JP2003098444A - Mirror deflection device and light switching device - Google Patents

Mirror deflection device and light switching device

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JP2003098444A
JP2003098444A JP2001285954A JP2001285954A JP2003098444A JP 2003098444 A JP2003098444 A JP 2003098444A JP 2001285954 A JP2001285954 A JP 2001285954A JP 2001285954 A JP2001285954 A JP 2001285954A JP 2003098444 A JP2003098444 A JP 2003098444A
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Japan
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mirror
substrate
mirror substrate
drive electrodes
light
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JP2001285954A
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Japanese (ja)
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Koichi Otaka
剛一 大高
Hidekazu Ota
英一 太田
Seiichi Kato
静一 加藤
Takeshi Nanjo
健 南條
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mirror deflection device which can deflect light to an arbitrary direction and can be driven by a low-voltage. SOLUTION: A projected part 112 on a substrate 107 side fits to a recessed part 102 provided at the center of a mirror substrate 101, and the mirror substrate 101 is oscillatably supported in the arbitrary direction with its approximate center as an oscillating center. A plurality of driving electrodes facing the mirror substrate 101 are provided at a recessed region of the substrate 107. The mirror substrate 101 is held in a neutral position when it is not driven by a holding part 103 of a folding construction coupled to an end of the mirror substrate 101 and the substrate 107.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロマシニン
グ技術により微細化が容易なミラー偏向装置に係り、特
に、ミラー面を有する微小なミラー基板を静電力によっ
て傾けるタイプのミラー偏向装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mirror deflector which can be easily miniaturized by a micromachining technique, and more particularly to a mirror deflector of a type in which a minute mirror substrate having a mirror surface is tilted by an electrostatic force.

【0002】[0002]

【従来の技術】IBM J.Res.Develop Vol.24 (1980)に掲
載されているミラー偏向装置では、同一直線上に設けら
れた2本の梁で支持されたミラー基板を、ミラー基板に
対向する位置に設けた電極との間の静電引力によって、
2本の梁をねじり回転軸として往復振動させている。マ
イクロマシニング技術で形成されるこのミラー偏向装置
は、構造が簡単で半導体プロセスでの一括形成が可能な
ため、小型化が容易で製造コストも低く、また単一の反
斜面であるため複数面による精度のばらつきがなく、さ
らに往復走査であるため高速化にも対応できる等の効果
が期待できる。
2. Description of the Related Art In the mirror deflector disclosed in IBM J. Res. Develop Vol. 24 (1980), a mirror substrate supported by two beams arranged on the same straight line is opposed to the mirror substrate. By the electrostatic attraction between the electrode provided at the position
The two beams are reciprocally oscillated with the torsion axis of rotation. This mirror deflection device, which is formed by micromachining technology, has a simple structure and can be collectively formed by a semiconductor process, so that it is easy to miniaturize and the manufacturing cost is low. Since there is no variation in accuracy and the reciprocating scanning is performed, it is expected that the speed can be increased.

【0003】このような静電駆動のねじり振動型ミラー
偏向装置としては、特許第2924200号に開示され
た、梁をS字型として剛性を下げ、小さな駆動力で大き
な振れ角が得られるようにしたもの、特開平7−924
09に開示された、梁の厚さをミラー基板、フレーム基
板よりも薄くしたもの、特許第3011144号、ある
いは The 13th Annual International Workshop on MEM
S2000 (2000) 473-478に開示された、固定電極をミラー
部の振動方向に重ならない位置に配置したもの、また、
The 13th Annual International Workshop on MEMS2000
(2000) 645-650 にも記載されているように、対向電極
をミラーの振れの中心位置から傾斜させて設置すること
で、ミラーの振れ角を変えずに駆動電圧を下げたものが
ある。
As such an electrostatically driven torsional vibration type mirror deflecting device, disclosed in Japanese Patent No. 2924200, the beam is S-shaped to reduce the rigidity so that a large deflection angle can be obtained with a small driving force. What is disclosed in JP-A-7-924
09, the beam thickness thinner than the mirror substrate and the frame substrate, Japanese Patent No. 3011144, or The 13th Annual International Workshop on MEM
S2000 (2000) 473-478, in which the fixed electrode is arranged at a position not overlapping in the vibration direction of the mirror part,
The 13th Annual International Workshop on MEMS2000
(2000) 645-650, there is a device in which the driving voltage is lowered without changing the deflection angle of the mirror by installing the counter electrode so as to be inclined from the center position of the deflection of the mirror.

【0004】また、片持ち梁を静電力で撓ませて光の反
射方向を変えてスイッチするデバイス、及び、それを用
いた光変調システムがK.E.Petersenにより1977年に発表
されている(Applied Physics Letters,Vol.31, No.8,
pp.521-523)。
Further, a device for deflecting a cantilever beam by electrostatic force to change the light reflection direction and switching, and an optical modulation system using the device were announced by KE Petersen in 1977 (Applied Physics Letters, Vol.31, No.8,
pp.521-523).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前述のような2本の梁
でミラー基板を両側がら保持し、この梁をねじり回転軸
としてミラー基板を静電引力により往復振動させるミラ
ー偏向装置では、ミラーの振れ方向(光偏向方向)が、
ねじり回転軸を回転中心とする1方向にのみ制限され
る。このことは、前述の片持ち梁型の光スイッチも同様
である。片持ち梁を利用した光スイッチは、応力緩和に
よる梁の変形、経時変化等があり、梁の安定性の確保が
難しいという弱点もある。また、ミラー基板に作用する
静電力の大きさは、電極間距離の二乗に比例し、かつ、
電極面積に比例するが、ミラー基板の振れ角を大きくし
ようとすると駆動電圧が高くなるという問題がある。
SUMMARY OF THE INVENTION In a mirror deflecting device in which a mirror substrate is held from both sides by two beams as described above, and the beams are reciprocally oscillated by electrostatic attraction with the beams as torsional axes, The shake direction (light deflection direction) is
It is limited to only one direction with the torsion axis of rotation as the center of rotation. This also applies to the above-mentioned cantilever type optical switch. An optical switch using a cantilever beam has a weak point that it is difficult to secure the stability of the beam due to deformation of the beam due to stress relaxation, change over time, and the like. The magnitude of the electrostatic force acting on the mirror substrate is proportional to the square of the distance between the electrodes, and
Although it is proportional to the electrode area, there is a problem that the drive voltage becomes higher when the deflection angle of the mirror substrate is increased.

