JP2003085995A - Semiconductor memory integrated circuit - Google Patents

Semiconductor memory integrated circuit

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JP2003085995A
JP2003085995A JP2001279303A JP2001279303A JP2003085995A JP 2003085995 A JP2003085995 A JP 2003085995A JP 2001279303 A JP2001279303 A JP 2001279303A JP 2001279303 A JP2001279303 A JP 2001279303A JP 2003085995 A JP2003085995 A JP 2003085995A
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JP
Japan
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circuit
column
defective
semiconductor memory
cell array
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Application number
JP2001279303A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Mukai
秀夫 向井
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory integrated circuit in which optimum defect relieving efficiency can be set by only change of connection of wirings. SOLUTION: This circuit is provided with a memory cell array comprising redundant elements used for replacement of a defective element, a decoder circuit performing row and column selection of this memory cell array, and a replacement control circuit storing defective address, performing detection of coincidence between an inputted address and a defective address and controlling the decoder circuit so that the defective element is replaced by a redundant element. The memory cell array is constituted of a plurality of cell blocks, while a plurality of banks are defined by combination of cell blocks, and page length determined by the number of bands activated simultaneously is set by only connection change of wirings. Combination of magnitude of a relieving region defined as a range in which replacement of defective elements are permitted by one redundant element in a memory cell array and the number of redundant elements used for replacing a defective element in one relieving region is set by only connection change of wirings.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、不良救済のため
の冗長回路を持つ半導体メモリ集積回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory integrated circuit having a redundant circuit for repairing defects.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の半導体メモリ集積回路、特に多バ
ンク品においては、市場動向の不透明さなどから、一つ
の用途に特化せずに例えばページ長をオプション化し
て、小ページ長のものをロウエンド機用、大ページ長の
ものを高性能ハイエンド機用へと提供できるようにした
チップを製作することが多くなってきている。ひとつの
チップにこのようなオプションを盛り込む場合、用途に
よっては不良救済効率を犠牲にすることがある。大ペー
ジ長の製品に特化すれば大き目の救済領域を確保できた
ところを、小ページ長にも対応できるようにしたために
救済領域を小さくせざるを得ずに効率を落とすといった
ことである。
2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor memory integrated circuits, especially multi-bank products, have a small page length, for example, by optimizing the page length without specializing in one application because of uncertain market trends. It is becoming increasingly common to manufacture chips that can be used for low-end machines and large page lengths for high-performance high-end machines. Incorporating such an option into one chip may sacrifice defective relief efficiency depending on the application. If specialized for a product with a large page length, a large relief area could be secured, but since a small page length can be dealt with, the relief area must be made small and efficiency is reduced.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】例えば、多バンクDR
AMのページ長オプションを考える。この種のDRAM
では、ワード線とビット線が連続する範囲であるセルブ
ロックを単位として複数バンクが定義される。同時活性
化されるセルブロック数でページ長が決まり、従ってペ
ージ長は基本的にセルブロックに対するアドレスの割り
付けにより設定される。そしてチップのセルアレイの構
成やデータ線数等の基本構成を変更することなく、異な
るページ長のDRAMチップを実現するためには、例え
ばセルブロックに割り付けられるアドレスの最上位に代
わって、カラムアドレスの最上位を用いるようにする。
これにより、最上位のセルブロックアドレスを用いない
分、ページ長が2倍となるDRAMチップを得ることが
できる。データ線数等は変更がないから、2倍のページ
長のセルデータは、カラムアクセスにより順次に転送さ
れる。
[Problems to be Solved by the Invention] For example, a multi-bank DR
Consider the AM page length option. This type of DRAM
In, a plurality of banks are defined with a cell block, which is a range where word lines and bit lines are continuous, as a unit. The page length is determined by the number of simultaneously activated cell blocks, and thus the page length is basically set by allocating addresses to the cell blocks. In order to realize a DRAM chip with a different page length without changing the basic configuration such as the cell array configuration of the chip or the number of data lines, for example, instead of the highest address assigned to a cell block, the column address Try to use the highest level.
This makes it possible to obtain a DRAM chip in which the page length is doubled because the highest cell block address is not used. Since the number of data lines does not change, cell data having a double page length is sequentially transferred by column access.

【0004】この様なページ長の変更に拘わらず、不良
救済の冗長回路方式に手当をしないとすると、ページ長
を大きくした場合の救済効率が犠牲にされる。例えば、
複数のセルブロックにまたがって、複数本のカラムエレ
メント(例えばカラム選択線)に対して1本の冗長カラ
ムエレメント(例えばスペアカラム選択線)が配置され
ているとする。このとき、一つ冗長カラムエレメントが
不良救済できる範囲として定義される救済領域は、ペー
ジ長を2倍にすると、同時活性化されるセルブロック数
が2倍になることから、実質的に半減することになる。
Despite such a change in page length, if the redundant circuit system for defect relief is not treated, the relief efficiency when the page length is increased is sacrificed. For example,
It is assumed that one redundant column element (for example, a spare column selection line) is arranged for a plurality of column elements (for example, a column selection line) across a plurality of cell blocks. At this time, in the relief area defined as a range in which one redundant column element can be relieved of a defect, when the page length is doubled, the number of simultaneously activated cell blocks is doubled, so that it is substantially halved. It will be.

【0005】この発明は、最適な不良救済効率が配線の
接続変更のみで設定できるようにした半導体メモリ集積
回路を提供することを目的としている。この発明はま
た、ひとつのチップが複数のページ長オプションをもつ
場合それぞれに最適な不良救済効率を与えることを可能
とした半導体メモリ集積回路を提供することを目的とす
る。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory integrated circuit in which the optimum defect relief efficiency can be set only by changing the connection of wiring. It is another object of the present invention to provide a semiconductor memory integrated circuit capable of giving optimum defect relief efficiency to each of the cases where one chip has a plurality of page length options.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明は、不良エレメ
ントの置換に用いられる冗長エレメントを含むメモリセ
ルアレイと、このメモリセルアレイの行列選択を行うデ
コーダ回路と、不良アドレスを記憶し、入力されたアド
レスと不良アドレスの一致検出を行って不良エレメント
を冗長エレメントで置き換えるべく前記デコード回路を
制御する置換制御回路とを備えた半導体メモリ集積回路
において、前記メモリセルアレイのなかで一つの冗長エ
レメントにより不良エレメント置換が許容される範囲と
して定義される救済領域の大きさと、その一つの救済領
域内の不良エレメント置換に供される冗長エレメントの
数との組み合わせが、配線の接続変更のみにより設定さ
れるようにしたことを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a memory cell array including a redundant element used for replacing a defective element, a decoder circuit for selecting a matrix of the memory cell array, a defective address stored and an input address. And a replacement control circuit for controlling the decoding circuit so as to replace the defective element with a redundant element by performing coincidence detection of the defective address and replacing the defective element with the redundant element. In the semiconductor memory integrated circuit, the defective element is replaced by one redundant element in the memory cell array. The size of the relief area defined as the allowable range and the number of redundant elements used for defective element replacement in the one relief area are set only by changing the wiring connection. It is characterized by that.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、この発
明の実施の形態によるDRAMチップ構成を示す。容量
は256Mbitであり、それぞれ64Mビットの4つ
のメモリセルアレイMCA1〜MCA4を持つ。各セル
アレイ毎に、ワード線を選択するロウデコーダROWD
EC及びビット線選択を行うカラムデコーダCOLDE
Cが配置されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] FIG. 1 shows a DRAM chip structure according to an embodiment of the present invention. The capacity is 256 Mbit, and each has four memory cell arrays MCA1 to MCA4 of 64 Mbits. A row decoder ROWD that selects a word line for each cell array
Column decoder COLDE for selecting EC and bit line
C is placed.

【0008】各セルアレイMCA1,MCA2,MCA
3,MCA4は、それぞれロウデコーダROWDECを
挟んで上下のサブセルアレイMCA1a,MCA1b,
MCA2a,MCA2b,MCA3a,MCA3b,M
CA4a,MCA4bにより構成される。一つのサブセ
ルアレイに着目すると、非独立の16個のバンクが2セ
ットずつある、非独立2×16バンク構成となってい
る。具体的に、チップ左上のセルアレイMCA1と右下
のセルアレイMCA2には、バンクBANK0〜BAN
K15が4セットずつあり、左下のセルアレイMCA2
と右上のセルアレイMCA4には、バンクBANK16
〜BANK31が4セットずつある。
Each cell array MCA1, MCA2, MCA
3, MCA4 respectively include upper and lower sub cell arrays MCA1a, MCA1b, and MCA1b sandwiching the row decoder ROWDEC.
MCA2a, MCA2b, MCA3a, MCA3b, M
It is composed of CA 4a and MCA 4b. Focusing on one sub cell array, it has a non-independent 2 × 16 bank configuration in which two sets of 16 non-independent banks are provided. Specifically, the banks BANK0 to BAN are provided in the cell array MCA1 on the upper left of the chip and the cell array MCA2 on the lower right.
There are four sets of K15, and the lower left cell array MCA2
In the upper right cell array MCA4, the bank BANK16
~ There are 4 sets of BANK31 each.

