JP2003082232A - Silicone rubber composition for semiconductive roller and semiconductive roller - Google Patents

Silicone rubber composition for semiconductive roller and semiconductive roller

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JP2003082232A
JP2003082232A JP2001271798A JP2001271798A JP2003082232A JP 2003082232 A JP2003082232 A JP 2003082232A JP 2001271798 A JP2001271798 A JP 2001271798A JP 2001271798 A JP2001271798 A JP 2001271798A JP 2003082232 A JP2003082232 A JP 2003082232A
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JP
Japan
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silicone rubber
semiconductive roller
weight
parts
rubber composition
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Application number
JP2001271798A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshio Yamazaki
敏夫 山崎
Masaki Mogi
正樹 茂木
Tsutomu Nakamura
中村  勉
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a semiconductive roller which has volume resistivity in a semiconductive range not affected by molding conditions, having extremely slight dispersion and being stable, provides stable electric properties even under environmental conditions of a wide range of temperature, humidity, etc., and has excellent molding processability, vulcanization properties and rubber elasticity. SOLUTION: This silicone rubber composition for semiconductive roller is obtained by mixing 100 parts.wt. of a thermosetting organopolysiloxane composition with 0.001-10 parts.wt. of a lithium salt.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、体積抵抗率が半導
電領域(1×103〜1×1010Ω・cm)にあり、か
つ安定した体積抵抗率を示す半導電ローラを与える半導
電ローラ用シリコーンゴム組成物及びそれを用いた半導
電ローラに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductive roller which has a volume resistivity in a semiconductive region (1 × 10 3 to 1 × 10 10 Ω · cm) and provides a semiconductive roller exhibiting a stable volume resistivity. The present invention relates to a silicone rubber composition for rollers and a semiconductive roller using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来か
ら、電気絶縁性を示すゴム状物質に導電性材料を配合し
て導電性を付与したゴム材料は種々知られており、例え
ば導電性材料としてカーボンブラック等を配合し、体積
抵抗率を1×10-1〜1×102Ω・cmの範囲とした
導電性ゴムが広い分野で応用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various rubber materials have been known in which a conductive material is added to a rubber-like substance having an electric insulation property to impart conductivity, and, for example, a conductive material is known. A conductive rubber having a volume resistivity in the range of 1 × 10 −1 to 1 × 10 2 Ω · cm mixed with carbon black or the like has been applied in a wide field.

【0003】一方、電気絶縁性ゴム状物質の一つである
シリコーンゴムは、耐熱性、耐寒性、耐候性に優れ、電
気絶緑性ゴムとして広く利用されているが、他のゴム状
物質と同様に導電性材料を添加することで、導電性ゴム
としても実用化されている。また、体積抵抗率を安定化
する方法として、特開平3−195752号公報に記載
されている通り、シリコーンパウダーの添加が知られて
いる。
On the other hand, silicone rubber, which is one of the electrically insulating rubber-like substances, is excellent in heat resistance, cold resistance and weather resistance and is widely used as an electrically insulating rubber. Similarly, by adding a conductive material, it has been put to practical use as a conductive rubber. As a method for stabilizing the volume resistivity, addition of silicone powder is known as described in JP-A-3-195752.

【0004】この場合、導電性シリコーンゴムに添加す
る導電性材料としては、例えばカーボンブラックやグラ
ファイト、銀、ニッケル、銅等の各種金属粉、各種非導
電性粉体や短繊維表面を銀等の金属で処理したもの、炭
素繊維、金属繊維等を混合したものが、ゴムがもつ特異
な特性を損なうことなくその導電性材料の種類及び充填
量によりシリコーンゴムの電気抵抗率を1×10-3〜1
×1010Ω・cm程度まで低下させ得ることから頻繁に
使用されている。
In this case, as the conductive material added to the conductive silicone rubber, for example, various metal powders such as carbon black, graphite, silver, nickel and copper, various non-conductive powders and short fiber surfaces such as silver. The one treated with metal, the one mixed with carbon fiber, metal fiber, etc., has an electrical resistivity of silicone rubber of 1 × 10 −3 depending on the kind and filling amount of the conductive material without impairing the unique properties of rubber. ~ 1
It is often used because it can be lowered to about 10 10 Ω · cm.

【0005】しかしながら、シリコーンゴム等の合成ゴ
ムにケッチェンブラック、アセチレンブラック等の導電
性カーボンを配合した場合、1×103〜1×1010Ω
・cmという半導電領域では体積抵抗率のバラツキが極
めて大きくなり、これを安定化させることは非常に困難
であった。これは、成形条件により導電性カーボンの分
散が著しく変化することが原因であると考えられる。
However, when synthetic carbon such as silicone rubber is mixed with conductive carbon such as Ketjen black or acetylene black, 1 × 10 3 to 1 × 10 10 Ω
In the semi-conductive region of cm, the variation in volume resistivity was extremely large, and it was very difficult to stabilize it. It is considered that this is because the dispersion of the conductive carbon significantly changes depending on the molding conditions.

【0006】また、特開2001−164118号公報
には、導電性酸化チタンウイスカと分子内に金属イオン
を含む部分を有する帯電防止剤を併用した半導電性シリ
コーンゴム組成物が提案されているが上記問題点を解決
するには不十分であった。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-164118 proposes a semiconductive silicone rubber composition in which a conductive titanium oxide whisker and an antistatic agent having a portion containing a metal ion in the molecule are used in combination. It was insufficient to solve the above problems.

【0007】ところが、最近においては、OA機器の部
品、特に乾式複写機における帯電ローラ、現像ローラ、
紙送りローラ、定着ローラ、加圧ローラ、除電ローラ、
クリーニングローラ、オイル塗布ローラ等のゴムローラ
として、半導電ローラの必要性が高まり、このため半導
電領域での体積抵抗率変動が少なく、安定した体積抵抗
率を示す半導電ローラが求められている。
However, recently, parts of OA equipment, especially a charging roller, a developing roller, and the like in a dry copying machine,
Paper feed roller, fixing roller, pressure roller, static elimination roller,
As a rubber roller such as a cleaning roller and an oil applying roller, the need for a semi-conductive roller is increasing, and therefore, there is a demand for a semi-conductive roller that exhibits a small volume resistivity variation in a semi-conductive region and exhibits a stable volume resistivity.

【0008】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、半導電領域での体積抵抗率の変動幅が極めて狭く、
体積抵抗率が成形条件に左右されずに安定している半導
電ローラを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and the fluctuation range of the volume resistivity in the semiconductive region is extremely narrow,
An object of the present invention is to provide a semiconductive roller whose volume resistivity is stable regardless of molding conditions.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物に特定量の
リチウム塩を配合したシリコーンゴム組成物を用い、こ
れを成形、硬化して芯金上にシリコーンゴム硬化物層を
形成した場合、該ゴム硬化物層は1×103〜1×10
10Ω・cmという半導電領域での体積抵抗率のバラツキ
が2桁以下という安定した体積抵抗率を与えると共に、
広範囲の温度、湿度等の環境条件下でも安定した電気特
性を与え、特に現像装置に適した高安定性の半導電ロー
ラが得られることを知見し、本発明をなすに至った。
Means for Solving the Problems and Modes for Carrying Out the Invention As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has blended a thermosetting organopolysiloxane composition with a specific amount of a lithium salt. When a silicone rubber composition is used and molded and cured to form a silicone rubber cured product layer on a core metal, the rubber cured product layer has a size of 1 × 10 3 to 1 × 10.
The volume resistivity variation in the semi-conductive region of 10 Ω · cm gives a stable volume resistivity of 2 digits or less, and
The inventors have found that a highly stable semiconductive roller which gives stable electric characteristics even under a wide range of environmental conditions such as temperature and humidity and which is particularly suitable for a developing device has been completed, and thus has accomplished the present invention.

【0010】従って、本発明は、熱硬化型オルガノポリ
シロキサン組成物100重量部にリチウム塩0.001
〜10重量部を配合したことを特徴とする半導電ローラ
用シリコーンゴム組成物及びこの組成物の硬化物層を芯
金に形成してなることを特徴とする半導電ローラを提供
する。
Therefore, in the present invention, 100 parts by weight of the thermosetting organopolysiloxane composition is added to 0.001 of the lithium salt.
Provided is a silicone rubber composition for a semiconductive roller characterized by containing 10 to 10 parts by weight, and a semiconductive roller characterized by comprising a cured metal layer of the composition formed on a core metal.

