JP2003082231A - Polyimide resin composition, polyimide film and polyimide tubular material - Google Patents

Polyimide resin composition, polyimide film and polyimide tubular material

Info

Publication number
JP2003082231A
JP2003082231A JP2001282335A JP2001282335A JP2003082231A JP 2003082231 A JP2003082231 A JP 2003082231A JP 2001282335 A JP2001282335 A JP 2001282335A JP 2001282335 A JP2001282335 A JP 2001282335A JP 2003082231 A JP2003082231 A JP 2003082231A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide
resistance value
polyimide resin
resin composition
volume resistance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001282335A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taiji Nishikawa
泰司 西川
Nagayasu Kaneshiro
永泰 金城
Hitoshi Nojiri
仁志 野尻
Koji Sezaki
好司 瀬崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP2001282335A priority Critical patent/JP2003082231A/en
Publication of JP2003082231A publication Critical patent/JP2003082231A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Fixing For Electrophotography (AREA)
  • Electrophotography Configuration And Component (AREA)
  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polyimide, resin composition, a polyimide film, a polyimide tubular material and a tubular material for electrophotography which can readily be adjusted to various and stable medium resistance values from a normal temperature and normal humidity to a high temperature and high humidity, have slight fluctuation of resistance value between samples and positions and by change of amounts added, voltage change and environmental change and are transparent or nonblack. SOLUTION: This polyimide resin composition comprises 100 parts.wt. of a polyimide resin and 5-200 parts.wt. of a semiconductive inorganic substance having 1×10<3> -1×10<10> Ω.cm volume resistance value and <=3 μm diameter and has 1×10<6> -1×10<15> Ω.cm volume resistance value.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリイミドが本来
有する優れた機械特性、耐熱性等をできるだけ損なわず
に、中間抵抗値が付与されたポリイミド樹脂組成物、ポ
リイミドフィルム及びポリイミド管状物に関する。ま
た、前記ポリイミド管状物を用いた転写ベルト、中間転
写ベルト、転写定着ベルトおよび定着ベルト等の電子写
真用管状物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyimide resin composition, a polyimide film, and a polyimide tubular product having an intermediate resistance value while keeping the excellent mechanical properties, heat resistance, etc. inherent in polyimide as much as possible. Further, the present invention relates to a tubular article for electrophotography such as a transfer belt, an intermediate transfer belt, a transfer fixing belt and a fixing belt using the polyimide tubular article.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミド樹脂は、その優れた耐熱性、
耐薬品性、電気絶縁性などの特性を活かし、フィルム、
チューブ、ベルト、成形体などの形状で幅広く利用され
ている。例えば、フィルム状としてFPCやTABのベ
ース基材あるいは電線などの絶縁被膜、またチューブ、
ベルト形状として複写機等のOA機器のパーツ、成形体
として複写機の分離爪やベアリング等、様々な用途に用
いられている。また、近年は半導体周辺でもその特性を
活かして接着剤などとしても様々な用途にも用いられつ
つある。
2. Description of the Related Art Polyimide resin has excellent heat resistance,
Taking advantage of its chemical resistance and electrical insulation properties, the film,
Widely used in the form of tubes, belts, molded products, etc. For example, in the form of a film, a base material such as FPC or TAB, an insulating coating such as an electric wire, a tube,
It is used for various purposes such as parts for office automation equipment such as copiers in the form of belts and separating claws and bearings for copiers as molded bodies. Further, in recent years, it has been used in various applications as an adhesive or the like by taking advantage of its characteristics around semiconductors.

【0003】しかしながら、ポリイミド樹脂はその高絶
縁性のために、FPCや半導体周辺の製造においては搬
送や巻き取りで樹脂が帯電したり、近年の高密度回路に
おいては静電気により配線間で絶縁破壊したりするとい
った問題が顕在化している。その一方で、導通が起こら
ない程度に抵抗は高く、優れた絶縁性を保たなければな
らない。この場合求められる抵抗値は1010〜1015Ω
・cmである。また、プリンター等の電子写真用途にお
ける転写ベルト・中間転写ベルト・定着ベルト等におい
ては、中間抵抗値を有することがトナーの転写、定着の
ための機能として重要な品質課題となる事が良く知られ
ている。この場合求められる抵抗値は106〜1013Ω
・cmである。このようにポリイミド樹脂組成物に対し
ては、様々な分野において抵抗値を一定レベルに下げ、
かつ絶縁性を保持できる、中程度の抵抗値(106〜1
15Ω・cm)に制御することが強く求められているの
である。
However, due to its high insulating property, the polyimide resin is charged in the FPC or the periphery of the semiconductor during transportation and winding, and in recent high-density circuits, static electricity causes dielectric breakdown between wirings. The problem that it has become apparent. On the other hand, the resistance is high to the extent that conduction does not occur, and excellent insulation must be maintained. In this case, the required resistance value is 10 10 to 10 15 Ω
・ It is cm. Further, in transfer belts / intermediate transfer belts / fixing belts for electrophotographic applications such as printers, it is well known that having an intermediate resistance value is an important quality issue as a function for transferring and fixing toner. ing. In this case, the required resistance value is 10 6 to 10 13 Ω
・ It is cm. Thus, for the polyimide resin composition, the resistance value is lowered to a certain level in various fields,
And a moderate resistance value (10 6 to 1 that can maintain insulation)
There is a strong demand for control to 0 15 Ω · cm).

【0004】このような要求に鑑み、ポリイミド樹脂に
対し各種の導電性物質を添加して抵抗値を下げる試みが
様々なされている。例えば特開平2−110138号公
報では、芳香族ポリイミド母体と微分割電気伝導性粒子
材料とを含み、該粒子材料が均一に分散し、全体の10
〜45重量%存在する製品が示されている。また特開昭
63−311263号公報においては、カーボンブラッ
クを5〜20wt%含有し、表面抵抗が107≦Rs≦
1015(Ω/□)の範囲にある芳香族ポリアミドフィル
ム又は芳香族ポリイミドフィルムからなる事を特徴とす
る電子写真記録装置用中間転写体が示されている。
In view of these requirements, various attempts have been made to reduce the resistance value by adding various conductive substances to polyimide resin. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-110138, an aromatic polyimide matrix and a finely divided electrically conductive particle material are contained, and the particle material is uniformly dispersed.
Products present at ˜45% by weight are indicated. In JP-A-63-311263, carbon black is contained in an amount of 5 to 20 wt% and the surface resistance is 10 7 ≦ Rs ≦.
There is shown an intermediate transfer member for an electrophotographic recording device, which is characterized by comprising an aromatic polyamide film or an aromatic polyimide film in the range of 10 15 (Ω / □).

【0005】しかし上記のように、ポリイミドにカーボ
ンブラック、グラファイト、金属粒子、酸化インジウム
等の導電性充填剤を混合する方法により得られるポリイ
ミド樹脂組成物からなる成形体は機械特性に劣ったもの
であることが多く、また、これらの方法で用いられてい
る充填剤は、その抵抗率が非常に低い(1.0×10 3
Ω・cm以下)ため半導電性領域での抵抗制御は非常に
困難であり、特に抵抗値を再現性良くかつ面内ばらつき
を小さくすることが困難であった。また更にはその抵抗
率の測定電圧依存性、添加部数依存性が大きいものしか
得られなかった。
However, as mentioned above, polyimide is
Black, graphite, metal particles, indium oxide
Obtained by a method of mixing a conductive filler such as
Molded articles made of the mid resin composition have poor mechanical properties
Is often used in these methods
The filler has a very low resistivity (1.0 × 10 3
Ω · cm or less), so resistance control in the semi-conductive region is extremely
Difficult, especially resistance with good reproducibility and in-plane variation
Was difficult to reduce. Furthermore, its resistance
Only those with a large dependence on the measured voltage and the number of added parts
I couldn't get it.

【0006】また、特開平4−133077号公報にお
いては、主導電性フィラーとして平均粒径1〜50μm
で体積抵抗値率が103〜109Ω・cmの大粒径高抵抗
粒子と、補助導電フィラーとして平均粒径0.1μmよ
り小さく体積抵抗値率が10 2Ω・cm以下の小粒径抵
抗粒子とが分散されてなり、体積抵抗率が105〜10 9
Ω・cmの範囲にあることを特徴とする半導電性樹脂複
合材料が示されている。しかし、大粒径高抵抗粒子を添
加すると、フィルム、チューブ等の厚みが100μmの
薄い成形物を得る場合、絶縁破壊や抵抗値の電圧依存性
が大きくなるために好ましくない。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 4-133077 discloses
The average particle size of the main conductive filler is 1 to 50 μm.
And the volume resistivity is 103-109Large particle size of Ω · cm High resistance
The particles have an average particle size of 0.1 μm as an auxiliary conductive filler.
Volume resistance value ratio is less than 10 2Small particle size resistance of Ω · cm or less
Anti-particles are dispersed and the volume resistivity is 10Five-10 9
Semi-conductive resin compound characterized by being in the range of Ω · cm
A composite material is shown. However, adding large particle size and high resistance particles
When added, the thickness of the film, tube, etc. is 100 μm
When obtaining thin molded products, dielectric breakdown and voltage dependence of resistance value
Is large, which is not preferable.

【0007】また、半導体周辺のICパッケージ等の用
途においては、製品そのものとして検査工程で欠陥を発
見しやすいように透明性を必要とする。例えば、 TA
Bにおいては、基材であるポリイミドを介して接着剤を
過熱してICチップと圧着する際に、ポリイミドフィル
ム側から位置合わせを行う必要があり、基材には透明性
が求められている。
In applications such as IC packages around semiconductors, the product itself must be transparent so that defects can be easily found in the inspection process. For example, TA
In B, it is necessary to perform alignment from the polyimide film side when the adhesive is overheated via the polyimide as the base material and pressure-bonded to the IC chip, and the base material is required to be transparent.

【0008】さらに、電子写真装置の転写ベルトや中間
転写ベルト等においては、ミスプリントや搬送ミスでベ
ルトに付着したトナーをクリーニングする必要がある。
しかし、従来のカーボン添加を必須とするベルトでは色
が黒くなり、クリーニング完了の確認が難しい。また黒
色系のベルトは目視による作成時の異物や欠陥検査、導
電材の分散状態の確認が困難である。
Further, in a transfer belt or an intermediate transfer belt of an electrophotographic apparatus, it is necessary to clean the toner adhered to the belt due to misprinting or conveyance error.
However, it is difficult to confirm the completion of cleaning with the conventional belt that requires the addition of carbon because the color becomes black. Further, it is difficult to visually inspect a black belt for foreign matters and defects during production and to confirm the dispersed state of the conductive material.

【0009】特許第2783537号公報では、芳香族
ポリイミドと導電性を有する無機フィラーとを含有する
組成物からなるフィルムであって、体積抵抗値が10-2
〜1012Ω・cm、全光線透過率が20%以上であるこ
とを特徴とする透明導電性フィルムが示されているもの
の、無機フィラーの添加による機械強度の低下等を避け
ることはできない。
Japanese Patent No. 2785537 discloses a film made of a composition containing an aromatic polyimide and an inorganic filler having conductivity, and having a volume resistance value of 10 -2.
Although a transparent conductive film characterized by having a total light transmittance of 10 12 Ω · cm or more and 20% or more is shown, a decrease in mechanical strength due to addition of an inorganic filler cannot be avoided.

【0010】またさらに、こういった方法の欠点を改善
すべく、ポリアニリンとポリイミドのポリマーブレンド
により導電性を付与する方法が特開平8−259810
号公報、特開平8−259709号公報に開示されてい
る。しかしポリアニリンはイオン導電性を含むためその
抵抗値の環境依存性が大きく、さらに工業的な生産性は
確立されておらず、ポリマーブレンドとして使用するに
は非常に高価であるという問題点を有している。
Further, in order to improve the drawbacks of such a method, a method of imparting conductivity with a polymer blend of polyaniline and polyimide is disclosed in JP-A-8-259810.
JP-A-8-259709. However, since polyaniline contains ionic conductivity, its resistance value greatly depends on the environment, and further industrial productivity has not been established, and it is very expensive to use as a polymer blend. ing.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】このように種々の試み
にも関わらず、依然としてポリイミドの抵抗値を中間的
な値に安定して制御することは非常に困難な課題であ
る。
In spite of various attempts as described above, it is still a very difficult task to stably control the resistance value of polyimide to an intermediate value.

【0012】特にカーボンブラックを添加してポリイミ
ドの抵抗を制御する場合、ポリイミド成形特有の次のよ
うな課題がある。ポリイミド成形は押出法、カレンダ成
形といった熱溶融による単純な成形ではなく、前駆体の
ポリアミド酸溶液を加熱し、溶媒乾燥とイミド化反応を
伴う非常に複雑なものである。この乾燥及び反応中、材
料のモルフォロジー、極性、溶解性は大幅に変化する。
特に、ケミカルキュアでは変化はさらに劇的である。カ
ーボンブラックは元来凝集し易い材料である。抵抗制御
のために添加されたカーボンブラックは乾燥及び反応過
程で凝集を起こし、わずかな成形条件の変化で大幅な抵
抗変化が生じ、成形条件の設定は非常に注意を要するも
のであった。また、ポリイミド樹脂、中でも全芳香族の
ポリイミド樹脂は体積抵抗値が1016Ω・cmと非常に
高く、ポリアミドやポリ塩化ビニルのような体積抵抗値
が低い樹脂に比べて、導電性フィラーを大量に添加する
必要があり、大量であるがために、混錬・分散不足によ
る体積抵抗値のばらつきが大きかった。
In particular, when carbon black is added to control the resistance of polyimide, there are the following problems peculiar to polyimide molding. Polyimide molding is not simple molding such as extrusion method and calender molding by heat melting, but is very complicated involving heating of a polyamic acid solution as a precursor, solvent drying and imidization reaction. During this drying and reaction, the morphology, polarity, and solubility of the material changes significantly.
Especially with chemical cures, the changes are even more dramatic. Carbon black is originally a material that easily aggregates. The carbon black added for resistance control causes agglomeration during the drying and reaction processes, and a slight change in the molding conditions causes a large change in resistance, so that the molding conditions should be set very carefully. Polyimide resins, especially wholly aromatic polyimide resins, have a very high volume resistance value of 10 16 Ω · cm, and a large amount of conductive filler is used as compared with resins having a low volume resistance value such as polyamide and polyvinyl chloride. It was necessary to add to the above, and since it was a large amount, there was a large variation in the volume resistance value due to insufficient kneading and dispersion.

【0013】また、カーボンブラックや導電性粒子を添
加して抵抗を制御する場合、これらの材料は抵抗値が低
いため、添加量のわずかな違いや分散状態の違いによっ
て抵抗値が大幅に変化したり、全く同じ配合であっても
サンプル間で抵抗値が異なったりするという問題があっ
た。さらに、ベルトのように成形体の厚みが薄いと、部
分的なばらつきが大きくなり、顕著な絶縁信頼性の低下
につながるため、抵抗制御はより困難なものとなった。
Further, when the resistance is controlled by adding carbon black or conductive particles, these materials have low resistance values, so that the resistance values greatly change due to a slight difference in the addition amount or a difference in the dispersion state. There was a problem that the resistance value was different between the samples even if the compositions were exactly the same. Further, when the thickness of the molded body is thin like a belt, partial variation becomes large, which leads to a remarkable decrease in insulation reliability, so that resistance control becomes more difficult.

【0014】また、転写ベルトや中間転写ベルトに用い
る抵抗制御ベルトは、あらゆる環境下で抵抗値は一定で
あることが好ましい。具体的には常温常湿時と高温高湿
時の抵抗値の比が100倍以下、さらには30倍以下で
あることが好ましい。しかし、特に、カーボンブラック
や導電性粒子等の導電材を添加した樹脂材料では、高温
高湿下では、導電材と樹脂の界面に水が浸透し、電気抵
抗が大幅に低下する。またベース樹脂が吸湿膨張する
と、添加剤の分散状態が変化し、抵抗値が大幅に変動す
る。
Further, the resistance control belt used as the transfer belt or the intermediate transfer belt preferably has a constant resistance value under any environment. Specifically, the ratio of the resistance value at room temperature and normal humidity to that at high temperature and high humidity is preferably 100 times or less, more preferably 30 times or less. However, particularly in a resin material to which a conductive material such as carbon black or conductive particles is added, water permeates into the interface between the conductive material and the resin under high temperature and high humidity, and the electric resistance is significantly reduced. Further, when the base resin absorbs moisture and expands, the dispersed state of the additive changes, and the resistance value changes significantly.

【0015】転写ベルトや中間転写ベルトに用いる場
合、画像の種類や環境に応じて、電圧や電流の制御をす
る必要がある。電圧に応じて抵抗値に変動があっては制
御が難しくなり、抵抗値の電圧依存性は少ないほど好ま
しい。100Vと1000Vの抵抗値の比が100倍以
下、さらに好ましくは30倍以下である。
When it is used for a transfer belt or an intermediate transfer belt, it is necessary to control the voltage and current according to the type of image and the environment. If the resistance value varies depending on the voltage, it becomes difficult to control, and it is more preferable that the resistance value has less voltage dependency. The ratio of the resistance values of 100 V and 1000 V is 100 times or less, more preferably 30 times or less.

【0016】さらに、FPCやTAB等においては、目
視や光学式による異物検査やフィルム越しの位置あわせ
をする必要があり、また転写ベルトや中間転写ベルト等
においてはミスプリントや搬送ミスでベルトに付着した
トナーをクリーニングする必要がある。しかし、カーボ
ン添加系ベルトでは色が黒くなり、クリーニング完了の
確認が難しい。また黒色系のベルトは目視による作成時
の異物や欠陥検査、導電材の分散状態の確認が困難であ
る。
Further, in FPC, TAB, etc., it is necessary to visually inspect or optically inspect for foreign matter and position the film, and in the case of a transfer belt, an intermediate transfer belt, etc., it is attached to the belt due to misprinting or conveyance error. Needed toner is cleaned. However, with the carbon-containing belt, the color becomes black, and it is difficult to confirm the completion of cleaning. Further, it is difficult to visually inspect a black belt for foreign matters and defects during production and to confirm the dispersed state of the conductive material.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な課題を解決すべく種々の導電材の効果を比較検討した
結果、体積抵抗値が1×103〜1×1010Ω・cmの
半導電性無機物を特定量だけポリイミド系樹脂中に分散
・混合することで、中抵抗値を有し、高温高湿時での抵
抗値と絶縁性の変動が少なく、抵抗値の電圧依存性が少
なく、サンプル間のばらつきが小さく、クリーニング状
況、分散状態、異物欠陥等の目視による確認ができるよ
うに、必要に応じて透明もしくは非黒色系にすることが
可能なポリイミド樹脂組成物を得る方法を見出し、本発
明を完成するに至った。
As a result of comparative examination of the effects of various conductive materials in order to solve such problems, the present inventors have found that the volume resistance value is 1 × 10 3 to 1 × 10 10 Ω. By dispersing and mixing a specific amount of semi-conductive inorganic substance of cm in the polyimide resin, it has a medium resistance value, there is little fluctuation of resistance value and insulation at high temperature and high humidity, and resistance value depends on voltage. To obtain a polyimide resin composition that can be made transparent or non-black as needed so that the cleaning property, the dispersion state, the foreign substance defect, etc. can be visually confirmed. A method was found and the present invention was completed.

【0018】すなわち本発明の第一は、ポリイミド樹脂
100重量部に対し、体積抵抗値が1×103〜1×1
10Ω・cmで粒径が3μm以下の半導電性無機物を5
〜200重量部含有し、体積抵抗値が1×106〜1×
1015Ω・cmの範囲内にあることを特徴とするポリイ
ミド樹脂組成物を内容とする。
That is, the first aspect of the present invention is that the volume resistance value is 1 × 10 3 to 1 × 1 with respect to 100 parts by weight of the polyimide resin.
5 semiconductive inorganic substances with a particle size of 3 μm or less at 0 10 Ω · cm
˜200 parts by weight, and volume resistance value of 1 × 10 6 to 1 ×
A polyimide resin composition characterized by being in the range of 10 15 Ω · cm.