【0006】本発明の目的は、以上に述べた諸問題点を
改善した新規なミラー偏向装置を提供することにある。
本発明のもう1つの目的は、高速で、光損失の少ない、
シンプルな構造の光交換装置を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a novel mirror deflecting device which solves the above problems.
Another object of the present invention is high speed and low optical loss,
It is to provide an optical switching device having a simple structure.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明によるミラー偏向
装置は、請求項1記載のように、ミラー面が形成された
ミラー基板と、該ミラー基板を、その略中心を揺動中心
とした任意の方向の揺動が可能となるように基板部材に
支持するための支持部材と、前記ミラー基板に、それを
揺動させるための静電引力を作用させるための前記基板
部材に設けられた複数の駆動電極と、該駆動電極による
静電引力が作用しない場合に前記ミラー基板を所定のニ
ュートラル位置に保持するための前記ミラー基板及び前
記基板部材に結合された複数の保持部材とを有すること
を特徴とする。
According to another aspect of the present invention, there is provided a mirror deflecting device, wherein a mirror substrate having a mirror surface is formed, and the mirror substrate has an arbitrary center about a swing center. A supporting member for supporting the substrate member so that the mirror substrate can be swung in the direction of, and a plurality of substrate members for applying an electrostatic attractive force for swinging the mirror substrate to the mirror substrate. Drive electrodes, and a plurality of holding members coupled to the mirror substrate and the substrate member for holding the mirror substrate at a predetermined neutral position when electrostatic attraction by the drive electrodes does not act. Characterize.

【0008】本発明によるミラー偏向装置のもう1つの
特徴は、請求項2記載のように、請求項1記載の構成に
おいて、前記ミラー基板のミラー面の形成面と反対側の
面に空隙を介して対向する前記基板部材の面上に、前記
複数の駆動電極が配置することにある。
Another feature of the mirror deflecting device according to the present invention is, as in claim 2, in the structure of claim 1, in which a gap is provided on the surface of the mirror substrate opposite to the surface on which the mirror surface is formed. The plurality of drive electrodes are arranged on the surfaces of the substrate members facing each other.

【0009】本発明によるミラー偏向装置のもう1つの
特徴は、請求項3記載のように、請求項1又は2記載の
構成において、前記基板部材の前記駆動電極が配置され
た面を、前記ミラー基板の中心に対応した位置を頂点と
した略円錐形状の傾斜面とすることにある。
Another feature of the mirror deflecting device according to the present invention is, as described in claim 3, in the structure of claim 1 or 2, wherein the surface of the substrate member on which the drive electrode is arranged is the mirror. The purpose is to make an inclined surface having a substantially conical shape with the vertex corresponding to the center of the substrate.

【0010】本発明によるミラー偏向装置のもう1つの
特徴は、請求項4記載のように、請求項2又は3記載の
構成において、前記複数の駆動電極のそれぞれを独立し
た複数の電極に分割することにある。
Another feature of the mirror deflecting device according to the present invention is, as in claim 4, in the structure of claim 2 or 3, wherein each of the plurality of drive electrodes is divided into a plurality of independent electrodes. Especially.

【0011】本発明による光交換装置は、請求項5記載
のように、請求項1乃至4のいずれか1項記載の複数の
ミラー偏向装置と、該複数のミラー偏向装置に光ビーム
を入射するための第1の光伝達手段と、前記複数のミラ
ー偏向装置により偏向された光ビームが入射される第2
の光伝達手段とを有し、前記第1の光伝達手段と前記第
2の光伝達手段との間で2次元の光交換を行うことを特
徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an optical exchanging device, wherein a plurality of mirror deflecting devices according to any one of claims 1 to 4 and a light beam are incident on the plurality of mirror deflecting devices. And a second light transmission unit for receiving the light beam deflected by the plurality of mirror deflecting devices.
And a two-dimensional optical exchange between the first light transmitting means and the second light transmitting means.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て添付図面を参照し説明する。図1は本発明のミラー偏
向装置の実施例1を説明するもので、同図(a)はミラ
ー偏向装置のミラー面側から見た正面図、同図(b)は
ミラー偏向装置の断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. 1A and 1B illustrate a first embodiment of a mirror deflecting device of the present invention. FIG. 1A is a front view seen from the mirror surface side of the mirror deflecting device, and FIG. 1B is a sectional view of the mirror deflecting device. Is.

