JP2003075334A - Sensor using attenuated total reflection - Google Patents

Sensor using attenuated total reflection

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JP2003075334A
JP2003075334A JP2001263286A JP2001263286A JP2003075334A JP 2003075334 A JP2003075334 A JP 2003075334A JP 2001263286 A JP2001263286 A JP 2001263286A JP 2001263286 A JP2001263286 A JP 2001263286A JP 2003075334 A JP2003075334 A JP 2003075334A
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Japan
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light
total reflection
dielectric block
interface
sensor
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Japanese (ja)
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Takashi Otsuka
尚 大塚
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize high S/N even under influence of external light such as illumination light in a sensor using attenuated total reflection. SOLUTION: This sensor using attenuated total reflection is provide with: a prism 1; a metal film 3 formed on one surface thereof; an optical system 15 for entering a light beam 13 in an infrared region into the prism 1 at various angles so as to provide a total reflection condition on an interface 1b between the prism 1 and the metal film 3; and light detection means 6 and 7 for detecting the light beam totally reflected on the interface 1b. Pyroelectric elements are used for the light detection means 6 and 7.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面プラズモンの
発生を利用して試料中の物質を定量分析する表面プラズ
モンセンサー等の、全反射減衰を利用したセンサーに関
し、特に詳細には、全反射減衰によって測定光に生じる
暗線を光検出手段を用いて検出する全反射減衰を利用し
たセンサーに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sensor utilizing total reflection attenuation, such as a surface plasmon sensor for quantitatively analyzing a substance in a sample by utilizing the generation of surface plasmon, and more particularly to a total reflection attenuation. The present invention relates to a sensor utilizing attenuation of total reflection for detecting a dark line generated in measurement light by using a light detecting means.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属中においては、自由電子が集団的に
振動して、プラズマ波と呼ばれる粗密波が生じる。そし
て、金属表面に生じるこの粗密波を量子化したものは、
表面プラズモンと呼ばれている。
2. Description of the Related Art In a metal, free electrons oscillate collectively to generate compression waves called plasma waves. And, the quantized compression wave generated on the metal surface is
It is called surface plasmon.

【0003】従来より、この表面プラズモンが光波によ
って励起される現象を利用して、試料中の物質を定量分
析する表面プラズモンセンサーが種々提案されている。
そして、それらの中で特に良く知られているものとし
て、 Kretschmann配置と称される系を用いるものが挙げ
られる(例えば特開平6−167443号参照)。
Conventionally, various surface plasmon sensors have been proposed for quantitatively analyzing a substance in a sample by utilizing the phenomenon that the surface plasmon is excited by a light wave.
Among them, one that is particularly well known is one that uses a system called Kretschmann arrangement (see, for example, JP-A-6-167443).

【0004】上記の系を用いる表面プラズモンセンサー
は基本的に、例えばプリズム状に形成された誘電体ブロ
ックと、この誘電体ブロックの一面に形成されて試料に
接触させられる金属膜と、光ビームを発生させる光源
と、上記光ビームを誘電体ブロックに対して、該誘電体
ブロックと金属膜との界面で全反射条件が得られ、かつ
表面プラズモン共鳴による全反射減衰が生じ得るように
種々の角度で入射させる光学系と、上記界面で全反射し
た光ビームの強度を測定して表面プラズモン共鳴の状
態、つまり全反射減衰の状態を検出する光検出手段とを
備えてなるものである。
A surface plasmon sensor using the above system basically emits a light beam and a dielectric block formed in a prism shape, a metal film formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample. With respect to the light source to be generated and the above-mentioned light beam with respect to the dielectric block, the total reflection condition can be obtained at the interface between the dielectric block and the metal film, and the total reflection attenuation due to the surface plasmon resonance can occur at various angles. And an optical system for measuring the intensity of the light beam totally reflected at the interface to detect the state of surface plasmon resonance, that is, the state of attenuated total reflection.

【0005】なお上述のように種々の入射角を得るため
には、比較的細い光ビームを入射角を変えて上記界面に
入射させてもよいし、あるいは光ビームに種々の角度で
入射する成分が含まれるように、比較的太い光ビームを
上記界面に収束光状態であるいは発散光状態で入射させ
てもよい。前者の場合は、入射した光ビームの入射角の
変化にしたがって反射角が変化する光ビームを、上記反
射角の変化に同期して移動する小さな光検出器によって
検出したり、反射角の変化方向に沿って延びるエリアセ
ンサによって検出することができる。一方後者の場合
は、種々の反射角で反射した各光ビームを全て受光でき
る方向に延びるエリアセンサによって検出することがで
きる。
In order to obtain various incident angles as described above, a relatively thin light beam may be incident on the above interface by changing the incident angle, or a component incident on the light beam at various angles. Therefore, a relatively thick light beam may be incident on the interface in a convergent light state or a divergent light state. In the former case, a light beam whose reflection angle changes according to the change of the incident angle of the incident light beam is detected by a small photodetector that moves in synchronization with the change of the above-mentioned reflection angle, or the direction of change of the reflection angle. It can be detected by an area sensor extending along. On the other hand, in the latter case, each light beam reflected at various reflection angles can be detected by an area sensor extending in a direction in which all the light beams can be received.

【0006】上記構成の表面プラズモンセンサーにおい
て、光ビームを金属膜に対して全反射角以上の特定入射
角θSPで入射させると、該金属膜に接している試料中
に電界分布をもつエバネッセント波が生じ、このエバネ
ッセント波によって金属膜と試料との界面に表面プラズ
モンが励起される。エバネッセント光の波数ベクトルが
表面プラズモンの波数と等しくて波数整合が成立してい
るとき、両者は共鳴状態となり、光のエネルギーが表面
プラズモンに移行するので、誘電体ブロックと金属膜と
の界面で全反射した光の強度が鋭く低下する。この光強
度の低下は、一般に上記光検出手段により暗線として検
出される。
In the surface plasmon sensor having the above structure, when a light beam is incident on the metal film at a specific incident angle θ SP which is equal to or greater than the total reflection angle, an evanescent wave having an electric field distribution in the sample in contact with the metal film. Is generated, and surface plasmons are excited at the interface between the metal film and the sample by this evanescent wave. When the wave vector of the evanescent light is equal to the wave number of the surface plasmon and the wave number matching is established, both are in a resonance state and the energy of the light is transferred to the surface plasmon, so that at the interface between the dielectric block and the metal film. The intensity of the reflected light sharply decreases. This decrease in light intensity is generally detected as a dark line by the light detecting means.

【0007】なお上記の共鳴は、入射ビームがp偏光の
ときにだけ生じる。したがって、光ビームがp偏光で入
射するように予め設定しておく必要がある。
The above resonance occurs only when the incident beam is p-polarized. Therefore, it is necessary to set in advance that the light beam is incident as p-polarized light.

【0008】この全反射減衰(ATR)が生じる入射角
θSPから表面プラズモンの波数が分かると、試料の誘
電率が求められる。すなわち表面プラズモンの波数をK
SP、表面プラズモンの角周波数をω、cを真空中の光
速、εとεをそれぞれ金属、試料の誘電率とす
ると、以下の関係がある。
When the wave number of the surface plasmon is known from the incident angle θ SP at which this attenuated total reflection (ATR) occurs, the dielectric constant of the sample can be obtained. That is, the wave number of the surface plasmon is K
Let SP be the angular frequency of surface plasmons be ω, c be the speed of light in a vacuum, ε m and ε S be the metal, and the permittivity of the sample respectively, and the following relationships are established.

