JP2003098327A - Semitransmissive reflection base plate and method for manufacturing the same - Google Patents

Semitransmissive reflection base plate and method for manufacturing the same

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JP2003098327A
JP2003098327A JP2001294471A JP2001294471A JP2003098327A JP 2003098327 A JP2003098327 A JP 2003098327A JP 2001294471 A JP2001294471 A JP 2001294471A JP 2001294471 A JP2001294471 A JP 2001294471A JP 2003098327 A JP2003098327 A JP 2003098327A
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JP
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semi
film
substrate
microlens array
laser light
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Application number
JP2001294471A
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Japanese (ja)
Inventor
Kimio Nagasaka
公夫 長坂
Akira Miyamae
章 宮前
Eiichi Fujii
永一 藤井
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a simpler method for manufacturing an open type translucent reflection base plate. SOLUTION: A microlens array (31) is formed on a whole face of such a semitransmissive base plate (3) as glass and a reflection film (33) is formed on the other face. The microlens array (31) is irradiated with a laser beam (54) and a fine hole (34) is formed in the reflection film (33). A convex lens, a 'Selfoc' lens, a lens of a distributed refractive index type, a Fresnel lens or a diffraction lens is usable in the microlens array. Thus, the open type semitransmissive reflection base plate (3) is available without the positioning process of the microlens array (31) and the fine hole (34), an etching process for forming the fine hole (34) or the like.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置などの電
気光学装置に使用される半透過反射膜に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semi-transmissive reflective film used in an electro-optical device such as a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】明るい場所では、外光を表示器の光源と
して使用し、暗い場所では、内部光源を使用するように
した、半透過半反射型の液晶表示装置が使用されてい
る。この種の液晶表示装置は、電源容量が限られている
携帯型情報機器(携帯型パソコン、携帯電話機など)に
とって有用である。半透過半反射型液晶表示装置は、外
光を反射し、バックライト光を透過する半透過反射膜が
用いられている。半透過反射膜には、大別して2つの方
式がある。
2. Description of the Related Art A semi-transmissive-semi-reflective liquid crystal display device is used which uses external light as a light source of a display in a bright place and uses an internal light source in a dark place. This type of liquid crystal display device is useful for portable information devices (portable personal computers, mobile phones, etc.) having a limited power supply capacity. A semi-transmissive semi-reflective liquid crystal display device uses a semi-transmissive reflective film that reflects external light and transmits backlight light. There are roughly two types of semi-transmissive reflective films.

【0003】第1の方式は半透過率型である。この方式
のものは、反射板の一面に中間的な透過率を持つ反射膜
を均一に形成している。外光はこの反射膜で反射する
が、その一部は反射膜を透過する。また、バックライト
光はこの反射膜の透過率で透過する。
The first method is a semi-transmissivity type. In this type, a reflecting film having an intermediate transmittance is uniformly formed on one surface of the reflecting plate. External light is reflected by this reflective film, but part of it passes through the reflective film. Further, the backlight light is transmitted with the transmittance of this reflective film.

【0004】第2の方式は開口型である。この方式のも
のは、反射板の一面に全反射の反射膜を均一に形成し、
この全反射膜に多数の微小な開口孔を形成する。外光は
反射膜で反射し、バックライト光は開口孔を介して透過
する。従って、反射面における開口孔の面積比率でバッ
クライト光の透過率が定まる。
The second method is an aperture type. In this type, a total reflection film is uniformly formed on one surface of the reflection plate,
A large number of minute openings are formed in this total reflection film. External light is reflected by the reflective film, and backlight light is transmitted through the opening. Therefore, the transmittance of the backlight light is determined by the area ratio of the opening holes in the reflecting surface.

【0005】いずれの方式でも、外光に対する反射効率
を上げると、バックライト光の透過率が低下し、逆に、
バックライト光の透過率を上げると、外光に対する反射
効率は低下するというトレードオフの関係がある。この
ため、屋外でも屋内でも共に明るい画面を提供する半透
過反射型の表示装置の提供は難しい。
In any of the systems, when the reflection efficiency with respect to external light is increased, the transmittance of backlight light is lowered, and conversely,
There is a trade-off relationship that, when the transmittance of backlight light is increased, the reflection efficiency with respect to external light is decreased. Therefore, it is difficult to provide a transflective display device that provides a bright screen both outdoors and indoors.

【0006】そこで、開口型の反射膜において、マイク
ロレンズアレイを設け、バックライト光をマイクロレン
ズによって各開口孔に集光し、透過効率を高めて、外光
に対する反射効率とバックライト光の透過率とを両立さ
せるという手法が考えられている。例えば、特願200
1−038505号においてそのような提案がなされて
いる。
Therefore, in the aperture type reflection film, a microlens array is provided, and the backlight light is condensed into each aperture hole by the microlens to enhance the transmission efficiency, and the reflection efficiency with respect to the external light and the transmission of the backlight light. A method of making the rate compatible is considered. For example, Japanese Patent Application 200
Such a proposal is made in No. 1-038505.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、反射膜
への微小孔の形成、マイクロレンズアレイの形成、上記
反射膜の微小孔と上記マイクロレンズアレイとの位置合
わせ、等の工程が増加するために、開口型の半透過反射
膜を用いると反射基板のコスト増加が避けられない。
However, the number of steps such as formation of fine holes in the reflection film, formation of a microlens array, alignment of the fine holes in the reflection film with the microlens array, etc. is increased. If an aperture type semi-transmissive reflective film is used, an increase in cost of the reflective substrate cannot be avoided.

【0008】よって、本発明は、改良された開口型の半
透過反射板をより手数のかからない工程で形成すること
を可能とする製造方法を提案することを目的とする。
[0008] Therefore, an object of the present invention is to propose a manufacturing method capable of forming an improved aperture type semi-transmissive reflection plate in a less troublesome process.

【0009】また、本発明は、より簡易に製造すること
を可能とする半透過反射板を提供することを目的とす
る。
Another object of the present invention is to provide a semi-transmissive reflector which can be manufactured more easily.

【0010】また、本発明は、上記半透過反射基板を使
用した、表示パネル、電気光学装置、情報機器、等を提
供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide a display panel, an electro-optical device, an information device, etc. using the above semi-transmissive reflective substrate.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の半透過反射基板は、透明基板と、上記透明基板
の一面に形成され、複数の微小孔を有する反射膜と、上
記透明基板の一面と対向する他面に形成されたマイクロ
レンズアレイと、を含み、上記反射膜は表裏で反射率が
異なる。
To achieve the above object, a transflective substrate of the present invention is a transparent substrate, a reflective film formed on one surface of the transparent substrate and having a plurality of fine holes, and the transparent substrate. And a microlens array formed on the other surface opposite to the one surface, wherein the reflection films have different reflectances on the front and back sides.

