JP2003075485A - Wiring capacity measurement circuit and method - Google Patents

Wiring capacity measurement circuit and method

Info

Publication number
JP2003075485A
JP2003075485A JP2001270465A JP2001270465A JP2003075485A JP 2003075485 A JP2003075485 A JP 2003075485A JP 2001270465 A JP2001270465 A JP 2001270465A JP 2001270465 A JP2001270465 A JP 2001270465A JP 2003075485 A JP2003075485 A JP 2003075485A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
capacitance
measuring
pulse signal
channel mos
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001270465A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Inoue
武 井上
Nozomi Takatori
望 高取
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2001270465A priority Critical patent/JP2003075485A/en
Publication of JP2003075485A publication Critical patent/JP2003075485A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring capacity measurement circuit for reducing circuit scale and costs and to provide a simple wiring capacity measurement method. SOLUTION: The wiring capacity measurement circuit comprises a first unloaded clocked inverter CIV1, a second clocked inverter CIV2 where an input node is shared with the input node of the first clocked inverter CIV1 and wiring 3 is connected to an output node, a delay circuit 12 that delays a pulse signal SV to be supplied to a common input node by specific time for supplying to the clock gates of the first and second clocked inverters CIV1 and CIV2, and ammeters A1 and A2 for measuring the level of a current that flows to the first and second clocked inverters CIV1 and CIV2 when a pulse signal SV is supplied to the common input node.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線容量を測定す
るための方法及び回路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and circuit for measuring wiring capacitance.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に半導体装置の微細化に伴い、配
線容量を正確に把握することが重要となってきている
が、従来より配線容量を測定するための回路及び方法が
種々考案されている。
2. Description of the Related Art In general, with the miniaturization of semiconductor devices, it has become important to accurately grasp the wiring capacitance. Conventionally, various circuits and methods for measuring the wiring capacitance have been devised. There is.

【0003】図6は、従来の配線容量測定回路1の構成
を示す回路図である。図6に示されるように、従来の配
線容量測定回路1は、PチャネルMOSトランジスタP
11とNチャネルMOSトランジスタN12からなる無
負荷のインバータと、PチャネルMOSトランジスタP
21とNチャネルMOSトランジスタN22からなり出
力ノードには配線3が接続されるインバータとを含み、
PチャネルMOSトランジスタP11に流れる電流値を
測定する電流計A1と、PチャネルMOSトランジスタ
P21を介して配線3に流れる電流値を測定する電流計
A2とをさらに含む。
FIG. 6 is a circuit diagram showing the structure of a conventional wiring capacitance measuring circuit 1. As shown in FIG. 6, the conventional wiring capacitance measuring circuit 1 has a P-channel MOS transistor P
11 and an N-channel MOS transistor N12, an unloaded inverter, and a P-channel MOS transistor P
21 and an N-channel MOS transistor N22, and an inverter to which the wiring 3 is connected at the output node,
It further includes an ammeter A1 for measuring the value of the current flowing through P channel MOS transistor P11 and an ammeter A2 for measuring the value of the current flowing through wiring 3 through P channel MOS transistor P21.

【0004】ここで、二つのPチャネルMOSトランジ
スタP11,P21のゲートには、例えば図7(a)に
示されるパルス信号SV1が供給され、二つのNチャネ
ルMOSトランジスタN12,N22のゲートには、例
えば図7(b)に示されるパルス信号SV2が供給され
る。なお、パルス信号SV2がハイレベルとされる期間
は、パルス信号SV1がハイレベルとされる時刻T1か
ら時刻T2の間における一部の期間とされ、インバータ
に生じる貫通電流が抑えられる。
Here, for example, the pulse signal SV1 shown in FIG. 7A is supplied to the gates of the two P-channel MOS transistors P11 and P21, and the gates of the two N-channel MOS transistors N12 and N22 are For example, the pulse signal SV2 shown in FIG. 7B is supplied. The period during which the pulse signal SV2 is at the high level is a part of the period between the time T1 and the time T2 when the pulse signal SV1 is at the high level, and the shoot-through current generated in the inverter is suppressed.