【0009】図2は、一つのバンク内の構成を、セルア
レイMCA1のBANK9を例にとって示している。一
つのバンクは、2K分のビット線対BL0〜2047,
bBL0〜2047と、512本のワード線WL0〜5
11が交差して配列されて、それらの交差部にメモリセ
ルMCが配置された、1Mビットの容量の一つのセルブ
ロックにより構成される。隣接するセルブロックの間で
共有されるセンスアンプ(SA)列20が配置されてい
る。即ち、図1のセルアレイMCA1において、1セッ
トの連続する16バンクBANK0〜15内では、隣接
するバンクが同時には活性化できないという制約がつい
ており、これを非独立バンクという。図1の例では、セ
ルアレイMCA1内で、各セットのバンクBANK0〜
15の範囲内では隣接するバンクの間でこの制約があ
り、但し異なるセットに属する場合には、隣接するバン
クBANK0とBANK15の間もセンスアンプを共有
せず独立に活性化できる。
FIG. 2 shows the configuration in one bank by taking the BANK 9 of the cell array MCA1 as an example. One bank includes 2K bit line pairs BL0 to 2047,
bBL0 to 2047 and 512 word lines WL0 to 5
11 are crossed and arranged, and one cell block having a capacity of 1 Mbit is formed by arranging memory cells MC at the crossing portions. A sense amplifier (SA) column 20 which is shared between adjacent cell blocks is arranged. That is, in the cell array MCA1 of FIG. 1, within one set of 16 consecutive banks BANK0 to 15, there is a constraint that adjacent banks cannot be activated at the same time, and this is called a non-independent bank. In the example of FIG. 1, the banks BANK0 to BANK0 of each set are arranged in the cell array MCA1.
Within the range of 15, there is this restriction between adjacent banks, but if they belong to different sets, the adjacent banks BANK0 and BANK15 can be independently activated without sharing a sense amplifier.

【0010】図2では省略されているが、一つのセルブ
ロック内には不良ビット線対を置換するための32対の
スペアビット線が配置されている。BANK9が活性の
場合には、センスアンプSAをBANK8又はBANK
10と接続するトランジスタ21,22のゲートFYT
8bとFYT10aが”L”となり、一方BANK9と
の接続部のトランジスタ23,24のゲートFYT9
a、FYT9bは”H”になる。
Although not shown in FIG. 2, 32 pairs of spare bit lines for replacing defective bit line pairs are arranged in one cell block. When BANK9 is active, the sense amplifier SA is set to BANK8 or BANK.
Gate FYT of transistors 21 and 22 connected to 10
8b and FYT10a become "L", while the gate FYT9 of the transistors 23 and 24 at the connection with BANK9.
a and FYT9b become "H".

【0011】セルブロック間のセンスアンプ列20の領
域には、セルブロックをワード線方向に8分割して得ら
れるセグメント毎に、ローカルデータ線LDQが2対
(LDQ0<n>,2<n>或いはLDQ1<n>,3
<n>(<n>はセグメント番号)ずつ配備されてい
る。後述するカラム選択線CSLによって、ビット線対
BL,bBLとローカルデータ線対LDQ,bLDQの
間の接続が制御される。
In the region of the sense amplifier row 20 between the cell blocks, two pairs of local data lines LDQ (LDQ0 <n>, 2 <n> are provided for each segment obtained by dividing the cell block into eight in the word line direction. Or LDQ1 <n>, 3
Each <n>(<n> is a segment number) is provided. A column select line CSL, which will be described later, controls the connection between the bit line pair BL, bBL and the local data line pair LDQ, bLDQ.

【0012】図3は、一つのセルアレイMCA1に着目
して、バンクアドレスの割り付けを示している。チップ
の左上のセルアレイMCA1と右下のセルアレイMCA
2には、最上位バンクアドレスBA<4>=“0”が割
り付けられ、左下のセルアレイMCA3と右上のセルア
レイMCA4には、BA<4>=“1”が割り付けられ
ている。バンクアドレスBA<0>〜<3>は、BAN
K0〜15のなかの一つを選択するために用いられる。
セルアレイMCA2,4のなかでは、BANK16〜3
1のなかの一つを選択するために、バンクアドレスBA
<0>〜<3>が用いられる。
FIG. 3 shows the allocation of bank addresses, focusing on one cell array MCA1. Cell array MCA1 on the upper left of the chip and cell array MCA on the lower right of the chip
The highest bank address BA <4> = “0” is assigned to 2, and BA <4> = “1” is assigned to the lower left cell array MCA3 and the upper right cell array MCA4. Bank addresses BA <0> to <3> are BAN
It is used to select one of K0-15.
Among the cell arrays MCA2,4, BANK16-3
Bank address BA to select one of the
<0> to <3> are used.

【0013】この実施の形態のDRAMチップは、1K
Byteと2KByteという異なるページ長をオプシ
ョンとして持っている。以下、“KByte”を簡単に
“KB”で示す。ページ長が1KBとは、あるロウアド
レス入力によってセルアレイの中で1KB分のセルデー
タが同時に活性化される動作モードをいう。具体的にこ
の実施の形態の場合、1KBページ長では、二つのセル
アレイMCA1,MCA2(またはMCA3,MCA
4)のなかで、二つのずつのセルブロック(同じバンク
番号が与えられている)が同時に活性化され、4(セル
ブロック)×2K(ビット線対)=1KB分のセルデー
タがビット線に出力される。2KBページ長の場合は、
二つのセルアレイMCA1,MCA2(またはMCA
3,MCA4)のなかで、4つずつのセルブロックが同
時に活性化される場合であり、8(セルブロック)×2
K(ビット線対)=2KB分のセルデータがビット線に
出力される。
The DRAM chip of this embodiment is 1K.
It has different page lengths of Byte and 2K Byte as options. Hereinafter, "KB" is simply referred to as "KB". The page length of 1 KB means an operation mode in which 1 KB of cell data is simultaneously activated in the cell array by a certain row address input. Specifically, in the case of this embodiment, with 1 KB page length, two cell arrays MCA1 and MCA2 (or MCA3 and MCA) are used.
In 4), two cell blocks (given the same bank number) are activated at the same time, and 4 (cell block) × 2K (bit line pair) = 1 KB of cell data is transferred to the bit lines. Is output. In case of 2KB page length,
Two cell arrays MCA1 and MCA2 (or MCA
3, MCA 4), four cell blocks are activated at the same time, and 8 (cell block) × 2
Cell data of K (bit line pair) = 2 KB is output to the bit line.

【0014】図3では、1KBページの場合に、斜線が
付されたBANK5のセルブロック(一つのセルアレイ
で計2セルブロック)が活性化される様子と、2KBペ
ージ長の場合に、斜線が付されたBANK5のセルブロ
ックと同時に、網かけで示す同じバンク番号BANK5
のセルブロック(一つのセルアレイで計4セルブロッ
ク)が活性化される様子を示している。
In FIG. 3, in the case of 1 KB page, the shaded cell block of BANK 5 (total of 2 cell blocks in one cell array) is activated, and in the case of 2 KB page length, the shaded area is added. At the same time as the cell block of BANK5 that was created, the same bank number BANK5 shown in the shaded area
The cell blocks (total of 4 cell blocks in one cell array) are activated.

【0015】1KBページ長の場合には、最上位ロウア
ドレスRA<9>が、一つのセルアレイの左半分と右半
分に割り付けられている。即ち、RA<9>=“0”に
より、セルアレイの右半分の16バンクが選択され、R
A<9>=“1”により、セルアレイの左半分の16バ
ンクが選択される。これにより、BA<0:3>によっ
て、一つのセルアレイの右半分または左半分から一つの
バンク(図3の例ではBANK5)が活性化される。一
方2KBページ長の場合は、最上位ロウアドレスRA<
9>に代わって、最上位カラムアドレスCA<6>がセ
ルアレイの左右半分の選択に割り付けられる。即ち、R
A<9>が用いられないから、BA<0:3>によりセ
ルアレイの左右の両方で対応するバンク(図3の例では
BANK5)が同時に活性化され、これらがカラムアク
セス時、カラムアドレスCA<6>により左右どちらか
が選択されるようになっている。
In the case of 1 KB page length, the highest row address RA <9> is allocated to the left half and right half of one cell array. That is, RA <9> = "0" selects 16 banks in the right half of the cell array,
By A <9> = “1”, 16 banks in the left half of the cell array are selected. As a result, BA <0: 3> activates one bank (BANK5 in the example of FIG. 3) from the right half or the left half of one cell array. On the other hand, if the page length is 2 KB, the highest row address RA <
Instead of 9>, the highest column address CA <6> is assigned to the selection of the left and right halves of the cell array. That is, R
Since A <9> is not used, BA <0: 3> simultaneously activates the corresponding banks (BANK5 in the example of FIG. 3) on both the left and right sides of the cell array, and when these columns are accessed, the column address CA < By 6>, either the left side or the right side is selected.

【0016】図4は、一つのセルアレイの1/4部分に
ついて、アドレス割り付けを示している。ここには前述
のように1Mbitの容量をもつセルブロックが16個
あり、各セルブロックの512本のワード線WLにロウ
アドレスRA<0:8>が割り付けられている。また、
ロウデコーダ片側のサブセルアレイの32セルブロック
は、水平方向に8つのセグメント列SEG0〜7に分割
されており、各セグメント列にはカラムアドレスCA<
0:5>で規定される64本のカラム選択線CSLが水
平方向に走っている。カラムアクセス時には、各セグメ
ント列にて1本のカラム選択線CSLが選択される。一
つのカラム選択線CSLは4bitのデータ転送をする
ので、結局チップ上半分から64bit、下半分からも
64bitの計128bitを一回のカラムアクセスに
て得るようになっている。各セグメント列には1本のス
ペアカラム選択線SCSLが用意されており、セグメン
ト列内での不良ビット線に対応する不良カラム選択線の
置換が可能となっている。
FIG. 4 shows the address allocation for the 1/4 part of one cell array. As described above, there are 16 cell blocks each having a capacity of 1 Mbit, and the row address RA <0: 8> is assigned to 512 word lines WL of each cell block. Also,
The 32 cell block of the sub cell array on one side of the row decoder is horizontally divided into eight segment columns SEG0 to SEG7. Each segment column has a column address CA <
The 64 column selection lines CSL defined by 0: 5> run in the horizontal direction. At the time of column access, one column selection line CSL is selected in each segment column. Since one column selection line CSL transfers data of 4 bits, a total of 128 bits of 64 bits from the upper half of the chip and 64 bits from the lower half of the chip can be obtained by one column access. One spare column selection line SCSL is prepared for each segment column, and the defective column selection line corresponding to the defective bit line in the segment column can be replaced.