【0011】以下、本発明について、更に詳述する。本
発明のシリコーンゴム組成物は、熱硬化型オルガノポリ
シロキサン組成物にリチウム塩を配合したものである。
The present invention will be described in more detail below. The silicone rubber composition of the present invention is a thermosetting organopolysiloxane composition blended with a lithium salt.

【0012】上記熱硬化型オルガノポリシロキサン組成
物は、リチウム塩を含まないものであり、熱により硬化
するオルガノポリシロキサン組成物であれば、特に限定
されないが、導電性材料を含有するものであることが好
ましい。より具体的には、例えば、(A)一分子中に珪
素原子と結合するアルケニル基を少なくとも2個含有す
るオルガノポリシロキサン、(B)一分子中に珪素原子
と結合する水素原子を少なくとも3個含有するオルガノ
ハイドロジェンポリシロキサン、(C)リチウム塩以外
の導電性材料及び(D)ヒドロシリル化反応触媒を含有
するもの、又は上記(A)成分、(C)成分及び(E)
有機過酸化物を含有するものが好ましく用いられる。
The above-mentioned thermosetting organopolysiloxane composition does not contain a lithium salt and is not particularly limited as long as it is an organopolysiloxane composition which is cured by heat, but it contains a conductive material. It is preferable. More specifically, for example, (A) an organopolysiloxane containing at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, (B) at least three hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule. Organohydrogenpolysiloxane to be contained, (C) a conductive material other than a lithium salt, and (D) a hydrosilylation reaction catalyst, or the above (A) component, (C) component and (E)
Those containing an organic peroxide are preferably used.

【0013】(A)成分の一分子中に珪素原子と結合す
るアルケニル基を少なくとも2個含有するオルガノポリ
シロキサンとしては、下記平均組成式(1)で示される
ものを用いることができる。 R1 aSiO(4-a)/2 (1) (式中、R1は互いに同一又は異種の炭素数1〜12、
好ましくは1〜8の非置換又は置換一価炭化水素基であ
り、aは1.5〜2.8、好ましくは1.9〜2.5の
範囲の正数である。)
As the organopolysiloxane containing at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule of component (A), those represented by the following average composition formula (1) can be used. R 1 a SiO (4-a) / 2 (1) (In the formula, R 1 s are the same or different and have 1 to 12 carbon atoms;
It is preferably a 1-8 unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and a is a positive number in the range of 1.5-2.8, preferably 1.9-2.5. )

【0014】ここで、R1で示される非置換又は置換の
一価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシ
ル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル
基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル
基、フェネチル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル
基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘ
キセニル基、シクロヘキセニル基、オクテニル基等のア
ルケニル基や、これらの基の水素原子の一部又は全部を
フッ素原子、臭素原子、塩素原子等のハロゲン原子、シ
アノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロ
ロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル
基、シアノエチル基等が挙げられるが、全R1の90%
以上がメチル基であることが好ましい。また、R1のう
ち少なくとも2個はアルケニル基(炭素数2〜8のもの
が好ましく、更に好ましくは炭素数2〜6であり、特に
好ましくはビニル基である)であることが必要である。
Here, the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group represented by R 1 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group or te.
rt-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group and other alkyl groups, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group and other aryl groups, benzyl Groups, aralkyl groups such as phenethyl groups, vinyl groups, allyl groups, propenyl groups, isopropenyl groups, butenyl groups, hexenyl groups, cyclohexenyl groups, alkenyl groups such as octenyl groups, and some of the hydrogen atoms of these groups or All of them are substituted with halogen atoms such as fluorine atom, bromine atom and chlorine atom, cyano group and the like, for example, chloromethyl group, chloropropyl group, bromoethyl group, trifluoropropyl group, cyanoethyl group, etc. 90% of 1
The above is preferably a methyl group. Further, at least two of R 1 need to be alkenyl groups (preferably having 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and particularly preferably vinyl group).

【0015】なお、アルケニル基の含有量は、オルガノ
ポリシロキサン中1.0×10-6〜5.0×10-3mo
l/g、特に5.0×10-6〜1.0×10-3mol/
gとすることが好ましい。アルケニル基の量が1.0×
10-6mol/gより少ないと架橋が不十分でゲル状に
なってしまう恐れがあり、また5.0×10-3mol/
gより多いと架橋密度が高くなりすぎて、脆いゴムとな
ってしまう恐れがある。なお、このアルケニル基は、分
子鎖末端の珪素原子に結合していても、分子鎖途中の珪
素原子に結合していても、両方に結合していてもよい。
The content of the alkenyl group is 1.0 × 10 −6 to 5.0 × 10 −3 mo in the organopolysiloxane.
1 / g, especially 5.0 × 10 −6 to 1.0 × 10 −3 mol /
It is preferably g. The amount of alkenyl groups is 1.0 x
If it is less than 10 -6 mol / g, crosslinking may be insufficient and gelation may occur, and 5.0 × 10 -3 mol / g
If it is more than g, the crosslink density becomes too high, which may result in brittle rubber. The alkenyl group may be bonded to a silicon atom at the end of the molecular chain, a silicon atom in the middle of the molecular chain, or both.

【0016】このオルガノポリシロキサンの構造は、基
本的に主鎖部分がR1 2SiO2/2で示されるジオルガノ
シロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がR
1 3SiO1/2で示されるトリオルガノシロキシ基で封鎖
された直鎖状構造を有することが好ましいが、部分的に
は分岐状の構造、環状構造等であってもよく、分子量に
ついても特に限定されず、粘度が10mPa・s以上で
あれば、室温(25℃)で液状であっても、生ゴム状で
あってもよいが、室温で液状であり、その粘度が25℃
で100,000mPa・s以下、特に100〜50,
000mPa・sであるのものが好ましい。
The structure of this organopolysiloxane is basically composed of repeating diorganosiloxane units represented by R 1 2 SiO 2/2 in the main chain portion, and both ends of the molecular chain are R groups.
It is preferable to have a linear structure blocked with a triorganosiloxy group represented by 1 3 SiO 1/2 , but it may have a partially branched structure, a cyclic structure, or the like, and particularly in terms of molecular weight. The viscosity is not limited and may be liquid at room temperature (25 ° C) or raw rubber as long as the viscosity is 10 mPa · s or more, but it is liquid at room temperature and has a viscosity of 25 ° C.
At 100,000 mPa · s or less, especially 100 to 50,
It is preferably 000 mPa · s.

【0017】(B)成分の一分子中に珪素原子と結合す
る水素原子(Si−H基)を少なくとも3個含有するオ
ルガノハイドロジェンポリシロキサンは、下記平均組成
式(2)で示されるものを用いることができるが、これ
は分子中のSi−H基が前記(A)成分中の珪素原子に
結合したアルケニル基とヒドロシリル付加反応して組成
物を硬化させるための硬化剤として作用するものであ
る。
The organohydrogenpolysiloxane containing at least three hydrogen atoms (Si—H groups) bonded to silicon atoms in one molecule of the component (B) is represented by the following average composition formula (2). It can be used, but this is one in which the Si-H group in the molecule acts as a curing agent for curing the composition by hydrosilyl addition reaction with the alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (A). is there.

【0018】 R2 bcSiO(4-b-c)/2 (2) (式中、R2は互いに同一又は異種の炭素数1〜12、
好ましくは炭素数1〜8の非置換又は置換一価炭化水素
基であり、bは0.7〜2.1、cは0.001〜1.
0で、かつb+cは0.8〜3.0を満足する正数であ
る。)
R 2 b H c SiO (4-bc) / 2 (2) (In the formula, R 2 s are the same or different and have 1 to 12 carbon atoms;
It is preferably an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, b is 0.7 to 2.1, and c is 0.001 to 1.
0 and b + c are positive numbers satisfying 0.8 to 3.0. )

【0019】ここで、R2で示される一価炭化水素基と
しては、R1で例示したものと同様のものを挙げること
ができるが、脂肪族不飽和基(アルケニル基)を有しな
いものが好ましく、bは好ましくは0.8〜2.0、c
は好ましくは0.01〜1.0、b+cは好ましくは
1.0〜2.5を満たす正数である。
[0019] As the monovalent hydrocarbon group represented by R 2, there may be mentioned the same ones as exemplified for R 1, it is having no aliphatic unsaturated group (alkenyl group) Preferably, b is preferably 0.8 to 2.0, c
Is preferably 0.01 to 1.0, and b + c is preferably a positive number satisfying 1.0 to 2.5.