【0005】そして、上記のような配線容量測定回路1
に対して、上記パルス信号SV1及びパルス信号SV2
が周波数Fで供給される。このとき、インバータへ供給
される電源電圧がV、電流計A1,A2により測定され
る平均電流値がそれぞれI1,I2であるとき、配線3
の容量Cは(I1−I2)/VFを計算することにより
算出される。
Then, the wiring capacitance measuring circuit 1 as described above
With respect to the pulse signal SV1 and the pulse signal SV2
Are supplied at frequency F. At this time, when the power supply voltage supplied to the inverter is V and the average current values measured by the ammeters A1 and A2 are I1 and I2, respectively, the wiring 3
The capacity C of is calculated by calculating (I1-I2) / VF.

【0006】しかしながら、上記のように配線容量を測
定する場合には、外部から二つのパルス信号SV1,S
V2を配線容量測定回路1へ供給する必要があるため、
これら二つのパルス信号SV1,SV2を生成して、配
線容量測定回路1へ供給するための回路が必要とされ
る。これより、従来における配線容量の測定において
は、必要とされる測定装置の規模及びコストが増大する
という問題があった。
However, when the wiring capacitance is measured as described above, two pulse signals SV1 and SV are externally applied.
Since it is necessary to supply V2 to the wiring capacitance measuring circuit 1,
A circuit for generating these two pulse signals SV1 and SV2 and supplying them to the wiring capacitance measuring circuit 1 is required. As a result, in the conventional measurement of the wiring capacitance, there is a problem that the scale and cost of the required measuring device increase.

【0007】次に、図8を参照しつつ、配線間の結合容
量(Cc)を算出する従来の方法を説明する。
Next, a conventional method for calculating the coupling capacitance (Cc) between wirings will be described with reference to FIG.

【0008】まず、図8(a)に示されるように、第一
の配線25と第二の配線27とをジャンパ29により短
絡させ、これら第一及び第二の配線25,27と接地ノ
ード23との間における容量(Ct)を測定する。
First, as shown in FIG. 8A, the first wiring 25 and the second wiring 27 are short-circuited by a jumper 29, and the first and second wirings 25 and 27 and the ground node 23 are connected. The capacity (Ct) between and is measured.

【0009】次に、図8(b)に示されるように、第一
の配線25と第二の配線27との間の短絡を解除すると
共に第一の配線25を接地し、第二の配線27と第一の
配線25との間の容量(C1)を測定する。
Next, as shown in FIG. 8B, the short circuit between the first wiring 25 and the second wiring 27 is released, the first wiring 25 is grounded, and the second wiring is grounded. The capacitance (C1) between 27 and the first wiring 25 is measured.

【0010】そして、図8(c)に示されるように、第
一の配線25と接地ノード23との短絡を解除すると共
に第二の配線27を接地して、第一の配線25と第二の
配線27との間の容量(C2)を測定し、(C1+C2
−Ct)/2を計算することによって結合容量Ccを算
定する。
Then, as shown in FIG. 8C, the short circuit between the first wiring 25 and the ground node 23 is released, and the second wiring 27 is grounded, so that the first wiring 25 and the second wiring 25 are grounded. The capacitance (C2) between the wiring 27 and the (C1 + C2
Calculate the coupling capacitance Cc by calculating -Ct) / 2.

【0011】しかしながら、上記のような従来の方法で
は、結合容量を算定するために上記三つの容量(Ct,
C1,C2)をそれぞれ測定する必要があるため煩雑さ
を有すると共に、該容量を測定するために煩雑な回路も
必要であるという問題があった。
However, in the conventional method as described above, in order to calculate the coupling capacity, the three capacities (Ct, Ct,
C1 and C2) have to be measured separately, which is complicated and requires a complicated circuit to measure the capacitance.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題を解消するためになされたもので、回路規模及びコ
ストを低減することができる配線容量測定回路と簡易な
配線容量測定方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and provides a wiring capacitance measuring circuit and a simple wiring capacitance measuring method which can reduce the circuit scale and cost. The purpose is to do.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、無負荷
とされる第一のクロックドインバータと、入力ノードが
第一のクロックドインバータの入力ノードと共通化さ
れ、出力ノードには配線が接続された第二のクロックド
インバータと、共通化された入力ノードに供給されるパ
ルス信号を所定時間遅延させ、第一及び第二のクロック
ドインバータのクロックドゲートに供給する遅延手段
と、共通化された入力ノードにパルス信号を供給したと
き、第一及び第二のクロックドインバータにそれぞれ流
れる電流の大きさを測定する電流測定手段とを備えたこ
とを特徴とする配線容量測定回路を提供することにより
達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a first clocked inverter which is unloaded, an input node of which is shared with an input node of the first clocked inverter, and an output node of which is wired. A second clocked inverter connected to, and a delay means for delaying a pulse signal supplied to a common input node for a predetermined time, and supplying the delayed clock signal to the clocked gates of the first and second clocked inverters, A wiring capacitance measuring circuit comprising: current measuring means for measuring the magnitude of the current flowing through each of the first and second clocked inverters when a pulse signal is supplied to a common input node. It is achieved by providing.

