JP2003090963A - Microscope sample and its manufacturing method - Google Patents

Microscope sample and its manufacturing method

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JP2003090963A
JP2003090963A JP2001285140A JP2001285140A JP2003090963A JP 2003090963 A JP2003090963 A JP 2003090963A JP 2001285140 A JP2001285140 A JP 2001285140A JP 2001285140 A JP2001285140 A JP 2001285140A JP 2003090963 A JP2003090963 A JP 2003090963A
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Japan
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resin
microscope
pattern
resin material
thin plate
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JP2001285140A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunio Toshimitsu
邦夫 利光
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microscope sample which makes it efficient and accurate to evaluate the performance of a microscope using a differential interference contract method and a phase difference contrast method and also measure the size of the microstructure of a transparent living body sample as an object to be observed, and its manufacturing method. SOLUTION: The microscope sample 10 has a resin-made phase body 11 having an unevenness pattern 16 of predetermined size in a predetermined shape and support members 12 and 13 which support the phase body.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、微分干渉コントラ
スト法や位相差コントラスト法を用いた顕微鏡の透過観
察に好適な顕微鏡標本およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microscope sample suitable for transmission observation of a microscope using a differential interference contrast method or a phase difference contrast method, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、透明な生物標本(生きた組織
や細胞など)を染色せずに透過観察するため、微分干渉
コントラスト(Differential Interference Contrast)法
や位相差コントラスト(Phase Contrast)法を用いた顕微
鏡が使われている。このような顕微鏡では、透明な生物
標本の僅かな凹凸(厚さの違い)や屈折率の違い、つま
り、透明な生物標本を透過した光の位相差を、明暗のコ
ントラストに変換して可視化することができる。そし
て、得られた明暗のコントラストに基づいて、透明な生
物標本の微細構造の透過観察が行われる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to observe transparent biological specimens (living tissues, cells, etc.) without staining, the Differential Interference Contrast method and Phase Contrast method have been used. The old microscope is used. With such a microscope, slight unevenness (difference in thickness) and difference in refractive index of a transparent biological specimen, that is, the phase difference of light transmitted through the transparent biological specimen is converted into light-dark contrast and visualized. be able to. Then, based on the obtained contrast of light and dark, transmission observation of the fine structure of the transparent biological specimen is performed.

【0003】さらに、上記の顕微鏡では、その性能(位
相差の検出限界や分解能)を予め評価したり、透過観察
時に確認された微細構造の大きさを定量的に測定したり
することが要求される。このとき、既知の大きさのテス
トパターン(ケイ藻から取り出した骨格や筋肉から取り
出した繊維など)を有する標本が用いられる。なお、テ
ストパターンの大きさ測定は、周知の電子顕微鏡などを
用いて行われる。テストパターンの大きさは、サブミク
ロンレベル(1μm以下)である。
Further, the above-mentioned microscope is required to evaluate its performance (detection limit and resolution of phase difference) in advance and to quantitatively measure the size of the fine structure confirmed during transmission observation. It At this time, a sample having a test pattern of a known size (a skeleton extracted from diatom, a fiber extracted from muscle, etc.) is used. The size of the test pattern is measured using a well-known electron microscope or the like. The size of the test pattern is on the submicron level (1 μm or less).

【0004】テストパターンを有する標本(以下「テス
ト標本」という)は、観察対象である透明な生物標本の
透過観察と同様に、上記の顕微鏡を用いて透過観察され
る。その結果、テスト標本を透過した光の位相差が明暗
のコントラストに変換され、テストパターンが可視化さ
れる。
A sample having a test pattern (hereinafter referred to as "test sample") is transmitted and observed using the above-mentioned microscope, as in the transmission observation of a transparent biological sample as an observation target. As a result, the phase difference of the light transmitted through the test sample is converted into the contrast of light and dark, and the test pattern is visualized.

【0005】このため、微分干渉コントラスト法や位相
差コントラスト法を用いた顕微鏡の性能(位相差の検出
限界や分解能)は、例えば、既知の大きさのテストパタ
ーンがどの程度のコントラストで観察されるかによって
評価することができる。また、観察対象である透明な生
物標本の微細構造の大きさは、テストパターンとの大小
比較によって測定できる。
Therefore, the performance of the microscope using the differential interference contrast method or the phase difference contrast method (detection limit and resolution of the phase difference) is observed, for example, at what contrast a test pattern of known size is observed. It can be evaluated by Further, the size of the fine structure of the transparent biological specimen to be observed can be measured by comparing the size with the test pattern.

【0006】また、石英製などのガラス板をイオンビー
ム加工やドライエッチング加工により部分的に除去し、
所望の大きさ(サブミクロンレベル)の微細な凹凸構造か
らなるテストパターンを所望の数だけ形成することが検
討された。以下、凹凸構造からなるテストパターンを
「凹凸パターン」という。
Further, a glass plate made of quartz or the like is partially removed by ion beam processing or dry etching processing,
It was studied to form a desired number of test patterns each having a fine uneven structure of a desired size (submicron level). Hereinafter, the test pattern having the concavo-convex structure will be referred to as a “concavo-convex pattern”.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のテストパターンは生物から取り出された骨格や
繊維などであるため、顕微鏡の性能評価や微細構造の大
きさ測定に最適な所望の大きさのテストパターンを用意
したり、均一な大きさの複数のテストパターンを用意す
ることが困難であった。したがって、顕微鏡の性能評価
や微細構造の大きさ測定を正確に行うことができなかっ
た。
However, since the above-mentioned conventional test pattern is a skeleton or a fiber taken out from a living organism, it has a desired size suitable for the performance evaluation of the microscope and the size measurement of the fine structure. It is difficult to prepare a test pattern or a plurality of test patterns having a uniform size. Therefore, it has been impossible to accurately evaluate the performance of the microscope and measure the size of the fine structure.

【0008】また、イオンビーム加工では、サブミクロ
ンレベルまでイオンビームを集束可能であるが、実際に
はサブミクロンレベルの微細な凹凸パターンをガラス板
に形成することができなかった。例えば、ライン&スペ
ースのように一定ピッチで凹部を形成しようとすると、
隣り合う凹部どうしの壁がなくなってしまう。また、凹
部の底面が粗くなったり、凹部の縁が盛り上がったりす
る問題も生じる。
In the ion beam processing, the ion beam can be focused down to the submicron level, but in reality, it was not possible to form a fine uneven pattern on the glass plate at the submicron level. For example, if you try to form recesses at a constant pitch like lines and spaces,
The walls between adjacent recesses disappear. There is also a problem that the bottom surface of the concave portion becomes rough and the edge of the concave portion rises.

