異が見られないものの、外周部において比較例で
は、侵食性の腐食が観察された。
As a result, although no difference was observed in the corrosion of the data area, erosive corrosion was observed in the comparative example in the outer peripheral portion.

【0074】これは、本発明によるデータエリア外周部
のグルーブ形状付加(11a)により、反射膜(反射層
5)と基板1との密着性が向上し、外周エッジ部腐食が
防げたものと考えられる。
It is considered that the groove shape addition (11a) at the outer peripheral portion of the data area according to the present invention improves the adhesion between the reflective film (reflective layer 5) and the substrate 1 and prevents the outer peripheral edge corrosion. To be

【0075】このような密着性の問題は通常の順成膜に
おいては問題なかった。これは、基板と誘電体膜の密着
性が良かったこと、また光透過保護層のような、ストレ
スのかかるものの影響がなかったためと考えられる(光
透過保護層は、ポリカーボネートのシートを、内周部か
ら外周部に向かって貼っていくため、外周部にストレス
がかかった状態となっていると考えられている。)。
Such a problem of adhesion was not a problem in the normal forward film formation. It is considered that this was because the adhesion between the substrate and the dielectric film was good, and there was no influence of a stressed material such as a light transmission protective layer (the light transmission protective layer was formed by using a polycarbonate sheet on the inner surface). It is believed that the outer peripheral part is under stress because it is pasted from the part to the outer peripheral part.).

【0076】(実施形態例2)図8に示す通常の成膜前
の基板を用意し、そのデータエリア部をマスキングし、
外周部のみ露出させ、これをスパッタリング装置で逆ス
パッタによりエッチング処理を施した。逆スパッタの条
件は、Ar 20sccm、3mTorrとし、RFP
W 0.3kWで8分行った。
(Embodiment 2) A normal substrate before film formation shown in FIG. 8 is prepared, and its data area is masked.
Only the outer peripheral portion was exposed, and this was subjected to etching treatment by reverse sputtering with a sputtering device. Reverse sputtering conditions were Ar 20 sccm, 3 mTorr, RFP
It was carried out at W 0.3 kW for 8 minutes.

【0077】上記メディアを実施形態例1と同様に成膜
したところ、耐食性結果は、実施形態例1と同じ結果と
なった。
When the above media was formed into a film in the same manner as in Embodiment 1, the corrosion resistance results were the same as in Embodiment 1.

【0078】この実施形態例2では、成形後の基板をエ
ッチングしているが、生産性において問題がある。当然
生産性を考慮した場合、同様の効果を得る方法として、
スタンパーにおけるデータエリア外部をエッチングや、
ヤスリ等で荒らす方法を採用する。
In the second embodiment, the molded substrate is etched, but there is a problem in productivity. Of course, when productivity is taken into consideration, as a method to obtain the same effect,
Etching outside the data area in the stamper,
Use a method of rubbing with a file.

【0079】[0079]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板上
の、記録層を含む膜の成膜エリアの外周部に対向する部
位に、ミラー部を存在させないようにしたので、基板上
に最初に反射膜を成膜する、いわゆる逆成膜により製造
される光記録媒体において、基板と膜の密着性が向上
し、外周部からの腐食を防止することができる。
As described above, according to the present invention, the mirror portion is not present at the portion of the substrate facing the outer peripheral portion of the film formation area including the recording layer. In an optical recording medium manufactured by so-called reverse film formation in which a reflective film is first formed, the adhesion between the substrate and the film is improved and corrosion from the outer peripheral portion can be prevented.

【0080】特に基板の、前記成膜エリアの外周部に対
向する部位にグルーブ又はピットを形成した場合は、垂
直面積が増えてアンカー効果により密着性が向上し、外
周部からの腐食を防止できる。
In particular, when a groove or pit is formed in a portion of the substrate facing the outer peripheral portion of the film forming area, the vertical area increases, the adhesion is improved by the anchor effect, and corrosion from the outer peripheral portion can be prevented. .

【0081】このように基板とその上に形成される反射
膜との密着性が向上されるので、密着性が悪いとされ
る、ポリカーボネート又はポリオレフィン系樹脂を基板
材料として用いることができ、これによって成形し易
く、変質が少なく、またコストを下げられるという効果
が得られる。
Since the adhesion between the substrate and the reflection film formed thereon is improved in this way, polycarbonate or polyolefin resin, which is considered to have poor adhesion, can be used as the substrate material. The advantages are that it is easy to mold, there is little deterioration, and the cost is reduced.