【0009】[0009]

【数1】 試料の誘電率εが分かれば、所定の較正曲線等に基
づいて試料中の特定物質の濃度が分かるので、結局、上
記反射光強度が低下する入射角θSPを知ることによ
り、試料の誘電率つまりは屈折率に関連する特性を求め
ることができる。
[Equation 1] If the permittivity ε S of the sample is known, the concentration of the specific substance in the sample can be known based on a predetermined calibration curve or the like. Therefore, by finally knowing the incident angle θ SP at which the reflected light intensity decreases, the dielectric constant of the sample can be determined. A property related to the index, that is, the refractive index can be obtained.

【0010】また、全反射減衰(ATR)を利用する類
似のセンサーとして、例えば「分光研究」第47巻 第
1号(1998)の第21〜23頁および第26〜27
頁に記載がある漏洩モードセンサーも知られている。こ
の漏洩モードセンサーは基本的に、例えばプリズム状に
形成された誘電体ブロックと、この誘電体ブロックの一
面に形成されたクラッド層と、このクラッド層の上に形
成されて、試料に接触させられる光導波層と、光ビーム
を発生させる光源と、上記光ビームを上記誘電体ブロッ
クに対して、該誘電体ブロックとクラッド層との界面で
全反射条件が得られ、かつ光導波層での導波モードの励
起による全反射減衰が生じ得るように種々の角度で入射
させる光学系と、上記界面で全反射した光ビームの強度
を測定して導波モードの励起状態、つまり全反射減衰状
態を検出する光検出手段とを備えてなるものである。
As a similar sensor utilizing the attenuated total reflection (ATR), for example, "Spectroscopic Research" Vol. 47, No. 1 (1998), pages 21 to 23 and 26 to 27.
Leakage mode sensors described on the page are also known. This leaky mode sensor is basically formed by, for example, a dielectric block formed in a prism shape, a clad layer formed on one surface of the dielectric block, and formed on the clad layer and brought into contact with a sample. An optical waveguide layer, a light source for generating a light beam, and the light beam with respect to the dielectric block, a total reflection condition is obtained at the interface between the dielectric block and the cladding layer, and the light guide layer is used. The optical system that is incident at various angles so that the attenuation of the total reflection due to the excitation of the wave mode may occur, and the intensity of the light beam that is totally reflected at the interface is measured to determine the excited state of the guided mode, that is, the attenuated total reflection state. And a light detecting means for detecting.

【0011】上記構成の漏洩モードセンサーにおいて、
光ビームを誘電体ブロックを通してクラッド層に対して
全反射角以上の入射角で入射させると、このクラッド層
を透過した後に光導波層においては、ある特定の波数を
有する特定入射角の光のみが導波モードで伝搬するよう
になる。こうして導波モードが励起されると、入射光の
ほとんどが光導波層に取り込まれるので、上記界面で全
反射する光の強度が鋭く低下する全反射減衰が生じる。
そして導波光の波数は光導波層の上の試料の屈折率に依
存するので、全反射減衰が生じる上記特定入射角を知る
ことによって、試料の屈折率や、それに関連する試料の
特性を分析することができる。
In the leak mode sensor having the above structure,
When a light beam is incident on the cladding layer through the dielectric block at an angle of incidence equal to or more than the total reflection angle, only light with a specific incident angle having a specific wave number is transmitted in the optical waveguide layer after passing through the cladding layer. It propagates in the guided mode. When the guided mode is excited in this manner, most of the incident light is taken into the optical waveguide layer, so that the total reflection attenuation occurs in which the intensity of the light totally reflected at the interface sharply decreases.
Since the wave number of the guided light depends on the refractive index of the sample on the optical waveguide layer, the refractive index of the sample and the related characteristics of the sample are analyzed by knowing the above-mentioned specific incident angle at which attenuation of total reflection occurs. be able to.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】以上説明したタイプの
従来の表面プラズモンセンサーや漏洩モードセンサーに
おいては、通常波長が0.4μm〜0.9μmの可視光
領域の光ビームを測定に用いる。しかしながら、上記の
センサーを使用する環境下において用いられる照明光の
波長は0.25μm〜2.5μmであり、測定時にこれ
らの照明光の影響を受けるため、S/Nを向上させるの
が困難である。
In the conventional surface plasmon sensor and leak mode sensor of the type described above, a light beam in the visible light region having a wavelength of 0.4 μm to 0.9 μm is usually used for measurement. However, the wavelength of the illumination light used in the environment where the above sensor is used is 0.25 μm to 2.5 μm, and it is difficult to improve the S / N because it is affected by these illumination lights at the time of measurement. is there.

【0013】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、照明光等の外光の影響下においても高S/Nな
全反射減衰を利用したセンサーを提供することを目的と
するものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a sensor that utilizes high total S / N attenuation of total reflection even under the influence of external light such as illumination light. Is.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明による第1の全反
射減衰を利用したセンサーは、誘電体ブロックと、この
誘電体ブロックの一面に形成されて、試料に接触させら
れる薄膜層と、赤外線を発生させる光源と、赤外線を誘
電体ブロックに対して、誘電体ブロックと薄膜層との界
面で全反射条件が得られるように種々の角度で入射させ
る光学系と、前記界面で全反射した赤外線の強度を測定
して、全反射減衰の状態を検知する光検出手段とを備え
てなる全反射減衰を利用したセンサーにおいて、光検出
手段として、熱型素子を用いたことを特徴とするもので
ある。
A first sensor utilizing attenuation of total reflection according to the present invention comprises a dielectric block, a thin film layer formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample, and an infrared ray. , A light source for generating infrared rays, an optical system for making infrared rays incident on the dielectric block at various angles so that total reflection conditions can be obtained at the interface between the dielectric block and the thin film layer, and infrared rays totally reflected at the interface. In a sensor utilizing attenuated total internal reflection, which comprises a light detecting means for measuring the intensity of, and detecting the state of attenuated total internal reflection, a thermal type element is used as the optical detecting means. is there.

【0015】ここで、「赤外線」とは、波長が0.76
μm〜1mmの光線を意味するが、一般的に用いられて
いる照明光(波長0.25μm〜2.5μm)の影響を
避けるために、2.5μm〜1mmの波長の光線を用い
ることが好ましい。
Here, the "infrared" has a wavelength of 0.76.
Although it means a light beam having a wavelength of μm to 1 mm, it is preferable to use a light beam having a wavelength of 2.5 μm to 1 mm in order to avoid the influence of commonly used illumination light (wavelength 0.25 μm to 2.5 μm). .

【0016】また、「熱型素子」とは、赤外線による熱
効果により生じる素子の温度上昇を電気的に検出するセ
ンサであって、例えば、サーモパイルや焦電素子(パイ
ロセンサ)等を用いることができる。
The "thermal element" is a sensor for electrically detecting the temperature rise of the element caused by the thermal effect of infrared rays, and for example, a thermopile or a pyroelectric element (pyrosensor) can be used. .