【0009】これに対し、ドライエッチング加工では、
断面が矩形状でサブミクロンレベルの凹凸パターンをガ
ラス板に形成することはできる。しかし、凹凸パターン
の凹部の深さ(凸部の高さ)を正確に制御することができ
なかった。凹部の深さ(凸部の高さ)はテスト標本を透過
した光の位相差を決定する要素であり、これを正確に制
御できないということはテスト標本の加工方法として不
適当である。
On the other hand, in the dry etching process,
It is possible to form a concavo-convex pattern of a submicron level on a glass plate with a rectangular cross section. However, it was not possible to accurately control the depth of the concave portions (height of the convex portions) of the uneven pattern. The depth of the concave portion (height of the convex portion) is a factor that determines the phase difference of the light transmitted through the test sample, and the fact that it cannot be controlled accurately is unsuitable as a method for processing the test sample.

【0010】このように、ガラス板に対するイオンビー
ム加工やドライエッチング加工では、顕微鏡の性能評価
や微細構造の大きさ測定に最適な所望の大きさの凹凸パ
ターンを形成したり、均一な大きさの複数の凹凸パター
ンを形成することが困難であった。凹凸パターンの大き
さとは、凹部の深さ(凸部の高さ)や、凹部および凸部の
幅のことである。
As described above, in ion beam processing or dry etching processing on a glass plate, a concavo-convex pattern of a desired size optimum for performance evaluation of a microscope or size measurement of a fine structure is formed, or a uniform size is formed. It was difficult to form a plurality of uneven patterns. The size of the concavo-convex pattern means the depth of the concave portion (height of the convex portion) and the width of the concave portion and the convex portion.

【0011】本発明の目的は、微分干渉コントラスト法
や位相差コントラスト法を用いた顕微鏡の性能の評価
や、観察対象である透明な生物標本の微細構造の大きさ
測定を正確に行うことができる顕微鏡標本、およびその
製造方法を提供することにある。
The object of the present invention is to accurately evaluate the performance of a microscope using the differential interference contrast method or the phase contrast method, and to accurately measure the size of the fine structure of a transparent biological specimen to be observed. It is intended to provide a microscope specimen and a manufacturing method thereof.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の顕微鏡
標本は、予め定めた形状および寸法の凹凸パターンを有
する樹脂製の位相物体と、前記位相物体を支持する支持
部材とを備えたものである。
A microscope sample according to claim 1 is provided with a resin phase object having a concavo-convex pattern of a predetermined shape and size, and a support member for supporting the phase object. Is.

【0013】請求項2に記載の顕微鏡標本は、請求項1
に記載の顕微鏡標本において、前記位相物体は、屈折率
が異なる2つ以上の薄板状樹脂からなり、該2つ以上の
薄板状樹脂の境界面に、前記凹凸パターンが形成されて
いるものである。請求項3に記載の顕微鏡標本は、請求
項2に記載の顕微鏡標本において、前記支持部材は、カ
バーガラスとスライドガラスとからなり、前記位相物体
は、前記カバーガラスと前記スライドガラスとの間に挟
まれて厚さ方向に支持されているものである。
The microscope specimen according to claim 2 is the same as that according to claim 1.
In the microscope sample described in the paragraph 1, the phase object is made of two or more thin plate-shaped resins having different refractive indexes, and the concavo-convex pattern is formed on a boundary surface of the two or more thin plate-shaped resins. . The microscope sample according to claim 3 is the microscope sample according to claim 2, wherein the supporting member includes a cover glass and a slide glass, and the phase object is between the cover glass and the slide glass. It is sandwiched and supported in the thickness direction.

【0014】請求項4に記載の顕微鏡標本の製造方法
は、予め定めた形状および寸法の凹凸パターンが表面に
形成された原版を用意する第1工程と、前記原版の前記
凹凸パターンに対して第1の樹脂材料を塗布し、前記凹
凸パターンが表面に転写された薄板状樹脂を成形する第
2工程と、前記原版から前記薄板状樹脂を剥離する第3
工程と、前記第3工程で剥離された前記薄板状樹脂の表
面に転写された前記凹凸パターンに対して、前記第1の
樹脂材料とは屈折率が異なる第2の樹脂材料を塗布する
第4工程と、カバーガラスを用いて前記第2の樹脂材料
を薄板状に押し広げると共に、前記カバーガラスを前記
第2の樹脂材料に接着する第5工程とを備えたものであ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a microscope specimen, which comprises a first step of preparing an original plate having an uneven pattern of a predetermined shape and size formed on a surface thereof, and a first step for the uneven pattern of the original plate. The second step of applying the resin material of No. 1 and molding the thin plate resin in which the concavo-convex pattern is transferred to the surface, and the third step of peeling the thin plate resin from the original plate
A fourth step of applying a second resin material having a refractive index different from that of the first resin material to the step and the concave-convex pattern transferred to the surface of the thin plate resin peeled in the third step And a fifth step of adhering the cover glass to the second resin material while pressing and spreading the second resin material into a thin plate shape using a cover glass.

【0015】請求項5に記載の顕微鏡標本の製造方法
は、請求項4に記載した顕微鏡標本の製造方法におい
て、前記第2工程は、前記原版の前記凹凸パターンに対
して前記第1の樹脂材料を塗布する工程と、スライドガ
ラスを用いて前記第1の樹脂材料を薄板状に押し広げる
と共に、前記スライドガラスを前記第1の樹脂材料に接
着する工程とを含み、前記第3工程は、前記スライドガ
ラスが接着された状態で、前記薄板状樹脂の剥離を行う
ものである。
A method for manufacturing a microscope sample according to a fifth aspect is the method for manufacturing a microscope sample according to the fourth aspect, wherein in the second step, the first resin material is applied to the concavo-convex pattern of the original plate. And a step of spreading the first resin material into a thin plate shape using a slide glass and adhering the slide glass to the first resin material, and the third step includes: The thin plate resin is peeled off with the slide glass adhered.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を詳細に説明する。 (第1実施形態)本発明の第1実施形態は、請求項1〜請
求項4に対応する。第1実施形態の顕微鏡標本10は、
図1に示すように、樹脂製の透明な位相物体11と、位
相物体11を支持するスライドガラス12およびカバー
ガラス13(支持部材)とで構成されている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. (First Embodiment) A first embodiment of the present invention corresponds to claims 1 to 4. The microscope sample 10 of the first embodiment is
As shown in FIG. 1, it is composed of a transparent phase object 11 made of resin, a slide glass 12 supporting the phase object 11 and a cover glass 13 (support member).

【0017】さらに、位相物体11は、屈折率が異なる
2つの薄膜状樹脂14,15からなり、これらの境界面
に凹凸パターン16が形成されている。位相物体11の
厚さは、数μm程度である。凹凸パターン16は、断面
が矩形状であり、均一な大きさ(凹部深さ,凹部の幅,凸
部の幅)の複数の凹部(または凸部)が等間隔で形成され
たものである。凹凸パターン16の凹部の深さ(凸部の
高さ)Aは約50nm、凹部の幅B,凸部の幅Cは0.2
μmである。
Further, the phase object 11 is composed of two thin-film resins 14 and 15 having different refractive indexes, and an uneven pattern 16 is formed on the boundary surface between them. The thickness of the phase object 11 is about several μm. The concavo-convex pattern 16 has a rectangular cross section, and has a plurality of concave portions (or convex portions) of uniform size (concave depth, concave width, convex width) formed at equal intervals. The recess depth (height of the protrusion) A of the concavo-convex pattern 16 is about 50 nm, the width B of the recess and the width C of the protrusion are 0.2.
μm.

