JP2003081899A - Method for distilling styrene or styrene derivative - Google Patents

Method for distilling styrene or styrene derivative

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JP2003081899A
JP2003081899A JP2001271546A JP2001271546A JP2003081899A JP 2003081899 A JP2003081899 A JP 2003081899A JP 2001271546 A JP2001271546 A JP 2001271546A JP 2001271546 A JP2001271546 A JP 2001271546A JP 2003081899 A JP2003081899 A JP 2003081899A
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Japan
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group
styrene
derivative
styrene derivative
distilled
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Application number
JP2001271546A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Hirayama
一雄 平山
Yoshihiro Tawara
義博 田原
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Hokko Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Hokko Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new method for distilling styrene or a styrene derivative, wherein formation of highly viscous polymer like materials is prevented and recovery percentage of the distilled styrene derivative is high. SOLUTION: This method comprises using anthrone as the polymerization inhibitor and distilling a styrene derivative represented by general formula (I), such as p-tert-butoxystyrene, p-acetoxystyrene, 3,4-dimethoxystyrene or α-methyl-m-chlorostyrene using anthrone as the polymerization inhibitor.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、医農薬、機能性高
分子、ポリマー合成などの原料として有用なスチレンま
たはスチレン誘導体を、その合成後に精製の目的で蒸留
する方法の改良技術を提供することに関するものであ
る。
TECHNICAL FIELD The present invention provides an improved technique of a method for distilling styrene or a styrene derivative useful as a raw material for medical and agricultural chemicals, functional polymers, polymer synthesis, etc. for the purpose of purification after the synthesis. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】スチレン誘導体のうち、例えばp−te
rt−ブトキシスチレン(以下、「PTBST」と略
す。「PTBST」は本出願人の登録商標。)は、超L
SIの用途などに使用されるレジスト原料としてきわめ
て有用であることが知られており(特開昭59−199
705号公報、特開平3−277608号公報)、ま
た、m−tert−ブトキシスチレン(以下、「MTB
ST」と略す。)は、機能性高分子、医農薬などの中間
体原料として有用であることが知られている(特開平2
−160739号公報)。
2. Description of the Related Art Among styrene derivatives, for example, p-te
rt-Butoxystyrene (hereinafter abbreviated as “PTBST”. “PTBST” is a registered trademark of the applicant) is an ultra-L
It is known to be extremely useful as a resist raw material used for SI applications and the like (JP-A-59-199).
705, JP-A-3-277608), and m-tert-butoxystyrene (hereinafter referred to as "MTB").
Abbreviated as "ST". ) Is known to be useful as an intermediate raw material for functional polymers, pharmaceuticals, agricultural chemicals, etc.
-160739).

【0003】スチレン誘導体の合成法としては、以下の
ような方法が知られている。 p−クロロスチレン、3,4−ジクロロスチレン、α
−メチル−m−クロロスチレン、p−トリフルオロメチ
ルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレ
ンなどのスチレン誘導体は、対応するN−アシル−β−
フェネチルアミン類を塩基で処理することで得る方法
(特開昭61−212526号公報)が知られている。 p−アセトキシスチレン、p−トリメチルシリルオキ
シスチレンなどのスチレン誘導体は、対応する置換ベン
ズアルデヒドをジブロモメタンと作用することで得られ
る(特開平8−157410号公報)ことが知られてい
る。 PTBSTやMTBSTなどのtert−ブトキシス
チレンは、クロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードス
チレンなどのハロゲン置換スチレンと金属マグネシウム
からグリニヤール試薬を調製し、次いでこれに過安息香
酸tert−ブチルエステルと反応させることにより合
成する方法(特開昭59−199705号公報)が知ら
れている。 tert−ブトキシフェニルクロライド、tert−
ブトキシフェニルブロマイド、tert−ブトキシフェ
ニルヨーダイドなどのtert−ブトキシフェニルハラ
イドとマグネシウムからグリニヤール試薬を調製し、次
いでこれに塩化ビニル、臭化ビニルなどのハロゲン化ビ
ニルとカップリングさせることによって合成する方法
(特公平4−71896号公報、特開平2−16073
9号公報)が知られている。
The following methods are known as methods for synthesizing styrene derivatives. p-chlorostyrene, 3,4-dichlorostyrene, α
Styrene derivatives such as -methyl-m-chlorostyrene, p-trifluoromethylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene are the corresponding N-acyl-β-
A method (Japanese Patent Laid-Open No. 61-212526) obtained by treating phenethylamines with a base is known. Styrene derivatives such as p-acetoxystyrene and p-trimethylsilyloxystyrene are known to be obtained by reacting the corresponding substituted benzaldehyde with dibromomethane (Japanese Patent Laid-Open No. 8-157410). Tert-butoxystyrene such as PTBST and MTBST is synthesized by preparing a Grignard reagent from halogen-substituted styrene such as chlorostyrene, bromostyrene and iodostyrene and metallic magnesium, and then reacting this with perbenzoic acid tert-butyl ester. A method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-199705) is known. tert-butoxyphenyl chloride, tert-
A method in which a Grignard reagent is prepared from tert-butoxyphenyl halide such as butoxyphenyl bromide or tert-butoxyphenyl iodide and magnesium, and then coupled with vinyl halide such as vinyl chloride or vinyl bromide ( Japanese Patent Publication No. 4-71896 and Japanese Patent Laid-Open No. 16073/1990.
No. 9) is known.

