JP2003100232A - Color cathode-ray tube and method of manufacturing the same - Google Patents

Color cathode-ray tube and method of manufacturing the same

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JP2003100232A
JP2003100232A JP2001290652A JP2001290652A JP2003100232A JP 2003100232 A JP2003100232 A JP 2003100232A JP 2001290652 A JP2001290652 A JP 2001290652A JP 2001290652 A JP2001290652 A JP 2001290652A JP 2003100232 A JP2003100232 A JP 2003100232A
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Japan
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ray tube
color cathode
cathode ray
phosphor
shadow mask
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JP2001290652A
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Takeshi Nagasawa
威 長澤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an excellent black matrix type color cathode-ray tube that is excellent in the uniformity of a screen, has the good texture of the screen, and can display high quality image, by reducing the unevenness on the fluorescent screen. SOLUTION: Exposing light passes through a plurality of electron beam through-holes 244, and allows an effect caused by the electron beam through- holes 244 having a shortcoming to be reduced, and an unevenness index showing nonuniformity on the fluorescent screen to decrease.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー陰極線管に
係り、特に、パネル部の内面に蛍光体絵素と、この蛍光
体絵素を取り囲む非発光性光吸収物質層からなるブラッ
クマトリクス膜を持つブラックマトリクス型カラー陰極
線管に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color cathode ray tube, and more particularly to a black matrix film comprising a phosphor picture element and a non-emissive light absorbing material layer surrounding the phosphor picture element on the inner surface of the panel portion. The present invention relates to a black matrix type color cathode ray tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】テレビ受像機の映像管やパソコン等のモ
ニター管として、ブラックマトリクス型カラー陰極線管
が広く採用されている。図8はブラックマトリクス型カ
ラー陰極線管の構造例を説明する概略断面図である。こ
のカラー陰極線管は、パネル部20と、ファンネル部2
1及びネック部22とで真空外囲器を構成しており、フ
ァンネル部21の一部に高電圧導入用のアノードボタン
23が埋設されている。参照符号24はシャドウマスク
組立体で、その一例の詳細を後述する図9に示す。
2. Description of the Related Art A black matrix type color cathode ray tube is widely used as a video tube of a television receiver or a monitor tube of a personal computer or the like. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view illustrating a structural example of a black matrix type color cathode ray tube. This color cathode ray tube includes a panel section 20 and a funnel section 2
1 and the neck portion 22 form a vacuum envelope, and an anode button 23 for introducing a high voltage is embedded in a part of the funnel portion 21. Reference numeral 24 is a shadow mask assembly, an example of which is shown in FIG. 9 described later in detail.

【0003】また、参照符号25は電子銃で、前記ネッ
ク部22内に収容されており、前記アノードボタン10
から導入された高電圧を内部導電膜を介して印加される
構成となっている。同26は偏向ヨークで、真空外囲器
のネック部22とファンネル部21の遷移領域に外装さ
れ、前記電子銃25から射出された3本の変調された電
子ビーム27を水平(X方向)と垂直(Y方向)に偏向
することで、電子ビーム27を蛍光面28を2次元走査
し、画像を再現する。この蛍光面28に形成された導電
膜にも前記アノードボタン10から導入された高電圧が
印加される構成となっている。29は磁気シールドであ
る。
Further, reference numeral 25 is an electron gun, which is housed in the neck portion 22 and has the anode button 10.
The high voltage introduced from is applied via the internal conductive film. Reference numeral 26 is a deflection yoke, which is mounted on the transition region between the neck portion 22 and the funnel portion 21 of the vacuum envelope, and horizontally modulates the three modulated electron beams 27 emitted from the electron gun 25. By deflecting vertically (Y direction), the electron screen 27 two-dimensionally scans the fluorescent screen 28 to reproduce an image. The high voltage introduced from the anode button 10 is also applied to the conductive film formed on the phosphor screen 28. 29 is a magnetic shield.

【0004】パネル部20の内面に設けられた蛍光面2
8は、その一例の詳細を後述する図10に示す様に、一
般に赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の蛍光体をド
ット(点)状あるいはストライプ状に塗布してなる三色
蛍光体絵素と、この蛍光体絵素を取り囲むブラックマト
リクス膜を持ち、この蛍光面28に近接対向配置して色
選択電極組立体(ここでは、シャドウマスク組立体2
4、以下では色選択電極をシャドウマスクとして説明す
る)が配置されている。
A fluorescent screen 2 provided on the inner surface of the panel section 20.
As shown in FIG. 10, the details of an example of which is shown in FIG. 8, 8 is generally applied with phosphors of three colors of red (R), green (G), and blue (B) in a dot shape or a stripe shape. And a black matrix film that surrounds the phosphor pixel, and is arranged in close proximity to and facing the phosphor screen 28 to form a color selection electrode assembly (here, the shadow mask assembly 2
4. In the following description, the color selection electrode will be described as a shadow mask).

【0005】図9は図8に示すシャドウマスク組立体の
一例を示し、シャドウマスクとマスクフレ−ム及びスプ
リングとを固定したシャドウマスク組立体の詳細を示し
ており、図9(a)は側面図、(b)は平面図で、前述
した各図と同じ部分には同一記号を付してある。図9
(a)(b)において、シャドウマスク組立体24はシ
ャドウマスク241とマスクフレ−ム242及びスプリ
ング243から構成されている。シャドウマスク241
は後述する図11にその形状の一例を示す様な多数の電
子ビ−ム通過孔244を有する主面241aと、この主
面241aと略直角に折り曲げられたスカ−ト部を有し
ている。そして、スカ−ト部をマスクフレ−ム242の
内側に挿入し、前記スカ−ト部とマスクフレ−ム242
とを×印で示す位置で溶接して固定している。又、スプ
リング243はマスクフレ−ム242の各辺に溶接固定
され、パネル部内にシャドウマスク組立体24を懸架す
る機構の一部を構成している。
FIG. 9 shows an example of the shadow mask assembly shown in FIG. 8, showing the details of the shadow mask assembly in which the shadow mask, the mask frame and the spring are fixed, and FIG. 9 (a) is a side view. , (B) are plan views, and the same parts as those in the above-mentioned drawings are denoted by the same symbols. Figure 9
In (a) and (b), the shadow mask assembly 24 is composed of a shadow mask 241, a mask frame 242, and a spring 243. Shadow mask 241
11 has a main surface 241a having a large number of electron beam passage holes 244 whose shape is shown in FIG. 11, which will be described later, and a skirt portion bent at a right angle to the main surface 241a. . Then, the skirt portion is inserted inside the mask frame 242, and the skirt portion and the mask frame 242 are inserted.
And are welded and fixed at the positions indicated by x. The spring 243 is welded and fixed to each side of the mask frame 242, and constitutes a part of a mechanism for suspending the shadow mask assembly 24 in the panel portion.

【0006】シャドウマスクの主面241aは、整形後
にパネル部内面の蛍光面と対面する部分で、多数の電子
ビ−ム通過孔244が形成された有孔領域とその周囲を
取り巻き点線で示すより外側の無孔領域の外周部とで構
成されている。主面241aは略長方形であり、長軸沿
い、短軸沿いおよび対角線沿いで各々曲率半径が異なっ
ている。これは、カラー陰極線管としての画面のフラッ
ト感と整形されたシャドウマスクの機械的強度維持の両
立を図るためである。
The main surface 241a of the shadow mask is a portion that faces the fluorescent surface on the inner surface of the panel portion after shaping, and the perforated area in which a large number of electron beam passage holes 244 are formed and the periphery thereof are shown by a dotted line. It is composed of the outer peripheral portion of the non-perforated area. The main surface 241a is substantially rectangular and has different radii of curvature along the major axis, along the minor axis and along the diagonal. This is to achieve both the flatness of the screen as a color cathode ray tube and the maintenance of the mechanical strength of the shaped shadow mask.