【0017】また、本発明による第2の全反射減衰を利
用したセンサーは、誘電体ブロックと、この誘電体ブロ
ックの一面に形成されて、試料に接触させられる金属膜
と、赤外線を発生させる光源と、赤外線を前記誘電体ブ
ロックに対して、誘電体ブロックと金属膜との界面で全
反射条件が得られるように種々の角度で入射させる光学
系と、前記界面で全反射した赤外線の強度を測定して、
表面プラズモン共鳴に伴う全反射減衰の状態を検知する
光検出手段とを備えてなる全反射減衰を利用したセンサ
ーにおいて、光検出手段として、熱型素子を用いたこと
を特徴とするものである。
The second sensor utilizing attenuation of total reflection according to the present invention is a dielectric block, a metal film formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample, and a light source for generating infrared rays. And an optical system that makes infrared rays incident on the dielectric block at various angles so that total reflection conditions can be obtained at the interface between the dielectric block and the metal film, and the intensity of infrared rays totally reflected at the interface. Measure
In a sensor utilizing attenuated total reflection, which comprises a photodetection means for detecting a state of attenuation of total internal reflection due to surface plasmon resonance, a thermal element is used as the photodetection means.

【0018】さらに、本発明による第3の全反射減衰を
利用したセンサーは、誘電体ブロックと、この誘電体ブ
ロックの一面に形成されたクラッド層と、このクラッド
層の上に形成されて、試料に接触させられる光導波層
と、赤外線を発生させる光源と、赤外線を前記誘電体ブ
ロックに対して、誘電体ブロックとクラッド層との界面
で全反射条件が得られるように種々の角度で入射させる
光学系と、前記界面で全反射した赤外線の強度を測定し
て、光導波層での導波モードの励起に伴う全反射減衰の
状態を検知する光検出手段とを備えてなる全反射減衰を
利用したセンサーにおいて、光検出手段として、熱型素
子を用いたことを特徴とするものである。
Further, the third sensor utilizing attenuation of total reflection according to the present invention is a dielectric block, a clad layer formed on one surface of the dielectric block, and a clad layer formed on the clad layer. An optical waveguide layer that is brought into contact with the light source, a light source that generates infrared rays, and the infrared rays are incident on the dielectric block at various angles so that total reflection conditions can be obtained at the interface between the dielectric block and the clad layer. Attenuation of total internal reflection comprising an optical system and a photodetection means for measuring the intensity of infrared rays totally reflected at the interface and detecting a state of total internal reflection attenuation accompanying excitation of a guided mode in the optical waveguide layer. In the sensor used, a thermal type element is used as the light detecting means.

【0019】上記第1から第3の全反射減衰を利用した
センサーにおいて、熱型素子は、焦電素子とすることが
好ましい。
In the sensor utilizing the first to third attenuations of total internal reflection, the thermal element is preferably a pyroelectric element.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明の全反射減衰を利用したセンサー
は、赤外線を発生させる光源を用いて、光検出手段とし
て熱型素子を用いているため、照明光等の外光の影響を
受けることなく測定することができるため、高S/Nな
全反射減衰を利用したセンサーを実現させることができ
る。
Since the sensor utilizing attenuation of total reflection of the present invention uses a light source for generating infrared rays and a thermal element as a light detecting means, it is affected by external light such as illumination light. Since the measurement can be performed without using the sensor, it is possible to realize a sensor that utilizes a high S / N attenuation of total reflection.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。本発明の第1の実施形態の
全反射減衰を利用したセンサーは、表面プラズモン共鳴
を利用した表面プラズモンセンサーであり、図1は、そ
の入射光学系およびセンサー部の平面形状を示すもので
あり、図2はその表面プラズモン検出部の側面形状を示
すものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. A sensor utilizing attenuation of total internal reflection according to the first embodiment of the present invention is a surface plasmon sensor utilizing surface plasmon resonance, and FIG. 1 shows a plane shape of an incident optical system and a sensor portion thereof. FIG. 2 shows a side surface shape of the surface plasmon detecting portion.

【0022】図示されるようにこの表面プラズモンセン
サーは、誘電体であるガラスから形成されて、図2の紙
面に垂直な方向(図1中では上下方向)に長軸が延びる
三角柱形のプリズム1(誘電体ブロックの一形態)と、
このプリズム1の一面に形成されて、試料2に接触させ
られる例えば金、銀等からなる金属膜3と、1本の赤外
線領域の光ビーム13を発生させる半導体レーザ等からな
る光源14(以下、レーザ光源14という)と、上記光ビー
ム13をプリズム1に通し、該プリズム1と金属膜3との
界面1bに対して、種々の入射角が得られるように入射
させる光学系15と、上記界面1bで全反射した光ビーム
13の光量を検出する第1の光検出手段6および第2の光
検出手段7と、これらの光検出手段6、7に接続された
比較器8とを備えている。
As shown in the figure, this surface plasmon sensor is formed of glass which is a dielectric, and has a triangular prism 1 whose major axis extends in a direction perpendicular to the plane of FIG. 2 (vertical direction in FIG. 1). (One form of dielectric block),
A metal film 3 formed on one surface of the prism 1 and brought into contact with the sample 2 and made of, for example, gold, silver or the like, and a light source 14 made of a semiconductor laser or the like for generating a light beam 13 in an infrared region (hereinafter, A laser light source 14), an optical system 15 which allows the light beam 13 to pass through the prism 1 and is incident on the interface 1b between the prism 1 and the metal film 3 so as to obtain various incident angles, and the interface. Light beam totally reflected by 1b
It is provided with a first light detecting means 6 and a second light detecting means 7 for detecting the amount of light of 13, and a comparator 8 connected to these light detecting means 6, 7.

【0023】入射光学系15は、レーザ光源14から発散光
状態で出射した光ビーム13を平行光化するコリメーター
レンズ15aと、該平行光化された光ビーム13を上記界面
1b上で収束させる集光レンズ15bとから構成されてい
る。
The incident optical system 15 converges the collimator lens 15a for collimating the light beam 13 emitted from the laser light source 14 in a divergent state and the collimated light beam 13 on the interface 1b. It is composed of a condenser lens 15b.

【0024】光ビーム13は、集光レンズ15bにより上述
のように集光されるので、図2中に最小入射角θ
最大入射角θとを例示するように、界面1bに対し
て種々の入射角θで入射する成分を含むことになる。な
おこの入射角θは、全反射角以上の角度とされる。そこ
で、光ビーム13は界面1bで全反射し、この反射した光
ビーム13には、種々の反射角で反射する成分が含まれる
ことになる。なお、上記光学系15は、光ビーム13を界面
1bにデフォーカス状態で入射させるように構成されて
もよい。そのようにすれば、表面プラズモン共鳴の状態
検出(例えば前記暗線の位置測定)の誤差が平均化され
て、測定精度が高められる。
Since the light beam 13 is condensed by the condensing lens 15b as described above, as shown in the example of the minimum incident angle θ 1 and the maximum incident angle θ 2 in FIG. It includes components incident at various incident angles θ. The incident angle θ is set to an angle equal to or larger than the total reflection angle. Therefore, the light beam 13 is totally reflected at the interface 1b, and the reflected light beam 13 contains components that are reflected at various reflection angles. The optical system 15 may be configured to make the light beam 13 incident on the interface 1b in a defocused state. By doing so, the error in the state detection of the surface plasmon resonance (for example, the position measurement of the dark line) is averaged, and the measurement accuracy is improved.

【0025】なお光ビーム13は、界面1bに対してp偏
光で入射させる。そのようにするためには、予めレーザ
光源14をその偏光方向が所定方向となるように配設すれ
ばよい。その他、波長板で光ビーム13の偏光の向きを制
御してもよい。
The light beam 13 is incident on the interface 1b as p-polarized light. In order to do so, the laser light source 14 may be arranged in advance so that the polarization direction thereof becomes a predetermined direction. Alternatively, the polarization direction of the light beam 13 may be controlled by the wave plate.