【0013】101はミラー基板101であり、その表面に使
用される光に対し十分な反射率を持つミラー面111が形
成されている。ミラー基板101のミラー面111と反対側の
面の中央部には、下向きに開いた凹部102が形成されて
いる。基板107には、ミラー基板101との間に空隙108を
形成するための窪み部位が形成されており、この窪み部
位のミラー基板101と対向する面の中央に凸部112が形成
されている。この凸部112は、その先端がミラー基板101
の凹部102と嵌合し、ミラー基板101をその略中心を揺動
中心として(厳密は凹部102と凸部112の係合点を揺動中
心として)任意の方向に揺動可能に支持する。基板107
の窪み部位のミラー基板101と対向する面には、ミラー
基板101に静電引力を作用させるための4つの駆動電極1
10(1)〜110(4)が、凸部112を取り囲むように分散配置さ
れている。
Reference numeral 101 denotes a mirror substrate 101, on the surface of which a mirror surface 111 having a sufficient reflectance for light used is formed. A concave portion 102 that opens downward is formed in the center of the surface of the mirror substrate 101 opposite to the mirror surface 111. A recessed portion for forming a space 108 with the mirror substrate 101 is formed on the substrate 107, and a convex portion 112 is formed at the center of the surface of the recessed portion facing the mirror substrate 101. The tip of the convex 112 is the mirror substrate 101.
The mirror substrate 101 is supported so as to be capable of swinging in any direction with the substantial center thereof as the swing center (strictly, the engaging point of the recess 102 and the convex portion 112 as the swing center). Board 107
Four drive electrodes 1 for applying an electrostatic attractive force to the mirror substrate 101 are provided on the surface of the recessed portion of the mirror substrate 101 facing the mirror substrate 101.
10 (1) to 110 (4) are dispersed and arranged so as to surround the convex 112.

【0014】ミラー基板101の4つのコーナー近傍の端
部には、折りたたみ構造の4つの保持部103(1)〜103(4)
の一方の端が結合され、その他方の端は基板107に結合
されている。これら保持部103は、駆動電極110による静
電引力がミラー基板101に作用しない時に、ミラー基板1
01を図1(b)に示すニュートラル位置に保持するため
の部材であり、ミラー基板101の必要とされる振れ角を
得られような剛性を持つように断面寸法、形状、長さが
設定されている。
At the end portions near the four corners of the mirror substrate 101, four holding portions 103 (1) to 103 (4) having a folding structure are provided.
One end is bonded to the substrate 107 and the other end is bonded to the substrate 107. These holding portions 103 are provided on the mirror substrate 1 when the electrostatic attraction by the drive electrode 110 does not act on the mirror substrate 101.
This is a member for holding 01 at the neutral position shown in FIG. 1 (b), and the cross-sectional size, shape, and length are set so as to have rigidity so that the required deflection angle of the mirror substrate 101 can be obtained. ing.

【0015】このミラー偏向装置の製造方法の一例を図
2及び図3により説明する。図2の(b),(d),
(h)及び図3の(j)は該当工程での正面構造を示す
概略正面図であり、それ以外は該当工程での断面構造を
示す概略断面図である。
An example of a method of manufacturing this mirror deflecting device will be described with reference to FIGS. 2 (b), (d),
(H) and (j) of FIG. 3 are schematic front views showing the front structure in the corresponding step, and other drawings are schematic cross-sectional views showing the sectional structure in the corresponding step.

【0016】図2(a),(b):基板107となるシリコン基板
201に、フォトリソグラフィー及びドライエッチングの
手法により空隙108のための窪み部位202及び凸部112を
形成する。窪み部位202は、例えば、1辺の長さが100μ
mの正方形で、その深さが10μmである。凸部112は、
例えば、高さが9.7μm、その太さが10μmである。そ
の後、基板201を熱酸化し、表面に酸化膜を0.2μmの厚
さに形成する。
2 (a) and 2 (b): Silicon substrate to be the substrate 107
In 201, a recessed portion 202 and a convex portion 112 for the void 108 are formed by photolithography and dry etching techniques. The recessed portion 202 has, for example, a side length of 100 μ.
It is a square of m and its depth is 10 μm. The convex 112 is
For example, the height is 9.7 μm and the thickness is 10 μm. After that, the substrate 201 is thermally oxidized to form an oxide film on the surface with a thickness of 0.2 μm.

【0017】図2(c),(d):窪み部位202の底面に、TiN
の薄膜を成膜する。このTiN薄膜は、例えば、Tiをター
ゲットとした反応性スパッタ法により厚さ0.1μmに成
膜する。そして、このTiN薄膜を、フォトリソグラフィ
ー及びドライエッチングの手法によって、1辺の長さが4
0μmの正方形の駆動電極110(1)〜110(4)を形成する。
図示しないが、これら4つの駆動電極110の一部は、外
部接続のために窪み部位から基板表面にせり出ている。
さらに、その上に電極保護膜としてプラズマ窒化膜を0.
05μm厚さに形成する。
2 (c) and 2 (d): TiN is formed on the bottom surface of the recessed portion 202.
To form a thin film. This TiN thin film is formed to have a thickness of 0.1 μm by, for example, a reactive sputtering method using Ti as a target. Then, this TiN thin film was formed into a film with a side length of 4 by photolithography and dry etching.
The drive electrodes 110 (1) to 110 (4) having a square shape of 0 μm are formed.
Although not shown, some of these four drive electrodes 110 protrude from the recessed portion to the substrate surface for external connection.
Furthermore, a plasma nitride film as an electrode protective film on it.
Formed to a thickness of 05 μm.

【0018】図2(e):プラズマCVDの手法により、犠牲
層膜205として、多結晶シリコンを基板201の窪み部位20
2が埋まるまで成膜する。
FIG. 2 (e): Polycrystalline silicon is used as the sacrificial layer film 205 by the plasma CVD method to form the recessed portion 20 of the substrate 201.
Film is formed until 2 is filled.

【0019】図2(f):犠牲層膜205をCMP(Chemical Me
chanical Polishing)手法により研磨し、図示のような
平坦な犠牲層膜206にする。
FIG. 2 (f): The sacrificial layer film 205 is formed by CMP (Chemical Membrane).
chanical Polishing) method to obtain a flat sacrificial layer film 206 as shown.