【0014】このような手段によれば、電流測定手段に
よって測定された第一及び第二のクロックドインバータ
にそれぞれ流れる電流の大きさにより、上記配線の容量
を容易に算出することができる。また、本発明の目的
は、対向する二つの配線のうち一方のみを接地ノードに
接続し、他方の配線が接地ノードに対してなす第一の容
量(Ca)を測定するステップと、二つの配線をフロー
ティング状態にして、他方の配線が接地ノードに対して
なす第二の容量(Cb)を測定するステップと、第一及
び第二の容量に基づいて(Ca・(Ca−Cb))1/2
を計算することにより、二つの配線間の結合容量を算定
するステップとを含む配線容量測定方法を提供すること
により達成される。
According to such means, the capacitance of the wiring can be easily calculated from the magnitudes of the currents flowing through the first and second clocked inverters measured by the current measuring means. Also, an object of the present invention is to connect only one of two facing wirings to a ground node and to measure a first capacitance (Ca) made by the other wiring with respect to the ground node, and two wirings. Is set to a floating state, and the second capacitance (Cb) made by the other wiring with respect to the ground node is measured, and (Ca · (Ca-Cb)) 1 / based on the first and second capacitances. 2
By calculating a coupling capacitance between two wirings.

【0015】このような手段によれば、対向する配線間
の結合容量を容易に得ることができる。
By such means, it is possible to easily obtain the coupling capacitance between the wirings facing each other.

【0016】なお、第一の容量(Ca)と結合容量の差
を計算することにより、他方の配線の対地容量も容易に
算出することができる。
By calculating the difference between the first capacitance (Ca) and the coupling capacitance, the ground capacitance of the other wiring can be easily calculated.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下において、本発明の実施の形
態を図面を参照しつつ詳しく説明する。なお、図中同一
符号は同一または相当部分を示す。 [実施の形態1]図1は、本発明の実施の形態1に係る配
線容量測定回路10の構成を示す回路図である。図1に
示されるように、本実施の形態1に係る配線容量測定回
路10は、電源電圧ノードと接地ノードとの間にPチャ
ネルMOSトランジスタP11,P12及びNチャネル
MOSトランジスタN11,N12が直列接続されたク
ロックドインバータCIV1と、同じく電源電圧ノード
と接地ノードとの間にPチャネルMOSトランジスタP
21,P22及びNチャネルMOSトランジスタN2
1,N22が直列接続されたクロックドインバータCI
V2とを含む。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. The same reference numerals in the drawings indicate the same or corresponding parts. [First Embodiment] FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a wiring capacitance measuring circuit 10 according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, in the wiring capacitance measuring circuit 10 according to the first embodiment, P-channel MOS transistors P11 and P12 and N-channel MOS transistors N11 and N12 are connected in series between a power supply voltage node and a ground node. The P-channel MOS transistor P is connected between the clocked inverter CIV1 and the power supply voltage node and the ground node.
21, P22 and N-channel MOS transistor N2
Clocked inverter CI in which 1 and N22 are connected in series
V2 and.

【0018】ここで、電源電圧ノードとPチャネルMO
SトランジスタP12との間には電流計A1が接続さ
れ、電源電圧ノードとPチャネルMOSトランジスタP
22との間には電流計A2が接続される。また、Pチャ
ネルMOSトランジスタP21のドレインには配線3が
接続される。
Here, the power supply voltage node and the P channel MO
An ammeter A1 is connected between the S-transistor P12 and the S-transistor P12 to connect the power-supply voltage node and the P-channel MOS transistor P
An ammeter A2 is connected to the line 22. The wiring 3 is connected to the drain of the P-channel MOS transistor P21.