【0017】図5は、チップ左上部セルアレイMCA1
の内半分、即ちロウデコーダROWDECの上にあるサ
ブセルアレイMCA1aの32セルブロックを抜き出し
て、ページ長1KBの場合のデータ転送を示している。
この領域には、32bitのデータ転送のためメインデ
ータ線MDQ,bMDQが32対水平方向に走り、カラ
ム選択線CSLはそれと平行に64x8(セグメント)
の512本走っている。図では示していないが、64本
のカラム選択線CSLに付き1本、計8本のスペアカラ
ム選択線SCSLが配置されている。
FIG. 5 shows the upper left cell array MCA1 of the chip.
Of 32 sub-cell arrays MCA1a above the row decoder ROWDEC are extracted to show the data transfer for a page length of 1 KB.
In this area, main data lines MDQ and bMDQ run in a horizontal direction of 32 pairs for data transfer of 32 bits, and the column selection line CSL is 64 × 8 (segment) in parallel therewith.
512 of them are running. Although not shown in the figure, a total of eight spare column selection lines SCSL, one for every 64 column selection lines CSL, are arranged.

【0018】カラムアクセス時にはバンク情報の含まれ
ないカラム選択線CSLを補完する形で、バンクアドレ
スBA<0:3>が入るCBSLセレクタ51により選
択されるカラムバンク選択線CBSLが、カラム選択線
CSLと並行して配置される。カラムバンク選択線CB
SLは、セルブロック間のセンスアンプ領域と1対1対
応に存在する。図2に示したように、基本的にセンスア
ンプ列20はブロック間で共有されているが、左右の真
中のBANK0とBANK15の間には、この2つのバ
ンクを独立にするために、それぞれのブロックに専有さ
れるセンスアンプ列が2つ並んだ構成になり、センスア
ンプ列の数が全部で34となる。これに対応して、34
本のカラムバンク選択線CBSLが配置される。
At the time of column access, the column selection line CSL selected by the CBSL selector 51 in which the bank address BA <0: 3> enters is complemented by the column selection line CSL which does not include bank information. It is placed in parallel with. Column bank selection line CB
The SL exists in a one-to-one correspondence with the sense amplifier region between the cell blocks. As shown in FIG. 2, the sense amplifier row 20 is basically shared between the blocks, but between the left and right middle BANK0 and BANK15, in order to make these two banks independent, The configuration is such that two sense amplifier rows dedicated to the block are arranged side by side, and the total number of sense amplifier rows is 34. Corresponding to this, 34
A column bank selection line CBSL of the book is arranged.

【0019】図5は、1KBページ長の場合であり、同
じバンク番号BANK5が付された二つの左右セルブロ
ックCBL,CBRのうち、RA<9>=0で規定され
る斜線が施された右側のセルブロックCBRが活性化さ
れた状態を示している。このとき、セルブロックCBR
の両脇のセンスアンプSAを活性にするセンスアンプ活
性化信号SAAは”H”となるが、左側のセルブロック
CBLの両側のセンスアンプSAに対しては、センスア
ンプ活性化信号SAAは”L”である。
FIG. 5 shows the case of a 1 KB page length, and of the two left and right cell blocks CBL and CBR to which the same bank number BANK5 is attached, the shaded right side defined by RA <9> = 0. The cell block CBR is shown in an activated state. At this time, the cell block CBR
The sense amplifier activation signal SAA that activates the sense amplifiers SA on both sides of is set to "H", but the sense amplifier activation signal SAA is set to "L" for the sense amplifiers SA on both sides of the left cell block CBL. It is.

【0020】一方カラムアクセス時には左右のセルブロ
ックを区別する手立てはないので、バンクアドレスBA
<0:3>に基づいて両方のセルブロックCBL,CB
Rに対応する4本のカラムバンク選択信号線CBSLが
同時に“H”になる。ビット線BLとローカルデータ線
LDQの接続、ローカルデータ線LDQとメインデータ
線MDQの接続は、マルチプレクサMUXにより行われ
る。マルチプレクサMUXは、カラムバンク選択信号C
BSLとセンスアンプ活性化信号SAAのANDが”
H”となった場合のみ活性になる。従って、1KBペー
ジ長の場合、同じバンク番号“BANK5”が与えられ
た左右セルブロックCBL,CBRの一方のみ(図5の
例では、CBRのみ)のビット線データが、メインデー
タ線MDQに転送される。但し、ビット線BL,ローカ
ルデータ線LDQ,メインデータ線MDQは、図では一
本のみ示しているが、これらは実際は対をなしている。
On the other hand, at the time of column access, there is no way to distinguish the left and right cell blocks, so the bank address BA
Both cell blocks CBL, CB based on <0: 3>
The four column bank selection signal lines CBSL corresponding to R simultaneously become "H". The multiplexer MUX connects the bit line BL and the local data line LDQ and the local data line LDQ and the main data line MDQ. The multiplexer MUX outputs the column bank selection signal C
AND of BSL and sense amplifier activation signal SAA is "
When the page length is 1 KB, the bit of only one of the left and right cell blocks CBL and CBR (only CBR in the example of FIG. 5) to which the same bank number "BANK5" is given is activated. The line data is transferred to the main data line MDQ.However, although only one bit line BL, local data line LDQ, and main data line MDQ are shown in the figure, they actually make a pair.

【0021】図6は、図5と同様にチップ左上部セルア
レイMCA1の内半分、ロウデコーダROWDECの上
にあるサブセルアレイMCA1aの32セルブロックを
抜き出して、ページ長2KBの場合のデータ転送を示し
ている。ここではCBSLセレクタ51には、バンクア
ドレスBA<0:3>のみならずカラムアドレスCA<
6>が入力される。“BANK5”の活性時には、それ
に属する左右のセルブロックCBL,CBRが斜線で示
すように両方とも活性になり、センスアンプ活性化信号
SAAはどちらも”H”となる。しかしカラムアクセス
時には、カラムアドレスCA<6>の情報をもとに、カ
ラムバンク選択信号CBSLは所望のセルブロックに対
応する2本のみしか立たない。
Similar to FIG. 5, FIG. 6 shows data transfer in the case where the page length is 2 KB by extracting 32 cell blocks of the sub cell array MCA1a above the row decoder ROWDEC in the inner half of the chip upper left cell array MCA1. There is. Here, the CBSL selector 51 has not only the bank address BA <0: 3> but also the column address CA <
6> is input. When "BANK5" is active, the left and right cell blocks CBL and CBR belonging thereto are both active as indicated by the hatched lines, and the sense amplifier activation signal SAA is "H". However, at the time of column access, based on the information of the column address CA <6>, only two column bank selection signals CBSL corresponding to a desired cell block are raised.

【0022】具体的に、図6では、カラムアドレスCA
<6>=“0”によって、右側のセルブロックCBRに
対する2本のカラムバンク選択信号CBSLが“H”
で、左側のセルブロックCBLに対する2本のカラムバ
ンク選択信号CBSLは“L”となる場合を示してい
る。このとき、センスアンプ活性化信号SAA及びカラ
ムバンク選択信号CBSLが共に“H”である右側のセ
ルブロックCBRについて、ビット線データは、マルチ
プレクサMUXを介してローカルデータ線LDQを介
し、メインデータ線MDQに転送される。カラムアドレ
スCA<6>=“1”になると、左側のセルブロックC
BLのビット線データがメインデータ線MDQに転送さ
れる。
Specifically, in FIG. 6, the column address CA
Due to <6> = "0", the two column bank selection signals CBSL for the cell block CBR on the right side are "H".
2 shows a case where the two column bank selection signals CBSL for the left cell block CBL are "L". At this time, for the right cell block CBR in which both the sense amplifier activation signal SAA and the column bank selection signal CBSL are “H”, the bit line data passes through the multiplexer MUX, the local data line LDQ, and the main data line MDQ. Transferred to. When the column address CA <6> = "1", the cell block C on the left side
The bit line data of BL is transferred to the main data line MDQ.

【0023】以上の1KBページ長と2KBページ長
は、アドレス信号線の配線切り換えにより実現される。
即ち、図3で説明したように、セルアレイMCAの左右
の選択に、ロウアドレスRA<9>を用いる(1KBの
場合)か、カラムアドレスCA<6>を用いる(2KB
の場合)か、また図5,6で説明したように、カラムバ
ンク選択信号線CBSLのセレクタ51に、バンクアド
レスBA<0:3>のみを用いる(1KBの場合)か、
バンクアドレスBA<0:3>と共にカラムアドレスC
A<6)を用いる(2KBの場合)かの相違は、セルア
レイやデータ線の基本構成は同じで、アドレス信号線の
切り換えのみで切り換えられる。この配線切り換えは、
具体的には、配線マスクのオプション、ボンディン
グオプション、フューズ(レーザフューズ或いは電気
フューズ)のプログラム制御、等により実現できる。
The above 1 KB page length and 2 KB page length are realized by switching the address signal lines.
That is, as described with reference to FIG. 3, the row address RA <9> is used (in the case of 1 KB) or the column address CA <6> is used (2 KB) in selecting the right and left of the cell array MCA.
Or in the case of using only the bank address BA <0: 3> for the selector 51 of the column bank selection signal line CBSL (in the case of 1 KB), as described in FIGS.
Column address C with bank address BA <0: 3>
The difference between using A <6) (in the case of 2 KB) is that the basic configurations of the cell array and the data lines are the same, and switching is possible only by switching the address signal lines. This wiring switching is
Specifically, it can be realized by a wiring mask option, a bonding option, program control of a fuse (laser fuse or electric fuse), and the like.

