JP2003109527A - Display device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子源素子を用い
た画像表示装置（ディスプレイ装置）や平面発光装置な
どの表示装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device such as an image display device (display device) or a flat light emitting device using an electron source element.
【０００２】[0002]
【従来の技術】この種の表示装置として、図１２および
図１３に示す構成のパネル本体を有するディスプレイ装
置が提案されている。このパネル本体は、一表面側にお
いて多数個の電子源素子１０がマトリクスの格子点に配
設された平板状のガラス基板よりなるリヤプレート２０
と、平板状のガラス基板よりなるフェースプレート３０
との間に矩形枠状の支持用スペーサ４０を介在させてリ
ヤプレート２０とフェースプレート３０と支持用スペー
サ４０とで囲まれる空間を真空に保つように構成されて
いる。なお、図示していないが、フェースプレート３０
におけるリヤプレート２０との対向面にはＩＴＯ膜より
なるコレクタ電極（透明電極）が形成されるとともに、
コレクタ電極におけるリヤプレート２０との対向面に、
複数のピクセル（画素）が形成されており、各電子源素
子１０はそれぞれ１つの蛍光体セル（蛍光体層）からな
るサブピクセル３２毎に配設されている。つまり、１つ
の電子源素子１０に対して１つのサブピクセル３２がリ
ヤプレート２０の厚み方向において重なるように配設さ
れている。ここに、各ピクセルは、３原色であるＲ，
Ｇ，Ｂそれぞれを発光する３つのサブピクセル３２によ
り構成されている。2. Description of the Related Art As a display device of this type, a display device having a panel body having the structure shown in FIGS. 12 and 13 has been proposed. The panel body includes a rear plate 20 made of a flat glass substrate on one surface side of which a large number of electron source elements 10 are arranged at lattice points of a matrix.
And a face plate 30 made of a flat glass substrate
A supporting frame 40 having a rectangular frame shape is interposed between and to maintain a space surrounded by the rear plate 20, the face plate 30 and the supporting spacer 40 in a vacuum. Although not shown, the face plate 30
A collector electrode (transparent electrode) made of an ITO film is formed on the surface facing the rear plate 20 in
On the surface of the collector electrode facing the rear plate 20,
A plurality of pixels (pixels) are formed, and each electron source element 10 is arranged for each sub-pixel 32 including one phosphor cell (phosphor layer). That is, one sub-pixel 32 is arranged so as to overlap one electron source element 10 in the thickness direction of the rear plate 20. Here, each pixel has three primary colors R,
It is composed of three sub-pixels 32 that respectively emit G and B.
【０００３】また、上述のディスプレイ装置では、フェ
ースプレート３０とリヤプレート２０と支持用スペーサ
４０とで囲まれる気密空間が真空状態に保たれるので、
表示領域（画面）の大面積化を図っても大気圧によって
フェースプレート３０およびリヤプレート２０が変形し
て破損しないように、リヤプレート２０とフェースプレ
ート３０との間に支持用スペーサ４０とは別に補強用ス
ペーサ４１を介在させてある。Further, in the above-mentioned display device, the airtight space surrounded by the face plate 30, the rear plate 20, and the supporting spacer 40 is kept in a vacuum state,
In order to prevent the face plate 30 and the rear plate 20 from being deformed and damaged by the atmospheric pressure even if the display area (screen) is enlarged, a support spacer 40 is separately provided between the rear plate 20 and the face plate 30. A reinforcing spacer 41 is interposed.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来構
成では、パネル本体の製造時にリヤプレート２０とフェ
ースプレート３０との間に補強用スペーサ４１を介在さ
せてから真空引きする必要がある。しかしながら、補強
用スペーサ４１はピクセルないしサブピクセル３２が損
傷せず且つ輝度を確保するための開口率が低下しないよ
うに、非常に薄い短冊状（板状）に形成し且つ高精度に
位置合わせして立設する必要があるので、補強用スペー
サ４１の配置に手間がかかり、しかも、補強用スペーサ
４１を設けていない場合に比べて排気コンダクタンスが
低下して真空引きの時間が長くなってしまうので、製造
時間が長くなってしまうという不具合があった。特に、
パネル本体の表示領域を大面積化しようとすれば、補強
用スペーサ４１の個数が増大して手間が増えるだけでな
く歩留まりが低下してコストアップにつながるという不
具合があった。また、パネル本体内で補強用スペーサ４
１を介した放電が起こり電子源素子１０や蛍光体層が損
傷を受けて寿命が短くなってしまうという不具合があっ
た。By the way, in the above-described conventional structure, it is necessary to interpose the reinforcing spacer 41 between the rear plate 20 and the face plate 30 before manufacturing the panel body, and then to evacuate. However, the reinforcing spacer 41 is formed in a very thin strip shape (plate shape) and aligned with high accuracy so that the pixel or the sub-pixel 32 is not damaged and the aperture ratio for securing the brightness is not lowered. Since it is necessary to stand upright, it takes a lot of time to arrange the reinforcing spacer 41, and moreover, the exhaust conductance is lowered and the evacuation time becomes longer as compared with the case where the reinforcing spacer 41 is not provided. However, there is a problem that the manufacturing time becomes long. In particular,
If an attempt is made to increase the area of the display area of the panel body, there is a problem in that the number of reinforcing spacers 41 increases, which not only increases the labor but also reduces the yield and increases the cost. In addition, the reinforcing spacers 4 in the panel body
There is a problem that the electron source element 10 and the phosphor layer are damaged due to the discharge through 1 and the life is shortened.