【0018】また、位相物体11を構成する2つの薄膜
状樹脂14,15のうち、スライドガラス12側の薄膜
状樹脂14は、紫外線硬化性の樹脂材料(第1の樹脂材
料)を薄板状に成形したものであり、屈折率が1.47
〜1.48である(25℃)。カバーガラス13側の薄
膜状樹脂15は、エポキシ系やシリコン系の接着材料
(第2の樹脂材料)を薄板状に成形したものであり、屈
折率が薄膜状樹脂14と近い値を持つ。第1実施形態に
おいて、2つの薄膜状樹脂14,15の屈折率の差は、
0.1程度である。
Of the two thin-film resins 14 and 15 constituting the phase object 11, the thin-film resin 14 on the slide glass 12 side is made of a UV curable resin material (first resin material) in the form of a thin plate. It is molded and has a refractive index of 1.47.
˜1.48 (25 ° C.). The thin film resin 15 on the cover glass 13 side is formed by molding an epoxy-based or silicon-based adhesive material (second resin material) into a thin plate shape, and has a refractive index close to that of the thin film resin 14. In the first embodiment, the difference in refractive index between the two thin film resins 14 and 15 is
It is about 0.1.

【0019】上記構成の位相物体11は、スライドガラ
ス12とカバーガラス13との間に挟まれて厚さ方向に
支持されている。なお、スライドガラス12の厚さは、
1.0〜1.2mmである。カバーガラス13の厚さは、
0.17mmである。上記のように構成された顕微鏡標
本10は、微分干渉コントラスト法や位相差コントラス
ト法を用いた顕微鏡の性能(検出限界)の評価や、観察対
象である透明な生物標本(生きた組織や細胞など)の微
細構造の大きさ測定に用いられる。
The phase object 11 having the above structure is sandwiched between the slide glass 12 and the cover glass 13 and supported in the thickness direction. The thickness of the slide glass 12 is
It is 1.0 to 1.2 mm. The thickness of the cover glass 13 is
It is 0.17 mm. The microscope sample 10 configured as described above is used to evaluate the performance (detection limit) of a microscope using the differential interference contrast method or the phase contrast method, and to observe a transparent biological sample (living tissue or cell etc.). ) Used to measure the size of the microstructure.

【0020】次に、上記した顕微鏡標本10の製造方法
について、図2(a)〜(h)を用いて説明する。まず、石
英製またはセラミックス製の基板21を用意し、この基
板21の上にクロム膜22を蒸着する(a)。クロム膜2
2の蒸着は、膜厚Dが所望の値(例えば50nm)とな
るまで、真空蒸着器内で行われる。膜厚Dの精度(厚さ
むら)は、膜厚Dの5%以下である。
Next, a method of manufacturing the above-described microscope sample 10 will be described with reference to FIGS. First, a quartz or ceramic substrate 21 is prepared, and a chromium film 22 is vapor-deposited on the substrate 21 (a). Chrome film 2
The vapor deposition of 2 is performed in the vacuum vapor deposition device until the film thickness D reaches a desired value (for example, 50 nm). The accuracy of the film thickness D (thickness unevenness) is 5% or less of the film thickness D.

【0021】そして、クロム膜22の上にレジスト膜2
3を形成し(a)、電子ビーム露光装置を用いてレジスト
膜23に所望のパターンを露光する。これにより、レジ
スト膜23には、複数の溝23aからなるレジストパタ
ーンが形成される(b)。各々の溝23aの幅E、およ
び、溝23aどうしの間隔Fは、0.2μmである。次
に、レジスト膜23のレジストパターン(複数の溝23
a)を介して、クロム膜22を化学処理によりエッチン
グする。これにより、クロム膜22にも、複数の溝22
aからなるクロムパターンが形成される(c)。クロムパ
ターンの溝22aの幅および溝22aどうしの間隔は、
レジストパターンの幅E,間隔F(0.2μm)と同じで
ある。
Then, the resist film 2 is formed on the chromium film 22.
3A is formed (a), and a desired pattern is exposed on the resist film 23 using an electron beam exposure apparatus. As a result, a resist pattern including a plurality of grooves 23a is formed on the resist film 23 (b). The width E of each groove 23a and the interval F between the grooves 23a are 0.2 μm. Next, the resist pattern of the resist film 23 (the plurality of grooves 23
The chromium film 22 is etched by a chemical treatment through a). As a result, the chromium film 22 also has a plurality of grooves 22.
A chrome pattern of a is formed (c). The width of the groove 22a of the chrome pattern and the interval between the grooves 22a are
It is the same as the width E of the resist pattern and the distance F (0.2 μm).

【0022】そして次に、レジスト膜23を除去する
(d)。その結果、基板21の上にクロム膜22のクロム
パターン(複数の溝22a)が形成された原版20を得
ることができる。この原版20には、基板21の表面と
クロムパターンの表面とからなる凹凸パターン20aが
形成されている。図2(a)〜(d)は、原版20を用意す
る第1工程に対応する。
Then, the resist film 23 is removed.
(d). As a result, it is possible to obtain the original plate 20 in which the chrome pattern (the plurality of grooves 22a) of the chrome film 22 is formed on the substrate 21. The original plate 20 has an uneven pattern 20a formed of the surface of the substrate 21 and the surface of the chrome pattern. 2A to 2D correspond to the first step of preparing the original plate 20.

【0023】ここで、原版20の凹凸パターン20a
は、断面が矩形状である。凹凸パターン20aの凹部の
深さ(凸部の高さ)は、クロム膜22の膜厚Dに他なら
ず、約50nmである。凹凸パターン20aの凹部の
幅,凸部の幅は、レジスト膜23に対する露光パターン
によって決定され、0.2μmである。次に、用意され
た原版20の凹凸パターン20aに対して紫外線硬化性
の樹脂材料24を塗布し(e)、ガラス製の押し板25を
用いて、粘彫な樹脂材料24を薄板状に押し広げる
(f)。このとき、基板21の表面との平行を保ちなが
ら、樹脂材料24が凹凸パターン20a全体に広がるよ
うに、押し板25を加圧することが好ましい。また、樹
脂材料24に泡が混入しないように注意する。
Here, the concavo-convex pattern 20a of the original plate 20.
Has a rectangular cross section. The depth of the concave portion of the concave-convex pattern 20a (height of the convex portion) is about 50 nm, which is the same as the film thickness D of the chromium film 22. The width of the concave portions and the width of the convex portions of the concave-convex pattern 20a are determined by the exposure pattern for the resist film 23 and are 0.2 μm. Next, an ultraviolet curable resin material 24 is applied to the uneven pattern 20a of the prepared original plate 20 (e), and the viscous resin material 24 is pressed into a thin plate shape using a glass pressing plate 25. spread
(f). At this time, it is preferable to pressurize the pressing plate 25 so that the resin material 24 spreads over the entire concavo-convex pattern 20a while maintaining parallel to the surface of the substrate 21. Also, be careful not to mix bubbles in the resin material 24.