【0007】このシャドウマスク241の構成材料とし
ては、主にアルミキルド鋼が用いられているが、近時カ
ラー陰極線管の高精細度化に伴い、板厚の薄いシャドウ
マスクが使われている。この薄肉のシャドウマスクを採
用したカラー陰極線管では、その動作中にシャドウマス
クの一部が熱変形して電子ビームスポットが蛍光面上で
所定の位置からずれるというマスクドーミングと称する
現象が発生し易い。
Although aluminum killed steel is mainly used as a constituent material of the shadow mask 241, a shadow mask with a thin plate is used with the recent trend toward higher definition of color cathode ray tubes. In the color cathode ray tube using this thin shadow mask, a phenomenon called mask doming is likely to occur in which a part of the shadow mask is thermally deformed during operation and the electron beam spot is displaced from a predetermined position on the fluorescent screen. .

【0008】この対策としてシャドウマスク組立体をパ
ネル部内に懸架する機構の改良と共に、前記構成材料と
して熱膨張率、物理的硬度を考慮して前記アルミキルド
鋼に較べて穿孔の困難性は高いにも係らずアンバー材も
用いられている。この様なシャドウマスクは、エッチン
グによって所定の位置に前記多数の電子ビーム通過孔を
設けた原板を所定形状に打ち抜く。その後プレス整形し
て略矩形状で、かつ略球面状をなす主面と、この主面の
周囲に連なり、かつ主面に対して略90度に屈曲された
スカート部とを有する形状に整形し、この整形シャドウ
マスクを前記マスクフレームと固定してマスク組立体を
形成して使用する。
As a countermeasure, a mechanism for suspending the shadow mask assembly in the panel portion is improved and, in consideration of thermal expansion coefficient and physical hardness as the constituent materials, the difficulty of perforation is higher than that of the aluminum killed steel. Amber is also used regardless. In such a shadow mask, an original plate having a large number of electron beam passage holes at predetermined positions is punched into a predetermined shape by etching. After that, it is press-shaped and shaped into a shape having a substantially rectangular main surface having a substantially spherical shape and a skirt portion that is continuous with the main surface and is bent at about 90 degrees with respect to the main surface. The shaped shadow mask is fixed to the mask frame to form a mask assembly for use.

【0009】図10は図8に示すカラー陰極線管の要部
の一部を拡大して示す断面模式図である。図10におい
て、パネル部20の内面に設けられた蛍光面28は、3
色の蛍光体をドット状あるいはストライプ状に塗布して
なる三色蛍光体絵素281と、この蛍光体絵素281を
取り囲むブラックマトリクス膜282及び金属反射膜2
83を持ち、この蛍光体面28に近接対向してシャドウ
マスク組立体24が配置されているのは前述した通りで
ある。
FIG. 10 is an enlarged schematic sectional view of a part of the main part of the color cathode ray tube shown in FIG. In FIG. 10, the fluorescent surface 28 provided on the inner surface of the panel unit 20 is 3
A three-color phosphor picture element 281 formed by applying color phosphors in a dot shape or a stripe shape, a black matrix film 282 surrounding the phosphor picture element 281, and a metal reflection film 2
As described above, the shadow mask assembly 24 having the light emitting element 83 is disposed in close proximity to the phosphor surface 28.

【0010】三色蛍光体絵素281はドット状であり、
赤(R)色蛍光体絵素281R、緑(G)色蛍光体絵素
281G及び青(B)色蛍光体絵素281Bから構成さ
れている。この三色蛍光体絵素281は、周知の様にブ
ラックマトリクス膜282が形成されているパネル部内
面に各色の蛍光体スラリ−を塗布した後、仮想線で示す
3個の光源30G、30B、30Rの位置からそれぞれ
個別にシャドウマスク241の対応する特定の電子ビ−
ム通過孔244を介して矢印で示す露光を行う工程を経
てブラックマトリクス膜282の窓部に形成される。
The three-color phosphor picture element 281 is dot-shaped,
It is composed of a red (R) color phosphor picture element 281R, a green (G) color phosphor picture element 281G and a blue (B) color phosphor picture element 281B. As is well known, the three-color phosphor picture element 281 has three light sources 30G and 30B indicated by imaginary lines after applying phosphor slurries of respective colors to the inner surface of the panel portion where the black matrix film 282 is formed. The corresponding specific electronic beam of the shadow mask 241 from the position of 30R respectively.
It is formed in the window portion of the black matrix film 282 through the step of performing the exposure shown by the arrow through the hole passing hole 244.

【0011】すなわち、例えば赤色蛍光体絵素281R
はシャドウマスク241の対応する特定の1個の電子ビ
−ム通過孔244を介して赤色用露光光源30Rからの
露光光線のみで露光されて形成される。同様に、青色及
び緑色蛍光体絵素もそれぞれの露光光源からの光のみで
露光されるもので、換言すれば1個の光源から出た光線
が1個の電子ビ−ム通過孔を通り、1対1で対応する1
個の蛍光体絵素を形成するものである。従って、光の通
過した電子ビ−ム通過孔のそのままの形状が蛍光体絵素
に現われる。
That is, for example, red phosphor picture element 281R
Is formed by being exposed only by the exposure light beam from the red exposure light source 30R through the corresponding one specific electron beam passage hole 244 of the shadow mask 241. Similarly, the blue and green phosphor picture elements are also exposed only by the light from the respective exposure light sources, in other words, the light rays emitted from one light source pass through one electron beam passage hole, One-to-one corresponding 1
This forms individual phosphor picture elements. Therefore, the original shape of the electron beam passage hole through which the light has passed appears in the phosphor picture element.

【0012】図11はシャドウマスク241の電子ビ−
ム通過孔244の一例の断面模式図である。図11にお
いて、電子ビ−ム通過孔244は境界部を境に大小二つ
の孔の結合した形状を呈している。境界部244Bを境
にして大孔(第1孔部)244Lが蛍光面28側に、ま
た小孔(第2孔部)244Sが電子銃25側にそれぞれ
対面する構成となっている。大孔(第1孔部)244L
と小孔(第2孔部)244Sは変曲点P0で湾曲方向が
変化する。すなわち、図11に示したシャドウマスク2
41の電子ビ−ム通過孔244は大孔(第1孔部)24
4Lと小孔(第2孔部)244Sの2つの孔部で構成さ
れる。この電子ビ−ム通過孔244は、前述したように
薄い金属板にエッチングによって穿孔して設けられるの
が一般的で、前述の様にアンバ−材はアルミキルド鋼に
較べて穿孔の困難性は高い。
FIG. 11 shows an electronic beam of the shadow mask 241.
It is a cross-sectional schematic diagram of an example of the hole passing hole 244. In FIG. 11, the electron beam passage hole 244 has a shape in which a large hole and a small hole are combined at a boundary. A large hole (first hole portion) 244L faces the fluorescent screen 28 side and a small hole (second hole portion) 244S faces the electron gun 25 side with the boundary portion 244B as a boundary. Large hole (first hole) 244L
The bending direction of the small hole (second hole portion) 244S changes at the inflection point P0. That is, the shadow mask 2 shown in FIG.
The electron beam passage hole 244 of 41 is a large hole (first hole portion) 24.
4L and a small hole (second hole) 244S. This electron beam passage hole 244 is generally formed by etching a thin metal plate as described above. As mentioned above, the amber material is more difficult to perforate than aluminum killed steel. .