【0019】前記半導電性無機物の好ましい体積抵抗値
は1×104〜1×109Ω・cmであり、粒径は2μm
以下である。
The volume resistivity of the semiconductive inorganic material is preferably 1 × 10 4 to 1 × 10 9 Ω · cm, and the particle size is 2 μm.
It is the following.

【0020】一つの実施態様において、前記半導電性無
機物は、導電性物質で被覆された無機物であり、好まし
くは、硫酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、マイカ、シ
リカ、ガラス、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、チタ
ン酸カリウム、ウォラストナイト、炭酸カルシウム、タ
ルクおよびカオリンからなる群より選択される少なくと
も1種の無機物であり、より好ましくは、硫酸バリウ
ム、ホウ酸アルミニウムおよびマイカからなる群より選
択される少なくとも1種の無機物である。
In one embodiment, the semiconductive inorganic material is an inorganic material coated with a conductive material, preferably barium sulfate, aluminum borate, mica, silica, glass, alumina, zinc oxide, titanium oxide. , Potassium titanate, wollastonite, calcium carbonate, talc, and at least one inorganic material selected from the group consisting of kaolin, and more preferably at least one selected from the group consisting of barium sulfate, aluminum borate, and mica. It is one kind of inorganic substance.

【0021】また、前記導電性物質は、好ましくは、I
TO(錫ドープ酸化インジウム)、ATO(アンチモン
ドープ酸化錫)、NTO(ニオブドープ酸化錫)、TT
O(タンタルドープ酸化錫)、FTO(フッ素化物ドー
プ酸化錫)およびTO(酸化錫)からなる群より選択さ
れる少なくとも1種の導電性物質であり、より好ましく
は、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、ATO(アン
チモンドープ酸化錫)、NTO(ニオブドープ酸化
錫)、TTO(タンタルドープ酸化錫)、FTO(フッ
素化物ドープ酸化錫)からなる群より選択される少なく
とも1種の導電性物質であって、そのドープ含有量が該
導電性物質を基準として10重量%以下である。
The conductive material is preferably I
TO (tin-doped indium oxide), ATO (antimony-doped tin oxide), NTO (niobium-doped tin oxide), TT
It is at least one conductive material selected from the group consisting of O (tantalum-doped tin oxide), FTO (fluoride-doped tin oxide) and TO (tin oxide), and more preferably ITO (tin-doped indium oxide). At least one conductive material selected from the group consisting of ATO (antimony-doped tin oxide), NTO (niobium-doped tin oxide), TTO (tantalum-doped tin oxide), and FTO (fluoride-doped tin oxide), The dope content is 10% by weight or less based on the conductive substance.

【0022】これらの導電性物質は、好ましくは、酸化
性雰囲気中で加熱処理して得られる導電性物質である。
These conductive substances are preferably conductive substances obtained by heat treatment in an oxidizing atmosphere.

【0023】また、本発明の樹脂組成物の一つは、前記
半導電性無機物の他に、ポリイミド樹脂100重量部に
対し、0.01〜20重量部の導電性物質を含み得る。
Further, one of the resin compositions of the present invention may contain 0.01 to 20 parts by weight of a conductive material with respect to 100 parts by weight of the polyimide resin, in addition to the semiconductive inorganic material.

【0024】なお、本発明の好ましい実施態様として、
体積抵抗値が1×106〜1×101 3Ω・cmの範囲
内、あるいは、体積抵抗値が1×109〜1×1015Ω
・cmの範囲内にあり全光線透過率の保持率が50%以
上である前記ポリイミド樹脂組成物が挙げられる。
As a preferred embodiment of the present invention,
Volume resistivity 1 × 10 6 ~1 × 10 1 within the range of 3 Omega · cm, or volume resistivity 1 × 10 9 ~1 × 10 15 Ω
-The above-mentioned polyimide resin composition having a total light transmittance of 50% or more in the range of cm.

【0025】さらに、本発明の第二は、前記ポリイミド
樹脂組成物からなるポリイミドフィルムおよびポリイミ
ド管状物を提供する。
Furthermore, the second aspect of the present invention provides a polyimide film and a polyimide tubular article made of the above-mentioned polyimide resin composition.

【0026】本発明のポリイミド管状物の実施態様の一
つとして、電子写真装置の転写ベルト、中間転写ベル
ト、転写定着ベルトまたは定着ベルトのいずれかに使用
されるポリイミド管状物が挙げられる。
As one embodiment of the polyimide tubular article of the present invention, there is a polyimide tubular article used for any of a transfer belt, an intermediate transfer belt, a transfix belt or a fixing belt of an electrophotographic apparatus.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】本発明におけるポリイミド樹脂と
は、その構造中にイミド結合を有する樹脂全般を差し、
ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリアミド
イミドなどの一般名称で呼ばれる樹脂はもちろん、他樹
脂との共重合系やブレンド物も含むものである。特には
半導電性無機物と強く結合することができる反応硬化型
の直鎖状ポリイミド樹脂が好ましい。ここで、反応硬化
型の直鎖状ポリイミド樹脂とは、前駆体である直鎖状ポ
リアミド酸を経由し、アミド酸部位が脱水閉環すること
で得られるポリイミド樹脂のことをさし、ピロメリット
酸二無水物と4,4′−ジアミノジフェニルエーテルと
の反応で得られる直鎖状のポリアミド酸を、加熱、触媒
添加等することで得られるポリイミド樹脂が代表例とし
て挙げられる。直鎖状のポリアミド酸は、カルボン酸基
やアミノ基等の官能基を有し、これら官能基は半導電性
無機物と強く相互作用し、半導電性無機物と強固な結合
を形成することができるため、反応硬化型のポリイミド
樹脂が好ましく用いられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polyimide resin in the present invention refers to any resin having an imide bond in its structure,
This includes not only resins called by general names such as polyetherimide, polyesterimide, and polyamideimide, but also copolymerization systems and blends with other resins. In particular, a reaction-curable linear polyimide resin that can strongly bond with a semiconductive inorganic material is preferable. Here, the reaction-curable linear polyimide resin refers to a polyimide resin obtained by subjecting a linear polyamic acid as a precursor to dehydration ring closure of an amic acid site, and pyromellitic acid. A typical example is a polyimide resin obtained by heating, adding a catalyst, or the like to a linear polyamic acid obtained by reacting a dianhydride with 4,4′-diaminodiphenyl ether. The linear polyamic acid has a functional group such as a carboxylic acid group or an amino group, and these functional groups can strongly interact with the semiconductive inorganic substance and form a strong bond with the semiconductive inorganic substance. Therefore, a reaction-curable polyimide resin is preferably used.

【0028】一般的ポリイミドとして、ジアミン化合物
とテトラカルボン酸二無水物をモノマーとして用いるの
が通常である。ジアミン化合物としては、例として
As a general polyimide, it is usual to use a diamine compound and tetracarboxylic dianhydride as monomers. Examples of diamine compounds include

【0029】[0029]

【化1】 (式中、Xは同一または異なって、ハロゲン、−C
3、−OCH3、−O(CH 2nCH3、−(CH2n
CH3、−CF3、−OCF3からなる群から選ばれる少
なくとも一種の基を表す。また、Aは同一または異なっ
て、O、S、C=O、(CH2n、SO2、N=Nから
なる群から選ばれる少なくとも一種の基を表す。nは1
以上の整数。)に示す種々のモノマーを用いる事ができ
る。またテトラカルボン酸二無水物としては
[Chemical 1] (In the formula, X is the same or different, and halogen, -C
H3, -OCH3, -O (CH 2)nCH3,-(CH2)n
CH3, -CF3, -OCF3A few selected from the group consisting of
At least represents a kind of group. A is the same or different
, O, S, C = O, (CH2)n, SO2, From N = N
Represents at least one group selected from the group consisting of n is 1
Greater than or equal to an integer. ) Various monomers shown in
It Also, as tetracarboxylic dianhydride

【0030】[0030]

【化2】 (式中、nは1以上の整数。)に示す種々のモノマーを
用いる事ができる。これらの組み合わせにより様々な特
徴を出す事が可能であり、用途や加工法などの状況に応
じて選択することができる。
[Chemical 2] Various monomers shown in the formula (n is an integer of 1 or more) can be used. Various characteristics can be brought out by combining these, and it can be selected according to the situation such as application and processing method.

【0031】例えば屈曲鎖を多く(好ましくは2つ以
上)含む、および/またはアミノ基をメタ位に有する芳
香族ジアミンを用い、2環以上のテトラカルボン酸二無
水物を用いる事で、熱可塑性のポリイミドとすることが
でき、加熱溶融成型が可能な樹脂組成物を提供可能であ
る。例えば、2、2´−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)プロパンと、オキシジフタル酸二無水物の組み
合わせや、ビス(2−(4−アミノフェノキシ)エトキ
シ)エタンと3,3´,4,4´ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物の組み合わせ等を例示することがで
きる。
For example, by using an aromatic diamine containing a large number of bent chains (preferably two or more) and / or having an amino group in the meta position and using a tetracarboxylic dianhydride having two or more rings, thermoplasticity is improved. It is possible to provide a resin composition capable of being melt-molded by heating. For example, a combination of 2,2′-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane and oxydiphthalic acid dianhydride, or bis (2- (4-aminophenoxy) ethoxy) ethane and 3,3 ′, 4,4 ′ Examples thereof include a combination of benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride.

【0032】また、ポリイミドはイミド基の存在により
通常高吸水率であるが、特定のモノマーの組み合わせに
より比較的低吸水率の樹脂組成物とすることもできる。
例として、テトラカルボン酸二無水物として2つ以上の
エステル結合で複数のベンゼン核が結合された構造を持
つものを使用するポリイミドが挙げられる。具体的に
は、
Further, the polyimide usually has a high water absorption rate due to the presence of the imide group, but a resin composition having a relatively low water absorption rate can be prepared by combining a specific monomer.
As an example, there may be mentioned a polyimide using a tetracarboxylic dianhydride having a structure in which a plurality of benzene nuclei are bound by two or more ester bonds. In particular,

【0033】[0033]

【化3】 (式中、nは1以上の整数。)[Chemical 3] (In the formula, n is an integer of 1 or more.)

【0034】[0034]

【化4】 [Chemical 4]

【0035】[0035]

【化5】 に示されるような酸二無水物が挙げられる。この場合用
いられるジアミン化合物としては、イミド基含有率を下
げるために比較的長鎖のモノマーを用いることが好まし
い。例えば、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベ
ンゼンやその結合位置異性体、2,2´−ビス(4−ア
ミノフェノキシフェニル)プロパン等を挙げることがで
きる。ただし、酸二無水物についてもジアミンについて
も、長鎖でかつ屈曲鎖を多数有する構造は、同時に前述
の熱可塑性発現の条件でもあり、十分な耐熱性を要求す
る場合には不適当である。この場合は長鎖でありかつ直
線的構造を全体的または部分的に有するモノマーが適当
である。例えばテトラカルボン酸二無水物としては、
[Chemical 5] An acid dianhydride as shown in is mentioned. As the diamine compound used in this case, it is preferable to use a relatively long-chain monomer in order to reduce the imide group content. For example, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, its bond position isomer, 2,2'-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, etc. can be mentioned. However, for both the acid dianhydride and the diamine, the structure having a long chain and a large number of bent chains is also a condition for exhibiting the above-mentioned thermoplasticity, and is not suitable when sufficient heat resistance is required. In this case, long-chain monomers having a linear structure wholly or partially are suitable. For example, as tetracarboxylic dianhydride,

【0036】[0036]

【化6】 で示す構造のモノマー(TMHQ)が例として挙げられ
る。このモノマーは、屈曲鎖を含むものの全体としては
概ね直線的なコンフォメーションを取りうる構造であ
り、その結合数の多さのわりには比較的剛直なポリイミ
ドを形成することを見出している。この原料を用いれば
線膨張係数15ppm以下、吸水率1.5%以下、吸湿
膨張係数10ppm以下の加熱や吸湿による寸法変化が
少ないポリイミド樹脂を容易に得ることができる。また
ジアミンとしても例えばビフェニル構造やナフタレン構
造をエーテル結合でつなぐような構造が、長鎖でありな
がら比較的剛直な構造として選択できる。例えば4,4
´−ビスアミノフェノキシビフェニルなどである。これ
ら酸二無水物とジアミンの組み合わせにより、比較的低
吸水率であり、かつ顕著な熱軟化性を有さないポリイミ
ドを得ることができる。またこれらモノマーのみでなく
汎用のピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、パラフェニレンジアミン、4,4
´−ジアミノジフェニルエーテル等を適宜共重合する事
により、任意の特性のポリイミドを設計可能である。
[Chemical 6] An example is a monomer (TMHQ) having a structure shown by. It has been found that this monomer has a structure in which it contains a bent chain and can take a substantially linear conformation as a whole, and it forms a relatively rigid polyimide in spite of the large number of bonds. By using this raw material, it is possible to easily obtain a polyimide resin having a linear expansion coefficient of 15 ppm or less, a water absorption rate of 1.5% or less, and a hygroscopic expansion coefficient of 10 ppm or less, which has a small dimensional change due to heating or moisture absorption. Further, as the diamine, for example, a structure in which a biphenyl structure or a naphthalene structure is connected by an ether bond can be selected as a relatively rigid structure although it has a long chain. For example 4,4
′ -Bisaminophenoxybiphenyl and the like. By combining these acid dianhydrides and diamines, it is possible to obtain a polyimide having a relatively low water absorption and having no remarkable thermal softening property. In addition to these monomers, general-purpose pyromellitic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, paraphenylenediamine, 4,4
By appropriately copolymerizing ′ -diaminodiphenyl ether or the like, a polyimide having arbitrary characteristics can be designed.

【0037】本発明はポリイミド樹脂に、半導電性無機
物を配合するため、ポリイミドに対しては、ポリイミド
単体で用いる場合に比較してより高い靭性が求められ
る。ポリイミド自身の靭性が十分でないと、無機物の配
合により必然的に靭性が低下するため、実用に供する事
ができなくなる場合がある。その点で最も好ましいの
は、ピロメリット酸二無水物と4,4´−ジアミノジフ
ェニルエーテルからなるポリイミドである。本構造は、
十分な耐熱性と高い靭性を兼ね備え、なおかつ広い範囲
の加工条件でその特性を維持できるバランスの取れた構
造である。
In the present invention, the polyimide resin is mixed with a semiconductive inorganic substance, and therefore, higher toughness is required for the polyimide as compared with the case of using the polyimide alone. If the toughness of the polyimide itself is not sufficient, the toughness inevitably decreases due to the blending of the inorganic substance, and it may not be practically applicable. In that respect, the most preferable is a polyimide composed of pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether. This structure is
It has a well-balanced structure that has both sufficient heat resistance and high toughness and can maintain its characteristics under a wide range of processing conditions.

【0038】上記ポリイミド樹脂に対して配合される半
導電性無機物としては、体積抵抗値が1×103〜1×
1010Ω・cmの半導電性無機物、好ましくは、体積抵
抗値が1×104〜1×109Ω・cmの半導電性無機物
が良い。さらに、この半導電性無機物は導電性物質で被
覆された無機物であるとよい。というのは、被覆する導
電性物質の種類、量、形成方法によって様々な抵抗の材
料を調整することが出来るからである。例えば、チタン
酸カリウム、酸化錫、酸化亜鉛等といった材料は、特定
の抵抗値しか有しておらず、これらを用いて様々な抵抗
への制御をする場合、異なる抵抗値を有する2種以上の
フィラーを混合する等の方法をとる必要があったり、配
合部数を変更する必要があり、各フィラーに応じた分散
性の制御や配合調整に大変な労力を要したり、配合量の
変更により機械特性が異なったりする。しかし、本発明
の導電性物質で被覆された材料を用いれば、各種抵抗を
有する材料を単一材料で容易に作成することができた
り、機械特性や分散性を変えることなく導電性を制御で
きたりするため、配合量が全く同じでも異なる抵抗値を
有するポリイミド樹脂を作成することができ、機械特性
や分散性は全く同じで体積抵抗値のみが異なる材料を容
易に得ることができる。また、半導電性無機物の機械特
性、分散性といった基本特性は同一であるため、種類変
更による洗浄作業や切り替え作業も非常に容易になる。
これら物質は、カーボンブラック、黒鉛、金属といった
導電性の材料よりも抵抗が高く、狙いの体積抵抗値に近
いために、添加部数に対する抵抗の変動が少なくてす
む。またカーボンブラックや金属よりもポリイミドに抵
抗値が近いため、複合材料中に電圧の局所的な偏りが発
生することを抑えることが出来、抵抗値の電圧依存性を
少なくできるために好ましい。
The semi-conductive inorganic material blended with the above polyimide resin has a volume resistance value of 1 × 10 3 to 1 ×.
A semiconductive inorganic substance having a resistivity of 10 10 Ω · cm, preferably a semiconductive inorganic substance having a volume resistance value of 1 × 10 4 to 1 × 10 9 Ω · cm is preferable. Furthermore, this semiconductive inorganic material may be an inorganic material coated with a conductive material. This is because various resistance materials can be adjusted depending on the type, amount, and forming method of the conductive substance to be coated. For example, materials such as potassium titanate, tin oxide, and zinc oxide have only specific resistance values, and when these are used to control various resistances, two or more kinds of materials having different resistance values are used. It is necessary to take a method such as mixing the filler, or to change the number of parts to be mixed, which requires a great deal of labor to control the dispersibility and adjust the composition according to each filler, and to change the mixing amount The characteristics may differ. However, if the material coated with the conductive substance of the present invention is used, a material having various resistances can be easily prepared from a single material, and the conductivity can be controlled without changing the mechanical characteristics or dispersibility. Therefore, it is possible to prepare polyimide resins having different resistance values even with the same compounding amount, and it is possible to easily obtain materials having exactly the same mechanical properties and dispersibility but different volume resistance values. Further, since the basic characteristics such as mechanical characteristics and dispersibility of the semiconductive inorganic material are the same, the cleaning work and the switching work by changing the type become very easy.
These substances have a higher resistance than conductive materials such as carbon black, graphite, and metals, and are close to the target volume resistance value, so that the variation in resistance with respect to the number of added parts can be small. In addition, since the resistance value is closer to that of polyimide than carbon black or metal, it is possible to suppress the occurrence of local bias of voltage in the composite material and to reduce the voltage dependence of the resistance value, which is preferable.

【0039】本発明に用いられる無機物(基体粒子)と
して、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物とい
ったセラミック材料や金属塩といったものが挙げられ
る。例えば、亜鉛、酸化亜鉛、アルミニウム、アルミ
ナ、水酸化アルミニウム、カルシウム、炭酸カルシウ
ム、銀、酸化クロム、ケイ素、シリカ、ガラス、酸化チ
タン、チタン酸カリウム、その他チタン酸アルカリ金
属、ホウ酸アルミニウム、鉄、酸化鉄、銅、酸化銅、炭
酸バリウム、硫酸バリウム、水酸化バリウム、炭酸バリ
ウム、マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭化ケイ
素、炭化タングステン、炭化チタン、窒化アルミニウ
ム、窒化ケイ素、窒化ゲルマニウム、窒化タンタル、窒
化チタン、窒化ホウ素、マイカ、タルク、ウォラストナ
イト、タルク、カオリン、粘土鉱物等が挙げられる。
Examples of the inorganic material (base particles) used in the present invention include ceramic materials such as metals, metal oxides, metal carbides and metal nitrides, and metal salts. For example, zinc, zinc oxide, aluminum, alumina, aluminum hydroxide, calcium, calcium carbonate, silver, chromium oxide, silicon, silica, glass, titanium oxide, potassium titanate, other alkali metal titanates, aluminum borate, iron, Iron oxide, copper, copper oxide, barium carbonate, barium sulfate, barium hydroxide, barium carbonate, magnesium, magnesium hydroxide, silicon carbide, tungsten carbide, titanium carbide, aluminum nitride, silicon nitride, germanium nitride, tantalum nitride, titanium nitride , Boron nitride, mica, talc, wollastonite, talc, kaolin, clay minerals and the like.