【0024】そして次に、押し板25と原版20との間
に挟まれた薄板状の樹脂材料24に対して、水銀ランプ
からの紫外線を5秒〜60秒程度照射する。その結果、
樹脂材料24が硬化して、原版20の凹凸パターン20
aが表面に転写された薄板状樹脂14となる。図2
(e),(f)は、原版20を用いて薄膜状樹脂14を成形
する第2工程である。
Then, the thin plate-shaped resin material 24 sandwiched between the pressing plate 25 and the original plate 20 is irradiated with ultraviolet rays from a mercury lamp for about 5 to 60 seconds. as a result,
The resin material 24 is cured, and the uneven pattern 20 of the original plate 20 is obtained.
It becomes the thin plate resin 14 in which a is transferred to the surface. Figure 2
(e) and (f) are the second step of molding the thin film resin 14 using the original plate 20.

【0025】次に、樹脂材料24の硬化によって薄膜状
樹脂14が得られると、この薄膜状樹脂14から押し板
25を剥離すると共に、原版20から薄膜状樹脂14を
剥離する(g)。この剥離に際しては、薄膜状樹脂14が
破損しないように注意を要する。図2(g)は第3工程に
対応する。
Next, when the thin film resin 14 is obtained by curing the resin material 24, the pressing plate 25 is separated from the thin film resin 14 and the thin film resin 14 is separated from the original plate 20 (g). At the time of this peeling, care must be taken not to damage the thin film resin 14. FIG. 2G corresponds to the third step.

【0026】ここで、薄膜状樹脂14の材料である紫外
線硬化性の樹脂材料24は、アセタールグリコールジア
クリレートと、ウレタンアクリレートと、1−ヒドロキ
シシクロヘキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品
名:イルガキュアー184;チバ・ガイギー(株)製)と
を混合したものである。なお、熱や光の吸収特性,離型
性,耐光性,耐久性,硬度を考慮すると、色数(APHA)
が30〜50、屈折率が25℃で1.4〜1.8程度のも
のが好ましい。
Here, the ultraviolet curable resin material 24, which is the material of the thin film resin 14, is acetal glycol diacrylate, urethane acrylate, and 1-hydroxycyclohexylcyclohexyl phenyl ketone (trade name: Irgacure 184; Ciba).・ Mixed with Geigy Co., Ltd. In consideration of heat and light absorption characteristics, releasability, light resistance, durability, and hardness, the number of colors (APHA)
Is 30 to 50, and the refractive index at 25 ° C. is about 1.4 to 1.8.

【0027】第1実施形態では、図2(f)の工程におけ
る転写性を考慮して、比重が25℃で0.8〜1.3程
度、粘度が25℃で10〜4800CPS程度の樹脂材
料24を用いた。また、図2(g)における離型性を考慮
して、色数が40、屈折率が25℃で1.47〜1.48
の樹脂材料24を用いた。このため、原版20の凹凸パ
ターン20aの形状および寸法D,E,Fがそのまま表面
に転写された薄膜状樹脂14を得ることができる。した
がって、薄膜状樹脂14の凹凸パターン14aは、断面
が矩形状であり、凹部の深さ(凸部の高さ)Aが約50n
m、凹部の幅B,凸部の幅Cが0.2μmとなる。
In the first embodiment, in consideration of transferability in the step of FIG. 2 (f), a resin material having a specific gravity of about 0.8 to 1.3 at 25 ° C. and a viscosity of about 10 to 4800 CPS at 25 ° C. 24 was used. Further, considering the releasability in FIG. 2 (g), the number of colors is 40, and the refractive index is 1.47 to 1.48 at 25 ° C.
The resin material 24 of was used. Therefore, it is possible to obtain the thin film resin 14 in which the shape and the dimensions D, E, and F of the uneven pattern 20a of the original plate 20 are directly transferred to the surface. Therefore, the concavo-convex pattern 14a of the thin film resin 14 has a rectangular cross section, and the depth A of the concave portion (height of the convex portion) is about 50 n.
m, the width B of the concave portion, and the width C of the convex portion are 0.2 μm.

【0028】さらに、第1実施形態では、図2(f)の工
程における硬化時に、樹脂材料24の内部に歪みが発生
しないような材料を用いた。次に、原版20から剥離さ
れた薄膜状樹脂14の平面14b側をスライドガラス1
2に接着する(h)。また、薄膜状樹脂14の凹凸パター
ン14aに対して接着材料26を塗布する(第4工
程)。
Further, in the first embodiment, a material that does not cause distortion inside the resin material 24 during curing in the step of FIG. 2 (f) is used. Next, the flat glass 14 side of the thin film resin 14 peeled from the original 20 is placed on the slide glass 1
Adhere to 2 (h). Further, the adhesive material 26 is applied to the concavo-convex pattern 14a of the thin film resin 14 (fourth step).

【0029】そして、カバーガラス13を用いて接着材
料26を薄板状に押し広げると共に、カバーガラス13
を接着する(第5工程)。このとき、カバーガラス13
の表面との平行を保ちながら、接着材料26が凹凸パタ
ーン14a全体に広がるように、カバーガラス13を加
圧することが好ましい。また、接着材料26に泡が混入
しないように注意する。
The cover glass 13 is used to spread the adhesive material 26 into a thin plate shape, and the cover glass 13
Are bonded (fifth step). At this time, the cover glass 13
It is preferable to pressurize the cover glass 13 so that the adhesive material 26 spreads over the entire concavo-convex pattern 14a while maintaining parallel to the surface of the cover glass 13. Also, be careful not to mix bubbles in the adhesive material 26.

【0030】接着材料26は、硬化時に内部歪みが発生
しないような材料であり、例えば、微分干渉コントラス
ト法や位相差コントラスト法を用いた顕微鏡に組み込ま
れる対物レンズにおいて、レンズどうしの接着に使用さ
れている材料である。接着材料26が硬化して薄板状樹
脂15となり、薄板状樹脂15によって薄膜状樹脂14
の凹凸パターン14aが封印されると、図1に示した第
1実施形態の顕微鏡標本10が完成する。完成した顕微
鏡標本10の構成については前述した通りである。
The adhesive material 26 is a material that does not cause internal strain during curing, and is used for bonding lenses in an objective lens incorporated in a microscope using the differential interference contrast method or the phase difference contrast method, for example. It is a material. The adhesive material 26 is cured to form the thin plate resin 15, and the thin plate resin 15 causes the thin film resin 14
When the concavo-convex pattern 14a is sealed, the microscope sample 10 of the first embodiment shown in FIG. 1 is completed. The structure of the completed microscope sample 10 is as described above.