【0013】図12は蛍光面の露光形成の為の幾何光学
的露光プロファイルの説明図で、前述した各図と同じ部
分には同一記号を付してある。図12において、露光量
プロファイル31はパネル部で最大面積Dmaxで、距
離が離れるにしたがって露光強度が上がると共に面積が
小さくなっており、頂面では最小面積Dminで、所望
の位置311に仕様を設定することで必要な面積Dの例
えば蛍光体絵素を形成する方法で用いられている。この
様なブラックマトリクス型のカラ−陰極線管の蛍光面に
関しては、例えば特公昭46−218号公報等に開示さ
れている。
FIG. 12 is an explanatory view of a geometrical optical exposure profile for exposing and forming a phosphor screen, and the same parts as those in the above-mentioned drawings are denoted by the same symbols. In FIG. 12, an exposure dose profile 31 has a maximum area Dmax in the panel portion, the exposure intensity increases and the area decreases as the distance increases, and the minimum surface area Dmin at the top surface sets the specifications at a desired position 311. By doing so, it is used in a method of forming, for example, a phosphor picture element having a required area D. The phosphor screen of such a black matrix type color cathode ray tube is disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 46-218.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上記した様な蛍光体絵
素の回りをブラックマトリクス膜で取り囲むブラックマ
トリクス型の従来のカラー陰極線管では、蛍光面に明暗
の「ざらついたむら」が発生して画面の均一性が低下
し、画面の質感を損ない、高品位の画像表示が得られな
いという問題があった。特に、モニタ管では画面の高精
細化と共に、例えば50cm程度の至近距離から映像を
読み取ることからむらによる輝度変動は目に疲労を与え
易いという問題もあった。これを図面を用いて説明す
る。
In the conventional black matrix type color cathode ray tube in which the black matrix film surrounds the phosphor picture elements as described above, bright and dark "rough irregularities" are generated on the phosphor screen and There is a problem that the uniformity of the image is deteriorated, the texture of the screen is impaired, and a high-quality image display cannot be obtained. Particularly, in the monitor tube, there is a problem that the screen becomes high definition and the brightness variation due to the unevenness easily causes eyestrain because the image is read from a close distance of, for example, about 50 cm. This will be described with reference to the drawings.

【0015】図13はパネル部20の正面図であり、同
図(a)は全体図、同(b)は同(a)のA部を拡大し
て示す平面図で、前述した各図と同一符号は同一部分に
対応している。図13(b)において、蛍光面28を構
成する蛍光体絵素281の内、複数個の蛍光体絵素28
1B1、281B2、281B3、281R3、281
G4は不正な非円形を呈しており、又赤色蛍光体絵素2
81R2は径小な絵素で有る。これら不正な蛍光体絵素
は、図14(A)〜(C)に示す露光プロファイルから
形成される。
FIG. 13 is a front view of the panel portion 20, FIG. 13A is an overall view, and FIG. 13B is an enlarged plan view showing the portion A of FIG. The same reference numerals correspond to the same parts. In FIG. 13B, a plurality of phosphor picture elements 28 among the phosphor picture elements 281 forming the phosphor screen 28.
1B1, 281B2, 281B3, 281R3, 281
G4 has an illegal non-circular shape, and the red phosphor picture element 2
81R2 is a small-diameter picture element. These incorrect phosphor picture elements are formed from the exposure profiles shown in FIGS.

【0016】図14は蛍光面の露光形成の為の他の例の
幾何光学的露光プロファイルの説明図であり、同図
(A)は正常なプロファイル、同(B)および同(C)
は不正なプロファイルである。すなわち、図14(A)
が正常な蛍光体絵素の露光プロファイルで有るのに対
し、図14(B)は点c1、d1で示すように露光プロ
ファイルに欠けが生じることから、蛍光面上の蛍光体絵
素としては前記青色蛍光体絵素281B2、281B3
及び赤色蛍光体絵素281R3の様な一部が欠けたよう
な不正な形状の蛍光体絵素が形成される。
FIG. 14 is an explanatory view of a geometrical optical exposure profile of another example for exposing and forming a fluorescent screen. FIG. 14A is a normal profile, FIG. 14B is the normal profile, and FIG.
Is an incorrect profile. That is, FIG. 14 (A)
14B is the exposure profile of a normal phosphor picture element, whereas in FIG. 14B, the exposure profile lacks as shown by points c1 and d1. Blue phosphor picture element 281B2, 281B3
In addition, an irregularly shaped phosphor picture element such as a red phosphor picture element 281R3 is formed.

【0017】又、図14(C)は点c2、d2で示すよ
うに露光プロファイルにはみ出しが生じることから、蛍
光面上の蛍光体絵素としては前記青色蛍光体絵素281
B1及び緑色蛍光体絵素281G4の様な一部が突出し
たような不正な形状の蛍光体絵素が形成される。この様
な不正な蛍光体絵素が正常な蛍光体絵素間に点在するこ
とで画面に明暗のざらついたむらが発生して画面の均一
性が低下し、画面の質感を損ない、高品位の画像表示が
得られないという問題があった。
Further, in FIG. 14C, since the exposure profile is projected as shown by points c2 and d2, the blue phosphor picture element 281 is the phosphor picture element on the phosphor screen.
B1 and a green fluorescent substance picture element 281G4, such as a partially protruded fluorescent substance picture element, are formed. When such illegal phosphor picture elements are scattered between normal phosphor picture elements, unevenness of brightness and darkness occurs on the screen and the uniformity of the screen is deteriorated, and the texture of the screen is impaired. There was a problem that image display could not be obtained.

【0018】上記した蛍光面のむら発生の原因として
は、蛍光面の形成に関連するシャドウマスク、ブラック
マトリクス膜及び蛍光体絵素、更には金属反射膜等のそ
れぞれに原因が存在する。特に、シャドウマスクの電子
ビ−ム通過孔244に問題があると、この電子ビ−ム通
過孔に対応するブラックマトリクス膜及び蛍光体絵素に
前記問題が全部投影される。これを図15を用いて説明
する。
The causes of the unevenness of the phosphor screen are caused by the shadow mask, the black matrix film and the phosphor picture elements, which are related to the formation of the phosphor screen, and the metal reflection film. In particular, if there is a problem in the electron beam passage hole 244 of the shadow mask, the problem is entirely projected on the black matrix film and the phosphor picture element corresponding to the electron beam passage hole. This will be described with reference to FIG.

【0019】図15はシャドウマスクの電子ビーム通過
孔の他の例の断面模式図である。図15において、シャ
ドウマスク241に形成される多数の電子ビーム通過孔
244は、パネル側に開口された大孔(第1孔部)24
4Lと、電子銃側に開口された小孔(第2孔部)244
Sと、該大孔(第1孔部)244Lと小孔(第2孔部)
244Sを連接する境界部(第3孔部)244Bで構成
される。
FIG. 15 is a schematic sectional view of another example of the electron beam passage hole of the shadow mask. In FIG. 15, a large number of electron beam passage holes 244 formed in the shadow mask 241 are large holes (first hole portions) 24 opened on the panel side.
4L and a small hole (second hole portion) 244 opened on the electron gun side
S, the large hole (first hole portion) 244L and the small hole (second hole portion)
It is composed of a boundary portion (third hole portion) 244B connecting the 244S.

【0020】第1孔部244Lと第3孔部244Bの境
界は該第1孔部244Lから第3孔部244Bに至る第
1変曲点P1、前記第2孔部244Sと第3孔部244
Bの境界は該第2孔部244から第3孔部244Bに至
る第2変曲点P2で各々定義される。すなわち、図15
に示したシャドウマスクの電子ビーム通過孔244は第
1孔部、第2孔部および第3孔部の3つで構成されてい
る、と言い換えることができる。
The boundary between the first hole portion 244L and the third hole portion 244B is the first inflection point P1 from the first hole portion 244L to the third hole portion 244B, the second hole portion 244S and the third hole portion 244.
The boundary of B is defined by the second inflection point P2 extending from the second hole 244 to the third hole 244B. That is, FIG.
It can be rephrased that the electron beam passage hole 244 of the shadow mask shown in (4) is composed of the first hole portion, the second hole portion, and the third hole portion.

【0021】このような電子ビーム通過孔を有するシャ
ドウマスクの場合、図15に示すシャドウマスク241
の電子ビ−ム通過孔244の境界部である第3孔部24
4Bが、前述した図11に較べて厚さ方向に幅広な寸法
Tを有することによって、該境界部での露光光線の乱反
射に起因してブラックマトリクス膜及び蛍光体絵素に不
正が発生するもの、又電子ビ−ム通過孔244内表面の
表面粗さも形状不正の原因となる。
In the case of a shadow mask having such electron beam passage holes, the shadow mask 241 shown in FIG.
Third hole portion 24 which is a boundary portion of the electron beam passage hole 244 of
4B has a dimension T wider in the thickness direction as compared with the above-mentioned FIG. 11, so that irregularities occur in the black matrix film and the phosphor picture element due to irregular reflection of exposure light rays at the boundary portion. Further, the surface roughness of the inner surface of the electron beam passage hole 244 also causes a shape error.