【0026】一方、第1の光検出手段6および第2の光
検出手段7は、一例として焦電素子からなる。第1の光
検出手段6は上記界面1bで全反射した光ビーム13のう
ち、第1の反射角範囲(比較的低角度の範囲)にある成
分の光量を検出するように配され、第2の光検出手段7
は上記界面1bで全反射した光ビーム13のうち、第2の
反射角範囲(比較的高角度の範囲)にある成分の光量を
検出するように配されている。
On the other hand, the first light detecting means 6 and the second light detecting means 7 are, for example, pyroelectric elements. The first light detecting means 6 is arranged so as to detect the light amount of the component in the first reflection angle range (relatively low angle range) of the light beam 13 totally reflected at the interface 1b, and Light detection means 7
Is arranged so as to detect the light quantity of the component in the second reflection angle range (relatively high angle range) of the light beam 13 totally reflected at the interface 1b.

【0027】上述のように、本実施形態においては、プ
リズム1と金属膜3との界面1bに赤外線領域の光ビー
ム13を照射し、プリズム1と金属膜3との界面1bで反
射した光ビーム13を焦電素子等の熱型素子により検出す
るため、照明光等の外光の影響下においても高S/Nな
全反射減衰を利用したセンサーを実現することができ
る。
As described above, in the present embodiment, the interface 1b between the prism 1 and the metal film 3 is irradiated with the light beam 13 in the infrared region and is reflected by the interface 1b between the prism 1 and the metal film 3. Since 13 is detected by a thermal element such as a pyroelectric element, it is possible to realize a sensor that utilizes high total S / N attenuation of total reflection even under the influence of external light such as illumination light.

【0028】以下、上記構成の表面プラズモンセンサー
による試料分析について説明する。分析対象の試料2は
金属膜3に接触する状態に保持される。そして上述のよ
うに集光された光ビーム13が、金属膜3に向けて照射さ
れる。この金属膜3とプリズム1との界面1bで全反射
した光ビーム13は、第1の光検出手段6および第2の光
検出手段7によって検出される。
The sample analysis by the surface plasmon sensor having the above structure will be described below. The sample 2 to be analyzed is held in contact with the metal film 3. Then, the light beam 13 condensed as described above is irradiated toward the metal film 3. The light beam 13 totally reflected at the interface 1b between the metal film 3 and the prism 1 is detected by the first light detecting means 6 and the second light detecting means 7.

【0029】このとき第1の光検出手段6が出力する光
量検出信号S1と、第2の光検出手段7が出力する光量
検出信号S2は比較器8に入力され、比較器8はそれら
両信号S1、S2の差分を示す差分信号Sを出力する。
At this time, the light amount detection signal S1 output by the first light detecting means 6 and the light amount detection signal S2 output by the second light detecting means 7 are input to the comparator 8, which then outputs both signals. A difference signal S indicating the difference between S1 and S2 is output.

【0030】ここで、界面1bにある特定の入射角θ
SPで入射した光は、金属膜3と試料2との界面に表面
プラズモンを励起させるので、この光については反射光
強度Iが鋭く低下する。つまり、全反射した光ビーム13
の強度Iと入射角θとの関係は概ね図3の(A)、
(B)にそれぞれ曲線a、bで示すようなものとなる。
この全反射減衰(ATR)入射角θSPや、反射光強度
Iと入射角θとの関係曲線が分かれば、試料2中の特定
物質を定量分析することができる。以下、その理由を詳
しく説明する。
Here, a specific incident angle θ at the interface 1b
The light incident at SP excites surface plasmons at the interface between the metal film 3 and the sample 2, so that the reflected light intensity I of this light sharply decreases. That is, the totally reflected light beam 13
The relationship between the intensity I and the incident angle θ is approximately (A) in FIG.
The curves a and b are shown in FIG.
The specific substance in the sample 2 can be quantitatively analyzed by knowing the incident angle θ SP of attenuated total reflection (ATR) and the relationship curve of the reflected light intensity I and the incident angle θ. Hereinafter, the reason will be described in detail.

【0031】上記第1の反射角範囲と第2の反射角範囲
とが例えば連続していて、それら両範囲の境界の反射角
がθであるとすると、入射角θよりも入射角が
小さい範囲、大きい範囲の光が各々光検出手段6、7の
一方、他方によって検出される。
For example, if the first reflection angle range and the second reflection angle range are continuous and the reflection angle at the boundary between the two ranges is θ M , the incident angle is smaller than the incident angle θ M. The light in the small range and the light in the large range are detected by one and the other of the photodetectors 6 and 7, respectively.

【0032】一例として、θよりも入射角が小さい
範囲の光が第1の光検出手段6によって検出され、θ
よりも入射角が大きい範囲の光ビームが第2の光検
出手段7によって検出されるものとすると、第1の光検
出手段6は図3の(A)、(B)でそれぞれ斜線を付し
た範囲の光を検出することになり、その検出光量は
(A)の場合よりも(B)の場合の方が大きくなる。反
対に、第2の光検出手段7による検出光量は(A)の場
合よりも(B)の場合の方が小さくなる。このように、
第1の光検出手段6の検出光量と第2の光検出手段7の
検出光量は、入射角θと反射光強度Iとの関係に応じた
特有の差異を生じることになる。
As an example, the light in the range where the incident angle is smaller than θ M is detected by the first light detecting means 6, and θ
Assuming that the light beam whose incident angle is larger than M is detected by the second light detecting means 7, the first light detecting means 6 is hatched in FIGS. 3A and 3B. The light in the above range is detected, and the detected light amount is larger in the case of (B) than in the case of (A). On the contrary, the amount of light detected by the second light detecting means 7 is smaller in the case of (B) than in the case of (A). in this way,
The amount of light detected by the first light detecting means 6 and the amount of light detected by the second light detecting means 7 will have a unique difference depending on the relationship between the incident angle θ and the reflected light intensity I.

【0033】したがって、予め求めてある各試料毎の検
量線等を参照すれば、第1の光検出手段6が出力する光
量検出信号S1と、第2の光検出手段7が出力する光量
検出信号S2との差を示す比較器8の出力、すなわち差
分信号Sに基づいて、分析試料2に関する全反射減衰
(ATR)入射角θSPや、入射角θと反射光強度Iと
の関係曲線を推定可能となり、該試料2中の物質を定量
分析できるようになる。
Therefore, referring to the calibration curve for each sample which is obtained in advance, the light amount detection signal S1 output from the first light detecting means 6 and the light amount detection signal output from the second light detecting means 7 are obtained. Based on the output of the comparator 8 indicating the difference from S2, that is, the difference signal S, the attenuated total reflection (ATR) incident angle θ SP regarding the analysis sample 2 and the relation curve between the incident angle θ and the reflected light intensity I are estimated. This makes it possible to quantitatively analyze the substance in the sample 2.

【0034】なお以上は、第1の反射角範囲と第2の反
射角範囲とが連続している場合について説明したが、そ
れら両範囲が連続していない場合でも、第1の光検出手
段6の検出光量と第2の光検出手段7の検出光量は、入
射角θと反射光強度Iとの関係に応じた特有の差異を生
じるから、同様にして試料2中の物質を定量分析するこ
とができる。
Although the case where the first reflection angle range and the second reflection angle range are continuous has been described above, the first light detecting means 6 can be used even when these two ranges are not continuous. The amount of light detected by the second light detecting device 7 and the amount of light detected by the second light detecting means 7 have a peculiar difference according to the relationship between the incident angle θ and the reflected light intensity I. Therefore, the substance in the sample 2 should be quantitatively analyzed in the same manner. You can

【0035】次に、図4を参照して本発明の第2の実施
形態について説明する。なおこの図4において、図1中
の要素と同等の要素には同番号を付してあり、それらに
ついての説明は特に必要の無い限り省略する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 4, elements that are the same as the elements in FIG. 1 are given the same numbers, and explanations thereof are omitted unless necessary.