【０００５】本発明は上記事由に鑑みて為されたもので
あり、その目的は、製造が容易であり且つ長寿命化が可
能な表示装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a display device which is easy to manufacture and has a long life.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、上記
目的を達成するために、電子線を放射させる電子源素子
が一表面側に配設されたリヤプレートと、リヤプレート
に対向配置され電子源素子から放射される電子線により
励起されて発光する蛍光体層が設けられたフェースプレ
ートと、リヤプレートとフェースプレートとの間に介在
する枠状の支持用スペーサとを備え、リヤプレートとフ
ェースプレートと支持用スペーサとで囲まれた空間が真
空に保たれた表示装置であって、リヤプレートを補強す
る補強材がリヤプレートの他表面側に設けられてなるこ
とを特徴とするものであり、リヤプレートにおいて電子
源素子が配設された面とは反対の面側に補強材が設けら
れていることによって、リヤプレートが大気圧によって
破損するのを防止することができるから、従来のように
リヤプレートとフェースプレートとの間に補強用スペー
サを高精度に位置決めして配置する工程が不要になると
ともに、補強用スペーサによる排気コンダクタンスの低
下をなくすことができるから、製造が容易になって歩留
まりを向上できるとともに大面積化が容易になり、しか
も、従来のように補強用スペーサを介した放電による蛍
光体層や電子源素子の損傷が起こることもないから、長
寿命化を図れる。In order to achieve the above object, the invention of claim 1 has a rear plate on which an electron source element for emitting an electron beam is disposed on one surface side, and a rear plate facing the rear plate. The rear plate includes a face plate provided with a phosphor layer that is excited by an electron beam emitted from the electron source element to emit light, and a frame-shaped supporting spacer interposed between the rear plate and the face plate. A display device in which a space surrounded by a face plate and a supporting spacer is kept in a vacuum, and a reinforcing material for reinforcing the rear plate is provided on the other surface side of the rear plate. The rear plate is provided with a reinforcing member on the surface opposite to the surface on which the electron source element is arranged, thereby preventing the rear plate from being damaged by atmospheric pressure. Since it is possible to eliminate the step of positioning and arranging the reinforcing spacer between the rear plate and the face plate with high accuracy as in the conventional case, it is possible to eliminate the decrease in exhaust conductance due to the reinforcing spacer. As a result, manufacturing is facilitated, the yield is improved, and the area is easily enlarged. Moreover, unlike the conventional case, the phosphor layer and the electron source element are not damaged by the discharge through the reinforcing spacer. Therefore, the life can be extended.
【０００７】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、前記補強材は、前記リヤプレートの前記一表面に直
交する方向に延び且つ前記リヤプレートの厚み方向に直
交する断面が一定の規則に従い組織化された補強壁によ
り形成されているので、前記補強材の軽量化を図れ、表
示装置全体の軽量化を図れる。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the reinforcing member extends in a direction orthogonal to the one surface of the rear plate and has a constant cross section orthogonal to a thickness direction of the rear plate. Since the reinforcing wall is organized according to the above, the weight of the reinforcing material can be reduced, and the weight of the entire display device can be reduced.
【０００８】請求項３の発明は、請求項２の発明におい
て、前記補強壁は、前記リヤプレートの厚み方向に直交
する断面が網目状に形成されているので、放熱性を高め
ることができる。According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the invention, the reinforcing wall has a mesh-shaped cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate, so that heat dissipation can be enhanced.
【０００９】請求項４の発明は、請求項２の発明におい
て、前記補強壁は、前記リヤプレートの厚み方向に直交
する断面がハニカム状に形成されているので、放熱性を
高めることができる。According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, since the reinforcing wall is formed in a honeycomb shape in a cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate, heat dissipation can be enhanced.
【００１０】請求項５の発明は、請求項２の発明におい
て、前記補強壁は、前記リヤプレートの厚み方向に直交
する断面がいげた状に形成されているので、放熱性を高
めることができる。According to a fifth aspect of the invention, in the second aspect of the invention, the reinforcing wall is formed in a cross-section that is orthogonal to the thickness direction of the rear plate, so that heat dissipation can be enhanced.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】（実施形態１）本実施形態では、
図１に示す構成のパネル本体を備えたディスプレイ装置
について例示する。パネル本体は、一表面側において多
数個の電子源素子１０がマトリクスの格子点に配設され
た平板状のガラス基板よりなるリヤプレート２０と、平
板状のガラス基板よりなるフェースプレート３０との間
に矩形枠状の支持用スペーサ４０を介在させてリヤプレ
ート２０とフェースプレート３０と支持用スペーサ４０
とで囲まれる空間を真空に保つように構成されている。
なお、図示していないが、フェースプレート３０におけ
るリヤプレート２０との対向面にはＩＴＯ膜よりなるコ
レクタ電極（透明電極）が形成されるとともに、コレク
タ電極におけるリヤプレート２０との対向面に、複数の
ピクセル（画素）が形成されており、各電子源素子１０
はそれぞれ１つの蛍光体セル（蛍光体層）からなるサブ
ピクセル３２毎に配設されている。つまり、１つの電子
源素子１０に対して１つのサブピクセル３２がリヤプレ
ート２０の厚み方向において重なるように配設されてい
る。ここに、各ピクセルは、３原色であるＲ，Ｇ，Ｂそ
れぞれを発光する３つのサブピクセル３２により構成さ
れており、各サブピクセル３２は、電子源素子１０から
放射される電子線により励起されて発光する。(First Embodiment) In the present embodiment,
A display device including the panel body having the configuration shown in FIG. 1 will be exemplified. The panel body includes a rear plate 20 made of a flat glass substrate and a face plate 30 made of a flat glass substrate in which a large number of electron source elements 10 are arranged at lattice points of a matrix on one surface side. With a rectangular frame-shaped supporting spacer 40 interposed between the rear plate 20, the face plate 30, and the supporting spacer 40.
It is configured to maintain a vacuum in the space surrounded by.
Although not shown, a collector electrode (transparent electrode) made of an ITO film is formed on the surface of the face plate 30 facing the rear plate 20, and a plurality of collector electrodes are formed on the surface of the collector electrode facing the rear plate 20. Pixels of each electron source element 10 are formed.
Are arranged for each sub-pixel 32 which is composed of one phosphor cell (phosphor layer). That is, one sub-pixel 32 is arranged so as to overlap one electron source element 10 in the thickness direction of the rear plate 20. Here, each pixel is composed of three sub-pixels 32 which respectively emit the three primary colors R, G, B, and each sub-pixel 32 is excited by an electron beam emitted from the electron source element 10. To emit light.
【００１２】支持用スペーサ４０は、リヤプレート２０
とフェースプレート３０との間の距離を規定距離に保つ
機能を有し、リヤプレート２０およびフェースプレート
３０それぞれに、フリットガラスやエポキシ系の真空用
接着剤などにより接着されている。なお、支持用スペー
サ４０としては、例えばガラス板を用いてもよいし、表
面をほうろうなどにより絶縁処理した金属板を用いても
よい。The support spacer 40 is used for the rear plate 20.