【0022】更に、むら発生の要因としてブラックマト
リクス膜の膜厚さ、蛍光体自体の粒径の問題、更にはフ
ィルミング組成、金属反射膜厚さ等々が影響し、これら
諸々の原因が複合して前述した蛍光面のむらが発生し、
高品位の画像表示が得られないという問題が生じ、解決
策が求められている。この様な蛍光面のむらに対する評
価は、目視判定する人によって個人差が大きく、正確な
判定が得られ難と云う問題が有ったが、これを定量的に
計測する技術が特開平10−253497号公報に開示
されている。
Further, as a cause of unevenness, the problem of the film thickness of the black matrix film, the particle size of the phosphor itself, the filming composition, the film thickness of the metal reflection film, etc. are affected, and these various causes are combined. The unevenness of the fluorescent screen described above occurs,
A problem that high-quality image display cannot be obtained occurs, and a solution is required. The evaluation of such unevenness of the fluorescent screen has a problem that a person who makes a visual judgment has a large individual difference and it is difficult to obtain an accurate judgment. However, a technique for quantitatively measuring this is disclosed in JP-A-10-253497. It is disclosed in the publication.

【0023】図16は前記公報に開示された既知の画質
測定方法及び装置の一実施形態を示す構成図である。図
16において、参照符号32は検査対象のカラ−陰極線
管、同33はカメラ、同34は画像処理装置、同35は
信号発生装置である。これらの装置を用い、検査対象の
カラ−陰極線管の蛍光ドットの面積、蛍光ドットの単位
面積当たりの発光量、蛍光ドット内部の発光分布のバラ
ツキ、蛍光ドットの形状等各画素が持つ種々の物理的な
特徴量の一つ或いは複数の特徴量を抽出して定量化尺度
を算出し、画質評価するものである。
FIG. 16 is a block diagram showing an embodiment of the known image quality measuring method and apparatus disclosed in the above publication. In FIG. 16, reference numeral 32 is a color cathode ray tube to be inspected, 33 is a camera, 34 is an image processing device, and 35 is a signal generator. Using these devices, the area of the fluorescent dots of the color cathode ray tube to be inspected, the amount of light emission per unit area of the fluorescent dots, the variation in the light emission distribution inside the fluorescent dots, the shape of the fluorescent dots, and other various physical properties of each pixel. The image quality is evaluated by extracting one or a plurality of characteristic features and calculating a quantification scale.

【0024】この公報に記載の画質測定方法及び装置に
よれば、蛍光面の均一性を表すむら指数を、前記種々の
物理的な特徴量の内の一つ、例えば蛍光ドットの面積
を、又は複数、例えば蛍光ドットの面積と蛍光ドットの
単位面積当たりの発光量、のそれぞれの特徴量を抽出
し、抽出した特徴量の最大値から特徴量の最小値を減算
した数値を特徴量の平均値で除算し、得られた値を百分
率で表わして定量化する方法により求めることを可能に
している。
According to the image quality measuring method and apparatus described in this publication, the unevenness index representing the uniformity of the fluorescent screen is defined as one of the various physical characteristic values, for example, the area of the fluorescent dot, or A plurality of, for example, the fluorescent dot area and the amount of light emission per unit area of the fluorescent dot, each characteristic amount is extracted, and the numerical value obtained by subtracting the minimum value of the characteristic amount from the maximum value of the extracted characteristic amounts is the average value of the characteristic amounts. It is possible to obtain the value by dividing it by and expressing the obtained value as a percentage to quantify it.

【0025】すなわち、これを式で表すと、 むら指数(%)={〔(特徴量の最大値)−(特徴量の
最小値)〕/(特徴量の平均値)}×100 となる。この様に、むらの定量化は可能となったが、む
ら発生に伴う問題の解決には到っていない。
That is, when this is expressed by an equation, the unevenness index (%) = {[(maximum value of feature amount) − (minimum value of feature amount)] / (average value of feature amount)} × 100. As described above, although the unevenness can be quantified, the problem associated with the unevenness has not been solved yet.

【0026】本発明の目的の一つは、むらの発生が少な
く、画面の均一性が優れ、画面の質感の良い、高品位の
画像表示が得られる優れたブラックマトリクス型のカラ
ー陰極線管を提供することにある。
One of the objects of the present invention is to provide an excellent black matrix type color cathode ray tube in which unevenness is less likely to occur, the uniformity of the screen is excellent, the texture of the screen is good, and high-quality image display can be obtained. To do.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、蛍光面の形成に露光軌道の異なる複数
の露光光線を重畳して露光形成することにより各工程の
むら発生要因を軽減し、画面の均一性を高めた。本発明
の典型的な構成を記述すれば、次の通りである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention eliminates the cause of unevenness in each process by forming a fluorescent screen by superimposing a plurality of exposure rays having different exposure trajectories on each other. Reduced and improved the uniformity of the screen. The typical configuration of the present invention is as follows.

【0028】(1)、内面に蛍光体絵素とブラックマト
リクス膜を有する蛍光面及びこの蛍光面に対向配置され
多数の電子ビ−ム通過孔を有するシャドウマスクとを備
えたパネル部と、電子銃を収容したネック部、及びパネ
ル部とネック部とを連接し、かつ外周に偏向ヨ−クを有
するファンネル部とで構成した真空外囲器を持つカラ−
陰極線管であって、前記蛍光面は中央部に較べて周辺部
に小面積の蛍光体絵素を有すると共に蛍光面の均一性を
表すむら指数が7%以下であることを特徴とする。
(1), a panel portion having a phosphor screen having a phosphor picture element and a black matrix film on the inner surface thereof, and a shadow mask arranged to face the phosphor screen and having a large number of electron beam passage holes; A collar having a vacuum envelope composed of a neck portion accommodating a gun and a funnel portion connecting the panel portion and the neck portion and having a deflection yoke on the outer periphery.
The cathode ray tube is characterized in that the phosphor screen has a phosphor image element having a small area in the peripheral portion as compared with the central portion, and the unevenness index representing the uniformity of the phosphor surface is 7% or less.

【0029】(2)、前記(1)において、前記むら指
数が4%以下であることを特徴とする。
(2) In the above (1), the unevenness index is 4% or less.

【0030】(3)、前記(1)又は(2)において、
前記蛍光体絵素はドット状であることを特徴とする。
(3) In the above (1) or (2),
The phosphor picture element has a dot shape.

【0031】(4)、前記(1)乃至(3)のいずれか
において、前記シャドウマスクは、前記電子ビ−ム通過
孔が境界部を境いに前記蛍光面側が大孔で前記電子銃側
が小孔に形成されており、かつ前記境界部の厚さが6μ
m以下であることを特徴とする。
(4) In any one of the above (1) to (3), in the shadow mask, the phosphor screen side is a large hole and the electron gun side is on a boundary of the electron beam passage hole. It is formed in a small hole and the thickness of the boundary is 6μ.
It is characterized by being m or less.

【0032】(5)、前記(1)乃至(4)のいずれか
において、前記蛍光面の周辺部の小面積の蛍光体絵素の
大きさは、前記中央部の蛍光体絵素の大きさの2/3乃
至1/3n(nは整数)であることを特徴とする。
(5) In any one of the above (1) to (4), the size of a small area phosphor pixel in the peripheral portion of the phosphor screen is the size of the phosphor pixel in the central portion. 2/3 to 1 / 3n (n is an integer).

【0033】(6)、前記(1)乃至(5)のいずれか
において、前記ブラックマトリクス膜の均一性を示すむ
ら指数が5%以下であることを特徴とする。
(6) In any one of the above (1) to (5), the unevenness index showing the uniformity of the black matrix film is 5% or less.

【0034】(7)、前記(1)乃至(6)のいずれか
において、前記シャドウマスクの均一性を示すむら指数
が3%以下であることを特徴とする。
(7) In any one of the above (1) to (6), the unevenness index showing the uniformity of the shadow mask is 3% or less.