【0012】かかる構成とすることによって、外光を効
率よく反射膜で反射して表示照明に利用すると共に、レ
ーザ光による反射膜への微小孔の開口を容易にする。
With this structure, external light is efficiently reflected by the reflective film and utilized for display illumination, and at the same time, the opening of the minute holes in the reflective film by the laser light is facilitated.

【0013】好ましくは、上記反射膜は複数の膜からな
り、下地となる膜はこの上に形成される膜よりも低反射
率である。例えば、下地の膜には、アルミニウムにチタ
ンやタングステン、酸化アルミニウムなどを含めて、レ
ーザ光の反射を減らして開口を容易にする。
Preferably, the reflective film is composed of a plurality of films, and the underlying film has a lower reflectance than the film formed thereon. For example, the base film contains aluminum such as titanium, tungsten, or aluminum oxide to reduce reflection of laser light and facilitate opening.

【0014】好ましくは、上記透明基板の厚さは、上記
マイクロレンズアレイの焦点距離に略等しい。それによ
り、マイクロレンズを経たレーザ光のビームが反射膜上
に集光して高いエネルギ密度となって微小孔の開口を容
易にする。
Preferably, the thickness of the transparent substrate is substantially equal to the focal length of the microlens array. As a result, the beam of laser light that has passed through the microlens is condensed on the reflective film and has a high energy density, facilitating the opening of the minute hole.

【0015】好ましくは、上記マイクロレンズアレイの
各焦点位置に上記微小孔が形成される。また、上記反射
膜の複数の微小孔は、上記マイクロレンズアレイによっ
て集光されたビーム光によって開口される。それによ
り、マイクロレンズに対して微小孔が自己整合的に形成
される。
Preferably, the fine holes are formed at each focal position of the microlens array. Further, the plurality of minute holes of the reflection film are opened by the beam light condensed by the microlens array. Thereby, the micro holes are formed in self alignment with respect to the micro lens.

【0016】好ましくは、上記反射膜が、反射光を一定
の方向に揃えるための凹凸形状を有する。それにより、
外部で見易い表示器が得られる。
Preferably, the reflection film has an uneven shape for aligning the reflected light in a fixed direction. Thereby,
A display that is easy to see from the outside can be obtained.

【0017】好ましくは、上記マイクロレンズアレイの
各マイクロレンズの光軸と上記反射膜の反射面の法線と
が斜めに交わるように形成される。それにより、平面光
源から傾斜したバックライト光を受けて、これを上方に
出射する半透過反射板が得られる。
Preferably, the optical axis of each microlens of the microlens array and the normal line of the reflecting surface of the reflecting film are formed so as to intersect obliquely. As a result, a semi-transmissive reflection plate that receives the inclined backlight light from the flat light source and emits it upward is obtained.

【0018】好ましくは、上記マイクロレンズアレイは
凸レンズ、セルフォックレンズ、屈折率分布型のレン
ズ、フレネルレンズ及び回折レンズのいずれかである。
セルフォックレンズを使用すると、マイクロレンズアレ
イを薄く形成することが可能となる。また、屈折率分布
型のマイクロレンズレンズを使用すると、液晶表示器の
基板と半透過反射基板とを兼用することが可能となる。
また、フレネルレンズ及び回折レンズを使用するとマイ
クロレンズアレイを薄く形成することが可能となる。
Preferably, the microlens array is any one of a convex lens, a SELFOC lens, a gradient index lens, a Fresnel lens and a diffractive lens.
The use of SELFOC lenses allows the microlens array to be made thin. Further, by using the gradient index microlens lens, it becomes possible to use both the substrate of the liquid crystal display and the semi-transmissive reflective substrate.
Further, by using the Fresnel lens and the diffractive lens, it becomes possible to form the microlens array thinly.

【0019】好ましくは、上記半透過反射基板が液晶表
示パネルの互いに対向する一対の基板のうちの一方の基
板を兼ねる。それにより、より薄い表示パネルを形成す
ることが可能となる。
Preferably, the semi-transmissive reflective substrate also serves as one of a pair of substrates of the liquid crystal display panel facing each other. Thereby, it becomes possible to form a thinner display panel.

【0020】本発明の半透過反射基板は電気光学装置に
利用される。更に、この電気光学表示装置はデジタルカ
メラ、携帯情報端末装置、携帯電話装置等に利用され
る。
The transflective substrate of the present invention is used in an electro-optical device. Further, this electro-optical display device is used for a digital camera, a mobile information terminal device, a mobile phone device and the like.

【0021】また、本発明の半透過反射基板の製造方法
は、一面にマイクロレンズアレイを有する透明基板を形
成する過程と、上記基板の他面に反射膜を形成する過程
と、上記一面側からレーザ光を照射して上記マイクロレ
ンズによって上記反射膜上に該レーザ光を集光して上記
反射膜に微小孔を開口する過程と、を含む。
The method of manufacturing a semi-transmissive reflective substrate according to the present invention comprises the steps of forming a transparent substrate having a microlens array on one surface, forming a reflective film on the other surface of the substrate, and from the one surface side. Irradiating a laser beam, condensing the laser beam on the reflective film by the microlens, and opening a minute hole in the reflective film.

【0022】かかる構成とすることによって、マイクロ
レンズアレイを利用したレーザ光による反射膜への微小
孔の形成が可能となる。
With this structure, it becomes possible to form fine holes in the reflecting film by laser light using the microlens array.

【0023】好ましくは、上記レーザ光の照射は、上記
マイクロレンズアレイを上記レーザ光が走査することに
よって行われる。それにより、マイクロレンズの焦点位
置近傍に連続的に微小孔の形成が可能となる。
Preferably, the irradiation of the laser light is performed by scanning the microlens array with the laser light. As a result, it becomes possible to continuously form minute holes near the focal position of the microlens.

【0024】好ましくは、上記レーザ光の走査は、レー
ザ光源から出射されるレーザ光を反射する回転ミラー
と、上記レーザ光が上記反射膜に対して所定角で入射す
るように整えるF−θレンズと、を含む走査光学系によ
って行われる。
Preferably, the scanning of the laser light is adjusted by a rotating mirror for reflecting the laser light emitted from the laser light source, and an F-θ lens arranged so that the laser light is incident on the reflection film at a predetermined angle. And a scanning optical system including.

【0025】好ましくは、上記反射膜を形成する過程
は、表裏で反射率が異なるように反射膜を形成するもの
であり、上記レーザ光は上記反射膜の低反射率側に照射
される。それにより、レーザ光による微小孔形成の条件
がより容易なものになるようにする。
Preferably, in the process of forming the reflection film, the reflection film is formed so that the reflectance is different between the front and back, and the laser light is applied to the low reflectance side of the reflection film. As a result, the conditions for forming the minute holes by the laser light are made easier.