【0019】また配線容量測定回路10は信号線11
と、信号線11に接続された遅延回路12とを含み、P
チャネルMOSトランジスタP11,P21及びNチャ
ネルMOSトランジスタN12,N22のゲートは共に
信号線11に接続され、PチャネルMOSトランジスタ
P12,P22及びNチャネルMOSトランジスタN1
1,N21のゲートは共に遅延回路12に接続される。
The wiring capacitance measuring circuit 10 includes a signal line 11
And a delay circuit 12 connected to the signal line 11,
The gates of the channel MOS transistors P11 and P21 and the N channel MOS transistors N12 and N22 are both connected to the signal line 11, and the P channel MOS transistors P12 and P22 and the N channel MOS transistor N1.
The gates of 1 and N21 are both connected to the delay circuit 12.

【0020】以下において、上記のような構成を有する
本実施の形態1に係る配線容量測定回路10の動作を説
明する。まず、信号線11には、図2(a)に示された
パルス信号SVが周波数Fで供給される。このとき、遅
延回路12はパルス信号SVを遅延させて、図2(b)
に示された遅延パルス信号SVDを生成する。なお、遅
延回路12による遅延量は、パルス信号SVがハイレベ
ルとなる期間より短い期間T2とされる。
The operation of the wiring capacitance measuring circuit 10 according to the first embodiment having the above structure will be described below. First, the pulse signal SV shown in FIG. 2A is supplied to the signal line 11 at the frequency F. At this time, the delay circuit 12 delays the pulse signal SV, and the delay circuit 12 shown in FIG.
The delayed pulse signal SVD shown in is generated. The delay amount by the delay circuit 12 is set to a period T2 shorter than the period in which the pulse signal SV is at high level.

【0021】これにより、図2に示された期間T1にお
いては、パルス信号SV及び遅延パルス信号SVDが共
にロウレベル(L)であるため、NチャネルMOSトラ
ンジスタN11,N12,N21,N22が共にオフ
し、PチャネルMOSトランジスタP11,P12,P
21,P22が共にオンする。これにより、期間T1に
おいては、電圧Vを有する電源電圧ノードから配線3へ
電荷が供給される。
As a result, during the period T1 shown in FIG. 2, since the pulse signal SV and the delayed pulse signal SVD are both at the low level (L), the N-channel MOS transistors N11, N12, N21, N22 are all turned off. , P-channel MOS transistors P11, P12, P
21 and P22 are both turned on. Thus, in the period T1, charge is supplied from the power supply voltage node having the voltage V to the wiring 3.

【0022】次に、図2に示された期間T2において
は、パルス信号SVがハイレベル(H)となり、遅延パ
ルス信号SVDはロウレベルを維持するため、Pチャネ
ルMOSトランジスタP11,P21がオフすると共
に、NチャネルMOSトランジスタN12,N22がオ
ンする。
Next, in the period T2 shown in FIG. 2, the pulse signal SV becomes high level (H) and the delayed pulse signal SVD maintains the low level, so that the P-channel MOS transistors P11 and P21 are turned off. , N-channel MOS transistors N12 and N22 are turned on.

【0023】そして、図2に示された期間T3において
は、遅延パルス信号SVDもハイレベルとなるため、P
チャネルMOSトランジスタP12,P22がオフする
と共に、NチャネルMOSトランジスタN11,N21
がオンする。このとき、配線3に充電されていた電荷が
接地ノードに放電される。
In the period T3 shown in FIG. 2, the delay pulse signal SVD is also at high level, so P
The channel MOS transistors P12 and P22 are turned off and the N channel MOS transistors N11 and N21 are turned off.
Turns on. At this time, the electric charge charged in the wiring 3 is discharged to the ground node.