And has a function of keeping the distance between the face plate 30 and the face plate 30 at a specified distance, and is bonded to each of the rear plate 20 and the face plate 30 with frit glass, an epoxy-based vacuum adhesive, or the like. As the supporting spacer 40, for example, a glass plate may be used, or a metal plate whose surface is insulated with enamel or the like may be used.
【００１３】電子源素子１０は、図２に示すように、ガ
ラス基板よりなる絶縁性基板５の一表面側に導電性層
（例えば、金属膜）よりなる下部電極４が形成され、下
部電極４上に半導体層としてノンドープの多結晶シリコ
ン層３が形成され、多結晶シリコン層３上に酸化した多
孔質多結晶シリコン層よりなる強電界ドリフト層６が形
成され、強電界ドリフト層６上に金属薄膜（例えば、金
薄膜）よりなる表面電極７が形成されている。つまり、
電子源素子１０は、表面電極７と下部電極４とが対向し
ており、表面電極７と下部電極４との間に強電界ドリフ
ト層６が介在している。表面電極７の厚さは１０〜１５
ｎｍ程度に設定してある。ところで、本実施形態では、
上述のリヤプレート２０が絶縁性基板５に兼用されてい
る。また、本実施形態では、強電界ドリフト層６と下部
電極４との間に多結晶シリコン層３を介在させてある
が、多結晶シリコン層３を介在させずに下部電極４上に
強電界ドリフト層６を形成した構成を採用してもよい。
なお、図２に示す構成の電子源素子１０の基本構成は本
願発明者らが特許第２９８７１４０号などに提案してい
る。In the electron source element 10, as shown in FIG. 2, a lower electrode 4 made of a conductive layer (for example, a metal film) is formed on one surface side of an insulating substrate 5 made of a glass substrate. An undoped polycrystalline silicon layer 3 is formed thereon as a semiconductor layer, a strong electric field drift layer 6 made of an oxidized porous polycrystalline silicon layer is formed on the polycrystalline silicon layer 3, and a metal is formed on the strong electric field drift layer 6. A surface electrode 7 made of a thin film (for example, a gold thin film) is formed. That is,
In the electron source element 10, the surface electrode 7 and the lower electrode 4 face each other, and the strong electric field drift layer 6 is interposed between the surface electrode 7 and the lower electrode 4. The thickness of the surface electrode 7 is 10 to 15
It is set to about nm. By the way, in this embodiment,
The above-mentioned rear plate 20 is also used as the insulating substrate 5. Further, in the present embodiment, the polycrystalline silicon layer 3 is interposed between the strong electric field drift layer 6 and the lower electrode 4, but the strong electric field drift is formed on the lower electrode 4 without the polycrystalline silicon layer 3 interposed. A structure in which the layer 6 is formed may be adopted.
The inventors of the present application have proposed the basic configuration of the electron source element 10 having the configuration shown in FIG. 2 in Japanese Patent No. 2987140.
【００１４】図２に示す構成の電子源素子１０から電子
を放出させるには、表面電極７に対向してコレクタ電極
９を配置し、表面電極７とコレクタ電極９との間を真空
とした状態で、表面電極７が下部電極４に対して正極
（高電位側）となるように表面電極７と下部電極４との
間に直流電圧Ｖpsを印加するとともに、コレクタ電極９
が表面電極７に対して正極（高電位側）となるようにコ
レクタ電極９と表面電極７との間に直流電圧Ｖｃを印加
する。各直流電圧Ｖps，Ｖｃを適宜に設定すれば、下部
電極４から注入された電子が強電界ドリフト層６をドリ
フトし表面電極７を通して放出される（図２中の一点鎖
線は表面電極７を通して放出された電子ｅ -の流れを示
す）。なお、強電界ドリフト層６の表面に到達した電子
はホットエレクトロンであると考えられ、表面電極７を
容易にトンネルし真空中に放出される。Electrons are emitted from the electron source element 10 having the structure shown in FIG.
The collector electrode facing the front electrode 7
9 is placed, and a vacuum is provided between the surface electrode 7 and the collector electrode 9.
In this state, the surface electrode 7 is positive with respect to the lower electrode 4.
Of the surface electrode 7 and the lower electrode 4 so as to be on the (high potential side).
A DC voltage Vps is applied between the collector electrode 9 and
The positive electrode (high potential side) with respect to the surface electrode 7.
DC voltage Vc is applied between the collector electrode 9 and the surface electrode 7.
To do. If each DC voltage Vps, Vc is set appropriately, the lower part
Electrons injected from the electrode 4 drip the strong electric field drift layer 6.
And is emitted through the surface electrode 7 (one-dot chain in FIG.
The line is an electron e emitted through the surface electrode 7. -Showing the flow of
). The electrons that have reached the surface of the strong electric field drift layer 6
Are considered to be hot electrons, and the surface electrode 7
It easily tunnels and is released into a vacuum.
【００１５】本実施形態の電子源素子１０では、表面電
極７と下部電極４との間に流れる電流をダイオード電流
Ｉpsと呼び、コレクタ電極９と表面電極７との間に流れ
る電流をエミッション電流（放出電子電流）Ｉｅと呼ぶ
ことにすれば（図２参照）、ダイオード電流Ｉpsに対す
るエミッション電流Ｉｅの比率（＝Ｉｅ／Ｉps）が大き
いほど電子放出効率が高いことになる。ここに、本実施
形態における電子源素子１０では、表面電極７と下部電
極４との間に印加する直流電圧Ｖpsを１０〜２０Ｖ程度
の低電圧としても電子を放出させることができる。ま
た、電子源素子１０では、電子放出特性の真空度依存性
が小さく且つ電子放出時にポッピング現象が発生せず安
定して電子を高い電子放出効率で放出することができる
という特徴を有しており、リヤプレート２０とフェース
プレート３０と支持用スペーサ４０とで囲まれた空間の
真空度は１Ｐａ以下に維持すればよい。In the electron source element 10 of this embodiment, the current flowing between the surface electrode 7 and the lower electrode 4 is called a diode current Ips, and the current flowing between the collector electrode 9 and the surface electrode 7 is an emission current ( If the emission current Ie is referred to (see FIG. 2), the larger the ratio of the emission current Ie to the diode current Ips (= Ie / Ips), the higher the electron emission efficiency. Here, in the electron source element 10 of the present embodiment, electrons can be emitted even when the DC voltage Vps applied between the surface electrode 7 and the lower electrode 4 is a low voltage of about 10 to 20V. Further, the electron source element 10 has a feature that the vacuum degree dependence of the electron emission characteristic is small, and the popping phenomenon does not occur during electron emission, and electrons can be stably emitted with high electron emission efficiency. The vacuum degree of the space surrounded by the rear plate 20, the face plate 30, and the supporting spacers 40 may be maintained at 1 Pa or less.