【0024】図7は、1KBページ長と2KBページ長
のアドレス信号配線切り換えの例を示している。ロウア
ドレス信号RADR<9>により相補信号である内部ロ
ウアドレス信号RA<9>,bRA<9>を生成するた
めのNANDゲートG11,G12、カラムアドレス信
号CADR<6>により相補信号である内部カラムアド
レス信号CA<6>,bCA<6>を生成するためのN
ANDゲートG21,G22の一方の入力端子を、実線
と破線で示したように、VccかVssに配線切り換え
により選択的に接続できるようになっている。1KBペ
ージの場合、G21,G22の入力がVssに接続さ
れ、CADR<6>の値に如何に拘わらず、CA<6
>,bCA<6>が共に“H”になる。これにより、図
5に示したように、2組のCBSLが選択される。2K
Bページの場合、G11,G12の入力がVssに接続
され、RADR<9>の値に如何に拘わらず、RA<9
>,bRA<9>が共に“H”になる。これにより、図
6に示したように、同じバンク番号に対するセンスアン
プ活性化信号SAAが全て“H”になる。
FIG. 7 shows an example of switching the address signal wiring between the 1 KB page length and the 2 KB page length. NAND gates G11 and G12 for generating internal row address signals RA <9> and bRA <9> which are complementary signals by the row address signal RADR <9>, and internal columns which are complementary signals by the column address signal CADR <6>. N for generating the address signals CA <6> and bCA <6>
One of the input terminals of the AND gates G21 and G22 can be selectively connected to Vcc or Vss by switching the wiring as shown by the solid line and the broken line. In the case of the 1 KB page, the inputs of G21 and G22 are connected to Vss, and CA <6 is set regardless of the value of CADR <6>.
> And bCA <6> both become “H”. As a result, as shown in FIG. 5, two sets of CBSLs are selected. 2K
In the case of page B, the inputs of G11 and G12 are connected to Vss, regardless of the value of RADR <9>, RA <9
> And bRA <9> both become “H”. As a result, as shown in FIG. 6, all the sense amplifier activation signals SAA for the same bank number become "H".

【0025】ページ長に応じて配線の接続を電気的に切
り換えるには、例えば図8に示すように、電気的な配線
切り換え回路として、二つのトランスファゲートTG
1,TG2を用いた配線切り換え回路10を用いること
ができる。信号経路A,Bと信号経路Cの間にそれぞれ
設けられたトランスファゲートTG1,TG2を制御信
号X,/Xにより選択的にオンさせる。これにより、信
号経路A,Bを選択的に信号経路Cに接続することがで
きる。
To electrically switch the wiring connection according to the page length, for example, as shown in FIG. 8, two transfer gates TG are provided as an electrical wiring switching circuit.
The wiring switching circuit 10 using 1 and TG2 can be used. The transfer gates TG1 and TG2 provided between the signal paths A and B and the signal path C are selectively turned on by the control signals X and / X. Thereby, the signal paths A and B can be selectively connected to the signal path C.

【0026】図9は、二つのページ長構成に応じて、配
線切り換えのための制御信号X=“H”又はX=“L”
を固定的に出力する制御信号発生回路11の構成例であ
る。ここでは、制御信号発生回路11として、フューズ
回路を用いている。PMOSトランジスタQP1とNM
OSトランジスタQN1及びレーザ溶断型フューズFを
電源VCCと接地VSSの間に直列接続し、ページ長構
成に応じてフューズFを切断する。具体的にこのヒュー
ズプログラミングは、ウェハ段階で行われる。PMOS
トランジスタQP1は、ノードNをプリチャージするト
ランジスタであり、NMOSトランジスタQN1はフュ
ーズデータ選択トランジスタである。
FIG. 9 shows a control signal X = “H” or X = “L” for switching the wiring according to the two page length configurations.
2 is a configuration example of a control signal generation circuit 11 that outputs a fixed signal. Here, a fuse circuit is used as the control signal generation circuit 11. PMOS transistors QP1 and NM
The OS transistor QN1 and the laser fusing type fuse F are connected in series between the power supply VCC and the ground VSS, and the fuse F is cut according to the page length configuration. Specifically, this fuse programming is performed at the wafer stage. PMOS
The transistor QP1 is a transistor that precharges the node N, and the NMOS transistor QN1 is a fuse data selection transistor.

【0027】電源投入時、まずNMOSトランジスタQ
N1がオフでPMOSトランジスタQP1がオンし、ノ
ードNをVCCにプリチャージした後、PMOSトラン
ジスタQP1がオフして、NMOSトランジスタQN1
がオンになるという、初期化動作が行われるようにす
る。これにより、フューズFが切断されていれば、制御
信号X=“H”が出力され、フューズFが非切断の場合
には制御信号X=“L”が出力される。従って、ページ
長構成変更に伴う配線変更部分に図8に示したトランス
ファゲート回路を配置し、例えば1KBページ長構成の
場合にフューズFを切断し、2KBページ長構成の場合
にフューズFを非切断とするというように、レーザによ
りフューズプログラミングを行う。これによって、ペー
ジ長に対応した配線が設定できる。
When the power is turned on, first the NMOS transistor Q
After N1 is turned off and the PMOS transistor QP1 is turned on to precharge the node N to VCC, the PMOS transistor QP1 is turned off and the NMOS transistor QN1 is turned on.
So that the initialization operation is performed, that is, is turned on. As a result, if the fuse F is cut off, the control signal X = “H” is output, and if the fuse F is not cut off, the control signal X = “L” is output. Therefore, the transfer gate circuit shown in FIG. 8 is arranged in the wiring change portion associated with the page length configuration change, and for example, the fuse F is cut in the case of the 1 KB page length configuration, and the fuse F is not cut in the case of the 2 KB page length configuration. The fuse programming is performed by the laser. Thereby, the wiring corresponding to the page length can be set.

【0028】図10に示す制御信号発生回路11は、ボ
ンディングオプションにより制御信号X,/Xを発生さ
せる例である。パッドPADと接地端子VSSの間に抵
抗値の大きな抵抗R0を接続し、パッドPADと電源端
子VCCの間を、ページ長構成に応じて、ボンディング
接続する。このボンディング接続はチップをパッケージ
ングする前に行われる。ボンディング接続すると、パッ
ドPADは高電位になり、制御信号X=“L”が得られ
る。ボンディング接続しない場合には、パッドPADは
低電位になり、制御信号X=“H”が得られる。従っ
て、図8のトランスファゲート回路との組み合わせによ
り、ページ長構成に対応した配線が設定できる。
The control signal generation circuit 11 shown in FIG. 10 is an example in which the control signals X and / X are generated by a bonding option. A resistor R0 having a large resistance value is connected between the pad PAD and the ground terminal VSS, and the pad PAD and the power supply terminal VCC are connected by bonding according to the page length configuration. This bonding connection is made before packaging the chip. Upon bonding connection, the pad PAD becomes high potential, and the control signal X = “L” is obtained. When the bonding connection is not made, the pad PAD becomes low potential and the control signal X = "H" is obtained. Therefore, the wiring corresponding to the page length configuration can be set by combining with the transfer gate circuit of FIG.

【0029】図11に示す制御信号発生回路11は、図
9と同様の機能を、電気的フューズであるアンチフュー
ズAFを用いて実現した例である。アンチフューズAF
は一端が接地VSSに接続され、他端が抵抗R1を介し
て電圧印加端子VAFに接続されている。アンチフュー
ズAFの抵抗R1側のノードは、例えば2段のインバー
タからなるバッファBFを介して読み出し用NMOSト
ランジスタQN3のゲートに接続されている。NMOS
トランジスタQN3のソースは接地され、ドレインは、
選択用NMOSトランジスタQN2を介して出力ノード
Nに接続される。出力ノードと電源端子VCCの間には
プリチャージ用PMOSトランジスタQP2が設けられ
ている。
The control signal generating circuit 11 shown in FIG. 11 is an example in which the function similar to that of FIG. 9 is realized by using an antifuse AF which is an electric fuse. Antifuse AF
Has one end connected to the ground VSS and the other end connected to the voltage application terminal VAF via the resistor R1. The node on the resistance R1 side of the antifuse AF is connected to the gate of the read NMOS transistor QN3 via a buffer BF including, for example, a two-stage inverter. NMOS
The source of the transistor QN3 is grounded, and the drain is
It is connected to the output node N via the selection NMOS transistor QN2. A precharge PMOS transistor QP2 is provided between the output node and the power supply terminal VCC.

【0030】フューズプログラミングは、チップをパッ
ケージングした後に、電圧印加端子VAFに高電圧を印
加して行うことができる。これにより、アンチフューズ
AFは破壊されて導通状態になる。電圧印加端子VAF
はその後電源端子となる。アンチフューズAFが導通状
態では、NMOSトランジスタQN3はオフとなり、ア
ンチフューズAFが切断されず非導通状態のときは、N
MOSトランジスタQN3はオンとなる。従って、電源
投入時、プリチャージ用PMOSトランジスタQP2と
選択用NMOSトランジスタQN2を図9の場合のQP
1とQN1と同様に動作させることにより、アンチフュ
ーズAFが導通状態では、制御信号X=“H”が得ら
れ、非導通状態では制御信号X=“L”が得られる。従
って、図8のトランスファゲート回路との組み合わせに
より、ページ長構成に対応した配線が設定できる。
The fuse programming can be performed by applying a high voltage to the voltage application terminal VAF after packaging the chip. As a result, the antifuse AF is destroyed and becomes conductive. Voltage application terminal VAF
Then becomes the power terminal. When the antifuse AF is conductive, the NMOS transistor QN3 is turned off. When the antifuse AF is not cut off and is nonconductive, N is turned on.
The MOS transistor QN3 is turned on. Therefore, when the power is turned on, the precharge PMOS transistor QP2 and the selection NMOS transistor QN2 are set to QP in the case of FIG.
By operating in the same manner as 1 and QN1, the control signal X = “H” is obtained when the antifuse AF is in the conducting state, and the control signal X = “L” is obtained in the non-conducting state. Therefore, the wiring corresponding to the page length configuration can be set by combining with the transfer gate circuit of FIG.