【0024】また、図2に示された期間T4において
は、パルス信号SVがロウレベル(L)となり、遅延パ
ルス信号SVDはハイレベルを維持するため、Nチャネ
ルMOSトランジスタN12,N22がオフすると共
に、PチャネルMOSトランジスタP11,P21がオ
ンする。
In the period T4 shown in FIG. 2, the pulse signal SV becomes low level (L) and the delayed pulse signal SVD maintains high level, so that the N-channel MOS transistors N12 and N22 are turned off, and at the same time, The P channel MOS transistors P11 and P21 are turned on.

【0025】そして、図2に示された期間T5において
は、遅延パルス信号SVDもロウレベルとなるため、さ
らにNチャネルMOSトランジスタN11,N21がオ
フし、PチャネルMOSトランジスタP12,P22が
オンする。これより、期間T5においては、上記期間T
1と同様に四つのPチャネルMOSトランジスタP1
1,P12,P21,P22がオンし、電圧Vで再び配
線3が充電される。
In the period T5 shown in FIG. 2, the delay pulse signal SVD also becomes low level, so that the N-channel MOS transistors N11 and N21 are turned off and the P-channel MOS transistors P12 and P22 are turned on. Therefore, in the period T5, the period T
4 P-channel MOS transistors P1 as in 1
1, P12, P21, P22 are turned on, and the wiring 3 is charged again with the voltage V.

【0026】以上より、信号線11へ周波数Fのパルス
信号SVが供給された場合には、上記のような動作が一
秒間にF回繰り返される。そして、このような動作にお
いて、電流計A1,A2により測定される平均電流値を
それぞれI1,I2とすると、配線3の容量は(I1−
I2)/VFを計算することにより算出される。
As described above, when the pulse signal SV having the frequency F is supplied to the signal line 11, the above operation is repeated F times in one second. Then, in such an operation, assuming that the average current values measured by the ammeters A1 and A2 are I1 and I2, respectively, the capacitance of the wiring 3 is (I1-
It is calculated by calculating I2) / VF.

【0027】また、図1に示された配線容量測定回路1
0では、直列接続されたPチャネルMOSトランジスタ
P11,P12及びNチャネルMOSトランジスタN1
1,N12と、PチャネルMOSトランジスタP21,
P22及びNチャネルMOSトランジスタN21,N2
2において、それぞれ貫通電流の発生が回避される。
The wiring capacitance measuring circuit 1 shown in FIG.
0, P-channel MOS transistors P11, P12 and N-channel MOS transistor N1 connected in series
1, N12 and P-channel MOS transistor P21,
P22 and N-channel MOS transistors N21, N2
In 2, the generation of a through current is avoided.

【0028】以上より、本発明の実施の形態1に係る配
線容量測定回路10によれば、一種類のパルス信号SV
を信号線11へ供給することによって配線3の容量を測
定することができるため、配線容量を測定するためには
一種類のパルス信号SVを生成する回路があれば足り、
配線容量を測定するための装置の規模及びコストを低減
することができる。 [実施の形態2]図3及び図4は、本発明の実施の形態2
に係る配線容量測定方法を説明するための図である。以
下において、配線21,22の対地容量C10及び配線
間21,22の結合容量C20を測定する方法について
説明する。
As described above, according to the wiring capacitance measuring circuit 10 according to the first embodiment of the present invention, one type of pulse signal SV is used.
Since the capacitance of the wiring 3 can be measured by supplying the signal to the signal line 11, a circuit that generates one kind of pulse signal SV is sufficient to measure the wiring capacitance.
The scale and cost of the device for measuring the wiring capacitance can be reduced. [Second Embodiment] FIGS. 3 and 4 show a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a diagram for explaining a wiring capacitance measuring method according to the present invention. A method of measuring the ground capacitance C10 of the wirings 21 and 22 and the coupling capacitance C20 of the wirings 21 and 22 will be described below.

【0029】最初に、図3に示されたスイッチSWをオン
して配線22と接地ノード23とを接続し、上記実施の
形態1に係る方法を用いて配線21の容量(Ca)を測
定する。このとき、配線21の容量CaはCa=C10
+C20…式(1)と表される。
First, the switch SW shown in FIG. 3 is turned on to connect the wiring 22 and the ground node 23, and the capacitance (Ca) of the wiring 21 is measured using the method according to the first embodiment. . At this time, the capacitance Ca of the wiring 21 is Ca = C10
+ C20 ... Represented by formula (1).