【0035】(8)、前記(1)乃至(7)のいずれか
において、前記ブラックマトリクス膜の均一性を示すむ
ら指数がシャドウマスクの均一性を示すむら指数より小
さいことを特徴とする。
(8) In any one of the above (1) to (7), the unevenness index showing the uniformity of the black matrix film is smaller than the unevenness index showing the uniformity of the shadow mask.

【0036】(9)、内面に複数の蛍光体絵素とブラッ
クマトリクス膜を有する蛍光面及びこの蛍光面に対向配
置され多数の電子ビ−ム通過孔を有するシャドウマスク
とを備えたパネル部と、電子銃を収容したネック部、及
びパネル部とネック部とを連接し、かつ外周に偏向ヨ−
クを有するファンネル部とで構成した真空外囲器を持つ
カラ−陰極線管の製造であって、前記ブラックマトリク
ス膜は、露光軌道の異なる複数の露光光線を重畳して露
光形成することを特徴とする。
(9) A panel section having a phosphor screen having a plurality of phosphor picture elements and a black matrix film on the inner surface thereof, and a shadow mask arranged to face the phosphor screen and having a large number of electron beam passage holes. , A neck portion accommodating the electron gun, a panel portion and a neck portion are connected to each other, and a deflection yaw is provided on the outer periphery.
A method of manufacturing a color cathode ray tube having a vacuum envelope configured with a funnel portion having a black matrix, wherein the black matrix film is formed by superposing a plurality of exposure light rays having different exposure trajectories. To do.

【0037】(10)、前記(9)において、前記蛍光
面の複数の蛍光体絵素は、露光軌道の異なる複数の露光
光線を重畳して露光形成することを特徴とする。
(10) In the above (9), the plurality of phosphor picture elements on the phosphor screen are formed by exposure by superimposing a plurality of exposure light rays having different exposure trajectories.

【0038】(11)、前記(9)又は(10)におい
て、前記蛍光面の複数の蛍光体絵素は、異なる前記電子
ビ−ム通過孔を通過した露光光線を重畳して露光形成す
ることを特徴とする。
(11) In the above (9) or (10), the plurality of phosphor picture elements on the phosphor screen are formed by exposure by superimposing exposure light rays that have passed through different electron beam passage holes. Is characterized by.

【0039】(12)、前記(9)乃至(11)のいず
れかにおいて、前記ブラックマトリクス膜は、異なる前
記電子ビ−ム通過孔を通過した露光光線を重畳して露光
形成することを特徴とする。
(12) In any one of the above (9) to (11), the black matrix film is formed by exposing by exposing the exposure light beams passing through different electron beam passage holes. To do.

【0040】なお、本発明は上記の構成および後述する
実施例の構成に限定されるものではなく、本発明の技術
思想を逸脱することなく種々の変更が可能である。
The present invention is not limited to the above-mentioned structure and the structure of the embodiment described later, and various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例を参照して詳細に説明する。図1は本発明の
カラ−陰極線管の一実施例の構造例を説明する概略断面
図である。図1に示すカラー陰極線管は、内面に蛍光体
絵素と非発光性光吸収物質層からなるブラックマトリク
ス膜を有する蛍光面50を備えたパネル部51と、電子
銃61を収容したネック部52、及びパネル部51とネ
ック部52とを連接するファンネル部53とで真空外囲
器を構成している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to examples. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a structural example of an embodiment of the color cathode ray tube of the present invention. The color cathode ray tube shown in FIG. 1 has a panel portion 51 having a phosphor screen 50 having a black matrix film composed of a phosphor picture element and a non-emissive light absorbing material layer on the inner surface thereof, and a neck portion 52 accommodating an electron gun 61. , And the funnel portion 53 that connects the panel portion 51 and the neck portion 52 together form a vacuum envelope.

【0042】パネル部51の内面の蛍光面50は、一般
に赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の蛍光体をそれ
ぞれドット状あるいはストライプ状に塗布してなる蛍光
体絵素と、この蛍光体絵素を取り囲んでカ−ボンの様な
非発光性光吸収物質層からなるブラックマトリクス膜
と、更にメタルバック層となる金属反射膜を有してお
り、この蛍光面50は後述する様に面積のことなる蛍光
体絵素を備え、蛍光面の均一性を表すむら指数が7%以
下となっている。又、蛍光面50に近接してシャドウマ
スク54が配置されている。このシャドウマスク54は
熱膨張率、物理的硬度を考慮してアンバ−材から構成さ
れている。
The phosphor screen 50 on the inner surface of the panel portion 51 is generally a phosphor picture formed by applying phosphors of three colors of red (R), green (G) and blue (B) in a dot shape or a stripe shape, respectively. The phosphor screen 50 has an element, a black matrix film that surrounds the phosphor picture element and is composed of a non-emissive light-absorbing substance layer such as carbon, and a metal reflective film that serves as a metal back layer. As will be described later, is provided with phosphor picture elements having different areas, and the unevenness index representing the uniformity of the phosphor screen is 7% or less. Further, a shadow mask 54 is arranged near the fluorescent screen 50. The shadow mask 54 is made of an amber material in consideration of the coefficient of thermal expansion and physical hardness.

【0043】シャドウマスク54はプレス成形した自立
形状保持型であり、その周辺をマスクフレーム57に溶
接し、パネル部51のスカート部内壁に植立したスタッ
ドピン60に懸架スプリング59を介して懸架支持され
る。なお、マスクフレーム57の電子銃61側には磁気
シールド58が固定されている。真空外囲器のネック部
52とファンネル部53の遷移領域には偏向ヨーク55
が外装され、電子銃61から出射する3本の変調された
電子ビームBを水平(X方向)と垂直(Y方向)に偏向
することで、電子ビームBを蛍光面50を2次元走査
し、画像を再現する。
The shadow mask 54 is a press-molded self-supporting shape-retaining type. The periphery of the shadow mask 54 is welded to the mask frame 57, and is suspended and supported by a stud pin 60 erected on the inner wall of the skirt portion of the panel portion 51 via a suspension spring 59. To be done. A magnetic shield 58 is fixed to the electron gun 61 side of the mask frame 57. A deflection yoke 55 is provided in the transition region between the neck portion 52 and the funnel portion 53 of the vacuum envelope.
The three modulated electron beams B emitted from the electron gun 61 are deflected horizontally (X direction) and vertically (Y direction) to scan the fluorescent screen 50 two-dimensionally with the electron beam B. Reproduce the image.

【0044】又、ファンネル部53の内表面に形成され
た内部導電膜62は、アノードボタンから導入された高
電圧を電子銃61の主レンズを形成する電極及び蛍光面
50の金属反射膜に印加する。なお、65はカラ−陰極
線管全体を示す。
The internal conductive film 62 formed on the inner surface of the funnel portion 53 applies the high voltage introduced from the anode button to the electrode forming the main lens of the electron gun 61 and the metal reflection film of the fluorescent screen 50. To do. In addition, 65 shows the whole color cathode ray tube.

【0045】図2は図1に示す本発明のカラ−陰極線管
の一実施例の蛍光面の要部平面図であり、シャドウマス
クの電子ビ−ム通過孔の最外周付近に対応しており、前
述した各図と同じ部分には同一記号を付してある。図2
において、各色蛍光体絵素281G、281B及び28
1Rは従来の正規の蛍光体絵素と同じ所定の寸法を有す
るのに対し、各色蛍光体絵素281g、281b及び2
81rは小面積の蛍光体絵素で、正規のものに較べ約2
/3の面積となている。又各色蛍光体絵素281g’、
281b’及び281r’は更に小面積の蛍光体絵素
で、正規のものに較べ約1/3の面積となている。線L
は最外周の電子ビ−ム通過孔を結ぶ線である。
FIG. 2 is a plan view of the main part of the phosphor screen of the embodiment of the color cathode ray tube of the present invention shown in FIG. 1, which corresponds to the vicinity of the outermost periphery of the electron beam passage hole of the shadow mask. The same parts as those in the above-mentioned drawings are denoted by the same symbols. Figure 2
In each color phosphor picture element 281G, 281B and 28
1R has the same predetermined size as the conventional regular phosphor picture element, while each color phosphor picture element 281g, 281b and 2
81r is a small-area phosphor picture element, which is about 2 compared to the regular one.
The area is / 3. In addition, each color phosphor picture element 281g ',
Reference numerals 281b 'and 281r' are phosphor picture elements having a smaller area, which is about 1/3 the area of a regular picture element. Line L
Is a line connecting the outermost electron beam passage holes.