【0020】上記オルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンは、一分子中にSi−H基を少なくとも3個、好まし
くは3〜100個、より好ましくは3〜50個含有する
ものである。
The above organohydrogenpolysiloxane contains at least 3, preferably 3 to 100, and more preferably 3 to 50 Si-H groups in one molecule.

【0021】このSi−H基の含有量は、オルガノハイ
ドロジェンポリシロキサン中0.001〜0.017m
ol/g、特に0.002〜0.015mol/gとす
ることが好ましい。Si−H基の量が0.001mol
/gより少ないと架橋が不十分でゲル状になってしまう
ことがあり、また0.017mol/gより多いと架橋
密度が高くなりすぎて、脆いゴムとなってしまう恐れが
ある。なお、このケイ素原子に結合した水素原子は分子
鎖末端、分子鎖の途中のいずれに位置していてもよく、
両方に位置するものであってもよい。
The content of this Si--H group is 0.001 to 0.017 m in the organohydrogenpolysiloxane.
It is preferable to set it as ol / g, especially 0.002-0.015 mol / g. The amount of Si-H group is 0.001 mol
If it is less than 0.1 g / g, crosslinking may be insufficient and a gel may be formed. If it is more than 0.017 mol / g, the crosslinking density may be too high and brittle rubber may be obtained. The hydrogen atom bonded to the silicon atom may be located at the end of the molecular chain or in the middle of the molecular chain,
It may be located in both.

【0022】上記オルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンとしては、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハ
イドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキ
シ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシ
ロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロ
キシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハ
イドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチ
ルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチ
ルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジ
フェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキ
シ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニル
シロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、(CH32
HSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、
(CH32HSiO1/2単位とSiO4/2単位と(C
65)SiO3/2単位とからなる共重合体等が挙げられ
る。
Examples of the organohydrogenpolysiloxane include trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogenpolysiloxane at both ends, trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer at both terminals, and dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethyl at both terminals. Polysiloxane, dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer at both ends, trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane copolymer at both ends, trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane at both ends Diphenyl siloxane / dimethyl siloxane copolymer, (CH 3 ) 2
A copolymer consisting of HSiO 1/2 units and SiO 4/2 units,
(CH 3 ) 2 HSiO 1/2 unit, SiO 4/2 unit and (C
6 H 5 ) SiO 3/2 units and the like.

【0023】また、オルガノハイドロジェンポリシロキ
サンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網目
状のいずれの構造であってもよく、一分子中の珪素原子
の数(重合度)は3〜300個、特に4〜150個程度
の、室温(25℃)で液状のものが好適に用いられ、そ
の粘度は、25℃で好ましくは1,000mPa・s以
下、更に好ましくは0.1〜500mPa・sである。
The molecular structure of the organohydrogenpolysiloxane may be linear, cyclic, branched or three-dimensional network structure, and the number of silicon atoms in one molecule (degree of polymerization). 3 to 300 pieces, particularly 4 to 150 pieces, which are liquid at room temperature (25 ° C.) are preferably used, and the viscosity thereof at 25 ° C. is preferably 1,000 mPa · s or less, more preferably 0. It is 1 to 500 mPa · s.

【0024】なお、このオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンの配合量は、(A)成分100重量部に対して
0.1〜30重量部、特に0.3〜20重量部であるこ
とが好ましい。また、このオルガノハイドロジェンポリ
シロキサンの配合量は、(A)成分中のケイ素原子に結
合したアルケニル基に対する(B)成分中のケイ素原子
に結合した水素原子(Si−H基)の量がモル比で、通
常0.3〜10.0、好ましくは0.5〜5.0となる
量で配合することもできる。
The amount of the organohydrogenpolysiloxane blended is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.3 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the component (A). The amount of the organohydrogenpolysiloxane blended is such that the amount of hydrogen atoms (Si—H groups) bonded to the silicon atom in the component (B) is molar relative to the alkenyl group bonded to the silicon atom in the component (A). It can also be blended in an amount of usually 0.3 to 10.0, preferably 0.5 to 5.0.

【0025】(C)成分のリチウム塩以外の導電性材料
としては、導電性を有するものであれば特に限定される
ものではないが、導電性カーボンブラック、導電性亜鉛
華、導電性酸化チタンのうち1種又は2種以上を含有す
ることが好ましい。
The conductive material other than the lithium salt as the component (C) is not particularly limited as long as it has conductivity, but conductive carbon black, conductive zinc white, conductive titanium oxide, etc. Of these, it is preferable to contain one kind or two or more kinds.

【0026】導電性カーボンブラックとしては、通常導
電性ゴム組成物に常用されているものが使用でき、例え
ばアセチレンブラック、コンダクティブファーネスブラ
ック(CF)、スーパーコンダクティブファーネスブラ
ック(SCF)、エクストラコンダクティブファーネス
ブラック(XCF)、コンダクティブチャネルブラック
(CC)、1,500℃程度の高温で熱処理されたファ
ーネスブラックやチャネルブラック等を挙げることがで
きる。
As the conductive carbon black, those which are commonly used in conductive rubber compositions can be used. For example, acetylene black, conductive furnace black (CF), super conductive furnace black (SCF), extra conductive furnace black ( XCF), conductive channel black (CC), furnace black heat-treated at a high temperature of about 1,500 ° C., channel black, and the like.

【0027】具体的には、アセチレンブラックとしては
デンカアセチレンブラック(電気化学社製)、シャウニ
ガンアセチレンブラック(シャウニガンケミカル社製)
等が、コンダクティブファーネスブラックとしてはコン
チネックスCF(コンチネンタルカーボン社製)、バル
カンC(キャボット社製)等が、スーパーコンダクティ
ブファーネスブラックとしてはコンチネックスSCP
(コンチネンタルカーボン社製)、バルカンSC(キャ
ボット社製)等が、エクストラコンダクティブファーネ
スブラックとしては旭HS−500(旭カーボン社
製)、バルカンXC−72(キャボット社製)等が、コ
ンダクティブチャネルブラックとしてはコウラックスL
(デグッサ社製)等が例示され、また、ファーネスブラ
ックの一種であるケッチェンブラックEC及びケッチェ
ンブラックEC−600JD(ケッチェンブラックイン
ターナショナル社製)を用いることもできる。
Specifically, as acetylene black, Denka acetylene black (manufactured by Denki Kagaku), Shaunigan acetylene black (manufactured by Shawnigan Chemical)
As a conductive furnace black, Continex CF (manufactured by Continental Carbon Co., Ltd.), Vulcan C (manufactured by Cabot Co.), etc. are used as super conductive furnace blacks, and Continex SCP.
(Continental Carbon Co., Ltd.), Vulcan SC (Cabot Co.), etc., as Extra Conductive Furnace Black, Asahi HS-500 (Asahi Carbon Co., Ltd.), Vulcan XC-72 (Cabot Co., Ltd.), etc. as Conductive Channel Black. Is Kolux L
(Manufactured by Degussa) and the like, and Ketjen Black EC and Ketjen Black EC-600JD (manufactured by Ketjen Black International), which are types of furnace black, can also be used.

【0028】なお、これらの中で、アセチレンブラック
は不純物含有率が少ない上、発達した二次ストラクチャ
ー構造を有することから導電性に優れており、本発明に
おいて特に好適に用いられる。また、その卓越した比表
面積から低充填量でも優れた導電性を示すケッチェンブ
ラックECやケッチェンブラックEC−600JD等も
好ましく使用できる。
Among these, acetylene black is excellent in conductivity because it has a low impurity content and has a developed secondary structure structure, and is particularly preferably used in the present invention. In addition, Ketjen Black EC, Ketjen Black EC-600JD and the like, which have excellent conductivity even with a low filling amount due to their excellent specific surface area, can be preferably used.