【0030】次に、図4に示されるように上記スイッチ
SWをオフし、配線21の容量(Cb)を測定する。こ
のとき、スイッチSWがオフされると配線22がフロー
ティング状態になるため、配線21,22がなす容量は
両配線21,22間の結合容量C20と二つの配線2
1,22の各対地容量C10との合成容量となる。従っ
て、上記容量(Cb)はCb=C10+C10・C20
/(C10+C20)…式(2)と表される。
Next, as shown in FIG. 4, the switch SW is turned off and the capacitance (Cb) of the wiring 21 is measured. At this time, when the switch SW is turned off, the wiring 22 is brought into a floating state. Therefore, the capacitance formed by the wirings 21 and 22 is the coupling capacitance C20 between the wirings 21 and 22 and the two wirings 2.
This is a combined capacity with the ground capacity C10 of 1 and 22. Therefore, the above capacity (Cb) is Cb = C10 + C10 · C20
/ (C10 + C20) ... It is represented by Formula (2).

【0031】これより、上記式(1)及び式(2)によ
って、該結合容量C20は(Ca・(Ca−Cb)1/2
と表されるため、上記のように容量(Ca)及び容量
(Cb)を測定することにより配線間の結合容量C20
を算出することができる。なお、測定された容量Caと
算出された結合容量C20との差を計算することによ
り、上記対地容量C10を算出することもできる。
From the above, the coupling capacitance C20 is (Ca (Ca-Cb) 1/2 ) according to the above equations (1) and (2).
Therefore, by measuring the capacitance (Ca) and the capacitance (Cb) as described above, the coupling capacitance C20 between the wirings can be obtained.
Can be calculated. The ground capacity C10 can also be calculated by calculating the difference between the measured capacity Ca and the calculated coupling capacity C20.

【0032】なお、本実施の形態2に係る配線容量測定
方法は、例えば上記実施の形態1に係る配線容量測定回
路10を用いて容易に実現される。すなわち、図5に示
されるように、配線21に配線容量測定回路10を接続
すると共に、配線22と接地ノード23との間にNチャ
ネルMOSトランジスタからなるスイッチSWを接続
し、上記実施の形態1で説明した方法を実行することに
よって容量(Ca)及び容量(Cb)を容易に測定する
ことができる。
The wiring capacitance measuring method according to the second embodiment can be easily realized by using, for example, the wiring capacitance measuring circuit 10 according to the first embodiment. That is, as shown in FIG. 5, the wiring capacitance measuring circuit 10 is connected to the wiring 21, and the switch SW formed of an N-channel MOS transistor is connected between the wiring 22 and the ground node 23, and the first embodiment described above is adopted. The capacity (Ca) and the capacity (Cb) can be easily measured by executing the method described in (1).

【0033】より具体的には、上記NチャネルMOSト
ランジスタのゲートへ供給する信号のレベルをハイレベ
ル(H)あるいはロウレベル(L)とすることによって
配線22と接地ノード23とを接続あるいは切断すると
共に、パルス信号SVを配線容量測定回路10へ供給す
る。
More specifically, the level of the signal supplied to the gate of the N-channel MOS transistor is set to high level (H) or low level (L) to connect or disconnect the wiring 22 and the ground node 23. , The pulse signal SV is supplied to the wiring capacitance measuring circuit 10.

【0034】以上より、本発明の実施の形態2に係る配
線容量測定方法によれば、隣接する配線間の結合容量を
容易に得ることができるため、半導体装置の設計環境に
おいて配線間容量を精度良く反映させることができ、ク
ロストーク遅延や結合ノイズ量を正確に見積もることが
可能となる。
As described above, according to the wiring capacitance measuring method according to the second embodiment of the present invention, since the coupling capacitance between adjacent wirings can be easily obtained, the capacitance between wirings can be accurately measured in the design environment of the semiconductor device. It can be reflected well and the crosstalk delay and the amount of coupling noise can be accurately estimated.