【0031】第1実施形態の顕微鏡標本10を用いて、
微分干渉コントラスト法や位相差コントラスト法を用い
た顕微鏡の性能(位相差の検出限界,分解能)の評価や、
観察対象である透明な生物標本(生きた組織や細胞な
ど)の微細構造の大きさ測定を行う場合、この顕微鏡標
本10は、顕微鏡のステージに載置されて、透過観察さ
れる。
Using the microscope sample 10 of the first embodiment,
Evaluation of microscope performance (detection limit of phase difference, resolution) using differential interference contrast method and phase difference contrast method,
When measuring the size of the fine structure of a transparent biological specimen (living tissue, cells, etc.) to be observed, the microscope specimen 10 is placed on the stage of a microscope and is observed by transmission.

【0032】透過観察時、顕微鏡標本10を厚さ方向に
透過する光には、位相物体11の凹凸パターン16に応
じた位相差が発生する。そして、顕微鏡標本10を透過
した光の位相差が明暗のコントラストに変換され、位相
物体11の凹凸パターン16が可視化される。なお、位
相物体11を構成する薄膜状樹脂14,15の内部には
歪みがなく、偏光特性は均一である。当然、スライドガ
ラス12とカバーガラス13の偏光特性も均一である。
このため、顕微鏡標本10の透過観察時、顕微鏡標本1
0を透過する光の位相が位相物体11の凹凸パターン1
6以外の構造によって変化することはない。したがっ
て、凹凸パターン16のみを可視化することができる。
At the time of transmission observation, a phase difference corresponding to the concavo-convex pattern 16 of the phase object 11 is generated in the light transmitted through the microscope sample 10 in the thickness direction. Then, the phase difference of the light transmitted through the microscope sample 10 is converted into the contrast of light and dark, and the concavo-convex pattern 16 of the phase object 11 is visualized. In addition, there is no distortion inside the thin film resins 14 and 15 that form the phase object 11, and the polarization characteristics are uniform. Naturally, the polarization characteristics of the slide glass 12 and the cover glass 13 are also uniform.
Therefore, during transmission observation of the microscope sample 10, the microscope sample 1
The phase of the light passing through 0 is the concavo-convex pattern 1 of the phase object 11.
Structures other than 6 do not change. Therefore, only the uneven pattern 16 can be visualized.

【0033】ここで、第1実施形態では、位相物体11
を構成する薄膜状樹脂14,15の屈折率の差Δnを0.
1とし、凹凸パターン16の凹部の深さ(凸部の高さ)A
を50nmとしたため、顕微鏡標本10を透過する光の
位相差(=Δn×A)が5nmとなる。位相差5nm
は、顕微鏡の位相差の検出限界に相当する。また、第1
実施形態では、位相物体11の凹凸パターン16の凹部
の幅B,凸部の幅Cを0.2μmとした。これは、顕微鏡
の分解能(対物レンズの開口数が1.4の場合)に相当
する。
Here, in the first embodiment, the phase object 11
The difference Δn in the refractive index between the thin film resins 14 and 15 constituting the
1, the depth of the concave portion of the concave-convex pattern 16 (height of the convex portion) A
Is 50 nm, the phase difference (= Δn × A) of light passing through the microscope sample 10 is 5 nm. Phase difference 5nm
Corresponds to the detection limit of the phase difference of the microscope. Also, the first
In the embodiment, the width B of the concave portion and the width C of the convex portion of the concave-convex pattern 16 of the phase object 11 are set to 0.2 μm. This corresponds to the resolution of the microscope (when the numerical aperture of the objective lens is 1.4).

【0034】つまり、顕微鏡標本10の凹凸パターン1
6は、顕微鏡の性能評価や微細構造の大きさ測定に最適
な大きさのテストパターンである。したがって、顕微鏡
標本10の凹凸パターン16がどの程度のコントラスト
で観察されるかによって、顕微鏡の性能(位相差の検出
限界,分解能)を効率良くかつ正確に評価することができ
る。
That is, the concavo-convex pattern 1 of the microscope sample 10
Reference numeral 6 is a test pattern having a size optimal for performance evaluation of a microscope and size measurement of a fine structure. Therefore, the performance of the microscope (detection limit of phase difference, resolution) can be efficiently and accurately evaluated depending on how much contrast the concavo-convex pattern 16 of the microscope sample 10 is observed.

【0035】さらに、顕微鏡標本10の凹凸パターン1
6との大小比較によって、観察対象である透明な生物標
本(生きた組織や細胞など)の微細構造の大きさを効率
良くかつ正確に定量測定することができる。微細構造の
大きさ測定は、例えば、(1)顕微鏡標本10の透過観察
時に得られる凹凸パターン16の画像をテレビカメラで
撮像すると共に、寸法測定機能内蔵の画像処理装置に取
り込み、(2)同装置の手順にしたがって凹凸パターン1
6の設計データ(寸法A,B,C)を入力し、(3)顕微鏡標
本を観察対象である透明な生物標本に交換して画像を取
り込み、(4)凹凸パターン16を「ものさし」として利
用することにより行われる。
Further, the concavo-convex pattern 1 of the microscope sample 10
The size of the fine structure of the transparent biological specimen (living tissue, cells, etc.) to be observed can be efficiently and accurately quantitatively measured by comparing the size with that of No. 6. The size of the fine structure can be measured, for example, by (1) capturing an image of the concavo-convex pattern 16 obtained during transmission observation of the microscope sample 10 with a television camera, and importing it into an image processing device with a built-in dimension measurement function. Concavo-convex pattern 1 according to the procedure of the device
6) Design data (dimensions A, B, C) are input, (3) Microscopic specimens are exchanged for transparent biological specimens to be observed, images are captured, and (4) Concavo-convex pattern 16 is used as a "measurer". It is done by doing.

【0036】上記した第1実施形態の顕微鏡標本10で
は、凹凸パターン16の凹部の深さ(凸部の高さ)Aを5
0nm、凹部の幅B,凸部の幅Cを0.2μmとしたが、
本発明はこの寸法に限定されない。顕微鏡標本10の凹
凸パターン16の寸法(A,B,C)は、顕微鏡標本10を
製造する際に用いた原版20(図2(d))の凹凸パター
ン20aの寸法(D,E,F)と同じであるため、凹凸パタ
ーン20aの寸法(D,E,F)を変更することで、所望の
寸法(A,B,C)の凹凸パターン16を得ることができ
る。
In the microscope sample 10 of the first embodiment described above, the depth (height of the convex portion) A of the concave portion of the concave-convex pattern 16 is set to 5
0 nm, the width B of the concave portion and the width C of the convex portion are 0.2 μm,
The invention is not limited to this size. The dimensions (A, B, C) of the concavo-convex pattern 16 of the microscope sample 10 are the dimensions (D, E, F) of the concavo-convex pattern 20a of the original plate 20 (FIG. 2 (d)) used when manufacturing the microscope sample 10. Therefore, by changing the dimensions (D, E, F) of the concavo-convex pattern 20a, the concavo-convex pattern 16 having a desired dimension (A, B, C) can be obtained.