【0046】図3は図2に示す蛍光面の露光形成方法を
説明するための平面図で、前述した各図と同じ部分には
同一記号を付してある。図3において、緑色蛍光体絵素
281G、281g及び281g’の露光形成は、露光
光源として3個の光源30G1、30G2及び30G3
を用い、これらを3色の露光光源の間隔Sの3倍である
3Sの間隔に配置し、正規の緑色蛍光体絵素281Gは
異なる3つの電子ビ−ム通過孔244を通過した3光線
を重畳して露光している。
FIG. 3 is a plan view for explaining the method for exposing and forming the phosphor screen shown in FIG. 2, and the same parts as those in the above-mentioned drawings are denoted by the same symbols. In FIG. 3, the green phosphor picture elements 281G, 281g, and 281g 'are formed by exposing three light sources 30G1, 30G2, and 30G3 as exposure light sources.
Are arranged at an interval of 3S, which is three times the interval S of the exposure light sources of the three colors, and the regular green phosphor picture element 281G emits three light rays that have passed through three different electron beam passage holes 244. Overlapping exposure.

【0047】又、小面積の緑色蛍光体絵素281gは露
光光源30G1及び30G3の2個の光源で露光してお
り、面積が281Gの2/3となっている。更に、小面
積の緑色蛍光体絵素281g’は、露光光源30G3の
1個の光源で露光しており、面積が281Gの1/3と
なっている。ブラックマトリクス膜282の形成でも蛍
光体絵素と同様の方法を用いることが出来る。なお、図
3の参照符号30B1、30B2、30B3及び30R
1、30R2、30R3は他色用のそれぞれ露光光源配
置を示している。この例では、3個の光源30G1、3
0G2及び30G3を並列に配置したが、1個又は複数
個の光源を移動させて用いても同様な作用効果がある。
The small-area green phosphor picture element 281g is exposed by two light sources of the exposure light sources 30G1 and 30G3, and the area is ⅔ of 281G. Further, the small area green phosphor picture element 281g 'is exposed by one light source of the exposure light source 30G3, and the area is 1/3 of 281G. The same method as the phosphor picture element can be used for forming the black matrix film 282. Note that reference numerals 30B1, 30B2, 30B3 and 30R in FIG.
Reference numerals 1, 30R2, and 30R3 indicate respective exposure light source arrangements for other colors. In this example, the three light sources 30G1 and 3G3
Although 0G2 and 30G3 are arranged in parallel, the same effect can be obtained by moving one or a plurality of light sources.

【0048】図4は本発明のカラ−陰極線管の製造方法
で用いる露光光源の配置の他の例を示す平面図である。
この例では図3の3倍の9個の光源30G1〜30G9
を用いている。従って、形成される小面積の緑色蛍光体
絵素281gは正規のものの約1/9〜6/9の種々の
サイズのものとなり、又形成範囲も図2が蛍光面の長辺
方向のみで有るのに対し、この9個の配置では蛍光面の
長辺、短辺両方向に小面積の蛍光体絵素が形成される。
この例でも光源の移動で少ない光源とすることが出来
る。
FIG. 4 is a plan view showing another example of the arrangement of exposure light sources used in the method for manufacturing a color cathode ray tube of the present invention.
In this example, nine light sources 30G1 to 30G9 which are three times as large as those in FIG. 3 are used.
Is used. Therefore, the small-area green phosphor picture element 281g to be formed has various sizes of about 1/9 to 6/9 of the regular one, and the formation range is only in the long side direction of the phosphor screen in FIG. On the other hand, with these nine arrangements, the phosphor picture elements having a small area are formed in both the long and short sides of the phosphor screen.
Also in this example, the number of light sources can be reduced by moving the light sources.

【0049】図5及び図6は複数個の露光光源を用い軌
道の異なる露光光線を重畳した際のシャドウマスクの特
性と蛍光面とブラックマトリクス膜及びシャドウマスク
の均一性を表すむら指数との関係の説明図である。図5
は3個の光源を用いたたもの、図6は9個の光源を用い
たもので、図15に示すシャドウマスク241の電子ビ
−ム通過孔244の境界部244bの厚さ寸法Tとむら
指数の関係を示している。なお、図5、図6は共に、用
いたシャドウマスクの電子ビ−ム通過孔244の孔径の
バラツキは2%以内のものとした。
FIG. 5 and FIG. 6 show the relationship between the characteristics of the shadow mask and the nonuniformity index representing the uniformity of the fluorescent screen, the black matrix film and the shadow mask when a plurality of exposure light sources are used to superimpose exposure rays having different trajectories. FIG. Figure 5
6 uses 9 light sources, and FIG. 6 uses 9 light sources. The thickness dimension T and unevenness of the boundary portion 244b of the electron beam passage hole 244 of the shadow mask 241 shown in FIG. It shows the relationship of the indexes. 5 and 6, the variation in the diameter of the electron beam passage hole 244 of the shadow mask used is within 2%.

【0050】まず、図5は、蛍光面ピッチ:0.26m
m、シャドウマスク材料:アンバ−材、シャドウマスク
板厚:0.13mm、電子ビ−ム通過孔径:115〜1
20μmの仕様の51cm画面対角サイズのカラ−陰極
線管を用い、前述した特開平10−253497号公報
に開示された手法により、かつ同公報における物理的な
特徴量としては面積を用いた。図5において、特定の電
子ビ−ム通過孔の境界部244bの厚さ寸法Tが7μm
を越え不正の光プロファイルとなっても、この特定の電
子ビ−ム通過孔と共働の他の電子ビ−ム通過孔を通過し
た露光光線がカバ−することで所望形状が得られ、蛍光
面の均一性を表すむら指数は7%を越えることもない。
First, FIG. 5 shows the fluorescent screen pitch: 0.26 m.
m, shadow mask material: amber material, shadow mask plate thickness: 0.13 mm, electron beam passage hole diameter: 115-1
An area was used as a physical feature amount in the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-253497 mentioned above using a color cathode ray tube having a 51 cm screen diagonal size with a specification of 20 μm. In FIG. 5, the thickness T of the boundary portion 244b of the specific electron beam passage hole is 7 μm.
Even if an illegal light profile is exceeded, the exposure light passing through the other electron beam passage hole cooperating with this particular electron beam passage hole will cover the desired shape to obtain a desired shape. The unevenness index, which indicates the uniformity of the surface, does not exceed 7%.

【0051】一方、従来の単一露光軌道のものでは7μ
mを越えるとむら指数が10%にも達し、6μmを越え
てもむら指数が8%を越え、このむら指数が8%を越え
ると蛍光面に明暗のざらついたむらが顕著に発生して画
面の均一性が低下し、画面の質感を損ない、高品位の画
像表示が得られなかった。従って、蛍光面の均一性を表
すむら指数は7%以下が必要であり、望ましくは4%以
下であればむらの存在そのものが無視でき、より高品位
の画像表示を可能に出来る。この為には、前記境界部2
44bの厚さ寸法Tは6μm以下が望ましいが、複数の
露光軌道の重畳により厚さ寸法Tの許容度が広がる。
On the other hand, with the conventional single exposure orbit, 7 μ
When the thickness exceeds m, the unevenness index reaches 10%, and even when it exceeds 6 μm, the unevenness index exceeds 8%. When the unevenness index exceeds 8%, unevenness of brightness and darkness on the fluorescent screen remarkably occurs. The uniformity deteriorated, the quality of the screen was impaired, and high-quality image display could not be obtained. Therefore, the unevenness index representing the uniformity of the phosphor screen needs to be 7% or less, and preferably 4% or less, the existence of the unevenness can be ignored, and higher quality image display can be realized. To this end, the boundary 2
Although the thickness dimension T of 44b is preferably 6 μm or less, the tolerance of the thickness dimension T is widened by superimposing a plurality of exposure tracks.