【0026】好ましくは、上記透明基板の一面に上記マ
イクロレンズアレイを、他面に上記反射膜が形成される
べき凹凸形状を形成する過程と、を更に含む。それによ
り、透明基板の両面に凹凸形状を同時に形成して製造工
程を簡単化する。具体的には、型を用いて射出成形法、
フォトポリマゼーション(2P)法等によって行うこと
ができる。
Preferably, the method further comprises the step of forming the microlens array on one surface of the transparent substrate and the uneven shape on which the reflective film is to be formed on the other surface. This simplifies the manufacturing process by forming concavo-convex shapes on both sides of the transparent substrate at the same time. Specifically, an injection molding method using a mold,
It can be performed by a photopolymerization (2P) method or the like.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0028】図1は、本発明の半透過反射基板を使用し
た電気光学装置の例を概略的に示している。同図に示す
ように、表示装置1は、平面光源(バックライト)2
と、半透過反射型の反射板3と、透過型の液晶パネル4
と、によって構成されている。
FIG. 1 schematically shows an example of an electro-optical device using the semi-transmissive reflective substrate of the present invention. As shown in the figure, the display device 1 includes a flat light source (backlight) 2
, A transflective reflector 3 and a transmissive liquid crystal panel 4
And,

【0029】平面光源2は、LED等の光源21と、こ
の光源が放射する光線を平面光に変えて液晶パネル4側
に放射する導光板22と、を含む。導光板22は、透明
な樹脂からなり、その底部に多数の突起部23が形成さ
れている。更に、導光板22は上面を除いて外周面に反
射膜24が形成されており、伝搬してきた光線を上方に
反射する。
The flat light source 2 includes a light source 21 such as an LED, and a light guide plate 22 which converts light rays emitted from the light source into flat light and emits the light toward the liquid crystal panel 4 side. The light guide plate 22 is made of a transparent resin and has a large number of protrusions 23 formed on the bottom thereof. Further, the light guide plate 22 has a reflection film 24 formed on the outer peripheral surface except the upper surface, and reflects the propagating light beam upward.

【0030】反射板3は、ガラスや樹脂などの透明基板
30と、この基板30の下面に形成された多数のマイク
ロレンズ32からなるマイクロレンズアレイ31と、基
板30の上面に形成された反射膜33と、を含む。基板
30の厚さは、マイクロレンズ32の焦点距離に設定さ
れている。マイクロレンズ32としては、厚みの薄いフ
レネルレンズが好ましい。それにより、マイクロレンズ
アレイ31を薄く形成できる。マイクロレンズ31や基
板30の形成方法としては、射出成形、フォトポリマゼ
ーション(2P)法、ドライエッチング法、ウエットエ
ッチング法、等が挙げられるが、射出成形や2P法が好
ましい。これは、レンズの精度を高くすることができ、
また、製造を容易に行うことができ、生産性が良い。
The reflection plate 3 is made of a transparent substrate 30 such as glass or resin, a microlens array 31 including a large number of microlenses 32 formed on the lower surface of the substrate 30, and a reflection film formed on the upper surface of the substrate 30. 33 is included. The thickness of the substrate 30 is set to the focal length of the microlens 32. As the micro lens 32, a thin Fresnel lens is preferable. Thereby, the microlens array 31 can be formed thin. Examples of the method of forming the microlens 31 and the substrate 30 include injection molding, photopolymerization (2P) method, dry etching method, wet etching method, and the like, but injection molding and 2P method are preferable. This can increase the accuracy of the lens,
In addition, the manufacturing is easy and the productivity is good.

【0031】反射膜33は、好ましくは、複数層の金属
膜からなる。この例では2層に形成されている。基板3
0に形成される下地(第1層)の膜は、アルミニウム
と、酸化アルミニウム、チタンやクロムなどがスパッタ
法で堆積されて相対的に反射率の低い反射膜を形成す
る。上面の反射膜(第2層)は、アルミニウムとネオジ
ム(Nd)等がスパッタ法により堆積され、相対的に反
射効率の高い膜が形成される。
The reflective film 33 is preferably composed of a plurality of metal films. In this example, two layers are formed. Board 3
The underlayer (first layer) film formed at 0 is formed by depositing aluminum, aluminum oxide, titanium, chromium or the like by a sputtering method to form a reflective film having a relatively low reflectance. The reflection film (second layer) on the upper surface is formed by depositing aluminum, neodymium (Nd) and the like by a sputtering method to form a film having a relatively high reflection efficiency.

【0032】このような、反射膜33の表裏で反射率が
異なる構成とすることによって、上方からの外光を完全
反射すると共に、後述するように、下方からのレーザ光
線の照射による反射膜33への微小孔34の開口を容易
とする。また、レーザ光線の照射を、各マイクロレンズ
31を介して行うことによって、各マイクロレンズ31
の焦点位置に高いエネルギが発生し、焦点近傍の反射膜
33の該当部分34が自己整合的に開口され、1マイク
ロレンズに1微小孔が得られる。反射膜に33に微小孔
34が形成されることによって、上方からの外光を反射
すると共に、下方からのバックライト光を上方に透過す
る半透過反射膜33が得られる。
With such a structure that the reflectance is different between the front surface and the back surface of the reflective film 33, external light from above is completely reflected, and as will be described later, the reflective film 33 is formed by irradiating a laser beam from below. To facilitate the opening of the micropores 34. Further, by irradiating the laser beam through each microlens 31, each microlens 31
High energy is generated at the focal position of, and the corresponding portion 34 of the reflection film 33 near the focal point is opened in a self-aligned manner, and one micro hole is obtained in one micro lens. By forming the minute holes 34 in the reflective film 33, a semi-transmissive reflective film 33 that reflects external light from above and transmits backlight light from below upward is obtained.

【0033】液晶パネル4は、透明な上側基板41と下
側基板46との間に、ITO等の透明な共通電極42
と、液晶43と、透明な画素電極40とを備えている。
画素電極40の周囲にはブラックマトリクス49や図示
しないTFT回路などが配置されている。ブラックマト
リクス49によって周囲を囲まれた開口部(透光窓)4
91は、行列状に配置されており、一画素に相当してい
る。上側基板41と下側基板46は、各種のガラスなど
が用いられる。上側基板41と下側基板46両側には、
それぞれ偏光板47及び48が接合される。
The liquid crystal panel 4 includes a transparent common electrode 42 such as ITO between a transparent upper substrate 41 and a lower substrate 46.
And a liquid crystal 43 and a transparent pixel electrode 40.
A black matrix 49, a TFT circuit (not shown), and the like are arranged around the pixel electrode 40. Opening part (transparent window) 4 surrounded by the black matrix 49
91 are arranged in a matrix and correspond to one pixel. For the upper substrate 41 and the lower substrate 46, various kinds of glass or the like are used. On both sides of the upper substrate 41 and the lower substrate 46,
Polarizing plates 47 and 48 are joined, respectively.