【0004】前記のようなスチレン誘導体の合成法で
は、通常、合成した目的化合物は、蒸留により分離、精
製される。しかし、スチレン誘導体は、一般に光や熱に
より重合して高粘稠な液状のポリマー状物質を形成する
ために、蒸留に当たっての製品回収率が著しく低下する
場合がある。さらに生成したポリマー状物質のために蒸
留塔内、蒸留缶内、配管などにおいて、蒸留塔や配管
の閉塞、に伴う減圧度の異常、ポリマー状物質の
付着による洗浄の困難などのトラブルを惹起することが
ある。したがって、これらのトラブル回避のために、従
来でも種々の重合禁止剤をスチレン誘導体に加えて、そ
の存在下に蒸留操作を行う方法がとられるのが普通であ
る。例えば、PTBSTやMTBSTなどのtert−
ブトキシスチレンの蒸留においては、4−tert−ブ
チルカテコールの存在下に蒸留を行う方法(特公平4−
71896号公報、特開平2−160739号公報)
や、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニ
ウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアン
モニウム塩または2,4−ジニトロフェノールなどの存
在下に蒸留を行う方法(特開2000−327617号
公報)が知られている。
In the above-mentioned method for synthesizing a styrene derivative, the synthesized target compound is usually separated and purified by distillation. However, since the styrene derivative is generally polymerized by light or heat to form a highly viscous liquid polymeric substance, the product recovery rate during distillation may be significantly reduced. Further, the generated polymeric substance causes troubles such as an abnormality in the degree of pressure reduction due to blockage of the distillation column or the pipe in the distillation column, the distillation can, the piping, etc., and difficulty in cleaning due to adhesion of the polymeric substance. Sometimes. Therefore, in order to avoid these troubles, it has been customary to add various polymerization inhibitors to the styrene derivative and carry out the distillation operation in the presence thereof. For example, tert- such as PTBST and MTBST
In the distillation of butoxystyrene, a method of performing distillation in the presence of 4-tert-butylcatechol (Patent Publication 4-
No. 71896, JP-A-2-160739).
Alternatively, a method of performing distillation in the presence of N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt, N-nitrosophenylhydroxylamine ammonium salt, 2,4-dinitrophenol, or the like (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-327617) is known.

【0005】しかしながら、前記した従来使用される重
合禁止剤は、スチレンまたはスチレン誘導体の蒸留工程
における長時間かつ高温という過酷な条件下では、ポリ
マー状物質の形成に十分な抑制効果を示さないので、高
粘稠性のポリマー状物質が形成されてしまい、蒸留塔や
蒸留缶などに蒸留塔や配管の閉塞、に伴う減圧度
の異常、ポリマー状物質の付着による洗浄の困難など
のトラブルを引き起こすことが多い。また、このような
トラブルには至らないまでも、蒸留後の製品の収率が低
下するといった問題が常に付随する。これらの理由か
ら、従来のスチレンまたはスチレン誘導体の蒸留方法は
満足できるものではなかった。
However, the above-mentioned conventionally used polymerization inhibitors do not exhibit a sufficient inhibitory effect on the formation of a polymeric substance under the severe conditions of long time and high temperature in the distillation step of styrene or a styrene derivative, and A highly viscous polymeric substance is formed, which causes troubles such as blockage of the distillation column or piping in the distillation column or distillation can, abnormal pressure reduction, and difficulty in cleaning due to adhesion of the polymeric substance. There are many. Even if such trouble does not occur, there is always a problem that the yield of the product after distillation is reduced. For these reasons, conventional distillation methods for styrene or styrene derivatives have not been satisfactory.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の方法の欠点を克服できるスチレンまたはスチレン誘導
体の新しい蒸留方法を提供することにある。つまり、従
来の方法で起きたポリマー状物質の形成がほとんどな
く、また長時間に及ぶ蒸留操作によっても、高い製品回
収率でスチレン、あるいはp−クロロスチレン、3,4
−ジクロロスチレン、α−メチル−m−クロロスチレ
ン、p−トリフルオロメチルスチレン、p−メチルスチ
レン、p−メトキシスチレン、p−アセトキシスチレ
ン、p−トリメチルシリルオキシスチレン、PTBST
やMTBSTなどのスチレン誘導体を蒸留により精製し
得る経済性のよい新規な蒸留方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a new distillation method for styrene or styrene derivatives which can overcome the drawbacks of the conventional methods. That is, there is almost no formation of a polymeric substance that occurs in the conventional method, and styrene or p-chlorostyrene, 3,4
-Dichlorostyrene, α-methyl-m-chlorostyrene, p-trifluoromethylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, p-acetoxystyrene, p-trimethylsilyloxystyrene, PTBST
Another object of the present invention is to provide a novel economical distillation method capable of purifying a styrene derivative such as MTBST by distillation.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の問
題点を解決するために鋭意研究を行い、検討した。その
結果、スチレンまたはスチレン誘導体の製造後の蒸留工
程において、重合禁止剤としてアントロンを添加してそ
の存在下に蒸留することにより、ポリマー状物質の生成
を起こすことなく、スチレンまたはスチレン誘導体を高
い回収率で蒸留できることを見出した。この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
[Means for Solving the Problems] The present inventors have conducted extensive studies and studied in order to solve the conventional problems. As a result, in the distillation step after the production of styrene or a styrene derivative, by adding anthrone as a polymerization inhibitor and distilling in the presence of it, a high recovery of styrene or a styrene derivative can be achieved without generating a polymeric substance. It was found that the rate can be distilled. The present invention has been completed based on this finding.