【0036】この第2実施形態の全反射減衰を利用した
センサーは、第1の実施形態と同様表面プラズモン共鳴
を利用した表面プラズモンセンサーであり、図4はその
側面形状を示すものである。
The sensor utilizing the attenuation of total reflection of the second embodiment is a surface plasmon sensor utilizing the surface plasmon resonance as in the first embodiment, and FIG. 4 shows its side surface shape.

【0037】この表面プラズモンセンサーは、例えば概
略四角錐の一部が切り取られた形状とされた誘電体ブロ
ック10と、この誘電体ブロック10の一面(図中の上面)
に形成された、例えば金、銀、銅、アルミニウム等から
なる金属膜12とを有している。
This surface plasmon sensor has, for example, a dielectric block 10 formed by cutting out a part of a roughly square pyramid, and one surface of the dielectric block 10 (upper surface in the figure).
And a metal film 12 made of, for example, gold, silver, copper, aluminum or the like.

【0038】誘電体ブロック10は例えば透明樹脂等から
なり、金属膜12が形成された部分の周囲が嵩上げされた
形とされ、この嵩上げされた部分10aは液体の試料11を
貯える試料保持部として機能する。なお本例では、金属
膜12の上にセンシング媒体30が固定されるが、このセン
シング媒体30については後述する。
The dielectric block 10 is made of, for example, a transparent resin and has a raised shape around the portion where the metal film 12 is formed. The raised portion 10a serves as a sample holding portion for storing the liquid sample 11. Function. In this example, the sensing medium 30 is fixed on the metal film 12, and the sensing medium 30 will be described later.

【0039】誘電体ブロック10は金属膜12とともに、使
い捨ての測定チップを構成しており、例えばターンテー
ブル31に複数設けられたチップ保持孔31aに1個ずつ嵌
合固定される。誘電体ブロック10がこのようにターンテ
ーブル31に固定された後、ターンテーブル31が一定角度
ずつ間欠的に回動され、所定位置に停止した誘電体ブロ
ック10に対して液体試料11が滴下され、該液体試料11が
試料保持部10a内に保持される。その後さらにターンテ
ーブル31が一定角度回動されると、誘電体ブロック10が
この図1に示した測定位置に送られ、そこで停止する。
The dielectric block 10 constitutes a disposable measuring chip together with the metal film 12, and is fitted and fixed one by one in a plurality of chip holding holes 31a provided in the turntable 31, for example. After the dielectric block 10 is thus fixed to the turntable 31, the turntable 31 is intermittently rotated by a constant angle, and the liquid sample 11 is dropped onto the dielectric block 10 stopped at a predetermined position. The liquid sample 11 is held in the sample holder 10a. Thereafter, when the turntable 31 is further rotated by a certain angle, the dielectric block 10 is sent to the measurement position shown in FIG. 1 and stopped there.

【0040】本実施形態の表面プラズモンセンサーは、
上記誘電体ブロック10に加えてさらに、1本の赤外線領
域の光ビーム13を発生させる半導体レーザ等からなる光
源14(以下、レーザ光源14という)と、上記光ビーム13
を誘電体ブロック10に通し、該誘電体ブロック10と金属
膜12との界面10bに対して、種々の入射角が得られるよ
うに入射させる光学系15と、上記界面10bで全反射した
光ビーム13を平行光化するコリメーターレンズ16と、こ
の平行光化された光ビーム13を検出する光検出手段17
と、コリメーターレンズ16と光検出手段17との間に配さ
れた光ビーム13を拡散させる拡散板27と、光検出手段17
に接続された差動アンプアレイ18と、ドライバ19と、コ
ンピュータシステム等からなる信号処理部20と、この信
号処理部20に接続された表示手段21とを備えている。
The surface plasmon sensor of this embodiment is
In addition to the dielectric block 10, a light source 14 (hereinafter referred to as a laser light source 14) including a semiconductor laser or the like for generating a light beam 13 in the infrared region, and the light beam 13
Is passed through the dielectric block 10 and is incident on the interface 10b between the dielectric block 10 and the metal film 12 so as to obtain various incident angles, and a light beam totally reflected at the interface 10b. Collimator lens 16 for collimating 13 and light detecting means 17 for detecting this collimated light beam 13.
A diffusing plate 27 for diffusing the light beam 13 arranged between the collimator lens 16 and the light detecting means 17, and the light detecting means 17
A differential amplifier array 18, a driver 19, a signal processing section 20 including a computer system, and a display means 21 connected to the signal processing section 20.

【0041】図4に示す通り、レーザ光源14から発散光
状態で出射した光ビーム13は、光学系15の作用により、
誘電体ブロック10と金属膜12との界面10b上で収束す
る。したがって光ビーム13は、界面10bに対して種々の
入射角θで入射する成分を含むことになる。なおこの入
射角θは、全反射角以上の角度とされる。そこで、光ビ
ーム13は界面10bで全反射し、この反射した光ビーム13
には、種々の反射角で反射する成分が含まれることにな
る。
As shown in FIG. 4, the light beam 13 emitted from the laser light source 14 in a diverging state is caused by the action of the optical system 15.
It converges on the interface 10b between the dielectric block 10 and the metal film 12. Therefore, the light beam 13 includes components that are incident on the interface 10b at various incident angles θ. The incident angle θ is set to an angle equal to or larger than the total reflection angle. Therefore, the light beam 13 is totally reflected at the interface 10b, and the reflected light beam 13
Will include components that reflect at various reflection angles.

【0042】界面10bで全反射した後、コリメーターレ
ンズ16によって平行光化された光ビーム13は、光検出手
段17により検出される。本例における光検出手段17は、
複数の焦電素子17a、17b、17c……が1列に並設され
てなる焦電アレイ素子であり、図4の図示面内におい
て、平行光化された光ビーム13の進行方向に対して焦電
素子並設方向がほぼ直角となる向きに配設されている。
したがって、上記界面10bにおいて種々の反射角で全反
射した光ビーム13の各成分を、それぞれ異なる焦電素子
17a、17b、17c……が受光することになる。
The light beam 13 which is totally reflected by the interface 10b and then collimated by the collimator lens 16 is detected by the light detecting means 17. The light detection means 17 in this example is
A pyroelectric array element in which a plurality of pyroelectric elements 17a, 17b, 17c ... Are arranged side by side in one row, and in the plane of the drawing of FIG. 4, with respect to the traveling direction of the collimated light beam 13. The pyroelectric elements are arranged in a direction in which the parallel arrangement directions are substantially right angles.
Therefore, the components of the light beam 13 totally reflected at various reflection angles at the interface 10b are different from each other in different pyroelectric elements.
17a, 17b, 17c ... Will receive light.