【0037】ここで、凹凸パターン20aの寸法(D,
E,F)のうち、凹部の深さ(凸部の高さ)Dは、クロム膜
22の膜厚Dに他ならず、クロム膜22を蒸着する時間
によって10nm〜100nmの範囲内で正確に制御可
能である。
Here, the dimensions (D,
E, F), the depth D of the concave portion (height of the convex portion) is nothing but the film thickness D of the chromium film 22, and is accurately within the range of 10 nm to 100 nm depending on the time for depositing the chromium film 22. It is controllable.

【0038】また、凹凸パターン20aの寸法(D,E,
F)のうち、凹部の幅E,凸部の幅Fは、レジスト膜23
に対する露光パターンによって決まるため、第1実施形
態のように電子ビーム露光装置を用いた場合には、最小
で、0.1μm程度とすることができる。したがって、
原版20を用意するに当たり、クロム膜22の蒸着時間
とレジスト膜23に対する露光パターンとを変更し、凹
凸パターン20aの寸法(D,E,F)を変更することで、
凹凸パターン16の凹部の深さ(凸部の高さ)Aを10n
m〜100nmの任意の値とし、凹部の幅B,凸部の幅
Cを0.1μm以上の任意の値とすることができる。
Further, the dimensions (D, E,
In F), the width E of the concave portion and the width F of the convex portion are
However, when the electron beam exposure apparatus is used as in the first embodiment, the minimum size can be about 0.1 μm. Therefore,
In preparing the original plate 20, by changing the deposition time of the chromium film 22 and the exposure pattern for the resist film 23, and changing the dimensions (D, E, F) of the concavo-convex pattern 20a,
The depth A of the concave portion of the concave-convex pattern 16 (height of the convex portion) is set to 10 n.
The width B of the concave portion and the width C of the convex portion can be set to an arbitrary value of 0.1 μm or more with an arbitrary value of m to 100 nm.

【0039】つまり、顕微鏡の性能評価や微細構造の大
きさ測定に最適な所望の大きさ(A,B,C)のテストパタ
ーンを自在に得ることができる。例えば、顕微鏡の位相
差の検出限界(Δn=0.1の場合の深さ(高さ)Aは5
0nm)以下で、顕微鏡の分解能(対物レンズの開口数
が1.4の場合は0.2μm)以下の条件に適したテスト
パターンを得ることもできる。
That is, it is possible to freely obtain a test pattern having a desired size (A, B, C) which is optimum for performance evaluation of a microscope and size measurement of a fine structure. For example, the detection limit of the phase difference of the microscope (the depth (height) A when Δn = 0.1 is 5
It is also possible to obtain a test pattern suitable for a condition of a resolution of the microscope (0 nm) or less and a resolution of the microscope (0.2 μm when the numerical aperture of the objective lens is 1.4).

【0040】近年のテレビカメラや画像処理技術の発展
により、これまでの目視観察や写真撮影では検出困難で
あった暗い画像を捉えて明るさやコントラストを増強
し、顕微鏡の位相差の検出限界以下での透過観察や分解
能以下での透過観察が可能となったため、上記したよう
に、凹部の深さ(凸部の高さ)Aが50nm以下で、凹部
の幅B,凸部の幅Cが0.2μm以下のテストパターンが
得られるということは非常に有効である。
With the recent development of television cameras and image processing technology, it is possible to capture a dark image, which has been difficult to detect by visual observation or photography so far, to enhance brightness and contrast, and to detect the phase difference of the microscope below the detection limit. As described above, the depth A of the concave portion (height of the convex portion) is 50 nm or less, and the width B of the concave portion is 0 and the width C of the convex portion is 0. It is very effective that a test pattern of 0.2 μm or less can be obtained.

【0041】(第2実施形態)次に、本発明の第2実施形
態について説明する。本発明の第2実施形態は、請求項
1〜請求項5に対応する。第2実施形態では、上記した
顕微鏡標本10を製造する方法の別の例について説明す
る。第2実施形態の製造方法は、上記した第1実施形態
の製造方法(図2(a)〜(h))のうち、図2(f)〜(h)
の工程に代えて、図3(a)〜(c)の工程を採用するもの
である。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described. The second embodiment of the present invention corresponds to claims 1 to 5. In the second embodiment, another example of the method for manufacturing the above-described microscope sample 10 will be described. The manufacturing method of the second embodiment is the same as the manufacturing method of the first embodiment (FIGS. 2 (a) to 2 (h)), and FIGS.
3A to 3C are adopted instead of the process of FIG.

【0042】すなわち、用意された原版20の凹凸パタ
ーン20aに対して紫外線硬化性の樹脂材料24を塗布
(図2(e))した後、スライドガラス12を用いて樹脂
材料24を薄板状に押し広げると共に、スライドガラス
12を接着する(図3(a))。このとき、基板21の表
面との平行を保ちながら、樹脂材料24が凹凸パターン
20a全体に広がるように、スライドガラス12を加圧
する。
That is, after the ultraviolet curable resin material 24 is applied to the uneven pattern 20a of the prepared original plate 20 (FIG. 2 (e)), the resin material 24 is pressed into a thin plate shape using the slide glass 12. While unfolding, the slide glass 12 is adhered (FIG. 3 (a)). At this time, the slide glass 12 is pressed so that the resin material 24 spreads over the entire concavo-convex pattern 20a while maintaining parallel to the surface of the substrate 21.

【0043】さらに、図3(a)の工程でスライドガラス
12を接着するため、このスライドガラス12の一方の
表面には予めプライマー処理が施される。そして、プラ
イマー処理済みの表面を樹脂材料24側に向けて、図3
(a)の工程が実行される。そして次に、スライドガラス
12と原版20との間に挟まれた薄板状の樹脂材料24
に対して、紫外線を5秒〜60秒程度照射する。その結
果、樹脂材料24が硬化して、原版20の凹凸パターン
20aが表面に転写された薄板状樹脂14となる。図2
(e),図3(a)は請求項5の第2工程に対応する。
Further, in order to bond the slide glass 12 in the step of FIG. 3 (a), one surface of the slide glass 12 is previously treated with a primer. Then, with the surface subjected to the primer treatment facing the resin material 24 side, as shown in FIG.
The step (a) is executed. Then, next, a thin plate-shaped resin material 24 sandwiched between the slide glass 12 and the original plate 20.
On the other hand, ultraviolet rays are irradiated for about 5 to 60 seconds. As a result, the resin material 24 is hardened, and the uneven pattern 20a of the original plate 20 becomes the thin plate resin 14 transferred to the surface. Figure 2
(e) and FIG. 3 (a) correspond to the second step of claim 5.