【0008】したがって、本発明においては、アントロ
ンを重合禁止剤として、スチレンまたはスチレン誘導体
を蒸留することを特徴とする、スチレンまたはスチレン
誘導体の蒸留方法が提供される。
Therefore, the present invention provides a method for distilling styrene or a styrene derivative, which comprises distilling styrene or a styrene derivative using anthrone as a polymerization inhibitor.

【0009】以下、本発明の方法を詳細に説明する。The method of the present invention will be described in detail below.

【0010】本発明において蒸留されるスチレンまたは
スチレン誘導体は、公知の化合物であり、公知の合成方
法(例えば特公平4−71896号公報)で合成でき
る。
The styrene or styrene derivative distilled in the present invention is a known compound and can be synthesized by a known synthesis method (for example, Japanese Patent Publication No. 4-71896).

【0011】本発明の方法において蒸留されるスチレン
またはスチレン誘導体としては、下記一般式(I)
The styrene or styrene derivative to be distilled in the method of the present invention is represented by the following general formula (I)

【化4】 (式中、Rは、水素原子、アミノ基、アルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、ハロアルキル
基、アリール基、特にフェニル基、アラルキル基、特に
ベンジル基、アルコキシアルキル基、ニトロ基、アルカ
ノイル基、アロイル基、特にベンゾイル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールアルコキシカルボニル基、アル
コキシ基、ハロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラ
ルキルオキシ基、アルコキシアルキルオキシ基、アルカ
ノイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アラ
ルキルオキシカルボニルオキシ基、またはアルキルシリ
ルオキシ基を表し、nは0、あるいは1から5までの整
数であり、nが2以上のとき、Rは、同一または相異な
ってもよく、さらにX、X、Xは、同一または相
異なって、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロ
ゲン原子、アルキルシリルオキシ基またはニトロ基を示
す)で表わされる化合物があり、特に下記一般式(I
a)
[Chemical 4] (In the formula, R represents a hydrogen atom, an amino group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, a haloalkyl group, an aryl group, particularly a phenyl group, an aralkyl group, particularly a benzyl group, an alkoxyalkyl group, a nitro group, an alkanoyl group. Group, aroyl group, especially benzoyl group, alkoxycarbonyl group, arylalkoxycarbonyl group, alkoxy group, haloalkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, alkoxyalkyloxy group, alkanoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aralkyloxycarbonyl Represents an oxy group or an alkylsilyloxy group, n is 0 or an integer from 1 to 5, and when n is 2 or more, R may be the same or different, and further, X 1 , X 2 , X 3 is the same or different, water Atom, an alkyl group, an alkoxy group, there are halogen atoms, a compound represented by an alkyl silyl group or a nitro group), in particular the following general formula (I
a)

【化5】 (式中、R’は、アルキル基、ハロアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、アルカノ
イル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカ
ルボニル基、またはアルキルシリル基を表し、nは1か
ら5までの整数であり、nが2以上のとき、R’は、同
一または相異なってもよく、さらにX、X、X
は、同一または相異なって、水素原子、アルキル基、
アルコキシ基、ハロゲン原子、アルキルシリルオキシ基
またはニトロ基を示す)で表わされるオキシスチレン誘
導体があり、さらに好ましくは下記一般式(Ib)
[Chemical 5] (In the formula, R ′ represents an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkanoyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or an alkylsilyl group, and n is 1 to 5 Is an integer, and when n is 2 or more, R ′ may be the same or different, and further, X 1 , X 2 , X
3 are the same or different and each is a hydrogen atom, an alkyl group,
An oxystyrene derivative represented by an alkoxy group, a halogen atom, an alkylsilyloxy group or a nitro group), and more preferably the following general formula (Ib)

【化6】 (式中、R’’は、アルキル基、ハロアルキル基、アリ
ール基、特にフェニル基、アラルキル基、特にベンジル
基、アルコキシアルキル基、アルカノイル基、アルコキ
シカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、また
はアルキルシリル基を示す)で表されるオキシスチレン
誘導体がある。
[Chemical 6] (In the formula, R '' represents an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, particularly a phenyl group, an aralkyl group, particularly a benzyl group, an alkoxyalkyl group, an alkanoyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or an alkylsilyl group. ).