【0020】図2(g),(h):平坦化した犠牲層膜206の上
に、フォトリソグラフィー及びドライエッチングの手法
により、ミラー基板101の凹部102を形成するためのパタ
ーン208を形成する。
2G and 2H: A pattern 208 for forming the concave portion 102 of the mirror substrate 101 is formed on the flattened sacrifice layer film 206 by a photolithography and dry etching method.

【0021】図3(i),(j):次に、ミラー基板101及び保
持部103の材料となる窒化シリコン膜を熱CVDの手法によ
り厚さ0.04μmに全面成膜する。この窒化シリコン膜上
に、ミラー面111となるAl薄膜を0.05μmの厚さでスパ
ッタ法により形成する。次いで、フォトリソグラフィー
及びドライエッチングの手法により、ミラー基板101
と、4つの折りたたみ構造の保持部103をパターンニン
グする。ミラー基板101は1辺が90μmの正方形であ
る。折りたたみ構造の各保持部103は、その両端の梁部
分の太さが2μm、梁部分の間の折りたたみ部分の長さ
が35μmである。
3 (i) and 3 (j): Next, a silicon nitride film as a material for the mirror substrate 101 and the holding portion 103 is blanket deposited to a thickness of 0.04 μm by a thermal CVD method. On this silicon nitride film, an Al thin film to be the mirror surface 111 is formed with a thickness of 0.05 μm by a sputtering method. Then, the mirror substrate 101 is formed by photolithography and dry etching.
Then, the four folding structure holding portions 103 are patterned. The mirror substrate 101 is a square with one side of 90 μm. In each of the holding portions 103 having the folding structure, the thickness of the beam portions at both ends thereof is 2 μm, and the length of the folding portion between the beam portions is 35 μm.

【0022】そして、図示しないが、犠牲層膜206をTMA
H(tetra-methyle-anmonium-hydoride)によりウエット
エッチングして除去し、最後に、駆動電極110の外部接
続用の開口を保護膜に形成することにより、図1に示し
た構成のミラー偏向装置が完成する。
Although not shown, the sacrifice layer film 206 is formed on the TMA.
By wet etching with H (tetra-methyle-anmonium-hydoride) to remove it, and finally, by forming an opening for external connection of the drive electrode 110 in the protective film, the mirror deflector having the configuration shown in FIG. Complete.

【0023】本実施例のミラー偏向装置の動作を説明す
る。図4は動作説明図である。
The operation of the mirror deflecting device of this embodiment will be described. FIG. 4 is an operation explanatory diagram.

【0024】ミラー基板101(可動電極)と、駆動電極1
10のいずれとの間にも駆動電圧が印加されず、ミラー基
板101に静電力が作用していない場合には、ミラー基板1
01は、4つの折りたたみ構造を有する保持部102によっ
て図1に示すようなニュートラル位置に保持されてい
る。この時に、ミラー基板101上のミラー面111に入射角
度θで入射した光束は、図4の(a)に矢印で示される
ように、反射角度θの方向に正反射される。
Mirror substrate 101 (movable electrode) and drive electrode 1
When the drive voltage is not applied to any of the 10 and the electrostatic force does not act on the mirror substrate 101, the mirror substrate 1
01 is held in the neutral position as shown in FIG. 1 by the holding portion 102 having four folding structures. At this time, the light flux incident on the mirror surface 111 on the mirror substrate 101 at the incident angle θ is specularly reflected in the direction of the reflection angle θ, as indicated by the arrow in FIG.

【0025】ミラー基板101と、例えば駆動電極110(4)
の間に駆動電圧が印可された場合には、ミラー基板101
に静電力が作用し、ミラー基板101は駆動電極110(4)側
に引きつけられ、図4(b)に示すように、角度αだけ
振れる。したがって、ミラー面111による反射光の方向
が2αだけ変わる。
Mirror substrate 101 and, for example, drive electrodes 110 (4)
If a drive voltage is applied during
An electrostatic force acts on the mirror substrate 101, and the mirror substrate 101 is attracted to the drive electrode 110 (4) side and swings by an angle α as shown in FIG. Therefore, the direction of the light reflected by the mirror surface 111 changes by 2α.

【0026】他の駆動電極110(2)〜110(4)に駆動電圧を
印加した場合にも、同様に、その電極位置方向へ反射光
を振ることができる。また、隣合う2つの駆動電極、例
えば駆動電極103(1),103(2)に同時に駆動電圧を印加す
れば、両電極の中間方向へミラー基板101を傾け、その
方向へ光を振ることができる。さらに、隣り合う2つの
駆動電極のそれぞれの印加電圧を異ならせることによ
り、両電極間の任意の方向へミラー基板101を傾け、そ
の方向へ光を振ることができる。
Even when a drive voltage is applied to the other drive electrodes 110 (2) to 110 (4), the reflected light can be similarly swung in the electrode position direction. Further, if a drive voltage is applied to two adjacent drive electrodes, for example, drive electrodes 103 (1) and 103 (2) at the same time, the mirror substrate 101 can be tilted in the middle direction of both electrodes and light can be swayed in that direction. it can. Furthermore, by differentiating the voltage applied to each of the two adjacent drive electrodes, the mirror substrate 101 can be tilted in any direction between the two electrodes, and light can be swayed in that direction.

【0027】駆動電極110のいずれにも駆動電圧が印加
されなくなると、保持部103の剛性によって、ミラー基
板101は、図1(b)に示すようなニュートラル位置に
戻される。
When the drive voltage is not applied to any of the drive electrodes 110, the rigidity of the holding portion 103 causes the mirror substrate 101 to return to the neutral position as shown in FIG. 1B.