【0040】酸化亜鉛、酸化チタン、チタン酸カリウム
は屈折率が高く、隠ぺい率も高い。特に酸化チタンは、
屈折率が2.5以上有り高い隠ぺい率を有し、材料を白
くする特性を持ち、ポリイミドに添加した場合には材料
は黄色となる。またカーボンブラックや有機顔料といっ
たその他の黒色添加剤を添加したとしても容易に黒くな
ることはない。その結果、これら材料で作成したベルト
はトナークリーニング時の汚れ状態のチェックを容易に
し、作成時の異物や欠陥検査、分散状態の確認が行いや
すく、マーキングの形成も行いやすい。また、絶縁破壊
箇所や表面の傷をすぐに判別できる。また、酸化チタン
は、酸化錫被膜を形成する場合、被覆層の物質の結晶構
造とそのものの結晶構造とが同一であるので、密着性に
優れた酸化錫被膜が形成され、その結果として導電性に
優れるだけでなく、導電性フィラーを樹脂等へ添加する
場合に、その混入時に導電性フィラーの表面に被覆され
ていた酸化錫被膜が剥離して導電性の損失を招くことも
ない。
Zinc oxide, titanium oxide and potassium titanate have a high refractive index and a high hiding rate. Especially titanium oxide
It has a refractive index of 2.5 or more, a high concealment ratio, and has the property of making the material white. When added to polyimide, the material becomes yellow. Further, even if another black additive such as carbon black or an organic pigment is added, it does not become black easily. As a result, the belt made of these materials makes it easy to check the dirt state at the time of toner cleaning, easily inspects for foreign matters and defects at the time of making, confirms the dispersed state, and easily forms markings. In addition, it is possible to immediately identify the location of the dielectric breakdown and the surface scratch. Further, in the case of forming a tin oxide film, titanium oxide has the same crystal structure as that of the substance of the coating layer, so that a tin oxide film having excellent adhesion is formed, and as a result, the conductive film has a conductive property. In addition, when the conductive filler is added to the resin or the like, the tin oxide coating that has been coated on the surface of the conductive filler does not peel off when the conductive filler is mixed, resulting in loss of conductivity.

【0041】一方、硫酸バリウム、ホウ酸アルミニウ
ム、マイカは屈折率が樹脂の屈折率に近似しているの
で、樹脂に混入して透明性を損なうことが少なく、着色
することもないために好ましい。さらに他の着色剤を添
加することによって任意の色調が得ることが出来るため
に好ましい。またシリカ、ガラス、アルミナ、ウォラス
トナイト、炭酸カルシウム、タルク、カオリンも比較的
屈折率が低く、樹脂に添加しても透明性を損ないにく
い。
On the other hand, barium sulfate, aluminum borate and mica are preferable because they have a refractive index close to that of the resin and therefore are less likely to be mixed with the resin to impair transparency and not colored. It is preferable to add another colorant because an arbitrary color tone can be obtained. Further, silica, glass, alumina, wollastonite, calcium carbonate, talc, and kaolin also have a relatively low refractive index, and their transparency is not easily impaired even when added to a resin.

【0042】また、透明性と隠蔽性とのバランスを程よ
くとるために、隠蔽性の優れた半導電性無機物と透明性
の優れた半導電性無機物を混合してもよい。
In order to balance the transparency and the concealing property appropriately, a semiconducting inorganic substance having an excellent concealing property and a semiconducting inorganic substance having an excellent transparency may be mixed.

【0043】本発明に用いる半導電性無機物の形状とし
ては、粒状、針状、板状等があり、いずれの構造であっ
ても中抵抗領域に制御することができる。中でも針状や
板状のものは、互いに接触しやすく配合量が少なくても
中抵抗領域への抵抗制御が可能となるために好ましい。
また機械強度増加や線膨張係数、吸湿膨張係数低減の効
果が高く、引き裂き等による断裂や張力による寸法変化
を防ぎ、高耐久かつ高寸法安定性で長期の搬送特性にす
ぐれたベルトを得ることができる。粒状、針状、板状の
いかなる形状であれ、粒径は3μm以下、好ましくは2
μm以下、さらに好ましくは1μm以下である。ここで
言う粒径とは、粒状の場合においては平均粒径のことを
指し、針状、板状の場合においてはそれぞれ短軸径、厚
みのことを指す。100μm以下といった厚みが薄い成
形体においては、3μmよりも大きい材料の場合、分散
不良による局部的な凝集によって絶縁破壊が起こるため
に好ましくない。一方3μm以下であれば、多少の凝集
であっても絶縁性が悪化しないために好ましい。粒状の
場合、粒径は3μm以下、好ましくは1μm以下のもの
が良い。径がこの範囲を外れると抵抗値と機械的強度の
バランスがとりにくくなる。針状の場合、短軸径は3μ
m以下、好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.
5μm以下、且つ長軸径は50μm以下、好ましくは1
0μm以下、更には1μm以下のものを用いるのが好ま
しい。短軸径と長軸径がこの範囲を外れると抵抗値と機
械的強度のバランスがとりにくくなる。板状の場合、厚
みは3μm以下、好ましくは2μm以下、さらに好まし
くは1μm以下、特に好ましくは0.5μm以下、且つ
長さは50μm以下、好ましくは10μm以下、更には
1μm以下のものを用いるのが好ましい。厚みと長さが
この範囲を外れると絶縁性、抵抗値、機械的強度のバラ
ンスがとりにくくなる。
The shape of the semiconductive inorganic material used in the present invention may be granular, needle-like, plate-like or the like, and any structure can be controlled to a medium resistance region. Among them, needle-like or plate-like ones are preferable because they easily come into contact with each other and the resistance can be controlled in the medium resistance region even if the blending amount is small.
In addition, it is highly effective in increasing mechanical strength, reducing linear expansion coefficient, and reducing coefficient of hygroscopic expansion, and prevents rupture due to tearing, etc. and dimensional change due to tension, and provides a belt with excellent durability and high dimensional stability and long-term transport characteristics. it can. Whether it is granular, needle-shaped or plate-shaped, the particle size is 3 μm or less, preferably 2
It is less than or equal to μm, and more preferably less than or equal to 1 μm. The particle size as used herein refers to the average particle size in the case of particles, and the minor axis diameter and thickness in the case of needles and plates, respectively. In a molded body having a small thickness of 100 μm or less, a material having a thickness of more than 3 μm is not preferable because dielectric breakdown occurs due to local aggregation due to poor dispersion. On the other hand, if it is 3 μm or less, the insulating property is not deteriorated even if it is a little aggregated, which is preferable. In the case of particles, the particle size is 3 μm or less, preferably 1 μm or less. If the diameter is out of this range, it becomes difficult to balance the resistance value and the mechanical strength. In the case of needles, the minor axis diameter is 3μ
m or less, preferably 1 μm or less, more preferably 0.
5 μm or less and major axis diameter of 50 μm or less, preferably 1
It is preferable to use one having a thickness of 0 μm or less, further preferably 1 μm or less. If the minor axis diameter and the major axis diameter deviate from this range, it becomes difficult to balance the resistance value and the mechanical strength. In the case of a plate, a plate having a thickness of 3 μm or less, preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less, particularly preferably 0.5 μm or less and a length of 50 μm or less, preferably 10 μm or less, further 1 μm or less is used. Is preferred. If the thickness and length deviate from this range, it becomes difficult to balance the insulating property, resistance value, and mechanical strength.

【0044】特に、針状無機物としては酸化チタンウィ
スカー、チタン酸アルカリ金属ウィスカー、ホウ酸アル
ミニウムウィスカー等を使用したものがよい。また、板
状無機物としてはマイカ、タルク、粘土鉱物等使用した
ものがよい。特に、隠蔽性を高めるには無機物に酸化チ
タン、チタン酸アルカリ金属を使用し、透明性を高める
にはホウ酸アルミニウム、マイカ、タルク、粘土鉱物を
使用するとよい。ホウ酸アルミニウムは、比重が小さい
ために、添加量が少なくても、効果的に抵抗を下げるこ
とが出来るために好ましい。また、チタン酸アルカリ金
属よりも耐酸性に優れ、導電性物質を被覆する際に、酸
によりアルカリ成分が溶出せず、折損、微細化、多孔質
化せず、少量の導電性物質での被覆が可能となるので好
ましい。
In particular, as the acicular inorganic substance, it is preferable to use titanium oxide whiskers, alkali metal titanate whiskers, aluminum borate whiskers and the like. Further, as the plate-like inorganic substance, it is preferable to use mica, talc, clay mineral or the like. In particular, titanium oxide or alkali metal titanate may be used as an inorganic substance to enhance the hiding property, and aluminum borate, mica, talc or clay mineral may be used to enhance transparency. Aluminum borate is preferable because it has a low specific gravity and can effectively reduce the resistance even if the addition amount is small. In addition, it has better acid resistance than alkali metal titanate, and when coating a conductive substance, the alkali component does not elute due to acid, does not break, miniaturize, or become porous, and is coated with a small amount of a conductive substance. Is possible, which is preferable.

【0045】上記の基体粒子に酸化錫の導電性被覆層を
形成させる方法を例にとって、導電性物質で被覆された
無機物を調製する一つの方法を以下に説明する。
One method for preparing an inorganic material coated with a conductive substance will be described below by taking the method for forming a conductive coating layer of tin oxide on the above-mentioned base particles as an example.

【0046】まず、基体粒子上に酸化錫の水和物の被覆
層を形成させるには、例えば、基体粒子の水性懸濁液を
調整し、前期水溶性懸濁液に錫の金属液溶液と、アルカ
リまたは酸とを添加し基体粒子上に酸化錫の水和物の沈
殿を析出せしめて被覆層を形成させる。前記の被覆処理
は、錫の金属塩溶液と、アルカリまたは酸とを別個に添
加して処理し沈殿を析出させても、あるいは並行的に添
加処理して沈殿を析出させてもよい。また前記懸濁液を
40〜90℃の加温下でおこなったり、さらには前記添
加処理速度を制御しながら沈殿を徐々に析出させたりす
る場合には、緻密な被覆層が形成されやすく一層好まし
い結果をもたらしうる。前記の錫の金属塩溶液として
は、たとえば通常錫の塩化物、硫酸塩、硝酸塩などまた
錫酸ナトリウムや錫酸カリウム等の錫酸塩などの水溶液
を挙げることができ、またアルカリ成分としては、たと
えば通常水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、アンモニアなどの水溶液、アン
モニアガスなど、また酸として塩酸、硫酸、硝酸などを
使用することができる。前記被覆量は、基体粒子の重量
基準に対してSnO2として0.1〜30%、望ましく
は1〜20%である。被覆量が前記範囲より少なすぎる
と所望の導電性能が得られず、また多すぎると白色度の
低下をきたすなど好ましくない結果をもたらす場合があ
る。本発明において、前記の基体粒子表面に酸化錫の水
和物を被覆処理して得られた懸濁液は、濾過及び洗浄
後、処理ケーキを分別回収し、必要に応じ乾燥粉砕した
後、非酸化性雰囲気中または酸化性雰囲気中で加熱処理
して所望の導電性を有する半導電性無機物とする。前記
非酸化性雰囲気を維持する上で、使用するガスとして
は、不活性ガス、還元性ガスなどがあるが、不活性ガス
としては、たとえば窒素、アルゴンなどを、また還元性
ガスとしては、たとえば水素、アンモニア、一酸化炭素
などを使用することができる。特に、不活性ガス雰囲気
中で加熱処理をおこなう場合は、処理操作上や経済性面
で一層望ましい。前記酸化性雰囲気を維持する上で使用
するガスとしては、空気、酸素、二酸化炭素などが使用
することができ、非酸化性雰囲気よりも抵抗値が高いも
のが得られやすいために好ましい。というのは、非酸化
性雰囲気中では、非常に緻密で欠陥のない導電層が形成
され、高い導電性(低い抵抗)の層が得られるが、酸化
雰囲気中ではこのようなことはないからである。特に空
気中で加熱処理をおこなう場合は、処理操作上や経済性
面及び中抵抗値を有する半導電性無機物を得るために非
常に好ましい。前記の加熱処理は、250〜600℃、
望ましくは300〜450℃でおこなう。加熱処理温度
が前記範囲より低すぎると所望の導電性能が得られず、
また高すぎると粒子成長や燒結が起こり易く、隠ぺい力
や白色度が損なわれたりする。なお加熱処理温度時間
は、被覆層の厚さや、加熱処理装置の形式などにより異
なり一概には言えないが、通常30分〜5時間、望まし
くは1〜2時間程度である。また、これら条件を組み合
わせることによって、容易に各種抵抗値の半導電性無機
物を得ることができる。
First, in order to form a coating layer of a hydrate of tin oxide on the base particles, for example, an aqueous suspension of the base particles is prepared, and the previously water-soluble suspension is mixed with a metal solution of tin. , An alkali or an acid is added to precipitate a hydrate of tin oxide on the base particles to form a coating layer. The above-mentioned coating treatment may be carried out by separately adding a metal salt solution of tin and an alkali or an acid to deposit a precipitate, or may be added in parallel to deposit a precipitate. Further, when the suspension is heated at 40 to 90 ° C. or when the precipitation is gradually deposited while controlling the addition treatment rate, a dense coating layer is easily formed, which is more preferable. It can bring results. Examples of the tin metal salt solution include aqueous solutions of tin chloride, sulfate, nitrate, etc., and stannate salts such as sodium stannate, potassium stannate, etc. For example, an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonia or the like, ammonia gas or the like, and hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid or the like can be used as the acid. The coating amount is 0.1 to 30%, preferably 1 to 20% as SnO 2 based on the weight of the base particles. If the coating amount is less than the above range, the desired conductive performance may not be obtained, and if it is too large, unfavorable results such as a decrease in whiteness may be brought about. In the present invention, the suspension obtained by coating the surface of the substrate particles with a hydrate of tin oxide is filtered and washed, and then the treated cake is separated and collected and, if necessary, dried and pulverized, Heat treatment is performed in an oxidizing atmosphere or in an oxidizing atmosphere to obtain a semiconductive inorganic material having desired conductivity. The gas used for maintaining the non-oxidizing atmosphere includes an inert gas and a reducing gas, and the inert gas includes, for example, nitrogen and argon, and the reducing gas includes, for example, Hydrogen, ammonia, carbon monoxide and the like can be used. In particular, when the heat treatment is performed in an inert gas atmosphere, it is more desirable in terms of treatment operation and economical efficiency. As the gas used for maintaining the oxidizing atmosphere, air, oxygen, carbon dioxide or the like can be used, and a gas having a resistance value higher than that of the non-oxidizing atmosphere is easily obtained, which is preferable. This is because a very dense and defect-free conductive layer is formed in a non-oxidizing atmosphere and a layer having high conductivity (low resistance) is obtained, but this is not the case in an oxidizing atmosphere. is there. Particularly, when the heat treatment is carried out in the air, it is very preferable in order to obtain a semiconductive inorganic substance having a medium resistance value in terms of treatment operation and economical efficiency. The heat treatment is 250 to 600 ° C.,
Desirably, it is performed at 300 to 450 ° C. If the heat treatment temperature is too lower than the above range, desired conductive performance cannot be obtained,
On the other hand, if it is too high, particle growth and sintering tend to occur, and hiding power and whiteness may be impaired. The heat treatment temperature time varies depending on the thickness of the coating layer, the type of heat treatment apparatus and the like and cannot be generally specified, but is usually 30 minutes to 5 hours, preferably about 1 to 2 hours. Further, by combining these conditions, it is possible to easily obtain a semiconductive inorganic material having various resistance values.

【0047】その他の方法としては、不活性雰囲気下ま
たは還元性雰囲気下において攪拌又は流動させながら、
四塩化錫蒸気及び水蒸気を連続的に導入し、100〜6
00℃で反応させて(即ち、CVD法で)無機物の表面
上に導電性被膜を形成する方法がある。
As another method, while stirring or flowing under an inert atmosphere or a reducing atmosphere,
100 ~ 6 by continuously introducing tin tetrachloride vapor and steam
There is a method of forming a conductive film on the surface of an inorganic material by reacting at 00 ° C (that is, by a CVD method).

【0048】無機物の表面上に導電性酸化錫を被覆せし
めるに際して、該無機物の表面上に別の無機物の層、例
えば、酸化チタンの層を形成した後、続いてその上に導
電性の層を形成してもよい。酸化チタンの層の量は、上
記無機物の重量基準で2〜50重量%であることが好ま
しい。この被覆層の物質の結晶構造と中間層酸化チタン
の結晶構造とが同一であるので、密着性に優れた酸化錫
被膜が形成され、その結果として導電性に優れるだけで
なく、導電性フィラーを樹脂等へ添加する場合に、その
混入時に導電性フィラーの表面に被覆されていた酸化錫
被膜が剥離して導電性の損失を招くこともなく、また均
質な中間層が存在するため、無機物の導電層への拡散に
よる導電性の低下もないといった作用効果がある。また
屈折率の高い酸化チタンの中間層が存在するために、白
色で優れた隠蔽性を示すといった効果も付与させる。
In coating the surface of the inorganic material with conductive tin oxide, another inorganic material layer such as a layer of titanium oxide is formed on the surface of the inorganic material, and then a conductive layer is formed thereon. You may form. The amount of the titanium oxide layer is preferably 2 to 50% by weight based on the weight of the inorganic material. Since the crystal structure of the material of this coating layer and the crystal structure of the intermediate layer titanium oxide are the same, a tin oxide coating with excellent adhesion is formed, and as a result, not only excellent conductivity but also a conductive filler is added. When added to a resin or the like, the tin oxide coating that has been coated on the surface of the conductive filler does not peel off at the time of its mixing, resulting in loss of conductivity, and since a homogeneous intermediate layer exists, the inorganic material There is an effect that the conductivity does not decrease due to diffusion into the conductive layer. In addition, the presence of the titanium oxide intermediate layer having a high refractive index also imparts the effect of exhibiting excellent concealing properties in white.

【0049】本発明の導電性物質の被覆の層は、酸化錫
からなる層、非化学量論組成の酸化錫からなる層、元素
周期表第5属の元素またはフッ素化物をドープした酸化
錫からなる層、あるいは錫ドープ酸化インジウムからな
る層などが挙げられる。本発明においては、非化学量論
組成の酸化錫は酸素又は錫の侵入型又は欠陥型のいずれ
であってもよい。
The conductive material coating layer of the present invention is made of a tin oxide layer, a non-stoichiometric tin oxide layer, or a tin oxide doped with an element of Group 5 of the Periodic Table of Elements or a fluoride. And a layer made of tin-doped indium oxide. In the present invention, the non-stoichiometric tin oxide may be either oxygen or tin interstitial type or defect type.