【0044】次に、樹脂材料24の硬化によって薄膜状
樹脂14が得られると、この薄膜状樹脂14にスライド
ガラス12が接着された状態のままで、原版20から薄
膜状樹脂14を剥離する(図3(b))。この剥離によ
り、原版20の凹凸パターン20aの形状および寸法
D,E,Fがそのまま表面に転写された薄膜状樹脂14を
得ることができる。図3(b)は請求項5の第3工程に対
応する。
Next, when the thin film resin 14 is obtained by curing the resin material 24, the thin film resin 14 is peeled off from the original plate 20 with the slide glass 12 adhered to the thin film resin 14 ( Fig. 3 (b)). By this peeling, it is possible to obtain the thin film resin 14 in which the shape and the dimensions D, E, and F of the uneven pattern 20a of the original plate 20 are directly transferred to the surface. FIG. 3B corresponds to the third step of claim 5.

【0045】次に、原版20から剥離された薄膜状樹脂
14の凹凸パターン14aに対して接着材料26を塗布
し、カバーガラス13を用いて接着材料26を薄板状に
押し広げると共に、カバーガラス13を接着する(図3
(c))。このとき、カバーガラス13の表面との平行を
保ちながら、接着材料26が凹凸パターン14a全体に
広がるように、カバーガラス13を加圧する。
Next, the adhesive material 26 is applied to the concavo-convex pattern 14a of the thin film resin 14 peeled from the original plate 20, and the adhesive material 26 is spread into a thin plate shape by using the cover glass 13, and the cover glass 13 is used. Glue (Fig. 3
(c)). At this time, the cover glass 13 is pressed so that the adhesive material 26 spreads over the entire concavo-convex pattern 14a while maintaining parallel to the surface of the cover glass 13.

【0046】接着材料26が硬化して薄板状樹脂15と
なり、薄板状樹脂15によって薄膜状樹脂14の凹凸パ
ターン14aが封印されると、図1に示した顕微鏡標本
10が完成する。このように、第2実施形態の製造方法
によれば、薄膜状樹脂14とスライドガラス12とを接
着により予め一体化させた後で、スライドガラス12と
共に薄膜状樹脂14を原版20から剥離するため、薄膜
状樹脂14の剥離時の破損を防止することができる。
When the adhesive material 26 is cured to become the thin plate resin 15, and the uneven pattern 14a of the thin film resin 14 is sealed by the thin plate resin 15, the microscope sample 10 shown in FIG. 1 is completed. As described above, according to the manufacturing method of the second embodiment, after the thin film resin 14 and the slide glass 12 are integrated beforehand by adhesion, the thin glass resin 14 is peeled off from the original plate 20 together with the slide glass 12. It is possible to prevent the thin film resin 14 from being damaged at the time of peeling.

【0047】なお、上記した第2実施形態では、スライ
ドガラス12の表面にプライマー処理を施したが、薄膜
状樹脂14が接着するような材質のガラス板をスライド
ガラス12に代えて用いれば、プライマー処理を省略す
ることができる。その際に用いるガラス板としては、ス
ライドガラス12と厚さの同じものが好ましい。また、
上記した第1および第2実施形態では、顕微鏡標本10
の凹凸パターン16(図1)が、均一な大きさで等間隔
に配された複数の凹部(または凸部)からなる構成、つま
り、凹部の幅B,凸部の幅Cが1種類のみである構成を
説明したが、本発明はこの構成に限定されない。幅が異
なる2種類以上の凹部(または凸部)を任意の間隔で配列
する構成にも、本発明は適用できる。
In the second embodiment described above, the surface of the slide glass 12 is subjected to the primer treatment, but if a glass plate made of a material to which the thin film resin 14 is adhered is used instead of the slide glass 12, the primer is used. Processing can be omitted. As the glass plate used at that time, one having the same thickness as the slide glass 12 is preferable. Also,
In the above-described first and second embodiments, the microscope sample 10
The concavo-convex pattern 16 (FIG. 1) is composed of a plurality of concave portions (or convex portions) of uniform size and arranged at equal intervals, that is, the width B of the concave portion and the width C of the convex portion are only one kind. Although a configuration has been described, the present invention is not limited to this configuration. The present invention can be applied to a configuration in which two or more types of concave portions (or convex portions) having different widths are arranged at arbitrary intervals.

【0048】幅が異なる2種類以上の凹部(または凸部)
を組み合わせる例としては、幅が、0.1μm、0.15
μm、0.2μm、0.25μm、0.3μm、0.33μ
m、0.4μm、0.5μm、0.6μm、1.0μm、
2.0μmの11種類の凹部(または凸部)を組み合わせ
る構成が考えられる。凹部(または凸部)を任意の間隔で
配列した凹凸パターンの例としては、図4に示すよう
に、指定寸法の幅の凹部(または凸部)を1本独立して形
成する凹凸パターン31、指定寸法の幅と同じ間隔で2
本の凹部(または凸部)を形成する凹凸パターン32、指
定寸法の幅の凹部(または凸部)を0.05mm間隔で5
本繰り返して形成する凹凸パターン33などが考えられ
る。
Two or more types of concave portions (or convex portions) having different widths
As an example of combining, the width is 0.1 μm, 0.15
μm, 0.2 μm, 0.25 μm, 0.3 μm, 0.33 μ
m, 0.4 μm, 0.5 μm, 0.6 μm, 1.0 μm,
A configuration in which 11 types of concave portions (or convex portions) of 2.0 μm are combined is conceivable. As an example of the concavo-convex pattern in which the concave portions (or convex portions) are arranged at arbitrary intervals, as shown in FIG. 4, a concave-convex pattern 31 in which one concave portion (or convex portion) having a specified width is independently formed, 2 at the same interval as the width of the specified dimension
The concave / convex pattern 32 that forms the concave portions (or convex portions) of the book, and the concave portions (or convex portions) having the width of the designated dimension are arranged at intervals of 0.05 mm.
The concavo-convex pattern 33 and the like formed by repeating this process are conceivable.

【0049】さらに、上記した第1および第2実施形態
では、薄膜状樹脂14の材料として、紫外線硬化性の樹
脂材料24を用いたが、シリコン系の透明な樹脂材料を
用いても良い。シリコン系の樹脂材料の中でも、転写性
および離型性が良く、硬化時に内部歪みが発生しないよ
うな材料が好ましい。また、上記した第1および第2実
施形態では、薄膜状樹脂14とカバーガラス13との間
に薄膜状樹脂15を設けたが、薄膜状樹脂15の代わり
に水や油などの液体を封印しても良いし、空気を介在さ
せても良い。薄膜状樹脂14とカバーガラス13との間
の屈折率を変えることで、顕微鏡標本を透過する光の位
相差を制御することができる。ちなみに、薄膜状樹脂1
4とカバーガラス13との間の屈折率として、薄膜状樹
脂14の屈折率と近い値を選択するほど、透過光の位相
差を小さくできる。
Further, in the above-described first and second embodiments, the ultraviolet curable resin material 24 is used as the material of the thin film resin 14, but a silicon-based transparent resin material may be used. Among the silicon-based resin materials, materials that have good transferability and releasability and do not generate internal strain during curing are preferable. Further, in the above-described first and second embodiments, the thin film resin 15 is provided between the thin film resin 14 and the cover glass 13. However, instead of the thin film resin 15, a liquid such as water or oil is sealed. Alternatively, air may be interposed. By changing the refractive index between the thin film resin 14 and the cover glass 13, the phase difference of the light transmitted through the microscope sample can be controlled. By the way, thin film resin 1
As the refractive index between 4 and the cover glass 13 is closer to the refractive index of the thin film resin 14, the phase difference of the transmitted light can be made smaller.