【００１６】強電界ドリフト層６は、図３に示すよう
に、少なくとも、下部電極４の主表面側に列設された柱
状の多結晶シリコンのグレイン（半導体結晶）５１と、
グレイン５１の表面に形成された薄いシリコン酸化膜５
２と、グレイン５１間に介在する多数のナノメータオー
ダのシリコン微結晶（半導体微結晶）６３と、各シリコ
ン微結晶６３の表面に形成され当該シリコン微結晶６３
の結晶粒径よりも小さな膜厚の絶縁膜である多数のシリ
コン酸化膜６４とから構成されると考えられる。すなわ
ち、強電界ドリフト層６は、各グレインの表面が多孔質
化し各グレインの中心部分では結晶状態が維持されてい
ると考えられる。なお、各グレイン５１は、絶縁性基板
５の厚み方向に沿って延びている（つまり、各グレイン
５１は下部電極４の主表面に略直交している）。As shown in FIG. 3, the strong electric field drift layer 6 includes at least columnar polycrystalline silicon grains (semiconductor crystals) 51 arranged in a row on the main surface side of the lower electrode 4.
Thin silicon oxide film 5 formed on the surface of grain 51
2 and a large number of nanometer-order silicon microcrystals (semiconductor microcrystals) 63 interposed between the grains 51, and the silicon microcrystals 63 formed on the surface of each silicon microcrystal 63.
It is considered to be composed of a large number of silicon oxide films 64 which are insulating films having a film thickness smaller than the crystal grain size of That is, in the strong electric field drift layer 6, it is considered that the surface of each grain is made porous and the crystalline state is maintained in the central portion of each grain. Each grain 51 extends along the thickness direction of insulating substrate 5 (that is, each grain 51 is substantially orthogonal to the main surface of lower electrode 4).
【００１７】本実施形態の電子源素子１０では、次のよ
うなモデルで電子放出が起こると考えられる。すなわ
ち、表面電極７と下部電極４との間に表面電極７を高電
位側として直流電圧Ｖpsを印加するとともに、コレクタ
電極９と表面電極７との間にコレクタ電極９を高電位側
として直流電圧Ｖｃを印加することにより、直流電圧Ｖ
psが所定値（臨界値）に達すると、下部電極４から強電
界ドリフト層６へ熱的励起により電子ｅ-が注入され
る。一方、強電界ドリフト層６に印加された電界の大部
分はシリコン酸化膜６４にかかるから、注入された電子
ｅ-はシリコン酸化膜６４にかかっている強電界により
加速され、強電界ドリフト層６におけるグレイン５１の
間の領域を表面に向かって図３中の矢印の向き（図３に
おける上向き）へドリフトし、表面電極７をトンネルし
真空中に放出される。しかして、強電界ドリフト層６で
は下部電極４から注入された電子がシリコン微結晶６３
でほとんど散乱されることなくシリコン酸化膜６４にか
かっている電界で加速されてドリフトし、表面電極７を
通して放出され（弾道型電子放出現象）、強電界ドリフ
ト層６で発生した熱がグレイン５１を通して放熱される
から、電子放出時にポッピング現象が発生せず、安定し
て電子を放出することができるものと考えられる。ここ
において、強電界ドリフト層６の表面に到達した電子は
ホットエレクトロンであると考えられ、表面電極７を容
易にトンネルし真空中に放出される。In the electron source element 10 of this embodiment, it is considered that electron emission occurs in the following model. That is, the DC voltage Vps is applied between the surface electrode 7 and the lower electrode 4 with the surface electrode 7 on the high potential side, and the DC voltage Vps is applied between the collector electrode 9 and the surface electrode 7 on the high potential side. By applying Vc, DC voltage V
When ps reaches a predetermined value (critical value), electrons e − are injected from the lower electrode 4 into the strong electric field drift layer 6 by thermal excitation. On the other hand, most of the electric field applied to the strong electric field drift layer 6 is applied to the silicon oxide film 64, so the injected electrons e − are accelerated by the strong electric field applied to the silicon oxide film 64, and the strong electric field drift layer 6 3 drifts toward the surface in the direction of the arrow in FIG. 3 (upward in FIG. 3), tunnels through the surface electrode 7, and is discharged into a vacuum. Then, in the strong electric field drift layer 6, the electrons injected from the lower electrode 4 are generated by the silicon microcrystal 63.
The particles are accelerated by an electric field applied to the silicon oxide film 64 and are drifted by the surface electrode 7 (ballistic electron emission phenomenon), and the heat generated in the strong electric field drift layer 6 passes through the grains 51. It is considered that the heat is dissipated, so that the popping phenomenon does not occur when the electrons are emitted, and the electrons can be stably emitted. Here, the electrons that have reached the surface of the strong electric field drift layer 6 are considered to be hot electrons, and easily tunnel through the surface electrode 7 and are emitted into a vacuum.
【００１８】なお、上述した電子源素子１０では下部電
極４がリヤプレート２０を兼ねる絶縁性基板５上に形成
された導電性層により構成しているが、例えば図４に示
すように、ｎ形シリコン基板１とｎ形シリコン基板１の
裏面に形成したオーミック電極２とで下部電極４を構成
してもよく、この場合には別途にリヤプレート２０を設
ければよい。In the electron source element 10 described above, the lower electrode 4 is composed of a conductive layer formed on the insulating substrate 5 which also serves as the rear plate 20, but as shown in FIG. The lower electrode 4 may be composed of the silicon substrate 1 and the ohmic electrode 2 formed on the back surface of the n-type silicon substrate 1. In this case, the rear plate 20 may be provided separately.