【0012】一般式(I)、(Ia)または(Ib)の
スチレンまたはスチレン誘導体としては、具体的には、
例えば次のものが挙げられる。すなわち、スチレン、p
−アミノスチレン、p−メチルスチレン、p−エチルス
チレン、p−n−プロピルスチレン、p−イソプロピル
スチレン、p−n−ブチルスチレン、p−イソブチルス
チレン、p−sec−ブチルスチレン、p−tert−
ブチルスチレン、p−n−アミルスチレン、p−イソア
ミルスチレン、p−sec−アミルスチレン、p−te
rt−アミルスチレン、p−シクロプロピルスチレン、
p−シクロプロピルメチルスチレン、p−シクロペンチ
ルスチレン、p−シクロヘキシルスチレン、p−ビニル
スチレン、p−アリルスチレン、p−エチニルスチレ
ン、p−プロパルギルスチレン、p−フルオロスチレ
ン、p−クロロスチレン、p−ブロモスチレン、p−ヨ
ードスチレン、p−クロロメチルスチレン、p−ブロモ
メチルスチレン、p−ヨードメチルスチレン、p−トリ
フルオロメチルスチレン、p−フェニルスチレン、p−
(4−メチルフェニル)スチレン、p−(4−フルオロ
フェニル)スチレン、p−(4−クロロフェニル)スチ
レン、p−(4−ブロモフェニル)スチレン、p−ベン
ジルスチレン、p−(4−フルオロベンジル)スチレ
ン、p−(4−クロロベンジル)スチレン、p−メトキ
シメチルスチレン、p−エトキシメチルスチレン、p−
n−プロピルオキシメチルスチレン、p−イソプロピル
オキシメチルスチレン、p−ホルミルスチレン、p−ア
セチルスチレン、p−ベンゾイルスチレン、p−メトキ
シカルボニルスチレン、p−エトキシカルボニルスチレ
ン、p−フェノキシカルボニルスチレン、p−ベンジル
オキシカルボニルスチレン、p−メトキシスチレン、p
−エトキシスチレン、p−n−プロポキシスチレン、p
−イソプロポキシスチレン、p−n−ブトキシスチレ
ン、p−イソブトキシスチレン、p−sec−ブトキシ
スチレン、p−tert−ブトキシスチレン、p−n−
アミルオキシスチレン、p−イソアミルオキシスチレ
ン、p−sec−アミルオキシスチレン、p−tert
−アミルオキシスチレン、p−シクロプロピルオキシス
チレン、p−シクロプロピルメチルオキシスチレン、p
−シクロブチルオキシスチレン、p−シクロペンチルオ
キシスチレン、p−シクロヘキシルオキシスチレン、p
−トリフルオロメトキシスチレン、p−ペンタフルオロ
エトキシスチレン、p−クロロメトキシスチレン、p−
(2−クロロエトキシ)スチレン、p−ブロモメトキシ
スチレン、p−(2−ブロモエトキシ)スチレン、p−
フェニルオキシスチレン、p−(4−メチルフェニルオ
キシ)スチレン、p−(4−フルオロフェニルオキシ)
スチレン、p−(4−クロロフェニルオキシ)スチレ
ン、p−(4−ブロモフェニルオキシ)スチレン、p−
(4−メトキシフェニルオキシ)スチレン、p−(4−
エトキシフェニルオキシ)スチレン、p−(4−ter
t−ブトキシフェニルオキシ)スチレン、p−ベンジル
オキシスチレン、p−(4−メチルベンジルオキシ)ス
チレン、p−メトキシメトキシスチレン、p−(1−エ
トキシエトキシ)スチレン、p−(2−テトラヒドロピ
ラニルオキシ)スチレン、p−アセトキシスチレン、p
−(tert−ブチルカルボニルオキシ)スチレン、p
−ベンジルオキシカルボニルオキシスチレン、p−メト
キシカルボニルオキシスチレン、p−(tert−ブト
キシカルボニルオキシ)スチレン、p−トリメチルシリ
ルオキシスチレン、p−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシスチレン、m−ニトロスチレンなどが挙げられ
る。また上記の置換スチレンの置換基の位置はオルト、
メタ、パラのどの位置であってもよい。
Specific examples of the styrene or styrene derivative of the general formula (I), (Ia) or (Ib) include:
For example: That is, styrene, p
-Aminostyrene, p-methylstyrene, p-ethylstyrene, pn-propylstyrene, p-isopropylstyrene, pn-butylstyrene, p-isobutylstyrene, p-sec-butylstyrene, p-tert-
Butyl styrene, pn-amyl styrene, p-isoamyl styrene, p-sec-amyl styrene, p-te
rt-amyl styrene, p-cyclopropyl styrene,
p-cyclopropylmethylstyrene, p-cyclopentylstyrene, p-cyclohexylstyrene, p-vinylstyrene, p-allylstyrene, p-ethynylstyrene, p-propargylstyrene, p-fluorostyrene, p-chlorostyrene, p-bromo. Styrene, p-iodostyrene, p-chloromethylstyrene, p-bromomethylstyrene, p-iodomethylstyrene, p-trifluoromethylstyrene, p-phenylstyrene, p-
(4-methylphenyl) styrene, p- (4-fluorophenyl) styrene, p- (4-chlorophenyl) styrene, p- (4-bromophenyl) styrene, p-benzylstyrene, p- (4-fluorobenzyl) Styrene, p- (4-chlorobenzyl) styrene, p-methoxymethylstyrene, p-ethoxymethylstyrene, p-
n-propyloxymethylstyrene, p-isopropyloxymethylstyrene, p-formylstyrene, p-acetylstyrene, p-benzoylstyrene, p-methoxycarbonylstyrene, p-ethoxycarbonylstyrene, p-phenoxycarbonylstyrene, p-benzyl Oxycarbonyl styrene, p-methoxy styrene, p
-Ethoxystyrene, pn-propoxystyrene, p
-Isopropoxystyrene, pn-butoxystyrene, p-isobutoxystyrene, p-sec-butoxystyrene, p-tert-butoxystyrene, pn-
Amyloxystyrene, p-isoamyloxystyrene, p-sec-amyloxystyrene, p-tert
-Amyloxystyrene, p-cyclopropyloxystyrene, p-cyclopropylmethyloxystyrene, p
-Cyclobutyloxystyrene, p-cyclopentyloxystyrene, p-cyclohexyloxystyrene, p
-Trifluoromethoxystyrene, p-pentafluoroethoxystyrene, p-chloromethoxystyrene, p-
(2-chloroethoxy) styrene, p-bromomethoxystyrene, p- (2-bromoethoxy) styrene, p-
Phenyloxystyrene, p- (4-methylphenyloxy) styrene, p- (4-fluorophenyloxy)
Styrene, p- (4-chlorophenyloxy) styrene, p- (4-bromophenyloxy) styrene, p-
(4-Methoxyphenyloxy) styrene, p- (4-
Ethoxyphenyloxy) styrene, p- (4-ter
t-butoxyphenyloxy) styrene, p-benzyloxystyrene, p- (4-methylbenzyloxy) styrene, p-methoxymethoxystyrene, p- (1-ethoxyethoxy) styrene, p- (2-tetrahydropyranyloxy) ) Styrene, p-acetoxystyrene, p
-(Tert-butylcarbonyloxy) styrene, p
-Benzyloxycarbonyloxystyrene, p-methoxycarbonyloxystyrene, p- (tert-butoxycarbonyloxy) styrene, p-trimethylsilyloxystyrene, p-tert-butyldimethylsilyloxystyrene, m-nitrostyrene and the like. Further, the position of the substituent of the above substituted styrene is ortho,
It may be at any position of meta and para.