【0043】図5は、この表面プラズモンセンサーの電
気的構成を示すブロック図である。図示の通り上記ドラ
イバ19は、差動アンプアレイ18の各差動アンプ18a、18
b、18c……の出力をサンプルホールドするサンプルホ
ールド回路22a、22b、22c……、これらのサンプルホ
ールド回路22a、22b、22c……の各出力が入力される
マルチプレクサ23、このマルチプレクサ23の出力をデジ
タル化して信号処理部20に入力するA/D変換器24、マ
ルチプレクサ23とサンプルホールド回路22a、22b、22
c……とを駆動する駆動回路25、および信号処理部20か
らの指示に基づいて駆動回路25の動作を制御するコント
ローラ26から構成されている。
FIG. 5 is a block diagram showing the electrical construction of this surface plasmon sensor. As shown in the figure, the driver 19 includes the differential amplifiers 18 a, 18 a of the differential amplifier array 18.
The sample-hold circuits 22a, 22b, 22c, ... for sampling and holding the outputs of b, 18c .., the multiplexer 23 to which the outputs of these sample-hold circuits 22a, 22b, 22c. A / D converter 24 that digitizes and inputs to signal processing unit 20, multiplexer 23 and sample hold circuits 22a, 22b, 22
.. and c, and a controller 26 that controls the operation of the drive circuit 25 based on an instruction from the signal processing unit 20.

【0044】上記焦電素子17a、17b、17c……の各出
力は、差動アンプアレイ18の各差動アンプ18a、18b、
18c……に入力される。この際、互いに隣接する2つの
焦電素子の出力が、共通の差動アンプに入力される。し
たがって各差動アンプ18a、18b、18c……の出力は、
複数の焦電素子17a、17b、17c……が出力する光検出
信号を、それらの並設方向に関して微分したものと考え
ることができる。
The outputs of the pyroelectric elements 17a, 17b, 17c ... Are supplied to the differential amplifiers 18a, 18b of the differential amplifier array 18, respectively.
It is input to 18c ……. At this time, the outputs of the two pyroelectric elements adjacent to each other are input to a common differential amplifier. Therefore, the output of each differential amplifier 18a, 18b, 18c ...
It can be considered that the photodetection signals output by the plurality of pyroelectric elements 17a, 17b, 17c ... Are differentiated with respect to their parallel arrangement direction.

【0045】各差動アンプ18a、18b、18c……の出力
は、それぞれサンプルホールド回路22a、22b、22c…
…により所定のタイミングでサンプルホールドされ、マ
ルチプレクサ23に入力される。マルチプレクサ23は、サ
ンプルホールドされた各差動アンプ18a、18b、18c…
…の出力を、所定の順序に従ってA/D変換器24に入力
する。A/D変換器24はこれらの出力をデジタル化して
信号処理部20に入力する。
The outputs of the differential amplifiers 18a, 18b, 18c, ... Are sample and hold circuits 22a, 22b, 22c ,.
Are sample-held at a predetermined timing by the ... And input to the multiplexer 23. The multiplexer 23 includes the sample-and-hold differential amplifiers 18a, 18b, 18c ...
The outputs of ... Are input to the A / D converter 24 in a predetermined order. The A / D converter 24 digitizes these outputs and inputs them to the signal processing unit 20.

【0046】図6は、界面10bで全反射した光ビーム13
の入射角θ毎の光強度と、差動アンプ18a、18b、18c
……の出力との関係を説明するものである。ここで、光
ビーム13の界面10bへの入射角θと上記光強度Iとの関
係は、同図(1)のグラフに示すようなものであるとす
る。
FIG. 6 shows the light beam 13 totally reflected at the interface 10b.
Intensity of each incident angle θ and differential amplifiers 18a, 18b, 18c
It describes the relationship with the output of. Here, it is assumed that the relationship between the incident angle θ of the light beam 13 on the interface 10b and the light intensity I is as shown in the graph of FIG.

【0047】界面10bにある特定の入射角θSPで入射
した光は、金属膜12と試料11との界面に表面プラズモン
を励起させるので、この光については反射光強度Iが鋭
く低下する。つまりθSPが全反射解消角であり、この
角度θSPにおいて反射光強度Iは最小値を取る。この
反射光強度Iの低下は、図4にDで示すように、反射光
中の暗線として観察される。
Light incident on the interface 10b at a specific incident angle θ SP excites surface plasmons at the interface between the metal film 12 and the sample 11, so that the reflected light intensity I of this light sharply decreases. That is, θ SP is the total reflection elimination angle, and the reflected light intensity I takes the minimum value at this angle θ SP . This decrease in the reflected light intensity I is observed as a dark line in the reflected light, as indicated by D in FIG.

【0048】また図6の(2)は、焦電素子17a、17
b、17c……の並設方向を示しており、先に説明した通
り、これらの焦電素子17a、17b、17c……の並設方向
位置は上記入射角θと一義的に対応している。
Further, FIG. 6B shows the pyroelectric elements 17a, 17a.
b, 17c ... Show the juxtaposed direction, and as described above, the positions of these pyroelectric elements 17a, 17b, 17c .. .

【0049】そして焦電素子17a、17b、17c……の並
設方向位置、つまりは入射角θと、差動アンプ18a、18
b、18c……の出力I’(反射光強度Iの微分値)との
関係は、同図(3)に示すようなものとなる。
Then, the positions of the pyroelectric elements 17a, 17b, 17c in the parallel installation direction, that is, the incident angle θ, and the differential amplifiers 18a, 18
The relationship between b, 18c ... And the output I '(differential value of the reflected light intensity I) is as shown in FIG.

【0050】信号処理部20は、A/D変換器24から入力
された微分値I’の値に基づいて、差動アンプ18a、18
b、18c……の中から、全反射解消角θSPに対応する
微分値I’=0に最も近い出力が得られているもの(図
6の例では差動アンプ18dとなる)を選択し、それが出
力する微分値I’に所定の補正処理を施してから、その
値を表示手段21に表示させる。なお、場合によっては微
分値I’=0を出力している差動アンプが存在すること
もあり、そのときは当然その差動アンプが選択される。
The signal processing section 20 is based on the value of the differential value I'input from the A / D converter 24, and the differential amplifiers 18a, 18a.
From b, 18c, ..., select the one that gives the output closest to the differential value I '= 0 corresponding to the total reflection elimination angle θ SP (in the example of FIG. 6, it is the differential amplifier 18d). , The differential value I ′ output therefrom is subjected to a predetermined correction process, and then the value is displayed on the display means 21. In some cases, there is a differential amplifier that outputs a differential value I ′ = 0, and in that case, that differential amplifier is naturally selected.

【0051】以後、所定時間が経過する毎に上記選択さ
れた差動アンプ18dが出力する微分値I’が、所定の補
正処理を受けてから表示手段21に表示される。この微分
値I’は、測定チップの金属膜12(図1参照)に接して
いる物質の誘電率つまりは屈折率が変化して、図6
(1)に示す曲線が左右方向に移動する形で変化する
と、それに応じて上下する。したがって、この微分値
I’を時間の経過とともに測定し続けることにより、金
属膜12に接している物質の屈折率変化、つまりは特性の
変化を調べることができる。
Thereafter, every time a predetermined time elapses, the differential value I'output from the selected differential amplifier 18d is displayed on the display means 21 after undergoing a predetermined correction process. This differential value I'changes the dielectric constant of the substance in contact with the metal film 12 (see FIG. 1) of the measuring chip, that is, the refractive index,
When the curve shown in (1) changes in the form of moving to the left and right, the curve moves up and down accordingly. Therefore, by continuously measuring the differential value I ′ with the passage of time, it is possible to investigate the change in the refractive index of the substance in contact with the metal film 12, that is, the change in the characteristic.