【００１９】ところで、本実施形態では、透光性材料か
らなる補強材３１がフェースプレート３０の外面（図１
における上面）に被着されている。ここにおいて、補強
材３１は、ガラス板により構成され、透光性を有する接
着剤によってフェースプレート３０の外面に接着されて
いるが、補強材３１を合成樹脂により構成してもよく、
補強材３１を合成樹脂により構成することで、補強材３
１の軽量化を図ることができ、結果的に表示装置全体の
軽量化を図れる。また、フェースプレート３０の厚さを
厚くしたり、或いはフェースプレート３０の機械的強度
を高めたり、あるいは図５に示すようにフェースプレー
ト３０を外面側に凸となる形で湾曲させることによって
フェースプレート３０の外面の補強材３１を省略するこ
とも可能である。By the way, in the present embodiment, the reinforcing material 31 made of a light-transmitting material is used as the outer surface of the face plate 30 (see FIG. 1).
(Upper surface in). Here, the reinforcing material 31 is made of a glass plate and is adhered to the outer surface of the face plate 30 with a translucent adhesive, but the reinforcing material 31 may be made of synthetic resin.
By constructing the reinforcing material 31 from synthetic resin, the reinforcing material 3
The weight of the display device can be reduced, and as a result, the weight of the entire display device can be reduced. Further, by increasing the thickness of the face plate 30, or increasing the mechanical strength of the face plate 30, or by bending the face plate 30 in a convex shape to the outer surface side as shown in FIG. It is also possible to omit the reinforcing material 31 on the outer surface of 30.
【００２０】また、本実施形態では、リヤプレート２０
の他表面（図１における下面）にリヤプレート２０と略
同じ熱膨張係数を有する平板状のガラス板からなる補強
材２１を貼り合わせてある。なお、本実施形態では、補
強材２１としてガラス板を用いているが、リヤプレート
２０と略同じ熱膨張係数を有する平板状の金属板やプラ
スチック板などを用いてもよい。Further, in this embodiment, the rear plate 20
On the other surface (lower surface in FIG. 1), a reinforcing material 21 made of a flat glass plate having a thermal expansion coefficient substantially the same as that of the rear plate 20 is attached. Although the glass plate is used as the reinforcing member 21 in the present embodiment, a flat metal plate or a plastic plate having substantially the same coefficient of thermal expansion as the rear plate 20 may be used.
【００２１】しかして、本実施形態では、リヤプレート
２０において電子源素子１０が配設された面（上記一表
面）とは反対の面（上記他表面）側に補強材２１が設け
られていることによって、リヤプレート２０が大気圧に
よって破損するのを防止することができるから、従来の
ようにリヤプレート２０とフェースプレート３０との間
に補強用スペーサ４１（図１２および図１３参照）を高
精度に位置決めして配置する工程が不要になるととも
に、補強用スペーサ４１による排気コンダクタンスの低
下をなくすことができるから、製造が容易になって歩留
まりを向上できるとともに大面積化が容易になり、しか
も、従来のように補強用スペーサ４１を介した放電によ
るサブピクセル（蛍光体層）３２や電子源素子１０の損
傷が起こることもないから、長寿命化を図れる。また、
フェースプレート３０の外面に補強材３１を設ければ、
フェースプレート３０の外面が保護されることになっ
て、フェースプレート３０の外面に傷がつくのを防止す
ることができ、傷に起因したフェースプレート３０の破
損を防止できる。However, in this embodiment, the reinforcing material 21 is provided on the surface (the other surface) opposite to the surface (the one surface) on which the electron source element 10 is arranged in the rear plate 20. As a result, it is possible to prevent the rear plate 20 from being damaged by the atmospheric pressure. Therefore, the reinforcing spacer 41 (see FIGS. 12 and 13) is provided between the rear plate 20 and the face plate 30 as in the conventional case. Since the step of accurately positioning and arranging becomes unnecessary, and the reduction of the exhaust conductance due to the reinforcing spacer 41 can be eliminated, the manufacturing can be facilitated, the yield can be improved, and the area can be increased easily. As in the conventional case, the sub-pixel (phosphor layer) 32 and the electron source element 10 may not be damaged due to discharge through the reinforcing spacer 41. From, thereby a long life. Also,
If the reinforcing material 31 is provided on the outer surface of the face plate 30,
Since the outer surface of the face plate 30 is protected, it is possible to prevent the outer surface of the face plate 30 from being damaged, and it is possible to prevent the face plate 30 from being damaged due to the damage.
【００２２】（実施形態２）本実施形態の表示装置の基
本構成は実施形態１と略同じであって、図６および図７
に示すように、リヤプレート２０の上記他表面（図６に
おける下面）側に配設された補強材２１がハニカム構造
を有している点に特徴がある。なお、実施形態１と同様
の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。(Embodiment 2) The basic structure of the display device of this embodiment is substantially the same as that of the first embodiment.
As shown in FIG. 6, the reinforcing material 21 arranged on the other surface (lower surface in FIG. 6) of the rear plate 20 has a honeycomb structure. The same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
【００２３】補強材２１は、リヤプレート２０の厚み方
向に直交する断面がハニカム状（蜂の巣状）に形成され
ている。要するに、補強材２１は、リヤプレート２０の
上記一表面に直交する方向に延び且つリヤプレート２０
の厚み方向に直交する断面が一定の規則に従い組織化さ
れた補強壁２１ｂ（図７参照）により形成されており、
リヤプレート２０の厚み方向に貫通した多数の空洞２１
ａ（図７参照）を備えている。The reinforcing member 21 is formed in a honeycomb shape (honeycomb shape) in a cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate 20. In short, the reinforcing member 21 extends in the direction orthogonal to the one surface of the rear plate 20 and the rear plate 20.
The cross section orthogonal to the thickness direction of is formed by the reinforcing wall 21b (see FIG. 7) organized according to a certain rule,
Many cavities 21 penetrating in the thickness direction of the rear plate 20
a (see FIG. 7).
【００２４】なお、補強壁２１ｂは、リヤプレート２０
の厚み方向に直交する断面が網目状に形成されていれば
よく、例えば、図８に示すようないげた構造を有するよ
うに形成されていてもよい。ここに、図８の補強壁２１
ｂはリヤプレート２０の厚み方向に直交する断面がいげ
た状に形成されている。The reinforcing wall 21b is used for the rear plate 20.