【0029】リチウム塩以外の導電性材料の配合量は、
熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物の硬化物の体積
抵抗率を1×103〜1×1010Ω・cm、特に1×1
4〜1×108Ω・cmとする量であるが、導電性材料
として導電性カーボンブラックを用いる場合の添加量
は、上述した(A)成分100重量部に対して0.5〜
50重量部、特に1〜20重量部とすることが好まし
い。添加量が0.5重量部未満では所望の導電性を得る
ことができない場合があり、50重量部を超えると得ら
れる硬化物の体積抵抗率が1×103Ω・cm未満にな
る可能性があり、目的とする半導電領域とはならないこ
とがある。
The compounding amount of the conductive material other than the lithium salt is
The cured product of the thermosetting organopolysiloxane composition has a volume resistivity of 1 × 10 3 to 1 × 10 10 Ω · cm, particularly 1 × 1.
The amount is 0 4 to 1 × 10 8 Ω · cm, but when the conductive carbon black is used as the conductive material, the addition amount is 0.5 to 100 parts by weight of the component (A) described above.
It is preferably 50 parts by weight, particularly preferably 1 to 20 parts by weight. If the addition amount is less than 0.5 parts by weight, the desired conductivity may not be obtained, and if it exceeds 50 parts by weight, the volume resistivity of the obtained cured product may be less than 1 × 10 3 Ω · cm. Therefore, the desired semiconductive region may not be obtained.

【0030】また、導電性亜鉛華としては、具体的に
は、本荘ケミカル社製の導電性亜鉛華が好適に使用さ
れ、これを上述した(A)成分100重量部に対して3
0〜300重量部、特に50〜250重量部添加するこ
とが好ましく、これにより1×106〜1×1010Ω・
cmの体積抵抗率を得ることができる。添加量が30重
量部より少ないと導電性を得ることができない恐れがあ
り、一方、300重量部を超えると著しく力学的特性を
悪化させる場合があり、このため添加量を100〜25
0重量部とすることがより好ましい。
Further, as the electroconductive zinc white, specifically, electroconductive zinc white manufactured by Honjo Chemical Co., Ltd. is preferably used, and it is 3 per 100 parts by weight of the above-mentioned component (A).
It is preferable to add 0 to 300 parts by weight, particularly 50 to 250 parts by weight, whereby 1 × 10 6 to 1 × 10 10 Ω ·
A volume resistivity of cm can be obtained. If the amount added is less than 30 parts by weight, conductivity may not be obtained, while if it exceeds 300 parts by weight, mechanical properties may be significantly deteriorated.
More preferably, it is 0 part by weight.

【0031】更に、導電性酸化チタンとしては粉末状で
も針状でもよく、例えばET−500W(石原産業社
製)を挙げることができる。この場合、基本組成はTi
2・SnO2にSbをドープしたものとすることが好ま
しい。なお、添加量は上述した導電性亜鉛華の添加量と
同様である。
Further, the conductive titanium oxide may be in the form of powder or needles, and examples thereof include ET-500W (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.). In this case, the basic composition is Ti
It is preferable that Sb is doped into O 2 .SnO 2 . The added amount is the same as the above-mentioned added amount of conductive zinc white.

【0032】(D)成分のヒドロシリル化反応触媒とし
ては、白金黒、塩化第二白金、塩化白金酸、塩化白金酸
と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン
類との錯体、白金ビスアセトアセテート、パラジウム系
触媒、ロジウム系触媒等が挙げられる。なお、このヒド
ロシリル化反応触媒の配合量は触媒量であり、適宜選定
することができるが、通常、金属分として(A)及び
(B)成分の合計に対し0.5〜1,000ppm、特
に1〜500ppm程度配合することが好ましい。
Examples of the hydrosilylation reaction catalyst of the component (D) include platinum black, chloroplatinic acid, chloroplatinic acid, a reaction product of chloroplatinic acid and a monohydric alcohol, a complex of chloroplatinic acid and olefins, and platinum. Examples thereof include bisacetoacetate, palladium-based catalysts and rhodium-based catalysts. The amount of the hydrosilylation reaction catalyst to be added is a catalytic amount and can be appropriately selected. However, it is usually 0.5 to 1,000 ppm, particularly preferably 0.5 to 1,000 ppm as the metal content based on the total of the components (A) and (B). It is preferable to add about 1 to 500 ppm.

【0033】(E)成分の有機過酸化物は、(A)成分
の架橋反応を促進するための触媒として使用されるもの
で、従来公知のものとすればよく、例えばベンゾイルパ
ーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサ
イド、p−メチルベンゾイルパーオキサイド、o−メチ
ルベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクミルパーオ
キサイド、2,5−ジメチル−ビス(2,5−(ter
t−ブチル)パーオキシ)ヘキサン、ジ−tert−ブ
チルパーオキサイド、tert−ブチルパーベンゾエー
ト、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシカルボ
キシ)ヘキサン等が挙げられるが、これらに限定される
ものではない。また、添加量は、硬化速度に応じて適宜
選択すればよいが、通常は(A)成分100重量部に対
し、0.1〜10重量部、特に0.2〜2重量部の範囲
とすることが好ましい。
The organic peroxide as the component (E) is used as a catalyst for accelerating the crosslinking reaction of the component (A) and may be a conventionally known one, for example, benzoyl peroxide, 2, 4-dichlorobenzoyl peroxide, p-methylbenzoyl peroxide, o-methylbenzoyl peroxide, 2,4-dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-bis (2,5- (ter
t-butyl) peroxy) hexane, di-tert-butylperoxide, tert-butylperbenzoate, 1,1-bis (tert-butylperoxycarboxy) hexane and the like, but not limited thereto. . The addition amount may be appropriately selected according to the curing speed, but is usually in the range of 0.1 to 10 parts by weight, particularly 0.2 to 2 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the component (A). It is preferable.

【0034】更に、上記熱硬化型オルガノポリシロキサ
ン組成物には、必要に応じてシリカヒドロゲル(含水珪
酸)、シリカエアロゲル(無水珪酸−煙霧質シリカ)等
の補強性シリカ充填剤、クレイ、炭酸カルシウム、ケイ
ソウ土、二酸化チタン等の充填剤、低分子シロキサンエ
ステル、シラノール、例えばジフェニルシランジオール
等の分散剤、酸化鉄、酸化セリウム、オクチル酸鉄等の
耐熱性向上剤、接着性や成形加工性を向上させるための
各種カーボンファンクショナルシラン、難燃性を付与さ
せるハロゲン化合物を添加混合してもよい。
Further, in the above thermosetting organopolysiloxane composition, if necessary, reinforcing silica filler such as silica hydrogel (hydrous silicic acid), silica aerogel (silicic anhydride-fumed silica), clay, calcium carbonate. , Diatomaceous earth, fillers such as titanium dioxide, low-molecular-weight siloxane esters, silanols, dispersants such as diphenylsilanediol, heat resistance improvers such as iron oxide, cerium oxide, iron octylate, adhesion and molding processability. Various carbon functional silanes for improving and halogen compounds for imparting flame retardancy may be added and mixed.

【0035】本発明においてリチウム塩とは、リチウム
正イオンと任意の一価負イオンがイオン結合した塩であ
り、これらはリチウム塩単体で用いてもよいし、リチウ
ム塩を有機溶媒や液状有機高分子に溶解させた溶液とし
て用いてもよい。
In the present invention, the lithium salt is a salt in which a lithium positive ion and an arbitrary monovalent negative ion are ionically bonded, and these may be used as the lithium salt alone, or the lithium salt may be used as an organic solvent or a liquid organic solvent. It may be used as a solution dissolved in a molecule.

【0036】このリチウム塩としては何ら限定されない
が、いわゆるリチウムイオン導電剤に利用されているリ
チウム塩が好ましく使用される。その例としては、Li
BF 4、LiClO4、LiPF6、LiAsF6、LiS
bF6、LiSO3CF3、LiN(SO2CF32、Li
SO349、LiC(SO2CF33、LiB(C
654等が挙げられるが、イオン半径の非常に小さい
リチウム正イオンに対し、一価負イオンのイオン半径が
大きいLiN(SO2CF32、LiC(SO2CF 33
が好ましい。また、価格が低廉で入手しやすいLiCl
4も好ましく用いられる。
The lithium salt is not limited at all
Are used in so-called lithium ion conductive agents.
A thium salt is preferably used. As an example, Li
BF Four, LiClOFour, LiPF6, LiAsF6, LiS
bF6, LiSO3CF3, LiN (SO2CF3)2, Li
SO3CFourF9, LiC (SO2CF3)3, LiB (C
6HFive)FourEtc., but the ion radius is very small.
The ionic radius of monovalent negative ions is
Large LiN (SO2CF3)2, LiC (SO2CF 3)3
Is preferred. In addition, LiCl is inexpensive and easily available
OFourIs also preferably used.