【0050】導電性物質の層が酸化錫からなる層あるい
は非化学量論組成の酸化錫からなる層の場合、表面に酸
化錫単体の薄膜を形成しているので、アンチモンをドー
プした酸化錫よりも安価であり、アンチモンドープに起
因する青黒味の色調の発生がないので白色度に優れてお
り、また酸化錫の薄膜は透明性を有し、半導電性無機物
を樹脂等に混入してもそれらの透明性を損なうことが少
なく、ましてや着色することもなく、他の着色剤を添加
することによって所望の任意の色調が得られ、毒性の問
題もなく、また温度変化に対しても安定性のある導電率
及びプラスチック中への高い分散性を得られる。例え
ば、ペイントシェーカーを用いて分散をおこなうと、非
常に沈降しにくい分散溶液を調整することができる。ま
たこの導電性の層はドーピングによる複合がなされてい
ないために、抵抗値が中抵抗領域を示すために非常に好
ましい。導電性物質の層が元素の周期表第5族の元素ま
たはフッ素化物をドープした酸化錫からなる層あるいは
錫ドープ酸化インジウムからなる層の場合、元素の周期
表第5族の元素は好ましくはアンチモン、ニオブ又はタ
ンタルからなる群から選ばれた元素である。アンチモン
ドープは安価で、導電性付与性に優れているために好ま
しい。またフッ素化物、ニオブ、タンタルドープをドー
プした酸化錫及び錫をドープした酸化インジウムはアン
チモンドープのように青黒味の色調を呈することなく、
白色度に優れ、アンチモンように毒性の懸念がないため
に好ましい。本発明においては、ドーパント含有量は、
導電性物質を基準として20重量%、好ましくは10重
量%、更に好ましくは5重量%以下である。20重量%
を越える場合には、導電性フィラーの色が濃青色を呈
し、導電性が高くなり、抵抗値が低くなりすぎるために
好ましくない。本発明の導電性層の厚みは2〜80n
m、好ましくは10〜30nmの厚さを有する。被覆物
の厚さが2nm未満の場合にはその被覆された無機物の
導電性が不十分であり、したがってそのような粒子を樹
脂マトリックス中に混入しても満足な帯電防止効果は得
にくい。また被覆の厚さが80nmを超えても、増加す
るコストに見合った効果は達成されず、コスト高になっ
てしまう。被覆物が10〜30nmの場合、酸化錫を主
成分とする被覆物と無機物の粒子間の結合力は比較的強
くなり、樹脂中へ混錬される場合でも、被覆物は無機物
から剥がれないようになっている。
When the conductive material layer is a layer made of tin oxide or a layer made of tin oxide having a non-stoichiometric composition, since a thin film of tin oxide alone is formed on the surface, it is preferable to use tin oxide doped with antimony. It is also inexpensive and has excellent whiteness because it does not generate a bluish black tone due to antimony dope, and the tin oxide thin film has transparency, and even if a semiconductive inorganic substance is mixed with a resin or the like. They do not impair their transparency, let alone coloring, and by adding other colorants, any desired color tone can be obtained, there is no problem of toxicity, and they are stable against temperature changes. It has a certain conductivity and a high dispersibility in plastics. For example, when the dispersion is performed using a paint shaker, it is possible to prepare a dispersion solution that is extremely unlikely to settle. Further, since this conductive layer is not composited by doping, it is very preferable because the resistance value shows a medium resistance region. When the layer of conductive material is a layer of tin oxide doped with an element of Group 5 of the Periodic Table of the Elements or a fluoride or a layer of tin-doped indium oxide, the element of Group 5 of the Periodic Table of Elements is preferably antimony. , An element selected from the group consisting of niobium or tantalum. Antimony dope is preferable because it is inexpensive and excellent in conductivity imparting property. Fluoride, niobium, tantalum-doped tin oxide and tin-doped indium oxide do not exhibit a bluish black tone like antimony dope,
It is preferable because it has excellent whiteness and there is no fear of toxicity unlike antimony. In the present invention, the dopant content is
It is 20% by weight, preferably 10% by weight, and more preferably 5% by weight or less, based on the conductive material. 20% by weight
When it exceeds, the color of the conductive filler is dark blue, the conductivity becomes high, and the resistance value becomes too low, which is not preferable. The thickness of the conductive layer of the present invention is 2 to 80 n.
m, preferably 10 to 30 nm. If the thickness of the coating is less than 2 nm, the conductivity of the coated inorganic material is insufficient, and therefore it is difficult to obtain a satisfactory antistatic effect even if such particles are mixed in the resin matrix. Moreover, even if the thickness of the coating exceeds 80 nm, the effect commensurate with the increasing cost cannot be achieved, resulting in high cost. When the coating is 10 to 30 nm, the binding force between the coating containing tin oxide as a main component and the particles of the inorganic material becomes relatively strong, and the coating does not peel off from the inorganic material even when kneaded into the resin. It has become.

【0051】これら半導電性無機物の配合比率は次のよ
うになる。粒状の半導電性無機物の場合、配合量はポリ
イミド樹脂100重量部に対し5〜200重量部であ
る。針状や板状の半導電性無機物の場合、配合量はポリ
イミド樹脂100重量部に対し5〜150重量部であ
り、好ましく5〜100重量部である。それぞれの物質
は最低1種ずつ用いるが、それぞれ2種以上の物質を用
いることも可能である。
The compounding ratio of these semiconductive inorganic materials is as follows. In the case of a granular semiconductive inorganic material, the compounding amount is 5 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyimide resin. In the case of a needle-like or plate-like semiconductive inorganic substance, the compounding amount is 5 to 150 parts by weight, preferably 5 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyimide resin. At least one type of each substance is used, but it is also possible to use two or more types of each.

【0052】上記範囲内に調整すると、例えば5重量部
の配合量のばらつきがあったとしても抵抗値の変化は3
倍以下に抑えることができ、大幅な抵抗の変化を起こす
ことなく中抵抗領域に制御することができる。また、カ
ーボンブラックや黒鉛といった有色導電材を添加しても
フィルムが黒くなるようなことはない。また、透明性を
保持するためには配合量を40重量部以下にするのが好
ましい。また、半導電性無機物は表面が酸化錫を多く含
むため、分散性に優れ、ポリイミドと強固な結合を有す
るため、引っ張り伸びは35%、引き裂き伝播強度は2
50g/mm以上で、フィラー未添加品に対して50%
以上の保持率を有するポリイミド樹脂組成物が得やす
い。針状の半導電性無機物を持ちいれば、引っ張り伸び
は60%以上、引き裂き伝播強度は600g/mm以上
で、フィラー未添加品に対して引っ張り伸びでは80%
以上、引き裂き伝播強度では120%以上の保持率を有
する。半導電性無機物を添加していても吸水率を5%以
下に保つことができ、吸水率増加量はポリイミド元来の
吸水率の2倍以下に抑えることができる。また他の導電
材と複合すると、半導電性無機物の添加量が多いため
に、他の導電材の分散を助け、より均一な分散状態を実
現することができる。これら配合量よりも少ないと目的
の中抵抗領域に抵抗を下げることができない。またこれ
ら配合量よりも多いと機械特性が悪化し、もろい材料と
なるので好ましくない。
When the content is adjusted within the above range, the change in the resistance value is 3 even if there is a variation in the compounding amount of 5 parts by weight.
It can be suppressed to less than or equal to twice, and the medium resistance region can be controlled without causing a large change in resistance. Further, the film does not become black even if a colored conductive material such as carbon black or graphite is added. Further, in order to maintain transparency, the compounding amount is preferably 40 parts by weight or less. In addition, since the surface of the semiconductive inorganic material contains a large amount of tin oxide, it is excellent in dispersibility and has a strong bond with the polyimide, so that the tensile elongation is 35% and the tear propagation strength is 2%.
50g / mm or more, 50% of the product without filler
A polyimide resin composition having the above retention rate is easy to obtain. With a needle-shaped semi-conductive inorganic material, the tensile elongation is 60% or more, the tear propagation strength is 600 g / mm or more, and the tensile elongation is 80% compared to the filler-free product.
As described above, the tear propagation strength has a retention rate of 120% or more. Even if the semiconductive inorganic material is added, the water absorption rate can be maintained at 5% or less, and the increase rate of the water absorption rate can be suppressed to twice or less the original water absorption rate of the polyimide. When it is compounded with another conductive material, the addition amount of the semiconductive inorganic material is large, so that the dispersion of the other conductive material can be assisted and a more uniform dispersed state can be realized. If the amount is less than these blending amounts, the resistance cannot be lowered to the intended medium resistance region. On the other hand, if the amount is larger than these amounts, mechanical properties are deteriorated and the material becomes brittle, which is not preferable.

【0053】これらをもちいて適切に配合を行うことで
安定して体積抵抗値1×106〜1×1015Ω・cm、
表面抵抗値が106〜1015Ω/□の中間的抵抗値を実
現することができる。また、常温常湿時の抵抗値Rnと
高温高湿の体積抵抗値Rhの比(Rn/Rh)が0.0
3〜30の範囲内に制御でき、環境安定性の優れた材料
を調整することができる。また、100V印加時の体積
抵抗値R100Vと1000V印加時の体積抵抗値R1000V
の比(R100V/R1000V)が0.03〜30の範囲内に
制御でき、電圧依存性の少ない材料を調整することがで
きる。また前記添加部数範囲内において半導電性無機物
の添加部数が5部変化しても体積抵抗の変動が3倍以下
であり、添加部数依存性の少ない材料を調整することが
できる。また、サンプル間の抵抗値のバラツキを3倍以
下に抑えることができ、サンプル間バラツキの小さい材
料を調整することができる。
By appropriately blending them, the volume resistance value can be stably 1 × 10 6 to 1 × 10 15 Ω · cm,
It is possible to realize an intermediate resistance value with a surface resistance value of 10 6 to 10 15 Ω / □. Further, the ratio (Rn / Rh) of the resistance value Rn at room temperature and normal humidity to the volume resistance value Rh at high temperature and high humidity is 0.0.
It can be controlled within the range of 3 to 30, and a material having excellent environmental stability can be adjusted. Also, the volume resistance value R 100V when 100V is applied and the volume resistance value R 1000V when 1000V is applied.
Can be the ratio of (R 100V / R 1000V) can be controlled within a range of 0.03 to 30, adjusting the voltage dependence of less material. Further, even if the number of added semiconductive inorganic materials changes by 5 in the range of the number of added parts, the change in volume resistance is 3 times or less, and a material having little dependence on the number of added parts can be prepared. Further, it is possible to suppress the variation in the resistance value between the samples to 3 times or less, and it is possible to adjust the material having the small variation between the samples.

【0054】また、ポリイミド樹脂組成物を体積抵抗値
を106〜1013Ω・cmの中抵抗領域に制御すること
は、従来の方法では困難であったが、本発明によれば容
易に得られ、これらは、電子写真装置の転写ベルト、中
間転写ベルト、転写定着ベルトおよび定着ベルトの構成
部材として有用なフィルム及び管状物を与える。
Further, it was difficult to control the volume resistance value of the polyimide resin composition to a medium resistance region of 10 6 to 10 13 Ω · cm by the conventional method, but according to the present invention, it is easily obtained. They provide films and tubing useful as transfer belts, intermediate transfer belts, transfix belts and components of fuser belts in electrophotographic machines.

【0055】また、実施例に示したように適切に配合を
行うことで本発明の体積抵抗値が制御されたポリイミド
樹脂組成物は、体積抵抗値が109〜1015Ω・cmの
範囲内にあり、全光線透過率の保持率が50%以上とな
りうる。なお、ここでいう全光線透過率の保持率とは、
半導電性無機物等の添加物を含まないポリイミド樹脂単
体の全光線透過率を基準として、該添加物を導入した場
合の全光線透過率の保持率を百分率で表した値を指す。
Further, the polyimide resin composition of the present invention whose volume resistance value is controlled by appropriately blending as shown in the examples has a volume resistance value within the range of 10 9 to 10 15 Ω · cm. Therefore, the retention of the total light transmittance can be 50% or more. Note that the total light transmittance retention here is
It refers to a value expressed as a percentage of the total light transmittance retention rate when the additive is introduced, based on the total light transmittance of the polyimide resin simple substance containing no additive such as a semiconductive inorganic material.

【0056】半導電性無機物を添加することで、中抵抗
値と高絶縁性を有し、抵抗値の電圧依存性の少なく、高
温高湿時での抵抗値と絶縁性の変動が少なく、機械強度
および寸法安定性にすぐれ、必要に応じて色が黒くない
ベルトが得られる理由は以下の理由からである。また、
半導電性無機物の配合量は通常の着色、抵抗制御、強度
改善のために添加する量と比較すると非常に多く、多量
の添加にもかかわらず、機械特性や絶縁性が悪化しない
理由は次のような理由からである。
By adding a semi-conductive inorganic substance, it has a medium resistance value and high insulation property, the resistance value has little voltage dependency, and the resistance value and the insulation property do not fluctuate at high temperature and high humidity. The reason why a belt which is excellent in strength and dimensional stability and which is not black in color as required can be obtained is as follows. Also,
The compounding amount of semi-conductive inorganic material is much larger than the amount added for usual coloring, resistance control, and strength improvement, and the reason why mechanical properties and insulation properties do not deteriorate despite the addition of a large amount is as follows. This is the reason.

【0057】半導電性無機物は単体で1×103〜1×
1010Ω・cmの抵抗を有し、カーボンブラックや導電
性金属や金属セラミックス(1×10-5〜1×103Ω
・cm)とは異なり、抵抗値がポリイミド(1×1016
Ω・cm)に近い。そのため、半導電性無機物添加系
は、カーボンブラックに見られるようなパーコレーショ
ンによる急激な抵抗の低下は見られず、抵抗は添加量に
対してなだらかに変化する。カーボンブラックでは、中
抵抗領域に制御するために、樹脂100重量部に対して
10〜20重量部程度を添加するが、このような添加部
数に対して、添加部数が5重量部程度変化すると、抵抗
はたちまち10〜100倍以上低下する。一方、半導電
性無機物を添加した系では、中抵抗領域に抵抗を制御し
た添加部数に対して添加量が5重量部程度変化したとし
ても抵抗値は3倍も変化しない。また脱泡や分散過程で
フィラーに凝集や偏りが生じても抵抗の大幅な変化は見
られない。こういったことから中抵抗に制御された半導
電性無機物は添加量のばらつきによる抵抗の変化が少な
い材料と言える。
The semiconductive inorganic substance is 1 × 10 3 to 1 × by itself.
It has a resistance of 10 10 Ω · cm, carbon black, conductive metals and metal ceramics (1 × 10 −5 to 1 × 10 3 Ω).
・ Unlike cm, the resistance value is polyimide (1 × 10 16
Ω · cm). Therefore, in the semiconductive inorganic material-added system, a sharp decrease in resistance due to percolation as seen in carbon black is not seen, and the resistance changes gently with respect to the added amount. In the carbon black, about 10 to 20 parts by weight is added to 100 parts by weight of the resin in order to control the medium resistance region. However, if the number of added parts changes by about 5 parts by weight with respect to such added parts, The resistance immediately drops 10 to 100 times or more. On the other hand, in the system to which the semiconductive inorganic material is added, the resistance value does not change three times even if the addition amount changes by about 5 parts by weight with respect to the number of addition parts whose resistance is controlled in the medium resistance region. Even if the filler is aggregated or biased during the defoaming or dispersing process, the resistance is not significantly changed. From these facts, it can be said that the semiconductive inorganic material controlled to have a medium resistance is a material in which resistance changes little due to variations in the added amount.

【0058】半導電性無機物自体が中抵抗であること
は、絶縁性の改善や抵抗値の電圧依存性の低減にも大き
な役割を果たすと考えられる。ポリイミドと導電材から
なるフィルムの抵抗を測定するために、フィルムに電圧
を印加すると、電圧はポリイミドと導電材に分圧され
る。電圧は導電材よりも高抵抗であるポリイミドの部分
にかかると考えられる。特に、導電材としてカーボンブ
ラックや金属系材料のような低抵抗材料と半導電性無機
物のような中抵抗材料を添加した場合を比べると、ポリ
イミドにかかる電圧は中抵抗材料を添加したときのほう
が小さいと考えられる。その結果、ポリイミドにかかる
電圧が小さくなるために、ポリイミドにおける絶縁破壊
が低減されるものと考える。
It is considered that the semiconductive inorganic substance itself having a medium resistance plays a large role in improving the insulating property and reducing the voltage dependency of the resistance value. When a voltage is applied to the film to measure the resistance of the film made of the polyimide and the conductive material, the voltage is divided between the polyimide and the conductive material. It is believed that the voltage is applied to the portion of the polyimide that has a higher resistance than the conductive material. In particular, comparing the case of adding a low resistance material such as carbon black or a metal-based material as a conductive material and a medium resistance material such as a semiconductive inorganic material, the voltage applied to the polyimide is better when the medium resistance material is added. Considered small. As a result, it is considered that the voltage applied to the polyimide is reduced and thus the dielectric breakdown in the polyimide is reduced.

【0059】一般に樹脂に高電圧(例えば厚み100μ
mに対して1kV以上の電圧を印加)を印加した場合、
樹脂は絶縁破壊に近づき、抵抗値の電圧依存性は急激に
悪化する。つまり、破壊直前には大電流が流れる。この
ことから抵抗値の電圧依存性は、樹脂に高電圧がかかる
ことで樹脂が破壊に近づくために生じる現象と考えられ
る。しかし、半導電性無機物のような中抵抗材料を添加
した系では、カーボンブラックのような低抵抗材料を添
加した場合に比べて、樹脂であるポリイミド部分に局所
的に高電圧がかかることを防ぐことができ、抵抗値の電
圧依存性を改善できると考える。
Generally, a high voltage (for example, a thickness of 100 μm) is applied to a resin.
When a voltage of 1 kV or more is applied to m),
The resin approaches dielectric breakdown, and the voltage dependence of the resistance value deteriorates rapidly. That is, a large current flows just before the destruction. From this, it can be considered that the voltage dependency of the resistance value is a phenomenon that occurs when the resin approaches destruction due to the high voltage applied to the resin. However, in a system in which a medium resistance material such as a semi-conductive inorganic material is added, compared to the case where a low resistance material such as carbon black is added, it is possible to prevent a high voltage from being locally applied to the polyimide portion which is the resin. Therefore, the voltage dependence of the resistance value can be improved.

【0060】半導電性無機物は、表面に水酸基や活性な
酸素を有するために、表面処理をおこなわずともイミド
化の際に樹脂と強い相互作用を起こし、強固な複合材料
となる。このために、強い引き裂き伝播強度と伸びをも
つ材料となり、通常着色、抵抗制御、機械特性改善に添
加する添加量(通常30重量部ぐらいまで)に比べて多
く添加しても、十分な機械特性、絶縁耐性を保持するこ
とができる。またこれら強固な複合材料は次の理由から
高温高湿時の抵抗値低下と絶縁性悪化を防ぐことができ
る。吸湿時の電気特性悪化の原因は、吸湿で樹脂とフィ
ラーの界面に水からなるスキン層が形成され、電気の流
れやすい流路が形成されるためだと考えられ、一般にこ
れらを改善するためにはフィラーやカーボンの表面処理
がおこなわれる。しかし、半導電性無機物とポリイミド
特に反応硬化型の直鎖状ポリイミドからなる材料は強固
な複合材料であるため、このようなスキン層が形成され
ず、抵抗値と絶縁性の大幅な変化は生じない。
Since the semiconductive inorganic substance has a hydroxyl group and active oxygen on the surface, it undergoes a strong interaction with the resin during imidization without surface treatment and becomes a strong composite material. For this reason, it becomes a material with strong tear propagation strength and elongation. Even if it is added in a larger amount than the addition amount (usually up to about 30 parts by weight) that is usually added for coloring, resistance control and mechanical property improvement, sufficient mechanical properties , Insulation resistance can be maintained. Further, these strong composite materials can prevent a decrease in resistance value and deterioration of insulation property at high temperature and high humidity for the following reasons. It is considered that the cause of the deterioration of electric characteristics during moisture absorption is that a skin layer made of water is formed at the interface between the resin and the filler due to moisture absorption, and a flow path where electricity easily flows is formed. Is surface-treated with filler or carbon. However, since the material consisting of semiconductive inorganic material and polyimide, especially the reaction-curable linear polyimide is a strong composite material, such a skin layer is not formed, and a large change in resistance value and insulation property occurs. Absent.

【0061】半導電性無機物とポリイミドの強固な結合
を作るためには、表面処理をおこなってもよい。表面処
理剤としては、カップリング剤を用いるとことができる
シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、ア
ルミニウム系カップリング剤、アミノ酸系カップリング
剤等を用いることができる。樹脂は反応硬化型の直鎖状
ポリイミド樹脂の場合には、表面処理をすることで結合
はより強固なものとなるが、処理をおこなわずとも十分
な強度を得ることができる。
In order to form a strong bond between the semiconductive inorganic material and the polyimide, surface treatment may be performed. As the surface treatment agent, a silane-based coupling agent, a titanium-based coupling agent, an aluminum-based coupling agent, an amino acid-based coupling agent, or the like, which can use a coupling agent, can be used. When the resin is a reaction-curable linear polyimide resin, the bond becomes stronger by the surface treatment, but sufficient strength can be obtained without the treatment.