【0013】さらに、2つまたはそれ以上の置換基を有
する式(I)(Ia)(Ib)のスチレン誘導体の例に
は、2,3−ジクロロスチレン、2,4−ジクロロスチ
レン、2,5−ジクロロスチレン、2,6−ジクロロス
チレン、3,4−ジクロロスチレン、3,5−ジクロロ
スチレン、2,3−ジブロモスチレン、2,4−ジブロ
モスチレン、2,5−ジブロモスチレン、2,3−ジフ
ルオロスチレン、2,4−ジフルオロスチレン、2,5
−ジフルオロスチレン、2,6−ジフルオロスチレン、
3,4−ジフルオロスチレン、3,5−ジフルオロスチ
レン、2,3,4,5,6−ペンタフルオロスチレン、
2,4,6−トリメチルスチレン、2,3−ジメチルス
チレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチル
スチレン、2,6−ジメチルスチレン、3,4−ジメチ
ルスチレン、3,5−ジメチルスチレン、2,3−ジメ
トキシスチレン、2,4−ジメトキシスチレン、2,5
−ジメトキシスチレン、2,6−ジメトキシスチレン、
3,4−ジメトキシスチレン、3,5−ジメトキシスチ
レン、2,3−メチレンジオキシスチレン、3,4−メ
チレンジオキシスチレン、2,3−ビス(トリフルオロ
メチル)スチレン、2,4−ビス(トリフルオロメチ
ル)スチレン、2,5−ビス(トリフルオロメチル)ス
チレン、2,6−ビス(トリフルオロメチル)スチレ
ン、3,4−ビス(トリフルオロメチル)スチレン、
3,5−ビス(トリフルオロメチル)スチレンであって
もよい。さらに、そのスチレン誘導体は、スチレンのα
位、およびβ位が置換されたスチレン誘導体、例えばα
−メチルスチレン、α−メチル−m−クロロスチレン、
α−エチルスチレン、α−トリメチルシリルオキシスチ
レン、α−メトキシスチレン、α−クロロスチレン、β
−メチルスチレン、β−メトキシスチレン、β−クロロ
スチレン、β,β−ジメチルスチレン、β,β−ジクロ
ロスチレン、α,β−ジメチルスチレン、β−ニトロス
チレンであってもよい。
Further, examples of styrene derivatives of formula (I) (Ia) (Ib) having two or more substituents include 2,3-dichlorostyrene, 2,4-dichlorostyrene, 2,5 -Dichlorostyrene, 2,6-dichlorostyrene, 3,4-dichlorostyrene, 3,5-dichlorostyrene, 2,3-dibromostyrene, 2,4-dibromostyrene, 2,5-dibromostyrene, 2,3- Difluorostyrene, 2,4-difluorostyrene, 2,5
-Difluorostyrene, 2,6-difluorostyrene,
3,4-difluorostyrene, 3,5-difluorostyrene, 2,3,4,5,6-pentafluorostyrene,
2,4,6-trimethylstyrene, 2,3-dimethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 2,6-dimethylstyrene, 3,4-dimethylstyrene, 3,5-dimethylstyrene 2,3-dimethoxystyrene, 2,4-dimethoxystyrene, 2,5
-Dimethoxystyrene, 2,6-dimethoxystyrene,
3,4-dimethoxystyrene, 3,5-dimethoxystyrene, 2,3-methylenedioxystyrene, 3,4-methylenedioxystyrene, 2,3-bis (trifluoromethyl) styrene, 2,4-bis ( Trifluoromethyl) styrene, 2,5-bis (trifluoromethyl) styrene, 2,6-bis (trifluoromethyl) styrene, 3,4-bis (trifluoromethyl) styrene,
It may be 3,5-bis (trifluoromethyl) styrene. Furthermore, the styrene derivative is α of styrene.
And β-substituted styrene derivatives, for example α
-Methylstyrene, α-methyl-m-chlorostyrene,
α-ethylstyrene, α-trimethylsilyloxystyrene, α-methoxystyrene, α-chlorostyrene, β
It may be methyl styrene, β-methoxystyrene, β-chlorostyrene, β, β-dimethylstyrene, β, β-dichlorostyrene, α, β-dimethylstyrene, β-nitrostyrene.