【0031】次にこの実施の形態での不良カラム置換の
態様を説明する。図12は、チップ左上部のメモリセル
アレイMCA1の上半分のサブセルアレイMCA1aに
ついて、カラム選択線CSLとスペアカラム選択線SC
SLの配置を示している。カラム選択線CSLは、各セ
グメント列に64本ずつで計512本配置され、スペア
カラム選択線SCSLは、各セグメント列につき1本で
計8本配置されている。このカラム選択線CSLとスペ
アカラム選択線SCSLの配置には、1KBページ長と
2KBページ長の両オプションの間に差異はない。
Next, the mode of defective column replacement in this embodiment will be described. FIG. 12 shows a column selection line CSL and a spare column selection line SC for the upper half sub cell array MCA1a of the memory cell array MCA1 in the upper left part of the chip.
The arrangement of SL is shown. A total of 512 column selection lines CSL, 64 in each segment column, and a total of 8 spare column selection lines SCSL in each segment column, are arranged. There is no difference in the arrangement of the column selection line CSL and the spare column selection line SCSL between the options of 1 KB page length and 2 KB page length.

【0032】カラムアクセス時、不良のカラム選択線C
SLに代わってスペアカラム選択線SCSLを活性にす
るために、不良アドレスをプログラミングした、フレキ
シブルマッピングが可能な複数のフューズセットFSが
用意されている。フューズセットFSの出力線として、
8本のスペアカラム選択線イネーブル信号線SCSLE
0〜7が、スペアカラム選択線SCSLと1対1に対応
して設けられている。そして、入力された不良アドレス
に対応して、あるスペアカラム選択線イネーブル信号線
SCSLEmが”H”になると、セグメント列SEGm
にて選択したカラム選択線CSLが非活性にし、代わっ
てスペアカラム選択線SCSLが活性になるように、カ
ラムデコーダCOLDECが制御される。
When accessing a column, a defective column selection line C
In order to activate the spare column selection line SCSL instead of SL, a plurality of fuse sets FS, which are programmed with defective addresses and are capable of flexible mapping, are prepared. As the output line of the fuse set FS,
Eight spare column select line enable signal lines SCSLE
0-7 are provided in one-to-one correspondence with the spare column selection line SCSL. Then, when a certain spare column selection line enable signal line SCSLEm becomes "H" corresponding to the input defective address, the segment column SEGm
The column decoder COLDEC is controlled so that the column selection line CSL selected in 1 is deactivated and the spare column selection line SCSL is activated instead.

【0033】ところで前述のように、1KBページ長の
場合は、一つのサブセルアレイMCA1aから一つのセ
ルブロックが活性化され、2KBページ長の場合は一つ
のサブセルアレイMCA1aの左右から二つのセルブロ
ックが同時に活性化される。1KBページ長の場合に、
セルアレイの左右の同じバンク番号に属するセルブロッ
クを区別するのは、ロウアドレスRA<9>であり、カ
ラムアクセス時には区別するための情報はない。そして
上述したカラム置換の動作がセルアレイの左右を区別し
ないとすると、1KBページ長の場合と2KBページ長
の場合とで同じようにカラム置換がなされるため、2K
Bページ長の場合に1KBページ長の場合と同じ不良救
済効率となる。即ち、一つのサブセルアレイMCA1a
のなかであるセグメント列SEGiの例えば左側のある
一つのバンクが活性化され、そのなかで不良カラム選択
線CSLがスペアカラム選択線SCSLで置き換えられ
るときに、右側の同じセグメント列SEGiの同じバン
ク番号のバンクに着目したときに、不良ではないかもし
れないカラム選択線(上述の不良カラム選択線と同じ配
線)が同様にリンクして置換される。従って、カラム置
換についてセルアレイの左右を区別できないという1K
B特有の制限により、2KBページ長の場合の救済効率
が1KBのそれと同等に止まっている。
As described above, one cell block is activated from one sub cell array MCA1a in the case of 1 KB page length, and two cell blocks from the left and right of one sub cell array MCA1a in the case of 2 KB page length. It is activated at the same time. In case of 1KB page length,
It is the row address RA <9> that distinguishes the cell blocks belonging to the same bank number on the left and right of the cell array, and there is no information for distinguishing at the time of column access. If the above-described column replacement operation does not distinguish right and left of the cell array, the column replacement is performed in the same manner in the case of 1 KB page length and the case of 2 KB page length.
In the case of the B page length, the defect repair efficiency is the same as in the case of the 1 KB page length. That is, one sub cell array MCA1a
When one bank on the left side of the segment column SEGi, for example, is activated and the defective column selection line CSL is replaced with the spare column selection line SCSL, the same bank number of the same segment column SEGi on the right side When paying attention to the bank of, the column selection line that may not be defective (the same wiring as the above-mentioned defective column selection line) is similarly linked and replaced. Therefore, it is not possible to distinguish right and left of the cell array for column replacement.
Due to the limitation peculiar to B, the relief efficiency in the case of the page length of 2 KB remains the same as that of 1 KB.

【0034】これに対してこの実施の形態では、フュー
ズセットFSに、カラムアクセス時にセルアレイの左右
を区別するためのカラムアドレスCA<6>対応のフュ
ーズ素子を加えることによって、2KBページ長のカラ
ム救済効率を高めるようにしている。具体的に、1KB
ページ長の場合には、カラムアドレスCA<6>対応の
フューズ素子を利用せず、2KBページ長の場合にはこ
れを用いるようにする。その様なフューズセットFSの
構成は後述するが、この様な手当をした場合のカラム置
換の態様を、1KBページ長の場合と2KBページ長の
場合についてそれぞれ、図13及び図14に示す。これ
らの図では、図1に示したサブセルアレイMCA1aの
なかの一つのセグメントSEGiに着目して、示してい
る。
On the other hand, in this embodiment, a fuse element corresponding to the column address CA <6> for distinguishing the left and right of the cell array at the time of column access is added to the fuse set FS to repair the column of 2 KB page length. I try to improve efficiency. Specifically, 1 KB
In the case of page length, the fuse element corresponding to the column address CA <6> is not used, and in the case of 2 KB page length, it is used. Although the structure of such a fuse set FS will be described later, the column replacement mode in the case of such treatment is shown in FIGS. 13 and 14 for the case of 1 KB page length and the case of 2 KB page length, respectively. In these figures, one segment SEGi in the sub cell array MCA1a shown in FIG. 1 is focused and shown.

【0035】1KBページ長の場合、図13に示すよう
に、セルアレイの左右の同じバンク番号BANKnが付
された二つのセルブロックCBL,CBRのうち一方、
例えば斜線を施したセルブロックCBLのみが活性にな
る。そして前述したように、セルブロックCBL側のビ
ット線データが、ローカルデータ線LDQを介してメイ
ンデータ線MDQに転送される。図13ではこのデータ
転送の様子を、ローカルデータ線対とメインデータ線対
の交点のうち、セルブロックCBL側がオンになること
を○印で示している。このバンク選択は前述のようにロ
ウアドレスRA<9>によるので、カラムアクセス時に
はこの区別はない。
In the case of 1 KB page length, as shown in FIG. 13, one of two cell blocks CBL and CBR to which the same bank number BANKn on the left and right of the cell array is attached,
For example, only the shaded cell block CBL is activated. Then, as described above, the bit line data on the cell block CBL side is transferred to the main data line MDQ via the local data line LDQ. In FIG. 13, the state of this data transfer is indicated by the mark ◯ indicating that the cell block CBL side is turned on at the intersection of the local data line pair and the main data line pair. Since this bank selection is based on the row address RA <9> as described above, this distinction is not made at the time of column access.

【0036】従って、例えばセルブロックCBLで×示
しで示した不良カラムがあり、そのカラム選択線CSL
がスペアカラム選択線SCSLにより置換されるとき、
右側の対応するバンク番号BANKnのセルブロックC
BRが選択されたときには、そのカラムが実際には不良
か否かに拘わらず、×印と同じカラムアドレスであるカ
ラム選択線CSLが不良として置換される。
Therefore, for example, there is a defective column indicated by x in the cell block CBL and its column selection line CSL
Is replaced by the spare column selection line SCSL,
Cell block C of the corresponding bank number BANKn on the right side
When BR is selected, the column select line CSL having the same column address as the mark X is replaced as defective regardless of whether or not the column is actually defective.

【0037】一方、2KBページ長の場合は、図14に
示すように、セルアレイの左右の同じバンク番号BAN
Knが付された二つのセルブロックCBL,CBRの両
方が斜線を施したように同時に活性になる。そして、カ
ラムアドレスCA<6>により、これらのセルブロック
CBL,CBRのビット線データのいずれか一方が選択
されてメインデータ線に転送される。図14では、CA
<6>=“1”により選択される左側のセルブロックC
BL側のデータ転送がされている場合を示している。C
A<6>=“0”になると、右側のセルブロックCBR
のデータ転送がなされる。
On the other hand, when the page length is 2 KB, as shown in FIG. 14, the same bank number BAN on the left and right of the cell array is used.
Both of the two cell blocks CBL and CBR marked with Kn are activated at the same time as shaded. Then, one of the bit line data of these cell blocks CBL and CBR is selected by the column address CA <6> and transferred to the main data line. In FIG. 14, CA
<6> = cell block C on the left selected by "1"
The case where data is being transferred on the BL side is shown. C
When A <6> = "0", the right cell block CBR
Data transfer is performed.

【0038】このときこの実施の形態では、カラムアド
レスCA<6>による左右のセルブロックCBL,CB
Rの選択と同様に、カラム置換の制御にもカラムアドレ
スCA<6>を用いる。これにより、セルブロックCB
L,CBRのそれぞれの選択毎に別々の不良カラム置換
ができる。即ち、図14に示したように、セルブロック
CBLで×示しで示した不良カラムがあっても、右側の
セルブロックCBRが選択されたときには対応するカラ
ム選択線CSLは正常なものとして扱われることが可能
であり、スペアカラム選択線が他の不良のカラム選択線
を置換することができる。
At this time, in this embodiment, the left and right cell blocks CBL and CB according to the column address CA <6> are used.
Similar to the selection of R, the column address CA <6> is also used for the column replacement control. As a result, the cell block CB
Different defective column replacement can be performed for each selection of L and CBR. That is, as shown in FIG. 14, even if there is a defective column indicated by x in the cell block CBL, the corresponding column selection line CSL is treated as normal when the cell block CBR on the right side is selected. The spare column selection line can replace another defective column selection line.