【0035】また、半導体装置の設計段階で回路の誤動
作を見積もることも可能となるため、試作回数が低減さ
れ、短期間に高品質な半導体装置を得ることができる。
Further, since it becomes possible to estimate the malfunction of the circuit at the designing stage of the semiconductor device, the number of trial manufactures can be reduced and a high quality semiconductor device can be obtained in a short period of time.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明に係る配線容量測定回路によれ
ば、電流測定手段によって測定された第一及び第二のク
ロックドインバータにそれぞれ流れる電流の大きさによ
り、配線の容量を容易に算出することができるため、配
線容量の測定に必要とされる回路の規模及びコストを低
減することができる。
According to the wiring capacitance measuring circuit of the present invention, the wiring capacitance can be easily calculated based on the magnitudes of the currents flowing through the first and second clocked inverters measured by the current measuring means. Therefore, the scale and cost of the circuit required for measuring the wiring capacitance can be reduced.

【0037】また、本発明に係る配線容量測定方法によ
れば、対向する配線間の結合容量を容易に得ることがで
きるため、該容量を考慮した精度の高い設計を容易に実
現することができる。
Further, according to the wiring capacitance measuring method of the present invention, since the coupling capacitance between the opposing wirings can be easily obtained, a highly accurate design considering the capacitance can be easily realized. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1に係る配線容量測定回路
の構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a wiring capacitance measuring circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示された配線容量測定回路の動作を説明
するタイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of the wiring capacitance measuring circuit shown in FIG.

【図3】本発明の実施の形態2に係る配線容量測定方法
を説明する第一の図である。
FIG. 3 is a first diagram illustrating a wiring capacitance measuring method according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態2に係る配線容量測定方法
を説明する第二の図である。
FIG. 4 is a second diagram illustrating a wiring capacitance measuring method according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態2に係る配線容量測定方法
を実現するための一構成例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration example for realizing a wiring capacitance measuring method according to a second embodiment of the present invention.

【図6】従来の配線容量測定回路の構成を示す回路図で
ある。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional wiring capacitance measuring circuit.

【図7】図6に示された配線容量測定回路の動作を説明
するタイミングチャートである。
7 is a timing chart explaining the operation of the wiring capacitance measuring circuit shown in FIG.

【図8】従来の配線容量測定方法を説明する図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a conventional wiring capacitance measuring method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,10 配線容量測定回路、3,21,22 配線、
11 信号線、12 遅延回路、23 接地ノード、2
5 第一の配線、27 第二の配線、29 ジャンパ、
A1,A2 電流計、P11,P12,P21,P22
PチャネルMOSトランジスタ、N11,N12,N
21,N22 NチャネルMOSトランジスタ、CIV
1,CIV2 クロックドインバータ、C10 対地容
量、C20結合容量、SW スイッチ。
1,10 wiring capacitance measuring circuit, 3,21,22 wiring,
11 signal lines, 12 delay circuits, 23 ground nodes, 2
5 first wiring, 27 second wiring, 29 jumper,
A1, A2 ammeter, P11, P12, P21, P22
P-channel MOS transistor, N11, N12, N
21, N22 N-channel MOS transistor, CIV
1, CIV2 Clocked inverter, C10 ground capacitance, C20 coupling capacitance, SW switch.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 配線の容量を測定するための配線容量測
定回路であって、無負荷とされる第一のクロックドイン
バータと、入力ノードが前記第一のクロックドインバー
タの入力ノードと共通化され、出力ノードには前記配線
が接続された第二のクロックドインバータと、共通化さ
れた前記入力ノードに供給されるパルス信号を所定時間
遅延させ、前記第一及び第二のクロックドインバータの
クロックドゲートに供給する遅延手段と、 共通化された前記入力ノードに前記パルス信号を供給し
たとき、前記第一及び第二のクロックドインバータにそ
れぞれ流れる電流の大きさを測定する電流測定手段とを
備えたことを特徴とする配線容量測定回路。
1. A wiring capacitance measuring circuit for measuring the capacitance of a wiring, wherein a first clocked inverter that is not loaded and an input node are shared with an input node of the first clocked inverter. The second clocked inverter having the wiring connected to the output node and the pulse signal supplied to the common input node are delayed for a predetermined time, and the first and second clocked inverters Delay means for supplying the clocked gate; and current measuring means for measuring the magnitude of the current flowing through each of the first and second clocked inverters when the pulse signal is supplied to the common input node. A wiring capacitance measuring circuit comprising:
【請求項2】 配線容量を測定する方法であって、 対向する二つの配線のうち一方のみを接地ノードに接続
し、他方の前記配線が前記接地ノードに対してなす第一
の容量(Ca)を測定するステップと、 前記二つの配線をフローティング状態にして、前記他方
の配線が前記接地ノードに対してなす第二の容量(C
b)を測定するステップと、 前記第一及び第二の容量に基づいて(Ca・(Ca−C
b))1/2を計算することにより、前記二つの配線間の
結合容量を算定するステップとを含む配線容量測定方
法。
2. A method of measuring a wiring capacitance, wherein only one of two facing wirings is connected to a ground node, and the other wiring has a first capacitance (Ca) with respect to the ground node. And a second capacitance (C) formed by the other wiring with respect to the ground node, with the two wirings in a floating state.
b), and (Ca · (Ca-C) based on the first and second capacities.
b)) calculating a coupling capacitance between the two wirings by calculating 1/2 , and a wiring capacitance measuring method.
【請求項3】 前記第一の容量(Ca)と前記結合容量
の差を計算することにより、前記他方の配線の対地容量
を算定するステップをさらに含む請求項2に記載の配線
容量測定方法。
3. The wiring capacitance measuring method according to claim 2, further comprising calculating a ground capacitance of the other wiring by calculating a difference between the first capacitance (Ca) and the coupling capacitance.
JP2001270465A 2001-09-06 2001-09-06 Wiring capacity measurement circuit and method Pending JP2003075485A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001270465A JP2003075485A (en) 2001-09-06 2001-09-06 Wiring capacity measurement circuit and method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001270465A JP2003075485A (en) 2001-09-06 2001-09-06 Wiring capacity measurement circuit and method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003075485A true JP2003075485A (en) 2003-03-12