【0034】図2は、他の実施例を示している。同図に
おいて、図1と対応する部分には、同一符号を付し、係
る部分の説明は省略する。
FIG. 2 shows another embodiment. In the figure, parts corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and description of those parts will be omitted.

【0035】この実施例では、液晶パネル4の下側基板
46に半透過反射膜44とマイクロレンズアレイ31と
を形成している。それにより、より薄型の表示装置1を
得ている。基板46の厚さは、なるべくマイクロレンズ
32の焦点距離になるように選定されている。
In this embodiment, the semi-transmissive reflective film 44 and the microlens array 31 are formed on the lower substrate 46 of the liquid crystal panel 4. Thereby, a thinner display device 1 is obtained. The thickness of the substrate 46 is selected to be the focal length of the microlens 32 as much as possible.

【0036】マイクロレンズ32は、透明基板46、例
えば透明なガラス基板内に、屈折材料を拡散させること
によって構成した屈折率分布型レンズを使用している。
これは、屈折材料(例えば、銀イオン)が溶解した溶液
中にマイクロレンズ位置を開口したマスクを施したガラ
スを浸漬し、ガラス中に屈折材料を半球状に拡散させ
る。例えば、ガラスのアルカリイオンを銀イオンに置換
することによって、半球状に拡散した銀イオンの密度分
布によって等価的に集光レンズ32が得られる。
The microlens 32 uses a gradient index lens constructed by diffusing a refraction material in a transparent substrate 46, for example, a transparent glass substrate.
This involves immersing a masked glass having microlens positions opened in a solution in which a refraction material (eg, silver ion) is dissolved, and diffusing the refraction material into a hemispherical shape in the glass. For example, by substituting the silver ions for the alkali ions of the glass, the condensing lens 32 can be equivalently obtained by the density distribution of the silver ions diffused in a hemispherical shape.

【0037】この実施例でも反射膜44を表裏で反射率
の異なる2層構造とすることができる。後述するよう
に、マイクロレンズアレイ31を活用したレーザビーム
によって反射膜44に微小孔45が開口されて下側基板
46が形成される。
Also in this embodiment, the reflection film 44 can have a two-layer structure having different reflectances on the front and back sides. As will be described later, the minute holes 45 are opened in the reflective film 44 by the laser beam utilizing the microlens array 31, and the lower substrate 46 is formed.

【0038】図3は、半透過反射板3の他の例を示して
いる。この例でも、バックライト光Lは、基板3の一
方の面に形成されたマイクロレンズアレイ31により集
光され、対向する面のAlNd等のアルミニウムを主成
分とする反射膜33に開口された微小孔34を透過して
表示パネル4を照射する。また、反射基板3の厚さは、
マイクロレンズの焦点距離に設定されている。焦点距離
は波長に依存するため、例えば、可視域の中心波長55
5nmとしている。
FIG. 3 shows another example of the semi-transmissive reflector 3. Also in this example, the backlight light L B is condensed by the microlens array 31 formed on one surface of the substrate 3, and is opened in the reflection film 33 mainly composed of aluminum such as AlNd on the opposite surface. The display panel 4 is illuminated through the minute holes 34. The thickness of the reflective substrate 3 is
It is set to the focal length of the micro lens. Since the focal length depends on the wavelength, for example, the central wavelength 55 in the visible range is
It is set to 5 nm.

【0039】ただし、反射膜33が凹凸形状となってい
る点で先の実施例とは異なっている。これは、外光を利
用して利用者が表示装置を視認する場合には、外光が表
示パネルに入って斜めに反射してくるので、表示パネル
を傾斜し、文字などがよく見えるようにして使用する傾
向が見受けられることに対応したものである。
However, it differs from the previous embodiment in that the reflecting film 33 has an uneven shape. This is because when the user visually recognizes the display device using outside light, the outside light enters the display panel and is reflected obliquely, so that the display panel is tilted so that characters and the like can be seen well. It corresponds to the fact that there is a tendency to use it.

【0040】そこで、この実施例では、基板3に対して
斜めに入射した外部光線Loutは、凹凸反射面33に
よってなるべく一定方向(利用者の目の方向)に揃うよ
うになされている。一方、個々のマイクロレンズ32を
透過したバックライト光の主光線Lは基板3に対して
略垂直になって出射するようにレンズ32の光軸が予め
傾けられている。マイクロレンズ32はフレネルレンズ
であっても良い。これに対応して平面光源2から平行な
傾斜光線Lがマイクロレンズアレイ31に入射され
る。なお、導光板2で出射した光線は可及的に平行光に
なっている(指向性が高い)ことが望ましい。
Therefore, in this embodiment, the external light rays L out that are obliquely incident on the substrate 3 are arranged by the concave-convex reflecting surface 33 in the same direction as possible (in the direction of the eyes of the user). On the other hand, the optical axis of the lens 32 is preliminarily tilted so that the principal ray L B of the backlight light transmitted through each microlens 32 is emitted while being substantially perpendicular to the substrate 3. The micro lens 32 may be a Fresnel lens. Corresponding to this, the parallel light rays L B from the plane light source 2 are incident on the microlens array 31. It is desirable that the light emitted from the light guide plate 2 be as parallel as possible (high directivity).

【0041】図4は、図3に示した凹凸形状を有する半
透過反射基板3を備える表示装置1を示している。この
表示装置1は、透過型の液晶表示パネル4と、半透過反
射型の反射板3と、平面光源2とを重ね合わせて構成さ
れている。バックライト光源21からの光が導光板22
によって案内され、導光板22からバックライト光L
として斜めに出射する。この出射光線Lはマイクロレ
ンズレンズアレイ31で集光し、反射膜33に形成され
た微小孔(ピンホール)34を透過して液晶パネル4の
前面に出射される。一方外光Loutは、表示パネル4
を透過後、反射板33によって反射し、再び表示パネル
4を通過して表示パネル前面に出射される。
FIG. 4 shows a half having the uneven shape shown in FIG.
1 illustrates a display device 1 including a transflective substrate 3. this
The display device 1 includes a transmissive liquid crystal display panel 4 and a semi-transmissive reflective panel.
It is constructed by stacking a reflective reflector 3 and a flat light source 2.
Has been. Light from the backlight light source 21 is guided by the light guide plate 22.
Is guided by the backlight L from the light guide plate 22. B
As obliquely emitted. This outgoing ray LBIs Microlet
The light is condensed by the lens array 31 and is formed on the reflection film 33.
Of the liquid crystal panel 4 through the small holes (pinholes) 34
It is emitted to the front. On the other hand, outside light LoutIs the display panel 4
After being transmitted, the light is reflected by the reflection plate 33 and is again displayed on the display panel.
It passes through 4 and is emitted to the front surface of the display panel.

【0042】次に、上述した凹凸形状の反射面と光軸が
傾斜したマイクロレンズアレイ(図3参照)を有する半
透過反射板の製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing a semi-transmissive reflection plate having the above-mentioned uneven reflection surface and the microlens array (see FIG. 3) having an inclined optical axis will be described.