【0037】リチウム塩を溶液として用いる場合、リチ
ウム塩を溶解させる有機溶媒としては、リチウム塩の溶
解性が高い極性溶媒が好ましく、この例としては、メタ
ノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチル
アルコール、tert−ブチルアルコール、アミルアル
コール、ヘキシルアルコール等のアルコール系、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系、ジエチルエーテル、ジブ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサ
ン等のエーテル系、ジエチルカーボネート、ジプロピル
カーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカー
ボネート等のカーボネート系等が挙げられる。また、エ
ステル系では、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イ
ソブチル等の酢酸エステル類や、マロン酸エステル類、
コハク酸エステル類、グルタル酸エステル類、アジピン
酸エステル類、フタル酸エステル類等も好ましい。特
に、これらの有機溶媒の置換基としてアルキレンオキサ
イド基、好ましくはエチレンオキサイド基(−CH2
2O−)を含むものは比較的極性が高く、リチウム塩
の溶解性が高いために特に好ましい。
When the lithium salt is used as a solution, the organic solvent for dissolving the lithium salt is preferably a polar solvent having a high solubility for the lithium salt, and examples thereof include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, Alcohols such as n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, tert-butyl alcohol, amyl alcohol and hexyl alcohol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane. And the like, and diethyl carbonate, dipropyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, and other carbonates. In the ester system, acetic acid esters such as ethyl acetate, n-propyl acetate and isobutyl acetate, malonic acid esters,
Succinates, glutarates, adipates, phthalates and the like are also preferable. In particular, as a substituent of these organic solvents, an alkylene oxide group, preferably an ethylene oxide group (—CH 2 C
Those containing H 2 O-) are relatively preferable because they have a relatively high polarity and the solubility of the lithium salt is high.

【0038】一方、リチウム塩を溶解させる液状有機高
分子としては、比較的分子量が低く有機高分子自体が液
体であるならば、そのまま用いてもよいし、液体又は固
体の有機高分子を有機高分子を構成する単量体や有機溶
媒で溶解した溶液として用いてもよい。
On the other hand, as the liquid organic polymer in which the lithium salt is dissolved, if the organic polymer itself is a liquid having a relatively low molecular weight, it may be used as it is, or a liquid or solid organic polymer may be used as the organic polymer. You may use it as a solution which melt | dissolved in the monomer which comprises a molecule | numerator, or an organic solvent.

【0039】上記有機高分子の例としては、単量体を重
合、縮合、縮重合させたものならば特に限定されず、ポ
リエステル、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリカーボ
ネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ(メタ)アクリ
レート、ポリフォスファゼン、ポリビニルアルコール等
が例示される。
Examples of the above-mentioned organic polymer are not particularly limited as long as they are obtained by polymerizing, condensing and polycondensing a monomer, and polyester, polyether, polyurethane, polycarbonate, polyamide, polyimide, poly (meth) acrylate. , Polyphosphazene, polyvinyl alcohol and the like.

【0040】有機高分子を溶解する有機溶媒としては、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系、n−ヘキサ
ン、リグロイン、ケロシン、ミネラルスピリット等の脂
肪族炭化水素系、シクロヘキサン、デカヒドロナフタレ
ン等の脂環式炭化水素系、メタノール、エタノール、n
−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−
ブチルアルコール、イソブチルアルコール、tert−
ブチルアルコール、アミルアルコール、ヘキシルアルコ
ール等のアルコール系、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン系、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル系、ジ
エチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、エチレ
ンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネ
ート系、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソブチ
ル等の酢酸エステル類や、マロン酸エステル類、コハク
酸エステル類、グルタル酸エステル類、アジピン酸エス
テル類、フタル酸エステル類等のエステル系の溶媒が例
示される。
As the organic solvent for dissolving the organic polymer,
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, ligroin, kerosene and mineral spirits, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and decahydronaphthalene, methanol, ethanol, n
-Propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-
Butyl alcohol, isobutyl alcohol, tert-
Butyl alcohol, amyl alcohol, hexyl alcohol and other alcohols, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and other ketones, diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and other ethers, diethyl carbonate, dipropyl Carbonates such as carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, acetic acid esters such as ethyl acetate, n-propyl acetate, isobutyl acetate, malonic acid esters, succinic acid esters, glutaric acid esters, adipic acid esters, phthalates Examples include ester-based solvents such as acid esters.

【0041】一方、有機高分子を構成する単量体で有機
高分子を溶解する場合は、溶解させようとする該高分子
を構成する単量体を用いることが好ましく、エチレング
リコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、カテコール等のアル
コール類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、イソフォロンジアミン等のアミン類、アジピン酸、
フタル酸等のカルボン酸類、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、イソフォロンジイソシアネート等のイソシアネ
ート類、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、
テトラヒドロフラン等のアルキレンオキサイド類、エチ
レンカーボネート、プロピレンカーボネート等のアルキ
レンカーボネート類、メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレー
ト、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アク
リレート類、N−ビニルピロリドン、γ−カプロラクト
ン、ε−カプロラクタム、酢酸ビニル等が例示される。
On the other hand, when the organic polymer is dissolved with the monomer constituting the organic polymer, it is preferable to use the monomer constituting the polymer to be dissolved, such as ethylene glycol, diethylene glycol, 1 , 4-butanediol, 1,6-hexanediol, catechol and other alcohols, ethylenediamine, hexamethylenediamine, isophoronediamine and other amines, adipic acid,
Carboxylic acids such as phthalic acid, hexamethylene diisocyanate, isocyanates such as isophorone diisocyanate, ethylene oxide, propylene oxide,
Alkylene oxides such as tetrahydrofuran, alkylene carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth ) (Meth) acrylates such as acrylate, N-vinylpyrrolidone, γ-caprolactone, ε-caprolactam, vinyl acetate and the like are exemplified.

【0042】また、液状有機高分子はリチウム塩の溶解
性を高めるために、これを構成する有機高分子、有機溶
媒、単量体のいずれか又は全てに、置換基としてアルキ
レンオキサイド基、好ましくはエチレンオキサイド基
(−CH2CH2O−)が含まれることが好ましい。
In order to improve the solubility of the lithium salt, the liquid organic polymer has an alkylene oxide group, preferably an alkylene oxide group, as a substituent, in any or all of the organic polymers, organic solvents and monomers constituting the liquid organic polymer. It is preferable that an ethylene oxide group (—CH 2 CH 2 O—) is contained.

【0043】なお、リチウム塩の添加量は、前述の熱硬
化型オルガノポリシロキサン組成物100重量部に対
し、0.001〜10重量部、好ましくは0.01〜1
重量部、更に好ましくは0.1〜0.5重量部の範囲と
すればよい。0.001重量部未満ではリチウムイオン
濃度が低すぎてイオン導電性が不十分となり、10重量
部を超えるとリチウム塩が空気中の水分を吸収して潮解
し、イオン導電性が不十分となる。
The amount of the lithium salt added is 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 1 part by weight, relative to 100 parts by weight of the above-mentioned thermosetting organopolysiloxane composition.
The amount may be in the range of 0.1 part by weight, more preferably 0.1 to 0.5 part by weight. If it is less than 0.001 part by weight, the lithium ion concentration is too low and the ionic conductivity is insufficient. If it exceeds 10 parts by weight, the lithium salt absorbs water in the air and deliquesces, resulting in insufficient ionic conductivity. .