【0062】ポリアミド酸と半導電性無機物を混合する
場合、主に次のような二つの方法がある。一つ目は、ポ
リアミド酸重合溶媒に予め半導電性無機物を添加して半
導電性無機物分散溶液を調整し、その後ポリアミド酸の
原料であるジアミンと酸二無水物を添加してポリアミド
酸を重合する方法がある。別の方法としては、予め重合
して得たポリアミド酸と半導電性無機物分散溶液を混合
する方法がある。このようなどちらの方法を用いるにし
ても半導電性無機物分散溶液を調整する必要がある。半
導電性無機物は比重が樹脂より大きく、非常に重く、溶
媒に半導電性無機物を添加するとたちまち沈降してしま
う。その結果、アミド酸と混合すると、半導電性無機物
の凝集物ができ、表面に凹凸ができたり、局所的に抵抗
が異なったりする部分ができる。
When the polyamic acid and the semiconductive inorganic material are mixed, there are mainly the following two methods. The first is to add a semiconductive inorganic material to the polyamic acid polymerization solvent in advance to prepare a semiconductive inorganic material dispersion solution, and then add a diamine and a dianhydride, which are raw materials for the polyamic acid, to polymerize the polyamic acid. There is a way to do it. As another method, there is a method of mixing a polyamic acid obtained by polymerization in advance and a semiconductive inorganic substance dispersion solution. Whichever such method is used, it is necessary to prepare a semiconductive inorganic substance dispersion solution. The specific gravity of the semiconducting inorganic material is larger than that of the resin, and it is very heavy, and when the semiconducting inorganic material is added to the solvent, it is immediately precipitated. As a result, when mixed with amic acid, a semiconductive inorganic substance aggregates are formed, and irregularities are formed on the surface, or a portion having locally different resistance is formed.

【0063】そのため、半導電性無機物分散溶液を作成
するのに際し、分散材を配合すると良い。分散材として
は、金属塩や界面活性剤といったものが挙げられる。特
に金属塩が好ましく、Li塩、Na塩、K塩、Rb塩、
Cs塩、Be塩、Mg塩、Ca塩、Sr塩、Ba塩から
なる群より選択される1種類または2種類以上の組み合
わせが良く、 Li塩、Na塩、K塩が好ましい。Li
塩では格子エネルギーが1100以下のLi塩が好まし
く、具体的には LiF、LiCl、LiBr、Li
I、LiSCN、LiCF3SO3といったものが挙げら
れる。Na塩では格子エネルギーが800以下のNa塩
が好ましく、具体的にはNaF、 NaCl、 NaB
r、 NaI、 NaSCN、 NaCF3SO3といった
ものが挙げられる。K塩では格子エネルギーが800以
下のK塩が好ましく、具体的にはKF、 KCl、 KB
r、 KI、 KSCN、 KCF3SO3といったものが
挙げられる。これらの金属塩は、常温でイオンが解離し
やすく、半導電性無機物と相互作用が強くなるために好
ましい。ただし、格子エネルギーが小さすぎると、添加
量の影響が大きくなりすぎるので格子エネルギーが大き
いものが好ましい。これら金属塩は有機物を含まないた
めに、成形中の高温乾燥でも樹脂が焼け付くようなこと
はない。分散材の配合量はポリイミド樹脂100重量部
に対して1重量部以下の所定の量を配合すれば良く、
0.01〜0.1重量部以下でも十分効果はある。一般
に電線被覆の用途では、金属塩が添加されると絶縁性が
悪化し、誘電率が4以上の材料に添加した場合にはイオ
ン伝導性が高まり特に好ましくないが、ポリイミドと半
導電性無機物の組み合わせにおいては、ポリイミドが絶
縁性に優れ、誘電率が4以下であるため、上記示した配
合の範囲では特に絶縁性や抵抗の電圧依存性は悪化する
ことはない。
Therefore, it is advisable to add a dispersant to the semiconductive inorganic material dispersion solution. Examples of the dispersant include metal salts and surfactants. Particularly preferred are metal salts, such as Li salt, Na salt, K salt, Rb salt,
One or a combination of two or more selected from the group consisting of Cs salt, Be salt, Mg salt, Ca salt, Sr salt, and Ba salt is preferable, and Li salt, Na salt, and K salt are preferable. Li
As the salt, a Li salt having a lattice energy of 1100 or less is preferable, and specifically, LiF, LiCl, LiBr, Li
I, LiSCN, LiCF 3 SO 3, and the like. Among Na salts, Na salts having a lattice energy of 800 or less are preferable, and specifically, NaF, NaCl, NaB
r, NaI, NaSCN, NaCF 3 SO 3 and the like. The K salt is preferably a K salt having a lattice energy of 800 or less, specifically, KF, KCl, KB.
r, KI, KSCN, KCF 3 SO 3 and the like. These metal salts are preferable because the ions are easily dissociated at room temperature and the interaction with the semiconductive inorganic material becomes strong. However, if the lattice energy is too small, the effect of the addition amount becomes too large, so that one having a large lattice energy is preferable. Since these metal salts do not contain organic substances, the resin will not be burnt even during high temperature drying during molding. The dispersant may be added in a predetermined amount of 1 part by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyimide resin,
Even 0.01 to 0.1 parts by weight or less is sufficiently effective. Generally, in the application of electric wire coating, when a metal salt is added, the insulating property deteriorates, and when it is added to a material having a dielectric constant of 4 or more, ionic conductivity increases, which is not particularly preferable, but polyimide and semiconductive inorganic materials are used. In the combination, since the polyimide is excellent in the insulating property and the dielectric constant is 4 or less, the insulating property and the voltage dependency of the resistance are not particularly deteriorated in the range of the above-mentioned composition.

【0064】上記ポリイミド樹脂に対して、前記の半導
電性無機物の他に、導電性物質を添加してもよい。但
し、配合に際しては色を黒くしない程度が好ましい。他
の導電性物質としては、カーボンブラック、グラファイ
ト、金属粉末、金属酸化物粉末、導電処理された金属酸
化物、帯電防止剤等が挙げられる。
A conductive substance may be added to the above polyimide resin in addition to the semiconductive inorganic substance. However, it is preferable that the color is not blackened upon blending. Examples of other conductive substances include carbon black, graphite, metal powder, metal oxide powder, metal oxide subjected to conductive treatment, and antistatic agent.

【0065】上記ポリイミド樹脂に対して配合されるカ
ーボンブラックとしては、導電性を有するものであれば
種々の既存のカーボンブラックを用いることができ、フ
ァーネスブラック、アセチレンブラック、サーマルブラ
ック、チャンネルブラック等がある。中でも、ファーネ
スブラックの1種であるが、特に比表面積が大きくケッ
チェンブラックと呼ばれるカーボンブラックを用いた場
合、カーボンブラックの配合量が少なくても効果が高
く、なおかつ他のカーボンブラックを使用した場合に比
較して電圧依存性(電圧が変わると抵抗値が変わり、オ
ームの法則に則った挙動をしめさない性質)が少ない事
を見出しており、ケッチェンブラックを用いることが特
に好ましい。
As the carbon black to be blended with the above-mentioned polyimide resin, various existing carbon blacks can be used as long as they have conductivity, and furnace black, acetylene black, thermal black, channel black and the like can be used. is there. Among them, it is one of the furnace blacks, but particularly when carbon black called Ketjenblack having a large specific surface area is used, the effect is high even when the amount of carbon black blended is small, and when other carbon blacks are used. It has been found that the voltage dependence (the property that the resistance value changes when the voltage changes and does not exhibit the behavior according to Ohm's law) is smaller than that of the above, and it is particularly preferable to use Ketjen black.

【0066】上記ポリイミド樹脂に対して配合される金
属粉末としては、銅、鉄、アルミニウム、SUS等の粉
末が挙げられ、金属酸化物粉末としては導電性半導体セ
ラミックスが挙げられ、導電処理された金属酸化物とし
ては、酸化チタン、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、
マイカ等を導電化処理した物が挙げられる。このような
無機の添加剤は、凝集力がカーボンブラックに比べて低
く、黒くないために、クリーニングに対する悪影響も少
ない。
As the metal powder to be blended with the above polyimide resin, powders of copper, iron, aluminum, SUS and the like can be mentioned. As the metal oxide powder, conductive semiconductor ceramics can be mentioned. As the oxide, titanium oxide, potassium titanate, barium sulfate,
An example of the conductive material is mica. Such an inorganic additive has a lower cohesive force than carbon black and is not black, and therefore has little adverse effect on cleaning.

【0067】これらの配合比率としては、ポリイミド樹
脂100重量部に対し、20重量部以下の所定の量を添
加するのが良く、好ましくは5重量部以下、さらに好ま
しくは4重量部以下の量を添加するのが良い。それぞれ
の物質は最低1種ずつ用いるが、それぞれ2種以上の物
質を用いることも可能である。配合量が増えると、抵抗
の電圧依存性や絶縁性が悪化するため好ましくない。ま
た、配合量が少なすぎるとこれらの導電性物質を用いた
効果が発揮されにくくなるので、0.01重量部以上、
好ましくは0.1重量部以上、より好ましくは1重量部
以上、さらに好ましくは5重量部以上を配合する方が良
い。
As a mixing ratio of these, a predetermined amount of 20 parts by weight or less is preferably added to 100 parts by weight of the polyimide resin, preferably 5 parts by weight or less, more preferably 4 parts by weight or less. It is good to add. At least one type of each substance is used, but it is also possible to use two or more types of each. If the blending amount is increased, the voltage dependence of the resistance and the insulating property are deteriorated, which is not preferable. Further, if the blending amount is too small, it becomes difficult to exhibit the effect of using these conductive substances, so 0.01 part by weight or more,
It is preferable to add 0.1 part by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, and further preferably 5 parts by weight or more.

【0068】また、これら配合系にさらに他の非導電性
の無機粉体を加えることも可能である。非導電性フィラ
ーとしては例えばアルミナ、シリカ等の小径粒状物質、
雲母、粘土鉱物等の板状・鱗片状物質、チタン酸バリウ
ム、チタン酸カリウム等の短繊維状もしくはウィスカー
状物質など多様な物が用いられる。非導電性フィラー
は、例えば弾性率等の他特性コントロールのために添加
する場合もあるし、また、非導電性の粉体が適度に導電
性粉体の分散を補助し、導電体の凝集等を防止して安定
した抵抗値を実現できる場合がある。
It is also possible to add other non-conductive inorganic powder to these compounding systems. As the non-conductive filler, for example, alumina, a small-diameter granular material such as silica,
Various substances such as plate-like and scale-like substances such as mica and clay minerals, short fiber-like substances such as barium titanate and potassium titanate or whisker-like substances are used. The non-conductive filler may be added to control other properties such as elastic modulus, and the non-conductive powder may appropriately assist the dispersion of the conductive powder and may cause aggregation of the conductor, etc. In some cases, a stable resistance value can be realized by preventing this.

【0069】これらもちいて適切に配合を行うことで安
定して1×106〜1×1015Ω・cmの中間的体積抵
抗値を実現することができる。また、常温常湿時の抵抗
値R nと高温高湿の体積抵抗値Rhの比(Rn/Rh)が
0.03〜30の範囲内に制御でき、環境安定性の優れ
た材料を調整することができる。また、100V印加時
の体積抵抗値R100Vと1000V印加時の体積抵抗値R
1000Vの比(R100V/R1 000V)が0.03〜30の範囲
内に制御でき、電圧依存性の少ない材料を調整すること
ができる。また前記添加部数範囲内において半導電性無
機物の添加部数が5部変化しても体積抵抗の変動が3倍
以下であり、添加部数依存性の少ない材料を調整するこ
とができる。また、サンプル間の抵抗値のバラツキを3
倍以下に抑えることができ、サンプル間バラツキの小さ
い材料を調整することができる。
Proper blending using these will result in a safe
Set 1 × 106~ 1 x 1015Intermediate volume resistance of Ω · cm
A resistance value can be achieved. Also, resistance at normal temperature and humidity
Value R nAnd high temperature and humidity volume resistance RhRatio of (Rn/ Rh)But
It can be controlled within the range of 0.03-30 and has excellent environmental stability.
The material can be adjusted. When 100V is applied
Volume resistance R100VAnd the volume resistance value R when 1000 V is applied
1000VRatio of (R100V/ R1 000V) Is in the range of 0.03 to 30
Adjusting materials that can be controlled within and have less voltage dependence
You can In addition, within the range of the number of parts added, no semiconductivity
Even if the number of added parts of the machine changes by 5 parts, the fluctuation of the volume resistance is tripled.
Below, it is possible to adjust materials with little dependency on the number of added parts.
You can In addition, the variation in resistance between samples is 3
It can be reduced to less than double, and there is little variation between samples.
The material can be adjusted.

【0070】上記のような組成のポリイミドは様々な形
状で用いうるが、絶縁性を保持しながら抵抗値が一定レ
ベルであることが特に難しくなるのは、厚みが薄いもの
の場合であり、その意味で、フィルム状、シート状、ベ
ルト状、チューブ状等の広義でのフィルム状形態におい
て、特に厚みが150μm以下の形態においては上記配
合は特に有効となるのである。
The polyimide having the above composition can be used in various shapes. However, it is particularly difficult for a thin one to have a constant resistance value while maintaining its insulating property. Thus, the above-mentioned composition is particularly effective in a film form in a broad sense such as a film form, a sheet form, a belt form and a tube form, particularly in a form having a thickness of 150 μm or less.

【0071】添加する半導電性無機物や他の導電材をポ
リイミド樹脂に分散させるための方法としては、種々の
方法がとりうる。
Various methods can be used to disperse the semiconductive inorganic material or other conductive material to be added in the polyimide resin.

【0072】ポリイミド樹脂が溶剤可溶性の場合、溶剤
に溶解したポリイミド樹脂中に該粉体類または粉体類を
溶媒に予備分散したものを加え、攪拌翼での混合や3本
ロールなどの混練り機によって分散を進める方法がとり
うる。また、逆に予め粉体類を溶媒に予備分散した物に
対し、溶剤可溶性のポリイミドの粉体またはペレット等
を加えて良く混合するという方法も可能である。予備分
散の方法としては、粉体類を溶剤に加えて超音波分散機
によって十分に分散を進めておくといった方法が有効で
ある。特に針状粉体は過剰な剪断力を受けると形状が破
壊される可能性があるため、3本ロールを使用しない方
法のほうが好ましい。
When the polyimide resin is soluble in a solvent, the powder or a powder prepared by preliminarily dispersing the powder in a solvent is added to the polyimide resin dissolved in the solvent, and the mixture is mixed with a stirring blade or kneaded with a three-roll mill. A machine can be used to promote dispersion. On the contrary, it is also possible to add a solvent-soluble polyimide powder or pellets to a material in which powders are preliminarily dispersed in a solvent and mix them well. As a method of preliminary dispersion, it is effective to add powders to a solvent and sufficiently disperse the mixture with an ultrasonic disperser. In particular, the needle-like powder may be destroyed in shape when it is subjected to an excessive shearing force, so that the method not using three rolls is preferable.

【0073】ポリイミド樹脂が溶剤不溶性の場合、ポリ
イミドの前駆体であるポリアミド酸の溶液に対し、上記
の予備分散液を加えて、同様の方法で混合・混練り等を
行う方法も可能である。
When the polyimide resin is insoluble in a solvent, it is also possible to add the above-mentioned preliminary dispersion to a solution of a polyamic acid which is a precursor of polyimide and carry out mixing and kneading in the same manner.

【0074】この際、固形粉体の分散性を補助するため
の分散剤を併用することも、ポリイミドの特性劣化を顕
著に起こさない範囲で可能である。予備分散溶液に分散
材として金属塩を添加した場合には、分散状態が非常に
均一なため、手による攪拌でも十分均一な分散状態を実
現することができる。また、予備分散液の方に、ポリア
ミド酸溶液を少量ずつ攪拌しながら添加していく方が、
上記の逆手順よりもより分散性は向上する。
At this time, it is also possible to use a dispersant for assisting the dispersibility of the solid powder in a range in which the characteristic deterioration of the polyimide is not significantly caused. When a metal salt is added as a dispersant to the pre-dispersion solution, the state of dispersion is very uniform, and therefore a sufficiently uniform state of dispersion can be achieved by hand stirring. In addition, it is better to add the polyamic acid solution to the pre-dispersion liquid while stirring little by little.
The dispersibility is improved more than the above reverse procedure.

【0075】また、特に良好な分散性が得られる別の方
法として、溶剤中に先に粉体類を加えて、超音波分散機
等により十分に分散させておき、これにポリイミド(ポ
リアミド酸)の原料であるジアミン化合物と酸二無水物
化合物を加え重合反応を行うという方法がある。この方
法によれば超音波分散などによりミクロなレベルでの分
散が良好に保たれるのと同時に、初期の固形粉体分散後
から重合中にかけて常に攪拌がなされるために、マクロ
なレベルの分散性も非常に良好である。
As another method for obtaining particularly good dispersibility, powders are first added to a solvent and sufficiently dispersed by an ultrasonic disperser or the like, and then polyimide (polyamic acid) There is a method in which a diamine compound and an acid dianhydride compound, which are the raw materials of, are added to carry out a polymerization reaction. According to this method, dispersion at a micro level can be maintained well by ultrasonic dispersion, and at the same time, stirring is always performed from the initial solid powder dispersion to the polymerization, so that dispersion at a macro level is achieved. The sex is also very good.

【0076】溶液がポリイミド溶液の場合、これを任意
の形状に加工した後、加熱や場合によっては減圧を併用
することにより溶剤を揮発せしめ、ポリイミド成形体を
得ることができる。溶液がポリアミド酸溶液である場合
も、ポリイミド溶液の場合と同様の工程によりポリイミ
ド成形体を得ることができる。この場合、加熱に先立
ち、イミド化の促進のため、脱水剤として無水酢酸など
の酸無水物や触媒として三級アミンを単独または併用し
て用いる事ができる。ただし酸無水物はイミド化反応の
促進だけでなく、ポリアミド酸の分子鎖主鎖の切断も引
き起こしえるため、ポリイミドの機械的特性のために
は、酸無水物と三級アミンの併用または三級アミンのみ
の添加がより好ましく、熱のみのイミド化に比べて高い
引き裂き伝播強度の物が得られる。具体的には、引き裂
き伝播強度が250g/mm以上、より好ましくは、5
00g/mm以上の物が得られる。また触媒添加は、加
熱時間を減らすことができ、半導電性無機物が熱劣化す
ることを抑えることができるために非常に好ましい。特
に、酸化性雰囲気下で焼成して得た半導電性無機物は、
導電性被膜が長時間の加熱によって導電性の変化を引き
起こすために、触媒添加による加熱時間の短縮は非常に
大切である。また、加熱時間が短いために、樹脂の熱劣
化や樹脂と半導電性無機物の反応による劣化を抑えるこ
とができるために好ましい。また、触媒添加による製法
では、樹脂の面内配向が進み、半導電性無機物も平面状
に配向しやすくなる。その結果、厚みが100μm以下
といった薄い成形物の場合、厚み方向に配向する無機物
が減り、電気絶縁性を改善でき、またフィラーの吸湿に
よる厚み方向の電気特性劣化部分を減らすことができ、
抵抗の湿度依存性を減らすことができるために好まし
い。
When the solution is a polyimide solution, it can be processed into an arbitrary shape, and then the solvent can be volatilized by heating and optionally using a reduced pressure to obtain a polyimide molded body. Even when the solution is a polyamic acid solution, a polyimide molded body can be obtained by the same steps as in the case of the polyimide solution. In this case, prior to heating, an acid anhydride such as acetic anhydride as a dehydrating agent or a tertiary amine as a catalyst can be used alone or in combination in order to accelerate imidization. However, acid anhydride can not only accelerate the imidization reaction but also cause the main chain of the polyamic acid chain to be cleaved. Therefore, due to the mechanical properties of polyimide, a combination of an acid anhydride and a tertiary amine or a tertiary amine is used. Addition of amine alone is more preferable, and a product having a higher tear propagation strength can be obtained as compared with imidization by heat only. Specifically, the tear propagation strength is 250 g / mm or more, more preferably 5
A product of 00 g / mm or more can be obtained. In addition, the addition of a catalyst is very preferable because it can reduce the heating time and suppress the thermal deterioration of the semiconductive inorganic material. In particular, the semiconductive inorganic material obtained by firing in an oxidizing atmosphere,
It is very important to shorten the heating time by adding a catalyst because the conductive film causes a change in conductivity due to heating for a long time. Moreover, since the heating time is short, it is possible to suppress the thermal deterioration of the resin and the deterioration due to the reaction between the resin and the semiconductive inorganic material, which is preferable. In addition, in the production method by adding a catalyst, the in-plane orientation of the resin proceeds, and the semiconductive inorganic material also tends to be oriented in a plane. As a result, in the case of a thin molded product having a thickness of 100 μm or less, the inorganic substances oriented in the thickness direction can be reduced, the electric insulation can be improved, and the portion where the electrical characteristics deteriorate in the thickness direction due to the moisture absorption of the filler can be reduced.
It is preferable because the humidity dependence of resistance can be reduced.