【0043】(1) まず、反射板3の反射面(上面)及
びマイクロレンズ面(下面)の凹凸形状に対応したスタ
ンパを作成する。
(1) First, a stamper corresponding to the uneven shape of the reflecting surface (upper surface) and the microlens surface (lower surface) of the reflecting plate 3 is prepared.

【0044】(2) このスタンパを用いて射出成形又は
シート成形を行い、反射面及びレンズ面の両面に凹凸形
状を持つ基板を形成する。
(2) Using this stamper, injection molding or sheet molding is performed to form a substrate having concavo-convex shapes on both the reflecting surface and the lens surface.

【0045】なお、基板の製造方法は、ガラス又は樹脂
の透明基板に紫外線(UV)硬化樹脂を塗り、スタンパ
を押しつけた後硬化させて、形状を転写する、フォトポ
リマゼーション(2P)法であっても良い (3) 基板の反射面側に、スパッタ法又は蒸着法によっ
てアルミニウム(Al)・チタン(Ti)膜を形成し、
この上にアルミニウム(Al)・ネオジム(Nd)の膜
を形成する。これにより、レーザ加工に適当な反射膜層
と、外光の全反射に適当な反射膜が形成される。なお、
レーザ加工に支障がなければ、アルミニウム(Al)・
ネオジム(Nd)膜の1層のみを形成することとしても
良い。
The substrate manufacturing method is a photopolymerization (2P) method in which a transparent substrate made of glass or resin is coated with an ultraviolet (UV) curable resin, a stamper is pressed and then cured to transfer the shape. (3) An aluminum (Al) / titanium (Ti) film is formed on the reflective surface side of the substrate by a sputtering method or a vapor deposition method,
An aluminum (Al) / neodymium (Nd) film is formed on this. Thereby, a reflection film layer suitable for laser processing and a reflection film suitable for total reflection of external light are formed. In addition,
If there is no problem in laser processing, aluminum (Al)
It is also possible to form only one layer of the neodymium (Nd) film.

【0046】(4) マイクロレンズ面側からレーザ光を
照射し、マイクロレンズを介することによって相対的に
低い反射率側の反射膜上にレーザ光を集光して反射膜に
微小孔(ピンホール)を開口する。
(4) Laser light is irradiated from the microlens surface side, and the laser light is condensed on the reflection film on the relatively low reflectance side by way of the microlens to form microscopic holes (pinholes) in the reflection film. ) Is opened.

【0047】次に、図5を参照してレーザ光によって反
射基板に微小孔形成を行う加工装置について概略を説明
する。
Next, with reference to FIG. 5, an outline of a processing apparatus for forming fine holes in a reflecting substrate by laser light will be described.

【0048】加工装置50は、レーザ発振器51、ポリ
ゴンミラー(多面鏡)52、f−θレンズ53、基板3
を移動するスライダ(図示せず)等によって構成され
る。レーザ発振器51から出射したレーザ光54はポリ
ゴンミラー52で反射する。ポリゴンミラー52は反時
計方向に回転しており、レーザ光54を右方向から左方
向に扇状に繰り返し走査させる。このレーザ光54はf
−θレンズ53に入射し、光線の向きが反射基板3に直
角になるように修正され、若干収束光となって反射基板
3に入射する。基板3のマイクロレンズ32によって収
束されたレーザ光54は反射膜33上に集まり、反射膜
33を蒸発させて微小孔34を開口する。
The processing device 50 includes a laser oscillator 51, a polygon mirror (polyhedral mirror) 52, an f-θ lens 53, and a substrate 3.
And a slider (not shown) for moving. The laser light 54 emitted from the laser oscillator 51 is reflected by the polygon mirror 52. The polygon mirror 52 rotates counterclockwise, and repeatedly scans the laser beam 54 from right to left in a fan shape. This laser light 54 is f
The light enters the −θ lens 53 and is corrected so that the direction of the light ray becomes a right angle to the reflection substrate 3, and becomes a slightly convergent light and enters the reflection substrate 3. The laser beam 54 converged by the microlens 32 of the substrate 3 is collected on the reflection film 33, evaporates the reflection film 33, and opens the minute holes 34.

【0049】このとき、ビーム光54の基板に対する入
射角を使用する導光板22からのバックライト光の入射
角に合わせておく。それにより、マイクロレンズ31の
焦点位置にレーザビームが集光する。
At this time, the incident angle of the light beam 54 with respect to the substrate is adjusted to the incident angle of the backlight light from the light guide plate 22 which is used. Thereby, the laser beam is focused on the focal position of the microlens 31.

【0050】また、基板3の垂直方向の走査(副走査)
は、基板3をスライダに載置し、移動することによって
行う。それにより、基板3の全面をレーザビームで走査
することができる。
Further, vertical scanning of the substrate 3 (sub-scanning)
Is performed by placing the substrate 3 on a slider and moving it. Thereby, the entire surface of the substrate 3 can be scanned with the laser beam.

【0051】レーザ発振器51は、YAGレーザなどの
高出力レーザやフェムト秒レーザであっても良い。レー
ザ波長が可視光域の中心部から離れている場合には、平
行光のレーザ光54を照射しても反射膜上に焦点を結ば
なくなる。この場合には、レーザ光54を拡散光あるい
は収束光としてマイクロレンズ32に入射するレーザ光
54のビームを調整し、反射膜33上に焦点が形成され
るようにすることで反射膜33を開口することが可能で
ある。
The laser oscillator 51 may be a high power laser such as a YAG laser or a femtosecond laser. When the laser wavelength is far from the center of the visible light range, even if the laser light 54 of parallel light is irradiated, the laser beam is not focused on the reflection film. In this case, the reflection film 33 is opened by adjusting the beam of the laser light 54 that is incident on the microlens 32 as the diffusion light or the convergence light of the laser light 54 so that the focal point is formed on the reflection film 33. It is possible to

【0052】なお、レーザ光の基板上の走査位置に同期
してレーザ光の強度変調を行うようにすることができ
る。それにより、レーザ光がマイクロレンズの中央付近
を走査するときにレーザ光の強度を増し、他の部分で
は、強度を下げるようにすることが可能となる。そうす
ることによって、反射膜の微小孔のより確実な開口と開
口径の調整、基板へのダメージの減少等を図ることがで
き、具合がよい。
The intensity of the laser light may be modulated in synchronization with the scanning position of the laser light on the substrate. This makes it possible to increase the intensity of the laser beam when the laser beam scans the vicinity of the center of the microlens and decrease the intensity of the other part. By doing so, it is possible to achieve more reliable opening and adjustment of the opening diameter of the minute holes of the reflective film, reduce damage to the substrate, and the like, which is favorable.

【0053】このようにして、開口型の半透過反射基板
が形成される。
In this way, an aperture type semi-transmissive reflective substrate is formed.