【0052】次に、図6において、図5と同一仕様のシ
ャドウマスクを用い、9個の露光光源を用いて確認した
結果、3個の光源を用いる図5より更にむら指数の低減
が可能となっている。特にブラックマトリクス膜のむら
指数がシャドウマスク単体より改善されており、複数の
露光軌道の重畳による本発明の効果が顕著に現われてい
る。又、電子ビ−ム通過孔244の表面粗さについても
従来に較べ許容度が大きくなっている。ここで、前記図
5及び図6におけるBM(ブラックマトリクス)膜及び
マスク(シャドウマスク)のデ−タは、カラ−陰極線管
の製造工程中にそれぞれ収集したものである。
Next, as shown in FIG. 6, using a shadow mask having the same specifications as in FIG. 5 and using nine exposure light sources, it was confirmed that the unevenness index can be further reduced as compared with FIG. 5 using three light sources. Has become. In particular, the unevenness index of the black matrix film is improved compared to the shadow mask alone, and the effect of the present invention due to the superposition of a plurality of exposure trajectories is remarkably exhibited. Further, the tolerance of the surface roughness of the electron beam passage hole 244 is higher than that of the conventional one. Here, the data of the BM (black matrix) film and the mask (shadow mask) in FIG. 5 and FIG. 6 were collected during the manufacturing process of the color cathode ray tube.

【0053】又、通常シャドウマスクは表面を黒化させ
ているが、この黒化膜の厚さを標準仕様のものより少な
くとも10%程度厚膜とすることで表面粗さが同一のも
のでも標準仕様のものに較べてむら指数の改善が図れ
る。すなわち、表面粗さ0.12μmと0.30μmの
シャドウマスクの場合、標準仕様の黒化膜をもちいたブ
ラックマトリクス膜のむら指数はそれぞれ3.2%、
4.0%で有ったものが、10%黒化膜厚さを増すこと
でそれぞれが3.1%、3.6%と改善され、これに伴
い蛍光面のむら指数も改善されている。
Although the surface of a shadow mask is usually blackened, the thickness of this blackened film is at least about 10% thicker than that of the standard specification, so that even if the surface roughness is the same, it is standard. The unevenness index can be improved compared to the specifications. That is, in the case of shadow masks having surface roughnesses of 0.12 μm and 0.30 μm, the unevenness index of the black matrix film using the standardized blackening film is 3.2%,
The value of 4.0% was improved to 3.1% and 3.6% by increasing the blackened film thickness by 10%, and the unevenness index of the phosphor screen was also improved accordingly.

【0054】ここで、上記の実施例では、シャドウマス
クの特性とむら指数とについて説明したが、前述したよ
うに蛍光面のむら発生の原因としては、前記シャドウマ
スク以外にブラックマトリクス膜及び蛍光体絵素、更に
は金属反射膜等種々のものも関連することから、それぞ
れの特性の改善によりむら指数の一層の改善が図れる。
図7は本発明のカラ−陰極線管の製造方法で用いる露光
装置の一例の平面図で、装置本体71に3本の光源72
1、722及び723を3Sの間隔で配置したもので、
この装置本体71をライトハウスに装着して使用する。
Here, in the above embodiment, the characteristics of the shadow mask and the unevenness index were explained. However, as described above, the cause of the unevenness of the fluorescent screen is not only the shadow mask but also the black matrix film and the fluorescent substance picture. Since various elements such as the element and the metal reflection film are also related, the unevenness index can be further improved by improving the respective characteristics.
FIG. 7 is a plan view of an example of an exposure apparatus used in the method for manufacturing a color cathode ray tube according to the present invention, in which an apparatus main body 71 has three light sources 72.
1, 722 and 723 are arranged at intervals of 3S,
The device main body 71 is mounted on a light house for use.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
露光軌道の異なる露光光線を重畳して露光形成すること
により例え少数の電子ビ−ム通過孔に問題が有っても相
乗効果により欠点が除去され、蛍光面に発生するむらを
排除出来、むらの発生がなく、画面の均一性が優れ、画
面の質感の良い、高品位の画像表示が得られる優れたブ
ラックマトリクス型のカラー陰極線管及びその製造方法
を可能にした。
As described above, according to the present invention,
Even if there is a problem with a small number of electron beam passage holes by superimposing exposure light rays with different exposure trajectories on exposure, defects can be eliminated by a synergistic effect, and unevenness occurring on the fluorescent screen can be eliminated. The present invention has enabled an excellent black matrix type color cathode ray tube capable of producing a high-quality image display with excellent screen uniformity, excellent screen uniformity, and a manufacturing method thereof.

【0056】[0056]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるカラー陰極線管の一実施例の構造
例を説明する概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view illustrating a structural example of an embodiment of a color cathode ray tube according to the present invention.

【図2】図1に示す本発明によるカラー陰極線管の蛍光
面の要部平面図である。
FIG. 2 is a plan view of a main part of a phosphor screen of the color cathode ray tube according to the present invention shown in FIG.

【図3】図2に示す蛍光面の露光形成方法を説明するた
めの平面図であり、シャドウマスクの電子ビ−ム通過孔
の境界部近傍の表面粗さと蛍光面等のむら指数との関係
を示す図である。
3 is a plan view for explaining the exposure forming method of the fluorescent screen shown in FIG. 2, showing the relationship between the surface roughness near the boundary of the electron beam passage hole of the shadow mask and the unevenness index of the fluorescent screen. FIG.

【図4】本発明のカラ−陰極線管の製造方法で用いる露
光光源の配置の他の例を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing another example of the arrangement of exposure light sources used in the method for manufacturing a color cathode ray tube according to the present invention.

【図5】3個の露光光源を用い軌道の異なる露光光線を
重畳した際のシャドウマスクの電子ビ−ム通過孔の境界
部の厚さと蛍光面等のむら指数との関係の説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram of the relationship between the thickness of the boundary portion of the electron beam passage hole of the shadow mask and the exponent index of the fluorescent screen when the exposure light rays having different trajectories are superimposed by using three exposure light sources.

【図6】9個の露光光源を用い軌道の異なる露光光線を
重畳した際のシャドウマスクの電子ビ−ム通過孔の境界
部の厚さと蛍光面等のむら指数との関係の説明図であ
る。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the relationship between the thickness of the boundary portion of the electron beam passage hole of the shadow mask and the unevenness index of the fluorescent screen when the exposure light beams having different trajectories are superposed using nine exposure light sources.

【図7】本発明のカラ−陰極線管の製造方法で用いる露
光装置の一例の平面図である。
FIG. 7 is a plan view of an example of an exposure apparatus used in the method for manufacturing a color cathode ray tube according to the present invention.

【図8】ブラックマトリクス型のカラー陰極線管の構造
例を説明する概略断面図である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view illustrating a structural example of a black matrix type color cathode ray tube.

【図9】図8に示すシャドウマスク組立体の一例を示
し、図9(a)は側面図、(b)は平面図である。
9A and 9B show an example of the shadow mask assembly shown in FIG. 8, FIG. 9A being a side view and FIG. 9B being a plan view.

【図10】図8に示すカラー陰極線管の要部の一部を拡
大して示す断面模式図である。
10 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged part of a main part of the color cathode ray tube shown in FIG.

【図11】シャドウマスクの電子ビ−ム通過孔の一例の
断面模式図である。
FIG. 11 is a schematic sectional view of an example of an electron beam passage hole of a shadow mask.

【図12】蛍光面形成露光を説明する為の幾何光学的露
光プロファイルである。
FIG. 12 is a geometrical optical exposure profile for explaining phosphor screen forming exposure.