【0028】このミラー偏向装置は、光の進行方向を変
える自由度が大きい点で優れている。ミラー基板101
は、折りたたみ構造を有する保持部103で保持される
が、保持部103は折りたたみ構造であるので変形の度合
いを大きくとることができるため、実質的にミラー基板
101は凹部102に嵌合した凸部112によって基板107に支持
された形になる。したがって、ミラー基板101は、ミラ
ー基板101は、凸部112を軸として、面内でどの方向にも
揺動可能に支持されている。よって、上に述べたよう
に、駆動電極110の選択と印加電圧の調整によって、図
4(c)に模式的に示すように、ミラー基板101のミラ
ー面111に入射角θで入射した光束を、正反射方向を軸
として、その周囲の任意の方向へ、ミラー基板101の振
れ角αの2倍の角度(2α)で偏向することができる。
This mirror deflector is excellent in that it has a high degree of freedom in changing the traveling direction of light. Mirror substrate 101
Is held by a holding portion 103 having a folding structure. Since the holding portion 103 has a folding structure, a large degree of deformation can be achieved, and thus the holding substrate 103 is substantially a mirror substrate.
The shape of 101 is supported by the substrate 107 by the convex portion 112 fitted in the concave portion 102. Therefore, the mirror substrate 101 is supported so that the mirror substrate 101 can swing in any direction in the plane with the convex 112 as an axis. Therefore, as described above, by selecting the drive electrode 110 and adjusting the applied voltage, the luminous flux incident on the mirror surface 111 of the mirror substrate 101 at the incident angle θ is schematically shown in FIG. 4C. , Can be deflected in an arbitrary direction around the regular reflection direction as an axis at an angle (2α) that is twice the deflection angle α of the mirror substrate 101.

【0029】また、駆動電極110をミラー基板101と対向
する面に形成した構造であるため、ミラー基板101の端
面に対向した形の駆動電極を用いる構造に比べ、電極面
積を容易に増加させることができ、したがってミラー基
板101を駆動するための電圧を下げることができる。
Since the driving electrode 110 is formed on the surface facing the mirror substrate 101, the electrode area can be easily increased as compared with the structure using the driving electrode facing the end surface of the mirror substrate 101. Therefore, the voltage for driving the mirror substrate 101 can be reduced.

【0030】本発明によるミラー偏向装置の実施例2に
ついて、図5を参照して説明する。図5(a)はミラー
面側から見た正面図であり、図5(b)はミラー基板を
取り除いた状態を示す正面図であり、図5(c)は断面
図である。
A second embodiment of the mirror deflecting device according to the present invention will be described with reference to FIG. 5A is a front view seen from the mirror surface side, FIG. 5B is a front view showing a state in which the mirror substrate is removed, and FIG. 5C is a sectional view.

【0031】本実施例のミラー偏向装置は、全体的構成
は前記実施例1と同一であり、その相違点は、図5
(c)に示されるように、駆動電極110の形成面が凸部1
12の位置を頂点とした円錐形状の傾斜面とされているこ
と、さらに、図5(b)に見られるように、4つの駆動
電極110(1)〜110(4)がそれぞれ4つの独立した電極に分
割されていることである。分割された各電極は、図示し
ないが、基板107の表面に引き出され、別々に電圧を印
加することができる。
The overall structure of the mirror deflecting device of this embodiment is the same as that of the first embodiment, and the difference is that FIG.
As shown in (c), the surface on which the drive electrode 110 is formed is the convex portion 1
It has a conical inclined surface with the position of 12 as the apex. Furthermore, as shown in FIG. 5B, the four drive electrodes 110 (1) to 110 (4) are independent of each other. It is divided into electrodes. Although not shown, each of the divided electrodes can be drawn out to the surface of the substrate 107 to separately apply a voltage.

【0032】本実施例のミラー偏向装置の製造方法は、
電極基板110が形成される面を傾斜面とする点を除けば
前記実施例1の製造方法と同じでよいので、その傾斜面
に関連した製造工程について図6を用い説明する。
The manufacturing method of the mirror deflecting device of this embodiment is as follows.
The manufacturing method may be the same as that of the first embodiment except that the surface on which the electrode substrate 110 is formed is the inclined surface. Therefore, the manufacturing process related to the inclined surface will be described with reference to FIG.

【0033】図6(a):まず、基板107となる厚さ525
μmのシリコン基板501上に、厚さ100μmのドライフィ
ルムレジスト502を形成する。
FIG. 6A: First, the thickness 525 to be the substrate 107.
A dry film resist 502 having a thickness of 100 μm is formed on a silicon substrate 501 having a thickness of μm.

【0034】図6(b):次に、開口率に分布をもたせ
たフォトマスクを使用することにより、ドライフィルム
レジスト502の露光深さに分布をもたせた。この分布
は、凸部形状と電極形状が傾斜するように設計される。
このドライフィルムレジストを現像することで、電極形
状を反映したドライフィルムレジスト形状503を形成す
る。
FIG. 6B: Next, the exposure depth of the dry film resist 502 was made to have a distribution by using a photomask having a distribution of the aperture ratio. This distribution is designed such that the convex shape and the electrode shape are inclined.
By developing this dry film resist, a dry film resist shape 503 reflecting the electrode shape is formed.

【0035】図6(c):このドライフィルムレジスト
をマスクとしてシリコン基板501をドライエッチングす
ることで、レジストとシリコンのエッチング選択比に応
じて、ドライフィルムレジスト形状がシリコン基板に転
写する。
FIG. 6C: By dry etching the silicon substrate 501 using this dry film resist as a mask, the dry film resist shape is transferred to the silicon substrate according to the etching selection ratio of the resist and silicon.