【0014】本発明の方法において重合禁止剤として使
用されるアントロンは、次式(II)で表される化合物
である。
The anthrone used as the polymerization inhibitor in the method of the present invention is a compound represented by the following formula (II).

【化7】 [Chemical 7]

【0015】このアントロンは、公知の化合物であり、
公知の方法(例えば、J.Chem.Soc.D 第3
53頁−第354頁(1970年)に記載の方法)で製
造された物質であることができ、また市販品でもよい。
This anthrone is a known compound,
Known methods (for example, J. Chem. Soc.
53-page 354 (1970)), or a commercially available product.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明は、次のとおりに実施され
る。すなわち、蒸留しようとするスチレンまたはスチレ
ン誘導体を製造した直後に重合禁止剤のアントロンを加
える。こうした後に蒸留操作を行えばよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is carried out as follows. That is, the polymerization inhibitor anthrone is added immediately after the production of styrene or a styrene derivative to be distilled. After this, a distillation operation may be performed.

【0017】本発明の方法で使用される一般式(II)
のアントロンの添加量は、蒸留される一般式(I)のス
チレンまたはスチレン誘導体の置換基(R、X、X
およびX)の種類およびその数、蒸留温度および蒸留
圧力などによって規定され、実験的に求められるが、一
般的には蒸留される一般式(I)のスチレンまたはスチ
レン誘導体に対し、10〜100,000ppm好まし
くは、100〜10,000ppmの範囲である。蒸留
温度は、通常20〜200℃、好ましくは40〜150
℃の温度である。また、スチレンまたはスチレン誘導体
の蒸留は、減圧下で行われるのが普通であり、通常0.
0001〜500mmHg、好ましくは0.0001〜
100mmHgの圧力下で行われる。
The general formula (II) used in the method of the present invention
The amount of the anthrone of the formula (I) to be distilled is the substituent (R, X 1 , X 2 ) of the styrene or styrene derivative.
And X 3 ) and the number thereof, the distillation temperature and the distillation pressure and the like, and are experimentally determined, but generally 10 to 100 relative to the styrene or styrene derivative of the general formula (I) to be distilled. 1,000 ppm, preferably in the range of 100 to 10,000 ppm. The distillation temperature is usually 20 to 200 ° C., preferably 40 to 150.
The temperature is ° C. Further, the distillation of styrene or a styrene derivative is usually carried out under reduced pressure, and usually, the distillation is performed at a pressure of 0.
0001 to 500 mmHg, preferably 0.0001 to
It is carried out under a pressure of 100 mmHg.

【0018】[0018]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に
説明するが、これらの実施例により本発明は限定される
ものではない。
The present invention will be described in more detail based on the following examples, but the invention is not intended to be limited by these examples.

【0019】実施例1 蒸留コンデンサー、温度計、攪拌機を備えた四径フラス
コに、特公平4−71896号公報の方法で合成した直
後のPTBST(p−tert−ブトキシスチレン)の
100gに、重合禁止剤としてアントロンの0.05g
(500ppmの濃度)を添加してなる混合物を装入し
た。この混合液をフラスコ内で130℃で5mmHgの
減圧条件で48時間攪拌しながら蒸留した。この蒸留工
程によりフラスコから95.0gのPTBSTが留出し
た。フラスコ底部には、5.0gの高粘稠性の液状物質
が蒸留されずに残留した。フラスコから蒸留で留出し、
回収できたPTBSTの回収率(%)を次式で計算し
た。
Example 1 In a four-diameter flask equipped with a distillation condenser, a thermometer and a stirrer, 100 g of PTBST (p-tert-butoxystyrene) immediately after being synthesized by the method of Japanese Patent Publication No. 4-71896 was used to inhibit polymerization. 0.05g of antron as an agent
(500 ppm concentration) was added to the mixture. This mixed solution was distilled in a flask at 130 ° C. under a reduced pressure of 5 mmHg for 48 hours while stirring. By this distillation step, 95.0 g of PTBST was distilled from the flask. At the bottom of the flask, 5.0 g of highly viscous liquid substance remained without being distilled. Distill from the flask,
The recovery rate (%) of PTBST that could be recovered was calculated by the following formula.

【0020】[0020]

【数1】 [Equation 1]

【0021】実施例2 実施例1で用いた蒸留されるPTBSTに代えてMTB
ST(特開平2−160739号公報に記載の方法で合
成したもの)を用いた以外は、実施例1と同様な蒸留工
程を操作した。その結果を表1に示す。
Example 2 MTB in place of the distilled PTBST used in Example 1
The same distillation step as in Example 1 was operated except that ST (synthesized by the method described in JP-A-2-160739) was used. The results are shown in Table 1.