【0082】また同様の理由により、密着性の悪いAg
合金を反射層として用いることができ、これによって反
射率特性が向上する。
For the same reason, Ag having poor adhesion is used.
Alloys can be used as the reflective layer, which improves the reflectance properties.

【0083】また接着層を紫外線硬化樹脂又は粘着性シ
ートで構成することにより、製造が容易となる。
Further, by forming the adhesive layer with an ultraviolet curable resin or an adhesive sheet, the production becomes easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態例を示す光ディスクの断面
図。
FIG. 1 is a sectional view of an optical disc showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明を適用する光ディスクの構成の一例を示
す要部断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of an essential part showing an example of the configuration of an optical disc to which the present invention is applied.

【図3】本発明を適用する光ディスクの構成の他の例を
示す要部断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of main parts showing another example of the configuration of an optical disc to which the present invention is applied.

【図4】本発明を適用する光ディスクの構成の他の例を
示す要部断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view of main parts showing another example of the configuration of an optical disc to which the present invention is applied.

【図5】本発明を適用する光ディスクの構成の他の例を
示す要部断面図。
FIG. 5 is a sectional view of an essential part showing another example of the configuration of the optical disc to which the present invention is applied.

【図6】本発明を適用する光ディスクの構成の他の例を
示す要部断面図。
FIG. 6 is a sectional view of an essential part showing another example of the configuration of the optical disc to which the present invention is applied.

【図7】本発明の光記録媒体を製造する成膜装置の一例
を示す構成図。
FIG. 7 is a configuration diagram showing an example of a film forming apparatus for manufacturing the optical recording medium of the present invention.

【図8】従来の光ディスクの一例を示す断面図。FIG. 8 is a sectional view showing an example of a conventional optical disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ディスク基板、2…光記録層、3…接着層、4…光
透過保護層、5,15a,15b…反射層、6a,6
b,16a,16b…誘電体層、7…記録層、10…光
ディスク、11,11a…グルーブ、12…ミラー部、
21,21a,21b…金属あるいは半金属層。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Disk substrate, 2 ... Optical recording layer, 3 ... Adhesive layer, 4 ... Light transmission protective layer, 5, 15a, 15b ... Reflective layer, 6a, 6
b, 16a, 16b ... Dielectric layer, 7 ... Recording layer, 10 ... Optical disk, 11, 11a ... Groove, 12 ... Mirror section,
21, 21a, 21b ... Metal or metalloid layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 G11B 7/24 538F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (51) Int.Cl. 7 Identification Code FI Theme Coat (Reference) G11B 7/24 G11B 7/24 538F

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円盤状の基板に光記録層および光透過保
護層を順次形成してなる光記録媒体において、 前記基板上に、少なくともレーザーにより読み込み可能
な記録層を含む膜が形成され、 前記記録層を含む膜上に接着層を介して光透過保護層が
形成され、 前記基板の、前記記録層を含む膜の成膜エリアの外周部
に対向する部位にはミラー部が存在しないことを特徴と
する光記録媒体。
1. An optical recording medium in which an optical recording layer and a light transmission protective layer are sequentially formed on a disk-shaped substrate, wherein a film including at least a laser-readable recording layer is formed on the substrate, A light transmission protective layer is formed on the film including the recording layer via an adhesive layer, and a mirror portion does not exist at a portion of the substrate facing the outer peripheral portion of the film formation area of the film including the recording layer. Characteristic optical recording medium.
【請求項2】 前記基板の、前記記録層を含む膜の成膜
エリアの外周部に対向する部位には、グルーブ又はピッ
トが形成されていることを特徴とする請求項1に記載の
光記録媒体。
2. The optical recording according to claim 1, wherein a groove or a pit is formed in a portion of the substrate facing the outer peripheral portion of the film formation area of the film including the recording layer. Medium.
【請求項3】 前記基板は、ポリカーボネート又はポリ
オレフィン系樹脂で形成されていることを特徴とする請
求項1に記載の光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the substrate is formed of polycarbonate or polyolefin resin.
【請求項4】 前記基板上の記録層は、少なくとも反射
層を有し、該反射層はAg合金からなることを特徴とす
る請求項1に記載の光記録媒体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer on the substrate has at least a reflective layer, and the reflective layer is made of an Ag alloy.
【請求項5】 前記接着層は紫外線硬化樹脂又は粘着性
シートからなることを特徴とする請求項1に記載の光記
録媒体。
5. The optical recording medium according to claim 1, wherein the adhesive layer is made of an ultraviolet curable resin or an adhesive sheet.
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