【0052】特に本実施形態では金属膜12に、液体試料
11の中の特定物質と結合するセンシング媒体30を固定し
ており、それらの結合状態に応じてセンシング媒体30の
屈折率が変化するので、上記微分値I’を測定し続ける
ことにより、この結合状態の変化の様子を調べることが
できる。つまりこの場合は、液体試料11およびセンシン
グ媒体30の双方が、分析対象の試料となる。そのような
特定物質とセンシング媒体30との組合せとしては、例え
ば抗原と抗体等が挙げられる。
In particular, in this embodiment, the metal film 12 is provided with a liquid sample.
The sensing medium 30 that binds to the specific substance in 11 is fixed, and the refractive index of the sensing medium 30 changes according to the binding state thereof. Therefore, by continuously measuring the differential value I ′, this binding You can check how the state changes. That is, in this case, both the liquid sample 11 and the sensing medium 30 are samples to be analyzed. Examples of such a combination of the specific substance and the sensing medium 30 include an antigen and an antibody.

【0053】以上の説明から明かなように本実施形態で
は、光検出手段17として複数の焦電素子17a、17b、17
c……が1列に並設されてなる焦電アレイ素子を用いて
いるので、液体試料11に応じて図6(1)に示す曲線が
左右方向に移動する形である程度大きく変化しても、暗
線検出が可能である。つまり、このようなアレイ状の光
検出手段17を用いることにより、測定のダイナミックレ
ンジを大きく確保することができる。
As is apparent from the above description, in the present embodiment, the plurality of pyroelectric elements 17a, 17b, 17 are used as the light detecting means 17.
Since c ... are arranged in parallel in one row, even if the curve shown in FIG. 6 (1) moves to the left and right depending on the liquid sample 11 to some extent, , Dark line detection is possible. That is, the use of such an array-shaped light detecting means 17 can secure a large dynamic range of measurement.

【0054】なお、複数の差動アンプ18a、18b、18c
……からなる差動アンプアレイ18を用いる代わりに1つ
の差動アンプを設け、焦電素子17a、17b、17c……の
各出力をマルチプレクサで切り替えて、それらのうちの
隣接する2つの出力をこの1つの差動アンプに順次入力
するようにしても構わない。
A plurality of differential amplifiers 18a, 18b, 18c
, A differential amplifier is provided instead of using the differential amplifier array 18, and each output of the pyroelectric elements 17a, 17b, 17c is switched by a multiplexer, and two adjacent outputs of them are switched. You may make it input to this one differential amplifier sequentially.

【0055】なお、液体試料11の中の特定物質とセンシ
ング媒体30との結合状態の変化の様子を時間経過ととも
に調べるためには、所定時間が経過する毎の微分値I’
を求めて表示するほか、最初に計測した微分値I’(0)
と所定時間経過時に計測した微分値I’(t)との差Δ
I’を求めて表示してもよい。
In order to investigate the change in the binding state between the specific substance in the liquid sample 11 and the sensing medium 30 with the passage of time, the differential value I '
In addition to displaying, the first measured differential value I '(0)
And the differential value I '(t) measured after the lapse of a predetermined time Δ
I ′ may be obtained and displayed.

【0056】次に、図7を参照して本発明の第3の実施
形態について説明する。なおこの図7において、図1ま
たは図4中の要素と同等の要素には同番号を付してあ
り、それらについての説明は特に必要の無い限り省略す
る。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 7, elements equivalent to those in FIG. 1 or 4 are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted unless particularly necessary.

【0057】この第3実施形態の全反射減衰を利用した
センサーは、先に説明した漏洩モードセンサーであり、
本例でも測定チップ化された誘電体ブロック10を用いる
ように構成されている。この誘電体ブロック10の一面
(図中の上面)にはクラッド層40が形成され、さらにそ
の上には光導波層41が形成されている。
The sensor utilizing the attenuated total reflection of the third embodiment is the leak mode sensor described above,
Also in this example, the dielectric block 10 formed into a measurement chip is used. A clad layer 40 is formed on one surface (upper surface in the figure) of the dielectric block 10, and an optical waveguide layer 41 is further formed thereon.

【0058】誘電体ブロック10は、例えば合成樹脂やB
K7等の光学ガラスを用いて形成されている。一方クラ
ッド層40は、誘電体ブロック10よりも低屈折率の誘電体
や、金等の金属を用いて薄膜状に形成されている。また
光導波層41は、クラッド層40よりも高屈折率の誘電体、
例えばPMMAを用いてこれも薄膜状に形成されてい
る。クラッド層40の膜厚は、例えば金薄膜から形成する
場合で36.5nm、光導波層41の膜厚は、例えばPMMA
から形成する場合で700nm程度とされる。
The dielectric block 10 is made of, for example, synthetic resin or B.
It is formed using an optical glass such as K7. On the other hand, the clad layer 40 is formed in a thin film shape using a dielectric having a lower refractive index than the dielectric block 10 or a metal such as gold. The optical waveguide layer 41 is a dielectric material having a higher refractive index than the cladding layer 40,
For example, PMMA is also used to form a thin film. The clad layer 40 has a film thickness of, for example, 36.5 nm when formed from a gold thin film, and the optical waveguide layer 41 has a film thickness of, for example, PMMA.
When formed from, the thickness is about 700 nm.

【0059】上記構成の漏洩モードセンサーにおいて、
レーザ光源14から出射した光ビーム13を誘電体ブロック
10を通してクラッド層40に対して全反射角以上の入射角
で入射させると、該光ビーム13が誘電体ブロック10とク
ラッド層40との界面10bで全反射するが、クラッド層40
を透過して光導波層41に特定入射角で入射した特定波数
の光は、該光導波層41を導波モードで伝搬するようにな
る。こうして導波モードが励起されると、入射光のほと
んどが光導波層41に取り込まれるので、上記界面10bで
全反射する光の強度が鋭く低下する全反射減衰が生じ
る。
In the leaky mode sensor having the above structure,
Dielectric block the light beam 13 emitted from the laser light source 14.
When the light beam 13 is incident on the clad layer 40 through 10 at an incident angle equal to or larger than the total reflection angle, the light beam 13 is totally reflected at the interface 10b between the dielectric block 10 and the clad layer 40.
Light having a specific wave number that has passed through the optical waveguide layer 41 and is incident on the optical waveguide layer 41 at a specific incident angle propagates through the optical waveguide layer 41 in the guided mode. When the guided mode is excited in this way, most of the incident light is taken into the optical waveguide layer 41, so that the total reflection attenuation occurs in which the intensity of the light totally reflected at the interface 10b sharply decreases.

【0060】光導波層41における導波光の波数は、該光
導波層41の上の試料11の屈折率に依存するので、全反射
減衰が生じる上記特定入射角を知ることによって、試料
11の屈折率や、それに関連する試料11の特性を分析する
ことができる。そして、上記特定入射角の近傍における
反射光強度Iや、差動アンプアレイ18の各差動アンプが
出力する微分値I’に基づいて試料11の特性を分析する
こともできる。
Since the wave number of the guided light in the optical waveguide layer 41 depends on the refractive index of the sample 11 on the optical waveguide layer 41, by knowing the above-mentioned specific incident angle at which attenuation of total reflection occurs, the sample
It is possible to analyze the refractive index of 11 and the characteristics of the sample 11 related thereto. The characteristics of the sample 11 can also be analyzed based on the reflected light intensity I in the vicinity of the specific incident angle and the differential value I ′ output from each differential amplifier of the differential amplifier array 18.