【0054】次に、本発明の半透過反射型基板を含む表
示装置を備えた電子機器の例について以下に説明する
が、例示のものに限定されるものではない。
Next, examples of electronic equipment provided with a display device including the semi-transmissive reflection type substrate of the present invention will be described below, but the invention is not limited thereto.

【0055】〈モバイル型コンピュータ〉まず、上述し
た実施形態に係る表示装置をモバイル型のパーソナルコ
ンピュータに適用した例について説明する。図6は、こ
のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
同図において、パーソナルコンピュータ1100は、キ
ーボード1102を備えた本体部1104と、上述した
表示装置1106を備えた表示装置ユニットとから構成
されている。
<Mobile Computer> First, an example in which the display device according to the above-described embodiment is applied to a mobile personal computer will be described. FIG. 6 is a perspective view showing the configuration of this personal computer.
In the figure, a personal computer 1100 is composed of a main body 1104 having a keyboard 1102 and a display device unit having the above-mentioned display device 1106.

【0056】〈携帯電話〉次に、上述した実施形態に係
る表示装置を、携帯電話の表示部に適用した例について
説明する。図7は、この携帯電話の構成を示す斜視図で
ある。同図において、携帯電話1200は、複数の操作
ボタン1202の他、受話口1024、送話口1206
と共に上述した表示装置1208を備えるものである。
<Mobile Phone> Next, an example in which the display device according to the above-described embodiment is applied to the display portion of a mobile phone will be described. FIG. 7 is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. In the figure, the mobile phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1024, and a mouthpiece 1206.
In addition, the display device 1208 described above is provided.

【0057】〈ディジタルスチルカメラ〉上述した実施
形態に係る表示装置をファインダに用いたディジタルス
チルカメラについて説明する。図8は、このディジタル
スチルカメラの構成を示す斜視図であるが、外部機器と
の接続についても簡易に示すものである。
<Digital Still Camera> A digital still camera using the display device according to the above-described embodiment as a finder will be described. FIG. 8 is a perspective view showing the configuration of this digital still camera, but it also briefly shows the connection with an external device.

【0058】通常のカメラは、被写体の光像によってフ
ィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1
300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Devi
ce)等の撮像素子により光電変換して撮像信号を生成す
る。ディジタルスチルカメラ1300のケース1302
の背面には、上述した表示装置1304が設けられ、C
CDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成となって
いる。このため、表示装置1304は、被写体を表示す
るファインダとして機能する。また、ケース1302の
観察側(図においては裏面側)には、光学レンズやCC
D等を含んだ受光ユニットが設けられている。
While a normal camera exposes a film by an optical image of an object, the digital still camera 1
300 is a CCD (Charge Coupled Devi
The image pickup device such as ce) performs photoelectric conversion to generate an image pickup signal. Case 1302 of digital still camera 1300
The display device 1304 described above is provided on the back surface of the
The display is made based on the image pickup signal from the CD. Therefore, the display device 1304 functions as a finder that displays the subject. On the observation side (the back side in the figure) of the case 1302, an optical lens or CC
A light receiving unit including D and the like is provided.

【0059】撮影者が表示装置1304に表示された被
写体を像を確認して、シャッタボタン1308を押す
と、その時点におけるCCDの撮像信号が、回路基板1
310のメモリに転送・格納される。また、このディジ
タルスチルカメラ1300は、ケース1302の側面
に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入
出力端子1314とを備えている。そして、同図に示さ
れるように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモ
ニタ1430が、また、データ通信用の入出力端子13
14にはパーソナルコンピュータ1430が、それぞれ
必要に応じて接続され、更に、所定の操作によって、回
路基板1308のメモリに格納された撮像信号が、テレ
ビモニタ1330や、コンピュータ1340に出力され
る構成となっている。
When the photographer confirms the image of the subject displayed on the display device 1304 and presses the shutter button 1308, the image pickup signal of the CCD at that time is displayed on the circuit board 1.
The data is transferred and stored in the memory 310. The digital still camera 1300 also includes a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication on the side surface of the case 1302. Then, as shown in the figure, a television monitor 1430 is provided at the video signal output terminal 1312, and an input / output terminal 13 for data communication is provided.
A personal computer 1430 is connected to each of the devices 14 as needed, and the image pickup signal stored in the memory of the circuit board 1308 is output to the television monitor 1330 or the computer 1340 by a predetermined operation. ing.

【0060】〈電子ブック〉図9は、本発明の電子機器
の一例としての電子ブックの構成を示す斜視図である。
同図において、符号1400は、電子ブックを示してい
る。電子ブック1400は、ブック型のフレーム140
2と、このフレーム1402に開閉可能なカバー140
3とを有する。フレーム1402には、その表面に表示
面を露出させた状態で表示装置1404が設けられ、更
に、操作部1405が設けられている。フレーム140
2の内部には、コントローラ、カウンタ、メモリなどが
内蔵されている。表示装置1404は、本実施形態で
は、電子インクを薄膜素子に充填して形成した画素部
と、この画素部と一体に備えられ且つ集積化された周辺
回路とを備える。周辺回路には、デコーダ方式のスキャ
ンドライバ及びデータドライバを備える。
<Electronic Book> FIG. 9 is a perspective view showing the configuration of an electronic book as an example of the electronic apparatus of the present invention.
In the figure, reference numeral 1400 indicates an electronic book. The electronic book 1400 has a book-shaped frame 140.
2 and a cover 140 that can be opened and closed on this frame 1402
3 and 3. A display device 1404 is provided on the frame 1402 in a state where the display surface is exposed on the surface thereof, and an operation unit 1405 is further provided. Frame 140
A controller, a counter, a memory and the like are built in the inside of the unit 2. In this embodiment, the display device 1404 includes a pixel portion formed by filling a thin film element with electronic ink, and a peripheral circuit that is integrated with and integrated with the pixel portion. The peripheral circuit includes a decoder-type scan driver and a data driver.

【0061】なお、電子機器としては、図6のパーソナ
ルコンピュータ、図7の携帯電話機、図8のディジタル
スチルカメラ、図9の電子ブックの他にも、電子ペー
パ、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型
のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ペ
ージャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークス
テーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを
備えた機器などが挙げられる。そして、これ等の各種電
子機器の表示部には、上述した表示装置が適用可能であ
る。
As electronic equipment, in addition to the personal computer shown in FIG. 6, the mobile phone shown in FIG. 7, the digital still camera shown in FIG. 8 and the electronic book shown in FIG. 9, electronic paper, a liquid crystal television, a viewfinder type, Examples include a monitor direct-view video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a device equipped with a touch panel. The display device described above can be applied to the display units of these various electronic devices.