【0022】実施例3 実施例1で用いた蒸留されるPTBSTに代えてp−ア
セトキシスチレン(J.Org.Chem.第52巻
第422頁〜第424頁(1987年)に記載の方法で
合成したもの)を用いた以外は、実施例1と同様な蒸留
工程を操作した。その結果を表1に示す。
Example 3 In place of the distilled PTBST used in Example 1, p-acetoxystyrene (J. Org. Chem. Vol. 52) was used.
The same distillation step as in Example 1 was carried out except that the one synthesized by the method described on pages 422 to 424 (1987) was used. The results are shown in Table 1.

【0023】実施例4 実施例1で用いた蒸留されるPTBSTに代えて3,4
−ジメトキシスチレン(特開昭61−212526号公
報に記載の方法で合成したもの)を用いた以外は、実施
例1と同様な蒸留工程を操作した。その結果を表1に示
す。
Example 4 3,4 in place of the distilled PTBST used in Example 1
-The same distillation step as in Example 1 was operated except that dimethoxystyrene (synthesized by the method described in JP-A-61-212526) was used. The results are shown in Table 1.

【0024】実施例5 実施例1で用いた蒸留されるPTBSTに代えてα−メ
チル−m−クロロスチレン(特開昭61−212526
号公報に記載の方法で合成したもの)を用いた以外は、
実施例1と同様な蒸留工程を操作した。その結果を表1
に示す。
Example 5 In place of the distilled PTBST used in Example 1, α-methyl-m-chlorostyrene (JP-A-61-212526).
(Synthesized by the method described in the publication), except that
The same distillation process as in Example 1 was operated. The results are shown in Table 1.
Shown in.

【0025】比較例1 実施例1で重合禁止剤として用いたアントロンに代えて
公知の重合禁止剤であるN−ニトロソフェニルヒドロキ
シルアミンアルミニウム塩を用いた以外は、実施例1と
同様に蒸留工程を操作した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 1 A distillation process was carried out in the same manner as in Example 1 except that the known polymerization inhibitor N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt was used in place of the anthrone used as the polymerization inhibitor in Example 1. Operated. The results are shown in Table 1.

【0026】比較例2 実施例2で重合禁止剤として用いたアントロンに代えて
公知の重合禁止剤であるp−tert−ブチルカテコー
ルを用いた以外は、実施例2と同様に蒸留工程を操作し
た。その結果を表1に示す。
Comparative Example 2 The distillation step was operated in the same manner as in Example 2 except that the known polymerization inhibitor p-tert-butylcatechol was used in place of the anthrone used as the polymerization inhibitor in Example 2. . The results are shown in Table 1.

【0027】比較例3 実施例3で重合禁止剤として用いたアントロンに代えて
公知の重合禁止剤であるN−ニトロソフェニルヒドロキ
シルアミンアルミニウム塩を用いた以外は、実施例3と
同様に蒸留工程を操作した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 3 A distillation step was carried out in the same manner as in Example 3 except that the known polymerization inhibitor N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt was used in place of the anthrone used as the polymerization inhibitor in Example 3. Operated. The results are shown in Table 1.

【0028】比較例4 実施例3で重合禁止剤として用いたアントロンに代えて
公知の重合禁止剤であるp−tert−ブチルカテコー
ルを用いた以外は、実施例3と同様に蒸留工程を操作し
た。その結果を表1に示す。
Comparative Example 4 The distillation step was performed in the same manner as in Example 3 except that the known polymerization inhibitor p-tert-butylcatechol was used in place of the anthrone used as the polymerization inhibitor in Example 3. . The results are shown in Table 1.

【0029】比較例5 実施例4で重合禁止剤として用いたアントロンに代えて
公知の重合禁止剤であるN−ニトロソフェニルヒドロキ
シルアミンアルミニウム塩を用いた以外は、実施例4と
同様に蒸留工程を操作した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 5 The distillation step was carried out in the same manner as in Example 4 except that the known polymerization inhibitor N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt was used in place of the anthrone used as the polymerization inhibitor in Example 4. Operated. The results are shown in Table 1.

【0030】比較例6 実施例4で重合禁止剤として用いたアントロンに代えて
公知の重合禁止剤であるp−tert−ブチルカテコー
ルを用いた以外は、実施例4と同様に蒸留工程を操作し
た。その結果を表1に示す。
Comparative Example 6 The distillation step was operated in the same manner as in Example 4 except that the known polymerization inhibitor p-tert-butylcatechol was used in place of the anthrone used as the polymerization inhibitor in Example 4. . The results are shown in Table 1.

【0031】比較例7 実施例5で重合禁止剤として用いたアントロンに代えて
公知の重合禁止剤であるN−ニトロソフェニルヒドロキ
シルアミンアルミニウム塩を用いた以外は、実施例5と
同様に蒸留工程を操作した。その結果を表1に示す。
Comparative Example 7 A distillation step was carried out in the same manner as in Example 5 except that the known polymerization inhibitor N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt was used in place of the anthrone used as the polymerization inhibitor in Example 5. Operated. The results are shown in Table 1.