【0039】以上により、この実施の形態の場合の不良
カラム置換の態様は、ページ長に応じて、1KBページ
長のときは、セルブロック中の二つのセグメントSEG
につき一つのスペアカラム選択線SCSLがある状態
(1SCSL/2SEG)となり、2KBページ長のと
きはセルブロック中の一つのセグメントSEGにつき一
つのスペアカラム選択線SCSLがある状態(1SCS
L/1SEG)となる。即ちページ長に応じて、不良救
済領域と冗長エレメント(この実施の形態ではスペアカ
ラム選択線)の組み合わせを切り換えることにより、最
適の不良救済効率を得ることができる。
As described above, according to the mode of defective column replacement in this embodiment, according to the page length, when the page length is 1 KB, two segments SEG in the cell block are used.
There is one spare column selection line SCSL per cell (1SCSL / 2SEG), and when the page length is 2 KB, there is one spare column selection line SCSL per segment SEG in the cell block (1SCS).
L / 1SEG). That is, the optimum defect relief efficiency can be obtained by switching the combination of the defect relief region and the redundant element (the spare column selection line in this embodiment) according to the page length.

【0040】図15は、上述したカラム置換置換制御を
行うこの実施の形態での一つのフューズセットFSの構
成を示している。f11は、このセットを使用するか否
かを記憶させるためのイネーブルフューズであり、f1
2〜f14は、8つのセグメント列SEG0〜7のいず
れにおいて置換をするか、即ちスペアカラム選択線SC
SL0〜7のいずれを立てるかを決定させるためのフュ
ーズである。不良アドレス指定用のフューズの内、f0
〜f5は、セグメント列内の64本のCSLの内どれに
対応するかを指定するもので、f7〜f10が16個バ
ンク中の1個を選択するためのアドレス情報を記憶する
ものである。f6は、2KBページの場合のカラムアド
レスCA<6>に対応する。これらはテストの結果に基
づいて、プログラミングされる。
FIG. 15 shows the structure of one fuse set FS in this embodiment which performs the above-described column replacement replacement control. f11 is an enable fuse for storing whether or not this set is used, and f1
2 to f14, which of the eight segment columns SEG0 to 7 is to be replaced, that is, the spare column selection line SC
This is a fuse for determining which of SL0 to SL7 should be set. F0 of the fuses for designating defective addresses
.About.f5 are used to specify which of the 64 CSLs in the segment string corresponds, and f7 to f10 store address information for selecting one of the 16 banks. f6 corresponds to the column address CA <6> in the case of 2 KB page. These are programmed based on the test results.

【0041】フューズはいずれも、プリチャージ用PM
OSトランジスタQPと選択用NMOSトランジスタQ
Nと共に、電源VCCと接地VSSとの間に直列接続さ
れる。フューズデータは、PMOSトランジスタQPを
オン、NMOSトランジスタQNをオフにしてプリチャ
ージした後、PMOSトランジスタQPをオフ、NMO
SトランジスタQNをオンにして読み出される。フュー
ズが切断されていれば”H”レベルが出力され、切断さ
れていなければ”L”レベルの出力となる。
All fuses are PM for precharge.
OS transistor QP and selection NMOS transistor Q
Together with N, it is connected in series between the power supply VCC and the ground VSS. The fuse data is precharged by turning on the PMOS transistor QP and turning off the NMOS transistor QN, and then turning off the PMOS transistor QP and NMO.
The S transistor QN is turned on and read. If the fuse is blown, the "H" level is output, and if it is not blown, the "L" level is output.

【0042】これらの不良アドレス指定用フューズf0
〜f10の出力は、それぞれ比較回路CMPにより、カ
ラムアドレスCA<0>〜CA<6>、バンクアドレス
BA<0>〜BA<3>との一致検出が行われる。一致
した場合に比較回路CMPの出力は”H” になるが、
更にその出力がANDゲートにて全10個の比較回路C
MPの出力とイネーブルフューズf11の出力の積がと
られる。これにより、入力アドレスとフューズデータが
一致し、更にこのフューズセットを使用しようとしてい
る場合にのみ”H”になる信号がANDゲートから出さ
れる。この出力はデコーダDECに活性化信号として入
力される。それが”H”になったときのみデコーダDE
Cが活性化されて、フューズf12〜f14の状態に応
じて8つの出力中1つのみを”H”にする。デコーダD
ECが非活性ならば8つの出力はみな”L”である。
These defective address designating fuses f0
The outputs of .about.f10 are subjected to match detection with the column addresses CA <0> to CA <6> and the bank addresses BA <0> to BA <3> by the comparison circuit CMP. When they match, the output of the comparison circuit CMP becomes "H",
Further, the output is AND gates for all 10 comparison circuits C.
The product of the output of MP and the output of the enable fuse f11 is taken. As a result, the AND gate outputs a signal which becomes "H" only when the input address coincides with the fuse data and further the fuse set is to be used. This output is input to the decoder DEC as an activation signal. Decoder DE only when it becomes "H"
C is activated to set only one of the eight outputs to "H" depending on the states of the fuses f12 to f14. Decoder D
If the EC is inactive, all eight outputs are "L".

【0043】デコーダDECの8出力は、他のフューズ
セットからも同様に出力されており、それぞれの論理和
がORゲートによりとられる。これにより、スペアカラ
ム選択線イネーブル信号SCSLE0〜SCSLE7を
出力する。置換の必要生じた場合には、スペアカラム選
択線イネーブル信号SCSLE0〜7のいずれか1つ又
は複数個が”H”となり、不良のカラム選択線を非活性
とし、スペアカラム選択線を活性にする。
The eight outputs of the decoder DEC are also output from other fuse sets in the same manner, and their logical sums are taken by the OR gate. As a result, spare column select line enable signals SCSLE0 to SCSLE7 are output. When the replacement is required, one or more of the spare column selection line enable signals SCSLE0 to 7 becomes "H" to inactivate the defective column selection line and activate the spare column selection line. .

【0044】このフューズセットにおいて、カラムアド
レスCA<6>のフューズデータは、2KBページ長の
場合のみ用いられる。即ち、2KBページ長のときは、
カラムアドレスCA<6>のフューズデータの比較回路
CMP出力がANDゲートに入るように配線される。1
KBページ長の場合には、カラムアドレスCA<6>の
フューズデータに代わって、常時“H”の出力(具体的
にはVCC)がANDゲートに与えられるように、配線
が切り換えられる。この配線切り換えも、ページ長の切
り換えと同様に、配線マスクのオプション、ボンディン
グオプション、フューズ回路のプログラミング等により
行う。
In this fuse set, the fuse data of the column address CA <6> is used only when the page length is 2 KB. That is, when the page length is 2 KB,
The fuse data comparison circuit CMP output of the column address CA <6> is wired so as to enter the AND gate. 1
In the case of the KB page length, the wiring is switched so that the output of "H" (specifically, VCC) is always applied to the AND gate instead of the fuse data of the column address CA <6>. Similar to the page length switching, this wiring switching is also performed by the wiring mask option, the bonding option, the fuse circuit programming, and the like.

【0045】これにより、先に説明したように、ページ
長が大きいオプションを選択したときにも、救済効率を
犠牲にすることがない。即ち高速大容量DRAMにおい
てはサーバ向けのより大きなページ長の製品の需要が市
場にて高まりつつある現在、2KBページ長品になった
場合にも、コストデメリットが生じないようにすること
ができる。
As a result, as described above, the relief efficiency is not sacrificed even when the option having a large page length is selected. That is, in the high-speed and large-capacity DRAM, the demand for larger page length products for servers is increasing in the market, and it is possible to prevent the cost demerit even when the page length becomes 2 KB.

【0046】[実施の形態2]次に、ページ長の異なる
オプションに応じて、カラム救済領域の大きさを切り換
えるようにした実施の形態のDRAMを説明する。先の
実施の形態でも、実質的には、一つのスペアカラム選択
線によるカラム救済領域の大きさがページ長に応じて切
り換えられたと等価になるが、この実施の形態ではより
積極的にカラムアドレス割り付けの変更によって、カラ
ム救済領域とスペアカラム選択線の組み合わせを変更す
る。
[Embodiment 2] Next, a description will be given of a DRAM according to an embodiment in which the size of the column relief region is switched according to options having different page lengths. Also in the previous embodiment, it is substantially equivalent to that the size of the column relief area by one spare column selection line is switched according to the page length, but in this embodiment, the column address is more positively addressed. The combination of the column relief area and the spare column selection line is changed by changing the allocation.

【0047】セルアレイの構成及びバンクアドレス割り
付けについては、図1乃至図3で説明した先の実施の形
態と同様であるとする。この実施の形態において、一つ
のセルアレイの1/4についてのカラムアドレスの割り
付けを、先の実施の形態の図4に対応させて示すと、図
16のようになる。図16では、ロウアドレスの割り付
けは省略したが、図4と同様であり、ロウアドレスRA
<0>〜<8>がセルブロック内の512本のワード線
に割り付けられる。
The cell array configuration and bank address allocation are assumed to be the same as those in the previous embodiments described with reference to FIGS. In this embodiment, the column address allocation for 1/4 of one cell array is shown in FIG. 16 in correspondence with FIG. 4 of the previous embodiment. Although row address allocation is omitted in FIG. 16, it is the same as in FIG.
<0> to <8> are assigned to 512 word lines in the cell block.