【0062】このように、本発明の実施の形態によれ
ば、マイクロレンズアレイを用いて反射膜に微小孔を開
口するので、開口型の半透過反射膜の製造において、マ
イクロレンズと微小孔の位置調整が不要である。
As described above, according to the embodiment of the present invention, the microlens array is used to open the minute holes in the reflecting film. Therefore, in the manufacture of the aperture type semi-transmissive reflecting film, the microlens and the minute holes are formed. No position adjustment required.

【0063】また、実施例では、反射膜を複数層とし、
反射膜の表面を高反射率に、裏面を低反射率にすること
によって、外光に対する高効率の反射と、レーザ光に対
する反射膜の加工性の向上とを図ることができて好まし
い。反射膜は2層膜に限られるものではなく、それより
も、多くの膜を積層しても良い。また、反射膜材料の変
化を連続的に起こって膜の境目のない、表裏で反射率の
異なる反射膜を形成することしても良い。
Further, in the embodiment, the reflective film has a plurality of layers,
By making the front surface of the reflective film have a high reflectance and the back surface thereof a low reflectance, highly efficient reflection of external light and improvement of workability of the reflective film with respect to laser light can be achieved, which is preferable. The reflective film is not limited to the two-layer film, and a larger number of films may be laminated instead. Further, it is also possible to form a reflective film having different reflectances on the front and back sides without a boundary between the films by continuously changing the material of the reflective film.

【0064】なお、反射膜は、1層であっても、レーザ
光による開口が支障なく行えれば良く、反射膜を複数膜
で必ずしも形成しなければならないというものではな
い。
Even if the reflective film is a single layer, it is sufficient that the opening by the laser beam can be performed without any problem, and the reflective film does not necessarily have to be formed of a plurality of films.

【0065】また、反射膜は外光(外部光源)を完全反
射するものが望ましいが、完全反射するものではなくと
もそれなりの効果が期待できる。
Further, it is desirable that the reflection film completely reflects the external light (external light source), but even if it is not the perfect reflection, some effect can be expected.

【0066】また、実施例のように、反射膜の形状を凹
凸に形成することによって、表示パネルを所定の角度に
傾斜したときに反射光が効率よく、利用者の視野に入る
ので、明るく見易い画面が得られて好ましい。
Further, as in the embodiment, by forming the shape of the reflection film in a concavo-convex shape, the reflected light is efficiently and enters the user's visual field when the display panel is tilted at a predetermined angle, so that it is easy to see brightly. A screen is obtained, which is preferable.

【0067】[0067]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
開口型の半透過反射膜の形成の際に、反射膜への微細孔
の形成を反射基板に形成されたマイクロレンズを利用し
てレーザ加工により行うので、半透過反射基板の製造工
程を簡略化することが可能となって具合が良い。
As described above, according to the present invention,
When forming an aperture type semi-transmissive reflective film, micro holes are formed in the reflective film by laser processing using microlenses formed on the reflective substrate, so the manufacturing process of the semi-transmissive reflective substrate is simplified. It is possible to do it and it is in good condition.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の第1の実施例(半透過反射基
板を使用する表示装置)を説明する説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a first embodiment of the present invention (a display device using a semi-transmissive reflective substrate).

【図2】図2は、本発明の第2の実施例(液晶基板を兼
ねる半透過反射基板を使用する表示装置)を説明する説
明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating a second embodiment of the present invention (a display device using a semi-transmissive reflective substrate that also serves as a liquid crystal substrate).

【図3】図3は、本発明の第3の実施例(凹凸形状の半
透過反射基板)を説明する説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating a third embodiment of the present invention (a semi-transmissive reflective substrate having an uneven shape).

【図4】図4は、凹凸形状の半透過反射基板を備える表
示装置の例を説明する説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating an example of a display device including an uneven transflective substrate.

【図5】図5は、レーザ光を用いて反射膜に微小孔を開
口して半透過反射基板を製造する例を説明する説明図で
ある。
FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining an example of manufacturing a semi-transmissive reflective substrate by opening minute holes in a reflective film using laser light.

【図6】図6は、本発明の表示装置を使用する携帯型パ
ソコン(情報機器)の例を説明する説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating an example of a portable personal computer (information device) that uses the display device of the present invention.

【図7】図7は、本発明の表示装置を使用する携帯型電
話機(情報機器)の例を説明する説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating an example of a mobile phone (information device) using the display device of the present invention.

【図8】図8は、本発明の表示装置を使用するデジタル
カメラ(情報機器)の例を説明する説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating an example of a digital camera (information device) using the display device of the present invention.

【図9】図9は、本発明の表示装置を使用する電子ブッ
ク(情報機器)の例を説明する説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram illustrating an example of an electronic book (information device) using the display device of the present invention.

【符号の説明】 1 液晶表示装置 2 背面光源 3 半透過反射板 4 液晶パネル 30、46 透明基板 31 マイクロレンズ 32 マイクロレンズアレイ 33、44 反射膜(半透過反射膜) 34、45 微小孔(ピンホール)[Explanation of symbols] 1 Liquid crystal display 2 Back light source 3 Semi-transmissive reflector 4 LCD panel 30,46 Transparent substrate 31 micro lens 32 micro lens array 33,44 Reflective film (semi-transmissive reflective film) 34, 45 Micro holes (pin holes)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤井 永一 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2H042 DA02 DA03 DA06 DA11 DA12 DA22 DC02 DD10 DE00 2H091 FA14Z FA23Z FA29Z FA41Z FB08 FC14 LA12    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Eiichi Fujii             Seiko, 3-3-3 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture             -In Epson Corporation F-term (reference) 2H042 DA02 DA03 DA06 DA11 DA12                       DA22 DC02 DD10 DE00                 2H091 FA14Z FA23Z FA29Z FA41Z                       FB08 FC14 LA12