【0036】図6(d):次に、シリコン基板表面に絶
縁材料として熱酸化によるSiO2膜504を形成する。以上
の工程により、傾斜した電極形成面及び凸部112を持つ
基板107を形成できる。
FIG. 6D: Next, a SiO 2 film 504 is formed by thermal oxidation as an insulating material on the surface of the silicon substrate. Through the above steps, the substrate 107 having the inclined electrode formation surface and the convex portion 112 can be formed.

【0037】本実施例のミラー偏向装置の動作は前記実
施例1の場合と同様であるが、本実施例においては、前
述のように駆動電極110の形成面が傾斜面とされている
ため、ミラー基板101がいずれかの駆動電極110側へ振れ
た時に、その駆動電極は全体にわたってミラー基板101
と略同一距離まで接近する。さらに、ミラー基板101の
サイズが同じならば、電極形成面は傾斜している分だけ
非傾斜の場合よりも面積を増大でき、その分だけ駆動電
極面積も増加させることができる。以上の2つの要因か
ら、本実施例のミラー偏向装置は、ミラー基板101を所
望の振れ角に駆動するための電圧を下げることができ
る。
The operation of the mirror deflecting device of this embodiment is the same as that of the first embodiment, but in this embodiment, the formation surface of the drive electrode 110 is an inclined surface as described above, When the mirror substrate 101 swings toward one of the drive electrodes 110, the drive electrode is entirely covered by the mirror substrate 101.
And approach the same distance. Further, if the size of the mirror substrate 101 is the same, the area of the electrode formation surface can be increased by an amount corresponding to the inclination, and the area of the drive electrode can be increased accordingly. Due to the above two factors, the mirror deflecting device of this embodiment can reduce the voltage for driving the mirror substrate 101 to a desired deflection angle.

【0038】また、本実施例のミラー偏向装置において
は、4つの駆動電極110は、それぞれ4つの(一般的に
は複数の)独立した電極に分割されているため、その個
々の分割電極ごとに、選択的に駆動電圧を印加し、さら
に駆動電圧を調整することにより、ミラー基板101に作
用させる静電引力の強さ及び方向を高精度に制御するこ
とができる。したがって、各駆動電極110が分割されな
い構成の場合に比べ、ミラー基板101の振れ角及び振れ
方向のより高精度な制御が可能である。
Further, in the mirror deflecting device of this embodiment, the four drive electrodes 110 are divided into four (generally a plurality of) independent electrodes, so that each of the divided electrodes is divided into four separate electrodes. By selectively applying the drive voltage and further adjusting the drive voltage, the strength and direction of the electrostatic attractive force applied to the mirror substrate 101 can be controlled with high accuracy. Therefore, it is possible to control the deflection angle and the deflection direction of the mirror substrate 101 with higher accuracy than in the case where each drive electrode 110 is not divided.

【0039】このようなミラー基板101の振れ角及び振
れ方向の高精度制御のためには、各方向の振れ角を検出
する必要がある。振れ角の検出方法としては、例えば、
4つの各駆動電極110の分割電極間の静電容量に基づい
て、対応方向への振れ角を検出する方法を採り得る。つ
まり、上記分割電極間に形成されるコンデンサの容量が
ミラー基板101の振れ角及び振れ方向によって変化する
ことを利用ができる。換言すれば、駆動電極110の分割
された電極で振れ角検出手段が構成される。このように
して検出された複数の方向の振れ角と目標値との差を減
少させるような一般的な帰還制御を駆動電極の駆動系に
組み込むことにより、ミラー基板101の振れ角及び振れ
方向の高精度制御が可能である。
In order to control the deflection angle and the deflection direction of the mirror substrate 101 with high accuracy, it is necessary to detect the deflection angle in each direction. As a method of detecting the deflection angle, for example,
A method of detecting the deflection angle in the corresponding direction based on the electrostatic capacitance between the divided electrodes of the four drive electrodes 110 can be adopted. That is, it can be utilized that the capacitance of the capacitor formed between the divided electrodes changes depending on the deflection angle and the deflection direction of the mirror substrate 101. In other words, the deflection angle detecting means is composed of the divided electrodes of the drive electrode 110. By incorporating a general feedback control for reducing the difference between the deflection angle in a plurality of directions detected in this way and the target value into the drive system of the drive electrode, the deflection angle and the deflection direction of the mirror substrate 101 High precision control is possible.

【0040】なお、前記実施例1のミラー偏向装置にお
いても、本実施例と同様に、各駆動電極110を複数の独
立した電極に分割することにより、ミラー基板101の振
れ角度及び振れ方向をより高精度に制御可能となる。こ
のような構成のミラー偏向装置も本発明に包含されるこ
とは当然である。
Also in the mirror deflecting device of the first embodiment, similarly to the present embodiment, by dividing each drive electrode 110 into a plurality of independent electrodes, the deflection angle and the deflection direction of the mirror substrate 101 can be further improved. It can be controlled with high precision. It goes without saying that the mirror deflecting device having such a structure is also included in the present invention.