【0032】比較例8 実施例5で重合禁止剤として用いたアントロンに代えて
公知の重合禁止剤であるp−tert−ブチルカテコー
ルを用いた以外は、実施例5と同様に蒸留工程を操作し
た。その結果を表1に示す。
Comparative Example 8 The distillation step was operated in the same manner as in Example 5 except that the known polymerization inhibitor p-tert-butylcatechol was used in place of the anthrone used as the polymerization inhibitor in Example 5. . The results are shown in Table 1.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明を実施すると、次のような効果が
もたらされる。すなわち、蒸留工程中に高粘稠なポリ
マー状物質の形成が防止され、留出されたスチレンま
たはスチレン誘導体の回収率が高い。したがって、本発
明のスチレンまたはスチレン誘導体の蒸留方法は、従来
の諸問題を解決し、工業的な方法として有用性が高い。
When the present invention is carried out, the following effects are brought about. That is, formation of a highly viscous polymeric substance is prevented during the distillation process, and the recovery rate of the distilled styrene or styrene derivative is high. Therefore, the distillation method of styrene or styrene derivative of the present invention solves the conventional problems and is highly useful as an industrial method.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 67/54 C07C 67/54 69/017 69/017 B 69/035 69/035 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (51) Int.Cl. 7 Identification Code FI Theme Coat (Reference) C07C 67/54 C07C 67/54 69/017 69/017 B 69/035 69/035

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アントロンを重合禁止剤として、スチレ
ンまたはスチレン誘導体に添加し、その重合禁止剤の存
在下にスチレンまたはスチレン誘導体を蒸留することを
特徴とする、スチレンまたはスチレン誘導体の蒸留方
法。
1. A distillation method for styrene or a styrene derivative, which comprises adding anthrone as a polymerization inhibitor to styrene or a styrene derivative, and distilling the styrene or styrene derivative in the presence of the polymerization inhibitor.
【請求項2】蒸留されるスチレンまたはスチレン誘導体
が、下記一般式(I) 【化1】 (式中、Rは、水素原子、アミノ基、アルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、ハロアルキル
基、アリール基、特にフェニル基、アラルキル基、特に
ベンジル基、アルコキシアルキル基、ニトロ基、アルカ
ノイル基、アロイル基、特にベンゾイル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールアルコキシカルボニル基、アル
コキシ基、ハロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラ
ルキルオキシ基、アルコキシアルキルオキシ基、アルカ
ノイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アラ
ルキルオキシカルボニルオキシ基、またはアルキルシリ
ルオキシ基を表し、nは0、あるいは1から5までの整
数であり、nが2以上のとき、Rは、同一または相異な
ってもよく、さらにX、X、Xは、同一または相
異なって、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロ
ゲン原子、アルキルシリルオキシ基またはニトロ基を示
す)で表わされる化合物であることを特徴とする、請求
項1に記載の蒸留方法。
2. The styrene or styrene derivative to be distilled is represented by the following general formula (I): (In the formula, R represents a hydrogen atom, an amino group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, a haloalkyl group, an aryl group, particularly a phenyl group, an aralkyl group, particularly a benzyl group, an alkoxyalkyl group, a nitro group, an alkanoyl group. Group, aroyl group, especially benzoyl group, alkoxycarbonyl group, arylalkoxycarbonyl group, alkoxy group, haloalkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, alkoxyalkyloxy group, alkanoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aralkyloxycarbonyl Represents an oxy group or an alkylsilyloxy group, n is 0 or an integer from 1 to 5, and when n is 2 or more, R may be the same or different, and further, X 1 , X 2 , X 3 is the same or different, water Atom, an alkyl group, wherein the alkoxy group is a compound represented by a halogen atom, an alkyl silyl group or a nitro group), a distillation method according to claim 1.
【請求項3】蒸留されるスチレン誘導体が、下記一般式
(Ia) 【化2】 (式中、R’は、アルキル基、ハロアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、アルカノ
イル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカ
ルボニル基、またはアルキルシリル基を表し、nは1か
ら5までの整数であり、nが2以上のとき、R’は、同
一または相異なってもよく、さらにX、X、X
は、同一または相異なって、水素原子、アルキル基、
アルコキシ基、ハロゲン原子、アルキルシリルオキシ基
またはニトロ基を示す)で表わされるオキシスチレン誘
導体であることを特徴とする、請求項1に記載の蒸留方
法。
3. A styrene derivative to be distilled is represented by the following general formula (Ia): (In the formula, R ′ represents an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkanoyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or an alkylsilyl group, and n is 1 to 5 Is an integer, and when n is 2 or more, R ′ may be the same or different, and further, X 1 , X 2 , X
3 are the same or different and each is a hydrogen atom, an alkyl group,
An oxystyrene derivative represented by an alkoxy group, a halogen atom, an alkylsilyloxy group or a nitro group), the distillation method according to claim 1.
【請求項4】蒸留されるスチレン誘導体が、下記一般式
(Ib) 【化3】 (式中、R’’は、アルキル基、ハロアルキル基、アリ
ール基、特にフェニル基、アラルキル基、特にベンジル
基、アルコキシアルキル基、アルカノイル基、アルコキ
シカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、また
はアルキルシリル基を示す)で表わされるオキシスチレ
ン誘導体であることを特徴とする、請求項1に記載の蒸
留方法。
4. The styrene derivative to be distilled is represented by the following general formula (Ib): (In the formula, R '' represents an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, particularly a phenyl group, an aralkyl group, particularly a benzyl group, an alkoxyalkyl group, an alkanoyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or an alkylsilyl group. It is an oxystyrene derivative represented by (shown), The distillation method of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
【請求項5】蒸留されるスチレン誘導体が、tert−
ブトキシスチレンであることを特徴とする、請求項1に
記載の蒸留方法。
5. The styrene derivative to be distilled is tert-
The method according to claim 1, wherein the distillation method is butoxystyrene.
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