【図13】カラ−陰極線管のパネル部の正面図を示し、
(a)は全体の正面図、(b)は(a)のA部を拡大し
て示す平面図である。
FIG. 13 shows a front view of a panel portion of a color cathode ray tube,
(A) is a front view of the whole, (b) is a plan view showing an enlarged A portion of (a).

【図14】蛍光面形成露光の為の他の例の幾何光学的露
光プロファイルの説明図で、(a)は正常なプロファイ
ル、(b)(c)は不正なプロファイルである。
FIG. 14 is an explanatory diagram of another example of a geometrical optical exposure profile for exposure to form a fluorescent screen, where (a) is a normal profile and (b) and (c) are incorrect profiles.

【図15】シャドウマスクの電子ビ−ム通過孔の他の例
の断面模式図である。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of another example of the electron beam passage hole of the shadow mask.

【図16】画質測定方法及び装置の一実施形態を示す構
成図である。
FIG. 16 is a configuration diagram showing an embodiment of an image quality measuring method and apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20、51 パネル部 21、53 ファンネル部 22、52 ネック部 24、54 シャドウマスク 25、61 電子銃 28、50 蛍光面 32 カラ−陰極線管 33 カメラ 34 画像処理装置 35 信号発生装置 241 シャドウマスク 244 電子ビ−ム通過孔 244b 境界部 244L 大孔 244S 小孔 281G、B、R 蛍光体絵素 282 ブラックマトリクス膜 283 金属反射膜 281 g、g’、b、b’、r、r’ 小面積蛍光体
絵素。
20, 51 Panel portion 21, 53 Funnel portion 22, 52 Neck portion 24, 54 Shadow mask 25, 61 Electron gun 28, 50 Fluorescent screen 32 Color cathode ray tube 33 Camera 34 Image processing device 35 Signal generator 241 Shadow mask 244 electron Beam passing hole 244b Boundary 244L Large hole 244S Small hole 281G, B, R Phosphor picture element 282 Black matrix film 283 Metal reflection film 281 g, g ', b, b', r, r'Small area phosphor Picture element.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】内面に蛍光体絵素とブラックマトリクス膜
を有する蛍光面及びこの蛍光面に対向配置され多数の電
子ビ−ム通過孔を有するシャドウマスクとを備えたパネ
ル部と、電子銃を収容したネック部、及びパネル部とネ
ック部とを連接し、かつ外周に偏向ヨ−クを有するファ
ンネル部とで構成した真空外囲器を持つカラ−陰極線管
であって、 前記蛍光面は中央部に較べて周辺部に小面積の蛍光体絵
素を有すると共に蛍光面の均一性を表すむら指数が7%
以下であることを特徴とするカラー陰極線管。
1. An electron gun comprising: a panel section having a phosphor screen having a phosphor picture element and a black matrix film on an inner surface thereof; and a shadow mask arranged to face the phosphor screen and having a large number of electron beam passage holes. A color cathode ray tube having a vacuum envelope formed by a housed neck portion, a panel portion and a neck portion connected to each other, and a funnel portion having a deflection yoke on the outer circumference. Has a small area phosphor element in the peripheral area compared to the area, and the unevenness index that indicates the uniformity of the fluorescent surface is 7%
A color cathode ray tube characterized in that:
【請求項2】前記むら指数が4%以下であることを特徴
とする請求項1記載のカラー陰極線管。
2. The color cathode ray tube according to claim 1, wherein the unevenness index is 4% or less.
【請求項3】前記蛍光体絵素はドット状であることを特
徴とする請求項1又は2に記載のカラー陰極線管。
3. The color cathode ray tube according to claim 1, wherein the phosphor picture element has a dot shape.
【請求項4】前記シャドウマスクは、前記電子ビ−ム通
過孔が境界部を境いに前記蛍光面側が大孔で前記電子銃
側が小孔に形成されており、かつ前記境界部の厚さが6
μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいず
れかに記載のカラー陰極線管。
4. The shadow mask has a large hole on the phosphor screen side and a small hole on the electron gun side with the electron beam passage hole at a boundary, and the thickness of the boundary is formed. Is 6
The color cathode ray tube according to claim 1, wherein the color cathode ray tube has a thickness of less than or equal to μm.
【請求項5】前記蛍光面の周辺部の小面積の蛍光体絵素
の大きさは、前記中央部の蛍光体絵素の大きさの2/3
乃至1/3n(nは整数)であることを特徴とする請求
項1乃至請求項4のいずれかに記載のカラー陰極線管。
5. The size of a small area phosphor picture element in the peripheral portion of the phosphor screen is 2/3 of the size of the phosphor picture element in the central portion.
The color cathode ray tube according to any one of claims 1 to 4, wherein the color cathode ray tube is 1 to 3 / 3n (n is an integer).
【請求項6】前記ブラックマトリクス膜の均一性を示す
むら指数が5%以下であることを特徴とする請求項1乃
至5のいずれかに記載のカラー陰極線管。
6. The color cathode ray tube according to claim 1, wherein the unevenness index showing the uniformity of the black matrix film is 5% or less.
【請求項7】前記シャドウマスクの均一性を示すむら指
数が3%以下であることを特徴とする請求項1乃至6の
いずれかに記載のカラー陰極線管。
7. The color cathode ray tube according to claim 1, wherein the unevenness index showing the uniformity of the shadow mask is 3% or less.
【請求項8】前記ブラックマトリクス膜の均一性を示す
むら指数がシャドウマスクの均一性を示すむら指数より
小さいことを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記
載のカラー陰極線管。
8. The color cathode ray tube according to claim 1, wherein the unevenness index showing the uniformity of the black matrix film is smaller than the unevenness index showing the uniformity of the shadow mask.
【請求項9】内面に複数の蛍光体絵素とブラックマトリ
クス膜を有する蛍光面及びこの蛍光面に対向配置され多
数の電子ビ−ム通過孔を有するシャドウマスクとを備え
たパネル部と、電子銃を収容したネック部、及びパネル
部とネック部とを連接し、かつ外周に偏向ヨ−クを有す
るファンネル部とで構成した真空外囲器を持つカラ−陰
極線管の製造であって、 前記ブラックマトリクス膜は、露光軌道の異なる複数の
露光光線を重畳して露光形成することを特徴とするカラ
ー陰極線管の製造方法。
9. A panel section comprising: a phosphor screen having a plurality of phosphor picture elements and a black matrix film on an inner surface thereof; and a shadow mask arranged to face the phosphor screen and having a large number of electron beam passage holes. A method of manufacturing a color cathode ray tube having a vacuum envelope including a neck portion accommodating a gun, and a funnel portion connecting a panel portion and the neck portion with each other and having a deflection yoke on an outer periphery, The method for manufacturing a color cathode ray tube, wherein the black matrix film is formed by exposing a plurality of exposure light beams having different exposure trajectories in an overlapping manner.
【請求項10】前記蛍光面の複数の蛍光体絵素は、露光
軌道の異なる複数の露光光線を重畳して露光形成するこ
とを特徴とする請求項9記載のカラー陰極線管の製造方
法。
10. The method of manufacturing a color cathode ray tube according to claim 9, wherein the plurality of phosphor picture elements on the phosphor screen are formed by exposure by superimposing a plurality of exposure light rays having different exposure trajectories.
【請求項11】前記蛍光面の複数の蛍光体絵素は、異な
る前記電子ビ−ム通過孔を通過した露光光線を重畳して
露光形成することを特徴とする請求項9又は10に記載
のカラー陰極線管の製造方法。
11. The plurality of phosphor picture elements on the phosphor screen are formed by exposing the exposure light rays that have passed through the different electron beam passage holes by superimposing them. Manufacturing method of color cathode ray tube.
【請求項12】前記ブラックマトリクス膜は、異なる前
記電子ビ−ム通過孔を通過した露光光線を重畳して露光
形成することを特徴とする請求項9乃至11のいずれか
に記載のカラー陰極線管の製造方法。
12. The color cathode ray tube according to claim 9, wherein the black matrix film is formed by exposing the exposure light beams passing through the different electron beam passage holes in an overlapping manner. Manufacturing method.
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