It suffices that the cross section orthogonal to the thickness direction is formed in a mesh shape, and for example, it may be formed to have a concave structure as shown in FIG. Here, the reinforcing wall 21 of FIG.
The section b is formed in a cross-section that is orthogonal to the thickness direction of the rear plate 20.
【００２５】しかして、本実施形態では、実施形態１と
同様に、リヤプレート２０において電子源素子１０が配
設された面（上記一表面）とは反対の面（上記他表面）
側に補強材２１が設けられていることによって、リヤプ
レート２０が大気圧によって破損するのを防止すること
ができるから、従来のようにリヤプレート２０とフェー
スプレート３０との間に補強用スペーサ４１（図１２お
よび図１３参照）を高精度に位置決めして配置する工程
が不要になるとともに、補強用スペーサ４１による排気
コンダクタンスの低下をなくすことができるから、製造
が容易になって歩留まりを向上できるとともに大面積化
が容易になり、しかも、従来のように補強用スペーサ４
１を介した放電によるサブピクセル（蛍光体層）３２や
電子源素子１０の損傷が起こることもないから、長寿命
化を図れる。また、フェースプレート３０の外面に補強
材３１を設ければ、フェースプレート３０の外面が保護
されることになって、フェースプレート３０の外面に傷
がつくのを防止することができ、傷に起因したフェース
プレート３０の破損を防止できる。However, in this embodiment, as in the first embodiment, the surface (the above-mentioned other surface) opposite to the surface (the above-mentioned one surface) on which the electron source element 10 is arranged in the rear plate 20.
By providing the reinforcing member 21 on the side, the rear plate 20 can be prevented from being damaged by the atmospheric pressure. Therefore, the reinforcing spacer 41 is provided between the rear plate 20 and the face plate 30 as in the conventional case. Since the step of positioning and arranging (see FIGS. 12 and 13) with high accuracy is not necessary and the decrease in exhaust conductance due to the reinforcing spacer 41 can be eliminated, the manufacturing can be facilitated and the yield can be improved. At the same time, it becomes easy to increase the area, and the reinforcing spacers 4 as in the conventional
Since the sub-pixel (phosphor layer) 32 and the electron source element 10 are not damaged by the discharge through 1, the life can be extended. Further, when the reinforcing material 31 is provided on the outer surface of the face plate 30, the outer surface of the face plate 30 is protected, so that it is possible to prevent the outer surface of the face plate 30 from being scratched. The damage of the face plate 30 can be prevented.
【００２６】しかも、本実施形態では、補強材２１がリ
ヤプレート２０の上記一表面に直交する方向に延び且つ
リヤプレート２０の厚み方向に直交する断面が一定の規
則に従い組織化された補強壁２１ｂ（図７参照）により
形成されており、リヤプレート２０の厚み方向に貫通し
た多数の空洞２１ａ（図７参照）を備えているので、補
強材２１を軽量化できて表示装置全体の軽量化を図れる
とともに放熱性を高めることができる。Moreover, in this embodiment, the reinforcing member 21 extends in the direction orthogonal to the one surface of the rear plate 20 and the cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate 20 is organized according to a certain rule. (See FIG. 7) and has a large number of cavities 21a (see FIG. 7) penetrating in the thickness direction of the rear plate 20. Therefore, the weight of the reinforcing member 21 can be reduced and the weight of the entire display device can be reduced. It is possible to improve the heat dissipation.
【００２７】（実施形態３）本実施形態の表示装置の基
本構成は実施形態２と同じであって、図９および図１０
に示すように、リヤプレート２０の上記他表面（図９に
おける下面）側に配設された補強材２１がハニカム構造
を有しているが、本実施形態では、実施形態２に比べて
リヤプレート２０の厚みを薄く設定してあり、リヤプレ
ート２０との間に補強材２１を挟持する薄い平板状のガ
ラス板よりなる補助プレート２２を補強材２１に貼り合
わせている点に特徴がある。要するに、本実施形態で
は、リヤプレート２０と補助プレート２２とでハニカム
構造の補強材２１を挟んだハニカムサンドイッチ構造が
形成されていることになる。ここに、リヤプレート２０
の厚さおよび補助プレート２２の厚さをいずれも０．５
ｍｍに設定してある。他の構成は実施形態２と同様であ
るから、実施形態２と同様の構成要素には同一の符号を
付して説明を省略する。(Third Embodiment) The basic configuration of the display device according to the present embodiment is the same as that of the second embodiment.
As shown in FIG. 9, the reinforcing material 21 disposed on the other surface (lower surface in FIG. 9) side of the rear plate 20 has a honeycomb structure. However, in this embodiment, the rear plate is different from the second embodiment. It is characterized in that the thickness of 20 is set thin, and an auxiliary plate 22 made of a thin flat glass plate for sandwiching the reinforcing member 21 with the rear plate 20 is attached to the reinforcing member 21. In short, in this embodiment, a honeycomb sandwich structure in which the rear plate 20 and the auxiliary plate 22 sandwich the reinforcing material 21 having a honeycomb structure is formed. Here, the rear plate 20
And the thickness of the auxiliary plate 22 are both 0.5
It is set to mm. Since other configurations are the same as those of the second embodiment, the same components as those of the second embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
【００２８】なお、実施形態２と同様、補強壁２１ｂ
は、リヤプレート２０の厚み方向に直交する断面が網目
状に形成されていればよく、例えば、図１１に示すよう
ないげた構造を有するように形成されていてもよい。こ
こに、図１１の補強壁２１ｂはリヤプレート２０の厚み
方向に直交する断面がいげた状に形成されている。As in the second embodiment, the reinforcing wall 21b is used.
Need only be formed in a mesh shape in a cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate 20, and may be formed to have a concave structure as shown in FIG. 11, for example. Here, the reinforcing wall 21b of FIG. 11 is formed so that the cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate 20 is bent.