【0048】1KBページ長の場合は、先の実施の形態
と同様であり、セルアレイの左右の半分を区別するため
にロウアドレスRA<9>が用いられ、またカラムアド
レスCA<0>〜<5>が、1セグメント列内の64本
のカラム選択信号線CSLに割り付けられる。先の実施
の形態の場合、2KBページ長のときは、カラムアドレ
スCA<6>がセルアレイの左右のセルブロックを区別
するために用いられた。これに対してこの実施の形態の
場合には、図16に示すように、カラムアドレスCA<
0>〜<6>が、隣接する2セグメント列内の128本
のカラム選択線CSLの選択に用いられるようにしてい
る。即ち、カラムアドレスCA<6>をセルブロック選
択ではなく、カラム選択線の選択に用いている。
When the page length is 1 KB, the row address RA <9> is used to distinguish the left and right halves of the cell array, and the column addresses CA <0> to <5 are the same as in the previous embodiment. > Is allocated to the 64 column selection signal lines CSL in one segment column. In the case of the previous embodiment, when the page length is 2 KB, the column address CA <6> is used to distinguish the left and right cell blocks of the cell array. On the other hand, in the case of this embodiment, as shown in FIG.
0> to <6> are used to select 128 column selection lines CSL in the adjacent two segment columns. That is, the column address CA <6> is used not for selecting the cell block but for selecting the column selection line.

【0049】そのため、2つの隣接するセグメント列に
て1本のカラム選択線CSLが(128本中1本)カラ
ムアクセス時に選択され立つことになる。これは1KB
ページ長の場合の半分である。そのため、1本のカラム
選択線CSLが担当するデータ転送は、1KBページ長
の場合の倍の8bitになる。このようなアドレス割付
けの変更もまた配線マスクのオプション、或いはプログ
ラム制御による配線切り替えにて実現可能である。
Therefore, one column selection line CSL in one of the two adjacent segment columns is selected and stands up during column access (one in 128 columns). This is 1KB
It is half of the case of page length. Therefore, the data transfer handled by one column selection line CSL is 8 bits, which is double that in the case of 1 KB page length. Such a change in address allocation can also be realized by a wiring mask option or wiring switching by program control.

【0050】図17は、図6にならってページ長2KB
の場合のデータ転送を、セルアレイMCA1の上半分の
サブセルアレイMCA1aについて示したものである。
1KBページ長の場合は図5と同じである。この実施の
形態においては、2KBページ長であってもカラムバン
ク選択線CBSLは、バンクアドレスBA<0:3>の
みにより選択される。従って図5の場合と同様、活性化
された同一バンク番号に属する二つのセルブロックに対
応する4本のカラムバンク選択信号線CBSLが全
て、”H”となる。即ち図17の場合、バンクBANK
nの二つのセルブロックCBL,CBRが同時に活性化
され、これらに対するセンスアンプ活性化信号SAAが
共に“H”となり、また4本のカラムバンク選択信号線
CBSLが“H”になる。
FIG. 17 is similar to FIG. 6 and has a page length of 2 KB.
The data transfer in this case is shown for the upper half sub cell array MCA1a of the cell array MCA1.
The case of 1 KB page length is the same as in FIG. In this embodiment, the column bank select line CBSL is selected only by the bank address BA <0: 3> even if the page length is 2 KB. Therefore, as in the case of FIG. 5, all the four column bank selection signal lines CBSL corresponding to the two activated cell blocks belonging to the same bank number become “H”. That is, in the case of FIG. 17, the bank BANK
The two cell blocks CBL and CBR of n are simultaneously activated, the sense amplifier activation signals SAA for them are both set to "H", and the four column bank selection signal lines CBSL are set to "H".

【0051】一方、同時に活性化される二つのセルブロ
ックCBL,CBRは、先の実施の形態と異なり、図1
7に示すように、それぞれ別のメインデータ線MDQに
接続され、両方同時にデータ転送を行うので、前述のよ
うに1本のカラム選択線CSLにより8bitのセルデ
ータが転送されることになる。また、2KBページ長の
場合、連続する2セグメント列の範囲の128本のカラ
ム選択線CSLがカラムアドレスCA<0:6>により
選択されるようにしており、この範囲が2本のスペアカ
ラム選択線SCSLによって不良カラム救済を行う救済
領域となる。
On the other hand, the two cell blocks CBL and CBR which are activated at the same time are different from those of the previous embodiment in FIG.
As shown in FIG. 7, since they are respectively connected to different main data lines MDQ and perform data transfer simultaneously, both cell data of 8 bits are transferred by one column selection line CSL as described above. Further, in the case of a 2 KB page length, 128 column selection lines CSL in the range of two consecutive segment columns are selected by the column address CA <0: 6>, and this range is selected as two spare columns. The line SCSL serves as a relief area for relieving a defective column.

【0052】図18は、2KBページ長の場合につい
て、隣接する二つのセグメント列SEG0,SEG1の
範囲でローカルデータ線LDQとメインデータ線MDQ
の接続及び、カラム選択線CSLのスペア置換の様子を
示している。1KBページ長の場合は先の実施の形態の
図13と同じである。2KBページ長の場合は前述のよ
うにカラムアクセス時に2つのセグメント列にて1本の
カラム選択線CSLしか選択されなくなったので、ロー
カルデータ線LDQの長さを、2セグメント列にまたが
るように2倍にして、ローカルデータ線LDQとメイン
データ線MDQの接続可能な箇所を半減させている。図
18では、BANKnに属する2つのセルブロックCB
L,CBRのいずれからもデータが転送されていること
を、ローカルデータ線LDQとメインデータ線MDQの
交点を囲む円で示している。
FIG. 18 shows a case where the page length is 2 KB and the local data line LDQ and the main data line MDQ are within the range of two adjacent segment columns SEG0 and SEG1.
And the spare replacement of the column selection line CSL. The case of 1 KB page length is the same as that in FIG. 13 of the previous embodiment. In the case of a 2 KB page length, as described above, only one column selection line CSL is selected by the two segment columns at the time of column access. By doubling, the connectable portion between the local data line LDQ and the main data line MDQ is halved. In FIG. 18, two cell blocks CB belonging to BANKn are included.
The fact that data is transferred from both L and CBR is shown by a circle surrounding the intersection of the local data line LDQ and the main data line MDQ.

【0053】図19は更に、2KBページ長の場合につ
いて、スペアカラム選択線SCSLが活性化される様子
を、図12と対応させて示している。1KBページ長の
場合は、図12と同様である。フューズセットFSの具
体的構成は先の実施の形態の図15と同じである。図1
9では、隣接するスペアカラム選択線イネーブル信号S
CSLEのORがとられている。これは、カラム救済領
域を連接する2セグメントの範囲としたことに対応し、
例えばSCSLE0とSCSLE1のいずれかが”H”
になった場合に、二つのセグメントSEG0,SEG1
の範囲内で不良カラム置換を可能とするためである。
FIG. 19 further shows how the spare column select line SCSL is activated in the case of a 2 KB page length, in correspondence with FIG. The case of 1 KB page length is the same as in FIG. The specific structure of the fuse set FS is the same as that of the previous embodiment shown in FIG. Figure 1
In 9, the adjacent spare column select line enable signal S
The OR of CSLE is taken. This corresponds to the range of two segments connecting the column relief region,
For example, either SCSLE0 or SCSLE1 is "H"
Becomes two segments SEG0, SEG1
This is because the defective column can be replaced within the range.

【0054】この実施の形態においても、ローカルデー
タ線LDQの長さを倍にする、ローカルデータ線LDQ
とメインデータ線MDQの接続ポイントを減らす、スペ
アカラム選択線イネーブル信号のORをとる、といった
2KBページ品特有の内容は、配線マスクのオプション
或いはプログラム制御による配線切り替えにて実施され
る。この2KBページ品においては、スペア置換の際に
同一バンクの両ブロックにてリンクして置換されるとい
う制限はあるものの、1KBページ品と比較して救済ド
メインが大きくなっている。即ち、先の実施の形態の2
KBページの場合、図14に示したように、カラム救済
の態様は、1SCSL/1SEGであるのに対し、この
実施の形態では、2SCSL/4SEGsとなる。これ
は、1KBページの場合とスペアカラム選択線の密度と
しては同じであるが、一つのスペアカラム選択線が不良
救済できる救済領域が大きくなっているために、実質的
に高い救済効率が得られ、また大きな欠陥にも対処可能
となっている。
Also in this embodiment, the length of the local data line LDQ is doubled, and the local data line LDQ is doubled.
Content peculiar to the 2 KB page product such as reducing the number of connection points between the main data line MDQ and the main data line MD and ORing the spare column selection line enable signal is implemented by a wiring mask option or wiring switching by program control. This 2 KB page product has a larger repair domain than the 1 KB page product, although there is a limitation that both blocks in the same bank are linked and replaced at the time of spare replacement. That is, 2 of the previous embodiment
In the case of the KB page, as shown in FIG. 14, the column repair mode is 1SCSL / 1SEG, whereas in this embodiment, it is 2SCSL / 4SEGs. This is the same as the density of the spare column selection line in the case of the 1 KB page, but since the spare area where one spare column selection line can repair defects is large, substantially high repair efficiency can be obtained. It is also possible to deal with major defects.

【0055】[実施の形態3]次に、ページ長を2KB
に特化したDRAMについて、カラム救済の形式が異な
るオプションを持つ実施の形態を説明する。図20及び
図21は、その2形式のDRAMのデータ転送とカラム
置換の様子を示している。セルアレイ構成やブロックア
ドレス割り付けは、実施の形態1で説明した図1〜図3
と同じである。図20は、2セグメント列分を示してい
るが、実施の形態1での2KBページ長の場合の図14
と同じであり、1セグメントの範囲を1スペアカラム選
択線SCSLが不良救済する救済領域とする(1SCS
L/1SEG)。図21は、実施の形態2での2KBペ
ージ長の場合の図18と同じであり、実質的に4セグメ
ントの範囲を2スペアカラム選択線SCSLが不良救済
する救済領域とする(2SCSLs/4SEGs)。
[Third Embodiment] Next, the page length is set to 2 KB.
With regard to the DRAM specialized for the above, an embodiment having options having different column relief formats will be described. 20 and 21 show data transfer and column replacement in the two types of DRAMs. The cell array configuration and block address allocation are shown in FIGS. 1 to 3 described in the first embodiment.
Is the same as. FIG. 20 shows two segment columns, but FIG. 14 shows a case of a 2 KB page length in the first embodiment.
The same as the above, and the range of one segment is set as a relief area for relieving defects by one spare column selection line SCSL (1SCS
L / 1SEG). FIG. 21 is the same as FIG. 18 in the case of the 2 KB page length in the second embodiment, and substantially sets the range of 4 segments as the relief area where the 2 spare column selection line SCSL repairs the defect (2SCSLs / 4SEGs). .