Family

ID=19096118

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001270465A Pending JP2003075485A (en) 2001-09-06 2001-09-06 Wiring capacity measurement circuit and method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003075485A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005033057A (en) * 2003-07-08 2005-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
CN104124230A (en) * 2013-04-27 2014-10-29 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Testing structure and testing method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005033057A (en) * 2003-07-08 2005-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
JP4593891B2 (en) * 2003-07-08 2010-12-08 パナソニック株式会社 Semiconductor device
CN104124230A (en) * 2013-04-27 2014-10-29 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 Testing structure and testing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7940072B2 (en) Timing generator and semiconductor test apparatus
US7791357B2 (en) On silicon interconnect capacitance extraction
JP2760284B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
US20090146681A1 (en) Method and apparatus for estimating resistance and capacitance of metal interconnects
JPWO2008129625A1 (en) Leak current detection circuit, body bias control circuit, semiconductor device, and test method for semiconductor device
JPWO2007097053A1 (en) Semiconductor integrated circuit and its inspection method
US6501283B2 (en) Circuit configuration for measuring the capacitance of structures in an integrated circuit
US6549029B1 (en) Circuit and method for measuring capacitance
JP2002026099A (en) Circuit for evaluating electromigration
JP4657053B2 (en) Timing generator and semiconductor test apparatus
US7216315B2 (en) Error portion detecting method and layout method for semiconductor integrated circuit
JP4940643B2 (en) Power supply noise tolerance inspection circuit and power supply noise tolerance inspection method
JP2003075485A (en) Wiring capacity measurement circuit and method
JP2958992B2 (en) Semiconductor integrated circuit
US5869992A (en) Delay time control circuit
JPS63204815A (en) Semiconductor logic circuit
US7710101B2 (en) Method and system for measuring maximum operating frequency and corresponding duty cycle for an I/O cell
JP3986214B2 (en) Receiver circuit
KR101090448B1 (en) apparatus for measuring capacitance using on chip pulse generator
US7155360B2 (en) Process variation detector and process variation detecting method
JP2001318111A (en) Capacitance measuring circuit capacitance comparator and buffer circuit
US10277206B2 (en) Integrated circuit with an oscillating signal-generating assembly
Yu et al. A New On-chip Signal Generator for Charge-Based Capacitance Measurement Circuit
JP2681012B2 (en) Output buffer circuit
JP2002335149A (en) Semiconductor integrated circuit