【００２９】しかして、本実施形態では、実施形態２と
同様に、リヤプレート２０において電子源素子１０が配
設された面（上記一表面）とは反対の面（上記他表面）
側に補強材２１が設けられていることによって、リヤプ
レート２０が大気圧によって破損するのを防止すること
ができるから、従来のようにリヤプレート２０とフェー
スプレート３０との間に補強用スペーサ４１（図１２お
よび図１３参照）を高精度に位置決めして配置する工程
が不要になるとともに、補強用スペーサ４１による排気
コンダクタンスの低下をなくすことができるから、製造
が容易になって歩留まりを向上できるとともに大面積化
が容易になり、しかも、従来のように補強用スペーサ４
１を介した放電によるサブピクセル（蛍光体層）３２や
電子源素子１０の損傷が起こることもないから、長寿命
化を図れる。また、フェースプレート３０の外面に補強
材３１を設ければ、フェースプレート３０の外面が保護
されることになって、フェースプレート３０の外面に傷
がつくのを防止することができ、傷に起因したフェース
プレート３０の破損を防止できる。However, in this embodiment, similarly to the second embodiment, the surface (the above-mentioned other surface) opposite to the surface (the above-mentioned one surface) on which the electron source element 10 is arranged in the rear plate 20.
By providing the reinforcement member 21 on the side, the rear plate 20 can be prevented from being damaged by atmospheric pressure. Therefore, the reinforcement spacer 41 is provided between the rear plate 20 and the face plate 30 as in the conventional case. Since the step of positioning and arranging (see FIGS. 12 and 13) with high accuracy is not necessary and the decrease in exhaust conductance due to the reinforcing spacer 41 can be eliminated, the manufacturing can be facilitated and the yield can be improved. At the same time, it becomes easy to increase the area, and the reinforcing spacers 4 are used as in the past.
Since the sub-pixel (phosphor layer) 32 and the electron source element 10 are not damaged by the discharge through 1, the life can be extended. Further, when the reinforcing material 31 is provided on the outer surface of the face plate 30, the outer surface of the face plate 30 is protected, so that it is possible to prevent the outer surface of the face plate 30 from being scratched. The damage of the face plate 30 can be prevented.
【００３０】しかも、本実施形態では、補強材２１がリ
ヤプレート２０の上記一表面に直交する方向に延び且つ
リヤプレート２０の厚み方向に直交する断面が一定の規
則に従い組織化された補強壁２１ｂ（図９参照）により
形成されており、リヤプレート２０の厚み方向に貫通し
た多数の空洞２１ａ（図９参照）を有しているので、補
強材２１を軽量化できて表示装置全体の軽量化を図れ
る。また、リヤプレート２０と補助プレート２２との間
に補強材２１を挟持しているので、リヤプレート２０の
厚さと補助プレート２２の厚さとを合わせた厚さを実施
形態２におけるリヤプレート２０の厚さよりも薄くしな
がらもリヤプレート２０が大気圧によって破損するのを
防止することができるから、実施形態２に比べて軽量化
を図れる。Moreover, in this embodiment, the reinforcing member 21 extends in the direction orthogonal to the one surface of the rear plate 20 and the cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate 20 is organized according to a certain rule. (See FIG. 9) and has a large number of cavities 21a (see FIG. 9) penetrating in the thickness direction of the rear plate 20, the weight of the reinforcing member 21 can be reduced, and the weight of the entire display device can be reduced. Can be achieved. Further, since the reinforcing material 21 is sandwiched between the rear plate 20 and the auxiliary plate 22, the total thickness of the rear plate 20 and the auxiliary plate 22 is set to the thickness of the rear plate 20 in the second embodiment. Since the rear plate 20 can be prevented from being damaged by the atmospheric pressure while being thinner than the above, the weight can be reduced as compared with the second embodiment.
【００３１】なお、上記各実施形態では、電子源素子１
０として、図２や図４に示した構成のものを採用してい
るが、電子源素子１０としては、スピント（Spindt）型
の電子源素子、ＭＩＭ（Metal−Insulator−Metal）型
の電子源素子、ＭＯＳ（Metal−Oxide−Semiconducto
r）型の電子源素子など種々の構成のものが採用可能で
あるIn each of the above embodiments, the electron source element 1
2 and 4, the electron source element 10 has a Spindt type electron source element and a MIM (Metal-Insulator-Metal) type electron source. Element, MOS (Metal-Oxide-Semiconducto
Various configurations such as r) type electron source elements can be adopted.
【００３２】[0032]
【発明の効果】請求項１の発明は、電子線を放射させる
電子源素子が一表面側に配設されたリヤプレートと、リ
ヤプレートに対向配置され電子源素子から放射される電
子線により励起されて発光する蛍光体層が設けられたフ
ェースプレートと、リヤプレートとフェースプレートと
の間に介在する枠状の支持用スペーサとを備え、リヤプ
レートとフェースプレートと支持用スペーサとで囲まれ
た空間が真空に保たれた表示装置であって、リヤプレー
トを補強する補強材がリヤプレートの他表面側に設けら
れてなるものであり、リヤプレートにおいて電子源素子
が配設された面とは反対の面側に補強材が設けられてい
ることによって、リヤプレートが大気圧によって破損す
るのを防止することができるから、従来のようにリヤプ
レートとフェースプレートとの間に補強用スペーサを高
精度に位置決めして配置する工程が不要になるととも
に、補強用スペーサによる排気コンダクタンスの低下を
なくすことができるから、製造が容易になって歩留まり
を向上できるとともに大面積化が容易になるという効果
があり、しかも、従来のように補強用スペーサを介した
放電による蛍光体層や電子源素子の損傷が起こることも
ないから、長寿命化を図れるという効果がある。According to the first aspect of the present invention, a rear plate having an electron source element for radiating an electron beam disposed on one surface side thereof, and an electron beam emitted from the electron source element disposed so as to face the rear plate are excited. And a frame-shaped supporting spacer interposed between the rear plate and the face plate. The face plate is surrounded by the rear plate, the face plate, and the supporting spacer. A display device in which the space is kept vacuum, in which a reinforcing material for reinforcing the rear plate is provided on the other surface side of the rear plate, and the surface of the rear plate on which the electron source element is arranged is Since the reinforcing material is provided on the opposite surface side, it is possible to prevent the rear plate from being damaged by atmospheric pressure. The step of positioning and arranging the reinforcing spacer with the plate with high accuracy is not necessary, and the decrease in exhaust conductance due to the reinforcing spacer can be eliminated, which facilitates manufacturing and improves yield. There is an effect that it is easy to increase the area, and further, since there is no damage to the phosphor layer and the electron source element due to discharge through the reinforcing spacer as in the conventional case, there is an effect that a long life can be achieved. is there.