【0041】図7は、本発明によるミラー偏向装置の実
施例3を説明するための正面図である。本実施例のミラ
ー偏向装置は、ミラー基板101の平面形状が円形とさ
れ、それに対応して基板107にも円形の窪み部位が形成
され、12個の扇形状の駆動電極110(1)〜110(12)がミ
ラー基板101の揺動中心から放射状に配置されている。
これ以外の構成は前記実施例1と同様である。このよう
に、多数の駆動電極110が放射状に配置された構成であ
るため、駆動電圧を印加する駆動電極の選択によって、
ミラー基板101の振れ方向をより容易に制御することが
できる。また、隣接した駆動電極間の静電容量の測定に
よって、ミラー基板101の振れ角及び振れ方向を検出す
ることができる。
FIG. 7 is a front view for explaining the third embodiment of the mirror deflecting device according to the present invention. In the mirror deflecting device of this embodiment, the planar shape of the mirror substrate 101 is circular, and correspondingly, a circular recessed portion is also formed on the substrate 107, and twelve fan-shaped drive electrodes 110 (1) to 110. (12) are arranged radially from the swing center of the mirror substrate 101.
The other structure is the same as that of the first embodiment. In this way, since a large number of drive electrodes 110 are arranged radially, it is possible to select a drive electrode for applying a drive voltage by
The shake direction of the mirror substrate 101 can be controlled more easily. Further, the deflection angle and the deflection direction of the mirror substrate 101 can be detected by measuring the electrostatic capacitance between the adjacent drive electrodes.

【0042】なお、本実施例においても、駆動電極101
の形成面を、前記実施例2と同様の円錐形状の傾斜面と
し、駆動電圧の低電圧を図ることができる。このような
構成のミラー偏向装置も当然に本発明に包含される。
In this embodiment also, the drive electrode 101
The surface on which is formed is a conical inclined surface similar to that in the second embodiment, and a low drive voltage can be achieved. The mirror deflecting device having such a structure is naturally included in the present invention.

【0043】次に、前述のようなミラー偏向装置を応用
した本発明の光交換装置の一実施例を図8により説明す
る。
Next, an embodiment of the optical exchanging device of the present invention to which the above-mentioned mirror deflecting device is applied will be described with reference to FIG.

【0044】図8において、701は光ファイバー束から
なる2次元アレー状光伝達装置である。702は光ファイ
バー束からなる、もう1つの2次元アレー状光伝達装置
である。本実施例では、アレー状光伝達装置701の各光
ファイバーの光出射端は3行×5列のアレーをなし、も
う1つのアレー状光伝達装置702の各光ファイバーの光
入射端は3行×5列のアレーをなししているが、そのア
レーのサイズはこれに限定されるわけではない。703は
前述した本発明のミラー偏向装置を2次元配列した構成
のミラー偏向アレーである。本実施例では、ミラー偏向
アレー703には本発明のミラー偏向装置が3行×5行に
配列されているが、この配列に限定されるものではな
い。
In FIG. 8, reference numeral 701 is a two-dimensional array type optical transmission device composed of an optical fiber bundle. Reference numeral 702 is another two-dimensional array-like optical transmission device including an optical fiber bundle. In this embodiment, the light emitting ends of the optical fibers of the array-shaped light transmitting device 701 form an array of 3 rows × 5 columns, and the light incident ends of the optical fibers of the other array-shaped optical transmitting device 702 are 3 rows × 5. Although it is an array of rows, the size of the array is not limited to this. Reference numeral 703 is a mirror deflection array in which the above-described mirror deflection devices of the present invention are two-dimensionally arranged. In this embodiment, the mirror deflector array 703 has the mirror deflectors of the present invention arranged in 3 rows × 5 rows, but the arrangement is not limited to this arrangement.

【0045】この光交換装置は、光伝達装置701の任意
の光出射端より入射した光ビームを、ミラー偏向アレー
703によって偏向して、光伝達装置702の任意の光入射端
へ導くことにより、2次元の光交換動作をする。図8に
示す例では、光伝達装置701の(1,1)位置の光出射
端に伝達された光ビームLは、ミラー偏向アレー703の
(1,1)位置のミラー面に入射し、そのミラー面によ
って光伝達装置702の(4,2)位置の光入射端へ向け
て偏向されることにより、(1,1)から(4,2)へ
の光交換が行われる。
This optical switching device uses a mirror deflection array to convert a light beam incident from an arbitrary light emitting end of the light transmitting device 701.
The light is deflected by 703 and guided to an arbitrary light incident end of the light transmission device 702 to perform a two-dimensional light exchange operation. In the example shown in FIG. 8, the light beam L transmitted to the light emission end at the (1,1) position of the light transmission device 701 is incident on the mirror surface of the mirror deflection array 703 at the (1,1) position, and The light is deflected toward the light incident end at the (4, 2) position of the light transmission device 702 by the mirror surface, so that the light exchange from (1, 1) to (4, 2) is performed.

【0046】本発明のミラー偏向装置は、図4(c)に
関連して説明したように2次元の光偏向が可能であるた
め、本実施例のように単純な構成で2次元の光交換が可
能となる。また、本発明のミラー偏向装置は高速動作が
可能であり、かつ、光損失が小さいため、本発明の光交
換装置は高速かつ損失の少ない光交換が可能である。
Since the mirror deflecting device of the present invention is capable of two-dimensional light deflection as described with reference to FIG. 4C, the two-dimensional optical exchange is possible with a simple structure as in this embodiment. Is possible. Further, since the mirror deflecting device of the present invention can operate at high speed and has a small optical loss, the optical exchanging device of the present invention can perform optical switching at high speed and with little loss.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、(1)
請求項1乃至4記載のミラー偏向装置は、任意の方向へ
の光偏向が可能である。(2)請求項2記載のミラー偏
向装置は、ミラー基板の駆動電圧を下げることができ
る。(3)請求項3記載のミラー偏向装置は、より低電
圧での駆動が可能である。(4)請求項4記載のミラー
偏向装置は光偏向の角度及び向きの高精度な制御が可能
である。(5)請求項5記載の光交換装置は、シンプル
な構成で、高速、かつ光損失の少ない2次元光交換を行
うことができる、等々の効果を有する。
As is apparent from the above description, (1)
The mirror deflecting device according to the first to fourth aspects is capable of deflecting light in an arbitrary direction. (2) In the mirror deflection device according to the second aspect, the drive voltage of the mirror substrate can be lowered. (3) The mirror deflecting device according to claim 3 can be driven at a lower voltage. (4) In the mirror deflecting device according to the fourth aspect, the angle and direction of the light deflection can be controlled with high precision. (5) The optical exchanging device according to claim 5 has effects such as a simple structure, high-speed operation, and two-dimensional optical exchanging with little optical loss.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるミラー偏向装置の実施例1を説明
するための正面図及び断面図である。
FIG. 1 is a front view and a sectional view for explaining a first embodiment of a mirror deflecting device according to the present invention.