【0077】フィルムおよび管状物への具体的成形法の
例として下記のような方法が挙げられる。
The following method can be mentioned as an example of a specific method for forming a film and a tubular article.

【0078】上記各無機成分を分散させた樹脂溶液をエ
ンドレスベルト上に、Tダイ、コンマコーター、ドクタ
ーブレードなどを用いる事で厚み制御をした上で塗布す
る。樹脂溶液を熱風などによって自己支持性を有するま
で加熱乾燥し、そののちエンドレスベルトより引き剥が
す。引き剥がした半乾燥のフィルムの幅両端をピンやク
リップによって固定し、幅方向の長さを規制しながら順
次高温の加熱炉内を通すことによって、フィルム状成形
物を得ることができる。または金属などの連続したシー
ト状の支持体上に同様の方法で塗布し、これを加熱炉内
へ通過せしめることによってシート状に固定されたフィ
ルムまたはシート形状のポリイミド成形体を得、そのの
ち支持体シートより引き剥がすかまたは支持体シートを
エッチングなどの手段により除去する方法も取りうる。
このようにして得たフィルムまたはシート状の成形体を
所定長さと幅に切り、ベルトまたはチューブ状につなぎ
合わせてベルトまたはチューブを得る方法が最も容易で
ある。つなぎ合わせには接着剤や接着テープ等を用いる
ことができるが、この方法は不可避的につなぎ目で段差
や切れ目が存在するため、用途によっては不都合が生じ
る場合がある。
The resin solution in which the above inorganic components are dispersed is applied onto the endless belt after controlling the thickness by using a T-die, a comma coater, a doctor blade or the like. The resin solution is heated and dried by hot air or the like until it has self-supporting property, and then peeled off from the endless belt. A film-like molded product can be obtained by fixing both ends of the peeled-off semi-dried film with a pin or a clip, and sequentially passing them through a high-temperature heating furnace while controlling the length in the width direction. Alternatively, it is applied in the same manner on a continuous sheet-shaped support such as metal, and a film or sheet-shaped polyimide molded body fixed in a sheet is obtained by passing this through a heating furnace, and then supporting. A method of peeling off from the body sheet or removing the support sheet by means such as etching may be adopted.
The easiest method is to obtain a belt or tube by cutting the thus obtained film or sheet-shaped molded product into a predetermined length and width and connecting them to each other in a belt or tube shape. An adhesive, an adhesive tape, or the like can be used for the joining, but this method inevitably causes a step or a break at the joint, which may cause inconvenience depending on the application.

【0079】管状物を得る方法としては、円筒状金型の
内面または外面に樹脂溶液を塗布し、加熱乾燥あるいは
減圧乾燥などにより溶媒を揮発させ、これをこのまま最
終焼成温度まで加熱するか、あるいは一旦引き剥がし
て、最終的に内径を規定するための別金型の外周にはめ
込み、最終焼成温度まで加熱するといった方法がとりう
る。円筒状金型への樹脂溶液の塗布にあたっては、樹脂
溶液の垂れによる厚みばらつきを緩和するため、金型を
回転させることも有効である。最終焼成温度はポリイミ
ドの構造や添加するカーボンの耐熱性により適宜選択す
る事が必要であるが、非熱可塑ポリイミドでポリアミド
酸状態から加熱・焼成する場合は概ね350℃〜450
℃の間、熱可塑ポリイミドの場合はポリイミドのガラス
転位点温度に対し−20℃〜+100℃の間が好適な範
囲である。
As a method for obtaining a tubular product, a resin solution is applied to the inner surface or outer surface of a cylindrical mold, and the solvent is volatilized by heating or drying under reduced pressure, and this is heated to the final firing temperature as it is, or The method may be such that it is once peeled off, and finally it is fitted into the outer periphery of another mold for defining the inner diameter and heated to the final firing temperature. In applying the resin solution to the cylindrical mold, it is also effective to rotate the mold in order to reduce the variation in thickness due to the sagging of the resin solution. The final firing temperature needs to be appropriately selected depending on the structure of the polyimide and the heat resistance of the added carbon, but when heating and firing from a polyamic acid state with a non-thermoplastic polyimide, it is generally 350 ° C to 450 ° C.
In the case of a thermoplastic polyimide, a suitable range is between -20 ° C and + 100 ° C with respect to the glass transition temperature of the polyimide.

【0080】トナーの離型性や転写性およびトナーのク
リーニング性を改善するためには、ポリイミド管状物の
表面には導電性制御されたフッ素樹脂最外層を形成する
とよい。フッ素樹脂としては、PTFE、PFAといっ
たものが挙げられ、導電性制御用の添加剤としては、ポ
リイミドの導電性制御用添加剤にあげたもの等が使用さ
れうる。最外層の形成方法は、塗布やフィルムの貼り合
わせ等が考えられるが、これら材料をディスパージョン
としてスプレー塗布する方法が一般的である。
In order to improve the releasability and transferability of the toner and the cleaning property of the toner, it is advisable to form a fluororesin outermost layer whose conductivity is controlled on the surface of the polyimide tubular material. Examples of the fluororesin include PTFE and PFA, and examples of the additive for controlling conductivity include those listed as the additive for controlling conductivity of polyimide. As a method for forming the outermost layer, coating, laminating films, etc. can be considered, but a method in which these materials are spray-coated as a dispersion is general.

【0081】以上、本発明に係わる実施態様を説明した
が、本発明は上述の形態に限定されるものではない。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments.

【0082】[0082]

【実施例】以下、実施例により、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例によって限定されるもの
ではない。
EXAMPLES The present invention will now be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0083】まずはじめに、各種半導電性無機物(フィ
ラー)の作成方法について説明する。
First, a method of preparing various semiconductive inorganic substances (fillers) will be described.

【0084】(硫酸バリウム−酸化錫被覆フィラーの作
成方法)平均径0.1μmである硫酸バリウム粒子10
0gを水1500ml中に分散させ、この分散スラリー
を75℃まで加熱した後、25%水酸化ナトリウム水溶
液を滴下してスラリーのpHを12程度に調整した。つ
いで錫酸ナトリウム水和物(Na2SnO3:76%含
有)46.5gを水500mlに溶解した水溶液を該分
散スラリーに添加し、30分間攪拌した後、20%硫酸
水溶液を90分間かけてpH2.5まで中和した。該分
散スラリーをpH2.5、75℃に保持しながら3時間
熟成した後、ろ過、洗浄、乾燥し、空気中450℃で2
時間焼成して、実施例に用いる半導電性硫酸バリウム−
酸化錫被覆フィラーを得た。この半導電性硫酸バリウム
−酸化錫被覆フィラーは錫をSnO2として20重量%
含有していた。半導電性硫酸バリウムフィラーを200
0kg/cm2の圧力で加圧成形して試験片とし、該試
験片の体積抵抗値を低抵抗測定器(三菱化学(株)製、
ロレスタAP)を用いて測定した。体積抵抗値は3.3
×105Ω・cmであった。
(Method for producing barium sulfate-tin oxide coated filler) Barium sulfate particles 10 having an average diameter of 0.1 μm.
0 g was dispersed in 1500 ml of water, the dispersion slurry was heated to 75 ° C., and a 25% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise to adjust the pH of the slurry to about 12. Then, an aqueous solution prepared by dissolving 46.5 g of sodium stannate hydrate (containing Na 2 SnO 3 : 76%) in 500 ml of water was added to the dispersion slurry, stirred for 30 minutes, and then a 20% aqueous sulfuric acid solution was added for 90 minutes. Neutralized to pH 2.5. The dispersion slurry was aged for 3 hours while maintaining the pH at 2.5 and 75 ° C., then filtered, washed and dried, and then dried in air at 450 ° C. for 2 hours.
Semi-conductive barium sulfate used in the examples after firing for a time
A tin oxide coated filler was obtained. This semi-conductive barium sulfate-tin oxide coated filler is 20 wt% tin as SnO 2.
Contained. 200 semiconductive barium sulfate filler
A test piece was formed by pressure molding at a pressure of 0 kg / cm 2 , and the volume resistance value of the test piece was measured with a low resistance measuring instrument (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation,
It was measured using Loresta AP). Volume resistance value is 3.3
It was × 10 5 Ω · cm.

【0085】上記フィラーについて、焼成条件を空気中
から窒素雰囲気下に変更すると、体積抵抗値は1.0×
102Ω・cm以下であった。また、焼成条件を空気と
窒素雰囲気の混合比率を変更することによって、1.0
×102〜3.3×105Ω・cmの範囲で抵抗値を制御
することができた。
When the firing conditions of the above filler were changed from air to nitrogen atmosphere, the volume resistance value was 1.0 ×.
It was 10 2 Ω · cm or less. In addition, the firing conditions can be adjusted to 1.0 by changing the mixing ratio of the air and the nitrogen atmosphere.
The resistance value could be controlled in the range of × 10 2 to 3.3 × 10 5 Ω · cm.

【0086】(硫酸バリウム−酸化錫&酸化アンチモン
被覆フィラーの作成)平均径0.1μmである硫酸バリ
ウム粒子100gを水1500ml中に分散させ、この
分散スラリーを75℃まで加熱した後、錫酸ナトリウム
水和物(Na 2SnO3:76%含有)41.16gを水
500mlに溶解した水溶液を該分散スラリーに添加
し、30分間攪拌した後、20%硫酸水溶液を90分間
かけてpH2.5まで中和した。その後、該分散スラリ
ーをpH2.5、75℃に保持しながら塩化アンチモン
(SbCl398%含有)2.11gを希塩酸溶液に溶
解した水溶液300mlと25%苛性ソーダ溶液を該分
散スラリーに3時間かけて同時に平行添加した。添加終
了後、該分散スラリーをpH2.5、75℃に保持しな
がら3時間熟成した後、ろ過し、洗浄し、乾燥し、空気
中450℃で2時間焼成して、実施例に用いる硫酸バリ
ウム−酸化錫&酸化アンチモン被覆フィラーを得た。こ
の半導電性硫酸バリウム−酸化錫&酸化アンチモン被覆
フィラーはアンチモンをSb23として1.1重量%、
錫をSnO2として17.0重量%含有していた。体積
抵抗値は1.3×105Ω・cmであった。
(Barium Sulfate-Tin Oxide & Antimony Oxide
Preparation of coated filler) Sulfuric acid burr having an average diameter of 0.1 μm
100 g of um particles were dispersed in 1500 ml of water.
After heating the dispersed slurry to 75 ° C, sodium stannate
Hydrate (Na 2SnO3: 76% included) 41.16 g of water
Add an aqueous solution dissolved in 500 ml to the dispersion slurry
Then, after stirring for 30 minutes, a 20% sulfuric acid aqueous solution is added for 90 minutes.
Neutralized to pH 2.5. Then, the dispersion slurry
-Containing antimony chloride at pH 2.5 and 75 ℃
(SbCl32.11 g dissolved in dilute hydrochloric acid solution (containing 98%)
300 ml of the thawed aqueous solution and 25% caustic soda solution
Simultaneous parallel addition to the powdered slurry over 3 hours. End of addition
After that, keep the dispersed slurry at pH 2.5 and 75 ° C.
Aged for 3 hours, filtered, washed, dried and air
Sulfuric acid burr used in the examples after firing at 450 ° C. for 2 hours.
A um-tin oxide & antimony oxide coated filler was obtained. This
Semiconductive Barium Sulfate-Tin Oxide & Antimony Oxide Coating
Filler is antimony Sb2O3As 1.1% by weight,
SnO for tin2The content was 17.0% by weight. volume
Resistance value is 1.3 × 10FiveIt was Ω · cm.

【0087】上記フィラーについて、アンチモン含有量
をSb23として1.1重量%から3.0重量%に変更
し、焼成条件を空気中から窒素雰囲気下に変更すると、
体積抵抗値は1.0×102Ω・cm以下であった。
When the antimony content of the above filler was changed from 1.1% by weight to 3.0% by weight as Sb 2 O 3 and the firing condition was changed from the air to the nitrogen atmosphere,
The volume resistance value was 1.0 × 10 2 Ω · cm or less.

【0088】(ホウ酸アルミニウム−酸化錫被覆フィラ
ー、酸化チタン−酸化錫被覆フィラーの作成方法)硫酸
バリウム粒子の代わりに直径1μm、長さ10μmから
なるホウ酸アルミニウムウィスカー、直径0.1μm、
長さ1.6μmからなる酸化チタンウィスカーを用いた
以外は硫酸バリウム/酸化錫フィラーの作成方法と同様
に作成した。体積抵抗値は5.3×107Ω・cm、
1.0×108Ω・cmであった。
(Method for producing aluminum borate-tin oxide coated filler, titanium oxide-tin oxide coated filler) Aluminum borate whiskers having a diameter of 1 μm and a length of 10 μm instead of barium sulfate particles, a diameter of 0.1 μm,
It was prepared in the same manner as the barium sulfate / tin oxide filler preparation method except that a titanium oxide whisker having a length of 1.6 μm was used. The volume resistance is 5.3 × 10 7 Ω · cm,
It was 1.0 × 10 8 Ω · cm.

【0089】(物性評価方法)次に、樹脂組成物の物性
評価方法について説明する。なお、物性は樹脂組成物か
らなる管状物を成形し、フィルム状のサンプルを切り出
して行った。
(Physical Property Evaluation Method) Next, the physical property evaluation method of the resin composition will be described. The physical properties were measured by molding a tubular product made of a resin composition and cutting out a film sample.

【0090】フィルム状サンプルの厚み方向の体積抵抗
値測定は、次のように実施した。ひとサンプルから10
cm×10cmを4枚切り取り、温度23℃、湿度55
%Rhの環境(NN)下および温度30℃、湿度80%
Rhの環境(HH)48時間放置し、該環境下にて、ア
ドバンテスト社製デジタル超高抵抗/微小電流計R83
40とレジスティビティチェンバR12702Aを用い
500Vにおける体積抵抗値と表面抵抗を測定した。
The volume resistance value in the thickness direction of the film sample was measured as follows. 10 from a sample
Cut out 4 cm x 10 cm, temperature 23 ℃, humidity 55
% Rh environment (NN), temperature 30 ° C, humidity 80%
Rh environment (HH) left for 48 hours, and under the environment, Advantest digital ultra-high resistance / micro ammeter R83
40 and resiliency chamber R12702A were used to measure the volume resistance and surface resistance at 500V.

【0091】フィルム状サンプルの引っ張り弾性率、引
っ張り伸びの測定は、ASTM D882に準拠して実
施した。
The tensile modulus and tensile elongation of the film sample were measured according to ASTM D882.

【0092】フィルム状サンプルの引裂伝播強度測定
は、ASTM D1938に準拠して実施した。
The tear propagation strength of the film sample was measured according to ASTM D1938.

【0093】フィルム状サンプルの全光線透過率の測定
は、日本電色工業(株)製のデジタル濁度計:NDHH
−20D型を使用して求めた。
The total light transmittance of the film sample was measured by a digital turbidimeter manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd .: NDHH.
It was determined using a -20D model.

【0094】次に、実施例と比較例について説明する。Next, examples and comparative examples will be described.

【0095】(実施例1)芳香族ジアミンとして4,
4′−ジアミノジフェニルエーテルを、芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物としてピロメリット酸二無水物を用い
て得られたポリアミド酸のDMF溶液(固形分濃度1
8.5%、溶液粘度3,000poise)を75g準
備した。一方、DMF21gに硫酸バリウム−酸化錫被
覆フィラー2.78gを分散させた液を調整した。
Example 1 As an aromatic diamine 4,
DMF solution of polyamic acid obtained by using 4'-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride as aromatic tetracarboxylic dianhydride (solid content concentration 1
75 g of 8.5% and a solution viscosity of 3,000 poise) was prepared. On the other hand, a liquid in which 2.78 g of barium sulfate-tin oxide coating filler was dispersed in 21 g of DMF was prepared.

【0096】これらポリアミド酸溶液と硫酸バリウム−
酸化錫被覆フィラーの分散液を添加し混練した。得られ
たドープを管状フィルム状にキャストする前に、無水酢
酸/イソキノリン/DMFを9.03g/11.4g/
15.6gからなる溶液を添加混合し、次いで筒状SU
Sにキャストし、140℃/240秒、275℃/40
秒、400℃/93秒熱処理して約50μmの黄色のポ
リイミド管状物を得た。本管状物中のフィラー量はポリ
イミド固形分100重量部に対して20重量部である。
特性値を表1に示す。このようにして重合したポリイミ
ドフィルム単体の線膨張係数は21ppm、吸湿膨張係
数は16ppm、弾性率は3GPa、吸水率は2.5
%、全光線透過率は60%であった。
These polyamic acid solutions and barium sulfate were used.
A tin oxide-coated filler dispersion was added and kneaded. Before casting the obtained dope into a tubular film, acetic anhydride / isoquinoline / DMF was added in an amount of 9.03 g / 11.4 g /
A solution consisting of 15.6 g was added and mixed, then cylindrical SU
Cast on S, 140 ℃ / 240sec, 275 ℃ / 40
Second heat treatment at 400 ° C./93 seconds to obtain a yellow polyimide tubular product of about 50 μm. The amount of filler in the present tubular product is 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyimide solid content.
The characteristic values are shown in Table 1. The linear expansion coefficient of the polyimide film thus polymerized is 21 ppm, the hygroscopic expansion coefficient is 16 ppm, the elastic modulus is 3 GPa, and the water absorption rate is 2.5.
%, The total light transmittance was 60%.

【0097】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は1×1015Ω・cm以下で帯電防
止効果が改善された。またフィラーの添加部数の差(5
部)による体積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗
値の添加部数依存性は小さかった。またNNとHHの体
積抵抗値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依
存性は小さかった。また、100Vと1000Vで測定
した体積抵抗値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の
電圧依存性は小さかった。また上記と同様の操作で作製
した5点のサンプルについて、500Vにおける体積抵
抗値測定を行った結果、最大値と最小値の差は3倍以下
であり、サンプル間のばらつきも非常に小さかった。同
一サンプル内のばらつきも3倍以下であり、非常に小さ
かった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. When the volume resistance value was 1 × 10 15 Ω · cm or less, the antistatic effect was improved. Also, the difference in the number of parts added with filler (5
The ratio of the volume resistance value by part) was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small. The variation within the same sample was three times or less, which was very small.

【0098】フィルムの引張弾性率は3GPa以上、伸
びは70%以上、引き裂き伝播強度は300g/mm以
上あり、機械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引
張弾性率2.9GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度
450g/mmに匹敵するものであった。伸びは100
%以上、伝播強度は75%以上を保持していた。
The tensile modulus of the film was 3 GPa or more, the elongation was 70% or more, the tear propagation strength was 300 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. The tensile modulus of elasticity of the polyimide alone was 2.9 GPa, the elongation was 70%, and the tear propagation strength was 450 g / mm. Elongation is 100
%, And the propagation strength was maintained at 75% or more.

【0099】また、全光線透過率は32.0%有り、ポ
リイミド単体の60%を保持していた。
The total light transmittance was 32.0%, which was 60% of the polyimide alone.

【0100】(実施例2)DMF21gに硫酸バリウム
−酸化錫被覆フィラー20.8gを分散させた液を調整
した以外は、実施例1と同様にしてポリイミド管状物を
得た。本管状物中のフィラー量はポリイミド固形分10
0重量部に対して150部である。特性値を表1に示
す。
Example 2 A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1 except that a liquid prepared by dispersing 20.8 g of barium sulfate-tin oxide coating filler in 21 g of DMF was prepared. The amount of filler in the tubular product is 10% of polyimide solid content.
It is 150 parts to 0 parts by weight. The characteristic values are shown in Table 1.