【0044】また、本発明に係るシリコーンゴム組成物
には、上記必須成分に加え、任意成分として本発明の効
果を妨げない範囲で必要に応じ、補強性シリカ粉末を添
加してもよい。補強性シリカ粉末は、機械的強度の優れ
たシリコーンゴムを得るために添加されるものである
が、この目的のためには、比表面積が50m2/g以
上、好ましくは100〜300m2/gである。比表面
積が50m2/gに満たないと、硬化物の機械的強度が
低くなってしまう。このような補強性シリカとしては、
例えば煙霧質シリカ、沈降シリカ等が挙げちれ、またこ
れらの表面をクロロシランやヘキサメチルジシラザンな
どで疎水化したものも好適に用いられる。
In addition to the above-mentioned essential components, a reinforcing silica powder may be added as an optional component to the silicone rubber composition according to the present invention as long as it does not impair the effects of the present invention. The reinforcing silica powder is added to obtain a silicone rubber having excellent mechanical strength. For this purpose, the specific surface area is 50 m 2 / g or more, preferably 100 to 300 m 2 / g. Is. If the specific surface area is less than 50 m 2 / g, the mechanical strength of the cured product will be low. As such a reinforcing silica,
For example, fumed silica, precipitated silica and the like can be mentioned, and those whose surface is made hydrophobic with chlorosilane or hexamethyldisilazane are also suitably used.

【0045】補強性シリカ粉末の添加量は、(A)成分
のオルガノポリシロキサン100重量部に対して0〜5
0重量部、特に1〜20重量部とすることが好ましく、
50重量部を超えると加工性が悪くなり、また機械的強
度が低下してしまう場合がある。
The amount of the reinforcing silica powder added is 0 to 5 with respect to 100 parts by weight of the organopolysiloxane as the component (A).
0 parts by weight, particularly preferably 1 to 20 parts by weight,
If it exceeds 50 parts by weight, the workability may deteriorate and the mechanical strength may decrease.

【0046】またシリコーンゴムパウダー、ベンガラ、
粉砕石英、炭酸カルシウムなどの充填剤を添加してもよ
い。
Silicone rubber powder, red iron oxide,
Fillers such as crushed quartz and calcium carbonate may be added.

【0047】更には、スポンジを成形する場合は無機、
有機の発泡剤を添加する。この発泡剤としては、アゾビ
スイソブチロニトリル、ジニトロペンタメチレンテトラ
ミン、ベンゼンスルフォンヒドラジドアゾジカルボンア
ミドなどが例示され、その添加量は、シリコーンゴム組
成物100重量部に対して1〜10重量部の範囲が好適
である。このように、本発明のシリコーンゴム組成物に
発泡剤を添加すると、スポンジ状のシリコーンゴムを得
ることができる。
Furthermore, in the case of molding a sponge, an inorganic material,
Add an organic blowing agent. Examples of the foaming agent include azobisisobutyronitrile, dinitropentamethylenetetramine, benzenesulfone hydrazide azodicarbonamide, and the addition amount thereof is 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone rubber composition. Ranges are preferred. Thus, by adding a foaming agent to the silicone rubber composition of the present invention, a sponge-like silicone rubber can be obtained.

【0048】また、本発明のシリコーンゴム組成物に
は、必要に応じて、着色剤、耐熱性向上剤などの各種添
加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充填剤用分散剤など
を添加することは任意とされるが、この充填剤用分散剤
として使用されるジフェニルシランジオール、各種アル
コキシシラン、カーボンファンクショナルシラン、シラ
ノール基含有低分子量シロキサンなどは、本発明の効果
を損なわないように最小限の添加量に止めることが好ま
しい。
If necessary, various additives such as a colorant and a heat resistance improver, a reaction control agent, a release agent or a filler dispersant are added to the silicone rubber composition of the present invention. Although it is optional, diphenylsilanediol, various alkoxysilanes, carbon functional silanes, silanol group-containing low molecular weight siloxanes and the like used as the filler dispersant are the minimum so as not to impair the effects of the present invention. It is preferable to limit the amount added.

【0049】更に、本発明のシリコーンゴム組成物を難
燃性、耐火性にするために、白金含有材料、白金化合物
と二酸化チタン、白金と炭酸マンガン、白金とγ−Fe
23、フェライト、マイカ、ガラス繊維、ガラスフレー
クなどの公知の添加剤を添加してもよい。
Further, in order to make the silicone rubber composition of the present invention flame-retardant and fire-resistant, a platinum-containing material, a platinum compound and titanium dioxide, platinum and manganese carbonate, platinum and γ-Fe.
Known additives such as 2 O 3 , ferrite, mica, glass fiber and glass flakes may be added.

【0050】本発明に係るシリコーンゴム組成物は、上
記した成分を2本ロール、バンバリーミキサー、ドウミ
キサー(ニーダー)などのゴム混練り機を用いて均一に
混合して、必要に応じ加熱処理を施すことにより得るこ
とができる。
In the silicone rubber composition according to the present invention, the above-mentioned components are uniformly mixed using a rubber kneader such as a two-roll, Banbury mixer, dough mixer (kneader) or the like, and heat-treated if necessary. It can be obtained by applying.

【0051】本発明の半導電ローラは、芯金に上記シリ
コーンゴム組成物の半導電性の硬化物層を形成するもの
であるが、この場合、芯金の材質、寸法等はローラの種
類に応じて適宜選定することができる。
The semiconductive roller of the present invention is one in which a semiconductive cured material layer of the above silicone rubber composition is formed on a core metal. In this case, the material and size of the core metal depend on the type of roller. It can be selected as appropriate.

【0052】また、シリコーンゴム組成物の成形、硬化
法も適宜選定可能で、例えば注入成形、移送成形、射出
成形、コーティング等の方法によって成形でき、成形し
た組成物は、加熱により硬化できる。シリコーンゴム層
の外周には、更にフッ素樹脂層やウレタン樹脂層を設け
てもよく、この外周樹脂層は樹脂コーティング材や樹脂
チューブ等により形成される。
The method of molding and curing the silicone rubber composition can be appropriately selected. For example, injection molding, transfer molding, injection molding, coating and the like can be used for molding, and the molded composition can be cured by heating. A fluororesin layer or a urethane resin layer may be further provided on the outer circumference of the silicone rubber layer, and the outer circumference resin layer is formed by a resin coating material, a resin tube or the like.

【0053】上記シリコーンゴム層を被覆するフッ素樹
脂コーティング材としては、例えばポリテトラフルオロ
エチレン樹脂(PTFE)のラテックスや、ダイエルラ
テックス(ダイキン工業社製フッ素系ラテックス)等が
挙げられ、またフッ素系樹脂チューブとしては市販品を
使用することができ、例えばポリテトラフルオロエチレ
ン樹脂(PTFE)、テトラフルオロエチレン・パーフ
ルオロアルキルビニルエーテル共重合体樹脂(PF
A)、フッ化エチレン・ポリプロピレン共重合体樹脂
(FEP)、ポリフッ化ビニリデン樹脂(PVDF)、
ポリフッ化ビニル樹脂等が挙げられるが、これらの中で
はPFAが好ましい。
Examples of the fluororesin coating material for coating the silicone rubber layer include polytetrafluoroethylene resin (PTFE) latex, Daier latex (fluorine latex manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and the like. As the resin tube, a commercially available product can be used. For example, polytetrafluoroethylene resin (PTFE), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer resin (PF
A), fluorinated ethylene / polypropylene copolymer resin (FEP), polyvinylidene fluoride resin (PVDF),
Polyvinyl fluoride resin and the like can be mentioned, but among these, PFA is preferable.

【0054】一方、ウレタン樹脂コーティング材として
は、例えばダイアロマー(大日精化工業社製)やダイプ
ラコート(大日精化工業社製)、またウレタン樹脂チュ
ーブとしてはタフレタン(日本バルカー工業社製)等が
挙げられる。
On the other hand, examples of the urethane resin coating material include dialomer (manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd.) and die plastic coat (manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd.), and urethane resin tubes such as tofretane (manufactured by Nippon Bulker Co., Ltd.) Can be mentioned.