【図2】実施例1のミラー偏向装置の製造方法の一例を
説明するための工程説明図である。
FIG. 2 is a process explanatory diagram for explaining an example of the method for manufacturing the mirror deflecting device according to the first embodiment.

【図3】実施例1のミラー偏向装置の製造方法の一例を
説明するための工程説明図である。
FIG. 3 is a process explanatory diagram for explaining an example of the method for manufacturing the mirror deflecting device according to the first embodiment.

【図4】本発明のミラー偏向装置の動作説明図である。FIG. 4 is an operation explanatory view of the mirror deflecting device of the present invention.

【図5】本発明によるミラー偏向装置の実施例2を説明
するための正面図及び断面図である。
5A and 5B are a front view and a sectional view for explaining a second embodiment of the mirror deflecting device according to the present invention.

【図6】実施例2の製造方法の一例を説明するための工
程説明図である。
FIG. 6 is a process explanatory view for explaining an example of the manufacturing method of the second embodiment.

【図7】本発明によるミラー偏向装置の実施例3を説明
するための正面図である。
FIG. 7 is a front view for explaining a third embodiment of the mirror deflecting device according to the present invention.

【図8】本発明による光交換装置の一実施例を説明する
ための模式図である。
FIG. 8 is a schematic view for explaining one embodiment of the optical switching device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 ミラー基板 102 凹部 103 保持部 107 基板 108 空隙 110 駆動電極 112 凸部 701 光伝達装置 702 光伝達装置 703 ミラー偏向アレー 101 mirror substrate 102 recess 103 holding unit 107 substrate 108 void 110 drive electrode 112 convex 701 Optical transmission device 702 Optical transmission device 703 Mirror deflection array

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 静一 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 南條 健 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 2H041 AA16 AB14 AC06 AZ01 AZ05 AZ08    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Shizukazu Kato             1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Stocks             Company Ricoh (72) Inventor Ken Nanjo             1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Stocks             Company Ricoh F term (reference) 2H041 AA16 AB14 AC06 AZ01 AZ05                       AZ08

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ミラー面が形成されたミラー基板と、該
ミラー基板を、その略中心を揺動中心とした任意の方向
の揺動が可能となるように基板部材に支持するための支
持部材と、前記ミラー基板に、それを揺動させるための
静電引力を作用させるための前記基板部材に設けられた
複数の駆動電極と、該駆動電極による静電引力が作用し
ない場合に前記ミラー基板を所定のニュートラル位置に
保持するための前記ミラー基板及び前記基板部材に結合
された複数の保持部材とを有することを特徴とするミラ
ー偏向装置。
1. A mirror substrate on which a mirror surface is formed, and a support member for supporting the mirror substrate on a substrate member so that the mirror substrate can be swung in an arbitrary direction with a substantially center thereof as a swing center. And a plurality of drive electrodes provided on the substrate member for applying an electrostatic attractive force for swinging the mirror substrate, and the mirror substrate when the electrostatic attractive force by the drive electrodes does not act. And a plurality of holding members coupled to the substrate member for holding the mirror at a predetermined neutral position.
【請求項2】 前記ミラー基板のミラー面の形成面と反
対側の面に空隙を介して対向する前記基板部材の面上
に、前記複数の駆動電極が配置されていることを特徴と
する請求項1記載のミラー偏向装置。
2. The plurality of drive electrodes are arranged on the surface of the substrate member facing the surface of the mirror substrate opposite to the surface on which the mirror surface is formed with a gap. Item 1. The mirror deflecting device according to item 1.
【請求項3】 前記基板部材の前記駆動電極が配置され
た面は、前記ミラー基板の中心に対応した位置を頂点と
した略円錐形状の傾斜面であることを特徴とする請求項
1又は2記載のミラー偏向装置。
3. The surface of the substrate member on which the drive electrodes are arranged is a substantially conical inclined surface having an apex at a position corresponding to the center of the mirror substrate. The described mirror deflection device.
【請求項4】 前記複数の駆動電極のそれぞれは独立し
た複数の電極に分割されていることを特徴とする請求項
2又は3記載のミラー偏向装置。
4. The mirror deflection device according to claim 2, wherein each of the plurality of drive electrodes is divided into a plurality of independent electrodes.
【請求項5】 請求項1乃至4のいずれか1項記載の複
数のミラー偏向装置と、該複数のミラー偏向装置に光ビ
ームを入射するための第1の光伝達手段と、前記複数の
ミラー偏向装置により偏向された光ビームが入射される
第2の光伝達手段とを有し、前記第1の光伝達手段と前
記第2の光伝達手段との間で2次元の光交換を行うこと
を特徴とする光交換装置。
5. A plurality of mirror deflecting devices according to claim 1, first light transmitting means for causing a light beam to enter the plurality of mirror deflecting devices, and the plurality of mirrors. A second light transmission means on which the light beam deflected by the deflection device is incident, and two-dimensional optical exchange is performed between the first light transmission means and the second light transmission means. An optical switching device.
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