【００３３】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、前記補強材は、前記リヤプレートの前記一表面に直
交する方向に延び且つ前記リヤプレートの厚み方向に直
交する断面が一定の規則に従い組織化された補強壁によ
り形成されているので、前記補強材の軽量化を図れ、表
示装置全体の軽量化を図れるという効果がある。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the reinforcing member extends in a direction orthogonal to the one surface of the rear plate and has a regular cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate. Since it is formed by the reinforcing wall organized according to the above, there is an effect that the weight of the reinforcing material can be reduced and the weight of the entire display device can be reduced.
【００３４】請求項３の発明は、請求項２の発明におい
て、前記補強壁は、前記リヤプレートの厚み方向に直交
する断面が網目状に形成されているので、放熱性を高め
ることができるという効果がある。According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the invention, the reinforcing wall is formed in a mesh shape in a cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate, so that heat dissipation can be improved. effective.
【００３５】請求項４の発明は、請求項２の発明におい
て、前記補強壁は、前記リヤプレートの厚み方向に直交
する断面がハニカム状に形成されているので、放熱性を
高めることができるという効果がある。According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the reinforcing wall is formed in a honeycomb shape in a cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate, so that heat dissipation can be improved. effective.
【００３６】請求項５の発明は、請求項２の発明におい
て、前記補強壁は、前記リヤプレートの厚み方向に直交
する断面がいげた状に形成されているので、放熱性を高
めることができるという効果がある。According to a fifth aspect of the invention, in the second aspect of the invention, the reinforcing wall is formed in a cross-section that is orthogonal to the thickness direction of the rear plate, so that heat dissipation can be improved. effective.
【図１】実施形態１を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a first embodiment.
【図２】同上に用いる電子源素子の動作説明図である。FIG. 2 is an operation explanatory view of the electron source element used in the above.
【図３】同上に用いる電子源素子の動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory view of the electron source element used in the above.
【図４】同上に用いる電子源素子の動作説明図である。FIG. 4 is an operation explanatory view of the electron source element used in the above.
【図５】同上の他の構成例を示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing another configuration example of the above.
【図６】実施形態２を示す概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a second embodiment.
【図７】同上においてリヤプレート側に用いる補強材の
平面図である。FIG. 7 is a plan view of a reinforcing member used on the rear plate side in the above.
【図８】同上においてリヤプレート側に用いる補強材の
他の例を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing another example of the reinforcing material used on the rear plate side in the above.
【図９】実施形態３を示す概略断面図である。FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing a third embodiment.
【図１０】同上においてリヤプレート側に用いる補強材
の平面図である。FIG. 10 is a plan view of a reinforcing member used on the rear plate side in the above.
【図１１】同上においてリヤプレート側に用いる補強材
の他の例を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing another example of the reinforcing material used on the rear plate side in the above.
【図１２】従来例を示し、一部破断した概略斜視図であ
る。FIG. 12 is a partially cutaway schematic perspective view showing a conventional example.
【図１３】従来例を示す概略断面図である。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing a conventional example.
１０ 電子源素子 ２０ リヤプレート ２１ 補強材 ３０ フェースプレート ３２ サブピクセル ４０ 支持用スペーサ 10 Electron source element 20 Rear plate 21 Reinforcement material 30 face plate 32 sub pixels 40 Supporting spacer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菰田 卓哉 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 本多 由明 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 幡井 崇 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 櫟原 勉 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 馬場 徹 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 竹川 宜志 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Ｆターム(参考） 5C032 AA01 BB20 CC10 5C036 EE14 EE17 EF01 EF06 EF09 EG02 EH04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Takuya Komoda 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. Inside the company (72) Inventor Yoshiaki Honda 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. Inside the company (72) Inventor Takashi Hatai 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. Inside the company (72) Inventor Tsutomu Kagehara 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. Inside the company (72) Inventor Toru Baba 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. Inside the company (72) Inventor Yoshishi Takekawa 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. Inside the company F term (reference) 5C032 AA01 BB20 CC10 5C036 EE14 EE17 EF01 EF06 EF09 EG02 EH04
Claims (5)
側に配設されたリヤプレートと、リヤプレートに対向配
置され電子源素子から放射される電子線により励起され
て発光する蛍光体層が設けられたフェースプレートと、
リヤプレートとフェースプレートとの間に介在する枠状
の支持用スペーサとを備え、リヤプレートとフェースプ
レートと支持用スペーサとで囲まれた空間が真空に保た
れた表示装置であって、リヤプレートを補強する補強材
がリヤプレートの他表面側に設けられてなることを特徴
とする表示装置。1. A rear plate on which an electron source element for emitting an electron beam is disposed on one surface side, and a phosphor layer which is disposed facing the rear plate and is excited by an electron beam emitted from the electron source element to emit light. A face plate provided with
A display device, comprising: a frame-shaped supporting spacer interposed between a rear plate and a face plate, wherein a space surrounded by the rear plate, the face plate and the supporting spacer is kept in a vacuum. A display device characterized in that a reinforcing material for reinforcing is provided on the other surface side of the rear plate.
一表面に直交する方向に延び且つ前記リヤプレートの厚
み方向に直交する断面が一定の規則に従い組織化された
補強壁により形成されてなることを特徴とする請求項１
記載の表示装置。2. The reinforcing member is formed by a reinforcing wall extending in a direction orthogonal to the one surface of the rear plate and having a cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate organized according to a certain rule. Claim 1 characterized by the above.
Display device described.
方向に直交する断面が網目状に形成されてなることを特
徴とする請求項２記載の表示装置。3. The display device according to claim 2, wherein the reinforcing wall has a mesh-shaped cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate.
方向に直交する断面がハニカム状に形成されてなること
を特徴とする請求項２記載の表示装置。4. The display device according to claim 2, wherein the reinforcing wall has a honeycomb shape in a cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate.
方向に直交する断面がいげた状に形成されてなることを
特徴とする請求項２記載の表示装置。5. The display device according to claim 2, wherein the reinforcing wall is formed so that a cross section orthogonal to the thickness direction of the rear plate is bent.
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
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-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001302783A patent/JP2003109527A/en active Pending
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| CN112151586A (en) * | 2020-09-24 | 2020-12-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | Display panel, display equipment and preparation method of display panel |
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