【0055】なお、この半導電性硬化物層は、通常0.
2〜50mm、特に0.5〜30mmの厚さに成形さ
れ、その体積抵抗率が1×103〜1×1010Ω・cm
であることが有効であり、この半導電性硬化物層は上記
範囲において、体積抵抗率のバラツキが2桁以内である
ため、特に現像装置における帯電ローラ、現像ローラ、
紙送りローラ等の半導電層として好適である。また、こ
の半導電性硬化物層を幅広い範囲の温度条件、湿度条件
に長時間曝しても、環境依存による体積抵抗率の変化は
2桁以内であり、半導電層として適している。
The semiconductive cured material layer usually has a thickness of 0.
It is molded to a thickness of 2 to 50 mm, especially 0.5 to 30 mm, and its volume resistivity is 1 × 10 3 to 1 × 10 10 Ω · cm.
It is effective that the semiconductive cured material layer has a variation in volume resistivity within two digits within the above range.
It is suitable as a semiconductive layer such as a paper feed roller. Further, even if the semiconductive cured material layer is exposed to a wide range of temperature and humidity conditions for a long time, the change in volume resistivity due to the environment is within two digits, which is suitable as a semiconductive layer.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明の半導電ローラは、半導電領域で
の体積抵抗率が成形条件によって左右されず、かつバラ
ツキが極めて少なく安定していると共に、広範囲の温
度、湿度等の環境条件下でも安定した電気特性を与え、
かつ成形加工性、加硫特性及びゴム弾性に優れたもので
ある。
EFFECTS OF THE INVENTION The semiconductive roller of the present invention has a volume resistivity in the semiconductive region which is not affected by molding conditions, has little variation and is stable, and has a wide range of environmental conditions such as temperature and humidity. But it gives stable electrical characteristics,
It is also excellent in moldability, vulcanization characteristics and rubber elasticity.

【0057】[0057]

【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below by showing Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

【0058】[実施例1]両末端がジメチルビニルシロ
キシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン(ポリシロ
キサンA、重合度500)100重量部、比表面積が1
10m2/gである疎水化処理されたヒュームドシリカ
(R−972、日本アエロジル社製)5重量部、アセチ
レンブラック(デンカブラックHS−100、電気化学
工業社製)3重量部をプラネタリーミキサーに仕込み、
30分間撹拌を続けた後、架橋剤として両末端及び側鎖
にSi−H基を有するメチルハイドロジェンポリシロキ
サン(ポリシロキサンB、重合度17、Si−H量0.
0060mol/g)1.7重量部、反応制御剤として
エチニルシクロヘキサノール0.05重量部、白金触媒
(Pt濃度1%)0.5重量部、リチウム塩として過塩
素酸リチウム粉末0.1重量部を添加し、更に15分間
撹拌を続けてシリコーンゴム組成物を得た。
[Example 1] 100 parts by weight of dimethylpolysiloxane (polysiloxane A, degree of polymerization: 500) having both ends blocked with dimethylvinylsiloxy groups, and a specific surface area of 1
5 parts by weight of fumed silica (R-972, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) having a hydrophobicity of 10 m 2 / g and 3 parts by weight of acetylene black (Denka Black HS-100, manufactured by Denki Kagaku Co., Ltd.) are planetary mixers. Charge to
After continuing stirring for 30 minutes, methyl hydrogen polysiloxane having a Si—H group at both ends and side chains as a cross-linking agent (polysiloxane B, degree of polymerization 17, Si—H amount of 0.
1.7 parts by weight, ethynylcyclohexanol as a reaction control agent 0.05 parts by weight, platinum catalyst (Pt concentration 1%) 0.5 parts by weight, lithium perchlorate powder 0.1 parts by weight as a lithium salt. Was added and stirring was continued for another 15 minutes to obtain a silicone rubber composition.

【0059】次に、直径10mm×長さ300mmのア
ルミニウムシャフトの表面にヒドロシリル化反応型液状
シリコーンゴム用プライマーNo.101A/B(信越
化学工業社製)を塗布した。このアルミニウムシャフト
を金型内に固定し、このシリコーンゴム組成物を金型内
に10kg/cm2で充填し、150℃で30分間加熱
硬化し、更に180℃で2時間ポストキュアし、外径3
0mm×長さ250mmのシリコーンゴムローラを作成
し、得られたローラの硬度及び初期体積抵抗率を測定し
た。また、環境依存性を評価するため、温度70℃/湿
度80%の条件下で1週間保存した環境試験後の体積抵
抗率も測定した。それらの結果を表1に示す。
Next, on the surface of an aluminum shaft having a diameter of 10 mm and a length of 300 mm, a hydrosilylation reaction type liquid silicone rubber primer No. 101A / B (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was applied. The aluminum shaft was fixed in a mold, the silicone rubber composition was filled in the mold at 10 kg / cm 2 , heat-cured at 150 ° C. for 30 minutes, and post-cured at 180 ° C. for 2 hours to obtain an outer diameter. Three
A silicone rubber roller having a length of 0 mm and a length of 250 mm was prepared, and the hardness and the initial volume resistivity of the obtained roller were measured. Further, in order to evaluate the environmental dependence, the volume resistivity after the environmental test in which the sample was stored for 1 week under the condition of temperature 70 ° C./humidity 80% was also measured. The results are shown in Table 1.

【0060】体積抵抗率は図1に示すような幅7mmの
電極3にローラ1を接触させ、電極3とローラ芯金2と
の間に測定電圧100Vを印加して抵抗を測定した。測
定個所は、軸方向に対し端子4をスライドさせて、20
点についてそのバラツキを評価した。測定機器5は、ア
ドバンテスト社製のデジタル波超高抵抗計R8340を
用いた。
The volume resistivity was measured by bringing the roller 1 into contact with an electrode 3 having a width of 7 mm as shown in FIG. 1 and applying a measuring voltage of 100 V between the electrode 3 and the roller core metal 2. At the measurement point, slide the terminal 4 in the axial direction to
The variation was evaluated in terms of points. As the measuring device 5, a digital wave ultra high resistance meter R8340 manufactured by Advantest was used.

【0061】[実施例2]リチウム塩として、0.5重
量部の過塩素酸リチウム粉末に代えて過塩素酸リチウム
の10重量%酢酸ブトキシエトキシエチル溶液5重量部
を使用した以外は実施例1と同様にして、シリコーンゴ
ム組成物を得た。次に、実施例1と同様にしてシリコー
ンゴムローラを作成し、得られたローラの硬度及び電気
特性を測定した。その結果を表1に示す。
Example 2 Example 1 was repeated except that 0.5 parts by weight of lithium perchlorate powder was replaced by 5 parts by weight of a 10 wt% butoxyethoxyethyl acetate solution of lithium perchlorate as the lithium salt. A silicone rubber composition was obtained in the same manner as. Next, a silicone rubber roller was prepared in the same manner as in Example 1, and the hardness and electric characteristics of the obtained roller were measured. The results are shown in Table 1.

【0062】[実施例3]リチウム塩として、0.5重
量部の過塩素酸リチウム粉末に代えて過塩素酸リチウム
の10重量%ポリエチレングリコール(PEG)400
溶液5重量部を使用した以外は実施例1と同様にして、
シリコーンゴム組成物を得た。次に、実施例1と同様に
してシリコーンゴムローラを作成し、得られたローラの
硬度及び電気特性を測定した。その結果を表1に示す。
[Example 3] As a lithium salt, 0.5 parts by weight of lithium perchlorate powder was replaced with 10% by weight of lithium perchlorate of polyethylene glycol (PEG) 400.
As in Example 1, except that 5 parts by weight of the solution was used,
A silicone rubber composition was obtained. Next, a silicone rubber roller was prepared in the same manner as in Example 1, and the hardness and electric characteristics of the obtained roller were measured. The results are shown in Table 1.

【0063】[実施例4]ジメチルシロキサン単位9
9.85mol%とメチルビニルシロキサン単位0.1
5mol%とからなる平均重合度が約8,000のメチ
ルビニルポリシロキサン(ポリシロキサンC)100重
量部、比表面積が110m2/gである疎水化処理され
たヒュームドシンカ(R−972、日本アエロジル社
製)8重量部、アセチレンブラック(デンカブラックH
S−100、電気化学工業社製)4重量部、リチウム塩
として過塩素酸リチウム粉末0.1重量部を添加し、混
練した。次いで、有機過酸化物として2,5−ジメチル
−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン
を添加して混練し、シリコーンゴム組成物を得た。
Example 4 Dimethylsiloxane Unit 9
9.85 mol% and methyl vinyl siloxane unit 0.1
Hydrophobized fumed sinker (R-972, Japan, 100 parts by weight of methyl vinyl polysiloxane (polysiloxane C) having an average degree of polymerization of 5 mol% and a specific surface area of 110 m 2 / g) 8 parts by weight of Aerosil, acetylene black (Denka Black H)
S-100, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and 4 parts by weight of lithium perchlorate powder as a lithium salt were added and kneaded. Then, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane was added as an organic peroxide and kneaded to obtain a silicone rubber composition.