【0101】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調整され
ていた。またフィラーの添加部数の差(5部)による体
積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗値の添加部数
依存性は小さかった。またNNとHHの体積抵抗値の比
は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依存性は小さか
った。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗
値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の電圧依存性は
小さかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサ
ンプルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行
った結果、最大値と最小値の差は3倍以下であり、サン
プル間のばらつきも非常に小さかった。同一サンプル内
のばらつきも3倍以下であり、非常に小さかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value was adjusted to the desired medium resistance region. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small. The variation within the same sample was three times or less, which was very small.

【0102】引張弾性率は3GPa以上、伸びは70%
以上、引き裂き伝播強度は300g/mm以上あり、機
械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引張弾性率
2.9GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度450g
/mmに匹敵するものであった。伸びは100%以上、
伝播強度は75%以上を保持していた。
Tensile elastic modulus is 3 GPa or more, elongation is 70%
As described above, the tear propagation strength was 300 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. Tensile elastic modulus of polyimide alone 2.9 GPa, elongation 70%, tear propagation strength 450 g
/ Mm. Elongation is 100% or more,
The propagation strength was maintained at 75% or more.

【0103】(実施例3)DMF21gに硫酸バリウム
−酸化錫&酸化アンチモン被覆フィラー20.8gを分
散させた液を調整した以外は、実施例1と同様にしてポ
リイミド管状物を得た。本管状物中のフィラー量はポリ
イミド固形分100重量部に対して150部である。特
性値を表1に示す。
Example 3 A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1 except that a liquid having 21 g of DMF and 20.8 g of barium sulfate-tin oxide & antimony oxide coating filler dispersed therein was prepared. The amount of filler in the tubular product was 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyimide solid content. The characteristic values are shown in Table 1.

【0104】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調整され
ていた。またフィラーの添加部数の差(5部)による体
積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗値の添加部数
依存性は小さかった。またNNとHHの体積抵抗値の比
は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依存性は小さか
った。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗
値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の電圧依存性は
小さかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサ
ンプルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行
った結果、最大値と最小値の差は3倍以下であり、サン
プル間のばらつきも非常に小さかった。同一サンプル内
のばらつきも3倍以下であり、非常に小さかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value was adjusted to the desired medium resistance region. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small. The variation within the same sample was three times or less, which was very small.

【0105】引張弾性率は2.5GPa以上、伸びは3
5%以上、引き裂き伝播強度は250g/mm以上あ
り、機械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引張弾
性率2.9GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度45
0g/mmに匹敵するものであった。伸びは50%以
上、伝播強度は55%以上を保持していた。
The tensile elastic modulus is 2.5 GPa or more and the elongation is 3
It was 5% or more, the tear propagation strength was 250 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. Tensile elastic modulus of polyimide alone 2.9 GPa, elongation 70%, tear propagation strength 45
It was comparable to 0 g / mm. The elongation was 50% or more and the propagation strength was 55% or more.

【0106】(実施例4)DMF21gにホウ酸アルミ
ニウム−酸化錫被覆フィラー2.78gを分散させた液
を調整した以外は、実施例1と同様にしてポリイミド管
状物を得た。本管状物中のフィラー量はポリイミド固形
分100重量部に対して20部である。特性値を表1に
示す。
Example 4 A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1 except that a liquid prepared by dispersing 2.78 g of aluminum borate-tin oxide coating filler in 21 g of DMF was prepared. The amount of filler in the tubular product was 20 parts based on 100 parts by weight of polyimide solid content. The characteristic values are shown in Table 1.

【0107】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は1×1015Ω・cm以下で帯電防
止効果が改善された。またフィラーの添加部数の差(5
部)による体積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗
値の添加部数依存性は小さかった。またNNとHHの体
積抵抗値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依
存性は小さかった。また、100Vと1000Vで測定
した体積抵抗値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の
電圧依存性は小さかった。また上記と同様の操作で作製
した5点のサンプルについて、500Vにおける体積抵
抗値測定を行った結果、最大値と最小値の差は3倍以下
であり、サンプル間のばらつきも非常に小さかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. When the volume resistance value was 1 × 10 15 Ω · cm or less, the antistatic effect was improved. Also, the difference in the number of parts added with filler (5
The ratio of the volume resistance value by part) was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small.

【0108】引張弾性率は4.0GPa以上、伸びは7
0%以上、引き裂き伝播強度は300g/mm以上あ
り、機械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引張弾
性率2.9GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度45
0g/mmに匹敵するものであった。伸びは100%以
上、伝播強度は65%以上を保持していた。
The tensile elastic modulus is 4.0 GPa or more and the elongation is 7
The tensile strength was 0% or more, the tear propagation strength was 300 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. Tensile elastic modulus of polyimide alone 2.9 GPa, elongation 70%, tear propagation strength 45
It was comparable to 0 g / mm. The elongation was 100% or more and the propagation strength was 65% or more.

【0109】また、全光線透過率は33.0%有り、ポ
リイミド単体の60%を保持していた。線膨張係数、吸
湿膨張係数もポリイミド単体より数ppm低下してい
た。
The total light transmittance was 33.0%, which was 60% of the polyimide alone. The linear expansion coefficient and the hygroscopic expansion coefficient were also several ppm lower than those of the polyimide alone.

【0110】(実施例5)DMF21gにホウ酸アルミ
ニウム−酸化錫被覆フィラー8.34gを分散させた液
を調整した以外は、実施例1と同様にしてポリイミド管
状物を得た。本管状物中のフィラー量はポリイミド固形
分100重量部に対して60部である。特性値を表1に
示す。
Example 5 A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1 except that a liquid prepared by dispersing 8.34 g of aluminum borate-tin oxide coating filler in 21 g of DMF was prepared. The amount of filler in this tubular product was 60 parts based on 100 parts by weight of polyimide solid content. The characteristic values are shown in Table 1.

【0111】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調整され
ていた。またフィラーの添加部数の差(5部)による体
積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗値の添加部数
依存性は小さかった。またNNとHHの体積抵抗値の比
は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依存性は小さか
った。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗
値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の電圧依存性は
小さかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサ
ンプルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行
った結果、最大値と最小値の差は3倍以下であり、サン
プル間のばらつきも非常に小さかった。同一サンプル内
のばらつきも3倍以下であり、非常に小さかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value was adjusted to the desired medium resistance region. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small. The variation within the same sample was three times or less, which was very small.

【0112】引張弾性率は5GPa以上、伸びは50%
以上、引き裂き伝播強度は600g/mm以上あり、機
械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引張弾性率
2.9GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度450g
/mmに匹敵するものであった。伸びは70%以上、伝
播強度は130%以上を保持していた。線膨張係数、吸
湿膨張係数もポリイミド単体より数ppm低下してい
た。
Tensile elastic modulus is 5 GPa or more, elongation is 50%
As described above, the tear propagation strength was 600 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. Tensile elastic modulus of polyimide alone 2.9 GPa, elongation 70%, tear propagation strength 450 g
/ Mm. The elongation was 70% or more and the propagation strength was 130% or more. The linear expansion coefficient and the hygroscopic expansion coefficient were also several ppm lower than those of the polyimide alone.

【0113】(実施例6)DMF21gに酸化チタン−
酸化錫被覆フィラー9.73gを分散させた液を調整し
た以外は、実施例1と同様にしてポリイミド管状物を得
た。本管状物中のフィラー量はポリイミド固形分100
重量部に対して70部である。特性値を表1に示す。
(Example 6) TMF was added to 21 g of DMF.
A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1 except that a liquid in which 9.73 g of tin oxide-coated filler was dispersed was prepared. The amount of filler in this tubular product is 100% of polyimide solid content.
70 parts by weight. The characteristic values are shown in Table 1.

【0114】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調整され
ていた。またフィラーの添加部数の差(5部)による体
積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗値の添加部数
依存性は小さかった。またNNとHHの体積抵抗値の比
は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依存性は小さか
った。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗
値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の電圧依存性は
小さかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサ
ンプルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行
った結果、最大値と最小値の差は3倍以下であり、サン
プル間のばらつきも非常に小さかった。同一サンプル内
のばらつきも3倍以下であり、非常に小さかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value was adjusted to the desired medium resistance region. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small. The variation within the same sample was three times or less, which was very small.

【0115】引張弾性率は5GPa以上、伸びは50%
以上、引き裂き伝播強度は600g/mm以上あり、機
械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引張弾性率
2.9GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度450g
/mmに匹敵するものであった。伸びは70%以上、伝
播強度は130%以上を保持していた。線膨張係数、吸
湿膨張係数もポリイミド単体より数ppm低下してい
た。
Tensile elastic modulus is 5 GPa or more, elongation is 50%
As described above, the tear propagation strength was 600 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. Tensile elastic modulus of polyimide alone 2.9 GPa, elongation 70%, tear propagation strength 450 g
/ Mm. The elongation was 70% or more and the propagation strength was 130% or more. The linear expansion coefficient and the hygroscopic expansion coefficient were also several ppm lower than those of the polyimide alone.

【0116】(実施例7)DMF21gに酸化チタン−
酸化錫被覆フィラー9.73g、カーボンブラック(#
3030B:三菱化学(株))0.55gを分散させた
液を調整した以外は、実施例1と同様にしてポリイミド
管状物を得た。本管状物中のフィラー量はポリイミド固
形分100重量部に対して70部である。特性値を表1
に示す。
(Example 7) TMF was added to 21 g of DMF.
Tin oxide coated filler 9.73 g, carbon black (#
3030B: Mitsubishi Chemical Co., Ltd. A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1, except that a liquid in which 0.55 g was dispersed was prepared. The amount of filler in this tubular product was 70 parts based on 100 parts by weight of polyimide solid content. Table 1 shows the characteristic values
Shown in.

【0117】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調整され
ていた。またフィラーの添加部数の差(5部)による体
積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗値の添加部数
依存性は小さかった。またNNとHHの体積抵抗値の比
は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依存性は小さか
った。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗
値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の電圧依存性は
小さかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサ
ンプルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行
った結果、最大値と最小値の差は3倍以下であり、サン
プル間のばらつきも非常に小さかった。同一サンプル内
のばらつきも3倍以下であり、非常に小さかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value was adjusted to the desired medium resistance region. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small. The variation within the same sample was three times or less, which was very small.

【0118】引張弾性率は5GPa以上、伸びは50%
以上、引き裂き伝播強度は600g/mm以上あり、機
械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引張弾性率
2.9GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度450g
/mmに匹敵するものであった。伸びは70%以上、伝
播強度は130%以上を保持していた。線膨張係数、吸
湿膨張係数もポリイミド単体より数ppm低下してい
た。
Tensile elastic modulus is 5 GPa or more, elongation is 50%
As described above, the tear propagation strength was 600 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. Tensile elastic modulus of polyimide alone 2.9 GPa, elongation 70%, tear propagation strength 450 g
/ Mm. The elongation was 70% or more and the propagation strength was 130% or more. The linear expansion coefficient and the hygroscopic expansion coefficient were also several ppm lower than those of the polyimide alone.

【0119】(実施例8)ポリアミド酸のDMF溶液を
芳香族ジアミンとして4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル5当量、パラフェニレンジアミン5当量をDMF
に溶解し、次にTMHQ5当量加えさらにPMDA5当
量を加えて重合したポリアミド酸のDMF溶液(固形分
濃度18.5%、溶液粘度3,000poise)に変
更した以外は実施例4と同様にしてポリイミド管状物を
得た。このようにして重合したポリイミドフィルム単体
の線膨張係数は9ppm、吸湿膨張係数は5ppm、弾
性率は6GPa、吸水率は1.2%、全光線透過率は6
0%であった。
Example 8 A solution of polyamic acid in DMF was used as an aromatic diamine, and 5 equivalents of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 5 equivalents of paraphenylenediamine were added to DMF.
In the same manner as in Example 4, except that 5 equivalents of TMHQ and 5 equivalents of PMDA were further added to polymerize a polyamic acid DMF solution (solid content concentration 18.5%, solution viscosity 3,000 poise). A tubular product was obtained. The linear expansion coefficient of the polyimide film thus polymerized is 9 ppm, the hygroscopic expansion coefficient is 5 ppm, the elastic modulus is 6 GPa, the water absorption rate is 1.2%, and the total light transmittance is 6 ppm.
It was 0%.

【0120】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調整され
ていた。またフィラーの添加部数の差(5部)による体
積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗値の添加部数
依存性は小さかった。またNNとHHの体積抵抗値の比
は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依存性は小さか
った。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗
値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の電圧依存性は
小さかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサ
ンプルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行
った結果、最大値と最小値の差は3倍以下であり、サン
プル間のばらつきも非常に小さかった。同一サンプル内
のばらつきも3倍以下であり、非常に小さかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value was adjusted to the desired medium resistance region. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small. The variation within the same sample was three times or less, which was very small.

【0121】引張弾性率は7GPa以上、伸びは50%
以上、引き裂き伝播強度は600g/mm以上あり、機
械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引張弾性率6
GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度450g/mm
に匹敵するものであった。伸びは70%以上、伝播強度
は130%以上を保持していた。線膨張係数、吸湿膨張
係数もポリイミド単体より数ppm低下していた。
Tensile elastic modulus is 7 GPa or more, elongation is 50%
As described above, the tear propagation strength was 600 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. Tensile elastic modulus of polyimide alone 6
GPa, elongation 70%, tear propagation strength 450g / mm
Was comparable to. The elongation was 70% or more and the propagation strength was 130% or more. The linear expansion coefficient and the hygroscopic expansion coefficient were also several ppm lower than those of the polyimide alone.

【0122】(実施例9)ポリアミド酸のDMF溶液を
芳香族ジアミンとして4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル5当量、パラフェニレンジアミン5当量をDMF
に溶解し、次にTMHQ5当量加えさらにPMDA5当
量を加えて重合したポリアミド酸のDMF溶液(固形分
濃度18.5%、溶液粘度3,000poise)に変
更した以外は実施例5と同様にしてポリイミド管状物を
得た。
Example 9 A solution of polyamic acid in DMF was used as an aromatic diamine, and 5 equivalents of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 5 equivalents of paraphenylenediamine were added to DMF.
In the same manner as in Example 5, except that 5 equivalents of TMHQ and then 5 equivalents of PMDA were added to polymerize the polyamic acid in DMF solution (solid content concentration 18.5%, solution viscosity 3,000 poise). A tubular product was obtained.

【0123】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は1015Ω・cm以下で帯電防止効
果が改善された。またフィラーの添加部数の差(5部)
による体積抵抗値の比は3倍以下であり、体積抵抗値の
添加部数依存性は小さかった。またNNとHHの体積抵
抗値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の環境依存性
は小さかった。また、100Vと1000Vで測定した
体積抵抗値の比は30倍以下であり、体積抵抗値の電圧
依存性は小さかった。また上記と同様の操作で作製した
5点のサンプルについて、500Vにおける体積抵抗値
測定を行った結果、最大値と最小値の差は3倍以下であ
り、サンプル間のばらつきも非常に小さかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value was 10 15 Ω · cm or less, and the antistatic effect was improved. Also, the difference in the number of added fillers (5 parts)
The ratio of the volume resistance values was 3 times or less, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was small. Moreover, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 30 times or less, and the environment dependency of the volume resistance value was small. Further, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 30 times or less, and the voltage dependency of the volume resistance value was small. Further, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V for five samples produced by the same operation as above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or less, and the variation between the samples was also very small.

【0124】引張弾性率は6.5GPa以上、伸びは7
0%以上、引き裂き伝播強度は300g/mm以上あ
り、機械特性にも優れていた。ポリイミド単体の引張弾
性率6GPa、伸び70%、引き裂き伝播強度450g
/mmに匹敵するものであった。伸びは100%以上、
伝播強度は65%以上を保持していた。
The tensile elastic modulus is 6.5 GPa or more and the elongation is 7
The tensile strength was 0% or more, the tear propagation strength was 300 g / mm or more, and the mechanical properties were excellent. Tensile elastic modulus of polyimide alone 6 GPa, elongation 70%, tear propagation strength 450 g
/ Mm. Elongation is 100% or more,
The transmission strength was kept at 65% or more.

【0125】また、全光線透過率は36.0%有り、ポ
リイミド単体の60%を保持していた。線膨張係数、吸
湿膨張係数もポリイミド単体より数ppm低下してい
た。
The total light transmittance was 36.0%, which was 60% of the polyimide alone. The linear expansion coefficient and the hygroscopic expansion coefficient were also several ppm lower than those of the polyimide alone.

【0126】(比較例1)分散液を添加しない以外は、
実施例1と同様にしてポリイミド管状物を得た。本管状
物中のフィラー量はポリイミド固形分100重量部に対
して0部である。特性値を表1に示す。
(Comparative Example 1) Except that no dispersion was added,
A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1. The amount of filler in the present tubular product is 0 part with respect to 100 parts by weight of the polyimide solid content. The characteristic values are shown in Table 1.

【0127】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。体積抵抗値は1.0×10 16Ω・cmと非常に
高く、帯電しやすい。またNNとHHの体積抵抗値の比
は30倍以下であった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. Volume resistance value is 1.0 x 10 16Ω ・ cm and very
High and easy to be charged. Also, the ratio of the volume resistance values of NN and HH
Was 30 times or less.

【0128】(比較例2)DMF21gに錫ドープ酸化
インジウムフィラー(三井金属鉱業(株):パストラン
ITO)13.9gを分散させた液を調整した以外は、
実施例1と同様にしてポリイミド管状物を得た。本管状
物中のフィラー量はポリイミド固形分100重量部に対
して100部である。特性値を表1に示す。
(Comparative Example 2) A liquid in which 13.9 g of tin-doped indium oxide filler (Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd .: Pastran ITO) was dispersed in 21 g of DMF was prepared.
A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1. The amount of filler in this tubular product is 100 parts based on 100 parts by weight of polyimide solid content. The characteristic values are shown in Table 1.

【0129】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。NNの体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調
整されていたが、HHでは非常に抵抗値が低かった。ま
たフィラーの添加部数の差(5部)による体積抵抗値の
比は3倍以上あり、体積抵抗値の添加部数依存性は大き
かった。またNNとHHの体積抵抗値の比は1000倍
以上であり、体積抵抗値の環境依存性は非常に大きかっ
た。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗値
の比は100倍以上あり、体積抵抗値の電圧依存性は大
きかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサン
プルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行っ
た結果、最大値と最小値の差は3倍以上あり、サンプル
間のばらつきも非常に大きかった。同一サンプル内のば
らつきも3倍以上あり、非常に大きかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value of NN was adjusted to the target medium resistance region, but HH had a very low resistance value. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or more, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was large. Further, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 1000 times or more, and the environment dependency of the volume resistance value was very large. Moreover, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 100 times or more, and the voltage dependency of the volume resistance value was large. In addition, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V with respect to 5 samples prepared by the same operation as described above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or more, and the variation among the samples was very large. The variation within the same sample was three times or more, which was very large.

【0130】(比較例3)DMF21gに酸化チタン−
酸化錫被覆フィラー(石原産業(株):FT−300
0)8.34gを分散させた液を調整した以外は、実施
例1と同様にしてポリイミド管状物を得た。本管状物中
のフィラー量はポリイミド固形分100重量部に対して
70部である。特性値を表1に示す。
(Comparative Example 3) Titanium oxide was added to 21 g of DMF.
Tin oxide coated filler (Ishihara Sangyo Co., Ltd .: FT-300
0) A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1 except that the liquid in which 8.34 g was dispersed was prepared. The amount of filler in this tubular product was 70 parts based on 100 parts by weight of polyimide solid content. The characteristic values are shown in Table 1.

【0131】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。NNの体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調
整されていたが、HHでは非常に抵抗値が低かった。ま
たフィラーの添加部数の差(5部)による体積抵抗値の
比は3倍以上あり、体積抵抗値の添加部数依存性は大き
かった。またNNとHHの体積抵抗値の比は1000倍
以上であり、体積抵抗値の環境依存性は非常に大きかっ
た。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗値
の比は100倍以上あり、体積抵抗値の電圧依存性は大
きかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサン
プルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行っ
た結果、最大値と最小値の差は3倍以上あり、サンプル
間のばらつきも非常に大きかった。同一サンプル内のば
らつきも3倍以上あり、非常に大きかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value of NN was adjusted to the target medium resistance region, but HH had a very low resistance value. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or more, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was large. Further, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 1000 times or more, and the environment dependency of the volume resistance value was very large. Moreover, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 100 times or more, and the voltage dependency of the volume resistance value was large. In addition, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V with respect to 5 samples prepared by the same operation as described above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or more, and the variation among the samples was very large. The variation within the same sample was three times or more, which was very large.