【0056】救済効率は欠陥の性質によりどちらがよい
か一概には言えないが、大きな欠陥が多い場合には後者
が有利であるということになる。この両者が配線マスク
のオプション或いはプログラム制御による配線切り替え
にてオプション化されている。ここではもはや1KBペ
ージ品を想定してないので、図15におけるフューズセ
ット内のオプションは存在せず、図22に示すように、
常にカラムアドレスCA<6>に関する情報が利用され
ることになる。
Which of the two is better for the repair efficiency depends on the nature of the defect, but the latter is advantageous when there are many large defects. Both of these are made optional by a wiring mask option or wiring switching by program control. Since the 1 KB page product is no longer assumed here, there is no option in the fuse set in FIG. 15, and as shown in FIG. 22,
Information on the column address CA <6> is always used.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、最
適な不良救済効率が配線の接続変更のみで設定できるよ
うにした半導体メモリ集積回路を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory integrated circuit in which the optimum defect relief efficiency can be set only by changing the connection of wiring.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の実施の形態によるDRAMのセルア
レイ構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a cell array configuration of a DRAM according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態のセルブロック内構成を示す図で
ある。
FIG. 2 is a diagram showing an internal configuration of a cell block according to the same embodiment.

【図3】同実施の形態のバンクアドレス割り付けを示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing bank address allocation according to the same embodiment.

【図4】同実施の形態のロウアドレス及びカラムアドレ
ス割り付けを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing row address and column address allocation according to the first embodiment.

【図5】同実施の形態の1KBページ長構成の場合のデ
ータ転送の様子を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing how data is transferred in the case of the 1 KB page length configuration according to the embodiment.

【図6】同実施の形態の2KBページ長構成の場合のデ
ータ転送の様子を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing how data is transferred in the case of the 2 KB page length configuration of the same embodiment.

【図7】同実施の形態のページ長切り換えのためのアド
レス信号線切り換えの様子を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing how address signal lines are switched for page length switching according to the first embodiment.

【図8】同実施の形態の配線接続の電気的切り換え回路
の構成を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of an electrical switching circuit for wiring connection according to the same embodiment.

【図9】同切り換え回路の制御回路の構成を示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a control circuit of the switching circuit.

【図10】同切り換え回路の他の制御回路の構成を示す
図である。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration of another control circuit of the switching circuit.

【図11】同切り換え回路の他の制御回路の構成を示す
図である。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of another control circuit of the switching circuit.

【図12】同実施の形態の不良カラム置換回路の構成を
示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a defective column replacement circuit according to the same embodiment.

【図13】同不良カラム置換回路による1KBページ長
の場合の不良カラム置換の態様を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a mode of defective column replacement by the same defective column replacement circuit in the case of 1 KB page length.

【図14】同不良カラム置換回路による2KBページ長
の場合の不良カラム置換の態様を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing an aspect of defective column replacement by the same defective column replacement circuit when the page length is 2 KB.

【図15】同不良カラム置換回路のフューズセットの構
成を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a configuration of a fuse set of the defective column replacement circuit.

【図16】他の実施の形態によるDRAMのカラムアド
レス割り付けを示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing column address allocation of a DRAM according to another embodiment.

【図17】同実施の形態による2KBページ長の場合の
データ転送の様子を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing how data is transferred in the case of a 2 KB page length according to the same embodiment.

【図18】同実施の形態による2KBページ長の場合の
カラム置換の様子を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing a state of column replacement in the case of a 2 KB page length according to the same embodiment.

【図19】同実施の形態の不良カラム置換回路の構成を
示す図である。
FIG. 19 is a diagram showing a configuration of a defective column replacement circuit according to the same embodiment.

【図20】他の実施の形態によるDRAMのカラム置換
の一態様を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing an aspect of column replacement of a DRAM according to another embodiment.

【図21】同実施の形態のDRAMのカラム置換の他の
態様を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing another aspect of column replacement in the DRAM of the same embodiment.

【図22】同実施の形態のフューズセットの構成を示す
図である。
FIG. 22 is a view showing a configuration of a fuse set according to the same embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MCA1〜MCA4…セルアレイ、MCA1a,MCA
1b〜MCA4a,MCA4b…サブセルアレイ、BA
NK0〜BANK31…バンク(セルブロック)、RO
WDEC…ロウデコーダ、COLDEC…カラムデコー
ダ。
MCA1 to MCA4 ... Cell array, MCA1a, MCA
1b to MCA4a, MCA4b ... Sub cell array, BA
NK0-BANK31 ... Bank (cell block), RO
WDEC ... Row decoder, COLDEC ... Column decoder.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 不良エレメントの置換に用いられる冗長
エレメントを含むメモリセルアレイと、 このメモリセルアレイの行列選択を行うデコーダ回路
と、 不良アドレスを記憶し、入力されたアドレスと不良アド
レスの一致検出を行って不良エレメントを冗長エレメン
トで置き換えるべく前記デコード回路を制御する置換制
御回路とを備えた半導体メモリ集積回路において、 前記メモリセルアレイのなかで一つの冗長エレメントに
より不良エレメント置換が許容される範囲として定義さ
れる救済領域の大きさと、その一つの救済領域内の不良
エレメント置換に供される冗長エレメントの数との組み
合わせが、配線の接続変更のみにより設定されるように
したことを特徴とする半導体メモリ集積回路。
1. A memory cell array including a redundant element used for replacing a defective element, a decoder circuit for selecting a matrix of the memory cell array, a defective address is stored, and a match between an input address and the defective address is detected. In a semiconductor memory integrated circuit having a replacement control circuit for controlling the decoding circuit to replace a defective element with a redundant element, the defective element replacement is defined as a range in which the redundant element replacement is allowed by one redundant element in the memory cell array. A semiconductor memory integrated device characterized in that a combination of the size of a relief region and the number of redundant elements used for replacing a defective element in one relief region is set only by changing the connection of wiring. circuit.
【請求項2】 前記メモリセルアレイは、複数のセルブ
ロックにより構成されると共にセルブロックの組み合わ
せにより複数のバンクが定義され、且つ同時活性化され
るセルブロック数により決まるページ長が配線の接続変
更のみにより設定されるようにしたことを特徴とする請
求項1記載の半導体メモリ回路。
2. The memory cell array is composed of a plurality of cell blocks, a plurality of banks are defined by a combination of the cell blocks, and a page length determined by the number of simultaneously activated cell blocks is only a change in wiring connection. 2. The semiconductor memory circuit according to claim 1, wherein the semiconductor memory circuit is set by
【請求項3】 前記ページ長に応じて、前記救済領域と
前記冗長エレメントの数の組み合わせが最適設定される
ことを特徴とする請求項2記載の半導体メモリ集積回
路。
3. The semiconductor memory integrated circuit according to claim 2, wherein the combination of the number of the relief area and the number of the redundant elements is optimally set according to the page length.
【請求項4】 前記置換制御回路は、不良アドレスがプ
ログラミングされる複数のフューズを用いたフューズ回
路と、フューズデータと入力アドレスの一致検出を行う
一致検出回路とを備えて、前記救済領域と前記冗長エレ
メントの数の組み合わせが配線の接続変更のみにより設
定されるように構成されていることを特徴とする請求項
3記載の半導体メモリ集積回路。
4. The replacement control circuit includes a fuse circuit using a plurality of fuses in which a defective address is programmed, and a coincidence detection circuit for performing coincidence detection of fuse data and an input address, and the relief area and the relief area. 4. The semiconductor memory integrated circuit according to claim 3, wherein the combination of the number of redundant elements is set only by changing the connection of wiring.
【請求項5】 前記救済領域の大きさと、その一つの救
済領域内の不良エレメント置換に供される冗長エレメン
トの数との組み合わせが、配線の接続変更により設定さ
れる場合に、データ線長が切り換えられることを特徴と
する請求項2記載の半導体メモリ集積回路。
5. When the combination of the size of the relief area and the number of redundant elements used for the defective element replacement in one relief area is set by changing the wiring connection, the data line length is The semiconductor memory integrated circuit according to claim 2, wherein the semiconductor memory integrated circuit is switched.
【請求項6】 前記配線の接続変更のために、配線切り
換え回路と、この配線切り換え回路の制御信号を発生す
るためのプログラミング可能な制御信号発生回路とを有
することを特徴とする請求項2記載の半導体メモリ集積
回路。
6. The wiring switching circuit for changing the connection of the wiring, and a programmable control signal generating circuit for generating a control signal of the wiring switching circuit. Semiconductor memory integrated circuit.
【請求項7】 前記制御信号発生回路は、ウェハ段階で
レーザ照射によりプログラミングされるヒューズ回路で
あることを特徴とする請求項6記載の半導体メモリ集積
回路。
7. The semiconductor memory integrated circuit according to claim 6, wherein the control signal generation circuit is a fuse circuit programmed by laser irradiation at a wafer stage.
【請求項8】 前記制御信号発生回路は、集積回路チッ
プのパッケージング後にプログラミング可能な電気的ヒ
ューズ回路であることを特徴とする請求項6記載の半導
体メモリ集積回路。
8. The semiconductor memory integrated circuit according to claim 6, wherein the control signal generation circuit is an electric fuse circuit that can be programmed after packaging of the integrated circuit chip.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9251918B2 (en) 2013-09-04 2016-02-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device

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