【0061】上記第2および第3の実施形態において
も、赤外線領域の光ビームを照射し、焦電素子等の熱型
素子により検出するため、照明光等の外光の影響下にお
いても高S/Nな全反射減衰を利用したセンサーを実現
することができる。
Also in the second and third embodiments described above, since a light beam in the infrared region is irradiated and detected by a thermal element such as a pyroelectric element, a high S is obtained even under the influence of external light such as illumination light. It is possible to realize a sensor utilizing attenuation of total reflection of / N.

【0062】また、上記第1から第3の実施の形態にお
いて、光検出手段に用いる熱型素子として、焦電素子以
外にも、例えばサーモパイル等を用いても、同様の効果
を得ることができる。
Further, in the first to third embodiments described above, the same effect can be obtained by using, for example, a thermopile as the thermal type element used for the light detecting means, in addition to the pyroelectric element. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態による表面プラズモン
センサーの一部を示す平面図
FIG. 1 is a plan view showing a part of a surface plasmon sensor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態による表面プラズモン
センサーの一部を示す側面図
FIG. 2 is a side view showing a part of the surface plasmon sensor according to the first embodiment of the present invention.

【図3】表面プラズモンセンサーにおける光ビーム入射
角と、光検出手段による検出光強度との概略関係を示す
グラフ
FIG. 3 is a graph showing a schematic relationship between an incident angle of a light beam on a surface plasmon sensor and a light intensity detected by a light detecting means.

【図4】本発明の第2の実施形態による表面プラズモン
センサーの側面図
FIG. 4 is a side view of a surface plasmon sensor according to a second embodiment of the present invention.

【図5】上記表面プラズモンセンサーの電気的構成を示
すブロック図
FIG. 5 is a block diagram showing an electrical configuration of the surface plasmon sensor.

【図6】上記表面プラズモンセンサーにおける光ビーム
入射角と検出光強度との関係、並びに光ビーム入射角と
光強度検出信号の微分値との関係を示す概略図
FIG. 6 is a schematic diagram showing the relationship between the incident angle of the light beam and the detected light intensity and the relationship between the incident angle of the light beam and the differential value of the light intensity detection signal in the surface plasmon sensor.

【図7】本発明の第3の実施形態による漏洩モードセン
サーの側面図
FIG. 7 is a side view of a leaky mode sensor according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プリズム 1b プリズムの金属膜との界面 2 試料 3 金属膜 6、7 光検出手段 10 誘電体ブロック 10a 誘電体ブロックの試料保持部 10b 誘電体ブロックと金属膜との界面 11 試料 12 金属膜 13 光ビーム 14 半導体レーザ等 15 光学系 16 コリメーターレンズ 17 光検出手段(焦電アレイ素子) 17a、17b、17c…… 焦電素子 18 差動アンプアレイ 18a、18b、18c…… 差動アンプ 19 ドライバ 20 信号処理部 21 表示手段 22a、22b、22c…… サンプルホールド回路 23 マルチプレクサ 24 A/D変換器 25 駆動回路 26 コントローラ 30 センシング媒体 31 ターンテーブル 40 クラッド層 41 光導波層 1 prism 1b Interface of prism with metal film 2 samples 3 metal film 6, 7 Light detection means 10 Dielectric block 10a Dielectric block sample holder 10b Interface between dielectric block and metal film 11 samples 12 Metal film 13 light beam 14 Semiconductor laser, etc. 15 Optical system 16 collimator lens 17 Light detection means (pyroelectric array element) 17a, 17b, 17c ... Pyroelectric element 18 Differential amplifier array 18a, 18b, 18c ... Differential amplifier 19 driver 20 Signal processor 21 Display means 22a, 22b, 22c ... Sample hold circuit 23 Multiplexer 24 A / D converter 25 Drive circuit 26 Controller 30 Sensing medium 31 turntable 40 clad layer 41 Optical waveguide layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体ブロックと、 この誘電体ブロックの一面に形成されて、試料に接触さ
せられる薄膜層と、 赤外線を発生させる光源と、 前記赤外線を前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブ
ロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られるよ
うに種々の角度で入射させる光学系と、 前記界面で全反射した赤外線の強度を測定して、全反射
減衰の状態を検知する光検出手段とを備えてなる全反射
減衰を利用したセンサーにおいて、 前記光検出手段として、熱型素子を用いたことを特徴と
する全反射減衰を利用したセンサー。
1. A dielectric block, a thin film layer formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample, a light source for generating infrared rays, and a dielectric layer for applying the infrared rays to the dielectric block. An optical system that makes incidence at various angles so that total reflection conditions are obtained at the interface between the body block and the thin film layer, and the intensity of infrared rays totally reflected at the interface is measured to detect the state of attenuation of total reflection. A sensor using attenuated total reflection, comprising a photodetector, wherein a thermal element is used as the photodetector.
【請求項2】 誘電体ブロックと、 この誘電体ブロックの一面に形成されて、試料に接触さ
せられる金属膜と、 赤外線を発生させる光源と、 前記赤外線を前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブ
ロックと前記金属膜との界面で全反射条件が得られるよ
うに種々の角度で入射させる光学系と、 前記界面で全反射した赤外線の強度を測定して、表面プ
ラズモン共鳴に伴う全反射減衰の状態を検知する光検出
手段とを備えてなる全反射減衰を利用したセンサーにお
いて、 前記光検出手段として、熱型素子を用いたことを特徴と
する全反射減衰を利用したセンサー。
2. A dielectric block, a metal film formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample, a light source for generating infrared rays, and a dielectric film for exposing the infrared rays to the dielectric block. An optical system that is incident at various angles so that total reflection conditions can be obtained at the interface between the body block and the metal film, and the intensity of infrared light that is totally reflected at the interface is measured, and total reflection attenuation accompanying surface plasmon resonance is measured. In the sensor using attenuated total reflection, which comprises a light detecting means for detecting the above condition, a thermal type element is used as the light detecting means.
【請求項3】 誘電体ブロックと、 この誘電体ブロックの一面に形成されたクラッド層と、 このクラッド層の上に形成されて、試料に接触させられ
る光導波層と、 赤外線を発生させる光源と、 前記赤外線を前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブ
ロックと前記クラッド層との界面で全反射条件が得られ
るように種々の角度で入射させる光学系と、 前記界面で全反射した赤外線の強度を測定して、前記光
導波層での導波モードの励起に伴う全反射減衰の状態を
検知する光検出手段とを備えてなる全反射減衰を利用し
たセンサーにおいて、 前記光検出手段として、熱型素子を用いたことを特徴と
する全反射減衰を利用したセンサー。
3. A dielectric block, a clad layer formed on one surface of the dielectric block, an optical waveguide layer formed on the clad layer and brought into contact with a sample, and a light source for generating infrared rays. , An optical system that makes the infrared rays incident on the dielectric block at various angles so that total reflection conditions can be obtained at the interface between the dielectric block and the cladding layer, and the infrared rays totally reflected at the interface In a sensor utilizing attenuated total internal reflection, which comprises a light detecting means for measuring intensity and detecting a state of attenuated total internal reflection due to excitation of a guided mode in the optical waveguide layer, wherein the optical detecting means: A sensor utilizing attenuated total reflection characterized by using a thermal element.
【請求項4】 前記熱型素子が、焦電素子であることを
特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の全反射
減衰を利用したセンサー。
4. The sensor utilizing attenuation of total reflection according to claim 1, wherein the thermal element is a pyroelectric element.
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