【0050】さらに、上記した第1および第2実施形態
では、原版20を用意するに当たり、レジスト膜23に
対する露光パターンを電子ビーム露光によって形成した
が、電子ビーム露光に代えて、縮小投影露光やそれ以外
の露光方法を用いることもできる。任意の方法で0.1
μm未満の露光パターンを形成できれば、その露光パタ
ーンに応じた微細な原版20を得ることができ、樹脂材
料24へのパターン転写により、さらに微細な凹凸パタ
ーンが形成された透明な顕微鏡標本を製造できる。
Further, in the above-described first and second embodiments, when preparing the original plate 20, the exposure pattern for the resist film 23 was formed by electron beam exposure. However, instead of electron beam exposure, reduction projection exposure or it is performed. Exposure methods other than the above can also be used. 0.1 in any way
If an exposure pattern of less than μm can be formed, a fine original plate 20 corresponding to the exposure pattern can be obtained, and by transferring the pattern to the resin material 24, it is possible to manufacture a transparent microscope sample on which a finer uneven pattern is formed. .

【0051】また、上記した第1および第2実施形態で
は、基板21にクロム膜22が形成された原版20の例
を説明したが、クロム膜22に代えて、ニッケル,アル
ミ,銀,銅などの金属膜を用いても良い。
Further, in the above-mentioned first and second embodiments, the example of the original plate 20 in which the chromium film 22 is formed on the substrate 21 is explained, but instead of the chromium film 22, nickel, aluminum, silver, copper or the like is used. You may use the metal film of.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
微分干渉コントラスト法や位相差コントラスト法を用い
た顕微鏡の性能の評価や、観察対象である透明な生物標
本の微細構造の大きさ測定の高精度化が図られる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to evaluate the performance of the microscope using the differential interference contrast method and the phase contrast method, and to improve the accuracy of the size measurement of the fine structure of the transparent biological specimen to be observed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施形態の顕微鏡標本10の構成を示す断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a microscope sample 10 according to a first embodiment.

【図2】顕微鏡標本10の製造方法を説明する断面図で
ある。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a microscope sample 10.

【図3】顕微鏡標本10の別の製造方法をを説明する断
面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating another method for manufacturing the microscope sample 10.

【図4】凹凸パターンの別の例を示す上面図である。FIG. 4 is a top view showing another example of the uneven pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 顕微鏡標本 11 位相物体 12 スライドガラス 13 カバーガラス 14,15 薄膜状樹脂 16,31,32,33 凹凸パターン 21 基板 22 クロム膜 23 レジスト膜 24 樹脂材料 25 押し板 26 接着材料 10 microscope specimens 11 phase objects 12 slide glass 13 cover glass 14,15 Thin film resin 16, 31, 32, 33 Concavo-convex pattern 21 board 22 Chrome film 23 Resist film 24 Resin material 25 push plate 26 Adhesive material

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 予め定めた形状および寸法の凹凸パター
ンを有する樹脂製の位相物体と、 前記位相物体を支持する支持部材とを備えたことを特徴
とする顕微鏡標本。
1. A microscope specimen, comprising: a resin phase object having a concavo-convex pattern of a predetermined shape and size; and a support member for supporting the phase object.
【請求項2】 請求項1に記載の顕微鏡標本において、 前記位相物体は、屈折率が異なる2つ以上の薄板状樹脂
からなり、該2つ以上の薄板状樹脂の境界面に、前記凹
凸パターンが形成されていることを特徴とする顕微鏡標
本。
2. The microscope specimen according to claim 1, wherein the phase object is made of two or more thin plate-shaped resins having different refractive indexes, and the uneven pattern is formed on a boundary surface of the two or more thin plate-shaped resins. A microscopic specimen characterized by being formed.
【請求項3】 請求項2に記載の顕微鏡標本において、 前記支持部材は、カバーガラスとスライドガラスとから
なり、 前記位相物体は、前記カバーガラスと前記スライドガラ
スとの間に挟まれて厚さ方向に支持されていることを特
徴とする顕微鏡標本。
3. The microscope specimen according to claim 2, wherein the support member includes a cover glass and a slide glass, and the phase object is sandwiched between the cover glass and the slide glass to have a thickness. A microscope specimen characterized by being supported in a direction.
【請求項4】 予め定めた形状および寸法の凹凸パター
ンが表面に形成された原版を用意する第1工程と、 前記原版の前記凹凸パターンに対して第1の樹脂材料を
塗布し、前記凹凸パターンが表面に転写された薄板状樹
脂を成形する第2工程と、 前記原版から前記薄板状樹脂を剥離する第3工程と、 前記第3工程で剥離された前記薄板状樹脂の表面に転写
された前記凹凸パターンに対して、前記第1の樹脂材料
とは屈折率が異なる第2の樹脂材料を塗布する第4工程
と、 カバーガラスを用いて前記第2の樹脂材料を薄板状に押
し広げると共に、前記カバーガラスを前記第2の樹脂材
料に接着する第5工程とを備えたことを特徴とする顕微
鏡標本の製造方法。
4. A first step of preparing an original plate on a surface of which an uneven pattern having a predetermined shape and dimensions is formed, and a step of applying a first resin material to the uneven pattern of the original plate to form the uneven pattern. A second step of molding the thin plate resin transferred to the surface, a third step of peeling the thin plate resin from the original plate, and a transfer to the surface of the thin plate resin peeled in the third step. A fourth step of applying a second resin material having a refractive index different from that of the first resin material to the concavo-convex pattern, and spreading the second resin material into a thin plate shape using a cover glass. And a fifth step of adhering the cover glass to the second resin material, the method for manufacturing a microscope specimen.
【請求項5】 請求項4に記載した顕微鏡標本の製造方
法において、 前記第2工程は、前記原版の前記凹凸パターンに対して
前記第1の樹脂材料を塗布する工程と、スライドガラス
を用いて前記第1の樹脂材料を薄板状に押し広げると共
に、前記スライドガラスを前記第1の樹脂材料に接着す
る工程とを含み、 前記第3工程は、前記スライドガラスが接着された状態
で、前記薄板状樹脂の剥離を行うことを特徴とする顕微
鏡標本の製造方法。
5. The method for manufacturing a microscope specimen according to claim 4, wherein the second step includes a step of applying the first resin material to the concave-convex pattern of the original plate, and a slide glass. A step of spreading the first resin material into a thin plate shape and adhering the slide glass to the first resin material, and the third step is the step of adhering the slide glass to the thin plate. A method for manufacturing a microscope specimen, which comprises peeling a resinous material.
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