【0132】(比較例4)DMF21gに酸化チタン−
酸化錫被覆フィラー9.73g、カーボンブラック(#
3030B:三菱化学(株))4.17gを分散させた
液を調整した以外は、実施例1と同様にしてポリイミド
管状物を得た。本管状物中のフィラー量はポリイミド固
形分100重量部に対して30部である。特性値を表1
に示す。
(Comparative Example 4) TMF was added to 21 g of DMF.
Tin oxide coated filler 9.73 g, carbon black (#
3030B: A polyimide tubular product was obtained in the same manner as in Example 1 except that a liquid in which 4.17 g of Mitsubishi Chemical Corporation was dispersed was prepared. The amount of filler in this tubular product was 30 parts based on 100 parts by weight of polyimide solid content. Table 1 shows the characteristic values
Shown in.

【0133】NNとHHの体積抵抗値の測定結果を表1
に示す。NNの体積抵抗値は狙い通りの中抵抗領域に調
整されていたが、HHでは非常に抵抗値が低かった。ま
たフィラーの添加部数の差(5部)による体積抵抗値の
比は3倍以上あり、体積抵抗値の添加部数依存性は大き
かった。またNNとHHの体積抵抗値の比は1000倍
以上であり、体積抵抗値の環境依存性は非常に大きかっ
た。また、100Vと1000Vで測定した体積抵抗値
の比は100倍以上あり、体積抵抗値の電圧依存性は大
きかった。また上記と同様の操作で作製した5点のサン
プルについて、500Vにおける体積抵抗値測定を行っ
た結果、最大値と最小値の差は3倍以上あり、サンプル
間のばらつきも非常に大きかった。同一サンプル内のば
らつきも3倍以上あり、非常に大きかった。
Table 1 shows the measurement results of the volume resistance values of NN and HH.
Shown in. The volume resistance value of NN was adjusted to the target medium resistance region, but HH had a very low resistance value. Further, the ratio of the volume resistance values due to the difference in the number of added parts of the filler (5 parts) was 3 times or more, and the dependency of the volume resistance value on the number of added parts was large. Further, the ratio of the volume resistance values of NN and HH was 1000 times or more, and the environment dependency of the volume resistance value was very large. Moreover, the ratio of the volume resistance values measured at 100 V and 1000 V was 100 times or more, and the voltage dependency of the volume resistance value was large. In addition, as a result of measuring the volume resistance value at 500 V with respect to 5 samples prepared by the same operation as described above, the difference between the maximum value and the minimum value was 3 times or more, and the variation among the samples was very large. The variation within the same sample was three times or more, which was very large.

【0134】[0134]

【表1】 [Table 1]

【0135】[0135]

【発明の効果】常温常湿から高温高湿において安定な中
抵抗値を有し、サンプル間、添加量変化、電圧変化、環
境変化による抵抗値の変動が少なく、搬送による帯電防
止性や電子写真機での転写性・定着性に優れ、FPCや
TAB等における異物検査やフィルム越しの位置あわ
せ、転写ベルトや定着ベルト等におけるミスプリントで
付着したトナーのクリーニングが容易な透明もしくは非
黒色のポリイミド樹脂を得る事ができる。
EFFECTS OF THE INVENTION It has a stable medium resistance value from normal temperature and normal humidity to high temperature and high humidity, and has little change in resistance value between samples, addition amount change, voltage change, environmental change, and antistatic property by transport and electrophotography. A transparent or non-black polyimide resin that has excellent transferability and fixability on the machine, and is easy to clean the toner adhered by foreign matter inspection in FPC, TAB, etc., alignment over the film, and misprinting in transfer belt, fixing belt, etc. Can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03G 15/16 101 G03G 15/16 101 15/20 102 15/20 102 Fターム(参考) 2H033 BA11 BA25 BB01 BB18 BB28 2H071 BA42 DA09 DA12 2H200 HB13 HB45 HB46 HB47 JA01 JA25 JA27 JB06 JB45 JB46 JB47 JC03 JC15 JC16 JC17 MA02 MA17 MA20 MB01 MB02 MB04 MC15 4F071 AA60 AB06 AB18 AB20 AB21 AB24 AB26 AB27 AB28 AB30 AE15 AF37Y AH16 BB02 BC01 BC05 4J002 CM041 DA117 DE097 DE106 DE136 DE146 DE186 DE236 DG046 DJ006 DJ016 DJ036 DJ046 DJ056 DK006 DL006 FD116 FD117 GM01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G03G 15/16 101 G03G 15/16 101 15/20 102 15/20 102 F term (reference) 2H033 BA11 BA25 BB01 BB18 BB28 2H071 BA42 DA09 DA12 2H200 HB13 HB45 HB46 HB47 JA01 JA25 JA27 JB06 JB45 JB46 JB47 JC03 JC15 JC16 JC17 MA02 MA17 MA20 MB01 MB02 MB04 MC15 4F071 A01 BF97 CM02 AE15AB02 AY21A24 AB30 AHAB21 AB24 AB30 AB16 AB27 AB02 AB16 AB02 AB16 AB02 AB16 AB02 AB21 AB24 AB26 AB16 AB27 AB02 DE106 DE136 DE146 DE186 DE236 DG046 DJ006 DJ016 DJ036 DJ046 DJ056 DK006 DL006 FD116 FD117 GM01

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリイミド樹脂100重量部に対し、体
積抵抗値が1×10 3〜1×1010Ω・cmで粒径が3
μm以下の半導電性無機物を5〜200重量部含有し、
体積抵抗値が1×106〜1×1015Ω・cmの範囲内
にあることを特徴とするポリイミド樹脂組成物。
1. A body is added to 100 parts by weight of a polyimide resin.
Product resistance is 1 × 10 3~ 1 x 10TenParticle size is 3 in Ω · cm
Containing 5 to 200 parts by weight of a semi-conductive inorganic substance having a size of μm or less,
Volume resistance value is 1 × 106~ 1 x 1015Within Ω · cm
The polyimide resin composition according to claim 1.
【請求項2】 前記半導電性無機物の体積抵抗値が1×
104〜1×109Ω・cmで粒径が2μm以下である請
求項1記載のポリイミド樹脂組成物。
2. The volume resistance value of the semiconductive inorganic material is 1 ×.
The polyimide resin composition according to claim 1, which has a particle diameter of 10 4 to 1 × 10 9 Ω · cm and 2 μm or less.
【請求項3】 前記半導電性無機物が導電性物質で被覆
された無機物であることを特徴とする請求項1または2
に記載のポリイミド樹脂組成物。
3. The semiconductor material according to claim 1, wherein the semiconductive inorganic material is an inorganic material coated with a conductive material.
The polyimide resin composition described in 1.
【請求項4】 前記無機物が硫酸バリウム、ホウ酸アル
ミニウム、マイカ、シリカ、ガラス、アルミナ、酸化亜
鉛、酸化チタン、チタン酸カリウム、ウォラストナイ
ト、炭酸カルシウム、タルクおよびカオリンからなる群
より選択される少なくとも1種の無機物であることを特
徴とする請求項3に記載のポリイミド樹脂組成物。
4. The inorganic substance is selected from the group consisting of barium sulfate, aluminum borate, mica, silica, glass, alumina, zinc oxide, titanium oxide, potassium titanate, wollastonite, calcium carbonate, talc and kaolin. The polyimide resin composition according to claim 3, which is at least one kind of inorganic substance.
【請求項5】 前記無機物が硫酸バリウム、ホウ酸アル
ミニウムおよびマイカからなる群より選択される少なく
とも1種の無機物であることを特徴とする請求項3に記
載のポリイミド樹脂組成物。
5. The polyimide resin composition according to claim 3, wherein the inorganic substance is at least one inorganic substance selected from the group consisting of barium sulfate, aluminum borate and mica.
【請求項6】 前記導電性物質がITO(錫ドープ酸化
インジウム)、ATO(アンチモンドープ酸化錫)、N
TO(ニオブドープ酸化錫)、TTO(タンタルドープ
酸化錫)、FTO(フッ素化物ドープ酸化錫)およびT
O(酸化錫)からなる群より選択される少なくとも1種
の導電性物質であることを特徴とする請求項3〜5のい
ずれかに記載のポリイミド樹脂組成物。
6. The conductive material is ITO (tin-doped indium oxide), ATO (antimony-doped tin oxide), N.
TO (niobium-doped tin oxide), TTO (tantalum-doped tin oxide), FTO (fluoride-doped tin oxide) and T
It is at least 1 sort (s) of electroconductive substance selected from the group which consists of O (tin oxide), The polyimide resin composition in any one of Claims 3-5 characterized by the above-mentioned.
【請求項7】 前記導電性物質が、ITO(錫ドープ酸
化インジウム)、ATO(アンチモンドープ酸化錫)、
NTO(ニオブドープ酸化錫)、TTO(タンタルドー
プ酸化錫)、FTO(フッ素化物ドープ酸化錫)からな
る群より選択される少なくとも1種の導電性物質であっ
て、そのドープ含有量が該導電性物質を基準として10
重量%以下であることを特徴とする請求項3〜5のいず
れかに記載のポリイミド樹脂組成物。
7. The conductive material is ITO (tin-doped indium oxide), ATO (antimony-doped tin oxide),
At least one conductive material selected from the group consisting of NTO (niobium-doped tin oxide), TTO (tantalum-doped tin oxide), and FTO (fluoride-doped tin oxide), the doping content of which is the conductive material. Based on 10
It is below weight%, The polyimide resin composition in any one of Claims 3-5 characterized by the above-mentioned.
【請求項8】 前記導電性物質が酸化性雰囲気中で加熱
処理して得られる導電性物質であることを特徴とする請
求項6または7に記載のポリイミド樹脂組成物。
8. The polyimide resin composition according to claim 6, wherein the conductive substance is a conductive substance obtained by heat treatment in an oxidizing atmosphere.
【請求項9】 前記組成物が、前記半導電性無機物の他
に、ポリイミド樹脂100重量部に対し、0.01〜2
0重量部の導電性物質を含むことを特徴とする請求項1
〜8のいずれかに記載のポリイミド樹脂組成物。
9. The composition, in addition to the semiconductive inorganic material, is 0.01 to 2 with respect to 100 parts by weight of the polyimide resin.
The composition according to claim 1, further comprising 0 parts by weight of a conductive material.
The polyimide resin composition according to any one of to 8.
【請求項10】 前記組成物の体積抵抗値が1×106
〜1×1013Ω・cmの範囲内にあることを特徴とする
請求項1〜9のいずれかに記載のポリイミド樹脂組成
物。
10. The volume resistance value of the composition is 1 × 10 6.
The polyimide resin composition according to claim 1, wherein the polyimide resin composition is in the range of 1 × 10 13 Ω · cm.
【請求項11】 前記組成物の体積抵抗値が1×109
〜1×1015Ω・cmの範囲内にあり、全光線透過率の
保持率が50%以上であることを特徴とする請求項1〜
9のいずれかに記載のポリイミド樹脂組成物。
11. The volume resistance value of the composition is 1 × 10 9
It is in the range of 1 × 10 15 Ω · cm, and the total light transmittance retention is 50% or more.
9. The polyimide resin composition according to any one of 9.
【請求項12】 請求項1〜11のいずれかに記載のポ
リイミド樹脂組成物からなるポリイミドフィルム。
12. A polyimide film comprising the polyimide resin composition according to claim 1.
【請求項13】 請求項1〜11のいずれかに記載のポ
リイミド樹脂組成物からなるポリイミド管状物。
13. A polyimide tubular article made of the polyimide resin composition according to claim 1.
【請求項14】 請求項13に記載のポリイミド管状物
であって、電子写真装置の転写ベルト、中間転写ベル
ト、転写定着ベルトまたは定着ベルトのいずれかに使用
されるポリイミド管状物。
14. The polyimide tubular product according to claim 13, which is used for any one of a transfer belt, an intermediate transfer belt, a transfix belt, and a fixing belt of an electrophotographic apparatus.
JP2001282335A 2001-09-17 2001-09-17 Polyimide resin composition, polyimide film and polyimide tubular material Pending JP2003082231A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001282335A JP2003082231A (en) 2001-09-17 2001-09-17 Polyimide resin composition, polyimide film and polyimide tubular material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001282335A JP2003082231A (en) 2001-09-17 2001-09-17 Polyimide resin composition, polyimide film and polyimide tubular material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003082231A true JP2003082231A (en) 2003-03-19

Family

ID=19106000

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001282335A Pending JP2003082231A (en) 2001-09-17 2001-09-17 Polyimide resin composition, polyimide film and polyimide tubular material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003082231A (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005206745A (en) * 2004-01-26 2005-08-04 Junkosha Co Ltd Expandable resin composition, and foam and coaxial insulation cable using the composition
JP2007500771A (en) * 2003-07-29 2007-01-18 ザ ユニバーシティ オブ アクロン Conductive polymer, method for producing conductive polymer, and method for controlling conductivity of polymer
WO2009150877A1 (en) * 2008-06-09 2009-12-17 住友電気工業株式会社 Heating fixing roller and process for producing the heating fixing roller
JP2010502772A (en) * 2006-09-04 2010-01-28 ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥング Composition for coating electrical conductors and method for preparing such a composition
CN102654743A (en) * 2011-03-02 2012-09-05 柯尼卡美能达商用科技株式会社 Intermediate transfer belt and method for producing the same
US8319299B2 (en) 2009-11-20 2012-11-27 Auman Brian C Thin film transistor compositions, and methods relating thereto
WO2013002615A2 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 코오롱인더스트리 주식회사 Intermediate transfer belt
US8653512B2 (en) 2009-11-20 2014-02-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thin film transistor compositions, and methods relating thereto
KR101456929B1 (en) * 2007-10-15 2014-10-31 코오롱인더스트리 주식회사 Tubular belt
US8971781B2 (en) 2008-06-09 2015-03-03 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Roller for image-forming apparatus and process for producing the same
JP2017529458A (en) * 2014-09-04 2017-10-05 ビーワイディー カンパニー リミテッドByd Company Limited Polymer composition, ink composition, and method for selective metallization of insulating substrate
JPWO2017150552A1 (en) * 2016-03-01 2019-01-10 住友精化株式会社 Speaker diaphragm, speaker unit, and resin film for speaker diaphragm
CN112961391A (en) * 2021-02-04 2021-06-15 浙江中科玖源新材料有限公司 Preparation method of transparent polyimide film containing modified silicon dioxide coating

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012177131A (en) * 2003-07-29 2012-09-13 Univ Of Akron Electrically-conducting polymer, method for preparing electrically-conducting polymer, and method for controlling electrical conductivity of polymer
JP2007500771A (en) * 2003-07-29 2007-01-18 ザ ユニバーシティ オブ アクロン Conductive polymer, method for producing conductive polymer, and method for controlling conductivity of polymer
JP4540038B2 (en) * 2004-01-26 2010-09-08 株式会社潤工社 Foamed resin composition, foam using the same, and coaxial insulated cable
JP2005206745A (en) * 2004-01-26 2005-08-04 Junkosha Co Ltd Expandable resin composition, and foam and coaxial insulation cable using the composition
JP2010502772A (en) * 2006-09-04 2010-01-28 ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥング Composition for coating electrical conductors and method for preparing such a composition
KR101456929B1 (en) * 2007-10-15 2014-10-31 코오롱인더스트리 주식회사 Tubular belt
CN102057334B (en) * 2008-06-09 2013-01-23 住友电气工业株式会社 Heating fixing roller and process for producing the heating fixing roller
CN102057334A (en) * 2008-06-09 2011-05-11 住友电气工业株式会社 Heating fixing roller and process for producing the heating fixing roller
US8971781B2 (en) 2008-06-09 2015-03-03 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Roller for image-forming apparatus and process for producing the same
JP4951119B2 (en) * 2008-06-09 2012-06-13 住友電気工業株式会社 Heat fixing roller and manufacturing method thereof
WO2009150877A1 (en) * 2008-06-09 2009-12-17 住友電気工業株式会社 Heating fixing roller and process for producing the heating fixing roller
US8401451B2 (en) 2008-06-09 2013-03-19 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Heating fixing roller and process for producing the heating fixing roller
US8653512B2 (en) 2009-11-20 2014-02-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thin film transistor compositions, and methods relating thereto
US8319299B2 (en) 2009-11-20 2012-11-27 Auman Brian C Thin film transistor compositions, and methods relating thereto
US20120225376A1 (en) * 2011-03-02 2012-09-06 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Intermediate transfer belt and method for producing the same
CN102654743A (en) * 2011-03-02 2012-09-05 柯尼卡美能达商用科技株式会社 Intermediate transfer belt and method for producing the same
US8886106B2 (en) * 2011-03-02 2014-11-11 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Intermediate transfer belt and method for producing the same
KR101438259B1 (en) * 2011-06-30 2014-09-05 코오롱인더스트리 주식회사 Intermediate transfer belt
WO2013002615A2 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 코오롱인더스트리 주식회사 Intermediate transfer belt
WO2013002615A3 (en) * 2011-06-30 2013-04-04 코오롱인더스트리 주식회사 Intermediate transfer belt
JP2017529458A (en) * 2014-09-04 2017-10-05 ビーワイディー カンパニー リミテッドByd Company Limited Polymer composition, ink composition, and method for selective metallization of insulating substrate
JPWO2017150552A1 (en) * 2016-03-01 2019-01-10 住友精化株式会社 Speaker diaphragm, speaker unit, and resin film for speaker diaphragm
JP2022000981A (en) * 2016-03-01 2022-01-04 住友精化株式会社 Resin film for speaker diaphragm and laminate for speaker diaphragm
JP7097496B2 (en) 2016-03-01 2022-07-07 住友精化株式会社 Resin film for speaker diaphragm and laminate for speaker diaphragm
CN112961391A (en) * 2021-02-04 2021-06-15 浙江中科玖源新材料有限公司 Preparation method of transparent polyimide film containing modified silicon dioxide coating
CN112961391B (en) * 2021-02-04 2023-03-10 浙江中科玖源新材料有限公司 Preparation method of transparent polyimide film containing modified silicon dioxide coating

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003246927A (en) Polyimide resin composition, polyimide film, polyimide tubular article and electrophotographic tubular article
JP4920886B2 (en) Polyimide-based compositions containing doped polyaniline and methods and compositions related thereto
JP2004123774A (en) Polyimide resin composition, polyimide film, and polyimide tube
JP2003082231A (en) Polyimide resin composition, polyimide film and polyimide tubular material
JP3370403B2 (en) Method for producing pigmented polyimide molded article
CN109401314B (en) Preparation method of graphene/polyimide composite material
TWI493571B (en) Transparent electrode
WO2007078969A2 (en) Electrostatic dissipative composite material
JP2004123867A (en) Polyimide resin composition, polyimide film, and polyimide tube
JP2003192893A (en) Polyimide resin composition, polyimide film, polyimide tube and tube for electrophotography
JP2004035825A (en) Semiconductive polyimide film and method of producing the same
KR20030026352A (en) Polyimide resin composition and polyimide product formed into film and intermediate transfer belt comprising the same
JP2003306553A (en) Molded polyimide article
JP2003055473A (en) Polyimide tubular product and tubular product for electrophotography
JP2002088242A (en) Polyimide resin composition and polyimide film-like molded body
JP2003113306A (en) Polyimide resin composition, polyimide film, polyimide tubular material and electrophotographic tubular material
JP2004131659A (en) Polyimide resin composition and molded polyimide article made thereof
KR101380033B1 (en) Conducting solution and conducting laminates
WO2008035426A1 (en) Semiconductive seamless belt
JP2007298692A (en) Anisotropic conductive polyimide belt and method for manufacturing the same
JP2003113305A (en) Polyimide resin composition, polyimide film, polyimide tubular material and electrophotographic tubular material
US8465839B2 (en) Polyimide polybenzimidazole intermediate transfer members
JP2003213131A (en) Polyimide resin composition, polyimide film, polyimide tubular product and tubular product for electrophotography
KR20090053567A (en) Polyimide resin and film
JP2004138655A (en) Polyimide molding for fixation or transfer fixation