【0064】次に、直径10mm×長さ300mmのア
ルミニウムシャフトの表面に過酸化物硬化型シリコーン
ゴム用プライマーNo.18B(信越化学工業社製)を
塗布した。このアルミニウムシャフトを金型内に固定
し、このシリコーンゴム組成物を金型内に80kg/c
2で充填し、180℃で30分間加熱硬化し、更に1
80℃で2時間ポストキュアし、外径30mm×長さ2
50mmのシリコーンゴムローラを作成し、得られたロ
ーラの硬度及び電気特性を実施例1と同様に測定した。
その結果を表1に示す。
Then, the surface of an aluminum shaft having a diameter of 10 mm and a length of 300 mm was coated with a peroxide-curable silicone rubber primer No. 18B (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was applied. The aluminum shaft was fixed in a mold, and the silicone rubber composition was put in the mold at 80 kg / c.
m 2 filled, heat cured at 180 ° C. for 30 minutes, then 1
Post cure at 80 ° C for 2 hours, outside diameter 30mm x length 2
A 50 mm silicone rubber roller was prepared, and the hardness and electric characteristics of the obtained roller were measured in the same manner as in Example 1.
The results are shown in Table 1.

【0065】[比較例1]リチウム塩を配合しなかった
こと以外は実施例1と同様にして、シリコーンゴム組成
物を得た。次に、実施例1と同様にしてシリコーンゴム
ローラを作成し、得られたローラの硬さ及び電気特性を
測定した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 1 A silicone rubber composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the lithium salt was not added. Next, a silicone rubber roller was prepared in the same manner as in Example 1, and the hardness and electric characteristics of the obtained roller were measured. The results are shown in Table 1.

【0066】[比較例2]リチウム塩を配合しなかった
こと以外は実施例4と同様にして、シリコーンゴム組成
物を得た。次に、実施例4と同様にしてシリコーンゴム
ローラを作成し、得られたローラの硬さ及び電気特性を
測定した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 2 A silicone rubber composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that the lithium salt was not added. Next, a silicone rubber roller was prepared in the same manner as in Example 4, and the hardness and electric characteristics of the obtained roller were measured. The results are shown in Table 1.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】体積抵抗率を測定するために用いた装置の概略
図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an apparatus used to measure volume resistivity.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ローラ 2 ローラ芯金 3 電極 4 端子 5 測定機器 1 roller 2 Roller core 3 electrodes 4 terminals 5 Measuring equipment

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 勉 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 Fターム(参考) 3J103 AA13 FA02 FA14 GA57 HA20 HA31 HA47 HA52 HA53 4J002 CP031 DA017 DA037 DA077 DA087 DB006 DE107 DE137 DG046 DH006 DK006 FD01 FD06 FD13 FD14 FD32 GM00   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Tsutomu Nakamura             Gunma Prefecture Usui District, Matsuida Town             Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone electronic materials             Inside the technical laboratory F term (reference) 3J103 AA13 FA02 FA14 GA57 HA20                       HA31 HA47 HA52 HA53                 4J002 CP031 DA017 DA037 DA077                       DA087 DB006 DE107 DE137                       DG046 DH006 DK006 FD01                       FD06 FD13 FD14 FD32 GM00

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物
100重量部にリチウム塩0.001〜10重量部を配
合したことを特徴とする半導電ローラ用シリコーンゴム
組成物。
1. A silicone rubber composition for a semiconductive roller, which comprises 100 parts by weight of a thermosetting organopolysiloxane composition and 0.001 to 10 parts by weight of a lithium salt.
【請求項2】 熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物
が、更にリチウム塩以外の導電性材料を含有することを
特徴とする請求項1記載の半導電ローラ用シリコーンゴ
ム組成物。
2. The silicone rubber composition for a semiconductive roller according to claim 1, wherein the thermosetting organopolysiloxane composition further contains a conductive material other than a lithium salt.
【請求項3】 熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物
が、 (A)一分子中に珪素原子と結合するアルケニル基を少なくとも2個含有するオ ルガノポリシロキサン 100重量部、 (B)一分子中に珪素原子と結合する水素原子を少なくとも3個含有するオルガ ノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜30重量部、 (C)リチウム塩以外の導電性材料 硬化物の体積抵抗率を1×103〜1×1010Ω・cmとする量、 (D)ヒドロシリル化反応触媒 触媒量 を含有することを特徴とする請求項2記載の半導電ロー
ラ用シリコーンゴム組成物。
3. A thermosetting organopolysiloxane composition comprising: (A) 100 parts by weight of an organopolysiloxane containing at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and (B) silicon in one molecule. Organohydrogenpolysiloxane containing at least 3 hydrogen atoms bonded to atoms 0.1 to 30 parts by weight, (C) conductive material other than lithium salt, volume resistivity of cured product is 1 × 10 3 to 1 × 10 The silicone rubber composition for a semiconductive roller according to claim 2, wherein the silicone rubber composition has an amount of 10 Ω · cm and a catalytic amount of (D) a hydrosilylation reaction catalyst.
【請求項4】 熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物
が、 (A)一分子中に珪素原子と結合するアルケニル基を少なくとも2個含有するオ ルガノポリシロキサン 100重量部、 (C)リチウム塩以外の導電性材料 硬化物の体積抵抗率を1×103〜1×1010Ω・cmとする量、 (E)有機過酸化物 触媒量 を含有することを特徴とする請求項2記載の半導電ロー
ラ用シリコーンゴム組成物。
4. A thermosetting organopolysiloxane composition comprising: (A) 100 parts by weight of an organopolysiloxane containing at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and (C) a conductive material other than a lithium salt. 3. The semiconductive roller according to claim 2, further comprising: (E) an organic peroxide catalyst amount, which is an amount of the cured material having a volume resistivity of 1 × 10 3 to 1 × 10 10 Ω · cm. Silicone rubber composition for use.
【請求項5】 導電性材料が、導電性カーボンブラッ
ク、導電性亜鉛華又は導電性酸化チタンから選ばれる1
種又は2種以上を含有することを特徴とする請求項2乃
至4のいずれか1項記載の半導電ローラ用シリコーンゴ
ム組成物。
5. The conductive material is selected from conductive carbon black, conductive zinc white or conductive titanium oxide.
5. The silicone rubber composition for a semiconductive roller according to claim 2, which contains one or more kinds.
【請求項6】 リチウム塩が、有機溶媒及び/又は液状
有機高分子から選ばれる1種又は2種以上に溶解させた
ものであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか
1項記載の半導電ローラ用シリコーンゴム組成物。
6. The lithium salt is dissolved in one or more kinds selected from an organic solvent and / or a liquid organic polymer, and the lithium salt is dissolved in one or more kinds. Silicone rubber composition for semiconductive roller.
【請求項7】 リチウム塩が、LiBF4、LiCl
4、LiPF6、LiAsF6、LiSbF6、LiSO
3CF3、LiN(SO2CF32、LiSO3 49、L
iC(SO2CF33、LiB(C654から選ばれる
1種又は2種以上であることを特徴とする請求項1乃至
6のいずれか1項記載の半導電ローラ用シリコーンゴム
組成物。
7. The lithium salt is LiBFFour, LiCl
OFour, LiPF6, LiAsF6, LiSbF6, LiSO
3CF3, LiN (SO2CF3)2, LiSO3C FourF9, L
iC (SO2CF3)3, LiB (C6HFive)FourChosen from
1 or 2 or more types, It is characterized by the above-mentioned.
6. Silicone rubber for semiconductive roller according to any one of 6
Composition.
【請求項8】 請求項1乃至7のいずれか1項記載の半
導電ローラ用シリコーンゴム組成物の硬化物層を芯金に
形成してなることを特徴とする半導電ローラ。
8. A semiconductive roller comprising a cored bar on which a cured product layer of the silicone rubber composition for a semiconductive roller according to claim 1 is formed.
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