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基板と、 前記透明基板の一面に形成され、複数の微小孔を有する
反射膜と、 前記透明基板の一面と対向する他面に形成されたマイク
ロレンズアレイと、 を含み、 前記反射膜は表裏で反射率が異なる、半透過反射基板。
1. A transparent substrate, a reflective film formed on one surface of the transparent substrate and having a plurality of minute holes, and a microlens array formed on the other surface facing the one surface of the transparent substrate, A semi-transmissive reflective substrate in which the reflective film has different reflectances on the front and back sides.
【請求項2】前記反射膜は複数の膜からなり、下地とな
る膜はこの上に形成される膜よりも低反射率である、請
求項1記載の半透過反射基板。
2. The semi-transmissive reflective substrate according to claim 1, wherein the reflective film is composed of a plurality of films, and the underlying film has a lower reflectance than the film formed thereon.
【請求項3】前記透明基板の厚さは、前記マイクロレン
ズアレイの焦点距離に略等しい、請求項1又は2記載の
半透過反射基板。
3. The transflective substrate according to claim 1, wherein the thickness of the transparent substrate is substantially equal to the focal length of the microlens array.
【請求項4】前記マイクロレンズアレイの各焦点位置に
前記微小孔が形成される、請求項1乃至3のいずれかに
記載の半透過反射基板。
4. The semi-transmissive reflective substrate according to claim 1, wherein the minute holes are formed at each focal position of the microlens array.
【請求項5】前記反射膜の複数の微小孔は、前記マイク
ロレンズアレイによって集光されたビーム光によって開
口される請求項1乃至4のいずれかに記載の半透過反射
基板。
5. The semi-transmissive reflective substrate according to claim 1, wherein the plurality of micro holes of the reflective film are opened by the beam light condensed by the micro lens array.
【請求項6】前記反射膜が、反射光を一定の方向に揃え
るための凹凸形状を有する請求項1乃至5のいずれかに
記載の半透過反射基板。
6. The semi-transmissive reflective substrate according to claim 1, wherein the reflective film has an uneven shape for aligning reflected light in a fixed direction.
【請求項7】前記マイクロレンズアレイの各マイクロレ
ンズの光軸と前記反射膜の反射面の法線とが斜めに交わ
るように形成される、請求項1乃至6のいずれかに記載
の半透過反射基板。
7. The semi-transmissive film according to claim 1, wherein the optical axis of each microlens of the microlens array and the normal line of the reflection surface of the reflection film intersect obliquely. Reflective board.
【請求項8】前記マイクロレンズアレイは凸レンズ、セ
ルフォックレンズ、屈折率分布型のレンズ、フレネルレ
ンズ及び回折レンズのいずれかである請求項1乃至7の
いずれかに記載の半透過反射基板。
8. The transflective substrate according to claim 1, wherein the microlens array is any one of a convex lens, a SELFOC lens, a gradient index lens, a Fresnel lens, and a diffractive lens.
【請求項9】前記半透過反射基板が液晶表示パネルの互
いに対向する一対の基板のうちの一方の基板を兼ねる、
請求項1乃至8のいずれかに記載の半透過反射基板。
9. The semi-transmissive reflective substrate also serves as one of a pair of substrates of a liquid crystal display panel facing each other.
The semi-transmissive reflective substrate according to claim 1.
【請求項10】請求項1乃至9のいずれかに記載の前記
半透過反射基板を備えた電気光学装置。
10. An electro-optical device comprising the semi-transmissive reflective substrate according to claim 1.
【請求項11】請求項10記載の電気光学表示装置を備
えるデジタルカメラ。
11. A digital camera provided with the electro-optical display device according to claim 10.
【請求項12】請求項10記載の電気光学表示装置を備
える携帯情報端末装置。
12. A portable information terminal device comprising the electro-optical display device according to claim 10.
【請求項13】請求項10記載の電気光学表示装置を備
える携帯電話装置。
13. A mobile phone device comprising the electro-optical display device according to claim 10.
【請求項14】一面にマイクロレンズアレイを有する透
明基板を形成する過程と、 前記基板の他面に反射膜を形成する過程と、 前記一面側からレーザ光を照射して前記マイクロレンズ
によって前記反射膜上に該レーザ光を集光して前記反射
膜に微小孔を開口する過程と、 を含む半透過反射基板の製造方法。
14. A process of forming a transparent substrate having a microlens array on one surface, a process of forming a reflective film on the other surface of the substrate, and a step of irradiating laser light from the one surface side to the reflection by the microlens. A method of manufacturing a semi-transmissive reflective substrate, comprising the step of converging the laser light on a film and opening fine holes in the reflective film.
【請求項15】前記レーザ光の照射は、前記マイクロレ
ンズアレイを前記レーザ光が走査することによって行わ
れる、請求項14記載の半透過反射基板の製造方法。
15. The method of manufacturing a semi-transmissive reflective substrate according to claim 14, wherein the laser light irradiation is performed by scanning the microlens array with the laser light.
【請求項16】前記レーザ光の走査は、 レーザ光源から出射されるレーザ光を反射する回転ミラ
ーと、 前記レーザ光が前記反射膜に対して所定角で入射するよ
うに整えるF−θレンズと、 を含む走査光学系によって行われる、請求項15記載の
半透過反射基板の製造方法。
16. The scanning of the laser light is performed by a rotating mirror that reflects the laser light emitted from the laser light source, and an F-θ lens that arranges the laser light so that the laser light is incident on the reflection film at a predetermined angle. 16. The method for manufacturing a semi-transmissive reflective substrate according to claim 15, which is performed by a scanning optical system including.
【請求項17】前記反射膜を形成する過程は、表裏で反
射率が異なるように反射膜を形成するものであり、前記
レーザ光は前記反射膜の低反射率側に照射される、請求
項14乃至16のいずれかに記載の半透過反射膜の製造
方法。
17. The process of forming the reflection film is to form the reflection film so that the reflectance is different between the front surface and the back surface, and the laser light is applied to the low reflectance side of the reflection film. 17. The method for manufacturing a semi-transmissive reflective film according to any one of 14 to 16.
【請求項18】前記透明基板の一面に前記マイクロレン
ズアレイを、他面に前記反射膜が形成されるべき凹凸形
状を形成する過程と、を更に含む、請求項14乃至17
のいずれかに記載の半透過反射膜の製造方法。
18. The method according to claim 14, further comprising: forming the microlens array on one surface of the transparent substrate and forming an uneven shape on which the reflective film is to be formed on the other surface.
The method for producing a semi-transmissive reflective film according to any one of 1.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005055647A (en) * 2003-08-04 2005-03-03 Alps Electric Co Ltd Liquid crystal display
JP2005099440A (en) * 2003-09-25 2005-04-14 Alps Electric Co Ltd Liquid crystal display device
JP2007193012A (en) * 2006-01-18 2007-08-02 Hitachi Chem Co Ltd Partial transmission type liquid crystal display and portable telephone, personal digital assistant, and opening forming method on diffuse reflection layer
WO2015040822A1 (en) * 2013-09-20 2015-03-26 株式会社 東芝 Display device and manufacturing method therefor
CN114660768A (en) * 2020-12-23 2022-06-24 大立光电股份有限公司 Optical lens, image capturing device and electronic device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005055647A (en) * 2003-08-04 2005-03-03 Alps Electric Co Ltd Liquid crystal display
JP4542320B2 (en) * 2003-08-04 2010-09-15 アルプス電気株式会社 Liquid crystal display
JP2005099440A (en) * 2003-09-25 2005-04-14 Alps Electric Co Ltd Liquid crystal display device
JP2007193012A (en) * 2006-01-18 2007-08-02 Hitachi Chem Co Ltd Partial transmission type liquid crystal display and portable telephone, personal digital assistant, and opening forming method on diffuse reflection layer
WO2015040822A1 (en) * 2013-09-20 2015-03-26 株式会社 東芝 Display device and manufacturing method therefor
CN114660768A (en) * 2020-12-23 2022-06-24 大立光电股份有限公司 Optical lens, image capturing device and electronic device

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